JP7328222B2 - Pyridone compound and agricultural and horticultural fungicide containing it as an active ingredient - Google Patents

Pyridone compound and agricultural and horticultural fungicide containing it as an active ingredient Download PDF

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    • A01N43/00Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds
    • A01N43/34Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds having rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
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    • C07D409/04Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond

Description

本発明は、ピリドン化合物および該化合物を有効成分とする農薬に関するものである。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a pyridone compound and an agricultural chemical containing the compound as an active ingredient.

安定的な農業生産を確保する上で、農園芸作物の病害を防除することは重要な役割を果たす。そのため、様々な殺菌剤が使用されているが、長年にわたる殺菌剤の使用は薬剤耐性菌の出現を招くために、薬剤感受性菌のみならず薬剤耐性菌に対しても有効な新規殺菌剤が切望されている。 Disease control of agricultural and horticultural crops plays an important role in ensuring stable agricultural production. Therefore, various fungicides are used, but long-term use of fungicides leads to the emergence of drug-resistant bacteria. It is

ところで、1,3,5,6-置換-2-ピリドン化合物に関して、例えば、GABAアルファー2/3リガンドとして、3位にアリール基またはヘテロアリール基を有する1,3,5,6-置換-2-ピリドン化合物が開示されている(例えば、国際公開第98/55480号参照)。また、細菌性感染症の治療薬として、3位にカルボキシル基を有する1,3,5,6-置換-2-ピリドン化合物が開示されている(例えば、欧州特許第0308020明細書参照)。 By the way, with respect to 1,3,5,6-substituted-2-pyridone compounds, for example, 1,3,5,6-substituted-2 having an aryl or heteroaryl group at the 3-position is used as a GABA alpha-2/3 ligand. -pyridone compounds have been disclosed (see, eg, WO 98/55480). Also, 1,3,5,6-substituted-2-pyridone compounds having a carboxyl group at the 3-position have been disclosed as therapeutic agents for bacterial infections (see, for example, EP 0308020).

国際公開第98/55480号WO 98/55480 欧州特許第0308020明細書EP 0308020

しかしながら、国際公開第98/55480号および欧州特許第0308020明細書に記載されている化合物の用途は、いずれも医薬に関するものであり、本発明に係る農園芸用殺菌剤が属する技術分野とは相違する。 However, the uses of the compounds described in WO 98/55480 and EP 0308020 are all related to medicine, which is different from the technical field to which the agricultural and horticultural fungicide of the present invention belongs. do.

本発明の課題は、農園芸用殺菌剤として有効である新規な化合物を提供することである。 An object of the present invention is to provide novel compounds that are effective as agricultural and horticultural fungicides.

本発明者らは、前記課題を解決すべく、1,3,5,6-置換-2-ピリドン化合物群および1,5,6-置換-2-ピリドン化合物群について鋭意検討を行った結果、当該2-ピリドン骨格中の5位に関して、適宜置換されてもよいチオフェン-2-イル基または適宜置換されてもよいチオフェン-3-イル基を導入した新規な化合物群が、植物病害に対して優れた防除活性を発揮することを見出し、本発明を完成するに至った。 In order to solve the above problems, the present inventors conducted intensive studies on a group of 1,3,5,6-substituted-2-pyridone compounds and a group of 1,5,6-substituted-2-pyridone compounds. A novel group of compounds introduced with an optionally substituted thiophen-2-yl group or an optionally substituted thiophen-3-yl group at the 5-position in the 2-pyridone skeleton is effective against plant diseases. The inventors have found that they exhibit excellent control activity and have completed the present invention.

すなわち、本発明は、以下の通りである。
[1]
式(1)

Figure 0007328222000001

[式中、R1は、
水酸基、
シアノ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
C2~C6のハロアルキニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、
C1~C6のハロアルコキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、
C2~C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、
C3~C6のハロアルキニルオキシ基、
またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはRaおよびRbは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)を表し;
R2、R3およびR4は、それぞれ独立していて、
水素原子、
ハロゲン原子、
水酸基、
シアノ基、
ニトロ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
C2~C6のハロアルキニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、
C1~C6のハロアルコキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、
C2~C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、
C3~C6のハロアルキニルオキシ基、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアリールオキシ基、
置換基Dで適宜0~2置換されてもよいヘテロアリールオキシ基、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアラルキルオキシ基、
Rx1C(=O)-(ここで、Rx1は、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)を表す。)、
Rx1C(=O)O-(ここで、Rx1は、前記と同義である。)、
1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基、
Rc-L-(ここで、Rcは、C1~C6のアルキル基またはC1~C6のハロアルキル基を表し、Lは、S、SO、またはSOを表す。)、
RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、
またはRx2C(=O)N(Rx3)-(ここで、Rx2は、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)を表し、Rx3は、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表す。)を表し;
R5は、
水素原子、
ハロゲン原子、
シアノ基、
ニトロ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
C2~C6のハロアルキニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、
C1~C6のハロアルコキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、
C2~C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、
C3~C6のハロアルキニルオキシ基、
Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、
RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、
またはR51C(=O)-(ここで、R51は、水酸基、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、またはC1~C6のアルコキシ基を表す。)を表し;
Xは、酸素原子または硫黄原子を表し;
Yは、式(y-1)、または式(y-2)
Figure 0007328222000002

を表し、
R6は、
ハロゲン原子、
水酸基、
シアノ基、
ニトロ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
C2~C6のハロアルキニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、
C1~C6のハロアルコキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、
C2~C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、
C3~C6のハロアルキニルオキシ基、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアリールオキシ基、
置換基Dで適宜0~2置換されてもよいヘテロアリールオキシ基、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアラルキルオキシ基、
Rx1C(=O)-(ここで、Rx1は、前記と同義である。)、
Rx1C(=O)O-(ここで、Rx1は、前記と同義である。)、
1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基、
Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、
RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、
またはRx2C(=O)N(Rx3)-(ここで、Rx2およびRx3は、前記と同義である。)を表し;
nは、0~3の整数(nが2以上の場合、2以上のR6はそれぞれ独立した置換基を表す。)を表し;
破線部を含む結合は、二重結合、または単結合を表し;
そして、置換基Aは、水酸基、シアノ基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)およびRc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Bは、シアノ基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基およびC3~C8のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Cは、水酸基、シアノ基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、C2~C6のアルコキシアルコキシ基、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記のRx1と同義である。)および1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Dは、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基およびC3~C8のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種である。]で表される化合物、またはその塩。That is, the present invention is as follows.
[1]
formula (1)
Figure 0007328222000001

[In the formula, R is
hydroxyl group,
cyano group,
a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkynyl group,
a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkoxy group,
a C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkenyloxy group,
a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent A,
a C3-C6 haloalkynyloxy group,
or RaRbN- (wherein Ra and Rb are each independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl, or Ra and Rb together with the attached nitrogen atom form an aziridinyl, azetidinyl, pyrrolidinyl, piperidinyl, homopiperidinyl, or azocanyl group). represent;
R2, R3 and R4 are each independently
hydrogen atom,
halogen atom,
hydroxyl group,
cyano group,
nitro group,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkynyl group,
a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkoxy group,
a C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyloxy group,
a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent C,
a C3-C6 haloalkynyloxy group,
an aryloxy group optionally substituted with substituents D from 0 to 5,
a heteroaryloxy group optionally substituted with a substituent D from 0 to 2,
an aralkyloxy group optionally substituted with 0 to 5 substituents D,
Rx1C(=O)-(wherein Rx1 is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above.),
Rx1C(=O)O- (wherein Rx1 has the same definition as above),
a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms;
Rc-L- (wherein Rc represents a C1-C6 alkyl group or a C1-C6 haloalkyl group, and L represents S, SO, or SO2 ),
RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above),
or Rx2C(=O)N(Rx3)- (here, Rx2 is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cyclo an alkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above), and Rx3 is , a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group) represents;
R5 is
hydrogen atom,
halogen atom,
cyano group,
nitro group,
a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkynyl group,
a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkoxy group,
a C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkenyloxy group,
a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent A,
a C3-C6 haloalkynyloxy group,
Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above),
RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above),
or R51C(=O)- (wherein R51 is a hydroxyl group, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, or C1 Represents a C6 alkoxy group.) Represents;
X represents an oxygen atom or a sulfur atom;
Y is formula (y-1), or formula (y-2)
Figure 0007328222000002

represents
R6 is
halogen atom,
hydroxyl group,
cyano group,
nitro group,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkynyl group,
a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkoxy group,
a C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyloxy group,
a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent C,
a C3-C6 haloalkynyloxy group,
an aryloxy group optionally substituted with substituents D from 0 to 5,
a heteroaryloxy group optionally substituted with a substituent D from 0 to 2,
an aralkyloxy group optionally substituted with 0 to 5 substituents D,
Rx1C (=O) - (wherein Rx1 is as defined above),
Rx1C(=O)O- (wherein Rx1 has the same definition as above),
a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms;
Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above),
RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above),
or Rx2C(=O)N(Rx3)- (wherein Rx2 and Rx3 are as defined above);
n represents an integer of 0 to 3 (when n is 2 or more, each of 2 or more R6 represents an independent substituent);
A bond containing a dashed line represents a double bond or a single bond;
Substituent A is a hydroxyl group, a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, RaRbN- (here, Ra and Rb are as defined above) and Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above); at least one selected from the group consisting of;
Substituent B is at least one selected from the group consisting of a cyano group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group and a C3-C8 cycloalkoxy group;
Substituent C is a hydroxyl group, a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, a C2-C6 alkoxyalkoxy group, RaRbN. - (where Ra and Rb are as defined above), Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above), RdC (=O) - (where Rd is the same as Rx1 above.) and at least one selected from the group consisting of a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms;
Substituent D is a halogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1 to C6 haloalkyl group, a C3 to C8 cycloalkyl group, a C1 to It is at least one selected from the group consisting of a C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group and a C3-C8 cycloalkoxy group. ] or a salt thereof.

[2]
R1は、
シアノ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
またはC2~C6のハロアルキニル基を表し;
R2、R3およびR4は、それぞれ独立していて、
水素原子、
ハロゲン原子、
水酸基、
シアノ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、
C1~C6のハロアルコキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、
C2~C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、
C3~C6のハロアルキニルオキシ基、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアラルキルオキシ基、
またはRx1C(=O)O-(ここで、Rx1は、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはRaおよびRbは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)を表す。)を表し;
R5は、
水素原子、
ハロゲン原子、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、
またはR51C(=O)-(ここで、R51は、水酸基、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、またはC1~C6のアルコキシ基を表す。)を表し;
R6は、
ハロゲン原子、
水酸基、
シアノ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、
C1~C6のハロアルコキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、
Rx1C(=O)-(ここで、Rx1は、前記と同義である。)、
Rc-L-(ここで、Rcは、C1~C6のアルキル基またはC1~C6のハロアルキル基を表し、Lは、S、SO、またはSOを表す。)、
またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)を表す、[1]に記載の化合物、またはその塩。
[2]
R1 is
cyano group,
a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A,
or represents a C2-C6 haloalkynyl group;
R2, R3 and R4 are each independently
hydrogen atom,
halogen atom,
hydroxyl group,
cyano group,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkoxy group,
a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyloxy group,
a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent C,
a C3-C6 haloalkynyloxy group,
an aralkyloxy group optionally substituted with 0 to 5 substituents D,
or Rx1C(=O)O- (wherein Rx1 is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN- (wherein Ra and Rb are each independently a hydrogen atom, optionally substituted with a substituent B a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group; represents a group, a piperidinyl group, a homopiperidinyl group, or an azocanyl group.) represents;
R5 is
hydrogen atom,
halogen atom,
a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent A,
a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent A,
or R51C(=O)- (wherein R51 is a hydroxyl group, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1 to C6 haloalkyl group, a C3 to C8 cycloalkyl group, or a C1 Represents a C6 alkoxy group.) Represents;
R6 is
halogen atom,
hydroxyl group,
cyano group,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkoxy group,
a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent C,
a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent C,
Rx1C (=O) - (wherein Rx1 is as defined above),
Rc-L- (wherein Rc represents a C1-C6 alkyl group or a C1-C6 haloalkyl group, and L represents S, SO, or SO2 ),
Or the compound according to [1], or a salt thereof, which represents RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above).

[3]
R1は、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
またはC1~C6のハロアルキル基を表し;
R2、R3およびR4は、それぞれ独立していて、
水素原子、
ハロゲン原子、
水酸基、
シアノ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
または置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基を表し;
R5は、
水素原子、
ハロゲン原子、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
または置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基を表し;
R6は、
ハロゲン原子、
シアノ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
または置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基を表す、[2]に記載の化合物、またはその塩。
[3]
R1 is
a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
or represents a C1-C6 haloalkyl group;
R2, R3 and R4 are each independently
hydrogen atom,
halogen atom,
hydroxyl group,
cyano group,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
or represents a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C;
R5 is
hydrogen atom,
halogen atom,
a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkyl group,
or represents a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A;
R6 is
halogen atom,
cyano group,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkyl group,
Alternatively, the compound according to [2], which represents a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C, or a salt thereof.

[4]
式(2)

Figure 0007328222000003

[式中、R2、R3およびR4は、それぞれ独立していて、
水素原子、
ハロゲン原子、
水酸基、
シアノ基、
ニトロ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
C2~C6のハロアルキニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、
C1~C6のハロアルコキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、
C2~C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、
C3~C6のハロアルキニルオキシ基、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアリールオキシ基、
置換基Dで適宜0~2置換されてもよいヘテロアリールオキシ基、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアラルキルオキシ基、
Rx1C(=O)-(ここで、Rx1は、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはRaおよびRbは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)を表す。)、
Rx1C(=O)O-(ここで、Rx1は、前記と同義である。)、
1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基、
Rc-L-(ここで、Rcは、C1~C6のアルキル基またはC1~C6のハロアルキル基を表し、Lは、S、SO、またはSOを表す。)、
RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、
またはRx2C(=O)N(Rx3)-(ここで、Rx2は、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)を表し、Rx3は、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表す。)を表し;
R5は、
水素原子、
ハロゲン原子、
シアノ基、
ニトロ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
C2~C6のハロアルキニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、
C1~C6のハロアルコキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、
C2~C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、
C3~C6のハロアルキニルオキシ基、
Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、
RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、
またはR51C(=O)-(ここで、R51は、水酸基、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、またはC1~C6のアルコキシ基を表す。)を表し;
Xは、酸素原子または硫黄原子を表し;
Yは、式(y-1)、または式(y-2)
Figure 0007328222000004

を表し、
R6は、
ハロゲン原子、
水酸基、
シアノ基、
ニトロ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
C2~C6のハロアルキニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、
C1~C6のハロアルコキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、
C2~C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、
C3~C6のハロアルキニルオキシ基、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアリールオキシ基、
置換基Dで適宜0~2置換されてもよいヘテロアリールオキシ基、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアラルキルオキシ基、
Rx1C(=O)-(ここで、Rx1は、前記と同義である。)、
Rx1C(=O)O-(ここで、Rx1は、前記と同義である。)、
1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基、
Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、
RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、
またはRx2C(=O)N(Rx3)-(ここで、Rx2およびRx3は、前記と同義である。)を表し;
nは、0~3の整数(nが2以上の場合、2以上のR6はそれぞれ独立した置換基を表す。)を表し;
そして、置換基Aは、水酸基、シアノ基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)およびRc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Bは、シアノ基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基およびC3~C8のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Cは、水酸基、シアノ基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、C2~C6のアルコキシアルコキシ基、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記のRx1と同義である。)および1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Dは、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基およびC3~C8のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種である。]で表される化合物、またはその塩。[4]
formula (2)
Figure 0007328222000003

[wherein R2, R3 and R4 are each independently
hydrogen atom,
halogen atom,
hydroxyl group,
cyano group,
nitro group,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkynyl group,
a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkoxy group,
a C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyloxy group,
a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent C,
a C3-C6 haloalkynyloxy group,
an aryloxy group optionally substituted with substituents D from 0 to 5,
a heteroaryloxy group optionally substituted with a substituent D from 0 to 2,
an aralkyloxy group optionally substituted with 0 to 5 substituents D,
Rx1C(=O)-(wherein Rx1 is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN- (wherein Ra and Rb are each independently a hydrogen atom, C1 ∼C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, or C3-C8 cycloalkyl group, or Ra and Rb together with the bonding nitrogen atom are aziridinyl, azetidinyl, pyrrolidinyl, which forms a piperidinyl group, a homopiperidinyl group, or an azocanyl group).),
Rx1C(=O)O- (wherein Rx1 has the same definition as above),
a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms;
Rc-L- (wherein Rc represents a C1-C6 alkyl group or a C1-C6 haloalkyl group, and L represents S, SO, or SO2 ),
RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above),
or Rx2C(=O)N(Rx3)- (here, Rx2 is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cyclo an alkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above), and Rx3 is , a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group) represents;
R5 is
hydrogen atom,
halogen atom,
cyano group,
nitro group,
a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkynyl group,
a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkoxy group,
a C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkenyloxy group,
a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent A,
a C3-C6 haloalkynyloxy group,
Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above),
RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above),
or R51C(=O)- (wherein R51 is a hydroxyl group, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, or C1 Represents a C6 alkoxy group.) Represents;
X represents an oxygen atom or a sulfur atom;
Y is formula (y-1), or formula (y-2)
Figure 0007328222000004

represents
R6 is
halogen atom,
hydroxyl group,
cyano group,
nitro group,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkynyl group,
a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkoxy group,
a C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyloxy group,
a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent C,
a C3-C6 haloalkynyloxy group,
an aryloxy group optionally substituted with substituents D from 0 to 5,
a heteroaryloxy group optionally substituted with a substituent D from 0 to 2,
an aralkyloxy group optionally substituted with 0 to 5 substituents D,
Rx1C (=O) - (wherein Rx1 is as defined above),
Rx1C(=O)O- (wherein Rx1 has the same definition as above),
a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms;
Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above),
RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above),
or Rx2C(=O)N(Rx3)- (wherein Rx2 and Rx3 are as defined above);
n represents an integer of 0 to 3 (when n is 2 or more, each of 2 or more R6 represents an independent substituent);
Substituent A is a hydroxyl group, a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, RaRbN- (here, Ra and Rb are as defined above) and Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above); at least one selected from the group consisting of;
Substituent B is at least one selected from the group consisting of a cyano group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group and a C3-C8 cycloalkoxy group;
Substituent C is a hydroxyl group, a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, a C2-C6 alkoxyalkoxy group, RaRbN. - (where Ra and Rb are as defined above), Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above), RdC (=O) - (where Rd is the same as Rx1 above.) and at least one selected from the group consisting of a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms;
Substituent D is a halogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1 to C6 haloalkyl group, a C3 to C8 cycloalkyl group, a C1 to It is at least one selected from the group consisting of a C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group and a C3-C8 cycloalkoxy group. ] or a salt thereof.

[5]
[1]に記載の化合物、またはその塩を有効成分として含有する農園芸用有害生物防除剤。
[6]
[1]に記載の化合物、またはその塩を有効成分として含有する農園芸用殺菌剤。
[7]
[5]に記載の農園芸用有害生物防除剤を、植物、植物の種子、または植物を栽培する土壌に施用することを含む、植物病害を防除する方法。
[8]
[6]に記載の農園芸用殺菌剤を、植物、植物の種子、または植物を栽培する土壌に施用することを含む、植物病害を防除する方法。
[5]
An agricultural and horticultural pest control agent containing the compound according to [1] or a salt thereof as an active ingredient.
[6]
An agricultural or horticultural fungicide containing the compound according to [1] or a salt thereof as an active ingredient.
[7]
A method for controlling plant diseases, which comprises applying the agricultural and horticultural pest control agent according to [5] to plants, plant seeds, or soil for cultivating plants.
[8]
A method for controlling plant diseases, which comprises applying the agricultural and horticultural fungicide according to [6] to plants, plant seeds, or soil for cultivating plants.

本発明によれば、農園芸用殺菌剤として有効である新規な化合物を提供することができる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide a novel compound that is effective as an agricultural and horticultural fungicide.

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。
なお、特許請求の範囲および明細書中において用いられる各用語は、特に断らない限り、当該技術分野において一般的に用いられる定義によるものとする。
Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail.
Unless otherwise specified, each term used in the claims and the specification shall be defined as generally used in the technical field.

本明細書において、使用する略号を以下に説明する。 The abbreviations used in this specification are described below.

DMF:N,N-ジメチルホルムアミド、THF:テトラヒドロフラン、Me:メチル基、Et:エチル基、Pr:プロピル基、Bu:ブチル基、Ac:アセチル基、Ph:フェニル基、2-Thio:チオフェン-2-イル基、3-Thio:チオフェン-3-イル基、c:シクロ、i:イソ、sec:セカンダリ、t:ターシャリ、=:二重結合、≡:三重結合を表す。表のカラム中、Pr、Buに関しては、接頭辞がない場合は、ノルマルを意味する。 DMF: N,N-dimethylformamide, THF: tetrahydrofuran, Me: methyl group, Et: ethyl group, Pr: propyl group, Bu: butyl group, Ac: acetyl group, Ph: phenyl group, 2-Thio: thiophene-2 -yl group, 3-Thio: thiophen-3-yl group, c: cyclo, i: iso, sec: secondary, t: tertiary, =: double bond, ≡: triple bond. Pr and Bu in the columns of the table mean normal if there is no prefix.

以下に、本明細書中に使用される用語の定義を説明する。 Definitions of terms used in this specification are described below.

Cx~Cyとの記載は、x個からy個の炭素原子を有することを表す。ここで、x及びyは整数を表し、また、xとyとの間に存在する全ての整数も個別に開示されているものと理解される。例えば、C1~C6は、1、2、3、4、5、または6個の炭素原子を、C1~C5は、1、2、3、4、または5個の炭素原子を、C1~C3は、1、2、または3個の炭素原子を、C2~C6は、2、3、4、5、または6個の炭素原子を、C3~C8は、3、4、5、6、7、または8個の炭素原子を、C3~C6は、3、4、5、または6個の炭素原子を、それぞれ有することを意味する。 The description Cx-Cy represents having x to y carbon atoms. It is understood that x and y represent integers and that all integers between x and y are also individually disclosed. For example, C1-C6 are 1, 2, 3, 4, 5, or 6 carbon atoms, C1-C5 are 1, 2, 3, 4, or 5 carbon atoms, C1-C3 are , 1, 2, or 3 carbon atoms; C2-C6, 2, 3, 4, 5, or 6 carbon atoms; C3-C8, 3, 4, 5, 6, 7, or 8 carbon atoms and C3-C6 means having 3, 4, 5, or 6 carbon atoms, respectively.

用語「適宜置換されてもよい」とは、置換または無置換であることを意味する。この用語を用いる際、置換基の数が明示されていないときは、置換基の数は1であることを表す。一方で、例えば、「適宜0~5置換されてもよい」と置換基の数が指定されている場合、0と5との間に存在する全ての整数も個別に開示されているものと理解される。即ち、置換基が、なし、1、2、3、4、または5個の置換基数であることを意味する。同様に、「適宜0~4置換されてもよい」では、置換基が、なし、1、2、3、または4個の置換基数を、「適宜0~3置換されてもよい」では、なし、1、2、または3個の置換基数を、「適宜0~2置換されてもよい」では、なし、1、または2個の置換基数を、それぞれ有することを意味する。 The term "optionally substituted" means substituted or unsubstituted. In using this term, if the number of substituents is not specified, it means that the number of substituents is one. On the other hand, for example, when the number of substituents is specified as "optionally substituted with 0 to 5", it is understood that all integers between 0 and 5 are also individually disclosed. be done. That is, it means that there are none, 1, 2, 3, 4, or 5 substituents. Similarly, in "optionally substituted with 0 to 4 substituents", the number of substituents is none, 1, 2, 3, or 4, and in "optionally 0 to 3 substituted", none , 1, 2, or 3 substituents, and “optionally substituted with 0 to 2 substituents” means having none, 1, or 2 substituents, respectively.

C1~C6のアルキル基とは、直鎖状または分岐状でよく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、1-メチルブチル基、2-メチルブチル基、ネオペンチル基、1-エチルプロピル基、1,2-ジメチルプロピル基、ヘキシル基、1-メチルペンチル基、2-メチルペンチル基、3-メチルペンチル基、4-メチルペンチル基、1,1-ジメチルブチル基、2,2-ジメチルブチル基、3,3-ジメチルブチル基、1,2-ジメチルブチル基、1,3-ジメチルブチル基、2,3-ジメチルブチル基、2-エチルブチル基、1-イソプロピルプロピル基、1,1,2-トリメチルプロピル基、1,2,2-トリメチルプロピル基等が挙げられる。 The C1-C6 alkyl group may be linear or branched, and specifically includes a methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group and t-butyl group. , pentyl group, isopentyl group, 1-methylbutyl group, 2-methylbutyl group, neopentyl group, 1-ethylpropyl group, 1,2-dimethylpropyl group, hexyl group, 1-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 3 -methylpentyl group, 4-methylpentyl group, 1,1-dimethylbutyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 3,3-dimethylbutyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 1,3-dimethylbutyl group , 2,3-dimethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, 1-isopropylpropyl group, 1,1,2-trimethylpropyl group, 1,2,2-trimethylpropyl group and the like.

ハロゲン原子とは、具体的には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。 The halogen atom specifically includes a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom and the like.

C1~C6のハロアルキル基とは、前記のC1~C6のアルキル基における水素原子が1個または2個以上のハロゲン原子によって任意に置換されたものを表す。2個以上のハロゲン原子で置換される場合、それらのハロゲン原子は同一または異なっていてよく、その置換数は置換基として存在することができる限り特に制限はない。C1~C6のハロアルキル基の具体例として、モノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、モノクロロメチル基、モノブロモメチル基、モノヨードメチル基、クロロジフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基、1-フルオロエチル基、2-フルオロエチル基、1,1-ジフルオロエチル基、2,2-ジフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、1,1,2,2-テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、2,2,2-トリクロロエチル基、3,3-ジフルオロプロピル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基、ヘプタフルオロプロピル基、ヘプタフルオロイソプロピル基、2,2,2-トリフルオロ-1-(トリフルオロメチル)エチル基、ノナフルオロブチル基、ノナフルオロ-sec-ブチル基、3,3,4,4,5,5,5-ヘプタフルオロペンチル基、ウンデカフルオロペンチル基、トリデカフルオロヘキシル基等が挙げられる。 The C1-C6 haloalkyl group represents a C1-C6 alkyl group in which hydrogen atoms in the above-mentioned C1-C6 alkyl groups are optionally substituted with one or more halogen atoms. When substituted with two or more halogen atoms, those halogen atoms may be the same or different, and the number of substitutions is not particularly limited as long as they can exist as substituents. Specific examples of C1 to C6 haloalkyl groups include monofluoromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, monochloromethyl group, monobromomethyl group, monoiodomethyl group, chlorodifluoromethyl group, bromodifluoromethyl group, 1 -fluoroethyl group, 2-fluoroethyl group, 1,1-difluoroethyl group, 2,2-difluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 1,1,2,2-tetrafluoroethyl group , pentafluoroethyl group, 2,2,2-trichloroethyl group, 3,3-difluoropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, heptafluoropropyl group, heptafluoroisopropyl group, 2,2,2 -trifluoro-1-(trifluoromethyl)ethyl group, nonafluorobutyl group, nonafluoro-sec-butyl group, 3,3,4,4,5,5,5-heptafluoropentyl group, undecafluoropentyl group , tridecafluorohexyl group, and the like.

C3~C8のシクロアルキル基とは、具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等が挙げられる。 The C3-C8 cycloalkyl group specifically includes a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group and the like.

C2~C6のアルケニル基とは、1個または2個以上の二重結合を有し、直鎖状または分岐状である不飽和炭化水素基のものを表す。また、幾何異性体がある場合、E体またはZ体のどちらか一方のみ、あるいはE体とZ体との任意の割合の混合物であり、指定される炭素数の範囲であれば、特に限定されることはない。C2~C6のアルケニル基の具体例として、ビニル基、1-プロペニル基、アリル基、1-ブテニル基、2-ブテニル基、3-ブテニル基、1-ペンテニル基、2-ペンテニル基、3-ペンテニル基、4-ペンテニル基、3-メチル-2-ブテニル基、1-ヘキセニル基、2-ヘキセニル基、3-ヘキセニル基、4-ヘキセニル基、5-ヘキセニル基、4-メチル-3-ペンテニル基、3-メチル-2-ペンテニル基等が挙げられる。 The C2-C6 alkenyl group means a linear or branched unsaturated hydrocarbon group having one or more double bonds. In addition, when there is a geometric isomer, it is either E-isomer or Z-isomer only, or a mixture of E-isomer and Z-isomer in any ratio, and if it is within the specified carbon number range, it is not particularly limited. never Specific examples of C2-C6 alkenyl groups include vinyl, 1-propenyl, allyl, 1-butenyl, 2-butenyl, 3-butenyl, 1-pentenyl, 2-pentenyl and 3-pentenyl. group, 4-pentenyl group, 3-methyl-2-butenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 3-hexenyl group, 4-hexenyl group, 5-hexenyl group, 4-methyl-3-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group and the like.

C2~C6のハロアルケニル基とは、前記のC2~C6のアルケニル基における水素原子が1個または2個以上のハロゲン原子によって任意に置換されたものを表す。2個以上のハロゲン原子で置換される場合、それらのハロゲン原子は同一または異なっていてよく、その置換数は置換基として存在することができる限り特に制限はない。C2~C6のハロアルケニル基の具体例として、2-フルオロビニル基、2,2-ジフルオロビニル基、2,2-ジクロロビニル基、3-フルオロアリル基、3,3-ジフルオロアリル基、3,3-ジクロロアリル基、4,4-ジフルオロ-3-ブテニル基、5,5-ジフルオロ-4-ペンテニル基、6,6-ジフルオロ-5-ヘキセニル基等が挙げられる。 The C2-C6 haloalkenyl group represents a C2-C6 alkenyl group in which hydrogen atoms in the above-mentioned C2-C6 alkenyl groups are optionally substituted with one or more halogen atoms. When substituted with two or more halogen atoms, those halogen atoms may be the same or different, and the number of substitutions is not particularly limited as long as they can exist as substituents. Specific examples of C2 to C6 haloalkenyl groups include 2-fluorovinyl group, 2,2-difluorovinyl group, 2,2-dichlorovinyl group, 3-fluoroallyl group, 3,3-difluoroallyl group, 3, 3-dichloroallyl group, 4,4-difluoro-3-butenyl group, 5,5-difluoro-4-pentenyl group, 6,6-difluoro-5-hexenyl group and the like.

C2~C6のアルキニル基とは、1個または2個以上の三重結合を有し、直鎖状または分岐状である不飽和炭化水素基のものを表す。C2~C6のアルキニル基の具体例として、エチニル基、1-プロピニル基、プロパルギル基、1-ブチニル基、2-ブチニル基、3-ブチニル基、1-ペンチニル基、2-ペンチニル基、3-ペンチニル基、4-ペンチニル基、1,1-ジメチル-2-プロピニル基、1-ヘキシニル基、2-ヘキシニル基、3-ヘキシニル基、4-ヘキシニル基、5-ヘキシニル基等が挙げられる。 The C2-C6 alkynyl group represents a linear or branched unsaturated hydrocarbon group having one or more triple bonds. Specific examples of C2-C6 alkynyl groups include ethynyl, 1-propynyl, propargyl, 1-butynyl, 2-butynyl, 3-butynyl, 1-pentynyl, 2-pentynyl and 3-pentynyl. group, 4-pentynyl group, 1,1-dimethyl-2-propynyl group, 1-hexynyl group, 2-hexynyl group, 3-hexynyl group, 4-hexynyl group, 5-hexynyl group and the like.

C2~C6のハロアルキニル基とは、前記のC2~C6のアルキニル基における水素原子が1個または2個以上のハロゲン原子によって任意に置換されたものを表す。2個以上のハロゲン原子で置換される場合、それらのハロゲン原子は同一または異なっていてよく、その置換数は置換基として存在することができる限り特に制限はない。C2~C6のハロアルキニル基の具体例として、2-フルオロエチニル基、2-クロロエチニル基、2-ブロモエチニル基、2-ヨードエチニル基、3,3-ジフルオロ-1-プロピニル基、3-クロロ-3,3-ジフルオロ-1-プロピニル基、3-ブロモ-3,3-ジフルオロ-1-プロピニル基、3,3,3-トリフルオロ-1-プロピニル基、4,4-ジフルオロ-1-ブチニル基、4,4-ジフルオロ-2-ブチニル基、4-クロロ-4,4-ジフルオロ-1-ブチニル基、4-クロロ-4,4-ジフルオロ-2-ブチニル基、4-ブロモ-4,4-ジフルオロ-1-ブチニル基、4-ブロモ-4,4-ジフルオロ-2-ブチニル基、4,4,4-トリフルオロ-1-ブチニル基、4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニル基、5,5-ジフルオロ-3-ペンチニル基、5-クロロ-5,5-ジフルオロ-3-ペンチニル基、5-ブロモ-5,5-ジフルオロ-3-ペンチニル基、5,5,5-トリフルオロ-3-ペンチニル基、6,6-ジフルオロ-4-ヘキシニル基、6-クロロ-6,6-ジフルオロ-4-ヘキシニル基、6-ブロモ-6,6-ジフルオロ-4-ヘキシニル基、6,6,6-トリフルオロ-4-ヘキシニル基等が挙げられる。 The C2-C6 haloalkynyl group represents a C2-C6 alkynyl group in which hydrogen atoms in the above C2-C6 alkynyl group are optionally substituted with one or more halogen atoms. When substituted with two or more halogen atoms, those halogen atoms may be the same or different, and the number of substitutions is not particularly limited as long as they can exist as substituents. Specific examples of C2 to C6 haloalkynyl groups include 2-fluoroethynyl, 2-chloroethynyl, 2-bromoethynyl, 2-iodoethynyl, 3,3-difluoro-1-propynyl, 3-chloro -3,3-difluoro-1-propynyl group, 3-bromo-3,3-difluoro-1-propynyl group, 3,3,3-trifluoro-1-propynyl group, 4,4-difluoro-1-butynyl group, 4,4-difluoro-2-butynyl group, 4-chloro-4,4-difluoro-1-butynyl group, 4-chloro-4,4-difluoro-2-butynyl group, 4-bromo-4,4 -difluoro-1-butynyl group, 4-bromo-4,4-difluoro-2-butynyl group, 4,4,4-trifluoro-1-butynyl group, 4,4,4-trifluoro-2-butynyl group , 5,5-difluoro-3-pentynyl group, 5-chloro-5,5-difluoro-3-pentynyl group, 5-bromo-5,5-difluoro-3-pentynyl group, 5,5,5-trifluoro -3-pentynyl group, 6,6-difluoro-4-hexynyl group, 6-chloro-6,6-difluoro-4-hexynyl group, 6-bromo-6,6-difluoro-4-hexynyl group, 6,6 , 6-trifluoro-4-hexynyl group and the like.

C1~C6のアルコキシ基とは、前記のC1~C6のアルキル基が酸素原子を介して結合したものを表す。C1~C6のアルコキシ基の具体例として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、t-ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、1-メチルブトキシ基、2-メチルブトキシ基、ネオペンチルオキシ基、1-エチルプロピルオキシ基、1,2-ジメチルプロピルオキシ基、ヘキシルオキシ基、1-メチルペンチルオキシ基、2-メチルペンチルオキシ基、3-メチルペンチルオキシ基、4-メチルペンチルオキシ基、1,1-ジメチルブトキシ基、2,2-ジメチルブトキシ基、3,3-ジメチルブトキシ基、1,2-ジメチルブトキシ基、1,3-ジメチルブトキシ基、2,3-ジメチルブトキシ基、2-エチルブトキシ基、1-イソプロピルプロピルオキシ基、1,1,2-トリメチルプロピルオキシ基、1,2,2-トリメチルプロピルオキシ基等が挙げられる。 The C1-C6 alkoxy group represents a C1-C6 alkyl group bonded via an oxygen atom. Specific examples of C1-C6 alkoxy groups include methoxy, ethoxy, propyloxy, isopropyloxy, butoxy, isobutoxy, sec-butoxy, t-butoxy, pentyloxy, isopentyloxy, 1-methylbutoxy group, 2-methylbutoxy group, neopentyloxy group, 1-ethylpropyloxy group, 1,2-dimethylpropyloxy group, hexyloxy group, 1-methylpentyloxy group, 2-methylpentyloxy group , 3-methylpentyloxy group, 4-methylpentyloxy group, 1,1-dimethylbutoxy group, 2,2-dimethylbutoxy group, 3,3-dimethylbutoxy group, 1,2-dimethylbutoxy group, 1,3 -dimethylbutoxy group, 2,3-dimethylbutoxy group, 2-ethylbutoxy group, 1-isopropylpropyloxy group, 1,1,2-trimethylpropyloxy group, 1,2,2-trimethylpropyloxy group and the like. be done.

C1~C6のハロアルコキシ基とは、前記のC1~C6のアルコキシ基における水素原子が1個または2個以上のハロゲン原子によって任意に置換されたものを表す。2個以上のハロゲン原子で置換される場合、それらのハロゲン原子は同一または異なっていてよく、その置換数は置換基として存在することができる限り特に制限はない。C1~C6のハロアルコキシ基の具体例として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、クロロジフルオロメトキシ基、ブロモジフルオロメトキシ基、2-フルオロエトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、1,1,2,2-テトラフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、2,2,2-トリクロロエトキシ基、3,3-ジフルオロプロピルオキシ基、3,3,3-トリフルオロプロピルオキシ基、ヘプタフルオロプロピルオキシ基、ヘプタフルオロイソプロピルオキシ基、2,2,2-トリフルオロ-1-(トリフルオロメチル)-エトキシ基、ノナフルオロブトキシ基、ノナフルオロ-sec-ブトキシ基、3,3,4,4,5,5,5-ヘプタフルオロペンチルオキシ基、ウンデカフルオロペンチルオキシ基、トリデカフルオロヘキシルオキシ基等が挙げられる。 The C1-C6 haloalkoxy group represents a C1-C6 alkoxy group in which hydrogen atoms in the above-mentioned C1-C6 alkoxy groups are optionally substituted with one or more halogen atoms. When substituted with two or more halogen atoms, those halogen atoms may be the same or different, and the number of substitutions is not particularly limited as long as they can exist as substituents. Specific examples of C1 to C6 haloalkoxy groups include difluoromethoxy, trifluoromethoxy, chlorodifluoromethoxy, bromodifluoromethoxy, 2-fluoroethoxy, 2,2-difluoroethoxy, 2,2,2 -trifluoroethoxy group, 1,1,2,2-tetrafluoroethoxy group, pentafluoroethoxy group, 2,2,2-trichloroethoxy group, 3,3-difluoropropyloxy group, 3,3,3-tri fluoropropyloxy group, heptafluoropropyloxy group, heptafluoroisopropyloxy group, 2,2,2-trifluoro-1-(trifluoromethyl)-ethoxy group, nonafluorobutoxy group, nonafluoro-sec-butoxy group, 3 , 3,4,4,5,5,5-heptafluoropentyloxy group, undecafluoropentyloxy group, tridecafluorohexyloxy group and the like.

C3~C8のシクロアルコキシ基とは、前記のC3~C8のシクロアルキル基が酸素原子を介して結合したものを表す。C3~C8のシクロアルコキシ基の具体例として、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、シクロオクチルオキシ基等が挙げられる。 The C3-C8 cycloalkoxy group represents a C3-C8 cycloalkyl group bonded via an oxygen atom. Specific examples of the C3-C8 cycloalkoxy groups include cyclopropyloxy, cyclobutoxy, cyclopentyloxy, cyclohexyloxy, cycloheptyloxy, cyclooctyloxy and the like.

C2~C6のアルケニルオキシ基とは、前記のC2~C6のアルケニル基が酸素原子を介して結合したものを表す。また、幾何異性体がある場合、E体またはZ体のどちらか一方のみ、あるいはE体とZ体との任意の割合の混合物であり、指定される炭素数の範囲であれば、特に制限されることはない。C2~C6のアルケニルオキシ基の具体例として、ビニルオキシ基、1-プロペニルオキシ基、アリルオキシ基、1-ブテニルオキシ基、2-ブテニルオキシ基、3-ブテニルオキシ基、1-ペンテニルオキシ基、2-ペンテニルオキシ基、3-ペンテニルオキシ基、4-ペンテニルオキシ基、3-メチル-2-ブテニルオキシ基、1-ヘキセニルオキシ基、2-ヘキセニルオキシ基、3-ヘキセニルオキシ基、4-ヘキセニルオキシ基、5-ヘキセニルオキシ基、3-メチル-2-ペンテニルオキシ基、4-メチル-3-ペンテニルオキシ基等が挙げられる。 The C2-C6 alkenyloxy group represents a C2-C6 alkenyl group bonded via an oxygen atom. In addition, when there is a geometric isomer, it is either the E isomer or the Z isomer alone, or a mixture of the E isomer and the Z isomer in an arbitrary ratio, and if it is within the specified carbon number range, it is not particularly limited. never Specific examples of C2 to C6 alkenyloxy groups include vinyloxy, 1-propenyloxy, allyloxy, 1-butenyloxy, 2-butenyloxy, 3-butenyloxy, 1-pentenyloxy and 2-pentenyloxy groups. , 3-pentenyloxy group, 4-pentenyloxy group, 3-methyl-2-butenyloxy group, 1-hexenyloxy group, 2-hexenyloxy group, 3-hexenyloxy group, 4-hexenyloxy group, 5-hexenyloxy group, 3-methyl-2-pentenyloxy group, 4-methyl-3-pentenyloxy group and the like.

C2~C6のハロアルケニルオキシ基とは、前記のC2~C6のアルケニルオキシ基における水素原子が1個または2個以上のハロゲン原子によって任意に置換されたものを表す。2個以上のハロゲン原子で置換される場合、それらのハロゲン原子は同一または異なっていてよく、その置換数は置換基として存在することができる限り特に制限はない。C2~C6のハロアルケニルオキシ基の具体例として、2-フルオロビニルオキシ基、2,2-ジフルオロビニルオキシ基、2,2-ジクロロビニルオキシ基、3-フルオロアリルオキシ基、3,3-ジフルオロアリルオキシ基、3,3-ジクロロアリルオキシ基、4,4-ジフルオロ-3-ブテニルオキシ基、5,5-ジフルオロ-4-ペンテニルオキシ基、6,6-ジフルオロ-5-ヘキセニルオキシ基等が挙げられる。 The C2-C6 haloalkenyloxy group represents a C2-C6 alkenyloxy group in which the hydrogen atoms in the above C2-C6 alkenyloxy group are optionally substituted with one or more halogen atoms. When substituted with two or more halogen atoms, those halogen atoms may be the same or different, and the number of substitutions is not particularly limited as long as they can exist as substituents. Specific examples of C2 to C6 haloalkenyloxy groups include 2-fluorovinyloxy, 2,2-difluorovinyloxy, 2,2-dichlorovinyloxy, 3-fluoroallyloxy, and 3,3-difluoro allyloxy group, 3,3-dichloroallyloxy group, 4,4-difluoro-3-butenyloxy group, 5,5-difluoro-4-pentenyloxy group, 6,6-difluoro-5-hexenyloxy group and the like. be done.

C3~C6のアルキニルオキシ基とは、前記のC2~C6のアルキニル基のうち、C3~C6のアルキニル基が酸素原子を介して結合したものを表す。C3~C6のアルキニルオキシ基の具体例として、プロパルギルオキシ基、2-ブチニルオキシ基、3-ブチニルオキシ基、2-ペンチニルオキシ基、3-ペンチニルオキシ基、4-ペンチニルオキシ基、1,1-ジメチル-2-プロピニルオキシ基、2-ヘキシニルオキシ基、3-ヘキシニルオキシ基、4-ヘキシニルオキシ基、5-ヘキシニルオキシ基等が挙げられる。 The C3-C6 alkynyloxy group represents a C3-C6 alkynyl group among the above-mentioned C2-C6 alkynyl groups bonded through an oxygen atom. Specific examples of C3-C6 alkynyloxy groups include propargyloxy, 2-butynyloxy, 3-butynyloxy, 2-pentynyloxy, 3-pentynyloxy, 4-pentynyloxy, 1,1 -dimethyl-2-propynyloxy group, 2-hexynyloxy group, 3-hexynyloxy group, 4-hexynyloxy group, 5-hexynyloxy group and the like.

C3~C6のハロアルキニルオキシ基とは、前記のC3~C6のアルキニルオキシ基における水素原子が1個または2個以上のハロゲン原子によって任意に置換されたものを表す。2個以上のハロゲン原子で置換される場合、それらのハロゲン原子は同一または異なっていてよく、その置換数は置換基として存在することができる限り特に制限はない。C3~C6のハロアルキニルオキシ基の具体例として、1,1-ジフルオロ-2-プロピニルオキシ基、4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、4-クロロ-4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、4-ブロモ-4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニルオキシ基、5,5-ジフルオロ-3-ペンチニルオキシ基、5-クロロ-5,5-ジフルオロ-3-ペンチニルオキシ基、5-ブロモ-5,5-ジフルオロ-3-ペンチニルオキシ基、5,5,5-トリフルオロ-3-ペンチニルオキシ基、6,6-ジフルオロ-4-ヘキシニルオキシ基、6-クロロ-6,6-ジフルオロ-4-ヘキシニルオキシ基、6-ブロモ-6,6-ジフルオロ-4-ヘキシニルオキシ基、6,6,6-トリフルオロ-4-ヘキシニルオキシ基等が挙げられる。 The C3-C6 haloalkynyloxy group represents a C3-C6 alkynyloxy group in which the hydrogen atoms in the above-mentioned C3-C6 alkynyloxy group are optionally substituted with one or more halogen atoms. When substituted with two or more halogen atoms, those halogen atoms may be the same or different, and the number of substitutions is not particularly limited as long as they can exist as substituents. Specific examples of C3-C6 haloalkynyloxy groups include 1,1-difluoro-2-propynyloxy group, 4,4-difluoro-2-butynyloxy group and 4-chloro-4,4-difluoro-2-butynyloxy group. , 4-bromo-4,4-difluoro-2-butynyloxy group, 4,4,4-trifluoro-2-butynyloxy group, 5,5-difluoro-3-pentynyloxy group, 5-chloro-5,5 -difluoro-3-pentynyloxy group, 5-bromo-5,5-difluoro-3-pentynyloxy group, 5,5,5-trifluoro-3-pentynyloxy group, 6,6-difluoro-4 -hexynyloxy group, 6-chloro-6,6-difluoro-4-hexynyloxy group, 6-bromo-6,6-difluoro-4-hexynyloxy group, 6,6,6-trifluoro-4-hexynyloxy group and the like. be done.

アリールオキシ基とは、フェニル基、ナフチル基等のアリール基が酸素原子を介して結合したものを表す。アリールオキシ基の具体例として、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等が挙げられる。 An aryloxy group represents an aryl group such as a phenyl group or a naphthyl group bonded through an oxygen atom. Specific examples of aryloxy groups include a phenoxy group and a naphthyloxy group.

ヘテロアリールオキシ基とは、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、テトラジニル基、チエニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、チアジアゾリル基、フリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、テトラゾリル基等のヘテロアリール基が酸素原子を介して結合したものを表す。ヘテロアリールオキシ基の具体例として、ピリジルオキシ基、ピリダジニルオキシ基、ピリミジニルオキシ基、ピラジニルオキシ基、トリアジニルオキシ基、テトラジニルオキシ基、チエニルオキシ基、チアゾリルオキシ基、イソチアゾリルオキシ基、チアジアゾリルオキシ基、フリルオキシ基、ピロリルオキシ基、イミダゾリルオキシ基、ピラゾリルオキシ基、オキサゾリルオキシ基、イソオキサゾリルオキシ基、トリアゾリルオキシ基、オキサジアゾリルオキシ基、チアジアゾリルオキシ基、テトラゾリルオキシ基等が挙げられる。 Heteroaryloxy group means pyridyl group, pyridazinyl group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group, triazinyl group, tetrazinyl group, thienyl group, thiazolyl group, isothiazolyl group, thiadiazolyl group, furyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, oxazolyl group, an isoxazolyl group, a triazolyl group, an oxadiazolyl group, a thiadiazolyl group, a heteroaryl group such as a tetrazolyl group bonded via an oxygen atom. Specific examples of heteroaryloxy groups include pyridyloxy, pyridazinyloxy, pyrimidinyloxy, pyrazinyloxy, triazinyloxy, tetrazinyloxy, thienyloxy, thiazolyloxy, and isothiazolyloxy. group, thiadiazolyloxy group, furyloxy group, pyrrolyloxy group, imidazolyloxy group, pyrazolyloxy group, oxazolyloxy group, isoxazolyloxy group, triazolyloxy group, oxadiazolyloxy group, thiadiazolyl oxy group, tetrazolyloxy group and the like.

アラルキルオキシ基とは、C1~C3のアルキル基における水素原子がフェニル基、ナフチル基等のアリール基で置換されたものであるアラルキル基が、酸素原子を介して結合したものを表す。アラルキルオキシ基の具体例として、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、フェニルプロピルオキシ基、ナフタレニルメトキシ基、ナフタレニルエトキシ基、ナフタレニルプロピルオキシ基等が挙げられる。 An aralkyloxy group is an aralkyl group in which a hydrogen atom in a C1-C3 alkyl group is substituted with an aryl group such as a phenyl group or a naphthyl group, bonded via an oxygen atom. Specific examples of aralkyloxy groups include benzyloxy, phenethyloxy, phenylpropyloxy, naphthalenylmethoxy, naphthalenylethoxy, and naphthalenylpropyloxy groups.

1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基の具体例として、1,2-エポキシエタニル基、オキセタニル基、オキソラニル基、オキサニル基、1,3-ジオキソラニル基、1,3-ジオキサニル基、1,4-ジオキサニル基等が挙げられる。 Specific examples of 3- to 6-membered ring groups containing 1-2 oxygen atoms include 1,2-epoxyethanyl, oxetanyl, oxolanyl, oxanyl, 1,3-dioxolanyl, 1,3- dioxanyl group, 1,4-dioxanyl group and the like.

C2~C6のアルコキシアルコキシ基とは、前記のC1~C6のアルコキシ基のうちC1~C5のアルコキシ基における水素原子が、1個または2個以上のC1~C5アルコキシ基で任意に置換されたものを表す。炭素数の総和が指定される炭素数の範囲であれば、特に限定されることはない。C2~C6のアルコキシアルコキシ基の具体例として、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、プロピルオキシメトキシ基、イソプロピルオキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシ基、イソプロピルオキシエトキシ基、メトキシプロピルオキシ基、エトキシプロピルオキシ基、プロピルオキシプロピルオキシ基、イソプロピルオキシプロピルオキシ基等が挙げられる。 The C2-C6 alkoxyalkoxy group is a C1-C6 alkoxy group in which hydrogen atoms in the C1-C5 alkoxy group are optionally substituted with one or more C1-C5 alkoxy groups. represents There is no particular limitation as long as the total number of carbon atoms is within the specified carbon number range. Specific examples of C2-C6 alkoxyalkoxy groups include methoxymethoxy, ethoxymethoxy, propyloxymethoxy, isopropyloxymethoxy, methoxyethoxy, ethoxyethoxy, propyloxyethoxy, isopropyloxyethoxy, and methoxypropyl. oxy group, ethoxypropyloxy group, propyloxypropyloxy group, isopropyloxypropyloxy group and the like.

本発明のピリドン化合物は、下記式(1)で表される化合物とその塩を包含する(以下「本発明化合物」ともいう)。 The pyridone compound of the present invention includes compounds represented by the following formula (1) and salts thereof (hereinafter also referred to as "the compound of the present invention").

Figure 0007328222000005
Figure 0007328222000005

以下、式(1)について説明する。
式(1)におけるR1は、水酸基、シアノ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、C2~C6のハロアルケニルオキシ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、C3~C6のハロアルキニルオキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはRaおよびRbは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)を表す。
Formula (1) will be described below.
R1 in formula (1) is a hydroxyl group, a cyano group, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 haloalkyl group optionally substituted with a substituent A, a C3-C8 optionally substituted with a substituent A A cycloalkyl group, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A, C2-C6 A haloalkynyl group, a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent A, a substituent C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with A, C2-C6 haloalkenyloxy group, C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with substituent A, C3-C6 haloalkynyloxy group group, or RaRbN- (wherein Ra and Rb are each independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3- Represents a C8 cycloalkyl group, or Ra and Rb together with the attached nitrogen atom form an aziridinyl, azetidinyl, pyrrolidinyl, piperidinyl, homopiperidinyl, or azocanyl group. ).

中でもR1は、シアノ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、またはC2~C6のハロアルキニル基が好ましく、
特にR1は、置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、またはC1~C6のハロアルキル基が好ましい。
Among them, R1 is a cyano group, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A, substituted a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a group A, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A, or a C2-C6 haloalkynyl group preferably
In particular, R1 is preferably a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A or a C1-C6 haloalkyl group.

式(1)のR1には、水酸基、およびシアノ基が含まれる。 R1 in formula (1) includes a hydroxyl group and a cyano group.

式(1)のR1における「置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基」のC1~C6のアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メチル基、エチル基、またはプロピル基であり、さらに好ましくは、メチル基、またはエチル基である。置換基Aを有する場合、C1~C6のアルキル基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。 The C1-C6 alkyl group of the "C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A" in R1 of formula (1) has the same definition as above, preferably a methyl group or an ethyl group. , or a propyl group, more preferably a methyl group or an ethyl group. When having a substituent A, a hydrogen atom in the C1-C6 alkyl group is optionally substituted by the substituent A.

式(1)のR1における「C1~C6のハロアルキル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、2-フルオロエチル基、2,2-ジフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、3,3-ジフルオロプロピル基、または3,3,3-トリフルオロプロピル基であり、さらに好ましくは、2-フルオロエチル基、2,2-ジフルオロエチル基、または2,2,2-トリフルオロエチル基である。 The "C1-C6 haloalkyl group" for R1 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably 2-fluoroethyl group, 2,2-difluoroethyl group, 2,2,2-trifluoro ethyl group, 3,3-difluoropropyl group or 3,3,3-trifluoropropyl group, more preferably 2-fluoroethyl group, 2,2-difluoroethyl group or 2,2,2- It is a trifluoroethyl group.

式(1)のR1における「置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基」のC3~C8のシクロアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、またはシクロヘキシル基であり、さらに好ましくは、シクロプロピル基、またはシクロブチル基である。置換基Aを有する場合、C3~C8のシクロアルキル基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。 The C3-C8 cycloalkyl group of the "C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A" in R1 of formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a cyclopropyl group. , cyclobutyl group, cyclopentyl group or cyclohexyl group, more preferably cyclopropyl group or cyclobutyl group. A hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkyl group is optionally replaced by the substituent A, if the substituent A is present.

式(1)のR1における「置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基」のC2~C6のアルケニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニル基、1-プロペニル基、またはアリル基であり、さらに好ましくは、ビニル基、またはアリル基である。置換基Aを有する場合、C2~C6のアルケニル基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。 The C2-C6 alkenyl group of the "C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A" in R1 of formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a vinyl group, 1- It is a propenyl group or an allyl group, more preferably a vinyl group or an allyl group. A hydrogen atom in the C2-C6 alkenyl group is optionally replaced by the substituent A, if the substituent A is present.

式(1)のR1における「C2~C6のハロアルケニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、2-フルオロビニル基、2,2-ジフルオロビニル基、3-フルオロアリル基、または3,3-ジフルオロアリル基であり、さらに好ましくは、2-フルオロビニル基、または2,2-ジフルオロビニル基である。 The "C2-C6 haloalkenyl group" for R1 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a 2-fluorovinyl group, a 2,2-difluorovinyl group, a 3-fluoroallyl group, or It is a 3,3-difluoroallyl group, more preferably a 2-fluorovinyl group or a 2,2-difluorovinyl group.

式(1)のR1における「置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基」のC2~C6のアルキニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、プロパルギル基、2-ブチニル基、または3-ブチニル基であり、さらに好ましくは、プロパルギル基である。置換基Aを有する場合、C2~C6のアルキニル基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。 The C2-C6 alkynyl group in the "C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A" for R1 in formula (1) has the same definition as above, preferably a propargyl group, 2- It is a butynyl group or a 3-butynyl group, more preferably a propargyl group. A hydrogen atom in the C2-C6 alkynyl group is optionally replaced by the substituent A, if the substituent A is present.

式(1)のR1における「C2~C6のハロアルキニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、4,4-ジフルオロ-2-ブチニル基、4-クロロ-4,4-ジフルオロ-2-ブチニル基、4-ブロモ-4,4-ジフルオロ-2-ブチニル基、または4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニル基であり、さらに好ましくは、4,4-ジフルオロ-2-ブチニル基、または4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニル基である。 The “C2-C6 haloalkynyl group” for R1 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably 4,4-difluoro-2-butynyl group, 4-chloro-4,4-difluoro- 2-butynyl group, 4-bromo-4,4-difluoro-2-butynyl group, or 4,4,4-trifluoro-2-butynyl group, more preferably 4,4-difluoro-2-butynyl or 4,4,4-trifluoro-2-butynyl group.

式(1)のR1における「置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基」のC1~C6のアルコキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、またはプロピルオキシ基であり、さらに好ましくは、メトキシ基、またはエトキシ基である。置換基Aを有する場合、C1~C6のアルコキシ基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。 The C1-C6 alkoxy group of the "C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent A" in R1 of formula (1) has the same definition as above, preferably a methoxy group or an ethoxy group. , or a propyloxy group, more preferably a methoxy group or an ethoxy group. When having a substituent A, a hydrogen atom in the C1-C6 alkoxy group is optionally replaced by the substituent A.

式(1)のR1における「C1~C6のハロアルコキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、3,3-ジフルオロプロピルオキシ基、または3,3,3-トリフルオロプロピルオキシ基であり、さらに好ましくは、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、または2,2,2-トリフルオロエトキシ基である。 The “C1-C6 haloalkoxy group” for R1 in formula (1) has the same definition as above, preferably a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, 2,2, 2-trifluoroethoxy group, 3,3-difluoropropyloxy group or 3,3,3-trifluoropropyloxy group, more preferably difluoromethoxy group, trifluoromethoxy group and 2,2-difluoroethoxy or a 2,2,2-trifluoroethoxy group.

式(1)のR1における「置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基」のC3~C8のシクロアルコキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、またはシクロヘキシルオキシ基であり、さらに好ましくは、シクロプロピルオキシ基、またはシクロブトキシ基である。置換基Aを有する場合、C3~C8のシクロアルコキシ基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。 The C3-C8 cycloalkoxy group of the "C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent A" for R1 in formula (1) has the same definition as above, preferably cyclopropyloxy group, cyclobutoxy group, cyclopentyloxy group or cyclohexyloxy group, more preferably cyclopropyloxy group or cyclobutoxy group. A hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkoxy group is optionally replaced by the substituent A, if the substituent A is present.

式(1)のR1における「置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基」のC2~C6のアルケニルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニルオキシ基、1-プロペニルオキシ基、またはアリルオキシ基であり、さらに好ましくは、ビニルオキシ基である。置換基Aを有する場合、C2~C6のアルケニルオキシ基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。 The C2-C6 alkenyloxy group in the "C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent A" in R1 of formula (1) has the same definition as above, preferably a vinyloxy group, It is a 1-propenyloxy group or an allyloxy group, more preferably a vinyloxy group. A hydrogen atom in the C2-C6 alkenyloxy group is optionally replaced by the substituent A, if the substituent A is present.

式(1)のR1における「C2~C6のハロアルケニルオキシ基」とは、前記の定義と同義であり、好ましくは、2-フルオロビニルオキシ基、2,2-ジフルオロビニルオキシ基、3-フルオロアリルオキシ基、または3,3-ジフルオロアリルオキシ基であり、さらに好ましくは、2-フルオロビニルオキシ基、または2,2-ジフルオロビニルオキシ基である。 The "C2-C6 haloalkenyloxy group" for R1 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a 2-fluorovinyloxy group, a 2,2-difluorovinyloxy group, a 3-fluoro It is an allyloxy group or a 3,3-difluoroallyloxy group, more preferably a 2-fluorovinyloxy group or a 2,2-difluorovinyloxy group.

式(1)のR1における「置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基」のC3~C6のアルキニルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、プロパルギルオキシ基、2-ブチニルオキシ基、または3-ブチニルオキシ基であり、さらに好ましくは、プロパルギルオキシ基である。置換基Aを有する場合、C3~C6のアルキニルオキシ基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。 The C3-C6 alkynyloxy group in the "C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent A" in R1 of formula (1) has the same definition as above, preferably a propargyloxy group. , 2-butynyloxy, or 3-butynyloxy, more preferably propargyloxy. A hydrogen atom in the C3-C6 alkynyloxy group is optionally replaced by the substituent A, if the substituent A is present.

式(1)のR1における「C3~C6のハロアルキニルオキシ基」とは、前記の定義と同義であり、好ましくは、4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、4-クロロ-4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、4-ブロモ-4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、または4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニルオキシ基であり、さらに好ましくは、4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、または4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニルオキシ基である。 The “C3-C6 haloalkynyloxy group” for R1 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably 4,4-difluoro-2-butynyloxy group, 4-chloro-4,4- difluoro-2-butynyloxy group, 4-bromo-4,4-difluoro-2-butynyloxy group, or 4,4,4-trifluoro-2-butynyloxy group, more preferably 4,4-difluoro-2 -butynyloxy group, or 4,4,4-trifluoro-2-butynyloxy group.

式(1)のR1における「RaRbN-」(ここで、RaおよびRbは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはRaおよびRbは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)の各用語は、前記の定義と同義である。なお、「置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基」に関しては、置換基Bを有する場合、C1~C6のアルキル基における水素原子が、置換基Bによって任意に置換される。「RaRbN-」として、好ましくは、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、(メトキシメチル)アミノ基、(2-メトキシエチル)アミノ基、(シアノメチル)アミノ基、(2-シアノエチル)アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、(メトキシメチル)メチルアミノ基、(2-メトキシエチル)メチルアミノ基、(シアノメチル)メチルアミノ基、(2-シアノエチル)メチルアミノ基、2,2-ジフルオロエチルアミノ基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、(シクロプロピル)メチルアミノ基、ピロリジニル基、またはピペリジニル基であり、さらに好ましくは、アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、またはジエチルアミノ基である。 “RaRbN—” for R1 in formula (1) (wherein Ra and Rb are each independently a hydrogen atom, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1 to C6 represents a haloalkyl group or a C3-C8 cycloalkyl group, or Ra and Rb, together with the nitrogen atom to which they are attached, represent an aziridinyl group, azetidinyl group, pyrrolidinyl group, piperidinyl group, homopiperidinyl group, or azocanyl group; each term has the same meaning as defined above. With respect to the "C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B", when the substituent B is present, the hydrogen atom in the C1-C6 alkyl group is arbitrarily substituted with the substituent B. . "RaRbN-" is preferably an amino group, methylamino group, ethylamino group, (methoxymethyl)amino group, (2-methoxyethyl)amino group, (cyanomethyl)amino group, (2-cyanoethyl)amino group, dimethylamino group, ethylmethylamino group, diethylamino group, (methoxymethyl)methylamino group, (2-methoxyethyl)methylamino group, (cyanomethyl)methylamino group, (2-cyanoethyl)methylamino group, 2,2- difluoroethylamino group, 2,2,2-trifluoroethylamino group, cyclopropylamino group, (cyclopropyl)methylamino group, pyrrolidinyl group or piperidinyl group, more preferably amino group, dimethylamino group, It is an ethylmethylamino group or a diethylamino group.

式(1)中のR2、R3およびR4は、それぞれ独立していて、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、C2~C6のハロアルケニルオキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、C3~C6のハロアルキニルオキシ基、置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアリールオキシ基、置換基Dで適宜0~2置換されてもよいヘテロアリールオキシ基、置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアラルキルオキシ基、Rx1C(=O)-(ここで、Rx1は、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)を表す。)、Rx1C(=O)O-(ここで、Rx1は、前記と同義である。)、1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基、Rc-L-(ここで、Rcは、C1~C6のアルキル基またはC1~C6のハロアルキル基を表し、Lは、S、SO、またはSOを表す。)、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、またはRx2C(=O)N(Rx3)-(ここで、Rx2は、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)を表し、Rx3は、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表す。)を表す。R2, R3 and R4 in formula (1) are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkynyl group, a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkenyloxy group optionally substituted with a substituent C, an optionally substituted C3-C6 alkynyloxy group, a C3-C6 haloalkynyloxy group, an aryloxy group optionally substituted with a substituent D from 0 to 5, optionally substituted with a substituent D from 0 to 2 an optionally substituted heteroaryloxy group, an aralkyloxy group optionally substituted with a substituent D from 0 to 5, Rx1C(=O)- (wherein Rx1 is optionally substituted with a substituent B C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN- (where Ra and Rb are as defined above.), Rx1C(=O)O- (wherein Rx1 is as defined above.), 3-6 containing 1-2 oxygen atoms membered ring groups, Rc-L- (wherein Rc represents a C1-C6 alkyl group or a C1-C6 haloalkyl group, and L represents S, SO, or SO 2 ), RaRbN- ( Here, Ra and Rb are as defined above.), or Rx2C(=O)N(Rx3)- (wherein Rx2 is a hydrogen atom, C1 to C6 optionally substituted with a substituent B alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN- (where Ra and Rb are as defined above.), and Rx3 is a hydrogen atom, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1 to C6 haloalkyl group, or a C3 to C8 cyclo represents an alkyl group. ).

中でも、R2、R3およびR4は、それぞれ独立していて、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、C2~C6のハロアルケニルオキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、C3~C6のハロアルキニルオキシ基、置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアラルキルオキシ基、またはRx1C(=O)O-(ここで、Rx1は、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはRaおよびRbは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)を表す。)が好ましく、
特に、R2、R3およびR4は、それぞれ独立していて、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、または置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基が好ましい。
Among them, R2, R3 and R4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1 to C6 haloalkyl group, C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent C, C2-C6 alkynyl group optionally substituted with substituent C, C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent C , a C1-C6 haloalkoxy group, a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkenyloxy group, a C3-C6 optionally substituted with a substituent C an alkynyloxy group, a C3-C6 haloalkynyloxy group, an aralkyloxy group optionally substituted with 0 to 5 substituents D, or Rx1C(=O)O- (wherein Rx1 is optionally substituted with a substituent B optionally substituted C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN- (wherein Ra and Rb are each independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl, or Ra and Rb together with the attached nitrogen atom form an aziridinyl, azetidinyl, pyrrolidinyl, piperidinyl, homopiperidinyl, or azocanyl group). ) is preferred,
In particular, R2, R3 and R4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, or optionally substituted with a substituent C A C1-C6 alkoxy group which may be substituted is preferred.

式(1)のR2には、水素原子、水酸基、シアノ基、およびニトロ基が含まれる。 R2 in formula (1) includes a hydrogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, and a nitro group.

式(1)のR2におけるハロゲン原子は、前記の定義と同義であり、好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。 The halogen atom for R2 in formula (1) has the same meaning as defined above, and is preferably a fluorine atom, chlorine atom, bromine atom or iodine atom.

式(1)のR2における「置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基」のC1~C6のアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、またはイソブチル基であり、さらに好ましくは、メチル基、またはエチル基である。置換基Cを有する場合、C1~C6のアルキル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。 The C1-C6 alkyl group of the "C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C" for R2 in formula (1) has the same meaning as defined above, and is preferably a methyl group or an ethyl group. , propyl, isopropyl, butyl or isobutyl, more preferably methyl or ethyl. When having a substituent C, a hydrogen atom in the C1-C6 alkyl group is optionally replaced by the substituent C.

式(1)のR2における「C1~C6のハロアルキル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2-ジフルオロエチル基、または2,2,2-トリフルオロエチル基であり、さらに好ましくは、ジフルオロメチル基、またはトリフルオロメチル基である。 The “C1-C6 haloalkyl group” for R2 in formula (1) has the same meaning as defined above, and is preferably a difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2,2-difluoroethyl group, or 2,2, It is a 2-trifluoroethyl group, more preferably a difluoromethyl group or a trifluoromethyl group.

式(1)のR2における「置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基」のC3~C8のシクロアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、またはシクロヘキシル基であり、さらに好ましくは、シクロプロピル基、またはシクロブチル基である。置換基Cを有する場合、C3~C8のシクロアルキル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。 The C3-C8 cycloalkyl group of the "C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C" for R2 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a cyclopropyl group. , cyclobutyl group, cyclopentyl group or cyclohexyl group, more preferably cyclopropyl group or cyclobutyl group. When having a substituent C, a hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkyl group is optionally replaced by the substituent C.

式(1)のR2における「置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基」のC2~C6のアルケニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニル基、1-プロペニル基、アリル基、1-ブテニル基、2-ブテニル基、または3-ブテニル基であり、さらに好ましくは、ビニル基、1-プロペニル基、またはアリル基である。置換基Cを有する場合、C2~C6のアルケニル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。 The C2-C6 alkenyl group in the "C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C" for R2 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a vinyl group, 1- It is a propenyl group, allyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group or 3-butenyl group, more preferably vinyl group, 1-propenyl group or allyl group. If a substituent C is present, a hydrogen atom in the C2-C6 alkenyl group is optionally replaced by the substituent C.

式(1)のR2における「C2~C6のハロアルケニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、2-フルオロビニル基、2,2-ジフルオロビニル基、2,2-ジクロロビニル基、3-フルオロアリル基、3,3-ジフルオロアリル基、または3,3-ジクロロアリル基であり、さらに好ましくは、2-フルオロビニル基、または2,2-ジフルオロビニル基である。 The "C2-C6 haloalkenyl group" for R2 in formula (1) has the same meaning as defined above, and is preferably a 2-fluorovinyl group, a 2,2-difluorovinyl group, or a 2,2-dichlorovinyl group. , 3-fluoroallyl group, 3,3-difluoroallyl group or 3,3-dichloroallyl group, more preferably 2-fluorovinyl group or 2,2-difluorovinyl group.

式(1)のR2における「置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基」のC2~C6のアルキニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、エチニル基、1-プロピニル基、プロパルギル基、1-ブチニル基、2-ブチニル基、または3-ブチニル基であり、さらに好ましくは、エチニル基、1-プロピニル基、またはプロパルギル基である。置換基Cを有する場合、C2~C6のアルキニル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。 The C2-C6 alkynyl group in the "C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C" for R2 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably an ethynyl group, 1- It is a propynyl group, propargyl group, 1-butynyl group, 2-butynyl group or 3-butynyl group, more preferably an ethynyl group, 1-propynyl group or propargyl group. When having a substituent C, a hydrogen atom in the C2-C6 alkynyl group is optionally replaced by the substituent C.

式(1)のR2における「C2~C6のハロアルキニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、3,3-ジフルオロ-1-プロピニル基、3,3,3-トリフルオロ-1-プロピニル基、4,4-ジフルオロ-1-ブチニル基、4,4-ジフルオロ-2-ブチニル基、4,4,4-トリフルオロ-1-ブチニル基、または4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニル基であり、さらに好ましくは、3,3-ジフルオロ-1-プロピニル基、または3,3,3-トリフルオロ-1-プロピニル基である。 The “C2-C6 haloalkynyl group” for R2 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably 3,3-difluoro-1-propynyl group, 3,3,3-trifluoro-1 -propynyl group, 4,4-difluoro-1-butynyl group, 4,4-difluoro-2-butynyl group, 4,4,4-trifluoro-1-butynyl group, or 4,4,4-trifluoro- It is a 2-butynyl group, more preferably a 3,3-difluoro-1-propynyl group or a 3,3,3-trifluoro-1-propynyl group.

式(1)のR2における「置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基」のC1~C6のアルコキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、またはペンチルオキシ基であり、さらに好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、またはペンチルオキシ基である。置換基Cを有する場合、C1~C6のアルコキシ基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。 The C1-C6 alkoxy group of the "C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C" for R2 in formula (1) has the same definition as above, and is preferably a methoxy group or an ethoxy group. , propyloxy, isopropyloxy, butoxy, isobutoxy or pentyloxy, more preferably methoxy, ethoxy, propyloxy, isopropyloxy, butoxy or pentyloxy. When having a substituent C, a hydrogen atom in the C1-C6 alkoxy group is optionally replaced by the substituent C.

式(1)のR2における「C1~C6のハロアルコキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、3,3-ジフルオロプロピルオキシ基、または3,3,3-トリフルオロプロピルオキシ基であり、さらに好ましくは、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、または2,2,2-トリフルオロエトキシ基である。 The “C1-C6 haloalkoxy group” for R2 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, 2,2, 2-trifluoroethoxy group, 3,3-difluoropropyloxy group or 3,3,3-trifluoropropyloxy group, more preferably difluoromethoxy group, trifluoromethoxy group and 2,2-difluoroethoxy or a 2,2,2-trifluoroethoxy group.

式(1)のR2における「置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基」のC3~C8のシクロアルコキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、またはシクロヘキシルオキシ基であり、さらに好ましくは、シクロプロピルオキシ基、またはシクロブトキシ基である。置換基Cを有する場合、C3~C8のシクロアルコキシ基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。 The C3-C8 cycloalkoxy group in the "C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent C" for R2 in formula (1) has the same definition as above, preferably cyclopropyloxy group, cyclobutoxy group, cyclopentyloxy group or cyclohexyloxy group, more preferably cyclopropyloxy group or cyclobutoxy group. A hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkoxy group is optionally replaced by the substituent C, if the substituent C is present.

式(1)のR2における「置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基」のC2~C6のアルケニルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニルオキシ基、1-プロペニルオキシ基、アリルオキシ基、1-ブテニルオキシ基、2-ブテニルオキシ基、または3-ブテニルオキシ基であり、さらに好ましくは、ビニルオキシ基、1-プロペニルオキシ基、またはアリルオキシ基である。置換基Cを有する場合、C2~C6のアルケニルオキシ基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。 The C2-C6 alkenyloxy group in the "C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent C" for R2 in formula (1) has the same definition as defined above, preferably a vinyloxy group, 1-propenyloxy group, allyloxy group, 1-butenyloxy group, 2-butenyloxy group or 3-butenyloxy group, more preferably vinyloxy group, 1-propenyloxy group or allyloxy group. When having a substituent C, a hydrogen atom in the C2-C6 alkenyloxy group is optionally replaced by the substituent C.

式(1)のR2における「C2~C6のハロアルケニルオキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、2-フルオロビニルオキシ基、2,2-ジフルオロビニルオキシ基、2,2-ジクロロビニルオキシ基、3-フルオロアリルオキシ基、3,3-ジフルオロアリルオキシ基、または3,3-ジクロロアリルオキシ基であり、さらに好ましくは、2-フルオロビニルオキシ基、または2,2-ジフルオロビニルオキシ基である。 The “C2 to C6 haloalkenyloxy group” for R2 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a 2-fluorovinyloxy group, a 2,2-difluorovinyloxy group, a 2,2- dichlorovinyloxy group, 3-fluoroallyloxy group, 3,3-difluoroallyloxy group or 3,3-dichloroallyloxy group, more preferably 2-fluorovinyloxy group or 2,2-difluoro It is a vinyloxy group.

式(1)のR2における「置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基」のC3~C6のアルキニルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、プロパルギルオキシ基、2-ブチニルオキシ基、または3-ブチニルオキシ基であり、さらに好ましくは、プロパルギルオキシ基、または2-ブチニルオキシ基である。置換基Cを有する場合、C3~C6のアルキニルオキシ基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。 The C3-C6 alkynyloxy group in the "C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent C" for R2 in formula (1) has the same definition as above, preferably a propargyloxy group. , 2-butynyloxy or 3-butynyloxy, more preferably propargyloxy or 2-butynyloxy. When having a substituent C, a hydrogen atom in the C3-C6 alkynyloxy group is optionally replaced by the substituent C.

式(1)のR2における「C3~C6のハロアルキニルオキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、4-クロロ-4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、4-ブロモ-4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、または4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニルオキシ基であり、さらに好ましくは、4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、または4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニルオキシ基である。 The “C3-C6 haloalkynyloxy group” for R2 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably 4,4-difluoro-2-butynyloxy group, 4-chloro-4,4-difluoro -2-butynyloxy group, 4-bromo-4,4-difluoro-2-butynyloxy group, or 4,4,4-trifluoro-2-butynyloxy group, more preferably 4,4-difluoro-2- butynyloxy group, or 4,4,4-trifluoro-2-butynyloxy group.

式(1)のR2における「置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアリールオキシ基」のアリールオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、フェノキシ基、またはナフチルオキシ基であり、さらに好ましくは、フェノキシ基である。置換基Dを有する場合、アリールオキシ基における水素原子が、置換基Dによって任意に置換される。ただし、2置換以上の置換基Dがある場合、それぞれは独立している。 The aryloxy group of "an aryloxy group optionally substituted with 0 to 5 substituents D" in R2 of formula (1) is as defined above, preferably a phenoxy group or a naphthyloxy group. and more preferably a phenoxy group. A hydrogen atom in the aryloxy group is optionally replaced by a substituent D, if a substituent D is present. However, when there are two or more substituents D, each is independent.

式(1)のR2における「置換基Dで適宜0~2置換されてもよいヘテロアリールオキシ基」のヘテロアリールオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ピリジルオキシ基、ピリダジニルオキシ基、ピリミジニルオキシ基、ピラジニルオキシ基、トリアジニルオキシ基、テトラジニルオキシ基、チエニルオキシ基、チアゾリルオキシ基、イソチアゾリルオキシ基、またはチアジアゾリルオキシ基であり、さらに好ましくは、ピリジルオキシ基、ピリダジニルオキシ基、ピリミジニルオキシ基、またはピラジニルオキシ基である。置換基Dを有する場合、ヘテロアリールオキシ基における水素原子が、置換基Dによって任意に置換される。ただし、2置換の置換基Dがある場合、それぞれは独立している。 The heteroaryloxy group of the "heteroaryloxy group optionally substituted with 0 to 2 substituents D" for R2 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a pyridyloxy group, pyridyloxy a dinyloxy group, a pyrimidinyloxy group, a pyrazinyloxy group, a triazinyloxy group, a tetrazinyloxy group, a thienyloxy group, a thiazolyloxy group, an isothiazolyloxy group, or a thiadiazolyloxy group, more preferably a pyridyloxy group, a pyridazinyloxy group, a pyrimidinyloxy group, or a pyrazinyloxy group; A hydrogen atom in the heteroaryloxy group is optionally replaced by the substituent D, if the substituent D is present. However, when there are disubstituted substituents D, each is independent.

式(1)のR2における「置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアラルキルオキシ基」のアラルキルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、またはフェニルプロピルオキシ基であり、さらに好ましくは、ベンジルオキシ基、またはフェネチルオキシ基である。置換基Dを有する場合、アラルキルオキシ基における水素原子が、置換基Dによって任意に置換される。ただし、2置換以上の置換基Dがある場合、それぞれは独立している。 The aralkyloxy group of "an aralkyloxy group optionally substituted with 0 to 5 substituents D" for R2 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a benzyloxy group, a phenethyloxy group, or a phenylpropyloxy group, more preferably a benzyloxy group or a phenethyloxy group. A hydrogen atom in the aralkyloxy group is optionally replaced by a substituent D, if a substituent D is present. However, when there are two or more substituents D, each is independent.

式(1)のR2における「Rx1C(=O)-」(ここで、Rx1は、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)を表す。)の各用語は、前記の定義と同義である。なお、「置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基」に関しては、置換基Bを有する場合、C1~C6のアルキル基における水素原子が、置換基Bによって任意に置換される。Rx1として、好ましくは、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、またはC1~C6のアルコキシ基であり、さらに好ましくは、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基である。「Rx1C(=O)-」として、好ましくは、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、プロピオニル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、シクロプロパンカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2-ジフルオロエトキシカルボニル基、2,2,2-トリフルオロエトキシカルボニル基、3,3,3-トリフルオロプロピルオキシカルボニル基、シクロプロピルオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、(メトキシメチル)アミノカルボニル基、(2-メトキシエチル)アミノカルボニル基、(シアノメチル)アミノカルボニル基、(2-シアノエチル)アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチルメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、(メトキシメチル)メチルアミノカルボニル基、(2-メトキシエチル)メチルアミノカルボニル基、(シアノメチル)メチルアミノカルボニル基、(2-シアノエチル)メチルアミノカルボニル基、2,2-ジフルオロエチルアミノカルボニル基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノカルボニル基、シクロプロピルアミノカルボニル基、(シクロプロピル)メチルアミノカルボニル基、ピロリジニルカルボニル基、またはピペリジニルカルボニル基であり、さらに好ましくは、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、プロピオニル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、メトキシカルボニル基、またはエトキシカルボニル基である。 "Rx1C(=O)-" for R2 in formula (1) (wherein Rx1 is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 a cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above). each term has the same meaning as defined above. With respect to the "C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B", when the substituent B is present, the hydrogen atom in the C1-C6 alkyl group is arbitrarily substituted with the substituent B. . Rx1 is preferably a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B or a C1-C6 alkoxy group, more preferably a C1-C6 optionally substituted with a substituent B is an alkyl group of "Rx1C(=O)-" is preferably an acetyl group, a methoxyacetyl group, a cyanoacetyl group, a propionyl group, a difluoroacetyl group, a trifluoroacetyl group, a cyclopropanecarbonyl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, 2 , 2-difluoroethoxycarbonyl group, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl group, 3,3,3-trifluoropropyloxycarbonyl group, cyclopropyloxycarbonyl group, aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, ethylamino carbonyl group, (methoxymethyl)aminocarbonyl group, (2-methoxyethyl)aminocarbonyl group, (cyanomethyl)aminocarbonyl group, (2-cyanoethyl)aminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, ethylmethylaminocarbonyl group, diethylaminocarbonyl group, (methoxymethyl)methylaminocarbonyl group, (2-methoxyethyl)methylaminocarbonyl group, (cyanomethyl)methylaminocarbonyl group, (2-cyanoethyl)methylaminocarbonyl group, 2,2-difluoroethylaminocarbonyl group, 2,2,2-trifluoroethylaminocarbonyl group, cyclopropylaminocarbonyl group, (cyclopropyl)methylaminocarbonyl group, pyrrolidinylcarbonyl group, or piperidinylcarbonyl group, more preferably acetyl group, a methoxyacetyl group, a cyanoacetyl group, a propionyl group, a difluoroacetyl group, a trifluoroacetyl group, a methoxycarbonyl group, or an ethoxycarbonyl group;

式(1)のR2における「Rx1C(=O)O-」のRx1は、前記の定義と同義である。Rx1として、好ましくは、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、またはC1~C6のアルコキシ基であり、さらに好ましくは、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基である。「Rx1C(=O)O-」として、好ましくは、アセチルオキシ基、メトキシアセチルオキシ基、シアノアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ジフルオロアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、シクロプロパンカルボニルオキシ基、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、2,2-ジフルオロエトキシカルボニルオキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシカルボニルオキシ基、3,3,3-トリフルオロプロピルオキシカルボニルオキシ基、シクロプロピルオキシカルボニルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、メチルアミノカルボニルオキシ基、エチルアミノカルボニルオキシ基、(メトキシメチル)アミノカルボニルオキシ基、(2-メトキシエチル)アミノカルボニルオキシ基、(シアノメチル)アミノカルボニルオキシ基、(2-シアノエチル)アミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基、エチルメチルアミノカルボニルオキシ基、ジエチルアミノカルボニルオキシ基、(メトキシメチル)メチルアミノカルボニルオキシ基、(2-メトキシエチル)メチルアミノカルボニルオキシ基、(シアノメチル)メチルアミノカルボニルオキシ基、(2-シアノエチル)メチルアミノカルボニルオキシ基、2,2-ジフルオロエチルアミノカルボニルオキシ基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノカルボニルオキシ基、シクロプロピルアミノカルボニルオキシ基、(シクロプロピル)メチルアミノカルボニルオキシ基、ピロリジニルカルボニルオキシ基、またはピペリジニルカルボニルオキシ基であり、さらに好ましくは、アセチルオキシ基、メトキシアセチルオキシ基、シアノアセチルオキシ基、またはプロピオニルオキシ基である。 Rx1 of "Rx1C(=O)O-" in R2 of formula (1) has the same meaning as defined above. Rx1 is preferably a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B or a C1-C6 alkoxy group, more preferably a C1-C6 optionally substituted with a substituent B is an alkyl group of "Rx1C(=O)O-" is preferably an acetyloxy group, a methoxyacetyloxy group, a cyanoacetyloxy group, a propionyloxy group, a difluoroacetyloxy group, a trifluoroacetyloxy group, a cyclopropanecarbonyloxy group, a methoxy carbonyloxy group, ethoxycarbonyloxy group, 2,2-difluoroethoxycarbonyloxy group, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyloxy group, 3,3,3-trifluoropropyloxycarbonyloxy group, cyclopropyloxycarbonyl oxy group, aminocarbonyloxy group, methylaminocarbonyloxy group, ethylaminocarbonyloxy group, (methoxymethyl)aminocarbonyloxy group, (2-methoxyethyl)aminocarbonyloxy group, (cyanomethyl)aminocarbonyloxy group, (2 -Cyanoethyl) aminocarbonyloxy group, dimethylaminocarbonyloxy group, ethylmethylaminocarbonyloxy group, diethylaminocarbonyloxy group, (methoxymethyl) methylaminocarbonyloxy group, (2-methoxyethyl) methylaminocarbonyloxy group, (cyanomethyl ) methylaminocarbonyloxy group, (2-cyanoethyl)methylaminocarbonyloxy group, 2,2-difluoroethylaminocarbonyloxy group, 2,2,2-trifluoroethylaminocarbonyloxy group, cyclopropylaminocarbonyloxy group, a (cyclopropyl)methylaminocarbonyloxy group, a pyrrolidinylcarbonyloxy group, or a piperidinylcarbonyloxy group, more preferably an acetyloxy group, a methoxyacetyloxy group, a cyanoacetyloxy group, or a propionyloxy group; be.

式(1)のR2における「1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、オキソラニル基、オキサニル基、1,3-ジオキソラニル基、または1,3-ジオキサニル基であり、さらに好ましくは、1,3-ジオキソラニル基、または1,3-ジオキサニル基である。 The "3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms" for R2 in formula (1) has the same meaning as defined above, and is preferably an oxolanyl group, an oxanyl group, or a 1,3-dioxolanyl group. , or a 1,3-dioxanyl group, more preferably a 1,3-dioxolanyl group or a 1,3-dioxanyl group.

式(1)のR2における「Rc-L-」(ここで、Rcは、C1~C6のアルキル基またはC1~C6のハロアルキル基を表し、Lは、S、SO、またはSOを表す。)の各用語は、前記の定義と同義である。「Rc-L-」として、好ましくは、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメタンスルフィニル基、またはトリフルオロメタンスルホニル基であり、さらに好ましくは、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、またはメタンスルホニル基である。“Rc-L-” for R2 in formula (1) (wherein Rc represents a C1-C6 alkyl group or a C1-C6 haloalkyl group, and L represents S, SO, or SO 2 ). each term has the same meaning as defined above. "Rc-L-" is preferably a methylthio group, a methanesulfinyl group, a methanesulfonyl group, a trifluoromethylthio group, a trifluoromethanesulfinyl group, or a trifluoromethanesulfonyl group, more preferably a methylthio group or a methanesulfinyl group. , or a methanesulfonyl group.

式(1)のR2における「RaRbN-」のRaおよびRbは、前記と同義である。「RaRbN-」として、好ましくは、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、(メトキシメチル)アミノ基、(2-メトキシエチル)アミノ基、(シアノメチル)アミノ基、(2-シアノエチル)アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、(メトキシメチル)メチルアミノ基、(2-メトキシエチル)メチルアミノ基、(シアノメチル)メチルアミノ基、(2-シアノエチル)メチルアミノ基、2,2-ジフルオロエチルアミノ基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、(シクロプロピル)メチルアミノ基、ピロリジニル基、またはピペリジニル基であり、さらに好ましくは、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、またはジエチルアミノ基である。 Ra and Rb of "RaRbN-" in R2 of formula (1) are the same as defined above. "RaRbN-" is preferably an amino group, methylamino group, ethylamino group, (methoxymethyl)amino group, (2-methoxyethyl)amino group, (cyanomethyl)amino group, (2-cyanoethyl)amino group, dimethylamino group, ethylmethylamino group, diethylamino group, (methoxymethyl)methylamino group, (2-methoxyethyl)methylamino group, (cyanomethyl)methylamino group, (2-cyanoethyl)methylamino group, 2,2- difluoroethylamino group, 2,2,2-trifluoroethylamino group, cyclopropylamino group, (cyclopropyl)methylamino group, pyrrolidinyl group or piperidinyl group, more preferably amino group, methylamino group, an ethylamino group, a dimethylamino group, an ethylmethylamino group, or a diethylamino group;

式(1)のR2における「Rx2C(=O)N(Rx3)-」(ここで、Rx2は、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)を表し、Rx3は、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表す。)の各用語は、前記の定義と同義である。なお、Rx2およびRx3における「置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基」に関しては、置換基Bを有する場合、C1~C6のアルキル基における水素原子が、置換基Bによって任意に置換される。Rx2として、好ましくは、水素原子、メチル基、メトキシメチル基、シアノメチル基、エチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、シクロプロピル基、メトキシ基、エトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、シクロプロピルオキシ基、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、(メトキシメチル)アミノ基、(2-メトキシエチル)アミノ基、(シアノメチル)アミノ基、(2-シアノエチル)アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、(メトキシメチル)メチルアミノ基、(2-メトキシエチル)メチルアミノ基、(シアノメチル)メチルアミノ基、(2-シアノエチル)メチルアミノ基、2,2-ジフルオロエチルアミノ基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、(シクロプロピル)メチルアミノ基、ピロリジニル基、またはピペリジニル基であり、さらに好ましくは、水素原子、メチル基、メトキシメチル基、シアノメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、エトキシ基、アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、またはジエチルアミノ基である。また、Rx3として、好ましくは、水素原子、メチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、シアノメチル基、エチル基、2-メトキシエチル基、2-エトキシエチル基、2-シアノエチル基、プロピル基、2,2-ジフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、またはシクロプロピル基であり、さらに好ましくは、水素原子、メチル基、メトキシメチル基、シアノメチル基、エチル基、2-メトキシエチル基、2,2-ジフルオロエチル基、または2,2,2-トリフルオロエチル基である。 "Rx2C(=O)N(Rx3)-" in R2 of formula (1) (wherein Rx2 is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 A haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN— (wherein Ra and Rb are ), and Rx3 represents a hydrogen atom, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1 to C6 haloalkyl group, or a C3 to C8 cycloalkyl group.) The terms are synonymous with the definitions given above. With respect to the "C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B" in Rx2 and Rx3, when the substituent B is present, the hydrogen atom in the C1-C6 alkyl group is optionally substituted by the substituent B is replaced by Rx2 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, a methoxymethyl group, a cyanomethyl group, an ethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a cyclopropyl group, a methoxy group, an ethoxy group, 2,2-difluoroethoxy, 2, 2,2-trifluoroethoxy group, cyclopropyloxy group, amino group, methylamino group, ethylamino group, (methoxymethyl) amino group, (2-methoxyethyl) amino group, (cyanomethyl) amino group, (2- cyanoethyl)amino group, dimethylamino group, ethylmethylamino group, diethylamino group, (methoxymethyl)methylamino group, (2-methoxyethyl)methylamino group, (cyanomethyl)methylamino group, (2-cyanoethyl)methylamino group , 2,2-difluoroethylamino group, 2,2,2-trifluoroethylamino group, cyclopropylamino group, (cyclopropyl)methylamino group, pyrrolidinyl group or piperidinyl group, more preferably a hydrogen atom , methyl group, methoxymethyl group, cyanomethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, methoxy group, ethoxy group, amino group, dimethylamino group, ethylmethylamino group or diethylamino group. Rx3 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, a cyanomethyl group, an ethyl group, a 2-methoxyethyl group, a 2-ethoxyethyl group, a 2-cyanoethyl group, a propyl group, 2, a 2-difluoroethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, or a cyclopropyl group, more preferably a hydrogen atom, a methyl group, a methoxymethyl group, a cyanomethyl group, an ethyl group, a 2-methoxyethyl group, 2,2-difluoroethyl group or 2,2,2-trifluoroethyl group.

式(1)中のR3は、前記したR2と同義である。 R3 in formula (1) has the same definition as R2 described above.

式(1)中のR4は、前記したR2と同義である。 R4 in formula (1) has the same definition as R2 described above.

式(1)中のR2、R3およびR4は、それぞれ独立していて、同一もしくは異なっていてよく、特に制限されることはない。 R2, R3 and R4 in formula (1) may be independently the same or different, and are not particularly limited.

式(1)におけるR5は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、C2~C6のハロアルケニルオキシ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、C3~C6のハロアルキニルオキシ基、Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、またはR51C(=O)-(ここで、R51は、水酸基、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、またはC1~C6のアルコキシ基を表す。)を表す。 R5 in formula (1) is a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 haloalkyl group optionally substituted with a substituent A. a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A, a C2-C6 haloalkenyl group optionally substituted with a substituent A C2-C6 alkynyl group, C2 to C6 haloalkynyl group, C1 to C6 alkoxy group optionally substituted with substituent A, C1 to C6 haloalkoxy group, optionally substituted with substituent A C3 to C8 a cycloalkoxy group, a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent A, a C2-C6 haloalkenyloxy group, a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent A, a C3-C6 haloalkynyloxy group, Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above), RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above), or R51C(=O)-(wherein R51 is a hydroxyl group, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, or C1- represents a C6 alkoxy group).

中でもR5は、水素原子、ハロゲン原子、置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、またはR51C(=O)-(ここで、R51は、水酸基、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、またはC1~C6のアルコキシ基を表す。)が好ましく、
特にR5は、水素原子、ハロゲン原子、置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、または置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基が好ましい。
Among them, R5 is a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 haloalkyl group, or a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A. , a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent A, a C2-C6 alkenyl optionally substituted with a substituent A an oxy group, a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent A, or R51C(=O)- (wherein R51 is a hydroxyl group, a C1-C6 optionally substituted with a substituent B an alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, or a C1-C6 alkoxy group.) is preferred,
In particular, R5 is a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 haloalkyl group optionally substituted with a substituent A, or a C2-C6 alkynyl optionally substituted with a substituent A. groups are preferred.

式(1)のR5には、水素原子、シアノ基、およびニトロ基が含まれる。 R5 in formula (1) includes a hydrogen atom, a cyano group, and a nitro group.

式(1)のR5におけるハロゲン原子は、前記の定義と同義であり、好ましくは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。 The halogen atom for R5 in formula (1) has the same definition as above, and is preferably a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.

式(1)のR5における「置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基」のC1~C6のアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、またはイソブチル基であり、さらに好ましくは、メチル基、またはエチル基である。置換基Aを有する場合、C1~C6のアルキル基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。 The C1-C6 alkyl group of the "C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A" for R5 in formula (1) has the same definition as above, and is preferably a methyl group or an ethyl group. , propyl, isopropyl, butyl or isobutyl, more preferably methyl or ethyl. When having a substituent A, a hydrogen atom in the C1-C6 alkyl group is optionally substituted by the substituent A.

式(1)のR5における「C1~C6のハロアルキル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2-ジフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、3,3-ジフルオロプロピル基、または3,3,3-トリフルオロプロピル基であり、さらに好ましくは、ジフルオロメチル基、またはトリフルオロメチル基である。 The “C1-C6 haloalkyl group” for R5 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2,2-difluoroethyl group, 2,2,2 -trifluoroethyl group, 3,3-difluoropropyl group or 3,3,3-trifluoropropyl group, more preferably difluoromethyl group or trifluoromethyl group.

式(1)のR5における「置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基」のC3~C8のシクロアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、またはシクロヘキシル基であり、さらに好ましくは、シクロプロピル基、またはシクロブチル基である。置換基Aを有する場合、C3~C8のシクロアルキル基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。 The C3-C8 cycloalkyl group of the "C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A" for R5 in formula (1) has the same definition as above, preferably a cyclopropyl group , cyclobutyl group, cyclopentyl group or cyclohexyl group, more preferably cyclopropyl group or cyclobutyl group. A hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkyl group is optionally replaced by the substituent A, if the substituent A is present.

式(1)のR5における「置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基」のC2~C6のアルケニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニル基、1-プロペニル基、アリル基、1-ブテニル基、2-ブテニル基、または3-ブテニル基であり、さらに好ましくは、ビニル基、1-プロペニル基、またはアリル基である。置換基Aを有する場合、C2~C6のアルケニル基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。 The C2-C6 alkenyl group in the "C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A" for R5 in formula (1) has the same definition as above, preferably a vinyl group, 1- It is a propenyl group, allyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group or 3-butenyl group, more preferably vinyl group, 1-propenyl group or allyl group. A hydrogen atom in the C2-C6 alkenyl group is optionally replaced by the substituent A, if the substituent A is present.

式(1)のR5における「C2~C6のハロアルケニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、2-フルオロビニル基、2,2-ジフルオロビニル基、2,2-ジクロロビニル基、3-フルオロアリル基、3,3-ジフルオロアリル基、または3,3-ジクロロアリル基であり、さらに好ましくは、2-フルオロビニル基、または2,2-ジフルオロビニル基である。 The “C2-C6 haloalkenyl group” for R5 in formula (1) has the same meaning as defined above, and is preferably a 2-fluorovinyl group, a 2,2-difluorovinyl group, or a 2,2-dichlorovinyl group. , 3-fluoroallyl group, 3,3-difluoroallyl group or 3,3-dichloroallyl group, more preferably 2-fluorovinyl group or 2,2-difluorovinyl group.

式(1)のR5における「置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基」のC2~C6のアルキニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、エチニル基、1-プロピニル基、プロパルギル基、1-ブチニル基、2-ブチニル基、または3-ブチニル基であり、さらに好ましくは、エチニル基、1-プロピニル基、またはプロパルギル基である。置換基Aを有する場合、C2~C6のアルキニル基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。 The C2-C6 alkynyl group in the "C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A" for R5 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably an ethynyl group, 1- It is a propynyl group, propargyl group, 1-butynyl group, 2-butynyl group or 3-butynyl group, more preferably an ethynyl group, 1-propynyl group or propargyl group. A hydrogen atom in the C2-C6 alkynyl group is optionally replaced by the substituent A, if the substituent A is present.

式(1)のR5における「C2~C6のハロアルキニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、3,3-ジフルオロ-1-プロピニル基、3,3,3-トリフルオロ-1-プロピニル基、4,4-ジフルオロ-1-ブチニル基、4,4-ジフルオロ-2-ブチニル基、4,4,4-トリフルオロ-1-ブチニル基、または4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニル基であり、さらに好ましくは、3,3-ジフルオロ-1-プロピニル基、または3,3,3-トリフルオロ-1-プロピニル基である。 The “C2-C6 haloalkynyl group” for R5 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably 3,3-difluoro-1-propynyl group, 3,3,3-trifluoro-1 -propynyl group, 4,4-difluoro-1-butynyl group, 4,4-difluoro-2-butynyl group, 4,4,4-trifluoro-1-butynyl group, or 4,4,4-trifluoro- It is a 2-butynyl group, more preferably a 3,3-difluoro-1-propynyl group or a 3,3,3-trifluoro-1-propynyl group.

式(1)のR5における「置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基」のC1~C6のアルコキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、またはイソブトキシ基であり、さらに好ましくは、メトキシ基、またはエトキシ基である。置換基Aを有する場合、C1~C6のアルコキシ基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。 The C1-C6 alkoxy group of the "C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent A" for R5 in formula (1) has the same definition as above, preferably a methoxy group or an ethoxy group. , propyloxy, isopropyloxy, butoxy or isobutoxy, more preferably methoxy or ethoxy. When having a substituent A, a hydrogen atom in the C1-C6 alkoxy group is optionally replaced by the substituent A.

式(1)のR5における「C1~C6のハロアルコキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、3,3-ジフルオロプロピルオキシ基、または3,3,3-トリフルオロプロピルオキシ基であり、さらに好ましくは、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、または2,2,2-トリフルオロエトキシ基である。 The “C1-C6 haloalkoxy group” for R5 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, 2,2, 2-trifluoroethoxy group, 3,3-difluoropropyloxy group or 3,3,3-trifluoropropyloxy group, more preferably difluoromethoxy group, trifluoromethoxy group and 2,2-difluoroethoxy or a 2,2,2-trifluoroethoxy group.

式(1)のR5における「置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基」のC3~C8のシクロアルコキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、またはシクロヘキシルオキシ基であり、さらに好ましくは、シクロプロピルオキシ基、またはシクロブトキシ基である。置換基Aを有する場合、C3~C8のシクロアルコキシ基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。 The C3-C8 cycloalkoxy group in the "C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent A" for R5 in formula (1) has the same definition as above, preferably cyclopropyloxy group, cyclobutoxy group, cyclopentyloxy group or cyclohexyloxy group, more preferably cyclopropyloxy group or cyclobutoxy group. A hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkoxy group is optionally replaced by the substituent A, if the substituent A is present.

式(1)のR5における「置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基」のC2~C6のアルケニルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニルオキシ基、1-プロペニルオキシ基、アリルオキシ基、1-ブテニルオキシ基、2-ブテニルオキシ基、または3-ブテニルオキシ基であり、さらに好ましくは、ビニルオキシ基、1-プロペニルオキシ基、またはアリルオキシ基である。置換基Aを有する場合、C2~C6のアルケニルオキシ基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。 The C2-C6 alkenyloxy group in the "C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent A" for R5 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a vinyloxy group, 1-propenyloxy group, allyloxy group, 1-butenyloxy group, 2-butenyloxy group or 3-butenyloxy group, more preferably vinyloxy group, 1-propenyloxy group or allyloxy group. A hydrogen atom in the C2-C6 alkenyloxy group is optionally replaced by the substituent A, if the substituent A is present.

式(1)のR5における「C2~C6のハロアルケニルオキシ基」は、前記の定義と同義であり、2-フルオロビニルオキシ基、2,2-ジフルオロビニルオキシ基、2,2-ジクロロビニルオキシ基、3-フルオロアリルオキシ基、3,3-ジフルオロアリルオキシ基、または3,3-ジクロロアリルオキシ基であり、さらに好ましくは、2-フルオロビニルオキシ基、または2,2-ジフルオロビニルオキシ基である。 The "C2-C6 haloalkenyloxy group" for R5 in formula (1) has the same meaning as defined above, and includes a 2-fluorovinyloxy group, a 2,2-difluorovinyloxy group and a 2,2-dichlorovinyloxy group. 3-fluoroallyloxy group, 3,3-difluoroallyloxy group or 3,3-dichloroallyloxy group, more preferably 2-fluorovinyloxy group or 2,2-difluorovinyloxy group is.

式(1)のR5における「置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基」のC3~C6のアルキニルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、プロパルギルオキシ基、2-ブチニルオキシ基、または3-ブチニルオキシ基であり、さらに好ましくは、プロパルギルオキシ基である。置換基Aを有する場合、C3~C6のアルキニルオキシ基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。 The C3-C6 alkynyloxy group in the "C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent A" for R5 in formula (1) has the same definition as above, preferably a propargyloxy group. , 2-butynyloxy, or 3-butynyloxy, more preferably propargyloxy. A hydrogen atom in the C3-C6 alkynyloxy group is optionally replaced by the substituent A, if the substituent A is present.

式(1)のR5における「C3~C6のハロアルキニルオキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、4-クロロ-4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、4-ブロモ-4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、または4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニルオキシ基であり、さらに好ましくは、4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、または4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニルオキシ基である。 The “C3-C6 haloalkynyloxy group” for R5 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably 4,4-difluoro-2-butynyloxy group, 4-chloro-4,4-difluoro -2-butynyloxy group, 4-bromo-4,4-difluoro-2-butynyloxy group, or 4,4,4-trifluoro-2-butynyloxy group, more preferably 4,4-difluoro-2- butynyloxy group, or 4,4,4-trifluoro-2-butynyloxy group.

式(1)のR5における「Rc-L-」のRcおよびLは、前記と同義である。「Rc-L-」として、好ましくは、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメタンスルフィニル基、またはトリフルオロメタンスルホニル基であり、さらに好ましくは、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、またはメタンスルホニル基である。 Rc and L of "Rc-L-" in R5 of formula (1) are the same as defined above. "Rc-L-" is preferably a methylthio group, a methanesulfinyl group, a methanesulfonyl group, a trifluoromethylthio group, a trifluoromethanesulfinyl group, or a trifluoromethanesulfonyl group, more preferably a methylthio group or a methanesulfinyl group. , or a methanesulfonyl group.

式(1)のR5における「RaRbN-」のRaおよびRbは、前記と同義である。「RaRbN-」として、好ましくは、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、(メトキシメチル)アミノ基、(2-メトキシエチル)アミノ基、(シアノメチル)アミノ基、(2-シアノエチル)アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、(メトキシメチル)メチルアミノ基、(2-メトキシエチル)メチルアミノ基、(シアノメチル)メチルアミノ基、(2-シアノエチル)メチルアミノ基、2,2-ジフルオロエチルアミノ基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、(シクロプロピル)メチルアミノ基、ピロリジニル基、またはピペリジニル基であり、さらに好ましくは、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、またはジエチルアミノ基である。 Ra and Rb of "RaRbN-" in R5 of formula (1) are the same as defined above. "RaRbN-" is preferably an amino group, methylamino group, ethylamino group, (methoxymethyl)amino group, (2-methoxyethyl)amino group, (cyanomethyl)amino group, (2-cyanoethyl)amino group, dimethylamino group, ethylmethylamino group, diethylamino group, (methoxymethyl)methylamino group, (2-methoxyethyl)methylamino group, (cyanomethyl)methylamino group, (2-cyanoethyl)methylamino group, 2,2- difluoroethylamino group, 2,2,2-trifluoroethylamino group, cyclopropylamino group, (cyclopropyl)methylamino group, pyrrolidinyl group, or piperidinyl group, more preferably dimethylamino group, ethylmethylamino group or a diethylamino group.

式(1)のR5における「R51C(=O)-」(ここで、R51は、水酸基、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、またはC1~C6のアルコキシ基を表す。)の各用語は、前記の定義と同義である。なお、「置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基」に関しては、置換基Bを有する場合、C1~C6のアルキル基における水素原子が、置換基Bによって任意に置換される。R51として、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基が好ましい。「R51C(=O)-」として、好ましくは、ヒドロキシカルボニル基、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、プロピオニル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、シクロプロパンカルボニル基、メトキシカルボニル基、またはエトキシカルボニル基であり、さらに好ましくは、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、またはプロピオニル基である。 "R51C(=O)-" for R5 in formula (1) (wherein R51 is a hydroxyl group, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, a C3- represents a C8 cycloalkyl group or a C1-C6 alkoxy group.) has the same meaning as defined above. With respect to the "C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B", when the substituent B is present, the hydrogen atom in the C1-C6 alkyl group is arbitrarily substituted with the substituent B. . R51 is preferably a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B. "R51C(=O)-" is preferably a hydroxycarbonyl group, an acetyl group, a methoxyacetyl group, a cyanoacetyl group, a propionyl group, a difluoroacetyl group, a trifluoroacetyl group, a cyclopropanecarbonyl group, a methoxycarbonyl group, or It is an ethoxycarbonyl group, more preferably an acetyl group, a methoxyacetyl group, a cyanoacetyl group or a propionyl group.

式(1)のXは、酸素原子、または硫黄原子を表す。好ましいXは、酸素原子である。 X in Formula (1) represents an oxygen atom or a sulfur atom. Preferred X is an oxygen atom.

Yは、式(y-1)、または式(y-2)

Figure 0007328222000006

を表す。Y is formula (y-1), or formula (y-2)
Figure 0007328222000006

represents

R6は、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、C2~C6のハロアルケニルオキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、C3~C6のハロアルキニルオキシ基、置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアリールオキシ基、置換基Dで適宜0~2置換されてもよいヘテロアリールオキシ基、置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアラルキルオキシ基、Rx1C(=O)-(ここで、Rx1は、前記と同義である。)、Rx1C(=O)O-(ここで、Rx1は、前記と同義である。)、1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基、Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、またはRx2C(=O)N(Rx3)-(ここで、Rx2およびRx3は、前記と同義である。)を表す。 R6 is a halogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group optionally substituted with a substituent C, a C3- C8 cycloalkyl group, C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent C, C2-C6 haloalkenyl group, C2-C6 alkynyl group optionally substituted with substituent C, C2- C6 haloalkynyl group, C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent C, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with substituent C, substituted C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with group C, C2-C6 haloalkenyloxy group, C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with substituent C, C3-C6 haloalkynyl an oxy group, an aryloxy group optionally substituted with 0 to 5 substituents D, a heteroaryloxy group optionally substituted with 0 to 2 substituents D, optionally substituted with 0 to 5 substituents D good aralkyloxy groups, Rx1C(=O)- (wherein Rx1 is as defined above), Rx1C(=O)O- (wherein Rx1 is as defined above), 1 to 3- to 6-membered ring groups containing two oxygen atoms, Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above), RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above ), or Rx2C(=O)N(Rx3)- (where Rx2 and Rx3 have the same meanings as above).

中でもR6は、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、Rx1C(=O)-(ここで、Rx1は、前記と同義である。)、Rc-L-(ここで、Rcは、C1~C6のアルキル基またはC1~C6のハロアルキル基を表し、Lは、S、SO、またはSOを表す。)、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)が好ましく、
特にR6は、ハロゲン原子、シアノ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、または置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基が好ましい。
Among them, R6 is a halogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1 to C6 haloalkyl group, a C2 to C6 optionally substituted with a substituent C an alkenyl group, a C2 to C6 alkynyl group optionally substituted by a substituent C, a C1 to C6 alkoxy group optionally substituted by a substituent C, a C1 to C6 haloalkoxy group, optionally substituted by a substituent C An optionally substituted C2-C6 alkenyloxy group, a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent C, Rx1C(=O)- (wherein Rx1 is as defined above. ), Rc-L- (wherein Rc represents a C1-C6 alkyl group or a C1-C6 haloalkyl group, and L represents S, SO, or SO 2 ), or RaRbN- (where , Ra and Rb are as defined above.) is preferred,
In particular, R6 is a halogen atom, a cyano group, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group optionally substituted with a substituent C, or a C1-C6 alkoxy optionally substituted with a substituent C groups are preferred.

式(1)のR6におけるハロゲン原子は、前記の定義と同義であり、好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。 The halogen atom for R6 in formula (1) has the same definition as above, and is preferably a fluorine atom, chlorine atom, bromine atom or iodine atom.

式(1)のR6には、水酸基、シアノ基、およびニトロ基が含まれる。 R6 in formula (1) includes a hydroxyl group, a cyano group and a nitro group.

式(1)のR6における「置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基」のC1~C6のアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メチル基、エチル基、またはプロピル基であり、さらに好ましくは、メチル基、またはエチル基である。置換基Cを有する場合、C1~C6のアルキル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。 The C1-C6 alkyl group of the "C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C" for R6 in formula (1) has the same definition as above, preferably a methyl group or an ethyl group. , or a propyl group, more preferably a methyl group or an ethyl group. When having a substituent C, a hydrogen atom in the C1-C6 alkyl group is optionally replaced by the substituent C.

式(1)のR6における「C1~C6のハロアルキル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2-ジフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、3,3-ジフルオロプロピル基、または3,3,3-トリフルオロプロピル基であり、さらに好ましくは、ジフルオロメチル基、またはトリフルオロメチル基である。 The “C1-C6 haloalkyl group” for R6 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2,2-difluoroethyl group, 2,2,2 -trifluoroethyl group, 3,3-difluoropropyl group or 3,3,3-trifluoropropyl group, more preferably difluoromethyl group or trifluoromethyl group.

式(1)のR6における「置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基」のC3~C8のシクロアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、またはシクロヘキシル基であり、さらに好ましくは、シクロプロピル基、またはシクロブチル基である。置換基Cを有する場合、C3~C8のシクロアルキル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。 The C3-C8 cycloalkyl group of the "C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C" for R6 in formula (1) has the same definition as above, preferably a cyclopropyl group , cyclobutyl group, cyclopentyl group or cyclohexyl group, more preferably cyclopropyl group or cyclobutyl group. When having a substituent C, a hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkyl group is optionally replaced by the substituent C.

式(1)のR6における「置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基」のC2~C6のアルケニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニル基、1-プロペニル基、またはアリル基であり、さらに好ましくは、ビニル基である。置換基Cを有する場合、C2~C6のアルケニル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。 The C2-C6 alkenyl group in the "C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C" for R6 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a vinyl group, 1- It is a propenyl group or an allyl group, more preferably a vinyl group. If a substituent C is present, a hydrogen atom in the C2-C6 alkenyl group is optionally replaced by the substituent C.

式(1)のR6における「C2~C6のハロアルケニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、2-フルオロビニル基、2,2-ジフルオロビニル基、2,2-ジクロロビニル基、3-フルオロアリル基、3,3-ジフルオロアリル基、または3,3-ジクロロアリル基であり、さらに好ましくは、2-フルオロビニル基、または2,2-ジフルオロビニル基である。 The "C2-C6 haloalkenyl group" for R6 in formula (1) has the same meaning as defined above, and is preferably a 2-fluorovinyl group, a 2,2-difluorovinyl group, or a 2,2-dichlorovinyl group. , 3-fluoroallyl group, 3,3-difluoroallyl group or 3,3-dichloroallyl group, more preferably 2-fluorovinyl group or 2,2-difluorovinyl group.

式(1)のR6における「置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基」のC2~C6のアルキニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、エチニル基、1-プロピニル基、プロパルギル基、1-ブチニル基、2-ブチニル基、または3-ブチニル基であり、さらに好ましくは、エチニル基、1-プロピニル基、またはプロパルギル基である。置換基Cを有する場合、C2~C6のアルキニル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。 The C2-C6 alkynyl group of the "C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C" for R6 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably an ethynyl group, 1- It is a propynyl group, propargyl group, 1-butynyl group, 2-butynyl group or 3-butynyl group, more preferably an ethynyl group, 1-propynyl group or propargyl group. When having a substituent C, a hydrogen atom in the C2-C6 alkynyl group is optionally replaced by the substituent C.

式(1)のR6における「C2~C6のハロアルキニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、3,3-ジフルオロ-1-プロピニル基、3,3,3-トリフルオロ-1-プロピニル基、4,4-ジフルオロ-1-ブチニル基、4,4-ジフルオロ-2-ブチニル基、4,4,4-トリフルオロ-1-ブチニル基、または4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニル基であり、さらに好ましくは、3,3-ジフルオロ-1-プロピニル基、または3,3,3-トリフルオロ-1-プロピニル基である。 The “C2-C6 haloalkynyl group” for R6 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably 3,3-difluoro-1-propynyl group, 3,3,3-trifluoro-1 -propynyl group, 4,4-difluoro-1-butynyl group, 4,4-difluoro-2-butynyl group, 4,4,4-trifluoro-1-butynyl group, or 4,4,4-trifluoro- It is a 2-butynyl group, more preferably a 3,3-difluoro-1-propynyl group or a 3,3,3-trifluoro-1-propynyl group.

式(1)のR6における「置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基」のC1~C6のアルコキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、またはイソプロピルオキシ基であり、さらに好ましくは、メトキシ基、またはエトキシ基である。置換基Cを有する場合、C1~C6のアルコキシ基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。 The C1-C6 alkoxy group of the "C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C" for R6 in formula (1) has the same definition as above, preferably a methoxy group or an ethoxy group. , propyloxy group or isopropyloxy group, more preferably methoxy group or ethoxy group. When having a substituent C, a hydrogen atom in the C1-C6 alkoxy group is optionally replaced by the substituent C.

式(1)のR6における「C1~C6のハロアルコキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、3,3-ジフルオロプロピルオキシ基、または3,3,3-トリフルオロプロピルオキシ基であり、さらに好ましくは、ジフルオロメトキシ基、またはトリフルオロメトキシ基である The “C1-C6 haloalkoxy group” for R6 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, 2,2, 2-trifluoroethoxy group, 3,3-difluoropropyloxy group or 3,3,3-trifluoropropyloxy group, more preferably difluoromethoxy group or trifluoromethoxy group

式(1)のR6における「置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基」のC3~C8のシクロアルコキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、またはシクロヘキシルオキシ基であり、さらに好ましくは、シクロプロピルオキシ基、またはシクロブトキシ基である。置換基Cを有する場合、C3~C8のシクロアルコキシ基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。 The C3-C8 cycloalkoxy group of the "C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent C" for R6 in formula (1) has the same definition as above, preferably cyclopropyloxy group, cyclobutoxy group, cyclopentyloxy group or cyclohexyloxy group, more preferably cyclopropyloxy group or cyclobutoxy group. A hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkoxy group is optionally replaced by the substituent C, if the substituent C is present.

式(1)のR6における「置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基」のC2~C6のアルケニルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニルオキシ基、1-プロペニルオキシ基、またはアリルオキシ基、さらに好ましくは、ビニルオキシ基である。置換基Cを有する場合、C2~C6のアルケニルオキシ基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。 The C2-C6 alkenyloxy group in the "C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent C" for R6 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a vinyloxy group, A 1-propenyloxy group or an allyloxy group, more preferably a vinyloxy group. When having a substituent C, a hydrogen atom in the C2-C6 alkenyloxy group is optionally replaced by the substituent C.

式(1)のR6における「C2~C6のハロアルケニルオキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、2-フルオロビニルオキシ基、2,2-ジフルオロビニルオキシ基、2,2-ジクロロビニルオキシ基、3-フルオロアリルオキシ基、3,3-ジフルオロアリルオキシ基、または3,3-ジクロロアリルオキシ基であり、さらに好ましくは、2-フルオロビニルオキシ基、または2,2-ジフルオロビニルオキシ基である。 The “C2-C6 haloalkenyloxy group” for R6 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a 2-fluorovinyloxy group, a 2,2-difluorovinyloxy group, a 2,2- dichlorovinyloxy group, 3-fluoroallyloxy group, 3,3-difluoroallyloxy group or 3,3-dichloroallyloxy group, more preferably 2-fluorovinyloxy group or 2,2-difluoro It is a vinyloxy group.

式(1)のR6における「置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基」のC3~C6のアルキニルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、プロパルギルオキシ基、2-ブチニルオキシ基、または3-ブチニルオキシ基であり、さらに好ましくは、プロパルギルオキシ基である。置換基Cを有する場合、C3~C6のアルキニルオキシ基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。 The C3-C6 alkynyloxy group in the "C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent C" for R6 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a propargyloxy group. , 2-butynyloxy, or 3-butynyloxy, more preferably propargyloxy. When having a substituent C, a hydrogen atom in the C3-C6 alkynyloxy group is optionally replaced by the substituent C.

式(1)のR6における「C3~C6のハロアルキニルオキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、4-クロロ-4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、4-ブロモ-4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、または4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニルオキシ基であり、さらに好ましくは、4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、または4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニルオキシ基である。 The “C3-C6 haloalkynyloxy group” for R6 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably 4,4-difluoro-2-butynyloxy group, 4-chloro-4,4-difluoro -2-butynyloxy group, 4-bromo-4,4-difluoro-2-butynyloxy group, or 4,4,4-trifluoro-2-butynyloxy group, more preferably 4,4-difluoro-2- butynyloxy group, or 4,4,4-trifluoro-2-butynyloxy group.

式(1)のR6における「置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアリールオキシ基」のアリールオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、フェノキシ基、またはナフチルオキシ基であり、さらに好ましくは、フェノキシ基である。置換基Dを有する場合、アリールオキシ基における水素原子が、置換基Dによって任意に置換される。ただし、2置換以上の置換基Dがある場合、それぞれは独立している。 The aryloxy group of "an aryloxy group optionally substituted with 0 to 5 substituents D" in R6 of formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a phenoxy group or a naphthyloxy group. and more preferably a phenoxy group. A hydrogen atom in the aryloxy group is optionally replaced by a substituent D, if a substituent D is present. However, when there are two or more substituents D, each is independent.

式(1)のR6における「置換基Dで適宜0~2置換されてもよいヘテロアリールオキシ基」のヘテロアリールオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ピリジルオキシ基、ピリダジニルオキシ基、ピリミジニルオキシ基、ピラジニルオキシ基、トリアジニルオキシ基、テトラジニルオキシ基、チエニルオキシ基、チアゾリルオキシ基、イソチアゾリルオキシ基、チアジアゾリルオキシ基であり、さらに好ましくは、ピリジルオキシ基、ピリダジニルオキシ基、ピリミジニルオキシ基、ピラジニルオキシ基である。置換基Dを有する場合、ヘテロアリールオキシ基における水素原子が、置換基Dによって任意に置換される。ただし、2置換の置換基Dがある場合、それぞれは独立している。 The heteroaryloxy group of the "heteroaryloxy group optionally substituted with a substituent D of 0 to 2 substituents" for R6 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a pyridyloxy group, pyridyloxy dinyloxy group, pyrimidinyloxy group, pyrazinyloxy group, triazinyloxy group, tetrazinyloxy group, thienyloxy group, thiazolyloxy group, isothiazolyloxy group, thiadiazolyloxy group, more preferably pyridyl oxy group, pyridazinyloxy group, pyrimidinyloxy group and pyrazinyloxy group. A hydrogen atom in the heteroaryloxy group is optionally replaced by the substituent D, if the substituent D is present. However, when there are disubstituted substituents D, each is independent.

式(1)のR6における「置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアラルキルオキシ基」のアラルキルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、フェニルプロピルオキシ基であり、さらに好ましくは、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基である。置換基Dを有する場合、アラルキルオキシ基における水素原子が、置換基Dによって任意に置換される。ただし、2置換以上の置換基Dがある場合、それぞれは独立している。 The aralkyloxy group of "an aralkyloxy group optionally substituted with 0 to 5 substituents D" for R6 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a benzyloxy group, a phenethyloxy group, It is a phenylpropyloxy group, more preferably a benzyloxy group or a phenethyloxy group. A hydrogen atom in the aralkyloxy group is optionally replaced by a substituent D, if a substituent D is present. However, when there are two or more substituents D, each is independent.

式(1)のR6における「Rx1C(=O)-」のRx1は、前記の定義と同義である。Rx1として、好ましくは、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、またはC1~C6のアルコキシ基である。「Rx1C(=O)-」として、好ましくは、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、プロピオニル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、シクロプロパンカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2-ジフルオロエトキシカルボニル基、2,2,2-トリフルオロエトキシカルボニル基、3,3,3-トリフルオロプロピルオキシカルボニル基、シクロプロピルオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、(メトキシメチル)アミノカルボニル基、(2-メトキシエチル)アミノカルボニル基、(シアノメチル)アミノカルボニル基、(2-シアノエチル)アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチルメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、(メトキシメチル)メチルアミノカルボニル基、(2-メトキシエチル)メチルアミノカルボニル基、(シアノメチル)メチルアミノカルボニル基、(2-シアノエチル)メチルアミノカルボニル基、2,2-ジフルオロエチルアミノカルボニル基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノカルボニル基、シクロプロピルアミノカルボニル基、(シクロプロピル)メチルアミノカルボニル基、ピロリジニルカルボニル基、またはピペリジニルカルボニル基であり、さらに好ましくは、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、プロピオニル基、メトキシカルボニル基、またはエトキシカルボニル基である。 Rx1 of "Rx1C(=O)-" in R6 of formula (1) has the same definition as above. Rx1 is preferably a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B or a C1-C6 alkoxy group. "Rx1C(=O)-" is preferably an acetyl group, a methoxyacetyl group, a cyanoacetyl group, a propionyl group, a difluoroacetyl group, a trifluoroacetyl group, a cyclopropanecarbonyl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, 2 , 2-difluoroethoxycarbonyl group, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl group, 3,3,3-trifluoropropyloxycarbonyl group, cyclopropyloxycarbonyl group, aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, ethylamino carbonyl group, (methoxymethyl)aminocarbonyl group, (2-methoxyethyl)aminocarbonyl group, (cyanomethyl)aminocarbonyl group, (2-cyanoethyl)aminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, ethylmethylaminocarbonyl group, diethylaminocarbonyl group, (methoxymethyl)methylaminocarbonyl group, (2-methoxyethyl)methylaminocarbonyl group, (cyanomethyl)methylaminocarbonyl group, (2-cyanoethyl)methylaminocarbonyl group, 2,2-difluoroethylaminocarbonyl group, 2,2,2-trifluoroethylaminocarbonyl group, cyclopropylaminocarbonyl group, (cyclopropyl)methylaminocarbonyl group, pyrrolidinylcarbonyl group, or piperidinylcarbonyl group, more preferably acetyl group, a methoxyacetyl group, a cyanoacetyl group, a propionyl group, a methoxycarbonyl group, or an ethoxycarbonyl group;

式(1)のR6における「Rx1C(=O)O-」のRx1は、前記の定義と同義である。Rx1として、好ましくは、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、またはC1~C6のアルコキシ基である。「Rx1C(=O)O-」として、好ましくは、アセチルオキシ基、メトキシアセチルオキシ基、シアノアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ジフルオロアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、シクロプロパンカルボニルオキシ基、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、2,2-ジフルオロエトキシカルボニルオキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシカルボニルオキシ基、3,3,3-トリフルオロプロピルオキシカルボニルオキシ基、シクロプロピルオキシカルボニルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、メチルアミノカルボニルオキシ基、エチルアミノカルボニルオキシ基、(メトキシメチル)アミノカルボニルオキシ基、(2-メトキシエチル)アミノカルボニルオキシ基、(シアノメチル)アミノカルボニルオキシ基、(2-シアノエチル)アミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基、エチルメチルアミノカルボニルオキシ基、ジエチルアミノカルボニルオキシ基、(メトキシメチル)メチルアミノカルボニルオキシ基、(2-メトキシエチル)メチルアミノカルボニルオキシ基、(シアノメチル)メチルアミノカルボニルオキシ基、(2-シアノエチル)メチルアミノカルボニルオキシ基、2,2-ジフルオロエチルアミノカルボニルオキシ基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノカルボニルオキシ基、シクロプロピルアミノカルボニルオキシ基、(シクロプロピル)メチルアミノカルボニルオキシ基、ピロリジニルカルボニルオキシ基、またはピペリジニルカルボニルオキシ基であり、さらに好ましくは、アセチルオキシ基、メトキシアセチルオキシ基、シアノアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、メトキシカルボニルオキシ基、またはエトキシカルボニルオキシ基である。 Rx1 of "Rx1C(=O)O-" in R6 of formula (1) has the same meaning as defined above. Rx1 is preferably a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B or a C1-C6 alkoxy group. "Rx1C(=O)O-" is preferably an acetyloxy group, a methoxyacetyloxy group, a cyanoacetyloxy group, a propionyloxy group, a difluoroacetyloxy group, a trifluoroacetyloxy group, a cyclopropanecarbonyloxy group, a methoxy carbonyloxy group, ethoxycarbonyloxy group, 2,2-difluoroethoxycarbonyloxy group, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyloxy group, 3,3,3-trifluoropropyloxycarbonyloxy group, cyclopropyloxycarbonyl oxy group, aminocarbonyloxy group, methylaminocarbonyloxy group, ethylaminocarbonyloxy group, (methoxymethyl)aminocarbonyloxy group, (2-methoxyethyl)aminocarbonyloxy group, (cyanomethyl)aminocarbonyloxy group, (2 -Cyanoethyl) aminocarbonyloxy group, dimethylaminocarbonyloxy group, ethylmethylaminocarbonyloxy group, diethylaminocarbonyloxy group, (methoxymethyl) methylaminocarbonyloxy group, (2-methoxyethyl) methylaminocarbonyloxy group, (cyanomethyl ) methylaminocarbonyloxy group, (2-cyanoethyl)methylaminocarbonyloxy group, 2,2-difluoroethylaminocarbonyloxy group, 2,2,2-trifluoroethylaminocarbonyloxy group, cyclopropylaminocarbonyloxy group, (cyclopropyl)methylaminocarbonyloxy group, pyrrolidinylcarbonyloxy group or piperidinylcarbonyloxy group, more preferably acetyloxy group, methoxyacetyloxy group, cyanoacetyloxy group, propionyloxy group, methoxy a carbonyloxy group or an ethoxycarbonyloxy group;

式(1)のR6における「1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、オキソラニル基、オキサニル基、1,3-ジオキソラニル基、または1,3-ジオキサニル基であり、さらに好ましくは、1,3-ジオキソラニル基、または1,3-ジオキサニル基である。 The "3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms" for R6 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably an oxolanyl group, an oxanyl group, or a 1,3-dioxolanyl group. , or a 1,3-dioxanyl group, more preferably a 1,3-dioxolanyl group or a 1,3-dioxanyl group.

式(1)のR6における「Rc-L-」のRcおよびLは、前記の定義と同義である。「Rc-L-」として、好ましくは、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメタンスルフィニル基、またはトリフルオロメタンスルホニル基であり、さらに好ましくは、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、またはメタンスルホニル基である。 Rc and L of "Rc-L-" in R6 of formula (1) have the same definitions as above. "Rc-L-" is preferably a methylthio group, a methanesulfinyl group, a methanesulfonyl group, a trifluoromethylthio group, a trifluoromethanesulfinyl group, or a trifluoromethanesulfonyl group, more preferably a methylthio group or a methanesulfinyl group. , or a methanesulfonyl group.

式(1)のR6における「RaRbN-」のRaおよびRbは、前記の定義と同義である。「RaRbN-」として、好ましくは、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、(メトキシメチル)アミノ基、(2-メトキシエチル)アミノ基、(シアノメチル)アミノ基、(2-シアノエチル)アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、(メトキシメチル)メチルアミノ基、(2-メトキシエチル)メチルアミノ基、(シアノメチル)メチルアミノ基、(2-シアノエチル)メチルアミノ基、2,2-ジフルオロエチルアミノ基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、(シクロプロピル)メチルアミノ基、ピロリジニル基、またはピペリジニル基であり、さらに好ましくは、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、またはジエチルアミノ基である。 Ra and Rb of "RaRbN-" in R6 of formula (1) have the same definitions as above. "RaRbN-" is preferably an amino group, methylamino group, ethylamino group, (methoxymethyl)amino group, (2-methoxyethyl)amino group, (cyanomethyl)amino group, (2-cyanoethyl)amino group, dimethylamino group, ethylmethylamino group, diethylamino group, (methoxymethyl)methylamino group, (2-methoxyethyl)methylamino group, (cyanomethyl)methylamino group, (2-cyanoethyl)methylamino group, 2,2- difluoroethylamino group, 2,2,2-trifluoroethylamino group, cyclopropylamino group, (cyclopropyl)methylamino group, pyrrolidinyl group, or piperidinyl group, more preferably dimethylamino group, ethylmethylamino group or a diethylamino group.

式(1)のR6における「Rx2C(=O)N(Rx3)-」のRx2およびRx3は、前記の定義と同義である。Rx2として、好ましくは、水素原子、メチル基、メトキシメチル基、シアノメチル基、エチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、シクロプロピル基、メトキシ基、エトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、シクロプロピルオキシ基、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、(メトキシメチル)アミノ基、(2-メトキシエチル)アミノ基、(シアノメチル)アミノ基、(2-シアノエチル)アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、(メトキシメチル)メチルアミノ基、(2-メトキシエチル)メチルアミノ基、(シアノメチル)メチルアミノ基、(2-シアノエチル)メチルアミノ基、2,2-ジフルオロエチルアミノ基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、(シクロプロピル)メチルアミノ基、ピロリジニル基、またはピペリジニル基であり、さらに好ましくは、水素原子、メチル基、メトキシメチル基、シアノメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、エトキシ基、アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、またはジエチルアミノ基である。また、Rx3として、好ましくは、水素原子、メチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、シアノメチル基、エチル基、2-メトキシエチル基、2-エトキシエチル基、2-シアノエチル基、プロピル基、2,2-ジフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、またはシクロプロピル基であり、さらに好ましくは、水素原子、メチル基、メトキシメチル基、シアノメチル基、エチル基、2-メトキシエチル基、2,2-ジフルオロエチル基、または2,2,2-トリフルオロエチル基である。 Rx2 and Rx3 of "Rx2C(=O)N(Rx3)-" in R6 of formula (1) have the same definitions as above. Rx2 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, a methoxymethyl group, a cyanomethyl group, an ethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a cyclopropyl group, a methoxy group, an ethoxy group, 2,2-difluoroethoxy, 2, 2,2-trifluoroethoxy group, cyclopropyloxy group, amino group, methylamino group, ethylamino group, (methoxymethyl) amino group, (2-methoxyethyl) amino group, (cyanomethyl) amino group, (2- cyanoethyl)amino group, dimethylamino group, ethylmethylamino group, diethylamino group, (methoxymethyl)methylamino group, (2-methoxyethyl)methylamino group, (cyanomethyl)methylamino group, (2-cyanoethyl)methylamino group , 2,2-difluoroethylamino group, 2,2,2-trifluoroethylamino group, cyclopropylamino group, (cyclopropyl)methylamino group, pyrrolidinyl group or piperidinyl group, more preferably a hydrogen atom , methyl group, methoxymethyl group, cyanomethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, methoxy group, ethoxy group, amino group, dimethylamino group, ethylmethylamino group or diethylamino group. Rx3 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, a cyanomethyl group, an ethyl group, a 2-methoxyethyl group, a 2-ethoxyethyl group, a 2-cyanoethyl group, a propyl group, 2, a 2-difluoroethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, or a cyclopropyl group, more preferably a hydrogen atom, a methyl group, a methoxymethyl group, a cyanomethyl group, an ethyl group, a 2-methoxyethyl group, 2,2-difluoroethyl group or 2,2,2-trifluoroethyl group.

以下、式(1)のYについて詳細に説明する。 Y in the formula (1) will be described in detail below.

Yは、式(y-1)

Figure 0007328222000007

で表される部分構造を表す。Y is the formula (y-1)
Figure 0007328222000007

Represents a partial structure represented by

式(y-1)のR6は、前記と同義である。 R6 in formula (y-1) has the same definition as above.

式(y-1)のnは、0~3の整数を表す。 n in the formula (y-1) represents an integer of 0-3.

式(y-1)のnが2以上の場合、2以上のR6は、それぞれ独立した置換基を表し、同一または異なっていてよく、任意に選択することができる。 When n in formula (y-1) is 2 or more, 2 or more R6 each represent an independent substituent, may be the same or different, and can be arbitrarily selected.

Yは、式(y-2)

Figure 0007328222000008

で表される部分構造を表す。Y is the formula (y-2)
Figure 0007328222000008

Represents a partial structure represented by

式(y-2)のR6は、前記と同義である。 R6 in formula (y-2) has the same definition as above.

式(y-2)のnは、0~3の整数を表す。 n in formula (y-2) represents an integer of 0-3.

式(y-2)のnが2以上の場合、2以上のR6は、それぞれ独立した置換基を表し、同一または異なっていてよく、任意に選択することができる。 When n in formula (y-2) is 2 or more, 2 or more R6 each represent an independent substituent, may be the same or different, and can be arbitrarily selected.

式(1)における破線部を含む結合は、

Figure 0007328222000009

で表される箇所を表す。The bond containing the dashed line in formula (1) is
Figure 0007328222000009

Represents the point represented by .

式(1)における破線部を含む結合は、二重結合または単結合を表す。好ましい破線部を含む結合は、二重結合である。 A bond including a dashed portion in Formula (1) represents a double bond or a single bond. A preferred bond containing a dashed line is a double bond.

式(1)における破線部を含む結合が二重結合の場合は、式(1a)

Figure 0007328222000010

(式中、R1、R2、R3、R4、R5、XおよびYは、式(1)と同義である。)で表される化合物、またはその塩を表す。When the bond containing the dashed line in formula (1) is a double bond, formula (1a)
Figure 0007328222000010

(In the formula, R1, R2, R3, R4, R5, X and Y have the same meanings as in formula (1).) or a salt thereof.

式(1)における破線部を含む結合が単結合の場合は、式(1b)

Figure 0007328222000011

(式中、R1、R2、R3、R4、R5、XおよびYは、式(1)と同義である。)で表される化合物、またはその塩を表す。When the bond containing the dashed line in formula (1) is a single bond, formula (1b)
Figure 0007328222000011

(In the formula, R1, R2, R3, R4, R5, X and Y have the same meanings as in formula (1).) or a salt thereof.

式(1b)におけるR5が水素以外の置換基の場合、R体もしくはS体のどちらか一方のみ、またはR体とS体との任意の割合の混合物である。 When R5 in formula (1b) is a substituent other than hydrogen, it is either R-isomer or S-isomer alone, or a mixture of R-isomer and S-isomer at any ratio.

式(1)で表される化合物は、1個または2個の軸不斉を有することがある。この際の異性体比は、単独または任意の割合の混合比であり、特に限定されることはない。 Compounds of formula (1) may have 1 or 2 axial asymmetries. The isomer ratio at this time is not particularly limited, and may be a single isomer ratio or an arbitrary mixing ratio.

式(1)で表される化合物は、不斉原子を含むことがある。この際の異性体比は、単独または任意の割合の混合比であり、特に限定されることはない。 The compound represented by formula (1) may contain an asymmetric atom. The isomer ratio at this time is not particularly limited, and may be a single isomer ratio or an arbitrary mixing ratio.

式(1)で表される化合物は、幾何異性体を含むことがある。この際の異性体比は、単独または任意の割合の混合比であり、特に限定されることはない。 The compound represented by Formula (1) may contain geometric isomers. The isomer ratio at this time is not particularly limited, and may be a single isomer ratio or an arbitrary mixing ratio.

式(1)で表される化合物は、塩を形成できることがある。塩酸、硫酸、酢酸、フマル酸、マレイン酸のような酸塩や、ナトリウム、カリウム、カルシウムのような金属塩等が例示されるが、農園芸用殺菌剤として使用できる限り、特に限定されることはない。 Compounds of formula (1) may be capable of forming salts. Examples include acid salts such as hydrochloric acid, sulfuric acid, acetic acid, fumaric acid, and maleic acid, and metal salts such as sodium, potassium, and calcium. no.

式(1)の「置換基A」は、水酸基、シアノ基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)およびRc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)からなる群から選択される少なくとも1種を表す。 The "substituent A" of formula (1) is a hydroxyl group, a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, RaRbN- (Here, Ra and Rb are as defined above.) and Rc-L- (Here, Rc and L are as defined above.) represents at least one selected from the group consisting of.

中でも置換基Aは、シアノ基、C1~C6のアルコキシ基またはRc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)が好ましく、
特に、シアノ基またはC1~C6のアルコキシ基が好ましい。
Among them, the substituent A is preferably a cyano group, a C1 to C6 alkoxy group or Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above.),
A cyano group or a C1-C6 alkoxy group is particularly preferred.

なお、置換基Aの各用語は前記の定義と同義である。 Each term of the substituent A has the same meaning as defined above.

置換基Aの好ましい具体例に関しては、水酸基;シアノ基;
C3~C8のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、およびシクロヘキシル基;
C1~C6のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、およびイソプロピルオキシ基;
C1~C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、3,3-ジフルオロプロピルオキシ基、および3,3,3-トリフルオロプロピルオキシ基;
C3~C8のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、およびシクロヘキシルオキシ基;
RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)として、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、(メトキシメチル)アミノ基、(2-メトキシエチル)アミノ基、(シアノメチル)アミノ基、(2-シアノエチル)アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、(メトキシメチル)メチルアミノ基、(2-メトキシエチル)メチルアミノ基、(シアノメチル)メチルアミノ基、(2-シアノエチル)メチルアミノ基、2,2-ジフルオロエチルアミノ基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、(シクロプロピル)メチルアミノ基、ピロリジニル基、およびピペリジニル基;
ならびにRc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメタンスルフィニル基、およびトリフルオロメタンスルホニル基が挙げられる。
Preferred specific examples of the substituent A include a hydroxyl group; a cyano group;
cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, and cyclohexyl groups as C3-C8 cycloalkyl groups;
methoxy, ethoxy, propyloxy, and isopropyloxy groups as C1-C6 alkoxy groups;
The C1 to C6 haloalkoxy groups include a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, a 2,2,2-trifluoroethoxy group, a 3,3-difluoropropyloxy group, and a 3,3 , 3-trifluoropropyloxy group;
cyclopropyloxy, cyclobutoxy, cyclopentyloxy, and cyclohexyloxy groups as C3-C8 cycloalkoxy groups;
RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above) is an amino group, methylamino group, ethylamino group, (methoxymethyl)amino group, (2-methoxyethyl)amino group, (cyanomethyl) amino group, (2-cyanoethyl)amino group, dimethylamino group, ethylmethylamino group, diethylamino group, (methoxymethyl)methylamino group, (2-methoxyethyl)methylamino group, (cyanomethyl)methylamino group, (2 -cyanoethyl)methylamino group, 2,2-difluoroethylamino group, 2,2,2-trifluoroethylamino group, cyclopropylamino group, (cyclopropyl)methylamino group, pyrrolidinyl group, and piperidinyl group;
and Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above) are a methylthio group, a methanesulfinyl group, a methanesulfonyl group, a trifluoromethylthio group, a trifluoromethanesulfinyl group, and a trifluoromethanesulfonyl group. mentioned.

置換基Aのさらに好ましい具体例に関しては、水酸基;シアノ基;
C3~C8のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、およびシクロブチル基;
C1~C6のアルコキシ基として、メトキシ基、およびエトキシ基;
C1~C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、および2,2,2-トリフルオロエトキシ基;
C3~C8のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、およびシクロブトキシ基;
RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)として、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、およびジエチルアミノ基;
ならびにRc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、およびメタンスルホニル基が挙げられる。
More preferred specific examples of the substituent A include a hydroxyl group; a cyano group;
cyclopropyl group and cyclobutyl group as C3-C8 cycloalkyl groups;
Methoxy group and ethoxy group as C1-C6 alkoxy groups;
C1-C6 haloalkoxy groups include a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, and a 2,2,2-trifluoroethoxy group;
cyclopropyloxy group and cyclobutoxy group as C3-C8 cycloalkoxy groups;
RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above), a dimethylamino group, an ethylmethylamino group, and a diethylamino group;
and Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above) include a methylthio group, a methanesulfinyl group and a methanesulfonyl group.

式(1)の「置換基B」は、シアノ基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基およびC3~C8のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種を表す。 The “substituent B” in formula (1) represents at least one selected from the group consisting of a cyano group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group and a C3-C8 cycloalkoxy group.

中でも置換基Bは、シアノ基またはC1~C6のアルコキシ基が好ましい。 Among them, the substituent B is preferably a cyano group or a C1-C6 alkoxy group.

なお、置換基Bの各用語は前記の定義と同義である。 Each term of the substituent B has the same meaning as defined above.

置換基Bの好ましい具体例に関しては、シアノ基;
C1~C6のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、およびイソプロピルオキシ基;
C1~C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、3,3-ジフルオロプロピルオキシ基、および3,3,3-トリフルオロプロピルオキシ基;
ならびにC3~C8のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、およびシクロヘキシルオキシ基が挙げられる。
With respect to preferred specific examples of substituent B, a cyano group;
methoxy, ethoxy, propyloxy, and isopropyloxy groups as C1-C6 alkoxy groups;
The C1 to C6 haloalkoxy groups include a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, a 2,2,2-trifluoroethoxy group, a 3,3-difluoropropyloxy group, and a 3,3 , 3-trifluoropropyloxy group;
and C3-C8 cycloalkoxy groups include cyclopropyloxy, cyclobutoxy, cyclopentyloxy, and cyclohexyloxy groups.

置換基Bのさらに好ましい具体例に関しては、シアノ基;
C1~C6のアルコキシ基として、メトキシ基、およびエトキシ基;
C1~C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、および2,2,2-トリフルオロエトキシ基;
ならびにC3~C8のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、およびシクロブトキシ基が挙げられる。
Further preferred specific examples of the substituent B include a cyano group;
Methoxy group and ethoxy group as C1-C6 alkoxy groups;
C1-C6 haloalkoxy groups include a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, and a 2,2,2-trifluoroethoxy group;
and C3-C8 cycloalkoxy groups include cyclopropyloxy and cyclobutoxy groups.

式(1)の「置換基C」とは、水酸基、シアノ基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、C2~C6のアルコキシアルコキシ基、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記のRx1と同義である。)および1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基からなる群から選択される少なくとも1種を表し、 The "substituent C" in formula (1) means a hydroxyl group, a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, a C2 ~ C6 alkoxyalkoxy group, RaRbN- (where Ra and Rb are as defined above), Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above), RdC (= O)—(wherein Rd has the same definition as Rx1 above) and at least one selected from the group consisting of a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms,

中でも置換基Cは、シアノ基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記のRx1と同義である。)または1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基が好ましく、
特に、シアノ基、C1~C6のアルコキシ基、Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)または1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基が好ましい。
Among them, the substituent C is a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above ), RdC(=O)- (wherein Rd has the same definition as Rx1 above) or a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms,
In particular, a cyano group, a C1-C6 alkoxy group, Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above) or a 3- to 6-membered ring group containing 1-2 oxygen atoms preferable.

なお、置換基Cの各用語は前記の定義と同義である。 Each term of the substituent C has the same meaning as defined above.

置換基Cの好ましい具体例に関しては、水酸基;シアノ基;
C3~C8のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、およびシクロヘキシル基;
C1~C6のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、およびt-ブトキシ基;
C1~C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、3,3-ジフルオロプロピルオキシ基、および3,3,3-トリフルオロプロピルオキシ基;
C3~C8のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、およびシクロヘキシルオキシ基;
C2~C6のアルコキシアルコキシ基として、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、およびメトキシプロピルオキシ基;
RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)として、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、(メトキシメチル)アミノ基、(2-メトキシエチル)アミノ基、(シアノメチル)アミノ基、(2-シアノエチル)アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、(メトキシメチル)メチルアミノ基、(2-メトキシエチル)メチルアミノ基、(シアノメチル)メチルアミノ基、(2-シアノエチル)メチルアミノ基、2,2-ジフルオロエチルアミノ基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、(シクロプロピル)メチルアミノ基、ピロリジニル基、およびピペリジニル基;
Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメタンスルフィニル基、およびトリフルオロメタンスルホニル基;
RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記のRx1と同義である。)として、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、プロピオニル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、シクロプロパンカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2-ジフルオロエトキシカルボニル基、2,2,2-トリフルオロエトキシカルボニル基、3,3,3-トリフルオロプロピルオキシカルボニル基、シクロプロピルオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、(メトキシメチル)アミノカルボニル基、(2-メトキシエチル)アミノカルボニル基、(シアノメチル)アミノカルボニル基、(2-シアノエチル)アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチルメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、(メトキシメチル)メチルアミノカルボニル基、(2-メトキシエチル)メチルアミノカルボニル基、(シアノメチル)メチルアミノカルボニル基、(2-シアノエチル)メチルアミノカルボニル基、2,2-ジフルオロエチルアミノカルボニル基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノカルボニル基、シクロプロピルアミノカルボニル基、(シクロプロピル)メチルアミノカルボニル基、ピロリジニルカルボニル基、およびピペリジニルカルボニル基;
ならびに1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基として、オキソラニル基、オキサニル基、1,3-ジオキソラニル基、および1,3-ジオキサニル基が挙げられる。
Preferred specific examples of the substituent C include a hydroxyl group; a cyano group;
cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, and cyclohexyl groups as C3-C8 cycloalkyl groups;
methoxy, ethoxy, propyloxy, isopropyloxy, butoxy, isobutoxy, and t-butoxy groups as C1-C6 alkoxy groups;
The C1 to C6 haloalkoxy groups include a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, a 2,2,2-trifluoroethoxy group, a 3,3-difluoropropyloxy group, and a 3,3 , 3-trifluoropropyloxy group;
cyclopropyloxy, cyclobutoxy, cyclopentyloxy, and cyclohexyloxy groups as C3-C8 cycloalkoxy groups;
methoxymethoxy, ethoxymethoxy, methoxyethoxy, ethoxyethoxy, and methoxypropyloxy groups as C2-C6 alkoxyalkoxy groups;
RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above) is an amino group, methylamino group, ethylamino group, (methoxymethyl)amino group, (2-methoxyethyl)amino group, (cyanomethyl) amino group, (2-cyanoethyl)amino group, dimethylamino group, ethylmethylamino group, diethylamino group, (methoxymethyl)methylamino group, (2-methoxyethyl)methylamino group, (cyanomethyl)methylamino group, (2 -cyanoethyl)methylamino group, 2,2-difluoroethylamino group, 2,2,2-trifluoroethylamino group, cyclopropylamino group, (cyclopropyl)methylamino group, pyrrolidinyl group, and piperidinyl group;
Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above), a methylthio group, a methanesulfinyl group, a methanesulfonyl group, a trifluoromethylthio group, a trifluoromethanesulfinyl group, and a trifluoromethanesulfonyl group;
RdC(=O)- (wherein Rd has the same definition as Rx1 above) is an acetyl group, a methoxyacetyl group, a cyanoacetyl group, a propionyl group, a difluoroacetyl group, a trifluoroacetyl group, a cyclopropanecarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2-difluoroethoxycarbonyl group, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl group, 3,3,3-trifluoropropyloxycarbonyl group, cyclopropyloxycarbonyl group, aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, ethylaminocarbonyl group, (methoxymethyl)aminocarbonyl group, (2-methoxyethyl)aminocarbonyl group, (cyanomethyl)aminocarbonyl group, (2-cyanoethyl)aminocarbonyl group, dimethylamino carbonyl group, ethylmethylaminocarbonyl group, diethylaminocarbonyl group, (methoxymethyl)methylaminocarbonyl group, (2-methoxyethyl)methylaminocarbonyl group, (cyanomethyl)methylaminocarbonyl group, (2-cyanoethyl)methylaminocarbonyl group , 2,2-difluoroethylaminocarbonyl, 2,2,2-trifluoroethylaminocarbonyl, cyclopropylaminocarbonyl, (cyclopropyl)methylaminocarbonyl, pyrrolidinylcarbonyl, and piperidinylcarbonyl group;
and 3- to 6-membered ring groups containing 1-2 oxygen atoms include oxolanyl, oxanyl, 1,3-dioxolanyl, and 1,3-dioxanyl groups.

置換基Cのさらに好ましい具体例に関しては、水酸基;シアノ基;
C3~C8のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、およびシクロブチル基;
C1~C6のアルコキシ基として、メトキシ基、およびエトキシ基;
C1~C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基;
C3~C8のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基;
C2~C6のアルコキシアルコキシ基として、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、およびエトキシエトキシ基;
RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)として、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、およびジエチルアミノ基;
Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、およびメタンスルホニル基;
RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記のRx1と同義である。)として、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチルメチルアミノカルボニル基、およびジエチルアミノカルボニル基;
ならびに1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基として、1,3-ジオキソラニル基、および1,3-ジオキサニル基が挙げられる。
More preferred specific examples of the substituent C include a hydroxyl group; a cyano group;
cyclopropyl group and cyclobutyl group as C3-C8 cycloalkyl groups;
Methoxy group and ethoxy group as C1 to C6 alkoxy groups;
C1 to C6 haloalkoxy groups include a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group and a 2,2,2-trifluoroethoxy group;
C3-C8 cycloalkoxy groups, cyclopropyloxy group, cyclobutoxy group;
methoxymethoxy, ethoxymethoxy, methoxyethoxy, and ethoxyethoxy groups as C2-C6 alkoxyalkoxy groups;
RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above), a dimethylamino group, an ethylmethylamino group, and a diethylamino group;
Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above), a methylthio group, a methanesulfinyl group, and a methanesulfonyl group;
RdC(=O)- (wherein Rd has the same definition as Rx1 above) is an acetyl group, a methoxyacetyl group, a cyanoacetyl group, a difluoroacetyl group, a trifluoroacetyl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group; group, aminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, ethylmethylaminocarbonyl group, and diethylaminocarbonyl group;
and 3- to 6-membered ring groups containing 1-2 oxygen atoms include 1,3-dioxolanyl and 1,3-dioxanyl groups.

式(1)の「置換基D」とは、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基およびC3~C8のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種を表す。 The "substituent D" in formula (1) means a halogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1 to C6 haloalkyl group, a C3 to represents at least one selected from the group consisting of a C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group and a C3-C8 cycloalkoxy group;

中でも置換基Dは、ハロゲン原子、シアノ基、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基またはC1~C6のハロアルコキシ基が好ましく、
特に、ハロゲン原子またはC1~C6のハロアルキル基が好ましい。
Among them, the substituent D is a halogen atom, a cyano group, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1 to C6 haloalkyl group, a C1 to C6 alkoxy group or a C1 to C6 haloalkoxy group. is preferred,
A halogen atom or a C1-C6 haloalkyl group is particularly preferred.

なお、置換基Dの各用語は前記の定義と同義である。また、置換基Dにおける「置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基」に関しては、置換基Bを有する場合、C1~C6のアルキル基における水素原子が、置換基Bによって任意に置換される。 Each term of the substituent D has the same meaning as defined above. Further, with respect to the "C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B" in the substituent D, when the substituent B is present, the hydrogen atom in the C1-C6 alkyl group is optionally substituted by the substituent B is replaced by

置換基Dの好ましい具体例に関しては、
ハロゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子;
水酸基;シアノ基;ニトロ基;
置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基として、メチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、シアノメチル基、エチル基、2-メトキシエチル基、2-エトキシエチル基、2-シアノエチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、およびイソブチル基;
C1~C6のハロアルキル基として、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2-ジフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、3,3-ジフルオロプロピル基、および3,3,3-トリフルオロプロピル基;
C3~C8のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、およびシクロヘキシル基;
C1~C6のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、およびt-ブトキシ基;
C1~C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、3,3-ジフルオロプロピルオキシ基、および3,3,3-トリフルオロプロピルオキシ基;
ならびにC3~C8のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、およびシクロヘキシルオキシ基が挙げられる。
With respect to preferred specific examples of substituent D,
as halogen atoms, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom;
hydroxyl group; cyano group; nitro group;
Examples of C1 to C6 alkyl groups optionally substituted by substituent B include methyl group, methoxymethyl group, ethoxymethyl group, cyanomethyl group, ethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-ethoxyethyl group, and 2-cyanoethyl. group, propyl group, isopropyl group, butyl group, and isobutyl group;
The C1 to C6 haloalkyl groups include difluoromethyl, trifluoromethyl, 2,2-difluoroethyl, 2,2,2-trifluoroethyl, 3,3-difluoropropyl, and 3,3,3 - a trifluoropropyl group;
cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, and cyclohexyl groups as C3-C8 cycloalkyl groups;
methoxy, ethoxy, propyloxy, isopropyloxy, butoxy, isobutoxy, and t-butoxy groups as C1-C6 alkoxy groups;
The C1 to C6 haloalkoxy groups include a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, a 2,2,2-trifluoroethoxy group, a 3,3-difluoropropyloxy group, and a 3,3 , 3-trifluoropropyloxy group;
and C3-C8 cycloalkoxy groups include cyclopropyloxy, cyclobutoxy, cyclopentyloxy, and cyclohexyloxy groups.

置換基Dのさらに好ましい具体例に関しては、
ハロゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、および臭素原子;
水酸基;シアノ基;ニトロ基;
置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基として、メチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、シアノメチル基、エチル基、2-メトキシエチル基、2-エトキシエチル基、および2-シアノエチル基;
C1~C6のハロアルキル基として、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2-ジフルオロエチル基、および2,2,2-トリフルオロエチル基;
C3~C8のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、およびシクロブチル基;
C1~C6のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、およびイソプロピルオキシ基;
C1~C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、および2,2,2-トリフルオロエトキシ基;
ならびにC3~C8のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基およびシクロブトキシ基が挙げられる。
With respect to more preferred specific examples of the substituent D,
as halogen atoms, fluorine atom, chlorine atom, and bromine atom;
hydroxyl group; cyano group; nitro group;
Examples of the C1 to C6 alkyl groups optionally substituted by the substituent B include a methyl group, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, a cyanomethyl group, an ethyl group, a 2-methoxyethyl group, a 2-ethoxyethyl group, and a 2- cyanoethyl group;
a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a 2,2-difluoroethyl group, and a 2,2,2-trifluoroethyl group as the C1 to C6 haloalkyl groups;
cyclopropyl group and cyclobutyl group as C3-C8 cycloalkyl groups;
methoxy, ethoxy, propyloxy, and isopropyloxy groups as C1-C6 alkoxy groups;
C1-C6 haloalkoxy groups include a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, and a 2,2,2-trifluoroethoxy group;
and C3-C8 cycloalkoxy groups include cyclopropyloxy and cyclobutoxy groups.

以上説明したR1、R2、R3、R4、R5、R6、X、Y、破線部、置換基A、置換基B、置換基Cおよび置換基Dにおける好ましい範囲を任意に組み合わせて得られる全ての化合物の範囲も本発明の式(1)で表される化合物の範囲として、本明細書に記載されているものとする。 All compounds obtained by arbitrarily combining the preferred ranges of R1, R2, R3, R4, R5, R6, X, Y, dashed lines, substituent A, substituent B, substituent C and substituent D described above. is also described in this specification as the range of the compound represented by Formula (1) of the present invention.

次に、本発明の具体的な化合物は、表1に示す構造式(P-1~P-616)と、表2に示すY(Y-1~Y-910)と、酸素原子または硫黄原子であるXとの組み合わせによって表される。これらの化合物は例示のためのものであって、本発明はこれらに限定されるものではない。 Next, specific compounds of the present invention have structural formulas (P-1 to P-616) shown in Table 1, Y (Y-1 to Y-910) shown in Table 2, an oxygen atom or a sulfur atom is represented by the combination with X where These compounds are for illustration and the invention is not limited to them.

Figure 0007328222000012
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Figure 0007328222000023
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以下、例えば、表2中の「2-Thio」との記載は、2位で式(1)のピリドン環部分と結合するチオフェン-2-イル基を表し、「3-Thio」との記載は、3位で式(1)のピリドン環部分と結合するチオフェン-3-イル基を表す。「2-F-3-Thio」との記載は、2位にフッ素原子が結合しているチオフェン-3-イル基であることを意味し、「4-Cl-5-F-3-Thio」との記載は、4位に塩素原子が結合し、5位にフッ素原子が結合しているチオフェン-3-イル基であることを意味し、「2,4-di-F-3-Thio」との記載は、2位と4位にフッ素原子が結合しているチオフェン-3-イル基であることを意味し、他の記載も同様である。 Hereinafter, for example, the description "2-Thio" in Table 2 represents a thiophen-2-yl group bonded to the pyridone ring moiety of formula (1) at the 2-position, and the description "3-Thio" , represents a thiophen-3-yl group bonded to the pyridone ring portion of formula (1) at the 3-position. The description "2-F-3-Thio" means a thiophen-3-yl group having a fluorine atom bonded to the 2-position, and "4-Cl-5-F-3-Thio" The description means that a thiophen-3-yl group having a chlorine atom bonded to the 4-position and a fluorine atom bonded to the 5-position, "2,4-di-F-3-Thio" The description of means a thiophen-3-yl group having fluorine atoms bonded to the 2- and 4-positions, and the same applies to other descriptions.

Figure 0007328222000038
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以下に、式(1)で表される化合物の製造方法を例示する。本発明化合物の製造方法は、製造方法A~製造方法Vに限定されるものではない。 A method for producing the compound represented by formula (1) is exemplified below. The production method of the compound of the present invention is not limited to production method A to production method V.

[製造方法A]

Figure 0007328222000047
[Manufacturing method A]
Figure 0007328222000047

式中、R9は、水素原子、水酸基、シアノ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、C2~C6のハロアルケニルオキシ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、C3~C6のハロアルキニルオキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはRaおよびRbは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)を表し、R8は、水素原子、またはC1~C6のアルキル基を表し、R2、R3、R4、R5、XおよびYは前記と同義である。 In the formula, R9 is a hydrogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1 to C6 haloalkyl group optionally substituted with a substituent A, a C3 to C8 cycloalkyl group, C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent A, C2-C6 haloalkenyl group, C2-C6 alkynyl group optionally substituted with substituent A, C2- C6 haloalkynyl group, C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent A, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with substituent A, substituted C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with group A, C2-C6 haloalkenyloxy group, C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with substituent A, C3-C6 haloalkynyl oxy group, or RaRbN— (wherein Ra and Rb are each independently a hydrogen atom, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1 to C6 haloalkyl group, or a C3 represents a ~C8 cycloalkyl group, or Ra and Rb together with the attached nitrogen atom form an aziridinyl, azetidinyl, pyrrolidinyl, piperidinyl, homopiperidinyl, or azocanyl group ), R8 represents a hydrogen atom or a C1-C6 alkyl group, and R2, R3, R4, R5, X and Y are as defined above.

製造方法Aは、本発明化合物および本発明化合物の製造中間体を含む式(1b-a)で表される化合物を得る方法であって、式(3)で表される化合物とR9NHとを、酸存在下で反応させることを含む製造方法である。Production method A is a method for obtaining a compound represented by the formula (1b-a) including the compound of the present invention and a production intermediate of the compound of the present invention, wherein the compound represented by the formula (3) and R9NH2 are , a production method including reacting in the presence of an acid.

本反応に使用するR9NHは、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。R9NHは、塩酸、酢酸のような酸性化合物との塩を形成したものでもよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。 R9NH2 used in this reaction can be obtained as a commercial product or produced by a known method. R9NH2 may be a salt formed with an acidic compound such as hydrochloric acid or acetic acid, and is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds.

本反応に使用するR9NHは、式(3)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、1当量以上200当量以下である。 R9NH2 used in this reaction may be 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (3), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. It is equal to or more and 200 equivalents or less.

本反応に使用する酸として、塩酸、硫酸等の無機酸類や、酢酸、メタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸等の有機酸類が例示され、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定することはないが、好ましくは、酢酸である。また、R9NHと酸性化合物との塩を使用する際には、酸の使用は必須ではない。Examples of the acid used in this reaction include inorganic acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid, and organic acids such as acetic acid, methanesulfonic acid and p-toluenesulfonic acid. acetic acid is preferred. Also, when using a salt of R9NH2 with an acidic compound, the use of an acid is not essential.

本反応に使用する酸の量は、R9NHに対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、1当量以上200当量以下である。また、使用する酸が液体である場合には、溶媒として使用することも可能である。The amount of the acid used in this reaction may be 1 equivalent or more relative to R9NH2 , and is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but preferably 1 equivalent or more and 200 equivalents or less. be. Moreover, when the acid used is liquid, it can also be used as a solvent.

本反応には溶媒を使用することができるが、必ずしも必須ではない。 A solvent can be used in this reaction, but is not essential.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、酢酸、メタンスルホン酸等の酸性系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。溶媒として、好ましくは、酸性系溶媒が挙げられ、さらに好ましくは、酢酸が挙げられる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. Ether solvents such as ethane, tetrahydrofuran and dioxane; alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropanol; benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene; ester solvents, nitrile solvents such as acetonitrile, amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone Solvents include halogen-based solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio. The solvent is preferably an acidic solvent, more preferably acetic acid.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(3)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (3). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、50℃以上180℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually from 50° C. to 180° C. or below the boiling point of the solvent.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, use an acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, an alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, or salt water. etc. can be used arbitrarily. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(1b-a)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1b-a) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(1b-a)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (1b-a) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(1b-a)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1b-a) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

製造方法Aによると、式(1b-a)で表される化合物においてR9が水素原子を表すときに製造することができる式(2)で表される化合物は、本発明化合物のうち、式(1b)で表される化合物を得る有用な製造中間体となりうる。 According to the production method A, the compound represented by the formula (2) that can be produced when R represents a hydrogen atom in the compound represented by the formula (1b-a) is the compound represented by the formula ( It can be a useful production intermediate for obtaining the compound represented by 1b).

式(2)で表される製造中間体の具体例は、表3に示す構造式(I-1~I-154)と、表2に示すY(Y-1~Y-910)と、酸素原子または硫黄原子であるXとの組み合わせによって表される。これらの化合物は、例示のためのものであって、本発明はこれらに限定されるものではない。 Specific examples of the production intermediate represented by formula (2) are the structural formulas (I-1 to I-154) shown in Table 3, Y (Y-1 to Y-910) shown in Table 2, oxygen represented by the combination with X being an atom or a sulfur atom. These compounds are for illustrative purposes and the present invention is not limited thereto.

Figure 0007328222000048
Figure 0007328222000048

Figure 0007328222000049
Figure 0007328222000049

Figure 0007328222000050
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Figure 0007328222000051
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Figure 0007328222000052
Figure 0007328222000052

Figure 0007328222000053
Figure 0007328222000053

Figure 0007328222000054
Figure 0007328222000054

この式(2)で表される化合物を製造中間体として利用し、本発明の式(1b)を得る方法を説明する。 A method for obtaining the formula (1b) of the present invention using the compound represented by the formula (2) as a production intermediate will be described.

[製造方法B]

Figure 0007328222000055
[Manufacturing method B]
Figure 0007328222000055

式中、Lvはメタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、p‐トルエンスルホニル基、ハロゲン原子等の脱離基を表し、R1、R2、R3、R4、R5、XおよびYは、前記と同義である。 In the formula, Lv represents a leaving group such as a methanesulfonyl group, a trifluoromethanesulfonyl group, a p-toluenesulfonyl group, a halogen atom, etc., and R1, R2, R3, R4, R5, X and Y are as defined above. .

製造方法Bは、式(1b)で表される化合物を得る方法であって、式(2)で表される製造中間体とR1Lvとを、塩基の存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 Production method B is a method for obtaining a compound represented by formula (1b), and includes reacting a production intermediate represented by formula (2) with R1Lv in the presence of a base in a solvent. manufacturing method.

本反応に使用するR1Lvは、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。 R1Lv used in this reaction can be obtained as a commercial product or produced by a known method.

本反応に使用するR1Lvの量は、式(2)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、1当量以上10当量以下である。 The amount of R1Lv used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (2), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but preferably It is 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.

本反応に使用する塩基として、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類が例示されるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。 Examples of the base used in this reaction include inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, and sodium hydride. will not be

本反応に使用する塩基の量は、式(2)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、1当量以上10当量以下である。 The amount of the base used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (2), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. It is 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane, alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropanol; benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene; ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate; nitrile solvents such as acetonitrile; Amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide and N,N-dimethylacetamide, urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, dichloromethane, dichloroethane, chloroform, carbon tetrachloride halogen-based solvents such as dimethylsulfoxide, sulfur-based solvents such as sulfolane, ketone-based solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and the like. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(2)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (2). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、0℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 0° C. or higher and 150° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(1b)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1b) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(1b)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 From the reaction mixture containing the compound represented by formula (1b) obtained above, the solvent can be distilled off under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(1b)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1b) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, or the like with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法C]

Figure 0007328222000056
[Manufacturing method C]
Figure 0007328222000056

式中、SRは硫黄化剤を表し、R1、R2、R3、R4、R5およびYは、前記と同義である。 In the formula, SR represents a sulfurizing agent, and R1, R2, R3, R4, R5 and Y are as defined above.

製造方法Cは、式(1b)で表される化合物のうち、式(1b-c)で表される化合物を得る製造方法であって、式(1b-b)で表される化合物と硫黄化剤(SR)とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 Production method C is a production method for obtaining a compound represented by formula (1b-c) among the compounds represented by formula (1b), wherein the compound represented by formula (1b-b) and sulfuration agent (SR) in a solvent.

本反応に使用する硫黄化剤としては、ローソン試薬(2,4-ビス(4-メトキシフェニル)-1,3-ジチア-2,4-ジホスフェタン-2,4-ジスルフィド)等が挙げられる。 Sulfurizing agents used in this reaction include Lawesson's reagent (2,4-bis(4-methoxyphenyl)-1,3-dithia-2,4-diphosphetane-2,4-disulfide) and the like.

本反応に使用する硫黄化剤の量は、式(1b-b)で表される化合物に対して0.5当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、1当量以上10当量以下である。 The amount of the sulfurizing agent used in this reaction may be 0.5 equivalents or more with respect to the compound represented by formula (1b-b), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. However, it is preferably from 1 equivalent to 10 equivalents.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane, Benzene-based solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, and the like are included. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1b-b)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but usually the amount of the solvent represented by the formula (1b-b) is 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (1b-b). It is below.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、50℃以上180℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually from 50° C. to 180° C. or below the boiling point of the solvent.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水、もしくは適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、本反応においては、分液操作は必須ではない。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, use an acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, an alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, or salt water. etc. can be used arbitrarily. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield. Moreover, liquid separation operation is not essential in this reaction.

前記で得られた式(1b-c)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1b-c) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(1b-c)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (1b-c) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(1b-c)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1b-c) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法D]

Figure 0007328222000057
[Manufacturing method D]
Figure 0007328222000057

式中、R5aは、置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、またはC2~C6のハロアルキニル基を表し、R1、R2、R3、R4、Lv、XおよびYは、前記と同義である。 In the formula, R5a is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A, a substituent A represents a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with A, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with substituent A, or a C2-C6 haloalkynyl group; , R1, R2, R3, R4, Lv, X and Y are as defined above.

製造方法Dは、式(1b)で表される化合物のうち、R5aが置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、またはC2~C6のハロアルキニル基である式(1b-e)で表される化合物の合成方法であって、式(1b-d)で表される化合物とR5aLvとを、塩基の存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 In production method D, among the compounds represented by formula (1b), R5a is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 haloalkyl group optionally substituted with a substituent A, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 optionally substituted with a substituent A A method for synthesizing a compound represented by formula (1b-e) which is an alkynyl group or a C2-C6 haloalkynyl group, wherein the compound represented by formula (1b-d) and R5aLv are combined in the presence of a base Below is a manufacturing method including reacting in a solvent.

本反応に使用するR5aLvは、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。 R5aLv used in this reaction can be obtained as a commercial product or produced by a known method.

本反応に使用するR5aLvの量は、式(1b-d)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、1当量以上1.8当量以下である。 The amount of R5aLv used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (1b-d), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is preferably is 1 equivalent or more and 1.8 equivalent or less.

本反応に使用する塩基として、水素化ナトリウム等の金属ヒドリド類、メチルリチウム、ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、t-ブチルリチウム、ヘキシルリチウム等の有機リチウム類や、リチウムジイソプロピルアミド、ヘキサメチルジシラザンリチウム、ヘキサメチルジシラザンナトリウム、ヘキサメチルジシラザンカリウム等の金属アミド類が例示される。 Bases used in this reaction include metal hydrides such as sodium hydride, organic lithiums such as methyllithium, butyllithium, sec-butyllithium, t-butyllithium and hexyllithium, lithium diisopropylamide and hexamethyldisilazane. Metal amides such as lithium, sodium hexamethyldisilazane and potassium hexamethyldisilazane are exemplified.

本反応に使用する塩基の量は、式(1b-d)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、1当量以上10当量以下である。 The amount of the base used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (1b-d), and is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is preferred. is 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane, Examples include benzene-based solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene, and hydrocarbon-based solvents such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1b-d)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but usually the amount is 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (1b-d). It is below.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、-80℃以上100℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but it is usually -80° C. or higher and 100° C. or lower, or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, an acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, etc. dissolved, an alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, sodium thiosulfate, sulfurous acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Solvents that are not compatible with water, such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, and chloroform, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, may be added. It is possible. In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(1b-e)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1b-e) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(1b-e)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (1b-e) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(1b-e)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1b-e) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法E]

Figure 0007328222000058
[Manufacturing method E]
Figure 0007328222000058

式中、Oxは酸化剤を表し、R1、R2、R3、R4、R5、XおよびYは、前記と同義である。 In the formula, Ox represents an oxidizing agent, and R1, R2, R3, R4, R5, X and Y are as defined above.

製造方法Eは、式(1a)で表される化合物を得る方法であって、式(1b)で表される化合物と酸化剤(Ox)とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 Production method E is a method for obtaining a compound represented by formula (1a), which includes reacting a compound represented by formula (1b) with an oxidizing agent (Ox) in a solvent. be.

本反応に使用する酸化剤としては、二酸化マンガン等の金属酸化物類、2,3-ジクロロ-5,6-ジシアノ-p-ベンゾキノン等のベンゾキノン類、アゾビスイソブチロニトリル、過酸化ベンゾイル等のラジカル開始剤とN-クロロスクシンイミド、N-ブロモスクシンイミド、N-ヨードスクシンイミド、1,3-ジクロロ-5,5-ジメチルヒダントイン、1,3-ジブロモ-5,5-ジメチルヒダントイン、1,3-ジヨード-5,5-ジメチルヒダントイン等のハロゲン化剤とを組み合わせたもの等を使用することができる。 The oxidizing agent used in this reaction includes metal oxides such as manganese dioxide, benzoquinones such as 2,3-dichloro-5,6-dicyano-p-benzoquinone, azobisisobutyronitrile, benzoyl peroxide, and the like. and N-chlorosuccinimide, N-bromosuccinimide, N-iodosuccinimide, 1,3-dichloro-5,5-dimethylhydantoin, 1,3-dibromo-5,5-dimethylhydantoin, 1,3- A combination with a halogenating agent such as diiodo-5,5-dimethylhydantoin can be used.

以下、酸化剤が金属酸化物類である方法について説明する。 A method in which the oxidizing agent is a metal oxide will be described below.

本反応に使用する酸化剤の量は、式(1b)に表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、1当量以上200当量以下である。 The amount of the oxidizing agent used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (1b), as long as the desired reaction proceeds. It is equal to or more and 200 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. Examples thereof include halogen-based solvents such as carbon tetrachloride. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1b)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (1b). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、0℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 0° C. or higher and 150° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、溶解していない金属類を濾過することにより除去することが可能である。さらに、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、本反応において、分液操作は必須ではない。 As a post-treatment of the reaction, it is possible to remove undissolved metals by filtration. Furthermore, it is possible to perform a liquid separation operation by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, use an acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, an alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, or salt water. etc. can be used arbitrarily. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield. Moreover, liquid separation operation is not essential in this reaction.

前記で得られた式(1a)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1a) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(1a)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (1a) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(1a)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1a) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, or the like with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

以下、酸化剤がベンゾキノン類である方法について説明する。 A method in which the oxidizing agent is a benzoquinone will be described below.

本反応に使用する酸化剤の量は、式(1b)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、1当量以上20当量以下である。 The amount of the oxidizing agent used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (1b), as long as the desired reaction proceeds. It is equal to or more and 20 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. Examples thereof include halogen-based solvents such as carbon tetrachloride. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1b)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (1b). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、0℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 0° C. or higher and 150° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、本反応において、分液操作は必須ではない。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, use an acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, an alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, or salt water. etc. can be used arbitrarily. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield. Moreover, liquid separation operation is not essential in this reaction.

前記で得られた式(1a)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1a) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(1a)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (1a) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(1a)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1a) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, or the like with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

以下、酸化剤がラジカル開始剤とハロゲン化剤との組み合わせである方法について説明する。 A method in which the oxidizing agent is a combination of a radical initiator and a halogenating agent is described below.

本反応に使用するラジカル開始剤とハロゲン化剤の量は、それぞれ、式(1b)で表される化合物に対して0.01当量以上と1.0当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。好ましくは、ラジカル開始剤が0.01当量以上1当量以下であり、ハロゲン化剤が1当量以上3当量以下である。 The amounts of the radical initiator and the halogenating agent used in this reaction are 0.01 equivalent or more and 1.0 equivalent or more, respectively, with respect to the compound represented by formula (1b), so that the intended reaction proceeds. It is not particularly limited as long as it does. Preferably, the radical initiator is 0.01 to 1 equivalent, and the halogenating agent is 1 to 3 equivalents.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化ベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but halogenated benzene solvents such as chlorobenzene and dichlorobenzene; Solvents include halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1b)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (1b). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、20℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 20° C. or higher and 150° C. or lower, or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Solvents that are not compatible with water, such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, and chloroform, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, may be added. It is possible. In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(1a)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1a) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(1a)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (1a) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(1a)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1a) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, or the like with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法F]

Figure 0007328222000059
[Manufacturing method F]
Figure 0007328222000059

式中、R5bはハロゲン原子を表し、HalRはハロゲン化剤を表し、R1、R2、R3、R4、XおよびYは前記と同義である。 In the formula, R5b represents a halogen atom, HalR represents a halogenating agent, and R1, R2, R3, R4, X and Y are as defined above.

製造方法Fは、式(1a)で表される化合物のうち、R5bがハロゲン原子を表す式(1a-b)で表される化合物を得る製造方法であって、式(1a-a)で表される化合物とハロゲン化剤(HalR)とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 Production method F is a production method for obtaining a compound represented by formula (1a-b), in which R5b represents a halogen atom, among the compounds represented by formula (1a). It is a production method comprising reacting a compound to be obtained and a halogenating agent (HalR) in a solvent.

本反応に使用するハロゲン化剤としては、セレクトロフルオル(N-フルオロ-N’-クロロメチル-トリエチレンジアミン ビス(テトラフルオロボラート))、N-クロロスクシンイミド、N-ブロモスクシンイミド、N-ヨードスクシンイミド、1,3-ジクロロ-5,5-ジメチルヒダントイン、1,3-ジブロモ-5,5-ジメチルヒダントイン、1,3-ジヨード-5,5-ジメチルヒダントイン、臭素、ヨウ素等が挙げられる。 Halogenating agents used in this reaction include selectrofluor (N-fluoro-N'-chloromethyl-triethylenediamine bis(tetrafluoroborate)), N-chlorosuccinimide, N-bromosuccinimide, N-iodine succinimide, 1,3-dichloro-5,5-dimethylhydantoin, 1,3-dibromo-5,5-dimethylhydantoin, 1,3-diiodo-5,5-dimethylhydantoin, bromine, iodine and the like.

本反応に使用するハロゲン化剤の量は、式(1a-a)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、1当量以上10当量以下である。ただし、ヒダントインを含むハロゲン化剤の量は、0.5当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはなく、好ましくは、1当量以上5当量以下である。 The amount of the halogenating agent used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (1a-a), as long as the desired reaction proceeds. Preferably, it is 1 equivalent or more and 10 equivalents or less. However, the amount of the hydantoin-containing halogenating agent is not particularly limited as long as it is 0.5 equivalents or more as long as the desired reaction proceeds, and is preferably 1 equivalent or more and 5 equivalents or less.

本反応に使用するハロゲン化剤がヨウ素化剤である場合、塩酸、硫酸等の無機酸類や、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の有機酸のような酸を加えることができる。 When the halogenating agent used in this reaction is an iodinating agent, an acid such as an inorganic acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid, or an organic acid such as acetic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid or trifluoromethanesulfonic acid may be added. can be done.

本反応に使用するハロゲン化剤がヨウ素化剤である場合に使用する酸の量は、式(1a-a)で表される化合物に対して0.01当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、0.1当量以上3当量以下である。 When the halogenating agent used in this reaction is an iodinating agent, the amount of the acid used is 0.01 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (1a-a). Although it is not particularly limited as long as it proceeds, it is preferably 0.1 equivalent or more and 3 equivalent or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、硫酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の酸性系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. , diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, and other ether solvents; methanol, ethanol, isopropanol, and other alcohol solvents; benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, and other benzene solvents. , ethyl acetate, isopropyl acetate, ester solvents such as butyl acetate, nitrile solvents such as acetonitrile, N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide and other amide solvents, 1,3- Urea-based solvents such as dimethyl-2-imidazolidinone, halogen-based solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride can be used. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1a-a)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (1a-a) It is below.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、0℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 0° C. or higher and 150° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(1a-b)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1a-b) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(1a-b)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1a-b) obtained above can be evaporated under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(1a-b)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1a-b) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法G]

Figure 0007328222000060
[Manufacturing method G]
Figure 0007328222000060

式中、Jは酸素原子または硫黄原子を表し、Jが酸素原子の場合、R5cは置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニル基、またはC3~C6のハロアルキニル基を表し、Jが硫黄原子の場合、R5cはC1~C6のアルキル基またはC1~C6のハロアルキル基を表し、Qは水素原子または金属を表し、R1、R2、R3、R4、R5b、XおよびYは前記と同義である。 In the formula, J represents an oxygen atom or a sulfur atom, and when J is an oxygen atom, R5c is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 haloalkyl group, a substituent A optionally substituted C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with substituent A C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent A C2-C6 haloalkenyl group optionally substituted with substituent A C3 -C6 alkynyl group or C3-C6 haloalkynyl group, and when J is a sulfur atom, R5c represents a C1-C6 alkyl group or a C1-C6 haloalkyl group, and Q represents a hydrogen atom or a metal , R1, R2, R3, R4, R5b, X and Y are as defined above.

製造方法Gは、式(1a)で表される化合物のうち、Jは酸素原子または硫黄原子を表し、Jが酸素原子の場合、R5cが置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニル基、またはC3~C6のハロアルキニル基を表し、Jが硫黄原子の場合、R5cはC1~C6のアルキル基またはC1~C6のハロアルキル基を表す式(1a-c)で表される化合物の合成法であって、式(1a-b)で表される化合物とR5c-J-Qとを、遷移金属類の存在下に反応させるカップリング反応によって得ることを含む製造方法である。 In the production method G, among the compounds represented by the formula (1a), J represents an oxygen atom or a sulfur atom, and when J is an oxygen atom, R5c may be optionally substituted with a substituent A of C1 to C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with substituent A, C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent A, C2-C6 halo represents an alkenyl group, a C3-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A, or a C3-C6 haloalkynyl group, and when J is a sulfur atom, R5c is a C1-C6 alkyl group or a C1-C6 A method for synthesizing a compound represented by the formula (1a-c) representing a haloalkyl group of, wherein the compound represented by the formula (1a-b) and R5c-JQ are combined in the presence of a transition metal It is a production method including obtaining by a coupling reaction to react.

式(1a-b)で表される化合物中、好ましいR5bは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。 In the compounds represented by formula (1a-b), preferred R5b is a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.

本反応に使用するR5c-J-Qは、市販品として入手または公知の方法で製造できる。好ましいQは、水素原子、または、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属類である。 R5c-JQ used in this reaction is commercially available or can be produced by a known method. Preferred Q is a hydrogen atom or alkali metals such as sodium and potassium.

本反応に使用するR5c-J-Qの量は、式(1a-b)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。Qが水素原子のときは、溶媒としても使用可能である。 The amount of R5c-JQ used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (1a-b), as long as the intended reaction proceeds. . When Q is a hydrogen atom, it can also be used as a solvent.

本反応に使用する遷移金属類は、配位子を有してよく、酢酸パラジウム、[1,1’-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウムジクロリド、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウムジクロリド等のパラジウム類等である。 The transition metals used in this reaction may have a ligand, such as palladium acetate, [1,1′-bis(diphenylphosphino)ferrocene]palladium dichloride, tris(dibenzylideneacetone)dipalladium, tetrakis ( and palladium compounds such as triphenylphosphine)palladium and bis(triphenylphosphine)palladium dichloride.

本反応に使用する遷移金属類の量は、式(1a-b)で表される化合物に対して0.001当量以上1当量以下であるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。 The amount of the transition metal used in this reaction is 0.001 equivalent or more and 1 equivalent or less with respect to the compound represented by formula (1a-b), but is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. never

本反応を効率的に進行させるために、トリフェニルホスフィン、1,1’-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン、2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2’4’6’-トリイソプロピルビフェニル、2-ジ-t-ブチルホスフィノ-2’4’6’-トリイソプロピルビフェニル等のホスフィン配位子を添加することができる。 In order to efficiently proceed this reaction, triphenylphosphine, 1,1'-bis(diphenylphosphino)ferrocene, 2-dicyclohexylphosphino-2'4'6'-triisopropylbiphenyl, 2-di-t A phosphine ligand such as -butylphosphino-2'4'6'-triisopropylbiphenyl can be added.

本反応に使用するホスフィン配位子の量は、式(1a-b)で表される化合物に対して0.001当量以上1当量以下であるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。 The amount of the phosphine ligand used in this reaction is 0.001 equivalent or more and 1 equivalent or less with respect to the compound represented by formula (1a-b), but is particularly limited as long as the desired reaction proceeds. will not be

本反応に使用する塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムのような無機塩基類やトリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基類等である。 Bases used in this reaction include inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate and cesium carbonate, and organic bases such as triethylamine, tributylamine and diisopropylethylamine.

本反応に使用する塩基の量は、式(1a-b)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、1当量以上50当量以下である。 The amount of the base used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (1a-b), as long as the desired reaction proceeds, but preferably , 1 equivalent or more and 50 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、R5c-J-H(式中、R5cは前記と同義であり、Jは酸素原子である。)で表されるアルコール溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but R5c-JH (wherein R5c is as defined above and J is an oxygen atom. ), ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane, benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene, etc. are mentioned. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1a-b)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (1a-b). It is below.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、30℃以上200℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually from 30° C. to 200° C. or below the boiling point of the solvent.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、濾過操作を行うことにより、不溶物を除去することも可能であるが必須ではない。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, use an acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, an alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, or salt water. etc. can be used arbitrarily. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield. In addition, although it is possible to remove insoluble matter by performing a filtering operation, it is not essential.

前記で得られた式(1a-c)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compounds represented by formulas (1a-c) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(1a-c)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The reaction mixture containing the compound represented by formulas (1a-c) obtained above can be evaporated under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(1a-c)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1a-c) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法H]

Figure 0007328222000061
[Manufacturing method H]
Figure 0007328222000061

式中、R5dは置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、またはC2~C6のハロアルケニル基を表し、R5d-Bは有機ボロン酸類を表し、R1、R2、R3、R4、R5b、XおよびYは前記と同義である。 In the formula, R5d is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A, a substituent A represents a C2-C6 alkenyl group or a C2-C6 haloalkenyl group optionally substituted with, R5d-B represents organic boronic acids, R1, R2, R3, R4, R5b, X and Y are the above is synonymous with

製造方法Hは、式(1a)で表される化合物のうち、R5dが置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、またはC2~C6のハロアルケニル基である式(1a-d)で表される化合物の合成方法であって、式(1a-b)で表される化合物と有機ボロン酸類(R5d-B)とを遷移金属類および塩基の存在下で反応させる鈴木-宮浦カップリングによって得ることを含む製造方法である。 In production method H, among the compounds represented by formula (1a), R5d is a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1 to C6 haloalkyl group optionally substituted with a substituent A, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A, or a C2-C6 haloalkenyl group of the compound represented by formula (1a-d) Synthetic method comprising obtaining by Suzuki-Miyaura coupling in which the compound represented by formula (1a-b) and organic boronic acids (R5d-B) are reacted in the presence of transition metals and a base The method.

式(1a-b)中、好ましいR5bは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。 In formula (1a-b), preferred R5b is a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.

本反応に使用するR5d-Bは、有機ボロン酸や有機ボロン酸エステル等の有機ボロン酸類を表し、市販品として入手または公知の方法で製造できる。 R5d-B used in this reaction represents an organic boronic acid such as an organic boronic acid or an organic boronate ester, and can be obtained as a commercially available product or produced by a known method.

本反応に使用するR5d-Bの量は、式(1a-b)で表される化合物に対して、1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、1当量以上10当量以下である。 The amount of R5d-B used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (1a-b), as long as the desired reaction proceeds. , preferably 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.

本反応に使用する遷移金属類は、パラジウム、ニッケル、ルテニウム等であり、配位子を有してよい。好ましくは、酢酸パラジウム、[1,1’-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウムジクロリド、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウムジクロリド等のパラジウム類が挙げられる。 The transition metals used in this reaction are palladium, nickel, ruthenium, etc., and may have ligands. Preferably, palladium acetate, [1,1′-bis(diphenylphosphino)ferrocene]palladium dichloride, tris(dibenzylideneacetone)dipalladium, tetrakis(triphenylphosphine)palladium, bis(triphenylphosphine)palladium dichloride, etc. Palladium is mentioned.

本反応に使用する遷移金属類の量は、式(1a-b)で表される化合物に対して0.001当量以上1当量以下であるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。 The amount of the transition metal used in this reaction is 0.001 equivalent or more and 1 equivalent or less with respect to the compound represented by formula (1a-b), but is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. never

本反応を効率的に進行させるために、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン等のホスフィン配位子を添加することができる。 A phosphine ligand such as triphenylphosphine or tricyclohexylphosphine can be added for efficient progress of this reaction.

本反応に使用するホスフィン配位子の量は、式(1a-b)で表される化合物に対して0.001当量以上1当量以下であるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。 The amount of the phosphine ligand used in this reaction is 0.001 equivalent or more and 1 equivalent or less with respect to the compound represented by formula (1a-b), but is particularly limited as long as the desired reaction proceeds. will not be

本反応に使用する塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、リン酸三カリウムのような無機塩基類やナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム t-ブトキシド等の金属アルコキシド類等である。 The base used in this reaction includes inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate and tripotassium phosphate, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide.

本反応に使用する塩基の量は、式(1a-b)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、1当量以上50当量以下である。 The amount of the base used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (1a-b), as long as the desired reaction proceeds, but preferably , 1 equivalent or more and 50 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、水溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. and benzene-based solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1a-b)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (1a-b). It is below.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、30℃以上200℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually from 30° C. to 200° C. or below the boiling point of the solvent.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、濾過操作を行うことにより、不溶物を除去することも可能であるが必須ではない。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, use an acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, an alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, or salt water. etc. can be used arbitrarily. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield. In addition, although it is possible to remove insoluble matter by performing a filtering operation, it is not essential.

前記で得られた式(1a-d)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compounds represented by formulas (1a-d) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(1a-d)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The reaction mixture containing the compounds represented by formulas (1a-d) obtained above can be evaporated under reduced pressure as long as the compounds do not decompose.

溶媒留去後に得られた式(1a-d)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by Formula (1a-d) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法I]

Figure 0007328222000062
[Manufacturing method I]
Figure 0007328222000062

式中、R5eは置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、またはC2~C6のハロアルキニル基を表し、R1、R2、R3、R4、R5b、XおよびYは前記と同義である。 In the formula, R5e represents a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A or a C2-C6 haloalkynyl group, and R1, R2, R3, R4, R5b, X and Y are as defined above. is.

製造方法Iは、式(1a)で表される化合物のうち、R5eが置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、またはC2~C6のハロアルキニル基である式(1a-e)で表される化合物の合成方法であって、(1a-b)で表される化合物と末端アルキン化合物とを遷移金属類および塩基の存在下で反応させる薗頭カップリングによって得ることを含む製造方法である。 In the production method I, among the compounds represented by the formula (1a), R5e is a C2 to C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A or a C2 to C6 haloalkynyl group of the formula (1a- A method for synthesizing a compound represented by e), comprising obtaining by Sonogashira coupling reacting a compound represented by (1a-b) with a terminal alkyne compound in the presence of transition metals and a base manufacturing method.

式(1a-b)中、好ましいR5bは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。 In formula (1a-b), preferred R5b is a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.

本反応に使用する末端アルキン化合物は、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。また、末端アルキン化合物として、トリメチルシリルアセチレンも使用することができる。この場合は、式(1a-b)で表される化合物にトリメチルシリルエチニル基を導入後、脱シリル化を行う必要がある。脱シリル化については、ジャーナル オブ ザ アメリカン ケミカル ソサエティー(Journal of the American Chemical Society)、第131巻、2号、634-643頁(2009).およびジャーナル オブ オルガノメタリック ケミストリー(Journal of Organometallic Chemistry)、696巻、25号、4039-4045頁(2011).等の非特許文献を参考にして行うことができる。 The terminal alkyne compound used in this reaction can be obtained as a commercial product or produced by a known method. Trimethylsilylacetylene can also be used as the terminal alkyne compound. In this case, it is necessary to desilylate the compound represented by the formula (1a-b) after introducing a trimethylsilylethynyl group. For desilylation, see Journal of the American Chemical Society, Vol. 131, No. 2, pp. 634-643 (2009). and Journal of Organometallic Chemistry, Vol. 696, No. 25, pp. 4039-4045 (2011). It can be performed with reference to non-patent literature such as.

本反応に使用する末端アルキン化合物の量は、式(1a-b)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、1当量以上10当量以下である。 The amount of the terminal alkyne compound used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (1a-b), as long as the intended reaction proceeds. Preferably, it is 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.

本反応に使用する遷移金属類は、配位子を有してよく、酢酸パラジウム、[1,1’-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウムジクロリド、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウムジクロリド等のパラジウム類等である。また、塩化銅、臭化銅、ヨウ化銅等の銅類も同時に使用する。 The transition metals used in this reaction may have a ligand, such as palladium acetate, [1,1′-bis(diphenylphosphino)ferrocene]palladium dichloride, tris(dibenzylideneacetone)dipalladium, tetrakis ( and palladium compounds such as triphenylphosphine)palladium and bis(triphenylphosphine)palladium dichloride. Coppers such as copper chloride, copper bromide and copper iodide are also used at the same time.

本反応に使用する遷移金属類の量は、パラジウム類等および銅類が、それぞれ式(1a-b)で表される化合物に対して0.001当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはない。好ましい量は、双方ともに0.001当量以上1当量以下である。 The amount of transition metals used in this reaction may be 0.001 equivalents or more of palladium compounds and copper compounds with respect to the compound represented by formula (1a-b), respectively, and the desired reaction proceeds. There are no particular restrictions as long as it does. Preferred amounts for both are 0.001 equivalent or more and 1 equivalent or less.

本反応に使用する塩基は、トリエチルアミン、トリブチルアミン、イソプロピルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機アミン類や、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の無機塩基類等が挙げられる。 The base used in this reaction includes organic amines such as triethylamine, tributylamine, isopropylamine, diethylamine, diisopropylamine and diisopropylethylamine, and inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate and cesium carbonate.

本反応に使用する塩基の量は、式(1a-b)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、1当量以上50当量以下である。また、有機塩基で液体状のものに関しては、溶媒として使用することができる。 The amount of the base used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (1a-b), as long as the desired reaction proceeds, but preferably , 1 equivalent or more and 50 equivalents or less. In addition, organic bases in liquid form can be used as solvents.

本反応を効率的に進行させるために、トリt-ブチルホスフィン、2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2’4’6’-トリイソプロピルビフェニル等のホスフィン配位子を添加することができるが、必須ではない。 A phosphine ligand such as tri-t-butylphosphine, 2-dicyclohexylphosphino-2'4'6'-triisopropylbiphenyl, etc. can be added in order to allow the reaction to proceed efficiently, but is not essential. .

本反応に使用するホスフィン配位子の量は、式(1a-b)で表される化合物に対して0.001当量以上1当量以下であるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。 The amount of the phosphine ligand used in this reaction is 0.001 equivalent or more and 1 equivalent or less with respect to the compound represented by formula (1a-b), but is particularly limited as long as the desired reaction proceeds. will not be

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、トリエチルアミン、トリブチルアミン、イソプロピルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機アミン溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane, Benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, and dichlorobenzene Ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate Nitrile solvents such as acetonitrile, N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide , N,N-dimethylacetamide and other amide solvents, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and other urea solvents, dichloromethane, dichloroethane, chloroform, carbon tetrachloride and other halogen solvents, triethylamine, tributylamine, Examples include organic amine solvents such as isopropylamine, diethylamine, diisopropylamine, and diisopropylethylamine. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1a-b)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (1a-b). It is below.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、0℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 0° C. or higher and 150° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、濾過操作を行うことにより、不溶物を除去することも可能であるが必須ではない。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, use an acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, an alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, or salt water. etc. can be used arbitrarily. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add Moreover, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield. In addition, although it is possible to remove insoluble matter by performing a filtering operation, it is not essential.

前記で得られた式(1a-e)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1a-e) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(1a-e)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (1a-e) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(1a-e)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1a-e) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法J]

Figure 0007328222000063
[Manufacturing method J]
Figure 0007328222000063

式中、RyaはC1~C6のアルコキシ基を表し、Yaは、チオフェン-2-イル基、またはチオフェン-3-イル基を表し、R1、R2、R3、R4、R5、Xおよび破線部は前記と同義である。 In the formula, Rya represents a C1-C6 alkoxy group, Ya represents a thiophen-2-yl group or a thiophen-3-yl group, and R1, R2, R3, R4, R5, X and the dashed line are as described above. is synonymous with

製造方法Jは、式(1)で表される化合物のうち、水酸基を有する式(1-b)で表される化合物の合成方法であって、RyaがC1~C6のアルコキシ基である式(1-a)で表される化合物と酸とを反応させることによって得ることを含む製造方法である。 Production method J is a method for synthesizing a compound represented by formula (1-b) having a hydroxyl group among compounds represented by formula (1), wherein Rya is a C1 to C6 alkoxy group ( A production method comprising obtaining by reacting a compound represented by 1-a) with an acid.

本反応に使用する酸として、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素等のハロゲン化ホウ素類等がある。 Acids used in this reaction include boron halides such as boron trichloride and boron tribromide.

本反応に使用する酸の量は、式(1-a)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、1当量以上10当量以下である。 The amount of acid used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (1-a), and is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is preferred. is 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. , dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1-a)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but usually it is 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (1-a). It is below.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、-80℃以上100℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but it is usually -80° C. or higher and 100° C. or lower, or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, use an acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, an alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, or salt water. etc. can be used arbitrarily. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(1-b)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1-b) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(1-b)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 From the reaction mixture containing the compound represented by formula (1-b) obtained above, the solvent can be distilled off under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(1-b)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1-b) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法K]

Figure 0007328222000064
[Manufacturing method K]
Figure 0007328222000064

式中、Rybは、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニル基、C3~C6のハロアルキニル基、置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアリール基、置換基Dで適宜0~2置換されてもよいヘテロアリール基、置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアラルキル基、またはRx1C(=O)-を表し、Lv、R1、R2、R3、R4、R5、Rx1、X、Yaおよび破線部は前記と同義である。 In the formula, Ryb is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C, a substituent C2-C6 alkenyl group optionally substituted with C, C2-C6 haloalkenyl group, C3-C6 alkynyl group optionally substituted with substituent C, C3-C6 haloalkynyl group, substituent an aryl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D, a heteroaryl group optionally substituted with 0 to 2 substituents D, an aralkyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D, or Rx1C ( =O)-, and Lv, R1, R2, R3, R4, R5, Rx1, X, Ya and dashed lines are as defined above.

製造方法Kは、式(1)で表される化合物のうち、Rybが置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニル基、C3~C6のハロアルキニル基、置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアリール基、置換基Dで適宜0~2置換されてもよいヘテロアリール基、置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアラルキル基、またはRx1C(=O)-(Rx1は、前記と同義である。)を表す式(1-c)で表される化合物の合成方法であって、式(1-b)で表される化合物とRyb-Lvとを、塩基存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 In production method K, among the compounds represented by formula (1), Ryb is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group optionally substituted with a substituent C, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkenyl group, a C3-C6 optionally substituted with a substituent C alkynyl group, C3-C6 haloalkynyl group, aryl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D, heteroaryl group optionally substituted with 0 to 2 substituents D, optionally 0 substituents D A method for synthesizing a compound represented by the formula (1-c) representing an optionally substituted aralkyl group or Rx1C (=O) - (Rx1 is as defined above), wherein the compound represented by the formula ( A production method comprising reacting the compound represented by 1-b) with Ryb-Lv in the presence of a base in a solvent.

本反応に使用するRyb-Lvは、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。 Ryb-Lv used in this reaction can be obtained as a commercial product or produced by a known method.

本反応に使用するRyb-Lvは、式(1-b)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、1当量以上10当量以下である。 Ryb-Lv used in this reaction may be 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (1-b), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is preferably is 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.

本反応に使用する塩基として、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類や、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、4-ジメチルアミノピリジン、コリジン、ルチジン等の有機塩基類が例示されるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。 Examples of bases used in this reaction include inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate and sodium hydride, and organic bases such as triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, collidine and lutidine. are exemplified, but are not particularly limited as long as the intended reaction proceeds.

本反応に使用する塩基は、式(1-b)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、1当量以上10当量以下である。 The base used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (1-b), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but preferably It is 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane, alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropanol; benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene; ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate; nitrile solvents such as acetonitrile; Amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide and N,N-dimethylacetamide, urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, dichloromethane, dichloroethane, chloroform, carbon tetrachloride halogen-based solvents such as dimethylsulfoxide, sulfur-based solvents such as sulfolane, ketone-based solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and the like. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1-b)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but usually it is 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (1-b). It is below.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、-20℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but it is usually from -20°C to 150°C or below the boiling point of the solvent.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(1-c)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1-c) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(1-c)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 From the reaction mixture containing the compound represented by formula (1-c) obtained above, the solvent can be distilled off under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(1-c)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1-c) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法L]

Figure 0007328222000065
[Manufacturing method L]
Figure 0007328222000065

式中、Rxaは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、またはRx2C(=O)N(Rx3)-(ここで、Rx2およびRx3は、前記と同義である。)を表し、naは1~2の整数を表し(ただし、na=2の場合、2のRxaは、それぞれ独立した置換基を表す。)、R1、R5、Rya、X、Yおよび破線部は前記と同義である。ただし、式(1-d)および式(1-e)で表される化合物中のRxa、式(1-d)で表される化合物中のRyaならびに式(1-e)で表される化合物中の水酸基は、式(1)で表される化合物中のR2、R3またはR4に該当するいずれかの位置に置換する。 In the formula, Rxa is a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group optionally substituted with a substituent C a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 alkynyl optionally substituted with a substituent C group, a C2-C6 haloalkynyl group, Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above), RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above), or Rx2C (=O) N (Rx3) - (here, Rx2 and Rx3 are as defined above), na represents an integer of 1 to 2 (however, when na = 2, 2 Each Rxa represents an independent substituent.), R1, R5, Rya, X, Y and the dashed line are as defined above. However, Rxa in the compounds represented by formula (1-d) and formula (1-e), Rya in the compound represented by formula (1-d) and the compound represented by formula (1-e) The hydroxyl group in is substituted at any position corresponding to R2, R3 or R4 in the compound represented by formula (1).

製造方法Lは、式(1)で表される化合物のうち、水酸基を有する式(1-e)で表される化合物の合成方法であって、式(1-d)で表される化合物と酸とを反応させることによって得ることを含む製造方法である。 Production method L is a method for synthesizing a compound represented by formula (1-e) having a hydroxyl group among compounds represented by formula (1), wherein a compound represented by formula (1-d) and It is a production method including obtaining by reacting with an acid.

製造方法Jにおける式(1-a)で表される化合物を、式(1-d)で表される化合物に代えて使用することにより、製造方法Jに準じて製造方法Lを実施することができる。 Production method L can be carried out according to production method J by using the compound represented by formula (1-a) in production method J in place of the compound represented by formula (1-d). can.

[製造方法M]

Figure 0007328222000066
[Manufacturing method M]
Figure 0007328222000066

式中、Lv、R1、R5、Rxa、Ryb、X、Y、naおよび破線部は前記と同義である。ただし、式(1-e)および式(1-f)で表される化合物中のRxa、式(1-e)で表される化合物中の水酸基ならびに式(1-f)で表される化合物中のRyb-O-は、式(1)で表される化合物中のR2、R3またはR4に該当するいずれかの位置に置換する。また、na=2の場合、2のRxaは、それぞれ独立した置換基を表す。 In the formula, Lv, R1, R5, Rxa, Ryb, X, Y, na and dashed lines are as defined above. However, Rxa in the compounds represented by formula (1-e) and formula (1-f), the hydroxyl group in the compound represented by formula (1-e) and the compound represented by formula (1-f) Ryb--O-- in is substituted at any position corresponding to R2, R3 or R4 in the compound represented by formula (1). When na=2, Rxa of 2 each represent an independent substituent.

製造方法Mは、式(1)で表される化合物のうち、式(1-f)で表される化合物の合成方法であって、式(1-e)で表される化合物とRyb-Lvとを、塩基存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 Production method M is a method for synthesizing the compound represented by formula (1-f) among the compounds represented by formula (1), wherein the compound represented by formula (1-e) and Ryb-Lv and in a solvent in the presence of a base.

製造方法Kにおける式(1-b)で表される化合物を、式(1-e)で表される化合物に代えて使用することにより、製造方法Kに準じて製造方法Mを実施することができる。 Production method M can be carried out according to production method K by using the compound represented by formula (1-b) in production method K in place of the compound represented by formula (1-e). can.

[製造方法N]

Figure 0007328222000067
[Manufacturing method N]
Figure 0007328222000067

式中、Rycはハロゲン原子を表し、Ybは、チオフェン-2-イル基、またはチオフェン-3-イル基を表し、Rydは置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、またはC2~C6のハロアルケニル基を表し、Ryd-Bは有機ボロン酸類を表し、R1、R2、R3、R4、R5、Xおよび破線部は前記と同義である。 In the formula, Ryc represents a halogen atom, Yb represents a thiophen-2-yl group or a thiophen-3-yl group, Ryd represents a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, C1 ~C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with substituent C, C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent C, or C2-C6 haloalkenyl group Ryd-B represents an organic boronic acid, and R1, R2, R3, R4, R5, X and dashed lines are as defined above.

製造方法Nは、式(1)で表される化合物のうち、Rydが置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、またはC2~C6のハロアルケニル基である式(1-h)で表される化合物の合成方法であって、式(1-g)で表される化合物と有機ボロン酸類(Ryd-B)とを反応させる鈴木-宮浦カップリングによって得ることを含む製造方法である。 In production method N, among the compounds represented by formula (1), Ryd is a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1 to C6 haloalkyl group optionally substituted with a substituent C, of the compound represented by formula (1-h), which is a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C, or a C2-C6 haloalkenyl group; It is a synthetic method, and is a production method including obtaining by Suzuki-Miyaura coupling in which the compound represented by the formula (1-g) is reacted with an organic boronic acid (Ryd-B).

式(1-g)で表される化合物中、好ましいRycは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。 Preferred Ryc in the compound represented by formula (1-g) is a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.

本反応に使用するRyd-Bは、有機ボロン酸や有機ボロン酸エステル等の有機ボロン酸類を表し、市販品として入手または公知の方法で製造できる。 Ryd-B used in this reaction represents an organic boronic acid such as an organic boronic acid or an organic boronic acid ester, and can be obtained as a commercial product or produced by a known method.

製造方法Hにおける式(1a-b)で表される化合物とR5d-Bとを、それぞれ式(1-g)で表される化合物とRyd-Bとに代えて使用することにより、製造方法Hに準じて製造方法Nを実施することができる。 By using the compound represented by the formula (1a-b) and R5d-B in the production method H in place of the compound represented by the formula (1-g) and Ryd-B, respectively, the production method H Production method N can be carried out according to.

[製造方法O]

Figure 0007328222000068
[Manufacturing method O]
Figure 0007328222000068

式中、Rxbは、水素原子、シアノ基、ニトロ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、C2~C6のハロアルケニルオキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、C3~C6のハロアルキニルオキシ基、置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアリールオキシ基、置換基Dで適宜0~2置換されてもよいヘテロアリールオキシ基、置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアラルキルオキシ基、Rx1C(=O)-(ここで、Rx1は、前記と同義である。)、Rx1C(=O)O-(ここで、Rx1は、前記と同義である。)、1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基、Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、またはRx2C(=O)N(Rx3)-(ここで、Rx2およびRx3は、前記と同義である。)を表し、Ryc、Ryd、Ryd-B、R1、R5、X、Y、naおよび破線部は前記と同義である。ただし、式(1-i)および式(1-j)で表される化合物中のRxb、式(1-i)で表される化合物中のRycおよび式(1-j)で表される化合物中のRydは、式(1)で表される化合物中のR2、R3またはR4に該当するいずれかの位置に置換する。また、na=2の場合、2のRxbは、それぞれ独立した置換基を表す。 In the formula, Rxb is a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group optionally substituted with a substituent C, a C3 optionally substituted with a substituent C -C8 cycloalkyl group, C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent C, C2-C6 haloalkenyl group, C2-C6 alkynyl group optionally substituted with substituent C, C2 ~C6 haloalkynyl group, C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent C, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with substituent C, C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with substituent C, C2-C6 haloalkenyloxy group, C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with substituent C, C3-C6 halo alkynyloxy group, aryloxy group optionally substituted with 0 to 5 substituents D, heteroaryloxy group optionally substituted with 0 to 2 substituents D, optionally substituted with 0 to 5 substituents D aralkyloxy group, Rx1C(=O)-(wherein Rx1 is as defined above), Rx1C(=O)O-(wherein Rx1 is as defined above), 1 3- to 6-membered ring groups containing ~2 oxygen atoms, Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above), RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above) are synonymous.), or Rx2C(=O)N(Rx3)-(wherein Rx2 and Rx3 are as defined above.), Ryc, Ryd, Ryd-B, R1, R5, X, Y, na and dashed lines have the same meanings as above. However, Rxb in the compound represented by formula (1-i) and formula (1-j), Ryc in the compound represented by formula (1-i) and the compound represented by formula (1-j) Ryd therein is substituted at any position corresponding to R2, R3 or R4 in the compound represented by formula (1). When na=2, Rxb of 2 each represents an independent substituent.

製造方法Oは、式(1)で表される化合物のうち、式(1-j)で表される化合物の合成方法であって、式(1-i)で表される化合物と有機ボロン酸類(Ryd-B)とを反応させる鈴木-宮浦カップリングによって得ることを含む製造方法である。 Production method O is a method for synthesizing the compound represented by formula (1-j) among the compounds represented by formula (1), wherein the compound represented by formula (1-i) and organic boronic acids (Ryd-B) by Suzuki-Miyaura coupling.

式(1-i)で表される化合物中、好ましいRycは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。 Preferred Ryc in the compound represented by formula (1-i) is a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.

製造方法Hにおける式(1a-b)で表される化合物とR5d-Bとを、それぞれ式(1-i)で表される化合物とRyd-Bとに代えて使用することにより、製造方法Hに準じて製造方法Oを実施することができる。 By using the compound represented by formula (1a-b) and R5d-B in production method H in place of the compound represented by formula (1-i) and Ryd-B, respectively, production method H Production method O can be carried out according to.

[製造方法P]

Figure 0007328222000069
[Manufacturing method P]
Figure 0007328222000069

式中、Ryeは置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、またはC2~C6のハロアルキニル基を表し、Ryc、R1、R2、R3、R4、R5、X、Ybおよび破線部は前記と同義である。 In the formula, Rye represents a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C or a C2-C6 haloalkynyl group, Ryc, R1, R2, R3, R4, R5, X, Yb and a dashed line A part is synonymous with the above-mentioned.

製造方法Pは、式(1)で表される化合物のうち、Ryeが置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、またはC2~C6のハロアルキニル基である式(1-k)で表される化合物の合成方法であって、式(1-g)で表される化合物と末端アルキン化合物とを反応させる薗頭カップリングによって得ることを含む製造方法である。 In the production method P, in the compound represented by the formula (1), Rye is a C2 to C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C or a C2 to C6 haloalkynyl group of the formula (1- A method for synthesizing the compound represented by k), comprising obtaining by Sonogashira coupling in which the compound represented by formula (1-g) is reacted with a terminal alkyne compound.

式(1-g)で表される化合物中、好ましいRycは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。 Preferred Ryc in the compound represented by formula (1-g) is a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.

製造方法Iにおける式(1a-b)で表される化合物を式(1-g)で表される化合物に代えて使用することにより、製造方法Iに準じて製造方法Pを実施することができる。 Production method P can be carried out according to production method I by using the compound represented by formula (1a-b) in production method I instead of the compound represented by formula (1-g). .

[製造方法Q]

Figure 0007328222000070
[Manufacturing method Q]
Figure 0007328222000070

式中、Rxb、Ryc、Rye、R1、R5、X、Y、naおよび破線部は前記と同義である。ただし、式(1-i)および式(1-l)で表される化合物中のRxb、式(1-i)で表される化合物中のRycおよび式(1-l)で表される化合物中のRyeは、式(1)で表される化合物中のR2、R3またはR4に該当するいずれかの位置に置換する。また、na=2の場合、2のRxbは、それぞれ独立した置換基を表す。 In the formula, Rxb, Ryc, Rye, R1, R5, X, Y, na and dashed lines have the same meanings as above. However, Rxb in the compound represented by formula (1-i) and formula (1-l), Ryc in the compound represented by formula (1-i) and the compound represented by formula (1-l) Rye is substituted at any position corresponding to R2, R3 or R4 in the compound represented by formula (1). When na=2, Rxb of 2 each represents an independent substituent.

製造方法Pは、式(1)で表される化合物のうち、式(1-l)で表される化合物の合成方法であって、式(1-i)で表される化合物と末端アルキン化合物とを反応させる薗頭カップリングによって得ることを含む製造方法である。 Production method P is a method for synthesizing the compound represented by formula (1-l) among the compounds represented by formula (1), wherein the compound represented by formula (1-i) and a terminal alkyne compound It is a production method comprising obtaining by Sonogashira coupling by reacting with.

式(1-i)で表される化合物中、好ましいRycは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。 Preferred Ryc in the compound represented by formula (1-i) is a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.

製造方法Iにおける式(1a-b)で表される化合物を式(1-i)で表される化合物に代えて使用することにより、製造方法Iに準じて製造方法Qを実施することができる。 Production method Q can be carried out according to production method I by using the compound represented by formula (1a-b) in production method I instead of the compound represented by formula (1-i). .

[製造方法R]

Figure 0007328222000071
[Manufacturing method R]
Figure 0007328222000071

式中、LaはSを表し、LbはSOまたはSOを表し、Ox’は酸化剤を表す。In the formula, La represents S, Lb represents SO or SO2 , and Ox' represents an oxidizing agent.

製造方法Rは、式(1)で表される化合物中、R1、R2、R3、R4、R5、およびR6に含まれるLbがSOまたはSOである式(Lb)で表される化合物の製造方法であって、式(1)で表される化合物中、R1、R2、R3、R4、R5、およびR6に含まれるLaがSである式(La)で表される化合物と酸化剤(Ox’)とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。Production method R is the production of a compound represented by formula (Lb), wherein Lb contained in R1, R2, R3, R4, R5, and R6 in the compound represented by formula (1) is SO or SO2 . A method comprising a compound represented by formula (La) wherein La contained in R1, R2, R3, R4, R5, and R6 in the compound represented by formula (1) is S, and an oxidizing agent (Ox ') in a solvent.

本反応に使用する酸化剤は、過酸化水素水、メタ-クロロ過安息香酸等の過酸化物類等が挙げられる。また、タングステン酸ナトリウムのような遷移金属類を添加することもできる。 Examples of the oxidizing agent used in this reaction include aqueous hydrogen peroxide and peroxides such as meta-chloroperbenzoic acid. Transition metals such as sodium tungstate can also be added.

本反応に使用する酸化剤の量は、SOを製造する際には式(La)で表される化合物に対して、通常、1.0当量以上1.2当量以下であり、SOを製造する際には、通常、2当量以上10当量以下である。また、遷移金属類を添加する際には、通常、0.001当量以上1当量以下である。The amount of the oxidizing agent used in this reaction is usually 1.0 equivalent or more and 1.2 equivalent or less with respect to the compound represented by the formula (La) when producing SO. When carrying out, it is usually 2 equivalents or more and 10 equivalents or less. Moreover, when adding transition metals, it is usually 0.001 equivalent or more and 1 equivalent or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、水溶媒、酢酸等の酸性系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. Examples include benzene-based solvents, nitrile-based solvents such as acetonitrile, and halogen-based solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(La)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (La). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、-10℃以上120℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but it is usually from -10°C to 120°C or below the boiling point of the solvent.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(Lb)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (Lb) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(Lb)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (Lb) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(Lb)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (Lb) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法S]

Figure 0007328222000072
[Manufacturing method S]
Figure 0007328222000072

式中、R2、R3、R4、R5、R8、XおよびYは、前記と同義である。 In the formula, R2, R3, R4, R5, R8, X and Y are as defined above.

製造方法Sは、式(3)で表される製造中間体の製造方法であって、式(5)で表される化合物と式(6)で表される化合物とを、塩基存在下溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 Production method S is a method for producing a production intermediate represented by formula (3), wherein a compound represented by formula (5) and a compound represented by formula (6) are mixed in a solvent in the presence of a base. It is a manufacturing method including reacting with.

本反応に使用する式(5)で表される化合物は、参考例に準じて合成することができる。また、グリーン ケミストリー(Green Chemistry)、第41巻、580-585頁や、ザ ジャーナル オブ オルガニック ケミストリー(The Journal of Organic Chemistry)、第65巻、20号、6458-6461頁(2000).等を参照にしても合成することができる。 The compound represented by Formula (5) used in this reaction can be synthesized according to Reference Examples. See also Green Chemistry, Vol. 41, pp. 580-585 and The Journal of Organic Chemistry, Vol. 65, No. 20, pp. 6458-6461 (2000). It is also possible to synthesize by referring to

本反応に使用する式(6)で表される化合物は、市販品として入手または公知の方法で製造できることができる。 The compound represented by formula (6) used in this reaction can be obtained as a commercial product or produced by a known method.

本反応に使用する式(6)で表される化合物の量は、式(5)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは1当量以上3当量以下である。 The amount of the compound represented by formula (6) used in this reaction is particularly limited as long as it is 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (5), as long as the desired reaction proceeds. but preferably 1 equivalent or more and 3 equivalents or less.

本反応に使用する塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、リン酸三カリウムのような無機塩基類やナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム t-ブトキシド等の金属アルコキシド類等である。 The base used in this reaction includes inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate and tripotassium phosphate, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide.

本反応に使用する塩基は、触媒量で実施することが可能であり、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、式(5)で表される化合物に対して0.01当量以上3当量以下である。 The base used in this reaction can be carried out in a catalytic amount and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but preferably the compound represented by formula (5) 0.01 equivalent or more and 3 equivalent or less.

本反応に使用する溶媒は、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 Solvents used in this reaction include ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane; benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene; ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate; nitrile solvents such as acetonitrile; amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide and N,N-dimethylacetamide; 1,3-dimethyl -Urea solvents such as 2-imidazolidinone; halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride; sulfur solvents such as dimethyl sulfoxide and sulfolane; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; are mentioned. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(5)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (5). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、-50℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but it is usually -50° C. or higher and 150° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, use an acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, an alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, or salt water. etc. can be used arbitrarily. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(3)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (3) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(3)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 From the reaction mixture containing the compound represented by formula (3) obtained above, the solvent can be distilled off under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(3)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (3) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, or the like with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法T]

Figure 0007328222000073
[Manufacturing method T]
Figure 0007328222000073

式中、R8aはC1~C6のアルキル基を表し、R2、R3、R4、R5、XおよびYは、前記と同義である。 In the formula, R8a represents a C1-C6 alkyl group, and R2, R3, R4, R5, X and Y are as defined above.

製造方法Tは、式(3)で表される化合物のうち、式(3b)で表される製造中間体の製造方法であって、式(3a)で表される化合物を、酸性条件または塩基性条件下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 Production method T is a method for producing a production intermediate represented by formula (3b) among the compounds represented by formula (3), wherein the compound represented by formula (3a) is subjected to acidic conditions or a base It is a production method including reacting in a solvent under toxic conditions.

まず、酸性条件の反応について説明する。 First, the reaction under acidic conditions will be described.

本反応に使用する酸は、塩酸、臭化水素酸、リン酸等の無機酸類や、酢酸、メタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸類が例示される。目的とする反応が進行する限り特に制限されることはない。 Acids used in this reaction include inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid and phosphoric acid, and organic acids such as acetic acid, methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid and trifluoroacetic acid. There are no particular limitations as long as the intended reaction proceeds.

本反応に使用する酸の量は、触媒量でもよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、式(3a)で表される化合物に対して0.01当量以上である。また、液体状の酸に関しては溶媒として使用することも可能である。 The amount of acid used in this reaction may be a catalytic amount, and is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but preferably 0.00 to the compound represented by formula (3a). 01 equivalents or more. Liquid acids can also be used as solvents.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、水溶媒、酢酸、メタンスルホン酸等の酸性系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. Ether solvents such as butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane, alcohol solvents such as methanol, ethanol, and isopropanol, benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ethyl acetate, isopropyl acetate, and acetic acid. ester solvents such as butyl, nitrile solvents such as acetonitrile, amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, etc. and halogen-based solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(3a)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (3a). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、0℃以上180℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 0° C. or higher and 180° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.

次に、塩基性条件の反応について説明する。 Next, the reaction under basic conditions will be described.

本反応に使用する塩基は、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基類が例示されるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。 The base used in this reaction is exemplified by inorganic bases such as lithium hydroxide, sodium hydroxide and potassium hydroxide, but is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds.

本反応に使用する塩基は、式(3a)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、1当量以上30当量以下である。 The base used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (3a), as long as the target reaction proceeds, but preferably 1 equivalent or more. 30 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、水溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropanol; benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene; ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate; nitriles such as acetonitrile. amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide and N,N-dimethylacetamide, urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, dichloromethane, dichloroethane, chloroform, Examples thereof include halogen-based solvents such as carbon tetrachloride. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(3a)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (3a). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、-20℃以上180℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but it is usually from -20°C to 180°C or below the boiling point of the solvent.

反応の後処理は、酸性条件での反応と塩基性条件の反応は共通の方法で行える。反応混合物に対して、水、もしくは適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 Post-treatment of the reaction can be carried out by a common method for the reaction under acidic conditions and the reaction under basic conditions. A liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, saline solution etc. can be used arbitrarily. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(3b)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (3b) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(3b)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (3b) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(3b)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (3b) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, or the like with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

式(3b)で表される化合物は、式(3b’)

Figure 0007328222000074

(式中、R2、R3、R4、R5、XおよびYは前記と同義である。)
で表される異性体も含む。The compound represented by formula (3b) is represented by formula (3b′)
Figure 0007328222000074

(Wherein, R2, R3, R4, R5, X and Y are as defined above.)
Also includes isomers represented by

式(3b’)で表される化合物は、式(3b)で表される化合物と同様に取り扱うことが可能であり、製造方法Aを適応することができる。また、式(3b’)で表される化合物は不斉炭素を含むが、その異性体混合比は、単独でも任意の割合の混合物でもよい。さらに、式(3b)で表される化合物と式(3b’)で表される化合物との混合物でもよく、その異性体混合比は、単独でも任意の割合の混合物でもよい。 The compound represented by formula (3b') can be handled in the same manner as the compound represented by formula (3b), and production method A can be applied. In addition, the compound represented by formula (3b') contains an asymmetric carbon, and the isomers may be mixed alone or in an arbitrary ratio. Furthermore, a mixture of the compound represented by the formula (3b) and the compound represented by the formula (3b') may be used, and the isomer mixture ratio may be either singly or in an arbitrary ratio.

[製造方法U]

Figure 0007328222000075
[Manufacturing method U]
Figure 0007328222000075

式中、R1、R2、R3、R4、R5b、XおよびYは前記と同義である。 In the formula, R1, R2, R3, R4, R5b, X and Y are as defined above.

製造方法Uは、式(1a)で表される化合物のうち、トリフルオロメチル基を有する式(1a-f)で表される化合物の合成方法であって、式(1a-b)で表される化合物とジフルオロ(フルオロスルホニル)酢酸メチルとを、遷移金属類存在下で反応させることを含む製造方法である。 Production method U is a method for synthesizing a compound represented by formula (1a-f) having a trifluoromethyl group among the compounds represented by formula (1a), and is represented by formula (1a-b) A production method comprising reacting a compound with methyl difluoro(fluorosulfonyl)acetate in the presence of transition metals.

式(1a-b)で表される化合物中、好ましいR5bは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。 In the compounds represented by formula (1a-b), preferred R5b is a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.

本反応に使用するジフルオロ(フルオロスルホニル)酢酸メチルは、市販品として入手または公知の方法で製造できる。 Methyl difluoro(fluorosulfonyl)acetate used in this reaction is commercially available or can be produced by a known method.

本反応に使用するジフルオロ(フルオロスルホニル)酢酸メチルの量は、式(1a-b)で表される化合物に対して、1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、1当量以上50当量以下である。 The amount of methyl difluoro(fluorosulfonyl)acetate used in this reaction is particularly limited as long as it is 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (1a-b), as long as the target reaction proceeds. However, it is preferably 1 equivalent or more and 50 equivalents or less.

本反応に使用する遷移金属類は、銅類等である。好ましくは、臭化銅やヨウ化銅等が挙げられる。 The transition metals used in this reaction are coppers and the like. Copper bromide and copper iodide are preferred.

本反応に使用する遷移金属類の量は、式(1a-b)で表される化合物に対して、1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、好ましくは、1当量以上50当量以下である。 The amount of transition metals used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (1a-b), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. is preferably 1 equivalent or more and 50 equivalents or less.

本反応を効率的に進行させるために、エチルジイソプロピルアミンやヘキサメチルリン酸トリアミド等の添加剤を加えることことができるが必須ではない。 Additives such as ethyldiisopropylamine and hexamethylphosphoric acid triamide can be added for efficient progress of this reaction, but are not essential.

本反応に使用する添加剤の量は、式(1a-b)で表される化合物に対して50当量以下であり、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。 The amount of additive used in this reaction is 50 equivalents or less relative to the compound represented by formula (1a-b), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. Sulfur-based solvents such as dimethylsulfoxide and sulfolane can be used. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1a-b)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (1a-b). It is below.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、0℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 0° C. or higher and 150° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、アンモニア、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. are dissolved, an alkaline aqueous solution in which ammonia, potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. are dissolved, An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium thiosulfate or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(1a-f)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compounds represented by formulas (1a-f) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(1a-f)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The reaction mixture containing the compounds represented by formulas (1a-f) obtained above can be evaporated under reduced pressure as long as the compounds do not decompose.

溶媒留去後に得られた式(1a-f)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by Formula (1a-f) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

以上に示した、製造方法A~製造方法Uを任意に組み合わせて、式(1)で表される化合物を製造することができる。もしくは、公知の方法と製造方法A~製造方法Uを任意に組み合わせても、式(1)で表される化合物を製造することができる。 The compound represented by the formula (1) can be produced by any combination of the production methods A to U shown above. Alternatively, the compound represented by formula (1) can be produced by any combination of known methods and production methods A to U.

本発明化合物は、植物に対して有害な生物を防除できるために、農薬、特に農園芸用有害生物防除剤として使用することができる。具体的には、殺菌剤、殺虫剤、除草剤、植物成長調整剤等が挙げられる。好ましくは、殺菌剤である。 Since the compound of the present invention can control organisms harmful to plants, it can be used as an agricultural chemical, especially an agricultural and horticultural pest control agent. Specific examples include fungicides, insecticides, herbicides, plant growth regulators and the like. Preferably, it is a disinfectant.

本発明化合物は、植物病害の防除のために、畑地、水田、茶園、果樹園、牧草地、芝生、森林、庭園、街路樹等で農園芸用殺菌剤として使用することができる。
本発明でいう植物病害とは、農作物、花き、花木、樹木等の植物に萎ちょう、立枯れ、黄化、萎縮、徒長等の全身的な異常な病的症状、または斑点、葉枯れ、モザイク、葉巻、枝枯れ、根腐れ、根こぶ、こぶ等の部分的な病的症状が惹起されることである。即ち、植物が病気になることである。植物病害を引き起こす病原体として、主に、菌類、細菌、スピロプラズマ、ファイトプラズマ、ウイルス、ウイロイド、寄生性高等植物、線虫等が挙げられる。本発明化合物は菌類に有効であるが、これに限定されるものではない。
The compound of the present invention can be used as an agricultural and horticultural fungicide in upland fields, paddy fields, tea gardens, orchards, pastures, lawns, forests, gardens, roadside trees, etc. for controlling plant diseases.
The term "plant disease" as used in the present invention refers to systemic abnormal pathological symptoms such as wilting, damping, yellowing, atrophy, and elongation in plants such as crops, flowers, flowering trees, and trees, or spots, leaf blight, and mosaic disease. , cigars, withered branches, root rot, root knots, galls, and other partial pathological symptoms. That is, plants become sick. Pathogens that cause plant diseases mainly include fungi, bacteria, spiroplasma, phytoplasma, viruses, viroids, parasitic higher plants, and nematodes. Although the compounds of the present invention are effective against fungi, they are not so limited.

菌類によって引き起こされる病害は、主に菌類病である。菌類病を引き起こす菌類(病原体)として、ネコブカビ菌類、卵菌類、接合菌類、子のう菌類、担子菌類および不完全菌類等が挙げられる。例えば、ネコブカビ菌類として、根こぶ病菌、ジャカイモ粉状そうか病菌、テンサイそう根病菌、卵菌類として疫病菌、べと病菌、Pythium属菌、Aphanomyces属菌、接合菌類としてRhizopus属菌、子のう菌類としてモモ縮葉病菌、トウモロコシごま葉枯病菌、イネいもち病菌、うどんこ病菌、炭そ病菌、赤かび病菌、ばか苗病菌、菌核病菌、担子菌類としてさび病菌類、黒穂病菌類、紫紋羽病菌、もち病菌、紋枯病菌、不完全菌類として灰色かび病菌、Alternaria属菌、Fusarium属菌、Penicillium属菌、Rhizoctonia属菌、白絹病菌等が挙げられる。 Diseases caused by fungi are primarily fungal diseases. Fungi (pathogens) that cause fungal diseases include Necromycota, Oomycetes, Zygomycetes, Ascomycetes, Basidiomycetes, Deuteromycota, and the like. For example, clubroot fungi include clubroot fungi, potato powdery mildew fungi, sugar beet root fungi, oomycete fungi such as phytophthora, downy mildew, Pythium spp. and Aphanomyces spp. Peach leaf curl fungus, corn sesame leaf blight, rice blast fungus, powdery mildew, anthracnose, Fusarium head blight, bakanae fungus, sclerotinia, basidiomycete rust fungi, smut fungi, and purpura Examples of feather fungi, blast fungi, sheath blight fungi, and imperfect fungi include botrytis, Alternaria, Fusarium, Penicillium, Rhizoctonia, and white silkworms.

本発明化合物は、各種の植物病害に対して有効である。以下に、病害名およびその病原菌名の具体例を示す。 The compounds of the present invention are effective against various plant diseases. Specific examples of disease names and pathogen names are shown below.

イネのいもち病(Magnaporthe grisea)、紋枯病(Thanatephorus cucumeris)、褐色菌核病(Ceratobasidium setariae)、褐色小粒菌核病(Waitea circinata)、褐色紋枯病(Thanatephorus cucumeris)、球状菌核病(Sclerotium hydrophilum)、赤色菌核病(Wairea circinata)、黒しゅ病(Entyloma dactylidis)、小球菌核病(Magnaporthe salvinii)、灰色菌核病(Ceratobasidium cornigerum)、ごま葉枯病(Cochliobolus miyabeanus)、条葉枯病(Sphaerulina oryzina)、ばか苗病(Gibberella fujikuroi)、苗立枯病(Pythium spp.、Fusarium spp.、Trichoderma spp.、Rhizopus spp.、Rhizoctonia solani、Mucor sp.、Phoma sp.)、苗腐病(Pythium spp.、Achlya spp.、Dictyuchus spp.)、稲こうじ病(Claviceps virens)、墨黒穂病(Tilletia barclayana)、褐色米(Curvularia spp.、Alternaria spp.)、黄化萎縮病(Sclerophthora macrospora)、白葉枯病(Xanthomonas oryzae pv. oryzae)、褐条病(Acidovorax avenae subsp. avenae)、内頴褐変病(Erwinia ananas)、苗立枯細菌病(Burkholderia plantarii)、もみ枯細菌病(Burkholderia glumae)、葉鞘褐変病(Pseudomonas fuscovaginae)、かさ枯病(Pseudomonas syringae pv.oryzae)、株腐病(Erwinia chrysanthemi)、黄萎病(Phytoplasma oryzae)、縞葉枯病(Rice stripe tenuivirus)、萎縮病(Rice dwarf reovirus);
ムギ類のうどんこ病(Blumeria graminis f.sp.hordei; f.sp.tritici)、さび病(Puccinia striiformis、 Puccinia graminis、Puccinia recondita、Puccinia hordei)、斑葉病(Pyrenophora graminea)、網斑病(Pyrenophora teres)、赤かび病(Gibberella zeae、Fusarium culmorum、Fusarium avenaceum、Monographella nivalis)、雪腐病(Typhula incarnata、Typhula ishikariensis、Monographella nivalis)、裸黒穂病(Ustilago nuda)、なまぐさ黒穂病(Tilletia caries、Tilletia controversa)、眼紋病(Pseudocercosporella herpotrichoides)、株腐病(Ceratobasidium gramineum)、雲形病(Rhynchosporium secalis)、葉枯病(Septoria tritici)、ふ枯病(Phaeosphaeria nodorum)、苗立枯病(Fusarium spp.、Pythium spp.、Rhizoctonia spp.、Septoria spp.、Pyrenophora spp.)、立枯病(Gaeumannomyces graminis)、炭疽病(Colletotrichum graminicola)、麦角病(Claviceps purpurea)、斑点病(Cochliobolus sativus)、黒節病(Pseudomonas syringae pv. syringae);
トウモロコシの赤かび病(Gibberella zeae等)、苗立枯病(Fusarium avenaceum、 Penicillium spp、 Pythium spp.、Rhizoctonia spp.)、さび病(Puccinia sorghi)、ごま葉枯病(Cochliobolus heterostrophus)、黒穂病(Ustilago maydis)、炭疽病(Colletotrichum graminicola)、北方斑点病(Cochliobolus carbonum)、褐条病(Acidovorax avenae subsp. avenae)、条斑細菌病(Burkholderia andropogonis)、倒伏細菌病(Erwinia chrysanthemi pv. zeae)、萎ちょう細菌病(Erwinia stewartii);ブドウのべと病(Plasmopara viticola)、さび病(Physopella ampelopsidis)、うどんこ病(Uncinula necator)、黒とう病(Elsinoe ampelina)、晩腐病(Glomerella cingulata、 Colletotrichum acutatum)、黒腐病(Guignardia bidwellii)、つる割病(Phomopsis viticola)、すす点病(Zygophiala jamaicensis)、灰色かび病(Botrytis cinerea)、芽枯病(Diaporthe medusaea)、紫紋羽病(Helicobasidium mompa)、白紋羽病(Rosellinia necatrix)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium vitis);リンゴのうどんこ病(Podosphaera leucotricha)、黒星病(Venturia inaequalis)、斑点落葉病(Alternaria mali)、赤星病(Gymnosporangium yamadae)、モニリア病(Monilinia mali)、腐らん病(Valsa ceratosperma)、輪紋病(Botryosphaeria berengeriana)、炭疽病(Colletotrichum acutatum、Glomerella cingulata)、すす点病(Zygophiala jamaicensis)、すす斑病(Gloeodes pomigena)、黒点病(Mycosphaerella pomi)、紫紋羽病(Helicobasidium mompa)、白紋羽病(Rosellinia necatrix)、胴枯病(Phomopsis mali、Diaporthe tanakae)、褐斑病(Diplocarpon mali)、リンゴの火傷病(Erwinia amylovora)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens)、毛根病(Agrobacterium rhizogenes);
ナシの黒斑病(Alternaria kikuchiana)、黒星病(Venturia nashicola)、赤星病(Gymnosporangium asiaticum)、輪紋病(Botryosphaeria berengeriana f.sp. piricola)、胴枯病(Phomopsis fukushii)、枝枯細菌病(Erwinia sp.)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens)、さび色胴枯病(Erwinia chrysanthemi pv. chrysanthemi)、花腐細菌病(Pseudomonas syringae pv. syringae);セイヨウナシの疫病(Phytophthora cactorum、 Phytophthora syringae)、枝枯細菌病(Erwinia sp.);モモの黒星病(Cladosporium carpophilum)、ホモプシス腐敗病(Phomopsis sp.)、疫病(Phytophthora sp.)、炭疽病(Colletotrichum gloeosporioides)、縮葉病(Taphrina deformans)、穿孔細菌病(Xhanthomonas campestris pv. pruni)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens);オウトウの炭疽病(Glomerella cingulata)、幼果菌核病(Monilinia kusanoi)、灰星病(Monilinia fructicola)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens)、樹脂細菌病(Pseudomonas syringae pv. syringae);カキの炭疽病(Glomerella cingulata)、落葉病(Cercospora kaki; Mycosphaerella nawae)、うどんこ病(Phyllactinia kakikora)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens);カンキツの黒点病(Diaporthe citri)、緑かび病(Penicillium digitatum)、青かび病(Penicillium italicum)、そうか病(Elsinoe fawcettii)、褐色腐敗病(Phytophthora citrophthora)、かいよう病(Xhanthomonas campestris pv. citri)、褐斑細菌病(Pseudomonas syringae pv. syringae)、グリーニング病(Liberibactor asiaticus)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens);
トマト、キュウリ、豆類、イチゴ、ジャガイモ、キャベツ、ナス、レタス等の灰色かび病(Botrytis cinerea);トマト、キュウリ、豆類、イチゴ、ジャガイモ、ナタネ、キャベツ、ナス、レタス等の菌核病(Sclerotinia sclerotiorum);トマト、キュウリ、豆類、ダイコン、スイカ、ナス、ナタネ、ピーマン、ホウレンソウ、テンサイ等各種野菜の苗立枯病(Rhizoctonia spp.、Pythium spp.、Fusarium spp.、Phythophthora spp.、Sclerotinia sclerotiorum等);ナス科植物の青枯病(Ralstonia solanacearum);ウリ類のべと病(Pseudoperonospora cubensis)、うどんこ病(Sphaerotheca fuliginea)、炭疽病(Colletotrichum orbiculare)、つる枯病(Didymella bryoniae)、つる割病(Fusarium oxysporum)、疫病(Phytophthora parasitica、Phytophthora melonis、Phytophthora nicotianae、Phytophthora drechsleri、Phytophthora capsici等)、褐斑細菌病(Xhanthomonas campestris pv.cucurbitae)、軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、斑点細菌病(Pseudomonas syringae pv. lachrymans)、縁枯細菌病(Pseudomonas marginalis pv. marginalis)、がんしゅ病(Streptomyces sp.)、毛根病(Agrobacterium rhizogenes)、キュウリモザイクウィルス(Cucumber mosaic virus);
トマトの輪紋病(Alternaria solani)、葉かび病(Fulvia fulva)、疫病(Phytophthora infestans)、萎凋病(Fusarium oxysporum)、根腐病(Pythium myriotylum、Pythium dissotocum)、炭疽病(Colletotrichum gloeosporioides)、かいよう病(Clavibacter michiganensis)、茎えそ細菌病(Pseudomonas corrugata)、黒斑細菌病(Pseudomonas viridiflava)、軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、葉こぶ病(Crynebacterium sp.)、萎黄病(Phytoplasma asteris)、黄化萎縮病(Tobacco leaf curl subgroup III geminivirus);ナスのうどんこ病(Sphaerotheca fuliginea等)、すすかび病(Mycovellosiella nattrassii)、疫病(Phytophthora infestans)、褐色腐敗病(Phytophthora capsici)、褐斑細菌病(Pseudomonas cichorii)、茎えそ細菌病(Pseudomonas corrugata)、茎腐細菌病(Erwinia chrysanthemi)、軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、斑点細菌病(Pseudomonas sp.);ナタネの黒斑病(Alternaria brassicae)、黒腐病(Xhanthomonas campestris pv. campestris)、黒斑細菌病(Pseudomonas syringae pv. maculicola)、軟腐病(Erwinia carotovora);アブラナ科野菜の黒斑病(Alternaria brassicae等)、白斑病(Cercosporella brassicae)、根朽病(Phoma lingam)、根こぶ病(Plasmodiophora brassicae)、べと病(Peronospora parasitica)、黒腐病(Xhanthomonas campestris pv. campestris)、黒斑細菌病(Pseudomonas syringae pv. maculicola)、軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora);
キャベツの株腐病(Thanatephorus cucumeris)、萎黄病(Fusarium oxysporum)、黒すす病(Alternaria brassisicola);ハクサイの尻腐病(Rhizoctonia solani)、黄化病(Verticillium dahliae);ネギのさび病(Puccinia allii)、黒斑病(Alternaria porri)、白絹病(Sclerotium rolfsii)、白色疫病(Phytophthora porri)、黒腐菌核病(Sclerotium cepivorum);タマネギのかいよう病(Curtobacterium flaccumfaciens)、軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、斑点細菌病(Pseudomonas syringae pv. syringae)、腐敗病(Erwinia rhapontici)、鱗片腐敗病(Burkholderia gladioli)、萎黄病(Phytoplasma asteris);ニンニクの軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、春腐病(Pseudomonas marginalis pv.marginalis);ダイズの紫斑病(Cercospora kikuchii)、黒とう病(Elsinoe glycines)、黒点病(Diaporthe phaseolorum)、リゾクトニア根腐病(Rhizoctonia solani)、茎疫病(Phytophthora sojae)、べと病(Peronospora manshurica)、さび病(Phakopsora pachyrhizi)、炭疽病(Colletotrichum truncatum等)、葉焼病(Xhanthomonas campestris pv. glycines)、斑点細菌病(Pseudomonas syringae pv. glycinea);インゲンの炭疽病(Colletotrichum lindemuthianum)、青枯病(Ralstonia solanacearum)、かさ枯病(Pseudomonas syringae pv. phaseolicola)、褐斑細菌病(Pseudomonas viridiflava)、葉焼病(Xhanthomonas campestris pv. phaseoli);
ラッカセイの黒渋病(Mycosphaerella berkeleyi)、褐斑病(Mycosphaerella arachidis)、青枯病(Ralstonia solanacearum);エンドウのうどんこ病(Erysiphe pisi)、べと病(Peronospora pisi)、つる枯細菌病(Pseudomonas syringae pv.pisi)、つる腐細菌病(Xhanthomonas campestris pv. pisi;ソラマメのべと病(Peronospora viciae)、疫病(Phytophthora nicotianae);ジャガイモの夏疫病(Alternaria solani)、黒あざ病(Thanatephorus cucumeris)、疫病(Phytophthora infestans)、銀か病(Helminthosporium solani)、乾腐病(Fusarium oxysporum、Fusarium solani)、粉状そうか病(Spongospora subterranea)、青枯病(Ralstonia solanacearum)、黒あし病(Erwinia carotovora subsp. atroseptica)、そうか病(Streptomyces scabies、Streptomyces acidiscabies)、軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、粘性腐敗病(Crostridium spp.)、輪腐病(Clavibacter michiganensis subsp.sepedonicus);サツマイモの立枯病(Streptomyces ipomoeae);テンサイの褐斑病(Cercospora beticola)、べと病(Peronospora schachtii)、黒根病(Aphanomyces cochioides)、蛇の目病(Phoma betae)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens)、そうか病(Streptomyces scabies)、斑点細菌病(Pseudomonas syringae pv. aptata);
ニンジンの黒葉枯病(Alternaria dauci)、こぶ病(Rhizobacter dauci)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens)、ストレプトミセスそうか病(Streptomyces spp.)、軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora);イチゴのうどんこ病(Sphaerotheca aphanis var. aphanis)、疫病(Phytophthora nicotianae等)、炭疽病(Glomerella cingulata等)、果実腐敗病(Pythium ultimum)、青枯病(Ralstonia solanacearum)、角斑細菌病(Xhanthomonas campestris)、芽枯細菌病(Pseudomonas marginalis pv. marginalis);チャの網もち病(Exobasidium reticulatum)、白星病(Elsinoe leucospila)、炭疽病(Colletotrichum theae-sinensis)、輪斑病(Pestalotiopsis longiseta)、赤焼病(Pseudomonas syringae pv.theae)、かいよう病(Xhanthomonas campestris pv. theicola)、てんぐ巣病(Pseudomonas sp.);タバコの赤星病(Alternaria alternata)、うどんこ病(Erysiphe cichoracearum)、炭疽病(Colletotrichum gloeosporioides)、疫病(Phytophthora nicotianae)、野火病(Pseudomonas syringae pv.tabaci)、黄がさ細菌病(Pseudomonas syringae pv.mellea)、空洞病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、立枯病(Ralstonia solanacearum)、タバコモザイクウィルス(Tobacco mosaic virus);
コーヒーのさび病(Hemileia vastatrix);バナナの黒シガトガ病(Mycosphaerella fijiensis)、パナマ病(Fusarium oxysporum f.sp cubense);ワタの立枯病(Fusarium oxysporum)、白かび病(Ramularia areola);ヒマワリの菌核病(Sclerotinia sclerotiorum)、角点病(Xhanthomonas campestris pv.malvacearum)、空洞病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、斑点細菌病(Pseudomonas syringae pv.helianthi);バラの黒星病(Diplocarpon rosae)、うどんこ病(Sphaerotheca pannosa等)、疫病(Phytophthora megasperma)、べと病(Peronospora sparsa)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens);キクの褐斑病(Septoria obesa)、白さび病(Puccinia horiana)、疫病(Phytophthora cactorum)、斑点細菌病(Pseudomonas cichorii)、軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens)、毛根病(Agrobacterium rhizogenes)、緑化病(Phytoplasma aurantifolia);芝のブラウンパッチ病(Rhizoctonia solani)、ダラースポット病(Sclerotinia homoeocarpa)、カーブラリア葉枯病(Curvularia sp.)、さび病 (Puccinia zoysiae)、ヘルミントスポリウム葉枯病(Cochliobolus sp.)、雲形病(Rhynchosporium secalis)、立枯病(Gaeumannomyces graminis)、炭疽病(Colletotrichum sp.)、雪腐褐色小粒菌核病(Typhula incarnata)、雪腐黒色小粒菌核病(Typhula ishikariensis)、雪腐大粒菌核病(Myriosclerotinia borealis)、フェアリーリング病(Marasmius oreades等)、ピシウム病(Pythium aphanidermatum等)、いもち病(Pyricularia grisea)等が挙げられる。
rice blast (Magnaporthe grisea), sheath blight (Thanatephorus cucumeris), brown sclerotia (Ceratobasidium setariae), brown sclerotia (Waitea circinata), brown wilt (Thanatephorus cucumeris), sclerotium coccidiosis ( Sclerotium hydrophilum, Wairea circinata, Entyloma dactylidis, Magnaporthe salvinii, Ceratobasidium cornigerum, Coch liobolus miyabeanus), streaked leaves Sphaerulina oryzina, Gibberella fujikuroi, Pythium spp., Fusarium spp., Trichoderma spp., Rhizopus spp., Rhizoctonia solani, Mucor s p., Phoma sp.), seedling rot disease (Pythium spp., Achlya spp., Dictyuchus spp.), rice malt (Claviceps virens), ink smut (Tilletia barclayana), brown rice (Curvularia spp., Alternaria spp.), yellow dwarf disease (Sclerop hthora macrospora ), white leaf blight (Xanthomonas oryzae pv. oryzae), brown streak (Acidovorax avenae subsp. kholderia glumae ), leaf sheath brown disease (Pseudomonas fuscovaginae), scab blight (Pseudomonas syringae pv. virus), atrophic disease ( Rice dwarf reovirus);
Wheat powdery mildew (Blumeria graminis f.sp.hordei; f.sp.tritici), rust (Puccinia striiformis, Puccinia graminis, Puccinia recondita, Puccinia hordei), leaf spot disease (Pyrenophora graminea), net spot ( Pyrenophora teres), Fusarium head blight (Gibberella zeae, Fusarium culmorum, Fusarium avenaceum, Monographella nivalis), Snow rot (Typhula incarnata, Typula ishikariensis, Mon ograpella nivalis), Naked smut (Ustilago nuda), Forage smut (Tilletia caries, Tilletia controversa), eye spot (Pseudocercosporella herpotrichoides), plant rot (Ceratobasidium gramineum), cloud disease (Rhynchosporium secalis), leaf blight (Septoria tritici), downy mildew (Ph aeosphaeria nodorum), seedling blight (Fusarium spp Pythium spp., Rhizoctonia spp., Septoria spp., Pyrenophora spp.), Gaeumannomyces graminis, Colletotrichum graminicola, Claviceps pu rpurea), leaf spot (Cochliobolus sativus), black knot diseases (Pseudomonas syringae pv. syringae);
Corn head blight (Gibberella zeae, etc.), seedling blight (Fusarium avenaceum, Penicillium spp, Pythium spp., Rhizoctonia spp.), rust (Puccinia sorghi), leaf blight (Cochliobolus heter) ostrophus), smut ( Ustilago maydis), Colletotrichum graminicola, Cochliobolus carbonum, Acidovorax avenae subsp. avenae, Burkholderia anddropogonis , bacterial lodging disease (Erwinia chrysanthemi pv. zeae), Bacterial wilt (Erwinia stewartii); Grape downy mildew (Plasmopara viticola), Rust (Physopella ampelopsidis), Powdery mildew (Uncinula necator), Black rot (Elsinoe ampelina), Late rot (Glomerella cingu) lata, Colletotrichum acutatum), Guignardia bidwellii, Phomopsis viticola, Zygophiala jamaicensis, Botrytis cinerea, Diaporthe medusaea, Purpura ( Helicobasidium mompa ), Rosellinia necatrix, Agrobacterium vitis; Podosphaera leucotricha of apples, Venturia inaequalis, Alternaria mali, Red star ( Gymnosporangium yamadae, Monilinia mali, Valsa ceratosperma, Botryosphaeria berengeriana, Colletotrichum acutatum, Glomerella ingulata), soot spot (Zygophila jamaicensis), soot spot (Gloeodes pomigena) ), Mycosphaerella pomi, Helicobasidium mompa, Rosellinia necatrix, Phomopsis mali, Diaporthe tanakae, Diplocarpon mali, apple fire blight (Erwinia amylovora), Agrobacterium tumefaciens, Agrobacterium rhizogenes;
Pear black spot (Alternaria kikuchiana), scab (Venturia nashicola), red star (Gymnosporangium asiaticum), ring spot (Botryosphaeria berengeriana f.sp. piricola), blight (Phomopsis f. ukushii), twig blight ( Erwinia sp.), Agrobacterium tumefaciens, Erwinia chrysanthemi pv. chrysantemi, Pseudomonas syringae pv. syringae; (Phytophthora cactorum, Phytophthora Peach scab (Cladosporium carpophilum), Phomopsis sp., Late blight (Phytophthora sp.), Colletotrichum gloeosporioides ), leaf curl (Taphrina deformans), Xanthomonas campestris pv. pruni, Agrobacterium tumefaciens; Disease (Monilinia fructicola ), Agrobacterium tumefaciens, Pseudomonas syringae pv. syringae; Glomerella cingulata, Cercospora kaki; Mycosphaerella na wae), powdery mildew (Phyllactinia kakikora) , Agrobacterium tumefaciens; Diaporthe citri, Penicillium digitatum, Penicillium italicum, Elsinoe fawcettii, Ph ytophthora citrophthora ), canker (Xhanthomonas campestris pv. citri), Pseudomonas syringae pv. syringae, Liberibacter asiaticus, Agrobacterium tumefaciens;
Botrytis cinerea of tomatoes, cucumbers, beans, strawberries, potatoes, cabbage, eggplants, lettuce, etc.; ); Seedling blight of various vegetables such as tomato, cucumber, beans, radish, watermelon, eggplant, rapeseed, green pepper, spinach, sugar beet (Rhizoctonia spp., Pythium spp., Fusarium spp., Phythophthora spp., Sclerotinia sclerotiorum, etc.) Solanaceous plant wilt (Ralstonia solanacearum); downy mildew of cucurbits (Pseudoperonospora cubensis), powdery mildew (Sphaerotheca fuliginea), anthracnose (Colletotrichum orbiculare), vine wilt (Didymella) bryoniae), vine splitting disease (Fusarium oxysporum), late blight (Phytophthora parasitica, Phytophthora melonis, Phytophthora nicotianae, Phytophthora drechsleri, Phytophthora capsici, etc.), Brown spot bacteria (Xhantho monas campestris pv. cucurbitae), soft rot (Erwinia carotovora subsp. carotovora), bacterial spot ( Pseudomonas syringae pv. lachrymans, Pseudomonas marginalis pv. marginalis, Streptomyces sp., Agrobacterium rhizogenes, cucumber mosaic virus (Cucumber mosaic virus);
Tomato blight (Alternaria solani), leaf blight (Fulvia fulva), late blight (Phytophthora infestans), wilt (Fusarium oxysporum), root rot (Pythium myriotylum, Pythium dissotocum) , Colletotrichum gloeosporioides, canker Clavibacter michiganensis, Pseudomonas corrugata, Pseudomonas viridiflava, Erwinia carotovora subsp. cterium sp.), Phytoplasma asteris , yellow dwarf disease (Tobacco leaf curl subgroup III geminivirus); eggplant powdery mildew (Sphaerotheca fuliginea, etc.), sooty mildew (Mycovellosiella nattrassii), late blight (Phytophthora infestans), brown Phytophthora capsici, brown spot bacteria Pseudomonas cichorii, Pseudomonas corrugata, Erwinia chrysanthemi, Erwinia carotovora subsp. carotovora, Pseudomonas sp. ; black spot of rapeseed ( Alternaria brassicae), black rot (Xhanthomonas campestris pv. campestris), black spot (Pseudomonas syringae pv. maculicola), soft rot (Erwinia carotovora); cruciferous vegetable black spot (Alternari a brassicae, etc.), white spot disease ( Cercosporella brassicae), root rot (Phoma lingam), clubroot (Plasmodiophora brassicae), downy mildew (Peronospora parasitica), black rot (Xhanthomonas campestris pv. campestris), black spot bacterial disease (Pseudomonas syringae pv. maculicola), soft rot (Erwinia carotovora subsp. carotovora);
Cabbage stock rot (Thanatephorus cucumeris), chlorosis (Fusarium oxysporum), black soot (Alternaria brassisicola); ccinia allii ), Alternaria porri, Sclerotium rolfsii, Phytophthora porri, Sclerotium cepivorum; Curtobacterium flaccumfaciens, soft rot disease (Erwinia carotovora subsp. carotovora), Pseudomonas syringae pv. syringae, Erwinia rhapontici, Burkholderia gladioli, Phytoplasma asteris; a carotovora subsp. carotovora), spring Pseudomonas marginalis pv. marginalis; soybean purpura (Cercospora kikuchii), Elsinoe glycines, Black spot (Diaporthe phaselorum), Rhizoctonia root rot (Rhizoctonia solani), stem rot disease (Phytophthora sojae), Downy mildew (Peronospora manshurica), rust (Phakopsora pachyrhizi), anthracnose (Colletotrichum truncatum, etc.), leaf burn (Xhanthomonas campestris pv. glycines), bacterial spot (Pseudomonas s yringae pv. glycinea); Colletotrichum lindemuthianum, Ralstonia solanacearum, Pseudomonas syringae pv. ampestris pv. phaseoli);
Peanut black stain (Mycosphaerella berkeleyi), brown spot (Mycosphaerella arachidis), bacterial wilt (Ralstonia solanacearum); udomonas syringae pv. pisi), vine rot (Xhanthomonas campestris pv. pisi); broad bean downy mildew (Peronospora viciae), late blight (Phytophthora nicotianae); potato summer blight (Alternaria solani), black bruise (Than atephorus cucumeris), Phytophthora infestans, Helminthosporium solani, Fusarium oxysporum, Fusarium solani, Spongospora subterranea, Ralstonia solanace arum), Blackfoot (Erwinia carotovora subsp. atroseptica), scab (Streptomyces scabies, Streptomyces acidiscabies), soft rot (Erwinia carotovora subsp. carotovora), viscous rot (Crostridium spp.), ring rot (Clavi bacter michiganensis subsp.sepedonicus); (Streptomyces ipomoeae); Cercospora beticola of sugar beets, Peronospora schachtii, Aphanomyces cochioides, Phoma betae, Agrobacterium tumefaciens), yes disease (Streptomyces scabies), bacterial spot (Pseudomonas syringae pv. aptata);
Alternaria dauci, Rhizobacter dauci, Agrobacterium tumefaciens, Streptomyces spp., Erwinia carotovora su of carrots bsp.carotovora); Strawberry powdery mildew (Sphaerotheca aphanis var. aphanis), late blight (Phytophthora nicotianae, etc.), anthracnose (Glomerella cingulata, etc.), fruit rot (Pythium ultimum), bacterial wilt (Ralstonia solanacearu) m), Xhanthomonas campestris, Pseudomonas marginalis pv. marginalis; Exobasidium reticulatum, Elsinoe leucospira, Colletotrichum theae-sinensis, Rot (Pestaltiopsis longiseta), red Pseudomonas syringae pv. theae, Xhanthomonas campestris pv. theicola, Pseudomonas sp.; Alternaria alternata, Erysiphe cichoracear um), Colletotrichum gloeosporioides), late blight (Phytophthora nicotianae), wildfire (Pseudomonas syringae pv. tabaci), yellow spot bacterial disease (Pseudomonas syringae pv. bsp. carotovora), wilt (Ralstonia solanacearum), Tobacco mosaic virus;
coffee rust (Hemileia vastatrix); banana black sigatoga (Mycosphaerella fijiensis), Panama disease (Fusarium oxysporum f.sp cubense); cotton wilt (Fusarium oxysporum), white mold (Ramularia) areola); Sclerotinia sclerotiorum, Xhanthomonas campestris pv. malvacearum, Erwinia carotovora subsp. carotovora, Pseudomonas syringae pv.hel ianthi); rose scab (Diplocarpon rosae), udon This disease (Sphaerotheca pannosa, etc.), plague (Phytophthora megasperma), downy mildew (Peronospora sparsa), root cancer (Agrobacterium tumefaciens); chrysanthemum brown spot (Septoria obesa), white rust ( Puccinia horiana) , Phytophthora cactorum, Pseudomonas cichorii, Erwinia carotovora subsp. carotovora, Agrobacterium tumefaciens, Agroba cterium rhizogenes), Phytoplasma aurantifolia; Lawn brown patch (Rhizoctonia solani), Dollar spot (Sclerotinia homoeocarpa), Curvularia sp., Rust (Puccinia zoysiae), Helmintosporium leaf blight (Cochliobolus sp.), cloud form (Rhynchosporium secalis), wilt disease (Gaeumannomyces graminis), anthracnose (Colletotrichum sp.), snow-rot brown small-drop fungal rot (Typula incarnata), snow-rot black small-drop fungal rot (Typula ishikariensis), snow rot large granule nucleus disease (Myriosclerotinia borealis), fairy ring disease (Marasmius oreades etc.), pythium disease (Pythium aphanidermatum etc.), blast disease (Pyricularia grisea) and the like.

本発明化合物は、本化合物単体で使用してもよいが、好ましくは、固体担体、液体担体、気体担体、界面活性剤、固着剤、分散剤、安定剤等と混合し、粉剤、水和剤、顆粒水和剤、水溶剤、顆粒水溶剤、粒剤、乳剤、液剤、マイクロエマルション剤、水性懸濁製剤、水性乳濁製剤、サスポエマルション製剤等の組成物として使用することができる。効果が発揮される限りにおいて、それらの組成物に限定されることはない。 The compound of the present invention may be used alone, but is preferably mixed with a solid carrier, liquid carrier, gaseous carrier, surfactant, sticking agent, dispersant, stabilizer, etc., and used as a powder or wettable powder. , wettable powders, aqueous solutions, aqueous granules, granules, emulsions, liquids, microemulsions, aqueous suspensions, aqueous emulsions, suspoemulsions and the like. As long as the effect is exhibited, it is not limited to those compositions.

以下に具体的な製剤化例を示すが、これらに限定されるものではない。 Specific formulation examples are shown below, but are not limited to these.

[製剤例1 フロアブル剤]
本発明化合物(10質量部)、ナフタレンスルホン酸のホルムアルデヒド縮合物ナトリウム塩(5質量部)、ポリオキシエチレンアリールフェニルエーテル(1質量部)、プロピレングリコール(5質量部)、シリコン系消泡剤(0.1質量部)、キサンタンガム(0.2質量部)、イオン交換水(78.7質量部)を混合してスラリーとなし、さらにダイノミルKDLで直径1.0mmのガラスビーズを用いて湿式粉砕しフロアブル剤を得る。
[Formulation Example 1 Flowable agent]
Compound of the present invention (10 parts by mass), formaldehyde condensate sodium salt of naphthalenesulfonic acid (5 parts by mass), polyoxyethylene arylphenyl ether (1 part by mass), propylene glycol (5 parts by mass), silicone antifoaming agent ( 0.1 parts by mass), xanthan gum (0.2 parts by mass), and ion-exchanged water (78.7 parts by mass) were mixed to form a slurry, which was further wet-ground using glass beads with a diameter of 1.0 mm in a Dynomill KDL. and obtain a flowable agent.

[製剤例2 乳剤]
本発明化合物(5質量部)をキシレン(40質量部)とシクロヘキサン(35質量部)の混合溶液に溶解し、この溶液にTween20(20質量部)を添加混合し、乳剤を得る。
[Formulation Example 2 Emulsion]
The compound of the present invention (5 parts by mass) is dissolved in a mixed solution of xylene (40 parts by mass) and cyclohexane (35 parts by mass), and Tween 20 (20 parts by mass) is added and mixed to obtain an emulsion.

[製剤例3 水和剤]
本発明化合物(10質量部)、ホワイトカーボン(10質量部)、ポリビニルアルコール(2質量部)、ジオクチルスルホコハク酸ナトリウム塩(0.5質量部)、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩(5質量部)、焼成珪藻土(10質量部)およびカオリナイトクレー(62.5質量部)を充分に混合し、エアーミルで粉砕し、水和剤を得る。
[Formulation Example 3 wettable powder]
Compound of the present invention (10 parts by mass), white carbon (10 parts by mass), polyvinyl alcohol (2 parts by mass), sodium dioctylsulfosuccinate (0.5 parts by mass), sodium alkylbenzenesulfonate (5 parts by mass), baking Diatomaceous earth (10 parts by mass) and kaolinite clay (62.5 parts by mass) are thoroughly mixed and pulverized with an air mill to obtain a wettable powder.

以下、本発明化合物を含有する組成物(農園芸用有害生物防除剤、農園芸用殺菌剤など)の施用について説明する。
本発明化合物を含有する組成物の施用方法としては、植物体もしくは種子と接触させる方法、または、栽培土壌に含有させて、植物の根もしくは地下茎に接触させる方法が挙げられる。具体例として、組成物の植物個体への茎葉散布処理、注入処理、苗箱処理、セルトレー処理、植物種子への吹き付け処理、植物種子への塗沫処理、植物種子への浸漬処理、植物種子への粉衣処理、土壌表面への散布処理、土壌表面への散布処理後の土壌混和、土壌中への注入処理、土壌中での注入処理後の土壌混和、土壌潅注処理、土壌潅注処理後の土壌混和等が挙げられる。通常、当業者が利用するようないかなる施用方法を用いても十分な効力を発揮する。
Application of a composition (agricultural and horticultural pest control agent, agricultural and horticultural fungicide, etc.) containing the compound of the present invention is described below.
A method of applying the composition containing the compound of the present invention includes a method of contacting with plants or seeds, or a method of including in cultivation soil and contacting roots or rhizomes of plants. Specific examples include foliage spraying treatment, injection treatment, seedling box treatment, cell tray treatment, spraying treatment on plant seeds, smearing treatment on plant seeds, immersion treatment on plant seeds, and plant seeds. Dressing treatment, spraying treatment on the soil surface, soil mixing after spraying on the soil surface, injection treatment into the soil, soil mixing after injection treatment in the soil, soil irrigation treatment, after soil irrigation treatment Soil admixture and the like are included. Generally, any method of application as utilized by those skilled in the art will suffice.

本発明でいう「植物」とは、光合成をして運動せずに生活するものをいう。具体例として、稲、小麦、大麦、トウモロコシ、コーヒー、バナナ、ブドウ、リンゴ、ナシ、モモ、オウトウ、カキ、カンキツ、大豆、インゲン、ワタ、イチゴ、ジャガイモ、キャベツ、レタス、トマト、キュウリ、ナス、スイカ、テンサイ、ホウレンソウ、サヤエンドウ、カボチャ、サトウキビ、タバコ、ピーマン、サツマイモ、サトイモ、コンニャク、綿、ヒマワリ、バラ、チューリップ、キク、芝等およびそれらのF1品種等が挙げられる。また、遺伝子等を人工的に操作することにより生み出され、元来自然界に存在するものではない遺伝子組み換え作物も含み、例えば、除草剤耐性を付与した大豆、トウモロコシ、綿等、寒冷地適応したイネ、タバコ等、殺虫物質生産能を付与したトウモロコシ、綿等の農園芸作物等が挙げられる。さらに、マツ、トネリコ、イチョウ、カエデ、カシ、ポプラ、ケヤキ等の樹木等が挙げられる。また、本発明でいう「植物体」とは、前記の植物個体を構成する全ての部位を総称するものであり、例えば、茎、葉、根、種子、花、果実等が挙げられる。 The term "plant" as used in the present invention refers to a plant that performs photosynthesis and lives without movement. Specific examples include rice, wheat, barley, corn, coffee, banana, grape, apple, pear, peach, cherry, oyster, citrus, soybean, green bean, cotton, strawberry, potato, cabbage, lettuce, tomato, cucumber, eggplant, Watermelons, sugar beets, spinach, snow peas, pumpkins, sugarcane, tobacco, green peppers, sweet potatoes, taro, konnyaku, cotton, sunflowers, roses, tulips, chrysanthemums, grass, etc., and their F1 varieties. It also includes genetically modified crops that are produced by artificially manipulating genes and do not originally exist in nature. , tobacco, etc., corn imparted with insecticidal substance-producing ability, and agricultural and horticultural crops such as cotton. Furthermore, trees such as pine, ash, ginkgo, maple, oak, poplar, and zelkova are included. In addition, the term "plant body" as used in the present invention is a generic term for all parts constituting the above-described individual plant, and examples thereof include stems, leaves, roots, seeds, flowers, and fruits.

本発明でいう「種子」とは、幼植物が発芽するための栄養分を蓄え、農業上繁殖に用いられるものをいう。具体例として、トウモロコシ、大豆、綿、稲、テンサイ、小麦、大麦、ヒマワリ、トマト、キュウリ、ナス、ホウレンソウ、サヤエンドウ、カボチャ、サトウキビ、タバコ、ピーマン、セイヨウアブラナ等の種子、それらのF1品種等の種子、サトイモ、ジャガイモ、サツマイモ、コンニャク等の種芋、食用ゆり、チューリップ等の球根、ラッキョウ等の種球、および遺伝子組み換え作物の種子ならびに塊茎等が挙げられる。 The term "seed" as used in the present invention refers to a material that stores nutrients for seedling germination and is used for agricultural propagation. Specific examples include seeds such as corn, soybeans, cotton, rice, sugar beets, wheat, barley, sunflowers, tomatoes, cucumbers, eggplants, spinach, snow peas, pumpkins, sugarcane, tobacco, green peppers, and rapeseed, and their F1 varieties. Examples include seeds, seed potatoes such as taro, potato, sweet potato, and konnyaku, bulbs such as edible lilies and tulips, seed bulbs such as scallions, and seeds and tubers of genetically modified crops.

本発明化合物を含有する組成物の施用量および施用濃度は、対象作物、対象病害、病害の発生程度、化合物の剤型、施用方法および各種環境条件等によって変動するが、散布または潅注する場合には、有効成分量としてヘクタール当たり0.1~10,000gが適当であり、好ましくは、ヘクタール当り10~1,000gである。また、種子処理の場合の使用量は、有効成分量として種子1kg当たり0.0001~1000gであり、好ましくは、0.001~100gである。本発明化合物を含有する組成物を植物個体への茎葉散布処理、土壌表面への散布処理、土壌中への注入処理または土壌潅注処理として使用する場合は、適当な担体に適当な濃度で希釈した後、処理を行ってもよい。本発明化合物を含有する組成物を植物種子に接触させる場合は、適当な濃度に希釈した後、植物種子に浸漬、粉衣、吹き付けまたは塗沫処理して用いてもよい。浸漬、粉衣、吹き付けまたは塗沫処理する場合の組成物使用量は、通常、有効成分量として、乾燥植物種子重量の0.05~50%程度であり、好ましくは、0.1~30%が適当であるが、組成物の形態や処理対象となる植物種子の種類により適宜設定すればよく、これら範囲に限定されるものではない。 The application amount and application concentration of the composition containing the compound of the present invention vary depending on the target crop, target disease, degree of disease occurrence, formulation of the compound, application method and various environmental conditions. is suitably 0.1 to 10,000 g per hectare, preferably 10 to 1,000 g per hectare as the amount of active ingredient. The amount of the active ingredient used for seed treatment is 0.0001 to 1000 g, preferably 0.001 to 100 g, per 1 kg of seed. When the composition containing the compound of the present invention is used for foliar spraying treatment for individual plants, spraying treatment for soil surface, injection treatment into soil or soil irrigation treatment, it is diluted to an appropriate concentration in an appropriate carrier. Processing may be performed later. When the composition containing the compound of the present invention is brought into contact with plant seeds, the plant seeds may be dipped, powdered, sprayed or smeared after being diluted to an appropriate concentration. The amount of the composition used for immersion, dressing, spraying or smearing is usually about 0.05 to 50%, preferably 0.1 to 30%, of the weight of the dry plant seed, in terms of the amount of active ingredient. However, it may be appropriately set depending on the form of the composition and the type of plant seed to be treated, and is not limited to these ranges.

本発明化合物は、必要に応じて他の農薬、例えば、殺菌剤、殺虫剤(殺ダニ剤および殺線虫剤を含む)、除草剤、微生物資材等および植物成長調節剤等の農薬、核酸を有効成分とする病害防除剤(国際公開第2014/062775号)、土壌改良剤または肥効物質等と混合して使用することができる。本発明化合物と他の農薬を混合して使用する方法としては、本発明化合物と他の農薬とを一つの剤型に製剤化して使用する方法、それぞれが別々の剤型に製剤化された両者を使用前に混合して使用する方法、それぞれが別々の剤型に製剤化された両者を同時に使用する方法、または、それぞれが別々の剤型に製剤化された両者について、いずれか一方を使用した後に他方を使用する方法が挙げられる。
本発明化合物と混合して使用することができる殺菌剤に含まれる具体的な成分は、以下の群bで例示され、これらの塩、異性体およびN-オキシド体を含む。ただし、公知の殺菌剤はこれらに限定されるものではない。
The compounds of the present invention may optionally be used with other pesticides such as fungicides, insecticides (including acaricides and nematicides), herbicides, microbial agents, plant growth regulators, nucleic acids, etc. It can be used by mixing with a disease control agent (International Publication No. 2014/062775), a soil conditioner, a fertilizing substance, or the like as an active ingredient. The method of using the compound of the present invention and other pesticides in combination includes the method of formulating the compound of the present invention and other pesticides into one dosage form and using them, and the method of formulating the compounds of the present invention and other pesticides into separate dosage forms. method of mixing before use, method of using both formulated in separate dosage forms at the same time, or both formulated in separate dosage forms, use either one and then use the other.
Specific ingredients contained in the fungicide that can be used in combination with the compound of the present invention are exemplified in Group b below, including salts, isomers and N-oxides thereof. However, known disinfectants are not limited to these.

群b:
b-1:フェニルアミド系殺菌剤
フェニルアミド系殺菌剤として、[b-1.1]:ベナラキシル(benalaxyl)、[b-1.2]ベナラキシルMまたはキララキシル(benalaxyl-Mまたはkiralaxyl)、[b-1.3]フララキシル(furalaxyl)、[b-1.4]メタラキシル(metalaxyl)、[b-1.5]メタラキシルMまたはメフェノキサム(metalaxyl-Mまたはmefenoxam)、[b-1.6]オキサジキシル(oxadixyl)、[b-1.7]オフラセ(ofurace)等が挙げられる。
Group b:
b-1: Phenylamide fungicide Phenylamide fungicides include [b-1.1]: benalaxyl, [b-1.2] benalaxyl-M or kiralaxyl, [b -1.3] furalaxyl, [b-1.4] metalaxyl, [b-1.5] metalaxyl-M or mefenoxam, [b-1.6] oxadixyl ( oxadoxyl), [b-1.7] ofurace and the like.

b-2:有糸核分裂および細胞分裂阻害剤
有糸核分裂および細胞分裂阻害剤として、[b-2.1]ベノミル(benomyl)、[b-2.2]カルベンダジム(carbendazim)、[b-2.3]フベリダゾール(fuberidazole)、[b-2.4]チアベンダゾール(thiabendazole)、[b-2.5]チオファネート(thiophanate)、[b-2.6]チオファネートメチル(thiophanate-methyl)、[b-2.7]ジエトフェンカルブ(diethofencarb)、[b-2,8]ゾキサミド(zoxamide)、[b-2.9]エタボキサム(ethaboxam)、[b-2.10]ペンシクロン(pencycuron)、[b-2.11]フルオピコリド(fluopicolide)、[b-2.12]フェナマクリル(phenamacril)等が挙げられる。
b-2: Mitotic and Cytotic Inhibitors As mitotic and cytostatic inhibitors, [b-2.1] benomyl, [b-2.2] carbendazim, [b- 2.3] fuberidazole, [b-2.4] thiabendazole, [b-2.5] thiophanate, [b-2.6] thiophanate-methyl, [b- 2.7] diethofencarb, [b-2,8] zoxamide, [b-2.9] ethaboxam, [b-2.10] pencycuron, [b-2. 11] fluopicolide, [b-2.12] phenamacril and the like.

b-3:コハク酸脱水素酵素阻害剤(SDHI剤)
コハク酸脱水素酵素阻害剤(SDHI剤)として、[b-3.1]ベノダニル(benodanil)、[b-3.2]ベンゾビンジフルピル(benzovindiflupyr)、[b-3.3]ビキサフェン(bixafen)、[b-3.4]ボスカリド(boscalid)、[b-3.5]カルボキシン(carboxin)、[b-3.6]フェンフラム(fenfuram)、[b-3.7]フルオピラム(fluopyram)、[b-3.8]フルトラニル(flutolanil)、[b-3.9]フルキサピロキサド(fluxapyroxad)、[b-3.10]フラメトピル(furametpyr)、[b-3.11]イソフェタミド(isofetamid)、[b-3.12]イソピラザム(isopyrazam)、[b-3.13]メプロニル(mepronil)、[b-3.14]オキシカルボキシン(oxycarboxin)、[b-3.15]ペンチオピラド(penthiopyrad)、[b-3.16]ペンフルフェン(penflufen)、[b-3.17]ピジフルメトフェン(pydiflumetofen)、[b-3.18]セダキサン(sedaxane)、[b-3.19]チフルザミド(thifluzamide)、[b-3.20]ピラジフルミド(pyraziflumid)等が挙げられる。
b-3: succinate dehydrogenase inhibitor (SDHI agent)
As succinate dehydrogenase inhibitors (SDHI agents), [b-3.1] benodanil, [b-3.2] benzovindiflupyr, [b-3.3] bixafen ), [b-3.4] boscalid, [b-3.5] carboxin, [b-3.6] fenfuram, [b-3.7] fluopyram , [b-3.8] flutolanil, [b-3.9] fluxapyroxad, [b-3.10] furametpyr, [b-3.11] isofetamide ), [b-3.12] isopyrazam, [b-3.13] mepronil, [b-3.14] oxycarboxin, [b-3.15] penthiopyrad ), [b-3.16] penflufen, [b-3.17] pydiflumetofen, [b-3.18] sedaxane, [b-3.19] thifluzamide ( thifluzamide), [b-3.20]pyraziflumid and the like.

b-4:キノン外部阻害剤(QoI剤)
キノン外部阻害剤(QoI剤)として、[b-4.1]アゾキシストロビン(azoxystrobin)、[b-4.2]クモキシストロビン(coumoxystrobin)、[b-4.3]ジモキシストロビン(dimoxystrobin)、[b-4.4]エノキサストロビン(enoxastrobin)、[b-4.5]ファモキサドン(famoxadone)、[b-4.6]フェンアミドン(fenamidone)、[b-4.7]フェナミンストロビン(fenaminstrobin)、[b-4.8]フルフェノキシストロビン(flufenoxystrobin)、[b-4.9]フルオキサストロビン(fluoxastrobin)、[b-4.10]クレソキシムメチル(kresoxim-methyl)、[b-4.11]マンデストロビン(mandestrobin)、[b-4.12]メトミノストロビン(metominostrobin)、[b-4.13]オリサストロビン(orysastrobin)、[b-4.14]ピコキシストロビン(picoxystrobin)、[b-4.15]ピラクロストロビン(pyraclostrobin)、[b-4.16]ピラメトストロビン(pyrametostrobin)、[b-4.17]ピラオキシストロビン(pyraoxystrobin)、[b-4.18]ピリベンカルブ(pyribencarb)、[b-4.19]トリクロピリカルブ(triclopyricarb)、[b-4.20]トリフロキシストロビン(trifloxystrobin)等が挙げられる。
b-4: quinone external inhibitor (QoI agent)
As quinone external inhibitors (QoI agents), [b-4.1] azoxystrobin, [b-4.2] coumoxystrobin, [b-4.3] dimoxist dimoxystrobin, [b-4.4] enoxastrobin, [b-4.5] famoxadone, [b-4.6] fenamidone, [b-4.7 ] fenaminestrobin, [b-4.8] flufenoxystrobin, [b-4.9] fluoxastrobin, [b-4.10] kresoxim-methyl ), [b-4.11] mandestrobin, [b-4.12] metominostrobin, [b-4.13] orysastrobin, [b-4.14] pico xystrobin, [b-4.15] pyraclostrobin, [b-4.16] pyrametostrobin, [b-4.17] pyroxystrobin, [b-4.18] pyribencarb, [b-4.19] triclopyricarb, [b-4.20] trifloxystrobin and the like.

b-5:キノン内部阻害剤(QiI剤)
キノン内部阻害剤(QiI剤)として、[b-5.1]シアゾファミド(cyazofamid)、[b-5.2]アミスルブロム(amisulbrom)等が挙げられる。
b-5: quinone internal inhibitor (QiI agent)
Examples of quinone internal inhibitors (QiI agents) include [b-5.1] cyazofamid, [b-5.2] amisulbrom and the like.

b-6:酸化的リン酸化脱共役阻害剤
酸化的リン酸化脱共役阻害剤として、[b-6.1]ビナパクリル(binapacryl)、[b-6.2]メプチルジノカップ(meptyldinocap)、[b-6.3]ジノカップ(dinocap)、[b-6.4]フルアジナム(fluazinam)等が挙げられる。
b-6: Oxidative phosphorylation uncoupling inhibitor As oxidative phosphorylation uncoupling inhibitors, [b-6.1] binapacryl, [b-6.2] meptyldinocap, [ b-6.3] dinocap, [b-6.4] fluazinam and the like.

b-7:キノン外部スチグマテリン結合サブサイト阻害剤(QoSI剤)
キノン外部スチグマテリン結合サブサイト阻害剤(QoSI剤)として、[b-7.1]アメトクトラジン(ametoctradin)等が挙げられる。
b-7: Quinone external stigmatelin-binding subsite inhibitor (QoSI agent)
Quinone extrinsic stigmatelin-binding subsite inhibitors (QoSI agents) include [b-7.1]ametoctradin and the like.

b-8:アミノ酸生合成阻害剤
アミノ酸生合成阻害剤として、[b-8.1]シプロジニル(cyprodinil)、[b-8.2]メパニピリム(mepanipyrim)、[b-8.3]ピリメタニル(pyrimethanil)等が挙げられる。
b-8: amino acid biosynthesis inhibitors As amino acid biosynthesis inhibitors, [b-8.1] cyprodinil, [b-8.2] mepanipyrim, [b-8.3] pyrimethanil ) and the like.

b-9:タンパク質生合成阻害剤
タンパク質生合成阻害剤として、[b-9.1]ストレプトマイシン(streptomycin)、[b-9.2]ブラストサイジンS(blasticidin-S)、[b-9.3]カスガマイシン(kasugamycin)、[b-9.4]オキシテトラサイクリン(oxytetracycline)等が挙げられる。
b-9: Protein biosynthesis inhibitors As protein biosynthesis inhibitors, [b-9.1] streptomycin, [b-9.2] blasticidin-S, [b-9. 3] kasugamycin, [b-9.4] oxytetracycline and the like.

b-10:シグナル伝達阻害剤
シグナル伝達阻害剤として、[b-10.1]フェンピクロニル(fenpiclonil)、[b-10.2]フルジオキソニル(fludioxonil)、[b-10.3]キノキシフェン(quinoxyfen)、[b-10.4]プロキナジド(proquinazid)、[b-10.5]クロゾリネート(chlozolinate)、[b-10.6]ジメタクロン(dimethachlone)、[b-10.7]イプロジオン(iprodione)、[b-10.8]プロシミドン(procymidone)、[b-10.9]ビンクロゾリン(vinclozolin)等が挙げられる。
b-10: Signal transduction inhibitor Signal transduction inhibitors include [b-10.1] fenpiclonil, [b-10.2] fludioxonil, [b-10.3] quinoxyfen, [b-10.4] proquinazid, [b-10.5] clozolinate, [b-10.6] dimethachlone, [b-10.7] iprodione, [b -10.8] procymidone, [b-10.9] vinclozolin and the like.

b-11:脂質および細胞膜生合成阻害剤
脂質および細胞膜生合成阻害剤として、[b-11.1]エジフェンホス(edifenphos)、[b-11.2]イプロベンホス(iprobenfos)、[b-11.3]ピラゾホス(pyrazophos)、[b-11.4]イソプロチオラン(isoprothiolane)、[b-11.5]ビフェニル(biphenyl)、[b-11.6]クロロネブ(chloroneb)、[b-11.7]ジクロラン(dicloran)、[b-11.8]キントゼン(quintozene)、[b-11.9]テクナゼン(tecnazene)、[b-11.10]トルクロホスメチル(tolclofos-methyl)、[b-11.11]エトリジアゾール(echlomezol or etridiazole)、[b-11.12]ヨードカルブ(iodocarb)、[b-11.13]プロパモカルブ(propamocarb)、[b-11.14]プロチオカルブ(prothiocarb)等が挙げられる。
b-11: Lipid and Cell Membrane Biosynthesis Inhibitors Lipid and cell membrane biosynthesis inhibitors include [b-11.1] edifenphos, [b-11.2] iprobenfos, [b-11.3 ] pyrazophos, [b-11.4] isoprothiolane, [b-11.5] biphenyl, [b-11.6] chloroneb, [b-11.7] dichlorane (dicloran), [b-11.8] quintozene, [b-11.9] tecnazene, [b-11.10] tolclofos-methyl, [b-11.11] Etridiazole (echlormezol or etridiazole), [b-11.12] iodocarb, [b-11.13] propamocarb, [b-11.14] prothiocarb and the like.

b-12:脱メチル化阻害剤(DMI剤)
脱メチル化阻害剤(DMI剤)として、[b-12.1]アザコナゾール(azaconazole)、[b-12.2]ビテルタノール(bitertanol)、[b-12.3]ブロムコナゾール(bromuconazole)、[b-12.4]シプロコナゾール(cyproconazole)、[b-12.5]ジフェノコナゾール(difenoconazole)、[b-12.6]ジニコナゾール(diniconazole)、[b-12.7]ジニコナゾールM(diniconazole-M)、[b-12.8]エポキシコナゾール(epoxiconazole)、[b-12.9]エタコナゾール(etaconazole)、[b-12.10]フェナリモル(fenarimol)、[b-12.11]フェンブコナゾール(fenbuconazole)、[b-12.12]フルキンコナゾール(fluquinconazole)、[b-12.13]キンコナゾール(quinconazole)、[b-12.14]フルシラゾール(flusilazole)、[b-12.15]フルトリアホール(flutriafol)、[b-12.16]ヘキサコナゾール(hexaconazole)、[b-12.17]イマザリル(imazalil)、[b-12.18]イミベンコナゾール(imibenconazole)、[b-12.19]イプコナゾール(ipconazole)、[b-12.20]メトコナゾール(metconazole)、[b-12.21]ミクロブタニル(myclobutanil)、[b-12.22]ヌアリモール(nuarimol)、[b-12.23]オキスポコナゾール(oxpoconazole)、[b-12.24]オキスポコナゾールフマル酸塩(oxpoconazole fumarate)、[b-12.25]ペフラゾエート(pefurazoate)、[b-12.26]ペンコナゾール(penconazole)、[b-12.27]プロクロラズ(prochloraz)、[b-12.28]プロピコナゾール(propiconazole)、[b-12.29]プロチオコナゾール(prothioconazole)、[b-12.30]ピリフェノックス(pyrifenox)、[b-12.31]ピリソキサゾール(pyrisoxazole)、[b-12.32]シメコナゾール(simeconazole)、[b-12.33]テブコナゾール(tebuconazole)、[b-12.34]テトラコナゾール(tetraconazole)、[b-12.35]トリアジメホン(triadimefon)、[b-12.36]トリアジメノール(triadimenol)、[b-12.37]トリフルミゾール(triflumizole)、[b-12.38]トリホリン(triforine)、[b-12.39]トリチコナゾール(triticonazole)[b-12.40]メフェントリフルコナゾール(mefentrifluconazole)、[b-12.41]イプフェントリフルコナゾール(ipfentrifluconazole)等が挙げられる。
b-12: demethylation inhibitor (DMI agent)
As demethylation inhibitors (DMI agents), [b-12.1] azaconazole, [b-12.2] bitertanol, [b-12.3] bromuconazole, [ b-12.4] cyproconazole, [b-12.5] difenoconazole, [b-12.6] diniconazole, [b-12.7] diniconazole-M ), [b-12.8] epoxiconazole, [b-12.9] etaconazole, [b-12.10] fenarimol, [b-12.11] fenbuconazole (fenbuconazole), [b-12.12] fluquinconazole, [b-12.13] quinconazole, [b-12.14] flusilazole, [b-12.15] flutriafol, [b-12.16] hexaconazole, [b-12.17] imazalil, [b-12.18] imibenconazole, [b- 12.19] ipconazole, [b-12.20] metconazole, [b-12.21] myclobutanil, [b-12.22] nuarimol, [b-12. 23] oxpoconazole, [b-12.24] oxpoconazole fumarate, [b-12.25] pefurazoate, [b-12.26] penconazole ( penconazole), [b-12.27] prochloraz, [b-12.28] propiconazole, [b-12.29] prothioconazole, [b-12.30] pyrifenox, [b-12.31] pyrisoxazole, [b-12.32] simeconazole, [b-12.33] tebuconazole, [b-12.34] tetraconazole, [b-12.35] triadimefon, [b-12.36] triadimenol, [b-12.37] triflumizole, [b- 12.38] triforine, [b-12.39] triticonazole, [b-12.40] mefentrifluconazole, [b-12.41] ipfentrifluconazole ) and the like.

b-13:アミン系殺菌剤
アミン系殺菌剤として、[b-13.1]アルジモルフ(aldimorph)、[b-13.2]ドデモルフ(dodemorph)、[b-13.3]フェンプロピモルフ(fenpropimorph)、[b-13.4]トリデモルフ(tridemorph)、[b-13.5]フェンプロピジン(fenpropidin)、[b-13.6]ピペラリン(piperalin)、[b-13.7]スピロキサミン(spiroxamine)等が挙げられる。
b-13: Amine fungicide Amine fungicides include [b-13.1] aldimorph, [b-13.2] dodemorph, [b-13.3] fenpropimorph ), [b-13.4] tridemorph, [b-13.5] fenpropidin, [b-13.6] piperalin, [b-13.7] spiroxamine ) and the like.

b-14:ステロール生合成のC4位脱メチル化における3-ケト還元酵素阻害剤
ステロール生合成のC4位脱メチル化における3-ケト還元酵素阻害剤として、[b-14.1]フェンヘキサミド(fenhexamid)、[b-14.2]フェンピラザミン(fenpyrazamine)等が挙げられる。
b-14: 3-keto reductase inhibitor in C4 position demethylation of sterol biosynthesis As a 3-keto reductase inhibitor in C4 position demethylation of sterol biosynthesis, [b-14.1] fenhexamide (fenhexamide), [b-14.2]fenpyrazamine and the like.

b-15:ステロール生合成のスクアレンエポキシダーゼ阻害剤
ステロール生合成のスクアレンエポキシダーゼ阻害剤として、[b-15.1]ピリブチカルブ(pyributicarb)、[b-15.2]ナフチフィン(naftifine)、[b-15.3]テルビナフィン(terbinafine)等が挙げられる。
b-15: Squalene epoxidase inhibitors of sterol biosynthesis As squalene epoxidase inhibitors of sterol biosynthesis, [b-15.1] pyributicarb, [b-15.2] naftifine, [b -15.3] and terbinafine.

b-16:細胞壁生合成阻害剤
細胞壁生合成阻害剤として、[b-16.1]ポリオキシン類(polyoxins)、[b-16.2]ジメトモルフ(dimethomorph)、[b-16.3]フルモルフ(flumorph)、[b-16.4]ピリモルフ(pyrimorph)、[b-16.5]ベンチアバリカルブ(benthiavalicarb)、[b-16.6]ベンチアバリカルブイソプロピル(benthivalicarb-isopropyl)、[b-16.7]イプロバリカルブ(iprovalicarb)、[b-16.8]マンジプロパミド(mandipropamid)、[b-17.9]バリフェナレート(valifenalate)等が挙げられる。
b-16: Cell wall biosynthesis inhibitors Cell wall biosynthesis inhibitors include [b-16.1] polyoxins, [b-16.2] dimethomorph, [b-16.3] fullmorph ( flumorph), [b-16.4] pyrimorph, [b-16.5] benthiavalicarb, [b-16.6] benthivalicarb-isopropyl, [b -16.7] iprovalicarb, [b-16.8] mandipropamid, [b-17.9] valifenalate and the like.

b-17:メラニン生合成阻害剤
メラニン生合成阻害剤として、[b-17.1]フサライド(phthalide or fthalide)、[b-17.2]ピロキロン(pyroquilone)、[b-17.3]トリシクラゾール(tricyclazole)、[b-17.4]カルプロパミド(carpropamid)、[b-17.5]ジクロシメット(diclocymet)、[b-17.6]フェノキサニル(fenoxanil)、[b-17.7]トルプロカルブ(tolprocarb)等が挙げられる。
b-17: melanin biosynthesis inhibitor melanin biosynthesis inhibitors such as [b-17.1] phthalide or fthalide, [b-17.2] pyroquilone, [b-17.3] tricyclazole (tricyclazole), [b-17.4] carpropamid, [b-17.5] diclocymet, [b-17.6] fenoxanil, [b-17.7] tolprocarb ) and the like.

b-18:宿主植物抵抗性誘導剤
宿主植物抵抗性誘導剤として、[b-18.1]アシベンゾラルSメチル(acibenzolar-S-methyl)、[b-18.2]プロベナゾール(probenazole)、[b-18.3]チアジニル(tiadinil)、[b-18.4]イソチアニル(isotianil)、[b-18.5]ラミナリン(laminarin)等が挙げられる。
b-18: Host plant resistance inducer Host plant resistance inducers include [b-18.1] acibenzolar-S-methyl, [b-18.2] probenazole, [b-18.2] probenazole, -18.3] tiadinil, [b-18.4] isotianil, [b-18.5] laminarin and the like.

b-19:ジチオカーバメート系殺菌剤
ジチオカーバメート系殺菌剤として、[b-19.1]マンコゼブまたはマンゼブ(mancozeb or manzeb)、[b-19.2]マンネブ(maneb)、[b-19.3]メチラム(metiram)、[b-19.4]プロピネブ(propineb)、[b-19.5]チウラム(thiram)、[b-19.6]ジネブ(zineb)、[b-19.7]ジラム(ziram)、[b-19.8]フェルバム(ferbam)等が挙げられる。
b-19: Dithiocarbamate fungicide Dithiocarbamate fungicides include [b-19.1] mancozeb or manzeb, [b-19.2] maneb, [b-19.3] ] metiram, [b-19.4] propineb, [b-19.5] thiram, [b-19.6] zineb, [b-19.7] ziram (ziram), [b-19.8] ferbam and the like.

b-20:フタルイミド系殺菌剤
フタルイミド系殺菌剤として、[b-20.1]キャプタン(captan)、[b-20.2]キャプタホール(captafol)、[b-20.3]ホルペット(folpet)、[b-20.4]フルオロホルペット(fluorofolpet)等が挙げられる。
b-20: Phthalimide-based fungicides As phthalimide-based fungicides, [b-20.1] captan, [b-20.2] captafol, [b-20.3] folpet ), [b-20.4] fluorofolpet and the like.

b-21:グアニジン系殺菌剤
グアニジン系殺菌剤として、[b-21.1]グアザチン(guazatine)、[b-21.2]イミノクタジン(iminoctadine)、[b-21.3]イミノクタジンアルベシル酸塩(iminoctadine albesilate)、[b-21.4]イミノクタジン三酢酸塩(iminoctadine triacetate)等が挙げられる。
b-21: Guanidine fungicide As guanidine fungicides, [b-21.1] guazatin, [b-21.2] iminoctadine, [b-21.3] iminoctadine albesilate (iminoctadine albesilate), [b-21.4] iminoctadine triacetate and the like.

b-22:多作用点接触活性型殺菌剤
多作用点接触活性型殺菌剤として、[b-22.1]塩基性塩化銅(copper oxychloride)、[b-22.2]水酸化第二銅(copper(II) hydroxide)、[b-22.3]塩基性硫酸銅(copper hydroxide sulfate)、[b-22.4]有機銅化合物(organocopper compound)、[b-22.5]ドデシルベンゼンスルホン酸ビスエチレンジアミン銅錯塩[II](Dodecylbenzenesulphonic acid bisethylenediamine copper [II] salt、DBEDC)、[b-22.6]硫黄(sulphur)、[b-22.7]フルオルイミド(fluoroimide)、[b-22.8]クロロタロニル(chlorothalonil)、[b-22.9]ジクロフルアニド(dichlofluanid)、[b-22.10]トリルフルアニド(tolylfluanid)、[b-22.11]アニラジン(anilazine)、[b-22.12]ジチアノン(dithianon)、[b-22.13]キノメチオナート(chinomethionat or quinomethionate)、[b-22.14]ハウチワマメ苗木の子葉からの抽出物(BLAD)等が挙げられる。
b-22: Multi-point contact active fungicide As multi-point contact active fungicides, [b-22.1] basic copper chloride (copper oxychloride), [b-22.2] cupric hydroxide (copper (II) hydroxide), [b-22.3] basic copper hydroxide sulfate, [b-22.4] organocopper compound, [b-22.5] dodecyl benzene sulfone acid bisethylenediamine copper complex salt [II] (Dodecylbenzenesulphonic acid bisethylenediamine copper [II] salt, DBEDC), [b-22.6] sulfur, [b-22.7] fluoroimide, [b-22. 8] chlorothalonil, [b-22.9] dichlofluanid, [b-22.10] tolylfluanid, [b-22.11] anilazine, [b- 22.12]dithianon, [b-22.13]chinomethionate or quinomethionate, [b-22.14]extract from cotyledons of lupine seedlings (BLAD), and the like.

b-23:その他の殺菌剤
その他の殺菌剤として、[b-23.1]ジクロベンチアゾクス(dichlobentiazox)、[b-23.2]フェンピコキサミド(fenpicoxamid)、[b-23.3]ジピメチトロン(dipymetitrone)、[b-23.4]ブピリメート(bupirimate)、[b-23.5]ジメチリモール(dimethirimol)、[b-23.6]エチリモール(ethirimol)、[b-23.7]酢酸トリフェニルスズ(fentin acetate)、[b-23.8]塩化トリフェニルスズ(fentin chloride)、[b-23.9]水酸化トリフェニルスズ(fentin hydroxide)、[b-23.10]オキソリニック酸(oxolinic acid)、[b-23.11]ヒメキサゾール(hymexazol)、[b-23.12]オクチリノン(octhilinone)、[b-23.13]ホセチル(fosetyl)、[b-23.14]亜リン酸(phosphorous acid)、[b-23.15]亜リン酸のナトリウム塩(sodium phosphite)、[b-23.16]亜リン酸のアンモニウム塩(ammonium phosphite)、[b-23.17]亜リン酸のカリウム塩(potassium phosphite)、[b-23.18]テクロフタラム(tecloftalam)、[b-23.19]トリアゾキシド(triazoxide)、[b-23.20]フルスルファミド(flusulfamide)、[b-23.21]ジクロメジン(diclomezine)、[b-23.22]シルチオファム(silthiofam)、[b-23.23]ジフルメトリム(diflumetorim)、[b-23.24]メタスルホカルブ(methasulfocarb)、[b-23.25]シフルフェナミド(cyflufenamid)、[b-23.26]メトラフェノン(metrafenone)、[b-23.27]ピリオフェノン(pyriofenone)、[b-23.28]ドジン(dodine)、[b-23.29]フルチアニル(flutianil)、[b-23.30]フェリムゾン(ferimzone)、[b-23.31]オキサチアピプロリン(oxathiapiprolin)、[b-23.32]テブフロキン(tebufloquin)、[b-23.33]ピカルブトラゾクス(picarbutrazox)、[b-23.34]バリダマイシン類(validamycins)、[b-23.35]シモキサニル(cymoxanil)、[b-23.36]キノフメリン(quinofumelin)、
b-23: Other fungicides Other fungicides include [b-23.1] dichlobentiazox, [b-23.2] fenpicoxamide, [b-23.3 ] dipymetitrone, [b-23.4] bupirimate, [b-23.5] dimethirimol, [b-23.6] ethirimol, [b-23.7] acetic acid triphenyltin acetate, [b-23.8]triphenyltin chloride, [b-23.9]fentin hydroxide, [b-23.10]oxolinic acid (oxolinic acid), [b-23.11] hymexazol, [b-23.12] octhilinone, [b-23.13] fosetyl, [b-23.14] phosphorus phosphorous acid, [b-23.15] sodium phosphite, [b-23.16] ammonium phosphite, [b-23.17] potassium phosphate, [b-23.18] tecloftalam, [b-23.19] triazoxide, [b-23.20] flusulfamide, [b-23 .21] diclomezine, [b-23.22] silthiofam, [b-23.23] diflumetrim, [b-23.24] methasulfocarb, [b-23 .25] cyflufenamide, [b-23.26] metrafenone, [b-23.27] pyriofenone, [b-23.28] dodine, [b-23.29 ] flutianil, [b-23.30] ferimzone, [b-23.31] oxathiapiprolin, [b-23.32] tebufloquin, [b-23. 33] picarbutrazox, [b-23.34] validamycins, [b-23.35] cymoxanil, [b-23.36] quinofumelin,

[b-23.37]式(s1)

Figure 0007328222000076

で表される化合物(国際公開第98/046607号参照)、[b-23.37] Formula (s1)
Figure 0007328222000076

A compound represented by (see WO 98/046607),

[b-23.38]式(s2)

Figure 0007328222000077

で表される化合物(国際公開第08/148570号参照)、[b-23.38] Formula (s2)
Figure 0007328222000077

A compound represented by (see WO 08/148570),

[b-23.39]式(s3)

Figure 0007328222000078

で表される化合物(国際公開第92/012970号参照)、[b-23.39] Formula (s3)
Figure 0007328222000078

A compound represented by (see WO 92/012970),

[b-23.40]式(s4)

Figure 0007328222000079

で表される化合物(国際公開第12/084812号参照)、[b-23.40] Formula (s4)
Figure 0007328222000079

A compound represented by (see WO 12/084812),

[b-23.41]式(s5)

Figure 0007328222000080

で表される化合物(gougerotin)、[b-23.41] Formula (s5)
Figure 0007328222000080

A compound represented by (gougerotin),

[b-23.42]式(s6)

Figure 0007328222000081

で表される化合物(ningnanmycin)、[b-23.42] Formula (s6)
Figure 0007328222000081

A compound represented by (ningnanmycin),

[b-23.43]式(s7)

Figure 0007328222000082

で表される化合物(国際公開第10/136475号参照)、[b-23.43] Formula (s7)
Figure 0007328222000082

A compound represented by (see WO 10/136475),

[b-23.44]式(s8)

Figure 0007328222000083

で表される化合物(国際公開第14/010737号参照)、[b-23.44] formula (s8)
Figure 0007328222000083

A compound represented by (see WO 14/010737),

[b-23.45]式(s9)

Figure 0007328222000084

で表される化合物(国際公開第11/085084号参照)、[b-23.45] Formula (s9)
Figure 0007328222000084

A compound represented by (see WO 11/085084),

[b-23.46]式(s10)

Figure 0007328222000085

で表される化合物(国際公開第11/137002号参照)、[b-23.46] Formula (s10)
Figure 0007328222000085

A compound represented by (see WO 11/137002),

[b-23.47]式(s11)

Figure 0007328222000086

で表される化合物(国際公開第13/162072号参照)、[b-23.47] Formula (s11)
Figure 0007328222000086

A compound represented by (see WO 13/162072),

[b-23.48]式(s12)

Figure 0007328222000087

で表される化合物(国際公開第08/110313号参照)、[b-23.48] Formula (s12)
Figure 0007328222000087

A compound represented by (see WO 08/110313),

[b-23.49]式(s13)

Figure 0007328222000088

で表される化合物(国際公開第09/156098号参照)、[b-23.49] formula (s13)
Figure 0007328222000088

A compound represented by (see WO 09/156098),

[b-23.50]式(s14)

Figure 0007328222000089

で表される化合物(国際公開第12/025557号参照)、[b-23.50] Formula (s14)
Figure 0007328222000089

A compound represented by (see WO 12/025557),

[b-23.51]式(s15)

Figure 0007328222000090

で表される化合物(国際公開第14/006945号参照)、[b-23.51] Formula (s15)
Figure 0007328222000090

A compound represented by (see WO 14/006945),

[b-23.52]式(s16)

Figure 0007328222000091

[式中、A3は、水素原子、ハロゲン原子、C1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはシアノ基を表し、A4は、水素原子、C1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表す。]で表される化合物(国際公開第14/095675号参照)、[b-23.52] Expression (s16)
Figure 0007328222000091

[Wherein, A3 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, or a cyano group; A4 represents a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 It represents a haloalkyl group or a C3-C8 cycloalkyl group. ] (see WO 14/095675),

[b-23.53]式(s17)

Figure 0007328222000092

[式中、m1は、0~3の整数を表し、A5およびA6は、それぞれ独立していて、ハロゲン原子、またはC1~C6のアルキル基を表し、A7およびA8は、それぞれ独立していて、ハロゲン原子、またはC1~C6のアルコキシ基を表し、m1が2以上の場合、2以上のA7は、それぞれ独立した置換基を表し、同一または異なっていてよい。]で表される化合物(国際公開第09/137538号、国際特許第09/137651号参照)、[b-23.53] Expression (s17)
Figure 0007328222000092

[Wherein, m1 represents an integer of 0 to 3, A5 and A6 each independently represent a halogen atom or a C1 to C6 alkyl group, A7 and A8 each independently represents a halogen atom or a C1-C6 alkoxy group, and when m1 is 2 or more, two or more A7 represent independent substituents and may be the same or different. ] (see International Publication No. 09/137538, International Patent No. 09/137651),

[b-23.54]式(s18)

Figure 0007328222000093

[式中、A9およびA10は、それぞれ独立していて、水素原子、またはハロゲン原子を表し、A11は、ハロゲン原子を表し、A12は、ハロゲン原子、またはC1~C6のアルキル基を表し、A13は、ハロゲン原子、シアノ基、C1~C6のアルキル基、またはC1~C6のアルコキシ基を表す。]で表される化合物(国際公開第12/031061号参照)、[b-23.54] formula (s18)
Figure 0007328222000093

[Wherein, A9 and A10 each independently represent a hydrogen atom or a halogen atom, A11 represents a halogen atom, A12 represents a halogen atom or a C1 to C6 alkyl group, and A13 represents , a halogen atom, a cyano group, a C1-C6 alkyl group, or a C1-C6 alkoxy group. ] (see WO 12/031061),

[b-23.55]式(s19)

Figure 0007328222000094

[式中、m2は、0~6の整数を表し、A14およびA15は、それぞれ独立していて、ハロゲン原子、シアノ基、またはC1~C6のアルキル基を表し、A16は、水素原子、ハロゲン原子、またはC1~C6のアルコキシ基を表し、A17は、ハロゲン原子、またはC1~C6のアルコキシ基を表し、m2が2以上の場合、2以上のA17は、それぞれ独立した置換基を表し、同一または異なっていてよい。]で表される化合物(国際公開第05/121104号参照)、[b-23.55] Formula (s19)
Figure 0007328222000094

[Wherein, m2 represents an integer of 0 to 6, A14 and A15 each independently represent a halogen atom, a cyano group, or a C1-C6 alkyl group, and A16 represents a hydrogen atom, a halogen atom, , or represents a C1-C6 alkoxy group, A17 represents a halogen atom or a C1-C6 alkoxy group, and when m2 is 2 or more, 2 or more A17 each represent an independent substituent, the same or can be different. ] (see WO 05/121104),

[b-23.56]式(s20)

Figure 0007328222000095

[式中、A18およびA19は、それぞれ独立していて、ハロゲン原子、シアノ基、またはC1~C6のアルキル基を表し、A20、A21およびA22は、それぞれ独立していて、水素原子、ハロゲン原子、またはC1~C6のアルコキシ基を表す。]で表される化合物(国際公開第07/066601号参照)、[b-23.56] formula (s20)
Figure 0007328222000095

[Wherein, A18 and A19 each independently represent a halogen atom, a cyano group, or a C1-C6 alkyl group; A20, A21 and A22 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or represents a C1-C6 alkoxy group. ] (see WO 07/066601),

[b-23.57]式(s21)

Figure 0007328222000096

[式中、A23およびA24は、それぞれ独立していて、水素原子、ハロゲン原子、C1~C6のアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表し、Xは、酸素原子または硫黄原子を表す。]で表される化合物(国際公開第07/087906号、国際特許第09/016220号、国際特許第10/130767号参照)、[b-23.57] formula (s21)
Figure 0007328222000096

[In the formula, A23 and A24 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group, and X represents an oxygen atom or a sulfur atom. ] (see International Publication No. 07/087906, International Patent No. 09/016220, International Patent No. 10/130767),

[b-23.58]式(s22)

Figure 0007328222000097

[式中、m3は、0~5の整数を表し、A25は、ハロゲン原子、C1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表し、m3が2以上の場合、2以上のA25は、それぞれ独立した置換基を表し、同一または異なっていてよい。]で表される化合物(国際公開第13/092224号参照)、[b-23.58] formula (s22)
Figure 0007328222000097

[Wherein, m3 represents an integer of 0 to 5, A25 is a halogen atom, a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 haloalkyl group, a C1 to C6 alkoxy group, a C1 to C6 haloalkoxy group, or represents a C3-C8 cycloalkyl group, and when m3 is 2 or more, two or more A25 represent independent substituents and may be the same or different. ] (see WO 13/092224),

[b-23.59]式(s23)

Figure 0007328222000098

[式中、A26は、水素原子、またはハロゲン原子を表し、V1およびV2は、それぞれ独立していて、酸素原子、または硫黄原子を表す。]で表される化合物(国際公開第12/025450号参照)、[b-23.59] formula (s23)
Figure 0007328222000098

[In the formula, A26 represents a hydrogen atom or a halogen atom, and V1 and V2 each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom. ] (see WO 12/025450),

[b-23.60]式(s24)または式(s25)

Figure 0007328222000099

[式中、m4は、0~5の整数を表し、A27は、C1~C6のアルキル基を表し、A28は、ハロゲン原子、シアノ基、C1~C6のアルキル基、またはC1~C6のハロアルキル基を表し、m4が2以上の場合、2以上のA28は、それぞれ独立した置換基を表し、同一または異なっていてよく、A29は、C1~C6のアルキル基、C2~C6のアルケニル基、またはC3~C6のアルキニル基を表す。]で表される化合物(国際公開第13/037717号参照)、[b-23.60] Formula (s24) or Formula (s25)
Figure 0007328222000099

[Wherein, m4 represents an integer of 0 to 5, A27 represents a C1 to C6 alkyl group, A28 represents a halogen atom, a cyano group, a C1 to C6 alkyl group, or a C1 to C6 haloalkyl group When m4 is 2 or more, 2 or more A28 each represent an independent substituent which may be the same or different, and A29 is a C1 to C6 alkyl group, a C2 to C6 alkenyl group, or a C3 represents a C6 alkynyl group. ] (see WO 13/037717),

[b-23.61]式(s26)または式(s27)

Figure 0007328222000100

[式中、m5は、0~5の整数を表し、A30は、C1~C6のアルキル基を表し、A31は、ハロゲン原子、シアノ基、C1~C6のアルキル基、またはC1~C6のハロアルキル基を表し、m5が2以上の場合、2以上のA31は、それぞれ独立した置換基を表し、同一または異なっていてよく、A32は、C1~C6のアルキル基、C2~C6のアルケニル基、またはC3~C6のアルキニル基を表す。]で表される化合物(国際公開第13/037717号参照)、[b-23.61] formula (s26) or formula (s27)
Figure 0007328222000100

[Wherein, m5 represents an integer of 0 to 5, A30 represents a C1 to C6 alkyl group, A31 represents a halogen atom, a cyano group, a C1 to C6 alkyl group, or a C1 to C6 haloalkyl group When m5 is 2 or more, 2 or more A31 each represent an independent substituent which may be the same or different, and A32 is a C1 to C6 alkyl group, a C2 to C6 alkenyl group, or a C3 represents a C6 alkynyl group. ] (see WO 13/037717),

[b-23.62]式(s28)

Figure 0007328222000101

[式中、A33、A34、A35およびA36は、それぞれ独立していて、水素原子、またはハロゲン原子を表し、A37は、水素原子、アセチル基、またはベンゾイル基を表す。]で表される化合物(国際公開第06/031631号、国際特許第10/069882号参照)、[b-23.62] formula (s28)
Figure 0007328222000101

[In the formula, A33, A34, A35 and A36 each independently represent a hydrogen atom or a halogen atom, and A37 represents a hydrogen atom, an acetyl group or a benzoyl group. ] (see International Publication No. 06/031631, International Patent No. 10/069882),

[b-23.63]式(s29)

Figure 0007328222000102

[式中、A38は、C1~C6のアルキル基、またはC1~C6のハロアルキル基を表し、A39およびA40は、それぞれ独立していて、水素原子、またはハロゲン原子を表す。]で表される化合物(国際公開第14/043376号参照)、[b-23.63] formula (s29)
Figure 0007328222000102

[In the formula, A38 represents a C1-C6 alkyl group or a C1-C6 haloalkyl group, and A39 and A40 each independently represent a hydrogen atom or a halogen atom. ] (see WO 14/043376),

[b-23.64]式(s30)

Figure 0007328222000103

[式中、A41は、水素原子、水硫基(-SH)、チオシアン酸基(-SCN)、またはC1~C6のアルキルチオ基を表し、A42、A43、A44およびA45は、それぞれ独立していて、水素原子、またはハロゲン原子を表す。]で表される化合物(国際公開第09/077443号参照)、[b-23.64] formula (s30)
Figure 0007328222000103

[In the formula, A41 represents a hydrogen atom, a hydrogen sulfur group (-SH), a thiocyanate group (-SCN), or a C1-C6 alkylthio group, and A42, A43, A44 and A45 are each independently , a hydrogen atom, or a halogen atom. ] (see WO 09/077443),

[b-23.65]式(s31)または式(s32)

Figure 0007328222000104

[式中、A46は、水素原子、またはハロゲン原子を表し、A47は、C1~C6のアルキル基を表し、A48は、ハロゲン原子を表す。]で表される化合物(国際公開第11/070771号参照)、[b-23.65] formula (s31) or formula (s32)
Figure 0007328222000104

[In the formula, A46 represents a hydrogen atom or a halogen atom, A47 represents a C1 to C6 alkyl group, and A48 represents a halogen atom. ] (see WO 11/070771),

[b-23.66]式(s33)

Figure 0007328222000105

[式中、A49、A50およびA51は、それぞれ独立していて、水素原子、またはハロゲン原子を表す。]で表される化合物(国際公開第11/081174号参照)等が挙げられる。[b-23.66] formula (s33)
Figure 0007328222000105

[In the formula, A49, A50 and A51 each independently represent a hydrogen atom or a halogen atom. ] (see International Publication No. 11/081174) and the like.

本発明化合物と混合して使用することができる殺虫剤に含まれる具体的な成分は、以下の群cで例示され、これらの塩、異性体およびN-オキシド体を含む。ただし、公知の殺虫剤はこれらに限定されるものではない。 Specific ingredients contained in pesticides that can be used in admixture with the compounds of the present invention are exemplified in Group c below, including salts, isomers and N-oxides thereof. However, known insecticides are not limited to these.

群c:
c-1:カーバメート系アセチルコリンエステラーゼ(AChE)阻害剤
カーバメート系アセチルコリンエステラーゼ(AChE)阻害剤として、[c-1.1]ホスホカルブ(phosphocarb)、[c-1.2]アラニカルブ(alanycarb)、[c-1.3]ブトカルボキシム(butocarboxim)、[c-1.4]ブトキシカルボキシム(butoxycarboxim)、[c-1.5]チオジカルブ(thiodicarb)、[c-1.6]チオファノックス(thiofanox)、[c-1.7]アルジカルブ(aldicarb)、[c-1.8]ベンジオカルブ(bendiocarb)、[c-1.9]ベンフラカルブ(benfuracarb)、[c-1.10]カルバリル(carbaryl)、[c-1.11]カルボフラン(carbofuran)、[c-1.12]カルボスルファン(carbosulfan)、[c-1.13]エチオフェンカルブ(ethiofencarb)、[c-1.14]フェノブカルブ(fenobucarb)、[c-1.15]ホルメタネート(formetanate)、[c-1.16]フラチオカルブ(furathiocarb)、[c-1.17]イソプロカルブ(isoprocarb)、[c-1.18]メチオカルブ(methiocarb)、[c-1.19]メソミル(methomyl)、[c-1.20]オキサミル(oxamyl)、[c-1.21]ピリミカルブ(pirimicarb)、[c-1.22]プロポキスル(propoxur)、[c-1.23]トリメタカルブ(trimethacarb)、[c-1.24]XMC(3,5-xylyl methylcarbamate)、[c-1.25]アリキシカルブ(allyxycarb)、[c-1.26]アルドキシカルブ(aldoxycarb)、[c-1.27]ブフェンカルブ(bufencarb)、[c-1.28]ブタカルブ(butacarb)、[c-1.29]カーバノレート(carbanolate)、[c-1.30]メトルカルブ(metolcarb)、[c-1.31]キシルイルカルブ(xylylcarb)、[c-1.32]フェノチオカルブ(fenothiocarb)、[c-1.33]キシリルカルブ(xylylcarb)、[c-1.34]ベンダイオカルブ(bendiocarb)等が挙げられる。
Group c:
c-1: Carbamate Acetylcholinesterase (AChE) Inhibitors As carbamate acetylcholinesterase (AChE) inhibitors, [c-1.1] phosphocarb, [c-1.2] alanycarb, [c -1.3] butocarboxim, [c-1.4] butoxycarboxim, [c-1.5] thiodicarb, [c-1.6] thiofanox ), [c-1.7] aldicarb, [c-1.8] bendiocarb, [c-1.9] benfuracarb, [c-1.10] carbaryl, [c-1.11] carbofuran, [c-1.12] carbosulfan, [c-1.13] ethiofencarb, [c-1.14] fenobucarb, [c-1.15] formetanate, [c-1.16] furatiocarb, [c-1.17] isoprocarb, [c-1.18] methiocarb, [c -1.19] methomyl, [c-1.20] oxamyl, [c-1.21] pirimicarb, [c-1.22] propoxur, [c-1 .23] trimetacarb, [c-1.24] XMC (3,5-xylyl methylcarbamate), [c-1.25] allyxycarb, [c-1.26] aldoxycarb , [c-1.27] bufencarb, [c-1.28] butacarb, [c-1.29] carbanolate, [c-1.30] metolcarb, [ c-1.31] xylylcarb, [c-1.32] phenothiocarb, [c-1.33] xylylcarb, [c-1.34] bendiocarb etc.

c-2:有機リン系アセチルコリンエステラーゼ(AChE)阻害剤
有機リン系アセチルコリンエステラーゼ(AChE)阻害剤として、[c-2.1]アセフェート(acephate)、[c-2.2]アザメチホス(azamethiphos)、[c-2.3]アジンホス-メチル(azinphos-methyl)、[c-2.4]アジンホス-エチル(azinphos-ethyl)、[c-2.5]エセフォン(ethephon)、[c-2.6]カズサホス(cadusafos)、[c-2.7]クロルエトキシホス(chlorethoxyfos)、[c-2.8]クロルフェンビンホス(chlorfenvinphos)、[c-2.9]クロルメホス(chlormephos)、[c-2.10]クロルピリホス(chlorpyrifos)、[c-2.11]クロルピリホス-メチル(chlorpyrifos-methyl)、[c-2.12]クマホス(coumaphos)、[c-2.13]シアノホス(cyanophos)、[c-2.14]デメトン-S-メチル(demeton-S-methyl)、[c-2.15]ダイアジノン(diazinon)、[c-2.16]ジクロフェンチオン(dichlofenthion)、[c-2.17]ジクロルボス(dichlorvos)、[c-2.18]ジクロトホス(dicrotophos)、[c-2.19]ジメトエート(dimethoate)、[c-2.20]ジメチルビンホス(dimethylvinphos)、[c-2.21]ジスルホトン(disulfoton)、[c-2.22]O-エチル O-4-ニトロフェニル フェニルホスホノチオアート(O-ethyl O-4-nitrophenyl phenylphosphonothioate)、[c-2.23]エチオン(ethion)、[c-2.24]エトプロホス(ethoprophos)、[c-2.25]ファムフール(famphur)、[c-2.26]フェナミホス(fenamiphos)、[c-2.27]フェニトロチオン(fenitrothion)、[c-2.28]フェンチオン(fenthion)、[c-2.29]ホスチアゼート(fosthiazate)、[c-2.30]ヘプテノホス(heptenophos)、[c-2.31]イソフェンホス-メチル(isofenphos-methyl)、[c-2.32]イソカルボホス(Isocarbophos)、[c-2.33]イソキサチオン(isoxathion)、[c-2.34]マラチオン(malathion)、[c-2.35]メカルバム(mecarbam)、[c-2.36]メタミドホス(methamidophos)、[c-2.37]メチダチオン(methidathion)、[c-2.38]メビンホス(mevinphos)、[c-2.39]モノクロトホス(monocrotophos)、[c-2.40]ナレッド(naled)、[c-2.41]オメトエート(omethoate)、[c-2.42]オキシデメトン-メチル(oxydemeton-methyl)、[c-2.43]パラチオン(parathions)、[c-2.44]パラチオン-メチル(parathion-methyl)、[c-2.45]フェントエート(phenthoate)、[c-2.46]ホレート(phorate)、[c-2.47]ホサロン(phosalone)、[c-2.48]ホスメット(phosmet)、[c-2.49]ホスファミドン(phosphamidon)、[c-2.50]ホキシム(phoxim)、[c-2.51]ピリミホス-メチル(pirimiphos-methyl)、[c-2.52]プロフェノホス(profenofos)、[c-2.53]プロペタンホス(propetamphos)、[c-2.54]プロチオホス(prothiofos)、[c-2.55]ピラクロホス(pyraclofos)、[c-2.56]ピリダフェンチオン(pyridaphenthion)、[c-2.57]キナルホス(quinalphos)、[c-2.58]スルホテップ(sulfotep)、[c-2.59]テブピリムホス(tebupirimfos)、[c-2.60]テメホス(temephos)、[c-2.61]テルブホス(terbufos)、[c-2.62]チオメトン(thiometon)、[c-2.63]トリアゾホス(triazophos)、[c-2.64]トリクロルホン(trichlorfon)、[c-2.65]バミドチオン(vamidothion)、[c-2.66]クロルチオン(chlorothion)、[c-2.67]ブロムフェンビンホス(bromfenvinfos)、[c-2.68]ブロモホス(bromophos)、[c-2.69]ブロモホス-エチル(bromophos-ethyl)、[c-2.70]ブタチオホス(butathiofos)、[c-2.71]カルボフェノチオン(carbophenothion)、[c-2.72]クロルホキシム(chlorphoxim)、[c-2.73]スルプロホス(sulprofos)、[c-2.74]ジアミダホス(diamidafos)、[c-2.75]テトラクロルビンホス(tetrachlorvinphos)、[c-2.76]プロパホス(propaphos)、[c-2.77]メスルフェンホス(mesulfenfos)、[c-2.78]ジオキサベンゾホス(dioxabenzofos)、[c-2.79]エトリムホス(etrimfos)、[c-2.80]オキシデプロホス(oxydeprofos)、[c-2.81]ホルモチオン(formothion)、[c-2.82]フェンスルホチオン(fensulfothion)、[c-2.83]イサゾホス(isazofos)、[c-2.84]イミシアホス(imicyafos)、[c-2.85]イサミドホス(isamidofos)、[c-2.86]チオナジン(thionazin)、[c-2.87]ホスチエタン(fosthietan)等が挙げられる。
c-2: Organophosphorus acetylcholinesterase (AChE) inhibitors Organophosphate acetylcholinesterase (AChE) inhibitors include [c-2.1] acephate, [c-2.2] azamethiphos, [c-2.3] azinphos-methyl, [c-2.4] azinphos-ethyl, [c-2.5] ethephon, [c-2.6 ] cadusafos, [c-2.7] chlorethoxyfos, [c-2.8] chlorfenvinphos, [c-2.9] chlormephos, [c- 2.10] chlorpyrifos, [c-2.11] chlorpyrifos-methyl, [c-2.12] coumaphos, [c-2.13] cyanophos, [ c-2.14] demeton-S-methyl, [c-2.15] diazinon, [c-2.16] dichlofenthion, [c-2.17] Dichlorvos, [c-2.18] dicrotophos, [c-2.19] dimethoate, [c-2.20] dimethylvinphos, [c-2.21] disulfoton, [c-2.22] O-ethyl O-4-nitrophenyl phenylphosphonothioate, [c-2.23] ethion, [ c-2.24] ethoprophos, [c-2.25] famphur, [c-2.26] fenamiphos, [c-2.27] fenitrothion, [c- 2.28] fenthion, [c-2.29] fosthiazate, [c-2.30] heptenophos, [c-2.31] isofenphos-methyl, [ c-2.32] Isocarbophos, [c-2.33] isoxathion, [c-2.34] malathion, [c-2.35] mecarbam, [c- 2.36] methamidophos, [c-2.37] methidathion, [c-2.38] mevinphos, [c-2.39] monocrotophos, [c-2 .40] naled, [c-2.41] omethoate, [c-2.42] oxydemeton-methyl, [c-2.43] parathions, [c -2.44] parathion-methyl, [c-2.45] phenthoate, [c-2.46] phorate, [c-2.47] phosalone, [c-2.48] phosmet, [c-2.49] phosphamidon, [c-2.50] phoxim, [c-2.51] pirimiphos-methyl ), [c-2.52] profenofos, [c-2.53] propetamphos, [c-2.54] prothiofos, [c-2.55] pyraclofos, [c-2.56] pyridaphenthion, [c-2.57] quinalphos, [c-2.58] sulfotep, [c-2.59] tebupirimfos, [c -2.60] temefos, [c-2.61] terbufos, [c-2.62] thiometon, [c-2.63] triazophos, [c-2 .64] trichlorfon, [c-2.65] vamidothion, [c-2.66] chlorothion, [c-2.67] bromfenvinfos, [c- 2.68]bromophos, [c-2.69]bromophos-ethyl, [c-2.70]butathiofos, [c-2.71]carbophenothion , [c-2.72] chlorphoxim, [c-2.73] sulprofos, [c-2.74] diamidafos, [c-2.75] tetrachlorvinphos ), [c-2.76] propaphos, [c-2.77] mesulfenfos, [c-2.78] dioxabenzofos, [c-2.79] etrimphos ( etrimfos), [c-2.80] oxydeprofos, [c-2.81] formothion, [c-2.82] fensulfothion, [c-2.83] isazophos ( isazofos), [c-2.84] imicyafos, [c-2.85] isamidofos, [c-2.86] thionazin, [c-2.87] fosthietan etc.

c-3:GABA作動性塩素イオンチャネルブロッカー
GABA作動性塩素イオンチャネルブロッカーとして、[c-3.1]クロルデン(chlordane)、[c-3.2]エンドスルファン(endosulfan)、[c-3.3]リンデン(lindane)、[c-3.4]ジエノクロル(dienochlor)、[c-3.5]エチプロール(ethiprole)、[c-3.6]フィプロニル(fipronil)、[c-3.7]アセトプロール(acetoprole)等が挙げられる。
c-3: GABAergic chloride channel blocker GABAergic chloride channel blockers include [c-3.1] chlordane, [c-3.2] endosulfan, [c-3.3 ] lindane, [c-3.4] dienochlor, [c-3.5] ethiprole, [c-3.6] fipronil, [c-3.7] aceto and acetoprole.

c-4:ナトリウムチャネルモジュレーター
ナトリウムチャネルモジュレーターとして、[c-4.1]アクリナトリン(acrinathrin)、[c-4.2]アレスリン[(1R)-アイソマー](allethrin[(1R)-isomer])、[c-4.3]ビフェントリン(bifenthrin)、[c-4.4]ビオアレスリン(bioallethrin)、[c-4.5]ビオアレスリン S-シクロペンテニル アイソマー(bioallethrin S-cyclopentenyl isomer)、[c-4.6]ビオレスメトリン(bioresmethrin)、[c-4.7]シクロプロトリン(cycloprothrin)、[c-4.8]シフルトリン(cyfluthrin)、[c-4.9]ベータ-シフルトリン(beta-cyfluthrin)、[c-4.10]シハロトリン(cyhalothrin)、[c-4.11]ガンマ-シハロトリン(gamma-cyhalothrin)、[c-4.12]ラムダ-シハロトリン(lambda-cyhalothrin)、[c-4.13]シペルメトリン(cypermethrin)、[c-4.14]アルファ-シペルメトリン(alpha-cypermethrin)、[c-4.15]ベータ-シペルメトリン(beta-cypermethrin)、[c-4.16]セタ-シペルメトリン(theta-cypermethrin)、[c-4.17]ゼダ-シペルメトリン(zeta-cypermethrin)、[c-4.18]シフェノトリン[(1R)-トランス-アイソマー](cyphenothrin[(1R)-trans-isomer])、[c-4.19]デルタメトリン(deltamethrin)、[c-4.20]エンペントリン[(EZ)-(1R)-アイソマー](empenthrin[(EZ)-(1R)-isomer])、[c-4.21]エスフェンバレレート(esfenvalerate)、[c-4.22]エトフェンプロックス(ethofenprox)、[c-4.23]フェンプロパトリン(fenpropathrin)、[c-4.24]フェンバレレート(fenvalerate)、[c-4.25]フルシトリネート(flucythrinate)、[c-4.26]フルメトリン(flumethrin)、[c-4.27]タウ-フルバリネート(tau-fluvalinate)、[c-4.28]ハルフェンプロックス(halfenprox)、[c-4.29]イミプロトリン(imiprothrin)、[c-4.30]メトトリン(methothrin)、[c-4.31]メトフルトリン(metofluthrin)、[c-4.32]イプシロン-メトフルトリン(epsilon-metofluthrin)、[c-4.33]モンフルオロトリン(momfluorothrin)、[c-4.34]イプシロン-モンフルオロトリン(epsilon-momfluorothrin)、[c-4.35]ペルメトリン(permethrin)、[c-4.36]フェノトリン[(1R)-トランス-アイソマー](phenothrin[(1R)-trans-isomer])、[c-4.37]プラレトリン(prallethrin)、[c-4.38]レスメトリン(resmethrin)、[c-4.39]カデトリン(kadethrin)、[c-4.40]シラフルオフェン(silafluofen)、[c-4.41]テフルトリン(tefluthrin)、[c-4.42]テトラメトリン(tetramethrin)、[c-4.43]テトラメトリン[(1R)-アイソマー](tetramethrin[(1R)-isomer])、[c-4.44]トラロメトリン(tralomethrin)、[c-4.45]トランスフルトリン(transfluthrin)、[c-4.46]ZXI8901(3-(4-bromophenoxy)phenyl]- cyanomethyl 4-(difluoromethoxy)-α- (1-methylethyl)benzeneacetate)、[c-4.47]バイオペルメトリン(biopermethrin)、[c-4.48]フラメトリン(furamethrin)、[c-4.49]プロフルトリン(profluthrin)、[c-4.50]フルブロシトリネート(flubrocythrinate)、[c-4.51]ジメフルトリン(dimefluthrin)、[c-4.52]DDT(dichloro-diphenyl-trichloroethane)、[c-4.53]メトキシクロル(methoxychlor)、[c-4.54]フェノトリン(phenothrin)、[c-4.55]フルバリネート(fluvalinate)等が挙げられる。
c-4: Sodium channel modulators Sodium channel modulators include [c-4.1] acrinathrin, [c-4.2] allethrin [(1R)-isomer] (allethrin [(1R)-isomer]), [c-4.3] bifenthrin, [c-4.4] bioallethrin, [c-4.5] bioallethrin S-cyclopentenyl isomer, [c- 4.6] bioresmethrin, [c-4.7] cycloprothrin, [c-4.8] cyfluthrin, [c-4.9] beta-cyfluthrin , [c-4.10] cyhalothrin, [c-4.11] gamma-cyhalothrin, [c-4.12] lambda-cyhalothrin, [c-4. 13] cypermethrin, [c-4.14] alpha-cypermethrin, [c-4.15] beta-cypermethrin, [c-4.16] ceta - cypermethrin (theta-cypermethrin), [c-4.17] zeda-cypermethrin (zeta-cypermethrin), [c-4.18] cyphenothrin [(1R)-trans-isomer] (cyphenothrin [(1R) -trans-isomer]), [c-4.19] deltamethrin, [c-4.20] empenthrin [(EZ)-(1R)-isomer] (empenthrin [(EZ)-(1R)-isomer ]), [c-4.21] esfenvalerate, [c-4.22] ethofenprox, [c-4.23] fenpropathrin, [c-4. 24] fenvalerate, [c-4.25] flucythrinate, [c-4.26] flumethrin, [c-4.27] tau-fluvalinate , [c-4.28] halfenprox, [c-4.29] imiprothrin, [c-4.30] methothrin, [c-4.31] metofluthrin , [c-4.32] epsilon-metofluthrin, [c-4.33] momfluorothrin, [c-4.34] epsilon-momfluorothrin, [ c-4.35] permethrin, [c-4.36] phenothrin [(1R)-trans-isomer] (phenothrin [(1R)-trans-isomer]), [c-4.37] prallethrin ( [c-4.38] resmethrin, [c-4.39] kadethrin, [c-4.40] silafluofen, [c-4.41] tefluthrin , [c-4.42] tetramethrin, [c-4.43] tetramethrin [(1R)-isomer] (tetramethrin [(1R)-isomer]), [c-4.44] tralomethrin , [c-4.45] transfluthrin, [c-4.46] ZXI8901 (3-(4-bromophenoxy)phenyl]-cyanomethyl 4-(difluoromethyl)-α-(1-methylethyl)benzeneacetate) , [c-4.47] biopermethrin, [c-4.48] furamethrin, [c-4.49] profluthrin, [c-4.50] flubrocitrinate ( flubrocythrinate), [c-4.51] dimefluthrin, [c-4.52] DDT (dichloro-diphenyl-trichloroethane), [c-4.53] methoxychlor, [c-4.54] phenothrin, [c-4.55] fluvalinate and the like.

c-5:ニコチン性アセチルコリン受容体(nAChR)競合的モジュレーター
ニコチン性アセチルコリン受容体(nAChR)競合的モジュレーターとして、[c-5.1]アセタミプリド(acetamiprid)、[c-5.2]クロチアニジン(clothianidin)、[c-5.3]ジノテフラン(dinotefuran)、[c-5.4]イミダクロプリド(imidacloprid)、[c-5.5]ニテンピラム(nitenpyram)、[c-5.6]チアクロプリド(thiacloprid)、[c-5.7]チアメトキサム(thiamethoxam)、[c-5.8]ニコチン(nicotine)、[c-5.9]硫酸ニコチン(nicotine sulfate)、[c-5.10]スルホキサフロル(sulfoxaflor)、[c-5.11]フルピラジフロン(flupyradifurone)、[c-5.12]トリフルメゾピリム(triflumezopyrim)等が挙げられる。
c-5: Nicotinic acetylcholine receptor (nAChR) competitive modulators As nicotinic acetylcholine receptor (nAChR) competitive modulators, [c-5.1] acetamiprid, [c-5.2] clothianidin ), [c-5.3] dinotefuran, [c-5.4] imidacloprid, [c-5.5] nitenpyram, [c-5.6] thiacloprid, [c-5.7] thiamethoxam, [c-5.8] nicotine, [c-5.9] nicotine sulfate, [c-5.10] sulfoxaflor, [c-5.11] flupyradifurone, [c-5.12] triflumezopyrim and the like.

c-6:ニコチン性アセチルコリン受容体(nAChR)アロステリックモジュレーター
ニコチン性アセチルコリン受容体(nAChR)アロステリックモジュレーターとして、[c-6.1]スピノサド(spinosad)、[c-6.2]スピネトラム(spinetoram)等が挙げられる。
c-6: Nicotinic acetylcholine receptor (nAChR) allosteric modulator Nicotinic acetylcholine receptor (nAChR) allosteric modulators such as [c-6.1] spinosad, [c-6.2] spinetoram is mentioned.

c-7:グルタミン酸作動性塩素イオンチャネル(GluCl) アロステリックモジュレーター
グルタミン酸作動性塩素イオンチャネル(GluCl)アロステリックモジュレーターとして、[c-7.1]アバメクチン(abamectin)、[c-7.2]エマメクチン安息香酸塩(emamectin benzoate)、[c-7.3]レピメクチン(lepimectin)、[c-7.4]ミルベメクチン(milbemectin)等が挙げられる。
c-7: Glutamatergic chloride channel (GluCl) allosteric modulators As glutamatergic chloride channel (GluCl) allosteric modulators, [c-7.1] abamectin, [c-7.2] emamectin benzoate salt (emamectin benzoate), [c-7.3] lepimectin, [c-7.4] milbemectin and the like.

c-8:幼若ホルモン類似剤
幼若ホルモン類似剤として、[c-8.1]ヒドロプレン(hydroprene)、[c-8.2]キノプレン(kinoprene)、[c-8.3]メトプレン(methoprene)、[c-8.4]フェノキシカルブ(fenoxycarb)、[c-8.5]ピリプロキシフェン(pyriproxyfen)等が挙げられる。
c-8: Juvenile hormone-like agents Juvenile hormone-like agents include [c-8.1] hydroprene, [c-8.2] kinoprene, [c-8.3] methoprene ), [c-8.4]fenoxycarb, [c-8.5]pyriproxyfen and the like.

c-9:非特異的(マルチサイト)阻害剤
非特異的(マルチサイト)阻害剤として、[c-9.1]臭化メチル(methyl bromide)、[c-9.2]クロルピクリン(chloropicrin)、[c-9.3]クリオライト(cryolite)、[c-9.4]フッ化スルフリル(sulfuryl fluoride)、[c-9.5]ホウ砂(borax)、[c-9.6]ホウ酸(boric acid)、[c-9.7]オクタホウ酸ニナトリウム塩(disodium octaborate)、[c-9.8]メタホウ酸ナトリウム塩(sodium metaborate)[c-9.9]吐酒石(tartar emetic)、[c-9.10]ダゾメット(dazomet)、[c-9.11]メタム(metam)、[c-9.12]カーバムナトリウム塩(metham sodium)等が挙げられる。
c-9: Non-specific (multi-site) inhibitor Non-specific (multi-site) inhibitors include [c-9.1] methyl bromide, [c-9.2] chloropicrin , [c-9.3] cryolite, [c-9.4] sulfuryl fluoride, [c-9.5] borax, [c-9.6] boron Boric acid, [c-9.7] disodium octaborate, [c-9.8] sodium metaborate [c-9.9] tartar emetic), [c-9.10] dazomet, [c-9.11] metam, [c-9.12] carbam sodium and the like.

c-10:弦音器官TRPVチャネルモジュレーター
弦音器官TRPVチャネルモジュレーターとして、[c-10.1]ピメトロジン(pymetrozine)、[c-10.2]ピリフルキナゾン(pyrifluquinazon)等が挙げられる。
c-10: Chordone TRPV Channel Modulator Chordone TRPV channel modulators include [c-10.1] pymetrozine, [c-10.2] pyrifluquinazon and the like.

c-11:ダニ類成長阻害剤
ダニ類成長阻害剤として、[c-11.1]クロフェンテジン(clofentezine)、[c-11.2]ジフロビダジン(diflovidazin)、[c-11.3]ヘキシチアゾクス(hexythiazox)、[c-11.4]エトキサゾール(etoxazole)等が挙げられる。
c-11: Mites Growth Inhibitors As mites growth inhibitors, [c-11.1] clofentezine, [c-11.2] diflovidazin, [c-11.3] hexythiazox (hexythiazox), [c-11.4] etoxazole and the like.

c-12:ミトコンドリアATP合成酵素阻害剤
ミトコンドリアATP合成酵素阻害剤として、[c-12.1]ジアフェンチウロン(diafenthiuron)、[c-12.2]アゾシクロチン(azocyclotin)、[c-12.3]シヘキサチン(cyhexatin)、[c-12.4]フェンブタチンオキシド(fenbutatin oxide)、「c-12.5」プロパルギット(propargite)、「c-12.6」テトラジホン(tetradifon)等が挙げられる。
c-12: Mitochondrial ATP synthase inhibitor As mitochondrial ATP synthase inhibitors, [c-12.1] diafenthiuron, [c-12.2] azocyclotin, [c-12. 3] cyhexatin, [c-12.4] fenbutatin oxide, “c-12.5” propargite, “c-12.6” tetradifon and the like .

c-13:プロトン勾配を撹乱する酸化的リン酸化脱共役剤
プロトン勾配を撹乱する酸化的リン酸化脱共役剤として、[c-13.1]クロルフェナピル(chlorfenapyl)、[c-13.2]DNOC(dinitro-ortho-cresol)、[c-13.3]ビナパクリル(binapacryl)、[c-13.4]スルフルラミド(sulfluramid)等が挙げられる。
c-13: Oxidative phosphorylation uncoupling agent that disrupts the proton gradient As oxidative phosphorylation uncoupling agents that disrupt the proton gradient, [c-13.1] chlorfenapyl, [c-13.2] DNOC (dinitro-ortho-cresol), [c-13.3] binapacryl, [c-13.4] sulfluramid and the like.

c-14:ニコチン性アセチルコリン受容体(nAChR)チャネルブロッカー
ニコチン性アセチルコリン受容体(nAChR)チャネルブロッカーとして、[c-14.1]ベンスルタップ(bensultap)、[c-14.2]カルタップ塩酸塩(cartap hydrochloride)、[c-14.3]チオシクラム(thiocyclam)、[c-14.4]モノスルタップ(monosultap)等が挙げられる。
c-14: Nicotinic acetylcholine receptor (nAChR) channel blocker As nicotinic acetylcholine receptor (nAChR) channel blockers, [c-14.1] bensultap, [c-14.2] cartap hydrochloride hydrochloride), [c-14.3] thiocyclam, [c-14.4] monosultap and the like.

c-15:キチン生合成阻害剤タイプ0
キチン生合成阻害剤タイプ0として、[c-15.1]ビストリフルロン(bistrifluron)、[c-15.2]クロルフルアズロン(chlorfluazuron)、[c-15.3]ジフルベンズロン(diflubenzuron)、[c-15.4]フルシクロクスロン(flucycloxuron)、[c-15.5]フルフェノクスロン(flufenoxuron)、[c-15.6]ヘキサフルムロン(hexaflumuron)、[c-15.7]ルフェヌロン(lufenuron)、[c-15.8]ノバルロン(novaluron)、[c-15.9]ノビフルムロン(noviflumuron)、[c-15.10]テフルベンズロン(teflubenzuron)、[c-15.11]トリフルムロン(triflumuron)等が挙げられる。
c-15: chitin biosynthesis inhibitor type 0
As chitin biosynthesis inhibitor type 0, [c-15.1] bistrifluron, [c-15.2] chlorfluazuron, [c-15.3] diflubenzuron, [c-15.4] flucycloxuron, [c-15.5] flufenoxuron, [c-15.6] hexaflumuron, [c-15.7] lufenuron, [c-15.8] novaluron, [c-15.9] noviflumuron, [c-15.10] teflubenzuron, [c-15.11] triflumuron ( triflumuron) and the like.

c-16:キチン生合成阻害剤タイプ1
キチン生合成阻害剤タイプ1として、[c-16.1]ブプロフェジン(buprofezin)等が挙げられる。
c-16: chitin biosynthesis inhibitor type 1
Chitin biosynthesis inhibitor type 1 includes [c-16.1] buprofezin and the like.

c-17:ハエ目昆虫脱皮阻害剤
ハエ目昆虫脱皮阻害剤として、[c-17.1]シロマジン(cyromazine)等が挙げられる。
c-17: Moulting Inhibitor of Diptera Insect Moulting inhibitor of Diptera includes [c-17.1] cyromazine and the like.

c-18:脱皮ホルモン(エクダイソン)受容体アゴニスト
脱皮ホルモン(エクダイソン)受容体アゴニストとして、[c-18.1]クロマフェノジド(chromafenozide)、[c-18.2]ハロフェノジド(halofenozide)、[c-18.3]メトキシフェノジド(methoxyfenozide)、[c-18.4]テブフェノジド(tebufenozide)等が挙げられる。
c-18: molting hormone (ecdysone) receptor agonists [c-18.1] chromafenozide, [c-18.2] halofenozide, [c-18] as molting hormone (ecdysone) receptor agonists .3] methoxyfenozide, [c-18.4] tebufenozide and the like.

c-19:オクトパミン受容体アゴニスト
オクトパミン受容体アゴニストとして、[c-19.1]アミトラズ(amitraz)等が挙げられる。
c-19: Octopamine Receptor Agonists Examples of octopamine receptor agonists include [c-19.1] amitraz and the like.

c-20:ミトコンドリア電子伝達系複合体III阻害剤
ミトコンドリア電子伝達系複合体III阻害剤として、[c-20.1]ヒドラメチルノン(hydramethylnon)、[c-20.2]アセキノシル(acequinocyl)、[c-20.3]フルアクリピリム(fluacrypyrim)、[c-20.4]ビフェナゼート(bifenazate)等が挙げられる。
c-20: Mitochondrial Electron Transport System Complex III Inhibitors As mitochondrial electron transport system complex III inhibitors, [c-20.1] hydramethylnon, [c-20.2] acequinocyl, [c-20.3] fluacrypyrim, [c-20.4] bifenazate and the like.

c-21:ミトコンドリア電子伝達系複合体I阻害剤(METI)
ミトコンドリア電子伝達系複合体I阻害剤(METI)として、[c-21.1]フェナザキン(fenazaquin)、[c-21.2]フェンピロキシメート(fenpyroximate)、[c-21.3]ピリダベン(pyridaben)、[c-21.4]ピリミジフェン(pylimidifen)、[c-21.5]テブフェンピラド(tebufenpyrad)、[c-21.6]トルフェンピラド(tolfenpyrad)、[c-21.7]ロテノン(rotenone)等が挙げられる。
c-21: mitochondrial electron transport chain complex I inhibitor (METI)
As mitochondrial electron transport chain complex I inhibitors (METI), [c-21.1] fenazaquin, [c-21.2] fenpyroximate, [c-21.3] pyridaben, [c-21.4] pyrimidifen, [c-21.5] tebufenpyrad, [c-21.6] tolfenpyrad, [c-21.7] rotenone and the like be done.

c-22:電位依存性ナトリウムチャネルブロッカー
電位依存性ナトリウムチャネルブロッカーとして、[c-22.1]インドキサカルブ(indoxacarb)、[c-22.2]メタフルミゾン(metaflumizone)等が挙げられる。
c-22: Voltage-gated sodium channel blockers Voltage-gated sodium channel blockers include [c-22.1] indoxacarb, [c-22.2] metaflumizone and the like.

c-23:アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤
アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤として、[c-23.1]スピロジクロフェン(spirodiclofen)、[c-23.2]スピロメシフェン(spiromesifen)、[c-23.3]スピロテトラマト(spirotetramat)等が挙げられる。
c-23: Acetyl-CoA carboxylase inhibitors As acetyl-CoA carboxylase inhibitors, [c-23.1] spirodiclofen, [c-23.2] spiromesifen, [c-23.3 ] and spirotetramat.

c-24:ミトコンドリア電子伝達系複合体IV阻害剤
ミトコンドリア電子伝達系複合体IV阻害剤として、[c-24.1]リン化アルミニウム(aluminum phosphide)、[c-24.2]リン化カルシウム(calcium phosphide)、[c-24.3]リン化水素(phosphine)、[c-24.4]リン化亜鉛(zinc phosphide)、[c-24.5]シアン化カルシウム(calcium cyanide)、[c-24.6]シアン化ナトリウム(potassium cyanide)、[c-24.7]シアン化カリウム(sodium cyanide)等が挙げられる。
c-24: Mitochondrial electron transport system complex IV inhibitor Mitochondrial electron transport system complex IV inhibitors include [c-24.1] aluminum phosphide, [c-24.2] calcium phosphide ( calcium phosphide), [c-24.3] phosphine, [c-24.4] zinc phosphide, [c-24.5] calcium cyanide, [c -24.6] sodium cyanide, [c-24.7] sodium cyanide and the like.

c-25:ミトコンドリア電子伝達系複合体II阻害剤
ミトコンドリア電子伝達系複合体II阻害剤として、[c-25.1]シエノピラフェン(cyenopyrafen)、[c-25.2]シフルメトフェン(cyflumetofen)、[c-25.3]ピフルブミド(pyflubumide)等が挙げられる。
c-25: Mitochondrial electron transport system complex II inhibitor Mitochondrial electron transport system complex II inhibitors include [c-25.1] cyenopyrafen, [c-25.2] cyflumetofen, [c -25.3] pyflubumide and the like.

c-26:リアノジン受容体モジュレーター
リアノジン受容体モジュレーターとして、[c-26.1]クロラントラニリプロール(chlorantraniliprole)、[c-26.2]シアントラニリプロール(cyantraniliprole)、[c-26.3]フルベンジアミド(flubendiamide)等が挙げられる。
c-26: ryanodine receptor modulators As ryanodine receptor modulators, [c-26.1] chlorantraniliprole, [c-26.2] cyantraniliprole, [c-26. 3] Flubendiamide and the like.

c-27:標的部位未特定の弦音器官モジュレーター
標的部位未特定の弦音器官モジュレーターとして、[c-27.1]フロニカミド(flonicamid)等が挙げられる。
c-27: Unspecified target-site chordotonal organ modulator Examples of target-site-unspecified chordotonal organ modulators include [c-27.1] flonicamid and the like.

c-28:その他の殺虫剤
その他の殺虫剤として、[c-28.1]アザジラクチン(azadirachtin)、[c-28.2]ベンゾキシメート(benzoximate)、[c-28.3]フェニソブロモレート(phenisobromolate)、[c-28.4]キノメチオナート(chinomethionat)、[c-28.5]ジコホル(dicofol)、[c-28.6]ピリダリル(pyridalyl)、[c-28.7]ブロモプロピレート(bromopropylate)、[c-28.8]トリアザメート(triazamate)、[c-28.9]ジシクラニル(dicyclanil)、[c-28.10]ジノブトン(dinobuton)、[c-28.11]ジノカップ(dinocap)、[c-28.12]シアン化水素(hydrogen cyanide)、[c-28.13]ヨウ化メチル(methyl iodide)、[c-28.14]カランジン(karanjin)、[c-28.15]塩化水銀(mercury chloride)、[c-28.16]メチルイソチオシアネート(methyl isothiocyanate)、[c-28.17]ペンタクロロフェノール(pentachlorophenol)、[c-28.18]ホスフィン(phosphine)、[c-28.19]ピペロニル ブトキシド(piperonyl butoxide)、[c-28.20]ポリナクチン複合体(polynactins)、[c-28.21]サバディラ(sabadilla)、[c-28.22]スルコフロン塩(スルコフロン-ナトリウム(sulcofuron-sodium))、[c-28.23]トリブホス(tribufos)、[c-28.24]アルドリン(aldrin)、[c-28.25]アミジチオオン(amidithion)、[c-28.26]アミドチオエート(amidothioate)、[c-28.27]アミノカルブ(aminocarb)、[c-28.28]アミトン(amiton)、[c-28.29]アラマイト(aramite)、[c-28.30]アチダチオン(athidathion)、[c-28.31]アゾトエート(azothoate)、[c-28.32]ポリスルフィドバリウム(barium polysulphide)、[c-28.33]ベンクロチアズ(benclothiaz)、[c-28.34]5-(1,3-ベンゾジオキソール-5-イル)-3-ヘキシルシクロヘキサ-2-エノン(5-(1,3-benzodioxole-5-yl)-3-hexylcyclohexa-2-enone)、[c-28.35]1,1-ビス(4-クロロフェニル)-2-エトキシエタノール(1,1-bis(4-chlorophenyl)-2-ethoxyethanol)、[c-28.36]ブトネート(butonate)、[c-28.37]ブトピロノキシル(butopyronoxyl)、[c-28.38]2-(2-ブトキシエトキシ)エチル チオシアナート(2-(2-butoxyethoxy)ethyl thiocyanate)、[c-28.39]カンフェクロル(camphechlor)、[c-28.40]クロルベンシド(chlorbenside)、[c-28.41]クロルデコン(chlordecone)、[c-28.42]クロルジメホルム(chlordimeform)、[c-28.43]クロルフェネトール(chlorfenethol)、[c-28.44]クロルフェンソン(chlorfenson)、[c-28.45]フルアズロン(fluazuron)、[c-28.46]メタアルデヒド(metaldehyde)、[c-28.47]ビアラホス(bialaphos)、[c-28.48]塩酸レバミゾール(levamisol)、[c-28.49]アミドフルメト(amidoflumet)、[c-28.50]ピラフルプロール(pyrafluprole)、[c-28.51]ピリプロール(pyriprole)、[c-28.52]トラロピリル(tralopyril)、[c-28.53]フルピラゾフォス(flupyrazofos)、[c-28.54]ジオフェノラン(diofenolan)、[c-28.55]クロルベンジレート(chlorobenzilate)、[c-28.56]フルフェンジン(flufenzine)、[c-28.57]ベンゾメート(benzomate)、[c-28.58]フルフェネリム(flufenerim)、[c-28.59]アルベンダゾール(albendazole)、[c-28.60]オキシベンダゾール(oxibendazole)、[c-28.61]フェンベンダゾール(fenbendazole)、[c-28.62]メタム・ナトリウム(metam-sodium)、[c-28.63]1,3-ジクロロプロペン(1,3-dichloropropene)、[c-28.64]フロメトキン(flometoquin)、[c-28.65]シクラニリプロール(cyclaniliprole)、[c-28.66]テトラニリプロール(tetraniliprole)、[c-28.67]ブロフラニリド(broflanilide)、[c-28.68]ジクロロメゾチアズ(dicloromezotiaz)、[c-28.69]エチレンジブロマイド(ethylene dibromide)、[c-28.70]アクリロニトリル(acrylonitrile)、[c-28.71]ビス(2-クロロエチル)エーテル(bis(2-chloroethyl)ether)、[c-28.72]1-ブロモ-2-クロロエタン(1-bromo-2-chloroethane)、[c-28.73]3-ブロモ-1-クロロプロパ-1-エン(3-bromo-1-chloroprop-1-ene)、[c-28.74]ブロモシクレン(bromocyclen)、[c-28.75]二硫化炭素(carbon disulfide)、[c-28.76]四塩化炭素(tetrachloromethane)、[c-28.77]ネマデクチン(nemadectin)、[c-28.78]シミアゾール(cymiazole)[c-28.79]カルシウム ポリスルフィド(calcium polysulfide)、[c-28.80]サイトカイニン(cytokinin)、[c-28.81]2-(オクチルチオ)エタノール、[c-28.82]オレイン酸カリウム(potassium oleate)、[c-28.83]オレイン酸ナトリウム(sodium oleate)、[c-28.84]マシン油(machine oil)、[c-28.85]タール油(tar oil)、[c-28.86]アナバシン(anabasine)、[c-28.87]酒石酸モランテル(morantel tartrate)、[c-28.88]除虫菊(ピレトリン(pyrethrum))、[c-28.89]ナタネ油(rape seed oil)、[c-28.90]ダイズレチシン(soybean lecithin)、[c-28.91]デンプン(starch)、[c-28.92]ヒドロキシプロピルデンプン(hydroxypropylstarch)、[c-28.93]脂肪酸グリセリド(decanoyloctanoylglycerol)、[c-28.94]プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル(propylene glycol fatty acid ester)、[c-28.95]ケイソウ土(diatomite)、[c-28.96]アフォキソラネル(afoxolaner)、[c-28.97]フルアザインドリジン(fluazaindolizine)、[c-28.98]アフィドピロペン(afidopyropen)、[c-28.99]シハロジアミド(cyhalodiamide)、[c-28.100]チオキサザフェン(tioxazafen)、[c-28.101]フルヘキサフォン(fluhexafon)、[c-28.102]フルララネル(fluralaner)、[c-28.103]フルキサメタミド(fluxametamide)、[c-28.104]テトラクロラントラニリプロール(tetrachlorantraniliprole)、[c-28.105]サロラネル(sarolaner)、[c-28.106]ロチラネル(lotilaner)、[c-28.107]シクロキサプリド(cycloxaprid)、[c-28.108]フルエンスルホン(fluensulfone)、[c-28.109]TPIC(tripropyl isocyanurate)、[c-28.110]D-D(1,3-Dichloropropene)、[c-28.111]ペルオキソカルボナート(peroxocarbonate)、[c-28.112]MB-599(verbutin)、[c-28.113]ビス(2,3,3,3-テトラクロロプロピル)エーテル(bis(2,3,3,3-tetrachloropropyl) ether)、[c-28.114]DCIP(bis(2-chloro-1-methylethyl)ether)、[c-28.115]ENT-8184(N-(2-Ethylhexyl)bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2,3-dicarboximide)、[c-28.116]Bayer 22408(O,O-diethyl O-naphthalimido phosphorothioate)、[c-28.117]Bayer 32394(tris(1-dodecyl-3-methyl-2-phenylbenzimidazolium)hexacyanoferrate)、
c-28: Other insecticides Other insecticides such as [c-28.1] azadirachtin, [c-28.2] benzoximate, [c-28.3] phenisobromo phenisobromolate, [c-28.4]chinomethionat, [c-28.5]dicofol, [c-28.6]pyridalyl, [c-28.7]bromopropoxy bromopropylate, [c-28.8] triazamate, [c-28.9] dicyclanil, [c-28.10] dinobuton, [c-28.11] dinocap ( dinocap), [c-28.12] hydrogen cyanide, [c-28.13] methyl iodide, [c-28.14] karanjin, [c-28.15] mercury chloride, [c-28.16] methyl isothiocyanate, [c-28.17] pentachlorophenol, [c-28.18] phosphine, [c -28.19] piperonyl butoxide, [c-28.20] polynactin complexes (polynactins), [c-28.21] sabadilla, [c-28.22] sulcofuron salts (sulcofuron- sodium (sulcofuron-sodium), [c-28.23] tribufos, [c-28.24] aldrin, [c-28.25] amidithion, [c-28.26 ] Amidothioate, [c-28.27] aminocarb, [c-28.28] amiton, [c-28.29] aramite, [c-28.30 ] athidathion, [c-28.31] azothoate, [c-28.32] barium polysulfide, [c-28.33] benclothiaz, [c-28.34 ] 5-(1,3-benzodioxol-5-yl)-3-hexylcyclohex-2-enone (5-(1,3-benzodioxole-5-yl)-3-hexylcyclohexa-2-enone) , [c-28.35] 1,1-bis(4-chlorophenyl)-2-ethoxyethanol (1,1-bis(4-chlorophenyl)-2-ethoxyethanol), [c-28.36] butonate ), [c-28.37] butopyronoxyl, [c-28.38] 2-(2-butoxyethoxy)ethyl thiocyanate, [c-28.39] camphechlor, [c-28.40] chlorbenside, [c-28.41] chlordecone, [c-28.42] chlordimeform, [c-28.43] chlorfene chlorfenethol, [c-28.44] chlorfenson, [c-28.45] fluazuron, [c-28.46] metaldehyde, [c-28.47 ] bialaphos, [c-28.48] levamisol hydrochloride, [c-28.49] amidoflumet, [c-28.50] pyrafluprole, [c-28. 51] pyriprole, [c-28.52] tralopyril, [c-28.53] flupyrazofos, [c-28.54] diofenolan, [c-28.55] Chlorobenzilate, [c-28.56] flufenzine, [c-28.57] benzomate, [c-28.58] flufenerim, [c-28.59] albendazole, [c-28.60] oxybendazole, [c-28.61] fenbendazole, [c-28.62] metam-sodium, [c-28.63] 1,3-dichloropropene, [c-28.64] flometoquin, [c-28.65] cyclaniliprole, [c -28.66] tetraniliprole, [c-28.67] broflanilide, [c-28.68] dichloromezotiaz, [c-28.69] ethylene dibromide ( ethylene dibromide), [c-28.70] acrylonitrile, [c-28.71] bis(2-chloroethyl) ether, [c-28.72] 1-bromo -2-chloroethane (1-bromo-2-chloroethane), [c-28.73] 3-bromo-1-chloroprop-1-ene (3-bromo-1-chloroprop-1-ene), [c-28 .74] bromocyclen, [c-28.75] carbon disulfide, [c-28.76] tetrachloromethane, [c-28.77] nemadectin, [ c-28.78] cymiazole [c-28.79] calcium polysulfide, [c-28.80] cytokinin, [c-28.81] 2-(octylthio)ethanol, [c-28.82] potassium oleate, [c-28.83] sodium oleate, [c-28.84] machine oil, [c-28.85 ] tar oil, [c-28.86] anabasine, [c-28.87] morantel tartrate, [c-28.88] pyrethrum, [ c-28.89] rape seed oil, [c-28.90] soybean lecithin, [c-28.91] starch, [c-28.92] hydroxypropyl starch ( hydroxypropylstarch), [c-28.93] fatty acid glyceride (decanoyloctanoylglycerol), [c-28.94] propylene glycol fatty acid ester, [c-28.95] diatomite, [ c-28.96] afoxolaner, [c-28.97] fluazaindolizine, [c-28.98] afidopyropene, [c-28.99] cyhalodiamide, [c-28.100] tioxazafen, [c-28.101] fluhexafon, [c-28.102] fluralaner, [c-28.103] fluxametamide, [c-28.104] tetrachlorantraniliprole, [c-28.105] sarolaner, [c-28.106] lotilaner, [c-28.107] cycloxapride ( cycloxaprid), [c-28.108] fluensulfone, [c-28.109] TPIC (tripropyl isocyanurate), [c-28.110] DD (1,3-Dichloropropene), [c- 28.111] peroxocarbonate, [c-28.112] MB-599 (verbutin), [c-28.113] bis(2,3,3,3-tetrachloropropyl) ether (bis( 2,3,3,3-tetrachloropropyl) ether), [c-28.114] DCIP (bis(2-chloro-1-methylethyl) ether), [c-28.115] ENT-8184 (N-(2 -Ethylhexyl)bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2,3-dicarboximide), [c-28.116] Bayer 22408 (O,O-diethyl O-naphthalimido phosphorothioate), [c-28. 117] Bayer 32394 (tris(1-dodecyl-3-methyl-2-phenylbenzomidazolium) hexacyanoferrate),

[c-28.118]式(s34)

Figure 0007328222000106

で表される化合物(国際公開第10/051926号参照)、[c-28.118] formula (s34)
Figure 0007328222000106

A compound represented by (see WO 10/051926),

[c-28.119]式(s35)

Figure 0007328222000107

で表される化合物(国際公開第13/115391号参照)、[c-28.119] formula (s35)
Figure 0007328222000107

A compound represented by (see WO 13/115391),

[c-28.120]式(s36)

Figure 0007328222000108

で表される化合物(国際公開第12/029672号参照)、[c-28.120] formula (s36)
Figure 0007328222000108

A compound represented by (see WO 12/029672),

[c-28.121]式(s37)

Figure 0007328222000109

で表される化合物(国際公開第06/056108号参照)、[c-28.121] formula (s37)
Figure 0007328222000109

A compound represented by (see WO 06/056108),

[c-28.122]式(s38)

Figure 0007328222000110

で表される化合物(国際公開第14/053450号、国際特許第15/144683号参照)、[c-28.122] formula (s38)
Figure 0007328222000110

(see International Publication No. 14/053450, International Patent No. 15/144683),

[c-28.123]式(s39)

Figure 0007328222000111

で表される化合物(国際公開第14/053450号、国際特許第15/144683号参照)、[c-28.123] formula (s39)
Figure 0007328222000111

(see International Publication No. 14/053450, International Patent No. 15/144683),

[c-28.124]式(s40)

Figure 0007328222000112

で表される化合物(国際公開第14/053450号、国際特許第15/144683号参照)、[c-28.124] formula (s40)
Figure 0007328222000112

(see International Publication No. 14/053450, International Patent No. 15/144683),

[c-28.125]式(s41)

Figure 0007328222000113

[式中、m6は、0~2の整数を表す。]で表される化合物(国際公開第10/129497号参照)、[c-28.125] formula (s41)
Figure 0007328222000113

[In the formula, m6 represents an integer of 0 to 2. ] (see WO 10/129497),

[c-28.126]式(s42)

Figure 0007328222000114

[式中、m7は、0~2の整数を表す。]で表される化合物(国際公開第11/152320号参照)、[c-28.126] formula (s42)
Figure 0007328222000114

[In the formula, m7 represents an integer of 0 to 2. ] (see WO 11/152320),

[c-28.127]式(s43)

Figure 0007328222000115

[式中、m8は、0~2の整数を表す。]で表される化合物(特開平27―160813号公報参照)、[c-28.127] formula (s43)
Figure 0007328222000115

[In the formula, m8 represents an integer of 0 to 2. ] (see JP-A-27-160813),

[c-28.128]式(s44)

Figure 0007328222000116

[式中、A52は、水素原子、またはフッ素原子を表す。]で表される化合物(国際公開第11/134964号、国際特許第14/005982号参照)、[c-28.128] formula (s44)
Figure 0007328222000116

[In the formula, A52 represents a hydrogen atom or a fluorine atom. ] (see International Publication No. 11/134964, International Patent No. 14/005982),

[c-28.129]式(s45)

Figure 0007328222000117

[式中、m9は、0~2の整数を表し、A53は、フッ素原子、または塩素原子を表す。]で表される化合物(国際公開第15/025826号参照)、[c-28.129] formula (s45)
Figure 0007328222000117

[In the formula, m9 represents an integer of 0 to 2, and A53 represents a fluorine atom or a chlorine atom. ] (see WO 15/025826),

[c-28.130]式(s46)

Figure 0007328222000118

[式中、V3は、窒素原子、炭素原子、またはC-Fを表し、V4およびV5は、それぞれ独立していて、窒素原子、または炭素原子を表す。]で表される化合物(国際公開第11/134964号、国際公開第14/005982号参照)、[c-28.130] formula (s46)
Figure 0007328222000118

[In the formula, V3 represents a nitrogen atom, a carbon atom, or CF, and V4 and V5 each independently represent a nitrogen atom or a carbon atom. ] (see WO 11/134964, WO 14/005982),

[c-28.131]式(s47)

Figure 0007328222000119

[式中、A54は、水素原子、メチル基、メトキシ基、またはエトキシ基を表し、A55は、塩素原子、またはメチル基を表し、A56は、メチル基、またはエチル基を表す。]で表される化合物(国際公開第09/049851号参照)、[c-28.131] formula (s47)
Figure 0007328222000119

[In the formula, A54 represents a hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group or an ethoxy group, A55 represents a chlorine atom or a methyl group, and A56 represents a methyl group or an ethyl group. ] (see WO 09/049851),

[c-28.132]式(s48)

Figure 0007328222000120

[式中、A57は、水素原子、フッ素原子、または塩素原子を表し、A58は、
Figure 0007328222000121

からなる群から選択される1種の部分構造を表す。]で表される化合物(国際公開第11/067272号参照)、[c-28.132] formula (s48)
Figure 0007328222000120

[In the formula, A57 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or a chlorine atom, and A58 is
Figure 0007328222000121

represents one partial structure selected from the group consisting of ] (see WO 11/067272),

[c-28.133]式(s49)

Figure 0007328222000122

[式中、A59は、水素原子、フッ素原子、または塩素原子を表し、A60は、
Figure 0007328222000123

からなる群から選択される部分構造を表す。]で表される化合物(国際公開第10/090344号参照)、[c-28.133] formula (s49)
Figure 0007328222000122

[Wherein, A59 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or a chlorine atom, and A60 is
Figure 0007328222000123

represents a partial structure selected from the group consisting of ] (see WO 10/090344),

[c-28.134]式(s50)

Figure 0007328222000124

[式中、m10は、0~2の整数を表し、A61は、トリフルオロメチル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルスルフィニル基、またはトリフルオロメチルスルホニル基を表し、A62は、水素原子、またはトリフルオロメチル基を表し、V6は、窒素原子、または炭素原子を表し、V7は、酸素原子、またはN-メチル基を表す。]で表される化合物(国際公開第14/104407号参照)、[c-28.134] formula (s50)
Figure 0007328222000124

[Wherein, m10 represents an integer of 0 to 2, A61 represents a trifluoromethyl group, a trifluoromethylthio group, a trifluoromethylsulfinyl group, or a trifluoromethylsulfonyl group, A62 represents a hydrogen atom, or represents a trifluoromethyl group, V6 represents a nitrogen atom or a carbon atom, and V7 represents an oxygen atom or an N-methyl group. ] (see WO 14/104407),

[c-28.135]式(s51)

Figure 0007328222000125

[式中、A63は、水素原子、またはフッ素原子を表し、アミド基は4位、または5位に結合し、A64は、
Figure 0007328222000126

からなる群から選択される部分構造を表す。]で表される化合物(国際公開第15/038503号、国際特許第16/144351号、国際特許第16/144678号参照)、[c-28.135] formula (s51)
Figure 0007328222000125

[Wherein, A63 represents a hydrogen atom or a fluorine atom, an amide group is bonded to the 4th or 5th position, and A64 is
Figure 0007328222000126

represents a partial structure selected from the group consisting of ] (see International Publication No. 15/038503, International Patent No. 16/144351, International Patent No. 16/144678),

[c-28.136]式(s52)

Figure 0007328222000127

[式中、A65は、水素原子、C1~C6のアルキル基、またはC1~C6のハロアルキル基を表し、A66は、水素原子、ハロゲン原子、またはC1~C6のアルキル基を表し、A67およびA68は、それぞれ独立していて、水素原子、シアノ基で適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、メトキシ基で適宜置換されてもよいアルキル基、エトキシ基で適宜置換されてもよいアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表し、
A69は、水素原子、シアノ基、シアノ基で適宜置換されてもよいC1~C6のハロアルキル基、C1~C6のアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表す。]で表される化合物(国際公開第12/143317号、国際特許第16/016369号参照)、[c-28.136] formula (s52)
Figure 0007328222000127

[In the formula, A65 represents a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, or a C1-C6 haloalkyl group, A66 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a C1-C6 alkyl group, and A67 and A68 are , which are each independently a hydrogen atom, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a cyano group, an alkyl group optionally substituted with a methoxy group, an alkyl group optionally substituted with an ethoxy group, or represents a C3-C8 cycloalkyl group,
A69 represents a hydrogen atom, a cyano group, a C1-C6 haloalkyl group optionally substituted with a cyano group, a C1-C6 alkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group. ] (see International Publication No. 12/143317, International Patent No. 16/016369),

[c-28.137]式(s53)または式(s54)

Figure 0007328222000128

[式中、A70は、メチル基、エチル基、イソプロピル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、またはフェニル基を表し、A71は、
Figure 0007328222000129

からなる群から選択される部分構造を表し、A72は、
Figure 0007328222000130

からなる群から選択される部分構造を表し、V8は、酸素原子、硫黄原子、-CH-、または-CHCH-を表す。]で表される化合物(国際公開第14/167084号、国際特許第16/055431号参照)、[c-28.137] formula (s53) or formula (s54)
Figure 0007328222000128

[Wherein, A70 represents a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, or a phenyl group;
Figure 0007328222000129

A72 represents a partial structure selected from the group consisting of
Figure 0007328222000130

represents a partial structure selected from the group consisting of V8 represents an oxygen atom, a sulfur atom, —CH 2 —, or —CH 2 CH 2 —. ] (see International Publication No. 14/167084, International Patent No. 16/055431),

[c-28.138]式(s55)

Figure 0007328222000131

[式中、m11は、0~1の整数を表し、A73は、塩素原子、臭素原子、メチル基、またはトリフルオロメチル基を表し、A74は、水素原子、塩素原子、臭素原子、シアノ基、またはトリフルオロメチル基表し、A75は、水素原子、塩素原子または臭素原子を表し、A76およびA77は、それぞれ独立していて、C1~C6のアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表し、A78は、塩素原子、臭素原子、シアノ基、ニトロ基、ジフルオロメチル基、またはトリフルオロメチル基を表す。]で表される化合物(国際公開第13/024009号参照)、[c-28.138] formula (s55)
Figure 0007328222000131

[Wherein, m11 represents an integer of 0 to 1, A73 represents a chlorine atom, a bromine atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group, A74 represents a hydrogen atom, a chlorine atom, a bromine atom, a cyano group, or represents a trifluoromethyl group, A75 represents a hydrogen atom, a chlorine atom or a bromine atom, A76 and A77 each independently represent a C1-C6 alkyl group or a C3-C8 cycloalkyl group, A78 represents a chlorine atom, a bromine atom, a cyano group, a nitro group, a difluoromethyl group, or a trifluoromethyl group. ] (see WO 13/024009),

[c-28.139]式(s56)

Figure 0007328222000132

[式中、A79、A80、A81およびA82は、それぞれ独立していて、水素原子、ハロゲン原子、C1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、またはC3~C8のシクロアルコキシ基を表す。]で表される化合物(国際公開第12/027521号参照)、[c-28.139] formula (s56)
Figure 0007328222000132

[wherein A79, A80, A81 and A82 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, or a C3-C8 represents a cycloalkoxy group. ] (see WO 12/027521),

[c-28.140]式(s57)

Figure 0007328222000133

[式中、m12は、0~2の整数を表し、A83は、水素原子、またはフッ素原子を表し、A84は、
Figure 0007328222000134

からなる群から選択される部分構造を表す。]で表される化合物(国際公開第13/162715号参照)、[c-28.140] formula (s57)
Figure 0007328222000133

[Wherein, m12 represents an integer of 0 to 2, A83 represents a hydrogen atom or a fluorine atom, and A84 represents
Figure 0007328222000134

represents a partial structure selected from the group consisting of ] (see WO 13/162715),

[c-28.141]アシノナピル(acynonapyr)、 [c-28.141] acynonapyr,

[c-28.142]式(s59)

Figure 0007328222000135

[A90は、ハロゲン原子、C1~C6のアルキル基、またはC1~C6のハロアルキル基を表し、A91は、C1~C6のハロアルキル基を表し、A92およびA93は、それぞれ独立していて、水素原子、C1~C6のアルキル基、アセチル基、プロピオノイル基、メタンスルホニルエチル基、メトキシカルボニル基、またはエトキシカルボニル基を表し、A94およびA95は、それぞれ独立していて、水素原子、C1~C6のアルキル基、またはC1~C6のハロアルキル基を表す。]で表される化合物(国際公開第12/164698号参照)等が挙げられる。[c-28.142] formula (s59)
Figure 0007328222000135

[A90 represents a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, or a C1-C6 haloalkyl group, A91 represents a C1-C6 haloalkyl group, A92 and A93 are each independently a hydrogen atom, represents a C1-C6 alkyl group, an acetyl group, a propionoyl group, a methanesulfonylethyl group, a methoxycarbonyl group, or an ethoxycarbonyl group, A94 and A95 each independently represent a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, or represents a C1-C6 haloalkyl group. ] (see International Publication No. 12/164698) and the like.

本発明化合物と前述の必要に応じて混合して使用することができる他の農薬との混合比は、効果が発揮される限りにおいて特に制限されるものではないが、通常、本発明化合物に対して他の農薬は、重量比で0.001~1000の比率であり、好ましくは、0.01~100の比率である。 The mixing ratio of the compound of the present invention and other pesticides that can be mixed and used as necessary is not particularly limited as long as the effect is exhibited. Other pesticides are in a weight ratio of 0.001-1000, preferably 0.01-100.

以下に、合成例、参考例、および試験例を挙げて、本発明を更に詳細に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。 The present invention will be illustrated in more detail below by giving Synthesis Examples, Reference Examples, and Test Examples, but the present invention is not limited to these.

[合成例1]
ステップ1:6-(4-フルオロフェニル)-5-(チオフェン-3-イル)-3,4-ジヒドロピリジン-2(1H)-オンの合成

Figure 0007328222000136
[Synthesis Example 1]
Step 1: Synthesis of 6-(4-fluorophenyl)-5-(thiophen-3-yl)-3,4-dihydropyridin-2(1H)-one
Figure 0007328222000136

参考例3で得られた5-(4-フルオロフェニル)-5-オキソ-4-(チオフェン-3-イル)-ペンタン酸 6.81gと酢酸アンモニウム 65.00gを含む酢酸溶液 20mlを、120℃にて6時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に酢酸エチルと水を加えて分液した。得られた有機層に水を加え、さらに発砲がおさまるまで飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた後に分液した。次いで、有機層を飽和食塩水にて洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去を行った後に、ジイソプロピルエーテルにより析出物を洗浄した。得られた褐色固体は表題の化合物であり、3.61gであった。 20 ml of an acetic acid solution containing 6.81 g of 5-(4-fluorophenyl)-5-oxo-4-(thiophen-3-yl)-pentanoic acid obtained in Reference Example 3 and 65.00 g of ammonium acetate was heated at 120°C. and stirred for 6 hours. After cooling to room temperature, ethyl acetate and water were added to the reaction mixture to separate the layers. Water was added to the obtained organic layer, and a saturated sodium hydrogencarbonate aqueous solution was further added until the foaming stopped, and then the layers were separated. The organic layer was then washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. After distilling off the solvent under reduced pressure, the precipitate was washed with diisopropyl ether. The brown solid obtained was the title compound, 3.61 g.

H-NMR (CDCl) δ: 7.23-7.21 (2H, m), 7.08 (1H, dd, J = 5.1, 2.9 Hz), 7.03-7.00 (2H, m), 6.82 (1H, dd, J = 2.9, 1.2 Hz), 6.79 (1H, br s), 6.51 (1H, dd, J = 5.1, 1.2 Hz), 2.89-2.84 (2H, m), 2.71-2.67 (2H, m). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 7.23-7.21 (2H, m), 7.08 (1H, dd, J = 5.1, 2.9 Hz), 7.03-7.00 (2H, m), 6.82 (1H, dd, J = 2.9, 1.2 Hz), 6.79 (1H, br s), 6.51 (1H, dd, J = 5.1, 1.2 Hz), 2.89-2.84 (2H, m), 2.71-2.67 (2H, m).

ステップ2:1-エチル-6-(4-フルオロフェニル)-5-(チオフェン-3-イル)-3,4-ジヒドロピリジン-2(1H)-オンの合成

Figure 0007328222000137
Step 2: Synthesis of 1-ethyl-6-(4-fluorophenyl)-5-(thiophen-3-yl)-3,4-dihydropyridin-2(1H)-one
Figure 0007328222000137

6-(4-フルオロフェニル)-5-(チオフェン-3-イル)-3,4-ジヒドロピリジン-2(1H)-オン 1.50g、ヨウ化エチル 2.65mlと炭酸セシウム4.47gを含むDMF 30mlを70℃で3時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が1.36gの褐色固体として得られた。
H-NMR (CDCl) δ: 7.16-7.15 (2H, m), 7.05-7.03 (3H, m), 6.59 (1H, dd, J = 3.1, 1.3 Hz), 6.39 (1H, dd, J = 5.1, 1.3 Hz), 3.42 (2H, q, J = 7.1 Hz), 2.78-2.65 (5H, m), 0.93 (3H, t, J = 7.1 Hz).
DMF containing 6-(4-fluorophenyl)-5-(thiophen-3-yl)-3,4-dihydropyridin-2(1H)-one 1.50 g, ethyl iodide 2.65 ml and cesium carbonate 4.47 g 30 ml was stirred at 70° C. for 3 hours. After cooling to room temperature, water and ethyl acetate were added to the reaction mixture to separate the layers. The resulting organic layer was washed successively with an aqueous sodium thiosulfate solution and saturated brine, and dried over sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 1.36 g of brown solid.
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 7.16-7.15 (2H, m), 7.05-7.03 (3H, m), 6.59 (1H, dd, J = 3.1, 1.3 Hz), 6.39 (1H, dd, J = 5.1, 1.3 Hz), 3.42 (2H, q, J = 7.1 Hz), 2.78-2.65 ( 5H, m), 0.93 (3H, t, J = 7.1 Hz).

ステップ3:5-(2-ブロモチオフェン-3-イル)-1-エチル-6-(4-フルオロフェニル)-3,4-ジヒドロピリジン-2(1H)-オンの合成(化合物番号:4)

Figure 0007328222000138
Step 3: Synthesis of 5-(2-bromothiophen-3-yl)-1-ethyl-6-(4-fluorophenyl)-3,4-dihydropyridin-2(1H)-one (Compound No.: 4)
Figure 0007328222000138

1-エチル-6-(4-フルオロフェニル)-5-(チオフェン-3-イル)-3,4-ジヒドロピリジン-2(1H)-オン 637mgとN-ブロモスクシンイミド 414mgを含む四塩化炭素溶液 10mlを60℃で1時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去をした後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が694mgの褐色固体として得られた。 10 ml of a carbon tetrachloride solution containing 637 mg of 1-ethyl-6-(4-fluorophenyl)-5-(thiophen-3-yl)-3,4-dihydropyridin-2(1H)-one and 414 mg of N-bromosuccinimide was Stir at 60° C. for 1 hour. After cooling to room temperature, water and ethyl acetate were added to the reaction mixture to separate the layers. The resulting organic layer was washed successively with an aqueous sodium thiosulfate solution and saturated brine and dried over sodium sulfate. After distilling off the solvent under reduced pressure, the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. 694 mg of the title compound was obtained as a brown solid.

[合成例2]
5-(2-ブロモチオフェン-3-イル)-1-エチル-6-(4-フルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オンの合成(化合物番号:5)

Figure 0007328222000139
[Synthesis Example 2]
Synthesis of 5-(2-bromothiophen-3-yl)-1-ethyl-6-(4-fluorophenyl)pyridin-2(1H)-one (Compound No.: 5)
Figure 0007328222000139

5-(2-ブロモチオフェン-3-イル)-1-エチル-6-(4-フルオロフェニル)-3,4-ジヒドロピリジン-2(1H)-オン 629mgを含む四塩化炭素溶液 12mlに、N-ブロモスクシンイミド 295mgとアゾビスイソブチロニトリル 27mgを加えて、70℃で3時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物にジクロロメタンとチオ硫酸ナトリウム水溶液を加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が493mgの白色固体として得られた。 To 12 ml of a carbon tetrachloride solution containing 629 mg of 5-(2-bromothiophen-3-yl)-1-ethyl-6-(4-fluorophenyl)-3,4-dihydropyridin-2(1H)-one, N- 295 mg of bromosuccinimide and 27 mg of azobisisobutyronitrile were added and stirred at 70° C. for 3 hours. After cooling to room temperature, dichloromethane and an aqueous sodium thiosulfate solution were added to the reaction mixture to separate the layers. The obtained organic layer was washed with saturated saline and dried with sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. 493 mg of the title compound was obtained as a white solid.

[合成例3]
5-(2-ブロモチオフェン-3-イル)-3-クロロ-1-エチル-6-(4-フルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オンの合成(化合物番号:7)

Figure 0007328222000140
[Synthesis Example 3]
Synthesis of 5-(2-bromothiophen-3-yl)-3-chloro-1-ethyl-6-(4-fluorophenyl)pyridin-2(1H)-one (Compound No.: 7)
Figure 0007328222000140

5-(2-ブロモチオフェン-3-イル)-1-エチル-6-(4-フルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オン 250mgとN-クロロスクシンイミド 97mgを含むDMF溶液 5mlを70℃で4時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去をした後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。減圧下で溶媒留去を行った後に、ジイソプロピルエーテルにより析出物を洗浄した。得られた白色固体は表題の化合物であり、246mgであった。 5 ml of a DMF solution containing 250 mg of 5-(2-bromothiophen-3-yl)-1-ethyl-6-(4-fluorophenyl)pyridin-2(1H)-one and 97 mg of N-chlorosuccinimide was heated at 70°C for 4 hours. Stirred for an hour. After cooling to room temperature, water and ethyl acetate were added to the reaction mixture to separate the layers. The resulting organic layer was washed successively with an aqueous sodium thiosulfate solution and saturated brine and dried over sodium sulfate. After distilling off the solvent under reduced pressure, the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. After distilling off the solvent under reduced pressure, the precipitate was washed with diisopropyl ether. The white solid obtained was the title compound, 246 mg.

[参考例1]
1-(4-フルオロフェニル)-2-(チオフェン-3-イル)エタン-1-オンの合成

Figure 0007328222000141
[Reference example 1]
Synthesis of 1-(4-fluorophenyl)-2-(thiophen-3-yl)ethan-1-one
Figure 0007328222000141

2-(チオフェン-3-イル)酢酸 3.00gを含むTHF溶液 40mlに、1.9mol/LのヘキサメチルジシラザンナトリウムのTHF溶液 35.5mlを-78℃で滴下して30分間撹拌した。次いで、p-フルオロ安息香酸メチル 2.71mlを滴下した後に、-78℃から室温まで昇温して15分間撹拌した。これに飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて撹拌した後に、酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、標題の化合物を含む5.42gの黄色固体を得た。これ以上精製することなく、次の反応に使用した。 To 40 ml of THF solution containing 3.00 g of 2-(thiophen-3-yl)acetic acid, 35.5 ml of 1.9 mol/L THF solution of sodium hexamethyldisilazane was added dropwise at −78° C. and stirred for 30 minutes. Then, after dropping 2.71 ml of methyl p-fluorobenzoate, the temperature was raised from -78°C to room temperature and the mixture was stirred for 15 minutes. A saturated aqueous ammonium chloride solution was added to the mixture, and the mixture was stirred, and then ethyl acetate was added to separate the layers. The obtained organic layer was washed with saturated saline and dried with sodium sulfate. After evaporation under reduced pressure, 5.42 g of a yellow solid containing the title compound was obtained. Used for next reaction without further purification.

H-NMR (CDCl) δ: 8.05-8.02 (2H, m), 7.31 (1H, dd, J = 4.9, 3.1 Hz), 7.15-7.12 (3H, m), 7.01 (1H, dd, J = 4.9, 1.2 Hz), 4.28 (2H, s). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.05-8.02 (2H, m), 7.31 (1H, dd, J = 4.9, 3.1 Hz), 7.15-7.12 (3H, m), 7.01 (1H, dd, J = 4.9, 1.2 Hz), 4.28 (2H, s).

[参考例2]
5-(4-フルオロフェニル)-5-オキソ-4-(チオフェン-3-イル)ペンタン酸エチルの合成

Figure 0007328222000142
[Reference example 2]
Synthesis of ethyl 5-(4-fluorophenyl)-5-oxo-4-(thiophen-3-yl)pentanoate
Figure 0007328222000142

参考例1で得られた1-(4-フルオロフェニル)-2-(チオフェン-3-イル)エタン-1-オン 5.42gを含むTHF溶液 30mlに、カリウム t-ブトキシド 237mgとアクリル酸エチル 2.30mlを加えて、室温下で30分間撹拌した。これに飽和塩化アンモニウム溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水にて洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下にて溶媒留去した後に、表題の化合物を含む5.18gの黄色油状物質を得た。これ以上精製することなく、次の反応に使用した。 To 30 ml of THF solution containing 5.42 g of 1-(4-fluorophenyl)-2-(thiophen-3-yl)ethan-1-one obtained in Reference Example 1, 237 mg of potassium t-butoxide and 2 ethyl acrylate .30 ml was added and stirred for 30 minutes at room temperature. A saturated ammonium chloride solution and ethyl acetate were added to the mixture, and the resulting organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. After evaporation of the solvent under reduced pressure, 5.18 g of a yellow oil containing the title compound was obtained. Used for next reaction without further purification.

H-NMR (CDCl) δ: 8.00 (2H, ddd, J = 7.1, 5.1, 1.8 Hz), 7.27 (1H, dd, J = 4.9, 3.1 Hz), 7.11-7.06 (3H, m), 7.01 (1H, dd, J = 4.9, 1.2 Hz), 4.82 (1H, t, J = 7.3 Hz), 4.12 (2H, td, J = 8.8, 2.8 Hz), 2.39 (1H, ddd, J = 14.0, 7.3, 5.9 Hz), 2.31-2.28 (2H, m), 2.19-2.14 (1H, m), 1.25-1.20 (3H, m). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.00 (2H, ddd, J = 7.1, 5.1, 1.8 Hz), 7.27 (1H, dd, J = 4.9, 3. 1 Hz), 7.11-7.06 (3H, m), 7.01 (1H, dd, J = 4.9, 1.2 Hz), 4.82 (1H, t, J = 7.3 Hz), 4.12 (2H, td, J = 8.8, 2.8 Hz), 2.39 (1H, ddd, J = 14.0, 7.3, 5.9 Hz), 2.31 -2.28 (2H, m), 2.19-2.14 (1H, m), 1.25-1.20 (3H, m).

[参考例3]
5-(4-フルオロフェニル)-5-オキソ-4-(チオフェン-3-イル)-ペンタン酸の合成

Figure 0007328222000143
[Reference example 3]
Synthesis of 5-(4-fluorophenyl)-5-oxo-4-(thiophen-3-yl)-pentanoic acid
Figure 0007328222000143

参考例2で得られた5-(4-フルオロフェニル)-5-オキソ-4-(チオフェン-3-イル)ペンタン酸エチル 5.18gを含む酢酸 20mlに、濃塩酸 10mlを加えて、100℃で3時間撹拌した。室温まで冷却した後に、水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水にて洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。次いで、減圧下にて溶媒留去した後に、表題の化合物を含む6.81gの黄色油状物質を得た。これ以上精製することなく、次の反応に使用した。 10 ml of concentrated hydrochloric acid was added to 20 ml of acetic acid containing 5.18 g of ethyl 5-(4-fluorophenyl)-5-oxo-4-(thiophen-3-yl)pentanoate obtained in Reference Example 2, and the mixture was heated to 100°C. and stirred for 3 hours. After cooling to room temperature, water and ethyl acetate were added to separate the layers. The obtained organic layer was washed with saturated saline and dried with sodium sulfate. Then, after evaporating the solvent under reduced pressure, 6.81 g of a yellow oil containing the title compound was obtained. Used for next reaction without further purification.

表4に、前記した実施例に準じて合成した化合物を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Table 4 shows compounds synthesized according to the above examples, but the present invention is not limited to these.

表4中、構造Aは以下を示す。 In Table 4, structure A shows the following.

Figure 0007328222000144
Figure 0007328222000144

表4中、構造Bは以下を示す。 In Table 4, structure B shows the following.

Figure 0007328222000145
Figure 0007328222000145

表4中、構造Cは以下を示す。 In Table 4, structure C shows the following.

Figure 0007328222000146
Figure 0007328222000146

表4中、構造Dは以下を示す。 In Table 4, structure D shows the following.

Figure 0007328222000147
Figure 0007328222000147

Figure 0007328222000148
Figure 0007328222000148

次に、表4に記載の化合物に関して、表5にそれらのH-NMRデータを示す。Next, for the compounds listed in Table 4, Table 5 shows their 1 H-NMR data.

Figure 0007328222000149
Figure 0007328222000149

次に、本発明化合物が植物病害に有効であることを具体的に示すが、これらの例に限定されるものではない。 Next, the effectiveness of the compound of the present invention against plant diseases will be specifically shown, but the present invention is not limited to these examples.

[試験例A] イネいもち病
供試植物(イネ品種:幸風)の種子を播種後、第2葉が展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド-メタノール混合溶液(容積比:9/1)に溶解し、250ppmの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した(2.5ml/ポット)。薬液が乾燥した後の植物に、1~2×10個/mlのイネいもち病菌(Magnaporthe grisea)の分生胞子懸濁液を噴霧接種した。接種後、室温が20~23℃の湿室に約24時間放置し、発病を促した。接種6~10日後の発病程度を調査し、薬液の効果を評価した。
[Test Example A] Rice blast Seeds of a test plant (rice cultivar: Kofu) were sown and cultivated until the second leaf developed. In the test, the compound of the present invention was dissolved in a dimethylsulfoxide-methanol mixed solution (volume ratio: 9/1) and diluted with well water to a concentration of 250 ppm to obtain a chemical solution. The resulting chemical solution was sprayed on the test plants (2.5 ml/pot). After the chemical solution had dried, the plants were spray-inoculated with a conidia suspension of 1 to 2×10 5 conidia/ml of Magnaporthe grisea. After inoculation, the plants were left in a moist room at a room temperature of 20 to 23° C. for about 24 hours to promote disease development. 6 to 10 days after inoculation, the degree of disease development was investigated to evaluate the effect of the drug solution.

[試験例B] トマト灰色かび病
供試植物(トマト品種:大型福寿)の種子を播種後、本葉が3~5枚展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド-メタノール混合溶液(容積比:9/1)に溶解し、250ppmの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した(2.5ml/ポット)。薬液が乾燥した後の植物に、4~8×10個/mlの灰色かび病菌(Botrytis cinerea)の分生胞子懸濁液を噴霧接種した。接種後、室温が20~23℃の湿室に約48時間放置し、発病を促した。接種2~3日後の発病程度を調査し、薬液の効果を評価した。
[Test Example B] Gray mold of tomato Seeds of a test plant (tomato variety: Dai Fukuju) were sown and cultivated until 3 to 5 true leaves developed. In the test, the compound of the present invention was dissolved in a dimethylsulfoxide-methanol mixed solution (volume ratio: 9/1) and diluted with well water to a concentration of 250 ppm to obtain a chemical solution. The resulting chemical solution was sprayed on the test plants (2.5 ml/pot). After the chemical solution had dried, the plants were spray-inoculated with a conidia suspension of 4-8×10 5 cells/ml of Botrytis cinerea. After inoculation, the plants were left in a moist room at a room temperature of 20 to 23°C for about 48 hours to promote disease development. 2 to 3 days after inoculation, the degree of disease development was investigated to evaluate the effect of the drug solution.

[試験例C] キャベツ黒すす病
供試植物(キャベツ品種:四季穫)の種子を播種後、子葉が展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド-メタノール混合溶液(容積比:9/1)に溶解し、250ppmの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した(2.5ml/ポット)。薬液が乾燥した後の植物に、4~8×10個/mlのキャベツ黒すす病菌(Alternaia brassicicola)の分生胞子懸濁液を噴霧接種した。接種後、室温が20~23℃の湿室に約48時間放置し、発病を促した。接種2~3日後の発病程度を調査し、薬液の効果を評価した。
[Test Example C] Cabbage black soot disease Seeds of a test plant (cabbage variety: Shikimi) were sown and cultivated until cotyledons developed. In the test, the compound of the present invention was dissolved in a dimethylsulfoxide-methanol mixed solution (volume ratio: 9/1) and diluted with well water to a concentration of 250 ppm to obtain a chemical solution. The resulting chemical solution was sprayed on the test plants (2.5 ml/pot). After the chemical solution had dried, the plants were spray-inoculated with a conidia suspension of 4-8×10 5 cells/ml of Alternaia brassicicola. After inoculation, the plants were left in a moist room at a room temperature of 20 to 23°C for about 48 hours to promote disease development. 2 to 3 days after inoculation, the degree of disease development was investigated to evaluate the effect of the drug solution.

[試験例D] オオムギうどんこ病
供試植物(オオムギ品種:赤神力)の種子を播種後、第1葉が展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド-メタノール混合溶液(容積比:9/1)に溶解し、250ppmの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した(2.5ml/ポット)。薬液が乾燥した後の植物に、オオムギうどんこ病菌(Blumeria graminis f.sp.hordei)の分生胞子を叩き落して接種した。接種後、6~10日後の発病程度を調査し、その効果を評価した。
[Test Example D] Barley Powdery Mildew Seeds of a test plant (barley variety: Akashinriki) were sown and cultivated until the first leaves developed. In the test, the compound of the present invention was dissolved in a dimethylsulfoxide-methanol mixed solution (volume ratio: 9/1) and diluted with well water to a concentration of 250 ppm to obtain a chemical solution. The resulting chemical solution was sprayed on the test plants (2.5 ml/pot). After the chemical solution had dried, the plants were inoculated with conidia of barley powdery mildew (Blumeria graminis f.sp.hordei) by knocking them down. Six to ten days after inoculation, the degree of disease onset was investigated, and the effect was evaluated.

[試験例E] コムギ赤さび病
供試植物(コムギ品種:農林61号)の種子を播種後、第1葉が展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド-メタノール混合溶液(容積比:9/1)に溶解し、250ppmの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した(2.5ml/ポット)。薬液が乾燥した後の植物に、1~2×10個/mlのコムギ赤さび病菌(Puccinia recondita)の夏胞子懸濁液を噴霧接種した。接種後、室温が20~23℃の湿室に約24時間放置し、発病を促した。接種7~10日後の発病程度を調査し、薬液の効果を評価した。
[Test Example E] Wheat leaf rust Seeds of a test plant (wheat variety: Norin No. 61) were sown and cultivated until the first leaves developed. In the test, the compound of the present invention was dissolved in a dimethylsulfoxide-methanol mixed solution (volume ratio: 9/1) and diluted with well water to a concentration of 250 ppm to obtain a chemical solution. The resulting chemical solution was sprayed on the test plants (2.5 ml/pot). After the chemical solution had dried, the plants were spray-inoculated with a uredospore suspension of 1-2×10 5 cells/ml of Puccinia recondita. After inoculation, the plants were left in a moist room at a room temperature of 20 to 23°C for about 24 hours to promote disease development. 7 to 10 days after inoculation, the degree of disease onset was investigated, and the effect of the drug solution was evaluated.

[試験例F] トマト疫病
供試植物(トマト品種:大型福寿)の種子を播種後、本葉が3~5枚展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド-メタノール混合溶液(容積比:9/1)に溶解し、250ppmの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した(2.5ml/ポット)。薬液が乾燥した後の植物に、4~8×10個/mlのトマト疫病菌(Phytophthora infestans)の遊走子のう懸濁液を噴霧接種した。接種後、室温が20℃の湿室に約24時間放置し、発病を促した。接種5~10日後の発病程度を調査し、薬液の効果を評価した。
[Test Example F] Late blight of tomato Seeds of a test plant (tomato variety: Dai Fukuju) were sown and cultivated until 3 to 5 true leaves developed. In the test, the compound of the present invention was dissolved in a dimethylsulfoxide-methanol mixed solution (volume ratio: 9/1) and diluted with well water to a concentration of 250 ppm to obtain a chemical solution. The resulting chemical solution was sprayed on the test plants (2.5 ml/pot). After the chemical solution had dried, the plants were spray-inoculated with a zoospore suspension of Phytophthora infestans at 4-8×10 3 cells/ml. After inoculation, the plants were left in a moist room at a room temperature of 20°C for about 24 hours to promote disease development. 5 to 10 days after inoculation, the degree of disease development was investigated to evaluate the effect of the drug solution.

[試験例G] ブドウべと病
供試植物(ブドウ品種:ネオマスカット)の種子を播種後、本葉が3~4枚展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド-メタノール混合溶液(容積比:9/1)に溶解し、250ppmの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した(2.5ml/ポット)。薬液が乾燥した後の植物に、1~2×10個/mlのブドウべと病菌(Plasmopara viticola)の遊走子のう懸濁液を噴霧接種した。接種後、室温が20℃の湿室に約24時間放置し、発病を促した。接種7~10日後の発病程度を調査し、薬液の効果を評価した。
[Test Example G] Downy mildew of a test plant (grape variety: Neo Muscat) was sown and cultivated until 3 to 4 true leaves developed. In the test, the compound of the present invention was dissolved in a dimethylsulfoxide-methanol mixed solution (volume ratio: 9/1) and diluted with well water to a concentration of 250 ppm to obtain a chemical solution. The resulting chemical solution was sprayed on the test plants (2.5 ml/pot). After the chemical solution had dried, the plants were spray inoculated with a zoosporangial suspension of 1-2×10 4 cells/ml of Plasmopara viticola. After inoculation, the plants were left in a moist room at a room temperature of 20°C for about 24 hours to promote disease development. 7 to 10 days after inoculation, the degree of disease development was investigated to evaluate the effect of the drug solution.

[試験例H] キュウリ炭疽病
供試植物(キュウリ品種:相模半白)の種子を播種後、本葉が1枚展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド-メタノール混合溶液(容積比:9/1)に溶解し、250ppmの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した(2.5ml/ポット)。薬液が乾燥した後の植物に、2~4×10個/mlのキュウリ炭疽病菌(Colletotrichum orbiculare)の分生胞子懸濁液を噴霧接種した。接種後、室温が20~23℃の湿室に約24時間放置し、発病を促した。接種6~10日後の発病程度を調査し、薬液の効果を評価した。
[Test Example H] Cucumber Anthracnose Seeds of a test plant (cucumber variety: Sagamihanjiro) were sown and cultivated until one true leaf developed. In the test, the compound of the present invention was dissolved in a dimethylsulfoxide-methanol mixed solution (volume ratio: 9/1) and diluted with well water to a concentration of 250 ppm to obtain a chemical solution. The resulting chemical solution was sprayed on the test plants (2.5 ml/pot). After the chemical solution had dried, the plants were spray-inoculated with a conidia suspension of 2-4×10 5 cells/ml of Colletotrichum orbiculare. After inoculation, the plants were left in a moist room at a room temperature of 20 to 23° C. for about 24 hours to promote disease development. 6 to 10 days after inoculation, the degree of disease development was investigated to evaluate the effect of the drug solution.

以上に示した試験例の発病程度について、無発病の植物の発病程度を0、薬剤無処理区の植物の発病程度を3として、0.05ごとの発病程度の評価を行った。また、発病程度から以下の計算式に従って防除価を算出した。 With respect to the degree of disease onset in the test examples shown above, the degree of disease onset in non-diseased plants was set to 0, and the degree of disease onset in plants not treated with chemicals was set to 3, and the degree of disease onset was evaluated in increments of 0.05. In addition, the preventive value was calculated according to the following formula from the degree of disease development.

<防除価>
防除価=100{1-(n/3)}
n=各薬剤処理区の発病程度
以上の試験結果をまとめたものを表6に示す。表中、Hは防除価が50%より大きいもの表し、Lは防除価が50%以下を表す。また、ntは試験を実施しなかったことを表す。
<Control value>
Control value = 100 {1-(n/3)}
Table 6 shows a summary of the test results for n=the degree of disease onset in each drug-treated plot. In the table, H indicates that the control value is greater than 50%, and L indicates that the control value is 50% or less. Moreover, nt represents that the test was not performed.

Figure 0007328222000150
Figure 0007328222000150

本発明化合物は新規な化合物であり、植物病害を防除することができるので、農薬、例えば、農園芸用有害生物防除剤、特に農園芸用殺菌剤としての利用価値がある。 Since the compound of the present invention is a novel compound and can control plant diseases, it is useful as an agricultural chemical, for example, an agricultural and horticultural pesticide, especially an agricultural and horticultural fungicide.

Claims (8)

式(1)
Figure 0007328222000151

[式中、R1は、
水酸基、
シアノ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
C2~C6のハロアルキニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、
C1~C6のハロアルコキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、
C2~C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、
C3~C6のハロアルキニルオキシ基、
またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはRaおよびRbは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)を表し;
R2、R3およびR4は、それぞれ独立していて、
水素原子、
ハロゲン原子、
水酸基、
シアノ基、
ニトロ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
C2~C6のハロアルキニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、
C1~C6のハロアルコキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、
C2~C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、
C3~C6のハロアルキニルオキシ基、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアリールオキシ基、
置換基Dで適宜0~2置換されてもよいヘテロアリールオキシ基、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアラルキルオキシ基、
Rx1C(=O)-(ここで、Rx1は、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)を表す。)、
Rx1C(=O)O-(ここで、Rx1は、前記と同義である。)、
1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基、
Rc-L-(ここで、Rcは、C1~C6のアルキル基またはC1~C6のハロアルキル基を表し、Lは、S、SO、またはSOを表す。)、
RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、
またはRx2C(=O)N(Rx3)-(ここで、Rx2は、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)を表し、Rx3は、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表す。)を表し;
R5は、
水素原子、
ハロゲン原子、
シアノ基、
ニトロ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
C2~C6のハロアルキニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、
C1~C6のハロアルコキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、
C2~C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、
C3~C6のハロアルキニルオキシ基、
Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、
RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、
またはR51C(=O)-(ここで、R51は、水酸基、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、またはC1~C6のアルコキシ基を表す。)を表し;
Xは、酸素原子または硫黄原子を表し;
Yは、式(y-1)、または式(y-2)
Figure 0007328222000152

を表し、
R6は、
ハロゲン原子、
水酸基、
シアノ基、
ニトロ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
C2~C6のハロアルキニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、
C1~C6のハロアルコキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、
C2~C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、
C3~C6のハロアルキニルオキシ基、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアリールオキシ基、
置換基Dで適宜0~2置換されてもよいヘテロアリールオキシ基、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアラルキルオキシ基、
Rx1C(=O)-(ここで、Rx1は、前記と同義である。)、
Rx1C(=O)O-(ここで、Rx1は、前記と同義である。)、
1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基、
Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、
RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、
またはRx2C(=O)N(Rx3)-(ここで、Rx2およびRx3は、前記と同義である。)を表し;
nは、0~3の整数(nが2以上の場合、2以上のR6はそれぞれ独立した置換基を表す。)を表し;
破線部を含む結合は、二重結合、または単結合を表し;
そして、置換基Aは、水酸基、シアノ基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)およびRc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Bは、シアノ基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基およびC3~C8のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Cは、水酸基、シアノ基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、C2~C6のアルコキシアルコキシ基、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記のRx1と同義である。)および1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Dは、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基およびC3~C8のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種である。]で表される化合物、またはその塩。
formula (1)
Figure 0007328222000151

[In the formula, R is
hydroxyl group,
cyano group,
a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkynyl group,
a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkoxy group,
a C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkenyloxy group,
a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent A,
a C3-C6 haloalkynyloxy group,
or RaRbN- (wherein Ra and Rb are each independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl, or Ra and Rb together with the attached nitrogen atom form an aziridinyl, azetidinyl, pyrrolidinyl, piperidinyl, homopiperidinyl, or azocanyl group). represent;
R2, R3 and R4 are each independently
hydrogen atom,
halogen atom,
hydroxyl group,
cyano group,
nitro group,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkynyl group,
a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkoxy group,
a C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyloxy group,
a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent C,
a C3-C6 haloalkynyloxy group,
an aryloxy group optionally substituted with substituents D from 0 to 5,
a heteroaryloxy group optionally substituted with a substituent D from 0 to 2,
an aralkyloxy group optionally substituted with 0 to 5 substituents D,
Rx1C(=O)-(wherein Rx1 is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above.),
Rx1C(=O)O- (wherein Rx1 has the same definition as above),
a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms;
Rc-L- (wherein Rc represents a C1-C6 alkyl group or a C1-C6 haloalkyl group, and L represents S, SO, or SO2 ),
RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above),
or Rx2C(=O)N(Rx3)- (here, Rx2 is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cyclo an alkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above), and Rx3 is , a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group) represents;
R5 is
hydrogen atom,
halogen atom,
cyano group,
nitro group,
a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkynyl group,
a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkoxy group,
a C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent A;
a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkenyloxy group,
a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent A,
a C3-C6 haloalkynyloxy group,
Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above),
RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above),
or R51C(=O)- (wherein R51 is a hydroxyl group, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, or C1 Represents a C6 alkoxy group.) Represents;
X represents an oxygen atom or a sulfur atom;
Y is formula (y-1), or formula (y-2)
Figure 0007328222000152

represents
R6 is
halogen atom,
hydroxyl group,
cyano group,
nitro group,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkynyl group,
a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkoxy group,
a C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyloxy group,
a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent C,
a C3-C6 haloalkynyloxy group,
an aryloxy group optionally substituted with substituents D from 0 to 5,
a heteroaryloxy group optionally substituted with a substituent D from 0 to 2,
an aralkyloxy group optionally substituted with 0 to 5 substituents D,
Rx1C (=O) - (wherein Rx1 is as defined above),
Rx1C(=O)O- (wherein Rx1 has the same definition as above),
a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms;
Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above),
RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above),
or Rx2C(=O)N(Rx3)- (wherein Rx2 and Rx3 are as defined above);
n represents an integer of 0 to 3 (when n is 2 or more, each of 2 or more R6 represents an independent substituent);
A bond containing a dashed line represents a double bond or a single bond;
Substituent A is a hydroxyl group, a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, RaRbN- (here, Ra and Rb are as defined above) and Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above); at least one selected from the group consisting of;
Substituent B is at least one selected from the group consisting of a cyano group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group and a C3-C8 cycloalkoxy group;
Substituent C is a hydroxyl group, a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, a C2-C6 alkoxyalkoxy group, RaRbN. - (where Ra and Rb are as defined above), Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above), RdC (=O) - (where Rd is the same as Rx1 above.) and at least one selected from the group consisting of a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms;
Substituent D is a halogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1 to C6 haloalkyl group, a C3 to C8 cycloalkyl group, a C1 to It is at least one selected from the group consisting of a C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group and a C3-C8 cycloalkoxy group. ] or a salt thereof.
R1は、
シアノ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
またはC2~C6のハロアルキニル基を表し;
R2、R3およびR4は、それぞれ独立していて、
水素原子、
ハロゲン原子、
水酸基、
シアノ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、
C1~C6のハロアルコキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、
C2~C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、
C3~C6のハロアルキニルオキシ基、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアラルキルオキシ基、
またはRx1C(=O)O-(ここで、Rx1は、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはRaおよびRbは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)を表す。)を表し;
R5は、
水素原子、
ハロゲン原子、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、
またはR51C(=O)-(ここで、R51は、水酸基、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、またはC1~C6のアルコキシ基を表す。)を表し;
R6は、
ハロゲン原子、
水酸基、
シアノ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、
C1~C6のハロアルコキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、
Rx1C(=O)-(ここで、Rx1は、前記と同義である。)、
Rc-L-(ここで、Rcは、C1~C6のアルキル基またはC1~C6のハロアルキル基を表し、Lは、S、SO、またはSOを表す。)、
またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)を表す、請求項1に記載の化合物、またはその塩。
R1 is
cyano group,
a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A,
or represents a C2-C6 haloalkynyl group;
R2, R3 and R4 are each independently
hydrogen atom,
halogen atom,
hydroxyl group,
cyano group,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkoxy group,
a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyloxy group,
a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent C,
a C3-C6 haloalkynyloxy group,
an aralkyloxy group optionally substituted with 0 to 5 substituents D,
or Rx1C(=O)O- (wherein Rx1 is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN— (wherein Ra and Rb are each independently a hydrogen atom, optionally substituted with a substituent B represents a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group, or Ra and Rb together with the binding nitrogen atom are an aziridinyl group, an azetidinyl group, a pyrrolidinyl represents a group, a piperidinyl group, a homopiperidinyl group, or an azocanyl group.) represents;
R5 is
hydrogen atom,
halogen atom,
a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent A,
a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent A,
or R51C(=O)- (wherein R51 is a hydroxyl group, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, or C1 Represents a C6 alkoxy group.) Represents;
R6 is
halogen atom,
hydroxyl group,
cyano group,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkoxy group,
a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent C,
a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent C,
Rx1C (=O) - (wherein Rx1 is as defined above),
Rc-L- (wherein Rc represents a C1-C6 alkyl group or a C1-C6 haloalkyl group, and L represents S, SO, or SO2 ),
or RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above), or a salt thereof according to claim 1.
R1は、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
またはC1~C6のハロアルキル基を表し;
R2、R3およびR4は、それぞれ独立していて、
水素原子、
ハロゲン原子、
水酸基、
シアノ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
または置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基を表し;
R5は、
水素原子、
ハロゲン原子、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
または置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基を表し;
R6は、
ハロゲン原子、
シアノ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
または置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基を表す、請求項2に記載の化合物、またはその塩。
R1 is
a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
or represents a C1-C6 haloalkyl group;
R2, R3 and R4 are each independently
hydrogen atom,
halogen atom,
hydroxyl group,
cyano group,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
or represents a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C;
R5 is
hydrogen atom,
halogen atom,
a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkyl group,
or represents a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A;
R6 is
halogen atom,
cyano group,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkyl group,
3. The compound according to claim 2, or a salt thereof, which represents a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C.
式(2)
Figure 0007328222000153

[式中、R2、R3およびR4は、それぞれ独立していて、
水素原子、
ハロゲン原子、
水酸基、
シアノ基、
ニトロ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
C2~C6のハロアルキニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、
C1~C6のハロアルコキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、
C2~C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、
C3~C6のハロアルキニルオキシ基、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアリールオキシ基、
置換基Dで適宜0~2置換されてもよいヘテロアリールオキシ基、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアラルキルオキシ基、
Rx1C(=O)-(ここで、Rx1は、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはRaおよびRbは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)を表す。)、
Rx1C(=O)O-(ここで、Rx1は、前記と同義である。)、
1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基、
Rc-L-(ここで、Rcは、C1~C6のアルキル基またはC1~C6のハロアルキル基を表し、Lは、S、SO、またはSOを表す。)、
RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、
またはRx2C(=O)N(Rx3)-(ここで、Rx2は、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)を表し、Rx3は、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表す。)を表し;
R5は、
水素原子、
ハロゲン原子、
シアノ基、
ニトロ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
C2~C6のハロアルキニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、
C1~C6のハロアルコキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、
C2~C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、
C3~C6のハロアルキニルオキシ基、
Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、
RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、
またはR51C(=O)-(ここで、R51は、水酸基、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、またはC1~C6のアルコキシ基を表す。)を表し;
Xは、酸素原子または硫黄原子を表し;
Yは、式(y-1)、または式(y-2)
Figure 0007328222000154

を表し、
R6は、
ハロゲン原子、
水酸基、
シアノ基、
ニトロ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
C2~C6のハロアルキニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、
C1~C6のハロアルコキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、
C2~C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、
C3~C6のハロアルキニルオキシ基、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアリールオキシ基、
置換基Dで適宜0~2置換されてもよいヘテロアリールオキシ基、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいアラルキルオキシ基、
Rx1C(=O)-(ここで、Rx1は、前記と同義である。)、
Rx1C(=O)O-(ここで、Rx1は、前記と同義である。)、
1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基、
Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、
RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、
またはRx2C(=O)N(Rx3)-(ここで、Rx2およびRx3は、前記と同義である。)を表し;
nは、0~3の整数(nが2以上の場合、2以上のR6はそれぞれ独立した置換基を表す。)を表し;
そして、置換基Aは、水酸基、シアノ基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)およびRc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Bは、シアノ基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基およびC3~C8のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Cは、水酸基、シアノ基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、C2~C6のアルコキシアルコキシ基、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記のRx1と同義である。)および1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Dは、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基およびC3~C8のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種である。]で表される化合物、またはその塩。
formula (2)
Figure 0007328222000153

[wherein R2, R3 and R4 are each independently
hydrogen atom,
halogen atom,
hydroxyl group,
cyano group,
nitro group,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkynyl group,
a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkoxy group,
a C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyloxy group,
a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent C,
a C3-C6 haloalkynyloxy group,
an aryloxy group optionally substituted with substituents D from 0 to 5,
a heteroaryloxy group optionally substituted with a substituent D from 0 to 2,
an aralkyloxy group optionally substituted with 0 to 5 substituents D,
Rx1C(=O)-(wherein Rx1 is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN- (wherein Ra and Rb are each independently a hydrogen atom, C1 ∼C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, or C3-C8 cycloalkyl group, or Ra and Rb together with the bonding nitrogen atom are aziridinyl, azetidinyl, pyrrolidinyl, which forms a piperidinyl group, a homopiperidinyl group, or an azocanyl group).),
Rx1C(=O)O- (wherein Rx1 has the same definition as above),
a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms;
Rc-L- (wherein Rc represents a C1-C6 alkyl group or a C1-C6 haloalkyl group, and L represents S, SO, or SO2 ),
RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above),
or Rx2C(=O)N(Rx3)- (here, Rx2 is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cyclo an alkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above), and Rx3 is , a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group) represents;
R5 is
hydrogen atom,
halogen atom,
cyano group,
nitro group,
a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkynyl group,
a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkoxy group,
a C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkenyloxy group,
a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent A,
a C3-C6 haloalkynyloxy group,
Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above),
RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above),
or R51C(=O)- (wherein R51 is a hydroxyl group, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, or C1 Represents a C6 alkoxy group.) Represents;
X represents an oxygen atom or a sulfur atom;
Y is formula (y-1), or formula (y-2)
Figure 0007328222000154

represents
R6 is
halogen atom,
hydroxyl group,
cyano group,
nitro group,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkynyl group,
a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkoxy group,
a C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyloxy group,
a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent C,
a C3-C6 haloalkynyloxy group,
an aryloxy group optionally substituted with substituents D from 0 to 5,
a heteroaryloxy group optionally substituted with a substituent D from 0 to 2,
an aralkyloxy group optionally substituted with 0 to 5 substituents D,
Rx1C (=O) - (wherein Rx1 is as defined above),
Rx1C(=O)O- (wherein Rx1 has the same definition as above),
a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms;
Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above),
RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above),
or Rx2C(=O)N(Rx3)- (wherein Rx2 and Rx3 are as defined above);
n represents an integer of 0 to 3 (when n is 2 or more, each of 2 or more R6 represents an independent substituent);
Substituent A is a hydroxyl group, a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, RaRbN- (here, Ra and Rb are as defined above) and Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above); at least one selected from the group consisting of;
Substituent B is at least one selected from the group consisting of a cyano group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group and a C3-C8 cycloalkoxy group;
Substituent C is a hydroxyl group, a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, a C2-C6 alkoxyalkoxy group, RaRbN. - (where Ra and Rb are as defined above), Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above), RdC (=O) - (where Rd is the same as Rx1 above.) and at least one selected from the group consisting of a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms;
Substituent D is a halogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1 to C6 haloalkyl group, a C3 to C8 cycloalkyl group, a C1 to It is at least one selected from the group consisting of a C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group and a C3-C8 cycloalkoxy group. ] or a salt thereof.
請求項1に記載の化合物、またはその塩を有効成分として含有する農園芸用有害生物防除剤。 An agricultural and horticultural pesticide containing the compound according to claim 1 or a salt thereof as an active ingredient. 請求項1に記載の化合物、またはその塩を有効成分として含有する農園芸用殺菌剤。 An agricultural and horticultural fungicide containing the compound according to claim 1 or a salt thereof as an active ingredient. 請求項5に記載の農園芸用有害生物防除剤を、植物、植物の種子、または植物を栽培する土壌に施用することを含む、植物病害を防除する方法。 A method for controlling plant diseases, which comprises applying the agricultural and horticultural pest control agent according to claim 5 to plants, plant seeds, or soil for cultivating plants. 請求項6に記載の農園芸用殺菌剤を、植物、植物の種子、または植物を栽培する土壌に施用することを含む、植物病害を防除する方法。 A method for controlling plant diseases, which comprises applying the agricultural and horticultural fungicide according to claim 6 to plants, plant seeds, or soil for cultivating plants.
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