JPWO2018016549A1 - Patterned optically anisotropic layer and optical laminate - Google Patents

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彩子 村松
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雄二郎 矢内
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秀樹 兼岩
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Abstract

斜め方向からCL液晶層を観察した際の選択反射波長の短波長化を抑制できる光学異方性層および光学積層体を提供する。パターン化光学異方性層は、液晶性化合物を含む組成物を用いて形成され、配向した液晶性化合物が固定化されてなる第1領域と、光学的に等方性である第2領域とを有し、第1領域および第2領域の少なくとも一方の領域の幅が50μm未満である。Provided are an optically anisotropic layer and an optical laminate capable of suppressing shortening of a selective reflection wavelength when a CL liquid crystal layer is observed from an oblique direction. The patterned optically anisotropic layer is formed using a composition containing a liquid crystalline compound, and a first region on which an oriented liquid crystalline compound is immobilized, and a second region which is optically isotropic. And the width of at least one of the first region and the second region is less than 50 μm.

Description

本発明は、パターン化光学異方性層、および、光学積層体に関する。   The present invention relates to a patterned optically anisotropic layer and an optical laminate.

コレステリック液晶相を固定してなる層(以下、「CL液晶層」ともいう。)は、特定の波長域において右円偏光および左円偏光のいずれか一方を選択的に反射させる性質を有する層として知られている(特許文献1)。   A layer formed by fixing a cholesteric liquid crystal phase (hereinafter also referred to as "CL liquid crystal layer") is a layer having a property of selectively reflecting any one of right circularly polarized light and left circularly polarized light in a specific wavelength range. It is known (patent document 1).

特開2005−49866号公報JP 2005-49866 A

CL液晶層を斜め方向から観察した際には、その選択反射波長が短波長側にシフトする。一方で、各種用途への応用を考慮すれば、このような選択反射波長のシフト(いわゆる「ブルーシフト」)が抑制されることが好ましい。   When the CL liquid crystal layer is observed from an oblique direction, the selective reflection wavelength shifts to the short wavelength side. On the other hand, in view of application to various applications, it is preferable that such a shift of the selective reflection wavelength (so-called "blue shift") be suppressed.

本発明は、上記実情に鑑みて、斜め方向からCL液晶層を観察した際の選択反射波長の短波長化を抑制できる光学異方性層を提供することを課題とする。
また、本発明は、光学積層体を提供することも課題とする。
An object of the present invention is to provide an optically anisotropic layer capable of suppressing shortening of a selective reflection wavelength when a CL liquid crystal layer is observed from an oblique direction in view of the above-mentioned situation.
Another object of the present invention is to provide an optical laminate.

本発明者は、上記課題に対して鋭意検討を行ったところ、下記構成により上記課題が解決できることを見出した。   The inventors of the present invention conducted intensive studies on the above problems, and found that the problems can be solved by the following configuration.

(1) 液晶性化合物を含む組成物を用いて形成されるパターン化光学異方性層であって、
パターン化光学異方性層は、配向した液晶性化合物が固定化されてなる第1領域と、光学的に等方性である第2領域とを有し、
第1領域および第2領域の少なくとも一方の領域の幅が50μm未満である、パターン化光学異方性層。
(2) 第1領域および第2領域の少なくとも一方の領域の幅が30μm以下である、(1)に記載のパターン化光学異方性層。
(3) 第1領域および第2領域が、ストライプ状に交互に配置されてなる、(1)または(2)に記載のパターン化光学異方性層。
(4) 第1領域および第2領域の一方が、ドット状である、(1)または(2)に記載のパターン化光学異方性層。
(5) 第1領域が、厚み方向に沿って延びる螺旋軸に沿って捩れ配向した液晶性化合物を固定してなる領域である、(1)〜(4)のいずれかに記載のパターン化光学異方性層。
(6) 支持体と、
支持体上に配置された配向膜と、
配向膜上に配置された(1)〜(5)のいずれかに記載のパターン化光学異方性層と、を有する光学積層体。
(1) A patterned optically anisotropic layer formed by using a composition containing a liquid crystal compound,
The patterned optically anisotropic layer has a first region on which an oriented liquid crystalline compound is immobilized, and a second region which is optically isotropic,
A patterned optically anisotropic layer, wherein the width of at least one of the first region and the second region is less than 50 μm.
(2) The patterned optically anisotropic layer according to (1), wherein the width of at least one of the first region and the second region is 30 μm or less.
(3) The patterned optically anisotropic layer according to (1) or (2), wherein the first region and the second region are alternately arranged in a stripe shape.
(4) The patterned optically anisotropic layer according to (1) or (2), wherein one of the first region and the second region is dot-like.
(5) The patterned optical according to any one of (1) to (4), wherein the first region is a region formed by fixing a liquid crystal compound twisted and oriented along a helical axis extending along the thickness direction. Anisotropic layer.
(6) a support,
An alignment film disposed on a support;
The optical laminated body which has a patterned optically anisotropic layer in any one of (1)-(5) arrange | positioned on alignment film.

本発明によれば、斜め方向からCL液晶層を観察した際の選択反射波長の短波長化を抑制できる光学異方性層を提供することができる。
また、本発明によれば、光学積層体を提供することもできる。
According to the present invention, it is possible to provide an optically anisotropic layer capable of suppressing shortening of the selective reflection wavelength when the CL liquid crystal layer is observed from an oblique direction.
Furthermore, according to the present invention, an optical laminate can also be provided.

光学積層体の一例を示す斜視図である。It is a perspective view showing an example of an optical layered product. パターン化光学異方性層中の第1領域を説明するための斜視図である。It is a perspective view for demonstrating the 1st area | region in a patterning optically anisotropic layer. パターン化光学異方性層の製造プロセスを説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing process of a patterning optically anisotropic layer. パターン化光学異方性層の製造プロセスを説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing process of a patterning optically anisotropic layer. パターン化光学異方性層の製造プロセスを説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing process of a patterning optically anisotropic layer. パターン化光学異方性層の境界領域に関する概念図である。It is a conceptual diagram regarding the boundary area of a patterned optically anisotropic layer. パターン化光学異方性層の他の形態の上面図である。It is a top view of the other form of a patterned optically anisotropic layer. パターン化光学異方性層の他の形態の上面図である。It is a top view of the other form of a patterned optically anisotropic layer. パターン化光学異方性層の他の形態の上面図である。It is a top view of the other form of a patterned optically anisotropic layer. 実施例のパターン化光学異方性層を示す偏光透過像である。It is a polarization | polarized-light transmission image which shows the patterning optically anisotropic layer of an Example. 比較例のパターン化光学異方性層を示す偏光透過像である。It is a polarization | polarized-light transmission image which shows the patterning optically anisotropic layer of a comparative example.

以下、本発明のパターン化光学異方性層および光学積層体について詳細に説明する。
なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、「直交」および「平行」とは、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。例えば、「直交」および「平行」とは、厳密な直交または平行に対して±10°未満の範囲内であることを意味し、厳密な直交または平行に対しての誤差は、5°以下であることが好ましく、3°以下であることがより好ましい。
また、「直交」および「平行」以外で表される角度、例えば、15°または45°等の具体的な角度についても、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。例えば、角度は、具体的に示された厳密な角度に対して、±5°未満であることを意味し、示された厳密な角度に対する誤差は、±3°以下であるのが好ましく、±1°以下であるのがより好ましい。
Hereinafter, the patterned optically anisotropic layer and the optical laminate of the present invention will be described in detail.
In addition, the numerical range represented using "-" in this specification means the range which includes the numerical value described before and after "-" as a lower limit and an upper limit.
Moreover, in the present specification, the terms "orthogonal" and "parallel" include the range of allowable errors in the technical field to which the present invention belongs. For example, “orthogonal” and “parallel” mean within ± 10 ° of exact orthogonal or parallel, and an error of less than 5 ° with respect to exact orthogonal or parallel It is preferable that the angle be 3 degrees or less.
In addition, specific angles such as 15 ° or 45 ° other than “orthogonal” and “parallel” are also included in the range of allowable errors in the technical field to which the present invention belongs. For example, the angle means less than ± 5 ° for the specifically indicated exact angle, and the error for the indicated exact angle is preferably ± 3 ° or less, ± More preferably, it is 1 ° or less.

Re(λ)は、波長λにおける面内レターデーションを表す。Rth(λ)は、波長λにおける厚み方向のレターデーションを表す。Re(λ)およびRth(λ)は、Axometry(Axometric社製)において波長λnmの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。または、偏光顕微鏡とλ/4板を用いたセナルモン法でも測定できる。なお、本明細書では、測定波長について特に付記がない場合は、測定波長は550nmである。   Re (λ) represents the in-plane retardation at the wavelength λ. Rth (λ) represents the retardation in the thickness direction at the wavelength λ. Re (λ) and Rth (λ) are measured by making light of wavelength λ nm incident in the film normal direction in Axometry (manufactured by Axometric). Alternatively, it can be measured also by the Senalmon method using a polarization microscope and a λ / 4 plate. In the present specification, the measurement wavelength is 550 nm unless otherwise specified.

本発明のパターン化光学異方性層をCL液晶層上に配置して、パターン化光学異方性層側から観察した際には、CL液晶層の法線方向において観察される選択反射波長と、CL液晶層の法線方向から傾いた斜め方向において観察される選択反射波長との間では差があまりなく、ブルーシフトが抑制される。
上記効果が得られる理由の詳細は不明だが、配向した液晶性化合物を固定してなる領域である第1領域および光学的に等方性を示す第2領域の少なくとも一方の領域の幅を50μm未満と狭くすることにより、CL液晶層より反射される光の間で強め合う現象が発生し、結果として上記効果が得られたものと推測される。
When the patterned optically anisotropic layer of the present invention is disposed on the CL liquid crystal layer and observed from the side of the patterned optically anisotropic layer, the selective reflection wavelength observed in the normal direction of the CL liquid crystal layer is There is not much difference between the selective reflection wavelength observed in the oblique direction inclined from the normal direction of the CL liquid crystal layer, and the blue shift is suppressed.
Although the details of the reason why the above effect can be obtained are unknown, the width of at least one of the first region which is a region formed by fixing the aligned liquid crystal compound and the second region showing optical isotropy is less than 50 μm By narrowing, a phenomenon of intensification occurs between light reflected from the CL liquid crystal layer, and it is presumed that the above effect is obtained as a result.

以下、図面を用いて、パターン化光学異方性層および光学積層体について詳述する。
図1は、本発明の光学積層体の一実施形態を示す斜視図である。なお、本発明における図は模式図であり、各層の厚みの関係および位置関係等は必ずしも実際のものとは一致しない。以下の図も同様である。
図1に示す、光学積層体10は、支持体12と、支持体12上に配置された配向膜14と、配向膜14上に配置されたパターン化光学異方性層16aとをこの順で有する。パターン化光学異方性層16aにおいては、第1領域18aおよび第2領域20aがストライプ状に交互に配置されている。
以下、光学積層体10を構成する各部材について詳述する。
Hereinafter, the patterned optically anisotropic layer and the optical laminate will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of the optical laminate of the present invention. The figures in the present invention are schematic views, and the relationship of thickness of each layer, positional relationship and the like do not necessarily coincide with the actual ones. The same is true for the following figures.
An optical laminate 10 shown in FIG. 1 includes a support 12, an alignment film 14 disposed on the support 12, and a patterned optically anisotropic layer 16a disposed on the alignment film 14 in this order. Have. In the patterned optically anisotropic layer 16a, the first regions 18a and the second regions 20a are alternately arranged in stripes.
Hereinafter, each member which comprises the optical laminated body 10 is explained in full detail.

<支持体>
支持体12は、パターン化光学異方性層16aを支持する板であれば、その種類は特に限定されない。支持体12は、剛直なものでもフレキシブルなものでもよく、取り扱いが容易な点で、フレキシブルなものが好ましい。
剛直な支持体としては、ガラス板(例えば、表面に酸化ケイ素皮膜を有するソーダガラス板、低膨張ガラス、ノンアルカリガラス、および、石英ガラス板等)、金属板(例えば、アルミ板、鉄板、および、SUS(Steel Use Stainless)板等)、セラミック板、および、石板が挙げられる。
フレキシブルな支持体としては、セルロースエステル(例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート)、ポリオレフィン(例えば、ノルボルネン系ポリマー)、ポリ(メタ)アクリル酸エステル(例えば、ポリメチルメタクリレート)、ポリカーボネート、ポリエステル(例えば、ポリエチレンテレフタラートやポリエチレンナフタレート)またはポリスルホン等から構成されるプラスチックフィルム、紙、および、布が挙げられる。
支持体12の厚みは特に限定されないが、1〜3000μm程度が好ましい。
<Support>
The type of the support 12 is not particularly limited as long as the support 12 is a plate that supports the patterned optically anisotropic layer 16 a. The support 12 may be rigid or flexible, and is preferably flexible in terms of easy handling.
As a rigid support, a glass plate (for example, a soda glass plate having a silicon oxide film on the surface, a low expansion glass, a non-alkali glass, and a quartz glass plate), a metal plate (for example, an aluminum plate, an iron plate, and the like) , SUS (Steel Use Stainless) plate, etc.), ceramic plate, and stone plate.
Flexible supports include cellulose esters (eg, cellulose acetate, cellulose propionate, cellulose butyrate), polyolefins (eg, norbornene polymers), poly (meth) acrylates (eg, polymethyl methacrylate), polycarbonates And plastic films composed of polyester (eg, polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate) or polysulfone, paper, and cloth.
The thickness of the support 12 is not particularly limited, but is preferably about 1 to 3000 μm.

<配向膜>
配向膜14は、パターン化光学異方性層16aに配向性を付与できるものであれば、どのような層でもよい。配向膜14としては、ラビング処理が施された有機化合物(好ましくはポリマー)の層、アゾベンゼンポリマーまたはポリビニルシンナメートに代表される偏光照射により液晶性化合物の配向性を発現する光配向膜、無機化合物の斜方蒸着層、マイクログルーブを有する層、および、ラングミュア・ブロジェット法(LB法)により形成される累積膜が挙げられる。
なかでも、配向膜14としては、ポリビニルアルコールを含む配向膜が好ましく、配向膜の上側または下側の少なくともいずれかに配置される層と架橋できることがより好ましい。配向膜としては、より具体的には、特開2009−69793号公報、特開2010−113249号公報、および、特開2011−203636号公報に記載の配向膜が挙げられる。
また、光配向膜を用いると、微小異物による配向欠陥の発生が抑えられる。
<Alignment film>
The alignment film 14 may be any layer as long as it can impart the alignment property to the patterned optically anisotropic layer 16 a. As the alignment film 14, a layer of an organic compound (preferably a polymer) subjected to rubbing treatment, a photo alignment film which expresses the alignment property of a liquid crystal compound by irradiation of polarized light represented by azobenzene polymer or polyvinyl cinnamate, inorganic compound And a layer having microgrooves, and a cumulative film formed by the Langmuir-Blodgett method (LB method).
Among them, the alignment film 14 is preferably an alignment film containing polyvinyl alcohol, and more preferably capable of being crosslinked with a layer disposed on at least one of the upper side and the lower side of the alignment film. More specifically, examples of alignment films include those described in JP-A-2009-69793, JP-A-2010-113249, and JP-A-2011-203636.
In addition, when the photo alignment film is used, generation of alignment defects due to minute foreign substances can be suppressed.

<パターン化光学異方性層>
パターン化光学異方性層16aにおいては、第1領域18aおよび第2領域20aが、ストライプ状に交互に配置されている。より具体的には、第1領域18aおよび第2領域20aはいずれも一の方向に延びる長尺状の形状をしており、上記一の方向と直交する方向に沿って、第1領域18aおよび第2領域20aが交互に配置されている。
<Patterned optically anisotropic layer>
In the patterned optically anisotropic layer 16a, the first regions 18a and the second regions 20a are alternately arranged in stripes. More specifically, each of the first region 18a and the second region 20a has an elongated shape extending in one direction, and along the direction orthogonal to the one direction, the first region 18a and the second region 20a extend in the one direction. The second regions 20a are alternately arranged.

第1領域18aの幅W1および第2領域20aの幅W2は、いずれも50μm未満である。なかでも、本発明の効果がより優れる点で、幅W1および幅W2は30μm以下が好ましく、10μm以下がより好ましい。
なお、上記では第1領域18aおよび第2領域20aの両方の領域の幅が50μm未満である態様を述べたが、本発明のおいては一方の領域の幅が50μm未満であればよい。また、一方の領域の幅の好適範囲は、上記幅W1および幅W2の好適範囲と同じである。
The width W1 of the first region 18a and the width W2 of the second region 20a are both less than 50 μm. Among them, the width W1 and the width W2 are preferably 30 μm or less, and more preferably 10 μm or less in that the effects of the present invention are more excellent.
Although the aspect in which the width of both the first area 18 a and the second area 20 a is less than 50 μm has been described above, the width of one area may be less than 50 μm in the present invention. Moreover, the preferable range of the width | variety of one area | region is the same as the preferable range of the said width W1 and the width W2.

第1領域18aは、厚み方向に沿って延びる螺旋軸に沿って捩れ配向した液晶性化合物を固定してなる領域である。なかでも、後述するように、重合性液晶性化合物を所定の捩れ配向状態としたうえで、加熱または放射線照射によって硬化して得られる領域であることが好ましい。
液晶性化合物が捩れ配向するとは、第1領域18aの厚み方向を軸(螺旋軸)として、一方の表面から他方の表面までの液晶性化合物が捩れることを意図する。それに伴い、液晶性化合物の配向方向(面内遅相軸方向)が、厚さ方向の位置によって異なる。より具体的には、第1領域18aは、いわゆる螺旋構造を持ったキラルネマチック相、または、コレステリック相等を示すことが好ましい。なお、第1領域18aを形成する際には、ネマチック液晶相を示す液晶性化合物とキラル剤とを含む組成物を用いることが好ましい。
The first region 18 a is a region formed by fixing a liquid crystal compound twisted and oriented along a helical axis extending along the thickness direction. Among them, as described later, it is preferable that the region is obtained by curing the polymerizable liquid crystal compound in a predetermined twisted alignment state and then curing by heating or radiation.
The liquid crystal compound being twisted and oriented means that the liquid crystal compound from one surface to the other surface is twisted with the thickness direction of the first region 18a as an axis (helical axis). Along with that, the alignment direction (in-plane slow axis direction) of the liquid crystal compound differs depending on the position in the thickness direction. More specifically, the first region 18a preferably exhibits a so-called helical nematic phase having a helical structure, a cholesteric phase or the like. When the first region 18a is formed, it is preferable to use a composition containing a liquid crystal compound exhibiting a nematic liquid crystal phase and a chiral agent.

なお、捩れ配向した液晶性化合物を「固定した」状態は、液晶性化合物の配向が保持された状態である。より具体的には、捩れ配向した液晶性化合物を「固定した」状態は、通常0℃〜50℃、より過酷な条件下では−30℃〜70℃の温度範囲において、層に流動性が無く、また、外場もしくは外力によって配向形態に変化を生じさせることなく、固定化された配向形態を安定に保ち続けることができる状態であることが好ましい。   Note that the state in which the liquid crystal compound in which the twist alignment is made is “fixed” is a state in which the alignment of the liquid crystal compound is maintained. More specifically, the state in which the liquid crystal compound in a twisted orientation is "fixed" usually has no fluidity in the temperature range of 0 ° C to 50 ° C and more severe conditions of -30 ° C to 70 ° C. Further, it is preferable that the fixed orientation form can be kept stable without causing a change in the orientation form by an external field or an external force.

図2を用いて、第1領域18a中の面内遅相軸の位置関係について詳述する。図2に示す中の黒矢印は、面内遅相軸を意図する。また、図2においては、図中の下側が配向膜14側に相当する。
液晶性化合物の捩れ方向は、右捩れであっても、左捩れであってもよい。
液晶性化合物の捩れ角は特に限定されないが、本発明の効果がより優れる点で、360°以下が好ましく、20〜200°がより好ましく、50〜100°がさらに好ましい。なお、上記捩れ角は、図2中の第1領域18a中の一方の表面における面内遅相軸と、他方の表面における面内遅相軸とのなす角θに該当する。
第1領域18a中の液晶性化合物の捩れ角は、例えば、キラル剤の種類、または、その添加濃度で調整できる。
The positional relationship of the in-plane slow axis in the first region 18a will be described in detail with reference to FIG. The black arrows in FIG. 2 are intended for the in-plane slow axis. Further, in FIG. 2, the lower side in the drawing corresponds to the alignment film 14 side.
The twisting direction of the liquid crystal compound may be right twist or left twist.
The twist angle of the liquid crystal compound is not particularly limited, but is preferably 360 ° or less, more preferably 20 to 200 °, and still more preferably 50 to 100 °, in that the effect of the present invention is more excellent. The twist angle corresponds to an angle θ between the in-plane slow axis on one surface in the first region 18 a in FIG. 2 and the in-plane slow axis on the other surface.
The twist angle of the liquid crystal compound in the first region 18a can be adjusted, for example, by the type of chiral agent or the concentration thereof.

第2領域20aは、光学的に等方性である。なお、光学的に等方性とは、第2領域20aの波長550nmにおける面内レターデーションが10nm以下であり、かつ、波長550nmの厚さ方向のレターデーションの絶対値が10nm以下である領域を意図する。   The second region 20a is optically isotropic. In the optical isotropy, the in-plane retardation of the second region 20a at a wavelength of 550 nm is 10 nm or less, and the absolute value of the retardation in the thickness direction of a wavelength of 550 nm is 10 nm or less. Intended.

パターン化光学異方性層16aの厚さは特に限定されないが、本発明の効果がより優れる点から、0.5〜10μmが好ましく、1〜5μmがより好ましい。   The thickness of the patterned optically anisotropic layer 16 a is not particularly limited, but is preferably 0.5 to 10 μm and more preferably 1 to 5 μm from the viewpoint that the effect of the present invention is more excellent.

パターン化光学異方性層16aは、液晶性化合物を含む組成物を用いて形成される。パターン化光学異方性層16aの製造方法は後段で詳述するが、パターン化光学異方性層の第1領域18aおよび第2領域20aはいずれも液晶性化合物を含む組成物から形成される。   The patterned optically anisotropic layer 16a is formed using a composition containing a liquid crystal compound. The method for producing the patterned optically anisotropic layer 16a will be described in detail later, but the first region 18a and the second region 20a of the patterned optically anisotropic layer are both formed of a composition containing a liquid crystal compound. .

パターン化光学異方性層16aの形成に用いられる液晶性化合物の種類は、特に限定されない。液晶性化合物は、一般的に、その形状から、棒状タイプ(棒状液晶性化合物)と円盤状タイプ(円盤状液晶性化合物、およびディスコティック液晶性化合物)とに分類できる。さらに、それぞれ低分子タイプと高分子タイプとがある。高分子とは一般に重合度が100以上のものを指す(高分子物理・相転移ダイナミクス,土井 正男 著,2頁,岩波書店,1992)。本発明では、いずれの液晶性化合物を用いることもできる。また、2種以上の棒状液晶性化合物、2種以上の円盤状液晶性化合物、または、棒状液晶性化合物と円盤状液晶性化合物との混合物を用いてもよい。   The type of liquid crystal compound used for forming the patterned optically anisotropic layer 16a is not particularly limited. Liquid crystal compounds can be generally classified into rod-like types (rod-like liquid crystalline compounds) and disk-like types (disk-like liquid crystalline compounds and discotic liquid crystalline compounds) according to their shapes. Furthermore, there are low molecular type and high molecular type, respectively. In general, a polymer refers to one having a degree of polymerization of 100 or more (Polymer physics / phase transition dynamics, Masao Doi, page 2, Iwanami Shoten, 1992). Any liquid crystal compound can also be used in the present invention. Also, two or more rod-like liquid crystalline compounds, two or more discotic liquid crystalline compounds, or a mixture of a rod-like liquid crystalline compound and a discotic liquid crystalline compound may be used.

パターン化光学異方性層16aは、温度および/または湿度による光学特性の変化を小さくできることから、重合性基を有する液晶性化合物(棒状液晶性化合物、または、円盤状液晶性化合物)を用いて形成することが好ましい。つまり、パターン化光学異方性層16aは、重合性基を有する液晶性化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。
液晶性化合物に含まれる重合性基の種類は特に限定されず、ラジカル重合性基およびカチオン重合性基が挙げられる。ラジカル重合性基としては、例えば、(メタ)アクリロイル基およびスチリル基が挙げられ、カチオン重合性基としては、例えば、オキセタン基、エポキシ基、および、ビニルエーテル基が挙げられる。
なお、液晶性化合物は2種以上の異なる重合性基を有していてもよく、例えば、ラジカル重合性基およびカチオン重合性基の両方を有していてもよい。
「(メタ)アクリロイル基」とは、アクリロイル基およびメタクリロイル基の両方を表す表記である。
The patterned optically anisotropic layer 16 a can reduce change in optical characteristics due to temperature and / or humidity, and thus, using a liquid crystal compound (a rod-like liquid crystal compound or a discotic liquid crystal compound) having a polymerizable group It is preferable to form. That is, the patterned optically anisotropic layer 16 a is preferably a layer formed by fixing a liquid crystal compound having a polymerizable group by polymerization.
The type of polymerizable group contained in the liquid crystal compound is not particularly limited, and examples thereof include a radically polymerizable group and a cationically polymerizable group. Examples of the radically polymerizable group include a (meth) acryloyl group and a styryl group, and examples of the cationically polymerizable group include an oxetane group, an epoxy group, and a vinyl ether group.
The liquid crystal compound may have two or more different polymerizable groups, and may have, for example, both a radically polymerizable group and a cationically polymerizable group.
The “(meth) acryloyl group” is a notation representing both an acryloyl group and a methacryloyl group.

組成物中における液晶性化合物の含有量は特に限定されないが、液晶組成物の固形分質量(溶媒を除いた質量)に対して、80〜99.9質量%が好ましく、85〜99.5質量%がより好ましい。   The content of the liquid crystal compound in the composition is not particularly limited, but it is preferably 80 to 99.9% by mass, and 85 to 99.5% by mass with respect to the solid content mass (mass excluding the solvent) of the liquid crystal composition. % Is more preferable.

上記組成物には、キラル剤が含まれることが好ましい。
キラル剤の種類は特に限定はなく、公知の化合物(例えば、液晶デバイスハンドブック、第3章4−3項、TN、STN用カイラル剤、199頁、日本学術振興会第142委員会編、1989に記載)が挙げられる。具体的には、イソソルビドおよびイソマンニド誘導体が挙げられる。
また、キラル剤は、液晶性を示す化合物であってもよい。
組成物中におけるキラル剤の含有量は特に限定されないが、液晶性化合物(特に、重合性液晶性化合物)全質量に対して、0.01〜200モル%が好ましく、1〜30モル%がより好ましい。
The composition preferably contains a chiral agent.
The type of chiral agent is not particularly limited, and known compounds (for example, liquid crystal device handbook, Chapter 3-4-3, TN, chiral agents for STN, page 199, edited by 142th Committee of Japan Society for the Promotion of Science, 1989) Described). Specific examples include isosorbide and isomannide derivatives.
The chiral agent may also be a compound exhibiting liquid crystallinity.
The content of the chiral agent in the composition is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 200 mol%, more preferably 1 to 30 mol%, based on the total mass of the liquid crystal compound (particularly, polymerizable liquid crystal compound). preferable.

なお、上記組成物は、さらに、他の成分(例えば、重合開始剤、溶媒、界面活性剤、配向制御剤、重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、および、光安定化剤等)が含んでいてもよい。   The above composition further includes other components (for example, a polymerization initiator, a solvent, a surfactant, an orientation control agent, a polymerization inhibitor, an antioxidant, an ultraviolet light absorber, and a light stabilizer). May be included.

パターン化光学異方性層の形成方法は特に限定されず、公知の方法を採用できる。なかでも、生産性が優れる点で、以下の工程1〜6を有する形成方法が好ましい。
工程1:異なる2種の重合性基を有する液晶性化合物、キラル剤、および、上記2種の重合性基のうちの一方の重合を開始する重合開始剤Xを含む組成物を配向膜14上に塗布して、塗膜を形成する工程
工程2:上記塗膜中の液晶性化合物を配向させる工程
工程3:工程2で得られた塗膜に対して、放射線照射または熱処理によって、重合開始剤Xを活性化し、上記液晶性化合物の2種の重合性基のうちの一方が反応しうる重合反応を進行させる工程
工程4:工程3で得られた塗膜上に、上記2種の重合性基のうちの他方の重合を開始する重合開始剤Yを含む組成物を塗布する工程
工程5:パターン露光またはパターン加熱により、重合開始剤Yを活性化し、上記液晶性化合物の2種の重合性基のうちの他方が反応しうる重合反応を進行させる工程
工程6:加熱により、未露光領域を光学的に等方性な領域に変化させる工程
以下、工程1〜6の手順について詳述する。
The formation method of a patterned optically anisotropic layer is not specifically limited, A well-known method is employable. Especially, the formation method which has the following processes 1-6 is preferable at the point which productivity is excellent.
Step 1: A composition including a liquid crystal compound having two different types of polymerizable groups, a chiral agent, and a polymerization initiator X that initiates the polymerization of one of the two types of the above-described two groups is on the alignment film 14 Of forming a coating film on the coating film: Step of aligning the liquid crystalline compound in the coating film Step 3: The coating film obtained in Step 2 is irradiated with radiation or heat treatment to form a polymerization initiator Step 4 of activating X and advancing a polymerization reaction in which one of the two polymerizable groups of the liquid crystal compound can react: Step 4: On the coated film obtained in Step 3, the above two types of polymerizability Step 5 of applying a composition containing a polymerization initiator Y which initiates the polymerization of the other of the groups Step 5: The polymerization initiator Y is activated by pattern exposure or pattern heating, and the two polymerizabilities of the liquid crystal compound Proceed with the polymerization reaction in which the other of the groups can react Step Step 6: By heating process alters the unexposed areas isotropic region optically hereinafter be described in detail the procedure of Step 1-6.

(工程1)
工程1は、異なる2種の重合性基を有する液晶性化合物、キラル剤、および、上記2種の重合性基のうちの一方の重合を開始する重合開始剤Xを含む組成物を配向膜14上に塗布して、塗膜を形成する工程である。本工程を実施することにより、図3に示すように、支持体12、配向膜14、および、塗膜22を有する積層体が形成される。
液晶性化合物およびキラル剤の定義は、上述の通りである。なお、異なる2種の重合性基としては、ラジカル重合性基およびカチオン重合性基の組み合わせが好ましい。
2種の重合性基のうちの一方の重合を開始する重合開始剤Xとしては、重合性基の重合反応を開始し得る化合物であればよく、例えば、ラジカル重合性基の重合を開始するラジカル重合開始剤、および、カチオン重合性基の重合を開始するカチオン重合開始剤が挙げられる。
なお、組成物には、上述した他の成分が含まれていてもよい。
(Step 1)
Step 1 includes a liquid crystal compound having two different types of polymerizable groups, a chiral agent, and a composition including a polymerization initiator X that initiates polymerization of one of the two types of polymerizable groups. It is a process which apply | coats on and forms a coating film. By carrying out this step, as shown in FIG. 3, a laminate having the support 12, the alignment film 14 and the coating 22 is formed.
The definitions of the liquid crystal compound and the chiral agent are as described above. In addition, as different 2 types of polymeric groups, the combination of a radically polymerizable group and a cationically polymerizable group is preferable.
The polymerization initiator X that initiates the polymerization of one of the two polymerizable groups may be any compound that can initiate the polymerization reaction of the polymerizable group, for example, a radical that initiates the polymerization of the radical polymerizable group A polymerization initiator and a cationic polymerization initiator which initiates polymerization of a cationically polymerizable group can be mentioned.
In addition, the other component mentioned above may be contained in the composition.

上記組成物を塗布する方法は特に限定されず、ディップコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、スリットコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、および、グラビアコート法等が挙げられる。   The method for applying the above composition is not particularly limited, and dip coating method, air knife coating method, spin coating method, slit coating method, curtain coating method, roller coating method, wire bar coating method, gravure coating method, etc. It can be mentioned.

(工程2)
工程2は、上記塗膜中の液晶性化合物を配向させる工程である。本工程を実施することにより、塗膜中において液晶性化合物が所定の配向状態となる。より具体的には、液晶性化合物が、厚み方向に沿って延びる螺旋軸に沿って捩れ配向した状態となる。
液晶性化合物を配向させる処理としては、加熱処理が挙げられる。加熱条件は、使用される液晶性化合物およびキラル剤の種類および使用量によって最適な条件が選択されるが、加熱温度としては40〜100℃が好ましく、加熱時間としては0.5〜5分間が好ましい。
(Step 2)
Step 2 is a step of aligning the liquid crystal compound in the coating film. By carrying out this step, the liquid crystal compound is in a predetermined alignment state in the coating film. More specifically, the liquid crystal compound is in a twisted and oriented state along the helical axis extending along the thickness direction.
Examples of the treatment for orienting the liquid crystal compound include heat treatment. The heating conditions are optimally selected according to the type and amount of the liquid crystal compound and chiral agent used, but the heating temperature is preferably 40 to 100 ° C., and the heating time is 0.5 to 5 minutes. preferable.

(工程3)
工程3は、工程2で得られた塗膜に対して、放射線照射または熱処理によって、重合開始剤Xを活性化し、上記液晶性化合物の2種の重合性基のうちの一方が反応しうる重合反応を進行させる工程である。本工程を実施することにより2種の重合性基の一方が反応して、液晶性化合物が配向した状態が維持された半硬化状態の塗膜が得られる。
なお、放射線とは、電波、光(赤外光、可視光、および、紫外光)、エックス線、および、ガンマ線等の電磁波、ならびに、電子線(ベータ線)、陽子線、中性子線、アルファ線、および、イオン線等の粒子線の総称である。
重合開始剤Xを活性化する処理としては、放射線照射が好ましく、紫外線照射がより好ましい。照射エネルギーとしては、5mJ/cm2〜1J/cm2が好ましく、10〜800mJ/cm2がより好ましい。
(Step 3)
Step 3 activates the polymerization initiator X to the coating film obtained in step 2 by irradiation or heat treatment, so that one of the two polymerizable groups of the liquid crystal compound may react. It is a step of advancing the reaction. By carrying out this step, one of the two polymerizable groups is reacted to obtain a semi-cured coating film in which the liquid crystal compound is maintained in the aligned state.
Radiation means electromagnetic waves such as radio waves, light (infrared light, visible light, and ultraviolet light), X-rays, and gamma rays, as well as electron beams (beta rays), proton beams, neutron beams, alpha rays, Also, it is a generic term for particle beams such as ion beams.
As a process which activates the polymerization initiator X, radiation irradiation is preferable and ultraviolet irradiation is more preferable. The irradiation energy is preferably from 5mJ / cm 2 ~1J / cm 2 , 10~800mJ / cm 2 is more preferable.

(工程4)
工程4は、工程3で得られた塗膜上に、上記2種の重合性基のうちの他方の重合を開始する重合開始剤Yを含む組成物を塗布する工程である。本工程を実施することにより、工程3で得られた半硬化状態の塗膜上に塗布された組成物中の重合開始剤Yが、塗膜中に浸透し、塗膜中に重合開始剤Yを供給できる。
重合開始剤Yは、2種の重合性基のうちの他方の重合を開始する化合物であればよく、例えば、ラジカル重合性基の重合を開始するラジカル重合開始剤、および、カチオン重合性基の重合を開始するカチオン重合開始剤が挙げられる。
(Step 4)
Step 4 is a step of applying a composition containing a polymerization initiator Y for initiating polymerization of the other of the above two types of polymerizable groups onto the coating film obtained in step 3. By carrying out this step, the polymerization initiator Y in the composition applied on the semi-cured coating film obtained in step 3 penetrates into the coating film, and the polymerization initiator Y in the coating film Can be supplied.
The polymerization initiator Y may be any compound that initiates the polymerization of the other of the two types of polymerizable groups, for example, a radical polymerization initiator that initiates the polymerization of a radically polymerizable group, and a cationically polymerizable group The cationic polymerization initiator which starts superposition | polymerization is mentioned.

なお、工程4で用いられる組成物には、重合開始剤Y以外の成分が含まれていてもよい。例えば、組成物は、上記工程1で用いられる組成物が含んでもよい他の成分を含んでいてもよい。   The composition used in Step 4 may contain components other than the polymerization initiator Y. For example, the composition may contain other components that the composition used in step 1 above may contain.

(工程5)
工程5は、工程4で得られた積層体に対してパターン露光またはパターン加熱を施して、重合開始剤Yを活性化し、上記液晶性化合物の2種の重合性基のうちの他方が反応しうる重合反応を進行させる工程である。図4においては、パターン露光の態様を示すが、本工程を実施することにより、露光部においてさらに重合反応が進行し、液晶性化合物の配向状態が固定化される。つまり、露光部が、上述した第1領域18aとなる。
(Step 5)
In step 5, pattern exposure or pattern heating is applied to the laminate obtained in step 4 to activate the polymerization initiator Y, and the other of the two polymerizable groups of the liquid crystal compound is reacted. It is a process to advance a possible polymerization reaction. Although FIG. 4 shows an aspect of pattern exposure, by carrying out this step, the polymerization reaction further proceeds in the exposed area, and the alignment state of the liquid crystal compound is fixed. That is, the exposure unit becomes the above-described first region 18a.

パターン露光の方法としては、マスクを用いてコンタクト露光、プロキシ露光、および、投影露光等を行う方法でもよいし、レーザーまたは電子線等を用いてマスクなしに決められた位置にフォーカスして直接描画する方法でもよい。
パターン露光する際には、図1に記載の第1領域18aが得られるようにストライプ状に露光が行われる。なお、図1の態様を得るためには、長尺状の露光部および長尺状の未露光部の幅は、それぞれ、50μm未満となるように調整される。
パターン露光時の光の波長は、重合開始剤Yが活性化する波長であればよく、例えば、紫外線が挙げられる。パターン露光時の照射エネルギーおよび照射時間は、用いられる液晶性化合物および重合開始剤Yの種類によって最適な条件が選択される。
As a method of pattern exposure, a method of performing contact exposure, proxy exposure, projection exposure and the like using a mask may be used, or focusing may be performed directly on a predetermined position without using a laser or an electron beam, etc. May be used.
At the time of pattern exposure, exposure is performed in the form of stripes so as to obtain the first region 18a shown in FIG. In addition, in order to obtain the aspect of FIG. 1, the widths of the elongated exposed portion and the elongated unexposed portion are respectively adjusted to be less than 50 μm.
The wavelength of the light at the time of pattern exposure should just be a wavelength which the polymerization initiator Y activates, for example, an ultraviolet-ray is mentioned. The irradiation energy and irradiation time at the time of pattern exposure are optimally selected depending on the type of liquid crystal compound and polymerization initiator Y used.

パターン加熱の方法としては、加温したパターニングプレートを用いたコンタクト加熱法、および、赤外レーザーによる加熱法が挙げられる。   As a method of pattern heating, a contact heating method using a heated patterning plate and a heating method using an infrared laser can be mentioned.

(工程6)
工程6は、工程5で得られた塗膜を加熱することにより、未露光領域を光学的に等方性な領域に変化させる工程である。本工程を実施することにより、塗膜全体が加熱され、工程5における未露光領域において液晶性化合物の配向が乱されて、図5に示すように、未露光領域が光学的に等方性を示す第2領域20aとなる。なお、工程5における露光領域においては、上述したように、2種の重合反応による重合反応が進行しているため、加熱処理によっても液晶性化合物の配向状態が乱されにくく、所定の光学特性を示す領域が維持される。つまり、本工程6を実施することにより、図5に示すように、所定のパターン化光学異方性層16aが形成される。
上記加熱処理の条件は特に限定されず、用いられる液晶性化合物の種類によって最適な条件が選択される。なお、未露光領域の光学特性が消失する温度をT1[℃]、露光領域の光学特性が消失する温度をT2[℃]とした場合、加熱時の温度はT1℃以上T2℃以下が好ましく、(T1+10)℃以上(T2−5)℃以下がより好ましく、(T1+20)℃以上(T2−10)℃以下がさらに好ましい。
なお、加熱温度としては、50〜400℃が好ましい。
(Step 6)
Step 6 is a step of changing the unexposed area into an optically isotropic area by heating the coating film obtained in step 5. By carrying out this step, the entire coating film is heated, the orientation of the liquid crystal compound is disturbed in the unexposed region in step 5, and the unexposed region is optically isotropic as shown in FIG. It becomes the 2nd field 20a which shows. In the exposure region in Step 5, as described above, since the polymerization reaction by two kinds of polymerization reactions proceed, the alignment state of the liquid crystal compound is hardly disturbed even by the heat treatment, and the predetermined optical characteristics The indicated area is maintained. That is, by carrying out the present step 6, as shown in FIG. 5, a predetermined patterned optically anisotropic layer 16a is formed.
The conditions for the heat treatment are not particularly limited, and optimal conditions are selected depending on the type of liquid crystal compound to be used. When the temperature at which the optical characteristics of the unexposed area disappear is T1 [° C] and the temperature at which the optical characteristics of the exposed area disappear is T2 [° C], the temperature during heating is preferably T1 ° C to T2 ° C, (T1 + 10) ° C. or more (T2-5) ° C. or less is more preferable, and (T1 + 20) ° C. or more is more preferable (T2-10) ° C. or less.
In addition, as heating temperature, 50-400 degreeC is preferable.

上記手順によって作製されたパターン化光学異方性層16aにおいては、図6に示すように、第1領域18aと第2領域20aとの間の境界領域24の幅を狭くできる。上記境界領域24の幅は、パターン露光の光学的なにじみの度合いに依存し、1μm以下が好ましく、0.7μm以下がより好ましく、0がさらに好ましい。なお、境界領域24とは、第1領域18aの光学特性から第2領域20aの光学的な等方性まで遷移する領域を意図する。   In the patterned optically anisotropic layer 16a manufactured according to the above procedure, as shown in FIG. 6, the width of the boundary area 24 between the first area 18a and the second area 20a can be narrowed. The width of the boundary region 24 depends on the degree of optical bleeding of pattern exposure, and is preferably 1 μm or less, more preferably 0.7 μm or less, and still more preferably 0. In addition, with the boundary area | region 24, the area | region which changes to the optical isotropy of 2nd area | region 20a from the optical characteristic of 1st area | region 18a is intended.

光学積層体10は、上述した支持体12、配向膜14およびパターン化光学異方性層16a以外の他の層を有していてもよい。他の層としては、例えば、ハードコート層、粘着層・接着層(Adhesive)、光学異方性層(位相差層)、ガスバリア層、防眩層、帯電防止層、防汚層、離形層、易接着層、および、防湿層が挙げられる。
なお、パターン化光学異方性層の表面をコロナ処理またはプラズマ処理して、他の層との密着性または液体に対する濡れ性を制御してもよい。
The optical laminate 10 may have other layers other than the support 12, the alignment film 14, and the patterned optically anisotropic layer 16 a described above. As other layers, for example, hard coat layer, adhesive layer / adhesive layer (Adhesive), optically anisotropic layer (retardation layer), gas barrier layer, antiglare layer, antistatic layer, antifouling layer, releasing layer , An easily adhesive layer, and a moisture-proof layer.
The surface of the patterned optically anisotropic layer may be subjected to corona treatment or plasma treatment to control adhesion to another layer or wettability to a liquid.

<他の態様>
上記図1のパターン化光学異方性層16aにおいては第1領域18aおよび第2領域20aがストライプ状に配置されていたが、本発明はこの態様に限定されない。
例えば、図7に示すパターン化光学異方性層16bのように、第1領域18bが円形のドット状に配置されており、他の領域が第2領域20bを構成する態様であってもよい。なお、第1領域18aと第1領域18b、および、第2領域20aと第2領域20bは、その領域の形状が異なるのみで、その光学特性は同じである。
また、図7に示すようなパターン化光学異方性層16bを形成する方法としては、上述した工程5におけるマスクの形状を変更する方法が挙げられる。
図7に示すに、パターン化光学異方性層16bにおいては、第1領域18bの直径Dが50μm未満であればよい。直径Dの好適範囲は、上記W1の好適範囲と同じである。
<Other aspects>
In the patterned optically anisotropic layer 16a of FIG. 1 described above, the first region 18a and the second region 20a are arranged in a stripe shape, but the present invention is not limited to this aspect.
For example, as in the patterned optically anisotropic layer 16b shown in FIG. 7, the first regions 18b may be arranged in a circular dot shape, and the other regions may constitute the second region 20b. . The first region 18a and the first region 18b, and the second region 20a and the second region 20b have the same optical characteristics except that the shape of the region is different.
Moreover, as a method of forming the patterned optically anisotropic layer 16b as shown in FIG. 7, the method of changing the shape of the mask in the process 5 mentioned above is mentioned.
As shown in FIG. 7, in the patterned optically anisotropic layer 16b, the diameter D of the first region 18b may be less than 50 μm. The preferred range of the diameter D is the same as the preferred range of W1.

図7においては、パターン化光学異方性層16bの第1領域18bの形状が円形であるが、ドット状であればよく、例えば、図8に示すように、第1領域18cが正四角形状であり、他の領域が第2領域20cを構成する態様であってもよい。なお、第1領域18aと第1領域18c、および、第2領域20aと第2領域20cは、その領域の形状が異なるのみで、その光学特性は同じである。
また、図8に示すようなパターン化光学異方性層16cを形成する方法としては、上述した工程5におけるマスクの形状を変更する方法が挙げられる。
図8に示すに、パターン化光学異方性層16cにおいては、第1領域18cの一辺の長さが50μm未満であればよい。一辺の長さの好適範囲は、上記W1の好適範囲と同じである。
In FIG. 7, the first region 18b of the patterned optically anisotropic layer 16b has a circular shape, but may have a dot shape. For example, as shown in FIG. 8, the first region 18c has a square shape. And the other region may constitute the second region 20c. The first region 18a and the first region 18c, and the second region 20a and the second region 20c have the same optical characteristics except that the shape of the region is different.
Moreover, as a method of forming the patterned optically anisotropic layer 16c as shown in FIG. 8, the method of changing the shape of the mask in the process 5 mentioned above is mentioned.
As shown in FIG. 8, in the patterned optically anisotropic layer 16c, the length of one side of the first region 18c may be less than 50 μm. The preferred range of the side length is the same as the preferred range of W1.

また、第1領域がドット状に配置される場合は、上記円形状および正四角形状以外の形状であってもよく、例えば、楕円形状、矩形状、および、多角形状等が挙げられる。
なお、第1領域がドット状である場合、第1領域の幅としてはドットの最小長さが挙げられる。
When the first region is arranged in a dot shape, the first region may have a shape other than the circular shape and the square shape, and examples thereof include an elliptical shape, a rectangular shape, and a polygonal shape.
When the first area is in the form of dots, the minimum length of the dots can be mentioned as the width of the first area.

また、上記図1の態様においては、液晶性化合物の捩れ角に関して360°以下が好ましい旨を述べたが、この態様には限定されず、捩れ角が360°超であってもよく、複数のピッチ数を有するコレステリック液晶相の状態の領域であってもよい。なお、第1領域がコレステリック液晶相を固定してなる領域である場合、種々の用途への展開の点から、第1領域は可視光(400〜700nm)領域の光を反射することが好ましい。   In the embodiment of FIG. 1 described above, 360 ° or less is preferable with respect to the twist angle of the liquid crystal compound, but the embodiment is not limited to this embodiment, and the twist angle may be more than 360 °. The region may be in the state of a cholesteric liquid crystal phase having a pitch number. In addition, when a 1st area | region is an area | region formed by fixing a cholesteric liquid crystal phase, it is preferable that a 1st area | region reflects the light of a visible light (400-700 nm) area | region from the point of development to various uses.

さらに、上記図1のパターン化光学異方性層16aにおいては第1領域18aが厚み方向に沿って延びる螺旋軸に沿って捩れ配向した液晶性化合物を固定してなる領域であったが、本発明はこの態様に限定されない。例えば、図9に示すように、厚み方向全域にわたって液晶性化合物の遅相軸が互いに平行である第1領域18dと、光学的に等方性を示す第2領域20dとを有するパターン化光学異方性層16dであってもよい。上記第1領域18dは、いわゆる光学異方性を示す領域であり、図9に示すように、一の方向に遅相軸を有する。
第1領域18dの波長550nmにおける面内レターデーションの範囲は特に制限されないが、各種用途への適用の観点からは、100〜300nmが好ましく、100〜160nmまたは250〜300nmがより好ましい。
図9に示すようなパターン化光学異方性層16dを形成する方法としては、上述した工程1で用いられる組成物からキラル剤を除いた組成物を用いる方法が挙げられる。
Furthermore, in the patterned optically anisotropic layer 16a of FIG. 1 described above, the first region 18a is a region formed by fixing a liquid crystal compound twisted and oriented along a helical axis extending along the thickness direction. The invention is not limited to this aspect. For example, as shown in FIG. 9, a patterned optical structure having a first region 18d in which the slow axes of the liquid crystal compound are parallel to each other over the entire thickness direction and a second region 20d exhibiting optical isotropy It may be the anisotropic layer 16d. The first region 18d is a region showing so-called optical anisotropy, and as shown in FIG. 9, has a slow axis in one direction.
The range of the in-plane retardation of the first region 18d at a wavelength of 550 nm is not particularly limited, but is preferably 100 to 300 nm, and more preferably 100 to 160 nm or 250 to 300 nm from the viewpoint of application to various applications.
As a method of forming the patterned optically anisotropic layer 16d as shown in FIG. 9, a method using a composition obtained by removing the chiral agent from the composition used in the above-mentioned step 1 may be mentioned.

上記態様においては、支持体、配向膜、および、パターン化光学異方性層を有する光学積層体の態様について述べたが、剥離性の支持体または剥離性の配向膜を用いることにより、パターン化光学異方性層を他の部材に転写して用いてもよい。   In the above embodiment, although the embodiment of the optical laminate having the support, the alignment film, and the patterned optically anisotropic layer is described, it is patterned by using the releasable support or the releasable alignment film. The optically anisotropic layer may be transferred to another member for use.

<用途>
上記光学積層体を、CL液晶層上に配置することにより、CL液晶層の法線方向において観察される選択反射波長と、CL液晶層の法線方向から傾いた斜め方向において観察される選択反射波長との間の差を小さくできる。
上記のような用途以外にも、例えば、偏光を検出するためのセンサの前に置くレターデーション板、偏光解消フィルム、および、輝度向上フィルム等の用途にも適用できる。
<Use>
By arranging the optical laminate on the CL liquid crystal layer, the selective reflection wavelength observed in the normal direction of the CL liquid crystal layer and the selective reflection observed in the oblique direction tilted from the normal direction of the CL liquid crystal layer The difference between the wavelength can be reduced.
In addition to the above applications, for example, the present invention can be applied to applications such as a retardation plate placed in front of a sensor for detecting polarized light, a depolarizing film, and a brightness enhancement film.

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples.

(配向膜用組成物Aの調製)
下記に示す成分を、80℃に保温された容器中にて混合し、配向膜用組成物Aを調製した。
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配向膜用組成物A
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純水:97.2質量部
PVA−205(クラレ製):2.8質量部
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(Preparation of Composition A for Alignment Film)
The components shown below were mixed in a container kept at 80 ° C. to prepare a composition A for alignment film.
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Composition A for Alignment Film
-----------------------
Pure water: 97.2 parts by mass PVA-205 (manufactured by Kuraray): 2.8 parts by mass---------------------

(配向膜用組成物Bの調製)
撹拌機、温度計、滴下漏斗および還流冷却管を備えた反応容器に、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン100質量部、メチルイソブチルケトン500質量部、および、トリエチルアミン10質量部を仕込み、室温で混合した。
次に、脱イオン水100質量部を滴下漏斗より30分かけて反応容器内の溶液に滴下した後、得られた溶液を還流下で混合しつつ、80℃で6時間反応させた。反応終了後、溶液から有機相を取り出し、0.2質量%硝酸アンモニウム水溶液により有機相を洗浄後の水が中性になるまで、有機相を洗浄した。その後、減圧下で溶媒および水を留去することにより、エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンを粘調な透明液体として得た。
このエポキシ基含有ポリオルガノシロキサンについて、1H−NMR(Nuclear Magnetic Resonance)分析を行ったところ、化学シフト(δ)=3.2ppm付近にオキシラニル基に基づくピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。このエポキシ基含有ポリオルガノシロキサンの重量平均分子量Mwは2,200、エポキシ当量は186g/モルであった。
次に、100mLの三口フラスコに、上記で得たエポキシ基含有ポリオルガノシロキサン10.1質量部、アクリル基含有カルボン酸(東亜合成株式会社、商品名「アロニックスM−5300」、アクリル酸ω−カルボキシポリカプロラクトン(重合度n≒2))0.5質量部、酢酸ブチル20質量部、特開2015−26050号公報の合成例1の方法で得られた桂皮酸誘導体1.5質量部、および、テトラブチルアンモニウムブロミド0.3質量部を仕込み、得られ反応溶液を90℃で12時間撹拌した。
反応終了後、反応溶液と等量(質量)の酢酸ブチルで希釈し、3回水洗した。
得られた溶液を濃縮し、酢酸ブチルで希釈する操作を2回繰り返し、最終的に、光配向性基を有するポリオルガノシロキサン(重合体)を含む溶液を得た。この重合体の重量平均分子量Mwは9,000であった。また、1H−NMR分析の結果、重合体中のシンナメート基を有する成分は23.7質量%であった。
(Preparation of Composition B for Alignment Film)
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a dropping funnel and a reflux condenser, 100 parts by mass of 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 500 parts by mass of methyl isobutyl ketone, and 10 parts by mass of triethylamine Were mixed and mixed at room temperature.
Next, 100 parts by mass of deionized water was added dropwise to the solution in the reaction vessel over 30 minutes from the dropping funnel, and then the obtained solution was reacted at 80 ° C. for 6 hours while mixing under reflux. After completion of the reaction, the organic phase was removed from the solution, and the organic phase was washed with a 0.2% by mass aqueous ammonium nitrate solution until the water after neutralization became neutral. Thereafter, the solvent and water were distilled off under reduced pressure to obtain an epoxy group-containing polyorganosiloxane as a viscous transparent liquid.
The epoxy group-containing polyorganosiloxane was subjected to 1 H-NMR (Nuclear Magnetic Resonance) analysis, and a peak based on the oxiranyl group was obtained around the chemical shift (δ) = 3.2 ppm according to theoretical strength, during the reaction It was confirmed that no side reaction of epoxy group occurred. The epoxy group-containing polyorganosiloxane had a weight average molecular weight Mw of 2,200 and an epoxy equivalent of 186 g / mol.
Next, in a 100 mL three-necked flask, 10.1 parts by mass of the epoxy group-containing polyorganosiloxane obtained above, an acrylic group-containing carboxylic acid (Toagosei Co., Ltd., trade name "ALONIX M-5300", acrylic acid ω-carboxy 0.5 parts by mass of polycaprolactone (degree of polymerization n ≒ 2), 20 parts by mass of butyl acetate, 1.5 parts by mass of a cinnamic acid derivative obtained by the method of Synthesis Example 1 of JP-A-2015-26050, 0.3 parts by mass of tetrabutylammonium bromide was charged, and the resulting reaction solution was stirred at 90 ° C. for 12 hours.
After completion of the reaction, the reaction solution was diluted with an equal amount (mass) of butyl acetate, and washed three times with water.
The obtained solution was concentrated, and the operation of diluting with butyl acetate was repeated twice to finally obtain a solution containing a polyorganosiloxane (polymer) having a photoalignable group. The weight average molecular weight Mw of this polymer was 9,000. Moreover, the component which has a cinnamate group in a polymer was 23.7 mass% as a result of 1 H-NMR analysis.

酢酸ブチル、先に合成した光配向性基を有するポリオルガノシロキサン、下記の化合物D1および化合物D2を、以下の量で混合し、配向膜用組成物Bを調製した。
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配向膜用組成物B
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酢酸ブチル:100質量部
光配向性基を有するポリオルガノシロキサン:4.35質量部
化合物D1:0.48質量部
化合物D2:1.15質量部
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A composition B for alignment film was prepared by mixing butyl acetate, the previously synthesized polyorganosiloxane having a photoalignable group, and the following compound D1 and compound D2 in the following amounts.
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Composition B for Alignment Film
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Butyl acetate: 100 parts by mass Polyorganosiloxane having photoalignable group: 4.35 parts by mass Compound D 1: 0.48 parts by mass Compound D 2: 15. 15 parts by mass---------- --------------

(光学異方性層用組成物LC−1の調製)
下記の成分を混合した後、得られた混合物を孔径0.2μmのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用組成物LC−1を得た。
棒状液晶性化合物(LC−1−1)は、特開2004−12382号公報に記載の方法に準じて合成した。棒状液晶性化合物(LC−1−1)は2つの重合性基を有する液晶性化合物であり、2つの重合性基の一方はラジカル重合性基であるアクリル基、他方はカチオン重合性基であるオキセタン基である。水平配向剤(LC−1−2)はTetrahedron Lett.、第43巻、6793頁(202)に記載の方法に準じて合成した。
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光学異方性層用組成物LC−1
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棒状液晶性化合物(LC−1−1):19.57質量部
水平配向剤(LC−1−2):0.01質量部
カチオン系モノマー(OXT−121、東亞合成(株)製):0.98質量部
カチオン重合開始剤(Curacure UVI6974、ダウ・ケミカル製):0.4質量部
重合制御剤(IRGANOX1076、BASF製):0.02質量部
メチルエチルケトン:80.0質量部
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(Preparation of Composition LC-1 for Optically Anisotropic Layer)
The following components were mixed, and the obtained mixture was filtered with a polypropylene filter having a pore size of 0.2 μm to obtain a composition LC-1 for an optically anisotropic layer.
The rod-like liquid crystalline compound (LC-1-1) was synthesized according to the method described in JP-A-2004-12382. The rod-like liquid crystalline compound (LC-1-1) is a liquid crystalline compound having two polymerizable groups, one of the two polymerizable groups is an acrylic group which is a radical polymerizable group, and the other is a cationic polymerizable group. It is an oxetane group. Horizontal alignment agents (LC-1-2) are described in Tetrahedron Lett. 43, p. 6793 (202).
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Composition LC-1 for optically anisotropic layer
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Rod-like liquid crystalline compound (LC-1-1): 19.57 parts by mass Horizontal alignment agent (LC-1-2): 0.01 parts by mass Cationic monomer (OXT-121, manufactured by Toagosei Co., Ltd.): 0 .98 parts by mass cationic polymerization initiator (Curacure UVI 6974, manufactured by Dow Chemical): 0.4 parts by mass Polymerization control agent (IRGANOX 1076, manufactured by BASF): 0.02 parts by mass Methyl ethyl ketone: 80.0 parts by mass----- -----------------------

(光学異方性層用組成物LC−2の調製)
光学異方性層用組成物LC−1と同様の手法にて、以下素材を用いて光学異方性層用組成物LC−2を調製した。
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光学異方性層用組成物LC−2
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棒状液晶性化合物(LC−1−1):19.57質量部
水平配向剤(LC−1−2):0.01質量部
下記構造のキラル剤:0.587質量部
カチオン系モノマー(OXT−121、東亞合成(株)製):0.98質量部
カチオン重合開始剤(Curacure UVI6974、ダウ・ケミカル製):0.4質量部
重合制御剤(IRGANOX1076、BASF製):0.02質量部
メチルエチルケトン:80.0質量部
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(Preparation of Composition LC-2 for Optically Anisotropic Layer)
A composition LC-2 for an optically anisotropic layer was prepared using the following materials in the same manner as the composition LC-1 for an optically anisotropic layer.
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Composition LC-2 for optically anisotropic layer
---------------------------
Rod-like liquid crystal compound (LC-1-1): 19.57 parts by mass Horizontal alignment agent (LC-1-2): 0.01 parts by mass Chiral agent of the following structure: 0.587 parts by mass Cationic monomer (OXT- 121, Toagosei Co., Ltd. product: 0.98 parts by mass Cationic polymerization initiator (Curacure UVI 6974, manufactured by Dow Chemical): 0.4 parts by mass Polymerization control agent (IRGANOX 1076, manufactured by BASF): 0.02 parts by mass methyl ethyl ketone : 80.0 parts by mass---------------------------

キラル剤 Chiral agent

(光学異方性層用組成物LC−3の調製)
光学異方性層用組成物LC−2と同様の手法および素材を用い、添加するキラル材料の使用量を1.10質量部に変更して、光学異方性層用組成物LC−3を調製した。
(Preparation of Composition LC-3 for Optically Anisotropic Layer)
The composition LC-3 for optically anisotropic layer is prepared using the same method and material as the composition LC-2 for optically anisotropic layer, changing the amount of the chiral material to be added to 1.10 parts by mass. Prepared.

(光学異方性層用組成物LC−4の調製)
光学異方性層用組成物LC−2と同様の手法および素材を用い、添加するキラル材料の使用量を1.37質量部に変更して、光学異方性層用組成物LC−4を調製した。
(Preparation of Composition LC-4 for Optically Anisotropic Layer)
Using the same method and material as the composition LC-2 for the optically anisotropic layer, changing the amount of the chiral material to be added to 1.37 parts by mass, the composition LC-4 for the optically anisotropic layer Prepared.

(光学異方性層用組成物LC−5の調製)
光学異方性層用組成物LC−2と同様の手法および素材を用い、添加するキラル材料の使用量を0.035質量部に変更して、光学異方性層用組成物LC−5を調製した
(Preparation of Composition LC-5 for Optically Anisotropic Layer)
The composition LC-5 for the optically anisotropic layer is prepared using the same method and material as the composition LC-2 for optically anisotropic layer, changing the amount of the chiral material to be added to 0.035 parts by mass. Prepared

(保護層組成物AD−1の調製)
下記の成分を混合した後、得られた混合物を孔径0.2μmのポリプロピレン製フィルタでろ過して、保護層組成物AD−1を得た。
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保護層組成物AD−1
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ベンジルメタクリレート/メタクリル酸/メタクリル酸メチル=35.9/22.4/41.7モル比のランダム共重合物(重量平均分子量3.8万):8.05
ラジカル重合開始剤(2−トリクロロメチル−5−(p−スチリルスチリル)1,3,4−オキサジアゾール):0.12質量部
ハイドロキノンモノメチルエーテル:0.002質量部
メガファックF−176PF(大日本インキ化学工業(株)製):0.05質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート:34.80質量部
メチルエチルケトン:50.538質量部
メタノール:1.61質量部
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(Preparation of Protective Layer Composition AD-1)
The following components were mixed, and the obtained mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.2 μm to obtain a protective layer composition AD-1.
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Protective layer composition AD-1
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Benzyl methacrylate / methacrylic acid / methyl methacrylate = 35.9 / 22.4 / 41.7 molar ratio random copolymer (weight average molecular weight 38,000): 8.05
Radical polymerization initiator (2-trichloromethyl-5- (p-styristyl) 1,3,4-oxadiazole): 0.12 parts by mass hydroquinone monomethyl ether: 0.002 parts by mass Megafac F-176 PF (large Nippon Ink Chemical Industry Co., Ltd .: 0.05 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether acetate: 34.80 parts by mass Methyl ethyl ketone: 50.538 parts by mass Methanol: 1.61 parts by mass-------- --------------------

<実施例1>
配向膜用組成物Bを、ガラス基板上にスリットコーターを用いて均一塗布した。その後、配向膜用組成物Bが塗布されたガラス基板を、100℃のオーブン内で2分間乾燥し、膜厚0.5μmの塗膜付きガラス基板を得た。次に、偏光軸が塗布方向に対して、平行になるようにワイヤーグリッド偏光板を塗膜上に配置し、25℃の条件で、空気下にて、キヤノン(株)製PLA−501F露光機を用いて、塗膜に対して紫外線を30mJ/cm2照射し、配向膜を得た。
次に、配向膜上に光学異方性層用組成物LC−5を塗布した。次に、得られた塗膜を膜面温度80℃で60秒間加熱熟成して液晶性化合物を配向させ、その後ただちに、膜面温度70℃の状態で空気下にて空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、塗膜に対して紫外線を500mJ/cm2照射し、カチオン重合を進行させた。
得られた塗膜上に保護層組成物AD−1を塗布し、80℃にて60秒間乾燥した。その後、25℃の条件で、空気下にて、キヤノン(株)製PLA−501F露光機(超高圧水銀ランプ)を用い、50mJ/cm2の露光量で所定のマスクを介し、保護層組成物AD−1が塗布された塗膜を露光した。
その後、基板全体を200℃オーブン内で30分間焼成することにより、パターン化光学異方性層(厚さ:4μm)を有する光学積層体を得た。なお、パターン化光学異方性層においては、90°旋光性を持つ領域と光学的に等方性である領域とが、図1に示すように、それぞれ線幅3μmにて、ストライプ状に連なって配置されていた。
なお、光学的に等方性である領域のRe(550)およびRth(550)は、0nmであった。また、90°旋回性を持つ領域とは、図2に示すθが90°である領域を意図する。
Example 1
Composition B for alignment film was uniformly coated on a glass substrate using a slit coater. Thereafter, the glass substrate coated with the composition B for alignment film was dried for 2 minutes in an oven at 100 ° C. to obtain a glass substrate with a film thickness of 0.5 μm. Next, a wire grid polarizing plate is disposed on the coating film so that the polarization axis is parallel to the coating direction, and under the conditions of 25 ° C., under the atmosphere, PLA-501F exposure machine manufactured by Canon Inc. The coating film was irradiated with ultraviolet light of 30 mJ / cm 2 to obtain an alignment film.
Next, the composition LC-5 for optically anisotropic layer was applied on the alignment film. Next, the obtained coating film is aged by heating at a film surface temperature of 80 ° C. for 60 seconds to orient the liquid crystal compound, and immediately thereafter, an air-cooled metal halide lamp (eye graphic with a film surface temperature of 70 ° C.) The coating film was irradiated with ultraviolet light at 500 mJ / cm 2 using Co., Ltd.) to promote cationic polymerization.
The protective layer composition AD-1 was applied onto the resulting coated film, and dried at 80 ° C. for 60 seconds. After that, under a condition of 25 ° C., under a condition of using a PLA-501F exposure apparatus (super high pressure mercury lamp) manufactured by Canon Inc. under air at a dose of 50 mJ / cm 2 through a predetermined mask, a protective layer composition The coating film coated with AD-1 was exposed.
Thereafter, the entire substrate was baked in an oven at 200 ° C. for 30 minutes to obtain an optical laminate having a patterned optically anisotropic layer (thickness: 4 μm). In the patterned optically anisotropic layer, a region having 90 ° optical rotatory power and a region optically isotropic are connected in stripes with a line width of 3 μm, as shown in FIG. Were arranged.
The Re (550) and Rth (550) in the optically isotropic region were 0 nm. Moreover, the area | region which has 90 degree | times shows the area | region which is 90 degrees shown in FIG.

<比較例1>
実施例1と同様に、膜厚0.5μmの塗膜付きガラス基板を得た。次に、偏光軸が塗布方向に対して、45°方向になるようにワイヤーグリッド偏光板を塗膜上に配置し、さらに、ワイヤーグリッド偏光板の塗膜側とは反対側の表面上に所定のマスクを配置し、25℃の条件で、空気下にて、キヤノン(株)製PLA−501F露光機を用いて、塗膜に対して紫外線を30mJ/cm2照射し、配向膜を得た。
次に、得られた配向膜上に光学異方性層用組成物LC−5を塗布した。次に、得られた塗膜を膜面温度80℃で60秒間加熱熟成して液晶性化合物を配向させ、その後ただちに、膜面温度70℃の状態で空気下にて空冷メタルハライドランプを用いて、塗膜に対して紫外線を500mJ/cm2照射し、パターン化光学異方性層を有する光学積層体を得た。なお、パターン化光学異方性層においては、90°旋光性を持つ領域と光学的に等方性である領域とが、それぞれ線幅50μmにて、ストライプ状に連なって配置されていた。
Comparative Example 1
In the same manner as in Example 1, a coated glass substrate with a film thickness of 0.5 μm was obtained. Next, the wire grid polarizing plate is disposed on the coating film so that the polarization axis is 45 ° with respect to the coating direction, and the wire grid polarizing plate is further placed on the surface opposite to the coating film side. The coating film was placed, and the coating film was irradiated with ultraviolet light at 30 mJ / cm 2 using a Canon-PLA-501F exposure machine under air at 25 ° C., to obtain an alignment film. .
Next, composition LC-5 for optically anisotropic layers was apply | coated on the obtained alignment film. Next, the obtained coating film is aged by heating at a film surface temperature of 80 ° C. for 60 seconds to orient the liquid crystal compound, and immediately thereafter, using an air-cooled metal halide lamp under air at a film surface temperature of 70 ° C. The coating film was irradiated with ultraviolet light at 500 mJ / cm 2 to obtain an optical laminate having a patterned optically anisotropic layer. In the patterned optically anisotropic layer, a region having 90 ° optical rotation and a region optically isotropic are arranged in a stripe with a line width of 50 μm.

<評価(その1)>
後述する手順で作製した530nmの光を選択反射するCL液晶層上に純水を塗布し、実施例1で得られた光学積層体を、パターン化光学異方性層がCL液晶層に密着するように貼り合わせ、測定試料を作製した。得られた測定試料を、自動変角光度計GP−200((株)村上色彩技術研究所製)にて、パターン化光学異方性層面の法線方向から白色光を入射し、受光角度を変えながら、ねじれ位相差に起因するグリーン反射光を評価したところ、法線方向に対する角度が60°である受光角度60°での反射光波長は530nmのまま維持された。
一方、比較例1で得られたパターン化光学異方性層を、同様の手順でCL液晶層上に貼り合わせ、同様の評価を行ったところ、受光角度60°での反射光波長は450nmであり、ねじれ位相差に特有の短波長シフトが観測された。
<Evaluation (Part 1)>
Pure water is applied on a CL liquid crystal layer that selectively reflects light of 530 nm prepared by the procedure described later, and the patterned optical anisotropic layer adheres closely to the CL liquid crystal layer in the optical laminate obtained in Example 1 It bonded together like that, and produced the measurement sample. The measurement sample thus obtained is irradiated with white light from the direction normal to the surface of the patterned optically anisotropic layer with an automatic variable photometer GP-200 (manufactured by Murakami Color Research Laboratory), and the light receiving angle is The green reflected light due to the twist phase difference was evaluated while changing it, and the reflected light wavelength at a light receiving angle of 60 ° at an angle of 60 ° to the normal direction was maintained at 530 nm.
On the other hand, when the patterned optically anisotropic layer obtained in Comparative Example 1 was laminated on the CL liquid crystal layer in the same procedure and the same evaluation was performed, the reflected light wavelength at a light receiving angle of 60 ° was 450 nm. There was a short wavelength shift characteristic of the twist phase difference.

(530nmの光を選択反射するCL液晶層の作製方法)
配向膜用組成物Aをガラス基板上にスリットコーターを用いて均一塗布した後、100℃のオーブン内で2分間乾燥し、膜厚0.5μmの塗膜付きガラス基板を得た。この塗膜に塗布方向と平行方向にラビング処理を施し、配向膜を得た。
次に、配向膜のラビング処理面上に光学異方性層用組成物LC−3を塗布した。次に、得られた塗膜を膜面温度80℃で60秒間加熱熟成して液晶性化合物を配向させ、その後ただちに、膜面温度70℃の状態で空気下にて空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、塗膜に対して紫外線を500mJ/cm2照射し、530nmの光を選択反射するCL液晶層を作製した。
(Preparation method of CL liquid crystal layer which selectively reflects light of 530 nm)
The composition A for alignment film was uniformly coated on a glass substrate using a slit coater, and then dried for 2 minutes in an oven at 100 ° C. to obtain a glass substrate with a film thickness of 0.5 μm. The coating was rubbed in a direction parallel to the coating direction to obtain an alignment film.
Next, the composition LC-3 for optically anisotropic layer was applied onto the rubbing-treated surface of the alignment film. Next, the obtained coating film is aged by heating at a film surface temperature of 80 ° C. for 60 seconds to orient the liquid crystal compound, and immediately thereafter, an air-cooled metal halide lamp (eye graphic with a film surface temperature of 70 ° C.) The coating film was irradiated with ultraviolet light at 500 mJ / cm 2 using a Co., Ltd. product to manufacture a CL liquid crystal layer that selectively reflects light of 530 nm.

なお、マスクの種類を変更した以外は実施例1と同様の手順に従って、図7に示すような、直径Dが3μmの90°旋光性を持つ領域と、それ以外の光学的に等方性である領域とが同一面内に存在するパターン化光学異方性層を得た。90°旋光性を持つ領域とそれ以外の光学的に等方性である領域との面積比は1対1であった。得られたパターン化光学異方性層を用いて、上記<評価(その1)>を行ったところ、実施例1よりはやや効果が劣るが、比較例1よりも効果が優れていた。
また、マスクの種類を変更した以外は実施例1と同様の手順に従って、図8に示すような、30μm四方の90°旋光性を持つ領域と、それ以外の光学的に等方性である領域とが同一面内に存在するパターン化光学異方性層を得た。90°旋光性を持つ領域とそれ以外の光学的に等方性である領域との面積比は1対1であった。得られたパターン化光学異方性層を用いて、上記<評価(その1)>を行ったところ、実施例1よりはやや効果が劣るが、比較例1よりも効果が優れていた。
According to the same procedure as in Example 1 except that the type of mask is changed, a region having a 90 ° optical rotatory power with a diameter D of 3 μm and the other optically isotropic as shown in FIG. A patterned optically anisotropic layer was obtained in which a certain region and the region were present in the same plane. The area ratio of the region having 90 ° optical rotation to the other optically isotropic region was 1: 1. When the above <Evaluation (Part 1)> was performed using the obtained patterned optically anisotropic layer, although the effect was slightly inferior to Example 1, the effect was superior to Comparative Example 1.
Further, according to the same procedure as in Example 1 except that the type of the mask is changed, a region having a 30 μm square 90 ° optical rotatory power and the other optically isotropic regions as shown in FIG. A patterned optically anisotropic layer was obtained in the same plane. The area ratio of the region having 90 ° optical rotation to the other optically isotropic region was 1: 1. When the above <Evaluation (Part 1)> was performed using the obtained patterned optically anisotropic layer, although the effect was slightly inferior to Example 1, the effect was superior to Comparative Example 1.

なお、後述する実施例2〜8で得られたパターン化光学異方性層を用いて、上記<評価(その1)>を行ったところ、実施例1よりはやや効果が劣るが、比較例1よりも効果が優れていた。   In addition, when the above <Evaluation (Part 1)> was performed using the patterned optically anisotropic layer obtained in Examples 2 to 8 described later, although the effect was slightly inferior to Example 1, the Comparative Example The effect was better than 1.

<実施例2>
配向膜用組成物Aを、ガラス基板上にスリットコーターを用いて均一塗布した。その後、配向膜用組成物Aが塗布されたガラス基板を、100℃のオーブン内で2分間乾燥し、膜厚0.5μmの塗膜付きガラス基板を得た。この塗膜に塗布方向と平行方向にラビング処理を施し、配向膜を得た。
次に、配向膜のラビング処理面上に光学異方性層用組成物LC−1を塗布した。次に、得られた塗膜を膜面温度80℃で60秒間加熱熟成して液晶性化合物を配向させ、その後ただちに、膜面温度70℃の状態で空気下にて空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、塗膜に対して紫外線を500mJ/cm2照射し、カチオン重合を進行させた。
得られた塗膜上に保護層組成物AD−1を塗布し、80℃にて60秒間乾燥した。その後、25℃の条件で、空気下にて、キヤノン(株)製PLA−501F露光機(超高圧水銀ランプ)を用い、50mJ/cm2の露光量で所定のマスクを介して、保護層組成物AD−1が塗布された塗膜を露光した。
その後、基板全体を200℃オーブン内で30分間焼成することにより、パターン化光学異方性層(厚さ:3.2μm)を有する光学積層体を得た。なお、パターン化光学異方性層においては、140nmの位相差を持つ領域と、光学的に等方性である領域とが、図1に示すように、それぞれ線幅3μmにて、ストライプ状に連なって配置されていた。
Example 2
Composition A for alignment film was uniformly coated on a glass substrate using a slit coater. Thereafter, the glass substrate coated with the composition for alignment film A was dried in an oven at 100 ° C. for 2 minutes to obtain a glass substrate with a film thickness of 0.5 μm. The coating was rubbed in a direction parallel to the coating direction to obtain an alignment film.
Next, composition LC-1 for optically anisotropic layers was apply | coated on the rubbing process surface of alignment film. Next, the obtained coating film is aged by heating at a film surface temperature of 80 ° C. for 60 seconds to orient the liquid crystal compound, and immediately thereafter, an air-cooled metal halide lamp (eye graphic with a film surface temperature of 70 ° C.) The coating film was irradiated with ultraviolet light at 500 mJ / cm 2 using Co., Ltd.) to promote cationic polymerization.
The protective layer composition AD-1 was applied onto the resulting coated film, and dried at 80 ° C. for 60 seconds. Thereafter, under a condition of 25 ° C., under the condition of air, using a Canon-PLA-501F exposure device (super high pressure mercury lamp), a protective layer composition through a predetermined mask at an exposure amount of 50 mJ / cm 2 The coating film on which the product AD-1 was applied was exposed.
Thereafter, the entire substrate was baked in an oven at 200 ° C. for 30 minutes to obtain an optical laminate having a patterned optically anisotropic layer (thickness: 3.2 μm). In the patterned optically anisotropic layer, a region having a retardation of 140 nm and a region optically isotropic are formed in stripes with a line width of 3 μm as shown in FIG. It was arranged in a row.

<実施例3>
実施例2で用いた配向膜用組成物Aの代わりに配向膜用組成物Bをガラス基板上にスリットコーターを用いて均一塗布した後、偏光軸が塗布方向に対して平行となるようにワイヤーグリッド偏光板(商品コード#46−636 エドモンド製)を塗膜上に配置し、キヤノン(株)製PLA−501F露光機を用いて、塗膜に対して紫外線を30mJ/cm2照射し、配向膜を得た。
得られた配向膜上に光学異方性層用組成物LC−1を塗布し、その後の手順は実施例2と同様の手順を実施して、パターン化光学異方性層を有する光学積層体を得た。なお、パターン化光学異方性層においては、図9に示すように、140nmの位相差を持つ領域と光学的に等方性である領域とが、それぞれ線幅3μmにて、ストライプ状に連なる配置されていた。
Example 3
A composition B for alignment film is uniformly coated on a glass substrate using a slit coater instead of the composition A for alignment film used in Example 2, and then a wire is made so that the polarization axis is parallel to the application direction. A grid polarizing plate (product code # 46-636 manufactured by Edmond) is disposed on the coating film, and the coating film is irradiated with ultraviolet light at 30 mJ / cm 2 using a PLA-501F exposure machine manufactured by Canon Inc. I got a membrane.
The composition LC-1 for optically anisotropic layer is applied on the obtained alignment film, and the procedure thereafter is the same as that of Example 2 to obtain an optical laminate having a patterned optically anisotropic layer I got In the patterned optically anisotropic layer, as shown in FIG. 9, a region having a phase difference of 140 nm and a region optically isotropic continue in stripes with a line width of 3 μm. It was arranged.

<実施例4>
実施例3と同様の手順に従って、塗膜上に保護層組成物AD−1を塗布し、80℃で60秒間乾燥した。その後、25℃の条件で空気下にて、キヤノン(株)製PLA−501F露光機(超高圧水銀ランプ)を用い、40mJ/cm2の露光量で所定のマスクを介して、保護層組成物AD−1が塗布された塗膜を露光した。
その後、基板全体を200℃オーブン内で30分間焼成することにより、パターン化光学異方性層を有する光学積層体を得た。なお、パターン化光学異方性層においては、図7に示すような、直径Dが3μmの、140nmの位相差を持つ領域と、それ以外の光学的に等方性である領域とが同一面内に配置されていた。位相差を持つ領域とそれ以外の光学的に等方性である領域との面積比は1対1であった。
Example 4
According to the same procedure as in Example 3, the protective layer composition AD-1 was applied onto the coating and dried at 80 ° C. for 60 seconds. Thereafter, under a condition of 25 ° C., under a condition of air at 25 ° C., using a Canon-PLA-501F exposure device (super high pressure mercury lamp), a protective layer composition through a predetermined mask at an exposure amount of 40 mJ / cm 2 The coating film coated with AD-1 was exposed.
Thereafter, the entire substrate was baked in an oven at 200 ° C. for 30 minutes to obtain an optical laminate having a patterned optically anisotropic layer. In the patterned optically anisotropic layer, as shown in FIG. 7, the region having a phase difference of 140 nm and having a diameter D of 3 μm is the same as the other optically isotropic region. It was located inside. The area ratio of the region having retardation to the other optically isotropic region was 1: 1.

<実施例5>
配向膜用組成物Bをガラス基板上にスリットコーターを用いて均一塗布した後、偏光軸が塗布方向に対して22.5°傾く角度となるようにワイヤーグリッド偏光板(商品コード#46−636 エドモンド製)を配置した点、および、保護層組成物AD−1を塗布した後の照射の際の50mJ/cm2の露光量を70mJ/cm2の露光量に変更した点以外は、実施例3と同様の手順に従って、光学積層体を得た。
得られた光学積層体中のパターン化光学異方性層においては、遅相軸方向が塗布方向に対し22.5°傾いた250nmの位相差を持つ領域と、光学的に等方性である領域とが、図9に示すように、それぞれ線幅3μmにて、ストライプ状に連なって配置されていた。
得られたパターン化光学異方性層と、実施例3で得られたパターン化光学異方性層を、パターニング方向が互いに直交するように重ね合わせ、3μm四方のチェッカーフラッグ状に位相差と遅相軸が変化した光学積層体を得た。
Example 5
After the composition B for alignment film is uniformly coated on a glass substrate using a slit coater, a wire grid polarizer (product code # 46-636) so that the polarization axis is inclined at 22.5 ° with respect to the coating direction. points arranged Edmond Ltd.), and, except for changing the amount of exposure of 50 mJ / cm 2 when the applied radiation after the protective layer composition AD-1 to the exposure amount of 70 mJ / cm 2, the embodiment An optical laminate was obtained according to the same procedure as 3.
The patterned optically anisotropic layer in the obtained optical laminate is optically isotropic with a region having a retardation of 250 nm in which the slow axis direction is inclined by 22.5 ° with respect to the coating direction. As shown in FIG. 9, the regions were arranged in a stripe shape with a line width of 3 μm.
The obtained patterned optically anisotropic layer and the patterned optically anisotropic layer obtained in Example 3 are superimposed so that the patterning directions are orthogonal to each other, and the phase difference and the delay are formed like a checkered 3 μm square. An optical laminate with a changed phase axis was obtained.

<実施例6>
光学異方性層用組成物LC−1のかわりに光学異方性層用組成物LC−2を用いた点、および、保護層組成物AD−1を塗布した後の照射の際の40mJ/cm2の露光量を35mJ/cm2の露光量に変更した以外は、実施例4と同様の手順に従って、光学積層体を得た。
なお、得られた光学積層体中のパターン化光学異方性層においては、図7に示すような、直径Dが3μmの、850nmの光を選択反射するねじれ位相差を持つ領域と、それ以外の光学的に等方性である領域とが同一面内に配置されていた。また、位相差を持つ領域とそれ以外の光学的に等方性である領域との面積比は1対1であった。
Example 6
The point which used composition LC-2 for optical anisotropic layers instead of composition LC-1 for optical anisotropic layers, and 40 mJ / in the case of irradiation after applying protective layer composition AD-1 except for changing the amount of exposure cm 2 exposure amount of 35 mJ / cm 2, according to the procedure as in example 4 to obtain an optical laminate.
In the patterned optically anisotropic layer in the obtained optical laminate, as shown in FIG. 7, a region having a twist retardation of 3 μm in diameter D and selectively reflecting light of 850 nm, and others And the optically isotropic area of the are disposed in the same plane. In addition, the area ratio of the region having retardation to the other optically isotropic region was 1: 1.

<実施例7>
光学異方性層用組成物LC−1の代わりに光学異方性層用組成物LC−3を用いた以外は、実施例3と同様の手順に従って、塗膜を形成し、得られた塗膜上に、保護層組成物AD−1を塗布し、80℃で60秒間乾燥した。
その後、25℃の条件で空気下にて、キヤノン(株)製PLA−501F露光機(超高圧水銀ランプ)を用い、70mJ/cm2の露光量で所定のマスクを介して、保護層組成物AD−1が塗布された塗膜を露光した。
その後、基板全体を200℃オーブン内で30分間焼成することにより、パターン化光学異方性層を有する光学積層体を得た。なお、パターン化光学異方性層においては、図8に示すような、30μm四方の、530nmの光を選択反射するねじれ位相差を持つ領域と、それ以外の光学的に等方性である領域とが同一面内に配置されていた。
Example 7
A coated film was formed according to the same procedure as Example 3, except that the composition LC-3 for optically anisotropic layer was used instead of the composition LC-1 for optically anisotropic layer, and the obtained coating was obtained. On the film, the protective layer composition AD-1 was applied and dried at 80 ° C. for 60 seconds.
After that, under a condition of 25 ° C. under a condition of air, using a Canon-PLA-501F exposure machine (super high pressure mercury lamp), a protective layer composition through a predetermined mask at an exposure dose of 70 mJ / cm 2 The coating film coated with AD-1 was exposed.
Thereafter, the entire substrate was baked in an oven at 200 ° C. for 30 minutes to obtain an optical laminate having a patterned optically anisotropic layer. In the patterned optically anisotropic layer, as shown in FIG. 8, a region having a twist retardation which selectively reflects light of 530 nm in a size of 30 μm and a region which is optically isotropic other than that And were arranged in the same plane.

<実施例8>
光学異方性層用組成物LC−3の代わりに光学異方性層用組成物LC−4を用いた以外は、実施例7と同様の手順に従って、光学積層体を得た。
なお、得られた光学積層体中のパターン化光学異方性層においては、図8に示すような、30μm四方の、450nmの光を選択反射するねじれ位相差を持つ領域と、それ以外の光学的に等方性である領域とが同一面内に配置されていた。
Example 8
An optical laminate was obtained according to the same procedure as Example 7, except that the composition LC-4 for optically anisotropic layer was used instead of the composition LC-3 for optically anisotropic layer.
In addition, in the patterned optically anisotropic layer in the obtained optical laminate, as shown in FIG. 8, a 30 μm square region having a twist retardation which selectively reflects 450 nm light, and the other optical regions. The regions that are truly isotropic were arranged in the same plane.

<比較例2>
光学異方性層用組成物L−5のかわりに光学異方性層用組成物L−1を用いた以外は、比較例1と同様の手順に従って、光学積層体を得た。
なお、得られた光学積層体中のパターン化光学異方性層においては、140nmの位相差を持つ領域と光学的に等方性である領域とが、図1に示すように、それぞれ線幅50μmにて、ストライプ状に連なって配置されていた。
Comparative Example 2
An optical laminate was obtained according to the same procedure as Comparative Example 1, except that the composition L-1 for optically anisotropic layer was used instead of the composition L-5 for optically anisotropic layer.
In the patterned optically anisotropic layer in the obtained optical laminate, the region having a retardation of 140 nm and the region optically isotropic have line widths as shown in FIG. At 50 μm, they were arranged in a stripe.

<比較例3>
マスクを介さずに70mJ/cm2の露光量で露光を行った以外は、実施例7と同様の手順に従って、530nmの光を選択反射するねじれ位相差を持つ領域が全面にわたって存在する光学異方性層を有する光学積層体を得た。
Comparative Example 3
According to the same procedure as in Example 7 except that exposure was performed at an exposure dose of 70 mJ / cm 2 without using a mask, an optical anisotropy in which a region having a torsional retardation which selectively reflects light of 530 nm is present over the entire surface An optical laminate having a property layer is obtained.

<比較例4>
マスクを介さずに70mJ/cm2の露光量で露光を行った以外は、実施例8と同様の手順に従って、450nmの光を選択反射するねじれ位相差を持つ領域が全面にわたって存在する光学異方性層を有する光学積層体を得た。
Comparative Example 4
According to the same procedure as in Example 8 except that exposure was performed at an exposure dose of 70 mJ / cm 2 without using a mask, an optical anisotropy in which a region having a torsional retardation which selectively reflects light of 450 nm is present over the entire surface An optical laminate having a property layer is obtained.

<評価(その2)>
(評価;境界ディスクリミネーション)
得られたパターン化光学異方性層を、検出用のλ/4板を入れたクロスニコル光学顕微鏡(ECLIPSE LV100N POL;(株)ニコン製)にて観察し、位相差領域と等方領域(光学的に等方性である領域)の境界部分の鮮明性(境界ディスクリミネーション)を評価した。
実施例2および3で得られたパターン化光学異方性層は、図10に示すように、3μmという細線ながら優れた境界ディスクリミネーションを有し、境界領域は1μm未満(検出限界以下)であった。一方、比較例2で得られたパターン化光学異方性層は、図11に示すように、境界があいまいになっており、境界ディスクリミネーションに劣るものであった。
実施例2〜8で得られたパターン化光学異方性層における光学的に等方性である領域は理想的な輝度プロファイルを示し、レターデーション(Re(550)およびRth(550))がほぼ0nmであることがわかった。
また、実施例6で得られたパターン化光学異方性層を、可視光カットフィルターをかけて赤外光のみを取りだした反射光源を用いる光学顕微鏡にて観察し、ねじれ位相差領域と等方領域の境界ディスクリミネーションを評価したところ、実施例2〜5と同様に優れた境界ディスクリミネーションを有し、境界領域は1μm未満(検出限界以下)であった。
<Evaluation (Part 2)>
(Evaluation; boundary discrimination)
The obtained patterned optically anisotropic layer is observed with a cross nicol optical microscope (ECLIPSE LV100N POL; manufactured by Nikon Corporation) containing a λ / 4 plate for detection, and a retardation region and an isotropic region ( The sharpness (boundary discrimination) of the boundary portion of the optically isotropic region was evaluated.
The patterned optically anisotropic layer obtained in Examples 2 and 3 has excellent boundary discrimination with a thin line of 3 μm as shown in FIG. 10, and the boundary area is less than 1 μm (below the detection limit). there were. On the other hand, in the patterned optically anisotropic layer obtained in Comparative Example 2, as shown in FIG. 11, the boundary is vague, and the boundary discrimination is inferior.
The optically isotropic regions in the patterned optically anisotropic layer obtained in Examples 2 to 8 show an ideal luminance profile, and the retardations (Re (550) and Rth (550)) are approximately equal. It turned out that it is 0 nm.
In addition, the patterned optically anisotropic layer obtained in Example 6 is observed with an optical microscope using a reflective light source that extracts only infrared light with a visible light cut filter, and isotropic with the twist retardation region. When the boundary discrimination of the area was evaluated, it had excellent boundary discrimination as in Examples 2 to 5, and the boundary area was less than 1 μm (below the detection limit).

<評価(その3)>
株式会社ソニー・インタラクティブエンタテインメント製プレイステーションVRを分解し、表示部に貼合されていたシート(マイクロレンズアレイ)を除去した後、表示部に実施例2で得られた光学積層体を貼合した。その際、実施例2で得られた光学積層体中のパターン化光学異方性層の表面上に粘着剤を配置して、粘着剤を介して、上記表示部と光学積層体とを貼合した。次に、得られた装置に再度、画像を表示させ、レンズ越しに観察して、以下の三項目の評価を行ったところ、全てA評価であった。
一方、比較例2の光学積層体を同様に貼合し評価した所、全てD評価であった。
<Evaluation (3)>
After the PlayStation VR manufactured by Sony Interactive Entertainment Inc. was disassembled and the sheet (microlens array) bonded to the display unit was removed, the optical laminate obtained in Example 2 was bonded to the display unit. At that time, an adhesive is disposed on the surface of the patterned optically anisotropic layer in the optical laminate obtained in Example 2, and the display unit and the optical laminate are bonded via the adhesive. did. Next, an image was displayed again on the obtained device, and the image was observed through the lens, and the following three items were evaluated.
On the other hand, when the optical laminate of Comparative Example 2 was similarly bonded and evaluated, all were D evaluation.

[画素格子視認性]
画像表示部へ表示する画像を白色のベタ画像とし、目視で画素格子を観察し、以下の4段階で評点付けを行った。画素格子が視認されないことが好ましい。
A:格子が視認されない
B:格子が視認されるが軽微
C:格子が視認されるが許容範囲内
D:格子がはっきり視認される
[Pixel grid visibility]
The image displayed on the image display unit was a solid white image, the pixel grid was visually observed, and scoring was performed in the following four steps. Preferably no pixel grid is visible.
A: grid not visible B: grid visible but light C: grid visible but within tolerance D: grid visible

[画像鮮明性]
画像表示部へ黒背景に白いライン(画素1ライン)を表示させて、目視で白線のぼけ具合を観察し、以下の4段階で評点付けを行った。
A:白線のぼけが視認されない
B:白線のぼけが視認されるが軽微
C:白線のぼけが視認されるが許容範囲内
D:白線のぼけが目立つ
[Image sharpness]
A white line (pixel 1 line) was displayed on a black background on the image display unit, and the degree of blurring of the white line was visually observed, and scoring was performed in the following four stages.
A: White line blur not visible B: White line blur visible but light C: White line blur visible but within tolerance D: White line blur noticeable

[ギラツキ]
画像表示部へ表示する画像を白色のベタ画像とし、目視でギラツキを観察し、以下の4段階で評点付けを行った。
A:ギラツキが確認されない
B:ギラツキが確認されるが軽微
C:ギラツキが確認されるが許容範囲内
D:ギラツキが目立つ
[Giratsuki]
The image displayed on the image display unit was a white solid image, and glare was observed visually, and scoring was performed in the following four steps.
A: no glaring confirmed B: glaring confirmed but slight C: glaring confirmed but within tolerance D: glaring noticeable

(評価;光学積層体の評価1)
実施例5で得られた光学積層体を液晶モニター(LL−W221−W;シャープ(株)製)の前面に粘着剤(SKダイン;綜研化学(株)製)に貼合し、偏光板をかざして目視したところ、実施例5で得られた光学積層体の貼られた領域ではモニターから射出される偏光が解消されており、ザラツキ、色ムラ、および、輝点の発生がないことが分かった。
一方、比較例2の光学積層体で同様の評価を行ったところ、実施例5と同様に偏光は解消されているものの、ザラツキ、色ムラ、および、輝点が多く発生していた。
(Evaluation; Evaluation 1 of optical laminate)
The optical laminate obtained in Example 5 is bonded to an adhesive (SK dyne; manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) on the front of a liquid crystal monitor (LL-W221-W; manufactured by Sharp Corporation), and a polarizing plate is manufactured. As a result of visual observation, it was found that in the pasted area of the optical laminate obtained in Example 5, the polarized light emitted from the monitor was eliminated, and no rough spots, color unevenness and bright spots were generated. The
On the other hand, when the same evaluation was performed in the optical laminate of Comparative Example 2, although polarization was eliminated as in Example 5, a lot of roughness, color unevenness, and bright spots were generated.

<評価(その4)>
実施例5で得られた光学積層体、および、ワイヤーグリッド偏光板フィルタ(商品コード#33−082、エドモンド社製)をこの順に粘着剤で貼合し、偏光検出フィルタを作製し、USB(Universal Serial Bus)カメラ(UI−1490LE−M、プロリンクス社製)の受光面上に上記偏光検出フィルタを粘着剤で貼合し、偏光イメージングセンサを作製した。この時、ワイヤーグリッド偏光板フィルタ側が、受光素子と隣接するようにした。かかる偏光検出カメラで射出成型プラスチック(ポリカーボネート製)を撮影したところ、検出エラーなく内部応力に相当する偏光情報が得られた。
一方、比較例2で得られた光学積層体で同様の評価を行ったところ、検出エラーが多発し、正しい偏光情報を得ることはできなかった。
<Evaluation (Part 4)>
The optical laminate obtained in Example 5 and a wire grid polarizing plate filter (product code # 33-082, manufactured by Edmond Co., Ltd.) are bonded in this order with an adhesive to produce a polarization detection filter, and USB (Universal) The polarization detection filter was attached to the light receiving surface of a Serial Bus) camera (UI-1490LE-M, manufactured by Prolinks Co., Ltd.) with an adhesive to produce a polarization imaging sensor. At this time, the wire grid polarizing plate filter side was made to be adjacent to the light receiving element. When an injection molded plastic (made of polycarbonate) was photographed with such a polarization detection camera, polarization information corresponding to the internal stress was obtained without detection error.
On the other hand, when the same evaluation was performed on the optical laminate obtained in Comparative Example 2, detection errors frequently occurred, and correct polarization information could not be obtained.

<評価(その5)>
実施例6で得られた光学積層体中のパターン化光学異方性層に、IR(Infrared)レーザー光をレンズを通して集光した光を照射し、1m離れた壁面に投影されたIR像をRADIATION SCOPE KEC-811(カンタムエレクトロニクス(株)製)にて撮影したところ、ねじれ位相差を持つ領域が配置された部分はIR光が遮蔽されて暗部となり、等方領域はIR光が透過して明部となって、暗部と明部とのディスクリミネーションは明瞭であった。
<Evaluation (Part 5)>
The patterned optically anisotropic layer in the optical laminate obtained in Example 6 is irradiated with light collected by IR (Infrared) laser light through a lens, and the IR image projected on the wall 1 m away is RADIATION Photographed with SCOPE KEC-811 (manufactured by Quantum Electronics Co., Ltd.), IR light is shielded to become a dark portion in a portion where a region having a twist phase difference is disposed, and IR light is transmitted and bright in an isotropic region. As a result, discrimination between dark and light areas was clear.

<評価(その6)>
実施例7で得られた光学積層体を、市販のOLED(Organic Light Emitting Diode)パネルのグリーン画素上にねじれ位相差を持つ領域が重なるように発光画素と円偏光板の間に実装し、グリーン発光時の輝度と消光時の反射率とを分光放射計SR−3((株)トプコン製)にて評価したところ、光学積層体がない時の輝度に対して、10%輝度が向上した。なお、反射率は0.8%悪化した。
一方、比較例3で得られた光学積層体を用いて同様に評価したところ、輝度は実施例7で得られた光学積層体と同様に10%向上したが、反射率は5%以上悪化した。
<Evaluation (Part 6)>
The optical laminate obtained in Example 7 is mounted between a light emitting pixel and a circularly polarizing plate so that a region having a twist retardation overlaps with a green pixel of a commercially available OLED (Organic Light Emitting Diode) panel, and at the time of green light emission The luminance and the reflectance at the time of extinction were evaluated by a spectroradiometer SR-3 (manufactured by TOPCON CORPORATION). As a result, the luminance was improved by 10% with respect to the luminance when there was no optical laminate. The reflectance decreased by 0.8%.
On the other hand, when the optical laminate obtained in Comparative Example 3 was similarly evaluated, the luminance was improved by 10% similarly to the optical laminate obtained in Example 7, but the reflectance was degraded by 5% or more. .

<評価(その7)>
実施例8で得られた光学積層体を、市販のOLEDパネルのブルー画素上にねじれ位相差を持つ領域が重なるように発光画素と円偏光板の間に実装し、ブルー発光時の輝度と消光時の反射率とを分光放射計SR−3((株)トプコン製)にて評価したところ、実施例7で得られた光学積層体がない時の輝度に対して、14%輝度が向上した。なお、反射率は0.7%悪化した。
一方、比較例4で得られた光学積層体を用いて同様に評価したところ、輝度は実施例8で得られた光学積層体と同様に14%向上したが、反射率は6%以上悪化した。
<Evaluation (7)>
The optical laminate obtained in Example 8 is mounted between a light emitting pixel and a circularly polarizing plate so that a region having a twist phase difference overlaps the blue pixel of a commercially available OLED panel, and the luminance at the time of blue light emission and extinction When the reflectance was evaluated by a spectroradiometer SR-3 (manufactured by Topcon Corporation), the luminance was improved by 14% with respect to the luminance when the optical laminate obtained in Example 7 was not present. The reflectance decreased by 0.7%.
On the other hand, when the optical laminate obtained in Comparative Example 4 was similarly evaluated, the luminance was improved by 14% similarly to the optical laminate obtained in Example 8, but the reflectance was deteriorated by 6% or more. .

10 光学積層体
12 支持体
14 配向膜
16a,16b,16c,16d パターン化光学異方性層
18a,18b,18c,18d 第1領域
20a,20b,20c,20d 第2領域
22 塗膜
24 境界領域
REFERENCE SIGNS LIST 10 optical laminate 12 support 14 alignment film 16 a, 16 b, 16 c, 16 d patterned optically anisotropic layer 18 a, 18 b, 18 c, 18 d first region 20 a, 20 b, 20 c, 20 d second region 22 coating film 24 boundary region

Claims (6)

液晶性化合物を含む組成物を用いて形成されるパターン化光学異方性層であって、
前記パターン化光学異方性層は、配向した前記液晶性化合物が固定化されてなる第1領域と、光学的に等方性である第2領域とを有し、
前記第1領域および前記第2領域の少なくとも一方の領域の幅が50μm未満である、パターン化光学異方性層。
A patterned optically anisotropic layer formed using a composition containing a liquid crystalline compound,
The patterned optically anisotropic layer has a first region on which the aligned liquid crystal compound is immobilized, and a second region which is optically isotropic,
A patterned optically anisotropic layer, wherein the width of at least one of the first region and the second region is less than 50 μm.
前記第1領域および前記第2領域の少なくとも一方の領域の幅が30μm以下である、請求項1に記載のパターン化光学異方性層。   The patterned optically anisotropic layer according to claim 1, wherein a width of at least one of the first region and the second region is 30 μm or less. 前記第1領域および前記第2領域が、ストライプ状に交互に配置されてなる、請求項1または2に記載のパターン化光学異方性層。   The patterned optically anisotropic layer according to claim 1, wherein the first region and the second region are alternately arranged in a stripe shape. 前記第1領域および前記第2領域の一方が、ドット状である、請求項1または2に記載のパターン化光学異方性層。   The patterned optically anisotropic layer according to claim 1, wherein one of the first region and the second region is dot-shaped. 前記第1領域が、厚み方向に沿って延びる螺旋軸に沿って捩れ配向した液晶性化合物を固定してなる領域である、請求項1〜4のいずれか1項に記載のパターン化光学異方性層。   The patterned optical anisotropy according to any one of claims 1 to 4, wherein the first region is a region formed by fixing a liquid crystal compound twisted and oriented along a helical axis extending along the thickness direction. Sex layer. 支持体と、
前記支持体上に配置された配向膜と、
前記配向膜上に配置された請求項1〜5のいずれか1項に記載のパターン化光学異方性層と、を有する光学積層体。
A support,
An alignment film disposed on the support;
An optical laminate comprising: the patterned optically anisotropic layer according to any one of claims 1 to 5 disposed on the alignment film.
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