JPWO2015016087A1 - Liquid crystal display element and radiation sensitive resin composition - Google Patents

Liquid crystal display element and radiation sensitive resin composition Download PDF

Info

Publication number
JPWO2015016087A1
JPWO2015016087A1 JP2015529519A JP2015529519A JPWO2015016087A1 JP WO2015016087 A1 JPWO2015016087 A1 JP WO2015016087A1 JP 2015529519 A JP2015529519 A JP 2015529519A JP 2015529519 A JP2015529519 A JP 2015529519A JP WO2015016087 A1 JPWO2015016087 A1 JP WO2015016087A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
crystal display
display element
substrate
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2015529519A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6299762B2 (en
Inventor
耕二 西川
耕二 西川
濱田 謙一
謙一 濱田
絵里 三島
絵里 三島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JSR Corp
Original Assignee
JSR Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JSR Corp filed Critical JSR Corp
Publication of JPWO2015016087A1 publication Critical patent/JPWO2015016087A1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6299762B2 publication Critical patent/JP6299762B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343Electrodes
    • G02F1/134309Electrodes characterised by their geometrical arrangement
    • G02F1/134363Electrodes characterised by their geometrical arrangement for applying an electric field parallel to the substrate, i.e. in-plane switching [IPS]
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133377Cells with plural compartments or having plurality of liquid crystal microcells partitioned by walls, e.g. one microcell per pixel

Abstract

壁状電極を有して表示効率の向上された液晶表示素子を提供し、壁状電極の形成に用いられる感放射線性樹脂組成物を提供する。液晶表示素子(1)は、第1の基板(2)および第2の基板(3)の間に液晶(4)を挟持し、第1の基板(2)に電極(5、6)を配置して、電極(5、6)間に印加される電界により液晶(4)を駆動する。電極(5、6)は、壁状の樹脂部(9、10)と、樹脂部(9、10)の側面に設けられた導電性部材からなる導電部(11、12)とを有する壁状電極とする。壁状の樹脂部(9、10)は、[A]重合体、および[B]感光剤を含む感放射線性樹脂組成物を用いて形成する。A liquid crystal display element having a wall-like electrode and improved display efficiency is provided, and a radiation-sensitive resin composition used for forming the wall-like electrode is provided. The liquid crystal display element (1) has a liquid crystal (4) sandwiched between a first substrate (2) and a second substrate (3), and electrodes (5, 6) are arranged on the first substrate (2). The liquid crystal (4) is driven by the electric field applied between the electrodes (5, 6). The electrodes (5, 6) are wall-shaped having wall-shaped resin portions (9, 10) and conductive portions (11, 12) made of a conductive member provided on the side surfaces of the resin portions (9, 10). The electrode. The wall-shaped resin portions (9, 10) are formed using a radiation-sensitive resin composition containing [A] polymer and [B] photosensitizer.

Description

本発明は、液晶表示素子および感放射線性樹脂組成物に関する。  The present invention relates to a liquid crystal display element and a radiation sensitive resin composition.

液晶表示素子は、一対の基板に液晶を挟持して構成される。液晶表示素子では、基板間に電界を印加することで液晶に配向変化を生じさせる。そして、液晶の配向変化に対応して、光を部分的に透過し、または遮蔽する。液晶表示素子は、こうした特性を利用して画像を表示することができる。液晶表示素子は、従来のCRT方式の表示装置に比較して、薄型化や軽量化が図れるといった利点を有する。  The liquid crystal display element is configured by sandwiching liquid crystal between a pair of substrates. In a liquid crystal display element, an orientation change is caused in a liquid crystal by applying an electric field between substrates. Then, light is partially transmitted or shielded corresponding to the change in the orientation of the liquid crystal. A liquid crystal display element can display an image using such characteristics. The liquid crystal display element has an advantage that it can be made thinner and lighter than a conventional CRT display device.

開発当初の液晶表示素子は、キャラクタ表示等を中心とする電卓や時計の表示素子として利用された。その後、単純マトリクス方式の開発によって、ドットマトリクス表示が容易となったことにより、ノートパソコンの表示素子等へと用途を拡大した。  The liquid crystal display elements at the beginning of development were used as display elements for calculators and clocks centered on character displays and the like. After that, the simple matrix method was developed, and the dot matrix display became easy.

次いで、半導体装置であるTFT(Thin Film Transistor:薄膜トランジスタ)を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示素子の開発によって、コントラスト比や応答性能に優れた良好な画質を実現できるようになり、さらに、カラー化および視野角拡大等の課題も克服することによって、デスクトップコンピュータのモニター用等にも用いられるようになった。近年、より広い視野角、液晶の高速応答化および表示品位の向上等が実現され、薄型のテレビ用表示素子として利用されるに至っている。  Next, the development of an active matrix liquid crystal display element using TFT (Thin Film Transistor), which is a semiconductor device, has made it possible to achieve good image quality with excellent contrast ratio and response performance. By overcoming problems such as widening the viewing angle, it has also been used for desktop computer monitors. In recent years, a wider viewing angle, faster response of liquid crystal, improved display quality, and the like have been realized, and it has come to be used as a thin television display element.

また、一方で液晶表示素子は、高精細化に対応して、スマートフォン等の携帯情報機器の表示素子として広く利用されるようになっている。そして最近では、それらの携帯情報機器において、さらなる画質の向上が求められており、高精細化と、それに対応する開口率の向上等の表示効率の向上が強く求められるようになっている。  On the other hand, liquid crystal display elements are widely used as display elements for portable information devices such as smartphones in response to high definition. Recently, in such portable information devices, further improvement in image quality has been demanded, and improvement in display efficiency such as higher definition and corresponding aperture ratio has been strongly demanded.

液晶表示素子の表示効率向上のための技術としては、例えば、特許文献1に記載の技術が知られている。この特許文献1に記載の液晶表示装置では、画素領域の両端に対となる電極を形成し、一方の電極(ソース電極)に映像信号を供給し、他方の電極(共通電極)に基準となる共通信号を供給する。それによって、特許文献1に記載の液晶表示装置は、液晶表示パネルの主面と平行な電界(横電界と称されている。)を生じさせ、液晶を液晶表示パネルの主面と平行な面内で駆動する構成となっている。  As a technique for improving the display efficiency of the liquid crystal display element, for example, a technique described in Patent Document 1 is known. In the liquid crystal display device described in Patent Document 1, a pair of electrodes is formed at both ends of a pixel region, a video signal is supplied to one electrode (source electrode), and the other electrode (common electrode) serves as a reference. Supply a common signal. Accordingly, the liquid crystal display device described in Patent Document 1 generates an electric field (referred to as a transverse electric field) parallel to the main surface of the liquid crystal display panel, and the liquid crystal is a surface parallel to the main surface of the liquid crystal display panel. It is the structure which drives in the inside.

特に、特許文献1に記載の液晶表示装置は、ソース電極および共通電極が第1基板の主面から第2基板に向かって突出して形成されるともに、その延在方向が第1基板の主面に対して垂直となるように形成される壁状の電極形状となっている。このような壁状の電極を備えることにより、特許文献1の液晶表示装置は、第1基板に近い領域から遠い領域(第2基板に近い領域)においても、電気力線の密度が同等となるようにする。そして、液晶の駆動効率を向上させることができ、表示効率を向上させることができる。  In particular, in the liquid crystal display device described in Patent Document 1, the source electrode and the common electrode are formed so as to protrude from the main surface of the first substrate toward the second substrate, and the extending direction thereof is the main surface of the first substrate. It is a wall-like electrode shape formed so as to be perpendicular to. By providing such a wall-like electrode, the liquid crystal display device of Patent Document 1 has the same density of lines of electric force even in a region far from the region close to the first substrate (region close to the second substrate). Like that. And the drive efficiency of a liquid crystal can be improved and display efficiency can be improved.

また、特許文献2には、特許文献1と同様に、液晶を液晶表示パネルの主面と平行な面内で駆動して、表示効率を向上させる技術が記載されている。特許文献2に記載の液晶表示装置では、多数の画素のそれぞれ領域毎に段差部が形成される。その段差部は、画素の境界部に凸状に形成された絶縁膜である。そして、特許文献2に記載の液晶表示装置では、段差部の側壁面にITO(Indium Tin Oxide)等の導電材料からなる平面電極を設けて壁状の電極が形成される。すなわち、特許文献2に記載の液晶表示装置において、壁状の電極は、段差部を構成する絶縁膜と導電膜との積層構造を有して構成されている。  Patent Document 2 describes a technique for improving display efficiency by driving a liquid crystal in a plane parallel to the main surface of a liquid crystal display panel, as in Patent Document 1. In the liquid crystal display device described in Patent Document 2, a stepped portion is formed for each region of a large number of pixels. The step portion is an insulating film formed in a convex shape at the boundary portion of the pixel. In the liquid crystal display device described in Patent Document 2, a planar electrode made of a conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide) is provided on the side wall surface of the stepped portion to form a wall-shaped electrode. That is, in the liquid crystal display device described in Patent Document 2, the wall-like electrode is configured to have a stacked structure of an insulating film and a conductive film that form a stepped portion.

特開平6−214244号公報JP-A-6-214244 特開2012−220575号公報JP 2012-220575 A

以上のように、液晶表示素子の表示効率向上のためには、特許文献1に記載されたような壁状の電極(以下、単に、壁状電極とも言う。)を用いる技術が有効である。そして、液晶表示素子の生産性の向上を考慮した場合、特許文献2に記載されるように、壁状電極を、絶縁膜と導電膜とからなる積層構造とすることが好ましい。  As described above, in order to improve the display efficiency of the liquid crystal display element, a technique using a wall-like electrode (hereinafter also simply referred to as a wall-like electrode) as described in Patent Document 1 is effective. And when improvement of productivity of a liquid crystal display element is considered, as described in Patent Document 2, it is preferable that the wall-like electrode has a laminated structure including an insulating film and a conductive film.

その場合、液晶表示素子においては、液晶を挟持する基板の一方の上に、凸状にパターニングされた絶縁膜を形成し、その後、絶縁膜の側壁面にパターニングされた導電膜を設けて壁状電極を形成する方法が有効である。  In that case, in the liquid crystal display element, an insulating film patterned in a convex shape is formed on one of the substrates sandwiching the liquid crystal, and then a patterned conductive film is provided on the side wall surface of the insulating film to form a wall shape. A method of forming an electrode is effective.

そして、形成される壁状電極は、複数画素を用いた高精細表示に有効となるように、表示効率の向上を図るためのものであって、複数の画素間で均一かつ簡便に形成されることが求められる。すなわち、壁状電極は、高い均一性を有するとともに高い生産性で形成されることが求められる。そのため、壁状電極を構成する凸状の絶縁膜は、高均一にパターニングされ、高い生産性で形成されることが好ましい。  The formed wall electrode is for improving display efficiency so as to be effective for high-definition display using a plurality of pixels, and is formed uniformly and simply between the plurality of pixels. Is required. That is, the wall electrode is required to be formed with high uniformity and high productivity. Therefore, the convex insulating film constituting the wall electrode is preferably patterned with high uniformity and formed with high productivity.

したがって、凸状の絶縁膜を高均一かつ高い感度でもってパターニングし、高効率に壁状電極を形成する技術が求められている。そして、壁状電極を有して表示効率の向上された液晶表示素子を提供することが求められている。  Therefore, there is a demand for a technique for patterning a convex insulating film with high uniformity and high sensitivity to form a wall electrode with high efficiency. There is a need to provide a liquid crystal display element having wall-like electrodes and improved display efficiency.

本発明は、以上のような課題に鑑みてなされたものである。すなわち、本発明の目的は、壁状電極を有して表示効率の向上された液晶表示素子を提供することにある。  The present invention has been made in view of the above problems. That is, an object of the present invention is to provide a liquid crystal display element having a wall-like electrode and improved display efficiency.

また、本発明の目的は、液晶表示素子の壁状電極の形成に用いられる感放射線性樹脂組成物を提供することにある。  Moreover, the objective of this invention is providing the radiation sensitive resin composition used for formation of the wall-shaped electrode of a liquid crystal display element.

本発明の他の目的および利点は、以下の記載から明らかとなるであろう。  Other objects and advantages of the present invention will become apparent from the following description.

本発明の第1の態様は、対向配置された第1の基板および第2の基板の間に液晶を挟持し、
第1の基板の第2の基板と対向する面に一対の電極を配置して、
一対の電極間に印加される電界により液晶を駆動する液晶表示素子であって、
一対の電極の少なくとも一方が、第1の基板の面から第2の基板側に向けて突設された壁状の樹脂部と、その樹脂部の側面の少なくとも一部を含む領域に設けられた導電性部材からなる導電部とを有する壁状電極であり、
壁状の樹脂部が、
[A]重合体、および
[B]感光剤
を含む感放射線性樹脂組成物を用いて形成されることを特徴とする液晶表示素子に関する。
According to a first aspect of the present invention, a liquid crystal is sandwiched between a first substrate and a second substrate which are arranged to face each other.
A pair of electrodes are arranged on the surface of the first substrate facing the second substrate,
A liquid crystal display element that drives liquid crystal by an electric field applied between a pair of electrodes,
At least one of the pair of electrodes is provided in a region including a wall-shaped resin portion projecting from the surface of the first substrate toward the second substrate side and at least a part of the side surface of the resin portion. A wall-like electrode having a conductive portion made of a conductive member,
The wall-shaped resin part
The present invention relates to a liquid crystal display element formed by using a radiation sensitive resin composition containing [A] a polymer and [B] a photosensitizer.

本発明の第1の態様において、一対の電極間に印加される電界は、第1の基板の第2の基板に対向する面と平行な成分を有することが好ましい。  In the first aspect of the present invention, the electric field applied between the pair of electrodes preferably has a component parallel to a surface of the first substrate facing the second substrate.

本発明の第1の態様において、一対の電極はいずれも壁状電極であり、
その一対の壁状電極の導電部はそれぞれ、互いに対向する部分を有するように構成されることが好ましい。
In the first aspect of the present invention, each of the pair of electrodes is a wall electrode,
The conductive portions of the pair of wall electrodes are preferably configured to have portions facing each other.

本発明の第1の態様において、[B]感光剤が光ラジカル重合開始剤および光酸発生剤のうちから選ばれる少なくとも一方を含むことが好ましい。  In the first aspect of the present invention, it is preferable that [B] the photosensitizer contains at least one selected from a photoradical polymerization initiator and a photoacid generator.

本発明の第1の態様において、壁状の樹脂部は断面形状が順テーパー形状であることが好ましい。  In the first aspect of the present invention, the wall-shaped resin portion preferably has a forward tapered shape in cross section.

本発明の第1の態様において、光配向剤を用いて形成された配向膜を有することが好ましい。  In the first aspect of the present invention, it is preferable to have an alignment film formed using a photoalignment agent.

本発明の第2の態様は、
[A]重合体、
[B−1]光ラジカル重合開始剤、および
[C]重合性化合物
を含む感放射線性樹脂組成物であって、本発明の第1の態様の液晶表示素子の壁状電極の壁状の樹脂部の形成に用いられることを特徴とする感放射線性樹脂組成物に関する。
The second aspect of the present invention is:
[A] polymer,
[B-1] Radiation sensitive resin composition containing a radical photopolymerization initiator and [C] a polymerizable compound, the wall-shaped resin of the wall-shaped electrode of the liquid crystal display element of the first aspect of the present invention It is related with the radiation sensitive resin composition characterized by being used for formation of a part.

本発明の第3の態様は、
[A]重合体、および
[B−2]光酸発生剤
を含む感放射線性樹脂組成物であって、本発明の第1の態様の液晶表示素子の壁状電極の壁状の樹脂部の形成に用いられることを特徴とする感放射線性樹脂組成物に関する。
The third aspect of the present invention is:
A radiation-sensitive resin composition comprising [A] a polymer and [B-2] a photoacid generator, wherein the wall-shaped resin portion of the wall-shaped electrode of the liquid crystal display element of the first aspect of the present invention It is related with the radiation sensitive resin composition characterized by being used for formation.

本発明の第1の態様によれば、壁状電極を有して表示効率の向上された液晶表示素子が得られる。  According to the first aspect of the present invention, a liquid crystal display element having a wall-like electrode and improved display efficiency can be obtained.

本発明の第2の態様によれば、液晶表示素子の壁状電極の形成に用いられる感放射線性樹脂組成物が得られる。  According to the 2nd aspect of this invention, the radiation sensitive resin composition used for formation of the wall-shaped electrode of a liquid crystal display element is obtained.

本発明の第3の態様によれば、液晶表示素子の壁状電極の形成に用いられる感放射線性樹脂組成物が得られる。  According to the 3rd aspect of this invention, the radiation sensitive resin composition used for formation of the wall-shaped electrode of a liquid crystal display element is obtained.

本発明の実施形態の液晶表示素子の第1例における画素構造を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the pixel structure in the 1st example of the liquid crystal display element of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の液晶表示素子の第1例における画素構造を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the pixel structure in the 1st example of the liquid crystal display element of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の液晶表示素子の第1例における電界印加時の画素構造を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the pixel structure at the time of the electric field application in the 1st example of the liquid crystal display element of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の液晶表示素子の第1例における電界印加時の画素構造を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the pixel structure at the time of the electric field application in the 1st example of the liquid crystal display element of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の液晶表示素子の壁状電極の別の例を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically another example of the wall-shaped electrode of the liquid crystal display element of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の液晶表示素子の第2例における画素構造を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the pixel structure in the 2nd example of the liquid crystal display element of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の液晶表示素子の第3例における画素構造を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the pixel structure in the 3rd example of the liquid crystal display element of embodiment of this invention.

以下では、本発明の実施形態について図面を用いて説明する。  Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

尚、本発明において、露光に際して照射される「放射線」には、可視光線、紫外線、遠紫外線、X線および荷電粒子線等が含まれる。  In the present invention, “radiation” irradiated upon exposure includes visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, X-rays, charged particle beams, and the like.

<液晶表示素子>
図1は、本発明の実施形態の液晶表示素子の第1例における画素構造を模式的に示す断面図である。
<Liquid crystal display element>
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a pixel structure in a first example of a liquid crystal display element of an embodiment of the present invention.

本発明の実施形態の第1例である液晶表示素子1は、対向配置された第1の基板2および第2の基板3の間に液晶4を挟持し、第1の基板2において、第2の基板3と対向する面に一対の電極5、6を配置して、その一対の電極5、6間に印加される電界により液晶4を駆動する液晶表示素子である。  A liquid crystal display element 1 which is a first example of an embodiment of the present invention sandwiches a liquid crystal 4 between a first substrate 2 and a second substrate 3 which are arranged to face each other. This is a liquid crystal display element in which a pair of electrodes 5 and 6 are disposed on the surface facing the substrate 3 and the liquid crystal 4 is driven by an electric field applied between the pair of electrodes 5 and 6.

第1の基板2と第2の基板3の間隔は、通常、2μm以上20μm以下、すなわち、2μm〜20μmであり、これらは、周辺部に設けられたシール材(図示されない)によって互いに固定されている。  The distance between the first substrate 2 and the second substrate 3 is usually 2 μm or more and 20 μm or less, that is, 2 μm to 20 μm, and these are fixed to each other by a sealing material (not shown) provided in the periphery. Yes.

第1の基板2および第2の基板3を構成する材料としては、例えば、ソーダライムガラスや無アルカリガラス等のガラス、シリコン、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド等が挙げられる。また、これらの基板には、所望によりシランカップリング剤等による薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着等の適宜の前処理を施しておくこともできる。  Examples of the material constituting the first substrate 2 and the second substrate 3 include glass such as soda lime glass and non-alkali glass, silicon, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethersulfone, polycarbonate, aromatic polyamide, Examples thereof include polyamideimide and polyimide. In addition, these substrates may be subjected to appropriate pretreatment such as chemical treatment with a silane coupling agent or the like, plasma treatment, ion plating, sputtering, gas phase reaction method, vacuum deposition, etc., if desired.

第1の基板2および第2の基板3それぞれの対向する面には、配向膜(図示されない)を設けることが好ましい。例えば、配向膜は、第1の基板2および第2の基板3の液晶4と接する面、並びに、後述する電極5、6の液晶4と接する面に設けることができる。そして、配向膜は、例えば、ポリイミド等の高分子材料を用いて形成することができる。また、配向膜は、必要な場合に、例えば、ラビング処理や光配向処理等の配向処理が施され、第1の基板2および第2の基板3の間に挟持された液晶4の均一な配向を実現することができる。  An alignment film (not shown) is preferably provided on the opposing surfaces of the first substrate 2 and the second substrate 3. For example, the alignment film can be provided on the surfaces of the first substrate 2 and the second substrate 3 that are in contact with the liquid crystal 4 and the surfaces of the electrodes 5 and 6 that will be described later that are in contact with the liquid crystal 4. The alignment film can be formed using a polymer material such as polyimide, for example. In addition, the alignment film is subjected to alignment treatment such as rubbing treatment or photo-alignment treatment, if necessary, so that the liquid crystal 4 sandwiched between the first substrate 2 and the second substrate 3 is uniformly aligned. Can be realized.

液晶表示素子1の一対の電極5、6はいずれも、第1の基板2の面から第2の基板3側に向けて突設された壁状の樹脂部9、10と、樹脂部9、10の側面に設けられた導電性部材からなる膜状の導電部11、12とを有する壁状電極である。導電部11、12はそれぞれ、樹脂部9、10の互いに対向する側面の少なくとも一部を含む領域に設けられる。すなわち、壁状電極をなす電極5、6の導電部11、12はそれぞれ、液晶4を挟んで、互いに対向する部分を有するように構成される。  Each of the pair of electrodes 5 and 6 of the liquid crystal display element 1 includes wall-shaped resin portions 9 and 10 protruding from the surface of the first substrate 2 toward the second substrate 3 side, 10 is a wall-like electrode having film-like conductive portions 11 and 12 made of a conductive member provided on the side surface of the plate. The conductive portions 11 and 12 are provided in regions including at least a part of the side surfaces of the resin portions 9 and 10 facing each other. That is, the conductive portions 11 and 12 of the electrodes 5 and 6 forming the wall electrode are configured to have portions facing each other with the liquid crystal 4 interposed therebetween.

そして、壁状電極をなす電極5、6の導電部11、12はそれぞれ、例えば、図1に示すように、樹脂部9、10の互いに対向する側面の全面に設けることも可能である。また、電極5、6の導電部はそれぞれ、樹脂部9、10の互いに対向する側面の一部のみに設けることも可能である。  The conductive portions 11 and 12 of the electrodes 5 and 6 forming the wall-like electrodes can be provided on the entire surfaces of the side surfaces of the resin portions 9 and 10 facing each other, as shown in FIG. The conductive portions of the electrodes 5 and 6 may be provided only on part of the side surfaces of the resin portions 9 and 10 that face each other.

電極5、6の導電部11、12は、それぞれ同様に、導電性部材を用いて形成される。導電部11、12を構成する導電性部材としては、ITO(Indium Tin Oxide)、酸化亜鉛系のAZO(Aluminum doped Zinc Oxide)やGZO(Gallium doped Zinc Oxide)等の透明導電性材料を挙げることができる。  Similarly, the conductive portions 11 and 12 of the electrodes 5 and 6 are each formed using a conductive member. Examples of the conductive members constituting the conductive portions 11 and 12 include transparent conductive materials such as ITO (Indium Tin Oxide), zinc oxide-based AZO (Aluminum doped Zinc Oxide), and GZO (Gallium doped Zinc Oxide). it can.

電極5、6の壁状の樹脂部9、10は、それぞれ同様に、絶縁性の樹脂からなる。そして、電極5、6は、壁状の樹脂部9、10の構造に従い、第1の基板2の面から第2の基板3に向かって突出して形成されるともに、その延在方向が第1の基板の主面に対して垂直となるように形成される壁状の電極形状となっている。  Similarly, the wall-shaped resin portions 9 and 10 of the electrodes 5 and 6 are made of insulating resin. The electrodes 5 and 6 are formed so as to protrude from the surface of the first substrate 2 toward the second substrate 3 according to the structure of the wall-shaped resin portions 9 and 10, and the extending direction thereof is the first. A wall-like electrode is formed so as to be perpendicular to the main surface of the substrate.

したがって、電極5、6それぞれの導電部11、12を用いて、一対の電極5、6間に印加される電界は、第1の基板2の第2の基板3に対向する面と平行な成分を有する。液晶表示素子1は、この一対の電極5、6間に印加される電界により、液晶4を初期の配向状態から駆動して、第1の基板2の第2の基板3に対向する面内で配向変化させる。  Therefore, the electric field applied between the pair of electrodes 5 and 6 using the conductive portions 11 and 12 of the electrodes 5 and 6 is a component parallel to the surface of the first substrate 2 facing the second substrate 3. Have In the liquid crystal display element 1, the liquid crystal 4 is driven from the initial alignment state by an electric field applied between the pair of electrodes 5 and 6, and the first substrate 2 is in a plane facing the second substrate 3. Change orientation.

そして、このような壁状の電極5、6を備えることにより、液晶表示素子1は、第1の基板2に近い領域から遠い領域(第2の基板3に近い領域)においても、電気力線の密度が同様となるようにして、液晶4の駆動効率を向上させることができ、表示効率を向上させることができる。  By providing such wall-shaped electrodes 5 and 6, the liquid crystal display element 1 can generate electric lines of force even in a region far from the region close to the first substrate 2 (region close to the second substrate 3). Thus, the driving efficiency of the liquid crystal 4 can be improved and the display efficiency can be improved.

以下、図2〜図4を用いて液晶表示素子1における液晶4の駆動をより詳細に説明する。  Hereinafter, the driving of the liquid crystal 4 in the liquid crystal display element 1 will be described in more detail with reference to FIGS.

図2は、本発明の実施形態の液晶表示素子の第1例における画素構造を模式的に示す平面図である。  FIG. 2 is a plan view schematically showing a pixel structure in the first example of the liquid crystal display element of the embodiment of the present invention.

図2に示すように、本発明の実施形態の液晶表示素子の第1例である液晶表示素子1は、上述した配向膜(図示されない)の作用により、液晶4を構成する、棒状に図示された液晶分子7が均一に配向する。すなわち、液晶4は、電極5、6間に電圧が印加されない電圧無印加時の初期配向状態において、図2に示す電極5、6の長手方向に対し、棒状に図示された液晶分子7が若干の角度を形成するように、均一に配向されている。より具体的には、電極5、6間に電圧を印加したときに電極5、6間に形成される、上述した電界の形成方向(図2中、電界方向として矢印で示す。後述する図3および図4においても同様とする。)と、液晶分子7の長軸(光学軸)方向のなす角が、45度以上90度未満となるように液晶4は均一に配向されている。  As shown in FIG. 2, the liquid crystal display element 1 which is the first example of the liquid crystal display element of the embodiment of the present invention is illustrated in a rod shape that constitutes the liquid crystal 4 by the action of the alignment film (not shown) described above. The liquid crystal molecules 7 are uniformly aligned. That is, in the liquid crystal 4, in the initial alignment state when no voltage is applied between the electrodes 5 and 6, the liquid crystal molecules 7 illustrated in a rod shape with respect to the longitudinal direction of the electrodes 5 and 6 shown in FIG. Are uniformly oriented to form an angle of More specifically, the above-described electric field formation direction formed between the electrodes 5 and 6 when a voltage is applied between the electrodes 5 and 6 (in FIG. 2, the electric field direction is indicated by an arrow. The same applies to FIG. 4), and the liquid crystal 4 is uniformly aligned so that the angle formed by the major axis (optical axis) direction of the liquid crystal molecules 7 is 45 degrees or more and less than 90 degrees.

図3は、本発明の実施形態の液晶表示素子の第1例における電界印加時の画素構造を模式的に示す断面図である。  FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a pixel structure when an electric field is applied in the first example of the liquid crystal display element of the embodiment of the present invention.

図4は、本発明の実施形態の液晶表示素子の第1例における電界印加時の画素構造を模式的に示す平面図である。  FIG. 4 is a plan view schematically showing a pixel structure when an electric field is applied in the first example of the liquid crystal display element of the embodiment of the present invention.

そして、液晶表示素子1において、電極5、6間に電界が印加されると、図3および図4に示されるように、液晶4が駆動される。液晶表示素子1において液晶4は、例えば、正の誘電異方性を有する。したがって、液晶表示素子1の液晶4を構成する液晶分子7は、その長軸方向が、電極5、6間の電界方向と平行となるように配向変化する。  In the liquid crystal display element 1, when an electric field is applied between the electrodes 5 and 6, the liquid crystal 4 is driven as shown in FIGS. 3 and 4. In the liquid crystal display element 1, the liquid crystal 4 has, for example, positive dielectric anisotropy. Therefore, the orientation of the liquid crystal molecules 7 constituting the liquid crystal 4 of the liquid crystal display element 1 changes so that the major axis direction thereof is parallel to the electric field direction between the electrodes 5 and 6.

このとき、上述したように、電極5、6それぞれの導電部11、12を用いて、一対の電極5、6間に印加される電界は、上述したように、第1の基板2の第2の基板3に対向する面と平行な成分を有する。したがって、液晶表示素子1において、液晶4の液晶分子7は、第1の基板2の第2の基板3に対向する面内で、配向する角度を変える配向変化をすることになる。  At this time, as described above, the electric field applied between the pair of electrodes 5 and 6 using the conductive portions 11 and 12 of the electrodes 5 and 6 is, as described above, the second electric field of the first substrate 2. It has a component parallel to the surface facing the substrate 3. Accordingly, in the liquid crystal display element 1, the liquid crystal molecules 7 of the liquid crystal 4 undergo an orientation change that changes the orientation angle within the plane of the first substrate 2 facing the second substrate 3.

以上で説明した液晶4の駆動が可能な本実施形態の液晶表示素子1は、第1の基板2および第2の基板3のそれぞれにおいて、液晶4に接する側と反対の側の面に、偏光板(図示されない)を配置して設けることができる。  The liquid crystal display element 1 of the present embodiment capable of driving the liquid crystal 4 described above is polarized on the surface opposite to the side in contact with the liquid crystal 4 in each of the first substrate 2 and the second substrate 3. A plate (not shown) can be provided.

この一対の偏光板は、液晶4を挟持する第1の基板2および第2の基板3をさらに挟持する。そのため、液晶表示素子1は、この一対の偏光板の偏光透過軸を所定角度に配置することで、電界印加によって液晶4の液晶分子7を配向変化させ、光透過率を変化させることができる。  The pair of polarizing plates further sandwich the first substrate 2 and the second substrate 3 that sandwich the liquid crystal 4. Therefore, the liquid crystal display element 1 can change the light transmittance by changing the orientation of the liquid crystal molecules 7 of the liquid crystal 4 by applying an electric field by arranging the polarization transmission axes of the pair of polarizing plates at a predetermined angle.

すなわち、本実施形態の液晶表示素子1は、所謂、複屈折モードの液晶表示素子を構成することができる。液晶表示素子1は、電界印加により、液晶4の液晶分子7の長軸(光軸)方向を基板面にほぼ平行なまま、面内でその方位を変え、所定角度に設定された偏光板の軸とのなす角を変えて光透過率を変化させる。そして、液晶表示素子1は、この電界印加による光透過率の変化を画像の表示に利用する。  That is, the liquid crystal display element 1 of the present embodiment can constitute a so-called birefringence mode liquid crystal display element. The liquid crystal display element 1 is a polarizing plate whose orientation is changed within the plane by applying an electric field while the major axis (optical axis) direction of the liquid crystal molecules 7 of the liquid crystal 4 is substantially parallel to the substrate surface. The light transmittance is changed by changing the angle formed with the axis. The liquid crystal display element 1 uses the change in light transmittance due to the application of the electric field for displaying an image.

上述したように、本実施形態の液晶表示素子1は、電界の印加される一対の電極5、6が、いずれも第1の基板2の面から第2の基板3に向けて突設された壁状電極である。液晶表示素子1は、液晶4を挟持する第1の基板2および第2の基板3の互いに対向する基板面と平行な電界を効率良く形成することができる。その結果、本実施形態の液晶表示素子1は、高い表示効率を実現することができる。  As described above, in the liquid crystal display element 1 of the present embodiment, the pair of electrodes 5 and 6 to which an electric field is applied are provided so as to protrude from the surface of the first substrate 2 toward the second substrate 3. It is a wall electrode. The liquid crystal display element 1 can efficiently form an electric field parallel to the mutually opposing substrate surfaces of the first substrate 2 and the second substrate 3 that sandwich the liquid crystal 4. As a result, the liquid crystal display element 1 of the present embodiment can achieve high display efficiency.

尚、図1〜図4の本発明の実施形態の液晶表示素子の第1例である液晶表示素子1では、1つの画素部分のみが示され、その1つの画素に対して、一対の電極5、6が配置される構造が示されている。しかしながら、本発明の実施形態の第1例である液晶表示素子1では、そうした構造のみに限られるわけではない。液晶表示素子1は、複数の画素を有し、それぞれの画素に壁状の電極を配置することができる。また、本発明の実施形態の第1例である液晶表示素子1は、電極5、6と異なる配置の壁状の電極を有することができる。  In the liquid crystal display element 1 which is the first example of the liquid crystal display element of the embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 to 4, only one pixel portion is shown, and a pair of electrodes 5 is provided for the one pixel. , 6 are shown. However, the liquid crystal display element 1 which is the first example of the embodiment of the present invention is not limited to such a structure. The liquid crystal display element 1 has a plurality of pixels, and a wall-like electrode can be arranged in each pixel. Moreover, the liquid crystal display element 1 which is the 1st example of embodiment of this invention can have a wall-shaped electrode of arrangement different from the electrodes 5 and 6.

図5は、本発明の実施形態の液晶表示素子の壁状電極の別の例を模式的に示す平面図である。  FIG. 5 is a plan view schematically showing another example of the wall electrode of the liquid crystal display element of the embodiment of the present invention.

図5は、平面図により、液晶表示素子1(図示されない)の1つの画素部分に配置される電極15、16の構造を模式的に示している。図5に示す例では、隣接して互いに対向する一対の電極15および電極16の間の領域が副画素を構成し、その複数の副画素から1つの画素が構成される。このとき、電極15および電極16は、いずれも壁状電極とすることができる。その場合、電極15、16は、一方の基板面から他方の基板側に向けて突設された壁状の樹脂部と、その樹脂部の両方の側面に配置された導電部とを有して構成されることが好ましい。  FIG. 5 schematically shows the structure of the electrodes 15 and 16 arranged in one pixel portion of the liquid crystal display element 1 (not shown) by a plan view. In the example shown in FIG. 5, a region between a pair of electrodes 15 and 16 adjacent to each other and adjacent to each other constitutes a subpixel, and a plurality of subpixels constitute one pixel. At this time, both the electrode 15 and the electrode 16 can be wall electrodes. In that case, the electrodes 15 and 16 have a wall-shaped resin portion projecting from one substrate surface toward the other substrate side, and conductive portions arranged on both side surfaces of the resin portion. Preferably, it is configured.

すなわち、本実施形態の液晶表示素子の壁状電極の別の例においては、図5に示すように、配線17に壁状電極である電極15を複数接続して櫛型に配置するとともに、別の配線18に壁状電極である電極16を複数接続して同様の櫛型に配置する。そして、2つの櫛型配置の櫛歯部分が互いに咬み合うように配置され、電極15と電極16とが交互に並ぶように配列される。すなわち、櫛型配置する複数の電極15のそれぞれが、櫛型配置する複数の電極16の1つと対向するように配列されて、画素内の電極群を構成することができる。画素内の壁状電極がこうした構造を有することにより、本実施形態の液晶表示素子は、画素のサイズと独立に、電界の印加される一対の電極間の距離を制御することができる。その結果、本実施形態の液晶表示素子は、液晶への電界印加が容易となって高効率な液晶の駆動が可能となる。  That is, in another example of the wall electrode of the liquid crystal display element of this embodiment, as shown in FIG. 5, a plurality of electrodes 15 that are wall electrodes are connected to the wiring 17 and arranged in a comb shape. A plurality of electrodes 16 as wall electrodes are connected to the wiring 18 and arranged in a similar comb shape. And the comb-tooth part of two comb-shaped arrangement | positioning is arrange | positioned so that it may mutually bite, and the electrode 15 and the electrode 16 are arranged so that it may line up alternately. In other words, each of the plurality of electrodes 15 arranged in a comb shape is arranged so as to face one of the plurality of electrodes 16 arranged in a comb shape, thereby forming an electrode group in the pixel. Since the wall-like electrode in the pixel has such a structure, the liquid crystal display element of this embodiment can control the distance between a pair of electrodes to which an electric field is applied independently of the size of the pixel. As a result, the liquid crystal display element of this embodiment can easily apply an electric field to the liquid crystal and can drive the liquid crystal with high efficiency.

また、図1〜図4の本発明の実施形態の液晶表示素子の第1例である液晶表示素子1においては、電界の印加される一対の電極5、6のいずれもが、第1の基板2の面から第2の基板3に向けて突設された壁状電極であるが、電極5、6のうちの一方を第1の基板2の基板面上に形成された線状電極とすることができる。  Moreover, in the liquid crystal display element 1 which is the 1st example of the liquid crystal display element of embodiment of this invention of FIGS. 1-4, all of a pair of electrodes 5 and 6 to which an electric field is applied are 1st board | substrates. 2 is a wall-like electrode projecting from the surface 2 toward the second substrate 3, and one of the electrodes 5, 6 is a linear electrode formed on the substrate surface of the first substrate 2. be able to.

図6は、本発明の実施形態の液晶表示素子の第2例における画素構造を模式的に示す断面図である。  FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing a pixel structure in a second example of the liquid crystal display element of the embodiment of the present invention.

図6の本発明の実施形態の第2例である液晶表示素子101は、一対の電極5、106のうちの電極106の構造が異なる以外、図1〜図4の液晶表示素子1と同様の構造を有する。したがって、共通する構成要素については、同一の符号を付し、重複する説明は省略する。  6 is the same as the liquid crystal display element 1 of FIGS. 1 to 4 except that the structure of the electrode 106 of the pair of electrodes 5 and 106 is different. It has a structure. Therefore, the same components are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.

図6に示す、本発明の実施形態の第2例である液晶表示素子101は、上述した液晶表示素子1と同様、一対の電極5、106を有する。そして、液晶表示素子101の一対の電極5、106のうち、電極5は、第1の基板2の面から第2の基板3側に向けて突設された壁状の樹脂部9と、樹脂部9の側面に設けられた膜状の導電性部材からなる導電部11とを有する。  A liquid crystal display element 101, which is a second example of the embodiment of the present invention shown in FIG. 6, has a pair of electrodes 5 and 106 like the liquid crystal display element 1 described above. Of the pair of electrodes 5 and 106 of the liquid crystal display element 101, the electrode 5 includes a wall-shaped resin portion 9 projecting from the surface of the first substrate 2 toward the second substrate 3, and a resin. And a conductive portion 11 made of a film-like conductive member provided on the side surface of the portion 9.

一方、液晶表示素子101において、電極106は、第1の基板2の面上に設けられた膜状の線状電極である。電極106を構成できる導電性部材としては、ITO、酸化亜鉛系のAZOやGZO等の透明導電性材料を挙げることができる。  On the other hand, in the liquid crystal display element 101, the electrode 106 is a film-like linear electrode provided on the surface of the first substrate 2. Examples of the conductive member that can constitute the electrode 106 include transparent conductive materials such as ITO and zinc oxide-based AZO and GZO.

そして、液晶表示素子101において、電極5、106間に電界が印加されると、液晶4の液晶分子7は配向変化する。このとき、一対の電極5、106間に印加される電界は、第1の基板2の第2の基板3に対向する面と平行な成分を有する。したがって、液晶表示素子101において、液晶4の液晶分子7は、第1の基板2の第2の基板3に対向する面内で、配向する角度を変える配向変化をすることになる。  In the liquid crystal display element 101, when an electric field is applied between the electrodes 5 and 106, the orientation of the liquid crystal molecules 7 of the liquid crystal 4 changes. At this time, the electric field applied between the pair of electrodes 5 and 106 has a component parallel to the surface of the first substrate 2 facing the second substrate 3. Therefore, in the liquid crystal display element 101, the liquid crystal molecules 7 of the liquid crystal 4 undergo an orientation change that changes the orientation angle within the plane of the first substrate 2 facing the second substrate 3.

本実施形態の液晶表示素子101は、液晶表示素子1と同様に、第1の基板2および第2の基板3のそれぞれにおいて、液晶4に接する側と反対の側に、偏光板(図示されない)を配置して設けることができる。  As with the liquid crystal display element 1, the liquid crystal display element 101 of the present embodiment has a polarizing plate (not shown) on the side opposite to the side in contact with the liquid crystal 4 in each of the first substrate 2 and the second substrate 3. Can be provided.

したがって、本実施形態の液晶表示素子101は、上述した液晶表示素子1と同様に、複屈折モードの液晶表示素子を構成する。液晶表示素子101は、電界印加により、液晶4の液晶分子7の長軸(光軸)方向を基板面にほぼ平行なまま面内でその方位を変え、所定角度に設定された偏光板の軸とのなす角を変えて光透過率を変える。そして、液晶表示素子101は、この電界印加による光透過率の変化を画像の表示に利用することができる。  Accordingly, the liquid crystal display element 101 of the present embodiment constitutes a birefringence mode liquid crystal display element as in the liquid crystal display element 1 described above. By applying an electric field, the liquid crystal display element 101 changes the orientation in the plane while the major axis (optical axis) direction of the liquid crystal molecules 7 of the liquid crystal 4 is substantially parallel to the substrate surface, and the axis of the polarizing plate set at a predetermined angle. The light transmittance is changed by changing the angle formed by. The liquid crystal display element 101 can use the change in light transmittance due to the application of the electric field for image display.

尚、本発明の実施形態の第2例である液晶表示素子101においては、1つの画素に対し、壁状電極をなす電極5をその画素の端部に配置し、線状電極をなす電極106をその画素の内部に配置することも可能である。その場合、壁状の電極である電極5を2つ以上用いて画素の端部に配置し、少なくとも1つの電極106を用いて画素の内部に配置することが好ましい。そのような電極の配置構造とすることにより、電極5のそれぞれと画素内部の電極106との間に電界を印加できて、画素内で効率のよい電界の形成が可能となる。  In the liquid crystal display element 101 as the second example of the embodiment of the present invention, the electrode 5 that forms a wall electrode is arranged at the end of the pixel for one pixel, and the electrode 106 that forms a linear electrode. Can also be placed inside the pixel. In that case, it is preferable to arrange two or more wall-like electrodes 5 at the end of the pixel and to arrange at least one electrode 106 inside the pixel. With such an electrode arrangement structure, an electric field can be applied between each of the electrodes 5 and the electrode 106 in the pixel, and an efficient electric field can be formed in the pixel.

また、本発明の実施形態の液晶表示素子は、アクティブマトリクス方式の液晶表示素子を構成することができる。その場合、例えば、本発明の実施形態の液晶表示素子の第1例である液晶表示素子1において、第1の基板2上には、走査線(図示されない)と信号線(図示されない)とがマトリクス状に配線され、その走査線と信号線の各交点にはTFT等のアクティブ素子(図示されない)を介して各画素が接続される。  Further, the liquid crystal display element of the embodiment of the present invention can constitute an active matrix type liquid crystal display element. In that case, for example, in the liquid crystal display element 1 which is the first example of the liquid crystal display element of the embodiment of the present invention, scanning lines (not shown) and signal lines (not shown) are provided on the first substrate 2. Each pixel is connected to each intersection of the scanning line and the signal line via an active element (not shown) such as a TFT.

走査線と信号線とはそれぞれ走査駆動回路(図示されない)、信号駆動回路(図示されない)に接続され、各走査線または信号線に任意の電圧を印加できる。そして、アクティブ素子がTFTである場合、TFTのドレイン電極(図示されない)が信号線に接続し、TFTのソース電極(図示されない)が、例えば、電極6に電気的に接続する。  The scanning line and the signal line are connected to a scanning driving circuit (not shown) and a signal driving circuit (not shown), respectively, and an arbitrary voltage can be applied to each scanning line or signal line. When the active element is a TFT, the drain electrode (not shown) of the TFT is connected to the signal line, and the source electrode (not shown) of the TFT is electrically connected to the electrode 6, for example.

さらに、第1の基板2上には、信号線と平行にコモン線(図示されない)が配設され、全ての画素に接続されて、全画素にコモン電圧発生回路(図示されない)からコモン電圧を印加できるようにされる。具体的には、コモン線に電極5が接続し、各画素にコモン電圧が印加されるように構成される。  Further, a common line (not shown) is disposed on the first substrate 2 in parallel with the signal line, connected to all pixels, and a common voltage is applied to all pixels from a common voltage generation circuit (not shown). It can be applied. Specifically, the electrode 5 is connected to the common line, and a common voltage is applied to each pixel.

第1の基板2と第2の基板3との間には液晶4が封入されており、液晶表示素子1はアクティブマトリクス方式の液晶表示素子を構成することができる。  Liquid crystal 4 is sealed between the first substrate 2 and the second substrate 3, and the liquid crystal display element 1 can constitute an active matrix type liquid crystal display element.

また、本発明の実施形態の液晶表示素子において、壁状の電極の上端部分が、対向する基板と接するように構成することは必須ではない。例えば、図1に示す液晶表示素子1において、電極5、6の上端部分が、対向する第2の基板3の面に接するように構成されているが、そのような構造は必須ではない。電極5、6は、第1の基板2の面から第2の基板3側に向けて突設された壁状電極であれば、それらの上端部分が第2の基板3に接しなくてもよい。  In the liquid crystal display element according to the embodiment of the present invention, it is not essential that the upper end portion of the wall-shaped electrode is in contact with the opposing substrate. For example, in the liquid crystal display element 1 shown in FIG. 1, the upper end portions of the electrodes 5 and 6 are configured to be in contact with the surface of the opposing second substrate 3, but such a structure is not essential. If the electrodes 5 and 6 are wall-like electrodes protruding from the surface of the first substrate 2 toward the second substrate 3, their upper end portions do not have to be in contact with the second substrate 3. .

したがって、例えば、液晶表示素子1において、電極5および電極6の少なくとも一方を、上端部分がそれと対向する第2の基板3の面と接しない構造とすることも可能である。すなわち、液晶表示素子1では、電極5および電極6の少なくとも一方において、それらの上端部分と、それに対向する第2の基板3との間に隙間を設けて構成することも可能である。  Therefore, for example, in the liquid crystal display element 1, at least one of the electrode 5 and the electrode 6 may have a structure in which the upper end portion does not contact the surface of the second substrate 3 facing it. That is, in the liquid crystal display element 1, at least one of the electrode 5 and the electrode 6 can be configured by providing a gap between the upper end portion thereof and the second substrate 3 facing the upper end portion.

図7は、本発明の実施形態の液晶表示素子の第3例における画素構造を模式的に示す断面図である。  FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing a pixel structure in a third example of the liquid crystal display element of the embodiment of the present invention.

図7の本発明の実施形態の液晶表示素子の第3例である液晶表示素子201は、電界の印加される一対の電極5、206のうちの電極206の構造が異なる以外、図1〜図4の液晶表示素子1と同様の構造を有する。したがって、液晶表示素子1と共通する構成要素については、同一の符号を付し、重複する説明は省略する。  A liquid crystal display element 201, which is a third example of the liquid crystal display element of the embodiment of the present invention shown in FIG. 7, is different from that shown in FIGS. 4 has the same structure as the liquid crystal display element 1. Therefore, the same components as those of the liquid crystal display element 1 are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.

図7に示す液晶表示素子201では、電極5と対向する電極206において、その上端部分が、第2の基板3と接しない構造とされている。液晶表示素子201の電極206は、第1の基板2の面から第2の基板3側に向けて突設された壁状の樹脂部210と、樹脂部210の側面に設けられた導電性部材からなる膜状の導電部212とを有する壁状電極である。そして、電極206の上端部分と、それに対向する第2の基板3との間には、隙間が設けられて構成されている。  In the liquid crystal display element 201 shown in FIG. 7, the upper end portion of the electrode 206 facing the electrode 5 is not in contact with the second substrate 3. The electrode 206 of the liquid crystal display element 201 includes a wall-shaped resin portion 210 protruding from the surface of the first substrate 2 toward the second substrate 3 side, and a conductive member provided on the side surface of the resin portion 210. A wall-like electrode having a film-like conductive portion 212 made of A gap is provided between the upper end portion of the electrode 206 and the second substrate 3 facing the electrode 206.

また、本発明の実施形態の液晶表示素子においては、対向する一対の壁状の電極の両方を、その上端部分が、対向する基板の面と接触しない構造とすることも可能である。例えば、図1の液晶表示素子1において、電極5および電極6の両方の上端部が、対向する第2の基板3の面と接触しない構造とすることも可能である。  In the liquid crystal display element of the embodiment of the present invention, it is also possible to have a structure in which the upper end portions of both of the pair of wall-shaped electrodes facing each other do not contact the surface of the facing substrate. For example, in the liquid crystal display element 1 of FIG. 1, it is possible to have a structure in which the upper ends of both the electrode 5 and the electrode 6 do not come into contact with the surface of the second substrate 3 that is opposed.

そして、液晶表示素子1において、電極5および電極6がそれぞれ複数ある場合、複数の電極5のうちの一部または複数の電極6のうちの一部を、上端部分が第2の基板3の面と接しない構造とすることが可能である。さらに、複数の電極5および複数の電極6の両方について、それぞれの一部を、上端部分が第2の基板3の面と接しない構造とすることも可能である。  In the liquid crystal display element 1, when there are a plurality of electrodes 5 and 6, a part of the plurality of electrodes 5 or a part of the plurality of electrodes 6 is formed, and an upper end portion is a surface of the second substrate 3. It is possible to have a structure that does not contact with. Further, a part of each of the plurality of electrodes 5 and the plurality of electrodes 6 may have a structure in which the upper end portion does not contact the surface of the second substrate 3.

このとき、本発明の実施形態の液晶表示素子においては、液晶を挟持する第1の基板および第2の基板のうちの、第1の基板上に設けられた壁状電極をなす電極が、対向する第2の基板の面に接する構造である場合、その電極を、基板間距離を保持するためのギャップ保持材(スペーサ)として利用することができる。  At this time, in the liquid crystal display element according to the embodiment of the present invention, of the first substrate and the second substrate sandwiching the liquid crystal, the electrode forming the wall-like electrode provided on the first substrate is opposed. When the structure is in contact with the surface of the second substrate, the electrode can be used as a gap retaining material (spacer) for maintaining the distance between the substrates.

例えば、図1に示す液晶表示素子1においては、電極5、6の上端部分が第2の基板3の面と接するように構成されており、電極5、6を第1の基板2と第2の基板3との間の基板間距離を保持するためのスペーサとして利用することができる。  For example, the liquid crystal display element 1 shown in FIG. 1 is configured such that the upper end portions of the electrodes 5 and 6 are in contact with the surface of the second substrate 3, and the electrodes 5 and 6 are connected to the first substrate 2 and the second substrate 2. It can be used as a spacer for maintaining the distance between the substrates 3.

また、図7に示す液晶表示素子201においては、電極5の上端部分が第2の基板3の面と接するように構成されており、電極5を第1の基板2と第2の基板3との間の基板間距離を保持するためのスペーサとして利用することができる。  In the liquid crystal display element 201 shown in FIG. 7, the upper end portion of the electrode 5 is configured to be in contact with the surface of the second substrate 3, and the electrode 5 is connected to the first substrate 2, the second substrate 3, and the like. It can be used as a spacer for maintaining the distance between the substrates.

従来の液晶表示素子では、液晶を挟持するよう対向配置された一対の基板間のギャップを保持するために、球形のポリマービーズをスペーサとして基板間に分散させる技術が用いられてきた。このような技術の場合、基板上にポリマービーズが均等に分散せず、基板間のギャップにむらが生ずることがあった。そして、そのようなギャップむらによって、画像の表示時に輝度むらが発生することがあった。  In a conventional liquid crystal display element, in order to maintain a gap between a pair of substrates arranged to face each other so as to sandwich liquid crystal, a technique of dispersing spherical polymer beads between substrates as a spacer has been used. In such a technique, polymer beads are not evenly dispersed on the substrate, and the gap between the substrates may be uneven. Such gap unevenness may cause uneven brightness when displaying an image.

そうした問題に対し、例えば、本発明の実施形態の液晶表示素子1では、上述したように、電極5、6を第1の基板2と第2の基板3との間に設けられたスペーサとして用いることができる。同様に、液晶表示素子201では、電極5をスペーサとして用いることができる。そのため、液晶表示素子1、201においては、基板間のギャップむらの発生が抑制され、輝度むら等の表示不良を低減することができる。  For example, in the liquid crystal display element 1 according to the embodiment of the present invention, the electrodes 5 and 6 are used as spacers provided between the first substrate 2 and the second substrate 3 as described above. be able to. Similarly, in the liquid crystal display element 201, the electrode 5 can be used as a spacer. Therefore, in the liquid crystal display elements 1 and 201, the occurrence of gap unevenness between the substrates is suppressed, and display defects such as luminance unevenness can be reduced.

尚、液晶表示素子201において、電極206は、その上端部分が第2の基板3と接していない。しかしながら、液晶表示素子201に対し、使用者等によって、例えば、第2の基板3が液晶4側に凹むような押圧が加えられたときに、凹み変形を抑制するための支持材として電極206を用いることができる。  In the liquid crystal display element 201, the electrode 206 has an upper end portion that is not in contact with the second substrate 3. However, for example, when the user presses the liquid crystal display element 201 so that the second substrate 3 is recessed toward the liquid crystal 4, the electrode 206 is used as a support material for suppressing the recess deformation. Can be used.

以上で説明した本発明の実施形態の液晶表示素子は、液晶を挟持する基板面と平行な電界を効率良く形成することができるが、こうした効果を実現するため、壁状電極をなす電極の構造が特に重要となる。  The liquid crystal display element of the embodiment of the present invention described above can efficiently form an electric field parallel to the substrate surface sandwiching the liquid crystal. In order to realize such an effect, the structure of the electrode forming the wall electrode Is particularly important.

上述したように、本実施形態の液晶表示素子の電極は、第1の基板の面から第2の基板側に向けて突設された壁状の樹脂部と、その樹脂部の側面の少なくとも一部を含む領域に設けられた導電性部材からなる導電部とを有して構成される。そして、その電極は、樹脂部の構造に従う形状を備える。すなわち、本実施形態の液晶表示素子の電極は、第1の基板の面から第2の基板に向かって突出して形成されるとともに、その延在方向が第1の基板の主面に対して垂直となるように形成されて壁状の形状を有する。  As described above, the electrode of the liquid crystal display element of this embodiment includes at least one of the wall-shaped resin portion projecting from the surface of the first substrate toward the second substrate side and the side surface of the resin portion. And a conductive portion made of a conductive member provided in a region including the portion. And the electrode is provided with the shape according to the structure of a resin part. That is, the electrodes of the liquid crystal display element of the present embodiment are formed so as to protrude from the surface of the first substrate toward the second substrate, and the extending direction thereof is perpendicular to the main surface of the first substrate. And has a wall-like shape.

本実施形態の液晶表示素子の壁状電極をなす電極において、樹脂部は、断面形状を台形、または、矩形(長方形、正方形)とすることが好ましい。特に、樹脂部は、第1の基板上で、後述する順テーパー形状を有することが好ましい。そして、その電極の導電部は、上述したように、ITO等の導電材料から形成されて膜状をなし、樹脂部の側壁面を含む領域に配置される。本実施形態の液晶表示素子において、壁状電極をなす電極は、樹脂部と導電膜である導電部との積層構造を有して構成される。  In the electrode forming the wall electrode of the liquid crystal display element of the present embodiment, it is preferable that the resin portion has a trapezoidal shape or a rectangular shape (rectangle or square). In particular, the resin portion preferably has a forward tapered shape described later on the first substrate. As described above, the conductive portion of the electrode is formed of a conductive material such as ITO to form a film and is disposed in a region including the side wall surface of the resin portion. In the liquid crystal display element of this embodiment, the electrode forming the wall electrode has a laminated structure of a resin portion and a conductive portion that is a conductive film.

このような本実施形態の液晶表示素子の電極において、導電部の形成は公知の方法を利用して行うことができる。すなわち、樹脂部を形成した後、公知の方法に従い、その樹脂部上に、例えば、ITO等の導電膜を成膜する。そして、公知の方法を用いて、その導電膜をパターニングして導電部を形成することができる。  In such an electrode of the liquid crystal display element of this embodiment, the conductive portion can be formed using a known method. That is, after forming the resin portion, a conductive film such as ITO is formed on the resin portion according to a known method. Then, the conductive part can be formed by patterning the conductive film using a known method.

したがって、本実施形態の液晶表示素子において、壁状電極をなす電極を複数の画素間で高均一に高い生産性で形成しようとする場合、樹脂部の形成が重要となる。すなわち、電極を構成する樹脂部は、高均一にパターニングされることにより形成されることが好ましい。  Therefore, in the liquid crystal display element of the present embodiment, when an electrode that forms a wall-like electrode is to be formed between a plurality of pixels with high productivity and high productivity, it is important to form a resin portion. In other words, the resin part constituting the electrode is preferably formed by highly uniform patterning.

そのため、樹脂部と導電部からなる壁状電極の形成においては、樹脂部を高感度かつ高均一にパターニングし、壁状電極である電極を形成する技術が特に重要となる。  Therefore, in forming a wall-shaped electrode composed of a resin portion and a conductive portion, a technique of patterning the resin portion with high sensitivity and high uniformity to form an electrode that is a wall-shaped electrode is particularly important.

そこで以下、本実施形態の壁状電極をなす電極の樹脂部の形成について、より詳細に説明する。特に、液晶を挟持する一対の基板のうちの一方の面に設けられ、対向する他方の基板側に向けて突設された樹脂部を形成するのに好適に用いられる感放射線性樹脂組成物について説明する。  Therefore, in the following, the formation of the resin portion of the electrode forming the wall electrode according to the present embodiment will be described in more detail. In particular, a radiation-sensitive resin composition that is provided on one surface of a pair of substrates that sandwich a liquid crystal and is preferably used to form a resin portion that protrudes toward the opposite substrate side. explain.

<感放射線性樹脂組成物>
本発明の実施形態の液晶表示素子の、壁状電極をなす電極の樹脂部の形成には、本発明の実施形態の感放射線性樹脂組成物が用いられる。
<Radiation sensitive resin composition>
In the liquid crystal display element of the embodiment of the present invention, the radiation-sensitive resin composition of the embodiment of the present invention is used for forming the resin portion of the electrode forming the wall electrode.

本発明の実施形態の感放射線性樹脂組成物は、[A]重合体、および[B]感光剤を含有してなる。本実施形態の感放射線性樹脂組成物は感放射線性を有する。  The radiation sensitive resin composition of the embodiment of the present invention comprises [A] a polymer and [B] a photosensitizer. The radiation sensitive resin composition of this embodiment has radiation sensitivity.

本発明の実施形態の感放射線性樹脂組成物は、光が照射された部分が現像で溶解するポジ型パターン形成用の感放射線性樹脂組成物、および、光が照射された部分が不溶化するネガ型パターン形成用の感放射線性樹脂組成物のいずれも適用できる。  The radiation-sensitive resin composition of the embodiment of the present invention includes a radiation-sensitive resin composition for forming a positive pattern in which a portion irradiated with light is dissolved by development, and a negative in which a portion irradiated with light is insolubilized. Any of the radiation sensitive resin compositions for forming the mold pattern can be applied.

ポジ型パターン形成用の感放射線性樹脂組成物は、[B]成分である[B]感光剤として、[B−2]光酸発生剤を用いることができる。そして、ネガ型パターン形成用の感放射線性樹脂組成物は、[B]成分である[B]感光剤として、[B−1]光ラジカル重合開始剤を用いることができる。  In the radiation-sensitive resin composition for forming a positive pattern, [B-2] photoacid generator can be used as the [B] photosensitive agent which is the [B] component. And the radiation sensitive resin composition for negative pattern formation can use [B-1] radical photopolymerization initiator as [B] photosensitive agent which is a [B] component.

すなわち、本発明の実施形態の感放射線性樹脂組成物は、[B]感光剤として、[B−1]光ラジカル重合開始剤および[B−2]光酸発生剤のうちから選ばれる少なくとも一方を用いることができ、ネガ型パターン形成用またはポジ型パターン形成用として使用できる。  That is, the radiation-sensitive resin composition of the embodiment of the present invention has at least one selected from [B-1] photoradical polymerization initiator and [B-2] photoacid generator as [B] photosensitizer. Can be used for negative pattern formation or positive pattern formation.

本実施形態の感放射線性樹脂組成物は、上述した感放射線性を有し、感放射線性を利用した露光・現像によって容易に微細かつ精巧なパターンを形成することができる。すなわち、本実施形態の感放射線性樹脂組成物は、基板上に突設される、壁状電極をなす電極の樹脂部を高精度に形成することができる。そして、後述する[D]硬化促進剤を含有することによって、例えば、200℃以下等、より低温での硬化を実現する。併せて、保存安定性を有し、かつ充分な解像度および放射線感度を有する。以下、本実施形態の感放射線性樹脂組成物の各成分を詳述する。  The radiation-sensitive resin composition of the present embodiment has the radiation sensitivity described above, and can easily form a fine and elaborate pattern by exposure / development utilizing the radiation sensitivity. That is, the radiation sensitive resin composition of this embodiment can form the resin part of the electrode which makes the wall-shaped electrode protrudingly provided on the substrate with high accuracy. And by containing [D] hardening accelerator mentioned later, hardening at lower temperature, such as 200 degrees C or less, is implement | achieved, for example. In addition, it has storage stability and sufficient resolution and radiation sensitivity. Hereinafter, each component of the radiation sensitive resin composition of this embodiment is explained in full detail.

<[A]重合体>
感放射線性樹脂組成物に含有される樹脂成分として[A]重合体を含有するが、本実施形態の樹脂部のパターニングを考慮し、[A]重合体としては、アルカリ可溶性樹脂を選択することが好ましい。アルカリ可溶性樹脂は、カルボキシル基を有することで、アルカリ現像性を有する樹脂であれば、特に限定されない。そして、アルカリ可溶性樹脂には、エポキシ基を有する化合物を含有することができる。
<[A] polymer>
[A] polymer is contained as a resin component contained in the radiation-sensitive resin composition, but considering the patterning of the resin part of this embodiment, an alkali-soluble resin should be selected as the [A] polymer. Is preferred. The alkali-soluble resin is not particularly limited as long as it has a carboxyl group and has alkali developability. And alkali-soluble resin can contain the compound which has an epoxy group.

エポキシ基を有する化合物としては、例えば、1分子内に2個以上のオキシラニル基、オキセタニル基、グリシジル基、3,4−エポキシシクロヘキシル基を有する化合物等が挙げられる。  Examples of the compound having an epoxy group include compounds having two or more oxiranyl groups, oxetanyl groups, glycidyl groups, and 3,4-epoxycyclohexyl groups in one molecule.

1分子内に2個以上の3,4−エポキシシクロヘキシル基を有する化合物としては、例えば、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシル−3’,4’−エポキシ−6’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサン)、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル、エチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、ラクトン変性3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等が挙げられる。  Examples of the compound having two or more 3,4-epoxycyclohexyl groups in one molecule include 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, 2- (3,4-epoxy Cyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexane-meta-dioxane, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate, 3, 4-epoxy-6-methylcyclohexyl-3 ′, 4′-epoxy-6′-methylcyclohexanecarboxylate, methylenebis (3,4-epoxycyclohexane), dicyclopentadiene diepoxide, di (3,4-ethylene glycol) (Epoxycyclohexylmethyl) ether , Ethylenebis (3,4-epoxycyclohexane carboxylate), lactone-modified 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexane carboxylate and the like.

1分子内に2個以上のオキセタニル基(1,3−エポキシ構造)を有する化合物としては、例えば1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、ビス{[1−エチル(3−オキセタニル)]メチル}エーテル、ビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル等が挙げられる。  Examples of the compound having two or more oxetanyl groups (1,3-epoxy structure) in one molecule include 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, bis {[1- Ethyl (3-oxetanyl)] methyl} ether, bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, and the like.

その他の[A]重合体に含有できるエポキシ化合物としては、グリシジル基を有する化合物として、例えば、
ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールADジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールAジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールFジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールSジグリシジルエーテル等のビスフェノール化合物のジグリシジルエーテル;
1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル;
エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに1種または2種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル;
フェノールノボラック型エポキシ樹脂;
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂;
ポリフェノール型エポキシ樹脂;
環状脂肪族エポキシ樹脂;
脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル;
高級脂肪酸のグリシジルエステル;
エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油等が挙げられる。
As an epoxy compound which can be contained in other [A] polymer, as a compound having a glycidyl group, for example,
Bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol AD diglycidyl ether, brominated bisphenol A diglycidyl ether, Diglycidyl ethers of bisphenol compounds such as brominated bisphenol F diglycidyl ether and brominated bisphenol S diglycidyl ether;
Polyhydric alcohols such as 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, and polypropylene glycol diglycidyl ether Glycidyl ether;
Polyglycidyl ethers of polyether polyols obtained by adding one or more alkylene oxides to aliphatic polyhydric alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol and glycerin;
Phenol novolac type epoxy resin;
Cresol novolac type epoxy resin;
Polyphenol type epoxy resin;
Cycloaliphatic epoxy resin;
Diglycidyl esters of aliphatic long-chain dibasic acids;
Glycidyl esters of higher fatty acids;
Examples include epoxidized soybean oil and epoxidized linseed oil.

これらの市販品としては、例えば、
ビスフェノールA型エポキシ樹脂として、エピコート(登録商標)1001、同1002、同1003、同1004、同1007、同1009、同1010、同828(以上、ジャパンエポキシレジン社)等;
ビスフェノールF型エポキシ樹脂として、エピコート(登録商標)807(ジャパンエポキシレジン社)等;
フェノールノボラック型エポキシ樹脂として、エピコート(登録商標)152、同154、同157S65(以上、ジャパンエポキシレジン社)、EPPN(登録商標)201、同202(以上、日本化薬社)等;
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂として、EOCN(登録商標)102、同103S、同104S、1020、1025、1027(以上、日本化薬社)、エピコート(登録商標)180S75(ジャパンエポキシレジン社)等;
ポリフェノール型エポキシ樹脂として、エピコート(登録商標)1032H60、同XY−4000(以上、ジャパンエポキシレジン社)等;
環状脂肪族エポキシ樹脂として、CY−175、同177、同179、アラルダイト(登録商標)CY−182、同192、184(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社)、ERL−4234、4299、4221、4206(以上、U.C.C社)、ショーダイン509(昭和電工社)、エピクロン200、同400(以上、大日本インキ社)、エピコート(登録商標)871、同872(以上、ジャパンエポキシレジン社)、ED−5661、同5662(以上、セラニーズコーティング社)等;
脂肪族ポリグリシジルエーテルとしてエポライト100MF(共栄社化学社)、エピオール(登録商標)TMP(日本油脂社)等が挙げられる。
これらのうち、フェノールノボラック型エポキシ樹脂およびポリフェノール型エポキシ樹脂が好ましい。
As these commercial products, for example,
As bisphenol A type epoxy resins, Epicoat (registered trademark) 1001, 1002, 1003, 1004, 1007, 1009, 1010, 828 (above, Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) and the like;
As bisphenol F type epoxy resin, Epicoat (registered trademark) 807 (Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) and the like;
As a phenol novolak type epoxy resin, Epicoat (registered trademark) 152, 154, 157 S65 (above, Japan Epoxy Resin), EPPN (registered trademark) 201, 202 (above, Nippon Kayaku) etc .;
Examples of cresol novolac type epoxy resins include EOCN (registered trademark) 102, 103S, 104S, 1020, 1025, 1027 (above, Nippon Kayaku Co., Ltd.), Epicoat (registered trademark) 180S75 (Japan Epoxy Resin Co., Ltd.)
As a polyphenol type epoxy resin, Epicoat (registered trademark) 1032H60, XY-4000 (above, Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) and the like;
Cyclic aliphatic epoxy resins include CY-175, 177, 179, Araldite (registered trademark) CY-182, 192, 184 (above, Ciba Specialty Chemicals), ERL-4234, 4299, 4221, 4206. (Above, U.C.C), Shodyne 509 (Showa Denko), Epicron 200, 400 (above, Dainippon Ink), Epicoat (registered trademark) 871, 872 (above, Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) ), ED-5661, the same 5562 (above, Celanese Coating), etc .;
Examples of the aliphatic polyglycidyl ether include Epolite 100MF (Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Epiol (registered trademark) TMP (Nippon Yushi Co., Ltd.), and the like.
Of these, phenol novolac type epoxy resins and polyphenol type epoxy resins are preferred.

そして、感放射線性樹脂組成物の含む[A]重合体としては、カルボキシル基を有する構成単位と重合性基を有する構成単位とを含む樹脂で、アルカリ現像性を有する樹脂を用いることができる。  And as [A] polymer which a radiation sensitive resin composition contains, resin which has the structural unit which has a carboxyl group, and the structural unit which has a polymeric group, and resin which has alkali developability can be used.

その場合、重合性基を有する構成単位とは、エポキシ基を有する構成単位および(メタ)アクリロイルオキシ基を有する構成単位からなる群より選ばれる少なくとも1種の構成単位であることが好ましい。[A]重合体が、上記特定の構成単位を含むことで、優れた表面硬化性および深部硬化性を有する硬化膜を形成し、壁状電極をなす電極の樹脂部を形成することができる。  In that case, the structural unit having a polymerizable group is preferably at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit having an epoxy group and a structural unit having a (meth) acryloyloxy group. [A] When a polymer contains the said specific structural unit, the cured film which has the outstanding surface curability and deep part curability can be formed, and the resin part of the electrode which makes a wall-shaped electrode can be formed.

(メタ)アクリロイルオキシ基を有する構成単位は、例えば、共重合体中のエポキシ基に(メタ)アクリル酸を反応させる方法、共重合体中のカルボキシル基にエポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルを反応させる方法、共重合体中の水酸基にイソシアネート基を有する(メタ)アクリル酸エステルを反応させる方法、共重合体中の酸無水物部位に(メタ)アクリル酸ヒドロキシエステルを反応させる方法等により形成することができる。これらのうち特に、共重合体中のカルボキシル基にエポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルを反応させる方法が好ましい。  The structural unit having a (meth) acryloyloxy group is, for example, a method of reacting an epoxy group in a copolymer with (meth) acrylic acid, a (meth) acrylic acid ester having an epoxy group in a carboxyl group in the copolymer By a method of reacting (meth) acrylic acid ester having an isocyanate group with a hydroxyl group in a copolymer, a method of reacting (meth) acrylic acid hydroxy ester at an acid anhydride site in the copolymer, etc. Can be formed. Among these, a method of reacting a carboxyl group in the copolymer with a (meth) acrylic ester having an epoxy group is preferable.

カルボキシル基を有する構成単位と重合性基としてエポキシ基を有する構成単位を含む[A]重合体は、(A1)不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物からなる群より選択される少なくとも1種(以下、「(A1)化合物」とも称する。)と、(A2)エポキシ基含有不飽和化合物(以下、「(A2)化合物」とも称する。)とを共重合して合成することができる。この場合、[A]重合体は、不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物からなる群より選ばれる少なくとも1種から形成される構成単位並びにエポキシ基含有不飽和化合物から形成される構成単位を含む共重合体となる。  [A] polymer containing the structural unit which has a carboxyl group, and the structural unit which has an epoxy group as a polymeric group is at least 1 sort (s) selected from the group which consists of (A1) unsaturated carboxylic acid and unsaturated carboxylic anhydride. (Hereinafter also referred to as “(A1) compound”) and (A2) an epoxy group-containing unsaturated compound (hereinafter also referred to as “(A2) compound”). In this case, the [A] polymer includes a structural unit formed from at least one selected from the group consisting of an unsaturated carboxylic acid and an unsaturated carboxylic acid anhydride, and a structural unit formed from an epoxy group-containing unsaturated compound. It becomes a copolymer containing.

この[A]重合体は、例えば、溶媒中で重合開始剤の存在下、カルボキシル基含有構成単位を与える(A1)化合物と、エポキシ基含有構成単位を与える(A2)化合物とを共重合することによって製造できる。また、(A3)水酸基含有構成単位を与える水酸基含有不飽和化合物(以下、「(A3)化合物」とも称する。)をさらに加えて、共重合体とすることもできる。さらに、カルボキシル基を有する構成単位と重合性基としてエポキシ基を有する構成単位を含む[A]重合体の製造においては、上記(A1)化合物、(A2)化合物および(A3)化合物とともに、(A4)化合物(上記(A1)、(A2)および(A3)化合物に由来する構成単位以外の構成単位を与える不飽和化合物)をさらに加えて、共重合体とすることもできる。以下、各化合物を詳述する。  This [A] polymer is, for example, copolymerizing a compound (A1) giving a carboxyl group-containing structural unit and a compound (A2) giving an epoxy group-containing structural unit in the presence of a polymerization initiator in a solvent. Can be manufactured. Further, (A3) a hydroxyl group-containing unsaturated compound that gives a hydroxyl group-containing structural unit (hereinafter also referred to as “(A3) compound”) may be further added to form a copolymer. Furthermore, in the manufacture of the [A] polymer containing a structural unit having a carboxyl group and a structural unit having an epoxy group as a polymerizable group, together with the compound (A1), the compound (A2) and the compound (A3), (A4 ) Compounds (unsaturated compounds giving structural units other than the structural units derived from the compounds (A1), (A2) and (A3)) can be further added to form a copolymer. Hereinafter, each compound will be described in detail.

[(A1)化合物]
(A1)化合物としては、不飽和モノカルボン酸、不飽和ジカルボン酸、不飽和ジカルボン酸の無水物、多価カルボン酸のモノ〔(メタ)アクリロイルオキシアルキル〕エステル等が挙げられる。
[(A1) Compound]
Examples of the compound (A1) include unsaturated monocarboxylic acids, unsaturated dicarboxylic acids, anhydrides of unsaturated dicarboxylic acids, and mono [(meth) acryloyloxyalkyl] esters of polyvalent carboxylic acids.

不飽和モノカルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等が挙げられる。  Examples of the unsaturated monocarboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, and crotonic acid.

不飽和ジカルボン酸としては、例えば、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等が挙げられる。  Examples of the unsaturated dicarboxylic acid include maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, itaconic acid and the like.

不飽和ジカルボン酸の無水物としては、例えば、上記ジカルボン酸として例示した化合物の無水物等が挙げられる。  As an anhydride of unsaturated dicarboxylic acid, the anhydride of the compound illustrated as said dicarboxylic acid etc. are mentioned, for example.

多価カルボン酸のモノ〔(メタ)アクリロイルオキシアルキル〕エステルとしては、例えば、コハク酸モノ〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕、フタル酸モノ〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕等が挙げられる。  Examples of mono [(meth) acryloyloxyalkyl] esters of polyvalent carboxylic acids include succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl], phthalic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] and the like. It is done.

これらの(A1)化合物のうち、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸が好ましく、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸が共重合反応性、アルカリ水溶液に対する溶解性および入手の容易性からより好ましい。  Among these (A1) compounds, acrylic acid, methacrylic acid, and maleic anhydride are preferable, and acrylic acid, methacrylic acid, and maleic anhydride are more preferable from the viewpoint of copolymerization reactivity, solubility in an alkaline aqueous solution, and availability.

これらの(A1)化合物は、単独で使用してもよいし、2種以上を混合して使用してもよい。  These (A1) compounds may be used alone or in combination of two or more.

(A1)化合物の使用割合は、(A1)化合物並びに(A2)化合物(必要に応じて任意の(A3)化合物および(A4)化合物)の合計に基づいて、5質量%〜30質量%が好ましく、10質量%〜25質量%がより好ましい。(A1)化合物の使用割合を5質量%〜30質量%とすることによって、[A]重合体のアルカリ水溶液に対する溶解性を最適化するとともに、放射線性感度に優れる絶縁膜が得られ、壁状電極をなす電極の樹脂部の形成の好適となる。  The use ratio of the compound (A1) is preferably 5% by mass to 30% by mass based on the sum of the compound (A1) and the compound (A2) (optional (A3) compound and (A4) compound as necessary). 10 mass%-25 mass% are more preferable. (A1) By using the compound in a proportion of 5% by mass to 30% by mass, the solubility of [A] polymer in an alkaline aqueous solution is optimized, and an insulating film having excellent radiation sensitivity is obtained. It becomes suitable for formation of the resin part of the electrode which makes an electrode.

[(A2)化合物]
(A2)化合物は、ラジカル重合性を有するエポキシ基含有不飽和化合物である。エポキシ基としては、オキシラニル基(1,2−エポキシ構造)またはオキセタニル基(1,3−エポキシ構造)等が挙げられる。
[(A2) Compound]
The compound (A2) is an epoxy group-containing unsaturated compound having radical polymerizability. Examples of the epoxy group include an oxiranyl group (1,2-epoxy structure) or an oxetanyl group (1,3-epoxy structure).

オキシラニル基を有する不飽和化合物としては、例えば、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸2−メチルグリシジル、アクリル酸3,4−エポキシブチル、メタクリル酸3,4−エポキシブチル、アクリル酸6,7−エポキシヘプチル、メタクリル酸6,7−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル、メタクリル酸3,4−エポキシシクロへキシルメチル等が挙げられる。これらのうち、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸2−メチルグリシジル、メタクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル、メタクリル酸3,4−エポキシシクロヘキシル、アクリル酸3,4−エポキシシクロヘキシル等が、共重合反応性および電極の樹脂部の耐溶媒性等の向上の観点から好ましい。  Examples of the unsaturated compound having an oxiranyl group include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, 2-methylglycidyl methacrylate, 3,4-epoxybutyl acrylate, 3,4-epoxybutyl methacrylate, and 6,7 acrylic acid. Epoxy heptyl, methacrylic acid 6,7-epoxy heptyl, α-ethylacrylic acid-6,7-epoxy heptyl, o-vinyl benzyl glycidyl ether, m-vinyl benzyl glycidyl ether, p-vinyl benzyl glycidyl ether, methacrylic acid 3 , 4-epoxycyclohexylmethyl and the like. Among these, glycidyl methacrylate, 2-methylglycidyl methacrylate, -6,7-epoxyheptyl methacrylate, o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinylbenzyl glycidyl ether, p-vinylbenzyl glycidyl ether, 3, methacrylate 4-Epoxycyclohexyl, 3,4-epoxycyclohexyl acrylate, and the like are preferable from the viewpoint of improving the copolymerization reactivity and the solvent resistance of the resin part of the electrode.

オキセタニル基を有する不飽和化合物としては、例えば、
3−(アクリロイルオキシメチル)オキセタン、3−(アクリロイルオキシメチル)−2−メチルオキセタン、3−(アクリロイルオキシメチル)−3−エチルオキセタン、3−(アクリロイルオキシメチル)−2−フェニルオキセタン、3−(2−アクリロイルオキシエチル)オキセタン、3−(2−アクリロイルオキシエチル)−2−エチルオキセタン、3−(2−アクリロイルオキシエチル)−3−エチルオキセタン、3−(2−アクリロイルオキシエチル)−2−フェニルオキセタン等のアクリル酸エステル;
3−(メタクリロイルオキシメチル)オキセタン、3−(メタクリロイルオキシメチル)−2−メチルオキセタン、3−(メタクリロイルオキシメチル)−3−エチルオキセタン、3−(メタクリロイルオキシメチル)−2−フェニルオキセタン、3−(2−メタクリロイルオキシエチル)オキセタン、3−(2−メタクリロイルオキシエチル)−2−エチルオキセタン、3−(2−メタクリロイルオキシエチル)−3−エチルオキセタン、3−(2−メタクリロイルオキシエチル)−2−フェニルオキセタン、3−(2−メタクリロイルオキシエチル)−2,2−ジフルオロオキセタン等のメタクリル酸エステル等が挙げられる。
As an unsaturated compound having an oxetanyl group, for example,
3- (acryloyloxymethyl) oxetane, 3- (acryloyloxymethyl) -2-methyloxetane, 3- (acryloyloxymethyl) -3-ethyloxetane, 3- (acryloyloxymethyl) -2-phenyloxetane, 3- (2-acryloyloxyethyl) oxetane, 3- (2-acryloyloxyethyl) -2-ethyloxetane, 3- (2-acryloyloxyethyl) -3-ethyloxetane, 3- (2-acryloyloxyethyl) -2 -Acrylic esters such as phenyloxetane;
3- (methacryloyloxymethyl) oxetane, 3- (methacryloyloxymethyl) -2-methyloxetane, 3- (methacryloyloxymethyl) -3-ethyloxetane, 3- (methacryloyloxymethyl) -2-phenyloxetane, 3- (2-methacryloyloxyethyl) oxetane, 3- (2-methacryloyloxyethyl) -2-ethyloxetane, 3- (2-methacryloyloxyethyl) -3-ethyloxetane, 3- (2-methacryloyloxyethyl) -2 -Methacrylic acid esters such as phenyloxetane and 3- (2-methacryloyloxyethyl) -2,2-difluorooxetane.

これらの(A2)化合物のうち、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸3,4−エポキシシクロヘキシル、3−(メタクリロイルオキシメチル)−3−エチルオキセタンが好ましい。これらの(A2)化合物は、単独で使用してもよいし、2種以上を混合して使用してもよい。  Of these (A2) compounds, glycidyl methacrylate, 3,4-epoxycyclohexyl methacrylate, and 3- (methacryloyloxymethyl) -3-ethyloxetane are preferable. These (A2) compounds may be used alone or in combination of two or more.

(A2)化合物の使用割合は、(A1)化合物並びに(A2)化合物(必要に応じて任意の(A3)化合物および(A4)化合物)の合計に基づいて、5質量%〜60質量%が好ましく、10質量%〜50質量%がより好ましい。(A2)化合物の使用割合を5質量%〜60質量%とすることによって、優れた硬化性等を有する、壁状電極をなす電極の樹脂部を形成することができる。  The proportion of the compound (A2) used is preferably 5% by mass to 60% by mass based on the sum of the compound (A1) and the compound (A2) (optional (A3) compound and (A4) compound as necessary). 10 mass%-50 mass% are more preferable. (A2) By making the usage-amount of a compound into 5 mass%-60 mass%, the resin part of the electrode which makes the wall-shaped electrode which has the outstanding sclerosis | hardenability etc. can be formed.

[(A3)化合物]
(A3)化合物としては、水酸基を有する(メタ)アクリル酸エステル、フェノール性水酸基を有する(メタ)アクリル酸エステル、ヒドロキシスチレンが挙げられる。
[(A3) Compound]
Examples of the compound (A3) include (meth) acrylic acid ester having a hydroxyl group, (meth) acrylic acid ester having a phenolic hydroxyl group, and hydroxystyrene.

水酸基を有するアクリル酸エステルとしては、アクリル酸2−ヒドロキシエチル、アクリル酸3−ヒドロキシプロピル、アクリル酸4−ヒドロキシブチル、アクリル酸5−ヒドロキシペンチル、アクリル酸6−ヒドロキシヘキシル等が挙げられる。  Examples of the acrylic acid ester having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl acrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, and 6-hydroxyhexyl acrylate.

水酸基を有するメタクリル酸エステルとしては、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸3−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸4−ヒドロキシブチル、メタクリル酸5−ヒドロキシペンチル、メタクリル酸6−ヒドロキシヘキシル等が挙げられる。  Examples of the methacrylic acid ester having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl methacrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, 5-hydroxypentyl methacrylate, and 6-hydroxyhexyl methacrylate.

フェノール性水酸基を有するアクリル酸エステルとしては、アクリル酸2−ヒドロキシフェニル、アクリル酸4−ヒドロキシフェニル等が挙げられる。フェノール性水酸基を有するメタクリル酸エステルとしては、メタクリル酸2−ヒドロキシフェニル、メタクリル酸4−ヒドロキシフェニル等が挙げられる。  Examples of the acrylate ester having a phenolic hydroxyl group include 2-hydroxyphenyl acrylate and 4-hydroxyphenyl acrylate. Examples of the methacrylic acid ester having a phenolic hydroxyl group include 2-hydroxyphenyl methacrylate and 4-hydroxyphenyl methacrylate.

ヒドロキシスチレンとしては、o−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレン、α−メチル−p−ヒドロキシスチレンが好ましい。これらの(A3)化合物は、単独で使用してもよいし2種以上を混合して使用してもよい。  As hydroxystyrene, o-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene, and α-methyl-p-hydroxystyrene are preferable. These (A3) compounds may be used alone or in admixture of two or more.

(A3)化合物の使用割合は、(A1)化合物、(A2)化合物並びに(A3)化合物(必要に応じて任意の(A4)化合物)の合計に基づいて、1質量%〜30質量%が好ましく、5質量%〜25質量%がより好ましい。  The proportion of the compound (A3) used is preferably 1% by mass to 30% by mass based on the sum of the compound (A1), the compound (A2) and the compound (A3) (optional (A4) compound if necessary). 5 mass%-25 mass% are more preferable.

[(A4)化合物]
(A4)化合物は、上記の(A1)化合物、(A2)化合物および(A3)化合物以外の不飽和化合物であれば、特に制限されるものではない。(A4)化合物としては、例えば、メタクリル酸鎖状アルキルエステル、メタクリル酸環状アルキルエステル、アクリル酸鎖状アルキルエステル、アクリル酸環状アルキルエステル、メタクリル酸アリールエステル、アクリル酸アリールエステル、不飽和ジカルボン酸ジエステル、マレイミド化合物、不飽和芳香族化合物、共役ジエン、テトラヒドロフラン骨格等をもつ不飽和化合物およびその他の不飽和化合物等が挙げられる。
[(A4) Compound]
(A4) A compound will not be restrict | limited especially if it is unsaturated compounds other than said (A1) compound, (A2) compound, and (A3) compound. Examples of (A4) compounds include methacrylic acid chain alkyl esters, methacrylic acid cyclic alkyl esters, acrylic acid chain alkyl esters, acrylic acid cyclic alkyl esters, methacrylic acid aryl esters, acrylic acid aryl esters, and unsaturated dicarboxylic acid diesters. , Maleimide compounds, unsaturated aromatic compounds, conjugated dienes, unsaturated compounds having a tetrahydrofuran skeleton, and other unsaturated compounds.

メタクリル酸鎖状アルキルエステルとしては、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n−ブチル、メタクリル酸sec−ブチル、メタクリル酸t−ブチル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸イソデシル、メタクリル酸n−ラウリル、メタクリル酸トリデシル、メタクリル酸n−ステアリル等が挙げられる。
メタクリル酸環状アルキルエステルとしては、例えば、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸2−メチルシクロヘキシル、メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02, ]デカン−8−イル、メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イルオキシエチル、メタクリル酸イソボロニル等が挙げられる。
Examples of the chain alkyl ester of methacrylic acid include, for example, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-butyl methacrylate, sec-butyl methacrylate, t-butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, isodecyl methacrylate, n methacrylate. -Lauryl, tridecyl methacrylate, n-stearyl methacrylate and the like.
Examples of the cyclic alkyl ester of methacrylic acid include, for example, cyclohexyl methacrylate, 2-methylcyclohexyl methacrylate, tricyclo [5.2.1.0 2, 6 ] decan-8-yl methacrylate, and tricyclomethacrylate [5.2. 1.0 2,6 ] decan-8-yloxyethyl, isobornyl methacrylate and the like.

アクリル酸鎖状アルキルエステルとしては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸sec−ブチル、アクリル酸t−ブチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸イソデシル、アクリル酸n−ラウリル、アクリル酸トリデシル、アクリル酸n−ステアリル等が挙げられる。  Examples of the acrylic acid chain alkyl ester include methyl acrylate, ethyl acrylate, n-butyl acrylate, sec-butyl acrylate, t-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, isodecyl acrylate, and n-acrylate. -Lauryl, tridecyl acrylate, n-stearyl acrylate and the like.

アクリル酸環状アルキルエステルとしては、例えば、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸−2−メチルシクロヘキシル、アクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イル、アクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イルオキシエチル、アクリル酸イソボロニル等が挙げられる。Examples of the acrylic acid cyclic alkyl ester include cyclohexyl acrylate, 2-methylcyclohexyl acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan-8-yl acrylate, and tricyclo [5.2 acrylate]. 1.0 2,6 ] decan-8-yloxyethyl, isobornyl acrylate, and the like.

メタクリル酸アリールエステルとしては、例えば、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル等が挙げられる。  Examples of the methacrylic acid aryl ester include phenyl methacrylate and benzyl methacrylate.

アクリル酸アリールエステルとしては、例えば、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル等が挙げられる。  Examples of the acrylic acid aryl ester include phenyl acrylate and benzyl acrylate.

不飽和ジカルボン酸ジエステルとしては、例えば、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等が挙げられる。  Examples of the unsaturated dicarboxylic acid diester include diethyl maleate, diethyl fumarate, diethyl itaconate and the like.

マレイミド化合物としては、例えば、N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、N−ベンジルマレイミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)マレイミド、N−(4−ヒドロキシベンジル)マレイミド、N−スクシンイミジル−3−マレイミドベンゾエート、N−スクシンイミジル−4−マレイミドブチレート、N−スクシンイミジル−6−マレイミドカプロエート、N−スクシンイミジル−3−マレイミドプロピオネート、N−(9−アクリジニル)マレイミド等が挙げられる。  Examples of maleimide compounds include N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-benzylmaleimide, N- (4-hydroxyphenyl) maleimide, N- (4-hydroxybenzyl) maleimide, N-succinimidyl-3-maleimidobenzoate N-succinimidyl-4-maleimidobutyrate, N-succinimidyl-6-maleimidocaproate, N-succinimidyl-3-maleimidopropionate, N- (9-acridinyl) maleimide and the like.

不飽和芳香族化合物としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、ビニルトルエン、p−メトキシスチレン等が挙げられる。
共役ジエンとしては、例えば、1,3−ブタジエン、イソプレン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン等が挙げられる。
Examples of the unsaturated aromatic compound include styrene, α-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, vinyltoluene, and p-methoxystyrene.
Examples of the conjugated diene include 1,3-butadiene, isoprene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene and the like.

テトラヒドロフラン骨格を含有する不飽和化合物としては、例えば、メタクリル酸テトラヒドロフルフリル、2−メタクリロイルオキシ−プロピオン酸テトラヒドロフルフリルエステル、3−(メタ)アクリロイルオキシテトラヒドロフラン−2−オン等が挙げられる。  Examples of the unsaturated compound containing a tetrahydrofuran skeleton include tetrahydrofurfuryl methacrylate, 2-methacryloyloxy-propionic acid tetrahydrofurfuryl ester, 3- (meth) acryloyloxytetrahydrofuran-2-one, and the like.

その他の不飽和化合物としては、例えば、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビニル等が挙げられる。  Examples of other unsaturated compounds include acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl chloride, vinylidene chloride, acrylamide, methacrylamide, and vinyl acetate.

これらの(A4)化合物のうち、メタクリル酸鎖状アルキルエステル、メタクリル酸環状アルキルエステル、メタクリル酸アリールエステル、マレイミド化合物、テトラヒドロフラン骨格、不飽和芳香族化合物、アクリル酸環状アルキルエステルが好ましい。これらのうち、特に、スチレン、メタクリル酸メチル、メタクリル酸t−ブチル、メタクリル酸n−ラウリル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イル、p−メトキシスチレン、アクリル酸2−メチルシクロヘキシル、N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、メタクリル酸テトラヒドロフルフリルが、共重合反応性およびアルカリ水溶液に対する溶解性の点から好ましい。Among these (A4) compounds, methacrylic acid chain alkyl ester, methacrylic acid cyclic alkyl ester, methacrylic acid aryl ester, maleimide compound, tetrahydrofuran skeleton, unsaturated aromatic compound, and acrylic acid cyclic alkyl ester are preferable. Of these, styrene, methyl methacrylate, t-butyl methacrylate, n-lauryl methacrylate, benzyl methacrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan-8-yl methacrylate, p -Methoxystyrene, 2-methylcyclohexyl acrylate, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, and tetrahydrofurfuryl methacrylate are preferred from the viewpoints of copolymerization reactivity and solubility in an aqueous alkali solution.

これらの(A4)化合物は、単独で使用してもよいし、2種以上を混合して使用してもよい。  These (A4) compounds may be used alone or in combination of two or more.

(A4)化合物の使用割合としては、(A1)化合物、(A2)化合物並びに(A4)化合物(および任意の(A3)化合物)の合計に基づいて、10質量%〜80質量%が好ましい。  The proportion of the compound (A4) used is preferably 10% by mass to 80% by mass based on the total of the compound (A1), the compound (A2) and the compound (A4) (and any (A3) compound).

<[B]感光剤>
本発明の実施形態の感放射線性樹脂組成物に含有される[B]感光剤としては、放射線に感応してラジカルを発生し重合を開始できる化合物(すなわち、[B−1]光ラジカル重合開始剤)、または、放射線に感応して酸を発生する化合物(すなわち、[B−2]光酸発生剤)を挙げることができる。
<[B] Photosensitive agent>
[B] Photosensitizer contained in the radiation-sensitive resin composition of the embodiment of the present invention includes a compound capable of initiating polymerization by generating radicals in response to radiation (that is, [B-1] initiation of photoradical polymerization. Agent) or a compound that generates an acid in response to radiation (that is, [B-2] photoacid generator).

このような[B−1]光ラジカル重合開始剤としては、O−アシルオキシム化合物、アセトフェノン化合物、ビイミダゾール化合物等が挙げられる。これらの化合物は、単独で使用してもよいし、2種以上を混合して使用してもよい。  Examples of such [B-1] photoradical polymerization initiators include O-acyloxime compounds, acetophenone compounds, biimidazole compounds, and the like. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

O−アシルオキシム化合物としては、例えば、1,2−オクタンジオン1−[4−(フェニルチオ)−2−(O−ベンゾイルオキシム)]、エタノン−1−〔9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)、1−(9−エチル−6−ベンゾイル−9.H.−カルバゾール−3−イル)−オクタン−1−オンオキシム−O−アセテート、1−〔9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−エタン−1−オンオキシム−O−ベンゾエート、1−〔9−n−ブチル−6−(2−エチルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−エタン−1−オンオキシム−O−ベンゾエート、エタノン−1−[9−エチル−6−(2−メチル−4−テトラヒドロフラニルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル]−1−(O−アセチルオキシム)、エタノン−1−〔9−エチル−6−(2−メチル−4−テトラヒドロピラニルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)、エタノン−1−〔9−エチル−6−(2−メチル−5−テトラヒドロフラニルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)、エタノン−1−〔9−エチル−6−{2−メチル−4−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラニル)メトキシベンゾイル}−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)等が挙げられる。  Examples of the O-acyloxime compound include 1,2-octanedione 1- [4- (phenylthio) -2- (O-benzoyloxime)], ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl). Benzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime), 1- (9-ethyl-6-benzoyl-9.H.-carbazol-3-yl) -octane-1-one oxime- O-acetate, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9. H. -Carbazol-3-yl] -ethane-1-one oxime-O-benzoate, 1- [9-n-butyl-6- (2-ethylbenzoyl) -9. H. -Carbazol-3-yl] -ethane-1-one oxime-O-benzoate, ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydrofuranylbenzoyl) -9. H. -Carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime), ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydropyranylbenzoyl) -9. H. -Carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime), ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-5-tetrahydrofuranylbenzoyl) -9. H. -Carbazole-3-yl] -1- (O-acetyloxime), ethanone-1- [9-ethyl-6- {2-methyl-4- (2,2-dimethyl-1,3-dioxolanyl) methoxybenzoyl } -9. H. -Carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime) and the like.

これらのうち、1,2−オクタンジオン1−[4−(フェニルチオ)−2−(O−ベンゾイルオキシム)]、エタノン−1−〔9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)、エタノン−1−〔9−エチル−6−(2−メチル−4−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)またはエタノン−1−〔9−エチル−6−{2−メチル−4−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラニル)メトキシベンゾイル}−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)が好ましい。  Among these, 1,2-octanedione 1- [4- (phenylthio) -2- (O-benzoyloxime)], ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazole -3-yl] -1- (O-acetyloxime), ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydrofuranylmethoxybenzoyl) -9. H. -Carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime) or ethanone-1- [9-ethyl-6- {2-methyl-4- (2,2-dimethyl-1,3-dioxolanyl) methoxybenzoyl } -9. H. -Carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime) is preferred.

アセトフェノン化合物としては、例えば、α−アミノケトン化合物、α−ヒドロキシケトン化合物が挙げられる。  Examples of acetophenone compounds include α-aminoketone compounds and α-hydroxyketone compounds.

α−アミノケトン化合物としては、例えば、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタン−1−オン、2−ジメチルアミノ−2−(4−メチルベンジル)−1−(4−モルフォリン−4−イル−フェニル)−ブタン−1−オン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン等が挙げられる。  Examples of the α-aminoketone compound include 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, 2-dimethylamino-2- (4-methylbenzyl) -1- ( 4-morpholin-4-yl-phenyl) -butan-1-one, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, and the like.

α−ヒドロキシケトン化合物としては、例えば、1−フェニル−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−(4−i−プロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が挙げられる。  Examples of the α-hydroxyketone compound include 1-phenyl-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one and 1- (4-i-propylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one. 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone and the like.

アセトフェノン化合物としては、α−アミノケトン化合物が好ましく、特に、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタン−1−オン、2−ジメチルアミノ−2−(4−メチルベンジル)−1−(4−モルフォリン−4−イル−フェニル)−ブタン−1−オン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オンが好ましい。  As the acetophenone compound, an α-aminoketone compound is preferable, and in particular, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, 2-dimethylamino-2- (4-methylbenzyl) ) -1- (4-morpholin-4-yl-phenyl) -butan-1-one, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one are preferred.

ビイミダゾール化合物としては、例えば、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾールまたは2,2’−ビス(2,4,6−トリクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾールが好ましく、そのうち、2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾールがより好ましい。  Examples of the biimidazole compound include 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2, 4-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole or 2,2′-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4 ′, 5 5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole is preferred, of which 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'- Biimidazole is more preferred.

[B−1]光ラジカル重合開始剤は、上述したように、単独でまたは2種以上を混合して使用できる。[B−1]光ラジカル重合開始剤の含有割合は、[A]重合体100質量部に対して、1質量部〜40質量部が好ましく、5質量部〜30質量部がより好ましい。[B−1]光ラジカル重合開始剤の使用割合を1質量部〜40質量部とすることで、感放射線性樹脂組成物は、低露光量であっても、高い耐溶媒性、高い硬度および高い密着性を有する硬化膜を形成することができ、そうした特性に優れた電極の樹脂部を提供できる。  [B-1] The radical photopolymerization initiator can be used alone or in admixture of two or more as described above. [B-1] The content ratio of the radical photopolymerization initiator is preferably 1 part by mass to 40 parts by mass, and more preferably 5 parts by mass to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer [A]. [B-1] By setting the use ratio of the photo radical polymerization initiator to 1 part by mass to 40 parts by mass, the radiation-sensitive resin composition has a high solvent resistance, a high hardness and a low exposure amount. A cured film having high adhesion can be formed, and an electrode resin portion having excellent characteristics can be provided.

次に、本実施形態の感放射線性樹脂組成物の[B]感光剤である[B−2]光酸発生剤としては、例えば、オキシムスルホネート化合物、オニウム塩、スルホンイミド化合物、ハロゲン含有化合物、ジアゾメタン化合物、スルホン化合物、スルホン酸エステル化合物、カルボン酸エステル化合物等が挙げられる。尚、これらの[B−2]光酸発生剤は、単独で使用してもよいし、2種以上を混合して使用してもよい。  Next, as [B-2] photoacid generator which is [B] photosensitizer of the radiation sensitive resin composition of this embodiment, for example, an oxime sulfonate compound, an onium salt, a sulfonimide compound, a halogen-containing compound, Examples thereof include diazomethane compounds, sulfone compounds, sulfonic acid ester compounds, and carboxylic acid ester compounds. These [B-2] photoacid generators may be used alone or in combination of two or more.

オキシムスルホネート化合物としては、下記式(1)で表されるオキシムスルホネート基を含む化合物が好ましい。  As the oxime sulfonate compound, a compound containing an oxime sulfonate group represented by the following formula (1) is preferable.

Figure 2015016087
Figure 2015016087

上記式(1)中、Rは、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のフルオロアルキル基、炭素数4〜12の脂環式炭化水素基、炭素数6〜20のアリール基、あるいはこれらのアルキル基、脂環式炭化水素基およびアリール基が有する水素原子の一部または全部が置換基で置換された基である。In the above formula (1), R a is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 4 to 12 carbon atoms, or an aryl having 6 to 20 carbon atoms. Or a group in which some or all of the hydrogen atoms of the alkyl group, alicyclic hydrocarbon group and aryl group are substituted with a substituent.

上記式(1)中のRで表されるアルキル基としては、炭素数1〜12の直鎖状または分岐状のアルキル基が好ましい。この炭素数1〜12の直鎖状または分岐状のアルキル基は置換基により置換されていてもよく、上記置換基としては、例えば、炭素数1〜10のアルコキシ基、7,7−ジメチル−2−オキソノルボルニル基等の有橋式脂環基を含む脂環式基等が挙げられる。炭素数1〜12のフルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプチルフルオロプロピル基等が挙げられる。The alkyl group represented by R a in the above formula (1) is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. The linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms may be substituted with a substituent, and examples of the substituent include an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms and 7,7-dimethyl- Examples thereof include alicyclic groups containing a bridged alicyclic group such as a 2-oxonorbornyl group. Examples of the fluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms include a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, a heptylfluoropropyl group, and the like.

上記Rで表される脂環式炭化水素基としては、炭素数4〜12の脂環式炭化水素基が好ましい。この炭素数4〜12の脂環式炭化水素基は置換基により置換されていてもよく、上記置換基としては、例えば、炭素数1〜5のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。As an alicyclic hydrocarbon group represented by said Ra, a C4-C12 alicyclic hydrocarbon group is preferable. The alicyclic hydrocarbon group having 4 to 12 carbon atoms may be substituted with a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group, and a halogen atom. .

上記Rで表されるアリール基としては、炭素数6〜20のアリール基が好ましく、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基がより好ましい。上記アリール基は置換基により置換されていてもよく、上記置換基としては、例えば、炭素数1〜5のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。The aryl group represented by R a is preferably an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and more preferably a phenyl group, a naphthyl group, a tolyl group, or a xylyl group. The aryl group may be substituted with a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group, and a halogen atom.

オニウム塩としては、例えば、ジフェニルヨードニウム塩、トリフェニルスルホニウム塩、スルホニウム塩、ベンゾチアゾニウム塩、テトラヒドロチオフェニウム塩等が挙げられる。  Examples of the onium salt include diphenyliodonium salt, triphenylsulfonium salt, sulfonium salt, benzothiazonium salt, tetrahydrothiophenium salt, and the like.

スルホンイミド化合物としては、例えば、N−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)スクシンイミド、N−(カンファスルホニルオキシ)スクシンイミド、N−(4−メチルフェニルスルホニルオキシ)スクシンイミド、N−(2−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ)スクシンイミド、N−(4−フルオロフェニルスルホニルオキシ)スクシンイミド、N−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)フタルイミド、N−(カンファスルホニルオキシ)フタルイミド、N−(2−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ)フタルイミド、N−(2−フルオロフェニルスルホニルオキシ)フタルイミド、N−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)ジフェニルマレイミド、N−(カンファスルホニルオキシ)ジフェニルマレイミド、N−(4−メチルフェニルスルホニルオキシ)ジフェニルマレイミド等が挙げられる。  Examples of the sulfonimide compound include N- (trifluoromethylsulfonyloxy) succinimide, N- (camphorsulfonyloxy) succinimide, N- (4-methylphenylsulfonyloxy) succinimide, N- (2-trifluoromethylphenylsulfonyl). Oxy) succinimide, N- (4-fluorophenylsulfonyloxy) succinimide, N- (trifluoromethylsulfonyloxy) phthalimide, N- (camphorsulfonyloxy) phthalimide, N- (2-trifluoromethylphenylsulfonyloxy) phthalimide, N- (2-fluorophenylsulfonyloxy) phthalimide, N- (trifluoromethylsulfonyloxy) diphenylmaleimide, N- (camphorsulfonyloxy) diphenyl Reimido, N-(4-methylphenyl-sulfonyloxy) include diphenyl maleimides and the like.

[B−2]光酸発生剤としては、オキシムスルホネート化合物、オニウム塩、スルホンイミド化合物が好ましく、オキシムスルホネート化合物がより好ましい。  [B-2] The photoacid generator is preferably an oxime sulfonate compound, an onium salt, or a sulfonimide compound, and more preferably an oxime sulfonate compound.

また、上記オニウム塩としては、テトラヒドロチオフェニウム塩、ベンジルスルホニウム塩が好ましく、4,7−ジ−n−ブトキシ−1−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、ベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェートがより好ましく、4,7−ジ−n−ブトキシ−1−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネートがさらに好ましい。上記スルホン酸エステル化合物としては、ハロアルキルスルホン酸エステルが好ましく、N−ヒドロキシナフタルイミド−トリフルオロメタンスルホン酸エステルがより好ましい。[B−2]光酸発生剤を上記化合物とすることで、得られる本実施形態の感放射線性樹脂組成物は、感度および溶解性を向上させることができる。  The onium salt is preferably a tetrahydrothiophenium salt or a benzylsulfonium salt, such as 4,7-di-n-butoxy-1-naphthyltetrahydrothiophenium trifluoromethanesulfonate, benzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexa Fluorophosphate is more preferable, and 4,7-di-n-butoxy-1-naphthyltetrahydrothiophenium trifluoromethanesulfonate is more preferable. As the sulfonic acid ester compound, a haloalkylsulfonic acid ester is preferable, and N-hydroxynaphthalimide-trifluoromethanesulfonic acid ester is more preferable. [B-2] By using a photoacid generator as the above compound, the obtained radiation-sensitive resin composition of the present embodiment can improve sensitivity and solubility.

[B−2]光酸発生剤の含有量としては、[A]重合体成分100質量部に対して、0.1質量部〜10質量部が好ましく、1質量部〜5質量部がより好ましい。[B−2]光酸発生剤の含有量を上記範囲とすることで、本実施形態の感放射線性樹脂組成物の感度を最適化し、表面硬度が高い硬化膜を形成でき、そうした特性に優れた電極の樹脂部を提供できる。  [B-2] The content of the photoacid generator is preferably 0.1 part by mass to 10 parts by mass and more preferably 1 part by mass to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer component [A]. . [B-2] By setting the content of the photoacid generator within the above range, the sensitivity of the radiation-sensitive resin composition of the present embodiment can be optimized, and a cured film having a high surface hardness can be formed. The resin portion of the electrode can be provided.

<[C]重合性化合物>
本発明の実施形態の感放射線性樹脂組成物は、[A]重合体および[B]感光剤とともに、[C]重合性化合物を含有することができる。本実施形態の感放射線性樹脂組成物は、[B]感光剤として[B−1]光ラジカル重合開始剤を選択し、さらに、[C]重合性化合物を含有させることで、ネガ型パターン形成用の感放射線性樹脂組成物として好適に使用することが可能である。
<[C] polymerizable compound>
The radiation sensitive resin composition of the embodiment of the present invention can contain a [C] polymerizable compound together with the [A] polymer and the [B] photosensitive agent. The radiation-sensitive resin composition of this embodiment selects a [B-1] photoradical polymerization initiator as a [B] photosensitizer, and further contains a [C] polymerizable compound, thereby forming a negative pattern. It can be suitably used as a radiation sensitive resin composition.

本実施形態の感放射線性樹脂組成物に含有可能な[C]重合性化合物としては、例えば、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート、エチレングリコール(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジ(メタ)アクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイロキシプロピルメタクリレート、2−(2’−ビニロキシエトキシ)エチル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリ{2−(メタ)アクリロイロキシエチル}フォスフェート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、コハク酸変性ペンタエリスリトールトリアクリレート等の他、直鎖アルキレン基および脂環式構造を有しかつ2個以上のイソシアネート基を有する化合物と、分子内に1個以上の水酸基を有しかつ3個〜5個の(メタ)アクリロイロキシ基を有する化合物とを反応させて得られるウレタン(メタ)アクリレート化合物等が挙げられる。  Examples of the [C] polymerizable compound that can be contained in the radiation-sensitive resin composition of the present embodiment include ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate, ethylene glycol (meth) acrylate, and 1,6-hexanediol diene. (Meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, bisphenoxyethanol full orange (meth) acrylate , Dimethylol tricyclodecane di (meth) acrylate, 2-hydroxy-3- (meth) acryloyloxypropyl methacrylate, 2- (2′-vinyloxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, trimethylol Lopantri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tri {2- (meth) acryloyloxy In addition to ethyl} phosphate, ethylene oxide-modified dipentaerythritol hexaacrylate, succinic acid-modified pentaerythritol triacrylate, etc., a compound having a linear alkylene group and an alicyclic structure and having two or more isocyanate groups, and a molecule Examples thereof include a urethane (meth) acrylate compound obtained by reacting a compound having one or more hydroxyl groups and having 3 to 5 (meth) acryloyloxy groups.

[C]重合性化合物は、単独で使用してもよいし、2種以上を混合して使用してもよい。  [C] A polymeric compound may be used independently and may be used in mixture of 2 or more types.

本発明の実施形態の感放射線性樹脂組成物における[C]重合性化合物の含有量としては、[A]重合体100質量部に対して20質量部〜200質量部が好ましく、40質量部〜160質量部がより好ましい。[C]重合性化合物の使用割合を上記範囲とすることで、密着性に優れ、低露光量においても十分な硬度を有する硬化膜を形成でき、そうした特性に優れた電極の樹脂部を提供できる。  As content of the [C] polymeric compound in the radiation sensitive resin composition of embodiment of this invention, 20 mass parts-200 mass parts are preferable with respect to 100 mass parts of [A] polymers, and 40 mass parts- 160 parts by mass is more preferable. [C] By setting the use ratio of the polymerizable compound in the above range, a cured film having excellent adhesion and sufficient hardness even at a low exposure amount can be formed, and a resin part of an electrode excellent in such characteristics can be provided. .

<[D]硬化促進剤>
本実施形態の感放射線性樹脂組成物は、上述した[A]重合体および[B]感光剤等に加え、さらに[D]硬化促進剤を含有することができる。[D]硬化促進剤は、硬化を促進する機能を果たす化合物であり、例えば、200℃以下の低温硬化による電極の樹脂部の形成を実現する点から好適である。
<[D] Curing accelerator>
The radiation-sensitive resin composition of the present embodiment can further contain [D] a curing accelerator in addition to the above-mentioned [A] polymer and [B] photosensitizer. [D] A curing accelerator is a compound that functions to accelerate curing, and is suitable, for example, from the viewpoint of realizing formation of a resin portion of an electrode by low-temperature curing at 200 ° C. or lower.

[D]硬化促進剤としては、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、3−アミノベンゼンスルホン酸エチル、3,5−ビストリフルオロメチル−1,2−ジアミノベンゼン、4−アミノニトロベンゼン、N,N−ジメチル−4−ニトロアニリン等の分子中に電子吸引性基とアミノ基を有する化合物、3級アミン化合物、アミド化合物、チオール化合物、ブロックイソシアネート化合物およびイミダゾール環含有化合物からなる群より選ばれる少なくとも1つの化合物を挙げることができる。  [D] Curing accelerators include 4,4′-diaminodiphenylsulfone, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, 2,2′-bis (trifluoromethyl) benzidine, 3-aminobenzene Compounds having an electron-withdrawing group and an amino group in the molecule such as ethyl sulfonate, 3,5-bistrifluoromethyl-1,2-diaminobenzene, 4-aminonitrobenzene, N, N-dimethyl-4-nitroaniline, Mention may be made of at least one compound selected from the group consisting of tertiary amine compounds, amide compounds, thiol compounds, blocked isocyanate compounds and imidazole ring-containing compounds.

本実施形態の感放射線性樹脂組成物が、上述の特定の化合物群から選択される[D]硬化促進剤を含有することで、感放射線性樹脂組成物の硬化が促進され、膜の低温硬化による電極の樹脂部の低温形成、具体的には200℃以下での形成を実現することができる。さらに、上述の[D]硬化促進剤を用いることで、感放射線性樹脂組成物の保存安定性を向上させることもできる。  The radiation-sensitive resin composition of the present embodiment contains [D] a curing accelerator selected from the above-mentioned specific compound group, whereby the curing of the radiation-sensitive resin composition is promoted and the film is cured at low temperature. It is possible to realize the low-temperature formation of the resin part of the electrode, specifically, the formation at 200 ° C. or lower. Furthermore, the storage stability of a radiation sensitive resin composition can also be improved by using the above-mentioned [D] hardening accelerator.

<その他の成分>
本実施形態の感放射線性樹脂組成物は、[A]重合体等の必須の成分や、[D]硬化促進剤の他、その他の任意成分を含有することができる。
<Other ingredients>
The radiation sensitive resin composition of this embodiment can contain other optional components in addition to the essential components such as the [A] polymer and the [D] curing accelerator.

本実施形態の感放射線性樹脂組成物は、その他の成分として、本発明の効果を損なわない範囲で必要に応じ、界面活性剤、保存安定剤、接着助剤、耐熱性向上剤等を含有できる。これらの各任意成分は、単独で使用してもよいし、2種以上を混合して使用してもよい。  The radiation-sensitive resin composition of the present embodiment can contain a surfactant, a storage stabilizer, an adhesion aid, a heat resistance improver, and the like, as other components, as long as the effects of the present invention are not impaired. . Each of these optional components may be used alone or in combination of two or more.

<感放射線性樹脂組成物の調製>
本発明の実施形態の感放射線性樹脂組成物は、[A]重合体および[B]感光剤等に加え、[D]硬化促進剤の他、所期の効果を損なわない範囲で必要に応じて上述したその他の任意成分を所定の割合で混合することにより調製される。本実施形態の感放射線性樹脂組成物は、好ましくは適当な溶媒に溶解されて溶液状態で用いられる。
<Preparation of radiation-sensitive resin composition>
The radiation-sensitive resin composition according to the embodiment of the present invention, if necessary, in addition to the [A] polymer and the [B] photosensitizer, in addition to the [D] curing accelerator, does not impair the desired effect. The other optional components described above are prepared by mixing at a predetermined ratio. The radiation sensitive resin composition of the present embodiment is preferably used in a solution state after being dissolved in an appropriate solvent.

感放射線性樹脂組成物の調製に用いられる溶媒としては、[A]重合体および[B]感光剤、並びに必要に応じて含有される[C]重合性化合物を均一に溶解または分散し、各成分と反応しないものが用いられる。そして、その溶媒は、[D]硬化促進剤や、その他の任意成分を均一に溶解または分散し、各成分と反応しないものが好ましい。  As a solvent used for the preparation of the radiation sensitive resin composition, [A] polymer and [B] photosensitizer, and [C] polymerizable compound contained as needed are uniformly dissolved or dispersed, Those that do not react with the components are used. The solvent is preferably a solvent that uniformly dissolves or disperses the [D] curing accelerator and other optional components and does not react with each component.

本実施形態の感放射線性樹脂組成物の調製に用いられる溶媒としては、例えば、アルコール、グリコールエーテル、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル、ジエチレングリコールジアルキルエーテル、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート、ケトン、エステル等が挙げられる。  Examples of the solvent used in the preparation of the radiation sensitive resin composition of the present embodiment include alcohol, glycol ether, ethylene glycol alkyl ether acetate, diethylene glycol monoalkyl ether, diethylene glycol dialkyl ether, dipropylene glycol dialkyl ether, and propylene glycol mono Examples include alkyl ether, propylene glycol alkyl ether acetate, propylene glycol monoalkyl ether propionate, ketone, ester and the like.

本実施形態の感放射線性樹脂組成物における溶媒の含有量は、特に限定されないが、得られる感放射線性樹脂組成物の塗布性、安定性等の観点から、感放射線性樹脂組成物の溶媒を除いた各成分の合計濃度が、5質量%〜50質量%となる量が好ましく、10質量%〜40質量%となる量がより好ましい。感放射線性樹脂組成物の溶液を調製する場合、実際には、上記濃度範囲において、所望の膜厚の値等に応じた固形分濃度(組成物溶液中に占める溶媒以外の成分)が設定される。  Although the content of the solvent in the radiation-sensitive resin composition of the present embodiment is not particularly limited, the solvent of the radiation-sensitive resin composition is selected from the viewpoints of applicability and stability of the resulting radiation-sensitive resin composition. The amount of the total concentration of the removed components is preferably 5% by mass to 50% by mass, and more preferably 10% by mass to 40% by mass. When preparing a solution of a radiation sensitive resin composition, actually, a solid content concentration (a component other than the solvent in the composition solution) corresponding to a desired film thickness value or the like is set in the above concentration range. The

このようにして調製された溶液状の組成物は、孔径0.5μm程度のミリポアフィルタ等を用いて濾過した後に壁状電極をなす電極の樹脂部の形成に使用することが好ましい。  The solution-like composition thus prepared is preferably used for forming a resin part of an electrode that forms a wall-like electrode after filtration using a Millipore filter having a pore diameter of about 0.5 μm.

次に、本実施形態の感放射線性樹脂組成物を用いた、壁状電極をなす電極の樹脂部の形成方法について説明する。  Next, the formation method of the resin part of the electrode which makes the wall-shaped electrode using the radiation sensitive resin composition of this embodiment is demonstrated.

<電極の樹脂部の形成方法>
壁状電極をなす電極の樹脂部の形成工程においては、上述した本実施形態の感放射線性樹脂組成物を用いて基板上に樹脂部を形成する工程が主要な工程として含まれる。この樹脂部の形成工程では、本実施形態の感放射線性樹脂組成物を用いて得られた塗膜のパターニング等が行われる。
<Method for forming resin part of electrode>
In the process of forming the resin part of the electrode forming the wall electrode, the process of forming the resin part on the substrate using the radiation-sensitive resin composition of the present embodiment described above is included as a main process. In this resin part forming step, patterning of a coating film obtained using the radiation-sensitive resin composition of the present embodiment is performed.

壁状電極をなす電極の樹脂部の形成方法では、基板上に所望形状の樹脂部が形成されるように、少なくとも下記の[1]工程〜[4]工程を含むことが好ましい。
[1]本実施形態の感放射線性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程(以下、「[1]工程」と称することがある。)
[2][1]工程で形成された感放射線性樹脂組成物の塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程(以下、「[2]工程」と称することがある。)
[3][2]工程で放射線が照射された塗膜を現像する工程(以下、「[3]工程」と称することがある。)
[4][3]工程で現像された塗膜を加熱硬化する工程(以下、「[4]工程」と称することがある。)
In the method for forming the resin part of the electrode forming the wall electrode, it is preferable to include at least the following steps [1] to [4] so that the resin part having a desired shape is formed on the substrate.
[1] A step of forming a coating film of the radiation-sensitive resin composition of the present embodiment on a substrate (hereinafter sometimes referred to as “[1] step”).
[2] A step of irradiating at least a part of the coating film of the radiation-sensitive resin composition formed in the step [1] (hereinafter sometimes referred to as “[2] step”).
[3] A step of developing the coating film irradiated with radiation in the [2] step (hereinafter sometimes referred to as “[3] step”).
[4] A step of heat-curing the coating film developed in the step [3] (hereinafter sometimes referred to as “step [4]”).

以下、[1]工程〜[4]工程について説明する。  Hereinafter, the steps [1] to [4] will be described.

[[1]工程]
壁状電極をなす電極の樹脂部の製造においては、[1]工程において、本実施形態の感放射線性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する。この基板の材料としては、例えば、ソーダライムガラスや無アルカリガラス等のガラス、シリコン、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド等を用いることができる。さらに、その基板には、所望によりシランカップリング剤等による薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着等の適宜の前処理を施しておくこともできる。
[[1] Step]
In the production of the resin part of the electrode forming the wall electrode, in the step [1], a coating film of the radiation sensitive resin composition of the present embodiment is formed on the substrate. As a material for this substrate, for example, glass such as soda lime glass or non-alkali glass, silicon, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethersulfone, polycarbonate, aromatic polyamide, polyamideimide, polyimide, or the like can be used. Further, the substrate may be subjected to appropriate pretreatment such as chemical treatment with a silane coupling agent, plasma treatment, ion plating, sputtering, gas phase reaction method, vacuum deposition, etc., if desired.

また、本発明の実施形態の液晶表示素子が、アクティブマトリクス方式の液晶表示素子である場合、基板としては、走査線と信号線とがマトリクス状に配線され、その走査線と信号線の各交点にTFT等のアクティブ素子が設けられ、さらに、信号線と平行にコモン線が配線されて全ての画素に接続されるように形成された基板を用いることができる  Further, when the liquid crystal display element of the embodiment of the present invention is an active matrix type liquid crystal display element, as a substrate, scanning lines and signal lines are wired in a matrix, and each intersection of the scanning lines and the signal lines. In addition, an active element such as a TFT can be provided, and a substrate formed so that a common line is wired in parallel with the signal line and connected to all pixels can be used.

本実施形態の感放射線性樹脂組成物の塗布方法としては、例えば、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法(スピンコート法またはスピンナ法と称されることもある。)、スリット塗布法(スリットダイ塗布法と称されることもある。)、バー塗布法、インクジェット塗布法等の適宜の方法が採用できる。これらのうち、均一な厚みの膜を形成できる点から、スピンコート法またはスリット塗布法が好ましい。  Examples of the coating method of the radiation sensitive resin composition of the present embodiment include a spray method, a roll coating method, a spin coating method (sometimes referred to as a spin coating method or a spinner method), a slit coating method (slits). An appropriate method such as a bar coating method or an ink jet coating method may be employed. Of these, the spin coating method or the slit coating method is preferable because a film having a uniform thickness can be formed.

塗布法により感放射線性樹脂組成物の塗膜を形成する場合、基板の上に感放射線性樹脂組成物を塗布した後、好ましくは塗布面を加熱(プレベーク)することにより溶媒を蒸発させ、塗膜を形成することができる。  When forming the coating film of the radiation sensitive resin composition by the coating method, after applying the radiation sensitive resin composition on the substrate, the solvent is preferably evaporated by heating (prebaking) the coating surface. A film can be formed.

上述のプレベークの条件としては、感放射線性樹脂組成物を構成する各成分の種類、配合割合等によって異なるが、温度は70℃〜120℃が好ましく、時間は1分間〜15分間程度が好ましい。塗膜のプレベーク後の膜厚は、0.5μm〜10μmが好ましく、1.0μm〜7.0μm程度がより好ましい。  Although the prebaking conditions described above vary depending on the type of each component constituting the radiation-sensitive resin composition, the blending ratio, etc., the temperature is preferably 70 ° C. to 120 ° C., and the time is preferably about 1 minute to 15 minutes. The film thickness after pre-baking of the coating film is preferably 0.5 μm to 10 μm, and more preferably about 1.0 μm to 7.0 μm.

[[2]工程]
次いで、[1]工程で基板上に形成された塗膜の少なくとも一部に、放射線を照射する。このとき、所望の位置に電極の樹脂部を形成するため、塗膜の一部に放射線を照射するが、例えば、所定のパターンを有するフォトマスクを介して行うことができる。
[[2] Process]
Next, at least a part of the coating film formed on the substrate in the step [1] is irradiated with radiation. At this time, in order to form the resin part of the electrode at a desired position, a part of the coating film is irradiated with radiation. For example, it can be performed through a photomask having a predetermined pattern.

照射に使用される放射線としては、可視光線、紫外線、遠紫外線等が挙げられる。このうち波長が250nm〜550nmの範囲にある放射線が好ましく、365nmの紫外線を含む放射線がより好ましい。  Examples of radiation used for irradiation include visible light, ultraviolet light, and far ultraviolet light. Of these, radiation having a wavelength in the range of 250 nm to 550 nm is preferable, and radiation including ultraviolet light of 365 nm is more preferable.

放射線照射量(露光量とも言う。)は、照射される放射線の波長365nmにおける強度を照度計(OAI model 356、Optical Associates Inc.製)により測定した値として、10J/m〜10,000J/mとすることができ、100J/m〜5000J/mが好ましく、200J/m〜3000J/m がより好ましい。  The radiation dose (also referred to as exposure dose) is 10 J / m as a value obtained by measuring the intensity of irradiated radiation at a wavelength of 365 nm with an illuminometer (OAI model 356, manufactured by Optical Associates Inc.).2-10,000J / m2100 J / m2~ 5000J / m2Is preferable, 200 J / m2~ 3000J / m 2Is more preferable.

壁状電極をなす電極の樹脂部の形成に用いられる感放射線性樹脂組成物は、従来知られている技術、例えば、液晶表示素子における樹脂製のスペーサを形成するための組成物と比較して放射線感度が高い。例えば、上記放射線照射量が700J/m以下、さらには600J/m以下であっても、所望の膜厚、良好な形状、優れた密着性および高い硬度の硬化膜として電極の樹脂部を得ることができる。The radiation-sensitive resin composition used for forming the resin portion of the electrode forming the wall electrode is compared with a conventionally known technique, for example, a composition for forming a resin spacer in a liquid crystal display element. High radiation sensitivity. For example, even if the radiation irradiation amount is 700 J / m 2 or less, and even 600 J / m 2 or less, the resin portion of the electrode can be used as a cured film having a desired film thickness, good shape, excellent adhesion, and high hardness. Can be obtained.

[[3]工程]
次に、[2]工程の放射線照射後の塗膜を現像して不要な部分を除去し、所定の形状の電極の樹脂部のパターンを得る。
[[3] Process]
Next, the coating film after radiation irradiation in the step [2] is developed to remove unnecessary portions, and a pattern of the resin portion of the electrode having a predetermined shape is obtained.

現像に使用される現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム等の無機アルカリや、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の4級アンモニウム塩や、コリン、1,8−ジアザビシクロ−[5.4.0]−7−ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ−[4.3.0]−5−ノネン等のアルカリ性化合物の水溶液が使用できる。上述のアルカリ性化合物の水溶液には、メタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒を適当量添加して使用することもできる。さらに、界面活性剤をそれのみで、または、上述の水溶性有機溶媒を添加とともに、適当量添加して使用することもできる。  Examples of the developer used for development include inorganic alkalis such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and sodium carbonate, quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium hydroxide and tetraethylammonium hydroxide, choline, An aqueous solution of an alkaline compound such as 8-diazabicyclo- [5.4.0] -7-undecene and 1,5-diazabicyclo- [4.3.0] -5-nonene can be used. An appropriate amount of a water-soluble organic solvent such as methanol or ethanol can be added to the aqueous solution of the alkaline compound described above. Furthermore, it is possible to use the surfactant alone or in addition to the above-mentioned water-soluble organic solvent and an appropriate amount.

現像方法は、液盛り法、ディッピング法、シャワー法、スプレー法等のいずれでもよく、現像時間は、常温で5秒間〜300秒間とすることができ、好ましくは常温で10秒間〜180秒間程度である。現像処理に続いて、例えば、流水洗浄を30秒間〜90秒間行った後、圧縮空気や圧縮窒素で風乾することによって、所望の電極の樹脂部のパターンが得られる。  The developing method may be any of a liquid filling method, a dipping method, a shower method, a spraying method, etc., and the developing time can be 5 seconds to 300 seconds at room temperature, preferably 10 seconds to 180 seconds at room temperature. is there. Subsequent to the development processing, for example, washing with running water is performed for 30 seconds to 90 seconds, and then air drying is performed with compressed air or compressed nitrogen, whereby a desired pattern of the resin portion of the electrode is obtained.

[[4]工程]
次いで、[3]工程で得られた、電極の樹脂部のパターンをなす塗膜を、ホットプレート、オーブン等の適当な加熱装置により硬化(ポストベークとも言う。)する。これにより、硬化膜としての壁状電極をなす電極の樹脂部が得られる。
[[4] Process]
Next, the coating film forming the resin part pattern of the electrode obtained in the step [3] is cured (also referred to as post-baking) by a suitable heating device such as a hot plate or oven. Thereby, the resin part of the electrode which makes the wall-shaped electrode as a cured film is obtained.

本実施形態の感放射線性樹脂組成物によれば、硬化温度を200℃以下とすることが可能である。さらに、樹脂基板上での形成により好適な180℃以下であっても十分な特性の絶縁膜が得られる。具体的には、硬化温度を100℃〜200℃とすることが好ましく、低温硬化と耐熱性を高いレベルで両立させようとする場合、150℃〜180℃とすることがより好ましい。硬化時間は、例えば、ホットプレート上では5分間〜30分間とすることが好ましく、オーブン中では30分間〜180分間とすることが好ましい。  According to the radiation sensitive resin composition of the present embodiment, the curing temperature can be 200 ° C. or lower. Furthermore, an insulating film having sufficient characteristics can be obtained even when the temperature is less than 180 ° C., which is suitable for formation on the resin substrate. Specifically, the curing temperature is preferably 100 ° C. to 200 ° C., and more preferably 150 ° C. to 180 ° C. when trying to achieve both low temperature curing and heat resistance at a high level. For example, the curing time is preferably 5 to 30 minutes on a hot plate, and preferably 30 to 180 minutes in an oven.

以上の形成方法に従い、基板上に、壁状電極をなす電極の樹脂部を形成することが可能である。壁状電極をなす電極の樹脂部は、その断面形状が順テーパー形状(パターンの断面形状が底辺部から離れるにしたがってその幅が徐々に狭くなっている形状)であることが好ましく、断面形状のテーパー角(パターンの断面形状の底辺と、エッジ部の接線がなす角、以下同じ。)が80°以下であることが好ましく、60°以下であることがさらに好ましい。上述のテーパー角とすることで、壁状電極の周辺部および壁状電極をスペーサとして用いた場合のスペーサ周辺部において、光漏れを低減させることができる。これは液晶配向剤として後述の光配向剤とした場合に効果が顕著となる。そして、上述したように、樹脂部上には、公知の方法に従い、例えば、ITO等からなる導電部を設けることが可能であり、壁状電極をなす電極を形成することができる。そして、壁状電極をなす電極の形成された基板は、上述した本発明の実施形態の液晶表示素子用として好適に用いることができる。  According to the above formation method, it is possible to form a resin portion of an electrode forming a wall electrode on a substrate. The resin part of the electrode forming the wall electrode is preferably a forward tapered shape (a shape in which the width gradually decreases as the cross-sectional shape of the pattern becomes farther from the bottom side), The taper angle (the angle formed by the tangent of the edge of the cross-sectional shape of the pattern and the edge, hereinafter the same) is preferably 80 ° or less, and more preferably 60 ° or less. By setting the taper angle as described above, light leakage can be reduced at the periphery of the wall electrode and at the spacer periphery when the wall electrode is used as a spacer. This is particularly effective when the liquid crystal aligning agent is a photo-aligning agent described later. And as above-mentioned, according to a well-known method, it is possible to provide the electroconductive part which consists of ITO etc. on the resin part, and the electrode which makes a wall-shaped electrode can be formed. And the board | substrate with which the electrode which makes a wall-shaped electrode was formed can be used suitably for the liquid crystal display elements of embodiment of this invention mentioned above.

また、壁状電極をなす電極の形成された基板を用いて本実施形態の液晶表示素子を提供するに際し、その基板には、液晶の配向を制御するための配向膜を設けることが好ましい。したがって次に、本実施形態の液晶表示素子において設けることができる、本発明の実施形態の配向膜について説明し、特に、配向膜を形成する本発明の実施形態の液晶配向剤について説明する。  Moreover, when providing the liquid crystal display element of this embodiment using the board | substrate with which the electrode which makes | forms a wall-like electrode was formed, it is preferable to provide the alignment film for controlling the orientation of a liquid crystal in the board | substrate. Therefore, next, the alignment film of the embodiment of the present invention that can be provided in the liquid crystal display element of the present embodiment will be described, and in particular, the liquid crystal alignment agent of the embodiment of the present invention that forms the alignment film will be described.

<液晶配向剤>
本発明の実施形態の液晶配向剤としては公知の液晶配向剤を使用することができる。通常液晶配向剤から形成された塗膜にラビング処理を施したり、偏光照射による光配向処理を施すことによって液晶配向能を付与する。本発明の液晶配向剤としては、光配向処理を施すことにより液晶配向能を発現する液晶配向剤(以下、光配向剤と言うことがある。)であることが好ましい。
<Liquid crystal aligning agent>
As the liquid crystal aligning agent of the embodiment of the present invention, a known liquid crystal aligning agent can be used. Usually, the coating film formed from the liquid crystal aligning agent is subjected to a rubbing treatment or a photo-alignment treatment by polarized light irradiation to impart liquid crystal alignment ability. As a liquid crystal aligning agent of this invention, it is preferable that it is a liquid crystal aligning agent (henceforth a photo-aligning agent) which expresses liquid crystal aligning ability by performing a photo-alignment process.

光配向剤としては、光配向性構造を有する重合体を含有するものとしてもよい。ここで、光配向性構造とは、光配向性基および分解型光配向部の両者を含む概念である。具体的には、光配向性構造としては、光異性化や光二量化、光分解、光フリース転移等によって光配向性を示す種々の化合物由来の基を採用することができ、例えば、アゾベンゼンまたはその誘導体を基本骨格として含有するアゾベンゼン含有基、桂皮酸またはその誘導体を基本骨格として含有する桂皮酸構造を有する基、カルコンまたはその誘導体を基本骨格として含有するカルコン含有基、ベンゾフェノンまたはその誘導体を基本骨格として含有するベンゾフェノン含有基、クマリンまたはその誘導体を基本骨格として含有するクマリン含有基、シクロブタン骨格構造含有基、芳香族エステル構造含有基等が挙げられる。これらのうち、桂皮酸構造を有する基、シクロブタン骨格構造含有基、芳香族エステル構造含有基であることが好ましい。これらは、例えば、特開平6−287453号公報、特開平9−297313号公報、特願2013−60878号に記載された方法に従って得ることができる。  As a photo-alignment agent, it is good also as what contains the polymer which has a photo-alignment structure. Here, the photo-alignment structure is a concept including both a photo-alignment group and a decomposition type photo-alignment part. Specifically, groups derived from various compounds that exhibit photoalignment by photoisomerization, photodimerization, photolysis, photofleece transition, etc. can be employed as the photoalignment structure, for example, azobenzene or its Azobenzene-containing group containing derivative as basic skeleton, group having cinnamic acid structure containing cinnamic acid or its derivative as basic skeleton, chalcone-containing group containing chalcone or its derivative as basic skeleton, benzophenone or its derivative as basic skeleton A benzophenone-containing group, a coumarin-containing group containing coumarin or a derivative thereof as a basic skeleton, a cyclobutane skeleton structure-containing group, an aromatic ester structure-containing group, and the like. Among these, a group having a cinnamic acid structure, a cyclobutane skeleton structure-containing group, and an aromatic ester structure-containing group are preferable. These can be obtained, for example, according to the methods described in JP-A-6-287453, JP-A-9-297313, and Japanese Patent Application No. 2013-60878.

上述の重合体の基本骨格としては、例えば、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド、ポリオルガノシロキサン、ポリ(メタ)アクリル酸エステル、ポリ(メタ)アクリルアミド、ポリビニルエーテル、ポリオレフィン等を挙げることができるが、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド、ポリオルガノシロキサンであることが好ましい。  Examples of the basic skeleton of the above polymer include polyamic acid, polyamic acid ester, polyimide, polyorganosiloxane, poly (meth) acrylic acid ester, poly (meth) acrylamide, polyvinyl ether, and polyolefin. , Polyamic acid, polyamic acid ester, polyimide, and polyorganosiloxane are preferable.

光配向剤は上述の光配向性構造を有する重合体以外の重合体、硬化剤、硬化触媒、硬化促進剤、エポキシ化合物、官能性シラン化合物、界面活性剤、光増感剤等をさらに含有することができる。  The photoalignment agent further contains a polymer other than the polymer having the photoalignment structure described above, a curing agent, a curing catalyst, a curing accelerator, an epoxy compound, a functional silane compound, a surfactant, a photosensitizer, and the like. be able to.

<配向膜の形成>
次に、本発明の実施形態の配向膜の形成方法について説明する。
<Formation of alignment film>
Next, a method for forming an alignment film according to an embodiment of the present invention will be described.

配向膜の形成は、例えば、上述のようにして壁状電極をなす電極が形成された基板を用い、本実施形態の液晶配向剤を塗布する。塗布方法としては、例えば、ロールコーター法、スピンナ法、印刷法、インクジェット法等を挙げることができる。  For forming the alignment film, for example, the liquid crystal aligning agent of the present embodiment is applied using the substrate on which the electrode forming the wall electrode is formed as described above. Examples of the coating method include a roll coater method, a spinner method, a printing method, and an ink jet method.

次いで、液晶配向剤の塗布された基板をプレベークし、その後、ポストベークすることにより塗膜を形成する。  Next, the substrate coated with the liquid crystal aligning agent is pre-baked and then post-baked to form a coating film.

プレベーク条件は、例えば、温度が40℃〜120℃で、時間が0.1分間〜5分間である。ポストベーク条件の温度は、好ましくは120℃〜250℃であり、より好ましくは150℃〜230℃であり、さらに好ましくは180℃〜230℃である。また、ポストベークの時間は、ホットプレートやオーブン等の加熱装置によって異なるが、通常は、好ましくは5分間〜200分間であり、より好ましくは10分間〜100分間である。ポストベーク後の塗膜の膜厚は、好ましくは0.001μm〜1μmであり、より好ましくは0.005μm〜0.5μmである。  Prebaking conditions are, for example, a temperature of 40 ° C. to 120 ° C. and a time of 0.1 minutes to 5 minutes. The temperature of the post-bake conditions is preferably 120 ° C to 250 ° C, more preferably 150 ° C to 230 ° C, and further preferably 180 ° C to 230 ° C. Moreover, although the time of post-baking changes with heating apparatuses, such as a hotplate and oven, Usually, it is preferably 5 minutes-200 minutes, More preferably, it is 10 minutes-100 minutes. The film thickness of the coating film after post-baking is preferably 0.001 μm to 1 μm, more preferably 0.005 μm to 0.5 μm.

液晶配向剤を塗布する際に使用される液晶配向剤の固形分濃度(液晶配向剤の溶媒以外の成分の合計重量が液晶配向剤の全重量に占める割合)は、粘性、揮発性等を考慮して適宜に選択されるが、好ましくは、1重量%〜10重量%である。  The solid content concentration of the liquid crystal aligning agent used when applying the liquid crystal aligning agent (the ratio of the total weight of components other than the solvent of the liquid crystal aligning agent to the total weight of the liquid crystal aligning agent) takes viscosity, volatility, etc. into consideration However, it is preferably 1 to 10% by weight.

液晶配向剤として、光配向剤を用いる場合は、上述の塗膜に、直線偏光もしくは部分偏光された放射線、または、非偏光の放射線を照射することにより、液晶配向制御能を付与する。こうした偏光放射線の照射は、配向膜の配向処理に対応する。  When a photo-alignment agent is used as the liquid crystal aligning agent, liquid crystal alignment control ability is imparted by irradiating the above-mentioned coating film with linearly polarized light, partially polarized light, or non-polarized radiation. Such irradiation of polarized radiation corresponds to the alignment treatment of the alignment film.

ここで、放射線としては、例えば、150nm〜800nmの波長の光を含む紫外線および可視光線を用いることができる。特に、放射線として、200nm〜400nmの波長の光を含む紫外線を用いることが好ましい。使用する放射線が直線偏光または部分偏光している場合には、照射は基板面に垂直の方向から行っても、プレチルト角を付与するために斜め方向から行ってもよく、また、これらを組み合わせて行ってもよい。非偏光の放射線を照射する場合には、照射の方向は斜め方向である必要がある。  Here, as the radiation, for example, ultraviolet rays and visible rays including light having a wavelength of 150 nm to 800 nm can be used. In particular, it is preferable to use ultraviolet rays including light having a wavelength of 200 nm to 400 nm as radiation. When the radiation used is linearly polarized or partially polarized, irradiation may be performed from a direction perpendicular to the substrate surface, or from an oblique direction to give a pretilt angle, or a combination of these. You may go. When irradiating non-polarized radiation, the direction of irradiation needs to be an oblique direction.

放射線の照射量としては、好ましくは1J/m以上であって10000J/mより少ない量であり、より好ましくは10J/m〜3000J/mである。The irradiation dose of radiation, preferably an amount of less than 10000 J / m 2 A at 1 J / m 2 or more, more preferably 10J / m 2 ~3000J / m 2 .

液晶配向剤として、光配向剤以外の液晶配向剤を用いる場合は、ポストベーク後の塗膜を配向膜として使用することも可能である。そして、必要に応じて、ポストベーク後の塗膜に対し、例えば、ナイロン、レーヨン、コットン等の繊維からなる布を巻き付けたロールで一定方向に擦る処理(ラビング処理)を施して、液晶配向制御能を付与することが可能である。  When a liquid crystal aligning agent other than the photo-aligning agent is used as the liquid crystal aligning agent, the post-baked coating film can be used as the alignment film. And, if necessary, the coating film after post-baking is subjected to a rubbing process (rubbing process) with a roll wound with a cloth made of fibers such as nylon, rayon, cotton, etc. to control liquid crystal alignment. It is possible to give the ability.

こうして製造された、本実施形態の壁状電極をなす電極と配向膜の形成された基板は、本発明の実施形態の液晶表示素子の製造に好適に用いることができる。  The thus-produced substrate on which the electrode forming the wall-like electrode and the alignment film are formed can be suitably used for manufacturing the liquid crystal display element of the embodiment of the present invention.

例えば、上述した壁状電極をなす電極と配向膜の形成された基板を第1の基板とする。そして、それと対向配置される基板を第2の基板として、上記と同様の方法で、配向膜を形成する。そして、シール材を用いた第1の基板と第2の基板の貼り合せおよび液晶の封入を行い、その後、偏光板の貼り合せ等を行って、本発明の実施形態の液晶表示素子を製造することができる。  For example, the above-described substrate on which the electrode forming the wall electrode and the alignment film are formed is used as the first substrate. Then, an alignment film is formed by the same method as described above, using the second substrate as the second substrate. Then, the first substrate and the second substrate using the sealing material are bonded together and the liquid crystal is sealed, and then the polarizing plate is bonded and the liquid crystal display element according to the embodiment of the present invention is manufactured. be able to.

尚、第2の基板として、公知のカラーフィルタを備えたカラーフィルタ基板を用いた場合、本発明の実施形態の液晶表示素子は、カラー液晶表示素子を構成することができる。  When a color filter substrate having a known color filter is used as the second substrate, the liquid crystal display element of the embodiment of the present invention can constitute a color liquid crystal display element.

以上のようにして、基板上に壁状電極をなす電極を形成し、配向膜等を形成して、高い表示効率を有する本発明の実施形態の液晶表示素子を製造することができる。  As described above, the liquid crystal display element of the embodiment of the present invention having high display efficiency can be manufactured by forming the electrode forming the wall electrode on the substrate and forming the alignment film.

尚、本発明は上記各実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において、種々変形して実施することができる。  The present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

本発明の液晶表示素子は、本発明の感放射線性樹脂組成物を用いて壁状の電極を形成し、それを用いた液晶の駆動を行うことにより、高い表示効率を示すことができる。したがって、本発明の液晶表示素子は、大型液晶TV等の用途の他、最近、低消費電力化および高画質化が強く求められているスマートフォン等の携帯情報機器の表示素子の用途にも好適である。  The liquid crystal display element of this invention can show high display efficiency by forming a wall-shaped electrode using the radiation sensitive resin composition of this invention, and driving the liquid crystal using the same. Therefore, the liquid crystal display element of the present invention is suitable not only for applications such as large-sized liquid crystal TVs, but also for display elements of portable information devices such as smartphones, which have recently been strongly demanded for low power consumption and high image quality. is there.

1、101、201 液晶表示素子
2 第1の基板
3 第2の基板
4 液晶
5、6、15、16、106、206 電極
7 液晶分子
9、10、210 樹脂部
11、12、212 導電部
17、18 配線
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 101, 201 Liquid crystal display element 2 1st board | substrate 3 2nd board | substrate 4 Liquid crystal 5, 6, 15, 16, 106, 206 Electrode 7 Liquid crystal molecule 9, 10, 210 Resin part 11, 12, 212 Conductive part 17 18 wiring

Claims (8)

対向配置された第1の基板および第2の基板の間に液晶を挟持し、
前記第1の基板の前記第2の基板と対向する面に一対の電極を配置して、
前記一対の電極間に印加される電界により前記液晶を駆動する液晶表示素子であって、
前記一対の電極の少なくとも一方が、前記第1の基板の面から前記第2の基板側に向けて突設された壁状の樹脂部と、該樹脂部の側面の少なくとも一部を含む領域に設けられた導電性部材からなる導電部とを有する壁状電極であり、
前記壁状の樹脂部が、
[A]重合体、および
[B]感光剤
を含む感放射線性樹脂組成物を用いて形成されることを特徴とする液晶表示素子。
A liquid crystal is sandwiched between the first substrate and the second substrate disposed opposite to each other;
A pair of electrodes are disposed on a surface of the first substrate facing the second substrate,
A liquid crystal display element for driving the liquid crystal by an electric field applied between the pair of electrodes,
At least one of the pair of electrodes is in a region including a wall-shaped resin portion projecting from the surface of the first substrate toward the second substrate, and at least a part of a side surface of the resin portion. A wall-like electrode having a conductive portion made of a conductive member provided,
The wall-shaped resin part is
[A] A liquid crystal display element formed using a radiation-sensitive resin composition containing a polymer and [B] a photosensitizer.
前記一対の電極間に印加される電界は、前記第1の基板の前記第2の基板に対向する面と平行な成分を有することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示素子。  The liquid crystal display element according to claim 1, wherein the electric field applied between the pair of electrodes has a component parallel to a surface of the first substrate facing the second substrate. 前記一対の電極はいずれも前記壁状電極であり、
該一対の壁状電極の導電部はそれぞれ、互いに対向する部分を有するように構成されることを特徴とする請求項1または2に記載の液晶表示素子。
Each of the pair of electrodes is the wall electrode,
The liquid crystal display element according to claim 1, wherein the conductive portions of the pair of wall-shaped electrodes are configured to have portions facing each other.
[B]感光剤が光ラジカル重合開始剤および光酸発生剤のうちから選ばれる少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の液晶表示素子。  [B] The liquid crystal display element according to any one of claims 1 to 3, wherein the photosensitive agent contains at least one selected from a photo radical polymerization initiator and a photo acid generator. 前記壁状の樹脂部は断面形状が順テーパー形状であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の液晶表示素子。  The liquid crystal display element according to claim 1, wherein the wall-shaped resin portion has a forward tapered shape in cross section. 光配向剤を用いて形成された配向膜を有することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の液晶表示素子。  The liquid crystal display element according to claim 1, further comprising an alignment film formed using a photoalignment agent. [A]重合体、
[B−1]光ラジカル重合開始剤、および
[C]重合性化合物
を含む感放射線性樹脂組成物であって、請求項1〜6のいずれか1項に記載の液晶表示素子の前記壁状電極の前記壁状の樹脂部の形成に用いられることを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
[A] polymer,
It is a radiation sensitive resin composition containing [B-1] radical photopolymerization initiator and [C] polymeric compound, Comprising: The said wall shape of the liquid crystal display element of any one of Claims 1-6 A radiation-sensitive resin composition used for forming the wall-shaped resin portion of an electrode.
[A]重合体、および
[B−2]光酸発生剤
を含む感放射線性樹脂組成物であって、請求項1〜6のいずれか1項に記載の液晶表示素子の前記壁状電極の前記壁状の樹脂部の形成に用いられることを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
A radiation-sensitive resin composition comprising [A] a polymer and [B-2] a photoacid generator, wherein the wall-shaped electrode of the liquid crystal display element according to any one of claims 1 to 6 is used. A radiation-sensitive resin composition used for forming the wall-shaped resin portion.
JP2015529519A 2013-07-30 2014-07-18 Liquid crystal display element and radiation sensitive resin composition Expired - Fee Related JP6299762B2 (en)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013158317 2013-07-30
JP2013158317 2013-07-30
JP2013219403 2013-10-22
JP2013219403 2013-10-22
PCT/JP2014/069192 WO2015016087A1 (en) 2013-07-30 2014-07-18 Liquid crystal display element and radiation-sensitive resin composition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2015016087A1 true JPWO2015016087A1 (en) 2017-03-02
JP6299762B2 JP6299762B2 (en) 2018-03-28

Family

ID=52431625

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015529519A Expired - Fee Related JP6299762B2 (en) 2013-07-30 2014-07-18 Liquid crystal display element and radiation sensitive resin composition

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6299762B2 (en)
KR (1) KR20160037910A (en)
TW (1) TW201506492A (en)
WO (1) WO2015016087A1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW202131069A (en) * 2020-02-05 2021-08-16 日商Jsr股份有限公司 Liquid crystal display device and method for manufacturing the same, radiation-sensitive composition, and interlayer insulation film and method for manufacturing the same

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09258265A (en) * 1996-03-19 1997-10-03 Sharp Corp Liquid crystal display device
JP2000338520A (en) * 1999-05-26 2000-12-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd Liquid crystal display device
JP2009216728A (en) * 2008-03-06 2009-09-24 Sumitomo Chemical Co Ltd Photosensitive resin composition, pattern obtained from it, and display device
JP2009237412A (en) * 2008-03-28 2009-10-15 Sanyo Chem Ind Ltd Photosensitive resin composition
JP2011065090A (en) * 2009-09-18 2011-03-31 Hitachi Displays Ltd Liquid crystal display apparatus
JP2013257393A (en) * 2012-06-12 2013-12-26 Japan Display Inc Liquid crystal display device

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09258265A (en) * 1996-03-19 1997-10-03 Sharp Corp Liquid crystal display device
JP2000338520A (en) * 1999-05-26 2000-12-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd Liquid crystal display device
JP2009216728A (en) * 2008-03-06 2009-09-24 Sumitomo Chemical Co Ltd Photosensitive resin composition, pattern obtained from it, and display device
JP2009237412A (en) * 2008-03-28 2009-10-15 Sanyo Chem Ind Ltd Photosensitive resin composition
JP2011065090A (en) * 2009-09-18 2011-03-31 Hitachi Displays Ltd Liquid crystal display apparatus
JP2013257393A (en) * 2012-06-12 2013-12-26 Japan Display Inc Liquid crystal display device

Also Published As

Publication number Publication date
TW201506492A (en) 2015-02-16
JP6299762B2 (en) 2018-03-28
WO2015016087A1 (en) 2015-02-05
KR20160037910A (en) 2016-04-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5966328B2 (en) Array substrate, liquid crystal display element, and method of manufacturing array substrate
KR101910440B1 (en) Microlens array, and stereoscopic image display device
CN101290419B (en) Liquid crystal display panel and fabricating methods thereof
JP6350521B2 (en) Array substrate, liquid crystal display element, and radiation-sensitive resin composition
JP5835051B2 (en) Array substrate, liquid crystal display element, and method of manufacturing array substrate
JP6274039B2 (en) Radiation-sensitive resin composition, insulating film and display element
JP2016138992A (en) Liquid crystal display device and radiation-sensitive resin composition
JP6299762B2 (en) Liquid crystal display element and radiation sensitive resin composition
JP2009229934A (en) Radiation sensitive resin composition, spacer and protective film for liquid crystal display element, and manufacturing method therefor
US20180239239A1 (en) Photomask for optical alignment and optical alignment method
KR20160102116A (en) Manufacturing method for liquid crystal display device, radiation-sensitive resin composition and liquid crystal display device
JP2013221954A (en) Liquid crystal element, radiation-sensitive resin composition, spacer forming method and spacer
JP6384308B2 (en) Liquid crystal display element and radiation sensitive resin composition
JP6661904B2 (en) Display device and method of manufacturing display device
KR20120002864A (en) A black photosensitive resin composition, color filter and liquid crystal display device having the same
JP2008310116A (en) Method of manufacturing substrate for liquid crystal display device
KR102059430B1 (en) Microlens array, and stereoscopic image display device
WO2018218884A1 (en) Liquid crystal panel and manufacturing method therefor, liquid crystal display
JP7298631B2 (en) Method for manufacturing liquid crystal display element, radiation-sensitive composition, interlayer insulating film, and liquid crystal display element
TWI531828B (en) Array substrate, liquid crystal display device, and method for producing array substrate
KR20130045733A (en) Display panel and method for manufacturing the same
JP2013246378A (en) Method for forming display device
KR20070028767A (en) Method for manufacturing color filter for liquid crystal display device
KR20070110976A (en) Method for manufacturing color filter substrate for liquid crystal display
KR101979012B1 (en) Photosensitive Composition for Patterning Black Matrix and Process for forming Patterns of Black Matrix Using the Composition

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20161011

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170106

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170725

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170906

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180130

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180212

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6299762

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees