JPWO2016121281A1 - 固体レーザシステム - Google Patents
固体レーザシステム Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2016121281A1 JPWO2016121281A1 JP2016571826A JP2016571826A JPWO2016121281A1 JP WO2016121281 A1 JPWO2016121281 A1 JP WO2016121281A1 JP 2016571826 A JP2016571826 A JP 2016571826A JP 2016571826 A JP2016571826 A JP 2016571826A JP WO2016121281 A1 JPWO2016121281 A1 JP WO2016121281A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser beam
- wavelength
- solid
- pulse
- pulse laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000007787 solid Substances 0.000 title claims description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 109
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 107
- 230000003321 amplification Effects 0.000 claims description 14
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 claims description 14
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 54
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 41
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 24
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 21
- 230000008859 change Effects 0.000 description 17
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 15
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 10
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 10
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 8
- 230000009471 action Effects 0.000 description 7
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 6
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 5
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 5
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 5
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 5
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 5
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 4
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007687 exposure technique Methods 0.000 description 1
- 238000000671 immersion lithography Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000005055 memory storage Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/091—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
- H01S3/0912—Electronics or drivers for the pump source, i.e. details of drivers or circuitry specific for laser pumping
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/35—Non-linear optics
- G02F1/353—Frequency conversion, i.e. wherein a light beam is generated with frequency components different from those of the incident light beams
- G02F1/3534—Three-wave interaction, e.g. sum-difference frequency generation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/35—Non-linear optics
- G02F1/355—Non-linear optics characterised by the materials used
- G02F1/3551—Crystals
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/35—Non-linear optics
- G02F1/37—Non-linear optics for second-harmonic generation
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
- G03F7/70025—Production of exposure light, i.e. light sources by lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
- H01S3/0092—Nonlinear frequency conversion, e.g. second harmonic generation [SHG] or sum- or difference-frequency generation outside the laser cavity
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/06—Construction or shape of active medium
- H01S3/0602—Crystal lasers or glass lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/06—Construction or shape of active medium
- H01S3/063—Waveguide lasers, i.e. whereby the dimensions of the waveguide are of the order of the light wavelength
- H01S3/067—Fibre lasers
- H01S3/06754—Fibre amplifiers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/091—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
- H01S3/094—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
- H01S3/094076—Pulsed or modulated pumping
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/091—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
- H01S3/094—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
- H01S3/0941—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/106—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity
- H01S3/107—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity using electro-optic devices, e.g. exhibiting Pockels or Kerr effect
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/106—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity
- H01S3/108—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity using non-linear optical devices, e.g. exhibiting Brillouin or Raman scattering
- H01S3/109—Frequency multiplication, e.g. harmonic generation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/16—Solid materials
- H01S3/163—Solid materials characterised by a crystal matrix
- H01S3/1666—Solid materials characterised by a crystal matrix borate, carbonate, arsenide
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
- H01S3/2375—Hybrid lasers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/35—Non-linear optics
- G02F1/3501—Constructional details or arrangements of non-linear optical devices, e.g. shape of non-linear crystals
- G02F1/3507—Arrangements comprising two or more nonlinear optical devices
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/35—Non-linear optics
- G02F1/353—Frequency conversion, i.e. wherein a light beam is generated with frequency components different from those of the incident light beams
- G02F1/354—Third or higher harmonic generation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
- H01S3/0071—Beam steering, e.g. whereby a mirror outside the cavity is present to change the beam direction
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
- H01S3/0085—Modulating the output, i.e. the laser beam is modulated outside the laser cavity
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/10038—Amplitude control
- H01S3/10046—Pulse repetition rate control
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/10053—Phase control
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/22—Gases
- H01S3/223—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
- H01S3/225—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex
- H01S3/2251—ArF, i.e. argon fluoride is comprised for lasing around 193 nm
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
- H01S3/2366—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media comprising a gas as the active medium
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
- H01S3/2383—Parallel arrangements
- H01S3/2391—Parallel arrangements emitting at different wavelengths
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
- Lasers (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
Description
[1.概要]
[2.比較例](固体レーザシステムを含む露光装置用レーザ装置)
2.1 構成(図1)
2.2 動作
2.3 課題(図3〜図5)
[3.第1の実施形態](図6、図7)
3.1 構成
3.2 動作
3.3 作用
3.4 変形例
[4.第2の実施形態](図8、図9、図17)
4.1 構成
4.2 動作
4.3 作用
[5.第3の実施形態](図10〜図13)
5.1 構成
5.2 動作
5.3 作用
[6.第4の実施形態](図14、図15)
6.1 構成
6.2 動作
6.3 作用
6.4 変形例
[7.光シャッタの構成例](図16)
7.1 構成
7.2 動作
[8.制御部のハードウエア環境](図18)
[9.その他]
本開示は、例えば、バーストパルスを生成する固体レーザシステムに関する。
まず、本開示の実施形態に対する比較例の固体レーザシステムを含む露光装置用レーザ装置について説明する。
図1は、本開示の実施形態に対する比較例の露光装置用レーザ装置の一構成例を概略的に示している。
第1の固体レーザ装置11は、固体レーザ制御部14からの指令に基づいて、第1の半導体レーザ20と、第1及び第2のCW励起半導体レーザ51,52とをCW発振させてもよい。第2の固体レーザ装置12は、固体レーザ制御部14からの指令に基づいて、第2の半導体レーザ40と、第3のCW励起半導体レーザ53とをCW発振させてもよい。
図2は、図1に示した固体レーザシステム1の第1の固体レーザ装置11においてパルス状のシード光を連続的に出力して増幅する動作例を概略的に示している。図3は、同様に第1の固体レーザ装置11においてパルス状のシード光を連続的に出力して増幅した場合の第1のファイバ増幅器25の利得の変化を概略的に示している。
次に、本開示の第1の実施形態に係る固体レーザシステムを含む露光装置用レーザ装置について説明する。なお、以下では図1に示した比較例の固体レーザシステムを含む露光装置用レーザ装置の構成要素と略同じ部分については、同一符号を付し、適宜説明を省略する。
図6は、本開示の第1の実施形態に係る固体レーザシステム1Aを含む露光装置用レーザ装置の一構成例を概略的に示している。
図7は、図6に示した固体レーザシステム1Aの動作の一例を示すタイミングチャートである。図7の各タイミングチャートは、上側から順に、露光装置4からのバースト信号Tbの出力タイミングと、トリガ生成器8からの第1のトリガ信号Tr1の出力タイミングとであってもよい。さらに、第2のトリガ信号Tr2に基づく第1の光シャッタ23のオン/オフのタイミングと、第3のトリガ信号Tr3に基づく半導体光増幅器41のオン/オフのタイミングとであってもよい。さらに、第1の固体レーザ装置11からの第1のパルスレーザ光71Aの出力タイミングと、第2の固体レーザ装置12からの第2のパルスレーザ光71Bの出力タイミングとであってもよい。さらに、バースト信号Tbに基づく第2の光シャッタ28の開閉タイミングと、波長変換システム15からの第3のパルスレーザ光71Cの出力タイミングとであってもよい。
本実施形態の固体レーザシステム1Aによれば、バースト信号Tbのオン/オフに関わらず、第1及び第2の固体レーザ装置11,12からそれぞれ第1及び第2のパルスレーザ光71A,71Bが所定の繰り返し周波数fで連続的に出力され得る。バースト信号Tbがオンのときには、第1及び第2のパルスレーザ光71A,71Bを波長変換システム15に略同時に入射させることにより、波長193.4nmに波長変換された第3のパルスレーザ光71Cが波長変換システム15から出力され得る。バースト信号Tbがオフのときには、第2の光シャッタ28によって、第1及び第2のパルスレーザ光71A,71Bの波長変換システム15への入射タイミングが時間的に重ならないようにすることにより、第3のパルスレーザ光71Cの出力が停止され得る。
本実施形態に係る固体レーザシステム1Aにおいて、第2の固体レーザ装置12と波長変換システム15との間に限らず、第1及び第2のパルスレーザ光71A,71Bのうちいずれか一方の光路上の他の位置に第2の光シャッタ28を配置してもよい。例えば、第1の固体レーザ装置11における固体増幅器27とLBO結晶21との間、又はLBO結晶21とCLBO結晶22との間の光路上に第2の光シャッタ28を配置してもよい。
次に、本開示の第2の実施形態に係る固体レーザシステムを含む露光装置用レーザ装置について説明する。なお、以下では上記比較例、又は上記第1の実施形態に係る固体レーザシステムを含む露光装置用レーザ装置の構成要素と略同じ部分については、同一符号を付し、適宜説明を省略する。
図8は、本開示の第2の実施形態に係る固体レーザシステム1Bを含む露光装置用レーザ装置の一構成例を概略的に示している。
図9は、図8に示した固体レーザシステム1Bの動作の一例を示すタイミングチャートである。図9の各タイミングチャートは、上側から順に、露光装置4からのバースト信号Tbの出力タイミングと、トリガ生成器8からの第1のトリガ信号Tr1の出力タイミングとであってもよい。さらに、第2のトリガ信号Tr2に基づく第1の光シャッタ23のオン/オフのタイミングと、第3のトリガ信号Tr3に基づく半導体光増幅器41のオン/オフのタイミングとであってもよい。さらに、第1の固体レーザ装置11からの第1のパルスレーザ光71Aの出力タイミングと、第2の固体レーザ装置12からの第2のパルスレーザ光71Bの出力タイミングとであってもよい。さらに、波長変換システム15からの第3のパルスレーザ光71Cの出力タイミングであってもよい。
|ΔD|≧ΔTp1+ΔTp2 ……(1)
本実施形態の固体レーザシステム1Bによれば、バースト信号Tbのオン/オフに関わらず、第1及び第2の固体レーザ装置11,12からそれぞれ第1及び第2のパルスレーザ光71A,71Bが連続的に出力され得る。バースト信号Tbがオンのときには、第1及び第2のパルスレーザ光71A,71Bを波長変換システム15に略同時に入射させることにより、波長193.4nmに波長変換された第3のパルスレーザ光71Cが波長変換システム15から出力され得る。バースト信号Tbがオフのときには、第1及び第2のパルスレーザ光71A,71Bの波長変換システム15への入射タイミングが時間的に重ならないようにすることにより、第3のパルスレーザ光71Cの出力が停止され得る。波長変換システム15には、バースト信号Tbがオフのときにおいても、タイミングは異なるものの、第1及び第2のパルスレーザ光71A,71Bの双方が入射し得る。このため、上記第1の実施形態に比べて、波長変換システム15の熱負荷の変動がさらに抑制され得る。
次に、本開示の第3の実施形態に係る固体レーザシステムを含む露光装置用レーザ装置について説明する。なお、以下では上記比較例、又は上記第1若しくは第2の実施形態に係る固体レーザシステムを含む露光装置用レーザ装置の構成要素と略同じ部分については、同一符号を付し、適宜説明を省略する。
図10は、本開示の第3の実施形態に係る固体レーザシステム1Cを含む露光装置用レーザ装置の一構成例を概略的に示している。
図11及び図12は、図10に示した固体レーザシステム1Cの動作の一例を示すタイミングチャートである。図11の各タイミングチャートは、上側から順に、露光装置4からのバースト信号Tbの出力タイミングと、トリガ生成器8からの第1のトリガ信号Tr1の出力タイミングとであってもよい。さらに、第2のトリガ信号Tr2又は信号生成器62で生成された制御信号に基づく第1の光シャッタ23の透過率の変化のタイミングと、第3のトリガ信号Tr3に基づく半導体光増幅器41のオン/オフのタイミングとであってもよい。さらに、第1の固体レーザ装置11からの第1のパルスレーザ光71Aの出力タイミングと、第2の固体レーザ装置12からの第2のパルスレーザ光71Bの出力タイミングとであってもよい。さらに、波長変換システム15からの第3のパルスレーザ光71Cの出力タイミングであってもよい。
本実施形態の固体レーザシステム1Cによれば、バースト信号Tbがオフのときには、波長変換システム15での波長変換が抑制され、第3のパルスレーザ光71Cの出力が停止するように第1のパルスレーザ光71Aの光強度が制御され得る。バースト信号Tbがオンのときには、第1の波長と第2の波長とから第3の波長へと波長変換された第3のパルスレーザ光71Cが波長変換システム15から出力されるように第1及び第2のパルスレーザ光71A,71Bの光強度が制御され得る。バースト信号Tbがオフのときには、波長変換システム15での波長変換の閾値以下の光強度となるように、第1の固体レーザ装置11内でシード光の光強度が抑制され得る。これにより、第1のファイバ増幅器25や固体増幅器27の利得を低下させ得る。これにより、バーストの先頭のパルスの光強度が高くなることが抑制され得る。
次に、本開示の第4の実施形態に係る固体レーザシステムを含む露光装置用レーザ装置について説明する。なお、以下では上記比較例、又は上記第1ないし第3の実施形態に係る固体レーザシステムを含む露光装置用レーザ装置の構成要素と略同じ部分については、同一符号を付し、適宜説明を省略する。
図14は、本開示の第4の実施形態に係る固体レーザシステム1Dを含む露光装置用レーザ装置の一構成例を概略的に示している。
図15は、図14に示した固体レーザシステム1Dの動作の一例を示すタイミングチャートである。図15の各タイミングチャートは、上側から順に、露光装置4からのバースト信号Tbの出力タイミングと、トリガ生成器8からの第1のトリガ信号Tr1の出力タイミングとであってもよい。さらに、タイミングチャートは、第2のトリガ信号Tr2に基づく第1の光シャッタ23の透過率の変化のタイミングと、第3のトリガ信号Tr3又は信号生成器62で生成された制御信号に基づく半導体光増幅器41の電流値の変化のタイミングとであってもよい。さらに、第1の固体レーザ装置11からの第1のパルスレーザ光71Aの出力タイミングと、第2の固体レーザ装置12からの第2のパルスレーザ光71Bの出力タイミングとであってもよい。さらに、波長変換システム15からの第3のパルスレーザ光71Cの出力タイミングであってもよい。
本実施形態の固体レーザシステム1Dによれば、バースト信号Tbがオフのときには、波長変換システム15での波長変換が抑制され、第3のパルスレーザ光71Cの出力が停止するように第2のパルスレーザ光71Bの光強度が制御され得る。バースト信号Tbがオンのときには、第1の波長と第2の波長とから第3の波長へと波長変換された第3のパルスレーザ光71Cが波長変換システム15から出力されるように第1及び第2のパルスレーザ光71A,71Bの光強度が制御され得る。バースト信号Tbがオフのときには、波長変換システム15での波長変換の閾値以下の光強度となるように、第2の固体レーザ装置12内でシード光の光強度が抑制され得る。これにより、第2のファイバ増幅器42の利得を低下させ得る。これにより、バーストの先頭のパルスの光強度が高くなることが抑制され得る。
本実施形態と上記第3の実施形態とを組み合わせた実施形態であってもよい。この場合、第1の光シャッタ23と半導体光増幅器41との双方を光強度可変部としてもよい。これにより、バースト信号Tbがオフのときに、第1及び第2のパルスレーザ光71A,71Bの双方の光強度が低くなるように制御してもよい。
次に、図16を参照して、上記の第1の光シャッタ23及び第2の光シャッタ28として適用可能な光シャッタ310の具体的な構成例を説明する。
図16は、光シャッタ310の一構成例を示している。光シャッタ310は、ポッケルスセル394と、偏光子396とを含んでいてもよい。ポッケルスセル394は、高電圧電源393と、第1の電極395aと、第2の電極395bと、電気光学結晶395cとを含んでいてもよい。第1の電極395aと第2の電極395bとは対向配置され、それらの間に電気光学結晶395cが配置されていてもよい。高電圧電源393は、透過率設定部311、及び同期回路312によって制御されてもよい。
高電圧電源393は、外部回路312から、所定の電圧と0Vを繰り返すパルス信号を光シャッタ310の制御信号として受信してもよい。高電圧電源393は、このパルス信号の電圧に応じて、第1の電極395aと、第2の電極395bの電極間に高電圧を印加してもよい。ここで、光シャッタ310の制御信号として光シャッタ310を開状態にする電圧を受信した場合に、0Vではない透過率が最大となる高電圧を生成し、その電圧を第1の電極395aと第2の電極395bとの間に印加してもよい。高電圧電源393は、光シャッタ310の制御信号として光シャッタ310を閉状態にする0Vを受信した場合に、第1の電極395aと第2の電極395bとの間に印加する電圧を0Vにしてもよい。
ここで、外部回路312は、たとえば、同期回路部13、13B及びバーストパルス制御部3A等であってもよい。
当業者は、汎用コンピュータ又はプログラマブルコントローラにプログラムモジュール又はソフトウエアアプリケーションを組み合わせて、ここに述べられる主題が実行されることを理解するだろう。一般的に、プログラムモジュールは、本開示に記載されるプロセスを実行できるルーチン、プログラム、コンポーネント、データストラクチャーなどを含む。
上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
Claims (9)
- 第1の波長の第1のパルスレーザ光を出力する第1の固体レーザ装置と、
第2の波長の第2のパルスレーザ光を出力する第2の固体レーザ装置と、
前記第1のパルスレーザ光と前記第2のパルスレーザ光とが入射する波長変換システムと、
前記第1のパルスレーザ光、及び前記第2のパルスレーザ光のうちいずれか一方の光路上に配置された光シャッタと、
前記第1及び第2の固体レーザ装置からそれぞれ前記第1のパルスレーザ光と前記第2のパルスレーザ光とを連続出力させると共に、外部装置からのバースト信号がオンのときには、前記光シャッタを開ける制御を行うことにより、前記第1のパルスレーザ光と前記第2のパルスレーザ光とを前記波長変換システムに略同時に入射させることにより、前記第1の波長と前記第2の波長とから第3の波長へと波長変換された第3のパルスレーザ光を前記波長変換システムから出力させ、前記バースト信号がオフのときには、前記光シャッタを閉じる制御を行うことにより、前記第1のパルスレーザ光と前記第2のパルスレーザ光との前記波長変換システムへの入射タイミングが時間的に重ならないようにすることにより、前記波長変換システムからの前記第3のパルスレーザ光の出力を停止させる制御部と
を備える固体レーザシステム。 - 前記外部装置は露光装置である
請求項1に記載の固体レーザシステム。 - 第1の波長の第1のパルスレーザ光を出力する第1の固体レーザ装置と、
第2の波長の第2のパルスレーザ光を出力する第2の固体レーザ装置と、
前記第1のパルスレーザ光と前記第2のパルスレーザ光とが入射する波長変換システムと、
前記第1及び第2の固体レーザ装置からそれぞれ前記第1のパルスレーザ光と前記第2のパルスレーザ光とを連続出力させると共に、外部装置からのバースト信号がオンのときには、前記第1のパルスレーザ光と前記第2のパルスレーザ光とを前記波長変換システムに略同時に入射させることにより、前記第1の波長と前記第2の波長とから第3の波長へと波長変換された第3のパルスレーザ光を前記波長変換システムから出力させ、前記バースト信号がオフのときには、前記第1のパルスレーザ光のパルス幅と前記第2のパルスレーザ光のパルス幅との和以上の互いに異なるタイミングで、前記第1のパルスレーザ光と前記第2のパルスレーザ光とを前記波長変換システムに入射させることにより、前記波長変換システムからの前記第3のパルスレーザ光の出力を停止させる制御部と
を備える固体レーザシステム。 - 第1のトリガ信号に同期して、前記第1の固体レーザ装置から前記第1のパルスレーザ光を出力させる第2のトリガ信号を出力すると共に、前記第2の固体レーザ装置から前記第2のパルスレーザ光を出力させる第3のトリガ信号を出力する同期回路をさらに備え、
前記制御部は、前記バースト信号に同期して前記同期回路を制御することにより、前記バースト信号がオンのときには、前記第1のパルスレーザ光と前記第2のパルスレーザ光とを略同時のタイミングで前記波長変換システムに入射させ、前記バースト信号がオフのときには、前記第1のパルスレーザ光と前記第2のパルスレーザ光とを異なるタイミングで前記波長変換システムに入射させる
請求項3に記載の固体レーザシステム。 - 前記外部装置は露光装置である
請求項3に記載の固体レーザシステム。 - 第1の波長の第1のパルスレーザ光を出力する第1の固体レーザ装置と、
第2の波長の第2のパルスレーザ光を出力する第2の固体レーザ装置と、
前記第1のパルスレーザ光と前記第2のパルスレーザ光とが入射する波長変換システムと、
前記第1のパルスレーザ光と前記第2のパルスレーザ光との少なくとも一方の光強度を可変する光強度可変部と、
前記第1のパルスレーザ光と前記第2のパルスレーザ光とを前記波長変換システムに略同時に入射させると共に、前記光強度可変部を制御することにより、外部装置からのバースト信号がオンのときには、前記第1の波長と前記第2の波長とから第3の波長へと波長変換された第3のパルスレーザ光が前記波長変換システムから出力されるように前記第1のパルスレーザ光と前記第2のパルスレーザ光との光強度を制御し、前記バースト信号がオフのときには、前記波長変換システムからの前記第3のパルスレーザ光の出力が停止されるように前記第1のパルスレーザ光と前記第2のパルスレーザ光との少なくとも一方の光強度を制御する制御部と
を備える固体レーザシステム。 - 前記光強度可変部は光シャッタであり、
前記制御部は、前記光シャッタの透過率を制御することにより前記第1のパルスレーザ光の光強度を制御する
請求項6に記載の固体レーザシステム。 - 前記光強度可変部は光増幅器であり、
前記制御部は、前記光増幅器の増幅率を制御することにより前記第2のパルスレーザ光の光強度を制御する
請求項6に記載の固体レーザシステム。 - 前記外部装置は露光装置である
請求項6に記載の固体レーザシステム。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPPCT/JP2015/052651 | 2015-01-30 | ||
PCT/JP2015/052651 WO2016121090A1 (ja) | 2015-01-30 | 2015-01-30 | 固体レーザシステム |
PCT/JP2015/086160 WO2016121281A1 (ja) | 2015-01-30 | 2015-12-25 | 固体レーザシステム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2016121281A1 true JPWO2016121281A1 (ja) | 2017-11-09 |
Family
ID=56542741
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016571826A Pending JPWO2016121281A1 (ja) | 2015-01-30 | 2015-12-25 | 固体レーザシステム |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10256594B2 (ja) |
JP (1) | JPWO2016121281A1 (ja) |
CN (1) | CN107112708A (ja) |
WO (2) | WO2016121090A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017175344A1 (ja) * | 2016-04-07 | 2017-10-12 | ギガフォトン株式会社 | 固体レーザ装置、固体レーザシステム、及び露光装置用レーザ装置 |
CN109891688B (zh) * | 2016-12-08 | 2021-02-12 | 极光先进雷射株式会社 | 激光装置以及激光加工系统 |
CN111148596B (zh) | 2017-10-04 | 2022-09-16 | 极光先进雷射株式会社 | 激光加工方法以及激光加工系统 |
WO2019186767A1 (ja) * | 2018-03-28 | 2019-10-03 | ギガフォトン株式会社 | 波長変換システム及び加工方法 |
EP3584632B1 (en) * | 2018-06-18 | 2021-12-29 | Advalight APS | Medical laser system |
CN109950783A (zh) * | 2019-04-24 | 2019-06-28 | 安徽中科艾克西玛光电科技有限公司 | 一种准分子激光充电电源的全光隔离控制装置 |
KR20220078669A (ko) * | 2019-11-08 | 2022-06-10 | 사이머 엘엘씨 | 방사선의 펄스의 버스트를 제어하기 위한 방사선 시스템 |
Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10339891A (ja) * | 1997-06-06 | 1998-12-22 | Nikon Corp | 波長変換装置および該波長変換装置を用いた紫外レーザ装置 |
JPH11233396A (ja) * | 1998-02-13 | 1999-08-27 | Hitachi Ltd | 半導体装置の製造方法および露光装置 |
JP2001230478A (ja) * | 2000-02-15 | 2001-08-24 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 紫外レーザ発振器 |
US20030193975A1 (en) * | 2002-04-12 | 2003-10-16 | Yang Pang | Regenerative amplifier with frequency synthesizer |
JP2007139837A (ja) * | 2005-11-15 | 2007-06-07 | Ntt Electornics Corp | 光源装置 |
JP2007219323A (ja) * | 2006-02-17 | 2007-08-30 | Fujitsu Ltd | 光パルス列発生装置 |
JP2009229715A (ja) * | 2008-03-21 | 2009-10-08 | Olympus Corp | 顕微鏡 |
WO2011038782A1 (en) * | 2009-10-01 | 2011-04-07 | Telefonaktiebolaget Lm Ericsson (Publ) | Improvements in extracting optical labels |
JP2011158749A (ja) * | 2010-02-02 | 2011-08-18 | Nikon Corp | レーザ装置 |
JP2012009743A (ja) * | 2010-06-28 | 2012-01-12 | Sumitomo Electric Ind Ltd | レーザ装置 |
JP2012199425A (ja) * | 2011-03-22 | 2012-10-18 | Gigaphoton Inc | マスタオシレータ、レーザシステム、およびレーザ生成方法 |
US20130279526A1 (en) * | 2012-04-19 | 2013-10-24 | Gigaphoton Inc. | Laser apparatus |
WO2014021370A1 (ja) * | 2012-07-31 | 2014-02-06 | 株式会社ニコン | レーザ装置、該レーザ装置を備えた露光装置及び検査装置 |
JP2014032277A (ja) * | 2012-08-02 | 2014-02-20 | Nikon Corp | 紫外レーザ装置、この紫外レーザ装置を備えた露光装置及び検査装置 |
JP2014053627A (ja) * | 2009-07-21 | 2014-03-20 | Mobius Photonics Inc | 光学システム |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100454125C (zh) * | 2002-06-11 | 2009-01-21 | 古河电气工业株式会社 | 波形整形器 |
US8120778B2 (en) * | 2009-03-06 | 2012-02-21 | Imra America, Inc. | Optical scanning and imaging systems based on dual pulsed laser systems |
JP5592149B2 (ja) * | 2010-04-30 | 2014-09-17 | トッパン・フォームズ株式会社 | 分離シート |
KR101145683B1 (ko) * | 2010-10-13 | 2012-05-24 | 광주과학기술원 | 레이저 시스템에서 버스트 모드 발진 방법 및 이를 위한 장치 |
US9450368B2 (en) * | 2011-04-28 | 2016-09-20 | Gwangju Institute Of Science And Technology | Pulse laser device and burst mode using same, and method for controlling a variable burst mode |
-
2015
- 2015-01-30 WO PCT/JP2015/052651 patent/WO2016121090A1/ja active Application Filing
- 2015-12-25 WO PCT/JP2015/086160 patent/WO2016121281A1/ja active Application Filing
- 2015-12-25 CN CN201580067316.5A patent/CN107112708A/zh active Pending
- 2015-12-25 JP JP2016571826A patent/JPWO2016121281A1/ja active Pending
-
2017
- 2017-06-07 US US15/616,163 patent/US10256594B2/en active Active
Patent Citations (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10339891A (ja) * | 1997-06-06 | 1998-12-22 | Nikon Corp | 波長変換装置および該波長変換装置を用いた紫外レーザ装置 |
JPH11233396A (ja) * | 1998-02-13 | 1999-08-27 | Hitachi Ltd | 半導体装置の製造方法および露光装置 |
JP2001230478A (ja) * | 2000-02-15 | 2001-08-24 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 紫外レーザ発振器 |
US20030193975A1 (en) * | 2002-04-12 | 2003-10-16 | Yang Pang | Regenerative amplifier with frequency synthesizer |
JP2007139837A (ja) * | 2005-11-15 | 2007-06-07 | Ntt Electornics Corp | 光源装置 |
JP2007219323A (ja) * | 2006-02-17 | 2007-08-30 | Fujitsu Ltd | 光パルス列発生装置 |
JP2009229715A (ja) * | 2008-03-21 | 2009-10-08 | Olympus Corp | 顕微鏡 |
JP2014053627A (ja) * | 2009-07-21 | 2014-03-20 | Mobius Photonics Inc | 光学システム |
WO2011038782A1 (en) * | 2009-10-01 | 2011-04-07 | Telefonaktiebolaget Lm Ericsson (Publ) | Improvements in extracting optical labels |
JP2011158749A (ja) * | 2010-02-02 | 2011-08-18 | Nikon Corp | レーザ装置 |
JP2012009743A (ja) * | 2010-06-28 | 2012-01-12 | Sumitomo Electric Ind Ltd | レーザ装置 |
JP2012199425A (ja) * | 2011-03-22 | 2012-10-18 | Gigaphoton Inc | マスタオシレータ、レーザシステム、およびレーザ生成方法 |
US8634441B2 (en) * | 2011-03-22 | 2014-01-21 | Gigaphoton Inc. | Master oscillator, laser system, and laser light generation method |
US20130279526A1 (en) * | 2012-04-19 | 2013-10-24 | Gigaphoton Inc. | Laser apparatus |
WO2014021370A1 (ja) * | 2012-07-31 | 2014-02-06 | 株式会社ニコン | レーザ装置、該レーザ装置を備えた露光装置及び検査装置 |
JP2014032277A (ja) * | 2012-08-02 | 2014-02-20 | Nikon Corp | 紫外レーザ装置、この紫外レーザ装置を備えた露光装置及び検査装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20170279241A1 (en) | 2017-09-28 |
WO2016121090A1 (ja) | 2016-08-04 |
CN107112708A (zh) | 2017-08-29 |
WO2016121281A1 (ja) | 2016-08-04 |
US10256594B2 (en) | 2019-04-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2016121281A1 (ja) | 固体レーザシステム | |
JP7329577B2 (ja) | パルスレーザ光の生成方法 | |
US8514899B2 (en) | Laser system and laser light generation method | |
US10095084B2 (en) | Solid-state laser system and excimer laser system | |
US9812841B2 (en) | Lasersystem | |
US20210226411A1 (en) | Laser system and electronic device manufacturing method | |
US20170338617A1 (en) | Solid-state laser apparatus, fiber amplifier system, and solid-state laser system | |
JP2012204820A (ja) | レーザシステムおよびレーザ生成方法 | |
JP2012199425A (ja) | マスタオシレータ、レーザシステム、およびレーザ生成方法 | |
WO2017006418A1 (ja) | 増幅器、及びレーザシステム | |
US20240186760A1 (en) | Laser apparatus and electronic device manufacturing method | |
WO2023112308A1 (ja) | レーザシステム、パルスレーザ光の生成方法、及び電子デバイスの製造方法 | |
US10879663B2 (en) | Solid-state laser system and wavelength conversion system | |
JPWO2019186767A1 (ja) | 波長変換システム及び加工方法 | |
WO2017046860A1 (ja) | レーザシステム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20180906 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20180928 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20181112 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190910 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20191107 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191203 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200114 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20200313 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20200721 |