JPWO2018190349A1 - Pyridone compounds and fungicides for agricultural and horticultural use containing the same as active ingredients - Google Patents

Pyridone compounds and fungicides for agricultural and horticultural use containing the same as active ingredients Download PDF

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Abstract

植物病害を防除する新規な化合物を提供する。本発明のピリドン化合物は新規な化合物であり、植物病害を防除することができる。A novel compound for controlling a plant disease is provided. The pyridone compound of the present invention is a novel compound and can control plant diseases.

Description

本発明は、ピリドン化合物および該化合物を有効成分とする農薬に関するものである。   The present invention relates to a pyridone compound and an agricultural chemical containing the compound as an active ingredient.

安定的な農業生産を確保する上で、農園芸作物の病害を防除することは重要な役割を果たすため、様々な殺菌剤が使用されている。しかしながら、長年にわたる殺菌剤の使用は薬剤耐性菌の出現を招き、薬剤感受性菌のみならず薬剤耐性菌に対しても有効な新規殺菌剤が切望されている。   Various fungicides are used because controlling disease of agricultural and horticultural crops plays an important role in ensuring stable agricultural production. However, the use of fungicides for many years has led to the emergence of drug-resistant bacteria, and a new fungicide that is effective not only against drug-sensitive bacteria but also against drug-resistant bacteria is eagerly desired.

1,3,5,6−置換−2−ピリドン化合物に関して、例えば、GABAアルファー2/3リガンドとして、3位にアリール基またはヘテロアリール基を有する1,3,5,6−置換−2−ピリドン化合物が開示されている(例えば、国際公開第98/55480号参照)。また、細菌性感染症の治療薬として、3位にカルボキシル基を有する1,3,5,6−置換−2−ピリドン化合物が開示されている(例えば、欧州特許第0308020明細書参照)。   With respect to 1,3,5,6-substituted-2-pyridone compounds, for example, 1,3,5,6-substituted-2-pyridones having an aryl group or a heteroaryl group at the 3-position as GABA alpha-2 / 3 ligand Compounds have been disclosed (see, for example, WO 98/55480). Further, 1,3,5,6-substituted-2-pyridone compounds having a carboxyl group at the 3-position have been disclosed as therapeutic agents for bacterial infectious diseases (see, for example, European Patent No. 0308020).

国際公開第98/55480号International Publication No. 98/55480 欧州特許第0308020明細書European Patent No. 0308020

しかしながら、国際公開第98/55480号および欧州特許第0308020明細書は、その3位の置換基が本発明に係る化合物の置換基とは全く異なっており、化学構造が相違する化合物を開示しているに過ぎない。また、当該特許文献に記載されている化合物の用途は、いずれも医薬に関するものであり、本発明に係る農園芸用殺菌剤が属する技術分野とは相違する。
本発明の課題は、農園芸用殺菌剤として有効である新規な化合物を提供することである。
However, WO 98/55480 and EP 0 308 020 disclose compounds whose 3-position substituents are completely different from those of the compounds according to the invention and which differ in their chemical structure. It's just that. In addition, the uses of the compounds described in the patent documents are all related to pharmaceuticals, which is different from the technical field to which the agricultural and horticultural fungicides according to the present invention belong.
An object of the present invention is to provide a novel compound that is effective as an agricultural and horticultural fungicide.

本発明者らは、前記課題を解決すべく、1,3,5,6−置換−2−ピリドン化合物群および1,5,6−置換−2−ピリドン化合物群について鋭意検討を行った結果、当該2−ピリドン骨格中の6位に関して、オルト位に置換基を有するアリール基またはヘテロアリール基を導入した化合物群が、植物病害に対して優れた防除活性を発揮することを見出し、本発明を完成するに至った。   The present inventors have conducted intensive studies on the 1,3,5,6-substituted-2-pyridone compound group and the 1,5,6-substituted-2-pyridone compound group in order to solve the above problems, With respect to the 6-position in the 2-pyridone skeleton, it has been found that a compound group in which an aryl group or heteroaryl group having a substituent at the ortho position is introduced exhibits excellent control activity against plant diseases, and the present invention It was completed.

すなわち、本発明は、以下の通りである。   That is, the present invention is as follows.

[1] 式(1)

Figure 2018190349

[式中、R1は、
水酸基、
シアノ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、
C1〜C6のハロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、
C2〜C6のハロアルケニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、
C2〜C6のハロアルキニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基、
C1〜C6のハロアルコキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルコキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニルオキシ基、
C2〜C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3〜C6のアルキニルオキシ基、
C3〜C6のハロアルキニルオキシ基、
またはR10R11N−(ここで、R10およびR11は、それぞれ独立していて、水素原子、またはC1〜C6のアルキル基を表す。)を表し;
R2は、
水酸基、
シアノ基、
ニトロ基、
ハロゲン原子、
置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、
C1〜C6のハロアルキル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、
C2〜C6のハロアルケニル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、
C2〜C6のハロアルキニル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基、
C1〜C6のハロアルコキシ基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルコキシ基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニルオキシ基、
C2〜C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C6のアルキニルオキシ基、
C3〜C6のハロアルキニルオキシ基、
R20C(=O)−(ここで、R20は、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR21R22N−(ここで、R21およびR22は、それぞれ独立していて、水素原子、置換基B1で適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはR21およびR22は、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)を表す。)、
R20C(=O)O−(ここで、R20は、前記と同義である。)、
R21R22N−(ここで、R21およびR22は、前記と同義である。)、
R23−L2−(ここで、R23は、C1〜C6のアルキル基、またはC1〜C6のハロアルキル基を表し、L2は、S、SO、またはSOを表す。)、
R24C(=O)N(R25)−(ここで、R24は、水素原子、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR21R22N−(ここで、R21およびR22は、前記と同義である。)を表し、R25は、水素原子、置換基B1で適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表す。)、
または1〜2個の酸素原子を含む3〜6員環の基を表し;
R3は、
水素原子、
ニトロ基、
ハロゲン原子、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、
C1〜C6のハロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、
C2〜C6のハロアルケニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、
C2〜C6のハロアルキニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基、
C1〜C6のハロアルコキシ基、
R30−L3−(ここで、R30は、前記のR23と同義であり、L3は、前記のL2と同義である。)、
R31R32N−(ここで、R31およびR32は、前記のR21およびR22と同義である。)、
またはR33C(=O)−(ここで、R33は、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表す。)を表し;
nは、0〜5の整数(ただし、nが2以上のとき、2以上のR2は、それぞれ独立した置換基を表す。)を表し;
Xは、酸素原子、または硫黄原子を表し;
Yは、
フェニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、チエニル基、チアゾリル基、または、イソチアゾリル基を表し、
該フェニル基は、置換基Dがオルト位に置換し、置換基D1が、それぞれ独立して適宜0〜3置換し、さらに置換基D2が、それぞれ独立して適宜1〜4置換し、
該ピリジル基、該ピリダジニル基、該ピリミジニル基、該ピラジニル基、または該トリアジニル基は、置換基Dがオルト位に置換し、置換基D1が、それぞれ独立して適宜0〜2置換し、さらに置換基D2が、それぞれ独立して適宜1〜3置換し、
該チエニル基、該チアゾリル基、または該イソチアゾリル基は、置換基Dがオルト位に置換し、置換基D1が、それぞれ独立して適宜0〜1置換し、さらに置換基D2が、それぞれ独立して適宜1〜2置換し;
破線部を含む結合は、二重結合、または単結合を表し;
そして、置換基Aは、
水酸基、シアノ基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、R12R13N−(ここで、R12およびR13は、それぞれ独立していて、水素原子、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはR12およびR13は、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)、およびR14−L1−(ここで、R14は、C1〜C6のアルキル基、またはC1〜C6のハロアルキル基を表し、L1は、S、SO、またはSOを表す。)からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Bは、
水酸基、シアノ基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、C2〜C6のアルコキシアルコキシ基、R21R22N−(ここで、R21およびR22は、前記と同義である。)、R23−L2−(ここで、R23およびL2は、前記と同義である。)、R26R27R28Si−(ここで、R26、R27およびR28は、それぞれ独立していてC1〜C6のアルキル基を表す。)、R26R27R28Si−(CH)s−O−(ここで、sは、1〜3の整数を表し、R26、R27およびR28は、前記と同義である。)、R20C(=O)−(ここで、R20は、前記と同義である。)、および1〜2個の酸素原子を含む3〜6員環の基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基B1は、
シアノ基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、およびC3〜C8のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Cは、
水酸基、シアノ基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、R31R32N−(ここで、R31およびR32は、前記のR21およびR22と同義である。)、およびR30−L3−(ここで、R30は、前記のR23と同義であり、L3は、前記のL2と同義である。)からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Dは、
ハロゲン原子、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、およびC1〜C6のハロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基D1は、
水酸基、ハロゲン原子、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、およびC3〜C8のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基D2は、
シアノ基、
ニトロ基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、
C2〜C6ハロアルケニル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、
C2〜C6のハロアルキニル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニルオキシ基、
C2〜C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C6のアルキニルオキシ基、
C3〜C6のハロアルキニルオキシ基、
C2〜C6のアルコキシアルコキシ基、
C2〜C6のシアノアルコキシ基、
C4〜C9のシクロアルキルアルコキシ基、
置換基Dで適宜置換されてもよいアリール基、
置換基Dで適宜置換されてもよいヘテロアリール基、
置換基Dで適宜置換されてもよいアリールオキシ基、
置換基Dで適宜置換されてもよいヘテロアリールオキシ基、
置換基Dで適宜置換されてもよいアラルキルオキシ基、
R40(CH2)p−U−(ここで、pは、1〜3の整数を表し、R40は1〜2個の酸素原子を含む3〜6員環の基、R41R42N−(ここで、R41およびR42は、前記のR21およびR22と同義である。)、またはR43−L4−(ここで、R43は、前記のR14と同義であり、L4は、前記のL1と同義である。)を表し、Uは、酸素原子、または硫黄原子を表す。)、
R41R42N−(ここで、R41およびR42は前記と同義である。)、
R43−L4−(ここで、R43は、前記のR14と同義であり、L4は、前記のL1と同義である。)、
R44C(=O)−(ここで、R44は、置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR41R42N−(ここで、R41およびR42は前記と同義である。)を表す。)、
R44C(=O)O−(ここで、R44は、前記と同義である。)、
R45C(=O)N(R46)−(ここで、R45は、水素原子、置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR41R42N−(ここで、R41およびR42は、前記と同義である。)を表し、R46は、水素原子、置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表す。)、
R47R48C=N−O−(ここで、R47およびR48は、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR41R42N−(ここで、R41およびR42は、前記と同義である。)を表す。)、
および1〜2個の酸素原子を含む3〜6員環の基からなる群から選択される少なくとも1種である]で表される化合物またはその塩。[1] Equation (1)
Figure 2018190349

Wherein R1 is
Hydroxyl group,
Cyano group,
A C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
A C1-C6 haloalkyl group,
A C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A,
A C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A,
A C2-C6 haloalkenyl group,
A C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A,
A C2-C6 haloalkynyl group,
A C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent A,
A C1-C6 haloalkoxy group,
A C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent A,
A C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent A,
A C2-C6 haloalkenyloxy group,
A C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent A,
A C3-C6 haloalkynyloxy group,
Or R10R11N- (wherein R10 and R11 are each independently a hydrogen atom or a C1-C6 alkyl group);
R2 is
Hydroxyl group,
Cyano group,
Nitro group,
Halogen atom,
A C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B,
A C1-C6 haloalkyl group,
A C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent B,
A C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent B,
A C2-C6 haloalkenyl group,
A C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent B,
A C2-C6 haloalkynyl group,
A C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent B,
A C1-C6 haloalkoxy group,
A C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent B,
A C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent B,
A C2-C6 haloalkenyloxy group,
A C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent B,
A C3-C6 haloalkynyloxy group,
R20C (= O)-(where R20 is a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, A C3-C8 cycloalkoxy group, or R21R22N- (wherein R21 and R22 are each independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B1, a C1-C6 Represents a haloalkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group, or R21 and R22, together with the nitrogen atom to which they are attached, represent an aziridinyl, azetidinyl, pyrrolidinyl, piperidinyl, homopiperidinyl, or azocanyl group; Represents what is formed.).),
R20C (= O) O- (where R20 has the same meaning as described above),
R21R22N- (where R21 and R22 are as defined above),
R23-L2- (wherein, R23 represents an alkyl group or a haloalkyl group of C1 -C6, a C1 -C6, L2 represents S, SO, or SO 2.),
R24C (= O) N (R25)-(where R24 is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1 Represents a haloalkoxy group of C6 to C6, a cycloalkoxy group of C3 to C8, or R21R22N- (where R21 and R22 have the same meanings as described above), and R25 is appropriately substituted with a hydrogen atom or a substituent B1. Represents a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 haloalkyl group, or a C3 to C8 cycloalkyl group.)
Or a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms;
R3 is
Hydrogen atom,
Nitro group,
Halogen atom,
A C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
A C1-C6 haloalkyl group,
A C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C,
A C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C,
A C2-C6 haloalkenyl group,
A C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C,
A C2-C6 haloalkynyl group,
A C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C,
A C1-C6 haloalkoxy group,
R30-L3- (where R30 has the same meaning as R23, and L3 has the same meaning as L2);
R31R32N- (where R31 and R32 have the same meanings as R21 and R22 described above),
Or R33C (= O)-(where R33 represents a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group);
n represents an integer of 0 to 5 (however, when n is 2 or more, 2 or more R2 represents an independent substituent);
X represents an oxygen atom or a sulfur atom;
Y is
A phenyl group, a pyridyl group, a pyridazinyl group, a pyrimidinyl group, a pyrazinyl group, a triazinyl group, a thienyl group, a thiazolyl group, or an isothiazolyl group;
In the phenyl group, the substituent D is substituted at the ortho position, the substituent D1 is independently substituted with 0 to 3 as appropriate, and further the substituent D2 is independently substituted with 1 to 4 as appropriate.
In the pyridyl group, the pyridazinyl group, the pyrimidinyl group, the pyrazinyl group, or the triazinyl group, the substituent D is substituted at the ortho position, and the substituents D1 are each independently optionally substituted with 0 to 2, and further substituted. Groups D2 are each independently appropriately substituted with 1 to 3,
In the thienyl group, the thiazolyl group, or the isothiazolyl group, the substituent D is substituted at the ortho position, the substituents D1 are each independently optionally substituted with 0 to 1, and the substituents D2 are each independently substituted. Substitute 1-2 as appropriate;
A bond containing a broken line represents a double bond or a single bond;
And the substituent A is
Hydroxyl group, cyano group, C3-C8 cycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group, R12R13N- (where R12 and R13 are each independently And represents a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group, or R12 and R13 together with the bonding nitrogen atom form an aziridinyl group , Azetidinyl group, pyrrolidinyl group, piperidinyl group, homopiperidinyl group, or azocanyl group), and R14-L1- (where R14 is a C1-C6 alkyl group, or a C1-C6 haloalkyl). represents a group, is selected L1 is, S, SO, or from the group consisting of.) representing the SO 2, At least one of the following:
Substituent B is
A hydroxyl group, a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, a C2-C6 alkoxyalkoxy group, R21R22N- R21 and R22 are as defined above, R23-L2- (where R23 and L2 are as defined above), R26R27R28Si- (where R26, R27 and R28 are each independently represents an alkyl group having C1~C6 have.), R26R27R28Si- (CH 2) s-O- ( wherein, s represents an integer of 1 to 3, R26, R27 and R28 is a as defined above ), R20C (= O)-(where R20 has the same meaning as described above), and a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms. That is at least one selected from the group;
The substituent B1 is
At least one selected from the group consisting of a cyano group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, and a C3-C8 cycloalkoxy group;
Substituent C is
A hydroxyl group, a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, R31R32N- (where R31 and R32 are the aforementioned R21 And R22 and R30-L3- (where R30 has the same meaning as R23, and L3 has the same meaning as L2). Species;
Substituent D is
At least one selected from the group consisting of a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, and a C1-C6 haloalkoxy group;
The substituent D1 is
Hydroxyl group, halogen atom, C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, and C3-C8 cycloalkoxy group At least one selected from the group consisting of:
The substituent D2 is
Cyano group,
Nitro group,
A C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent B,
A C2-C6 haloalkenyl group,
A C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent B,
A C2-C6 haloalkynyl group,
A C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent B,
A C2-C6 haloalkenyloxy group,
A C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent B,
A C3-C6 haloalkynyloxy group,
A C2-C6 alkoxyalkoxy group,
A C2-C6 cyanoalkoxy group,
A C4-C9 cycloalkylalkoxy group,
An aryl group optionally substituted with a substituent D,
A heteroaryl group optionally substituted with a substituent D,
An aryloxy group optionally substituted with a substituent D,
A heteroaryloxy group optionally substituted with a substituent D,
An aralkyloxy group optionally substituted with a substituent D,
R40 (CH2) pU- (where p represents an integer of 1 to 3, and R40 is a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms, R41R42N- (where R41 and R42 has the same meaning as R21 and R22 described above; or R43-L4- (where R43 has the same meaning as R14, and L4 has the same meaning as L1); U represents an oxygen atom or a sulfur atom.),
R41R42N- (where R41 and R42 are as defined above),
R43-L4- (where R43 has the same meaning as R14, and L4 has the same meaning as L1);
R44C (= O)-(where R44 is a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group which may be appropriately substituted with a substituent B A group, a C1 to C6 haloalkoxy group, a C3 to C8 cycloalkoxy group, or R41R42N- (where R41 and R42 have the same meanings as described above),
R44C (= O) O- (where R44 is as defined above),
R45C (= O) N (R46)-(where R45 is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl A group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, or R41R42N- (where R41 and R42 have the same meanings as described above); A hydrogen atom, a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 haloalkyl group, or a C3 to C8 cycloalkyl group which may be appropriately substituted with a substituent A);
R47R48C = N-O- (where R47 and R48 are each independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C Represents a C8 cycloalkyl group, a C1 to C6 alkoxy group, a C1 to C6 haloalkoxy group, a C3 to C8 cycloalkoxy group, or R41R42N- (where R41 and R42 have the same meanings as described above). .),
And at least one member selected from the group consisting of a 3- to 6-membered ring group containing 1 or 2 oxygen atoms.] Or a salt thereof.

[2] R1は、
シアノ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、
C1〜C6のハロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、
C2〜C6のハロアルケニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、
またはR10R11N−(ここで、R10およびR11は、それぞれ独立していて、水素原子、またはC1〜C6のアルキル基を表す。)を表し;
R2は、
水酸基、
シアノ基、
ハロゲン原子、
置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、
C1〜C6のハロアルキル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基、
C1〜C6のハロアルコキシ基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルコキシ基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニルオキシ基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C6のアルキニルオキシ基、
R20C(=O)O−(ここで、R20は、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR21R22N−(ここで、R21およびR22は、それぞれ独立していて、水素原子、置換基B1で適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはR21およびR22は、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)、
またはR23−L2−(ここで、R23は、C1〜C6のアルキル基、またはC1〜C6のハロアルキル基を表し、L2は、S、SO、またはSOを表す。)を表し;
R3は、
水素原子、
ハロゲン原子、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基、
またはR30−L3−(ここで、R30は、前記のR23と同義であり、L3は、前記のL2と同義である。)を表し;
Yは、フェニル基、またはピリジル基を表し、
該フェニル基は、置換基Dがオルト位に置換し、置換基D1が、それぞれ独立して適宜0〜3置換し、さらに置換基D2が、それぞれ独立して適宜1〜4置換し、
該ピリジル基は、置換基Dがオルト位に置換し、置換基D1が、それぞれ独立して適宜0〜2置換し、さらに置換基D2が、それぞれ独立して適宜1〜3置換し;
置換基D2は、
シアノ基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニルオキシ基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C6のアルキニルオキシ基、
C2〜C6のアルコキシアルコキシ基、
C2〜C6のシアノアルコキシ基、
C4〜C9のシクロアルキルアルコキシ基、
置換基Dで適宜置換されてもよいヘテロアリール基、
置換基Dで適宜置換されてもよいアリールオキシ基、
置換基Dで適宜置換されてもよいアラルキルオキシ基、
R40(CH2)p−U−(ここで、pは、1〜3の整数を表し、R40は1〜2個の酸素原子を含む3〜6員環の基、R41R42N−(ここで、R41およびR42は、それぞれ独立していて、水素原子、置換基B1で適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはR41およびR42は、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)、またはR43−L4−(ここで、R43は、C1〜C6のアルキル基、またはC1〜C6のハロアルキル基を表し、L4は、S、SO、またはSO2を表す。)を表し、Uは、酸素原子、または硫黄原子を表す。)、
R41R42N−(ここで、R41およびR42は前記と同義である。)、
R43−L4−(ここで、R43およびL4は、前記と同義である。)、
R44C(=O)O−(ここで、R44は、置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR41R42N−(ここで、R41およびR42は、前記と同義である。)を表す。)、
および、R47R48C=N−O−(ここで、R47およびR48は、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR41R42N−(ここで、R41およびR42は、前記と同義である。)を表す。)からなる群から選択される少なくとも1種である、[1]に記載の化合物、またはその塩。
[2] R1 is
Cyano group,
A C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
A C1-C6 haloalkyl group,
A C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A,
A C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A,
A C2-C6 haloalkenyl group,
A C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A,
Or R10R11N- (wherein R10 and R11 are each independently a hydrogen atom or a C1-C6 alkyl group);
R2 is
Hydroxyl group,
Cyano group,
Halogen atom,
A C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B,
A C1-C6 haloalkyl group,
A C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent B,
A C1-C6 haloalkoxy group,
A C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent B,
A C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent B,
A C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent B,
R20C (= O) O- (where R20 is a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group , A C3-C8 cycloalkoxy group, or R21R22N- (wherein R21 and R22 are each independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B1, a C1-C6 Represents a haloalkyl group or a C3-C8 cycloalkyl group, or R21 and R22 together with a bonding nitrogen atom form an aziridinyl group, an azetidinyl group, a pyrrolidinyl group, a piperidinyl group, a homopiperidinyl group, or an azocanyl group Represents what forms).
Or R23-L2- (wherein, R23 represents an alkyl group or a haloalkyl group of C1 -C6, a C1 -C6, L2 is S, SO, or an SO 2.) Represents;
R3 is
Hydrogen atom,
Halogen atom,
A C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
A C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C,
A C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C,
A C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C,
Or R30-L3- (where R30 has the same meaning as R23, and L3 has the same meaning as L2);
Y represents a phenyl group or a pyridyl group,
In the phenyl group, the substituent D is substituted at the ortho position, the substituent D1 is independently substituted with 0 to 3 as appropriate, and further the substituent D2 is independently substituted with 1 to 4 as appropriate.
In the pyridyl group, the substituent D is substituted at the ortho-position, the substituent D1 is independently optionally substituted with 0 to 2, and the substituent D2 is each independently substituted with 1 to 3 as appropriate;
The substituent D2 is
Cyano group,
A C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent B,
A C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent B,
A C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent B,
A C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent B,
A C2-C6 alkoxyalkoxy group,
A C2-C6 cyanoalkoxy group,
A C4-C9 cycloalkylalkoxy group,
A heteroaryl group optionally substituted with a substituent D,
An aryloxy group optionally substituted with a substituent D,
An aralkyloxy group optionally substituted with a substituent D,
R40 (CH2) pU- (where p represents an integer of 1 to 3, and R40 is a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms, R41R42N- (where R41 and R42 is each independently a hydrogen atom, a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 haloalkyl group, or a C3 to C8 cycloalkyl group which may be appropriately substituted with a substituent B1; And R42 represents a group which forms an aziridinyl group, an azetidinyl group, a pyrrolidinyl group, a piperidinyl group, a homopiperidinyl group, or an azocanyl group together with the nitrogen atom to be bonded thereto, or R43-L4- (wherein R43 represents a C1 to C6 alkyl group or a C1 to C6 haloalkyl group; L4 represents S, SO, or SO2), and U represents an acid. Atom or a sulfur atom.),
R41R42N- (where R41 and R42 are as defined above),
R43-L4- (where R43 and L4 are as defined above),
R44C (= O) O— (where R44 is a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 haloalkyl group, a C3 to C8 cycloalkyl group, a C1 to C6 An alkoxy group, a C1 to C6 haloalkoxy group, a C3 to C8 cycloalkoxy group, or R41R42N- (where R41 and R42 have the same meanings as described above);
And R47R48C = NO- (where R47 and R48 are each independently a hydrogen atom, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1 to C6 haloalkyl group, A C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, or R41R42N- (where R41 and R42 are as defined above). The compound according to [1], or a salt thereof, which is at least one member selected from the group consisting of:

[3] R1は、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、
またはC1〜C6のハロアルキル基を表し;
R2は、
ハロゲン原子、
置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基、
またはR23−L2−(ここで、R23は、C1〜C6のアルキル基、またはC1〜C6のハロアルキル基を表し、L2は、S、SO、またはSOを表す。)を表し;
R3は、
水素原子、
ハロゲン原子、
または置換基Cで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基を表し;
Yは、フェニル基を表し、
該フェニル基は、置換基Dがオルト位に置換し、置換基D1が、それぞれ独立して適宜0〜3置換し、さらに置換基D2が、それぞれ独立して適宜1〜4置換する、[2]に記載の化合物、またはその塩。
[3] R1 is
A C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
Or a C1-C6 haloalkyl group;
R2 is
Halogen atom,
A C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B,
A C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent B,
Or R23-L2- (wherein, R23 represents an alkyl group or a haloalkyl group of C1 -C6, a C1 -C6, L2 is S, SO, or an SO 2.) Represents;
R3 is
Hydrogen atom,
Halogen atom,
Or a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C;
Y represents a phenyl group,
In the phenyl group, the substituent D is substituted at the ortho-position, the substituent D1 is independently substituted with 0 to 3 as appropriate, and the substituent D2 is independently substituted with 1 to 4 as appropriate. Or a salt thereof.

[4] 式(2)

Figure 2018190349

[式中、R2は、
水酸基、
シアノ基、
ニトロ基、
ハロゲン原子、
置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、
C1〜C6のハロアルキル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、
C2〜C6のハロアルケニル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、
C2〜C6のハロアルキニル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基、
C1〜C6のハロアルコキシ基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルコキシ基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニルオキシ基、
C2〜C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C6のアルキニルオキシ基、
C3〜C6のハロアルキニルオキシ基、
R20C(=O)−(ここで、R20は、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR21R22N−(ここで、R21およびR22は、それぞれ独立していて、水素原子、置換基B1で適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはR21およびR22は、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)を表す。)、
R20C(=O)O−(ここで、R20は、前記と同義である。)、
R21R22N−(ここで、R21およびR22は、前記と同義である。)、
R23−L2−(ここで、R23は、C1〜C6のアルキル基、またはC1〜C6のハロアルキル基を表し、L2は、S、SO、またはSOを表す。)、
R24C(=O)N(R25)−(ここで、R24は、水素原子、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR21R22N−(ここで、R21およびR22は、前記と同義である。)を表し、R25は、水素原子、置換基B1で適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表す。)、
または1〜2個の酸素原子を含む3〜6員環の基を表し;
R3は、
水素原子、
ニトロ基、
ハロゲン原子、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、
C1〜C6のハロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、
C2〜C6のハロアルケニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、
C2〜C6のハロアルキニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基、
C1〜C6のハロアルコキシ基、
R30−L3−(ここで、R30は、前記のR23と同義であり、L3は、前記のL2と同義である。)、
R31R32N−(ここで、R31およびR32は、前記のR21およびR22と同義である。)、
またはR33C(=O)−(ここで、R33は、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表す。)を表し;
nは、0〜5の整数(ただし、nが2以上のとき、2以上のR2は、それぞれ独立した置換基を表す。)を表し;
Xは、酸素原子、または硫黄原子を表し;
Yは、フェニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、チエニル基、チアゾリル基、または、イソチアゾリル基を表し、
該フェニル基は、置換基Dがオルト位に置換し、置換基D1が、それぞれ独立して適宜0〜3置換し、さらに置換基D2が、それぞれ独立して適宜1〜4置換し、
該ピリジル基、該ピリダジニル基、該ピリミジニル基、該ピラジニル基、または該トリアジニル基は、置換基Dがオルト位に置換し、置換基D1が、それぞれ独立して適宜0〜2置換し、さらに置換基D2が、それぞれ独立して適宜1〜3置換し、
該チエニル基、該チアゾリル基、または該イソチアゾリル基は、置換基Dがオルト位に置換し、置換基D1が、それぞれ独立して適宜0〜1置換し、さらに置換基D2が、それぞれ独立して適宜1〜2置換し;
そして、置換基Bは、
水酸基、シアノ基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、C2〜C6のアルコキシアルコキシ基、R21R22N−(ここで、R21およびR22は、前記と同義である。)、R23−L2−(ここで、R23およびL2は、前記と同義である。)、R26R27R28Si−(ここで、R26、R27およびR28は、それぞれ独立していてC1〜C6のアルキル基を表す。)、R26R27R28Si−(CH)s−O−(ここで、sは、1〜3の整数を表し、R26、R27およびR28は、前記と同義である。)、R20C(=O)−(ここで、R20は、前記と同義である。)、および1〜2個の酸素原子を含む3〜6員環の基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基B1は、
シアノ基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、およびC3〜C8のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Cは、
水酸基、シアノ基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、R31R32N−(ここで、R31およびR32は、前記のR21およびR22と同義である。)、およびR30−L3−(ここで、R30は、前記のR23と同義であり、L3は、前記のL2と同義である。)からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Dは、
ハロゲン原子、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、およびC1〜C6のハロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基D1は、
水酸基、ハロゲン原子、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、およびC3〜C8のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基D2は、
シアノ基、
ニトロ基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、
C2〜C6ハロアルケニル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、
C2〜C6のハロアルキニル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニルオキシ基、
C2〜C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C6のアルキニルオキシ基、
C3〜C6のハロアルキニルオキシ基、
C2〜C6のアルコキシアルコキシ基、
C2〜C6のシアノアルコキシ基、
C4〜C9のシクロアルキルアルコキシ基、
置換基Dで適宜置換されてもよいアリール基、
置換基Dで適宜置換されてもよいヘテロアリール基、
置換基Dで適宜置換されてもよいアリールオキシ基、
置換基Dで適宜置換されてもよいヘテロアリールオキシ基、
置換基Dで適宜置換されてもよいアラルキルオキシ基、
R40(CH2)p−U−(ここで、pは、1〜3の整数を表し、R40は1〜2個の酸素原子を含む3〜6員環の基、R41R42N−(ここで、R41およびR42は、前記のR21およびR22と同義である。)、またはR43−L4−(ここで、R43は、前記のR14と同義であり、L4は、前記のL1と同義である。)を表し、Uは、酸素原子、または硫黄原子を表す。)、
R41R42N−(ここで、R41およびR42は前記と同義である。)、
R43−L4−(ここで、R43は、前記のR14と同義であり、L4は、前記のL1と同義である。)、
R44C(=O)−(ここで、R44は、置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR41R42N−(ここで、R41およびR42は前記と同義である。)を表す。)、
R44C(=O)O−(ここで、R44は、前記と同義である。)、
R45C(=O)N(R46)−(ここで、R45は、水素原子、置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR41R42N−(ここで、R41およびR42は、前記と同義である。)を表し、R46は、水素原子、置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表す。)、
R47R48C=N−O−(ここで、R47およびR48は、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR41R42N−(ここで、R41およびR42は、前記と同義である。)を表す。)、
および1〜2個の酸素原子を含む3〜6員環の基からなる群から選択される少なくとも1種である。]で表される化合物またはその塩。[4] Equation (2)
Figure 2018190349

Wherein R2 is
Hydroxyl group,
Cyano group,
Nitro group,
Halogen atom,
A C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B,
A C1-C6 haloalkyl group,
A C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent B,
A C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent B,
A C2-C6 haloalkenyl group,
A C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent B,
A C2-C6 haloalkynyl group,
A C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent B,
A C1-C6 haloalkoxy group,
A C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent B,
A C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent B,
A C2-C6 haloalkenyloxy group,
A C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent B,
A C3-C6 haloalkynyloxy group,
R20C (= O)-(where R20 is a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, A C3-C8 cycloalkoxy group, or R21R22N- (wherein R21 and R22 are each independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B1, a C1-C6 Represents a haloalkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group, or R21 and R22, together with the nitrogen atom to which they are attached, represent an aziridinyl, azetidinyl, pyrrolidinyl, piperidinyl, homopiperidinyl, or azocanyl group; Represents what is formed.).),
R20C (= O) O- (where R20 has the same meaning as described above),
R21R22N- (where R21 and R22 are as defined above),
R23-L2- (wherein, R23 represents an alkyl group or a haloalkyl group of C1 -C6, a C1 -C6, L2 represents S, SO, or SO 2.),
R24C (= O) N (R25)-(where R24 is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1 Represents a haloalkoxy group of C6 to C6, a cycloalkoxy group of C3 to C8, or R21R22N- (where R21 and R22 have the same meanings as described above), and R25 is appropriately substituted with a hydrogen atom or a substituent B1. Represents a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 haloalkyl group, or a C3 to C8 cycloalkyl group.)
Or a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms;
R3 is
Hydrogen atom,
Nitro group,
Halogen atom,
A C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
A C1-C6 haloalkyl group,
A C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C,
A C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C,
A C2-C6 haloalkenyl group,
A C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C,
A C2-C6 haloalkynyl group,
A C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C,
A C1-C6 haloalkoxy group,
R30-L3- (where R30 has the same meaning as R23, and L3 has the same meaning as L2);
R31R32N- (where R31 and R32 have the same meanings as R21 and R22 described above),
Or R33C (= O)-(where R33 represents a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group);
n represents an integer of 0 to 5 (however, when n is 2 or more, 2 or more R2 represents an independent substituent);
X represents an oxygen atom or a sulfur atom;
Y represents a phenyl group, a pyridyl group, a pyridazinyl group, a pyrimidinyl group, a pyrazinyl group, a triazinyl group, a thienyl group, a thiazolyl group, or an isothiazolyl group;
In the phenyl group, the substituent D is substituted at the ortho position, the substituent D1 is independently substituted with 0 to 3 as appropriate, and further the substituent D2 is independently substituted with 1 to 4 as appropriate.
In the pyridyl group, the pyridazinyl group, the pyrimidinyl group, the pyrazinyl group, or the triazinyl group, the substituent D is substituted at the ortho position, and the substituents D1 are each independently optionally substituted with 0 to 2, and further substituted. Groups D2 are each independently appropriately substituted with 1 to 3,
In the thienyl group, the thiazolyl group, or the isothiazolyl group, the substituent D is substituted at the ortho position, the substituents D1 are each independently optionally substituted with 0 to 1, and the substituents D2 are each independently substituted. Substitute 1-2 as appropriate;
And the substituent B is
A hydroxyl group, a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, a C2-C6 alkoxyalkoxy group, R21R22N- R21 and R22 are as defined above, R23-L2- (where R23 and L2 are as defined above), R26R27R28Si- (where R26, R27 and R28 are each independently represents an alkyl group having C1~C6 have.), R26R27R28Si- (CH 2) s-O- ( wherein, s represents an integer of 1 to 3, R26, R27 and R28 is a as defined above ), R20C (= O)-(where R20 has the same meaning as described above), and a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms. That is at least one selected from the group;
The substituent B1 is
At least one selected from the group consisting of a cyano group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, and a C3-C8 cycloalkoxy group;
Substituent C is
A hydroxyl group, a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, R31R32N- (where R31 and R32 are the aforementioned R21 And R22 and R30-L3- (where R30 has the same meaning as R23, and L3 has the same meaning as L2). Species;
Substituent D is
At least one selected from the group consisting of a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, and a C1-C6 haloalkoxy group;
The substituent D1 is
Hydroxyl group, halogen atom, C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, and C3-C8 cycloalkoxy group At least one selected from the group consisting of:
The substituent D2 is
Cyano group,
Nitro group,
A C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent B,
A C2-C6 haloalkenyl group,
A C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent B,
A C2-C6 haloalkynyl group,
A C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent B,
A C2-C6 haloalkenyloxy group,
A C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent B,
A C3-C6 haloalkynyloxy group,
A C2-C6 alkoxyalkoxy group,
A C2-C6 cyanoalkoxy group,
A C4-C9 cycloalkylalkoxy group,
An aryl group optionally substituted with a substituent D,
A heteroaryl group optionally substituted with a substituent D,
An aryloxy group optionally substituted with a substituent D,
A heteroaryloxy group optionally substituted with a substituent D,
An aralkyloxy group optionally substituted with a substituent D,
R40 (CH2) pU- (where p represents an integer of 1 to 3, and R40 is a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms, R41R42N- (where R41 and R42 has the same meaning as R21 and R22 described above; or R43-L4- (where R43 has the same meaning as R14, and L4 has the same meaning as L1); U represents an oxygen atom or a sulfur atom.),
R41R42N- (where R41 and R42 are as defined above),
R43-L4- (where R43 has the same meaning as R14, and L4 has the same meaning as L1);
R44C (= O)-(where R44 is a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group which may be appropriately substituted with a substituent B A group, a C1 to C6 haloalkoxy group, a C3 to C8 cycloalkoxy group, or R41R42N- (where R41 and R42 have the same meanings as described above),
R44C (= O) O- (where R44 is as defined above),
R45C (= O) N (R46)-(where R45 is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl A group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, or R41R42N- (where R41 and R42 have the same meanings as described above); A hydrogen atom, a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 haloalkyl group, or a C3 to C8 cycloalkyl group which may be appropriately substituted with a substituent A);
R47R48C = N-O- (where R47 and R48 are each independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C Represents a C8 cycloalkyl group, a C1 to C6 alkoxy group, a C1 to C6 haloalkoxy group, a C3 to C8 cycloalkoxy group, or R41R42N- (where R41 and R42 have the same meanings as described above). .),
And at least one selected from the group consisting of a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms. Or a salt thereof.

[5] R1は、
C1〜C6のアルキル基を表す、[1]〜[3]のいずれか1つに記載の化合物、またはその塩。
[5] R1 is
The compound according to any one of [1] to [3], which represents a C1 to C6 alkyl group, or a salt thereof.

[6] R1は、
メチル基、エチル基、プロピル基、2,2−ジフルオロエチル基、または2,2,2−トリフルオロエチル基を表す、[1]〜[3]のいずれか1つに記載の化合物、またはその塩。
[6] R1 is
The compound according to any one of [1] to [3], which represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a 2,2-difluoroethyl group, or a 2,2,2-trifluoroethyl group, or a compound thereof. salt.

[7] R1は、
メチル基、またはエチル基を表す、[1]〜[3]のいずれか1つに記載の化合物、またはその塩。
[7] R1 is
The compound according to any one of [1] to [3], which represents a methyl group or an ethyl group, or a salt thereof.

[8] R2は、
ハロゲン原子、C1〜C6のアルコキシ基、またはR23−L2−(ここで、R23は、C1〜C6のアルキル基、またはC1〜C6のハロアルキル基を表し、L2は、S、SO、またはSOを表す。)を表す、[1]〜[3]、[5]〜[7]のいずれか1つに記載の化合物、またはその塩。
[8] R2 is
Halogen atom, an alkoxy group C1 -C6 or R23-L2- (where,, R23 represents an alkyl group or a haloalkyl group of C1 -C6, a C1 -C6, L2 is S, SO, or SO 2 The compound according to any one of [1] to [3] and [5] to [7], or a salt thereof.

[9] R2は、
フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、(クロロメチル)チオ基、(クロロメタン)スルフィニル基、または(クロロメタン)スルホニル基を表す、[1]〜[3]、[5]〜[7]のいずれか1つに記載の化合物、またはその塩。
[9] R2 is
Fluorine, chlorine, bromine, iodine, methyl, ethyl, methoxy, ethoxy, propyloxy, isopropyloxy, methylthio, methanesulfinyl, methanesulfonyl, (chloromethyl) thio, The compound according to any one of [1] to [3] and [5] to [7], which represents a (chloromethane) sulfinyl group or a (chloromethane) sulfonyl group, or a salt thereof.

[10] R2は、
フッ素原子、塩素原子、メトキシ基、またはメチルチオ基を表す、[1]〜[3]、[5]〜[7]のいずれか1つに記載の化合物、またはその塩。
[10] R2 is
The compound according to any one of [1] to [3], [5] to [7], which represents a fluorine atom, a chlorine atom, a methoxy group, or a methylthio group, or a salt thereof.

[11] R3は、
水素原子、ハロゲン原子、またはC1〜C6のアルキル基を表す、[1]〜[3]、[5]〜[10]のいずれか1つに記載の化合物、またはその塩。
[11] R3 is
The compound according to any one of [1] to [3], [5] to [10], which represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a C1 to C6 alkyl group, or a salt thereof.

[12] R3は、
水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、エチル基、またはプロピル基を表す、[1]〜[3]、[5]〜[10]のいずれか1つに記載の化合物、またはその塩。
[12] R3 is
Any one of [1] to [3], [5] to [10], representing a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a methyl group, an ethyl group, or a propyl group; A compound or a salt thereof.

[13] R3は、
水素原子、塩素原子、臭素原子、またはメチル基を表す、[1]〜[3]、[5]〜[10]のいずれか1つに記載の化合物、またはその塩。
[13] R3 is
The compound according to any one of [1] to [3], [5] to [10], which represents a hydrogen atom, a chlorine atom, a bromine atom, or a methyl group, or a salt thereof.

[14] 置換基Dは、
フッ素原子、塩素原子、または臭素原子を表す、[1]〜[3]、[5]〜[13]のいずれか1つに記載の化合物、またはその塩。
[14] The substituent D is
The compound according to any one of [1] to [3], [5] to [13], which represents a fluorine atom, a chlorine atom, or a bromine atom, or a salt thereof.

[15] 置換基Dは、
フッ素原子を表す、[1]〜[3]、[5]〜[13]のいずれか1つに記載の化合物、またはその塩。
[15] The substituent D is
The compound according to any one of [1] to [3] and [5] to [13], which represents a fluorine atom, or a salt thereof.

[16] 置換基D1は、
ハロゲン原子、C1〜C6のアルキル基、またはC1〜C6のアルコキシ基を表す、[1]〜[3]、[5]〜[15]のいずれか1つに記載の化合物、またはその塩。
[16] The substituent D1 is
The compound according to any one of [1] to [3], [5] to [15], which represents a halogen atom, a C1 to C6 alkyl group, or a C1 to C6 alkoxy group, or a salt thereof.

[17] 置換基D1は、
ハロゲン原子を表す、[1]〜[3]、[5]〜[15]のいずれか1つに記載の化合物、またはその塩。
[17] The substituent D1 is
The compound according to any one of [1] to [3] and [5] to [15], which represents a halogen atom, or a salt thereof.

[18] 置換基D1は、
フッ素原子を表す、[1]〜[3]、[5]〜[15]のいずれか1つに記載の化合物、またはその塩。
[18] The substituent D1 is
The compound according to any one of [1] to [3] and [5] to [15], which represents a fluorine atom, or a salt thereof.

[19] 置換基D2は、
シアノ基、置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニルオキシ基、置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C6のアルキニルオキシ基、C2〜C6のアルコキシアルコキシ基、C2〜C6のシアノアルコキシ基、C4〜C9のシクロアルキルアルコキシ基、置換基Dで適宜置換されてもよいヘテロアリール基、置換基Dで適宜置換されてもよいアリールオキシ基、置換基Dで適宜置換されてもよいアラルキルオキシ基、R40(CH2)p−U−(ここで、p、R40およびUは前記と同義である。)、R41R42N−(ここで、R41およびR42は前記と同義である。)、R43−L4−(ここで、R43およびL4は、前記と同義である。)、R44C(=O)O−(ここで、R44は、前記と同義である。)、またはR47R48C=N−O−(ここで、R47およびR48は前記と同義である)を表す[1]〜[3]、[5]〜[18]のいずれか1つに記載の化合物、またはその塩。
[19] The substituent D2 is
A cyano group, a C2 to C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent B, a C2 to C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent B, and a C3 to C3 optionally substituted with a substituent B C6 alkynyloxy group, C2 to C6 alkoxyalkoxy group, C2 to C6 cyanoalkoxy group, C4 to C9 cycloalkylalkoxy group, heteroaryl group optionally substituted by substituent D, An optionally substituted aryloxy group, an aralkyloxy group optionally substituted with substituent D, R40 (CH2) pU- (where p, R40 and U are as defined above), R41R42N. -(Where R41 and R42 are as defined above), R43-L4- (where R43 and L4 are as defined above), R44C (= ) O- (where R44 has the same meaning as described above), or R47R48C = NO- (where R47 and R48 have the same meaning as described above) [1] to [3], [ 5] The compound according to any one of [18] or a salt thereof.

[20] 置換基D2は、
シアノ基、ビニル基、1−プロペニル基、アリル基、エチニル基、1−プロピニル基、プロパルギル基、ビニルオキシ基、1−プロペニルオキシ基、アリルオキシ基、プロパルギルオキシ基、2−ブチニルオキシ基、3−ブチニルオキシ基、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、メトキシプロピルオキシ基、アセトニトリルオキシ基、3−プロパンニトリルオキシ基、シクロプロピルメトキシ基、シクロペンチルメトキシ基、シクロプロピルエトキシ基、1H−ピラゾール−1−イル基、1H−1,2,4−トリアゾール−1−イル基、フェノキシ基、(4−メトキシ)フェノキシ基、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、(テトラヒドロフラン−2−イル)メトキシ基、(1,3−ジオキソラン−2−イル)メトキシ基、(ジメチルアミノ)エトキシ基、(ジメチルアミノ)プロピルオキシ基、(メチルチオ)メトキシ基、(メチルチオ)エトキシ基、(メチルチオ)プロピル基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、アセチルオキシ基、メトキシアセチルオキシ基、シアノアセチルオキシ基、ジフルオロアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基、エチルメチルアミノカルボニルオキシ基、ジエチルアミノカルボニルオキシ基、ジメチルイミノオキシ基、エチルメチルイミノオキシ基、またはジエチルイミノオキシ基を表す、[1]〜[3]、[5]〜[18]のいずれか1つに記載の化合物、またはその塩。
[20] The substituent D2 is
Cyano group, vinyl group, 1-propenyl group, allyl group, ethynyl group, 1-propynyl group, propargyl group, vinyloxy group, 1-propenyloxy group, allyloxy group, propargyloxy group, 2-butynyloxy group, 3-butynyloxy group Methoxymethoxy group, ethoxymethoxy group, methoxyethoxy group, methoxypropyloxy group, acetonitrileoxy group, 3-propanenitrileoxy group, cyclopropylmethoxy group, cyclopentylmethoxy group, cyclopropylethoxy group, 1H-pyrazol-1-yl Group, 1H-1,2,4-triazol-1-yl group, phenoxy group, (4-methoxy) phenoxy group, benzyloxy group, phenethyloxy group, (tetrahydrofuran-2-yl) methoxy group, (1,3 -Dioxolan-2-yl Methoxy, (dimethylamino) ethoxy, (dimethylamino) propyloxy, (methylthio) methoxy, (methylthio) ethoxy, (methylthio) propyl, methylamino, ethylamino, dimethylamino, ethylmethyl Amino group, diethylamino group, methylthio group, methanesulfinyl group, methanesulfonyl group, acetyloxy group, methoxyacetyloxy group, cyanoacetyloxy group, difluoroacetyloxy group, trifluoroacetyloxy group, methoxycarbonyloxy group, ethoxycarbonyloxy group Group, aminocarbonyloxy group, dimethylaminocarbonyloxy group, ethylmethylaminocarbonyloxy group, diethylaminocarbonyloxy group, dimethyliminooxy group, ethylmethyliminooxy Or an diethyl imino group, [1] to [3], [5] the compound according to any one of - [18] or a salt thereof.

[21] 置換基D2は、
シアノ基、エチニル基、アリルオキシ基、プロパルギルオキシ基、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、メトキシプロピルオキシ基、アセトニトリルオキシ基、シクロプロピルメトキシ基、1H−ピラゾール−1−イル基、1H−1,2,4−トリアゾール−1−イル基、(4−メトキシ)フェノキシ基、ベンジルオキシ基、(テトラヒドロフラン−2−イル)メトキシ基、(1,3−ジオキソラン−2−イル)メトキシ基、(ジメチルアミノ)エトキシ基、(ジメチルアミノ)プロピルオキシ基、(メチルチオ)メトキシ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、メチルチオ基、アセチルオキシ基、またはジメチルイミノオキシ基を表す、[1]〜[3]、[5]〜[18]のいずれか1つに記載の化合物、またはその塩。
[21] The substituent D2 is
Cyano group, ethynyl group, allyloxy group, propargyloxy group, methoxymethoxy group, methoxyethoxy group, methoxypropyloxy group, acetonitrileoxy group, cyclopropylmethoxy group, 1H-pyrazol-1-yl group, 1H-1,2,2 4-triazol-1-yl group, (4-methoxy) phenoxy group, benzyloxy group, (tetrahydrofuran-2-yl) methoxy group, (1,3-dioxolan-2-yl) methoxy group, (dimethylamino) ethoxy Represents a group, (dimethylamino) propyloxy group, (methylthio) methoxy group, methylamino group, dimethylamino group, methylthio group, acetyloxy group, or dimethyliminooxy group, [1] to [3], [5] Or the salt thereof according to any one of [18] to [18].

[22] Yは、
フェニル基を表し、該フェニル基は、置換基Dがオルト位に置換し、置換基D1が、それぞれ独立して適宜0〜3置換し、さらに置換基D2が、それぞれ独立して適宜1〜4置換する、[1]〜[3]、[5]〜[21]のいずれか1つに記載の化合物、またはその塩。
[22] Y is
Represents a phenyl group, wherein the phenyl group has a substituent D substituted at the ortho-position, a substituent D1 independently substituted with 0 to 3 as appropriate, and a substituent D2 independently substituted with 1 to 4 as appropriate. The compound according to any one of [1] to [3] and [5] to [21], or a salt thereof, which is substituted.

[23] Yは、式(a−1)

Figure 2018190349

の部分構造を表す、[1]〜[3]、[5]〜[21]のいずれか1つに記載の化合物、またはその塩。[23] Y is represented by the formula (a-1)
Figure 2018190349

The compound according to any one of [1] to [3] and [5] to [21], or a salt thereof, which represents a partial structure of

[24] Yは、
2,6−ジフルオロ−4−(ジメチルアミノ)エトキシ−フェニル基、
2,6−ジフルオロ−4−(ジメチルアミノ)プロピルオキシ−フェニル基、
2,6−ジフルオロ−4−アセトニトリルオキシ−フェニル基、
2,6−ジフルオロ−4−プロパルギルオキシ−フェニル基、
2,6−ジフルオロ−4−メトキシメトキシ−フェニル基、
2,6−ジフルオロ−4−メトキシエトキシ−フェニル基、
2,6−ジフルオロ−4−アリルオキシ−フェニル基、
2,6−ジフルオロ−4−メトキシプロピルオキシ−フェニル基、
2,6−ジフルオロ−4−メチルチオメトキシ−フェニル基、
2,6−ジフルオロ−4−エチニル−フェニル基、
2,6−ジフルオロ−4−(テトラヒドロフラン−2−イル)メトキシ−フェニル基、
2,6−ジフルオロ−4−(1,3−ジオキソラン−2−イル)メトキシ−フェニル基、
2,6−ジフルオロ−4−メチルチオ−フェニル基、
2,6−ジフルオロ−4−(1H−ピラゾール−1−イル)−フェニル基、
2,6−ジフルオロ−4−(1H−1,2,4−トリアゾール−1−イル)−フェニル基、
2,6−ジフルオロ−4−シクロプロピルメトキシ−フェニル基、
2,6−ジフルオロ−4−アセチルオキシ−フェニル基、
2,6−ジフルオロ−4−ジメチルイミノオキシ−フェニル基、
2,6−ジフルオロ−4−ベンジルオキシ−フェニル基、
2,6−ジフルオロ−4−(4−メトキシフェノキシ)−フェニル基、
2,6−ジフルオロ−4−シアノ−フェニル基、
2,6−ジフルオロ−4−メチルアミノ−フェニル基、
または2,6−ジフルオロ−4−ジメチルアミノ−フェニル基を表す、[1]〜[3]、[5]〜[13]のいずれか1つに記載の化合物、またはその塩。
[24] Y is
2,6-difluoro-4- (dimethylamino) ethoxy-phenyl group,
2,6-difluoro-4- (dimethylamino) propyloxy-phenyl group,
2,6-difluoro-4-acetonitrileoxy-phenyl group,
2,6-difluoro-4-propargyloxy-phenyl group,
2,6-difluoro-4-methoxymethoxy-phenyl group,
2,6-difluoro-4-methoxyethoxy-phenyl group,
2,6-difluoro-4-allyloxy-phenyl group,
2,6-difluoro-4-methoxypropyloxy-phenyl group,
2,6-difluoro-4-methylthiomethoxy-phenyl group,
2,6-difluoro-4-ethynyl-phenyl group,
2,6-difluoro-4- (tetrahydrofuran-2-yl) methoxy-phenyl group,
2,6-difluoro-4- (1,3-dioxolan-2-yl) methoxy-phenyl group,
2,6-difluoro-4-methylthio-phenyl group,
2,6-difluoro-4- (1H-pyrazol-1-yl) -phenyl group,
2,6-difluoro-4- (1H-1,2,4-triazol-1-yl) -phenyl group,
2,6-difluoro-4-cyclopropylmethoxy-phenyl group,
2,6-difluoro-4-acetyloxy-phenyl group,
2,6-difluoro-4-dimethyliminooxy-phenyl group,
2,6-difluoro-4-benzyloxy-phenyl group,
2,6-difluoro-4- (4-methoxyphenoxy) -phenyl group,
2,6-difluoro-4-cyano-phenyl group,
2,6-difluoro-4-methylamino-phenyl group,
Or the compound according to any one of [1] to [3] and [5] to [13], which represents a 2,6-difluoro-4-dimethylamino-phenyl group, or a salt thereof.

[25] Xが、
酸素原子である、[1]〜[3]、[5]〜[24]のいずれか1つに記載の化合物、またはその塩。
[25] X is
The compound according to any one of [1] to [3] and [5] to [24], which is an oxygen atom, or a salt thereof.

[26] Xが、
硫黄原子である、[1]〜[3]、[5]〜[24]のいずれか1つに記載の化合物、またはその塩。
[26] X is
The compound according to any one of [1] to [3] and [5] to [24], which is a sulfur atom, or a salt thereof.

[27] 破線部を含む結合が、
二重結合である、[1]〜[3]、[5]〜[26]のいずれか1つに記載の化合物、またはその塩。
[27] The bond including the broken line portion is
The compound according to any one of [1] to [3] and [5] to [26], which is a double bond, or a salt thereof.

[28] 破線部を含む結合が、
単結合である、[1]〜[3]、[5]〜[26]のいずれか1つに記載の化合物、またはその塩。
[28] The bond including the broken line portion is
The compound according to any one of [1] to [3] and [5] to [26], which is a single bond, or a salt thereof.

[29] [1]〜[3]、[5]〜[28]に記載の化合物またはその塩を有効成分として含有する農園芸用有害生物防除剤。 [29] A pest control agent for agricultural and horticultural use, comprising the compound according to [1] to [3] or [5] to [28] or a salt thereof as an active ingredient.

[30] [1]〜[3]、[5]〜[28]に記載の化合物またはその塩を有効成分として含有する農園芸用殺菌剤。 [30] A fungicide for agricultural and horticultural use containing the compound or salt thereof according to [1] to [3] or [5] to [28] as an active ingredient.

[31] [29]に記載の農園芸用有害生物防除剤を、植物、植物の種子、または植物を栽培する土壌に施用することを含む、植物病害を防除する方法。 [31] A method for controlling plant diseases, comprising applying the pesticidal composition for agricultural and horticultural use according to [29] to a plant, a plant seed, or a soil in which the plant is grown.

[32] [30]に記載の農園芸用殺菌剤を、植物、植物の種子、または植物を栽培する土壌に施用することを含む、植物病害を防除する方法。 [32] A method for controlling plant diseases, which comprises applying the agricultural and horticultural fungicide according to [30] to a plant, a plant seed, or a soil in which the plant is grown.

[33] 農園芸用有害生物防除剤としての[1]〜[3]、[5]〜[28]のいずれか1つに記載の化合物の使用。 [33] Use of the compound according to any one of [1] to [3] and [5] to [28] as a pesticide for agricultural and horticultural use.

[34] 農園芸用殺菌剤としての[1]〜[3]、[5]〜[28]のいずれか1つに記載の化合物の使用。 [34] Use of the compound according to any one of [1] to [3] and [5] to [28] as an agricultural and horticultural fungicide.

本発明によれば、農園芸用殺菌剤として有効である新規な化合物を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the novel compound effective as an agricultural and horticultural fungicide can be provided.

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail.

なお、特許請求の範囲および明細書中において用いられる各用語は、特に断らない限り、当該技術分野において一般的に用いられる定義によるものとする。   Each term used in the claims and the specification is defined according to a definition generally used in the technical field, unless otherwise specified.

本明細書において、使用する略号を以下に説明する。
DMF:N,N−ジメチルホルムアミド、DMSO:ジメチルスルホキシド、THF:テトラヒドロフラン、Me:メチル基、Et:エチル基、Pr:プロピル基、Bu:ブチル基、Pentyl:ペンチル基、Hexyl:ヘキシル基、Ac:アセチル基、Ph:フェニル基、Py:ピリジル基、i:イソ、sec:セカンダリ、t:ターシャリ、c:シクロ、=:二重結合、≡:三重結合を表す。表のカラム中、単独の“−”は無置換を意味し、Pr、Bu、Pentyl、Hexylに関しては、接頭辞がない場合は、ノルマルを意味する。
Abbreviations used in this specification are described below.
DMF: N, N-dimethylformamide, DMSO: dimethylsulfoxide, THF: tetrahydrofuran, Me: methyl group, Et: ethyl group, Pr: propyl group, Bu: butyl group, Pentyl: pentyl group, Hexyl: hexyl group, Ac: Acetyl group, Ph: phenyl group, Py: pyridyl group, i: iso, sec: secondary, t: tertiary, c: cyclo, =: double bond, ≡: triple bond. In the columns of the table, a single “-” means no substitution, and Pr, Bu, Pentyl, and Hexyl mean normal when there is no prefix.

以下に、本明細書中に使用される用語の定義を説明する。   Hereinafter, definitions of terms used in the present specification will be described.

Cx〜Cyとの記載は、x個からy個の炭素原子を有することを表す。   The description Cx-Cy indicates that it has x to y carbon atoms.

用語「適宜置換されてもよい」とは、置換または無置換であることを意味する。この用語を用いる際、置換基の数が明示されていないときは、置換基の数は1であることを表す。   The term "optionally substituted" means substituted or unsubstituted. In using this term, when the number of substituents is not specified, it indicates that the number of substituents is 1.

C1〜C6のアルキル基とは、直鎖状または分岐状でよく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、2−メチルブチル基、ネオペンチル基、1−エチルプロピル基、ヘキシル基、4−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、1−メチルペンチル基、3,3−ジメチルブチル基、2,2−ジメチルブチル基、1,1−ジメチルブチル基、1,2−ジメチルブチル基、1,3−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル基、2−エチルブチル基等が挙げられる。   The C1 to C6 alkyl group may be linear or branched, and may be methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, sec-butyl, t-butyl, pentyl, isopentyl. Group, 2-methylbutyl group, neopentyl group, 1-ethylpropyl group, hexyl group, 4-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 1-methylpentyl group, 3,3-dimethylbutyl group , 2,2-dimethylbutyl group, 1,1-dimethylbutyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 2-ethylbutyl group and the like.

ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。   The halogen atom includes a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom and the like.

C1〜C6のハロアルキル基とは、前記のC1〜C6のアルキル基における水素原子が1個または2個以上のハロゲン原子によって任意に置換されたものを表す。2個以上のハロゲン原子で置換される場合、それらのハロゲン原子は同一または異なっていてよく、その置換数は置換基として存在することができる限り特に制限はない。C1〜C6のハロアルキル基の具体例として、モノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、モノクロロメチル基、モノブロモメチル基、モノヨードメチル基、クロロジフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基、1−フルオロエチル基、2−フルオロエチル基、1,1−ジフルオロエチル基、2,2−ジフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、1,1,2,2−テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、3,3−ジフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、ヘプタフルオロプロピル基、ヘプタフルオロイソプロピル基、2,2,2−トリフルオロ−1−(トリフルオロメチル)エチル基、ノナフルオロブチル基、ノナフルオロ−sec−ブチル基、3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンチル基、ウンデカフルオロペンチル基、トリデカフルオロヘキシル基等が挙げられる。   The C1 to C6 haloalkyl group means a C1 to C6 alkyl group in which a hydrogen atom is arbitrarily substituted with one or more halogen atoms. When substituted with two or more halogen atoms, those halogen atoms may be the same or different, and the number of substitution is not particularly limited as long as it can be present as a substituent. Specific examples of C1 to C6 haloalkyl groups include monofluoromethyl, difluoromethyl, trifluoromethyl, monochloromethyl, monobromomethyl, monoiodomethyl, chlorodifluoromethyl, bromodifluoromethyl, -Fluoroethyl group, 2-fluoroethyl group, 1,1-difluoroethyl group, 2,2-difluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 1,1,2,2-tetrafluoroethyl group Pentafluoroethyl group, 2,2,2-trichloroethyl group, 3,3-difluoropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, heptafluoropropyl group, heptafluoroisopropyl group, 2,2,2 -Trifluoro-1- (trifluoromethyl) ethyl group, nonafluorobutyl group, nonafluoro sec- butyl group, 3,3,4,4,5,5,5-heptafluoro-pentyl group, undecyl decafluoropentyl, tridecafluorohexyl group, and the like.

C3〜C8のシクロアルキル基とは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等が挙げられる。   The C3-C8 cycloalkyl group includes a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, and the like.

C2〜C6のアルケニル基とは、1個または2個以上の二重結合を有し、直鎖状または分岐状である不飽和炭化水素基のものを表す。また、幾何異性体がある場合、E体またはZ体のどちらか一方のみ、あるいはE体とZ体との任意の割合の混合物であり、指定される炭素数の範囲であれば、特に限定されることはない。C2〜C6のアルケニル基の具体例として、ビニル基、1−プロペニル基、アリル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、1−ペンテニル基、2−ペンテニル基、3−ペンテニル基、4−ペンテニル基、3−メチル−2−ブテニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、3−ヘキセニル基、4−ヘキセニル基、5−ヘキセニル基、4−メチル−3−ペンテニル基、3−メチル−2−ペンテニル基等が挙げられる。   The C2 to C6 alkenyl group refers to a linear or branched unsaturated hydrocarbon group having one or more double bonds. When there is a geometric isomer, only one of the E-form and the Z-form, or a mixture of the E-form and the Z-form in an arbitrary ratio is used, and if it is in the range of the specified number of carbon atoms, it is not particularly limited. Never. Specific examples of the C2 to C6 alkenyl groups include vinyl, 1-propenyl, allyl, 1-butenyl, 2-butenyl, 3-butenyl, 1-pentenyl, 2-pentenyl, and 3-pentenyl. Group, 4-pentenyl group, 3-methyl-2-butenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 3-hexenyl group, 4-hexenyl group, 5-hexenyl group, 4-methyl-3-pentenyl group, And a 3-methyl-2-pentenyl group.

C2〜C6のハロアルケニル基とは、前記のC2〜C6のアルケニル基における水素原子が1個または2個以上のハロゲン原子によって任意に置換されたものを表す。2個以上のハロゲン原子で置換される場合、それらのハロゲン原子は同一または異なっていてよく、その置換数は置換基として存在することができる限り特に制限はない。C2〜C6のハロアルケニル基の具体例として、2−フルオロビニル基、2,2−ジフルオロビニル基、2,2−ジクロロビニル基、3−フルオロアリル基、3,3−ジフルオロアリル基、3,3−ジクロロアリル基、4,4−ジフルオロ−3−ブテニル基、5,5−ジフルオロ−4−ペンテニル基、6,6−ジフルオロ−5−ヘキセニル基等が挙げられる。   The C2 to C6 haloalkenyl group means a C2 to C6 alkenyl group in which a hydrogen atom is arbitrarily substituted by one or more halogen atoms. When substituted with two or more halogen atoms, those halogen atoms may be the same or different, and the number of substitution is not particularly limited as long as it can be present as a substituent. Specific examples of the C2 to C6 haloalkenyl group include a 2-fluorovinyl group, a 2,2-difluorovinyl group, a 2,2-dichlorovinyl group, a 3-fluoroallyl group, a 3,3-difluoroallyl group, Examples thereof include a 3-dichloroallyl group, a 4,4-difluoro-3-butenyl group, a 5,5-difluoro-4-pentenyl group, and a 6,6-difluoro-5-hexenyl group.

C2〜C6のアルキニル基とは、1個または2個以上の三重結合を有し、直鎖状または分岐状である不飽和炭化水素基のものを表す。C2〜C6のアルキニル基の具体例として、エチニル基、1−プロピニル基、プロパルギル基、1−ブチニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、1−ペンチニル基、2−ペンチニル基、3−ペンチニル基、4−ペンチニル基、1,1−ジメチル−2−プロピニル基、1−ヘキシニル基、2−ヘキシニル基、3−ヘキシニル基、4−ヘキシニル基、5−ヘキシニル基等が挙げられる。   The C2 to C6 alkynyl group refers to a linear or branched unsaturated hydrocarbon group having one or more triple bonds. Specific examples of the C2 to C6 alkynyl group include an ethynyl group, a 1-propynyl group, a propargyl group, a 1-butynyl group, a 2-butynyl group, a 3-butynyl group, a 1-pentynyl group, a 2-pentynyl group, and a 3-pentynyl group. Group, 4-pentynyl group, 1,1-dimethyl-2-propynyl group, 1-hexynyl group, 2-hexynyl group, 3-hexynyl group, 4-hexynyl group, 5-hexynyl group and the like.

C2〜C6のハロアルキニル基とは、前記のC2〜C6のアルキニル基における水素原子が1個または2個以上のハロゲン原子によって任意に置換されたものを表す。2個以上のハロゲン原子で置換される場合、それらのハロゲン原子は同一または異なっていてよく、その置換数は置換基として存在することができる限り特に制限はない。C2〜C6のハロアルキニル基の具体例として、2−フルオロエチニル基、2−クロロエチニル基、2−ブロモエチニル基、2−ヨードエチニル基、3,3−ジフルオロ−1−プロピニル基、3−クロロ−3,3−ジフルオロ−1−プロピニル基、3−ブロモ−3,3−ジフルオロ−1−プロピニル基、3,3,3−トリフルオロ−1−プロピニル基、4,4−ジフルオロ−1−ブチニル基、4,4−ジフルオロ−2−ブチニル基、4−クロロ−4,4−ジフルオロ−1−ブチニル基、4−クロロ−4,4−ジフルオロ−2−ブチニル基、4−ブロモ−4,4−ジフルオロ−1−ブチニル基、4−ブロモ−4,4−ジフルオロ−2−ブチニル基、4,4,4−トリフルオロ−1−ブチニル基、4,4,4−トリフルオロ−2−ブチニル基、5,5−ジフルオロ−3−ペンチニル基、5−クロロ−5,5−ジフルオロ−3−ペンチニル基、5−ブロモ−5,5−ジフルオロ−3−ペンチニル基、5,5,5−トリフルオロ−3−ペンチニル基、6,6−ジフルオロ−4−ヘキシニル基、6−クロロ−6,6−ジフルオロ−4−ヘキシニル基、6−ブロモ−6,6−ジフルオロ−4−ヘキシニル基、6,6,6−トリフルオロ−4−ヘキシニル基等が挙げられる。   The C2 to C6 haloalkynyl group refers to a C2 to C6 alkynyl group in which a hydrogen atom is arbitrarily substituted by one or more halogen atoms. When substituted with two or more halogen atoms, those halogen atoms may be the same or different, and the number of substitution is not particularly limited as long as it can be present as a substituent. Specific examples of the C2 to C6 haloalkynyl groups include 2-fluoroethynyl, 2-chloroethynyl, 2-bromoethynyl, 2-iodoethynyl, 3,3-difluoro-1-propynyl, and 3-chloro. -3,3-difluoro-1-propynyl group, 3-bromo-3,3-difluoro-1-propynyl group, 3,3,3-trifluoro-1-propynyl group, 4,4-difluoro-1-butynyl Group, 4,4-difluoro-2-butynyl group, 4-chloro-4,4-difluoro-1-butynyl group, 4-chloro-4,4-difluoro-2-butynyl group, 4-bromo-4,4 -Difluoro-1-butynyl group, 4-bromo-4,4-difluoro-2-butynyl group, 4,4,4-trifluoro-1-butynyl group, 4,4,4-trifluoro-2-butynyl group , 5 5-difluoro-3-pentynyl group, 5-chloro-5,5-difluoro-3-pentynyl group, 5-bromo-5,5-difluoro-3-pentynyl group, 5,5,5-trifluoro-3- Pentynyl group, 6,6-difluoro-4-hexynyl group, 6-chloro-6,6-difluoro-4-hexynyl group, 6-bromo-6,6-difluoro-4-hexynyl group, 6,6,6- And a trifluoro-4-hexynyl group.

C1〜C6のアルコキシ基とは、前記のC1〜C6のアルキル基が酸素原子を介して結合したものを表す。C1〜C6のアルコキシ基として、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、2−メチルブトキシ基、ネオペンチルオキシ基、1−エチルプロピルオキシ基、ヘキシルオキシ基、4−メチルペンチルオキシ基、3−メチルペンチルオキシ基、2−メチルペンチルオキシ基、1−メチルペンチルオキシ基、3,3−ジメチルブトキシ基、2,2−ジメチルブトキシ基、1,1−ジメチルブトキシ基、1,2−ジメチルブトキシ基、1,3−ジメチルブトキシ基、2,3−ジメチルブトキシ基、2−エチルブトキシ基等が挙げられる。   The C1 to C6 alkoxy group means a group in which the above C1 to C6 alkyl group is bonded via an oxygen atom. Specific examples of the C1-C6 alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, an isopropyloxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, a sec-butoxy group, a t-butoxy group, a pentyloxy group, and an isopentyloxy group. Group, 2-methylbutoxy group, neopentyloxy group, 1-ethylpropyloxy group, hexyloxy group, 4-methylpentyloxy group, 3-methylpentyloxy group, 2-methylpentyloxy group, 1-methylpentyloxy Group, 3,3-dimethylbutoxy group, 2,2-dimethylbutoxy group, 1,1-dimethylbutoxy group, 1,2-dimethylbutoxy group, 1,3-dimethylbutoxy group, 2,3-dimethylbutoxy group, And a 2-ethylbutoxy group.

C1〜C6のハロアルコキシ基とは、前記のC1〜C6のアルコキシ基における水素原子が1個または2個以上のハロゲン原子によって任意に置換されたものを表す。2個以上のハロゲン原子で置換される場合、それらのハロゲン原子は同一または異なっていてよく、その置換数は置換基として存在することができる限り特に制限はない。C1〜C6のアルコキシ基の具体例として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、クロロジフルオロメトキシ基、ブロモジフルオロメトキシ基、2−フルオロエトキシ基、2,2−ジフルオロエトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、1,1,2,2−テトラフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、2,2,2−トリクロロエトキシ基、3,3−ジフルオロプロピルオキシ基、3,3,3−トリフルオロプロピルオキシ基、ヘプタフルオロプロピルオキシ基、ヘプタフルオロイソプロピルオキシ基、2,2,2−トリフルオロ−1−(トリフルオロメチル)−エトキシ基、ノナフルオロブトキシ基、ノナフルオロ−sec−ブトキシ基、3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンチルオキシ基、ウンデカフルオロペンチルオキシ基、トリデカフルオロヘキシルオキシ基等が挙げられる。   The C1 to C6 haloalkoxy group means a C1 to C6 alkoxy group in which a hydrogen atom is arbitrarily substituted by one or more halogen atoms. When substituted with two or more halogen atoms, those halogen atoms may be the same or different, and the number of substitution is not particularly limited as long as it can be present as a substituent. Specific examples of the C1-C6 alkoxy group include a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a chlorodifluoromethoxy group, a bromodifluoromethoxy group, a 2-fluoroethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, a 2,2,2- Trifluoroethoxy group, 1,1,2,2-tetrafluoroethoxy group, pentafluoroethoxy group, 2,2,2-trichloroethoxy group, 3,3-difluoropropyloxy group, 3,3,3-trifluoro Propyloxy group, heptafluoropropyloxy group, heptafluoroisopropyloxy group, 2,2,2-trifluoro-1- (trifluoromethyl) -ethoxy group, nonafluorobutoxy group, nonafluoro-sec-butoxy group, 3, 3,4,4,5,5,5-heptafluoropentyloxy group, c Decafluoropentyl group, tridecafluorohexyl group, and the like.

C3〜C8のシクロアルコキシ基とは、前記のC3〜C8のシクロアルキル基が酸素原子を介して結合したものを表す。C3〜C8のシクロアルコキシ基として、具体的には、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、およびシクロオクチルオキシ基が挙げられる。   The C3-C8 cycloalkoxy group refers to a C3-C8 cycloalkyl group bonded via an oxygen atom. Specific examples of the C3 to C8 cycloalkoxy group include a cyclopropyloxy group, a cyclobutoxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, and a cyclooctyloxy group.

C2〜C6のアルケニルオキシ基とは、前記のC2〜C6のアルケニル基が酸素原子を介して結合したものを表す。また、幾何異性体がある場合、E体またはZ体のどちらか一方のみ、あるいはE体とZ体との任意の割合の混合物であり、指定される炭素数の範囲であれば、特に制限されることはない。C2〜C6のアルケニルオキシ基の具体例として、ビニルオキシ基、1−プロペニルオキシ基、アリルオキシ基、1−ブテニルオキシ基、2−ブテニルオキシ基、3−ブテニルオキシ基、1−ペンテニルオキシ基、2−ペンテニルオキシ基、3−ペンテニルオキシ基、4−ペンテニルオキシ基、3−メチル−2−ブテニルオキシ基、1−ヘキセニルオキシ基、2−ヘキセニルオキシ基、3−ヘキセニルオキシ基、4−ヘキセニルオキシ基、5−ヘキセニルオキシ基、4−メチル−3−ペンテニルオキシ基、3−メチル−2−ペンテニルオキシ基等が挙げられる。   The C2-C6 alkenyloxy group refers to the above-mentioned C2-C6 alkenyl group bonded via an oxygen atom. In addition, when there is a geometric isomer, only one of the E-form or the Z-form, or a mixture of the E-form and the Z-form in an arbitrary ratio is used. Never. Specific examples of C2 to C6 alkenyloxy groups include vinyloxy, 1-propenyloxy, allyloxy, 1-butenyloxy, 2-butenyloxy, 3-butenyloxy, 1-pentenyloxy, and 2-pentenyloxy. , 3-pentenyloxy, 4-pentenyloxy, 3-methyl-2-butenyloxy, 1-hexenyloxy, 2-hexenyloxy, 3-hexenyloxy, 4-hexenyloxy, 5-hexenyloxy Group, 4-methyl-3-pentenyloxy group, 3-methyl-2-pentenyloxy group and the like.

C2〜C6のハロアルケニルオキシ基とは、前記のC2〜C6のアルケニルオキシ基における水素原子が1個または2個以上のハロゲン原子によって任意に置換されたものを表す。2個以上のハロゲン原子で置換される場合、それらのハロゲン原子は同一または異なっていてよく、その置換数は置換基として存在することができる限り特に制限はない。C2〜C6のハロアルケニルオキシ基の具体例として、2−フルオロビニルオキシ基、2,2−ジフルオロビニルオキシ基、2,2−ジクロロビニルオキシ基、3−フルオロアリルオキシ基、3,3−ジフルオロアリルオキシ基、3,3−ジクロロアリルオキシ基、4,4−ジフルオロ−3−ブテニルオキシ基、5,5−ジフルオロ−4−ペンテニルオキシ基、6,6−ジフルオロ−5−ヘキセニルオキシ基等が挙げられる。   The C2 to C6 haloalkenyloxy group refers to a C2 to C6 alkenyloxy group in which a hydrogen atom is arbitrarily substituted with one or more halogen atoms. When substituted with two or more halogen atoms, those halogen atoms may be the same or different, and the number of substitution is not particularly limited as long as it can be present as a substituent. Specific examples of the C2 to C6 haloalkenyloxy group include a 2-fluorovinyloxy group, a 2,2-difluorovinyloxy group, a 2,2-dichlorovinyloxy group, a 3-fluoroallyloxy group, and a 3,3-difluoro Allyloxy group, 3,3-dichloroallyloxy group, 4,4-difluoro-3-butenyloxy group, 5,5-difluoro-4-pentenyloxy group, 6,6-difluoro-5-hexenyloxy group and the like. Can be

C3〜C6のアルキニルオキシ基とは、前記のC2〜C6のアルキニル基のうち、C3〜C6のアルキニル基が酸素原子を介して結合したのものを表す。C3〜C6のアルキニルオキシ基の具体例として、プロパルギルオキシ基、2−ブチニルオキシ基、3−ブチニルオキシ基、2−ペンチニルオキシ基、3−ペンチニルオキシ基、4−ペンチニルオキシ基、1,1−ジメチル−2−プロピニルオキシ基、、2−ヘキシニルオキシ基、3−ヘキシニルオキシ基、4−ヘキシニルオキシ基、5−ヘキシニルオキシ基等が挙げられる。   The C3-C6 alkynyloxy group means a C3-C6 alkynyl group in which the C3-C6 alkynyl group is bonded via an oxygen atom. Specific examples of the C3-C6 alkynyloxy group include propargyloxy, 2-butynyloxy, 3-butynyloxy, 2-pentynyloxy, 3-pentynyloxy, 4-pentynyloxy, 1,1 -Dimethyl-2-propynyloxy group, 2-hexynyloxy group, 3-hexynyloxy group, 4-hexynyloxy group, 5-hexynyloxy group and the like.

C3〜C6のハロアルキニルオキシ基とは、前記のC3〜C6のアルキニルオキシ基における水素原子が1個または2個以上のハロゲン原子によって任意に置換されたものを表す。2個以上のハロゲン原子で置換される場合、それらのハロゲン原子は同一または異なっていてよく、その置換数は置換基として存在することができる限り特に制限はない。C3〜C6のハロアルキニルオキシ基の具体例として、1,1−ジフルオロ−2−プロピニルオキシ基、4,4−ジフルオロ−2−ブチニルオキシ基、4−クロロ−4,4−ジフルオロ−2−ブチニルオキシ基、4−ブロモ−4,4−ジフルオロ−2−ブチニルオキシ基、4,4,4−トリフルオロ−2−ブチニルオキシ基、5,5−ジフルオロ−3−ペンチニルオキシ基、5−クロロ−5,5−ジフルオロ−3−ペンチニルオキシ基、5−ブロモ−5,5−ジフルオロ−3−ペンチニルオキシ基、5,5,5−トリフルオロ−3−ペンチニルオキシ基、6,6−ジフルオロ−4−ヘキシニルオキシ基、6−クロロ−6,6−ジフルオロ−4−ヘキシニルオキシ基、6−ブロモ−6,6−ジフルオロ−4−ヘキシニルオキシ基、6,6,6−トリフルオロ−4−ヘキシニルオキシ基等が挙げられる。   The C3-C6 haloalkynyloxy group means a C3-C6 alkynyloxy group in which a hydrogen atom is arbitrarily substituted with one or more halogen atoms. When substituted with two or more halogen atoms, those halogen atoms may be the same or different, and the number of substitution is not particularly limited as long as it can be present as a substituent. Specific examples of the C3 to C6 haloalkynyloxy group include a 1,1-difluoro-2-propynyloxy group, a 4,4-difluoro-2-butynyloxy group, and a 4-chloro-4,4-difluoro-2-butynyloxy group. , 4-bromo-4,4-difluoro-2-butynyloxy group, 4,4,4-trifluoro-2-butynyloxy group, 5,5-difluoro-3-pentynyloxy group, 5-chloro-5,5 -Difluoro-3-pentynyloxy group, 5-bromo-5,5-difluoro-3-pentynyloxy group, 5,5,5-trifluoro-3-pentynyloxy group, 6,6-difluoro-4 -Hexynyloxy group, 6-chloro-6,6-difluoro-4-hexynyloxy group, 6-bromo-6,6-difluoro-4-hexynyloxy group, 6,6,6- Trifluoroacetic 4- hexynyloxy group.

C2〜C6のアルコキシアルコキシ基とは、前記のC1〜C6のアルコキシ基のうちC1〜C5のアルコキシ基における水素原子が、1個または2個以上のC1〜C5アルコキシ基で任意に置換されたものを表す。炭素数の総和が指定される炭素数の範囲であれば、特に限定されることはない。C2〜C6のアルコキシアルコキシ基の具体例として、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、プロピルオキシメトキシ基、イソプロピルオキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシ基、イソプロピルオキシエトキシ基、メトキシプロピルオキシ基、エトキシプロピルオキシ基、プロピルオキシプロピルオキシ基、イソプロピルオキシプロピルオキシ基等が挙げられる。   The C2 to C6 alkoxyalkoxy group is a C1 to C6 alkoxy group in which a hydrogen atom in the C1 to C5 alkoxy group is arbitrarily substituted with one or more C1 to C5 alkoxy groups. Represents There is no particular limitation as long as the sum of the carbon numbers is within the specified carbon number range. Specific examples of C2 to C6 alkoxyalkoxy groups include methoxymethoxy, ethoxymethoxy, propyloxymethoxy, isopropyloxymethoxy, methoxyethoxy, ethoxyethoxy, propyloxyethoxy, isopropyloxyethoxy, and methoxypropyl. Examples thereof include an oxy group, an ethoxypropyloxy group, a propyloxypropyloxy group, and an isopropyloxypropyloxy group.

C2〜C6のシアノアルコキシ基とは、前記のC1〜C6のアルコキシ基のうちC1〜C5のアルコキシ基における水素原子が、1個または2個以上のシアノ基で任意に置換されたものを表す。炭素数の総和が指定される炭素数の範囲であれば、特に限定されることはない。C2〜C6のシアノアルコキシ基の具体例として、アセトニトリルオキシ基、3−プロパンニトリルオキシ基、4−ブタンニトリルオキシ基、5−ペンタンニトリルオキシ基、6−ヘキサンニトリルオキシ基、2−プロパンニトリルオキシ基、2−ブタンニトリルオキシ基、2−ペンタンニトリルオキシ基、2−メチルプロパンニトリル−3−オキシ基等が挙げられる。   The C2 to C6 cyanoalkoxy group means a C1 to C6 alkoxy group in which a hydrogen atom in the C1 to C5 alkoxy group is arbitrarily substituted with one or two or more cyano groups. There is no particular limitation as long as the sum of the carbon numbers is within the specified carbon number range. Specific examples of the C2 to C6 cyanoalkoxy group include an acetonitrileoxy group, a 3-propanenitrileoxy group, a 4-butanenitrileoxy group, a 5-pentanenitrileoxy group, a 6-hexanenitrileoxy group, and a 2-propanenitrileoxy group. , 2-butanenitrileoxy group, 2-pentanenitrileoxy group, 2-methylpropanenitrile-3-oxy group, and the like.

C4〜C9のシクロアルキルアルコキシ基とは、前記のC1〜C6のアルコキシ基のうちC1〜C5のアルコキシ基における水素原子が、1個または2個以上の前記のC3〜C8のシクロアルキル基で任意に置換されたものを表す。炭素数の総和が指定される炭素数の範囲であれば、特に限定されることはない。C4〜C9のシクロアルキルアルコキシ基の具体例として、シクロプロピルメトキシ基、シクロブチルメトキシ基、シクロペンチルメトキシ基、シクロヘキシルメトキシ基、シクロへプチルメトキシ基、シクロオクチルメトキシ基、シクロプロピルエトキシ基、シクロブチルエトキシ基、シクロペンチルエトキシ基、シクロヘキシルエトキシ基、シクロプロピルプロパニルオキシ、シクロブチルプロパニルオキシ、シクロペンチルプロパニルオキシ、シクロヘキシルプロパニルオキシ等が挙げられる。   The C4-C9 cycloalkylalkoxy group means that one or two or more of the above-mentioned C3-C8 cycloalkyl groups in which the hydrogen atom in the C1-C5 alkoxy group among the above-mentioned C1-C6 alkoxy groups is arbitrary. Represents those substituted with There is no particular limitation as long as the sum of the carbon numbers is within the specified carbon number range. Specific examples of the C4-C9 cycloalkylalkoxy group include cyclopropylmethoxy, cyclobutylmethoxy, cyclopentylmethoxy, cyclohexylmethoxy, cycloheptylmethoxy, cyclooctylmethoxy, cyclopropylethoxy, cyclobutylethoxy, and cyclobutylethoxy. Group, cyclopentylethoxy group, cyclohexylethoxy group, cyclopropylpropanyloxy, cyclobutylpropanyloxy, cyclopentylpropanyloxy, cyclohexylpropanyloxy and the like.

アリール基とは、水素原子および炭素原子より構成される環状芳香族置換基を表す。アリール基の具体例として、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。   The aryl group represents a cyclic aromatic substituent composed of a hydrogen atom and a carbon atom. Specific examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group.

ヘテロアリール基とは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群より選ばれ、少なくとも1つのヘテロ原子を環の構成原子として含む環状芳香族置換基を表す。ヘテロアリール基の具体例として、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、テトラジニル基、チエニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、チアジアゾリル基、フリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、テトラゾリル基等が挙げられる。   The heteroaryl group is selected from the group consisting of a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom, and represents a cyclic aromatic substituent containing at least one hetero atom as a ring constituent atom. Specific examples of the heteroaryl group, pyridyl group, pyridazinyl group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group, triazinyl group, tetrazinyl group, thienyl group, thiazolyl group, isothiazolyl group, thiadiazolyl group, furyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, Examples include an oxazolyl group, an isoxazolyl group, a triazolyl group, an oxadiazolyl group, a thiadiazolyl group, and a tetrazolyl group.

アリールオキシ基とは、前記のアリール基が酸素原子を介して結合したものを表す。アリールオキシ基の具体例として、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等が挙げられる。   An aryloxy group refers to the above-mentioned aryl group bonded via an oxygen atom. Specific examples of the aryloxy group include a phenoxy group and a naphthyloxy group.

ヘテロアリールオキシ基とは、前記のヘテロアリール基が酸素原子を介して結合したものを表す。ヘテロアリールオキシ基の具体例として、ピリジルオキシ基、ピリダジニルオキシ基、ピリミジニルオキシ基、ピラジニルオキシ基、トリアジニルオキシ基、テトラジニルオキシ基、チエニルオキシ基、チアゾリルオキシ基、イソチアゾリルオキシ基、チアジアゾリルオキシ基、フリルオキシ基、ピロリルオキシ基、イミダゾリルオキシ基、ピラゾリルオキシ基、オキサゾリルオキシ基、イソオキサゾリルオキシ基、トリアゾリルオキシ基、オキサジアゾリルオキシ基、チアジアゾリルオキシ基、テトラゾリルオキシ基等が挙げられる。   The heteroaryloxy group refers to the above-mentioned heteroaryl group bonded via an oxygen atom. Specific examples of the heteroaryloxy group include a pyridyloxy group, a pyridazinyloxy group, a pyrimidinyloxy group, a pyrazinyloxy group, a triazinyloxy group, a tetrazinyloxy group, a thienyloxy group, a thiazolyloxy group, and an isothiazolyloxy group. Group, thiadiazolyloxy group, furyloxy group, pyrrolyloxy group, imidazolyloxy group, pyrazolyloxy group, oxazolyloxy group, isoxazolyloxy group, triazolyloxy group, oxadiazolyloxy group, thiadiazolyl group An oxy group, a tetrazolyloxy group and the like can be mentioned.

アラルキルオキシ基とは、C1〜C3のアルキル基における水素原子がフェニル基、ナフチル基等のアリール基によって置換されたアラルキル基が、酸素原子を介して結合したものを表す。アラルキルオキシ基の具体例として、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、フェニルプロピルオキシ基、ナフタレニルメトキシ基、ナフタレニルエトキシ基、ナフタレニルプロポキシ基等が挙げられる。   The aralkyloxy group refers to an aralkyl group in which a hydrogen atom in a C1 to C3 alkyl group has been substituted with an aryl group such as a phenyl group or a naphthyl group, via an oxygen atom. Specific examples of the aralkyloxy group include a benzyloxy group, a phenethyloxy group, a phenylpropyloxy group, a naphthalenylmethoxy group, a naphthalenylethoxy group, and a naphthalenylpropoxy group.

1〜2個の酸素原子を含む3〜6員環の基の具体例として、1,2−エポキシエタニル基、オキセタニル基、オキソラニル基、オキサニル基、1,3−ジオキソラニル基、1,3−ジオキサニル基、1,4−ジオキサニル基等が挙げられる。   Specific examples of the 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms include 1,2-epoxyethanyl group, oxetanyl group, oxolanyl group, oxanyl group, 1,3-dioxolanyl group, 1,3- Examples thereof include a dioxanyl group and a 1,4-dioxanyl group.

本発明のピリドン化合物は、下記式(1)で表される化合物とその塩を包含する。

Figure 2018190349
The pyridone compound of the present invention includes a compound represented by the following formula (1) and a salt thereof.
Figure 2018190349

以下、式(1)について説明する。   Hereinafter, equation (1) will be described.

式(1)のR1は、水酸基、シアノ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、C2〜C6のハロアルケニル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、C2〜C6のハロアルキニル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルコキシ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニルオキシ基、C2〜C6のハロアルケニルオキシ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3〜C6のアルキニルオキシ基、C3〜C6のハロアルキニルオキシ基、またはR10R11N−(ここで、R10およびR11は、それぞれ独立していて、水素原子、またはC1〜C6のアルキル基を表す。)を表す。   R1 in the formula (1) is a hydroxyl group, a cyano group, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1 to C6 haloalkyl group, or a C3 to C8 optionally substituted with a substituent A. A C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A, C2-C6 Haloalkynyl group, a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent A, a substituent A C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with A, a C2-C6 haloalkenyloxy group, a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with substituent A, C3-C Halo alkynyloxy group, or R10R11N- (wherein, R10, and R11 are each independent represent. A hydrogen atom or an alkyl group C1 -C6,) represents a.

中でもR1は、シアノ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、C2〜C6のハロアルケニル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、またはR10R11N−(ここで、R10およびR11は、前記と同義である。)が好ましく、
特に、置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、またはC1〜C6のハロアルキル基が好ましく、
さらに、C1〜C6のアルキル基が好ましい。
Among them, R1 is a cyano group, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1 to C6 haloalkyl group, a C3 to C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A, A C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a group A, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A, or R10R11N- (where R10 and R11 has the same meaning as described above.),
In particular, a C1-C6 alkyl group which may be appropriately substituted with the substituent A, or a C1-C6 haloalkyl group is preferable,
Further, a C1-C6 alkyl group is preferred.

式(1)の「置換基A」とは、水酸基、シアノ基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、R12R13N−(ここで、R12およびR13は、それぞれ独立していて、水素原子、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはR12およびR13は、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)、およびR14−L1−(ここで、R14は、C1〜C6のアルキル基、またはC1〜C6のハロアルキル基を表し、L1は、S、SO、またはSOを表す。)からなる群から選択される少なくとも1種を表す。The “substituent A” in the formula (1) includes a hydroxyl group, a cyano group, a C3 to C8 cycloalkyl group, a C1 to C6 alkoxy group, a C1 to C6 haloalkoxy group, a C3 to C8 cycloalkoxy group, and R12R13N. -(Where R12 and R13 are each independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group, or R12 and R13 are And a nitrogen atom to be bonded to form an aziridinyl group, an azetidinyl group, a pyrrolidinyl group, a piperidinyl group, a homopiperidinyl group, or an azocanyl group.) And R14-L1- (where R14 is represents an alkyl group or a haloalkyl group of C1 -C6, a C1 -C6, L1 is, S, SO, or SO 2 Represents at least one selected from the group consisting of:

中でも置換基Aは、シアノ基、C1〜C6のアルコキシ基、またはR14−L1−(ここで、R14およびL1は、前記と同義である。)が好ましく、
特に、シアノ基、またはC1〜C6のアルコキシ基が好ましい。
Among them, the substituent A is preferably a cyano group, a C1 to C6 alkoxy group, or R14-L1- (where R14 and L1 have the same meanings as described above).
Particularly, a cyano group or a C1 to C6 alkoxy group is preferable.

置換基Aの好ましい具体例として、水酸基;シアノ基;
C3〜C8のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、およびシクロヘキシル基;
C1〜C6のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、およびイソプロピルオキシ基;
C1〜C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2−ジフルオロエトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、3,3−ジフルオロプロピルオキシ基、および3,3,3−トリフルオロプロピルオキシ基;
C3〜C8のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、およびシクロヘキシルオキシ基;
R12R13N−(ここで、R12およびR13は、前記と同義である。)として、アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、およびジエチルアミノ基;
ならびにR14−L1−(ここで、R14およびL1は、前記と同義である。)として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメタンスルフィニル基、およびトリフルオロメタンスルホニル基が挙げられる。
Preferred specific examples of the substituent A include a hydroxyl group; a cyano group;
As a C3-C8 cycloalkyl group, a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group;
A C1-C6 alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, and an isopropyloxy group;
As C1 to C6 haloalkoxy groups, difluoromethoxy, trifluoromethoxy, 2,2-difluoroethoxy, 2,2,2-trifluoroethoxy, 3,3-difluoropropyloxy, and 3,3 , 3-trifluoropropyloxy group;
A C3-C8 cycloalkoxy group such as a cyclopropyloxy group, a cyclobutoxy group, a cyclopentyloxy group, and a cyclohexyloxy group;
R12R13N- (where R12 and R13 have the same meanings as described above), such as an amino group, a dimethylamino group, an ethylmethylamino group, and a diethylamino group;
And R14-L1- (where R14 and L1 have the same meanings as described above) include a methylthio group, a methanesulfinyl group, a methanesulfonyl group, a trifluoromethylthio group, a trifluoromethanesulfinyl group, and a trifluoromethanesulfonyl group. No.

置換基Aのさらに好ましい具体例として、水酸基;シアノ基;
C3〜C8のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、およびシクロブチル基;
C1〜C6のアルコキシ基として、メトキシ基、およびエトキシ基;
C1〜C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2−ジフルオロエトキシ基、および2,2,2−トリフルオロエトキシ基;
C3〜C8のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、およびシクロブトキシ基;
R12R13N−(ここで、R12およびR13は、前記と同義である。)として、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、およびジエチルアミノ基;
ならびにR14−L1−(ここで、R14およびL1は、前記と同義である。)として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、およびメタンスルホニル基が挙げられる。
More preferred specific examples of the substituent A include a hydroxyl group; a cyano group;
A C3-C8 cycloalkyl group such as a cyclopropyl group and a cyclobutyl group;
A methoxy group and an ethoxy group as the C1-C6 alkoxy group;
A C1-C6 haloalkoxy group such as a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, and a 2,2,2-trifluoroethoxy group;
A C3-C8 cycloalkoxy group such as a cyclopropyloxy group and a cyclobutoxy group;
R12R13N- (where R12 and R13 have the same meanings as described above), such as a dimethylamino group, an ethylmethylamino group, and a diethylamino group;
And R14-L1- (where R14 and L1 are as defined above), include a methylthio group, a methanesulfinyl group, and a methanesulfonyl group.

式(1)のR1には、水酸基、およびシアノ基が含まれる。   R1 in the formula (1) includes a hydroxyl group and a cyano group.

式(1)のR1における「置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基」のC1〜C6のアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、またはイソブチル基であり、さらに好ましくは、メチル基、エチル基、またはプロピル基であり、特に、メチル基、またはエチル基が好ましい。置換基Aを有する場合、C1〜C6のアルキル基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。   The C1 to C6 alkyl group of the “C1 to C6 alkyl group optionally substituted with the substituent A” for R1 in the formula (1) has the same meaning as described above, and is preferably a methyl group or an ethyl group. Propyl group, isopropyl group, butyl group, or isobutyl group, more preferably, methyl group, ethyl group, or propyl group, and particularly preferably methyl group or ethyl group. When it has the substituent A, the hydrogen atom in the C1-C6 alkyl group is optionally substituted by the substituent A.

式(1)のR1における「C1〜C6のハロアルキル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、2−フルオロエチル基、2,2−ジフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、3,3−ジフルオロプロピル基、または3,3,3−トリフルオロプロピル基であり、さらに好ましくは、2−フルオロエチル基、2,2−ジフルオロエチル基、または2,2,2−トリフルオロエチル基であり、特に好ましくは、2,2−ジフルオロエチル基、または2,2,2−トリフルオロエチル基である。   The “C1 to C6 haloalkyl group” for R1 in the formula (1) is as defined above, and is preferably a 2-fluoroethyl group, a 2,2-difluoroethyl group, a 2,2,2-trifluoro group. An ethyl group, a 3,3-difluoropropyl group, or a 3,3,3-trifluoropropyl group, more preferably a 2-fluoroethyl group, a 2,2-difluoroethyl group, or a 2,2,2- It is a trifluoroethyl group, particularly preferably a 2,2-difluoroethyl group or a 2,2,2-trifluoroethyl group.

式(1)のR1における「置換基Aで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基」のC3〜C8のシクロアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、またはシクロヘキシル基であり、さらに好ましくは、シクロプロピル基、またはシクロブチル基である。置換基Aを有する場合、C3〜C8のシクロアルキル基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。   The C3-C8 cycloalkyl group of the "C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A" for R1 in the formula (1) is as defined above, and is preferably a cyclopropyl group. , A cyclobutyl group, a cyclopentyl group, or a cyclohexyl group, and more preferably a cyclopropyl group or a cyclobutyl group. When it has the substituent A, the hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkyl group is optionally substituted by the substituent A.

式(1)のR1における「置換基Aで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基」のC2〜C6のアルケニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニル基、1−プロペニル基、またはアリル基であり、さらに好ましくは、ビニル基、またはアリル基である。置換基Aを有する場合、C2〜C6のアルケニル基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。   The C2 to C6 alkenyl group of the "C2 to C6 alkenyl group optionally substituted with the substituent A" for R1 in the formula (1) has the same meaning as described above, and is preferably a vinyl group, 1- It is a propenyl group or an allyl group, and more preferably a vinyl group or an allyl group. When it has the substituent A, the hydrogen atom in the C2 to C6 alkenyl group is optionally substituted by the substituent A.

式(1)のR1における「C2〜C6のハロアルケニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、2−フルオロビニル基、2,2−ジフルオロビニル基、3−フルオロアリル基、または3,3−ジフルオロアリル基であり、さらに好ましくは、2−フルオロビニル基、または2,2−ジフルオロビニル基である。   The “C2 to C6 haloalkenyl group” for R1 in the formula (1) is as defined above, and is preferably a 2-fluorovinyl group, a 2,2-difluorovinyl group, a 3-fluoroallyl group, or It is a 3,3-difluoroallyl group, more preferably a 2-fluorovinyl group or a 2,2-difluorovinyl group.

式(1)のR1における「置換基Aで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基」のC2〜C6のアルキニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、プロパルギル基、2−ブチニル基、または3−ブチニル基であり、さらに好ましくは、プロパルギル基である。置換基Aを有する場合、C2〜C6のアルキニル基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。   The C2 to C6 alkynyl group of the "C2 to C6 alkynyl group optionally substituted with the substituent A" for R1 in the formula (1) is the same as defined above, and is preferably a propargyl group, It is a butynyl group or a 3-butynyl group, and more preferably a propargyl group. When it has the substituent A, the hydrogen atom in the C2 to C6 alkynyl group is optionally substituted by the substituent A.

式(1)のR1における「C2〜C6のハロアルキニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、4,4−ジフルオロ−2−ブチニル基、4−クロロ−4,4−ジフルオロ−2−ブチニル基、4−ブロモ−4,4−ジフルオロ−2−ブチニル基、または4,4,4−トリフルオロ−2−ブチニル基であり、さらに好ましくは、4,4−ジフルオロ−2−ブチニル基、または4,4,4−トリフルオロ−2−ブチニル基である。   The "C2-C6 haloalkynyl group" for R1 in the formula (1) is as defined above, and preferably is a 4,4-difluoro-2-butynyl group, 4-chloro-4,4-difluoro- A 2-butynyl group, a 4-bromo-4,4-difluoro-2-butynyl group, or a 4,4,4-trifluoro-2-butynyl group, and more preferably 4,4-difluoro-2-butynyl Or a 4,4,4-trifluoro-2-butynyl group.

式(1)のR1における「置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基」のC1〜C6のアルコキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、またはイソブトキシ基であり、さらに好ましくは、メトキシ基、またはエトキシ基である。置換基Aを有する場合、C1〜C6のアルコキシ基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。   The C1 to C6 alkoxy group of the "C1 to C6 alkoxy group optionally substituted with the substituent A" for R1 in the formula (1) is the same as defined above, and is preferably a methoxy group or an ethoxy group. Propyloxy group, isopropyloxy group, butoxy group, or isobutoxy group, and more preferably methoxy group or ethoxy group. When it has the substituent A, the hydrogen atom in the C1-C6 alkoxy group is optionally substituted by the substituent A.

式(1)のR1における「C1〜C6のハロアルコキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2−ジフルオロエトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、3,3−ジフルオロプロピルオキシ基、または3,3,3−トリフルオロプロピルオキシ基であり、さらに好ましくは、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2−ジフルオロエトキシ基、または2,2,2−トリフルオロエトキシ基である。   The “C1 to C6 haloalkoxy group” for R1 in the formula (1) is as defined above, and is preferably a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, a 2,2,2 A 2-trifluoroethoxy group, a 3,3-difluoropropyloxy group, or a 3,3,3-trifluoropropyloxy group, more preferably a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, or a 2,2-difluoroethoxy group; Or 2,2,2-trifluoroethoxy group.

式(1)のR1における「置換基Aで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルコキシ基」のC3〜C8のシクロアルコキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、またはシクロヘキシルオキシ基であり、さらに好ましくは、シクロプロピルオキシ基、またはシクロブトキシ基である。置換基Aを有する場合、C3〜C8のシクロアルコキシ基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。   The C3-C8 cycloalkoxy group of the "C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent A" for R1 in the formula (1) has the same meaning as defined above, and is preferably cyclopropyloxy. A cyclobutoxy group, a cyclopentyloxy group or a cyclohexyloxy group, and more preferably a cyclopropyloxy group or a cyclobutoxy group. When it has the substituent A, the hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkoxy group is optionally substituted by the substituent A.

式(1)のR1における「置換基Aで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニルオキシ基」のC2〜C6のアルケニルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニルオキシ基、1−プロペニルオキシ基、またはアリルオキシ基であり、さらに好ましくは、ビニルオキシ基である。置換基Aを有する場合、C2〜C6のアルケニルオキシ基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。   The C2 to C6 alkenyloxy group of the "C2 to C6 alkenyloxy group optionally substituted with the substituent A" for R1 in the formula (1) has the same meaning as described above, and is preferably a vinyloxy group, It is a 1-propenyloxy group or an allyloxy group, and more preferably a vinyloxy group. When it has the substituent A, the hydrogen atom in the C2 to C6 alkenyloxy group is optionally substituted by the substituent A.

式(1)のR1における「C2〜C6のハロアルケニルオキシ基」とは、前記の定義と同義であり、好ましくは、2−フルオロビニルオキシ基、2,2−ジフルオロビニルオキシ基、3−フルオロアリルオキシ基、または3,3−ジフルオロアリルオキシ基であり、さらに好ましくは、2−フルオロビニルオキシ基、または2,2−ジフルオロビニルオキシ基である。   The “C2 to C6 haloalkenyloxy group” for R1 in the formula (1) has the same meaning as the above definition, and is preferably a 2-fluorovinyloxy group, a 2,2-difluorovinyloxy group, a 3-fluoro An allyloxy group or a 3,3-difluoroallyloxy group, more preferably a 2-fluorovinyloxy group or a 2,2-difluorovinyloxy group.

式(1)のR1における「置換基Aで適宜置換されてもよいC3〜C6のアルキニルオキシ基」のC3〜C6のアルキニルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、プロパルギルオキシ基、2−ブチニルオキシ基、または3−ブチニルオキシ基であり、さらに好ましくは、プロパルギルオキシ基である。置換基Aを有する場合、C3〜C6のアルキニルオキシ基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。   The C3-C6 alkynyloxy group of the "C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with the substituent A" for R1 in the formula (1) has the same meaning as the above definition, and is preferably a propargyloxy group , A 2-butynyloxy group or a 3-butynyloxy group, and more preferably a propargyloxy group. When it has the substituent A, the hydrogen atom in the C3-C6 alkynyloxy group is optionally substituted by the substituent A.

式(1)のR1における「C3〜C6のハロアルキニルオキシ基」とは、前記の定義と同義であり、好ましくは、4,4−ジフルオロ−2−ブチニルオキシ基、4−クロロ−4,4−ジフルオロ−2−ブチニルオキシ基、4−ブロモ−4,4−ジフルオロ−2−ブチニルオキシ基、または4,4,4−トリフルオロ−2−ブチニルオキシ基であり、さらに好ましくは、4,4−ジフルオロ−2−ブチニルオキシ基、または4,4,4−トリフルオロ−2−ブチニルオキシ基である。   The “C3-C6 haloalkynyloxy group” in R1 of the formula (1) has the same meaning as defined above, and is preferably a 4,4-difluoro-2-butynyloxy group, 4-chloro-4,4- A difluoro-2-butynyloxy group, a 4-bromo-4,4-difluoro-2-butynyloxy group or a 4,4,4-trifluoro-2-butynyloxy group, more preferably 4,4-difluoro-2. -Butynyloxy group or 4,4,4-trifluoro-2-butynyloxy group.

式(1)のR1における「R10R11N−」(ここで、R10およびR11は、それぞれ独立していて、水素原子またはC1〜C6のアルキル基を表す。)のC1〜C6のアルキル基は、前記の定義と同義である。「R10R11N−」として、好ましくは、アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、およびジエチルアミノ基が挙げられ、さらに好ましくは、アミノ基、およびジメチルアミノ基が挙げられる。   The C1 to C6 alkyl group of "R10R11N-" in R1 of the formula (1) (where R10 and R11 are each independently a hydrogen atom or a C1 to C6 alkyl group) is as described above. Synonymous with the definition. "R10R11N-" preferably includes an amino group, a dimethylamino group, an ethylmethylamino group, and a diethylamino group, and more preferably includes an amino group and a dimethylamino group.

R2は、水酸基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基、置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、C2〜C6のハロアルケニル基、置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、C2〜C6のハロアルキニル基、置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルコキシ基、置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニルオキシ基、C2〜C6のハロアルケニルオキシ基、置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C6のアルキニルオキシ基、C3〜C6のハロアルキニルオキシ基、R20C(=O)−(ここで、R20は、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR21R22N−(ここで、R21およびR22は、それぞれ独立していて、水素原子、置換基B1で適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはR21およびR22は、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)を表す。)、R20C(=O)O−(ここで、R20は、前記と同義である。)、R21R22N−(ここで、R21およびR22は、前記と同義である。)、R23−L2−(ここで、R23は、C1〜C6のアルキル基、またはC1〜C6のハロアルキル基を表し、L2は、S、SO、またはSOを表す。)、R24C(=O)N(R25)−(ここで、R24は、水素原子、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR21R22N−(ここで、R21およびR22は、前記と同義である。)を表し、R25は、水素原子、置換基B1で適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表す。)、または1〜2個の酸素原子を含む3〜6員環の基を表す。R2 is a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a halogen atom, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1 to C6 haloalkyl group, and a C3 to C3 optionally substituted with a substituent B. C8 cycloalkyl group, C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent B, C2-C6 haloalkenyl group, C2-C6 alkynyl group optionally substituted with substituent B, C2- A C6 haloalkynyl group, a C1 to C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent B, a C1 to C6 haloalkoxy group, a C3 to C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent B, A C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with group B, a C2-C6 haloalkenyloxy group, a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with substituent B Group, a C3-C6 haloalkynyloxy group, R20C (= O)-(where R20 is a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 An alkoxy group, a C1 to C6 haloalkoxy group, a C3 to C8 cycloalkoxy group, or R21R22N- (wherein R21 and R22 are each independently and may be appropriately substituted with a hydrogen atom or a substituent B1. Represents a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 haloalkyl group, or a C3 to C8 cycloalkyl group, or R21 and R22 together with a bonding nitrogen atom form an aziridinyl group, an azetidinyl group, a pyrrolidinyl group; , A piperidinyl group, a homopiperidinyl group, or an azocanyl group.) 0C (= O) O- (where R20 has the same meaning as described above), R21R22N- (where R21 and R22 have the same meaning as above), R23-L2- (where R23 is the same as above). represents an alkyl group or a haloalkyl group of C1 -C6, a C1 -C6, L2 is S, SO or an SO 2), R24C (= O ) N (R25), -. ( here, R24 A hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, or R21R22N- (wherein, R21 and R22 have the same meanings as described above), and R25 represents a hydrogen atom, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B1, a C1 to C2 It represents a haloalkyl group or a cycloalkyl group of C3 -C8,. ) Or a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms.

中でもR2は、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルコキシ基、置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニルオキシ基、置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C6のアルキニルオキシ基、R20C(=O)O−(ここで、R20は、前記と同義である。)、またはR23−L2−(ここで、R23およびL2は、前記と同義である。)が好ましく、
特に、ハロゲン原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基、またはR23−L2−(ここで、R23およびL2は、前記と同義である。)が好ましく、
さらに、ハロゲン原子、C1〜C6のアルコキシ基、またはR23−L2−(ここで、R23およびL2は、前記と同義である。)が好ましい。
Among them, R2 is a hydroxyl group, a cyano group, a halogen atom, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1 to C6 haloalkyl group, a C1 to C6 optionally substituted with a substituent B. An alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent B, a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent B, a substituent B A C3-C6 alkynyloxy group, R20C (= O) O- (where R20 is as defined above), or R23-L2- (where R23 and L2 are Is the same as defined above).
Particularly, a halogen atom, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1 to C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent B, or R23-L2- (where R23 and L2 has the same meaning as described above.
Further, a halogen atom, a C1 to C6 alkoxy group, or R23-L2- (where R23 and L2 have the same meanings as described above) are preferable.

式(1)の「置換基B」とは、水酸基、シアノ基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、C2〜C6のアルコキシアルコキシ基、R21R22N−(ここで、R21およびR22は、前記と同義である。)、R23−L2−(ここで、R23およびL2は、前記と同義である。)、R26R27R28Si−(ここで、R26、R27、およびR28は、それぞれ独立していて、C1〜C6のアルキル基を表す。)、R26R27R28Si−(CH)s−O−(ここで、sは、1〜3の整数を表し、R26、R27、およびR28は、前記と同義である。)、R20C(=O)−(ここで、R20は、前記のR20と同義である。)、および1〜2個の酸素原子を含む3〜6員環の基からなる群から選択される少なくとも1種を表す。The “substituent B” in the formula (1) includes a hydroxyl group, a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, a C2 To C6 alkoxyalkoxy groups, R21R22N- (where R21 and R22 have the same meanings as described above), R23-L2- (where R23 and L2 have the same meanings as described above), and R26R27R28Si- ( Here, R26, R27, and R28 are each independently and represent a C1 to C6 alkyl group.), R26R27R28Si— (CH 2 ) s—O— (where s is an integer of 1 to 3) Wherein R26, R27, and R28 have the same meanings as described above), R20C ((O)-(where R20 has the same meaning as the above R20), and It represents at least one member selected from the group consisting of 3-6 membered group ring containing to 2 oxygen atoms.

中でも置換基Bは、シアノ基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C2〜C6のアルコキシアルコキシ基、R23−L2−(ここで、R23およびL2は、前記と同義である。)、R26R27R28Si−(ここで、R26、R27、およびR28は、前記と同義である。)、R26R27R28Si−(CH)s−O−(ここで、s、R26、R27、およびR28は、前記と同義である。)、R20C(=O)−(ここで、R20は、前記と同義である。)、または1〜2個の酸素原子を含む3〜6員環の基が好ましく、
特に、シアノ基、またはC1〜C6のアルコキシ基が好ましい。
Among them, the substituent B is a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C2-C6 alkoxyalkoxy group, R23-L2- (where R23 and L2 are as defined above). .), R26R27R28Si- (wherein, R26, R27, and R28 have the same meanings as defined above.), R26R27R28Si- (CH 2) s-O- ( wherein, s, R26, R27, and R28 are the R20C (= O)-(where R20 has the same meaning as described above), or a 3- to 6-membered ring group containing 1 or 2 oxygen atoms,
Particularly, a cyano group or a C1 to C6 alkoxy group is preferable.

置換基Bの好ましい具体例として、水酸基;シアノ基;
C3〜C8のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、およびシクロヘキシル基;
C1〜C6のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、およびイソブトキシ基;
C1〜C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2−ジフルオロエトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、3,3−ジフルオロプロピルオキシ基、および3,3,3−トリフルオロプロピルオキシ基;
C3〜C8のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、およびシクロヘキシルオキシ基;
C2〜C6のアルコキシアルコキシ基として、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、およびメトキシプロピルオキシ基;
R21R22N−(ここで、R21およびR22は、前記のと同義である。)として、アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジニル基、およびピペリジニル基;
R23−L2−(ここで、R23およびL2は、前記と同義である。)として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメタンスルフィニル基、およびトリフルオロメタンスルホニル基;
R26R27R28Si−(ここで、R26、R27、およびR28は、前記と同義である。)として、トリメチルシリル基、およびトリエチルシリル基;
R26R27R28Si−(CH)s−O−(ここで、s、R26、R27、およびR28は、前記と同義である。)として、2−(トリメチルシリル)エトキシ基、および2−(トリエチルシリル)エトキシ基;
R20C(=O)−(ここで、R20は、前記と同義である。)として、アセチル基、プロピオニル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、シクロプロパンカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2−ジフルオロエトキシカルボニル基、3,3,3−トリフルオロプロピルオキシカルボニル基、シクロプロピルオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチルメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ピロリジニルカルボニル基、およびピペリジニルカルボニル基;
ならびに1〜2個の酸素原子を含む3〜6員環の基として、オキソラニル基、オキサニル基、1,3−ジオキソラニル基、および1,3−ジオキサニル基が挙げられる。
Preferred specific examples of the substituent B include a hydroxyl group; a cyano group;
As a C3-C8 cycloalkyl group, a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group;
A C1-C6 alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, an isopropyloxy group, a butoxy group, and an isobutoxy group;
As C1 to C6 haloalkoxy groups, difluoromethoxy, trifluoromethoxy, 2,2-difluoroethoxy, 2,2,2-trifluoroethoxy, 3,3-difluoropropyloxy, and 3,3 , 3-trifluoropropyloxy group;
A C3-C8 cycloalkoxy group such as a cyclopropyloxy group, a cyclobutoxy group, a cyclopentyloxy group, and a cyclohexyloxy group;
A C2-C6 alkoxyalkoxy group such as a methoxymethoxy group, an ethoxymethoxy group, a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, and a methoxypropyloxy group;
R21R22N- (where R21 and R22 have the same meanings as described above), such as an amino group, a dimethylamino group, an ethylmethylamino group, a diethylamino group, a pyrrolidinyl group, and a piperidinyl group;
R23-L2- (where R23 and L2 are as defined above), such as a methylthio group, a methanesulfinyl group, a methanesulfonyl group, a trifluoromethylthio group, a trifluoromethanesulfinyl group, and a trifluoromethanesulfonyl group;
R26R27R28Si- (where R26, R27 and R28 have the same meanings as described above), as a trimethylsilyl group and a triethylsilyl group;
R26R27R28Si- (CH 2) s-O- ( wherein, s, R26, R27, and R28 are the same as defined above.) As a 2- (trimethylsilyl) ethoxy, and 2- (triethylsilyl) ethoxy ;
R20C (= O)-(where R20 has the same meaning as described above) as an acetyl group, a propionyl group, a difluoroacetyl group, a trifluoroacetyl group, a cyclopropanecarbonyl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, 2,2-difluoroethoxycarbonyl group, 3,3,3-trifluoropropyloxycarbonyl group, cyclopropyloxycarbonyl group, aminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, ethylmethylaminocarbonyl group, diethylaminocarbonyl group, pyrrolidinyl A carbonyl group, and a piperidinylcarbonyl group;
In addition, examples of the 3- to 6-membered ring group containing one or two oxygen atoms include an oxolanyl group, an oxanyl group, a 1,3-dioxolanyl group, and a 1,3-dioxanyl group.

置換基Bのさらに好ましい具体例として、水酸基;シアノ基;
C3〜C8のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、およびシクロブチル基;
C1〜C6のアルコキシ基として、メトキシ基、およびエトキシ基;
C1〜C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2−ジフルオロエトキシ基、および2,2,2−トリフルオロエトキシ基;
C3〜C8のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、およびシクロブトキシ基;
C2〜C6のアルコキシアルコキシ基として、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、およびエトキシエトキシ基;
R21R22N−(ここで、R21およびR22は、前記と同義である。)として、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、およびジエチルアミノ基;
R23−L2−(ここで、R23およびL2は、前記と同義である。)として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、およびメタンスルホニル基;
R26R27R28Si−(ここで、R26、R27、およびR28は、前記と同義である。)として、トリメチルシリル基;
R26R27R28Si−(CH)s−O−(ここで、s、R26、R27、およびR28は、前記と同義である。)として、2−(トリメチルシリル)エトキシ基;
R20C(=O)−(ここで、R20は、前記と同義である。)として、アセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチルメチルアミノカルボニル基、およびジエチルアミノカルボニル基;
ならびに1〜2個の酸素原子を含む3〜6員環の基として、1,3−ジオキソラニル基、および1,3−ジオキサニル基が挙げられる。
More preferred specific examples of the substituent B include a hydroxyl group; a cyano group;
A C3-C8 cycloalkyl group such as a cyclopropyl group and a cyclobutyl group;
A methoxy group and an ethoxy group as the C1-C6 alkoxy group;
A C1-C6 haloalkoxy group such as a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, and a 2,2,2-trifluoroethoxy group;
A C3-C8 cycloalkoxy group such as a cyclopropyloxy group and a cyclobutoxy group;
A C2-C6 alkoxyalkoxy group such as a methoxymethoxy group, an ethoxymethoxy group, a methoxyethoxy group, and an ethoxyethoxy group;
R21R22N- (where R21 and R22 are as defined above), such as a dimethylamino group, an ethylmethylamino group, and a diethylamino group;
R23-L2- (where R23 and L2 have the same meaning as described above); a methylthio group, a methanesulfinyl group, and a methanesulfonyl group;
R26R27R28Si- (where R26, R27 and R28 have the same meanings as described above), as a trimethylsilyl group;
R26R27R28Si- (CH 2) s-O- (. Here, s, R26, R27, and R28 have the same meanings as defined above) as, 2- (trimethylsilyl) ethoxy group;
R20C (= O)-(where R20 has the same meaning as described above) as an acetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, aminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group , An ethylmethylaminocarbonyl group, and a diethylaminocarbonyl group;
In addition, examples of the 3- to 6-membered ring group containing one or two oxygen atoms include a 1,3-dioxolanyl group and a 1,3-dioxanyl group.

式(1)の「置換基B1」とは、シアノ基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、およびC3〜C8のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種を表す。中でも置換基B1は、シアノ基、またはC1〜C6のアルコキシ基が好ましい。   The “substituent B1” in the formula (1) is at least one selected from the group consisting of a cyano group, a C1 to C6 alkoxy group, a C1 to C6 haloalkoxy group, and a C3 to C8 cycloalkoxy group. Represent. Among them, the substituent B1 is preferably a cyano group or a C1 to C6 alkoxy group.

置換基B1の好ましい具体例として、シアノ基;
C1〜C6のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、およびイソブトキシ基;
C1〜C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2−ジフルオロエトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、3,3−ジフルオロプロピルオキシ基、および3,3,3−トリフルオロプロピルオキシ基;
ならびにC3〜C8のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、およびシクロヘキシルオキシ基が挙げられる。
Preferred specific examples of the substituent B1 include a cyano group;
A C1-C6 alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, an isopropyloxy group, a butoxy group, and an isobutoxy group;
As C1 to C6 haloalkoxy groups, difluoromethoxy, trifluoromethoxy, 2,2-difluoroethoxy, 2,2,2-trifluoroethoxy, 3,3-difluoropropyloxy, and 3,3 , 3-trifluoropropyloxy group;
And C3-C8 cycloalkoxy groups include cyclopropyloxy, cyclobutoxy, cyclopentyloxy, and cyclohexyloxy groups.

置換基B1のさらに好ましい具体例として、シアノ基;
C1〜C6のアルコキシ基として、メトキシ基、およびエトキシ基;
C1〜C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2−ジフルオロエトキシ基、および2,2,2−トリフルオロエトキシ基;
ならびにC3〜C8のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、およびシクロブトキシ基が挙げられる。
As more preferred specific examples of the substituent B1, a cyano group;
A methoxy group and an ethoxy group as the C1-C6 alkoxy group;
A C1-C6 haloalkoxy group such as a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, and a 2,2,2-trifluoroethoxy group;
And as the C3-C8 cycloalkoxy group, a cyclopropyloxy group and a cyclobutoxy group can be mentioned.

式(1)のR2には、水酸基、シアノ基、およびニトロ基が含まれる。   R2 in the formula (1) includes a hydroxyl group, a cyano group, and a nitro group.

式(1)のR2におけるハロゲン原子は、前記の定義と同義であり、好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子であり、さらに好ましくは、フッ素原子、または塩素原子である。   The halogen atom in R2 of the formula (1) has the same meaning as defined above, and is preferably a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom, and more preferably a fluorine atom or a chlorine atom.

式(1)のR2における「置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基」のC1〜C6のアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、またはイソブチル基であり、さらに好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、またはイソプロピル基であり、特に好ましくは、メチル基、またはエチル基である。置換基Bを有する場合、C1〜C6のアルキル基における水素原子が、置換基Bによって任意に置換される。   The C1 to C6 alkyl group of the "C1 to C6 alkyl group optionally substituted with the substituent B" in R2 of the formula (1) has the same meaning as described above, and is preferably a methyl group or an ethyl group. , A propyl group, an isopropyl group, a butyl group, or an isobutyl group, more preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or an isopropyl group, and particularly preferably a methyl group or an ethyl group. When it has the substituent B, the hydrogen atom in the C1-C6 alkyl group is optionally substituted by the substituent B.

式(1)のR2における「C1〜C6のハロアルキル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2−ジフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、3,3−ジフルオロプロピル基、または3,3,3−トリフルオロプロピル基であり、さらに好ましくは、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2−ジフルオロエチル基、または2,2,2−トリフルオロエチル基である。   The “C1 to C6 haloalkyl group” for R2 in the formula (1) is as defined above, and is preferably a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a 2,2-difluoroethyl group, a 2,2,2 -Trifluoroethyl group, 3,3-difluoropropyl group, or 3,3,3-trifluoropropyl group, more preferably difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2,2-difluoroethyl group, or It is a 2,2,2-trifluoroethyl group.

式(1)のR2における「置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基」のC3〜C8のシクロアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、またはシクロヘキシル基であり、さらに好ましくは、シクロプロピル基、またはシクロブチル基である。置換基Bを有する場合、C3〜C8のシクロアルキル基における水素原子が、置換基Bによって任意に置換される。   The C3-C8 cycloalkyl group of the "C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with substituent B" in R2 of the formula (1) has the same meaning as the above definition, and is preferably a cyclopropyl group. , A cyclobutyl group, a cyclopentyl group, or a cyclohexyl group, and more preferably a cyclopropyl group or a cyclobutyl group. When it has the substituent B, the hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkyl group is optionally substituted by the substituent B.

式(1)のR2における「置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基」のC2〜C6のアルケニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニル基、1−プロペニル基、アリル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、または3−ブテニル基であり、さらに好ましくは、ビニル基、1−プロペニル基、またはアリル基である。置換基Bを有する場合、C2〜C6のアルケニル基における水素原子が、置換基Bによって任意に置換される。   The C2 to C6 alkenyl group of the "C2 to C6 alkenyl group optionally substituted with the substituent B" for R2 in the formula (1) has the same meaning as described above, and is preferably a vinyl group, 1- It is a propenyl group, an allyl group, a 1-butenyl group, a 2-butenyl group or a 3-butenyl group, more preferably a vinyl group, a 1-propenyl group or an allyl group. When the compound has the substituent B, the hydrogen atom in the C2 to C6 alkenyl group is optionally substituted with the substituent B.

式(1)のR2における「C2〜C6のハロアルケニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、2−フルオロビニル基、2,2−ジフルオロビニル基、2,2−ジクロロビニル基、3−フルオロアリル基、3,3−ジフルオロアリル基、または3,3−ジクロロアリル基であり、さらに好ましくは、2−フルオロビニル基、または2,2−ジフルオロビニル基である。   The “C2 to C6 haloalkenyl group” for R2 in the formula (1) is as defined above, and is preferably a 2-fluorovinyl group, a 2,2-difluorovinyl group, or a 2,2-dichlorovinyl group. , A 3-fluoroallyl group, a 3,3-difluoroallyl group, or a 3,3-dichloroallyl group, and more preferably a 2-fluorovinyl group or a 2,2-difluorovinyl group.

式(1)のR2における「置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基」のC2〜C6のアルキニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、エチニル基、1−プロピニル基、プロパルギル基、1−ブチニル基、2−ブチニル基、または3−ブチニル基であり、さらに好ましくは、エチニル基、1−プロピニル基、またはプロパルギル基である。置換基Bを有する場合、C2〜C6のアルキニル基における水素原子が、置換基Bによって任意に置換される。   The C2 to C6 alkynyl group of the "C2 to C6 alkynyl group optionally substituted with the substituent B" in R2 of the formula (1) has the same meaning as described above, and is preferably an ethynyl group, 1- It is a propynyl group, a propargyl group, a 1-butynyl group, a 2-butynyl group or a 3-butynyl group, and more preferably an ethynyl group, a 1-propynyl group or a propargyl group. When it has the substituent B, the hydrogen atom in the C2 to C6 alkynyl group is optionally substituted by the substituent B.

式(1)のR2における「C2〜C6のハロアルキニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、3,3−ジフルオロ−1−プロピニル基、3,3,3−トリフルオロ−1−プロピニル基、4,4−ジフルオロ−1−ブチニル基、4,4−ジフルオロ−2−ブチニル基、4,4,4−トリフルオロ−1−ブチニル基、または4,4,4−トリフルオロ−2−ブチニル基であり、さらに好ましくは、3,3−ジフルオロ−1−プロピニル基、または3,3,3−トリフルオロ−1−プロピニル基である。   The “C2 to C6 haloalkynyl group” for R2 in the formula (1) is as defined above, and is preferably a 3,3-difluoro-1-propynyl group, 3,3,3-trifluoro-1. -Propynyl group, 4,4-difluoro-1-butynyl group, 4,4-difluoro-2-butynyl group, 4,4,4-trifluoro-1-butynyl group, or 4,4,4-trifluoro- It is a 2-butynyl group, and more preferably a 3,3-difluoro-1-propynyl group or a 3,3,3-trifluoro-1-propynyl group.

式(1)のR2における「置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基」のC1〜C6のアルコキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、またはペンチルオキシ基であり、さらに好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、またはイソプロピルオキシ基であり、特に好ましくは、メトキシ基である。置換基Bを有する場合、C1〜C6のアルコキシ基における水素原子が、置換基Bによって任意に置換される。   The C1 to C6 alkoxy group of the "C1 to C6 alkoxy group optionally substituted with the substituent B" for R2 in the formula (1) has the same meaning as described above, and is preferably a methoxy group or an ethoxy group. , Propyloxy group, isopropyloxy group, butoxy group, isobutoxy group, or pentyloxy group, more preferably methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, or isopropyloxy group, particularly preferably methoxy group is there. When it has the substituent B, the hydrogen atom in the C1-C6 alkoxy group is optionally substituted by the substituent B.

式(1)のR2における「C1〜C6のハロアルコキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2−ジフルオロエトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、3,3−ジフルオロプロピルオキシ基、または3,3,3−トリフルオロプロピルオキシ基であり、さらに好ましくは、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2−ジフルオロエトキシ基、または2,2,2−トリフルオロエトキシ基である。   The “C1 to C6 haloalkoxy group” for R2 in the formula (1) is as defined above, and is preferably a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, a 2,2 or A 2-trifluoroethoxy group, a 3,3-difluoropropyloxy group, or a 3,3,3-trifluoropropyloxy group, more preferably a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, or a 2,2-difluoroethoxy group; Or 2,2,2-trifluoroethoxy group.

式(1)のR2における「置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルコキシ基」のC3〜C8のシクロアルコキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、またはシクロヘキシルオキシ基であり、さらに好ましくは、シクロプロピルオキシ基、またはシクロブトキシ基である。置換基Bを有する場合、C3〜C8のシクロアルコキシ基における水素原子が、置換基Bによって任意に置換される。   The C3-C8 cycloalkoxy group of the "C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with substituent B" for R2 in formula (1) has the same meaning as defined above, and is preferably cyclopropyloxy. A cyclobutoxy group, a cyclopentyloxy group or a cyclohexyloxy group, and more preferably a cyclopropyloxy group or a cyclobutoxy group. When it has the substituent B, the hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkoxy group is optionally substituted by the substituent B.

式(1)のR2における「置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニルオキシ基」のC2〜C6のアルケニルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニルオキシ基、1−プロペニルオキシ基、アリルオキシ基、1−ブテニルオキシ基、2−ブテニルオキシ基、または3−ブテニルオキシ基であり、さらに好ましくは、ビニルオキシ基、1−プロペニルオキシ基、またはアリルオキシ基である。置換基Bを有する場合、C2〜C6のアルケニルオキシ基における水素原子が、置換基Bによって任意に置換される。   The C2 to C6 alkenyloxy group of the “C2 to C6 alkenyloxy group optionally substituted with the substituent B” for R2 in the formula (1) has the same meaning as described above, and is preferably a vinyloxy group, It is a 1-propenyloxy group, an allyloxy group, a 1-butenyloxy group, a 2-butenyloxy group, or a 3-butenyloxy group, and more preferably a vinyloxy group, a 1-propenyloxy group, or an allyloxy group. When it has the substituent B, the hydrogen atom in the C2-C6 alkenyloxy group is optionally substituted by the substituent B.

式(1)のR2における「C2〜C6のハロアルケニルオキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、2−フルオロビニルオキシ基、2,2−ジフルオロビニルオキシ基、2,2−ジクロロビニルオキシ基、3−フルオロアリルオキシ基、3,3−ジフルオロアリルオキシ基、または3,3−ジクロロアリルオキシ基であり、さらに好ましくは、2−フルオロビニルオキシ基、または2,2−ジフルオロビニルオキシ基である。   The “C2 to C6 haloalkenyloxy group” for R2 in the formula (1) is as defined above, and is preferably a 2-fluorovinyloxy group, a 2,2-difluorovinyloxy group, a 2,2- A dichlorovinyloxy group, a 3-fluoroallyloxy group, a 3,3-difluoroallyloxy group, or a 3,3-dichloroallyloxy group, more preferably a 2-fluorovinyloxy group or a 2,2-difluoro It is a vinyloxy group.

式(1)のR2における「置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C6のアルキニルオキシ基」のC3〜C6のアルキニルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、プロパルギルオキシ基、2−ブチニルオキシ基、または3−ブチニルオキシ基であり、さらに好ましくは、プロパルギルオキシ基である。置換基Bを有する場合、C3〜C6のアルキニルオキシ基における水素原子が、置換基Bによって任意に置換される。   The C3-C6 alkynyloxy group of the "C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with the substituent B" for R2 in the formula (1) has the same meaning as the above definition, and is preferably a propargyloxy group , A 2-butynyloxy group or a 3-butynyloxy group, and more preferably a propargyloxy group. When it has the substituent B, the hydrogen atom in the C3-C6 alkynyloxy group is optionally substituted by the substituent B.

式(1)のR2における「C3〜C6のハロアルキニルオキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、4,4−ジフルオロ−2−ブチニルオキシ基、4−クロロ−4,4−ジフルオロ−2−ブチニルオキシ基、4−ブロモ−4,4−ジフルオロ−2−ブチニルオキシ基、または4,4,4−トリフルオロ−2−ブチニルオキシ基であり、さらに好ましくは、4,4−ジフルオロ−2−ブチニルオキシ基、または4,4,4−トリフルオロ−2−ブチニルオキシ基である。   The "C3-C6 haloalkynyloxy group" in R2 of the formula (1) has the same meaning as described above, and is preferably a 4,4-difluoro-2-butynyloxy group or a 4-chloro-4,4-difluoro group. -2-butynyloxy group, 4-bromo-4,4-difluoro-2-butynyloxy group or 4,4,4-trifluoro-2-butynyloxy group, more preferably 4,4-difluoro-2- A butynyloxy group or a 4,4,4-trifluoro-2-butynyloxy group.

式(1)のR2における「R20C(=O)−」(ここで、R20は、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR21R22N−(ここで、R21およびR22は、それぞれ独立していて、水素原子、置換基B1で適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはR21およびR22は、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)を表す。)の各用語は、前記の定義と同義である。「R20C(=O)−」として、好ましくは、アセチル基、プロピオニル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、シクロプロパンカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2−ジフルオロエトキシカルボニル基、2,2,2−トリフルオロエトキシカルボニル基、シクロプロピルオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチルメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ピロリジニルカルボニル基、およびピペリジニルカルボニル基が挙げられ、さらに好ましくは、アセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチルメチルアミノカルボニル基、およびジエチルアミノカルボニル基が挙げられる。   "R20C (= O)-" in R2 of the formula (1) (where R20 is a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group) , A C1 to C6 haloalkoxy group, a C3 to C8 cycloalkoxy group, or R21R22N- (wherein R21 and R22 are each independently a hydrogen atom or a C1 to C22 optionally substituted with a substituent B1. Represents an alkyl group of C6, a haloalkyl group of C1 to C6, or a cycloalkyl group of C3 to C8, or R21 and R22 together with a bonding nitrogen atom form an aziridinyl group, an azetidinyl group, a pyrrolidinyl group, a piperidinyl group; Group, a homopiperidinyl group, or an azocanyl group.). As synonymous. As "R20C (= O)-", preferably, an acetyl group, a propionyl group, a difluoroacetyl group, a trifluoroacetyl group, a cyclopropanecarbonyl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a 2,2-difluoroethoxycarbonyl group, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl group, cyclopropyloxycarbonyl group, aminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, ethylmethylaminocarbonyl group, diethylaminocarbonyl group, pyrrolidinylcarbonyl group, and piperidinylcarbonyl group And more preferably acetyl, difluoroacetyl, trifluoroacetyl, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, aminocarbonyl, dimethylaminocarbonyl, ethylmethyl Bruno carbonyl group, and a diethylamino group.

式(1)のR2における「R20C(=O)O−」のR20は、前記と同義である。「R20C(=O)O−」として、好ましくは、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ジフルオロアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、シクロプロパンカルボニルオキシ基、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、2,2−ジフルオロエトキシカルボニルオキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシカルボニルオキシ基、シクロプロピルオキシカルボニルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基、エチルメチルアミノカルボニルオキシ基、ジエチルアミノカルボニルオキシ基、ピロリジニルカルボニルオキシ基、およびピペリジニルカルボニルオキシ基が挙げられ、より好ましくは、アセチルオキシ基、ジフルオロアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基、エチルメチルアミノカルボニルオキシ基、およびジエチルアミノカルボニルオキシ基が挙げられる。   R20 of "R20C (= O) O-" in R2 of the formula (1) is as defined above. As "R20C (= O) O-", preferably, an acetyloxy group, a propionyloxy group, a difluoroacetyloxy group, a trifluoroacetyloxy group, a cyclopropanecarbonyloxy group, a methoxycarbonyloxy group, an ethoxycarbonyloxy group, , 2-Difluoroethoxycarbonyloxy group, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyloxy group, cyclopropyloxycarbonyloxy group, aminocarbonyloxy group, dimethylaminocarbonyloxy group, ethylmethylaminocarbonyloxy group, diethylaminocarbonyloxy Group, a pyrrolidinylcarbonyloxy group, and a piperidinylcarbonyloxy group, and more preferably, an acetyloxy group, a difluoroacetyloxy group, and a trifluoroacetyloxy group. Shi group, methoxycarbonyloxy group, ethoxycarbonyloxy group, aminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, ethylmethylamino carbonyloxy groups, and diethylamino carbonyl group.

式(1)のR2における「R21R22N−」のR21およびR22は、前記と同義である。「R21R22N−」として、好ましくは、アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジニル基、およびピペリジニル基が挙げられ、さらに好ましくは、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、およびジエチルアミノ基が挙げられる。   R21 and R22 of "R21R22N-" in R2 of the formula (1) are as defined above. "R21R22N-" preferably includes an amino group, a dimethylamino group, an ethylmethylamino group, a diethylamino group, a pyrrolidinyl group, and a piperidinyl group, and more preferably a dimethylamino group, an ethylmethylamino group, and a diethylamino group. Is mentioned.

式(1)のR2における「R23−L2−」(ここで、R23は、C1〜C6のアルキル基、またはC1〜C6のハロアルキル基を表し、L2は、S、SO、またはSOを表す。)の各用語は、前記の定義と同義である。「R23−L2−」として、好ましくは、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメタンスルフィニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、(クロロメチル)チオ基、(クロロメタン)スルフィニル基、または(クロロメタン)スルホニル基であり、、さらに好ましくは、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、(クロロメチル)チオ基、(クロロメタン)スルフィニル基、または(クロロメタン)スルホニル基であり、特に好ましくは、メチルチオ基である。"R23-L2 -" in R2 of formula (1) (wherein, R23 represents an alkyl group or a haloalkyl group of C1 -C6, a C1 -C6, L2 represents S, SO, or SO 2. Each term in ()) is synonymous with the above definition. As “R23-L2-”, preferably, a methylthio group, a methanesulfinyl group, a methanesulfonyl group, a trifluoromethylthio group, a trifluoromethanesulfinyl group, a trifluoromethanesulfonyl group, a (chloromethyl) thio group, and a (chloromethane) sulfinyl group Or a (chloromethane) sulfonyl group, more preferably a methylthio group, a methanesulfinyl group, a methanesulfonyl group, a (chloromethyl) thio group, a (chloromethane) sulfinyl group, or a (chloromethane) sulfonyl group. And particularly preferably a methylthio group.

式(1)のR2における「R24C(=O)N(R25)−」(ここで、R24は、水素原子、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR21R22N−(ここで、R21およびR22は、前記と同義である。)を表し、R25は、水素原子、置換基B1で適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表す。)の各用語は、前記の定義と同義である。R24として、好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、シクロプロピル基、メトキシ基、エトキシ基、2,2−ジフルオロエトキシ、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、シクロプロピルオキシ基、アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジニル基、およびピペリジニル基が挙げられ、さらに好ましくは、水素原子、メチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、エトキシ基、アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、およびジエチルアミノ基が挙げられる。また、R25として、好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、シアノメチル基、2−シアノエチル基、2,2−ジフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、およびシクロプロピル基が挙げられ、さらに好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、シアノメチル基、2,2−ジフルオロエチル基、および2,2,2−トリフルオロエチル基が挙げられる。   "R24C (= O) N (R25)-" in R2 of the formula (1) (where R24 is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group) , A C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, or R21R22N- (where R21 and R22 have the same meanings as described above), and R25 represents hydrogen. Atom, a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 haloalkyl group, or a C3 to C8 cycloalkyl group which may be appropriately substituted with the substituent B1.) Are as defined above. . R24 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a cyclopropyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy, a 2,2,2-trifluoroethoxy. Group, cyclopropyloxy group, amino group, dimethylamino group, ethylmethylamino group, diethylamino group, pyrrolidinyl group, and piperidinyl group, more preferably, hydrogen atom, methyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group Methoxy, ethoxy, amino, dimethylamino, ethylmethylamino, and diethylamino groups. Further, as R25, preferably, a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a cyanomethyl group, a 2-cyanoethyl group, and a 2,2-difluoroethyl Group, 2,2,2-trifluoroethyl group, and cyclopropyl group, more preferably, hydrogen atom, methyl group, ethyl group, methoxymethyl group, ethoxymethyl group, methoxyethyl group, ethoxyethyl group, Examples include a cyanomethyl group, a 2,2-difluoroethyl group, and a 2,2,2-trifluoroethyl group.

式(1)のR2における「1〜2個の酸素原子を含む3〜6員環の基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、オキソラニル基、オキサニル基、1,3−ジオキソラニル基、または1,3−ジオキサニル基であり、さらに好ましくは、1,3−ジオキソラニル基、または1,3−ジオキサニル基である。   The “3- to 6-membered ring group containing 1 or 2 oxygen atoms” in R 2 of the formula (1) is as defined above, and is preferably an oxolanyl group, an oxanyl group, or a 1,3-dioxolanyl group. Or a 1,3-dioxanyl group, and more preferably a 1,3-dioxolanyl group or a 1,3-dioxanyl group.

式(1)のnは、0〜5の整数である。ただし、nが2以上のとき、2以上のR2は、それぞれ独立した置換基を表し、同一または異なっていてよく、任意に選択することができる。   N in the formula (1) is an integer of 0 to 5. However, when n is 2 or more, two or more R2s represent independent substituents, and may be the same or different, and can be arbitrarily selected.

式(1)のR3は、水素原子、ニトロ基、ハロゲン原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、C2〜C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、C2〜C6のハロアルキニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、R30−L3−(ここで、R30は、前記のR23と同義であり、L3は、前記のL2と同義である。)、R31R32N−(ここで、R31およびR32は、前記のR21およびR22と同義である。)、またはR33C(=O)−(ここで、R33は、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表す。)を表す。   R3 in the formula (1) is a hydrogen atom, a nitro group, a halogen atom, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1 to C6 haloalkyl group, or a C1 to C6 optionally substituted with a substituent C. Good C3-C8 cycloalkyl group, C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent C, C2-C6 haloalkenyl group, C2-C6 alkynyl group optionally substituted with substituent C , A C2-C6 haloalkynyl group, a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkoxy group, R30-L3- (where R30 has the same meaning as R23 described above). And L3 has the same meaning as L2 above), R31R32N- (where R31 and R32 have the same meanings as R21 and R22), or R33C (= O)-(this In, R33 represents a.) Represents an alkyl group, a haloalkyl group of C1 -C6 or a cycloalkyl group of C3 -C8, a C1 -C6.

中でもR3は、水素原子、ハロゲン原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基、またはR30−L3−(ここで、R30およびL3は、前記と同義である。)が好ましく、
特に、水素原子、ハロゲン原子、または置換基Cで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基が好ましく、
さらに、水素原子、ハロゲン原子、またはC1〜C6のアルキル基が好ましい。
Among them, R3 is a hydrogen atom, a halogen atom, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C3 to C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C, or a substituent C as appropriate. An optionally substituted C2-C6 alkynyl group, a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C, or R30-L3- (where R30 and L3 are as defined above). Is preferred,
In particular, a hydrogen atom, a halogen atom, or a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C is preferable,
Further, a hydrogen atom, a halogen atom, or a C1-C6 alkyl group is preferable.

式(1)の「置換基C」とは、水酸基、シアノ基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、R31R32N−(ここで、R31およびR32は、前記のR21およびR22と同義である。)、およびR30−L3−(ここで、R30は、前記のR23と同義であり、L3は、前記のL2と同義である。)からなる群から選択される少なくとも1種を表す。中でも置換基Cは、シアノ基、C1〜C6のアルコキシ基、またはR30−L3−(ここで、R30およびL3は、前記と同義である。)が好ましく、
特に、シアノ基、またはC1〜C6のアルコキシ基が好ましい。
The “substituent C” in the formula (1) includes a hydroxyl group, a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, R31R32N -(Where R31 and R32 have the same meanings as R21 and R22 above) and R30-L3- (where R30 has the same meaning as R23 above, and L3 has the same meaning as above L2. At least one selected from the group consisting of: Among them, the substituent C is preferably a cyano group, a C1 to C6 alkoxy group, or R30-L3- (where R30 and L3 have the same meanings as described above).
Particularly, a cyano group or a C1 to C6 alkoxy group is preferable.

置換基Cの好ましい具体例として、水酸基;シアノ基;
C3〜C8のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、およびシクロヘキシル基;
C1〜C6のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、およびイソブトキシ基;
C1〜C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2−ジフルオロエトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、3,3−ジフルオロプロピルオキシ基、および3,3,3−トリフルオロプロピルオキシ基;
C3〜C8のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、およびシクロヘキシルオキシ基;
R31R32N−(ここで、R31およびR32は、前記のR21およびR22と同義である。)として、アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジニル基、およびピペリジニル基;
ならびにR30−L3−(ここで、R30は、前記のR23と同義であり、L3は、前記のL2と同義である。)として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメタンスルフィニル基、およびトリフルオロメタンスルホニル基が挙げられる。
Preferred specific examples of the substituent C include a hydroxyl group; a cyano group;
As a C3-C8 cycloalkyl group, a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group;
A C1-C6 alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, an isopropyloxy group, a butoxy group, and an isobutoxy group;
As C1 to C6 haloalkoxy groups, difluoromethoxy, trifluoromethoxy, 2,2-difluoroethoxy, 2,2,2-trifluoroethoxy, 3,3-difluoropropyloxy, and 3,3 , 3-trifluoropropyloxy group;
A C3-C8 cycloalkoxy group such as a cyclopropyloxy group, a cyclobutoxy group, a cyclopentyloxy group, and a cyclohexyloxy group;
R31R32N- (wherein R31 and R32 have the same meanings as R21 and R22 above), as an amino group, a dimethylamino group, an ethylmethylamino group, a diethylamino group, a pyrrolidinyl group, and a piperidinyl group;
And R30-L3- (where R30 has the same meaning as R23 described above, and L3 has the same meaning as L2 above) as a methylthio group, a methanesulfinyl group, a methanesulfonyl group, a trifluoromethylthio group, A trifluoromethanesulfinyl group, and a trifluoromethanesulfonyl group.

置換基Cのさらに好ましい具体例として、水酸基;シアノ基;
C3〜C8のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、およびシクロブチル基;
C1〜C6のアルコキシ基として、メトキシ基、およびエトキシ基;
C1〜C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2−ジフルオロエトキシ基、および2,2,2−トリフルオロエトキシ基;
C3〜C8のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、およびシクロブトキシ基;
R31R32N−(ここで、R31およびR32は、前記と同義である。)として、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、およびジエチルアミノ基;
ならびにR30−L3−(ここで、R30およびL3は、前記と同義である。)として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、およびメタンスルホニル基が挙げられる。
More preferred specific examples of the substituent C include a hydroxyl group; a cyano group;
A C3-C8 cycloalkyl group such as a cyclopropyl group and a cyclobutyl group;
A methoxy group and an ethoxy group as the C1-C6 alkoxy group;
A C1-C6 haloalkoxy group such as a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, and a 2,2,2-trifluoroethoxy group;
A C3-C8 cycloalkoxy group such as a cyclopropyloxy group and a cyclobutoxy group;
R31R32N- (where R31 and R32 have the same meanings as described above), such as a dimethylamino group, an ethylmethylamino group, and a diethylamino group;
And R30-L3- (where R30 and L3 are as defined above), include a methylthio group, a methanesulfinyl group, and a methanesulfonyl group.

式(1)のR3には、水素原子、およびニトロ基が含まれる。   R3 in the formula (1) includes a hydrogen atom and a nitro group.

式(1)のR3における「ハロゲン原子」は、前記の定義と同義であり、好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子であり、さらに好ましくは、塩素原子、または臭素原子である。   The “halogen atom” for R 3 in the formula (1) is as defined above, and is preferably a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom, and more preferably a chlorine atom or a bromine atom. .

式(1)のR3における「置換基Cで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基」のC1〜C6のアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、またはイソブチル基であり、さらに好ましくは、メチル基、エチル基、またはプロピル基であり、特に好ましくは、メチル基である。置換基Cを有する場合、C1〜C6のアルキル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。   The C1 to C6 alkyl group of the "C1 to C6 alkyl group optionally substituted with the substituent C" for R3 in the formula (1) has the same meaning as described above, and is preferably a methyl group or an ethyl group. , A propyl group, an isopropyl group, a butyl group, or an isobutyl group, more preferably a methyl group, an ethyl group, or a propyl group, and particularly preferably a methyl group. When it has the substituent C, the hydrogen atom in the C1-C6 alkyl group is optionally substituted by the substituent C.

式(1)のR3における「C1〜C6のハロアルキル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2−ジフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、3,3−ジフルオロプロピル基、または3,3,3−トリフルオロプロピル基であり、さらに好ましくは、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2−ジフルオロエチル基、または2,2,2−トリフルオロエチル基である。   The “C1 to C6 haloalkyl group” for R3 in the formula (1) is as defined above, and is preferably a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a 2,2-difluoroethyl group, a 2,2,2 group. -Trifluoroethyl group, 3,3-difluoropropyl group, or 3,3,3-trifluoropropyl group, more preferably difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2,2-difluoroethyl group, or It is a 2,2,2-trifluoroethyl group.

式(1)のR3における「置換基Cで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基」のC3〜C8のシクロアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、またはシクロヘキシル基であり、さらに好ましくは、シクロプロピル基、またはシクロブチル基である。置換基Cを有する場合、C3〜C8のシクロアルキル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。   The C3-C8 cycloalkyl group of the "C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C" for R3 in formula (1) has the same meaning as defined above, and is preferably a cyclopropyl group. , A cyclobutyl group, a cyclopentyl group, or a cyclohexyl group, and more preferably a cyclopropyl group or a cyclobutyl group. When it has the substituent C, the hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkyl group is arbitrarily substituted by the substituent C.

式(1)のR3における「置換基Cで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基」のC2〜C6のアルケニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニル基、1−プロペニル基、アリル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、または3−ブテニル基であり、さらに好ましくは、ビニル基、1−プロペニル基、またはアリル基である。置換基Cを有する場合、C2〜C6のアルケニル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。   The C2-C6 alkenyl group of the "C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent C" for R3 in formula (1) is as defined above, and is preferably a vinyl group, 1- It is a propenyl group, an allyl group, a 1-butenyl group, a 2-butenyl group or a 3-butenyl group, more preferably a vinyl group, a 1-propenyl group or an allyl group. When it has the substituent C, the hydrogen atom in the C2-C6 alkenyl group is optionally substituted by the substituent C.

式(1)のR3における「C2〜C6のハロアルケニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、2−フルオロビニル基、2,2−ジフルオロビニル基、2,2−ジクロロビニル基、3−フルオロアリル基、3,3−ジフルオロアリル基、または3,3−ジクロロアリル基であり、さらに好ましくは、2−フルオロビニル基、または2,2−ジフルオロビニル基である。   The “C2 to C6 haloalkenyl group” for R3 in the formula (1) is as defined above, and is preferably a 2-fluorovinyl group, a 2,2-difluorovinyl group, or a 2,2-dichlorovinyl group. , A 3-fluoroallyl group, a 3,3-difluoroallyl group, or a 3,3-dichloroallyl group, and more preferably a 2-fluorovinyl group or a 2,2-difluorovinyl group.

式(1)のR3における「置換基Cで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基」のC2〜C6のアルキニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、エチニル基、1−プロピニル基、プロパルギル基、1−ブチニル基、2−ブチニル基、または3−ブチニル基であり、さらに好ましくは、エチニル基、1−プロピニル基、またはプロパルギル基である。置換基Cを有する場合、C2〜C6のアルキニル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。   The C2 to C6 alkynyl group of the "C2 to C6 alkynyl group optionally substituted with the substituent C" for R3 in the formula (1) has the same meaning as described above, and is preferably an ethynyl group, 1- It is a propynyl group, a propargyl group, a 1-butynyl group, a 2-butynyl group or a 3-butynyl group, and more preferably an ethynyl group, a 1-propynyl group or a propargyl group. When it has the substituent C, the hydrogen atom in the C2 to C6 alkynyl group is optionally substituted by the substituent C.

式(1)のR3における「C2〜C6のハロアルキニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、3,3−ジフルオロ−1−プロピニル基、3,3,3−トリフルオロ−1−プロピニル基、4,4−ジフルオロ−1−ブチニル基、4,4−ジフルオロ−2−ブチニル基、4,4,4−トリフルオロ−1−ブチニル基、または4,4,4−トリフルオロ−2−ブチニル基であり、さらに好ましくは、3,3−ジフルオロ−1−プロピニル基、または3,3,3−トリフルオロ−1−プロピニル基である。   The “C2 to C6 haloalkynyl group” for R3 in the formula (1) is as defined above, and preferably is a 3,3-difluoro-1-propynyl group, 3,3,3-trifluoro-1. -Propynyl group, 4,4-difluoro-1-butynyl group, 4,4-difluoro-2-butynyl group, 4,4,4-trifluoro-1-butynyl group, or 4,4,4-trifluoro- It is a 2-butynyl group, and more preferably a 3,3-difluoro-1-propynyl group or a 3,3,3-trifluoro-1-propynyl group.

式(1)のR3における「置換基Cで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基」のC1〜C6のアルコキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、またはイソブトキシ基であり、さらに好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、またはイソプロピルオキシ基である。置換基Cを有する場合、C1〜C6のアルコキシ基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。   The C1 to C6 alkoxy group of the "C1 to C6 alkoxy group optionally substituted with the substituent C" for R3 in the formula (1) is the same as defined above, and is preferably a methoxy group or an ethoxy group. Propyloxy group, isopropyloxy group, butoxy group, or isobutoxy group, and more preferably, methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, or isopropyloxy group. When it has the substituent C, the hydrogen atom in the C1-C6 alkoxy group is optionally substituted by the substituent C.

式(1)のR3における「C1〜C6のハロアルコキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2−ジフルオロエトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、3,3−ジフルオロプロピルオキシ基、または3,3,3−トリフルオロプロピルオキシ基であり、さらに好ましくは、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2−ジフルオロエトキシ基、または2,2,2−トリフルオロエトキシ基である。   The “C1 to C6 haloalkoxy group” for R3 in the formula (1) is as defined above, and is preferably a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, a 2,2,2 A 2-trifluoroethoxy group, a 3,3-difluoropropyloxy group, or a 3,3,3-trifluoropropyloxy group, more preferably a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, or a 2,2-difluoroethoxy group; Or 2,2,2-trifluoroethoxy group.

式(1)のR3における「R30−L3−」は、R30が前記のR23と同義であり、L3が前記のL2と同義である。「R30−L3−」として、好ましくは、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメタンスルフィニル基、またはトリフルオロメタンスルホニル基であり、さらに好ましくは、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、またはメタンスルホニル基である。   In "R30-L3-" in R3 of Formula (1), R30 has the same meaning as R23, and L3 has the same meaning as L2. "R30-L3-" is preferably a methylthio group, a methanesulfinyl group, a methanesulfonyl group, a trifluoromethylthio group, a trifluoromethanesulfinyl group, or a trifluoromethanesulfonyl group, more preferably a methylthio group, a methanesulfinyl group Or a methanesulfonyl group.

式(1)のR3における「R31R32N−」は、R31およびR32が、前記のR21およびR22と同義であり、好ましくは、アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジニル基、またはピペリジニル基であり、さらに好ましくは、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、またはジエチルアミノ基である。   In "R31R32N-" in R3 of the formula (1), R31 and R32 have the same meanings as R21 and R22 described above, and preferably, an amino group, a dimethylamino group, an ethylmethylamino group, a diethylamino group, a pyrrolidinyl group, or It is a piperidinyl group, more preferably a dimethylamino group, an ethylmethylamino group, or a diethylamino group.

式(1)のR3における「R33C(=O)−」(ここで、R33は、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表す。)の各用語は、前記の定義と同義である。「R33C(=O)−」として、好ましくは、アセチル基、プロピオニル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、またはシクロプロパンカルボニル基であり、さらに好ましくは、アセチル基、ジフルオロアセチル基、またはトリフルオロアセチル基である。   Each of "R33C (= O)-" in R3 of the formula (1) (here, R33 represents a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 haloalkyl group, or a C3 to C8 cycloalkyl group). The terms are as defined above. "R33C (= O)-" is preferably an acetyl group, a propionyl group, a difluoroacetyl group, a trifluoroacetyl group, or a cyclopropanecarbonyl group, and more preferably an acetyl group, a difluoroacetyl group, or a trifluoro group. Acetyl group.

式(1)のXは、酸素原子、または硫黄原子を表す。好ましいXは、酸素原子である。   X in the formula (1) represents an oxygen atom or a sulfur atom. Preferred X is an oxygen atom.

式(1)のYは、フェニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、チエニル基、チアゾリル基、またはイソチアゾリル基を表し、中でも、フェニル基、またはピリジル基が好ましく、特にフェニル基が好ましい。   Y in the formula (1) represents a phenyl group, a pyridyl group, a pyridazinyl group, a pyrimidinyl group, a pyrazinyl group, a triazinyl group, a thienyl group, a thiazolyl group, or an isothiazolyl group, and among them, a phenyl group or a pyridyl group is preferable. A phenyl group is preferred.

該フェニル基は、置換基Dがオルト位に置換し、置換基D1が、それぞれ独立して適宜0〜3置換し、さらに置換基D2が、それぞれ独立して適宜1〜4置換する。   In the phenyl group, the substituent D is substituted at the ortho position, the substituent D1 is independently substituted with 0 to 3 as appropriate, and the substituent D2 is further substituted independently with 1 to 4 as appropriate.

該ピリジル基、該ピリダジニル基、該ピリミジニル基、該ピラジニル基、または該トリアジニル基は、置換基Dがオルト位に置換し、置換基D1が、それぞれ独立して適宜0〜2置換し、さらに置換基D2が、それぞれ独立して適宜1〜2置換する。   In the pyridyl group, the pyridazinyl group, the pyrimidinyl group, the pyrazinyl group, or the triazinyl group, the substituent D is substituted at the ortho position, and the substituents D1 are each independently optionally substituted with 0 to 2, and further substituted. The group D2 is independently and appropriately substituted with 1 to 2 groups.

該チエニル基、該チアゾリル基、または該イソチアゾリル基は、置換基Dがオルト位に置換し、置換基D1が、それぞれ独立して適宜0〜1置換し、さらに置換基D2が、それぞれ独立して適宜1〜2置換する。   In the thienyl group, the thiazolyl group, or the isothiazolyl group, the substituent D is substituted at the ortho position, the substituents D1 are each independently optionally substituted with 0 to 1, and the substituents D2 are each independently substituted. Substitute 1-2 as appropriate.

式(1)の「置換基D」とは、ハロゲン原子、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、およびC1〜C6のハロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種を表す。   The “substituent D” in the formula (1) is selected from the group consisting of a halogen atom, a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 haloalkyl group, a C1 to C6 alkoxy group, and a C1 to C6 haloalkoxy group. Represents at least one type.

中でも置換基Dは、ハロゲン原子、またはC1〜C6のアルキル基が好ましく、
特に、ハロゲン原子が好ましい。
Among them, the substituent D is preferably a halogen atom or a C1 to C6 alkyl group,
Particularly, a halogen atom is preferable.

置換基Dの好ましい具体例として、
ハロゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子;
C1〜C6のアルキル基として、メチル基、エチル基、およびプロピル基;
C1〜C6のハロアルキル基として、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2−ジフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、3,3−ジフルオロプロピル基、および3,3,3−トリフルオロプロピル基;
C1〜C6のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、およびt−ブトキシ基;
ならびにC1〜C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2−ジフルオロエトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、3,3−ジフルオロプロピルオキシ基、および3,3,3−トリフルオロプロピルオキシ基が挙げられる。
As a preferable specific example of the substituent D,
As a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom;
Methyl, ethyl and propyl groups as C1-C6 alkyl groups;
As C1 to C6 haloalkyl groups, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2,2-difluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 3,3-difluoropropyl group, and 3,3,3 A trifluoropropyl group;
A C1-C6 alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, an isopropyloxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, and a t-butoxy group;
And a C1-C6 haloalkoxy group such as difluoromethoxy, trifluoromethoxy, 2,2-difluoroethoxy, 2,2,2-trifluoroethoxy, 3,3-difluoropropyloxy, and 3, A 3,3-trifluoropropyloxy group is exemplified.

置換基Dのさらに好ましい具体例として、
ハロゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、および臭素原子;
C1〜C6のアルキル基として、メチル基、およびエチル基;
C1〜C6のハロアルキル基として、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2−ジフルオロエチル基、および2,2,2−トリフルオロエチル基;C1〜C6のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、およびイソプロピルオキシ基;
ならびにC1〜C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2−ジフルオロエトキシ基、および2,2,2−トリフルオロエトキシ基が挙げられる。
As more preferred specific examples of the substituent D,
As a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom;
A methyl group and an ethyl group as the C1 to C6 alkyl group;
C1-C6 haloalkyl groups such as difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2,2-difluoroethyl group and 2,2,2-trifluoroethyl group; C1-C6 alkoxy groups such as methoxy group and ethoxy group Propyloxy and isopropyloxy groups;
In addition, examples of the C1 to C6 haloalkoxy group include a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, and a 2,2,2-trifluoroethoxy group.

式(1)の「置換基D1」とは、水酸基、ハロゲン原子、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、およびC3〜C8のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種を表す。   The “substituent D1” in the formula (1) includes a hydroxyl group, a halogen atom, a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 haloalkyl group, a C3 to C8 cycloalkyl group, a C1 to C6 alkoxy group, a C1 to C6. And at least one selected from the group consisting of C3 to C8 cycloalkoxy groups.

中でも置換基D1は、水酸基、ハロゲン原子、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、またはC1〜C6のハロアルコキシ基が好ましく、
特に、ハロゲン原子、C1〜C6のアルキル基、またはC1〜C6のアルコキシ基が好ましい。
Among them, the substituent D1 is preferably a hydroxyl group, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkoxy group, or a C1-C6 haloalkoxy group,
Particularly, a halogen atom, a C1 to C6 alkyl group, or a C1 to C6 alkoxy group is preferable.

置換基D1の好ましい具体例として、水酸基;
ハロゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子;
C1〜C6のアルキル基として、メチル基、エチル基、およびプロピル基;
C1〜C6のハロアルキル基として、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2−ジフルオロエチル基、および2,2,2−トリフルオロエチル基;
C3〜C8のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、およびシクロヘキシル基;
C1〜C6のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、およびt−ブトキシ基;
C1〜C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2−ジフルオロエトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、3,3−ジフルオロプロピルオキシ基、および3,3,3−トリフルオロプロピルオキシ基;
ならびにC3〜C8のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、およびシクロヘキシルオキシ基が挙げられる。
Preferred specific examples of the substituent D1 include a hydroxyl group;
As a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom;
Methyl, ethyl and propyl groups as C1-C6 alkyl groups;
As a C1-C6 haloalkyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a 2,2-difluoroethyl group, and a 2,2,2-trifluoroethyl group;
As a C3-C8 cycloalkyl group, a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group;
A C1-C6 alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, an isopropyloxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, and a t-butoxy group;
As C1 to C6 haloalkoxy groups, difluoromethoxy, trifluoromethoxy, 2,2-difluoroethoxy, 2,2,2-trifluoroethoxy, 3,3-difluoropropyloxy, and 3,3 , 3-trifluoropropyloxy group;
And C3-C8 cycloalkoxy groups include cyclopropyloxy, cyclobutoxy, cyclopentyloxy, and cyclohexyloxy groups.

置換基D1のさらに好ましい具体例として、水酸基;
ハロゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、および臭素原子;
C1〜C6のアルキル基として、メチル基、およびエチル基;
C1〜C6のハロアルキル基として、ジフルオロメチル基、およびトリフルオロメチル基;
C3〜C8のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、およびシクロブチル基;
C1〜C6のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、およびイソプロピルオキシ基;
C1〜C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2−ジフルオロエトキシ基、および2,2,2−トリフルオロエトキシ基;
ならびにC3〜C8のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、およびシクロブトキシ基が挙げられる。
More preferred specific examples of the substituent D1 include a hydroxyl group;
As a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom;
A methyl group and an ethyl group as the C1 to C6 alkyl group;
As a C1-C6 haloalkyl group, a difluoromethyl group and a trifluoromethyl group;
A C3-C8 cycloalkyl group such as a cyclopropyl group and a cyclobutyl group;
A C1-C6 alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, and an isopropyloxy group;
A C1-C6 haloalkoxy group such as a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, and a 2,2,2-trifluoroethoxy group;
And as the C3-C8 cycloalkoxy group, a cyclopropyloxy group and a cyclobutoxy group can be mentioned.

式(1)の「置換基D2」とは、シアノ基、ニトロ基、置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、C2〜C6ハロアルケニル基、置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、C2〜C6のハロアルキニル基、置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニルオキシ基、C2〜C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C6のアルキニルオキシ基、C3〜C6のハロアルキニルオキシ基、C2〜C6のアルコキシアルコキシ基、C2〜C6のシアノアルコキシ基、C4〜C9のシクロアルキルアルコキシ基、置換基Dで適宜置換されてもよいアリール基、置換基Dで適宜置換されてもよいヘテロアリール基、置換基Dで適宜置換されてもよいアリールオキシ基、置換基Dで適宜置換されてもよいヘテロアリールオキシ基、置換基Dで適宜置換されてもよいアラルキルオキシ基、R40(CH2)p−U−(ここで、pは、1〜3の整数を表し、R40は1〜2個の酸素原子を含む3〜6員環の基、R41R42N−(ここで、R41およびR42は、前記のR21およびR22と同義である。)、またはR43−L4−(ここで、R43は、前記のR14と同義であり、L4は、前記のL1と同義である。)を表し、Uは、酸素原子、または硫黄原子を表す。)、R41R42N−(ここで、R41およびR42は前記と同義である。)、R43−L4−(ここで、R43は、前記のR14と同義であり、L4は、前記のL1と同義である。)、R44C(=O)−(ここで、R44は、置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR41R42N−(ここで、R41およびR42は前記と同義である。)を表す。)、R44C(=O)O−(ここで、R44は、前記と同義である。)、R45C(=O)N(R46)−(ここで、R45は、水素原子、置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR41R42N−(ここで、R41およびR42は、前記と同義である。)を表し、R46は、水素原子、置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表す。)、R47R48C=N−O−(ここで、R47およびR48は、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR41R42N−(ここで、R41およびR42は、前記と同義である。)を表す。)、および1〜2個の酸素原子を含む3〜6員環の基からなる群から選択される少なくとも1種を表す。
The “substituent D2” in the formula (1) is a C2 to C6 alkenyl group, a C2 to C6 haloalkenyl group which may be appropriately substituted with a cyano group, a nitro group, or a substituent B, and is optionally substituted with a substituent B. A C2-C6 alkynyl group, a C2-C6 haloalkynyl group, a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent B, a C2-C6 haloalkenyloxy group,
A C3-C6 alkynyloxy group, a C3-C6 haloalkynyloxy group, a C2-C6 alkoxyalkoxy group, a C2-C6 cyanoalkoxy group, a C4-C9 cycloalkylalkoxy optionally substituted with a substituent B Group, an aryl group optionally substituted with a substituent D, a heteroaryl group optionally substituted with a substituent D, an aryloxy group optionally substituted with a substituent D, optionally substituted with a substituent D A heteroaryloxy group, an aralkyloxy group optionally substituted with a substituent D, R40 (CH2) pU- (where p represents an integer of 1 to 3, and R40 represents 1 to 2 A 3- to 6-membered ring group containing two oxygen atoms, R41R42N- (where R41 and R42 have the same meanings as R21 and R22 described above), or R43-L4- Here, R43 has the same meaning as R14, L4 has the same meaning as L1, and U represents an oxygen atom or a sulfur atom.), R41R42N- (here, R41 And R42 have the same meaning as described above.), R43-L4- (where R43 has the same meaning as R14, and L4 has the same meaning as L1), R44C (= O)-( Here, R44 represents a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 haloalkyl group, a C3 to C8 cycloalkyl group, a C1 to C6 alkoxy group, a C1 to C6 halo An alkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, or R41R42N- (where R41 and R42 have the same meanings as described above); R44C (= O) O- (where R44 is as defined above) Synonymous ), R45C (= O) N (R46)-(where R45 is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C6 Represents a C8 cycloalkyl group, a C1 to C6 alkoxy group, a C1 to C6 haloalkoxy group, a C3 to C8 cycloalkoxy group, or R41R42N- (where R41 and R42 are as defined above). , R46 represents a hydrogen atom, a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 haloalkyl group, or a C3 to C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A), R47R48C = NO- (Where R47 and R48 are each independently a hydrogen atom, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1 to C6 haloalkyl A C3 to C8 cycloalkyl group, a C1 to C6 alkoxy group, a C1 to C6 haloalkoxy group, a C3 to C8 cycloalkoxy group, or R41R42N- (where R41 and R42 are as defined above. . ). ), And at least one selected from the group consisting of a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms.

中でも置換基D2はシアノ基、置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニルオキシ基、置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C6のアルキニルオキシ基、C2〜C6のアルコキシアルコキシ基、C2〜C6のシアノアルコキシ基、C4〜C9のシクロアルキルアルコキシ基、置換基Dで適宜置換されてもよいヘテロアリール基、置換基Dで適宜置換されてもよいアリールオキシ基、置換基Dで適宜置換されてもよいアラルキルオキシ基、R40(CH2)p−U−(ここで、p、R40およびUは前記と同義である。)、
R41R42N−(ここで、R41およびR42は前記と同義である。)、R43−L4−(ここで、R43およびL4は、前記と同義である。)、R44C(=O)O−(ここで、R44は、前記と同義である。)、またはR47R48C=N−O−(ここで、R47およびR48は前記と同義である)が好ましく、
特に、シアノ基、置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニルオキシ基、置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C6のアルキニルオキシ基、C2〜C6のアルコキシアルコキシ基、C2〜C6のシアノアルコキシ基、C4〜C9のシクロアルキルアルコキシ基、置換基Dで適宜置換されてもよいヘテロアリール基、置換基Dで適宜置換されてもよいアリールオキシ基、置換基Dで適宜置換されてもよいアラルキルオキシ基、R40(CH2)p−U−(ここで、p、R40およびUは前記と同義である。)、
R41R42N−(ここで、R41およびR42は前記と同義である。)、R43−L4−(ここで、R43およびL4は、前記と同義である。)、R44C(=O)O−(ここで、R44は、前記と同義である。)、またはR47R48C=N−O−(ここで、R47およびR48は前記と同義である)が好ましい。
Among them, the substituent D2 is appropriately substituted with a cyano group, a C2 to C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent B, a C2 to C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent B, and a substituent B. C2-C6 alkenyloxy group, C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with substituent B, C2-C6 alkoxyalkoxy group, C2-C6 cyanoalkoxy group, C4-C9 cycloalkyl An alkoxy group, a heteroaryl group optionally substituted with a substituent D, an aryloxy group optionally substituted with a substituent D, an aralkyloxy group optionally substituted with a substituent D, R40 (CH2) p -U- (where p, R40 and U are as defined above),
R41R42N- (where R41 and R42 are as defined above), R43-L4- (where R43 and L4 are as defined above), R44C (= O) O- (where R44 is as defined above, or R47R48C = N-O- (where R47 and R48 are as defined above),
In particular, a cyano group, a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent B, a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent B, or a substituent B optionally. A C3-C6 alkynyloxy group, a C2-C6 alkoxyalkoxy group, a C2-C6 cyanoalkoxy group, a C4-C9 cycloalkylalkoxy group, a heteroaryl group optionally substituted with a substituent D, a substituent D And an aralkyloxy group optionally substituted with a substituent D, R40 (CH2) pU- (where p, R40 and U are as defined above). ,
R41R42N- (where R41 and R42 are as defined above), R43-L4- (where R43 and L4 are as defined above), R44C (= O) O- (where R44 is as defined above, or R47R48C = NO- (here, R47 and R48 are as defined above).

式(1)の置換基D2には、シアノ基、およびニトロ基が含まれる。   The substituent D2 in the formula (1) includes a cyano group and a nitro group.

式(1)の置換基D2における「置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基」のC2〜C6のアルケニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニル基、1−プロペニル基、アリル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、または3−ブテニル基であり、さらに好ましくは、ビニル基、1−プロペニル基、またはアリル基である。置換基Bを有する場合、C2〜C6のアルケニル基における水素原子が、置換基Bによって任意に置換される。   The C2 to C6 alkenyl group of the "C2 to C6 alkenyl group optionally substituted with the substituent B" in the substituent D2 of the formula (1) has the same meaning as defined above, and is preferably a vinyl group, A 1-propenyl group, an allyl group, a 1-butenyl group, a 2-butenyl group, or a 3-butenyl group is more preferable, and a vinyl group, a 1-propenyl group, or an allyl group is more preferable. When the compound has the substituent B, the hydrogen atom in the C2 to C6 alkenyl group is optionally substituted with the substituent B.

式(1)の置換基D2における「C2〜C6のハロアルケニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、2−フルオロビニル基、2,2−ジフルオロビニル基、2,2−ジクロロビニル基、3−フルオロアリル基、3,3−ジフルオロアリル基、または3,3−ジクロロアリル基であり、さらに好ましくは、2−フルオロビニル基、または2,2−ジフルオロビニル基である。   The “C2 to C6 haloalkenyl group” in the substituent D2 in the formula (1) is as defined above, and is preferably a 2-fluorovinyl group, a 2,2-difluorovinyl group, or a 2,2-dichloro group. It is a vinyl group, a 3-fluoroallyl group, a 3,3-difluoroallyl group, or a 3,3-dichloroallyl group, and more preferably a 2-fluorovinyl group or a 2,2-difluorovinyl group.

式(1)の置換基D2における「置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基」のC2〜C6のアルキニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、エチニル基、1−プロピニル基、プロパルギル基、1−ブチニル基、2−ブチニル基、または3−ブチニル基であり、さらに好ましくは、エチニル基、1−プロピニル基、またはプロパルギル基であり、特に好ましくは、エチニル基である。置換基Bを有する場合、C2〜C6のアルキニル基における水素原子が、置換基Bによって任意に置換される。   The C2 to C6 alkynyl group of the “C2 to C6 alkynyl group optionally substituted with the substituent B” in the substituent D2 of the formula (1) has the same meaning as the above definition, and is preferably an ethynyl group, A 1-propynyl group, a propargyl group, a 1-butynyl group, a 2-butynyl group, or a 3-butynyl group, more preferably an ethynyl group, a 1-propynyl group, or a propargyl group, and particularly preferably an ethynyl group; It is. When it has the substituent B, the hydrogen atom in the C2 to C6 alkynyl group is optionally substituted by the substituent B.

式(1)の置換基D2における「C2〜C6のハロアルキニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、3,3−ジフルオロ−1−プロピニル基、3,3,3−トリフルオロ−1−プロピニル基、4,4−ジフルオロ−1−ブチニル基、4,4−ジフルオロ−2−ブチニル基、4,4,4−トリフルオロ−1−ブチニル基、または4,4,4−トリフルオロ−2−ブチニル基であり、さらに好ましくは、3,3−ジフルオロ−1−プロピニル基、または3,3,3−トリフルオロ−1−プロピニル基である。   The “C2 to C6 haloalkynyl group” in the substituent D2 in the formula (1) is as defined above, and is preferably a 3,3-difluoro-1-propynyl group or a 3,3,3-trifluoro group. -1-propynyl, 4,4-difluoro-1-butynyl, 4,4-difluoro-2-butynyl, 4,4,4-trifluoro-1-butynyl, or 4,4,4-triphenyl It is a fluoro-2-butynyl group, more preferably a 3,3-difluoro-1-propynyl group or a 3,3,3-trifluoro-1-propynyl group.

式(1)の置換基D2における「置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニルオキシ基」のC2〜C6のアルケニルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニルオキシ基、1−プロペニルオキシ基、アリルオキシ基、1−ブテニルオキシ基、2−ブテニルオキシ基、または3−ブテニルオキシ基であり、さらに好ましくは、ビニルオキシ基、1−プロペニルオキシ基、またはアリルオキシ基であり、特に好ましくは、アリルオキシ基である。置換基Bを有する場合、C2〜C6のアルケニルオキシ基における水素原子が、置換基Bによって任意に置換される。   The C2 to C6 alkenyloxy group of the "C2 to C6 alkenyloxy group optionally substituted with the substituent B" in the substituent D2 of the formula (1) has the same meaning as described above, and is preferably vinyloxy. Group, 1-propenyloxy group, allyloxy group, 1-butenyloxy group, 2-butenyloxy group, or 3-butenyloxy group, more preferably vinyloxy group, 1-propenyloxy group, or allyloxy group, and particularly preferably Is an allyloxy group. When it has the substituent B, the hydrogen atom in the C2-C6 alkenyloxy group is optionally substituted by the substituent B.

式(1)の置換基D2における「C2〜C6のハロアルケニルオキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、2−フルオロビニルオキシ基、2,2−ジフルオロビニルオキシ基、2,2−ジクロロビニルオキシ基、3−フルオロアリルオキシ基、3,3−ジフルオロアリルオキシ基、または3,3−ジクロロアリルオキシ基であり、さらに好ましくは、2−フルオロビニルオキシ基、または2,2−ジフルオロビニルオキシ基である。   The “C2 to C6 haloalkenyloxy group” in the substituent D2 in the formula (1) is as defined above, and is preferably a 2-fluorovinyloxy group, a 2,2-difluorovinyloxy group, A 2-dichlorovinyloxy group, a 3-fluoroallyloxy group, a 3,3-difluoroallyloxy group, or a 3,3-dichloroallyloxy group, more preferably a 2-fluorovinyloxy group, or a 2,2 -A difluorovinyloxy group.

式(1)の置換基D2における「置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C6のアルキニルオキシ基」のC3〜C6のアルキニルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、プロパルギルオキシ基、2−ブチニルオキシ基、または3−ブチニルオキシ基であり、さらに好ましくは、プロパルギルオキシ基である。置換基Bを有する場合、C3〜C6のアルキニルオキシ基における水素原子が、置換基Bによって任意に置換される。   The C3-C6 alkynyloxy group of the "C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with the substituent B" in the substituent D2 of the formula (1) is as defined above, and is preferably propargyl. It is an oxy group, a 2-butynyloxy group or a 3-butynyloxy group, and more preferably a propargyloxy group. When it has the substituent B, the hydrogen atom in the C3-C6 alkynyloxy group is optionally substituted by the substituent B.

式(1)の置換基D2における「C3〜C6のハロアルキニルオキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、4,4−ジフルオロ−2−ブチニルオキシ基、4−クロロ−4,4−ジフルオロ−2−ブチニルオキシ基、4−ブロモ−4,4−ジフルオロ−2−ブチニルオキシ基、または4,4,4−トリフルオロ−2−ブチニルオキシ基であり、さらに好ましくは、4,4−ジフルオロ−2−ブチニルオキシ基、または4,4,4−トリフルオロ−2−ブチニルオキシ基である。   The “C3-C6 haloalkynyloxy group” in the substituent D2 of the formula (1) has the same meaning as the above definition, and is preferably a 4,4-difluoro-2-butynyloxy group, a 4-chloro-4,4 -Difluoro-2-butynyloxy group, 4-bromo-4,4-difluoro-2-butynyloxy group or 4,4,4-trifluoro-2-butynyloxy group, and more preferably 4,4-difluoro- It is a 2-butynyloxy group or a 4,4,4-trifluoro-2-butynyloxy group.

式(1)の置換基D2における「C2〜C6のアルコキシアルコキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、プロピルオキシメトキシ基、イソプロピルオキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシ基、またはメトキシプロピルオキシ基であり、さらに好ましくは、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、またはメトキシプロピルオキシ基であり、特に好ましくは、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、またはメトキシプロピルオキシ基である。   The “C2 to C6 alkoxyalkoxy group” in the substituent D2 in the formula (1) is as defined above, and is preferably a methoxymethoxy group, an ethoxymethoxy group, a propyloxymethoxy group, an isopropyloxymethoxy group, or a methoxy group. An ethoxy group, an ethoxyethoxy group, a propyloxyethoxy group, or a methoxypropyloxy group, more preferably a methoxymethoxy group, an ethoxymethoxy group, a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, or a methoxypropyloxy group, particularly preferably Is a methoxymethoxy group, a methoxyethoxy group, or a methoxypropyloxy group.

式(1)の置換基D2における「C2〜C6のシアノアルコキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、アセトニトリルオキシ基、3−プロパンニトリルオキシ基、4−ブタンニトリルオキシ基、2−プロパンニトリルオキシ基、または2−メチルプロパンニトリル−3−オキシ基であり、さらに好ましくは、アセトニトリルオキシ基、または3−プロパンニトリルオキシ基であり、特に好ましくは、アセトニトリルオキシ基である。   The “C2 to C6 cyanoalkoxy group” in the substituent D2 of the formula (1) is as defined above, and is preferably an acetonitrileoxy group, a 3-propanenitryloxy group, a 4-butanenitryloxy group, -Propanenitrileoxy group or 2-methylpropanenitrile-3-oxy group, more preferably acetonitrileoxy group or 3-propanenitrileoxy group, particularly preferably acetonitrileoxy group.

式(1)の置換基D2における「C4〜C9のシクロアルキルアルコキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピルメトキシ基、シクロブチルメトキシ基、シクロペンチルメトキシ基、シクロヘキシルメトキシ基、シクロプロピルエトキシ基、シクロブチルエトキシ基、シクロペンチルエトキシ基、シクロヘキシルエトキシ基、またはシクロプロピルプロパニルオキシ基であり、さらに好ましくは、シクロプロピルメトキシ基、シクロペンチルメトキシ基、またはシクロプロピルエトキシ基であり、特に好ましくは、シクロプロピルメトキシ基である。   The “C4-C9 cycloalkylalkoxy group” in the substituent D2 of the formula (1) has the same meaning as the above definition, and is preferably a cyclopropylmethoxy group, a cyclobutylmethoxy group, a cyclopentylmethoxy group, a cyclohexylmethoxy group, A cyclopropylethoxy group, a cyclobutylethoxy group, a cyclopentylethoxy group, a cyclohexylethoxy group, or a cyclopropylpropanyloxy group, more preferably a cyclopropylmethoxy group, a cyclopentylmethoxy group, or a cyclopropylethoxy group, Preferably, it is a cyclopropylmethoxy group.

式(1)の置換基D2における「置換基Dで適宜置換されてもよいアリール基」のアリール基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、フェニル基である。置換基Dを有する場合、アリール基における水素が、置換基Dによって任意に置換される。   The aryl group of the “aryl group optionally substituted with the substituent D” in the substituent D2 of the formula (1) has the same meaning as the above definition, and is preferably a phenyl group. When it has the substituent D, the hydrogen in the aryl group is optionally substituted by the substituent D.

式(1)の置換基D2における「置換基Dで適宜置換されてもよいヘテロアリール基」のヘテロアリール基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ピリジル基、ピラジニル基、チエニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、フリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、またはテトラゾリル基であり、さらに好ましくは、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基であり、特に好ましくは、1H−ピラゾール−1−イル基、または1H−1,2,4−トリアゾール−1−イル基である。置換基Dを有する場合、ヘテロアリール基における水素が、置換基Dによって任意に置換される。   The heteroaryl group of the “heteroaryl group optionally substituted with the substituent D” in the substituent D2 of the formula (1) is as defined above, and is preferably a pyridyl group, a pyrazinyl group, a thienyl group, Thiazolyl group, isothiazolyl group, furyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, oxazolyl group, isoxazolyl group, triazolyl group, oxadiazolyl group, or tetrazolyl group, more preferably pyridyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, triazolyl group, tetrazolyl group And particularly preferably a 1H-pyrazol-1-yl group or a 1H-1,2,4-triazol-1-yl group. When the compound has the substituent D, hydrogen in the heteroaryl group is optionally substituted by the substituent D.

式(1)の置換基D2における「置換基Dで適宜置換されてもよいアリールオキシ基」のアリールオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、フェノキシ基、またはナフチルオキシ基であり、さらに好ましくは、フェノキシ基である。置換基Dを有する場合、アリールオキシ基における水素原子が、置換基Dによって任意に置換される。置換基Dを有するアリールオキシ基として好ましくは、4−メトキシフェノキシ基である。   The aryloxy group of the “aryloxy group optionally substituted with the substituent D” in the substituent D2 of the formula (1) is as defined above, and is preferably a phenoxy group or a naphthyloxy group. And more preferably a phenoxy group. When it has the substituent D, the hydrogen atom in the aryloxy group is optionally substituted by the substituent D. The aryloxy group having the substituent D is preferably a 4-methoxyphenoxy group.

式(1)の置換基D2における「置換基Dで適宜置換されてもよいヘテロアリールオキシ基」のヘテロアリールオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ピリジルオキシ基、ピリダジニルオキシ基、ピリミジニルオキシ基、ピラジニルオキシ基、ピラゾリルオキシ基、トリアジニルオキシ基、テトラジニルオキシ基、チエニルオキシ基、チアゾリルオキシ基、イソチアゾリルオキシ基、またはチアジアゾリルオキシ基であり、さらに好ましくは、ピリジルオキシ基、ピリダジニルオキシ基、ピリミジニルオキシ基、ピラジニルオキシ基、またはピラゾリルオキシ基である。置換基Dを有する場合、ヘテロアリールオキシ基における水素原子が、置換基Dによって任意に置換される。   The heteroaryloxy group of the “heteroaryloxy group optionally substituted with the substituent D” in the substituent D2 of the formula (1) is as defined above, and is preferably a pyridyloxy group or a pyridazinyl group. Roxy group, pyrimidinyloxy group, pyrazinyloxy group, pyrazolyloxy group, triazinyloxy group, tetrazinyloxy group, thienyloxy group, thiazolyloxy group, isothiazolyloxy group, or thiadiazolyloxy group, more preferably Is a pyridyloxy group, a pyridazinyloxy group, a pyrimidinyloxy group, a pyrazinyloxy group, or a pyrazolyloxy group. When the compound has the substituent D, a hydrogen atom in the heteroaryloxy group is optionally substituted by the substituent D.

式(1)の置換基D2における「置換基Dで適宜置換されてもよいアラルキルオキシ基」のアラルキルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、またはフェニルプロピルオキシ基であり、さらに好ましくは、ベンジルオキシ基、またはフェネチルオキシ基であり、特に好ましくは、ベンジルオキシ基である。置換基Dを有する場合、アラルキルオキシ基における水素原子が、置換基Dによって任意に置換される。   The aralkyloxy group of the “aralkyloxy group optionally substituted with the substituent D” in the substituent D2 of the formula (1) is as defined above, and is preferably a benzyloxy group, a phenethyloxy group, or It is a phenylpropyloxy group, more preferably a benzyloxy group or a phenethyloxy group, particularly preferably a benzyloxy group. When it has the substituent D, the hydrogen atom in the aralkyloxy group is optionally substituted by the substituent D.

式(1)の置換基D2における「R40(CH2)p−U−」(ここで、pは、1〜3の整数を表し、R40は1〜2個の酸素原子を含む3〜6員環の基、R41R42N−(ここで、R41およびR42は、前記のR21およびR22と同義である。)、またはR43−L4−(ここで、R43は、前記のR14と同義であり、L4は、前記のL1と同義である。)を表し、Uは、酸素原子、または硫黄原子を表す。)の各用語は前記の定義と同義である。R40として、好ましくは、オキソラニル基、オキサニル基、1,3−ジオキソラニル基、1,3−ジオキサニル基、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメタンスルフィニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、(メトキシメチル)アミノ基、(2−メトキシエチル)アミノ基、(シアノメチル)アミノ基、(2−シアノエチル)アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、(メトキシメチル)メチルアミノ基、(2−メトキシエチル)メチルアミノ基、(シアノメチル)メチルアミノ基、(2−シアノエチル)メチルアミノ基、2,2−ジフルオロエチルアミノ基、2,2,2−トリフルオロエチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、(シクロプロピル)メチルアミノ基、ピロリジニル基、またはピペリジニル基であり、さらに好ましくは、オキソラニル基、オキサニル基、1,3−ジオキソラニル基、1,3−ジオキサニル基、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、またはジエチルアミノ基であり、pとして、好ましくは、1〜3の整数であり、さらに好ましくは、2〜3の整数であり、Uとして、好ましくは、酸素原子である。R40(CH2)p−U−として、好ましくは、(テトラヒドロフラン−2−イル)メトキシ基、(1,3−ジオキソラン−2−イル)メトキシ基、(ジメチルアミノ)エトキシ基、(ジメチルアミノ)プロピルオキシ基、(メチルチオ)メトキシ基、(メチルチオ)エトキシ基、または(メチルチオ)プロピル基であり、さらに好ましくは、(テトラヒドロフラン−2−イル)メトキシ基、(1,3−ジオキソラン−2−イル)メトキシ基、(ジメチルアミノ)エトキシ基、(ジメチルアミノ)プロピルオキシ基、または(メチルチオ)メトキシ基である。   "R40 (CH2) pU-" in the substituent D2 of the formula (1) (where p represents an integer of 1 to 3, and R40 is a 3- to 6-membered ring containing 1-2 oxygen atoms) R41R42N- (where R41 and R42 have the same meanings as R21 and R22 above), or R43-L4- (where R43 has the same meaning as R14 above, and L4 has the same meaning as the above. And U represents an oxygen atom or a sulfur atom.) Has the same meaning as defined above. R40 is preferably an oxolanyl group, an oxanyl group, a 1,3-dioxolanyl group, a 1,3-dioxanyl group, a methylthio group, a methanesulfinyl group, a methanesulfonyl group, a trifluoromethylthio group, a trifluoromethanesulfinyl group, a trifluoromethanesulfonyl group Group, amino group, methylamino group, ethylamino group, (methoxymethyl) amino group, (2-methoxyethyl) amino group, (cyanomethyl) amino group, (2-cyanoethyl) amino group, dimethylamino group, ethylmethylamino Group, diethylamino group, (methoxymethyl) methylamino group, (2-methoxyethyl) methylamino group, (cyanomethyl) methylamino group, (2-cyanoethyl) methylamino group, 2,2-difluoroethylamino group, 2,2-Trifluo An ethylamino group, a cyclopropylamino group, a (cyclopropyl) methylamino group, a pyrrolidinyl group, or a piperidinyl group, more preferably an oxolanyl group, an oxanyl group, a 1,3-dioxolanyl group, a 1,3-dioxanyl group, A methylthio group, a methanesulfinyl group, a methanesulfonyl group, a dimethylamino group, an ethylmethylamino group, or a diethylamino group, and p is preferably an integer of 1 to 3, more preferably an integer of 2 to 3. And U is preferably an oxygen atom. R40 (CH2) pU- is preferably a (tetrahydrofuran-2-yl) methoxy group, a (1,3-dioxolan-2-yl) methoxy group, a (dimethylamino) ethoxy group, or a (dimethylamino) propyloxy group. A (methylthio) methoxy group, a (methylthio) ethoxy group or a (methylthio) propyl group, more preferably a (tetrahydrofuran-2-yl) methoxy group or a (1,3-dioxolan-2-yl) methoxy group , (Dimethylamino) ethoxy, (dimethylamino) propyloxy, or (methylthio) methoxy.

式(1)の置換基D2における「R41R42N−」のR41およびR42は、前記と同義である。「R41R42N−」として、好ましくは、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、(メトキシメチル)アミノ基、(2−メトキシエチル)アミノ基、(シアノメチル)アミノ基、(2−シアノエチル)アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、(メトキシメチル)メチルアミノ基、(2−メトキシエチル)メチルアミノ基、(シアノメチル)メチルアミノ基、(2−シアノエチル)メチルアミノ基、2,2−ジフルオロエチルアミノ基、2,2,2−トリフルオロエチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、(シクロプロピル)メチルアミノ基、ピロリジニル基、またはピペリジニル基であり、さらに好ましくは、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、またはジエチルアミノ基であり、特に好ましくは、メチルアミノ基、またはジメチルアミノ基である。   R41 and R42 of "R41R42N-" in the substituent D2 in the formula (1) have the same meaning as described above. As "R41R42N-", preferably, an amino group, a methylamino group, an ethylamino group, a (methoxymethyl) amino group, a (2-methoxyethyl) amino group, a (cyanomethyl) amino group, a (2-cyanoethyl) amino group, Dimethylamino group, ethylmethylamino group, diethylamino group, (methoxymethyl) methylamino group, (2-methoxyethyl) methylamino group, (cyanomethyl) methylamino group, (2-cyanoethyl) methylamino group, 2,2- A difluoroethylamino group, a 2,2,2-trifluoroethylamino group, a cyclopropylamino group, a (cyclopropyl) methylamino group, a pyrrolidinyl group, or a piperidinyl group, more preferably a methylamino group or an ethylamino group , Dimethylamino group, ethylmethylamino group, or A diethylamino group, particularly preferably a methylamino group or a dimethylamino group.

式(1)の置換基D2における「R43−L4−」のR43およびL4は、前記と同義である。「R43−L4−」として、好ましくは、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメタンスルフィニル基、またはトリフルオロメタンスルホニル基であり、さらに好ましくは、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、またはメタンスルホニル基であり、特に好ましくはメチルチオ基である。   R43 and L4 of "R43-L4-" in the substituent D2 of the formula (1) are as defined above. As "R43-L4-", preferably a methylthio group, a methanesulfinyl group, a methanesulfonyl group, a trifluoromethylthio group, a trifluoromethanesulfinyl group, or a trifluoromethanesulfonyl group, more preferably a methylthio group, a methanesulfinyl group Or a methanesulfonyl group, particularly preferably a methylthio group.

式(1)の置換基D2における「R44C(=O)−」(ここで、R44は、置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR41R42N−(ここで、R41およびR42は前記と同義である。)を表す。)の各用語は、前記の定義と同義である。「R44C(=O)−」として、好ましくは、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、プロピオニル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、シクロプロパンカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2−ジフルオロエトキシカルボニル基、2,2,2−トリフルオロエトキシカルボニル基、3,3,3−トリフルオロプロピルオキシカルボニル基、シクロプロピルオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、(メトキシメチル)アミノカルボニル基、(2−メトキシエチル)アミノカルボニル基、(シアノメチル)アミノカルボニル基、(2−シアノエチル)アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチルメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、(メトキシメチル)メチルアミノカルボニル基、(2−メトキシエチル)メチルアミノカルボニル基、(シアノメチル)メチルアミノカルボニル基、(2−シアノエチル)メチルアミノカルボニル基、2,2−ジフルオロエチルアミノカルボニル基、2,2,2−トリフルオロエチルアミノカルボニル基、シクロプロピルアミノカルボニル基、(シクロプロピル)メチルアミノカルボニル基、ピロリジニルカルボニル基、またはピペリジニルカルボニル基であり、さらに好ましくは、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチルメチルアミノカルボニル基、またはジエチルアミノカルボニル基である。   “R44C (= O) —” in the substituent D2 of the formula (1) (where R44 is a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 haloalkyl group, a C3 to Represents a C8 cycloalkyl group, a C1 to C6 alkoxy group, a C1 to C6 haloalkoxy group, a C3 to C8 cycloalkoxy group, or R41R42N- (where R41 and R42 have the same meanings as described above). Each term in ()) is synonymous with the above definition. As "R44C (= O)-", preferably, acetyl, methoxyacetyl, cyanoacetyl, propionyl, difluoroacetyl, trifluoroacetyl, cyclopropanecarbonyl, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, 2 , 2-Difluoroethoxycarbonyl group, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl group, 3,3,3-trifluoropropyloxycarbonyl group, cyclopropyloxycarbonyl group, aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, ethylamino Carbonyl group, (methoxymethyl) aminocarbonyl group, (2-methoxyethyl) aminocarbonyl group, (cyanomethyl) aminocarbonyl group, (2-cyanoethyl) aminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, ethylmethyl Minocarbonyl group, diethylaminocarbonyl group, (methoxymethyl) methylaminocarbonyl group, (2-methoxyethyl) methylaminocarbonyl group, (cyanomethyl) methylaminocarbonyl group, (2-cyanoethyl) methylaminocarbonyl group, 2,2- A difluoroethylaminocarbonyl group, a 2,2,2-trifluoroethylaminocarbonyl group, a cyclopropylaminocarbonyl group, a (cyclopropyl) methylaminocarbonyl group, a pyrrolidinylcarbonyl group, or a piperidinylcarbonyl group; Preferably, acetyl group, methoxyacetyl group, cyanoacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, aminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl , Ethyl-methylaminocarbonyl group or diethylamino group.

式(1)の置換基D2における「R44C(=O)O−」のR44は、前記と同義である。「R44C(=O)O−」として、好ましくは、アセチルオキシ基、メトキシアセチルオキシ基、シアノアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ジフルオロアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、シクロプロパンカルボニルオキシ基、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、2,2−ジフルオロエトキシカルボニルオキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシカルボニルオキシ基、3,3,3−トリフルオロプロピルオキシカルボニルオキシ基、シクロプロピルオキシカルボニルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、メチルアミノカルボニルオキシ基、エチルアミノカルボニルオキシ基、(メトキシメチル)アミノカルボニルオキシ基、(2−メトキシエチル)アミノカルボニルオキシ基、(シアノメチル)アミノカルボニルオキシ基、(2−シアノエチル)アミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基、エチルメチルアミノカルボニルオキシ基、ジエチルアミノカルボニルオキシ基、(メトキシメチル)メチルアミノカルボニルオキシ基、(2−メトキシエチル)メチルアミノカルボニルオキシ基、(シアノメチル)メチルアミノカルボニルオキシ基、(2−シアノエチル)メチルアミノカルボニルオキシ基、2,2−ジフルオロエチルアミノカルボニルオキシ基、2,2,2−トリフルオロエチルアミノカルボニルオキシ基、シクロプロピルアミノカルボニルオキシ基、(シクロプロピル)メチルアミノカルボニルオキシ基、ピロリジニルカルボニルオキシ基、またはピペリジニルカルボニルオキシ基であり、さらに好ましくは、アセチルオキシ基、メトキシアセチルオキシ基、シアノアセチルオキシ基、ジフルオロアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基、エチルメチルアミノカルボニルオキシ基、またはジエチルアミノカルボニルオキシ基であり、特に好ましくは、アセチルオキシ基である。   R44 in “R44C (= O) O—” in the substituent D2 in the formula (1) has the same meaning as described above. As “R44C (= O) O—”, preferably, acetyloxy group, methoxyacetyloxy group, cyanoacetyloxy group, propionyloxy group, difluoroacetyloxy group, trifluoroacetyloxy group, cyclopropanecarbonyloxy group, methoxy Carbonyloxy group, ethoxycarbonyloxy group, 2,2-difluoroethoxycarbonyloxy group, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyloxy group, 3,3,3-trifluoropropyloxycarbonyloxy group, cyclopropyloxycarbonyl An oxy group, an aminocarbonyloxy group, a methylaminocarbonyloxy group, an ethylaminocarbonyloxy group, a (methoxymethyl) aminocarbonyloxy group, a (2-methoxyethyl) aminocarbonyloxy group, Methyl) aminocarbonyloxy group, (2-cyanoethyl) aminocarbonyloxy group, dimethylaminocarbonyloxy group, ethylmethylaminocarbonyloxy group, diethylaminocarbonyloxy group, (methoxymethyl) methylaminocarbonyloxy group, (2-methoxyethyl ) Methylaminocarbonyloxy group, (cyanomethyl) methylaminocarbonyloxy group, (2-cyanoethyl) methylaminocarbonyloxy group, 2,2-difluoroethylaminocarbonyloxy group, 2,2,2-trifluoroethylaminocarbonyloxy A cyclopropylaminocarbonyloxy group, a (cyclopropyl) methylaminocarbonyloxy group, a pyrrolidinylcarbonyloxy group, or a piperidinylcarbonyloxy group; Preferably, acetyloxy group, methoxyacetyloxy group, cyanoacetyloxy group, difluoroacetyloxy group, trifluoroacetyloxy group, methoxycarbonyloxy group, ethoxycarbonyloxy group, aminocarbonyloxy group, dimethylaminocarbonyloxy group, It is an ethylmethylaminocarbonyloxy group or a diethylaminocarbonyloxy group, particularly preferably an acetyloxy group.

式(1)の置換基D2における「R45C(=O)N(R46)−」(ここで、R45は、水素原子、置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR41R42N−(ここで、R41およびR42は、前記と同義である。)を表し、R46は、水素原子、置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表す。)の各用語は前記の定義と同義である。R45として、好ましくは、水素原子、メチル基、メトキシメチル基、シアノメチル基、エチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、シクロプロピル基、メトキシ基、エトキシ基、2,2−ジフルオロエトキシ、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、シクロプロピルオキシ基、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、(メトキシメチル)アミノ基、(2−メトキシエチル)アミノ基、(シアノメチル)アミノ基、(2−シアノエチル)アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、(メトキシメチル)メチルアミノ基、(2−メトキシエチル)メチルアミノ基、(シアノメチル)メチルアミノ基、(2−シアノエチル)メチルアミノ基、2,2−ジフルオロエチルアミノ基、2,2,2−トリフルオロエチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、(シクロプロピル)メチルアミノ基、ピロリジニル基、またはピペリジニル基であり、さらに好ましくは、水素原子、メチル基、メトキシメチル基、シアノメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、エトキシ基、アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、またはジエチルアミノ基である。また、R46として、好ましくは、水素原子、メチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、シアノメチル基、エチル基、2−メトキシエチル基、2−エトキシエチル基、2−シアノエチル基、プロピル基、2,2−ジフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、およびシクロプロピル基が挙げられ、さらに好ましくは、水素原子、メチル基、メトキシメチル基、シアノメチル基、エチル基、2−メトキシエチル基、2,2−ジフルオロエチル基、または2,2,2−トリフルオロエチル基である。   “R45C (= O) N (R46) —” in the substituent D2 of the formula (1) (where R45 is a hydrogen atom, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, A C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, or R41R42N- (where R41 and R42 are as defined above) R46 represents a hydrogen atom, a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 haloalkyl group, or a C3 to C8 cycloalkyl group which may be appropriately substituted with the substituent A.) Are the same as defined above. As R45, preferably, a hydrogen atom, a methyl group, a methoxymethyl group, a cyanomethyl group, an ethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a cyclopropyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy, 2,2-trifluoroethoxy group, cyclopropyloxy group, amino group, methylamino group, ethylamino group, (methoxymethyl) amino group, (2-methoxyethyl) amino group, (cyanomethyl) amino group, (2- (Cyanoethyl) amino group, dimethylamino group, ethylmethylamino group, diethylamino group, (methoxymethyl) methylamino group, (2-methoxyethyl) methylamino group, (cyanomethyl) methylamino group, (2-cyanoethyl) methylamino group , 2,2-difluoroethylamino group, 2,2,2-to A fluoroethylamino group, a cyclopropylamino group, a (cyclopropyl) methylamino group, a pyrrolidinyl group, or a piperidinyl group, more preferably a hydrogen atom, a methyl group, a methoxymethyl group, a cyanomethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group; A methyl group, a methoxy group, an ethoxy group, an amino group, a dimethylamino group, an ethylmethylamino group, or a diethylamino group. Further, as R46, preferably a hydrogen atom, a methyl group, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, a cyanomethyl group, an ethyl group, a 2-methoxyethyl group, a 2-ethoxyethyl group, a 2-cyanoethyl group, a propyl group, Examples include a 2-difluoroethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, and a cyclopropyl group, and more preferably, a hydrogen atom, a methyl group, a methoxymethyl group, a cyanomethyl group, an ethyl group, and a 2-methoxyethyl group. , 2,2-difluoroethyl group or 2,2,2-trifluoroethyl group.

式(1)の置換基D2における「R47R48C=N−O−」(ここで、R47およびR48は、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR41R42N−(ここで、R41およびR42は、前記と同義である。)を表す。)の各用語は前記の定義と同義であり、R47およびR48として好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、トリフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メトキシ基、エトキシ基、イソプロピルオキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2−ジフルオロエトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、(メトキシメチル)アミノ基、(2−メトキシエチル)アミノ基、(シアノメチル)アミノ基、(2−シアノエチル)アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、(メトキシメチル)メチルアミノ基、(2−メトキシエチル)メチルアミノ基、(シアノメチル)メチルアミノ基、(2−シアノエチル)メチルアミノ基、2,2−ジフルオロエチルアミノ基、2,2,2−トリフルオロエチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、(シクロプロピル)メチルアミノ基、ピロリジニル基、またはピペリジニル基であり、さらに好ましくは、メチル基、エチル基、トリフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、メトキシ基、エトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、またはジエチルアミノ基である。R47R48C=N−O−として、好ましくは、ジメチルイミノオキシ基、エチルメチルイミノオキシ基、またはジエチルイミノオキシ基であり、特に好ましくは、ジメチルイミノオキシ基である。   "R47R48C = NO-" in the substituent D2 of the formula (1) (where R47 and R48 are each independently a hydrogen atom or a C1 to C6 alkyl which may be appropriately substituted with the substituent A) A C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, or R41R42N- (where R41 and R42 Has the same meaning as defined above.)) Are the same as defined above, and R47 and R48 are preferably methyl, ethyl, propyl, isopropyl, trifluoromethyl, 2 , 2,2-trifluoroethyl, cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, methoxy, ethoxy, isopropyl Oxy, difluoromethoxy, trifluoromethoxy, 2,2-difluoroethoxy, 2,2,2-trifluoroethoxy, cyclopropyloxy, cyclobutyloxy, cyclopentyloxy, amino, methylamino Group, ethylamino group, (methoxymethyl) amino group, (2-methoxyethyl) amino group, (cyanomethyl) amino group, (2-cyanoethyl) amino group, dimethylamino group, ethylmethylamino group, diethylamino group, (methoxy Methyl) methylamino group, (2-methoxyethyl) methylamino group, (cyanomethyl) methylamino group, (2-cyanoethyl) methylamino group, 2,2-difluoroethylamino group, 2,2,2-trifluoroethyl Amino group, cyclopropylamino group, (cyclopropyl) A tylamino group, a pyrrolidinyl group, or a piperidinyl group, more preferably a methyl group, an ethyl group, a trifluoromethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a 2,2,2- It is a trifluoroethoxy group, a dimethylamino group, an ethylmethylamino group, or a diethylamino group. R47R48C = NO- is preferably a dimethyliminooxy group, an ethylmethyliminooxy group, or a diethyliminooxy group, and particularly preferably a dimethyliminooxy group.

式(1)の置換基D2における「1〜2個の酸素原子を含む3〜6員環の基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、オキソラニル基、オキサニル基、1,3−ジオキソラニル基、または1,3−ジオキサニル基であり、さらに好ましくは、オキソラニル基、または1,3−ジオキソラニル基である。   The “3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms” in the substituent D2 of the formula (1) has the same meaning as the above definition, and is preferably an oxolanyl group, an oxanyl group, a 1,3- It is a dioxolanyl group or a 1,3-dioxanyl group, and more preferably an oxolanyl group or a 1,3-dioxolanyl group.

以下、式(1)のYの具体的例を詳細に説明する。   Hereinafter, specific examples of Y in the formula (1) will be described in detail.

A) Yがフェニル基であるとき、Yは、式(a)

Figure 2018190349

で表される部分構造(ここで、D、D1およびD2は前記と同義であり、maは0〜3の整数を表し、mbは1〜4の整数を表す。)を表す。A) When Y is a phenyl group, Y is represented by the formula (a)
Figure 2018190349

(Where D, D1 and D2 have the same meanings as above, ma represents an integer of 0 to 3, and mb represents an integer of 1 to 4).

式(a)のmaは、0〜3の整数を表す。   Ma in the formula (a) represents an integer of 0 to 3.

式(a)のmaが2以上の場合、2以上のD1は、それぞれ独立した置換基を表し、同一または異なっていてよく、任意に選択することができる。   When ma in the formula (a) is 2 or more, two or more D1s each represent an independent substituent, which may be the same or different, and can be arbitrarily selected.

式(a)のmbは、1〜4の整数を表す。   Mb in the formula (a) represents an integer of 1 to 4.

式(a)のmbが2以上の場合、2以上のD2は、それぞれ独立した置換基を表し、同一または異なっていてよく、任意に選択することができる。   When mb in the formula (a) is 2 or more, two or more D2s each represent an independent substituent, which may be the same or different, and can be arbitrarily selected.

本明細書においてYがフェニル基の場合、オルト位とは、式(a)に示されるように、置換基Dがあるフェニル基の位置を意味する。   In the present specification, when Y is a phenyl group, the ortho position means the position of the phenyl group having the substituent D as shown in the formula (a).

置換基Dがオルト位に位置したフェニル基は、本発明の特徴をなしている。   A phenyl group in which the substituent D is located in the ortho position is a feature of the present invention.

式(a)の好ましい具体例は、2−D−4−D2−フェニル基、2−D−6−D2−フェニル基、2−D−4−D2−6−D1−フェニル基、2−D−4−D2−5−D1−フェニル基、2−D−3−D1−4−D2−フェニル基、2−D−4−D1−6−D2−フェニル基、2−D−3−D1−6−D2−フェニル基、2−D−5−D1−6−D2−フェニル基、または2−D−4−D2−6−D2−フェニル基であり、さらに好ましい具体例は、2−D−4−D2−フェニル基、2−D−6−D2−フェニル基、2−D−4−D2−6−D1−フェニル基、または、2−D−4−D1−6−D2−フェニル基であり、特に好ましくは、2−D−4−D1−6−D2−フェニル基である。ここで、例えば、「2−D−6−D2−フェニル基」は、2位に置換基D、6位に置換基D2を有する二置換フェニル基を意味し、以下の記載も同様である。   Preferred specific examples of the formula (a) include a 2-D-4-D2-phenyl group, a 2-D-6-D2-phenyl group, a 2-D-4-D2-6-D1-phenyl group, and a 2-D -4-D2-5-D1-phenyl group, 2-D-3-D1-4-D2-phenyl group, 2-D-4-D1-6-D2-phenyl group, 2-D-3-D1- A 6-D2-phenyl group, a 2-D-5-D1-6-D2-phenyl group, or a 2-D-4-D2-6-D2-phenyl group; a more preferred specific example is 2-D-phenyl; A 4-D2-phenyl group, a 2-D-6-D2-phenyl group, a 2-D-4-D2-6-D1-phenyl group, or a 2-D-4-D1-6-D2-phenyl group And a 2-D-4-D1-6-D2-phenyl group is particularly preferred. Here, for example, "2-D-6-D2-phenyl group" means a disubstituted phenyl group having a substituent D at the 2-position and a substituent D2 at the 6-position, and the same applies to the following description.

B) Yが、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、またはトリアジニル基のとき、Yは、式(b)

Figure 2018190349

で表される部分構造(ここで、D、D1、D2は前記と同義であり、mcは0〜2の整数を表し、mdは1〜3の整数を表す。)を表す。B) When Y is a pyridyl group, a pyridazinyl group, a pyrimidinyl group, a pyrazinyl group, or a triazinyl group, Y is represented by the formula (b)
Figure 2018190349

(Where D, D1, and D2 have the same meanings as described above, mc represents an integer of 0 to 2, and md represents an integer of 1 to 3).

式(b)のG1、G2、G3およびG4は、それぞれ独立していて、炭素原子または窒素原子を表す。ただし、G1、G2、G3およびG4のうち、少なくとも一つは窒素原子である。好ましいG1、G2、G3およびG4は、G1、G2、G3およびG4のうち、いずれか一つが窒素原子である。すなわち、ピリジル基である。   G1, G2, G3 and G4 in the formula (b) are each independently and represent a carbon atom or a nitrogen atom. However, at least one of G1, G2, G3 and G4 is a nitrogen atom. Desirable G1, G2, G3 and G4 are those in which any one of G1, G2, G3 and G4 is a nitrogen atom. That is, it is a pyridyl group.

式(b)のmcは、0〜2の整数を表す。   Mc in the formula (b) represents an integer of 0 to 2.

式(b)のmcが2以上の場合、2以上のD1は、それぞれ独立した置換基を表し、同一、または異なっていてよく、任意に選択することができる。   When mc in the formula (b) is 2 or more, two or more D1s each represent an independent substituent, and may be the same or different and can be arbitrarily selected.

式(b)のmdは、1〜3の整数を表す。   Md in the formula (b) represents an integer of 1 to 3.

式(b)のmdが2以上の場合、2以上のD2は、それぞれ独立した置換基を表し、同一または異なっていてよく、任意に選択することができる。   When md in the formula (b) is 2 or more, two or more D2s each represent an independent substituent, which may be the same or different, and can be arbitrarily selected.

本明細書においてYがピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、またはトリアジニル基の場合、オルト位とは、式(b)に示されるように、置換基Dがある6員環の位置を意味する。   In the present specification, when Y is a pyridyl group, a pyridazinyl group, a pyrimidinyl group, a pyrazinyl group, or a triazinyl group, the ortho position means, as shown in the formula (b), the position of a 6-membered ring having a substituent D. means.

式(b)の部分構造の具体例を以下に示す。

Figure 2018190349
Specific examples of the partial structure of the formula (b) are shown below.
Figure 2018190349

置換基Dがオルト位に位置したピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、またはトリアジニル基は、本発明の特徴をなしている。   A pyridyl, pyridazinyl, pyrimidinyl, pyrazinyl, or triazinyl group in which the substituent D is located in the ortho position is a feature of the present invention.

式(b)の好ましい具体例は、3−D−5−D2−2−ピリジル基、2−D−6−D2−3−ピリジル基、4−D−6−D2−3−ピリジル基、2−D2−4−D−3−ピリジル基、2−D−4−D2−3−ピリジル基、2−D−4−D1−6−D2−3−ピリジル基、2−D−4−D2−6−D1−3−ピリジル基、2−D1−4−D−6−D2−3−ピリジル基、2−D2−4−D−6−D1−3−ピリジル基、または3−D−5−D2−4−ピリジル基である。さらに好ましい具体例は、3−D−5−D2−2−ピリジル基、2−D−6−D2−3−ピリジル基、4−D−6−D2−3−ピリジル基、2−D−4−D1−6−D2−3−ピリジル基、2−D1−4−D−6−D2−3−ピリジル基、または3−D−5−D2−4−ピリジル基である。   Preferred specific examples of the formula (b) include a 3-D-5-D2-2-pyridyl group, a 2-D-6-D2-3-pyridyl group, a 4-D-6-D2-3-pyridyl group, -D2-4-D-3-pyridyl group, 2-D-4-D2-3-pyridyl group, 2-D-4-D1-6-D2-3-pyridyl group, 2-D-4-D2- 6-D1-3-pyridyl group, 2-D1-4-D-6-D2-3-pyridyl group, 2-D2-4-D-6-D1-3-pyridyl group, or 3-D-5- D2-4-pyridyl group. More preferred specific examples include a 3-D-5-D2-2-pyridyl group, a 2-D-6-D2-3-pyridyl group, a 4-D-6-D2-3-pyridyl group, and a 2-D-4. —D1-6-D2-3-pyridyl, 2-D1-4-D-6-D2-3-pyridyl, or 3-D-5-D2-4-pyridyl.

C) Yが、チエニル基、チアゾリル基、またはイソチアゾリル基のとき、Yは、式(c−1)

Figure 2018190349

式(c−2)
Figure 2018190349

または、式(c−3)
Figure 2018190349

で表される部分構造(ここで、D、D1、およびD2は前記と同義であり、meは0〜1の整数を表し、mfは1〜2の整数を表す。)を表す。C) When Y is a thienyl group, a thiazolyl group, or an isothiazolyl group, Y is represented by the formula (c-1)
Figure 2018190349

Formula (c-2)
Figure 2018190349

Or the formula (c-3)
Figure 2018190349

(Where D, D1, and D2 have the same meanings as described above, me represents an integer of 0 to 1, and mf represents an integer of 1 to 2).

式(c−1)、式(c−2)および式(c−3)におけるG5とG6は、それぞれ独立していて、炭素原子または窒素原子を表す。   G5 and G6 in the formulas (c-1), (c-2) and (c-3) are each independently and represent a carbon atom or a nitrogen atom.

式(c−1)、式(c−2)および式(c−3)のmeは、0〜1の整数を表す。   In the formulas (c-1), (c-2), and (c-3), me represents an integer of 0 to 1.

式(c−1)、式(c−2)および式(c−3)のmfは、1〜2の整数を表す。   Mf in the formulas (c-1), (c-2) and (c-3) represents an integer of 1 or 2.

式(c−1)、式(c−2)および式(c−3)のmfが2の場合、2のD2は、それぞれ独立した置換基を表し、同一または異なっていてよく、任意に選択することができる。   When mf in the formulas (c-1), (c-2) and (c-3) is 2, D2 of 2 represents an independent substituent, which may be the same or different, and may be arbitrarily selected. can do.

本明細書においてYがチエニル基、チアゾリル基、またはイソチアゾリル基の場合、オルト位とは、式(c−1)、式(c−2)および式(c−3)に示されるように、置換基Dがある5員環の位置を意味する。   In the present specification, when Y is a thienyl group, a thiazolyl group, or an isothiazolyl group, the ortho position is a substituted group as shown in the formulas (c-1), (c-2) and (c-3). The group D means the position of the 5-membered ring in which it is located.

式(c−1)の部分構造の具体例を以下に示す。

Figure 2018190349
Specific examples of the partial structure of the formula (c-1) are shown below.
Figure 2018190349

式(c−2)の部分構造の具体例を以下に示す。

Figure 2018190349
Specific examples of the partial structure of the formula (c-2) are shown below.
Figure 2018190349

式(c−3)の部分構造の置換基の具体例を以下に示す。

Figure 2018190349
Specific examples of the substituent of the partial structure of the formula (c-3) are shown below.
Figure 2018190349

置換基Dがオルト位に位置したチエニル基、チアゾリル基、またはイソチアゾリル基は、本発明の特徴をなしている。   A thienyl, thiazolyl, or isothiazolyl group in which the substituent D is located in the ortho position is a feature of the present invention.

式(1)のYにおいて、好ましい具体例は、Yが式(a−1)、または式(b−1)

Figure 2018190349

で表される部分構造(式中、D、D1、およびD2は前記と同義である。)であり、
さらに好ましい具体例は、式(a−1)で表される部分構造である。In Y of the formula (1), a preferable specific example is that Y is the formula (a-1) or the formula (b-1)
Figure 2018190349

(Wherein D, D1, and D2 have the same meanings as described above);
A more preferred specific example is a partial structure represented by the formula (a-1).

式(1)における破線部を含む結合は、

Figure 2018190349

で表される箇所を表す。The bond including the broken line part in the equation (1) is
Figure 2018190349

Represents a portion represented by.

式(1)における破線部を含む結合は、二重結合または単結合を表す。   The bond containing the broken line in Formula (1) represents a double bond or a single bond.

式(1)における破線部を含む結合が二重結合の場合は、式(1a)

Figure 2018190349

(式中、R1、R2、R3、X、Yおよびnは、式(1)と同義である。)で表される化合物、またはその塩を表す。When the bond containing the dashed line in the formula (1) is a double bond, the formula (1a)
Figure 2018190349

(Wherein, R1, R2, R3, X, Y and n have the same meanings as in formula (1)) or a salt thereof.

式(1)における破線部を含む結合が単結合の場合は、式(1b)

Figure 2018190349

(式中、R1、R2、R3、X、Yおよびnは、式(1)と同義である。)で表される化合物、またはその塩を表す。In the case where the bond including the broken line in the formula (1) is a single bond, the formula (1b)
Figure 2018190349

(Wherein, R1, R2, R3, X, Y and n have the same meanings as in formula (1)) or a salt thereof.

式(1b)におけるR3が水素以外の置換基の場合、R体もしくはS体のどちらか一方のみ、またはR体とS体との任意の割合の混合物である。   When R3 in the formula (1b) is a substituent other than hydrogen, it is either the R-form or the S-form alone, or a mixture of the R-form and the S-form in an arbitrary ratio.

式(1)で表される化合物は、1個または2個の軸不斉を有することがある。この際の異性体比は、単独または任意の割合の混合比であり、特に限定されることはない。   The compound represented by the formula (1) may have one or two axial asymmetries. The isomer ratio at this time is a single ratio or a mixing ratio of an arbitrary ratio, and is not particularly limited.

式(1)で表される化合物は、不斉原子を含むことがある。この際の異性体比は、単独または任意の割合の混合比であり、特に限定されることはない。   The compound represented by the formula (1) may contain an asymmetric atom. The isomer ratio at this time is a single ratio or a mixing ratio of an arbitrary ratio, and is not particularly limited.

式(1)で表される化合物は、幾何異性体を含むことがある。この際の異性体比は、単独または任意の割合の混合比であり、特に限定されることはない。   The compound represented by the formula (1) may include a geometric isomer. The isomer ratio at this time is a single ratio or a mixing ratio of an arbitrary ratio, and is not particularly limited.

式(1)で表される化合物は、塩を形成できることがある。塩酸、硫酸、酢酸、フマル酸、マレイン酸のような酸塩や、ナトリウム、カリウム、カルシウムのような金属塩等が例示されるが、農園芸用殺菌剤として使用できる限り、特に限定されることはない。   The compound represented by the formula (1) may form a salt in some cases. Acid salts such as hydrochloric acid, sulfuric acid, acetic acid, fumaric acid, and maleic acid, and metal salts such as sodium, potassium, and calcium are exemplified, but are not particularly limited as long as they can be used as agricultural and horticultural fungicides. There is no.

以上説明したR1、置換基A、R2、置換基B、置換基B1、n、R3、置換基C、X、Y、置換基D、置換基D1、置換基D2、および破線部を含む結合における好ましい範囲を任意に組み合わせて得られる全ての化合物の範囲も本発明の式(1)で表される化合物またはその製造中間体化合物の範囲として記載されているものとする。   In the bond including the above-described R1, substituent A, R2, substituent B, substituent B1, n, R3, substituent C, X, Y, substituent D, substituent D1, substituent D2, and a broken line portion. The range of all the compounds obtained by arbitrarily combining the preferable ranges is also described as the range of the compound represented by the formula (1) of the present invention or the intermediate compound thereof.

次に、本発明の具体的な化合物は表1に示す構造式P−1〜P−414(ここで、表1中のXは酸素原子、または硫黄原子であり、破線部を含む結合は、二重結合または単結合を表す、)と表2に示す(R2)n(ここで、R2、nは前記と同義である。)との組み合わせによって表される。これらの化合物は例示のためのものであって、本発明はこれらに限定されるものではない。   Next, specific compounds of the present invention are represented by the structural formulas P-1 to P-414 shown in Table 1 (where X in Table 1 is an oxygen atom or a sulfur atom, and a bond containing a broken line is And a double bond or a single bond) and (R2) n shown in Table 2 (where R2 and n have the same meanings as described above). These compounds are for illustration only and the invention is not limited thereto.

Figure 2018190349
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以下、例えば、表2中の「2−F−」との記載は、(R2)nが結合するフェニル基の2位にフッ素原子が結合していることを意味し、「2−F−3−HO−」との記載は、2位にフッ素原子が結合し、3位に水酸基が結合していることを意味し、「2,3−di−F」との記載は、2位と3位にフッ素原子が結合していることを意味し、他の記載も同様である。   Hereinafter, for example, the description of "2-F-" in Table 2 means that a fluorine atom is bonded to the 2-position of the phenyl group to which (R2) n is bonded, and "2-F-3". The description "-HO-" means that a fluorine atom is bonded to the 2-position and a hydroxyl group is bonded to the 3-position, and the description "2,3-di-F" is a Means that a fluorine atom is bonded to the position, and the same applies to other descriptions.

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以下に、式(1)で表される化合物の製造方法を例示する。   Hereinafter, a method for producing the compound represented by the formula (1) will be exemplified.

[製造方法A]

Figure 2018190349
[Production method A]
Figure 2018190349

式中、R4は、水素原子、水酸基、シアノ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、C2〜C6のハロアルケニル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、C2〜C6のハロアルキニル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルコキシ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニルオキシ基、C2〜C6のハロアルケニルオキシ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3〜C6のアルキニルオキシ基、C3〜C6のハロアルキニルオキシ基、またはR10R11N−(ここで、R10およびR11は、それぞれ独立していて、水素原子、またはC1〜C6のアルキル基を表す。)を表し、R5は、水素原子、またはC1〜C6のアルキル基を表し、n、R2、R3、XおよびYは、前記と同義である。   In the formula, R4 is a hydrogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1 to C6 haloalkyl group, or a C3 to C3 optionally substituted with a substituent A. C8 cycloalkyl group, C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent A, C2-C6 haloalkenyl group, C2-C6 alkynyl group optionally substituted with substituent A, C2- C6 haloalkynyl group, C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent A, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with substituent A, substitution A C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with group A, a C2-C6 haloalkenyloxy group, a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with substituent A, C To C6 haloalkynyloxy group or R10R11N- (wherein R10 and R11 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group of C1 to C6), and R5 is a hydrogen atom or Represents a C1 to C6 alkyl group, and n, R2, R3, X and Y are as defined above.

製造方法Aは、本発明化合物および本発明化合物の製造中間体を含む式(1b−a)で表される化合物を得る方法であって、式(3)で表される化合物とR4NHとを、酸存在下で反応させることを含む製造方法である。Production method A is a method for obtaining a compound represented by the formula containing a preparation intermediate of the compound of the present invention and the present invention compound (1b-a), a compound R4NH 2 represented by the formula (3) A reaction in the presence of an acid.

本反応に使用するR4NHは、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。R4NHは、塩酸、酢酸のような酸性化合物との塩を形成したものでもよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。R4NH 2 used in this reaction can be produced by obtaining or known manner as a commercially available product. R4NH 2 are hydrochloric, may be those forming a salt with an acidic compound such as acetic acid, it is not particularly limited as long as the reaction proceeds to the desired.

本反応に使用するR4NHは、式(3)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、1当量以上200当量以下である。R4NH 2 used in this reaction may if 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (3), but are not particularly limited as long as the reaction proceeds to the desired, preferably, 1 It is equal to or more than 200 equivalents.

本反応に使用する酸として、塩酸、硫酸等の無機酸類や、酢酸、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸等の有機酸類が例示され、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定することはないが、好ましくは、酢酸である。また、R4NHと酸性化合物との塩を使用する際には、酸の使用は必須ではない。Examples of the acid used in this reaction include inorganic acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid, and organic acids such as acetic acid, methanesulfonic acid and p-toluenesulfonic acid, and are not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. But not preferably acetic acid. Further, when using salts with R4NH 2 and the acidic compound, the use of acid is not essential.

本反応に使用する酸の量は、R4NHに対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、1当量以上200当量以下である。また、使用する酸が液体である場合には、溶媒として使用することも可能である。The amount of the acid used in this reaction may if 1 equivalent or more relative to the R4NH 2, is not limited in particular as long as the reaction proceeds to the desired, preferably, one or more equivalents 200 equivalent or less is there. When the acid to be used is a liquid, it can be used as a solvent.

本反応には溶媒を使用することができるが、必ずしも必須ではない。   Although a solvent can be used for this reaction, it is not always necessary.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、酢酸、メタンスルホン酸等の酸性系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。溶媒として、好ましくは、酸性系溶媒が挙げられ、さらに好ましくは、酢酸が挙げられる。   The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but acidic solvents such as acetic acid and methanesulfonic acid, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxy Ether solvents such as ethane, tetrahydrofuran and dioxane; alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropanol; benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene; ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate; Ester solvents, nitrile solvents such as acetonitrile, amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone solvent Dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and halogen solvents such as carbon tetrachloride. These solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio. The solvent is preferably an acidic solvent, and more preferably acetic acid.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(3)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。   The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times by weight based on the compound represented by the formula (3). is there.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、50℃以上180℃以下または溶媒の沸点以下である。   The temperature at which this reaction is performed is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 50 ° C or higher and 180 ° C or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。   As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or an appropriate aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, or the like is dissolved, or a saline solution Etc. can be used arbitrarily. During the liquid separation operation, if necessary, a benzene-based solvent such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, or dichlorobenzene, an ester-based solvent such as ethyl acetate, isopropyl acetate, or butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, or methyl- Solvents that are not compatible with water, such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. It is possible to add. In addition, these solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(1b−a)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1ba) obtained above can be removed with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.

前記で得られた式(1b−a)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1ba) obtained above can be distilled under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.

溶媒留去後に得られた式(1b−a)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1ba) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the objective purity.

製造方法Aによると、式(1b−a)で表される化合物においてR4が水素原子を表すときに製造することができる式(2)で表される化合物は、本発明化合物のうち、式(1b)で表される化合物を得る有用な製造中間体となりうる。   According to the production method A, the compound represented by the formula (2) that can be produced when R4 represents a hydrogen atom in the compound represented by the formula (1ba) is a compound of the formula (1 It can be a useful production intermediate for obtaining the compound represented by 1b).

式(2)で表される製造中間体の具体例は、表3に示す構造式(I−1〜I−132)と、表2に示す(R2)nと、X(ここで、Xは酸素原子、または硫黄原子である。)の組み合わせによって表される。これらの化合物は、例示のためのものであり、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the production intermediate represented by the formula (2) include structural formulas (I-1 to I-132) shown in Table 3, (R2) n shown in Table 2, and X (where X is An oxygen atom or a sulfur atom). These compounds are for illustration only and the invention is not limited thereto.

Figure 2018190349
Figure 2018190349

Figure 2018190349
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Figure 2018190349

この式(2)で表される化合物を製造中間体として利用し、本発明の式(1b)を得る方法を説明する。   A method for obtaining the formula (1b) of the present invention using the compound represented by the formula (2) as a production intermediate will be described.

[製造方法B]

Figure 2018190349
[Production method B]
Figure 2018190349

式中、Lvはメタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、p−トルエンスルホニル基、ハロゲン原子等の脱離基を表し、R1、R2、R3、X、Yおよびnは、前記と同義である。   In the formula, Lv represents a leaving group such as a methanesulfonyl group, a trifluoromethanesulfonyl group, a p-toluenesulfonyl group, a halogen atom and the like, and R1, R2, R3, X, Y and n are as defined above.

製造方法Bは、式(1b)で表される化合物を得る方法であって、式(2)で表される製造中間体とR1−Lvとを、塩基の存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。   The production method B is a method for obtaining a compound represented by the formula (1b), in which a production intermediate represented by the formula (2) is reacted with R1-Lv in a solvent in the presence of a base. The manufacturing method includes:

本反応に使用するR1−Lvは、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。   R1-Lv used in this reaction can be obtained as a commercial product or can be produced by a known method.

本反応に使用するR1−Lvの量は、式(2)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、1当量以上10当量以下である。   The amount of R1-Lv used in this reaction may be at least 1 equivalent to the compound represented by the formula (2), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is preferably Is 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.

本反応に使用する塩基として、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類が例示されるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。   Examples of the base used in this reaction include inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, and sodium hydride, but are not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. It will not be done.

本反応に使用する塩基の量は、式(2)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、1当量以上10当量以下である。   The amount of the base used in this reaction may be one equivalent or more based on the compound represented by the formula (2), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. It is 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。   The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, and ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane; Alcohol solvents such as methanol, ethanol, and isopropanol; benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene; ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate; and nitrile solvents such as acetonitrile; Amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, dichloromethane, dichloroethane, chloroform Holm, halogenated solvents such as carbon tetrachloride, dimethyl sulfoxide, sulfur-based solvents such as sulfolane, acetone, methyl ethyl ketone, ketone solvents such as methyl isobutyl ketone. These solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(2)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。   The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times by weight based on the compound represented by the formula (2). is there.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、0℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。   The temperature at which this reaction is performed is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 0 ° C or higher and 150 ° C or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。   As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or an appropriate aqueous solution to the reaction mixture. When an aqueous solution is used, an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, or the like is dissolved, thiosulfate An aqueous solution or salt solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be used arbitrarily. During the liquid separation operation, if necessary, a benzene-based solvent such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, or dichlorobenzene, an ester-based solvent such as ethyl acetate, isopropyl acetate, or butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, or methyl- Solvents that are not compatible with water, such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. It is possible to add. In addition, these solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(1b)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1b) obtained above can be removed with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.

前記で得られた式(1b)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。   The solvent of the reaction mixture containing the compound represented by the formula (1b) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.

溶媒留去後に得られた式(1b)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1b) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the objective purity.

[製造方法C]

Figure 2018190349
[Production method C]
Figure 2018190349

式中、SRは硫黄化剤を表し、R1、R2、R3、Yおよびnは前記と同義である。   In the formula, SR represents a sulfurizing agent, and R1, R2, R3, Y and n are as defined above.

製造方法Cは、式(1b)で表される化合物のうち、式(1b−c)で表される化合物を得る製造方法であって、式(1b−b)で表される化合物と硫黄化剤(SR)とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。   The production method C is a production method for obtaining a compound represented by the formula (1b-c) among the compounds represented by the formula (1b), wherein the compound represented by the formula (1b-b) is sulfurized. A production method comprising reacting an agent (SR) in a solvent.

本反応に使用する硫黄化剤としては、ローソン試薬(2,4−ビス(4−メトキシフェニル)−1,3−ジチア−2,4−ジホスフェタン−2,4−ジスルフィド)が挙げられる。   Examples of the sulfurizing agent used in this reaction include Lawesson's reagent (2,4-bis (4-methoxyphenyl) -1,3-dithia-2,4-diphosphetane-2,4-disulfide).

本反応に使用する硫黄化剤の量は、式(1b−b)で表される化合物に対して0.5当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、1当量以上10当量以下である。   The amount of the sulfurizing agent used in this reaction may be at least 0.5 equivalent to the compound represented by the formula (1b-b), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. However, it is preferably 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。   The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, and ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane; Benzene-based solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, and dichlorobenzene are exemplified. These solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1b−b)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。   The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually at least 3 times by weight to 200 times by weight the compound represented by the formula (1b-b). It is as follows.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、50℃以上180℃以下または溶媒の沸点以下である。   The temperature at which this reaction is performed is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 50 ° C or higher and 180 ° C or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水、もしくは適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、本反応においては、分液操作は必須ではない。   As the post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or an appropriate aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, or the like is dissolved, or a saline solution Etc. can be used arbitrarily. During the liquid separation operation, if necessary, a benzene-based solvent such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, or dichlorobenzene, an ester-based solvent such as ethyl acetate, isopropyl acetate, or butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, or methyl- Solvents that are not compatible with water, such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. It is possible to add. In addition, these solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield. In this reaction, a liquid separation operation is not essential.

前記で得られた式(1b−c)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1b-c) obtained above can be removed with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.

前記で得られた式(1b−c)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1b-c) obtained above can be evaporated under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.

溶媒留去後に得られた式(1b−c)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1b-c) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the objective purity.

[製造方法D]

Figure 2018190349
[Production method D]
Figure 2018190349

式中、R3aは、置換基Cで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、C2〜C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、またはC2〜C6のハロアルキニル基を表し、Lv、R1、R2、X、Yおよびnは前記と同義である。   In the formula, R3a is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C, a substituent Represents a C2 to C6 alkenyl group optionally substituted by C, a C2 to C6 haloalkenyl group, a C2 to C6 alkynyl group optionally substituted by a substituent C, or a C2 to C6 haloalkynyl group. , Lv, R1, R2, X, Y and n are as defined above.

製造方法Dは、式(1b)で表される化合物のうち、R3aが置換基Cで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、C2〜C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、またはC2〜C6のハロアルキニル基である式(1b−e)で表される化合物の合成方法であって、式(1b−d)で表される化合物とR3a−Lvとを、塩基の存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。   In the production method D, among the compounds represented by the formula (1b), R3a is appropriately substituted with a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 haloalkyl group, or a substituent C, which may be appropriately substituted with a substituent C. A C3-C8 cycloalkyl group, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 group optionally substituted with a substituent C A method for synthesizing a compound represented by the formula (1b-e), which is an alkynyl group or a C2 to C6 haloalkynyl group, wherein the compound represented by the formula (1b-d) and R3a-Lv are Is a reaction method in the presence of a solvent in a solvent.

本反応に使用するR3a−Lvは、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。   R3a-Lv used in this reaction can be obtained as a commercial product or can be produced by a known method.

本反応に使用するR3a−Lvの量は、式(1b−d)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、1当量以上1.8当量以下である。   The amount of R3a-Lv used in this reaction may be at least 1 equivalent to the compound represented by the formula (1b-d), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. Preferably, it is 1 equivalent or more and 1.8 equivalents or less.

本反応に使用する塩基として、水素化ナトリウム等の金属ヒドリド類、メチルリチウム、ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム、ヘキシルリチウム等の有機リチウム類や、リチウムジイソプロピルアミド、ヘキサメチルジシラザンリチウム、ヘキサメチルジシラザンナトリウム、ヘキサメチルジシラザンカリウム等の金属アミド類が例示される。   Examples of the base used in this reaction include metal hydrides such as sodium hydride, organic lithiums such as methyllithium, butyllithium, sec-butyllithium, t-butyllithium, and hexyllithium, lithium diisopropylamide, and hexamethyldisilazane. Metal amides such as lithium, sodium hexamethyldisilazane, and potassium hexamethyldisilazane are exemplified.

本反応に使用する塩基の量は、式(1b−d)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、1当量以上10当量以下である。   The amount of the base used in this reaction may be at least 1 equivalent to the compound represented by the formula (1b-d), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is preferably Is 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。   The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, and ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane; Benzene-based solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, and dichlorobenzene are exemplified. These solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1b−d)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。   The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 times or more and 200 times or more the compound represented by the formula (1b-d). It is as follows.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、−80℃以上100℃以下または溶媒の沸点以下である。   The temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually from -80 ° C to 100 ° C or below the boiling point of the solvent.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。   As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or an appropriate aqueous solution to the reaction mixture. When an aqueous solution is used, an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, or the like is dissolved, thiosulfate An aqueous solution or salt solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be used arbitrarily. During the liquid separation operation, if necessary, a benzene-based solvent such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, or dichlorobenzene, an ester-based solvent such as ethyl acetate, isopropyl acetate, or butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, or methyl- It is possible to add a solvent which is not compatible with water, such as an ether solvent such as t-butyl ether, a halogen solvent such as dichloromethane, dichloroethane and chloroform, and a hydrocarbon solvent such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. It is possible. In addition, these solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(1b−e)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1b-e) obtained above can be removed with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.

前記で得られた式(1b−e)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1b-e) obtained above can be evaporated under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.

溶媒留去後に得られた式(1b−e)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1b-e) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the objective purity.

[製造方法E]

Figure 2018190349
[Production method E]
Figure 2018190349

式中、Oxは酸化剤を表し、R1、R2、R3、X、Yおよびnは、前記と同義である。   In the formula, Ox represents an oxidizing agent, and R1, R2, R3, X, Y and n are as defined above.

製造方法Eは、式(1a)で表される化合物を得る方法であって、式(1b)で表される化合物と酸化剤(Ox)とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。   The production method E is a method for obtaining a compound represented by the formula (1a), and comprises reacting a compound represented by the formula (1b) with an oxidizing agent (Ox) in a solvent. is there.

本反応に使用する酸化剤としては、二酸化マンガン等の金属酸化物類、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−p−ベンゾキノン等のベンゾキノン類、アゾビスイソブチロニトリル、過酸化ベンゾイル等のラジカル開始剤とN−クロロスクシンイミド、N−ブロモスクシンイミド、N−ヨードスクシンイミド、1,3−ジクロロ−5,5−ジメチルヒダントイン、1,3−ジブロモ−5,5−ジメチルヒダントイン、1,3−ジヨード−5,5−ジメチルヒダントイン等のハロゲン化剤とを組み合わせたもの等を使用することができる。   Examples of the oxidizing agent used in this reaction include metal oxides such as manganese dioxide, benzoquinones such as 2,3-dichloro-5,6-dicyano-p-benzoquinone, azobisisobutyronitrile, benzoyl peroxide and the like. A radical initiator and N-chlorosuccinimide, N-bromosuccinimide, N-iodosuccinimide, 1,3-dichloro-5,5-dimethylhydantoin, 1,3-dibromo-5,5-dimethylhydantoin, 1,3- A combination with a halogenating agent such as diiodo-5,5-dimethylhydantoin or the like can be used.

以下、酸化剤が金属酸化物類である方法について説明する。   Hereinafter, a method in which the oxidizing agent is a metal oxide will be described.

本反応に使用する酸化剤の量は、式(1b)に表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、1当量以上200当量以下である。   The amount of the oxidizing agent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, as long as it is at least 1 equivalent to the compound represented by the formula (1b). It is equal to or more than 200 equivalents.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。   The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, dichloromethane, dichloroethane, chloroform, Examples include a halogen-based solvent such as carbon tetrachloride. These solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1b)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。   The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times by weight based on the compound represented by the formula (1b). is there.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、0℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。   The temperature at which this reaction is performed is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 0 ° C or higher and 150 ° C or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、溶解していない金属類を濾過することにより除去することが可能である。さらに、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、本反応において、分液操作は必須ではない。   As a post-treatment of the reaction, undissolved metals can be removed by filtration. Furthermore, a liquid separation operation can be performed by adding water or an appropriate aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, or the like is dissolved, or a saline solution Etc. can be used arbitrarily. During the liquid separation operation, if necessary, a benzene-based solvent such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, or dichlorobenzene, an ester-based solvent such as ethyl acetate, isopropyl acetate, or butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, or methyl- Solvents that are not compatible with water, such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. It is possible to add. In addition, these solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield. In this reaction, a liquid separation operation is not essential.

前記で得られた式(1a)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1a) obtained above can be removed with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.

前記で得られた式(1a)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1a) obtained above can be distilled under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.

溶媒留去後に得られた式(1a)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1a) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the objective purity.

以下、酸化剤がベンゾキノン類である方法について説明する。   Hereinafter, a method in which the oxidizing agent is a benzoquinone will be described.

本反応に使用する酸化剤の量は、式(1b)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、1当量以上20当量以下である。   The amount of the oxidizing agent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, as long as it is at least 1 equivalent to the compound represented by the formula (1b). It is equal to or more than 20 equivalents.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。   The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, dichloromethane, dichloroethane, chloroform, Examples include a halogen-based solvent such as carbon tetrachloride. These solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1b)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。   The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times by weight based on the compound represented by the formula (1b). is there.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、0℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。   The temperature at which this reaction is performed is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 0 ° C or higher and 150 ° C or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、本反応において、分液操作は必須ではない。   As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or an appropriate aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, or the like is dissolved, or a saline solution Etc. can be used arbitrarily. During the liquid separation operation, if necessary, a benzene-based solvent such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, or dichlorobenzene, an ester-based solvent such as ethyl acetate, isopropyl acetate, or butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, or methyl- Solvents that are not compatible with water, such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. It is possible to add. In addition, these solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield. In this reaction, a liquid separation operation is not essential.

前記で得られた式(1a)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1a) obtained above can be removed with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.

前記で得られた式(1a)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1a) obtained above can be distilled under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.

溶媒留去後に得られた式(1a)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1a) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the objective purity.

以下、酸化剤がラジカル開始剤とハロゲン化剤との組み合わせである方法について説明する。   Hereinafter, a method in which the oxidizing agent is a combination of a radical initiator and a halogenating agent will be described.

本反応に使用するラジカル開始剤とハロゲン化剤の量は、それぞれ式(1b)で表される化合物に対して0.01当量以上と1.0当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。好ましくは、ラジカル開始剤が0.01当量以上1当量以下であり、ハロゲン化剤が1当量以上3当量以下である。   When the amounts of the radical initiator and the halogenating agent used in the present reaction are 0.01 equivalent or more and 1.0 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (1b), the desired reaction proceeds. There is no particular limitation as far as it is concerned. Preferably, the amount of the radical initiator is from 0.01 to 1 equivalent, and the amount of the halogenating agent is from 1 to 3 equivalents.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化ベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。   The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is preferably a halogenated benzene solvent such as chlorobenzene or dichlorobenzene, or an ester solvent such as ethyl acetate, isopropyl acetate or butyl acetate. Solvents include halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. These solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1b)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。   The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times by weight based on the compound represented by the formula (1b). is there.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、20℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。   The temperature at which this reaction is performed is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 20 ° C or higher and 150 ° C or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。   As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or an appropriate aqueous solution to the reaction mixture. When an aqueous solution is used, an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, or the like is dissolved, thiosulfate An aqueous solution or salt solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be used arbitrarily. During the liquid separation operation, if necessary, a benzene-based solvent such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, or dichlorobenzene, an ester-based solvent such as ethyl acetate, isopropyl acetate, or butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, or methyl- It is possible to add a solvent which is not compatible with water, such as an ether solvent such as t-butyl ether, a halogen solvent such as dichloromethane, dichloroethane and chloroform, and a hydrocarbon solvent such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. It is possible. In addition, these solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(1a)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1a) obtained above can be removed with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.

前記で得られた式(1a)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1a) obtained above can be distilled under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.

溶媒留去後に得られた式(1a)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1a) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the objective purity.

[製造方法F]

Figure 2018190349
[Production method F]
Figure 2018190349

式中、R3bはハロゲン原子を表し、HalRはハロゲン化剤を表し、R1、R2、X、Yおよびnは前記と同義である。   In the formula, R3b represents a halogen atom, HalR represents a halogenating agent, and R1, R2, X, Y and n are as defined above.

製造方法Fは、式(1a)で表される化合物のうち、R3bがハロゲン原子を表す式(1a−b)で表される化合物を得る製造方法であって、式(1a−a)で表される化合物とハロゲン化剤(HalR)とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。   Production method F is a method for obtaining a compound represented by the formula (1a-b) in which R3b represents a halogen atom among the compounds represented by the formula (1a). And a halogenating agent (HalR) in a solvent.

本反応に使用するハロゲン化剤としては、セレクトロフルオル(N−フルオロ−N’−トリエチレンジアミン ビス(テトラフルオロボラート))、N−クロロスクシンイミド、N−ブロモスクシンイミド、N−ヨードスクシンイミド、1,3−ジクロロ−5,5−ジメチルヒダントイン、1,3−ジブロモ−5,5−ジメチルヒダントイン、1,3−ジヨード−5,5−ジメチルヒダントイン、臭素、ヨウ素等が挙げられる。   Examples of the halogenating agent used in this reaction include selectrofluor (N-fluoro-N′-triethylenediaminebis (tetrafluoroborate)), N-chlorosuccinimide, N-bromosuccinimide, N-iodosuccinimide, , 3-dichloro-5,5-dimethylhydantoin, 1,3-dibromo-5,5-dimethylhydantoin, 1,3-diiodo-5,5-dimethylhydantoin, bromine, iodine and the like.

本反応に使用するハロゲン化剤の量は、式(1a−a)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、1当量以上10当量以下である。ただし、ヒダントインを含むハロゲン化剤の量は、0.5当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはなく、好ましくは、1当量以上5当量以下である。   The amount of the halogenating agent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, as long as the amount of the compound represented by the formula (1a-a) is at least 1 equivalent. Preferably, it is 1 equivalent or more and 10 equivalents or less. However, the amount of the halogenating agent containing hydantoin is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds as long as the amount is 0.5 equivalent or more, and preferably 1 equivalent to 5 equivalents.

本反応に使用するハロゲン化剤がヨウ素化剤である場合、塩酸、硫酸等の無機酸類や、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の有機酸のような酸を加えることができる。
本反応に使用するハロゲン化剤がヨウ素化剤である場合に使用する酸の量は、式(1a−a)で表される化合物に対して0.01当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、0.1当量以上3当量以下である。
When the halogenating agent used in this reaction is an iodination agent, an acid such as an inorganic acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid or an organic acid such as acetic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, or trifluoromethanesulfonic acid is added. Can be.
When the amount of the acid used when the halogenating agent used in this reaction is an iodizing agent is 0.01 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (1a-a), the desired reaction can be achieved. There is no particular limitation as long as it proceeds, but it is preferably 0.1 equivalent or more and 3 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、硫酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の酸性系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。   The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but acidic solvents such as sulfuric acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, and trifluoromethanesulfonic acid, and diethyl ether , Diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, etc., ether solvents, methanol, ethanol, isopropanol, etc. alcohol solvents, benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, etc. benzene solvents. Ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate; nitrile solvents such as acetonitrile; amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; , 3-dimethyl-2-urea-based solvent-imidazolidinone, dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and halogen solvents such as carbon tetrachloride. These solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1a−a)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。   The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually at least 3 times by weight to 200 times by weight the compound represented by the formula (1a-a). It is as follows.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、0℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。   The temperature at which this reaction is performed is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 0 ° C or higher and 150 ° C or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。   As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or an appropriate aqueous solution to the reaction mixture. When an aqueous solution is used, an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, or the like is dissolved, thiosulfate An aqueous solution or salt solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be used arbitrarily. During the liquid separation operation, if necessary, a benzene-based solvent such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, or dichlorobenzene, an ester-based solvent such as ethyl acetate, isopropyl acetate, or butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, or methyl- Solvents that are not compatible with water, such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. It is possible to add. In addition, these solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(1a−b)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1a-b) obtained above can be removed with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.

前記で得られた式(1a−b)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。   The solvent of the reaction mixture containing the compound represented by the formula (1a-b) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.

溶媒留去後に得られた式(1a−b)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1a-b) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the objective purity.

[製造方法G]

Figure 2018190349
[Production method G]
Figure 2018190349

式中、Jは酸素原子または硫黄原子を表し、Jが酸素原子の場合、R3cは置換基Cで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、C2〜C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、またはC2〜C6のハロアルキニル基を表し、Jが硫黄原子の場合、R3cはC1〜C6のアルキル基またはC1〜C6のハロアルキル基を表し、Qは水素原子または金属を表し、R1、R2、R3b、X、Yおよびnは前記と同義である。   In the formula, J represents an oxygen atom or a sulfur atom. When J is an oxygen atom, R3c represents a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 haloalkyl group, or a substituent C, which may be appropriately substituted with a substituent C. A C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2 optionally substituted with a substituent C Represents a C6 to alkynyl group or a C2 to C6 haloalkynyl group, and when J is a sulfur atom, R3c represents a C1 to C6 alkyl group or a C1 to C6 haloalkyl group; and Q represents a hydrogen atom or a metal. , R1, R2, R3b, X, Y and n are as defined above.

製造方法Gは、式(1a)で表される化合物のうち、Jは酸素原子または硫黄原子を表し、Jが酸素原子の場合、R3cが置換基Cで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、C2〜C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、またはC2〜C6のハロアルキニル基を表し、Jが硫黄原子の場合、R3cはC1〜C6のアルキル基またはC1〜C6のハロアルキル基を表す式(1a−c)で表される化合物の合成法であって、式(1a−b)で表される化合物とR3c−J−Qとを、遷移金属類および塩基の存在下、溶媒中で反応させるカップリング反応によって得ることを含む製造方法である。   In the production method G, among the compounds represented by the formula (1a), J represents an oxygen atom or a sulfur atom, and when J is an oxygen atom, R3c may be a substituent C1 to C6 which may be appropriately substituted with a substituent C. Alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with substituent C, C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent C, C2-C6 halo Represents an alkenyl group, a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C, or a C2-C6 haloalkynyl group, and when J is a sulfur atom, R3c represents a C1-C6 alkyl group or C1-C6. A method for synthesizing a compound represented by the formula (1a-c), which represents a haloalkyl group represented by the formula (1a-b), wherein the compound represented by the formula (1a-b) and R3c-JQ are Reaction in solvent Is a manufacturing method comprising obtained by coupling reaction to.

式(1a−b)で表される化合物中、好ましいR3bは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。   In the compound represented by the formula (1a-b), preferred R3b is a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.

本反応に使用するR3c−J−Qは、市販品として入手または公知の方法で製造できる。好ましいQは、水素原子、または、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属類である。   R3c-JQ used in this reaction can be obtained as a commercial product or can be produced by a known method. Preferred Q is a hydrogen atom or an alkali metal such as sodium or potassium.

本反応に使用するR3c−J−Qの量は、式(1a−b)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。Qが水素原子のときは、溶媒としても使用可能である。   The amount of R3c-JQ used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, as long as the amount of the compound represented by the formula (1a-b) is at least one equivalent. . When Q is a hydrogen atom, it can be used also as a solvent.

本反応に使用する遷移金属類は、配位子を有してよく、酢酸パラジウム、[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウムジクロリド、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウムジクロリド等のパラジウム類である。   The transition metals used in this reaction may have a ligand, and palladium acetate, [1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene] palladium dichloride, tris (dibenzylideneacetone) dipalladium, tetrakis ( Palladiums such as triphenylphosphine) palladium and bis (triphenylphosphine) palladium dichloride.

本反応に使用する遷移金属類の量は、式(1a−b)で表される化合物に対して0.001当量以上1当量以下であるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。   The amount of the transition metals used in this reaction is 0.001 equivalent or more and 1 equivalent or less with respect to the compound represented by the formula (1a-b), but is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. Never.

本反応を効率的に進行させるために、トリフェニルホスフィン、1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン、2−ジシクロヘキシルホスフィノ−2’4’6’−トリイソプロピルビフェニル、2−ジ−t−ブチルホスフィノ−2’4’6’−トリイソプロピルビフェニル等のホスフィン配位子を添加することができる。   In order to make this reaction proceed efficiently, triphenylphosphine, 1,1'-bis (diphenylphosphino) ferrocene, 2-dicyclohexylphosphino-2'4'6'-triisopropylbiphenyl, 2-di-t A phosphine ligand such as -butylphosphino-2'4'6'-triisopropylbiphenyl can be added.

本反応に使用するホスフィン配位子の量は、式(1a−b)で表される化合物に対して0.001当量以上1当量以下であるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。   The amount of the phosphine ligand used in this reaction is 0.001 equivalent or more and 1 equivalent or less with respect to the compound represented by the formula (1a-b), but is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. It will not be done.

本反応に使用する塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムのような無機塩基類やトリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基類である。   The base used in this reaction is an inorganic base such as sodium carbonate, potassium carbonate or cesium carbonate, or an organic base such as triethylamine, tributylamine or diisopropylethylamine.

本反応に使用する塩基の量は、式(1a−b)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、1当量以上50当量以下である。   The amount of the base used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, as long as it is at least 1 equivalent to the compound represented by the formula (1a-b), but is preferably 1 to 50 equivalents.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、R3c−J−H(式中、R3cは前記と同義であり、Jは酸素原子である。)で表されるアルコール溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。   The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but R3c-JH (wherein R3c is as defined above, and J is an oxygen atom. ), Ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane, and benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene. Is mentioned. These solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1a−b)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。   The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually at least 3 times by weight to 200 times by weight the compound represented by the formula (1a-b). It is as follows.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、30℃以上200℃以下または溶媒の沸点以下である。   The temperature at which this reaction is performed is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 30 ° C. or more and 200 ° C. or less or the boiling point of the solvent or less.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、濾過操作を行うことにより、不溶物を除去することも可能であるが必須ではない。   As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or an appropriate aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, or the like is dissolved, or a saline solution Etc. can be used arbitrarily. During the liquid separation operation, if necessary, a benzene-based solvent such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, or dichlorobenzene, an ester-based solvent such as ethyl acetate, isopropyl acetate, or butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, or methyl- Solvents that are not compatible with water, such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. It is possible to add. In addition, these solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield. It is also possible, but not essential, to remove insolubles by performing a filtration operation.

前記で得られた式(1a−c)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1a-c) obtained above can be removed with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.

前記で得られた式(1a−c)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。   The solvent of the reaction mixture containing the compound represented by the formula (1a-c) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.

溶媒留去後に得られた式(1a−c)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1a-c) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the objective purity.

[製造方法H]

Figure 2018190349
[Production method H]
Figure 2018190349

式中、R3dは置換基Cで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、またはC2〜C6のハロアルケニル基を表し、R3d−Bは有機ボロン酸類を表し、R1、R2、R3b、X、Yおよびnは前記と同義である。   In the formula, R3d is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C, a substituent C Represents an optionally substituted C2-C6 alkenyl group or a C2-C6 haloalkenyl group, R3d-B represents an organic boronic acid, and R1, R2, R3b, X, Y and n are as defined above. It is.

製造方法Hは、式(1a)で表される化合物のうち、R3dが置換基Cで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、またはC2〜C6のハロアルケニル基である式(1a−d)で表される化合物の合成方法であって、式(1a−b)で表される化合物と有機ボロン酸類(R3d−B)とを、遷移金属類および塩基の存在下、溶媒中で反応させる鈴木−宮浦カップリングによって得ることを含む製造方法である。   In the production method H, among the compounds represented by the formula (1a), R3d is appropriately substituted with a C1 to C6 alkyl group, C1 to C6 haloalkyl group, or a substituent C, which may be appropriately substituted with a substituent C. A C3-C8 cycloalkyl group, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C, or a C2-C6 haloalkenyl group represented by the formula (1a-d). A synthesis method, wherein the compound represented by the formula (1a-b) and an organic boronic acid (R3d-B) are obtained by Suzuki-Miyaura coupling in which a reaction is performed in a solvent in the presence of a transition metal and a base. The manufacturing method includes:

式(1a−b)中、好ましいR3bは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。   In formula (1a-b), preferred R3b is a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.

本反応に使用するR3d−Bは、有機ボロン酸や有機ボロン酸エステル等の有機ボロン酸類を表し、市販品として入手または公知の方法で製造できる。   R3d-B used in this reaction represents an organic boronic acid such as an organic boronic acid or an organic boronic ester, and can be obtained as a commercial product or can be produced by a known method.

本反応に使用するR3d−Bの量は、式(1a−b)で表される化合物に対して、1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、1当量以上10当量以下である。   The amount of R3d-B used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, provided that the amount of R3d-B is at least 1 equivalent to the compound represented by the formula (1a-b). Preferably, it is 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.

本反応に使用する遷移金属類は、パラジウム、ニッケル、ルテニウム等であり、配位子を有してよい。好ましくは、酢酸パラジウム、[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウムジクロリド、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウムジクロリド等のパラジウム類が挙げられる。   The transition metals used in this reaction are palladium, nickel, ruthenium and the like, and may have a ligand. Preferably, palladium acetate, [1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene] palladium dichloride, tris (dibenzylideneacetone) dipalladium, tetrakis (triphenylphosphine) palladium, bis (triphenylphosphine) palladium dichloride and the like Palladium is mentioned.

本反応に使用する遷移金属類の量は、式(1a−b)で表される化合物に対して0.001当量以上1当量以下であるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。   The amount of the transition metals used in this reaction is 0.001 equivalent or more and 1 equivalent or less with respect to the compound represented by the formula (1a-b), but is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. Never.

本反応を効率的に進行させるために、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン等のホスフィン配位子を添加することができる。   In order to make this reaction proceed efficiently, a phosphine ligand such as triphenylphosphine or tricyclohexylphosphine can be added.

本反応に使用するホスフィン配位子の量は、式(1a−b)で表される化合物に対して0.001当量以上1当量以下であるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。   The amount of the phosphine ligand used in this reaction is 0.001 equivalent or more and 1 equivalent or less with respect to the compound represented by the formula (1a-b), but is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. It will not be done.

本反応に使用する塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、リン酸三カリウムのような無機塩基類やナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム t−ブトキシド等の金属アルコキシド類等である。   Bases used in this reaction include inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate and tripotassium phosphate, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide.

本反応に使用する塩基の量は、式(1a−b)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、1当量以上50当量以下である。   The amount of the base used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, as long as it is at least 1 equivalent to the compound represented by the formula (1a-b), but is preferably 1 to 50 equivalents.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、水溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。   The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but an ether such as a water solvent, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, etc. Benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene. These solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1a−b)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。   The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually at least 3 times by weight to 200 times by weight the compound represented by the formula (1a-b). It is as follows.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、30℃以上200℃以下または溶媒の沸点以下である。   The temperature at which this reaction is performed is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 30 ° C. or more and 200 ° C. or less or the boiling point of the solvent or less.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、濾過操作を行うことにより、不溶物を除去することも可能であるが必須ではない。   As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or an appropriate aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, or the like is dissolved, or a saline solution Etc. can be used arbitrarily. During the liquid separation operation, if necessary, a benzene-based solvent such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, or dichlorobenzene, an ester-based solvent such as ethyl acetate, isopropyl acetate, or butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, or methyl- Solvents that are not compatible with water, such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. It is possible to add. In addition, these solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield. It is also possible, but not essential, to remove insolubles by performing a filtration operation.

前記で得られた式(1a−d)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1a-d) obtained above can be removed with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.

前記で得られた式(1a−d)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1a-d) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.

溶媒留去後に得られた式(1a−d)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1a-d) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the objective purity.

[製造方法I]

Figure 2018190349
[Manufacturing method I]
Figure 2018190349

式中、R3eは置換基Cで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、またはC2〜C6のハロアルキニル基を表し、R1、R2、R3b、X、Yおよびnは前記と同義である。   In the formula, R3e represents a C2-C6 alkynyl group or a C2-C6 haloalkynyl group optionally substituted with a substituent C, and R1, R2, R3b, X, Y and n are as defined above. .

製造方法Iは、式(1a)で表される化合物のうち、R3eが置換基Cで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、またはC2〜C6のハロアルキニル基である式(1a−e)で表される化合物の合成方法であって、(1a−b)で表される化合物と末端アルキン化合物とを、遷移金属類および塩基の存在下、溶媒中で反応させる薗頭カップリングによって得ることを含む製造方法である。   In the production method I, among the compounds represented by the formula (1a), R3e is a C2 to C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C or a C2 to C6 haloalkynyl group. e) a method for synthesizing a compound represented by (e), wherein the compound represented by (1a-b) and a terminal alkyne compound are reacted in a solvent in the presence of a transition metal and a base by Sonogashira coupling. And a manufacturing method including obtaining.

式(1a−b)中、好ましいR3bは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。   In formula (1a-b), preferred R3b is a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.

本反応に使用する末端アルキン化合物は、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。また、末端アルキン化合物として、トリメチルシリルアセチレンも使用することができる。この場合は、式(1a−b)で表される化合物にトリメチルシリルエチニル基を導入後、脱シリル化を行う必要がある。脱シリル化については、ジャーナル オブ ザ アメリカン ケミカル ソサエティー(Journal of the American Chemical Society)、第131巻、2号、634−643頁(2009).およびジャーナル オブ オルガノメタリック ケミストリー(Journal of Organometallic Chemistry)、696巻、25号、4039−4045頁(2011).等の非特許文献を参考にして行うことができる。   The terminal alkyne compound used in this reaction can be obtained as a commercial product or can be produced by a known method. Further, trimethylsilylacetylene can also be used as the terminal alkyne compound. In this case, it is necessary to introduce a trimethylsilylethynyl group into the compound represented by the formula (1a-b) and then perform desilylation. For desilylation, see Journal of the American Chemical Society, Vol. 131, No. 2, pp. 634-643 (2009). And Journal of Organometallic Chemistry, 696, 25, pp. 4039-4045 (2011). And the like.

本反応に使用する末端アルキン化合物の量は、式(1a−b)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、1当量以上10当量以下である。   The amount of the terminal alkyne compound used in this reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, as long as the amount of the compound represented by the formula (1a-b) is 1 equivalent or more. Preferably, it is 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.

本反応に使用する遷移金属類は、配位子を有してよく、酢酸パラジウム、[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウムジクロリド、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウムジクロリド等のパラジウム類等である。また、塩化銅、臭化銅、ヨウ化銅等の銅類も同時に使用する。   The transition metals used in this reaction may have a ligand, and palladium acetate, [1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene] palladium dichloride, tris (dibenzylideneacetone) dipalladium, tetrakis ( And palladiums such as triphenylphosphine) palladium and bis (triphenylphosphine) palladium dichloride. In addition, coppers such as copper chloride, copper bromide, and copper iodide are used at the same time.

本反応に使用する遷移金属類の量は、パラジウム類等および銅類が、それぞれ式(1a−b)で表される化合物に対して0.001当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはない。好ましい量は、双方ともに0.001当量以上1当量以下である。   The amount of the transition metal used in the present reaction may be such that the palladium or the like and the copper are 0.001 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (1a-b), respectively. There is no particular limitation as long as it is done. Preferred amounts are 0.001 equivalent to 1 equivalent in both cases.

本反応に使用する塩基は、トリエチルアミン、トリブチルアミン、イソプロピルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機アミン類や、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の無機塩基類が挙げられる。   Examples of the base used in this reaction include organic amines such as triethylamine, tributylamine, isopropylamine, diethylamine, diisopropylamine, and diisopropylethylamine, and inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, and cesium carbonate.

本反応に使用する塩基の量は、式(1a−b)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、1当量以上50当量以下である。また、有機塩基で液体状のものに関しては、溶媒として使用することができる。   The amount of the base used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, as long as it is at least 1 equivalent to the compound represented by the formula (1a-b), but is preferably 1 to 50 equivalents. In addition, an organic base in a liquid state can be used as a solvent.

本反応を効率的に進行させるために、トリt−ブチルホスフィン、2−ジシクロヘキシルホスフィノ−2’4’6’−トリイソプロピルビフェニル等のホスフィン配位子を添加することができるが、必須ではない。   A phosphine ligand such as tri-t-butylphosphine or 2-dicyclohexylphosphino-2′4′6′-triisopropylbiphenyl can be added for efficiently proceeding this reaction, but is not essential. .

本反応に使用するホスフィン配位子の量は、式(1a−b)で表される化合物に対して0.001当量以上1当量以下であるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。   The amount of the phosphine ligand used in this reaction is 0.001 equivalent or more and 1 equivalent or less with respect to the compound represented by the formula (1a-b), but is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. It will not be done.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、トリエチルアミン、トリブチルアミン、イソプロピルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機アミン溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。   The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, and ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane; Benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, nitrile solvents such as acetonitrile, N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide , Amide solvents such as N, N-dimethylacetamide, urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, carbon tetrachloride, triethylamine, triethylamine and the like. Ethylamine, isopropylamine, diethylamine, diisopropylamine, organic amine solvents such as diisopropylethylamine. These solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1a−b)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。   The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually at least 3 times by weight to 200 times by weight the compound represented by the formula (1a-b). It is as follows.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、0℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。   The temperature at which this reaction is performed is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 0 ° C or higher and 150 ° C or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、濾過操作を行うことにより、不溶物を除去することも可能であるが必須ではない。   As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or an appropriate aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, or the like is dissolved, or a saline solution Etc. can be used arbitrarily. During the liquid separation operation, if necessary, a benzene-based solvent such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, or dichlorobenzene, an ester-based solvent such as ethyl acetate, isopropyl acetate, or butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, or methyl- Solvents that are not compatible with water, such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. It is possible to add. In addition, these solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield. It is also possible, but not essential, to remove insolubles by performing a filtration operation.

前記で得られた式(1a−e)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1a-e) obtained above can be removed with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.

前記で得られた式(1a−e)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1a-e) obtained above can be evaporated under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.

溶媒留去後に得られた式(1a−e)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1a-e) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the objective purity.

[製造方法J]

Figure 2018190349
[Production method J]
Figure 2018190349

式中、R2aはC1〜C6のアルコキシ基を表し、nbは0〜4の整数(ただし、nbが2以上のときは、2以上のR2はそれぞれ独立した置換基を表す。)を表し、R1、R2、R3、X、Yおよび破線部は前記と同義である。   In the formula, R2a represents a C1 to C6 alkoxy group, nb represents an integer of 0 to 4 (however, when nb is 2 or more, 2 or more R2 represents an independent substituent), and R1 , R2, R3, X, Y and the broken line have the same meanings as described above.

製造方法Jは、式(1)で表される化合物のうち、水酸基を有する式(1−b)で表される化合物の合成方法であって、R2aがC1〜C6のアルコキシ基である式(1−a)で表される化合物と酸とを、溶媒中で反応させることによって得ることを含む製造方法である。   Production method J is a method for synthesizing a compound represented by the formula (1-b) having a hydroxyl group among the compounds represented by the formula (1), wherein R2a is a C1-C6 alkoxy group. This is a production method comprising obtaining the compound represented by 1-a) and an acid in a solvent.

本反応に使用する酸として、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素等のハロゲン化ホウ素類等がある。   Examples of the acid used in this reaction include boron halides such as boron trichloride and boron tribromide.

本反応に使用する酸の量は、式(1−a)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、1当量以上10当量以下である。   The amount of the acid used in this reaction may be at least 1 equivalent to the compound represented by the formula (1-a), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is preferably Is 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。   The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene, and nitrile solvents such as acetonitrile. Halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. These solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1−a)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。   The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 times or more and 200 times or more the weight of the compound represented by the formula (1-a). It is as follows.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、−80℃以上100℃以下または溶媒の沸点以下である。   The temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually from -80 ° C to 100 ° C or below the boiling point of the solvent.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。   As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or an appropriate aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, or the like is dissolved, or a saline solution Etc. can be used arbitrarily. During the liquid separation operation, if necessary, a benzene-based solvent such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, or dichlorobenzene, an ester-based solvent such as ethyl acetate, isopropyl acetate, or butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, or methyl- Solvents that are not compatible with water, such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. It is possible to add. In addition, these solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(1−b)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1-b) obtained above can be removed with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.

前記で得られた式(1−b)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1-b) obtained above can be distilled under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.

溶媒留去後に得られた式(1−b)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1-b) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the objective purity.

[製造方法K]

Figure 2018190349
[Production method K]
Figure 2018190349

式中、R2bは、置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基、置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、C2〜C6のハロアルケニル基、置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C6のアルキニル基、C3〜C6のハロアルキニル基、またはR20C(=O)−基を表し、Lv、R1、R2、R3、R20、X、Y、nbおよび破線部は前記と同義である。   In the formula, R2b is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent B, a substituent A C2-C6 alkenyl group optionally substituted with B, a C2-C6 haloalkenyl group, a C3-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent B, a C3-C6 haloalkynyl group, or R20C (= O) — represents a group, and Lv, R1, R2, R3, R20, X, Y, nb and a broken line part are as defined above.

製造方法Kは、式(1)で表される化合物のうち、R2b−O−が、置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルコキシ基、置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニルオキシ基、C2〜C6のハロアルケニルオキシ基、置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C6のアルキニルオキシ基、C3〜C6のハロアルキニルオキシ基、またはR20C(=O)O−基(R20は、前記と同義である。)を表す式(1−c)で表される化合物の合成方法であって、式(1−b)で表される化合物とR2b−Lvとを、塩基存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。   In the production method K, among the compounds represented by the formula (1), R2b-O- is a C1 to C6 alkoxy group, a C1 to C6 haloalkoxy group, and a substituent which may be appropriately substituted with the substituent B. C3 to C8 cycloalkoxy group optionally substituted by B, C2 to C6 alkenyloxy group optionally substituted by substituent B, C2 to C6 haloalkenyloxy group, optionally substituted by substituent B A C3 to C6 alkynyloxy group, a C3 to C6 haloalkynyloxy group, or a R20C () O) O— group (R20 has the same meaning as described above); Which is a method for synthesizing a compound represented by the formula (1-b) and R2b-Lv in a solvent in the presence of a base.

本反応に使用するR2b−Lvは、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。   R2b-Lv used in this reaction can be obtained as a commercial product or can be produced by a known method.

本反応に使用するR2b−Lvは、式(1−b)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、1当量以上10当量以下である。   R2b-Lv used in this reaction may be at least 1 equivalent to the compound represented by the formula (1-b), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is preferably Is 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.

本反応に使用する塩基として、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類や、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、コリジン、ルチジン等の有機塩基類が例示されるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。   Examples of the base used in this reaction include inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, and sodium hydride, and organic bases such as triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, collidine, lutidine, and the like. However, there is no particular limitation as long as the desired reaction proceeds.

本反応に使用する塩基は、式(1−b)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、1当量以上10当量以下である。   The base used in this reaction may be at least 1 equivalent to the compound represented by the formula (1-b), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. It is 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。   The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, and ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane; Alcohol solvents such as methanol, ethanol, and isopropanol; benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene; ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate; and nitrile solvents such as acetonitrile; Amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, dichloromethane, dichloroethane, chloroform Holm, halogenated solvents such as carbon tetrachloride, dimethyl sulfoxide, sulfur-based solvents such as sulfolane, acetone, methyl ethyl ketone, ketone solvents such as methyl isobutyl ketone. These solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1−b)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。   The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually at least 3 times by weight and at most 200 times by weight the compound represented by the formula (1-b). It is as follows.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、−20℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。   The temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually -20 ° C or higher and 150 ° C or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。   As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or an appropriate aqueous solution to the reaction mixture. When an aqueous solution is used, an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, or the like is dissolved, thiosulfate An aqueous solution or salt solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be used arbitrarily. During the liquid separation operation, if necessary, a benzene-based solvent such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, or dichlorobenzene, an ester-based solvent such as ethyl acetate, isopropyl acetate, or butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, or methyl- Solvents that are not compatible with water, such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. It is possible to add. In addition, these solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(1−c)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1-c) obtained above can be removed with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.

前記で得られた式(1−c)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。   The solvent of the reaction mixture containing the compound represented by the formula (1-c) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.

溶媒留去後に得られた式(1−c)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1-c) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the objective purity.

[製造方法L]

Figure 2018190349
[Production method L]
Figure 2018190349

式中、R2cはハロゲン原子を表し、R2dは置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基、置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、またはC2〜C6のハロアルケニル基を表し、R2d−Bは有機ボロン酸類を表し、R1、R2、R3、nb、X、Yおよび破線部は前記と同義である。   In the formula, R2c represents a halogen atom, and R2d represents a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 haloalkyl group optionally substituted with the substituent B, a C3 to C8 optionally substituted with the substituent B. A cycloalkyl group, a C2 to C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent B, or a C2 to C6 haloalkenyl group, R2d-B represents an organic boronic acid, and R1, R2, R3, nb, X, Y and the broken line part are as defined above.

製造方法Lは、式(1)で表される化合物のうち、R2dが置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基、置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、またはC2〜C6のハロアルケニル基である式(1−e)で表される化合物の合成方法であって、式(1−d)で表される化合物と有機ボロン酸類(R2d−B)とを、遷移金属類および塩基の存在下、溶媒中で反応させる鈴木−宮浦カップリングによって得ることを含む製造方法である。   In the production method L, among the compounds represented by the formula (1), R2d is appropriately substituted with a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 haloalkyl group, or a substituent B, which may be appropriately substituted with a substituent B. A C3-C8 cycloalkyl group, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent B, or a C2-C6 haloalkenyl group represented by the formula (1-e): A synthesis method, wherein the compound represented by the formula (1-d) and an organic boronic acid (R2d-B) are obtained by a Suzuki-Miyaura coupling in which a reaction is performed in a solvent in the presence of a transition metal and a base. The manufacturing method includes:

式(1−d)で表される化合物中、好ましいR2cは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。   In the compound represented by the formula (1-d), preferred R2c is a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.

製造方法Hにおける式(1a−b)で表される化合物とR3d−Bとを、それぞれ式(1−d)で表される化合物とR2d−Bとに代えて使用することにより、製造方法Hに準じて製造方法Lを実施することができる。   By using the compound represented by the formula (1a-b) and R3d-B in the production method H in place of the compound represented by the formula (1-d) and R2d-B, respectively, the production method H The manufacturing method L can be performed according to

[製造方法M]

Figure 2018190349
[Manufacturing method M]
Figure 2018190349

式中、R2eは置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、またはC2〜C6のハロアルキニル基を表し、R1、R2、R2c、R3、nb、X、Yおよび破線部は前記と同義である。   In the formula, R2e represents a C2 to C6 alkynyl group or a C2 to C6 haloalkynyl group which may be appropriately substituted with the substituent B, and R1, R2, R2c, R3, nb, X, Y and a broken line part It is the same as the above.

製造方法Mは、式(1)で表される化合物のうち、R2eが置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、またはC2〜C6のハロアルキニル基である式(1−f)で表される化合物の合成方法であって、式(1−d)で表される化合物と末端アルキン化合物とを反応させる薗頭カップリングによって得ることを含む製造方法である。   In the production method M, among the compounds represented by the formula (1), R2e is a C2 to C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent B or a C2 to C6 haloalkynyl group. A method for synthesizing a compound represented by f), comprising obtaining the compound represented by formula (1-d) by Sonogashira coupling with a terminal alkyne compound.

式(1−d)で表される化合物中、好ましいR2cは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。   In the compound represented by the formula (1-d), preferred R2c is a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.

製造方法Iにおける式(1a−b)で表される化合物を式(1−d)で表される化合物に代えて使用することにより、製造方法Iに準じて製造方法Mを実施することができる。   By using the compound represented by the formula (1a-b) in the production method I instead of the compound represented by the formula (1-d), the production method M can be carried out according to the production method I. .

[製造方法N]

Figure 2018190349
[Manufacturing method N]
Figure 2018190349

式中、Daはハロゲン原子を表し、D1aはハロゲン原子を表し、D1bはC1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、またはC3〜C8のシクロアルコキシ基を表し、Eはハロゲン原子で置換された炭素原子または窒素原子を表し、R1、R2、R3、n、X、Qおよび破線部は前記と同義である。   In the formula, Da represents a halogen atom, D1a represents a halogen atom, D1b represents a C1 to C6 alkoxy group, a C1 to C6 haloalkoxy group, or a C3 to C8 cycloalkoxy group, and E represents a halogen atom. Represents a substituted carbon atom or a nitrogen atom, and R1, R2, R3, n, X, Q and a broken line part are as defined above.

製造方法Nは、式(1)で表される化合物のうち、D1bがC1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、またはC3〜C8のシクロアルコキシ基であり、Eがハロゲン原子で置換された炭素原子または窒素原子である式(1−h)で表される化合物の合成方法であって、式(1−g)で表される化合物とD1b−Qとを、塩基の存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。   In the production method N, among the compounds represented by the formula (1), D1b is a C1 to C6 alkoxy group, a C1 to C6 haloalkoxy group, or a C3 to C8 cycloalkoxy group, and E is a halogen atom. A method for synthesizing a compound represented by the formula (1-h), which is a substituted carbon atom or a nitrogen atom, comprising reacting a compound represented by the formula (1-g) with D1b-Q in the presence of a base. And a reaction in a solvent.

本反応で使用されるD1b−Qは、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。好ましいQは、水素原子、またはナトリウム、カリウム等のアルカリ金属類である。   D1b-Q used in this reaction can be obtained as a commercial product or can be produced by a known method. Preferred Q is a hydrogen atom or an alkali metal such as sodium or potassium.

本反応で使用されるD1b−Qの量は、式(1−g)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、1当量以上30当量以下である。また、Qが水素原子を表すときは、溶媒として使用することができる。   The amount of D1b-Q used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds as long as the amount of D1b-Q is at least 1 equivalent to the compound represented by the formula (1-g). Preferably, it is 1 equivalent or more and 30 equivalents or less. When Q represents a hydrogen atom, it can be used as a solvent.

本反応に使用する塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類が好ましい。また、Qがアルカリ金属類のときは、塩基の使用は、必須ではない。   The base used in this reaction is preferably an inorganic base such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, and sodium hydride. When Q is an alkali metal, the use of a base is not essential.

本反応に使用する塩基の量は、式(1−g)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、1当量以上30当量以下である。   The amount of the base used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, as long as it is at least 1 equivalent to the compound represented by the formula (1-g). It is 1 equivalent or more and 30 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、D1b−H(式中、D1bは前記と同義である。)で表されるアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。   The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but an alcoholic solvent represented by D1b-H (where D1b has the same meaning as described above), Ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane; benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene; ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate Ester solvents such as acetonitrile; amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone. Urea solvents, dichloromethane, dichloro Tan, chloroform, halogenated solvents such as carbon tetrachloride, dimethyl sulfoxide, sulfur-based solvents such as sulfolane, acetone, methyl ethyl ketone, ketone solvents such as methyl isobutyl ketone. These solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1−g)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。   The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times by weight based on the compound represented by the formula (1-g). It is as follows.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、0℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。   The temperature at which this reaction is performed is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 0 ° C or higher and 150 ° C or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。   As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or an appropriate aqueous solution to the reaction mixture. When an aqueous solution is used, an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, or the like is dissolved, thiosulfate An aqueous solution or salt solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be used arbitrarily. During the liquid separation operation, if necessary, a benzene-based solvent such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, or dichlorobenzene, an ester-based solvent such as ethyl acetate, isopropyl acetate, or butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, or methyl- Solvents that are not compatible with water, such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. It is possible to add. In addition, these solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(1−h)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1-h) obtained above can be removed with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.

前記で得られた式(1−h)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1-h) obtained above can be distilled under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.

溶媒留去後に得られた式(1−h)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1-h) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the objective purity.

[製造方法O]

Figure 2018190349
[Production method O]
Figure 2018190349

式中、R2eは置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基を表し、R2fは置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基を表し、R2gはハロゲン原子を表し、HalR、R1、R3、X、Yおよび破線部は前記と同義である。   In the formula, R2e represents a C1 to C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent B, R2f represents a C1 to C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent B, and R2g represents a halogen atom. In the formula, HalR, R1, R3, X, Y and the broken line have the same meanings as described above.

製造方法Oは、式(1)で表される化合物のうち、R2eが置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基であり、R2fが置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基であり、R2gがハロゲン原子である式(1−j)で表される化合物を得る製造方法であって、式(1−i)で表される化合物とハロゲン化剤(HalR)とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。   In the production method O, among the compounds represented by the formula (1), R2e is a C1 to C6 alkoxy group optionally substituted with the substituent B, and R2f may be appropriately substituted with the substituent B. A method for producing a compound represented by the formula (1-j), which is a C1 to C6 alkoxy group and R2g is a halogen atom, wherein the compound represented by the formula (1-i) and a halogenating agent ( HalR) in a solvent.

本反応に使用するハロゲン化剤としては、セレクトロフルオル(N−フルオロ−N’−トリエチレンジアミン ビス(テトラフルオロボラート))、N−クロロスクシンイミド、N−ブロモスクシンイミド、N−ヨードスクシンイミド、1,3−ジクロロ−5,5−ジメチルヒダントイン、1,3−ジブロモ−5,5−ジメチルヒダントイン、1,3−ジヨード−5,5−ジメチルヒダントイン、臭素、ヨウ素等が挙げられる。   Examples of the halogenating agent used in this reaction include selectrofluor (N-fluoro-N′-triethylenediaminebis (tetrafluoroborate)), N-chlorosuccinimide, N-bromosuccinimide, N-iodosuccinimide, , 3-dichloro-5,5-dimethylhydantoin, 1,3-dibromo-5,5-dimethylhydantoin, 1,3-diiodo-5,5-dimethylhydantoin, bromine, iodine and the like.

本反応に使用するハロゲン化剤の量は、式(1−i)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、1当量以上10当量以下である。ただし、ヒダントインを含むハロゲン化剤の量は、0.5当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはなく、好ましくは1当量以上5当量以下である。   The amount of the halogenating agent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, provided that the amount of the halogenating agent is at least 1 equivalent to the compound represented by the formula (1-i). Preferably, it is 1 equivalent or more and 10 equivalents or less. However, the amount of the halogenating agent containing hydantoin is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds as long as the amount is 0.5 equivalent or more, and is preferably 1 equivalent to 5 equivalents.

本反応に使用するハロゲン化剤がヨウ素化剤である場合、塩酸、硫酸等の無機酸類や、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の有機酸のような酸を加えることができる。   When the halogenating agent used in this reaction is an iodizing agent, an acid such as an inorganic acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid or an organic acid such as acetic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, or trifluoromethanesulfonic acid is added. Can be.

本反応に使用するハロゲン化剤がヨウ素化剤である場合に使用する酸の量は、式(1−i)で表される化合物に対して0.01当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、0.1当量以上3当量以下である。   When the amount of the acid used when the halogenating agent used in this reaction is an iodizing agent is 0.01 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (1-i), the desired reaction can be achieved. There is no particular limitation as long as it proceeds, but it is preferably 0.1 equivalent or more and 3 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、硫酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の酸性系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。   The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but acidic solvents such as sulfuric acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, and trifluoromethanesulfonic acid, and diethyl ether , Diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, etc., ether solvents, methanol, ethanol, isopropanol, etc. alcohol solvents, benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, etc. benzene solvents. Ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate; nitrile solvents such as acetonitrile; amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; , 3-dimethyl-2-urea-based solvent-imidazolidinone, dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and halogen solvents such as carbon tetrachloride. These solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1−i)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。   The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 times or more and 200 times or more the compound represented by the formula (1-i). It is as follows.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、0℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。   The temperature at which this reaction is performed is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 0 ° C or higher and 150 ° C or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。   As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or an appropriate aqueous solution to the reaction mixture. When an aqueous solution is used, an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, or the like is dissolved, thiosulfate An aqueous solution or salt solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be used arbitrarily. During the liquid separation operation, if necessary, a benzene-based solvent such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, or dichlorobenzene, an ester-based solvent such as ethyl acetate, isopropyl acetate, or butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, or methyl- Solvents that are not compatible with water, such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. It is possible to add. In addition, these solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(1−j)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1-j) obtained above can be removed with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.

前記で得られた式(1−j)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1-j) obtained above can be distilled under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.

溶媒留去後に得られた式(1−j)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1-j) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the objective purity.

[製造方法P]

Figure 2018190349
[Manufacturing method P]
Figure 2018190349

式中、Daはハロゲン原子を表し、D1aはハロゲン原子を表し、D2aはシアノ基、置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニルオキシ基、C2〜C6のハロアルケニルオキシ基、置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C6のアルキニルオキシ基、C3〜C6のハロアルキニルオキシ基、置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルコキシアルコキシ基、C2〜C6のシアノアルコキシ基、C4〜C9のシクロアルキルアルコキシ基、置換基Dで適宜置換されてもよいヘテロアリール基、置換基Dで適宜置換されてもよいアリールオキシ基、置換基Dで適宜置換されてもよいヘテロアリールオキシ基、置換基Dで適宜置換されてもよいアラルキルオキシ基、R40(CH2)p−U−基、R41R42N−基、R43−L4−基、およびR47R48C=N−O−基を表し、Eはハロゲン原子で置換された炭素原子または窒素原子を表し、R1、R2、R3、n、X、Q、R40、p、U、R41、R42、R43、L4、R47、R48および破線部は前記と同義である。   In the formula, Da represents a halogen atom, D1a represents a halogen atom, D2a represents a cyano group, a C2 to C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent B, a C2 to C6 haloalkenyloxy group, A C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with group B, a C3-C6 haloalkynyloxy group, a C2-C6 alkoxyalkoxy group optionally substituted with substituent B, a C2-C6 cyanoalkoxy Group, C4-C9 cycloalkylalkoxy group, heteroaryl group optionally substituted with substituent D, aryloxy group optionally substituted with substituent D, hetero optionally substituted with substituent D Aryloxy group, aralkyloxy group optionally substituted with substituent D, R40 (CH2) pU-group, R41R42N- group, R43 L4 and R47R48C = N-O-; E represents a carbon atom or a nitrogen atom substituted with a halogen atom; R1, R2, R3, n, X, Q, R40, p, U, R41 , R42, R43, L4, R47, R48 and the broken line part are as defined above.

製造方法Pは、式(1)で表される化合物のうち、D2aが、シアノ基、置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニルオキシ基、C2〜C6のハロアルケニルオキシ基、置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C6のアルキニルオキシ基、C3〜C6のハロアルキニルオキシ基、置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルコキシアルコキシ基、C2〜C6のシアノアルコキシ基、C4〜C9のシクロアルキルアルコキシ基、置換基Dで適宜置換されてもよいヘテロアリール基、置換基Dで適宜置換されてもよいアリールオキシ基、置換基Dで適宜置換されてもよいヘテロアリールオキシ基、置換基Dで適宜置換されてもよいアラルキルオキシ基、R40(CH2)p−U−基、R41R42N−基、R43−L4−基、およびR47R48C=N−O−基を表し、Eはハロゲン原子で置換された炭素原子または窒素原子である式(1−k)で表される化合物の合成方法であって、式(1−g)で表される化合物とD2a−Qとを、塩基の存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。   In the production method P, among the compounds represented by the formula (1), D2a is a cyano group, a C2 to C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent B, a C2 to C6 haloalkenyloxy group, A C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent B, a C3-C6 haloalkynyloxy group, a C2-C6 alkoxyalkoxy group optionally substituted with a substituent B, a C2-C6 cyano An alkoxy group, a C4 to C9 cycloalkylalkoxy group, a heteroaryl group optionally substituted with a substituent D, an aryloxy group optionally substituted with a substituent D, and optionally substituted with a substituent D A heteroaryloxy group, an aralkyloxy group optionally substituted with a substituent D, an R40 (CH2) p-U- group, an R41R42N- group, an R43-L4- group, And R47R48C = N—O—, wherein E is a compound represented by the formula (1-k), which is a carbon atom or a nitrogen atom substituted with a halogen atom, wherein the compound represented by the formula (1-g) And D2a-Q in a solvent in the presence of a base.

本反応で使用されるD2a−Qは、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。好ましいQは、水素原子、またはナトリウム、カリウム等のアルカリ金属類等である。   D2a-Q used in this reaction can be obtained as a commercial product or can be produced by a known method. Desirable Q is a hydrogen atom or an alkali metal such as sodium or potassium.

本反応で使用されるD2a−Qの量は、式(1−g)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、1当量以上30当量以下である。また、Qが水素原子を表すときは、溶媒として使用することができる。   The amount of D2a-Q used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, provided that the amount of D2a-Q is at least 1 equivalent to the compound represented by the formula (1-g). Preferably, it is 1 equivalent or more and 30 equivalents or less. When Q represents a hydrogen atom, it can be used as a solvent.

本反応に使用する塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類が好ましい。また、Qがアルカリ金属類のときは、塩基の使用は、必須ではない。   The base used in this reaction is preferably an inorganic base such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, and sodium hydride. When Q is an alkali metal, the use of a base is not essential.

本反応に使用する塩基の量は、式(1−g)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、1当量以上30当量以下である。   The amount of the base used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, provided that the amount of the base is at least 1 equivalent to the compound represented by the formula (1-g). And 1 to 30 equivalents.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、D2a−H(式中、D2aは前記と同義である。)で表されるアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。   The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but an alcohol solvent represented by D2a-H (where D2a has the same meaning as described above), Ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane; benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene; ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate Ester solvents such as acetonitrile; amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone. Urea solvents, dichloromethane, dichloro Tan, chloroform, halogenated solvents such as carbon tetrachloride, dimethyl sulfoxide, sulfur-based solvents such as sulfolane, acetone, methyl ethyl ketone, ketone solvents such as methyl isobutyl ketone. These solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1−g)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。   The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times by weight based on the compound represented by the formula (1-g). It is as follows.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、0℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。   The temperature at which this reaction is performed is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 0 ° C or higher and 150 ° C or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。   As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or an appropriate aqueous solution to the reaction mixture. When an aqueous solution is used, an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, or the like is dissolved, thiosulfate An aqueous solution or salt solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be used arbitrarily. During the liquid separation operation, if necessary, a benzene-based solvent such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, or dichlorobenzene, an ester-based solvent such as ethyl acetate, isopropyl acetate, or butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, or methyl- Solvents that are not compatible with water, such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. It is possible to add. In addition, these solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(1−k)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1-k) obtained above can be removed with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.

前記で得られた式(1−k)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。   The solvent of the reaction mixture containing the compound represented by the formula (1-k) obtained as described above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.

溶媒留去後に得られた式(1−k)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1-k) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the objective purity.

[製造方法Q]

Figure 2018190349
[Production method Q]
Figure 2018190349

式中、D1cはC1〜C6のアルコキシ基を表し、R1、R2、R3、Da、X、E、nおよび破線部は前記と同義である。   In the formula, D1c represents a C1 to C6 alkoxy group, and R1, R2, R3, Da, X, E, n and a broken line have the same meanings as described above.

製造方法Qは、式(1)で表される化合物のうち、水酸基を有する式(1−m)で表される化合物の合成方法であって、D1cがC1〜C6のアルコキシ基である式(1−l)で表される化合物と酸とを、溶媒中で反応させることによって得ることを含む製造方法である。   The production method Q is a method for synthesizing a compound represented by the formula (1-m) having a hydroxyl group among the compounds represented by the formula (1), wherein D1c is a C1-C6 alkoxy group. This is a production method comprising obtaining the compound represented by 1-1) and an acid in a solvent.

本反応に使用する酸として、塩酸、硫酸等の無機酸類、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の有機酸や、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素等のハロゲン化ホウ素類のような酸を加えることができる。   Examples of the acid used in this reaction include inorganic acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid, organic acids such as acetic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, and trifluoromethanesulfonic acid, and boron halides such as boron trichloride and boron tribromide. An acid such as can be added.

本反応に使用する酸の量は、式(1−l)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、1当量以上10当量以下である。   The amount of the acid used in this reaction may be at least 1 equivalent to the compound represented by the formula (1-1), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is preferably Is 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、硫酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の酸性系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。   The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is not limited to sulfuric acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, an acidic solvent such as trifluoromethanesulfonic acid, benzene, Benzene solvents such as toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene, nitrile solvents such as acetonitrile, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride, and hydrocarbons such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane System solvents and the like. These solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1−l)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。   The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually at least 3 times by weight and at least 200 times by weight the compound represented by the formula (1-1). It is as follows.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、−80℃以上100℃以下または溶媒の沸点以下である。   The temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually from -80 ° C to 100 ° C or below the boiling point of the solvent.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。   As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or an appropriate aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, or the like is dissolved, or a saline solution Etc. can be used arbitrarily. During the liquid separation operation, if necessary, a benzene-based solvent such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, or dichlorobenzene, an ester-based solvent such as ethyl acetate, isopropyl acetate, or butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, or methyl- Solvents that are not compatible with water, such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. It is possible to add. In addition, these solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(1−m)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1-m) obtained above can be removed with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.

前記で得られた式(1−m)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。   The solvent of the reaction mixture containing the compound represented by the formula (1-m) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.

溶媒留去後に得られた式(1−m)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1-m) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the objective purity.

[製造方法R]

Figure 2018190349
[Production method R]
Figure 2018190349

式中、D2bは、置換基Aで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基、置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、C2〜C6のハロアルケニル基、置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C6のアルキニル基、C3〜C6のハロアルキニル基、置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルコキシ基、置換基Dで適宜置換されてもよいアリール基、置換基Dで適宜置換されてもよいヘテロアリール基、R40(CH2)p−基、およびR44C(=O)−基を表し、
Lv、R1、R2、R3、R40、R44、p、X、Da、E、n、および破線部は前記と同義である。
In the formula, D2b is a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent B, a C2-C6 haloalkenyl group, A C3 to C6 alkynyl group optionally substituted by a group B, a C3 to C6 haloalkynyl group, a C2 to C6 alkoxy group optionally substituted by a substituent B, and an optionally substituted substituent D A good aryl group, a heteroaryl group optionally substituted with a substituent D, an R40 (CH2) p- group, and an R44C (= O)-group;
Lv, R1, R2, R3, R40, R44, p, X, Da, E, n, and the broken line have the same meanings as described above.

製造方法Rは、式(1)で表される化合物のうち、D2b−O−が、置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニルオキシ基、C2〜C6のハロアルケニルオキシ基、置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C6のアルキニルオキシ基、C3〜C6のハロアルキニルオキシ基、置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルコキシアルコキシ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2〜C6のシアノアルコキシ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC4〜C9のシクロアルキルアルコキシ基、置換基Dで適宜置換されてもよいアリールオキシ基、置換基Dで適宜置換されてもよいヘテロアリールオキシ基、置換基Dで適宜置換されてもよいアラルキルオキシ基、R40(CH2)p−U−基、およびR44C(=O)O−基を表す式(1−o)で表される化合物の合成方法であって、式(1−n)で表される化合物とD2b−Lvとを、塩基存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。   In the production method R, among the compounds represented by the formula (1), D2b-O- is a C2 to C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent B, a C2 to C6 haloalkenyloxy group, A C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent B, a C3-C6 haloalkynyloxy group, a C2-C6 alkoxyalkoxy group optionally substituted with a substituent B, and a substituent A An optionally substituted C2-C6 cyanoalkoxy group, an optionally substituted C4-C9 cycloalkylalkoxy group optionally substituted with substituent A, an aryloxy group optionally substituted with substituent D, An optionally substituted heteroaryloxy group, an aralkyloxy group optionally substituted with substituent D, an R40 (CH2) pU- group, and an R44C (= O) O- group; A method for synthesizing a compound represented by the formula (1-o), comprising reacting a compound represented by the formula (1-n) with D2b-Lv in a solvent in the presence of a base. Is the way.

本反応に使用するD2b−Lvは、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。   D2b-Lv used in this reaction can be obtained as a commercial product or can be produced by a known method.

本反応に使用するD2b−Lvは、式(1−n)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、1当量以上10当量以下である。   D2b-Lv used in this reaction may be at least 1 equivalent to the compound represented by the formula (1-n), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is preferably used. Is 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.

本反応に使用する塩基として、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類や、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、コリジン、ルチジン等の有機塩基類が例示されるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。   Examples of the base used in this reaction include inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, and sodium hydride, and organic bases such as triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, collidine, lutidine, and the like. However, there is no particular limitation as long as the desired reaction proceeds.

本反応に使用する塩基は、式(1−n)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、1当量以上10当量以下である。   The base used in this reaction may be at least one equivalent to the compound represented by the formula (1-n), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. It is 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。   The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, and ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane; Alcohol solvents such as methanol, ethanol, and isopropanol; benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene; ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate; and nitrile solvents such as acetonitrile; Amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, dichloromethane, dichloroethane, chloroform Holm, halogenated solvents such as carbon tetrachloride, dimethyl sulfoxide, sulfur-based solvents such as sulfolane, acetone, methyl ethyl ketone, ketone solvents such as methyl isobutyl ketone. These solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1−n)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。   The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 times or more and 200 times or more the weight of the compound represented by the formula (1-n). It is as follows.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、−20℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。   The temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually -20 ° C or higher and 150 ° C or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。   As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or an appropriate aqueous solution to the reaction mixture. When an aqueous solution is used, an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, or the like is dissolved, thiosulfate An aqueous solution or salt solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be used arbitrarily. During the liquid separation operation, if necessary, a benzene-based solvent such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, or dichlorobenzene, an ester-based solvent such as ethyl acetate, isopropyl acetate, or butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, or methyl- Solvents that are not compatible with water, such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. It is possible to add. In addition, these solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(1−o)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1-o) obtained above can be removed with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.

前記で得られた式(1−o)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1-o) obtained above can be distilled under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.

溶媒留去後に得られた式(1−o)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (1-o) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the objective purity.

[製造方法S]

Figure 2018190349
[Manufacturing method S]
Figure 2018190349

式中、D2cは、置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、C2〜C6ハロアルケニル基、置換基Dで適宜置換されてもよいアリール基、および置換基Dで適宜置換されてもよいヘテロアリール基を表し、D2c−Bは有機ボロン酸類を表し、R1、R2、R3、n、X、E、Da、D1aおよび破線部は前記と同義である。   In the formula, D2c is a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent B, a C2-C6 haloalkenyl group, an aryl group optionally substituted with a substituent D, and optionally substituted with a substituent D Represents a heteroaryl group which may be substituted, D2c-B represents an organic boronic acid, and R1, R2, R3, n, X, E, Da, D1a and a dashed line part are as defined above.

製造方法Sは、式(1)で表される化合物のうち、D2cが置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、C2〜C6ハロアルケニル基、置換基Dで適宜置換されてもよいアリール基、および置換基Dで適宜置換されてもよいヘテロアリール基である式(1−p)で表される化合物の合成方法であって、式(1−g)で表される化合物と有機ボロン酸類(D2c−B)とを反応させる鈴木−宮浦カップリングによって得ることを含む製造方法である。   In the production method S, among the compounds represented by the formula (1), D2c is appropriately substituted with a C2 to C6 alkenyl group, a C2 to C6 haloalkenyl group and a substituent D, which may be appropriately substituted with the substituent B. A method for synthesizing a compound represented by the formula (1-p), which is an aryl group which may be optionally substituted, and a heteroaryl group which may be optionally substituted by a substituent D, represented by the formula (1-g) It is a production method comprising obtaining the compound by an Suzuki-Miyaura coupling in which a compound is reacted with an organic boronic acid (D2c-B).

式(1−g)中、好ましいD1aは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。   In Formula (1-g), preferred D1a is a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.

製造方法Hにおける式(1a−b)で表される化合物とR3d−Bとを、それぞれ式(1−g)で表される化合物とD2c−Bとに代えて使用することにより、製造方法Hに準じて製造方法Sを実施することができる。   By using the compound represented by formula (1a-b) and R3d-B in production method H in place of the compound represented by formula (1-g) and D2c-B, respectively, production method H The manufacturing method S can be performed according to

[製造方法T]

Figure 2018190349
[Manufacturing method T]
Figure 2018190349

式中、D2dは置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、およびC2〜C6のハロアルキニル基を表し、R1、R2、R3、n、X、E、Da、D1aおよび破線部は前記と同義である。   In the formula, D2d represents a C2 to C6 alkynyl group and a C2 to C6 haloalkynyl group which may be appropriately substituted with the substituent B, and R1, R2, R3, n, X, E, Da, D1a and a broken line The parts are as defined above.

製造方法Tは、式(1)で表される化合物のうち、D2dが置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、またはC2〜C6のハロアルキニル基である式(1−q)で表される化合物の合成方法であって、式(1−g)で表される化合物と末端アルキン化合物とを反応させる薗頭カップリングによって得ることを含む製造方法である。   The production method T is a compound represented by the formula (1-) in which, among the compounds represented by the formula (1), D2d is a C2 to C6 alkynyl group or a C2 to C6 haloalkynyl group optionally substituted with a substituent B. A method for synthesizing a compound represented by q), which comprises obtaining the compound represented by formula (1-g) by Sonogashira coupling with a terminal alkyne compound.

式(1−g)で表される化合物中、好ましいD1aは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。   In the compound represented by the formula (1-g), preferred D1a is a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.

製造方法Iにおける式(1a−b)で表される化合物を式(1−g)で表される化合物に代えて使用することにより、製造方法Iに準じて製造方法Tを実施することができる。   By using the compound represented by the formula (1a-b) in the production method I instead of the compound represented by the formula (1-g), the production method T can be carried out according to the production method I. .

[製造方法U]

Figure 2018190349
[Manufacturing method U]
Figure 2018190349

式中、LaはSを表し、LbはSOまたはSOを表し、Ox’は酸化剤を表す。In the formula, La represents S, Lb represents SO or SO 2 , and Ox ′ represents an oxidizing agent.

製造方法Uは、式(1)で表される化合物中、R2、R3、置換基A、置換基B、置換基C、および置換基D2に含まれるLbがSOまたはSOである式(Lb)で表される化合物の製造方法であって、式(1)中、R2、R3、置換基A、置換基B、置換基C、および置換基D2に含まれるLaがSである式(La)で表される化合物と酸化剤(Ox’)とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。Production process U is the compound represented by the formula (1), R2, R3, substituent A, substituents B, Lb included in substituents C, and the substituent D2 is SO or SO 2 wherein (Lb The method for producing a compound represented by the formula (La) wherein, in formula (1), La contained in R 2, R 3, substituent A, substituent B, substituent C, and substituent D 2 is S. ) And an oxidizing agent (Ox ′) in a solvent.

本反応に使用する酸化剤は、過酸化水素水、メタ−クロロ過安息香酸等の過酸化物類等が挙げられる。また、タングステン酸ナトリウムのような遷移金属類を添加することもできる。   Examples of the oxidizing agent used in the present reaction include peroxides such as aqueous hydrogen peroxide and meta-chloroperbenzoic acid. Also, transition metals such as sodium tungstate can be added.

本反応に使用する酸化剤の量は、SOを製造する際には式(La)で表される化合物に対して、通常、1.0当量以上1.2当量以下であり、SOを製造する際には、通常、2当量以上10当量以下である。また、遷移金属類を添加する際には、通常、0.001当量以上1当量以下である。The amount of oxidizing agent used in this reaction, to the compound represented by the formula (La) in the manufacture of SO, is usually, 1.0 1.2 equivalents or less equivalent or more, producing SO 2 In doing so, it is usually 2 equivalents or more and 10 equivalents or less. When adding transition metals, the amount is usually 0.001 equivalent or more and 1 equivalent or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、水溶媒、酢酸等の酸性系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。   The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but may be an aqueous solvent, an acidic solvent such as acetic acid, benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, or the like. Examples thereof include benzene solvents, nitrile solvents such as acetonitrile, and halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride. These solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(La)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。   The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times by weight based on the compound represented by the formula (La). is there.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、−10℃以上120℃以下または溶媒の沸点以下である。   The temperature at which this reaction is performed is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually -10 ° C or more and 120 ° C or less or the boiling point of the solvent or less.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。   As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or an appropriate aqueous solution to the reaction mixture. When an aqueous solution is used, an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, or the like is dissolved, thiosulfate An aqueous solution or salt solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be used arbitrarily. During the liquid separation operation, if necessary, a benzene-based solvent such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, or dichlorobenzene, an ester-based solvent such as ethyl acetate, isopropyl acetate, or butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, or methyl- Solvents that are not compatible with water, such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. It is possible to add. In addition, these solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(Lb)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (Lb) obtained above can be removed with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.

前記で得られた式(Lb)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。   The solvent of the reaction mixture containing the compound represented by the formula (Lb) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.

溶媒留去後に得られた式(Lb)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (Lb) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the objective purity.

次に製造方法Aに記載されている式(3)で表される化合物の合成方法について記載する。   Next, a method for synthesizing the compound represented by Formula (3) described in Production Method A will be described.

[製造方法V]

Figure 2018190349
[Manufacturing method V]
Figure 2018190349

式中、R2、R3、R5、n、XおよびYは、前記と同義である。   In the formula, R2, R3, R5, n, X and Y are as defined above.

製造方法Vは、式(3)で表される製造中間体の製造方法であって、式(4)で表される化合物と式(5)で表される化合物とを、塩基の存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。   The production method V is a method for producing a production intermediate represented by the formula (3), in which a compound represented by the formula (4) and a compound represented by the formula (5) are reacted in the presence of a base. This is a production method including reacting in a solvent.

本反応に使用する式(4)で表される化合物は、参考例に準じて合成することができる。また、グリーン ケミストリー(Green Chemistry)、第41巻、580−585頁や、ザ ジャーナル オブ オルガニック ケミストリー(The Journal of Organic Chemistry)、第65巻、20号、6458−6461頁(2000).等を参照に合成することができる。   The compound represented by the formula (4) used in this reaction can be synthesized according to Reference Examples. Also, Green Chemistry, Vol. 41, pp. 580-585, and The Journal of Organic Chemistry, Vol. 65, No. 20, pp. 6458-6461 (2000). Etc. can be synthesized with reference.

本反応に使用する式(5)で表される化合物は、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。   The compound represented by the formula (5) used in this reaction can be obtained as a commercial product or can be produced by a known method.

本反応に使用する式(5)で表される化合物の量は、式(4)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは1当量以上3当量以下である。   The amount of the compound represented by the formula (5) used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, as long as the amount of the compound represented by the formula (4) is 1 equivalent or more. But not more than 1 equivalent and not more than 3 equivalents.

本反応に使用する塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、リン酸三カリウムのような無機塩基類やナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム t−ブトキシド等の金属アルコキシド類等である。   Bases used in this reaction include inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate and tripotassium phosphate, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide.

本反応に使用する塩基は、触媒量で実施することが可能であり、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、式(4)で表される化合物に対して0.01当量以上3当量以下である。   The base used in this reaction can be carried out in a catalytic amount, and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is preferably a compound represented by the formula (4). On the other hand, it is 0.01 to 3 equivalents.

本反応に使用する溶媒は、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。   Solvents used in this reaction include ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane; benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, and dichlorobenzene; Ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate; nitrile solvents such as acetonitrile; amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; 1,3-dimethyl Urea solvents such as -2-imidazolidinone, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride; sulfur solvents such as dimethyl sulfoxide and sulfolane; acetone, methyl ethyl ketone and methyl ether Ketone solvents such as butyl ketone and the like. These solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(4)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。   The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times by weight based on the compound represented by the formula (4). is there.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、−50℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。   The temperature at which this reaction is performed is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually -50 ° C or higher and 150 ° C or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。   As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or an appropriate aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, or the like is dissolved, or a saline solution Etc. can be used arbitrarily. During the liquid separation operation, if necessary, a benzene-based solvent such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, or dichlorobenzene, an ester-based solvent such as ethyl acetate, isopropyl acetate, or butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, or methyl- Solvents that are not compatible with water, such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. It is possible to add. In addition, these solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(3)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (3) obtained above can be removed with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.

前記で得られた式(3)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。   The solvent of the reaction mixture containing the compound represented by the formula (3) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.

溶媒留去後に得られた式(3)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (3) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the objective purity.

[製造方法W]

Figure 2018190349
[Production method W]
Figure 2018190349

式中、R5aはC1〜C6のアルキル基を表し、R2、R3、n、XおよびYは前記と同義である。   In the formula, R5a represents a C1 to C6 alkyl group, and R2, R3, n, X, and Y are as defined above.

製造方法Wは、式(3)で表される化合物のうち、式(3b)で表される製造中間体の製造方法であって、式(3a)で表される化合物を、酸性条件または塩基性条件下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。   The production method W is a method for producing a production intermediate represented by the formula (3b) among the compounds represented by the formula (3), wherein the compound represented by the formula (3a) is prepared under an acidic condition or a base condition. This is a production method comprising reacting in a solvent under ionic conditions.

まず、酸性条件の反応について説明する。   First, the reaction under acidic conditions will be described.

本反応に使用する酸は、塩酸、臭化水素酸、リン酸等の無機酸類や、酢酸、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸類が例示される。目的とする反応が進行する限り特に制限されることはない。   Examples of the acid used in this reaction include inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, and phosphoric acid, and organic acids such as acetic acid, methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, and trifluoroacetic acid. There is no particular limitation as long as the desired reaction proceeds.

本反応に使用する酸の量は、触媒量でもよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、式(3a)で表される化合物に対して0.01当量以上である。また、液体状の酸に関しては溶媒として使用することも可能である。   The amount of the acid used in this reaction may be a catalytic amount, and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is preferably 0.1 to 0.1 with respect to the compound represented by the formula (3a). It is at least 01 equivalent. Further, a liquid acid can be used as a solvent.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、水溶媒、酢酸、メタンスルホン酸等の酸性系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。   The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds.Aqueous solvents, acetic acid, acidic solvents such as methanesulfonic acid, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t- Ether solvents such as butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane; alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropanol; benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene; ethyl acetate, isopropyl acetate and acetic acid Ester solvents such as butyl, nitrile solvents such as acetonitrile, amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone Ure System solvent, dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and halogen solvents such as carbon tetrachloride. These solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(3a)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。   The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times by weight based on the compound represented by the formula (3a). is there.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、0℃以上180℃以下または溶媒の沸点以下である。   The temperature at which this reaction is performed is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 0 ° C or higher and 180 ° C or lower or the boiling point of the solvent or lower.

次に、塩基性条件の反応について説明する。
本反応に使用する塩基は、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基類が例示されるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。
Next, the reaction under basic conditions will be described.
Examples of the base used in this reaction include inorganic bases such as lithium hydroxide, sodium hydroxide, and potassium hydroxide, but are not particularly limited as long as the desired reaction proceeds.

本反応に使用する塩基は、式(3a)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、1当量以上30当量以下である、   The base used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, as long as it is at least 1 equivalent to the compound represented by the formula (3a), but is preferably at least 1 equivalent. Not more than 30 equivalents,

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、水溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。   The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but an ether such as a water solvent, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, etc. Solvent, alcohol solvent such as methanol, ethanol, isopropanol, etc., benzene solvent such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, ester solvent such as ethyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, etc., nitrile such as acetonitrile Amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, dichloromethane, dichloroethane , Chloroform, and halogen solvents such as carbon tetrachloride. These solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(3a)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。   The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times by weight based on the compound represented by the formula (3a). is there.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、−20℃以上180℃以下または溶媒の沸点以下である。   The temperature at which this reaction is performed is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually -20 ° C or higher and 180 ° C or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理は、酸性条件での反応と塩基性条件の反応は共通の方法で行える。反応混合物に対して、水、もしくは適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−t−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。   For the post-treatment of the reaction, the reaction under acidic conditions and the reaction under basic conditions can be performed by a common method. Separation operation can be performed by adding water or an appropriate aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, or the like is dissolved, or a saline solution Etc. can be used arbitrarily. During the liquid separation operation, if necessary, a benzene-based solvent such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, or dichlorobenzene, an ester-based solvent such as ethyl acetate, isopropyl acetate, or butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, or methyl- Solvents that are not compatible with water, such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. It is possible to add. In addition, these solvents can be used alone or as a mixture of two or more kinds at an arbitrary ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(3b)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (3b) obtained above can be removed with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.

前記で得られた式(3b)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (3b) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.

溶媒留去後に得られた式(3b)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。   The reaction mixture containing the compound represented by the formula (3b) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the objective purity.

式(3b)で表される化合物は、式(3b’)

Figure 2018190349
The compound represented by the formula (3b) is represented by the formula (3b ′)
Figure 2018190349

(式中、R2、R3、n、XおよびYは前記と同義である。)で表される異性体も含む。   (Wherein, R2, R3, n, X and Y have the same meanings as described above).

式(3b’)で表される化合物は、式(3b)で表される化合物と同様に取り扱うことが可能であり、製造方法Aを適応することができる。また、式(3b’)で表される化合物は不斉炭素を含むが、その異性体混合比は、単独でも任意の割合の混合物でもよい。さらに、式(3b)で表される化合物と式(3b’)で表される化合物との混合物でもよく、その異性体混合比は、単独でも任意の割合の混合物でもよい。   The compound represented by the formula (3b ′) can be handled in the same manner as the compound represented by the formula (3b), and the production method A can be applied. Further, the compound represented by the formula (3b ') contains an asymmetric carbon, and the isomers may be used alone or in a mixture at an arbitrary ratio. Furthermore, a mixture of the compound represented by the formula (3b) and the compound represented by the formula (3b ′) may be used, and the mixing ratio of the isomers may be singly or a mixture having an arbitrary ratio.

以上に示した、製造方法A〜製造方法Wを任意に組み合わせて、式(1)で表される化合物を製造することができる。もしくは、公知の方法と製造方法A〜製造方法Wとを任意に組み合わせても、式(1)で表される化合物を製造することができる。   The compound represented by the formula (1) can be produced by arbitrarily combining the production methods A to W shown above. Alternatively, the compound represented by Formula (1) can be produced by arbitrarily combining a known method with Production Method A to Production Method W.

本発明化合物は、植物に対して有害な生物を防除できるために、農薬として使用することができる。具体的には、殺菌剤、殺虫剤、除草剤、植物成長調整剤等が挙げられる。好ましくは、殺菌剤である。   The compound of the present invention can be used as a pesticide because it can control harmful organisms to plants. Specific examples include fungicides, insecticides, herbicides, plant growth regulators, and the like. Preferably, it is a bactericide.

本発明化合物は、植物病害の防除のために、畑地、水田、茶園、果樹園、牧草地、芝生、森林、庭園、街路樹等で農園芸用殺菌剤として使用することができる。   The compound of the present invention can be used as an agricultural and horticultural fungicide in fields, paddy fields, tea fields, orchards, pastures, lawns, forests, gardens, street trees, and the like for controlling plant diseases.

本発明でいう植物病害とは、農作物、花き、花木、樹木等の植物に萎ちょう、立枯れ、黄化、萎縮、徒長等の全身的な異常な病的症状、または斑点、葉枯れ、モザイク、葉巻、枝枯れ、根腐れ、根こぶ、こぶ等の部分的な病的症状が惹起されることである。即ち、植物が病気になることである。植物病害を引き起こす病原体として、主に、菌類、細菌、スピロプラズマ、ファイトプラズマ、ウイルス、ウイロイド、寄生性高等植物、線虫等が挙げられる。本発明化合物は菌類に有効であるが、これに限定されるものではない。   The plant disease referred to in the present invention is a crop, a flower, a flower, a plant such as a tree, wilting, withering, yellowing, atrophy, systemic abnormal pathological symptoms such as stunts, or spots, leaf withering, mosaic. , Partial pathological symptoms such as cigars, wilt, root rot, nodules, nodules and the like. That is, the plant becomes ill. Pathogens causing plant diseases mainly include fungi, bacteria, spiroplasma, phytoplasma, viruses, viroids, parasitic higher plants, nematodes and the like. The compound of the present invention is effective on fungi, but is not limited thereto.

菌類によって引き起こされる病害は、主に菌類病である。菌類病を引き起こす菌類(病原体)として、ネコブカビ菌類、卵菌類、接合菌類、子のう菌類、担子菌類および不完全菌類が挙げられる。例えば、ネコブカビ菌類として、根こぶ病菌、ジャカイモ粉状そうか病菌、テンサイそう根病菌、卵菌類として疫病菌、べと病菌、Pythium属菌、Aphanomyces属菌、接合菌類としてRhizopus属菌、子のう菌類としてモモ縮葉病菌、トウモロコシごま葉枯病菌、イネいもち病菌、うどんこ病菌、炭そ病菌、赤かび病菌、ばか苗病菌、菌核病菌、担子菌類としてさび病菌類、黒穂病菌類、紫紋羽病菌、もち病菌、紋枯病菌、不完全菌類として灰色かび病菌、Alternaria属菌、Fusarium属菌、Penicillium属菌、Rhizoctonia属菌、白絹病菌等が挙げられる。   Diseases caused by fungi are mainly fungal diseases. Fungi (pathogens) that cause fungal diseases include fungus fungi, oomycetes, zygomycetes, ascomycetes, basidiomycetes and incomplete fungi. For example, as fungus fungi, root-knot fungus, powdery mildew fungus, sugar beet wilt fungus, oomycete, downy mildew, Pythium genus, Aphanomyces genus, zygomycetes Rhizopus genus, ascomycetes Fungi include peach leaf blight, corn sesame leaf blight, rice blast, powdery mildew, anthracnose, red mold, bacillus seedling, sclerotium, basidiomycetes, rust, smut, and purple print Fungi, blast fungus, sheath blight fungus, and imperfect fungi include gray mold, Alternaria, Fusarium, Penicillium, Rhizoctonia, and white silk.

本発明化合物は、各種の植物病害に対して有効である。以下に、病害名およびその病原菌名の具体例を示す。   The compound of the present invention is effective against various plant diseases. Hereinafter, specific examples of the disease name and the pathogen name will be shown.

イネのいもち病(Magnaporthe grisea)、紋枯病(Thanatephorus cucumeris)、褐色菌核病(Ceratobasidium setariae)、褐色小粒菌核病(Waitea circinata)、褐色紋枯病(Thanatephorus cucumeris)、球状菌核病(Sclerotium hydrophilum)、赤色菌核病(Wairea circinata)、黒しゅ病(Entyloma dactylidis)、小球菌核病(Magnaporthe salvinii)、灰色菌核病(Ceratobasidium cornigerum)、ごま葉枯病(Cochliobolus miyabeanus)、条葉枯病(Sphaerulina oryzina)、ばか苗病(Gibberella fujikuroi)、苗立枯病(Pythium spp.、Fusarium spp.、Trichoderma spp.、Rhizopus spp.、Rhizoctonia solani、Mucor sp.、Phoma sp.)、苗腐病(Pythium spp.、Achlya spp.、Dictyuchus spp.)、稲こうじ病(Claviceps virens)、墨黒穂病(Tilletia barclayana)、褐色米(Curvularia spp.、Alternaria
spp.)、黄化萎縮病(Sclerophthora macrospora)、白葉枯病(Xanthomonas oryzae pv. oryzae)、褐条病(Acidovorax avenae subsp. avenae)、内頴褐変病(Erwinia ananas)、苗立枯細菌病(Burkholderia plantarii)、もみ枯細菌病(Burkholderia glumae)、葉鞘褐変病(Pseudomonas fuscovaginae)、かさ枯病(Pseudomonas syringae pv.oryzae)、株腐病(Erwinia chrysanthemi)、黄萎病(Phytoplasma oryzae)、縞葉枯病(Rice stripe tenuivirus)、萎縮病(Rice dwarf reovirus);
ムギ類のうどんこ病(Blumeria graminis f.sp.hordei;
f.sp.tritici)、さび病(Puccinia striiformis、
Puccinia graminis、Puccinia recondita、Puccinia hordei)、斑葉病(Pyrenophora graminea)、網斑病(Pyrenophora teres)、赤かび病(Gibberella zeae、Fusarium culmorum、Fusarium avenaceum、Monographella nivalis)、雪腐病(Typhula incarnata、Typhula ishikariensis、Monographella nivalis)、裸黒穂病(Ustilago nuda)、なまぐさ黒穂病(Tilletia caries、Tilletia controversa)、眼紋病(Pseudocercosporella herpotrichoides)、株腐病(Ceratobasidium gramineum)、雲形病(Rhynchosporium secalis)、葉枯病(Septoria tritici)、ふ枯病(Phaeosphaeria nodorum)、苗立枯病(Fusarium spp.、Pythium spp.、Rhizoctonia spp.、Septoria spp.、Pyrenophora spp.)、立枯病(Gaeumannomyces graminis)、炭疽病(Colletotrichum graminicola)、麦角病(Claviceps purpurea)、斑点病(Cochliobolus sativus)、黒節病(Pseudomonas syringae pv. syringae);
トウモロコシの赤かび病(Gibberella zeae等)、苗立枯病(Fusarium avenaceum、Penicillium spp、 Pythium spp.、Rhizoctonia spp.)、さび病(Puccinia sorghi)、ごま葉枯病(Cochliobolus heterostrophus)、黒穂病(Ustilago maydis)、炭疽病(Colletotrichum graminicola)、北方斑点病(Cochliobolus carbonum)、褐条病(Acidovorax avenae subsp. avenae)、条斑細菌病(Burkholderia andropogonis)、倒伏細菌病(Erwinia chrysanthemi pv. zeae)、萎ちょう細菌病(Erwinia stewartii);ブドウのべと病(Plasmopara viticola)、さび病(Physopella ampelopsidis)、うどんこ病(Uncinula necator)、黒とう病(Elsinoe ampelina)、晩腐病(Glomerella cingulata、 Colletotrichum acutatum)、黒腐病(Guignardia bidwellii)、つる割病(Phomopsis viticola)、すす点病(Zygophiala jamaicensis)、灰色かび病(Botrytis cinerea)、芽枯病(Diaporthe medusaea)、紫紋羽病(Helicobasidium mompa)、白紋羽病(Rosellinia necatrix)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium vitis);リンゴのうどんこ病(Podosphaera leucotricha)、黒星病(Venturia inaequalis)、斑点落葉病(Alternaria mali)、赤星病(Gymnosporangium yamadae)、モニリア病(Monilinia mali)、腐らん病(Valsa ceratosperma)、輪紋病(Botryosphaeria berengeriana)、炭疽病(Colletotrichum acutatum、Glomerella cingulata)、すす点病(Zygophiala jamaicensis)、すす斑病(Gloeodes pomigena)、黒点病(Mycosphaerella pomi)、紫紋羽病(Helicobasidium mompa)、白紋羽病(Rosellinia necatrix)、胴枯病(Phomopsis mali、Diaporthe tanakae)、褐斑病(Diplocarpon mali)、リンゴの火傷病(Erwinia amylovora)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens)、毛根病(Agrobacterium rhizogenes);
ナシの黒斑病(Alternaria kikuchiana)、黒星病(Venturia nashicola)、赤星病(Gymnosporangium asiaticum)、輪紋病(Botryosphaeria berengeriana f.sp. piricola)、胴枯病(Phomopsis fukushii)、枝枯細菌病(Erwinia sp.)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens)、さび色胴枯病(Erwinia chrysanthemi pv. chrysanthemi)、花腐細菌病(Pseudomonas syringae pv. syringae);セイヨウナシの疫病(Phytophthora cactorum、 Phytophthora syringae)、枝枯細菌病(Erwinia sp.);モモの黒星病(Cladosporium carpophilum)、ホモプシス腐敗病(Phomopsis sp.)、疫病(Phytophthora sp.)、炭疽病(Colletotrichum gloeosporioides)、縮葉病(Taphrina deformans)、穿孔細菌病(Xhanthomonas campestris pv. pruni)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens);オウトウの炭疽病(Glomerella cingulata)、幼果菌核病(Monilinia kusanoi)、灰星病(Monilinia fructicola)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens)、樹脂細菌病(Pseudomonas
syringae pv. syringae);カキの炭疽病(Glomerella cingulata)、落葉病(Cercospora kaki; Mycosphaerella nawae)、うどんこ病(Phyllactinia kakikora)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens);カンキツの黒点病(Diaporthe citri)、緑かび病(Penicillium digitatum)、青かび病(Penicillium italicum)、そうか病(Elsinoe fawcettii)、褐色腐敗病(Phytophthora citrophthora)、かいよう病(Xhanthomonas campestris pv. citri)、褐斑細菌病(Pseudomonas syringae pv. syringae)、グリーニング病(Liberibactor asiaticus)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens);
トマト、キュウリ、豆類、イチゴ、ジャガイモ、キャベツ、ナス、レタス等の灰色かび病(Botrytis cinerea);トマト、キュウリ、豆類、イチゴ、ジャガイモ、ナタネ、キャベツ、ナス、レタス等の菌核病(Sclerotinia sclerotiorum);トマト、キュウリ、豆類、ダイコン、スイカ、ナス、ナタネ、ピーマン、ホウレンソウ、テンサイ等各種野菜の苗立枯病(Rhizoctonia spp.、Pythium spp.、Fusarium spp.、Phythophthora spp.、Sclerotinia sclerotiorum等);ナス科植物の青枯病(Ralstonia solanacearum);ウリ類のべと病(Pseudoperonospora cubensis)、うどんこ病(Sphaerotheca fuliginea)、炭疽病(Colletotrichum orbiculare)、つる枯病(Didymella bryoniae)、つる割病(Fusarium oxysporum)、疫病(Phytophthora parasitica、Phytophthora melonis、Phytophthora nicotianae、Phytophthora drechsleri、Phytophthora capsici等)、褐斑細菌病(Xhanthomonas campestris pv.cucurbitae)、軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、斑点細菌病(Pseudomonas syringae pv. lachrymans)、縁枯細菌病(Pseudomonas marginalis pv. marginalis)、がんしゅ病(Streptomyces sp.)、毛根病(Agrobacterium rhizogenes)、キュウリモザイクウィルス(Cucumber mosaic virus);
トマトの輪紋病(Alternaria solani)、葉かび病(Fulvia fulva)、疫病(Phytophthora infestans)、萎凋病(Fusarium oxysporum)、根腐病(Pythium myriotylum、Pythium dissotocum)、炭疽病(Colletotrichum gloeosporioides)、かいよう病(Clavibacter michiganensis)、茎えそ細菌病(Pseudomonas corrugata)、黒斑細菌病(Pseudomonas viridiflava)、軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、葉こぶ病(Crynebacterium sp.)、萎黄病(Phytoplasma asteris)、黄化萎縮病(Tobacco leaf curl subgroup III geminivirus);ナスのうどんこ病(Sphaerotheca fuliginea等)、すすかび病(Mycovellosiella nattrassii)、疫病(Phytophthora infestans)、褐色腐敗病(Phytophthora capsici)、褐斑細菌病(Pseudomonas cichorii)、茎えそ細菌病(Pseudomonas corrugata)、茎腐細菌病(Erwinia chrysanthemi)、軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、斑点細菌病(Pseudomonas sp.);ナタネの黒斑病(Alternaria brassicae)、黒腐病(Xhanthomonas campestris pv. campestris)、黒斑細菌病(Pseudomonas syringae pv. maculicola)、軟腐病(Erwinia carotovora);アブラナ科野菜の黒斑病(Alternaria brassicae等)、白斑病(Cercosporella brassicae)、根朽病(Phoma lingam)、根こぶ病(Plasmodiophora brassicae)、べと病(Peronospora parasitica)、黒腐病(Xhanthomonas campestris pv. campestris)、黒斑細菌病(Pseudomonas syringae pv. maculicola)、軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora);
キャベツの株腐病(Thanatephorus cucumeris)、萎黄病(Fusarium oxysporum)、黒すす病(Alternaria brassisicola);ハクサイの尻腐病(Rhizoctonia solani)、黄化病(Verticillium dahliae);ネギのさび病(Puccinia allii)、黒斑病(Alternaria porri)、白絹病(Sclerotium rolfsii)、白色疫病(Phytophthora porri)、黒腐菌核病(Sclerotium cepivorum);タマネギのかいよう病(Curtobacterium flaccumfaciens)、軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、斑点細菌病(Pseudomonas syringae pv. syringae)、腐敗病(Erwinia rhapontici)、鱗片腐敗病(Burkholderia gladioli)、萎黄病(Phytoplasma asteris);ニンニクの軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、春腐病(Pseudomonas marginalis pv.marginalis);ダイズの紫斑病(Cercospora kikuchii)、黒とう病(Elsinoe glycines)、黒点病(Diaporthe phaseolorum)、リゾクトニア根腐病(Rhizoctonia solani)、茎疫病(Phytophthora sojae)、べと病(Peronospora manshurica)、さび病(Phakopsora pachyrhizi)、炭疽病(Colletotrichum truncatum等)、葉焼病(Xhanthomonas campestris pv. glycines)、斑点細菌病(Pseudomonas syringae pv. glycinea);インゲンの炭疽病(Colletotrichum lindemuthianum)、青枯病(Ralstonia solanacearum)、かさ枯病(Pseudomonas syringae pv. phaseolicola)、褐斑細菌病(Pseudomonas viridiflava)、葉焼病(Xhanthomonas campestris pv. phaseoli);
ラッカセイの黒渋病(Mycosphaerella berkeleyi)、褐斑病(Mycosphaerella arachidis)、青枯病(Ralstonia solanacearum);エンドウのうどんこ病(Erysiphe pisi)、べと病(Peronospora pisi)、つる枯細菌病(Pseudomonas syringae pv.pisi)、つる腐細菌病(Xhanthomonas campestris pv.pisi;ソラマメのべと病(Peronospora viciae)、疫病(Phytophthora nicotianae);ジャガイモの夏疫病(Alternaria solani)、黒あざ病(Thanatephorus cucumeris)、疫病(Phytophthora infestans)、銀か病(Helminthosporium solani)、乾腐病(Fusarium oxysporum、Fusarium solani)、粉状そうか病(Spongospora subterranea)、青枯病(Ralstonia solanacearum)、黒あし病(Erwinia carotovora subsp.
atroseptica)、そうか病(Streptomyces scabies、Streptomyces acidiscabies)、軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、粘性腐敗病(Crostridium spp.)、輪腐病(Clavibacter michiganensis subsp.sepedonicus);サツマイモの立枯病(Streptomyces ipomoeae);テンサイの褐斑病(Cercospora beticola)、べと病(Peronospora schachtii)、黒根病(Aphanomyces cochioides)、蛇の目病(Phoma betae)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens)、そうか病(Streptomyces scabies)、斑点細菌病(Pseudomonas syringae pv. aptata);
ニンジンの黒葉枯病(Alternaria dauci)、こぶ病(Rhizobacter dauci)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens)、ストレプトミセスそうか病(Streptomyces spp.)、軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora);イチゴのうどんこ病(Sphaerotheca aphanis var. aphanis)、疫病(Phytophthora nicotianae等)、炭疽病(Glomerella cingulata等)、果実腐敗病(Pythium ultimum)、青枯病(Ralstonia solanacearum)、角斑細菌病(Xhanthomonas campestris)、芽枯細菌病(Pseudomonas marginalis pv. marginalis);チャの網もち病(Exobasidium reticulatum)、白星病(Elsinoe leucospila)、炭疽病(Colletotrichum theae−sinensis)、輪斑病(Pestalotiopsis longiseta)、赤焼病(Pseudomonas syringae pv.theae)、かいよう病(Xhanthomonas campestris pv. theicola)、てんぐ巣病(Pseudomonas sp.);タバコの赤星病(Alternaria alternata)、うどんこ病(Erysiphe cichoracearum)、炭疽病(Colletotrichum gloeosporioides)、疫病(Phytophthora nicotianae)、野火病(Pseudomonas syringae pv.tabaci)、黄がさ細菌病(Pseudomonas syringae pv.mellea)、空洞病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、立枯病(Ralstonia solanacearum)、タバコモザイクウィルス(Tobaco mosaic virus);
コーヒーのさび病(Hemileia vastatrix);バナナの黒シガトガ病(Mycosphaerella fijiensis)、パナマ病(Fusarium oxysporum f.sp cubense);ワタの立枯病(Fusarium oxysporum)、白かび病(Ramularia areola);ヒマワリの菌核病(Sclerotinia sclerotiorum)、角点病(Xhanthomonas campestris pv.malvacearum)、空洞病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、斑点細菌病(Pseudomonas syringae pv.helianthi);バラの黒星病(Diplocarpon rosae)、うどんこ病(Sphaerotheca pannosa等)、疫病(Phytophthora megasperma)、べと病(Peronospora sparsa)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens);キクの褐斑病(Septoria obesa)、白さび病(Puccinia horiana)、疫病(Phytophthora cactorum)、斑点細菌病(Pseudomonas cichorii)、軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens)、毛根病(Agrobacterium rhizogenes)、緑化病(Phytoplasma aurantifolia);芝のブラウンパッチ病(Rhizoctonia solani)、ダラースポット病(Sclerotinia homoeocarpa)、カーブラリア葉枯病(Curvularia sp.)、さび病(Puccinia zoysiae)、ヘルミントスポリウム葉枯病(Cochliobolus sp.)、雲形病(Rhynchosporium secalis)、立枯病(Gaeumannomyces graminis)、炭疽病(Colletotrichum sp.)、雪腐褐色小粒菌核病(Typhula incarnata)、雪腐黒色小粒菌核病(Typhula ishikariensis)、雪腐大粒菌核病(Myriosclerotinia borealis)、フェアリーリング病(Marasmius oreades等)、ピシウム病(Pythium aphanidermatum等)、いもち病(Pyricularia grisea)等が挙げられる。
Rice blast (Magnaporthe grisea), sheath blight (Thanatephorus cucumeris), brown rot (Ceratobasidium setariae), brown sclerotium (Waitea circinata), brown spot rot spelling bacterium (Terca erucorus phus) Sclerotium hydrophilum, red rot (Wairea circinata), black rot (Entyloma dactylidis), pneumococcal disease (Magnaporthe salvinii leaf blight, Ceratobosa sigma rot) Blight disease (Sphaerulina oryzina) , Frog seedling disease (Gibberella fujikuroi), seedling blight (Pythium spp., Fusarium spp., Trichoderma spp., Rhizopus spp., Rhizonia spore, Rhizoctonia spore, Rhizoptonia solipani, Ms. Rhizotonia sol. Achlya spp., Dictyuchus spp.), Rice scab (Claviceps virens), Black smut (Tilletia barclayana), Brown rice (Curvularia spp., Alternaria)
spp. ), Yellow dwarf (Sclerophthora macrospora), blight blight (Xanthomonas oryzae pv. Oryzae), brown streak (Acidovorax avenae subsp. Avenae b. ), Birch blight bacterial disease (Burkholderia glumae), leaf sheath browning disease (Pseudomonas fuscovaginae), scab blight (Pseudomonas syringae pv. (Rice strip tenuivirus), dwarf disease (Rice warf reovirus);
Powdery mildew of wheat (Blumeria graminis f.sp.hordei;
f. sp. tritici), rust (Puccinia striiformis,
Puccinia graminis, Puccinia recondita, Puccinia hordei), Madarahabyo (Pyrenophora graminea), net blotch (Pyrenophora teres), Fusarium head blight (Gibberella zeae, Fusarium culmorum, Fusarium avenaceum, Monographella nivalis), snow mold (Typhula incarnata, Typhula ishikariensis, Monographella nivalis, Nastil (Ustilago nuda), Black smut (Tilletia caries, Tilletia conoverversa), Eye spot disease (Pseudocercoler) potrichoides, strain rot (Ceratobasidium gramineum), scald disease (Rynchosporium secalis), leaf blight (Septria tritici), wilt (Phaeophasia p.p. sap, p. phosopia. , Septoria spp., Pyrenophora spp.), Damping-off disease (Gaeumanomyces graminis), Anthrax (Colletotrichum graminicola), Ergot (Clavipes ssp. ringae);
Fusarium avenaceum, Penicillium spp, Pythium spp., Rhizoctonia spp., Pustinia sorghum sorghum, Puccinia sorghum sorghum, Puccinia sorghum blossoms (Puccinia sorghum), and rust (Puccinia sorghum). Ustilago maydis, anthrax (Colletotrichum graminicola), northern leaf spot (Cochliobolus carbumum), brown streak (Acidovorax avenae ssp. Avensp. , Bacterial wilt disease (Erwinia stewartii); downy mildew of grape (Plasmopara viticola), rust (Physopella ampelopsidis), powdery mildew (Uncinula necrota, Elina laurel, Elsinella sclera) Colletotrichum acutatum, black rot (Guignardia bidwellii), vine disease (Phomopsis viticola), soybean spot disease (Zygophiala jamaicenus pedicae disease, blight disease sprouts, Botryaedias blight) mompa), white crest feathers Disease (Rosellinia necatrix), apical carcinoma disease (Agrobacterium vitis); powdery mildew of apples (Podosphaera leucotricha), scab (Venturia inaealia, red leaf sprouts (Alternaria ganaria nymph) Disease (Monilinia mali), rot (Valsa ceratosperma), ring spot (Botryosphaeria berengeriana), anthrax (Colletotrichum actuatum sigma sigma sigma sigma, gomerella singula sigma, swelling) ena), black spot disease (Mycosphaerella pomi), purple root rot (Helicobasidium momba), white root rot (Rosellinia necatrix), blight (Phomopsis mali, Diaporthe tanako papaya tanako papaya) Injury (Erwinia amylovora), Apical carcinoma (Agrobacterium tumefaciens), Hairy root disease (Agrobacterium rhizogenes);
Pear black spot (Alternaria kikuchiana), scab (Venturia nasicola), scab (Gymnosporangium asiaticum), ring spot (Botryosphaeria wisp, sclerosis, sclerosis, sclerosis, and so on). Erwinia sp.), Apical carcinoma (Agrobacterium tumefaciens), rust blight (Erwinia chrysanthemi pv. Chrysanthemi), and flower rot bacterial disease (Pseudomonas syringa. s ringae), bacterial wilt disease (Erwinia sp.); peach scab (Cladosporium carpophilum), homopsis rot (Phomopsis sp.), plague (Phytophthora spp.), and anthrax (Colletotrophithosporium). deformans), perforated bacterial disease (Xhanthomonas campestris pv. pruni), apical carcinoma disease (Agrobacterium tumefaciens); cherry anthracnose (Glomerella singulata), and germ fungus sclerosis (Milica koniota milion) ), Apical carcinoma (Agrobacter) um tumefaciens), resin bacterial diseases (Pseudomonas
syringae pv. syringae); oyster anthrax (Glomerella singulata); deciduous disease (Cercospora kaki; Mycosphaerella nawae); powdery mildew (Phylactinia kakikora); Green mold (Penicillium digitatum), blue mold (Penicillium italicum), scab (Elsinoe fawcettii), brown rot (Phytophthora citrophthora scab, Xhanthoma sponsamposa scab) . Yringae pv syringae), greening disease (Liberibactor asiaticus), crown gall temple petitioner disease (Agrobacterium tumefaciens);
Botrytis cinerea such as tomato, cucumber, beans, strawberries, potatoes, cabbage, eggplant, lettuce; sclerotinia sclerotium such as tomato, cucumber, beans, strawberry, potato, rapeseed, cabbage, eggplant, lettuce ); Tomato, cucumber, legumes, radish, watermelon, eggplant, rapeseed, bell pepper, spinach, sugar beet, and various other types of seedling wilt (Rhizoctonia spp., Pythium spp., Fusarium spp., Phylophthroprosa sp., Etc.) Rustonia solanacearum of Solanaceae; downy mildew of cucurbits (Pseudoperonospora cubens); s), powdery mildew (Sphaerotheca fuliginea), anthracnose (Colletotrichum orbiculare), vine blight (Didymella bryoniae), Fusarium disease (Fusarium oxysporum), plague (Phytophthora parasitica, Phytophthora melonis, Phytophthora nicotianae, Phytophthora drechsleri, Phytophthora capsici Etc.), brown spot bacterial disease (Xhanthomonas campestris pv. Cucurbitae), soft rot (Erwinia carotovora subsp. ... Gae pv lachrymans), edges bacterial grain rot (Pseudomonas marginalis pv marginalis), temple petitioner disease (Streptomyces sp), root disease (Agrobacterium rhizogenes), cucumber mosaic virus (Cucumber mosaic virus);
Tomato ring rot (Alternaria solani), leaf mold (Fulvia fulva), plague (Phytophthora infestans), wilt (Fusarium oxysporum), root rot (Pythium myriotium illum, Pythium myriotium sulcus, Pythium myriotium illum, Pythium myriotyrum, Pythium myrotylum, Pythium myriotyrum, Pythium myrotyrum, Pythium myriotium, Phytium myriotium, Pythium myriotium) Diseases (Claviobacter michiganensis), Stem Necrotic Bacterial Disease (Pseudomonas corrugata), Black Spot Bacterial Disease (Pseudomonas viridiflava), Soft Rot (Erwinia carrotova sp. ytoplasma asteris), yellow dwarf (Tobacco leaf curl subgroup III geminivirus); Brown spot bacterial disease (Pseudomonas cichorii), stem nematode bacterial disease (Pseudomonas corrugata), stem rot bacterial disease (Erwinia chrysanthemi), soft rot (Erwinia carotovora spores, spores of spores, spores, spores, spores, spores, spores and germs). Black rot (Alternaria brassicae), black rot (Xhanthomonas campestris pv. Campestris), black rot (Pseudomonas syringae pv. Eravia kuroa eroa var. Etc.), white spot disease (Cercosporella brassicae), root rot disease (Pharma lingam), clubroot disease (Plasmodiophora brassicae), downy mildew (Peronospora sarcoma, black rot sampa sampa samposa, black rot) Pseudomonas sy ringae pv. maculicola), soft rot (Erwinia carotovora subsp. carotovora);
Cabbage plant rot (Thanatephorus cucumeris), yellow rot (Fusarium oxysporum), black scab (Alternaria brassicicola); Chinese cabbage rot (Rhizotnia sulnia erutia succinata) ), Black leaf spot (Alternaria porri), white silk spot (Sclerotium rolfsii), white plague (Phytophthora porri), black rot fungus (Sclerotium sepivorum); Carot vora), spot bacterial disease (Pseudomonas syringae pv. syringae), rot (Erwinia rhapontici), scale rot (Burkholderia gladioli rot), yellow rot (Phytoplasa saunia rot) Disease (Pseudomonas marginalis pv. Marginalis); soybean purpura (Cercospora kikuchii), black rot (Elsinoe glycines), black spot (Diaporthe phasoolz, rhizopha spores and lysophia rotoh rotoh rotonia sarcopodium) e), downy mildew (Peronospora manshurica), rust (Phakopsora pachyrhizi), anthrax (Colletotrichum truncatum, etc.), leaf blight (Xanthomonas camps pesgos pest. Anthrax (Colletotrichum lindemutianum), bacterial wilt (Ralstonia solanacearum), scab (Pseudomonas syringae pv. Phaseolicola), brown spot bacterial disease (Pseudomonas visamrais virions virion virion virion virion sv. . phaseoli);
Peanut black spot (Mycosphaerella berkeleyi), brown spot (Mycosphaerella arachidis), wilt (Ralstonia solanacearum); syringae pv. pisi), vine rot (Xhanthomonas campestris pv. pisi; broad bean downy mildew (Peronospora viciae), plague (Phytophthora nicotaiana, and Phytophthora niacoa sickness). Plague (Phyto phthora infestans, silver blight (Helminthosporium solani), dry rot (Fusarium oxysporum, Fusarium solani), powdery scab (Spongospora sarva sarva sarva sarona sarva sarona sarva sarva sarona sarva sarona sarva sarva sarva sarva sarcoa).
atroseptica, Streptomyces scabies, Streptomyces acidiscabies, soft rot (Erwinia carotovora subsp. Streptomyces ipomoeae; brown spot of sugar beet (Cercospora beticola), downy mildew (Peronospora schachtiii), black root disease (Aphanomyces cochioides), and snake eye disease (Phochobium stomach disease, Phoma stomach stomach disease) . Faciens), scab (Streptomyces scabies), spot Bacterial (Pseudomonas syringae pv aptata);
Bacterial leaf blight of carrots (Alternaria dauci), club scab (Rhizobacter dauci), apical carcinoma (Agrobacterium tumefaciens), Streptomyces scab (Streptomyces spop. Strawberry powdery mildew (Sphaerotheca aphanis var. Aphanis), plague (Phytophthora nicotianae, etc.), anthrax (Glomerella singulata, etc.), fruit rot (Pythium ultimum), bacterial rot (Stium rotum), Xanthus wilt (Stithium ultarum), Xanthus wilt disease campestris), Bacterial blight (Pseudomonas marginalis pv. Marginalis); tea net rot (Exobasidium reticulatum), white scab (Elsinoe leucospila), anthrax (Colletotrichus stomach disease) syringae pv. theae, scabs (Xhanthomonas campestris pv. theicola), goblet's scab (Pseudomonas sp.); hum gloeosporioides), late blight (Phytophthora nicotianae), Wildfire Disease (Pseudomonas syringae pv.tabaci), Huang and bacterial diseases (Pseudomonas syringae pv.mellea), cavity disease (Erwinia carotovora subsp. carotovora), damping off (Ralstonia solanacearum) , Tobacco mosaic virus;
Rust of coffee (Hemileia vastatrix); Black sigatoga disease of banana (Mycosphaerella fijiensis), Panama disease (Fusarium oxysporum f. Sp cubense); Cotton wilt disease (Fusaria moria, R. sarcoa) Sclerotinia sclerotiorum, Xanthomonas campestris pv. Malvacearum, Scab disease (Erwinia carotovora subsp. Fusarium sickness (Sphaerotheca pannosa, etc.), plague (Phytophthora megasperma), downy mildew (Peronospora sparsa), root carcinoma (Agrobacterium tumefaciens), chrysanthemum spore spore spore spore spore spore spore spore spore spore spore spore spore spore spore spore spore sb. ), Plague (Phytophthora actorum), spot bacterial disease (Pseudomonas ichorii), soft rot (Erwinia carotovora subsp. ifolia); turf brown patch disease (Rhizoctonia solani), dollar spot disease (Sclerotinia homoeocarpa), curvularia leaf blight (Curvularia sp.), rust (Puccinia zoysia sp. , Scallops (Rynchosporium secalis), wilt (Gaeumannomyces graminis), anthrax (Colletotrichum sp.), Snow rot brown sclerotia (Typhula incarnata), snow rot black sclerophyll sari shirahi shira shira shira shira shira shira shira shira shira shira shira shira shira shikotsuka Bacterial bacterial rot (Myrioscleroticia borealis), fairy ring disease Marasmius Oreades etc.), Pythium disease (Pythium aphanidermatum, etc.), blast (Pyricularia grisea), and the like.

本発明化合物は、本化合物単体で使用してもよいが、好ましくは、固体担体、液体担体、気体担体、界面活性剤、固着剤、分散剤、安定剤等と混合し、粉剤、水和剤、顆粒水和剤、水溶剤、顆粒水溶剤、粒剤、乳剤、液剤、マイクロエマルション剤、水性懸濁製剤、水性乳濁製剤、サスポエマルション製剤等の組成物として使用することができる。効果が発揮される限りにおいて、それらの組成物に限定されることはない。   The compound of the present invention may be used alone, but preferably is mixed with a solid carrier, liquid carrier, gas carrier, surfactant, fixing agent, dispersant, stabilizer, etc. It can be used as a composition such as water dispersible granules, aqueous solvents, aqueous granule solvents, granules, emulsions, liquids, microemulsions, aqueous suspensions, aqueous emulsions, and suspoemulsions. The composition is not limited as long as the effect is exhibited.

以下に具体的な製剤化例を示すが、これらに限定されるものではない。   Specific formulation examples are shown below, but the invention is not limited thereto.

[製剤例1 フロアブル剤]
本発明化合物(10質量部)、ナフタレンスルホン酸のホルムアルデヒド縮合物ナトリウム塩(5質量部)、ポリオキシエチレンアリールフェニルエーテル(1質量部)、プロピレングリコール(5質量部)、シリコン系消泡剤(0.1質量部)、キサンタンガム(0.2質量部)、イオン交換水(78.7質量部)を混合してスラリーとなし、さらにダイノミルKDLで直径1.0mmのガラスビーズを用いて湿式粉砕しフロアブル剤を得る。
[Formulation Example 1 Flowable]
Compound of the present invention (10 parts by mass), sodium salt of formaldehyde condensate of naphthalenesulfonic acid (5 parts by mass), polyoxyethylene arylphenyl ether (1 part by mass), propylene glycol (5 parts by mass), silicon-based antifoaming agent ( 0.1 parts by mass), xanthan gum (0.2 parts by mass), ion-exchanged water (78.7 parts by mass) to form a slurry, and further wet milling using glass beads having a diameter of 1.0 mm with Dynomill KDL. To obtain a flowable agent.

[製剤例2 乳剤]
本発明化合物(5質量部)をキシレン(40質量部)とシクロヘキサン(35質量部)の混合溶液に溶解し、この溶液にTween20(20質量部)を添加混合し、乳剤を得る。
[Formulation Example 2 Emulsion]
The compound of the present invention (5 parts by mass) is dissolved in a mixed solution of xylene (40 parts by mass) and cyclohexane (35 parts by mass), and Tween 20 (20 parts by mass) is added and mixed with the solution to obtain an emulsion.

[製剤例3 水和剤]
本発明化合物(10質量部)、ホワイトカーボン(10質量部)、ポリビニルアルコール(2質量部)、ジオクチルスルホコハク酸ナトリウム塩(0.5質量部)、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩(5質量部)、焼成珪藻土(10質量部)およびカオリナイトクレー(62.5質量部)を充分に混合し、エアーミルで粉砕し、水和剤を得る。
[Formulation Example 3 wettable powder]
Compound of the present invention (10 parts by mass), white carbon (10 parts by mass), polyvinyl alcohol (2 parts by mass), dioctyl sulfosuccinate sodium salt (0.5 parts by mass), alkylbenzenesulfonic acid sodium salt (5 parts by mass), calcining Diatomaceous earth (10 parts by mass) and kaolinite clay (62.5 parts by mass) are sufficiently mixed and pulverized with an air mill to obtain a wettable powder.

以下、本発明の組成物(農園芸用有害生物防除剤、農園芸用殺菌剤)の施用について説明する。   Hereinafter, the application of the composition of the present invention (a pesticide for agricultural and horticultural use, a fungicide for agricultural and horticultural use) will be described.

本発明化合物を含有する組成物の施用方法としては、植物体もしくは種子と接触させる方法、または、栽培土壌に含有させて、植物の根もしくは地下茎に接触させる方法が挙げられる。具体例として、組成物の植物個体への茎葉散布処理、注入処理、苗箱処理、セルトレー処理、植物種子への吹き付け処理、植物種子への塗沫処理、植物種子への浸漬処理、植物種子への粉衣処理、土壌表面への散布処理、土壌表面への散布処理後の土壌混和、土壌中への注入処理、土壌中での注入処理後の土壌混和、土壌潅注処理、土壌潅注処理後の土壌混和等が挙げられる。通常、当業者が利用するようないかなる施用方法を用いても十分な効力を発揮する。   Examples of a method for applying the composition containing the compound of the present invention include a method in which the composition is brought into contact with a plant or a seed, and a method in which the composition is contained in a cultivated soil and brought into contact with a root or a rhizome of a plant. As specific examples, foliage spraying treatment, injection treatment, seedling box treatment, cell tray treatment, spraying treatment on plant seeds, spray treatment on plant seeds, immersion treatment on plant seeds, immersion treatment on plant seeds on plant seeds of the composition Dressing, spraying on the soil surface, soil mixing after spraying on the soil surface, injection into the soil, soil mixing after injection in the soil, soil irrigation, after soil irrigation Soil mixing and the like. In general, any method of application as used by those skilled in the art will work well.

本発明でいう「植物」とは、光合成をして運動せずに生活するものをいう。具体例として、稲、小麦、大麦、トウモロコシ、コーヒー、バナナ、ブドウ、リンゴ、ナシ、モモ、オウトウ、カキ、カンキツ、大豆、インゲン、ワタ、イチゴ、ジャガイモ、キャベツ、レタス、トマト、キュウリ、ナス、スイカ、テンサイ、ホウレンソウ、サヤエンドウ、カボチャ、サトウキビ、タバコ、ピーマン、サツマイモ、サトイモ、コンニャク、綿、ヒマワリ、バラ、チューリップ、キク、芝等およびそれらのF1品種等が挙げられる。また、遺伝子等を人工的に操作することにより生み出され、元来自然界に存在するものではない遺伝子組み換え作物も含み、例えば、除草剤耐性を付与した大豆、トウモロコシ、綿等、寒冷地適応したイネ、タバコ等、殺虫物質生産能を付与したトウモロコシ、綿等の農園芸作物等が挙げられる。さらに、マツ、トネリコ、イチョウ、カエデ、カシ、ポプラ、ケヤキ等の樹木等が挙げられる。また、本発明でいう「植物体」とは、前記の植物個体を構成する全ての部位を総称するものであり、例えば、茎、葉、根、種子、花、果実等が挙げられる。   The term "plant" as used in the present invention refers to a plant that performs photosynthesis and lives without exercise. Specific examples include rice, wheat, barley, corn, coffee, banana, grape, apple, pear, peach, cherry, oyster, citrus, soybean, bean, cotton, strawberry, potato, cabbage, lettuce, tomato, cucumber, eggplant, Watermelon, sugar beet, spinach, snow pea, pumpkin, sugar cane, tobacco, bell pepper, sweet potato, taro, konjac, cotton, sunflower, rose, tulip, chrysanthemum, turf, etc. and their F1 varieties and the like can be mentioned. In addition, it includes genetically modified crops that are produced by manipulating genes and the like and are not originally present in the natural world.For example, soybeans, corn, cotton, etc. that have been imparted with herbicide resistance, such as rice adapted to cold regions. And agricultural and horticultural crops, such as corn and cotton, to which insecticide-producing ability is imparted. Further, trees such as pine, ash, ginkgo, maple, oak, poplar, zelkova and the like can be mentioned. The “plant” in the present invention is a general term for all parts constituting the above-mentioned plant individual, and includes, for example, stems, leaves, roots, seeds, flowers, fruits and the like.

本発明でいう「種子」とは、幼植物が発芽するための栄養分を蓄え、農業上繁殖に用いられるものをいう。具体例として、トウモロコシ、大豆、綿、稲、テンサイ、小麦、大麦、ヒマワリ、トマト、キュウリ、ナス、ホウレンソウ、サヤエンドウ、カボチャ、サトウキビ、タバコ、ピーマン、セイヨウアブラナ等の種子、それらのF1品種等の種子、サトイモ、ジャガイモ、サツマイモ、コンニャク等の種芋、食用ゆり、チューリップ等の球根、ラッキョウ等の種球、および遺伝子組み換え作物の種子ならびに塊茎等が挙げられる。   The “seed” as used in the present invention refers to a seed that stores nutrients for germinating young plants and is used for agricultural reproduction. Specific examples include seeds of corn, soybeans, cotton, rice, sugar beet, wheat, barley, sunflower, tomato, cucumber, eggplant, spinach, snow peas, pumpkin, sugar cane, tobacco, peppers, oilseed rape, and their F1 varieties. Examples include seeds, seed potatoes such as taro, potato, sweet potato, and konjac, edible lilies, bulbs such as tulips, seed balls such as rakkyo, and seeds and tubers of genetically modified crops.

本発明化合物を含有する組成物の施用量および施用濃度は、対象作物、対象病害、病害の発生程度、化合物の剤型、施用方法および各種環境条件等によって変動するが、散布または潅注する場合には、有効成分量としてヘクタール当たり0.1〜10,000gが適当であり、好ましくは、ヘクタール当り10〜1,000gである。また、種子処理の場合の使用量は、有効成分量として種子1kg当たり0.0001〜1000gであり、好ましくは、0.001〜100gである。本発明化合物を含有する組成物を植物個体への茎葉散布処理、土壌表面への散布処理、土壌中への注入処理または土壌潅注処理として使用する場合は、適当な担体に適当な濃度で希釈した後、処理を行ってもよい。本発明化合物を含有する組成物を植物種子に接触させる場合は、適当な濃度に希釈した後、植物種子に浸漬、粉衣、吹き付けまたは塗沫処理して用いてもよい。浸漬、粉衣、吹き付けまたは塗沫処理する場合の組成物使用量は、通常、有効成分量として、乾燥植物種子重量の0.05〜50%程度であり、好ましくは、0.1〜30%が適当であるが、組成物の形態や処理対象となる植物種子の種類により適宜設定すればよく、これら範囲に限定されるものではない。   The application rate and application concentration of the composition containing the compound of the present invention vary depending on the target crop, the target disease, the degree of occurrence of the disease, the dosage form of the compound, the application method, and various environmental conditions. The amount of the active ingredient is suitably from 0.1 to 10,000 g per hectare, preferably from 10 to 1,000 g per hectare. The amount used in the case of seed treatment is 0.0001 to 1000 g, preferably 0.001 to 100 g, per kg of seed as an active ingredient. When the composition containing the compound of the present invention is used as a foliage spraying treatment on a plant individual, a spraying treatment on a soil surface, an injection treatment into soil or a soil irrigation treatment, the composition is diluted with an appropriate carrier at an appropriate concentration. Thereafter, the processing may be performed. When the composition containing the compound of the present invention is brought into contact with a plant seed, it may be diluted to an appropriate concentration and then immersed, dressed, sprayed or smeared on the plant seed before use. The amount of the composition used for immersion, dressing, spraying or smearing is usually about 0.05 to 50%, preferably 0.1 to 30%, of the weight of the dried plant seeds as an active ingredient. Is appropriate, but may be appropriately set depending on the form of the composition and the type of plant seed to be treated, and is not limited to these ranges.

本発明化合物を含有する組成物は、必要に応じて他の農薬、例えば、殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、除草剤、生物農薬および植物成長調節剤等の農薬、核酸を有効成分とする病害防除剤(国際公開第2014/062775号)、土壌改良剤または肥効物質と混合して使用することができる。。本発明化合物と他の農薬を混合して使用する方法としては、本発明化合物と他の農薬とを一つの剤型に製剤化して使用する方法、それぞれが別々の剤型に製剤化された両者を使用前に混合して使用する方法、それぞれが別々の剤型に製剤化された両者を同時に使用する方法、または、それぞれが別々の剤型に製剤化された両者について、いずれか一方を使用した後に他方を使用する方法が挙げられる。   The composition containing the compound of the present invention may contain, if necessary, other pesticides, such as fungicides, pesticides, acaricides, nematicides, herbicides, pesticides such as biological pesticides and plant growth regulators, nucleic acids. Can be used in admixture with a disease control agent (WO 2014/062775), a soil conditioner or a fertilizer which contains as an active ingredient. . As a method of mixing and using the compound of the present invention and another pesticide, a method of formulating and using the compound of the present invention and another pesticide in one dosage form, and both methods in which each is formulated in a separate dosage form Are used before and after use, or both are separately formulated in separate dosage forms, or both are formulated in separate dosage forms. And then use the other.

本発明化合物と混合して使用することができる殺菌剤に含まれる具体的な成分は、以下の群bで例示され、これらの塩、異性体およびN−オキシド体を含む。ただし、公知の殺菌剤はこれらに限定されるものではない。   Specific components contained in the fungicide which can be used in combination with the compound of the present invention are exemplified by the following group b, and include salts, isomers and N-oxides thereof. However, the known disinfectants are not limited to these.

群b:
b−1:フェニルアミド系殺菌剤
フェニルアミド系殺菌剤として、[b−1.1]:ベナラキシル(benalaxyl)、[b−1.2]ベナラキシルMまたはキララキシル(benalaxyl−Mまたはkiralaxyl)、[b−1.3]フララキシル(furalaxyl)、[b−1.4]メタラキシル(metalaxyl)、[b−1.5]メタラキシルMまたはメフェノキサム(metalaxyl−Mまたはmefenoxam)、[b−1.6]オキサジキシル(oxadixyl)、[b−1.7]オフラセ(ofurace)等が挙げられる。
Group b:
b-1: Phenylamide fungicide As a phenylamide fungicide, [b-1.1]: benalaxyl, [b-1.2] benalaxyl M or chiralaxyl (benalaxyl-M or kiralaxyl), [b -1.3] furalaxyl, [b-1.4] metalaxyl, [b-1.5] metalaxyl M or mefenoxam (metalaxyl-M or mefenoxam), [b-1.6] oxadixyl ( oxadixyl), [b-1.7] offurase, and the like.

b−2:有糸核分裂および細胞分裂阻害剤
有糸核分裂および細胞分裂阻害剤として、[b−2.1]ベノミル(benomyl)、[b−2.2]カルベンダジム(carbendazim)、[b−2.3]フベリダゾール(fuberidazole)、[b−2.4]チアベンダゾール(thiabendazole)、[b−2.5]チオファネート(thiophanate)、[b−2.6]チオファネートメチル(thiophanate−methyl)、[b−2.7]ジエトフェンカルブ(diethofencarb)、[b−2,8]ゾキサミド(zoxamide)、[b−2.9]エタボキサム(ethaboxam)、[b−2.10]ペンシクロン(pencycuron)、[b−2.11]フルオピコリド(fluopicolide)、[b−2.12]フェナマクリル(phenamacril)等が挙げられる。
b-2: Mitotic and mitosis inhibitor [b-2.1] benomyl, [b-2.2] carbendazim, [b- 2.3] fuberidazole, [b-2.4] thiabendazole, [b-2.5] thiophanate, [b-2.6] thiophanate-methyl, [b- 2.7] Dietofencarb, [b-2,8] zoxamide, [b-2.9] ethaboxam, [b-2.10] pencyclocurn, [b-2. 11] Fluopico Lido (fluopicolide), [b-2.12] phenamacril, and the like.

b−3:コハク酸脱水素酵素阻害剤(SDHI剤)
コハク酸脱水素酵素阻害剤(SDHI剤)として、[b−3.1]ベノダニル(benodanil)、[b−3.2]ベンゾビンジフルピル(benzovindiflupyr)、[b−3.3]ビキサフェン(bixafen)、[b−3.4]ボスカリド(boscalid)、[b−3.5]カルボキシン(carboxin)、[b−3.6]フェンフラム(fenfuram)、[b−3.7]フルオピラム(fluopyram)、[b−3.8]フルトラニル(flutolanil)、[b−3.9]フルキサピロキサド(fluxapyroxad)、[b−3.10]フラメトピル(furametpyr)、[b−3.11]イソフェタミド(isofetamid)、[b−3.12]イソピラザム(isopyrazam)、[b−3.13]メプロニル(mepronil)、[b−3.14]オキシカルボキシン(oxycarboxin)、[b−3.15]ペンチオピラド(penthiopyrad)、[b−3.16]ペンフルフェン(penflufen)、[b−3.17]ピジフルメトフェン(pydiflumetofen)、[b−3.18]セダキサン(sedaxane)、[b−3.19]チフルザミド(thifluzamide)、[b−3.20]ピラジフルミド(pyraziflumid)等が挙げられる。
b-3: succinate dehydrogenase inhibitor (SDHI agent)
[B-3.1] benodanil, [b-3.2] benzovindiflupyr, [b-3.3] bixafen (bixafen) as succinate dehydrogenase inhibitors (SDHI agents) ), [B-3.4] boscarid, [b-3.5] carboxin, [b-3.6] fenfuram, [b-3.7] fluopyram , [B-3.8] flutolanil, [b-3.9] fluxapyroxad, [b-3.10] furamepyr, [b-3.11] isofetamid ), [B-3.12] isopyrazam (isop) razam), [b-3.13] mepronil, [b-3.14] oxycarboxin, [b-3.15] penthiopyrad, [b-3.16] penflufen ( penflufen), [b-3.17] pydiflumetofen, [b-3.18] sedaxane, [b-3.19] thifluzamide, [b-3.20] pyraziflumide (Pyraziflumid) and the like.

b−4:キノン外部阻害剤(QoI剤)
キノン外部阻害剤(QoI剤)として、[b−4.1]アゾキシストロビン(azoxystrobin)、[b−4.2]クモキシストロビン(coumoxystrobin)、[b−4.3]ジモキシストロビン(dimoxystrobin)、[b−4.4]エノキサストロビン(enoxastrobin)、[b−4.5]ファモキサドン(famoxadone)、[b−4.6]フェンアミドン(fenamidone)、[b−4.7]フェナミンストロビン(fenaminstrobin)、[b−4.8]フルフェノキシストロビン(flufenoxystrobin)、[b−4.9]フルオキサストロビン(fluoxastrobin)、[b−4.10]クレソキシムメチル(kresoxim−methyl)、[b−4.11]マンデストロビン(mandestrobin)、[b−4.12]メトミノストロビン(metominostrobin)、[b−4.13]オリサストロビン(orysastrobin)、[b−4.14]ピコキシストロビン(picoxystrobin)、[b−4.15]ピラクロストロビン(pyraclostrobin)、[b−4.16]ピラメトストロビン(pyrametostrobin)、[b−4.17]ピラオキシストロビン(pyraoxystrobin)、[b−4.18]ピリベンカルブ(pyribencarb)、[b−4.19]トリクロピリカルブ(triclopyricarb)、[b−4.20]トリフロキシストロビン(trifloxystrobin)等が挙げられる。
b-4: quinone external inhibitor (QoI agent)
[B-4.1] azoxystrobin, [b-4.2] cumoxystrobin, [b-4.3] dimoxyst as quinone external inhibitors (QoI agents) Robin (dimoxystrobin), [b-4.4] enoxastrobin, [b-4.5] famoxadone, [b-4.6] fenamidone, [b-4.7] ] Phenaminestrobin, [b-4.8] fluenoxystrobin, [b-4.9] fluoxastrobin, [b-4.10] kresoxim-methyl hyl), [b-4.11] Mandestrobin, [b-4.12] Metominostrobin, [b-4.13] Orysastrobin, [b-4.14] Picoxystrobin, [b-4.15] pyraclostrobin, [b-4.16] pyramethostrobin, [b-4.17] pyraoxystrobin , [B-4.18] pyribencarb, [b-4.19] triclopyricarb, [b-4.20] trifloxystrobin (trifloxyst) obin), and the like.

b−5:キノン内部阻害剤(QiI剤)
キノン内部阻害剤(QiI剤)として、[b−5.1]シアゾファミド(cyazofamid)、[b−5.2]アミスルブロム(amisulbrom)等が挙げられる。
b-5: quinone internal inhibitor (QiI agent)
Examples of quinone internal inhibitors (QiI agents) include [b-5.1] cyazofamid, [b-5.2] amisulbrom, and the like.

b−6:酸化的リン酸化脱共役阻害剤
酸化的リン酸化脱共役阻害剤として、[b−6.1]ビナパクリル(binapacryl)、[b−6.2]メプチルジノカップ(meptyldinocap)、[b−6.3]ジノカップ(dinocap)、[b−6.4]フルアジナム(fluazinam)等が挙げられる。
b-6: Oxidative phosphorylation uncoupling inhibitor As the oxidative phosphorylation uncoupling inhibitor, [b-6.1] binapacryl, (b-6.2) meptyldinocap, [b-6.2] [b-6.3] dinocap, [b-6.4] fluazinam and the like.

b−7:キノン外部スチグマテリン結合サブサイト阻害剤(QoSI剤)
キノン外部スチグマテリン結合サブサイト阻害剤(QoSI剤)として、[b−7.1]アメトクトラジン(ametoctradin)等が挙げられる。
b-7: quinone external stigmatelin binding subsite inhibitor (QoSI agent)
Examples of the quinone external stigmatelin binding subsite inhibitor (QoSI agent) include [b-7.1] amethoctrazine.

b−8:アミノ酸生合成阻害剤
アミノ酸生合成阻害剤として、[b−8.1]シプロジニル(cyprodinil)、[b−8.2]メパニピリム(mepanipyrim)、[b−8.3]ピリメタニル(pyrimethanil)等が挙げられる。
b-8: Amino acid biosynthesis inhibitor As an amino acid biosynthesis inhibitor, [b-8.1] cyprodinil, [b-8.2] mepanipyrim, [b-8.3] pyrimethanil (b-8.3) pyrimethanil ) And the like.

b−9:タンパク質生合成阻害剤
タンパク質生合成阻害剤として、[b−9.1]ストレプトマイシン(streptomycin)、[b−9.2]ブラストサイジンS(blasticidin−S)、[b−9.3]カスガマイシン(kasugamycin)、[b−9.4]オキシテトラサイクリン(oxytetracycline)等が挙げられる。
b-9: Protein biosynthesis inhibitor As a protein biosynthesis inhibitor, [b-9.1] streptomycin, [b-9.2] blasticidin-S, [b-9. 3] kasugamycin, [b-9.4] oxytetracycline and the like.

b−10:シグナル伝達阻害剤
シグナル伝達阻害剤として、[b−10.1]フェンピクロニル(fenpiclonil)、[b−10.2]フルジオキソニル(fludioxonil)、[b−10.3]キノキシフェン(quinoxyfen)、[b−10.4]プロキナジド(proquinazid)、[b−10.5]クロゾリネート(chlozolinate)、[b−10.6]ジメタクロン(dimethachlone)、[b−10.7]イプロジオン(iprodione)、[b−10.8]プロシミドン(procymidone)、[b−10.9]ビンクロゾリン(vinclozolin)等が挙げられる。
b-10: Signaling inhibitor As a signalling inhibitor, [b-10.1] fenpiclonil, [b-10.2] fludioxonil, [b-10.3] quinoxyfen, [B-10.4] proquinazide, [b-10.5] clozolinate, [b-10.6] dimethaclone, [b-10.7] iprodione, [b -10.8] procymidone, [b-10.9] vinclozolin and the like.

b−11:脂質および細胞膜生合成阻害剤
脂質および細胞膜生合成阻害剤として、[b−11.1]エジフェンホス(edifenphos)、[b−11.2]イプロベンホス(iprobenfos)、[b−11.3]ピラゾホス(pyrazophos)、[b−11.4]イソプロチオラン(isoprothiolane)、[b−11.5]ビフェニル(biphenyl)、[b−11.6]クロロネブ(chloroneb)、[b−11.7]ジクロラン(dicloran)、[b−11.8]キントゼン(quintozene)、[b−11.9]テクナゼン(tecnazene)、[b−11.10]トルクロホスメチル(tolclofos−methyl)、[b−11.11]エトリジアゾール(echlomezol or etridiazole)、[b−11.12]ヨードカルブ(iodocarb)、[b−11.13]プロパモカルブ(propamocarb)、[b−11.14]プロチオカルブ(prothiocarb)等が挙げられる。
b-11: Lipid and cell membrane biosynthesis inhibitor [b-11. 1] edifenphos, [b-11.2] iprobenphos, [b-11.3] as lipid and cell membrane biosynthesis inhibitors. Pyrazophos, [b-11.4] isoprothiolane, [b-11.5] biphenyl, [b-11.6] chloroneb, [b-11.7] dichlorane (Dicloran), [b-11.8] quintogene, [b-11.9] technazen, [b-11.10] tolclofos-methyl, [b-11.11] Etridiazole (ec hlemozol or etridiazole, [b-11.12] iodocarb, [b-11.13] propamocarb, [b-11.14] prothiocarb, and the like.

b−12:脱メチル化阻害剤(DMI剤)
脱メチル化阻害剤(DMI剤)として、[b−12.1]アザコナゾール(azaconazole)、[b−12.2]ビテルタノール(bitertanol)、[b−12.3]ブロムコナゾール(bromuconazole)、[b−12.4]シプロコナゾール(cyproconazole)、[b−12.5]ジフェノコナゾール(difenoconazole)、[b−12.6]ジニコナゾール(diniconazole)、[b−12.7]ジニコナゾールM(diniconazole−M)、[b−12.8]エポキシコナゾール(epoxiconazole)、[b−12.9]エタコナゾール(etaconazole)、[b−12.10]フェナリモル(fenarimol)、[b−12.11]フェンブコナゾール(fenbuconazole)、[b−12.12]フルキンコナゾール(fluquinconazole)、[b−12.13]キンコナゾール(quinconazole)、[b−12.14]フルシラゾール(flusilazole)、[b−12.15]フルトリアホール(flutriafol)、[b−12.16]ヘキサコナゾール(hexaconazole)、[b−12.17]イマザリル(imazalil)、[b−12.18]イミベンコナゾール(imibenconazole)、[b−12.19]イプコナゾール(ipconazole)、[b−12.20]メトコナゾール(metconazole)、[b−12.21]ミクロブタニル(myclobutanil)、[b−12.22]ヌアリモール(nuarimol)、[b−12.23]オキスポコナゾール(oxpoconazole)、[b−12.24]オキスポコナゾールフマル酸塩(oxpoconazole fumarate)、[b−12.25]ペフラゾエート(pefurazoate)、[b−12.26]ペンコナゾール(penconazole)、[b−12.27]プロクロラズ(prochloraz)、[b−12.28]プロピコナゾール(propiconazole)、[b−12.29]プロチオコナゾール(prothioconazole)、[b−12.30]ピリフェノックス(pyrifenox)、[b−12.31]ピリソキサゾール(pyrisoxazole)、[b−12.32]シメコナゾール(simeconazole)、[b−12.33]テブコナゾール(tebuconazole)、[b−12.34]テトラコナゾール(tetraconazole)、[b−12.35]トリアジメホン(triadimefon)、[b−12.36]トリアジメノール(triadimenol)、[b−12.37]トリフルミゾール(triflumizole)、[b−12.38]トリホリン(triforine)、[b−12.39]トリチコナゾール(triticonazole)[b−12.40]メフェントリフルコナゾール(mefentrifluconazole)、[b−12.41]イプフェントリフルコナゾール(ipfentrifluconazole)等が挙げられる。
b-12: Demethylation inhibitor (DMI agent)
As demethylation inhibitors (DMI agents), [b-12. 1] azaconazole, [b-12. 2] bitertanol, [b-12. 3] bromuconazole, [b-12. [b-12.4] cyproconazole, [b-12.5] difenoconazole, [b-12.6] diconizazole, [b-12.7] diconizazole-M ), [B-12.8] epoxiconazole, [b-12.9] etaconazole, [b-12.10] fenarimol, [b-12.11] Fenbuconazole, [b-12.12] fluquinconazole, [b-12.13] quinconazole, [b-12.14] flusilazole, [b-12] .15] flutriafol, [b-12.16] hexaconazole, [b-12.17] imazalil, [b-12.18] imibenconazole, [B-12.19] ipconazole, [b-12.20] metconazole, [b-12.21] microbutanil , [B-12.22] nuarimol, [b-12.23] oxpoconazole, [b-12.24] oxpoconazole fumarate, [b- 12.25] pefurazoate, [b-12.26] penconazole, [b-12.27] prochloraz, [b-12.28] propiconazole, [b- 12.29] prothioconazole, [b-12.30] pyrifenox, [b-12.31] pyrisoxazole, [b-12.32]. Simeconazole, [b-12.33] tebuconazole, [b-12.34] tetraconazole, [b-12.35] triadimefon, [b-12.36] Triadimenol, [b-12.37] triflumizole, [b-12.38] triforine, [b-12.39] triticonazole [b-12] .40] mefentrifluconazole, [b-12.41] ipfentrifluconazole, and the like.

b−13:アミン系殺菌剤
アミン系殺菌剤として、[b−13.1]アルジモルフ(aldimorph)、[b−13.2]ドデモルフ(dodemorph)、[b−13.3]フェンプロピモルフ(fenpropimorph)、[b−13.4]トリデモルフ(tridemorph)、[b−13.5]フェンプロピジン(fenpropidin)、[b−13.6]ピペラリン(piperalin)、[b−13.7]スピロキサミン(spiroxamine)等が挙げられる。
b-13: Amine fungicide [b-13.1] aldimorph, [b-13.2] dodemorph, [b-13.3] fenpropimorph as an amine fungicide ), [B-13.4] tridemorph, [b-13.5] fenpropidin, [b-13.6] piperaline, [b-13.7] spiroxamine ) And the like.

b−14:ステロール生合成のC4位脱メチル化における3−ケト還元酵素阻害剤
ステロール生合成のC4位脱メチル化における3−ケト還元酵素阻害剤として、[b−14.1]フェンヘキサミド(fenhexamid)、[b−14.2]フェンピラザミン(fenpyrazamine)等が挙げられる。
b-14: 3-keto reductase inhibitor in C4 position demethylation of sterol biosynthesis [b-14.1] fenhexamide as 3-ketoreductase inhibitor in C4 position demethylation of sterol biosynthesis (Fenhexamid), [b-14.2] fenpyrazamine, and the like.

b−15:ステロール生合成のスクアレンエポキシダーゼ阻害剤
ステロール生合成のスクアレンエポキシダーゼ阻害剤として、[b−15.1]ピリブチカルブ(pyributicarb)、[b−15.2]ナフチフィン(naftifine)、[b−15.3]テルビナフィン(terbinafine)等が挙げられる。
b-15: Squalene epoxidase inhibitor of sterol biosynthesis As a squalene epoxidase inhibitor of sterol biosynthesis, [b-15.1] pyributicarb, [b-15.2] naftifine, [b] -15.3] terbinafine and the like.

b−16:細胞壁生合成阻害剤
細胞壁生合成阻害剤として、[b−16.1]ポリオキシン類(polyoxins)、[b−16.2]ジメトモルフ(dimethomorph)、[b−16.3]フルモルフ(flumorph)、[b−16.4]ピリモルフ(pyrimorph)、[b−16.5]ベンチアバリカルブ(benthiavalicarb)、[b−16.6]ベンチアバリカルブイソプロピル(benthivalicarb−isopropyl)、[b−16.7]イプロバリカルブ(iprovalicarb)、[b−16.8]マンジプロパミド(mandipropamid)、[b−17.9]バリフェナレート(valifenalate)等が挙げられる。
b-16: Cell wall biosynthesis inhibitor As a cell wall biosynthesis inhibitor, [b-16.1] polyoxins (polyoxins), [b-16.2] dimethomorph, [b-16.3] flumorph ( flumorph), [b-16.4] pyrimorph, [b-16.5] benthiavalicarb, [b-16.6] bentivaricarb-isopropyl, [b -16.7] iprovalicarb, [b-16.8] mandipropamide, [b-17.9] varifenalate, and the like.

b−17:メラニン生合成阻害剤
メラニン生合成阻害剤として、[b−17.1]フサライド(phthalide or fthalide)、[b−17.2]ピロキロン(pyroquilone)、[b−17.3]トリシクラゾール(tricyclazole)、[b−17.4]カルプロパミド(carpropamid)、[b−17.5]ジクロシメット(diclocymet)、[b−17.6]フェノキサニル(fenoxanil)、[b−17.7]トルプロカルブ(tolprocarb)等が挙げられる。
b-17: Melanin biosynthesis inhibitor As a melanin biosynthesis inhibitor, [b-17.1] fthalide or phthalide, [b-17.2] pyroquilone, and [b-17.3] tricyclazole. (Triclazole), [b-17.4] carpropamide, [b-17.5] diclocymet, [b-17.6] phenoxanil, [b-17.7] tolprocarb (tolprocarb) ) And the like.

b−18:宿主植物抵抗性誘導剤
宿主植物抵抗性誘導剤として、[b−18.1]アシベンゾラルSメチル(acibenzolar−S−methyl)、[b−18.2]プロベナゾール(probenazole)、[b−18.3]チアジニル(tiadinil)、[b−18.4]イソチアニル(isotianil)、[b−18.5]ラミナリン(laminarin)等が挙げられる。
b-18: Host plant resistance inducer [b-18.1] acibenzolar-S-methyl, [b-18.2] probenazole, [b-18.1] acibenzolar-S-methyl, as a host plant resistance inducer -18.3] thiadinil, [b-18.4] isotianil, [b-18.5] laminarin, and the like.

b−19:ジチオカーバメート系殺菌剤
ジチオカーバメート系殺菌剤として、[b−19.1]マンコゼブまたはマンゼブ(mancozeb or manzeb)、[b−19.2]マンネブ(maneb)、[b−19.3]メチラム(metiram)、[b−19.4]プロピネブ(propineb)、[b−19.5]チウラム(thiram)、[b−19.6]ジネブ(zineb)、[b−19.7]ジラム(ziram)、[b−19.8]フェルバム(ferbam)等が挙げられる。
b-19: Dithiocarbamate fungicide [b-19.1] Mancozeb or manzeb (mancozeb or manzeb), [b-19.2] Manneb (maneb), [b-19.3] as a dithiocarbamate fungicide ] Methiram, [b-19.4] propineb (propineb), [b-19.5] thiuram (thiram), [b-19.6] zineb, [b-19.7] ziram (Ziram), [b-19.8] ferbam and the like.

b−20:フタルイミド系殺菌剤
フタルイミド系殺菌剤として、[b−20.1]キャプタン(captan)、[b−20.2]キャプタホール(captafol)、[b−20.3]ホルペット(folpet)、[b−20.4]フルオロホルペット(fluorofolpet)等が挙げられる。
b-20: Phthalimide-based disinfectant As a phthalimide-based disinfectant, [b-20.1] captan, [b-20.2] captafol, [b-20.3] folpet (folpet) ), [B-20.4] fluorophorpet and the like.

b−21:グアニジン系殺菌剤
グアニジン系殺菌剤として、[b−21.1]グアザチン(guazatine)、[b−21.2]イミノクタジン(iminoctadine)、[b−21.3]イミノクタジンアルベシル酸塩(iminoctadine albesilate)、[b−21.4]イミノクタジン三酢酸塩(iminoctadine triacetate)等が挙げられる。
b-21: Guanidine fungicide As a guanidine fungicide, [b-21.1] guazatine, [b-21.2] iminoctadine, [b-21.3] iminoctazine albesilate (Iminoctadine albesilate), [b-21.4] iminoctadine triacetate, and the like.

b−22:多作用点接触活性型殺菌剤
多作用点接触活性型殺菌剤として、[b−22.1]塩基性塩化銅(copper oxychloride)、[b−22.2]水酸化第二銅(copper(II) hydroxide)、[b−22.3]塩基性硫酸銅(copper hydroxide sulfate)、[b−22.4]有機銅化合物(organocopper compound)、[b−22.5]ドデシルベンゼンスルホン酸ビスエチレンジアミン銅錯塩[II](Dodecylbenzenesulphonic acid bisethylenediamine copper [II] salt、DBEDC)、[b−22.6]硫黄(sulphur)、[b−22.7]フルオルイミド(fluoroimide)、[b−22.8]クロロタロニル(chlorothalonil)、[b−22.9]ジクロフルアニド(dichlofluanid)、[b−22.10]トリルフルアニド(tolylfluanid)、[b−22.11]アニラジン(anilazine)、[b−22.12]ジチアノン(dithianon)、[b−22.13]キノメチオナート(chinomethionat or quinomethionate)、[b−22.14]ハウチワマメ苗木の子葉からの抽出物(BLAD)等が挙げられる。
b-22: Multi-acting point contact active fungicide [b-22.1] Basic copper chloride (copper oxychloride), [b-22.2] Cupric hydroxide as multi-acting point contact active fungicide (Copper (II) hydroxide), [b-22.3] basic copper sulfate, [b-22.4] organic copper compound (organocopper compound), [b-22.5] dodecylbenzene sulfone Acid bisethylenediamine copper complex [II] (Dodecylbenzenesulphonic acid bisethylenediamine copper [II] salt, DBEDC), [b-22.6] sulfur, [b-22.7] fluoroimide (fluorim) de), [b-22.8] chlorothalonil, [b-22.9] dichlofluanid, [b-22.10] tolylfluanid, [b-22.11] Anilazine, [b-22.12] dithianon, [b-22.13] quinomethionate or quinomethionate, [b-22.14] Extract from cotyledon of birch seedling (BLAD), etc. Is mentioned.

b−23:その他の殺菌剤
その他の殺菌剤として、[b−23.1]ジクロベンチアゾクス(dichlobentiazox)、[b−23.2]フェンピコキサミド(fenpicoxamid)、[b−23.3]ジピメチトロン(dipymetitrone)、[b−23.4]ブピリメート(bupirimate)、[b−23.5]ジメチリモール(dimethirimol)、[b−23.6]エチリモール(ethirimol)、[b−23.7]酢酸トリフェニルスズ(fentin acetate)、[b−23.8]塩化トリフェニルスズ(fentin chloride)、[b−23.9]水酸化トリフェニルスズ(fentin hydroxide)、[b−23.10]オキソリニック酸(oxolinic acid)、[b−23.11]ヒメキサゾール(hymexazol)、[b−23.12]オクチリノン(octhilinone)、[b−23.13]ホセチル(fosetyl)、[b−23.14]亜リン酸(phosphorous acid)、[b−23.15]亜リン酸のナトリウム塩(sodium phosphite)、[b−23.16]亜リン酸のアンモニウム塩(ammonium phosphite)、[b−23.17]亜リン酸のカリウム塩(potassium phosphite)、[b−23.18]テクロフタラム(tecloftalam)、[b−23.19]トリアゾキシド(triazoxide)、[b−23.20]フルスルファミド(flusulfamide)、[b−23.21]ジクロメジン(diclomezine)、[b−23.22]シルチオファム(silthiofam)、[b−23.23]ジフルメトリム(diflumetorim)、[b−23.24]メタスルホカルブ(methasulfocarb)、[b−23.25]シフルフェナミド(cyflufenamid)、[b−23.26]メトラフェノン(metrafenone)、[b−23.27]ピリオフェノン(pyriofenone)、[b−23.28]ドジン(dodine)、[b−23.29]フルチアニル(flutianil)、[b−23.30]フェリムゾン(ferimzone)、[b−23.31]オキサチアピプロリン(oxathiapiprolin)、[b−23.32]テブフロキン(tebufloquin)、[b−23.33]ピカルブトラゾクス(picarbutrazox)、[b−23.34]バリダマイシン類(validamycins)、[b−23.35]シモキサニル(cymoxanil)、[b−23.36]キノフメリン(quinofumelin)、
b-23: Other fungicides As other fungicides, [b-23.1] dichlobentiazox, [b-23.2] fenpicoxamide, [b-23.3]. ] Dipymetitron, [b-23.4] bupirimate, [b-23.5] dimethylimol, [b-23.6] ethirimol, [b-23.7] acetic acid Triphenyltin (fentin acetate), [b-23.8] triphenyltin chloride (fentin chloride), [b-23.9] triphenyltin hydroxide (fentin hydroxide), [b-23.10] oxolinic acid (Oxo linic acid), [b-23.11] hymexazole, [b-23.12] octilinone, [b-23.13] fosetyl, [b-23.14] phosphorous acid (Phosphorous acid), [b-23.15] sodium phosphite (sodium phosphite), [b-23.16] ammonium salt of phosphite (ammonia phosphite), [b-23.17] phosphorus phosphite Potassium salt of acid (potassium phosphate), [b-23.18] teclophthalam, [b-23.19] triazoxide, [b-23.20] flusulfamide [B-23.21] diclomezine, [b-23.22] silthiofam, [b-23.23] diflumetorim, [b-23.24] metasulfocarb, [B-23.25] cyflufenamide, [b-23.26] metrafenone, [b-23.27] pyriophenone, [b-23.28] dodine, [b] -23.29] flutianil, [b-23.30] ferimzone, [b-23.31] oxathiapiprolin, [b-23. 32] tebufloquine, [b-23.33] picarbutrazox, [b-23.34] validamycins, [b-23.35] simoxanil, [b- 23.36] quinofumelin,

[b−23.37]式(s1)

Figure 2018190349

で表される化合物(国際公開第98/046607号参照)、[B-23.37] Equation (s1)
Figure 2018190349

(See WO 98/046607),

[b−23.38]式(s2)

Figure 2018190349

で表される化合物(国際公開第08/148570号参照)、[B-23.38] Equation (s2)
Figure 2018190349

(See WO 08/148570),

[b−23.39]式(s3)

Figure 2018190349

で表される化合物(国際公開第92/012970号参照)、[B-23.39] Formula (s3)
Figure 2018190349

(See WO 92/012970),

[b−23.40]式(s4)

Figure 2018190349

で表される化合物(国際公開第12/084812号参照)、[B-23.40] Equation (s4)
Figure 2018190349

A compound represented by the following formula (see International Publication No. 12/084812):

[b−23.41]式(s5)

Figure 2018190349

で表される化合物(gougerotin)、[B-23.41] Equation (s5)
Figure 2018190349

A compound (gougerotin) represented by

[b−23.42]式(s6)

Figure 2018190349

で表される化合物(ningnanmycin)、[B-23.42] Equation (s6)
Figure 2018190349

A compound (ningnanmycin) represented by:

[b−23.43]式(s7)

Figure 2018190349

で表される化合物(国際公開第10/136475号参照)、[B-23.43] Equation (s7)
Figure 2018190349

(See WO 10/136475),

[b−23.44]式(s8)

Figure 2018190349

で表される化合物(国際公開第14/010737号参照)、[B-23.44] Equation (s8)
Figure 2018190349

(See WO 14/010737),

[b−23.45]式(s9)

Figure 2018190349

で表される化合物(国際公開第11/085084号参照)、[B-23.45] Equation (s9)
Figure 2018190349

(See WO 11/085084),

[b−23.46]式(s10)

Figure 2018190349

で表される化合物(国際公開第11/137002号参照)、[B-23.46] Equation (s10)
Figure 2018190349

(See WO 11/137002),

[b−23.47]式(s11)

Figure 2018190349

で表される化合物(国際公開第13/162072号参照)、[B-23.47] Equation (s11)
Figure 2018190349

(See WO 13/162072),

[b−23.48]式(s12)

Figure 2018190349

で表される化合物(国際公開第08/110313号参照)、[B-23.48] Equation (s12)
Figure 2018190349

(See WO 08/110313),

[b−23.49]式(s13)

Figure 2018190349

で表される化合物(国際公開第09/156098号参照)、[B-23.49] Equation (s13)
Figure 2018190349

(See WO 09/156098),

[b−23.50]式(s14)

Figure 2018190349

で表される化合物(国際公開第12/025557号参照)、[B-23.50] Equation (s14)
Figure 2018190349

(See WO 12/025557),

[b−23.51]式(s15)

Figure 2018190349

で表される化合物(国際公開第14/006945号参照)、[B-23.51] Formula (s15)
Figure 2018190349

(See WO 14/006945),

[b−23.52]式(s16)

Figure 2018190349

[式中、A3は、水素原子、ハロゲン原子、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはシアノ基を表し、A4は、水素原子、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表す。]で表される化合物(国際公開第14/095675号参照)、[B-23.52] Equation (s16)
Figure 2018190349

[Wherein, A3 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, or a cyano group, and A4 represents a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 Represents a haloalkyl group or a C3-C8 cycloalkyl group. (See WO 14/095675),

[b−23.53]式(s17)

Figure 2018190349

[式中、m1は、0〜3の整数を表し、A5およびA6は、それぞれ独立していて、ハロゲン原子、またはC1〜C6のアルキル基を表し、A7およびA8は、それぞれ独立していて、ハロゲン原子、またはC1〜C6のアルコキシ基を表し、m1が2以上の場合、2以上のA7は、それぞれ独立した置換基を表し、同一または異なっていてよい。]で表される化合物(国際公開第09/137538号、国際特許第09/137651号参照)、[B-23.53] Equation (s17)
Figure 2018190349

[In the formula, m1 represents an integer of 0 to 3, A5 and A6 each independently represent a halogen atom or a C1 to C6 alkyl group, A7 and A8 each independently represent, Represents a halogen atom or a C1 to C6 alkoxy group, and when m1 is 2 or more, two or more A7s each represent an independent substituent, which may be the same or different. (See WO09 / 137538 and WO09 / 137651),

[b−23.54]式(s18)

Figure 2018190349

[式中、A9およびA10は、それぞれ独立していて、水素原子、またはハロゲン原子を表し、A11は、ハロゲン原子を表し、A12は、ハロゲン原子、またはC1〜C6のアルキル基を表し、A13は、ハロゲン原子、シアノ基、C1〜C6のアルキル基、またはC1〜C6のアルコキシ基を表す。]で表される化合物(国際公開第12/031061号参照)、[B-23.54] Equation (s18)
Figure 2018190349

[Wherein, A9 and A10 each independently represent a hydrogen atom or a halogen atom, A11 represents a halogen atom, A12 represents a halogen atom or a C1-C6 alkyl group, and A13 represents , A halogen atom, a cyano group, a C1-C6 alkyl group, or a C1-C6 alkoxy group. ] (See WO 12/031061),

[b−23.55]式(s19)

Figure 2018190349

[式中、m2は、0〜6の整数を表し、A14およびA15は、それぞれ独立していて、ハロゲン原子、シアノ基、またはC1〜C6のアルキル基を表し、A16は、水素原子、ハロゲン原子、またはC1〜C6のアルコキシ基を表し、A17は、ハロゲン原子、またはC1〜C6のアルコキシ基を表し、m2が2以上の場合、2以上のA17は、それぞれ独立した置換基を表し、同一または異なっていてよい。]で表される化合物(国際公開第05/121104号参照)、[B-23.55] Equation (s19)
Figure 2018190349

[Wherein, m2 represents an integer of 0 to 6, A14 and A15 each independently represent a halogen atom, a cyano group, or a C1 to C6 alkyl group, and A16 represents a hydrogen atom, a halogen atom. Or C1 to C6 alkoxy group, A17 represents a halogen atom or a C1 to C6 alkoxy group, and when m2 is 2 or more, two or more A17 each represent an independent substituent, and May be different. (See WO 05/121104),

[b−23.56]式(s20)

Figure 2018190349

[式中、A18およびA19は、それぞれ独立していて、ハロゲン原子、シアノ基、またはC1〜C6のアルキル基を表し、A20、A21およびA22は、それぞれ独立していて、水素原子、ハロゲン原子、またはC1〜C6のアルコキシ基を表す。]で表される化合物(国際公開第07/066601号参照)、[B-23.56] Equation (s20)
Figure 2018190349

[Wherein, A18 and A19 each independently represent a halogen atom, a cyano group, or a C1-C6 alkyl group; A20, A21 and A22 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, Or a C1-C6 alkoxy group. (See WO 07/066601),

[b−23.57]式(s21)

Figure 2018190349

[式中、A23およびA24は、それぞれ独立していて、水素原子、ハロゲン原子、C1〜C6のアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表し、Xは、酸素原子または硫黄原子を表す。]で表される化合物(国際公開第07/087906号、国際特許第09/016220号、国際特許第10/130767号参照)、[B-23.57] Equation (s21)
Figure 2018190349

[Wherein, A23 and A24 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group, and X represents an oxygen atom or a sulfur atom. (See WO 07/087906, WO 09/016220, WO 10/130767),

[b−23.58]式(s22)

Figure 2018190349

[式中、m3は、0〜5の整数を表し、A25は、ハロゲン原子、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表し、m3が2以上の場合、2以上のA25は、それぞれ独立した置換基を表し、同一または異なっていてよい。]で表される化合物(国際公開第13/092224号参照)、[B-23.58] Equation (s22)
Figure 2018190349

[Wherein, m3 represents an integer of 0 to 5, A25 represents a halogen atom, a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 haloalkyl group, a C1 to C6 alkoxy group, a C1 to C6 haloalkoxy group, Or when it represents a C3-C8 cycloalkyl group and m3 is 2 or more, two or more A25s each represent an independent substituent and may be the same or different. (See WO 13/092224),

[b−23.59]式(s23)

Figure 2018190349

[式中、A26は、水素原子、またはハロゲン原子を表し、V1およびV2は、それぞれ独立していて、酸素原子、または硫黄原子を表す。]で表される化合物(国際公開第12/025450号参照)、[B-23.59] Equation (s23)
Figure 2018190349

[In the formula, A26 represents a hydrogen atom or a halogen atom, and V1 and V2 each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom. (See WO 12/025450),

[b−23.60]式(s24)または式(s25)

Figure 2018190349

[式中、m4は、0〜5の整数を表し、A27は、C1〜C6のアルキル基を表し、A28は、ハロゲン原子、シアノ基、C1〜C6のアルキル基、またはC1〜C6のハロアルキル基を表し、m4が2以上の場合、2以上のA28は、それぞれ独立した置換基を表し、同一または異なっていてよく、A29は、C1〜C6のアルキル基、C2〜C6のアルケニル基、またはC3〜C6のアルキニル基を表す。]で表される化合物(国際公開第13/037717号参照)、[B-23.60] Equation (s24) or Equation (s25)
Figure 2018190349

[Wherein, m4 represents an integer of 0 to 5, A27 represents a C1 to C6 alkyl group, A28 represents a halogen atom, a cyano group, a C1 to C6 alkyl group, or a C1 to C6 haloalkyl group. And when m4 is 2 or more, two or more A28s each represent an independent substituent and may be the same or different, and A29 is a C1-C6 alkyl group, a C2-C6 alkenyl group, or a C3 Represents an alkynyl group of -C6. ] (See WO 13/037771),

[b−23.61]式(s26)または式(s27)

Figure 2018190349

[式中、m5は、0〜5の整数を表し、A30は、C1〜C6のアルキル基を表し、A31は、ハロゲン原子、シアノ基、C1〜C6のアルキル基、またはC1〜C6のハロアルキル基を表し、m5が2以上の場合、2以上のA31は、それぞれ独立した置換基を表し、同一または異なっていてよく、A32は、C1〜C6のアルキル基、C2〜C6のアルケニル基、またはC3〜C6のアルキニル基を表す。]で表される化合物(国際公開第13/037717号参照)、[B-23.61] Equation (s26) or Equation (s27)
Figure 2018190349

[Wherein, m5 represents an integer of 0 to 5, A30 represents a C1 to C6 alkyl group, A31 represents a halogen atom, a cyano group, a C1 to C6 alkyl group, or a C1 to C6 haloalkyl group. And when m5 is 2 or more, two or more A31s each represent an independent substituent and may be the same or different, and A32 is a C1-C6 alkyl group, a C2-C6 alkenyl group, or a C3 Represents an alkynyl group of -C6. ] (See WO 13/037771),

[b−23.62]式(s28)

Figure 2018190349

[式中、A33、A34、A35およびA36は、それぞれ独立していて、水素原子、またはハロゲン原子を表し、A37は、水素原子、アセチル基、またはベンゾイル基を表す。]で表される化合物(国際公開第06/031631号、国際特許第10/069882号参照)、[B-23.62] Equation (s28)
Figure 2018190349

[Wherein A33, A34, A35 and A36 are each independently a hydrogen atom or a halogen atom, and A37 represents a hydrogen atom, an acetyl group or a benzoyl group. (See WO 06/031631, WO 10/069882),

[b−23.63]式(s29)

Figure 2018190349

[式中、A38は、C1〜C6のアルキル基、またはC1〜C6のハロアルキル基を表し、A39およびA40は、それぞれ独立していて、水素原子、またはハロゲン原子を表す。]で表される化合物(国際公開第14/043376号参照)、[B-23.63] Equation (s29)
Figure 2018190349

[Wherein, A38 represents a C1 to C6 alkyl group or a C1 to C6 haloalkyl group, and A39 and A40 each independently represent a hydrogen atom or a halogen atom. (See WO 14/043376),

[b−23.64]式(s30)

Figure 2018190349

[式中、A41は、水素原子、水硫基(−SH)、チオシアン酸基(−SCN)、またはC1〜C6のアルキルチオ基を表し、A42、A43、A44およびA45は、それぞれ独立していて、水素原子、またはハロゲン原子を表す。]で表される化合物(国際公開第09/077443号参照)、[B-23.64] Formula (s30)
Figure 2018190349

[Wherein, A41 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group (-SH), a thiocyanate group (-SCN), or an alkylthio group of C1 to C6, and A42, A43, A44 and A45 are each independently , A hydrogen atom, or a halogen atom. (See WO 09/077443),

[b−23.65]式(s31)または式(s32)

Figure 2018190349

[式中、A46は、水素原子、またはハロゲン原子を表し、A47は、C1〜C6のアルキル基を表し、A48は、ハロゲン原子を表す。]で表される化合物(国際公開第11/070771号参照)、[B-23.65] Formula (s31) or Formula (s32)
Figure 2018190349

[In the formula, A46 represents a hydrogen atom or a halogen atom, A47 represents a C1-C6 alkyl group, and A48 represents a halogen atom. (See WO 11/070771),

[b−23.66]式(s33)

Figure 2018190349

[式中、A49、A50およびA51は、それぞれ独立していて、水素原子、またはハロゲン原子を表す。]で表される化合物(国際公開第11/081174号参照)等が挙げられる。[B-23.66] Formula (s33)
Figure 2018190349

[Wherein, A49, A50 and A51 each independently represent a hydrogen atom or a halogen atom. (See International Publication No. 11/081174).

本発明化合物と混合して使用することができる殺虫剤に含まれる具体的な成分は、以下の群cで例示され、これらの塩、異性体およびN−オキシド体を含む。ただし、公知の殺虫剤はこれらに限定されるものではない。   Specific components contained in the insecticide which can be used in combination with the compound of the present invention are exemplified by the following group c, and include salts, isomers and N-oxides thereof. However, known insecticides are not limited to these.

群c:
c−1:カーバメート系アセチルコリンエステラーゼ(AChE)阻害剤
カーバメート系アセチルコリンエステラーゼ(AChE)阻害剤として、[c−1.1]ホスホカルブ(phosphocarb)、[c−1.2]アラニカルブ(alanycarb)、[c−1.3]ブトカルボキシム(butocarboxim)、[c−1.4]ブトキシカルボキシム(butoxycarboxim)、[c−1.5]チオジカルブ(thiodicarb)、[c−1.6]チオファノックス(thiofanox)、[c−1.7]アルジカルブ(aldicarb)、[c−1.8]ベンジオカルブ(bendiocarb)、[c−1.9]ベンフラカルブ(benfuracarb)、[c−1.10]カルバリル(carbaryl)、[c−1.11]カルボフラン(carbofuran)、[c−1.12]カルボスルファン(carbosulfan)、[c−1.13]エチオフェンカルブ(ethiofencarb)、[c−1.14]フェノブカルブ(fenobucarb)、[c−1.15]ホルメタネート(formetanate)、[c−1.16]フラチオカルブ(furathiocarb)、[c−1.17]イソプロカルブ(isoprocarb)、[c−1.18]メチオカルブ(methiocarb)、[c−1.19]メソミル(methomyl)、[c−1.20]オキサミル(oxamyl)、[c−1.21]ピリミカルブ(pirimicarb)、[c−1.22]プロポキスル(propoxur)、[c−1.23]トリメタカルブ(trimethacarb)、[c−1.24]XMC(3,5−xylyl methylcarbamate)、[c−1.25]アリキシカルブ(allyxycarb)、[c−1.26]アルドキシカルブ(aldoxycarb)、[c−1.27]ブフェンカルブ(bufencarb)、[c−1.28]ブタカルブ(butacarb)、[c−1.29]カーバノレート(carbanolate)、[c−1.30]メトルカルブ(metolcarb)、[c−1.31]キシルイルカルブ(xylylcarb)、[c−1.32]フェノチオカルブ(fenothiocarb)、[c−1.33]キシリルカルブ(xylylcarb)、[c−1.34]ベンダイオカルブ(bendiocarb)等が挙げられる。
Group c:
c-1: Carbamate acetylcholinesterase (AChE) inhibitor As a carbamate acetylcholinesterase (AChE) inhibitor, [c-1.1] phosphocarb, [c-1.2] alanicarb, [c] -1.3] butoxycarboxym, [c-1.4] butoxycarboxym, [c-1.5] thiodicarb, [c-1.6] thiofanox. ), [C-1.7] aldicarb, [c-1.8] bendiocarb, [c-1.9] benfuracarb, [c-1.10] carbaryl ryl), [c-1.11] carbofuran, [c-1.12] carbosulfan, [c-1.13] ethiofencarb, [c-1.14] fenobcarb ( fenobucarb, [c-1.15] formetanate, [c-1.16] furathiocarb, [c-1.17] isoprocarb, [c-1.18] methiocarb. , [C-1.19] methomyl, [c-1.20] oxamyl, [c-1.21] pirimicarb, [c-1.22] propoxur, c-1.23] trimetacarb, [c-1.24] XMC (3,5-xylylmethylcarbamate), [c-1.25] alixycarb, [c-1.25] aldoxycarb (Aldoxycarb), [c-1.27] bufencarb, [c-1.28] butacarb, [c-1.29] carbanolate, [c-1.30] metolcarb ), [C-1.31] xylylcarb, [c-1.32] phenothiocarb, [c-1.33] xylylcarb, [c-1.34] bendiocarb bendiocarb), and the like.

c−2:有機リン系アセチルコリンエステラーゼ(AChE)阻害剤
有機リン系アセチルコリンエステラーゼ(AChE)阻害剤として、[c−2.1]アセフェート(acephate)、[c−2.2]アザメチホス(azamethiphos)、[c−2.3]アジンホス−メチル(azinphos−methyl)、[c−2.4]アジンホス−エチル(azinphos−ethyl)、[c−2.5]エセフォン(ethephon)、[c−2.6]カズサホス(cadusafos)、[c−2.7]クロルエトキシホス(chlorethoxyfos)、[c−2.8]クロルフェンビンホス(chlorfenvinphos)、[c−2.9]クロルメホス(chlormephos)、[c−2.10]クロルピリホス(chlorpyrifos)、[c−2.11]クロルピリホス−メチル(chlorpyrifos−methyl)、[c−2.12]クマホス(coumaphos)、[c−2.13]シアノホス(cyanophos)、[c−2.14]デメトン−S−メチル(demeton−S−methyl)、[c−2.15]ダイアジノン(diazinon)、[c−2.16]ジクロフェンチオン(dichlofenthion)、[c−2.17]ジクロルボス(dichlorvos)、[c−2.18]ジクロトホス(dicrotophos)、[c−2.19]ジメトエート(dimethoate)、[c−2.20]ジメチルビンホス(dimethylvinphos)、[c−2.21]ジスルホトン(disulfoton)、[c−2.22]O−エチル O−4−ニトロフェニル フェニルホスホノチオアート(O−ethyl O−4−nitrophenyl phenylphosphonothioate)、[c−2.23]エチオン(ethion)、[c−2.24]エトプロホス(ethoprophos)、[c−2.25]ファムフール(famphur)、[c−2.26]フェナミホス(fenamiphos)、[c−2.27]フェニトロチオン(fenitrothion)、[c−2.28]フェンチオン(fenthion)、[c−2.29]ホスチアゼート(fosthiazate)、[c−2.30]ヘプテノホス(heptenophos)、[c−2.31]イソフェンホス−メチル(isofenphos−methyl)、[c−2.32]イソカルボホス(Isocarbophos)、[c−2.33]イソキサチオン(isoxathion)、[c−2.34]マラチオン(malathion)、[c−2.35]メカルバム(mecarbam)、[c−2.36]メタミドホス(methamidophos)、[c−2.37]メチダチオン(methidathion)、[c−2.38]メビンホス(mevinphos)、[c−2.39]モノクロトホス(monocrotophos)、[c−2.40]ナレッド(naled)、[c−2.41]オメトエート(omethoate)、[c−2.42]オキシデメトン−メチル(oxydemeton−methyl)、[c−2.43]パラチオン(parathions)、[c−2.44]パラチオン−メチル(parathion−methyl)、[c−2.45]フェントエート(phenthoate)、[c−2.46]ホレート(phorate)、[c−2.47]ホサロン(phosalone)、[c−2.48]ホスメット(phosmet)、[c−2.49]ホスファミドン(phosphamidon)、[c−2.50]ホキシム(phoxim)、[c−2.51]ピリミホス−メチル(pirimiphos−methyl)、[c−2.52]プロフェノホス(profenofos)、[c−2.53]プロペタンホス(propetamphos)、[c−2.54]プロチオホス(prothiofos)、[c−2.55]ピラクロホス(pyraclofos)、[c−2.56]ピリダフェンチオン(pyridaphenthion)、[c−2.57]キナルホス(quinalphos)、[c−2.58]スルホテップ(sulfotep)、[c−2.59]テブピリムホス(tebupirimfos)、[c−2.60]テメホス(temephos)、[c−2.61]テルブホス(terbufos)、[c−2.62]チオメトン(thiometon)、[c−2.63]トリアゾホス(triazophos)、[c−2.64]トリクロルホン(trichlorfon)、[c−2.65]バミドチオン(vamidothion)、[c−2.66]クロルチオン(chlorothion)、[c−2.67]ブロムフェンビンホス(bromfenvinfos)、[c−2.68]ブロモホス(bromophos)、[c−2.69]ブロモホス−エチル(bromophos−ethyl)、[c−2.70]ブタチオホス(butathiofos)、[c−2.71]カルボフェノチオン(carbophenothion)、[c−2.72]クロルホキシム(chlorphoxim)、[c−2.73]スルプロホス(sulprofos)、[c−2.74]ジアミダホス(diamidafos)、[c−2.75]テトラクロルビンホス(tetrachlorvinphos)、[c−2.76]プロパホス(propaphos)、[c−2.77]メスルフェンホス(mesulfenfos)、[c−2.78]ジオキサベンゾホス(dioxabenzofos)、[c−2.79]エトリムホス(etrimfos)、[c−2.80]オキシデプロホス(oxydeprofos)、[c−2.81]ホルモチオン(formothion)、[c−2.82]フェンスルホチオン(fensulfothion)、[c−2.83]イサゾホス(isazofos)、[c−2.84]イミシアホス(imicyafos)、[c−2.85]イサミドホス(isamidofos)、[c−2.86]チオナジン(thionazin)、[c−2.87]ホスチエタン(fosthietan)等が挙げられる。
c-2: Organophosphorus acetylcholinesterase (AChE) inhibitor As the organophosphorus acetylcholinesterase (AChE) inhibitor, [c-2.1] acephate, [c-2.2] azamethiphos, [C-2.3] Azinphos-methyl, [c-2.4] Azinphos-ethyl, [c-2.5] Ethephon, [c-2.6] ] Cadusafos, [c-2.7] chloroethoxyphos, [c-2.8] chlorfenvinphos, [c-2.9] chlormephos, [c- 2.10] black Lupyrifos (chlorpyrifos), [c-2.11] Chlorpyrifos-methyl, [c-2.12] Coumaphos, [c-2.13] Cyanophos, [c-2. 14] demeton-S-methyl, [c-2.15] diazinon, [c-2.16] dichlofenthion, [c-2.17] dichlorvos , [C-2.18] dicrotophos, [c-2.19] dimethoate, [c-2.20] dimethylvinphos, [c-2.21] disul Disulfonton, [c-2.22] O-ethyl O-4-nitrophenyl phenylphosphonothioate (O-ethyl O-4-nitrophenyl phenylphosphonothioate), [c-2.23] ethion, [ [c-2.24] etoprophos, [c-2.25] famfur, [c-2.26] fenamiphos, [c-2.27] fenitrothion, [c- 2.28] fenthion, [c-2.29] fosthiazate, [c-2.30] heptenophos, [c-2.31] isofenphos-methyl isofenphos-methyl, [c-2.32] isocarbobophos, [c-2.33] isoxathion, [c-2.34] malathion, [c-2.35] mecarbam ( mecarbam), [c-2.36] methamidophos, [c-2.37] methidathion, [c-2.38] mevinphos, [c-2.39] monocrotophos ), [C-2.40] nared, [c-2.41] omethoate, [c-2.42] oxydemethon-methyl, [c-2.4] ] Parathions, [c-2.44] parathion-methyl, [c-2.45] phenthoate, [c-2.46] phorate, [c-2] .47] phosphorone, [c-2.48] phosmet, [c-2.49] phosphamidon, [c-2.50] phoxim, [c-2.51]. ] Pirimiphos-methyl, [c-2.52] propenofos, [c-2.53] propetamphos, [c-2.54] prothiophos, [c-2] .55] Pyraclofos, [c-2.56] pyridaphenthion, [c-2.57] quinalphos, [c-2.58] sulfotep, [c-2.59] tebupyrimphos ( tebupirimfos), [c-2.60] temephos, [c-2.61] terbufos, [c-2.62] thiometon, [c-2.63] triazophos. , [C-2.64] trichlorfon, [c-2.65] vamidothion, [c-2.66] chlorthion, [c-2.67] bromophene Bromfenvinfos, [c-2.68] bromophos, [c-2.69] bromophos-ethyl, [c-2.70] butathiophos, [c-2. 71] carbofenothion, [c-2.72] chlorphoxim, [c-2.73] sulprofos, [c-2.74] diamidafos, [c-2. 75] tetrachlorvinphos, [c-2.76] propaphos, [c-2.77] mesulfenphos, [c-2.78] dioxabenzo (Dioxabenzofos), [c-2.79] etrimfos, [c-2.80] oxydeprofos, [c-2.81] formothion, [c-2.82] Fensulfothion, [c-2.83] isazofos, [c-2.84] imiciafos, [c-2.85] isamidofos, [c-2.86] thionazine ( thionazin), [c-2.87] fosthiethane, and the like.

c−3:GABA作動性塩素イオンチャネルブロッカー
GABA作動性塩素イオンチャネルブロッカーとして、[c−3.1]クロルデン(chlordane)、[c−3.2]エンドスルファン(endosulfan)、[c−3.3]リンデン(lindane)、[c−3.4]ジエノクロル(dienochlor)、[c−3.5]エチプロール(ethiprole)、[c−3.6]フィプロニル(fipronil)、[c−3.7]アセトプロール(acetoprole)等が挙げられる。
c-3: GABA-operated chloride ion channel blocker [c-3.1] chlordane, [c-3.2] endosulfan, [c-3.3] as GABA-operated chloride ion channel blockers. ] Lindane, [c-3.4] dienochlor, [c-3.5] ethiprole, [c-3.6] fipronil, [c-3.7] aceto Aceproprole and the like.

c−4:ナトリウムチャネルモジュレーター
ナトリウムチャネルモジュレーターとして、[c−4.1]アクリナトリン(acrinathrin)、[c−4.2]アレスリン[(1R)−アイソマー](allethrin[(1R)−isomer])、[c−4.3]ビフェントリン(bifenthrin)、[c−4.4]ビオアレスリン(bioallethrin)、[c−4.5]ビオアレスリン S−シクロペンテニル アイソマー(bioallethrin S−cyclopentenyl isomer)、[c−4.6]ビオレスメトリン(bioresmethrin)、[c−4.7]シクロプロトリン(cycloprothrin)、[c−4.8]シフルトリン(cyfluthrin)、[c−4.9]ベータ−シフルトリン(beta−cyfluthrin)、[c−4.10]シハロトリン(cyhalothrin)、[c−4.11]ガンマ−シハロトリン(gamma−cyhalothrin)、[c−4.12]ラムダ−シハロトリン(lambda−cyhalothrin)、[c−4.13]シペルメトリン(cypermethrin)、[c−4.14]アルファ−シペルメトリン(alpha−cypermethrin)、[c−4.15]ベータ−シペルメトリン(beta−cypermethrin)、[c−4.16]セタ−シペルメトリン(theta−cypermethrin)、[c−4.17]ゼダ−シペルメトリン(zeta−cypermethrin)、[c−4.18]シフェノトリン[(1R)−トランス−アイソマー](cyphenothrin[(1R)−trans−isomer])、[c−4.19]デルタメトリン(deltamethrin)、[c−4.20]エンペントリン[(EZ)−(1R)−アイソマー](empenthrin[(EZ)−(1R)−isomer])、[c−4.21]エスフェンバレレート(esfenvalerate)、[c−4.22]エトフェンプロックス(ethofenprox)、[c−4.23]フェンプロパトリン(fenpropathrin)、[c−4.24]フェンバレレート(fenvalerate)、[c−4.25]フルシトリネート(flucythrinate)、[c−4.26]フルメトリン(flumethrin)、[c−4.27]タウ−フルバリネート(tau−fluvalinate)、[c−4.28]ハルフェンプロックス(halfenprox)、[c−4.29]イミプロトリン(imiprothrin)、[c−4.30]メトトリン(methothrin)、[c−4.31]メトフルトリン(metofluthrin)、[c−4.32]イプシロン−メトフルトリン(epsilon−metofluthrin)、[c−4.33]モンフルオロトリン(momfluorothrin)、[c−4.34]イプシロン−モンフルオロトリン(epsilon−momfluorothrin)、[c−4.35]ペルメトリン(permethrin)、[c−4.36]フェノトリン[(1R)−トランス−アイソマー](phenothrin[(1R)−trans−isomer])、[c−4.37]プラレトリン(prallethrin)、[c−4.38]レスメトリン(resmethrin)、[c−4.39]カデトリン(kadethrin)、[c−4.40]シラフルオフェン(silafluofen)、[c−4.41]テフルトリン(tefluthrin)、[c−4.42]テトラメトリン(tetramethrin)、[c−4.43]テトラメトリン[(1R)−アイソマー](tetramethrin[(1R)−isomer])、[c−4.44]トラロメトリン(tralomethrin)、[c−4.45]トランスフルトリン(transfluthrin)、[c−4.46]ZXI8901(3−(4−bromophenoxy)phenyl]−cyanomethyl4−(difluoromethoxy)−α−(1−methylethyl)benzeneacetate)、[c−4.47]バイオペルメトリン(biopermethrin)、[c−4.48]フラメトリン(furamethrin)、[c−4.49]プロフルトリン(profluthrin)、[c−4.50]フルブロシトリネート(flubrocythrinate)、[c−4.51]ジメフルトリン(dimefluthrin)、[c−4.52]DDT(dichloro−diphenyl−trichloroethane)、[c−4.53]メトキシクロル(methoxychlor)、[c−4.54]フェノトリン(phenothrin)、[c−4.55]フルバリネート(fluvalinate)等が挙げられる。
c-4: Sodium channel modulator As a sodium channel modulator, [c-4.1] acrinathrin, [c-4.2] arethrin [(1R) -isomer] (allethrin [(1R) -isomer]), [C-4.3] bifenthrin, [c-4.4] bioallethrin, [c-4.5] bioallethrin S-cyclopentenyl isomer (bioallthrin S-cyclopentenyl isomer), [c- 4.6] bioresmethrin, [c-4.7] cycloprothrin, [c-4.8] cyfluthrin, [c-4. Beta-cyfluthrin, [c-4.10] cyhalothrin, [c-4.11] gamma-cyhalothrin, [c-4.12] lambda-cyhalothrin (lambda) -Cyhalothrin, [c-4.13] cypermethrin, [c-4.14] alpha-cypermethrin, [c-4.15] beta-cypermethrin , [C-4.16] cet-cypermethrin, [c-4.17] zeda-cypermethrin, [c-4.18] cypheno Trin [(1R) -trans-isomer] (cyphenothrin [(1R) -trans-isomer]), [c-4.19] deltamethrin, [c-4.20] empentrin [(EZ)-(1R) ) -Isomer] (empenthrin [(EZ)-(1R) -isomer]), [c-4.21] esfenvalerate, [c-4.22] ethofenprox, [c- 4.23] fenpropathrin, [c-4.24] fenvalerate, [c-4.25] flucitrinate, [c-4.26] flumethrin , [C-4.27] tau-fluvalinate, [c-4.28] halfenprox, [c-4.29] imiprothrin, [c-4.30] Methothrin, [c-4.31] Methofluthrin, [c-4.32] Epsilon-methfluthrin, [c-4.33] Monfluorothrin, [c] -4.34] epsilon-momofluorothrin, [c-4.35] permethrin, [c-4.36] phenothrin [(1R) -trans-A] Sommer] (phenothrin [(1R) -trans-isomer]), [c-4.37] praletrin, [c-4.38] resmethrin, [c-4.39] cadetrin , [C-4.40] silafluofen, [c-4.41] tefluthrin, [c-4.42] tetramethrin, [c-4.43] tetramethrin [(1R)- Isomers] (tetramethrin [(1R) -isomer]), [c-4.44] tralomethrin, [c-4.45] transfluthrin, [c-4.46] ZXI8 901 (3- (4-bromophenoxy) phenyl] -cyanomethyl4- (difluoromethoxy) -α- (1-methylethyl) benzoeneacetate, [c-4.47] Biopermethrin (biopermethrin), [c-4. furamethrin, [c-4.49] profluthrin, [c-4.50] flubrocytrinate, [c-4.51] dimfluthrin, [c-4.52] DDT (Dichloro-diphenyl-trichloroethane), [c-4.53] methoxychlor, [c-4. 4] phenothrin (phenothrin), and the like [c-4.55] fluvalinate (fluvalinate).

c−5:ニコチン性アセチルコリン受容体(nAChR)競合的モジュレーター
ニコチン性アセチルコリン受容体(nAChR)競合的モジュレーターとして、[c−5.1]アセタミプリド(acetamiprid)、[c−5.2]クロチアニジン(clothianidin)、[c−5.3]ジノテフラン(dinotefuran)、[c−5.4]イミダクロプリド(imidacloprid)、[c−5.5]ニテンピラム(nitenpyram)、[c−5.6]チアクロプリド(thiacloprid)、[c−5.7]チアメトキサム(thiamethoxam)、[c−5.8]ニコチン(nicotine)、[c−5.9]硫酸ニコチン(nicotine sulfate)、[c−5.10]スルホキサフロル(sulfoxaflor)、[c−5.11]フルピラジフロン(flupyradifurone)、[c−5.12]トリフルメゾピリム(triflumezopyrim)等が挙げられる。
c-5: Nicotinic acetylcholine receptor (nAChR) competitive modulator As a nicotinic acetylcholine receptor (nAChR) competitive modulator, [c-5.1] acetamiprid (acetamiprid), [c-5.2] clothianidin (clothianidin) ), [C-5.3] dinotefuran, [c-5.4] imidacloprid, [c-5.5] nitenpyram, [c-5.6] thiacloprid, [C-5.7] thiamethoxam, [c-5.8] nicotine, [c-5.9] nicotine sulfate, [c-5.10] sulphate Kisafuroru (sulfoxaflor), [c-5.11] Furupirajifuron (flupyradifurone), and the like [c-5.12] triflupromazine meso pyridinium beam (triflumezopyrim).

c−6:ニコチン性アセチルコリン受容体(nAChR)アロステリックモジュレーター
ニコチン性アセチルコリン受容体(nAChR)アロステリックモジュレーターとして、[c−6.1]スピノサド(spinosad)、[c−6.2]スピネトラム(spinetoram)等が挙げられる。
c-6: Nicotinic acetylcholine receptor (nAChR) allosteric modulator As a nicotinic acetylcholine receptor (nAChR) allosteric modulator, [c-6.1] spinosad (spinosad), [c-6.2] spinetoram, etc. Is mentioned.

c−7:グルタミン酸作動性塩素イオンチャネル(GluCl)アロステリックモジュレーター
グルタミン酸作動性塩素イオンチャネル(GluCl)アロステリックモジュレーターとして、[c−7.1]アバメクチン(abamectin)、[c−7.2]エマメクチン安息香酸塩(emamectin benzoate)、[c−7.3]レピメクチン(lepimectin)、[c−7.4]ミルベメクチン(milbemectin)等が挙げられる。
c-7: Glutamate-operated chloride channel (GluCl) allosteric modulator [c-7.1] abamectin, [c-7.2] emamectin benzoate as a glutamate-operated chloride channel (GluCl) allosteric modulator Salt (emmectin benzoate), [c-7.3] lepimectin, [c-7.4] milbemectin, and the like.

c−8:幼若ホルモン類似剤
幼若ホルモン類似剤として、[c−8.1]ヒドロプレン(hydroprene)、[c−8.2]キノプレン(kinoprene)、[c−8.3]メトプレン(methoprene)、[c−8.4]フェノキシカルブ(fenoxycarb)、[c−8.5]ピリプロキシフェン(pyriproxyfen)等が挙げられる。
c-8: Juvenile hormone analogs As juvenile hormone analogs, [c-8.1] hydroprene, [c-8.2] quinoprene (kinoprene), [c-8.3] methoprene (methoprene) ), [C-8.4] phenoxycarb, [c-8.5] pyriproxyfen, and the like.

c−9:非特異的(マルチサイト)阻害剤
非特異的(マルチサイト)阻害剤として、[c−9.1]臭化メチル(methyl bromide)、[c−9.2]クロルピクリン(chloropicrin)、[c−9.3]クリオライト(cryolite)、[c−9.4]フッ化スルフリル(sulfuryl fluoride)、[c−9.5]ホウ砂(borax)、[c−9.6]ホウ酸(boric acid)、[c−9.7]オクタホウ酸ニナトリウム塩(disodium octaborate)、[c−9.8]メタホウ酸ナトリウム塩(sodium metaborate)[c−9.9]吐酒石(tartar emetic)、[c−9.10]ダゾメット(dazomet)、[c−9.11]メタム(metam)、[c−9.12]カーバムナトリウム塩(metham sodium)等が挙げられる。
c-9: Non-specific (multi-site) inhibitor As a non-specific (multi-site) inhibitor, [c-9.1] methyl bromide, [c-9.2] chloropicrin , [C-9.3] cryolite, [c-9.4] sulfuryl fluoride, [c-9.5] borax, [c-9.6] borane Acid (boric acid), [c-9.7] disodium octaborate, [c-9.8] sodium metaborate [c-9.9] tartar emetic), [c-9.10] dazomet, [c-9.11] metham (m etam), [c-9.12] carbam sodium salt and the like.

c−10:弦音器官TRPVチャネルモジュレーター
弦音器官TRPVチャネルモジュレーターとして、[c−10.1]ピメトロジン(pymetrozine)、[c−10.2]ピリフルキナゾン(pyrifluquinazon)等が挙げられる。
c-10: String Organ TRPV Channel Modulator Examples of the string organ TRPV channel modulator include [c-10.1] pymetrozine, [c-10.2] pyrifluquinazone, and the like.

c−11:ダニ類成長阻害剤
ダニ類成長阻害剤として、[c−11.1]クロフェンテジン(clofentezine)、[c−11.2]ジフロビダジン(diflovidazin)、[c−11.3]ヘキシチアゾクス(hexythiazox)、[c−11.4]エトキサゾール(etoxazole)等が挙げられる。
c-11: Mite growth inhibitor As a mite growth inhibitor, [c-11. 1] clofentezine, [c-11. 2] diflobidazine, [c- 11.3] hexithizox. (Hexythiazox), [c-11.4] ethoxazole, and the like.

c−12:ミトコンドリアATP合成酵素阻害剤
ミトコンドリアATP合成酵素阻害剤として、[c−12.1]ジアフェンチウロン(diafenthiuron)、[c−12.2]アゾシクロチン(azocyclotin)、[c−12.3]シヘキサチン(cyhexatin)、[c−12.4]フェンブタチンオキシド(fenbutatin oxide)、「c−12.5」プロパルギット(propargite)、「c−12.6」テトラジホン(tetradifon)等が挙げられる。
c-12: Mitochondrial ATP synthase inhibitor As a mitochondrial ATP synthase inhibitor, [c-12. 1] diafenthiuron, [c-12. 2] azocyclotin, [c-12. 3] cyhexatin, [c-12.4] fenbutatin oxide, "c-12.5" propargite, "c-12.6" tetradifon, and the like. .

c−13:プロトン勾配を撹乱する酸化的リン酸化脱共役剤
プロトン勾配を撹乱する酸化的リン酸化脱共役剤として、[c−13.1]クロルフェナピル(chlorfenapyl)、[c−13.2]DNOC(dinitro−ortho−cresol)、[c−13.3]ビナパクリル(binapacryl)、[c−13.4]スルフルラミド(sulfluramid)等が挙げられる。
c-13: Oxidative phosphorylation uncoupling agent that disrupts the proton gradient As oxidative phosphorylation uncoupling agents that disrupt the proton gradient, [c-13.1] chlorfenapyr, [c-13.2] DNOC (Dinitro-ortho-cresol), [c-13.3] binapacryl, [c-13.4] sulfluramid, and the like.

c−14:ニコチン性アセチルコリン受容体(nAChR)チャネルブロッカー
ニコチン性アセチルコリン受容体(nAChR)チャネルブロッカーとして、[c−14.1]ベンスルタップ(bensultap)、[c−14.2]カルタップ塩酸塩(cartap hydrochloride)、[c−14.3]チオシクラム(thiocyclam)、[c−14.4]モノスルタップ(monosultap)等が挙げられる。
c-14: Nicotinic acetylcholine receptor (nAChR) channel blocker As a nicotinic acetylcholine receptor (nAChR) channel blocker, [c-14.1] bensultap, [c-14.2] cartap hydrochloride (cartap) hydrochloride), [c-14.3] thiocyclam, [c-14.4] monosultap, and the like.

c−15:キチン生合成阻害剤タイプ0
キチン生合成阻害剤タイプ0として、[c−15.1]ビストリフルロン(bistrifluron)、[c−15.2]クロルフルアズロン(chlorfluazuron)、[c−15.3]ジフルベンズロン(diflubenzuron)、[c−15.4]フルシクロクスロン(flucycloxuron)、[c−15.5]フルフェノクスロン(flufenoxuron)、[c−15.6]ヘキサフルムロン(hexaflumuron)、[c−15.7]ルフェヌロン(lufenuron)、[c−15.8]ノバルロン(novaluron)、[c−15.9]ノビフルムロン(noviflumuron)、[c−15.10]テフルベンズロン(teflubenzuron)、[c−15.11]トリフルムロン(triflumuron)等が挙げられる。
c-15: chitin biosynthesis inhibitor type 0
As chitin biosynthesis inhibitor type 0, [c-15.1] bistrifluron, [c-15.2] chlorfluazuron, [c-15.3] diflubenzuron, [C-15.4] flucycloxuron, [c-15.5] flufenoxuron, [c-15.6] hexaflumuron, [c-15.7] Lufenuron, [c-15.8] novaluron, [c-15.9] noviflumuron, [c-15.10] teflubenzuron, [c-15.11] Rifurumuron (triflumuron), and the like.

c−16:キチン生合成阻害剤タイプ1
キチン生合成阻害剤タイプ1として、[c−16.1]ブプロフェジン(buprofezin)等が挙げられる。
c-16: Chitin biosynthesis inhibitor type 1
Examples of the chitin biosynthesis inhibitor type 1 include [c-16.1] buprofezin and the like.

c−17:ハエ目昆虫脱皮阻害剤
ハエ目昆虫脱皮阻害剤として、[c−17.1]シロマジン(cyromazine)等が挙げられる。
c-17: Inhibitor of moltid insect molting Examples of the insect moulting inhibitor of Diptera include [c-17.1] cyromazine.

c−18:脱皮ホルモン(エクダイソン)受容体アゴニスト
脱皮ホルモン(エクダイソン)受容体アゴニストとして、[c−18.1]クロマフェノジド(chromafenozide)、[c−18.2]ハロフェノジド(halofenozide)、[c−18.3]メトキシフェノジド(methoxyfenozide)、[c−18.4]テブフェノジド(tebufenozide)等が挙げられる。
c-18: molting hormone (ecdysone) receptor agonist As a molting hormone (ecdysone) receptor agonist, [c-18.1] chromafenozide, [c-18.2] halofenozide, [c-18] .3] methoxyphenozide, [c-18.4] tebufenozide and the like.

c−19:オクトパミン受容体アゴニスト
オクトパミン受容体アゴニストとして、[c−19.1]アミトラズ(amitraz)等が挙げられる。
c-19: Octopamine receptor agonist Examples of the octopamine receptor agonist include [c-19.1] amitraz.

c−20:ミトコンドリア電子伝達系複合体III阻害剤
ミトコンドリア電子伝達系複合体III阻害剤として、[c−20.1]ヒドラメチルノン(hydramethylnon)、[c−20.2]アセキノシル(acequinocyl)、[c−20.3]フルアクリピリム(fluacrypyrim)、[c−20.4]ビフェナゼート(bifenazate)等が挙げられる。
c-20: Mitochondrial electron transport complex III inhibitor [c-20.1] hydramethylnon, [c-20.2] acequinocyl, as a mitochondrial electron transport complex III inhibitor [C-20.3] fluacryliprim, [c-20.4] bifenazate, and the like.

c−21:ミトコンドリア電子伝達系複合体I阻害剤(METI)
ミトコンドリア電子伝達系複合体I阻害剤(METI)として、[c−21.1]フェナザキン(fenazaquin)、[c−21.2]フェンピロキシメート(fenpyroximate)、[c−21.3]ピリダベン(pyridaben)、[c−21.4]ピリミジフェン(pylimidifen)、[c−21.5]テブフェンピラド(tebufenpyrad)、[c−21.6]トルフェンピラド(tolfenpyrad)、[c−21.7]ロテノン(rotenone)等が挙げられる。
c-21: mitochondrial electron transport system complex I inhibitor (METI)
Mitochondrial electron transport system complex I inhibitors (METI) include [c-21.1] fenazaquin, [c-21.2] fenpyroximate, [c-21.3] pyridaben, [C-21.4] pyrimidifen, [c-21.5] tebufenpyrad, [c-21.6] tolfenpyrad, [c-21.7] rotenone, and the like. Can be

c−22:電位依存性ナトリウムチャネルブロッカー
電位依存性ナトリウムチャネルブロッカーとして、[c−22.1]インドキサカルブ(indoxacarb)、[c−22.2]メタフルミゾン(metaflumizone)等が挙げられる。
c-22: Voltage-dependent sodium channel blocker Examples of the voltage-dependent sodium channel blocker include [c-22.1] indoxacarb, [c-22.2] metaflumizone and the like.

c−23:アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤
アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤として、[c−23.1]スピロジクロフェン(spirodiclofen)、[c−23.2]スピロメシフェン(spiromesifen)、[c−23.3]スピロテトラマト(spirotetramat)等が挙げられる。
c-23: Acetyl-CoA carboxylase inhibitor As an acetyl-CoA carboxylase inhibitor, [c-23.1] spirodiclofen, [c-23.2] spiromesifen, [c-23.3] ] Spirotetramat and the like.

c−24:ミトコンドリア電子伝達系複合体IV阻害剤
ミトコンドリア電子伝達系複合体IV阻害剤として、[c−24.1]リン化アルミニウム(aluminum phosphide)、[c−24.2]リン化カルシウム(calcium phosphide)、[c−24.3]リン化水素(phosphine)、[c−24.4]リン化亜鉛(zinc phosphide)、[c−24.5]シアン化カルシウム(calcium cyanide)、[c−24.6]シアン化ナトリウム(potassium cyanide)、[c−24.7]シアン化カリウム(sodium cyanide)等が挙げられる。
c-24: mitochondrial electron transport system complex IV inhibitor [c-24.1] aluminum phosphide (aluminum phosphide), [c-24.2] calcium phosphide ( calcium phosphide, [c-24.3] hydrogen phosphide (phosphine), [c-24.4] zinc phosphide (zinc phosphide), [c-24.5] calcium cyanide, [c [24.6] sodium cyanide, [c-24.7] potassium cyanide, and the like.

c−25:ミトコンドリア電子伝達系複合体II阻害剤
ミトコンドリア電子伝達系複合体II阻害剤として、[c−25.1]シエノピラフェン(cyenopyrafen)、[c−25.2]シフルメトフェン(cyflumetofen)、[c−25.3]ピフルブミド(pyflubumide)等が挙げられる。
c-25: mitochondrial electron transport system complex II inhibitor [c-25.1] cyenopyrafen, [c-25.2] cyflumetofen, [c-25.1] cyenopyrafen -25.3] piflubumide and the like.

c−26:リアノジン受容体モジュレーター
リアノジン受容体モジュレーターとして、[c−26.1]クロラントラニリプロール(chlorantraniliprole)、[c−26.2]シアントラニリプロール(cyantraniliprole)、[c−26.3]フルベンジアミド(flubendiamide)等が挙げられる。
c-26: Ryanodine receptor modulator As the ryanodine receptor modulator, [c-26.1] chlorantraniliprole, [c-26.2] cyanantraniliprole, [c-26. 3] flubendiamide and the like.

c−27:標的部位未特定の弦音器官モジュレーター
標的部位未特定の弦音器官モジュレーターとして、[c−27.1]フロニカミド(flonicamid)等が挙げられる。
c-27: String Organ Modulator with Unspecified Target Site The string organ modulator with unspecified target site includes [c-27.1] flonicamid.

c−28:その他の殺虫剤
その他の殺虫剤として、[c−28.1]アザジラクチン(azadirachtin)、[c−28.2]ベンゾキシメート(benzoximate)、[c−28.3]フェニソブロモレート(phenisobromolate)、[c−28.4]キノメチオナート(chinomethionat)、[c−28.5]ジコホル(dicofol)、[c−28.6]ピリダリル(pyridalyl)、[c−28.7]ブロモプロピレート(bromopropylate)、[c−28.8]トリアザメート(triazamate)、[c−28.9]ジシクラニル(dicyclanil)、[c−28.10]ジノブトン(dinobuton)、[c−28.11]ジノカップ(dinocap)、[c−28.12]シアン化水素(hydrogen cyanide)、[c−28.13]ヨウ化メチル(methyliodide)、[c−28.14]カランジン(karanjin)、[c−28.15]塩化水銀(mercury chloride)、[c−28.16]メチルイソチオシアネート(methyl isothiocyanate)、[c−28.17]ペンタクロロフェノール(pentachlorophenol)、[c−28.18]ホスフィン(phosphine)、[c−28.19]ピペロニル ブトキシド(piperonylbutoxide)、[c−28.20]ポリナクチン複合体(polynactins)、[c−28.21]サバディラ(sabadilla)、[c−28.22]スルコフロン塩(スルコフロン−ナトリウム(sulcofuron−sodium))、[c−28.23]トリブホス(tribufos)、[c−28.24]アルドリン(aldrin)、[c−28.25]アミジチオオン(amidithion)、[c−28.26]アミドチオエート(amidothioate)、[c−28.27]アミノカルブ(aminocarb)、[c−28.28]アミトン(amiton)、[c−28.29]アラマイト(aramite)、[c−28.30]アチダチオン(athidathion)、[c−28.31]アゾトエート(azothoate)、[c−28.32]ポリスルフィドバリウム(barium polysulphide)、[c−28.33]ベンクロチアズ(benclothiaz)、[c−28.34]5−(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)−3−ヘキシルシクロヘキサ−2−エノン(5−(1,3−benzodioxole−5−yl)−3−hexylcyclohexa−2−enone)、[c−28.35]1,1−ビス(4−クロロフェニル)−2−エトキシエタノール(1,1−bis(4−chlorophenyl)−2−ethoxyethanol)、[c−28.36]ブトネート(butonate)、[c−28.37]ブトピロノキシル(butopyronoxyl)、[c−28.38]2−(2−ブトキシエトキシ)エチル チオシアナート(2−(2−butoxyethoxy)ethyl thiocyanate)、[c−28.39]カンフェクロル(camphechlor)、[c−28.40]クロルベンシド(chlorbenside)、[c−28.41]クロルデコン(chlordecone)、[c−28.42]クロルジメホルム(chlordimeform)、[c−28.43]クロルフェネトール(chlorfenethol)、[c−28.44]クロルフェンソン(chlorfenson)、[c−28.45]フルアズロン(fluazuron)、[c−28.46]メタアルデヒド(metaldehyde)、[c−28.47]ビアラホス(bialaphos)、[c−28.48]塩酸レバミゾール(levamisol)、[c−28.49]アミドフルメト(amidoflumet)、[c−28.50]ピラフルプロール(pyrafluprole)、[c−28.51]ピリプロール(pyriprole)、[c−28.52]トラロピリル(tralopyril)、[c−28.53]フルピラゾフォス(flupyrazofos)、[c−28.54]ジオフェノラン(diofenolan)、[c−28.55]クロルベンジレート(chlorobenzilate)、[c−28.56]フルフェンジン(flufenzine)、[c−28.57]ベンゾメート(benzomate)、[c−28.58]フルフェネリム(flufenerim)、[c−28.59]アルベンダゾール(albendazole)、[c−28.60]オキシベンダゾール(oxibendazole)、[c−28.61]フェンベンダゾール(fenbendazole)、[c−28.62]メタム・ナトリウム(metam−sodium)、[c−28.63]1,3−ジクロロプロペン(1,3−dichloropropene)、[c−28.64]フロメトキン(flometoquin)、[c−28.65]シクラニリプロール(cyclaniliprole)、[c−28.66]テトラニリプロール(tetraniliprole)、[c−28.67]ブロフラニリド(broflanilide)、[c−28.68]ジクロロメゾチアズ(dicloromezotiaz)、[c−28.69]エチレンジブロマイド(ethylene dibromide)、[c−28.70]アクリロニトリル(acrylonitrile)、[c−28.71]ビス(2−クロロエチル)エーテル(bis(2−chloroethyl)ether)、[c−28.72]1−ブロモ−2−クロロエタン(1−bromo−2−chloroethane)、[c−28.73]3−ブロモ−1−クロロプロパ−1−エン(3−bromo−1−chloroprop−1−ene)、[c−28.74]ブロモシクレン(bromocyclen)、[c−28.75]二硫化炭素(carbon disulfide)、[c−28.76]四塩化炭素(tetrachloromethane)、[c−28.77]ネマデクチン(nemadectin)、[c−28.78]シミアゾール(cymiazole)[c−28.79]カルシウム ポリスルフィド(calcium polysulfide)、[c−28.80]サイトカイニン(cytokinin)、[c−28.81]2−(オクチルチオ)エタノール、[c−28.82]オレイン酸カリウム(potassium oleate)、[c−28.83]オレイン酸ナトリウム(sodium oleate)、[c−28.84]マシン油(machine oil)、[c−28.85]タール油(tar oil)、[c−28.86]アナバシン(anabasine)、[c−28.87]酒石酸モランテル(morantel tartrate)、[c−28.88]除虫菊(ピレトリン(pyrethrum))、[c−28.89]ナタネ油(rape seed oil)、[c−28.90]ダイズレチシン(soybean lecithin)、[c−28.91]デンプン(starch)、[c−28.92]ヒドロキシプロピルデンプン(hydroxypropylstarch)、[c−28.93]脂肪酸グリセリド(decanoyloctanoylglycerol)、[c−28.94]プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル(propylene glycol fatty acid ester)、[c−28.95]ケイソウ土(diatomite)、[c−28.96]アフォキソラネル(afoxolaner)、[c−28.97]フルアザインドリジン(fluazaindolizine)、[c−28.98]アフィドピロペン(afidopyropen)、[c−28.99]シハロジアミド(cyhalodiamide)、[c−28.100]チオキサザフェン(tioxazafen)、[c−28.101]フルヘキサフォン(fluhexafon)、[c−28.102]フルララネル(fluralaner)、[c−28.103]フルキサメタミド(fluxametamide)、[c−28.104]テトラクロラントラニリプロール(tetrachlorantraniliprole)、[c−28.105]サロラネル(sarolaner)、[c−28.106]ロチラネル(lotilaner)、[c−28.107]シクロキサプリド(cycloxaprid)、[c−28.108]フルエンスルホン(fluensulfone)、[c−28.109]TPIC(tripropyl isocyanurate)、[c−28.110]D−D(1,3−Dichloropropene)、[c−28.111]ペルオキソカルボナート(peroxocarbonate)、[c−28.112]MB−599(verbutin)、[c−28.113]ビス(2,3,3,3−テトラクロロプロピル)エーテル(bis(2,3,3,3−tetrachloropropyl)ether)、[c−28.114]DCIP(bis(2−chloro−1−methylethyl)ether)、[c−28.115]ENT−8184(N−(2−Ethylhexyl)bicyclo[2.2.1]hept−5−ene−2,3−dicarboximide)、[c−28.116]Bayer 22408(O,O−diethyl O−naphthalimidophosphorothioate)、[c−28.117]Bayer 32394(tris(1−dodecyl−3−methyl−2−phenylbenzimidazolium)hexacyanoferrate)、
c-28: Other insecticides As other insecticides, [c-28.1] azadirachtin, [c-28.2] benzoximate (benzoximate), [c-28.3] phenisobromo Phenisobromolate, [c-28.4] quinomethionate, [c-28.5] dicofol, [c-28.6] pyridalyl, [c-28.7] bromopropiate Rate (bropropylate), [c-28.8] triazamate, [c-28.9] dicyclanil, [c-28.10] dinobuton, [c-28.11] dinocup ( din ocap), [c-28.12] hydrogen cyanide, [c-28.13] methyliodide, [c-28.14] Karanjin, [c-28.15] chloride Mercury chloride, [c-28.16] methyl isothiocyanate, [c-28.17] pentachlorophenol, [c-28.18] phosphine, [c- 28.19] piperonyl butoxide, [c-28.20] polynactin complexes (polynactins), [c-28.21] sabadilla, [C-28.22] sulcofuron salt (sulcofuron-sodium), [c-28.23] tribubufos, [c-28.24] aldrin, [c-28.25]. Amidithione, [c-28.26] amidothioate, [c-28.27] aminocarb, [c-28.28] amiton, [c-28.29] Aramite, [c-28.30] athidathion, [c-28.31] azotoate, [c-28.32] polysulfide barium (barium polysulfide), [c-2] 8.33] venclothiaz, [c-28.34] 5- (1,3-benzodioxol-5-yl) -3-hexylcyclohex-2-enone (5- (1,3- benzodioxole-5-yl) -3-hexylcyclohexa-2-enone), [c-28.35] 1,1-bis (4-chlorophenyl) -2-ethoxyethanol (1,1-bis (4-chlorophenyl)-) 2-ethyethanol, [c-28.36] butonate, [c-28.37] butopyronoxyl, [c-28.38] 2- (2-butoxyethoxy) ethyl thiocyanate (2- ( 2-butyethoxy) ethyl thiocyan te), [c-28.39] camphechlor, [c-28.40] chlorbenside, [c-28.41] chlordecone, [c-28.42] chlordiforme , [C-28.43] chlorphenetol, [c-28.44] chlorfenson, [c-28.45] fluazuron, [c-28.46] methaldehyde (Metaldehyde), [c-28.47] bialaphos, [c-28.48] levamisole hydrochloride (levamisol), [c-28.49] amidoflumet , [C-28.50] pyrafluprole, [c-28.51] pyriprole, [c-28.52] tralopyryl, [c-28.53] flupyrazofos , [C-28.54] diophenolan, [c-28.55] chlorobenzilate, [c-28.56] flufenzine, [c-28.57] benzomate , [C-28.58] flufenerim, [c-28.59] albendazole, [c-28.60] oxybendazole. [C-28.61] fenbendazole, [c-28.62] metam-sodium, [c-28.63] 1,3-dichloropropene (1,3-dichloropropene) , [C-28.64] flometoquin, [c-28.65] cyclaniliprole, [c-28.66] tetranyliprole, [c-28.67] brofuranilide (Broflanilide), [c-28.68] dichloromezzotiaz, [c-28.69] ethylene dibromide, [c-28.70] acrylonitrile ( (cryonitrile), [c-28.71] bis (2-chloroethyl) ether, [c-28.72] 1-bromo-2-chloroethane (1-bromo-2-chloroethane) , [C-28.73] 3-bromo-1-chloroprop-1-ene, [c-28.74] bromocyclen, [c-28. 75] carbon disulfide, [c-28.76] carbon tetrachloride (tetrachlormethane), [c-28.77] nemadectin, [c-28.78] cymizazole [c- 28.79] Cal Um polysulfide (calcium polysulfide), [c-28.80] cytokinin, [c-28.81] 2- (octylthio) ethanol, [c-28.82] potassium oleate, [c -28.83] sodium oleate, [c-28.84] machine oil, [c-28.85] tar oil, [c-28.86] anabacine ( anabasine), [c-28.87] morantel tartrate, [c-28.88] pyrethrin (pyrethrum), [c-28.89] rapeseed oil, [c- 28.90 Soybean lecithin, [c-28.91] starch, [c-28.92] hydroxypropyl starch, [c-28.93] fatty acid glyceride (decanoylcanoylglycerol-28). 94] Propylene glycol monofatty acid ester, [c-28.95] diatomite, [c-28.96] afoxolaner, [c-28.97] Full azaind Lysine (fluazaindolizine), [c-28.98] affidopyropen, [c-28.99] Rhosylamide (cyhalodiamide), [c-28.100] thioxazafen, [c-28.101] Fluhexafon, [c-28.102] Flularaner, [c-28.103] Fluxametamide, [c-28.104] tetrachlorantraniliprole, [c-28.105] saloraner, [c-28.106] lotilaner, [c-28] .107] cycloxaprid, [c-28.108] fluensulfone, [c-28.109] TPIC ( ripropyl isocyanurate), [c-28.110] DD (1,3-dichloropropene), [c-28.111] peroxocarbonate, [c-28.112] MB-599 (verbutin), [C-28.113] bis (2,3,3,3-tetrachloropropyl) ether (bis (2,3,3,3-tetrachloropropyl) ether), [c-28.114] DCIP (bis (2 -Chloro-1-methylethyl) ether), [c-28.115] ENT-8184 (N- (2-Ethylhexyl) bicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboxymide), [ c-28.1 6] Bayer 22408 (O, O-diethyl O-naphthalimidophosphorothioate), [c-28.117] Bayer 32394 (tris (1-dodecyl-3-methyl-2-phenylbenzimidazolium) hexacyanoferrate),

[c−28.118]式(s34)

Figure 2018190349

で表される化合物(国際公開第10/051926号参照)、[C-28.118] Equation (s34)
Figure 2018190349

(See WO10 / 051926),

[c−28.119]式(s35)

Figure 2018190349

で表される化合物(国際公開第13/115391号参照)、[C-28.119] Formula (s35)
Figure 2018190349

(See WO 13/115391),

[c−28.120]式(s36)

Figure 2018190349

で表される化合物(国際公開第12/029672号参照)、[C-28.120] Equation (s36)
Figure 2018190349

A compound represented by the formula (see International Publication No. 12/029672):

[c−28.121]式(s37)

Figure 2018190349

で表される化合物(国際公開第06/056108号参照)、[C-28.121] Equation (s37)
Figure 2018190349

(See WO 06/056108),

[c−28.122]式(s38)

Figure 2018190349

で表される化合物(国際公開第14/053450号、国際特許第15/144683号参照)、[C-28.122] Equation (s38)
Figure 2018190349

(See WO 14/053450, WO 15/144683);

[c−28.123]式(s39)

Figure 2018190349

で表される化合物(国際公開第14/053450号、国際特許第15/144683号参照)、[C-28.123] Formula (s39)
Figure 2018190349

(See WO 14/053450, WO 15/144683);

[c−28.124]式(s40)

Figure 2018190349

で表される化合物(国際公開第14/053450号、国際特許第15/144683号参照)、[C-28.124] Equation (s40)
Figure 2018190349

(See WO 14/053450, WO 15/144683);

[c−28.125]式(s41)

Figure 2018190349

[式中、m6は、0〜2の整数を表す。]で表される化合物(国際公開第10/129497号参照)、[C-28.125] Equation (s41)
Figure 2018190349

[In the formula, m6 represents an integer of 0 to 2. (See WO 10/129497),

[c−28.126]式(s42)

Figure 2018190349

[式中、m7は、0〜2の整数を表す。]で表される化合物(国際公開第11/152320号参照)、[C-28.126] Equation (s42)
Figure 2018190349

[In the formula, m7 represents an integer of 0 to 2. (See WO 11/152320),

[c−28.127]式(s43)

Figure 2018190349

[式中、m8は、0〜2の整数を表す。]で表される化合物(特開平27―160813号公報参照)、[C-28.127] Equation (s43)
Figure 2018190349

[In the formula, m8 represents an integer of 0 to 2. ] (See JP-A-27-160813),

[c−28.128]式(s44)

Figure 2018190349

[式中、A52は、水素原子、またはフッ素原子を表す。]で表される化合物(国際公開第11/134964号、国際特許第14/005982号参照)、[C-28.128] Equation (s44)
Figure 2018190349

[Wherein, A52 represents a hydrogen atom or a fluorine atom. (See WO 11/134964, WO 14/005982),

[c−28.129]式(s45)

Figure 2018190349

[式中、m9は、0〜2の整数を表し、A53は、フッ素原子、または塩素原子を表す。]で表される化合物(国際公開第15/025826号参照)、[C-28.129] Equation (s45)
Figure 2018190349

[Wherein, m9 represents an integer of 0 to 2, and A53 represents a fluorine atom or a chlorine atom. (See WO 15/025826),

[c−28.130]式(s46)

Figure 2018190349

[式中、V3は、窒素原子、炭素原子、またはC−Fを表し、V4およびV5は、それぞれ独立していて、窒素原子、または炭素原子を表す。]で表される化合物(国際公開第11/134964号、国際公開第14/005982号参照)、[C-28.130] Equation (s46)
Figure 2018190349

[Wherein, V3 represents a nitrogen atom, a carbon atom, or C-F, and V4 and V5 each independently represent a nitrogen atom or a carbon atom. (See WO 11/134964, WO 14/005982),

[c−28.131]式(s47)

Figure 2018190349

[式中、A54は、水素原子、メチル基、メトキシ基、またはエトキシ基を表し、A55は、塩素原子、またはメチル基を表し、A56は、メチル基、またはエチル基を表す。]で表される化合物(国際公開第09/049851号参照)、[C-28.131] Formula (s47)
Figure 2018190349

[Wherein, A54 represents a hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group, or an ethoxy group, A55 represents a chlorine atom or a methyl group, and A56 represents a methyl group or an ethyl group. (See WO09 / 049851),

[c−28.132]式(s48)

Figure 2018190349

[式中、A57は、水素原子、フッ素原子、または塩素原子を表し、A58は、
Figure 2018190349

からなる群から選択される1種の部分構造を表す。]で表される化合物(国際公開第11/067272号参照)、[C-28.132] Formula (s48)
Figure 2018190349

[Wherein, A57 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or a chlorine atom;
Figure 2018190349

Represents one kind of partial structure selected from the group consisting of: (See International Publication No. 11/067272),

[c−28.133]式(s49)

Figure 2018190349

[式中、A59は、水素原子、フッ素原子、または塩素原子を表し、A60は、
Figure 2018190349

からなる群から選択される部分構造を表す。]で表される化合物(国際公開第10/090344号参照)、[C-28.133] Equation (s49)
Figure 2018190349

[Wherein, A59 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or a chlorine atom;
Figure 2018190349

Represents a partial structure selected from the group consisting of (See WO 10/090344),

[c−28.134]式(s50)

Figure 2018190349

[式中、m10は、0〜2の整数を表し、A61は、トリフルオロメチル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルスルフィニル基、またはトリフルオロメチルスルホニル基を表し、A62は、水素原子、またはトリフルオロメチル基を表し、V6は、窒素原子、または炭素原子を表し、V7は、酸素原子、またはN−メチル基を表す。]で表される化合物(国際公開第14/104407号参照)、[C-28.134] Formula (s50)
Figure 2018190349

[Wherein, m10 represents an integer of 0 to 2, A61 represents a trifluoromethyl group, a trifluoromethylthio group, a trifluoromethylsulfinyl group, or a trifluoromethylsulfonyl group, A62 represents a hydrogen atom, or Represents a trifluoromethyl group, V6 represents a nitrogen atom or a carbon atom, and V7 represents an oxygen atom or an N-methyl group. (See WO 14/104407),

[c−28.135]式(s51)

Figure 2018190349

[式中、A63は、水素原子、またはフッ素原子を表し、アミド基は4位、または5位に結合し、A64は、
Figure 2018190349

からなる群から選択される部分構造を表す。]で表される化合物(国際公開第15/038503号、国際特許第16/144351号、国際特許第16/144678号参照)、[C-28.135] Equation (s51)
Figure 2018190349

[Wherein, A63 represents a hydrogen atom or a fluorine atom, the amide group is bonded to the 4- or 5-position, and A64 is
Figure 2018190349

Represents a partial structure selected from the group consisting of (See WO 15/038503, WO 16/144351, WO 16/144678),

[c−28.136]式(s52)

Figure 2018190349

[式中、A65は、水素原子、C1〜C6のアルキル基、またはC1〜C6のハロアルキル基を表し、A66は、水素原子、ハロゲン原子、またはC1〜C6のアルキル基を表し、A67およびA68は、それぞれ独立していて、水素原子、シアノ基で適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、メトキシ基で適宜置換されてもよいアルキル基、エトキシ基で適宜置換されてもよいアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表し、A69は、水素原子、シアノ基、シアノ基で適宜置換されてもよいC1〜C6のハロアルキル基、C1〜C6のアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表す。]で表される化合物(国際公開第12/143317号、国際特許第16/016369号参照)、[C-28.136] Equation (s52)
Figure 2018190349

[Wherein, A65 represents a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, or a C1-C6 haloalkyl group, A66 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a C1-C6 alkyl group, and A67 and A68 represent A hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a cyano group, an alkyl group optionally substituted with a methoxy group, an alkyl group optionally substituted with an ethoxy group, Or a C3 to C8 cycloalkyl group, and A69 represents a hydrogen atom, a cyano group, a C1 to C6 haloalkyl group optionally substituted with a cyano group, a C1 to C6 alkyl group, or a C3 to C8 cycloalkyl group. Represents a group. (See WO 12/143317, WO 16/016369),

[c−28.137]式(s53)または式(s54)

Figure 2018190349

[式中、A70は、メチル基、エチル基、イソプロピル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、またはフェニル基を表し、A71は、
Figure 2018190349

からなる群から選択される部分構造を表し、A72は、
Figure 2018190349

からなる群から選択される部分構造を表し、V8は、酸素原子、硫黄原子、−CH−、または−CHCH−を表す。]で表される化合物(国際公開第14/167084号、国際特許第16/055431号参照)、[C-28.137] Equation (s53) or Equation (s54)
Figure 2018190349

[Wherein, A70 represents a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, or a phenyl group;
Figure 2018190349

A72 represents a partial structure selected from the group consisting of:
Figure 2018190349

Represents a partial structure selected from the group consisting of, V8 represents an oxygen atom, a sulfur atom, -CH 2 -, or -CH 2 CH 2 - represents a. (See International Publication No. 14/167084, International Patent Publication No. 16/055431),

[c−28.138]式(s55)

Figure 2018190349

[式中、m11は、0〜1の整数を表し、A73は、塩素原子、臭素原子、メチル基、またはトリフルオロメチル基を表し、A74は、水素原子、塩素原子、臭素原子、シアノ基、またはトリフルオロメチル基表し、A75は、水素原子、塩素原子または臭素原子を表し、A76およびA77は、それぞれ独立していて、C1〜C6のアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表し、A78は、塩素原子、臭素原子、シアノ基、ニトロ基、ジフルオロメチル基、またはトリフルオロメチル基を表す。]で表される化合物(国際公開第13/024009号参照)、[C-28.138] Equation (s55)
Figure 2018190349

[Wherein, m11 represents an integer of 0 to 1, A73 represents a chlorine atom, a bromine atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group, A74 represents a hydrogen atom, a chlorine atom, a bromine atom, a cyano group, A75 represents a hydrogen atom, a chlorine atom or a bromine atom; A76 and A77 each independently represent a C1-C6 alkyl group or a C3-C8 cycloalkyl group; A78 represents a chlorine atom, a bromine atom, a cyano group, a nitro group, a difluoromethyl group, or a trifluoromethyl group. A compound represented by the formula (see International Patent Publication No.

[c−28.139]式(s56)

Figure 2018190349

[式中、A79、A80、A81およびA82は、それぞれ独立していて、水素原子、ハロゲン原子、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、またはC3〜C8のシクロアルコキシ基を表す。]で表される化合物(国際公開第12/027521号参照)、[C-28.139] Formula (s56)
Figure 2018190349

[Wherein A79, A80, A81 and A82 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, or a C3-C8 Represents a cycloalkoxy group. (See WO 12/027521),

[c−28.140]式(s57)

Figure 2018190349

[式中、m12は、0〜2の整数を表し、A83は、水素原子、またはフッ素原子を表し、A84は、
Figure 2018190349

からなる群から選択される部分構造を表す。]で表される化合物(国際公開第13/162715号参照)、[C-28.140] Equation (s57)
Figure 2018190349

[Wherein, m12 represents an integer of 0 to 2, A83 represents a hydrogen atom or a fluorine atom, and A84 represents
Figure 2018190349

Represents a partial structure selected from the group consisting of (See WO 13/162715),

[c−28.141]アシノナピル(acynonapyr)、
[c−28.142]式(s59)

Figure 2018190349

[A90は、ハロゲン原子、C1〜C6のアルキル基、またはC1〜C6のハロアルキル基を表し、A91は、C1〜C6のハロアルキル基を表し、A92およびA93は、それぞれ独立していて、水素原子、C1〜C6のアルキル基、アセチル基、プロピオノイル基、メタンスルホニルエチル基、メトキシカルボニル基、またはエトキシカルボニル基を表し、A94およびA95は、それぞれ独立していて、水素原子、C1〜C6のアルキル基、またはC1〜C6のハロアルキル基を表す。]で表される化合物(国際公開第12/164698号参照)等が挙げられる。[C-28.141] asynonapyr,
[C-28.142] Equation (s59)
Figure 2018190349

[A90 represents a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, or a C1-C6 haloalkyl group, A91 represents a C1-C6 haloalkyl group, A92 and A93 are each independently a hydrogen atom, Represents a C1-C6 alkyl group, an acetyl group, a propionoyl group, a methanesulfonylethyl group, a methoxycarbonyl group, or an ethoxycarbonyl group, and A94 and A95 are each independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, Or a C1 to C6 haloalkyl group. And the like (see WO 12/1664698).

本発明化合物と有害生物防除剤の混合比は、効果が発揮される限りにおいて特に制限されるものではないが、通常、本発明化合物に対して有害生物防除剤が、重量比で0.001〜1000の比率であり、好ましくは、0.01〜100の比率である。   The mixing ratio of the compound of the present invention and the pesticide is not particularly limited as long as the effect is exhibited. It is a ratio of 1,000, preferably a ratio of 0.01 to 100.

以下に、合成例、参考例、および試験例を挙げて、本発明を更に詳細に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Synthesis Examples, Reference Examples, and Test Examples, but the present invention is not limited thereto.

[合成例1]
ステップ1:4−(3−(2−クロロフェニル)−6−オキソ−1,4,5,6−テトラヒドロピリジン−2−イル)−3,5−ジフルオロベンゾニトリルの合成

Figure 2018190349
[Synthesis Example 1]
Step 1: Synthesis of 4- (3- (2-chlorophenyl) -6-oxo-1,4,5,6-tetrahydropyridin-2-yl) -3,5-difluorobenzonitrile
Figure 2018190349

参考例1で得られた未精製の4−(2−クロロフェニル)−5−オキソ−5−(4−シアノ−2,6−ジフルオロフェニル)ペンタン酸 361mgに、酢酸アンモニウム 2.96gと酢酸 4mlを加えて、110℃で10時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が108mgの褐色固体として得られた。   To 361 mg of unpurified 4- (2-chlorophenyl) -5-oxo-5- (4-cyano-2,6-difluorophenyl) pentanoic acid obtained in Reference Example 1, 2.96 g of ammonium acetate and 4 ml of acetic acid were added. In addition, the mixture was stirred at 110 ° C. for 10 hours. After cooling to room temperature, water and ethyl acetate were added to the reaction mixture for liquid separation. The obtained organic layer was washed successively with a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate and a saturated saline solution, and dried over sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 108 mg of a brown solid.

H−NMR (CDCl) δ: 7.33 (1H, dd, J = 8.1, 1.2 Hz), 7.16−7.14 (2H, m), 7.09−7.03 (2H, m), 6.96−6.94 (1H, m), 6.87 (1H, s), 2.97−2.96 (1H, m), 2.83−2.80 (1H, m), 2.75−2.69 (2H, m). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 7.33 (1H, dd, J = 8.1, 1.2 Hz), 7.16-7.14 (2H, m), 7.09-7.03 (2H, m), 6.96-6.94 (1H, m), 6.87 (1H, s), 2.97-2.96 (1H, m), 2.83-2.80 (1H , M), 2.75-2.69 (2H, m).

ステップ2:4−(3−(2−クロロフェニル)−1−エチル−6−オキソ−1,4,5,6−テトラヒドロピリジン−2−イル)−3,5−ジフルオロベンゾニトリルの合成(化合物番号34)

Figure 2018190349
Step 2: Synthesis of 4- (3- (2-chlorophenyl) -1-ethyl-6-oxo-1,4,5,6-tetrahydropyridin-2-yl) -3,5-difluorobenzonitrile (Compound No. 34)
Figure 2018190349

4−(3−(2−クロロフェニル)−6−オキソ−1,4,5,6−テトラヒドロピリジン−2−イル)−3,5−ジフルオロベンゾニトリル 361mg、ヨウ化エチル 70μlと炭酸セシウム 287mgを含むDMF溶液 3mlを50℃で3時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を水、チオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が114mgの褐色油状物質として得られた。   Contains 361 mg of 4- (3- (2-chlorophenyl) -6-oxo-1,4,5,6-tetrahydropyridin-2-yl) -3,5-difluorobenzonitrile, 70 μl of ethyl iodide and 287 mg of cesium carbonate 3 ml of the DMF solution was stirred at 50 ° C. for 3 hours. After cooling to room temperature, water and ethyl acetate were added to the reaction mixture for liquid separation. The obtained organic layer was washed successively with water, an aqueous solution of sodium thiosulfate and saturated saline, and dried over sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 114 mg of a brown oil.

[合成例2]
4−(3−(2−クロロフェニル)−1−エチル−6−オキソ−1,6−ジヒドロピリジン−2−イル)−3,5−ジフルオロベンゾニトリルの合成(化合物番号35)

Figure 2018190349
[Synthesis Example 2]
Synthesis of 4- (3- (2-chlorophenyl) -1-ethyl-6-oxo-1,6-dihydropyridin-2-yl) -3,5-difluorobenzonitrile (Compound No. 35)
Figure 2018190349

4−(3−(2−クロロフェニル)−1−エチル−6−オキソ−1,4,5,6−テトラヒドロピリジン−2−イル)−3,5−ジフルオロベンゾニトリル 102mgを含む四塩化炭素溶液 4mlに、N−ブロモスクシンイミド 49mgとアゾビスイソブチロニトリル 4.3mgを加えて、80℃で1時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水とジクロロメタンを加えて分液した。得られた有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液および水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が87mgの白色固体として得られた。   4 ml of a carbon tetrachloride solution containing 102 mg of 4- (3- (2-chlorophenyl) -1-ethyl-6-oxo-1,4,5,6-tetrahydropyridin-2-yl) -3,5-difluorobenzonitrile To the mixture were added 49 mg of N-bromosuccinimide and 4.3 mg of azobisisobutyronitrile, and the mixture was stirred at 80 ° C for 1 hour. After cooling to room temperature, water and dichloromethane were added to the reaction mixture to carry out liquid separation. The obtained organic layer was washed sequentially with an aqueous solution of sodium thiosulfate and water, and dried over sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 87 mg of a white solid.

[合成例3]
4−(5−クロロ−3−(2−クロロフェニル)−1−エチル−6−オキソ−1,6−ジヒドロピリジン−2−イル)−3,5−ジフルオロベンゾニトリルの合成(化合物番号36)

Figure 2018190349
[Synthesis Example 3]
Synthesis of 4- (5-chloro-3- (2-chlorophenyl) -1-ethyl-6-oxo-1,6-dihydropyridin-2-yl) -3,5-difluorobenzonitrile (Compound No. 36)
Figure 2018190349

4−(3−(2−クロロフェニル)−1−エチル−6−オキソ−1,6−ジヒドロピリジン−2−イル)−3,5−ジフルオロベンゾニトリル 72mgを含むDMF溶液 2mlにN−クロロスクシンイミド 27mgを加えて、60℃で1時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に酢酸エチルと水を加えて分液した。得られた有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和食塩水にて順次洗浄した後に、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製を行った。表題の化合物が73mgの白色固体として得られた。   27 mg of N-chlorosuccinimide was added to 2 ml of a DMF solution containing 72 mg of 4- (3- (2-chlorophenyl) -1-ethyl-6-oxo-1,6-dihydropyridin-2-yl) -3,5-difluorobenzonitrile. In addition, the mixture was stirred at 60 ° C. for 1 hour. After cooling to room temperature, ethyl acetate and water were added to the reaction mixture for liquid separation. The obtained organic layer was washed sequentially with an aqueous solution of sodium thiosulfate and saturated saline, and then dried over sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 73 mg of a white solid.

[合成例4]
5−(2−クロロ−3,5−ジメトキシフェニル)−1−メチル−6−(2,6−ジフルオロ−4−(プロピン−2−イルオキシ)フェニル)ピリジン−2(1H)−オンの合成(化合物番号4)

Figure 2018190349
[Synthesis Example 4]
Synthesis of 5- (2-chloro-3,5-dimethoxyphenyl) -1-methyl-6- (2,6-difluoro-4- (propyn-2-yloxy) phenyl) pyridin-2 (1H) -one ( Compound No. 4)
Figure 2018190349

参考例2(ステップ10)で得られた5−(2−クロロ−3,5−ジメトキシフェニル)−1−メチル−6−(2,6−ジフルオロ−4−ヒドロキシフェニル)ピリジン−2(1H)−オン 70mg、臭化プロパルギル 20μlと炭酸セシウム 84mgを含むアセトニトリル溶液 4mlを室温で3時間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が72mgの油状として得られた。   5- (2-chloro-3,5-dimethoxyphenyl) -1-methyl-6- (2,6-difluoro-4-hydroxyphenyl) pyridine-2 (1H) obtained in Reference Example 2 (Step 10). 4 ml of an acetonitrile solution containing 70 mg of -one, 20 µl of propargyl bromide and 84 mg of cesium carbonate was stirred at room temperature for 3 hours. A saturated aqueous ammonium chloride solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture, and the mixture was separated. The obtained organic layer was washed with saturated saline and dried over sodium sulfate. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 72 mg of an oil.

[合成例5]
5−(2−クロロ−3,5−ジメトキシフェニル)−1−メチル−6−(2,6−ジフルオロ−4−(メトキシメトキシ)フェニル)ピリジン−2(1H)−オンの合成(化合物番号5)

Figure 2018190349
[Synthesis Example 5]
Synthesis of 5- (2-chloro-3,5-dimethoxyphenyl) -1-methyl-6- (2,6-difluoro-4- (methoxymethoxy) phenyl) pyridin-2 (1H) -one (Compound No. 5) )
Figure 2018190349

参考例2(ステップ10)で得られた5−(2−クロロ−3,5−ジメトキシフェニル)−1−メチル−6−(2,6−ジフルオロ−4−ヒドロキシフェニル)ピリジン−2(1H)−オン 65mgと60%水素化ナトリウム 14mgを含むTHF溶液 3mlを室温で5分間撹拌した。次いで、クロロメチルメチルエーテル 18μlを加えて室温で3時間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が72mgの白色固体として得られた。   5- (2-chloro-3,5-dimethoxyphenyl) -1-methyl-6- (2,6-difluoro-4-hydroxyphenyl) pyridine-2 (1H) obtained in Reference Example 2 (Step 10). 3 ml of a THF solution containing 65 mg of -one and 14 mg of 60% sodium hydride was stirred at room temperature for 5 minutes. Next, 18 μl of chloromethyl methyl ether was added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. A saturated aqueous ammonium chloride solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture, and the mixture was separated. The obtained organic layer was washed with saturated saline and dried over sodium sulfate. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 72 mg of a white solid.

[合成例6]
5−(2−クロロ−3,5−ジメトキシフェニル)−1−メチル−6−(2,6−ジフルオロ−4−(メトキシエトキシ)フェニル)ピリジン−2(1H)−オンの合成(化合物番号6)

Figure 2018190349
[Synthesis Example 6]
Synthesis of 5- (2-chloro-3,5-dimethoxyphenyl) -1-methyl-6- (2,6-difluoro-4- (methoxyethoxy) phenyl) pyridin-2 (1H) -one (Compound No. 6) )
Figure 2018190349

参考例2(ステップ8)で得られた5−(2−クロロ−3,5−ジメトキシフェニル)−1−メチル−6−(2,4,6−トリフルオロフェニル)ピリジン−2(1H)−オン 80mg、2−メトキシエタノール 46μと60%水素化ナトリウム 23mgを含むTHF溶液2mlを室温で4時間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が75mgのアモルファス固体として得られた。   5- (2-chloro-3,5-dimethoxyphenyl) -1-methyl-6- (2,4,6-trifluorophenyl) pyridine-2 (1H)-obtained in Reference Example 2 (Step 8). 2 ml of a THF solution containing 80 mg of ON, 46 μ of 2-methoxyethanol and 23 mg of 60% sodium hydride was stirred at room temperature for 4 hours. A saturated aqueous ammonium chloride solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture, and the mixture was separated. The obtained organic layer was washed with saturated saline and dried over sodium sulfate. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 75 mg of an amorphous solid.

[合成例7]
5−(2−クロロ−5−フルオロ−3−(メチルチオ)フェニル)−6−(2,6−ジフルオロ−4−(メチルチオ)フェニル)−1−エチルピリジン−2(1H)−オンの合成(化合物番号15)

Figure 2018190349
[Synthesis Example 7]
Synthesis of 5- (2-chloro-5-fluoro-3- (methylthio) phenyl) -6- (2,6-difluoro-4- (methylthio) phenyl) -1-ethylpyridin-2 (1H) -one ( Compound No. 15)
Figure 2018190349

参考例2を参照して合成した5−(2−クロロ−3,5−ジフルオロフェニル)−1−エチル−6−(2,4,6−トリフルオロフェニル)ピリジン−2(1H)−オン 166mgとナトリウムメタンチオラート44mgを含むDMF溶液を60℃で撹拌した。
室温まで冷却した後に、反応混合物に水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が87mgの白色固体として得られた。
166 mg of 5- (2-chloro-3,5-difluorophenyl) -1-ethyl-6- (2,4,6-trifluorophenyl) pyridin-2 (1H) -one synthesized with reference to Reference Example 2. And a DMF solution containing 44 mg of sodium methanethiolate was stirred at 60 ° C.
After cooling to room temperature, water and ethyl acetate were added to the reaction mixture for liquid separation. The obtained organic layer was washed with saturated saline and dried over sodium sulfate. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 87 mg of a white solid.

[合成例8]
ステップ1:5−(2−クロロ−3,5−ジメトキシフェニル)−6−(2,6−ジフルオロ−4−((トリメチルシリル)エチニル)フェニル)−1−エチルピリジン−2(1H)−オンの合成

Figure 2018190349
[Synthesis Example 8]
Step 1: 5- (2-chloro-3,5-dimethoxyphenyl) -6- (2,6-difluoro-4-((trimethylsilyl) ethynyl) phenyl) -1-ethylpyridin-2 (1H) -one Synthesis
Figure 2018190349

参考例2を参照して合成した6−(4−ブロモ−2,6−ジフルオロフェニル)−5−(2−クロロ−3,5−ジメトキシフェニル)−1−エチルピリジン−2(1H)−オン 90mg、トリエチルアミン 78μl、トリメチルシリルアセチレン 77μl、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム 43mgとヨウ化銅 7mgを含むTHF溶液を70℃で5時間撹拌した。さらにトリメチルシリルアセチレン 1mlとテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム 129mgを加えて70℃で3時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が91mgの黄色油状物質として得られた。   6- (4-bromo-2,6-difluorophenyl) -5- (2-chloro-3,5-dimethoxyphenyl) -1-ethylpyridin-2 (1H) -one synthesized with reference to Reference Example 2. A THF solution containing 90 mg, 78 μl of triethylamine, 77 μl of trimethylsilylacetylene, 43 mg of tetrakis (triphenylphosphine) palladium and 7 mg of copper iodide was stirred at 70 ° C. for 5 hours. Further, 1 ml of trimethylsilylacetylene and 129 mg of tetrakis (triphenylphosphine) palladium were added, and the mixture was stirred at 70 ° C. for 3 hours. After cooling to room temperature, a saturated aqueous ammonium chloride solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture, and the mixture was separated. The obtained organic layer was washed with saturated saline and dried over sodium sulfate. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 91 mg of a yellow oil.

H−NMR (CDCl) δ: 7.30 (1H, d, J = 9.5 Hz), 6.98 (1H, d, J = 9.5 Hz), 6.93−6.92 (1H, m), 6.72−6.71 (1H, m), 6.35 (1H, d, J = 2.7 Hz), 6.23 (1H, dd, J = 2.7, 1.8 Hz), 3.90−3.82 (5H, m), 3.66 (3H, s), 1.13 (3H, t, J = 7.2 Hz), 0.24 (9H, s). 1 H-NMR (CDCl 3) δ: 7.30 (1H, d, J = 9.5 Hz), 6.98 (1H, d, J = 9.5 Hz), 6.93-6.92 ( 1H, m), 6.72-6.71 (1H, m), 6.35 (1H, d, J = 2.7 Hz), 6.23 (1H, dd, J = 2.7, 1. 8 Hz), 3.90-3.82 (5H, m), 3.66 (3H, s), 1.13 (3H, t, J = 7.2 Hz), 0.24 (9H, s) .

ステップ2:5−(2−クロロ−3,5−ジメトキシフェニル)−1−エチル−6−(4−エチニル−2,6−ジフルオロフェニル)ピリジン−2(1H)−オン の合成(化合物番号11)

Figure 2018190349
Step 2: Synthesis of 5- (2-chloro-3,5-dimethoxyphenyl) -1-ethyl-6- (4-ethynyl-2,6-difluorophenyl) pyridin-2 (1H) -one (Compound No. 11) )
Figure 2018190349

5−(2−クロロ−3,5−ジメトキシフェニル)−6−(2,6−ジフルオロ−4−((トリメチルシリル)エチニル)フェニル)−1−エチルピリジン−2(1H)−オン 91mgと炭酸カリウム 75mgを含むメタノール溶液を室温で2時間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が77mgの白色固体として得られた。   91 mg of 5- (2-chloro-3,5-dimethoxyphenyl) -6- (2,6-difluoro-4-((trimethylsilyl) ethynyl) phenyl) -1-ethylpyridin-2 (1H) -one and potassium carbonate A methanol solution containing 75 mg was stirred at room temperature for 2 hours. A saturated aqueous ammonium chloride solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture, and the mixture was separated. The obtained organic layer was washed with saturated saline and dried over sodium sulfate. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 77 mg of a white solid.

[合成例9]
3−クロロ−5−(2−クロロフェニル)−6−(2,6−ジフルオロ−4−(1H−ピラゾール−1−イル)フェニル)−1−エチルピリジン−2(1H)−オン の合成(化合物番号19)

Figure 2018190349
[Synthesis Example 9]
Synthesis of 3-chloro-5- (2-chlorophenyl) -6- (2,6-difluoro-4- (1H-pyrazol-1-yl) phenyl) -1-ethylpyridin-2 (1H) -one (Compound Number 19)
Figure 2018190349

参考例2及び合成例3を参照して合成した3−クロロ−5−(2−クロロフェニル)−1−エチル−6−(2,4,6−トリフルオロフェニル)ピリジン−2(1H)−オン 150mg、ピラゾール 77mgと炭酸カリウム 156mgを含むDMSO溶液を100℃で2時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去を行い、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が113mgの白色固体として得られた。   3-chloro-5- (2-chlorophenyl) -1-ethyl-6- (2,4,6-trifluorophenyl) pyridin-2 (1H) -one synthesized with reference to Reference Example 2 and Synthesis Example 3. A DMSO solution containing 150 mg, 77 mg of pyrazole and 156 mg of potassium carbonate was stirred at 100 ° C. for 2 hours. After cooling to room temperature, water and ethyl acetate were added to the reaction mixture for liquid separation. The obtained organic layer was washed with saturated saline and dried over sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 113 mg of a white solid.

[合成例10]
3−クロロ−5−(2−クロロフェニル)−6−(2,6−ジフルオロ−4−(1H−1,2,4−トリアゾール−1−イル)フェニル)−1−エチルピリジン−2(1H)−オンの合成(化合物番号20)

Figure 2018190349
[Synthesis Example 10]
3-chloro-5- (2-chlorophenyl) -6- (2,6-difluoro-4- (1H-1,2,4-triazol-1-yl) phenyl) -1-ethylpyridine-2 (1H) Synthesis of -one (Compound No. 20)
Figure 2018190349

参考例2及び合成例3を参照して合成した3−クロロ−5−(2−クロロフェニル)−1−エチル−6−(2,4,6−トリフルオロフェニル)ピリジン−2(1H)−オン 150mg、1,2,4−トリアゾール 39mgと炭酸カリウム 78mgを含むDMSO溶液 3mlを100℃で1時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去を行い、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が92mgの白色固体として得られた。   3-chloro-5- (2-chlorophenyl) -1-ethyl-6- (2,4,6-trifluorophenyl) pyridin-2 (1H) -one synthesized with reference to Reference Example 2 and Synthesis Example 3. 3 ml of a DMSO solution containing 150 mg, 39 mg of 1,2,4-triazole and 78 mg of potassium carbonate was stirred at 100 ° C. for 1 hour. After cooling to room temperature, water and ethyl acetate were added to the reaction mixture for liquid separation. The obtained organic layer was washed with saturated saline and dried over sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 92 mg of a white solid.

[合成例11]
3−クロロ−5−(2−クロロフェニル)−6−(2,6−ジフルオロ−4−((プロパン−2−イリデンアミノ)オキシ)フェニル)−1−エチルピリジン−2(1H)−オンの合成(化合物番号30)

Figure 2018190349
[Synthesis Example 11]
Synthesis of 3-chloro-5- (2-chlorophenyl) -6- (2,6-difluoro-4-((propane-2-ylideneamino) oxy) phenyl) -1-ethylpyridin-2 (1H) -one ( Compound No. 30)
Figure 2018190349

参考例2及び合成例3を参照して合成した3−クロロ−5−(2−クロロフェニル)−1−エチル−6−(2,4,6−トリフルオロフェニル)ピリジン−2(1H)−オン 100mg、アセトキシム 55mgと60%水素化ナトリウム 30mgを含むTHF溶液 7mlを70℃で3時間撹拌した。さらにDMF 2mlを加えて70℃で30分間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を水と飽和食塩水で順次洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去を行い、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が107mgの白色固体として得られた。   3-chloro-5- (2-chlorophenyl) -1-ethyl-6- (2,4,6-trifluorophenyl) pyridin-2 (1H) -one synthesized with reference to Reference Example 2 and Synthesis Example 3. 7 ml of a THF solution containing 100 mg, 55 mg of acetoxime and 30 mg of 60% sodium hydride was stirred at 70 ° C. for 3 hours. Further, 2 ml of DMF was added, followed by stirring at 70 ° C. for 30 minutes. After cooling to room temperature, a saturated aqueous ammonium chloride solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture, and the mixture was separated. The obtained organic layer was sequentially washed with water and saturated saline, and dried over sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 107 mg of a white solid.

[合成例12]
5−(2−クロロフェニル)−6−(2,6−ジフルオロ−4−(2−メトキシエトキシ)フェニル)−1−エチルピリジン−2(1H)−チオンの合成(化合物番号33)

Figure 2018190349
[Synthesis Example 12]
Synthesis of 5- (2-chlorophenyl) -6- (2,6-difluoro-4- (2-methoxyethoxy) phenyl) -1-ethylpyridine-2 (1H) -thione (Compound No. 33)
Figure 2018190349

参考例3(ステップ2)で合成した5−(2−クロロフェニル)−1−エチル−6−(2,4,6−トリフルオロフェニル)ピリジン−2(1H)−チオン 100mg、2−メトキシエタノール 60mgと60%水素化ナトリウム 32mgを含むDMF溶液 5mlを室温で20分間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を水と飽和食塩水で順次洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去を行い、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が97mgの黄色固体として得られた。   100 mg of 5- (2-chlorophenyl) -1-ethyl-6- (2,4,6-trifluorophenyl) pyridine-2 (1H) -thione synthesized in Reference Example 3 (Step 2), 60 mg of 2-methoxyethanol And 5 ml of a DMF solution containing 32 mg of 60% sodium hydride were stirred at room temperature for 20 minutes. A saturated aqueous ammonium chloride solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture, and the mixture was separated. The obtained organic layer was sequentially washed with water and saturated saline, and dried over sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 97 mg of a yellow solid.

[合成例13]
3−クロロ−5−(2−クロロフェニル)−6−(4−(シクロプロピルメトキシ)−2,6−ジフルオロフェニル)−1−エチルピリジン−2(1H)−オンの合成(化合物番号21)

Figure 2018190349
[Synthesis Example 13]
Synthesis of 3-chloro-5- (2-chlorophenyl) -6- (4- (cyclopropylmethoxy) -2,6-difluorophenyl) -1-ethylpyridin-2 (1H) -one (Compound No. 21)
Figure 2018190349

参考例2及び合成例3を参照して合成した、3−クロロ−5−(2−クロロフェニル)−1−エチル−6−(2,4,6−トリフルオロフェニル)ピリジン−2(1H)−オン 100mg、シクロプロピルメタノール 54mgと60%水素化ナトリウム 45mgを含むTHF溶液 7mlを60℃で4時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を水と飽和食塩水で順次洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去を行い、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が70mgの白色固体として得られた。   3-chloro-5- (2-chlorophenyl) -1-ethyl-6- (2,4,6-trifluorophenyl) pyridine-2 (1H)-synthesized with reference to Reference Example 2 and Synthesis Example 3. 7 ml of a THF solution containing 100 mg of ON, 54 mg of cyclopropylmethanol and 45 mg of 60% sodium hydride was stirred at 60 ° C. for 4 hours. After cooling to room temperature, a saturated aqueous ammonium chloride solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture, and the mixture was separated. The obtained organic layer was sequentially washed with water and saturated saline, and dried over sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 70 mg of a white solid.

[合成例14]
6−(4−(ベンジルオキシ)−2,6−ジフルオロフェニル)−3−クロロ−5−(2−クロロフェニル−1−エチルピリジン−2(1H)−オンの合成(化合物番号31)

Figure 2018190349
[Synthesis Example 14]
Synthesis of 6- (4- (benzyloxy) -2,6-difluorophenyl) -3-chloro-5- (2-chlorophenyl-1-ethylpyridin-2 (1H) -one (Compound No. 31)
Figure 2018190349

参考例2及び合成例3を参照して合成した、3−クロロ−5−(2−クロロフェニル)−1−エチル−6−(2,4,6−トリフルオロフェニル)ピリジン−2(1H)−オン 100mg、ベンジルアルコール 82mgと60%水素化ナトリウム 30mgを含むTHF溶液 7mlを室温下で9時間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を水と飽和食塩水で順次洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去を行い、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。この固体を酢酸エチルとジイソプロピルエーテルの混合溶媒にて洗浄し、表題の化合物が36mgの白色固体として得られた。   3-chloro-5- (2-chlorophenyl) -1-ethyl-6- (2,4,6-trifluorophenyl) pyridine-2 (1H)-synthesized with reference to Reference Example 2 and Synthesis Example 3. 7 ml of a THF solution containing 100 mg of ON, 82 mg of benzyl alcohol and 30 mg of 60% sodium hydride was stirred at room temperature for 9 hours. A saturated aqueous ammonium chloride solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture, and the mixture was separated. The obtained organic layer was sequentially washed with water and saturated saline, and dried over sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. This solid was washed with a mixed solvent of ethyl acetate and diisopropyl ether to give the title compound as a white solid (36 mg).

[合成例15]
3−クロロ−5−(2−クロロフェニル)−6−(2,6−ジフルオロ−4−(4−メトキシフェノキシ)フェニル)−1−エチルピリジン−2(1H)−オンの合成(化合物番号32)

Figure 2018190349
[Synthesis Example 15]
Synthesis of 3-chloro-5- (2-chlorophenyl) -6- (2,6-difluoro-4- (4-methoxyphenoxy) phenyl) -1-ethylpyridin-2 (1H) -one (Compound No. 32)
Figure 2018190349

参考例2及び合成例3を参照して合成した3−クロロ−5−(2−クロロフェニル)−1−エチル−6−(2,4,6−トリフルオロフェニル)ピリジン−2(1H)−オン 100mg、4−メトキシフェノール 94mgと60%水素化ナトリウム 30mgを含むTHF溶液 7mlを室温下で2時間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を水と飽和食塩水で順次洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去を行い、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が74mgの透明油状物質として得られた。   3-chloro-5- (2-chlorophenyl) -1-ethyl-6- (2,4,6-trifluorophenyl) pyridin-2 (1H) -one synthesized with reference to Reference Example 2 and Synthesis Example 3. 7 ml of a THF solution containing 100 mg, 94 mg of 4-methoxyphenol and 30 mg of 60% sodium hydride was stirred at room temperature for 2 hours. A saturated aqueous ammonium chloride solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture, and the mixture was separated. The obtained organic layer was sequentially washed with water and saturated saline, and dried over sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 74 mg of a clear oil.

[合成例16]
4−(5−クロロ−3−(2−クロロフェニル)−1−エチル−6−オキソ−1,6−ジヒドロピリジン−2−イル)−3,5−ジフルオロフェニルアセテートの合成(化合物番号25)

Figure 2018190349
[Synthesis Example 16]
Synthesis of 4- (5-chloro-3- (2-chlorophenyl) -1-ethyl-6-oxo-1,6-dihydropyridin-2-yl) -3,5-difluorophenyl acetate (Compound No. 25)
Figure 2018190349

参考例2及び合成例3を参照して合成した、3−クロロ−5−(2−クロロフェニル)−6−(2,6−ジフルオロ−4−ヒドロキシフェニル)−1−エチルピリジン−2(1H)−オン 119mg、無水酢酸 154mgとピリジン 48mgを含むジクロロメタン溶液 2mlを室温下で1時間撹拌した。反応混合物に塩酸とジクロロメタンを加えて分液した。得られた有機層を水と飽和食塩水で順次洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去を行い、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が116mgの白色固体として得られた。   3-chloro-5- (2-chlorophenyl) -6- (2,6-difluoro-4-hydroxyphenyl) -1-ethylpyridine-2 (1H) synthesized with reference to Reference Example 2 and Synthesis Example 3. 2 ml of a dichloromethane solution containing 119 mg of -one, 154 mg of acetic anhydride and 48 mg of pyridine was stirred at room temperature for 1 hour. Hydrochloric acid and dichloromethane were added to the reaction mixture for liquid separation. The obtained organic layer was sequentially washed with water and saturated saline, and dried over sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 116 mg of a white solid.

[合成例17]
5−(2−クロロフェニル)−6−(2,6−ジフルオロ−4−(2−メトキシエトキシ)フェニル)−1−エチル−3−メチルピリジン−2(1H)−オンの合成(化合物番号26)

Figure 2018190349
[Synthesis Example 17]
Synthesis of 5- (2-chlorophenyl) -6- (2,6-difluoro-4- (2-methoxyethoxy) phenyl) -1-ethyl-3-methylpyridin-2 (1H) -one (Compound No. 26)
Figure 2018190349

参考例4で合成した5−(2−クロロフェニル)−1−エチル−3−メチル−6−(2,4,6−トリフルオロフェニル)ピリジン−2(1H)−オン 100mg、メトキシエタノール 60mgと60%水素化ナトリウム 32mgを含むジクロロメタン溶液 7mlを室温下で4時間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を水と飽和食塩水で順次洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去を行い、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が78mgの透明油状物質として得られた。   100 mg of 5- (2-chlorophenyl) -1-ethyl-3-methyl-6- (2,4,6-trifluorophenyl) pyridin-2 (1H) -one synthesized in Reference Example 4, 60 mg of methoxyethanol and 60 mg of methoxyethanol 7 ml of a dichloromethane solution containing 32 mg of sodium hydride was stirred at room temperature for 4 hours. A saturated aqueous ammonium chloride solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture, and the mixture was separated. The obtained organic layer was sequentially washed with water and saturated saline, and dried over sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 78 mg of a clear oil.

[合成例18]
5−(2−クロロフェニル)−6−(2,6−ジフルオロ−4−(プロピン−2−イル−1−オキシ)フェニル)−1−エチルピリジン−2(1H)−チオンの合成(化合物番号37)

Figure 2018190349
[Synthesis Example 18]
Synthesis of 5- (2-chlorophenyl) -6- (2,6-difluoro-4- (propyn-2-yl-1-oxy) phenyl) -1-ethylpyridine-2 (1H) -thione (Compound No. 37) )
Figure 2018190349

プロパルギルアルコール 44mgを含むTHF溶液 5mlに60%水素化ナトリウム 32mgを加えて、室温下で10分間撹拌した。次いで、反応混合物に3−クロロ−5−(2−クロロフェニル)−1−エチル−6−(2,4,6−トリフルオロフェニル)ピリジン−2(1H)−オン 100mgを含むTHF溶液5mlを加えて室温下で3時間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を水と飽和食塩水で順次洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去を行い、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が97mgの橙色油状物質として得られた。   To 5 ml of a THF solution containing 44 mg of propargyl alcohol was added 32 mg of 60% sodium hydride, and the mixture was stirred at room temperature for 10 minutes. Next, 5 ml of a THF solution containing 100 mg of 3-chloro-5- (2-chlorophenyl) -1-ethyl-6- (2,4,6-trifluorophenyl) pyridin-2 (1H) -one was added to the reaction mixture. And stirred at room temperature for 3 hours. A saturated aqueous ammonium chloride solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture, and the mixture was separated. The obtained organic layer was sequentially washed with water and saturated saline, and dried over sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 97 mg of an orange oil.

[合成例19]
3−クロロ−5−(2−クロロフェニル)−6−(2,6−ジフルオロ−4−(メチルアミノ)フェニル)−1−エチルピリジン−2(1H)−オンの合成(化合物番号38)

Figure 2018190349
[Synthesis Example 19]
Synthesis of 3-chloro-5- (2-chlorophenyl) -6- (2,6-difluoro-4- (methylamino) phenyl) -1-ethylpyridin-2 (1H) -one (Compound No. 38)
Figure 2018190349

参考例2及び合成例3を参照して合成した3−クロロ−5−(2−クロロフェニル)−1−エチル−6−(2,4,6−トリフルオロフェニル)ピリジン−2(1H)−オン 200mg、40%メチルアミン水溶液 2mlを含むDMF溶液 2mlを室温下で24時間撹拌した。反応混合物に水を加えて析出した固体をろ過した。得られた固体を酢酸エチルで溶解し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が122mgの白色固体として得られた。   3-chloro-5- (2-chlorophenyl) -1-ethyl-6- (2,4,6-trifluorophenyl) pyridin-2 (1H) -one synthesized with reference to Reference Example 2 and Synthesis Example 3. 2 ml of a DMF solution containing 200 mg and 2 ml of 40% aqueous methylamine solution was stirred at room temperature for 24 hours. Water was added to the reaction mixture, and the precipitated solid was filtered. The obtained solid was dissolved in ethyl acetate and purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 122 mg of a white solid.

[合成例20]
3−クロロ−5−(2−クロロフェニル)−6−(4−(ジメチルアミノ)−2,6−ジフルオロフェニル)−1−エチルピリジン−2(1H)−オンの合成(化合物番号39)

Figure 2018190349
[Synthesis Example 20]
Synthesis of 3-chloro-5- (2-chlorophenyl) -6- (4- (dimethylamino) -2,6-difluorophenyl) -1-ethylpyridin-2 (1H) -one (Compound No. 39)
Figure 2018190349

3−クロロ−5−(2−クロロフェニル)−6−(2,6−ジフルオロ−4−(メチルアミノ)フェニル)−1−エチルピリジン−2(1H)−オン 70mg、ヨウ化メチル 22μlと60%水素化ナトリウム 14mgを含むTHF溶液 2mlを室温下で3時間撹拌した。反応混合物に水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を水と飽和食塩水で順次洗浄して、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去を行い、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が64mgの白色固体として得られた。   70 mg of 3-chloro-5- (2-chlorophenyl) -6- (2,6-difluoro-4- (methylamino) phenyl) -1-ethylpyridin-2 (1H) -one, 22 μl of methyl iodide and 60% 2 ml of a THF solution containing 14 mg of sodium hydride was stirred at room temperature for 3 hours. Water and ethyl acetate were added to the reaction mixture, and the mixture was separated. The obtained organic layer was sequentially washed with water and saturated saline, and dried over magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 64 mg of a white solid.

〈参考例1〉
ステップ1:4−(2−クロロフェニル)−5−オキソ−5−(4−シアノ−2,6−ジフルオロフェニル)ペンタン酸エチルの合成

Figure 2018190349
<Reference Example 1>
Step 1: Synthesis of ethyl 4- (2-chlorophenyl) -5-oxo-5- (4-cyano-2,6-difluorophenyl) pentanoate
Figure 2018190349

4−(2−(2−クロロフェニル)アセチル)−3,5−ジフルオロベンゾニトリル 786mgを含むTHF溶液 5mlに、カリウム t−ブトキシド 29mgとアクリル酸エチル 311μlを加えて、50℃で3時間撹拌した。さらにカリウム t−ブトキシド 58mgを加えて、50℃で4時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した後に、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去を行い、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が394mgの無色油状物質として得られた。   To 5 ml of a THF solution containing 786 mg of 4- (2- (2-chlorophenyl) acetyl) -3,5-difluorobenzonitrile, 29 mg of potassium t-butoxide and 311 μl of ethyl acrylate were added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 3 hours. Further, 58 mg of potassium t-butoxide was added, and the mixture was stirred at 50 ° C for 4 hours. After cooling to room temperature, a saturated aqueous ammonium chloride solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture, and the mixture was separated. The obtained organic layer was washed with saturated saline and dried over sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 394 mg of a colorless oil.

H−NMR (CDCl) δ: 7.33−7.31 (1H, m), 7.28−7.18 (3H, m), 7.16−7.15 (1H, m), 7.13−7.13 (1H, m), 4.91 (1H, t, J = 7.3 Hz), 4.12 (2H, q, J = 7.1 Hz), 2.61−2.56 (1H, m), 2.35−2.30 (2H, m), 2.17−2.14 (1H, m), 1.25 (3H, t, J = 7.1 Hz). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 7.33-7.31 (1H, m), 7.28-7.18 (3H, m), 7.16-7.15 (1H, m), 7 .13-7.13 (1H, m), 4.91 (1H, t, J = 7.3 Hz), 4.12 (2H, q, J = 7.1 Hz), 2.61-2. 56 (1H, m), 2.35-2.30 (2H, m), 2.17-2.14 (1H, m), 1.25 (3H, t, J = 7.1 Hz).

ステップ2:4−(2−クロロフェニル)−5−オキソ−5−(4−シアノ−2,6−ジフルオロフェニル)ペンタン酸の合成

Figure 2018190349
Step 2: Synthesis of 4- (2-chlorophenyl) -5-oxo-5- (4-cyano-2,6-difluorophenyl) pentanoic acid
Figure 2018190349

4−(2−クロロフェニル)−5−オキソ−5−(4−シアノ−2,6−ジフルオロフェニル)ペンタン酸エチル 394mgを含むエタノール溶液 3mlに、10%水酸化ナトリウム水溶液 0.78mlを加えて、室温で2時間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した後に、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去を行い、表題の化合物が361mgの無色透明ガム状物質として得られた。これ以上精製することなく、次の反応に使用した。   0.78 ml of a 10% aqueous sodium hydroxide solution was added to 3 ml of an ethanol solution containing 394 mg of ethyl 4- (2-chlorophenyl) -5-oxo-5- (4-cyano-2,6-difluorophenyl) pentanoate, Stirred at room temperature for 2 hours. A saturated aqueous ammonium chloride solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture, and the mixture was separated. The obtained organic layer was washed with saturated saline and dried over sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 361 mg of the title compound as a colorless transparent gum. Used for the next reaction without further purification.

H−NMR (CDCl) δ: 7.40−7.09 (6H, m), 4.89−4.87 (1H, m), 4.25−4.22 (1H, m), 2.57−2.54 (1H, m), 2.36−2.32 (2H, m), 2.16−2.05 (1H, m). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 7.40-7.09 (6H, m), 4.89-4.87 (1H, m), 4.25-4.22 (1H, m), 2 .57-2.54 (1H, m), 2.36-2.32 (2H, m), 2.16-2.05 (1H, m).

〈参考例2〉
ステップ1:N’−(3,5−ジメトキシベンジリデン)−4−メチルベンゼンスルホニルヒドラジドの合成

Figure 2018190349
<Reference Example 2>
Step 1: Synthesis of N ′-(3,5-dimethoxybenzylidene) -4-methylbenzenesulfonylhydrazide
Figure 2018190349

3,5−ジメトキシベンズアルデヒド 10.0gと4−メチルベンゼンスルホニルヒドラジド 11.2gを含むエタノール溶液 100mlを室温で5時間撹拌した。得られた反応混合物を減圧下で溶媒留去した後に、表題の化合物が20.0gの黄色固体として得られた。   A 100 ml ethanol solution containing 10.0 g of 3,5-dimethoxybenzaldehyde and 11.2 g of 4-methylbenzenesulfonylhydrazide was stirred at room temperature for 5 hours. After evaporating the obtained reaction mixture under reduced pressure, the title compound was obtained as 20.0 g of a yellow solid.

H−NMR (CDCl) δ: 8.13 (1H, s), 7.87 (2H, d, J = 7.8 Hz), 7.68 (1H, s), 7.30 (2H, d, J = 7.8 Hz), 6.72 (2H, d, J = 2.4 Hz), 6.46 (1H, t, J = 2.4 Hz), 3.79 (6H, s), 2.40 (3H, s). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.13 (1H, s), 7.87 (2H, d, J = 7.8 Hz), 7.68 (1H, s), 7.30 (2H, s) d, J = 7.8 Hz), 6.72 (2H, d, J = 2.4 Hz), 6.46 (1H, t, J = 2.4 Hz), 3.79 (6H, s) , 2.40 (3H, s).

ステップ2:2−(3,5−ジメトキシフェニル)−1−(2,4,6−トリフルオロフェニル)エタノンの合成

Figure 2018190349
Step 2: Synthesis of 2- (3,5-dimethoxyphenyl) -1- (2,4,6-trifluorophenyl) ethanone
Figure 2018190349

N’−(3,5−ジメトキシベンジリデン)−4−メチルベンゼンスルホニルヒドラジド 6.68gを含む水溶液 100mlに、水酸化ナトリウム 0.80gを溶解した水溶液 20mlと 2,4,6−トリフルオロベンズアルデヒド 1.60gを加えて、80℃で90分間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去を行い、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が1.85gの黄色油状物質として得られた。   20 ml of an aqueous solution in which 0.80 g of sodium hydroxide was dissolved in 100 ml of an aqueous solution containing 6.68 g of N '-(3,5-dimethoxybenzylidene) -4-methylbenzenesulfonyl hydrazide and 2,4,6-trifluorobenzaldehyde 60 g was added and the mixture was stirred at 80 ° C. for 90 minutes. After cooling to room temperature, ethyl acetate was added to the reaction mixture for liquid separation. The obtained organic layer was washed successively with a saturated aqueous solution of ammonium chloride and a saturated saline solution, and dried over sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 1.85 g of a yellow oil.

H−NMR (CDCl) δ: 6.68−6.66 (2H, m), 6.35 (3H, s),4.06 (2H,s), 3.75 (6H, s). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 6.68-6.66 (2H, m), 6.35 (3H, s), 4.06 (2H, s), 3.75 (6H, s).

ステップ3:4−(3,5−ジメトキシフェニル)−5−オキソ−5−(2,4,6−トリフルオロフェニル)ペンタン酸エチルの合成

Figure 2018190349
Step 3: Synthesis of ethyl 4- (3,5-dimethoxyphenyl) -5-oxo-5- (2,4,6-trifluorophenyl) pentanoate
Figure 2018190349

2−(3,5−ジメトキシフェニル)−1−(2,4,6−トリフルオロフェニル)エタノン 1.85gを含むTHF溶液 18mlに、カリウム t−ブトキシド 67mgとアクリル酸エチル 714μlを加えて、氷冷下で終夜撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した後に、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去を行い、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が1.51gの褐色油状物質として得られた。   To 18 ml of a THF solution containing 1.85 g of 2- (3,5-dimethoxyphenyl) -1- (2,4,6-trifluorophenyl) ethanone was added 67 mg of potassium t-butoxide and 714 μl of ethyl acrylate, and the mixture was added to ice. The mixture was stirred overnight under cooling. A saturated aqueous ammonium chloride solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture, and the mixture was separated. The obtained organic layer was washed with saturated saline and dried over sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 1.51 g of a brown oil.

H−NMR (CDCl) δ: 6.61−6.57 (2H, m), 6.31−6.29 (3H, m), 4.19 (1H, t, J = 7.3 Hz), 4.13 (2H, q, J = 7.1 Hz), 3.73 (6H, s), 2.49−2.47 (1H, m), 2.30 (2H, t, J = 7.5 Hz), 2.09−2.07 (1H, m), 1.25 (3H, t, J = 7.1 Hz) 1 H-NMR (CDCl 3) δ: 6.61-6.57 (2H, m), 6.31-6.29 (3H, m), 4.19 (1H, t, J = 7.3 Hz ), 4.13 (2H, q, J = 7.1 Hz), 3.73 (6H, s), 2.49-2.47 (1H, m), 2.30 (2H, t, J = 7.5 Hz), 2.09-2.07 (1H, m), 1.25 (3H, t, J = 7.1 Hz)

ステップ4:4−(3,5−ジメトキシフェニル)−5−オキソ−5−(2,4,6−トリフルオロフェニル)ペンタン酸の合成

Figure 2018190349
Step 4: Synthesis of 4- (3,5-dimethoxyphenyl) -5-oxo-5- (2,4,6-trifluorophenyl) pentanoic acid
Figure 2018190349

4−(3,5−ジメトキシフェニル)−5−オキソ−5−(2,4,6−トリフルオロフェニル)ペンタン酸エチル 1.51gと濃塩酸3mlを含む酢酸溶液 15mlを60℃で3時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を水と飽和食塩水で順次洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去し、表題の化合物が得られた。これ以上精製することなく、次工程の反応に使用した。   15 ml of an acetic acid solution containing 1.51 g of ethyl 4- (3,5-dimethoxyphenyl) -5-oxo-5- (2,4,6-trifluorophenyl) pentanoate and 3 ml of concentrated hydrochloric acid was stirred at 60 ° C. for 3 hours. did. After cooling to room temperature, water and ethyl acetate were added to the reaction mixture for liquid separation. The obtained organic layer was sequentially washed with water and saturated saline, and dried over sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain the title compound. It was used for the next step reaction without further purification.

ステップ5:5−(3,5−ジメトキシフェニル)−6−(2,4,6−トリフルオロフェニル)−3,4−ジヒドロピリジン−2(1H)−オンの合成

Figure 2018190349
Step 5: Synthesis of 5- (3,5-dimethoxyphenyl) -6- (2,4,6-trifluorophenyl) -3,4-dihydropyridin-2 (1H) -one
Figure 2018190349

ステップ4で得られた未精製の4−(3,5−ジメトキシフェニル)−5−オキソ−5−(2,4,6−トリフルオロフェニル)ペンタン酸に、酢酸アンモニウム 14.18gと酢酸 15mlを加えて、120℃で10時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた固体にイソプロピルエーテルを加えて洗浄した。表題の化合物が0.99gの褐色固体として得られた。   14.18 g of ammonium acetate and 15 ml of acetic acid are added to the unpurified 4- (3,5-dimethoxyphenyl) -5-oxo-5- (2,4,6-trifluorophenyl) pentanoic acid obtained in Step 4. In addition, the mixture was stirred at 120 ° C. for 10 hours. After cooling to room temperature, water and ethyl acetate were added to the reaction mixture for liquid separation. The obtained organic layer was washed successively with a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate and a saturated saline solution, and dried over sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the obtained solid was washed with isopropyl ether. The title compound was obtained as 0.99 g of a brown solid.

H−NMR (CDCl) δ: 6.68 (1H, s), 6.62 (2H, td, J = 8.7, 1.4 Hz), 6.26 (1H, t, J = 2.1 Hz), 6.16 (2H, d, J = 2.1 Hz), 3.65 (6H, s), 2.87−2.86 (2H, m), 2.73−2.71 (2H, m). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 6.68 (1H, s), 6.62 (2H, td, J = 8.7, 1.4 Hz), 6.26 (1H, t, J = 2) .1 Hz), 6.16 (2H, d, J = 2.1 Hz), 3.65 (6H, s), 2.87-2.86 (2H, m), 2.73-2.71 (2H, m).

ステップ6:5−(3,5−ジメトキシフェニル)−1−メチル−6−(2,4,6−トリフルオロフェニル)−3,4−ジヒドロピリジン−2(1H)−オンの合成

Figure 2018190349
Step 6: Synthesis of 5- (3,5-dimethoxyphenyl) -1-methyl-6- (2,4,6-trifluorophenyl) -3,4-dihydropyridin-2 (1H) -one
Figure 2018190349

5−(3,5−ジメトキシフェニル)−6−(2,4,6−トリフルオロフェニル)−3,4−ジヒドロピリジン−2(1H)−オン 343mg、ヨウ化メチル 176μlと炭酸セシウム 1.85gを含むDMF溶液 6mlを室温で3時間撹拌した。反応混合物に水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を水、チオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が346mgの白色固体として得られた。   343 mg of 5- (3,5-dimethoxyphenyl) -6- (2,4,6-trifluorophenyl) -3,4-dihydropyridin-2 (1H) -one, 176 μl of methyl iodide and 1.85 g of cesium carbonate The DMF solution containing 6 ml was stirred at room temperature for 3 hours. Water and ethyl acetate were added to the reaction mixture, and the mixture was separated. The obtained organic layer was washed successively with water, an aqueous solution of sodium thiosulfate and saturated saline, and dried over sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 346 mg of a white solid.

H−NMR (CDCl) δ: 6.62−6.60 (2H, m), 6.23 (1H, t, J = 2.1 Hz), 6.13 (2H, d, J = 2.1 Hz), 3.65 (6H, s), 2.87 (3H, s), 2.76−2.74 (4H, m). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 6.62-6.60 (2H, m), 6.23 (1H, t, J = 2.1 Hz), 6.13 (2H, d, J = 2) .1 Hz), 3.65 (6H, s), 2.87 (3H, s), 2.76-2.74 (4H, m).

ステップ7:5−(3,5−ジメトキシフェニル)−1−メチル−6−(2,4,6−トリフルオロフェニル)ピリジン−2(1H)−オンの合成

Figure 2018190349
Step 7: Synthesis of 5- (3,5-dimethoxyphenyl) -1-methyl-6- (2,4,6-trifluorophenyl) pyridin-2 (1H) -one
Figure 2018190349

5−(3,5−ジメトキシフェニル)−1−メチル−6−(2,4,6−トリフルオロフェニル)−3,4−ジヒドロピリジン−2(1H)−オン 320mgと二酸化マンガン 4.42gを含むジクロロメタン溶液 12mlを、加熱還流下で5時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物をセライト濾過した。濾液を減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が263mgの白色固体として得られた。   Contains 320 mg of 5- (3,5-dimethoxyphenyl) -1-methyl-6- (2,4,6-trifluorophenyl) -3,4-dihydropyridin-2 (1H) -one and 4.42 g of manganese dioxide. 12 ml of a dichloromethane solution was stirred for 5 hours while heating under reflux. After cooling to room temperature, the reaction mixture was filtered through celite. After the solvent was distilled off from the filtrate under reduced pressure, the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 263 mg of a white solid.

H−NMR (CDCl) δ: 7.41 (1H, d, J = 9.5 Hz), 6.74 (1H, d, J = 9.5 Hz), 6.68−6.66 (2H, m), 6.30 (1H, t, J = 2.3 Hz), 6.19 (2H, d, J = 2.3 Hz), 3.68 (6H, s), 3.37 (3H, s). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 7.41 (1H, d, J = 9.5 Hz), 6.74 (1H, d, J = 9.5 Hz), 6.68-6.66 (1H, d, J = 9.5 Hz) 2H, m), 6.30 (1H, t, J = 2.3 Hz), 6.19 (2H, d, J = 2.3 Hz), 3.68 (6H, s), 3.37 ( 3H, s).

ステップ8:5−(2−クロロ−3,5−ジメトキシフェニル)−1−メチル−6−(2,4,6−トリフルオロフェニル)ピリジン−2(1H)−オンの合成

Figure 2018190349
Step 8: Synthesis of 5- (2-chloro-3,5-dimethoxyphenyl) -1-methyl-6- (2,4,6-trifluorophenyl) pyridin-2 (1H) -one
Figure 2018190349

5−(3,5−ジメトキシフェニル)−1−メチル−6−(2,4,6−トリフルオロフェニル)ピリジン−2(1H)−オン 163mgとN−クロロスクシンイミド 64mgを含むDMF溶液 6mlを、80℃で5時間撹拌した。さらにN−クロロスクシンイミド 45mgを追加して、100℃で4時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が150mgの白色固体として得られた。   6 ml of a DMF solution containing 163 mg of 5- (3,5-dimethoxyphenyl) -1-methyl-6- (2,4,6-trifluorophenyl) pyridin-2 (1H) -one and 64 mg of N-chlorosuccinimide was Stirred at 80 ° C. for 5 hours. Further, 45 mg of N-chlorosuccinimide was added, and the mixture was stirred at 100 ° C. for 4 hours. After cooling to room temperature, water and ethyl acetate were added to the reaction mixture for liquid separation. The obtained organic layer was sequentially washed with an aqueous solution of sodium thiosulfate and a saturated saline solution, and dried over sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 150 mg of a white solid.

H−NMR (CDCl) δ: 7.33 (1H, d, J = 9.5 Hz), 6.75 (1H, d, J = 9.5 Hz), 6.68−6.66 (1H, m), 6.63−6.62 (1H, m), 6.38 (1H, d, J = 2.8 Hz), 6.19 (1H, dd, J = 2.8, 1.8 Hz), 3.83 (3H, s), 3.67 (3H, s), 3.37 (3H, s). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 7.33 (1H, d, J = 9.5 Hz), 6.75 (1H, d, J = 9.5 Hz), 6.68-6.66 ( 1H, m), 6.63-6.62 (1H, m), 6.38 (1H, d, J = 2.8 Hz), 6.19 (1H, dd, J = 2.8, 1. 8 Hz), 3.83 (3H, s), 3.67 (3H, s), 3.37 (3H, s).

ステップ9:5−(2−クロロ−3,5−ジメトキシフェニル)−1−メチル−6−(4−t−ブトキシ−2,6−ジフルオロフェニル)ピリジン−2(1H)−オンの合成

Figure 2018190349
Step 9: Synthesis of 5- (2-chloro-3,5-dimethoxyphenyl) -1-methyl-6- (4-t-butoxy-2,6-difluorophenyl) pyridin-2 (1H) -one
Figure 2018190349

5−(2−クロロ−3,5−ジメトキシフェニル)−1−メチル−6−(2,4,6−トリフルオロフェニル)ピリジン−2(1H)−オン 700mgとt−ブトキシカリウム 383mgを含むTHF溶液 14mlを、室温で8時間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が694mgの白色固体として得られた。   THF containing 700 mg of 5- (2-chloro-3,5-dimethoxyphenyl) -1-methyl-6- (2,4,6-trifluorophenyl) pyridin-2 (1H) -one and 383 mg of potassium t-butoxy. 14 ml of the solution was stirred at room temperature for 8 hours. A saturated aqueous ammonium chloride solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture, and the mixture was separated. The obtained organic layer was washed with saturated saline and dried over sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 694 mg of a white solid.

H−NMR (CDCl) δ: 7.35 (1H, d, J = 9.5 Hz), 6.73 (1H, d, J = 9.5 Hz), 6.51 (1H, dt, J = 10.7, 1.8 Hz), 6.43 (1H, dt, J = 10.3, 1.8 Hz), 6.34 (1H, d, J = 2.8 Hz), 6.16 (1H, dd, J = 2.6, 1.4 Hz), 3.82 (3H, s), 3.63 (3H, s), 3.41 (3H, s), 1.35 (9H, s). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 7.35 (1H, d, J = 9.5 Hz), 6.73 (1H, d, J = 9.5 Hz), 6.51 (1H, dt, J = 10.7, 1.8 Hz), 6.43 (1H, dt, J = 10.3, 1.8 Hz), 6.34 (1H, d, J = 2.8 Hz), 6. 16 (1H, dd, J = 2.6, 1.4 Hz), 3.82 (3H, s), 3.63 (3H, s), 3.41 (3H, s), 1.35 (9H , S).

ステップ10:5−(2−クロロ−3,5−ジメトキシフェニル)−1−メチル−6−(2,6−ジフルオロ−4−ヒドロキシフェニル)ピリジン−2(1H)−オンの合成

Figure 2018190349
Step 10: Synthesis of 5- (2-chloro-3,5-dimethoxyphenyl) -1-methyl-6- (2,6-difluoro-4-hydroxyphenyl) pyridin-2 (1H) -one
Figure 2018190349

5−(2−クロロ−3,5−ジメトキシフェニル)−1−メチル−6−(4−t−ブトキシ−2,6−ジフルオロフェニル)ピリジン−2(1H)−オン 614mgとトリフルオロ酢酸 3mlを含むジクロロメタン溶液 30mlを室温で13時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた固体にイソプロピルエーテルとジクロロメタンを加えて洗浄した。表題の化合物が518mgの白色固体として得られた。   614 mg of 5- (2-chloro-3,5-dimethoxyphenyl) -1-methyl-6- (4-t-butoxy-2,6-difluorophenyl) pyridin-2 (1H) -one and 3 ml of trifluoroacetic acid 30 ml of the dichloromethane solution containing was stirred at room temperature for 13 hours. A saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate and ethyl acetate were added to the reaction mixture, and the mixture was separated. The obtained organic layer was washed with saturated saline and dried over sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the obtained solid was washed with isopropyl ether and dichloromethane. The title compound was obtained as 518 mg of a white solid.

H−NMR (DMSO−D) δ: 7.39 (1H, d, J = 9.5 Hz), 6.59 (1H, d, J = 9.5 Hz), 6.57 (1H, d, J = 2.8 Hz), 6.53−6.51 (1H, m), 6.40−6.39 (1H, m), 6.15 (1H, d, J = 2.8 Hz), 3.80 (3H, s), 3.63 (3H, s), 3.23 (3H, s). 1 H-NMR (DMSO-D 6 ) δ: 7.39 (1H, d, J = 9.5 Hz), 6.59 (1H, d, J = 9.5 Hz), 6.57 (1H, d, J = 2.8 Hz), 6.53-6.51 (1H, m), 6.40-6.39 (1H, m), 6.15 (1H, d, J = 2.8 Hz) ), 3.80 (3H, s), 3.63 (3H, s), 3.23 (3H, s).

〈参考例3〉
ステップ1:5−(2−クロロフェニル)−1−エチル−6−(2,4,6−トリフルオロフェニル)−3,4−ジヒドロピリジン−2(1H)−チオンの合成

Figure 2018190349
<Reference Example 3>
Step 1: Synthesis of 5- (2-chlorophenyl) -1-ethyl-6- (2,4,6-trifluorophenyl) -3,4-dihydropyridine-2 (1H) -thione
Figure 2018190349

参考例2を参照に合成した5−(2−クロロフェニル)−1−エチル−6−(2,4,6−トリフルオロフェニル)−3,4−ジヒドロピリジン−2(1H)−オン 1.0g、ローソン試薬 1.2gを含むトルエン溶液 20mlを加熱還流下で1.5時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物にメタノール、水、酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した後に、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去を行い、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が992mgの黄色固体として得られた。   1.0 g of 5- (2-chlorophenyl) -1-ethyl-6- (2,4,6-trifluorophenyl) -3,4-dihydropyridin-2 (1H) -one synthesized with reference to Reference Example 2, 20 ml of a toluene solution containing 1.2 g of Lawson's reagent was stirred under heating and refluxing for 1.5 hours. After cooling to room temperature, methanol, water and ethyl acetate were added to the reaction mixture, and the mixture was separated. The obtained organic layer was washed with saturated saline and dried over sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 992 mg of a yellow solid.

H−NMR (CDCl) δ: 7.29 (1H, dd, J = 7.9, 1.2 Hz), 7.12 (1H, ddd, J = 7.9, 7.5, 1.7 Hz), 7.05 (1H, ddd, J = 7.6, 7.5, 1.2 Hz), 6.99 (1H, dt, J = 7.6, 1.7 Hz), 6.60 (1H, tt, J = 8.8, 2.2 Hz), 6.53 (1H, tt, J = 8.8, 2.2 Hz), 4.18−4.11 (1H, m), 3.95−3.92 (1H, m), 3.43−3.35 (1H, m), 3.28−3.24 (1H, m), 2.72−2.68 (1H, m), 2.50−2.42 (1H, m), 1.11 (3H, t, J = 7.1 Hz). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 7.29 (1H, dd, J = 7.9, 1.2 Hz), 7.12 (1H, ddd, J = 7.9, 7.5, 1.5). 7.7 Hz), 7.05 (1H, ddd, J = 7.6, 7.5, 1.2 Hz), 6.99 (1H, dt, J = 7.6, 1.7 Hz), 6. 60 (1H, tt, J = 8.8, 2.2 Hz), 6.53 (1H, tt, J = 8.8, 2.2 Hz), 4.18-4.11 (1H, m) , 3.95-3.92 (1H, m), 3.43-3.35 (1H, m), 3.28-3.24 (1H, m), 2.72-2.68 (1H, m) m), 2.50-2.42 (1H, m), 1.11 (3H, t, J = 7.1 Hz).

ステップ2:5−(2−クロロフェニル)−1−エチル−6−(2,4,6−トリフルオロフェニル)ピリジン−2(1H)−チオンの合成

Figure 2018190349
Step 2: Synthesis of 5- (2-chlorophenyl) -1-ethyl-6- (2,4,6-trifluorophenyl) pyridine-2 (1H) -thione
Figure 2018190349

5−(2−クロロフェニル)−1−エチル−6−(2,4,6−トリフルオロフェニル)−3,4−ジヒドロピリジン−2(1H)−チオン 992mgを含む四塩化炭素溶液 30mlに、N−ブロモスクシンイミド 486mgとアゾビスイソブチロニトリル 43mgを加えて、80℃で5.5時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物にチオ硫酸ナトリウム水溶液、水およびジクロロメタンを加えて分液した。得られた有機層を水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が968mgの黄色油状物質として得られた。   To 30 ml of a carbon tetrachloride solution containing 992 mg of 5- (2-chlorophenyl) -1-ethyl-6- (2,4,6-trifluorophenyl) -3,4-dihydropyridine-2 (1H) -thione was added N- 486 mg of bromosuccinimide and 43 mg of azobisisobutyronitrile were added, and the mixture was stirred at 80 ° C for 5.5 hours. After cooling to room temperature, an aqueous solution of sodium thiosulfate, water and dichloromethane were added to the reaction mixture, and the mixture was separated. The obtained organic layer was sequentially washed with water and dried over sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 968 mg of a yellow oil.

H−NMR (CDCl) δ: 7.85 (1H, d, J = 8.8 Hz), 7.33 (1H, dd, J = 8.1, 1.2 Hz), 7.20−7.18 (1H, m), 7.13 (1H, d, J = 8.8 Hz), 7.10−7.08 (1H, m), 7.04−7.02 (1H, m), 6.69−6.59 (2H, m), 4.59−4.57 (2H, m), 1.28 (3H, t, J = 7.0 Hz). 1 H-NMR (CDCl 3) δ: 7.85 (1H, d, J = 8.8 Hz), 7.33 (1H, dd, J = 8.1, 1.2 Hz), 7.20- 7.18 (1H, m), 7.13 (1H, d, J = 8.8 Hz), 7.10-7.08 (1H, m), 7.04-7.02 (1H, m) , 6.69-6.59 (2H, m), 4.59-4.57 (2H, m), 1.28 (3H, t, J = 7.0 Hz).

〈参考例4〉
5−(2−クロロフェニル)−1−エチル−3−メチル−6−(2,4,6−トリフルオロフェニル)ピリジン−2(1H)−オンの合成

Figure 2018190349
<Reference Example 4>
Synthesis of 5- (2-chlorophenyl) -1-ethyl-3-methyl-6- (2,4,6-trifluorophenyl) pyridin-2 (1H) -one
Figure 2018190349

参考例2および合成例3を参照にして合成した3−ブロモ−5−(2−クロロフェニル)−1−エチル−6−(2,4,6−トリフルオロフェニル)ピリジン−2(1H)−オン 400mg、メチルボロン酸216mg、酢酸パラジウム(II)10mg、リン酸三カリウム 671mgとトリシクロヘキシルホスフィン 25mgを含むトルエン 20mlと水 2mlの混合溶液を、100℃で7時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した後に、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が327mgの黄色固体として得られた。   3-bromo-5- (2-chlorophenyl) -1-ethyl-6- (2,4,6-trifluorophenyl) pyridin-2 (1H) -one synthesized with reference to Reference Example 2 and Synthesis Example 3. A mixed solution of 400 mg, 216 mg of methylboronic acid, 10 mg of palladium (II) acetate, 671 mg of tripotassium phosphate, 25 mg of tricyclohexylphosphine, 20 ml of toluene and 2 ml of water was stirred at 100 ° C. for 7 hours. After cooling to room temperature, a saturated aqueous ammonium chloride solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture, and the mixture was separated. The obtained organic layer was washed with saturated saline and dried over sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 327 mg of a yellow solid.

H−NMR (CDCl) δ: 7.32−7.30 (1H, m), 7.21 (1H, q, J = 1.1 Hz), 7.15−7.13 (1H, m), 7.07−7.05 (2H, m), 6.63 (1H, tt, J = 8.6, 2.1 Hz), 6.58 (1H, tt, J = 8.6, 2.1 Hz), 3.92−3.90 (2H, m), 2.25 (3H, d, J = 1.1 Hz), 1.16 (3H, t, J = 7.2 Hz). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 7.32-7.30 (1H, m), 7.21 (1H, q, J = 1.1 Hz), 7.15-7.13 (1H, m) ), 7.07-7.05 (2H, m), 6.63 (1H, tt, J = 8.6, 2.1 Hz), 6.58 (1H, tt, J = 8.6, 2). 3.1 Hz), 3.92-3.90 (2H, m), 2.25 (3H, d, J = 1.1 Hz), 1.16 (3H, t, J = 7.2 Hz).

表4に、前記した実施例に準じて合成した化合物を示すが、これらに限定されるものではない。   Table 4 shows compounds synthesized according to the above Examples, but the present invention is not limited to these.

表4中、構造Aは以下を示す。

Figure 2018190349
In Table 4, structure A shows the following.
Figure 2018190349

表4中、構造Bは以下を示す。

Figure 2018190349
In Table 4, Structure B shows the following.
Figure 2018190349

表4中、構造Cは以下を示す。

Figure 2018190349
In Table 4, structure C shows the following.
Figure 2018190349

表4中、構造Dは以下を示す。

Figure 2018190349
In Table 4, Structure D shows the following.
Figure 2018190349

Figure 2018190349
Figure 2018190349

次に、表4に記載の化合物について、表5にそれらのH−NMRデータを示す。Next, about the compounds described in Table 4, Table 1 shows 1 H-NMR data thereof.

Figure 2018190349
Figure 2018190349

Figure 2018190349
Figure 2018190349

Figure 2018190349
Figure 2018190349

次に、本発明化合物が植物病害に有効であることを具体的に示すが、これらの例に限定されるものではない。   Next, it is specifically shown that the compound of the present invention is effective for plant diseases, but the present invention is not limited to these examples.

[試験例A] イネいもち病
供試植物(イネ品種:幸風)の種子を播種後、第2葉が展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド−メタノール混合溶液(容積比:9/1)に溶解し、250ppmの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した(2.5ml/ポット)。薬液が乾燥した後の植物に、1〜2×10個/mlのイネいもち病菌(Magnaporthe grisea)の分生胞子懸濁液を噴霧接種した。接種後、室温が20〜23℃の湿室に約24時間放置し、発病を促した。接種6〜10日後の発病程度を調査し、薬液の効果を評価した。
[Test Example A] Rice blast A seed of a test plant (rice cultivar: Kofu) was sown, and then cultivated until the second leaf developed. In the test, the compound of the present invention was dissolved in a dimethyl sulfoxide-methanol mixed solution (volume ratio: 9/1), and diluted with well water to a concentration of 250 ppm to obtain a drug solution. The obtained drug solution was sprayed on the test plant (2.5 ml / pot). After the chemical solution was dried, the plants were spray-inoculated with a conidia suspension of 1-2 × 10 5 cells / ml of rice blast fungus (Magnaporthe grisea). After the inoculation, the cells were allowed to stand in a wet room at room temperature of 20 to 23 ° C. for about 24 hours to promote the onset of the disease. The onset of disease 6 to 10 days after inoculation was investigated, and the effect of the drug solution was evaluated.

[試験例B] トマト灰色かび病
供試植物(トマト品種:大型福寿)の種子を播種後、本葉が3〜5枚展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド−メタノール混合溶液(容積比:9/1)に溶解し、250ppmの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した(2.5ml/ポット)。薬液が乾燥した後の植物に、4〜8×10個/mlの灰色かび病菌(Botrytis cinerea)の分生胞子懸濁液を噴霧接種した。接種後、室温が20〜23℃の湿室に約48時間放置し、発病を促した。接種2〜3日後の発病程度を調査し、薬液の効果を評価した。
[Test Example B] Tomato gray mold A seed of a test plant (tomato variety: large-scale fukuju) was sown, and then cultivated until 3 to 5 true leaves developed. In the test, the compound of the present invention was dissolved in a dimethyl sulfoxide-methanol mixed solution (volume ratio: 9/1), and diluted with well water to a concentration of 250 ppm to obtain a drug solution. The obtained drug solution was sprayed on the test plant (2.5 ml / pot). After the chemical solution was dried, the plants were spray-inoculated with a conidia suspension of Botrytis cinerea at 4 to 8 × 10 5 cells / ml. After the inoculation, the cells were left in a wet room at room temperature of 20 to 23 ° C. for about 48 hours to promote the onset of the disease. The onset of disease 2-3 days after inoculation was investigated, and the effect of the drug solution was evaluated.

[試験例C] キャベツ黒すす病
供試植物(キャベツ品種:四季穫)の種子を播種後、子葉が展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド−メタノール混合溶液(容積比:9/1)に溶解し、250ppmの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した(2.5ml/ポット)。薬液が乾燥した後の植物に、4〜8×10個/mlのキャベツ黒すす病菌(Alternaia brassicicola)の分生胞子懸濁液を噴霧接種した。接種後、室温が20〜23℃の湿室に約48時間放置し、発病を促した。接種2〜3日後の発病程度を調査し、薬液の効果を評価した。
[Test Example C] Cabbage black spot disease Seeds of a test plant (cabbage variety: four seasons harvest) were sown and then cultivated until cotyledons developed. In the test, the compound of the present invention was dissolved in a dimethyl sulfoxide-methanol mixed solution (volume ratio: 9/1), and diluted with well water to a concentration of 250 ppm to obtain a drug solution. The obtained drug solution was sprayed on the test plant (2.5 ml / pot). After the chemical solution was dried, the plants were spray-inoculated with a conidia suspension of 4-8 × 10 5 cells / ml of cabbage black spot rot (Alternia brassicicola). After the inoculation, the cells were left in a wet room at room temperature of 20 to 23 ° C. for about 48 hours to promote the onset of the disease. The onset of disease 2-3 days after inoculation was investigated, and the effect of the drug solution was evaluated.

[試験例D] オオムギうどんこ病
供試植物(オオムギ品種:赤神力)の種子を播種後、第1葉が展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド−メタノール混合溶液(容積比:9/1)に溶解し、250ppmの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した(2.5ml/ポット)。薬液が乾燥した後の植物に、オオムギうどんこ病菌(Blumeria graminis f.sp.hordei)の分生胞子を叩き落して接種した。接種後、6〜10日後の発病程度を調査し、その効果を評価した。
[Test Example D] Barley powdery mildew Seeds of a test plant (barley variety: Akagami Riki) were sown, and then cultivated until the first leaves were developed. In the test, the compound of the present invention was dissolved in a dimethyl sulfoxide-methanol mixed solution (volume ratio: 9/1), and diluted with well water to a concentration of 250 ppm to obtain a drug solution. The obtained drug solution was sprayed on the test plant (2.5 ml / pot). After the chemical solution was dried, the conidia of barley powdery mildew (Blumeria graminis f.sp.hordei) were beaten and inoculated to the plants. After the inoculation, the onset of disease 6 to 10 days later was investigated, and the effect was evaluated.

[試験例E] コムギ赤さび病
供試植物(コムギ品種:農林61号)の種子を播種後、第1葉が展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド−メタノール混合溶液(容積比:9/1)に溶解し、250ppmの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した(2.5ml/ポット)。薬液が乾燥した後の植物に、1〜2×10個/mlのコムギ赤さび病菌(Puccinia recondita)の夏胞子懸濁液を噴霧接種した。接種後、室温が20〜23℃の湿室に約24時間放置し、発病を促した。接種7〜10日後の発病程度を調査し、薬液の効果を評価した。
[Test Example E] Wheat leaf rust Seeds of a test plant (wheat variety: Norin 61) were sown and then cultivated until the first leaves developed. In the test, the compound of the present invention was dissolved in a dimethyl sulfoxide-methanol mixed solution (volume ratio: 9/1), and diluted with well water to a concentration of 250 ppm to obtain a drug solution. The obtained drug solution was sprayed on the test plant (2.5 ml / pot). After the medicinal solution was dried, the plants were spray-inoculated with a uredospore suspension of wheat leaf rust (Puccinia recondita) at 1 to 2 × 10 5 cells / ml. After the inoculation, the cells were allowed to stand in a wet room at room temperature of 20 to 23 ° C. for about 24 hours to promote the onset of the disease. The degree of onset 7 to 10 days after inoculation was investigated, and the effect of the drug solution was evaluated.

[試験例F] トマト疫病
供試植物(トマト品種:大型福寿)の種子を播種後、本葉が3〜5枚展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド−メタノール混合溶液(容積比:9/1)に溶解し、250ppmの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した(2.5ml/ポット)。薬液が乾燥した後の植物に、4〜8×10個/mlのトマト疫病菌(Phytophthora infestans)の遊走子のう懸濁液を噴霧接種した。接種後、室温が20℃の湿室に約24時間放置し、発病を促した。接種5〜10日後の発病程度を調査し、薬液の効果を評価した。
[Test Example F] Tomato Blight After sowing seeds of a test plant (tomato variety: large fukuju), they were cultivated until 3 to 5 true leaves developed. In the test, the compound of the present invention was dissolved in a dimethyl sulfoxide-methanol mixed solution (volume ratio: 9/1), and diluted with well water to a concentration of 250 ppm to obtain a drug solution. The obtained drug solution was sprayed on the test plant (2.5 ml / pot). After the chemical solution was dried, the plants were spray-inoculated with a zoospore suspension of 4 to 8 × 10 3 cells / ml of Phytophthora infestans. After the inoculation, the cells were allowed to stand in a wet room at room temperature of 20 ° C. for about 24 hours to promote the onset of the disease. The degree of onset 5 to 10 days after inoculation was investigated, and the effect of the drug solution was evaluated.

[試験例G] ブドウべと病
供試植物(ブドウ品種:ネオマスカット)の種子を播種後、本葉が3〜4枚展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド−メタノール混合溶液(容積比:9/1)に溶解し、250ppmの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した(2.5ml/ポット)。薬液が乾燥した後の植物に、1〜2×10個/mlのブドウべと病菌(Plasmopara viticola)の遊走子のう懸濁液を噴霧接種した。接種後、室温が20℃の湿室に約24時間放置し、発病を促した。接種7〜10日後の発病程度を調査し、薬液の効果を評価した。
[Test Example G] Grape downy mildew After sowing seeds of a test plant (grape variety: Neo Muscat), they were cultivated until three to four true leaves were developed. In the test, the compound of the present invention was dissolved in a dimethyl sulfoxide-methanol mixed solution (volume ratio: 9/1), and diluted with well water to a concentration of 250 ppm to obtain a drug solution. The obtained drug solution was sprayed on the test plant (2.5 ml / pot). After the medicinal solution was dried, the plants were spray-inoculated with a zoospore suspension of 1-2 × 10 4 vines / ml of downy mildew of Plasmopara viticola. After the inoculation, the cells were allowed to stand in a wet room at room temperature of 20 ° C. for about 24 hours to promote the onset of the disease. The degree of onset 7 to 10 days after inoculation was investigated, and the effect of the drug solution was evaluated.

[試験例H] キュウリ炭疽病
供試植物(キュウリ品種:相模半白)の種子を播種後、本葉が1枚展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド−メタノール混合溶液(容積比:9/1)に溶解し、250ppmの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した(2.5ml/ポット)。薬液が乾燥した後の植物に、2〜4×10個/mlのキュウリ炭疽病菌(Colletotrichum orbiculare)の分生胞子懸濁液を噴霧接種した。接種後、室温が20〜23℃の湿室に約24時間放置し、発病を促した。接種6〜10日後の発病程度を調査し、薬液の効果を評価した。
[Test Example H] Cucumber Anthrax Disease Seeds of a test plant (cucumber variety: Sagami Hanjiro) were sown, and then cultivated until one true leaf developed. In the test, the compound of the present invention was dissolved in a dimethyl sulfoxide-methanol mixed solution (volume ratio: 9/1), and diluted with well water to a concentration of 250 ppm to obtain a drug solution. The obtained drug solution was sprayed on the test plant (2.5 ml / pot). The plants after the chemical solution was dried were spray-inoculated with 2 to 4 × 10 5 cells / ml of a conidia suspension of cucumber anthrax (Colletotrichum orbiculare). After the inoculation, the cells were allowed to stand in a wet room at room temperature of 20 to 23 ° C. for about 24 hours to promote the onset of the disease. The onset of disease 6 to 10 days after inoculation was investigated, and the effect of the drug solution was evaluated.

以上の試験例の発病程度について、無発病の植物の発病程度を0、薬剤無処理区の植物の発病程度を3として、0.05ごとの発病程度の評価を行った。また、発病程度から以下の計算式に従って防除価を算出した。   With respect to the degree of disease in the above test examples, the degree of disease was evaluated for each 0.05, with the degree of disease occurring in uninfected plants being 0 and the degree of disease occurring in plants in the untreated area being set to 3. Further, the control value was calculated from the degree of onset according to the following formula.

<防除価>
防除価=100{1−(n/3)}
n=各薬剤処理区の発病程度
<Control value>
Control value = 100 {1- (n / 3)}
n = Disease severity in each treatment zone

以上の試験結果をまとめたものを表6に示す。表中、Hは防除価が50%より大きいもの表し、Lは防除価が50%以下を表す。また、ntは試験を実施しなかったことを表す。   Table 6 summarizes the above test results. In the table, H indicates that the control value is greater than 50%, and L indicates that the control value is 50% or less. In addition, nt indicates that the test was not performed.

Figure 2018190349
Figure 2018190349

本発明のピリドン化合物は新規な化合物であり、植物病害を防除することができるので、農薬、例えば、農園芸用有害生物防除剤、特に農園芸用殺菌剤としての利用価値がある。   Since the pyridone compound of the present invention is a novel compound and can control plant diseases, it is useful as a pesticide, for example, a pesticide for agricultural and horticultural use, particularly a fungicide for agricultural and horticultural use.

日本国特許出願2017−77800号(出願日:2017年4月10日)の開示はその全体が参照により本明細書に取り込まれる。   The disclosure of Japanese Patent Application No. 2017-77800 (filing date: April 10, 2017) is incorporated herein by reference in its entirety.

本明細書に記載された全ての文献、特許出願、および技術規格は、個々の文献、特許出願、および技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書に参照により取り込まれる。   All documents, patent applications, and technical standards mentioned herein are to the same extent as if each individual document, patent application, and technical standard were specifically and individually stated to be incorporated by reference. Incorporated herein by reference.

Claims (8)

式(1)
Figure 2018190349

[式中、R1は、
水酸基、
シアノ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、
C1〜C6のハロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、
C2〜C6のハロアルケニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、
C2〜C6のハロアルキニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基、
C1〜C6のハロアルコキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルコキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニルオキシ基、
C2〜C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3〜C6のアルキニルオキシ基、
C3〜C6のハロアルキニルオキシ基、
またはR10R11N−(ここで、R10およびR11は、それぞれ独立していて、水素原子、またはC1〜C6のアルキル基を表す。)を表し;
R2は、
水酸基、
シアノ基、
ニトロ基、
ハロゲン原子、
置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、
C1〜C6のハロアルキル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、
C2〜C6のハロアルケニル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、
C2〜C6のハロアルキニル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基、
C1〜C6のハロアルコキシ基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルコキシ基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニルオキシ基、
C2〜C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C6のアルキニルオキシ基、
C3〜C6のハロアルキニルオキシ基、
R20C(=O)−(ここで、R20は、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR21R22N−(ここで、R21およびR22は、それぞれ独立していて、水素原子、置換基B1で適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはR21およびR22は、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)を表す。)、
R20C(=O)O−(ここで、R20は、前記と同義である。)、
R21R22N−(ここで、R21およびR22は、前記と同義である。)、
R23−L2−(ここで、R23は、C1〜C6のアルキル基、またはC1〜C6のハロアルキル基を表し、L2は、S、SO、またはSOを表す。)、
R24C(=O)N(R25)−(ここで、R24は、水素原子、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR21R22N−(ここで、R21およびR22は、前記と同義である。)を表し、R25は、水素原子、置換基B1で適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表す。)、
または1〜2個の酸素原子を含む3〜6員環の基を表し;
R3は、
水素原子、
ニトロ基、
ハロゲン原子、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、
C1〜C6のハロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、
C2〜C6のハロアルケニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、
C2〜C6のハロアルキニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基、
C1〜C6のハロアルコキシ基、
R30−L3−(ここで、R30は、前記のR23と同義であり、L3は、前記のL2と同義である。)、
R31R32N−(ここで、R31およびR32は、前記のR21およびR22と同義である。)、
またはR33C(=O)−(ここで、R33は、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表す。)を表し;
nは、0〜5の整数(ただし、nが2以上のとき、2以上のR2は、それぞれ独立した置換基を表す。)を表し;
Xは、酸素原子、または硫黄原子を表し;
Yは、
フェニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、チエニル基、チアゾリル基、または、イソチアゾリル基を表し、
該フェニル基は、置換基Dがオルト位に置換し、置換基D1が、それぞれ独立して適宜0〜3置換し、さらに置換基D2が、それぞれ独立して適宜1〜4置換し、
該ピリジル基、該ピリダジニル基、該ピリミジニル基、該ピラジニル基、または該トリアジニル基は、置換基Dがオルト位に置換し、置換基D1が、それぞれ独立して適宜0〜2置換し、さらに置換基D2が、それぞれ独立して適宜1〜3置換し、
該チエニル基、該チアゾリル基、または該イソチアゾリル基は、置換基Dがオルト位に置換し、置換基D1が、それぞれ独立して適宜0〜1置換し、さらに置換基D2が、それぞれ独立して適宜1〜2置換し;
破線部を含む結合は、二重結合、または単結合を表し;
そして、置換基Aは、
水酸基、シアノ基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、R12R13N−(ここで、R12およびR13は、それぞれ独立していて、水素原子、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはR12およびR13は、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)、およびR14−L1−(ここで、R14は、C1〜C6のアルキル基、またはC1〜C6のハロアルキル基を表し、L1は、S、SO、またはSOを表す。)からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Bは、
水酸基、シアノ基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、C2〜C6のアルコキシアルコキシ基、R21R22N−(ここで、R21およびR22は、前記と同義である。)、R23−L2−(ここで、R23およびL2は、前記と同義である。)、R26R27R28Si−(ここで、R26、R27およびR28は、それぞれ独立していてC1〜C6のアルキル基を表す。)、R26R27R28Si−(CH)s−O−(ここで、sは、1〜3の整数を表し、R26、R27およびR28は、前記と同義である。)、R20C(=O)−(ここで、R20は、前記と同義である。)、および1〜2個の酸素原子を含む3〜6員環の基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基B1は、
シアノ基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、およびC3〜C8のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Cは、
水酸基、シアノ基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、R31R32N−(ここで、R31およびR32は、前記のR21およびR22と同義である。)、およびR30−L3−(ここで、R30は、前記のR23と同義であり、L3は、前記のL2と同義である。)からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Dは、
ハロゲン原子、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、およびC1〜C6のハロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基D1は、
水酸基、ハロゲン原子、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、およびC3〜C8のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基D2は、
シアノ基、
ニトロ基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、
C2〜C6ハロアルケニル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、
C2〜C6のハロアルキニル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニルオキシ基、
C2〜C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C6のアルキニルオキシ基、
C3〜C6のハロアルキニルオキシ基、
C2〜C6のアルコキシアルコキシ基、
C2〜C6のシアノアルコキシ基、
C4〜C9のシクロアルキルアルコキシ基、
置換基Dで適宜置換されてもよいアリール基、
置換基Dで適宜置換されてもよいヘテロアリール基、
置換基Dで適宜置換されてもよいアリールオキシ基、
置換基Dで適宜置換されてもよいヘテロアリールオキシ基、
置換基Dで適宜置換されてもよいアラルキルオキシ基、
R40(CH2)p−U−(ここで、pは、1〜3の整数を表し、R40は1〜2個の酸素原子を含む3〜6員環の基、R41R42N−(ここで、R41およびR42は、前記のR21およびR22と同義である。)、またはR43−L4−(ここで、R43は、前記のR14と同義であり、L4は、前記のL1と同義である。)を表し、Uは、酸素原子、または硫黄原子を表す。)、
R41R42N−(ここで、R41およびR42は前記と同義である。)、
R43−L4−(ここで、R43は、前記のR14と同義であり、L4は、前記のL1と同義である。)、
R44C(=O)−(ここで、R44は、置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR41R42N−(ここで、R41およびR42は前記と同義である。)を表す。)、
R44C(=O)O−(ここで、R44は、前記と同義である。)、
R45C(=O)N(R46)−(ここで、R45は、水素原子、置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR41R42N−(ここで、R41およびR42は、前記と同義である。)を表し、R46は、水素原子、置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表す。)、
R47R48C=N−O−(ここで、R47およびR48は、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR41R42N−(ここで、R41およびR42は、前記と同義である。)を表す。)、
および1〜2個の酸素原子を含む3〜6員環の基からなる群から選択される少なくとも1種である]で表される化合物またはその塩。
Equation (1)
Figure 2018190349

Wherein R1 is
Hydroxyl group,
Cyano group,
A C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
A C1-C6 haloalkyl group,
A C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A,
A C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A,
A C2-C6 haloalkenyl group,
A C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A,
A C2-C6 haloalkynyl group,
A C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent A,
A C1-C6 haloalkoxy group,
A C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent A,
A C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent A,
A C2-C6 haloalkenyloxy group,
A C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent A,
A C3-C6 haloalkynyloxy group,
Or R10R11N- (wherein R10 and R11 are each independently a hydrogen atom or a C1-C6 alkyl group);
R2 is
Hydroxyl group,
Cyano group,
Nitro group,
Halogen atom,
A C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B,
A C1-C6 haloalkyl group,
A C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent B,
A C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent B,
A C2-C6 haloalkenyl group,
A C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent B,
A C2-C6 haloalkynyl group,
A C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent B,
A C1-C6 haloalkoxy group,
A C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent B,
A C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent B,
A C2-C6 haloalkenyloxy group,
A C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent B,
A C3-C6 haloalkynyloxy group,
R20C (= O)-(where R20 is a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, A C3-C8 cycloalkoxy group, or R21R22N- (wherein R21 and R22 are each independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B1, a C1-C6 Represents a haloalkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group, or R21 and R22, together with the nitrogen atom to which they are attached, represent an aziridinyl, azetidinyl, pyrrolidinyl, piperidinyl, homopiperidinyl, or azocanyl group; Represents what is formed.).),
R20C (= O) O- (where R20 has the same meaning as described above),
R21R22N- (where R21 and R22 are as defined above),
R23-L2- (wherein, R23 represents an alkyl group or a haloalkyl group of C1 -C6, a C1 -C6, L2 represents S, SO, or SO 2.),
R24C (= O) N (R25)-(where R24 is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1 Represents a haloalkoxy group of C6 to C6, a cycloalkoxy group of C3 to C8, or R21R22N- (where R21 and R22 have the same meanings as described above), and R25 is appropriately substituted with a hydrogen atom or a substituent B1. Represents a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 haloalkyl group, or a C3 to C8 cycloalkyl group.)
Or a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms;
R3 is
Hydrogen atom,
Nitro group,
Halogen atom,
A C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
A C1-C6 haloalkyl group,
A C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C,
A C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C,
A C2-C6 haloalkenyl group,
A C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C,
A C2-C6 haloalkynyl group,
A C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C,
A C1-C6 haloalkoxy group,
R30-L3- (where R30 has the same meaning as R23, and L3 has the same meaning as L2);
R31R32N- (where R31 and R32 have the same meanings as R21 and R22 described above),
Or R33C (= O)-(where R33 represents a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group);
n represents an integer of 0 to 5 (however, when n is 2 or more, 2 or more R2 represents an independent substituent);
X represents an oxygen atom or a sulfur atom;
Y is
A phenyl group, a pyridyl group, a pyridazinyl group, a pyrimidinyl group, a pyrazinyl group, a triazinyl group, a thienyl group, a thiazolyl group, or an isothiazolyl group;
In the phenyl group, the substituent D is substituted at the ortho position, the substituent D1 is independently substituted with 0 to 3 as appropriate, and further the substituent D2 is independently substituted with 1 to 4 as appropriate.
In the pyridyl group, the pyridazinyl group, the pyrimidinyl group, the pyrazinyl group, or the triazinyl group, the substituent D is substituted at the ortho position, and the substituents D1 are each independently optionally substituted with 0 to 2, and further substituted. Groups D2 are each independently appropriately substituted with 1 to 3,
In the thienyl group, the thiazolyl group, or the isothiazolyl group, the substituent D is substituted at the ortho position, the substituents D1 are each independently optionally substituted with 0 to 1, and the substituents D2 are each independently substituted. Substitute 1-2 as appropriate;
A bond containing a broken line represents a double bond or a single bond;
And the substituent A is
Hydroxyl group, cyano group, C3-C8 cycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group, R12R13N- (where R12 and R13 are each independently And represents a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group, or R12 and R13 together with the bonding nitrogen atom form an aziridinyl group , Azetidinyl group, pyrrolidinyl group, piperidinyl group, homopiperidinyl group, or azocanyl group), and R14-L1- (where R14 is a C1-C6 alkyl group, or a C1-C6 haloalkyl). represents a group, is selected L1 is, S, SO, or from the group consisting of.) representing the SO 2, At least one of the following:
Substituent B is
A hydroxyl group, a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, a C2-C6 alkoxyalkoxy group, R21R22N- R21 and R22 are as defined above, R23-L2- (where R23 and L2 are as defined above), R26R27R28Si- (where R26, R27 and R28 are each independently represents an alkyl group having C1~C6 have.), R26R27R28Si- (CH 2) s-O- ( wherein, s represents an integer of 1 to 3, R26, R27 and R28 is a as defined above ), R20C (= O)-(where R20 has the same meaning as described above), and a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms. That is at least one selected from the group;
The substituent B1 is
At least one selected from the group consisting of a cyano group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, and a C3-C8 cycloalkoxy group;
Substituent C is
A hydroxyl group, a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, R31R32N- (where R31 and R32 are the aforementioned R21 And R22 and R30-L3- (where R30 has the same meaning as R23, and L3 has the same meaning as L2). Species;
Substituent D is
At least one selected from the group consisting of a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, and a C1-C6 haloalkoxy group;
The substituent D1 is
Hydroxyl group, halogen atom, C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, and C3-C8 cycloalkoxy group At least one selected from the group consisting of:
The substituent D2 is
Cyano group,
Nitro group,
A C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent B,
A C2-C6 haloalkenyl group,
A C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent B,
A C2-C6 haloalkynyl group,
A C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent B,
A C2-C6 haloalkenyloxy group,
A C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent B,
A C3-C6 haloalkynyloxy group,
A C2-C6 alkoxyalkoxy group,
A C2-C6 cyanoalkoxy group,
A C4-C9 cycloalkylalkoxy group,
An aryl group optionally substituted with a substituent D,
A heteroaryl group optionally substituted with a substituent D,
An aryloxy group optionally substituted with a substituent D,
A heteroaryloxy group optionally substituted with a substituent D,
An aralkyloxy group optionally substituted with a substituent D,
R40 (CH2) pU- (where p represents an integer of 1 to 3, and R40 is a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms, R41R42N- (where R41 and R42 has the same meaning as R21 and R22 described above; or R43-L4- (where R43 has the same meaning as R14, and L4 has the same meaning as L1); U represents an oxygen atom or a sulfur atom.),
R41R42N- (where R41 and R42 are as defined above),
R43-L4- (where R43 has the same meaning as R14, and L4 has the same meaning as L1);
R44C (= O)-(where R44 is a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group which may be appropriately substituted with a substituent B A group, a C1 to C6 haloalkoxy group, a C3 to C8 cycloalkoxy group, or R41R42N- (where R41 and R42 have the same meanings as described above),
R44C (= O) O- (where R44 is as defined above),
R45C (= O) N (R46)-(where R45 is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl A group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, or R41R42N- (where R41 and R42 have the same meanings as described above); A hydrogen atom, a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 haloalkyl group, or a C3 to C8 cycloalkyl group which may be appropriately substituted with a substituent A);
R47R48C = N-O- (where R47 and R48 are each independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C Represents a C8 cycloalkyl group, a C1 to C6 alkoxy group, a C1 to C6 haloalkoxy group, a C3 to C8 cycloalkoxy group, or R41R42N- (where R41 and R42 have the same meanings as described above). .),
And at least one member selected from the group consisting of a 3- to 6-membered ring group containing 1 or 2 oxygen atoms.] Or a salt thereof.
R1は、
シアノ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、
C1〜C6のハロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、
C2〜C6のハロアルケニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、
またはR10R11N−(ここで、R10およびR11は、それぞれ独立していて、水素原子、またはC1〜C6のアルキル基を表す。)を表し;
R2は、
水酸基、
シアノ基、
ハロゲン原子、
置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、
C1〜C6のハロアルキル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基、
C1〜C6のハロアルコキシ基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルコキシ基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニルオキシ基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C6のアルキニルオキシ基、
R20C(=O)O−(ここで、R20は、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR21R22N−(ここで、R21およびR22は、それぞれ独立していて、水素原子、置換基B1で適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはR21およびR22は、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)、
またはR23−L2−(ここで、R23は、C1〜C6のアルキル基、またはC1〜C6のハロアルキル基を表し、L2は、S、SO、またはSOを表す。)を表し;
R3は、
水素原子、
ハロゲン原子、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基、
またはR30−L3−(ここで、R30は、前記のR23と同義であり、L3は、前記のL2と同義である。)を表し;
Yは、フェニル基、またはピリジル基を表し、
該フェニル基は、置換基Dがオルト位に置換し、置換基D1が、それぞれ独立して適宜0〜3置換し、さらに置換基D2が、それぞれ独立して適宜1〜4置換し、
該ピリジル基は、置換基Dがオルト位に置換し、置換基D1が、それぞれ独立して適宜0〜2置換し、さらに置換基D2が、それぞれ独立して適宜1〜3置換し;
置換基D2は、
シアノ基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニルオキシ基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C6のアルキニルオキシ基、
C2〜C6のアルコキシアルコキシ基、
C2〜C6のシアノアルコキシ基、
C4〜C9のシクロアルキルアルコキシ基、
置換基Dで適宜置換されてもよいヘテロアリール基、
置換基Dで適宜置換されてもよいアリールオキシ基、
置換基Dで適宜置換されてもよいアラルキルオキシ基、
R40(CH2)p−U−(ここで、pは、1〜3の整数を表し、R40は1〜2個の酸素原子を含む3〜6員環の基、R41R42N−(ここで、R41およびR42は、それぞれ独立していて、水素原子、置換基B1で適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはR41およびR42は、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)、またはR43−L4−(ここで、R43は、C1〜C6のアルキル基、またはC1〜C6のハロアルキル基を表し、L4は、S、SO、またはSO2を表す。)を表し、Uは、酸素原子、または硫黄原子を表す。)、
R41R42N−(ここで、R41およびR42は前記と同義である。)、
R43−L4−(ここで、R43およびL4は、前記と同義である。)、
R44C(=O)O−(ここで、R44は、置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR41R42N−(ここで、R41およびR42は、前記と同義である。)を表す。)、
および、R47R48C=N−O−(ここで、R47およびR48は、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR41R42N−(ここで、R41およびR42は、前記と同義である。)を表す。)からなる群から選択される少なくとも1種である、請求項1に記載の化合物、またはその塩。
R1 is
Cyano group,
A C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
A C1-C6 haloalkyl group,
A C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A,
A C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A,
A C2-C6 haloalkenyl group,
A C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A,
Or R10R11N- (wherein R10 and R11 are each independently a hydrogen atom or a C1-C6 alkyl group);
R2 is
Hydroxyl group,
Cyano group,
Halogen atom,
A C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B,
A C1-C6 haloalkyl group,
A C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent B,
A C1-C6 haloalkoxy group,
A C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent B,
A C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent B,
A C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent B,
R20C (= O) O- (where R20 is a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group , A C3-C8 cycloalkoxy group, or R21R22N- (wherein R21 and R22 are each independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B1, a C1-C6 Represents a haloalkyl group or a C3-C8 cycloalkyl group, or R21 and R22 together with a bonding nitrogen atom form an aziridinyl group, an azetidinyl group, a pyrrolidinyl group, a piperidinyl group, a homopiperidinyl group, or an azocanyl group Represents what forms).
Or R23-L2- (wherein, R23 represents an alkyl group or a haloalkyl group of C1 -C6, a C1 -C6, L2 is S, SO, or an SO 2.) Represents;
R3 is
Hydrogen atom,
Halogen atom,
A C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
A C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C,
A C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C,
A C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C,
Or R30-L3- (where R30 has the same meaning as R23, and L3 has the same meaning as L2);
Y represents a phenyl group or a pyridyl group,
In the phenyl group, the substituent D is substituted at the ortho position, the substituent D1 is independently substituted with 0 to 3 as appropriate, and further the substituent D2 is independently substituted with 1 to 4 as appropriate.
In the pyridyl group, the substituent D is substituted at the ortho-position, the substituent D1 is independently optionally substituted with 0 to 2, and the substituent D2 is each independently substituted with 1 to 3 as appropriate;
The substituent D2 is
Cyano group,
A C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent B,
A C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent B,
A C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent B,
A C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent B,
A C2-C6 alkoxyalkoxy group,
A C2-C6 cyanoalkoxy group,
A C4-C9 cycloalkylalkoxy group,
A heteroaryl group optionally substituted with a substituent D,
An aryloxy group optionally substituted with a substituent D,
An aralkyloxy group optionally substituted with a substituent D,
R40 (CH2) pU- (where p represents an integer of 1 to 3, and R40 is a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms, R41R42N- (where R41 and R42 is each independently a hydrogen atom, a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 haloalkyl group, or a C3 to C8 cycloalkyl group which may be appropriately substituted with a substituent B1; And R42 represents a group which forms an aziridinyl group, an azetidinyl group, a pyrrolidinyl group, a piperidinyl group, a homopiperidinyl group, or an azocanyl group together with the nitrogen atom to be bonded thereto, or R43-L4- (wherein R43 represents a C1 to C6 alkyl group or a C1 to C6 haloalkyl group; L4 represents S, SO, or SO2), and U represents an acid. Atom or a sulfur atom.),
R41R42N- (where R41 and R42 are as defined above),
R43-L4- (where R43 and L4 are as defined above),
R44C (= O) O— (where R44 is a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 haloalkyl group, a C3 to C8 cycloalkyl group, a C1 to C6 An alkoxy group, a C1 to C6 haloalkoxy group, a C3 to C8 cycloalkoxy group, or R41R42N- (where R41 and R42 have the same meanings as described above);
And R47R48C = N-O- (where R47 and R48 are each independently a hydrogen atom, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1 to C6 haloalkyl group, A C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, or R41R42N- (where R41 and R42 are as defined above). The compound according to claim 1, which is at least one member selected from the group consisting of:
R1は、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、
またはC1〜C6のハロアルキル基を表し;
R2は、
ハロゲン原子、
置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基、
またはR23−L2−(ここで、R23は、C1〜C6のアルキル基、またはC1〜C6のハロアルキル基を表し、L2は、S、SO、またはSOを表す。)を表し;
R3は、
水素原子、
ハロゲン原子、
または置換基Cで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基を表し;
Yは、フェニル基を表し、
該フェニル基は、置換基Dがオルト位に置換し、置換基D1が、それぞれ独立して適宜0〜3置換し、さらに置換基D2が、それぞれ独立して適宜1〜4置換する、請求項2に記載の化合物、またはその塩。
R1 is
A C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
Or a C1-C6 haloalkyl group;
R2 is
Halogen atom,
A C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B,
A C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent B,
Or R23-L2- (wherein, R23 represents an alkyl group or a haloalkyl group of C1 -C6, a C1 -C6, L2 is S, SO, or an SO 2.) Represents;
R3 is
Hydrogen atom,
Halogen atom,
Or a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C;
Y represents a phenyl group,
In the phenyl group, the substituent D is substituted at the ortho-position, the substituent D1 is independently substituted with 0 to 3 as appropriate, and the substituent D2 is independently substituted with 1 to 4 as appropriate. 3. The compound according to 2, or a salt thereof.
式(2)
Figure 2018190349

[式中、R2は、
水酸基、
シアノ基、
ニトロ基、
ハロゲン原子、
置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、
C1〜C6のハロアルキル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、
C2〜C6のハロアルケニル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、
C2〜C6のハロアルキニル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基、
C1〜C6のハロアルコキシ基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルコキシ基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニルオキシ基、
C2〜C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C6のアルキニルオキシ基、
C3〜C6のハロアルキニルオキシ基、
R20C(=O)−(ここで、R20は、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR21R22N−(ここで、R21およびR22は、それぞれ独立していて、水素原子、置換基B1で適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはR21およびR22は、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)を表す。)、
R20C(=O)O−(ここで、R20は、前記と同義である。)、
R21R22N−(ここで、R21およびR22は、前記と同義である。)、
R23−L2−(ここで、R23は、C1〜C6のアルキル基、またはC1〜C6のハロアルキル基を表し、L2は、S、SO、またはSOを表す。)、
R24C(=O)N(R25)−(ここで、R24は、水素原子、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR21R22N−(ここで、R21およびR22は、前記と同義である。)を表し、R25は、水素原子、置換基B1で適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表す。)、
または1〜2個の酸素原子を含む3〜6員環の基を表し;
R3は、
水素原子、
ニトロ基、
ハロゲン原子、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、
C1〜C6のハロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3〜C8のシクロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、
C2〜C6のハロアルケニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、
C2〜C6のハロアルキニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基、
C1〜C6のハロアルコキシ基、
R30−L3−(ここで、R30は、前記のR23と同義であり、L3は、前記のL2と同義である。)、
R31R32N−(ここで、R31およびR32は、前記のR21およびR22と同義である。)、
またはR33C(=O)−(ここで、R33は、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表す。)を表し;
nは、0〜5の整数(ただし、nが2以上のとき、2以上のR2は、それぞれ独立した置換基を表す。)を表し;
Xは、酸素原子、または硫黄原子を表し;
Yは、フェニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、チエニル基、チアゾリル基、または、イソチアゾリル基を表し、
該フェニル基は、置換基Dがオルト位に置換し、置換基D1が、それぞれ独立して適宜0〜3置換し、さらに置換基D2が、それぞれ独立して適宜1〜4置換し、
該ピリジル基、該ピリダジニル基、該ピリミジニル基、該ピラジニル基、または該トリアジニル基は、置換基Dがオルト位に置換し、置換基D1が、それぞれ独立して適宜0〜2置換し、さらに置換基D2が、それぞれ独立して適宜1〜3置換し、
該チエニル基、該チアゾリル基、または該イソチアゾリル基は、置換基Dがオルト位に置換し、置換基D1が、それぞれ独立して適宜0〜1置換し、さらに置換基D2が、それぞれ独立して適宜1〜2置換し;
そして、置換基Bは、
水酸基、シアノ基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、C2〜C6のアルコキシアルコキシ基、R21R22N−(ここで、R21およびR22は、前記と同義である。)、R23−L2−(ここで、R23およびL2は、前記と同義である。)、R26R27R28Si−(ここで、R26、R27およびR28は、それぞれ独立していてC1〜C6のアルキル基を表す。)、R26R27R28Si−(CH)s−O−(ここで、sは、1〜3の整数を表し、R26、R27およびR28は、前記と同義である。)、R20C(=O)−(ここで、R20は、前記と同義である。)、および1〜2個の酸素原子を含む3〜6員環の基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基B1は、
シアノ基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、およびC3〜C8のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Cは、
水酸基、シアノ基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、R31R32N−(ここで、R31およびR32は、前記のR21およびR22と同義である。)、およびR30−L3−(ここで、R30は、前記のR23と同義であり、L3は、前記のL2と同義である。)からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Dは、
ハロゲン原子、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、およびC1〜C6のハロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基D1は、
水酸基、ハロゲン原子、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、およびC3〜C8のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基D2は、
シアノ基、
ニトロ基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、
C2〜C6ハロアルケニル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基、
C2〜C6のハロアルキニル基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC2〜C6のアルケニルオキシ基、
C2〜C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Bで適宜置換されてもよいC3〜C6のアルキニルオキシ基、
C3〜C6のハロアルキニルオキシ基、
C2〜C6のアルコキシアルコキシ基、
C2〜C6のシアノアルコキシ基、
C4〜C9のシクロアルキルアルコキシ基、
置換基Dで適宜置換されてもよいアリール基、
置換基Dで適宜置換されてもよいヘテロアリール基、
置換基Dで適宜置換されてもよいアリールオキシ基、
置換基Dで適宜置換されてもよいヘテロアリールオキシ基、
置換基Dで適宜置換されてもよいアラルキルオキシ基、
R40(CH2)p−U−(ここで、pは、1〜3の整数を表し、R40は1〜2個の酸素原子を含む3〜6員環の基、R41R42N−(ここで、R41およびR42は、前記のR21およびR22と同義である。)、またはR43−L4−(ここで、R43は、前記のR14と同義であり、L4は、前記のL1と同義である。)を表し、Uは、酸素原子、または硫黄原子を表す。)、
R41R42N−(ここで、R41およびR42は前記と同義である。)、
R43−L4−(ここで、R43は、前記のR14と同義であり、L4は、前記のL1と同義である。)、
R44C(=O)−(ここで、R44は、置換基Bで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR41R42N−(ここで、R41およびR42は前記と同義である。)を表す。)、
R44C(=O)O−(ここで、R44は、前記と同義である。)、
R45C(=O)N(R46)−(ここで、R45は、水素原子、置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR41R42N−(ここで、R41およびR42は、前記と同義である。)を表し、R46は、水素原子、置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、またはC3〜C8のシクロアルキル基を表す。)、
R47R48C=N−O−(ここで、R47およびR48は、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Aで適宜置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のハロアルキル基、C3〜C8のシクロアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のハロアルコキシ基、C3〜C8のシクロアルコキシ基、またはR41R42N−(ここで、R41およびR42は、前記と同義である。)を表す。)、
および1〜2個の酸素原子を含む3〜6員環の基からなる群から選択される少なくとも1種である。]で表される化合物またはその塩。
Equation (2)
Figure 2018190349

Wherein R2 is
Hydroxyl group,
Cyano group,
Nitro group,
Halogen atom,
A C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B,
A C1-C6 haloalkyl group,
A C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent B,
A C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent B,
A C2-C6 haloalkenyl group,
A C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent B,
A C2-C6 haloalkynyl group,
A C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent B,
A C1-C6 haloalkoxy group,
A C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent B,
A C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent B,
A C2-C6 haloalkenyloxy group,
A C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent B,
A C3-C6 haloalkynyloxy group,
R20C (= O)-(where R20 is a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, A C3-C8 cycloalkoxy group, or R21R22N- (wherein R21 and R22 are each independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B1, a C1-C6 Represents a haloalkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group, or R21 and R22, together with the nitrogen atom to which they are attached, represent an aziridinyl, azetidinyl, pyrrolidinyl, piperidinyl, homopiperidinyl, or azocanyl group; Represents what is formed.).),
R20C (= O) O- (where R20 has the same meaning as described above),
R21R22N- (where R21 and R22 are as defined above),
R23-L2- (wherein, R23 represents an alkyl group or a haloalkyl group of C1 -C6, a C1 -C6, L2 represents S, SO, or SO 2.),
R24C (= O) N (R25)-(where R24 is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1 Represents a haloalkoxy group of C6 to C6, a cycloalkoxy group of C3 to C8, or R21R22N- (where R21 and R22 have the same meanings as described above), and R25 is appropriately substituted with a hydrogen atom or a substituent B1. Represents a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 haloalkyl group, or a C3 to C8 cycloalkyl group.)
Or a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms;
R3 is
Hydrogen atom,
Nitro group,
Halogen atom,
A C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
A C1-C6 haloalkyl group,
A C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C,
A C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C,
A C2-C6 haloalkenyl group,
A C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C,
A C2-C6 haloalkynyl group,
A C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C,
A C1-C6 haloalkoxy group,
R30-L3- (where R30 has the same meaning as R23, and L3 has the same meaning as L2);
R31R32N- (where R31 and R32 have the same meanings as R21 and R22 described above),
Or R33C (= O)-(where R33 represents a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group);
n represents an integer of 0 to 5 (however, when n is 2 or more, 2 or more R2 represents an independent substituent);
X represents an oxygen atom or a sulfur atom;
Y represents a phenyl group, a pyridyl group, a pyridazinyl group, a pyrimidinyl group, a pyrazinyl group, a triazinyl group, a thienyl group, a thiazolyl group, or an isothiazolyl group;
In the phenyl group, the substituent D is substituted at the ortho position, the substituent D1 is independently substituted with 0 to 3 as appropriate, and further the substituent D2 is independently substituted with 1 to 4 as appropriate.
In the pyridyl group, the pyridazinyl group, the pyrimidinyl group, the pyrazinyl group, or the triazinyl group, the substituent D is substituted at the ortho position, and the substituents D1 are each independently optionally substituted with 0 to 2, and further substituted. Groups D2 are each independently appropriately substituted with 1 to 3,
In the thienyl group, the thiazolyl group, or the isothiazolyl group, the substituent D is substituted at the ortho position, the substituents D1 are each independently optionally substituted with 0 to 1, and the substituents D2 are each independently substituted. Substitute 1-2 as appropriate;
And the substituent B is
A hydroxyl group, a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, a C2-C6 alkoxyalkoxy group, R21R22N- R21 and R22 are as defined above, R23-L2- (where R23 and L2 are as defined above), R26R27R28Si- (where R26, R27 and R28 are each independently represents an alkyl group having C1~C6 have.), R26R27R28Si- (CH 2) s-O- ( wherein, s represents an integer of 1 to 3, R26, R27 and R28 is a as defined above ), R20C (= O)-(where R20 has the same meaning as described above), and a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms. That is at least one selected from the group;
The substituent B1 is
At least one selected from the group consisting of a cyano group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, and a C3-C8 cycloalkoxy group;
Substituent C is
A hydroxyl group, a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, R31R32N- (where R31 and R32 are the aforementioned R21 And R22 and R30-L3- (where R30 has the same meaning as R23, and L3 has the same meaning as L2). Species;
Substituent D is
At least one selected from the group consisting of a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, and a C1-C6 haloalkoxy group;
The substituent D1 is
Hydroxyl group, halogen atom, C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, and C3-C8 cycloalkoxy group At least one selected from the group consisting of:
The substituent D2 is
Cyano group,
Nitro group,
A C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent B,
A C2-C6 haloalkenyl group,
A C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent B,
A C2-C6 haloalkynyl group,
A C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent B,
A C2-C6 haloalkenyloxy group,
A C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent B,
A C3-C6 haloalkynyloxy group,
A C2-C6 alkoxyalkoxy group,
A C2-C6 cyanoalkoxy group,
A C4-C9 cycloalkylalkoxy group,
An aryl group optionally substituted with a substituent D,
A heteroaryl group optionally substituted with a substituent D,
An aryloxy group optionally substituted with a substituent D,
A heteroaryloxy group optionally substituted with a substituent D,
An aralkyloxy group optionally substituted with a substituent D,
R40 (CH2) pU- (where p represents an integer of 1 to 3, and R40 is a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms, R41R42N- (where R41 and R42 has the same meaning as R21 and R22 described above; or R43-L4- (where R43 has the same meaning as R14, and L4 has the same meaning as L1); U represents an oxygen atom or a sulfur atom.),
R41R42N- (where R41 and R42 are as defined above),
R43-L4- (where R43 has the same meaning as R14, and L4 has the same meaning as L1);
R44C (= O)-(where R44 is a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group which may be appropriately substituted with a substituent B A group, a C1 to C6 haloalkoxy group, a C3 to C8 cycloalkoxy group, or R41R42N- (where R41 and R42 have the same meanings as described above),
R44C (= O) O- (where R44 is as defined above),
R45C (= O) N (R46)-(where R45 is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl A group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, or R41R42N- (where R41 and R42 have the same meanings as described above); A hydrogen atom, a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 haloalkyl group, or a C3 to C8 cycloalkyl group which may be appropriately substituted with a substituent A);
R47R48C = N-O- (where R47 and R48 are each independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C Represents a C8 cycloalkyl group, a C1 to C6 alkoxy group, a C1 to C6 haloalkoxy group, a C3 to C8 cycloalkoxy group, or R41R42N- (where R41 and R42 have the same meanings as described above). .),
And at least one selected from the group consisting of a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms. Or a salt thereof.
請求項1に記載の化合物またはその塩を有効成分として含有する農園芸用有害生物防除剤。   An agricultural and horticultural pesticide comprising the compound according to claim 1 or a salt thereof as an active ingredient. 請求項1に記載の化合物またはその塩を有効成分として含有する農園芸用殺菌剤。   An agricultural and horticultural fungicide comprising the compound according to claim 1 or a salt thereof as an active ingredient. 請求項5に記載の農園芸用有害生物防除剤を、植物、植物の種子、または植物を栽培する土壌に施用することを含む、植物病害を防除する方法。   A method for controlling plant diseases, comprising applying the pesticidal composition for agricultural and horticultural use according to claim 5 to plants, plant seeds, or soil where the plants are grown. 請求項6に記載の農園芸用殺菌剤を、植物、植物の種子、または植物を栽培する土壌に施用することを含む、植物病害を防除する方法。   A method for controlling plant diseases, comprising applying the agricultural and horticultural fungicide according to claim 6 to a plant, a plant seed, or a soil in which the plant is grown.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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JP2005531520A (en) * 2002-03-28 2005-10-20 メルク エンド カムパニー インコーポレーテッド Substituted 2,3-diphenylpyridines
JP2014525452A (en) * 2011-08-29 2014-09-29 ピーティーシー セラピューティクス, インコーポレイテッド Antimicrobial compounds and methods of use
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Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01128969A (en) * 1987-09-18 1989-05-22 Merck & Co Inc 5-(aryl and heteroaryl)-6-(aryl and heteroaryl)-1, 2-dihydro-2-oxo-3-pyridine carboxylate and derivative thereof
JP2005531520A (en) * 2002-03-28 2005-10-20 メルク エンド カムパニー インコーポレーテッド Substituted 2,3-diphenylpyridines
JP2014525452A (en) * 2011-08-29 2014-09-29 ピーティーシー セラピューティクス, インコーポレイテッド Antimicrobial compounds and methods of use
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