JP7118961B2 - Pyridone compound and agricultural and horticultural fungicide containing the same as an active ingredient - Google Patents

Pyridone compound and agricultural and horticultural fungicide containing the same as an active ingredient Download PDF

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Description

本発明は、ピリドン化合物および該化合物を有効成分とする農薬に関するものである。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a pyridone compound and an agricultural chemical containing the compound as an active ingredient.

安定的な農業生産を確保する上で、農園芸作物の病害を防除することは重要な役割を果たす。そのため、様々な殺菌剤が使用されているが、長年にわたる殺菌剤の使用は薬剤耐性菌の出現を招くために、薬剤感受性菌のみならず薬剤耐性菌に対しても有効な新規殺菌剤が切望されている。 Disease control of agricultural and horticultural crops plays an important role in ensuring stable agricultural production. Therefore, various fungicides are used, but long-term use of fungicides leads to the emergence of drug-resistant bacteria. It is

ところで、1,3,5,6-置換-2-ピリドン化合物に関する先行例が知られている。例えば、GABAアルファー2/3リガンドとして、3位にアリール基またはヘテロアリール基を有する1,3,5,6-置換-2-ピリドン化合物が開示されている(例えば、国際公開第98/55480号参照)。細菌性感染症の治療薬としては、3位にカルボキシル基を有する1,3,5,6-置換-2-ピリドン化合物が開示されている(例えば、欧州特許第0308020明細書参照)。さらに、抗HIV剤として、1位に4,4-ジメチルペンタン酸が導入された1,3,5,6-置換-2-ピリドン化合物が開示されている(例えば、国際公開第2016/012913号参照)。 By the way, prior examples relating to 1,3,5,6-substituted-2-pyridone compounds are known. For example, 1,3,5,6-substituted-2-pyridone compounds having an aryl or heteroaryl group at the 3-position have been disclosed as GABA alpha-2/3 ligands (eg, WO 98/55480 reference). 1,3,5,6-substituted-2-pyridone compounds having a carboxyl group at the 3-position have been disclosed as therapeutic agents for bacterial infections (see, for example, EP 0308020). Furthermore, 1,3,5,6-substituted-2-pyridone compounds having 4,4-dimethylpentanoic acid introduced at the 1-position have been disclosed as anti-HIV agents (for example, International Publication No. 2016/012913 reference).

国際公開第98/55480号WO 98/55480 欧州特許第0308020明細書EP 0308020 国際公開第2016/12913号WO2016/12913

しかしながら、国際公開第98/55480号、欧州特許第0308020明細書および国際公開第2016/12913号に記載されている化合物の用途は、いずれも医薬に関するものであり、本発明に係る農園芸用殺菌剤が属する技術分野とは相違する。 However, the uses of the compounds described in WO 98/55480, EP 0308020 and WO 2016/12913 are all related to medicine, and the agricultural and horticultural fungicide according to the present invention It is different from the technical field to which the agent belongs.

本発明の課題は、農園芸用殺菌剤として有効である新規なピリドン化合物を提供することである。 An object of the present invention is to provide novel pyridone compounds that are effective as agricultural and horticultural fungicides.

本発明者らは、前記課題を解決すべく、1,3,5,6-置換-2-ピリドン化合物群について鋭意検討を行った。その結果、該2-ピリドン骨格において、5位にオキシム構造(C=N-O)を含む置換基を導入した新規な化合物群が、植物病害に対して優れた防除活性を発揮することを見出し、本発明を完成するに至った。 In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have made extensive studies on a group of 1,3,5,6-substituted-2-pyridone compounds. As a result, it was found that a novel compound group in which a substituent containing an oxime structure (C=N-O) was introduced at the 5-position in the 2-pyridone skeleton exhibited excellent control activity against plant diseases. , have completed the present invention.

すなわち、本発明は、以下の通りである。
[1]
式(1)

Figure 0007118961000001

[式中、R1は、
水酸基、
シアノ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
C2~C6のハロアルキニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、
C1~C6のハロアルコキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、
C2~C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、
C3~C6のハロアルキニルオキシ基、
またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはRaおよびRbは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)を表し;
R2は、
水素原子、
シアノ基、
ニトロ基、
ハロゲン原子、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
C2~C6のハロアルキニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、
C1~C6のハロアルコキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、
C2~C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、
C3~C6のハロアルキニルオキシ基、
Rc-L-(ここで、Rcは、C1~C6のアルキル基またはC1~C6のハロアルキル基を表し、Lは、S、SO、またはSOを表す。)、
RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、
またはRdC(=O)-(ここで、Rdは、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、またはRaRbN-(ここで、前記と同義である)を表す。)を表し;
Xは、酸素原子または硫黄原子を表し;
Yは、
R3で適宜0~5置換されてもよいフェニル基(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)、
R3で適宜0~4置換されてもよいピリジル基(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)、
R3で適宜0~3置換されてもよいピリダジニル基(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)、
R3で適宜0~3置換されてもよいピリミジニル基(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)、
R3で適宜0~3置換されてもよいピラジニル基(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)、
R3で適宜0~2置換されてもよいトリアジニル基(ただし、2置換のR3の場合、それぞれ独立している。)、
R3で適宜置換されてもよいテトラジニル基、
R3で適宜0~3置換されてもよいチエニル基(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)、
R3で適宜0~2置換されてもよいチアゾリル基(ただし、2置換のR3の場合、それぞれ独立している。)、
R3で適宜0~2置換されてもよいイソチアゾリル基(ただし、2置換のR3の場合、それぞれ独立している。)、
またはR3で適宜置換されてもよいチアジアゾリル基を表し、
R3は、
水酸基、
シアノ基、
ニトロ基、
ハロゲン原子、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
C2~C6のハロアルキニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、
C1~C6のハロアルコキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、
C2~C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、
C3~C6のハロアルキニルオキシ基、
RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)、
RdC(=O)O-(ここで、Rdは、前記と同義である。)、
1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基、
Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、
RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、
またはReC(=O)N(Rf)-(ここで、ReとRfは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)を表す。)を表し;
R4は、
水素原子、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
C2~C6のハロアルキニル基、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基を有するC1~C6のアルキル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基を有するC1~C6のハロアルキル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、
またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)を表し、
R5は、
水素原子、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
C2~C6のハロアルキニル基、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基を有するC1~C6のアルキル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基を有するC1~C6のハロアルキル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、
またはRdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)を表し、
あるいは、R4とR5が、結合するオキシム構造(C=N-O)と一緒になって、
置換基Eで適宜0~2置換されてもよいイソキサゾール環(ただし、2置換の置換基Eの場合、それぞれ独立している。)、
置換基Fで適宜0~4置換されてもよいイソキサゾリン環(ただし、2置換以上の置換基Fの場合、それぞれ独立している。)、
置換基Dで適宜0~4置換されてもよいベンズイソキサゾール環(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、
または置換基Fで適宜0~6置換されてもよい5,6-ジヒドロ-4H-1,2-オキサジン環(ただし、2置換以上の置換基Fの場合、それぞれ独立している。)を形成するものを表し;
そして、置換基Aは、水酸基、シアノ基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)およびRc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Bは、シアノ基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基およびC3~C8のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Cは、水酸基、シアノ基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、C2~C6のアルコキシアルコキシ基、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)、RdC(=O)O-(ここで、Rdは、前記と同義である。)および1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Dは、水酸基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基およびC3~C8のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Eは、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6アルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、C2~C6のハロアルケニルオキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、C3~C6のハロアルキニルオキシ基、C2~C6のアルコキシアルコキシ基、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)、RdC(=O)O-(ここで、Rdは、前記と同義である。)、RgON=C(Rh)-(ここで、RgおよびRhは、それぞれ独立していて、水素原子またはC1~C6のアルキル基を表す。)、RiRjRkSi-(ここで、Ri、RjおよびRkは、それぞれ独立していてC1~C6のアルキル基を表す。)および1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Fは、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6アルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、C2~C6のハロアルケニルオキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、C3~C6のハロアルキニルオキシ基、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)およびRdC(=O)O-(ここで、Rdは、前記と同義である。)からなる群から選択される少なくとも1種である。]で表される化合物またはその塩。
[2]
R1は、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
またはC2~C6のハロアルキニル基を表し;
R2は、
水素原子、
ハロゲン原子、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、
C1~C6のハロアルコキシ基、
Rc-L-(ここで、Rcは、C1~C6のアルキル基またはC1~C6のハロアルキル基を表し、Lは、S、SO、またはSOを表す。)、
またはRdC(=O)-(ここで、Rdは、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはRaおよびRbは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)を表す。)を表し;
Yは、
R3で適宜0~5置換されてもよいフェニル基(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)、
またはR3で適宜0~4置換されてもよいピリジル基(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)を表し、
R3は、
水酸基、
シアノ基、
ハロゲン原子、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、
C1~C6のハロアルコキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、
C2~C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、
C3~C6のハロアルキニルオキシ基、
またはRdC(=O)O-(ここで、Rdは、前記と同義である。)を表し;
R4は、
水素原子、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
C2~C6のハロアルキニル基、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、
またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)を表し、
R5は、
水素原子、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
C2~C6のハロアルキニル基、
またはRdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)を表し、
あるいは、R4とR5が、結合するオキシム構造(C=N-O)と一緒になって、
置換基Eで適宜0~2置換されてもよいイソキサゾール環(ただし、2置換の置換基Eの場合、それぞれ独立している。)、
置換基Fで適宜0~4置換されてもよいイソキサゾリン環(ただし、2置換以上の置換基Fの場合、それぞれ独立している。)、
または置換基Dで適宜0~4置換されてもよいベンズイソキサゾール環(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)を形成するものを表す、[1]に記載の化合物またはその塩。
[3]
R1は、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
またはC1~C6のハロアルキル基を表し;
R2は、
ハロゲン原子、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
または置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基を表し;
Yは、
R3で適宜0~5置換されてもよいフェニル基(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)を表し、
R3は、
シアノ基、
ハロゲン原子、
または置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基を表し;
R4は、
水素原子、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、
またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはRaおよびRbは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)を表し、
R5は、
水素原子、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
またはRdC(=O)-(ここで、Rdは、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはRaおよびRbは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)を表す。)を表し、
あるいは、R4とR5が、結合するオキシム構造(C=N-O)と一緒になって、
置換基Eで適宜0~2置換されてもよいイソキサゾール環(ただし、2置換の置換基Eの場合、それぞれ独立している。)、
置換基Fで適宜0~4置換されてもよいイソキサゾリン環(ただし、2置換以上の置換基Fの場合、それぞれ独立している。)、
または置換基Dで適宜0~4置換されてもよいベンズイソキサゾール環(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)を形成するものを表す、[2]に記載の化合物またはその塩。
[4]
R4は、
水素原子、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、
またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはRaおよびRbは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)を表し、
R5は、
水素原子、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
またはRdC(=O)-(ここで、Rdは、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはRaおよびRbは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)を表す。)を表し、
あるいは、R4とR5が、結合するオキシム構造(C=N-O)と一緒になって、
置換基Eで適宜0~2置換されてもよいイソキサゾール環(ただし、2置換の置換基Eの場合、それぞれ独立している。)を形成するものを表す、[3]に記載の化合物またはその塩。
[5]
R1が、メチル基、エチル基、または2,2-ジフルオロエチル基である、[1]~[4]のいずれか1つに記載の化合物またはその塩。
[6]
R2が、塩素原子、臭素原子、メチル基、メトキシ基、またはエチニル基である、[1]~[5]のいずれか1つに記載の化合物またはその塩。
[7]
Xが、酸素原子である、[1]~[6]のいずれか1つに記載の化合物またはその塩。
[8]
R3が、シアノ基、フッ素原子、臭素原子、またはメトキシ基である、[1]~[7]のいずれか1つに記載の化合物またはその塩。
[9]
Yは、フェニル基、4-シアノフェニル基、4-フルオロフェニル基、2,6-ジフルオロフェニル基、2,4,6-トリフルオロフェニル基、2,6-ジフルオロ-4-メトキシフェニル基、3-ブロモ-4-メトキシフェニル基、または4-メトキシフェニル基である、[1]~[7]のいずれか1つに記載の化合物またはその塩。
[10]
R4は、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、シクロペンチル基、フェニル基、アミノ基、またはメチルアミノ基である、[1]~[9]のいずれか1つに記載の化合物またはその塩。
[11]
R5は、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、またはアセチル基である、[1]~[10]のいずれか1つに記載の化合物またはその塩。
[12]
R5ON=C(R4)-の構造が、(ヒドロキシイミノ)メチル基、1-(ヒドロキシイミノ)プロピル基、1-(ヒドロキシイミノ)-2-メチルプロピル基、1-(ヒドロキシイミノ)-2,2-ジメチルプロピル基、1-(ヒドロキシイミノ)-3-メチルブチル基、(メトキシイミノ)メチル基、1-(メトキシイミノ)エチル基、1-(メトキシイミノ)プロピル基、1-(メトキシイミノ)-2-メチルプロピル基、1-(メトキシイミノ)-2,2-ジメチルプロピル基、1-(メトキシイミノ)ブチル基、1-(メトキシイミノ)-3-メチルブチル基、1-(メトキシイミノ)ペンチル基、(メトキシイミノ)(フェニル)メチル基、1-(エトキシイミノ)プロピル基、1-(イソプロピルオキシイミノ)プロピル基、1-(アセトキシイミノ)プロピル基、シクロペンチル(ヒドロキシイミノ)メチル基、シクロペンチル(メトキシイミノ)メチル基、HON=C(NH2)-、HON=C(NHMe)-、またはMeON=C(NHMe)-である、[1]~[9]のいずれか1つに記載の化合物またはその塩。
[13]
置換基Eが、ハロゲン原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6アルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)、RgON=C(Rh)-(ここで、RgおよびRhは、前記と同義である。)およびRiRjRkSi-(ここで、Ri、RjおよびRkは、前記と同義である。)からなる群から選択される少なくとも1種である、[1]~[9]のいずれか1つに記載の化合物またはその塩。
[14]
置換基Eが、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシメチル基、1-ヒドロキシエチル基、トリフルオロアセトキシメチル基、ブロモメチル基、ジフルオロメチル基、ビニル基、エチニル基、アミノ基、ホルミル基、アセチル基、(メトキシイミノ)メチル基、およびトリメチルシリル基からなる群から選択される少なくとも1種である、[1]~[9]のいずれか1つに記載の化合物またはその塩。
[15]
R4とR5が、結合するオキシム構造(C=N-O)と一緒になって、置換基Eで適宜0~2置換されてもよいイソキサゾール環(ただし、2置換の置換基Eの場合、それぞれ独立している。)を形成するものが、イソキサゾール-3-イル基、4-クロロイソキサゾール-3-イル基、4-ブロモイソキサゾール-3-イル基、4-ヨードイソキサゾール-3-イル基、4-メチルイソキサゾール-3-イル基、5-メチルイソキサゾール-3-イル基、5-(ヒドロキシメチル)イソキサゾール-3-イル基、5-エチルイソキサゾール-3-イル基、5-(1-ヒドロキシエチル)イソキサゾール-3-イル基、5-イソプロピルイソキサゾール-3-イル基、5-アミノイソキサゾール-3-イル基、5-(トリメチルシリル)イソキサゾール-3-イル基、4,5-ジクロロイソキサゾール-3-イル基、4-クロロ-5-メチルイソキサゾール-3-イル基、4,5-ジブロモイソキサゾール-3-イル基、4-ブロモ-5-メチルイソキサゾール-3-イル基、4-ブロモ-5-エチルイソキサゾール-3-イル基、4-ブロモ-5-イソプロピルイソキサゾール-3-イル基、4-ブロモ-5-(ジフルオロメチル)イソキサゾール-3-イル基、4-ブロモ-5-ホルミルイソキサゾール-3-イル基、4-ブロモ-5-(トリメチルシリル)イソキサゾール-3-イル基、4,5-ジヨードイソキサゾール-3-イル基、4-ヨード-5-メチルイソキサゾール-3-イル基、4,5-ジメチルイソキサゾール-3-イル基、4-(ヒドロキシメチル)-5-メチルイソキサゾール-3-イル基、4-(ジフルオロメチル)-5-メチルイソキサゾール-3-イル基、4-(ブロモメチル)-5-メチルイソキサゾール-3-イル基、4-(トリフルオロアセトキシメチル)-5-メチルイソキサゾール-3-イル基、4-(1-ヒドロキシエチル)-5-メチルイソキサゾール-3-イル基、5-メチル-4-ビニルイソキサゾール-3-イル基、4-エチニル-5-メチルイソキサゾール-3-イル基、4-ホルミル-5-メチルイソキサゾール-3-イル基、4-アセチル-5-メチルイソキサゾール-3-イル基、または4-((メトキシイミノ)メチル)-5-メチルイソキサゾール-3-イル基である[1]~[9]のいずれか1つに記載の化合物またはその塩。
[16]
置換基Fが、ハロゲン原子、置換基Cで適宜置換されてもよいアルキル基、および置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種である、[1]~[3]、[5]~[9]のいずれか1つに記載の化合物またはその塩。
[17]
置換基Fが、臭素原子、メチル基、エチル基、およびエトキシ基からなる群から選択される少なくとも1種である、[1]~[3]、[5]~[9]のいずれか1つに記載の化合物またはその塩。
[18]
R4とR5が、結合するオキシム構造(C=N-O)と一緒になって、置換基Fで適宜0~4置換されてもよいイソキサゾリン環(ただし、2置換以上の置換基Fの場合、それぞれ独立している。)を形成するものが、4-ブロモ-5,5-ジメチル-4,5-ジヒドロイソキサゾール-3-イル基、5-エチル-4,5-ジヒドロイソキサゾール-3-イル基、5,5-ジメチル-4,5-ジヒドロイソキサゾール-3-イル基、または5-エトキシ-4,5-ジヒドロイソキサゾール-3-イル基である、[1]~[3]、[5]~[9]のいずれか1つに記載の化合物またはその塩。
[19]
R4とR5が、結合するオキシム構造(C=N-O)と一緒になって、置換基Dで適宜0~4置換されてもよいベンズイソキサゾール環(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)を形成するものが、ベンゾ[d]イソキサゾール-3-イル基である、[1]~[3]、[5]~[9]のいずれか1つに記載の化合物またはその塩。
[20]
[1]~[19]のいずれか1つに記載の化合物、またはその塩を有効成分として含有する農園芸用有害生物防除剤。
[21]
[1]~[19]のいずれか1つに記載の化合物、またはその塩を有効成分として含有する農園芸用殺菌剤。
[22]
[20]に記載の農園芸用有害生物防除剤を、植物、植物の種子、または植物を栽培する土壌に施用することを含む、植物病害を防除する方法。
[23]
[21]に記載の農園芸用殺菌剤を、植物、植物の種子、または植物を栽培する土壌に施用することを含む、植物病害を防除する方法。That is, the present invention is as follows.
[1]
formula (1)
Figure 0007118961000001

[In the formula, R is
hydroxyl group,
cyano group,
a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkynyl group,
a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkoxy group,
a C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent A;
a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkenyloxy group,
a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent A,
a C3-C6 haloalkynyloxy group,
or RaRbN- (wherein Ra and Rb are each independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 Alternatively, Ra and Rb together with the attached nitrogen atom form an aziridinyl, azetidinyl, pyrrolidinyl, piperidinyl, homopiperidinyl, or azocanyl group). represent;
R2 is
hydrogen atom,
cyano group,
nitro group,
halogen atom,
a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkynyl group,
a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkoxy group,
a C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent A;
a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkenyloxy group,
a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent A,
a C3-C6 haloalkynyloxy group,
Rc-L- (wherein Rc represents a C1-C6 alkyl group or a C1 - C6 haloalkyl group, and L represents S, SO, or SO2),
RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above),
or RdC(=O)-(wherein Rd is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, C1 represents a C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN- (wherein the same definition as above);
X represents an oxygen atom or a sulfur atom;
Y is
a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents with R3 (however, in the case of disubstituted or more R3, each is independent),
a pyridyl group optionally substituted with 0 to 4 substituents with R3 (provided that, in the case of two or more substituted R3, each is independent),
a pyridazinyl group optionally substituted by R3 with 0 to 3 substituents (provided that, in the case of two or more substituted R3, each is independent),
a pyrimidinyl group optionally substituted with 0 to 3 substituents with R3 (provided that, in the case of two or more substituted R3, each is independent),
a pyrazinyl group optionally substituted by R3 with 0 to 3 substituents (provided that, in the case of two or more substituted R3, each is independent),
a triazinyl group optionally substituted with 0 to 2 substituents with R3 (provided that, in the case of disubstituted R3, each is independent),
a tetrazinyl group optionally substituted with R3,
a thienyl group which may be optionally substituted with 0 to 3 substituents with R3 (provided, however, that each R3 is independently substituted with 2 or more substituents),
a thiazolyl group optionally substituted with 0 to 2 substituents at R3 (provided that, in the case of disubstituted R3, each is independent),
an isothiazolyl group optionally substituted with 0 to 2 substituents at R3 (provided, however, that in the case of disubstituted R3, each is independent),
or represents a thiadiazolyl group optionally substituted with R3,
R3 is
hydroxyl group,
cyano group,
nitro group,
halogen atom,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkynyl group,
a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkoxy group,
a C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyloxy group,
a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent C,
a C3-C6 haloalkynyloxy group,
RdC (=O) - (wherein Rd is as defined above),
RdC(=O)O- (wherein Rd is as defined above),
a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms;
Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above),
RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above),
or ReC(=O)N(Rf)- (where Re and Rf are each independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 A haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN— (wherein Ra and Rb are There is.) Represents.) Represents;
R4 is
hydrogen atom,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkynyl group,
a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D (provided that, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent),
a C1-C6 alkyl group having a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D (provided that, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent);
a C1-C6 haloalkyl group having a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D (provided that, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent);
or RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above),
R5 is
hydrogen atom,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkynyl group,
a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D (provided that, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent),
a C1-C6 alkyl group having a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D (provided that, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent);
a C1-C6 haloalkyl group having a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D (provided that, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent);
or RdC (=O) - (wherein Rd is as defined above),
Alternatively, R4 and R5, together with the attached oxime structure (C=N-O),
an isoxazole ring optionally substituted with 0 to 2 substituents E (provided that, in the case of disubstituted substituents E, each is independent),
an isoxazoline ring optionally substituted with 0 to 4 substituents F (provided that, in the case of two or more substituents F, each is independent),
a benzisoxazole ring optionally substituted with 0 to 4 substituents D (provided that, in the case of two or more substituents D, each is independent);
Alternatively, a 5,6-dihydro-4H-1,2-oxazine ring optionally substituted with 0 to 6 substituents F (provided that, in the case of 2 or more substituents F, each is independent) is formed. represents what to do;
Substituent A is a hydroxyl group, a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, RaRbN- (here, Ra and Rb are as defined above) and Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above); at least one selected from the group consisting of;
Substituent B is at least one selected from the group consisting of a cyano group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group and a C3-C8 cycloalkoxy group;
Substituent C is a hydroxyl group, a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, a C2-C6 alkoxyalkoxy group, RaRbN. - (where Ra and Rb are as defined above), Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above), RdC (=O) - (where Rd is as defined above), RdC(=O)O— (wherein Rd is as defined above) and a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms is at least one selected from the group;
Substituent D is a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a halogen atom, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1 to C6 haloalkyl group, a C3 to C8 cycloalkyl group, a C1 to at least one selected from the group consisting of a C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group and a C3-C8 cycloalkoxy group;
Substituent E is a hydroxyl group, a cyano group, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 optionally substituted with a substituent C A cycloalkyl group, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkynyl group, C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent C, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with substituent C, substituent C C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with C2-C6 haloalkenyloxy group, C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with substituent C, C3-C6 haloalkynyloxy group , a C2-C6 alkoxyalkoxy group, RaRbN- (where Ra and Rb are as defined above), Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above), RdC (=O)-(wherein Rd is as defined above), RdC(=O)O-(wherein Rd is as defined above), RgON=C(Rh)-( Here, Rg and Rh each independently represent a hydrogen atom or a C1-C6 alkyl group.), RiRjRkSi- (wherein Ri, Rj and Rk each independently represent a C1-C6 represents an alkyl group) and at least one selected from the group consisting of a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms;
Substituent F is a hydroxyl group, a cyano group, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 optionally substituted with a substituent C A cycloalkyl group, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkynyl group, C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent C, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with substituent C, substituent C C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with C2-C6 haloalkenyloxy group, C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with substituent C, C3-C6 haloalkynyloxy group , RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above), Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above), RdC (=O)- (where , Rd has the same meaning as defined above) and RdC(=O)O- (wherein Rd has the same meaning as defined above). ] or a salt thereof.
[2]
R1 is
a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A,
or represents a C2-C6 haloalkynyl group;
R2 is
hydrogen atom,
halogen atom,
a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkoxy group,
Rc-L- (wherein Rc represents a C1-C6 alkyl group or a C1 - C6 haloalkyl group, and L represents S, SO, or SO2),
or RdC(=O)-(wherein Rd is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, C1 ~C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN- (wherein Ra and Rb are each independently and optionally substituted with a hydrogen atom, a substituent B may be a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group, or Ra and Rb together with the binding nitrogen atom are an aziridinyl group, an azetidinyl , represents a pyrrolidinyl group, a piperidinyl group, a homopiperidinyl group, or an azocanyl group.) represents;
Y is
a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents with R3 (however, in the case of disubstituted or more R3, each is independent),
or R3 optionally represents a pyridyl group optionally substituted with 0 to 4 substituents (provided that, in the case of two or more substituted R3, each is independent),
R3 is
hydroxyl group,
cyano group,
halogen atom,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkoxy group,
a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyloxy group,
a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent C,
a C3-C6 haloalkynyloxy group,
or RdC (=O) O- (wherein Rd is as defined above);
R4 is
hydrogen atom,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkynyl group,
a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D (provided that, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent),
or RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above),
R5 is
hydrogen atom,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkynyl group,
or RdC (=O) - (wherein Rd is as defined above),
Alternatively, R4 and R5, together with the attached oxime structure (C=N-O),
an isoxazole ring optionally substituted with 0 to 2 substituents E (provided that, in the case of disubstituted substituents E, each is independent),
an isoxazoline ring optionally substituted with 0 to 4 substituents F (provided that, in the case of two or more substituents F, each is independent),
or a benzisoxazole ring optionally substituted with 0 to 4 substituents D (provided that, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent), [1] The described compound or a salt thereof.
[3]
R1 is
a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
or represents a C1-C6 haloalkyl group;
R2 is
halogen atom,
a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A,
or represents a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent A;
Y is
a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents at R3 (provided, however, that each R3 is disubstituted or more is independent);
R3 is
cyano group,
halogen atom,
or represents a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C;
R4 is
hydrogen atom,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C,
a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D (provided that, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent),
or RaRbN- (wherein Ra and Rb are each independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 Alternatively, Ra and Rb together with the attached nitrogen atom form an aziridinyl, azetidinyl, pyrrolidinyl, piperidinyl, homopiperidinyl, or azocanyl group). represent,
R5 is
hydrogen atom,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
or RdC(=O)-(wherein Rd is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, C1 ~C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN- (wherein Ra and Rb are each independently and optionally substituted with a hydrogen atom, a substituent B may be a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group, or Ra and Rb together with the binding nitrogen atom are an aziridinyl group, an azetidinyl , a pyrrolidinyl group, a piperidinyl group, a homopiperidinyl group, or an azocanyl group.
Alternatively, R4 and R5, together with the attached oxime structure (C=N-O),
an isoxazole ring optionally substituted with 0 to 2 substituents E (provided that, in the case of disubstituted substituents E, each is independent),
an isoxazoline ring optionally substituted with 0 to 4 substituents F (provided that, in the case of two or more substituents F, each is independent),
or a benzisoxazole ring optionally substituted with 0 to 4 substituents D (provided that, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent), [2] The described compound or a salt thereof.
[4]
R4 is
hydrogen atom,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C,
a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D (provided that, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent),
or RaRbN- (wherein Ra and Rb are each independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 Alternatively, Ra and Rb together with the attached nitrogen atom form an aziridinyl, azetidinyl, pyrrolidinyl, piperidinyl, homopiperidinyl, or azocanyl group). represent,
R5 is
hydrogen atom,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
or RdC(=O)-(wherein Rd is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, C1 ~C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN- (wherein Ra and Rb are each independently and optionally substituted with a hydrogen atom, a substituent B may be a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group, or Ra and Rb together with the binding nitrogen atom are an aziridinyl group, an azetidinyl , a pyrrolidinyl group, a piperidinyl group, a homopiperidinyl group, or an azocanyl group.
Alternatively, R4 and R5, together with the attached oxime structure (C=N-O),
The compound according to [3] or its salt.
[5]
The compound or salt thereof according to any one of [1] to [4], wherein R1 is a methyl group, an ethyl group, or a 2,2-difluoroethyl group.
[6]
The compound or salt thereof according to any one of [1] to [5], wherein R2 is a chlorine atom, a bromine atom, a methyl group, a methoxy group, or an ethynyl group.
[7]
The compound or salt thereof according to any one of [1] to [6], wherein X is an oxygen atom.
[8]
The compound or salt thereof according to any one of [1] to [7], wherein R3 is a cyano group, a fluorine atom, a bromine atom, or a methoxy group.
[9]
Y is a phenyl group, 4-cyanophenyl group, 4-fluorophenyl group, 2,6-difluorophenyl group, 2,4,6-trifluorophenyl group, 2,6-difluoro-4-methoxyphenyl group, 3 The compound or salt thereof according to any one of [1] to [7], which is -bromo-4-methoxyphenyl group or 4-methoxyphenyl group.
[10]
R4 is a hydrogen atom, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, t-butyl group, cyclopentyl group, phenyl group, amino group, or methylamino group, [1]-[ 9], the compound or a salt thereof according to any one of the above.
[11]
The compound or salt thereof according to any one of [1] to [10], wherein R5 is a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, or an acetyl group.
[12]
The structure of R5ON=C(R4)- is a (hydroxyimino)methyl group, 1-(hydroxyimino)propyl group, 1-(hydroxyimino)-2-methylpropyl group, 1-(hydroxyimino)-2,2 -dimethylpropyl group, 1-(hydroxyimino)-3-methylbutyl group, (methoxyimino)methyl group, 1-(methoxyimino)ethyl group, 1-(methoxyimino)propyl group, 1-(methoxyimino)-2 -methylpropyl group, 1-(methoxyimino)-2,2-dimethylpropyl group, 1-(methoxyimino)butyl group, 1-(methoxyimino)-3-methylbutyl group, 1-(methoxyimino)pentyl group, (Methoxyimino) (phenyl) methyl group, 1-(ethoxyimino) propyl group, 1-(isopropyloxyimino) propyl group, 1-(acetoxyimino) propyl group, cyclopentyl (hydroxyimino) methyl group, cyclopentyl (methoxyimino) ) a methyl group, HON=C(NH2)-, HON=C(NHMe)-, or MeON=C(NHMe)-, the compound or a salt thereof according to any one of [1] to [9] .
[13]
Substituent E is a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C, a substituent C2-C6 alkynyl group optionally substituted with C, RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above), RdC(=O)- (wherein Rd is as defined above ), RgON=C(Rh)- (wherein Rg and Rh are as defined above) and RiRjRkSi- (wherein Ri, Rj and Rk are as defined above) from The compound or salt thereof according to any one of [1] to [9], which is at least one selected from the group consisting of:
[14]
Substituent E is chlorine atom, bromine atom, iodine atom, methyl group, ethyl group, isopropyl group, hydroxymethyl group, 1-hydroxyethyl group, trifluoroacetoxymethyl group, bromomethyl group, difluoromethyl group, vinyl group, ethynyl The compound according to any one of [1] to [9], which is at least one selected from the group consisting of an amino group, a formyl group, an acetyl group, a (methoxyimino)methyl group, and a trimethylsilyl group. Or its salt.
[15]
Together with the oxime structure (C═N—O) to which R4 and R5 are attached, an isoxazole ring optionally substituted with 0 to 2 substituents E (however, in the case of a disubstituted substituent E, each are independent) are formed by isoxazol-3-yl group, 4-chloroisoxazol-3-yl group, 4-bromoisoxazol-3-yl group, 4-iodoisoxazol- 3-yl group, 4-methylisoxazol-3-yl group, 5-methylisoxazol-3-yl group, 5-(hydroxymethyl)isoxazol-3-yl group, 5-ethylisoxazol-3 -yl group, 5-(1-hydroxyethyl)isoxazol-3-yl group, 5-isopropylisoxazol-3-yl group, 5-aminoisoxazol-3-yl group, 5-(trimethylsilyl)isoxazol- 3-yl group, 4,5-dichloroisoxazol-3-yl group, 4-chloro-5-methylisoxazol-3-yl group, 4,5-dibromoisoxazol-3-yl group, 4 -bromo-5-methylisoxazol-3-yl group, 4-bromo-5-ethylisoxazol-3-yl group, 4-bromo-5-isopropylisoxazol-3-yl group, 4-bromo -5-(difluoromethyl)isoxazol-3-yl group, 4-bromo-5-formylisoxazol-3-yl group, 4-bromo-5-(trimethylsilyl)isoxazol-3-yl group, 4,5- Diiodoisoxazol-3-yl group, 4-iodo-5-methylisoxazol-3-yl group, 4,5-dimethylisoxazol-3-yl group, 4-(hydroxymethyl)-5- methylisoxazol-3-yl group, 4-(difluoromethyl)-5-methylisoxazol-3-yl group, 4-(bromomethyl)-5-methylisoxazol-3-yl group, 4-( trifluoroacetoxymethyl)-5-methylisoxazol-3-yl group, 4-(1-hydroxyethyl)-5-methylisoxazol-3-yl group, 5-methyl-4-vinylisoxazole- 3-yl group, 4-ethynyl-5-methylisoxazol-3-yl group, 4-formyl-5-methylisoxazol-3-yl group, 4-acetyl-5-methylisoxazol-3-yl group The compound or a salt thereof according to any one of [1] to [9], which is an yl group or a 4-((methoxyimino)methyl)-5-methylisoxazol-3-yl group.
[16]
Substituent F is at least one selected from the group consisting of a halogen atom, an alkyl group optionally substituted with substituent C, and a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent C. , [1] to [3], [5] to [9], or a salt thereof.
[17]
any one of [1] to [3] and [5] to [9], wherein the substituent F is at least one selected from the group consisting of a bromine atom, a methyl group, an ethyl group, and an ethoxy group; The compound or its salt as described in .
[18]
An isoxazoline ring optionally substituted with 0 to 4 substituents F together with the oxime structure (C═N—O) to which R4 and R5 are attached each independently) are formed by 4-bromo-5,5-dimethyl-4,5-dihydroisoxazol-3-yl group, 5-ethyl-4,5-dihydroisoxazole- 3-yl group, 5,5-dimethyl-4,5-dihydroisoxazol-3-yl group, or 5-ethoxy-4,5-dihydroisoxazol-3-yl group [1]- The compound or salt thereof according to any one of [3], [5] to [9].
[19]
A benzisoxazole ring optionally substituted with 0 to 4 substituents D (provided that the substituents D in any one of [1] to [3] and [5] to [9], which is a benzo[d]isoxazol-3-yl group The described compound or a salt thereof.
[20]
An agricultural and horticultural pest control agent containing the compound according to any one of [1] to [19] or a salt thereof as an active ingredient.
[21]
An agricultural and horticultural fungicide containing the compound according to any one of [1] to [19] or a salt thereof as an active ingredient.
[22]
A method for controlling plant diseases, which comprises applying the agricultural and horticultural pest control agent according to [20] to plants, plant seeds, or soil for cultivating plants.
[23]
A method for controlling plant diseases, which comprises applying the agricultural and horticultural fungicide of [21] to plants, plant seeds, or soil for cultivating plants.

本発明によれば、農園芸用殺菌剤として有効である新規な化合物を提供することができる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide novel compounds that are effective as agricultural and horticultural fungicides.

以下、本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明する。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The best mode for carrying out the present invention will be described in detail below.

なお、特許請求の範囲および明細書中において用いられる各用語は、特に断らない限り、当該技術分野において一般的に用いられる定義によるものとする。 Unless otherwise specified, each term used in the claims and the specification shall be defined as generally used in the technical field.

本明細書において、使用する略号を以下に説明する。
DMF:N,N-ジメチルホルムアミド、THF:テトラヒドロフラン、Me:メチル基、Et:エチル基、Pr:プロピル基、Bu:ブチル基、Pent:ペンチル基、Hex:ヘキシル基、Ac:アセチル基、Ph:フェニル基、Py:ピリジル基、c:シクロ、i:イソ、sec:セカンダリ、t:ターシャリ、=:二重結合、≡:三重結合を表す。表のカラム中、Pr、Bu、Pent、およびHexに関しては、接頭辞がない場合は、ノルマルを意味する。
The abbreviations used in this specification are described below.
DMF: N,N-dimethylformamide, THF: tetrahydrofuran, Me: methyl group, Et: ethyl group, Pr: propyl group, Bu: butyl group, Pent: pentyl group, Hex: hexyl group, Ac: acetyl group, Ph: Phenyl group, Py: pyridyl group, c: cyclo, i: iso, sec: secondary, t: tertiary, =: double bond, ≡: triple bond. For Pr, Bu, Pent, and Hex in the columns of the table, no prefix means normal.

以下に、本明細書中に使用される用語の定義を説明する。
Cx~Cyとの記載は、x個からy個の炭素原子を有することを表す。ここで、x及びyは整数を表し、また、xとyとの間に存在する全ての整数も個別に開示されているものと理解される。例えば、C1~C6は、1、2、3、4、5、または6個の炭素原子を、C1~C5は、1、2、3、4、または5個の炭素原子を、C2~C6は、2、3、4、5、または6個の炭素原子を、C3~C8は、3、4、5、6、7、または8個の炭素原子を、C3~C6は、3、4、5、または6個の炭素原子を、それぞれ有することを意味する。
Definitions of terms used in this specification are described below.
The description Cx-Cy represents having x to y carbon atoms. It is understood that x and y represent integers and that all integers between x and y are also individually disclosed. For example, C1-C6 are 1, 2, 3, 4, 5, or 6 carbon atoms, C1-C5 are 1, 2, 3, 4, or 5 carbon atoms, C2-C6 are , 2, 3, 4, 5, or 6 carbon atoms; C3-C8 are 3, 4, 5, 6, 7, or 8 carbon atoms; C3-C6 are 3, 4, 5 , or 6 carbon atoms, respectively.

用語「適宜置換されてもよい」とは、置換または無置換であることを意味する。この用語を用いる際、置換基の数が明示されていないときは、置換基の数は1であることを表す。一方で、例えば、「適宜0~6置換されてもよい」と置換基の数が指定されている場合、0と6との間に存在する全ての整数も個別に開示されているものと理解される。即ち、置換基が、無し、1、2、3、4、5、または6個の置換基数であることを意味する。同様に、「適宜0~5置換されてもよい」では、置換基が、無し、1、2、3、4、または5個の置換基数を、「適宜0~4置換されてもよい」では、置換基が、無し、1、2、3、または4個の置換基数を、「適宜0~3置換されてもよい」では、無し、1、2、または3個の置換基数を、「適宜0~2置換されてもよい」では、無し、1、または2個の置換基数を、それぞれ有することを意味する。 The term "optionally substituted" means substituted or unsubstituted. In using this term, if the number of substituents is not specified, it means that the number of substituents is one. On the other hand, for example, when the number of substituents is specified as "optionally substituted with 0 to 6", it is understood that all integers between 0 and 6 are also individually disclosed. be done. That is, it means that there are no, 1, 2, 3, 4, 5, or 6 substituents. Similarly, in "optionally 0 to 5 substituted", the number of substituents is none, 1, 2, 3, 4, or 5. In "optionally 0 to 4 substituted" , the number of substituents is none, 1, 2, 3, or 4, and ``optionally substituted with 0 to 3'' means ``no, 1, 2, or 3 substituents,'' and ``optionally "may be substituted with 0 to 2" means having no, 1, or 2 substituents, respectively.

C1~C6のアルキル基とは、直鎖状または分岐状でよく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、1-メチルブチル基、2-メチルブチル基、ネオペンチル基、1-エチルプロピル基、1,2-ジメチルプロピル基、ヘキシル基、4-メチルペンチル基、3-メチルペンチル基、2-メチルペンチル基、1-メチルペンチル基、3,3-ジメチルブチル基、2,2-ジメチルブチル基、1,1-ジメチルブチル基、1,2-ジメチルブチル基、1,3-ジメチルブチル基、2,3-ジメチルブチル基、2-エチルブチル基、1-イソプロピルプロピル基、1,1,2-トリメチルプロピル基、1,2,2-トリメチルプロピル基等が挙げられる。 The C1-C6 alkyl group may be linear or branched, and is methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, t-butyl group, pentyl group, isopentyl group, 1-methylbutyl group, 2-methylbutyl group, neopentyl group, 1-ethylpropyl group, 1,2-dimethylpropyl group, hexyl group, 4-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 1-methylpentyl group, 3,3-dimethylbutyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 1,1-dimethylbutyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 2,3- dimethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, 1-isopropylpropyl group, 1,1,2-trimethylpropyl group, 1,2,2-trimethylpropyl group and the like.

ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
C1~C6のハロアルキル基とは、前記のC1~C6のアルキル基における水素が1個または2個以上のハロゲン原子によって任意に置換されたものを表す。2個以上のハロゲン原子で置換される場合、それらのハロゲン原子は同一または異なっていてよく、その置換数は置換基として存在することができる限り特に制限はない。C1~C6のハロアルキル基の具体例として、モノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、モノクロロメチル基、モノブロモメチル基、モノヨードメチル基、クロロジフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基、1-フルオロエチル基、2-フルオロエチル基、1,1-ジフルオロエチル基、2,2-ジフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、1,1,2,2-テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、2,2,2-トリクロロエチル基、3,3-ジフルオロプロピル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基、ヘプタフルオロプロピル基、ヘプタフルオロイソプロピル基、2,2,2-トリフルオロ-1-(トリフルオロメチル)エチル基、ノナフルオロブチル基、ノナフルオロ-sec-ブチル基、3,3,4,4,5,5,5-ヘプタフルオロペンチル基、ウンデカフルオロペンチル基、トリデカフルオロヘキシル基等が挙げられる。
A halogen atom includes a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, and the like.
The C1-C6 haloalkyl group represents a C1-C6 alkyl group in which the hydrogen in the above-mentioned C1-C6 alkyl group is optionally substituted with one or more halogen atoms. When substituted with two or more halogen atoms, those halogen atoms may be the same or different, and the number of substitutions is not particularly limited as long as they can exist as substituents. Specific examples of C1 to C6 haloalkyl groups include monofluoromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, monochloromethyl group, monobromomethyl group, monoiodomethyl group, chlorodifluoromethyl group, bromodifluoromethyl group, 1 -fluoroethyl group, 2-fluoroethyl group, 1,1-difluoroethyl group, 2,2-difluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 1,1,2,2-tetrafluoroethyl group , pentafluoroethyl group, 2,2,2-trichloroethyl group, 3,3-difluoropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, heptafluoropropyl group, heptafluoroisopropyl group, 2,2,2 -trifluoro-1-(trifluoromethyl)ethyl group, nonafluorobutyl group, nonafluoro-sec-butyl group, 3,3,4,4,5,5,5-heptafluoropentyl group, undecafluoropentyl group , tridecafluorohexyl group, and the like.

C3~C8のシクロアルキル基とは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等が挙げられる。 The C3-C8 cycloalkyl group includes a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group and the like.

C2~C6のアルケニル基とは、1個または2個以上の二重結合を有し、直鎖状または分岐状である不飽和炭化水素基のものを表す。また、幾何異性体がある場合、E体またはZ体のどちらか一方のみ、あるいはE体とZ体との任意の割合の混合物であり、指定される炭素数の範囲であれば、特に限定されることはない。C2~C6のアルケニル基の具体例として、ビニル基、1-プロペニル基、アリル基、1-ブテニル基、2-ブテニル基、3-ブテニル基、2-メチル-1-プロペニル基、1-ペンテニル基、2-ペンテニル基、3-ペンテニル基、4-ペンテニル基、2-メチル-1-ブテニル基、3-メチル-2-ブテニル基、1-ヘキセニル基、2-ヘキセニル基、3-ヘキセニル基、4-ヘキセニル基、5-ヘキセニル基、4-メチル-3-ペンテニル基、3-メチル-2-ペンテニル基等が挙げられる。 The C2-C6 alkenyl group means a linear or branched unsaturated hydrocarbon group having one or more double bonds. In addition, when there is a geometric isomer, it is either E-isomer or Z-isomer only, or a mixture of E-isomer and Z-isomer in any ratio, and if it is within the specified carbon number range, it is not particularly limited. never Specific examples of C2 to C6 alkenyl groups include vinyl group, 1-propenyl group, allyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, 2-methyl-1-propenyl group, and 1-pentenyl group. , 2-pentenyl group, 3-pentenyl group, 4-pentenyl group, 2-methyl-1-butenyl group, 3-methyl-2-butenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 3-hexenyl group, 4 -hexenyl group, 5-hexenyl group, 4-methyl-3-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group and the like.

C2~C6のハロアルケニル基とは、前記のC2~C6のアルケニル基における水素原子が1個または2個以上のハロゲン原子によって任意に置換されたものを表す。2個以上のハロゲン原子で置換される場合、それらのハロゲン原子は同一または異なっていてよく、その置換数は置換基として存在することができる限り特に制限はない。C2~C6のハロアルケニル基の具体例として、2-フルオロビニル基、2,2-ジフルオロビニル基、2,2-ジクロロビニル基、3-フルオロアリル基、3,3-ジフルオロアリル基、3,3-ジクロロアリル基、4,4-ジフルオロ-3-ブテニル基、5,5-ジフルオロ-4-ペンテニル基、6,6-ジフルオロ-5-ヘキセニル基等が挙げられる。 The C2-C6 haloalkenyl group represents a C2-C6 alkenyl group in which hydrogen atoms in the above-mentioned C2-C6 alkenyl groups are optionally substituted with one or more halogen atoms. When substituted with two or more halogen atoms, those halogen atoms may be the same or different, and the number of substitutions is not particularly limited as long as they can exist as substituents. Specific examples of C2 to C6 haloalkenyl groups include 2-fluorovinyl group, 2,2-difluorovinyl group, 2,2-dichlorovinyl group, 3-fluoroallyl group, 3,3-difluoroallyl group, 3, 3-dichloroallyl group, 4,4-difluoro-3-butenyl group, 5,5-difluoro-4-pentenyl group, 6,6-difluoro-5-hexenyl group and the like.

C2~C6のアルキニル基とは、1個または2個以上の三重結合を有し、直鎖状または分岐状である不飽和炭化水素基のものを表す。C2~C6のアルキニル基の具体例として、エチニル基、1-プロピニル基、プロパルギル基、1-ブチニル基、2-ブチニル基、3-ブチニル基、1-ペンチニル基、2-ペンチニル基、3-ペンチニル基、4-ペンチニル基、1,1-ジメチル-2-プロピニル基、1-ヘキシニル基、2-ヘキシニル基、3-ヘキシニル基、4-ヘキシニル基、5-ヘキシニル基等が挙げられる。 The C2-C6 alkynyl group means a linear or branched unsaturated hydrocarbon group having one or more triple bonds. Specific examples of C2-C6 alkynyl groups include ethynyl, 1-propynyl, propargyl, 1-butynyl, 2-butynyl, 3-butynyl, 1-pentynyl, 2-pentynyl and 3-pentynyl. group, 4-pentynyl group, 1,1-dimethyl-2-propynyl group, 1-hexynyl group, 2-hexynyl group, 3-hexynyl group, 4-hexynyl group, 5-hexynyl group and the like.

C2~C6のハロアルキニル基とは、前記のC2~C6のアルキニル基における水素原子が1個または2個以上のハロゲン原子によって任意に置換されたものを表す。2個以上のハロゲン原子で置換される場合、それらのハロゲン原子は同一または異なっていてよく、その置換数は置換基として存在することができる限り特に制限はない。C2~C6のハロアルキニル基の具体例として、2-フルオロエチニル基、2-クロロエチニル基、2-ブロモエチニル基、2-ヨードエチニル基、3,3-ジフルオロ-1-プロピニル基、3-クロロ-3,3-ジフルオロ-1-プロピニル基、3-ブロモ-3,3-ジフルオロ-1-プロピニル基、3,3,3-トリフルオロ-1-プロピニル基、4,4-ジフルオロ-1-ブチニル基、4,4-ジフルオロ-2-ブチニル基、4-クロロ-4,4-ジフルオロ-1-ブチニル基、4-クロロ-4,4-ジフルオロ-2-ブチニル基、4-ブロモ-4,4-ジフルオロ-1-ブチニル基、4-ブロモ-4,4-ジフルオロ-2-ブチニル基、4,4,4-トリフルオロ-1-ブチニル基、4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニル基、5,5-ジフルオロ-3-ペンチニル基、5-クロロ-5,5-ジフルオロ-3-ペンチニル基、5-ブロモ-5,5-ジフルオロ-3-ペンチニル基、5,5,5-トリフルオロ-3-ペンチニル基、6,6-ジフルオロ-4-ヘキシニル基、6-クロロ-6,6-ジフルオロ-4-ヘキシニル基、6-ブロモ-6,6-ジフルオロ-4-ヘキシニル基、6,6,6-トリフルオロ-4-ヘキシニル基等が挙げられる。 The C2-C6 haloalkynyl group represents a C2-C6 alkynyl group in which the hydrogen atoms in the above C2-C6 alkynyl group are optionally substituted with one or more halogen atoms. When substituted with two or more halogen atoms, those halogen atoms may be the same or different, and the number of substitutions is not particularly limited as long as they can exist as substituents. Specific examples of C2-C6 haloalkynyl groups include 2-fluoroethynyl, 2-chloroethynyl, 2-bromoethynyl, 2-iodoethynyl, 3,3-difluoro-1-propynyl, 3-chloro -3,3-difluoro-1-propynyl group, 3-bromo-3,3-difluoro-1-propynyl group, 3,3,3-trifluoro-1-propynyl group, 4,4-difluoro-1-butynyl group, 4,4-difluoro-2-butynyl group, 4-chloro-4,4-difluoro-1-butynyl group, 4-chloro-4,4-difluoro-2-butynyl group, 4-bromo-4,4 -difluoro-1-butynyl group, 4-bromo-4,4-difluoro-2-butynyl group, 4,4,4-trifluoro-1-butynyl group, 4,4,4-trifluoro-2-butynyl group , 5,5-difluoro-3-pentynyl group, 5-chloro-5,5-difluoro-3-pentynyl group, 5-bromo-5,5-difluoro-3-pentynyl group, 5,5,5-trifluoro -3-pentynyl group, 6,6-difluoro-4-hexynyl group, 6-chloro-6,6-difluoro-4-hexynyl group, 6-bromo-6,6-difluoro-4-hexynyl group, 6,6 , 6-trifluoro-4-hexynyl group and the like.

C1~C6のアルコキシ基とは、前記のC1~C6のアルキル基が酸素原子を介して結合したものを表す。C1~C6のアルコキシ基として、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、t-ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、2-メチルブトキシ基、ネオペンチルオキシ基、1-エチルプロピルオキシ基、ヘキシルオキシ基、4-メチルペンチルオキシ基、3-メチルペンチルオキシ基、2-メチルペンチルオキシ基、1-メチルペンチルオキシ基、3,3-ジメチルブトキシ基、2,2-ジメチルブトキシ基、1,1-ジメチルブトキシ基、1,2-ジメチルブトキシ基、1,3-ジメチルブトキシ基、2,3-ジメチルブトキシ基、2-エチルブトキシ基等が挙げられる。 The C1-C6 alkoxy group represents a C1-C6 alkyl group bonded via an oxygen atom. Specific examples of C1 to C6 alkoxy groups include methoxy, ethoxy, propyloxy, isopropyloxy, butoxy, isobutoxy, sec-butoxy, t-butoxy, pentyloxy, and isopentyloxy. group, 2-methylbutoxy group, neopentyloxy group, 1-ethylpropyloxy group, hexyloxy group, 4-methylpentyloxy group, 3-methylpentyloxy group, 2-methylpentyloxy group, 1-methylpentyloxy 3,3-dimethylbutoxy group, 2,2-dimethylbutoxy group, 1,1-dimethylbutoxy group, 1,2-dimethylbutoxy group, 1,3-dimethylbutoxy group, 2,3-dimethylbutoxy group, 2-ethylbutoxy group and the like.

C1~C6のハロアルコキシ基とは、前記のC1~C6のアルコキシ基における水素原子が1個または2個以上のハロゲン原子によって任意に置換されたものを表す。2個以上のハロゲン原子で置換される場合、それらのハロゲン原子は同一または異なっていてよく、その置換数は置換基として存在することができる限り特に制限はない。C1~C6のハロアルコキシ基の具体例として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、クロロジフルオロメトキシ基、ブロモジフルオロメトキシ基、2-フルオロエトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、1,1,2,2-テトラフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、2,2,2-トリクロロエトキシ基、3,3-ジフルオロプロピルオキシ基、3,3,3-トリフルオロプロピルオキシ基、ヘプタフルオロプロピルオキシ基、ヘプタフルオロイソプロピルオキシ基、2,2,2-トリフルオロ-1-(トリフルオロメチル)-エトキシ基、ノナフルオロブトキシ基、ノナフルオロ-sec-ブトキシ基、3,3,4,4,5,5,5-ヘプタフルオロペンチルオキシ基、ウンデカフルオロペンチルオキシ基、トリデカフルオロヘキシルオキシ基等が挙げられる。 The C1-C6 haloalkoxy group represents a C1-C6 alkoxy group in which hydrogen atoms in the above C1-C6 alkoxy groups are optionally substituted with one or more halogen atoms. When substituted with two or more halogen atoms, those halogen atoms may be the same or different, and the number of substitutions is not particularly limited as long as they can exist as substituents. Specific examples of C1 to C6 haloalkoxy groups include difluoromethoxy, trifluoromethoxy, chlorodifluoromethoxy, bromodifluoromethoxy, 2-fluoroethoxy, 2,2-difluoroethoxy, 2,2,2 -trifluoroethoxy group, 1,1,2,2-tetrafluoroethoxy group, pentafluoroethoxy group, 2,2,2-trichloroethoxy group, 3,3-difluoropropyloxy group, 3,3,3-tri fluoropropyloxy group, heptafluoropropyloxy group, heptafluoroisopropyloxy group, 2,2,2-trifluoro-1-(trifluoromethyl)-ethoxy group, nonafluorobutoxy group, nonafluoro-sec-butoxy group, 3 , 3,4,4,5,5,5-heptafluoropentyloxy group, undecafluoropentyloxy group, tridecafluorohexyloxy group and the like.

C3~C8のシクロアルコキシ基とは、前記のC3~C8のシクロアルキル基が酸素原子を介して結合したものを表す。C3~C8のシクロアルコキシ基として、具体的には、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、シクロオクチルオキシ基等が挙げられる。 The C3-C8 cycloalkoxy group represents a C3-C8 cycloalkyl group bonded via an oxygen atom. Specific examples of C3-C8 cycloalkoxy groups include cyclopropyloxy, cyclobutoxy, cyclopentyloxy, cyclohexyloxy, cycloheptyloxy, and cyclooctyloxy groups.

C2~C6のアルケニルオキシ基とは、前記のC2~C6のアルケニル基が酸素原子を介して結合したものを表す。また、幾何異性体がある場合、E体またはZ体のどちらか一方のみ、あるいはE体とZ体との任意の割合の混合物であり、指定される炭素数の範囲であれば、特に制限されることはない。C2~C6のアルケニルオキシ基の具体例として、ビニルオキシ基、1-プロペニルオキシ基、アリルオキシ基、1-ブテニルオキシ基、2-ブテニルオキシ基、3-ブテニルオキシ基、2-メチル-1-プロペニルオキシ基、1-ペンテニルオキシ基、2-ペンテニルオキシ基、3-ペンテニルオキシ基、4-ペンテニルオキシ基、2-メチル-1-ブテニルオキシ基、3-メチル-2-ブテニルオキシ基、1-ヘキセニルオキシ基、2-ヘキセニルオキシ基、3-ヘキセニルオキシ基、4-ヘキセニルオキシ基、5-ヘキセニルオキシ基、4-メチル-3-ペンテニルオキシ基、3-メチル-2-ペンテニルオキシ基等が挙げられる。 The C2-C6 alkenyloxy group represents a C2-C6 alkenyl group bonded via an oxygen atom. In addition, when there is a geometric isomer, it is either the E isomer or the Z isomer alone, or a mixture of the E isomer and the Z isomer in an arbitrary ratio, and if it is within the specified carbon number range, it is not particularly limited. never Specific examples of C2 to C6 alkenyloxy groups include vinyloxy, 1-propenyloxy, allyloxy, 1-butenyloxy, 2-butenyloxy, 3-butenyloxy, 2-methyl-1-propenyloxy, 1 -Pentenyloxy group, 2-pentenyloxy group, 3-pentenyloxy group, 4-pentenyloxy group, 2-methyl-1-butenyloxy group, 3-methyl-2-butenyloxy group, 1-hexenyloxy group, 2-hexenyl oxy group, 3-hexenyloxy group, 4-hexenyloxy group, 5-hexenyloxy group, 4-methyl-3-pentenyloxy group, 3-methyl-2-pentenyloxy group and the like.

C2~C6のハロアルケニルオキシ基とは、前記のC2~C6のアルケニルオキシ基における水素原子が1個または2個以上のハロゲン原子によって任意に置換されたものを表す。2個以上のハロゲン原子で置換される場合、それらのハロゲン原子は同一または異なっていてよく、その置換数は置換基として存在することができる限り特に制限はない。C2~C6のハロアルケニルオキシ基の具体例として、2-フルオロビニルオキシ基、2,2-ジフルオロビニルオキシ基、2,2-ジクロロビニルオキシ基、3-フルオロアリルオキシ基、3,3-ジフルオロアリルオキシ基、3,3-ジクロロアリルオキシ基、4,4-ジフルオロ-3-ブテニルオキシ基、5,5-ジフルオロ-4-ペンテニルオキシ基、6,6-ジフルオロ-5-ヘキセニルオキシ基等が挙げられる。 The C2-C6 haloalkenyloxy group represents a C2-C6 alkenyloxy group in which hydrogen atoms in the above C2-C6 alkenyloxy groups are optionally substituted with one or more halogen atoms. When substituted with two or more halogen atoms, those halogen atoms may be the same or different, and the number of substitutions is not particularly limited as long as they can exist as substituents. Specific examples of C2 to C6 haloalkenyloxy groups include 2-fluorovinyloxy, 2,2-difluorovinyloxy, 2,2-dichlorovinyloxy, 3-fluoroallyloxy and 3,3-difluoro allyloxy group, 3,3-dichloroallyloxy group, 4,4-difluoro-3-butenyloxy group, 5,5-difluoro-4-pentenyloxy group, 6,6-difluoro-5-hexenyloxy group and the like. be done.

C3~C6のアルキニルオキシ基とは、前記のC2~C6のアルキニル基のうち、C3~C6のアルキニル基が酸素原子を介して結合したものを表す。C3~C6のアルキニルオキシ基の具体例として、プロパルギルオキシ基、2-ブチニルオキシ基、3-ブチニルオキシ基、2-ペンチニルオキシ基、3-ペンチニルオキシ基、4-ペンチニルオキシ基、1,1-ジメチル-2-プロピニルオキシ基、2-ヘキシニルオキシ基、3-ヘキシニルオキシ基、4-ヘキシニルオキシ基、5-ヘキシニルオキシ基等が挙げられる。 The C3-C6 alkynyloxy group represents a C3-C6 alkynyl group among the above-mentioned C2-C6 alkynyl groups bonded through an oxygen atom. Specific examples of C3-C6 alkynyloxy groups include propargyloxy, 2-butynyloxy, 3-butynyloxy, 2-pentynyloxy, 3-pentynyloxy, 4-pentynyloxy, 1,1 -dimethyl-2-propynyloxy group, 2-hexynyloxy group, 3-hexynyloxy group, 4-hexynyloxy group, 5-hexynyloxy group and the like.

C3~C6のハロアルキニルオキシ基とは、前記のC3~C6のアルキニルオキシ基における水素原子が1個または2個以上のハロゲン原子によって任意に置換されたものを表す。2個以上のハロゲン原子で置換される場合、それらのハロゲン原子は同一または異なっていてよく、その置換数は置換基として存在することができる限り特に制限はない。C3~C6のハロアルキニルオキシ基の具体例として、1,1-ジフルオロ-2-プロピニルオキシ基、4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、4-クロロ-4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、4-ブロモ-4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニルオキシ基、5,5-ジフルオロ-3-ペンチニルオキシ基、5-クロロ-5,5-ジフルオロ-3-ペンチニルオキシ基、5-ブロモ-5,5-ジフルオロ-3-ペンチニルオキシ基、5,5,5-トリフルオロ-3-ペンチニルオキシ基、6,6-ジフルオロ-4-ヘキシニルオキシ基、6-クロロ-6,6-ジフルオロ-4-ヘキシニルオキシ基、6-ブロモ-6,6-ジフルオロ-4-ヘキシニルオキシ基、6,6,6-トリフルオロ-4-ヘキシニルオキシ基等が挙げられる。 The C3-C6 haloalkynyloxy group represents a C3-C6 alkynyloxy group in which hydrogen atoms in the above-mentioned C3-C6 alkynyloxy group are optionally substituted with one or more halogen atoms. When substituted with two or more halogen atoms, those halogen atoms may be the same or different, and the number of substitutions is not particularly limited as long as they can exist as substituents. Specific examples of C3-C6 haloalkynyloxy groups include 1,1-difluoro-2-propynyloxy group, 4,4-difluoro-2-butynyloxy group and 4-chloro-4,4-difluoro-2-butynyloxy group. , 4-bromo-4,4-difluoro-2-butynyloxy group, 4,4,4-trifluoro-2-butynyloxy group, 5,5-difluoro-3-pentynyloxy group, 5-chloro-5,5 -difluoro-3-pentynyloxy group, 5-bromo-5,5-difluoro-3-pentynyloxy group, 5,5,5-trifluoro-3-pentynyloxy group, 6,6-difluoro-4 -hexynyloxy group, 6-chloro-6,6-difluoro-4-hexynyloxy group, 6-bromo-6,6-difluoro-4-hexynyloxy group, 6,6,6-trifluoro-4-hexynyloxy group and the like. be done.

1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基の具体例として、1,2-エポキシエタニル基、オキセタニル基、オキソラニル基、オキサニル基、1,3-ジオキソラニル基、1,3-ジオキサニル基、1,4-ジオキサニル基等が挙げられる。 Specific examples of 3- to 6-membered ring groups containing 1 to 2 oxygen atoms include 1,2-epoxyethanyl, oxetanyl, oxolanyl, oxanyl, 1,3-dioxolanyl, 1,3- dioxanyl group, 1,4-dioxanyl group and the like.

C2~C6のアルコキシアルコキシ基とは、前記のC1~C6のアルコキシ基のうちC1~C5のアルコシキ基における水素原子が、1個または2個以上のC1~C5アルコキシ基で任意に置換されたものを表す。炭素数の総和が指定される炭素数の範囲であれば、特に限定されることはない。C2~C6のアルコキシアルコキシ基の具体例として、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、プロピルオキシメトキシ基、イソプロピルオキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシ基、イソプロピルオキシエトキシ基、メトキシプロピルオキシ基、エトキシプロピルオキシ基、プロピルオキシプロピルオキシ基、イソプロピルオキシプロピルオキシ基等が挙げられる。 The C2-C6 alkoxyalkoxy group is a C1-C6 alkoxy group in which the hydrogen atoms in the C1-C5 alkoxy group are optionally substituted with one or more C1-C5 alkoxy groups. represents There is no particular limitation as long as the total number of carbon atoms is within the specified carbon number range. Specific examples of C2-C6 alkoxyalkoxy groups include methoxymethoxy, ethoxymethoxy, propyloxymethoxy, isopropyloxymethoxy, methoxyethoxy, ethoxyethoxy, propyloxyethoxy, isopropyloxyethoxy, and methoxypropyl. oxy group, ethoxypropyloxy group, propyloxypropyloxy group, isopropyloxypropyloxy group and the like.

本発明のピリドン化合物は、下記式(1)で表される化合物とその塩を包含する。(以下、本発明化合物ともいう)。

Figure 0007118961000002

以下、式(1)について説明する。The pyridone compound of the present invention includes compounds represented by the following formula (1) and salts thereof. (hereinafter also referred to as the compound of the present invention).
Figure 0007118961000002

Formula (1) will be described below.

式(1)中のR1は、水酸基、シアノ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、C2~C6のハロアルケニルオキシ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、C3~C6のハロアルキニルオキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはRaおよびRbは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)を表す。 R1 in formula (1) is a hydroxyl group, a cyano group, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1 to C6 haloalkyl group optionally substituted with a substituent A, a C3 to C8 cycloalkyl group, C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent A, C2-C6 haloalkenyl group, C2-C6 alkynyl group optionally substituted with substituent A, C2- C6 haloalkynyl group, C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent A, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with substituent A, substituted C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with group A, C2-C6 haloalkenyloxy group, C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with substituent A, C3-C6 haloalkynyl oxy group, or RaRbN— (wherein Ra and Rb are each independently a hydrogen atom, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1 to C6 haloalkyl group, or a C3 represents a ~C8 cycloalkyl group, or Ra and Rb together with the attached nitrogen atom form an aziridinyl, azetidinyl, pyrrolidinyl, piperidinyl, homopiperidinyl, or azocanyl group ).

中でもR1は、置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、またはC2~C6のハロアルキニル基が好ましく、
特にR1は、置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、またはC1~C6のハロアルキル基が好ましい。
Among them, R1 is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 haloalkyl group, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A, a C2-C6 halo An alkenyl group, a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A, or a C2-C6 haloalkynyl group are preferred,
In particular, R1 is preferably a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A or a C1-C6 haloalkyl group.

式(1)のR1には、水酸基およびシアノ基が含まれる。
式(1)のR1における「置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基」のC1~C6のアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、またはイソブチル基であり、さらに好ましくは、メチル基、エチル基、またはプロピル基である。置換基Aを有する場合、C1~C6のアルキル基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。
R1 in formula (1) includes a hydroxyl group and a cyano group.
The C1-C6 alkyl group of the "C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A" in R1 of formula (1) has the same definition as above, and is preferably a methyl group or an ethyl group. , propyl, isopropyl, butyl or isobutyl, more preferably methyl, ethyl or propyl. When having a substituent A, a hydrogen atom in the C1-C6 alkyl group is optionally substituted by the substituent A.

式(1)のR1における「C1~C6のハロアルキル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、2-フルオロエチル基、2,2-ジフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、3,3-ジフルオロプロピル基、または3,3,3-トリフルオロプロピル基であり、さらに好ましくは、2-フルオロエチル基、2,2-ジフルオロエチル基、または2,2,2-トリフルオロエチル基である。 The "C1-C6 haloalkyl group" for R1 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably 2-fluoroethyl group, 2,2-difluoroethyl group, 2,2,2-trifluoro ethyl group, 3,3-difluoropropyl group or 3,3,3-trifluoropropyl group, more preferably 2-fluoroethyl group, 2,2-difluoroethyl group or 2,2,2- It is a trifluoroethyl group.

式(1)のR1における「置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基」のC3~C8のシクロアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、またはシクロヘキシル基であり、さらに好ましくは、シクロプロピル基、またはシクロブチル基である。置換基Aを有する場合、C3~C8のシクロアルキル基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。 The C3-C8 cycloalkyl group of the "C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A" in R1 of formula (1) has the same definition as above, preferably a cyclopropyl group , cyclobutyl group, cyclopentyl group or cyclohexyl group, more preferably cyclopropyl group or cyclobutyl group. A hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkyl group is optionally replaced by the substituent A, if the substituent A is present.

式(1)のR1における「置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基」のC2~C6のアルケニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニル基、1-プロペニル基、またはアリル基であり、さらに好ましくは、ビニル基、またはアリル基である。置換基Aを有する場合、C2~C6のアルケニル基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。 The C2-C6 alkenyl group of the "C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A" in R1 of formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a vinyl group, 1- It is a propenyl group or an allyl group, more preferably a vinyl group or an allyl group. A hydrogen atom in the C2-C6 alkenyl group is optionally replaced by the substituent A, if the substituent A is present.

式(1)のR1における「C2~C6のハロアルケニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、2-フルオロビニル基、2,2-ジフルオロビニル基、3-フルオロアリル基、または3,3-ジフルオロアリル基であり、さらに好ましくは、2-フルオロビニル基、または2,2-ジフルオロビニル基である。 The “C2-C6 haloalkenyl group” for R1 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a 2-fluorovinyl group, a 2,2-difluorovinyl group, a 3-fluoroallyl group, or It is a 3,3-difluoroallyl group, more preferably a 2-fluorovinyl group or a 2,2-difluorovinyl group.

式(1)のR1における「置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基」のC2~C6のアルキニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、プロパルギル基、2-ブチニル基、または3-ブチニル基であり、さらに好ましくは、プロパルギル基である。置換基Aを有する場合、C2~C6のアルキニル基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。 The C2-C6 alkynyl group in the "C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A" in R1 of formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a propargyl group, 2- It is a butynyl group or a 3-butynyl group, more preferably a propargyl group. A hydrogen atom in the C2-C6 alkynyl group is optionally replaced by the substituent A, if the substituent A is present.

式(1)のR1における「C2~C6のハロアルキニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、4,4-ジフルオロ-2-ブチニル基、4-クロロ-4,4-ジフルオロ-2-ブチニル基、4-ブロモ-4,4-ジフルオロ-2-ブチニル基、または4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニル基であり、さらに好ましくは、4,4-ジフルオロ-2-ブチニル基、または4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニル基である。 The “C2-C6 haloalkynyl group” for R1 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably 4,4-difluoro-2-butynyl group, 4-chloro-4,4-difluoro- 2-butynyl group, 4-bromo-4,4-difluoro-2-butynyl group, or 4,4,4-trifluoro-2-butynyl group, more preferably 4,4-difluoro-2-butynyl or 4,4,4-trifluoro-2-butynyl group.

式(1)のR1における「置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基」のC1~C6のアルコキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、またはイソブトキシ基であり、さらに好ましくは、メトキシ基、またはエトキシ基である。置換基Aを有する場合、C1~C6のアルコキシ基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。 The C1-C6 alkoxy group of the "C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent A" in R1 of formula (1) has the same definition as above, preferably a methoxy group or an ethoxy group. , propyloxy, isopropyloxy, butoxy or isobutoxy, more preferably methoxy or ethoxy. When having a substituent A, a hydrogen atom in the C1-C6 alkoxy group is optionally replaced by the substituent A.

式(1)のR1における「C1~C6のハロアルコキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、3,3-ジフルオロプロピルオキシ基、または3,3,3-トリフルオロプロピルオキシ基であり、さらに好ましくは、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、または2,2,2-トリフルオロエトキシ基である。 The “C1-C6 haloalkoxy group” for R1 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, 2,2, 2-trifluoroethoxy group, 3,3-difluoropropyloxy group or 3,3,3-trifluoropropyloxy group, more preferably difluoromethoxy group, trifluoromethoxy group and 2,2-difluoroethoxy or a 2,2,2-trifluoroethoxy group.

式(1)のR1における「置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基」のC3~C8のシクロアルコキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、またはシクロヘキシルオキシ基であり、さらに好ましくは、シクロプロピルオキシ基、またはシクロブトキシ基である。置換基Aを有する場合、C3~C8のシクロアルコキシ基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。 The C3-C8 cycloalkoxy group of the "C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent A" for R1 in formula (1) has the same definition as above, preferably cyclopropyloxy group, cyclobutoxy group, cyclopentyloxy group or cyclohexyloxy group, more preferably cyclopropyloxy group or cyclobutoxy group. A hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkoxy group is optionally replaced by the substituent A, if the substituent A is present.

式(1)のR1における「置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基」のC2~C6のアルケニルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニルオキシ基、1-プロペニルオキシ基、またはアリルオキシ基であり、さらに好ましくは、ビニルオキシ基である。置換基Aを有する場合、C2~C6のアルケニルオキシ基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。 The C2-C6 alkenyloxy group in the "C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent A" in R1 of formula (1) has the same definition as above, preferably a vinyloxy group, It is a 1-propenyloxy group or an allyloxy group, more preferably a vinyloxy group. A hydrogen atom in the C2-C6 alkenyloxy group is optionally replaced by the substituent A, if the substituent A is present.

式(1)のR1における「C2~C6のハロアルケニルオキシ基」とは、前記の定義と同義であり、好ましくは、2-フルオロビニルオキシ基、2,2-ジフルオロビニルオキシ基、3-フルオロアリルオキシ基、または3,3-ジフルオロアリルオキシ基であり、さらに好ましくは、2-フルオロビニルオキシ基、または2,2-ジフルオロビニルオキシ基である。 The "C2-C6 haloalkenyloxy group" in R1 of formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a 2-fluorovinyloxy group, a 2,2-difluorovinyloxy group, a 3-fluoro It is an allyloxy group or a 3,3-difluoroallyloxy group, more preferably a 2-fluorovinyloxy group or a 2,2-difluorovinyloxy group.

式(1)のR1における「置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基」のC3~C6のアルキニルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、プロパルギルオキシ基、2-ブチニルオキシ基、または3-ブチニルオキシ基であり、さらに好ましくは、プロパルギルオキシ基である。置換基Aを有する場合、C3~C6のアルキニルオキシ基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。 The C3-C6 alkynyloxy group in the "C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent A" in R1 of formula (1) has the same definition as above, preferably a propargyloxy group. , 2-butynyloxy, or 3-butynyloxy, more preferably propargyloxy. A hydrogen atom in the C3-C6 alkynyloxy group is optionally replaced by the substituent A, if the substituent A is present.

式(1)のR1における「C3~C6のハロアルキニルオキシ基」とは、前記の定義と同義であり、好ましくは、4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、4-クロロ-4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、4-ブロモ-4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、または4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニルオキシ基であり、さらに好ましくは、4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、または4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニルオキシ基である。 The “C3-C6 haloalkynyloxy group” for R1 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably 4,4-difluoro-2-butynyloxy group, 4-chloro-4,4- difluoro-2-butynyloxy group, 4-bromo-4,4-difluoro-2-butynyloxy group, or 4,4,4-trifluoro-2-butynyloxy group, more preferably 4,4-difluoro-2 -butynyloxy group, or 4,4,4-trifluoro-2-butynyloxy group.

式(1)のR1における「RaRbN-」(ここで、RaおよびRbは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはRaおよびRbは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)の各用語の定義は、前記の定義と同義である。なお、「置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基」に関しては、置換基Bを有する場合、C1~C6のアルキル基における水素原子が、置換基Bによって任意に置換される。「RaRbN-」として、好ましくは、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、(メトキシメチル)アミノ基、(2-メトキシエチル)アミノ基、(シアノメチル)アミノ基、(2-シアノエチル)アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、(メトキシメチル)メチルアミノ基、(2-メトキシエチル)メチルアミノ基、(シアノメチル)メチルアミノ基、(2-シアノエチル)メチルアミノ基、2,2-ジフルオロエチルアミノ基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、(シクロプロピル)メチルアミノ基、ピロリジニル基、およびピペリジニル基が挙げられ、さらに好ましくは、アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、およびジエチルアミノ基が挙げられる。 “RaRbN—” for R1 in formula (1) (wherein Ra and Rb are each independently a hydrogen atom, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1 to C6 represents a haloalkyl group or a C3-C8 cycloalkyl group, or Ra and Rb, together with the nitrogen atom to which they are attached, represent an aziridinyl group, azetidinyl group, pyrrolidinyl group, piperidinyl group, homopiperidinyl group, or azocanyl group; The definition of each term of "former" is the same as the definition given above. Regarding the "C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B", when the substituent B is present, the hydrogen atom in the C1-C6 alkyl group is optionally substituted with the substituent B. . "RaRbN-" is preferably amino group, methylamino group, ethylamino group, (methoxymethyl)amino group, (2-methoxyethyl)amino group, (cyanomethyl)amino group, (2-cyanoethyl)amino group, dimethylamino group, ethylmethylamino group, diethylamino group, (methoxymethyl)methylamino group, (2-methoxyethyl)methylamino group, (cyanomethyl)methylamino group, (2-cyanoethyl)methylamino group, 2,2- difluoroethylamino group, 2,2,2-trifluoroethylamino group, cyclopropylamino group, (cyclopropyl)methylamino group, pyrrolidinyl group, and piperidinyl group, more preferably amino group, dimethylamino group , the ethylmethylamino group, and the diethylamino group.

式(1)中のR2は、水素原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、C2~C6のハロアルケニルオキシ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、C3~C6のハロアルキニルオキシ基、Rc-L-(ここで、Rcは、C1~C6のアルキル基またはC1~C6のハロアルキル基を表し、Lは、S、SO、またはSOを表す。)、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、またはRdC(=O)-(ここで、Rdは、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である)を表す。)を表す。R2 in formula (1) is a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, a halogen atom, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1 to C6 haloalkyl group, or a substituent A as appropriate. optionally substituted C3-C8 cycloalkyl group, optionally substituted C2-C6 alkenyl group, C2-C6 haloalkenyl group optionally substituted with substituent A, C2- optionally substituted with substituent A C6 alkynyl group, C2-C6 haloalkynyl group, C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent A, C1-C6 haloalkoxy group optionally substituted with substituent A C3- C8 cycloalkoxy group, C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with substituent A, C2-C6 haloalkenyloxy group, C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with substituent A , a C3-C6 haloalkynyloxy group, Rc-L- (wherein Rc represents a C1-C6 alkyl group or a C1-C6 haloalkyl group, and L represents S, SO, or SO 2 ). ), RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above), or RdC (=O)- (wherein Rd is a hydrogen atom, optionally substituted with a substituent B C1- C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN— (where Ra and Rb are as defined above).

中でもR2は、水素原子、ハロゲン原子、置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、またはRdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)が好ましく、
特にR2は、ハロゲン原子、置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、または置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基が好ましい。
Among them, R2 is a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 haloalkyl group, or a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A. , a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 haloalkoxy group, Rc-L- (where , Rc and L are as defined above), or RdC(=O)- (wherein Rd is as defined above),
In particular, R2 is a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A, or optionally substituted with a substituent A A good C1-C6 alkoxy group is preferred.

式(1)のR2には、水素原子、シアノ基、およびニトロ基が含まれる。
式(1)のR2におけるハロゲン原子は、前記の定義と同義であり、好ましくは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。
R2 in formula (1) includes a hydrogen atom, a cyano group, and a nitro group.
The halogen atom for R2 in formula (1) has the same meaning as defined above, and is preferably a fluorine atom, chlorine atom, bromine atom or iodine atom.

式(1)のR2における「置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基」のC1~C6のアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、またはイソプロピル基であり、さらに好ましくは、メチル基、またはエチル基である。置換基Aを有する場合、C1~C6のアルキル基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。 The C1-C6 alkyl group of the "C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A" for R2 in formula (1) has the same meaning as defined above, and is preferably a methyl group or an ethyl group. , propyl group or isopropyl group, more preferably methyl group or ethyl group. When having a substituent A, a hydrogen atom in the C1-C6 alkyl group is optionally substituted by the substituent A.

式(1)のR2における「C1~C6のハロアルキル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2-ジフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、3,3-ジフルオロプロピル基、または3,3,3-トリフルオロプロピル基であり、さらに好ましくは、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2-ジフルオロエチル基、または2,2,2-トリフルオロエチル基である。 The “C1 to C6 haloalkyl group” for R2 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2,2-difluoroethyl group, 2,2,2 -trifluoroethyl group, 3,3-difluoropropyl group, or 3,3,3-trifluoropropyl group, more preferably difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2,2-difluoroethyl group, or It is a 2,2,2-trifluoroethyl group.

式(1)のR2における「置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基」のC3~C8のシクロアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、またはシクロヘキシル基であり、さらに好ましくは、シクロプロピル基、またはシクロブチル基である。置換基Aを有する場合、C3~C8のシクロアルキル基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。 The C3-C8 cycloalkyl group of the "C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A" for R2 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a cyclopropyl group. , cyclobutyl group, cyclopentyl group or cyclohexyl group, more preferably cyclopropyl group or cyclobutyl group. A hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkyl group is optionally replaced by the substituent A, if the substituent A is present.

式(1)のR2における「置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基」のC2~C6のアルケニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニル基、1-プロペニル基、アリル基、1-ブテニル基、2-ブテニル基、または3-ブテニル基であり、さらに好ましくは、ビニル基、1-プロペニル基、またはアリル基である。置換基Aを有する場合、C2~C6のアルケニル基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。 The C2-C6 alkenyl group of the "C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A" for R2 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a vinyl group, 1- It is a propenyl group, allyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group or 3-butenyl group, more preferably vinyl group, 1-propenyl group or allyl group. A hydrogen atom in the C2-C6 alkenyl group is optionally replaced by the substituent A, if the substituent A is present.

式(1)のR2における「C2~C6のハロアルケニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、2-フルオロビニル基、2,2-ジフルオロビニル基、2,2-ジクロロビニル基、3-フルオロアリル基、3,3-ジフルオロアリル基、または3,3-ジクロロアリル基であり、さらに好ましくは、2-フルオロビニル基、または2,2-ジフルオロビニル基である。 The “C2-C6 haloalkenyl group” for R2 in formula (1) has the same meaning as defined above, and is preferably a 2-fluorovinyl group, a 2,2-difluorovinyl group, or a 2,2-dichlorovinyl group. , 3-fluoroallyl group, 3,3-difluoroallyl group or 3,3-dichloroallyl group, more preferably 2-fluorovinyl group or 2,2-difluorovinyl group.

式(1)のR2における「置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基」のC2~C6のアルキニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、エチニル基、1-プロピニル基、プロパルギル基、1-ブチニル基、2-ブチニル基、または3-ブチニル基であり、さらに好ましくは、エチニル基、1-プロピニル基、またはプロパルギル基である。置換基Aを有する場合、C2~C6のアルキニル基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。 The C2-C6 alkynyl group in the "C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A" for R2 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably an ethynyl group, 1- It is a propynyl group, propargyl group, 1-butynyl group, 2-butynyl group or 3-butynyl group, more preferably an ethynyl group, 1-propynyl group or propargyl group. A hydrogen atom in the C2-C6 alkynyl group is optionally replaced by the substituent A, if the substituent A is present.

式(1)のR2における「C2~C6のハロアルキニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、3,3-ジフルオロ-1-プロピニル基、3,3,3-トリフルオロ-1-プロピニル基、4,4-ジフルオロ-1-ブチニル基、4,4-ジフルオロ-2-ブチニル基、4,4,4-トリフルオロ-1-ブチニル基、または4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニル基であり、さらに好ましくは、3,3-ジフルオロ-1-プロピニル基、または3,3,3-トリフルオロ-1-プロピニル基である。 The “C2-C6 haloalkynyl group” for R2 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably 3,3-difluoro-1-propynyl group, 3,3,3-trifluoro-1 -propynyl group, 4,4-difluoro-1-butynyl group, 4,4-difluoro-2-butynyl group, 4,4,4-trifluoro-1-butynyl group, or 4,4,4-trifluoro- It is a 2-butynyl group, more preferably a 3,3-difluoro-1-propynyl group or a 3,3,3-trifluoro-1-propynyl group.

式(1)のR2における「置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基」のC1~C6のアルコキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、またはイソプロピルオキシ基であり、さらに好ましくは、メトキシ基、またはエトキシ基である。置換基Aを有する場合、C1~C6のアルコキシ基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。 The C1-C6 alkoxy group of the "C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent A" for R2 in formula (1) has the same definition as above, preferably a methoxy group or an ethoxy group. , propyloxy group or isopropyloxy group, more preferably methoxy group or ethoxy group. When having a substituent A, a hydrogen atom in the C1-C6 alkoxy group is optionally replaced by the substituent A.

式(1)のR2における「C1~C6のハロアルコキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、3,3-ジフルオロプロピルオキシ基、または3,3,3-トリフルオロプロピルオキシ基であり、さらに好ましくは、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、または2,2,2-トリフルオロエトキシ基である。 The “C1-C6 haloalkoxy group” for R2 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, 2,2, 2-trifluoroethoxy group, 3,3-difluoropropyloxy group or 3,3,3-trifluoropropyloxy group, more preferably difluoromethoxy group, trifluoromethoxy group and 2,2-difluoroethoxy or a 2,2,2-trifluoroethoxy group.

式(1)のR2における「置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基」のC3~C8のシクロアルコキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、またはシクロヘキシルオキシ基であり、さらに好ましくは、シクロプロピルオキシ基、またはシクロブトキシ基である。置換基Aを有する場合、C3~C8のシクロアルコキシ基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。 The C3-C8 cycloalkoxy group in the "C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent A" for R2 in formula (1) has the same definition as above, preferably cyclopropyloxy group, cyclobutoxy group, cyclopentyloxy group or cyclohexyloxy group, more preferably cyclopropyloxy group or cyclobutoxy group. A hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkoxy group is optionally replaced by the substituent A, if the substituent A is present.

式(1)のR2における「置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基」のC2~C6のアルケニルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニルオキシ基、1-プロペニルオキシ基、アリルオキシ基、1-ブテニルオキシ基、2-ブテニルオキシ基、または3-ブテニルオキシ基であり、さらに好ましくは、ビニルオキシ基、1-プロペニルオキシ基、またはアリルオキシ基である。置換基Aを有する場合、C2~C6のアルケニルオキシ基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。 The C2-C6 alkenyloxy group in the "C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent A" for R2 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a vinyloxy group, 1-propenyloxy group, allyloxy group, 1-butenyloxy group, 2-butenyloxy group or 3-butenyloxy group, more preferably vinyloxy group, 1-propenyloxy group or allyloxy group. A hydrogen atom in the C2-C6 alkenyloxy group is optionally replaced by the substituent A, if the substituent A is present.

式(1)のR2における「C2~C6のハロアルケニルオキシ基」は、前記の定義と同義であり、2-フルオロビニルオキシ基、2,2-ジフルオロビニルオキシ基、2,2-ジクロロビニルオキシ基、3-フルオロアリルオキシ基、3,3-ジフルオロアリルオキシ基、または3,3-ジクロロアリルオキシ基であり、さらに好ましくは、2-フルオロビニルオキシ基、または2,2-ジフルオロビニルオキシ基である。 The “C2-C6 haloalkenyloxy group” for R2 in formula (1) has the same meaning as defined above, and includes a 2-fluorovinyloxy group, a 2,2-difluorovinyloxy group, and a 2,2-dichlorovinyloxy group. 3-fluoroallyloxy group, 3,3-difluoroallyloxy group or 3,3-dichloroallyloxy group, more preferably 2-fluorovinyloxy group or 2,2-difluorovinyloxy group is.

式(1)のR2における「置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基」のC3~C6のアルキニルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、プロパルギルオキシ基、2-ブチニルオキシ基、または3-ブチニルオキシ基であり、さらに好ましくは、プロパルギルオキシ基である。置換基Aを有する場合、C3~C6のアルキニルオキシ基における水素原子が、置換基Aによって任意に置換される。 The C3-C6 alkynyloxy group in the "C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent A" for R2 in formula (1) has the same definition as above, preferably a propargyloxy group. , 2-butynyloxy, or 3-butynyloxy, more preferably propargyloxy. A hydrogen atom in the C3-C6 alkynyloxy group is optionally replaced by the substituent A, if the substituent A is present.

式(1)のR2における「C3~C6のハロアルキニルオキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、4-クロロ-4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、4-ブロモ-4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、または4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニルオキシ基であり、さらに好ましくは、4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、または4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニルオキシ基である。 The “C3-C6 haloalkynyloxy group” for R2 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably 4,4-difluoro-2-butynyloxy group, 4-chloro-4,4-difluoro -2-butynyloxy group, 4-bromo-4,4-difluoro-2-butynyloxy group, or 4,4,4-trifluoro-2-butynyloxy group, more preferably 4,4-difluoro-2- butynyloxy group, or 4,4,4-trifluoro-2-butynyloxy group.

式(1)のR2における「Rc-L-」(ここで、Rcは、C1~C6のアルキル基またはC1~C6のハロアルキル基を表し、Lは、S、SO、またはSOを表す。)の各用語は、前記の定義と同義である。「Rc-L-」として、好ましくは、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメタンスルフィニル基、またはトリフルオロメタンスルホニル基であり、さらに好ましくは、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、またはメタンスルホニル基である。"Rc-L-" for R2 in formula (1) (wherein Rc represents a C1-C6 alkyl group or a C1 - C6 haloalkyl group, and L represents S, SO, or SO2.) each term has the same meaning as defined above. "Rc-L-" is preferably a methylthio group, a methanesulfinyl group, a methanesulfonyl group, a trifluoromethylthio group, a trifluoromethanesulfinyl group, or a trifluoromethanesulfonyl group, more preferably a methylthio group or a methanesulfinyl group. , or a methanesulfonyl group.

式(1)のR2における「RaRbN-」のRaおよびRbは、前記と同義である。「RaRbN-」として、好ましくは、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、(メトキシメチル)アミノ基、(2-メトキシエチル)アミノ基、(シアノメチル)アミノ基、(2-シアノエチル)アミノ基、ジメチルアミノ基、エチル(メチル)アミノ基、メチル(プロピル)アミノ基、イソプロピル(メチル)アミノ基、ジエチルアミノ基、エチル(プロピル)アミノ基、エチル(イソプロピル)アミノ基、(メトキシメチル)メチルアミノ基、(2-メトキシエチル)メチルアミノ基、(シアノメチル)メチルアミノ基、(2-シアノエチル)メチルアミノ基、2,2-ジフルオロエチルアミノ基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、(シクロプロピル)メチルアミノ基、ピロリジニル基、またはピペリジニル基であり、さらに好ましくは、アミノ基、ジメチルアミノ基、エチル(メチル)アミノ基、またはジエチルアミノ基である。 Ra and Rb of "RaRbN-" in R2 of formula (1) are the same as defined above. "RaRbN-" is preferably amino group, methylamino group, ethylamino group, propylamino group, isopropylamino group, (methoxymethyl)amino group, (2-methoxyethyl)amino group, (cyanomethyl)amino group, (2-cyanoethyl)amino group, dimethylamino group, ethyl (methyl)amino group, methyl (propyl)amino group, isopropyl (methyl)amino group, diethylamino group, ethyl (propyl)amino group, ethyl (isopropyl)amino group, (Methoxymethyl)methylamino group, (2-methoxyethyl)methylamino group, (cyanomethyl)methylamino group, (2-cyanoethyl)methylamino group, 2,2-difluoroethylamino group, 2,2,2-tri fluoroethylamino group, cyclopropylamino group, (cyclopropyl)methylamino group, pyrrolidinyl group or piperidinyl group, more preferably amino group, dimethylamino group, ethyl(methyl)amino group or diethylamino group .

式(1)のR2における「RdC(=O)-」(ここで、Rdは、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)を表す。)の各用語は、前記の定義と同義である。なお、「置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基」に関しては、置換基Bを有する場合、C1~C6のアルキル基における水素原子が、置換基Bによって任意に置換される。「RdC(=O)-」として、好ましくは、ホルミル基、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、プロピオニル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、シクロプロパンカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2-ジフルオロエトキシカルボニル基、2,2,2-トリフルオロエトキシカルボニル基、3,3,3-トリフルオロプロピルオキシカルボニル基、シクロプロピルオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、(メトキシメチル)アミノカルボニル基、(2-メトキシエチル)アミノカルボニル基、(シアノメチル)アミノカルボニル基、(2-シアノエチル)アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチル(メチル)アミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、(メトキシメチル)メチルアミノカルボニル基、(2-メトキシエチル)メチルアミノカルボニル基、(シアノメチル)メチルアミノカルボニル基、(2-シアノエチル)メチルアミノカルボニル基、2,2-ジフルオロエチルアミノカルボニル基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノカルボニル基、シクロプロピルアミノカルボニル基、シクロプロピル(メチル)アミノカルボニル基、ピロリジニルカルボニル基、またはピペリジニルカルボニル基であり、さらに好ましくは、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチル(メチル)アミノカルボニル基、またはジエチルアミノカルボニル基である。 "RdC(=O)-" for R2 in formula (1) (here, Rd is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, a C3 ~C8 cycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above) ) have the same meanings as defined above. Regarding the "C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B", when the substituent B is present, the hydrogen atom in the C1-C6 alkyl group is optionally substituted with the substituent B. . "RdC(=O)-" is preferably formyl group, acetyl group, methoxyacetyl group, cyanoacetyl group, propionyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, cyclopropanecarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2-difluoroethoxycarbonyl group, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl group, 3,3,3-trifluoropropyloxycarbonyl group, cyclopropyloxycarbonyl group, aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group , ethylaminocarbonyl group, (methoxymethyl)aminocarbonyl group, (2-methoxyethyl)aminocarbonyl group, (cyanomethyl)aminocarbonyl group, (2-cyanoethyl)aminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, ethyl (methyl)amino carbonyl group, diethylaminocarbonyl group, (methoxymethyl)methylaminocarbonyl group, (2-methoxyethyl)methylaminocarbonyl group, (cyanomethyl)methylaminocarbonyl group, (2-cyanoethyl)methylaminocarbonyl group, 2,2-difluoro ethylaminocarbonyl group, 2,2,2-trifluoroethylaminocarbonyl group, cyclopropylaminocarbonyl group, cyclopropyl(methyl)aminocarbonyl group, pyrrolidinylcarbonyl group, or piperidinylcarbonyl group, more preferably is an acetyl group, methoxyacetyl group, cyanoacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, aminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, ethyl(methyl)aminocarbonyl group, or diethylaminocarbonyl is the base.

式(1)のXは、酸素原子、または硫黄原子を表す。好ましいXは、酸素原子である。
式(1)のYは、R3で適宜0~5置換されてもよいフェニル基(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)、R3で適宜0~4置換されてもよいピリジル基(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)、R3で適宜0~3置換されてもよいピリダジニル基(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)、R3で適宜0~3置換されてもよいピリミジニル基(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)、R3で適宜0~3置換されてもよいピラジニル基(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)、R3で適宜0~2置換されてもよいトリアジニル基(ただし、2置換のR3の場合、それぞれ独立している。)、R3で適宜置換されてもよいテトラジニル基、R3で適宜0~3置換されてもよいチエニル基(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)、R3で適宜0~2置換されてもよいチアゾリル基(ただし、2置換のR3の場合、それぞれ独立している。)、R3で適宜0~2置換されてもよいイソチアゾリル基(ただし、2置換のR3の場合、それぞれ独立している。)、またはR3で適宜置換されてもよいチアジアゾリル基を表す。
X in Formula (1) represents an oxygen atom or a sulfur atom. Preferred X is an oxygen atom.
Y in formula (1) is a phenyl group optionally substituted with R3 from 0 to 5 (provided that each of R3 is disubstituted or more is independent), optionally substituted with R3 from 0 to 4 good pyridyl group (however, in the case of two or more substituted R3, each independently ), a pyrimidinyl group optionally substituted with 0 to 3 substituents at R3 (however, in the case of R3 having 2 or more substitutions, each is independent), a pyrazinyl group optionally substituted with 0 to 3 substituents at R3 ( However, in the case of 2 or more substituted R3, each is independent.), a triazinyl group optionally substituted with 0 to 2 substituents with R3 (provided that, in the case of disubstituted R3, each is independent.), R3 a tetrazinyl group optionally substituted with R3, a thienyl group optionally substituted with 0 to 3 R3 (provided that each of R3 is disubstituted or more is independent), optionally substituted with 0 to 2 R3 A thiazolyl group (provided that, in the case of disubstituted R3, each independently ), or a thiadiazolyl group optionally substituted with R3.

中でもYは、R3で適宜0~5置換されてもよいフェニル基(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)、またはR3で適宜0~4置換されてもよいピリジル基(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)が好ましく、
特にYは、R3で適宜0~5置換されてもよいフェニル基(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)が好ましい。
Among them, Y is a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents by R3 (however, in the case of two or more substituted R3, each is independent), or a pyridyl group optionally substituted by 0 to 4 substituents by R3. (However, in the case of two or more substituted R3, each is independent.) is preferred,
In particular, Y is preferably a phenyl group which may optionally be substituted with 0 to 5 groups of R3 (provided that each of R3 groups having two or more substitutions is independent).

式(1)のYにおける「R3で適宜0~5置換されてもよいフェニル基」(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)は、式(a)で表される下記に示した部分構造を表す。

Figure 0007118961000003

式(a)中、naは0~5の整数を表し、naが2以上の場合、2置換以上のR3はそれぞれ独立した置換基を表し、同一もしくは異なっていてよく、任意に選択することができる。"A phenyl group optionally substituted with 0 to 5 R3" in Y of formula (1) (provided that each of R3 is disubstituted or more is independent.) is represented by formula (a). It represents the partial structure shown below.
Figure 0007118961000003

In formula (a), na represents an integer of 0 to 5, and when na is 2 or more, each of the two or more substituted R3 represents an independent substituent, may be the same or different, and can be arbitrarily selected. can.

式(1)のYにおける「R3で適宜0~4置換されてもよいピリジル基」(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)は、式(b-1)、式(b-2)および式(b-3)で表される下記に示した部分構造を表す。

Figure 0007118961000004

式(b-1)、式(b-2)および式(b-3)中、nbは0~4の整数を表し、nbが2以上の場合、2置換以上のR3はそれぞれ独立した置換基を表し、同一もしくは異なっていてよく、任意に選択することができる。"A pyridyl group optionally substituted with 0 to 4 R3" in Y of formula (1) (provided that each R3 is two or more substituted, each independently) is represented by formula (b-1), formula (b-2) and the following partial structures represented by formula (b-3) are represented.
Figure 0007118961000004

In formula (b-1), formula (b-2) and formula (b-3), nb represents an integer of 0 to 4, and when nb is 2 or more, two or more substituted R3 are each independent substituents and may be the same or different and can be arbitrarily selected.

式(1)のYにおける「R3で適宜0~3置換されてもよいピリダジニル基」(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)は、式(c-1)、式(c-2)および式(c-3)で表される下記に示した部分構造を表す。

Figure 0007118961000005

式(c-1)、式(c-2)および式(c-3)中、ncは0~3の整数を表し、ncが2以上の場合、2置換以上のR3はそれぞれ独立した置換基を表し、同一もしくは異なっていてよく、任意に選択することができる。The “pyridazinyl group optionally substituted with 0 to 3 R3” in Y of formula (1) (provided that each R3 is disubstituted or more is independent) is represented by formula (c-1), formula (c-2) and the following partial structures represented by formula (c-3) are represented.
Figure 0007118961000005

In formula (c-1), formula (c-2) and formula (c-3), nc represents an integer of 0 to 3, and when nc is 2 or more, two or more substituted R3 are each independent substituents and may be the same or different and can be arbitrarily selected.

式(1)のYにおける「R3で適宜0~3置換されてもよいピリミジニル基」(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)は、式(d-1)、式(d-2)および式(d-3)で表される下記に示した部分構造を表す。

Figure 0007118961000006

式(d-1)、式(d-2)および式(d-3)中、ndは0~3の整数を表し、ndが2以上の場合、2置換以上のR3はそれぞれ独立した置換基を表し、同一もしくは異なっていてよく、任意に選択することができる。"A pyrimidinyl group optionally substituted with 0 to 3 R3" in Y of formula (1) (provided that each R3 is two or more substituted, each independently) is represented by formula (d-1), formula (d-2) and the following partial structures represented by formula (d-3) are represented.
Figure 0007118961000006

In formula (d-1), formula (d-2) and formula (d-3), nd represents an integer of 0 to 3, and when nd is 2 or more, two or more substituted R3 are each independent substituents and may be the same or different and can be arbitrarily selected.

式(1)のYにおける「R3で適宜0~3置換されてもよいピラジニル基(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)」は、式(e)で表される下記に示した部分構造を表す。

Figure 0007118961000007

式(e)中、neは0~3の整数を表し、neが2以上の場合、2置換以上のR3はそれぞれ独立した置換基を表し、同一もしくは異なっていてよく、任意に選択することができる。The "pyrazinyl group optionally substituted with 0 to 3 R3 (provided that each R3 is two or more substituents are independent.)" in Y of formula (1) is represented by formula (e). It represents the partial structure shown below.
Figure 0007118961000007

In formula (e), ne represents an integer of 0 to 3, and when ne is 2 or more, each of the two or more substituted R3 represents an independent substituent, which may be the same or different, and can be arbitrarily selected. can.

式(1)のYにおける「R3で適宜0~2置換されてもよいトリアジニル基」(ただし、2置換のR3の場合、それぞれ独立している。)は、式(f-1)、式(f-2)、式(f-3)、式(f-4)および式(f-5)で表される下記に示した部分構造を表す。

Figure 0007118961000008

式(f-1)、式(f-2)、式(f-3)、式(f-4)および式(f-5)中、nfは0~2の整数を表し、nfが2の場合、2置換のR3はそれぞれ独立した置換基を表し、同一もしくは異なっていてよく、任意に選択することができる。The “triazinyl group optionally substituted with 0 to 2 substituents with R3” for Y in formula (1) (provided that each of the disubstituted R3 is independent) is represented by formula (f-1), formula ( f-2), formula (f-3), formula (f-4) and the following partial structures represented by formula (f-5).
Figure 0007118961000008

In formula (f-1), formula (f-2), formula (f-3), formula (f-4) and formula (f-5), nf represents an integer of 0 to 2, and nf is 2 In this case, each disubstituted R3 represents an independent substituent, may be the same or different, and can be arbitrarily selected.

式(1)のYにおける「R3で適宜置換されてもよいテトラジニル基」は、式(g-1)、式(g-2)および式(g-3)で表される下記に示した部分構造を表す。

Figure 0007118961000009

式(g-1)、式(g-2)および式(g-3)中、ngは0~1の整数を表す。The "tetrazinyl group optionally substituted with R3" in Y of formula (1) is the moiety shown below represented by formula (g-1), formula (g-2) and formula (g-3) Represent structure.
Figure 0007118961000009

In formulas (g-1), (g-2) and (g-3), ng represents an integer of 0-1.

式(1)のYにおける「R3で適宜0~3置換されてもよいチエニル基」(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)は、式(h-1)および式(h-2)で表される下記に示した部分構造を表す。

Figure 0007118961000010

式(h-1)および式(h-2)中、nhは0~3の整数を表し、nhが2以上の場合、2以上のR3はそれぞれ独立した置換基を表し、同一もしくは異なっていてよく、任意に選択することができる。"A thienyl group optionally substituted with 0 to 3 R3" in Y of formula (1) (provided that each R3 is two or more substituted, each independently) is represented by formula (h-1) and formula It represents the partial structure shown below represented by (h-2).
Figure 0007118961000010

In formula (h-1) and formula (h-2), nh represents an integer of 0 to 3, and when nh is 2 or more, 2 or more R3 each represent an independent substituent, the same or different Well, you can choose arbitrarily.

式(1)のYにおける「R3で適宜0~2置換されてもよいチアゾリル基」(ただし、2置換のR3の場合、それぞれ独立している。)は、式(i-1)、式(i-2)および式(i―3)で表される下記に示した部分構造を表す。

Figure 0007118961000011

式(i-1)、式(i-2)および式(i―3)中、niは0~2の整数を表し、niが2の場合、2置換のR3はそれぞれ独立した置換基を表し、同一もしくは異なっていてよく、任意に選択することができる。"A thiazolyl group optionally substituted with 0 to 2 substituents with R3" for Y in formula (1) (provided that, in the case of disubstituted R3, each is independent.) is represented by formula (i-1), formula ( i-2) and the following partial structures represented by formula (i-3).
Figure 0007118961000011

In formula (i-1), formula (i-2) and formula (i-3), ni represents an integer of 0 to 2, and when ni is 2, each of the disubstituted R3 represents an independent substituent. , may be the same or different and can be arbitrarily selected.

式(1)のYにおける「R3で適宜0~2置換されてもよいイソチアゾリル基」(ただし、2置換のR3の場合、それぞれ独立している。)は、式(j-1)、式(j-2)および式(j―3)で表される下記に示した部分構造を表す。

Figure 0007118961000012

式(j-1)、式(j-2)および式(j―3)中、njは0~2の整数を表し、njが2の場合、2置換のR3はそれぞれ独立した置換基を表し、同一もしくは異なっていてよく、任意に選択することができる。The “isothiazolyl group optionally substituted with 0 to 2 substituents with R3” for Y in formula (1) (provided that each of the disubstituted R3 is independent) is represented by formula (j-1), formula ( j-2) and the following partial structures represented by formula (j-3).
Figure 0007118961000012

In formula (j-1), formula (j-2) and formula (j-3), nj represents an integer of 0 to 2, and when nj is 2, each disubstituted R3 represents an independent substituent. , may be the same or different and can be arbitrarily selected.

式(1)のYにおける「R3で適宜置換されてもよいチアジアゾリル基」は、式(k-1)、式(k-2)、式(k-3)、式(k-4)、式(k-5)および式(k-6)で表される下記に示した部分構造を表す。

Figure 0007118961000013

式(k-1)、式(k-2)、式(k-3)、式(k-4)、式(k-5)および式(k-6)中、nkは0~1の整数を表す。The "thiadiazolyl group optionally substituted with R3" in Y of formula (1) is represented by formula (k-1), formula (k-2), formula (k-3), formula (k-4), formula (k-5) and the following partial structures represented by formula (k-6) are represented.
Figure 0007118961000013

In formula (k-1), formula (k-2), formula (k-3), formula (k-4), formula (k-5) and formula (k-6), nk is an integer of 0 to 1 represents

式(1)中のR3は、水酸基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、C2~C6のハロアルケニルオキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、C3~C6のハロアルキニルオキシ基、RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)、RdC(=O)O-(ここで、Rdは、前記と同義である。)、1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基、Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、またはReC(=O)N(Rf)-(ここで、ReとRfは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)を表す。)を表す。 R3 in formula (1) is a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, optionally substituted with a substituent C a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkenyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 optionally substituted with a substituent C C2-C6 haloalkynyl group, C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent C, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 optionally substituted with substituent C a cycloalkoxy group, a C2 to C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent C, a C2 to C6 haloalkenyloxy group, a C3 to C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent C, C3-C6 haloalkynyloxy groups, RdC(=O)- (wherein Rd is as defined above), RdC(=O)O- (wherein Rd is as defined above). ), a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms, Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above), RaRbN- (wherein Ra and Rb are , as defined above), or ReC(=O)N(Rf)- (wherein Re and Rf are each independently a hydrogen atom, optionally substituted with a substituent B C1 to C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN— (where Ra and Rb are as defined above.).

中でもR3は、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、C2~C6のハロアルケニルオキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、C3~C6のハロアルキニルオキシ基、またはRdC(=O)O-(ここで、Rdは、前記と同義である。)が好ましく、
特にR3は、シアノ基、ハロゲン原子、または置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基が好ましい。
Among them, R3 is a hydroxyl group, a cyano group, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkoxy group, C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with substituent C, C2-C6 haloalkenyloxy group, C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with substituent C, C3 ~C6 haloalkynyloxy group or RdC(=O)O- (wherein Rd is as defined above) is preferred,
In particular, R3 is preferably a cyano group, a halogen atom, or a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C.

式(1)のR3には、水酸基、シアノ基、およびニトロ基が含まれる。
式(1)のR3におけるハロゲン原子は、前記の定義と同義であり、好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。
R3 in formula (1) includes a hydroxyl group, a cyano group and a nitro group.
The halogen atom for R3 in formula (1) has the same meaning as defined above, and is preferably a fluorine atom, chlorine atom, bromine atom or iodine atom.

式(1)のR3における「置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基」のC1~C6のアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、またはイソブチル基であり、さらに好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、またはイソプロピル基である。置換基Cを有する場合、C1~C6のアルキル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。 The C1-C6 alkyl group of the "C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C" for R3 in formula (1) has the same definition as above, preferably a methyl group or an ethyl group. , propyl, isopropyl, butyl or isobutyl, more preferably methyl, ethyl, propyl or isopropyl. When having a substituent C, a hydrogen atom in the C1-C6 alkyl group is optionally replaced by the substituent C.

式(1)のR3における「C1~C6のハロアルキル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2-ジフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、3,3-ジフルオロプロピル基、または3,3,3-トリフルオロプロピル基であり、さらに好ましくは、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2-ジフルオロエチル基、または2,2,2-トリフルオロエチル基である。 The “C1-C6 haloalkyl group” for R3 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2,2-difluoroethyl group, 2,2,2 -trifluoroethyl group, 3,3-difluoropropyl group, or 3,3,3-trifluoropropyl group, more preferably difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2,2-difluoroethyl group, or It is a 2,2,2-trifluoroethyl group.

式(1)のR3における「置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基」のC3~C8のシクロアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、またはシクロヘキシル基であり、さらに好ましくは、シクロプロピル基、またはシクロブチル基である。置換基Cを有する場合、C3~C8のシクロアルキル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。 The C3-C8 cycloalkyl group of the "C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C" for R3 in formula (1) has the same definition as above, preferably a cyclopropyl group. , cyclobutyl group, cyclopentyl group or cyclohexyl group, more preferably cyclopropyl group or cyclobutyl group. When having a substituent C, a hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkyl group is optionally replaced by the substituent C.

式(1)のR3における「置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基」のC2~C6のアルケニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニル基、1-プロペニル基、アリル基、1-ブテニル基、2-ブテニル基、または3-ブテニル基であり、さらに好ましくは、ビニル基、1-プロペニル基、またはアリル基である。置換基Cを有する場合、C2~C6のアルケニル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。 The C2-C6 alkenyl group of the "C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C" in R3 of formula (1) has the same definition as above, preferably a vinyl group, 1- It is a propenyl group, allyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group or 3-butenyl group, more preferably vinyl group, 1-propenyl group or allyl group. If a substituent C is present, a hydrogen atom in the C2-C6 alkenyl group is optionally replaced by the substituent C.

式(1)のR3における「C2~C6のハロアルケニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、2-フルオロビニル基、2,2-ジフルオロビニル基、2,2-ジクロロビニル基、3-フルオロアリル基、3,3-ジフルオロアリル基、または3,3-ジクロロアリル基であり、さらに好ましくは、2-フルオロビニル基、または2,2-ジフルオロビニル基である。 The "C2-C6 haloalkenyl group" for R3 in formula (1) has the same meaning as defined above, and is preferably a 2-fluorovinyl group, a 2,2-difluorovinyl group, or a 2,2-dichlorovinyl group. , 3-fluoroallyl group, 3,3-difluoroallyl group or 3,3-dichloroallyl group, more preferably 2-fluorovinyl group or 2,2-difluorovinyl group.

式(1)のR3における「置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基」のC2~C6のアルキニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、エチニル基、1-プロピニル基、プロパルギル基、1-ブチニル基、2-ブチニル基、または3-ブチニル基であり、さらに好ましくは、エチニル基、1-プロピニル基、またはプロパルギル基である。置換基Cを有する場合、C2~C6のアルキニル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。 The C2-C6 alkynyl group of the "C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C" in R3 of formula (1) has the same meaning as defined above, preferably an ethynyl group, 1- It is a propynyl group, propargyl group, 1-butynyl group, 2-butynyl group or 3-butynyl group, more preferably an ethynyl group, 1-propynyl group or propargyl group. If a substituent C is present, a hydrogen atom in the C2-C6 alkynyl group is optionally replaced by the substituent C.

式(1)のR3における「C2~C6のハロアルキニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、3,3-ジフルオロ-1-プロピニル基、3,3,3-トリフルオロ-1-プロピニル基、4,4-ジフルオロ-1-ブチニル基、4,4-ジフルオロ-2-ブチニル基、4,4,4-トリフルオロ-1-ブチニル基、または4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニル基であり、さらに好ましくは、3,3-ジフルオロ-1-プロピニル基、または3,3,3-トリフルオロ-1-プロピニル基である。 The “C2-C6 haloalkynyl group” for R3 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably 3,3-difluoro-1-propynyl group, 3,3,3-trifluoro-1 -propynyl group, 4,4-difluoro-1-butynyl group, 4,4-difluoro-2-butynyl group, 4,4,4-trifluoro-1-butynyl group, or 4,4,4-trifluoro- It is a 2-butynyl group, more preferably a 3,3-difluoro-1-propynyl group or a 3,3,3-trifluoro-1-propynyl group.

式(1)のR3における「置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基」のC1~C6のアルコキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、またはペンチルオキシ基であり、さらに好ましくは、メトキシ基、またはエトキシ基である。置換基Cを有する場合、C1~C6のアルコキシ基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。 The C1-C6 alkoxy group of the "C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C" in R3 of formula (1) has the same definition as above, preferably a methoxy group or an ethoxy group. , propyloxy, isopropyloxy, butoxy, isobutoxy or pentyloxy, more preferably methoxy or ethoxy. When having a substituent C, a hydrogen atom in the C1-C6 alkoxy group is optionally replaced by the substituent C.

式(1)のR3における「C1~C6のハロアルコキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、3,3-ジフルオロプロピルオキシ基、または3,3,3-トリフルオロプロピルオキシ基であり、さらに好ましくは、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、または2,2,2-トリフルオロエトキシ基である。 The “C1-C6 haloalkoxy group” for R3 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, 2,2, 2-trifluoroethoxy group, 3,3-difluoropropyloxy group or 3,3,3-trifluoropropyloxy group, more preferably difluoromethoxy group, trifluoromethoxy group and 2,2-difluoroethoxy or a 2,2,2-trifluoroethoxy group.

式(1)のR3における「置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基」のC3~C8のシクロアルコキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、またはシクロヘキシルオキシ基であり、さらに好ましくは、シクロプロピルオキシ基、またはシクロブトキシ基である。置換基Cを有する場合、C3~C8のシクロアルコキシ基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。 The C3-C8 cycloalkoxy group in the "C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent C" for R3 in formula (1) has the same definition as above, preferably cyclopropyloxy group, cyclobutoxy group, cyclopentyloxy group or cyclohexyloxy group, more preferably cyclopropyloxy group or cyclobutoxy group. A hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkoxy group is optionally replaced by a substituent C, if the substituent C is present.

式(1)のR3における「置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基」のC2~C6のアルケニルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニルオキシ基、1-プロペニルオキシ基、アリルオキシ基、1-ブテニルオキシ基、2-ブテニルオキシ基、または3-ブテニルオキシ基であり、さらに好ましくは、ビニルオキシ基、1-プロペニルオキシ基、またはアリルオキシ基である。置換基Cを有する場合、C2~C6のアルケニルオキシ基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。 The C2-C6 alkenyloxy group in the "C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent C" for R3 in formula (1) has the same definition as above, preferably a vinyloxy group, 1-propenyloxy group, allyloxy group, 1-butenyloxy group, 2-butenyloxy group or 3-butenyloxy group, more preferably vinyloxy group, 1-propenyloxy group or allyloxy group. When having a substituent C, a hydrogen atom in the C2-C6 alkenyloxy group is optionally replaced by the substituent C.

式(1)のR3における「C2~C6のハロアルケニルオキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、2-フルオロビニルオキシ基、2,2-ジフルオロビニルオキシ基、2,2-ジクロロビニルオキシ基、3-フルオロアリルオキシ基、3,3-ジフルオロアリルオキシ基、または3,3-ジクロロアリルオキシ基であり、さらに好ましくは、2-フルオロビニルオキシ基、または2,2-ジフルオロビニルオキシ基である。 The "C2-C6 haloalkenyloxy group" for R3 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a 2-fluorovinyloxy group, a 2,2-difluorovinyloxy group, a 2,2- dichlorovinyloxy group, 3-fluoroallyloxy group, 3,3-difluoroallyloxy group or 3,3-dichloroallyloxy group, more preferably 2-fluorovinyloxy group or 2,2-difluoro It is a vinyloxy group.

式(1)のR3における「置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基」のC3~C6のアルキニルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、プロパルギルオキシ基、2-ブチニルオキシ基、または3-ブチニルオキシ基であり、さらに好ましくは、プロパルギルオキシ基である。置換基Cを有する場合、C3~C6のアルキニルオキシ基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。 The C3-C6 alkynyloxy group in the "C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent C" for R3 in formula (1) has the same definition as above, preferably a propargyloxy group. , 2-butynyloxy, or 3-butynyloxy, more preferably propargyloxy. When having a substituent C, a hydrogen atom in the C3-C6 alkynyloxy group is optionally replaced by the substituent C.

式(1)のR3における「C3~C6のハロアルキニルオキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、4-クロロ-4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、4-ブロモ-4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、または4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニルオキシ基であり、さらに好ましくは、4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、または4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニルオキシ基である。 The “C3-C6 haloalkynyloxy group” for R3 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably 4,4-difluoro-2-butynyloxy group, 4-chloro-4,4-difluoro -2-butynyloxy group, 4-bromo-4,4-difluoro-2-butynyloxy group, or 4,4,4-trifluoro-2-butynyloxy group, more preferably 4,4-difluoro-2- butynyloxy group, or 4,4,4-trifluoro-2-butynyloxy group.

式(1)のR3における「RdC(=O)-」のRdは、前記の定義と同義である。「RdC(=O)-」として、好ましくは、ホルミル基、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、プロピオニル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、シクロプロパンカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2-ジフルオロエトキシカルボニル基、2,2,2-トリフルオロエトキシカルボニル基、3,3,3-トリフルオロプロピルオキシカルボニル基、シクロプロピルオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、(メトキシメチル)アミノカルボニル基、(2-メトキシエチル)アミノカルボニル基、(シアノメチル)アミノカルボニル基、(2-シアノエチル)アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチル(メチル)アミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、(メトキシメチル)メチルアミノカルボニル基、(2-メトキシエチル)メチルアミノカルボニル基、(シアノメチル)メチルアミノカルボニル基、(2-シアノエチル)メチルアミノカルボニル基、2,2-ジフルオロエチルアミノカルボニル基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノカルボニル基、シクロプロピルアミノカルボニル基、シクロプロピル(メチル)アミノカルボニル基、ピロリジニルカルボニル基、またはピペリジニルカルボニル基であり、さらに好ましくは、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチル(メチル)アミノカルボニル基、またはジエチルアミノカルボニル基である。 Rd of "RdC(=O)-" in R3 of formula (1) has the same meaning as defined above. "RdC(=O)-" is preferably formyl group, acetyl group, methoxyacetyl group, cyanoacetyl group, propionyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, cyclopropanecarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2-difluoroethoxycarbonyl group, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl group, 3,3,3-trifluoropropyloxycarbonyl group, cyclopropyloxycarbonyl group, aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group , ethylaminocarbonyl group, (methoxymethyl)aminocarbonyl group, (2-methoxyethyl)aminocarbonyl group, (cyanomethyl)aminocarbonyl group, (2-cyanoethyl)aminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, ethyl (methyl)amino carbonyl group, diethylaminocarbonyl group, (methoxymethyl)methylaminocarbonyl group, (2-methoxyethyl)methylaminocarbonyl group, (cyanomethyl)methylaminocarbonyl group, (2-cyanoethyl)methylaminocarbonyl group, 2,2-difluoro ethylaminocarbonyl group, 2,2,2-trifluoroethylaminocarbonyl group, cyclopropylaminocarbonyl group, cyclopropyl(methyl)aminocarbonyl group, pyrrolidinylcarbonyl group, or piperidinylcarbonyl group, more preferably is an acetyl group, methoxyacetyl group, cyanoacetyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, aminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, ethyl(methyl)aminocarbonyl group, or diethylaminocarbonyl is the base.

式(1)のR3における「RdC(=O)O-」のRdは、前記の定義と同義である。「RdC(=O)O-」として、好ましくは、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、メトキシアセチルオキシ基、シアノアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ジフルオロアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、シクロプロパンカルボニルオキシ基、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、2,2-ジフルオロエトキシカルボニルオキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシカルボニルオキシ基、3,3,3-トリフルオロプロピルオキシカルボニルオキシ基、シクロプロピルオキシカルボニルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、メチルアミノカルボニルオキシ基、エチルアミノカルボニルオキシ基、(メトキシメチル)アミノカルボニルオキシ基、(2-メトキシエチル)アミノカルボニルオキシ基、(シアノメチル)アミノカルボニルオキシ基、(2-シアノエチル)アミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基、エチル(メチル)アミノカルボニルオキシ基、ジエチルアミノカルボニルオキシ基、(メトキシメチル)メチルアミノカルボニルオキシ基、(2-メトキシエチル)メチルアミノカルボニルオキシ基、(シアノメチル)メチルアミノカルボニルオキシ基、(2-シアノエチル)メチルアミノカルボニルオキシ基、2,2-ジフルオロエチルアミノカルボニルオキシ基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノカルボニルオキシ基、シクロプロピルアミノカルボニルオキシ基、シクロプロピル(メチル)アミノカルボニルオキシ基、ピロリジニルカルボニルオキシ基、またはピペリジニルカルボニルオキシ基であり、さらに好ましくは、アセチルオキシ基、メトキシアセチルオキシ基、シアノアセチルオキシ基、ジフルオロアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基、エチル(メチル)アミノカルボニルオキシ基、またはジエチルアミノカルボニルオキシ基である。 Rd of "RdC(=O)O-" in R3 of formula (1) has the same meaning as defined above. "RdC(=O)O-" is preferably formyloxy group, acetyloxy group, methoxyacetyloxy group, cyanoacetyloxy group, propionyloxy group, difluoroacetyloxy group, trifluoroacetyloxy group, cyclopropanecarbonyl oxy group, methoxycarbonyloxy group, ethoxycarbonyloxy group, 2,2-difluoroethoxycarbonyloxy group, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyloxy group, 3,3,3-trifluoropropyloxycarbonyloxy group, cyclopropyloxycarbonyloxy group, aminocarbonyloxy group, methylaminocarbonyloxy group, ethylaminocarbonyloxy group, (methoxymethyl)aminocarbonyloxy group, (2-methoxyethyl)aminocarbonyloxy group, (cyanomethyl)aminocarbonyloxy group group, (2-cyanoethyl)aminocarbonyloxy group, dimethylaminocarbonyloxy group, ethyl(methyl)aminocarbonyloxy group, diethylaminocarbonyloxy group, (methoxymethyl)methylaminocarbonyloxy group, (2-methoxyethyl)methylamino carbonyloxy group, (cyanomethyl)methylaminocarbonyloxy group, (2-cyanoethyl)methylaminocarbonyloxy group, 2,2-difluoroethylaminocarbonyloxy group, 2,2,2-trifluoroethylaminocarbonyloxy group, cyclo propylaminocarbonyloxy group, cyclopropyl(methyl)aminocarbonyloxy group, pyrrolidinylcarbonyloxy group, or piperidinylcarbonyloxy group, more preferably acetyloxy group, methoxyacetyloxy group, cyanoacetyloxy group , a difluoroacetyloxy group, a trifluoroacetyloxy group, a methoxycarbonyloxy group, an ethoxycarbonyloxy group, an aminocarbonyloxy group, a dimethylaminocarbonyloxy group, an ethyl(methyl)aminocarbonyloxy group, or a diethylaminocarbonyloxy group.

式(1)のR3における「1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、オキソラニル基、オキサニル基、1,3-ジオキソラニル基、または1,3-ジオキサニル基であり、さらに好ましくは、1,3-ジオキソラニル基、または1,3-ジオキサニル基である。 The "3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms" for R3 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably an oxolanyl group, an oxanyl group, or a 1,3-dioxolanyl group. , or a 1,3-dioxanyl group, more preferably a 1,3-dioxolanyl group or a 1,3-dioxanyl group.

式(1)のR3における「Rc-L-」のRcおよびLは、前記と同義ある。「Rc-L-」として、好ましくは、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメタンスルフィニル基、またはトリフルオロメタンスルホニル基であり、さらに好ましくは、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、またはメタンスルホニル基である。 Rc and L of "Rc-L-" in R3 of formula (1) are as defined above. "Rc-L-" is preferably a methylthio group, a methanesulfinyl group, a methanesulfonyl group, a trifluoromethylthio group, a trifluoromethanesulfinyl group, or a trifluoromethanesulfonyl group, more preferably a methylthio group or a methanesulfinyl group. , or a methanesulfonyl group.

式(1)のR3における「RaRbN-」のRaおよびRbは、前記と同義である。「RaRbN-」として、好ましくは、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、(メトキシメチル)アミノ基、(2-メトキシエチル)アミノ基、(シアノメチル)アミノ基、(2-シアノエチル)アミノ基、ジメチルアミノ基、エチル(メチル)アミノ基、メチル(プロピル)アミノ基、イソプロピル(メチル)アミノ基、(メトキシメチル)メチルアミノ基、(2-メトキシエチル)メチルアミノ基、(シアノメチル)メチルアミノ基、(2-シアノエチル)メチルアミノ基、ジエチルアミノ基、エチル(プロピル)アミノ基、エチル(イソプロピル)アミノ基、エチル(メトキシメチル)アミノ基、エチル(2-メトキシエチル)アミノ基、(シアノメチル)エチルアミノ基、(2-シアノエチル)エチルアミノ基、2,2-ジフルオロエチルアミノ基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、(シクロプロピル)メチルアミノ基、ピロリジニル基、またはピペリジニル基であり、さらに好ましくは、アミノ基、ジメチルアミノ基、エチル(メチル)アミノ基、イソプロピル(メチル)アミノ基、ジエチルアミノ基、またはエチル(イソプロピル)アミノ基である。 Ra and Rb of "RaRbN-" in R3 of formula (1) are the same as defined above. "RaRbN-" is preferably amino group, methylamino group, ethylamino group, propylamino group, isopropylamino group, (methoxymethyl)amino group, (2-methoxyethyl)amino group, (cyanomethyl)amino group, (2-cyanoethyl)amino group, dimethylamino group, ethyl(methyl)amino group, methyl(propyl)amino group, isopropyl(methyl)amino group, (methoxymethyl)methylamino group, (2-methoxyethyl)methylamino group , (cyanomethyl)methylamino group, (2-cyanoethyl)methylamino group, diethylamino group, ethyl (propyl)amino group, ethyl (isopropyl)amino group, ethyl (methoxymethyl)amino group, ethyl (2-methoxyethyl)amino group, (cyanomethyl)ethylamino group, (2-cyanoethyl)ethylamino group, 2,2-difluoroethylamino group, 2,2,2-trifluoroethylamino group, cyclopropylamino group, (cyclopropyl)methylamino group, pyrrolidinyl group or piperidinyl group, more preferably amino group, dimethylamino group, ethyl(methyl)amino group, isopropyl(methyl)amino group, diethylamino group or ethyl(isopropyl)amino group.

式(1)のR3における「ReC(=O)N(Rf)-」(ここで、ReとRfは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)を表す。)の各用語は、前記の定義と同義である。なお、「置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基」に関しては、置換基Bを有する場合、C1~C6のアルキル基における水素原子が、置換基Bによって任意に置換される。「ReC(=O)N(Rf)-」として、好ましくは、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、メトキシアセチルアミノ基、シアノアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ジフルオロアセチルアミノ基、トリフルオロアセチルアミノ基、シクロプロパンカルボニルアミノ基、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、2,2-ジフルオロエトキシカルボニルアミノ基、2,2,2-トリフルオロエトキシカルボニルアミノ基、3,3,3-トリフルオロプロピルオキシカルボニルアミノ基、シクロプロピルオキシカルボニルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、メチルアミノカルボニルアミノ基、エチルアミノカルボニルアミノ基、(メトキシメチル)アミノカルボニルアミノ基、(2-メトキシエチル)アミノカルボニルアミノ基、(シアノメチル)アミノカルボニルアミノ基、(2-シアノエチル)アミノカルボニルアミノ基、ジメチルアミノカルボニルアミノ基、エチル(メチル)アミノカルボニルアミノ基、ジエチルアミノカルボニルアミノ基、(メトキシメチル)メチルアミノカルボニルアミノ基、(2-メトキシエチル)メチルアミノカルボニルアミノ基、(シアノメチル)メチルアミノカルボニルアミノ基、(2-シアノエチル)メチルアミノカルボニルアミノ基、2,2-ジフルオロエチルアミノカルボニルアミノ基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノカルボニルアミノ基、シクロプロピルアミノカルボニルアミノ基、シクロプロピル(メチル)アミノカルボニルアミノ基、ピロリジニルカルボニルアミノ基、ピペリジニルカルボニルアミノ基、ホルミル(メチル)アミノ基、アセチル(メチル)アミノ基、メトキシアセチル(メチル)アミノ基、シアノアセチル(メチル)アミノ基、プロピオニル(メチル)アミノ基、ジフルオロアセチル(メチル)アミノ基、トリフルオロアセチル(メチル)アミノ基、シクロプロパンカルボニル(メチル)アミノ基、メトキシカルボニル(メチル)アミノ基、エトキシカルボニル(メチル)アミノ基、2,2-ジフルオロエトキシカルボニル(メチル)アミノ基、2,2,2-トリフルオロエトキシカルボニル(メチル)アミノ基、3,3,3-トリフルオロプロピルオキシカルボニル(メチル)アミノ基、シクロプロピルオキシカルボニル(メチル)アミノ基、アミノカルボニル(メチル)アミノ基、メチルアミノカルボニル(メチル)アミノ基、エチルアミノカルボニル(メチル)アミノ基、(メトキシメチル)アミノカルボニル(メチル)アミノ基、(2-メトキシエチル)アミノカルボニル(メチル)アミノ基、(シアノメチル)アミノカルボニル(メチル)アミノ基、(2-シアノエチル)アミノカルボニル(メチル)アミノ基、ジメチルアミノカルボニル(メチル)アミノ基、エチル(メチル)アミノカルボニル(メチル)アミノ基、ジエチルアミノカルボニル(メチル)アミノ基、(メトキシメチル)メチルアミノカルボニル(メチル)アミノ基、(2-メトキシエチル)メチルアミノカルボニル(メチル)アミノ基、(シアノメチル)メチルアミノカルボニル(メチル)アミノ基、(2-シアノエチル)メチルアミノカルボニル(メチル)アミノ基、2,2-ジフルオロエチルアミノカルボニル(メチル)アミノ基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノカルボニル(メチル)アミノ基、シクロプロピルアミノカルボニル(メチル)アミノ基、シクロプロピル(メチル)アミノカルボニル(メチル)アミノ基、ピロリジニルカルボニル(メチル)アミノ基、ピペリジニルカルボニル(メチル)アミノ基、ホルミル(エチル)アミノ基、アセチル(エチル)アミノ基、メトキシアセチル(エチル)アミノ基、シアノアセチル(エチル)アミノ基、プロピオニル(エチル)アミノ基、ジフルオロアセチル(エチル)アミノ基、トリフルオロアセチル(エチル)アミノ基、シクロプロパンカルボニル(エチル)アミノ基、メトキシカルボニル(エチル)アミノ基、エトキシカルボニル(エチル)アミノ基、2,2-ジフルオロエトキシカルボニル(エチル)アミノ基、2,2,2-トリフルオロエトキシカルボニル(エチル)アミノ基、3,3,3-トリフルオロプロピルオキシカルボニル(エチル)アミノ基、シクロプロピルオキシカルボニル(エチル)アミノ基、アミノカルボニル(エチル)アミノ基、メチルアミノカルボニル(エチル)アミノ基、エチルアミノカルボニル(エチル)アミノ基、(メトキシメチル)アミノカルボニル(エチル)アミノ基、(2-メトキシエチル)アミノカルボニル(エチル)アミノ基、(シアノメチル)アミノカルボニル(エチル)アミノ基、(2-シアノエチル)アミノカルボニル(エチル)アミノ基、ジメチルアミノカルボニル(エチル)アミノ基、エチル(メチル)アミノカルボニル(エチル)アミノ基、ジエチルアミノカルボニル(エチル)アミノ基、(メトキシメチル)メチルアミノカルボニル(エチル)アミノ基、(2-メトキシエチル)メチルアミノカルボニル(エチル)アミノ基、(シアノメチル)メチルアミノカルボニル(エチル)アミノ基、(2-シアノエチル)メチルアミノカルボニル(エチル)アミノ基、2,2-ジフルオロエチルアミノカルボニル(エチル)アミノ基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノカルボニル(エチル)アミノ基、シクロプロピルアミノカルボニル(エチル)アミノ基、シクロプロピル(メチル)アミノカルボニル(エチル)アミノ基、ピロリジニルカルボニル(エチル)アミノ基、ピペリジニルカルボニル(エチル)アミノ基、ホルミル(メトキシ)アミノ基、アセチル(メトキシ)アミノ基、メトキシアセチル(メトキシ)アミノ基、シアノアセチル(メトキシ)アミノ基、プロピオニル(メトキシ)アミノ基、ジフルオロアセチル(メトキシ)アミノ基、トリフルオロアセチル(メトキシ)アミノ基、シクロプロパンカルボニル(メトキシ)アミノ基、メトキシカルボニル(メトキシ)アミノ基、エトキシカルボニル(メトキシ)アミノ基、2,2-ジフルオロエトキシカルボニル(メトキシ)アミノ基、2,2,2-トリフルオロエトキシカルボニル(メトキシ)アミノ基、3,3,3-トリフルオロプロピルオキシカルボニル(メトキシ)アミノ基、シクロプロピルオキシカルボニル(メトキシ)アミノ基、アミノカルボニル(メトキシ)アミノ基、メチルアミノカルボニル(メトキシ)アミノ基、エチルアミノカルボニル(メトキシ)アミノ基、(メトキシメチル)アミノカルボニル(メトキシ)アミノ基、(2-メトキシエチル)アミノカルボニル(メトキシ)アミノ基、(シアノメチル)アミノカルボニル(メトキシ)アミノ基、(2-シアノエチル)アミノカルボニル(メトキシ)アミノ基、ジメチルアミノカルボニル(メトキシ)アミノ基、エチル(メチル)アミノカルボニル(メトキシ)アミノ基、ジエチルアミノカルボニル(メトキシ)アミノ基、(メトキシメチル)メチルアミノカルボニル(メトキシ)アミノ基、(2-メトキシエチル)メチルアミノカルボニル(メトキシ)アミノ基、(シアノメチル)メチルアミノカルボニル(メトキシ)アミノ基、(2-シアノエチル)メチルアミノカルボニル(メトキシ)アミノ基、2,2-ジフルオロエチルアミノカルボニル(メトキシ)アミノ基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノカルボニル(メトキシ)アミノ基、シクロプロピルアミノカルボニル(メトキシ)アミノ基、シクロプロピル(メチル)アミノカルボニル(メトキシ)アミノ基、ピロリジニルカルボニル(メトキシ)アミノ基、ピペリジニルカルボニル(メトキシ)アミノ基、ホルミル(エトキシ)アミノ基、アセチル(エトキシ)アミノ基、メトキシアセチル(エトキシ)アミノ基、シアノアセチル(エトキシ)アミノ基、プロピオニル(エトキシ)アミノ基、ジフルオロアセチル(エトキシ)アミノ基、トリフルオロアセチル(エトキシ)アミノ基、シクロプロパンカルボニル(エトキシ)アミノ基、メトキシカルボニル(エトキシ)アミノ基、エトキシカルボニル(エトキシ)アミノ基、2,2-ジフルオロエトキシカルボニル(エトキシ)アミノ基、2,2,2-トリフルオロエトキシカルボニル(エトキシ)アミノ基、3,3,3-トリフルオロプロピルオキシカルボニル(エトキシ)アミノ基、シクロプロピルオキシカルボニル(エトキシ)アミノ基、アミノカルボニル(エトキシ)アミノ基、メチルアミノカルボニル(エトキシ)アミノ基、エチルアミノカルボニル(エトキシ)アミノ基、(メトキシメチル)アミノカルボニル(エトキシシ)アミノ基、(2-メトキシエチル)アミノカルボニル(エトキシ)アミノ基、(シアノメチル)アミノカルボニル(エトキシ)アミノ基、(2-シアノエチル)アミノカルボニル(エトキシ)アミノ基、ジメチルアミノカルボニル(エトキシ)アミノ基、エチル(メチル)アミノカルボニル(エトキシ)アミノ基、ジエチルアミノカルボニル(エトキシ)アミノ基、(メトキシメチル)メチルアミノカルボニル(エトキシ)アミノ基、(2-メトキシエチル)メチルアミノカルボニル(エトキシ)アミノ基、(シアノメチル)メチルアミノカルボニル(エトキシ)アミノ基、(2-シアノエチル)メチルアミノカルボニル(エトキシ)アミノ基、2,2-ジフルオロエチルアミノカルボニル(エトキシ)アミノ基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノカルボニル(エトキシ)アミノ基、シクロプロピルアミノカルボニル(エトキシ)アミノ基、シクロプロピル(メチル)アミノカルボニル(エトキシ)アミノ基、ピロリジニルカルボニル(エトキシ)アミノ基、またはピペリジニルカルボニル(エトキシ)アミノ基であり、さらに好ましくは、アセチルアミノ基、アセチル(メチル)アミノ基、アセチル(エチル)アミノ基、アセチル(メトキシ)アミノ基、アセチル(エトキシ)アミノ基、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、メトキシカルボニル(メチル)アミノ基、エトキシカルボニル(メチル)アミノ基、メトキシカルボニル(エチル)アミノ基、エトキシカルボニル(エチル)アミノ基、メトキシカルボニル(メトキシ)アミノ基、エトキシカルボニル(メトキシ)アミノ基、メトキシカルボニル(エトキシ)アミノ基、またはエトキシカルボニル(エトキシ)アミノ基である。 "ReC(=O)N(Rf)-" for R3 in formula (1) (where Re and Rf are each independently a hydrogen atom, C1 to C6 optionally substituted with a substituent B alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN- (where Ra and Rb have the same meanings as defined above. Regarding the "C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B", when the substituent B is present, the hydrogen atom in the C1-C6 alkyl group is optionally substituted with the substituent B. . "ReC(=O)N(Rf)-" is preferably a formylamino group, an acetylamino group, a methoxyacetylamino group, a cyanoacetylamino group, a propionylamino group, a difluoroacetylamino group, a trifluoroacetylamino group, cyclopropanecarbonylamino group, methoxycarbonylamino group, ethoxycarbonylamino group, 2,2-difluoroethoxycarbonylamino group, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonylamino group, 3,3,3-trifluoropropyloxycarbonyl amino group, cyclopropyloxycarbonylamino group, aminocarbonylamino group, methylaminocarbonylamino group, ethylaminocarbonylamino group, (methoxymethyl)aminocarbonylamino group, (2-methoxyethyl)aminocarbonylamino group, (cyanomethyl) aminocarbonylamino group, (2-cyanoethyl)aminocarbonylamino group, dimethylaminocarbonylamino group, ethyl(methyl)aminocarbonylamino group, diethylaminocarbonylamino group, (methoxymethyl)methylaminocarbonylamino group, (2-methoxyethyl ) methylaminocarbonylamino group, (cyanomethyl)methylaminocarbonylamino group, (2-cyanoethyl)methylaminocarbonylamino group, 2,2-difluoroethylaminocarbonylamino group, 2,2,2-trifluoroethylaminocarbonylamino group, cyclopropylaminocarbonylamino group, cyclopropyl(methyl)aminocarbonylamino group, pyrrolidinylcarbonylamino group, piperidinylcarbonylamino group, formyl(methyl)amino group, acetyl(methyl)amino group, methoxyacetyl ( methyl)amino group, cyanoacetyl(methyl)amino group, propionyl(methyl)amino group, difluoroacetyl(methyl)amino group, trifluoroacetyl(methyl)amino group, cyclopropanecarbonyl(methyl)amino group, methoxycarbonyl(methyl)amino group ) amino group, ethoxycarbonyl (methyl) amino group, 2,2-difluoroethoxycarbonyl (methyl) amino group, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl (methyl) amino group, 3,3,3-trifluoropropyl oxycarbonyl(methyl)amino group, cyclopropyloxycarbonyl(methyl)amino group, aminocarbonyl(methyl)amino group, methylaminocarbonyl(methyl)amino group Chill)amino group, ethylaminocarbonyl(methyl)amino group, (methoxymethyl)aminocarbonyl(methyl)amino group, (2-methoxyethyl)aminocarbonyl(methyl)amino group, (cyanomethyl)aminocarbonyl(methyl)amino group , (2-cyanoethyl)aminocarbonyl(methyl)amino group, dimethylaminocarbonyl(methyl)amino group, ethyl(methyl)aminocarbonyl(methyl)amino group, diethylaminocarbonyl(methyl)amino group, (methoxymethyl)methylaminocarbonyl (methyl)amino group, (2-methoxyethyl)methylaminocarbonyl(methyl)amino group, (cyanomethyl)methylaminocarbonyl(methyl)amino group, (2-cyanoethyl)methylaminocarbonyl(methyl)amino group, 2,2 -difluoroethylaminocarbonyl(methyl)amino group, 2,2,2-trifluoroethylaminocarbonyl(methyl)amino group, cyclopropylaminocarbonyl(methyl)amino group, cyclopropyl(methyl)aminocarbonyl(methyl)amino group , pyrrolidinylcarbonyl(methyl)amino group, piperidinylcarbonyl(methyl)amino group, formyl(ethyl)amino group, acetyl(ethyl)amino group, methoxyacetyl(ethyl)amino group, cyanoacetyl(ethyl)amino group , propionyl (ethyl) amino group, difluoroacetyl (ethyl) amino group, trifluoroacetyl (ethyl) amino group, cyclopropanecarbonyl (ethyl) amino group, methoxycarbonyl (ethyl) amino group, ethoxycarbonyl (ethyl) amino group, 2,2-difluoroethoxycarbonyl(ethyl)amino group, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl(ethyl)amino group, 3,3,3-trifluoropropyloxycarbonyl(ethyl)amino group, cyclopropyloxycarbonyl (ethyl)amino group, aminocarbonyl(ethyl)amino group, methylaminocarbonyl(ethyl)amino group, ethylaminocarbonyl(ethyl)amino group, (methoxymethyl)aminocarbonyl(ethyl)amino group, (2-methoxyethyl) aminocarbonyl(ethyl)amino group, (cyanomethyl)aminocarbonyl(ethyl)amino group, (2-cyanoethyl)aminocarbonyl(ethyl)amino group, dimethylaminocarbonyl(ethyl)amino group, ethyl(methyl)aminocarbonyl(ethyl) amino group, diethylaminocarbonyl(ethyl)amino group, (methoxymethyl)methylaminocarbonyl(ethyl)amino group, (2-methoxyethyl)methylaminocarbonyl(ethyl)amino group, (cyanomethyl)methylaminocarbonyl(ethyl)amino group , (2-cyanoethyl)methylaminocarbonyl (ethyl)amino group, 2,2-difluoroethylaminocarbonyl (ethyl)amino group, 2,2,2-trifluoroethylaminocarbonyl (ethyl)amino group, cyclopropylaminocarbonyl (ethyl)amino group, cyclopropyl(methyl)aminocarbonyl(ethyl)amino group, pyrrolidinylcarbonyl(ethyl)amino group, piperidinylcarbonyl(ethyl)amino group, formyl(methoxy)amino group, acetyl(methoxy) amino group, methoxyacetyl(methoxy)amino group, cyanoacetyl(methoxy)amino group, propionyl(methoxy)amino group, difluoroacetyl(methoxy)amino group, trifluoroacetyl(methoxy)amino group, cyclopropanecarbonyl(methoxy)amino group group, methoxycarbonyl (methoxy) amino group, ethoxycarbonyl (methoxy) amino group, 2,2-difluoroethoxycarbonyl (methoxy) amino group, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl (methoxy) amino group, 3,3 , 3-trifluoropropyloxycarbonyl (methoxy) amino group, cyclopropyloxycarbonyl (methoxy) amino group, aminocarbonyl (methoxy) amino group, methylaminocarbonyl (methoxy) amino group, ethylaminocarbonyl (methoxy) amino group, (methoxymethyl)aminocarbonyl(methoxy)amino group, (2-methoxyethyl)aminocarbonyl(methoxy)amino group, (cyanomethyl)aminocarbonyl(methoxy)amino group, (2-cyanoethyl)aminocarbonyl(methoxy)amino group, dimethylaminocarbonyl(methoxy)amino group, ethyl(methyl)aminocarbonyl(methoxy)amino group, diethylaminocarbonyl(methoxy)amino group, (methoxymethyl)methylaminocarbonyl(methoxy)amino group, (2-methoxyethyl)methylamino carbonyl (methoxy) amino group, (cyanomethyl) methylaminocarbonyl (methoxy) amino group, (2-cyanoethyl) methylaminocarbonyl (methoxy) amino group, 2,2-di fluoroethylaminocarbonyl(methoxy)amino group, 2,2,2-trifluoroethylaminocarbonyl(methoxy)amino group, cyclopropylaminocarbonyl(methoxy)amino group, cyclopropyl(methyl)aminocarbonyl(methoxy)amino group, pyrrolidinylcarbonyl(methoxy)amino group, piperidinylcarbonyl(methoxy)amino group, formyl(ethoxy)amino group, acetyl(ethoxy)amino group, methoxyacetyl(ethoxy)amino group, cyanoacetyl(ethoxy)amino group, propionyl (ethoxy) amino group, difluoroacetyl (ethoxy) amino group, trifluoroacetyl (ethoxy) amino group, cyclopropanecarbonyl (ethoxy) amino group, methoxycarbonyl (ethoxy) amino group, ethoxycarbonyl (ethoxy) amino group, 2 , 2-difluoroethoxycarbonyl (ethoxy) amino group, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl (ethoxy) amino group, 3,3,3-trifluoropropyloxycarbonyl (ethoxy) amino group, cyclopropyloxycarbonyl ( ethoxy)amino group, aminocarbonyl(ethoxy)amino group, methylaminocarbonyl(ethoxy)amino group, ethylaminocarbonyl(ethoxy)amino group, (methoxymethyl)aminocarbonyl(ethoxy)amino group, (2-methoxyethyl)amino carbonyl (ethoxy) amino group, (cyanomethyl) aminocarbonyl (ethoxy) amino group, (2-cyanoethyl) aminocarbonyl (ethoxy) amino group, dimethylaminocarbonyl (ethoxy) amino group, ethyl (methyl) aminocarbonyl (ethoxy) amino group group, diethylaminocarbonyl(ethoxy)amino group, (methoxymethyl)methylaminocarbonyl(ethoxy)amino group, (2-methoxyethyl)methylaminocarbonyl(ethoxy)amino group, (cyanomethyl)methylaminocarbonyl(ethoxy)amino group, (2-cyanoethyl) methylaminocarbonyl (ethoxy) amino group, 2,2-difluoroethylaminocarbonyl (ethoxy) amino group, 2,2,2-trifluoroethylaminocarbonyl (ethoxy) amino group, cyclopropylaminocarbonyl ( ethoxy)amino group, cyclopropyl(methyl)aminocarbonyl(ethoxy)amino group, pyrrolidinylcarbonyl(ethoxy)amino group, or piperidinyl carbonyl(ethoxy)amino group, more preferably acetylamino group, acetyl(methyl)amino group, acetyl(ethyl)amino group, acetyl(methoxy)amino group, acetyl(ethoxy)amino group, methoxycarbonylamino group , ethoxycarbonylamino group, methoxycarbonyl(methyl)amino group, ethoxycarbonyl(methyl)amino group, methoxycarbonyl(ethyl)amino group, ethoxycarbonyl(ethyl)amino group, methoxycarbonyl(methoxy)amino group, ethoxycarbonyl(methoxy ) amino group, methoxycarbonyl(ethoxy)amino group, or ethoxycarbonyl(ethoxy)amino group.

式(1)中のR4は、水素原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基を有するC1~C6のアルキル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基を有するC1~C6のハロアルキル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)を表す。 R4 in formula (1) is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 optionally substituted with a substituent C a cycloalkyl group, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 a haloalkynyl group, a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D (however, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent), optionally substituted with 0 to 5 substituents D a C1 to C6 alkyl group having a phenyl group which may be optionally substituted (however, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent); represents a C1 to C6 haloalkyl group having (provided that, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent), or RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above).

中でもR4は、水素原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)が好ましく、
特にR4は、水素原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)が好ましい。
Among them, R4 is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C, substituted C2-C6 alkenyl group optionally substituted by group C, C2-C6 haloalkenyl group, C2-C6 alkynyl group optionally substituted by substituent C, C2-C6 haloalkynyl group, substituted A phenyl group optionally substituted with 0 to 5 groups D (however, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent), or RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above). ) is preferred,
In particular, R4 is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C, a substituent D optionally from 0 to 5 An optionally substituted phenyl group (however, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent) or RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above) are preferred.

式(1)のR4には、水素原子が含まれる。
式(1)のR4における「置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基」のC1~C6のアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、ペンチル基、またはイソペンチル基であり、さらに好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、またはt-ブチル基である。置換基Cを有する場合、C1~C6のアルキル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。
R4 in formula (1) contains a hydrogen atom.
The C1-C6 alkyl group of the "C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C" for R4 in formula (1) has the same definition as above, preferably a methyl group or an ethyl group. , propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, t-butyl group, pentyl group, or isopentyl group, more preferably methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group , isobutyl, sec-butyl, or t-butyl. When having a substituent C, a hydrogen atom in the C1-C6 alkyl group is optionally replaced by the substituent C.

式(1)のR4における「C1~C6のハロアルキル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2-ジフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、3,3-ジフルオロプロピル基、または3,3,3-トリフルオロプロピル基であり、さらに好ましくは、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2-ジフルオロエチル基、または2,2,2-トリフルオロエチル基である。 The “C1 to C6 haloalkyl group” for R4 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2,2-difluoroethyl group, 2,2,2 -trifluoroethyl group, 3,3-difluoropropyl group, or 3,3,3-trifluoropropyl group, more preferably difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2,2-difluoroethyl group, or It is a 2,2,2-trifluoroethyl group.

式(1)のR4における「置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基」のC3~C8のシクロアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、またはシクロヘプチル基であり、さらに好ましくは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、またはシクロヘキシル基である。置換基Cを有する場合、C3~C8のシクロアルキル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。 The C3-C8 cycloalkyl group of the "C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C" in R4 of formula (1) has the same definition as above, preferably a cyclopropyl group , cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl or cycloheptyl, more preferably cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl or cyclohexyl. When having a substituent C, a hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkyl group is optionally replaced by the substituent C.

式(1)のR4における「置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基」のC2~C6のアルケニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニル基、1-プロペニル基、アリル基、1-ブテニル基、2-ブテニル基、または3-ブテニル基であり、さらに好ましくは、ビニル基、1-プロペニル基、またはアリル基である。置換基Cを有する場合、C2~C6のアルケニル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。 The C2-C6 alkenyl group of the "C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C" for R4 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a vinyl group, 1- It is a propenyl group, allyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group or 3-butenyl group, more preferably vinyl group, 1-propenyl group or allyl group. If a substituent C is present, a hydrogen atom in the C2-C6 alkenyl group is optionally replaced by the substituent C.

式(1)のR4における「C2~C6のハロアルケニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、2-フルオロビニル基、2,2-ジフルオロビニル基、2,2-ジクロロビニル基、3-フルオロアリル基、3,3-ジフルオロアリル基、または3,3-ジクロロアリル基であり、さらに好ましくは、2-フルオロビニル基、または2,2-ジフルオロビニル基である。 The “C2-C6 haloalkenyl group” for R4 in formula (1) has the same meaning as defined above, and is preferably a 2-fluorovinyl group, a 2,2-difluorovinyl group, or a 2,2-dichlorovinyl group. , 3-fluoroallyl group, 3,3-difluoroallyl group or 3,3-dichloroallyl group, more preferably 2-fluorovinyl group or 2,2-difluorovinyl group.

式(1)のR4における「置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基」のC2~C6のアルキニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、エチニル基、1-プロピニル基、プロパルギル基、1-ブチニル基、2-ブチニル基、または3-ブチニル基であり、さらに好ましくは、エチニル基、1-プロピニル基、またはプロパルギル基である。置換基Cを有する場合、C2~C6のアルキニル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。 The C2-C6 alkynyl group of the "C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C" for R4 in formula (1) has the same definition as above, preferably an ethynyl group, 1- It is a propynyl group, propargyl group, 1-butynyl group, 2-butynyl group or 3-butynyl group, more preferably an ethynyl group, 1-propynyl group or propargyl group. If a substituent C is present, a hydrogen atom in the C2-C6 alkynyl group is optionally replaced by the substituent C.

式(1)のR4における「C2~C6のハロアルキニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、3,3-ジフルオロ-1-プロピニル基、3,3,3-トリフルオロ-1-プロピニル基、4,4-ジフルオロ-1-ブチニル基、4,4-ジフルオロ-2-ブチニル基、4,4,4-トリフルオロ-1-ブチニル基、または4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニル基であり、さらに好ましくは、3,3-ジフルオロ-1-プロピニル基、または3,3,3-トリフルオロ-1-プロピニル基である。 The “C2-C6 haloalkynyl group” for R4 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably 3,3-difluoro-1-propynyl group, 3,3,3-trifluoro-1 -propynyl group, 4,4-difluoro-1-butynyl group, 4,4-difluoro-2-butynyl group, 4,4,4-trifluoro-1-butynyl group, or 4,4,4-trifluoro- It is a 2-butynyl group, more preferably a 3,3-difluoro-1-propynyl group or a 3,3,3-trifluoro-1-propynyl group.

式(1)のR4における「置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基」(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)については、置換基Dを有する場合、フェニル基における水素原子が置換基Dによって任意に置換される。 The "phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D" in R4 of formula (1) (provided that, in the case of two or more substituents D, each is independent), the substituent D optionally substituted by a substituent D for a hydrogen atom in the phenyl group.

式(1)のR4における「置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基を有するC1~C6のアルキル基」(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)における“置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基”と“C1~C6のアルキル基”は、それぞれ前記の定義と同義である。「フェニル基を有するC1~C6のアルキル基」として、好ましくは、フェニルメチル基、2-フェニルエチル基、1-フェニルエチル基、3-フェニルプロピル基、2-フェニルプロピル基、1-フェニルプロピル基、4-フェニルブチル基、または5-フェニルペンチル基であり、さらに好ましくは、フェニルメチル基、2-フェニルエチル基、1-フェニルエチル基、または1-フェニルプロピル基である。置換基Dを有する場合、フェニル基における水素原子が、置換基Dによって任意に置換される。 "C1-C6 alkyl group having a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D" in R4 of formula (1) (however, in the case of two or more substituents D, each independently .), “a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D” and “a C1 to C6 alkyl group” have the same meanings as defined above. The "C1-C6 alkyl group having a phenyl group" is preferably a phenylmethyl group, a 2-phenylethyl group, a 1-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, a 2-phenylpropyl group and a 1-phenylpropyl group. , 4-phenylbutyl group or 5-phenylpentyl group, more preferably phenylmethyl group, 2-phenylethyl group, 1-phenylethyl group or 1-phenylpropyl group. A hydrogen atom in the phenyl group is optionally replaced by the substituent D, if the substituent D is present.

式(1)のR4における「置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基を有するC1~C6のハロアルキル基」(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)における“置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基”と“C1~C6のハロアルキル基”は、それぞれ前記の定義と同義である。「フェニル基を有するC1~C6のハロアルキル基」として、好ましくは、2,2,2-トリフルオロ-1-フェニルエチル基、または2,2-ジフルオロ-1-フェニルエチル基であり、さらに好ましくは、2,2,2-トリフルオロ-1-フェニルエチル基である。置換基Dを有する場合、フェニル基における水素原子が、置換基Dによって任意に置換される。 "C1-C6 haloalkyl group having a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D" in R4 of formula (1) (however, in the case of two or more substituents D, each independently .), “a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D” and “a C1 to C6 haloalkyl group” have the same meanings as defined above. The "C1-C6 haloalkyl group having a phenyl group" is preferably a 2,2,2-trifluoro-1-phenylethyl group or a 2,2-difluoro-1-phenylethyl group, more preferably , 2,2,2-trifluoro-1-phenylethyl group. A hydrogen atom in the phenyl group is optionally replaced by the substituent D, if the substituent D is present.

式(1)のR4における「RaRbN-」のRaおよびRbは、前記と同義である。RaおよびRbとして、好ましくは、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、またはC1~C6のハロアルキル基であり、さらに好ましくは、水素原子、または置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基である。「RaRbN-」として、好ましくは、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、(メトキシメチル)アミノ基、(2-メトキシエチル)アミノ基、(シアノメチル)アミノ基、(2-シアノエチル)アミノ基、ジメチルアミノ基、エチル(メチル)アミノ基、メチル(プロピル)アミノ基、イソプロピル(メチル)アミノ基、(メトキシメチル)メチルアミノ基、(2-メトキシエチル)メチルアミノ基、(シアノメチル)メチルアミノ基、(2-シアノエチル)メチルアミノ基、ジエチルアミノ基、エチル(プロピル)アミノ基、エチル(イソプロピル)アミノ基、エチル(メトキシメチル)アミノ基、エチル(2-メトキシエチル)アミノ基、(シアノメチル)エチルアミノ基、(2-シアノエチル)エチルアミノ基、2,2-ジフルオロエチルアミノ基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、(シクロプロピル)メチルアミノ基、ピロリジニル基、またはピペリジニル基であり、さらに好ましくは、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチル(メチル)アミノ基、またはジエチルアミノ基である。 Ra and Rb of "RaRbN-" in R4 of formula (1) are the same as defined above. Ra and Rb are preferably a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, or a C1-C6 haloalkyl group, more preferably a hydrogen atom, or a substituent B It is an optionally substituted C1-C6 alkyl group. "RaRbN-" is preferably amino group, methylamino group, ethylamino group, propylamino group, isopropylamino group, (methoxymethyl)amino group, (2-methoxyethyl)amino group, (cyanomethyl)amino group, (2-cyanoethyl)amino group, dimethylamino group, ethyl(methyl)amino group, methyl(propyl)amino group, isopropyl(methyl)amino group, (methoxymethyl)methylamino group, (2-methoxyethyl)methylamino group , (cyanomethyl)methylamino group, (2-cyanoethyl)methylamino group, diethylamino group, ethyl (propyl)amino group, ethyl (isopropyl)amino group, ethyl (methoxymethyl)amino group, ethyl (2-methoxyethyl)amino group, (cyanomethyl)ethylamino group, (2-cyanoethyl)ethylamino group, 2,2-difluoroethylamino group, 2,2,2-trifluoroethylamino group, cyclopropylamino group, (cyclopropyl)methylamino group, pyrrolidinyl group or piperidinyl group, more preferably amino group, methylamino group, ethylamino group, propylamino group, dimethylamino group, ethyl(methyl)amino group or diethylamino group.

式(1)中のR5は、水素原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基を有するC1~C6のアルキル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基を有するC1~C6のハロアルキル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、またはRdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)を表す。 R5 in formula (1) is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 optionally substituted with a substituent C a cycloalkyl group, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 a haloalkynyl group, a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D (however, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent), optionally substituted with 0 to 5 substituents D a C1 to C6 alkyl group having a phenyl group which may be optionally substituted (however, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent); a C1 to C6 haloalkyl group (provided that, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent), or RdC(=O)- (wherein Rd is as defined above.) show.

中でもR5は、水素原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、またはRdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)が好ましく、
特にR5は、水素原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、またはRdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)が好ましい。
Among them, R5 is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C, a substituted a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a group C, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkynyl group, or RdC (=O) - (wherein Rd is as defined above) is preferred,
In particular, R5 is preferably a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, or RdC(=O)- (wherein Rd is as defined above).

式(1)のR5には、水素原子が含まれる。
式(1)のR5における「置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基」のC1~C6のアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、またはイソブチル基であり、さらに好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、またはイソプロピル基である。置換基Cを有する場合、C1~C6のアルキル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。
R5 in formula (1) contains a hydrogen atom.
The C1-C6 alkyl group of the "C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C" for R5 in formula (1) has the same meaning as defined above, and is preferably a methyl group or an ethyl group. , propyl, isopropyl, butyl or isobutyl, more preferably methyl, ethyl, propyl or isopropyl. When having a substituent C, a hydrogen atom in the C1-C6 alkyl group is optionally replaced by the substituent C.

式(1)のR5における「C1~C6のハロアルキル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2-ジフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、3,3-ジフルオロプロピル基、または3,3,3-トリフルオロプロピル基であり、さらに好ましくは、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2-ジフルオロエチル基、または2,2,2-トリフルオロエチル基である。 The “C1-C6 haloalkyl group” for R5 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2,2-difluoroethyl group, 2,2,2 -trifluoroethyl group, 3,3-difluoropropyl group, or 3,3,3-trifluoropropyl group, more preferably difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 2,2-difluoroethyl group, or It is a 2,2,2-trifluoroethyl group.

式(1)のR5における「置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基」のC3~C8のシクロアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、またはシクロヘプチル基であり、さらに好ましくは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、またはシクロヘキシル基である。置換基Cを有する場合、C3~C8のシクロアルキル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。 The C3-C8 cycloalkyl group of the "C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C" for R5 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a cyclopropyl group. , cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl or cycloheptyl, more preferably cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl or cyclohexyl. When having a substituent C, a hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkyl group is optionally replaced by the substituent C.

式(1)のR5における「置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基」のC2~C6のアルケニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニル基、1-プロペニル基、アリル基、1-ブテニル基、2-ブテニル基、または3-ブテニル基であり、さらに好ましくは、ビニル基、1-プロペニル基、またはアリル基である。置換基Cを有する場合、C2~C6のアルケニル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。 The C2-C6 alkenyl group of the "C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C" for R5 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a vinyl group, 1- It is a propenyl group, allyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group or 3-butenyl group, more preferably vinyl group, 1-propenyl group or allyl group. If a substituent C is present, a hydrogen atom in the C2-C6 alkenyl group is optionally replaced by the substituent C.

式(1)のR5における「C2~C6のハロアルケニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、2-フルオロビニル基、2,2-ジフルオロビニル基、2,2-ジクロロビニル基、3-フルオロアリル基、3,3-ジフルオロアリル基、または3,3-ジクロロアリル基であり、さらに好ましくは、2-フルオロビニル基、または2,2-ジフルオロビニル基である。 The “C2-C6 haloalkenyl group” for R5 in formula (1) has the same meaning as defined above, and is preferably a 2-fluorovinyl group, a 2,2-difluorovinyl group, or a 2,2-dichlorovinyl group. , 3-fluoroallyl group, 3,3-difluoroallyl group or 3,3-dichloroallyl group, more preferably 2-fluorovinyl group or 2,2-difluorovinyl group.

式(1)のR5における「置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基」のC2~C6のアルキニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、エチニル基、1-プロピニル基、プロパルギル基、1-ブチニル基、2-ブチニル基、または3-ブチニル基であり、さらに好ましくは、エチニル基、1-プロピニル基、またはプロパルギル基である。置換基Cを有する場合、C2~C6のアルキニル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。 The C2-C6 alkynyl group of the "C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C" for R5 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably an ethynyl group, 1- It is a propynyl group, propargyl group, 1-butynyl group, 2-butynyl group or 3-butynyl group, more preferably an ethynyl group, 1-propynyl group or propargyl group. If a substituent C is present, a hydrogen atom in the C2-C6 alkynyl group is optionally replaced by the substituent C.

式(1)のR5における「C2~C6のハロアルキニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、3,3-ジフルオロ-1-プロピニル基、3,3,3-トリフルオロ-1-プロピニル基、4,4-ジフルオロ-1-ブチニル基、4,4-ジフルオロ-2-ブチニル基、4,4,4-トリフルオロ-1-ブチニル基、または4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニル基であり、さらに好ましくは、3,3-ジフルオロ-1-プロピニル基、または3,3,3-トリフルオロ-1-プロピニル基である。 The “C2-C6 haloalkynyl group” for R5 in formula (1) has the same meaning as defined above, preferably 3,3-difluoro-1-propynyl group, 3,3,3-trifluoro-1 -propynyl group, 4,4-difluoro-1-butynyl group, 4,4-difluoro-2-butynyl group, 4,4,4-trifluoro-1-butynyl group, or 4,4,4-trifluoro- It is a 2-butynyl group, more preferably a 3,3-difluoro-1-propynyl group or a 3,3,3-trifluoro-1-propynyl group.

式(1)のR5における「置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基」(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)については、置換基Dを有する場合、フェニル基における水素原子が置換基Dによって任意に置換される。 The “phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D” in R5 of formula (1) (provided that, in the case of two or more substituents D, each is independent), the substituent D optionally substituted by a substituent D for a hydrogen atom in the phenyl group.

式(1)のR5における「置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基を有するC1~C6のアルキル基」(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)における“置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基”と“C1~C6のアルキル基”は、それぞれ前記の定義と同義である。「フェニル基を有するC1~C6のアルキル基」として、好ましくは、フェニルメチル基、2-フェニルエチル基、1-フェニルエチル基、3-フェニルプロピル基、2-フェニルプロピル基、1-フェニルプロピル基、4-フェニルブチル基、または5-フェニルペンチル基であり、さらに好ましくは、フェニルメチル基、2-フェニルエチル基、1-フェニルエチル基、または1-フェニルプロピル基である。置換基Dを有する場合、フェニル基における水素原子が、置換基Dによって任意に置換される。 "A C1-C6 alkyl group having a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D" for R5 in formula (1) (however, in the case of two or more substituents D, each independently .), “a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D” and “a C1 to C6 alkyl group” have the same meanings as defined above. The "C1-C6 alkyl group having a phenyl group" is preferably a phenylmethyl group, a 2-phenylethyl group, a 1-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, a 2-phenylpropyl group and a 1-phenylpropyl group. , 4-phenylbutyl group or 5-phenylpentyl group, more preferably phenylmethyl group, 2-phenylethyl group, 1-phenylethyl group or 1-phenylpropyl group. A hydrogen atom in the phenyl group is optionally replaced by the substituent D, if the substituent D is present.

式(1)のR5における「置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基を有するC1~C6のハロアルキル基」(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)における“置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基”と“C1~C6のハロアルキル基”は、それぞれ前記の定義と同義である。「フェニル基を有するC1~C6のハロアルキル基」として、好ましくは、2,2,2-トリフルオロ-1-フェニルエチル基、または2,2-ジフルオロ-1-フェニルエチル基であり、さらに好ましくは、2,2,2-トリフルオロ-1-フェニルエチル基である。置換基Dを有する場合、フェニル基における水素原子が、置換基Dによって任意に置換される。 "A C1-C6 haloalkyl group having a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D" for R5 in formula (1) (however, in the case of two or more substituents D, each independently .), “a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D” and “a C1 to C6 haloalkyl group” have the same meanings as defined above. The "C1-C6 haloalkyl group having a phenyl group" is preferably a 2,2,2-trifluoro-1-phenylethyl group or a 2,2-difluoro-1-phenylethyl group, more preferably , 2,2,2-trifluoro-1-phenylethyl group. A hydrogen atom in the phenyl group is optionally replaced by the substituent D, if the substituent D is present.

式(1)のR5における「RdC(=O)-」のRdは、前記の定義と同義である。Rdとして、好ましくは、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基であり、さらに好ましくは、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基である。「RdC(=O)-」として、好ましくは、ホルミル基、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、プロピオニル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、シクロプロパンカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2-ジフルオロエトキシカルボニル基、2,2,2-トリフルオロエトキシカルボニル基、3,3,3-トリフルオロプロピルオキシカルボニル基、シクロプロピルオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、(メトキシメチル)アミノカルボニル基、(2-メトキシエチル)アミノカルボニル基、(シアノメチル)アミノカルボニル基、(2-シアノエチル)アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチル(メチル)アミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、(メトキシメチル)メチルアミノカルボニル基、(2-メトキシエチル)メチルアミノカルボニル基、(シアノメチル)メチルアミノカルボニル基、(2-シアノエチル)メチルアミノカルボニル基、2,2-ジフルオロエチルアミノカルボニル基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノカルボニル基、シクロプロピルアミノカルボニル基、シクロプロピル(メチル)アミノカルボニル基、ピロリジニルカルボニル基、またはピペリジニルカルボニル基であり、さらに好ましくは、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、またはプロピオニル基である。 Rd of "RdC(=O)-" in R5 of formula (1) has the same definition as above. Rd is preferably a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group, more preferably a substituent B as appropriate It is an optionally substituted C1-C6 alkyl group. "RdC(=O)-" is preferably formyl group, acetyl group, methoxyacetyl group, cyanoacetyl group, propionyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, cyclopropanecarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2-difluoroethoxycarbonyl group, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl group, 3,3,3-trifluoropropyloxycarbonyl group, cyclopropyloxycarbonyl group, aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group , ethylaminocarbonyl group, (methoxymethyl)aminocarbonyl group, (2-methoxyethyl)aminocarbonyl group, (cyanomethyl)aminocarbonyl group, (2-cyanoethyl)aminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, ethyl (methyl)amino carbonyl group, diethylaminocarbonyl group, (methoxymethyl)methylaminocarbonyl group, (2-methoxyethyl)methylaminocarbonyl group, (cyanomethyl)methylaminocarbonyl group, (2-cyanoethyl)methylaminocarbonyl group, 2,2-difluoro ethylaminocarbonyl group, 2,2,2-trifluoroethylaminocarbonyl group, cyclopropylaminocarbonyl group, cyclopropyl(methyl)aminocarbonyl group, pyrrolidinylcarbonyl group, or piperidinylcarbonyl group, more preferably is an acetyl group, a methoxyacetyl group, a cyanoacetyl group, or a propionyl group.

式(1)中のR4とR5が、結合するオキシム構造(C=N-O)とと一緒になって、置換基Eで適宜0~2置換されてもよいイソキサゾール環(ただし、2置換の置換基Eの場合、それぞれ独立している。)、置換基Fで適宜0~4置換されてもよいイソキサゾリン環(ただし、2置換以上の置換基Fの場合、それぞれ独立している。)、置換基Dで適宜0~4置換されてもよいベンズイソキサゾール環(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、または置換基Fで適宜0~6置換されてもよい5,6-ジヒドロ-4H-1,2-オキサジン環(ただし、2置換以上の置換基Fの場合、それぞれ独立している。)を形成するものを表す。 R4 and R5 in formula (1), together with the oxime structure (C=N-O) to which they are bonded, isoxazole ring optionally substituted 0-2 by substituent E (provided that disubstituted In the case of substituents E, each is independent.), isoxazoline ring optionally substituted with 0 to 4 substituents F (provided that, in the case of two or more substituents F, each is independent.), A benzisoxazole ring optionally substituted with 0 to 4 substituents D (however, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent), or optionally substituted with 0 to 6 substituents F 5,6-dihydro-4H-1,2-oxazine ring (provided that, in the case of two or more substituents F, each is independent).

中でもR4とR5が、結合するオキシム構造(C=N-O)と一緒になって、置換基Eで適宜0~2置換されてもよいイソキサゾール環(ただし、2置換の置換基Eの場合、それぞれ独立している。)、置換基Fで適宜0~4置換されてもよいイソキサゾリン環(ただし、2置換以上の置換基Fの場合、それぞれ独立している。)、または置換基Dで適宜0~4置換されてもよいベンズイソキサゾール環(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)を形成するものが好ましく、
特にR4とR5が、結合するオキシム構造(C=N-O)と一緒になって、置換基Eで適宜0~2置換されてもよいイソキサゾール環(ただし、2置換の置換基Eの場合、それぞれ独立している。)を形成するものが好ましい。
Among them, R4 and R5, together with the oxime structure (C=N-O) to which they are bound, are an isoxazole ring optionally substituted with 0 to 2 substituents E (however, in the case of a disubstituted substituent E, each independently.), an isoxazoline ring optionally substituted with 0 to 4 substituents F (provided that, in the case of two or more substituents F, each is independent.), or a substituent D as appropriate preferably form a benzisoxazole ring optionally substituted with 0 to 4 substituents (provided that, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent),
In particular, R4 and R5, together with the oxime structure (C=N-O) to which they are bound, are an isoxazole ring optionally substituted 0-2 with a substituent E (provided that in the case of a disubstituted substituent E, are each independent).

式(1)中のR4とR5が、結合するオキシム構造(C=N-O)と一緒になって、置換基Eで適宜0~2置換されてもよいイソキサゾール環を形成するもの(ただし、2置換の置換基Eの場合、それぞれ独立している。)は、式(2)

Figure 0007118961000014

で表される。R4 and R5 in formula (1) together with the bonding oxime structure (C=N-O) form an isoxazole ring optionally substituted with 0 to 2 substituents E (provided that In the case of disubstituted substituents E, each is independent.) is represented by formula (2)
Figure 0007118961000014

is represented by

式(2)中のR6およびR7は、それぞれ独立していて、水素原子または置換基Eを表し、R1、R2、XおよびYは前記と同義である。 R6 and R7 in formula (2) each independently represent a hydrogen atom or a substituent E, and R1, R2, X and Y are as defined above.

式(2)のR6は、具体的には、水素原子、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6アルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、C2~C6のハロアルケニルオキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、C3~C6のハロアルキニルオキシ基、C2~C6のアルコキシアルコキシ基、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)、RdC(=O)O-(ここで、Rdは、前記と同義である。)、RgON=C(Rh)-(ここで、RgおよびRhは、それぞれ独立していて、水素原子またはC1~C6のアルキル基を表す。)、RiRjRkSi-(ここで、Ri、RjおよびRkは、それぞれ独立していてC1~C6のアルキル基を表す。)、または1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基を表す。 Specifically, R6 in formula (2) is a hydrogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a halogen atom, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1 to C6 haloalkyl group, a substituent C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with C, C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent C, C2-C6 haloalkenyl group optionally substituted with substituent C C2-C6 alkynyl group, C2-C6 haloalkynyl group, C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent C, C1-C6 haloalkoxy group optionally substituted with substituent C C3-C8 cycloalkoxy group, C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with substituent C, C2-C6 haloalkenyloxy group, C3-C6 alkynyl optionally substituted with substituent C oxy group, C3-C6 haloalkynyloxy group, C2-C6 alkoxyalkoxy group, RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above), Rc-L- (wherein Rc and L is as defined above.), RdC(=O)-(wherein Rd is as defined above.), RdC(=O)O-(wherein Rd is as defined above ), RgON=C(Rh)- (where Rg and Rh each independently represent a hydrogen atom or a C1-C6 alkyl group), RiRjRkSi- (where Ri, Rj and Rk each independently represent a C1-C6 alkyl group), or a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms.

中でもR6は、水素原子、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6アルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)、またはRgON=C(Rh)-(ここで、RgおよびRhは、前記と同義である。)が好ましく、
特にR6は、水素原子、ハロゲン原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6アルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)、またはRgON=C(Rh)-(ここで、RgおよびRhは、前記と同義である。)が好ましい。
Among them, R6 is a hydrogen atom, a cyano group, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 optionally substituted with a substituent C alkenyl group, C2-C6 haloalkenyl group, C2-C6 alkynyl group optionally substituted with substituent C, C2-C6 haloalkynyl group, RdC(=O)- (wherein Rd is ), or RgON=C(Rh)-(where Rg and Rh are as defined above) are preferred,
In particular, R6 is a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C, A C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C, RdC(=O)- (wherein Rd is as defined above), or RgON=C(Rh)- (where Rg and Rh are as defined above.) is preferred.

なお、R6の各置換基の好ましい例は、置換基Eに記載されているものと同一である。 Preferred examples of each substituent of R6 are the same as those described for the substituent E.

式(2)のR7は、具体的には、水素原子、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6アルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、C2~C6のハロアルケニルオキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、C3~C6のハロアルキニルオキシ基、C2~C6のアルコキシアルコキシ基、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)、RdC(=O)O-(ここで、Rdは、前記と同義である。)、RgON=C(Rh)-(ここで、RgおよびRhは、前記と同義である。)、RiRjRkSi-(ここで、Ri、RjおよびRkは、それぞれ独立していてC1~C6のアルキル基を表す。)、または1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基を表す。 Specifically, R7 in formula (2) is a hydrogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a halogen atom, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1 to C6 haloalkyl group, a substituent C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with C, C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent C, C2-C6 haloalkenyl group optionally substituted with substituent C C2-C6 alkynyl group, C2-C6 haloalkynyl group, C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent C, C1-C6 haloalkoxy group optionally substituted with substituent C C3-C8 cycloalkoxy group, C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with substituent C, C2-C6 haloalkenyloxy group, C3-C6 alkynyl optionally substituted with substituent C oxy group, C3-C6 haloalkynyloxy group, C2-C6 alkoxyalkoxy group, RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above), Rc-L- (wherein Rc and L is as defined above.), RdC(=O)-(wherein Rd is as defined above.), RdC(=O)O-(wherein Rd is as defined above ), RgON=C(Rh)- (wherein Rg and Rh are as defined above), RiRjRkSi- (wherein Ri, Rj and Rk are each independently C1-C6 alkyl group), or a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms.

中でもR7は、水素原子、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6アルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)、またはRiRjRkSi-(ここで、Ri、RjおよびRkは、それぞれ独立していてC1~C6のアルキル基を表す。)が好ましく、
特にR7は、水素原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)、またはRiRjRkSi-(ここで、Ri、RjおよびRkは、それぞれ独立していてC1~C6のアルキル基を表す。)が好ましい。
Among them, R7 is a hydrogen atom, a cyano group, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 optionally substituted with a substituent C alkenyl group, C2-C6 haloalkenyl group, C2-C6 alkynyl group optionally substituted with substituent C, C2-C6 haloalkynyl group, RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above) ), RdC(=O)- (wherein Rd is as defined above), or RiRjRkSi- (wherein Ri, Rj and Rk are each independently C1-C6 alkyl represents a group.) is preferred,
In particular, R7 is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above), RdC(=O)- (wherein Rd is as defined above), or RiRjRkSi- (wherein Ri, Rj and Rk each independently represent a C1-C6 alkyl group.) is preferred.

なお、R7の各置換基の好ましい例は、置換基Eに記載されているものと同一である。 Preferred examples of each substituent of R7 are the same as those described for the substituent E.

式(1)中のR4とR5が、結合するオキシム構造(C=N-O)と一緒になって、置換基Fで適宜0~4置換されてもよいイソキサゾリン環を形成するもの(ただし、2置換以上の置換基Fの場合、それぞれ独立している。)は、式(3)

Figure 0007118961000015

で表される。R4 and R5 in formula (1) together with the bonding oxime structure (C═N—O) form an isoxazoline ring optionally substituted with 0 to 4 substituents F (provided that In the case of two or more substituents F, each is independent.) is represented by formula (3)
Figure 0007118961000015

is represented by

式(3)中、R8、R9、R10およびR11は、それぞれ独立していて、水素原子または置換基Fを表し、R1、R2、XおよびYは前記と同義である。 In formula (3), R8, R9, R10 and R11 each independently represent a hydrogen atom or a substituent F, and R1, R2, X and Y are as defined above.

式(3)中のR8およびR9は、それぞれ独立していて、具体的には、水素原子、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6アルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、C2~C6のハロアルケニルオキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、C3~C6のハロアルキニルオキシ基、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)、またはRdC(=O)O-(ここで、Rdは、前記と同義である。)を表す。 R8 and R9 in formula (3) are each independently, specifically, a hydrogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with substituent C, C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent C, C2-C6 haloalkenyl group, substituted C2-C6 alkynyl group optionally substituted with group C, C2-C6 haloalkynyl group, C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent C, C1-C6 haloalkoxy group, substituted C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with group C, C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with substituent C, C2-C6 haloalkenyloxy group optionally substituted with substituent C C3-C6 alkynyloxy group, C3-C6 haloalkynyloxy group, RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above), Rc-L- (wherein Rc and L is as defined above.), RdC(=O)-(wherein Rd is as defined above), or RdC(=O)O-(wherein Rd is as defined above ).

中でもR8およびR9は、それぞれ独立していて、水素原子、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、またはC1~C6のハロアルキル基が好ましく、
特にR8およびR9は、それぞれ独立していて、水素原子、またはハロゲン原子が好ましい。
Among them, R8 and R9 are each independently preferably a hydrogen atom, a cyano group, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, or a C1-C6 haloalkyl group,
In particular, R8 and R9 are each independently preferably a hydrogen atom or a halogen atom.

なお、R8およびR9の各置換基の好ましい例は、置換基Fに記載されているものと同一である。 Preferable examples of each substituent of R8 and R9 are the same as those described for the substituent F.

式(3)中のR10およびR11は、それぞれ独立していて、具体的には、水素原子、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6アルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、C2~C6のハロアルケニルオキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、C3~C6のハロアルキニルオキシ基、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)、またはRdC(=O)O-(ここで、Rdは、前記と同義である。)を表す。 R10 and R11 in formula (3) are each independently and specifically, a hydrogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a halogen atom, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with substituent C, C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent C, C2-C6 haloalkenyl group, substituted C2-C6 alkynyl group optionally substituted with group C, C2-C6 haloalkynyl group, C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent C, C1-C6 haloalkoxy group, substituted C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with group C, C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with substituent C, C2-C6 haloalkenyloxy group optionally substituted with substituent C C3-C6 alkynyloxy group, C3-C6 haloalkynyloxy group, RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above), Rc-L- (wherein Rc and L is as defined above.), RdC(=O)-(wherein Rd is as defined above), or RdC(=O)O-(wherein Rd is as defined above ).

中でもR10およびR11は、それぞれ独立していて、水素原子、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、または置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基が好ましく、
特にR10およびR11は、それぞれ独立していて、水素原子、ハロゲン原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、または置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基が好ましい。
Among them, R10 and R11 are each independently a hydrogen atom, a cyano group, a halogen atom, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1 to C6 haloalkyl group, or a substituent C as appropriate An optionally substituted C1 to C6 alkoxy group, a C2 to C6 alkenyloxy group optionally substituted by a substituent C, or a C3 to C6 alkynyloxy group optionally substituted by a substituent C are preferred. ,
In particular, R10 and R11 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, or a C1-C6 optionally substituted with a substituent C Alkoxy groups are preferred.

なお、R10およびR11の各置換基の好ましい例は、置換基Fに記載されているものと同一である。 Preferable examples of each substituent of R10 and R11 are the same as those described for the substituent F.

式(1)中のR4とR5が、結合するオキシム構造(C=N-O)と一緒になって、置換基Dで適宜0~4置換されてもよいベンズイソキサゾール環を形成するもの(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)は、式(4)

Figure 0007118961000016

で表される。R4 and R5 in formula (1) together with the oxime structure (C=N-O) to form a benzisoxazole ring which may optionally be substituted 0 to 4 times with a substituent D (However, in the case of two or more substituents D, each is independent.) is represented by formula (4)
Figure 0007118961000016

is represented by

式(4)中、R12、R13、R14およびR15は、それぞれ独立していて、水素原子または置換基Dを表し、R1、R2、XおよびYは前記と同義である。 In formula (4), R12, R13, R14 and R15 each independently represent a hydrogen atom or a substituent D, and R1, R2, X and Y are as defined above.

式(1)中のR4とR5が、結合するオキシム構造(C=N-O)と一緒になって、置換基Fで適宜0~6置換されてもよい5,6-ジヒドロ-4H-1,2-オキサジン環を形成するもの(ただし、2置換以上の置換基Fの場合、それぞれ独立している。)は、式(5)

Figure 0007118961000017

で表される。5,6-dihydro-4H-1 optionally substituted with 0 to 6 substituents F together with the oxime structure (C═N—O) to which R4 and R5 in formula (1) are attached , forming a 2-oxazine ring (however, in the case of two or more substituents F, each is independent) is represented by formula (5)
Figure 0007118961000017

is represented by

式(5)中、R16、R17、R18、R19、R20およびR21は、それぞれ独立していて、水素原子または置換基Fを表し、R1、R2、XおよびYは前記と同義である。 In formula (5), R16, R17, R18, R19, R20 and R21 each independently represent a hydrogen atom or a substituent F, and R1, R2, X and Y are as defined above.

置換基Aは、水酸基、シアノ基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)およびRc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)からなる群から選択される少なくとも1種を表す。 Substituent A is a hydroxyl group, a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, RaRbN— (where Ra and Rb has the same meaning as defined above) and Rc-L- (wherein Rc and L have the same meaning as defined above).

中でも置換基Aは、シアノ基、C1~C6のアルコキシ基またはRc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)が好ましく、
特に、シアノ基またはC1~C6のアルコキシ基が好ましい。
Among them, the substituent A is preferably a cyano group, a C1 to C6 alkoxy group or Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above),
A cyano group or a C1-C6 alkoxy group is particularly preferred.

置換基Aの各用語は前記の定義と同義である。
置換基Aの好ましい具体例に関しては、水酸基;シアノ基;
C3~C8のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、およびシクロヘキシル基;
C1~C6のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、およびイソプロピルオキシ基;
C1~C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、3,3-ジフルオロプロピルオキシ基、および3,3,3-トリフルオロプロピルオキシ基;
C3~C8のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、およびシクロヘキシルオキシ基;
RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)として、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、(メトキシメチル)アミノ基、(2-メトキシエチル)アミノ基、(シアノメチル)アミノ基、(2-シアノエチル)アミノ基、ジメチルアミノ基、エチル(メチル)アミノ基、メチル(プロピル)アミノ基、イソプロピル(メチル)アミノ基、(メトキシメチル)メチルアミノ基、(2-メトキシエチル)メチルアミノ基、(シアノメチル)メチルアミノ基、(2-シアノエチル)メチルアミノ基、ジエチルアミノ基、エチル(プロピル)アミノ基、エチル(イソプロピル)アミノ基、エチル(メトキシメチル)アミノ基、エチル(2-メトキシエチル)アミノ基、(シアノメチル)エチルアミノ基、(2-シアノエチル)エチルアミノ基、2,2-ジフルオロエチルアミノ基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、(シクロプロピル)メチルアミノ基、ピロリジニル基、およびピペリジニル基;
ならびにRc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメタンスルフィニル基、およびトリフルオロメタンスルホニル基が挙げられる。
Each term for the substituent A has the same meaning as defined above.
Preferred specific examples of the substituent A include a hydroxyl group; a cyano group;
cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, and cyclohexyl groups as C3-C8 cycloalkyl groups;
methoxy, ethoxy, propyloxy, and isopropyloxy groups as C1-C6 alkoxy groups;
The C1 to C6 haloalkoxy groups include a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, a 2,2,2-trifluoroethoxy group, a 3,3-difluoropropyloxy group, and a 3,3 , 3-trifluoropropyloxy group;
cyclopropyloxy, cyclobutoxy, cyclopentyloxy, and cyclohexyloxy groups as C3-C8 cycloalkoxy groups;
RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above) is an amino group, methylamino group, ethylamino group, propylamino group, isopropylamino group, (methoxymethyl)amino group, (2-methoxy ethyl)amino group, (cyanomethyl)amino group, (2-cyanoethyl)amino group, dimethylamino group, ethyl(methyl)amino group, methyl(propyl)amino group, isopropyl(methyl)amino group, (methoxymethyl)methylamino group, (2-methoxyethyl)methylamino group, (cyanomethyl)methylamino group, (2-cyanoethyl)methylamino group, diethylamino group, ethyl(propyl)amino group, ethyl(isopropyl)amino group, ethyl(methoxymethyl) amino group, ethyl(2-methoxyethyl)amino group, (cyanomethyl)ethylamino group, (2-cyanoethyl)ethylamino group, 2,2-difluoroethylamino group, 2,2,2-trifluoroethylamino group, cyclopropylamino group, (cyclopropyl)methylamino group, pyrrolidinyl group, and piperidinyl group;
and Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above) are a methylthio group, a methanesulfinyl group, a methanesulfonyl group, a trifluoromethylthio group, a trifluoromethanesulfinyl group, and a trifluoromethanesulfonyl group. mentioned.

置換基Aのさらに好ましい具体例に関しては、水酸基;シアノ基;
C3~C8のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、およびシクロブチル基;
C1~C6のアルコキシ基として、メトキシ基、およびエトキシ基;
C1~C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、および2,2,2-トリフルオロエトキシ基;
C3~C8のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、およびシクロブトキシ基;
RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)として、ジメチルアミノ基、エチル(メチル)アミノ基、およびジエチルアミノ基;
ならびにRc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、およびメタンスルホニル基が挙げられる。
More preferred specific examples of the substituent A include a hydroxyl group; a cyano group;
cyclopropyl group and cyclobutyl group as C3-C8 cycloalkyl groups;
Methoxy group and ethoxy group as C1-C6 alkoxy groups;
difluoromethoxy, trifluoromethoxy, 2,2-difluoroethoxy, and 2,2,2-trifluoroethoxy groups as C1-C6 haloalkoxy groups;
cyclopropyloxy group and cyclobutoxy group as C3-C8 cycloalkoxy groups;
RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above), a dimethylamino group, an ethyl(methyl)amino group, and a diethylamino group;
and Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above) include a methylthio group, a methanesulfinyl group and a methanesulfonyl group.

置換基Bは、シアノ基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基およびC3~C8のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種を表す。 Substituent B represents at least one selected from the group consisting of a cyano group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group and a C3-C8 cycloalkoxy group.

中でも置換基Bは、シアノ基またはC1~C6のアルコキシ基が好ましい。
置換基Bの各用語は前記の定義と同義である。
Among them, the substituent B is preferably a cyano group or a C1-C6 alkoxy group.
Each term for the substituent B has the same meaning as defined above.

置換基Bの好ましい具体例に関しては、シアノ基;
C1~C6のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、およびイソプロピルオキシ基;
C1~C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、3,3-ジフルオロプロピルオキシ基、および3,3,3-トリフルオロプロピルオキシ基;
ならびにC3~C8のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、およびシクロヘキシルオキシ基が挙げられる。
With respect to preferred specific examples of substituent B, a cyano group;
methoxy, ethoxy, propyloxy, and isopropyloxy groups as C1-C6 alkoxy groups;
The C1 to C6 haloalkoxy groups include a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, a 2,2,2-trifluoroethoxy group, a 3,3-difluoropropyloxy group, and a 3,3 , 3-trifluoropropyloxy group;
and C3-C8 cycloalkoxy groups include cyclopropyloxy, cyclobutoxy, cyclopentyloxy, and cyclohexyloxy groups.

置換基Bのさらに好ましい具体例に関しては、シアノ基;
C1~C6のアルコキシ基として、メトキシ基、およびエトキシ基;
C1~C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、および2,2,2-トリフルオロエトキシ基;
ならびにC3~C8のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、およびシクロブトキシ基が挙げられる。
Further preferred specific examples of the substituent B include a cyano group;
Methoxy group and ethoxy group as C1 to C6 alkoxy groups;
difluoromethoxy, trifluoromethoxy, 2,2-difluoroethoxy, and 2,2,2-trifluoroethoxy groups as C1-C6 haloalkoxy groups;
and C3-C8 cycloalkoxy groups include cyclopropyloxy and cyclobutoxy groups.

置換基Cは、水酸基、シアノ基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、C2~C6のアルコキシアルコキシ基、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)、RdC(=O)O-(ここで、Rdは、前記と同義である。)および1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基からなる群から選択される少なくとも1種を表す。 Substituent C is a hydroxyl group, a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, a C2-C6 alkoxyalkoxy group, RaRbN. - (where Ra and Rb are as defined above), Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above), RdC (=O) - (where Rd is as defined above), RdC(=O)O— (wherein Rd is as defined above) and a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms represents at least one selected from the group;

中でも置換基Cは、水酸基、シアノ基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)、またはRdC(=O)O-(ここで、Rdは、前記と同義である。)が好ましく、
特に、水酸基、またはRdC(=O)O-(ここで、Rdは、前記と同義である。)が好ましい。
Among them, the substituent C is a hydroxyl group, a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, Rc-L- (here, Rc and L are as defined above.), RdC(=O)- (wherein Rd is as defined above), or RdC(=O)O- (wherein Rd is is synonymous with.) is preferred,
A hydroxyl group or RdC(=O)O- (wherein Rd has the same definition as above) is particularly preferred.

置換基Cの各用語は前記の定義と同義である。「RdC(=O)O-」におけるPdとして、好ましくは、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、またはC1~C6のハロアルキル基であり、さらに好ましくは、C1~C6のハロアルキル基である。 Each term for the substituent C has the same meaning as defined above. Pd in "RdC(=O)O-" is preferably a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B or a C1-C6 haloalkyl group, more preferably C1-C6 is a haloalkyl group of

置換基Cの好ましい具体例に関しては、水酸基;シアノ基;
C3~C8のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、およびシクロヘキシル基;
C1~C6のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、およびt-ブトキシ基;
C1~C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、3,3-ジフルオロプロピルオキシ基、および3,3,3-トリフルオロプロピルオキシ基;
C3~C8のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、およびシクロヘキシルオキシ基;
C2~C6のアルコキシアルコキシ基として、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、およびメトキシプロピルオキシ基;
RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)として、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、(メトキシメチル)アミノ基、(2-メトキシエチル)アミノ基、(シアノメチル)アミノ基、(2-シアノエチル)アミノ基、ジメチルアミノ基、エチル(メチル)アミノ基、メチル(プロピル)アミノ基、イソプロピル(メチル)アミノ基、(メトキシメチル)メチルアミノ基、(2-メトキシエチル)メチルアミノ基、(シアノメチル)メチルアミノ基、(2-シアノエチル)メチルアミノ基、ジエチルアミノ基、エチル(プロピル)アミノ基、エチル(イソプロピル)アミノ基、エチル(メトキシメチル)アミノ基、エチル(2-メトキシエチル)アミノ基、(シアノメチル)エチルアミノ基、(2-シアノエチル)エチルアミノ基、2,2-ジフルオロエチルアミノ基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、(シクロプロピル)メチルアミノ基、ピロリジニル基、およびピペリジニル基;
Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメタンスルフィニル基、およびトリフルオロメタンスルホニル基;
RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)として、ホルミル基、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、プロピオニル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、シクロプロパンカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2-ジフルオロエトキシカルボニル基、2,2,2-トリフルオロエトキシカルボニル基、3,3,3-トリフルオロプロピルオキシカルボニル基、シクロプロピルオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、(メトキシメチル)アミノカルボニル基、(2-メトキシエチル)アミノカルボニル基、(シアノメチル)アミノカルボニル基、(2-シアノエチル)アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチル(メチル)アミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、(メトキシメチル)メチルアミノカルボニル基、(2-メトキシエチル)メチルアミノカルボニル基、(シアノメチル)メチルアミノカルボニル基、(2-シアノエチル)メチルアミノカルボニル基、2,2-ジフルオロエチルアミノカルボニル基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノカルボニル基、シクロプロピルアミノカルボニル基、(シクロプロピル)メチルアミノカルボニル基、ピロリジニルカルボニル基、およびピペリジニルカルボニル基;
RdC(=O)O-(ここで、Rdは、前記と同義である。)として、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、メトキシアセチルオキシ基、シアノアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ジフルオロアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、シクロプロパンカルボニルオキシ基、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、2,2-ジフルオロエトキシカルボニルオキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシカルボニルオキシ基、3,3,3-トリフルオロプロピルオキシカルボニルオキシ基、シクロプロピルオキシカルボニルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、メチルアミノカルボニルオキシ基、エチルアミノカルボニルオキシ基、(メトキシメチル)アミノカルボニルオキシ基、(2-メトキシエチル)アミノカルボニルオキシ基、(シアノメチル)アミノカルボニルオキシ基、(2-シアノエチル)アミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基、エチル(メチル)アミノカルボニルオキシ基、ジエチルアミノカルボニルオキシ基、(メトキシメチル)メチルアミノカルボニルオキシ基、(2-メトキシエチル)メチルアミノカルボニルオキシ基、(シアノメチル)メチルアミノカルボニルオキシ基、(2-シアノエチル)メチルアミノカルボニルオキシ基、2,2-ジフルオロエチルアミノカルボニルオキシ基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノカルボニルオキシ基、シクロプロピルアミノカルボニルオキシ基、シクロプロピル(メチル)アミノカルボニルオキシ基、ピロリジニルカルボニルオキシ基、およびピペリジニルカルボニルオキシ基;
ならびに1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基として、オキソラニル基、オキサニル基、1,3-ジオキソラニル基、および1,3-ジオキサニル基が挙げられる。
Preferred specific examples of the substituent C include a hydroxyl group; a cyano group;
cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, and cyclohexyl groups as C3-C8 cycloalkyl groups;
methoxy, ethoxy, propyloxy, isopropyloxy, butoxy, isobutoxy, and t-butoxy groups as C1-C6 alkoxy groups;
The C1 to C6 haloalkoxy groups include a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, a 2,2,2-trifluoroethoxy group, a 3,3-difluoropropyloxy group, and a 3,3 , 3-trifluoropropyloxy group;
cyclopropyloxy, cyclobutoxy, cyclopentyloxy, and cyclohexyloxy groups as C3-C8 cycloalkoxy groups;
methoxymethoxy, ethoxymethoxy, methoxyethoxy, ethoxyethoxy, and methoxypropyloxy groups as C2-C6 alkoxyalkoxy groups;
RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above) is an amino group, methylamino group, ethylamino group, propylamino group, isopropylamino group, (methoxymethyl)amino group, (2-methoxy ethyl)amino group, (cyanomethyl)amino group, (2-cyanoethyl)amino group, dimethylamino group, ethyl(methyl)amino group, methyl(propyl)amino group, isopropyl(methyl)amino group, (methoxymethyl)methylamino group, (2-methoxyethyl)methylamino group, (cyanomethyl)methylamino group, (2-cyanoethyl)methylamino group, diethylamino group, ethyl(propyl)amino group, ethyl(isopropyl)amino group, ethyl(methoxymethyl) amino group, ethyl(2-methoxyethyl)amino group, (cyanomethyl)ethylamino group, (2-cyanoethyl)ethylamino group, 2,2-difluoroethylamino group, 2,2,2-trifluoroethylamino group, cyclopropylamino group, (cyclopropyl)methylamino group, pyrrolidinyl group, and piperidinyl group;
Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above), a methylthio group, a methanesulfinyl group, a methanesulfonyl group, a trifluoromethylthio group, a trifluoromethanesulfinyl group, and a trifluoromethanesulfonyl group;
RdC(=O)- (wherein Rd has the same definition as above) is formyl group, acetyl group, methoxyacetyl group, cyanoacetyl group, propionyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, cyclopropane carbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2-difluoroethoxycarbonyl group, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl group, 3,3,3-trifluoropropyloxycarbonyl group, cyclopropyloxycarbonyl group , aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, ethylaminocarbonyl group, (methoxymethyl)aminocarbonyl group, (2-methoxyethyl)aminocarbonyl group, (cyanomethyl)aminocarbonyl group, (2-cyanoethyl)aminocarbonyl group, dimethyl aminocarbonyl group, ethyl(methyl)aminocarbonyl group, diethylaminocarbonyl group, (methoxymethyl)methylaminocarbonyl group, (2-methoxyethyl)methylaminocarbonyl group, (cyanomethyl)methylaminocarbonyl group, (2-cyanoethyl)methyl aminocarbonyl group, 2,2-difluoroethylaminocarbonyl group, 2,2,2-trifluoroethylaminocarbonyl group, cyclopropylaminocarbonyl group, (cyclopropyl)methylaminocarbonyl group, pyrrolidinylcarbonyl group, and pyrrolidinylcarbonyl group; peridinylcarbonyl group;
RdC(=O)O- (wherein Rd has the same definition as above), a formyloxy group, an acetyloxy group, a methoxyacetyloxy group, a cyanoacetyloxy group, a propionyloxy group, a difluoroacetyloxy group, trifluoroacetyloxy group, cyclopropanecarbonyloxy group, methoxycarbonyloxy group, ethoxycarbonyloxy group, 2,2-difluoroethoxycarbonyloxy group, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyloxy group, 3,3,3 -trifluoropropyloxycarbonyloxy group, cyclopropyloxycarbonyloxy group, aminocarbonyloxy group, methylaminocarbonyloxy group, ethylaminocarbonyloxy group, (methoxymethyl)aminocarbonyloxy group, (2-methoxyethyl)aminocarbonyl oxy group, (cyanomethyl)aminocarbonyloxy group, (2-cyanoethyl)aminocarbonyloxy group, dimethylaminocarbonyloxy group, ethyl(methyl)aminocarbonyloxy group, diethylaminocarbonyloxy group, (methoxymethyl)methylaminocarbonyloxy group , (2-methoxyethyl) methylaminocarbonyloxy group, (cyanomethyl) methylaminocarbonyloxy group, (2-cyanoethyl) methylaminocarbonyloxy group, 2,2-difluoroethylaminocarbonyloxy group, 2,2,2- a trifluoroethylaminocarbonyloxy group, a cyclopropylaminocarbonyloxy group, a cyclopropyl(methyl)aminocarbonyloxy group, a pyrrolidinylcarbonyloxy group, and a piperidinylcarbonyloxy group;
and 3- to 6-membered ring groups containing 1-2 oxygen atoms include oxolanyl, oxanyl, 1,3-dioxolanyl, and 1,3-dioxanyl groups.

置換基Cのさらに好ましい具体例に関しては、水酸基;シアノ基;
C3~C8のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、およびシクロブチル基;
C1~C6のアルコキシ基として、メトキシ基、およびエトキシ基;
C1~C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、および2,2,2-トリフルオロエトキシ基;
C3~C8のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基;
C2~C6のアルコキシアルコキシ基として、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、およびエトキシエトキシ基;
RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)として、ジメチルアミノ基、エチル(メチル)アミノ基、およびジエチルアミノ基;
Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、およびメタンスルホニル基;
RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)として、ホルミル基、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチル(メチル)アミノカルボニル基、およびジエチルアミノカルボニル基;
RdC(=O)O-(ここで、Rdは、前記と同義である。)として、アセチルオキシ基、ジフルオロアセチルオキシ基、およびトリフルオロアセチルオキシ基;
ならびに1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基として、1,3-ジオキソラニル基、および1,3-ジオキサニル基が挙げられる。
More preferred specific examples of the substituent C include a hydroxyl group; a cyano group;
cyclopropyl group and cyclobutyl group as C3-C8 cycloalkyl groups;
Methoxy group and ethoxy group as C1 to C6 alkoxy groups;
difluoromethoxy, trifluoromethoxy, 2,2-difluoroethoxy, and 2,2,2-trifluoroethoxy groups as C1-C6 haloalkoxy groups;
C3-C8 cycloalkoxy groups, cyclopropyloxy group, cyclobutoxy group;
methoxymethoxy, ethoxymethoxy, methoxyethoxy, and ethoxyethoxy groups as C2-C6 alkoxyalkoxy groups;
RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above), a dimethylamino group, an ethyl(methyl)amino group, and a diethylamino group;
Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above), a methylthio group, a methanesulfinyl group, and a methanesulfonyl group;
RdC(=O)- (wherein Rd is as defined above) is a formyl group, an acetyl group, a methoxyacetyl group, a cyanoacetyl group, a difluoroacetyl group, a trifluoroacetyl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxy carbonyl group, aminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, ethyl(methyl)aminocarbonyl group, and diethylaminocarbonyl group;
RdC(=O)O— (wherein Rd is as defined above), an acetyloxy group, a difluoroacetyloxy group, and a trifluoroacetyloxy group;
and 3- to 6-membered ring groups containing 1-2 oxygen atoms include 1,3-dioxolanyl and 1,3-dioxanyl groups.

置換基Dは、水酸基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基およびC3~C8のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種を表す。 Substituent D is a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a halogen atom, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1 to C6 haloalkyl group, a C3 to C8 cycloalkyl group, a C1 to represents at least one selected from the group consisting of a C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group and a C3-C8 cycloalkoxy group;

中でも置換基Dは、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基およびC1~C6のハロアルコキシ基が好ましく、
特に、ハロゲン原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、およびC1~C6のアルコキシ基が好ましい。
Among them, the substituent D is a cyano group, a halogen atom, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1 to C6 haloalkyl group, a C1 to C6 alkoxy group and a C1 to C6 haloalkoxy group. is preferred,
In particular, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, and a C1-C6 alkoxy group are preferred.

置換基Dの各用語は前記の定義と同義である。なお、「置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基」に関しては、置換基Bを有する場合、C1~C6のアルキル基における水素原子が、置換基Bによって任意に置換される。 Each term of the substituent D has the same meaning as defined above. Regarding the "C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B", when the substituent B is present, the hydrogen atom in the C1-C6 alkyl group is optionally substituted with the substituent B. .

置換基Dの好ましい具体例に関しては、水酸基;シアノ基;ニトロ基;
ハロゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子;
置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基として、メチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、シアノメチル基、エチル基、2-メトキシエチル基、2-エトキシエチル基、2-シアノエチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、およびイソブチル基;
C1~C6のハロアルキル基として、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2-ジフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、3,3-ジフルオロプロピル基、および3,3,3-トリフルオロプロピル基;
C3~C8のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、およびシクロヘキシル基;
C1~C6のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、およびt-ブトキシ基;
C1~C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、3,3-ジフルオロプロピルオキシ基、および3,3,3-トリフルオロプロピルオキシ基;
ならびにC3~C8のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、およびシクロヘキシルオキシ基が挙げられる。
Preferred specific examples of the substituent D include a hydroxyl group; a cyano group; a nitro group;
as halogen atoms, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom;
Examples of C1 to C6 alkyl groups optionally substituted by substituent B include methyl group, methoxymethyl group, ethoxymethyl group, cyanomethyl group, ethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-ethoxyethyl group, and 2-cyanoethyl. group, propyl group, isopropyl group, butyl group, and isobutyl group;
The C1 to C6 haloalkyl groups include difluoromethyl, trifluoromethyl, 2,2-difluoroethyl, 2,2,2-trifluoroethyl, 3,3-difluoropropyl, and 3,3,3 - a trifluoropropyl group;
cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, and cyclohexyl groups as C3-C8 cycloalkyl groups;
methoxy, ethoxy, propyloxy, isopropyloxy, butoxy, isobutoxy, and t-butoxy groups as C1-C6 alkoxy groups;
The C1 to C6 haloalkoxy groups include a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, a 2,2,2-trifluoroethoxy group, a 3,3-difluoropropyloxy group, and a 3,3 , 3-trifluoropropyloxy group;
and C3-C8 cycloalkoxy groups include cyclopropyloxy, cyclobutoxy, cyclopentyloxy, and cyclohexyloxy groups.

置換基Dのさらに好ましい具体例に関しては、水酸基;シアノ基;ニトロ基;
ハロゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、および臭素原子;
置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基として、メチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、シアノメチル基、エチル基、2-メトキシエチル基、2-エトキシエチル基、および2-シアノエチル基;
C1~C6のハロアルキル基として、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2,2-ジフルオロエチル基、および2,2,2-トリフルオロエチル基;
C3~C8のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、およびシクロブチル基;
C1~C6のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、およびイソプロピルオキシ基;
C1~C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、および2,2,2-トリフルオロエトキシ基;
ならびにC3~C8のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基およびシクロブトキシ基が挙げられる。
More preferred specific examples of the substituent D include a hydroxyl group; a cyano group; a nitro group;
as halogen atoms, a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom;
Examples of the C1 to C6 alkyl groups optionally substituted by the substituent B include a methyl group, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, a cyanomethyl group, an ethyl group, a 2-methoxyethyl group, a 2-ethoxyethyl group, and a 2- cyanoethyl group;
a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a 2,2-difluoroethyl group, and a 2,2,2-trifluoroethyl group as the C1 to C6 haloalkyl groups;
cyclopropyl group and cyclobutyl group as C3-C8 cycloalkyl groups;
methoxy, ethoxy, propyloxy, and isopropyloxy groups as C1-C6 alkoxy groups;
difluoromethoxy, trifluoromethoxy, 2,2-difluoroethoxy, and 2,2,2-trifluoroethoxy groups as C1-C6 haloalkoxy groups;
and C3-C8 cycloalkoxy groups include cyclopropyloxy and cyclobutoxy groups.

置換基Eは、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6アルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、C2~C6のハロアルケニルオキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、C3~C6のハロアルキニルオキシ基、C2~C6のアルコキシアルコキシ基、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)、RdC(=O)O-(ここで、Rdは、前記と同義である。)、RgON=C(Rh)-(ここで、RgおよびRhは、それぞれ独立していて、水素原子またはC1~C6のアルキル基を表す。)、RiRjRkSi-(ここで、Ri、RjおよびRkは、それぞれ独立していてC1~C6のアルキル基を表す。)および1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基からなる群から選択される少なくとも1種を表す。 Substituent E is a hydroxyl group, a cyano group, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 optionally substituted with a substituent C A cycloalkyl group, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkynyl group, C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent C, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with substituent C, substituent C C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with C2-C6 haloalkenyloxy group, C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with substituent C, C3-C6 haloalkynyloxy group , a C2-C6 alkoxyalkoxy group, RaRbN- (where Ra and Rb are as defined above), Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above), RdC (=O)-(wherein Rd is as defined above), RdC(=O)O-(wherein Rd is as defined above), RgON=C(Rh)-( Here, Rg and Rh each independently represent a hydrogen atom or a C1-C6 alkyl group), RiRjRkSi- (wherein Ri, Rj and Rk each independently represent a C1-C6 represents an alkyl group) and at least one selected from the group consisting of a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms.

中でも置換基Eは、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6アルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)、RgON=C(Rh)-(ここで、RgおよびRhは、前記と同義である。)およびRiRjRkSi-(ここで、Ri、RjおよびRkは、前記と同義である。)が好ましく、
特に、ハロゲン原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6アルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)、RgON=C(Rh)-(ここで、RgおよびRhは、前記と同義である。)およびRiRjRkSi-(ここで、Ri、RjおよびRkは、前記と同義である。)が好ましい。
Among them, the substituent E is a cyano group, a halogen atom, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1 to C6 haloalkyl group, a C3 to C8 optionally substituted with a substituent C Cycloalkyl group, C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent C, C2-C6 haloalkenyl group, C2-C6 alkynyl group optionally substituted with substituent C, C2-C6 halo alkynyl group, RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above), RdC(=O)- (wherein Rd is as defined above), RgON=C(Rh)- (wherein Rg and Rh are as defined above) and RiRjRkSi- (wherein Ri, Rj and Rk are as defined above) are preferred,
In particular, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C, a substituent C optionally An optionally substituted C2-C6 alkynyl group, RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above), RdC(=O)- (wherein Rd is as defined above. ), RgON=C(Rh)- (wherein Rg and Rh are as defined above) and RiRjRkSi- (wherein Ri, Rj and Rk are as defined above).

置換基Eの各用語は前記の定義と同義である。なお、「置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基」に関しては、置換基Cを有する場合、C1~C6のアルキル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。「置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基」に関しては、置換基Cを有する場合、C3~C8のシクロアルキル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。「置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6アルケニル基」に関しては、置換基Cを有する場合、C2~C6アルケニル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。「置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基」に関しては、置換基Cを有する場合、C2~C6アルキニル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。「置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基」に関しては、置換基Cを有する場合、C1~C6のアルコキシ基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。「置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基」に関しては、置換基Cを有する場合、C3~C8のシクロアルコキシ基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。「置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基」に関しては、置換基Cを有する場合、C2~C6のアルケニルオキシ基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。「置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基」に関しては、置換基Cを有する場合、C3~C6のアルキニルオキシ基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。 Each term for the substituent E has the same meaning as defined above. Regarding the "C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C", when it has a substituent C, the hydrogen atom in the C1-C6 alkyl group is arbitrarily substituted with the substituent C. . With respect to the "C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C", when having a substituent C, a hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkyl group is optionally substituted with the substituent C . With respect to the “C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C”, if the C2-C6 alkenyl group has a substituent C, a hydrogen atom in the C2-C6 alkenyl group is optionally substituted with the substituent C. With respect to the “C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C”, when having a substituent C, a hydrogen atom in the C2-C6 alkynyl group is optionally substituted with the substituent C. With respect to the “C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C”, when having a substituent C, a hydrogen atom in the C1-C6 alkoxy group is optionally substituted with the substituent C. With respect to the "C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent C", when having a substituent C, a hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkoxy group is optionally substituted with the substituent C . With respect to the "C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent C", when having a substituent C, a hydrogen atom in the C2-C6 alkenyloxy group is optionally substituted with the substituent C . With respect to the "C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent C", when having a substituent C, a hydrogen atom in the C3-C6 alkynyloxy group is optionally substituted with the substituent C .

置換基Eの好ましい具体例に関しては、水酸基;シアノ基;
ハロゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子;
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基として、メチル基、ヒドロキシメチル基、シアノメチル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、ジフルオロメトキシメチル基、トリフルオロメトキシメチル基、シクロプロピルオキシメチル基、シクロブチルオキシメチル基、メトキシメトキシメチル基、ジメチルアミノメチル基、メチルチオメチル基、メチルスルフィニルメチル基、メチルスルホニルメチル基、アセチルメチル基、プロピオノイルメチル基、トリフルオロアセチルメチル基、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、アセチルオキシメチル基、ジフルオロアセチルオキシメチル基、トリフルオロアセチルオキシメチル基、(1,3-ジオキソラン-2-イル)メチル基、(1,3-ジオキサン-2-イル)メチル基、エチル基、1-ヒドロキシエチル基、2-ヒドロキシエチル基、1-シアノエチル基、2-シアノエチル基、1-メトキシエチル基、2-メトキシエチル基、1-メトキシエチル基、2-エトキシエチル基、1-ジフルオロメトキシエチル基、2-ジフルオロメトキシエチル基、1-トリフルオロメトキシエチル基、2-トリフルオロメトキシエチル基、1-メトキシメトキシエチル基、2-メトキシメトキシエチル基、2-(ジメチルアミノ)エチル基、1-(メチルチオ)エチル基、2-(メチルチオ)エチル基、1-(メチルスルフィニル)エチル基、2-(メチルスルフィニル)エチル基、1-(メチルスルホニル)エチル基、2-(メチルスルホニル)エチル基、2-(アセチル)エチル基、2-(プロピオノイル)エチル基、2-(メトキシカルボニル)エチル基、2-(エトキシカルボニル)エチル基、1-(アセチルオキシ)エチル基、2-(アセチルオキシ)エチル基、1-(ジフルオロアセチルオキシ)エチル基、2-(ジフルオロアセチルオキシ)エチル基、1-(トリフルオロアセチルオキシ)エチル基、2-(トリフルオロアセチルオキシ)エチル基、2-(1,3-ジオキソラン-2-イル)エチル基、2-(1,3-ジオキサン-2-イル)エチル基、プロピル基、1-ヒドロキシプロピル基、2-ヒドロキシプロピル基、3-ヒドロキシプロピル基、1-シアノプロピル基、2-シアノプロピル基、3-シアノプロピル基、1-メトキシプロピル基、2-メトキシプロピル基、3-メトキシプロピル基、1-エトキシプロピル基、2-エトキシプロピル基、3-エトキシプロピル基、1-(アセチルオキシ)プロピル基、2-(アセチルオキシ)プロピル基、3-(アセチルオキシ)プロピル基、1-(ジフルオロアセチルオキシ)プロピル基、2-(ジフルオロアセチルオキシ)プロピル基、3-(ジフルオロアセチルオキシ)プロピル基、1-(トリフルオロアセチルオキシ)プロピル基、2-(トリフルオロアセチルオキシ)プロピル基、3-(トリフルオロアセチルオキシ)プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、およびt-ブチル基;
C1~C6のハロアルキル基として、モノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、モノクロロメチル基、モノブロモメチル基、モノヨードメチル基、2,2-ジフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、3,3-ジフルオロプロピル基、および3,3,3-トリフルオロプロピル基;
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、1-ヒドロキシシクロプロピル基、1-シアノシクロプロピル基、2-シクロプロピルシクロプロピル基、1-メトキシクロプロピル基、1-エトキシクロプロピル基、シクロブチル基、1-ヒドロキシシクロブチル基、1-シアノシクロブチル基、1-メトキシクロブチル基、1-エトキシクロブチル基、シクロペンチル基、1-ヒドロキシシクロペンチル基、1-シアノシクロペンチル基、1-メトキシノシクロペンチル基、1-エトキシノシクロペンチル基、シクロヘキシル基、1-ヒドロキシシクロヘキシル基、4-ヒドロキシシクロヘキシル基、1-シアノシクロヘキシル基、1-メトキシシクロヘキシル基、1-エトキシシクロヘキシル基、4-メトキシシクロヘキシル基、4-エトキシシクロヘキシル基、4-ジフルオロメトキシシクロヘキシル基、4-トリフルオロメトキシシクロヘキシル基、4-シクロプロピルオキシシクロヘキシル基、4-シクロブチルオキシシクロヘキシル基、4-(メトキシメトキシ)シクロヘキシル基、4-(ジメチルアミノ)シクロヘキシル基、4-(メチルチオ)シクロヘキシル基、4-(メチルスルフィニル)シクロヘキシル基、4-(メチルスルホニル)シクロヘキシル基、4-アセチルシクロヘキシル基、4-トリフルオロアセチルシクロヘキシル基、4-アセチルオキシシクロヘキシル基、4-トリフルオロアセチルオキシシクロヘキシル基、4-(1,3-ジオキソラン-2-イル)シクロヘキシル基、および4-(1,3-ジオキサン-2-イル)シクロヘキシル基;
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6アルケニル基として、ビニル基、2-シアノビニル基、2-シクロプロピルビニル基、2-メトキシビニル基、2-エトキシビニル基、2-トリフルオロメトキシビニル基、2-シクロプロピルオキシビニル基、2-(メトキシメトキシ)ビニル基、2-(ジメチルアミノ)ビニル基、2-アセチルビニル基、2-(トリフルオロアセチル)ビニル基、2-(1,3-ジオキソラン-2-イル)ビニル基、2-(1,3-ジオキサン-2-イル)ビニル基、1-プロペニル基、3-ヒドロキシ-1-プロペニル基、アリル基、1-ヒドロキシアリル基、1-(メトキシメトキシ)アリル基、1-(メチルチオ)アリル基、1-(メチルスルフィニル)アリル基、1-(メチルスルホニル)アリル基、1-(アセチルオキシ)アリル基、1-(ジフルオロアセチルオキシ)アリル基、1-(トリフルオロアセチルオキシ)アリル基、1-ブテニル基、2-ブテニル基、および3-ブテニル基;
C2~C6のハロアルケニル基として、2-フルオロビニル基、2,2-ジフルオロビニル基、2,2-ジクロロビニル基、3-フルオロアリル基、3,3-ジフルオロアリル基、および3,3-ジクロロアリル基;
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基として、エチニル基、2-シクロプロピルエチニル基、2-シクロブチルエチニル基、2-(アセチル)エチニル基、2-(トリフルオロアセチル)エチニル基、2-(1,3-ジオキソラン-2-イル)エチニル基、2-(1,3-ジオキサン-2-イル)エチニル基、1-プロピニル基、プロパルギル基、1-ヒドロキシプロパルギル基、1-シアノプロパルギル基、1-メトキシプロパルギル基、1-エトキシプロパルギル基、1-(ジフルオロメトキシ)プロパルギル基、1-(トリフルオロメトキシ)プロパルギル基、1-(ジメチルアミノ)プロパルギル基、1-(メチルチオ)プロパルギル基、1-(メチルスルフィニル)プロパルギル基、1-(メチルスルホニル)プロパルギル基、1-(アセチルオキシ)プロパルギル基、1-(トリフルオロアセチルオキシ)プロパルギル基、1-ブチニル基、2-ブチニル基、および3-ブチニル基;
C2~C6のハロアルキニル基として、3,3-ジフルオロ-1-プロピニル基、3,3,3-トリフルオロ-1-プロピニル基、4,4-ジフルオロ-1-ブチニル基、4,4-ジフルオロ-2-ブチニル基、4,4,4-トリフルオロ-1-ブチニル基、および4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニル基;
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基として、メトキシ基、シアノメトキシ基、シクロプロピルメトキシ基、シクロブチルメトキシ基、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、ジフルオロメトキシメトキシ基、トリフルオロメトキシメトキシ基、シクロプロピルオキシメトキシ基、シクロブチルオキシメトキシ基、メチルチオメトキシ基、メチルスルフィニルメトキシ基、メチルスルホニルメトキシ基、アセチルメトキシ基、プロピオノイルメトキシ基、トリフルオロアセチルメトキシ基、メトキシカルボニルメトキシ基、エトキシカルボニルメトキシ基、アセチルオキシメトキシ基、ジフルオロアセチルオキシメトキシ基、トリフルオロアセチルオキシメトキシ基、(1,3-ジオキソラン-2-イル)メトキシ基、(1,3-ジオキサン-2-イル)メトキシ基、エトキシ基、2-ヒドロキシエトキシ基、1-シアノエトキシ基、2-シアノエトキシ基、2-メトキシエトキシ基、2-エトキシエトキシ基、1-ジフルオロメトキシエトキシ基、2-ジフルオロメトキシエトキシ基、1-トリフルオロメトキシエトキシ基、2-トリフルオロメトキシエトキシ基、2-メトキシメトキシエトキシ基、2-(ジメチルアミノ)エトキシ基、1-(メチルチオ)エトキシ基、2-(メチルチオ)エトキシ基、1-(メチルスルフィニル)エトキシ基、2-(メチルスルフィニル)エトキシ基、1-(メチルスルホニル)エトキシ基、2-(メチルスルホニル)エトキシ基、2-(アセチル)エトキシ基、2-(プロピオノイル)エトキシ基、2-(メトキシカルボニル)エトキシ基、2-(エトキシカルボニル)エトキシ基、1-(アセチルオキシ)エトキシ基、2-(アセチルオキシ)エトキシ基、1-(ジフルオロアセチルオキシ)エトキシ基、2-(ジフルオロアセチルオキシ)エトキシ基、1-(トリフルオロアセチルオキシ)エトキシ基、2-(トリフルオロアセチルオキシ)エトキシ基、2-(1,3-ジオキソラン-2-イル)エトキシ基、2-(1,3-ジオキサン-2-イル)エトキシ基、プロピルオキシ基、2-ヒドロキシプロピルオキシ基、3-ヒドロキシプロピルオキシ基、1-(アセチルオキシ)プロピルオキシ基、2-(アセチルオキシ)プロピルオキシ基、3-(アセチルオキシ)プロピルオキシ基、1-(ジフルオロアセチルオキシ)プロピルオキシ基、2-(ジフルオロアセチルオキシ)プロピルオキシ基、3-(ジフルオロアセチルオキシ)プロピルオキシ基、1-(トリフルオロアセチルオキシ)プロピルオキシ基、2-(トリフルオロアセチルオキシ)プロピルオキシ基、3-(トリフルオロアセチルオキシ)プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec-ブチルオキシ基、およびt-ブチルオキシ基;
C1~C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、3,3-ジフルオロプロピルオキシ基、および3,3,3-トリフルオロプロピルオキシ基;
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、1-シアノシクロプロピルオキシ基、2-シクロプロピルシクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、1-シアノシクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、1-シアノシクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、4-ヒドロキシシクロヘキシルオキシ基、1-シアノシクロヘキシルオキシ基、4-メトキシシクロヘキシルオキシ基、4-エトキシシクロヘキシルオキシ基、4-ジフルオロメトキシシクロヘキシルオキシ基、4-トリフルオロメトキシシクロヘキシルオキシ基、4-シクロプロピルオキシシクロヘキシルオキシ基、4-シクロブチルオキシシクロヘキシルオキシ基、4-(メトキシメトキシ)シクロヘキシルオキシ基、4-(ジメチルアミノ)シクロヘキシルオキシ基、4-(メチルチオ)シクロヘキシルオキシ基、4-(メチルスルフィニル)シクロヘキシルオキシ基、4-(メチルスルホニル)シクロヘキシルオキシ基、4-アセチルシクロヘキシルオキシ基、4-トリフルオロアセチルシクロヘキシルオキシ基、4-アセチルオキシシクロヘキシルオキシ基、4-トリフルオロアセチルオキシシクロヘキシルオキシ基、4-(1,3-ジオキソラン-2-イル)シクロヘキシルオキシ基、および4-(1,3-ジオキサン-2-イル)シクロヘキシルオキシ基;
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基として、ビニルオキシ基、2-シアノビニルオキシ基、2-シクロプロピルビニルオキシ基、2-メトキシビニルオキシ基、2-エトキシビニルオキシ基、2-トリフルオロメトキシビニルオキシ基、2-シクロプロピルオキシビニルオキシ基、2-(メトキシメトキシ)ビニルオキシ基、2-(ジメチルアミノ)ビニルオキシ基、2-アセチルビニルオキシ基、2-(トリフルオロアセチル)ビニルオキシ基、2-(1,3-ジオキソラン-2-イル)ビニルオキシ基、2-(1,3-ジオキサン-2-イル)ビニルオキシ基、1-プロペニルオキシ基、3-ヒドロキシ-1-プロペニルオキシ基、アリルオキシ基、1-(メトキシメトキシ)アリルオキシ基、1-(メチルチオ)アリルオキシ基、1-(メチルスルフィニル)アリルオキシ基、1-(メチルスルホニル)アリルオキシ基、1-(アセチルオキシ)アリルオキシ基、1-(ジフルオロアセチルオキシ)アリルオキシ基、1-(トリフルオロアセチルオキシ)アリルオキシ基、1-ブテニルオキシ基、2-ブテニルオキシ基、および3-ブテニルオキシ基;
C2~C6のハロアルケニルオキシ基として、2-フルオロビニルオキシ基、2,2-ジフルオロビニルオキシ基、2,2-ジクロロビニルオキシ基、3-フルオロアリルオキシ基、3,3-ジフルオロアリルオキシ基、および3,3-ジクロロアリルオキシ基;
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基として、プロパルギルオキシ基、3-(シクロプロピル)プロパルギルオキシ基、3-(シクロブチル)プロパルギルオキシ基、3-(アセチル)プロパルギルオキシ基、3-(ジフルオロアセチル)プロパルギルオキシ基、3-(トリフルオロアセチル)プロパルギルオキシ基、3-(1,3-ジオキソラン-2-イル)プロパルギルオキシ基、3-(1,3-ジオキサン-2-イル)プロパルギルオキシ基、2-ブチニルオキシ基、4-ヒドロキシ-2-ブチニルオキシ基、4-シアノ-2-ブチニルオキシ基、4-メトキシ-2-ブチニルオキシ基、4-エトキシ-2-ブチニルオキシ基、4-ジフルオロメトキシ-2-ブチニルオキシ基、4-トリフルオロメトキシ-2-ブチニルオキシ基、4-シクロプロピルオキシ-2-ブチニルオキシ基、4-シクロブチルオキシ-2-ブチニルオキシ基、4-メトキシメトキシ-2-ブチニルオキシ基、4-ジメチルアミノ-2-ブチニルオキシ基、4-ピロリジノ-2-ブチニルオキシ基、4-ピペリジノ-2-ブチニルオキシ基、4-ピロリジノ-2-ブチニルオキシ基、4-メチルチオ-2-ブチニルオキシ基、4-メチルスルフィニル-2-ブチニルオキシ基、4-メチルスルホニル-2-ブチニルオキシ基、4-アセチルオキシ-2-ブチニルオキシ基、4-トリフルオロアセチルオキシ-2-ブチニルオキシ基、および3-ブチニルオキシ基;
C3~C6のハロアルキニルオキシ基として、4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、4-クロロ-4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、4-ブロモ-4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、および4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニルオキシ基;
C2~C6のアルコキシアルコキシ基として、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、およびメトキシプロピルオキシ基;
RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)として、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、(メトキシメチル)アミノ基、(2-メトキシエチル)アミノ基、(シアノメチル)アミノ基、(2-シアノエチル)アミノ基、ジメチルアミノ基、エチル(メチル)アミノ基、メチル(プロピル)アミノ基、イソプロピル(メチル)アミノ基、(メトキシメチル)メチルアミノ基、(2-メトキシエチル)メチルアミノ基、(シアノメチル)メチルアミノ基、(2-シアノエチル)メチルアミノ基、ジエチルアミノ基、エチル(プロピル)アミノ基、エチル(イソプロピル)アミノ基、エチル(メトキシメチル)アミノ基、エチル(2-メトキシエチル)アミノ基、(シアノメチル)エチルアミノ基、(2-シアノエチル)エチルアミノ基、2,2-ジフルオロエチルアミノ基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、(シクロプロピル)メチルアミノ基、ピロリジニル基、およびピペリジニル基;
Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメタンスルフィニル基、およびトリフルオロメタンスルホニル基;
RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)として、ホルミル基、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、プロピオニル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、シクロプロパンカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2-ジフルオロエトキシカルボニル基、2,2,2-トリフルオロエトキシカルボニル基、3,3,3-トリフルオロプロピルオキシカルボニル基、シクロプロピルオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、(メトキシメチル)アミノカルボニル基、(2-メトキシエチル)アミノカルボニル基、(シアノメチル)アミノカルボニル基、(2-シアノエチル)アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチル(メチル)アミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、(メトキシメチル)メチルアミノカルボニル基、(2-メトキシエチル)メチルアミノカルボニル基、(シアノメチル)メチルアミノカルボニル基、(2-シアノエチル)メチルアミノカルボニル基、2,2-ジフルオロエチルアミノカルボニル基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノカルボニル基、シクロプロピルアミノカルボニル基、(シクロプロピル)メチルアミノカルボニル基、ピロリジニルカルボニル基、およびピペリジニルカルボニル基;
RdC(=O)O-(ここで、Rdは、前記と同義である。)として、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、メトキシアセチルオキシ基、シアノアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ジフルオロアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、シクロプロパンカルボニルオキシ基、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、2,2-ジフルオロエトキシカルボニルオキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシカルボニルオキシ基、3,3,3-トリフルオロプロピルオキシカルボニルオキシ基、シクロプロピルオキシカルボニルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、メチルアミノカルボニルオキシ基、エチルアミノカルボニルオキシ基、(メトキシメチル)アミノカルボニルオキシ基、(2-メトキシエチル)アミノカルボニルオキシ基、(シアノメチル)アミノカルボニルオキシ基、(2-シアノエチル)アミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基、エチル(メチル)アミノカルボニルオキシ基、ジエチルアミノカルボニルオキシ基、(メトキシメチル)メチルアミノカルボニルオキシ基、(2-メトキシエチル)メチルアミノカルボニルオキシ基、(シアノメチル)メチルアミノカルボニルオキシ基、(2-シアノエチル)メチルアミノカルボニルオキシ基、2,2-ジフルオロエチルアミノカルボニルオキシ基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノカルボニルオキシ基、シクロプロピルアミノカルボニルオキシ基、シクロプロピル(メチル)アミノカルボニルオキシ基、ピロリジニルカルボニルオキシ基、およびピペリジニルカルボニルオキシ基;
RgON=C(Rh)-(ここで、RgおよびRhは、前記と同義である。)として、(ヒドロキシイミノ)メチル基、1-(ヒドロキシイミノ)エチル基、1-(ヒドロキシイミノ)プロピル基、1-(ヒドロキシイミノ)ブチル基、(メトキシイミノ)メチル基、1-(メトキシイミノ)エチル基、1-(メトキシイミノ)プロピル基、1-(メトキシイミノ)ブチル基、(エトキシイミノ)メチル基、1-(エトキシイミノ)エチル基、1-(エトキシイミノ)プロピル基、1-(エトキシイミノ)ブチル基、(プロピルオキシイミノ)メチル基、1-(プロピルオキシイミノ)エチル基、1-(プロピルオキシイミノ)プロピル基、1-(プロピルオキシイミノ)ブチル基、(イソプロピルオキシイミノ)メチル基、1-(イソプロピルオキシイミノ)エチル基、1-(イソプロピルオキシイミノ)プロピル基、および1-(イソプロピルオキシイミノ)ブチル基;
RiRjRkSi-(ここで、Ri、RjおよびRkは、前記と同義である。)として、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、t-ブチルジメチルシリル基、およびトリイソプロピルシリル基;
ならびに1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基として、オキソラニル基、オキサニル基、1,3-ジオキソラニル基、および1,3-ジオキサニル基が挙げられる。
Preferred specific examples of the substituent E include a hydroxyl group; a cyano group;
as halogen atoms, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom;
Examples of C1 to C6 alkyl groups optionally substituted by substituent C include a methyl group, a hydroxymethyl group, a cyanomethyl group, a cyclopropylmethyl group, a cyclobutylmethyl group, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, and a difluoromethoxymethyl group. , trifluoromethoxymethyl group, cyclopropyloxymethyl group, cyclobutyloxymethyl group, methoxymethoxymethyl group, dimethylaminomethyl group, methylthiomethyl group, methylsulfinylmethyl group, methylsulfonylmethyl group, acetylmethyl group, propionoyl methyl group, trifluoroacetylmethyl group, methoxycarbonylmethyl group, ethoxycarbonylmethyl group, acetyloxymethyl group, difluoroacetyloxymethyl group, trifluoroacetyloxymethyl group, (1,3-dioxolan-2-yl)methyl group , (1,3-dioxan-2-yl)methyl group, ethyl group, 1-hydroxyethyl group, 2-hydroxyethyl group, 1-cyanoethyl group, 2-cyanoethyl group, 1-methoxyethyl group, 2-methoxyethyl group, 1-methoxyethyl group, 2-ethoxyethyl group, 1-difluoromethoxyethyl group, 2-difluoromethoxyethyl group, 1-trifluoromethoxyethyl group, 2-trifluoromethoxyethyl group, 1-methoxymethoxyethyl group , 2-methoxymethoxyethyl group, 2-(dimethylamino)ethyl group, 1-(methylthio)ethyl group, 2-(methylthio)ethyl group, 1-(methylsulfinyl)ethyl group, 2-(methylsulfinyl)ethyl group , 1-(methylsulfonyl)ethyl group, 2-(methylsulfonyl)ethyl group, 2-(acetyl)ethyl group, 2-(propionoyl)ethyl group, 2-(methoxycarbonyl)ethyl group, 2-(ethoxycarbonyl) ethyl group, 1-(acetyloxy)ethyl group, 2-(acetyloxy)ethyl group, 1-(difluoroacetyloxy)ethyl group, 2-(difluoroacetyloxy)ethyl group, 1-(trifluoroacetyloxy)ethyl group, 2-(trifluoroacetyloxy)ethyl group, 2-(1,3-dioxolan-2-yl)ethyl group, 2-(1,3-dioxan-2-yl)ethyl group, propyl group, 1- hydroxypropyl group, 2-hydroxypropyl group, 3-hydroxypropyl group, 1-cyanopropyl group, 2-cyanopropyl group, 3-cyanopropyl group, 1-methoxypropyl group, 2-methoxypropyl group group, 3-methoxypropyl group, 1-ethoxypropyl group, 2-ethoxypropyl group, 3-ethoxypropyl group, 1-(acetyloxy)propyl group, 2-(acetyloxy)propyl group, 3-(acetyloxy ) propyl group, 1-(difluoroacetyloxy) propyl group, 2-(difluoroacetyloxy) propyl group, 3-(difluoroacetyloxy) propyl group, 1-(trifluoroacetyloxy) propyl group, 2-(trifluoro acetyloxy)propyl group, 3-(trifluoroacetyloxy)propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, and t-butyl group;
C1 to C6 haloalkyl groups include monofluoromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, monochloromethyl group, monobromomethyl group, monoiodomethyl group, 2,2-difluoroethyl group, 2,2,2- a trifluoroethyl group, a 3,3-difluoropropyl group, and a 3,3,3-trifluoropropyl group;
Examples of C3-C8 cycloalkyl groups optionally substituted with substituent C include a cyclopropyl group, a 1-hydroxycyclopropyl group, a 1-cyanocyclopropyl group, a 2-cyclopropylcyclopropyl group and a 1-methoxychloropropyl group. group, 1-ethoxycyclopropyl group, cyclobutyl group, 1-hydroxycyclobutyl group, 1-cyanocyclobutyl group, 1-methoxycyclobutyl group, 1-ethoxycyclobutyl group, cyclopentyl group, 1-hydroxycyclopentyl group, 1 -cyanocyclopentyl group, 1-methoxynocyclopentyl group, 1-ethoxynocyclopentyl group, cyclohexyl group, 1-hydroxycyclohexyl group, 4-hydroxycyclohexyl group, 1-cyanocyclohexyl group, 1-methoxycyclohexyl group, 1-ethoxycyclohexyl group, 4-methoxycyclohexyl group, 4-ethoxycyclohexyl group, 4-difluoromethoxycyclohexyl group, 4-trifluoromethoxycyclohexyl group, 4-cyclopropyloxycyclohexyl group, 4-cyclobutyloxycyclohexyl group, 4-(methoxymethoxy ) cyclohexyl group, 4-(dimethylamino)cyclohexyl group, 4-(methylthio)cyclohexyl group, 4-(methylsulfinyl)cyclohexyl group, 4-(methylsulfonyl)cyclohexyl group, 4-acetylcyclohexyl group, 4-trifluoroacetyl cyclohexyl group, 4-acetyloxycyclohexyl group, 4-trifluoroacetyloxycyclohexyl group, 4-(1,3-dioxolan-2-yl)cyclohexyl group, and 4-(1,3-dioxan-2-yl)cyclohexyl group;
Examples of C2-C6 alkenyl groups optionally substituted with substituent C include vinyl group, 2-cyanovinyl group, 2-cyclopropylvinyl group, 2-methoxyvinyl group, 2-ethoxyvinyl group and 2-trifluoromethoxyvinyl. group, 2-cyclopropyloxyvinyl group, 2-(methoxymethoxy)vinyl group, 2-(dimethylamino)vinyl group, 2-acetylvinyl group, 2-(trifluoroacetyl)vinyl group, 2-(1,3 -dioxolan-2-yl)vinyl group, 2-(1,3-dioxan-2-yl)vinyl group, 1-propenyl group, 3-hydroxy-1-propenyl group, allyl group, 1-hydroxyallyl group, 1 -(methoxymethoxy) allyl group, 1-(methylthio) allyl group, 1-(methylsulfinyl) allyl group, 1-(methylsulfonyl) allyl group, 1-(acetyloxy) allyl group, 1-(difluoroacetyloxy) allyl group, 1-(trifluoroacetyloxy)allyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group, and 3-butenyl group;
The C2 to C6 haloalkenyl groups include 2-fluorovinyl, 2,2-difluorovinyl, 2,2-dichlorovinyl, 3-fluoroallyl, 3,3-difluoroallyl, and 3,3- dichloroallyl group;
Examples of C2-C6 alkynyl groups optionally substituted with substituent C include ethynyl group, 2-cyclopropylethynyl group, 2-cyclobutylethynyl group, 2-(acetyl)ethynyl group, and 2-(trifluoroacetyl). ethynyl group, 2-(1,3-dioxolan-2-yl) ethynyl group, 2-(1,3-dioxan-2-yl) ethynyl group, 1-propynyl group, propargyl group, 1-hydroxypropargyl group, 1 -cyanopropargyl group, 1-methoxypropargyl group, 1-ethoxypropargyl group, 1-(difluoromethoxy)propargyl group, 1-(trifluoromethoxy)propargyl group, 1-(dimethylamino)propargyl group, 1-(methylthio) propargyl group, 1-(methylsulfinyl)propargyl group, 1-(methylsulfonyl)propargyl group, 1-(acetyloxy)propargyl group, 1-(trifluoroacetyloxy)propargyl group, 1-butynyl group, 2-butynyl group , and a 3-butynyl group;
C2 to C6 haloalkynyl groups include 3,3-difluoro-1-propynyl group, 3,3,3-trifluoro-1-propynyl group, 4,4-difluoro-1-butynyl group, 4,4-difluoro -2-butynyl group, 4,4,4-trifluoro-1-butynyl group, and 4,4,4-trifluoro-2-butynyl group;
Examples of C1 to C6 alkoxy groups optionally substituted by substituent C include methoxy group, cyanomethoxy group, cyclopropylmethoxy group, cyclobutylmethoxy group, methoxymethoxy group, ethoxymethoxy group, difluoromethoxymethoxy group, trifluoro methoxymethoxy group, cyclopropyloxymethoxy group, cyclobutyloxymethoxy group, methylthiomethoxy group, methylsulfinylmethoxy group, methylsulfonylmethoxy group, acetylmethoxy group, propionoylmethoxy group, trifluoroacetylmethoxy group, methoxycarbonylmethoxy group , ethoxycarbonylmethoxy group, acetyloxymethoxy group, difluoroacetyloxymethoxy group, trifluoroacetyloxymethoxy group, (1,3-dioxolan-2-yl)methoxy group, (1,3-dioxan-2-yl)methoxy group, ethoxy group, 2-hydroxyethoxy group, 1-cyanoethoxy group, 2-cyanoethoxy group, 2-methoxyethoxy group, 2-ethoxyethoxy group, 1-difluoromethoxyethoxy group, 2-difluoromethoxyethoxy group, 1 -trifluoromethoxyethoxy group, 2-trifluoromethoxyethoxy group, 2-methoxymethoxyethoxy group, 2-(dimethylamino) ethoxy group, 1-(methylthio) ethoxy group, 2-(methylthio) ethoxy group, 1-( methylsulfinyl)ethoxy group, 2-(methylsulfinyl)ethoxy group, 1-(methylsulfonyl)ethoxy group, 2-(methylsulfonyl)ethoxy group, 2-(acetyl)ethoxy group, 2-(propionoyl)ethoxy group, 2 -(methoxycarbonyl) ethoxy group, 2-(ethoxycarbonyl) ethoxy group, 1-(acetyloxy) ethoxy group, 2-(acetyloxy) ethoxy group, 1-(difluoroacetyloxy) ethoxy group, 2-(difluoroacetyl oxy)ethoxy group, 1-(trifluoroacetyloxy)ethoxy group, 2-(trifluoroacetyloxy)ethoxy group, 2-(1,3-dioxolan-2-yl)ethoxy group, 2-(1,3- dioxan-2-yl) ethoxy group, propyloxy group, 2-hydroxypropyloxy group, 3-hydroxypropyloxy group, 1-(acetyloxy) propyloxy group, 2-(acetyloxy) propyloxy group, 3-( acetyloxy) propyloxy group, 1-(difluoroacetyloxy) propyloxy group, 2-( difluoroacetyloxy) propyloxy group, 3-(difluoroacetyloxy) propyloxy group, 1-(trifluoroacetyloxy) propyloxy group, 2-(trifluoroacetyloxy) propyloxy group, 3-(trifluoroacetyloxy) ) propyloxy, isopropyloxy, butyloxy, isobutyloxy, sec-butyloxy, and t-butyloxy groups;
The C1 to C6 haloalkoxy groups include a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, a 2,2,2-trifluoroethoxy group, a 3,3-difluoropropyloxy group, and a 3,3 , 3-trifluoropropyloxy group;
Examples of the C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with substituent C include a cyclopropyloxy group, a 1-cyanocyclopropyloxy group, a 2-cyclopropylcyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group and a 1-cyanocyclo butyloxy group, cyclopentyloxy group, 1-cyanocyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group, 4-hydroxycyclohexyloxy group, 1-cyanocyclohexyloxy group, 4-methoxycyclohexyloxy group, 4-ethoxycyclohexyloxy group, 4-difluoro methoxycyclohexyloxy group, 4-trifluoromethoxycyclohexyloxy group, 4-cyclopropyloxycyclohexyloxy group, 4-cyclobutyloxycyclohexyloxy group, 4-(methoxymethoxy)cyclohexyloxy group, 4-(dimethylamino)cyclohexyloxy group, 4-(methylthio)cyclohexyloxy group, 4-(methylsulfinyl)cyclohexyloxy group, 4-(methylsulfonyl)cyclohexyloxy group, 4-acetylcyclohexyloxy group, 4-trifluoroacetylcyclohexyloxy group, 4-acetyl oxycyclohexyloxy group, 4-trifluoroacetyloxycyclohexyloxy group, 4-(1,3-dioxolan-2-yl)cyclohexyloxy group, and 4-(1,3-dioxan-2-yl)cyclohexyloxy group;
Examples of C2 to C6 alkenyloxy groups which may be optionally substituted with a substituent C include a vinyloxy group, a 2-cyanovinyloxy group, a 2-cyclopropylvinyloxy group, a 2-methoxyvinyloxy group and a 2-ethoxyvinyloxy group. , 2-trifluoromethoxyvinyloxy group, 2-cyclopropyloxyvinyloxy group, 2-(methoxymethoxy)vinyloxy group, 2-(dimethylamino)vinyloxy group, 2-acetylvinyloxy group, 2-(trifluoroacetyl ) vinyloxy group, 2-(1,3-dioxolan-2-yl) vinyloxy group, 2-(1,3-dioxan-2-yl) vinyloxy group, 1-propenyloxy group, 3-hydroxy-1-propenyloxy group, allyloxy group, 1-(methoxymethoxy)allyloxy group, 1-(methylthio)allyloxy group, 1-(methylsulfinyl)allyloxy group, 1-(methylsulfonyl)allyloxy group, 1-(acetyloxy)allyloxy group, 1 -(difluoroacetyloxy) allyloxy group, 1-(trifluoroacetyloxy) allyloxy group, 1-butenyloxy group, 2-butenyloxy group, and 3-butenyloxy group;
C2 to C6 haloalkenyloxy groups include 2-fluorovinyloxy, 2,2-difluorovinyloxy, 2,2-dichlorovinyloxy, 3-fluoroallyloxy, and 3,3-difluoroallyloxy groups , and a 3,3-dichloroallyloxy group;
Examples of the C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent C include a propargyloxy group, a 3-(cyclopropyl)propargyloxy group, a 3-(cyclobutyl)propargyloxy group, and a 3-(acetyl)propargyloxy group. , 3-(difluoroacetyl) propargyloxy group, 3-(trifluoroacetyl) propargyloxy group, 3-(1,3-dioxolan-2-yl) propargyloxy group, 3-(1,3-dioxane-2- yl) propargyloxy group, 2-butynyloxy group, 4-hydroxy-2-butynyloxy group, 4-cyano-2-butynyloxy group, 4-methoxy-2-butynyloxy group, 4-ethoxy-2-butynyloxy group, 4-difluoro methoxy-2-butynyloxy group, 4-trifluoromethoxy-2-butynyloxy group, 4-cyclopropyloxy-2-butynyloxy group, 4-cyclobutyloxy-2-butynyloxy group, 4-methoxymethoxy-2-butynyloxy group, 4-dimethylamino-2-butynyloxy group, 4-pyrrolidino-2-butynyloxy group, 4-piperidino-2-butynyloxy group, 4-pyrrolidino-2-butynyloxy group, 4-methylthio-2-butynyloxy group, 4-methylsulfinyl -2-butynyloxy group, 4-methylsulfonyl-2-butynyloxy group, 4-acetyloxy-2-butynyloxy group, 4-trifluoroacetyloxy-2-butynyloxy group, and 3-butynyloxy group;
C3-C6 haloalkynyloxy groups, 4,4-difluoro-2-butynyloxy group, 4-chloro-4,4-difluoro-2-butynyloxy group, 4-bromo-4,4-difluoro-2-butynyloxy group , and a 4,4,4-trifluoro-2-butynyloxy group;
methoxymethoxy, ethoxymethoxy, methoxyethoxy, ethoxyethoxy, and methoxypropyloxy groups as C2-C6 alkoxyalkoxy groups;
RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above) is an amino group, methylamino group, ethylamino group, propylamino group, isopropylamino group, (methoxymethyl)amino group, (2-methoxy ethyl)amino group, (cyanomethyl)amino group, (2-cyanoethyl)amino group, dimethylamino group, ethyl(methyl)amino group, methyl(propyl)amino group, isopropyl(methyl)amino group, (methoxymethyl)methylamino group, (2-methoxyethyl)methylamino group, (cyanomethyl)methylamino group, (2-cyanoethyl)methylamino group, diethylamino group, ethyl(propyl)amino group, ethyl(isopropyl)amino group, ethyl(methoxymethyl) amino group, ethyl(2-methoxyethyl)amino group, (cyanomethyl)ethylamino group, (2-cyanoethyl)ethylamino group, 2,2-difluoroethylamino group, 2,2,2-trifluoroethylamino group, cyclopropylamino group, (cyclopropyl)methylamino group, pyrrolidinyl group, and piperidinyl group;
Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above), a methylthio group, a methanesulfinyl group, a methanesulfonyl group, a trifluoromethylthio group, a trifluoromethanesulfinyl group, and a trifluoromethanesulfonyl group;
RdC(=O)- (wherein Rd has the same definition as above) is formyl group, acetyl group, methoxyacetyl group, cyanoacetyl group, propionyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, cyclopropane carbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2-difluoroethoxycarbonyl group, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl group, 3,3,3-trifluoropropyloxycarbonyl group, cyclopropyloxycarbonyl group , aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, ethylaminocarbonyl group, (methoxymethyl)aminocarbonyl group, (2-methoxyethyl)aminocarbonyl group, (cyanomethyl)aminocarbonyl group, (2-cyanoethyl)aminocarbonyl group, dimethyl aminocarbonyl group, ethyl(methyl)aminocarbonyl group, diethylaminocarbonyl group, (methoxymethyl)methylaminocarbonyl group, (2-methoxyethyl)methylaminocarbonyl group, (cyanomethyl)methylaminocarbonyl group, (2-cyanoethyl)methyl aminocarbonyl group, 2,2-difluoroethylaminocarbonyl group, 2,2,2-trifluoroethylaminocarbonyl group, cyclopropylaminocarbonyl group, (cyclopropyl)methylaminocarbonyl group, pyrrolidinylcarbonyl group, and pyrrolidinylcarbonyl group; peridinylcarbonyl group;
RdC(=O)O- (wherein Rd has the same definition as above), a formyloxy group, an acetyloxy group, a methoxyacetyloxy group, a cyanoacetyloxy group, a propionyloxy group, a difluoroacetyloxy group, trifluoroacetyloxy group, cyclopropanecarbonyloxy group, methoxycarbonyloxy group, ethoxycarbonyloxy group, 2,2-difluoroethoxycarbonyloxy group, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyloxy group, 3,3,3 -trifluoropropyloxycarbonyloxy group, cyclopropyloxycarbonyloxy group, aminocarbonyloxy group, methylaminocarbonyloxy group, ethylaminocarbonyloxy group, (methoxymethyl)aminocarbonyloxy group, (2-methoxyethyl)aminocarbonyl oxy group, (cyanomethyl)aminocarbonyloxy group, (2-cyanoethyl)aminocarbonyloxy group, dimethylaminocarbonyloxy group, ethyl(methyl)aminocarbonyloxy group, diethylaminocarbonyloxy group, (methoxymethyl)methylaminocarbonyloxy group , (2-methoxyethyl) methylaminocarbonyloxy group, (cyanomethyl) methylaminocarbonyloxy group, (2-cyanoethyl) methylaminocarbonyloxy group, 2,2-difluoroethylaminocarbonyloxy group, 2,2,2- a trifluoroethylaminocarbonyloxy group, a cyclopropylaminocarbonyloxy group, a cyclopropyl(methyl)aminocarbonyloxy group, a pyrrolidinylcarbonyloxy group, and a piperidinylcarbonyloxy group;
RgON=C(Rh)- (wherein Rg and Rh are as defined above), a (hydroxyimino)methyl group, a 1-(hydroxyimino)ethyl group, a 1-(hydroxyimino)propyl group, 1-(hydroxyimino)butyl group, (methoxyimino)methyl group, 1-(methoxyimino)ethyl group, 1-(methoxyimino)propyl group, 1-(methoxyimino)butyl group, (ethoxyimino)methyl group, 1-(ethoxyimino) ethyl group, 1-(ethoxyimino) propyl group, 1-(ethoxyimino) butyl group, (propyloxyimino) methyl group, 1-(propyloxyimino) ethyl group, 1-(propyloxy imino)propyl group, 1-(propyloxyimino)butyl group, (isopropyloxyimino)methyl group, 1-(isopropyloxyimino)ethyl group, 1-(isopropyloxyimino)propyl group, and 1-(isopropyloxyimino) ) butyl group;
RiRjRkSi- (wherein Ri, Rj and Rk are as defined above), a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, a t-butyldimethylsilyl group, and a triisopropylsilyl group;
and 3- to 6-membered ring groups containing 1-2 oxygen atoms include oxolanyl, oxanyl, 1,3-dioxolanyl, and 1,3-dioxanyl groups.

置換基Eのさらに好ましい具体例に関しては、水酸基;シアノ基;
ハロゲン原子として、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子;
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基として、メチル基、ヒドロキシメチル基、メトキシメチル基、アセチルオキシメチル基、ジフルオロアセチルオキシメチル基、トリフルオロアセチルオキシメチル基、エチル基、1-ヒドロキシエチル基、2-ヒドロキシエチル基、1-メトキシエチル基、1-(アセチルオキシ)エチル基、2-(アセチルオキシ)エチル基、1-(ジフルオロアセチルオキシ)エチル基、2-(ジフルオロアセチルオキシ)エチル基、1-(トリフルオロアセチルオキシ)エチル基、2-(トリフルオロアセチルオキシ)エチル基、プロピル基、およびイソプロピル基;
C1~C6のハロアルキル基として、モノブロモメチル基、ジフルオロメチル基、およびトリフルオロメチル基;
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、シクロブチル基、およびシクロペンチル基;
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6アルケニル基として、ビニル基、1-プロペニル基、およびアリル基;
C2~C6のハロアルケニル基として、2-フルオロビニル基、および2,2-ジフルオロビニル基;
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基として、エチニル基、1-プロピニル基、およびプロパルギル基;
C2~C6のハロアルキニル基として、3,3-ジフルオロ-1-プロピニル基、および3,3,3-トリフルオロ-1-プロピニル基;
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基として、メトキシ基、シアノメトキシ基、メトキシメトキシ基、メチルチオメトキシ基、メチルスルフィニルメトキシ基、メチルスルホニルメトキシ基、エトキシ基、1-シアノエトキシ基、2-シアノエトキシ基、2-メトキシエトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec-ブチルオキシ基、およびt-ブチルオキシ基;
C1~C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、および2,2,2-トリフルオロエトキシ基;
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基およびシクロペンチルオキシ基;
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基として、ビニルオキシ基、1-プロペニルオキシ基、およびアリルオキシ基;
C2~C6のハロアルケニルオキシ基として、2-フルオロビニルオキシ基、および2,2-ジフルオロビニルオキシ基;
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基として、プロパルギルオキシ基;
C3~C6のハロアルキニルオキシ基として、4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基;
C2~C6のアルコキシアルコキシ基として、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、およびエトキシエトキシ基;
RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)として、アミノ基、ジメチルアミノ基、エチル(メチル)アミノ基、およびジエチルアミノ基;
Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、およびメタンスルホニル基;
RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)として、ホルミル基、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、ジフルオロアセチル基、およびトリフルオロアセチル基;
RdC(=O)O-(ここで、Rdは、前記と同義である。)として、アセチルオキシ基、メトキシアセチルオキシ基、シアノアセチルオキシ基、ジフルオロアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基、エチル(メチル)アミノカルボニルオキシ基、およびジエチルアミノカルボニルオキシ基;
RgON=C(Rh)-(ここで、RgおよびRhは、前記と同義である。)として、(ヒドロキシイミノ)メチル基、1-(ヒドロキシイミノ)エチル基、(メトキシイミノ)メチル基、1-(メトキシイミノ)エチル基、(エトキシイミノ)メチル基、1-(エトキシイミノ)エチル基、(プロピルオキシイミノ)メチル基、1-(プロピルオキシイミノ)エチル基、(イソプロピルオキシイミノ)メチル基、および1-(イソプロピルオキシイミノ)エチル基;
RiRjRkSi-(ここで、Ri、RjおよびRkは、前記と同義である。)として、トリメチルシリル基、およびトリエチルシリル基;
ならびに1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基として、1,3-ジオキソラニル基、および1,3-ジオキサニル基が挙げられる。
More preferred specific examples of the substituent E include a hydroxyl group; a cyano group;
as halogen atoms, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom;
Examples of C1 to C6 alkyl groups optionally substituted by substituent C include methyl group, hydroxymethyl group, methoxymethyl group, acetyloxymethyl group, difluoroacetyloxymethyl group, trifluoroacetyloxymethyl group, ethyl group, 1-hydroxyethyl group, 2-hydroxyethyl group, 1-methoxyethyl group, 1-(acetyloxy)ethyl group, 2-(acetyloxy)ethyl group, 1-(difluoroacetyloxy)ethyl group, 2-(difluoro acetyloxy)ethyl group, 1-(trifluoroacetyloxy)ethyl group, 2-(trifluoroacetyloxy)ethyl group, propyl group, and isopropyl group;
a monobromomethyl group, a difluoromethyl group, and a trifluoromethyl group as the C1 to C6 haloalkyl groups;
cyclopropyl group, cyclobutyl group, and cyclopentyl group as C3-C8 cycloalkyl groups optionally substituted with substituent C;
C2-C6 alkenyl groups optionally substituted with a substituent C include a vinyl group, a 1-propenyl group, and an allyl group;
2-fluorovinyl group and 2,2-difluorovinyl group as C2-C6 haloalkenyl groups;
Ethynyl group, 1-propynyl group, and propargyl group as C2-C6 alkynyl groups optionally substituted with substituent C;
3,3-difluoro-1-propynyl group and 3,3,3-trifluoro-1-propynyl group as C2-C6 haloalkynyl groups;
Examples of C1 to C6 alkoxy groups optionally substituted with substituent C include a methoxy group, a cyanomethoxy group, a methoxymethoxy group, a methylthiomethoxy group, a methylsulfinylmethoxy group, a methylsulfonylmethoxy group, an ethoxy group, and 1-cyanoethoxy. 2-cyanoethoxy, 2-methoxyethoxy, propyloxy, isopropyloxy, butyloxy, isobutyloxy, sec-butyloxy, and t-butyloxy groups;
difluoromethoxy, trifluoromethoxy, 2,2-difluoroethoxy, and 2,2,2-trifluoroethoxy groups as C1-C6 haloalkoxy groups;
C3-C8 cycloalkoxy groups optionally substituted with a substituent C include a cyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group and a cyclopentyloxy group;
C2-C6 alkenyloxy groups optionally substituted with substituent C include vinyloxy, 1-propenyloxy, and allyloxy groups;
2-fluorovinyloxy and 2,2-difluorovinyloxy as C2-C6 haloalkenyloxy groups;
A propargyloxy group as the C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent C;
4,4-difluoro-2-butynyloxy group as the C3-C6 haloalkynyloxy group;
methoxymethoxy, ethoxymethoxy, methoxyethoxy, and ethoxyethoxy groups as C2-C6 alkoxyalkoxy groups;
RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above), an amino group, a dimethylamino group, an ethyl(methyl)amino group, and a diethylamino group;
Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above), a methylthio group, a methanesulfinyl group, and a methanesulfonyl group;
RdC(=O)- (wherein Rd is as defined above), a formyl group, an acetyl group, a methoxyacetyl group, a cyanoacetyl group, a difluoroacetyl group, and a trifluoroacetyl group;
RdC(=O)O- (wherein Rd has the same definition as above) is an acetyloxy group, methoxyacetyloxy group, cyanoacetyloxy group, difluoroacetyloxy group, trifluoroacetyloxy group, methoxycarbonyl oxy group, ethoxycarbonyloxy group, aminocarbonyloxy group, dimethylaminocarbonyloxy group, ethyl(methyl)aminocarbonyloxy group, and diethylaminocarbonyloxy group;
RgON=C(Rh)- (where Rg and Rh are as defined above) are (hydroxyimino)methyl group, 1-(hydroxyimino)ethyl group, (methoxyimino)methyl group, 1- (methoxyimino) ethyl group, (ethoxyimino) methyl group, 1-(ethoxyimino) ethyl group, (propyloxyimino) methyl group, 1-(propyloxyimino) ethyl group, (isopropyloxyimino) methyl group, and 1-(isopropyloxyimino) ethyl group;
RiRjRkSi- (wherein Ri, Rj and Rk are as defined above), a trimethylsilyl group and a triethylsilyl group;
and 3- to 6-membered ring groups containing 1-2 oxygen atoms include 1,3-dioxolanyl and 1,3-dioxanyl groups.

置換基Fは、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6アルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、C2~C6のハロアルケニルオキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、C3~C6のハロアルキニルオキシ基、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)およびRdC(=O)O-(ここで、Rdは、前記と同義である。)からなる群から選択される少なくとも1種を表す。 Substituent F is a hydroxyl group, a cyano group, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 optionally substituted with a substituent C. A cycloalkyl group, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkynyl group, C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent C, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with substituent C, substituent C C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with C2-C6 haloalkenyloxy group, C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with substituent C, C3-C6 haloalkynyloxy group , RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above), Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above), RdC (=O)- (where , Rd has the same meaning as defined above) and RdC(=O)O- (wherein Rd has the same meaning as defined above).

中でも置換基Fは、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)およびRdC(=O)O-(ここで、Rdは、前記と同義である。)が好ましく、
特に、ハロゲン原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基および置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基が好ましい。
Among them, the substituent F is a hydroxyl group, a cyano group, a halogen atom, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1 to C6 haloalkyl group optionally substituted with a substituent C, a C3 to C8 cycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent C, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with substituent C, RdC (=O)- (wherein Rd is as defined above) and RdC(=O)O- (wherein Rd is as defined above) are preferred,
In particular, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, and a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C are preferred.

置換基Fの各用語は前記の定義と同義である。なお、「置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基」に関しては、置換基Cを有する場合、C1~C6のアルキル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。「置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基」に関しては、置換基Cを有する場合、C3~C8のシクロアルキル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。「置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6アルケニル基」に関しては、置換基Cを有する場合、C2~C6アルケニル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。「置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基」に関しては、置換基Cを有する場合、C2~C6のアルキニル基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。
「置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基」に関しては、置換基Cを有する場合、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。「置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基」に関しては、置換基Cを有する場合、C3~C8のシクロアルコキシ基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。「置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基」に関しては、置換基Cを有する場合、C2~C6のアルケニルオキシ基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。「置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基」に関しては、置換基Cを有する場合、C3~C6のアルキニルオキシ基における水素原子が、置換基Cによって任意に置換される。
Each term for the substituent F has the same meaning as defined above. Regarding the "C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C", when it has a substituent C, the hydrogen atom in the C1-C6 alkyl group is arbitrarily substituted with the substituent C. . With respect to the "C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C", when having a substituent C, a hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkyl group is optionally substituted with the substituent C . With respect to the “C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C”, if the C2-C6 alkenyl group has a substituent C, a hydrogen atom in the C2-C6 alkenyl group is optionally substituted with the substituent C. With respect to the “C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C”, when the substituent C is present, a hydrogen atom in the C2-C6 alkynyl group is optionally substituted with the substituent C.
With respect to the "C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C", when having a substituent C, a hydrogen atom in the C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C is substituted optionally substituted by group C; With respect to the "C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent C", when having a substituent C, a hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkoxy group is optionally substituted with the substituent C . With respect to the "C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent C", when having a substituent C, a hydrogen atom in the C2-C6 alkenyloxy group is optionally substituted with the substituent C . With respect to the "C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent C", when having a substituent C, a hydrogen atom in the C3-C6 alkynyloxy group is optionally substituted with the substituent C .

置換基Fの好ましい具体例に関しては、水酸基;シアノ基;
ハロゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子;
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基として、メチル基、ヒドロキシメチル基、シアノメチル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、ジフルオロメトキシメチル基、トリフルオロメトキシメチル基、シクロプロピルオキシメチル基、シクロブチルオキシメチル基、メトキシメトキシメチル基、ジメチルアミノメチル基、メチルチオメチル基、メチルスルフィニルメチル基、メチルスルホニルメチル基、アセチルメチル基、プロピオノイルメチル基、トリフルオロアセチルメチル基、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、アセチルオキシメチル基、ジフルオロアセチルオキシメチル基、トリフルオロアセチルオキシメチル基、(1,3-ジオキソラン-2-イル)メチル基、(1,3-ジオキサン-2-イル)メチル基、エチル基、1-ヒドロキシエチル基、2-ヒドロキシエチル基、1-シアノエチル基、2-シアノエチル基、1-メトキシエチル基、2-メトキシエチル基、1-メトキシエチル基、2-エトキシエチル基、1-ジフルオロメトキシエチル基、2-ジフルオロメトキシエチル基、1-トリフルオロメトキシエチル基、2-トリフルオロメトキシエチル基、1-メトキシメトキシエチル基、2-メトキシメトキシエチル基、2-(ジメチルアミノ)エチル基、1-(メチルチオ)エチル基、2-(メチルチオ)エチル基、1-(メチルスルフィニル)エチル基、2-(メチルスルフィニル)エチル基、1-(メチルスルホニル)エチル基、2-(メチルスルホニル)エチル基、2-(アセチル)エチル基、2-(プロピオノイル)エチル基、2-(メトキシカルボニル)エチル基、2-(エトキシカルボニル)エチル基、1-(アセチルオキシ)エチル基、2-(アセチルオキシ)エチル基、1-(ジフルオロアセチルオキシ)エチル基、2-(ジフルオロアセチルオキシ)エチル基、1-(トリフルオロアセチルオキシ)エチル基、2-(トリフルオロアセチルオキシ)エチル基、2-(1,3-ジオキソラン-2-イル)エチル基、2-(1,3-ジオキサン-2-イル)エチル基、プロピル基、1-ヒドロキシプロピル基、2-ヒドロキシプロピル基、3-ヒドロキシプロピル基、1-シアノプロピル基、2-シアノプロピル基、3-シアノプロピル基、1-メトキシプロピル基、2-メトキシプロピル基、3-メトキシプロピル基、1-エトキシプロピル基、2-エトキシプロピル基、3-エトキシプロピル基、1-(アセチルオキシ)プロピル基、2-(アセチルオキシ)プロピル基、3-(アセチルオキシ)プロピル基、1-(ジフルオロアセチルオキシ)プロピル基、2-(ジフルオロアセチルオキシ)プロピル基、3-(ジフルオロアセチルオキシ)プロピル基、1-(トリフルオロアセチルオキシ)プロピル基、2-(トリフルオロアセチルオキシ)プロピル基、3-(トリフルオロアセチルオキシ)プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、およびt-ブチル基;
C1~C6のハロアルキル基として、モノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、モノクロロメチル基、モノブロモメチル基、モノヨードメチル基、2,2-ジフルオロエチル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、3,3-ジフルオロプロピル基、および3,3,3-トリフルオロプロピル基;
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、1-ヒドロキシシクロプロピル基、1-シアノシクロプロピル基、2-シクロプロピルシクロプロピル基、1-メトキシクロプロピル基、1-エトキシクロプロピル基、シクロブチル基、1-ヒドロキシシクロブチル基、1-シアノシクロブチル基、1-メトキシクロブチル基、1-エトキシクロブチル基、シクロペンチル基、1-ヒドロキシシクロペンチル基、1-シアノシクロペンチル基、1-メトキシノシクロペンチル基、1-エトキシノシクロペンチル基、シクロヘキシル基、1-ヒドロキシシクロヘキシル基、4-ヒドロキシシクロヘキシル基、1-シアノシクロヘキシル基、1-メトキシシクロヘキシル基、1-エトキシシクロヘキシル基、4-メトキシシクロヘキシル基、4-エトキシシクロヘキシル基、4-ジフルオロメトキシシクロヘキシル基、4-トリフルオロメトキシシクロヘキシル基、4-シクロプロピルオキシシクロヘキシル基、4-シクロブチルオキシシクロヘキシル基、4-(メトキシメトキシ)シクロヘキシル基、4-(ジメチルアミノ)シクロヘキシル基、4-(メチルチオ)シクロヘキシル基、4-(メチルスルフィニル)シクロヘキシル基、4-(メチルスルホニル)シクロヘキシル基、4-アセチルシクロヘキシル基、4-トリフルオロアセチルシクロヘキシル基、4-アセチルオキシシクロヘキシル基、4-トリフルオロアセチルオキシシクロヘキシル基、4-(1,3-ジオキソラン-2-イル)シクロヘキシル基、および4-(1,3-ジオキサン-2-イル)シクロヘキシル基;
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6アルケニル基として、ビニル基、2-シアノビニル基、2-シクロプロピルビニル基、2-メトキシビニル基、2-エトキシビニル基、2-トリフルオロメトキシビニル基、2-シクロプロピルオキシビニル基、2-(メトキシメトキシ)ビニル基、2-(ジメチルアミノ)ビニル基、2-アセチルビニル基、2-(トリフルオロアセチル)ビニル基、2-(1,3-ジオキソラン-2-イル)ビニル基、2-(1,3-ジオキサン-2-イル)ビニル基、1-プロペニル基、3-ヒドロキシ-1-プロペニル基、アリル基、1-ヒドロキシアリル基、1-(メトキシメトキシ)アリル基、1-(メチルチオ)アリル基、1-(メチルスルフィニル)アリル基、1-(メチルスルホニル)アリル基、1-(アセチルオキシ)アリル基、1-(ジフルオロアセチルオキシ)アリル基、1-(トリフルオロアセチルオキシ)アリル基、1-ブテニル基、2-ブテニル基、および3-ブテニル基;
C2~C6のハロアルケニル基として、2-フルオロビニル基、2,2-ジフルオロビニル基、2,2-ジクロロビニル基、3-フルオロアリル基、3,3-ジフルオロアリル基、および3,3-ジクロロアリル基;
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基として、エチニル基、2-シクロプロピルエチニル基、2-シクロブチルエチニル基、2-(アセチル)エチニル基、2-(トリフルオロアセチル)エチニル基、2-(1,3-ジオキソラン-2-イル)エチニル基、2-(1,3-ジオキサン-2-イル)エチニル基、1-プロピニル基、プロパルギル基、1-ヒドロキシプロパルギル基、1-シアノプロパルギル基、1-メトキシプロパルギル基、1-エトキシプロパルギル基、1-(ジフルオロメトキシ)プロパルギル基、1-(トリフルオロメトキシ)プロパルギル基、1-(ジメチルアミノ)プロパルギル基、1-(メチルチオ)プロパルギル基、1-(メチルスルフィニル)プロパルギル基、1-(メチルスルホニル)プロパルギル基、1-(アセチルオキシ)プロパルギル基、1-(トリフルオロアセチルオキシ)プロパルギル基、1-ブチニル基、2-ブチニル基、および3-ブチニル基;
C2~C6のハロアルキニル基として、3,3-ジフルオロ-1-プロピニル基、3,3,3-トリフルオロ-1-プロピニル基、4,4-ジフルオロ-1-ブチニル基、4,4-ジフルオロ-2-ブチニル基、4,4,4-トリフルオロ-1-ブチニル基、および4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニル基;
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基として、メトキシ基、シアノメトキシ基、シクロプロピルメトキシ基、シクロブチルメトキシ基、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、ジフルオロメトキシメトキシ基、トリフルオロメトキシメトキシ基、シクロプロピルオキシメトキシ基、シクロブチルオキシメトキシ基、メチルチオメトキシ基、メチルスルフィニルメトキシ基、メチルスルホニルメトキシ基、アセチルメトキシ基、プロピオノイルメトキシ基、トリフルオロアセチルメトキシ基、メトキシカルボニルメトキシ基、エトキシカルボニルメトキシ基、アセチルオキシメトキシ基、ジフルオロアセチルオキシメトキシ基、トリフルオロアセチルオキシメトキシ基、(1,3-ジオキソラン-2-イル)メトキシ基、(1,3-ジオキサン-2-イル)メトキシ基、エトキシ基、2-ヒドロキシエトキシ基、1-シアノエトキシ基、2-シアノエトキシ基、2-メトキシエトキシ基、2-エトキシエトキシ基、1-ジフルオロメトキシエトキシ基、2-ジフルオロメトキシエトキシ基、1-トリフルオロメトキシエトキシ基、2-トリフルオロメトキシエトキシ基、2-メトキシメトキシエトキシ基、2-(ジメチルアミノ)エトキシ基、1-(メチルチオ)エトキシ基、2-(メチルチオ)エトキシ基、1-(メチルスルフィニル)エトキシ基、2-(メチルスルフィニル)エトキシ基、1-(メチルスルホニル)エトキシ基、2-(メチルスルホニル)エトキシ基、2-(アセチル)エトキシ基、2-(プロピオノイル)エトキシ基、2-(メトキシカルボニル)エトキシ基、2-(エトキシカルボニル)エトキシ基、1-(アセチルオキシ)エトキシ基、2-(アセチルオキシ)エトキシ基、1-(ジフルオロアセチルオキシ)エトキシ基、2-(ジフルオロアセチルオキシ)エトキシ基、1-(トリフルオロアセチルオキシ)エトキシ基、2-(トリフルオロアセチルオキシ)エトキシ基、2-(1,3-ジオキソラン-2-イル)エトキシ基、2-(1,3-ジオキサン-2-イル)エトキシ基、プロピルオキシ基、2-ヒドロキシプロピルオキシ基、3-ヒドロキシプロピルオキシ基、1-(アセチルオキシ)プロピルオキシ基、2-(アセチルオキシ)プロピルオキシ基、3-(アセチルオキシ)プロピルオキシ基、1-(ジフルオロアセチルオキシ)プロピルオキシ基、2-(ジフルオロアセチルオキシ)プロピルオキシ基、3-(ジフルオロアセチルオキシ)プロピルオキシ基、1-(トリフルオロアセチルオキシ)プロピルオキシ基、2-(トリフルオロアセチルオキシ)プロピルオキシ基、3-(トリフルオロアセチルオキシ)プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec-ブチルオキシ基、およびt-ブチルオキシ基;
C1~C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、3,3-ジフルオロプロピルオキシ基、および3,3,3-トリフルオロプロピルオキシ基;
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、1-シアノシクロプロピルオキシ基、2-シクロプロピルシクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、1-シアノシクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、1-シアノシクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、4-ヒドロキシシクロヘキシルオキシ基、1-シアノシクロヘキシルオキシ基、4-メトキシシクロヘキシルオキシ基、4-エトキシシクロヘキシルオキシ基、4-ジフルオロメトキシシクロヘキシルオキシ基、4-トリフルオロメトキシシクロヘキシルオキシ基、4-シクロプロピルオキシシクロヘキシルオキシ基、4-シクロブチルオキシシクロヘキシルオキシ基、4-(メトキシメトキシ)シクロヘキシルオキシ基、4-(ジメチルアミノ)シクロヘキシルオキシ基、4-(メチルチオ)シクロヘキシルオキシ基、4-(メチルスルフィニル)シクロヘキシルオキシ基、4-(メチルスルホニル)シクロヘキシルオキシ基、4-アセチルシクロヘキシルオキシ基、4-トリフルオロアセチルシクロヘキシルオキシ基、4-アセチルオキシシクロヘキシルオキシ基、4-トリフルオロアセチルオキシシクロヘキシルオキシ基、4-(1,3-ジオキソラン-2-イル)シクロヘキシルオキシ基、および4-(1,3-ジオキサン-2-イル)シクロヘキシルオキシ基;
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基として、ビニルオキシ基、2-シアノビニルオキシ基、2-シクロプロピルビニルオキシ基、2-メトキシビニルオキシ基、2-エトキシビニルオキシ基、2-トリフルオロメトキシビニルオキシ基、2-シクロプロピルオキシビニルオキシ基、2-(メトキシメトキシ)ビニルオキシ基、2-(ジメチルアミノ)ビニルオキシ基、2-アセチルビニルオキシ基、2-(トリフルオロアセチル)ビニルオキシ基、2-(1,3-ジオキソラン-2-イル)ビニルオキシ基、2-(1,3-ジオキサン-2-イル)ビニルオキシ基、1-プロペニルオキシ基、3-ヒドロキシ-1-プロペニルオキシ基、アリルオキシ基、1-(メトキシメトキシ)アリルオキシ基、1-(メチルチオ)アリルオキシ基、1-(メチルスルフィニル)アリルオキシ基、1-(メチルスルホニル)アリルオキシ基、1-(アセチルオキシ)アリルオキシ基、1-(ジフルオロアセチルオキシ)アリルオキシ基、1-(トリフルオロアセチルオキシ)アリルオキシ基、1-ブテニルオキシ基、2-ブテニルオキシ基、および3-ブテニルオキシ基;
C2~C6のハロアルケニルオキシ基として、2-フルオロビニルオキシ基、2,2-ジフルオロビニルオキシ基、2,2-ジクロロビニルオキシ基、3-フルオロアリルオキシ基、3,3-ジフルオロアリルオキシ基、および3,3-ジクロロアリルオキシ基;
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基として、プロパルギルオキシ基、3-(シクロプロピル)プロパルギルオキシ基、3-(シクロブチル)プロパルギルオキシ基、3-(アセチル)プロパルギルオキシ基、3-(ジフルオロアセチル)プロパルギルオキシ基、3-(トリフルオロアセチル)プロパルギルオキシ基、3-(1,3-ジオキソラン-2-イル)プロパルギルオキシ基、3-(1,3-ジオキサン-2-イル)プロパルギルオキシ基、2-ブチニルオキシ基、4-ヒドロキシ-2-ブチニルオキシ基、4-シアノ-2-ブチニルオキシ基、4-メトキシ-2-ブチニルオキシ基、4-エトキシ-2-ブチニルオキシ基、4-ジフルオロメトキシ-2-ブチニルオキシ基、4-トリフルオロメトキシ-2-ブチニルオキシ基、4-シクロプロピルオキシ-2-ブチニルオキシ基、4-シクロブチルオキシ-2-ブチニルオキシ基、4-メトキシメトキシ-2-ブチニルオキシ基、4-ジメチルアミノ-2-ブチニルオキシ基、4-ピロリジノ-2-ブチニルオキシ基、4-ピペリジノ-2-ブチニルオキシ基、4-ピロリジノ-2-ブチニルオキシ基、4-メチルチオ-2-ブチニルオキシ基、4-メチルスルフィニル-2-ブチニルオキシ基、4-メチルスルホニル-2-ブチニルオキシ基、4-アセチルオキシ-2-ブチニルオキシ基、4-トリフルオロアセチルオキシ-2-ブチニルオキシ基、および3-ブチニルオキシ基;
C3~C6のハロアルキニルオキシ基として、4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、4-クロロ-4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、4-ブロモ-4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基、および4,4,4-トリフルオロ-2-ブチニルオキシ基;
RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)として、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、(メトキシメチル)アミノ基、(2-メトキシエチル)アミノ基、(シアノメチル)アミノ基、(2-シアノエチル)アミノ基、ジメチルアミノ基、エチル(メチル)アミノ基、メチル(プロピル)アミノ基、イソプロピル(メチル)アミノ基、(メトキシメチル)メチルアミノ基、(2-メトキシエチル)メチルアミノ基、(シアノメチル)メチルアミノ基、(2-シアノエチル)メチルアミノ基、ジエチルアミノ基、エチル(プロピル)アミノ基、エチル(イソプロピル)アミノ基、エチル(メトキシメチル)アミノ基、エチル(2-メトキシエチル)アミノ基、(シアノメチル)エチルアミノ基、(2-シアノエチル)エチルアミノ基、2,2-ジフルオロエチルアミノ基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、(シクロプロピル)メチルアミノ基、ピロリジニル基、およびピペリジニル基;
Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメタンスルフィニル基、およびトリフルオロメタンスルホニル基;
RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)として、ホルミル基、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、プロピオニル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、シクロプロパンカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、2,2-ジフルオロエトキシカルボニル基、2,2,2-トリフルオロエトキシカルボニル基、3,3,3-トリフルオロプロピルオキシカルボニル基、シクロプロピルオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、(メトキシメチル)アミノカルボニル基、(2-メトキシエチル)アミノカルボニル基、(シアノメチル)アミノカルボニル基、(2-シアノエチル)アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチル(メチル)アミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、(メトキシメチル)メチルアミノカルボニル基、(2-メトキシエチル)メチルアミノカルボニル基、(シアノメチル)メチルアミノカルボニル基、(2-シアノエチル)メチルアミノカルボニル基、2,2-ジフルオロエチルアミノカルボニル基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノカルボニル基、シクロプロピルアミノカルボニル基、(シクロプロピル)メチルアミノカルボニル基、ピロリジニルカルボニル基、およびピペリジニルカルボニル基;
ならびにRdC(=O)O-(ここで、Rdは、前記と同義である。)として、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、メトキシアセチルオキシ基、シアノアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ジフルオロアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、シクロプロパンカルボニルオキシ基、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、2,2-ジフルオロエトキシカルボニルオキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシカルボニルオキシ基、3,3,3-トリフルオロプロピルオキシカルボニルオキシ基、シクロプロピルオキシカルボニルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、メチルアミノカルボニルオキシ基、エチルアミノカルボニルオキシ基、(メトキシメチル)アミノカルボニルオキシ基、(2-メトキシエチル)アミノカルボニルオキシ基、(シアノメチル)アミノカルボニルオキシ基、(2-シアノエチル)アミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基、エチル(メチル)アミノカルボニルオキシ基、ジエチルアミノカルボニルオキシ基、(メトキシメチル)メチルアミノカルボニルオキシ基、(2-メトキシエチル)メチルアミノカルボニルオキシ基、(シアノメチル)メチルアミノカルボニルオキシ基、(2-シアノエチル)メチルアミノカルボニルオキシ基、2,2-ジフルオロエチルアミノカルボニルオキシ基、2,2,2-トリフルオロエチルアミノカルボニルオキシ基、シクロプロピルアミノカルボニルオキシ基、シクロプロピル(メチル)アミノカルボニルオキシ基、ピロリジニルカルボニルオキシ基、およびピペリジニルカルボニルオキシ基が挙げられる。
Preferred specific examples of the substituent F include a hydroxyl group; a cyano group;
as halogen atoms, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom;
Examples of C1 to C6 alkyl groups optionally substituted by substituent C include a methyl group, a hydroxymethyl group, a cyanomethyl group, a cyclopropylmethyl group, a cyclobutylmethyl group, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, and a difluoromethoxymethyl group. , trifluoromethoxymethyl group, cyclopropyloxymethyl group, cyclobutyloxymethyl group, methoxymethoxymethyl group, dimethylaminomethyl group, methylthiomethyl group, methylsulfinylmethyl group, methylsulfonylmethyl group, acetylmethyl group, propionoyl methyl group, trifluoroacetylmethyl group, methoxycarbonylmethyl group, ethoxycarbonylmethyl group, acetyloxymethyl group, difluoroacetyloxymethyl group, trifluoroacetyloxymethyl group, (1,3-dioxolan-2-yl)methyl group , (1,3-dioxan-2-yl)methyl group, ethyl group, 1-hydroxyethyl group, 2-hydroxyethyl group, 1-cyanoethyl group, 2-cyanoethyl group, 1-methoxyethyl group, 2-methoxyethyl group, 1-methoxyethyl group, 2-ethoxyethyl group, 1-difluoromethoxyethyl group, 2-difluoromethoxyethyl group, 1-trifluoromethoxyethyl group, 2-trifluoromethoxyethyl group, 1-methoxymethoxyethyl group , 2-methoxymethoxyethyl group, 2-(dimethylamino)ethyl group, 1-(methylthio)ethyl group, 2-(methylthio)ethyl group, 1-(methylsulfinyl)ethyl group, 2-(methylsulfinyl)ethyl group , 1-(methylsulfonyl)ethyl group, 2-(methylsulfonyl)ethyl group, 2-(acetyl)ethyl group, 2-(propionoyl)ethyl group, 2-(methoxycarbonyl)ethyl group, 2-(ethoxycarbonyl) ethyl group, 1-(acetyloxy)ethyl group, 2-(acetyloxy)ethyl group, 1-(difluoroacetyloxy)ethyl group, 2-(difluoroacetyloxy)ethyl group, 1-(trifluoroacetyloxy)ethyl group, 2-(trifluoroacetyloxy)ethyl group, 2-(1,3-dioxolan-2-yl)ethyl group, 2-(1,3-dioxan-2-yl)ethyl group, propyl group, 1- hydroxypropyl group, 2-hydroxypropyl group, 3-hydroxypropyl group, 1-cyanopropyl group, 2-cyanopropyl group, 3-cyanopropyl group, 1-methoxypropyl group, 2-methoxypropyl group group, 3-methoxypropyl group, 1-ethoxypropyl group, 2-ethoxypropyl group, 3-ethoxypropyl group, 1-(acetyloxy)propyl group, 2-(acetyloxy)propyl group, 3-(acetyloxy ) propyl group, 1-(difluoroacetyloxy) propyl group, 2-(difluoroacetyloxy) propyl group, 3-(difluoroacetyloxy) propyl group, 1-(trifluoroacetyloxy) propyl group, 2-(trifluoro acetyloxy)propyl group, 3-(trifluoroacetyloxy)propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, and t-butyl group;
C1 to C6 haloalkyl groups include monofluoromethyl group, difluoromethyl group, trifluoromethyl group, monochloromethyl group, monobromomethyl group, monoiodomethyl group, 2,2-difluoroethyl group, 2,2,2- a trifluoroethyl group, a 3,3-difluoropropyl group, and a 3,3,3-trifluoropropyl group;
Examples of C3-C8 cycloalkyl groups optionally substituted with substituent C include a cyclopropyl group, a 1-hydroxycyclopropyl group, a 1-cyanocyclopropyl group, a 2-cyclopropylcyclopropyl group and a 1-methoxychloropropyl group. group, 1-ethoxycyclopropyl group, cyclobutyl group, 1-hydroxycyclobutyl group, 1-cyanocyclobutyl group, 1-methoxycyclobutyl group, 1-ethoxycyclobutyl group, cyclopentyl group, 1-hydroxycyclopentyl group, 1 -cyanocyclopentyl group, 1-methoxynocyclopentyl group, 1-ethoxynocyclopentyl group, cyclohexyl group, 1-hydroxycyclohexyl group, 4-hydroxycyclohexyl group, 1-cyanocyclohexyl group, 1-methoxycyclohexyl group, 1-ethoxycyclohexyl group, 4-methoxycyclohexyl group, 4-ethoxycyclohexyl group, 4-difluoromethoxycyclohexyl group, 4-trifluoromethoxycyclohexyl group, 4-cyclopropyloxycyclohexyl group, 4-cyclobutyloxycyclohexyl group, 4-(methoxymethoxy ) cyclohexyl group, 4-(dimethylamino)cyclohexyl group, 4-(methylthio)cyclohexyl group, 4-(methylsulfinyl)cyclohexyl group, 4-(methylsulfonyl)cyclohexyl group, 4-acetylcyclohexyl group, 4-trifluoroacetyl cyclohexyl group, 4-acetyloxycyclohexyl group, 4-trifluoroacetyloxycyclohexyl group, 4-(1,3-dioxolan-2-yl)cyclohexyl group, and 4-(1,3-dioxan-2-yl)cyclohexyl group;
Examples of C2-C6 alkenyl groups optionally substituted with substituent C include vinyl group, 2-cyanovinyl group, 2-cyclopropylvinyl group, 2-methoxyvinyl group, 2-ethoxyvinyl group and 2-trifluoromethoxyvinyl. group, 2-cyclopropyloxyvinyl group, 2-(methoxymethoxy)vinyl group, 2-(dimethylamino)vinyl group, 2-acetylvinyl group, 2-(trifluoroacetyl)vinyl group, 2-(1,3 -dioxolan-2-yl)vinyl group, 2-(1,3-dioxan-2-yl)vinyl group, 1-propenyl group, 3-hydroxy-1-propenyl group, allyl group, 1-hydroxyallyl group, 1 -(methoxymethoxy) allyl group, 1-(methylthio) allyl group, 1-(methylsulfinyl) allyl group, 1-(methylsulfonyl) allyl group, 1-(acetyloxy) allyl group, 1-(difluoroacetyloxy) allyl group, 1-(trifluoroacetyloxy)allyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group, and 3-butenyl group;
The C2 to C6 haloalkenyl groups include 2-fluorovinyl, 2,2-difluorovinyl, 2,2-dichlorovinyl, 3-fluoroallyl, 3,3-difluoroallyl, and 3,3- dichloroallyl group;
Examples of C2-C6 alkynyl groups optionally substituted with substituent C include ethynyl group, 2-cyclopropylethynyl group, 2-cyclobutylethynyl group, 2-(acetyl)ethynyl group, and 2-(trifluoroacetyl). ethynyl group, 2-(1,3-dioxolan-2-yl) ethynyl group, 2-(1,3-dioxan-2-yl) ethynyl group, 1-propynyl group, propargyl group, 1-hydroxypropargyl group, 1 -cyanopropargyl group, 1-methoxypropargyl group, 1-ethoxypropargyl group, 1-(difluoromethoxy)propargyl group, 1-(trifluoromethoxy)propargyl group, 1-(dimethylamino)propargyl group, 1-(methylthio) propargyl group, 1-(methylsulfinyl)propargyl group, 1-(methylsulfonyl)propargyl group, 1-(acetyloxy)propargyl group, 1-(trifluoroacetyloxy)propargyl group, 1-butynyl group, 2-butynyl group , and a 3-butynyl group;
C2 to C6 haloalkynyl groups include 3,3-difluoro-1-propynyl group, 3,3,3-trifluoro-1-propynyl group, 4,4-difluoro-1-butynyl group, 4,4-difluoro -2-butynyl group, 4,4,4-trifluoro-1-butynyl group, and 4,4,4-trifluoro-2-butynyl group;
Examples of C1 to C6 alkoxy groups optionally substituted by substituent C include methoxy group, cyanomethoxy group, cyclopropylmethoxy group, cyclobutylmethoxy group, methoxymethoxy group, ethoxymethoxy group, difluoromethoxymethoxy group, trifluoro methoxymethoxy group, cyclopropyloxymethoxy group, cyclobutyloxymethoxy group, methylthiomethoxy group, methylsulfinylmethoxy group, methylsulfonylmethoxy group, acetylmethoxy group, propionoylmethoxy group, trifluoroacetylmethoxy group, methoxycarbonylmethoxy group , ethoxycarbonylmethoxy group, acetyloxymethoxy group, difluoroacetyloxymethoxy group, trifluoroacetyloxymethoxy group, (1,3-dioxolan-2-yl)methoxy group, (1,3-dioxan-2-yl)methoxy group, ethoxy group, 2-hydroxyethoxy group, 1-cyanoethoxy group, 2-cyanoethoxy group, 2-methoxyethoxy group, 2-ethoxyethoxy group, 1-difluoromethoxyethoxy group, 2-difluoromethoxyethoxy group, 1 -trifluoromethoxyethoxy group, 2-trifluoromethoxyethoxy group, 2-methoxymethoxyethoxy group, 2-(dimethylamino) ethoxy group, 1-(methylthio) ethoxy group, 2-(methylthio) ethoxy group, 1-( methylsulfinyl)ethoxy group, 2-(methylsulfinyl)ethoxy group, 1-(methylsulfonyl)ethoxy group, 2-(methylsulfonyl)ethoxy group, 2-(acetyl)ethoxy group, 2-(propionoyl)ethoxy group, 2 -(methoxycarbonyl) ethoxy group, 2-(ethoxycarbonyl) ethoxy group, 1-(acetyloxy) ethoxy group, 2-(acetyloxy) ethoxy group, 1-(difluoroacetyloxy) ethoxy group, 2-(difluoroacetyl oxy)ethoxy group, 1-(trifluoroacetyloxy)ethoxy group, 2-(trifluoroacetyloxy)ethoxy group, 2-(1,3-dioxolan-2-yl)ethoxy group, 2-(1,3- dioxan-2-yl) ethoxy group, propyloxy group, 2-hydroxypropyloxy group, 3-hydroxypropyloxy group, 1-(acetyloxy) propyloxy group, 2-(acetyloxy) propyloxy group, 3-( acetyloxy) propyloxy group, 1-(difluoroacetyloxy) propyloxy group, 2-( difluoroacetyloxy) propyloxy group, 3-(difluoroacetyloxy) propyloxy group, 1-(trifluoroacetyloxy) propyloxy group, 2-(trifluoroacetyloxy) propyloxy group, 3-(trifluoroacetyloxy) ) propyloxy, isopropyloxy, butyloxy, isobutyloxy, sec-butyloxy, and t-butyloxy groups;
The C1 to C6 haloalkoxy groups include a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, a 2,2,2-trifluoroethoxy group, a 3,3-difluoropropyloxy group, and a 3,3 , 3-trifluoropropyloxy group;
Examples of the C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with substituent C include a cyclopropyloxy group, a 1-cyanocyclopropyloxy group, a 2-cyclopropylcyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group and a 1-cyanocyclo butyloxy group, cyclopentyloxy group, 1-cyanocyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group, 4-hydroxycyclohexyloxy group, 1-cyanocyclohexyloxy group, 4-methoxycyclohexyloxy group, 4-ethoxycyclohexyloxy group, 4-difluoro methoxycyclohexyloxy group, 4-trifluoromethoxycyclohexyloxy group, 4-cyclopropyloxycyclohexyloxy group, 4-cyclobutyloxycyclohexyloxy group, 4-(methoxymethoxy)cyclohexyloxy group, 4-(dimethylamino)cyclohexyloxy group, 4-(methylthio)cyclohexyloxy group, 4-(methylsulfinyl)cyclohexyloxy group, 4-(methylsulfonyl)cyclohexyloxy group, 4-acetylcyclohexyloxy group, 4-trifluoroacetylcyclohexyloxy group, 4-acetyl oxycyclohexyloxy group, 4-trifluoroacetyloxycyclohexyloxy group, 4-(1,3-dioxolan-2-yl)cyclohexyloxy group, and 4-(1,3-dioxan-2-yl)cyclohexyloxy group;
Examples of C2 to C6 alkenyloxy groups which may be optionally substituted with a substituent C include a vinyloxy group, a 2-cyanovinyloxy group, a 2-cyclopropylvinyloxy group, a 2-methoxyvinyloxy group and a 2-ethoxyvinyloxy group. , 2-trifluoromethoxyvinyloxy group, 2-cyclopropyloxyvinyloxy group, 2-(methoxymethoxy)vinyloxy group, 2-(dimethylamino)vinyloxy group, 2-acetylvinyloxy group, 2-(trifluoroacetyl ) vinyloxy group, 2-(1,3-dioxolan-2-yl) vinyloxy group, 2-(1,3-dioxan-2-yl) vinyloxy group, 1-propenyloxy group, 3-hydroxy-1-propenyloxy group, allyloxy group, 1-(methoxymethoxy)allyloxy group, 1-(methylthio)allyloxy group, 1-(methylsulfinyl)allyloxy group, 1-(methylsulfonyl)allyloxy group, 1-(acetyloxy)allyloxy group, 1 -(difluoroacetyloxy) allyloxy group, 1-(trifluoroacetyloxy) allyloxy group, 1-butenyloxy group, 2-butenyloxy group, and 3-butenyloxy group;
C2 to C6 haloalkenyloxy groups include 2-fluorovinyloxy, 2,2-difluorovinyloxy, 2,2-dichlorovinyloxy, 3-fluoroallyloxy, and 3,3-difluoroallyloxy groups , and a 3,3-dichloroallyloxy group;
Examples of the C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent C include a propargyloxy group, a 3-(cyclopropyl)propargyloxy group, a 3-(cyclobutyl)propargyloxy group, and a 3-(acetyl)propargyloxy group. , 3-(difluoroacetyl) propargyloxy group, 3-(trifluoroacetyl) propargyloxy group, 3-(1,3-dioxolan-2-yl) propargyloxy group, 3-(1,3-dioxane-2- yl) propargyloxy group, 2-butynyloxy group, 4-hydroxy-2-butynyloxy group, 4-cyano-2-butynyloxy group, 4-methoxy-2-butynyloxy group, 4-ethoxy-2-butynyloxy group, 4-difluoro methoxy-2-butynyloxy group, 4-trifluoromethoxy-2-butynyloxy group, 4-cyclopropyloxy-2-butynyloxy group, 4-cyclobutyloxy-2-butynyloxy group, 4-methoxymethoxy-2-butynyloxy group, 4-dimethylamino-2-butynyloxy group, 4-pyrrolidino-2-butynyloxy group, 4-piperidino-2-butynyloxy group, 4-pyrrolidino-2-butynyloxy group, 4-methylthio-2-butynyloxy group, 4-methylsulfinyl -2-butynyloxy group, 4-methylsulfonyl-2-butynyloxy group, 4-acetyloxy-2-butynyloxy group, 4-trifluoroacetyloxy-2-butynyloxy group, and 3-butynyloxy group;
C3-C6 haloalkynyloxy groups, 4,4-difluoro-2-butynyloxy group, 4-chloro-4,4-difluoro-2-butynyloxy group, 4-bromo-4,4-difluoro-2-butynyloxy group , and a 4,4,4-trifluoro-2-butynyloxy group;
RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above) is an amino group, methylamino group, ethylamino group, propylamino group, isopropylamino group, (methoxymethyl)amino group, (2-methoxy ethyl)amino group, (cyanomethyl)amino group, (2-cyanoethyl)amino group, dimethylamino group, ethyl(methyl)amino group, methyl(propyl)amino group, isopropyl(methyl)amino group, (methoxymethyl)methylamino group, (2-methoxyethyl)methylamino group, (cyanomethyl)methylamino group, (2-cyanoethyl)methylamino group, diethylamino group, ethyl(propyl)amino group, ethyl(isopropyl)amino group, ethyl(methoxymethyl) amino group, ethyl(2-methoxyethyl)amino group, (cyanomethyl)ethylamino group, (2-cyanoethyl)ethylamino group, 2,2-difluoroethylamino group, 2,2,2-trifluoroethylamino group, cyclopropylamino group, (cyclopropyl)methylamino group, pyrrolidinyl group, and piperidinyl group;
Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above), a methylthio group, a methanesulfinyl group, a methanesulfonyl group, a trifluoromethylthio group, a trifluoromethanesulfinyl group, and a trifluoromethanesulfonyl group;
RdC(=O)- (wherein Rd has the same definition as above) is a formyl group, an acetyl group, a methoxyacetyl group, a cyanoacetyl group, a propionyl group, a difluoroacetyl group, a trifluoroacetyl group, a cyclopropane carbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, 2,2-difluoroethoxycarbonyl group, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl group, 3,3,3-trifluoropropyloxycarbonyl group, cyclopropyloxycarbonyl group , aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, ethylaminocarbonyl group, (methoxymethyl)aminocarbonyl group, (2-methoxyethyl)aminocarbonyl group, (cyanomethyl)aminocarbonyl group, (2-cyanoethyl)aminocarbonyl group, dimethyl aminocarbonyl group, ethyl(methyl)aminocarbonyl group, diethylaminocarbonyl group, (methoxymethyl)methylaminocarbonyl group, (2-methoxyethyl)methylaminocarbonyl group, (cyanomethyl)methylaminocarbonyl group, (2-cyanoethyl)methyl aminocarbonyl group, 2,2-difluoroethylaminocarbonyl group, 2,2,2-trifluoroethylaminocarbonyl group, cyclopropylaminocarbonyl group, (cyclopropyl)methylaminocarbonyl group, pyrrolidinylcarbonyl group, and pyrrolidinylcarbonyl group; peridinylcarbonyl group;
and RdC(=O)O- (wherein Rd is as defined above), a formyloxy group, an acetyloxy group, a methoxyacetyloxy group, a cyanoacetyloxy group, a propionyloxy group and a difluoroacetyloxy group , trifluoroacetyloxy group, cyclopropanecarbonyloxy group, methoxycarbonyloxy group, ethoxycarbonyloxy group, 2,2-difluoroethoxycarbonyloxy group, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyloxy group, 3,3, 3-trifluoropropyloxycarbonyloxy group, cyclopropyloxycarbonyloxy group, aminocarbonyloxy group, methylaminocarbonyloxy group, ethylaminocarbonyloxy group, (methoxymethyl)aminocarbonyloxy group, (2-methoxyethyl)amino carbonyloxy group, (cyanomethyl)aminocarbonyloxy group, (2-cyanoethyl)aminocarbonyloxy group, dimethylaminocarbonyloxy group, ethyl(methyl)aminocarbonyloxy group, diethylaminocarbonyloxy group, (methoxymethyl)methylaminocarbonyloxy group group, (2-methoxyethyl)methylaminocarbonyloxy group, (cyanomethyl)methylaminocarbonyloxy group, (2-cyanoethyl)methylaminocarbonyloxy group, 2,2-difluoroethylaminocarbonyloxy group, 2,2,2 -trifluoroethylaminocarbonyloxy, cyclopropylaminocarbonyloxy, cyclopropyl(methyl)aminocarbonyloxy, pyrrolidinylcarbonyloxy, and piperidinylcarbonyloxy groups.

置換基Fのさらに好ましい具体例に関しては、水酸基;シアノ基;
ハロゲン原子として、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子;
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基として、メチル基、ヒドロキシメチル基、メトキシメチル基、エチル基、1-ヒドロキシエチル基、2-ヒドロキシエチル基、1-メトキシエチル基、プロピル基、およびイソプロピル基;
C1~C6のハロアルキル基として、モノブロモメチル基、ジフルオロメチル基、およびトリフルオロメチル基;
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、シクロブチル基、およびシクロペンチル基;
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6アルケニル基として、ビニル基、1-プロペニル基、およびアリル基;
C2~C6のハロアルケニル基として、2-フルオロビニル基、および2,2-ジフルオロビニル基;
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基として、エチニル基、1-プロピニル基、およびプロパルギル基;
C2~C6のハロアルキニル基として、3,3-ジフルオロ-1-プロピニル基、および3,3,3-トリフルオロ-1-プロピニル基;
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基として、メトキシ基、シアノメトキシ基、メトキシメトキシ基、エトキシ基、2-メトキシエトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec-ブチルオキシ基、およびt-ブチルオキシ基;
C1~C6のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、2,2-ジフルオロエトキシ基、および2,2,2-トリフルオロエトキシ基;
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基およびシクロペンチルオキシ基;
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基として、ビニルオキシ基、1-プロペニルオキシ基、およびアリルオキシ基;
C2~C6のハロアルケニルオキシ基として、2-フルオロビニルオキシ基、および2,2-ジフルオロビニルオキシ基;
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基として、プロパルギルオキシ基;
C3~C6のハロアルキニルオキシ基として、4,4-ジフルオロ-2-ブチニルオキシ基;
RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)として、アミノ基、ジメチルアミノ基、エチル(メチル)アミノ基、およびジエチルアミノ基;
Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、およびメタンスルホニル基;
RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)として、ホルミル基、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、ジフルオロアセチル基、およびトリフルオロアセチル基;
ならびにRdC(=O)O-(ここで、Rdは、前記と同義である。)として、アセチルオキシ基、メトキシアセチルオキシ基、シアノアセチルオキシ基、ジフルオロアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基、エチル(メチル)アミノカルボニルオキシ基、およびジエチルアミノカルボニルオキシ基が挙げられる。
More preferred specific examples of the substituent F include a hydroxyl group; a cyano group;
as halogen atoms, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom;
Examples of C1 to C6 alkyl groups optionally substituted by substituent C include methyl group, hydroxymethyl group, methoxymethyl group, ethyl group, 1-hydroxyethyl group, 2-hydroxyethyl group, 1-methoxyethyl group, a propyl group, and an isopropyl group;
a monobromomethyl group, a difluoromethyl group, and a trifluoromethyl group as the C1 to C6 haloalkyl groups;
cyclopropyl group, cyclobutyl group, and cyclopentyl group as C3-C8 cycloalkyl groups optionally substituted with substituent C;
C2-C6 alkenyl groups optionally substituted with a substituent C include a vinyl group, a 1-propenyl group, and an allyl group;
2-fluorovinyl group and 2,2-difluorovinyl group as C2-C6 haloalkenyl groups;
Ethynyl group, 1-propynyl group, and propargyl group as C2-C6 alkynyl groups optionally substituted with substituent C;
3,3-difluoro-1-propynyl group and 3,3,3-trifluoro-1-propynyl group as C2-C6 haloalkynyl groups;
Examples of C1 to C6 alkoxy groups optionally substituted by substituent C include a methoxy group, a cyanomethoxy group, a methoxymethoxy group, an ethoxy group, a 2-methoxyethoxy group, a propyloxy group, an isopropyloxy group, a butyloxy group and an isobutyl group. oxy group, sec-butyloxy group, and t-butyloxy group;
difluoromethoxy, trifluoromethoxy, 2,2-difluoroethoxy, and 2,2,2-trifluoroethoxy groups as C1-C6 haloalkoxy groups;
C3-C8 cycloalkoxy groups optionally substituted with a substituent C include a cyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group and a cyclopentyloxy group;
C2-C6 alkenyloxy groups optionally substituted with substituent C include vinyloxy, 1-propenyloxy, and allyloxy groups;
2-fluorovinyloxy and 2,2-difluorovinyloxy as C2-C6 haloalkenyloxy groups;
A propargyloxy group as the C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent C;
4,4-difluoro-2-butynyloxy group as the C3-C6 haloalkynyloxy group;
RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above), an amino group, a dimethylamino group, an ethyl(methyl)amino group, and a diethylamino group;
Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above), a methylthio group, a methanesulfinyl group, and a methanesulfonyl group;
RdC(=O)- (wherein Rd is as defined above), a formyl group, an acetyl group, a methoxyacetyl group, a cyanoacetyl group, a difluoroacetyl group, and a trifluoroacetyl group;
and RdC(=O)O- (wherein Rd is as defined above), an acetyloxy group, a methoxyacetyloxy group, a cyanoacetyloxy group, a difluoroacetyloxy group, a trifluoroacetyloxy group, a methoxy Examples include carbonyloxy, ethoxycarbonyloxy, aminocarbonyloxy, dimethylaminocarbonyloxy, ethyl(methyl)aminocarbonyloxy, and diethylaminocarbonyloxy groups.

式(1)で表される化合物における波線部は、E体またはZ体を表す。つまり、式(1-a)

Figure 0007118961000018

で表される化合物または式(1-b)
Figure 0007118961000019

で表される化合物を表す。その比率は、どちらか一方が単独、あるいは任意の割合の混合物であってよく、特に限定されることはない。The wavy line part in the compound represented by Formula (1) represents E-form or Z-form. That is, formula (1-a)
Figure 0007118961000018

A compound or formula (1-b) represented by
Figure 0007118961000019

Represents a compound represented by The ratio is not particularly limited, and either one may be used alone or a mixture of any ratio may be used.

式(1)で表される化合物は、軸不斉を有することがある。この際の異性体比は、単独または任意の割合の混合比であり、特に限定されることはない。 The compounds represented by formula (1) may have axial chirality. The isomer ratio at this time is not particularly limited, and may be a single isomer ratio or an arbitrary mixing ratio.

式(1)で表される化合物は、不斉原子を含むことがある。この際の異性体比は、単独または任意の割合の混合比であり、特に限定されることはない。 The compound represented by formula (1) may contain an asymmetric atom. The isomer ratio at this time is not particularly limited, and may be a single isomer ratio or an arbitrary mixing ratio.

式(1)で表される化合物は、幾何異性体を含むことがある。この際の異性体比は、単独または任意の割合の混合比であり、特に限定されることはない。 The compound represented by Formula (1) may contain geometric isomers. The isomer ratio at this time is not particularly limited, and may be a single isomer ratio or an arbitrary mixing ratio.

式(1)で表される化合物は、塩を形成できることがある。塩酸、硫酸、酢酸、フマル酸、マレイン酸のような酸塩や、ナトリウム、カリウム、カルシウムのような金属塩等が例示されるが、農園芸用殺菌剤として使用できる限り、特に限定されることはない。 Compounds of formula (1) may be capable of forming salts. Examples include acid salts such as hydrochloric acid, sulfuric acid, acetic acid, fumaric acid, and maleic acid, and metal salts such as sodium, potassium, and calcium. no.

以上説明したR1、R2、R3、R4、R5、X、Y、置換基A、置換基B、置換基C、置換基D、置換基Eおよび置換基Fにおける好ましい範囲を任意に組み合わせて得られる全ての化合物の範囲も本発明の式(1)で表される化合物の範囲として、本明細書に記載されているものとする。 Obtained by arbitrarily combining the preferred ranges of R1, R2, R3, R4, R5, X, Y, substituent A, substituent B, substituent C, substituent D, substituent E and substituent F described above. The scope of all compounds shall also be described herein as the scope of compounds represented by Formula (1) of the present invention.

次に、本発明の具体的な化合物は、表1に示す構造式(P-1~P-30:ただし、構造式中のXは、酸素原子または硫黄原子である。)、表2に示すY(Y-1~Y-86)、および表3に示すZ(Z-a0001~Z-a0140、Z-b0001~Z-b1300、Z-c0001~Z-c0084、Z-d0001~Z-d0033)との組み合わせによって表される。 Next, specific compounds of the present invention have the structural formulas shown in Table 1 (P-1 to P-30: where X in the structural formulas is an oxygen atom or a sulfur atom) and Table 2. Y (Y-1 to Y-86), and Z shown in Table 3 (Z-a0001 to Z-a0140, Z-b0001 to Z-b1300, Z-c0001 to Z-c0084, Z-d0001 to Z-d0033) It is represented by a combination of

これらの化合物は例示のためのものであって、本発明はこれらに限定されるものではない。 These compounds are for illustration and the invention is not limited to them.

Figure 0007118961000020
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Figure 0007118961000024
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表3中、Zaで表記される部分構造は、以下に示す式(Za)で表される。

Figure 0007118961000025

表3中、Zbで表記される部分構造は、以下に示す式(Zb)で表される。
Figure 0007118961000026

表3中、Zcで表記される部分構造は、以下に示す式(Zc)で表される。
Figure 0007118961000027

表3中、Zdで表記される部分構造は、以下の式(Zd)で表される。
Figure 0007118961000028
In Table 3, the partial structure represented by Za is represented by formula (Za) shown below.
Figure 0007118961000025

In Table 3, the partial structure represented by Zb is represented by formula (Zb) shown below.
Figure 0007118961000026

In Table 3, the partial structure represented by Zc is represented by formula (Zc) shown below.
Figure 0007118961000027

In Table 3, the partial structure represented by Zd is represented by the following formula (Zd).
Figure 0007118961000028

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以下に本発明の式(1)で表される化合物の製造方法を示す。本発明化合物の製造方法は、製造方法A~製造方法AQに限定されるものではない。
[製造方法A]

Figure 0007118961000081

式中、Z1はC1~C6のアルキル基を表し、R22は水素原子またはC1~C6のアルキル基を表し、R2、XおよびYは、前記と同義である。The method for producing the compound represented by formula (1) of the present invention is shown below. The production method of the compound of the present invention is not limited to production method A to production method AQ.
[Manufacturing method A]
Figure 0007118961000081

In the formula, Z1 represents a C1-C6 alkyl group, R22 represents a hydrogen atom or a C1-C6 alkyl group, and R2, X and Y are as defined above.

製造方法Aは、本発明化合物の製造中間体である式(8)で表される化合物の製造方法であって、式(6)で表されると式(7)で表される化合物とを、塩基存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 Production method A is a method for producing a compound represented by formula (8), which is a production intermediate of the compound of the present invention, wherein the compound represented by formula (6) is combined with the compound represented by formula (7). , in the presence of a base and in a solvent.

本反応に使用する式(6)で表される化合物は、市販品として入手したり、参考例や公知の方法を利用して製造することができる。 The compound represented by formula (6) used in this reaction can be obtained as a commercial product, or can be produced using Reference Examples or known methods.

本反応に使用する式(7)で表される化合物は、市販品として入手または公知の方法で製造できることができる。 The compound represented by formula (7) used in this reaction can be obtained as a commercial product or produced by a known method.

本反応に使用する式(7)で表される化合物の量は、式(6)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、1当量以上3当量以下である。 The amount of the compound represented by formula (7) used in this reaction is particularly limited as long as it is 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (6), as long as the desired reaction proceeds. but usually 1 equivalent or more and 3 equivalents or less.

本反応に使用する塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、リン酸三カリウムのような無機塩基類やナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウム t-ブトキシド、カリウム t-ブトキシド等の金属アルコキシド類等である。 Bases used in this reaction include inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate and tripotassium phosphate, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium t-butoxide and potassium t-butoxide. etc.

本反応に使用する塩基は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(6)で表される化合物に対して0.01当量以上3当量以下である。 The base used in this reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually 0.01 equivalent or more and 3 equivalents or less with respect to the compound represented by formula (6). .

本反応に使用する溶媒は、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 Solvents used in this reaction include ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane; benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene; ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate; nitrile solvents such as acetonitrile; amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide and N,N-dimethylacetamide; 1,3-dimethyl -Urea solvents such as 2-imidazolidinone; halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride; sulfur solvents such as dimethyl sulfoxide and sulfolane; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; is mentioned. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(6)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (6). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、-50℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but it is usually -50° C. or higher and 150° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる
前記で得られた式(8)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield. Moisture can be removed with a drying agent such as magnesium sulfate, but is not required.

前記で得られた式(8)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 From the reaction mixture containing the compound represented by formula (8) obtained above, the solvent can be distilled off under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(8)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (8) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法B]

Figure 0007118961000082

式中、R22aはC1~C6のアルキル基を表し、R2、X、YおよびZ1は、前記と同義である。[Manufacturing method B]
Figure 0007118961000082

In the formula, R22a represents a C1-C6 alkyl group, and R2, X, Y and Z1 are as defined above.

製造方法Bは、式(8)で表される化合物のうち、式(8b)で表される製造中間体を得る方法であって、式(8a)で表される化合物を、酸性条件または塩基性条件下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 Production method B is a method for obtaining a production intermediate represented by formula (8b) among the compounds represented by formula (8), wherein the compound represented by formula (8a) is subjected to acidic conditions or a base It is a production method including reacting in a solvent under toxic conditions.

まず、酸性条件の反応について説明する。
本反応に使用する酸は、塩酸、臭化水素酸、リン酸等の無機酸類や、酢酸、メタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸類が例示される。目的とする反応が進行する限り特に制限されることはない。
First, the reaction under acidic conditions will be described.
Acids used in this reaction include inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid and phosphoric acid, and organic acids such as acetic acid, methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid and trifluoroacetic acid. There are no particular restrictions as long as the intended reaction proceeds.

本反応に使用する酸の量は、触媒量でもよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、式(8a)で表される化合物に対して0.01当量以上である。また、液体状の酸に関しては溶媒として使用することも可能である。 The amount of acid used in this reaction may be a catalytic amount, and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. Equivalent or more. Liquid acids can also be used as solvents.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、水溶媒、酢酸、メタンスルホン酸等の酸性系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. Ether solvents such as butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane, alcohol solvents such as methanol, ethanol, and isopropanol, benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ethyl acetate, isopropyl acetate, and acetic acid. ester solvents such as butyl, nitrile solvents such as acetonitrile, amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, etc. and halogen-based solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(8a)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (8a). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、0℃以上180℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 0° C. or higher and 180° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.

次に、塩基性条件の反応について説明する。
本反応に使用する塩基は、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基類が例示されるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。
Next, the reaction under basic conditions will be described.
The base used in this reaction is exemplified by inorganic bases such as lithium hydroxide, sodium hydroxide and potassium hydroxide, but is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds.

本反応に使用する塩基は、式(8a)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、1当量以上30当量以下である。 The base used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (8a), as long as the desired reaction proceeds. equivalent or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、水溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. alcohol solvents such as methanol, ethanol, and isopropanol; benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, and dichlorobenzene; ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate; nitriles such as acetonitrile. amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide and N,N-dimethylacetamide, urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, dichloromethane, dichloroethane, chloroform, Examples thereof include halogen-based solvents such as carbon tetrachloride. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(8a)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (8a). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、-20℃以上180℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but it is usually from -20°C to 180°C or below the boiling point of the solvent.

反応の後処理は、酸性条件での反応と塩基性条件の反応は共通の方法で行える。反応混合物に対して、水、もしくは適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 Post-treatment of the reaction can be carried out by a common method for the reaction under acidic conditions and the reaction under basic conditions. A liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(8b)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (8b) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(8b)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (8b) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(8b)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (8b) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

式(8b)で表される化合物は、式(8b’)

Figure 0007118961000083

(式中、R2、X、YおよびZ1は、前記と同義である。)
で表される異性体も含む。The compound represented by formula (8b) is represented by formula (8b')
Figure 0007118961000083

(Wherein, R2, X, Y and Z1 are as defined above.)
Also includes isomers represented by

式(8b’)で表される化合物は、式(8b)で表される化合物と同様に取り扱うことが可能であり、例えば、製造方法Cに適応することができる。また、式(8b’)で表される化合物は不斉炭素を含むが、その異性体混合比は、単独でも任意の割合の混合物でもよい。さらに、式(8b)で表される化合物と式(8b’)で表される化合物との混合物でもよく、その異性体混合比は、単独でも任意の割合の混合物でもよい。 The compound represented by formula (8b') can be handled in the same manner as the compound represented by formula (8b), and can be applied to production method C, for example. In addition, the compound represented by formula (8b') contains an asymmetric carbon, and the isomers may be mixed alone or in an arbitrary ratio. Furthermore, a mixture of the compound represented by the formula (8b) and the compound represented by the formula (8b') may be used, and the isomers may be mixed alone or in any ratio.

[製造方法C]

Figure 0007118961000084

式中、R23は、水素原子、水酸基、シアノ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、C2~C6のハロアルケニルオキシ基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、C3~C6のハロアルキニルオキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)を表し、R2、R22、X、YおよびZ1は、前記と同義である。[Manufacturing method C]
Figure 0007118961000084

In the formula, R23 is a hydrogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 haloalkyl group optionally substituted with a substituent A, a C3- C8 cycloalkyl group, C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent A, C2-C6 haloalkenyl group, C2-C6 alkynyl group optionally substituted with substituent A, C2- C6 haloalkynyl group, C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent A, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with substituent A, substituted C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with group A, C2-C6 haloalkenyloxy group, C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with substituent A, C3-C6 haloalkynyl represents an oxy group or RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above), and R2, R22, X, Y and Z1 are as defined above.

製造方法Cは、本発明化合物の製造中間体である式(9)で表される化合物を得る方法であって、式(8)で表される化合物とR23NHとを、酸存在下で反応させることを含む製造方法である。Production method C is a method for obtaining the compound represented by formula (9), which is a production intermediate of the compound of the present invention, and comprises reacting the compound represented by formula (8) with R23NH2 in the presence of an acid. It is a manufacturing method including making

本反応に使用するR23NHは、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。R23NHは、塩酸、酢酸のような酸性化合物との塩を形成したものでもよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。 R23NH2 used in this reaction can be obtained as a commercial product or produced by a known method. R23NH2 may be a salt formed with an acidic compound such as hydrochloric acid or acetic acid, and is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds.

本反応に使用するR23NHは、式(8)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、1当量以上200当量以下である。 R23NH2 used in this reaction may be 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (8), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. It is more than 200 equivalents or less.

本反応に使用する酸として、塩酸、硫酸等の無機酸類や、酢酸、メタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸等の有機酸類が例示され、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定することはないが、好ましくは、酢酸である。また、R23NHと酸性化合物との塩を使用する際には、酸の使用は必須ではない。Examples of the acid used in this reaction include inorganic acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid, and organic acids such as acetic acid, methanesulfonic acid and p-toluenesulfonic acid. acetic acid is preferred. Also, when using a salt of R23NH2 with an acidic compound, the use of an acid is not essential.

本反応に使用する酸の量は、R23NHに対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、1当量以上200当量以下である。また、使用する酸が液体である場合には、溶媒として使用することも可能である。The amount of the acid used in this reaction may be 1 equivalent or more relative to R23NH2, and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 1 equivalent or more and 200 equivalents or less. . Moreover, when the acid used is liquid, it can also be used as a solvent.

本反応には溶媒を使用することができるが、必ずしも必須ではない。
本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、酢酸、メタンスルホン酸等の酸性系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。溶媒として、好ましくは、酸性系溶媒が挙げられ、さらに好ましくは、酢酸が挙げられる。
A solvent can be used in this reaction, but is not absolutely necessary.
The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. Ether solvents such as ethane, tetrahydrofuran and dioxane; alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropanol; benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene; Ester solvents, nitrile solvents such as acetonitrile, amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone Solvents include halogen-based solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio. The solvent is preferably an acidic solvent, more preferably acetic acid.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(8)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (8). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、50℃以上180℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually from 50° C. to 180° C. or below the boiling point of the solvent.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(9)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (9) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(9)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 From the reaction mixture containing the compound represented by formula (9) obtained above, the solvent can be distilled off under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(9)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (9) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法D]

Figure 0007118961000085

式中、Lvはメタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、p‐トルエンスルホニル基、ハロゲン原子等の脱離基を表し、R1、R2、X、YおよびZ1は、前記と同義である。[Manufacturing method D]
Figure 0007118961000085

In the formula, Lv represents a leaving group such as methanesulfonyl group, trifluoromethanesulfonyl group, p-toluenesulfonyl group and halogen atom, and R1, R2, X, Y and Z1 are as defined above.

製造方法Dは、本発明化合物の製造中間体である式(9b)で表される化合物を得る方法であって、式(9a)で表される化合物とR1-Lvとを、塩基存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 Production method D is a method for obtaining a compound represented by formula (9b), which is a production intermediate of the compound of the present invention, wherein the compound represented by formula (9a) and R1-Lv are reacted in the presence of a base, It is a manufacturing method including reacting in a solvent.

本発明の原料である式(9a)で表される化合物は、製造方法Cやジャーナル オブ ヘテロサイクリック ケミストリー(Journal of OHeterocyclic Chemistry)、20巻、65-67項(1983).等の非特許文献を参照に合成することができる。 The compound represented by the formula (9a), which is the raw material of the present invention, is prepared according to Production Method C and Journal of OHeterocyclic Chemistry, Vol. 20, pp. 65-67 (1983). Non-Patent Literature, etc., can be used for synthesis.

本反応に使用するR1‐Lvは、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。
本反応に使用する塩基として、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類が例示されるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。
R1-Lv used in this reaction can be obtained as a commercial product or produced by a known method.
Examples of the base used in this reaction include inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, and sodium hydride. will not be

本反応に使用する塩基の量は、式(9a)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、1当量以上10当量以下である。 The amount of the base used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (9a), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. It is equal to or more and 10 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane, alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropanol; benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene; ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate; nitrile solvents such as acetonitrile; Amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide and N,N-dimethylacetamide, urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, dichloromethane, dichloroethane, chloroform, carbon tetrachloride halogen-based solvents such as dimethylsulfoxide, sulfur-based solvents such as sulfolane, ketone-based solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and the like. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(9a)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (9a). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、0℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 0° C. or higher and 150° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(9b)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (9b) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(9b)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 From the reaction mixture containing the compound represented by formula (9b) obtained above, the solvent can be distilled off under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(9b)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (9b) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法E]

Figure 0007118961000086

式中、SRは硫黄化剤を表し、R1、R2、YおよびZ1は、前記と同義である。[Manufacturing method E]
Figure 0007118961000086

In the formula, SR represents a sulfurizing agent, and R1, R2, Y and Z1 are as defined above.

製造方法Eは、式(9b)で表される化合物のうち、式(9b-2)で表される化合物を得る方法であって、式(9b-1)で表される化合物と硫黄化剤(SR)とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 Production method E is a method for obtaining a compound represented by formula (9b-2) among the compounds represented by formula (9b), wherein the compound represented by formula (9b-1) and a sulfurizing agent (SR) in a solvent.

本反応に使用する硫黄化剤としては、ローソン試薬(2,4-ビス(4-メトキシフェニル)-1,3-ジチア-2,4-ジホスフェタン-2,4-ジスルフィド)等が挙げられる。 Sulfurizing agents used in this reaction include Lawesson's reagent (2,4-bis(4-methoxyphenyl)-1,3-dithia-2,4-diphosphetane-2,4-disulfide) and the like.

本反応に使用する硫黄化剤の量は、式(9b-1)で表される化合物に対して0.5当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、1当量以上10当量以下である。 The amount of the sulfurizing agent used in this reaction may be 0.5 equivalents or more with respect to the compound represented by formula (9b-1), and is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds. However, it is usually 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane, Benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, and the like are included. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(9b-1)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by formula (9b-1). It is below.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、50℃以上180℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually from 50° C. to 180° C. or below the boiling point of the solvent.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水、もしくは適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、本反応においては、分液操作は必須ではない。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield. Moreover, liquid separation operation is not essential in this reaction.

前記で得られた式(9b-2)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (9b-2) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(9b-2)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 From the reaction mixture containing the compound represented by formula (9b-2) obtained above, the solvent can be distilled off under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(9b-2)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (9b-2) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法F]

Figure 0007118961000087

式中、R2aは、置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、またはRdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)を表し、R1、X、Y、Z1およびLvは、前記と同義である。[Manufacturing method F]
Figure 0007118961000087

In the formula, R2a is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A, a substituent a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with A, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A, a C2-C6 haloalkynyl group, or RdC (=O)-(wherein Rd is as defined above), and R1, X, Y, Z1 and Lv are as defined above.

製造方法Fは、式(9b)で表される化合物のうち、R2aが置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、またはRdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)である式(9b-4)で表される化合物を得る方法であって、式(9b-3)で表される化合物とR2a-Lvとを、塩基存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 In production method F, among the compounds represented by formula (9b), R2a is a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1 to C6 haloalkyl group optionally substituted with a substituent A, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 optionally substituted with a substituent A A method for obtaining a compound represented by formula (9b-4), which is an alkynyl group, a C2-C6 haloalkynyl group, or RdC(=O)- (wherein Rd is as defined above). A production method comprising reacting a compound represented by formula (9b-3) with R2a-Lv in the presence of a base in a solvent.

本反応に使用するR2a-Lvは、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。
本反応に使用するR2a-Lvの量は、式(9b-3)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、1当量以上1.8当量以下である。
R2a-Lv used in this reaction can be obtained as a commercial product or produced by a known method.
The amount of R2a-Lv used in this reaction may be 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (9b-3), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. , usually 1 equivalent or more and 1.8 equivalent or less.

本反応に使用する塩基として、水素化ナトリウム等の金属ヒドリド類、メチルリチウム、ブチルリチウム、sec-ブチルリチウム、t-ブチルリチウム、ヘキシルリチウム等の有機リチウム類や、リチウムジイソプロピルアミド、ヘキサメチルジシラザンリチウム、ヘキサメチルジシラザンナトリウム、ヘキサメチルジシラザンカリウム等の金属アミド類が例示される。 Bases used in this reaction include metal hydrides such as sodium hydride, organic lithiums such as methyllithium, butyllithium, sec-butyllithium, t-butyllithium and hexyllithium, lithium diisopropylamide and hexamethyldisilazane. Metal amides such as lithium, sodium hexamethyldisilazane and potassium hexamethyldisilazane are exemplified.

本反応に使用する塩基の量は、式(9b-3)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、1当量以上10当量以下である。 The amount of the base used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (9b-3), and is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds. , 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane, Examples include benzene-based solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene, and hydrocarbon-based solvents such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(9b-3)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by formula (9b-3). It is below.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、-80℃以上100℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but it is usually -80° C. or higher and 100° C. or lower, or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Solvents that are not compatible with water, such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, and chloroform, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, may be added. It is possible. In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(9b-4)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (9b-4) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(9b-4)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 From the reaction mixture containing the compound represented by formula (9b-4) obtained above, the solvent can be distilled off under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(9b-4)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (9b-4) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法G]

Figure 0007118961000088

式中、Oxは酸化剤を表し、R1、R2、X、YおよびZ1は、前記と同義である。[Manufacturing method G]
Figure 0007118961000088

In the formula, Ox represents an oxidizing agent, and R1, R2, X, Y and Z1 are as defined above.

製造方法Gは、本発明化合物の製造中間体である式(10)で表される化合物を得る方法であって、式(9b)で表される化合物と酸化剤(Ox)とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 Production method G is a method for obtaining a compound represented by formula (10), which is a production intermediate of the compound of the present invention, wherein the compound represented by formula (9b) and an oxidizing agent (Ox) are reacted in a solvent. It is a manufacturing method including reacting with.

本反応に使用する酸化剤としては、二酸化マンガン等の金属酸化物類、2,3-ジクロロ-5,6-ジシアノ-p-ベンゾキノン等のベンゾキノン類、アゾビスイソブチロニトリル、過酸化ベンゾイル等のラジカル開始剤とN-クロロスクシンイミド、N-ブロモスクシンイミド、N-ヨードスクシンイミド、1,3-ジクロロ-5,5-ジメチルヒダントイン、1,3-ジブロモ-5,5-ジメチルヒダントイン、1,3-ジヨード-5,5-ジメチルヒダントイン等のハロゲン化剤とを組み合わせたもの等を使用することができる。 The oxidizing agent used in this reaction includes metal oxides such as manganese dioxide, benzoquinones such as 2,3-dichloro-5,6-dicyano-p-benzoquinone, azobisisobutyronitrile, benzoyl peroxide, and the like. and N-chlorosuccinimide, N-bromosuccinimide, N-iodosuccinimide, 1,3-dichloro-5,5-dimethylhydantoin, 1,3-dibromo-5,5-dimethylhydantoin, 1,3- A combination with a halogenating agent such as diiodo-5,5-dimethylhydantoin can be used.

以下、酸化剤が金属酸化物類である方法について説明する。
本反応に使用する酸化剤の量は、式(9b)に表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、1当量以上200当量以下である。
A method in which the oxidizing agent is a metal oxide will be described below.
The amount of the oxidizing agent used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (9b), as long as the desired reaction proceeds. It is equal to or more and 200 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. Examples thereof include halogen-based solvents such as carbon tetrachloride. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(9b)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (9b). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、0℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 0° C. or higher and 150° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、溶解していない金属類を濾過することにより除去することが可能である。さらに、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、本反応において、分液操作は必須ではない。 As a post-treatment of the reaction, it is possible to remove undissolved metals by filtration. Furthermore, liquid separation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield. Moreover, liquid separation operation is not essential in this reaction.

前記で得られた式(10)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (10) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(10)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 From the reaction mixture containing the compound represented by formula (10) obtained above, the solvent can be distilled off under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(10)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (10) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

以下、酸化剤がベンゾキノン類である方法について説明する。
本反応に使用する酸化剤の量は、式(9b)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、1当量以上20当量以下である。
A method in which the oxidizing agent is a benzoquinone will be described below.
The amount of the oxidizing agent used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (9b), as long as the desired reaction proceeds. It is equal to or more and 20 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. Examples thereof include halogen-based solvents such as carbon tetrachloride. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(9b)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (9b). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、0℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 0° C. or higher and 150° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、本反応において、分液操作は必須ではない。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield. Moreover, liquid separation operation is not essential in this reaction.

前記で得られた式(10)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (10) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(10)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 From the reaction mixture containing the compound represented by formula (10) obtained above, the solvent can be distilled off under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(10)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (10) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

以下、酸化剤がラジカル開始剤とハロゲン化剤との組み合わせである方法について説明する。
本反応に使用するラジカル開始剤とハロゲン化剤の量は、それぞれ、式(9b)で表される化合物に対して0.01当量以上と1.0当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。通常、ラジカル開始剤が0.01当量以上1当量以下であり、ハロゲン化剤が1当量以上3当量以下である。
A method in which the oxidizing agent is a combination of a radical initiator and a halogenating agent is described below.
The amounts of the radical initiator and the halogenating agent used in this reaction are 0.01 equivalent or more and 1.0 equivalent or more, respectively, with respect to the compound represented by the formula (9b), so that the target reaction proceeds. It is not particularly limited as long as it does. Generally, the amount of the radical initiator is 0.01 to 1 equivalent, and the amount of the halogenating agent is 1 to 3 equivalents.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化ベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but halogenated benzene solvents such as chlorobenzene and dichlorobenzene; Solvents include halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(9b)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (9b). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、20℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 20° C. or higher and 150° C. or lower, or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Solvents that are not compatible with water, such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, and chloroform, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, may be added. It is possible. In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(10)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (10) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(10)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 From the reaction mixture containing the compound represented by formula (10) obtained above, the solvent can be distilled off under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(10)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (10) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法H]

Figure 0007118961000089

式中、R2bはハロゲン原子を表し、Z2はC1~C6のアルキル基またはR5ON=C(R4)-(R4およびR5は前記と同義であり、ON結合は単独または任意の割合の異性体を含む)を表し、HalRはハロゲン化剤を表し、R1、XおよびYは前記と同義である。[Manufacturing method H]
Figure 0007118961000089

In the formula, R2b represents a halogen atom, Z2 is a C1-C6 alkyl group or R5ON=C(R4)-(R4 and R5 are as defined above, and the ON bond is singular or contains isomers in any proportion. ), HalR represents a halogenating agent, and R1, X and Y are as defined above.

製造方法Hは、R2bがハロゲン原子を表す式(10b)で表される化合物を得る方法であって、式(10a)で表される化合物とハロゲン化剤(HalR)とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 Production method H is a method for obtaining a compound represented by formula (10b) in which R2b represents a halogen atom, wherein the compound represented by formula (10a) and a halogenating agent (HalR) are reacted in a solvent. It is a manufacturing method including making

本反応に使用するハロゲン化剤としては、セレクトロフルオル(N-フルオロ-N’-トリエチレンジアミン ビス(テトラフルオロボラート))、N-クロロスクシンイミド、N-ブロモスクシンイミド、N-ヨードスクシンイミド、1,3-ジクロロ-5,5-ジメチルヒダントイン、1,3-ジブロモ-5,5-ジメチルヒダントイン、1,3-ジヨード-5,5-ジメチルヒダントイン、臭素、ヨウ素等が挙げられる。 Halogenating agents used in this reaction include selectrofluor (N-fluoro-N'-triethylenediamine bis(tetrafluoroborate)), N-chlorosuccinimide, N-bromosuccinimide, N-iodosuccinimide, 1 ,3-dichloro-5,5-dimethylhydantoin, 1,3-dibromo-5,5-dimethylhydantoin, 1,3-diiodo-5,5-dimethylhydantoin, bromine, iodine and the like.

本反応に使用するハロゲン化剤の量は、式(10a)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、1当量以上10当量以下である。ただし、ヒダントインを含むハロゲン化剤の量は、0.5当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはなく、通常、1当量以上5当量以下である。 The amount of the halogenating agent used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (10a) as long as the desired reaction proceeds. It is 1 equivalent or more and 10 equivalents or less. However, the amount of the hydantoin-containing halogenating agent is not particularly limited as long as it is 0.5 equivalents or more as long as the intended reaction proceeds, and is usually 1 equivalent or more and 5 equivalents or less.

本反応に使用するハロゲン化剤がヨウ素化剤である場合、塩酸、硫酸等の無機酸類や、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の有機酸のような酸を加えることができる。 When the halogenating agent used in this reaction is an iodinating agent, an acid such as an inorganic acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid, or an organic acid such as acetic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid or trifluoromethanesulfonic acid may be added. can be done.

本反応に使用するハロゲン化剤がヨウ素化剤である場合に使用する酸の量は、式(10a)で表される化合物に対して0.01当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、0.1当量以上3当量以下である。 When the halogenating agent used in this reaction is an iodinating agent, the amount of the acid used is 0.01 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (10a), so that the intended reaction proceeds. Although it is not particularly limited as long as it is, it is usually 0.1 equivalent or more and 3 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、硫酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の酸性系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. , diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, and other ether solvents; methanol, ethanol, isopropanol, and other alcohol solvents; benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, and other benzene solvents. , ethyl acetate, isopropyl acetate, ester solvents such as butyl acetate, nitrile solvents such as acetonitrile, N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide and other amide solvents, 1,3- Urea-based solvents such as dimethyl-2-imidazolidinone, halogen-based solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride can be used. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(10a)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by formula (10a). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、0℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 0° C. or higher and 150° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(10b)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (10b) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(10b)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (10b) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(10b)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (10b) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, or the like with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法I]

Figure 0007118961000090

式中、Jは酸素原子または硫黄原子を表し、Jが酸素原子の場合、R2cは置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基を表し、Jが硫黄原子の場合、R2cはC1~C6のアルキル基またはC1~C6のハロアルキル基を表し、Qは水素原子または金属を表し、R1、R2b、X、YおよびZ2は前記と同義である。[Manufacturing method I]
Figure 0007118961000090

In the formula, J represents an oxygen atom or a sulfur atom, and when J is an oxygen atom, R2c is a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1 to C6 haloalkyl group, a substituent A optionally substituted C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with substituent A C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent A C2-C6 haloalkenyl group optionally substituted with substituent A C2 -C6 alkynyl group, C2-C6 haloalkynyl group, when J is a sulfur atom, R2c represents a C1-C6 alkyl group or a C1-C6 haloalkyl group, Q represents a hydrogen atom or a metal, R1, R2b, X, Y and Z2 are as defined above.

製造方法Iは、Jは酸素原子または硫黄原子を表し、Jが酸素原子の場合、R2cが置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基を表し、Jが硫黄原子の場合、R2cはC1~C6のアルキル基またはC1~C6のハロアルキル基を表す式(10c)で表される化合物を得る方法であって、式(10b)で表される化合物とR2c-J-Qとを、遷移金属類の存在下に反応させるカップリング反応によって得ることを含む製造方法である。 In production method I, J represents an oxygen atom or a sulfur atom, and when J is an oxygen atom, R2c is a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1 to C6 haloalkyl group, a substituent A C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with A, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A, a C2-C6 haloalkenyl group optionally substituted with a substituent A represents a good C2-C6 alkynyl group or a C2-C6 haloalkynyl group, and when J is a sulfur atom, R2c represents a C1-C6 alkyl group or a C1-C6 haloalkyl group represented by formula (10c) A method for obtaining a compound, which includes obtaining a compound represented by the formula (10b) by a coupling reaction in which R2c-JQ is reacted in the presence of a transition metal.

式(10b)で表される化合物中、好ましいR2bは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。 Preferred R2b in the compound represented by formula (10b) is a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.

本反応に使用するR2c-J-Qは、市販品として入手または公知の方法で製造できる。好ましいQは、水素原子、または、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属類である。 R2c-JQ used in this reaction is commercially available or can be produced by a known method. Preferred Q is a hydrogen atom or alkali metals such as sodium and potassium.

本反応に使用するR2c-J-Qの量は、式(10b)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。Qが水素原子のときは、溶媒としても使用可能である。 The amount of R2c-JQ used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (10b), as long as the intended reaction proceeds. When Q is a hydrogen atom, it can also be used as a solvent.

本反応に使用する遷移金属類は、配位子を有してよく、酢酸パラジウム、[1,1’-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウムジクロリド、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウムジクロリド等のパラジウム類等である。 The transition metals used in this reaction may have a ligand, palladium acetate, [1,1'-bis(diphenylphosphino)ferrocene]palladium dichloride, tris(dibenzylideneacetone) dipalladium, tetrakis ( and palladium compounds such as triphenylphosphine)palladium and bis(triphenylphosphine)palladium dichloride.

本反応に使用する遷移金属類の量は、式(10b)で表される化合物に対して、通常、0.001当量以上1当量以下であるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。 The amount of the transition metal used in this reaction is usually 0.001 equivalent or more and 1 equivalent or less with respect to the compound represented by formula (10b), but is particularly limited as long as the desired reaction proceeds. will not be

本反応を効率的に進行させるために、トリフェニルホスフィン、1,1’-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン、2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2’4’6’-トリイソプロピルビフェニル、2-ジ-t-ブチルホスフィノ-2’4’6’-トリイソプロピルビフェニル等のホスフィン配位子を添加することができる。 In order to efficiently proceed this reaction, triphenylphosphine, 1,1′-bis(diphenylphosphino)ferrocene, 2-dicyclohexylphosphino-2′4′6′-triisopropylbiphenyl, 2-di-t Phosphine ligands such as -butylphosphino-2'4'6'-triisopropylbiphenyl can be added.

本反応に使用するホスフィン配位子の量は、式(10b)で表される化合物に対して、通常、0.001当量以上1当量以下であるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。 The amount of the phosphine ligand used in this reaction is usually 0.001 equivalent or more and 1 equivalent or less with respect to the compound represented by formula (10b), and is particularly not limited.

本反応に使用する塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムのような無機塩基類やトリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基類等である。 Bases used in this reaction include inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate and cesium carbonate, and organic bases such as triethylamine, tributylamine and diisopropylethylamine.

本反応に使用する塩基の量は、式(10b)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、1当量以上50当量以下である。 The amount of the base used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (10b), as long as the desired reaction proceeds. 50 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、R2c-J-H(式中、R2cは前記と同義であり、Jは酸素原子である。)で表されるアルコール溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but R2c-JH (wherein R2c is as defined above and J is an oxygen atom. ), ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane, benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene, etc. is mentioned. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(10b)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (10b). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、30℃以上200℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually from 30° C. to 200° C. or below the boiling point of the solvent.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、濾過操作を行うことにより、不溶物を除去することも可能であるが必須ではない。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield. In addition, although it is possible to remove insoluble matter by performing a filtering operation, it is not essential.

前記で得られた式(10c)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (10c) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(10c)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (10c) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(10c)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (10c) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法J]

Figure 0007118961000091

式中、R2dは置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、またはC2~C6のハロアルケニル基を表し、R2d-Bは有機ボロン酸類を表し、R1、R2b、X、YおよびZ2は前記と同義である。[Manufacturing method J]
Figure 0007118961000091

In the formula, R2d is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A, a substituent A represents a C2-C6 alkenyl group or a C2-C6 haloalkenyl group optionally substituted with, R2d-B represents an organic boronic acid, and R1, R2b, X, Y and Z2 are as defined above. .

製造方法Jは、R2dが置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、またはC2~C6のハロアルケニル基である式(10d)で表される化合物を得る方法であって、式(10b)で表される化合物と有機ボロン酸類(R2d-B)とを遷移金属類および塩基存の在下で反応させる鈴木-宮浦カップリングによって得ることを含む製造方法である。 In production method J, R2d is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A, substituted A method for obtaining a compound represented by formula (10d), which is a C2-C6 alkenyl group or a C2-C6 haloalkenyl group optionally substituted with group A, wherein the compound represented by formula (10b) It is a production method including obtaining by Suzuki-Miyaura coupling in which a compound and organic boronic acids (R2d-B) are reacted in the presence of transition metals and a base.

式(10b)中、好ましいR2bは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。
本反応に使用するR2d-Bは、有機ボロン酸や有機ボロン酸エステル等の有機ボロン酸類を表し、市販品として入手または公知の方法で製造できる。
In formula (10b), preferred R2b is a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.
R2d-B used in this reaction represents an organic boronic acid such as an organic boronic acid or an organic boronate ester, and can be obtained as a commercially available product or produced by a known method.

本反応に使用するR2d-Bの量は、式(10b)で表される化合物に対して、1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、1当量以上10当量以下である。 The amount of R2d-B used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (10b), as long as the target reaction proceeds. , 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.

本反応に使用する遷移金属類は、パラジウム、ニッケル、ルテニウム等であり、配位子を有してよい。好ましくは、酢酸パラジウム、[1,1’-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウムジクロリド、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウムジクロリド等のパラジウム類が挙げられる。 The transition metals used in this reaction are palladium, nickel, ruthenium, etc., and may have ligands. Preferably, palladium acetate, [1,1′-bis(diphenylphosphino)ferrocene]palladium dichloride, tris(dibenzylideneacetone)dipalladium, tetrakis(triphenylphosphine)palladium, bis(triphenylphosphine)palladium dichloride and the like Palladium is mentioned.

本反応に使用する遷移金属類の量は、式(10b)で表される化合物に対して、通常、0.001当量以上1当量以下であるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。 The amount of the transition metal used in this reaction is usually 0.001 equivalent or more and 1 equivalent or less with respect to the compound represented by formula (10b), but is particularly limited as long as the desired reaction proceeds. will not be

本反応を効率的に進行させるために、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン等のホスフィン配位子を添加することができる。 A phosphine ligand such as triphenylphosphine or tricyclohexylphosphine can be added for efficient progress of this reaction.

本反応に使用するホスフィン配位子の量は、式(10b)で表される化合物に対して、通常、0.001当量以上1当量以下であるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。 The amount of the phosphine ligand used in this reaction is usually 0.001 equivalent or more and 1 equivalent or less with respect to the compound represented by formula (10b), and is particularly not limited.

本反応に使用する塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、リン酸三カリウムのような無機塩基類やナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウム t-ブトキシド、カリウム t-ブトキシド等の金属アルコキシド類等である。 Bases used in this reaction include inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate and tripotassium phosphate, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium t-butoxide and potassium t-butoxide. etc.

本反応に使用する塩基の量は、式(10b)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、1当量以上50当量以下である。 The amount of the base used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (10b), as long as the desired reaction proceeds. 50 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、水溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. and benzene-based solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(10b)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (10b). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、30℃以上200℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually from 30° C. to 200° C. or below the boiling point of the solvent.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、濾過操作を行うことにより、不溶物を除去することも可能であるが必須ではない。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield. In addition, although it is possible to remove insoluble matter by performing a filtering operation, it is not essential.

前記で得られた式(10d)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (10d) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(10d)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (10d) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(10d)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (10d) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法K]

Figure 0007118961000092

式中、R2eは置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、またはC2~C6のハロアルキニル基を表し、R1、R2b、X、YおよびZ2は前記と同義である。[Manufacturing method K]
Figure 0007118961000092

In the formula, R2e represents a C2-C6 alkynyl group or a C2-C6 haloalkynyl group optionally substituted with a substituent A, and R1, R2b, X, Y and Z2 are as defined above.

製造方法Kは、R2eが置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、またはC2~C6のハロアルキニル基である式(10e)で表される化合物を得る方法であって、(10b)で表される化合物と末端アルキン化合物とを遷移金属類および塩基の存在下で反応させる薗頭カップリングによって得ることを含む製造方法である。 Production method K is a method for obtaining a compound represented by formula (10e), wherein R2e is a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A or a C2-C6 haloalkynyl group, A production method comprising obtaining by Sonogashira coupling in which the compound represented by (10b) and a terminal alkyne compound are reacted in the presence of transition metals and a base.

式(10b)中、好ましいR2bは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。
本反応に使用する末端アルキン化合物は、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。また、末端アルキン化合物として、トリメチルシリルアセチレンも使用することができる。この場合は、式(10b)で表される化合物にトリメチルシリルエチニル基を導入後、脱シリル化を行う必要がある。脱シリル化については、ジャーナル オブ ザ アメリカン ケミカル ソサエティー(Journal of the American Chemical Society)、第131巻、2号、634-643頁(2009).およびジャーナル オブ オルガノメタリック ケミストリー(Journal of Organometallic Chemistry)、第696巻、25号、4039-4045頁(2011).等の非特許文献を参考にして行うことができる。
In formula (10b), preferred R2b is a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.
The terminal alkyne compound used in this reaction can be obtained as a commercial product or produced by a known method. Trimethylsilylacetylene can also be used as the terminal alkyne compound. In this case, it is necessary to desilylate after introducing a trimethylsilylethynyl group into the compound represented by formula (10b). For desilylation, see Journal of the American Chemical Society, Vol. 131, No. 2, pp. 634-643 (2009). and Journal of Organometallic Chemistry, Vol. 696, No. 25, pp. 4039-4045 (2011). Non-Patent Literature, etc. can be referred to.

本反応に使用する末端アルキン化合物の量は、式(10b)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、1当量以上10当量以下である。 The amount of the terminal alkyne compound used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (10b), as long as the desired reaction proceeds. It is 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.

本反応に使用する遷移金属類は、配位子を有してよく、酢酸パラジウム、[1,1’-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウムジクロリド、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウムジクロリド等のパラジウム類等である。また、塩化銅、臭化銅、ヨウ化銅等の銅類も同時に使用する。 The transition metals used in this reaction may have a ligand, palladium acetate, [1,1'-bis(diphenylphosphino)ferrocene]palladium dichloride, tris(dibenzylideneacetone) dipalladium, tetrakis ( and palladium compounds such as triphenylphosphine)palladium and bis(triphenylphosphine)palladium dichloride. Coppers such as copper chloride, copper bromide and copper iodide are also used at the same time.

本反応に使用する遷移金属類の量は、パラジウム類等および銅類が、それぞれ式(10b)で表される化合物に対して、通常、0.001当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはない。好ましい量は、双方ともに0.001当量以上1当量以下である。 The amount of transition metals used in this reaction is usually 0.001 equivalents or more of palladium compounds and copper compounds, respectively, relative to the compound represented by formula (10b). There are no particular restrictions as long as it progresses. Preferred amounts for both are 0.001 equivalent or more and 1 equivalent or less.

本反応に使用する塩基は、トリエチルアミン、トリブチルアミン、イソプロピルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機アミン類や、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の無機塩基類等が挙げられる。 The base used in this reaction includes organic amines such as triethylamine, tributylamine, isopropylamine, diethylamine, diisopropylamine and diisopropylethylamine, and inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate and cesium carbonate.

本反応に使用する塩基の量は、式(10b)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、1当量以上50当量以下である。また、有機塩基で液体状のものに関しては、溶媒として使用することができる。 The amount of the base used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (10b), as long as the desired reaction proceeds. 50 equivalents or less. In addition, organic bases in liquid form can be used as solvents.

本反応を効率的に進行させるために、トリt-ブチルホスフィン、2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2’4’6’-トリイソプロピルビフェニル等のホスフィン配位子を添加することができるが、必須ではない。 A phosphine ligand such as tri-t-butylphosphine, 2-dicyclohexylphosphino-2'4'6'-triisopropylbiphenyl, etc. can be added in order to allow the reaction to proceed efficiently, but is not essential. .

本反応に使用するホスフィン配位子の量は、式(10b)で表される化合物に対して、通常、0.001当量以上1当量以下であるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。 The amount of the phosphine ligand used in this reaction is usually 0.001 equivalent or more and 1 equivalent or less with respect to the compound represented by formula (10b), and is particularly not limited.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、トリエチルアミン、トリブチルアミン、イソプロピルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機アミン溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane, Benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, and dichlorobenzene Ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate Nitrile solvents such as acetonitrile, N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide , N,N-dimethylacetamide and other amide solvents, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and other urea solvents, dichloromethane, dichloroethane, chloroform, carbon tetrachloride and other halogen solvents, triethylamine, tributylamine, Examples include organic amine solvents such as isopropylamine, diethylamine, diisopropylamine, and diisopropylethylamine. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(10b)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (10b). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、0℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 0° C. or higher and 150° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、濾過操作を行うことにより、不溶物を除去することも可能であるが必須ではない。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add Moreover, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield. In addition, although it is possible to remove insoluble matter by performing a filtering operation, it is not essential.

前記で得られた式(10e)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (10e) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(10e)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (10e) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(10e)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (10e) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法L]

Figure 0007118961000093

式中、Z3はハロゲン原子を表し、HalR、R1、R2、XおよびYは前記と同義である。[Manufacturing method L]
Figure 0007118961000093

In the formula, Z3 represents a halogen atom, HalR, R1, R2, X and Y are as defined above.

製造方法Lは、Z3がハロゲン原子である式(10f)で表される化合物を得る方法であって、ラジカル開始剤とハロゲン化剤(HalR)を用いて式(10-1)で表される化合物を反応させることを含む製造方法である。 Production method L is a method for obtaining a compound represented by formula (10f) in which Z3 is a halogen atom, and is represented by formula (10-1) using a radical initiator and a halogenating agent (HalR). A manufacturing method comprising reacting compounds.

式(10f)中、好ましいZ3は、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。
本反応に使用するラジカル開始剤は、アゾビスイソブチロニトリル、過酸化ベンゾイル等が挙げられる。
In formula (10f), preferred Z3 is a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.
Radical initiators used in this reaction include azobisisobutyronitrile, benzoyl peroxide and the like.

本反応に使用するラジカル開始剤の量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(10-1)で表される化合物に対して0.01当量以上1.0当量以下である。 The amount of the radical initiator used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but usually 0.01 equivalent with respect to the compound represented by formula (10-1) It is more than 1.0 equivalent or less.

本反応に使用するハロゲン化剤は、N-クロロスクシンイミド、N-ブロモスクシンイミド、N-ヨードスクシンイミド、1,3-ジクロロ-5,5-ジメチルヒダントイン、1,3-ジブロモ-5,5-ジメチルヒダントイン、1,3-ジヨード-5,5-ジメチルヒダントイン等が挙げられる。 Halogenating agents used in this reaction include N-chlorosuccinimide, N-bromosuccinimide, N-iodosuccinimide, 1,3-dichloro-5,5-dimethylhydantoin, and 1,3-dibromo-5,5-dimethylhydantoin. , 1,3-diiodo-5,5-dimethylhydantoin and the like.

本反応に使用するハロゲン化剤の量は、式(10-1)で表される化合物に対して2当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、2当量以上2.8当量以下である。 The amount of the halogenating agent used in this reaction is not particularly limited as long as it is 2 equivalents or more with respect to the compound represented by formula (10-1), as long as the desired reaction proceeds. Usually, it is 2 equivalents or more and 2.8 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化ベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but halogenated benzene solvents such as chlorobenzene and dichlorobenzene; Solvents include halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(10-1)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by formula (10-1). It is below.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、20℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 20° C. or higher and 150° C. or lower, or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Solvents that are not compatible with water, such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, and chloroform, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, may be added. It is possible. In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(10f)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (10f) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(10f)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (10f) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(10f)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (10f) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法M]

Figure 0007118961000094

式中、R1、R2、X、YおよびZ3は前記と同義である。[Manufacturing method M]
Figure 0007118961000094

In the formula, R1, R2, X, Y and Z3 are as defined above.

製造方法Mは、本発明化合物の製造中間体である式(10g)で表される化合物を得る方法であって、水存在下、式(10f)で表される化合物を加水分解することを含む製造方法である。 Production method M is a method for obtaining a compound represented by formula (10g), which is a production intermediate of the compound of the present invention, and includes hydrolyzing a compound represented by formula (10f) in the presence of water. manufacturing method.

式(10f)中、好ましいZ3は、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。
本反応には、水が必須である。また、本反応を円滑に進行させるために、硝酸銀を使用することができる。
In formula (10f), preferred Z3 is a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.
Water is essential for this reaction. In addition, silver nitrate can be used to facilitate the reaction.

本反応に使用する水の量は、式(10f)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて限定されることはない。また、水は溶媒として使用することができる。 The amount of water used in this reaction is not limited as long as it is 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (10f), as long as the desired reaction proceeds. Also, water can be used as a solvent.

本反応に使用する硝酸銀の量は、式(10f)で表される化合物に対して2当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて限定されることはなく、通常、2当量以上10当量以下である。 The amount of silver nitrate used in this reaction is not limited as long as it is 2 equivalents or more with respect to the compound represented by formula (10f), as long as the desired reaction proceeds. equivalent or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、水溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. nitrile-based solvents such as system solvents, acetonitrile, and the like. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(10f)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (10f). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、-10℃以上100℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but it is usually from -10°C to 100°C or below the boiling point of the solvent.

反応の後処理としては、溶解していない金属類を濾過することにより除去することが可能である。さらに、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, it is possible to remove undissolved metals by filtration. Furthermore, liquid separation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(10g)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by the formula (10 g) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(10g)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by the formula (10g) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(10g)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by the formula (10g) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法N]

Figure 0007118961000095

式中、R4aは置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基を有するC1~C6のアルキル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、または置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基を有するC1~C6のハロアルキル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)を表し、R1、R2、XおよびYは前記と同義である。[Manufacturing method N]
Figure 0007118961000095

In the formula, R4a is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C, a substituent C C2-C6 alkenyl group optionally substituted with C2-C6 haloalkenyl group, C2-C6 alkynyl group optionally substituted with substituent C, C2-C6 haloalkynyl group, substituent D A phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents (however, in the case of two or more substituents D, each is independent.), a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D C1-C6 alkyl group (however, in the case of 2 or more substituents D, each is independent), or C1-C6 haloalkyl having a phenyl group optionally substituted with 0-5 substituents D group (however, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent), and R1, R2, X and Y are as defined above.

製造方法Nは、R4aが置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基を有するC1~C6のアルキル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、または置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基を有するC1~C6のハロアルキル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)である式(10h)で表される化合物を得る方法であって、式(10g)で表される化合物と有機金属試薬とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 In production method N, R4a is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C, substituted C2-C6 alkenyl group optionally substituted by group C, C2-C6 haloalkenyl group, C2-C6 alkynyl group optionally substituted by substituent C, C2-C6 haloalkynyl group, substituted a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D (however, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent), a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D (However, in the case of two or more substituents D, each is independent.), or C1 to C6 having a phenyl group optionally substituted with a substituent D from 0 to 5 A method for obtaining a compound represented by the formula (10h) which is a haloalkyl group of (however, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent), the compound represented by the formula (10g) and an organometallic reagent in a solvent.

本反応に使用する有機金属試薬としては、有機マグネシウムハロゲン化物(R4a-Mg-Hal:ここで、Halはハロゲン原子を表し、R4aは前記と同義である。)、有機リチウム試薬(R4a-Li:ここで、R4aは前記と同義である。)、有機マグネシウムハロゲン化物-亜鉛(II)アート錯体試薬([(R4a)-Zn][Mg-Hal][Mg‐(Hal):ここで、R4aおよびHalは前記と同義である。)等が挙げられる。これらの有機金属試薬は、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。The organometallic reagent used in this reaction includes an organomagnesium halide (R4a-Mg-Hal: where Hal represents a halogen atom and R4a is as defined above.), an organolithium reagent (R4a-Li: Here, R4a is as defined above.), an organomagnesium halide-zinc(II)ate complex reagent ([(R4a) 3 -Zn] - [Mg-Hal] + [Mg-(Hal) 2 ] 2 : Here, R4a and Hal are as defined above.) and the like. These organometallic reagents are commercially available or can be produced by known methods.

本反応に使用する有機金属試薬の量は、式(10g)で表される式に対して、1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、1当量以上10当量以下である。 The amount of the organometallic reagent used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the formula represented by formula (10g), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. Usually, it is 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.

反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in the reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, ether solvents such as dioxane, hexane , heptane, cyclohexane, methylcyclohexane, and other hydrocarbon solvents. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(10g)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (10 g). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、-80℃以上100℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but it is usually -80° C. or higher and 100° C. or lower, or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Solvents that are not compatible with water, such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, and chloroform, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, may be added. It is possible. In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(10h)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by the formula (10h) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(10h)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (10h) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(10h)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (10h) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法O]

Figure 0007118961000096

式中、Ox’は酸化剤を表し、R1、R2、X、YおよびR4aは前記と同義である。[Manufacturing method O]
Figure 0007118961000096

In the formula, Ox' represents an oxidizing agent, and R1, R2, X, Y and R4a are as defined above.

製造方法Oは、本発明化合物の製造中間体である式(10i)で表される化合物を得る方法であって、式(10h)で表される化合物と酸化剤(Ox’)とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 Production method O is a method for obtaining a compound represented by formula (10i), which is a production intermediate of the compound of the present invention, wherein a compound represented by formula (10h) and an oxidizing agent (Ox′) are combined in a solvent It is a manufacturing method including reacting in.

本製造方法は、デス・マーチン酸化(Dess-Martin oxidation)、スワーン酸化(Swern oxidation)、パリック・デーリング酸化(Parikh-Doering oxidation)等のような当業者が通常使用する酸化方法で実施することができる。また、該酸化反応は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはない。ここでは、ジメチルスルホキシド、ピリジン-三酸化硫黄コンプレックスおよび塩基を溶媒中で使用するパリック・デーリング酸化の方法を説明する。 This production method is carried out by an oxidation method commonly used by those skilled in the art such as Dess-Martin oxidation, Swern oxidation, Parikh-Doering oxidation, etc. can be done. Moreover, the oxidation reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds. Here we describe a method for the Palik-Daering oxidation using dimethylsulfoxide, a pyridine-sulfur trioxide complex and a base in a solvent.

本反応に使用するジメチルスルホキシドは、式(10h)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはなく、溶媒としても使用することもできる。 Dimethyl sulfoxide used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (10h), as long as the desired reaction proceeds, and it can also be used as a solvent. can also

本反応に使用するピリジン-三酸化硫黄コンプレックスは、式(10h)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはなく、通常、1当量以上20当量以下である。 The pyridine-sulfur trioxide complex used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more relative to the compound represented by the formula (10h), as long as the intended reaction proceeds. It is 1 equivalent or more and 20 equivalents or less.

本反応に使用する塩基は、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機アミン類等が挙げられる。 Examples of the base used in this reaction include organic amines such as triethylamine, tributylamine and diisopropylethylamine.

本反応に使用する塩基の量は、式(10h)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはなく、通常、1当量以上50当量以下である。 The amount of the base used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more relative to the compound represented by the formula (10h) as long as the desired reaction proceeds, and is usually 1 equivalent or more. 50 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ジメチルスルホキシド等の硫黄系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. mentioned. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(10h)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (10h). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、-10℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually -10° C. or higher and 150° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Solvents that are not compatible with water, such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, and chloroform, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, may be added. It is possible. In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(10i)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (10i) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(10i)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (10i) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(10i)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (10i) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法P]

Figure 0007118961000097

式中、R4bは、水素原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基を有するC1~C6のアルキル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、または置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基を有するC1~C6のハロアルキル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)を表し、R1、R2、R5、XおよびYは前記と同義である。[Manufacturing method P]
Figure 0007118961000097

In the formula, R4b is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C , a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkynyl group , a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D (however, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent), optionally substituted with 0 to 5 substituents D a C1 to C6 alkyl group having a phenyl group (however, in the case of two or more substituents D, each is independent), or a C1 having a phenyl group optionally substituted with a substituent D with 0 to 5 substituents; represents a ∼C6 haloalkyl group (provided that, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent), and R1, R2, R5, X and Y are as defined above.

製造方法Pは、一般式(1)で表される化合物のうち、R4bが水素原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、 C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基を有するC1~C6のアルキル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、または置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基を有するC1~C6のハロアルキル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)である式(1a)で表される化合物を得る方法であって、式(10j)で表される化合物とR5ONH2とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 In the production method P, among the compounds represented by the general formula (1), R4b is a hydrogen atom, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1 to C6 haloalkyl group, a substituent C a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkenyl group optionally substituted with a substituent C a C2-C6 alkynyl group, a C2-C6 haloalkynyl group, a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D (however, in the case of two or more substituents D, each is independent); , a C1-C6 alkyl group having a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D (however, in the case of two or more substituents D, each is independent), or with the substituent D A compound represented by formula (1a), which is a C1 to C6 haloalkyl group having a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents (provided that, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent); which comprises reacting a compound represented by formula (10j) with R5ONH2 in a solvent.

本反応に使用するR5ONH2は、市販品として入手または公知の方法で製造できる。R5ONH2は、塩酸、硫酸のような酸性化合物との塩を形成したものでもよく、反応系に塩基を共存させて使用することができる。使用する塩基として、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類や、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、4-ジメチルアミノピリジン、コリジン、ルチジン等の有機塩基類が例示されるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。使用する塩基の量としては、R5ONH2に対して、1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、1当量以上20当量以下である。また、予め公知の方法により脱塩してからR5ONH2を使用することも可能である。 R5ONH2 used in this reaction can be obtained as a commercial product or produced by a known method. R5ONH2 may be a salt formed with an acidic compound such as hydrochloric acid or sulfuric acid, and can be used in the presence of a base in the reaction system. Examples of bases to be used include inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate and sodium hydride, and organic bases such as triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, collidine and lutidine. However, there is no particular limitation as long as the intended reaction proceeds. The amount of the base to be used is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more relative to R5ONH2, as long as the intended reaction proceeds, but it is usually 1 equivalent or more and 20 equivalents or less. It is also possible to use R5ONH2 after desalting in advance by a known method.

本反応に使用するR5ONH2の量は、式(10j)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、1当量以上20当量以下である。 The amount of R5ONH2 used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (10j), as long as the desired reaction proceeds. 20 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane, alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropanol; benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene; ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate; nitrile solvents such as acetonitrile; Amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide and N,N-dimethylacetamide, urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, dichloromethane, dichloroethane, chloroform, carbon tetrachloride and halogen-based solvents such as These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(10j)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (10j). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、0℃以上180℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 0° C. or higher and 180° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(1a)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1a) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(1a)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (1a) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(1a)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1a) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, or the like with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法Q]

Figure 0007118961000098

式中、R1、R2、XおよびYは前記と同義である。[Manufacturing method Q]
Figure 0007118961000098

In the formula, R1, R2, X and Y are as defined above.

製造方法Qは、本発明の製造中間体である式(1d)で表される化合物を得る方法であって、式(1b)で表される化合物と塩素化剤とを溶媒中で反応させること含む製造方法である。 Production method Q is a method for obtaining a compound represented by formula (1d), which is a production intermediate of the present invention, and comprises reacting a compound represented by formula (1b) with a chlorinating agent in a solvent. It is a manufacturing method including.

本反応に使用する塩素化剤として、N-クロロスクシンイミドや1,3-ジクロロ-5,5-ジメチルヒダントイン等が挙げられる。 Examples of the chlorinating agent used in this reaction include N-chlorosuccinimide and 1,3-dichloro-5,5-dimethylhydantoin.

本反応に使用する塩素化剤の量としては、N-クロロスクシンイミドの場合には、式(1b)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、1当量以上20当量以下である。1,3-ジクロロ-5,5-ジメチルヒダントインの場合には、、式(1b)で表される化合物に対して0.5当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、0.5当量以上10当量以下である。 The amount of the chlorinating agent used in this reaction is, in the case of N-chlorosuccinimide, 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (1b), as long as the target reaction proceeds. Although not limited, it is usually 1 equivalent or more and 20 equivalents or less. In the case of 1,3-dichloro-5,5-dimethylhydantoin, 0.5 equivalent or more relative to the compound represented by formula (1b) is not particularly limited as long as the target reaction proceeds. However, it is usually 0.5 equivalents or more and 10 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane, Benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, and dichlorobenzene Ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate Nitrile solvents such as acetonitrile, N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide , N,N-dimethylacetamide, urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, and halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1b)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (1b). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、-10℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually -10° C. or higher and 150° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(1d)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1d) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(1d)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (1d) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(1d)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1d) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法R]

Figure 0007118961000099

式中、R1、R2、R4a、XおよびYは前記と同義である。[Manufacturing method R]
Figure 0007118961000099

In the formula, R1, R2, R4a, X and Y are as defined above.

製造方法Rは、式(1)で表される化合物のうち、式(1e)で表される化合物を得る方法であって、式(1d)で表される化合物と有機金属試薬とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 Production method R is a method for obtaining a compound represented by formula (1e) among the compounds represented by formula (1), wherein the compound represented by formula (1d) and an organometallic reagent are combined in a solvent It is a manufacturing method including reacting in.

本反応に使用する有機金属試薬としては、有機マグネシウムハロゲン化物(R4a-Mg-Hal:ここで、Halはハロゲン原子を表し、R4aは前記と同義である。)、有機リチウム試薬(R4a-Li:ここで、R4aは前記と同義である。)等が挙げられる。これらの有機金属試薬は、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。 The organometallic reagent used in this reaction includes an organomagnesium halide (R4a-Mg-Hal: where Hal represents a halogen atom and R4a is as defined above.), an organolithium reagent (R4a-Li: Here, R4a is as defined above.) and the like. These organometallic reagents are commercially available or can be produced by known methods.

本反応に使用する有機金属試薬の量は、式(1d)で表される式に対して、2当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、2当量以上10当量以下である。 The amount of the organometallic reagent used in this reaction may be 2 equivalents or more with respect to the formula represented by formula (1d), and is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds. Usually, it is 2 equivalents or more and 10 equivalents or less.

反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in the reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, ether solvents such as dioxane, hexane , heptane, cyclohexane, methylcyclohexane, and other hydrocarbon solvents. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1d)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (1d). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、-80℃以上100℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but it is usually -80° C. or higher and 100° C. or lower, or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Solvents that are not compatible with water, such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, and chloroform, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, may be added. It is possible. In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(1e)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1e) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(1e)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (1e) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(1e)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1e) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法S]

Figure 0007118961000100

式中、R1、R2、Ra、Rb、XおよびYは前記と同義である。[Manufacturing method S]
Figure 0007118961000100

In the formula, R1, R2, Ra, Rb, X and Y are as defined above.

製造方法Sは、式(1)で表される化合物のうち、式(1f)で表される化合物を得る方法であって、式(1d)で表される化合物とRaRbNHとを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 Production method S is a method for obtaining a compound represented by formula (1f) among the compounds represented by formula (1), wherein the compound represented by formula (1d) and RaRbNH are combined in a solvent. It is a manufacturing method including reacting.

本反応に使用するRaRbNHは、市販品として入手または公知の方法で製造できる。RaRbNHは、塩酸、硫酸のような酸性化合物との塩を形成したものでもよく、反応系に塩基を共存させて使用することができる。使用する塩基として、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類や、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、4-ジメチルアミノピリジン、コリジン、ルチジン等の有機塩基類が例示されるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。使用する塩基の量としては、RaRbNHに対して、1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、1当量以上20当量以下である。また、予め公知の方法により脱塩してからRaRbNHを使用することも可能である。 RaRbNH used in this reaction can be obtained as a commercial product or produced by a known method. RaRbNH may be a salt formed with an acidic compound such as hydrochloric acid or sulfuric acid, and can be used in the presence of a base in the reaction system. Examples of bases to be used include inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate and sodium hydride, and organic bases such as triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, collidine and lutidine. However, there is no particular limitation as long as the intended reaction proceeds. The amount of the base to be used is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more relative to RaRbNH, and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. It is also possible to use RaRbNH after desalting in advance by a known method.

本反応に使用するRaRbNHの量は、式(1d)で表される化合物に対して2当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、2当量以上20当量以下である。 The amount of RaRbNH used in this reaction is not particularly limited as long as it is 2 equivalents or more with respect to the compound represented by formula (1d), as long as the desired reaction proceeds. 20 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane, Benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene; nitrile solvents such as acetonitrile; amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide and N,N-dimethylacetamide; , 3-dimethyl-2-imidazolidinone and other urea solvents, dichloromethane, dichloroethane, chloroform, carbon tetrachloride and other halogen solvents, and the like. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1d)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (1d). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、-10℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually -10° C. or higher and 150° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Solvents that are not compatible with water, such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, and chloroform, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, may be added. It is possible. In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(1f)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1f) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(1f)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (1f) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(1f)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1f) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法T]

Figure 0007118961000101

式中、R5aは、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基を有するC1~C6のアルキル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基を有するC1~C6のハロアルキル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、またはRdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)を表し、R1、R2、R4、R5a、X、YおよびLvは前記と同義である。[Manufacturing method T]
Figure 0007118961000101

In the formula, R5a is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C, a substituent C2-C6 alkenyl group optionally substituted with C, C2-C6 haloalkenyl group, C2-C6 alkynyl group optionally substituted with substituent C, C2-C6 haloalkynyl group, substituent a C1-C6 alkyl group having a phenyl group optionally substituted by D with 0 to 5 substituents (however, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent); A C1 to C6 haloalkyl group having an optionally substituted phenyl group (however, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent), or RdC(=O)- (wherein Rd is has the same meaning as above), and R1, R2, R4, R5a, X, Y and Lv have the same meanings as above.

製造方法Tは、式(1)で表される化合物のうち、式(1h)で表される化合物を得る方法であって、式(1g)で表される化合物とR5a-Lvとを、塩基存在下で反応させることを含む製造方法である。 Production method T is a method for obtaining a compound represented by formula (1h) among the compounds represented by formula (1), wherein the compound represented by formula (1g) and R5a-Lv are combined with a base It is a manufacturing method including reacting in the presence.

本反応に使用するR5a-Lvは、市販品として入手または公知の方法で入手することができる。
本反応に使用するR5a-Lvは、式(1g)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、1当量以上50当量以下である。
R5a-Lv used in this reaction can be obtained as a commercial product or by a known method.
R5a-Lv used in this reaction may be 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (1g), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. It is equal to or more and 50 equivalents or less.

本反応に使用する塩基として、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、4-ジメチルアミノピリジン、コリジン、ルチジン等の有機塩基類、酸化銀(I)等の遷移金属が例示されるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。 Examples of bases used in this reaction include inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate and sodium hydride, and organic bases such as triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, collidine and lutidine. , and silver oxide (I), but are not particularly limited as long as the intended reaction proceeds.

本反応に使用する塩基は、式(1g)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、1当量以上50当量以下である。 The base used in this reaction may be 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (1g), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. 50 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane, Benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, and dichlorobenzene Ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate Nitrile solvents such as acetonitrile, N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide , N,N-dimethylacetamide, urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, and halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1g)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (1g). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、-10℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually -10° C. or higher and 150° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(1h)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1h) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(1h)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (1h) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(1h)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1h) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法U]

Figure 0007118961000102

式中、R1、R2、R8、R9、R10、R11、XおよびYは前記と同義である。[Manufacturing method U]
Figure 0007118961000102

In the formula, R1, R2, R8, R9, R10, R11, X and Y are as defined above.

製造方法Uは、式(3)で表される化合物を得る方法であり、式(1d)で表されると式(11)表される化合物とを、塩基存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 Production method U is a method for obtaining a compound represented by formula (3), and the compound represented by formula (1d) is reacted with the compound represented by formula (11) in the presence of a base in a solvent. It is a manufacturing method including

本反応に使用する式(11)で表される化合物は、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。 The compound represented by formula (11) used in this reaction can be obtained as a commercial product or produced by a known method.

本反応に使用する式(11)で表される化合物は、式(1d)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、1当量以上20当量以下である。 The compound represented by formula (11) used in this reaction may be in an amount of 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (1d), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. However, it is usually 1 equivalent or more and 20 equivalents or less.

本反応に使用する塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、4-ジメチルアミノピリジン、コリジン、ルチジン等の有機塩基類が例示されるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。 Bases used in this reaction include inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate and sodium hydride, and organic bases such as triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, collidine and lutidine. are exemplified, but are not particularly limited as long as the desired reaction proceeds.

本反応に使用する塩基は、式(1d)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、1当量以上20当量以下である。 The base used in this reaction may be 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (1d), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but usually 1 equivalent or more. 20 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane, Benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene; ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate; nitrile solvents such as acetonitrile; Examples thereof include halogen-based solvent media. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1d)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (1d). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、-20℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but it is usually from -20°C to 150°C or below the boiling point of the solvent.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(3)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (3) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(3)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 From the reaction mixture containing the compound represented by formula (3) obtained above, the solvent can be distilled off under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(3)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (3) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, or the like with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法V]

Figure 0007118961000103

式中、R8aはハロゲン原子を表し、R1、R2、R9、R10、R11、XおよびYは前記と同義である。[Manufacturing method V]
Figure 0007118961000103

In the formula, R8a represents a halogen atom, and R1, R2, R9, R10, R11, X and Y are as defined above.

製造方法Vは、式(3)で表される化合物のうち、式(3b)で表される化合物を得る方法であって、式(3a)で表される化合物をラジカル開始剤およびハロゲン化剤を使用して、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 Production method V is a method for obtaining a compound represented by formula (3b) among the compounds represented by formula (3), wherein the compound represented by formula (3a) is used as a radical initiator and a halogenating agent. is used to react in a solvent.

本反応に使用するラジカル開始剤としては、アゾビスイソブチロニトリル、過酸化ベンゾイル等が挙げられる。 Radical initiators used in this reaction include azobisisobutyronitrile, benzoyl peroxide and the like.

本反応に使用するラジカル開始剤の量としては、式(3a)で表される化合物に対して0.01当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、0,01当量以上1当量以下である。 The amount of the radical initiator used in this reaction may be 0.01 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (3a), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. is usually 0.01 equivalent or more and 1 equivalent or less.

本反応に使用するハロゲン化剤としては、N-クロロスクシンイミド、N-ブロモスクシンイミド、N-ヨードスクシンイミド、1,3-ジクロロ-5,5-ジメチルヒダントイン、1,3-ジブロモ-5,5-ジメチルヒダントイン、1,3-ジヨード-5,5-ジメチルヒダントイン等が挙げられる。 Halogenating agents used in this reaction include N-chlorosuccinimide, N-bromosuccinimide, N-iodosuccinimide, 1,3-dichloro-5,5-dimethylhydantoin, 1,3-dibromo-5,5-dimethyl hydantoin, 1,3-diiodo-5,5-dimethylhydantoin and the like.

本反応に使用するハロゲン化剤の量としては、イミド類の場合には、式(3a)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、1当量以上3当量以下である。一方、ヒダントイン類に関しては、式(3a)で表される化合物に対して0.5当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、0.5当量以上1.5当量以下である。 The amount of the halogenating agent used in this reaction is, in the case of imides, 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (3a), and is particularly limited as long as the desired reaction proceeds. Usually, it is 1 equivalent or more and 3 equivalents or less. On the other hand, with respect to hydantoins, the amount may be 0.5 equivalents or more relative to the compound represented by formula (3a), and is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds. It is 5 equivalents or more and 1.5 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化ベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but halogenated benzene solvents such as chlorobenzene and dichlorobenzene; Solvents include halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(3a)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (3a). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、20℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 20° C. or higher and 150° C. or lower, or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Solvents that are not compatible with water, such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, and chloroform, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, may be added. It is possible. In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(3b)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (3b) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(3b)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (3b) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(3b)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (3b) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, or the like with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法W]

Figure 0007118961000104

式中、R24はC1~C6のアルキル基を表し、R1、R2、R8、R10、XおよびYは前記と同義である。[Manufacturing method W]
Figure 0007118961000104

In the formula, R24 represents a C1-C6 alkyl group, and R1, R2, R8, R10, X and Y are as defined above.

製造方法Wは、式(2)で表される化合物のうち、式(2a)で表される化合物をえる製造方法であって、式(3c)で表される化合物を、酸存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 Production method W is a production method for obtaining the compound represented by formula (2a) among the compounds represented by formula (2), wherein the compound represented by formula (3c) is dissolved in a solvent in the presence of an acid. It is a manufacturing method including reacting in.

本反応に使用する酸は、塩酸、臭化水素酸、リン酸等の無機酸類や、酢酸、メタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸類が例示される。目的とする反応が進行する限り特に制限されることはない。 Acids used in this reaction include inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid and phosphoric acid, and organic acids such as acetic acid, methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid and trifluoroacetic acid. There are no particular limitations as long as the intended reaction proceeds.

本反応に使用する酸の量は、触媒量でもよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、式(3c)で表される化合物に対して0.01当量以上である。また、液体状の酸に関しては溶媒として使用することも可能である。 The amount of acid used in this reaction may be a catalytic amount, and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. Equivalent or more. Liquid acids can also be used as solvents.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、水溶媒、酢酸、メタンスルホン酸等の酸性系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. Ether solvents such as butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane, alcohol solvents such as methanol, ethanol, and isopropanol, benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ethyl acetate, isopropyl acetate, and acetic acid. ester solvents such as butyl, nitrile solvents such as acetonitrile, amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, etc. and halogen-based solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(3c)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (3c). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、0℃以上180℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 0° C. or higher and 180° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水、もしくは適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(2a)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (2a) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(2a)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (2a) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(2a)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (2a) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, or the like with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法X]

Figure 0007118961000105

式中、R1、R2、R6、R7、XおよびYは前記と同義である。[Manufacturing method X]
Figure 0007118961000105

In the formula, R1, R2, R6, R7, X and Y are as defined above.

製造方法Xは、式(2)で表される化合物を得る方法であり、式(1d)で表されると式(12)表される化合物とを、塩基存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 Production method X is a method for obtaining a compound represented by formula (2), and reacting a compound represented by formula (1d) with a compound represented by formula (12) in the presence of a base in a solvent. It is a manufacturing method including

本反応に使用する式(12)で表される化合物は、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。 The compound represented by formula (12) used in this reaction can be obtained as a commercial product or produced by a known method.

本反応に使用する式(12)で表される化合物は、式(1d)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、1当量以上100当量以下である。 The compound represented by formula (12) used in this reaction may be in an amount of 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (1d), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. However, it is usually 1 equivalent or more and 100 equivalents or less.

本反応に使用する塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、4-ジメチルアミノピリジン、コリジン、ルチジン等の有機塩基類が例示されるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。 Bases used in this reaction include inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate and sodium hydride, and organic bases such as triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, collidine and lutidine. are exemplified, but are not particularly limited as long as the desired reaction proceeds.

本反応に使用する塩基は、式(1d)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、1当量以上20当量以下である。 The base used in this reaction may be 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (1d), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but usually 1 equivalent or more. 20 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane, Benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene; ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate; nitrile solvents such as acetonitrile; Examples thereof include halogen-based solvent media. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1d)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (1d). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、-20℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but it is usually from -20°C to 150°C or below the boiling point of the solvent.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(2)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (2) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(2)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 From the reaction mixture containing the compound represented by formula (2) obtained above, the solvent can be distilled off under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(2)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (2) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, or the like with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法Y]

Figure 0007118961000106

式中、R6aはハロゲン原子を表し、R1、R2、R7、XおよびYは前記と同義である。[Manufacturing method Y]
Figure 0007118961000106

In the formula, R6a represents a halogen atom, and R1, R2, R7, X and Y are as defined above.

製造方法Yは、式(2)で表される化合物のうち、式(2c)で表される化合物を得る方法であって、式(2b)で表される化合物とハロゲン化剤とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 Production method Y is a method for obtaining a compound represented by formula (2c) among compounds represented by formula (2), wherein a compound represented by formula (2b) and a halogenating agent are It is a manufacturing method including reacting in.

本反応に使用するハロゲン化剤としては、セレクトロフルオル(N-フルオロ-N’-トリエチレンジアミン ビス(テトラフルオロボラート))、N-クロロスクシンイミド、N-ブロモスクシンイミド、N-ヨードスクシンイミド、1,3-ジクロロ-5,5-ジメチルヒダントイン、1,3-ジブロモ-5,5-ジメチルヒダントイン、1,3-ジヨード-5,5-ジメチルヒダントイン、臭素、ヨウ素等が挙げられる。 Halogenating agents used in this reaction include selectrofluor (N-fluoro-N'-triethylenediamine bis(tetrafluoroborate)), N-chlorosuccinimide, N-bromosuccinimide, N-iodosuccinimide, 1 ,3-dichloro-5,5-dimethylhydantoin, 1,3-dibromo-5,5-dimethylhydantoin, 1,3-diiodo-5,5-dimethylhydantoin, bromine, iodine and the like.

本反応に使用するハロゲン化剤の量は、式(2b)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、1当量以上100当量以下である。ただし、ヒダントインを含むハロゲン化剤の量は、0.5当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはなく、通常、1当量以上5当量以下である。 The amount of the halogenating agent used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (2b), as long as the intended reaction proceeds. It is 1 equivalent or more and 100 equivalents or less. However, the amount of the hydantoin-containing halogenating agent is not particularly limited as long as it is 0.5 equivalents or more as long as the intended reaction proceeds, and is usually 1 equivalent or more and 5 equivalents or less.

本反応に使用するハロゲン化剤がヨウ素化剤である場合、塩酸、硫酸等の無機酸類や、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の有機酸のような酸を加えることができる。 When the halogenating agent used in this reaction is an iodinating agent, an acid such as an inorganic acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid, or an organic acid such as acetic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid or trifluoromethanesulfonic acid may be added. can be done.

本反応に使用するハロゲン化剤がヨウ素化剤である場合に使用する酸の量は、式(2b)で表される化合物に対して0.01当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、0.1当量以上3当量以下である。 When the halogenating agent used in this reaction is an iodinating agent, the amount of the acid used is 0.01 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (2b), so that the intended reaction proceeds. Although it is not particularly limited as long as it is, it is usually 0.1 equivalent or more and 3 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、硫酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の酸性系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. , diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, and other ether solvents; methanol, ethanol, isopropanol, and other alcohol solvents; benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, and other benzene solvents. , ethyl acetate, isopropyl acetate, ester solvents such as butyl acetate, nitrile solvents such as acetonitrile, N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide and other amide solvents, 1,3- Urea-based solvents such as dimethyl-2-imidazolidinone, halogen-based solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride can be used. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(2b)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (2b). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、0℃以上180℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 0° C. or higher and 180° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(2c)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (2c) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(2c)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (2c) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(2c)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (2c) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, or the like with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法Z]

Figure 0007118961000107

式中、R1、R2、R6、Ri、Rj、Rk、XおよびYは前記と同義である。[Manufacturing method Z]
Figure 0007118961000107

In the formula, R1, R2, R6, Ri, Rj, Rk, X and Y are as defined above.

製造方法Zは、式(2)で表される化合物のうち、式(2e)で表される化合物を得る方法であって、式(2d)で表される化合物と含フッ素化合物とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 Production method Z is a method for obtaining a compound represented by formula (2e) among compounds represented by formula (2), wherein a compound represented by formula (2d) and a fluorine-containing compound are It is a manufacturing method including reacting in.

本反応に使用する含フッ素化合物としては、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム等の無機塩や、テトラブチルアンモニウムフルオリド等の有機塩が挙げられる。 Examples of the fluorine-containing compound used in this reaction include inorganic salts such as sodium fluoride, potassium fluoride and cesium fluoride, and organic salts such as tetrabutylammonium fluoride.

本反応に使用する含フッ素化合物の量としては、式(2d)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、1当量以上20当量以下である。 The amount of the fluorine-containing compound used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (2d) as long as the desired reaction proceeds. , 1 equivalent or more and 20 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane, alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropanol; benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene; ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate; nitrile solvents such as acetonitrile; Halogen-based solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride are included. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(2d)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (2d). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、-20℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but it is usually from -20°C to 150°C or below the boiling point of the solvent.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(2e)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (2e) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(2e)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (2e) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(2e)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (2e) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法AA]

Figure 0007118961000108

式中、R4cおよびR5bは、それぞれ独立していて、水素原子またはC1~C6のアルキル基を表し、R1、R2、XおよびYは前記と同義である。[Manufacturing method AA]
Figure 0007118961000108

In the formula, R4c and R5b each independently represent a hydrogen atom or a C1-C6 alkyl group, and R1, R2, X and Y are as defined above.

製造方法AAは、式(2)で表される化合物のうち、式(2f)で表される化合物を得る方法であって、式(1i)で表される化合物を、塩基存在下、ヨウ素および金属ヨウ化物とを溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 Production method AA is a method for obtaining a compound represented by formula (2f) among compounds represented by formula (2), wherein the compound represented by formula (1i) is treated with iodine and It is a manufacturing method including reacting with a metal iodide in a solvent.

本反応に使用する式(1i)で表される化合物は、製造方法Rに記載の方法で調製することができる。 The compound represented by formula (1i) used in this reaction can be prepared by the method described in Production method R.

本反応に使用する塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素セシウムのような無機塩基類やナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウム t-ブトキシド、カリウム t-ブトキシド等の金属アルコキシド類等である。 The base used in this reaction includes inorganic bases such as sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium carbonate, potassium hydrogen carbonate, cesium carbonate, cesium hydrogen carbonate, sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium t-butoxide, potassium t - metal alkoxides such as butoxide;

本反応に使用する塩基の量は、式(1i)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、1当量以上30当量以下である。 The amount of the base used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (1i), as long as the desired reaction proceeds. It is equal to or more and 30 equivalents or less.

本反応に使用するヨウ素の量は、式(1i)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、1当量以上30当量以下である。 The amount of iodine used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (1i), as long as the desired reaction proceeds. It is equal to or more and 30 equivalents or less.

本反応に使用する金属ヨウ化物は、ヨウ化ナトリウムやヨウ化カリウム等が挙げられる。 Examples of metal iodides used in this reaction include sodium iodide and potassium iodide.

本反応に使用する金属ヨウ化物の量は、式(1i)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、1当量以上30当量以下である。 The amount of the metal iodide used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (1i), as long as the target reaction proceeds, but preferably , 1 equivalent or more and 30 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、水溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. Benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, and dichlorobenzene; nitrile solvents such as acetonitrile; amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide, and N,N-dimethylacetamide. Solvents include urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, and halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1i)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by formula (1i). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、0℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 0° C. or higher and 150° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、濾過操作を行うことにより、不溶物を除去することも可能であるが必須ではない。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add Moreover, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield. In addition, although it is possible to remove insoluble matter by performing a filtering operation, it is not essential.

前記で得られた式(2f)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (2f) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(2f)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (2f) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, or the like with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法AB]

Figure 0007118961000109

式中、R6bは水素原子または置換基Eを表し、Ox’’は酸化剤を表し、R1、R2、Rh、XおよびYは前記と同義である。[Manufacturing method AB]
Figure 0007118961000109

In the formula, R6b represents a hydrogen atom or a substituent E, Ox'' represents an oxidizing agent, and R1, R2, Rh, X and Y are as defined above.

製造方法ABは、式(2)で表される化合物のうち、式(2h)で表される化合物を得る方法であって、式(2g)で表される化合物と酸化剤(Ox’’)とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 Production method AB is a method for obtaining a compound represented by formula (2h) among the compounds represented by formula (2), comprising a compound represented by formula (2g) and an oxidizing agent (Ox'') and in a solvent.

本製造方法は、デス・マーチン酸化(Dess-Martin oxidation)、スワーン酸化(Swern oxidation)、パリック・デーリング酸化(Parikh-Doering oxidation)等のような当業者が通常使用する酸化方法で実施することができる。また、該酸化反応は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはない。ここでは、デス・マーチン試薬を溶媒中で使用するデス・マーチン酸化の方法を説明する。 This production method is carried out by an oxidation method commonly used by those skilled in the art such as Dess-Martin oxidation, Swern oxidation, Parikh-Doering oxidation, etc. can be done. Moreover, the oxidation reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds. Here, a method for Dess-Martin oxidation using a Dess-Martin reagent in a solvent is described.

本反応に使用する酸化剤は、デス・マーチン試薬(1,1,1-トリアセトキシ-1,1-ジヒドロ-1,2-ベンズヨードキソール-3(1H)-オン)であり、市販品として入手することができる。 The oxidizing agent used in this reaction is Dess-Martin reagent (1,1,1-triacetoxy-1,1-dihydro-1,2-benziodoxol-3(1H)-one), which is commercially available. can be obtained as

本反応に使用する酸化剤の量は、式(2g)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはなく、通常、1当量以上20当量以下である。 The amount of the oxidizing agent used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (2g), as long as the desired reaction proceeds. 20 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ジメチルスルホキシド等の硫黄系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. mentioned. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(2g)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (2g). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、-10℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually -10° C. or higher and 150° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Solvents that are not compatible with water, such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, and chloroform, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, may be added. It is possible. In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(2h)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (2h) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(2h)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (2h) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(2h)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (2h) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法AC]

Figure 0007118961000110

式中、R1、R2、R6b、XおよびYは前記と同義である。[Manufacturing method AC]
Figure 0007118961000110

In the formula, R1, R2, R6b, X and Y are as defined above.

製造方法ACは、式(2)で表される化合物のうち、式(2j)で表される化合物を得る方法であって、式(2i)で表される化合物とフッ素化剤(FR)とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 Production method AC is a method for obtaining a compound represented by formula (2j) among the compounds represented by formula (2), wherein the compound represented by formula (2i) and a fluorinating agent (FR) are in a solvent.

本反応に使用するフッ素化剤として、(ジエチルアミノ)サルファートリフルオリド、ビス(2-メトキシエチル)アミノサルファートリフルオリド、N,N-ジエチル-1,1,2,3,3,3-ヘキサフルオロプロピルアミン、2,2-ジフルオロ-1,3-ジメチルイミダゾリジン等が挙げられる。 Fluorinating agents used in this reaction include (diethylamino)sulfur trifluoride, bis(2-methoxyethyl)aminosulfur trifluoride, N,N-diethyl-1,1,2,3,3,3-hexafluoropropyl amine, 2,2-difluoro-1,3-dimethylimidazolidine and the like.

本反応に使用するフッ素化剤の量は、式(2i)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、1当量以上10当量以下である。 The amount of the fluorinating agent used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (2i), and is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds. , 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane, Benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene; nitrile solvents such as acetonitrile; halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride; Examples thereof include hydrocarbon solvents. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(2i)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by formula (2i). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、-80℃以上100℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but it is usually -80° C. or higher and 100° C. or lower, or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add Moreover, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(2j)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (2j) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(2j)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (2j) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(2j)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (2j) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法AD]

Figure 0007118961000111

式中、R1、R2、R6b、Rh、Rg、XおよびYは前記と同義である。[Manufacturing method AD]
Figure 0007118961000111

In the formula, R1, R2, R6b, Rh, Rg, X and Y are as defined above.

製造方法ADは、式(2)で表される化合物のうち、式(2k)で表される化合物を得る方法であって、式(2g)で表される化合物とRgONH2とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 Production method AD is a method for obtaining a compound represented by formula (2k) among the compounds represented by formula (2), wherein the compound represented by formula (2g) and RgONH2 are mixed in a solvent. It is a manufacturing method including reacting.

製造方法Pにおける式(10j)で表される化合物およびR5ONH2を、それぞれ式(2g)で表される化合物およびRgONH2に代えて使用することにより、製造方法Pに準じて製造方法ADを実施することができる。 Carrying out production method AD according to production method P by using the compound represented by formula (10j) and R5ONH2 in production method P in place of the compound represented by formula (2g) and RgONH2, respectively. can be done.

[製造方法AE]

Figure 0007118961000112

式中、Rlは水素原子またはC1~C4のアルキル基であり、R1、R2、R6b、XおよびYは前記と同義である。
C1~C4のアルキル基とは、前記したC1~C6のアルキル基のうち、炭素原子数が1~4個のものを表す。[Manufacturing method AE]
Figure 0007118961000112

In the formula, Rl is a hydrogen atom or a C1-C4 alkyl group, and R1, R2, R6b, X and Y are as defined above.
The C1-C4 alkyl group means those having 1-4 carbon atoms among the above-mentioned C1-C6 alkyl groups.

製造方法AEは、式(2)で表られる化合物のうち、式(2m)で表される化合物を得る方法であって、式(2l)で表される化合物とジアゾホスホナート試薬とを、塩基存在下、溶媒中で反応させる製造方法である。 Production method AE is a method for obtaining a compound represented by formula (2m) among compounds represented by formula (2), wherein a compound represented by formula (2l) and a diazophosphonate reagent are reacted with a base It is a production method in which the reaction is carried out in the presence of a solvent.

本反応に使用するジアゾホスホナート試薬として、(1-ジアゾー2-オキシプロピル)ホスホン酸ジメチルや(ジアゾメチル)ホスホン酸ジメチル等が挙げられる。 Examples of the diazophosphonate reagent used in this reaction include dimethyl (1-diazo-2-oxypropyl)phosphonate and dimethyl (diazomethyl)phosphonate.

本反応に使用するジアゾホスホナート試薬の量は、式(2l)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、1当量以上10当量以下である。 The amount of the diazophosphonate reagent used in this reaction may be 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (2l), and is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds. Usually, it is 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.

本反応に使用する塩基は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類やナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウム t-ブトキシド、カリウム t-ブトキシド等の金属アルコキシド類等である。 The base used in this reaction includes inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, sodium hydride, sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium t-butoxide, potassium t- and metal alkoxides such as butoxide.

本反応に使用する塩基の量は、式(2l)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、1当量以上20当量以下である。 The amount of the base used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (2l), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. It is equal to or more and 20 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane, Alcoholic solvents such as methanol, ethanol, isopropanol and the like are included. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(2l)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (2l). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、-20℃以上100℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but it is usually from -20°C to 100°C or below the boiling point of the solvent.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add Moreover, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(2m)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (2m) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(2m)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (2m) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法AF]

Figure 0007118961000113

式中、R6cは、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)を表し、
R7aは、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6アルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基を表し、R1、R2、XおよびYは前記と同義である。[Manufacturing method AF]
Figure 0007118961000113

In the formula, R6c is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 halo an alkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN— (wherein Ra and Rb are as defined above),
R7a is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C, a substituent C optionally represents an optionally substituted C2-C6 alkenyl group, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkynyl group, R1, R2, X and Y are as defined above.

製造方法AFは、式(2)表される化合物のうち、式(2n)で表される化合物を得る方法であって、式(1d)で表される化合物と式(13)で表される化合物とを、塩基存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 Production method AF is a method for obtaining a compound represented by formula (2n) among the compounds represented by formula (2), wherein the compound represented by formula (1d) and the compound represented by formula (13) compound in the presence of a base in a solvent.

本反応に使用する式(13)で表される化合物は、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。 The compound represented by formula (13) used in this reaction can be obtained as a commercial product or produced by a known method.

製造方法Xにおける式(12)で表される化合物を、式(13)で表される化合物に代えて使用することにより、製造方法Xに準じて製造方法AFを実施することができる。 Production method AF can be carried out according to production method X by using the compound represented by formula (12) in production method X instead of the compound represented by formula (13).

[製造方法AG]

Figure 0007118961000114

式中、R1、R2、R6b、Rh、XおよびYは前記と同義である。[Manufacturing method AG]
Figure 0007118961000114

In the formula, R1, R2, R6b, Rh, X and Y are as defined above.

製造方法AGは、式(2)で表される化合物のうち、式(2g)を得る方法であって、式(2h)で表される化合物とヒドリド試薬とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 Production method AG is a method for obtaining formula (2g) among the compounds represented by formula (2), comprising reacting the compound represented by formula (2h) with a hydride reagent in a solvent. It is a manufacturing method including.

本反応に使用するヒドリド試薬として、水素化ホウ素ナトリウム等のホウ素類等が挙げられる。 Examples of hydride reagents used in this reaction include boron compounds such as sodium borohydride.

本反応に使用するヒドリド試薬は、式(2h)で表される化合物に対して、ヒドリド換算で1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、1当量以上40当量以下である。 The hydride reagent used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more in terms of hydride with respect to the compound represented by the formula (2h) as long as the desired reaction proceeds. , 1 equivalent or more and 40 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、水溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. and alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropanol. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(2h)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (2h). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、-20℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but it is usually from -20°C to 150°C or below the boiling point of the solvent.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(2g)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (2g) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(2g)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (2g) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(2g)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (2g) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法AH]

Figure 0007118961000115

式中、RmおよびRnは、それぞれ独立していて、水素原子またはC1~C4のアルキル基(ただし、RmとRnの炭素数の総和は4個以下である。)を表し、R1、R2、R6b、XおよびYは前記と同義である。
C1~C4のアルキル基とは、前記したC1~C6のアルキル基のうち、炭素原子数が1~4個のものを表す。[Manufacturing method AH]
Figure 0007118961000115

In the formula, Rm and Rn each independently represent a hydrogen atom or a C1-C4 alkyl group (where the total number of carbon atoms of Rm and Rn is 4 or less), and R1, R2, R6b , X and Y are as defined above.
The C1-C4 alkyl group means those having 1-4 carbon atoms among the above-mentioned C1-C6 alkyl groups.

製造方法AHは、式(2)で表される化合物のうち、式(2p)で表される化合物を得る方法であって、式(2o)で表される化合物を、酸存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 Production method AH is a method for obtaining a compound represented by formula (2p) among compounds represented by formula (2), wherein a compound represented by formula (2o) is reacted in a solvent in the presence of an acid. It is a manufacturing method including reacting with.

本反応に使用する酸は、塩酸、臭化水素酸、リン酸等の無機酸類や、酢酸、メタンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸類が例示される。目的とする反応が進行する限り特に制限されることはない。 Acids used in this reaction include inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid and phosphoric acid, and organic acids such as acetic acid, methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid and trifluoroacetic acid. There are no particular limitations as long as the intended reaction proceeds.

本反応に使用する酸の量は、触媒量でもよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、式(2o)で表される化合物に対して0.01当量以上である。また、液体状の酸に関しては溶媒として使用することも可能である。 The amount of acid used in this reaction may be a catalytic amount, and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. Equivalent or more. Liquid acids can also be used as solvents.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、水溶媒、酢酸、メタンスルホン酸等の酸性系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. Ether solvents such as butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane, alcohol solvents such as methanol, ethanol, and isopropanol, benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ethyl acetate, isopropyl acetate, and acetic acid. ester solvents such as butyl, nitrile solvents such as acetonitrile, amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, etc. and halogen-based solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(2o)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (2o). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、0℃以上180℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 0° C. or higher and 180° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水、もしくは適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(2p)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (2p) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(2p)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 From the reaction mixture containing the compound represented by formula (2p) obtained above, the solvent can be distilled off under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(2p)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (2p) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法AI]

Figure 0007118961000116

式中、R1、R2、R12、R13、R14、R15、Ri、Rj、Rk、XおよびYは前記と同義である。[Manufacturing method AI]
Figure 0007118961000116

In the formula, R1, R2, R12, R13, R14, R15, Ri, Rj, Rk, X and Y are as defined above.

製造方法AIは、式(4)で表される化合物を得る方法であって、式(1d)で表される化合物と式(14)で表される化合物と含フッ素化合物とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 Production method AI is a method for obtaining a compound represented by formula (4), wherein a compound represented by formula (1d), a compound represented by formula (14), and a fluorine-containing compound are mixed in a solvent. It is a manufacturing method including reacting.

本反応に使用する式(14)で表される化合物は、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。 The compound represented by formula (14) used in this reaction can be obtained as a commercial product or produced by a known method.

本反応に使用する式(14)で表される化合物の量は、式(1d)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、1当量以上30当量以下である。 The amount of the compound represented by formula (14) used in this reaction is particularly limited as long as it is 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (1d), as long as the desired reaction proceeds. However, it is usually 1 equivalent or more and 30 equivalents or less.

本反応に使用する含フッ素化合物としては、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム等の無機塩や、テトラブチルアンモニウムフルオリド等の有機塩が挙げられる。 Examples of the fluorine-containing compound used in this reaction include inorganic salts such as sodium fluoride, potassium fluoride and cesium fluoride, and organic salts such as tetrabutylammonium fluoride.

本反応に使用する含フッ素化合物の量としては、式(1d)で表される化合物に対して2当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、2当量以上30当量以下である。 The amount of the fluorine-containing compound used in this reaction is not particularly limited as long as it is 2 equivalents or more with respect to the compound represented by formula (1d) as long as the desired reaction proceeds. , 2 equivalents or more and 30 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane, Benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene; ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate; nitrile solvents such as acetonitrile; Examples include halogen-based solvents. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1d)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (1d). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、-20℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but it is usually from -20°C to 150°C or below the boiling point of the solvent.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(4)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (4) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(4)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 From the reaction mixture containing the compound represented by formula (4) obtained above, the solvent can be distilled off under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(4)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (4) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, or the like with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法AJ]

Figure 0007118961000117

式中、R3aはハロゲン原子を表し、R3bは置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、C2~C6のハロアルケニルオキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、またはC3~C6のハロアルキニルオキシ基を表し、Y1は、R3で適宜nA置換されてもよいR3aを有するフェニル基、またはR3で適宜nA置換されてもよいR3aを有するピリジル基を表し、Y1がフェニル基の場合、nAは0から4の整数を表し(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)、Y1がピリジル基の場合、nAは0~3の整数(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)を表し、R1、R2、R3、R4、R5、QおよびXは前記と同義である。[Manufacturing method AJ]
Figure 0007118961000117

In the formula, R3a represents a halogen atom, R3b is a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 optionally substituted with a substituent C a cycloalkoxy group, a C2 to C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent C, a C2 to C6 haloalkenyloxy group, a C3 to C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent C, or a C3 to C6 haloalkynyloxy group, Y1 represents a phenyl group having R3a optionally substituted with nA by R3, or a pyridyl group having R3a optionally substituted with nA by R3, and Y1 is In the case of a phenyl group, nA represents an integer of 0 to 4 (however, in the case of disubstituted or more R3, each is independent.), and when Y1 is a pyridyl group, nA is an integer of 0 to 3 (however, In the case of two or more substituted R3, each is independent.), and R1, R2, R3, R4, R5, Q and X are as defined above.

製造方法AJは、式(1)で表される化合物のうち、R3bが、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、C2~C6のハロアルケニルオキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、またはC3~C6のハロアルキニルオキシ基を表し、Y1は、R3で適宜nA置換されてもよいR3aを有するフェニル基、またはR3で適宜nA置換されてもよいR3aを有するピリジル基を表し、Y1がフェニル基の場合、nAは0から4の整数を表し(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)、Y1がピリジル基の場合、nAは0~3の整数(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)を表す式(1j)で表される化合物を得る方法であって、式(1j)で表される化合物とR3b-Qとを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 In production method AJ, among the compounds represented by formula (1), R3b is a C1 to C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C, a C1 to C6 haloalkoxy group, or a substituent C, as appropriate C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted, C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with substituent C, C2-C6 haloalkenyloxy group optionally substituted with substituent C represents a C3-C6 alkynyloxy group or a C3-C6 haloalkynyloxy group, Y1 is a phenyl group having R3a optionally substituted nA with R3, or R3a optionally substituted nA with R3; represents a pyridyl group having, when Y1 is a phenyl group, nA represents an integer of 0 to 4 (however, in the case of disubstituted or more R3, each is independent), when Y1 is a pyridyl group, nA is A method for obtaining a compound represented by the formula (1j) representing an integer of 0 to 3 (provided that each R3 is disubstituted or more is independent), the compound represented by the formula (1j) and R3b-Q in a solvent.

本反応で使用されるR3b-Qは、市販品として入手または公知の方法で製造できる。好ましいQは、水素原子、またはナトリウム、カリウム等のアルカリ金属類である。 R3b-Q used in this reaction is commercially available or can be produced by a known method. Preferred Q is a hydrogen atom or alkali metals such as sodium and potassium.

本反応で使用されるR3b-Qの量は、式(1j)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、1当量以上30当量以下である。また、Qが水素原子を表すときは、溶媒として使用することができる。 The amount of R3b-Q used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (1j), as long as the target reaction proceeds. , 1 equivalent or more and 30 equivalents or less. Moreover, when Q represents a hydrogen atom, it can be used as a solvent.

本反応に使用する塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類が好ましい。また、Qがアルカリ金属類のときは、塩基の使用は、必須ではない。 The base used in this reaction is preferably inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate and sodium hydride. Also, when Q is an alkali metal, the use of a base is not essential.

本反応に使用する塩基の量は、式(1j)で表される化合物に対して1当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、1当量以上30当量以下である。 The amount of the base used in this reaction is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (1j), as long as the desired reaction proceeds. 30 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、R3b-Hで表されるアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but alcoholic solvents represented by R3b-H, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxy Ether solvents such as ethane, tetrahydrofuran and dioxane; Benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene; Ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate; Nitrile solvents such as acetonitrile; Amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide and N,N-dimethylacetamide, urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, dichloromethane, dichloroethane, chloroform, carbon tetrachloride halogen-based solvents such as dimethylsulfoxide, sulfur-based solvents such as sulfolane, ketone-based solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and the like. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1j)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (1j). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、0℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。
反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually 0° C. or higher and 150° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, sodium thiosulfate, sulfurous acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(1k)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1k) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(1k)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (1k) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(1k)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1k) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法AK]

Figure 0007118961000118

式中、R3cはC1~C6のアルコキシ基を表し、R1、R2、R3、R4、R5、nA、XおよびY1は前記と同義である。[Manufacturing method AK]
Figure 0007118961000118

In the formula, R3c represents a C1-C6 alkoxy group, and R1, R2, R3, R4, R5, nA, X and Y1 are as defined above.

製造方法Zは、式(1)で表される化合物のうち、水酸基を有する式(1m)で表される化合物を得る方法であって、式(1l)で表される化合物と酸とを反応させることによって得ることを含む製造方法である。 The production method Z is a method for obtaining a compound represented by the formula (1m) having a hydroxyl group among the compounds represented by the formula (1) by reacting the compound represented by the formula (1l) with an acid. It is a manufacturing method comprising obtaining by causing

本反応に使用する酸として、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素等のハロゲン化ホウ素類等が挙げられる。 Examples of the acid used in this reaction include boron halides such as boron trichloride and boron tribromide.

本反応に使用する酸の量は、式(1l)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、1当量以上10当量以下である。 The amount of acid used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (1l), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. It is equal to or more and 10 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. , dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1l)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (1l). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、-80℃以上100℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but it is usually -80° C. or higher and 100° C. or lower, or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(1m)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1m) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(1m)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (1m) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(1m)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1m) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with a suitable solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法AL]

Figure 0007118961000119

式中、R3dは、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C3~C6のハロアルキニル基、またはRdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)を表し、R1、R2、R3、R4、R5、nA、Lv、XおよびY1は前記と同義である。[Manufacturing method AL]
Figure 0007118961000119

In the formula, R3d is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C, a substituent a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with C, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C, a C3-C6 haloalkynyl group, or RdC (=O)-(wherein Rd is as defined above), and R1, R2, R3, R4, R5, nA, Lv, X and Y1 are as defined above.

製造方法ALは、式(1)で表される化合物のうち、R3dが置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C3~C6のハロアルキニル基、またはRdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)である式(1n)で表される化合物を得る方法であって、式(1m)で表される化合物とR3d-Lvとを、塩基存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 In production method AL, among the compounds represented by formula (1), R3d is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group optionally substituted with a substituent C, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 optionally substituted with a substituent C A method for obtaining a compound represented by formula (1n) which is an alkynyl group, a C3-C6 haloalkynyl group, or RdC(=O)- (wherein Rd is as defined above), A production method comprising reacting a compound represented by formula (1m) with R3d-Lv in the presence of a base in a solvent.

本反応に使用するR3d-Lvは、市販品として入手または公知の方法で製造できる。 R3d-Lv used in this reaction is commercially available or can be produced by a known method.

本反応に使用するR3d-Lvは、式(1m)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、1当量以上10当量以下である。 R3d-Lv used in this reaction may be 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (1m), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. It is equal to or more and 10 equivalents or less.

本反応に使用する塩基として、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類や、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、4-ジメチルアミノピリジン、コリジン、ルチジン等の有機塩基類が例示されるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。 Examples of bases used in this reaction include inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate and sodium hydride, and organic bases such as triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, collidine and lutidine. are exemplified, but are not particularly limited as long as the intended reaction proceeds.

本反応に使用する塩基は、式(1m)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、1当量以上10当量以下である。 The base used in this reaction may be 1 equivalent or more relative to the compound represented by the formula (1m), and is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but usually 1 equivalent or more. 10 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane, alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropanol; benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene; ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate; nitrile solvents such as acetonitrile; Amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide and N,N-dimethylacetamide, urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, dichloromethane, dichloroethane, chloroform, carbon tetrachloride halogen-based solvents such as dimethylsulfoxide, sulfur-based solvents such as sulfolane, ketone-based solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and the like. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1m)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (1m). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、-20℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but it is usually from -20°C to 150°C or below the boiling point of the solvent.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(1n)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1n) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(1n)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (1n) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(1n)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (1n) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography and the like with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法AM]

Figure 0007118961000120

式中、R3eは置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、またはC2~C6のハロアルケニル基を表し、R3e-Bは有機ボロン酸類を表し、R1、R2、R3、R3a、R4、R5、nA、XおよびY1は前記と同義である。[Manufacturing method AM]
Figure 0007118961000120

In the formula, R3e is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C, a substituent C represents a C2-C6 alkenyl group or a C2-C6 haloalkenyl group optionally substituted with, R3e-B represents organic boronic acids, R1, R2, R3, R3a, R4, R5, nA, X and Y1 are as defined above.

製造方法AMは、式(1)で表される化合物のうち、R3eが置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、またはC2~C6のハロアルケニル基である式(1o)で表される化合物を得る方法であって、式(1j)で表される化合物と有機ボロン酸類(R3e-B)とを遷移金属類および塩基の存在下で反応させる鈴木-宮浦カップリングによって得ることを含む製造方法である。 In the production method AM, among the compounds represented by the formula (1), R3e is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group optionally substituted with a substituent C, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C, or a C2-C6 haloalkenyl group. A production method comprising obtaining by Suzuki-Miyaura coupling in which the compound represented by formula (1j) and organic boronic acids (R3e-B) are reacted in the presence of transition metals and a base.

式(1j)中、好ましいR3aは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。 In formula (1j), preferred R3a is a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.

本反応に使用するR3e-Bは、有機ボロン酸や有機ボロン酸エステル等の有機ボロン酸類を表し、市販品として入手または公知の方法で製造できる。 R3e-B used in this reaction represents an organic boronic acid such as an organic boronic acid or an organic boronate ester, and can be obtained as a commercially available product or produced by a known method.

製造方法Jにおける式(10b)で表される化合物とR2d-Bとを、それぞれ式(1j)で表される化合物とR3e-Bに代えて使用することにより、製造方法Jに準じて製造方法AMを実施することができる。 A production method according to production method J by using the compound represented by formula (10b) and R2d-B in production method J in place of the compound represented by formula (1j) and R3e-B, respectively AM can be performed.

[製造方法AN]

Figure 0007118961000121

式中、R3fは置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、またはC2~C6のハロアルキニル基を表し、R1、R2、R3、R3a、R4、R5、nA、XおよびY1は前記と同義である。[Manufacturing method AN]
Figure 0007118961000121

In the formula, R3f represents a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C or a C2-C6 haloalkynyl group, and R1, R2, R3, R3a, R4, R5, nA, X and Y1 has the same meaning as above.

製造方法ANは、式(1)で表される化合物のうち、R3fが置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、またはC2~C6のハロアルキニル基である式(1p)で表される化合物を得る方法であって、(1j)で表される化合物と末端アルキン化合物とを遷移金属類および塩基の存在下で反応させる薗頭カップリングによって得ることを含む製造方法である。 In the production method AN, among the compounds represented by the formula (1), R3f is a C2-C6 alkynyl group or a C2-C6 haloalkynyl group optionally substituted with a substituent C, the formula (1p) A method for obtaining a compound represented by (1j) by Sonogashira coupling in which the compound represented by (1j) is reacted with a terminal alkyne compound in the presence of a transition metal and a base. .

式(1j)中、好ましいR3aは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。 In formula (1j), preferred R3a is a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.

本反応に使用する末端アルキン化合物は、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。また、末端アルキン化合物として、トリメチルシリルアセチレンも使用することができる。 The terminal alkyne compound used in this reaction can be obtained as a commercial product or produced by a known method. Trimethylsilylacetylene can also be used as the terminal alkyne compound.

製造方法Kにおける式(10b)で表される化合物を、式(1j)で表される化合物に代えて使用することにより、製造方法Kに準じて製造方法ANを実施することができる。 Production method AN can be carried out according to production method K by using the compound represented by formula (10b) in production method K instead of the compound represented by formula (1j).

[製造方法AO]

Figure 0007118961000122

式中、R7bは、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基を表し、R1、R2、XおよびYは前記と同義である。[Manufacturing method AO]
Figure 0007118961000122

In the formula, R7b represents a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, and R1, R2, X and Y are as defined above.

製造方法AOは、式(2q)で表される化合物を得る方法であり、式(1d)で表されると式(15)表される化合物とを、塩基存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 The production method AO is a method for obtaining a compound represented by the formula (2q), in which the compound represented by the formula (1d) is reacted with the compound represented by the formula (15) in the presence of a base in a solvent. It is a manufacturing method including

本反応に使用する式(15)で表される化合物は、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。 The compound represented by formula (15) used in this reaction can be obtained as a commercial product or produced by a known method.

本反応に使用する式(15)で表される化合物は、式(1d)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、1当量以上20当量以下である。 The compound represented by formula (15) used in this reaction may be in an amount of 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (1d), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. However, it is usually 1 equivalent or more and 20 equivalents or less.

本反応に使用する塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、4-ジメチルアミノピリジン、コリジン、ルチジン等の有機塩基類が例示されるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。 Bases used in this reaction include inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate and sodium hydride, and organic bases such as triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, collidine and lutidine. are exemplified, but are not particularly limited as long as the desired reaction proceeds.

本反応に使用する塩基は、式(1d)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、1当量以上20当量以下である。 The base used in this reaction may be 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (1d), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but usually 1 equivalent or more. 20 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, and dioxane, Benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene; ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate; nitrile solvents such as acetonitrile; Examples thereof include halogen-based solvent media. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1d)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (1d). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、-20℃以上150℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but it is usually from -20°C to 150°C or below the boiling point of the solvent.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(2q)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (2q) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(2q)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (2q) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(2q)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (2q) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法AP]

Figure 0007118961000123

式中、R1、R2、R16、R17、R18、R19、R20、R21、Lv、XおよびYは前記と同義である。[Manufacturing method AP]
Figure 0007118961000123

In the formula, R1, R2, R16, R17, R18, R19, R20, R21, Lv, X and Y are as defined above.

製造方法APは、式(5)で表される化合物を得る方法であり、式(1c)で表される化合物を、塩基存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。 Production method AP is a method for obtaining a compound represented by formula (5), and is a production method including reacting a compound represented by formula (1c) in the presence of a base in a solvent.

式(1c)で表される化合物は、製造方法R等を参照に入手することができる。 The compound represented by formula (1c) can be obtained by referring to production method R and the like.

本反応に使用する塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類が例示されるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。 The base used in this reaction is exemplified by inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, and sodium hydride, but is not particularly limited as long as the target reaction proceeds.

本反応に使用する塩基は、式(1c)で表される化合物に対して1当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、1当量以上20当量以下である。 The base used in this reaction may be 1 equivalent or more relative to the compound represented by formula (1c), and is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. 20 equivalents or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ターシャリブタノール等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のウレア系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but alcohol solvents such as tertiary butanol, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, Ether solvents such as tetrahydrofuran and dioxane; Benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene; Nitrile solvents such as acetonitrile; Examples thereof include amide solvents such as dimethylacetamide and urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(1c)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by formula (1c). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、0℃以上180℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 0° C. or higher and 180° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride, etc. dissolved, alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, thiosulfuric acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(5)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (5) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(5)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 From the reaction mixture containing the compound represented by formula (5) obtained above, the solvent can be distilled off under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(5)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (5) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

[製造方法AQ]

Figure 0007118961000124

式中、LaはSを表し、LbはSOまたはSOを表し、Ox’’’は酸化剤を表す。[Manufacturing method AQ]
Figure 0007118961000124

In the formula, La represents S, Lb represents SO or SO2, and Ox''' represents an oxidizing agent.

製造方法AQは、式(1)で表される化合物中、R1、R2、R3、R4およびR5に含まれるLbがSOまたはSOである式(Lb)で表される化合物を得る方法であって、式(1)で表される化合物中、R1、R2、R3、R4およびR5に含まれるLaがSである式(La)で表される化合物と酸化剤(Ox’’’)とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。Production method AQ is a method for obtaining a compound represented by formula (Lb), wherein Lb contained in R1, R2 , R3, R4 and R5 in the compound represented by formula (1) is SO or SO2. A compound represented by the formula (La) in which La contained in R1, R2, R3, R4 and R5 in the compound represented by the formula (1) is S, and an oxidizing agent (Ox''') , a manufacturing method including reacting in a solvent.

本反応に使用する酸化剤は、過酸化水素水、メタ-クロロ過安息香酸等の過酸化物類等が挙げられる。また、タングステン酸ナトリウムのような遷移金属類を添加することもできる。 Examples of the oxidizing agent used in this reaction include aqueous hydrogen peroxide and peroxides such as meta-chloroperbenzoic acid. Transition metals such as sodium tungstate can also be added.

本反応に使用する酸化剤の量は、SOを製造する際には式(La)で表される化合物に対して、通常、1.0当量以上1.2当量以下であり、SOを製造する際には、通常、2当量以上10当量以下である。また、遷移金属類を添加する際には、通常、0.001当量以上1当量以下である。The amount of the oxidizing agent used in this reaction is usually 1.0 equivalent or more and 1.2 equivalent or less with respect to the compound represented by the formula (La) when producing SO. When carrying out, it is usually 2 equivalents or more and 10 equivalents or less. Moreover, when adding transition metals, it is usually 0.001 equivalent or more and 1 equivalent or less.

本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、水溶媒、酢酸等の酸性系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds. Examples include benzene-based solvents, nitrile-based solvents such as acetonitrile, and halogen-based solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride. These solvents can be used singly or as a mixture of two or more at any ratio.

本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式(La)で表される化合物に対して3重量倍以上200重量倍以下である。 The amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times the weight of the compound represented by the formula (La). be.

本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、-10℃以上120℃以下または溶媒の沸点以下である。 The temperature for carrying out this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but it is usually -10° C. or higher and 120° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.

反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、2種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。 As a post-treatment of the reaction, a liquid separation operation can be performed by adding water or a suitable aqueous solution to the reaction mixture. When using an aqueous solution, an acidic aqueous solution with hydrochloric acid, sulfuric acid, etc. dissolved, an alkaline aqueous solution with potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, etc. dissolved, sodium thiosulfate, sulfurous acid An aqueous solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium is dissolved, a saline solution, or the like can be arbitrarily used. During the liquid separation operation, if necessary, benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl- Ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane, which are incompatible with water. It is possible to add In addition, these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed at any ratio. The number of liquid separations is not particularly limited, and can be carried out according to the desired purity and yield.

前記で得られた式(Lb)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (Lb) obtained above can be dehydrated with a drying agent such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but this is not essential.

前記で得られた式(Lb)で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。 The solvent can be distilled off from the reaction mixture containing the compound represented by formula (Lb) obtained above under reduced pressure as long as the compound does not decompose.

溶媒留去後に得られた式(Lb)で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。 The reaction mixture containing the compound represented by formula (Lb) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, or the like with an appropriate solvent. It may be appropriately set according to the desired purity.

以上に示した、製造方法A~製造方法AQを任意に組み合わせて、式(1)で表される化合物を製造することができる。もしくは、公知の方法と製造方法A~製造方法AQ任意に組み合わせても、式(1)で表される化合物を製造することができる。 The compound represented by the formula (1) can be produced by any combination of the production methods A to AQ shown above. Alternatively, the compound represented by formula (1) can be produced by any combination of known methods and production methods A to AQ.

本発明化合物は、植物に対して有害な生物を防除できるために、農薬、特に農園芸用有害生物防除剤として使用することができる。具体的には、殺菌剤、殺虫剤、除草剤、植物成長調整剤等が挙げられる。好ましくは、殺菌剤である。 Since the compound of the present invention can control organisms harmful to plants, it can be used as an agricultural chemical, especially an agricultural and horticultural pest control agent. Specific examples include fungicides, insecticides, herbicides, plant growth regulators and the like. Preferably, it is a disinfectant.

本発明化合物は、植物病害の防除のために、畑地、水田、茶園、果樹園、牧草地、芝生、森林、庭園、街路樹等で農園芸用殺菌剤として使用することができる。 The compound of the present invention can be used as an agricultural and horticultural fungicide in upland fields, paddy fields, tea gardens, orchards, pastures, lawns, forests, gardens, roadside trees, etc. for controlling plant diseases.

本発明でいう植物病害とは、農作物、花き、花木、樹木等の植物に萎ちょう、立枯れ、黄化、萎縮、徒長等の全身的な異常な病的症状、または斑点、葉枯れ、モザイク、葉巻、枝枯れ、根腐れ、根こぶ、こぶ等の部分的な病的症状が惹起されることである。即ち、植物が病気になることである。植物病害を引き起こす病原体として、主に、菌類、細菌、スピロプラズマ、ファイトプラズマ、ウイルス、ウイロイド、寄生性高等植物、線虫等が挙げられる。本発明化合物は菌類に有効であるが、これに限定されるものではない。 The term "plant disease" as used in the present invention refers to systemic abnormal pathological symptoms such as wilting, damping, yellowing, atrophy, and elongation in plants such as crops, flowers, flowering trees, and trees, or spots, leaf blight, and mosaic disease. , cigars, withered branches, root rot, root knots, galls, and other partial pathological symptoms are induced. That is, plants become sick. Pathogens that cause plant diseases mainly include fungi, bacteria, spiroplasma, phytoplasma, viruses, viroids, parasitic higher plants, and nematodes. Although the compounds of the present invention are effective against fungi, they are not so limited.

菌類によって引き起こされる病害は、主に菌類病である。菌類病を引き起こす菌類(病原体)として、ネコブカビ菌類、卵菌類、接合菌類、子のう菌類、担子菌類および不完全菌類等が挙げられる。例えば、ネコブカビ菌類として、根こぶ病菌、ジャカイモ粉状そうか病菌、テンサイそう根病菌、卵菌類として疫病菌、べと病菌、Pythium属菌、Aphanomyces属菌、接合菌類としてRhizopus属菌、子のう菌類としてモモ縮葉病菌、トウモロコシごま葉枯病菌、イネいもち病菌、うどんこ病菌、炭そ病菌、赤かび病菌、ばか苗病菌、菌核病菌、担子菌類としてさび病菌類、黒穂病菌類、紫紋羽病菌、もち病菌、紋枯病菌、不完全菌類として灰色かび病菌、Alternaria属菌、Fusarium属菌、Penicillium属菌、Rhizoctonia属菌、白絹病菌等が挙げられる。 Diseases caused by fungi are primarily fungal diseases. Fungi (pathogens) that cause fungal diseases include Necromycota, Oomycetes, Zygomycetes, Ascomycetes, Basidiomycetes, Deuteromycota, and the like. For example, clubroot fungi include clubroot fungi, potato powdery scab fungi, sugar beet root fungi, oomycetes such as phytophthora, downy mildew, Pythium spp. and Aphanomyces spp. Peach leaf curl fungus, corn sesame leaf blight, rice blast fungus, powdery mildew, anthracnose, Fusarium head blight, bakanae fungus, sclerotinia, basidiomycete rust fungi, smut fungi, and purpura Examples of feather fungi, blast fungi, sheath blight fungi, and imperfect fungi include botrytis, Alternaria, Fusarium, Penicillium, Rhizoctonia, and white silk.

本発明化合物は、各種の植物病害に対して有効である。以下に、病害名およびその病原菌名の具体例を示す。
イネのいもち病(Magnaporthe grisea)、紋枯病(Thanatephorus cucumeris)、褐色菌核病(Ceratobasidium setariae)、褐色小粒菌核病(Waitea circinata)、褐色紋枯病(Thanatephorus cucumeris)、球状菌核病(Sclerotium hydrophilum)、赤色菌核病(Wairea circinata)、黒しゅ病(Entyloma dactylidis)、小球菌核病(Magnaporthe salvinii)、灰色菌核病(Ceratobasidium cornigerum)、ごま葉枯病(Cochliobolus miyabeanus)、条葉枯病(Sphaerulina oryzina)、ばか苗病(Gibberella fujikuroi)、苗立枯病(Pythium spp.、Fusarium spp.、Trichoderma spp.、Rhizopus spp.、Rhizoctonia solani、Mucor sp.、Phoma sp.)、苗腐病(Pythium spp.、Achlya spp.、Dictyuchus spp.)、稲こうじ病(Claviceps virens)、墨黒穂病(Tilletia barclayana)、褐色米(Curvularia spp.、Alternaria spp.)、黄化萎縮病(Sclerophthora macrospora)、白葉枯病(Xanthomonas oryzae pv. oryzae)、褐条病(Acidovorax avenae subsp. avenae)、内頴褐変病(Erwinia ananas)、苗立枯細菌病(Burkholderia plantarii)、もみ枯細菌病(Burkholderia glumae)、葉鞘褐変病(Pseudomonas fuscovaginae)、かさ枯病(Pseudomonas syringae pv.oryzae)、株腐病(Erwinia chrysanthemi)、黄萎病(Phytoplasma oryzae)、縞葉枯病(Rice stripe tenuivirus)、萎縮病(Rice dwarf reovirus);
ムギ類のうどんこ病(Blumeria graminis f.sp.hordei; f.sp.tritici)、さび病(Puccinia striiformis、 Puccinia graminis、Puccinia recondita、Puccinia hordei)、斑葉病(Pyrenophora graminea)、網斑病(Pyrenophora teres)、赤かび病(Gibberella zeae、Fusarium culmorum、Fusarium avenaceum、Monographella nivalis)、雪腐病(Typhula incarnata、Typhula ishikariensis、Monographella nivalis)、裸黒穂病(Ustilago nuda)、なまぐさ黒穂病(Tilletia caries、Tilletia controversa)、眼紋病(Pseudocercosporella herpotrichoides)、株腐病(Ceratobasidium gramineum)、雲形病(Rhynchosporium secalis)、葉枯病(Septoria tritici)、ふ枯病(Phaeosphaeria nodorum)、苗立枯病(Fusarium spp.、Pythium spp.、Rhizoctonia spp.、Septoria spp.、Pyrenophora spp.)、立枯病(Gaeumannomyces graminis)、炭疽病(Colletotrichum graminicola)、麦角病(Claviceps purpurea)、斑点病(Cochliobolus sativus)、黒節病(Pseudomonas syringae pv. syringae);
トウモロコシの赤かび病(Gibberella zeae等)、苗立枯病(Fusarium avenaceum、 Penicillium spp、 Pythium spp.、Rhizoctonia spp.)、さび病(Puccinia sorghi)、ごま葉枯病(Cochliobolus heterostrophus)、黒穂病(Ustilago maydis)、炭疽病(Colletotrichum graminicola)、北方斑点病(Cochliobolus carbonum)、褐条病(Acidovorax avenae subsp. avenae)、条斑細菌病(Burkholderia andropogonis)、倒伏細菌病(Erwinia chrysanthemi pv. zeae)、萎ちょう細菌病(Erwinia stewartii);ブドウのべと病(Plasmopara viticola)、さび病(Physopella ampelopsidis)、うどんこ病(Uncinula necator)、黒とう病(Elsinoe ampelina)、晩腐病(Glomerella cingulata、 Colletotrichum acutatum)、黒腐病(Guignardia bidwellii)、つる割病(Phomopsis viticola)、すす点病(Zygophiala jamaicensis)、灰色かび病(Botrytis cinerea)、芽枯病(Diaporthe medusaea)、紫紋羽病(Helicobasidium mompa)、白紋羽病(Rosellinia necatrix)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium vitis);リンゴのうどんこ病(Podosphaera leucotricha)、黒星病(Venturia inaequalis)、斑点落葉病(Alternaria mali)、赤星病(Gymnosporangium yamadae)、モニリア病(Monilinia mali)、腐らん病(Valsa ceratosperma)、輪紋病(Botryosphaeria berengeriana)、炭疽病(Colletotrichum acutatum、Glomerella cingulata)、すす点病(Zygophiala jamaicensis)、すす斑病(Gloeodes pomigena)、黒点病(Mycosphaerella pomi)、紫紋羽病(Helicobasidium mompa)、白紋羽病(Rosellinia necatrix)、胴枯病(Phomopsis mali、Diaporthe tanakae)、褐斑病(Diplocarpon mali)、リンゴの火傷病(Erwinia amylovora)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens)、毛根病(Agrobacterium rhizogenes);
ナシの黒斑病(Alternaria kikuchiana)、黒星病(Venturia nashicola)、赤星病(Gymnosporangium asiaticum)、輪紋病(Botryosphaeria berengeriana f.sp. piricola)、胴枯病(Phomopsis fukushii)、枝枯細菌病(Erwinia sp.)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens)、さび色胴枯病(Erwinia chrysanthemi pv. chrysanthemi)、花腐細菌病(Pseudomonas syringae pv. syringae);セイヨウナシの疫病(Phytophthora cactorum、 Phytophthora syringae)、枝枯細菌病(Erwinia sp.);モモの黒星病(Cladosporium carpophilum)、ホモプシス腐敗病(Phomopsis sp.)、疫病(Phytophthora sp.)、炭疽病(Colletotrichum gloeosporioides)、縮葉病(Taphrina deformans)、穿孔細菌病(Xhanthomonas campestris pv. pruni)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens);オウトウの炭疽病(Glomerella cingulata)、幼果菌核病(Monilinia kusanoi)、灰星病(Monilinia fructicola)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens)、樹脂細菌病(Pseudomonas syringae pv. syringae);カキの炭疽病(Glomerella cingulata)、落葉病(Cercospora kaki; Mycosphaerella nawae)、うどんこ病(Phyllactinia kakikora)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens);カンキツの黒点病(Diaporthe citri)、緑かび病(Penicillium digitatum)、青かび病(Penicillium italicum)、そうか病(Elsinoe fawcettii)、褐色腐敗病(Phytophthora citrophthora)、かいよう病(Xhanthomonas campestris pv. citri)、褐斑細菌病(Pseudomonas syringae pv. syringae)、グリーニング病(Liberibactor asiaticus)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens);
トマト、キュウリ、豆類、イチゴ、ジャガイモ、キャベツ、ナス、レタス等の灰色かび病(Botrytis cinerea);トマト、キュウリ、豆類、イチゴ、ジャガイモ、ナタネ、キャベツ、ナス、レタス等の菌核病(Sclerotinia sclerotiorum);トマト、キュウリ、豆類、ダイコン、スイカ、ナス、ナタネ、ピーマン、ホウレンソウ、テンサイ等各種野菜の苗立枯病(Rhizoctonia spp.、Pythium spp.、Fusarium spp.、Phythophthora spp.、Sclerotinia sclerotiorum等);ナス科植物の青枯病(Ralstonia solanacearum);ウリ類のべと病(Pseudoperonospora cubensis)、うどんこ病(Sphaerotheca fuliginea)、炭疽病(Colletotrichum orbiculare)、つる枯病(Didymella bryoniae)、つる割病(Fusarium oxysporum)、疫病(Phytophthora parasitica、Phytophthora melonis、Phytophthora nicotianae、Phytophthora drechsleri、Phytophthora capsici等)、褐斑細菌病(Xhanthomonas campestris pv.cucurbitae)、軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、斑点細菌病(Pseudomonas syringae pv. lachrymans)、縁枯細菌病(Pseudomonas marginalis pv. marginalis)、がんしゅ病(Streptomyces sp.)、毛根病(Agrobacterium rhizogenes)、キュウリモザイクウィルス(Cucumber mosaic virus);
トマトの輪紋病(Alternaria solani)、葉かび病(Fulvia fulva)、疫病(Phytophthora infestans)、萎凋病(Fusarium oxysporum)、根腐病(Pythium myriotylum、Pythium dissotocum)、炭疽病(Colletotrichum gloeosporioides)、かいよう病(Clavibacter michiganensis)、茎えそ細菌病(Pseudomonas corrugata)、黒斑細菌病(Pseudomonas viridiflava)、軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、葉こぶ病(Crynebacterium sp.)、萎黄病(Phytoplasma asteris)、黄化萎縮病(Tobacco leaf curl subgroup III geminivirus);ナスのうどんこ病(Sphaerotheca fuliginea等)、すすかび病(Mycovellosiella nattrassii)、疫病(Phytophthora infestans)、褐色腐敗病(Phytophthora capsici)、褐斑細菌病(Pseudomonas cichorii)、茎えそ細菌病(Pseudomonas corrugata)、茎腐細菌病(Erwinia chrysanthemi)、軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、斑点細菌病(Pseudomonas sp.);ナタネの黒斑病(Alternaria brassicae)、黒腐病(Xhanthomonas campestris pv. campestris)、黒斑細菌病(Pseudomonas syringae pv. maculicola)、軟腐病(Erwinia carotovora);アブラナ科野菜の黒斑病(Alternaria brassicae等)、白斑病(Cercosporella brassicae)、根朽病(Phoma lingam)、根こぶ病(Plasmodiophora brassicae)、べと病(Peronospora parasitica)、黒腐病(Xhanthomonas campestris pv. campestris)、黒斑細菌病(Pseudomonas syringae pv. maculicola)、軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora);
キャベツの株腐病(Thanatephorus cucumeris)、萎黄病(Fusarium oxysporum)、黒すす病(Alternaria brassisicola);ハクサイの尻腐病(Rhizoctonia solani)、黄化病(Verticillium dahliae);ネギのさび病(Puccinia allii)、黒斑病(Alternaria porri)、白絹病(Sclerotium rolfsii)、白色疫病(Phytophthora porri)、黒腐菌核病(Sclerotium cepivorum);タマネギのかいよう病(Curtobacterium flaccumfaciens)、軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、斑点細菌病(Pseudomonas syringae pv. syringae)、腐敗病(Erwinia rhapontici)、鱗片腐敗病(Burkholderia gladioli)、萎黄病(Phytoplasma asteris);ニンニクの軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、春腐病(Pseudomonas marginalis pv.marginalis);ダイズの紫斑病(Cercospora kikuchii)、黒とう病(Elsinoe glycines)、黒点病(Diaporthe phaseolorum)、リゾクトニア根腐病(Rhizoctonia solani)、茎疫病(Phytophthora sojae)、べと病(Peronospora manshurica)、さび病(Phakopsora pachyrhizi)、炭疽病(Colletotrichum truncatum等)、葉焼病(Xhanthomonas campestris pv. glycines)、斑点細菌病(Pseudomonas syringae pv. glycinea);インゲンの炭疽病(Colletotrichum lindemuthianum)、青枯病(Ralstonia solanacearum)、かさ枯病(Pseudomonas syringae pv. phaseolicola)、褐斑細菌病(Pseudomonas viridiflava)、葉焼病(Xhanthomonas campestris pv. phaseoli);
ラッカセイの黒渋病(Mycosphaerella berkeleyi)、褐斑病(Mycosphaerella arachidis)、青枯病(Ralstonia solanacearum);エンドウのうどんこ病(Erysiphe pisi)、べと病(Peronospora pisi)、つる枯細菌病(Pseudomonas syringae pv.pisi)、つる腐細菌病(Xhanthomonas campestris pv. pisi;ソラマメのべと病(Peronospora viciae)、疫病(Phytophthora nicotianae);ジャガイモの夏疫病(Alternaria solani)、黒あざ病(Thanatephorus cucumeris)、疫病(Phytophthora infestans)、銀か病(Helminthosporium solani)、乾腐病(Fusarium oxysporum、Fusarium solani)、粉状そうか病(Spongospora subterranea)、青枯病(Ralstonia solanacearum)、黒あし病(Erwinia carotovora subsp. atroseptica)、そうか病(Streptomyces scabies、Streptomyces acidiscabies)、軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、粘性腐敗病(Crostridium spp.)、輪腐病(Clavibacter michiganensis subsp.sepedonicus);サツマイモの立枯病(Streptomyces ipomoeae);テンサイの褐斑病(Cercospora beticola)、べと病(Peronospora schachtii)、黒根病(Aphanomyces cochioides)、蛇の目病(Phoma betae)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens)、そうか病(Streptomyces scabies)、斑点細菌病(Pseudomonas syringae pv. aptata);
ニンジンの黒葉枯病(Alternaria dauci)、こぶ病(Rhizobacter dauci)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens)、ストレプトミセスそうか病(Streptomyces spp.)、軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora);イチゴのうどんこ病(Sphaerotheca aphanis var. aphanis)、疫病(Phytophthora nicotianae等)、炭疽病(Glomerella cingulata等)、果実腐敗病(Pythium ultimum)、青枯病(Ralstonia solanacearum)、角斑細菌病(Xhanthomonas campestris)、芽枯細菌病(Pseudomonas marginalis pv. marginalis);チャの網もち病(Exobasidium reticulatum)、白星病(Elsinoe leucospila)、炭疽病(Colletotrichum theae-sinensis)、輪斑病(Pestalotiopsis longiseta)、赤焼病(Pseudomonas syringae pv.theae)、かいよう病(Xhanthomonas campestris pv. theicola)、てんぐ巣病(Pseudomonas sp.);タバコの赤星病(Alternaria alternata)、うどんこ病(Erysiphe cichoracearum)、炭疽病(Colletotrichum gloeosporioides)、疫病(Phytophthora nicotianae)、野火病(Pseudomonas syringae pv.tabaci)、黄がさ細菌病(Pseudomonas syringae pv.mellea)、空洞病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、立枯病(Ralstonia solanacearum)、タバコモザイクウィルス(Tobacco mosaic virus);
コーヒーのさび病(Hemileia vastatrix);バナナの黒シガトガ病(Mycosphaerella fijiensis)、パナマ病(Fusarium oxysporum f.sp cubense);ワタの立枯病(Fusarium oxysporum)、白かび病(Ramularia areola);ヒマワリの菌核病(Sclerotinia sclerotiorum)、角点病(Xhanthomonas campestris pv.malvacearum)、空洞病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、斑点細菌病(Pseudomonas syringae pv.helianthi);バラの黒星病(Diplocarpon rosae)、うどんこ病(Sphaerotheca pannosa等)、疫病(Phytophthora megasperma)、べと病(Peronospora sparsa)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens);キクの褐斑病(Septoria obesa)、白さび病(Puccinia horiana)、疫病(Phytophthora cactorum)、斑点細菌病(Pseudomonas cichorii)、軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens)、毛根病(Agrobacterium rhizogenes)、緑化病(Phytoplasma aurantifolia);芝のブラウンパッチ病(Rhizoctonia solani)、ダラースポット病(Sclerotinia homoeocarpa)、カーブラリア葉枯病(Curvularia sp.)、さび病 (Puccinia zoysiae)、ヘルミントスポリウム葉枯病(Cochliobolus sp.)、雲形病(Rhynchosporium secalis)、立枯病(Gaeumannomyces graminis)、炭疽病(Colletotrichum sp.)、雪腐褐色小粒菌核病(Typhula incarnata)、雪腐黒色小粒菌核病(Typhula ishikariensis)、雪腐大粒菌核病(Myriosclerotinia borealis)、フェアリーリング病(Marasmius oreades等)、ピシウム病(Pythium aphanidermatum等)、いもち病(Pyricularia grisea)等が挙げられる。
The compounds of the present invention are effective against various plant diseases. Specific examples of disease names and pathogen names are shown below.
Rice blast (Magnaporthe grisea), sheath blight (Thanatephorus cucumeris), brown sclerotia (Ceratobasidium setariae), brown sclerotia (Waitea circinata), brown wilt (Thanatephorus cucumeris), sclerotidosis ( Sclerotium hydrophilum, Wairea circinata, Entyloma dactylidis, Magnaporthe salvinii, Ceratobasidium cornigerum, Cochiliobolus leaf blight Sphaerulina oryzina, Gibberella fujikuroi, Pythium spp., Fusarium spp., Trichoderma spp., Rhizopus spp., Rhizoctonia solani, Mucorsph. disease (Pythium spp., Achlya spp., Dictyuchus spp.), rice malt (Claviceps virens), ink smut (Tilletia barclayana), brown rice (Curvularia spp., Alternaria spp.), yellow dwarf disease (Sclerophthorap) ), bacterial blight (Xanthomonas oryzae pv. oryzae), brown streak (Acidovorax avenae subsp. ), Pseudomonas fuscovaginae, Pseudomonas syringae pv.oryzae, Erwinia chrysanthemi, Phytoplasma oryzae, Rice stripe tenuivirus Rice dwarf reovirus);
Wheat powdery mildew (Blumeria graminis f.sp.hordei; f.sp.tritici), rust (Puccinia striiformis, Puccinia graminis, Puccinia recondita, Puccinia hordei), leaf spot (Pyrenophora gramine), leaf spot (Pyrenophora gramine) Pyrenophora teres)、赤かび病(Gibberella zeae、Fusarium culmorum、Fusarium avenaceum、Monographella nivalis)、雪腐病(Typhula incarnata、Typhula ishikariensis、Monographella nivalis)、裸黒穂病(Ustilago nuda)、なまぐさ黒穂病(Tilletia caries、 Tilletia controversa)、眼紋病(Pseudocercosporella herpotrichoides)、株腐病(Ceratobasidium gramineum)、雲形病(Rhynchosporium secalis)、葉枯病(Septoria tritici)、ふ枯病(Phaeosphaeria nodorum)、苗立枯病(Fusarium spp .、Pythium spp.、Rhizoctonia spp.、Septoria spp.、Pyrenophora spp.)、立枯病(Gaeumannomyces graminis)、炭疽病(Colletotrichum graminicola)、麦角病(Claviceps purpurea)、斑点病(Cochliobolus sativus)、黒節diseases (Pseudomonas syringae pv. syringae);
Fusarium head blight of corn (Gibberella zeae, etc.), seedling blight (Fusarium avenaceum, Penicillium spp, Pythium spp., Rhizoctonia spp.), rust (Puccinia sorghi), leaf blight (Cochliobolus heterostrophus), smut (cochliobolus heterostrophus) Ustilago maydis)、炭疽病(Colletotrichum graminicola)、北方斑点病(Cochliobolus carbonum)、褐条病(Acidovorax avenae subsp. avenae)、条斑細菌病(Burkholderia andropogonis)、倒伏細菌病(Erwinia chrysanthemi pv. zeae)、 Bacterial wilt disease (Erwinia stewartii); Grape downy mildew (Plasmopara viticola), Rust (Physopella ampelopsidis), Powdery mildew (Uncinula necator), Black rot (Elsinoe ampelina), Late rot (Glomerella cingulata, Glomerella cingulata, acutatum), Guignardia bidwellii, Phomopsis viticola, Zygophiala jamaicensis, Botrytis cinerea, Diaporthememia medusaea, Heliupicobasae ), Rosellinia necatrix, Agrobacterium vitis; Podosphaera leucotricha of apples, Venturia inaequalis, Alternaria mali, Red star ( Gymnosporangium yamadae), Monilinia mali, rot (Valsa ceratosperma), ring blight (Botryosphaeria berengeriana), anthracnose (Colletotrichum acutatum, Glomerella cingulata) amaicensis), soot spot (Gloeodes pomigena), black spot (Mycosphaerella pomi), purple spot (Helicobasidium moma), white spot (Rosellinia necatrix), body blight (Phomopsis mali, Diaporthe tanak) (Diplocarpon mali), apple burn (Erwinia amylovora), root canker (Agrobacterium tumefaciens), hairy root disease (Agrobacterium rhizogenes);
Alternaria kikuchiana, Venturia nashicola, Gymnosporangium asiaticum, Botryosphaeria bengeriana f.sp. Erwinia sp.)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens)、さび色胴枯病(Erwinia chrysanthemi pv. chrysanthemi)、花腐細菌病(Pseudomonas syringae pv. syringae);セイヨウナシの疫病(Phytophthora cactorum、 Phytophthora syringae, bacterial shoot blight (Erwinia sp.); peach scab (Cladosporium carpophilum), Phomopsis sp., phytophthora sp. deformans), perforating bacterial disease (Xhanthomonas campestris pv. pruni), root canker disease (Agrobacterium tumefaciens); )、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens)、樹脂細菌病(Pseudomonas syringae pv. syringae);カキの炭疽病(Glomerella cingulata)、落葉病(Cercospora kaki; Mycosphaerella nawae)、うどんこ病(Phyllactinia kakikora) , Agrobacterium tumefaciens; Diaporthe citri, Penicillium digitatum, Penicillium italicum, Elsinoe fawcettii, Phytoph hora citrophthora), canker (Xhanthomonas campestris pv. citri), Pseudomonas syringae pv. syringae, Liberibacter asiaticus, Agrobacterium tumefaciens;
Botrytis cinerea of tomatoes, cucumbers, beans, strawberries, potatoes, cabbage, eggplants, lettuce, etc.; ); Seedling blight of various vegetables such as tomato, cucumber, beans, radish, watermelon, eggplant, rapeseed, green pepper, spinach, sugar beet (Rhizoctonia spp., Pythium spp., Fusarium spp., Phythophthora spp., Sclerotinia sclerotiorum, etc.) Solanaceous plant wilt (Ralstonia solanacearum); downy mildew of cucurbits (Pseudoperonospora cubensis), powdery mildew (Sphaerotheca fuliginea), anthracnose (Colletotrichum orbiculare), vine wilt (Didymella bryoni) (Fusarium oxysporum)、疫病(Phytophthora parasitica、Phytophthora melonis、Phytophthora nicotianae、Phytophthora drechsleri、Phytophthora capsici等)、褐斑細菌病(Xhanthomonas campestris pv.cucurbitae)、軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、斑点細菌病( Pseudomonas syringae pv. lachrymans, Pseudomonas marginalis pv. marginalis, Streptomyces sp., Agrobacterium rhizogenes, Cucumber mosaic virus;
トマトの輪紋病(Alternaria solani)、葉かび病(Fulvia fulva)、疫病(Phytophthora infestans)、萎凋病(Fusarium oxysporum)、根腐病(Pythium myriotylum、Pythium dissotocum)、炭疽病(Colletotrichum gloeosporioides)、かいよう病(Clavibacter michiganensis)、茎えそ細菌病(Pseudomonas corrugata)、黒斑細菌病(Pseudomonas viridiflava)、軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、葉こぶ病(Crynebacterium sp.)、萎黄病(Phytoplasma asteris) , yellow dwarf disease (Tobacco leaf curl subgroup III geminivirus); eggplant powdery mildew (Sphaerotheca fuliginea, etc.), soot blight (Mycovellosiella nattrassii), late blight (Phytophthora infestans), brown rot (Phytophthora infestans), brown rot (Phytophthora infestans) Pseudomonas cichorii, Pseudomonas corrugata, Erwinia chrysanthemi, Erwinia carotovora subsp. carotovora, Pseudomonas sp. Alternaria brassicae), Black rot (Xhanthomonas campestris pv. campestris), Pseudomonas syringae pv. maculicola, Soft rot (Erwinia carotovora); Cruciferous vegetable black spot (Alternaria brasica, etc.) Cercosporella brassicae), root rot (Phoma lingam), clubroot (Plasmodiophora brassicae), downy mildew (Peronospora parasitica), black rot (Xhanthomonas campestris pv. campestris), Pseudomonas syringae pv. maculicola), soft rot (Erwinia carotovora subsp. carotovora);
Cabbage stock rot (Thanatephorus cucumeris), chlorosis (Fusarium oxysporum), black soot (Alternaria brassicola); Chinese cabbage bottom rot (Rhizoctonia solani), yellow spot (Verticillium dahliae); ), Alternaria porri, Sclerotium rolfsii, Phytophthora porri, Sclerotium cepivorum; . carotovora)、斑点細菌病(Pseudomonas syringae pv. syringae)、腐敗病(Erwinia rhapontici)、鱗片腐敗病(Burkholderia gladioli)、萎黄病(Phytoplasma asteris);ニンニクの軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、春Pseudomonas marginalis pv. marginalis; soybean purpura (Cercospora kikuchii), Elsinoe glycines, Diaporthe phaselorum, Rhizoctonia solani, Stem rot (Ph.べと病(Peronospora manshurica)、さび病(Phakopsora pachyrhizi)、炭疽病(Colletotrichum truncatum等)、葉焼病(Xhanthomonas campestris pv. glycines)、斑点細菌病(Pseudomonas syringae pv. glycinea);インゲンの炭疽病( Colletotrichum lindemuthianum), bacterial wilt (Ralstonia solanacearum), lint wilt (Pseudomonas syringae pv. phaseolicola), brown spot bacterial disease (Pseudomonas viridiflava) ), leaf scorch (Xhanthomonas campestris pv. phaseoli);
Peanut black stain (Mycosphaerella berkeleyi), brown spot (Mycosphaerella arachidis), bacterial wilt (Ralstonia solanacearum); syringae pv. pisi), vine rot (Xhanthomonas campestris pv. pisi); broad bean downy mildew (Peronospora viciae), late blight (Phytophthora nicotianae);疫病(Phytophthora infestans)、銀か病(Helminthosporium solani)、乾腐病(Fusarium oxysporum、Fusarium solani)、粉状そうか病(Spongospora subterranea)、青枯病(Ralstonia solanacearum)、黒あし病(Erwinia carotovora subsp . atroseptica)、そうか病(Streptomyces scabies、Streptomyces acidiscabies)、軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、粘性腐敗病(Crostridium spp.)、輪腐病(Clavibacter michiganensis subsp.sepedonicus);サツマイモの立枯病Cercospora beticola, Peronospora schachtii, Aphanomyces cochioides, Phoma betae, Agrobacterium tumefaciens, disease (Streptomyces scabies), bacterial spot (Pseudomonas syringae pv. aptata);
Alternaria dauci of carrots, Rhizobacter dauci, Agrobacterium tumefaciens, Streptomyces spp., Erwinia carotovora subsp. Strawberry powdery mildew (Sphaerotheca aphanis var. aphanis), late blight (Phytophthora nicotianae, etc.), anthracnose (Glomerella cingulata, etc.), fruit rot (Pythium ultimum), bacterial wilt (Ralstonia solanacearum), horn spot bacteria campestris, Pseudomonas marginalis pv. marginalis; Exobasidium reticulatum, Elsinoe leucospira, Colletotrichum theae-sinensis, Pestisalo Pseudomonas syringae pv. theae, Xhanthomonas campestris pv. theicola, Pseudomonas sp.; gloeosporioides)、疫病(Phytophthora nicotianae)、野火病(Pseudomonas syringae pv.tabaci)、黄がさ細菌病(Pseudomonas syringae pv.mellea)、空洞病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、立枯病(Ralstonia solanacearum)、 Tobacco mosaic virus;
coffee rust (Hemileia vastatrix); banana black sigatoga (Mycosphaerella fijiensis), Panama disease (Fusarium oxysporum f.sp cubense); cotton wilt (Fusarium oxysporum), white mold (Ramularia; sunflower)菌核病(Sclerotinia sclerotiorum)、角点病(Xhanthomonas campestris pv.malvacearum)、空洞病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、斑点細菌病(Pseudomonas syringae pv.helianthi);バラの黒星病(Diplocarpon rosae)、うどんThis disease (Sphaerotheca pannosa, etc.), Late blight (Phytophthora megasperma), Downy mildew (Peronospora sparsa), Agrobacterium tumefaciens; 、疫病(Phytophthora cactorum)、斑点細菌病(Pseudomonas cichorii)、軟腐病(Erwinia carotovora subsp. carotovora)、根頭がんしゅ病(Agrobacterium tumefaciens)、毛根病(Agrobacterium rhizogenes)、緑化病(Phytoplasma aurantifolia); Lawn brown patch (Rhizoctonia solani), Dollar spot (Sclerotinia homoeocarpa), Curvularia sp., Rust (Puccinia zoysiae), Helmintosporium leaf blight (Cochliobolus sp.), cloud form (Rhynchosporium secalis), wilt disease (Gaeumannomyces graminis), anthracnose (Colletotrichum sp.), snow rot brown small sclerotinia (Typula incarnata), snow rot black small sclerotinia (Typhula ishikariensis), snow rot large sclerotia disease (Myrioscl erotinia borealis), fairy ring disease (Marasmius oreades etc.), pythium disease (Pythium aphanidermatum etc.), blast disease (Pyricularia grisea) and the like.

本発明化合物は、本化合物単体で使用してもよいが、好ましくは、固体担体、液体担体、気体担体、界面活性剤、固着剤、分散剤、安定剤等と混合し、粉剤、水和剤、顆粒水和剤、水溶剤、顆粒水溶剤、粒剤、乳剤、液剤、マイクロエマルション剤、水性懸濁製剤、水性乳濁製剤、サスポエマルション製剤等の組成物として使用することができる。効果が発揮される限りにおいて、それらの組成物に限定されることはない。 The compound of the present invention may be used alone, but is preferably mixed with a solid carrier, liquid carrier, gaseous carrier, surfactant, sticking agent, dispersant, stabilizer, etc., and used as a powder or wettable powder. , wettable powders, aqueous solutions, aqueous granules, granules, emulsions, liquids, microemulsions, aqueous suspensions, aqueous emulsions, suspoemulsions and the like. As long as the effect is exhibited, it is not limited to those compositions.

以下に具体的な製剤化例を示すが、これらに限定されるものではない。 Specific formulation examples are shown below, but are not limited to these.

[製剤例1 フロアブル剤]
本発明化合物(10質量部)、ナフタレンスルホン酸のホルムアルデヒド縮合物ナトリウム塩(5質量部)、ポリオキシエチレンアリールフェニルエーテル(1質量部)、プロピレングリコール(5質量部)、シリコン系消泡剤(0.1質量部)、キサンタンガム(0.2質量部)、イオン交換水(78.7質量部)を混合してスラリーとなし、さらにダイノミルKDLで直径1.0mmのガラスビーズを用いて湿式粉砕しフロアブル剤を得る。
[Formulation Example 1 Flowable agent]
Compound of the present invention (10 parts by mass), formaldehyde condensate sodium salt of naphthalenesulfonic acid (5 parts by mass), polyoxyethylene arylphenyl ether (1 part by mass), propylene glycol (5 parts by mass), silicone antifoaming agent ( 0.1 parts by mass), xanthan gum (0.2 parts by mass), and ion-exchanged water (78.7 parts by mass) were mixed to form a slurry, which was further wet-ground using glass beads with a diameter of 1.0 mm in a Dynomill KDL. and obtain a flowable agent.

[製剤例2 乳剤]
本発明化合物(5質量部)をキシレン(40質量部)とシクロヘキサン(35質量部)の混合溶液に溶解し、この溶液にTween20(20質量部)を添加混合し、乳剤を得る。
[Formulation Example 2 Emulsion]
The compound of the present invention (5 parts by mass) is dissolved in a mixed solution of xylene (40 parts by mass) and cyclohexane (35 parts by mass), and Tween 20 (20 parts by mass) is added and mixed to obtain an emulsion.

[製剤例3 水和剤]
本発明化合物(10質量部)、ホワイトカーボン(10質量部)、ポリビニルアルコール(2質量部)、ジオクチルスルホコハク酸ナトリウム塩(0.5質量部)、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩(5質量部)、焼成珪藻土(10質量部)およびカオリナイトクレー(62.5質量部)を充分に混合し、エアーミルで粉砕し、水和剤を得る。
[Formulation Example 3 wettable powder]
Compound of the present invention (10 parts by mass), white carbon (10 parts by mass), polyvinyl alcohol (2 parts by mass), sodium dioctylsulfosuccinate (0.5 parts by mass), sodium alkylbenzenesulfonate (5 parts by mass), baking Diatomaceous earth (10 parts by mass) and kaolinite clay (62.5 parts by mass) are thoroughly mixed and pulverized with an air mill to obtain a wettable powder.

以下、本発明化合物を含有する組成物(農園芸用有害生物防除剤、農園芸用殺菌剤)の施用について説明する。 Application of a composition (agricultural and horticultural pest control agent, agricultural and horticultural fungicide) containing the compound of the present invention is described below.

本発明化合物を含有する組成物の施用方法としては、植物体もしくは種子と接触させる方法、または、栽培土壌に含有させて、植物の根もしくは地下茎に接触させる方法が挙げられる。具体例として、組成物の植物個体への茎葉散布処理、注入処理、苗箱処理、セルトレー処理、植物種子への吹き付け処理、植物種子への塗沫処理、植物種子への浸漬処理、植物種子への粉衣処理、土壌表面への散布処理、土壌表面への散布処理後の土壌混和、土壌中への注入処理、土壌中での注入処理後の土壌混和、土壌潅注処理、土壌潅注処理後の土壌混和等が挙げられる。通常、当業者が利用するようないかなる施用方法を用いても十分な効力を発揮する。 A method of applying the composition containing the compound of the present invention includes a method of contacting with plants or seeds, or a method of including in cultivation soil and contacting roots or rhizomes of plants. Specific examples include foliage spraying treatment, injection treatment, seedling box treatment, cell tray treatment, spraying treatment on plant seeds, smearing treatment on plant seeds, immersion treatment on plant seeds, and plant seeds. Dressing treatment, spraying treatment on the soil surface, soil mixing after spraying on the soil surface, injection treatment into the soil, soil mixing after injection treatment in the soil, soil irrigation treatment, after soil irrigation treatment Soil admixture and the like are included. Generally, any method of application as utilized by those skilled in the art will suffice.

本発明でいう「植物」とは、光合成をして運動せずに生活するものをいう。具体例として、稲、小麦、大麦、トウモロコシ、コーヒー、バナナ、ブドウ、リンゴ、ナシ、モモ、オウトウ、カキ、カンキツ、大豆、インゲン、ワタ、イチゴ、ジャガイモ、キャベツ、レタス、トマト、キュウリ、ナス、スイカ、テンサイ、ホウレンソウ、サヤエンドウ、カボチャ、サトウキビ、タバコ、ピーマン、サツマイモ、サトイモ、コンニャク、綿、ヒマワリ、バラ、チューリップ、キク、芝等およびそれらのF1品種等が挙げられる。また、遺伝子等を人工的に操作することにより生み出され、元来自然界に存在するものではない遺伝子組み換え作物も含み、例えば、除草剤耐性を付与した大豆、トウモロコシ、綿等、寒冷地適応したイネ、タバコ等、殺虫物質生産能を付与したトウモロコシ、綿等の農園芸作物等が挙げられる。さらに、マツ、トネリコ、イチョウ、カエデ、カシ、ポプラ、ケヤキ等の樹木等が挙げられる。また、本発明でいう「植物体」とは、前記の植物個体を構成する全ての部位を総称するものであり、例えば、茎、葉、根、種子、花、果実等が挙げられる。 The term "plant" as used in the present invention refers to a plant that performs photosynthesis and lives without movement. Specific examples include rice, wheat, barley, corn, coffee, banana, grape, apple, pear, peach, cherry, oyster, citrus, soybean, green bean, cotton, strawberry, potato, cabbage, lettuce, tomato, cucumber, eggplant, Watermelons, sugar beets, spinach, snow peas, pumpkins, sugarcane, tobacco, green peppers, sweet potatoes, taro, konnyaku, cotton, sunflowers, roses, tulips, chrysanthemums, grass, etc., and their F1 varieties. It also includes genetically modified crops that are produced by artificially manipulating genes and do not originally exist in nature. , tobacco, etc., corn imparted with insecticidal substance-producing ability, and agricultural and horticultural crops such as cotton. Furthermore, trees such as pine, ash, ginkgo, maple, oak, poplar, and zelkova are included. In addition, the term "plant body" as used in the present invention is a general term for all parts constituting the above-described individual plant, and examples thereof include stems, leaves, roots, seeds, flowers, fruits, and the like.

本発明でいう「種子」とは、幼植物が発芽するための栄養分を蓄え、農業上繁殖に用いられるものをいう。具体例として、トウモロコシ、大豆、綿、稲、テンサイ、小麦、大麦、ヒマワリ、トマト、キュウリ、ナス、ホウレンソウ、サヤエンドウ、カボチャ、サトウキビ、タバコ、ピーマン、セイヨウアブラナ等の種子、それらのF1品種等の種子、サトイモ、ジャガイモ、サツマイモ、コンニャク等の種芋、食用ゆり、チューリップ等の球根、ラッキョウ等の種球、および遺伝子組み換え作物の種子ならびに塊茎等が挙げられる。 The term "seed" as used in the present invention refers to a material that stores nutrients for seedling germination and is used for agricultural propagation. Specific examples include seeds such as corn, soybeans, cotton, rice, sugar beets, wheat, barley, sunflowers, tomatoes, cucumbers, eggplants, spinach, snow peas, pumpkins, sugarcane, tobacco, green peppers, and rapeseed, and their F1 varieties. Examples include seeds, seed potatoes such as taro, potato, sweet potato, and konnyaku, bulbs such as edible lilies and tulips, seed bulbs such as scallions, and seeds and tubers of genetically modified crops.

本発明化合物を含有する組成物の施用量および施用濃度は、対象作物、対象病害、病害の発生程度、化合物の剤型、施用方法および各種環境条件等によって変動するが、散布または潅注する場合には、有効成分量としてヘクタール当たり0.1~10,000gが適当であり、好ましくは、ヘクタール当り10~1,000gである。また、種子処理の場合の使用量は、有効成分量として種子1kg当たり0.0001~1000gであり、好ましくは、0.001~100gである。本発明化合物を含有する組成物を植物個体への茎葉散布処理、土壌表面への散布処理、土壌中への注入処理または土壌潅注処理として使用する場合は、適当な担体に適当な濃度で希釈した後、処理を行ってもよい。本発明化合物を含有する組成物を植物種子に接触させる場合は、適当な濃度に希釈した後、植物種子に浸漬、粉衣、吹き付けまたは塗沫処理して用いてもよい。浸漬、粉衣、吹き付けまたは塗沫処理する場合の組成物使用量は、通常、有効成分量として、乾燥植物種子重量の0.05~50%程度であり、好ましくは、0.1~30%が適当であるが、組成物の形態や処理対象となる植物種子の種類により適宜設定すればよく、これら範囲に限定されるものではない。 The application amount and application concentration of the composition containing the compound of the present invention vary depending on the target crop, target disease, degree of disease occurrence, formulation of the compound, application method and various environmental conditions. is suitably 0.1 to 10,000 g per hectare, preferably 10 to 1,000 g per hectare as the amount of active ingredient. The amount of the active ingredient used for seed treatment is 0.0001 to 1000 g, preferably 0.001 to 100 g, per 1 kg of seed. When the composition containing the compound of the present invention is used for foliar spraying treatment for individual plants, spraying treatment for soil surface, injection treatment into soil or soil irrigation treatment, it is diluted to an appropriate concentration in an appropriate carrier. Processing may be performed later. When the composition containing the compound of the present invention is brought into contact with plant seeds, the plant seeds may be dipped, powdered, sprayed or smeared after being diluted to an appropriate concentration. The amount of the composition used for immersion, dressing, spraying or smearing is usually about 0.05 to 50%, preferably 0.1 to 30%, of the weight of the dry plant seed in terms of the amount of active ingredient. However, it may be appropriately set depending on the form of the composition and the type of plant seed to be treated, and is not limited to these ranges.

本発明化合物は、必要に応じて他の農薬、例えば、殺菌剤、殺虫剤(殺ダニ剤および殺線虫剤を含む)、除草剤、微生物資材等および植物成長調節剤等の農薬、核酸を有効成分とする病害防除剤(国際公開第2014/062775号)、土壌改良剤または肥効物質等と混合して使用することができる。本発明化合物と他の農薬を混合して使用する方法としては、本発明化合物と他の農薬とを一つの剤型に製剤化して使用する方法、それぞれが別々の剤型に製剤化された両者を使用前に混合して使用する方法、それぞれが別々の剤型に製剤化された両者を同時に使用する方法、または、それぞれが別々の剤型に製剤化された両者について、いずれか一方を使用した後に他方を使用する方法が挙げられる。 The compound of the present invention may optionally be used with other pesticides such as fungicides, insecticides (including acaricides and nematicides), herbicides, microbial agents, and plant growth regulators. It can be used by mixing with a disease control agent (International Publication No. 2014/062775), a soil conditioner, a fertilizing substance, or the like as an active ingredient. The method of using the compound of the present invention and other pesticides in combination includes the method of formulating the compound of the present invention and other pesticides into one dosage form and using them, and the method of formulating the compounds of the present invention and other pesticides into separate dosage forms. method of mixing before use, method of using both formulated in separate dosage forms at the same time, or both formulated in separate dosage forms, use either one and then use the other.

本発明化合物と混合して使用することができる殺菌剤に含まれる具体的な成分は、以下の群bで例示され、これらの塩、異性体およびN-オキシド体を含む。ただし、公知の殺菌剤はこれらに限定されるものではない。 Specific ingredients contained in the fungicide that can be mixed and used with the compound of the present invention are exemplified in Group b below, including salts, isomers and N-oxides thereof. However, known disinfectants are not limited to these.

群b:
b-1:フェニルアミド系殺菌剤
フェニルアミド系殺菌剤として、[b-1.1]:ベナラキシル(benalaxyl)、[b-1.2]ベナラキシルMまたはキララキシル(benalaxyl-Mまたはkiralaxyl)、[b-1.3]フララキシル(furalaxyl)、[b-1.4]メタラキシル(metalaxyl)、[b-1.5]メタラキシルMまたはメフェノキサム(metalaxyl-Mまたはmefenoxam)、[b-1.6]オキサジキシル(oxadixyl)、[b-1.7]オフラセ(ofurace)等が挙げられる。
Group b:
b-1: Phenylamide fungicide Phenylamide fungicides include [b-1.1]: benalaxyl, [b-1.2] benalaxyl-M or kiralaxyl, [b -1.3] furalaxyl, [b-1.4] metalaxyl, [b-1.5] metalaxyl-M or mefenoxam, [b-1.6] oxadixyl ( oxadoxyl), [b-1.7] ofurace, and the like.

b-2:有糸核分裂および細胞分裂阻害剤
有糸核分裂および細胞分裂阻害剤として、[b-2.1]ベノミル(benomyl)、[b-2.2]カルベンダジム(carbendazim)、[b-2.3]フベリダゾール(fuberidazole)、[b-2.4]チアベンダゾール(thiabendazole)、[b-2.5]チオファネート(thiophanate)、[b-2.6]チオファネートメチル(thiophanate-methyl)、[b-2.7]ジエトフェンカルブ(diethofencarb)、[b-2,8]ゾキサミド(zoxamide)、[b-2.9]エタボキサム(ethaboxam)、[b-2.10]ペンシクロン(pencycuron)、[b-2.11]フルオピコリド(fluopicolide)、[b-2.12]フェナマクリル(phenamacril)等が挙げられる。
b-2: Mitotic and Cytotic Inhibitors As mitotic and cytostatic inhibitors, [b-2.1] benomyl, [b-2.2] carbendazim, [b- 2.3] fuberidazole, [b-2.4] thiabendazole, [b-2.5] thiophanate, [b-2.6] thiophanate-methyl, [b- 2.7] diethofencarb, [b-2,8] zoxamide, [b-2.9] ethaboxam, [b-2.10] pencycuron, [b-2. 11] fluopicolide, [b-2.12] phenamacril and the like.

b-3:コハク酸脱水素酵素阻害剤(SDHI剤)
コハク酸脱水素酵素阻害剤(SDHI剤)として、[b-3.1]ベノダニル(benodanil)、[b-3.2]ベンゾビンジフルピル(benzovindiflupyr)、[b-3.3]ビキサフェン(bixafen)、[b-3.4]ボスカリド(boscalid)、[b-3.5]カルボキシン(carboxin)、[b-3.6]フェンフラム(fenfuram)、[b-3.7]フルオピラム(fluopyram)、[b-3.8]フルトラニル(flutolanil)、[b-3.9]フルキサピロキサド(fluxapyroxad)、[b-3.10]フラメトピル(furametpyr)、[b-3.11]イソフェタミド(isofetamid)、[b-3.12]イソピラザム(isopyrazam)、[b-3.13]メプロニル(mepronil)、[b-3.14]オキシカルボキシン(oxycarboxin)、[b-3.15]ペンチオピラド(penthiopyrad)、[b-3.16]ペンフルフェン(penflufen)、[b-3.17]ピジフルメトフェン(pydiflumetofen)、[b-3.18]セダキサン(sedaxane)、[b-3.19]チフルザミド(thifluzamide)、[b-3.20]ピラジフルミド(pyraziflumid)等が挙げられる。
b-3: succinate dehydrogenase inhibitor (SDHI agent)
As succinate dehydrogenase inhibitors (SDHI agents), [b-3.1] benodanil, [b-3.2] benzovindiflupyr, [b-3.3] bixafen ), [b-3.4] boscalid, [b-3.5] carboxin, [b-3.6] fenfuram, [b-3.7] fluopyram , [b-3.8] flutolanil, [b-3.9] fluxapyroxad, [b-3.10] furametpyr, [b-3.11] isofetamide ), [b-3.12] isopyrazam, [b-3.13] mepronil, [b-3.14] oxycarboxin, [b-3.15] penthiopyrad ), [b-3.16] penflufen, [b-3.17] pydiflumetofen, [b-3.18] sedaxane, [b-3.19] thifluzamide ( thifluzamide), [b-3.20]pyraziflumid and the like.

b-4:キノン外部阻害剤(QoI剤)
キノン外部阻害剤(QoI剤)として、[b-4.1]アゾキシストロビン(azoxystrobin)、[b-4.2]クモキシストロビン(coumoxystrobin)、[b-4.3]ジモキシストロビン(dimoxystrobin)、[b-4.4]エノキサストロビン(enoxastrobin)、[b-4.5]ファモキサドン(famoxadone)、[b-4.6]フェンアミドン(fenamidone)、[b-4.7]フェナミンストロビン(fenaminstrobin)、[b-4.8]フルフェノキシストロビン(flufenoxystrobin)、[b-4.9]フルオキサストロビン(fluoxastrobin)、[b-4.10]クレソキシムメチル(kresoxim-methyl)、[b-4.11]マンデストロビン(mandestrobin)、[b-4.12]メトミノストロビン(metominostrobin)、[b-4.13]オリサストロビン(orysastrobin)、[b-4.14]ピコキシストロビン(picoxystrobin)、[b-4.15]ピラクロストロビン(pyraclostrobin)、[b-4.16]ピラメトストロビン(pyrametostrobin)、[b-4.17]ピラオキシストロビン(pyraoxystrobin)、[b-4.18]ピリベンカルブ(pyribencarb)、[b-4.19]トリクロピリカルブ(triclopyricarb)、[b-4.20]トリフロキシストロビン(trifloxystrobin)等が挙げられる。
b-4: quinone external inhibitor (QoI agent)
As quinone external inhibitors (QoI agents), [b-4.1] azoxystrobin, [b-4.2] coumoxystrobin, [b-4.3] dimoxist dimoxystrobin, [b-4.4] enoxastrobin, [b-4.5] famoxadone, [b-4.6] fenamidone, [b-4.7 ] fenaminestrobin, [b-4.8] flufenoxystrobin, [b-4.9] fluoxastrobin, [b-4.10] kresoxim-methyl ), [b-4.11] mandestrobin, [b-4.12] metominostrobin, [b-4.13] orysastrobin, [b-4.14] pico xystrobin, [b-4.15] pyraclostrobin, [b-4.16] pyrametostrobin, [b-4.17] pyroxystrobin, [b-4.18] pyribencarb, [b-4.19] triclopyricarb, [b-4.20] trifloxystrobin and the like.

b-5:キノン内部阻害剤(QiI剤)
キノン内部阻害剤(QiI剤)として、[b-5.1]シアゾファミド(cyazofamid)、[b-5.2]アミスルブロム(amisulbrom)等が挙げられる。
b-5: quinone internal inhibitor (QiI agent)
Examples of quinone internal inhibitors (QiI agents) include [b-5.1] cyazofamid, [b-5.2] amisulbrom and the like.

b-6:酸化的リン酸化脱共役阻害剤
酸化的リン酸化脱共役阻害剤として、[b-6.1]ビナパクリル(binapacryl)、[b-6.2]メプチルジノカップ(meptyldinocap)、[b-6.3]ジノカップ(dinocap)、[b-6.4]フルアジナム(fluazinam)等が挙げられる。
b-6: Oxidative phosphorylation uncoupling inhibitor As oxidative phosphorylation uncoupling inhibitors, [b-6.1] binapacryl, [b-6.2] meptyldinocap, [ b-6.3] dinocap, [b-6.4] fluazinam and the like.

b-7:キノン外部スチグマテリン結合サブサイト阻害剤(QoSI剤)
キノン外部スチグマテリン結合サブサイト阻害剤(QoSI剤)として、[b-7.1]アメトクトラジン(ametoctradin)等が挙げられる。
b-7: Quinone extrinsic stigmatelin-binding subsite inhibitor (QoSI agent)
Quinone extrinsic stigmatelin binding subsite inhibitors (QoSI agents) include [b-7.1]ametoctradin and the like.

b-8:アミノ酸生合成阻害剤
アミノ酸生合成阻害剤として、[b-8.1]シプロジニル(cyprodinil)、[b-8.2]メパニピリム(mepanipyrim)、[b-8.3]ピリメタニル(pyrimethanil)等が挙げられる。
b-8: amino acid biosynthesis inhibitors As amino acid biosynthesis inhibitors, [b-8.1] cyprodinil, [b-8.2] mepanipyrim, [b-8.3] pyrimethanil ) and the like.

b-9:タンパク質生合成阻害剤
タンパク質生合成阻害剤として、[b-9.1]ストレプトマイシン(streptomycin)、[b-9.2]ブラストサイジンS(blasticidin-S)、[b-9.3]カスガマイシン(kasugamycin)、[b-9.4]オキシテトラサイクリン(oxytetracycline)等が挙げられる。
b-9: Protein biosynthesis inhibitors As protein biosynthesis inhibitors, [b-9.1] streptomycin, [b-9.2] blasticidin-S, [b-9. 3] kasugamycin, [b-9.4] oxytetracycline and the like.

b-10:シグナル伝達阻害剤
シグナル伝達阻害剤として、[b-10.1]フェンピクロニル(fenpiclonil)、[b-10.2]フルジオキソニル(fludioxonil)、[b-10.3]キノキシフェン(quinoxyfen)、[b-10.4]プロキナジド(proquinazid)、[b-10.5]クロゾリネート(chlozolinate)、[b-10.6]ジメタクロン(dimethachlone)、[b-10.7]イプロジオン(iprodione)、[b-10.8]プロシミドン(procymidone)、[b-10.9]ビンクロゾリン(vinclozolin)等が挙げられる。
b-10: Signal transduction inhibitor Signal transduction inhibitors include [b-10.1] fenpiclonil, [b-10.2] fludioxonil, [b-10.3] quinoxyfen, [b-10.4] proquinazid, [b-10.5] clozolinate, [b-10.6] dimethachlone, [b-10.7] iprodione, [b -10.8] procymidone, [b-10.9] vinclozolin and the like.

b-11:脂質および細胞膜生合成阻害剤
脂質および細胞膜生合成阻害剤として、[b-11.1]エジフェンホス(edifenphos)、[b-11.2]イプロベンホス(iprobenfos)、[b-11.3]ピラゾホス(pyrazophos)、[b-11.4]イソプロチオラン(isoprothiolane)、[b-11.5]ビフェニル(biphenyl)、[b-11.6]クロロネブ(chloroneb)、[b-11.7]ジクロラン(dicloran)、[b-11.8]キントゼン(quintozene)、[b-11.9]テクナゼン(tecnazene)、[b-11.10]トルクロホスメチル(tolclofos-methyl)、[b-11.11]エトリジアゾール(echlomezol or etridiazole)、[b-11.12]ヨードカルブ(iodocarb)、[b-11.13]プロパモカルブ(propamocarb)、[b-11.14]プロチオカルブ(prothiocarb)等が挙げられる。
b-11: Lipid and Cell Membrane Biosynthesis Inhibitor As a lipid and cell membrane biosynthesis inhibitor, [b-11.1] edifenphos, [b-11.2] iprobenfos, [b-11.3 ] pyrazophos, [b-11.4] isoprothiolane, [b-11.5] biphenyl, [b-11.6] chloroneb, [b-11.7] dichlorane (dicloran), [b-11.8] quintozene, [b-11.9] tecnazene, [b-11.10] tolclofos-methyl, [b-11.11] etridiazole (echromezol or etridiazole), [b-11.12] iodocarb, [b-11.13] propamocarb, [b-11.14] prothiocarb and the like.

b-12:脱メチル化阻害剤(DMI剤)
脱メチル化阻害剤(DMI剤)として、[b-12.1]アザコナゾール(azaconazole)、[b-12.2]ビテルタノール(bitertanol)、[b-12.3]ブロムコナゾール(bromuconazole)、[b-12.4]シプロコナゾール(cyproconazole)、[b-12.5]ジフェノコナゾール(difenoconazole)、[b-12.6]ジニコナゾール(diniconazole)、[b-12.7]ジニコナゾールM(diniconazole-M)、[b-12.8]エポキシコナゾール(epoxiconazole)、[b-12.9]エタコナゾール(etaconazole)、[b-12.10]フェナリモル(fenarimol)、[b-12.11]フェンブコナゾール(fenbuconazole)、[b-12.12]フルキンコナゾール(fluquinconazole)、[b-12.13]キンコナゾール(quinconazole)、[b-12.14]フルシラゾール(flusilazole)、[b-12.15]フルトリアホール(flutriafol)、[b-12.16]ヘキサコナゾール(hexaconazole)、[b-12.17]イマザリル(imazalil)、[b-12.18]イミベンコナゾール(imibenconazole)、[b-12.19]イプコナゾール(ipconazole)、[b-12.20]メトコナゾール(metconazole)、[b-12.21]ミクロブタニル(myclobutanil)、[b-12.22]ヌアリモール(nuarimol)、[b-12.23]オキスポコナゾール(oxpoconazole)、[b-12.24]オキスポコナゾールフマル酸塩(oxpoconazole fumarate)、[b-12.25]ペフラゾエート(pefurazoate)、[b-12.26]ペンコナゾール(penconazole)、[b-12.27]プロクロラズ(prochloraz)、[b-12.28]プロピコナゾール(propiconazole)、[b-12.29]プロチオコナゾール(prothioconazole)、[b-12.30]ピリフェノックス(pyrifenox)、[b-12.31]ピリソキサゾール(pyrisoxazole)、[b-12.32]シメコナゾール(simeconazole)、[b-12.33]テブコナゾール(tebuconazole)、[b-12.34]テトラコナゾール(tetraconazole)、[b-12.35]トリアジメホン(triadimefon)、[b-12.36]トリアジメノール(triadimenol)、[b-12.37]トリフルミゾール(triflumizole)、[b-12.38]トリホリン(triforine)、[b-12.39]トリチコナゾール(triticonazole)[b-12.40]メフェントリフルコナゾール(mefentrifluconazole)、[b-12.41]イプフェントリフルコナゾール(ipfentrifluconazole)等が挙げられる。
b-12: demethylation inhibitor (DMI agent)
As demethylation inhibitors (DMI agents), [b-12.1] azaconazole, [b-12.2] bitertanol, [b-12.3] bromuconazole, [ b-12.4] cyproconazole, [b-12.5] difenoconazole, [b-12.6] diniconazole, [b-12.7] diniconazole-M ), [b-12.8] epoxiconazole, [b-12.9] etaconazole, [b-12.10] fenarimol, [b-12.11] fenbuconazole (fenbuconazole), [b-12.12] fluquinconazole, [b-12.13] quinconazole, [b-12.14] flusilazole, [b-12.15] flutriafol, [b-12.16] hexaconazole, [b-12.17] imazalil, [b-12.18] imibenconazole, [b- 12.19] ipconazole, [b-12.20] metconazole, [b-12.21] myclobutanil, [b-12.22] nuarimol, [b-12. 23] oxpoconazole, [b-12.24] oxpoconazole fumarate, [b-12.25] pefurazoate, [b-12.26] penconazole ( penconazole), [b-12.27] prochloraz, [b-12.28] propiconazole, [b-12.29] prothioconazole, [b-12.30] pyrifenox, [b-12.31] pyrisoxazole, [b-12.32 ] simeconazole, [b-12.33] tebuconazole, [b-12.34] tetraconazole, [b-12.35] triadimefon, [b-12.36 ] triadimenol, [b-12.37] triflumizole, [b-12.38] triforine, [b-12.39] triticonazole [b- 12.40] mefentrifluconazole, [b-12.41] ipfentrifluconazole and the like.

b-13:アミン系殺菌剤
アミン系殺菌剤として、[b-13.1]アルジモルフ(aldimorph)、[b-13.2]ドデモルフ(dodemorph)、[b-13.3]フェンプロピモルフ(fenpropimorph)、[b-13.4]トリデモルフ(tridemorph)、[b-13.5]フェンプロピジン(fenpropidin)、[b-13.6]ピペラリン(piperalin)、[b-13.7]スピロキサミン(spiroxamine)等が挙げられる。
b-13: Amine fungicides As amine fungicides, [b-13.1] aldimorph, [b-13.2] dodemorph, [b-13.3] fenpropimorph ), [b-13.4] tridemorph, [b-13.5] fenpropidin, [b-13.6] piperalin, [b-13.7] spiroxamine ) and the like.

b-14:ステロール生合成のC4位脱メチル化における3-ケト還元酵素阻害剤
ステロール生合成のC4位脱メチル化における3-ケト還元酵素阻害剤として、[b-14.1]フェンヘキサミド(fenhexamid)、[b-14.2]フェンピラザミン(fenpyrazamine)等が挙げられる。
b-14: 3-keto reductase inhibitor in C4 position demethylation of sterol biosynthesis As a 3-keto reductase inhibitor in C4 position demethylation of sterol biosynthesis, [b-14.1] fenhexamide (fenhexamide), [b-14.2]fenpyrazamine and the like.

b-15:ステロール生合成のスクアレンエポキシダーゼ阻害剤
ステロール生合成のスクアレンエポキシダーゼ阻害剤として、[b-15.1]ピリブチカルブ(pyributicarb)、[b-15.2]ナフチフィン(naftifine)、[b-15.3]テルビナフィン(terbinafine)等が挙げられる。
b-15: Squalene epoxidase inhibitors of sterol biosynthesis As squalene epoxidase inhibitors of sterol biosynthesis, [b-15.1] pyributicarb, [b-15.2] naftifine, [b -15.3] terbinafine and the like.

b-16:細胞壁生合成阻害剤
細胞壁生合成阻害剤として、[b-16.1]ポリオキシン類(polyoxins)、[b-16.2]ジメトモルフ(dimethomorph)、[b-16.3]フルモルフ(flumorph)、[b-16.4]ピリモルフ(pyrimorph)、[b-16.5]ベンチアバリカルブ(benthiavalicarb)、[b-16.6]ベンチアバリカルブイソプロピル(benthivalicarb-isopropyl)、[b-16.7]イプロバリカルブ(iprovalicarb)、[b-16.8]マンジプロパミド(mandipropamid)、[b-17.9]バリフェナレート(valifenalate)等が挙げられる。
b-16: Cell wall biosynthesis inhibitor Cell wall biosynthesis inhibitors include [b-16.1] polyoxins, [b-16.2] dimethomorph, [b-16.3] fullmorph ( flumorph), [b-16.4] pyrimorph, [b-16.5] benthiavalicarb, [b-16.6] benthivalicarb-isopropyl, [b -16.7] iprovalicarb, [b-16.8] mandipropamid, [b-17.9] valifenalate and the like.

b-17:メラニン生合成阻害剤
メラニン生合成阻害剤として、[b-17.1]フサライド(phthalide or fthalide)、[b-17.2]ピロキロン(pyroquilone)、[b-17.3]トリシクラゾール(tricyclazole)、[b-17.4]カルプロパミド(carpropamid)、[b-17.5]ジクロシメット(diclocymet)、[b-17.6]フェノキサニル(fenoxanil)、[b-17.7]トルプロカルブ(tolprocarb)等が挙げられる。
b-17: melanin biosynthesis inhibitor melanin biosynthesis inhibitors such as [b-17.1] phthalide or fthalide, [b-17.2] pyroquilone, [b-17.3] tricyclazole (tricyclazole), [b-17.4] carpropamid, [b-17.5] diclocymet, [b-17.6] fenoxanil, [b-17.7] tolprocarb ) and the like.

b-18:宿主植物抵抗性誘導剤
宿主植物抵抗性誘導剤として、[b-18.1]アシベンゾラルSメチル(acibenzolar-S-methyl)、[b-18.2]プロベナゾール(probenazole)、[b-18.3]チアジニル(tiadinil)、[b-18.4]イソチアニル(isotianil)、[b-18.5]ラミナリン(laminarin)等が挙げられる。
b-18: Host plant resistance inducer Host plant resistance inducers include [b-18.1] acibenzolar-S-methyl, [b-18.2] probenazole, [b -18.3] tiadinil, [b-18.4] isotianil, [b-18.5] laminarin and the like.

b-19:ジチオカーバメート系殺菌剤
ジチオカーバメート系殺菌剤として、[b-19.1]マンコゼブまたはマンゼブ(mancozeb or manzeb)、[b-19.2]マンネブ(maneb)、[b-19.3]メチラム(metiram)、[b-19.4]プロピネブ(propineb)、[b-19.5]チウラム(thiram)、[b-19.6]ジネブ(zineb)、[b-19.7]ジラム(ziram)、[b-19.8]フェルバム(ferbam)等が挙げられる。
b-19: Dithiocarbamate fungicide Dithiocarbamate fungicides include [b-19.1] mancozeb or manzeb, [b-19.2] maneb, [b-19.3] ] metiram, [b-19.4] propineb, [b-19.5] thiram, [b-19.6] zineb, [b-19.7] ziram (ziram), [b-19.8] ferbam and the like.

b-20:フタルイミド系殺菌剤
フタルイミド系殺菌剤として、[b-20.1]キャプタン(captan)、[b-20.2]キャプタホール(captafol)、[b-20.3]ホルペット(folpet)、[b-20.4]フルオロホルペット(fluorofolpet)等が挙げられる。
b-20: Phthalimide-based fungicides As phthalimide-based fungicides, [b-20.1] captan, [b-20.2] captafol, [b-20.3] folpet ), [b-20.4] fluorofolpet and the like.

b-21:グアニジン系殺菌剤
グアニジン系殺菌剤として、[b-21.1]グアザチン(guazatine)、[b-21.2]イミノクタジン(iminoctadine)、[b-21.3]イミノクタジンアルベシル酸塩(iminoctadine albesilate)、[b-21.4]イミノクタジン三酢酸塩(iminoctadine triacetate)等が挙げられる。
b-21: Guanidine fungicide As guanidine fungicides, [b-21.1] guazatin, [b-21.2] iminoctadine, [b-21.3] iminoctadine albesilate (iminoctadine albesilate), [b-21.4] iminoctadine triacetate and the like.

b-22:多作用点接触活性型殺菌剤
多作用点接触活性型殺菌剤として、[b-22.1]塩基性塩化銅(copper oxychloride)、[b-22.2]水酸化第二銅(copper(II) hydroxide)、[b-22.3]塩基性硫酸銅(copper hydroxide sulfate)、[b-22.4]有機銅化合物(organocopper compound)、[b-22.5]ドデシルベンゼンスルホン酸ビスエチレンジアミン銅錯塩[II](Dodecylbenzenesulphonic acid bisethylenediamine copper [II] salt、DBEDC)、[b-22.6]硫黄(sulphur)、[b-22.7]フルオルイミド(fluoroimide)、[b-22.8]クロロタロニル(chlorothalonil)、[b-22.9]ジクロフルアニド(dichlofluanid)、[b-22.10]トリルフルアニド(tolylfluanid)、[b-22.11]アニラジン(anilazine)、[b-22.12]ジチアノン(dithianon)、[b-22.13]キノメチオナート(chinomethionat or quinomethionate)、[b-22.14]ハウチワマメ苗木の子葉からの抽出物(BLAD)等が挙げられる。
b-22: Multi-point contact active fungicide As multi-point contact active fungicides, [b-22.1] basic copper chloride (copper oxychloride), [b-22.2] cupric hydroxide (copper (II) hydroxide), [b-22.3] basic copper hydroxide sulfate, [b-22.4] organocopper compound, [b-22.5] dodecyl benzene sulfone acid bisethylenediamine copper complex salt [II] (Dodecylbenzenesulphonic acid bisethylenediamine copper [II] salt, DBEDC), [b-22.6] sulfur, [b-22.7] fluoroimide, [b-22. 8] chlorothalonil, [b-22.9] dichlofluanid, [b-22.10] tolylfluanid, [b-22.11] anilazine, [b- 22.12] dithianon, [b-22.13] chinomethionate or quinomethionate, [b-22.14] extract from cotyledons of lupine seedlings (BLAD), and the like.

b-23:その他の殺菌剤
その他の殺菌剤として、[b-23.1]ジクロベンチアゾクス(dichlobentiazox)、[b-23.2]フェンピコキサミド(fenpicoxamid)、[b-23.3]ジピメチトロン(dipymetitrone)、[b-23.4]ブピリメート(bupirimate)、[b-23.5]ジメチリモール(dimethirimol)、[b-23.6]エチリモール(ethirimol)、[b-23.7]酢酸トリフェニルスズ(fentin acetate)、[b-23.8]塩化トリフェニルスズ(fentin chloride)、[b-23.9]水酸化トリフェニルスズ(fentin hydroxide)、[b-23.10]オキソリニック酸(oxolinic acid)、[b-23.11]ヒメキサゾール(hymexazol)、[b-23.12]オクチリノン(octhilinone)、[b-23.13]ホセチル(fosetyl)、[b-23.14]亜リン酸(phosphorous acid)、[b-23.15]亜リン酸のナトリウム塩(sodium phosphite)、[b-23.16]亜リン酸のアンモニウム塩(ammonium phosphite)、[b-23.17]亜リン酸のカリウム塩(potassium phosphite)、[b-23.18]テクロフタラム(tecloftalam)、[b-23.19]トリアゾキシド(triazoxide)、[b-23.20]フルスルファミド(flusulfamide)、[b-23.21]ジクロメジン(diclomezine)、[b-23.22]シルチオファム(silthiofam)、[b-23.23]ジフルメトリム(diflumetorim)、[b-23.24]メタスルホカルブ(methasulfocarb)、[b-23.25]シフルフェナミド(cyflufenamid)、[b-23.26]メトラフェノン(metrafenone)、[b-23.27]ピリオフェノン(pyriofenone)、[b-23.28]ドジン(dodine)、[b-23.29]フルチアニル(flutianil)、[b-23.30]フェリムゾン(ferimzone)、[b-23.31]オキサチアピプロリン(oxathiapiprolin)、[b-23.32]テブフロキン(tebufloquin)、[b-23.33]ピカルブトラゾクス(picarbutrazox)、[b-23.34]バリダマイシン類(validamycins)、[b-23.35]シモキサニル(cymoxanil)、[b-23.36]キノフメリン(quinofumelin)、
b-23: Other fungicides Other fungicides include [b-23.1] dichlobentiazox, [b-23.2] fenpicoxamide, [b-23.3 ] dipymetitrone, [b-23.4] bupirimate, [b-23.5] dimethirimol, [b-23.6] ethirimol, [b-23.7] acetic acid triphenyltin acetate, [b-23.8]triphenyltin chloride, [b-23.9]fentin hydroxide, [b-23.10]oxolinic acid (oxolinic acid), [b-23.11] hymexazol, [b-23.12] octhilinone, [b-23.13] fosetyl, [b-23.14] phosphorus phosphorous acid, [b-23.15] sodium phosphite, [b-23.16] ammonium phosphite, [b-23.17] potassium phosphate, [b-23.18] tecloftalam, [b-23.19] triazoxide, [b-23.20] flusulfamide, [b-23 .21] diclomezine, [b-23.22] silthiofam, [b-23.23] diflumetrim, [b-23.24] methasulfocarb, [b-23 .25] cyflufenamide, [b-23.26] metrafenone, [b-23.27] pyriofenone, [b-23.28] dodine, [b-23.29 ] flutianil, [b-23.30] ferimzone, [b-23.31] oxathiapiprolin, [b-23.32] tebufloquin, [b-23.33] picarbutrazox, [b-23.34] validamycins, [b-23.35] cymoxanil ), [b-23.36] quinofumelin,

[b-23.37]式(s1)

Figure 0007118961000125

で表される化合物(国際公開第98/046607号参照)、[b-23.37] Formula (s1)
Figure 0007118961000125

A compound represented by (see WO 98/046607),

[b-23.38]式(s2)

Figure 0007118961000126

で表される化合物(国際公開第08/148570号参照)、[b-23.38] Formula (s2)
Figure 0007118961000126

A compound represented by (see WO 08/148570),

[b-23.39]式(s3)

Figure 0007118961000127

で表される化合物(国際公開第92/012970号参照)、[b-23.39] Formula (s3)
Figure 0007118961000127

A compound represented by (see WO 92/012970),

[b-23.40]式(s4)

Figure 0007118961000128

で表される化合物(国際公開第12/084812号参照)、[b-23.40] Expression (s4)
Figure 0007118961000128

A compound represented by (see WO 12/084812),

[b-23.41]式(s5)

Figure 0007118961000129

で表される化合物(gougerotin)、[b-23.41] Formula (s5)
Figure 0007118961000129

A compound represented by (gougerotin),

[b-23.42]式(s6)

Figure 0007118961000130

で表される化合物(ningnanmycin)、[b-23.42] Expression (s6)
Figure 0007118961000130

A compound represented by (ningnanmycin),

[b-23.43]式(s7)

Figure 0007118961000131

で表される化合物(国際公開第10/136475号参照)、[b-23.43] Formula (s7)
Figure 0007118961000131

A compound represented by (see WO 10/136475),

[b-23.44]式(s8)

Figure 0007118961000132

で表される化合物(国際公開第14/010737号参照)、[b-23.44] Formula (s8)
Figure 0007118961000132

A compound represented by (see WO 14/010737),

[b-23.45]式(s9)

Figure 0007118961000133

で表される化合物(国際公開第11/085084号参照)、[b-23.45] Formula (s9)
Figure 0007118961000133

A compound represented by (see WO 11/085084),

[b-23.46]式(s10)

Figure 0007118961000134

で表される化合物(国際公開第11/137002号参照)、[b-23.46] Formula (s10)
Figure 0007118961000134

A compound represented by (see WO 11/137002),

[b-23.47]式(s11)

Figure 0007118961000135

で表される化合物(国際公開第13/162072号参照)、[b-23.47] formula (s11)
Figure 0007118961000135

A compound represented by (see WO 13/162072),

[b-23.48]式(s12)

Figure 0007118961000136

で表される化合物(国際公開第08/110313号参照)、[b-23.48] Formula (s12)
Figure 0007118961000136

A compound represented by (see WO 08/110313),

[b-23.49]式(s13)

Figure 0007118961000137

で表される化合物(国際公開第09/156098号参照)、[b-23.49] Formula (s13)
Figure 0007118961000137

A compound represented by (see WO 09/156098),

[b-23.50]式(s14)

Figure 0007118961000138

で表される化合物(国際公開第12/025557号参照)、[b-23.50] Formula (s14)
Figure 0007118961000138

A compound represented by (see WO 12/025557),

[b-23.51]式(s15)

Figure 0007118961000139

で表される化合物(国際公開第14/006945号参照)、[b-23.51] Formula (s15)
Figure 0007118961000139

A compound represented by (see WO 14/006945),

[b-23.52]式(s16)

Figure 0007118961000140

[式中、A3は、水素原子、ハロゲン原子、C1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはシアノ基を表し、A4は、水素原子、C1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表す。]で表される化合物(国際公開第14/095675号参照)、[b-23.52] Formula (s16)
Figure 0007118961000140

[Wherein, A3 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 haloalkyl group, or a cyano group; A4 represents a hydrogen atom, a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 It represents a haloalkyl group or a C3-C8 cycloalkyl group. ] (see WO 14/095675),

[b-23.53]式(s17)

Figure 0007118961000141

[式中、m1は、0~3の整数を表し、A5およびA6は、それぞれ独立していて、ハロゲン原子、またはC1~C6のアルキル基を表し、A7およびA8は、それぞれ独立していて、ハロゲン原子、またはC1~C6のアルコキシ基を表し、m1が2以上の場合、2以上のA7は、それぞれ独立した置換基を表し、同一または異なっていてよい。]で表される化合物(国際公開第09/137538号、国際特許第09/137651号参照)、[b-23.53] Expression (s17)
Figure 0007118961000141

[Wherein, m1 represents an integer of 0 to 3, A5 and A6 each independently represent a halogen atom or a C1 to C6 alkyl group, A7 and A8 each independently represents a halogen atom or a C1-C6 alkoxy group, and when m1 is 2 or more, two or more A7 represent independent substituents and may be the same or different. ] (see International Publication No. 09/137538, International Patent No. 09/137651),

[b-23.54]式(s18)

Figure 0007118961000142

[式中、A9およびA10は、それぞれ独立していて、水素原子、またはハロゲン原子を表し、A11は、ハロゲン原子を表し、A12は、ハロゲン原子、またはC1~C6のアルキル基を表し、A13は、ハロゲン原子、シアノ基、C1~C6のアルキル基、またはC1~C6のアルコキシ基を表す。]で表される化合物(国際公開第12/031061号参照)、[b-23.54] Formula (s18)
Figure 0007118961000142

[Wherein, A9 and A10 each independently represent a hydrogen atom or a halogen atom, A11 represents a halogen atom, A12 represents a halogen atom or a C1 to C6 alkyl group, and A13 represents , a halogen atom, a cyano group, a C1-C6 alkyl group, or a C1-C6 alkoxy group. ] (see WO 12/031061),

[b-23.55]式(s19)

Figure 0007118961000143

[式中、m2は、0~6の整数を表し、A14およびA15は、それぞれ独立していて、ハロゲン原子、シアノ基、またはC1~C6のアルキル基を表し、A16は、水素原子、ハロゲン原子、またはC1~C6のアルコキシ基を表し、A17は、ハロゲン原子、またはC1~C6のアルコキシ基を表し、m2が2以上の場合、2以上のA17は、それぞれ独立した置換基を表し、同一または異なっていてよい。]で表される化合物(国際公開第05/121104号参照)、[b-23.55] Formula (s19)
Figure 0007118961000143

[Wherein, m2 represents an integer of 0 to 6, A14 and A15 each independently represent a halogen atom, a cyano group, or a C1-C6 alkyl group, and A16 represents a hydrogen atom, a halogen atom, , or represents a C1-C6 alkoxy group, A17 represents a halogen atom or a C1-C6 alkoxy group, and when m2 is 2 or more, 2 or more A17 each represent an independent substituent, the same or can be different. ] (see WO 05/121104),

[b-23.56]式(s20)

Figure 0007118961000144

[式中、A18およびA19は、それぞれ独立していて、ハロゲン原子、シアノ基、またはC1~C6のアルキル基を表し、A20、A21およびA22は、それぞれ独立していて、水素原子、ハロゲン原子、またはC1~C6のアルコキシ基を表す。]で表される化合物(国際公開第07/066601号参照)、[b-23.56] formula (s20)
Figure 0007118961000144

[Wherein, A18 and A19 each independently represent a halogen atom, a cyano group, or a C1-C6 alkyl group; A20, A21 and A22 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or represents a C1-C6 alkoxy group. ] (see WO 07/066601),

[b-23.57]式(s21)

Figure 0007118961000145

[式中、A23およびA24は、それぞれ独立していて、水素原子、ハロゲン原子、C1~C6のアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表し、Xは、酸素原子または硫黄原子を表す。]で表される化合物(国際公開第07/087906号、国際特許第09/016220号、国際特許第10/130767号参照)、[b-23.57] formula (s21)
Figure 0007118961000145

[In the formula, A23 and A24 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group, and X represents an oxygen atom or a sulfur atom. ] (see International Publication No. 07/087906, International Patent No. 09/016220, International Patent No. 10/130767),

[b-23.58]式(s22)

Figure 0007118961000146

[式中、m3は、0~5の整数を表し、A25は、ハロゲン原子、C1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表し、m3が2以上の場合、2以上のA25は、それぞれ独立した置換基を表し、同一または異なっていてよい。]で表される化合物(国際公開第13/092224号参照)、[b-23.58] formula (s22)
Figure 0007118961000146

[Wherein, m3 represents an integer of 0 to 5, A25 is a halogen atom, a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 haloalkyl group, a C1 to C6 alkoxy group, a C1 to C6 haloalkoxy group, or represents a C3-C8 cycloalkyl group, and when m3 is 2 or more, two or more A25 represent independent substituents and may be the same or different. ] (see WO 13/092224),

[b-23.59]式(s23)

Figure 0007118961000147

[式中、A26は、水素原子、またはハロゲン原子を表し、V1およびV2は、それぞれ独立していて、酸素原子、または硫黄原子を表す。]で表される化合物(国際公開第12/025450号参照)、[b-23.59] formula (s23)
Figure 0007118961000147

[In the formula, A26 represents a hydrogen atom or a halogen atom, and V1 and V2 each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom. ] (see WO 12/025450),

[b-23.60]式(s24)または式(s25)

Figure 0007118961000148

[式中、m4は、0~5の整数を表し、A27は、C1~C6のアルキル基を表し、A28は、ハロゲン原子、シアノ基、C1~C6のアルキル基、またはC1~C6のハロアルキル基を表し、m4が2以上の場合、2以上のA28は、それぞれ独立した置換基を表し、同一または異なっていてよく、A29は、C1~C6のアルキル基、C2~C6のアルケニル基、またはC3~C6のアルキニル基を表す。]で表される化合物(国際公開第13/037717号参照)、[b-23.60] Formula (s24) or Formula (s25)
Figure 0007118961000148

[Wherein, m4 represents an integer of 0 to 5, A27 represents a C1 to C6 alkyl group, A28 represents a halogen atom, a cyano group, a C1 to C6 alkyl group, or a C1 to C6 haloalkyl group When m4 is 2 or more, 2 or more A28 each represent an independent substituent, which may be the same or different, and A29 is a C1 to C6 alkyl group, a C2 to C6 alkenyl group, or a C3 represents a C6 alkynyl group. ] (see WO 13/037717),

[b-23.61]式(s26)または式(s27)

Figure 0007118961000149

[式中、m5は、0~5の整数を表し、A30は、C1~C6のアルキル基を表し、A31は、ハロゲン原子、シアノ基、C1~C6のアルキル基、またはC1~C6のハロアルキル基を表し、m5が2以上の場合、2以上のA31は、それぞれ独立した置換基を表し、同一または異なっていてよく、A32は、C1~C6のアルキル基、C2~C6のアルケニル基、またはC3~C6のアルキニル基を表す。]で表される化合物(国際公開第13/037717号参照)、[b-23.61] formula (s26) or formula (s27)
Figure 0007118961000149

[Wherein, m5 represents an integer of 0 to 5, A30 represents a C1 to C6 alkyl group, A31 represents a halogen atom, a cyano group, a C1 to C6 alkyl group, or a C1 to C6 haloalkyl group When m5 is 2 or more, 2 or more A31 each represent an independent substituent, which may be the same or different, and A32 is a C1 to C6 alkyl group, a C2 to C6 alkenyl group, or a C3 represents a C6 alkynyl group. ] (see WO 13/037717),

[b-23.62]式(s28)

Figure 0007118961000150

[式中、A33、A34、A35およびA36は、それぞれ独立していて、水素原子、またはハロゲン原子を表し、A37は、水素原子、アセチル基、またはベンゾイル基を表す。]で表される化合物(国際公開第06/031631号、国際特許第10/069882号参照)、[b-23.62] formula (s28)
Figure 0007118961000150

[In the formula, A33, A34, A35 and A36 each independently represent a hydrogen atom or a halogen atom, and A37 represents a hydrogen atom, an acetyl group or a benzoyl group. ] (see International Publication No. 06/031631, International Patent No. 10/069882),

[b-23.63]式(s29)

Figure 0007118961000151

[式中、A38は、C1~C6のアルキル基、またはC1~C6のハロアルキル基を表し、A39およびA40は、それぞれ独立していて、水素原子、またはハロゲン原子を表す。]で表される化合物(国際公開第14/043376号参照)、[b-23.63] formula (s29)
Figure 0007118961000151

[In the formula, A38 represents a C1-C6 alkyl group or a C1-C6 haloalkyl group, and A39 and A40 each independently represent a hydrogen atom or a halogen atom. ] (see WO 14/043376),

[b-23.64]式(s30)

Figure 0007118961000152

[式中、A41は、水素原子、水硫基(-SH)、チオシアン酸基(-SCN)、またはC1~C6のアルキルチオ基を表し、A42、A43、A44およびA45は、それぞれ独立していて、水素原子、またはハロゲン原子を表す。]で表される化合物(国際公開第09/077443号参照)、[b-23.64] formula (s30)
Figure 0007118961000152

[In the formula, A41 represents a hydrogen atom, a hydrogen sulfur group (-SH), a thiocyanate group (-SCN), or a C1-C6 alkylthio group, and A42, A43, A44 and A45 are each independently , a hydrogen atom, or a halogen atom. ] (see WO 09/077443),

[b-23.65]式(s31)または式(s32)

Figure 0007118961000153

[式中、A46は、水素原子、またはハロゲン原子を表し、A47は、C1~C6のアルキル基を表し、A48は、ハロゲン原子を表す。]で表される化合物(国際公開第11/070771号参照)、[b-23.65] Formula (s31) or Formula (s32)
Figure 0007118961000153

[In the formula, A46 represents a hydrogen atom or a halogen atom, A47 represents a C1 to C6 alkyl group, and A48 represents a halogen atom. ] (see WO 11/070771),

[b-23.66]式(s33)

Figure 0007118961000154

[式中、A49、A50およびA51は、それぞれ独立していて、水素原子、またはハロゲン原子を表す。]で表される化合物(国際公開第11/081174号参照)等が挙げられる。[b-23.66] formula (s33)
Figure 0007118961000154

[In the formula, A49, A50 and A51 each independently represent a hydrogen atom or a halogen atom. ] (see International Publication No. 11/081174) and the like.

本発明化合物と混合して使用することができる殺虫剤に含まれる具体的な成分は、以下の群cで例示され、これらの塩、異性体およびN-オキシド体を含む。ただし、公知の殺虫剤はこれらに限定されるものではない。 Specific ingredients contained in insecticides that can be used in admixture with the compounds of the present invention are exemplified in Group c below, including salts, isomers and N-oxides thereof. However, known insecticides are not limited to these.

群c:
c-1:カーバメート系アセチルコリンエステラーゼ(AChE)阻害剤
カーバメート系アセチルコリンエステラーゼ(AChE)阻害剤として、[c-1.1]ホスホカルブ(phosphocarb)、[c-1.2]アラニカルブ(alanycarb)、[c-1.3]ブトカルボキシム(butocarboxim)、[c-1.4]ブトキシカルボキシム(butoxycarboxim)、[c-1.5]チオジカルブ(thiodicarb)、[c-1.6]チオファノックス(thiofanox)、[c-1.7]アルジカルブ(aldicarb)、[c-1.8]ベンジオカルブ(bendiocarb)、[c-1.9]ベンフラカルブ(benfuracarb)、[c-1.10]カルバリル(carbaryl)、[c-1.11]カルボフラン(carbofuran)、[c-1.12]カルボスルファン(carbosulfan)、[c-1.13]エチオフェンカルブ(ethiofencarb)、[c-1.14]フェノブカルブ(fenobucarb)、[c-1.15]ホルメタネート(formetanate)、[c-1.16]フラチオカルブ(furathiocarb)、[c-1.17]イソプロカルブ(isoprocarb)、[c-1.18]メチオカルブ(methiocarb)、[c-1.19]メソミル(methomyl)、[c-1.20]オキサミル(oxamyl)、[c-1.21]ピリミカルブ(pirimicarb)、[c-1.22]プロポキスル(propoxur)、[c-1.23]トリメタカルブ(trimethacarb)、[c-1.24]XMC(3,5-xylyl methylcarbamate)、[c-1.25]アリキシカルブ(allyxycarb)、[c-1.26]アルドキシカルブ(aldoxycarb)、[c-1.27]ブフェンカルブ(bufencarb)、[c-1.28]ブタカルブ(butacarb)、[c-1.29]カーバノレート(carbanolate)、[c-1.30]メトルカルブ(metolcarb)、[c-1.31]キシルイルカルブ(xylylcarb)、[c-1.32]フェノチオカルブ(fenothiocarb)、[c-1.33]キシリルカルブ(xylylcarb)、[c-1.34]ベンダイオカルブ(bendiocarb)等が挙げられる。
Group c:
c-1: Carbamate Acetylcholinesterase (AChE) Inhibitors As carbamate acetylcholinesterase (AChE) inhibitors, [c-1.1] phosphocarb, [c-1.2] alanycarb, [c -1.3] butocarboxim, [c-1.4] butoxycarboxim, [c-1.5] thiodicarb, [c-1.6] thiofanox ), [c-1.7] aldicarb, [c-1.8] bendiocarb, [c-1.9] benfuracarb, [c-1.10] carbaryl, [c-1.11] carbofuran, [c-1.12] carbosulfan, [c-1.13] ethiofencarb, [c-1.14] fenobucarb, [c-1.15] formetanate, [c-1.16] furatiocarb, [c-1.17] isoprocarb, [c-1.18] methiocarb, [c -1.19] methomyl, [c-1.20] oxamyl, [c-1.21] pirimicarb, [c-1.22] propoxur, [c-1 .23] trimethacarb, [c-1.24] XMC (3,5-xylyl methylcarbamate), [c-1.25] allyxycarb, [c-1.26] aldoxycarb , [c-1.27] bufencarb, [c-1.28] butacarb, [c-1.29] carbanolate, [c-1.30] metolcarb, [ c-1.31] xylylcarb, [c-1.32] phenothiocarb, [c-1.33] xylylcarb, [c-1.34] bendiocarb and bendiocarb.

c-2:有機リン系アセチルコリンエステラーゼ(AChE)阻害剤
有機リン系アセチルコリンエステラーゼ(AChE)阻害剤として、[c-2.1]アセフェート(acephate)、[c-2.2]アザメチホス(azamethiphos)、[c-2.3]アジンホス-メチル(azinphos-methyl)、[c-2.4]アジンホス-エチル(azinphos-ethyl)、[c-2.5]エセフォン(ethephon)、[c-2.6]カズサホス(cadusafos)、[c-2.7]クロルエトキシホス(chlorethoxyfos)、[c-2.8]クロルフェンビンホス(chlorfenvinphos)、[c-2.9]クロルメホス(chlormephos)、[c-2.10]クロルピリホス(chlorpyrifos)、[c-2.11]クロルピリホス-メチル(chlorpyrifos-methyl)、[c-2.12]クマホス(coumaphos)、[c-2.13]シアノホス(cyanophos)、[c-2.14]デメトン-S-メチル(demeton-S-methyl)、[c-2.15]ダイアジノン(diazinon)、[c-2.16]ジクロフェンチオン(dichlofenthion)、[c-2.17]ジクロルボス(dichlorvos)、[c-2.18]ジクロトホス(dicrotophos)、[c-2.19]ジメトエート(dimethoate)、[c-2.20]ジメチルビンホス(dimethylvinphos)、[c-2.21]ジスルホトン(disulfoton)、[c-2.22]O-エチル O-4-ニトロフェニル フェニルホスホノチオアート(O-ethyl O-4-nitrophenyl phenylphosphonothioate)、[c-2.23]エチオン(ethion)、[c-2.24]エトプロホス(ethoprophos)、[c-2.25]ファムフール(famphur)、[c-2.26]フェナミホス(fenamiphos)、[c-2.27]フェニトロチオン(fenitrothion)、[c-2.28]フェンチオン(fenthion)、[c-2.29]ホスチアゼート(fosthiazate)、[c-2.30]ヘプテノホス(heptenophos)、[c-2.31]イソフェンホス-メチル(isofenphos-methyl)、[c-2.32]イソカルボホス(Isocarbophos)、[c-2.33]イソキサチオン(isoxathion)、[c-2.34]マラチオン(malathion)、[c-2.35]メカルバム(mecarbam)、[c-2.36]メタミドホス(methamidophos)、[c-2.37]メチダチオン(methidathion)、[c-2.38]メビンホス(mevinphos)、[c-2.39]モノクロトホス(monocrotophos)、[c-2.40]ナレッド(naled)、[c-2.41]オメトエート(omethoate)、[c-2.42]オキシデメトン-メチル(oxydemeton-methyl)、[c-2.43]パラチオン(parathions)、[c-2.44]パラチオン-メチル(parathion-methyl)、[c-2.45]フェントエート(phenthoate)、[c-2.46]ホレート(phorate)、[c-2.47]ホサロン(phosalone)、[c-2.48]ホスメット(phosmet)、[c-2.49]ホスファミドン(phosphamidon)、[c-2.50]ホキシム(phoxim)、[c-2.51]ピリミホス-メチル(pirimiphos-methyl)、[c-2.52]プロフェノホス(profenofos)、[c-2.53]プロペタンホス(propetamphos)、[c-2.54]プロチオホス(prothiofos)、[c-2.55]ピラクロホス(pyraclofos)、[c-2.56]ピリダフェンチオン(pyridaphenthion)、[c-2.57]キナルホス(quinalphos)、[c-2.58]スルホテップ(sulfotep)、[c-2.59]テブピリムホス(tebupirimfos)、[c-2.60]テメホス(temephos)、[c-2.61]テルブホス(terbufos)、[c-2.62]チオメトン(thiometon)、[c-2.63]トリアゾホス(triazophos)、[c-2.64]トリクロルホン(trichlorfon)、[c-2.65]バミドチオン(vamidothion)、[c-2.66]クロルチオン(chlorothion)、[c-2.67]ブロムフェンビンホス(bromfenvinfos)、[c-2.68]ブロモホス(bromophos)、[c-2.69]ブロモホス-エチル(bromophos-ethyl)、[c-2.70]ブタチオホス(butathiofos)、[c-2.71]カルボフェノチオン(carbophenothion)、[c-2.72]クロルホキシム(chlorphoxim)、[c-2.73]スルプロホス(sulprofos)、[c-2.74]ジアミダホス(diamidafos)、[c-2.75]テトラクロルビンホス(tetrachlorvinphos)、[c-2.76]プロパホス(propaphos)、[c-2.77]メスルフェンホス(mesulfenfos)、[c-2.78]ジオキサベンゾホス(dioxabenzofos)、[c-2.79]エトリムホス(etrimfos)、[c-2.80]オキシデプロホス(oxydeprofos)、[c-2.81]ホルモチオン(formothion)、[c-2.82]フェンスルホチオン(fensulfothion)、[c-2.83]イサゾホス(isazofos)、[c-2.84]イミシアホス(imicyafos)、[c-2.85]イサミドホス(isamidofos)、[c-2.86]チオナジン(thionazin)、[c-2.87]ホスチエタン(fosthietan)等が挙げられる。
c-2: Organophosphorus acetylcholinesterase (AChE) inhibitors Organophosphate acetylcholinesterase (AChE) inhibitors include [c-2.1] acephate, [c-2.2] azamethiphos, [c-2.3] azinphos-methyl, [c-2.4] azinphos-ethyl, [c-2.5] ethephon, [c-2.6 ] cadusafos, [c-2.7] chlorethoxyfos, [c-2.8] chlorfenvinphos, [c-2.9] chlormephos, [c- 2.10] chlorpyrifos, [c-2.11] chlorpyrifos-methyl, [c-2.12] coumaphos, [c-2.13] cyanophos, [ c-2.14] demeton-S-methyl, [c-2.15] diazinon, [c-2.16] dichlofenthion, [c-2.17] Dichlorvos, [c-2.18] dicrotophos, [c-2.19] dimethoate, [c-2.20] dimethylvinphos, [c-2.21] disulfoton, [c-2.22] O-ethyl O-4-nitrophenyl phenylphosphonothioate, [c-2.23] ethion, [ c-2.24] ethoprophos, [c-2.25] famphur, [c-2.26] fenamiphos, [c-2.27] fenitrothion, [c- 2.28] fenthion, [c-2.29] fosthiazate, [c-2.30] heptenophos, [c-2.31] isofenphos- isofenphos-methyl, [c-2.32] Isocarbophos, [c-2.33] isoxathion, [c-2.34] malathion, [c-2.35] mecarbam, [c-2.36] methamidophos, [c-2.37] methidathion, [c-2.38] mevinphos, [c-2.39] monocrotophos (monocrotophos), [c-2.40] naled, [c-2.41] omethoate, [c-2.42] oxydemeton-methyl, [c-2.43 ] parathions, [c-2.44] parathion-methyl, [c-2.45] phenthoate, [c-2.46] phorate, [c-2 .47] phosalone, [c-2.48] phosmet, [c-2.49] phosphamidon, [c-2.50] phoxim, [c-2.51 ] pirimiphos-methyl, [c-2.52] profenofos, [c-2.53] propetamphos, [c-2.54] prothiofos, [c-2 .55] pyraclofos, [c-2.56] pyridaphenthion, [c-2.57] quinalphos, [c-2.58] sulfotep, [c-2.59 ] Tebupirimfos, [c-2.60] Temephos, [c-2.61] Terbufos, [c-2.62] Thiometon, [c-2.63] Triazophos (triazophos), [c-2.64] trichlorfon, [c-2.65] vamidothion, [c-2.66] chlorothion, [c-2.67] bromo bromfenvinfos, [c-2.68] bromophos, [c-2.69] bromophos-ethyl, [c-2.70] butathiofos, [c-2. 71] carbophenothion, [c-2.72] chlorphoxim, [c-2.73] sulprofos, [c-2.74] diamidafos, [c-2. 75] tetrachlorvinphos, [c-2.76] propaphos, [c-2.77] mesulfenfos, [c-2.78] dioxabenzofos, [ c-2.79] etrimfos, [c-2.80] oxydeprofos, [c-2.81] formothion, [c-2.82] fensulfothion, [ c-2.83] isazofos, [c-2.84] imicyafos, [c-2.85] isamidofos, [c-2.86] thionazin, [c- 2.87] fosthietan and the like.

c-3:GABA作動性塩素イオンチャネルブロッカー
GABA作動性塩素イオンチャネルブロッカーとして、[c-3.1]クロルデン(chlordane)、[c-3.2]エンドスルファン(endosulfan)、[c-3.3]リンデン(lindane)、[c-3.4]ジエノクロル(dienochlor)、[c-3.5]エチプロール(ethiprole)、[c-3.6]フィプロニル(fipronil)、[c-3.7]アセトプロール(acetoprole)等が挙げられる。
c-3: GABAergic chloride ion channel blocker As GABAergic chloride ion channel blockers, [c-3.1] chlordane, [c-3.2] endosulfan, [c-3.3 ] lindane, [c-3.4] dienochlor, [c-3.5] ethiprole, [c-3.6] fipronil, [c-3.7] aceto and acetoprole.

c-4:ナトリウムチャネルモジュレーター
ナトリウムチャネルモジュレーターとして、[c-4.1]アクリナトリン(acrinathrin)、[c-4.2]アレスリン[(1R)-アイソマー](allethrin[(1R)-isomer])、[c-4.3]ビフェントリン(bifenthrin)、[c-4.4]ビオアレスリン(bioallethrin)、[c-4.5]ビオアレスリン S-シクロペンテニル アイソマー(bioallethrin S-cyclopentenyl isomer)、[c-4.6]ビオレスメトリン(bioresmethrin)、[c-4.7]シクロプロトリン(cycloprothrin)、[c-4.8]シフルトリン(cyfluthrin)、[c-4.9]ベータ-シフルトリン(beta-cyfluthrin)、[c-4.10]シハロトリン(cyhalothrin)、[c-4.11]ガンマ-シハロトリン(gamma-cyhalothrin)、[c-4.12]ラムダ-シハロトリン(lambda-cyhalothrin)、[c-4.13]シペルメトリン(cypermethrin)、[c-4.14]アルファ-シペルメトリン(alpha-cypermethrin)、[c-4.15]ベータ-シペルメトリン(beta-cypermethrin)、[c-4.16]セタ-シペルメトリン(theta-cypermethrin)、[c-4.17]ゼダ-シペルメトリン(zeta-cypermethrin)、[c-4.18]シフェノトリン[(1R)-トランス-アイソマー](cyphenothrin[(1R)-trans-isomer])、[c-4.19]デルタメトリン(deltamethrin)、[c-4.20]エンペントリン[(EZ)-(1R)-アイソマー](empenthrin[(EZ)-(1R)-isomer])、[c-4.21]エスフェンバレレート(esfenvalerate)、[c-4.22]エトフェンプロックス(ethofenprox)、[c-4.23]フェンプロパトリン(fenpropathrin)、[c-4.24]フェンバレレート(fenvalerate)、[c-4.25]フルシトリネート(flucythrinate)、[c-4.26]フルメトリン(flumethrin)、[c-4.27]タウ-フルバリネート(tau-fluvalinate)、[c-4.28]ハルフェンプロックス(halfenprox)、[c-4.29]イミプロトリン(imiprothrin)、[c-4.30]メトトリン(methothrin)、[c-4.31]メトフルトリン(metofluthrin)、[c-4.32]イプシロン-メトフルトリン(epsilon-metofluthrin)、[c-4.33]モンフルオロトリン(momfluorothrin)、[c-4.34]イプシロン-モンフルオロトリン(epsilon-momfluorothrin)、[c-4.35]ペルメトリン(permethrin)、[c-4.36]フェノトリン[(1R)-トランス-アイソマー](phenothrin[(1R)-trans-isomer])、[c-4.37]プラレトリン(prallethrin)、[c-4.38]レスメトリン(resmethrin)、[c-4.39]カデトリン(kadethrin)、[c-4.40]シラフルオフェン(silafluofen)、[c-4.41]テフルトリン(tefluthrin)、[c-4.42]テトラメトリン(tetramethrin)、[c-4.43]テトラメトリン[(1R)-アイソマー](tetramethrin[(1R)-isomer])、[c-4.44]トラロメトリン(tralomethrin)、[c-4.45]トランスフルトリン(transfluthrin)、[c-4.46]ZXI8901(3-(4-bromophenoxy)phenyl]-cyanomethyl4-(difluoromethoxy)-α-(1-methylethyl)benzeneacetate)、[c-4.47]バイオペルメトリン(biopermethrin)、[c-4.48]フラメトリン(furamethrin)、[c-4.49]プロフルトリン(profluthrin)、[c-4.50]フルブロシトリネート(flubrocythrinate)、[c-4.51]ジメフルトリン(dimefluthrin)、[c-4.52]DDT(dichloro-diphenyl-trichloroethane)、[c-4.53]メトキシクロル(methoxychlor)、[c-4.54]フェノトリン(phenothrin)、[c-4.55]フルバリネート(fluvalinate)等が挙げられる。
c-4: Sodium channel modulators Sodium channel modulators include [c-4.1] acrinathrin, [c-4.2] allethrin [(1R)-isomer] (allethrin [(1R)-isomer]), [c-4.3] bifenthrin, [c-4.4] bioallethrin, [c-4.5] bioallethrin S-cyclopentenyl isomer, [c- 4.6] bioresmethrin, [c-4.7] cycloprothrin, [c-4.8] cyfluthrin, [c-4.9] beta-cyfluthrin , [c-4.10] cyhalothrin, [c-4.11] gamma-cyhalothrin, [c-4.12] lambda-cyhalothrin, [c-4. 13] cypermethrin, [c-4.14] alpha-cypermethrin, [c-4.15] beta-cypermethrin, [c-4.16] ceta - cypermethrin (theta-cypermethrin), [c-4.17] zeda-cypermethrin (zeta-cypermethrin), [c-4.18] cyphenothrin [(1R)-trans-isomer] (cyphenothrin [(1R) -trans-isomer]), [c-4.19] deltamethrin, [c-4.20] empenthrin [(EZ)-(1R)-isomer] (empenthrin [(EZ)-(1R)-isomer ]), [c-4.21] esfenvalerate, [c-4.22] ethofenprox, [c-4.23] fenpropathrin, [c-4. 24] fenvalerate, [c-4.25] flucythrinate, [c-4.26] flumethrin rin), [c-4.27] tau-fluvalinate, [c-4.28] halfenprox, [c-4.29] imiprothrin, [c-4 .30] methothrin, [c-4.31] metofluthrin, [c-4.32] epsilon-metofluthrin, [c-4.33] momfluorothrin, [c-4.34] epsilon-momfluorothrin, [c-4.35] permethrin, [c-4.36] phenothrin [(1R)-trans-isomer] (phenothrin [ (1R)-trans-isomer]), [c-4.37] prallethrin, [c-4.38] resmethrin, [c-4.39] kadethrin, [c-4 .40] silafluofen, [c-4.41] tefluthrin, [c-4.42] tetramethrin, [c-4.43] tetramethrin [(1R)-isomer] (tetramethrin [ (1R)-isomer]), [c-4.44] tralomethrin, [c-4.45] transfluthrin, [c-4.46] ZXI8901 (3-(4-bromophenoxy) phenyl]-cyanomethyl4-(difluoromethyl)-α-(1-methylethyl)benzeneacetate), [c-4.47] biopermethrin, [c-4.48] furamethrin, [c-4.49 ] profluthrin, [c-4.50] flubrocythrinate, [c-4.51] dimefluthrin, [c-4.52] DDT (dichloro-diphenyl-trichloroethane), [ c-4.53]methoxychlor, [c -4.54] phenothrin, [c-4.55] fluvalinate and the like.

c-5:ニコチン性アセチルコリン受容体(nAChR)競合的モジュレーター
ニコチン性アセチルコリン受容体(nAChR)競合的モジュレーターとして、[c-5.1]アセタミプリド(acetamiprid)、[c-5.2]クロチアニジン(clothianidin)、[c-5.3]ジノテフラン(dinotefuran)、[c-5.4]イミダクロプリド(imidacloprid)、[c-5.5]ニテンピラム(nitenpyram)、[c-5.6]チアクロプリド(thiacloprid)、[c-5.7]チアメトキサム(thiamethoxam)、[c-5.8]ニコチン(nicotine)、[c-5.9]硫酸ニコチン(nicotine sulfate)、[c-5.10]スルホキサフロル(sulfoxaflor)、[c-5.11]フルピラジフロン(flupyradifurone)、[c-5.12]トリフルメゾピリム(triflumezopyrim)等が挙げられる。
c-5: Nicotinic acetylcholine receptor (nAChR) competitive modulators As nicotinic acetylcholine receptor (nAChR) competitive modulators, [c-5.1] acetamiprid, [c-5.2] clothianidin ), [c-5.3] dinotefuran, [c-5.4] imidacloprid, [c-5.5] nitenpyram, [c-5.6] thiacloprid, [c-5.7] thiamethoxam, [c-5.8] nicotine, [c-5.9] nicotine sulfate, [c-5.10] sulfoxaflor, [c-5.11] flupyradifurone, [c-5.12] triflumezopyrim and the like.

c-6:ニコチン性アセチルコリン受容体(nAChR)アロステリックモジュレーター
ニコチン性アセチルコリン受容体(nAChR)アロステリックモジュレーターとして、[c-6.1]スピノサド(spinosad)、[c-6.2]スピネトラム(spinetoram)等が挙げられる。
c-6: Nicotinic acetylcholine receptor (nAChR) allosteric modulator Nicotinic acetylcholine receptor (nAChR) allosteric modulators such as [c-6.1] spinosad, [c-6.2] spinetoram is mentioned.

c-7:グルタミン酸作動性塩素イオンチャネル(GluCl)アロステリックモジュレーター
グルタミン酸作動性塩素イオンチャネル(GluCl)アロステリックモジュレーターとして、[c-7.1]アバメクチン(abamectin)、[c-7.2]エマメクチン安息香酸塩(emamectin benzoate)、[c-7.3]レピメクチン(lepimectin)、[c-7.4]ミルベメクチン(milbemectin)等が挙げられる。
c-7: Glutamatergic chloride ion channel (GluCl) allosteric modulators As glutamatergic chloride ion channel (GluCl) allosteric modulators, [c-7.1] abamectin, [c-7.2] emamectin benzoate salt (emamectin benzoate), [c-7.3] lepimectin, [c-7.4] milbemectin and the like.

c-8:幼若ホルモン類似剤
幼若ホルモン類似剤として、[c-8.1]ヒドロプレン(hydroprene)、[c-8.2]キノプレン(kinoprene)、[c-8.3]メトプレン(methoprene)、[c-8.4]フェノキシカルブ(fenoxycarb)、[c-8.5]ピリプロキシフェン(pyriproxyfen)等が挙げられる。
c-8: Juvenile Hormone Analogs As juvenile hormone analogs, [c-8.1] hydroprene, [c-8.2] kinoprene, [c-8.3] methoprene ), [c-8.4]fenoxycarb, [c-8.5]pyriproxyfen and the like.

c-9:非特異的(マルチサイト)阻害剤
非特異的(マルチサイト)阻害剤として、[c-9.1]臭化メチル(methyl bromide)、[c-9.2]クロルピクリン(chloropicrin)、[c-9.3]クリオライト(cryolite)、[c-9.4]フッ化スルフリル(sulfuryl fluoride)、[c-9.5]ホウ砂(borax)、[c-9.6]ホウ酸(boric acid)、[c-9.7]オクタホウ酸ニナトリウム塩(disodium octaborate)、[c-9.8]メタホウ酸ナトリウム塩(sodium metaborate)[c-9.9]吐酒石(tartar emetic)、[c-9.10]ダゾメット(dazomet)、[c-9.11]メタム(metam)、[c-9.12]カーバムナトリウム塩(metham sodium)等が挙げられる。
c-9: Non-specific (multi-site) inhibitor Non-specific (multi-site) inhibitors include [c-9.1] methyl bromide, [c-9.2] chloropicrin , [c-9.3] cryolite, [c-9.4] sulfuryl fluoride, [c-9.5] borax, [c-9.6] boron Boric acid, [c-9.7] disodium octaborate, [c-9.8] sodium metaborate [c-9.9] tartar emetic), [c-9.10] dazomet, [c-9.11] metam, [c-9.12] carbam sodium and the like.

c-10:弦音器官TRPVチャネルモジュレーター
弦音器官TRPVチャネルモジュレーターとして、[c-10.1]ピメトロジン(pymetrozine)、[c-10.2]ピリフルキナゾン(pyrifluquinazon)等が挙げられる。
c-10: Chordone TRPV Channel Modulator Chordone TRPV channel modulators include [c-10.1] pymetrozine, [c-10.2] pyrifluquinazon and the like.

c-11:ダニ類成長阻害剤
ダニ類成長阻害剤として、[c-11.1]クロフェンテジン(clofentezine)、[c-11.2]ジフロビダジン(diflovidazin)、[c-11.3]ヘキシチアゾクス(hexythiazox)、[c-11.4]エトキサゾール(etoxazole)等が挙げられる。
c-11: Mites Growth Inhibitors As mites growth inhibitors, [c-11.1] clofentezine, [c-11.2] diflovidazin, [c-11.3] hexythiazox (hexythiazox), [c-11.4] etoxazole and the like.

c-12:ミトコンドリアATP合成酵素阻害剤
ミトコンドリアATP合成酵素阻害剤として、[c-12.1]ジアフェンチウロン(diafenthiuron)、[c-12.2]アゾシクロチン(azocyclotin)、[c-12.3]シヘキサチン(cyhexatin)、[c-12.4]フェンブタチンオキシド(fenbutatin oxide)、「c-12.5」プロパルギット(propargite)、「c-12.6」テトラジホン(tetradifon)等が挙げられる。
c-12: Mitochondrial ATP Synthase Inhibitor As a mitochondrial ATP synthase inhibitor, [c-12.1] diafenthiuron, [c-12.2] azocyclotin, [c-12. 3] cyhexatin, [c-12.4] fenbutatin oxide, "c-12.5" propargite, "c-12.6" tetradifon and the like .

c-13:プロトン勾配を撹乱する酸化的リン酸化脱共役剤
プロトン勾配を撹乱する酸化的リン酸化脱共役剤として、[c-13.1]クロルフェナピル(chlorfenapyl)、[c-13.2]DNOC(dinitro-ortho-cresol)、[c-13.3]ビナパクリル(binapacryl)、[c-13.4]スルフルラミド(sulfluramid)等が挙げられる。
c-13: Oxidative phosphorylation uncoupling agent that disrupts the proton gradient As oxidative phosphorylation uncoupling agents that disrupt the proton gradient, [c-13.1] chlorfenapyl, [c-13.2] DNOC (dinitro-ortho-cresol), [c-13.3] binapacryl, [c-13.4] sulfluramid and the like.

c-14:ニコチン性アセチルコリン受容体(nAChR)チャネルブロッカー
ニコチン性アセチルコリン受容体(nAChR)チャネルブロッカーとして、[c-14.1]ベンスルタップ(bensultap)、[c-14.2]カルタップ塩酸塩(cartap hydrochloride)、[c-14.3]チオシクラム(thiocyclam)、[c-14.4]モノスルタップ(monosultap)等が挙げられる。
c-14: Nicotinic acetylcholine receptor (nAChR) channel blocker As nicotinic acetylcholine receptor (nAChR) channel blockers, [c-14.1] bensultap, [c-14.2] cartap hydrochloride hydrochloride), [c-14.3] thiocyclam, [c-14.4] monosultap and the like.

c-15:キチン生合成阻害剤タイプ0
キチン生合成阻害剤タイプ0として、[c-15.1]ビストリフルロン(bistrifluron)、[c-15.2]クロルフルアズロン(chlorfluazuron)、[c-15.3]ジフルベンズロン(diflubenzuron)、[c-15.4]フルシクロクスロン(flucycloxuron)、[c-15.5]フルフェノクスロン(flufenoxuron)、[c-15.6]ヘキサフルムロン(hexaflumuron)、[c-15.7]ルフェヌロン(lufenuron)、[c-15.8]ノバルロン(novaluron)、[c-15.9]ノビフルムロン(noviflumuron)、[c-15.10]テフルベンズロン(teflubenzuron)、[c-15.11]トリフルムロン(triflumuron)等が挙げられる。
c-15: chitin biosynthesis inhibitor type 0
As chitin biosynthesis inhibitor type 0, [c-15.1] bistrifluron, [c-15.2] chlorfluazuron, [c-15.3] diflubenzuron, [c-15.4] flucycloxuron, [c-15.5] flufenoxuron, [c-15.6] hexaflumuron, [c-15.7] lufenuron, [c-15.8] novaluron, [c-15.9] noviflumuron, [c-15.10] teflubenzuron, [c-15.11] triflumuron ( triflumuron) and the like.

c-16:キチン生合成阻害剤タイプ1
キチン生合成阻害剤タイプ1として、[c-16.1]ブプロフェジン(buprofezin)等が挙げられる。
c-16: chitin biosynthesis inhibitor type 1
Chitin biosynthesis inhibitor type 1 includes [c-16.1] buprofezin and the like.

c-17:ハエ目昆虫脱皮阻害剤
ハエ目昆虫脱皮阻害剤として、[c-17.1]シロマジン(cyromazine)等が挙げられる。
c-17: Moulting Inhibitor of Diptera Insect Moulting inhibitor of Diptera includes [c-17.1] cyromazine and the like.

c-18:脱皮ホルモン(エクダイソン)受容体アゴニスト
脱皮ホルモン(エクダイソン)受容体アゴニストとして、[c-18.1]クロマフェノジド(chromafenozide)、[c-18.2]ハロフェノジド(halofenozide)、[c-18.3]メトキシフェノジド(methoxyfenozide)、[c-18.4]テブフェノジド(tebufenozide)等が挙げられる。
c-18: molting hormone (ecdysone) receptor agonists [c-18.1] chromafenozide, [c-18.2] halofenozide, [c-18] as molting hormone (ecdysone) receptor agonists .3] methoxyfenozide, [c-18.4] tebufenozide and the like.

c-19:オクトパミン受容体アゴニスト
オクトパミン受容体アゴニストとして、[c-19.1]アミトラズ(amitraz)等が挙げられる。
c-19: Octopamine Receptor Agonists Examples of octopamine receptor agonists include [c-19.1] amitraz and the like.

c-20:ミトコンドリア電子伝達系複合体III阻害剤
ミトコンドリア電子伝達系複合体III阻害剤として、[c-20.1]ヒドラメチルノン(hydramethylnon)、[c-20.2]アセキノシル(acequinocyl)、[c-20.3]フルアクリピリム(fluacrypyrim)、[c-20.4]ビフェナゼート(bifenazate)等が挙げられる。
c-20: Mitochondrial Electron Transport System Complex III Inhibitors As mitochondrial electron transport system complex III inhibitors, [c-20.1] hydramethylnon, [c-20.2] acequinocyl, [c-20.3] fluacrypyrim, [c-20.4] bifenazate and the like.

c-21:ミトコンドリア電子伝達系複合体I阻害剤(METI)
ミトコンドリア電子伝達系複合体I阻害剤(METI)として、[c-21.1]フェナザキン(fenazaquin)、[c-21.2]フェンピロキシメート(fenpyroximate)、[c-21.3]ピリダベン(pyridaben)、[c-21.4]ピリミジフェン(pylimidifen)、[c-21.5]テブフェンピラド(tebufenpyrad)、[c-21.6]トルフェンピラド(tolfenpyrad)、[c-21.7]ロテノン(rotenone)等が挙げられる。
c-21: mitochondrial electron transport chain complex I inhibitor (METI)
As mitochondrial electron transport chain complex I inhibitors (METI), [c-21.1] fenazaquin, [c-21.2] fenpyroximate, [c-21.3] pyridaben, [c-21.4] pyrimidifen, [c-21.5] tebufenpyrad, [c-21.6] tolfenpyrad, [c-21.7] rotenone and the like be done.

c-22:電位依存性ナトリウムチャネルブロッカー
電位依存性ナトリウムチャネルブロッカーとして、[c-22.1]インドキサカルブ(indoxacarb)、[c-22.2]メタフルミゾン(metaflumizone)等が挙げられる。
c-22: Voltage-gated sodium channel blockers Voltage-gated sodium channel blockers include [c-22.1] indoxacarb, [c-22.2] metaflumizone and the like.

c-23:アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤
アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤として、[c-23.1]スピロジクロフェン(spirodiclofen)、[c-23.2]スピロメシフェン(spiromesifen)、[c-23.3]スピロテトラマト(spirotetramat)等が挙げられる。
c-23: Acetyl-CoA carboxylase inhibitors As acetyl-CoA carboxylase inhibitors, [c-23.1] spirodiclofen, [c-23.2] spiromesifen, [c-23.3 ] and spirotetramat.

c-24:ミトコンドリア電子伝達系複合体IV阻害剤
ミトコンドリア電子伝達系複合体IV阻害剤として、[c-24.1]リン化アルミニウム(aluminum phosphide)、[c-24.2]リン化カルシウム(calcium phosphide)、[c-24.3]リン化水素(phosphine)、[c-24.4]リン化亜鉛(zinc phosphide)、[c-24.5]シアン化カルシウム(calcium cyanide)、[c-24.6]シアン化ナトリウム(potassium cyanide)、[c-24.7]シアン化カリウム(sodium cyanide)等が挙げられる。
c-24: Mitochondrial electron transport system complex IV inhibitor Mitochondrial electron transport system complex IV inhibitors include [c-24.1] aluminum phosphide, [c-24.2] calcium phosphide ( calcium phosphide), [c-24.3] phosphine, [c-24.4] zinc phosphide, [c-24.5] calcium cyanide, [c -24.6] sodium cyanide, [c-24.7] sodium cyanide and the like.

c-25:ミトコンドリア電子伝達系複合体II阻害剤
ミトコンドリア電子伝達系複合体II阻害剤として、[c-25.1]シエノピラフェン(cyenopyrafen)、[c-25.2]シフルメトフェン(cyflumetofen)、[c-25.3]ピフルブミド(pyflubumide)等が挙げられる。
c-25: Mitochondrial electron transport system complex II inhibitors As mitochondrial electron transport system complex II inhibitors, [c-25.1] cyenopyrafen, [c-25.2] cyflumetofen, [c -25.3] pyflubumide and the like.

c-26:リアノジン受容体モジュレーター
リアノジン受容体モジュレーターとして、[c-26.1]クロラントラニリプロール(chlorantraniliprole)、[c-26.2]シアントラニリプロール(cyantraniliprole)、[c-26.3]フルベンジアミド(flubendiamide)等が挙げられる。
c-26: ryanodine receptor modulators As ryanodine receptor modulators, [c-26.1] chlorantraniliprole, [c-26.2] cyantraniliprole, [c-26. 3] Flubendiamide and the like.

c-27:標的部位未特定の弦音器官モジュレーター
標的部位未特定の弦音器官モジュレーターとして、[c-27.1]フロニカミド(flonicamid)等が挙げられる。
c-27: Unspecified target-site-unspecified chordotonal organ modulator Examples of target-site-unspecified chordotonal organ modulators include [c-27.1] flonicamid and the like.

c-28:その他の殺虫剤
その他の殺虫剤として、[c-28.1]アザジラクチン(azadirachtin)、[c-28.2]ベンゾキシメート(benzoximate)、[c-28.3]フェニソブロモレート(phenisobromolate)、[c-28.4]キノメチオナート(chinomethionat)、[c-28.5]ジコホル(dicofol)、[c-28.6]ピリダリル(pyridalyl)、[c-28.7]ブロモプロピレート(bromopropylate)、[c-28.8]トリアザメート(triazamate)、[c-28.9]ジシクラニル(dicyclanil)、[c-28.10]ジノブトン(dinobuton)、[c-28.11]ジノカップ(dinocap)、[c-28.12]シアン化水素(hydrogen cyanide)、[c-28.13]ヨウ化メチル(methyl iodide)、[c-28.14]カランジン(karanjin)、[c-28.15]塩化水銀(mercury chloride)、[c-28.16]メチルイソチオシアネート(methyl isothiocyanate)、[c-28.17]ペンタクロロフェノール(pentachlorophenol)、[c-28.18]ホスフィン(phosphine)、[c-28.19]ピペロニル ブトキシド(piperonyl butoxide)、[c-28.20]ポリナクチン複合体(polynactins)、[c-28.21]サバディラ(sabadilla)、[c-28.22]スルコフロン塩(スルコフロン-ナトリウム(sulcofuron-sodium))、[c-28.23]トリブホス(tribufos)、[c-28.24]アルドリン(aldrin)、[c-28.25]アミジチオオン(amidithion)、[c-28.26]アミドチオエート(amidothioate)、[c-28.27]アミノカルブ(aminocarb)、[c-28.28]アミトン(amiton)、[c-28.29]アラマイト(aramite)、[c-28.30]アチダチオン(athidathion)、[c-28.31]アゾトエート(azothoate)、[c-28.32]ポリスルフィドバリウム(barium polysulphide)、[c-28.33]ベンクロチアズ(benclothiaz)、[c-28.34]5-(1,3-ベンゾジオキソール-5-イル)-3-ヘキシルシクロヘキサ-2-エノン(5-(1,3-benzodioxole-5-yl)-3-hexylcyclohexa-2-enone)、[c-28.35]1,1-ビス(4-クロロフェニル)-2-エトキシエタノール(1,1-bis(4-chlorophenyl)-2-ethoxyethanol)、[c-28.36]ブトネート(butonate)、[c-28.37]ブトピロノキシル(butopyronoxyl)、[c-28.38]2-(2-ブトキシエトキシ)エチル チオシアナート(2-(2-butoxyethoxy)ethyl thiocyanate)、[c-28.39]カンフェクロル(camphechlor)、[c-28.40]クロルベンシド(chlorbenside)、[c-28.41]クロルデコン(chlordecone)、[c-28.42]クロルジメホルム(chlordimeform)、[c-28.43]クロルフェネトール(chlorfenethol)、[c-28.44]クロルフェンソン(chlorfenson)、[c-28.45]フルアズロン(fluazuron)、[c-28.46]メタアルデヒド(metaldehyde)、[c-28.47]ビアラホス(bialaphos)、[c-28.48]塩酸レバミゾール(levamisol)、[c-28.49]アミドフルメト(amidoflumet)、[c-28.50]ピラフルプロール(pyrafluprole)、[c-28.51]ピリプロール(pyriprole)、[c-28.52]トラロピリル(tralopyril)、[c-28.53]フルピラゾフォス(flupyrazofos)、[c-28.54]ジオフェノラン(diofenolan)、[c-28.55]クロルベンジレート(chlorobenzilate)、[c-28.56]フルフェンジン(flufenzine)、[c-28.57]ベンゾメート(benzomate)、[c-28.58]フルフェネリム(flufenerim)、[c-28.59]アルベンダゾール(albendazole)、[c-28.60]オキシベンダゾール(oxibendazole)、[c-28.61]フェンベンダゾール(fenbendazole)、[c-28.62]メタム・ナトリウム(metam-sodium)、[c-28.63]1,3-ジクロロプロペン(1,3-dichloropropene)、[c-28.64]フロメトキン(flometoquin)、[c-28.65]シクラニリプロール(cyclaniliprole)、[c-28.66]テトラニリプロール(tetraniliprole)、[c-28.67]ブロフラニリド(broflanilide)、[c-28.68]ジクロロメゾチアズ(dicloromezotiaz)、[c-28.69]エチレンジブロマイド(ethylene dibromide)、[c-28.70]アクリロニトリル(acrylonitrile)、[c-28.71]ビス(2-クロロエチル)エーテル(bis(2-chloroethyl)ether)、[c-28.72]1-ブロモ-2-クロロエタン(1-bromo-2-chloroethane)、[c-28.73]3-ブロモ-1-クロロプロパ-1-エン(3-bromo-1-chloroprop-1-ene)、[c-28.74]ブロモシクレン(bromocyclen)、[c-28.75]二硫化炭素(carbon disulfide)、[c-28.76]四塩化炭素(tetrachloromethane)、[c-28.77]ネマデクチン(nemadectin)、[c-28.78]シミアゾール(cymiazole)[c-28.79]カルシウム ポリスルフィド(calcium polysulfide)、[c-28.80]サイトカイニン(cytokinin)、[c-28.81]2-(オクチルチオ)エタノール、[c-28.82]オレイン酸カリウム(potassium oleate)、[c-28.83]オレイン酸ナトリウム(sodium oleate)、[c-28.84]マシン油(machine oil)、[c-28.85]タール油(tar oil)、[c-28.86]アナバシン(anabasine)、[c-28.87]酒石酸モランテル(morantel tartrate)、[c-28.88]除虫菊(ピレトリン(pyrethrum))、[c-28.89]ナタネ油(rape seed oil)、[c-28.90]ダイズレチシン(soybean lecithin)、[c-28.91]デンプン(starch)、[c-28.92]ヒドロキシプロピルデンプン(hydroxypropylstarch)、[c-28.93]脂肪酸グリセリド(decanoyloctanoylglycerol)、[c-28.94]プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル(propylene glycol fatty acid ester)、[c-28.95]ケイソウ土(diatomite)、[c-28.96]アフォキソラネル(afoxolaner)、[c-28.97]フルアザインドリジン(fluazaindolizine)、[c-28.98]アフィドピロペン(afidopyropen)、[c-28.99]シハロジアミド(cyhalodiamide)、[c-28.100]チオキサザフェン(tioxazafen)、[c-28.101]フルヘキサフォン(fluhexafon)、[c-28.102]フルララネル(fluralaner)、[c-28.103]フルキサメタミド(fluxametamide)、[c-28.104]テトラクロラントラニリプロール(tetrachlorantraniliprole)、[c-28.105]サロラネル(sarolaner)、[c-28.106]ロチラネル(lotilaner)、[c-28.107]シクロキサプリド(cycloxaprid)、[c-28.108]フルエンスルホン(fluensulfone)、[c-28.109]TPIC(tripropyl isocyanurate)、[c-28.110]D-D(1,3-Dichloropropene)、[c-28.111]ペルオキソカルボナート(peroxocarbonate)、[c-28.112]MB-599(verbutin)、[c-28.113]ビス(2,3,3,3-テトラクロロプロピル)エーテル(bis(2,3,3,3-tetrachloropropyl) ether)、[c-28.114]DCIP(bis(2-chloro-1-methylethyl)ether)、[c-28.115]ENT-8184(N-(2-Ethylhexyl)bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2,3-dicarboximide)、[c-28.116]Bayer 22408(O,O-diethyl O-naphthalimido phosphorothioate)、[c-28.117]Bayer 32394(tris(1-dodecyl-3-methyl-2-phenylbenzimidazolium)hexacyanoferrate)、
c-28: Other insecticides Other insecticides such as [c-28.1] azadirachtin, [c-28.2] benzoximate, [c-28.3] phenisobromo phenisobromolate, [c-28.4]chinomethionate, [c-28.5]dicofol, [c-28.6]pyridalyl, [c-28.7]bromopropoxy bromopropylate, [c-28.8] triazamate, [c-28.9] dicyclanil, [c-28.10] dinobuton, [c-28.11] dinocap ( dinocap), [c-28.12] hydrogen cyanide, [c-28.13] methyl iodide, [c-28.14] karanjin, [c-28.15] mercury chloride, [c-28.16] methyl isothiocyanate, [c-28.17] pentachlorophenol, [c-28.18] phosphine, [c -28.19] piperonyl butoxide, [c-28.20] polynactin complexes (polynactins), [c-28.21] sabadilla, [c-28.22] sulcofuron salts (sulcofuron- sodium (sulcofuron-sodium), [c-28.23] tribufos, [c-28.24] aldrin, [c-28.25] amidithion, [c-28.26 ] Amidothioate, [c-28.27] aminocarb, [c-28.28] amiton, [c-28.29] aramite, [c-28.30 ] athidathion, [c-28.31] azothoate, [c-28.32] polysulfide barium (barium polysulfide ), [c-28.33] benclothiaz, [c-28.34] 5-(1,3-benzodioxol-5-yl)-3-hexylcyclohex-2-enone (5- (1,3-benzodioxole-5-yl)-3-hexylcyclohexa-2-enone), [c-28.35] 1,1-bis(4-chlorophenyl)-2-ethoxyethanol (1,1-bis( 4-chlorophenyl)-2-ethoxyethanol), [c-28.36] butonate, [c-28.37] butopyronoxyl, [c-28.38] 2-(2-butoxyethoxy) ethyl Thiocyanate (2-(2-butoxyethoxy)ethyl thiocyanate), [c-28.39] camphechlor, [c-28.40] chlorbenside, [c-28.41] chlordecone, [ c-28.42] chlordimeform, [c-28.43] chlorfenethol, [c-28.44] chlorfenson, [c-28.45] fluazuron , [c-28.46] metaldehyde, [c-28.47] bialaphos, [c-28.48] levamisol hydrochloride, [c-28.49] amidoflumet , [c-28.50] pyrafluprole, [c-28.51] pyriprole, [c-28.52] tralopyril, [c-28.53] flupyrazofos , [c-28.54] diofenolan, [c-28.55] chlorobenzylate, [c-28.56] flufenzine, [c-28.57] benzomate , [c-28.58] flufenerim, [c-28.59] albendazole, [c-28.60] oxybendazole dazole), [c-28.61] fenbendazole, [c-28.62] metam-sodium, [c-28.63] 1,3-dichloropropene (1,3 -dichloropropene), [c-28.64] flometoquin, [c-28.65] cyclaniliprole, [c-28.66] tetraniliprole, [c-28. 67] broflanilide, [c-28.68] dichloromezotiaz, [c-28.69] ethylene dibromide, [c-28.70] acrylonitrile, [ c-28.71] bis (2-chloroethyl) ether (bis (2-chloroethyl) ether), [c-28.72] 1-bromo-2-chloroethane (1-bromo-2-chloroethane), [c- 28.73]3-bromo-1-chloroprop-1-ene, [c-28.74]bromocyclen, [c-28.75]disulfide carbon disulfide, [c-28.76] tetrachloromethane, [c-28.77] nemadectin, [c-28.78] cymiazole [c-28.79] calcium polysulfide, [c-28.80] cytokinin, [c-28.81] 2-(octylthio)ethanol, [c-28.82] potassium oleate, [c -28.83] sodium oleate, [c-28.84] machine oil, [c-28.85] tar oil, [c-28.86] anabasine ( anabasine), [c-28.87] morantel tartrate, [c-28.88] pyrethrum, [c-28.89] rape seed oil), [c-28.90] soybean lecithin, [c-28.91] starch, [c-28.92] hydroxypropylstarch, [c-28.93] fatty acid decanoyloctanoylglycerol, [c-28.94] propylene glycol fatty acid ester, [c-28.95] diatomite, [c-28.96] afoxolaner, [c-28.97] fluazaindolizine, [c-28.98] afidopyropen, [c-28.99] cyhalodiamide, [c-28.100] tioxazafen , [c-28.101] fluhexafon, [c-28.102] fluralaner, [c-28.103] fluxametamide, [c-28.104] tetrachlorantrani tetrachlorantraniliprole, [c-28.105]sarolaner, [c-28.106]lotilaner, [c-28.107]cycloxaprid, [c-28.108]fluene fluensulfone, [c-28.109] TPIC (tripropyl isocyanurate), [c-28.110] DD (1,3-Dichloropropene), [c-28.111] peroxocarbonate, [c-28.112] MB-599 (verbutin), [c-28.113] bis (2,3,3,3-tetrachloropropyl) ether (bis (2,3,3,3-tetrachloropropyl) ether ), [c-28.114] DCIP (bis(2-chloro-1-methylethyl) ether), [c-28.115] ENT-8184 (N-(2-Ethylhexyl)bicyclo[2.2.1] hept-5-ene-2,3-dic arboximide)、[c-28.116]Bayer 22408(O,O-diethyl O-naphthalimido phosphorothioate)、[c-28.117]Bayer 32394(tris(1-dodecyl-3-methyl-2-phenylbenzimidazolium)hexacyanoferrate) ,

[c-28.118]式(s34)

Figure 0007118961000155

で表される化合物(国際公開第10/051926号参照)、[c-28.118] formula (s34)
Figure 0007118961000155

A compound represented by (see WO 10/051926),

[c-28.119]式(s35)

Figure 0007118961000156

で表される化合物(国際公開第13/115391号参照)、[c-28.119] formula (s35)
Figure 0007118961000156

A compound represented by (see WO 13/115391),

[c-28.120]式(s36)

Figure 0007118961000157

で表される化合物(国際公開第12/029672号参照)、[c-28.120] formula (s36)
Figure 0007118961000157

A compound represented by (see WO 12/029672),

[c-28.121]式(s37)

Figure 0007118961000158

で表される化合物(国際公開第06/056108号参照)、[c-28.121] formula (s37)
Figure 0007118961000158

A compound represented by (see WO 06/056108),

[c-28.122]式(s38)

Figure 0007118961000159

で表される化合物(国際公開第14/053450号、国際特許第15/144683号参照)、[c-28.122] formula (s38)
Figure 0007118961000159

(see International Publication No. 14/053450, International Patent No. 15/144683),

[c-28.123]式(s39)

Figure 0007118961000160

で表される化合物(国際公開第14/053450号、国際特許第15/144683号参照)、[c-28.123] formula (s39)
Figure 0007118961000160

(see International Publication No. 14/053450, International Patent No. 15/144683),

[c-28.124]式(s40)

Figure 0007118961000161

で表される化合物(国際公開第14/053450号、国際特許第15/144683号参照)、[c-28.124] formula (s40)
Figure 0007118961000161

(see International Publication No. 14/053450, International Patent No. 15/144683),

[c-28.125]式(s41)

Figure 0007118961000162

[式中、m6は、0~2の整数を表す。]で表される化合物(国際公開第10/129497号参照)、[c-28.125] formula (s41)
Figure 0007118961000162

[In the formula, m6 represents an integer of 0 to 2. ] (see WO 10/129497),

[c-28.126]式(s42)

Figure 0007118961000163

[式中、m7は、0~2の整数を表す。]で表される化合物(国際公開第11/152320号参照)、[c-28.126] formula (s42)
Figure 0007118961000163

[In the formula, m7 represents an integer of 0 to 2. ] (see WO 11/152320),

[c-28.127]式(s43)

Figure 0007118961000164

[式中、m8は、0~2の整数を表す。]で表される化合物(特開平27―160813号公報参照)、[c-28.127] formula (s43)
Figure 0007118961000164

[In the formula, m8 represents an integer of 0 to 2. ] (see JP-A-27-160813),

[c-28.128]式(s44)

Figure 0007118961000165

[式中、A52は、水素原子、またはフッ素原子を表す。]で表される化合物(国際公開第11/134964号、国際特許第14/005982号参照)、[c-28.128] formula (s44)
Figure 0007118961000165

[In the formula, A52 represents a hydrogen atom or a fluorine atom. ] (see International Publication No. 11/134964, International Patent No. 14/005982),

[c-28.129]式(s45)

Figure 0007118961000166

[式中、m9は、0~2の整数を表し、A53は、フッ素原子、または塩素原子を表す。]で表される化合物(国際公開第15/025826号参照)、[c-28.129] formula (s45)
Figure 0007118961000166

[In the formula, m9 represents an integer of 0 to 2, and A53 represents a fluorine atom or a chlorine atom. ] (see WO 15/025826),

[c-28.130]式(s46)

Figure 0007118961000167

[式中、V3は、窒素原子、炭素原子、またはC-Fを表し、V4およびV5は、それぞれ独立していて、窒素原子、または炭素原子を表す。]で表される化合物(国際公開第11/134964号、国際公開第14/005982号参照)、[c-28.130] formula (s46)
Figure 0007118961000167

[In the formula, V3 represents a nitrogen atom, a carbon atom, or CF, and V4 and V5 each independently represent a nitrogen atom or a carbon atom. ] (see WO 11/134964, WO 14/005982),

[c-28.131]式(s47)

Figure 0007118961000168

[式中、A54は、水素原子、メチル基、メトキシ基、またはエトキシ基を表し、A55は、塩素原子、またはメチル基を表し、A56は、メチル基、またはエチル基を表す。]で表される化合物(国際公開第09/049851号参照)、[c-28.131] formula (s47)
Figure 0007118961000168

[In the formula, A54 represents a hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group or an ethoxy group, A55 represents a chlorine atom or a methyl group, and A56 represents a methyl group or an ethyl group. ] (see WO 09/049851),

[c-28.132]式(s48)

Figure 0007118961000169

[式中、A57は、水素原子、フッ素原子、または塩素原子を表し、A58は、
Figure 0007118961000170

からなる群から選択される1種の部分構造を表す。]で表される化合物(国際公開第11/067272号参照)、[c-28.132] formula (s48)
Figure 0007118961000169

[Wherein, A57 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or a chlorine atom, and A58 is
Figure 0007118961000170

represents one partial structure selected from the group consisting of ] (see WO 11/067272),

[c-28.133]式(s49)

Figure 0007118961000171

[式中、A59は、水素原子、フッ素原子、または塩素原子を表し、A60は、
Figure 0007118961000172

からなる群から選択される部分構造を表す。]で表される化合物(国際公開第10/090344号参照)、[c-28.133] formula (s49)
Figure 0007118961000171

[Wherein, A59 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or a chlorine atom, and A60 is
Figure 0007118961000172

represents a partial structure selected from the group consisting of ] (see WO 10/090344),

[c-28.134]式(s50)

Figure 0007118961000173

[式中、m10は、0~2の整数を表し、A61は、トリフルオロメチル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルスルフィニル基、またはトリフルオロメチルスルホニル基を表し、A62は、水素原子、またはトリフルオロメチル基を表し、V6は、窒素原子、または炭素原子を表し、V7は、酸素原子、またはN-メチル基を表す。]で表される化合物(国際公開第14/104407号参照)、[c-28.134] formula (s50)
Figure 0007118961000173

[Wherein, m10 represents an integer of 0 to 2, A61 represents a trifluoromethyl group, a trifluoromethylthio group, a trifluoromethylsulfinyl group, or a trifluoromethylsulfonyl group, A62 represents a hydrogen atom, or represents a trifluoromethyl group, V6 represents a nitrogen atom or a carbon atom, and V7 represents an oxygen atom or an N-methyl group. ] (see WO 14/104407),

[c-28.135]式(s51)

Figure 0007118961000174

[式中、A63は、水素原子、またはフッ素原子を表し、アミド基は4位、または5位に結合し、A64は、
Figure 0007118961000175

からなる群から選択される部分構造を表す。]で表される化合物(国際公開第15/038503号、国際特許第16/144351号、国際特許第16/144678号参照)、[c-28.135] formula (s51)
Figure 0007118961000174

[Wherein, A63 represents a hydrogen atom or a fluorine atom, an amide group is bonded to the 4th or 5th position, and A64 is
Figure 0007118961000175

represents a partial structure selected from the group consisting of ] (see International Publication No. 15/038503, International Patent No. 16/144351, International Patent No. 16/144678),

[c-28.136]式(s52)

Figure 0007118961000176

[式中、A65は、水素原子、C1~C6のアルキル基、またはC1~C6のハロアルキル基を表し、A66は、水素原子、ハロゲン原子、またはC1~C6のアルキル基を表し、A67およびA68は、それぞれ独立していて、水素原子、シアノ基で適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、メトキシ基で適宜置換されてもよいアルキル基、エトキシ基で適宜置換されてもよいアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表し、
A69は、水素原子、シアノ基、シアノ基で適宜置換されてもよいC1~C6のハロアルキル基、C1~C6のアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表す。]で表される化合物(国際公開第12/143317号、国際特許第16/016369号参照)、[c-28.136] formula (s52)
Figure 0007118961000176

[In the formula, A65 represents a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, or a C1-C6 haloalkyl group, A66 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a C1-C6 alkyl group, and A67 and A68 are , which are each independently a hydrogen atom, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a cyano group, an alkyl group optionally substituted with a methoxy group, an alkyl group optionally substituted with an ethoxy group, or represents a C3-C8 cycloalkyl group,
A69 represents a hydrogen atom, a cyano group, a C1-C6 haloalkyl group optionally substituted with a cyano group, a C1-C6 alkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group. ] (see International Publication No. 12/143317, International Patent No. 16/016369),

[c-28.137]式(s53)または式(s54)

Figure 0007118961000177

[式中、A70は、メチル基、エチル基、イソプロピル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、またはフェニル基を表し、A71は、
Figure 0007118961000178

からなる群から選択される部分構造を表し、A72は、
Figure 0007118961000179

からなる群から選択される部分構造を表し、V8は、酸素原子、硫黄原子、-CH-、または-CHCH-を表す。]で表される化合物(国際公開第14/167084号、国際特許第16/055431号参照)、[c-28.137] formula (s53) or formula (s54)
Figure 0007118961000177

[Wherein, A70 represents a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, or a phenyl group;
Figure 0007118961000178

A72 represents a partial structure selected from the group consisting of
Figure 0007118961000179

represents a partial structure selected from the group consisting of V8 represents an oxygen atom, a sulfur atom, —CH 2 —, or —CH 2 CH 2 —. ] (see International Publication No. 14/167084, International Patent No. 16/055431),

[c-28.138]式(s55)

Figure 0007118961000180

[式中、m11は、0~1の整数を表し、A73は、塩素原子、臭素原子、メチル基、またはトリフルオロメチル基を表し、A74は、水素原子、塩素原子、臭素原子、シアノ基、またはトリフルオロメチル基表し、A75は、水素原子、塩素原子または臭素原子を表し、A76およびA77は、それぞれ独立していて、C1~C6のアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表し、A78は、塩素原子、臭素原子、シアノ基、ニトロ基、ジフルオロメチル基、またはトリフルオロメチル基を表す。]で表される化合物(国際公開第13/024009号参照)、[c-28.138] formula (s55)
Figure 0007118961000180

[Wherein, m11 represents an integer of 0 to 1, A73 represents a chlorine atom, a bromine atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group, A74 represents a hydrogen atom, a chlorine atom, a bromine atom, a cyano group, or represents a trifluoromethyl group, A75 represents a hydrogen atom, a chlorine atom or a bromine atom, A76 and A77 each independently represent a C1-C6 alkyl group or a C3-C8 cycloalkyl group, A78 represents a chlorine atom, a bromine atom, a cyano group, a nitro group, a difluoromethyl group, or a trifluoromethyl group. ] (see WO 13/024009),

[c-28.139]式(s56)

Figure 0007118961000181

[式中、A79、A80、A81およびA82は、それぞれ独立していて、水素原子、ハロゲン原子、C1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、またはC3~C8のシクロアルコキシ基を表す。]で表される化合物(国際公開第12/027521号参照)、[c-28.139] formula (s56)
Figure 0007118961000181

[wherein A79, A80, A81 and A82 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, or a C3-C8 represents a cycloalkoxy group. ] (see WO 12/027521),

[c-28.140]式(s57)

Figure 0007118961000182

[式中、m12は、0~2の整数を表し、A83は、水素原子、またはフッ素原子を表し、A84は、
Figure 0007118961000183

からなる群から選択される部分構造を表す。]で表される化合物(国際公開第13/162715号参照)、[c-28.140] formula (s57)
Figure 0007118961000182

[Wherein, m12 represents an integer of 0 to 2, A83 represents a hydrogen atom or a fluorine atom, and A84 represents
Figure 0007118961000183

represents a partial structure selected from the group consisting of ] (see WO 13/162715),

[c-28.141]アシノナピル(acynonapyr)、
[c-28.142]式(s59)

Figure 0007118961000184

[A90は、ハロゲン原子、C1~C6のアルキル基、またはC1~C6のハロアルキル基を表し、A91は、C1~C6のハロアルキル基を表し、A92およびA93は、それぞれ独立していて、水素原子、C1~C6のアルキル基、アセチル基、プロピオノイル基、メタンスルホニルエチル基、メトキシカルボニル基、またはエトキシカルボニル基を表し、A94およびA95は、それぞれ独立していて、水素原子、C1~C6のアルキル基、またはC1~C6のハロアルキル基を表す。]で表される化合物(国際公開第12/164698号参照)等が挙げられる。[c-28.141] acynonapyr,
[c-28.142] formula (s59)
Figure 0007118961000184

[A90 represents a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, or a C1-C6 haloalkyl group, A91 represents a C1-C6 haloalkyl group, A92 and A93 are each independently a hydrogen atom, represents a C1-C6 alkyl group, an acetyl group, a propionoyl group, a methanesulfonylethyl group, a methoxycarbonyl group, or an ethoxycarbonyl group, A94 and A95 each independently represent a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, or represents a C1-C6 haloalkyl group. ] (see International Publication No. 12/164698) and the like.

本発明化合物と有害生物防除剤の混合比は、効果が発揮される限りにおいて特に制限されるものではないが、通常、本発明化合物に対して有害生物防除剤が、重量比で0.001~1000の比率であり、好ましくは、0.01~100の比率である。 The mixing ratio of the compound of the present invention and the pest control agent is not particularly limited as long as the effect is exhibited. A ratio of 1000, preferably a ratio of 0.01 to 100.

以下に、合成例、参考例、および試験例を挙げて、本発明を更に詳細に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。 The present invention will be illustrated in more detail below by giving Synthesis Examples, Reference Examples, and Test Examples, but the present invention is not limited to these.

[合成例1]
3-クロロ-6-(2,6-ジフルオロフェニル)-1-エチル-5-(1-(メトキシイミノ)エチル)ピリジン-2(1H)-オンの合成(化合物番号:A-001とA-002)

Figure 0007118961000185

5-アセチル-3-クロロ-6-(2,6-ジフルオロフェニル)-1-エチルピリジン-2(1H)-オン 180mg、O-メチルヒドロキシルアミン塩酸塩 58mgとピリジン 94μlを含むエタノール溶液 4mlを還流下で1.5時間撹拌した。減圧下で溶媒留去した後に、反応混合物に1規定塩酸と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物は異性体混合物として得られ、主成分が低極性成分である白色固体を122mg、主成分が高極性成分である白色固体を28mg得た。前者が化合物番号1であり、その成分比率は>99:<1(低極性:高極性)であった。一方、後者は化合物番号2であり、その成分比は16:84(低極性:高極性)であった。[Synthesis Example 1]
Synthesis of 3-chloro-6-(2,6-difluorophenyl)-1-ethyl-5-(1-(methoxyimino)ethyl)pyridin-2(1H)-one (compound numbers: A-001 and A- 002)
Figure 0007118961000185

4 ml of an ethanol solution containing 180 mg of 5-acetyl-3-chloro-6-(2,6-difluorophenyl)-1-ethylpyridin-2(1H)-one, 58 mg of O-methylhydroxylamine hydrochloride and 94 μl of pyridine was refluxed. Stir under low heat for 1.5 hours. After the solvent was distilled off under reduced pressure, 1N hydrochloric acid and ethyl acetate were added to the reaction mixture to separate the layers. The obtained organic layer was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogencarbonate solution and saturated brine, and dried over sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as an isomer mixture, and 122 mg of a white solid whose main component was a low polar component and 28 mg of a white solid whose main component was a high polar component were obtained. The former was Compound No. 1, and its component ratio was >99:<1 (low polarity: high polarity). On the other hand, the latter was Compound No. 2, and its component ratio was 16:84 (low polarity:high polarity).

[合成例2]
ステップ1:5-クロロ-1-エチル-6-オキソ-2-(2,4,6-トリフルオロフェニル)-1,6-ジヒドロピリジン-3-カルバルデヒド オキシムの合成

Figure 0007118961000186

参考例1~6を参考にして調製した5-クロロ-2-(2,4,6-トリフルオロフェニル)-1-エチル-6-オキソ-1,6-ジヒドロピリジン-3-カルボアルデヒド 3.06g、ヒドロキシルアミン塩酸塩 743mgとピリジン 861μlを含むエタノール溶液 30mlを室温で1時間撹拌した。反応混合物に1規定塩酸と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、表題の化合物を含む3.30gの黄色アモルファスが得られた。これ以上精製することなく、次の反応に使用した。[Synthesis Example 2]
Step 1: Synthesis of 5-chloro-1-ethyl-6-oxo-2-(2,4,6-trifluorophenyl)-1,6-dihydropyridine-3-carbaldehyde oxime
Figure 0007118961000186

3.06 g of 5-chloro-2-(2,4,6-trifluorophenyl)-1-ethyl-6-oxo-1,6-dihydropyridine-3-carbaldehyde prepared with reference to Reference Examples 1 to 6 , 30 ml of an ethanol solution containing 743 mg of hydroxylamine hydrochloride and 861 μl of pyridine was stirred at room temperature for 1 hour. 1N Hydrochloric acid and ethyl acetate were added to the reaction mixture and the layers were separated, and the resulting organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. After evaporation of the solvent under reduced pressure, 3.30 g of a yellow amorphous containing the title compound were obtained. Used for next reaction without further purification.

H-NMR (CDCl) δ: 8.13 (1H, s), 7.36 (1H, s), 7.24 (1H, s), 6.92-6.88 (2H, m), 3.88 (2H, q, J = 7.2 Hz), 1.15 (3H, t, J = 7.2 Hz).
ステップ2:5-クロロ-1-エチル-N-ヒドロキシ-6-オキソ-2-(2,4,6-トリフルオロフェニル)-1,6-ジヒドロピリジン-3-カルビミドイルクロリドの合成

Figure 0007118961000187

ステップ1で得られた5-クロロ-1-エチル-6-オキソ-2-(2,4,6-トリフルオロフェニル)-1,6-ジヒドロピリジン-3-カルバルデヒド オキシム 300mgとN-クロロスクシンイミド 133mgを含むDMF溶液 3mlを50℃で40分間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、表題の化合物を含む356mgの黄色アモルファスが得られた。これ以上精製することなく、次の反応に使用した。 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.13 (1H, s), 7.36 (1H, s), 7.24 (1H, s), 6.92-6.88 (2H, m), 3.88 (2H, q, J = 7.2 Hz), 1.15 (3H, t, J = 7.2 Hz).
Step 2: Synthesis of 5-chloro-1-ethyl-N-hydroxy-6-oxo-2-(2,4,6-trifluorophenyl)-1,6-dihydropyridine-3-carbimidoyl chloride
Figure 0007118961000187

300 mg of 5-chloro-1-ethyl-6-oxo-2-(2,4,6-trifluorophenyl)-1,6-dihydropyridine-3-carbaldehyde oxime obtained in Step 1 and 133 mg of N-chlorosuccinimide 3 ml of a DMF solution containing was stirred at 50° C. for 40 minutes. After cooling to room temperature, water and ethyl acetate were added to the reaction mixture to separate the layers. The obtained organic layer was washed with saturated saline and dried with sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, 356 mg of a yellow amorphous was obtained containing the title compound. Used for next reaction without further purification.

ステップ3:3-クロロ-1-エチル-5-(1-(ヒドロキシイミノ)-2-メチルプロピル)-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オンの合成(化合物番号:A-009)

Figure 0007118961000188

ステップ1で得られた5-クロロ-1-エチル-N-ヒドロキシ-6-オキソ-2-(2,4,6-トリフルオロフェニル)-1,6-ジヒドロピリジン-3-カルビミドイルクロリド 152mgを含むTHF溶液 4mlに、イソプロピルマグネシウムクロリドのTHF溶液(2.0mol/L) 624μlを-78℃で滴下して3.5時間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が95mgの黄色アモルファスとして得られた。Step 3: Synthesis of 3-chloro-1-ethyl-5-(1-(hydroxyimino)-2-methylpropyl)-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridin-2(1H)-one (Compound number: A-009)
Figure 0007118961000188

152 mg of 5-chloro-1-ethyl-N-hydroxy-6-oxo-2-(2,4,6-trifluorophenyl)-1,6-dihydropyridine-3-carbimidoyl chloride obtained in Step 1 was 624 μl of a THF solution of isopropylmagnesium chloride (2.0 mol/L) was added dropwise to 4 ml of the THF solution containing the mixture at −78° C. and stirred for 3.5 hours. A saturated aqueous ammonium chloride solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture and the mixture was separated, and the obtained organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. 95 mg of the title compound was obtained as a yellow amorphous.

[合成例3]
3-クロロ-1-エチル-5-(1-(メトキシイミノ)-2-メチルプロピル)-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オンの合成(化合物番号:A-010)

Figure 0007118961000189

3-クロロ-1-エチル-5-(1-(ヒドロキシイミノ)-2-メチルプロピル)-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オン 69.8mg、ヨウ化メチル 23.3μlと酸化銀(I) 86.8mgを含むジクロロメタン溶液 2mlを室温で11時間撹拌した。さらに、ヨウ化メチル 23.3μlと酸化銀(I) 86.8mgを追加して、室温で2時間撹拌した。得られた反応混合物を濾過することにより不溶物を除去した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が48mgの白色固体として得られた。[Synthesis Example 3]
Synthesis of 3-chloro-1-ethyl-5-(1-(methoxyimino)-2-methylpropyl)-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridin-2(1H)-one (Compound No. : A-010)
Figure 0007118961000189

3-chloro-1-ethyl-5-(1-(hydroxyimino)-2-methylpropyl)-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridin-2(1H)-one 69.8 mg, iodine 2 ml of a dichloromethane solution containing 23.3 μl of methyl chloride and 86.8 mg of silver (I) oxide was stirred at room temperature for 11 hours. Furthermore, 23.3 μl of methyl iodide and 86.8 mg of silver (I) oxide were added, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. The insoluble matter was removed by filtering the obtained reaction mixture. After evaporating the filtrate under reduced pressure, the resulting residue was purified by silica gel column chromatography. 48 mg of the title compound was obtained as a white solid.

[合成例4]
3-クロロ-5-(5-エトキシ-4,5-ジヒドロイソキサゾール-3-イル)-1-エチル-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オンの合成(化合物番号:C-001)

Figure 0007118961000190

5-クロロ-1-エチル-6-オキソ-2-(2,4,6-トリフルオロフェニル)-1,6-ジヒドロピリジン-3-カルバルデヒド オキシム 203mgとN-クロロスクシンイミド 123mgを含むTHF溶液 5mlを50℃で1時間撹拌した。室温まで冷却した後に、エチルビニルエーテル 295μlとトリエチルアミン 95μlを加えて、室温で10分間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が217mgの淡黄色ガム状物質として得られた。[Synthesis Example 4]
3-chloro-5-(5-ethoxy-4,5-dihydroisoxazol-3-yl)-1-ethyl-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridin-2(1H)-one Synthesis of (compound number: C-001)
Figure 0007118961000190

5 ml of THF solution containing 203 mg of 5-chloro-1-ethyl-6-oxo-2-(2,4,6-trifluorophenyl)-1,6-dihydropyridine-3-carbaldehyde oxime and 123 mg of N-chlorosuccinimide Stir at 50° C. for 1 hour. After cooling to room temperature, 295 μl of ethyl vinyl ether and 95 μl of triethylamine were added and stirred at room temperature for 10 minutes. A saturated aqueous solution of sodium hydrogencarbonate and ethyl acetate were added to the reaction mixture and the mixture was separated, and then the resulting organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. After evaporating the filtrate under reduced pressure, the resulting residue was purified by silica gel column chromatography. 217 mg of the title compound was obtained as a pale yellow gum.

[合成例5]
3-クロロ-1-エチル-5-(イソキサゾール-3-イル)-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オンの合成(化合物番号:B-001)

Figure 0007118961000191

ステップ1で得られた3-クロロ-5-(5-エトキシ-4,5-ジヒドロイソキサゾール-3-イル)-1-エチル-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オン 169mgとp-トルエンスルホン酸一水和物 7mgを含むトルエン溶液 4mlを還流下で15分間撹拌した。さらにp-トルエンスルホン酸一水和物 65mgを追加して、還流下で1時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が132mgの白色固体として得られた。[Synthesis Example 5]
Synthesis of 3-chloro-1-ethyl-5-(isoxazol-3-yl)-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridin-2(1H)-one (Compound No.: B-001)
Figure 0007118961000191

3-chloro-5-(5-ethoxy-4,5-dihydroisoxazol-3-yl)-1-ethyl-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridine- obtained in step 1 4 ml of a toluene solution containing 169 mg of 2(1H)-one and 7 mg of p-toluenesulfonic acid monohydrate was stirred under reflux for 15 minutes. Further, 65 mg of p-toluenesulfonic acid monohydrate was added, and the mixture was stirred under reflux for 1 hour. After cooling to room temperature, saturated aqueous sodium hydrogencarbonate solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture to separate the layers. The obtained organic layer was washed with saturated saline and dried with sodium sulfate. After evaporating the filtrate under reduced pressure, the resulting residue was purified by silica gel column chromatography. 132 mg of the title compound was obtained as a white solid.

[合成例6]
5-(4-ブロモイソキサゾール-3-イル)-3-クロロ-1-エチル-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オンの合成(化合物番号:B-002)

Figure 0007118961000192

3-クロロ-1-エチル-5-(イソキサゾール-3-イル)-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オン 603mgと臭素 1.46mlを含む酢酸溶液 17mlを120℃で5時間撹拌した。さらに、臭素 973μlを追加して、120℃で3時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物にチオ硫酸ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が249mgの白色固体として得られた。[Synthesis Example 6]
Synthesis of 5-(4-bromoisoxazol-3-yl)-3-chloro-1-ethyl-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridin-2(1H)-one (compound number: B-002)
Figure 0007118961000192

17 ml of acetic acid solution containing 603 mg of 3-chloro-1-ethyl-5-(isoxazol-3-yl)-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridin-2(1H)-one and 1.46 ml of bromine was stirred at 120° C. for 5 hours. Further, 973 µl of bromine was added, and the mixture was stirred at 120°C for 3 hours. After cooling to room temperature, an aqueous sodium thiosulfate solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture to separate the layers. The obtained organic layer was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogencarbonate solution and saturated brine, and dried over sodium sulfate. After evaporating the filtrate under reduced pressure, the resulting residue was purified by silica gel column chromatography. 249 mg of the title compound was obtained as a white solid.

[合成例7]
ステップ1:3-クロロ-1-エチル-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)-5-(5-(トリメチルシリル)イソキサゾール-3-イル)ピリジン-2(1H)-オンの合成(化合物番号:B-004)

Figure 0007118961000193

5-クロロ-1-エチル-6-オキソ-2-(2,4,6-トリフルオロフェニル)-1,6-ジヒドロピリジン-3-カルバルデヒド オキシム 209mgとN-クロロスクシンイミド 93mgを含むTHF溶液 5mlを50℃で110分間撹拌した。さらにN-クロロスクシンイミド 42mgを追加して、50℃で40分間撹拌した。室温まで冷却した後に、トリメチルシリルアセチレン 437μlとトリエチルアミン 98μlを加えて、室温で15分間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が241mgの白色固体として得られた。[Synthesis Example 7]
Step 1: Synthesis of 3-chloro-1-ethyl-6-(2,4,6-trifluorophenyl)-5-(5-(trimethylsilyl)isoxazol-3-yl)pyridin-2(1H)-one ( Compound number: B-004)
Figure 0007118961000193

5-chloro-1-ethyl-6-oxo-2-(2,4,6-trifluorophenyl)-1,6-dihydropyridine-3-carbaldehyde oxime 209mg and N-chlorosuccinimide 93mg of THF solution 5ml Stir at 50° C. for 110 minutes. Further, 42 mg of N-chlorosuccinimide was added, and the mixture was stirred at 50°C for 40 minutes. After cooling to room temperature, 437 μl of trimethylsilylacetylene and 98 μl of triethylamine were added and stirred at room temperature for 15 minutes. A saturated aqueous solution of sodium hydrogencarbonate and ethyl acetate were added to the reaction mixture and the mixture was separated, and then the resulting organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. After evaporating the filtrate under reduced pressure, the resulting residue was purified by silica gel column chromatography. 241 mg of the title compound was obtained as a white solid.

[合成例8]
3-クロロ-5-(4,5-ジブロモイソキサゾール-3-イル)-1-エチル-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オン(化合物番号:B-003)および5-(4-ブロモ-5-(トリメチルシリル)イソキサゾール-3-イル)-3-クロロ-1-エチル-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オンの合成(化合物番号:B-005)

Figure 0007118961000194

3-クロロ-1-エチル-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)-5-(5-(トリメチルシリル)イソキサゾール-3-イル)ピリジン-2(1H)-オン 88mgとN-ブロモスクシンイミド 44mgを含むDMF溶液 2mlを80℃で20分間撹拌した後、120℃で1.5時間撹拌した。さらにN-ブロモスクシンイミド 147mgを追加して、120℃で55分間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。高極性成分である白色固体を31mg、低極性成分である白色固体を30mg得た。前者が化合物番号B-003であり、後者は化合物番号B-005であった。[Synthesis Example 8]
3-chloro-5-(4,5-dibromoisoxazol-3-yl)-1-ethyl-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridin-2(1H)-one (compound number: B-003) and 5-(4-bromo-5-(trimethylsilyl)isoxazol-3-yl)-3-chloro-1-ethyl-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridine-2(1H )-one synthesis (compound number: B-005)
Figure 0007118961000194

3-chloro-1-ethyl-6-(2,4,6-trifluorophenyl)-5-(5-(trimethylsilyl)isoxazol-3-yl)pyridin-2(1H)-one 88 mg and N-bromosuccinimide 2 ml of a DMF solution containing 44 mg was stirred at 80°C for 20 minutes and then stirred at 120°C for 1.5 hours. Further, 147 mg of N-bromosuccinimide was added, and the mixture was stirred at 120°C for 55 minutes. After cooling to room temperature, water and ethyl acetate were added to the reaction mixture to separate the layers. The resulting organic layer was washed successively with an aqueous sodium thiosulfate solution and saturated brine, and dried over sodium sulfate. After evaporating the filtrate under reduced pressure, the resulting residue was purified by silica gel column chromatography. 31 mg of a white solid, which is a highly polar component, and 30 mg of a white solid, which is a low polar component, were obtained. The former was Compound No. B-003 and the latter was Compound No. B-005.

[合成例9]
ステップ1:3-クロロ-5-(4-クロロ-5-(トリメチルシリル)イソキサゾール-3-イル)-1-エチル-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オンの合成

Figure 0007118961000195

3-クロロ-1-エチル-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)-5-(5-(トリメチルシリル)イソキサゾール-3-イル)ピリジン-2(1H)-オン 250mgとN-クロロスクシンイミド 102mgを含む酢酸溶液 5mlを100℃で40分間撹拌した。さらに、N-クロロスクシンイミド 102mgを追加して、100℃で1.5時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が73mgの白色固体として得られた。[Synthesis Example 9]
Step 1: 3-Chloro-5-(4-chloro-5-(trimethylsilyl)isoxazol-3-yl)-1-ethyl-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridine-2(1H)- Composite on
Figure 0007118961000195

3-chloro-1-ethyl-6-(2,4,6-trifluorophenyl)-5-(5-(trimethylsilyl)isoxazol-3-yl)pyridin-2(1H)-one 250 mg and N-chlorosuccinimide 5 ml of acetic acid solution containing 102 mg was stirred at 100° C. for 40 minutes. Further, 102 mg of N-chlorosuccinimide was added, and the mixture was stirred at 100° C. for 1.5 hours. After cooling to room temperature, saturated aqueous sodium hydrogencarbonate solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture to separate the layers. The obtained organic layer was washed with saturated saline and dried with sodium sulfate. After evaporating the filtrate under reduced pressure, the resulting residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 73 mg of white solid.

H-NMR (CDCl) δ: 7.71 (1H, s), 6.74-6.72 (2H, m), 3.98 (2H, q, J = 7.2 Hz), 1.19 (3H, t, J = 7.2 Hz), 0.36 (9H, s).
ステップ2:3-クロロ-5-(4-クロロイソキサゾール-3-イル)-1-エチル-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オンの合成(化合物番号:B-006)

Figure 0007118961000196

3-クロロ-5-(4-クロロ-5-(トリメチルシリル)イソキサゾール-3-イル)-1-エチル-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オン 96mgを含むアセトニトリル溶液 3mlに、エタノール 1mlとフッ化セシウム 41mgを加えて室温で5分撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が71mgの白色固体として得られた。 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 7.71 (1H, s), 6.74-6.72 (2H, m), 3.98 (2H, q, J = 7.2 Hz), 19 (3H, t, J = 7.2 Hz), 0.36 (9H, s).
Step 2: Synthesis of 3-chloro-5-(4-chloroisoxazol-3-yl)-1-ethyl-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridin-2(1H)-one ( Compound number: B-006)
Figure 0007118961000196

3-chloro-5-(4-chloro-5-(trimethylsilyl)isoxazol-3-yl)-1-ethyl-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridin-2(1H)-one 96 mg 1 ml of ethanol and 41 mg of cesium fluoride were added to 3 ml of the acetonitrile solution containing the mixture, and the mixture was stirred at room temperature for 5 minutes. A saturated aqueous ammonium chloride solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture and the mixture was separated, and the obtained organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 71 mg of white solid.

[合成例10]
ステップ1:3-クロロ-1-エチル-5-(1-(ヒドロキシイミノ)-2-メチルアリル)-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オンの合成

Figure 0007118961000197

5-クロロ-1-エチル-N-ヒドロキシ-6-オキソ-2-(2,4,6-トリフルオロフェニル)-1,6-ジヒドロピリジン-3-カルビミドイル クロリド 288mgを含むTHF溶液 3mlに、イソプロペニルマグネシウムブロミドのTHF溶液(0.5mol/L) 4.73mlを-78℃で滴下して30分間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が179mgの白色アモルファスとして得られた。[Synthesis Example 10]
Step 1: Synthesis of 3-chloro-1-ethyl-5-(1-(hydroxyimino)-2-methylallyl)-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridin-2(1H)-one
Figure 0007118961000197

Isopropenyl 4.73 ml of a THF solution (0.5 mol/L) of magnesium bromide was added dropwise at -78°C and stirred for 30 minutes. A saturated aqueous ammonium chloride solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture and the mixture was separated, and the obtained organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. 179 mg of the title compound was obtained as a white amorphous.

H-NMR (CDCl) δ: 7.62 (1H, s), 7.09 (1H, br s), 6.80-6.78 (2H, m), 5.24-5.23 (1H, m), 4.99-4.97 (1H, m), 3.90 (2H, q, J = 7.2 Hz), 1.75 (3H, s), 1.15 (3H, t, J = 7.2 Hz).
ステップ2:3-クロロ-1-エチル-5-(4-メチルイソキサゾール-3-イル)-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オンの合成(化合物番号:B-008)

Figure 0007118961000198

3-クロロ-1-エチル-5-(1-(ヒドロキシイミノ)-2-メチルアリル)-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オン 179mgを含むTHF溶液 4mlに炭酸水素ナトリウム 162mgを含む水溶液 3mlを室温で加えた。これにヨウ素 135mgとヨウ化カリウム 281mgの水溶液 3mlを加えて、還流下で50分間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物にチオ硫酸ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が20mgの白色固体として得られた。 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 7.62 (1H, s), 7.09 (1H, br s), 6.80-6.78 (2H, m), 5.24-5.23 ( 1H, m), 4.99-4.97 (1H, m), 3.90 (2H, q, J = 7.2 Hz), 1.75 (3H, s), 1.15 (3H, t , J=7.2 Hz).
Step 2: Synthesis of 3-chloro-1-ethyl-5-(4-methylisoxazol-3-yl)-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridin-2(1H)-one ( Compound number: B-008)
Figure 0007118961000198

4 ml of THF solution containing 179 mg of 3-chloro-1-ethyl-5-(1-(hydroxyimino)-2-methylallyl)-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridin-2(1H)-one 3 ml of an aqueous solution containing 162 mg of sodium hydrogencarbonate was added to the solution at room temperature. 3 ml of an aqueous solution containing 135 mg of iodine and 281 mg of potassium iodide was added thereto, and the mixture was stirred under reflux for 50 minutes. After cooling to room temperature, an aqueous sodium thiosulfate solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture to separate the layers. The obtained organic layer was washed with saturated saline and dried with sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. 20 mg of the title compound was obtained as a white solid.

[合成例11]
3-クロロ-1-エチル-5-(5-メチルイソキサゾール-3-イル)-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オンの合成(化合物番号:B-013)

Figure 0007118961000199

5-クロロ-1-エチル-N-ヒドロキシ-6-オキソ-2-(2,4,6-トリフルオロフェニル)-1,6-ジヒドロピリジン-3-カルビミドイル クロリド 378mgに、1-プロピンのTHF溶液(2.0mol/L) 31mlとトリエチルアミン 160μlを加えて、室温で2時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が287mgの白色固体として得られた。[Synthesis Example 11]
Synthesis of 3-chloro-1-ethyl-5-(5-methylisoxazol-3-yl)-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridin-2(1H)-one (compound number: B-013)
Figure 0007118961000199

To 378 mg of 5-chloro-1-ethyl-N-hydroxy-6-oxo-2-(2,4,6-trifluorophenyl)-1,6-dihydropyridine-3-carbimidoyl chloride, THF solution of 1-propyne ( 2.0 mol/L) 31 ml and triethylamine 160 μl were added and stirred at room temperature for 2 hours. A saturated aqueous solution of sodium hydrogencarbonate and ethyl acetate were added to the reaction mixture and the mixture was separated, and then the resulting organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. After evaporating the filtrate under reduced pressure, the resulting residue was purified by silica gel column chromatography. 287 mg of the title compound was obtained as a white solid.

[合成例12]
5-(4-ブロモ-5-メチルイソキサゾール-3-イル)-3-クロロ-1-エチル-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オンの合成(化合物番号:B-014)

Figure 0007118961000200

3-クロロ-1-エチル-5-(5-メチルイソキサゾール-3-イル)-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オン 287mgとN-ブロモスクシンイミド 208mgを含む酢酸溶液 3mlを80℃で20分間撹拌した後、100℃で4時間撹拌した。さらに、N-ブロモスクシンイミド 69mgを追加して、100℃で1時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物にチオ硫酸ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が268mgの白色固体として得られた。[Synthesis Example 12]
Synthesis of 5-(4-bromo-5-methylisoxazol-3-yl)-3-chloro-1-ethyl-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridin-2(1H)-one (Compound number: B-014)
Figure 0007118961000200

3-chloro-1-ethyl-5-(5-methylisoxazol-3-yl)-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridin-2(1H)-one 287 mg and N-bromosuccinimide After stirring 3 ml of an acetic acid solution containing 208 mg at 80° C. for 20 minutes, it was stirred at 100° C. for 4 hours. Further, 69 mg of N-bromosuccinimide was added, and the mixture was stirred at 100°C for 1 hour. After cooling to room temperature, an aqueous sodium thiosulfate solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture to separate the layers. The obtained organic layer was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogencarbonate solution and saturated brine, and dried over sodium sulfate. After evaporating the filtrate under reduced pressure, the resulting residue was purified by silica gel column chromatography. 268 mg of the title compound was obtained as a white solid.

[合成例13]
3-クロロ-1-エチル-5-(5-(ヒドロキシメチル)イソキサゾール-3-イル)-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オンの合成(化合物番号:B-019)

Figure 0007118961000201

5-クロロ-1-エチル-6-オキソ-2-(2,4,6-トリフルオロフェニル)-1,6-ジヒドロピリジン-3-カルバルデヒド オキシム 305mgとN-クロロスクシンイミド 185mgを含むTHF溶液 6mlを50℃で55分間撹拌した。室温まで冷却した後に、2-プロピン-1-オール 272μlとトリエチルアミン 143μlを加えて、室温で50分間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が281mgの白色アモルファスとして得られた。[Synthesis Example 13]
Synthesis of 3-chloro-1-ethyl-5-(5-(hydroxymethyl)isoxazol-3-yl)-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridin-2(1H)-one (Compound No. : B-019)
Figure 0007118961000201

6 ml of THF solution containing 305 mg of 5-chloro-1-ethyl-6-oxo-2-(2,4,6-trifluorophenyl)-1,6-dihydropyridine-3-carbaldehyde oxime and 185 mg of N-chlorosuccinimide Stir at 50° C. for 55 minutes. After cooling to room temperature, 272 μl of 2-propyn-1-ol and 143 μl of triethylamine were added and stirred at room temperature for 50 minutes. A saturated aqueous solution of sodium hydrogencarbonate and ethyl acetate were added to the reaction mixture and the mixture was separated, and then the resulting organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. After evaporating the filtrate under reduced pressure, the resulting residue was purified by silica gel column chromatography. 281 mg of the title compound was obtained as a white amorphous.

[合成例14]
ステップ1:5-(4-ブロモ-5-(ヒドロキシメチル)イソキサゾール-3-イル)-3-クロロ-1-エチル-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オンの合成

Figure 0007118961000202

3-クロロ-1-エチル-5-(5-(ヒドロキシメチル)イソキサゾール-3-イル)-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オン 248mgとN-ブロモスクシンイミド 172mgを含むDMF溶液 3mlを70℃で20分間撹拌した後、100℃で1時間撹拌した。さらに、N-ブロモスクシンイミド 172mgを追加して、100℃で1時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物を含む176mgの黄色固体が得られた。これ以上精製することなく、次の反応に使用した。[Synthesis Example 14]
Step 1: 5-(4-bromo-5-(hydroxymethyl)isoxazol-3-yl)-3-chloro-1-ethyl-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridine-2(1H) -Synthesis of on
Figure 0007118961000202

3-chloro-1-ethyl-5-(5-(hydroxymethyl)isoxazol-3-yl)-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridin-2(1H)-one 248 mg and N-bromo 3 ml of a DMF solution containing 172 mg of succinimide was stirred at 70°C for 20 minutes and then stirred at 100°C for 1 hour. Further, 172 mg of N-bromosuccinimide was added, and the mixture was stirred at 100° C. for 1 hour. After cooling to room temperature, water and ethyl acetate were added to the reaction mixture to separate the layers. The resulting organic layer was washed successively with an aqueous sodium thiosulfate solution and saturated brine and dried over sodium sulfate. After evaporating the filtrate under reduced pressure, the resulting residue was purified by silica gel column chromatography. 176 mg of a yellow solid containing the title compound was obtained. Used for next reaction without further purification.

H-NMR (CDCl) δ: 7.67 (1H, s), 6.76-6.71 (2H, m), 4.73 (2H, d, J = 6.6 Hz), 3.97 (2H, q, J = 7.1 Hz), 1.97 (1H, t, J = 6.6 Hz) 1.20 (3H, t, J = 7.1 Hz). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 7.67 (1H, s), 6.76-6.71 (2H, m), 4.73 (2H, d, J = 6.6 Hz), 3. 97 (2H, q, J = 7.1 Hz), 1.97 (1H, t, J = 6.6 Hz) 1.20 (3H, t, J = 7.1 Hz).

ステップ2:4-ブロモ-3-(5-クロロ-1-エチル-6-オキソ-2-(2,4,6-トリフルオロフェニル)-1,6-ジヒドロピリジン-3-イル)イソキサゾール-5-カルバルデヒドの合成(化合物番号:B-020)

Figure 0007118961000203

ステップ1で得られた5-(4-ブロモ-5-(ヒドロキシメチル)イソキサゾール-3-イル)-3-クロロ-1-エチル-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オン 176mgのジクロロメタン溶液 4mlに、デス・マーチン試薬(1,1,1-トリアセトキシ-1,1-ジヒドロ-1,2-ベンズヨードキソール-3(1H)-オン) 177mgを加えて室温で撹拌した。さらに1時間後と5.5時間後に、デス・マーチン試薬 177mgをそれぞれ追加し、室温で105分間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が94mgの白色固体として得られた。Step 2: 4-bromo-3-(5-chloro-1-ethyl-6-oxo-2-(2,4,6-trifluorophenyl)-1,6-dihydropyridin-3-yl)isoxazole-5- Synthesis of carbaldehyde (compound number: B-020)
Figure 0007118961000203

5-(4-bromo-5-(hydroxymethyl)isoxazol-3-yl)-3-chloro-1-ethyl-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridine-2 obtained in step 1 177 mg of Dess-Martin reagent (1,1,1-triacetoxy-1,1-dihydro-1,2-benziodoxol-3(1H)-one) was added to 4 ml of a dichloromethane solution of 176 mg of (1H)-one. The mixture was added and stirred at room temperature. After 1 hour and 5.5 hours, 177 mg of Dess-Martin reagent was added, respectively, and the mixture was stirred at room temperature for 105 minutes. A saturated aqueous sodium hydrogencarbonate solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture to separate the layers. The resulting organic layer was washed successively with an aqueous sodium thiosulfate solution and saturated brine and dried over sodium sulfate. After evaporating the filtrate under reduced pressure, the resulting residue was purified by silica gel column chromatography. 94 mg of the title compound was obtained as a white solid.

[合成例15]
5-(4-ブロモ-5-(ジフルオロメチル)イソキサゾール-3-イル)-3-クロロ-1-エチル-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オンの合成(化合物番号:B-023)

Figure 0007118961000204

4-ブロモ-3-(5-クロロ-1-エチル-6-オキソ-2-(2,4,6-トリフルオロフェニル)-1,6-ジヒドロピリジン-3-イル)イソキサゾール-5-カルバルデヒド 68mgのジクロロメタン溶液 3mlに、(ジエチルアミノ)サルファートリフルオリド 39μlを氷冷下で加えて、10分間撹拌した後、室温で100分間撹拌した。反応混合物に1規定塩酸と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が45mgの白色アモルファスとして得られた。[Synthesis Example 15]
5-(4-bromo-5-(difluoromethyl)isoxazol-3-yl)-3-chloro-1-ethyl-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridin-2(1H)-one Synthesis (compound number: B-023)
Figure 0007118961000204

4-bromo-3-(5-chloro-1-ethyl-6-oxo-2-(2,4,6-trifluorophenyl)-1,6-dihydropyridin-3-yl)isoxazole-5-carbaldehyde 68 mg (Diethylamino)sulfur trifluoride (39 μl) was added to 3 ml of a dichloromethane solution of (diethylamino)sulfur trifluoride under ice-cooling, stirred for 10 minutes, and then stirred at room temperature for 100 minutes. 1N Hydrochloric acid and ethyl acetate were added to the reaction mixture to separate the layers, and the obtained organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. After evaporating the filtrate under reduced pressure, the resulting residue was purified by silica gel column chromatography. 45 mg of the title compound was obtained as a white amorphous.

[合成例16]
3-(5-クロロ-1-エチル-6-オキソ-2-(2,4,6-トリフルオロフェニル)-1,6-ジヒドロピリジン-3-イル)-5-メチルイソキサゾール-4-カルバルデヒドの合成(化合物番号:B-027)

Figure 0007118961000205

5-クロロ-1-エチル-6-オキソ-2-(2,4,6-トリフルオロフェニル)-1,6-ジヒドロピリジン-3-カルバルデヒド オキシム 325mgとN-クロロスクシンイミド 197mgを含むTHF溶液 6mlを50℃で45分間撹拌した。室温まで冷却した後に、クロトンアルデヒド 405μlとトリエチルアミン 152μlを加えて、室温で2時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が184mgの黄色アモルファスとして得られた。[Synthesis Example 16]
3-(5-chloro-1-ethyl-6-oxo-2-(2,4,6-trifluorophenyl)-1,6-dihydropyridin-3-yl)-5-methylisoxazole-4-carba Synthesis of rudehyde (compound number: B-027)
Figure 0007118961000205

6 ml of THF solution containing 325 mg of 5-chloro-1-ethyl-6-oxo-2-(2,4,6-trifluorophenyl)-1,6-dihydropyridine-3-carbaldehyde oxime and 197 mg of N-chlorosuccinimide Stir at 50° C. for 45 minutes. After cooling to room temperature, 405 μl of crotonaldehyde and 152 μl of triethylamine were added and stirred at room temperature for 2 hours. A saturated aqueous solution of sodium hydrogencarbonate and ethyl acetate were added to the reaction mixture and the mixture was separated, and then the resulting organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. After evaporating the filtrate under reduced pressure, the resulting residue was purified by silica gel column chromatography. 184 mg of the title compound were obtained as a yellow amorphous.

[合成例17]
3-(5-クロロ-1-エチル-6-オキソ-2-(2,4,6-トリフルオロフェニル)-1,6-ジヒドロピリジン-3-イル)-5-メチルイソキサゾール-4-カルバルデヒド O-メチル オキシムの合成(化合物番号:B-032)

Figure 0007118961000206

3-(5-クロロ-1-エチル-6-オキソ-2-(2,4,6-トリフルオロフェニル)-1,6-ジヒドロピリジン-3-イル)-5-メチルイソキサゾール-4-カルバルデヒド 44mg、O-メチルヒドロキシルアミン塩酸塩 12mgとピリジン 12μlを含むエタノール溶液 3mlを室温で75分間撹拌した。反応混合物に1規定塩酸と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が28mgの白色アモルファスとして得られた。[Synthesis Example 17]
3-(5-chloro-1-ethyl-6-oxo-2-(2,4,6-trifluorophenyl)-1,6-dihydropyridin-3-yl)-5-methylisoxazole-4-carba Synthesis of rudehyde O-methyl oxime (Compound No.: B-032)
Figure 0007118961000206

3-(5-chloro-1-ethyl-6-oxo-2-(2,4,6-trifluorophenyl)-1,6-dihydropyridin-3-yl)-5-methylisoxazole-4-carba 3 ml of an ethanol solution containing 44 mg of rudehyde, 12 mg of O-methylhydroxylamine hydrochloride and 12 μl of pyridine was stirred at room temperature for 75 minutes. 1N Hydrochloric acid and ethyl acetate were added to the reaction mixture and the layers were separated, and the resulting organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. After evaporating the filtrate under reduced pressure, the resulting residue was purified by silica gel column chromatography. 28 mg of the title compound was obtained as a white amorphous.

[合成例18]
3-クロロ-1-エチル-5-(4-エチニル-5-メチルイソキサゾール-3-イル)-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オンの合成(化合物番号:B-033)

Figure 0007118961000207

3-(5-クロロ-1-エチル-6-オキソ-2-(2,4,6-トリフルオロフェニル)-1,6-ジヒドロピリジン-3-イル)-5-メチルイソキサゾール-4-カルバルデヒド 71mg、(1-ジアゾ-2-オキソプロピル)ホスホン酸ジメチル 32μlと炭酸カリウム 37mgを含むメタノール溶液 3mlを室温で65分間撹拌した。さらに、(1-ジアゾ-2-オキソプロピル)ホスホン酸ジメチル 11μlを追加して、室温で30分間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が25mgの白色固体として得られた。[Synthesis Example 18]
Synthesis of 3-chloro-1-ethyl-5-(4-ethynyl-5-methylisoxazol-3-yl)-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridin-2(1H)-one (Compound number: B-033)
Figure 0007118961000207

3-(5-chloro-1-ethyl-6-oxo-2-(2,4,6-trifluorophenyl)-1,6-dihydropyridin-3-yl)-5-methylisoxazole-4-carba 3 ml of a methanol solution containing 71 mg of rudehyde, 32 μl of dimethyl (1-diazo-2-oxopropyl)phosphonate and 37 mg of potassium carbonate was stirred at room temperature for 65 minutes. Further, 11 μl of dimethyl (1-diazo-2-oxopropyl)phosphonate was added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. A saturated aqueous ammonium chloride solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture and the mixture was separated, and the obtained organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. 25 mg of the title compound was obtained as a white solid.

[合成例19]
5-(4-アセチル-5-メチルイソキサゾール-3-イル)-3-クロロ-1-エチル-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オンの合成(化合物番号:B-035)

Figure 0007118961000208

5-クロロ-1-エチル-6-オキソ-2-(2,4,6-トリフルオロフェニル)-1,6-ジヒドロピリジン-3-カルバルデヒド オキシム 227mgとN-クロロスクシンイミド 137mgを含むTHF溶液 5mlを50℃で50分間撹拌した。室温まで冷却した後に、アセチルアセトン 351μlとトリエチルアミン 106μlを加えて、室温で5時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が164mgの白色アモルファスとして得られた。[Synthesis Example 19]
Synthesis of 5-(4-acetyl-5-methylisoxazol-3-yl)-3-chloro-1-ethyl-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridin-2(1H)-one (Compound number: B-035)
Figure 0007118961000208

5-chloro-1-ethyl-6-oxo-2-(2,4,6-trifluorophenyl)-1,6-dihydropyridine-3-carbaldehyde oxime 227mg and N-chlorosuccinimide 137mg of THF solution 5ml Stir at 50° C. for 50 minutes. After cooling to room temperature, 351 μl of acetylacetone and 106 μl of triethylamine were added and stirred at room temperature for 5 hours. A saturated aqueous solution of sodium hydrogencarbonate and ethyl acetate were added to the reaction mixture and the mixture was separated, and then the resulting organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. After evaporating the filtrate under reduced pressure, the resulting residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 164 mg of white amorphous.

[合成例20]
3-クロロ-1-エチル-5-(4-(1-ヒドロキシエチル)-5-メチルイソキサゾール-3-イル)-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オンの合成(化合物番号:B-037)

Figure 0007118961000209

5-(4-アセチル-5-メチルイソキサゾール-3-イル)-3-クロロ-1-エチル-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オン 137mgのメタノール溶液 3mlに、水素化ホウ素ナトリウム 38mgを氷冷下で加えて、20分間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が116mgの白色アモルファスとして得られた。[Synthesis Example 20]
3-chloro-1-ethyl-5-(4-(1-hydroxyethyl)-5-methylisoxazol-3-yl)-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridine-2(1H )-one synthesis (compound number: B-037)
Figure 0007118961000209

5-(4-acetyl-5-methylisoxazol-3-yl)-3-chloro-1-ethyl-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridin-2(1H)-one 137 mg 38 mg of sodium borohydride was added to 3 ml of the methanol solution under ice-cooling, and the mixture was stirred for 20 minutes. A saturated aqueous ammonium chloride solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture and the mixture was separated, and the obtained organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. 116 mg of the title compound was obtained as a white amorphous.

[合成例21]
3-クロロ-1-エチル-5-(5-メチル-4-ビニルイソキサゾール-3-イル)-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オンの合成(化合物番号:B-038)

Figure 0007118961000210

3-クロロ-1-エチル-5-(4-(1-ヒドロキシエチル)-5-メチルイソキサゾール-3-イル)-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オン41mgとp-トルエンスルホン酸一水和物 17mgを含むトルエン溶液 3mlを120℃で30分間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が36mgの淡黄色ガム状物質として得られた。[Synthesis Example 21]
Synthesis of 3-chloro-1-ethyl-5-(5-methyl-4-vinylisoxazol-3-yl)-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridin-2(1H)-one (Compound number: B-038)
Figure 0007118961000210

3-chloro-1-ethyl-5-(4-(1-hydroxyethyl)-5-methylisoxazol-3-yl)-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridine-2(1H 3 ml of a toluene solution containing 41 mg of )-one and 17 mg of p-toluenesulfonic acid monohydrate was stirred at 120° C. for 30 minutes. After cooling to room temperature, saturated aqueous sodium hydrogencarbonate solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture to separate the layers. The obtained organic layer was washed with saturated saline and dried with sodium sulfate. After evaporating the filtrate under reduced pressure, the resulting residue was purified by silica gel column chromatography. 36 mg of the title compound was obtained as a pale yellow gum.

[合成例22]
3-クロロ-5-(5,5-ジメチル-4,5-ジヒドロイソキサゾール-3-イル)-1-エチル-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オンの合成(化合物番号:C-003)

Figure 0007118961000211

5-クロロ-1-エチル-6-オキソ-2-(2,4,6-トリフルオロフェニル)-1,6-ジヒドロピリジン-3-カルバルデヒド オキシム 152mgとN-クロロスクシンイミド 92mgを含むTHF溶液 3mlを50℃で45分間撹拌した。室温まで冷却した後に、15重量%のイソブテンのTHF溶液 4.14mlとトリエチルアミン 71μlを加えて、室温で140分間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が143mgの淡黄色固体として得られた。[Synthesis Example 22]
3-chloro-5-(5,5-dimethyl-4,5-dihydroisoxazol-3-yl)-1-ethyl-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridine-2(1H) -Synthesis of one (Compound No.: C-003)
Figure 0007118961000211

3 ml of THF solution containing 5-chloro-1-ethyl-6-oxo-2-(2,4,6-trifluorophenyl)-1,6-dihydropyridine-3-carbaldehyde oxime 152 mg and N-chlorosuccinimide 92 mg Stir at 50° C. for 45 minutes. After cooling to room temperature, 4.14 ml of a 15% by weight isobutene solution in THF and 71 μl of triethylamine were added and stirred at room temperature for 140 minutes. A saturated aqueous solution of sodium hydrogencarbonate and ethyl acetate were added to the reaction mixture and the mixture was separated, and then the resulting organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. After evaporating the filtrate under reduced pressure, the resulting residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 143 mg of pale yellow solid.

[合成例23]
5-(4-ブロモ-5,5-ジメチル-4,5-ジヒドロイソキサゾール-3-イル)3-クロロ-1-エチル-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オンの合成(化合物番号:C-004)

Figure 0007118961000212

3-クロロ-5-(5,5-ジメチル-4,5-ジヒドロイソキサゾール-3-イル)-1-エチル-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オン 115mg、N-ブロモスクシンイミド 80mgとアゾビスイソブチロニトリル 10mgを含む四塩化炭素溶液 3mlを90℃で1.5時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物にチオ硫酸ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が51mgの白色アモルファスとして得られた。[Synthesis Example 23]
5-(4-bromo-5,5-dimethyl-4,5-dihydroisoxazol-3-yl)3-chloro-1-ethyl-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridine-2 Synthesis of (1H)-one (Compound No.: C-004)
Figure 0007118961000212

3-chloro-5-(5,5-dimethyl-4,5-dihydroisoxazol-3-yl)-1-ethyl-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridine-2(1H) 3 ml of a carbon tetrachloride solution containing 115 mg of -one, 80 mg of N-bromosuccinimide and 10 mg of azobisisobutyronitrile was stirred at 90° C. for 1.5 hours. After cooling to room temperature, an aqueous sodium thiosulfate solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture to separate the layers. The obtained organic layer was washed with saturated saline and dried with sodium sulfate. After evaporating the filtrate under reduced pressure, the resulting residue was purified by silica gel column chromatography. 51 mg of the title compound was obtained as a white amorphous.

[合成例24]
5-(ベンゾ[d]イソキサゾール-3-イル)-3-クロロ-1-エチル-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オンの合成(化合物番号:D-001)

Figure 0007118961000213

5-クロロ-1-エチル-N-ヒドロキシ-6-オキソ-2-(2,4,6-トリフルオロフェニル)-1,6-ジヒドロピリジン-3-カルビミドイル クロリド 110mgと2-(トリメチルシリル)フェニルトリフラート 219μlを含むTHF溶液 2mlに、テトラブチルアンモニウムフルオリドのTHF溶液(1.0mol/L) 1.05mlを加えて、室温で10分間撹拌した。さらに、テトラブチルアンモニウムフルオリドのTHF溶液(1.0mol/L) 301μlを追加して、室温で10分間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が51mgの白色アモルファスとして得られた。[Synthesis Example 24]
Synthesis of 5-(benzo[d]isoxazol-3-yl)-3-chloro-1-ethyl-6-(2,4,6-trifluorophenyl)pyridin-2(1H)-one (compound number: D -001)
Figure 0007118961000213

5-chloro-1-ethyl-N-hydroxy-6-oxo-2-(2,4,6-trifluorophenyl)-1,6-dihydropyridine-3-carbimidoyl chloride 110 mg and 2-(trimethylsilyl)phenyl triflate 219 μl 1.05 ml of a THF solution of tetrabutylammonium fluoride (1.0 mol/L) was added to 2 ml of a THF solution containing and stirred at room temperature for 10 minutes. Furthermore, 301 μl of a THF solution (1.0 mol/L) of tetrabutylammonium fluoride was added, and the mixture was stirred at room temperature for 10 minutes. A saturated aqueous ammonium chloride solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture and the mixture was separated, and the obtained organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. 51 mg of the title compound was obtained as a white amorphous.

[合成例25]
ステップ1:5-クロロ-1-エチル-2-(4-フルオロフェニル)-6-オキソ-1,6-ジヒドロピリジン-3-カルボアルデヒドオキシムの合成

Figure 0007118961000214

5-クロロ-1-エチル-2-(4-フルオロフェニル)-6-オキソ-1,6-ジヒドロピリジン-3-カルボアルデヒド 314mg、ヒドロキシルアミン塩酸塩 101mgとピリジン 118μlを含むエタノール溶液 5mlを室温で15分間撹拌した。反応混合物に1規定塩酸と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、表題の化合物を含む353mgの黄色アモルファスが得られた。これ以上精製することなく、次の反応に使用した。[Synthesis Example 25]
Step 1: Synthesis of 5-chloro-1-ethyl-2-(4-fluorophenyl)-6-oxo-1,6-dihydropyridine-3-carbaldehyde oxime
Figure 0007118961000214

5-chloro-1-ethyl-2-(4-fluorophenyl)-6-oxo-1,6-dihydropyridine-3-carbaldehyde 314 mg, hydroxylamine hydrochloride 101 mg and pyridine 118 μl 5 ml of an ethanol solution containing 15 ml at room temperature. Stir for a minute. 1N Hydrochloric acid and ethyl acetate were added to the reaction mixture and the layers were separated, and the resulting organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, 353 mg of a yellow amorphous was obtained containing the title compound. Used for next reaction without further purification.

H-NMR (CDCl) δ: 8.10 (1H, s), 7.28-7.24 (5H, m), 7.04 (1H, s), 3.85 (2H, q, J = 7.0 Hz), 1.14 (3H, t, J = 7.0 Hz).
ステップ2:3-クロロ-1-エチル-6-(4-フルオロフェニル)-5-(イソキサゾール-3-イル)ピリジン-2(1H)-オンの合成(化合物番号:B-012)

Figure 0007118961000215

ステップ1で得られた5-クロロ-1-エチル-2-(4-フルオロフェニル)-6-オキソ-1,6-ジヒドロピリジン-3-カルボアルデヒドオキシム 232mgとN-クロロスクシンイミド 158mgを含むTHF溶液 4.5mlを50℃で80分間撹拌した。さらにN-クロロスクシンイミド 105mgを追加して、50℃で15分間撹拌した。室温まで冷却した後に、エチルビニルエーテル 378μlとトリエチルアミン 122μlを加えて、室温で15分間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去し、残渣を得た。得られた残渣とp-トルエンスルホン酸一水和物 136mgを含むトルエン溶液 4.5mlを還流下で35分間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が112mgの白色固体として得られた。 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.10 (1H, s), 7.28-7.24 (5H, m), 7.04 (1H, s), 3.85 (2H, q, J = 7.0 Hz), 1.14 (3H, t, J = 7.0 Hz).
Step 2: Synthesis of 3-chloro-1-ethyl-6-(4-fluorophenyl)-5-(isoxazol-3-yl)pyridin-2(1H)-one (Compound No.: B-012)
Figure 0007118961000215

THF solution containing 232 mg of 5-chloro-1-ethyl-2-(4-fluorophenyl)-6-oxo-1,6-dihydropyridine-3-carbaldehyde oxime obtained in Step 1 and 158 mg of N-chlorosuccinimide 4 .5 ml was stirred at 50° C. for 80 minutes. Further, 105 mg of N-chlorosuccinimide was added, and the mixture was stirred at 50°C for 15 minutes. After cooling to room temperature, 378 μl of ethyl vinyl ether and 122 μl of triethylamine were added and stirred at room temperature for 15 minutes. A saturated aqueous solution of sodium hydrogencarbonate and ethyl acetate were added to the reaction mixture and the mixture was separated, and then the resulting organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. The filtrate was evaporated under reduced pressure to give a residue. A toluene solution (4.5 ml) containing the resulting residue and p-toluenesulfonic acid monohydrate (136 mg) was stirred under reflux for 35 minutes. After cooling to room temperature, saturated aqueous sodium hydrogencarbonate solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture to separate the layers. The obtained organic layer was washed with saturated saline and dried with sodium sulfate. After evaporating the filtrate under reduced pressure, the resulting residue was purified by silica gel column chromatography. 112 mg of the title compound was obtained as a white solid.

[合成例26]
5-(4-ブロモイソキサゾール-3-イル)-3-クロロ-1-エチル-6-(4-フルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オンの合成(化合物番号:B-015)

Figure 0007118961000216

3-クロロ-1-エチル-6-(4-フルオロフェニル)-5-(イソキサゾール-3-イル)ピリジン-2(1H)-オン 91mgと臭素 438μlを含む酢酸溶液 2.5mlを120℃で撹拌した。13時間後、22時間後に、臭素 438μlをそれぞれ追加した後に、120℃で4時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が40mgの白色固体として得られた。[Synthesis Example 26]
Synthesis of 5-(4-bromoisoxazol-3-yl)-3-chloro-1-ethyl-6-(4-fluorophenyl)pyridin-2(1H)-one (Compound No.: B-015)
Figure 0007118961000216

2.5 ml of an acetic acid solution containing 91 mg of 3-chloro-1-ethyl-6-(4-fluorophenyl)-5-(isoxazol-3-yl)pyridin-2(1H)-one and 438 μl of bromine was stirred at 120°C. did. After 13 hours and 22 hours, 438 μl of bromine was added, respectively, and the mixture was stirred at 120° C. for 4 hours. After cooling to room temperature, saturated aqueous sodium hydrogencarbonate solution and ethyl acetate were added to the reaction mixture to separate the layers. The resulting organic layer was washed successively with an aqueous sodium thiosulfate solution and saturated brine, and dried over sodium sulfate. After evaporating the filtrate under reduced pressure, the resulting residue was purified by silica gel column chromatography. 40 mg of the title compound was obtained as a white solid.

[参考例1]

Figure 0007118961000217

ステップ1:1-(2,6-ジフルオロフェニル)-N-フェニルプロパン-1-イミンの合成
アニリン 11.74gとトリエチルアミン 17.01gを含むジクロロメタン溶液 100mlに、四塩化チタン23.91gを含むジクロロメタン溶液 50mlを氷冷下で滴下した。該反応液に1-(2,6-ジフルオロフェニル)プロパン-1-オン 14.30gを含むジクロロメタン溶液 30mlを滴下した後に、氷冷から室温まで昇温して終夜撹拌した。得られた反応混合物に1規定塩酸を加えて分液し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、表題の化合物を含む21.10gの濃緑色油状物質が得られた。これ以上精製することなく、次の反応に使用した。[Reference example 1]
Figure 0007118961000217

Step 1: Synthesis of 1-(2,6-difluorophenyl)-N-phenylpropane-1-imine A dichloromethane solution containing 23.91 g of titanium tetrachloride in 100 ml of a dichloromethane solution containing 11.74 g of aniline and 17.01 g of triethylamine. 50 ml was added dropwise under ice cooling. After 30 ml of a dichloromethane solution containing 14.30 g of 1-(2,6-difluorophenyl)propan-1-one was added dropwise to the reaction solution, the temperature was raised from ice cooling to room temperature and stirred overnight. 1N Hydrochloric acid was added to the resulting reaction mixture to separate the layers, and the mixture was dried over sodium sulfate. After evaporation under reduced pressure, 21.10 g of a dark green oil containing the title compound was obtained. Used for next reaction without further purification.

ステップ2:6-(2,6-ジフルオロフェニル)-5-メチル-3,4-ジヒドロピリジン-2(1H)-オンの合成
ステップ1で得られた1-(2,6-ジフルオロフェニル)-N-フェニルプロパン-1-イミン 21.10gと塩化アルミニウム 12.33gを含むジオキサン溶液200mlにアクリルアミド モノマー 6.57gを加えて、90℃で3時間撹拌した。該反応混合物を半分程度の量まで減圧下で溶媒留去した後に、1規定塩酸と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。得られた固体をイソプロピルエーテルで洗浄し、表題の化合物が11.65gの白色固体として得られた。
Step 2: Synthesis of 6-(2,6-difluorophenyl)-5-methyl-3,4-dihydropyridin-2(1H)-one 1-(2,6-difluorophenyl)-N obtained in Step 1 6.57 g of acrylamide monomer was added to 200 ml of dioxane solution containing 21.10 g of phenylpropane-1-imine and 12.33 g of aluminum chloride, and the mixture was stirred at 90° C. for 3 hours. After distilling off the solvent under reduced pressure to about half the amount of the reaction mixture, 1N hydrochloric acid and ethyl acetate were added to separate the layers. The obtained organic layer was washed with saturated saline and dried with sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The resulting solid was washed with isopropyl ether to give 11.65 g of the title compound as a white solid.

H-NMR (CDCl) δ: 7.36-7.34 (1H, m), 6.97-6.94 (2H, m), 6.52 (1H, br s), 2.61-2.59 (2H, m), 2.48-2.47 (2H, m), 1.63 (3H, s). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 7.36-7.34 (1H, m), 6.97-6.94 (2H, m), 6.52 (1H, br s), 2.61- 2.59 (2H, m), 2.48-2.47 (2H, m), 1.63 (3H, s).

[参考例2]
6-(2,6-ジフルオロフェニル)-1-エチル-5-メチル-3,4-ジヒドロピリジン-2(1H)-オンの合成

Figure 0007118961000218

6-(2,6-ジフルオロフェニル)-5-メチル-3,4-ジヒドロピリジン-2(1H)-オン 12.40g、炭酸セシウム 54.30gおよびヨウ化エチル 25.99gを含むDMF溶液 120mlを50℃で3.5時間撹拌した。次いで炭酸セシウム 27.15gおよびヨウ化エチル 13.01gを追加した後に、50℃で2時間、さらに60℃で1.5時間撹拌した。室温まで冷却後、該反応混合物を濾過することにより不溶物を除去した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、酢酸エチルと水を加えて分液した。得られた有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた固体をイソプロピルエーテルで洗浄した。表題の化合物が11.98gの白色固体として得られた。[Reference example 2]
Synthesis of 6-(2,6-difluorophenyl)-1-ethyl-5-methyl-3,4-dihydropyridin-2(1H)-one
Figure 0007118961000218

120 ml of a DMF solution containing 12.40 g of 6-(2,6-difluorophenyl)-5-methyl-3,4-dihydropyridin-2(1H)-one, 54.30 g of cesium carbonate and 25.99 g of ethyl iodide was C. for 3.5 hours. After adding 27.15 g of cesium carbonate and 13.01 g of ethyl iodide, the mixture was stirred at 50° C. for 2 hours and further at 60° C. for 1.5 hours. After cooling to room temperature, the reaction mixture was filtered to remove insolubles. After evaporating the solvent from the filtrate under reduced pressure, ethyl acetate and water were added to separate the layers. The resulting organic layer was washed successively with an aqueous sodium thiosulfate solution and saturated brine, and dried over sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the solid obtained was washed with isopropyl ether. 11.98 g of the title compound was obtained as a white solid.

H-NMR (CDCl) δ: 7.38-7.35 (1H, m), 6.97-6.96 (2H, m), 3.33 (2H, q, J = 7.1 Hz), 2.60-2.58 (2H, m), 2.38-2.36 (2H, m), 1.59 (3H, s), 0.91 (3H, t, J = 7.1 Hz). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 7.38-7.35 (1H, m), 6.97-6.96 (2H, m), 3.33 (2H, q, J = 7.1 Hz ), 2.60-2.58 (2H, m), 2.38-2.36 (2H, m), 1.59 (3H, s), 0.91 (3H, t, J = 7.1 Hz).

[参考例3]
6-(2,6-ジフルオロフェニル)-1-エチル-5-メチルピリジン-2(1H)-オンの合成

Figure 0007118961000219

6-(2,6-ジフルオロフェニル)-1-エチル-5-メチル-3,4-ジヒドロピリジン-2(1H)-オン 11.98gと2,3-ジクロロ-5,6-ジシアノ-p-ベンゾキノン 21.65gを含むトルエン溶液 170mlを120℃で1.5時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物を濾過することにより不溶物を除去した。濾液を減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。得られた固体をイソプロピルエーテルで洗浄し、表題の化合物が9.34gの淡黄色固体として得られた。[Reference example 3]
Synthesis of 6-(2,6-difluorophenyl)-1-ethyl-5-methylpyridin-2(1H)-one
Figure 0007118961000219

6-(2,6-difluorophenyl)-1-ethyl-5-methyl-3,4-dihydropyridin-2(1H)-one 11.98 g and 2,3-dichloro-5,6-dicyano-p-benzoquinone 170 ml of a toluene solution containing 21.65 g was stirred at 120° C. for 1.5 hours. After cooling to room temperature, the reaction mixture was filtered to remove insolubles. After evaporating the filtrate under reduced pressure, the resulting residue was purified by silica gel column chromatography. The resulting solid was washed with isopropyl ether to give 9.34 g of the title compound as a pale yellow solid.

H-NMR (CDCl) δ: 7.50-7.49 (1H, m), 7.27 (2H, d, J = 9.5 Hz), 7.09-7.06 (2H, m), 6.63 (1H, d, J = 9.5 Hz), 3.83 (2H, q, J = 7.1 Hz), 1.80 (3H, s), 1.10 (3H, t, J = 7.1 Hz). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 7.50-7.49 (1H, m), 7.27 (2H, d, J = 9.5 Hz), 7.09-7.06 (2H, m ), 6.63 (1H, d, J = 9.5 Hz), 3.83 (2H, q, J = 7.1 Hz), 1.80 (3H, s), 1.10 (3H, t , J=7.1 Hz).

[参考例4]
3-クロロ-6-(2,6-ジフルオロフェニル)-1-エチル-5-メチルピリジン-2(1H)-オンの合成

Figure 0007118961000220

6-(2,6-ジフルオロフェニル)-1-エチル-5-メチルピリジン-2(1H)-オン 11.36gとN-クロロスクシンイミド 6.69gを含むDMF溶液 110mlを70℃で50分間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物を減圧下で溶媒留去した。これに酢酸エチルと水を加えて分液した後に、得られた有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた固体をイソプロピルエーテルで洗浄した。表題の化合物が11.41gの白色固体として得られた。[Reference Example 4]
Synthesis of 3-chloro-6-(2,6-difluorophenyl)-1-ethyl-5-methylpyridin-2(1H)-one
Figure 0007118961000220

110 ml of a DMF solution containing 11.36 g of 6-(2,6-difluorophenyl)-1-ethyl-5-methylpyridin-2(1H)-one and 6.69 g of N-chlorosuccinimide was stirred at 70° C. for 50 minutes. . After cooling to room temperature, the reaction mixture was evaporated under reduced pressure. Ethyl acetate and water were added to the mixture, and the mixture was separated. The obtained organic layer was washed successively with an aqueous sodium thiosulfate solution and saturated brine, and dried over sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the solid obtained was washed with isopropyl ether. 11.41 g of the title compound was obtained as a white solid.

H-NMR (CDCl) δ: 7.53-7.49 (1H, m), 7.50 (1H, s), 7.09-7.07 (2H, m), 3.88 (2H, q, J = 7.1 Hz), 1.81 (3H, s), 1.12 (3H, t, J = 7.1 Hz). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 7.53-7.49 (1H, m), 7.50 (1H, s), 7.09-7.07 (2H, m), 3.88 (2H , q, J = 7.1 Hz), 1.81 (3H, s), 1.12 (3H, t, J = 7.1 Hz).

[参考例5]
3-クロロ-5-(ジブロモメチル)-6-(2,6-ジフルオロフェニル)-1-エチルピリジン-2(1H)-オンの合成

Figure 0007118961000221

3-クロロ-6-(2,6-ジフルオロフェニル)-1-エチル-5-メチルピリジン-2(1H)-オン 12.65gを含むクロロベンゼン溶液 230mlに、N-ブロモスクシンイミド 16.67gとアゾビスイソブチロニトリル 366mgを加えて、110℃で50分間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水とジクロロメタンを加えて分液した。得られた有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた固体をイソプロピルエーテルで洗浄した。表題の化合物が16.88gの淡褐色固体として得られた。[Reference Example 5]
Synthesis of 3-chloro-5-(dibromomethyl)-6-(2,6-difluorophenyl)-1-ethylpyridin-2(1H)-one
Figure 0007118961000221

16.67 g of N-bromosuccinimide and azobis 366 mg of isobutyronitrile was added and stirred at 110° C. for 50 minutes. After cooling to room temperature, water and dichloromethane were added to the reaction mixture to separate the layers. The resulting organic layer was washed with an aqueous sodium thiosulfate solution and dried over sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the solid obtained was washed with isopropyl ether. The title compound was obtained as 16.88 g of a pale brown solid.

H-NMR (CDCl) δ: 8.13 (1H, s), 7.65-7.63 (1H, m), 7.18 (2H, dd, J = 8.5, 6.8 Hz), 5.96 (1H, s), 3.82 (2H, q, J = 7.1 Hz), 1.13 (3H, t, J = 7.1 Hz). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.13 (1H, s), 7.65-7.63 (1H, m), 7.18 (2H, dd, J = 8.5, 6.8 Hz ), 5.96 (1H, s), 3.82 (2H, q, J = 7.1 Hz), 1.13 (3H, t, J = 7.1 Hz).

[参考例6]
5-クロロ-2-(2,6-ジフルオロフェニル)-1-エチル-6-オキソ-1,6-ジヒドロピリジン-3-カルボアルデヒドの合成

Figure 0007118961000222

3-クロロ-5-(ジブロモメチル)-6-(2,6-ジフルオロフェニル)-1-エチルピリジン-2(1H)-オン 18.95gを含むアセトニトリル 380mlに、硝酸銀 21.87gを含む水溶液 190mlを加えて室温で15分撹拌した。得られた反応混合物を濾過することにより不溶物を除去した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を1規定塩酸と飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた固体をイソプロピルエーテルで洗浄した。表題の化合物が11.37gの淡黄色固体として得られた。[Reference Example 6]
Synthesis of 5-chloro-2-(2,6-difluorophenyl)-1-ethyl-6-oxo-1,6-dihydropyridine-3-carbaldehyde
Figure 0007118961000222

190 ml of an aqueous solution containing 21.87 g of silver nitrate in 380 ml of acetonitrile containing 18.95 g of 3-chloro-5-(dibromomethyl)-6-(2,6-difluorophenyl)-1-ethylpyridin-2(1H)-one was added and stirred at room temperature for 15 minutes. The insoluble matter was removed by filtering the obtained reaction mixture. After evaporating the solvent from the filtrate under reduced pressure, water and ethyl acetate were added to separate the layers. The obtained organic layer was washed with 1N hydrochloric acid and saturated brine, and dried over sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the solid obtained was washed with isopropyl ether. 11.37 g of the title compound was obtained as a pale yellow solid.

H-NMR (CDCl) δ: 9.19 (1H, t, J = 1.0 Hz), 8.13 (1H, s), 7.67-7.63 (1H, m), 7.18-7.16 (2H, m), 3.94 (2H, q, J = 7.1 Hz), 1.19 (3H, t, J = 7.1 Hz). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 9.19 (1H, t, J = 1.0 Hz), 8.13 (1H, s), 7.67-7.63 (1H, m), 7. 18-7.16 (2H, m), 3.94 (2H, q, J = 7.1 Hz), 1.19 (3H, t, J = 7.1 Hz).

[参考例7]
3-クロロ-6-(2,6-ジフルオロフェニル)-1-エチル-5-(1-ヒドロキシエチル)ピリジン-2(1H)-オンの合成

Figure 0007118961000223

5-クロロ-2-(2,6-ジフルオロフェニル)-1-エチル-6-オキソ-1,6-ジヒドロピリジン-3-カルボアルデヒド 0.80gを含むTHF溶液 20mlに、メチルマグネシウムブロミドのTHF溶液(1.0mol/L) 8.00mlを氷冷下で滴下して2時間撹拌した。該反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、表題の化合物が0.81gの白色固体として得られた。これ以上精製することなく、次の反応に使用した。[Reference Example 7]
Synthesis of 3-chloro-6-(2,6-difluorophenyl)-1-ethyl-5-(1-hydroxyethyl)pyridin-2(1H)-one
Figure 0007118961000223

To 20 ml of a THF solution containing 0.80 g of 5-chloro-2-(2,6-difluorophenyl)-1-ethyl-6-oxo-1,6-dihydropyridine-3-carbaldehyde, a THF solution of methylmagnesium bromide ( 1.0 mol/L) (8.00 ml) was added dropwise under ice-cooling, and the mixture was stirred for 2 hours. A saturated aqueous solution of ammonium chloride and ethyl acetate were added to the reaction mixture and the layers were separated, and the resulting organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. After evaporation of the solvent under reduced pressure, 0.81 g of the title compound was obtained as a white solid. Used for next reaction without further purification.

H-NMR (CDCl) δ: 7.86 (1H, s), 7.56-7.54 (1H, m), 7.13-7.08 (2H, m), 4.25-4.23 (1H, m), 3.89-3.86 (1H, m), 3.81-3.78 (1H, m), 1.65 (1H, d, J = 2.8 Hz), 1.29 (3H, d, J = 6.4 Hz), 1.12 (3H, t, J = 7.0 Hz). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 7.86 (1H, s), 7.56-7.54 (1H, m), 7.13-7.08 (2H, m), 4.25-4 .23 (1H, m), 3.89-3.86 (1H, m), 3.81-3.78 (1H, m), 1.65 (1H, d, J = 2.8 Hz), 1.29 (3H, d, J = 6.4 Hz), 1.12 (3H, t, J = 7.0 Hz).

[参考例8]
5-アセチル-3-クロロ-6-(2,6-ジフルオロフェニル)-1-エチルピリジン-2(1H)-オンの合成

Figure 0007118961000224

3-クロロ-6-(2,6-ジフルオロフェニル)-1-エチル-5-(1-ヒドロキシエチル)ピリジン-2(1H)-オン 0.81gとジメチルスルホキシド 3mlを含むジクロロメタン溶液 9mlに、トリエチルアミン 1.80mlとピリジン-三酸化硫黄コンプレックス 1.64gを氷冷下で加えて2時間撹拌した。該反応混合物に1規定塩酸と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が0.74gの淡黄色固体として得られた。[Reference Example 8]
Synthesis of 5-acetyl-3-chloro-6-(2,6-difluorophenyl)-1-ethylpyridin-2(1H)-one
Figure 0007118961000224

In 9 ml of a dichloromethane solution containing 0.81 g of 3-chloro-6-(2,6-difluorophenyl)-1-ethyl-5-(1-hydroxyethyl)pyridin-2(1H)-one and 3 ml of dimethylsulfoxide, triethylamine 1.80 ml and 1.64 g of pyridine-sulfur trioxide complex were added under ice-cooling and stirred for 2 hours. 1N Hydrochloric acid and ethyl acetate were added to the reaction mixture and the layers were separated, and the resulting organic layer was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogencarbonate solution and saturated brine and dried over sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. 0.74 g of the title compound was obtained as a pale yellow solid.

[参考例9]

Figure 0007118961000225

ステップ1:5-(4-フルオロフェニル)-4-メチル-5-オキソペンタン酸エチルの合成
4-フルオロプロピオフェノン 25.0gを含むTHF溶液 250mlに、カリウム t-ブトキシド 3.69gとアクリル酸エチル 17.27gを加えて、氷冷下で3時間撹拌した。これに飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水にて洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下にて溶媒留去し、表題の化合物が41.5gの黄色油状物質として得られた。これ以上精製することなく次の反応に使用した。[Reference Example 9]
Figure 0007118961000225

Step 1: Synthesis of ethyl 5-(4-fluorophenyl)-4-methyl-5-oxopentanoate To 250 ml of THF solution containing 25.0 g of 4-fluoropropiophenone, 3.69 g of potassium t-butoxide and acrylic acid were added. 17.27 g of ethyl was added and stirred for 3 hours under ice-cooling. A saturated aqueous ammonium chloride solution and ethyl acetate were added to the mixture, and the mixture was separated. The resulting organic layer was washed with saturated brine and dried over sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 41.5 g of the title compound as a yellow oil. Used for next reaction without further purification.

H-NMR (CDCl) δ: 8.01-8.00 (2H, m), 7.17-7.11 (2H, m), 4.11 (2H, q, J = 7.2 Hz), 3.55-3.53 (1H, m), 2.42-2.27 (1H, m), 2.19-2.12 (1H, m), 1.78-1.74 (1H, m), 1.23 (3H, t, J = 7.2 Hz), 1.21 (3H, d, J = 7.0 Hz).
ステップ2:5-(4-フルオロフェニル)-4-メチル-5-オキソペンタン酸の合成
ステップ1で得られた5-(4-フルオロフェニル)-4-メチル-5-オキソペンタン酸エチル 41.5gにTHF 200mlと水 100mlを加えた後に、水酸化リチウム1水和物 20.71gを加えて、60℃で3時間撹拌した。室温まで冷却後、反応混合物中のTHFを減圧下で留去した。これに水とジエチルエーテルを加えて分液し、得られた水層に12規定塩酸と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、表題の化合物が34.0gの褐色油状物質として得られた。
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.01-8.00 (2H, m), 7.17-7.11 (2H, m), 4.11 (2H, q, J = 7.2 Hz ), 3.55-3.53 (1H, m), 2.42-2.27 (1H, m), 2.19-2.12 (1H, m), 1.78-1.74 (1H , m), 1.23 (3H, t, J = 7.2 Hz), 1.21 (3H, d, J = 7.0 Hz).
Step 2: Synthesis of 5-(4-fluorophenyl)-4-methyl-5-oxopentanoic acid Ethyl 5-(4-fluorophenyl)-4-methyl-5-oxopentanoate obtained in step 141. After adding 200 ml of THF and 100 ml of water to 5 g, 20.71 g of lithium hydroxide monohydrate was added and stirred at 60° C. for 3 hours. After cooling to room temperature, THF in the reaction mixture was distilled off under reduced pressure. Water and diethyl ether were added to the mixture to separate the layers, and 12 N hydrochloric acid and ethyl acetate were added to the resulting aqueous layer to separate the layers. The obtained organic layer was washed with saturated saline and dried with sodium sulfate. After evaporation of the solvent under reduced pressure, 34.0 g of the title compound was obtained as a brown oil.

H-NMR (CDCl) δ: 8.02-7.98 (2H, m), 7.16-7.13 (2H, m), 3.56-3.53 (1H, m), 2.49-2.33 (2H, m), 2.18-2.15 (1H, m), 1.79-1.77 (1H, m), 1.22 (3H, d, J = 7.0 Hz). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.02-7.98 (2H, m), 7.16-7.13 (2H, m), 3.56-3.53 (1H, m), 2 .49-2.33 (2H, m), 2.18-2.15 (1H, m), 1.79-1.77 (1H, m), 1.22 (3H, d, J = 7. 0 Hz).

[参考例10]
6-(4-フルオロフェニル)-5-メチル-3,4-ジヒドロピリジン-2(1H)-オンの合成

Figure 0007118961000226

5-(4-フルオロフェニル)-4-メチル-5-オキソペンタン酸 34.0gと酢酸アンモニウム 233.7gを含む酢酸溶液 340mlを、90℃で3時間撹拌した後に、さらに120℃で5時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に酢酸エチルと水を加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水にて洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去を行った後に、ジイソプロピルエーテルにより析出物を洗浄した。得られた褐色固体 17.8gは表題の化合物であった。[Reference Example 10]
Synthesis of 6-(4-fluorophenyl)-5-methyl-3,4-dihydropyridin-2(1H)-one
Figure 0007118961000226

340 ml of an acetic acid solution containing 34.0 g of 5-(4-fluorophenyl)-4-methyl-5-oxopentanoic acid and 233.7 g of ammonium acetate was stirred at 90° C. for 3 hours, and then stirred at 120° C. for 5 hours. did. After cooling to room temperature, ethyl acetate and water were added to the reaction mixture to separate the layers. The obtained organic layer was washed with saturated saline and dried with sodium sulfate. After distilling off the solvent under reduced pressure, the precipitate was washed with diisopropyl ether. The resulting 17.8 g brown solid was the title compound.

H-NMR (CDCl) δ: 7.29-7.25 (2H, m), 7.11-7.06 (2H, m), 6.77 (1H, s), 2.58-2.55 (2H, m), 2.43-2.41 (2H, m), 1.73 (3H, t, J = 0.9 Hz). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 7.29-7.25 (2H, m), 7.11-7.06 (2H, m), 6.77 (1H, s), 2.58-2 .55 (2H, m), 2.43-2.41 (2H, m), 1.73 (3H, t, J = 0.9 Hz).

[参考例11]
1-エチル-6-(4-フルオロフェニル)-5-メチル-3,4-ジヒドロピリジン-2(1H)-オンの合成

Figure 0007118961000227

6-(4-フルオロフェニル)-5-メチル-3,4-ジヒドロピリジン-2(1H)-オン 17.3gを含むDMF溶液 173mlに、ヨウ化エチル 20.17mlと炭酸セシウム 82.16gを加えて、70℃で3時間撹拌した後に、さらに90℃で8時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が8.11gの淡黄色油状物質として得られた。[Reference Example 11]
Synthesis of 1-ethyl-6-(4-fluorophenyl)-5-methyl-3,4-dihydropyridin-2(1H)-one
Figure 0007118961000227

To 173 ml of DMF solution containing 17.3 g of 6-(4-fluorophenyl)-5-methyl-3,4-dihydropyridin-2(1H)-one, 20.17 ml of ethyl iodide and 82.16 g of cesium carbonate were added. , 70°C for 3 hours, and then at 90°C for 8 hours. After cooling to room temperature, water and ethyl acetate were added to the reaction mixture to separate the layers. The resulting organic layer was washed with water and saturated brine in that order and dried over magnesium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 8.11 g of pale yellow oil.

H-NMR (CDCl) δ: 7.19-7.16 (2H, m), 7.12-7.07 (2H, m), 3.33 (2H, q, J = 7.0 Hz), 2.59-2.54 (2H, m), 2.33-2.30 (2H, m), 1.60 (3H, s), 0.89 (3H, t, J = 7.0 Hz). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 7.19-7.16 (2H, m), 7.12-7.07 (2H, m), 3.33 (2H, q, J = 7.0 Hz ), 2.59-2.54 (2H, m), 2.33-2.30 (2H, m), 1.60 (3H, s), 0.89 (3H, t, J = 7.0 Hz).

[参考例12]
1-エチル-6-(4-フルオロフェニル)-5-メチルピリジン-2(1H)-オンの合成

Figure 0007118961000228

1-エチル-6-(4-フルオロフェニル)-5-メチル-3,4-ジヒドロピリジン-2(1H)-オン 8.11gと2,3-ジクロロ-5,6-ジシアノ-p-ベンゾキノン 15.79gを含むトルエン溶液 130mlを90℃で4時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物を濾過することにより不溶物を除去した。濾液を減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が6.30gの黄色固体物質として得られた。[Reference Example 12]
Synthesis of 1-ethyl-6-(4-fluorophenyl)-5-methylpyridin-2(1H)-one
Figure 0007118961000228

1-ethyl-6-(4-fluorophenyl)-5-methyl-3,4-dihydropyridin-2(1H)-one 8.11 g and 2,3-dichloro-5,6-dicyano-p-benzoquinone 15. 130 ml of a toluene solution containing 79 g was stirred at 90° C. for 4 hours. After cooling to room temperature, the reaction mixture was filtered to remove insoluble matter. After evaporating the filtrate under reduced pressure, the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. The title compound was obtained as 6.30 g of yellow solid material.

H-NMR (CDCl) δ: 7.25-7.18 (5H, m), 6.58 (1H, d, J = 9.3 Hz), 3.79 (2H, q, J = 7.1 Hz), 1.73 (3H, s), 1.09 (3H, t, J = 7.1 Hz). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 7.25-7.18 (5H, m), 6.58 (1H, d, J = 9.3 Hz), 3.79 (2H, q, J = 7 .1 Hz), 1.73 (3H, s), 1.09 (3H, t, J = 7.1 Hz).

[参考例13]
3-クロロ-1-エチル-6-(4-フルオロフェニル)-5-メチルピリジン-2(1H)-オンの合成

Figure 0007118961000229

1-エチル-6-(4-フルオロフェニル)-5-メチルピリジン-2(1H)-オン 6.30gとN-クロロスクシンイミド 4.00gを含むDMF溶液 63mlを70℃で3時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に酢酸エチルと水を加えて分液した。得られた有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が6.25gの褐色固体として得られた。[Reference Example 13]
Synthesis of 3-chloro-1-ethyl-6-(4-fluorophenyl)-5-methylpyridin-2(1H)-one
Figure 0007118961000229

63 ml of DMF solution containing 6.30 g of 1-ethyl-6-(4-fluorophenyl)-5-methylpyridin-2(1H)-one and 4.00 g of N-chlorosuccinimide was stirred at 70° C. for 3 hours. After cooling to room temperature, ethyl acetate and water were added to the reaction mixture to separate the layers. The resulting organic layer was washed successively with an aqueous sodium thiosulfate solution and saturated brine, and dried over sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the obtained residue was purified by silica gel column chromatography. 6.25 g of the title compound was obtained as a brown solid.

H-NMR (CDCl) δ: 7.47 (1H, s), 7.23-7.21 (4H, m), 3.84 (2H, q, J = 7.1 Hz), 1.75 (3H, s), 1.11 (3H, t, J = 7.1 Hz). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 7.47 (1H, s), 7.23-7.21 (4H, m), 3.84 (2H, q, J = 7.1 Hz), 75 (3H, s), 1.11 (3H, t, J = 7.1 Hz).

[参考例14]
3-クロロ-5-(ジブロモメチル)-1-エチル-6-(4-フルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オンの合成

Figure 0007118961000230

3-クロロ-1-エチル-6-(4-フルオロフェニル)-5-メチルピリジン-2(1H)-オン 5.17gを含むクロロベンゼン溶液 100mlに、N-ブロモスクシンイミド 7.25gとアゾビスイソブチロニトリル 318mgを加えて、90℃で4時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水とジクロロメタンを加えて分液した。得られた有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた固体をイソプロピルエーテルで洗浄した。表題の化合物が7.37gの褐色固体として得られた。[Reference Example 14]
Synthesis of 3-chloro-5-(dibromomethyl)-1-ethyl-6-(4-fluorophenyl)pyridin-2(1H)-one
Figure 0007118961000230

7.25 g of N-bromosuccinimide and azobisisobutyl were added to 100 ml of a chlorobenzene solution containing 5.17 g of 3-chloro-1-ethyl-6-(4-fluorophenyl)-5-methylpyridin-2(1H)-one. 318 mg of lonitrile was added and stirred at 90° C. for 4 hours. After cooling to room temperature, water and dichloromethane were added to the reaction mixture to separate the layers. The resulting organic layer was washed with an aqueous sodium thiosulfate solution and dried over sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the solid obtained was washed with isopropyl ether. The title compound was obtained as 7.37 g of brown solid.

H-NMR (CDCl) δ: 8.09 (1H, s), 7.35-7.29 (4H, m), 5.86 (1H, s), 3.78 (2H, q, J = 7.0 Hz), 1.11 (3H, t, J = 7.0 Hz). 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 8.09 (1H, s), 7.35-7.29 (4H, m), 5.86 (1H, s), 3.78 (2H, q, J = 7.0 Hz), 1.11 (3H, t, J = 7.0 Hz).

[参考例15]
5-クロロ-1-エチル-2-(4-フルオロフェニル)-6-オキソ-1,6-ジヒドロピリジン-3-カルボアルデヒドの合成

Figure 0007118961000231

3-クロロ-5-(ジブロモメチル)-1-エチル-6-(4-フルオロフェニル)ピリジン-2(1H)-オン 8.67gを含むアセトニトリル 130mlに、硝酸銀 10.41gを含む水溶液 65mlを加えて室温で3時間撹拌した。得られた反応混合物を濾過することにより不溶物を除去した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を1規定塩酸と飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた固体をイソプロピルエーテルで洗浄した。表題の化合物が5.01gの黄色固体として得られた。[Reference Example 15]
Synthesis of 5-chloro-1-ethyl-2-(4-fluorophenyl)-6-oxo-1,6-dihydropyridine-3-carbaldehyde
Figure 0007118961000231

65 ml of an aqueous solution containing 10.41 g of silver nitrate was added to 130 ml of acetonitrile containing 8.67 g of 3-chloro-5-(dibromomethyl)-1-ethyl-6-(4-fluorophenyl)pyridin-2(1H)-one. and stirred at room temperature for 3 hours. The insoluble matter was removed by filtering the obtained reaction mixture. After evaporating the solvent from the filtrate under reduced pressure, water and ethyl acetate were added to separate the layers. The obtained organic layer was washed with 1N hydrochloric acid and saturated brine, and dried over sodium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the solid obtained was washed with isopropyl ether. 5.01 g of the title compound was obtained as a yellow solid.

H-NMR (CDCl) δ: 9.09 (1H, s), 8.11 (1H, s), 7.40-7.39 (2H, m), 7.31-7.29 (2H, m), 3.90 (2H, q, J = 7.1 Hz), 1.18 (3H, t, J = 7.1 Hz).
表4~7に前記の実施例に準じて合成した化合物を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 9.09 (1H, s), 8.11 (1H, s), 7.40-7.39 (2H, m), 7.31-7.29 (2H , m), 3.90 (2H, q, J = 7.1 Hz), 1.18 (3H, t, J = 7.1 Hz).
Tables 4 to 7 show compounds synthesized according to the above examples, but the present invention is not limited to these.

表4中、化合物番号がAで始まる化合物は、以下の構造を表す。また、表4におけるratioは、異性体比を表す。

Figure 0007118961000232
In Table 4, compounds whose compound numbers start with A have the following structures. Moreover, ratio in Table 4 represents the isomer ratio.
Figure 0007118961000232

表5中、化合物番号がBで始まる化合物は式(2)を表す。

Figure 0007118961000233
In Table 5, compounds whose compound number starts with B represent formula (2).
Figure 0007118961000233

表6中、化合物番号がCで始まる化合物は式(3)を表す。

Figure 0007118961000234
In Table 6, compounds whose compound number starts with C represent formula (3).
Figure 0007118961000234

表7中、化合物番号がDで始まる化合物は式(4)を表す。

Figure 0007118961000235
In Table 7, compounds whose compound number starts with D represent formula (4).
Figure 0007118961000235

Figure 0007118961000236
Figure 0007118961000236

Figure 0007118961000237
Figure 0007118961000237

Figure 0007118961000238
Figure 0007118961000238

Figure 0007118961000239
Figure 0007118961000239

Figure 0007118961000240
Figure 0007118961000240

Figure 0007118961000241
Figure 0007118961000241

Figure 0007118961000242
Figure 0007118961000242

Figure 0007118961000243
Figure 0007118961000243

次に、表4~7に記載の化合物に関して、表8~11にそれらのH-NMRデータを示す。Next, Tables 8-11 show their 1 H-NMR data for the compounds listed in Tables 4-7.

Figure 0007118961000244
Figure 0007118961000244

Figure 0007118961000245
Figure 0007118961000245

Figure 0007118961000246
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Figure 0007118961000247
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Figure 0007118961000248
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Figure 0007118961000249
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Figure 0007118961000250
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Figure 0007118961000251
Figure 0007118961000251

Figure 0007118961000252
Figure 0007118961000252

次に、本発明化合物が植物病害に有効であることを具体的に示すが、これらの例に限定されるものではない。 Next, the compounds of the present invention are specifically shown to be effective against plant diseases, but are not limited to these examples.

[試験例A] イネいもち病
供試植物(イネ品種:幸風)の種子を播種後、第2葉が展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド-メタノール混合溶液(容積比:9/1)に溶解し、250ppmの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した(2.5ml/ポット)。薬液が乾燥した後の植物に、1~2×10個/mlのイネいもち病菌(Magnaporthe grisea)の分生胞子懸濁液を噴霧接種した。接種後、室温が20~23℃の湿室に約24時間放置し、発病を促した。接種6~10日後の発病程度を調査し、薬液の効果を評価した。
[Test Example A] Rice blast Seeds of a test plant (rice variety: Kofu) were sown and cultivated until the second leaf developed. In the test, the compound of the present invention was dissolved in a dimethylsulfoxide-methanol mixed solution (volume ratio: 9/1) and diluted with well water to a concentration of 250 ppm to obtain a chemical solution. The resulting chemical solution was sprayed on the test plants (2.5 ml/pot). After the chemical solution had dried, the plants were spray-inoculated with a conidia suspension of 1 to 2×10 5 conidia/ml of Magnaporthe grisea. After inoculation, the plants were left in a moist room at a room temperature of 20 to 23°C for about 24 hours to promote disease development. 6 to 10 days after inoculation, the degree of disease development was investigated to evaluate the effect of the drug solution.

[試験例B] トマト灰色かび病
供試植物(トマト品種:大型福寿)の種子を播種後、本葉が3~5枚展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド-メタノール混合溶液(容積比:9/1)に溶解し、250ppmの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した(2.5ml/ポット)。薬液が乾燥した後の植物に、4~8×10個/mlの灰色かび病菌(Botrytis cinerea)の分生胞子懸濁液を噴霧接種した。接種後、室温が20~23℃の湿室に約48時間放置し、発病を促した。接種2~3日後の発病程度を調査し、薬液の効果を評価した。
[Test Example B] Gray mold of tomato Seeds of a test plant (tomato variety: Dai Fukuju) were sown and cultivated until 3 to 5 true leaves developed. In the test, the compound of the present invention was dissolved in a dimethylsulfoxide-methanol mixed solution (volume ratio: 9/1) and diluted with well water to a concentration of 250 ppm to obtain a chemical solution. The resulting chemical solution was sprayed on the test plants (2.5 ml/pot). After the chemical solution had dried, the plants were spray-inoculated with a conidia suspension of 4-8×10 5 cells/ml of Botrytis cinerea. After inoculation, the plants were left in a moist room at a room temperature of 20 to 23°C for about 48 hours to promote disease development. 2 to 3 days after inoculation, the degree of disease development was investigated to evaluate the effect of the drug solution.

[試験例C] キャベツ黒すす病
供試植物(キャベツ品種:四季穫)の種子を播種後、子葉が展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド-メタノール混合溶液(容積比:9/1)に溶解し、250ppmの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した(2.5ml/ポット)。薬液が乾燥した後の植物に、4~8×10個/mlのキャベツ黒すす病菌(Alternaia brassicicola)の分生胞子懸濁液を噴霧接種した。接種後、室温が20~23℃の湿室に約48時間放置し、発病を促した。接種2~3日後の発病程度を調査し、薬液の効果を評価した。
[Test Example C] Cabbage black soot disease Seeds of a test plant (cabbage variety: Shiki) were sown and cultivated until cotyledons developed. In the test, the compound of the present invention was dissolved in a dimethylsulfoxide-methanol mixed solution (volume ratio: 9/1) and diluted with well water to a concentration of 250 ppm to obtain a chemical solution. The resulting chemical solution was sprayed on the test plants (2.5 ml/pot). After the chemical solution had dried, the plants were spray-inoculated with a conidia suspension of 4-8×10 5 cells/ml of Alternaia brassicicola. After inoculation, the plants were left in a moist room at a room temperature of 20 to 23°C for about 48 hours to promote disease development. 2 to 3 days after inoculation, the degree of disease development was investigated to evaluate the effect of the drug solution.

[試験例D] オオムギうどんこ病
供試植物(オオムギ品種:赤神力)の種子を播種後、第1葉が展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド-メタノール混合溶液(容積比:9/1)に溶解し、250ppmの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した(2.5ml/ポット)。薬液が乾燥した後の植物に、オオムギうどんこ病菌(Blumeria graminis f.sp.hordei)の分生胞子を叩き落して接種した。接種後、6~10日後の発病程度を調査し、その効果を評価した。
[Test Example D] Barley Powdery Mildew Seeds of a test plant (barley variety: Akashinriki) were sown and cultivated until the first leaves developed. In the test, the compound of the present invention was dissolved in a dimethylsulfoxide-methanol mixed solution (volume ratio: 9/1) and diluted with well water to a concentration of 250 ppm to obtain a chemical solution. The resulting chemical solution was sprayed on the test plants (2.5 ml/pot). After the chemical solution had dried, the plants were inoculated with conidia of barley powdery mildew (Blumeria graminis f.sp.hordei) by knocking them down. After 6 to 10 days after inoculation, the degree of disease onset was investigated to evaluate the effect.

[試験例E] コムギ赤さび病
供試植物(コムギ品種:農林61号)の種子を播種後、第1葉が展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド-メタノール混合溶液(容積比:9/1)に溶解し、250ppmの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した(2.5ml/ポット)。薬液が乾燥した後の植物に、1~2×10個/mlのコムギ赤さび病菌(Puccinia recondita)の夏胞子懸濁液を噴霧接種した。接種後、室温が20~23℃の湿室に約24時間放置し、発病を促した。接種7~10日後の発病程度を調査し、薬液の効果を評価した。
[Test Example E] Wheat leaf rust Seeds of a test plant (wheat variety: Norin No. 61) were sown and cultivated until the first leaves developed. In the test, the compound of the present invention was dissolved in a dimethylsulfoxide-methanol mixed solution (volume ratio: 9/1) and diluted with well water to a concentration of 250 ppm to obtain a chemical solution. The resulting chemical solution was sprayed on the test plants (2.5 ml/pot). After the chemical solution had dried, the plants were spray-inoculated with a uredospore suspension of 1-2×10 5 cells/ml of Puccinia recondita. After inoculation, the plants were left in a moist room at a room temperature of 20 to 23°C for about 24 hours to promote disease development. 7 to 10 days after inoculation, the degree of disease onset was investigated, and the effect of the drug solution was evaluated.

[試験例F] トマト疫病
供試植物(トマト品種:大型福寿)の種子を播種後、本葉が3~5枚展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド-メタノール混合溶液(容積比:9/1)に溶解し、250ppmの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した(2.5ml/ポット)。薬液が乾燥した後の植物に、4~8×10個/mlのトマト疫病菌(Phytophthora infestans)の遊走子のう懸濁液を噴霧接種した。接種後、室温が20℃の湿室に約24時間放置し、発病を促した。接種5~10日後の発病程度を調査し、薬液の効果を評価した。
[Test Example F] Late blight of tomato Seeds of a test plant (tomato variety: Dai Fukuju) were sown and cultivated until 3 to 5 true leaves developed. In the test, the compound of the present invention was dissolved in a dimethylsulfoxide-methanol mixed solution (volume ratio: 9/1) and diluted with well water to a concentration of 250 ppm to obtain a chemical solution. The resulting chemical solution was sprayed on the test plants (2.5 ml/pot). After the chemical solution had dried, the plants were spray-inoculated with a zoospore suspension of Phytophthora infestans at 4-8×10 3 cells/ml. After inoculation, the plants were left in a moist room at a room temperature of 20°C for about 24 hours to promote disease development. 5 to 10 days after inoculation, the degree of disease development was investigated to evaluate the effect of the drug solution.

[試験例G] ブドウべと病
供試植物(ブドウ品種:ネオマスカット)の種子を播種後、本葉が3~4枚展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド-メタノール混合溶液(容積比:9/1)に溶解し、250ppmの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した(2.5ml/ポット)。薬液が乾燥した後の植物に、1~2×10個/mlのブドウべと病菌(Plasmopara viticola)の遊走子のう懸濁液を噴霧接種した。接種後、室温が20℃の湿室に約24時間放置し、発病を促した。接種7~10日後の発病程度を調査し、薬液の効果を評価した。
[Test Example G] Downy mildew of a test plant (grape variety: Neo Muscat) was sown and cultivated until 3 to 4 true leaves developed. In the test, the compound of the present invention was dissolved in a dimethylsulfoxide-methanol mixed solution (volume ratio: 9/1) and diluted with well water to a concentration of 250 ppm to obtain a chemical solution. The resulting chemical solution was sprayed on the test plants (2.5 ml/pot). After the chemical solution had dried, the plants were spray inoculated with a zoosporangial suspension of 1-2×10 4 cells/ml of Plasmopara viticola. After inoculation, the plants were left in a moist room at a room temperature of 20°C for about 24 hours to promote disease development. 7 to 10 days after inoculation, the degree of disease development was investigated to evaluate the effect of the drug solution.

[試験例H] キュウリ炭疽病
供試植物(キュウリ品種:相模半白)の種子を播種後、本葉が1枚展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド-メタノール混合溶液(容積比:9/1)に溶解し、250ppmの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した(2.5ml/ポット)。薬液が乾燥した後の植物に、2~4×10個/mlのキュウリ炭疽病菌(Colletotrichum orbiculare)の分生胞子懸濁液を噴霧接種した。接種後、室温が20~23℃の湿室に約24時間放置し、発病を促した。接種6~10日後の発病程度を調査し、薬液の効果を評価した。
[Test Example H] Cucumber anthracnose Seeds of a test plant (cucumber variety: Sagamihanjiro) were sown and cultivated until one true leaf developed. In the test, the compound of the present invention was dissolved in a dimethylsulfoxide-methanol mixed solution (volume ratio: 9/1) and diluted with well water to a concentration of 250 ppm to obtain a chemical solution. The resulting chemical solution was sprayed on the test plants (2.5 ml/pot). After the chemical solution had dried, the plants were spray-inoculated with a conidia suspension of 2-4×10 5 cells/ml of Colletotrichum orbiculare. After inoculation, the plants were left in a moist room at a room temperature of 20 to 23°C for about 24 hours to promote disease development. 6 to 10 days after inoculation, the degree of disease development was investigated to evaluate the effect of the drug solution.

以上の試験例の発病程度について、無発病の植物の発病程度を0、薬剤無処理区の植物の発病程度を3として、0.05ごとの発病程度の評価を行った。また、発病程度から以下の計算式に従って防除価を算出した。
<防除価>
防除価=100{1-(n/3)}
n=各薬剤処理区の発病程度
以上の試験結果をまとめたものを表12~15に示す。表中、Hは防除価が50%より大きいもの表し、Lは防除価が50%以下を表す。
With regard to the degree of disease onset in the above test examples, the degree of disease onset in non-diseased plants was set to 0, and the degree of disease onset in plants not treated with chemicals was set to 3, and the degree of disease onset was evaluated in increments of 0.05. In addition, the preventive value was calculated according to the following formula from the degree of disease development.
<Control value>
Control value = 100 {1-(n/3)}
Tables 12 to 15 show the test results for n=symptomatic disease in each drug-treated plot. In the table, H indicates that the control value is greater than 50%, and L indicates that the control value is 50% or less.

Figure 0007118961000253
Figure 0007118961000253

Figure 0007118961000254
Figure 0007118961000254

Figure 0007118961000255
Figure 0007118961000255

Figure 0007118961000256
Figure 0007118961000256

Figure 0007118961000257
Figure 0007118961000257

Figure 0007118961000258
Figure 0007118961000258

Figure 0007118961000259
Figure 0007118961000259

本発明のピリドン化合物は新規な化合物であり、植物病害を防除することができるので、農薬、例えば、農園芸用有害生物防除剤、特に農園芸用殺菌剤としての利用価値がある。 Since the pyridone compound of the present invention is a novel compound and can control plant diseases, it is useful as an agricultural chemical, for example, an agricultural and horticultural pesticide, especially an agricultural and horticultural fungicide.

日本国特許出願2017-115359号(出願日:2017年6月12日)の開示はその全体が参照により本明細書に取り込まれる。 The disclosure of Japanese Patent Application No. 2017-115359 (filing date: June 12, 2017) is incorporated herein by reference in its entirety.

本明細書に記載された全ての文献、特許出願、および技術規格は、個々の文献、特許出願、および技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書に参照により取り込まれる。 All publications, patent applications and technical standards mentioned herein are to the same extent as if each individual publication, patent application and technical standard were specifically and individually noted to be incorporated by reference. incorporated herein by reference.

Claims (7)

式(1)
Figure 0007118961000260

[式中、R1は、
水酸基、
シアノ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
C2~C6のハロアルキニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、
C1~C6のハロアルコキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、
C2~C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、
C3~C6のハロアルキニルオキシ基、
またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはRaおよびRbは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)を表し;
R2は、
水素原子、
シアノ基、
ニトロ基、
ハロゲン原子、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
C2~C6のハロアルキニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、
C1~C6のハロアルコキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、
C2~C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、
C3~C6のハロアルキニルオキシ基、
Rc-L-(ここで、Rcは、C1~C6のアルキル基またはC1~C6のハロアルキル基を表し、Lは、S、SO、またはSOを表す。)、
RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、
またはRdC(=O)-(ここで、Rdは、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)を表す。)を表し;
Xは、酸素原子または硫黄原子を表し;
Yは、
R3で適宜0~5置換されてもよいフェニル基(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)、
R3で適宜0~4置換されてもよいピリジル基(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)、
R3で適宜0~3置換されてもよいピリダジニル基(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)、
R3で適宜0~3置換されてもよいピリミジニル基(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)、
R3で適宜0~3置換されてもよいピラジニル基(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)、
R3で適宜0~2置換されてもよいトリアジニル基(ただし、2置換のR3の場合、それぞれ独立している。)、
R3で適宜置換されてもよいテトラジニル基、
R3で適宜0~3置換されてもよいチエニル基(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)、
R3で適宜0~2置換されてもよいチアゾリル基(ただし、2置換のR3の場合、それぞれ独立している。)、
R3で適宜0~2置換されてもよいイソチアゾリル基(ただし、2置換のR3の場合、それぞれ独立している。)、
またはR3で適宜置換されてもよいチアジアゾリル基を表し、
R3は、
水酸基、
シアノ基、
ニトロ基、
ハロゲン原子、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
C2~C6のハロアルキニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、
C1~C6のハロアルコキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、
C2~C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、
C3~C6のハロアルキニルオキシ基、
RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)、
RdC(=O)O-(ここで、Rdは、前記と同義である。)、
1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基、
Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、
RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、
またはReC(=O)N(Rf)-(ここで、ReとRfは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)を表す。)を表し;
R4は、
水素原子、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
C2~C6のハロアルキニル基、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基を有するC1~C6のアルキル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基を有するC1~C6のハロアルキル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、
またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)を表し、
R5は、
水素原子、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
C2~C6のハロアルキニル基、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基を有するC1~C6のアルキル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基を有するC1~C6のハロアルキル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、
またはRdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)を表し、
あるいは、R4とR5が、結合するオキシム構造(C=N-O)と一緒になって、
置換基Eで適宜0~2置換されてもよいイソキサゾール環(ただし、2置換の置換基Eの場合、それぞれ独立している。)、
置換基Fで適宜0~4置換されてもよいイソキサゾリン環(ただし、2置換以上の置換基Fの場合、それぞれ独立している。)、
置換基Dで適宜0~4置換されてもよいベンズイソキサゾール環(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、
または置換基Fで適宜0~6置換されてもよい5,6-ジヒドロ-4H-1,2-オキサジン環(ただし、2置換以上の置換基Fの場合、それぞれ独立している。)を形成するものを表し;
そして、置換基Aは、水酸基、シアノ基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)およびRc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Bは、シアノ基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基およびC3~C8のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Cは、水酸基、シアノ基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、C2~C6のアルコキシアルコキシ基、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)、RdC(=O)O-(ここで、Rdは、前記と同義である。)および1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Dは、水酸基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基およびC3~C8のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Eは、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6アルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、C2~C6のハロアルケニルオキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、C3~C6のハロアルキニルオキシ基、C2~C6のアルコキシアルコキシ基、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)、RdC(=O)O-(ここで、Rdは、前記と同義である。)、RgON=C(Rh)-(ここで、RgおよびRhは、それぞれ独立していて、水素原子またはC1~C6のアルキル基を表す。)、RiRjRkSi-(ここで、Ri、RjおよびRkは、それぞれ独立していてC1~C6のアルキル基を表す。)および1~2個の酸素原子を含む3~6員環の基からなる群から選択される少なくとも1種であり;
置換基Fは、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6アルケニル基、C2~C6のハロアルケニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、C2~C6のハロアルキニル基、置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルコキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、C2~C6のハロアルケニルオキシ基、置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、C3~C6のハロアルキニルオキシ基、RaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)、Rc-L-(ここで、RcおよびLは、前記と同義である。)、RdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)およびRdC(=O)O-(ここで、Rdは、前記と同義である。)からなる群から選択される少なくとも1種である。]で表される化合物またはその塩。
formula (1)
Figure 0007118961000260

[In the formula, R is
hydroxyl group,
cyano group,
a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkynyl group,
a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkoxy group,
a C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkenyloxy group,
a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent A,
a C3-C6 haloalkynyloxy group,
or RaRbN- (wherein Ra and Rb are each independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 Alternatively, Ra and Rb together with the attached nitrogen atom form an aziridinyl, azetidinyl, pyrrolidinyl, piperidinyl, homopiperidinyl, or azocanyl group). represent;
R2 is
hydrogen atom,
cyano group,
nitro group,
halogen atom,
a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkynyl group,
a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkoxy group,
a C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkenyloxy group,
a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent A,
a C3-C6 haloalkynyloxy group,
Rc-L- (wherein Rc represents a C1-C6 alkyl group or a C1 - C6 haloalkyl group, and L represents S, SO, or SO2),
RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above),
or RdC(=O)-(wherein Rd is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, C1 represents a C6 alkoxy group, a C1 to C6 haloalkoxy group, a C3 to C8 cycloalkoxy group, or RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above);
X represents an oxygen atom or a sulfur atom;
Y is
a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents with R3 (however, in the case of disubstituted or more R3, each is independent),
a pyridyl group optionally substituted with 0 to 4 substituents with R3 (provided that, in the case of two or more substituted R3, each is independent),
a pyridazinyl group optionally substituted by R3 with 0 to 3 substituents (provided that, in the case of two or more substituted R3, each is independent),
a pyrimidinyl group optionally substituted with 0 to 3 substituents with R3 (provided that, in the case of two or more substituted R3, each is independent),
a pyrazinyl group optionally substituted by R3 with 0 to 3 substituents (provided that, in the case of two or more substituted R3, each is independent),
a triazinyl group optionally substituted with 0 to 2 substituents with R3 (provided that, in the case of disubstituted R3, each is independent),
a tetrazinyl group optionally substituted with R3,
a thienyl group which may be optionally substituted with 0 to 3 substituents with R3 (provided, however, that each R3 is independently substituted with 2 or more substituents),
a thiazolyl group optionally substituted with 0 to 2 substituents at R3 (provided that, in the case of disubstituted R3, each is independent),
an isothiazolyl group optionally substituted with 0 to 2 substituents at R3 (provided, however, that in the case of disubstituted R3, each is independent),
or represents a thiadiazolyl group optionally substituted with R3,
R3 is
hydroxyl group,
cyano group,
nitro group,
halogen atom,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkynyl group,
a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkoxy group,
a C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyloxy group,
a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent C,
a C3-C6 haloalkynyloxy group,
RdC (=O) - (wherein Rd is as defined above),
RdC(=O)O- (wherein Rd is as defined above),
a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms;
Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above),
RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above),
or ReC(=O)N(Rf)- (where Re and Rf are each independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 A haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN— (wherein Ra and Rb are There is.) Represents.) Represents;
R4 is
hydrogen atom,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkynyl group,
a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D (provided that, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent),
a C1-C6 alkyl group having a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D (provided that, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent);
a C1-C6 haloalkyl group having a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D (provided that, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent);
or RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above),
R5 is
hydrogen atom,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkynyl group,
a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D (provided that, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent),
a C1-C6 alkyl group having a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D (provided that, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent);
a C1-C6 haloalkyl group having a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D (provided that, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent);
or RdC (=O) - (wherein Rd is as defined above),
Alternatively, R4 and R5, together with the attached oxime structure (C=N-O),
an isoxazole ring optionally substituted with 0 to 2 substituents E (provided that, in the case of disubstituted substituents E, each is independent),
an isoxazoline ring optionally substituted with 0 to 4 substituents F (provided that, in the case of two or more substituents F, each is independent),
a benzisoxazole ring optionally substituted with 0 to 4 substituents D (provided that, in the case of two or more substituents D, each is independent);
Alternatively, a 5,6-dihydro-4H-1,2-oxazine ring optionally substituted with 0 to 6 substituents F (provided that, in the case of 2 or more substituents F, each is independent) is formed. represents what to do;
Substituent A is a hydroxyl group, a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, RaRbN- (here, Ra and Rb are as defined above) and Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above); at least one selected from the group consisting of;
Substituent B is at least one selected from the group consisting of a cyano group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group and a C3-C8 cycloalkoxy group;
Substituent C is a hydroxyl group, a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, a C2-C6 alkoxyalkoxy group, RaRbN. - (where Ra and Rb are as defined above), Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above), RdC (=O) - (where Rd is as defined above), RdC(=O)O— (wherein Rd is as defined above) and a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms is at least one selected from the group;
Substituent D is a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a halogen atom, a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1 to C6 haloalkyl group, a C3 to C8 cycloalkyl group, a C1 to at least one selected from the group consisting of a C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group and a C3-C8 cycloalkoxy group;
Substituent E is a hydroxyl group, a cyano group, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 optionally substituted with a substituent C A cycloalkyl group, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkynyl group, C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent C, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with substituent C, substituent C C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with C2-C6 haloalkenyloxy group, C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with substituent C, C3-C6 haloalkynyloxy group , a C2-C6 alkoxyalkoxy group, RaRbN- (where Ra and Rb are as defined above), Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above), RdC (=O)-(wherein Rd is as defined above), RdC(=O)O-(wherein Rd is as defined above), RgON=C(Rh)-( Here, Rg and Rh each independently represent a hydrogen atom or a C1-C6 alkyl group), RiRjRkSi- (wherein Ri, Rj and Rk each independently represent a C1-C6 represents an alkyl group) and at least one selected from the group consisting of a 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms;
Substituent F is a hydroxyl group, a cyano group, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 optionally substituted with a substituent C A cycloalkyl group, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkynyl group, C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent C, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with substituent C, substituent C C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with C2-C6 haloalkenyloxy group, C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with substituent C, C3-C6 haloalkynyloxy group , RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above), Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above), RdC (=O)- (where , Rd has the same meaning as defined above) and RdC(=O)O- (wherein Rd has the same meaning as defined above). ] or a salt thereof.
R1は、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
またはC2~C6のハロアルキニル基を表し;
R2は、
水素原子、
ハロゲン原子、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、
C1~C6のハロアルコキシ基、
Rc-L-(ここで、Rcは、C1~C6のアルキル基またはC1~C6のハロアルキル基を表し、Lは、S、SO、またはSOを表す。)、
またはRdC(=O)-(ここで、Rdは、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはRaおよびRbは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)を表す。)を表し;
Yは、
R3で適宜0~5置換されてもよいフェニル基(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)、
またはR3で適宜0~4置換されてもよいピリジル基(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)を表し、
R3は、
水酸基、
シアノ基、
ハロゲン原子、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基、
C1~C6のハロアルコキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニルオキシ基、
C2~C6のハロアルケニルオキシ基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C6のアルキニルオキシ基、
C3~C6のハロアルキニルオキシ基、
またはRdC(=O)O-(ここで、Rdは、前記と同義である。)を表し;
R4は、
水素原子、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
C2~C6のハロアルキニル基、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、
またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、前記と同義である。)を表し、
R5は、
水素原子、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
C1~C6のハロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルケニル基、
C2~C6のハロアルケニル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
C2~C6のハロアルキニル基、
またはRdC(=O)-(ここで、Rdは、前記と同義である。)を表し、
あるいは、R4とR5が、結合するオキシム構造(C=N-O)と一緒になって、
置換基Eで適宜0~2置換されてもよいイソキサゾール環(ただし、2置換の置換基Eの場合、それぞれ独立している。)、
置換基Fで適宜0~4置換されてもよいイソキサゾリン環(ただし、2置換以上の置換基Fの場合、それぞれ独立している。)、
または置換基Dで適宜0~4置換されてもよいベンズイソキサゾール環(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)を形成するものを表す、請求項1に記載の化合物またはその塩。
R1 is
a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A,
or represents a C2-C6 haloalkynyl group;
R2 is
hydrogen atom,
halogen atom,
a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent A,
a C1-C6 haloalkoxy group,
Rc-L- (wherein Rc represents a C1-C6 alkyl group or a C1 - C6 haloalkyl group, and L represents S, SO, or SO2),
or RdC(=O)-(wherein Rd is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, C1 ~C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN- (wherein Ra and Rb are each independently and optionally substituted with a hydrogen atom, a substituent B may be a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group, or Ra and Rb together with the binding nitrogen atom are an aziridinyl group, an azetidinyl group , represents a pyrrolidinyl group, a piperidinyl group, a homopiperidinyl group, or an azocanyl group.) represents;
Y is
a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents with R3 (however, in the case of disubstituted or more R3, each is independent),
or R3 optionally represents a pyridyl group optionally substituted with 0 to 4 substituents (provided that, in the case of two or more substituted R3, each is independent),
R3 is
hydroxyl group,
cyano group,
halogen atom,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkoxy group,
a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyloxy group,
a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent C,
a C3-C6 haloalkynyloxy group,
or RdC (=O) O- (wherein Rd is as defined above);
R4 is
hydrogen atom,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkynyl group,
a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D (provided that, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent),
or RaRbN- (where Ra and Rb are as defined above),
R5 is
hydrogen atom,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C1-C6 haloalkyl group,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkenyl group,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C,
a C2-C6 haloalkynyl group,
or RdC (=O) - (wherein Rd is as defined above),
Alternatively, R4 and R5, together with the attached oxime structure (C=N-O),
an isoxazole ring optionally substituted with 0 to 2 substituents E (provided that, in the case of disubstituted substituents E, each is independent),
an isoxazoline ring optionally substituted with 0 to 4 substituents F (provided that, in the case of two or more substituents F, each is independent),
Alternatively, it forms a benzisoxazole ring optionally substituted with 0 to 4 substituents D (provided that, in the case of two or more substituents D, each is independent), according to claim 1 The described compound or a salt thereof.
R1は、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
またはC1~C6のハロアルキル基を表し;
R2は、
ハロゲン原子、
置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
置換基Aで適宜置換されてもよいC2~C6のアルキニル基、
または置換基Aで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基を表し;
Yは、
R3で適宜0~5置換されてもよいフェニル基(ただし、2置換以上のR3の場合、それぞれ独立している。)を表し、
R3は、
シアノ基、
ハロゲン原子、
または置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルコキシ基を表し;
R4は、
水素原子、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
置換基Cで適宜置換されてもよいC3~C8のシクロアルキル基、
置換基Dで適宜0~5置換されてもよいフェニル基(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)、
またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはRaおよびRbは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)を表し、
R5は、
水素原子、
置換基Cで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、
またはRdC(=O)-(ここで、Rdは、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、C3~C8のシクロアルキル基、C1~C6のアルコキシ基、C1~C6のハロアルコキシ基、C3~C8のシクロアルコキシ基、またはRaRbN-(ここで、RaおよびRbは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Bで適宜置換されてもよいC1~C6のアルキル基、C1~C6のハロアルキル基、またはC3~C8のシクロアルキル基を表すか、あるいはRaおよびRbは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。)を表す。)を表し、
あるいは、R4とR5が、結合するオキシム構造(C=N-O)と一緒になって、
置換基Eで適宜0~2置換されてもよいイソキサゾール環(ただし、2置換の置換基Eの場合、それぞれ独立している。)、
置換基Fで適宜0~4置換されてもよいイソキサゾリン環(ただし、2置換以上の置換基Fの場合、それぞれ独立している。)、
または置換基Dで適宜0~4置換されてもよいベンズイソキサゾール環(ただし、2置換以上の置換基Dの場合、それぞれ独立している。)を形成するものを表す、請求項2に記載の化合物またはその塩。
R1 is
a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
or represents a C1-C6 haloalkyl group;
R2 is
halogen atom,
a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A,
a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent A,
or represents a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent A;
Y is
a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents at R3 (provided, however, that each R3 is disubstituted or more is independent);
R3 is
cyano group,
halogen atom,
or represents a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C;
R4 is
hydrogen atom,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C,
a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D (provided that, in the case of disubstituted or more substituents D, each is independent),
or RaRbN- (wherein Ra and Rb are each independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 Alternatively, Ra and Rb together with the attached nitrogen atom form an aziridinyl, azetidinyl, pyrrolidinyl, piperidinyl, homopiperidinyl, or azocanyl group). represent,
R5 is
hydrogen atom,
a C1 to C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C,
or RdC(=O)-(wherein Rd is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, C1 ~C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN- (wherein Ra and Rb are each independently and optionally substituted with a hydrogen atom, a substituent B may be a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group, or Ra and Rb together with the binding nitrogen atom are an aziridinyl group, an azetidinyl group , a pyrrolidinyl group, a piperidinyl group, a homopiperidinyl group, or an azocanyl group.
Alternatively, R4 and R5, together with the attached oxime structure (C=N-O),
an isoxazole ring optionally substituted with 0 to 2 substituents E (provided that, in the case of disubstituted substituents E, each is independent),
an isoxazoline ring optionally substituted with 0 to 4 substituents F (provided that, in the case of two or more substituents F, each is independent),
Alternatively, it forms a benzisoxazole ring optionally substituted with 0 to 4 substituents D (provided that, in the case of two or more substituents D, each is independent), according to claim 2 The described compound or a salt thereof.
請求項1に記載の化合物、またはその塩を有効成分として含有する農園芸用有害生物防除剤。 An agricultural and horticultural pesticide containing the compound according to claim 1 or a salt thereof as an active ingredient. 請求項1に記載の化合物、またはその塩を有効成分として含有する農園芸用殺菌剤。 An agricultural and horticultural fungicide containing the compound according to claim 1 or a salt thereof as an active ingredient. 請求項4に記載の農園芸用有害生物防除剤を、植物、植物の種子、または植物を栽培する土壌に施用することを含む、植物病害を防除する方法。 A method for controlling plant diseases, which comprises applying the agricultural and horticultural pest control agent according to claim 4 to plants, plant seeds, or soil for cultivating plants. 請求項5に記載の農園芸用殺菌剤を、植物、植物の種子、または植物を栽培する土壌に施用することを含む、植物病害を防除する方法。 A method for controlling plant diseases, which comprises applying the agricultural and horticultural fungicide according to claim 5 to plants, plant seeds, or soil for cultivating plants.
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