JPWO2016208686A1 - Cutting device - Google Patents

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Abstract

レーザ光(CW,PW)によってワーク(ZE)を切断する切断装置(1)であって、パルス波のレーザ光(PW)を発振するパルス波レーザ光発振器(10)と、連続波のレーザ光(CW)を発振する連続波レーザ光発振器(11)と、を備え、前記ワーク(ZE)の第1の材料(M)からなる第1の部分を前記パルス波のレーザ光(PW)で切断し、前記ワーク(ZE)の前記第1の材料(M)とは異なる第2の材料(A)からなる第2の部分を前記連続波のレーザ光(CW)で切断する、切断装置(1)。A cutting device (1) for cutting a workpiece (ZE) with laser light (CW, PW), a pulse wave laser light oscillator (10) for oscillating a pulsed laser light (PW), and a continuous wave laser light A continuous wave laser beam oscillator (11) that oscillates (CW), and cuts the first portion made of the first material (M) of the workpiece (ZE) with the laser beam (PW) of the pulse wave And a cutting device (1) for cutting a second portion made of the second material (A) different from the first material (M) of the workpiece (ZE) with the continuous wave laser beam (CW). ).

Description

本発明の一側面は、レーザ光によってワークを切断する切断装置に関する。  One aspect of the present invention relates to a cutting apparatus that cuts a workpiece with laser light.

レーザ光を用いた切断装置としては、例えば、特許文献1に記載された装置が知られている。特許文献1に記載の装置は、帯状の金属箔に活物質層が形成された帯状電極にレーザ光を照射して切断し、電極を製造する。特に、この装置では、加工速度を高くしつつ切断品質を確保するために、レーザヘッドを移動開始した時点からの経過時間に応じて予め設定されているエネルギー強度のレーザ光をレーザヘッドから照射する。  As a cutting device using a laser beam, for example, a device described in Patent Document 1 is known. The apparatus described in Patent Document 1 manufactures an electrode by irradiating a laser beam to a band-shaped electrode in which an active material layer is formed on a band-shaped metal foil. In particular, in this apparatus, in order to ensure cutting quality while increasing the processing speed, the laser head irradiates laser light having a preset energy intensity according to the elapsed time from the time when the movement of the laser head is started. .

特開2012−221912号公報JP2012-221912A

特許文献1に記載の装置では、1台のレーザ発振器を用いてエネルギー強度を変えることで、金属箔のみから部分と金属箔に活物質層が形成された部分とを切断している。しかし、この2つの部分は厚み等が異なっているため、1台のレーザ発振器でエネルギー強度等の切断加工条件を変えるだけでは2つの部分の切断品質をそれぞれ満たすのは困難である。  In the apparatus described in Patent Document 1, the energy intensity is changed using a single laser oscillator, so that the portion only from the metal foil and the portion where the active material layer is formed on the metal foil are cut. However, since these two portions have different thicknesses or the like, it is difficult to satisfy the cutting quality of the two portions only by changing the cutting processing conditions such as energy intensity with one laser oscillator.

そこで、本発明の一側面においては、ワークの複数の部分の切断品質をそれぞれ満たす切断が可能な切断装置を提案することを課題とする。  Therefore, an object of one aspect of the present invention is to propose a cutting apparatus capable of cutting that satisfies the cutting quality of a plurality of parts of a workpiece.

本発明の一側面に係る切断装置は、レーザ光によってワークを切断する切断装置であって、パルス波のレーザ光を発振するパルス波レーザ光発振器と、連続波のレーザ光を発振する連続波レーザ光発振器とを備え、ワークの第1の材料からなる第1の部分をパルス波のレーザ光で切断し、ワークの第1の材料とは異なる第2の材料からなる第2の部分を連続波のレーザ光で切断する。  A cutting device according to one aspect of the present invention is a cutting device that cuts a workpiece with laser light, and a pulse wave laser light oscillator that oscillates pulsed laser light, and a continuous wave laser that oscillates continuous wave laser light. An optical oscillator, cutting a first portion made of a first material of a workpiece with a laser beam of a pulse wave, and forming a second portion made of a second material different from the first material of the workpiece on a continuous wave Cut with the laser beam.

パルス波のレーザ光の場合、短いパルス幅の中にエネルギーを集中させた非常に高いエネルギーをワークに与えることで、熱による溶融を抑えてワークを切断できる。一方、連続波のレーザ光の場合、所定の大きさのエネルギーをワークに連続的に与えることで、熱による溶融でワークを切断できる。切断装置では、熱による溶融を抑えた切断が適した第1の部分に対してはパルス波のレーザ光で切断し、熱による溶融による切断が適した第2の部分に対しては連続波のレーザ光で切断することにより、ワークの複数の部分の切断品質をそれぞれ満たす切断が可能である。  In the case of pulsed laser light, the work can be cut while suppressing melting by heat by giving the work very high energy in which energy is concentrated within a short pulse width. On the other hand, in the case of a continuous wave laser beam, the workpiece can be cut by melting by heat by continuously applying energy of a predetermined magnitude to the workpiece. In the cutting apparatus, the first part suitable for cutting with suppressed melting by heat is cut with a pulsed laser beam, and the second part suitable for cutting by melting with heat is continuously waved. By cutting with laser light, it is possible to perform cutting that satisfies the cutting quality of a plurality of parts of the workpiece.

一実施形態の切断装置では、パルス波レーザ光発振器で発振されたパルス波のレーザ光の照射方向をワークの第1の部分における切断箇所に沿うように変化させる第1のスキャナと、連続波レーザ光発振器で発振された連続波のレーザ光の照射方向をワークの第2の部分における切断箇所に沿うように変化させる第2のスキャナとを備える構成としてもよい。  In the cutting apparatus according to the embodiment, the first scanner that changes the irradiation direction of the laser beam of the pulse wave oscillated by the pulse wave laser beam oscillator so as to follow the cutting position in the first portion of the workpiece, and the continuous wave laser It is good also as a structure provided with the 2nd scanner which changes the irradiation direction of the continuous wave laser beam oscillated with the optical oscillator so that the cutting location in the 2nd part of a workpiece | work may be followed.

一実施形態の切断装置では、第1の部分の厚みは第2の部分の厚みよりも薄くてもよい。特に、一実施形態の切断装置では、ワークは、帯状の金属箔の所定の部分に活物質層が形成された帯状電極であり、第1の部分は帯状電極の金属箔のみからなる部分であり、第2の部分は帯状電極の金属箔に活物質層が形成された部分である。  In the cutting device of one embodiment, the thickness of the first portion may be thinner than the thickness of the second portion. In particular, in the cutting apparatus according to one embodiment, the workpiece is a strip electrode in which an active material layer is formed on a predetermined portion of the strip-shaped metal foil, and the first portion is a portion composed only of the metal foil of the strip-shaped electrode. The second portion is a portion in which an active material layer is formed on the metal foil of the strip electrode.

本発明の一側面に係る切断装置は、レーザ光によってワークを切断する切断装置であって、パルス波のレーザ光を発振するパルス波レーザ光発振器と、連続波のレーザ光を発振する連続波レーザ光発振器と、ワークの第1の材料からなる第1の部分をパルス波のレーザ光で切断するようにパルス波のレーザ光のスポットを相対的に移動させると共に、ワークの第1の材料とは異なる第2の材料からなる第2の部分を連続波のレーザ光で切断するように連続波のレーザ光のスポットを相対的に移動させる制御装置と、を備える。  A cutting device according to one aspect of the present invention is a cutting device that cuts a workpiece with laser light, and a pulse wave laser light oscillator that oscillates pulsed laser light, and a continuous wave laser that oscillates continuous wave laser light. The spot of the laser beam of the pulse wave is relatively moved so that the first portion made of the first material of the workpiece is cut by the laser beam of the pulse wave, and the first material of the work is And a controller that relatively moves the spot of the continuous wave laser beam so as to cut the second portion made of the different second material with the continuous wave laser beam.

パルス波のレーザ光の場合、短いパルス幅の中にエネルギーを集中させた非常に高いエネルギーをワークに与えることで、熱による溶融を抑えてワークを切断できる。一方、連続波のレーザ光の場合、所定の大きさのエネルギーをワークに連続的に与えることで、熱による溶融でワークを切断できる。切断装置では、熱による溶融を抑えた切断が適した第1の部分に対してはパルス波のレーザ光で切断し、熱による溶融による切断が適した第2の部分に対しては連続波のレーザ光で切断することにより、ワークの複数の部分の切断品質をそれぞれ満たす切断が可能である。  In the case of pulsed laser light, the work can be cut while suppressing melting by heat by giving the work very high energy in which energy is concentrated within a short pulse width. On the other hand, in the case of a continuous wave laser beam, the workpiece can be cut by melting by heat by continuously applying energy of a predetermined magnitude to the workpiece. In the cutting apparatus, the first part suitable for cutting with suppressed melting by heat is cut with a pulsed laser beam, and the second part suitable for cutting by melting with heat is continuously waved. By cutting with laser light, it is possible to perform cutting that satisfies the cutting quality of a plurality of parts of the workpiece.

一実施形態の切断装置は、第1のスキャナ及び第2のスキャナを備え、制御装置は、第1のスキャナの制御によりパルス波のレーザ光のスポットを相対移動させると共に、第2のスキャナの制御により連続波のレーザ光のスポットを相対移動させてもよい。  The cutting device of one embodiment includes a first scanner and a second scanner, and the control device relatively moves the spot of the laser beam of the pulse wave by the control of the first scanner, and controls the second scanner. Thus, the spot of the continuous wave laser beam may be relatively moved.

一実施形態の切断装置においては、制御装置は、第1の部分と第2の部分との境界から第2の部分側に連続波のレーザ光の未照射領域が生じるように連続波のレーザ光のスポットを相対移動させると共に、パルス波のレーザ光が未照射領域に照射されるようにパルス波のレーザ光のスポットを相対移動させてもよい。この場合、制御装置は、パルス波のレーザ光を未照射領域に照射するときには、パルス波のレーザ光を第1の部分に照射するときに比べて、パルス波のレーザ光によるワークへの入熱量が大きくなるようにパルス波レーザ光発振器を制御してもよい。  In the cutting apparatus according to the embodiment, the control device includes a continuous wave laser beam so that an unirradiated region of the continuous wave laser beam is generated on the second portion side from the boundary between the first portion and the second portion. The spot of the laser beam of the pulse wave may be relatively moved so that the non-irradiated region is irradiated with the laser beam of the pulse wave. In this case, when the non-irradiated region is irradiated with the pulsed laser beam, the control device has a heat input amount to the workpiece by the pulsed laser beam compared to when the first portion is irradiated with the pulsed laser beam. The pulse wave laser light oscillator may be controlled so as to increase.

本発明の一側面によれば、ワークの複数の部分の切断品質をそれぞれ満たす切断が可能である。  According to one aspect of the present invention, cutting that satisfies the cutting quality of a plurality of parts of a workpiece is possible.

一実施形態に係る切断装置の構成を模式的に示す図である。It is a figure showing typically the composition of the cutting device concerning one embodiment. (a)は切断前の帯状電極の平面図であり、(b)は切断後の電極の平面図である。(A) is a top view of the strip | belt-shaped electrode before cutting | disconnection, (b) is a top view of the electrode after cutting | disconnection. パルス波レーザ光と連続波レーザ光のエネルギーの時間変化の一例である。It is an example of the time change of the energy of a pulse wave laser beam and a continuous wave laser beam. 図2(a)の拡大図であり、境界近傍の切断を説明する図である。FIG. 3 is an enlarged view of FIG. 2A and is a diagram for explaining cutting near the boundary. 図2(a)の拡大図であり、境界近傍の切断を説明する図である。FIG. 3 is an enlarged view of FIG. 2A and is a diagram for explaining cutting near the boundary.

以下、図面を参照して、本発明の一側面の実施形態に係る切断装置を説明する。なお、各図において同一又は相当する要素については同一の符号を付し、重複する説明を省略する。  Hereinafter, a cutting device according to an embodiment of one aspect of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, the same code | symbol is attached | subjected about the element which is the same or it corresponds in each figure, and the overlapping description is abbreviate | omitted.

一実施形態では、電池に用いられる電極の製造ラインに組み込まれ、帯状電極(ワーク)から個々の電極を切断する切断装置に適用する。この切断装置は、レーザ光によって帯状電極を切断する切断装置である。なお、製造される電極は、例えば、二次電池又は電気二重層キャパシタ等の蓄電装置に用いられる。二次電池としては、例えば、リチウムイオン二次電池等の非水電解質二次電池である。この実施形態では、リチウムイオン二次電池に用いられる電極を製造する場合とする。  In one embodiment, the present invention is applied to a cutting apparatus that is incorporated in a production line for electrodes used in batteries and cuts individual electrodes from a strip electrode (workpiece). This cutting device is a cutting device which cuts a strip electrode with a laser beam. The manufactured electrode is used for a power storage device such as a secondary battery or an electric double layer capacitor. The secondary battery is, for example, a non-aqueous electrolyte secondary battery such as a lithium ion secondary battery. In this embodiment, it is assumed that an electrode used for a lithium ion secondary battery is manufactured.

電極は、金属箔の少なくとも一面に電極ペーストが塗工されて、活物質層が形成されている。電極は、金属箔の端部に活物質層が形成されていないタブを有している。金属箔は、例えば、正極の場合にはアルミニウム箔であり、負極の場合には銅箔、ニッケル箔である。電極ペーストは、所定の粘度を有するスラリ状であり、活物質、バインダ、溶剤等を含んでいる。活物質は、正極活物質又は負極活物質である。正極活物質は、例えば、複合酸化物、硫黄系材料である。複合酸化物は、マンガン、ニッケル、コバルト及びアルミニウムの少なくとも1つとリチウムとを含む。負極活物質は、例えば、黒鉛、高配向性グラファイト、メソカーボンマイクロビーズ、ハードカーボン、ソフトカーボン等のカーボン、リチウム、ナトリウム等のアルカリ金属、金属化合物、SiOx(0.5≦x≦1.5)等の金属酸化物、ホウ素添加炭素である。バインダは、例えば、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、フッ素ゴム等の含フッ素樹脂、ポリプロピレン、ポリエチレン等の熱可塑性樹脂、ポリイミド、ポリアミドイミド等のイミド系樹脂、アルコキシシリル基含有樹脂である。溶剤は、例えば、NMP(N−メチルピロリドン)、メタノール、メチルイソブチルケトン等の有機溶剤である。また、電極ペーストは、カーボンブラック、黒鉛、アセチレンブラック、ケッチェンブラック(登録商標)等の導電助剤を含んでいてもよい。また、電極ペーストは、カルボキシメチルセルロース(CMC)等の増粘剤を含んでいてもよい。  The electrode has an active material layer formed by applying an electrode paste on at least one surface of a metal foil. The electrode has a tab on which an active material layer is not formed at the end of the metal foil. The metal foil is, for example, an aluminum foil in the case of the positive electrode, and a copper foil or a nickel foil in the case of the negative electrode. The electrode paste is in the form of a slurry having a predetermined viscosity and includes an active material, a binder, a solvent, and the like. The active material is a positive electrode active material or a negative electrode active material. The positive electrode active material is, for example, a composite oxide or a sulfur-based material. The composite oxide includes at least one of manganese, nickel, cobalt, and aluminum and lithium. Examples of the negative electrode active material include graphite, highly oriented graphite, carbon such as mesocarbon microbeads, hard carbon, and soft carbon, alkali metals such as lithium and sodium, metal compounds, and SiOx (0.5 ≦ x ≦ 1.5). ) And the like, and boron-added carbon. Examples of the binder include fluorine-containing resins such as polyvinylidene fluoride, polytetrafluoroethylene, and fluororubber, thermoplastic resins such as polypropylene and polyethylene, imide resins such as polyimide and polyamideimide, and alkoxysilyl group-containing resins. The solvent is, for example, an organic solvent such as NMP (N-methylpyrrolidone), methanol, methyl isobutyl ketone. The electrode paste may contain a conductive auxiliary such as carbon black, graphite, acetylene black, and ketjen black (registered trademark). The electrode paste may contain a thickening agent such as carboxymethylcellulose (CMC).

なお、帯状電極から電極を切断する場合、一般的に、刃具を用いた接触型の切断(打ち抜き)が行われている。この刃具による切断装置は、電極を切断する毎に帯状電極の搬送を一旦停止させるので、電極の生産効率が低下する。一方、レーザ光による切断装置は、切断中に帯状電極の搬送を停止させる必要がないので、電極の生産効率が高い。  In addition, when cutting an electrode from a strip-shaped electrode, contact-type cutting (punching) using a blade is generally performed. This cutting device using a cutting tool temporarily stops the transportation of the strip electrode every time the electrode is cut, so that the production efficiency of the electrode is lowered. On the other hand, the cutting device using laser light does not need to stop the conveyance of the strip electrode during cutting, so that the electrode production efficiency is high.

図1〜図3を参照して、一実施形態に係る切断装置1について説明する。図1は、一実施形態に係る切断装置の構成を模式的に示す図である。図2(a)は切断前の帯状電極の平面図であり、図2(b)は切断後の電極の平面図である。図3はパルス波レーザ光と連続波レーザ光のエネルギーの時間変化の一例である。図3では、横軸が時間であり、縦軸がエネルギーである。  With reference to FIGS. 1-3, the cutting device 1 which concerns on one Embodiment is demonstrated. FIG. 1 is a diagram schematically illustrating a configuration of a cutting device according to an embodiment. FIG. 2A is a plan view of the strip electrode before cutting, and FIG. 2B is a plan view of the electrode after cutting. FIG. 3 shows an example of the temporal change in energy of the pulsed laser beam and the continuous wave laser beam. In FIG. 3, the horizontal axis is time, and the vertical axis is energy.

電極を製造する場合、上記した各物質を混練して電極ペーストを生成する工程、電極ペーストを帯状の金属箔に塗工する工程、その塗工された電極ペーストを乾燥して帯状の金属箔に活物質層を形成する工程等により、図2(a)に示す帯状の金属箔Mに活物質層Aが形成された帯状電極ZEを生成する。この実施形態では、金属箔Mの少なくとも一面に連続塗工で活物質層Aが形成された帯状電極ZEとし、帯状電極ZEの幅方向において2個の電極が配置される2条取りとする。帯状電極ZEは、幅方向の各端部からそれぞれ所定の間隔(タブTの長さよりも長い間隔)をあけて幅方向の中央部に活物質層Aが塗工されている。切断工程では、切断装置1により帯状電極ZEから、図2(b)に示す電極Eを切り出す。電極を製造する場合、上記した各工程の他にもプレス、ベーク、検査等の工程もある。  When manufacturing an electrode, the above-mentioned substances are kneaded to produce an electrode paste, the electrode paste is applied to a strip-shaped metal foil, and the coated electrode paste is dried to form a strip-shaped metal foil. The band-shaped electrode ZE in which the active material layer A is formed on the band-shaped metal foil M shown in FIG. 2A is generated by the process of forming the active material layer. In this embodiment, a strip electrode ZE having an active material layer A formed on at least one surface of the metal foil M by continuous coating is assumed to be two strips in which two electrodes are arranged in the width direction of the strip electrode ZE. The strip-shaped electrode ZE is coated with the active material layer A at the center in the width direction with a predetermined interval (interval longer than the length of the tab T) from each end in the width direction. In the cutting step, the electrode E shown in FIG. 2B is cut out from the strip electrode ZE by the cutting device 1. When manufacturing an electrode, there are processes such as pressing, baking, and inspection in addition to the above-described processes.

帯状電極ZE(ワーク)は、金属箔M(第1の材料)のみからなる部分(第1の部分)と、金属箔Mと活物質層A(第2の材料)からなる部分(第2の部分)とを有している。金属箔Mの厚みは、例えば、数10μmである。活物質層Aの厚みは、例えば、数100μmである。したがって、金属箔Mのみからなる部分の厚みは、金属箔Mと活物質層Aからなる部分の厚みに比べて非常に薄い。なお、図2(a)に示す帯状電極ZEには、破線により、切断装置1で切断される切断箇所を示す線CLを示している。この切断線CLは、仮想線であり、実際には線が引かれていない。  The band-shaped electrode ZE (workpiece) includes a portion (first portion) made of only the metal foil M (first material), and a portion (second portion) made of the metal foil M and the active material layer A (second material). Part). The thickness of the metal foil M is, for example, several tens of μm. The thickness of the active material layer A is, for example, several hundred μm. Therefore, the thickness of the part consisting only of the metal foil M is very thin compared to the thickness of the part consisting of the metal foil M and the active material layer A. In addition, in the strip-like electrode ZE shown in FIG. 2A, a line CL indicating a cutting portion cut by the cutting device 1 is indicated by a broken line. This cutting line CL is an imaginary line, and no line is actually drawn.

切断装置1は、パルス波と連続波の2種類のレーザ光を用いて帯状電極ZEを切断する。特に、パルス波レーザ光PWが帯状電極ZEの金属箔Mのみからなる部分に用いられ、連続波レーザ光CWが金属箔Mと活物質層Aからなる部分に用いられる。切断装置1は、搬送中の帯状電極ZEの上方から各レーザ光PW,CWをそれぞれ照射する。また、切断装置1は、搬送方向Dにおいて連続波レーザ光CWをパルス波レーザ光PWよりも上流側で照射する。また、切断装置1は、電極Eの外形状に相当する切断線CLに沿って各レーザ光PW,CWのスポットの中心をそれぞれ移動させて照射する。特に、切断線CLのうち金属箔Mのみからなる部分にはパルス波レーザ光PWが照射され、切断線CLのうち金属箔Mと活物質層Aからなる部分には連続波レーザ光CWが照射される。切断装置1は、パルス波レーザ光発振器10と、連続波レーザ光発振器11と、スキャナ(第1のスキャナ)12と、スキャナ(第2のスキャナ)13と、制御装置14とを備えている。  The cutting device 1 cuts the strip-shaped electrode ZE using two types of laser light, a pulse wave and a continuous wave. In particular, the pulse wave laser beam PW is used for a portion made of only the metal foil M of the strip electrode ZE, and the continuous wave laser beam CW is used for a portion made of the metal foil M and the active material layer A. The cutting device 1 irradiates the laser beams PW and CW from above the belt-like electrode ZE being conveyed. Further, the cutting device 1 irradiates the continuous wave laser light CW in the transport direction D on the upstream side of the pulse wave laser light PW. Moreover, the cutting device 1 irradiates the laser beam PW and CW by moving the centers of the spots of the laser beams PW and CW along the cutting line CL corresponding to the outer shape of the electrode E, respectively. In particular, a portion of the cutting line CL made of only the metal foil M is irradiated with the pulsed laser beam PW, and a portion of the cutting line CL made of the metal foil M and the active material layer A is irradiated with the continuous wave laser light CW. Is done. The cutting device 1 includes a pulse wave laser light oscillator 10, a continuous wave laser light oscillator 11, a scanner (first scanner) 12, a scanner (second scanner) 13, and a control device 14.

なお、帯状電極ZEは、図示しない搬送装置によって所定の速度で搬送される。この搬送装置では、例えば、帯状電極ZEが巻出ロールから送り出されて搬送され、この搬送途中の所定の箇所に切断装置1のスキャナ12,13が配置されている。搬送速度は、例えば、数m/分である。より好ましくは、搬送速度は、例えば、十数メートル/分(十m以上)である。搬送中は、帯状電極ZEに所定のテンション(張力)がかかっている。  The strip electrode ZE is transported at a predetermined speed by a transport device (not shown). In this transport device, for example, the belt-like electrode ZE is sent out from the unwinding roll and transported, and the scanners 12 and 13 of the cutting device 1 are arranged at predetermined locations in the middle of the transport. The conveyance speed is, for example, several m / min. More preferably, a conveyance speed is 10 dozen meters / minute (10 m or more), for example. During the conveyance, a predetermined tension (tension) is applied to the belt-like electrode ZE.

パルス波レーザ光発振器10は、パルス波のレーザ光PWを発振する発振器である。パルス波レーザ光発振器10は、発振したパルス波レーザ光PWをスキャナ12に出力する。パルス波レーザ光PWの波長は、例えば、1000〜1100nmである。パルス波レーザ光PWの出力は、例えば、25Wである。パルス波レーザ光発振器10では、出力を所定の範囲で変更可能である。パルス波レーザ光PWのパルス幅は、例えば、10p秒(10ピコ秒)である。パルス波レーザ光PWの繰り返し周波数は、例えば、200kHzである。パルス波レーザ光発振器10では、繰り返し周波数を所定の範囲で変更可能である。  The pulse wave laser beam oscillator 10 is an oscillator that oscillates a pulse wave laser beam PW. The pulse wave laser beam oscillator 10 outputs the oscillated pulse wave laser beam PW to the scanner 12. The wavelength of the pulsed laser beam PW is, for example, 1000 to 1100 nm. The output of the pulsed laser beam PW is, for example, 25W. In the pulse wave laser beam oscillator 10, the output can be changed within a predetermined range. The pulse width of the pulsed laser beam PW is, for example, 10 p seconds (10 picoseconds). The repetition frequency of the pulsed laser beam PW is, for example, 200 kHz. In the pulsed laser beam oscillator 10, the repetition frequency can be changed within a predetermined range.

図3には、パルス波レーザ光PWのエネルギーの時間変化PEの一例を示している。このように、パルス波レーザ光PWは、繰り返し周波数に応じた一定時間毎に短い時間のパルス幅のエネルギーである。パルス波レーザ光PWは、この短い時間のパルス幅の中にエネルギーを集中させているので、ピークエネルギーが非常に大きくなる。パルス幅を短くしたり、出力を大きくすることで、各パルスのピークエネルギーが高くなる。パルス波レーザ光PWの場合、この非常に高いピークエネルギーにより、多光子励起が起こり易い。  FIG. 3 shows an example of the time change PE of the energy of the pulsed laser beam PW. Thus, the pulsed laser beam PW is energy having a pulse width of a short time every fixed time according to the repetition frequency. Since the pulse wave laser beam PW concentrates energy in the pulse width of this short time, the peak energy becomes very large. By shortening the pulse width or increasing the output, the peak energy of each pulse increases. In the case of the pulsed laser beam PW, multiphoton excitation is likely to occur due to this very high peak energy.

連続波レーザ光発振器11は、連続波のレーザ光CWを発振する発振器である。連続波レーザ光発振器11は、発振した連続波レーザ光CWをスキャナ13に出力する。連続波レーザ光CWの波長は、例えば、1000〜1100nmである。連続波レーザ光CWの出力は、例えば、500Wである。連続波レーザ光発振器11では、出力を所定の範囲で変更可能である。活物質層Aの厚みは金属箔Mよりも厚いので、活物質層Aを切断するためには金属箔Mよりも高い出力が必要となる。  The continuous wave laser beam oscillator 11 is an oscillator that oscillates a continuous wave laser beam CW. The continuous wave laser beam oscillator 11 outputs the oscillated continuous wave laser beam CW to the scanner 13. The wavelength of the continuous wave laser beam CW is, for example, 1000 to 1100 nm. The output of the continuous wave laser beam CW is, for example, 500W. In the continuous wave laser light oscillator 11, the output can be changed within a predetermined range. Since the thickness of the active material layer A is thicker than that of the metal foil M, a higher output than that of the metal foil M is required to cut the active material layer A.

図3には、連続波レーザ光CWのエネルギーの時間変化CEの一例を示している。このように、連続波レーザ光CWは、連続的な所定の大きさのエネルギーである。この連続波レーザ光CWのエネルギーは、厚い活物質層Aを切断するために高いエネルギーであるが、パルス波レーザ光PWの短いパルス幅の中で集中したピークエネルギーと比べると低い。  FIG. 3 shows an example of the time change CE of the energy of the continuous wave laser beam CW. As described above, the continuous wave laser beam CW has continuous energy having a predetermined magnitude. The energy of the continuous wave laser beam CW is high energy for cutting the thick active material layer A, but is lower than the peak energy concentrated in the short pulse width of the pulse wave laser beam PW.

スキャナ12は、搬送中の帯状電極ZEに対してパルス波レーザ光PWを金属箔Mのみからなる部分の切断線CLに沿って移動させる装置である。スキャナ12は、搬送される帯状電極ZEの上方となる位置に配置され、下方の帯状電極ZEに向けてパルス波レーザ光PWを照射する。スキャナ12は、例えば、2枚のミラーと、各ミラーを異なる方向の回転軸周りに角度を変化(つまり、2枚のミラーの組み合わせで照射方向を3次元的に変更)させる2個の駆動装置と、集光レンズとを有している。スキャナ12では、各駆動装置で各ミラーの角度をそれぞれ変化させ、この2枚のミラーでパルス波レーザ光PWをそれぞれ反射させて照射方向を変化させる。各駆動装置で各ミラーの角度を変化させる速度に応じて、パルス波レーザ光PWによる切断速度が変化する。切断速度は、例えば、数m/分である。より好ましくは、切断速度は、例えば数十m/分である。切断速度は、搬送装置で搬送される帯状電極ZEの搬送速度とは独立して設定される。各駆動装置での各ミラーの角度を変化させるパターン及び変化させる速度は、搬送速度毎に予め設定され、スキャナ12に記憶されている。スキャナ12では、2枚のミラーで反射されたパルス波レーザ光PWを集光レンズに入射させ、集光レンズで集光されたパルス波レーザ光PWを搬送中の帯状電極ZEに向けて照射する。集光されたパルス波レーザ光PWのスポット径は、例えば、100μmである。  The scanner 12 is a device that moves the pulsed laser beam PW along the cutting line CL of a portion made of only the metal foil M with respect to the belt-like electrode ZE being conveyed. The scanner 12 is disposed at a position above the belt-like electrode ZE to be conveyed, and irradiates the pulsed laser beam PW toward the belt-like electrode ZE below. The scanner 12 includes, for example, two mirrors and two drive devices that change the angles of the mirrors around the rotation axes in different directions (that is, change the irradiation direction three-dimensionally by combining the two mirrors). And a condensing lens. In the scanner 12, the angle of each mirror is changed by each driving device, and the pulse wave laser beam PW is reflected by the two mirrors to change the irradiation direction. The cutting speed by the pulsed laser beam PW changes according to the speed at which the angle of each mirror is changed by each driving device. The cutting speed is, for example, several m / min. More preferably, the cutting speed is, for example, several tens of m / min. The cutting speed is set independently of the transport speed of the strip electrode ZE transported by the transport device. The pattern for changing the angle of each mirror and the changing speed in each driving device are preset for each conveying speed and stored in the scanner 12. In the scanner 12, the pulsed laser beam PW reflected by the two mirrors is incident on the condenser lens, and the pulsed laser beam PW collected by the condenser lens is irradiated toward the belt-shaped electrode ZE being conveyed. . The spot diameter of the condensed pulse wave laser beam PW is, for example, 100 μm.

スキャナ13は、搬送中の帯状電極ZEに対して連続波レーザ光CWを金属箔Mと活物質層Aからなる部分の切断線CLに沿って移動させる装置である。スキャナ13は、搬送される帯状電極ZEの上方となる位置に配置され、下方の帯状電極ZEに向けて連続波レーザ光CWを照射する。また、スキャナ13は、搬送方向Dにおいてスキャナ12よりも上流側に配置され、スキャナ12から照射されるパルス波レーザ光PWよりも上流側に連続波レーザ光CWを照射する。スキャナ13の構成は、スキャナ12の構成と同様の構成であり、例えば、2枚のミラーと、2個の駆動装置と、集光レンズとを有している。連続波レーザ光CWの切断速度は、例えば、数m/分である。集光された連続波レーザ光CWのスポット径は、例えば、100μmである。  The scanner 13 is a device that moves the continuous wave laser light CW along the cutting line CL of the portion made of the metal foil M and the active material layer A with respect to the belt-like electrode ZE being conveyed. The scanner 13 is disposed at a position above the belt-like electrode ZE to be conveyed, and irradiates the continuous-wave laser light CW toward the lower belt-like electrode ZE. The scanner 13 is disposed upstream of the scanner 12 in the transport direction D, and irradiates the continuous wave laser light CW upstream of the pulsed laser light PW emitted from the scanner 12. The configuration of the scanner 13 is the same as that of the scanner 12, and includes, for example, two mirrors, two drive devices, and a condenser lens. The cutting speed of the continuous wave laser beam CW is, for example, several meters / minute. The spot diameter of the condensed continuous wave laser beam CW is, for example, 100 μm.

制御装置14は、切断装置1を制御する電子制御部であり、CPU[Central Processing Unit]、ROM[Read OnlyMemory]及びRAM[Random Access Memory]等のメモリ、入出力回路等からなる。制御装置14は、電極の製造ラインの制御装置の一機能として組み込まれてもよいしあるいは切断装置1専用の制御装置として構成されてもよい。制御装置14では、搬送装置による帯状電極ZEの搬送と同期するように、各レーザ光発振器10,11及び各スキャナ12,13を制御する。そのために、制御装置14には、搬送装置による帯状電極ZEの搬送速度の情報が入力される。搬送速度は、例えば、搬送装置の巻出ロールに設けられたロータリエンコーダで検出された検出値から算出される。搬送装置による帯状電極ZEの搬送が開始されると、制御装置14では、パルス波レーザ光発振器10でパルス波レーザ光PWを発振させると共に、連続波レーザ光発振器11で連続波レーザ光CWを発振させる。また、制御装置14では、搬送速度に応じてスキャナ12の2個の駆動装置を稼動させると共に、搬送速度に応じたスキャナ13の2個の駆動装置を稼動させる。帯状電極ZEの搬送が終了すると、制御装置14では、パルス波レーザ光発振器10、連続波レーザ光発振器11及びスキャナ12,13の各駆動装置を停止させる。  The control device 14 is an electronic control unit that controls the cutting device 1, and includes a memory such as a CPU [Central Processing Unit], a ROM [Read Only Memory], and a RAM [Random Access Memory], an input / output circuit, and the like. The control device 14 may be incorporated as one function of the control device of the electrode production line, or may be configured as a control device dedicated to the cutting device 1. The control device 14 controls the laser light oscillators 10 and 11 and the scanners 12 and 13 so as to synchronize with the transport of the strip electrode ZE by the transport device. For this purpose, information on the conveyance speed of the strip electrode ZE by the conveyance device is input to the control device 14. The conveyance speed is calculated from, for example, a detection value detected by a rotary encoder provided on the unwinding roll of the conveyance device. When the transport of the belt-like electrode ZE by the transport device is started, the control device 14 oscillates the pulsed laser beam PW with the pulsed wave laser beam oscillator 10 and oscillates the continuous wave laser beam CW with the continuous wave laser beam oscillator 11. Let Further, the control device 14 operates the two drive devices of the scanner 12 according to the conveyance speed, and operates the two drive devices of the scanner 13 according to the conveyance speed. When the transport of the strip electrode ZE is completed, the control device 14 stops the driving devices of the pulse wave laser beam oscillator 10, the continuous wave laser beam oscillator 11, and the scanners 12 and 13.

なお、切断装置1では、帯状電極ZEに対して各レーザ光PW,CWが照射される箇所にアシストガスをそれぞれ噴き付けるようにしてもよい。また、切断装置1では、スキャナ12を搬送方向Dにおいてスキャナ13よりも上流側に配置し、スキャナ13から照射される連続波レーザ光CWよりも上流側にパルス波レーザ光PWを照射するようにしてもよい。  Note that in the cutting device 1, the assist gas may be sprayed to the portions where the laser beams PW and CW are irradiated to the strip electrode ZE. In the cutting apparatus 1, the scanner 12 is arranged upstream of the scanner 13 in the transport direction D, and the pulsed laser beam PW is irradiated upstream of the continuous wave laser beam CW irradiated from the scanner 13. May be.

切断装置1の動作について説明する。搬送装置では、所定の搬送速度で帯状電極ZEを搬送する。帯状電極ZEの搬送中、パルス波レーザ光発振器10では、パルス波レーザ光PWを発振し、パルス波レーザ光PWをスキャナ12に出力する。連続波レーザ光発振器11では、連続波レーザ光CWを発振し、連続波レーザ光CWをスキャナ13に出力する。  The operation of the cutting device 1 will be described. In the transport device, the strip electrode ZE is transported at a predetermined transport speed. During the conveyance of the strip electrode ZE, the pulse wave laser beam oscillator 10 oscillates the pulse wave laser beam PW and outputs the pulse wave laser beam PW to the scanner 12. The continuous wave laser light oscillator 11 oscillates the continuous wave laser light CW and outputs the continuous wave laser light CW to the scanner 13.

スキャナ13では、帯状電極ZEの搬送に同期させて、各駆動装置で各ミラーの角度をそれぞれ変化させている。そして、スキャナ13では、入力された連続波レーザ光CWをこの2枚のミラーで順次反射させて照射方向を変化させ、この連続波レーザ光CWを集光レンズで集光して帯状電極ZEに向けて照射する。この照射された連続波レーザ光CWは、搬送中の帯状電極ZEの切断線CL(特に、活物質層Aが形成されている部分)上を移動する。  In the scanner 13, the angle of each mirror is changed by each driving device in synchronization with the conveyance of the strip electrode ZE. In the scanner 13, the input continuous wave laser light CW is sequentially reflected by the two mirrors to change the irradiation direction, and the continuous wave laser light CW is condensed by the condenser lens and is applied to the strip electrode ZE. Irradiate toward. The irradiated continuous wave laser beam CW moves on the cutting line CL (particularly, the portion where the active material layer A is formed) of the belt-like electrode ZE being conveyed.

帯状電極ZEにおいて連続波レーザ光CWが照射された箇所には、高いエネルギーが連続的に与えられる。これにより、連続波レーザ光CWが照射された箇所は、この連続的に与えられる高いエネルギーの熱によって活物質等が溶融されることで、切断される。この際、活物質等の溶融物が凝固して切断面に付着する(例えば、ダマ状のものが付着する)場合がある。このように切断面に付着物ができた場合でも、活物質層Aは厚いので、付着物の大きさが活物質層の厚み以上に大きくなることは殆どない。そのため、製造された電極(正極、負極)が電池(特に、正極と負極とをセパレータを介して積層した電池)に用いられた場合でも、この付着物がセパレータを破損させて正極と負極とを短絡させる可能性は非常に低い。したがって、連続波レーザ光CWを用いた溶融による切断であるが、帯状電極ZEにおける活物質層Aが形成されている部分の切断品質を十分に満たす。また、連続波レーザ光CWを用いた溶融による切断の場合、厚い活物質層Aを短い照射時間で切断できる。そのため、連続波レーザ光CWを用いた切断は、搬送速度及び切断速度を高い速度に設定しても、厚い活物質層Aの切断が可能である。搬送速度及び切断速度を高くすることで、電極Eの単位時間当たりの生産量が増え、生産効率が高くなる。  High energy is continuously given to the portion of the strip electrode ZE irradiated with the continuous wave laser beam CW. As a result, the portion irradiated with the continuous wave laser beam CW is cut by melting the active material or the like by the continuously applied high energy heat. At this time, the melted material such as the active material may solidify and adhere to the cut surface (for example, a lumpy material adheres). Even when deposits are formed on the cut surface in this way, the active material layer A is thick, and therefore the size of the deposits hardly increases beyond the thickness of the active material layer. Therefore, even when the manufactured electrode (positive electrode, negative electrode) is used for a battery (particularly, a battery in which the positive electrode and the negative electrode are laminated via a separator), this deposit damages the separator and causes the positive electrode and the negative electrode to The possibility of shorting is very low. Therefore, although the cutting is performed by melting using the continuous wave laser beam CW, the cutting quality of the portion where the active material layer A is formed in the strip electrode ZE is sufficiently satisfied. In the case of cutting by melting using the continuous wave laser beam CW, the thick active material layer A can be cut in a short irradiation time. Therefore, the cutting using the continuous wave laser beam CW can cut the thick active material layer A even if the conveyance speed and the cutting speed are set to high speeds. By increasing the conveyance speed and the cutting speed, the production amount of the electrode E per unit time increases, and the production efficiency increases.

スキャナ12では、帯状電極ZEの搬送に同期させて、各駆動装置で各ミラーの角度をそれぞれ変化させている。そして、スキャナ12では、入力されたパルス波レーザ光PWをこの2枚のミラーで順次反射させて照射方向を変化させ、このパルス波レーザ光PWを集光レンズで集光して帯状電極ZEに向けて照射する。パルス波レーザ光PWが照射される箇所は、搬送中の帯状電極ZEの切断線CL(特に、金属箔Mのみの部分)上を移動する。また、パルス波レーザ光PWが照射される箇所は、連続波レーザ光CWが照射される箇所よりも下流側である。したがって、パルス波レーザ光PWが照射されるときには、帯状電極ZEの活物質層Aが形成されている部分については既に切断されている。  In the scanner 12, the angle of each mirror is changed by each driving device in synchronization with the conveyance of the strip electrode ZE. In the scanner 12, the input pulse wave laser beam PW is sequentially reflected by the two mirrors to change the irradiation direction, and the pulse wave laser beam PW is condensed by the condenser lens and is applied to the strip electrode ZE. Irradiate toward. The portion irradiated with the pulsed laser beam PW moves on the cutting line CL (particularly, only the metal foil M) of the belt-like electrode ZE being conveyed. Moreover, the location irradiated with the pulsed laser beam PW is downstream of the location irradiated with the continuous wave laser beam CW. Therefore, when the pulse wave laser beam PW is irradiated, the portion of the strip electrode ZE where the active material layer A is formed is already cut.

帯状電極ZEにおいてパルス波レーザ光PWが照射された箇所には、短いパルス幅の中にエネルギーを集中させた非常に高いエネルギーが瞬間的に与えられ、多光子励起が起こる。これにより、パルス波レーザ光PWが照射された箇所は、金属箔Mを形成している金属の分子同士の結合が切られることで、切断される。そのため、パルス波レーザ光PWを用いた切断では、溶融による切断が抑えられるので、切断面に溶融物が凝固して付着することも抑えられる。切断面に付着物ができた場合でも、その付着物の大きさは小さいので、付着物がセパレータを破損させて正極と負極とを短絡させる可能性は非常に低い。したがって、帯状電極ZEの金属箔Mのみの部分は非常に薄いが、帯状電極ZEにおける金属箔Mのみの部分の切断品質を十分に満たす。また、パルス波レーザ光PWを用いた切断の場合、金属箔Mは薄いので、金属箔Mを短い照射時間で切断できる。そのため、パルス波レーザ光PWを用いた切断も、連続波レーザ光CWを用いた切断と同様に、搬送速度及び切断速度を高い速度に設定できる。  A very high energy obtained by concentrating energy in a short pulse width is instantaneously applied to a portion of the strip electrode ZE irradiated with the pulsed laser beam PW, and multiphoton excitation occurs. Thereby, the location irradiated with the pulse wave laser beam PW is cut by disconnecting the metal molecules forming the metal foil M. Therefore, in the cutting using the pulse wave laser beam PW, cutting by melting can be suppressed, so that the solidified product can be prevented from solidifying and adhering to the cut surface. Even when deposits are formed on the cut surface, the size of the deposits is small, so the possibility that the deposits damage the separator and short-circuit the positive electrode and the negative electrode is very low. Therefore, although the portion of the strip electrode ZE only of the metal foil M is very thin, the cutting quality of the portion of the strip electrode ZE only of the metal foil M is sufficiently satisfied. Further, in the case of cutting using the pulsed laser beam PW, the metal foil M is thin, so that the metal foil M can be cut in a short irradiation time. Therefore, the cutting using the pulse wave laser beam PW can also set the conveyance speed and the cutting speed to a high speed, similarly to the cutting using the continuous wave laser beam CW.

この切断装置1によれば、帯状電極ZEの金属箔Mのみからなる部分に対してはパルス波レーザ光PWで切断し、金属箔Mと活物質層Aからなる部分に対しては連続波レーザ光CWで切断することにより、この2つの部分の切断品質をそれぞれ満たす切断が可能である。また、この切断装置1によれば、帯状電極ZEの搬送速度及び切断速度を高い速度に設定できるので、電極Eの生産効率を向上できる。この切断装置1で切断され電極E(正極、負極)が電池に用いられた場合、電池においては電極Eの切断面の付着物が要因となる短絡を抑制できる。  According to this cutting device 1, a portion of the strip electrode ZE made only of the metal foil M is cut by the pulsed laser beam PW, and a portion made of the metal foil M and the active material layer A is a continuous wave laser. By cutting with optical CW, cutting that satisfies the cutting quality of these two parts can be achieved. Moreover, according to this cutting device 1, since the conveyance speed and cutting speed of the strip electrode ZE can be set to a high speed, the production efficiency of the electrode E can be improved. When the electrode E (positive electrode, negative electrode) is used in the battery after being cut by the cutting device 1, it is possible to suppress a short circuit caused by the deposit on the cut surface of the electrode E in the battery.

以上、本発明の一側面の実施形態について説明したが、上記実施形態に限定されることなく様々な形態で実施される。  As mentioned above, although embodiment of the one side surface of this invention was described, it is implemented with various forms, without being limited to the said embodiment.

例えば、上記実施形態では帯状電極の金属箔のみからなる部分をパルス波レーザ光で切断し、金属箔と活物質層からなる部分を連続波レーザ光で切断する構成としたが、パルス波レーザ光で切断する第1の部分、連続波レーザ光で切断する第2の部分については他のものにも適用でき、例えば、活物質層を保護する保護層(例えば、セラミックを用いた保護層)を有する電極の場合、帯状電極の金属箔と保護層からなる部分及び金属箔のみからなる部分をパルス波レーザ光で切断し、金属箔と活物質層と保護層とからなる部分を連続波レーザ光で切断する構成とする。  For example, in the above embodiment, the portion of the strip electrode made of only the metal foil is cut with the pulsed laser beam, and the portion of the metal foil and the active material layer is cut with the continuous wave laser beam. The first part that is cut by the above method and the second part that is cut by the continuous wave laser beam can be applied to other parts. For example, a protective layer that protects the active material layer (for example, a protective layer using ceramic) is provided. In the case of an electrode having a strip electrode, the portion made of the metal foil and the protective layer and the portion made only of the metal foil are cut with a pulsed laser beam, and the portion made of the metal foil, the active material layer and the protective layer is continuously wave laser light. It is set as the structure cut | disconnected by.

また、上記実施形態では幅方向において2個の電極が配置された2条取りの帯状電極に適用したが、幅方向において1個の電極が配置された1条取りの帯状電極にも適用可能である。また、上記実施形態では帯状の金属箔に連続塗工で活物質層が形成された帯状電極に適用したが、帯状の金属箔の間欠塗工で所定間隔をあけて活物質層が形成された帯状電極にも適用できる。  Moreover, in the said embodiment, although applied to the 2 strip | belt-shaped strip | belt-shaped electrode with which two electrodes were arrange | positioned in the width direction, it is applicable also to the 1 strip | strand-shaped strip | belt-shaped electrode with which one electrode was arrange | positioned in the width direction. is there. Moreover, in the said embodiment, although it applied to the strip | belt-shaped electrode by which the active material layer was formed by continuous coating to strip | belt-shaped metal foil, the active material layer was formed at predetermined intervals by intermittent coating of strip | belt-shaped metal foil. It can also be applied to a strip electrode.

また、上記実施形態では搬送中のワーク(帯状電極)側を自由に動かすことができないので、スキャナでワークの切断線に沿ってレーザ光を移動させながら照射できる切断装置に適用したが、ワーク側を動かすことが可能であるなら、ワークを切断線に応じて動かして、レーザ光を一定の箇所に照射する切断装置にも適用できる。  In the above embodiment, since the workpiece (band electrode) side being conveyed cannot be moved freely, the present invention is applied to a cutting apparatus that can irradiate laser light while moving the laser beam along the workpiece cutting line. If the workpiece can be moved, the present invention can be applied to a cutting device that moves a workpiece in accordance with a cutting line and irradiates a certain portion with laser light.

ここで、上述したように、切断装置1においては、制御装置14が、パルス波レーザ光発振器10及び連続波レーザ光発振器11を制御することにより、パルス波レーザ光PW及び連続波レーザ光CWを発振させる。また、制御装置14が、スキャナ12を制御することにより、パルス波レーザ光PWのスポットを、切断線CLに沿って、帯状電極ZEに対して相対移動させる。さらに、制御装置14が、スキャナ13を制御することにより、連続波レーザ光CWのスポットを、切断線CLに沿って、帯状電極ZEに対して相対移動させる。これにより、切断装置1は、帯状電極ZEの切断を行う。  Here, as described above, in the cutting device 1, the control device 14 controls the pulse wave laser light oscillator 10 and the continuous wave laser light oscillator 11 to thereby generate the pulse wave laser light PW and the continuous wave laser light CW. Oscillate. Further, the control device 14 controls the scanner 12 to move the spot of the pulsed laser beam PW relative to the strip electrode ZE along the cutting line CL. Further, the control device 14 controls the scanner 13 to move the spot of the continuous wave laser beam CW relative to the strip electrode ZE along the cutting line CL. Thereby, the cutting device 1 cuts the strip electrode ZE.

換言すれば、切断装置1は、ワーク(帯状電極ZE)の第1の材料(金属箔M)からなる第1の部分をパルス波レーザ光PWで切断するようにパルス波レーザ光PWのスポットを相対的に移動させると共に、ワークの第1の材料と第1の材料とは異なる第2の材料(活物質層A)とからなる第2の部分を連続波レーザ光CWで切断するように連続波レーザ光CWのスポットを相対的に移動させる制御装置14を備えている。特に、制御装置14は、スキャナ12の制御によりパルス波レーザ光PWのスポットを相対移動させると共に、スキャナ13の制御により連続波レーザ光CWのスポットを相対移動させる。  In other words, the cutting device 1 uses the pulse wave laser beam PW to cut the spot of the pulse wave laser beam PW so as to cut the first portion made of the first material (metal foil M) of the workpiece (band electrode ZE). The second portion made of the first material of the workpiece and the second material (active material layer A) different from the first material is continuously moved so as to be cut by the continuous wave laser beam CW. A control device 14 that relatively moves the spot of the wave laser beam CW is provided. In particular, the control device 14 relatively moves the spot of the pulsed laser beam PW by the control of the scanner 12 and relatively moves the spot of the continuous wave laser beam CW by the control of the scanner 13.

引き続いて、制御装置14が行う制御の一例について説明する。図4及び図5は、図2の(a)の拡大図に相当する。ここでは、図4(a)に示されるように、帯状電極ZEの少なくとも一部分において、第2の部分の切断線CLに沿った連続波レーザ光CWの照射(スポットの相対移動、スキャン)が行われている。したがって、帯状電極ZEの第2の部分には、切断線CLに沿って、切断が完了した領域(以下、第2の切断完了領域CLAという)が形成されている。  Subsequently, an example of control performed by the control device 14 will be described. 4 and 5 correspond to the enlarged view of FIG. Here, as shown in FIG. 4A, at least a part of the strip electrode ZE is irradiated with the continuous wave laser light CW (spot relative movement, scanning) along the cutting line CL of the second portion. It has been broken. Therefore, in the second portion of the strip electrode ZE, a region where the cutting is completed (hereinafter referred to as a second cutting completion region CLA) is formed along the cutting line CL.

このとき、連続波レーザ光CWのスポットが、第1部分と第2部分との境界BLに至らないようにする。これは、連続波レーザ光CWのスポットが境界BLを越えることにより、相対的に出力の大きな連続波レーザ光CWが第1の部分に照射されると、金属箔Mの大きなドロスが発生するおそれがあるためである。したがって、ここでは、第2の切断完了領域CLAは、第1の部分と第2の部分との境界BLに至っていない。換言すれば、第1の部分と第2の部分との境界BLから第2の部分側に、連続波レーザ光CWの未照射領域ARが切断線CLに沿って生じている。未照射領域ARは、第2の部分における境界BL側の一部分であり、例えば1mm程度である。  At this time, the spot of the continuous wave laser beam CW is prevented from reaching the boundary BL between the first portion and the second portion. This is because when the spot of the continuous wave laser beam CW crosses the boundary BL and the continuous wave laser beam CW having a relatively large output is irradiated to the first portion, a large dross of the metal foil M may be generated. Because there is. Therefore, here, the second cutting completion area CLA does not reach the boundary BL between the first part and the second part. In other words, the unirradiated area AR of the continuous wave laser beam CW is generated along the cutting line CL from the boundary BL between the first part and the second part to the second part side. The unirradiated area AR is a part on the boundary BL side in the second part, and is about 1 mm, for example.

このような状態において、図4の(b)に示されるように、パルス波レーザ光PWの照射(スポットの相対移動、スキャン)を行う。すなわち、切断線CLに沿ってパルス波レーザ光PWのスポットを相対移動させ、パルス波レーザ光PWのスポットを第1の部分側から境界BLに到達させる。これにより、帯状電極ZEの第1の部分には、切断線CLに沿って、切断が完了した領域(以下、第1の切断完了領域CLMという)が形成される。  In such a state, as shown in FIG. 4B, irradiation with the pulsed laser beam PW (relative movement of the spot, scanning) is performed. That is, the spot of the pulsed laser beam PW is relatively moved along the cutting line CL so that the spot of the pulsed laser beam PW reaches the boundary BL from the first part side. Thereby, in the first portion of the strip electrode ZE, a region where the cutting is completed (hereinafter referred to as a first cutting completion region CLM) is formed along the cutting line CL.

図5に示されるように、そのまま、パルス波レーザ光PWが未照射領域ARに照射されるように、切断線CLに沿って境界BLを越えてパルス波レーザ光PWのスポットを相対移動させる。そして、パルス波レーザ光PWを未照射領域ARに照射するときには、パルス波レーザ光PWを第1の部分に照射するときに比べて、パルス波レーザ光PWによる帯状電極ZEへの入熱量を大きくする。  As shown in FIG. 5, the spot of the pulsed laser beam PW is relatively moved along the cutting line CL across the boundary BL so that the pulsed laser beam PW is irradiated onto the unirradiated region AR as it is. When the pulsed laser beam PW is irradiated onto the unirradiated region AR, the amount of heat input to the strip electrode ZE by the pulsed laser beam PW is larger than when the pulsed laser beam PW is irradiated onto the first portion. To do.

帯状電極ZEへの入熱量を大きくするためには、パルス波レーザ光PWの照射条件を制御する。制御の一例として、繰り返し周波数を大きくしたり、例えば3Dスキャナを用いてスポット径を小さくしたり、スポットの相対移動速度を低下させたり、複数回にわたって繰り返し照射したりすることが考えられる。或いは、これらの複数の条件を組み合わせてもよい。このようにすれば、相対的に出力の小さなパルス波レーザ光PWであっても、十分な入熱量により第2の部分を溶融させて切断することが可能である。これにより、第1の切断完了領域CLMと第2の切断完了領域CLAとがつなげられ、切断が完了する。  In order to increase the amount of heat input to the strip electrode ZE, the irradiation condition of the pulsed laser beam PW is controlled. As an example of the control, it is conceivable to increase the repetition frequency, reduce the spot diameter using, for example, a 3D scanner, reduce the relative movement speed of the spot, or repeatedly irradiate a plurality of times. Or you may combine these several conditions. In this way, even the pulse wave laser light PW having a relatively small output can be cut by melting the second portion with a sufficient amount of heat input. Thereby, the first cutting completion area CLM and the second cutting completion area CLA are connected, and the cutting is completed.

なお、切断装置1においては、パルス波レーザ光PWの照射を行った後に、連続波レーザ光CWの照射を行ってもよい。すなわち、まず、切断線CLに沿ってパルス波レーザ光PWのスポットを相対移動させ、パルス波レーザ光PWのスポットを第1の部分側から境界BLに到達させる。続けて、パルス波レーザ光PWが未照射領域ARに照射されるように、切断線CLに沿って境界BLを越えてパルス波レーザ光PWのスポットを相対移動させる。これにより、まず、第1の切断完了領域CLMを形成する。  In the cutting apparatus 1, the irradiation with the continuous wave laser beam CW may be performed after the irradiation with the pulse wave laser beam PW. That is, first, the spot of the pulsed laser beam PW is relatively moved along the cutting line CL, so that the spot of the pulsed laser beam PW reaches the boundary BL from the first portion side. Subsequently, the spot of the pulse wave laser beam PW is relatively moved across the boundary BL along the cutting line CL so that the pulse wave laser beam PW is irradiated onto the unirradiated region AR. Thereby, first, the first cutting completion region CLM is formed.

その後、連続波レーザ光CWによる第2の切断完了領域CLAが、すでに境界BLを越えて形成されている第1の切断完了領域CLMに接続されるように、連続波レーザ光CWのスポットを切断線CLに沿って相対移動させる。切断装置1の以上の動作は、上述したように、制御装置14の制御によって実現される。  Thereafter, the spot of the continuous wave laser light CW is cut so that the second cutting completion area CLA by the continuous wave laser light CW is connected to the first cutting completion area CLM already formed beyond the boundary BL. Relative movement is performed along the line CL. The above operation of the cutting device 1 is realized by the control of the control device 14 as described above.

すなわち、切断装置1においては、制御装置14は、第1の部分と第2の部分との境界BLから第2の部分側に連続波レーザ光CWの未照射領域ARが生じるように連続波レーザ光CWのスポットを相対移動させると共に、パルス波レーザ光PWが未照射領域ARに照射されるようにパルス波レーザ光PWのスポットを相対移動させる。特に、制御装置14は、パルス波レーザ光PWを未照射領域ARに照射するときには、パルス波レーザ光PWを第1の部分に照射するときに比べて、パルス波レーザ光PWによる帯状電極ZEへの入熱量が大きくなるようにパルス波レーザ光発振器10を制御する。  In other words, in the cutting device 1, the control device 14 detects the continuous wave laser so that the unirradiated area AR of the continuous wave laser light CW is generated on the second portion side from the boundary BL between the first portion and the second portion. While relatively moving the spot of the light CW, the spot of the pulsed laser beam PW is relatively moved so that the pulsed laser beam PW is irradiated onto the unirradiated area AR. In particular, when the controller 14 irradiates the non-irradiated region AR with the pulsed laser beam PW, the control device 14 applies the pulsed laser beam PW to the strip electrode ZE as compared to when the pulsed laser beam PW is irradiated onto the first portion. The pulse wave laser beam oscillator 10 is controlled so as to increase the amount of heat input.

切断装置1においては、以上の構成によって、第1の部分と第2の部分との境界BLの近傍において金属箔Mのドロスが発生することを抑制しながら、帯状電極ZEの切断を行うことが可能となる。  In the cutting device 1, the strip electrode ZE can be cut while suppressing the dross of the metal foil M in the vicinity of the boundary BL between the first portion and the second portion with the above configuration. It becomes possible.

以上の態様について、以下に付記する。  About the above aspect, it adds to the following.

(付記1)
レーザ光によってワークを切断する切断装置であって、
パルス波のレーザ光を発振するパルス波レーザ光発振器と、
連続波のレーザ光を発振する連続波レーザ光発振器と、
を備え、
前記ワークの第1の材料からなる第1の部分を前記パルス波のレーザ光で切断し、前記ワークの前記第1の材料とは異なる第2の材料からなる第2の部分を前記連続波のレーザ光で切断する、切断装置。
(Appendix 1)
A cutting device for cutting a workpiece by laser light,
A pulsed wave laser oscillator that oscillates a pulsed laser beam;
A continuous wave laser oscillator that oscillates a continuous wave laser beam;
With
The first portion of the workpiece made of the first material is cut by the laser beam of the pulse wave, and the second portion of the workpiece made of the second material different from the first material is cut by the continuous wave. Cutting device that cuts with laser light.

(付記2)
前記第1の部分と前記第2の部分との境界から前記第2の部分側に前記連続波のレーザ光の未照射領域が生じるように前記連続波のレーザ光の照射を行うと共に、前記パルス波のレーザ光を前記未照射領域に照射する、
付記1に記載の切断装置。
(Appendix 2)
The continuous wave laser beam is irradiated so that an unirradiated region of the continuous wave laser beam is generated on the second portion side from the boundary between the first portion and the second portion, and the pulse Irradiating the non-irradiated region with a laser beam of waves,
The cutting apparatus according to appendix 1.

(付記3)
前記パルス波のレーザ光を前記未照射領域に照射するときには、前記パルス波のレーザ光を前記第1の部分に照射するときに比べて、前記パルス波のレーザ光による前記ワークへの入熱量が大きくなるようにする、
付記2に記載の切断装置。
(Appendix 3)
When irradiating the non-irradiated region with the pulsed laser beam, the amount of heat input to the workpiece by the pulsed laser beam is greater than when irradiating the first wave with the pulsed laser beam. To be bigger,
The cutting device according to attachment 2.

ワークの複数の部分の切断品質をそれぞれ満たす切断が可能である。  Cutting that satisfies the cutting quality of a plurality of parts of the workpiece is possible.

1…切断装置、10…パルス波レーザ光発振器、11…連続波レーザ光発振器、12,13…スキャナ、14…制御装置。  DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Cutting device, 10 ... Pulse wave laser beam oscillator, 11 ... Continuous wave laser beam oscillator, 12, 13 ... Scanner, 14 ... Control device.

Claims (8)

レーザ光によってワークを切断する切断装置であって、
パルス波のレーザ光を発振するパルス波レーザ光発振器と、
連続波のレーザ光を発振する連続波レーザ光発振器と、
を備え、
前記ワークの第1の材料からなる第1の部分を前記パルス波のレーザ光で切断し、前記ワークの前記第1の材料とは異なる第2の材料からなる第2の部分を前記連続波のレーザ光で切断する、切断装置。
A cutting device for cutting a workpiece by laser light,
A pulsed wave laser oscillator that oscillates a pulsed laser beam;
A continuous wave laser oscillator that oscillates a continuous wave laser beam;
With
The first portion of the workpiece made of the first material is cut by the laser beam of the pulse wave, and the second portion of the workpiece made of the second material different from the first material is cut by the continuous wave. Cutting device that cuts with laser light.
前記パルス波レーザ光発振器で発振された前記パルス波のレーザ光の照射方向を前記ワークの前記第1の部分における切断箇所に沿うように変化させる第1のスキャナと、
前記連続波レーザ光発振器で発振された前記連続波のレーザ光の照射方向を前記ワークの前記第2の部分における切断箇所に沿うように変化させる第2のスキャナと、
を備える、請求項1に記載の切断装置。
A first scanner that changes an irradiation direction of the laser beam of the pulse wave oscillated by the pulse wave laser oscillator so as to follow a cutting position in the first portion of the workpiece;
A second scanner that changes an irradiation direction of the continuous-wave laser light oscillated by the continuous-wave laser light oscillator so as to follow a cutting position in the second portion of the workpiece;
The cutting device according to claim 1, comprising:
前記第1の部分の厚みは、前記第2の部分の厚みよりも薄い、請求項1又は2に記載の切断装置。  The cutting apparatus according to claim 1 or 2, wherein a thickness of the first portion is thinner than a thickness of the second portion. 前記ワークは、帯状の金属箔の所定の部分に活物質層が形成された帯状電極であり、
前記第1の部分は、前記帯状電極の前記金属箔のみからなる部分であり、
前記第2の部分は、前記帯状電極の前記金属箔に前記活物質層が形成された部分である、請求項3に記載の切断装置。
The workpiece is a strip electrode in which an active material layer is formed on a predetermined portion of a strip metal foil,
The first part is a part consisting only of the metal foil of the strip electrode,
The cutting device according to claim 3, wherein the second portion is a portion in which the active material layer is formed on the metal foil of the strip electrode.
レーザ光によってワークを切断する切断装置であって、
パルス波のレーザ光を発振するパルス波レーザ光発振器と、
連続波のレーザ光を発振する連続波レーザ光発振器と、
前記ワークの第1の材料からなる第1の部分を前記パルス波のレーザ光で切断するように前記パルス波のレーザ光のスポットを相対的に移動させると共に、前記ワークの前記第1の材料とは異なる第2の材料からなる第2の部分を前記連続波のレーザ光で切断するように前記連続波のレーザ光のスポットを相対的に移動させる制御装置と、
を備える、切断装置。
A cutting device for cutting a workpiece by laser light,
A pulsed wave laser oscillator that oscillates a pulsed laser beam;
A continuous wave laser oscillator that oscillates a continuous wave laser beam;
The spot of the laser beam of the pulse wave is relatively moved so as to cut the first portion made of the first material of the workpiece with the laser beam of the pulse wave, and the first material of the workpiece A controller that relatively moves the spot of the continuous wave laser beam so as to cut a second portion made of a different second material with the continuous wave laser beam;
A cutting device comprising:
第1のスキャナ及び第2のスキャナを備え、
前記制御装置は、前記第1のスキャナの制御により前記パルス波のレーザ光のスポットを相対移動させると共に、前記第2のスキャナの制御により前記連続波のレーザ光のスポットを相対移動させる、
請求項5に記載の切断装置。
A first scanner and a second scanner;
The control device relatively moves the spot of the laser beam of the pulse wave by the control of the first scanner, and relatively moves the spot of the laser beam of the continuous wave by the control of the second scanner.
The cutting device according to claim 5.
前記制御装置は、前記第1の部分と前記第2の部分との境界から前記第2の部分側に前記連続波のレーザ光の未照射領域が生じるように前記連続波のレーザ光のスポットを相対移動させると共に、前記パルス波のレーザ光が前記未照射領域に照射されるように前記パルス波のレーザ光のスポットを相対移動させる、
請求項5又は6に記載の切断装置。
The control device sets the spot of the continuous wave laser light so that an unirradiated region of the continuous wave laser light is generated on the second part side from the boundary between the first part and the second part. Relative movement and relative movement of the pulsed laser beam spot so that the unirradiated region is irradiated with the pulsed laser beam,
The cutting device according to claim 5 or 6.
前記制御装置は、前記パルス波のレーザ光を前記未照射領域に照射するときには、前記パルス波のレーザ光を前記第1の部分に照射するときに比べて、前記パルス波のレーザ光による前記ワークへの入熱量が大きくなるように前記パルス波レーザ光発振器を制御する、
請求項7に記載の切断装置。
The control device is configured to irradiate the non-irradiated region with the pulsed laser light compared to when irradiating the first part with the pulsed laser light. Controlling the pulsed laser light oscillator so that the heat input to the
The cutting device according to claim 7.
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