JPWO2014065294A1 - Laminated body and manufacturing method thereof, retardation film, polarizing plate, and IPS liquid crystal panel - Google Patents

Laminated body and manufacturing method thereof, retardation film, polarizing plate, and IPS liquid crystal panel Download PDF

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Abstract

基材(A1)及び前記基材(A1)に接した固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)を備える複層フィルム(A)と、固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)及び前記固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)に接した樹脂層(B2)を備える複層フィルム(B)と、前記固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)の前記基材(A1)とは反対側の面と前記固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)の前記樹脂層(B2)とは反対側の面との間に、単独で介在する1層の接着層とを備える、積層体。A multilayer film (A) comprising a substrate (A1) and a layer (A2) of a non-liquid crystalline material having positive intrinsic birefringence in contact with the substrate (A1); and a non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence And a multilayer film (B) comprising a resin layer (B2) in contact with a layer (B1) of a non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence and a non-liquid crystalline property having a positive intrinsic birefringence. A surface of the material layer (A2) opposite to the substrate (A1) and a surface of the non-liquid crystalline material layer (B1) having a negative intrinsic birefringence opposite to the resin layer (B2) A laminated body comprising a single adhesive layer interposed therebetween.

Description

本発明は、光学要素を含む積層体及びその製造方法、位相差フィルム、偏光板並びにIPS液晶パネルに関する。   The present invention relates to a laminate including an optical element, a manufacturing method thereof, a retardation film, a polarizing plate, and an IPS liquid crystal panel.

液晶表示装置は、高画質、薄型、軽量、低消費電力などの利点をもち、例えばテレビジョン、パーソナルコンピューター、カーナビゲーター等に広く用いられている。液晶表示装置では、透過軸が直交するように配置した2枚の偏光子(即ち、入射側偏光子及び出射側偏光子)の間に液晶セルを配置し、液晶セルに電圧を印加することにより液晶分子の配向を変化させて、画面に画像を表示させる。   A liquid crystal display device has advantages such as high image quality, thinness, light weight, and low power consumption, and is widely used in televisions, personal computers, car navigators, and the like. In a liquid crystal display device, a liquid crystal cell is disposed between two polarizers (that is, an incident side polarizer and an output side polarizer) arranged so that transmission axes are orthogonal to each other, and a voltage is applied to the liquid crystal cell. The orientation of the liquid crystal molecules is changed to display an image on the screen.

液晶表示装置では、通常、偏光子の透過軸に平行な方向から画面を見るときは、十分なコントラストが得られる。しかし、透過軸に平行でない方向から画面を斜めに見ると、入射側偏光子の透過軸と出射側偏光子の透過軸とが見かけ上直交でなくなるために、直線偏光が完全に遮断されずに光洩れが発生することがある。光漏れが発生すると、十分な黒が得られず、コントラストが低下する。そこで、液晶表示装置においては、画面のコントラストの低下を防止するために、光学補償フィルムを設けることが試みられている。   In a liquid crystal display device, a sufficient contrast is usually obtained when viewing a screen from a direction parallel to the transmission axis of a polarizer. However, when the screen is viewed obliquely from a direction that is not parallel to the transmission axis, the transmission axis of the incident-side polarizer and the transmission axis of the output-side polarizer are apparently not orthogonal, so that linearly polarized light is not completely blocked. Light leakage may occur. When light leakage occurs, sufficient black cannot be obtained and the contrast decreases. Therefore, in a liquid crystal display device, an attempt has been made to provide an optical compensation film in order to prevent a reduction in screen contrast.

光学補償フィルムとしては、通常、位相差フィルムを用いる。位相差フィルムについては、例えば特許文献1〜10に示すように、従来から様々な技術が開発されてきた。   A retardation film is usually used as the optical compensation film. As for the retardation film, various techniques have been conventionally developed as shown in Patent Documents 1 to 10, for example.

特許第3897743号公報Japanese Patent No. 3897743 特許第3962034号公報Japanese Patent No. 3962034 特許第3795512号公報Japanese Patent No. 3795512 特許第4070510号公報Japanese Patent No. 4070510 特許第4107741号公報Japanese Patent No. 4107741 特許第4636622号公報Japanese Patent No. 4636622 特許第4586326号公報Japanese Patent No. 4586326 特許第4433854号公報Japanese Patent No. 4433854 特許第4369222号公報Japanese Patent No. 4369222 特許第2660601号公報Japanese Patent No. 2660601

近年、例えば携帯電話、タブレット型パーソナルコンピューター等の携帯端末において、タッチパネルが広く用いられるようになってきた。タッチパネルに使用される液晶表示装置としては、使用時の表示ムラの発生が無いことから、IPS(インプレーンスイッチング)型の液晶セルを用いたものが好適である。また、IPS型の液晶セルを備える液晶表示装置において使用される光学補償フィルムとしては、通常、光学特性の異なる複数枚の位相差フィルムを組み合わせた位相差フィルムが用いられる。   In recent years, touch panels have been widely used in portable terminals such as mobile phones and tablet personal computers. As the liquid crystal display device used for the touch panel, a display using an IPS (in-plane switching) type liquid crystal cell is preferable because there is no occurrence of display unevenness during use. In addition, as an optical compensation film used in a liquid crystal display device having an IPS type liquid crystal cell, a retardation film in which a plurality of retardation films having different optical characteristics are combined is usually used.

最近の携帯端末の薄型化に伴い、光学補償フィルムにも、更なる薄型が求められている。ところが、IPS型の液晶セルを備える液晶表示装置において用いられる光学補償フィルムは、複数枚の位相差フィルムを組み合わせた位相差フィルムであるため、厚みを薄くすることが難しかった。   With the recent thinning of mobile terminals, there is a demand for even thinner optical compensation films. However, since an optical compensation film used in a liquid crystal display device including an IPS type liquid crystal cell is a retardation film in which a plurality of retardation films are combined, it is difficult to reduce the thickness.

具体例を挙げると、一般に位相差フィルムの厚みを薄くするとその位相差フィルムは破損し易くなるので、厚みの薄い光学補償フィルムは安定して製造することが困難であった。特に、厚みが薄い複数枚の位相差フィルムを貼り合せる時に、位相差フィルムの破損を防止しながら安定した貼り合せを行うことが困難であった。そのため、例えばロールトゥロール法などの工業生産上好ましい製造方法を採用することが難しかった。   As a specific example, generally, when the thickness of the retardation film is reduced, the retardation film is liable to be damaged. Therefore, it has been difficult to stably produce a thin optical compensation film. In particular, when bonding a plurality of thin retardation films, it was difficult to perform stable bonding while preventing damage to the retardation film. For this reason, it has been difficult to employ a production method preferable for industrial production such as a roll-to-roll method.

また、位相差フィルムの厚みを薄くすると、一般に、その位相差フィルムの厚みのバラつきの光学性能に対する影響が大きくなる傾向がある。そのため、従来製品と同等の光学補償性能を維持しながら光学補償フィルムの厚みを薄くすることは、困難であった。   Further, when the thickness of the retardation film is reduced, generally, the influence of the variation in the thickness of the retardation film on the optical performance tends to increase. Therefore, it is difficult to reduce the thickness of the optical compensation film while maintaining the optical compensation performance equivalent to that of the conventional product.

本発明は上述した課題に鑑みて創案されたもので、所望の光学性能を有し、厚みが薄く、安定した製造が可能な位相差フィルムを実現しうる積層体及びその製造方法を提供すること、所望の光学性能を有し、厚みが薄く、安定した製造が可能な位相差フィルムを提供すること、並びに、その位相差フィルムを備える偏光板及びIPS液晶パネルを提供することを目的とする。   The present invention was devised in view of the above-described problems, and provides a laminate and a method for producing the same that can achieve a retardation film having desired optical performance, a thin thickness, and capable of stable production. An object of the present invention is to provide a retardation film having a desired optical performance, a thin thickness and capable of stable production, and a polarizing plate and an IPS liquid crystal panel provided with the retardation film.

本発明者は上記課題を解決するべく鋭意検討した結果、基材(A1)及び固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)を備える複層フィルム(A)と、固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)及び樹脂層(B2)を備える複層フィルム(B)と、前記固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)の面と前記固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)の面との間に単独で介在する1層の接着層とを備える積層体が、所望の光学性能を有し、厚みが薄く、安定した製造が可能な位相差フィルムを実現しうることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は以下の通りである。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has found that the base film (A1) and the multilayer film (A) including the layer (A2) of the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence and the intrinsic birefringence are A multilayer film (B) comprising a negative non-liquid crystalline material layer (B1) and a resin layer (B2), a surface of the non-liquid crystalline material layer (A2) having a positive intrinsic birefringence, and the intrinsic birefringence Is a laminate having a single adhesive layer interposed between the surface of the negative non-liquid crystalline material layer (B1) and having a desired optical performance, a thin thickness, and a stable production. The present inventors have found that a possible retardation film can be realized and completed the present invention.
That is, the present invention is as follows.

〔1〕 基材(A1)、及び、前記基材(A1)に接した、固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)を備える複層フィルム(A)と、
固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)、及び、前記固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)に接した、樹脂層(B2)を備える複層フィルム(B)と、
前記固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)における前記基材(A1)とは反対側の面と、前記固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)における前記樹脂層(B2)とは反対側の面との間に、単独で介在する1層の接着層と、
を備える、積層体。
〔2〕 前記固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)と前記樹脂層(B2)との間の剥離力が、0.5N/20mm以下である、〔1〕記載の積層体。
〔3〕 前記基材(A1)と前記固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)との間の剥離力が、0.05N/20mm以下である、〔1〕又は〔2〕記載の積層体。
〔4〕 前記基材(A1)の材料のガラス転移温度と前記固有複屈折が正の非液晶性材料のガラス転移温度との差が、+15℃〜−15℃の範囲にある、〔1〕〜〔3〕のいずれか一項に記載の積層体。
〔5〕 前記固有複屈折が負の非液晶性材料のガラス転移温度Tg(B1)と前記樹脂層(B2)の樹脂のガラス転移温度Tg(B2)との関係が、Tg(B1)>Tg(B2)+20℃を満たす、〔1〕〜〔4〕のいずれか一項に記載の積層体。
〔6〕 前記固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)の引っ張り破断伸度が、20%以下である、〔1〕〜〔5〕のいずれか一項に記載の積層体。
〔7〕 基材(A1)が、脂環式構造を有する重合体樹脂、(メタ)アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、(メタ)アクリル酸エステル−ビニル芳香族化合物共重合体樹脂、及びポリエーテルスルホン樹脂からなる群より選択される樹脂で形成されている、〔1〕〜〔6〕のいずれか一項に記載の積層体。
〔8〕 前記固有複屈折が正の非液晶性材料が、ポリイミド樹脂、マレイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタンウレア樹脂からなる群より選択される、〔1〕〜〔7〕のいずれか一項に記載の積層体。
〔9〕 前記固有複屈折が負の非液晶性材料が、スチレン類、スチレン類−マレイン酸、マレイミド類及び(メタ)アクリル酸エステルからなる群より選択される1種類以上のモノマーを重合した重合体、並びに、ポリカーボネート重合体、ポリエステル重合体及びポリアリーレンエーテル重合体からなる群より選択される1種類以上の重合体を含む混合物である、〔1〕〜〔8〕のいずれか一項に記載の積層体。
〔10〕 前記樹脂層(B2)が、脂環式構造を有する重合体樹脂、(メタ)アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、(メタ)アクリル酸エステル−ビニル芳香族化合物共重合体樹脂、及びポリエーテルスルホン樹脂からなる群から選択される樹脂で形成されている、〔1〕〜〔9〕のいずれか一項に記載の積層体。
〔11〕 〔1〕〜〔10〕のいずれか一項に記載の積層体の製造方法であって、
固有複屈折が正の非液晶性材料を溶媒に溶解させた溶液を前記基材(A1)上に展開する工程と、
展開した前記溶液を乾燥する工程と、
前記溶液を乾燥した後に前記基材(A1)を延伸して前記複層フィルム(A)を得る工程と、
を含む製造方法。
〔12〕 〔1〕〜〔10〕のいずれか一項に記載の積層体の製造方法であって、
前記固有複屈折が負の非液晶性材料及び前記樹脂層(B2)を形成する樹脂を共押し出しして、前記樹脂層(B2)、前記固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)、及び前記樹脂層(B2)をこの順に備える複層フィルム(b)を得る工程と、
前記複層フィルム(b)を延伸する工程と、
延伸した前記複層フィルム(b)から、片方の前記樹脂層(B2)を剥離して、前記複層フィルム(B)を得る工程と、
を含む製造方法。
〔13〕 〔1〕〜〔10〕のいずれか一項に記載の積層体の製造方法であって、
前記固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)における前記基材(A1)とは反対側の面、及び、前記固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)における前記樹脂層(B2)とは反対側の面のうち、一方の面に前記接着層を形成する工程と、
前記接着層と、前記接着層が形成されなかった他方の面とを貼り合せる工程と、
を含む製造方法。
〔14〕 〔1〕〜〔10〕のいずれか一項に記載の積層体から、前記基材(A1)及び前記樹脂層(B2)が剥離された、位相差フィルム。
〔15〕 偏光子と、〔14〕記載の位相差フィルムと、を備える偏光板。
〔16〕 IPS型の液晶セルと、〔15〕記載の偏光板と、を備えるIPS液晶パネル。
[1] A multilayer film (A) comprising a substrate (A1) and a layer (A2) of a non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence in contact with the substrate (A1);
A multilayer film (B1) comprising a non-liquid crystalline material layer (B1) having a negative intrinsic birefringence and a resin layer (B2) in contact with the non-liquid crystalline material layer (B1) having a negative intrinsic birefringence )When,
The surface of the layer (A2) of the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence opposite to the base (A1) and the resin in the layer (B1) of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence A single adhesive layer interposed between the surface opposite to the layer (B2);
A laminate comprising:
[2] The laminate according to [1], wherein a peeling force between the non-liquid crystalline material layer (B1) having a negative intrinsic birefringence and the resin layer (B2) is 0.5 N / 20 mm or less. .
[3] The peel force between the substrate (A1) and the layer (A2) of the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence is 0.05 N / 20 mm or less, [1] or [2] The laminated body of description.
[4] The difference between the glass transition temperature of the material of the substrate (A1) and the glass transition temperature of the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence is in the range of + 15 ° C. to −15 ° C. [1] -The laminated body as described in any one of [3].
[5] The relationship between the glass transition temperature Tg (B1) of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence and the glass transition temperature Tg (B2) of the resin of the resin layer (B2) is Tg (B1)> Tg. (B2) The laminate according to any one of [1] to [4], which satisfies + 20 ° C.
[6] The laminate according to any one of [1] to [5], wherein the layer (B1) of the non-liquid crystalline material having negative intrinsic birefringence has a tensile elongation at break of 20% or less.
[7] Polymer resin, (meth) acrylic resin, polycarbonate resin, (meth) acrylic acid ester-vinyl aromatic compound copolymer resin, and polyethersulfone resin in which base material (A1) has an alicyclic structure The laminate according to any one of [1] to [6], which is formed of a resin selected from the group consisting of:
[8] The non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence is selected from the group consisting of a polyimide resin, a maleimide resin, a polyamideimide resin, a polycarbonate resin, a polyester resin, and a polyurethane urea resin. [1] to [7] The laminate according to any one of the above.
[9] A heavy polymer obtained by polymerizing one or more monomers selected from the group consisting of styrenes, styrenes-maleic acid, maleimides, and (meth) acrylic acid esters, with the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence. The mixture, and a mixture containing at least one polymer selected from the group consisting of a polycarbonate polymer, a polyester polymer, and a polyarylene ether polymer, according to any one of [1] to [8]. Laminated body.
[10] The resin layer (B2) is a polymer resin having an alicyclic structure, (meth) acrylic resin, polycarbonate resin, (meth) acrylic acid ester-vinyl aromatic compound copolymer resin, and polyethersulfone. The laminate according to any one of [1] to [9], which is formed of a resin selected from the group consisting of resins.
[11] A method for producing a laminate according to any one of [1] to [10],
Developing a solution prepared by dissolving a non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence in a solvent on the substrate (A1);
Drying the developed solution;
Stretching the substrate (A1) after drying the solution to obtain the multilayer film (A);
Manufacturing method.
[12] A method for producing a laminate according to any one of [1] to [10],
The non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence and the resin forming the resin layer (B2) are coextruded to form the resin layer (B2) and the non-liquid crystalline material layer having a negative intrinsic birefringence (B1). And a step of obtaining a multilayer film (b) comprising the resin layer (B2) in this order;
Stretching the multilayer film (b);
Peeling the one resin layer (B2) from the stretched multilayer film (b) to obtain the multilayer film (B);
Manufacturing method.
[13] A method for producing a laminate according to any one of [1] to [10],
The surface of the non-liquid crystalline material layer (A2) having a positive intrinsic birefringence opposite to the base (A1) and the layer (B1) of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence. A step of forming the adhesive layer on one surface of the surface opposite to the resin layer (B2);
Bonding the adhesive layer and the other surface on which the adhesive layer is not formed;
Manufacturing method.
[14] A retardation film in which the substrate (A1) and the resin layer (B2) are peeled from the laminate according to any one of [1] to [10].
[15] A polarizing plate comprising a polarizer and the retardation film according to [14].
[16] An IPS liquid crystal panel comprising an IPS liquid crystal cell and the polarizing plate according to [15].

本発明によれば、所望の光学性能を有し、厚みが薄く、安定した製造が可能な位相差フィルムを実現しうる積層体及びその製造方法を提供すること、所望の光学性能を有し、厚みが薄く、安定した製造が可能な位相差フィルムを提供すること、並びに、その位相差フィルムを備える偏光板及びIPS液晶パネルを提供することができる。   According to the present invention, a laminate having a desired optical performance, a thin thickness, and capable of realizing a retardation film that can be stably produced, and a method for producing the same, have a desired optical performance, It is possible to provide a retardation film having a thin thickness and capable of stable production, and a polarizing plate and an IPS liquid crystal panel including the retardation film.

図1は、本発明の一実施形態に係る積層体を、その主面に対して垂直な平面で切った断面を模式的に示す図である。FIG. 1 is a diagram schematically showing a cross section of a laminated body according to an embodiment of the present invention, taken along a plane perpendicular to the main surface. 図2は、複層フィルム(A)を製造する製造装置の例を模式的に示す概略図である。FIG. 2 is a schematic view schematically showing an example of a production apparatus for producing the multilayer film (A). 図3は、複層フィルム(b)を製造する製造装置の例を模式的に示す概略図である。FIG. 3 is a schematic view schematically showing an example of a production apparatus for producing the multilayer film (b). 図4は、複層フィルム(A)と複層フィルム(B)とを貼り合せて積層体を製造する装置の例を模式的に示す概略図である。FIG. 4 is a schematic view schematically showing an example of an apparatus for producing a laminate by laminating a multilayer film (A) and a multilayer film (B). 図5は、本発明の一実施形態に係る偏光板を、その主面に対して垂直な平面で切った断面を模式的に示す図である。FIG. 5 is a diagram schematically showing a cross section of the polarizing plate according to one embodiment of the present invention, taken along a plane perpendicular to the main surface. 図6は、本発明の一実施形態に係る液晶パネルを、その主面に対して垂直な平面で切った断面を模式的に示す図である。FIG. 6 is a diagram schematically showing a cross section of the liquid crystal panel according to one embodiment of the present invention, taken along a plane perpendicular to the main surface.

以下、本発明について実施形態及び例示物等を示して詳細に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施形態及び例示物等に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施してもよい。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments and examples. However, the present invention is not limited to the embodiments and examples shown below, and may be arbitrarily modified within the scope of the claims of the present invention and its equivalents.

以下の説明において、「長尺」とは、幅に対して、少なくとも5倍以上の長さを有するものをいい、好ましくは10倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するものをいう。
また、「基材」及び「偏光板」とは、剛直な部材だけでなく、例えば樹脂製のフィルムのように可撓性を有する部材も含む。
In the following description, “long” means one having a length of at least 5 times the width, preferably 10 times or more, specifically a roll shape. It has a length enough to be wound up and stored or transported.
The “base material” and the “polarizing plate” include not only rigid members but also flexible members such as resin films.

また、フィルムの面内方向のレターデーションは、別に断らない限り、(nx−ny)×dで表される値である。また、フィルムの厚み方向のレターデーションは、別に断らない限り、{|nx+ny|/2−nz}×dで表される値である。ここで、nxは、フィルムの厚み方向に垂直な方向(面内方向)であって最大の屈折率を与える方向の屈折率を表す。nyは、前記面内方向であってnxの方向に直交する方向の屈折率を表す。nzは厚み方向の屈折率を表す。dは、フィルムの厚みを表す。これらのレターデーションは、市販の位相差測定装置(例えば、王子計測機器社製、「KOBRA−21ADH」、フォトニックラティス社製、「WPA−micro」)あるいはセナルモン法を用いて測定しうる。   Further, the retardation in the in-plane direction of the film is a value represented by (nx−ny) × d unless otherwise specified. The retardation in the thickness direction of the film is a value represented by {| nx + ny | / 2−nz} × d unless otherwise specified. Here, nx represents a refractive index in a direction (in-plane direction) perpendicular to the thickness direction of the film and giving the maximum refractive index. ny represents the refractive index in the in-plane direction and orthogonal to the nx direction. nz represents the refractive index in the thickness direction. d represents the thickness of the film. These retardations can be measured using a commercially available phase difference measuring device (for example, “KOBRA-21ADH” manufactured by Oji Scientific Instruments, “WPA-micro” manufactured by Photonic Lattice) or the Senarmon method.

また、「(メタ)アクリレート」とは「アクリレート」又は「メタクリレート」のことを意味し、「(メタ)アクリル」とは「アクリル」又は「メタクリル」のことを意味し、「(メタ)アクリロニトリル」とは「アクリロニトリル」又は「メタクリロニトリル」のことを意味する。
また、「紫外線」とは、波長が1nm以上400nm以下の光のことを意味する。
Further, “(meth) acrylate” means “acrylate” or “methacrylate”, “(meth) acryl” means “acryl” or “methacryl”, and “(meth) acrylonitrile”. The term “acrylonitrile” or “methacrylonitrile” means.
“Ultraviolet light” means light having a wavelength of 1 nm or more and 400 nm or less.

また、要素の方向が「平行」、「垂直」及び「直交」とは、特に断らない限り、本発明の効果を損ねない範囲内、例えば±5°の範囲内での誤差を含んでいてもよい。さらに、ある方向に「沿って」とは、ある方向に「平行に」との意味である。   In addition, the directions of the elements “parallel”, “vertical”, and “orthogonal” may include errors within a range that does not impair the effects of the present invention, for example, ± 5 °, unless otherwise specified. Good. Further, “along” in a certain direction means “in parallel” in a certain direction.

また、MD方向(machine direction)は、製造ラインにおけるフィルムの流れ方向であり、通常は長尺のフィルムの長尺方向及び縦方向と平行である。さらに、TD方向(traverse direction)は、フィルム面に平行な方向であって、MD方向に垂直な方向であり、通常は長尺のフィルムの幅方向及び横方向と平行である。   Further, the MD direction (machine direction) is a film flow direction in the production line, and is usually parallel to the longitudinal direction and the longitudinal direction of the long film. Further, the TD direction (traverse direction) is a direction parallel to the film surface and perpendicular to the MD direction, and is usually parallel to the width direction and the lateral direction of the long film.

また、固有複屈折が正であるとは、延伸方向の屈折率が延伸方向に直交する方向の屈折率よりも大きくなることを意味し、固有複屈折が負であるとは、延伸方向の屈折率が延伸方向に直交する方向の屈折率よりも小さくなることを意味する。固有複屈折の値は誘電率分布から計算することもできる。   Further, positive intrinsic birefringence means that the refractive index in the stretching direction is larger than the refractive index in the direction orthogonal to the stretching direction, and negative intrinsic birefringence means that the refractive index in the stretching direction is negative. It means that the refractive index is smaller than the refractive index in the direction orthogonal to the stretching direction. The value of intrinsic birefringence can also be calculated from the dielectric constant distribution.

また、以下に説明する重合体においては、別に断らない限り、その重合体が含む構造単位の割合は、通常、その重合体の全単量体における前記構造単位に対応する単量体の比率(仕込み比)に一致する。   In the polymer described below, unless otherwise specified, the proportion of the structural unit contained in the polymer is usually the ratio of the monomer corresponding to the structural unit in all monomers of the polymer ( It matches the charging ratio).

[1.積層体]
図1は、本発明の一実施形態に係る積層体を、その主面に対して垂直な平面で切った断面を模式的に示す図である。図1に示すように、積層体100は、複層フィルム(A)10と、複層フィルム(B)20と、複層フィルム(A)10及び複層フィルム(B)20を接着する接着層30とを備える。
[1. Laminate]
FIG. 1 is a diagram schematically showing a cross section of a laminated body according to an embodiment of the present invention, taken along a plane perpendicular to the main surface. As shown in FIG. 1, the laminate 100 includes a multilayer film (A) 10, a multilayer film (B) 20, an adhesive layer that bonds the multilayer film (A) 10 and the multilayer film (B) 20. 30.

[1.1.複層フィルム(A)]
図1に示すように、複層フィルム(A)10は、基材(A1)11と、非液晶性材料の層(A2)12とを備える。非液晶性材料の層(A2)12は基材(A1)11に接しているので、基材(A1)11と非液晶性材料の層(A2)12との間には他の層は設けられていない。
[1.1. Multilayer film (A)]
As shown in FIG. 1, the multilayer film (A) 10 includes a base material (A1) 11 and a layer (A2) 12 of a non-liquid crystalline material. Since the non-liquid crystal material layer (A2) 12 is in contact with the base material (A1) 11, other layers are provided between the base material (A1) 11 and the non-liquid crystal material layer (A2) 12. It is not done.

[1.1.1.基材(A1)]
基材(A1)としては、通常は樹脂フィルムを用いる。基材(A1)を形成する樹脂の種類は特に限定されるものでは無いが、透明の樹脂が好ましい。ここで透明とは、光学部材に用いるのに適した程度の光線透過率を有する意味であり、例えば厚み1mmの試験片を用いて測定した全光線透過率が、通常70%以上、好ましくは80%以上、特に好ましくは90%以上であることをいう。なお、前記の全光線透過率の上限は、通常100%である。また、全光線透過率は、JIS K0115に準拠して、分光光度計(日本分光社製、紫外可視近赤外分光光度計「V−570」)を用いて測定しうる。
[1.1.1. Substrate (A1)]
As the substrate (A1), a resin film is usually used. Although the kind of resin which forms a base material (A1) is not specifically limited, Transparent resin is preferable. Here, the term “transparent” means that it has a light transmittance suitable for use in an optical member. For example, the total light transmittance measured using a test piece having a thickness of 1 mm is usually 70% or more, preferably 80. % Or more, particularly preferably 90% or more. The upper limit of the total light transmittance is usually 100%. The total light transmittance can be measured using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation, ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer “V-570”) in accordance with JIS K0115.

基材(A1)を形成する材料となる樹脂としては、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂等のポリオレフィン樹脂;ノルボルネン系樹脂等の脂環式構造を有する重合体樹脂;ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、ポリケトンサルファイド樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、(メタ)アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリプロピレン樹脂、セルロース系樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、(メタ)アクリル酸エステル−ビニル芳香族化合物共重合体樹脂、イソブテン/N−メチルマレイミド共重合体樹脂、スチレン/アクリルニトリル共重合体樹脂などが挙げられる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせてもよい。例えば、イソブテン/N−メチルマレイミド共重合体樹脂とスチレン/アクリルニトリル共重合体樹脂とは、組み合わせて混合物として用いることが好ましい。   Examples of the resin that forms the base material (A1) include polyolefin resins such as polyethylene resins and polypropylene resins; polymer resins having an alicyclic structure such as norbornene-based resins; polyimide resins, polyamideimide resins, and polyamides. Resin, polyetherimide resin, polyether ether ketone resin, polyether ketone resin, polyketone sulfide resin, polyether sulfone resin, polysulfone resin, polyphenylene sulfide resin, polyphenylene oxide resin, polyethylene terephthalate resin, polybutylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate Resin, polyacetal resin, polycarbonate resin, polyarylate resin, (meth) acrylic resin, polyvinyl alcohol resin, polypropylene resin, cellulose System resin, epoxy resin, phenol resin, (meth) acrylic acid ester - vinyl aromatic compound copolymer resins, isobutene / N- methylmaleimide copolymer resins, styrene / acrylonitrile copolymer resins. One of these may be used alone, or two or more of these may be combined in any ratio. For example, isobutene / N-methylmaleimide copolymer resin and styrene / acrylonitrile copolymer resin are preferably used in combination as a mixture.

これらの中でも、脂環式構造を有する重合体樹脂、(メタ)アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、(メタ)アクリル酸エステル−ビニル芳香族化合物共重合体樹脂、及びポリエーテルスルホン樹脂からなる群より選択される樹脂が好ましい。これらの樹脂は機械的強度に優れ、また、延伸により発現するレターデーションを小さくできる。   Among these, a polymer resin having an alicyclic structure, a (meth) acrylic resin, a polycarbonate resin, a (meth) acrylic acid ester-vinyl aromatic compound copolymer resin, and a polyethersulfone resin are selected. Preferred is a resin. These resins are excellent in mechanical strength and can reduce the retardation developed by stretching.

脂環式構造を有する重合体樹脂は、脂環式構造を有する重合体を含む樹脂である。また、脂環式構造を有する重合体は、重合体の構造単位として脂環式構造を含む構造単位を有する重合体であり、主鎖に脂環式構造を有する重合体、及び、側鎖に脂環式構造を有する重合体のいずれも用いうる。また、脂環式構造を有する重合体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。中でも、機械的強度、耐熱性などの観点から、主鎖に脂環式構造を含有する重合体が好ましい。   The polymer resin having an alicyclic structure is a resin containing a polymer having an alicyclic structure. Further, the polymer having an alicyclic structure is a polymer having a structural unit containing an alicyclic structure as a structural unit of the polymer, a polymer having an alicyclic structure in the main chain, and a side chain. Any polymer having an alicyclic structure can be used. Moreover, the polymer which has an alicyclic structure may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios. Among these, a polymer containing an alicyclic structure in the main chain is preferable from the viewpoint of mechanical strength, heat resistance, and the like.

脂環式構造としては、例えば、飽和脂環式炭化水素(シクロアルカン)構造、不飽和脂環式炭化水素(シクロアルケン、シクロアルキン)構造などが挙げられる。中でも、機械強度、耐熱性などの観点から、シクロアルカン構造及びシクロアルケン構造が好ましく、中でもシクロアルカン構造が特に好ましい。   Examples of the alicyclic structure include a saturated alicyclic hydrocarbon (cycloalkane) structure and an unsaturated alicyclic hydrocarbon (cycloalkene, cycloalkyne) structure. Among these, from the viewpoints of mechanical strength, heat resistance and the like, a cycloalkane structure and a cycloalkene structure are preferable, and a cycloalkane structure is particularly preferable.

脂環式構造を構成する炭素原子数は、一つの脂環式構造あたり、好ましくは4個以上、より好ましくは5個以上であり、好ましくは30個以下、より好ましくは20個以下、特に好ましくは15個以下の範囲である。これにより、機械強度、耐熱性、及びフィルムの成形性が高度にバランスされ、好適である。   The number of carbon atoms constituting the alicyclic structure is preferably 4 or more, more preferably 5 or more, preferably 30 or less, more preferably 20 or less, particularly preferably per alicyclic structure. Is a range of 15 or less. Thereby, mechanical strength, heat resistance, and film formability are highly balanced, which is preferable.

脂環式構造を有する重合体中の、脂環式構造を含む構造単位の割合は、使用目的に応じて適宜選択しうるものである。具体的には、この割合は、好ましくは55重量%以上、さらに好ましくは70重量%以上、特に好ましくは90重量%以上であり、また、通常100重量%以下である。脂環式構造を有する重合体中の脂環式構造を含む構造単位の割合がこの範囲にあると、耐熱性の観点から好ましい。   The ratio of the structural unit containing an alicyclic structure in the polymer having an alicyclic structure can be appropriately selected according to the purpose of use. Specifically, this ratio is preferably 55% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, particularly preferably 90% by weight or more, and usually 100% by weight or less. It is preferable from a heat resistant viewpoint that the ratio of the structural unit containing the alicyclic structure in the polymer which has an alicyclic structure exists in this range.

脂環式構造を有する重合体の例としては、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体、及び、これらの水素化物を挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン系重合体は、成形性が良好なため、好適である。   Examples of the polymer having an alicyclic structure include a norbornene polymer, a monocyclic olefin polymer, a cyclic conjugated diene polymer, a vinyl alicyclic hydrocarbon polymer, and hydrides thereof. Can be mentioned. Among these, norbornene-based polymers are preferable because of good moldability.

ノルボルネン系重合体の例としては、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体、若しくはノルボルネン構造を有する単量体と任意の単量体との開環共重合体、又はそれらの水素化物;ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体、若しくはノルボルネン構造を有する単量体と任意の単量体との付加共重合体、又はそれらの水素化物を挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン構造を有する単量体の開環(共)重合体水素化物は、成形性、耐熱性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などの観点から、特に好適である。ここで「(共)重合体」とは、重合体及び共重合体のことをいう。   Examples of the norbornene-based polymer include a ring-opening polymer of a monomer having a norbornene structure, a ring-opening copolymer of a monomer having a norbornene structure and an arbitrary monomer, or a hydride thereof; An addition polymer of a monomer having a norbornene structure, an addition copolymer of a monomer having a norbornene structure and an arbitrary monomer, or a hydride thereof can be given. Among these, a ring-opening (co) polymer hydride of a monomer having a norbornene structure is particularly suitable from the viewpoints of moldability, heat resistance, low hygroscopicity, dimensional stability, lightness, and the like. Here, “(co) polymer” refers to a polymer and a copolymer.

ノルボルネン構造を有する単量体としては、例えば、ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン(慣用名:ノルボルネン)、トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3,7−ジエン(慣用名:ジシクロペンタジエン)、7,8−ベンゾトリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン(慣用名:メタノテトラヒドロフルオレン)、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン(慣用名:テトラシクロドデセン)、およびこれらの化合物の誘導体(例えば、環に置換基を有するもの)などを挙げることができる。ここで、置換基としては、例えばアルキル基、アルキレン基、極性基などを挙げることができる。また、これらの置換基は、同一または相異なって、複数個が環に結合していてもよい。また、ノルボルネン構造を有する単量体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Examples of the monomer having a norbornene structure include bicyclo [2.2.1] hept-2-ene (common name: norbornene), tricyclo [4.3.0.12,5] deca-3,7- Diene (common name: dicyclopentadiene), 7,8-benzotricyclo [4.3.0.12,5] dec-3-ene (common name: methanotetrahydrofluorene), tetracyclo [4.4.0. 12, 5.17,10] dodec-3-ene (common name: tetracyclododecene), and derivatives of these compounds (for example, those having a substituent in the ring). Here, examples of the substituent include an alkyl group, an alkylene group, and a polar group. Moreover, these substituents may be the same or different, and a plurality thereof may be bonded to the ring. Moreover, the monomer which has a norbornene structure may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

ノルボルネン構造を有する単量体と開環共重合可能な任意の単量体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテンなどのモノ環状オレフィン類およびその誘導体;シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエンなどの環状共役ジエンおよびその誘導体;などが挙げられる。ノルボルネン構造を有する単量体と開環共重合可能な任意の単量体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Examples of an optional monomer capable of ring-opening copolymerization with a monomer having a norbornene structure include, for example, monocyclic olefins such as cyclohexene, cycloheptene, and cyclooctene and derivatives thereof; and cyclic conjugates such as cyclohexadiene and cycloheptadiene. Dienes and derivatives thereof; and the like. As the optional monomer capable of ring-opening copolymerization with a monomer having a norbornene structure, one kind may be used alone, or two or more kinds may be used in combination at any ratio.

ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体、およびノルボルネン構造を有する単量体と共重合可能な任意の単量体との開環共重合体は、例えば、単量体を公知の開環重合触媒の存在下に重合又は共重合することにより製造しうる。   A ring-opening polymer of a monomer having a norbornene structure, and a ring-opening copolymer of any monomer copolymerizable with a monomer having a norbornene structure are, for example, a known ring-opening monomer. It can be produced by polymerization or copolymerization in the presence of a polymerization catalyst.

ノルボルネン構造を有する単量体と付加共重合可能な任意の単量体としては、例えば、エチレン、プロピレン、1−ブテンなどの炭素原子数2〜20のα−オレフィンおよびこれらの誘導体;シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセンなどのシクロオレフィンおよびこれらの誘導体;1,4−ヘキサジエン、4−メチル−1,4−ヘキサジエン、5−メチル−1,4−ヘキサジエンなどの非共役ジエン;などが挙げられる。これらの中でも、α−オレフィンが好ましく、エチレンがより好ましい。また、ノルボルネン構造を有する単量体と付加共重合可能な任意の単量体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Examples of the optional monomer that can be addition copolymerized with a monomer having a norbornene structure include α-olefins having 2 to 20 carbon atoms such as ethylene, propylene, and 1-butene, and derivatives thereof; cyclobutene and cyclopentene. And cycloolefins such as cyclohexene and derivatives thereof; non-conjugated dienes such as 1,4-hexadiene, 4-methyl-1,4-hexadiene, 5-methyl-1,4-hexadiene; and the like. Among these, α-olefin is preferable and ethylene is more preferable. Moreover, the arbitrary monomer which can carry out addition copolymerization with the monomer which has a norbornene structure may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体、およびノルボルネン構造を有する単量体と共重合可能な任意の単量体との付加共重合体は、例えば、単量体を公知の付加重合触媒の存在下に重合又は共重合することにより製造しうる。   An addition copolymer of a monomer having a norbornene structure and an addition copolymer of any monomer that can be copolymerized with a monomer having a norbornene structure include, for example, a monomer of a known addition polymerization catalyst. It can be produced by polymerization or copolymerization in the presence.

単環の環状オレフィン系重合体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等の単環を有する環状オレフィン系モノマーの付加重合体を挙げることができる。   Examples of the monocyclic olefin polymer include addition polymers of a cyclic olefin monomer having a single ring such as cyclohexene, cycloheptene, and cyclooctene.

環状共役ジエン系重合体としては、例えば、1,3−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の共役ジエン系モノマーの付加重合体を環化反応して得られる重合体;シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン等の環状共役ジエン系モノマーの1,2−または1,4−付加重合体;およびこれらの水素化物;などを挙げることができる。   Examples of the cyclic conjugated diene polymer include polymers obtained by cyclization reaction of addition polymers of conjugated diene monomers such as 1,3-butadiene, isoprene and chloroprene; cyclic conjugates such as cyclopentadiene and cyclohexadiene. And 1,2- or 1,4-addition polymers of diene monomers; and their hydrides.

ビニル脂環式炭化水素系重合体としては、例えば、ビニルシクロヘキセン、ビニルシクロヘキサン等のビニル脂環式炭化水素系モノマーの重合体およびその水素化物;スチレン、α−メチルスチレン等のビニル芳香族炭化水素系モノマーを重合してなる重合体に含まれる芳香環部分を水素化してなる水素化物;ビニル脂環式炭化水素系モノマー、またはビニル芳香族炭化水素系モノマーとこれらビニル芳香族炭化水素系モノマーに対して共重合可能な任意のモノマーとのランダム共重合体若しくはブロック共重合体等の共重合体の、芳香環の水素化物;等を挙げることができる。前記のブロック共重合体としては、例えば、ジブロック共重合体、トリブロック共重合体またはそれ以上のマルチブロック共重合体、並びに傾斜ブロック共重合体等を挙げることもできる。   Examples of vinyl alicyclic hydrocarbon polymers include polymers of vinyl alicyclic hydrocarbon monomers such as vinylcyclohexene and vinylcyclohexane and their hydrides; vinyl aromatic hydrocarbons such as styrene and α-methylstyrene. Hydrogenated product obtained by hydrogenating an aromatic ring portion contained in a polymer obtained by polymerizing a monomer, a vinyl alicyclic hydrocarbon monomer, or a vinyl aromatic hydrocarbon monomer and these vinyl aromatic hydrocarbon monomers. On the other hand, a hydride of an aromatic ring of a copolymer such as a random copolymer or a block copolymer with an arbitrary copolymerizable monomer can be used. Examples of the block copolymer include a diblock copolymer, a triblock copolymer or a multi-block copolymer having more than that, a gradient block copolymer, and the like.

(メタ)アクリル樹脂は、(メタ)アクリル重合体を含む樹脂である。また、(メタ)アクリル重合体とは、(メタ)アクリル酸又は(メタ)アクリル酸誘導体の重合体を意味する。(メタ)アクリル重合体としては、例えば、アクリル酸、アクリル酸エステル、アクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリル酸及びメタクリル酸エステルなどの単独重合体及び共重合体が挙げられる。また、(メタ)アクリル重合体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。(メタ)アクリル樹脂は強度が高く硬いため、積層体の強度を高めることができる。   The (meth) acrylic resin is a resin containing a (meth) acrylic polymer. The (meth) acrylic polymer means a polymer of (meth) acrylic acid or a (meth) acrylic acid derivative. Examples of the (meth) acrylic polymer include homopolymers and copolymers such as acrylic acid, acrylic acid ester, acrylamide, acrylonitrile, methacrylic acid, and methacrylic acid ester. Moreover, a (meth) acrylic polymer may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios. Since the (meth) acrylic resin has high strength and is hard, the strength of the laminate can be increased.

(メタ)アクリル重合体としては、(メタ)アクリル酸エステルを重合して形成される構造単位を含む重合体が好ましい。(メタ)アクリル酸エステルとしては、例えば(メタ)アクリル酸のアルキルエステルが挙げられる。なかでも、(メタ)アクリル酸と炭素原子数1〜15のアルカノール又はシクロアルカノールから誘導される構造を有するものが好ましく、炭素原子数1〜8のアルカノールから誘導される構造を有するものがより好ましい。   As the (meth) acrylic polymer, a polymer containing a structural unit formed by polymerizing a (meth) acrylic acid ester is preferable. Examples of (meth) acrylic acid esters include alkyl esters of (meth) acrylic acid. Among them, those having a structure derived from (meth) acrylic acid and an alkanol having 1 to 15 carbon atoms or cycloalkanol are preferable, and those having a structure derived from an alkanol having 1 to 8 carbon atoms are more preferable. .

アクリル酸エステルの具体例としては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−プロピル、アクリル酸i−プロピル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸i−ブチル、アクリル酸sec−ブチル、アクリル酸t−ブチル、アクリル酸n−ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸n−オクチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸n−デシル、アクリル酸n−ドデシルなどが挙げられる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Specific examples of the acrylate ester include methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, i-propyl acrylate, n-butyl acrylate, i-butyl acrylate, sec-butyl acrylate, and t-acrylate. -Butyl, n-hexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, n-octyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, n-decyl acrylate, n-dodecyl acrylate, and the like. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio.

また、メタクリル酸エステルの具体例としては、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n−プロピル、メタクリル酸i−プロピル、メタクリル酸n−ブチル、メタクリル酸i−ブチル、メタクリル酸sec−ブチル、メタクリル酸t−ブチル、メタクリル酸n−ヘキシル、メタクリル酸n−オクチル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸n−デシル、メタクリル酸n−ドデシルなどが挙げられる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Specific examples of the methacrylic acid ester include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl methacrylate, i-propyl methacrylate, n-butyl methacrylate, i-butyl methacrylate, sec-butyl methacrylate, methacrylic acid. Examples thereof include t-butyl acid, n-hexyl methacrylate, n-octyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, n-decyl methacrylate, and n-dodecyl methacrylate. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio.

さらに、前記の(メタ)アクリル酸エステルは、本発明の効果を著しく損なわない範囲であれば、例えば水酸基、ハロゲン原子などの置換基を有していてもよい。そのような置換基を有する(メタ)アクリル酸エステルの例としては、アクリル酸2−ヒドロキシエチル、アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、アクリル酸4−ヒドロキシブチル、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸2−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸4−ヒドロキシブチル、メタクリル酸3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸グリシジルなどが挙げられる。また、これらの置換基は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Furthermore, the (meth) acrylic acid ester may have a substituent such as a hydroxyl group or a halogen atom as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. Examples of the (meth) acrylic acid ester having such a substituent include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-methacrylic acid 2- Examples include hydroxypropyl, 4-hydroxybutyl methacrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl methacrylate, and glycidyl methacrylate. Moreover, these substituents may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

また、(メタ)アクリル重合体は、(メタ)アクリル酸又は(メタ)アクリル酸誘導体のみの重合体であってもよく、(メタ)アクリル酸又は(メタ)アクリル酸誘導体とこれに共重合可能な任意の単量体との共重合体でもよい。任意の単量体としては、例えば、(メタ)アクリル酸エステル以外のα,β−エチレン性不飽和カルボン酸エステル単量体、並びに、α,β−エチレン性不飽和カルボン酸単量体、アルケニル芳香族単量体、共役ジエン単量体、非共役ジエン単量体、カルボン酸不飽和アルコールエステル、およびオレフィン単量体などが挙げられる。また、任意の単量体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Further, the (meth) acrylic polymer may be a polymer of only (meth) acrylic acid or (meth) acrylic acid derivatives, and can be copolymerized with (meth) acrylic acid or (meth) acrylic acid derivatives. It may be a copolymer with any arbitrary monomer. Examples of the optional monomer include α, β-ethylenically unsaturated carboxylic acid ester monomers other than (meth) acrylic acid esters, α, β-ethylenically unsaturated carboxylic acid monomers, and alkenyls. Aromatic monomers, conjugated diene monomers, non-conjugated diene monomers, carboxylic acid unsaturated alcohol esters, olefin monomers, and the like can be mentioned. Moreover, arbitrary monomers may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

ただし、(メタ)アクリル重合体において、(メタ)アクリル酸又は(メタ)アクリル酸誘導体を重合して形成される構造を有する構造単位の割合は、好ましくは55重量%以上、さらに好ましくは70重量%以上、特に好ましくは90重量%以上であり、また、通常100重量%以下である。   However, the proportion of structural units having a structure formed by polymerizing (meth) acrylic acid or (meth) acrylic acid derivatives in the (meth) acrylic polymer is preferably 55% by weight or more, more preferably 70% by weight. % Or more, particularly preferably 90% by weight or more, and usually 100% by weight or less.

これらのアクリル重合体のうち、ポリメタクリレートが好ましく、中でもポリメチルメタクリレートがより好ましい。   Of these acrylic polymers, polymethacrylate is preferred, and polymethyl methacrylate is more preferred.

ポリカーボネート樹脂は、ポリカーボネート重合体を含有する樹脂である。また、ポリカーボネート重合体は、カーボネート結合(−O−C(=O)−O−)により結合された構造単位を有する重合体である。ポリカーボネート重合体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   The polycarbonate resin is a resin containing a polycarbonate polymer. The polycarbonate polymer is a polymer having structural units bonded by a carbonate bond (—O—C (═O) —O—). A polycarbonate polymer may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

中でもポリカーボネート重合体としては、下記式(I)に示す構造単位を含むものが好ましい。下記式(I)に示す構造単位は、例えば、ビスフェノールZを重合して形成されうる。このようなポリカーボネート重合体を含有する樹脂としては、例えば、SABIC社製のレキサン等が挙げられる。   Among them, the polycarbonate polymer is preferably one containing a structural unit represented by the following formula (I). The structural unit represented by the following formula (I) can be formed by polymerizing bisphenol Z, for example. Examples of such a resin containing a polycarbonate polymer include Lexan manufactured by SABIC.

Figure 2014065294
Figure 2014065294

式(I)において、R〜Rは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を示す。また、アルキル基、シクロアルキル基及びアリール基は、置換されていてもよく、無置換でもよい。さらに、アルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基の炭素原子数は、通常1〜10である。
式(I)において、Rは、水素原子、または、アルキル基若しくはアリール基を示す。ここで、アルキル基及びアリール基の炭素原子数は、通常1〜9である。
式(I)において、Zは、それが結合している炭素原子と一緒になって、炭素原子数4〜11の飽和若しくは不飽和の炭素環を形成する残基である。中でも、Zとしては、炭素原子数が6の飽和炭素環であることが好ましい。
In formula (I), R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group. The alkyl group, cycloalkyl group, and aryl group may be substituted or unsubstituted. Furthermore, the number of carbon atoms of the alkyl group, cycloalkyl group, or aryl group is usually 1-10.
In the formula (I), R 9 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. Here, the carbon atom number of an alkyl group and an aryl group is 1-9 normally.
In formula (I), Z is a residue that, together with the carbon atom to which it is attached, forms a saturated or unsaturated carbocycle having 4 to 11 carbon atoms. Among them, Z is preferably a saturated carbocyclic ring having 6 carbon atoms.

上述したものの中でも、RもしくはRは、炭素原子数1〜10のアルキル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。また、RもしくはRは、炭素原子数1〜10のアルキル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
中でも、式(I)に示す構造単位は、化学式(II)で示す構造単位(ビスフェノールZ単位)であることが特に好ましい。
Among those described above, R 1 or R 3 is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and more preferably a methyl group. R 6 or R 8 is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and more preferably a methyl group.
Among them, the structural unit represented by the formula (I) is particularly preferably a structural unit represented by the chemical formula (II) (bisphenol Z unit).

Figure 2014065294
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ポリカーボネート重合体としては、式(I)に示す構造単位に加えて、下記式(III)に示す構造単位を更に含むものが好ましい。下記式(III)に示す構造単位は、例えば、ビスフェノールAを重合して形成されうる。中でも、この式(III)に示す構造単位が、式(IV)又は(V)に示す構造単位であることがより好ましい。   As the polycarbonate polymer, those further containing a structural unit represented by the following formula (III) in addition to the structural unit represented by the formula (I) are preferable. The structural unit represented by the following formula (III) can be formed by polymerizing bisphenol A, for example. Among these, the structural unit represented by the formula (III) is more preferably a structural unit represented by the formula (IV) or (V).

Figure 2014065294
Figure 2014065294

化学式(III)において、R10〜R17は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基である。ここで、アルキル基、シクロアルキル基及びアリール基は、置換されていてもよく、無置換でもよい。さらに、アルキル基、シクロアルキル基及びアリール基の炭素原子数は、通常1〜10である。In the chemical formula (III), R 10 to R 17 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group. Here, the alkyl group, cycloalkyl group, and aryl group may be substituted or unsubstituted. Furthermore, the carbon atom number of an alkyl group, a cycloalkyl group, and an aryl group is 1-10 normally.

Figure 2014065294
Figure 2014065294

Figure 2014065294
Figure 2014065294

式(I)に示す構造単位と式(III)に示す構造単位の組み合わせにおいて、式(I)に示す構造単位1モルに対して、式(III)に示す構造単位の量は、好ましくは0.6モル以上であり、また、好ましくは1.5モル以下である。これにより、基材(A1)として、耐熱性、屈曲性に優れたフィルムを形成することができる。   In the combination of the structural unit represented by the formula (I) and the structural unit represented by the formula (III), the amount of the structural unit represented by the formula (III) is preferably 0 with respect to 1 mol of the structural unit represented by the formula (I). .6 mol or more, and preferably 1.5 mol or less. Thereby, a film excellent in heat resistance and flexibility can be formed as the substrate (A1).

また、ポリカーボネート重合体は、式(I)又は式(III)に示す構造単位以外の任意の構造単位を含んでいてもよい。ただし、ポリカーボネート重合体において、式(I)又は式(III)に示す構造単位の割合は、好ましくは55重量%以上、さらに好ましくは70重量%以上、特に好ましくは90重量%以上であり、また、通常100重量%以下である。   Moreover, the polycarbonate polymer may contain arbitrary structural units other than the structural unit shown in Formula (I) or Formula (III). However, in the polycarbonate polymer, the proportion of the structural unit represented by formula (I) or formula (III) is preferably 55% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, and particularly preferably 90% by weight or more. Usually, it is 100% by weight or less.

(メタ)アクリル酸エステル−ビニル芳香族化合物共重合体樹脂は、(メタ)アクリル酸エステルとビニル芳香族化合物の共重合体を含む樹脂である。(メタ)アクリル酸エステルとビニル芳香族化合物は、1種類ずつで用いてもよく、2種類以上ずつを任意の比率で組み合わせて共重合したものでもよい。また、前記の共重合体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   The (meth) acrylic acid ester-vinyl aromatic compound copolymer resin is a resin containing a copolymer of a (meth) acrylic acid ester and a vinyl aromatic compound. The (meth) acrylic acid ester and the vinyl aromatic compound may be used one by one or may be copolymerized by combining two or more of them at an arbitrary ratio. Moreover, the said copolymer may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

(メタ)アクリル酸エステルとしては、例えば、(メタ)アクリル樹脂の説明において挙げた例示物と同様のものが挙げられる。また、(メタ)アクリル酸エステルは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Examples of the (meth) acrylic acid ester include the same examples as those exemplified in the description of the (meth) acrylic resin. Moreover, (meth) acrylic acid ester may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

ビニル芳香族化合物としては、例えばエチレン性不飽和結合を有する芳香族単量体が挙げられる。その具体例としては、スチレン、o−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−tert−ブチルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、2,5−ジメチルスチレン、α−メチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセンを挙げることができる。また、ビニル芳香族化合物は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Examples of vinyl aromatic compounds include aromatic monomers having an ethylenically unsaturated bond. Specific examples thereof include styrene, o-methylstyrene, p-methylstyrene, p-tert-butylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, 2,5-dimethylstyrene, α-methylstyrene, vinylnaphthalene, and vinylanthracene. Can be mentioned. Moreover, a vinyl aromatic compound may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

(メタ)アクリル酸エステルとビニル芳香族化合物との重合比は、共重合体の耐熱性、透明性及び強度の観点から、(メタ)アクリル酸エステル1重量%〜80重量%、ビニル芳香族化合物20重量%〜99重量%としうる。(メタ)アクリル酸エステルの量を1重量%以上にすることにより共重合体の強度、耐熱性及び透明性を充分に高めることができ、80重量%以下とすることにより(メタ)アクリル酸エステル−ビニル芳香族化合物共重合体樹脂の成形加工性を良好にできる。   The polymerization ratio of (meth) acrylic acid ester to vinyl aromatic compound is 1% to 80% by weight of (meth) acrylic acid ester, vinyl aromatic compound from the viewpoint of heat resistance, transparency and strength of the copolymer. It may be 20% to 99% by weight. By making the amount of (meth) acrylic acid ester 1% by weight or more, the strength, heat resistance and transparency of the copolymer can be sufficiently increased, and by making it 80% by weight or less, (meth) acrylic acid ester -The moldability of the vinyl aromatic compound copolymer resin can be improved.

(メタ)アクリル酸エステルとビニル芳香族化合物の共重合体は、(メタ)アクリル酸エステル及びビニル芳香族化合物以外の任意の単量体を更に重合した共重合体であってもよい。任意の単量体としては、例えば、共役ジエン化合物を挙げることができる。共役ジエン化合物の具体例としては、1,3−ブタジエン、2−メチル−1,3−ブタジエン(イソプレン)、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、1,3−ペンタジエン、1,3−ヘキサジエンなどが挙げられ、特に好ましくは1,3−ブタジエン、イソプレンである。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。ただし、この共重合体において、(メタ)アクリル酸エステル又はビニル芳香族化合物を重合して形成される構造を有する構造単位の割合は、好ましくは55重量%以上、さらに好ましくは70重量%以上、特に好ましくは90重量%以上であり、また、通常100重量%以下である。   The copolymer of (meth) acrylic acid ester and vinyl aromatic compound may be a copolymer obtained by further polymerizing any monomer other than (meth) acrylic acid ester and vinyl aromatic compound. As an arbitrary monomer, a conjugated diene compound can be mentioned, for example. Specific examples of the conjugated diene compound include 1,3-butadiene, 2-methyl-1,3-butadiene (isoprene), 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, 1,3-pentadiene, 1,3- Examples include hexadiene, and particularly preferred are 1,3-butadiene and isoprene. One of these may be used alone, or two or more thereof may be used in combination at any ratio. However, in this copolymer, the proportion of structural units having a structure formed by polymerizing (meth) acrylic acid ester or vinyl aromatic compound is preferably 55% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, Particularly preferred is 90% by weight or more, and usually 100% by weight or less.

ポリエーテルスルホン樹脂は、ポリエーテルスルホン重合体を含む樹脂である。また、ポリエーテルスルホン重合体は、主鎖が芳香族ビスフェノールとジハロゲノアリールスルホンとの縮合構造で結ばれた重合体である。ポリエーテルスルホン重合体は、例えば、芳香族ビスフェノールとジハロゲノアリールスルホンとを塩基性触媒の存在下に溶液重合法或いは溶融重合法等の重合方法で重縮合させて得ることができる。ポリエーテルスルホン重合体は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   The polyethersulfone resin is a resin containing a polyethersulfone polymer. The polyethersulfone polymer is a polymer in which the main chain is linked by a condensed structure of aromatic bisphenol and dihalogenoarylsulfone. The polyethersulfone polymer can be obtained, for example, by polycondensing aromatic bisphenol and dihalogenoarylsulfone in the presence of a basic catalyst by a polymerization method such as a solution polymerization method or a melt polymerization method. A polyether sulfone polymer may be used individually by 1 type, and may be used combining 2 or more types by arbitrary ratios.

芳香族ビスフェノールとしては、例えば、ヒドロキノン、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−t−ブチルフェニル)プロパン、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、1,3−ビス{2−(4−ヒドロキシフェニル)プロピル}ベンゼン、1,4−ビス{2−(4−ヒドロキシフェニル)プロピル}ベンゼン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1,1−3,3,3−ヘキサフルオロプロパン等を挙げることができる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Examples of the aromatic bisphenol include hydroquinone, 4,4′-dihydroxybiphenyl, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethyl. Cyclohexane, bis (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) butane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1 -Phenylethane, bis (4-hydroxyphenyl) diphenylmethane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane, 2,2-bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2 -Bis (4-hydroxy-3-tert-butylphenyl) propane, 9,9-bis (4-hydro) Ciphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene, 1,3-bis {2- (4-hydroxyphenyl) propyl} benzene, 1,4-bis {2- (4- Hydroxyphenyl) propyl} benzene, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -1,1,1-3,3,3-hexafluoropropane and the like. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio.

また、ジハロゲノアリールスルホンとしては、例えば、ビス(4−クロロフェニル)スルホン、ビス(4−フルオロフェニル)スルホン、ビス(4−ブロモフェニル)スルホン、4−クロロ−4’−(p−クロロフェニル)ジフェニルスルホン、4−フルオロ−4’−(p−フルオロフェニル)ジフェニルスルホン、4−ブロモ−4’−(p−ブロモフェニル)ジフェニルスルホン、ビス(4’−クロロビフェニル)スルホン、ビス(4’−フルオロビフェニル)スルホン、ビス(4’−ブロモビフェニル)スルホン、ビス(6−クロロビナフチル)スルホン、ビス(6−フルオロビナフチル)スルホン、ビス(6−ブロモビナフチル)スルホン、ビス(4−クロロ−3−メチルフェニル)スルホン、ビス(4−フルオロ−3−メチルフェニル)スルホン、ビス(4−ブロモ−3−メチルフェニル)スルホン、ビス(3−フェニル−4−クロロフェニル)スルホン、ビス(3−フェニル−4−フルオロフェニル)スルホン、ビス(3−フェニル−4−ブロモフェニル)スルホン、ビス(4−クロロ−3−t−ブチルフェニル)スルホン、ビス(4−フルオロ−3−t−ブチルフェニル)スルホン、ビス(4−ブロモ−3−t−ブチルフェニル)スルホン等を挙げることができる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Examples of the dihalogenoaryl sulfone include bis (4-chlorophenyl) sulfone, bis (4-fluorophenyl) sulfone, bis (4-bromophenyl) sulfone, and 4-chloro-4 ′-(p-chlorophenyl) diphenyl. Sulfone, 4-fluoro-4 ′-(p-fluorophenyl) diphenylsulfone, 4-bromo-4 ′-(p-bromophenyl) diphenylsulfone, bis (4′-chlorobiphenyl) sulfone, bis (4′-fluoro) Biphenyl) sulfone, bis (4′-bromobiphenyl) sulfone, bis (6-chlorobinaphthyl) sulfone, bis (6-fluorobinaphthyl) sulfone, bis (6-bromobinaphthyl) sulfone, bis (4-chloro-3-methyl) Phenyl) sulfone, bis (4-fluoro-3-methylpheny) ) Sulfone, bis (4-bromo-3-methylphenyl) sulfone, bis (3-phenyl-4-chlorophenyl) sulfone, bis (3-phenyl-4-fluorophenyl) sulfone, bis (3-phenyl-4-bromo) Phenyl) sulfone, bis (4-chloro-3-t-butylphenyl) sulfone, bis (4-fluoro-3-t-butylphenyl) sulfone, bis (4-bromo-3-t-butylphenyl) sulfone, etc. Can be mentioned. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio.

ポリエーテルスルホン重合体は、芳香族ビスフェノール及びジハロゲノアリールスルホン以外の単量体を重合して形成される構造を有する任意の構造単位を含んでいてもよい。ただし、この共重合体において、芳香族ビスフェノール及びジハロゲノアリールスルホンを重合して形成される構造を有する構造単位の割合は、好ましくは55重量%以上、さらに好ましくは70重量%以上、特に好ましくは90重量%以上であり、また、通常100重量%以下である。   The polyethersulfone polymer may contain an arbitrary structural unit having a structure formed by polymerizing monomers other than aromatic bisphenol and dihalogenoarylsulfone. However, in this copolymer, the proportion of structural units having a structure formed by polymerizing aromatic bisphenol and dihalogenoaryl sulfone is preferably 55% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, particularly preferably. It is 90% by weight or more and usually 100% by weight or less.

基材(A1)を形成する材料となる樹脂は、上述した重合体以外に任意の成分を含みうる。ただし、基材(A1)を形成する材料となる樹脂における上述した重合体の割合は、好ましくは50重量%以上、より好ましくは80重量%以上、特に好ましくは90重量%以上であり、通常100重量%以下である。   Resin used as a material which forms a base material (A1) can contain arbitrary components other than the polymer mentioned above. However, the ratio of the above-mentioned polymer in the resin that is a material for forming the substrate (A1) is preferably 50% by weight or more, more preferably 80% by weight or more, and particularly preferably 90% by weight or more, and is usually 100%. % By weight or less.

例えば、基材(A1)が(メタ)アクリル樹脂である場合、その(メタ)アクリル樹脂はゴム粒子を含みうる。ゴム粒子を含むことにより、(メタ)アクリル樹脂の可撓性を高め、積層体の耐衝撃性を向上させることができる。また、必要に応じてゴム粒子によって(メタ)アクリル樹脂の層の表面の表面粗さを粗くして、その表面における接触面積を減少させて、その表面の滑り性を高めることができる。基材(A1)においては、非液晶性材料の層(A2)側の表面は表面粗さが小さいことが好ましく、したがって、非液晶性材料の層(A2)とは反対側の表面の表面粗さを粗くすることが好ましい。   For example, when the substrate (A1) is a (meth) acrylic resin, the (meth) acrylic resin can include rubber particles. By including the rubber particles, the flexibility of the (meth) acrylic resin can be increased, and the impact resistance of the laminate can be improved. Further, if necessary, the surface roughness of the (meth) acrylic resin layer can be increased with rubber particles, the contact area on the surface can be reduced, and the slipperiness of the surface can be enhanced. In the base material (A1), it is preferable that the surface of the non-liquid crystalline material layer (A2) side has a small surface roughness, and therefore the surface roughness of the surface opposite to the non-liquid crystalline material layer (A2). It is preferable to roughen the thickness.

ゴム粒子を形成するゴムとしては、例えば、アクリル酸エステル重合体ゴム、ブタジエンを主成分とする重合体ゴム、エチレン−酢酸ビニル共重合体ゴム等が挙げられる。アクリル酸エステル重合体ゴムとしては、例えば、ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート等を単量体単位の主成分とするものが挙げられる。これらの中でも、ブチルアクリレートを主成分としたアクリル酸エステル重合体ゴム及びブタジエンを主成分とする重合体ゴムが好ましい。   Examples of the rubber forming the rubber particles include acrylate polymer rubber, polymer rubber mainly composed of butadiene, and ethylene-vinyl acetate copolymer rubber. Examples of the acrylate polymer rubber include those having butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate or the like as a main component of a monomer unit. Among these, acrylic acid ester polymer rubber mainly composed of butyl acrylate and polymer rubber mainly composed of butadiene are preferable.

また、ゴム粒子には、1種類のゴムが単独で含まれていてもよく、2種類以上のゴムが含まれていてもよい。また、それらのゴムは、均一に混ぜ合わせられていてもよいが、層状になったものであってもよい。ゴムが層状になったゴム粒子の例としては、ゴム弾性成分からなるコアと、硬質樹脂層(シェル)とが、コア−シェル構造で層を形成している粒子が挙げられる。ここで、ゴム弾性成分としては、例えば、ブチルアクリレート等のアルキルアクリレートとスチレンとをグラフト化したゴム弾性成分が挙げられる。また、硬質樹脂層としては、例えば、ポリメチルメタクリレート及びメチルメタクリレートの一方又は両方とアルキルアクリレートとの共重合体からなる硬質樹脂層が挙げられる。   Further, the rubber particles may contain one type of rubber alone or two or more types of rubber. Further, these rubbers may be mixed uniformly, but may be layered. Examples of rubber particles in which rubber is layered include particles in which a core made of a rubber elastic component and a hard resin layer (shell) form a layer with a core-shell structure. Here, examples of the rubber elastic component include a rubber elastic component obtained by grafting an alkyl acrylate such as butyl acrylate and styrene. Examples of the hard resin layer include a hard resin layer made of a copolymer of one or both of polymethyl methacrylate and methyl methacrylate and an alkyl acrylate.

ゴム粒子は、数平均粒子径が、0.05μm以上であることが好ましく、0.1μm以上であることがより好ましく、また、0.3μm以下であることが好ましく、0.25μm以下であることがより好ましい。数平均粒子径を前記範囲内とすることにより、(メタ)アクリル樹脂の層の表面に適度な凹凸を形成して、積層体の滑り性を向上させることができる。   The rubber particles preferably have a number average particle diameter of 0.05 μm or more, more preferably 0.1 μm or more, and preferably 0.3 μm or less, and 0.25 μm or less. Is more preferable. By setting the number average particle diameter within the above range, moderate unevenness can be formed on the surface of the (meth) acrylic resin layer, and the slipperiness of the laminate can be improved.

ゴム粒子の量は、(メタ)アクリル重合体100重量部に対して、好ましくは5重量部以上であり、好ましくは50重量部以下である。ゴム粒子の量を前記範囲内とすることにより積層体の耐衝撃性を高めてハンドリング性を向上させることができる。   The amount of the rubber particles is preferably 5 parts by weight or more and preferably 50 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the (meth) acrylic polymer. By setting the amount of the rubber particles within the above range, the impact resistance of the laminate can be increased and the handling property can be improved.

また、基材(A1)を形成する材料となる樹脂が含みうる任意の成分としては、例えば、配合剤が挙げられる。配合剤の例を挙げると、層状結晶化合物;微粒子;酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、近赤外線吸収剤等の安定剤;可塑剤:染料及び顔料等の着色剤;帯電防止剤;などが挙げられる。また、配合剤は、1種類を用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。配合剤の量は、本発明の効果を著しく損なわない範囲で適切に定めうるものであり、例えば、上述した重合体100重量部に対して、10重量部以下が好ましく、5重量部以下がより好ましく、3重量部以下が更に好ましく、また、通常0重量部以上にしてもよい。   Moreover, as an arbitrary component which resin which becomes the material which forms a base material (A1) can contain, a compounding agent is mentioned, for example. Examples of compounding agents are layered crystal compounds; fine particles; antioxidants, heat stabilizers, light stabilizers, weathering stabilizers, UV absorbers, near infrared absorbers and other stabilizers; plasticizers: dyes and pigments, etc. Colorants; antistatic agents; and the like. Moreover, a compounding agent may use one type and may use it combining two or more types by arbitrary ratios. The amount of the compounding agent can be appropriately determined within a range that does not significantly impair the effects of the present invention. For example, the amount is preferably 10 parts by weight or less, more preferably 5 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the polymer. Preferably, it is more preferably 3 parts by weight or less, and usually 0 part by weight or more.

基材(A1)を形成する材料となる樹脂のガラス転移温度は、層(A2)を形成する非液晶性材料のガラス転移温度に応じて設定することが好ましい。具体的には、基材(A1)の材料のガラス転移温度と、層(A2)を形成する非液晶性材料のガラス転移温度との差は、好ましくは−15℃以上、より好ましくは−10℃以上、特に好ましくは−5℃以上であり、好ましくは+15℃以下、より好ましくは+10℃以下であり、特に好ましくは+5℃以下である。複層フィルム(A)において各層を形成する材料のガラス転移温度の差を前記の範囲にすることにより、延伸処理時の基材(A1)に対する非液晶性材料の層(A2)の追随性を損なうことなく、延伸処理することができる。またこれにより、MD方向及びTD方向の両方において、非液晶性材料の層(A2)において均一な延伸処理を施すことができる。   It is preferable to set the glass transition temperature of resin used as the material for forming the substrate (A1) according to the glass transition temperature of the non-liquid crystalline material forming the layer (A2). Specifically, the difference between the glass transition temperature of the material of the substrate (A1) and the glass transition temperature of the non-liquid crystalline material forming the layer (A2) is preferably −15 ° C. or more, more preferably −10. ° C or higher, particularly preferably −5 ° C. or higher, preferably + 15 ° C. or lower, more preferably + 10 ° C. or lower, and particularly preferably + 5 ° C. or lower. By making the difference in glass transition temperature of the material forming each layer in the multilayer film (A) within the above range, the followability of the layer (A2) of the non-liquid crystalline material with respect to the base material (A1) during the stretching treatment can be improved. Stretching can be performed without loss. Thereby, uniform stretching treatment can be performed on the layer (A2) of the non-liquid crystalline material in both the MD direction and the TD direction.

基材(A1)は、波長550nmにおける面内方向のレターデーションReA1(550)が、好ましくは300nm以下、より好ましくは200nm以下、特に好ましくは100nm以下であり、通常0nm以上である。基材(A1)の面内方向のレターデーションReA1(550)を小さくすることにより、複層フィルム(A)を製造する際に延伸処理をしながら非液晶性材料の層(A2)のみのレターデーションを測定することが可能となる。特に、基材(A1)としては、光学等方性を有するものが好ましい。The substrate (A1) has an in-plane retardation Re A1 (550) at a wavelength of 550 nm, preferably 300 nm or less, more preferably 200 nm or less, particularly preferably 100 nm or less, and usually 0 nm or more. By reducing the retardation Re A1 (550) in the in-plane direction of the substrate (A1), only the layer (A2) of the non-liquid crystalline material is stretched while being stretched when the multilayer film (A) is produced. It becomes possible to measure retardation. In particular, the substrate (A1) is preferably one having optical isotropy.

基材(A1)としては、必要に応じて、例えば親水化処理、疎水化処理、基材(A1)の溶解性を低減する処理等の表面処理を施したものを用いうる。   As a base material (A1), what gave surface treatments, such as a hydrophilization process, a hydrophobization process, the process which reduces the solubility of a base material (A1), can be used as needed.

基材(A1)は、1層のみで形成された単層構造を有していてもよく、2層以上の層を含む複層構造を有していてもよい。   The base material (A1) may have a single layer structure formed of only one layer, or may have a multilayer structure including two or more layers.

基材(A1)の厚みは、好ましくは10μm以上、より好ましくは20μm以上、特に好ましくは30μm以上であり、好ましくは200μm以下、より好ましくは150μm以下、特に好ましくは100μm以下である。基材(A1)の厚みを前記範囲の下限値以上とすることにより、延伸むらの発生を防止できる。また、上限値以下とすることにより、基材(A1)の張力が過大にならないようにして工業生産性を高めることができる。   The thickness of the substrate (A1) is preferably 10 μm or more, more preferably 20 μm or more, particularly preferably 30 μm or more, preferably 200 μm or less, more preferably 150 μm or less, and particularly preferably 100 μm or less. By setting the thickness of the base material (A1) to be equal to or more than the lower limit value of the above range, the occurrence of uneven stretching can be prevented. Moreover, industrial productivity can be improved by setting it as below an upper limit so that the tension | tensile_strength of a base material (A1) may not become excessive.

[1.1.2.非液晶性材料の層(A2)]
非液晶性材料の層(A2)は、固有複屈折が正の非液晶性材料の層である。非液晶性材料は、液晶性材料とは異なり、基材(A1)の表面に塗工した場合に、基材(A1)の配向性に関係なく、非液晶性材料自身の性質により、透明な無配向層を形成することができる。その後、複層フィルム(A)を延伸することで、任意の延伸方向と同方向に配向した非液晶性材料の層(A2)を形成することができる。このため、前記の基材(A1)は、未配向性のものであっても、例えばその表面に配向膜を塗工する工程及び配向膜を積層する工程等を要しない。
[1.1.2. Non-liquid crystalline material layer (A2)]
The layer (A2) of non-liquid crystalline material is a layer of non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence. Unlike the liquid crystalline material, the non-liquid crystalline material is transparent when applied to the surface of the base material (A1) due to the properties of the non-liquid crystalline material itself, regardless of the orientation of the base material (A1). A non-oriented layer can be formed. Thereafter, by stretching the multilayer film (A), a layer (A2) of a non-liquid crystalline material oriented in the same direction as an arbitrary stretching direction can be formed. For this reason, even if the said base material (A1) is a non-orientation thing, the process of coating the orientation film on the surface, the process of laminating the orientation film, etc. are not required, for example.

固有複屈折が正の非液晶性材料としては、通常、固有複屈折が正の樹脂を用いる。また、この樹脂としては、通常、透明の樹脂を用いる。このような樹脂のうち好適な例としては、耐熱性、耐薬品性、透明性に優れ、剛性にも富むことから、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、マレイミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステルイミド樹脂、ポリウレタンウレア樹脂などが挙げられる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。また、2種類以上の樹脂を組み合わせる場合、例えばポリエーテルケトン樹脂とポリアミド樹脂との混合物のように、異なる官能基を有する樹脂を組み合わせて用いてもよい。このような樹脂の中でも、ポリイミド樹脂、マレイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂及びポリエステル樹脂、ポリウレタンウレア樹脂が好ましい。具体例としては、例えば特許第3962034号公報、特許3897743号公報、特許3838522号公報、特許3811175号公報に記載のものが挙げられる。   As the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence, a resin having a positive intrinsic birefringence is usually used. Further, as this resin, a transparent resin is usually used. Preferred examples of such resins include polyamide resins, polyimide resins, maleimide resins, polyester resins, polyetherketone resins, polyamideimides because of their excellent heat resistance, chemical resistance, transparency, and rigidity. Resins, polycarbonate resins, polyester imide resins, polyurethane urea resins and the like can be mentioned. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio. When two or more kinds of resins are combined, resins having different functional groups such as a mixture of a polyether ketone resin and a polyamide resin may be used in combination. Among such resins, polyimide resin, maleimide resin, polyamideimide resin, polycarbonate resin and polyester resin, and polyurethane urea resin are preferable. Specific examples include those described in Japanese Patent No. 3962034, Japanese Patent No. 3897743, Japanese Patent No. 3838522, and Japanese Patent No. 3811175.

好ましいポリイミド樹脂としては、例えば、面内配向性が高く、有機溶剤に可溶なポリイミドを含む樹脂が好ましい。具体的には、例えば、特表2000−511296号公報に開示された、9,9−ビス(アミノアリール)フルオレンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮合重合生成物を含み、下記式(VI)に示す構造単位を1分子あたり1つ以上含むポリイミドを含む樹脂が好ましい。   As a preferable polyimide resin, for example, a resin containing a polyimide having a high in-plane orientation and soluble in an organic solvent is preferable. Specifically, for example, it includes a condensation polymerization product of 9,9-bis (aminoaryl) fluorene and an aromatic tetracarboxylic dianhydride disclosed in JP 2000-511296 A, and has the following formula ( A resin containing polyimide containing at least one structural unit shown in VI) per molecule is preferred.

Figure 2014065294
Figure 2014065294

式(VI)において、R1aは、各々独立に、水素原子;ハロゲン原子;フェニル基;1〜4個の、ハロゲン原子又は炭素原子数1〜10のアルキル基で置換された、フェニル基;並びに、炭素原子数1〜10のアルキル基;とからなる群より選択される基を示す。中でもR1aとしては、ハロゲン原子;フェニル基;1〜4個の、ハロゲン原子又は炭素原子数1〜10のアルキル基で置換された、フェニル基;並びに、炭素原子数1〜10のアルキル基;とから選択されるものが好ましい。In formula (VI), each R 1a independently represents a hydrogen atom; a halogen atom; a phenyl group; a phenyl group substituted with 1 to 4 halogen atoms or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; and And a group selected from the group consisting of: an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; Among them, as R 1a , a halogen atom; a phenyl group; a phenyl group substituted with 1 to 4 halogen atoms or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; Are preferably selected from.

式(VI)において、Aは、炭素原子数6〜20の四置換芳香族基を示す。中でもAとしては、下記の(1)〜(3)のいずれかの基が好ましい。
(1)ピロメリット酸の4つのカルボキシル基からそれぞれ水素原子を除いた構造の4価の基。
(2)ナフチレン、フルオレニレン、ベンゾフルオレニレン、アントラセニレン等の多環式芳香族化合物から4つの水素原子を除いた構造の4価の基、およびその置換誘導体。ここで、置換基は、炭素原子数1〜10アルキル基及びそのフッ素化誘導体、並びに、フッ素又は塩素等のハロゲン原子である。
(3)式(VII)で表される基。
In the formula (VI), A a represents a tetrasubstituted aromatic group having 6 to 20 carbon atoms. Among these Examples A a, preferably any of the groups of the following (1) to (3).
(1) A tetravalent group having a structure in which a hydrogen atom is removed from each of four carboxyl groups of pyromellitic acid.
(2) A tetravalent group having a structure in which four hydrogen atoms are removed from a polycyclic aromatic compound such as naphthylene, fluorenylene, benzofluorenylene, anthracenylene, or the like, and a substituted derivative thereof. Here, the substituent is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and a fluorinated derivative thereof, and a halogen atom such as fluorine or chlorine.
(3) A group represented by the formula (VII).

Figure 2014065294
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式(VII)において、Bは、共有結合、C(R2a基、CO基、O原子、S原子、SO基、Si(C基、N(R3a基及びこれらの組み合わせを示す。R2aは、各々独立に、水素原子またはC(R4a基を示す。R3aは、各々独立に、水素原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、または、炭素原子数6〜20のアリール基を示す。R4aは、各々独立に、水素原子、フッ素原子又は塩素原子を示す。また、式(VII)においてmは、1〜10の整数を示す。In the formula (VII), Ba is a covalent bond, C (R 2a ) 2 group, CO group, O atom, S atom, SO 2 group, Si (C 2 H 5 ) 2 group, N (R 3a ) 2 Groups and combinations thereof are shown. R 2a independently represents a hydrogen atom or a C (R 4a ) 3 group. R 3a independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. R 4a independently represents a hydrogen atom, a fluorine atom or a chlorine atom. In formula (VII), m represents an integer of 1 to 10.

好ましいマレイミド樹脂としては、例えば、式(VIII)で示す重合体を含む樹脂が挙げられる。   Preferred maleimide resins include, for example, resins containing a polymer represented by formula (VIII).

Figure 2014065294
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式(VIII)において、RおよびQは、各々独立に、置換あるいは無置換の脂肪族基、芳香族基、複素環基、シロキサン基又は不飽和炭化水素基を示す。
式(VIII)において、Xは、活性エネルギー線硬化あるいは熱硬化が可能なマレイミド基を示す。
式(VIII)において、nは、1以上10以下の整数を示す。
In the formula (VIII), R b and Q b each independently represent a substituted or unsubstituted aliphatic group, aromatic group, heterocyclic group, siloxane group or unsaturated hydrocarbon group.
In the formula (VIII), Xb represents a maleimide group capable of active energy ray curing or heat curing.
In the formula (VIII), n represents an integer of 1 or more and 10 or less.

式(VIII)で示す重合体の中でも、下記の式(IX)又は式(X)で示される構造を有する重合体が好ましい。式(IX)及び式(X)において、nは、各々独立に、1以上10以下の整数を示す。   Among the polymers represented by the formula (VIII), a polymer having a structure represented by the following formula (IX) or formula (X) is preferable. In the formula (IX) and the formula (X), n independently represents an integer of 1 or more and 10 or less.

Figure 2014065294
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Figure 2014065294
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さらに、マレイミド樹脂としては、米国特許出願公開第2008/0075961号公報に記載の化合物を挙げることができる。
これらのマレイミド樹脂は、例えば、エア・ブラウン社より入手することができる。
Furthermore, examples of the maleimide resin include compounds described in US Patent Application Publication No. 2008/0075961.
These maleimide resins can be obtained from, for example, Air Brown.

ポリアミドイミド樹脂及びポリエステル樹脂としては、例えば、特表平10−508048号公報に記載されるポリアミド樹脂及びポリエステル樹脂があげられる。これらのポリアミドイミド樹脂又はポリエステル樹脂が含むポリアミドイミド又はポリエステルが含む構造単位は、例えば、下記化学式(XI)で示される。   Examples of the polyamideimide resin and the polyester resin include polyamide resins and polyester resins described in JP-T-10-508048. The structural unit contained in the polyamideimide or polyester contained in these polyamideimide resin or polyester resin is represented, for example, by the following chemical formula (XI).

Figure 2014065294
Figure 2014065294

式(XI)において、Yは、−O−又は−NH−を示す。
式(XI)において、Eは、各々独立に、共有結合、炭素原子数2のアルキレン基、ハロゲン化された炭素原子数2のアルキレン基、CH基、C(CX 基、CO基、O原子、S原子、SO基、Si(R基、及び、N(R)基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の基を示す。また、Eは、それぞれ同一でもよいし異なってもよい。前記Eにおいて、Rは、炭素原子数1〜3のアルキル基及び炭素原子数1〜3のハロゲン化アルキル基の少なくとも一種類であり、カルボニル基又はY基に対してメタ位又はパラ位にある。また、Xは、ハロゲン原子又は水素原子である。
In the formula (XI), Y c represents —O— or —NH—.
In the formula (XI), each E c is independently a covalent bond, an alkylene group having 2 carbon atoms, a halogenated alkylene group having 2 carbon atoms, a CH 2 group, a C (CX c 3 ) 2 group, It represents at least one group selected from the group consisting of a CO group, an O atom, an S atom, a SO 2 group, a Si (R c ) 2 group, and an N (R c ) group. Further, E c may be the same or different. In E c , R c is at least one of an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms and a halogenated alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and is in a meta position or a para group with respect to the carbonyl group or the Y c group. Is in place. Xc is a halogen atom or a hydrogen atom.

式(XI)において、Aは、置換基を示す。前記Aは、例えば、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜3のアルキル基、炭素原子数1〜3のハロゲン化アルキル基、OR(ここで、Rは、前記定義のものである。)で表されるアルコキシ基、アリール基、ハロゲン化等による置換アリール基、炭素原子数1〜9のアルコキシカルボニル基、炭素原子数1〜9のアルキルカルボニルオキシ基、炭素原子数1〜12のアリールオキシカルボニル基、炭素原子数1〜12のアリールカルボニルオキシ基及びその置換誘導体、炭素原子数1〜12のアリールカルバモイル基、並びに、炭素原子数1〜12のアリールカルボニルアミノ基及びその置換誘導体が挙げられる。また、Aが複数ある場合、Aはそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。In formula (XI), Ac represents a substituent. The Ac is, for example, a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, OR c (where R c is as defined above). An alkoxy group, an aryl group, a substituted aryl group by halogenation, etc., an alkoxycarbonyl group having 1 to 9 carbon atoms, an alkylcarbonyloxy group having 1 to 9 carbon atoms, or 1 to 12 carbon atoms. Aryloxycarbonyl group, arylcarbonyloxy group having 1 to 12 carbon atoms and substituted derivatives thereof, arylcarbamoyl group having 1 to 12 carbon atoms, and arylcarbonylamino group having 1 to 12 carbon atoms and substituted derivatives thereof Is mentioned. Further, if the A c there are multiple, A c may be respectively identical or different.

式(XI)において、A’は、置換基を示す。前記A’は、例えば、ハロゲン原子、炭素原子数1〜3のアルキル基、炭素原子数1〜3のハロゲン化アルキル基、フェニル基及び置換フェニル基が挙げられる。また、A’が複数ある場合、A’はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。前記置換フェニル基のフェニル環上の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、炭素原子数1〜3のアルキル基、炭素原子数1〜3のハロゲン化アルキル基及びこれらの組み合わせを挙げることができる。In formula (XI), A c ′ represents a substituent. Examples of the A c ′ include a halogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a phenyl group, and a substituted phenyl group. Also, 'if there are a plurality, A c' A c respectively may be the same or may be different. Examples of the substituent on the phenyl ring of the substituted phenyl group include a halogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and combinations thereof.

式(XI)において、t及びzは、それぞれA及びA’の置換数を表す。前記tは、0〜4の整数である。前記zは、0〜3の整数である。
式(XI)において、pは、0〜3の整数であり、qは、1〜3の整数であり、rは、0〜3の整数である。
In formula (XI), t and z represent the number of substitutions for A c and A c ′, respectively. Said t is an integer of 0-4. Said z is an integer of 0-3.
In Formula (XI), p is an integer of 0 to 3, q is an integer of 1 to 3, and r is an integer of 0 to 3.

また、ポリエステルとしては、下記式(XII)又は式(XIII)で表される構造単位を含むものでもよい。   Further, the polyester may include a structural unit represented by the following formula (XII) or formula (XIII).

Figure 2014065294
Figure 2014065294

前記式(XII)及び式(XIII)において、X及びYは、置換基を示す。Xは、各々独立に、水素原子、塩素原子及び臭素原子からなる群より選択される基を示す。また、Yは、下記式(XIV)又は式(XV)で示される基を示す。また、nは、1以上の整数を表す。In the formula (XII) and the formula (XIII), X d and Y d represent a substituent. X d each independently represents a group selected from the group consisting of a hydrogen atom, a chlorine atom and a bromine atom. Y d represents a group represented by the following formula (XIV) or formula (XV). N represents an integer of 1 or more.

Figure 2014065294
Figure 2014065294

ポリエステルの具体例としては、東洋紡社製「バイロン」、日本合成化学社製「ポリエスター」を好適に用いることができる。   As specific examples of polyester, “Byron” manufactured by Toyobo Co., Ltd. and “Polyester” manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd. can be suitably used.

ポリウレタンウレア樹脂としては、例えば、脂肪族環式構造含有ポリオール、脂肪族環式構造含有ポリイソシアネート、脂肪族環式構造含有ポリアミン及び活性水素原子含有基を有するアクリル化合物を反応させることによって得られる重合体を含む樹脂が挙げられる。その具体例としては、特開2011−132548号公報に記載の材料および製法にて合成した重合体を含む樹脂が挙げられる。ポリウレタンウレア樹脂の具体例としては、DIC社製「タイフォース」を好適に用いることができる。   Examples of polyurethane urea resins include aliphatic cyclic structure-containing polyols, aliphatic cyclic structure-containing polyisocyanates, aliphatic cyclic structure-containing polyamines, and heavy compounds obtained by reacting acrylic compounds having active hydrogen atom-containing groups. Examples of the resin include coalescence. Specific examples thereof include a resin containing a material synthesized by a material described in JP 2011-132548 A and a production method. As a specific example of the polyurethane urea resin, “Tie Force” manufactured by DIC can be suitably used.

ポリカーボネート樹脂としては、例えば、基材(A1)を形成する材料の説明において挙げたのと同様の例が挙げられる。その具体例としては、三菱ガス化学社製のユピゼータPCZシリーズ、三菱ガス化学社製の「FPC2136」、出光興産社製の「タフゼット」を挙げることができる。   Examples of the polycarbonate resin include the same examples as given in the description of the material forming the base material (A1). Specific examples thereof include Iupizeta PCZ series manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, “FPC2136” manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, and “Toughzet” manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd.

固有複屈折が正の非液晶性材料として使用しうる樹脂は、上述した重合体以外に任意の成分を含みうる。ただし、固有複屈折が正の非液晶性材料として使用しうる樹脂における上述した重合体の割合は、好ましくは55重量%以上、より好ましくは80重量%以上、特に好ましくは90重量%以上であり、また、通常100重量%以下である。   The resin that can be used as the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence can contain an optional component in addition to the above-described polymer. However, the proportion of the above-mentioned polymer in the resin that can be used as a non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence is preferably 55% by weight or more, more preferably 80% by weight or more, and particularly preferably 90% by weight or more. In addition, it is usually 100% by weight or less.

非液晶性材料の層(A2)を形成する固有複屈折が正の非液晶性材料のガラス転移温度は、好ましくは70℃以上、より好ましくは90℃以上、特に好ましくは110℃以上であり、好ましくは180℃以下、より好ましくは160℃以下、特に好ましくは140℃以下である。このような範囲にガラス転移温度を有する非液晶性材料で層(A2)を形成することにより、延伸処理により非液晶性材料の層(A2)に安定して所望のレターデーションを発現させることができ、かつ高温、高温高湿下での安定性に優れた層とすることができる。   The glass transition temperature of the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence forming the layer (A2) of the non-liquid crystalline material is preferably 70 ° C. or higher, more preferably 90 ° C. or higher, particularly preferably 110 ° C. or higher. Preferably it is 180 degrees C or less, More preferably, it is 160 degrees C or less, Most preferably, it is 140 degrees C or less. By forming the layer (A2) with a non-liquid crystalline material having a glass transition temperature in such a range, a desired retardation can be stably expressed in the non-liquid crystalline material layer (A2) by the stretching treatment. And a layer having excellent stability under high temperature and high temperature and high humidity.

非液晶性材料の層(A2)は、その屈折率nx、ny及びnzの関係が、nx>ny及びnx>nzを満たすネガティブバイアキシャル(negative biaxial)層であることが好ましい。これにより、非液晶性材料の層(A2)と非液晶性材料の層(B1)とを組み合わせた位相差フィルムを光学補償フィルムとして用いて、IPS型液晶パネルのコントラストを効果的に改善することが可能である。   The layer (A2) of the non-liquid crystalline material is preferably a negative biaxial layer whose refractive indexes nx, ny and nz satisfy nx> ny and nx> nz. Accordingly, the contrast of the IPS liquid crystal panel is effectively improved by using a retardation film in which the layer (A2) of the non-liquid crystal material and the layer (B1) of the non-liquid crystal material are combined as an optical compensation film. Is possible.

非液晶性材料の層(A2)は、波長550nmにおける面内方向のレターデーションReA2(550)が、好ましくは50nm以上、より好ましくは70nm以上であり、好ましくは150nm以下、より好ましくは120nm以下である。非液晶性材料の層(A2)の面内方向のレターデーションReA2(550)がこの範囲であると、複層フィルム(A)の延伸による製造を容易に行うことができる。The layer (A2) of the non-liquid crystalline material has an in-plane retardation Re A2 (550) at a wavelength of 550 nm, preferably 50 nm or more, more preferably 70 nm or more, preferably 150 nm or less, more preferably 120 nm or less. It is. When the retardation Re A2 (550) in the in-plane direction of the layer (A2) of the non-liquid crystalline material is within this range, the multilayer film (A) can be easily produced by stretching.

また、非液晶性材料の層(A2)は、波長550nmにおける厚み方向のレターデーションRthA2(550)が、好ましくは40nm以上、より好ましくは60nm以上であり、好ましくは、150nm以下、より好ましくは120nm以下である。非液晶性材料の層(A2)の厚み方向のレターデーションRthA2(550)がこの範囲であると、複層フィルム(A)の延伸による製造を容易に行うことができる。The layer (A2) of the non-liquid crystalline material has a retardation Rth A2 (550) in the thickness direction at a wavelength of 550 nm, preferably 40 nm or more, more preferably 60 nm or more, preferably 150 nm or less, more preferably 120 nm or less. When the retardation Rth A2 (550) in the thickness direction of the layer (A2) of the non-liquid crystalline material is within this range, the multilayer film (A) can be easily produced by stretching.

ここで、「基材(A1)の波長550nmにおけるレターデーションReA1(550)」を「基材(A1)の厚み」で割った商を「I」とする。また、「非液晶性材料の層(A2)の波長550nmにおけるレターデーションReA2(550)」を「非液晶性材料の層(A2)の厚み」で割った商を「J」とする。この場合、I<Jであることが好ましく、3I<Jであることがより好ましく、5I<Jであることが更に好ましく、10I<Jであることが特に好ましい。前記の値I及び値Jの関係を満たす材料を選定することで、複層フィルム(A)を製造する際に延伸処理をしながら非液晶性材料の層(A2)のみのレターデーションを正確に測定することが可能となる。Here, a quotient obtained by dividing “retardation Re A1 (550) of substrate (A1) at wavelength 550 nm” by “thickness of substrate (A1)” is “I”. Further, a quotient obtained by dividing “retardation Re A2 (550) of the non-liquid crystalline material layer (A2) at a wavelength of 550 nm” by “the thickness of the non-liquid crystalline material layer (A2)” is “J”. In this case, I <J is preferable, 3I <J is more preferable, 5I <J is further preferable, and 10I <J is particularly preferable. By selecting a material that satisfies the relationship between the value I and the value J, the retardation of only the layer (A2) of the non-liquid crystalline material is accurately performed while performing a stretching process when the multilayer film (A) is produced. It becomes possible to measure.

非液晶性材料の層(A2)の厚みは、好ましくは0.1μm以上、より好ましくは1μm以上であり、耐傷つき性、ハンドリング性及び薄膜性を高める観点から、好ましくは40μm以下、より好ましくは30μm以下である。非液晶性材料の層(A2)の厚みをこの範囲にすることにより、積層体を薄くでき、かつ、積層体を高温耐久性に優れるものとできる。   The thickness of the layer (A2) of the non-liquid crystalline material is preferably 0.1 μm or more, more preferably 1 μm or more, and preferably 40 μm or less, more preferably from the viewpoint of improving scratch resistance, handling properties and thin film properties. 30 μm or less. By setting the thickness of the layer (A2) of the non-liquid crystalline material in this range, the laminate can be thinned and the laminate can be excellent in high temperature durability.

非液晶性材料の層(A2)の面内における厚みのバラつきは、層(A2)の平均厚みの、好ましくは5%以下、より好ましくは3%以下、さらに好ましくは1%以下であり、理想的には0%である。ここで厚みのバラつきとは、厚みの最大値と最小値との差のことをいう。このように優れた厚み精度を実現することで、MD方向およびTD方向で均一な光学特性を示す積層体及び位相差フィルムを得ることができる。また、このような厚み精度は、例えば、後述する塗工及び延伸を組み合わせた製造方法で複層フィルム(A)を製造することにより、実現できる。   The variation in the thickness of the layer (A2) of the non-liquid crystal material is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and even more preferably 1% or less of the average thickness of the layer (A2). Specifically, it is 0%. Here, the thickness variation means a difference between the maximum value and the minimum value of the thickness. By realizing such an excellent thickness accuracy, it is possible to obtain a laminate and a retardation film that exhibit uniform optical characteristics in the MD direction and the TD direction. Moreover, such thickness precision is realizable by manufacturing a multilayer film (A) with the manufacturing method which combined the coating and extending | stretching mentioned later, for example.

基材(A1)と非液晶性材料の層(A2)との間の剥離力は、好ましくは0.05N/20mm以下、より好ましくは0.03N/20mm以下、特に好ましくは0.01N/20mm以下である。剥離力は、JIS K6853−2に準拠して測定しうる。剥離力をこのように小さくすることにより、積層体から基材(A1)を剥離して、位相差フィルムを容易に製造することができる。また、前記の剥離力の下限は、好ましくは0.001N/20mm以上、より好ましくは0.003N/20mm以上、特に好ましくは0.005N/20mm以上である。このように小さい剥離力は、例えば、基材(A1)及び非液晶性材料の層(A2)の材料の組み合わせを、互いに相溶しない材料で適切に選択することにより、実現できる。   The peeling force between the substrate (A1) and the non-liquid crystalline material layer (A2) is preferably 0.05 N / 20 mm or less, more preferably 0.03 N / 20 mm or less, particularly preferably 0.01 N / 20 mm. It is as follows. The peeling force can be measured according to JIS K6855-2. By reducing the peeling force in this manner, the substrate (A1) can be peeled from the laminate, and the retardation film can be easily produced. The lower limit of the peeling force is preferably 0.001 N / 20 mm or more, more preferably 0.003 N / 20 mm or more, and particularly preferably 0.005 N / 20 mm or more. Such a small peeling force can be realized, for example, by appropriately selecting a combination of materials of the base material (A1) and the non-liquid crystalline material layer (A2) using materials that are not compatible with each other.

[1.1.3.任意の層]
複層フィルム(A)は、基材(A1)の非液晶性材料の層(A2)とは反対側に、任意の層を備えていてもよい。
[1.1.3. Any layer]
The multilayer film (A) may include an arbitrary layer on the side of the base material (A1) opposite to the non-liquid crystalline material layer (A2).

[1.2.複層フィルム(B)]
図1に示すように、複層フィルム(B)20は、非液晶性材料の層(B1)21と樹脂層(B2)22とを備える。樹脂層(B2)22は非液晶性材料の層(B1)21に接しているので、非液晶性材料の層(B1)21と樹脂層(B2)22との間には他の層は設けられていない。
[1.2. Multilayer film (B)]
As shown in FIG. 1, the multilayer film (B) 20 includes a layer (B1) 21 and a resin layer (B2) 22 of a non-liquid crystalline material. Since the resin layer (B2) 22 is in contact with the layer (B1) 21 of the non-liquid crystal material, another layer is provided between the layer (B1) 21 of the non-liquid crystal material and the resin layer (B2) 22. It is not done.

[1.2.1.非液晶性材料の層(B1)]
非液晶性材料の層(B1)は、固有複屈折が負の非液晶性材料の層である。固有複屈折が負の非液晶性材料としては、通常、固有複屈折が負の樹脂を用いる。また、この樹脂としては、通常、透明の樹脂を用いる。このような樹脂としては、スチレン類、スチレン類−マレイン酸、マレイミド類及び(メタ)アクリル酸エステルからなる群より選択される1種類以上のモノマーを重合した重合体を含む樹脂が好ましい。この場合、前記の重合体は、単独重合体でもよく、共重合体でもよい。このような重合体は、通常、負の固有複屈折を有するので、それを含む樹脂の固有複屈折も負にすることができる。
[1.2.1. Non-liquid crystalline material layer (B1)]
The layer (B1) of non-liquid crystalline material is a layer of non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence. As the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence, a resin having a negative intrinsic birefringence is usually used. Further, as this resin, a transparent resin is usually used. As such a resin, a resin including a polymer obtained by polymerizing one or more monomers selected from the group consisting of styrenes, styrenes-maleic acid, maleimides, and (meth) acrylic acid esters is preferable. In this case, the polymer may be a homopolymer or a copolymer. Since such a polymer usually has a negative intrinsic birefringence, the intrinsic birefringence of the resin containing it can also be made negative.

ここで、スチレン類とは、スチレン及びスチレン誘導体を意味する。また、スチレン誘導体としては、例えば、スチレンのベンゼン環またはα位に置換基が置換したものが挙げられる。スチレン誘導体の具体例を挙げると、メチルスチレン、2,4−ジメチルスチレン等のアルキルスチレン;クロロスチレン等のハロゲン化スチレン;クロロメチルスチレン等のハロゲン置換アルキルスチレン;メトキシスチレン等のアルコキシスチレン;などが挙げられる。ここで、スチレン類は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Here, styrenes mean styrene and styrene derivatives. Examples of the styrene derivative include those in which a substituent is substituted at the benzene ring or α-position of styrene. Specific examples of styrene derivatives include alkyl styrene such as methyl styrene and 2,4-dimethyl styrene; halogenated styrene such as chlorostyrene; halogen-substituted alkyl styrene such as chloromethyl styrene; alkoxy styrene such as methoxy styrene; Can be mentioned. Here, one kind of styrene may be used alone, or two or more kinds may be used in combination at any ratio.

また、スチレン類−マレイン酸をモノマーとして重合するとは、スチレン類とマレイン酸を共重合することを意味する。さらに、マレイン酸は、無水マレイン酸の形態で重合させてもよい。   In addition, polymerization using styrenes-maleic acid as a monomer means copolymerizing styrenes and maleic acid. Furthermore, maleic acid may be polymerized in the form of maleic anhydride.

また、マレイミド類としては、例えば、下記の式(XVI)で表される化合物が挙げられる。   Moreover, as maleimide, the compound represented by the following formula (XVI) is mentioned, for example.

Figure 2014065294
Figure 2014065294

式(XVI)において、R1e及びR2eは、各々独立に、水素原子またはアルキル基を示す。
式(XVI)において、Xは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、フェニル基、シアノ基またはヒドロキシル基を示す。
In formula (XVI), R 1e and R 2e each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group.
In formula (XVI), X e represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, a phenyl group, a cyano group or a hydroxyl group.

マレイミド類の例を挙げると、マレイミド、N−メチルマレイミド、N−エチルマレイミド、N−イソプロピルマレイミド、N−ブチルマレイミド、N−イソブチルマレイミド、N−ターシャリブチルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、N−フェニルマレイミド、N−クロロフェニルマレイミド、N−メチルフェニルマレイミド、N−ナフチルマレイミド、N−ラウリルマレイミド、N−ヒドロキシルエチルマレイミド、N−ヒドロキシルフェニルマレイミド、N−メトキシフェニルマレイミド、N−カルボキシフェニルマレイミド、N−ニトロフェニルマレイミド、N−トリブロモフェニルマレイミドなどが挙げられる。ここで、マレイミド類は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、N−シクロヘキシルマレイミド、N−イソプロピルマレイミド、N−フェニルマレイミドが好ましい。   Examples of maleimides include maleimide, N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N-isopropylmaleimide, N-butylmaleimide, N-isobutylmaleimide, N-tertiarybutylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-phenyl Maleimide, N-chlorophenylmaleimide, N-methylphenylmaleimide, N-naphthylmaleimide, N-laurylmaleimide, N-hydroxylethylmaleimide, N-hydroxylphenylmaleimide, N-methoxyphenylmaleimide, N-carboxyphenylmaleimide, N-nitro Examples thereof include phenylmaleimide and N-tribromophenylmaleimide. Here, maleimides may be used alone or in combinations of two or more in any ratio. Among these, N-cyclohexylmaleimide, N-isopropylmaleimide, and N-phenylmaleimide are preferable.

また、(メタ)アクリル酸エステルとしては、例えば、基材(A1)を形成する材料の説明において挙げたのと同様の例が挙げられる。ここで、(メタ)アクリル酸エステルは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Examples of the (meth) acrylic acid ester include the same examples as mentioned in the description of the material forming the base material (A1). Here, (meth) acrylic acid ester may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

さらに、前記のモノマーを重合した重合体は、本発明の効果を著しく損なわない限り、スチレン類、スチレン類−マレイン酸、マレイミド類及び(メタ)アクリル酸エステル以外にも、任意のモノマーと共重合させたものであってもよい。ただし、この重合体において、スチレン類、スチレン類−マレイン酸、マレイミド類及び(メタ)アクリル酸エステルからなる群より選ばれるモノマーを重合して形成される構造を有する構造単位の割合は、好ましくは55重量%以上、さらに好ましくは70重量%以上、特に好ましくは90重量%以上であり、また、通常100重量%以下である。   Furthermore, the polymer obtained by polymerizing the above monomer is copolymerized with any monomer other than styrenes, styrenes-maleic acid, maleimides and (meth) acrylic acid esters, as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. It may be made. However, in this polymer, the proportion of structural units having a structure formed by polymerizing a monomer selected from the group consisting of styrenes, styrenes-maleic acid, maleimides and (meth) acrylic acid esters is preferably It is 55% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, particularly preferably 90% by weight or more, and usually 100% by weight or less.

上述した重合体の中でも、モノマーとしてスチレン類を用いた重合体およびマレイミド類とスチレンの共重合体が好ましい。すなわち、スチレン類又はスチレン類−マレイン酸を重合した重合体を含む樹脂およびマレイミド類とスチレンの共重合体を含む樹脂が、固有複屈折が負の樹脂として好ましい。モノマーとしてスチレン類を用いた重合体はポリスチレン系重合体であり、ポリスチレン系重合体を含む樹脂を用いることにより非液晶性材料の層(B1)において所望のレターデーションを安定して発現させることができる。
また、マレイミド類とスチレンの共重合体しては、特開2001−31710号公報、特開2000−204126号公報記載の重合体を好適に用いることができ、具体的には、日本触媒社製「ポリイミレックス」、デンカ社製「デンカIP」を好適に用いることができる。
Among the polymers described above, a polymer using styrene as a monomer and a copolymer of maleimides and styrene are preferable. That is, a resin containing a polymer obtained by polymerizing styrenes or styrenes-maleic acid and a resin containing a copolymer of maleimides and styrene are preferable as resins having a negative intrinsic birefringence. A polymer using styrene as a monomer is a polystyrene polymer, and by using a resin containing a polystyrene polymer, a desired retardation can be stably expressed in the layer (B1) of the non-liquid crystalline material. it can.
As the copolymer of maleimides and styrene, polymers described in JP-A Nos. 2001-31710 and 2000-204126 can be preferably used. “Polyimilex” and “Denka IP” manufactured by Denka are preferably used.

また特に、ポリスチレン系重合体としては、シンジオタクチック構造を有するポリスチレン系重合体が好ましい。シンジオタクチック構造を有するポリスチレン系重合体は高い耐熱性を有し、熱収縮性を抑制することができ、また、延伸により所望のレターデーションを安定して発現させることができる。   In particular, the polystyrene polymer is preferably a polystyrene polymer having a syndiotactic structure. The polystyrene-based polymer having a syndiotactic structure has high heat resistance, can suppress heat shrinkability, and can stably develop desired retardation by stretching.

ここで、ポリスチレン系重合体がシンジオタクチック構造を有する、とは、ポリスチレン系重合体の立体化学構造がシンジオタクチック構造となっていることをいう。また、シンジオタクチック構造とは、炭素−炭素結合で形成される主鎖に対して、側鎖であるフェニル基が、フィッシャー投影式において、交互に反対方向に規則的に配列した立体構造のことをいう。シンジオタクチック構造を有するポリスチレン系重合体は、従来のアタクチック型のポリスチレン系重合体に比べて、低比重であり、耐加水分解性、耐熱性及び耐薬品性等の特性に優れている。   Here, the polystyrene polymer has a syndiotactic structure means that the stereochemical structure of the polystyrene polymer has a syndiotactic structure. The syndiotactic structure is a three-dimensional structure in which phenyl groups as side chains are regularly and alternately arranged in opposite directions in the Fischer projection formula with respect to the main chain formed by carbon-carbon bonds. Say. A polystyrene polymer having a syndiotactic structure has a low specific gravity and excellent properties such as hydrolysis resistance, heat resistance and chemical resistance as compared with a conventional atactic polystyrene polymer.

ポリスチレン系重合体のタクティシティー(tacticity:立体規則性)は、同位体炭素による核磁気共鳴法(13C−NMR法)により定量されうる。13C−NMR法により測定されるタクティシティーは、連続する複数個の構成単位の存在割合により示すことができる。一般に、例えば、連続する構成単位が2個の場合はダイアッド、3個の場合はトリアッド、5個の場合はペンタッドとなる。この場合、前記シンジオタクチック構造を有するポリスチレン系重合体とは、下記の(x)若しくは(y)を満たすものをいう。
(x)ラセミダイアッドで通常75%以上、好ましくは85%以上、且つ100%以下のシンジオタクティシティーを有する。
(y)ラセミペンタッドで通常30%以上、好ましくは50%以上、且つ100%以下のシンジオタクティシティーを有する。
The tacticity (stericity) of the polystyrene-based polymer can be quantified by an isotope carbon nuclear magnetic resonance method ( 13 C-NMR method). The tacticity measured by the 13 C-NMR method can be indicated by the existence ratio of a plurality of consecutive structural units. Generally, for example, when there are two consecutive structural units, it is a dyad, when it is three, it is a triad, and when it is five, it is a pentad. In this case, the polystyrene polymer having the syndiotactic structure refers to a polymer that satisfies the following (x) or (y).
(X) The racemic dyad usually has a syndiotacticity of 75% or more, preferably 85% or more and 100% or less.
(Y) The racemic pentad generally has a syndiotacticity of 30% or more, preferably 50% or more and 100% or less.

シンジオタクチック構造を有するポリスチレン系重合体は、例えば、不活性炭化水素溶媒中又は溶媒の不存在下において、チタン化合物及び水とトリアルキルアルミニウムの縮合生成物を触媒として、スチレン類を重合することにより製造しうる(特開昭62―187708号公報参照)。また、ポリ(ハロゲン化アルキルスチレン)については、例えば、特開平1−46912号公報に記載の方法により製造してもよい。   For example, a polystyrene polymer having a syndiotactic structure can polymerize styrenes using a titanium compound and a condensation product of water and trialkylaluminum as a catalyst in an inert hydrocarbon solvent or in the absence of a solvent. (See Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-187708). Poly (halogenated alkylstyrene) may be produced, for example, by the method described in JP-A-1-46912.

スチレン類、スチレン類−マレイン酸、マレイミド類及び(メタ)アクリル酸エステルからなる群より選択される1種類以上のモノマーを重合した重合体の重量平均分子量は、好ましく130,000以上、より好ましくは140,000以上、特に好ましくは150,000以上であり、好ましくは300,000以下、より好ましくは270,000以下、特に好ましくは250,000以下である。このような重量平均分子量とすると、重合体のガラス転移温度を高めて、積層体の耐熱性を安定して改善することができる。   The weight average molecular weight of a polymer obtained by polymerizing one or more monomers selected from the group consisting of styrenes, styrenes-maleic acid, maleimides and (meth) acrylic acid esters is preferably 130,000 or more, more preferably It is 140,000 or more, particularly preferably 150,000 or more, preferably 300,000 or less, more preferably 270,000 or less, and particularly preferably 250,000 or less. With such a weight average molecular weight, the glass transition temperature of the polymer can be increased, and the heat resistance of the laminate can be stably improved.

スチレン類、スチレン類−マレイン酸、マレイミド類及び(メタ)アクリル酸エステルからなる群より選択される1種類以上のモノマーを重合した重合体のガラス転移温度は、好ましくは85℃以上、より好ましくは90℃以上、特に好ましくは95℃以上である。このようにガラス転移温度を高めることにより、層(B1)を形成する固有複屈折が負の非液晶性材料のガラス転移温度を効果的に高め、ひいては位相差フィルムの耐熱性を安定して改善することができる。また、積層体の製造を安定して容易に行う観点から、前記のガラス転移温度は、好ましくは160℃以下、より好ましくは155℃以下、特に好ましくは150℃以下である。   The glass transition temperature of a polymer obtained by polymerizing one or more monomers selected from the group consisting of styrenes, styrenes-maleic acid, maleimides, and (meth) acrylic acid esters is preferably 85 ° C. or more, more preferably 90 ° C or higher, particularly preferably 95 ° C or higher. By increasing the glass transition temperature in this way, the glass transition temperature of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence forming the layer (B1) is effectively increased, and thus the heat resistance of the retardation film is stably improved. can do. Further, from the viewpoint of stably and easily producing the laminate, the glass transition temperature is preferably 160 ° C. or lower, more preferably 155 ° C. or lower, and particularly preferably 150 ° C. or lower.

さらに、非液晶性材料の層(B1)を形成する固有複屈折が負の非液晶性材料は、前記のスチレン、スチレン−マレイン酸、マレイミド類及び(メタ)アクリル酸エステルからなる群より選択される1種類以上のモノマーを重合した重合体に組み合わせて、ポリカーボネート重合体、ポリエステル重合体及びポリアリーレンエーテル重合体からなる群より選択される1種類以上の重合体を含む混合物であることが好ましい。ポリカーボネート重合体、ポリエステル重合体又はポリアリーレンエーテル重合体を組み合わせることにより、非液晶性材料の層(B1)の強度を高めること、ガラス転移温度を制御すること、及び、光学特性を制御することが可能となる。   Further, the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence and forming the layer (B1) of the non-liquid crystalline material is selected from the group consisting of the above styrene, styrene-maleic acid, maleimides and (meth) acrylic acid ester. It is preferably a mixture containing one or more polymers selected from the group consisting of a polycarbonate polymer, a polyester polymer and a polyarylene ether polymer in combination with a polymer obtained by polymerizing one or more monomers. By combining a polycarbonate polymer, a polyester polymer or a polyarylene ether polymer, the strength of the layer (B1) of the non-liquid crystalline material can be increased, the glass transition temperature can be controlled, and the optical properties can be controlled. It becomes possible.

ポリカーボネート重合体としては、例えば、基材(A1)を形成する材料の説明において挙げたのと同様の例が挙げられる。ここで、ポリカーボネート重合体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Examples of the polycarbonate polymer include the same examples as mentioned in the description of the material forming the base material (A1). Here, a polycarbonate polymer may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

また、ポリエステル重合体は、エステル結合により結合された構造単位を有する重合体である。ポリエステル重合体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。ポリエステル重合体としては、例えば、グリコール、ジオール等の複数のヒドロキシル基を有するポリオールと、ジカルボン酸等の複数のカルボキシル基を有する多価カルボン酸又はその無水物とを、脱水縮合又は重合させて得られるものが挙げられる。   Further, the polyester polymer is a polymer having structural units bonded by an ester bond. A polyester polymer may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios. Examples of the polyester polymer are obtained by dehydration condensation or polymerization of a polyol having a plurality of hydroxyl groups such as glycol and diol, and a polyvalent carboxylic acid having a plurality of carboxyl groups such as dicarboxylic acid or its anhydride. Can be mentioned.

ポリオールとしては、例えば、1,2−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4−ペンタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2,5−ヘキサンジオール、2−メチル−1,4−ペンタンジオール、2,4−ジエチル−1,5−ペンタンジオール、2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、2,2,4−トリメチル−1,6−ヘキサンジオールなどが挙げられる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Examples of the polyol include 1,2-propanediol, 1,3-butanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, neopentyl glycol, 1,4-pentanediol, 3-methyl-1,5- Pentanediol, 2,5-hexanediol, 2-methyl-1,4-pentanediol, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol, 2 -Methyl-1,8-octanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 2,2,4-trimethyl-1,6-hexanediol and the like. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio.

多価カルボン酸としては、例えば、アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、フマル酸、コハク酸、シュウ酸、マロン酸、グルタル酸、ピメリン酸、スペリン酸、アゼライン酸、セバシン酸等のジカルボン酸;トリメリット酸、ピロメリット酸等の3価以上のカルボキシル基を有する多価カルボン酸;並びにその無水物などが挙げられる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Examples of the polyvalent carboxylic acid include adipic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, maleic acid, fumaric acid, succinic acid, oxalic acid, malonic acid, glutaric acid, pimelic acid, speric acid, azelaic acid, and sebacic acid. And dicarboxylic acids such as trimellitic acid and pyromellitic acid, polyvalent carboxylic acids having a trivalent or higher valent carboxyl group, and anhydrides thereof. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio.

また、ポリエステル重合体は、ポリオール、多価カルボン酸又はその無水物以外の任意のモノマーを共重合させた重合体であってもよい。ただし、ポリエステル重合体において、ポリオール、多価カルボン酸又はその無水物を重合して形成される構造を有する構造単位の割合は、好ましくは55重量%以上、さらに好ましくは70重量%以上、特に好ましくは90重量%以上である。   The polyester polymer may be a polymer obtained by copolymerizing any monomer other than polyol, polyvalent carboxylic acid or anhydride thereof. However, in the polyester polymer, the proportion of structural units having a structure formed by polymerizing polyol, polyvalent carboxylic acid or anhydride thereof is preferably 55% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, particularly preferably. Is 90% by weight or more.

ポリエステル重合体の具体例としては、東洋紡社製「バイロン」、日本合成化学社製「ポリエスター」を好適に用いることができる。   As specific examples of the polyester polymer, “Byron” manufactured by Toyobo Co., Ltd. and “Polyester” manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd. can be suitably used.

ポリアリーレンエーテル重合体は、アリーレンエーテル骨格を有する構造単位を主鎖に有する重合体である。ポリアリーレンエーテル重合体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。中でも、ポリアリーレンエーテル重合体としては、下記式(XVII)で表される構造単位を含む重合体が好ましい。   The polyarylene ether polymer is a polymer having a structural unit having an arylene ether skeleton in the main chain. A polyarylene ether polymer may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios. Especially, as a polyarylene ether polymer, the polymer containing the structural unit represented by a following formula (XVII) is preferable.

Figure 2014065294
Figure 2014065294

式(XVII)中、Qは、それぞれ独立に、ハロゲン原子、低級アルキル基(例えば炭素原子数7個以下のアルキル基)、フェニル基、ハロアルキル基、アミノアルキル基、炭化水素オキシ基、または、ハロ炭化水素オキシ基(ただし、そのハロゲン原子と酸素原子とを少なくとも2つの炭素原子が分離している基)を表す。中でも、Qとしてはアルキル基及びフェニル基が好ましく、特に炭素原子数1以上4以下のアルキル基がより好ましい。In formula (XVII), each Q 1 independently represents a halogen atom, a lower alkyl group (for example, an alkyl group having 7 or less carbon atoms), a phenyl group, a haloalkyl group, an aminoalkyl group, a hydrocarbon oxy group, or A halohydrocarbonoxy group (wherein the halogen atom and the oxygen atom are separated by at least two carbon atoms); Among these, Q 1 is preferably an alkyl group or a phenyl group, and more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

式(XVII)中、Qは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基(例えば炭素原子数7個以下のアルキル基)、フェニル基、ハロアルキル基、炭化水素オキシ基、または、ハロ炭化水素オキシ基(ただし、そのハロゲン原子と酸素原子とを少なくとも2つの炭素原子が分離している基)を表す。中でも、Qとしては水素原子が好ましい。In formula (XVII), each Q 2 independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group (for example, an alkyl group having 7 or less carbon atoms), a phenyl group, a haloalkyl group, a hydrocarbon oxy group, or a halo. A hydrocarbon oxy group (wherein the halogen atom and the oxygen atom are separated by at least two carbon atoms). Among them, preferably a hydrogen atom Q 2.

ポリアリーレンエーテル重合体は、1種類の構造単位を有する単独重合体(ホモポリマー)であってもよく、2種類以上の構造単位を有する共重合体(コポリマー)であってもよい。
式(XVII)で表される構造単位を含むポリアリーレンエーテル重合体が単独重合体である場合、当該単独重合体の好ましい例を挙げると、2,6−ジメチル−1,4−フェニレンエーテル単位(即ち、「−(C(CH−O)−」で表される構造)を有する単独重合体が挙げられる。
また、式(XVII)で表される構造単位を含むポリアリーレンエーテル重合体が共重合体である場合、当該共重合体の好ましい例を挙げると、2,6−ジメチル−1,4−フェニレンエーテル単位と2,3,6−トリメチル−1,4−フェニレンエーテル単位(即ち、「−(CH(CH−O−)−」で表される構造単位)と組み合わせて有するランダム共重合体が挙げられる。
The polyarylene ether polymer may be a homopolymer having one type of structural unit (homopolymer) or a copolymer having two or more types of structural units (copolymer).
When the polyarylene ether polymer containing the structural unit represented by the formula (XVII) is a homopolymer, preferred examples of the homopolymer include 2,6-dimethyl-1,4-phenylene ether units ( That is, a homopolymer having “-(C 6 H 2 (CH 3 ) 2 —O) —”) is exemplified.
Moreover, when the polyarylene ether polymer containing the structural unit represented by the formula (XVII) is a copolymer, a preferred example of the copolymer is 2,6-dimethyl-1,4-phenylene ether. A random copolymer having a unit and a 2,3,6-trimethyl-1,4-phenylene ether unit (that is, a structural unit represented by “— (C 6 H (CH 3 ) 3 —O —) —”). A polymer is mentioned.

ポリアリーレンエーテル重合体は、アリーレンエーテル単位以外の構造単位を含んでいてもよい。この場合、ポリアリーレンエーテル重合体は、アリーレンエーテル単位とそれ以外の構造単位とを有する共重合体となる。ただし、ポリアリーレンエーテル重合体におけるアリーレンエーテル単位の割合は、好ましくは50重量%以上、より好ましくは70重量%以上、特に好ましくは80重量%以上である。   The polyarylene ether polymer may contain a structural unit other than the arylene ether unit. In this case, the polyarylene ether polymer is a copolymer having an arylene ether unit and other structural units. However, the ratio of the arylene ether unit in the polyarylene ether polymer is preferably 50% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, and particularly preferably 80% by weight or more.

上述したような、スチレン類、スチレン類−マレイン酸、マレイミド類及び(メタ)アクリル酸エステルからなる群より選択される1種類以上のモノマーを重合した重合体と、ポリカーボネート重合体、ポリエステル重合体及びポリアリーレンエーテル重合体からなる群より選択される1種類以上の重合体との組み合わせの中でも、特に、ポリスチレン系重合体とポリアリーレンエーテル重合体とを組み合わせることが好ましい。   As described above, a polymer obtained by polymerizing at least one monomer selected from the group consisting of styrenes, styrenes-maleic acid, maleimides, and (meth) acrylic acid esters, polycarbonate polymers, polyester polymers, and Among the combinations with one or more polymers selected from the group consisting of polyarylene ether polymers, it is particularly preferable to combine a polystyrene polymer and a polyarylene ether polymer.

さらに、ポリスチレン系重合体とポリアリーレンエーテル重合体とを組み合わせる場合、レターデーションの発現性が高いこと、及び、ポリアリーレンエーテル重合体との相溶性が良好であることから、ポリスチレン系重合体としては、スチレン類の単独重合体がより好ましく、また、シンジオタクチック構造を有するポリスチレン系重合体がより好ましい。さらに、ポリスチレン系重合体がスチレン類以外のモノマーを共重合した共重合体である場合でも、ポリアリーレンエーテル重合体との相溶性の観点から、スチレン類以外のモノマーの割合が5重量%より小さいことが望ましい。   Furthermore, when combining a polystyrene polymer and a polyarylene ether polymer, because of the high expression of retardation and good compatibility with the polyarylene ether polymer, A homopolymer of styrenes is more preferable, and a polystyrene polymer having a syndiotactic structure is more preferable. Furthermore, even when the polystyrene polymer is a copolymer obtained by copolymerizing monomers other than styrenes, the proportion of monomers other than styrenes is less than 5% by weight from the viewpoint of compatibility with the polyarylene ether polymer. It is desirable.

スチレン類、スチレン類−マレイン酸、マレイミド類及び(メタ)アクリル酸エステルからなる群より選択される1種類以上のモノマーを重合した重合体と、ポリカーボネート重合体、ポリエステル重合体及びポリアリーレンエーテル重合体からなる群より選択される1種類以上の重合体との重量比は、好ましくは90:10〜55:45であり、より好ましくは85:15〜60:40であり、特に好ましくは80:20〜65:35である。重量比がこの範囲にあることで、延伸によって非液晶性材料の層(B1)に所望のレターデーション及び所望の光学特性を容易に発現させることができる。   Polymers obtained by polymerizing one or more monomers selected from the group consisting of styrenes, styrenes-maleic acid, maleimides and (meth) acrylic acid esters, polycarbonate polymers, polyester polymers, and polyarylene ether polymers The weight ratio with one or more polymers selected from the group consisting of is preferably 90:10 to 55:45, more preferably 85:15 to 60:40, and particularly preferably 80:20. ~ 65: 35. When the weight ratio is in this range, desired retardation and desired optical properties can be easily expressed in the layer (B1) of the non-liquid crystal material by stretching.

非液晶性材料の層(B1)を形成する固有複屈折が負の非液晶性材料は、スチレン類、スチレン類−マレイン酸、マレイミド類及び(メタ)アクリル酸エステルからなる群より選択される1種類以上のモノマーを重合した重合体、並びに、ポリカーボネート重合体、ポリエステル重合体及びポリアリーレンエーテル重合体からなる群より選択される1種類以上の重合体以外に任意の成分を含みうる。任意の成分としては、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、架橋剤が挙げられる。ただし、層(B1)を形成する固有複屈折が負の非液晶性材料において、スチレン類、スチレン類−マレイン酸、マレイミド類及び(メタ)アクリル酸エステルからなる群より選択される1種類以上のモノマーを重合した重合体、並びに、ポリカーボネート重合体、ポリエステル重合体及びポリアリーレンエーテル重合体からなる群より選択される1種類以上の重合体の割合は、好ましくは50重量%以上、より好ましくは80重量%以上、特に好ましくは90重量%以上であり、また、通常100重量%以下である。   The non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence and forming the layer (B1) of the non-liquid crystalline material is selected from the group consisting of styrenes, styrenes-maleic acid, maleimides, and (meth) acrylic acid esters. In addition to a polymer obtained by polymerizing two or more types of monomers, and one or more types of polymers selected from the group consisting of a polycarbonate polymer, a polyester polymer, and a polyarylene ether polymer, an optional component may be included. Examples of the optional component include an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, and a crosslinking agent. However, in the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence forming the layer (B1), at least one kind selected from the group consisting of styrenes, styrenes-maleic acid, maleimides and (meth) acrylic acid esters The ratio of one or more polymers selected from the group consisting of a polymer obtained by polymerizing monomers and a polycarbonate polymer, a polyester polymer and a polyarylene ether polymer is preferably 50% by weight or more, more preferably 80%. % By weight or more, particularly preferably 90% by weight or more, and usually 100% by weight or less.

非液晶性材料の層(B1)を形成する固有複屈折が負の非液晶性材料のガラス転移温度は、好ましくは115℃以上、より好ましくは120℃以上、特に好ましくは125℃以上である。固有複屈折が負の非液晶性材料のガラス転移温度が高いほど、位相差フィルムの耐熱性が優れる。ただし、ガラス転移温度を過度に高くすると積層体の製造が容易でなくなる可能性があるので、固有複屈折が負の非液晶性材料のガラス転移温度は通常200℃以下である。   The glass transition temperature of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence forming the layer (B1) of the non-liquid crystalline material is preferably 115 ° C. or higher, more preferably 120 ° C. or higher, and particularly preferably 125 ° C. or higher. The higher the glass transition temperature of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence, the better the heat resistance of the retardation film. However, if the glass transition temperature is excessively high, it may not be easy to produce a laminate. Therefore, the glass transition temperature of a non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence is usually 200 ° C. or lower.

非液晶性材料の層(B1)の引っ張り破断伸度は、好ましくは20%以下、より好ましくは15%以下、特に好ましくは10%以下である。引っ張り破断伸度は、JIS K7162に準拠して測定しうる。一般に、負の固有複屈折を有する非液晶性材料は、機械的強度が弱い。これに対し、複層フィルム(B)は樹脂層(B2)を備えるので、このように機械的強度の弱い非液晶性材料の層(B1)であっても破損を生じ難くできる。さらに、本発明の積層体は基材(A1)、非液晶性材料の層(A2)、接着層、非液晶性材料の層(B1)及び樹脂層(B2)をこの順に備える積層構造を有するので、この積層構造によっても、非液晶性材料の層(B1)の破損を効果的に防止できる。したがって、前記のように層(B1)の引っ張り破断伸度が低いことは、層(B1)の破損を防止して、ハンドリング性及び耐衝撃性を向上させるという効果をより顕著にする観点で、技術的な意義がある。   The tensile elongation at break of the non-liquid crystalline material layer (B1) is preferably 20% or less, more preferably 15% or less, and particularly preferably 10% or less. The tensile breaking elongation can be measured according to JIS K7162. In general, a non-liquid crystalline material having negative intrinsic birefringence has low mechanical strength. On the other hand, since the multilayer film (B) includes the resin layer (B2), even the non-liquid crystalline material layer (B1) having a low mechanical strength can be hardly damaged. Furthermore, the laminate of the present invention has a laminate structure including a base material (A1), a non-liquid crystal material layer (A2), an adhesive layer, a non-liquid crystal material layer (B1), and a resin layer (B2) in this order. Therefore, even this laminated structure can effectively prevent the non-liquid crystalline material layer (B1) from being damaged. Therefore, the low tensile rupture elongation of the layer (B1) as described above prevents damage to the layer (B1), and makes the effects of improving handling and impact resistance more prominent. There is technical significance.

非液晶性材料の層(B1)は、その屈折率nx、ny及びnzの関係が、nz>nx>nyを満たすポジティブバイアキシャル(positive biaxial)層であることが好ましい。これにより、非液晶性材料の層(A2)と非液晶性材料の層(B1)とを組み合わせた位相差フィルムを光学補償フィルムとして用いて、IPS型液晶パネルのコントラストを効果的に改善することが可能である。   The layer (B1) of the non-liquid crystalline material is preferably a positive biaxial layer in which the relationship between the refractive indexes nx, ny and nz satisfies nz> nx> ny. Accordingly, the contrast of the IPS liquid crystal panel is effectively improved by using a retardation film in which the layer (A2) of the non-liquid crystal material and the layer (B1) of the non-liquid crystal material are combined as an optical compensation film. Is possible.

非液晶性材料の層(B1)は、波長550nmにおける面内方向のレターデーションReB1(550)が、好ましくは40nm以上、より好ましくは50nm以上であり、好ましくは150nm以下、より好ましくは100nm以下である。非液晶性材料の層(B1)の面内方向のレターデーションReB1(550)がこの範囲であると、複層フィルム(B)の延伸による製造を容易に行うことができる。The layer (B1) of the non-liquid crystalline material has an in-plane retardation Re B1 (550) at a wavelength of 550 nm, preferably 40 nm or more, more preferably 50 nm or more, preferably 150 nm or less, more preferably 100 nm or less. It is. When the retardation Re B1 (550) in the in-plane direction of the layer (B1) of the non-liquid crystalline material is within this range, the multilayer film (B) can be easily manufactured by stretching.

また、非液晶性材料の層(B1)は、波長450nmにおける面内方向のレターデーションReB1(450)及び波長550nmにおける面内方向のレターデーションReB1(550)が、ReB1(450)/ReB1(550)>1.00を満たすことが好ましい。ReB1(450)及びReB1(550)がこの関係を満たすことにより、広い波長範囲においてIPS液晶セルの補償効果を奏しうる位相差フィルムを得ることができる。The layer of non-liquid material (B1) is retardation in the in-plane direction at a wavelength of 450nm Re B1 (450) and the in-plane direction at a wavelength of 550nm retardation Re B1 is (550), Re B1 (450 ) / It is preferable to satisfy Re B1 (550)> 1.00. When Re B1 (450) and Re B1 (550) satisfy this relationship, a retardation film capable of exhibiting a compensation effect for the IPS liquid crystal cell in a wide wavelength range can be obtained.

また、非液晶性材料の層(B1)は、波長550nmにおける厚み方向のレターデーションRthB1(550)が、好ましくは−150nm以上、より好ましくは−130nm以上であり、好ましくは−50nm以下、より好ましくは−60nm以下である。非液晶性材料の層(B1)の厚み方向のレターデーションRthB1(550)がこの範囲であると、複層フィルム(B)の延伸による製造を容易に行うことができる。The layer (B1) of the non-liquid crystalline material has a retardation Rth B1 (550) in the thickness direction at a wavelength of 550 nm, preferably −150 nm or more, more preferably −130 nm or more, preferably −50 nm or less. Preferably, it is −60 nm or less. When the retardation Rth B1 (550) in the thickness direction of the layer (B1) of the non-liquid crystalline material is within this range, the multilayer film (B) can be easily produced by stretching.

非液晶性材料の層(B1)の面内遅相軸は、通常、複層フィルム(A)の固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)の面内遅相軸と平行にする。これにより、IPS型の液晶パネルにおいて光学補償を効果的に行うことが可能となり、液晶表示装置のコントラストを向上させることができる。   The in-plane slow axis of the layer (B1) of the non-liquid crystalline material is usually parallel to the in-plane slow axis of the layer (A2) of the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence of the multilayer film (A). To do. Thereby, optical compensation can be effectively performed in the IPS liquid crystal panel, and the contrast of the liquid crystal display device can be improved.

非液晶性材料の層(B1)の厚みは、好ましくは5μm以上、より好ましくは7μm以上であり、好ましくは30μm以下、より好ましくは15μm以下である。非液晶性材料の層(B1)の厚みをこの範囲にすることにより、積層体を薄くでき、かつ、積層体を高温耐久性に優れるものとできる。   The thickness of the non-liquid crystalline material layer (B1) is preferably 5 μm or more, more preferably 7 μm or more, preferably 30 μm or less, more preferably 15 μm or less. By making the thickness of the layer (B1) of the non-liquid crystalline material in this range, the laminate can be thinned and the laminate can be excellent in high temperature durability.

非液晶性材料の層(B1)の厚みのバラつきは、層(B1)の平均厚みの、好ましくは20%以下、より好ましくは15%以下、さらに好ましくは10%以下であり、理想的には0%である。このような厚み精度を実現することで、MD方向およびTD方向で均一な光学特性を示す積層体及び位相差フィルムを得ることができる。また、このような厚み精度は、例えば、後述する溶融押し出し及び延伸を組み合わせた製造方法で複層フィルム(B)を製造することにより、実現できる。   The variation in the thickness of the layer (B1) of the non-liquid crystalline material is preferably 20% or less, more preferably 15% or less, and even more preferably 10% or less of the average thickness of the layer (B1). 0%. By realizing such thickness accuracy, it is possible to obtain a laminate and a retardation film that exhibit uniform optical characteristics in the MD direction and the TD direction. Such thickness accuracy can be realized, for example, by manufacturing the multilayer film (B) by a manufacturing method in which melt extrusion and stretching described later are combined.

[1.2.2.樹脂層(B2)]
樹脂層(B2)は、樹脂により形成された層である。この樹脂としては、通常、熱可塑性樹脂を用いる。また、この樹脂としては、通常、透明の樹脂を用いる。このような樹脂としては、脂環式構造を有する重合体樹脂、(メタ)アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、(メタ)アクリル酸エステル−ビニル芳香族化合物共重合体樹脂、及びポリエーテルスルホン樹脂からなる群から選択される樹脂が好ましい。これらの樹脂は機械的強度に優れ、非液晶性材料の層(B1)との剥離強度を所望の剥離強度にでき、また、延伸により発現するレターデーションを小さくできる。
[1.2.2. Resin layer (B2)]
The resin layer (B2) is a layer formed of a resin. As this resin, a thermoplastic resin is usually used. Further, as this resin, a transparent resin is usually used. Examples of such resins include polymer resins having an alicyclic structure, (meth) acrylic resins, polycarbonate resins, (meth) acrylic acid ester-vinyl aromatic compound copolymer resins, and polyethersulfone resins. A resin selected from is preferred. These resins are excellent in mechanical strength, can have a desired peel strength with respect to the non-liquid crystalline material layer (B1), and can reduce the retardation developed by stretching.

樹脂層(B2)を形成しうる脂環式構造を有する重合体樹脂、(メタ)アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、(メタ)アクリル酸エステル−ビニル芳香族化合物共重合体樹脂、及びポリエーテルスルホン樹脂としては、例えば、基材(A1)を形成する材料として説明した各樹脂と同様のものを用いうる。したがって、樹脂層(B2)を形成しうる脂環式構造を有する重合体樹脂、(メタ)アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、(メタ)アクリル酸エステル−ビニル芳香族化合物共重合体樹脂、及びポリエーテルスルホン樹脂のそれぞれにおいて、その樹脂が含みうる重合体及び任意の成分の種類及び量は、基材(A1)を形成する材料として説明した各樹脂と同様にしうる。   As a polymer resin having an alicyclic structure capable of forming the resin layer (B2), a (meth) acrylic resin, a polycarbonate resin, a (meth) acrylic acid ester-vinyl aromatic compound copolymer resin, and a polyethersulfone resin For example, the same resins as those described as the material for forming the base material (A1) can be used. Therefore, a polymer resin having an alicyclic structure capable of forming the resin layer (B2), a (meth) acrylic resin, a polycarbonate resin, a (meth) acrylic acid ester-vinyl aromatic compound copolymer resin, and a polyethersulfone In each of the resins, the types and amounts of the polymer and optional components that can be contained in the resin can be the same as those of the resins described as materials for forming the base material (A1).

これらの樹脂の中でも、樹脂層(B2)を形成する樹脂としては、脂環式構造を有する重合体樹脂及び(メタ)アクリル樹脂が好ましく、(メタ)アクリル樹脂が特に好ましい。   Among these resins, as the resin forming the resin layer (B2), a polymer resin and a (meth) acrylic resin having an alicyclic structure are preferable, and a (meth) acrylic resin is particularly preferable.

樹脂層(B2)を形成する樹脂のガラス転移温度は、層(B1)を形成する固有複屈折が負の非液晶性材料のガラス転移温度に応じて設定することが好ましい。具体的には、層(B1)を形成する固有複屈折が負の非液晶性材料のガラス転移温度Tg(B1)と、樹脂層(B2)を形成する樹脂のガラス転移温度Tg(B2)とが、Tg(B1)>Tg(B2)+20℃を満たすことが好ましく、Tg(B1)>Tg(B2)+25℃を満たすことがより好ましい。これにより、固有複屈折が負の非液晶性材料のガラス転移温度Tg(B1)より高い延伸温度で延伸処理をする場合、樹脂層(B2)において重合体がほとんど配向せず、無配向状態となる。そのため、延伸処理によっても樹脂層(B2)に大きなレターデーションが発現しないので、延伸処理を行いながら非液晶性材料の層(B1)のみのレターデーションを正確に測定することが可能となる。   The glass transition temperature of the resin forming the resin layer (B2) is preferably set according to the glass transition temperature of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence forming the layer (B1). Specifically, the glass transition temperature Tg (B1) of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence forming the layer (B1), and the glass transition temperature Tg (B2) of the resin forming the resin layer (B2) However, it is preferable to satisfy | fill Tg (B1)> Tg (B2) +20 degreeC, and it is more preferable to satisfy | fill Tg (B1)> Tg (B2) +25 degreeC. Thus, when the stretching treatment is performed at a stretching temperature higher than the glass transition temperature Tg (B1) of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence, the polymer is hardly oriented in the resin layer (B2), Become. Therefore, since a large retardation does not appear in the resin layer (B2) even by the stretching treatment, it is possible to accurately measure the retardation of only the non-liquid crystalline material layer (B1) while performing the stretching treatment.

さらに、特に樹脂層(B2)を形成しうる脂環式構造を有する重合体樹脂のガラス転移温度は、好ましくは80℃以上、より好ましくは90℃以上であり、好ましくは150℃以下、より好ましくは120℃以下、さらに好ましくは110℃以下である。ガラス転移温度を前記範囲の下限値以上とすることにより高温下における耐久性を向上させることができ、また、上限値以下とすることにより延伸加工を容易にすることができる。   Furthermore, the glass transition temperature of the polymer resin having an alicyclic structure capable of forming the resin layer (B2) is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 90 ° C. or higher, preferably 150 ° C. or lower, more preferably Is 120 ° C. or lower, more preferably 110 ° C. or lower. By setting the glass transition temperature to be equal to or higher than the lower limit value of the above range, durability at high temperatures can be improved, and by setting the glass transition temperature to be equal to or lower than the upper limit value, stretching can be facilitated.

また、特に樹脂層(B2)を形成しうる(メタ)アクリル樹脂のガラス転移温度は、好ましくは80℃以上、より好ましくは90℃以上であり、好ましくは120℃以下、より好ましくは110℃以下である。ガラス転移温度を前記範囲の下限値以上にすることにより、樹脂ペレットを高温で乾燥する時のブロッキングを抑制できるので、水分の混入を防止できる。また、上限値以下にすることにより、延伸時における(メタ)アクリル重合体の配向を低減できるので、非液晶性材料の層(B1)の光学的機能を樹脂層(B2)が阻害することを抑制できる。   In particular, the glass transition temperature of the (meth) acrylic resin capable of forming the resin layer (B2) is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 90 ° C. or higher, preferably 120 ° C. or lower, more preferably 110 ° C. or lower. It is. By setting the glass transition temperature to be equal to or higher than the lower limit of the above range, blocking when the resin pellets are dried at a high temperature can be suppressed, so that mixing of moisture can be prevented. Moreover, since the orientation of the (meth) acrylic polymer at the time of stretching can be reduced by setting it to the upper limit value or less, the resin layer (B2) inhibits the optical function of the layer (B1) of the non-liquid crystalline material. Can be suppressed.

また、特に樹脂層(B2)を形成しうるポリカーボネート樹脂のガラス転移温度は、好ましくは80℃以上、より好ましくは90℃以上、更に好ましくは100℃以上、特に好ましくは120℃以上であり、好ましくは160℃以下、より好ましくは150℃以下である。ガラス転移温度を前記範囲の下限値以上とすることにより高温下における耐久性を向上させることができ、また、上限値以下とすることにより延伸加工を容易にすることができる。   In particular, the glass transition temperature of the polycarbonate resin capable of forming the resin layer (B2) is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 90 ° C. or higher, still more preferably 100 ° C. or higher, particularly preferably 120 ° C. or higher. Is 160 ° C. or lower, more preferably 150 ° C. or lower. By setting the glass transition temperature to be equal to or higher than the lower limit value of the above range, durability at high temperatures can be improved, and by setting the glass transition temperature to be equal to or lower than the upper limit value, stretching can be facilitated.

樹脂層(B2)は、波長550nmにおける面内方向のレターデーションReB2(550)が、好ましくは30nm以下、より好ましくは20nm以下、特に好ましくは10nm以下であり、通常0nm以上である。樹脂層(B2)の面内方向のレターデーションReB2(550)を小さくすることにより、複層フィルム(B)を製造する際に延伸処理をしながら非液晶性材料の層(B1)のみのレターデーションを測定することが可能となる。The resin layer (B2) has an in-plane retardation Re B2 (550) at a wavelength of 550 nm, preferably 30 nm or less, more preferably 20 nm or less, particularly preferably 10 nm or less, and usually 0 nm or more. By reducing the in-plane retardation Re B2 (550) of the resin layer (B2), only the layer (B1) of the non-liquid crystalline material while stretching is performed when the multilayer film (B) is produced. It becomes possible to measure retardation.

樹脂層(B2)の厚みは、好ましくは1μm以上、より好ましくは3μm以上、特に好ましくは5μm以上であり、好ましくは50μm以下、より好ましくは30μm以下、特に好ましくは15μm以下である。樹脂層(B2)の厚みを前記範囲の下限値以上とすることにより、樹脂層(B2)の機械的強度を十分に高めることができる。また、上限値以下とすることにより、樹脂層(B2)の柔軟性及びハンドリング性を良好にできる。   The thickness of the resin layer (B2) is preferably 1 μm or more, more preferably 3 μm or more, particularly preferably 5 μm or more, preferably 50 μm or less, more preferably 30 μm or less, and particularly preferably 15 μm or less. By setting the thickness of the resin layer (B2) to be equal to or higher than the lower limit of the above range, the mechanical strength of the resin layer (B2) can be sufficiently increased. Moreover, the softness | flexibility and handling property of a resin layer (B2) can be made favorable by setting it as below an upper limit.

固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)と樹脂層(B2)との間の剥離力は、好ましくは0.5N/20mm以下、より好ましくは0.3N/20mm以下、特に好ましくは0.15N/20mm以下である。剥離力は、JIS K6853−2に準拠して測定しうる。剥離力をこのように小さくすることにより、積層体から樹脂層(B2)を剥離して、位相差フィルムを容易に製造することができる。また、前記の剥離力の下限は、好ましくは0.01N/20mm以上、より好ましくは0.03N/20mm以上、特に好ましくは0.05N/20mm以上である。このように小さい剥離力は、例えば、非液晶性材料の層(B1)及び樹脂層(B2)の材料の組み合わせを互いに相溶しない材料で適切に選択することにより、実現できる。   The peeling force between the layer (B1) of non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence and the resin layer (B2) is preferably 0.5 N / 20 mm or less, more preferably 0.3 N / 20 mm or less, particularly preferably. Is 0.15 N / 20 mm or less. The peeling force can be measured according to JIS K6855-2. By reducing the peeling force in this way, the resin layer (B2) can be peeled from the laminate, and the retardation film can be easily produced. The lower limit of the peeling force is preferably 0.01 N / 20 mm or more, more preferably 0.03 N / 20 mm or more, and particularly preferably 0.05 N / 20 mm or more. Such a small peeling force can be realized, for example, by appropriately selecting a combination of materials of the non-liquid crystal material layer (B1) and the resin layer (B2) with materials that are not compatible with each other.

[1.2.3.任意の層]
複層フィルム(B)は、樹脂層(B2)の非液晶性材料の層(B1)とは反対側に、任意の層を備えていてもよい。
[1.2.3. Any layer]
The multilayer film (B) may include an arbitrary layer on the side of the resin layer (B2) opposite to the non-liquid crystalline material layer (B1).

[1.3.接着層]
図1に示すように、固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)12の基材(A1)11とは反対側の面12Uと、固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)21の樹脂層(B2)22とは反対側の面21Dとの間には、単独で介在する1層の接着層30が設けられている。ここで、接着層30が面12Uと面21Dとの間に単独で介在するとは、面12Uと面21Dとの間には接着層30だけがあり、接着層30以外の層が無いことを意味する。
[1.3. Adhesive layer]
As shown in FIG. 1, a non-liquid crystalline material layer (A2) 12 having a positive intrinsic birefringence and a surface 12U opposite to the substrate (A1) 11 and a non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence. A single adhesive layer 30 is provided between the layer (B1) 21 and the surface 21D opposite to the resin layer (B2) 22. Here, the fact that the adhesive layer 30 is interposed between the surface 12U and the surface 21D alone means that there is only the adhesive layer 30 between the surface 12U and the surface 21D, and there is no layer other than the adhesive layer 30. To do.

接着層は、接着剤の硬化物により形成された層である。ここで、接着剤とは、硬化後に23℃において1MPa〜500MPaの剪断貯蔵弾性率を有する狭義の接着剤及び、23℃における剪断貯蔵弾性率が1MPa未満の粘着剤を含む。ただし、複層フィルム(A)と複層フィルム(B)との貼り合せの際、粘着剤を用いた貼り合せを行おうとすると、貼り合わせの際の気泡の噛みこみ及び異物の噛みこみの抑制、並びに強力な粘着力の確保のために粘着剤の層の厚みは厚くなる傾向がある。これに対し、狭義の接着剤を用いた貼り合せでは、接着層の厚みを薄くできる。そのため、接着剤としては、硬化後に23℃において1MPa〜500MPaの剪断貯蔵弾性率を有する狭義の接着剤を用いることが好ましい。   The adhesive layer is a layer formed by a cured product of an adhesive. Here, the adhesive includes a narrowly defined adhesive having a shear storage elastic modulus of 1 MPa to 500 MPa at 23 ° C. after curing, and a pressure-sensitive adhesive having a shear storage elastic modulus at 23 ° C. of less than 1 MPa. However, when the multi-layer film (A) and the multi-layer film (B) are bonded to each other, if the bonding is performed using the pressure-sensitive adhesive, it is possible to suppress the entrapment of bubbles and the inclusion of foreign substances. In addition, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer tends to increase in order to ensure strong adhesive strength. On the other hand, in the bonding using a narrowly defined adhesive, the thickness of the adhesive layer can be reduced. Therefore, it is preferable to use a narrowly defined adhesive having a shear storage modulus of 1 MPa to 500 MPa at 23 ° C. after curing as the adhesive.

接着剤としては、通常、活性エネルギー線硬化型の接着剤を用いる。活性エネルギー線硬化型の接着剤とは、例えば、紫外線、X線及び電子線等の活性エネルギー線を照射すると硬化しうる接着剤をいう。中でも、安価な装置を使用することができるため、紫外線で硬化しうる接着剤が好ましい。ここで、照射される活性エネルギー線には、可視光線、紫外線、赤外線及び電子線等の任意のエネルギー線が含まれうる。   As the adhesive, an active energy ray curable adhesive is usually used. The active energy ray-curable adhesive refers to an adhesive that can be cured when irradiated with active energy rays such as ultraviolet rays, X-rays, and electron beams. Among them, an adhesive that can be cured by ultraviolet rays is preferable because an inexpensive device can be used. Here, the irradiated active energy rays may include arbitrary energy rays such as visible light, ultraviolet rays, infrared rays, and electron beams.

好適な接着剤の例としては、未硬化状態で(メタ)アクリレートを含むものを用いうる。中でも、(メタ)アクリレートとして、(I)オリゴマー型多官能(メタ)アクリレートと(II)温度20±1.0℃における粘度が10mPa・s以上500mPa・s未満の水酸基を少なくともひとつ有するモノ(メタ)アクリレートとを組み合わせて含むものが好ましい。   As an example of a suitable adhesive, one containing (meth) acrylate in an uncured state can be used. Among them, as the (meth) acrylate, (I) an oligomer-type polyfunctional (meth) acrylate and (II) a mono (meta) having at least one hydroxyl group having a viscosity of 10 mPa · s or more and less than 500 mPa · s at a temperature of 20 ± 1.0 ° C. ) A combination of acrylates is preferred.

(I)オリゴマー型多官能(メタ)アクリレートは、1分子当たりのその官能基数が、3以下であることが好ましく、2又は3であることがより好ましい。ここで官能基数とは、ラジカル重合性を示しうる官能基の数をいう。官能基数が3以下であることによって、接着剤を硬化させた時の硬化物の硬化収縮を小さくでき、かつ硬化物のガラス転移温度を低くすることができるので、複層フィルム(A)と複層フィルム(B)とを良好に接着することができる。   (I) The number of functional groups per molecule of the oligomer-type polyfunctional (meth) acrylate is preferably 3 or less, more preferably 2 or 3. Here, the number of functional groups refers to the number of functional groups that can exhibit radical polymerizability. When the number of functional groups is 3 or less, the curing shrinkage of the cured product when the adhesive is cured can be reduced, and the glass transition temperature of the cured product can be lowered. A layer film (B) can be favorably bonded.

(I)オリゴマー型多官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、シリコーン(メタ)アクリレート等の、ラジカル重合性を示しうる官能基数が3以下のアクリル系オリゴマーが挙げられる。また、これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Examples of (I) oligomer-type polyfunctional (meth) acrylates include radicals such as polyester (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, and silicone (meth) acrylate. An acrylic oligomer having 3 or less functional groups capable of exhibiting polymerizability is exemplified. Moreover, these may be used individually by 1 type and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

ポリエステル(メタ)アクリレートは、例えば、多塩基酸と多価アルコールから得られるポリエステルの末端水酸基をアクリル酸又はメタクリル酸と反応させた反応物として得られる。
多塩基酸としては、例えば、フタル酸、アジピン酸、マレイン酸、イタコン酸、コハク酸、テレフタル酸などが挙げられる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、などが挙げられる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
ポリエステル(メタ)アクリレートの例を商品で挙げると、EBECRYL 851,852,853,884,885(ダイセルサイテック社製);オレスター(三井化学社製);アロニックスM−6100,6200,6250,6500(東亞合成社製)などを挙げることができる。
Polyester (meth) acrylate is obtained, for example, as a reaction product obtained by reacting a terminal hydroxyl group of a polyester obtained from a polybasic acid and a polyhydric alcohol with acrylic acid or methacrylic acid.
Examples of the polybasic acid include phthalic acid, adipic acid, maleic acid, itaconic acid, succinic acid, terephthalic acid and the like. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio.
Examples of the polyhydric alcohol include ethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, diethylene glycol, dipropylene glycol, polyethylene glycol, and polypropylene glycol. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio.
Examples of polyester (meth) acrylate are EBECRYL 851,852,853,884,885 (manufactured by Daicel Cytec); Olester (manufactured by Mitsui Chemicals); Aronix M-6100,6200,6250,6500 ( Toagosei Co., Ltd.).

エポキシ(メタ)アクリレートは、例えば、エポキシ重合体にアクリル酸又はメタクリル酸を開環付加反応させた反応物として得られる。
エポキシ重合体としては、例えば、ビスフェノールAとエピクロロヒドリンからなるビスフェノールA型、フェノールノボラックとエピクロロヒドリンからなるノボラック型、脂肪族型、脂環型のものが挙げられる。脂肪族型エポキシ重合体としては、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルなどが挙げられる。また、例えば、ブタジエン系エポキシ重合体、イソプレン系エポキシ重合体などの不飽和脂肪酸エポキシ重合体も用いうる。脂環型エポキシ重合体は、例えば、ビニルシクロヘキセンモノオキサイド、1,2−エポキシ−4−ビニルシクロヘキサン、1,2:8,9−ジエポキシシリモネン、3,4−エポキシシクロヘキセニルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレートなどを用いうる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
エポキシ(メタ)アクリレートの例を商品で挙げると、EBECRYL600,860,3105,3420,3700,3701,3702,3703,3708,6040(ダイセルサイテック社製);ネオポール8101,8250,8260,8270,8355,8351,8335,8414,8190,8195,8316,8317,8318,8319,8371(日本ユピカ社製);デナコールアクリレート DA212,250,314,721,722,DM201(ナガセケムテックス社製);バンビーム(ハリマ化成社製);Miramer PE210,PE230,EA2280(東洋ケミカルズ社製)などを挙げることができる。
Epoxy (meth) acrylate is obtained, for example, as a reaction product obtained by ring-opening addition reaction of acrylic acid or methacrylic acid to an epoxy polymer.
Examples of the epoxy polymer include bisphenol A type composed of bisphenol A and epichlorohydrin, novolac type composed of phenol novolac and epichlorohydrin, aliphatic type, and alicyclic type. Examples of the aliphatic epoxy polymer include ethylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, and 1,6-hexanediol diglycidyl ether. , Trimethylolpropane diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, and the like. Further, for example, unsaturated fatty acid epoxy polymers such as butadiene-based epoxy polymers and isoprene-based epoxy polymers can also be used. Examples of the alicyclic epoxy polymer include vinylcyclohexene monooxide, 1,2-epoxy-4-vinylcyclohexane, 1,2: 8,9-diepoxysilimonene, and 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ′. 4,4′-epoxycyclohexenecarboxylate and the like can be used. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio.
Examples of epoxy (meth) acrylates include EBECRYL 600, 860, 3105, 3420, 3700, 3701, 3702, 3703, 3708, 6040 (manufactured by Daicel Cytec); Neopole 8101, 8250, 8260, 8270, 8355, 8351, 8335, 8414, 8190, 8195, 8316, 8317, 8318, 8319, 8371 (manufactured by Iupika Japan); Denacol acrylate DA212, 250, 314, 721, 722, DM201 (manufactured by Nagase ChemteX); Van Beam ( Harima Chemicals, Inc.); Miramer PE210, PE230, EA2280 (manufactured by Toyo Chemicals), and the like.

ウレタン(メタ)アクリレートは、例えば、水酸基を有する(メタ)アクリルモノマー、多官能イソシアネート及び多価アルコールを反応させることにより、中心にウレタン骨格を有する反応物として得られる。
多官能イソシアネートとしては、例えば、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、トリメチロールプロパントリレンジイソシアネート、ジフェニルメタントリイソシアネートなどが挙げられ、中でも耐候性の良好なヘキサメチレンジイソシアネートが好適に用いられる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
多価アルコールとしては、例えば、ポリエステル(メタ)アクリレートに使用できるものを使用しうる。
ウレタン(メタ)アクリレートの例を商品で挙げると、EBECRYL204,210,220,230,270,4858,8200,8201,8402,8804,8807,9260,9270,KRM8098,7735,8296(ダイセルサイテック社製);UX2201,2301,3204,3301,4101,6101,7101,8101,0937(日本化薬社製);UV6640B,6100B,3700B,3500BA,3520TL,3200B,3000B,3310B,3210EA,7000B,6630B,7461TE(日本合成化学社製);ユピカ8921,8932,8940,8936,8937,8980,8975,8976(日本ユピカ社製);Miramer PU240,PU340(東洋ケミカルズ社製)などを挙げることができる。
Urethane (meth) acrylate is obtained as a reactant having a urethane skeleton at the center, for example, by reacting a (meth) acrylic monomer having a hydroxyl group, a polyfunctional isocyanate and a polyhydric alcohol.
Examples of the polyfunctional isocyanate include tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, trimethylolpropane tolylene diisocyanate, and diphenylmethane triisocyanate. Among them, hexamethylene diisocyanate having good weather resistance is preferably used. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio.
As a polyhydric alcohol, what can be used for polyester (meth) acrylate, for example can be used.
Examples of urethane (meth) acrylate are EBECRYL 204, 210, 220, 230, 270, 4858, 8200, 8201, 8402, 8804, 8807, 9260, 9270, KRM 8098, 7735, 8296 (manufactured by Daicel Cytec) UX2201, 2301, 3204, 3301, 4101, 6101, 7101, 8101, 0937 (manufactured by Nippon Kayaku); UV6640B, 6100B, 3700B, 3500BA, 3520TL, 3200B, 3000B, 3310B, 3210EA, 7000B, 6630B, 7461TE ( Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.); Iupica 8921, 8932, 8940, 8936, 8937, 8980, 8975, 8976 (manufactured by Nippon Iupika); Miramer PU240, PU 340 (manufactured by Toyo Chemicals Co., Ltd.).

ポリエーテル(メタ)アクリレートは、例えば、ポリエーテルポリオールとアクリル酸又はメタクリル酸との反応物として得られる。
ポリエーテル(メタ)アクリレートの例を挙げると、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレートなどが挙げられる。また、商品で例を挙げると、EBECRYL81(ダイセルサイテック社製)を挙げることができる。
Polyether (meth) acrylate is obtained, for example, as a reaction product of polyether polyol and acrylic acid or methacrylic acid.
Examples of the polyether (meth) acrylate include ethoxylated trimethylolpropane triacrylate and propoxylated trimethylolpropane triacrylate. Moreover, when an example is given as a product, EBECRYL81 (manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.) may be mentioned.

シリコーン(メタ)アクリレートは、例えば、オルガノポリシロキサンとアルケニル基含有エポキシ重合体との付加反応生成物に、更に、アクリル酸またはメタクリル酸を反応させた反応物として得られる。
オルガノポリシロキサンとしては、例えば、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルハイドロジエンシロキシ基封鎖メチルフエニルポリシロキサン、分子鎖片末端がジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖で他の分子鎖片末端がトリメチルシロキシ基封鎖のジメチルポリシロキサン等の基本的に直鎖状構造のもののみならず、一部に分岐状のシロキサン構造を含んだものも挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
アルケニル基含有エポキシ重合体としては、例えば、グリシジルオキシ基等のエポキシ基を有し、且つ、アルケニル基を有するものを用いうる。ここで、アルケニル基含有エポキシ重合体が有するエポキシ基の数は、1分子当たり、通常2個以上、好ましくは2〜7個、より好ましくは2〜3個である。また、アルケニル基含有エポキシ重合体が有するアルケニル基の数は、1分子当たり、通常1個以上、好ましくは1〜5個、より好ましくは1〜2個、特に好ましくは1個である。さらに、前記アルケニル基の炭素原子数は、好ましくは2〜6、より好ましくは2〜4である。アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基等が挙げられ、これら中でも、特にアリル基が好ましい。
上記オルガノポリシロキサンとアルケニル基含有エポキシ重合体との付加反応生成物中のエポキシ基に対して、(メタ)アクリル酸を反応させて、シリコーン(メタ)アクリレートを得ることができる。
シリコーン(メタ)アクリレートの例を挙げると、特開2004−189942号公報に例示の化合物;エボニックデグサジャパン社製「TEGO」;トクシキ社製のSQシリーズなどが挙げられる。
Silicone (meth) acrylate is obtained, for example, as a reaction product obtained by further reacting an addition reaction product of an organopolysiloxane and an alkenyl group-containing epoxy polymer with acrylic acid or methacrylic acid.
Examples of the organopolysiloxane include, for example, a trimethylsiloxy group-capped methylhydrogen polysiloxane having both molecular chains, a trimethylsiloxy group-capped dimethylsiloxane / methylhydrogensiloxane copolymer having both molecular chains, and a trimethylsiloxy group-capped dimethyl with both molecular chains. Siloxane / Methylhydrogensiloxane / Methylphenylsiloxane copolymer, dimethylhydrogensiloxy group-blocked dimethylpolysiloxane with both molecular chains, dimethylhydrogensiloxy group-blocked dimethylpolysiloxane / methylhydrogensiloxane copolymer with both ends of molecular chain, Molecular chain both ends dimethylhydrogensiloxy group-blocked dimethylsiloxane / methylphenylsiloxane copolymer, molecular chain both ends dimethylhydrogensiloxy group-blocked In addition to ruthenyl polysiloxane, dimethylpolysiloxane whose molecular chain end is blocked with a dimethylhydrogensiloxy group and other molecular chain end is blocked with a trimethylsiloxy group, it is basically not only of linear structure but also partially Also included are those containing a branched siloxane structure. These may be used alone or in combination of two or more at any ratio.
As the alkenyl group-containing epoxy polymer, for example, one having an epoxy group such as a glycidyloxy group and having an alkenyl group can be used. Here, the number of epoxy groups contained in the alkenyl group-containing epoxy polymer is usually 2 or more, preferably 2 to 7, more preferably 2 to 3 per molecule. The number of alkenyl groups contained in the alkenyl group-containing epoxy polymer is usually 1 or more, preferably 1 to 5, more preferably 1 to 2, particularly preferably 1 per molecule. Furthermore, the number of carbon atoms of the alkenyl group is preferably 2 to 6, more preferably 2 to 4. Examples of the alkenyl group include a vinyl group, an allyl group, a propenyl group, a butenyl group, and a hexenyl group. Among these, an allyl group is particularly preferable.
Silicone (meth) acrylate can be obtained by reacting the epoxy group in the addition reaction product of the organopolysiloxane and the alkenyl group-containing epoxy polymer with (meth) acrylic acid.
Examples of silicone (meth) acrylates include compounds exemplified in JP-A No. 2004-189942; “TEGO” manufactured by Evonik Degussa Japan; SQ series manufactured by Tokushiki;

これらのオリゴマー型多官能(メタ)アクリレートのうち、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、及びウレタン(メタ)アクリレートが好ましい。
また、オリゴマー型多官能(メタ)アクリレートは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
Of these oligomer-type polyfunctional (meth) acrylates, polyester (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, and urethane (meth) acrylate are preferable.
Moreover, oligomer type polyfunctional (meth) acrylate may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

オリゴマー型多官能(メタ)アクリレートの分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定したポリイソプレンの換算の重量平均分子量(Mw)で、通常、500以上10000以下である。   The molecular weight of the oligomer-type polyfunctional (meth) acrylate is a weight average molecular weight (Mw) in terms of polyisoprene measured by gel permeation chromatography, and is usually 500 or more and 10,000 or less.

(I)オリゴマー型多官能(メタ)アクリレートの量は、未硬化状態の接着剤に含まれる(メタ)アクリレート100重量部に対して、15重量部〜65重量部であることが好ましい。この範囲内であることにより、より強固な接着力が得られる。   (I) It is preferable that the quantity of oligomer type polyfunctional (meth) acrylate is 15 to 65 parts by weight with respect to 100 parts by weight of (meth) acrylate contained in the uncured adhesive. By being within this range, a stronger adhesive force can be obtained.

(II)温度20±1.0℃における粘度が10mPa・s以上500mPa・s未満の水酸基を少なくともひとつ有するモノ(メタ)アクリレートの例としては、以下のものが挙げられる。また、以下の例示において、カッコ内の粘度はその例示物の20±1.0℃における粘度を表す。
温度20±1.0℃における粘度が10mPa・s以上500mPa・s未満の水酸基を少なくともひとつ有するモノ(メタ)アクリレートの例としては、2−ヒドロキシプロピルアクリレート(10.9mPa・s)、4−ヒドロキシブチルアクリレート(17mPa・s)、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート(373mPa・s)、グリセリンモノメタクリレート(例えば日油社製「ブレンマーGLM」150mPa・s)、ポリエチレングリコールモノメタクリレート(例えば日油社製「ブレンマーPE−90」15mPa・s;日油社製「ブレンマーPE−200」30mPa・s;日油社製「ブレンマーPE−350」45mPa・s)、ポリプロピレングリコールモノメタクリレート(例えば日油社製「ブレンマーPP−1000」50mPa・s;日油社製「ブレンマー「PP−500」75mPa・s)、ポリ(エチレン・プロピレングリコール)モノメタクリレート(例えば日油社製「ブレンマー50PEP−300」55mPa・s)、ポリエチレングリコール・ポリプロピレングリコールモノメタクリレート(例えば日油社製「ブレンマー70PEP−350B」79mPa・s)、プロピレングリコール・ポリブチレングリコールモノメタクリレート(例えば日油社製「ブレンマー10PPB−500B」48mPa・s)、ポリエチレングリコールモノアクリレート(例えば日油社製「ブレンマーAE−200」15mPa・s)、ポリプロピレングリコールモノアクリレート(例えば日油社製「ブレンマーAP−400」48mPa・s)、脂肪族エポキシアクリレート(例えばダイセルサイテック社製「EBECRYL112」55mPa・s;東邦化学社製「PA500」71.8mPa・s)等が挙げられる。
(II) Examples of mono (meth) acrylate having at least one hydroxyl group having a viscosity of 10 mPa · s or more and less than 500 mPa · s at a temperature of 20 ± 1.0 ° C. include the following. Moreover, in the following illustration, the viscosity in parenthesis represents the viscosity in 20 +/- 1.0 degreeC of the example thing.
Examples of mono (meth) acrylate having at least one hydroxyl group having a viscosity of 10 mPa · s or more and less than 500 mPa · s at a temperature of 20 ± 1.0 ° C. include 2-hydroxypropyl acrylate (10.9 mPa · s), 4-hydroxy Butyl acrylate (17 mPa · s), 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate (373 mPa · s), glycerin monomethacrylate (eg “Blenmer GLM” 150 mPa · s manufactured by NOF Corporation), polyethylene glycol monomethacrylate (eg NOF Corporation) “Blemmer PE-90” 15 mPa · s; NOF “Blemmer PE-200” 30 mPa · s; NOF “Blemmer PE-350” 45 mPa · s), polypropylene glycol monomethacrylate (for example, NOF Corporation) " NOMER PP-1000 "50 mPa.s; NOF" Blenmer "PP-500" 75 mPa.s ", poly (ethylene propylene glycol) monomethacrylate (for example, NOF" Blenmer 50 PEP-300 "55 mPa.s) Polyethylene glycol / polypropylene glycol monomethacrylate (for example, “Blenmer 70PEP-350B” 79 mPa · s manufactured by NOF Corporation), propylene glycol / polybutylene glycol monomethacrylate (for example, “Blenmer 10PPB-500B” 48 mPa · s manufactured by NOF Corporation), Polyethylene glycol monoacrylate (for example, “Blemmer AE-200” 15 mPa · s made by NOF Corporation), polypropylene glycol monoacrylate (for example “Blemmer AP-400” 48 mP made by NOF Corporation) a), aliphatic epoxy acrylate (for example, “EBECRYL112” 55 mPa · s manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd .; “PA500” 71.8 mPa · s manufactured by Toho Chemical Co., Ltd.) and the like.

(II)温度20±1.0℃における粘度が10mPa・s以上500mPa・s未満の水酸基を少なくともひとつ有するモノ(メタ)アクリレートを使用することで、接着剤の塗工適正が良好となり、かつ接着層がより強い接着力を示すので、好ましい。前記の温度20±1.0℃における粘度の範囲は、より好ましくは50mPa・s以上、特に好ましくは70mPa・s以上であり、より好ましくは400mPa・s以下、特に好ましくは350mPa・s以下である。   (II) By using a mono (meth) acrylate having at least one hydroxyl group having a viscosity of 10 mPa · s or more and less than 500 mPa · s at a temperature of 20 ± 1.0 ° C., the adhesive coating suitability is improved and adhesion is achieved. This is preferred because the layer exhibits stronger adhesion. The viscosity range at the temperature of 20 ± 1.0 ° C. is more preferably 50 mPa · s or more, particularly preferably 70 mPa · s or more, more preferably 400 mPa · s or less, and particularly preferably 350 mPa · s or less. .

(II)温度20±1.0℃における粘度が10mPa・s以上500mPa・s未満の水酸基を少なくともひとつ有するモノ(メタ)アクリレートの量は、未硬化状態の接着剤に含まれる(メタ)アクリレート100重量部に対して、35重量部〜85重量部であることが好ましい。この範囲内であることにより、より強固な接着力が得られる。   (II) The amount of mono (meth) acrylate having at least one hydroxyl group having a viscosity of 10 mPa · s or more and less than 500 mPa · s at a temperature of 20 ± 1.0 ° C. is (meth) acrylate 100 contained in the uncured adhesive. It is preferably 35 to 85 parts by weight with respect to parts by weight. By being within this range, a stronger adhesive force can be obtained.

また、硬化状態又は未硬化状態において、接着剤は、本発明の効果を著しく損なわない範囲で、(メタ)アクリレート以外に任意の成分を含んでいてもよい。任意の成分としては、例えば、重合開始剤、架橋剤、無機フィラー、重合禁止剤、着色顔料、染料、消泡剤、レベリング剤、分散剤、光拡散剤、可塑剤、帯電防止剤、界面活性剤、非反応性ポリマー(不活性重合体)、粘度調整剤、近赤外線吸収材等が挙げられる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Further, in the cured state or the uncured state, the adhesive may contain an optional component other than (meth) acrylate as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. Optional components include, for example, a polymerization initiator, a crosslinking agent, an inorganic filler, a polymerization inhibitor, a color pigment, a dye, an antifoaming agent, a leveling agent, a dispersing agent, a light diffusing agent, a plasticizer, an antistatic agent, and a surface activity. Agents, non-reactive polymers (inert polymers), viscosity modifiers, near-infrared absorbers, and the like. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio.

重合開始剤の種類は、接着剤の硬化の態様に応じて選択しうる。例えば、接着剤が活性エネルギー線の照射により硬化しうる場合、光重合開始剤を用いうる。この場合、光重合開始剤に組み合わせて、光増感剤を用いてもよい。
光重合開始剤としては、例えば、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、メチルベンゾイルフォーメート、2,2−ジエトキシアセトフェノン、β−アイオノン、β−ブロモスチレン、ジアゾアミノベンゼン、α−アミルシンナックアルデヒド、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、2−クロロベンゾフェノン、p,p′−ジクロロベンゾフェノン、p,p′−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインn−プロピルエーテル、ベンゾインn−ブチルエーテル、ジフェニルスルフィド、ビス(2,6−メトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、アントラセンベンゾフェノン、α−クロロアントラキノン、ジフェニルジスルフィド、ヘキサクロルブタジエン、ペンタクロルブタジエン、オクタクロロブテン、1−クロルメチルナフタリン、1,2−オクタンジオン、1−[4−(フェニルチオ)−,2−(o−ベンゾイル)]オキシム、1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]エタノン1−(o−アセチルオキシム)、(4−メチルフェニル)[4−(2−メチルプロピル)フェニル]ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、3−メチル−2−ブチニルテトラメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル−(p−フェニルチオフェニル)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
重合開始剤の量は、未硬化状態の接着剤に含まれる(メタ)アクリレート100重量部に対して、好ましくは0.5重量部以上、より好ましくは1重量部以上であり、好ましくは10重量部以下、より好ましくは5重量部以下である。
また、光増感剤としては、例えば、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−n−ブチルホスフィンなどが挙げられる。
The type of the polymerization initiator can be selected according to the mode of curing of the adhesive. For example, when the adhesive can be cured by irradiation with active energy rays, a photopolymerization initiator can be used. In this case, a photosensitizer may be used in combination with the photopolymerization initiator.
Examples of the photopolymerization initiator include 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, and 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methyl. Propan-1-one, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, methylbenzoyl formate, 2,2-diethoxyacetophenone, β-ionone, β-bromostyrene, diazoaminobenzene , Α-amylcinnackaldehyde, p-dimethylaminoacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, 2-chlorobenzophenone, p, p′-dichlorobenzophenone, p, p′-bisdiethylaminobenzophenone, benzoin ethyl ether Benzoin isopropyl ether, benzoin n-propyl ether, benzoin n-butyl ether, diphenyl sulfide, bis (2,6-methoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyl diphenyl -Phosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl- 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, anthracenebenzophenone, α-chloroanthraquinone, diphenyl disulfide, hexachlorobutadiene, pentachlorobutadiene, octachlorobutene, 1 -Chlormethylnaphthalene, 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio)-, 2- (o-benzoyl)] oxime, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H- Carbazol-3-yl] ethanone 1- (o-acetyloxime), (4-methylphenyl) [4- (2-methylpropyl) phenyl] iodonium hexafluorophosphate, 3-methyl-2-butynyltetramethylsulfonium Examples thereof include hexafluoroantimonate and diphenyl- (p-phenylthiophenyl) sulfonium hexafluoroantimonate. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio.
The amount of the polymerization initiator is preferably 0.5 parts by weight or more, more preferably 1 part by weight or more, preferably 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of (meth) acrylate contained in the uncured adhesive. Part or less, more preferably 5 parts by weight or less.
Examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, and poly-n-butylphosphine.

消泡剤としては、例えば、ビッグケミージャパン社製 BYK051,052,055,057,1790,065,070,088,354,392;日本油脂社製 LR−20R,OP−80R,OP−83RAT,OP−85R,PP−40R,SO−80R,SP−60R,BP−70R,CP−08R,DS−60HNなどが挙げられる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
消泡剤は、接着層の接着力が低下しない範囲の量で使用可能であり、具体的には、未硬化状態の接着剤の固形分100重量部に対して、好ましくは0.1重量部以上であり、好ましくは1.0重量部以下、より好ましくは0.5重量部以下である。
Examples of the antifoaming agent include BYK051,052,055,057,1790,065,070,088,354,392 manufactured by Big Chemie Japan; LR-20R, OP-80R, OP-83RAT, OP manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd. -85R, PP-40R, SO-80R, SP-60R, BP-70R, CP-08R, DS-60HN, and the like. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio.
The antifoaming agent can be used in an amount within a range in which the adhesive force of the adhesive layer does not decrease. Specifically, the antifoaming agent is preferably 0.1 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the solid content of the uncured adhesive. It is above, Preferably it is 1.0 weight part or less, More preferably, it is 0.5 weight part or less.

架橋剤としては、例えば、分子量500未満の2官能以上の(メタ)アクリレートモノマーを用いうる。架橋剤の具体例を挙げると、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、グリセリンジメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−アクリロキシプロピルメタクリレート、テトラエチレンジアクリレート、ポリエチレングリコール#400ジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバネリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジメタクリレートを挙げることができる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
架橋剤の量は、未硬化状態の接着剤に含まれる(メタ)アクリレート100重量部に対して、好ましくは0.5重量部以上、より好ましくは1重量部以上であり、好ましくは10重量部以下、より好ましくは5重量部以下である。架橋剤の量を前記範囲の下限値以上とすることにより接着層の機械的強度を効果的に高めることができる。また、上限値以下にすることにより、複層フィルム(A)と複層フィルム(B)との接着力を高くできる。
As the crosslinking agent, for example, a bifunctional or higher functional (meth) acrylate monomer having a molecular weight of less than 500 can be used. Specific examples of the crosslinking agent include ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, glycerin dimethacrylate, 2-hydroxy-3-acryloxypropyl methacrylate, tetraethylene diacrylate, Polyethylene glycol # 400 diacrylate, tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, hydroxypentane phosphate neopentyl glycol diacrylate, 1,9 -Nonanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol triacryl , Pentaerythritol tetraacrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, dipropylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, 1,3-butanediol Mention may be made of dimethacrylate, ethoxylated bisphenol A dimethacrylate. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio.
The amount of the crosslinking agent is preferably 0.5 parts by weight or more, more preferably 1 part by weight or more, preferably 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of (meth) acrylate contained in the uncured adhesive. Below, more preferably 5 parts by weight or less. By setting the amount of the crosslinking agent to be equal to or more than the lower limit of the above range, the mechanical strength of the adhesive layer can be effectively increased. Moreover, the adhesive force of a multilayer film (A) and a multilayer film (B) can be made high by setting it as below an upper limit.

粘度調整剤としては、例えば、数nm〜数百nmの粒子径を有する金属酸化物の粒子を溶媒に分散したスラリーを用いうる。金属酸化物としては、例えば、シリカ、水酸化アルミニウム、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸バリウム、マグネシウムシリケート、およびこれらの混合物が挙げられる。粘度調整剤の具体例としては、日産化学社製 オルガノシリカゾル メタノールシリカゾル,IPA−ST,IPA−ST−UP,IPA−ST−ZL,EG−ST,NPC−ST−30,DMAC−ST,MEK−ST,MIBK−ST,XBA−ST,PMA−ST,PGM−ST;扶桑化学社製 PL−1−IPA,PL−1−TOL,PL−2L−PGME,PL−2L−MEKなどを挙げることができる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
粘度調整剤の量は、未硬化状態の接着剤に含まれる(メタ)アクリレート100重量部に対する金属酸化物の量で、好ましくは1重量部以上、より好ましくは5重量部以上であり、好ましくは15重量部以下、より好ましくは10重量部以下である。粘度調整剤の量を前記範囲の下限値以上とすることにより、未硬化状態での接着剤の粘度を適切に調整できる。また、上限値以下とすることにより、複層フィルム(A)と複層フィルム(B)との接着力を高くできる。
As the viscosity modifier, for example, a slurry in which metal oxide particles having a particle diameter of several nm to several hundred nm are dispersed in a solvent can be used. Examples of the metal oxide include silica, aluminum hydroxide, aluminum oxide, titanium oxide, zinc oxide, barium sulfate, magnesium silicate, and a mixture thereof. Specific examples of the viscosity modifier include organosilica sol, methanol silica sol, IPA-ST, IPA-ST-UP, IPA-ST-ZL, EG-ST, NPC-ST-30, DMAC-ST, MEK- ST, MIBK-ST, XBA-ST, PMA-ST, PGM-ST; PL-1-IPA, PL-1-TOL, PL-2L-PGME, PL-2L-MEK manufactured by Fuso Chemical Co., Ltd. it can. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio.
The amount of the viscosity modifier is an amount of the metal oxide with respect to 100 parts by weight of (meth) acrylate contained in the uncured adhesive, preferably 1 part by weight or more, more preferably 5 parts by weight or more, preferably 15 parts by weight or less, more preferably 10 parts by weight or less. By setting the amount of the viscosity adjusting agent to be equal to or more than the lower limit of the above range, the viscosity of the adhesive in an uncured state can be adjusted appropriately. Moreover, the adhesive force of a multilayer film (A) and a multilayer film (B) can be made high by setting it as below an upper limit.

接着剤の具体例としては、特開平7−82544号公報記載の例を挙げることができる。   Specific examples of the adhesive include those described in JP-A-7-82544.

接着層の厚みは、好ましくは0.5μm以上、より好ましくは1μm以上、さらに好ましくは3μm以上であり、好ましくは30μm以下、より好ましくは20μm以下、さらに好ましくは10μm以下である。接着層の厚みを前記範囲の下限値以上とすることにより、複層フィルム(A)と複層フィルム(B)との接着力を高くできる。また、上限値以下にすることにより、接着剤の硬化速度を速くして容易に接着剤を硬化させることが可能となり、また、薄膜化を図ることができる。   The thickness of the adhesive layer is preferably 0.5 μm or more, more preferably 1 μm or more, further preferably 3 μm or more, preferably 30 μm or less, more preferably 20 μm or less, and even more preferably 10 μm or less. By setting the thickness of the adhesive layer to be equal to or more than the lower limit of the above range, the adhesive force between the multilayer film (A) and the multilayer film (B) can be increased. Moreover, by making it into the upper limit value or less, it becomes possible to increase the curing rate of the adhesive and to easily cure the adhesive, and to reduce the thickness.

[1.4.積層体に係る他の事項]
上述した積層体では、固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)及び固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)が、所望の光学特性(特に、レターデーション)を有する。したがって、この積層体から不要な層を剥がすことにより、固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)及び固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)を組み合わせた位相差フィルムを容易に得ることができる。
[1.4. Other matters related to laminates]
In the above-described laminate, the non-liquid crystalline material layer (A2) having a positive intrinsic birefringence and the non-liquid crystalline material layer (B1) having a negative intrinsic birefringence have desired optical properties (particularly, retardation). Have. Therefore, the phase difference which combined the layer (A2) of non-liquid crystalline material with a positive intrinsic birefringence and the layer (B1) of non-liquid crystalline material with a negative intrinsic birefringence by peeling an unnecessary layer from this laminated body. A film can be obtained easily.

また、上述した積層体では、固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)及び固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)の厚みを薄くできる。特に、一般には固有複屈折が負の非液晶性材料の機械的強度が弱いために非液晶性材料の層(B1)は破損し易いが、上述した積層体においては非液晶性材料の層(B1)の破損を安定して防止できる。さらに、通常は、固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)及び固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)の厚みを薄くしても、その厚みのバラつきを小さくすることが可能である。したがって、この積層体から不要な層を剥がすことにより、厚みが薄い位相差フィルムを容易に得ることができる。   In the above-described laminate, the thickness of the non-liquid crystalline material layer (A2) having a positive intrinsic birefringence and the non-liquid crystalline material layer (B1) having a negative intrinsic birefringence can be reduced. In particular, the non-liquid crystalline material layer (B1) is generally easily damaged because the mechanical strength of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence is weak. However, in the above-described laminate, the non-liquid crystalline material layer ( The damage of B1) can be stably prevented. Further, even if the thickness of the non-liquid crystalline material layer (A2) having a positive intrinsic birefringence and the non-liquid crystalline material layer (B1) having a negative intrinsic birefringence is usually reduced, the variation in thickness is reduced. Is possible. Therefore, a thin retardation film can be easily obtained by peeling off unnecessary layers from the laminate.

[1.5.積層体の製造方法]
図1に示す積層体100は、例えば、複層フィルム(A)10を製造する工程と、複層フィルム(B)20を製造する工程と、複層フィルム(A)10及び複層フィルム(B)20を接着層30を介して貼り合せる工程とを含む製造方法により製造しうる。以下、この製造方法について説明する。
[1.5. Manufacturing method of laminate]
The laminate 100 shown in FIG. 1 includes, for example, a step of manufacturing a multilayer film (A) 10, a step of manufacturing a multilayer film (B) 20, and a multilayer film (A) 10 and a multilayer film (B ) 20 can be manufactured by a manufacturing method including a step of bonding through the adhesive layer 30. Hereinafter, this manufacturing method will be described.

[1.5.1.複層フィルム(A)の製造工程の例]
図2は、複層フィルム(A)10を製造する製造装置200の例を模式的に示す概略図である。図2に示すように、複層フィルム(A)10を製造する場合には、展開部210と、乾燥部220と、延伸部230とを備える製造装置200を用いうる。
[1.5.1. Example of production process of multilayer film (A)]
FIG. 2 is a schematic view schematically showing an example of a production apparatus 200 for producing the multilayer film (A) 10. As shown in FIG. 2, when manufacturing the multilayer film (A) 10, the manufacturing apparatus 200 provided with the expansion | deployment part 210, the drying part 220, and the extending | stretching part 230 can be used.

展開部210は、固有複屈折が正の非液晶性材料を溶媒に溶解させた溶液240を、基材(A1)11上に展開(キャスト)しうる装置である。
固有複屈折が正の非液晶性材料を溶解させる溶媒としては、固有複屈折が正の非液晶性材料を溶解でき、かつ、基材(A1)を極度に浸食しないものを用いうる。この溶媒は、使用する固有複屈折が正の非液晶性材料及び基材(A1)に応じて適切なものを選択しうる。溶媒の具体例としては、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、o−ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類;フェノール、パラクロロフェノール等のフェノール類;ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、1,2−ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類;アセトン、酢酸エチル、t−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、ピリジン、トリエチルアミン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトニトリル、ブチロニトリル、メチルイソブチルケトン、メチルエーテルケトン、シクロペンタノン、二硫化炭素等が挙げられる。また、固有複屈折が正の非液晶性材料の種類によっては、溶媒として硫酸を用いてもよい。溶媒は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
The developing unit 210 is a device that can develop (cast) a solution 240 obtained by dissolving a non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence in a solvent onto the base material (A1) 11.
As a solvent for dissolving the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence, a solvent capable of dissolving the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence and not extremely eroding the substrate (A1) can be used. As this solvent, an appropriate solvent can be selected according to the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence and the base material (A1). Specific examples of the solvent include: halogenated hydrocarbons such as chloroform, dichloromethane, carbon tetrachloride, dichloroethane, tetrachloroethane, trichloroethylene, tetrachloroethylene, chlorobenzene, o-dichlorobenzene; phenols such as phenol and parachlorophenol; benzene, Aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, methoxybenzene, 1,2-dimethoxybenzene; acetone, ethyl acetate, t-butyl alcohol, glycerin, ethylene glycol, triethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol , Dipropylene glycol, 2-methyl-2,4-pentanediol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, 2-pyrrolidone, N- Chill-2-pyrrolidone, pyridine, triethylamine, dimethylformamide, dimethylacetamide, acetonitrile, butyronitrile, methyl isobutyl ketone, methyl ether ketone, cyclopentanone, carbon disulfide, and the like. Further, depending on the type of non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence, sulfuric acid may be used as a solvent. A solvent may be used individually by 1 type and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

溶液240において、固有複屈折が正の非液晶性材料の濃度は、基材(A1)11への塗工性(例えば、異物混入、塗工時のムラやスジの発生の程度)を考慮すると、好ましくは0.5重量%以上、より好ましくは1重量%以上、特に好ましくは2重量%以上であり、好ましくは50重量%以下、より好ましくは40重量%以下、特に好ましくは30重量%以下である。濃度を前記範囲の下限値以上にすることにより、溶液240の粘度を高くして、溶液240を所望の厚みで展開することができる。また、上限値以下にすることにより、溶液240の粘度を低くして、溶液240の層の面状の悪化を防止できる。   In the solution 240, the concentration of the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence takes into consideration the coating property (for example, the degree of foreign matter contamination, unevenness or streaks during coating) on the base material (A1) 11. , Preferably 0.5% by weight or more, more preferably 1% by weight or more, particularly preferably 2% by weight or more, preferably 50% by weight or less, more preferably 40% by weight or less, particularly preferably 30% by weight or less. It is. By setting the concentration to be equal to or higher than the lower limit of the above range, the viscosity of the solution 240 can be increased and the solution 240 can be developed with a desired thickness. Moreover, by making it into the upper limit value or less, the viscosity of the solution 240 can be lowered, and deterioration of the surface state of the layer of the solution 240 can be prevented.

また、溶液240は、固有複屈折が正の非液晶性材料及び溶媒に加えて、例えば界面活性剤等の配合剤を含んでいてもよい。   The solution 240 may contain a compounding agent such as a surfactant in addition to the non-liquid crystalline material having positive intrinsic birefringence and the solvent.

展開部210における展開方法は、通常、塗布法を用いる。塗布法の具体例を挙げると、スピンコート法、ロールコート法、ダイコート法、ブレードコート法等が挙げられる。   As a developing method in the developing unit 210, a coating method is usually used. Specific examples of the coating method include spin coating, roll coating, die coating, and blade coating.

乾燥部220は、基材(A1)11上に展開された溶液240を乾燥させうる装置である。溶液240が乾燥されることにより、基材(A1)11及び固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)をこの順に備える延伸前フィルム250が得られるようになっている。乾燥部は、30℃〜200℃の範囲で温度調整可能な装置であることが好ましく、フィルム面上に、温度制御した温風を積極的に送る機構を有することが好ましい。   The drying unit 220 is a device that can dry the solution 240 developed on the base material (A1) 11. By drying the solution 240, the pre-stretching film 250 including the base material (A1) 11 and the layer (A2) of the non-liquid crystalline material having positive intrinsic birefringence in this order is obtained. The drying unit is preferably a device capable of adjusting the temperature in the range of 30 ° C. to 200 ° C., and preferably has a mechanism for positively sending temperature-controlled hot air on the film surface.

延伸部230は、溶液240を乾燥した後に基材(A1)11を延伸しうる装置である。基材(A1)11が延伸されると、その上に形成された正の非液晶性材料の層(A2)も延伸される。この延伸によりレターデーションが発現するので、所望のレターデーションを有する非液晶性材料の層(A2)が得られるようになっている。このような延伸部230としては、例えば、テンター延伸機を用いうる。テンター延伸機は、通常、対をなすレールと、そのレールに沿って移動しうる把持子を備える。レールは、帯状のフィルムのMD方向下流側に向けてTD方向にレール幅がテーパー状に広げられたレール拡幅部を有する。このようなテンター延伸機では、フィルムのTD方向両端部を把持子で把持し、その把持子を前記レールに沿わせて走行させることにより、帯状のフィルムをTD方向に延伸させることができる。   The stretching unit 230 is a device that can stretch the base material (A1) 11 after drying the solution 240. When the base material (A1) 11 is stretched, the layer (A2) of the positive non-liquid crystalline material formed thereon is also stretched. Since this stretching causes retardation, a layer (A2) of a non-liquid crystalline material having a desired retardation can be obtained. As such a stretching unit 230, for example, a tenter stretching machine can be used. The tenter stretching machine generally includes a pair of rails and a gripper that can move along the rails. The rail has a rail widening portion in which the rail width is increased in a taper shape in the TD direction toward the downstream side in the MD direction of the belt-like film. In such a tenter stretching machine, the belt-shaped film can be stretched in the TD direction by gripping both ends of the film in the TD direction with a gripper and running the gripper along the rail.

このような製造装置200を用いて複層フィルム(A)を製造する場合、長尺のフィルム状の基材(A1)11を用いて、ロールトゥロール法による製造が可能である。例えば、基材(A1)11のロールから基材(A1)11を引き出し、引き出した基材(A1)11を展開部210に連続的に送る。   When manufacturing a multilayer film (A) using such a manufacturing apparatus 200, manufacture by a roll toe roll method is possible using the elongate film-form base material (A1) 11. For example, the base material (A1) 11 is pulled out from the roll of the base material (A1) 11, and the pulled out base material (A1) 11 is continuously sent to the developing unit 210.

延伸前の基材(A1)11の厚みは、ハンドリング性及び機械的強度を高める観点から、好ましくは40μm以上、より好ましくは60μm以上であり、ハンドリング性をより良くする観点から、好ましくは500μm以下、より好ましくは150μm以下である。   The thickness of the base material (A1) 11 before stretching is preferably 40 μm or more, more preferably 60 μm or more from the viewpoint of improving handling properties and mechanical strength, and preferably 500 μm or less from the viewpoint of improving handling properties. More preferably, it is 150 μm or less.

展開部210では、基材(A1)11上に溶液240を展開(キャスト)する工程を行う。この際、展開する溶液240の量は、展開により形成される溶液240の厚みが、複層フィルム(A)10において所望の厚みの非液晶性材料の層(A2)12が得られる厚みとなるように設定しうる。   The developing unit 210 performs a process of developing (casting) the solution 240 on the base material (A1) 11. At this time, the amount of the solution 240 to be developed is such that the thickness of the solution 240 formed by the development is such that the non-liquid crystalline material layer (A2) 12 having a desired thickness can be obtained in the multilayer film (A) 10. It can be set as follows.

基材(A1)11の表面11Uにおいて、溶液240を展開する領域は、基材(A1)11の全体ではなく、延伸時における把持箇所を除いた領域とすることが好ましい。例えば、基材(A1)11が帯状であり、該帯状の基材(A1)11をTD方向に延伸する場合には、延伸時の把持箇所である基材(A1)11の幅方向両端部を除き、基材(A1)11の中央部分に溶液240を展開することが好ましい。   In the surface 11U of the base material (A1) 11, the region where the solution 240 is developed is preferably not the entire base material (A1) 11, but the region excluding the gripped portion during stretching. For example, when the base material (A1) 11 is strip-shaped and the strip-shaped base material (A1) 11 is stretched in the TD direction, both end portions in the width direction of the base material (A1) 11 that are gripped portions at the time of stretching It is preferable to spread the solution 240 on the central portion of the substrate (A1) 11 except for the above.

表面11Uに溶液240が展開された基材(A1)11は、乾燥部220に送られる。乾燥部220では、基材(A1)11の表面に展開された溶液240を乾燥する工程を行う。
乾燥温度は溶液240の溶媒の種類に応じて設定してもよく、好ましくは40℃以上、より好ましくは50℃以上であり、好ましくは250℃以下、より好ましくは200℃以下である。乾燥は一定温度において行ってもよく、段階的又は連続的に温度を上昇させて行ってもよい。
乾燥時間は、好ましく10秒間以上、より好ましくは30秒間以上であり、好ましくは60分間以下、より好ましくは30分間以下である。乾燥時間を前記範囲の下限値以上にすることにより、溶液240の層から溶媒を十分に除去して製品の信頼性を高めることができる。また、上限値以下にすることにより、生産性を高めることができる。
The base material (A1) 11 on which the solution 240 is developed on the surface 11U is sent to the drying unit 220. In the drying unit 220, a process of drying the solution 240 developed on the surface of the base material (A1) 11 is performed.
The drying temperature may be set according to the type of solvent of the solution 240, preferably 40 ° C. or higher, more preferably 50 ° C. or higher, preferably 250 ° C. or lower, more preferably 200 ° C. or lower. Drying may be performed at a constant temperature, or may be performed by increasing the temperature stepwise or continuously.
The drying time is preferably 10 seconds or more, more preferably 30 seconds or more, preferably 60 minutes or less, more preferably 30 minutes or less. By setting the drying time to be equal to or greater than the lower limit of the above range, the solvent can be sufficiently removed from the layer of the solution 240, and the reliability of the product can be improved. Moreover, productivity can be improved by making it into an upper limit or less.

乾燥により、基材(A1)11の表面に、固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)が形成される。こうして得られた延伸前の固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)の厚みは、延伸前の基材(A1)11の厚みよりも薄いことが好ましく、前記基材(A1)11の厚みの半分よりも小さいことがさらに好ましい。基材(A1)11の厚みに対して延伸前の固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)の厚みを相対的に小さくすることにより、延伸処理の際に均一な延伸を行うことができる。   By drying, a layer (A2) of a non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence is formed on the surface of the substrate (A1) 11. The thickness of the non-liquid crystalline material layer (A2) having a positive intrinsic birefringence before stretching thus obtained is preferably smaller than the thickness of the substrate (A1) 11 before stretching, and the substrate (A1). More preferably, it is smaller than half of the thickness of 11. By uniformly reducing the thickness of the non-liquid crystalline material layer (A2) having a positive intrinsic birefringence before stretching relative to the thickness of the substrate (A1) 11, uniform stretching is performed during the stretching process. be able to.

また、延伸前の固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)の具体的な厚みは、延伸後に得られる非液晶性材料の層(A2)の厚みに応じて設定しうるものであり、好ましくは0.5μm以上、より好ましくは1μm以上、また、好ましくは50μm以下、より好ましくは30μm以下である。厚みを前記範囲の下限値以上にすることにより、複層フィルム(A)10の非液晶性材料の層(A2)12において十分なレターデーションおよび機械的強度を得ることができる。また、上限値以下とすることにより、複層フィルム(A)10の非液晶性材料の層(A2)12の耐傷つき性及びハンドリング性を高めることができ、厚みを薄くでき、更には厚みのバラつきを抑制することができる。   The specific thickness of the non-liquid crystalline material layer (A2) having a positive intrinsic birefringence before stretching can be set according to the thickness of the non-liquid crystalline material layer (A2) obtained after stretching. Yes, preferably 0.5 μm or more, more preferably 1 μm or more, and preferably 50 μm or less, more preferably 30 μm or less. By setting the thickness to be equal to or more than the lower limit of the above range, sufficient retardation and mechanical strength can be obtained in the layer (A2) 12 of the non-liquid crystalline material of the multilayer film (A) 10. Moreover, by setting it as the upper limit value or less, the scratch resistance and handling properties of the non-liquid crystalline material layer (A2) 12 of the multilayer film (A) 10 can be improved, the thickness can be reduced, and further the thickness Variations can be suppressed.

乾燥により固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)が形成された基材(A1)11は、延伸部230に送られる。延伸部230では、基材(A1)11を延伸する工程を行う。
この際、基材(A1)11の、固有複屈折が正の非液晶性材料を展開していないTD方向両端の部分を把持して延伸を行うことが好ましい。即ち、延伸するための把持箇所を基材(A1)11のみとすることが好ましい。このように固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)を基材(A1)11上に形成した状態で基材(A1)11を延伸すると、この基材(A1)11に張力が課せられ、基材(A1)11が均一に延伸される。この際、基材(A1)11の均一な延伸が前記固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)に作用し、固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)が間接的に延伸されることとなるので、固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)を直接的に延伸した場合に比べて均一な延伸を行うことができる。即ち、基材(A1)11が緩和層のような役割を担うために、基材(A1)11の把持箇所から固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)までの延伸応力の伝わり方が緩やかとなり、結果的に幅方向により均一な延伸が可能になる。特に、基材(A1)11の厚みに対して固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)の厚みを相対的に小さくして延伸すると、前記基材(A1)11に主に張力が課せられ、固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)の延伸を更に均一に行えるので、特に好ましい。
The base material (A1) 11 on which the layer (A2) of the non-liquid crystalline material having positive intrinsic birefringence is formed by drying is sent to the stretching unit 230. In the extending | stretching part 230, the process of extending | stretching the base material (A1) 11 is performed.
At this time, it is preferable to stretch the substrate (A1) 11 by gripping portions at both ends in the TD direction where the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence is not developed. That is, it is preferable that the base material (A1) 11 is the only gripping part for stretching. When the base material (A1) 11 is stretched in such a state that the layer (A2) of the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence is formed on the base material (A1) 11, tension is applied to the base material (A1) 11. Is imposed, and the base material (A1) 11 is uniformly stretched. At this time, the uniform stretching of the base material (A1) 11 acts on the layer (A2) of the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence, and the layer (A2) of the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence is formed. Since the film is indirectly stretched, uniform stretching can be performed as compared with the case where the layer (A2) of the non-liquid crystalline material having positive intrinsic birefringence is directly stretched. That is, since the base material (A1) 11 plays a role like a relaxation layer, the stretching stress from the gripping portion of the base material (A1) 11 to the layer (A2) of the non-liquid crystalline material having positive intrinsic birefringence The way of transmission becomes gentle, and as a result, uniform stretching in the width direction becomes possible. In particular, when the thickness of the layer (A2) of the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence with respect to the thickness of the base material (A1) 11 is relatively reduced and stretched, the base material (A1) 11 mainly This is particularly preferable because tension can be imposed and the layer (A2) of the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence can be stretched more uniformly.

延伸温度は、基材(A1)11を形成する材料のガラス転移温度±20℃の範囲が好ましく、また、固有複屈折が正の非液晶性材料のガラス転移温度以下が好ましい。具体的な延伸温度は、好ましくは40℃以上、より好ましくは80℃以上、特に好ましくは100℃以上であり、好ましくは250℃以下、より好ましくは220℃以下、特に好ましくは200℃以下である。基材(A1)11のガラス転移温度−20℃以上の温度で延伸することにより、小さい張力によって延伸を行うことが可能となる。また、基材(A1)11において、固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)が形成された領域と形成されていない領域との境界への応力の集中を抑制できるので、基材(A1)の破損を防止できる。さらに、基材(A1)11のガラス転移温度+20℃以下の温度で延伸することにより、固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)の延伸を確実に行うことができる。また、固有複屈折が正の非液晶性材料のガラス転移温度以下で延伸することにより、延伸の制御を安定して行うことができ、所望のレターデーションを製造工程に負荷を加えずに得ることができる。   The stretching temperature is preferably in the range of the glass transition temperature ± 20 ° C. of the material forming the substrate (A1) 11, and is preferably not more than the glass transition temperature of the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence. The specific stretching temperature is preferably 40 ° C. or higher, more preferably 80 ° C. or higher, particularly preferably 100 ° C. or higher, preferably 250 ° C. or lower, more preferably 220 ° C. or lower, particularly preferably 200 ° C. or lower. . By stretching at a glass transition temperature of the base material (A1) 11 of −20 ° C. or higher, stretching can be performed with a small tension. Further, in the base material (A1) 11, the concentration of stress at the boundary between the region where the layer (A2) of the non-liquid crystalline material having positive intrinsic birefringence is positive and the region where the layer is not formed can be suppressed. Damage to the material (A1) can be prevented. Furthermore, the layer (A2) of the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence can be reliably stretched by stretching at a glass transition temperature of the substrate (A1) 11 of 20 ° C. or lower. In addition, by stretching below the glass transition temperature of a non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence, the stretching can be controlled stably, and a desired retardation can be obtained without adding a load to the manufacturing process. Can do.

延伸倍率は、好ましくは1.01倍以上、より好ましくは1.03倍以上、特に好ましくは1.05倍以上であり、好ましくは2倍以下、より好ましくは1.7倍以下、特に好ましくは1.5倍以下である。延伸倍率を前記範囲の下限値以上とすることにより、非液晶性材料の層(A2)12に所望のレターデーションを安定して発現させることができる。また、上限値以下とすることにより、延伸むらを防止して、非液晶性材料の層(A2)12におけるレターデーションを均一にすることができる。ここで、延伸の回数は、1回でもよく、2回以上であってもよい。   The draw ratio is preferably 1.01 times or more, more preferably 1.03 times or more, particularly preferably 1.05 times or more, preferably 2 times or less, more preferably 1.7 times or less, particularly preferably. 1.5 times or less. By setting the draw ratio to be not less than the lower limit of the above range, the desired retardation can be stably expressed in the layer (A2) 12 of the non-liquid crystalline material. Moreover, by setting it as the upper limit value or less, it is possible to prevent stretching unevenness and make the retardation in the layer (A2) 12 of the non-liquid crystalline material uniform. Here, the number of stretching may be one time or two or more times.

前記の延伸により、固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)においてレターデーションが発現し、所望の光学特性を有する複層フィルム(A)10が得られる。この複層フィルム(A)10においては、固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)12の面内の遅相軸は、通常、延伸部230で延伸された方向に平行になる。   By the above stretching, retardation is developed in the layer (A2) of the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence, and the multilayer film (A) 10 having desired optical characteristics is obtained. In the multilayer film (A) 10, the in-plane slow axis of the layer (A 2) 12 of the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence is usually parallel to the direction stretched by the stretching portion 230. .

また、この製造方法においては、上述した以外にも工程を行ってもよい。
例えば、延伸の後、必要に応じて、緩和工程を行ってもよい。緩和工程では、延伸された基材(A1)11を所定時間、所定温度に保持して、基材(A1)11を収縮させる。この場合の緩和率は20%以内であるのが好ましく、保持温度は、上記基材(A1)11を形成する材料のガラス転移温度±30℃の範囲が好ましく、保持時間は1秒〜60秒が好ましい。
Further, in this manufacturing method, steps other than those described above may be performed.
For example, after stretching, a relaxation step may be performed as necessary. In the relaxation step, the stretched base material (A1) 11 is held at a predetermined temperature for a predetermined time, and the base material (A1) 11 is contracted. In this case, the relaxation rate is preferably within 20%, the holding temperature is preferably in the range of the glass transition temperature ± 30 ° C. of the material forming the substrate (A1) 11, and the holding time is 1 second to 60 seconds. Is preferred.

また、例えば、延伸の後、得られた複層フィルム(A)10は、必要に応じて室温まで冷却される。冷却速度及び冷却手段は、特に制限されない。ただし、冷却前に急激に延伸時の張力を解放すると、得られた複層フィルム(A)10にしわが入りやすいため、該張力を解放する前に、冷却工程の一部又は全部を実施することが好ましい。   For example, after stretching, the obtained multilayer film (A) 10 is cooled to room temperature as necessary. The cooling rate and the cooling means are not particularly limited. However, if the tension at the time of stretching is suddenly released before cooling, the resulting multilayer film (A) 10 is likely to wrinkle. Therefore, before releasing the tension, some or all of the cooling process should be performed. Is preferred.

得られた複層フィルム(A)10は、通常、ロール状に巻き取られ、保存される。このような製造方法で得られた複層フィルム(A)10においては、非液晶性材料の層(A2)12の厚みのバラつきが小さく、また、非液晶性材料の層(A2)12のレターデーションが均一である。   The obtained multilayer film (A) 10 is usually wound into a roll and stored. In the multilayer film (A) 10 obtained by such a manufacturing method, the thickness variation of the layer (A2) 12 of the non-liquid crystal material is small, and the letter of the layer (A2) 12 of the non-liquid crystal material is small. The foundation is uniform.

[1.5.2.複層フィルム(b)の製造工程の例]
複層フィルム(B)は、通常、樹脂層(B2)及び固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)をこの順に備える複層フィルムを得る工程と、その複層フィルムを延伸する工程とを含む製造方法により、製造しうる。中でも、樹脂層(B2)、固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)及び樹脂層(B2)をこの順に備える複層フィルム(b)を製造し、その複層フィルム(b)を延伸した後で、延伸した複層フィルム(b)から、片方の樹脂層(B2)を剥離して複層フィルム(B)を得ることが好ましい。固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)は一般に機械的強度が弱いが、非液晶性材料の層(B1)の両面を樹脂層(B2)で覆うことにより、延伸時の非液晶性材料の層(B1)の破損を確実に防止することができる。また、強度が高い樹脂層(B2)によって非液晶性材料の層(B1)を両側から挟みこむようにして保護できるので、非液晶性材料の層(B1)からのブリードアウトを効果的に防止できる。ここで非液晶性材料の層(B1)からのブリードアウトとは、非液晶性材料の層(B1)に含まれる一部の成分(例えば配合剤)が非液晶性材料の層(B1)の表面に染み出す現象をいう。
[1.5.2. Example of production process of multilayer film (b)]
The multilayer film (B) usually has a step of obtaining a multilayer film comprising a resin layer (B2) and a layer (B1) of a non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence in this order, and the multilayer film is stretched. It can manufacture by the manufacturing method including a process. Among them, a multilayer film (b) comprising a resin layer (B2), a non-liquid crystalline material layer (B1) having a negative intrinsic birefringence and a resin layer (B2) in this order is produced, and the multilayer film (b) After stretching the film, it is preferable to peel off one resin layer (B2) from the stretched multilayer film (b) to obtain a multilayer film (B). The layer (B1) of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence generally has a low mechanical strength. However, the both sides of the layer (B1) of the non-liquid crystalline material are covered with the resin layer (B2), so that Breakage of the liquid crystal material layer (B1) can be reliably prevented. Further, since the non-liquid crystalline material layer (B1) can be protected by being sandwiched from both sides by the high-strength resin layer (B2), bleeding out from the non-liquid crystalline material layer (B1) can be effectively prevented. Here, the bleed out from the non-liquid crystalline material layer (B1) means that a part of the components (for example, a compounding agent) contained in the non-liquid crystalline material layer (B1) is the non-liquid crystalline material layer (B1). A phenomenon that exudes to the surface.

図3は、複層フィルム(b)310を製造する製造装置300の例を模式的に示す概略図である。図3に示すように、複層フィルム(b)310を製造する場合には、フィルム成型部320と、延伸部330とを備える製造装置300を用いうる。   FIG. 3 is a schematic view schematically showing an example of a production apparatus 300 for producing the multilayer film (b) 310. As shown in FIG. 3, when the multilayer film (b) 310 is manufactured, a manufacturing apparatus 300 including a film molding unit 320 and a stretching unit 330 can be used.

フィルム成型部320は、樹脂層(B2)、固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)及び樹脂層(B2)をこの順に備える複層フィルム(b)を製造する装置である。製造方法としては、例えば、共押出Tダイ法、共押出インフレーション法、共押出ラミネーション法等の共押出成形法;ドライラミネーション等のフィルムラミネーション成形法;共流延法;及び樹脂フィルム表面に樹脂溶液をコーティングする等のコーティング成形法;などの方法が挙げられる。中でも、共押出成形法は、製造効率や、フィルムに溶剤などの揮発性成分を残留させないという観点から、好ましい。   The film molding unit 320 is an apparatus for manufacturing a multilayer film (b) including a resin layer (B2), a layer (B1) of a non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence, and a resin layer (B2) in this order. Production methods include, for example, coextrusion molding methods such as coextrusion T-die method, coextrusion inflation method and coextrusion lamination method; film lamination molding methods such as dry lamination; co-casting method; and resin solution on the resin film surface And the like, such as coating molding method such as coating. Among these methods, the coextrusion molding method is preferable from the viewpoint of manufacturing efficiency and preventing a volatile component such as a solvent from remaining in the film.

共押出成形法を採用する場合、複層フィルム(b)は、例えば、固有複屈折が負の非液晶性材料と樹脂層(B2)を形成する樹脂とを共押し出しすることにより得られる。共押出成形法には、例えば、共押出Tダイ法、共押出インフレーション法、共押出ラミネーション法等が挙げられるが、なかでも共押出Tダイ法が好ましい。また、共押出Tダイ法にはフィードブロック方式およびマルチマニホールド方式があるが、厚さのばらつきを少なくできる点でマルチマニホールド方式が特に好ましい。
図3においては、ダイ321から冷却ロール322上に材料を共押し出しすることにより、延伸前の複層フィルム(b)340を製造しているものとして説明する。
When employing the coextrusion molding method, the multilayer film (b) is obtained, for example, by coextruding a non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence and a resin that forms the resin layer (B2). Examples of the co-extrusion molding method include a co-extrusion T-die method, a co-extrusion inflation method, and a co-extrusion lamination method, and among them, the co-extrusion T-die method is preferable. Further, the coextrusion T-die method includes a feed block method and a multi-manifold method, but the multi-manifold method is particularly preferable in that variation in thickness can be reduced.
In FIG. 3, description will be made assuming that the multilayer film (b) 340 before stretching is manufactured by co-extruding the material from the die 321 onto the cooling roll 322.

延伸部330は、延伸前の複層フィルム(b)340を延伸しうる装置である。延伸前の複層フィルム(b)340が延伸されることにより、固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)にレターデーションが発現し、所望の複層フィルム(b)が得られるようになっている。このような延伸部330において行う延伸としては、例えば、ロール間の周速の差を利用してMD方向に一軸延伸する方法(縦一軸延伸);テンター延伸機を用いてTD方向に一軸延伸する方法(横一軸延伸);縦一軸延伸と横一軸延伸とを順に行う方法(逐次二軸延伸);縦一軸延伸と横一軸延伸を同時に行う方法(同時二軸延伸);MD方向に対して斜め方向に延伸する方法(斜め延伸);等を採用できる。ここで「斜め方向」とは、平行でもなく、直交でもない方向を意味する。   The stretching unit 330 is a device that can stretch the multilayer film (b) 340 before stretching. When the multilayer film (b) 340 before stretching is stretched, retardation is developed in the layer (B1) of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence, and a desired multilayer film (b) is obtained. It is like that. Examples of the stretching performed in the stretching unit 330 include a method of uniaxial stretching in the MD direction using a difference in peripheral speed between rolls (longitudinal uniaxial stretching); uniaxial stretching in the TD direction using a tenter stretching machine. Method (lateral uniaxial stretching); method of performing longitudinal uniaxial stretching and transverse uniaxial stretching in order (sequential biaxial stretching); method of performing longitudinal uniaxial stretching and transverse uniaxial stretching simultaneously (simultaneous biaxial stretching); oblique to the MD direction A method of stretching in the direction (oblique stretching) can be employed. Here, “oblique direction” means a direction that is neither parallel nor orthogonal.

このような製造装置300を用いて複層フィルム(b)を製造する場合、フィルム成型部320において、固有複屈折が負の非液晶性材料及び樹脂層(B2)を形成する樹脂を共押し出しする工程を行う。   When manufacturing a multilayer film (b) using such a manufacturing apparatus 300, the film forming part 320 coextrudes a non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence and a resin forming the resin layer (B2). Perform the process.

共押し出しを行う場合、ダイを有する押出機において、固有複屈折が負の非液晶性材料及び樹脂層(B2)を形成する樹脂の溶融温度は、これらの非液晶性材料及び樹脂のガラス転移温度よりも、80℃高い温度以上にすることが好ましく、100℃高い温度以上にすることがより好ましく、また、180℃高い温度以下にすることが好ましく、150℃高い温度以下にすることがより好ましい。押出機での溶融温度を前記範囲の下限値以上にすることにより樹脂の流動性を十分に高くでき、上限値以下とすることにより樹脂の劣化を防止できる。   In the case of coextrusion, in the extruder having a die, the melting temperature of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence and the resin forming the resin layer (B2) is the glass transition temperature of these non-liquid crystalline material and resin. It is preferable that the temperature is higher than 80 ° C, more preferably higher than 100 ° C, more preferably lower than 180 ° C, more preferably lower than 150 ° C. . By setting the melting temperature in the extruder to be equal to or higher than the lower limit of the above range, the fluidity of the resin can be sufficiently increased, and by setting the melting temperature to be equal to or lower than the upper limit, deterioration of the resin can be prevented.

共押し出しをすることにより、樹脂層(B2)、固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)及び樹脂層(B2)をこの順に備える延伸前の複層フィルム(b)340が得られる。得られた延伸前の複層フィルム(b)340において、固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)の厚みは、最終的に得られる積層体における非液晶性材料の層(B1)及び樹脂層(B2)の厚みの比率に応じて設定しうる。非液晶性材料の層(B1)の具体的な厚みは、十分なレターデーション及び機械的強度を得る観点から、好ましくは10μm以上、より好ましくは50μm以上であり、また、柔軟性及びハンドリング性を良好にする観点から、好ましくは800μm以下、より好ましくは600μm以下である。   By coextrusion, a multilayer film (b) 340 before stretching provided with a resin layer (B2), a layer (B1) of a non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence and a resin layer (B2) in this order is obtained. It is done. In the obtained multilayer film (b) 340 before stretching, the thickness of the non-liquid crystalline material layer (B1) having a negative intrinsic birefringence is the non-liquid crystalline material layer (B1) in the finally obtained laminate. ) And the thickness ratio of the resin layer (B2). The specific thickness of the layer (B1) of the non-liquid crystalline material is preferably 10 μm or more, more preferably 50 μm or more from the viewpoint of obtaining sufficient retardation and mechanical strength. From a viewpoint of making it favorable, Preferably it is 800 micrometers or less, More preferably, it is 600 micrometers or less.

また、延伸前の複層フィルム(b)340において、樹脂層(B2)の1層当たりの厚みは、機械的強度を十分に得る観点から、好ましくは5μm以上、より好ましくは10μm以上であり、また、柔軟性及びハンドリング性を良好にする観点から、好ましくは100μm以下、より好ましくは50μm以下である。   Further, in the multilayer film (b) 340 before stretching, the thickness per layer of the resin layer (B2) is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, from the viewpoint of obtaining sufficient mechanical strength. Moreover, from a viewpoint which makes a softness | flexibility and handling property favorable, Preferably it is 100 micrometers or less, More preferably, it is 50 micrometers or less.

さらに、延伸前の複層フィルム(b)340の全体の厚みは、好ましくは20μm以上、より好ましくは70μm以上であり、好ましくは1000μm以下、より好ましくは700μm以下である。前記範囲の下限値以上とすることにより、十分なレターデーション及び機械的強度を得ることができ、上限値以下とすることにより、可撓性及びハンドリング性を良好なものとすることができる。   Furthermore, the total thickness of the multilayer film (b) 340 before stretching is preferably 20 μm or more, more preferably 70 μm or more, preferably 1000 μm or less, more preferably 700 μm or less. By setting it to the lower limit value or more of the above range, sufficient retardation and mechanical strength can be obtained, and by setting it to the upper limit value or less, flexibility and handling properties can be improved.

得られた延伸前の複層フィルム(b)340は、延伸部330に送られる。延伸部330では、延伸前の複層フィルム(b)340を延伸する工程を行う。
延伸温度は、層(B1)を形成する固有複屈折が負の非液晶性材料のガラス転移温度Tg(B1)を用いて表すと、Tg(B1)−20℃以上であることが好ましく、Tg(B1)−15℃以上であることがより好ましく、Tg(B1)−13℃以上であることがさらに好ましい。また、Tg(B1)+20℃以下であることが好ましく、Tg(B1)+2℃以下であることがより好ましく、Tg(B1)−2℃以下であることがさらに好ましく、Tg(B1)−11℃以下であることが特に好ましい。
The obtained multilayer film (b) 340 before stretching is sent to the stretching section 330. In the extending | stretching part 330, the process of extending | stretching the multilayer film (b) 340 before extending | stretching is performed.
The stretching temperature is preferably Tg (B1) -20 ° C. or higher when expressed using the glass transition temperature Tg (B1) of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence forming the layer (B1). (B1) −15 ° C. or higher is more preferable, and Tg (B1) −13 ° C. or higher is further preferable. Further, it is preferably Tg (B1) + 20 ° C. or less, more preferably Tg (B1) + 2 ° C. or less, further preferably Tg (B1) −2 ° C. or less, and Tg (B1) -11. It is particularly preferable that the temperature is not higher than ° C.

延伸倍率は、好ましくは1.2倍以上、より好ましくは2.5倍以上であり、好ましくは6倍以下、より好ましくは5.0倍以下である。延伸倍率がこの範囲であると、厚さが薄く、所望のレターデーションを有する非液晶性材料の層(B1)が得られる。ここで、延伸の回数は、1回でもよく、2回以上であってもよい。   The draw ratio is preferably 1.2 times or more, more preferably 2.5 times or more, preferably 6 times or less, more preferably 5.0 times or less. When the draw ratio is within this range, a non-liquid crystalline material layer (B1) having a small thickness and a desired retardation can be obtained. Here, the number of stretching may be one time or two or more times.

前記の延伸により、固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)においてレターデーションが発現し、所望の光学特性を有する複層フィルム(b)310が得られる。この複層フィルム(b)310においては、固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)の面内の遅相軸は、通常、延伸部330で延伸された方向に垂直になる。   By the stretching, retardation is developed in the layer (B1) of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence, and a multilayer film (b) 310 having desired optical characteristics is obtained. In this multilayer film (b) 310, the in-plane slow axis of the layer (B 1) of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence is usually perpendicular to the direction stretched by the stretching portion 330.

また、この製造方法においては、上述した以外にも工程を行ってもよい。例えば、延伸前の複層フィルム(b)340に対して予熱処理を施してもよい。   Further, in this manufacturing method, steps other than those described above may be performed. For example, a preheat treatment may be performed on the multilayer film (b) 340 before stretching.

得られた複層フィルム(b)310は、通常、ロール状に巻き取られ、保存される。このような製造方法で得られた複層フィルム(b)310においては、非液晶性材料の層(B1)の機械的強度が低いが、樹脂層(B2)により保護されるため破損を生じにくくなっている。   The obtained multilayer film (b) 310 is usually wound into a roll and stored. In the multilayer film (b) 310 obtained by such a manufacturing method, the mechanical strength of the non-liquid crystalline material layer (B1) is low, but it is protected by the resin layer (B2), and is not easily damaged. It has become.

[1.5.3.貼り合せ工程の例]
図4は、複層フィルム(A)10と複層フィルム(B)20とを貼り合せて積層体100を製造する装置400の例を模式的に示す概略図である。図4に示すように、積層体100を製造する場合には、剥離部410、塗工部420、貼り合せ部430及び硬化処理部440を備える製造装置400を用いうる。
[1.5.3. Example of bonding process]
FIG. 4 is a schematic view schematically showing an example of an apparatus 400 for manufacturing the laminate 100 by laminating the multilayer film (A) 10 and the multilayer film (B) 20. As shown in FIG. 4, when manufacturing the laminated body 100, the manufacturing apparatus 400 provided with the peeling part 410, the coating part 420, the bonding part 430, and the hardening process part 440 can be used.

剥離部410は、図3に示したようにして延伸した複層フィルム(b)310から、片方の樹脂層(B2)450を剥離する装置である。片方の樹脂層(B2)450が剥離されることで、固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)の片方の面が露出し、非液晶性材料の層(B1)及び樹脂層(B2)を備える複層フィルム(B)20が得られるようになっている。   The peeling part 410 is an apparatus for peeling one resin layer (B2) 450 from the multilayer film (b) 310 stretched as shown in FIG. When one resin layer (B2) 450 is peeled, one surface of the non-liquid crystalline material layer (B1) having a negative intrinsic birefringence is exposed, and the non-liquid crystalline material layer (B1) and the resin layer are exposed. A multilayer film (B) 20 provided with (B2) is obtained.

塗工部420は、複層フィルム(B)20の、固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)の露出した面に、接着層を塗工しうる装置である。すなわち、塗工部420により、複層フィルム(B)の固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)の樹脂層(B2)とは反対側の面21Dに、接着剤460が塗工されうるようになっている。接着層の塗工方法としては、例えば、ロールコート法、カーテンコート法、スロットコート法などのダイコート法、スプレーコート法などを用いることができ、特に限定されない。   The coating unit 420 is a device that can apply an adhesive layer to the exposed surface of the layer (B1) of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence of the multilayer film (B) 20. That is, the coating part 420 applies the adhesive 460 to the surface 21D opposite to the resin layer (B2) of the layer (B1) of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence of the multilayer film (B). Can be crafted. Examples of the method for applying the adhesive layer include, but are not particularly limited to, a die coating method such as a roll coating method, a curtain coating method, and a slot coating method, a spray coating method, and the like.

貼り合せ部430は、複層フィルム(B)に形成された接着層と、複層フィルム(A)の固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)の基材(A1)とは反対側の面12Uとを貼り合わせうる装置である。貼り合せ部430による貼り合せ方法は、任意のラミネート手段により行なえる。ただし、貼合わせ時に混入する気泡を排除するように行うことが好ましい。例えば、図3に示すロールトゥロール法等の連続ラミネート処理では、例えば、(i)ラミロール431と対ロール432との間の挟圧力を上昇させる、(ii)ラミネート処理速度を低下させる、(iii)ラミロール431をゴム製とし、対ロール432を金属製とした場合、複層フィルム(B)20の総厚が複層フィルム(A)10の総厚より厚くなるように複層フィルム(A)10の基材(A1)を選択する、などの手法により、気泡の混入を抑制することができる。また、バッチラミネート処理では、例えば、(iv)面圧を上昇させる、(v)真空加圧する、などの手法を採用することで、気泡の混入を抑制することができる。   The bonding portion 430 includes an adhesive layer formed on the multilayer film (B) and a base material (A1) of the layer (A2) of the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence of the multilayer film (A). This is an apparatus capable of bonding the opposite surface 12U. The laminating method by the laminating unit 430 can be performed by any laminating means. However, it is preferable to eliminate the air bubbles mixed during the bonding. For example, in the continuous laminating process such as the roll-to-roll method shown in FIG. 3, for example, (i) increasing the clamping pressure between the lami roll 431 and the counter roll 432, (ii) decreasing the laminating process speed, (iii) ) When the lami roll 431 is made of rubber and the counter roll 432 is made of metal, the multilayer film (A) is so thick that the total thickness of the multilayer film (B) 20 is larger than the total thickness of the multilayer film (A) 10. The mixing of bubbles can be suppressed by a method such as selecting 10 base materials (A1). Further, in the batch laminating process, for example, by adopting a technique such as (iv) increasing the surface pressure or (v) applying a vacuum, it is possible to suppress the mixing of bubbles.

硬化処理部440は、接着層が含む接着剤を硬化させる処理を行いうる装置である。具体的な硬化処理は、用いる接着剤に応じて適切な処理を行いうる。例えば、紫外線等の活性エネルギー線硬化型の接着剤を用いた場合、その活性エネルギー線をTD方向に均一に照射しうる装置が挙げられる。具体的な装置としては、例えば紫外線の光源として、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプなどが挙げられる。   The curing processing unit 440 is a device that can perform a process of curing the adhesive included in the adhesive layer. The specific curing process can be performed appropriately according to the adhesive used. For example, when an active energy ray-curable adhesive such as ultraviolet rays is used, an apparatus that can uniformly irradiate the active energy rays in the TD direction can be used. Specific examples of the ultraviolet light source include a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a chemical lamp, a black light lamp, a microwave excitation mercury lamp, and a metal halide lamp.

このような製造装置400を用いて積層体100を製造する場合、長尺の複層フィルム(A)10及び複層フィルム(b)310を用いて、ロールトゥロール法による製造が可能である。例えば、複層フィルム(b)310のロールから複層フィルム(b)310を引き出し、引き出した複層フィルム(b)310を剥離部410に送る。   When manufacturing the laminated body 100 using such a manufacturing apparatus 400, manufacture by a roll toe roll method is possible using the elongate multilayer film (A) 10 and multilayer film (b) 310. For example, the multilayer film (b) 310 is pulled out from the roll of the multilayer film (b) 310, and the pulled multilayer film (b) 310 is sent to the peeling unit 410.

剥離部410では、複層フィルム(b)310から、片方の前記樹脂層(B2)450を剥離して、複層フィルム(B)20を得る工程を行う。得られた複層フィルム(B)20は、塗工部420に送られる。また、複層フィルム(b)310から剥離された樹脂層(B2)450は、通常、ロール状に巻き取られて回収される。   In the peeling part 410, the process which peels one said resin layer (B2) 450 from the multilayer film (b) 310, and obtains the multilayer film (B) 20 is performed. The obtained multilayer film (B) 20 is sent to the coating unit 420. Moreover, the resin layer (B2) 450 peeled from the multilayer film (b) 310 is usually wound up and collected in a roll shape.

塗工部420では、複層フィルム(B)20の固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)の樹脂層(B2)とは反対側の面21Dに、接着層を塗工する。すなわち、樹脂層(B2)450を剥離したことにより露出した固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)の面21Dに接着剤460を塗工し、未硬化状態の接着剤460の層として接着層を形成する。   In the coating part 420, an adhesive layer is applied to the surface 21D opposite to the resin layer (B2) of the layer (B1) of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence of the multilayer film (B) 20. . That is, the adhesive 460 is applied to the surface 21D of the layer (B1) of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence exposed by peeling off the resin layer (B2) 450, and the uncured adhesive 460 is removed. An adhesive layer is formed as a layer.

接着層を塗工された複層フィルム(B)20は、貼り合せ部430へと送られる。また、貼り合せ部430には、複層フィルム(A)10のロールから引き出された複層フィルム(A)10も送られてきている。貼り合せ部430では、これらの複層フィルム(A)10と複層フィルム(B)20とをラミロール431及び対ロール432とで挟み込むことにより、複層フィルム(B)20の固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)の面21Dに形成された接着層と、複層フィルム(A)10の固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)の基材(A1)とは反対側の面12Uとを貼り合せる。複層フィルム(B)20の固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)は機械的強度が弱いが、樹脂層(B2)により補強されているため、貼り合せの際に破損することはない。   The multilayer film (B) 20 coated with the adhesive layer is sent to the bonding portion 430. Further, the multilayer film (A) 10 drawn from the roll of the multilayer film (A) 10 has also been sent to the bonding portion 430. In the laminating portion 430, the multilayer film (B) 20 is sandwiched between the multilayer film (A) 10 and the multilayer film (B) 20 between the lami roll 431 and the counter roll 432, so that the intrinsic birefringence of the multilayer film (B) 20 is negative. The base layer (A1) of the non-liquid crystalline material layer (A2) having a positive intrinsic birefringence of the multilayer film (A) 10 and the adhesive layer formed on the surface 21D of the non-liquid crystalline material layer (B1) The opposite surface 12U is bonded. The layer (B1) of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence of the multilayer film (B) 20 has a low mechanical strength, but is reinforced by the resin layer (B2), and thus is damaged during bonding. There is nothing.

この際、複層フィルム(A)10において貼合面となる固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)の基材(A1)とは反対側の面12Uの算術平均粗さRaは、好ましくは0.001μm以上、より好ましくは0.005μm以上であり、好ましくは0.1μm以下、より好ましくは0.05μm以下である。非液晶性材料の層(A2)の面12Uの算術平均粗さRaを前記範囲の下限値以上とすることにより、搬送時の複層フィルム(A)とロールとのすべり性を良好にできる。また、上限値以下とすることにより、ヘイズを小さくできる。   At this time, the arithmetic average roughness Ra of the surface 12U on the side opposite to the base material (A1) of the layer (A2) of the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence serving as a bonding surface in the multilayer film (A) 10. Is preferably 0.001 μm or more, more preferably 0.005 μm or more, preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.05 μm or less. By setting the arithmetic average roughness Ra of the surface 12U of the layer (A2) of the non-liquid crystalline material to be equal to or higher than the lower limit of the above range, the slipping property between the multilayer film (A) and the roll during transportation can be improved. Moreover, haze can be made small by setting it as below an upper limit.

また、複層フィルム(B)において貼合面となる複層フィルム(B)20の固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)の樹脂層(B2)とは反対側の面21Dの算術平均粗さRaは、好ましくは0.0005μm以上、より好ましくは0.001μm以上であり、好ましくは0.1μm以下、より好ましくは0.05μm以下である。非液晶性材料の層(B1)の面21Dの算術平均粗さRaを前記範囲の下限値以上とすることにより、搬送時の複層フィルム(B)とロールとのすべり性を良好にできる。また、上限値以下とすることにより、ヘイズを小さくできる。   In addition, the surface 21D opposite to the resin layer (B2) of the layer (B1) of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence of the multilayer film (B) 20 serving as a bonding surface in the multilayer film (B). The arithmetic average roughness Ra is preferably 0.0005 μm or more, more preferably 0.001 μm or more, preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.05 μm or less. By setting the arithmetic average roughness Ra of the surface 21D of the layer (B1) of the non-liquid crystalline material to be equal to or higher than the lower limit of the above range, the slipping property between the multilayer film (B) and the roll during transportation can be improved. Moreover, haze can be made small by setting it as below an upper limit.

その後、接着層により貼り合せられた複層フィルム(A)10及び複層フィルム(B)20は、硬化処理部440に送られる。図4に示す例では、硬化処理部440では接着層に紫外線が照射されて、接着層の硬化処理が行われる。この際、紫外線の照射強度は、重合開始剤の活性化に有効な波長領域において、好ましくは50mW/cm以上、より好ましくは100mW/cm以上、特に好ましくは300mW/cm以上であり、好ましくは5000mW/cm以下、より好ましくは3000mW/cm以下、特に好ましくは2000mW/cm以下である。照射強度を前記範囲の下限値以上にすることにより、処理時間を短くでき、また、硬化反応を十分に進行させることができる。また、上限値以下とすることにより、例えば光源からの輻射熱、重合反応熱等の熱による接着層の黄変及び硬化収縮による接着力の低下を防止できる。また、照射時間は、硬化状況に応じて設定しうる。さらに、照射強度と照射時間との積として表される積算光量は、好ましくは10mJ/cm以上、より好ましくは100mJ/cm以上、特に好ましくは500mJ/cm以上であり、好ましくは5000mJ/cm以下、より好ましくは3000mJ/cm以下、特に好ましくは2000mJ/cm以下である。Thereafter, the multilayer film (A) 10 and the multilayer film (B) 20 bonded together by the adhesive layer are sent to the curing processing unit 440. In the example illustrated in FIG. 4, the curing processing unit 440 irradiates the adhesive layer with ultraviolet rays, and the adhesive layer is cured. At this time, the irradiation intensity of ultraviolet rays is preferably 50 mW / cm 2 or more, more preferably 100 mW / cm 2 or more, particularly preferably 300 mW / cm 2 or more in a wavelength region effective for activating the polymerization initiator. preferably 5000 mW / cm 2 or less, more preferably 3000 mW / cm 2 or less, particularly preferably 2000 mW / cm 2 or less. By making irradiation intensity more than the lower limit of the said range, processing time can be shortened and hardening reaction can fully advance. Moreover, by setting it as the upper limit value or less, for example, yellowing of the adhesive layer due to heat such as radiant heat from a light source or heat of polymerization reaction and a decrease in adhesive force due to curing shrinkage can be prevented. Further, the irradiation time can be set according to the curing state. Further, the integrated light amount expressed as the product of irradiation intensity and irradiation time is preferably 10 mJ / cm 2 or more, more preferably 100 mJ / cm 2 or more, particularly preferably 500 mJ / cm 2 or more, preferably 5000 mJ / cm 2 or less, more preferably 3000 mJ / cm 2 or less, particularly preferably 2000 mJ / cm 2 or less.

硬化処理により、接着層は硬化する。そのため、基材(A1)、固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)、接着層、固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)及び樹脂層(B2)をこの順に備える積層体100が得られる。
得られた積層体100は、通常、ロール状に巻き取られ、保存される。このように、上述した製造方法ではロールトゥロール法を用いて、長尺のフィルムによる製造ラインでMD方向に連続的に製造工程を行なうことが可能である。このため、積層体を製造する場合に、各工程の一部または全部をインラインで簡便且つ効率的に行なうことが可能である。したがって、積層体を安定して容易に製造することができる。
The adhesive layer is cured by the curing process. Therefore, the substrate (A1), the non-liquid crystalline material layer (A2) with positive intrinsic birefringence, the adhesive layer, the non-liquid crystalline material layer (B1) with negative intrinsic birefringence and the resin layer (B2) The laminated body 100 provided in order is obtained.
The obtained laminate 100 is usually wound into a roll and stored. Thus, in the manufacturing method mentioned above, it is possible to perform a manufacturing process continuously in MD direction by the production line by a long film using the roll toe roll method. For this reason, when manufacturing a laminated body, it is possible to perform a part or all of each process in-line simply and efficiently. Therefore, a laminated body can be manufactured stably and easily.

上述した製造方法は、更に任意の工程を含んでいてもよい。例えば、貼合面となる固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)の基材(A1)とは反対側の面12U、及び、固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)の樹脂層(B2)とは反対側の面21Dに、コロナ処理等の表面処理を施す工程を含んでいてもよい。これにより、複層フィルム(A)と複層フィルム(B)との接着力を高めることができる。   The manufacturing method described above may further include an optional step. For example, a non-liquid crystalline material layer 12A opposite to the base (A1) of the non-liquid crystalline material layer (A2) having a positive intrinsic birefringence as a bonding surface and a non-liquid crystalline material layer having a negative intrinsic birefringence. A step of performing a surface treatment such as a corona treatment on the surface 21D opposite to the resin layer (B2) of (B1) may be included. Thereby, the adhesive force of a multilayer film (A) and a multilayer film (B) can be improved.

また、上述した製造方法は、更に変更して実施してもよい。例えば、先に固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)の基材(A1)とは反対側の面12Uに接着層を塗工しておき、その接着層を、複層フィルム(B)20の固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)の樹脂層(B2)とは反対側の面21Dと貼り合せるようにしてもよい。すなわち、複層フィルム(A)の固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)の基材(A1)とは反対側の面12U、及び、複層フィルム(B)の前記固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)の樹脂層(B2)とは反対側の面21Dのうち、一方の面に接着層を塗工する工程と、接着層と、接着層を塗工されなかった他方の面とを貼り合せる工程とを含む製造方法を行う場合には、面12Uと面21Dのどちらに接着層を塗工しても構わない。   Moreover, you may implement the manufacturing method mentioned above further changing. For example, an adhesive layer is first applied to the surface 12U opposite to the base material (A1) of the layer (A2) of the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence, and the adhesive layer is formed into a multilayer film. (B) The surface 21D opposite to the resin layer (B2) of the layer (B1) of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence of 20 may be bonded. That is, the surface 12U opposite to the base material (A1) of the layer (A2) of the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence of the multilayer film (A) and the intrinsic complex of the multilayer film (B). A step of applying an adhesive layer to one surface of the surface 21D opposite to the resin layer (B2) of the non-liquid crystalline material layer (B1) having a negative refraction, an adhesive layer, and an adhesive layer are applied. When performing the manufacturing method including the step of bonding the other surface that has not been worked, the adhesive layer may be applied to either the surface 12U or the surface 21D.

さらに、例えば、上述した積層体は、共押し出しにより非液晶性材料の層(B1)及び樹脂層(B2)を1層ずつ有する複層フィルム(B)を直接に製造し、その複層フィルム(B)を接着層を介して複層フィルム(A)と貼り合せて製造してもよい。   Furthermore, for example, the laminate described above directly produces a multilayer film (B) having a non-liquid crystalline material layer (B1) and a resin layer (B2) one by one by coextrusion, and the multilayer film ( You may manufacture by bonding B) and a multilayer film (A) through an adhesive layer.

[2.位相差フィルム]
本発明の位相差フィルムは、上述した積層体から、基材(A1)及び樹脂層(B2)を剥離したものである。したがって、この位相差フィルムは、固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)、接着層及び固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)を、この順に備える。上述した積層体において、これらの固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)及び固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)は厚みが薄く、また、所望のレターデーションを面内で均一に有する。したがって、この積層体から得られる位相差フィルムは、所望の光学性能を有し、厚みが薄く、安定した製造が可能である。
[2. Retardation film]
The retardation film of the present invention is obtained by peeling the substrate (A1) and the resin layer (B2) from the above-described laminate. Therefore, the retardation film includes a non-liquid crystalline material layer (A2) having a positive intrinsic birefringence, an adhesive layer, and a non-liquid crystalline material layer (B1) having a negative intrinsic birefringence in this order. In the above-described laminate, the non-liquid crystalline material layer (A2) having a positive intrinsic birefringence and the non-liquid crystalline material layer (B1) having a negative intrinsic birefringence are thin and have a desired retardation. Uniformly in the plane. Therefore, the retardation film obtained from this laminate has desired optical performance, is thin, and can be stably manufactured.

位相差フィルムは、光学フィルムとして用いる観点から、その全光線透過率が85%以上であることが好ましく、92%以上であることがより好ましく、また、通常100%以下である。ここで、位相差フィルムの全光線透過率は、JIS K7361−1997に準拠して、日本電色工業社製「濁度計 NDH−300A」を用いて、5箇所測定し、それから求めた平均値である。   From the viewpoint of use as an optical film, the retardation film preferably has a total light transmittance of 85% or more, more preferably 92% or more, and usually 100% or less. Here, the total light transmittance of the retardation film was measured at five locations using “turbidimeter NDH-300A” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. in accordance with JIS K7361-1997, and the average value obtained therefrom. It is.

位相差フィルムのヘイズは、好ましくは1%以下、より好ましくは0.8%以下、特に好ましくは0.5%以下であり、また、通常0%以上である。ヘイズを低い値とすることにより、位相差フィルムを組み込んだ表示装置の表示画像の鮮明性を高めることができる。ここで、ヘイズは、JIS K7361−1997に準拠して、日本電色工業社製「濁度計 NDH−300A」を用いて、5箇所測定し、それから求めた平均値である。   The haze of the retardation film is preferably 1% or less, more preferably 0.8% or less, particularly preferably 0.5% or less, and usually 0% or more. By setting the haze to a low value, the sharpness of the display image of the display device incorporating the retardation film can be improved. Here, the haze is an average value obtained by measuring five points using a “turbidimeter NDH-300A” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. according to JIS K7361-1997.

位相差フィルムは、ΔYIが、5以下であることが好ましく、3以下であることがより好ましく、また、通常0以上である。このΔYIが上記範囲にあると、着色がなく視認性を良好にできる。ここで、ΔYIはASTM E313に準拠して、日本電飾工業社製「分光色差計 SE2000」を用いて同様の測定を5回行い、その算術平均値として求める。   In the retardation film, ΔYI is preferably 5 or less, more preferably 3 or less, and usually 0 or more. When this ΔYI is in the above range, there is no coloring and visibility can be improved. Here, ΔYI is obtained as an arithmetic average value by performing the same measurement five times using “Spectral Color Difference Meter SE2000” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. according to ASTM E313.

位相差フィルムの厚みは、通常5μm以上、好ましくは8μm以上、より好ましくは10μm以上であり、通常500μm以下、好ましくは80μm以下、より好ましくは50μm以下、特に好ましくは20μm以下である。   The thickness of the retardation film is usually 5 μm or more, preferably 8 μm or more, more preferably 10 μm or more, and usually 500 μm or less, preferably 80 μm or less, more preferably 50 μm or less, and particularly preferably 20 μm or less.

[3.偏光板]
図5は、本発明の一実施形態に係る偏光板を、その主面に対して垂直な平面で切った断面を模式的に示す図である。図5に示すように、偏光板500は、偏光子510と、前記の位相差フィルム520とを備える。この偏光板500の基本的な構成は、偏光子510の片側又は両側に、必要に応じて接着層又は粘着層530を介して、保護層となる本発明の位相差フィルム520を接着したものである。この際、位相差フィルム520の向きは任意であり、図5に示すように位相差フィルム520を固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)12側で偏光子510と貼り合せてもよく、また逆向きで、固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)21側で偏光子510と貼り合せてもよい。
[3. Polarizer]
FIG. 5 is a diagram schematically showing a cross section of the polarizing plate according to one embodiment of the present invention, taken along a plane perpendicular to the main surface. As shown in FIG. 5, the polarizing plate 500 includes a polarizer 510 and the retardation film 520. The basic structure of the polarizing plate 500 is obtained by bonding the retardation film 520 of the present invention serving as a protective layer to one or both sides of the polarizer 510 through an adhesive layer or an adhesive layer 530 as necessary. is there. At this time, the direction of the retardation film 520 is arbitrary, and as shown in FIG. 5, the retardation film 520 is bonded to the polarizer 510 on the non-liquid crystalline material layer (A2) 12 side having a positive intrinsic birefringence. Alternatively, it may be bonded to the polarizer 510 on the side of the layer (B1) 21 of the non-liquid crystalline material which is opposite and has a negative intrinsic birefringence.

偏光子としては、例えば、ポリビニルアルコール、部分ホルマール化ポリビニルアルコール等の適切なビニルアルコール系重合体のフィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質による染色処理、延伸処理、架橋処理等の適切な処理を適切な順序及び方式で施したものが挙げられる。このような偏光子は、自然光を入射させると直線偏光を透過させうるものであり、特に、光透過率及び偏光度に優れるものが好ましい。偏光子の厚さは、5μm〜80μmが一般的であるが、これに限定されない。   Examples of the polarizer include, for example, an appropriate vinyl alcohol polymer film such as polyvinyl alcohol and partially formalized polyvinyl alcohol, a dyeing treatment with a dichroic substance such as iodine or a dichroic dye, a stretching treatment, a crosslinking treatment, and the like. Are applied in an appropriate order and manner. Such a polarizer is capable of transmitting linearly polarized light when natural light is incident thereon, and in particular, a polarizer excellent in light transmittance and degree of polarization is preferable. The thickness of the polarizer is generally 5 μm to 80 μm, but is not limited thereto.

偏光子の少なくとも片側には本発明の位相差フィルムを接着させるが、もう片方には、任意の保護層を設けてもよい。保護層としては、任意の透明フィルムを用いうる。中でも、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性等に優れる樹脂のフィルムが好ましい。そのような樹脂としては、トリアセチルセルロース等のアセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、脂環式構造を有する重合体樹脂、アクリル系樹脂等が挙げられる。中でも、複屈折が小さい点でアセテート系樹脂、脂環式構造を有する重合体樹脂、アクリル系樹脂が好ましく、透明性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などの観点から、脂環式構造を有する重合体樹脂が特に好ましい。保護層の厚みは、偏光板の薄型化の観点から、好ましくは500μm以下、より好ましくは300μm以下、特に好ましくは150μm以下であり、通常5μm以上である。   The retardation film of the present invention is adhered to at least one side of the polarizer, but an optional protective layer may be provided on the other side. Any transparent film can be used as the protective layer. Among these, a resin film excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture shielding properties and the like is preferable. Examples of such resins include acetate resins such as triacetyl cellulose, polyester resins, polyethersulfone resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyimide resins, polyolefin resins, and polymers having an alicyclic structure. Examples thereof include resins and acrylic resins. Among them, an acetate resin, a polymer resin having an alicyclic structure, and an acrylic resin are preferable in terms of low birefringence. From the viewpoint of transparency, low hygroscopicity, dimensional stability, lightness, and the like, an alicyclic structure is preferable. Particularly preferred are polymer resins having The thickness of the protective layer is preferably 500 μm or less, more preferably 300 μm or less, particularly preferably 150 μm or less, and usually 5 μm or more, from the viewpoint of thinning the polarizing plate.

接着層又は粘着層としては、任意の接着剤又は粘着剤の層を用いうる。接着剤又は粘着剤としては、例えば、アクリル系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系、ゴム系等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性や透明性等の観点から、アクリル系のものが好ましい。   Any adhesive or pressure-sensitive adhesive layer can be used as the adhesive layer or the pressure-sensitive adhesive layer. Examples of the adhesive or pressure-sensitive adhesive include acrylic, silicone, polyester, polyurethane, polyether, rubber, and the like. Among these, an acrylic type is preferable from the viewpoint of heat resistance and transparency.

また、偏光板において、位相差フィルムの面内の遅相軸と偏光子の透過軸とは、通常、平行若しくは直交するようにする。   In the polarizing plate, the slow axis in the plane of the retardation film and the transmission axis of the polarizer are usually parallel or orthogonal.

偏光板の厚み(保護層、偏光子、接着層、正の固有複屈折を有する非液晶性材料層(A2)、接着層、負の固有複屈折を有する非液晶性材料層(B1)をこの順に備える偏光板の厚み)は、好ましくは70μm以上、より好ましくは80μm以上、特に好ましくは90μm以上であり、好ましくは150μm以下、より好ましくは140μm以下、特に好ましくは120μm以下である。本発明の位相差フィルムを用いることにより、このように薄い偏光板を実現することができる。   The thickness of the polarizing plate (the protective layer, the polarizer, the adhesive layer, the non-liquid crystalline material layer (A2) having positive intrinsic birefringence, the adhesive layer, the non-liquid crystalline material layer (B1) having negative intrinsic birefringence) The thickness of the polarizing plate provided in order is preferably 70 μm or more, more preferably 80 μm or more, particularly preferably 90 μm or more, preferably 150 μm or less, more preferably 140 μm or less, and particularly preferably 120 μm or less. By using the retardation film of the present invention, such a thin polarizing plate can be realized.

このような偏光板は、例えば、本発明の積層体から基材(A1)又は樹脂層(B2)を剥がし、それにより露出した固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)の面又は固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)の面に偏光子を貼り合わせ、必要に応じて不要な層を更に剥がすことで容易に製造できる。貼り合わせは、所望の大きさに切り出したフィルムをバッチで貼り合せてもよく、長尺状のフィルムによりロールトゥロール法で貼り合せてもよい。   Such a polarizing plate, for example, peels off the base material (A1) or the resin layer (B2) from the laminate of the present invention, and thereby the surface of the layer (A2) of the non-liquid crystalline material having positive intrinsic birefringence exposed Or it can manufacture easily by sticking a polarizer on the surface of the layer (B1) of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence, and further peeling off unnecessary layers as necessary. Bonding may be performed by batch-bonding films cut to a desired size, or by a roll-to-roll method using a long film.

[4.液晶パネル]
図6は、本発明の一実施形態に係る液晶パネルを、その主面に対して垂直な平面で切った断面を模式的に示す図である。図6に示すように、液晶パネル600は、液晶セル610と、前記の偏光板500とを備える。この際、偏光板500の向きは任意であり、図6に示すように偏光子510と液晶セル610の間に位相差フィルム520が設けられるようにしてもよい。
[4. LCD panel]
FIG. 6 is a diagram schematically showing a cross section of the liquid crystal panel according to one embodiment of the present invention, taken along a plane perpendicular to the main surface. As shown in FIG. 6, the liquid crystal panel 600 includes a liquid crystal cell 610 and the polarizing plate 500. At this time, the orientation of the polarizing plate 500 is arbitrary, and a retardation film 520 may be provided between the polarizer 510 and the liquid crystal cell 610 as shown in FIG.

液晶セルとしては、インプレーンスイッチング(IPS)型、バーチカルアラインメント(VA)型、マルチドメインバーチカルアラインメント(MVA)型、コンティニュアスピンホイールアラインメント(CPA)型、ツイステッドネマチック(TN)型、スーパーツイステッドネマチック(STN)型、ハイブリッドアラインメントネマチック(HAN)型、オプチカルコンペンセイテッドベンド(OCB)型などを挙げることができる。これらの中でも、IPS型の液晶セルに特に好適に適用することができる。   Liquid crystal cells include in-plane switching (IPS) type, vertical alignment (VA) type, multi-domain vertical alignment (MVA) type, continuous spin wheel alignment (CPA) type, twisted nematic (TN) type, super twisted nematic ( STN) type, hybrid alignment nematic (HAN) type, optical compensated bend (OCB) type, and the like. Among these, it can be particularly preferably applied to an IPS type liquid crystal cell.

一般に、ISP型の液晶セルは、水平方向にホモジニアスな配向をした液晶分子を含む液晶層を備える。また、このようなIPS型の液晶セルを備えたIPS型液晶パネルは、通常、透過軸が画面正面に対して上下と左右の方向を指して垂直の位置関係にある2枚の偏光子を備える。したがって、IPS型液晶パネルの画面を上下左右の方向から斜めに見るときには、偏光子の2本の透過軸は直交して見える位置関係にあるので、ホモジニアスな配向を有する液晶層は例えばツイステッド型の液晶セルで生ずるような複屈折が少なくなり、十分なコントラストが得られる。他方、偏光子の透過軸に対して方位角45°の方向から画面を斜めに見るときには、見かけ上、2枚の偏光子の透過軸のなす角度が90°からずれる位置関係となる。そのため、従来は、直線偏光が完全に遮断されずに光洩れが発生し、十分な黒が得られず、コントラストが低下していた。   In general, an ISP liquid crystal cell includes a liquid crystal layer including liquid crystal molecules that are homogeneously aligned in the horizontal direction. In addition, an IPS liquid crystal panel including such an IPS liquid crystal cell generally includes two polarizers whose transmission axes point vertically and horizontally with respect to the front of the screen. . Therefore, when the screen of the IPS liquid crystal panel is viewed obliquely from the top, bottom, left, and right directions, the two transmission axes of the polarizer are in a positional relationship that they appear to be orthogonal, so a liquid crystal layer having a homogeneous orientation is, for example, a twisted Birefringence generated in the liquid crystal cell is reduced, and sufficient contrast can be obtained. On the other hand, when the screen is viewed obliquely from a direction having an azimuth angle of 45 ° with respect to the transmission axis of the polarizer, the angle formed by the transmission axes of the two polarizers is apparently shifted from 90 °. Therefore, conventionally, linearly polarized light is not completely blocked, light leakage occurs, and sufficient black cannot be obtained, resulting in a decrease in contrast.

これに対し、IPS型液晶パネルにおいて、光学補償フィルムとして本発明の位相差フィルムを設けることにより、液晶セル中の液晶により生じるレターデーションの補償と、2枚の偏光子の透過軸の直交配置の補償を行うことができる。そのため、透過光に生ずる複屈折を効果的に補償して光の洩れを防ぎ、全方位角において高いコントラストを得ることができる。この効果は、他の型の液晶パネルにおいても同様に得られると考えられるが、特にIPS型において効果が顕著である。   In contrast, in the IPS liquid crystal panel, by providing the retardation film of the present invention as an optical compensation film, compensation of retardation caused by the liquid crystal in the liquid crystal cell and orthogonal arrangement of the transmission axes of the two polarizers are achieved. Compensation can be performed. Therefore, it is possible to effectively compensate for the birefringence generated in the transmitted light to prevent light leakage and to obtain high contrast at all azimuth angles. This effect is considered to be obtained in other types of liquid crystal panels as well, but the effect is particularly remarkable in the IPS type.

本発明の位相差フィルムは、偏光子を液晶セルの片側又は両側に配置してなる透過型や反射型、あるいは透過・反射両用型等の任意の構造を有する液晶パネルに適用できる。また、この液晶パネルを、例えばプリズムアレイシート、レンズアレイシート、光拡散板、バックライト、輝度向上フィルム等の部品と組み合わせて、液晶表示装置を構成することができる。   The retardation film of the present invention can be applied to a liquid crystal panel having an arbitrary structure such as a transmission type, a reflection type, or a transmission / reflection type in which a polarizer is disposed on one side or both sides of a liquid crystal cell. In addition, a liquid crystal display device can be configured by combining the liquid crystal panel with components such as a prism array sheet, a lens array sheet, a light diffusion plate, a backlight, and a brightness enhancement film.

以下、実施例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明は以下に説明する実施例に限定されるものではなく、本発明の請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施してもよい。
以下の説明において、量を表す「%」及び「部」は、別に断らない限り重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温及び常圧の条件において行った。さらに、二種三層の共押出成形とは、2種類の樹脂を共押し出しして、3つの層を有する複層フィルムを製造することをいう。また、表面粗さRaは、JIS B0601−1994に規定された算術平均粗さを表す。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. However, the present invention is not limited to the examples described below, and is within the scope of the claims of the present invention and the equivalents thereof. You may carry out by changing arbitrarily.
In the following description, “%” and “part” representing amounts are based on weight unless otherwise specified. In addition, the operations described below were performed under normal temperature and normal pressure conditions unless otherwise specified. Furthermore, co-extrusion molding of two types and three layers refers to producing a multilayer film having three layers by co-extrusion of two types of resins. The surface roughness Ra represents the arithmetic average roughness specified in JIS B0601-1994.

[測定方法]
〔レターデーションの測定方法〕
フィルムの各層の面内方向のレターデーション及び厚み方向のレターデーションは、自動複屈折計(王子計測機器「KOBRA−21ADH」)を用いて、波長550nmで測定した。測定は、フィルムの幅方向における中心付近5点で行い、その平均値を測定値とした。
固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)については、次の方法で測定を行った。複層フィルム(B)から樹脂層(B2)を剥離して、固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)を得た。こうして得られた固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)単体で測定した値を、測定値とした。
また、固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)については、次の方法で測定を行った。複層フィルム(A)の固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)側を、ガラス基板上に粘着層を介して貼り付け、基材(A1)を剥がした。これにより、ガラス基板/粘着層/固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)の複合体を、サンプルとして用意した。このサンプルで測定した値を、測定値とした。
[Measuring method]
[Measurement method of retardation]
The retardation in the in-plane direction and the thickness direction of each layer of the film were measured at a wavelength of 550 nm using an automatic birefringence meter (Oji Scientific Instruments “KOBRA-21ADH”). The measurement was performed at five points near the center in the width direction of the film, and the average value was taken as the measurement value.
The layer (B1) of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence was measured by the following method. The resin layer (B2) was peeled from the multilayer film (B) to obtain a non-liquid crystalline material layer (B1) having a negative intrinsic birefringence. The value obtained by measuring the layer (B1) of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence obtained in this manner was taken as the measured value.
Further, the layer (A2) of the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence was measured by the following method. The layer (A2) side of the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence of the multilayer film (A) was attached to the glass substrate via an adhesive layer, and the base material (A1) was peeled off. Thus, a composite of glass substrate / adhesive layer / non-liquid crystalline material layer (A2) having a positive intrinsic birefringence was prepared as a sample. The value measured with this sample was taken as the measured value.

〔剥離力の測定方法〕
剥離力は、JIS K6853−2に準拠し、剥離速度100mm/min、サンプル幅20mmにて測定した。
[Method of measuring peel force]
The peeling force was measured at a peeling speed of 100 mm / min and a sample width of 20 mm in accordance with JIS K6855-2.

〔引っ張り破断伸度〕
引っ張り破断伸度は、JIS K7162に準拠し、試験片はJIS K7127−1Bに準拠して作製した。引っ張り速度は5mm/minとして測定した。
(Tensile elongation at break)
The tensile breaking elongation was based on JIS K7162, and the test piece was prepared based on JIS K7127-1B. The tensile speed was measured as 5 mm / min.

[実施例1]
[1.1.層(B1)及び層(B2)を備える複層フィルムの製造]
(樹脂の用意)
非晶質のポリスチレン(PSジャパン社製「HH102」)70部と、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレンオキサイド)(アルドリッチ社製)30部とを、2軸押出機で混錬し、透明な熱可塑性の樹脂(X)のペレットを作製した。この樹脂(X)は、固有複屈折が負の非液晶性材料である。樹脂(X)のガラス転移温度は134℃であった。
[Example 1]
[1.1. Production of multilayer film comprising layer (B1) and layer (B2)]
(Preparation of resin)
70 parts of amorphous polystyrene (“HH102” manufactured by PS Japan Co., Ltd.) and 30 parts of poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene oxide) (manufactured by Aldrich) were kneaded with a twin screw extruder. Then, a transparent thermoplastic resin (X) pellet was produced. This resin (X) is a non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence. The glass transition temperature of resin (X) was 134 ° C.

熱可塑性樹脂(Y)として、ポリメチルメタクリレート及びゴム粒子を含むメタクリル樹脂(ガラス転移温度105℃)のペレットを、フィルム成型装置の一方の一軸押出機に投入して、溶融させた。
また、前記の樹脂(X)のペレットを、フィルム成型装置の他方の一軸押出機に投入して、溶融させた。
As a thermoplastic resin (Y), pellets of methacrylic resin (glass transition temperature 105 ° C.) containing polymethyl methacrylate and rubber particles were put into one uniaxial extruder of a film molding apparatus and melted.
The resin (X) pellets were charged into the other uniaxial extruder of the film molding apparatus and melted.

(共押出工程)
二種三層の共押出成形用のフィルム成形装置を準備した。
溶融された熱可塑性樹脂(Y)を、目開き10μmのリーフディスク形状のポリマーフィルターを通して、フィルム成型装置のマルチマニホールドダイ(ダイスリップの表面粗さRa=0.1μm)の一方のマニホールドに供給した。
また、溶融された樹脂(X)を、目開き10μmのリーフディスク形状のポリマーフィルターを通して、フィルム成型装置の他方のマニホールドに供給した。
(Co-extrusion process)
A film forming apparatus for coextrusion molding of two types and three layers was prepared.
The molten thermoplastic resin (Y) was supplied to one manifold of a multi-manifold die (die slip surface roughness Ra = 0.1 μm) of a film forming apparatus through a leaf disk-shaped polymer filter having an opening of 10 μm. .
In addition, the melted resin (X) was supplied to the other manifold of the film forming apparatus through a leaf disk-shaped polymer filter having an opening of 10 μm.

熱可塑性樹脂(Y)と樹脂(X)とを、所望の厚みの樹脂層が得られるように押出し条件を調整しながら、前記マルチマニホールドダイから260℃で同時に押し出して、熱可塑性樹脂(Y)の層(B2)/樹脂(X)の層(B1)/熱可塑性樹脂(Y)の層(B2)の3層構成のフィルム状に成形した。このようにフィルム状に共押し出しされた溶融樹脂を、表面温度115℃に調整された冷却ロールにキャストし、次いで表面温度120℃に調整された2本の冷却ロール間に通した。これにより、熱可塑性樹脂(Y)の層(B2)と、固有複屈折が負の非液晶性材料としての樹脂(X)の層(B1)と、熱可塑性樹脂(Y)の層(B2)とをこの順に備えた3層構造の複層フィルム(b)を得た。   The thermoplastic resin (Y) and the resin (X) are simultaneously extruded from the multi-manifold die at 260 ° C. while adjusting the extrusion conditions so that a resin layer having a desired thickness is obtained. The film was formed into a film having a three-layer structure of layer (B2) / layer (B1) of resin (X) / layer (B2) of thermoplastic resin (Y). The molten resin coextruded in the form of a film in this way was cast on a cooling roll adjusted to a surface temperature of 115 ° C., and then passed between two cooling rolls adjusted to a surface temperature of 120 ° C. Thereby, the layer (B2) of the thermoplastic resin (Y), the layer (B1) of the resin (X) as a non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence, and the layer (B2) of the thermoplastic resin (Y) A multilayer film (b) having a three-layer structure provided in this order was obtained.

(延伸工程)
次いで、延伸によりTD方向に平行な面内遅相軸が得られるように、複層フィルム(b)を引き取り張力とテンターチェーン張力を調整しながらテンター延伸機を用いて縦方向に1.8倍、横方向に1.1倍に同時二軸延伸した。延伸時の温度は、固有複屈折が負の非液晶性材料としての樹脂(X)のガラス転移温度より3℃低い温度である131℃にした。
(Stretching process)
Next, the multi-layer film (b) is pulled up by 1.8 times in the longitudinal direction using a tenter stretching machine while adjusting the tension and the tenter chain tension so that an in-plane slow axis parallel to the TD direction can be obtained by stretching. The film was biaxially stretched 1.1 times in the transverse direction. The temperature during stretching was 131 ° C., which is 3 ° C. lower than the glass transition temperature of the resin (X) as a non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence.

こうして延伸した複層フィルム(b)の各層の厚み、面内方向のレターデーションRe及び厚み方向のレターデーションRthを測定した。結果を表1に示す。   The thickness of each layer of the thus stretched multilayer film (b), the in-plane direction retardation Re and the thickness direction retardation Rth were measured. The results are shown in Table 1.

Figure 2014065294
Figure 2014065294

[1.2.複層フィルム(A)の製造]
固有複屈折が正の非液晶性材料としてのポリカーボネート樹脂(三菱ガス化学社製「ユピゼータPCZ200」;ガラス転移温度137℃)100部と、トルエン400部とを混合して、樹脂溶液を得た。
[1.2. Production of multilayer film (A)]
100 parts of a polycarbonate resin (“Iupizeta PCZ200” manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd .; glass transition temperature of 137 ° C.) as a non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence was mixed with 400 parts of toluene to obtain a resin solution.

脂環式構造を有する重合体樹脂としてのノルボルネン系樹脂で形成された基材フィルム(A1)(日本ゼオン社製「ゼオノアフィルム」、厚み80μm、ガラス転移温度138℃)上に、前記の樹脂溶液を、乾燥膜厚が6μmとなるように塗工して、樹脂溶液の膜を形成した。この樹脂溶液の膜を80℃で2分間乾燥して、基材フィルム(A1)及びポリカーボネート樹脂層(A2)を備える複層フィルム(a)を得た。   On the base film (A1) (“Zeonor film” manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., thickness 80 μm, glass transition temperature 138 ° C.) formed of a norbornene-based resin as a polymer resin having an alicyclic structure Was applied so that the dry film thickness was 6 μm to form a resin solution film. The membrane of this resin solution was dried at 80 ° C. for 2 minutes to obtain a multilayer film (a) comprising a base film (A1) and a polycarbonate resin layer (A2).

前記の複層フィルム(a)を、テンター延伸機で、延伸温度145℃で、TD方向に延伸倍率2.7倍で延伸した。これにより、基材フィルム(A1)/ポリカーボネート樹脂層(A2)の2層構成の複層フィルム(A)を得た。この時、ポリカーボネート樹脂層(A2)層の膜厚は5μmであった。   The multilayer film (a) was stretched by a tenter stretching machine at a stretching temperature of 145 ° C. and a stretching ratio of 2.7 times in the TD direction. This obtained the multilayer film (A) of the 2 layer structure of base film (A1) / polycarbonate resin layer (A2). At this time, the thickness of the polycarbonate resin layer (A2) layer was 5 μm.

[1.3.貼り合せ]
前記の層(B2)/層(B1)/層(B2)の3層構成の複層フィルムから、片方の層(B2)を剥離して、層(B1)及び層(B2)を備える複層フィルム(B)を得た。片方の層(B2)を剥離したことによって露出した層(B1)の表面に、コロナ処理(塗れ指数56dyne/cm)を施した。このコロナ処理を施した層(B1)の表面に、活性エネルギー線硬化型の接着剤(東亞合成社製「アロニックスM−6100」)を厚み5μmで塗工して、接着層を形成した。
[1.3. Lamination]
One layer (B2) is peeled from the multilayer film having a three-layer structure of layer (B2) / layer (B1) / layer (B2), and a multilayer having layers (B1) and (B2) is provided. A film (B) was obtained. The surface of the layer (B1) exposed by peeling off one of the layers (B2) was subjected to corona treatment (paint index 56 dyne / cm). An active energy ray-curable adhesive (“Aronix M-6100” manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was applied to the surface of the layer (B1) subjected to the corona treatment with a thickness of 5 μm to form an adhesive layer.

他方、複層フィルム(A)のポリカーボネート樹脂層(A2)の表面に、コロナ処理(塗れ指数56dyne/cm)を施した。このコロナ処理を施したポリカーボネート樹脂層(A2)の表面と、上記接着層とを貼り合わせた。この貼り合せの際には、ポリカーボネート樹脂層(A2)の面内遅相軸と、樹脂(X)の層(B1)の面内遅相軸とが平行になるようにした。平行とすることで、必然的にRoll to Rollでの貼り合わせが可能となる。   On the other hand, the surface of the polycarbonate resin layer (A2) of the multilayer film (A) was subjected to corona treatment (painting index 56 dyne / cm). The surface of the polycarbonate resin layer (A2) subjected to this corona treatment was bonded to the adhesive layer. In this bonding, the in-plane slow axis of the polycarbonate resin layer (A2) and the in-plane slow axis of the resin (X) layer (B1) were made parallel. By making them parallel, it is inevitably possible to perform roll-to-roll bonding.

貼り合わせの後で、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムズジャパン社製、コンベヤUV、積算光量350mJ/cm)により、層(B2)側の面に紫外線を照射することにより、層(B2)及び層(B1)を介して接着層に紫外線を照射した。これにより接着層が硬化して、基材フィルム(A1)、ポリカーボネート樹脂層(A2)、接着層、樹脂(X)の層(B1)及び熱可塑性樹脂(Y)の層(B2)をこの順に備える積層体を得た。After the bonding, the layer (B2) and the layer are irradiated by irradiating the surface on the layer (B2) side with an ultraviolet irradiation device (Conveyor UV, manufactured by Fusion UV Systems Japan Co., Ltd., integrated light quantity 350 mJ / cm 2 ). The adhesive layer was irradiated with ultraviolet rays via (B1). Thereby, the adhesive layer is cured, and the base film (A1), the polycarbonate resin layer (A2), the adhesive layer, the resin (X) layer (B1), and the thermoplastic resin (Y) layer (B2) are arranged in this order. The laminated body provided was obtained.

[1.4.偏光板の製造]
製造した積層体から、基材フィルム(A1)を剥離した。基材フィルム(A1)を剥離することにより露出したポリカーボネート樹脂層(A2)の表面に、コロナ処理(塗れ指数56dyne/cm)を施した。このコロナ処理を施したポリカーボネート樹脂層(A2)の表面の端部に、水系接着剤を乾燥膜厚0.1μmとなるように塗工した。この水系接着剤は、日本合成株式会社製「ゴーセファイマーZ−200」100部及びグリオキザールGX1部を純水4949部に溶解した水溶液である。ハードコート付トリアセチルセルロース層(厚み50μm)と偏光子(厚み25μm)とを備えるフィルムを用意し、このフィルムの偏光子の表面とポリカーボネート樹脂層(A2)の表面とが向き合うように配置して、ラミネーターで貼り合わせた。貼り合せの際、ポリカーボネート樹脂層(A2)、接着層、樹脂(X)の層(B1)及び熱可塑性樹脂(Y)の層(B2)をこの順に備える積層体の面内遅相軸は、偏光子の透過軸と平行になるようにした。その後、熱可塑性樹脂(Y)の層(B2)を剥離して、トリアセチルセルロース層、偏光子、接着層、ポリカーボネート樹脂層(A2)、接着層、及び樹脂(X)の層(B1)をこの順に備える偏光板を得た。得られた偏光板の厚みは、96μmであった。
[1.4. Production of polarizing plate]
The base film (A1) was peeled from the produced laminate. The surface of the polycarbonate resin layer (A2) exposed by peeling off the base film (A1) was subjected to corona treatment (paint index 56 dyne / cm). A water-based adhesive was applied to the edge of the surface of the polycarbonate resin layer (A2) subjected to the corona treatment so as to have a dry film thickness of 0.1 μm. This water-based adhesive is an aqueous solution in which 100 parts of “Gosefimer Z-200” manufactured by Nihon Gosei Co., Ltd. and 1 part of glyoxal GX are dissolved in 4949 parts of pure water. A film comprising a triacetylcellulose layer with a hard coat (thickness 50 μm) and a polarizer (thickness 25 μm) is prepared, and the surface of the polarizer of this film and the surface of the polycarbonate resin layer (A2) are arranged to face each other. And laminated with a laminator. When laminating, the in-plane slow axis of the laminate comprising the polycarbonate resin layer (A2), the adhesive layer, the resin (X) layer (B1) and the thermoplastic resin (Y) layer (B2) in this order is: It was made to be parallel to the transmission axis of the polarizer. Thereafter, the thermoplastic resin (Y) layer (B2) is peeled off, and the triacetylcellulose layer, the polarizer, the adhesive layer, the polycarbonate resin layer (A2), the adhesive layer, and the resin (X) layer (B1) are peeled off. A polarizing plate provided in this order was obtained. The obtained polarizing plate had a thickness of 96 μm.

[1.5.IPS液晶パネルの製造]
市販のIPSモード液晶表示装置のIPS液晶パネルから、出射側偏光板を剥離した。IPS液晶パネルの出射側偏光板を剥離した面に、前記の層(B2)を剥離した偏光板を貼り合わせた。貼り合せの際には、偏光板の樹脂(X)の層(B1)の表面が液晶セルに向き合うようにした。また、貼り合せる偏光板の透過軸と、IPS液晶パネルの入射側偏光板の透過軸とがクロスニコルとなるようにした。さらに、貼り合せは、粘着層(リンテック社製「MO−T006C」、厚み25μm)を用いて行った。これにより、入射側偏光板、IPS型の液晶セル、粘着層、樹脂(X)の層(B1)、接着層、ポリカーボネート樹脂層(A2)、接着層、偏光子及びトリアセチルセルロース層をこの順に備えるIPS液晶パネルを有する液晶表示装置を得た。
[1.5. Manufacture of IPS liquid crystal panel]
The exit side polarizing plate was peeled from the IPS liquid crystal panel of a commercially available IPS mode liquid crystal display device. The polarizing plate from which the layer (B2) was peeled was bonded to the surface of the IPS liquid crystal panel from which the outgoing-side polarizing plate was peeled. At the time of bonding, the surface of the resin (X) layer (B1) of the polarizing plate faced the liquid crystal cell. In addition, the transmission axis of the polarizing plate to be bonded and the transmission axis of the incident side polarizing plate of the IPS liquid crystal panel were set to be crossed Nicols. Furthermore, the bonding was performed using an adhesive layer (“MO-T006C” manufactured by Lintec Corporation, thickness 25 μm). Thereby, the incident side polarizing plate, the IPS type liquid crystal cell, the adhesive layer, the layer (B1) of the resin (X), the adhesive layer, the polycarbonate resin layer (A2), the adhesive layer, the polarizer, and the triacetyl cellulose layer in this order. A liquid crystal display device having an IPS liquid crystal panel was obtained.

得られた液晶表示装置の表示特性を目視で確認したところ、画面を正面から見た場合も、全方位において極角0°〜80°の範囲の斜めから見た場合も、表示は良好かつ均一であった。
また、この液晶表示装置の光抜けを評価するため、黒表示時での画面を、液晶パネルの出射側偏光板の透過軸に対して方位角45°で極角−60°から60°で測定したところ、測定された輝度の最大値Ymaxは0.55(カンデラ/m)であった。
When the display characteristics of the obtained liquid crystal display device were visually confirmed, the display was good and uniform both when viewed from the front and when viewed from an oblique angle in the range of polar angles of 0 ° to 80 ° in all directions. Met.
In order to evaluate the light leakage of this liquid crystal display device, the screen during black display was measured at an azimuth angle of 45 ° and a polar angle of −60 ° to 60 ° with respect to the transmission axis of the output side polarizing plate of the liquid crystal panel. As a result, the maximum value Ymax of the measured luminance was 0.55 (candela / m 2 ).

[実施例2]
固有複屈折が負の非液晶性材料として、樹脂(X)の代わりに、スチレン−無水マレイン酸共重合体(ノヴァケミカルジャパン社製「ダイラークD332」、ガラス転移温度130℃)を用いた。また、複層フィルム(b)の延伸温度を127℃に変更した。
以上の事項以外は実施例1と同様にして、液晶表示装置を製造し、評価した。
[Example 2]
As the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence, a styrene-maleic anhydride copolymer (“Deraque D332” manufactured by Nova Chemical Japan, glass transition temperature 130 ° C.) was used instead of the resin (X). Further, the stretching temperature of the multilayer film (b) was changed to 127 ° C.
A liquid crystal display device was manufactured and evaluated in the same manner as in Example 1 except for the above items.

[実施例3]
ビスマレイミド樹脂(エア・ブラウン社製「BMI1500」の紫外線硬化物;ガラス転移温度90℃)100部と、光重合開始剤(BASFジャパン社製「Irg907」)1部と、トルエン202部と、酢酸エチル202部とを混合して、樹脂溶液を得た。この樹脂溶液を、複層フィルム(A)の製造の際、固有複屈折が正の非液晶性材料を含む樹脂溶液としてポリカーボネート樹脂を含む樹脂溶液の代わりに用いた。延伸後のビスマレイミド樹脂層の膜厚は4μmであった。
また、複層フィルム(A)の製造の際、基材フィルムとして、ノルボルネン系樹脂のフィルム(A1)(日本ゼオン社製「ゼオノアフィルム」、厚み80μm、ガラス転移温度105℃)を用いた。
以上の事項以外は実施例1と同様にして、液晶表示装置を製造し、評価した。偏光板の厚みは95μmであった。
[Example 3]
100 parts of bismaleimide resin (UV-cured product of “BMI 1500” manufactured by Air Brown; glass transition temperature 90 ° C.), 1 part of photopolymerization initiator (“Irg907” manufactured by BASF Japan), 202 parts of toluene, acetic acid The resin solution was obtained by mixing 202 parts of ethyl. In the production of the multilayer film (A), this resin solution was used in place of the resin solution containing the polycarbonate resin as the resin solution containing the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence. The film thickness of the bismaleimide resin layer after stretching was 4 μm.
Further, in the production of the multilayer film (A), a norbornene-based resin film (A1) (“Zeonor Film” manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., thickness 80 μm, glass transition temperature 105 ° C.) was used as the base film.
A liquid crystal display device was manufactured and evaluated in the same manner as in Example 1 except for the above items. The thickness of the polarizing plate was 95 μm.

[実施例4]
熱可塑性樹脂(Y)の代わりに、ノルボルネン系樹脂(日本ゼオン社製「ゼオノア」;ガラス転移温度105℃)を用いた。
以上の事項以外は実施例1と同様にして、液晶表示装置を製造し、評価した。
[Example 4]
Instead of the thermoplastic resin (Y), a norbornene resin (“Zeonor” manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd .; glass transition temperature 105 ° C.) was used.
A liquid crystal display device was manufactured and evaluated in the same manner as in Example 1 except for the above items.

[比較例1]
実施例1の工程[1.1]と同様にして、熱可塑性樹脂(Y)の層(B2)/非晶質のポリスチレン(PSジャパン社製「HH102」)とポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレンオキサイド)を含む樹脂(X)の層(B1)/熱可塑性樹脂(Y)の層(B2)の3層構成の複層フィルムを得た。
[Comparative Example 1]
In the same manner as in Step [1.1] of Example 1, the layer (B2) of thermoplastic resin (Y) / amorphous polystyrene (“HH102” manufactured by PS Japan) and poly (2,6-dimethyl- A multilayer film having a three-layer structure of resin (X) layer (B1) / thermoplastic resin (Y) layer (B2) containing 1,4-phenylene oxide was obtained.

この層(B2)/層(B1)/層(B2)の3層構成の複層フィルムの片方の層(B2)の表面にコロナ処理(塗れ指数56dyne/cm)を施した。このコロナ処理を施した層(B2)の表面に、活性エネルギー線硬化型の接着剤(東亞合成社製「アロニックスM−6100」)を塗工して、接着層を形成した。他方、実施例1と同様の複層フィルム(A)のポリカーボネート樹脂層(A2)の表面に、コロナ処理(塗れ指数56dyne/cm)を施した。このコロナ処理を施したポリカーボネート樹脂層(A2)の表面と、上記接着層とを貼り合わせた。貼り合わせの後で、実施例1と同様の条件で紫外線照射装置により接着層に紫外線を照射した。これにより接着層が硬化して、基材フィルム(A1)、ポリカーボネート樹脂層(A2)、接着層、熱可塑性樹脂(Y)の層(B2)、樹脂(X)の層(B1)及び熱可塑性樹脂(Y)の層(B2)をこの順に備える積層体を得た。
こうして得た積層体を用いたこと以外は実施例1の工程[1.4]と同様にして、偏光板を製造した。この偏光板の厚みは、102μmであった。
また、こうして得た偏光板を用いたこと以外は実施例1の工程[1.5]と同様にして、液晶表示装置を製造し、評価した。
Corona treatment (paint index 56 dyne / cm) was applied to the surface of one layer (B2) of the multilayer film having a three-layer structure of layer (B2) / layer (B1) / layer (B2). An active energy ray-curable adhesive (“Aronix M-6100” manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was applied to the surface of the corona-treated layer (B2) to form an adhesive layer. On the other hand, the surface of the polycarbonate resin layer (A2) of the multilayer film (A) similar to that in Example 1 was subjected to corona treatment (wetting index 56 dyne / cm). The surface of the polycarbonate resin layer (A2) subjected to this corona treatment was bonded to the adhesive layer. After bonding, the adhesive layer was irradiated with ultraviolet rays by an ultraviolet irradiation device under the same conditions as in Example 1. Thereby, the adhesive layer is cured, and the base film (A1), the polycarbonate resin layer (A2), the adhesive layer, the layer (B2) of the thermoplastic resin (Y), the layer (B1) of the resin (X), and the thermoplastic resin. The laminated body provided with the layer (B2) of resin (Y) in this order was obtained.
A polarizing plate was produced in the same manner as in Step [1.4] of Example 1 except that the laminate thus obtained was used. The thickness of this polarizing plate was 102 μm.
A liquid crystal display device was produced and evaluated in the same manner as in Step [1.5] of Example 1 except that the polarizing plate thus obtained was used.

得られた液晶表示装置の表示特性を目視で確認したところ、画面を正面から見た場合も、全方位において極角0°〜80°の範囲の斜めから見た場合も、表示は良好かつ均一であった。
また、この液晶表示装置の光抜けを評価するため、黒表示時での画面を、液晶パネルの出射側偏光板の透過軸に対して方位角45°で極角−60°から60°において測定したところ、測定された輝度の最大値Ymaxは0.60(カンデラ/m)であった。
When the display characteristics of the obtained liquid crystal display device were visually confirmed, the display was good and uniform both when viewed from the front and when viewed from an oblique angle in the range of polar angles of 0 ° to 80 ° in all directions. Met.
In order to evaluate the light leakage of this liquid crystal display device, the screen during black display was measured at an azimuth angle of 45 ° and a polar angle of −60 ° to 60 ° with respect to the transmission axis of the output side polarizing plate of the liquid crystal panel. As a result, the maximum value Ymax of the measured luminance was 0.60 (candela / m 2 ).

[結果]
実施例及び比較例の結果を、表2に示す。ここで、表2において、略称の意味は以下の通りである。
フィルム(B)のTg差:「固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)のガラス転移温度−樹脂層(B2)のガラス転移温度」で算出される、ガラス転移温度の差。
フィルム(A)のTg差:「固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)のガラス転移温度−基材(A1)のガラス転移温度」で算出される、ガラス転移温度の差。
Re(550nm):波長550nmで測定した面内方向のレターデーション。
Rth(550nm):波長550nmで測定した厚み方向のレターデーション。
MAA樹脂:メタクリル樹脂
NBR樹脂:ノルボルネン系樹脂
PC樹脂:ポリカーボネート樹脂
BMI樹脂:ビスマレイミド樹脂
[result]
The results of Examples and Comparative Examples are shown in Table 2. Here, in Table 2, the meanings of the abbreviations are as follows.
Tg difference of film (B): difference in glass transition temperature calculated by “glass transition temperature of layer (B1) of non-liquid crystalline material having negative intrinsic birefringence−glass transition temperature of resin layer (B2)”.
Tg difference of film (A): difference in glass transition temperature calculated by “glass transition temperature of layer (A2) of non-liquid crystalline material having positive intrinsic birefringence−glass transition temperature of substrate (A1)”.
Re (550 nm): In-plane retardation measured at a wavelength of 550 nm.
Rth (550 nm): retardation in the thickness direction measured at a wavelength of 550 nm.
MAA resin: Methacrylic resin NBR resin: Norbornene resin PC resin: Polycarbonate resin BMI resin: Bismaleimide resin

Figure 2014065294
Figure 2014065294

[検討]
表2から分かるように、実施例1〜4では、IPS型液晶パネルのコントラストの改善が可能である。よって、実施例1〜4に係る位相差フィルムは、IPS型液晶パネルの光学補償を可能にする光学特性を有していることが確認された。また、実施例1〜4に係る位相差フィルムは、それぞれ基材(A1)、非液晶性材料の層(A2)、接着層、非液晶性材料の層(B1)及び樹脂層(B2)を備える積層体から容易に製造可能であり、また、厚みを薄くできることも確認された。
[Consideration]
As can be seen from Table 2, in Examples 1 to 4, the contrast of the IPS liquid crystal panel can be improved. Therefore, it was confirmed that the retardation films according to Examples 1 to 4 have optical characteristics that enable optical compensation of the IPS liquid crystal panel. The retardation films according to Examples 1 to 4 each have a base material (A1), a non-liquid crystal material layer (A2), an adhesive layer, a non-liquid crystal material layer (B1), and a resin layer (B2). It was confirmed that the laminate can be easily manufactured from the provided laminate and that the thickness can be reduced.

10 複層フィルム(A)
11 基材(A1)
11U 基材(A1)の表面
12 固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)
12U 固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)の、基材(A1)とは反対側の面
20 複層フィルム(B)
21 固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)
21D 固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)の、樹脂層(B2)とは反対側の面
22 樹脂層(B2)
30 接着層
100 積層体
200 複層フィルム(A)の製造装置
210 展開部
220 乾燥部
230 延伸部
240 溶液
250 延伸前フィルム
300 複層フィルム(b)の製造装置
310 延伸後の複層フィルム(b)
320 フィルム成型部
321 ダイ
322 冷却ロール
330 延伸部
340 延伸前の複層フィルム(b)
400 積層体の製造装置
410 剥離部
420 塗工部
430 貼り合せ部
431 ラミロール
432 対ロール
440 硬化処理部
450 樹脂層(B2)
460 接着剤
500 偏光板
510 偏光子
520 位相差フィルム
530 接着層又は粘着層
600 液晶パネル
610 液晶セル
10 Multi-layer film (A)
11 Substrate (A1)
11U Surface of base material (A1) 12 Layer of non-liquid crystalline material with positive intrinsic birefringence (A2)
12U Surface of the non-liquid crystalline material layer (A2) having a positive intrinsic birefringence on the side opposite to the base material (A1) 20 Multilayer film (B)
21 Layer of non-liquid crystalline material with negative intrinsic birefringence (B1)
21D Surface of the non-liquid crystalline material layer (B1) having a negative intrinsic birefringence opposite to the resin layer (B2) 22 Resin layer (B2)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 30 Adhesive layer 100 Laminated body 200 Manufacturing apparatus of multilayer film (A) 210 Expanding section 220 Drying section 230 Stretching section 240 Solution 250 Film before stretching 300 Manufacturing apparatus of multilayer film (b) 310 Multilayer film after stretching (b )
320 Film forming part 321 Die 322 Cooling roll 330 Stretching part 340 Multilayer film (b) before stretching
DESCRIPTION OF SYMBOLS 400 Manufacturing apparatus of laminated body 410 Peeling part 420 Coating part 430 Bonding part 431 Lami roll 432 Pair roll 440 Curing process part 450 Resin layer (B2)
460 Adhesive 500 Polarizing plate 510 Polarizer 520 Retardation film 530 Adhesive layer or adhesive layer 600 Liquid crystal panel 610 Liquid crystal cell

Claims (16)

基材(A1)、及び、前記基材(A1)に接した、固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)を備える複層フィルム(A)と、
固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)、及び、前記固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)に接した、樹脂層(B2)を備える複層フィルム(B)と、
前記固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)における前記基材(A1)とは反対側の面と、前記固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)における前記樹脂層(B2)とは反対側の面との間に、単独で介在する1層の接着層と、
を備える、積層体。
A multilayer film (A) comprising a base material (A1) and a layer (A2) of a non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence in contact with the base material (A1);
A multilayer film (B1) comprising a non-liquid crystalline material layer (B1) having a negative intrinsic birefringence and a resin layer (B2) in contact with the non-liquid crystalline material layer (B1) having a negative intrinsic birefringence )When,
The surface of the layer (A2) of the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence opposite to the base (A1) and the resin in the layer (B1) of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence A single adhesive layer interposed between the surface opposite to the layer (B2);
A laminate comprising:
前記固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)と前記樹脂層(B2)との間の剥離力が、0.5N/20mm以下である、請求項1記載の積層体。   The laminate according to claim 1, wherein a peeling force between the layer (B1) of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence and the resin layer (B2) is 0.5 N / 20 mm or less. 前記基材(A1)と前記固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)との間の剥離力が、0.05N/20mm以下である、請求項1又は2記載の積層体。   The laminate according to claim 1 or 2, wherein a peeling force between the base material (A1) and the layer (A2) of the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence is 0.05 N / 20 mm or less. 前記基材(A1)の材料のガラス転移温度と前記固有複屈折が正の非液晶性材料のガラス転移温度との差が、+15℃〜−15℃の範囲にある、請求項1〜3のいずれか一項に記載の積層体。   The difference between the glass transition temperature of the material of the substrate (A1) and the glass transition temperature of the non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence is in the range of + 15 ° C to -15 ° C. The laminated body as described in any one. 前記固有複屈折が負の非液晶性材料のガラス転移温度Tg(B1)と前記樹脂層(B2)の樹脂のガラス転移温度Tg(B2)との関係が、Tg(B1)>Tg(B2)+20℃を満たす、請求項1〜4のいずれか一項に記載の積層体。   The relationship between the glass transition temperature Tg (B1) of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence and the glass transition temperature Tg (B2) of the resin of the resin layer (B2) is Tg (B1)> Tg (B2). The laminated body as described in any one of Claims 1-4 satisfy | filled +20 degreeC. 前記固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)の引っ張り破断伸度が、20%以下である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の積層体。   The laminate according to any one of claims 1 to 5, wherein the non-liquid crystalline material layer (B1) having a negative intrinsic birefringence has a tensile elongation at break of 20% or less. 基材(A1)が、脂環式構造を有する重合体樹脂、(メタ)アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、(メタ)アクリル酸エステル−ビニル芳香族化合物共重合体樹脂、及びポリエーテルスルホン樹脂からなる群より選択される樹脂で形成されている、請求項1〜6のいずれか一項に記載の積層体。   The base material (A1) is composed of a polymer resin having an alicyclic structure, a (meth) acrylic resin, a polycarbonate resin, a (meth) acrylic acid ester-vinyl aromatic compound copolymer resin, and a polyethersulfone resin. The laminated body as described in any one of Claims 1-6 currently formed with resin selected more. 前記固有複屈折が正の非液晶性材料が、ポリイミド樹脂、マレイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタンウレア樹脂からなる群より選択される、請求項1〜7のいずれか一項に記載の積層体。   The non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence is selected from the group consisting of a polyimide resin, a maleimide resin, a polyamideimide resin, a polycarbonate resin, a polyester resin, and a polyurethane urea resin. The laminated body as described in. 前記固有複屈折が負の非液晶性材料が、スチレン類、スチレン類−マレイン酸、マレイミド類及び(メタ)アクリル酸エステルからなる群より選択される1種類以上のモノマーを重合した重合体、並びに、ポリカーボネート重合体、ポリエステル重合体及びポリアリーレンエーテル重合体からなる群より選択される1種類以上の重合体を含む混合物である、請求項1〜8のいずれか一項に記載の積層体。   A polymer obtained by polymerizing one or more monomers selected from the group consisting of styrenes, styrenes-maleic acid, maleimides and (meth) acrylic acid esters, wherein the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence, and The laminate according to any one of claims 1 to 8, which is a mixture comprising at least one polymer selected from the group consisting of a polycarbonate polymer, a polyester polymer, and a polyarylene ether polymer. 前記樹脂層(B2)が、脂環式構造を有する重合体樹脂、(メタ)アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、(メタ)アクリル酸エステル−ビニル芳香族化合物共重合体樹脂、及びポリエーテルスルホン樹脂からなる群から選択される樹脂で形成されている、請求項1〜9のいずれか一項に記載の積層体。   The resin layer (B2) is composed of a polymer resin having an alicyclic structure, a (meth) acrylic resin, a polycarbonate resin, a (meth) acrylic acid ester-vinyl aromatic compound copolymer resin, and a polyethersulfone resin. The laminate according to any one of claims 1 to 9, which is formed of a resin selected from the group. 請求項1〜10のいずれか一項に記載の積層体の製造方法であって、
固有複屈折が正の非液晶性材料を溶媒に溶解させた溶液を前記基材(A1)上に展開する工程と、
展開した前記溶液を乾燥する工程と、
前記溶液を乾燥した後に前記基材(A1)を延伸して前記複層フィルム(A)を得る工程と、
を含む製造方法。
It is a manufacturing method of the layered product according to any one of claims 1 to 10,
Developing a solution prepared by dissolving a non-liquid crystalline material having a positive intrinsic birefringence in a solvent on the substrate (A1);
Drying the developed solution;
Stretching the substrate (A1) after drying the solution to obtain the multilayer film (A);
Manufacturing method.
請求項1〜10のいずれか一項に記載の積層体の製造方法であって、
前記固有複屈折が負の非液晶性材料及び前記樹脂層(B2)を形成する樹脂を共押し出しして、前記樹脂層(B2)、前記固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)、及び前記樹脂層(B2)をこの順に備える複層フィルム(b)を得る工程と、
前記複層フィルム(b)を延伸する工程と、
延伸した前記複層フィルム(b)から、片方の前記樹脂層(B2)を剥離して、前記複層フィルム(B)を得る工程と、
を含む製造方法。
It is a manufacturing method of the layered product according to any one of claims 1 to 10,
The non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence and the resin forming the resin layer (B2) are coextruded to form the resin layer (B2) and the non-liquid crystalline material layer having a negative intrinsic birefringence (B1). And a step of obtaining a multilayer film (b) comprising the resin layer (B2) in this order;
Stretching the multilayer film (b);
Peeling the one resin layer (B2) from the stretched multilayer film (b) to obtain the multilayer film (B);
Manufacturing method.
請求項1〜10のいずれか一項に記載の積層体の製造方法であって、
前記固有複屈折が正の非液晶性材料の層(A2)における前記基材(A1)とは反対側の面、及び、前記固有複屈折が負の非液晶性材料の層(B1)における前記樹脂層(B2)とは反対側の面のうち、一方の面に前記接着層を形成する工程と、
前記接着層と、前記接着層が形成されなかった他方の面とを貼り合せる工程と、
を含む製造方法。
It is a manufacturing method of the layered product according to any one of claims 1 to 10,
The surface of the non-liquid crystalline material layer (A2) having a positive intrinsic birefringence opposite to the base (A1) and the layer (B1) of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence. A step of forming the adhesive layer on one surface of the surface opposite to the resin layer (B2);
Bonding the adhesive layer and the other surface on which the adhesive layer is not formed;
Manufacturing method.
請求項1〜10のいずれか一項に記載の積層体から、前記基材(A1)及び前記樹脂層(B2)が剥離された、位相差フィルム。   The retardation film from which the said base material (A1) and the said resin layer (B2) were peeled from the laminated body as described in any one of Claims 1-10. 偏光子と、請求項14記載の位相差フィルムと、を備える偏光板。   A polarizing plate comprising a polarizer and the retardation film according to claim 14. IPS型の液晶セルと、請求項15記載の偏光板と、を備えるIPS液晶パネル。   An IPS liquid crystal panel comprising: an IPS liquid crystal cell; and the polarizing plate according to claim 15.
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