JP6286843B2 - Multilayer film manufacturing method, retardation film laminate manufacturing method, polarizing plate manufacturing method, and IPS liquid crystal panel manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明は、光学的な機能を有する層を含む複層フィルム及びその製造方法、位相差フィルム積層体の製造方法、位相差フィルム、偏光板並びにIPS液晶パネルに関する。   The present invention relates to a multilayer film including a layer having an optical function, a manufacturing method thereof, a manufacturing method of a retardation film laminate, a retardation film, a polarizing plate, and an IPS liquid crystal panel.

液晶パネルを供えた液晶表示装置では、通常、正面方向から画面を見るときは、十分なコントラストが得られる。しかし、正面方向に対して平行でない斜め方向から画面見ると、入射側偏光子の透過軸と出射側偏光子の透過軸とが見かけ上所定の角度で交わらない状態となるために、直線偏光が完全に遮断されずに光洩れが発生することがある。光漏れが発生すると、十分な黒が得られず、コントラストが低下する。そこで、液晶表示装置においては、画面のコントラストの低下を防止するために、光学補償フィルムを設けることが試みられている。   In a liquid crystal display device provided with a liquid crystal panel, sufficient contrast is usually obtained when the screen is viewed from the front. However, when the screen is viewed from an oblique direction that is not parallel to the front direction, the transmission axis of the incident-side polarizer and the transmission axis of the output-side polarizer do not seem to intersect at a predetermined angle. Light leakage may occur without being completely shut off. When light leakage occurs, sufficient black cannot be obtained and the contrast decreases. Therefore, in a liquid crystal display device, an attempt has been made to provide an optical compensation film in order to prevent a reduction in screen contrast.

光学補償フィルムとしては、通常、位相差フィルムを用いる。位相差フィルムの製造方法の一例として、高分子化合物を含む溶液を支持体上に塗布し、延伸する技術が知られている(例えば、特許文献1)。また、そのような技術において、塗膜からの残留溶媒量を特定の範囲とする技術も知られている(特許文献2及び3)。さらに、液晶性化合物を用いた光学補償フィルムの製造において、溶剤として複数の物質を含み、さらにそれらの沸点の関係を所定のものとする技術も知られている(特許文献4)。   A retardation film is usually used as the optical compensation film. As an example of a method for producing a retardation film, a technique is known in which a solution containing a polymer compound is applied on a support and then stretched (for example, Patent Document 1). In such a technique, a technique for setting the residual solvent amount from the coating film to a specific range is also known (Patent Documents 2 and 3). Furthermore, in the production of an optical compensation film using a liquid crystalline compound, there is also known a technique that includes a plurality of substances as a solvent and further makes the relationship between their boiling points predetermined (Patent Document 4).

特表2007−500866号公報Special table 2007-500866 gazette 特開2010−224556号公報JP 2010-224556 A 特開2002−311245号公報JP 2002-31245 A 特開2010−128270号公報JP 2010-128270 A

高分子化合物を含む溶液を支持体上に塗布し、延伸することにより位相差フィルムを製造する際には、塗布の工程における界面の乱れによる塗布ムラが発生し易く、それによりフィルムの膜厚ムラが発生し易い。また、界面の乱れにより、フィルムに泡筋、皺等の不具合が発生し易い。また、延伸の工程において、塗膜が延伸機の把持子に付着したり、フィルムの把持子で把持した部分にカールが発生したりするという不具合が発生し、それにより円滑な製造が妨げられたり、位相差フィルムの光学的性能に不具合が発生したりすることがある。このような現象は、薄い位相差フィルムを製造しようとする場合に特に顕著であり、特に、光学特性の異なる複数枚の位相差フィルムを組み合わせた光学補償フィルムを必要とするIPS(インプレーンスイッチング)型の液晶表示装置を薄型なものとする上で問題となっている。   When a retardation film is produced by coating a solution containing a polymer compound on a support and stretching, coating unevenness is likely to occur due to disorder of the interface in the coating process, thereby causing film thickness unevenness. Is likely to occur. In addition, defects such as bubble streaks and wrinkles are likely to occur in the film due to the disturbance of the interface. In addition, in the stretching process, a problem may occur that the coating film adheres to the gripper of the stretching machine or curls occur on the portion gripped by the film gripper, thereby preventing smooth production. In some cases, the optical performance of the retardation film may be defective. Such a phenomenon is particularly noticeable when a thin retardation film is to be manufactured. In particular, an IPS (in-plane switching) that requires an optical compensation film in which a plurality of retardation films having different optical characteristics are combined. This is a problem in making a thin liquid crystal display device thin.

従って、本発明の目的は、界面の乱れによる塗布ムラや不具合を発生させずに製造することができ、位相差フィルムとして機能する層の膜厚ムラが少なく、且つ延伸する際の不具合が少ない複層フィルム及びその製造方法、並びにそれを用いた位相差フィルム積層体の製造方法、位相差フィルム、偏光板並びにIPS液晶パネルを提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to produce a coating without causing uneven coating and problems due to interface disturbance, and to reduce the film thickness unevenness of a layer functioning as a retardation film, and to reduce problems when stretching. It is in providing a layer film, its manufacturing method, the manufacturing method of a retardation film laminated body using the same, retardation film, a polarizing plate, and an IPS liquid crystal panel.

本発明者らは上記課題を解決するべく検討した結果、位相差フィルムとして機能する層を構成する溶液の溶剤を所定のものとすることにより、上記課題を解決しうることを見出した。本発明者らはさらに、当該溶液を用いた複層フィルムの製造において、乾燥条件などの製造条件を所定のものとすることにより、良好な製造を行いうることを見出した。本発明は、かかる知見に基づき完成されたものである。
すなわち、本発明によれば、以下のものが提供される。
As a result of investigations to solve the above problems, the present inventors have found that the above problems can be solved by using a predetermined solvent for the solution constituting the layer functioning as the retardation film. Furthermore, the present inventors have found that in the production of a multilayer film using the solution, good production can be performed by setting production conditions such as drying conditions to predetermined ones. The present invention has been completed based on such findings.
That is, according to the present invention, the following is provided.

前述クレーム内容に変更
〔1〕 長尺の透明支持体、及び前記支持体上に設けられた機能層を備える複層フィルムであって、
前記機能層が、非液晶性材料と1種類又は2種類以上の溶剤とを含む溶液の塗膜から前記溶剤を乾燥により除去してなる層であり、
前記溶剤が前記支持体に対して貧溶媒であり、且つ前記非液晶性材料に対して良溶媒であり、
前記溶液が1種類のみの前記溶剤を含み前記溶剤の溶解性パラメータδが8.5〜10.5(cal/cm31/2であり且つ前記溶剤の沸点Bpが100〜150℃であるか、又は前記溶液が2種類以上の前記溶剤を含みそれらの溶解性パラメーターの差Δδが0.5〜1.3(cal/cm31/2であり且つそれらの沸点の差ΔBpが55℃以下である、
複層フィルム。
〔2〕 前記支持体が、正の固有複屈折性を有する樹脂からなり、
前記非液晶性材料が正の固有複屈折性を有する樹脂であり、
前記溶剤のうち1種類以上がケトンまたはエーテルである、〔1〕に記載の複層フィルム。
〔3〕 前記機能層中の残留溶剤量が0.05〜7重量%である、〔1〕又は〔2〕に記載の複層フィルム。
〔4〕 前記非液晶性材料がポリイミド樹脂、マレイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、及びこれらの混合物からなる群より選択される樹脂である、〔1〕〜〔3〕のいずれか1項に記載の複層フィルム。
〔5〕 長尺の透明支持体、及び前記支持体上に設けられた機能層を備える複層フィルムの製造方法であって、
非液晶性材料と1種類又は2種類以上の溶剤とを含む溶液を、前記支持体上に塗工して塗膜を得る工程と、
前記塗膜から前記溶剤を乾燥により除去して前記機能層を得る工程とを含み、
前記溶剤が前記支持体に対して貧溶媒であり、且つ前記非液晶性材料に対して良溶媒であり、
前記溶剤の溶解性パラメータが8.5〜10.5(cal/cm31/2であり且つ前記溶剤の沸点が100〜150℃であるか、又は前記溶液が2種類以上の前記溶剤を含みそれらの溶解性パラメーターの差Δδが0.5〜1.3(cal/cm31/2であり且つそれらの沸点の差ΔBpが55℃以下である、
製造方法。
〔6〕 前記溶剤を除去する工程が、
温度15〜25℃で無風の条件下で前記塗膜を乾燥させる乾燥工程(I)と、
温度TD(II)で風速が0.5〜2.5m/Sの条件下で前記塗膜を乾燥させる乾燥工程であって、前記温度TD(II)は、前記溶液が1種類のみの前記溶剤を含む場合Bp−20℃以下であり、前記溶液が2種類以上の前記溶剤を含む場合Bp−20℃以下である(但しBpは、前記溶液に含まれる溶剤のうち最も沸点の高いものの沸点である)乾燥工程(II)とを含み、
前記機能層の厚みが5〜30μmである、〔5〕に記載の製造方法。
〔7〕 〔1〕〜〔4〕のいずれか1項に記載の複層フィルムを延伸する工程を含む、位相差フィルム積層体の製造方法であって、
前記延伸する工程が、横延伸での延伸を含み、
前記延伸する工程における延伸温度が、Tg±20℃であり(但し、Tgは、前記支持体を構成する材料のガラス転移温度である)、延伸倍率が1.01〜3倍である製造方法。
〔8〕 〔7〕の製造方法で得られた位相差フィルム積層体の、延伸された機能層を含む位相差フィルムであって、
延伸された機能層が負の二軸性を有する位相差フィルム。
〔9〕 〔8〕に記載の位相差フィルムと偏光子とを備える偏光板。
〔10〕 〔9〕に記載の偏光板とIPS用の液晶セルとを備えるIPS液晶パネル。
[1] a multilayer film comprising a long transparent support, and a functional layer provided on the support,
The functional layer is a layer formed by removing the solvent by drying from a coating film of a solution containing a non-liquid crystalline material and one or more solvents.
The solvent is a poor solvent for the support and a good solvent for the non-liquid crystalline material;
The solution contains only one kind of the solvent, the solubility parameter δ of the solvent is 8.5 to 10.5 (cal / cm 3 ) 1/2 , and the boiling point Bp of the solvent is 100 to 150 ° C. Or the solution contains two or more kinds of the solvents, the solubility parameter difference Δδ is 0.5 to 1.3 (cal / cm 3 ) 1/2 and the boiling point difference ΔBp is 55 ℃ or less,
Multi-layer film.
[2] The support is made of a resin having positive intrinsic birefringence,
The non-liquid crystalline material is a resin having positive intrinsic birefringence,
The multilayer film according to [1], wherein one or more of the solvents are ketones or ethers.
[3] The multilayer film according to [1] or [2], wherein a residual solvent amount in the functional layer is 0.05 to 7% by weight.
[4] The non-liquid crystalline material is a resin selected from the group consisting of a polyimide resin, a maleimide resin, a polyamideimide resin, a polycarbonate resin, a polyester resin, a polyurethane urea resin, and a mixture thereof. ] The multilayer film of any one of.
[5] A method for producing a multilayer film comprising a long transparent support, and a functional layer provided on the support,
Applying a solution containing a non-liquid crystalline material and one or more solvents to the support to obtain a coating film;
Removing the solvent from the coating film by drying to obtain the functional layer,
The solvent is a poor solvent for the support and a good solvent for the non-liquid crystalline material;
The solubility parameter of the solvent is 8.5 to 10.5 (cal / cm 3 ) 1/2 and the boiling point of the solvent is 100 to 150 ° C., or the solution contains two or more kinds of the solvents. And the solubility parameter difference Δδ is 0.5 to 1.3 (cal / cm 3 ) 1/2 and the boiling point difference ΔBp is 55 ° C. or less.
Production method.
[6] The step of removing the solvent comprises
A drying step (I) for drying the coating film under a windless condition at a temperature of 15 to 25 ° C .;
A drying step of drying the coating film at a temperature TD (II) at a wind speed of 0.5 to 2.5 m / S, wherein the temperature TD (II) includes only one kind of the solution; When the solvent is contained, it is Bp-20 ° C. or lower, and when the solution contains two or more kinds of the solvents, it is Bp H- 20 ° C. or lower (provided that Bp H is the highest boiling point among the solvents contained in the solution). Drying step (II), which is the boiling point of the higher one,
The manufacturing method according to [5], wherein the functional layer has a thickness of 5 to 30 μm.
[7] A method for producing a retardation film laminate, comprising a step of stretching the multilayer film according to any one of [1] to [4],
The step of stretching includes stretching by transverse stretching,
Production in which the stretching temperature in the stretching step is Tg S ± 20 ° C. (where Tg S is the glass transition temperature of the material constituting the support) and the stretching ratio is 1.01 to 3 times. Method.
[8] A retardation film containing a stretched functional layer of the retardation film laminate obtained by the production method of [7],
A retardation film in which the stretched functional layer has negative biaxiality.
[9] A polarizing plate comprising the retardation film according to [8] and a polarizer.
[10] An IPS liquid crystal panel comprising the polarizing plate according to [9] and a liquid crystal cell for IPS.

本発明によれば、界面の乱れによる塗布ムラや不具合を発生させずに製造することができ、位相差フィルムとして機能する層の膜厚ムラが少なく、且つ延伸する際の不具合が少ない複層フィルム及びその製造方法、並びにそれを用いた位相差フィルム積層体の製造方法、位相差フィルム、偏光板並びにIPS液晶パネルを提供しうる。   According to the present invention, a multilayer film that can be produced without causing coating unevenness and problems due to interface disturbance, has little film thickness unevenness of a layer that functions as a retardation film, and has few problems when stretching. And a method for producing the same, a method for producing a retardation film laminate using the same, a phase difference film, a polarizing plate, and an IPS liquid crystal panel can be provided.

図1は、本発明の一実施形態に係る複層フィルムを、その主面に対して垂直な平面で切った断面を模式的に示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of a multilayer film according to an embodiment of the present invention cut by a plane perpendicular to the main surface. 図2は、支持体上に機能層を形成して複層フィルムを製造し、さらにそれを延伸して位相差フィルム積層体を製造する製造装置の一例を模式的に示す概略図である。FIG. 2 is a schematic view schematically showing an example of a production apparatus for producing a multilayer film by forming a functional layer on a support, and further stretching it to produce a retardation film laminate. 図3は、複合位相差フィルムの製造に用いる位相差フィルム積層体(B)の一例を、その主面に対して垂直な平面で切った断面を模式的に示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of an example of the retardation film laminate (B) used for the production of the composite retardation film, taken along a plane perpendicular to the main surface. 図4は、複合位相差フィルムの一例を、その主面に対して垂直な平面で切った断面を模式的に示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of an example of the composite retardation film taken along a plane perpendicular to the main surface. 図5は、位相差フィルム積層体(B)を製造する製造装置の一例を模式的に示す概略図である。FIG. 5 is a schematic view schematically showing an example of a production apparatus for producing the retardation film laminate (B). 図6は、複合位相差フィルムの製造方法に用いる製造装置の一例を模式的に示す概略図である。FIG. 6 is a schematic view schematically showing an example of a production apparatus used in the method for producing a composite retardation film. 図7は、図4に示した複合位相差フィルム400と偏光子とを用いて得た本発明の偏光板の一例を、その主面に対して垂直な平面で切った断面を模式的に示す断面図である。FIG. 7 schematically shows a cross section of an example of the polarizing plate of the present invention obtained by using the composite retardation film 400 and the polarizer shown in FIG. 4 taken along a plane perpendicular to the main surface. It is sectional drawing. 図8は、図7に示した偏光板700とIPS用の液晶セルとを用いて得た本発明の液晶パネルの一例を、その主面に対して垂直な平面で切った断面を模式的に示す断面図である。FIG. 8 schematically shows a cross section of an example of the liquid crystal panel of the present invention obtained by using the polarizing plate 700 and the liquid crystal cell for IPS shown in FIG. 7 cut along a plane perpendicular to the main surface. It is sectional drawing shown.

以下、本発明について実施形態及び例示物等を示して詳細に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施形態及び例示物等に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施してもよい。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments and examples. However, the present invention is not limited to the embodiments and examples shown below, and may be arbitrarily modified and implemented without departing from the scope of the claims of the present invention and its equivalent scope.

以下の説明において、「長尺」とは、幅に対して、少なくとも5倍以上の長さを有するものをいい、好ましくは10倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するものをいう。
また、「基材」及び「偏光板」とは、剛直な部材だけでなく、例えば樹脂製のフィルムのように可撓性を有する部材も含む。
In the following description, “long” means one having a length of at least 5 times the width, preferably 10 times or more, specifically a roll shape. It has a length enough to be wound up and stored or transported.
The “base material” and the “polarizing plate” include not only rigid members but also flexible members such as resin films.

以下の説明において、フィルムの面内方向のレターデーションは、別に断らない限り、(nx−ny)×dで表される値である。また、フィルムの厚み方向のレターデーションは、別に断らない限り、{(nx+ny)/2−nz}×dで表される値である。ここで、nxは、フィルムの厚み方向に垂直な方向(面内方向)であって最大の屈折率を与える方向の屈折率を表す。nyは、前記面内方向であってnxの方向に直交する方向の屈折率を表す。nzは厚み方向の屈折率を表す。dは、フィルムの厚みを表す。これらのレターデーションは、市販の位相差測定装置(例えば、王子計測機器社製、「KOBRA−21ADH」、フォトニックラティス社製、「WPA−micro」)あるいはセナルモン法を用いて測定しうる。   In the following description, the retardation in the in-plane direction of the film is a value represented by (nx−ny) × d unless otherwise specified. Further, the retardation in the thickness direction of the film is a value represented by {(nx + ny) / 2−nz} × d unless otherwise specified. Here, nx represents a refractive index in a direction (in-plane direction) perpendicular to the thickness direction of the film and giving the maximum refractive index. ny represents the refractive index in the in-plane direction and orthogonal to the nx direction. nz represents the refractive index in the thickness direction. d represents the thickness of the film. These retardations can be measured using a commercially available phase difference measuring device (for example, “KOBRA-21ADH” manufactured by Oji Scientific Instruments, “WPA-micro” manufactured by Photonic Lattice) or the Senarmon method.

以下の説明において、(メタ)アクリルといった表現は、アクリル、メタクリル又はこれらの組み合わせを意味する。例えば、(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸、メタクリル酸又はこれらの組み合わせを意味する。また、(メタ)アクリル酸エステルとは、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル又はこれらの組み合わせを意味する。
以下の説明において、「紫外線」とは、波長が1nm以上400nm以下の光のことを意味する。
In the following description, the expression (meth) acryl means acryl, methacryl or a combination thereof. For example, (meth) acrylic acid means acrylic acid, methacrylic acid or a combination thereof. The (meth) acrylic acid ester means an acrylic acid ester, a methacrylic acid ester, or a combination thereof.
In the following description, “ultraviolet light” means light having a wavelength of 1 nm to 400 nm.

以下の説明において、要素の方向が「平行」、「垂直」及び「直交」とは、特に断らない限り、本発明の効果を損ねない範囲内、例えば±5°の範囲内での誤差を含んでいてもよい。さらに、ある方向に「沿って」とは、ある方向に「平行に」との意味である。   In the following description, the directions of the elements “parallel”, “vertical”, and “orthogonal” include errors within a range that does not impair the effect of the present invention, for example, ± 5 °, unless otherwise specified. You may go out. Further, “along” in a certain direction means “in parallel” in a certain direction.

以下の説明において、MD方向(machine direction)は、製造ラインにおけるフィルムの流れ方向であり、通常は長尺のフィルムの長尺方向及び縦方向と平行である。さらに、TD方向(traverse direction)は、フィルム面に平行な方向であって、MD方向に垂直な方向であり、通常は長尺のフィルムの幅方向及び横方向と平行である。   In the following description, the MD direction (machine direction) is the film flow direction in the production line, and is usually parallel to the long direction and the vertical direction of the long film. Further, the TD direction (traverse direction) is a direction parallel to the film surface and perpendicular to the MD direction, and is usually parallel to the width direction and the lateral direction of the long film.

以下の説明において、固有複屈折が正であるとは、延伸方向の屈折率が延伸方向に直交する方向の屈折率よりも大きくなることを意味し、固有複屈折が負であるとは、延伸方向の屈折率が延伸方向に直交する方向の屈折率よりも小さくなることを意味する。固有複屈折の値は誘電率分布から計算することもできる。   In the following description, the intrinsic birefringence is positive means that the refractive index in the stretching direction is larger than the refractive index in the direction perpendicular to the stretching direction, and that the intrinsic birefringence is negative It means that the refractive index in the direction is smaller than the refractive index in the direction perpendicular to the stretching direction. The value of intrinsic birefringence can also be calculated from the dielectric constant distribution.

以下に説明する重合体においては、別に断らない限り、その重合体が含む構造単位の割合は、通常、その重合体の製造反応において用いた全単量体量に対する、前記構造単位に対応する単量体の比率(仕込み比)に一致する。   In the polymer described below, unless otherwise specified, the proportion of the structural unit contained in the polymer is usually a single unit corresponding to the structural unit with respect to the total amount of monomers used in the production reaction of the polymer. It corresponds to the ratio of the mass (preparation ratio).

[1.複層フィルム]
図1は、本発明の一実施形態に係る複層フィルムを、その主面に対して垂直な平面で切った断面を模式的に示す断面図である。図1に示す通り、複層フィルム10は、長尺で透明な支持体11と、支持体11の上側の面11U上に設けられた機能層12とを備える。
[1. Multi-layer film]
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of a multilayer film according to an embodiment of the present invention cut by a plane perpendicular to the main surface. As shown in FIG. 1, the multilayer film 10 includes a long and transparent support 11 and a functional layer 12 provided on the upper surface 11U of the support 11.

[1.1.支持体]
支持体としては、通常は樹脂フィルムを用いる。支持体を形成する樹脂の種類は特に限定されるものでは無いが、支持体は透明であるので、樹脂は通常透明の樹脂である。ここで透明とは、光学部材に用いるのに適した程度の光線透過率を有する意味であり、例えば厚み1mmの試験片を用いて測定した全光線透過率が、通常70%以上、好ましくは80%以上、特に好ましくは90%以上であることをいう。また、全光線透過率は、JIS K0115に準拠して、分光光度計(日本分光社製、紫外可視近赤外分光光度計「V−570」)を用いて測定しうる。
[1.1. Support]
As the support, a resin film is usually used. Although the kind of resin which forms a support body is not specifically limited, Since a support body is transparent, resin is usually transparent resin. Here, the term “transparent” means that it has a light transmittance suitable for use in an optical member. For example, the total light transmittance measured using a test piece having a thickness of 1 mm is usually 70% or more, preferably 80. % Or more, particularly preferably 90% or more. The total light transmittance can be measured using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation, ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer “V-570”) in accordance with JIS K0115.

支持体を形成する材料となる樹脂としては、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂等のポリオレフィン樹脂;ノルボルネン系樹脂等の脂環式構造を有する重合体樹脂;ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、ポリケトンサルファイド樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、(メタ)アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリプロピレン樹脂、セルロース系樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、(メタ)アクリル酸エステル−ビニル芳香族化合物共重合体樹脂、イソブテン/N−メチルマレイミド共重合体樹脂、スチレン/アクリルニトリル共重合体樹脂などが挙げられる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせてもよい。例えば、イソブテン/N−メチルマレイミド共重合体樹脂とスチレン/アクリルニトリル共重合体樹脂とは、組み合わせて混合物として用いることが好ましい。   Examples of the resin that forms the support include polyolefin resins such as polyethylene resins and polypropylene resins; polymer resins having an alicyclic structure such as norbornene resins; polyimide resins, polyamideimide resins, polyamide resins, and polyresins. Etherimide resin, polyether ether ketone resin, polyether ketone resin, polyketone sulfide resin, polyether sulfone resin, polysulfone resin, polyphenylene sulfide resin, polyphenylene oxide resin, polyethylene terephthalate resin, polybutylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate resin, polyacetal Resin, polycarbonate resin, polyarylate resin, (meth) acrylic resin, polyvinyl alcohol resin, polypropylene resin, cellulosic resin , Epoxy resins, phenol resins, (meth) acrylic acid ester - vinyl aromatic compound copolymer resins, isobutene / N- methylmaleimide copolymer resins, styrene / acrylonitrile copolymer resins. One of these may be used alone, or two or more of these may be combined in any ratio. For example, isobutene / N-methylmaleimide copolymer resin and styrene / acrylonitrile copolymer resin are preferably used in combination as a mixture.

これらの中でも、脂環式構造を有する重合体樹脂、(メタ)アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、(メタ)アクリル酸エステル−ビニル芳香族化合物共重合体樹脂、及びポリエーテルスルホン樹脂からなる群より選択される樹脂が好ましい。これらの樹脂は機械的強度に優れ、また、延伸により発現するレターデーションを小さくできる。特に、溶剤及び非液晶性材料との関係を、本発明における所望の関係とすることが容易である観点から、脂環式構造を有する重合体樹脂が特に好ましい。   Among these, a polymer resin having an alicyclic structure, a (meth) acrylic resin, a polycarbonate resin, a (meth) acrylic acid ester-vinyl aromatic compound copolymer resin, and a polyethersulfone resin are selected. Preferred is a resin. These resins are excellent in mechanical strength and can reduce the retardation developed by stretching. In particular, a polymer resin having an alicyclic structure is particularly preferable from the viewpoint that the relationship between the solvent and the non-liquid crystalline material can be easily set to a desired relationship in the present invention.

脂環式構造を有する重合体樹脂は、脂環式構造を有する重合体を含む樹脂である。また、脂環式構造を有する重合体は、重合体の構造単位として脂環式構造を含む構造単位を有する重合体であり、主鎖に脂環式構造を有する重合体、及び、側鎖に脂環式構造を有する重合体のいずれも用いうる。また、脂環式構造を有する重合体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。中でも、機械的強度、耐熱性などの観点から、主鎖に脂環式構造を含有する重合体が好ましい。   The polymer resin having an alicyclic structure is a resin containing a polymer having an alicyclic structure. Further, the polymer having an alicyclic structure is a polymer having a structural unit containing an alicyclic structure as a structural unit of the polymer, a polymer having an alicyclic structure in the main chain, and a side chain. Any polymer having an alicyclic structure can be used. Moreover, the polymer which has an alicyclic structure may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios. Among these, a polymer containing an alicyclic structure in the main chain is preferable from the viewpoint of mechanical strength, heat resistance, and the like.

脂環式構造としては、例えば、飽和脂環式炭化水素(シクロアルカン)構造、不飽和脂環式炭化水素(シクロアルケン、シクロアルキン)構造などが挙げられる。中でも、機械強度、耐熱性などの観点から、シクロアルカン構造及びシクロアルケン構造が好ましく、中でもシクロアルカン構造が特に好ましい。   Examples of the alicyclic structure include a saturated alicyclic hydrocarbon (cycloalkane) structure and an unsaturated alicyclic hydrocarbon (cycloalkene, cycloalkyne) structure. Among these, from the viewpoints of mechanical strength, heat resistance and the like, a cycloalkane structure and a cycloalkene structure are preferable, and a cycloalkane structure is particularly preferable.

脂環式構造を構成する炭素原子数は、一つの脂環式構造あたり、好ましくは4個以上、より好ましくは5個以上であり、好ましくは30個以下、より好ましくは20個以下、特に好ましくは15個以下の範囲である。これにより、機械強度、耐熱性、及びフィルムの成形性が高度にバランスされ、好適である。   The number of carbon atoms constituting the alicyclic structure is preferably 4 or more, more preferably 5 or more, preferably 30 or less, more preferably 20 or less, particularly preferably per alicyclic structure. Is a range of 15 or less. Thereby, mechanical strength, heat resistance, and film formability are highly balanced, which is preferable.

脂環式構造を有する重合体中の、脂環式構造を含む構造単位の割合は、使用目的に応じて適宜選択しうるものであり、好ましくは55重量%以上、さらに好ましくは70重量%以上、特に好ましくは90重量%以上である。脂環式構造を有する重合体中の脂環式構造を含む構造単位の割合がこの範囲にあると、耐熱性の観点から好ましい。   The proportion of structural units containing an alicyclic structure in the polymer having an alicyclic structure can be appropriately selected according to the purpose of use, and is preferably 55% by weight or more, more preferably 70% by weight or more. Particularly preferably, it is 90% by weight or more. It is preferable from a heat resistant viewpoint that the ratio of the structural unit containing the alicyclic structure in the polymer which has an alicyclic structure exists in this range.

脂環式構造を有する重合体の例としては、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体、及び、これらの水素化物を挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン系重合体は、成形性が良好なため、好適である。   Examples of the polymer having an alicyclic structure include a norbornene polymer, a monocyclic olefin polymer, a cyclic conjugated diene polymer, a vinyl alicyclic hydrocarbon polymer, and hydrides thereof. Can be mentioned. Among these, norbornene-based polymers are preferable because of good moldability.

ノルボルネン系重合体の例としては、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体、若しくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との開環共重合体、又はそれらの水素化物;ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体、若しくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との付加共重合体、又はそれらの水素化物を挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン構造を有する単量体の開環(共)重合体水素化物は、成形性、耐熱性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などの観点から、特に好適である。ここで「(共)重合体」とは、重合体及び共重合体のことをいう。   Examples of the norbornene-based polymer include a ring-opening polymer of a monomer having a norbornene structure, a ring-opening copolymer of a monomer having a norbornene structure and another monomer, or a hydride thereof; An addition polymer of a monomer having a norbornene structure, an addition copolymer of a monomer having a norbornene structure and another monomer, or a hydride thereof can be given. Among these, a ring-opening (co) polymer hydride of a monomer having a norbornene structure is particularly suitable from the viewpoints of moldability, heat resistance, low hygroscopicity, dimensional stability, lightness, and the like. Here, “(co) polymer” refers to a polymer and a copolymer.

ノルボルネン構造を有する単量体としては、例えば、ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン(慣用名:ノルボルネン)、トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3,7−ジエン(慣用名:ジシクロペンタジエン)、7,8−ベンゾトリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン(慣用名:メタノテトラヒドロフルオレン)、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン(慣用名:テトラシクロドデセン)、およびこれらの化合物の誘導体(例えば、環に置換基を有するもの)などを挙げることができる。ここで、置換基としては、例えばアルキル基、アルキレン基、極性基などを挙げることができる。また、これらの置換基は、同一または相異なって、複数個が環に結合していてもよい。また、ノルボルネン構造を有する単量体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 Examples of the monomer having a norbornene structure include bicyclo [2.2.1] hept-2-ene (common name: norbornene), tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] deca-3,7. -Diene (common name: dicyclopentadiene), 7,8-benzotricyclo [4.3.0.1 2,5 ] dec-3-ene (common name: methanotetrahydrofluorene), tetracyclo [4.4. 0.1 2,5 . 17, 10 ] dodec-3-ene (common name: tetracyclododecene), and derivatives of these compounds (for example, those having a substituent in the ring). Here, examples of the substituent include an alkyl group, an alkylene group, and a polar group. Moreover, these substituents may be the same or different, and a plurality thereof may be bonded to the ring. Moreover, the monomer which has a norbornene structure may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

ノルボルネン構造を有する単量体と開環共重合可能な他の単量体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテンなどのモノ環状オレフィン類およびその誘導体;シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエンなどの環状共役ジエンおよびその誘導体;などが挙げられる。ノルボルネン構造を有する単量体と開環共重合可能な他の単量体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Other monomers capable of ring-opening copolymerization with a monomer having a norbornene structure include, for example, monocyclic olefins such as cyclohexene, cycloheptene, and cyclooctene and derivatives thereof; and cyclic conjugates such as cyclohexadiene and cycloheptadiene. Dienes and derivatives thereof; and the like. As the other monomer capable of ring-opening copolymerization with a monomer having a norbornene structure, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination at any ratio.

ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体、およびノルボルネン構造を有する単量体と共重合可能な他の単量体との開環共重合体は、例えば、単量体を公知の開環重合触媒の存在下に重合又は共重合することにより製造しうる。   A ring-opening polymer of a monomer having a norbornene structure and a ring-opening copolymer with another monomer copolymerizable with a monomer having a norbornene structure are, for example, a known ring-opening monomer. It can be produced by polymerization or copolymerization in the presence of a polymerization catalyst.

ノルボルネン構造を有する単量体と付加共重合可能な他の単量体としては、例えば、エチレン、プロピレン、1−ブテンなどの炭素原子数2〜20のα−オレフィンおよびこれらの誘導体;シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセンなどのシクロオレフィンおよびこれらの誘導体;1,4−ヘキサジエン、4−メチル−1,4−ヘキサジエン、5−メチル−1,4−ヘキサジエンなどの非共役ジエン;などが挙げられる。これらの中でも、α−オレフィンが好ましく、エチレンがより好ましい。また、ノルボルネン構造を有する単量体と付加共重合可能な他の単量体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Examples of the other monomer capable of addition copolymerization with a monomer having a norbornene structure include α-olefins having 2 to 20 carbon atoms such as ethylene, propylene and 1-butene, and derivatives thereof; cyclobutene and cyclopentene. And cycloolefins such as cyclohexene and derivatives thereof; non-conjugated dienes such as 1,4-hexadiene, 4-methyl-1,4-hexadiene, 5-methyl-1,4-hexadiene; and the like. Among these, α-olefin is preferable and ethylene is more preferable. Moreover, the other monomer which can carry out addition copolymerization with the monomer which has a norbornene structure may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体、およびノルボルネン構造を有する単量体と共重合可能な他の単量体との付加共重合体は、例えば、単量体を公知の付加重合触媒の存在下に重合又は共重合することにより製造しうる。   An addition polymer of a monomer having a norbornene structure and an addition copolymer of another monomer copolymerizable with the monomer having a norbornene structure are, for example, a known addition polymerization catalyst. It can be produced by polymerization or copolymerization in the presence.

単環の環状オレフィン系重合体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等の単環を有する環状オレフィン系モノマーの付加重合体を挙げることができる。   Examples of the monocyclic olefin polymer include addition polymers of a cyclic olefin monomer having a single ring such as cyclohexene, cycloheptene, and cyclooctene.

環状共役ジエン系重合体としては、例えば、1,3−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の共役ジエン系モノマーの付加重合体を環化反応して得られる重合体;シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン等の環状共役ジエン系モノマーの1,2−または1,4−付加重合体;およびこれらの水素化物;などを挙げることができる。   Examples of the cyclic conjugated diene polymer include polymers obtained by cyclization reaction of addition polymers of conjugated diene monomers such as 1,3-butadiene, isoprene and chloroprene; cyclic conjugates such as cyclopentadiene and cyclohexadiene. And 1,2- or 1,4-addition polymers of diene monomers; and their hydrides.

ビニル脂環式炭化水素系重合体としては、例えば、ビニルシクロヘキセン、ビニルシクロヘキサン等のビニル脂環式炭化水素系モノマーの重合体およびその水素化物;スチレン、α−メチルスチレン等のビニル芳香族炭化水素系モノマーを重合してなる重合体に含まれる芳香環部分を水素化してなる水素化物;ビニル脂環式炭化水素系モノマー、またはビニル芳香族炭化水素系モノマーとこれらビニル芳香族炭化水素系モノマーに対して共重合可能な他のモノマーとのランダム共重合体若しくはブロック共重合体等の共重合体の、芳香環の水素化物;等を挙げることができる。前記のブロック共重合体としては、例えば、ジブロック共重合体、トリブロック共重合体またはそれ以上のマルチブロック共重合体、並びに傾斜ブロック共重合体等を挙げることもできる。   Examples of vinyl alicyclic hydrocarbon polymers include polymers of vinyl alicyclic hydrocarbon monomers such as vinylcyclohexene and vinylcyclohexane and their hydrides; vinyl aromatic hydrocarbons such as styrene and α-methylstyrene. Hydrogenated product obtained by hydrogenating an aromatic ring portion contained in a polymer obtained by polymerizing a monomer, a vinyl alicyclic hydrocarbon monomer, or a vinyl aromatic hydrocarbon monomer and these vinyl aromatic hydrocarbon monomers. On the other hand, a hydride of an aromatic ring of a copolymer such as a random copolymer or a block copolymer with another copolymerizable monomer can be used. Examples of the block copolymer include a diblock copolymer, a triblock copolymer or a multi-block copolymer having more than that, a gradient block copolymer, and the like.

(メタ)アクリル樹脂は、(メタ)アクリル重合体を含む樹脂である。また、(メタ)アクリル重合体とは、(メタ)アクリル酸又は(メタ)アクリル酸誘導体の重合体を意味する。(メタ)アクリル重合体としては、例えば、アクリル酸、アクリル酸エステル、アクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリル酸及びメタクリル酸エステルなどの単独重合体及び共重合体が挙げられる。また、(メタ)アクリル重合体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。(メタ)アクリル樹脂は強度が高く硬いため、積層体の強度を高めることができる。   The (meth) acrylic resin is a resin containing a (meth) acrylic polymer. The (meth) acrylic polymer means a polymer of (meth) acrylic acid or a (meth) acrylic acid derivative. Examples of the (meth) acrylic polymer include homopolymers and copolymers such as acrylic acid, acrylic acid ester, acrylamide, acrylonitrile, methacrylic acid, and methacrylic acid ester. Moreover, a (meth) acrylic polymer may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios. Since the (meth) acrylic resin has high strength and is hard, the strength of the laminate can be increased.

(メタ)アクリル重合体としては、(メタ)アクリル酸エステルを重合して形成される構造単位を含む重合体が好ましい。(メタ)アクリル酸エステルとしては、例えば(メタ)アクリル酸のアルキルエステルが挙げられる。なかでも、(メタ)アクリル酸と炭素原子数1〜15のアルカノール又はシクロアルカノールから誘導される構造を有するものが好ましく、炭素原子数1〜8のアルカノールから誘導される構造を有するものがより好ましい。   As the (meth) acrylic polymer, a polymer containing a structural unit formed by polymerizing a (meth) acrylic acid ester is preferable. Examples of (meth) acrylic acid esters include alkyl esters of (meth) acrylic acid. Among them, those having a structure derived from (meth) acrylic acid and an alkanol having 1 to 15 carbon atoms or cycloalkanol are preferable, and those having a structure derived from an alkanol having 1 to 8 carbon atoms are more preferable. .

アクリル酸エステルの具体例としては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−プロピル、アクリル酸i−プロピル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸i−ブチル、アクリル酸sec−ブチル、アクリル酸t−ブチル、アクリル酸n−ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸n−オクチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸n−デシル、アクリル酸n−ドデシルなどが挙げられる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Specific examples of the acrylate ester include methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, i-propyl acrylate, n-butyl acrylate, i-butyl acrylate, sec-butyl acrylate, and t-acrylate. -Butyl, n-hexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, n-octyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, n-decyl acrylate, n-dodecyl acrylate, and the like. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio.

また、メタクリル酸エステルの具体例としては、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n−プロピル、メタクリル酸i−プロピル、メタクリル酸n−ブチル、メタクリル酸i−ブチル、メタクリル酸sec−ブチル、メタクリル酸t−ブチル、メタクリル酸n−ヘキシル、メタクリル酸n−オクチル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸n−デシル、メタクリル酸n−ドデシルなどが挙げられる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Specific examples of the methacrylic acid ester include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl methacrylate, i-propyl methacrylate, n-butyl methacrylate, i-butyl methacrylate, sec-butyl methacrylate, methacrylic acid. Examples thereof include t-butyl acid, n-hexyl methacrylate, n-octyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, n-decyl methacrylate, and n-dodecyl methacrylate. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio.

さらに、前記の(メタ)アクリル酸エステルは、本発明の効果を著しく損なわない範囲であれば、例えば水酸基、ハロゲン原子などの置換基を有していてもよい。そのような置換基を有する(メタ)アクリル酸エステルの例としては、アクリル酸2−ヒドロキシエチル、アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、アクリル酸4−ヒドロキシブチル、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸2−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸4−ヒドロキシブチル、メタクリル酸3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸グリシジルなどが挙げられる。また、これらの置換基は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Furthermore, the (meth) acrylic acid ester may have a substituent such as a hydroxyl group or a halogen atom as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. Examples of the (meth) acrylic acid ester having such a substituent include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-methacrylic acid 2- Examples include hydroxypropyl, 4-hydroxybutyl methacrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl methacrylate, and glycidyl methacrylate. Moreover, these substituents may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

また、(メタ)アクリル重合体は、(メタ)アクリル酸又は(メタ)アクリル酸誘導体のみの重合体であってもよく、(メタ)アクリル酸又は(メタ)アクリル酸誘導体とこれに共重合可能な任意の単量体との共重合体でもよい。任意の単量体としては、例えば、(メタ)アクリル酸エステル以外のα,β−エチレン性不飽和カルボン酸エステル単量体、並びに、α,β−エチレン性不飽和カルボン酸単量体、アルケニル芳香族単量体、共役ジエン単量体、非共役ジエン単量体、カルボン酸不飽和アルコールエステル、およびオレフィン単量体などが挙げられる。また、任意の単量体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Further, the (meth) acrylic polymer may be a polymer of only (meth) acrylic acid or (meth) acrylic acid derivatives, and can be copolymerized with (meth) acrylic acid or (meth) acrylic acid derivatives. It may be a copolymer with any arbitrary monomer. Examples of the optional monomer include α, β-ethylenically unsaturated carboxylic acid ester monomers other than (meth) acrylic acid esters, α, β-ethylenically unsaturated carboxylic acid monomers, and alkenyls. Aromatic monomers, conjugated diene monomers, non-conjugated diene monomers, carboxylic acid unsaturated alcohol esters, olefin monomers, and the like can be mentioned. Moreover, arbitrary monomers may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

ただし、(メタ)アクリル重合体において、(メタ)アクリル酸又は(メタ)アクリル酸誘導体を重合して形成される構造を有する構造単位の割合は、好ましくは55重量%以上、さらに好ましくは70重量%以上、特に好ましくは90重量%以上である。   However, the proportion of structural units having a structure formed by polymerizing (meth) acrylic acid or (meth) acrylic acid derivatives in the (meth) acrylic polymer is preferably 55% by weight or more, more preferably 70% by weight. % Or more, particularly preferably 90% by weight or more.

これらのアクリル重合体のうち、ポリメタクリレートが好ましく、中でもポリメチルメタクリレートがより好ましい。   Of these acrylic polymers, polymethacrylate is preferred, and polymethyl methacrylate is more preferred.

ポリカーボネート樹脂は、ポリカーボネート重合体を含有する樹脂である。また、ポリカーボネート重合体は、カーボネート結合(−O−C(=O)−O−)により結合された構造単位を有する重合体である。ポリカーボネート重合体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   The polycarbonate resin is a resin containing a polycarbonate polymer. The polycarbonate polymer is a polymer having structural units bonded by a carbonate bond (—O—C (═O) —O—). A polycarbonate polymer may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

中でもポリカーボネート重合体としては、下記式(I)に示す構造単位を含むものが好ましい。下記式(I)に示す構造単位は、例えば、ビスフェノールZを重合して形成されうる。このようなポリカーボネート重合体を含有する樹脂としては、例えば、SABIC社製のレキサン等が挙げられる。   Among them, the polycarbonate polymer is preferably one containing a structural unit represented by the following formula (I). The structural unit represented by the following formula (I) can be formed by polymerizing bisphenol Z, for example. Examples of such a resin containing a polycarbonate polymer include Lexan manufactured by SABIC.

Figure 0006286843
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式(I)において、R〜Rは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を示す。また、アルキル基、シクロアルキル基及びアリール基は、置換されていてもよく、無置換でもよい。さらに、アルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基の炭素原子数は、通常1〜10である。
式(I)において、Rは、水素原子、または、アルキル基若しくはアリール基を示す。ここで、アルキル基及びアリール基の炭素原子数は、通常1〜9である。
式(I)において、Zは、それが結合している炭素原子と一緒になって、炭素原子数4〜11の飽和若しくは不飽和の炭素環を形成する残基である。中でも、Zとしては、炭素原子数が6の飽和炭素環であることが好ましい。
In formula (I), R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group. The alkyl group, cycloalkyl group, and aryl group may be substituted or unsubstituted. Furthermore, the number of carbon atoms of the alkyl group, cycloalkyl group, or aryl group is usually 1-10.
In the formula (I), R 9 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. Here, the carbon atom number of an alkyl group and an aryl group is 1-9 normally.
In formula (I), Z is a residue that, together with the carbon atom to which it is attached, forms a saturated or unsaturated carbocycle having 4 to 11 carbon atoms. Among them, Z is preferably a saturated carbocyclic ring having 6 carbon atoms.

上述したものの中でも、R(もしくはR)は、炭素原子数1〜10のアルキル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。また、R(もしくはR)は、炭素原子数1〜10のアルキル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
中でも、式(I)に示す構造単位は、化学式(II)で示す構造単位(ビスフェノールZ単位)であることが特に好ましい。
Among those described above, R 1 (or R 3 ) is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and more preferably a methyl group. R 6 (or R 8 ) is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and more preferably a methyl group.
Among them, the structural unit represented by the formula (I) is particularly preferably a structural unit represented by the chemical formula (II) (bisphenol Z unit).

Figure 0006286843
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ポリカーボネート重合体としては、式(I)に示す構造単位に加えて、下記式(III)に示す構造単位を更に含むものが好ましい。下記式(III)に示す構造単位は、例えば、ビスフェノールAを重合して形成されうる。中でも、この式(III)に示す構造単位が、式(IV)又は(V)に示す構造単位であることがより好ましい。   As the polycarbonate polymer, those further containing a structural unit represented by the following formula (III) in addition to the structural unit represented by the formula (I) are preferable. The structural unit represented by the following formula (III) can be formed by polymerizing bisphenol A, for example. Among these, the structural unit represented by the formula (III) is more preferably a structural unit represented by the formula (IV) or (V).

Figure 0006286843
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化学式(III)において、R10〜R17は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基である。ここで、アルキル基、シクロアルキル基及びアリール基は、置換されていてもよく、無置換でもよい。さらに、アルキル基、シクロアルキル基及びアリール基の炭素原子数は、通常1〜10である。 In the chemical formula (III), R 10 to R 17 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group. Here, the alkyl group, cycloalkyl group, and aryl group may be substituted or unsubstituted. Furthermore, the carbon atom number of an alkyl group, a cycloalkyl group, and an aryl group is 1-10 normally.

Figure 0006286843
Figure 0006286843

Figure 0006286843
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式(I)に示す構造単位と式(III)に示す構造単位の組み合わせにおいて、式(I)に示す構造単位1モルに対して、式(III)に示す構造単位の量は、好ましくは0.6モル以上であり、また、好ましくは1.5モル以下である。これにより、支持体として、耐熱性、屈曲性に優れたフィルムを形成することができる。   In the combination of the structural unit represented by the formula (I) and the structural unit represented by the formula (III), the amount of the structural unit represented by the formula (III) is preferably 0 with respect to 1 mol of the structural unit represented by the formula (I). .6 mol or more, and preferably 1.5 mol or less. Thereby, a film excellent in heat resistance and flexibility can be formed as a support.

また、ポリカーボネート重合体は、式(I)又は式(III)に示す構造単位以外の任意の構造単位を含んでいてもよい。ただし、ポリカーボネート重合体において、式(I)又は式(III)に示す構造単位の割合は、好ましくは55重量%以上、さらに好ましくは70重量%以上、特に好ましくは90重量%以上である。   Moreover, the polycarbonate polymer may contain arbitrary structural units other than the structural unit shown in Formula (I) or Formula (III). However, in the polycarbonate polymer, the proportion of the structural unit represented by formula (I) or formula (III) is preferably 55% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, and particularly preferably 90% by weight or more.

(メタ)アクリル酸エステル−ビニル芳香族化合物共重合体樹脂は、(メタ)アクリル酸エステルとビニル芳香族化合物の共重合体を含む樹脂である。(メタ)アクリル酸エステルとビニル芳香族化合物は、1種類ずつで用いてもよく、2種類以上ずつを任意の比率で組み合わせて共重合したものでもよい。また、前記の共重合体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   The (meth) acrylic acid ester-vinyl aromatic compound copolymer resin is a resin containing a copolymer of a (meth) acrylic acid ester and a vinyl aromatic compound. The (meth) acrylic acid ester and the vinyl aromatic compound may be used one by one or may be copolymerized by combining two or more of them at an arbitrary ratio. Moreover, the said copolymer may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

(メタ)アクリル酸エステルとしては、例えば、(メタ)アクリル樹脂の説明において挙げた例示物と同様のものが挙げられる。また、(メタ)アクリル酸エステルは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Examples of the (meth) acrylic acid ester include the same examples as those exemplified in the description of the (meth) acrylic resin. Moreover, (meth) acrylic acid ester may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

ビニル芳香族化合物としては、例えばエチレン性不飽和結合を有する芳香族単量体が挙げられる。その具体例としては、スチレン、o−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−tert−ブチルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、2,5−ジメチルスチレン、α−メチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセンを挙げることができる。また、ビニル芳香族化合物は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Examples of vinyl aromatic compounds include aromatic monomers having an ethylenically unsaturated bond. Specific examples thereof include styrene, o-methylstyrene, p-methylstyrene, p-tert-butylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, 2,5-dimethylstyrene, α-methylstyrene, vinylnaphthalene, and vinylanthracene. Can be mentioned. Moreover, a vinyl aromatic compound may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

(メタ)アクリル酸エステルとビニル芳香族化合物との重合比は、共重合体の耐熱性、透明性及び強度の観点から、(メタ)アクリル酸エステル1重量%〜80重量%、ビニル芳香族化合物20重量%〜99重量%としうる。(メタ)アクリル酸エステルの量を1重量%以上にすることにより共重合体の強度、耐熱性及び透明性を充分に高めることができ、80重量%以下とすることにより(メタ)アクリル酸エステル−ビニル芳香族化合物共重合体樹脂の成形加工性を良好にできる。   The polymerization ratio of (meth) acrylic acid ester to vinyl aromatic compound is 1% to 80% by weight of (meth) acrylic acid ester, vinyl aromatic compound from the viewpoint of heat resistance, transparency and strength of the copolymer. It may be 20% to 99% by weight. By making the amount of (meth) acrylic acid ester 1% by weight or more, the strength, heat resistance and transparency of the copolymer can be sufficiently increased, and by making it 80% by weight or less, (meth) acrylic acid ester -The moldability of the vinyl aromatic compound copolymer resin can be improved.

(メタ)アクリル酸エステルとビニル芳香族化合物の共重合体は、(メタ)アクリル酸エステル及びビニル芳香族化合物以外の任意の単量体を更に重合した共重合体であってもよい。任意の単量体としては、例えば、共役ジエン化合物を挙げることができる。共役ジエン化合物の具体例としては、1,3−ブタジエン、2−メチル−1,3−ブタジエン(イソプレン)、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、1,3−ペンタジエン、1,3−ヘキサジエンなどが挙げられ、特に好ましくは1,3−ブタジエン、イソプレンである。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。ただし、この共重合体において、(メタ)アクリル酸エステル又はビニル芳香族化合物を重合して形成される構造を有する構造単位の割合は、好ましくは55重量%以上、さらに好ましくは70重量%以上、特に好ましくは90重量%以上である。   The copolymer of (meth) acrylic acid ester and vinyl aromatic compound may be a copolymer obtained by further polymerizing any monomer other than (meth) acrylic acid ester and vinyl aromatic compound. As an arbitrary monomer, a conjugated diene compound can be mentioned, for example. Specific examples of the conjugated diene compound include 1,3-butadiene, 2-methyl-1,3-butadiene (isoprene), 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, 1,3-pentadiene, 1,3- Examples include hexadiene, and particularly preferred are 1,3-butadiene and isoprene. One of these may be used alone, or two or more thereof may be used in combination at any ratio. However, in this copolymer, the proportion of structural units having a structure formed by polymerizing (meth) acrylic acid ester or vinyl aromatic compound is preferably 55% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, Especially preferably, it is 90 weight% or more.

ポリエーテルスルホン樹脂は、ポリエーテルスルホン重合体を含む樹脂である。また、ポリエーテルスルホン重合体は、主鎖が芳香族ビスフェノールとジハロゲノアリールスルホンとの縮合構造で結ばれた重合体である。ポリエーテルスルホン重合体は、例えば、芳香族ビスフェノールとジハロゲノアリールスルホンとを塩基性触媒の存在下に溶液重合法或いは溶融重合法等の重合方法で重縮合させて得ることができる。ポリエーテルスルホン重合体は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   The polyethersulfone resin is a resin containing a polyethersulfone polymer. The polyethersulfone polymer is a polymer in which the main chain is linked by a condensed structure of aromatic bisphenol and dihalogenoarylsulfone. The polyethersulfone polymer can be obtained, for example, by polycondensing aromatic bisphenol and dihalogenoarylsulfone in the presence of a basic catalyst by a polymerization method such as a solution polymerization method or a melt polymerization method. A polyether sulfone polymer may be used individually by 1 type, and may be used combining 2 or more types by arbitrary ratios.

芳香族ビスフェノールとしては、例えば、ヒドロキノン、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−t−ブチルフェニル)プロパン、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、1,3−ビス{2−(4−ヒドロキシフェニル)プロピル}ベンゼン、1,4−ビス{2−(4−ヒドロキシフェニル)プロピル}ベンゼン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1,1−3,3,3−ヘキサフルオロプロパン等を挙げることができる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Examples of the aromatic bisphenol include hydroquinone, 4,4′-dihydroxybiphenyl, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethyl. Cyclohexane, bis (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) butane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1 -Phenylethane, bis (4-hydroxyphenyl) diphenylmethane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane, 2,2-bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2 -Bis (4-hydroxy-3-tert-butylphenyl) propane, 9,9-bis (4-hydro) Ciphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene, 1,3-bis {2- (4-hydroxyphenyl) propyl} benzene, 1,4-bis {2- (4- Hydroxyphenyl) propyl} benzene, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -1,1,1-3,3,3-hexafluoropropane and the like. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio.

また、ジハロゲノ化合物としては、例えば、ビス(4−クロロフェニル)スルホン、ビス(4−フルオロフェニル)スルホン、ビス(4−ブロモフェニル)スルホン、4−クロロ−4’−(p−クロロフェニル)ジフェニルスルホン、4−フルオロ−4’−(p−フルオロフェニル)ジフェニルスルホン、4−ブロモ−4’−(p−ブロモフェニル)ジフェニルスルホン、ビス(4’−クロロビフェニル)スルホン、ビス(4’−フルオロビフェニル)スルホン、ビス(4’−ブロモビフェニル)スルホン、ビス(6−クロロビナフチル)スルホン、ビス(6−フルオロビナフチル)スルホン、ビス(6−ブロモビナフチル)スルホン、ビス(4−クロロ−3−メチルフェニル)スルホン、ビス(4−フルオロ−3−メチルフェニル)スルホン、ビス(4−ブロモ−3−メチルフェニル)スルホン、ビス(3−フェニル−4−クロロフェニル)スルホン、ビス(3−フェニル−4−フルオロフェニル)スルホン、ビス(3−フェニル−4−ブロモフェニル)スルホン、ビス(4−クロロ−3−t−ブチルフェニル)スルホン、ビス(4−フルオロ−3−t−ブチルフェニル)スルホン、ビス(4−ブロモ−3−t−ブチルフェニル)スルホン等を挙げることができる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Examples of the dihalogeno compound include bis (4-chlorophenyl) sulfone, bis (4-fluorophenyl) sulfone, bis (4-bromophenyl) sulfone, 4-chloro-4 ′-(p-chlorophenyl) diphenylsulfone, 4-fluoro-4 '-(p-fluorophenyl) diphenylsulfone, 4-bromo-4'-(p-bromophenyl) diphenylsulfone, bis (4'-chlorobiphenyl) sulfone, bis (4'-fluorobiphenyl) Sulfone, bis (4′-bromobiphenyl) sulfone, bis (6-chlorobinaphthyl) sulfone, bis (6-fluorobinaphthyl) sulfone, bis (6-bromobinaphthyl) sulfone, bis (4-chloro-3-methylphenyl) Sulfone, bis (4-fluoro-3-methylphenyl) sulfo Bis (4-bromo-3-methylphenyl) sulfone, bis (3-phenyl-4-chlorophenyl) sulfone, bis (3-phenyl-4-fluorophenyl) sulfone, bis (3-phenyl-4-bromophenyl) Examples include sulfone, bis (4-chloro-3-tert-butylphenyl) sulfone, bis (4-fluoro-3-tert-butylphenyl) sulfone, and bis (4-bromo-3-tert-butylphenyl) sulfone. Can do. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio.

ポリエーテルスルホン重合体は、芳香族ビスフェノール及びジハロゲノアリールスルホン以外の単量体を重合して形成される構造を有する任意の構造単位を含んでいてもよい。ただし、この共重合体において、芳香族ビスフェノール及びジハロゲノアリールスルホンを重合して形成される構造を有する構造単位の割合は、好ましくは55重量%以上、さらに好ましくは70重量%以上、特に好ましくは90重量%以上である。   The polyethersulfone polymer may contain an arbitrary structural unit having a structure formed by polymerizing monomers other than aromatic bisphenol and dihalogenoarylsulfone. However, in this copolymer, the proportion of structural units having a structure formed by polymerizing aromatic bisphenol and dihalogenoaryl sulfone is preferably 55% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, particularly preferably. 90% by weight or more.

支持体を形成する材料となる樹脂は、上述した重合体以外に任意の成分を含みうる。ただし、支持体を形成する材料となる樹脂における上述した重合体の割合は、好ましくは50重量%以上、より好ましくは80重量%以上、特に好ましくは90重量%以上である。   The resin used as the material for forming the support may contain an optional component other than the above-described polymer. However, the ratio of the above-described polymer in the resin that is a material for forming the support is preferably 50% by weight or more, more preferably 80% by weight or more, and particularly preferably 90% by weight or more.

例えば、支持体が(メタ)アクリル樹脂である場合、その(メタ)アクリル樹脂はゴム粒子を含みうる。ゴム粒子を含むことにより、(メタ)アクリル樹脂の可撓性を高め、積層体の耐衝撃性を向上させることができる。また、必要に応じてゴム粒子によって(メタ)アクリル樹脂の層の表面の表面粗さを粗くして、その表面における接触面積を減少させて、その表面の滑り性を高めることができる。支持体においては、機能層側の表面は表面粗さが小さいことが好ましく、したがって、機能層とは反対側の表面の表面粗さを粗くすることが好ましい。   For example, when the support is a (meth) acrylic resin, the (meth) acrylic resin can include rubber particles. By including the rubber particles, the flexibility of the (meth) acrylic resin can be increased, and the impact resistance of the laminate can be improved. Further, if necessary, the surface roughness of the (meth) acrylic resin layer can be increased with rubber particles, the contact area on the surface can be reduced, and the slipperiness of the surface can be enhanced. In the support, the surface on the functional layer side preferably has a small surface roughness, and therefore, the surface roughness on the surface opposite to the functional layer is preferably roughened.

ゴム粒子を形成するゴムとしては、例えば、アクリル酸エステル重合体ゴム、ブタジエンを主成分とする重合体ゴム、エチレン−酢酸ビニル共重合体ゴム等が挙げられる。アクリル酸エステル重合体ゴムとしては、例えば、ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート等を単量体単位の主成分とするものが挙げられる。これらの中でも、ブチルアクリレートを主成分としたアクリル酸エステル重合体ゴム及びブタジエンを主成分とする重合体ゴムが好ましい。   Examples of the rubber forming the rubber particles include acrylate polymer rubber, polymer rubber mainly composed of butadiene, and ethylene-vinyl acetate copolymer rubber. Examples of the acrylate polymer rubber include those having butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate or the like as a main component of a monomer unit. Among these, acrylic acid ester polymer rubber mainly composed of butyl acrylate and polymer rubber mainly composed of butadiene are preferable.

また、ゴム粒子には、1種類のゴムが単独で含まれていてもよく、2種類以上のゴムが含まれていてもよい。また、それらのゴムは、均一に混ぜ合わせられていてもよいが、層状になったものであってもよい。ゴムが層状になったゴム粒子の例としては、ブチルアクリレート等のアルキルアクリレートとスチレンとをグラフト化したゴム弾性成分からなるコアと、ポリメチルメタクリレート及びメチルメタクリレートの一方又は両方とアルキルアクリレートとの共重合体からなる硬質樹脂層(シェル)とが、コア−シェル構造で層を形成している粒子が挙げられる。   Further, the rubber particles may contain one type of rubber alone or two or more types of rubber. Further, these rubbers may be mixed uniformly, but may be layered. Examples of rubber particles in which rubber is layered include a core composed of a rubber elastic component obtained by grafting an alkyl acrylate such as butyl acrylate and styrene, and one or both of polymethyl methacrylate and methyl methacrylate and an alkyl acrylate. Examples thereof include particles in which a hard resin layer (shell) made of a polymer forms a layer with a core-shell structure.

ゴム粒子は、数平均粒子径が、0.05μm以上であることが好ましく、0.1μm以上であることがより好ましく、また、0.3μm以下であることが好ましく、0.25μm以下であることがより好ましい。数平均粒子径を前記範囲内とすることにより、(メタ)アクリル樹脂の層の表面に適度な凹凸を形成して、積層体の滑り性を向上させることができる。   The rubber particles preferably have a number average particle diameter of 0.05 μm or more, more preferably 0.1 μm or more, and preferably 0.3 μm or less, and 0.25 μm or less. Is more preferable. By setting the number average particle diameter within the above range, moderate unevenness can be formed on the surface of the (meth) acrylic resin layer, and the slipperiness of the laminate can be improved.

ゴム粒子の量は、(メタ)アクリル重合体100重量部に対して、好ましくは5重量部以上であり、好ましくは50重量部以下である。ゴム粒子の量を前記範囲内とすることにより積層体の耐衝撃性を高めてハンドリング性を向上させることができる。   The amount of the rubber particles is preferably 5 parts by weight or more and preferably 50 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the (meth) acrylic polymer. By setting the amount of the rubber particles within the above range, the impact resistance of the laminate can be increased and the handling property can be improved.

また、支持体を形成する材料となる樹脂が含みうる任意の成分としては、例えば、配合剤が挙げられる。配合剤の例を挙げると、層状結晶化合物;微粒子;酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、近赤外線吸収剤等の安定剤;可塑剤:染料及び顔料等の着色剤;帯電防止剤;などが挙げられる。また、配合剤は、1種類を用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。配合剤の量は、本発明の効果を著しく損なわない範囲で適切に定めうるものであり、例えば、上述した重合体100重量部に対して、10重量部以下が好ましく、5重量部以下がより好ましく、3重量部以下が更に好ましい。   Moreover, as an arbitrary component which resin which becomes the material which forms a support body can contain, a compounding agent is mentioned, for example. Examples of compounding agents are layered crystal compounds; fine particles; antioxidants, heat stabilizers, light stabilizers, weathering stabilizers, UV absorbers, near infrared absorbers and other stabilizers; plasticizers: dyes and pigments, etc. Colorants; antistatic agents; and the like. Moreover, a compounding agent may use one type and may use it combining two or more types by arbitrary ratios. The amount of the compounding agent can be appropriately determined within a range that does not significantly impair the effects of the present invention. For example, the amount is preferably 10 parts by weight or less, more preferably 5 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the polymer. Preferably, 3 parts by weight or less is more preferable.

支持体を構成する材料のガラス転移温度Tgは、機能層を構成する非液晶性材料のガラス転移温度に応じて設定することが好ましい。具体的には、支持体の材料のガラス転移温度Tgと、機能層を形成する非液晶性材料のガラス転移温度との差は、好ましくは−15℃以上、より好ましくは−10℃以上、特に好ましくは−5℃以上であり、好ましくは+15℃以下、より好ましくは+10℃以下であり、特に好ましくは+5℃以下である。複層フィルムにおいて各層を形成する材料のガラス転移温度の差を前記の範囲にすることにより、延伸処理時の支持体に対する機能層の追随性を損なうことなく、延伸処理することができる。またこれにより、MD方向及びTD方向の両方において、機能層において均一な延伸処理を施すことができる。 The glass transition temperature Tg S of the material constituting the support is preferably set according to the glass transition temperature of the non-liquid crystalline material constituting the functional layer. Specifically, the difference between the glass transition temperature Tg S of the support material and the glass transition temperature of the non-liquid crystalline material forming the functional layer is preferably −15 ° C. or higher, more preferably −10 ° C. or higher, Particularly preferably, it is −5 ° C. or more, preferably + 15 ° C. or less, more preferably + 10 ° C. or less, and particularly preferably + 5 ° C. or less. By making the difference in the glass transition temperature of the material forming each layer in the multilayer film within the above range, the stretching treatment can be performed without impairing the followability of the functional layer with respect to the support during the stretching treatment. Thereby, a uniform stretching process can be performed in the functional layer in both the MD direction and the TD direction.

支持体としては、必要に応じて、例えば親水化処理、疎水化処理、支持体の溶解性を低減する処理等の表面処理を施したものを用いうる。   As the support, those subjected to a surface treatment such as a hydrophilization treatment, a hydrophobization treatment, or a treatment for reducing the solubility of the support may be used as necessary.

支持体は、1層のみで形成された単層構造を有していてもよく、2層以上の層を含む複層構造を有していてもよい。   The support may have a single layer structure formed of only one layer, or may have a multilayer structure including two or more layers.

本発明の複層フィルムにおける支持体の厚みは、好ましくは10μm以上、より好ましくは20μm以上、特に好ましくは30μm以上であり、好ましくは200μm以下、より好ましくは150μm以下、特に好ましくは100μm以下である。支持体の厚みを前記範囲内とすることにより、複層フィルムを延伸して、所望の性質を有する位相差フィルム積層体を容易に得ることができる。   The thickness of the support in the multilayer film of the present invention is preferably 10 μm or more, more preferably 20 μm or more, particularly preferably 30 μm or more, preferably 200 μm or less, more preferably 150 μm or less, particularly preferably 100 μm or less. . By setting the thickness of the support within the above range, the multilayer film can be stretched to easily obtain a retardation film laminate having desired properties.

[1.2.機能層]
機能層は、所定の溶液の塗膜から前記溶剤を乾燥により除去してなる層である。機能層は、所定の溶液を支持体上に塗工して塗膜を得、この塗膜から溶剤を乾燥により除去することにより形成しうる。
機能層の形成に用いる溶液は、非液晶性材料と、1種類又は2種類以上の溶剤とを含む。従って、機能層は、非液晶性材料から実質的になる層としうる。
非液晶性材料としては、通常、正の固有複屈折性を有する材料を用いる。正の固有複屈折性を有する材料を用いることにより、偏光板の材料として有用な光学的特性を有する機能層を容易に得ることができる。
非液晶性材料は、液晶性材料とは異なり、支持体の表面に塗工した場合に、支持体の配向性に関係なく、非液晶性材料自身の性質により、透明な無配向層を形成することができる。その後、複層フィルムを延伸することで、任意の延伸方向と同方向に配向した機能層を形成することができる。このため、前記の支持体は、未配向性のものであっても、例えばその表面に配向膜を塗工する工程及び配向膜を積層する工程等を要しない。また、液晶性材料の配向処理に相当する処理を行わなくても、容易に配向した機能層を得ることができる。
[1.2. Functional layer]
The functional layer is a layer formed by removing the solvent from the coating film of a predetermined solution by drying. The functional layer can be formed by applying a predetermined solution on a support to obtain a coating film, and removing the solvent from the coating film by drying.
The solution used for forming the functional layer contains a non-liquid crystalline material and one or more solvents. Therefore, the functional layer can be a layer substantially made of a non-liquid crystalline material.
As the non-liquid crystalline material, a material having positive intrinsic birefringence is usually used. By using a material having positive intrinsic birefringence, a functional layer having optical characteristics useful as a material for a polarizing plate can be easily obtained.
Unlike liquid crystalline materials, non-liquid crystalline materials form a transparent non-oriented layer when coated on the surface of the support, depending on the properties of the non-liquid crystalline material itself, regardless of the orientation of the support. be able to. Thereafter, by stretching the multilayer film, a functional layer oriented in the same direction as an arbitrary stretching direction can be formed. For this reason, even if the said support body is a non-orientation thing, the process of coating an orientation film on the surface, the process of laminating | stacking an orientation film, etc. are not required, for example. Further, an oriented functional layer can be easily obtained without performing a treatment corresponding to the orientation treatment of the liquid crystalline material.

[1.2.1.非液晶性材料]
非液晶性材料としては、通常、正の固有複屈折性を有する樹脂を用いる。また、この樹脂としては、通常、透明の樹脂を用いる。このような樹脂のうち好適な例としては、耐熱性、耐薬品性、透明性に優れ、剛性にも富むことから、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、マレイミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステルイミド樹脂、ポリウレタンウレア樹脂などが挙げられる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。また、2種類以上の樹脂を組み合わせる場合、例えばポリエーテルケトン樹脂とポリアミド樹脂との混合物のように、異なる官能基を有する樹脂を組み合わせて用いてもよい。このような樹脂の中でも、ポリイミド樹脂、マレイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタンウレア樹脂及びこれらの混合物からなる群より選択される樹脂が好ましい。特に、溶剤及び支持体との関係を、本発明における所望の関係とすることが容易である観点から、ポリカーボネート樹脂及びマレイミド樹脂が特に好ましい。具体例としては、例えば特許第3962034号公報、特許3897743号公報、特許3838522号公報、特許3811175号公報に記載のものが挙げられる。
[1.2.1. Non-liquid crystalline material]
As the non-liquid crystal material, a resin having positive intrinsic birefringence is usually used. Further, as this resin, a transparent resin is usually used. Preferred examples of such resins include polyamide resins, polyimide resins, maleimide resins, polyester resins, polyetherketone resins, polyamideimides because of their excellent heat resistance, chemical resistance, transparency, and rigidity. Resins, polycarbonate resins, polyester imide resins, polyurethane urea resins and the like can be mentioned. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio. When two or more kinds of resins are combined, resins having different functional groups such as a mixture of a polyether ketone resin and a polyamide resin may be used in combination. Among such resins, resins selected from the group consisting of polyimide resins, maleimide resins, polyamideimide resins, polycarbonate resins, polyester resins, polyurethaneurea resins, and mixtures thereof are preferred. In particular, a polycarbonate resin and a maleimide resin are particularly preferable from the viewpoint of easily making the relationship between the solvent and the support a desired relationship in the present invention. Specific examples include those described in Japanese Patent No. 3962034, Japanese Patent No. 3897743, Japanese Patent No. 3838522, and Japanese Patent No. 3811175.

好ましいポリイミド樹脂としては、例えば、面内配向性が高く、有機溶剤に可溶なポリイミドを含む樹脂が好ましい。具体的には、例えば、特表2000−511296号公報に開示された、9,9−ビス(アミノアリール)フルオレンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮合重合生成物を含み、下記式(VI)に示す構造単位を1つ以上含むポリイミドを含む樹脂が好ましい。   As a preferable polyimide resin, for example, a resin containing a polyimide having a high in-plane orientation and soluble in an organic solvent is preferable. Specifically, for example, it includes a condensation polymerization product of 9,9-bis (aminoaryl) fluorene and an aromatic tetracarboxylic dianhydride disclosed in JP 2000-511296 A, and has the following formula ( Resins containing polyimide containing one or more structural units shown in VI) are preferred.

Figure 0006286843
Figure 0006286843

式(VI)において、R1aは、各々独立に、水素原子;ハロゲン原子;フェニル基;1〜4個の、ハロゲン原子又は炭素原子数1〜10のアルキル基で置換された、フェニル基;並びに、炭素原子数1〜10のアルキル基;とからなる群より選択される基を示す。中でもR1aとしては、ハロゲン原子;フェニル基;1〜4個の、ハロゲン原子又は炭素原子数1〜10のアルキル基で置換された、フェニル基;並びに、炭素原子数1〜10のアルキル基;とから選択されるものが好ましい。 In formula (VI), each R 1a independently represents a hydrogen atom; a halogen atom; a phenyl group; a phenyl group substituted with 1 to 4 halogen atoms or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; and And a group selected from the group consisting of: an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; Among them, as R 1a , a halogen atom; a phenyl group; a phenyl group substituted with 1 to 4 halogen atoms or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; Are preferably selected from.

式(VI)において、Aは、炭素原子数6〜20の四置換芳香族基を示す。中でもAとしては、下記の(1)〜(3)のいずれかの基が好ましい。
(1)ピロメリット酸の4つのカルボキシル基からそれぞれ水素原子を除いた構造の4価の基。
(2)ナフチレン、フルオレニレン、ベンゾフルオレニレン、アントラセニレン等の多環式芳香族化合物から4つの水素原子を除いた構造の4価の基、およびその置換誘導体。ここで、置換基は、炭素原子数1〜10アルキル基及びそのフッ素化誘導体、並びに、フッ素又は塩素等のハロゲン原子である。
(3)式(VII)で表される基。
In the formula (VI), A a represents a tetrasubstituted aromatic group having 6 to 20 carbon atoms. Among these Examples A a, preferably any of the groups of the following (1) to (3).
(1) A tetravalent group having a structure in which a hydrogen atom is removed from each of four carboxyl groups of pyromellitic acid.
(2) A tetravalent group having a structure in which four hydrogen atoms are removed from a polycyclic aromatic compound such as naphthylene, fluorenylene, benzofluorenylene, anthracenylene, or the like, and a substituted derivative thereof. Here, the substituent is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and a fluorinated derivative thereof, and a halogen atom such as fluorine or chlorine.
(3) A group represented by the formula (VII).

Figure 0006286843
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式(VII)において、Bは、共有結合、C(R2a基、CO基、O原子、S原子、SO基、Si(C基、N(R3a基及びこれらの組み合わせを示す。R2aは、各々独立に、水素原子またはC(R4a基を示す。R3aは、各々独立に、水素原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、または、炭素原子数6〜20のアリール基を示す。R4aは、各々独立に、水素原子、フッ素原子又は塩素原子を示す。また、式(VII)においてmは、1〜10の整数を示す。 In the formula (VII), Ba is a covalent bond, C (R 2a ) 2 group, CO group, O atom, S atom, SO 2 group, Si (C 2 H 5 ) 2 group, N (R 3a ) 2 Groups and combinations thereof are shown. R 2a independently represents a hydrogen atom or a C (R 4a ) 3 group. R 3a independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. R 4a independently represents a hydrogen atom, a fluorine atom or a chlorine atom. In formula (VII), m represents an integer of 1 to 10.

好ましいマレイミド樹脂としては、例えば、式(VIII)で示す重合体を含む樹脂が挙げられる。   Preferred maleimide resins include, for example, resins containing a polymer represented by formula (VIII).

Figure 0006286843
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式(VIII)において、RおよびQは、各々独立に、置換あるいは無置換の脂肪族基、芳香族基、複素環基、シロキサン基又は不飽和炭化水素基を示す。
式(VIII)において、Xは、活性エネルギー線硬化あるいは熱硬化が可能なマレイミド基を示す。
In the formula (VIII), R b and Q b each independently represent a substituted or unsubstituted aliphatic group, aromatic group, heterocyclic group, siloxane group or unsaturated hydrocarbon group.
In the formula (VIII), Xb represents a maleimide group capable of active energy ray curing or heat curing.

式(VIII)で示す重合体の中でも、下記の式(IX)又は式(X)で示される構造を有する重合体が好ましい。式(IX)及び式(X)において、nは、各々独立に、1以上10以下の整数を示す。   Among the polymers represented by the formula (VIII), a polymer having a structure represented by the following formula (IX) or formula (X) is preferable. In the formula (IX) and the formula (X), n independently represents an integer of 1 or more and 10 or less.

Figure 0006286843
Figure 0006286843

Figure 0006286843
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さらに、マレイミド樹脂としては、米国特許出願公開第2008/0075961号公報に記載の化合物を挙げることができる。
これらのマレイミド樹脂は、例えば、エア・ブラウン社より入手することができる。
Furthermore, examples of the maleimide resin include compounds described in US Patent Application Publication No. 2008/0075961.
These maleimide resins can be obtained from, for example, Air Brown.

ポリアミドイミド樹脂及びポリエステル樹脂としては、例えば、特表平10−508048号公報に記載されるポリアミド樹脂及びポリエステル樹脂があげられる。これらのポリアミドイミド樹脂又はポリエステル樹脂が含むポリアミドイミド又はポリエステルが含む構造単位は、例えば、下記化学式(XI)で示される。   Examples of the polyamideimide resin and the polyester resin include polyamide resins and polyester resins described in JP-T-10-508048. The structural unit contained in the polyamideimide or polyester contained in these polyamideimide resin or polyester resin is represented, for example, by the following chemical formula (XI).

Figure 0006286843
Figure 0006286843

式(XI)において、Yは、−O−又は−NH−を示す。
式(XI)において、Eは、各々独立に、共有結合、炭素原子数2のアルキレン基、ハロゲン化された炭素原子数2のアルキレン基、CH基、C(CX 基(ここで、Xはハロゲン原子又は水素原子である。)、CO基、O原子、S原子、SO基、Si(R基、及び、N(R)基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の基を示し、それぞれ同一でもよいし異なってもよい。前記Eにおいて、Rは、炭素原子数1〜3のアルキル基及び炭素原子数1〜3のハロゲン化アルキル基の少なくとも一種類であり、カルボニル基又はY基に対してメタ位又はパラ位にある。
In the formula (XI), Y c represents —O— or —NH—.
In formula (XI), each E c is independently a covalent bond, an alkylene group having 2 carbon atoms, a halogenated alkylene group having 2 carbon atoms, a CH 2 group, or a C (CX c 3 ) 2 group ( here, X c is a halogen atom or a hydrogen atom.), CO group, O atom, S atom, SO 2 group, Si (R c) 2 group, and, selected from the group consisting of N (R c) groups At least one kind of group, which may be the same or different. In E c , R c is at least one of an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms and a halogenated alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and is in a meta position or a para group with respect to the carbonyl group or the Y c group. Is in place.

式(XI)において、Aは、置換基を示す。前記Aは、例えば、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜3のアルキル基、炭素原子数1〜3のハロゲン化アルキル基、OR(ここで、Rは、前記定義のものである。)で表されるアルコキシ基、アリール基、ハロゲン化等による置換アリール基、炭素原子数1〜9のアルコキシカルボニル基、炭素原子数1〜9のアルキルカルボニルオキシ基、炭素原子数1〜12のアリールオキシカルボニル基、炭素原子数1〜12のアリールカルボニルオキシ基及びその置換誘導体、炭素原子数1〜12のアリールカルバモイル基、並びに、炭素原子数1〜12のアリールカルボニルアミノ基及びその置換誘導体が挙げられる。また、Aが複数ある場合、Aはそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。 In formula (XI), Ac represents a substituent. The Ac is, for example, a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, OR c (where R c is as defined above). An alkoxy group, an aryl group, a substituted aryl group by halogenation, etc., an alkoxycarbonyl group having 1 to 9 carbon atoms, an alkylcarbonyloxy group having 1 to 9 carbon atoms, or 1 to 12 carbon atoms. Aryloxycarbonyl group, arylcarbonyloxy group having 1 to 12 carbon atoms and substituted derivatives thereof, arylcarbamoyl group having 1 to 12 carbon atoms, and arylcarbonylamino group having 1 to 12 carbon atoms and substituted derivatives thereof Is mentioned. Further, if the A c there are multiple, A c may be respectively identical or different.

式(XI)において、A’は、置換基を示す。前記A’は、例えば、ハロゲン原子、炭素原子数1〜3のアルキル基、炭素原子数1〜3のハロゲン化アルキル基、フェニル基及び置換フェニル基が挙げられる。また、A’が複数ある場合、A’はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。前記置換フェニル基のフェニル環上の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、炭素原子数1〜3のアルキル基、炭素原子数1〜3のハロゲン化アルキル基及びこれらの組み合わせを挙げることができる。 In formula (XI), A c ′ represents a substituent. Examples of the A c ′ include a halogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a phenyl group, and a substituted phenyl group. Also, 'if there are a plurality, A c' A c respectively may be the same or may be different. Examples of the substituent on the phenyl ring of the substituted phenyl group include a halogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and combinations thereof.

式(XI)において、t及びzは、それぞれA及びA’の置換数を表す。前記tは、0〜4の整数である。前記zは、0〜3の整数である。
式(XI)において、pは、0〜3の整数であり、qは、1〜3の整数であり、rは、0〜3の整数である。
In formula (XI), t and z represent the number of substitutions for A c and A c ′, respectively. Said t is an integer of 0-4. Said z is an integer of 0-3.
In Formula (XI), p is an integer of 0 to 3, q is an integer of 1 to 3, and r is an integer of 0 to 3.

また、ポリエステルとしては、下記式(XII)又は式(XIII)で表される構造単位を含むものでもよい。   Further, the polyester may include a structural unit represented by the following formula (XII) or formula (XIII).

Figure 0006286843
Figure 0006286843

前記式(XII)及び式(XIII)において、X及びYは、置換基を示す。Xは、各々独立に、水素原子、塩素原子及び臭素原子からなる群より選択される基を示す。また、Yは、下記式(XIV)又は式(XV)で示される基を示す。 In the formula (XII) and the formula (XIII), X d and Y d represent a substituent. X d each independently represents a group selected from the group consisting of a hydrogen atom, a chlorine atom and a bromine atom. Y d represents a group represented by the following formula (XIV) or formula (XV).

Figure 0006286843
Figure 0006286843

ポリエステルの具体例としては、東洋紡社製「バイロン」、日本合成化学社製「ポリエスター」を好適に用いることができる。   As specific examples of polyester, “Byron” manufactured by Toyobo Co., Ltd. and “Polyester” manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd. can be suitably used.

ポリウレタンウレア樹脂としては、例えば、脂肪族環式構造含有ポリオール、脂肪族環式構造含有ポリイソシアネート、脂肪族環式構造含有ポリアミン及び活性水素原子含有基を有するアクリル化合物を反応させることによって得られる重合体を含む樹脂が挙げられる。その具体例としては、特開2011−132548号公報に記載の材料および製法にて合成した重合体を含む樹脂が挙げられる。ポリウレタンウレア樹脂の具体例としては、DIC社製「タイフォース」を好適に用いることができる。   Examples of polyurethane urea resins include aliphatic cyclic structure-containing polyols, aliphatic cyclic structure-containing polyisocyanates, aliphatic cyclic structure-containing polyamines, and heavy compounds obtained by reacting acrylic compounds having active hydrogen atom-containing groups. Examples of the resin include coalescence. Specific examples thereof include a resin containing a material synthesized by a material described in JP 2011-132548 A and a production method. As a specific example of the polyurethane urea resin, “Tie Force” manufactured by DIC can be suitably used.

ポリカーボネート樹脂としては、例えば、支持体を形成する材料の説明において挙げたのと同様の例が挙げられる。その具体例としては、三菱ガス化学社製のユピゼータPCZシリーズ、三菱ガス化学社製の「FPC2136」、出光興産社製の「タフゼット」を挙げることができる。   Examples of the polycarbonate resin include the same examples as given in the description of the material forming the support. Specific examples thereof include Iupizeta PCZ series manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, “FPC2136” manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, and “Toughzet” manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd.

非液晶性材料として使用しうる樹脂は、上述した重合体以外に任意の成分を含みうる。ただし、非液晶性材料として使用しうる樹脂における上述した重合体の割合は、好ましくは55重量%以上、より好ましくは80重量%以上、特に好ましくは90重量%以上である。   The resin that can be used as the non-liquid crystalline material can contain an optional component in addition to the above-described polymer. However, the ratio of the above-described polymer in the resin that can be used as the non-liquid crystalline material is preferably 55% by weight or more, more preferably 80% by weight or more, and particularly preferably 90% by weight or more.

非液晶性材料のガラス転移温度は、好ましくは70℃以上、より好ましくは80℃以上、特に好ましくは90℃以上であり、好ましくは180℃以下、より好ましくは160℃以下、特に好ましくは140℃以下である。このような範囲にガラス転移温度を有する非液晶性材料で機能層を形成することにより、延伸処理により機能層に安定して所望のレターデーションを発現させることができ、かつ高温、高温高湿下での安定性に優れた層とすることができる。   The glass transition temperature of the non-liquid crystalline material is preferably 70 ° C. or higher, more preferably 80 ° C. or higher, particularly preferably 90 ° C. or higher, preferably 180 ° C. or lower, more preferably 160 ° C. or lower, particularly preferably 140 ° C. It is as follows. By forming a functional layer with a non-liquid crystalline material having a glass transition temperature in such a range, a desired retardation can be stably expressed in the functional layer by a stretching treatment, and at a high temperature, high temperature and high humidity. It can be set as the layer excellent in stability in.

非液晶性材料は、その溶解性パラメーターδが好ましくは15〜30(cal/cm31/2、より好ましくは17〜26(cal/cm31/2の範囲内である。溶解性パラメーターは、後述するFedorsの式により求めうる。溶解性パラメーターが当該範囲内であることにより、非液晶性材料を含む溶液の塗膜を良好に形成することができ、機能層の厚みムラや延伸時における変形を低減することができる。 The non-liquid crystalline material has a solubility parameter δ of preferably 15 to 30 (cal / cm 3 ) 1/2 , more preferably 17 to 26 (cal / cm 3 ) 1/2 . The solubility parameter can be obtained by the Fedors equation described later. When the solubility parameter is within the above range, a coating film of a solution containing a non-liquid crystalline material can be satisfactorily formed, and the thickness unevenness of the functional layer and deformation during stretching can be reduced.

[1.2.2.機能層の形状等]
本発明の複層フィルムにおける機能層の厚みは、好ましくは2μm以上、より好ましくは5μm以上であり、好ましくは50μm以下、より好ましくは30μm以下である。機能層の厚みを前記範囲内とすることにより、複層フィルムを延伸して、所望の性質を有する位相差フィルム積層体を容易に得ることができる。
[1.2.2. Functional layer shape]
The thickness of the functional layer in the multilayer film of the present invention is preferably 2 μm or more, more preferably 5 μm or more, preferably 50 μm or less, more preferably 30 μm or less. By setting the thickness of the functional layer within the above range, a multilayer film can be stretched to easily obtain a retardation film laminate having desired properties.

機能層は、支持体の一方の面の全面に設けられていてもよく、支持体の一方の面の一部に設けられていてもよい。しかしながら、複層フィルムまたはそれを延伸してなる位相差フィルム積層体をロール状にして保管及び運搬する際のロールの巻きの乱れを低減する観点からは、機能層は支持体の面の全面に設けることが好ましい。   The functional layer may be provided on the entire surface of one side of the support, or may be provided on a part of one side of the support. However, from the viewpoint of reducing the disorder of winding of the roll when storing and transporting the multilayer film or a retardation film laminate formed by stretching it in a roll shape, the functional layer is formed on the entire surface of the support. It is preferable to provide it.

[1.3.任意の層]
複層フィルムは、支持体の機能層とは反対側に、任意の層を備えていてもよい。
[1.3. Any layer]
The multilayer film may be provided with an arbitrary layer on the side opposite to the functional layer of the support.

[1.4.複層フィルムの用途]
本発明の複層フィルムは、延伸することにより、機能層に位相差を付与ことができる。したがって、本発明の複層フィルムは、本発明の位相差フィルム積層体の製造方法の材料として用いうる。
[1.4. Applications of multilayer film]
The multilayer film of the present invention can impart retardation to the functional layer by stretching. Therefore, the multilayer film of the present invention can be used as a material for the method for producing the retardation film laminate of the present invention.

[2.複層フィルムの製造方法]
本発明の複層フィルムは、下記工程S1及びS2を含む製造方法により製造しうる。
(工程S1)非液晶性材料と1種類又は2種類以上の溶剤とを含む溶液を、支持体上に塗工して塗膜を得る工程。
(工程S2)塗膜から溶剤を乾燥により除去して機能層を得る工程。
以下においては、当該方法を本発明の複層フィルムの製造方法として説明する。
[2. Method for producing multilayer film]
The multilayer film of the present invention can be produced by a production method including the following steps S1 and S2.
(Step S1) A step of applying a solution containing a non-liquid crystalline material and one or more solvents to a support to obtain a coating film.
(Step S2) A step of removing the solvent from the coating film by drying to obtain a functional layer.
Below, the said method is demonstrated as a manufacturing method of the multilayer film of this invention.

[2.1.工程S1:溶剤]
工程S1において用いる溶液中の溶剤は、下記要件C1及びC2を満たすか、又は要件C1及びC3を満たす。
(要件C1)溶剤が支持体に対して貧溶媒であり、且つ非液晶性材料に対して良溶媒である。
(要件C2)溶液が1種類のみの溶剤を含み、溶剤の溶解性パラメータが8.5〜10.5(cal/cm31/2であり、且つ溶剤の沸点が100〜150℃である。
(要件C3)溶液が2種類以上の溶剤を含み、2種類以上の溶剤の溶解性パラメーターの差Δδが0.5〜1.3(cal/cm31/2であり、且つ2種類以上の溶剤の沸点の差ΔBpが55℃以下である。
[2.1. Step S1: Solvent]
The solvent in the solution used in step S1 satisfies the following requirements C1 and C2, or satisfies the requirements C1 and C3.
(Requirement C1) The solvent is a poor solvent for the support and a good solvent for the non-liquid crystalline material.
(Requirement C2) The solution contains only one kind of solvent, the solubility parameter of the solvent is 8.5 to 10.5 (cal / cm 3 ) 1/2 , and the boiling point of the solvent is 100 to 150 ° C. .
(Requirement C3) The solution contains two or more solvents, the difference Δδ between the solubility parameters of the two or more solvents is 0.5 to 1.3 (cal / cm 3 ) 1/2 , and two or more types The difference ΔBp in the boiling points of the solvents is 55 ° C. or less.

要件C1において、溶剤が支持体に対して貧溶媒であるか否かは、下記の基準に従って判定する。即ち、25℃で、支持体のサンプル0.01gを10gの溶剤に添加した場合、溶液が濁るまたはサンプルが溶液中に残る場合は、「溶剤が支持体に対して貧溶媒である」と判定する。溶液が濁らず、且つサンプルが溶液中に残らない場合は、「溶剤が支持体に対して貧溶媒ではない」と判定する。   In the requirement C1, whether or not the solvent is a poor solvent for the support is determined according to the following criteria. That is, when 0.01 g of a support sample is added to 10 g of solvent at 25 ° C., if the solution becomes cloudy or the sample remains in the solution, it is determined that “the solvent is a poor solvent for the support”. To do. When the solution is not cloudy and the sample does not remain in the solution, it is determined that “the solvent is not a poor solvent for the support”.

要件C1において、溶剤が非液晶性材料に対して良溶媒であるか否かは、下記の基準に従って判定する。即ち、25℃で、非液晶性材料のサンプル1gを9gの溶剤に添加した場合、溶液が濁らない場合は、「溶剤が非液晶性材料に対して良溶媒である」と判定する。溶液が濁る場合、あるいは非液晶性材料がゲル化したり膨潤する場合は、「溶剤が非液晶性材料に対して良溶媒ではない」と判定する。   In requirement C1, whether or not the solvent is a good solvent for the non-liquid crystal material is determined according to the following criteria. That is, when 1 g of a non-liquid crystalline material sample is added to 9 g of solvent at 25 ° C., if the solution does not become cloudy, it is determined that “the solvent is a good solvent for the non-liquid crystalline material”. When the solution becomes turbid or when the non-liquid crystalline material gels or swells, it is determined that “the solvent is not a good solvent for the non-liquid crystalline material”.

溶液が溶剤を2種類以上含む場合は、溶液が実質的に含有する溶剤が要件C1を満たす場合、溶剤全体が要件C1を満たすと判定される。溶液が実質的に含有する溶剤が2種類以上ある場合、当該2種類以上の溶剤のそれぞれが要件C1を満たす場合、溶剤全体が要件C1を満たすと判定される。溶液が実質的に含有する溶剤とは、溶液中の溶剤総量の5重量%以上を占める溶剤をいう。   When the solution contains two or more types of solvents, when the solvent substantially contained in the solution satisfies the requirement C1, it is determined that the entire solvent satisfies the requirement C1. When there are two or more types of solvents substantially contained in the solution, when each of the two or more types of solvents satisfies the requirement C1, it is determined that the entire solvent satisfies the requirement C1. The solvent substantially contained in the solution means a solvent that occupies 5% by weight or more of the total amount of the solvent in the solution.

要件C2及びC3において、溶剤の溶解性パラメーターδは、分子間の凝集エネルギー密度(CED)の平方根で表され、この溶解性パラメーター値が大きいものほど極性が高いことを表す。
溶剤−溶質間に作用する力を分子間力のみと仮定すると、溶解性パラメーターは分子間力を表す尺度として使用されるので、溶解性パラメーターの差が小さいほど溶解度が大となる傾向にある。
本願において、溶剤の溶解度パラメーターは、Fedorsの式により求められた値を採用する。ある成分iの溶解性パラメーターの値δiは一般に下記に示すFedorsの式を用いて算出することができる。
δi=[Ev/V]1/2=[Δei/Δvi]1/2
Ev:蒸発エネルギー
V:モル体積
Δei:i成分の原子または原子団の蒸発エネルギー
Δvi:i成分の原子または原子団のモル体積
原子および原子団の蒸発エネルギーΔeiとモル体積ΔviはFedorsによって提唱されており(R.F.Fedors:Polym.Eng.Sci.,14(2),147−154(1974))、それをもとに上記式にて溶解性パラメーター値を算出することができる。また、一つの分子が複数の成分iを含む場合は、定法に従い、Δei及びΔviそれぞれの合計を求めて当該合計の値に基づいて溶解度パラメーターを計算することができる。
In the requirements C2 and C3, the solubility parameter δ of the solvent is represented by the square root of the cohesive energy density (CED) between molecules, and the larger the solubility parameter value, the higher the polarity.
Assuming that the force acting between the solvent and the solute is only an intermolecular force, the solubility parameter is used as a measure for representing the intermolecular force. Therefore, the smaller the difference in solubility parameter, the greater the solubility.
In the present application, the value obtained by the Fedors equation is adopted as the solvent solubility parameter. The solubility parameter value δi of a certain component i can be generally calculated using the Fedors equation shown below.
δi = [Ev / V] 1/2 = [Δei / Δvi] 1/2
Ev: Evaporation energy V: Molar volume Δei: Evaporation energy of atom or atomic group of i component Δvi: Molar volume of atom or atomic group of i component Atom and atomic group evaporation energy Δei and molar volume Δvi are proposed by Fedors (RF Fedors: Polym. Eng. Sci., 14 (2), 147-154 (1974)), based on this, the solubility parameter value can be calculated by the above formula. Moreover, when one molecule | numerator contains the some component i, according to a usual method, the sum of (DELTA) ei and (DELTA) vi can be calculated | required and a solubility parameter can be calculated based on the value of the said sum total.

要件C2において、溶液が1種類のみの溶剤を含むとは、溶液が実質的に含有する溶剤が1種類のみである場合をいう。即ち、溶液中の溶剤が実質的に1種類のみである場合において、当該溶剤の溶解性パラメータδが8.5〜10.5(cal/cm31/2であり、且つ溶剤の沸点Bpが100〜150℃である場合、要件C2を満たすと判定される。要件C2において、溶解性パラメーターδは好ましくは8.7〜10.3(cal/cm31/2であり、より好ましくは9.0〜10.0(cal/cm31/2である。また沸点Bpは、好ましくは100〜145(cal/cm31/2であり、より好ましくは100〜135(cal/cm31/2である。 In Requirement C2, “the solution contains only one type of solvent” means that the solution substantially contains only one type of solvent. That is, when there is substantially only one type of solvent in the solution, the solubility parameter δ of the solvent is 8.5 to 10.5 (cal / cm 3 ) 1/2 and the boiling point Bp of the solvent Is 100 to 150 ° C., it is determined that the requirement C2 is satisfied. In requirement C2, the solubility parameter δ is preferably 8.7 to 10.3 (cal / cm 3 ) 1/2 , more preferably 9.0 to 10.0 (cal / cm 3 ) 1/2 . is there. The boiling point Bp is preferably 100 to 145 (cal / cm 3 ) 1/2 , more preferably 100 to 135 (cal / cm 3 ) 1/2 .

要件C3において、溶液が2種類以上の溶剤を含むとは、溶液が実質的に含有する溶剤が2種類以上ある場合をいう。溶液が実質的に含有する溶剤が3種類以上ある場合は、Δδは、それらの溶剤の溶解性パラメーターσのうち最大のものと最小のものとの差であり、ΔBpは、それらの溶剤の沸点のうち最大のものと最小のものとの差である。要件C3において、溶解性パラメーターの差Δδは好ましくは0.55〜1.28(cal/cm31/2であり、より好ましくは0.60〜1.26(cal/cm31/2である。また沸点の差ΔBpは好ましくは35℃以下であり、より好ましくは25℃以下である。 In the requirement C3, the phrase “the solution contains two or more types of solvents” refers to a case where there are two or more types of solvents substantially contained in the solution. When there are three or more solvents substantially contained in the solution, Δδ is the difference between the maximum and minimum solubility parameters σ of those solvents, and ΔBp is the boiling point of those solvents. Is the difference between the largest and smallest. In requirement C3, the difference Δδ in solubility parameter is preferably 0.55 to 1.28 (cal / cm 3 ) 1/2 , more preferably 0.60 to 1.26 (cal / cm 3 ) 1 / 2 . The difference in boiling point ΔBp is preferably 35 ° C. or less, more preferably 25 ° C. or less.

溶液中の溶剤が、要件C1及びC2を満たすか、又は要件C1及びC3を満たすことにより、複層フィルムの製造において、溶液の塗膜を均質に形成し、白化することなく均質に乾燥することが可能となり、ひいては、機能層の厚みムラ、複層フィルムを延伸する際の変形を低減することができる。   When the solvent in the solution satisfies the requirements C1 and C2 or the requirements C1 and C3, the coating film of the solution is uniformly formed and dried without whitening in the production of the multilayer film. As a result, uneven thickness of the functional layer and deformation at the time of stretching the multilayer film can be reduced.

溶液中の溶剤としては、要件C1及びC2又は要件C1及びC3を満たすものを、非液晶性材料及び支持体に適合させ、適宜選択しうる。
かかる選択の選択肢となりうる溶剤の具体例を、下記表1に示す。表1においては、それぞれの溶剤が、本願実施例で用いている非液晶性材料の材料であるポリカーボネート樹脂A(PC樹脂A)、ポリカーボネート樹脂B(PC樹脂B)、及びビスマレイミド樹脂に対して良溶媒であるか否か、並びに、本願実施例で用いている支持体の材料であるノルボルネン系樹脂に対して貧溶媒であるか否かを、併せて記載している。
As the solvent in the solution, those satisfying the requirements C1 and C2 or the requirements C1 and C3 can be appropriately selected in accordance with the non-liquid crystalline material and the support.
Specific examples of solvents that can be used for such selection are shown in Table 1 below. In Table 1, each solvent is based on polycarbonate resin A (PC resin A), polycarbonate resin B (PC resin B), and bismaleimide resin, which are non-liquid crystalline materials used in Examples of the present application. Whether or not it is a good solvent and whether or not it is a poor solvent for the norbornene-based resin that is the material of the support used in the examples of the present application are also described.

Figure 0006286843
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表1に記載した中でも、ケトン、エステル、エーテル及びこれらの組み合わせからなる群より選択される溶剤が好ましく、具体的には、シクロペンタノン、1,4−ジオキサン、酢酸エチル、及びこれらの組み合わせからなる群より選択される溶剤が好ましい。   Among those listed in Table 1, solvents selected from the group consisting of ketones, esters, ethers and combinations thereof are preferred, specifically, from cyclopentanone, 1,4-dioxane, ethyl acetate, and combinations thereof. A solvent selected from the group consisting of

特に、本発明においては、支持体が、正の固有複屈折性を有する樹脂からなり、非液晶性材料が正の固有複屈折性を有する樹脂であり、且つ溶剤のうち1種類以上がケトンまたはエーテルであることが好ましい。かかる組み合わせを有することにより、塗膜形成時に塗膜が白化することなく面状が安定し、さらに延伸した時に、複層フィルムの優れたレタデーションの発現性が得られる。   In particular, in the present invention, the support is made of a resin having positive intrinsic birefringence, the non-liquid crystalline material is a resin having positive intrinsic birefringence, and at least one of the solvents is ketone or Ether is preferred. By having such a combination, the surface state is stabilized without whitening during the formation of the coating film, and when the film is further stretched, excellent retardation expression of the multilayer film can be obtained.

[2.2.工程S1:溶液]
溶液における非液晶性材料の濃度は、支持体への塗工性(例えば、異物混入、塗工時のムラやスジの発生の程度)を考慮すると、好ましくは0.5重量%以上、より好ましくは1重量%以上、特に好ましくは2重量%以上であり、好ましくは50重量%以下、より好ましくは40重量%以下、特に好ましくは30重量%以下である。濃度を前記範囲の下限値以上にすることにより、溶液の粘度を高くして、溶液を所望の厚みで展開することができる。また、上限値以下にすることにより、溶液の粘度を低くして、溶液の層の面状の悪化を防止できる。具体的には、塗工時の溶液粘度が10〜100(mPa・s)であることが好ましい。溶液粘度は、常用の粘度計(B型、E型など)で測定しうる。
[2.2. Step S1: Solution]
The concentration of the non-liquid crystalline material in the solution is preferably 0.5% by weight or more, more preferably in consideration of the coating property to the support (for example, the degree of foreign matter contamination, unevenness or streaks during coating). Is 1% by weight or more, particularly preferably 2% by weight or more, preferably 50% by weight or less, more preferably 40% by weight or less, and particularly preferably 30% by weight or less. By setting the concentration to be not less than the lower limit of the above range, the viscosity of the solution can be increased and the solution can be developed with a desired thickness. Moreover, by making it below an upper limit, the viscosity of a solution can be made low and the deterioration of the surface state of the layer of a solution can be prevented. Specifically, the solution viscosity at the time of coating is preferably 10 to 100 (mPa · s). The solution viscosity can be measured with a conventional viscometer (B-type, E-type, etc.).

また、溶液は、非液晶性材料及び溶剤に加えて、例えば界面活性剤等の配合剤を含んでいてもよい。   The solution may contain a compounding agent such as a surfactant in addition to the non-liquid crystalline material and the solvent.

[2.3.工程S1の条件等]
工程S1における溶液の塗工は、例えば、スピンコート法、ロールコート法、ダイコート法、ブレードコート法等の方法により行いうる。塗膜の厚みは、乾燥後に得られる機能層の厚み、及び延伸後の機能層の厚みを所望の値とするよう適宜調整しうる。
[2.3. Process S1 Conditions]
The application of the solution in step S1 can be performed by a method such as spin coating, roll coating, die coating, or blade coating. The thickness of the coating film can be appropriately adjusted so that the thickness of the functional layer obtained after drying and the thickness of the functional layer after stretching are set to desired values.

[2.4.工程S2]
工程S2では、塗膜から溶剤を乾燥により除去して機能層を得る。ここで、溶剤の除去は、塗膜に残留する溶剤の量がなるべく少なくなるよう行われることが好ましい。ただし、必ずしも、全ての溶剤が除去されなくてもよく、得られる機能層中に溶剤が残留していてもよい。具体的には、機能層中の残留溶剤量は、理想的にはゼロであるが、0.05重量%以上の残留溶剤が存在していてもよい。機能層中の残留溶剤量の上限は、好ましくは7重量%以下、より好ましくは6.8重量%以下、さらにより好ましくは6.5重量%以下である。
[2.4. Step S2]
In step S2, the solvent is removed from the coating film by drying to obtain a functional layer. Here, the removal of the solvent is preferably performed so that the amount of the solvent remaining in the coating film is as small as possible. However, it is not always necessary to remove all the solvent, and the solvent may remain in the obtained functional layer. Specifically, the amount of residual solvent in the functional layer is ideally zero, but 0.05% by weight or more of residual solvent may be present. The upper limit of the residual solvent amount in the functional layer is preferably 7% by weight or less, more preferably 6.8% by weight or less, and still more preferably 6.5% by weight or less.

工程S2における溶剤の除去は、
温度15〜25℃で無風の条件下で塗膜を乾燥させる乾燥工程(I)と、
所定の温度TD(II)で風速が0.5〜2.5m/Sの条件下で塗膜を乾燥させる乾燥工程(II)と
を含むことが好ましい。工程S2が乾燥工程(I)及び(II)を含むことにより、機能層の厚みムラ、泡筋、及び皺の発生を、さらに低減することができる。
Removal of the solvent in step S2
A drying step (I) for drying the coating film under a windless condition at a temperature of 15 to 25 ° C .;
It is preferable to include a drying step (II) in which the coating film is dried at a predetermined temperature TD (II) at a wind speed of 0.5 to 2.5 m / S. When step S2 includes drying steps (I) and (II), the occurrence of uneven thickness of the functional layer, bubble streaks, and wrinkles can be further reduced.

乾燥工程(I)は、工程S1により塗膜が形成された後直ちに行うことが好ましい。具体的には例えば、塗膜が形成された後、好ましくは0.5秒以内、より好ましくは1.0秒以内に乾燥工程(I)に入ることが好ましい。
乾燥工程(I)において、「無風」とは、フィルムを搬送する環境下の気流が、0.05m/s以下、好ましくは0.02m/s以下であることをいう。
The drying step (I) is preferably performed immediately after the coating film is formed in step S1. Specifically, for example, after the coating film is formed, the drying step (I) is preferably entered within 0.5 seconds, more preferably within 1.0 seconds.
In the drying step (I), “no wind” means that the airflow in the environment for transporting the film is 0.05 m / s or less, preferably 0.02 m / s or less.

乾燥工程(II)において、温度TD(II)は、溶液が1種類のみの溶剤を含む場合は、その沸点Bpに基づいて、溶液が2種類以上の溶剤を含む場合は、うち最も沸点の高いものの沸点Bpに基づいて決まる値である。溶液が1種類のみの溶剤を含む場合はTD(II)はBp−20℃以下であり、好ましくはBp−10℃以下である。一方溶液が2種類以上の溶剤を含む場合、TD(II)はBp−20℃以下であり、好ましくはBp−10℃以下である。 In the drying step (II), the temperature TD (II) is based on the boiling point Bp when the solution contains only one kind of solvent, and when the solution contains two or more kinds of solvents, It is a value determined based on the boiling point Bp H of the higher one. When the solution contains only one kind of solvent, TD (II) is Bp-20 ° C or lower, preferably Bp-10 ° C or lower. On the other hand, when the solution contains two or more kinds of solvents, TD (II) is Bp H −20 ° C. or lower, preferably Bp H −10 ° C. or lower.

乾燥工程(I)及び乾燥工程(II)のそれぞれを行う時間は、好ましくは10秒間〜60分間であり、より好ましくは30秒間〜30分間である。   The time for performing each of the drying step (I) and the drying step (II) is preferably 10 seconds to 60 minutes, and more preferably 30 seconds to 30 minutes.

工程S2においては、乾燥工程(I)(II)に加えて、追加の乾燥工程を行いうる。例えば、乾燥工程(I)、及びその直後の乾燥工程(II)に加えて、さらに追加の乾燥工程を行いうる。
工程S2が、乾燥工程(I)及び乾燥工程(II)を含む場合、当該工程S2を含む製造方法により形成される機能層の厚みは、5〜30μmであることが好ましい。機能層の厚みが当該範囲内であることにより、乾燥工程(I)及び(II)による機能層の品質向上の効果を、より良好に得ることができる。
In step S2, in addition to the drying steps (I) and (II), an additional drying step can be performed. For example, in addition to the drying step (I) and the drying step (II) immediately after that, an additional drying step may be performed.
When step S2 includes drying step (I) and drying step (II), the thickness of the functional layer formed by the manufacturing method including step S2 is preferably 5 to 30 μm. When the thickness of the functional layer is within this range, the effect of improving the quality of the functional layer by the drying steps (I) and (II) can be obtained more favorably.

[3.位相差フィルム積層体の製造方法]
本発明の位相差フィルム積層体の製造方法は、前記本発明の複層フィルムを延伸する工程を含む。
延伸は、長尺の複層フィルムを、縦延伸(フィルムの長手方向への延伸)、横延伸(フィルムの幅方向への延伸)、斜め延伸、又はこれらの組み合わせにより行いうる。より具体的な例としては、ロール間の周速の差を利用してMD方向に一軸延伸する方法(縦一軸延伸);テンター延伸機を用いてTD方向に一軸延伸する方法(横一軸延伸);縦一軸延伸と横一軸延伸とを順に行う方法(逐次二軸延伸);縦一軸延伸と横一軸延伸を同時に行う方法(同時二軸延伸);MD方向に対して斜め方向に延伸する方法(斜め延伸);等を採用できる。ここで「斜め方向」とは、平行でもなく、直交でもない方向を意味する。所望の遅相軸方向を得る観点からは、横延伸での延伸を行うことが好ましい。
[3. Method for producing retardation film laminate]
The manufacturing method of the retardation film laminated body of this invention includes the process of extending | stretching the multilayer film of the said this invention.
Stretching can be performed on a long multilayer film by longitudinal stretching (stretching in the longitudinal direction of the film), lateral stretching (stretching in the width direction of the film), oblique stretching, or a combination thereof. More specific examples include a method of uniaxial stretching in the MD direction using the difference in peripheral speed between rolls (longitudinal uniaxial stretching); a method of uniaxial stretching in the TD direction using a tenter stretching machine (lateral uniaxial stretching). A method of sequentially performing longitudinal uniaxial stretching and transverse uniaxial stretching (sequential biaxial stretching); a method of simultaneously performing longitudinal uniaxial stretching and transverse uniaxial stretching (simultaneous biaxial stretching); a method of stretching in an oblique direction with respect to the MD direction ( Diagonal stretching); Here, “oblique direction” means a direction that is neither parallel nor orthogonal. From the viewpoint of obtaining a desired slow axis direction, it is preferable to perform transverse stretching.

横延伸は、テンター延伸機により好ましく行いうる。テンター延伸機は、通常、対をなすレールと、そのレールに沿って移動しうる把持子を備える。レールは、帯状のフィルムのMD方向下流側に向けてTD方向にレール幅がテーパー状に広げられたレール拡幅部を有する。このようなテンター延伸機では、フィルムのTD方向両端部を把持子で把持し、その把持子を前記レールに沿わせて走行させることにより、帯状のフィルムをTD方向に延伸させることができる。   The transverse stretching can be preferably performed with a tenter stretching machine. The tenter stretching machine generally includes a pair of rails and a gripper that can move along the rails. The rail has a rail widening portion in which the rail width is increased in a taper shape in the TD direction toward the downstream side in the MD direction of the belt-like film. In such a tenter stretching machine, the belt-shaped film can be stretched in the TD direction by gripping both ends of the film in the TD direction with a gripper and running the gripper along the rail.

延伸する工程における延伸温度は、機能層に付与する光学的性質、及び延伸の容易さ等の観点から適宜設定しうる。例えば、支持体を構成する材料のガラス転移温度であるTgを基準に設定しうる。具体的には、延伸温度は、Tg±20℃であることが好ましい。かかる延伸温度での延伸を行うことにより、円滑な延伸を行い、機能層に所望の光学的性質を均質に付与することができる。また、かかる延伸温度での延伸を行うことにより、支持体における光学異方性の発現を低減することができ、それにより、延伸された機能層の光学的性質を、支持体を剥離すること無くモニターすることが可能となる。 The stretching temperature in the stretching step can be appropriately set from the viewpoints of optical properties imparted to the functional layer, ease of stretching, and the like. For example, Tg S which is the glass transition temperature of the material constituting the support can be set as a reference. Specifically, the stretching temperature is preferably Tg S ± 20 ° C. By performing stretching at such a stretching temperature, smooth stretching can be performed, and desired optical properties can be uniformly imparted to the functional layer. Further, by performing stretching at such a stretching temperature, it is possible to reduce the expression of optical anisotropy in the support, whereby the optical properties of the stretched functional layer can be reduced without peeling the support. It becomes possible to monitor.

延伸する工程における延伸倍率は、機能層に付与する光学的性質等の観点から適宜設定しうる。具体的には延伸倍率は、好ましくは1.01〜3倍、より好ましくは1.02〜2.7倍としうる。かかる延伸倍率とすることにより、機能層に所望の光学的性質を均質に付与することができる。   The draw ratio in the drawing step can be appropriately set from the viewpoint of the optical properties to be imparted to the functional layer. Specifically, the draw ratio can be preferably 1.01 to 3 times, more preferably 1.02 to 2.7 times. By setting it as this draw ratio, a desired optical property can be uniformly provided to a functional layer.

本発明の位相差フィルム積層体の製造方法では、特定の機能層を有する本発明の複層フィルムを延伸するため、延伸時における変形の発生が少ない製造を達成することができる。具体的には、延伸時に、フィルムと把持子との付着が少なく、且つ、フィルムの把持子により把持された部分におけるカールの発生や機能層の剥離といった不具合を低減しうる。   In the method for producing a retardation film laminate of the present invention, since the multilayer film of the present invention having a specific functional layer is stretched, it is possible to achieve production with less occurrence of deformation during stretching. Specifically, at the time of stretching, adhesion between the film and the gripper is small, and problems such as curling and peeling of the functional layer in a portion gripped by the film gripper can be reduced.

本発明の位相差フィルム積層体の製造方法は、上述した以外の工程を含みうる。
例えば、延伸の後、必要に応じて、緩和工程を行ってもよい。緩和工程では、延伸された支持体を所定時間、所定温度に保持して、支持体を収縮させる。この場合の緩和率は20%以内であるのが好ましく、保持温度は、支持体を形成する材料のガラス転移温度±30℃の範囲であり、保持時間は1秒〜60秒である。
The method for producing a retardation film laminate of the present invention may include steps other than those described above.
For example, after stretching, a relaxation step may be performed as necessary. In the relaxation step, the stretched support is held at a predetermined temperature for a predetermined time to shrink the support. The relaxation rate in this case is preferably within 20%, the holding temperature is in the range of the glass transition temperature ± 30 ° C. of the material forming the support, and the holding time is 1 second to 60 seconds.

また、例えば、延伸の後、得られた位相差フィルム積層体は、必要に応じて室温まで冷却される。冷却速度及び冷却手段は、特に制限されない。ただし、冷却前に急激に延伸時の張力を解放すると、得られた位相差フィルム積層体にしわが入りやすいため、該張力を解放する前に、冷却工程の一部又は全部を実施することが好ましい。   Moreover, for example, after stretching, the obtained retardation film laminate is cooled to room temperature as necessary. The cooling rate and the cooling means are not particularly limited. However, if the tension at the time of stretching is abruptly released before cooling, wrinkles are likely to occur in the obtained retardation film laminate, and therefore it is preferable to carry out part or all of the cooling step before releasing the tension. .

得られた位相差フィルム積層体は、通常、ロール状に巻き取られ、保存される。このような製造方法で得られた位相差フィルム積層体においては、機能層の厚みのバラつきが小さく、また、機能層のレターデーションが均一である。   The obtained retardation film laminate is usually wound into a roll and stored. In the retardation film laminate obtained by such a production method, the variation in the thickness of the functional layer is small, and the retardation of the functional layer is uniform.

[3.1.製造方法の具体例]
本発明の複層フィルムの製造方法、及び本発明の複層フィルムを用いた本発明の位相差フィルム積層体の製造方法の具体例を、図面を参照して説明する。
図2は、支持体上に機能層を形成して複層フィルムを製造し、さらにそれを延伸して位相差フィルム積層体を製造する製造装置の一例を模式的に示す概略図である。図2に示す通り、製造装置200は、繰り出し装置201、塗工ヘッド210、ドライヤー220、延伸装置230、及び巻取り装置202を備える。
[3.1. Specific example of manufacturing method]
The specific example of the manufacturing method of the multilayer film of this invention and the manufacturing method of the retardation film laminated body of this invention using the multilayer film of this invention is demonstrated with reference to drawings.
FIG. 2 is a schematic view schematically showing an example of a production apparatus for producing a multilayer film by forming a functional layer on a support, and further stretching it to produce a retardation film laminate. As shown in FIG. 2, the manufacturing apparatus 200 includes a feeding device 201, a coating head 210, a dryer 220, a stretching device 230, and a winding device 202.

操作において、繰り出し装置201から繰り出された支持体11は、必要に応じて親水化処理等の表面処理を施された後、塗工ヘッド210へ搬送される。塗工ヘッド210は、非液晶性材料及び溶剤を含む溶液を、支持体11上に塗布し、塗膜を形成する(工程S1)。   In operation, the support 11 fed from the feeding device 201 is subjected to a surface treatment such as a hydrophilization treatment as necessary, and then conveyed to the coating head 210. The coating head 210 applies a solution containing a non-liquid crystalline material and a solvent on the support 11 to form a coating film (step S1).

塗膜を設けられた支持体11は、その後直ちにドライヤー220に搬送される。ドライヤー220は、4つのチャンバー220A〜220Dを有する。4つのチャンバー220A〜220Dのそれぞれは、搬送されるフィルムを囲う筐体、並びに加熱装置及び送風装置、排気装置(不図示)を有する。これらにより、4つのチャンバー220A〜220Dのそれぞれにおいて異なる条件による乾燥工程を順次行いうる。具体的には、チャンバー220A及び220Bにおいて、それぞれ、上に述べた乾燥工程(I)及び乾燥工程(II)を行い、さらに、チャンバー220C及び220Dにおいて、それに続く任意の乾燥工程を行いうる。これにより、塗膜から溶剤を乾燥により除去して機能層とし、支持体11及び機能層12を供える複層フィルム10を得ることができる(工程S2)。   The support 11 provided with the coating film is immediately conveyed to the dryer 220 thereafter. The dryer 220 has four chambers 220A to 220D. Each of the four chambers 220 </ b> A to 220 </ b> D includes a casing that encloses the film to be conveyed, a heating device, a blower device, and an exhaust device (not shown). Accordingly, the drying process under different conditions can be sequentially performed in each of the four chambers 220A to 220D. Specifically, the drying step (I) and the drying step (II) described above can be performed in the chambers 220A and 220B, respectively, and any subsequent drying step can be performed in the chambers 220C and 220D. Thereby, the solvent is removed from the coating film by drying to obtain a functional layer, and the multilayer film 10 including the support 11 and the functional layer 12 can be obtained (step S2).

複層フィルム10は、続いて、延伸装置230に搬送され、ここで延伸され、位相差フィルム積層体100が製造される。製造された位相差フィルム積層体100は、巻取り装置202により巻き取られ、ロールの形状とし、さらなる工程に供することができる。   Subsequently, the multilayer film 10 is transported to the stretching device 230 where it is stretched to produce the retardation film laminate 100. The manufactured retardation film laminate 100 can be wound up by a winding device 202 to form a roll, which can be subjected to further processes.

[3.2.位相差フィルム積層体]
本発明の位相差フィルム積層体の製造方法により、延伸された支持体及び延伸された機能層を含む位相差フィルム積層体が得られる。本願においては、文脈上明らかな場合は、本発明の複層フィルム中の、延伸される前の支持体及び機能層と、位相差フィルム積層体中の、延伸された後の支持体及び機能層とを、区別せず単に支持体及び機能層と称する場合がある。
[3.2. Retardation film laminate]
By the method for producing a retardation film laminate of the present invention, a retardation film laminate including a stretched support and a stretched functional layer is obtained. In the present application, when it is clear from the context, the support and functional layer before stretching in the multilayer film of the present invention, and the support and functional layer after stretching in the retardation film laminate. May be simply referred to as a support and a functional layer without distinction.

位相差フィルム積層体において、支持体の、波長550nmにおける面内方向のレターデーションは、好ましくは300nm以下、より好ましくは200nm以下、特に好ましくは100nm以下である。支持体の面内方向のレターデーションを小さくすることにより、複層フィルムを製造する際に延伸処理をしながら機能層のみのレターデーションをモニターすることが可能となる。特に、支持体は、光学等方性を有することが好ましい。   In the retardation film laminate, the in-plane retardation of the support at a wavelength of 550 nm is preferably 300 nm or less, more preferably 200 nm or less, and particularly preferably 100 nm or less. By reducing the retardation in the in-plane direction of the support, it is possible to monitor the retardation of only the functional layer while performing a stretching treatment when producing a multilayer film. In particular, the support preferably has optical isotropy.

位相差フィルム積層体において、機能層は、負の二軸性を有することが好ましい。即ち、その屈折率nx、ny及びnzが、nx>ny>nzの関係を満たすことが好ましい。機能層が負の二軸性を有することにより、機能層と、ポジティブバイアキシャルな層(後述)とを組み合わせた位相差フィルムを光学補償フィルムとして用いて、IPS型液晶パネルのコントラストを効果的に改善することが可能となる。   In the retardation film laminate, the functional layer preferably has negative biaxiality. That is, it is preferable that the refractive indexes nx, ny and nz satisfy the relationship of nx> ny> nz. Since the functional layer has negative biaxiality, a retardation film combining a functional layer and a positive biaxial layer (described later) is used as an optical compensation film, so that the contrast of the IPS liquid crystal panel is effectively reduced. It becomes possible to improve.

位相差フィルム積層体において、機能層の、波長550nmにおける面内方向のレターデーションは、好ましくは50nm以上、より好ましくは70nm以上であり、好ましくは150nm以下、より好ましくは120nm以下である。機能層の面内方向のレターデーションがこの範囲であると、延伸による製造を容易に行うことができる。   In the retardation film laminate, the retardation in the in-plane direction of the functional layer at a wavelength of 550 nm is preferably 50 nm or more, more preferably 70 nm or more, preferably 150 nm or less, more preferably 120 nm or less. When the retardation in the in-plane direction of the functional layer is within this range, production by stretching can be easily performed.

位相差フィルム積層体において、機能層の、波長550nmにおける厚み方向のレターデーションは、好ましくは40nm以上、より好ましくは60nm以上であり、好ましくは、150nm以下、より好ましくは120nm以下である。機能層の厚み方向のレターデーションがこの範囲であると、複層フィルムの延伸による製造を容易に行うことができる。   In the retardation film laminate, the retardation in the thickness direction of the functional layer at a wavelength of 550 nm is preferably 40 nm or more, more preferably 60 nm or more, preferably 150 nm or less, more preferably 120 nm or less. When the retardation in the thickness direction of the functional layer is within this range, production by stretching the multilayer film can be easily performed.

ここで、「支持体の波長550nmにおけるレターデーション」を「支持体の厚み」で割った商を「I」とする。また、「機能層の波長550nmにおけるレターデーション」を「機能層の厚み」で割った商を「J」とする。この場合、I<Jであることが好ましく、3I<Jであることがより好ましく、5I<Jであることが更に好ましく、10I<Jであることが特に好ましい。前記の値I及び値Jの関係を満たす材料を選定することで、複層フィルムを製造する際に延伸処理をしながら機能層のみのレターデーションを正確に測定することが可能となる。   Here, a quotient obtained by dividing “retardation at a wavelength of 550 nm of the support” by “thickness of the support” is “I”. Further, a quotient obtained by dividing “retardation of functional layer at wavelength of 550 nm” by “thickness of functional layer” is “J”. In this case, I <J is preferable, 3I <J is more preferable, 5I <J is further preferable, and 10I <J is particularly preferable. By selecting a material that satisfies the relationship between the value I and the value J, it is possible to accurately measure the retardation of only the functional layer while performing a stretching process when producing a multilayer film.

機能層の面内における厚みのバラつきは、機能層の平均厚みの、好ましくは5%以下、より好ましくは3%以下、さらに好ましくは1%以下である。ここで厚みのバラつきとは、厚みの最大値と最小値との差のことをいう。このように優れた厚み精度を実現することで、MD方向およびTD方向で均一な光学特性を示す積層体及び位相差フィルムを得ることができる。また、このような厚み精度は、例えば、上に述べた塗工及び延伸を組み合わせた製造方法で複層フィルムを製造することにより、実現できる。   The variation in thickness in the plane of the functional layer is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and even more preferably 1% or less of the average thickness of the functional layer. Here, the thickness variation means a difference between the maximum value and the minimum value of the thickness. By realizing such an excellent thickness accuracy, it is possible to obtain a laminate and a retardation film that exhibit uniform optical characteristics in the MD direction and the TD direction. Such thickness accuracy can be realized, for example, by manufacturing a multilayer film by a manufacturing method in which the above-described coating and stretching are combined.

支持体と機能層との間の剥離力は、好ましくは0.05N/20mm以下、より好ましくは0.03N/20mm以下、特に好ましくは0.01N/20mm以下である。剥離力は、JIS K6853−2に準拠して測定しうる。剥離力をこのように小さくすることにより、積層体から支持体を剥離して、位相差フィルムを容易に製造することができる。また、前記の剥離力の下限は、好ましくは0.001N/20mm以上、より好ましくは0.003N/20mm以上、特に好ましくは0.005N/20mm以上である。このように小さい剥離力は、例えば、支持体及び機能層の材料の組み合わせを、互いに相溶しない材料で適切に選択することにより、実現できる。   The peel force between the support and the functional layer is preferably 0.05 N / 20 mm or less, more preferably 0.03 N / 20 mm or less, and particularly preferably 0.01 N / 20 mm or less. The peeling force can be measured according to JIS K6855-2. By reducing the peeling force in this way, the support can be peeled from the laminate, and a retardation film can be easily produced. The lower limit of the peeling force is preferably 0.001 N / 20 mm or more, more preferably 0.003 N / 20 mm or more, and particularly preferably 0.005 N / 20 mm or more. Such a small peeling force can be realized, for example, by appropriately selecting a combination of materials for the support and the functional layer using materials that are not compatible with each other.

本発明の位相差フィルム積層体における支持体の厚みは、好ましくは10μm以上、より好ましくは20μm以上、特に好ましくは30μm以上であり、好ましくは200μm以下、より好ましくは150μm以下、特に好ましくは100μm以下である。支持体の厚みを前記範囲の下限値以上とすることにより、延伸ムラの発生を防止できる。また、上限値以下とすることにより、支持体の張力が過大にならないようにして工業生産性を高めることができる。   The thickness of the support in the retardation film laminate of the present invention is preferably 10 μm or more, more preferably 20 μm or more, particularly preferably 30 μm or more, preferably 200 μm or less, more preferably 150 μm or less, particularly preferably 100 μm or less. It is. By setting the thickness of the support to be equal to or more than the lower limit of the above range, it is possible to prevent stretching unevenness. Moreover, industrial productivity can be improved by setting it as below an upper limit so that the tension | tensile_strength of a support body may not become excessive.

本発明の位相差フィルム積層体における機能層の厚みは、好ましくは0.1μm以上、より好ましくは1μm以上であり、耐傷つき性、ハンドリング性及び薄膜性を高める観点から、好ましくは40μm以下、より好ましくは30μm以下である。機能層の厚みをこの範囲にすることにより、位相差フィルムを薄くでき、かつ、位相差フィルムを高温耐久性に優れるものとできる。   The thickness of the functional layer in the retardation film laminate of the present invention is preferably 0.1 μm or more, more preferably 1 μm or more, and preferably 40 μm or less from the viewpoint of improving scratch resistance, handling properties and thin film properties. Preferably it is 30 micrometers or less. By setting the thickness of the functional layer within this range, the retardation film can be made thin and the retardation film can be excellent in high temperature durability.

[4.位相差フィルム]
本発明の位相差フィルムは、前記製造方法で得られた位相差フィルム積層体の、延伸された機能層を含む。即ち、前記製造方法で得られた位相差フィルム積層体をそのまま本発明の位相差フィルムとしてもよく、また、位相差フィルム積層体から支持体を剥離して得られる、延伸された機能層のみからなる位相差フィルムを本発明の位相差フィルムとしてもよく、さらには、任意の層を貼合して得られる、延伸された機能層及び任意の層を含む位相差フィルムを本発明の位相差フィルムとしてもよい。
[4. Retardation film]
The retardation film of this invention contains the extended | stretched functional layer of the retardation film laminated body obtained by the said manufacturing method. That is, the retardation film laminate obtained by the above production method may be used as it is as the retardation film of the present invention, and only from the stretched functional layer obtained by peeling the support from the retardation film laminate. The retardation film obtained may be used as the retardation film of the present invention. Furthermore, the retardation film containing the stretched functional layer and the arbitrary layer obtained by laminating an arbitrary layer is used as the retardation film of the present invention. It is good.

[4.1.複合位相差フィルム]
本発明の位相差フィルムの好ましい態様として、上で説明した負の二軸性を有する機能層と、正の二軸性を有する位相差層とを組み合わせて有する位相差フィルム(以下において、「複合位相差フィルム」という。)を挙げることができる。複合位相差フィルムにおける正の二軸性を有する位相差層は、正の二軸性を有する位相差層と、その片面又は両面に設けられた保護層とを有する位相差フィルム積層体として製造しうる(以下においては、当該位相差フィルム積層体を、上に述べた本発明の位相差フィルム積層体と区別し、「位相差フィルム積層体(B)」という。また、同様に、区別のため、正の二軸性を有する位相差層を、「位相差層(B1)」といい、保護層を、「保護層(B2)」ということがある。)。位相差フィルム積層体(B)から、必要に応じて保護層(B2)の1枚以上を剥離して、残余を本発明の位相差フィルムと貼合して、複合位相差フィルムを形成しうる。
[4.1. Composite retardation film]
As a preferred embodiment of the retardation film of the present invention, a retardation film (hereinafter referred to as “composite”) having a combination of the functional layer having negative biaxiality described above and the retardation layer having positive biaxiality described above. A retardation film ”). The retardation layer having positive biaxiality in the composite retardation film is produced as a retardation film laminate having a retardation layer having positive biaxiality and a protective layer provided on one side or both sides thereof. (In the following, the retardation film laminate is distinguished from the retardation film laminate of the present invention described above, and is referred to as “retardation film laminate (B)”. The retardation layer having positive biaxiality is referred to as “retardation layer (B1)”, and the protective layer is sometimes referred to as “protective layer (B2)”. One or more of the protective layers (B2) may be peeled off from the retardation film laminate (B) as necessary, and the remainder may be bonded to the retardation film of the present invention to form a composite retardation film. .

位相差層(B1)は、正の二軸性を有する層である。即ち、その屈折率nx、ny及びnzが、nz>nx>nyの関係を満たす層である。これにより、負の二軸性を有する機能層と位相差層(B1)とを組み合わせた位相差フィルムを光学補償フィルムとして用いて、IPS型液晶パネルのコントラストを効果的に改善することが可能である。   The retardation layer (B1) is a layer having positive biaxiality. That is, it is a layer whose refractive indexes nx, ny and nz satisfy the relationship of nz> nx> ny. As a result, it is possible to effectively improve the contrast of the IPS liquid crystal panel by using a retardation film in which a functional layer having negative biaxiality and the retardation layer (B1) are combined as an optical compensation film. is there.

位相差フィルム積層体(B)の一例、及び複合位相差フィルムの一例を、それぞれ図3及び図4に示す。図3は、複合位相差フィルムの製造に用いる位相差フィルム積層体(B)の一例を、その主面に対して垂直な平面で切った断面を模式的に示す断面図である。図4は、複合位相差フィルムの一例を、その主面に対して垂直な平面で切った断面を模式的に示す断面図である。
図3において、位相差フィルム積層体(B)300は、位相差層(B1)301と、その両面に設けられた一対の保護層(B2)である層302A及び302Bとを有している。このような、両面に保護層(B2)を有する構成を採用することにより、位相差層(B1)の材料として延伸により容易に破損し易い材料を採用しても、共延伸による製造を容易に行うことができる。
図4において、複合位相差フィルム400は、位相差フィルム積層体100と、複層フィルム(B’)310と有している。位相差フィルム積層体100は、延伸された支持体111と、延伸された機能層112とを有している。複層フィルム(B’)310は、複合フィルム(B)300から保護層302Bを剥離してなるものであり、位相差層(B1)301と、保護層(B2)302Aとを有している。機能層112と、位相差層(B1)301とは接着層401を介して貼合されている。このように、保護層302Bを剥離し、位相差層(B1)301を直接貼合した構成を採用することにより、複合位相差フィルム全体の厚みを低減することができる。
An example of the retardation film laminate (B) and an example of the composite retardation film are shown in FIGS. 3 and 4, respectively. FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of an example of the retardation film laminate (B) used for the production of the composite retardation film, taken along a plane perpendicular to the main surface. FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of an example of the composite retardation film taken along a plane perpendicular to the main surface.
In FIG. 3, a retardation film laminate (B) 300 includes a retardation layer (B1) 301 and layers 302A and 302B which are a pair of protective layers (B2) provided on both surfaces thereof. By adopting such a structure having the protective layer (B2) on both sides, even if a material that is easily damaged by stretching is adopted as the material of the retardation layer (B1), it is easy to produce by co-stretching. It can be carried out.
In FIG. 4, the composite retardation film 400 has a retardation film laminate 100 and a multilayer film (B ′) 310. The retardation film laminate 100 has a stretched support 111 and a stretched functional layer 112. The multilayer film (B ′) 310 is formed by peeling the protective layer 302B from the composite film (B) 300, and includes a retardation layer (B1) 301 and a protective layer (B2) 302A. . The functional layer 112 and the retardation layer (B1) 301 are bonded via an adhesive layer 401. Thus, the thickness of the entire composite retardation film can be reduced by adopting a configuration in which the protective layer 302B is peeled off and the retardation layer (B1) 301 is directly bonded.

[4.2.位相差層(B1)]
位相差層(B1)の材料の好ましい例としては、固有複屈折が負の非液晶性材料が挙げられる。固有複屈折が負の非液晶性材料としては、通常、固有複屈折が負の樹脂を用いる。また、この樹脂としては、通常、透明の樹脂を用いる。このような樹脂としては、スチレン類、スチレン類−マレイン酸、マレイミド類及び(メタ)アクリル酸エステルからなる群より選択される1種類以上のモノマーを重合した重合体を含む樹脂が好ましい。この場合、前記の重合体は、単独重合体でもよく、共重合体でもよい。このような重合体は、通常、負の固有複屈折を有するので、それを含む樹脂の固有複屈折も負にすることができる。
[4.2. Retardation layer (B1)]
Preferable examples of the material of the retardation layer (B1) include a non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence. As the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence, a resin having a negative intrinsic birefringence is usually used. Further, as this resin, a transparent resin is usually used. As such a resin, a resin including a polymer obtained by polymerizing one or more monomers selected from the group consisting of styrenes, styrenes-maleic acid, maleimides, and (meth) acrylic acid esters is preferable. In this case, the polymer may be a homopolymer or a copolymer. Since such a polymer usually has a negative intrinsic birefringence, the intrinsic birefringence of the resin containing it can also be made negative.

ここで、スチレン類とは、スチレン及びスチレン誘導体を意味する。また、スチレン誘導体としては、例えば、スチレンのベンゼン環またはα位に置換基が置換したものが挙げられる。スチレン誘導体の具体例を挙げると、メチルスチレン、2,4−ジメチルスチレン等のアルキルスチレン;クロロスチレン等のハロゲン化スチレン;クロロメチルスチレン等のハロゲン置換アルキルスチレン;メトキシスチレン等のアルコキシスチレン;などが挙げられる。ここで、スチレン類は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Here, styrenes mean styrene and styrene derivatives. Examples of the styrene derivative include those in which a substituent is substituted at the benzene ring or α-position of styrene. Specific examples of styrene derivatives include alkyl styrene such as methyl styrene and 2,4-dimethyl styrene; halogenated styrene such as chlorostyrene; halogen-substituted alkyl styrene such as chloromethyl styrene; alkoxy styrene such as methoxy styrene; Can be mentioned. Here, one kind of styrene may be used alone, or two or more kinds may be used in combination at any ratio.

また特に、ポリスチレン系重合体としては、シンジオタクチック構造を有するポリスチレン系重合体が好ましい。シンジオタクチック構造を有するポリスチレン系重合体は高い耐熱性を有し、熱収縮性を抑制することができ、また、延伸により所望のレターデーションを安定して発現させることができる。   In particular, the polystyrene polymer is preferably a polystyrene polymer having a syndiotactic structure. The polystyrene-based polymer having a syndiotactic structure has high heat resistance, can suppress heat shrinkability, and can stably develop desired retardation by stretching.

ここで、ポリスチレン系重合体がシンジオタクチック構造を有する、とは、ポリスチレン系重合体の立体化学構造がシンジオタクチック構造となっていることをいう。また、シンジオタクチック構造とは、炭素−炭素結合で形成される主鎖に対して、側鎖であるフェニル基が、フィッシャー投影式において、交互に反対方向に規則的に配列した立体構造のことをいう。シンジオタクチック構造を有するポリスチレン系重合体は、従来のアタクチック型のポリスチレン系重合体に比べて、低比重であり、耐加水分解性、耐熱性及び耐薬品性等の特性に優れている。   Here, the polystyrene polymer has a syndiotactic structure means that the stereochemical structure of the polystyrene polymer has a syndiotactic structure. The syndiotactic structure is a three-dimensional structure in which phenyl groups as side chains are regularly and alternately arranged in opposite directions in the Fischer projection formula with respect to the main chain formed by carbon-carbon bonds. Say. A polystyrene polymer having a syndiotactic structure has a low specific gravity and excellent properties such as hydrolysis resistance, heat resistance and chemical resistance as compared with a conventional atactic polystyrene polymer.

ポリスチレン系重合体のタクティシティー(tacticity:立体規則性)は、同位体炭素による核磁気共鳴法(13C−NMR法)により定量されうる。13C−NMR法により測定されるタクティシティーは、連続する複数個の構成単位の存在割合により示すことができる。一般に、例えば、連続する構成単位が2個の場合はダイアッド、3個の場合はトリアッド、5個の場合はペンタッドとなる。この場合、前記シンジオタクチック構造を有するポリスチレン系重合体とは、ラセミダイアッドで通常75%以上、好ましくは85%以上のシンジオタクティシティーを有するか、若しくは、ラセミペンタッドで通常30%以上、好ましくは50%以上のシンジオタクティシティーを有することをいう。 The tacticity (stericity) of the polystyrene-based polymer can be quantified by an isotope carbon nuclear magnetic resonance method ( 13 C-NMR method). The tacticity measured by the 13 C-NMR method can be indicated by the existence ratio of a plurality of consecutive structural units. Generally, for example, when there are two consecutive structural units, it is a dyad, when it is 3, it is a triad, and when it is 5, it is a pentad. In this case, the polystyrene-based polymer having a syndiotactic structure usually has a syndiotacticity of 75% or more, preferably 85% or more in racemic dyad, or usually 30% or more in racemic pentad. It preferably means having a syndiotacticity of 50% or more.

シンジオタクチック構造を有するポリスチレン系重合体は、例えば、不活性炭化水素溶媒中又は溶媒の不存在下において、チタン化合物及び水とトリアルキルアルミニウムの縮合生成物を触媒として、スチレン類を重合することにより製造しうる(特開昭62-187708号公報参照)。また、ポリ(ハロゲン化アルキルスチレン)については、例えば、特開平1−46912号公報に記載の方法により製造してもよい。   For example, a polystyrene polymer having a syndiotactic structure can polymerize styrenes using a titanium compound and a condensation product of water and trialkylaluminum as a catalyst in an inert hydrocarbon solvent or in the absence of a solvent. (See Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-187708). Poly (halogenated alkylstyrene) may be produced, for example, by the method described in JP-A-1-46912.

スチレン類、スチレン類−マレイン酸、マレイミド類及び(メタ)アクリル酸エステルからなる群より選択される1種類以上のモノマーを重合した重合体の重量平均分子量は、好ましく130,000以上、より好ましくは140,000以上、特に好ましくは150,000以上であり、好ましくは300,000以下、より好ましくは270,000以下、特に好ましくは250,000以下である。このような重量平均分子量とすると、重合体のガラス転移温度を高めて、積層体の耐熱性を安定して改善することができる。   The weight average molecular weight of a polymer obtained by polymerizing one or more monomers selected from the group consisting of styrenes, styrenes-maleic acid, maleimides and (meth) acrylic acid esters is preferably 130,000 or more, more preferably It is 140,000 or more, particularly preferably 150,000 or more, preferably 300,000 or less, more preferably 270,000 or less, and particularly preferably 250,000 or less. With such a weight average molecular weight, the glass transition temperature of the polymer can be increased, and the heat resistance of the laminate can be stably improved.

スチレン類、スチレン類−マレイン酸、マレイミド類及び(メタ)アクリル酸エステルからなる群より選択される1種類以上のモノマーを重合した重合体のガラス転移温度は、好ましくは85℃以上、より好ましくは90℃以上、特に好ましくは95℃以上である。このようにガラス転移温度を高めることにより、位相差層(B1)を形成する固有複屈折が負の非液晶性材料のガラス転移温度を効果的に高め、ひいては位相差フィルムの耐熱性を安定して改善することができる。また、積層体の製造を安定して容易に行う観点から、前記のガラス転移温度は、好ましくは160℃以下、より好ましくは155℃以下、特に好ましくは150℃以下である。   The glass transition temperature of a polymer obtained by polymerizing one or more monomers selected from the group consisting of styrenes, styrenes-maleic acid, maleimides, and (meth) acrylic acid esters is preferably 85 ° C. or more, more preferably 90 ° C or higher, particularly preferably 95 ° C or higher. By increasing the glass transition temperature in this manner, the glass transition temperature of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence forming the retardation layer (B1) is effectively increased, thereby stabilizing the heat resistance of the retardation film. Can be improved. Further, from the viewpoint of stably and easily producing the laminate, the glass transition temperature is preferably 160 ° C. or lower, more preferably 155 ° C. or lower, and particularly preferably 150 ° C. or lower.

さらに、位相差層(B1)を形成する固有複屈折が負の非液晶性材料は、前記のスチレン、スチレン−マレイン酸、マレイミド類及び(メタ)アクリル酸エステルからなる群より選択される1種類以上のモノマーを重合した重合体に組み合わせて、ポリカーボネート重合体、ポリエステル重合体及びポリアリーレンエーテル重合体からなる群より選択される1種類以上の重合体を含む混合物であることが好ましい。ポリカーボネート重合体、ポリエステル重合体又はポリアリーレンエーテル重合体を組み合わせることにより、位相差層(B1)の強度を高めること、ガラス転移温度を制御すること、及び、光学特性を制御することが可能となる。   Furthermore, the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence that forms the retardation layer (B1) is one type selected from the group consisting of the above-mentioned styrene, styrene-maleic acid, maleimides, and (meth) acrylic acid esters. A mixture containing one or more polymers selected from the group consisting of a polycarbonate polymer, a polyester polymer and a polyarylene ether polymer in combination with a polymer obtained by polymerizing the above monomers is preferable. By combining a polycarbonate polymer, a polyester polymer, or a polyarylene ether polymer, it is possible to increase the strength of the retardation layer (B1), control the glass transition temperature, and control optical properties. .

ポリカーボネート重合体としては、例えば、支持体を形成する材料の説明において挙げたのと同様の例が挙げられる。ここで、ポリカーボネート重合体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Examples of the polycarbonate polymer include the same examples as mentioned in the description of the material forming the support. Here, a polycarbonate polymer may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

上述したような、スチレン類、スチレン類−マレイン酸、マレイミド類及び(メタ)アクリル酸エステルからなる群より選択される1種類以上のモノマーを重合した重合体と、ポリカーボネート重合体、ポリエステル重合体及びポリアリーレンエーテル重合体からなる群より選択される1種類以上の重合体との組み合わせの中でも、特に、ポリスチレン系重合体とポリアリーレンエーテル重合体とを組み合わせることが好ましい。   As described above, a polymer obtained by polymerizing at least one monomer selected from the group consisting of styrenes, styrenes-maleic acid, maleimides, and (meth) acrylic acid esters, polycarbonate polymers, polyester polymers, and Among the combinations with one or more polymers selected from the group consisting of polyarylene ether polymers, it is particularly preferable to combine a polystyrene polymer and a polyarylene ether polymer.

スチレン類、スチレン類−マレイン酸、マレイミド類及び(メタ)アクリル酸エステルからなる群より選択される1種類以上のモノマーを重合した重合体と、ポリカーボネート重合体、ポリエステル重合体及びポリアリーレンエーテル重合体からなる群より選択される1種類以上の重合体との重量比は、好ましくは90:10〜55:45であり、より好ましくは85:15〜60:40であり、特に好ましくは80:20〜65:35である。重量比がこの範囲にあることで、延伸によって位相差層(B1)に所望のレターデーション及び所望の光学特性を容易に発現させることができる。   Polymers obtained by polymerizing one or more monomers selected from the group consisting of styrenes, styrenes-maleic acid, maleimides and (meth) acrylic acid esters, polycarbonate polymers, polyester polymers, and polyarylene ether polymers The weight ratio with one or more polymers selected from the group consisting of is preferably 90:10 to 55:45, more preferably 85:15 to 60:40, and particularly preferably 80:20. ~ 65: 35. When the weight ratio is in this range, desired retardation and desired optical properties can be easily expressed in the retardation layer (B1) by stretching.

位相差層(B1)を形成する固有複屈折が負の非液晶性材料は、スチレン類、スチレン類−マレイン酸、マレイミド類及び(メタ)アクリル酸エステルからなる群より選択される1種類以上のモノマーを重合した重合体、並びに、ポリカーボネート重合体、ポリエステル重合体及びポリアリーレンエーテル重合体からなる群より選択される1種類以上の重合体以外に任意の成分を含みうる。任意の成分としては、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、架橋剤が挙げられる。ただし、位相差層(B1)を形成する固有複屈折が負の非液晶性材料において、スチレン類、スチレン類−マレイン酸、マレイミド類及び(メタ)アクリル酸エステルからなる群より選択される1種類以上のモノマーを重合した重合体、並びに、ポリカーボネート重合体、ポリエステル重合体及びポリアリーレンエーテル重合体からなる群より選択される1種類以上の重合体の割合は、好ましくは50重量%以上、より好ましくは80重量%以上、特に好ましくは90重量%以上である。   The non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence forming the retardation layer (B1) is at least one selected from the group consisting of styrenes, styrenes-maleic acid, maleimides, and (meth) acrylic acid esters. In addition to a polymer obtained by polymerizing monomers, and one or more kinds of polymers selected from the group consisting of a polycarbonate polymer, a polyester polymer, and a polyarylene ether polymer, an optional component may be included. Examples of the optional component include an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, and a crosslinking agent. However, in the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence forming the retardation layer (B1), one kind selected from the group consisting of styrenes, styrenes-maleic acid, maleimides and (meth) acrylic acid esters The ratio of one or more polymers selected from the group consisting of a polymer obtained by polymerizing the above monomers, and a polycarbonate polymer, a polyester polymer and a polyarylene ether polymer is preferably 50% by weight or more, more preferably Is 80% by weight or more, particularly preferably 90% by weight or more.

位相差層(B1)を形成する固有複屈折が負の非液晶性材料のガラス転移温度は、好ましくは115℃以上、より好ましくは120℃以上、特に好ましくは125℃以上である。固有複屈折が負の非液晶性材料のガラス転移温度が高いほど、位相差フィルムの耐熱性が優れる。ただし、ガラス転移温度を過度に高くすると積層体の製造が容易でなくなる可能性があるので、固有複屈折が負の非液晶性材料のガラス転移温度は通常200℃以下である。   The glass transition temperature of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence forming the retardation layer (B1) is preferably 115 ° C. or higher, more preferably 120 ° C. or higher, and particularly preferably 125 ° C. or higher. The higher the glass transition temperature of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence, the better the heat resistance of the retardation film. However, if the glass transition temperature is excessively high, it may not be easy to produce a laminate. Therefore, the glass transition temperature of a non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence is usually 200 ° C. or lower.

位相差層(B1)の引っ張り破断伸度は、好ましくは20%以下、より好ましくは15%以下、特に好ましくは10%以下である。引っ張り破断伸度は、JIS K7162に準拠して測定しうる。一般に、負の固有複屈折を有する非液晶性材料は、機械的強度が弱い。これに対し、位相差フィルム積層体(B)は保護層(B2)を備えるので、このように機械的強度の弱い位相差層(B1)であっても破損を生じ難くできる。さらに、前記複合位相差フィルムの例では、支持体、機能層、接着層、位相差層(B1)及び保護層(B2)をこの順に備える積層構造を有するので、この積層構造によっても、位相差層(B1)の破損を効果的に防止できる。したがって、前記のように層(B1)の引っ張り破断伸度が低いことは、層(B1)の破損を防止して、ハンドリング性及び耐衝撃性を向上させるという効果をより顕著にする観点で、技術的な意義がある。   The tensile elongation at break of the retardation layer (B1) is preferably 20% or less, more preferably 15% or less, and particularly preferably 10% or less. The tensile breaking elongation can be measured according to JIS K7162. In general, a non-liquid crystalline material having negative intrinsic birefringence has low mechanical strength. On the other hand, since the retardation film laminate (B) includes the protective layer (B2), even the retardation layer (B1) having a low mechanical strength can be hardly damaged. Further, the example of the composite retardation film has a laminated structure including a support, a functional layer, an adhesive layer, a retardation layer (B1), and a protective layer (B2) in this order. Damage to the layer (B1) can be effectively prevented. Therefore, the low tensile rupture elongation of the layer (B1) as described above prevents damage to the layer (B1), and makes the effects of improving handling and impact resistance more prominent. There is technical significance.

位相差層(B1)は、波長550nmにおける面内方向のレターデーションが、好ましくは40nm以上、より好ましくは50nm以上であり、好ましくは150nm以下、より好ましくは100nm以下である。位相差層(B1)の面内方向のレターデーションがこの範囲であると、位相差フィルム積層体(B)の延伸による製造を容易に行うことができる。   The retardation layer (B1) has a retardation in the in-plane direction at a wavelength of 550 nm, preferably 40 nm or more, more preferably 50 nm or more, preferably 150 nm or less, more preferably 100 nm or less. When the retardation in the in-plane direction of the retardation layer (B1) is within this range, the retardation film laminate (B) can be easily produced by stretching.

また、位相差層(B1)は、波長450nmにおける面内方向のレターデーションReB1(450)及び波長550nmにおける面内方向のレターデーションReB1(550)が、ReB1(450)/ReB1(550)>1.00を満たすことが好ましい。ReB1(450)及びReB1(550)がこの関係を満たすことにより、広い波長範囲においてIPS液晶セルの補償効果を奏しうる位相差フィルムを得ることができる。 Further, the retardation layer (B1) has an in-plane retardation Re B1 (450) at a wavelength of 450 nm and an in-plane retardation Re B1 (550) at a wavelength of 550 nm, and Re B1 (450) / Re B1 ( 550)> 1.00 is preferable. When Re B1 (450) and Re B1 (550) satisfy this relationship, a retardation film capable of exhibiting a compensation effect for the IPS liquid crystal cell in a wide wavelength range can be obtained.

また、位相差層(B1)は、波長550nmにおける厚み方向のレターデーションRthB1(550)が、好ましくは−150nm以上、より好ましくは−130nm以上であり、好ましくは−50nm以下、より好ましくは−60nm以下である。位相差層(B1)の厚み方向のレターデーションRthB1(550)がこの範囲であると、位相差フィルム積層体(B)の延伸による製造を容易に行うことができる。 The retardation layer (B1) has a retardation Rth B1 (550) in the thickness direction at a wavelength of 550 nm, preferably −150 nm or more, more preferably −130 nm or more, preferably −50 nm or less, more preferably − 60 nm or less. When the retardation Rth B1 (550) in the thickness direction of the retardation layer (B1) is within this range, the retardation film laminate (B) can be easily produced by stretching.

位相差層(B1)の面内遅相軸は、通常、機能層の面内遅相軸と平行にする。これにより、IPS型の液晶パネルにおいて光学補償を効果的に行うことが可能となり、液晶表示装置のコントラストを向上させることができる。   The in-plane slow axis of the retardation layer (B1) is usually parallel to the in-plane slow axis of the functional layer. Thereby, optical compensation can be effectively performed in the IPS liquid crystal panel, and the contrast of the liquid crystal display device can be improved.

位相差層(B1)の厚みは、好ましくは5μm以上、より好ましくは7μm以上であり、好ましくは30μm以下、より好ましくは15μm以下である。位相差層(B1)の厚みをこの範囲にすることにより、積層体を薄くでき、かつ、積層体を高温耐久性に優れるものとできる。   The thickness of the retardation layer (B1) is preferably 5 μm or more, more preferably 7 μm or more, preferably 30 μm or less, more preferably 15 μm or less. By setting the thickness of the retardation layer (B1) within this range, the laminate can be thinned, and the laminate can be excellent in high temperature durability.

位相差層(B1)の厚みのバラつきは、層(B1)の平均厚みの、好ましくは20%以下、より好ましくは15%以下、さらに好ましくは10%以下である。このような厚み精度を実現することで、MD方向およびTD方向で均一な光学特性を示す積層体及び位相差フィルムを得ることができる。また、このような厚み精度は、例えば、後述する溶融押し出し及び延伸を組み合わせた製造方法で位相差フィルム積層体(B)を製造することにより、実現できる。   The variation in thickness of the retardation layer (B1) is preferably 20% or less, more preferably 15% or less, and even more preferably 10% or less, of the average thickness of the layer (B1). By realizing such thickness accuracy, it is possible to obtain a laminate and a retardation film that exhibit uniform optical characteristics in the MD direction and the TD direction. Moreover, such thickness precision is realizable by manufacturing retardation film laminated body (B) with the manufacturing method which combined the melt extrusion and extending | stretching mentioned later, for example.

[4.3.保護層(B2)]
保護層(B2)は、樹脂により形成しうる。この樹脂としては、通常、熱可塑性樹脂を用いる。また、この樹脂としては、通常、透明の樹脂を用いる。このような樹脂としては、脂環式構造を有する重合体樹脂、(メタ)アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、(メタ)アクリル酸エステル−ビニル芳香族化合物共重合体樹脂、及びポリエーテルスルホン樹脂からなる群から選択される樹脂が好ましい。これらの樹脂は機械的強度に優れ、位相差層(B1)との剥離強度を所望の剥離強度にでき、また、延伸により発現するレターデーションを小さくできる。
[4.3. Protective layer (B2)]
The protective layer (B2) can be formed of a resin. As this resin, a thermoplastic resin is usually used. Further, as this resin, a transparent resin is usually used. Examples of such resins include polymer resins having an alicyclic structure, (meth) acrylic resins, polycarbonate resins, (meth) acrylic acid ester-vinyl aromatic compound copolymer resins, and polyethersulfone resins. A resin selected from is preferred. These resins are excellent in mechanical strength, can have a desired peel strength with respect to the retardation layer (B1), and can reduce the retardation developed by stretching.

保護層(B2)を形成しうる脂環式構造を有する重合体樹脂、(メタ)アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、(メタ)アクリル酸エステル−ビニル芳香族化合物共重合体樹脂、及びポリエーテルスルホン樹脂としては、例えば、支持体を形成する材料として説明した各樹脂と同様のものを用いうる。したがって、保護層(B2)を形成しうる脂環式構造を有する重合体樹脂、(メタ)アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、(メタ)アクリル酸エステル−ビニル芳香族化合物共重合体樹脂、及びポリエーテルスルホン樹脂のそれぞれにおいて、その樹脂が含みうる重合体及び任意の成分の種類及び量は、支持体を形成する材料として説明した各樹脂と同様にしうる。   As a polymer resin having an alicyclic structure capable of forming the protective layer (B2), a (meth) acrylic resin, a polycarbonate resin, a (meth) acrylic ester-vinyl aromatic compound copolymer resin, and a polyethersulfone resin For example, the same resins as those described as the material for forming the support can be used. Therefore, a polymer resin having an alicyclic structure capable of forming the protective layer (B2), a (meth) acrylic resin, a polycarbonate resin, a (meth) acrylic acid ester-vinyl aromatic compound copolymer resin, and a polyethersulfone In each of the resins, the types and amounts of the polymer and optional components that can be contained in the resin can be the same as those of the resins described as materials for forming the support.

これらの樹脂の中でも、保護層(B2)を形成する樹脂としては、脂環式構造を有する重合体樹脂及び(メタ)アクリル樹脂が好ましく、(メタ)アクリル樹脂が特に好ましい。   Among these resins, as the resin for forming the protective layer (B2), a polymer resin having a cycloaliphatic structure and a (meth) acrylic resin are preferable, and a (meth) acrylic resin is particularly preferable.

保護層(B2)を形成する樹脂のガラス転移温度は、層(B1)を形成する固有複屈折が負の非液晶性材料のガラス転移温度に応じて設定することが好ましい。具体的には、層(B1)を形成する固有複屈折が負の非液晶性材料のガラス転移温度Tg(B1)と、保護層(B2)を形成する樹脂のガラス転移温度Tg(B2)とが、Tg(B1)>Tg(B2)+20℃を満たすことが好ましく、Tg(B1)>Tg(B2)+25℃を満たすことがより好ましい。これにより、固有複屈折が負の非液晶性材料のガラス転移温度Tg(B1)より高い延伸温度で延伸処理をする場合、保護層(B2)において重合体がほとんど配向せず、無配向状態となる。そのため、延伸処理によっても保護層(B2)に大きなレターデーションが発現しないので、延伸処理を行いながら位相差層(B1)のみのレターデーションを正確に測定することが可能となる。   The glass transition temperature of the resin forming the protective layer (B2) is preferably set according to the glass transition temperature of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence forming the layer (B1). Specifically, the glass transition temperature Tg (B1) of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence forming the layer (B1) and the glass transition temperature Tg (B2) of the resin forming the protective layer (B2) However, it is preferable to satisfy | fill Tg (B1)> Tg (B2) +20 degreeC, and it is more preferable to satisfy | fill Tg (B1)> Tg (B2) +25 degreeC. Thus, when the stretching treatment is performed at a stretching temperature higher than the glass transition temperature Tg (B1) of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence, the polymer is hardly oriented in the protective layer (B2), Become. Therefore, since a large retardation does not appear in the protective layer (B2) even by the stretching treatment, it is possible to accurately measure the retardation of only the retardation layer (B1) while performing the stretching treatment.

さらに、特に保護層(B2)を形成しうる脂環式構造を有する重合体樹脂のガラス転移温度は、好ましくは80℃以上、より好ましくは90℃以上であり、好ましくは150℃以下、より好ましくは120℃以下、さらに好ましくは110℃以下である。ガラス転移温度を前記範囲の下限値以上とすることにより高温下における耐久性を向上させることができ、また、上限値以下とすることにより延伸加工を容易にすることができる。   Furthermore, the glass transition temperature of the polymer resin having an alicyclic structure capable of forming the protective layer (B2) is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 90 ° C. or higher, preferably 150 ° C. or lower, more preferably Is 120 ° C. or lower, more preferably 110 ° C. or lower. By setting the glass transition temperature to be equal to or higher than the lower limit value of the above range, durability at high temperatures can be improved, and by setting the glass transition temperature to be equal to or lower than the upper limit value, stretching can be facilitated.

また、特に保護層(B2)を形成しうる(メタ)アクリル樹脂のガラス転移温度は、好ましくは80℃以上、より好ましくは90℃以上であり、好ましくは120℃以下、より好ましくは110℃以下である。ガラス転移温度を前記範囲の下限値以上にすることにより、樹脂ペレットを高温で乾燥する時のブロッキングを抑制できるので、水分の混入を防止できる。また、上限値以下にすることにより、延伸時における(メタ)アクリル重合体の配向を低減できるので、位相差層(B1)の光学的機能を保護層(B2)が阻害することを抑制できる。   In particular, the glass transition temperature of the (meth) acrylic resin capable of forming the protective layer (B2) is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 90 ° C. or higher, preferably 120 ° C. or lower, more preferably 110 ° C. or lower. It is. By setting the glass transition temperature to be equal to or higher than the lower limit of the above range, blocking when the resin pellets are dried at a high temperature can be suppressed, so that mixing of moisture can be prevented. Moreover, since it can reduce the orientation of the (meth) acrylic polymer at the time of extending | stretching by setting it as an upper limit or less, it can suppress that a protective layer (B2) inhibits the optical function of a phase difference layer (B1).

また、特に保護層(B2)を形成しうるポリカーボネート樹脂のガラス転移温度は、好ましくは80℃以上、より好ましくは90℃以上、更に好ましくは100℃以上、特に好ましくは120℃以上であり、好ましくは160℃以下、より好ましくは150℃以下である。ガラス転移温度を前記範囲の下限値以上とすることにより高温下における耐久性を向上させることができ、また、上限値以下とすることにより延伸加工を容易にすることができる。   In particular, the glass transition temperature of the polycarbonate resin capable of forming the protective layer (B2) is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 90 ° C. or higher, still more preferably 100 ° C. or higher, particularly preferably 120 ° C. or higher, preferably Is 160 ° C. or lower, more preferably 150 ° C. or lower. By setting the glass transition temperature to be equal to or higher than the lower limit value of the above range, durability at high temperatures can be improved, and by setting the glass transition temperature to be equal to or lower than the upper limit value, stretching can be facilitated.

保護層(B2)は、波長550nmにおける面内方向のレターデーションが、好ましくは30nm以下、より好ましくは20nm以下、特に好ましくは10nm以下である。保護層(B2)の面内方向のレターデーションを小さくすることにより、位相差フィルム積層体(B)を製造する際に延伸処理をしながら位相差層(B1)のみのレターデーションを測定することが可能となる。   The protective layer (B2) has a retardation in the in-plane direction at a wavelength of 550 nm, preferably 30 nm or less, more preferably 20 nm or less, and particularly preferably 10 nm or less. By measuring the retardation of only the retardation layer (B1) while performing a stretching treatment when producing the retardation film laminate (B) by reducing the retardation in the in-plane direction of the protective layer (B2). Is possible.

保護層(B2)の厚みは、好ましくは1μm以上、より好ましくは3μm以上、特に好ましくは5μm以上であり、好ましくは50μm以下、より好ましくは30μm以下、特に好ましくは15μm以下である。保護層(B2)の厚みを前記範囲の下限値以上とすることにより、保護層(B2)の機械的強度を十分に高めることができる。また、上限値以下とすることにより、保護層(B2)の柔軟性及びハンドリング性を良好にできる。   The thickness of the protective layer (B2) is preferably 1 μm or more, more preferably 3 μm or more, particularly preferably 5 μm or more, preferably 50 μm or less, more preferably 30 μm or less, and particularly preferably 15 μm or less. By setting the thickness of the protective layer (B2) to be equal to or greater than the lower limit of the above range, the mechanical strength of the protective layer (B2) can be sufficiently increased. Moreover, the softness | flexibility and handling property of a protective layer (B2) can be made favorable by setting it as an upper limit or less.

固有複屈折が負の位相差層(B1)と保護層(B2)との間の剥離力は、好ましくは0.5N/20mm以下、より好ましくは0.3N/20mm以下、特に好ましくは0.15N/20mm以下である。剥離力は、JIS K6853−2に準拠して測定しうる。剥離力をこのように小さくすることにより、積層体から保護層(B2)を剥離して、位相差フィルムを容易に製造することができる。また、前記の剥離力の下限は、好ましくは0.01N/20mm以上、より好ましくは0.03N/20mm以上、特に好ましくは0.05N/20mm以上である。このように小さい剥離力は、例えば、位相差層(B1)及び保護層(B2)の材料の組み合わせを互いに相溶しない材料で適切に選択することにより、実現できる。   The peeling force between the retardation layer (B1) having a negative intrinsic birefringence and the protective layer (B2) is preferably 0.5 N / 20 mm or less, more preferably 0.3 N / 20 mm or less, and particularly preferably 0.8. 15 N / 20 mm or less. The peeling force can be measured according to JIS K6855-2. By reducing the peeling force in this way, the protective layer (B2) can be peeled from the laminate, and the retardation film can be easily produced. The lower limit of the peeling force is preferably 0.01 N / 20 mm or more, more preferably 0.03 N / 20 mm or more, and particularly preferably 0.05 N / 20 mm or more. Such a small peeling force can be realized, for example, by appropriately selecting a combination of materials of the retardation layer (B1) and the protective layer (B2) with materials that are not compatible with each other.

[4.4.接着層]
図4に示す複合位相差フィルム400を構成する接着層401は、接着剤の硬化物により形成された層としうる。ここで、接着剤とは、硬化後に23℃において1MPa〜500MPaの剪断貯蔵弾性率を有する狭義の接着剤及び、23℃における剪断貯蔵弾性率が1MPa未満の粘着剤を含む。ただし、機能層を含む本発明の位相差フィルムと位相差フィルム積層体(B)との貼り合せの際、粘着剤を用いた貼り合せを行おうとすると、貼り合わせの際の気泡の噛みこみ及び異物の噛みこみの抑制、並びに強力な粘着力の確保のために粘着剤の層の厚みは厚くなる傾向がある。これに対し、狭義の接着剤を用いた貼り合せでは、接着層の厚みを薄くできる。そのため、接着剤としては、硬化後に23℃において1MPa〜500MPaの剪断貯蔵弾性率を有する狭義の接着剤を用いることが好ましい。
[4.4. Adhesive layer]
The adhesive layer 401 constituting the composite retardation film 400 shown in FIG. 4 can be a layer formed of a cured product of an adhesive. Here, the adhesive includes a narrowly defined adhesive having a shear storage elastic modulus of 1 MPa to 500 MPa at 23 ° C. after curing, and a pressure-sensitive adhesive having a shear storage elastic modulus at 23 ° C. of less than 1 MPa. However, when the retardation film of the present invention containing the functional layer and the retardation film laminate (B) are bonded, if the bonding using the adhesive is performed, the entrapment of bubbles at the time of bonding and The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer tends to increase in order to suppress the biting of foreign matter and to secure a strong adhesive force. On the other hand, in the bonding using a narrowly defined adhesive, the thickness of the adhesive layer can be reduced. Therefore, it is preferable to use a narrowly defined adhesive having a shear storage modulus of 1 MPa to 500 MPa at 23 ° C. after curing as the adhesive.

接着剤としては、通常、活性エネルギー線硬化型の接着剤を用いる。活性エネルギー線硬化型の接着剤とは、例えば、紫外線、X線及び電子線等の活性エネルギー線を照射すると硬化しうる接着剤をいう。中でも、安価な装置を使用することができるため、紫外線で硬化しうる接着剤が好ましい。   As the adhesive, an active energy ray curable adhesive is usually used. The active energy ray-curable adhesive refers to an adhesive that can be cured when irradiated with active energy rays such as ultraviolet rays, X-rays, and electron beams. Among them, an adhesive that can be cured by ultraviolet rays is preferable because an inexpensive device can be used.

好適な接着剤の例としては、未硬化状態で(メタ)アクリレートを含むものを用いうる。中でも、(メタ)アクリレートとして、(I)オリゴマー型多官能(メタ)アクリレートと(II)温度20±1.0℃における粘度が10mPa・s以上500mPa・s未満の水酸基を少なくともひとつ有するモノ(メタ)アクリレートとを組み合わせて含むものが好ましい。   As an example of a suitable adhesive, one containing (meth) acrylate in an uncured state can be used. Among them, as the (meth) acrylate, (I) an oligomer-type polyfunctional (meth) acrylate and (II) a mono (meta) having at least one hydroxyl group having a viscosity of 10 mPa · s or more and less than 500 mPa · s at a temperature of 20 ± 1.0 ° C. ) A combination of acrylates is preferred.

また、硬化状態又は未硬化状態において、接着剤は、本発明の効果を著しく損なわない範囲で、(メタ)アクリレート以外に任意の成分を含んでいてもよい。任意の成分としては、例えば、重合開始剤、架橋剤、無機フィラー、重合禁止剤、着色顔料、染料、消泡剤、レベリング剤、分散剤、光拡散剤、可塑剤、帯電防止剤、界面活性剤、非反応性ポリマー(不活性重合体)、粘度調整剤、近赤外線吸収材等が挙げられる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Further, in the cured state or the uncured state, the adhesive may contain an optional component other than (meth) acrylate as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. Optional components include, for example, a polymerization initiator, a crosslinking agent, an inorganic filler, a polymerization inhibitor, a color pigment, a dye, an antifoaming agent, a leveling agent, a dispersing agent, a light diffusing agent, a plasticizer, an antistatic agent, and a surface activity. Agents, non-reactive polymers (inert polymers), viscosity modifiers, near-infrared absorbers, and the like. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio.

接着剤の具体例としては、特開平7−82544号公報記載の例を挙げることができる。   Specific examples of the adhesive include those described in JP-A-7-82544.

接着層の厚みは、好ましくは0.5μm以上、より好ましくは1μm以上、さらに好ましくは3μm以上であり、好ましくは30μm以下、より好ましくは20μm以下、さらに好ましくは10μm以下である。接着層の厚みを前記範囲の下限値以上とすることにより、機能層を含む本発明の位相差フィルムと位相差フィルム積層体(B)との接着力を高くできる。また、上限値以下にすることにより、接着剤の硬化速度を速くして容易に接着剤を硬化させることが可能となり、また、薄膜化を図ることができる。   The thickness of the adhesive layer is preferably 0.5 μm or more, more preferably 1 μm or more, further preferably 3 μm or more, preferably 30 μm or less, more preferably 20 μm or less, and even more preferably 10 μm or less. By setting the thickness of the adhesive layer to be equal to or more than the lower limit of the above range, the adhesive force between the retardation film of the present invention including the functional layer and the retardation film laminate (B) can be increased. Moreover, by making it into the upper limit value or less, it becomes possible to increase the curing rate of the adhesive and to easily cure the adhesive, and to reduce the thickness.

[4.5.位相差フィルム積層体(B)の製造工程の例]
位相差フィルム積層体(B)は、保護層(B2)、固有複屈折が負の位相差層(B1)及び保護層(B2)を構成する材料の層を備える複層フィルム(b)を製造し、その複層フィルム(b)を延伸することにより製造しうる。固有複屈折が負の位相差層(B1)は一般に機械的強度が弱いが、位相差層(B1)の両面を保護層(B2)で覆うことにより、延伸時の位相差層(B1)の破損を確実に防止することができる。また、強度が高い保護層(B2)によって位相差層(B1)を両側から挟みこむようにして保護できるので、位相差層(B1)からのブリードアウトを効果的に防止できる。ここで位相差層(B1)からのブリードアウトとは、位相差層(B1)に含まれる一部の成分(例えば配合剤)が位相差層(B1)の表面に染み出す現象をいう。
[4.5. Example of production process of retardation film laminate (B)]
The retardation film laminate (B) produces a multilayer film (b) comprising a protective layer (B2), a retardation layer (B1) having a negative intrinsic birefringence, and a layer of material constituting the protective layer (B2). And it can manufacture by extending | stretching the multilayer film (b). The retardation layer (B1) having a negative intrinsic birefringence is generally weak in mechanical strength. However, by covering both sides of the retardation layer (B1) with protective layers (B2), the retardation layer (B1) at the time of stretching is covered. Damage can be reliably prevented. In addition, since the retardation layer (B1) can be sandwiched from both sides by the protective layer (B2) having high strength, bleeding out from the retardation layer (B1) can be effectively prevented. Here, the bleed out from the retardation layer (B1) refers to a phenomenon in which a part of components (for example, a compounding agent) contained in the retardation layer (B1) ooze out on the surface of the retardation layer (B1).

位相差フィルム積層体(B)の製造工程の例を、図5に示す。図5は、位相差フィルム積層体(B)を製造する製造装置の一例を模式的に示す概略図である。図5において、製造装置500は、フィルム成形部520と、延伸部530とを備える。   An example of the manufacturing process of the retardation film laminate (B) is shown in FIG. FIG. 5 is a schematic view schematically showing an example of a production apparatus for producing the retardation film laminate (B). In FIG. 5, the manufacturing apparatus 500 includes a film forming unit 520 and a stretching unit 530.

フィルム成型部520は、保護層(B2)、固有複屈折が負の位相差層(B1)及び保護層(B2)を構成する材料の層を備える複層フィルム(b)を製造する装置である。製造方法としては、例えば、共押出成形法;ドライラミネーション等のフィルムラミネーション成形法;共流延法;及び樹脂フィルム表面に樹脂溶液をコーティングする等のコーティング成形法;などの方法が挙げられる。中でも、共押出成形法は、製造効率や、フィルムに溶剤などの揮発性成分を残留させないという観点から、好ましい。   The film molding unit 520 is an apparatus for producing a multilayer film (b) including a protective layer (B2), a retardation layer (B1) having a negative intrinsic birefringence, and a layer of material constituting the protective layer (B2). . Examples of the production method include a coextrusion molding method; a film lamination molding method such as dry lamination; a co-casting method; and a coating molding method such as coating a resin solution on the resin film surface. Among these methods, the coextrusion molding method is preferable from the viewpoint of manufacturing efficiency and preventing a volatile component such as a solvent from remaining in the film.

共押出成形法を採用する場合、複層フィルム(b)は、例えば、固有複屈折が負の非液晶性材料と保護層(B2)を形成する樹脂とを共押し出しすることにより得られる。共押出成形法には、例えば、共押出Tダイ法、共押出インフレーション法、共押出ラミネーション法等が挙げられるが、なかでも共押出Tダイ法が好ましい。また、共押出Tダイ法にはフィードブロック方式およびマルチマニホールド方式があるが、厚さのばらつきを少なくできる点でマルチマニホールド方式が特に好ましい。図5に示す例においては、ダイ521から冷却ロール522上に材料を共押し出しすることにより、延伸前の複層フィルム(b)390を製造している。   When employing the coextrusion molding method, the multilayer film (b) is obtained, for example, by coextruding a non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence and a resin forming the protective layer (B2). Examples of the co-extrusion molding method include a co-extrusion T-die method, a co-extrusion inflation method, and a co-extrusion lamination method, and among them, the co-extrusion T-die method is preferable. Further, the coextrusion T-die method includes a feed block method and a multi-manifold method, but the multi-manifold method is particularly preferable in that variation in thickness can be reduced. In the example shown in FIG. 5, the multilayer film (b) 390 before extending | stretching is manufactured by co-extruding material from the die | dye 521 on the cooling roll 522. FIG.

フィルム成形部520において連続的に製造された複層フィルム(b)390は、延伸部530に搬送され、延伸される。複層フィルム(b)390が延伸されることにより、固有複屈折が負の非液晶性材料の層にレターデーションが発現し、所望の位相差フィルム積層体(B)が得られる。このような延伸部530において行う延伸としては、例えば、ロール間の周速の差を利用してMD方向に一軸延伸する方法(縦一軸延伸);テンター延伸機を用いてTD方向に一軸延伸する方法(横一軸延伸);縦一軸延伸と横一軸延伸とを順に行う方法(逐次二軸延伸);縦一軸延伸と横一軸延伸を同時に行う方法(同時二軸延伸);MD方向に対して斜め方向に延伸する方法(斜め延伸);等を採用できる。ここで「斜め方向」とは、平行でもなく、直交でもない方向を意味する。   The multilayer film (b) 390 continuously produced in the film forming unit 520 is conveyed to the stretching unit 530 and stretched. By stretching the multilayer film (b) 390, retardation is developed in the layer of the non-liquid crystalline material having a negative intrinsic birefringence, and a desired retardation film laminate (B) is obtained. Examples of the stretching performed in the stretching unit 530 include a method of uniaxial stretching in the MD direction using a difference in peripheral speed between rolls (longitudinal uniaxial stretching); uniaxial stretching in the TD direction using a tenter stretching machine. Method (lateral uniaxial stretching); method of performing longitudinal uniaxial stretching and transverse uniaxial stretching in order (sequential biaxial stretching); method of performing longitudinal uniaxial stretching and transverse uniaxial stretching simultaneously (simultaneous biaxial stretching); oblique to the MD direction A method of stretching in the direction (oblique stretching) can be employed. Here, “oblique direction” means a direction that is neither parallel nor orthogonal.

延伸部530における延伸により、固有複屈折が負の位相差層(B1)においてレターデーションが発現し、所望の光学特性を有する位相差フィルム複合体300が得られる。位相差フィルム複合体300においては、固有複屈折が負の位相差層(B1)の面内の遅相軸は、通常、延伸部530で延伸された方向に垂直になる。   By stretching in the stretching section 530, retardation is developed in the retardation layer (B1) having a negative intrinsic birefringence, and the retardation film composite 300 having desired optical characteristics is obtained. In the retardation film composite 300, the slow axis in the plane of the retardation layer (B1) having a negative intrinsic birefringence is usually perpendicular to the direction stretched by the stretching portion 530.

また、この製造方法においては、上述した以外にも工程を行ってもよい。例えば、複層フィルム(b)390に対して予熱処理を施してもよい。   Further, in this manufacturing method, steps other than those described above may be performed. For example, a preheat treatment may be performed on the multilayer film (b) 390.

得られた位相差フィルム複合体300は、通常、ロール状に巻き取られ、保存される。このような製造方法で得られた位相差フィルム複合体300においては、位相差層(B1)の機械的強度が低いが、保護層(B2)により保護されるため破損を生じにくい。   The obtained retardation film composite 300 is usually wound into a roll and stored. In the retardation film composite 300 obtained by such a manufacturing method, the mechanical strength of the retardation layer (B1) is low, but it is not easily damaged because it is protected by the protective layer (B2).

[4.6.貼り合せ工程の例]
支持体及び機能層を有する本発明の位相差フィルムと、位相差フィルム積層体(B)とを用いて、図4に示す複合位相差フィルム400を製造する製造方法の例を、図6に示す。図6は、かかる製造方法に用いる製造装置の一例を模式的に示す概略図である。図6において、製造装置600は、剥離部610、塗工ヘッド620、貼り合わせ部630及び硬化処理部640を備える。
[4.6. Example of bonding process]
An example of a production method for producing the composite retardation film 400 shown in FIG. 4 using the retardation film of the present invention having a support and a functional layer and the retardation film laminate (B) is shown in FIG. . FIG. 6 is a schematic view schematically showing an example of a manufacturing apparatus used in the manufacturing method. In FIG. 6, the manufacturing apparatus 600 includes a peeling unit 610, a coating head 620, a bonding unit 630, and a curing processing unit 640.

操作において、繰り出し装置601から繰り出された位相差フィルム積層体(B)300は、剥離部610に搬送される。剥離部610において、繰り出された位相差フィルム積層体(B)300から、片方の保護層(B2)302Bが剥離される。これにより、位相差層(B1)の片方の面301Dが露出し、位相差層(B1)及び保護層(B2)を備える位相差フィルム積層体(B’)310が得られる。   In operation, the retardation film laminate (B) 300 fed from the feeding device 601 is conveyed to the peeling unit 610. In the peeling part 610, one protective layer (B2) 302B is peeled from the fed retardation film laminate (B) 300. Thereby, one surface 301D of the retardation layer (B1) is exposed, and a retardation film laminate (B ′) 310 including the retardation layer (B1) and the protective layer (B2) is obtained.

位相差フィルム積層体(B’)310は、塗工ヘッド620に搬送される。塗工ヘッド620により、位相差フィルム積層体(B’)310の一方の面301Dに、接着剤が塗工される。   The retardation film laminate (B ′) 310 is conveyed to the coating head 620. The adhesive is applied to one surface 301 </ b> D of the retardation film laminate (B ′) 310 by the coating head 620.

接着剤が塗工された位相差フィルム積層体(B’)310は、貼り合わせ部630に搬送される。一方、繰り出し装置603から搬送された、支持体111及び機能層112を有する位相差フィルム積層体100も、貼り合わせ部630に搬送される。貼り合わせ部630において、位相差フィルム積層体(B’)310の接着剤が塗工された面と、位相差フィルム積層体100の機能層112側の面112Uとがラミロール631及び対ロール632により貼合される。貼合されたフィルムは、さらに硬化処理部640に搬送され、紫外線等の活性エネルギー線の照射等の適切な手段により、接着剤を硬化させる。これにより、図4に示す層構成を有する複合位相差フィルム400が製造される。得られた複合位相差フィルム400は、巻取り装置602により巻き取られ、ロールの形状とし、さらなる工程に供することができる。   The retardation film laminate (B ′) 310 to which the adhesive has been applied is conveyed to the bonding unit 630. On the other hand, the retardation film laminate 100 having the support 111 and the functional layer 112 conveyed from the feeding device 603 is also conveyed to the bonding unit 630. In the bonding unit 630, the surface of the retardation film laminate (B ′) 310 to which the adhesive is applied and the surface 112 U on the functional layer 112 side of the retardation film laminate 100 are formed by the lami roll 631 and the counter roll 632. Bonded. The bonded film is further conveyed to the curing processing unit 640, and the adhesive is cured by an appropriate means such as irradiation with an active energy ray such as ultraviolet rays. Thereby, the composite phase difference film 400 which has the layer structure shown in FIG. 4 is manufactured. The obtained composite retardation film 400 can be wound up by a winding device 602 to form a roll, which can be subjected to further processes.

[5.偏光板]
本発明の偏光板は、前記本発明の位相差フィルムと偏光子とを備える。
好ましい態様において、本発明の偏光板は、上で説明した複合位相差フィルムと、偏光子とを備える。
本発明の偏光板の一例を、図7に示す。図7は、図4に示した複合位相差フィルム400と偏光子とを用いて得た本発明の偏光板の一例を、その主面に対して垂直な平面で切った断面を模式的に示す断面図である。
[5. Polarizer]
The polarizing plate of the present invention includes the retardation film of the present invention and a polarizer.
In a preferred embodiment, the polarizing plate of the present invention comprises the above-described composite retardation film and a polarizer.
An example of the polarizing plate of the present invention is shown in FIG. FIG. 7 schematically shows a cross section of an example of the polarizing plate of the present invention obtained by using the composite retardation film 400 and the polarizer shown in FIG. 4 taken along a plane perpendicular to the main surface. It is sectional drawing.

図7において、偏光板700は、複合位相差フィルム410と、複合位相差フィルム410の一方の面上に設けられた偏光子702及び保護層701と、複合位相差フィルム410の他方の面上に設けられた接着層703及びセパレーター704とを備える。   In FIG. 7, a polarizing plate 700 includes a composite retardation film 410, a polarizer 702 and a protective layer 701 provided on one surface of the composite retardation film 410, and the other surface of the composite retardation film 410. An adhesive layer 703 and a separator 704 are provided.

偏光板700において、複合位相差フィルム410は、図4に示す複合位相差フィルム400から、支持体111及び保護層(B2)302Aを剥離してなるものであり、従って、延伸された機能層112、接着層401及び位相差層(B1)301をこの順に備える。   In the polarizing plate 700, the composite retardation film 410 is obtained by peeling the support 111 and the protective layer (B2) 302A from the composite retardation film 400 shown in FIG. The adhesive layer 401 and the retardation layer (B1) 301 are provided in this order.

偏光子702は、必要に応じて接着層(不図示)を介して機能層112に貼合することにより、複合位相差フィルム410の機能層112側の面上に設けうる。偏光子の例としては、例えば、ポリビニルアルコール、部分ホルマール化ポリビニルアルコール等の適切なビニルアルコール系重合体のフィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質による染色処理、延伸処理、架橋処理等の適切な処理を適切な順序及び方式で施したものが挙げられる。このような偏光子は、自然光を入射させると直線偏光を透過させうるものであり、特に、光透過率及び偏光度に優れるものが好ましい。偏光子の厚さは、5μm〜80μmが一般的であるが、これに限定されない。   The polarizer 702 can be provided on the functional layer 112 side surface of the composite retardation film 410 by bonding to the functional layer 112 through an adhesive layer (not shown) as necessary. Examples of polarizers include, for example, a film of a suitable vinyl alcohol polymer such as polyvinyl alcohol and partially formalized polyvinyl alcohol, a dyeing treatment with a dichroic substance such as iodine or a dichroic dye, a stretching treatment, and a crosslinking. The thing which performed appropriate processes, such as a process, in an appropriate order and system is mentioned. Such a polarizer is capable of transmitting linearly polarized light when natural light is incident thereon, and in particular, a polarizer excellent in light transmittance and degree of polarization is preferable. The thickness of the polarizer is generally 5 μm to 80 μm, but is not limited thereto.

保護層701としては、任意の透明フィルムを用いうる。中でも、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性等に優れる樹脂のフィルムが好ましい。そのような樹脂としては、トリアセチルセルロース等のアセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、脂環式構造を有する重合体樹脂、アクリル系樹脂等が挙げられる。中でも、複屈折が小さい点でアセテート系樹脂又は脂環式構造を有する重合体樹脂、アクリル系樹脂が好ましく、透明性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などの観点から、脂環式構造を有する重合体樹脂が特に好ましい。保護層の厚みは、偏光板の薄型化の観点から、好ましくは500μm以下、より好ましくは300μm以下、特に好ましくは150μm以下であり、通常5μm以上である。   Any transparent film can be used as the protective layer 701. Among these, a resin film excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture shielding properties and the like is preferable. Examples of such resins include acetate resins such as triacetyl cellulose, polyester resins, polyethersulfone resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyimide resins, polyolefin resins, and polymers having an alicyclic structure. Examples thereof include resins and acrylic resins. Among them, an acetate resin or a polymer resin having an alicyclic structure or an acrylic resin is preferable in terms of low birefringence, and an alicyclic structure from the viewpoint of transparency, low hygroscopicity, dimensional stability, lightness, and the like. Particularly preferred are polymer resins having The thickness of the protective layer is preferably 500 μm or less, more preferably 300 μm or less, particularly preferably 150 μm or less, and usually 5 μm or more, from the viewpoint of thinning the polarizing plate.

また、偏光板においては、位相差フィルムの面内の遅相軸と偏光子の透過軸とが、通常、平行若しくは直交するよう、各層を配置する。   In the polarizing plate, the layers are usually arranged so that the in-plane slow axis of the retardation film and the transmission axis of the polarizer are parallel or orthogonal.

接着層703は、偏光板をさらに他の部材に貼合する操作を容易にするために設けられた層であり、セパレーター704は、偏光板をさらに他の部材に貼合するまでの間に接着層703を保護するための層である。接着層703としては、任意の接着剤の層を用いうる。接着剤としては、例えば、アクリル系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系、ゴム系等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性や透明性等の観点から、アクリル系のものが好ましい。   The adhesive layer 703 is a layer provided for facilitating the operation of bonding the polarizing plate to another member, and the separator 704 is bonded before the polarizing plate is further bonded to another member. This is a layer for protecting the layer 703. As the adhesive layer 703, an arbitrary adhesive layer can be used. Examples of the adhesive include acrylic, silicone, polyester, polyurethane, polyether, rubber, and the like. Among these, an acrylic type is preferable from the viewpoint of heat resistance and transparency.

[6.液晶パネル]
本発明の液晶パネルは、前記本発明の偏光板と、IPS用の液晶セルとを備えるIPS液晶パネルである。
好ましい態様において、本発明の液晶パネルは、上で説明した複合位相差フィルムと、偏光子とを備える偏光板と、IPS用の液晶セルとを備える。
本発明の液晶パネルの一例を、図8に示す。図8は、図7に示した偏光板700とIPS用の液晶セルとを用いて得た本発明の液晶パネルの一例を、その主面に対して垂直な平面で切った断面を模式的に示す断面図である。
[6. LCD panel]
The liquid crystal panel of the present invention is an IPS liquid crystal panel including the polarizing plate of the present invention and a liquid crystal cell for IPS.
In a preferred embodiment, the liquid crystal panel of the present invention includes the above-described composite retardation film, a polarizing plate including a polarizer, and a liquid crystal cell for IPS.
An example of the liquid crystal panel of the present invention is shown in FIG. FIG. 8 schematically shows a cross section of an example of the liquid crystal panel of the present invention obtained by using the polarizing plate 700 and the liquid crystal cell for IPS shown in FIG. 7 cut along a plane perpendicular to the main surface. It is sectional drawing shown.

図8において、液晶パネル800は、偏光板710と、偏光板710の粘着層703上に設けられたIPSセル801と、さらにもう一枚の偏光板802とを備える。   In FIG. 8, the liquid crystal panel 800 includes a polarizing plate 710, an IPS cell 801 provided on the adhesive layer 703 of the polarizing plate 710, and another polarizing plate 802.

液晶パネル800において、偏光板710は、図7に示す偏光板700からセパレーター703を剥離してなるものであり、従って、保護層701、偏光子702、延伸された機能層112、接着層401、位相差層(B1)301、及び接着層703をこの順に備える。   In the liquid crystal panel 800, the polarizing plate 710 is formed by peeling the separator 703 from the polarizing plate 700 shown in FIG. 7, and accordingly, the protective layer 701, the polarizer 702, the stretched functional layer 112, the adhesive layer 401, A retardation layer (B1) 301 and an adhesive layer 703 are provided in this order.

IPSセル801は、図7に示す偏光板700からセパレーター703を剥離し、その後IPSセル801の一方の面と接着層703とを接触させることにより設けうる。かかる接触の前又は後に、IPSセル801の他方の面に、必要に応じて接着層(不図示)を介して偏光板802を貼合することにより、偏光板802を設けうる。偏光板802は、例えば偏光子702と同様の層のみからなっていてもよく、又は例えば偏光子702と同様の層と、保護層とからなっていてもよい。   The IPS cell 801 can be provided by peeling the separator 703 from the polarizing plate 700 shown in FIG. 7 and then bringing one surface of the IPS cell 801 into contact with the adhesive layer 703. Before or after the contact, the polarizing plate 802 can be provided by bonding the polarizing plate 802 to the other surface of the IPS cell 801 through an adhesive layer (not shown) as necessary. The polarizing plate 802 may be composed of only the same layer as the polarizer 702, or may be composed of the same layer as the polarizer 702 and a protective layer, for example.

以下、実施例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明は以下に説明する実施例に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施してもよい。
以下の説明において、量を表す「%」及び「部」は、別に断らない限り重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温及び常圧の条件において行った。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. However, the present invention is not limited to the examples described below, and does not depart from the scope of the claims of the present invention and the equivalents thereof. It may be carried out by arbitrarily changing in.
In the following description, “%” and “part” representing amounts are based on weight unless otherwise specified. In addition, the operations described below were performed under normal temperature and normal pressure conditions unless otherwise specified.

[測定方法]
〔レターデーションの測定方法〕
複層フィルムの機能層側の面を、ガラス基板上に粘着層を介して貼り付け、支持体を剥がし、ガラス基板/粘着層/機能層の複合体をサンプルとして用意し、このサンプルについて測定を行った。機能層の面内方向のレターデーションRe及び厚み方向のレターデーションRthは、自動複屈折計(王子計測機器「KOBRA−21ADH」)を用いて、波長550nmで、フィルムの幅方向における中心付近を5点測定し、その平均値を測定値とした。
[Measuring method]
[Measurement method of retardation]
The surface of the multilayer film on the functional layer side is attached to the glass substrate via the adhesive layer, the support is peeled off, and a composite of the glass substrate / adhesive layer / functional layer is prepared as a sample. went. The retardation Re in the in-plane direction and the retardation Rth in the thickness direction of the functional layer are 5 in the vicinity of the center in the width direction of the film at a wavelength of 550 nm using an automatic birefringence meter (Oji Scientific Instruments “KOBRA-21ADH”). The point was measured and the average value was taken as the measured value.

〔ガスクロマトグラフィーによる残留溶剤の測定〕
(i)試料の調製
5cm×5cmの矩形の範囲の機能層を剥がし、バイアル(5ml容量)にとり、アセトン(和光純薬工業製、残留農薬・PCB試験用)3mlを加え、80℃で3時間加熱後、放冷した。バイアルの内容物を1500Gで3分間延伸分離し、溶液(抽出液)を取り出した。
(ii)標準液の調製
溶液の調製に使用した溶剤の標準母液を調製し、さらにそれを適宜希釈した標準液を調製した。
(iii)標準添加試料の調製
前記(ii)で得た標準母液0.5mlをメスフラスコ(20ml容量)にとり、アセトンで定容し、調製液を得た。
5cm×5cmの矩形の範囲の機能層を剥がし、バイアル(5ml容量)にとり、前記調製液3mlを加え、80℃で3時間加熱後、放冷した。バイアルの内容物を1500Gで3分間延伸分離し、溶液(抽出液)を取り出した。
(iv)測定
前記(i)で得られた溶液、前記(ii)で得られた標準液、及び前記(iii)で得られた溶液について、ガスクロマトグラフィーによる測定を行った。測定条件は、下記の通り。
ガスクロマトグラフィー装置:6890(Agilent Technologies)
カラム:DB−5(J&W)シリアルNo.US7153041H、長さ30m、内径0.25mm、フィルム厚さ1.0μm
入口温度:100℃
カラムフロー:3.0ml/min
キャリアガス:He
モード:スプリット
検出温度:150℃
ガス:H 40ml/min、空気450ml/min、N 50ml/min
カラム温度 50℃→110℃
昇温スピード 20℃/min(直線勾配)
[Measurement of residual solvent by gas chromatography]
(I) Preparation of sample Peel off the 5 cm x 5 cm rectangular functional layer, add to a vial (5 ml capacity), add 3 ml of acetone (made by Wako Pure Chemical Industries, Residual agricultural chemicals / PCB test), and at 80 ° C for 3 hours After heating, it was allowed to cool. The contents of the vial were stretched and separated at 1500 G for 3 minutes, and the solution (extract) was taken out.
(Ii) Preparation of standard solution A standard mother solution of the solvent used for preparing the solution was prepared, and a standard solution was prepared by appropriately diluting it.
(Iii) Preparation of Standard Addition Sample 0.5 ml of the standard mother liquid obtained in (ii) above was placed in a volumetric flask (20 ml capacity), and the volume was adjusted with acetone to obtain a preparation liquid.
The functional layer having a rectangular area of 5 cm × 5 cm was peeled off, taken into a vial (5 ml capacity), added with 3 ml of the preparation solution, heated at 80 ° C. for 3 hours, and then allowed to cool. The contents of the vial were stretched and separated at 1500 G for 3 minutes, and the solution (extract) was taken out.
(Iv) Measurement The gas chromatographic measurement was performed on the solution obtained in (i), the standard solution obtained in (ii), and the solution obtained in (iii). The measurement conditions are as follows.
Gas chromatography device: 6890 (Agilent Technologies)
Column: DB-5 (J & W) serial No. US7153041H, length 30m, inner diameter 0.25mm, film thickness 1.0μm
Inlet temperature: 100 ° C
Column flow: 3.0 ml / min
Carrier gas: He
Mode: Split Detection temperature: 150 ° C
Gas: H 2 40 ml / min, air 450 ml / min, N 2 50 ml / min
Column temperature 50 ℃ → 110 ℃
Temperature rising speed 20 ° C / min (linear gradient)

[実施例1]
(1−1.溶液の調製)
非液晶性材料としてのポリカーボネート樹脂A(正の固有複屈折値を有する;三菱ガス化学社製「ユピゼータFPC−2136」;ガラス転移温度132℃)を、溶剤としてのシクロペンタノンと混合して、固形分濃度15重量%の溶液を得た。
[Example 1]
(1-1. Preparation of solution)
Polycarbonate resin A (having a positive intrinsic birefringence value; “Iupizeta FPC-2136” manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company; glass transition temperature 132 ° C.) as a non-liquid crystalline material is mixed with cyclopentanone as a solvent, A solution having a solid concentration of 15% by weight was obtained.

(1−2.機能層の形成:複層フィルムの製造)
図2に概略的に示す装置200を用いて、機能層を形成し、図1に概略的に示す複層フィルムを製造した。
長尺の支持体11(日本ゼオン社製「ゼオノアフィルム」;ノルボルネン系樹脂製;厚み80μm;ガラス転移温度126℃)を、繰り出し装置201から走行速度10m/minで走行させ、(1−1)で得た溶液を、ダイコーターの塗工ヘッド210を用いて、乾燥膜厚が17μmとなるように塗工した。これにより、溶液の塗膜を有する支持体を形成した。
塗工の直後に、支持体を、4つのチャンバー220A〜220Dを有するドライヤー220に搬送し、チャンバー220A〜220Dのそれぞれにより乾燥工程(I)〜(IV)を順次行い、溶液を乾燥させることにより、溶液中の溶剤を除去し、機能層を形成した。これにより、支持体11、及びその上に設けられた機能層12を備える、長尺の複層フィルム10を得た。
(1-2. Formation of functional layer: production of multilayer film)
The functional layer was formed using the apparatus 200 schematically shown in FIG. 2 to produce a multilayer film schematically shown in FIG.
A long support 11 (“ZEONOR FILM” manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd .; norbornene resin; thickness 80 μm; glass transition temperature 126 ° C.) is run from the feeding device 201 at a running speed of 10 m / min, (1-1) The solution obtained in (1) was applied using a die coater coating head 210 so that the dry film thickness was 17 μm. This formed the support body which has a coating film of a solution.
Immediately after coating, the support is conveyed to a dryer 220 having four chambers 220A to 220D, and drying steps (I) to (IV) are sequentially performed in each of the chambers 220A to 220D, thereby drying the solution. The solvent in the solution was removed to form a functional layer. Thereby, the elongate multilayer film 10 provided with the support body 11 and the functional layer 12 provided on it was obtained.

溶剤を除去する工程において、乾燥工程(I)〜(IV)の条件(温度及び風速)は、表5に記載する通りとした。表5中の風速は、風速計(商品名「アネモマスター」、型名6162、日本カノマックス株式会社製)によって測定した値である。乾燥工程(I)〜(IV)は、それぞれ30秒ずつ行った。   In the step of removing the solvent, the conditions (temperature and wind speed) of the drying steps (I) to (IV) were as shown in Table 5. The wind speed in Table 5 is a value measured by an anemometer (trade name “Anemo Master”, model name 6162, manufactured by Nippon Kanomax Co., Ltd.). Each of the drying steps (I) to (IV) was performed for 30 seconds.

(1−3.機能層の評価)
ドライヤー220から搬出された複層フィルム10上の機能層の外観を観察し、塗膜の塗工ムラに基づく厚みムラ、泡筋、及び皺の有無を目視にて評価した。
また、得られた複層フィルム10の一部を切り出し、ガスクロマトグラフィーにより、機能層中の残留溶剤量を測定した。
(1-3. Evaluation of functional layer)
The appearance of the functional layer on the multilayer film 10 carried out from the dryer 220 was observed, and the presence or absence of thickness unevenness, bubble streaks, and wrinkles based on the coating unevenness of the coating film was visually evaluated.
A part of the obtained multilayer film 10 was cut out, and the amount of residual solvent in the functional layer was measured by gas chromatography.

(1−4.複層フィルムの延伸:位相差フィルム積層体の製造)
(1−2)で得られた長尺の複層フィルム10を、テンター延伸機である延伸装置230を用いて延伸した。延伸温度は140℃とし、延伸方向はTD方向とし、延伸倍率は2.7倍とした。これにより、支持体/機能層の層構成を有する位相差フィルム積層体100を得た。機能層の膜厚は10μmであった。得られた位相差フィルム積層体の機能層の面内レターデーションRe及び厚み方向レターデーションRthを測定した。加えて、延伸時の、フィルムと把持子との付着、及びカールの有無を目視にて評価した。
(1-4. Stretching of multilayer film: production of retardation film laminate)
The long multilayer film 10 obtained in (1-2) was stretched using a stretching apparatus 230 that is a tenter stretching machine. The stretching temperature was 140 ° C., the stretching direction was the TD direction, and the stretching ratio was 2.7 times. This obtained the retardation film laminated body 100 which has a layer structure of a support body / functional layer. The film thickness of the functional layer was 10 μm. In-plane retardation Re and thickness direction retardation Rth of the functional layer of the obtained retardation film laminate were measured. In addition, the adhesion between the film and the gripper and the presence or absence of curling during stretching were visually evaluated.

[実施例2]
溶剤として、シクロペンタノンに代えて1,4−ジオキサンを用いたこと、及び乾燥工程の条件を表5に示す通り変更したこと以外は、実施例1と同一の操作により、複層フィルム及び位相差フィルム積層体を製造し評価した。
[Example 2]
The same procedure as in Example 1 was repeated except that 1,4-dioxane was used in place of cyclopentanone and the conditions of the drying process were changed as shown in Table 5. A retardation film laminate was produced and evaluated.

[実施例3]
(3−1.溶液の調製)
非液晶性材料としてのポリカーボネート樹脂A(正の固有複屈折値を有する;三菱ガス化学社製「ユピゼータFPC−2136」;ガラス転移温度132℃)を、溶剤としての1,4−ジオキサンと酢酸エチルとの混合溶剤(1,4−ジオキサン/酢酸エチルの混合比=6/4(重量比))と混合して、固形分濃度15重量%の溶液を得た。
[Example 3]
(3-1. Preparation of solution)
Polycarbonate resin A (having a positive intrinsic birefringence value; “Iupizeta FPC-2136” manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc .; glass transition temperature 132 ° C.) as a non-liquid crystalline material, 1,4-dioxane and ethyl acetate as solvents And a mixed solvent (mixing ratio of 1,4-dioxane / ethyl acetate = 6/4 (weight ratio)) to obtain a solution having a solid concentration of 15% by weight.

(3−2.機能層の形成:複層フィルムの製造)
図2に概略的に示す装置200を用いて、機能層を形成し、図1に概略的に示す複層フィルムを製造した。
長尺の支持体11(日本ゼオン社製「ゼオノアフィルム」;ノルボルネン系樹脂製;厚み80μm;ガラス転移温度126℃)を、繰り出し装置201から走行速度10m/minで走行させ、(3−1)で得た溶液を、ダイコーターの塗工ヘッド210を用いて、乾燥膜厚が17μmとなるように塗工した。これにより、溶液の塗膜を有する支持体を形成した。
塗工の直後に、支持体を、4つのチャンバー220A〜220Dを有するドライヤー220に搬送し、チャンバー220A〜220Dのそれぞれにより乾燥工程(I)〜(IV)を順次行い、溶液を乾燥させることにより、溶液中の溶剤を除去し、機能層を形成した。これにより、支持体11、及びその上に設けられた機能層12を備える、長尺の複層フィルム10を得た。
(3-2. Formation of functional layer: production of multilayer film)
The functional layer was formed using the apparatus 200 schematically shown in FIG. 2 to produce a multilayer film schematically shown in FIG.
A long support 11 (“Zeonor film” manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd .; norbornene-based resin; thickness 80 μm; glass transition temperature 126 ° C.) is run from the feeding device 201 at a running speed of 10 m / min, (3-1) The solution obtained in (1) was applied using a die coater coating head 210 so that the dry film thickness was 17 μm. This formed the support body which has a coating film of a solution.
Immediately after coating, the support is conveyed to a dryer 220 having four chambers 220A to 220D, and drying steps (I) to (IV) are sequentially performed in each of the chambers 220A to 220D, thereby drying the solution. The solvent in the solution was removed to form a functional layer. Thereby, the elongate multilayer film 10 provided with the support body 11 and the functional layer 12 provided on it was obtained.

溶剤を除去する工程において、乾燥工程(I)〜(IV)の条件(温度及び風速)は、表5に記載する通りとした。表5中の風速は、風速計(商品名「アネモマスター」、型名6162、日本カノマックス株式会社製)によって測定した値である。乾燥工程(I)〜(IV)は、それぞれ30秒ずつ行った。   In the step of removing the solvent, the conditions (temperature and wind speed) of the drying steps (I) to (IV) were as shown in Table 5. The wind speed in Table 5 is a value measured by an anemometer (trade name “Anemo Master”, model name 6162, manufactured by Nippon Kanomax Co., Ltd.). Each of the drying steps (I) to (IV) was performed for 30 seconds.

(3−3.機能層の評価)
ドライヤー220から搬出された複層フィルム10上の機能層の外観を観察し、塗膜の塗工ムラに基づく厚みムラ、泡筋、及び皺の有無を目視にて評価した。
また、得られた複層フィルム10の一部を切り出し、ガスクロマトグラフィーにより、機能層中の残留溶剤量を測定した。
(3-3. Evaluation of functional layer)
The appearance of the functional layer on the multilayer film 10 carried out from the dryer 220 was observed, and the presence or absence of thickness unevenness, bubble streaks, and wrinkles based on the coating unevenness of the coating film was visually evaluated.
A part of the obtained multilayer film 10 was cut out, and the amount of residual solvent in the functional layer was measured by gas chromatography.

(3−4.複層フィルムの延伸:位相差フィルム積層体の製造)
(3−2)で得られた長尺の複層フィルム10を、テンター延伸機である延伸装置230を用いて延伸した。延伸温度は140℃とし、延伸方向はTD方向とし、延伸倍率は2.7倍とした。これにより、支持体/機能層の層構成を有する位相差フィルム積層体100を得た。機能層の膜厚は10μmであった。得られた位相差フィルム積層体の機能層の面内レターデーションRe及び厚み方向レターデーションRthを測定した。加えて、延伸時の、フィルムと把持子との付着、及びカールの有無を目視にて評価した。
(3-4. Stretching of multilayer film: production of retardation film laminate)
The long multilayer film 10 obtained in (3-2) was stretched using a stretching apparatus 230 that is a tenter stretching machine. The stretching temperature was 140 ° C., the stretching direction was the TD direction, and the stretching ratio was 2.7 times. This obtained the retardation film laminated body 100 which has a layer structure of a support body / functional layer. The film thickness of the functional layer was 10 μm. In-plane retardation Re and thickness direction retardation Rth of the functional layer of the obtained retardation film laminate were measured. In addition, the adhesion between the film and the gripper and the presence or absence of curling during stretching were visually evaluated.

[実施例4]
溶剤として、1,4−ジオキサンと酢酸エチルとの混合溶剤に代えてシクロペンタノンと酢酸エチルとの混合溶剤(シクロペンタノン/酢酸エチルの混合比=6/4(重量比))を用いたこと、及び乾燥工程の条件を表5に示す通り変更したこと以外は、実施例3と同一の操作により、複層フィルム及び位相差フィルム積層体を製造し評価した。
[Example 4]
As a solvent, a mixed solvent of cyclopentanone and ethyl acetate (mixing ratio of cyclopentanone / ethyl acetate = 6/4 (weight ratio)) was used instead of the mixed solvent of 1,4-dioxane and ethyl acetate. A multilayer film and a retardation film laminate were produced and evaluated by the same operation as in Example 3 except that the conditions of the drying process were changed as shown in Table 5.

[実施例5]
溶剤として、1,4−ジオキサンと酢酸エチルとの混合溶剤に代えてシクロペンタノンと1,4−ジオキサンとの混合溶剤(シクロペンタノン/1,4−ジオキサンの混合比=6/4(重量比))を用いたこと、及び乾燥工程の条件を表5に示す通り変更したこと以外は、実施例3と同一の操作により、複層フィルム及び位相差フィルム積層体を製造し評価した。
[Example 5]
As a solvent, instead of a mixed solvent of 1,4-dioxane and ethyl acetate, a mixed solvent of cyclopentanone and 1,4-dioxane (mixing ratio of cyclopentanone / 1,4-dioxane = 6/4 (weight) A multilayer film and a retardation film laminate were produced and evaluated by the same operation as in Example 3 except that the ratio)) was used and the drying process conditions were changed as shown in Table 5.

[実施例6]
非液晶性材料として、ポリカーボネート樹脂Aに代えてポリカーボネート樹脂B(正の固有複屈折値を有する;三菱ガス化学社製「ユピゼータPCZ−200」;ガラス転移温度137℃)を用いたこと以外は、実施例1と同一の操作により、複層フィルム及び位相差フィルム積層体を製造し評価した。
[Example 6]
As the non-liquid crystalline material, polycarbonate resin B (having a positive intrinsic birefringence value; “Iupizeta PCZ-200” manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company; glass transition temperature of 137 ° C.) was used instead of polycarbonate resin A. By the same operation as in Example 1, a multilayer film and a retardation film laminate were produced and evaluated.

[実施例7]
非液晶性材料として、ポリカーボネート樹脂Aに代えてビスマレイミド樹脂(正の固有複屈折値を有する;エア/ブラウン社製「BMI 1500」;ガラス転移温度90℃)を用いたこと、及び乾燥工程の条件を表6に示す通り変更したこと以外は、実施例1と同一の操作により、複層フィルム及び位相差フィルム積層体を製造し評価した。
[Example 7]
As the non-liquid crystalline material, bismaleimide resin (having a positive intrinsic birefringence value; “BMI 1500” manufactured by Air / Brown; glass transition temperature 90 ° C.) was used instead of polycarbonate resin A, and the drying process A multilayer film and a retardation film laminate were produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the conditions were changed as shown in Table 6.

[実施例8]
乾燥工程の条件を表6に示す通り変更したこと以外は、実施例3と同一の操作により、複層フィルム及び位相差フィルム積層体を製造し評価した。
[Example 8]
A multilayer film and a retardation film laminate were produced and evaluated by the same operation as in Example 3 except that the conditions of the drying step were changed as shown in Table 6.

[実施例9]
乾燥工程の条件を表6に示す通り変更したこと以外は、実施例4と同一の操作により、複層フィルム及び位相差フィルム積層体を製造し評価した。
[Example 9]
A multilayer film and a retardation film laminate were produced and evaluated in the same manner as in Example 4 except that the conditions of the drying step were changed as shown in Table 6.

[比較例1]
溶剤として、シクロペンタノンに代えて酢酸エチルを用いたこと以外は、実施例1の(1−1)〜(1−2)と同一の操作により、複層フィルムの製造を試みた。その結果、溶液を塗工することにより、支持体が膨潤して湾曲し、その後の位相差フィルム積層体の製造に供し得る複層フィルムを得ることができなかった。
[Comparative Example 1]
Production of a multilayer film was attempted by the same operation as (1-1) to (1-2) of Example 1 except that ethyl acetate was used instead of cyclopentanone as the solvent. As a result, by applying the solution, the support was swollen and curved, and a multilayer film that could be used for the subsequent production of a retardation film laminate could not be obtained.

[比較例2]
溶剤として、1,4−ジオキサンと酢酸エチルとの混合溶剤に代えて、トルエンと酢酸エチルとの混合溶剤(トルエン/酢酸エチルの混合比=5/5(重量比))を用いたこと、及び固形分濃度を20重量%としたこと以外は、実施例3と同一の操作により、複層フィルム及び位相差フィルム積層体を製造し評価した。
[Comparative Example 2]
As a solvent, instead of the mixed solvent of 1,4-dioxane and ethyl acetate, a mixed solvent of toluene and ethyl acetate (mixing ratio of toluene / ethyl acetate = 5/5 (weight ratio)) was used, and A multilayer film and a retardation film laminate were produced and evaluated in the same manner as in Example 3 except that the solid content concentration was 20% by weight.

[比較例3]
溶剤として、1,4−ジオキサンと酢酸エチルとの混合溶剤に代えて、シクロペンタノンと1,3−ジオキソランとの混合溶剤(シクロペンタノン/1,3−ジオキソランの混合比=6/4(重量比))を用いたこと以外は、実施例3と同一の操作により、複層フィルム及び位相差フィルム積層体を製造し評価した。
[Comparative Example 3]
As a solvent, instead of a mixed solvent of 1,4-dioxane and ethyl acetate, a mixed solvent of cyclopentanone and 1,3-dioxolane (mixing ratio of cyclopentanone / 1,3-dioxolane = 6/4 ( A multilayer film and a retardation film laminate were produced and evaluated in the same manner as in Example 3 except that the weight ratio)) was used.

[比較例4及び5]
乾燥工程の条件を表7に示す通り変更したこと以外は、比較例3と同一の操作により、複層フィルム及び位相差フィルム積層体を製造し評価した。
[Comparative Examples 4 and 5]
A multilayer film and a retardation film laminate were produced and evaluated by the same operation as in Comparative Example 3 except that the conditions of the drying step were changed as shown in Table 7.

実施例及び比較例において用いた、機能層形成用の溶液についてのデータを表2〜表4に示す。実施例及び比較例における乾燥工程の条件及び得られた複層フィルムについての評価結果を表5〜表7に示す。また、実施例及び比較例において行った延伸の条件及び位相差フィルム積層体についての評価結果を表8〜表10に示す。   Tables 2 to 4 show data on the functional layer forming solutions used in the examples and comparative examples. The conditions of the drying process in an Example and a comparative example and the evaluation result about the obtained multilayer film are shown in Table 5-Table 7. In addition, Tables 8 to 10 show the stretching conditions performed in Examples and Comparative Examples and the evaluation results on the retardation film laminate.

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※1:横スジ(TD方向のスジ)が観察された。
※2:※1よりもさらに多くの横スジが観察され、さらに溶液の塗布ムラによる、機能層の厚みムラが観察された。
※3:※1よりもさらに多くの横スジが観察された。
※4:延伸において、フィルムを把持した把持子と、フィルムとの付着が発生した。
※5:延伸において、フィルムの、把持子により把持された箇所がカールする変形が発生した。
* 1: Horizontal stripes (TD stripes) were observed.
* 2: More horizontal streaks were observed than * 1, and functional layer thickness unevenness due to solution application unevenness was observed.
* 3: More horizontal streaks were observed than * 1.
* 4: In stretching, adhesion between the gripper holding the film and the film occurred.
* 5: During stretching, the film was deformed by curling the portion gripped by the gripper.

[検討]
以上の結果から明らかな通り、機能層の形成に用いた溶液が本発明の要件を満たす実施例1〜9においては、比較例に比べて、良好な外観の機能層を形成することができ、且つ把持子とフィルムとの付着及びカールの発生が無い円滑な延伸を行うことができた。
[Consideration]
As is clear from the above results, in Examples 1 to 9 in which the solution used for forming the functional layer satisfies the requirements of the present invention, it is possible to form a functional layer with a better appearance as compared with the comparative example. In addition, smooth stretching without adhesion between the gripper and the film and occurrence of curling could be performed.

10:複層フィルム
11:支持体
12:機能層
100:位相差フィルム積層体
111:延伸された支持体
112:延伸された機能層
200:製造装置
201:繰り出し装置
202:巻取り装置
210:塗工ヘッド
220:ドライヤー
220A〜D:チャンバー
230:延伸装置
300:位相差フィルム積層体(B)
301:位相差層(B1)
302A〜B:保護層(B2)
390:延伸前の複層フィルム(b)
400:複合位相差フィルム
401:接着層
410:複合位相差フィルム
500:製造装置
520:フィルム成形部
521:ダイ
522:冷却ロール
530:延伸部
600:製造装置
601:繰り出し装置
602:巻取り装置
603:繰り出し装置
610:剥離部
620:塗工ヘッド
630:貼り合わせ部
631:ラミロール
632:対ロール
640:硬化処理部
700:偏光板
701:保護層
702:偏光子
703:接着層
704:セパレーター
710:偏光板
800:液晶パネル
801:IPSセル
802:偏光板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10: Multilayer film 11: Support body 12: Functional layer 100: Retardation film laminated body 111: Stretched support body 112: Stretched functional layer 200: Manufacturing apparatus 201: Feeding apparatus 202: Winding apparatus 210: Coating Work head 220: Dryers 220A to D: Chamber 230: Stretching device 300: Retardation film laminate (B)
301: Retardation layer (B1)
302A to B: protective layer (B2)
390: Multi-layer film (b) before stretching
400: Composite retardation film 401: Adhesive layer 410: Composite retardation film 500: Manufacturing apparatus 520: Film forming section 521: Die 522: Cooling roll 530: Stretching section 600: Manufacturing apparatus 601: Feeding apparatus 602: Winding apparatus 603 : Feeding device 610: Peeling part 620: Coating head 630: Bonding part 631: Lami roll 632: Counter roll 640: Curing treatment part 700: Polarizing plate 701: Protective layer 702: Polarizer 703: Adhesive layer 704: Separator 710: Polarizing plate 800: Liquid crystal panel 801: IPS cell 802: Polarizing plate

Claims (10)

長尺の透明支持体、及び前記支持体上に設けられた機能層を備える複層フィルムの製造方法であって、
非液晶性材料と2種類以上の溶剤とを含む溶液を、前記支持体上に塗工して塗膜を得る工程と、
前記塗膜から前記溶剤を乾燥により除去して前記機能層を得る工程とを含み、
前記溶剤が前記支持体に対して貧溶媒であり、且つ前記非液晶性材料に対して良溶媒であり、
前記溶液が2種類以上の前記溶剤を含みそれらの溶解性パラメーターδがそれぞれ8.5〜10.5(cal/cm31/2であり且つ溶解性パラメーターの差Δδが0.5〜1.3(cal/cm31/2であり且つそれらの沸点の差ΔBpが55℃以下であり、
前記溶剤を除去する工程が、
温度15〜25℃で無風の条件下で前記塗膜を乾燥させる乾燥工程(I)と、
温度T D(II) で風速が0.5〜2.5m/Sの条件下で前記塗膜を乾燥させる乾燥工程であって、前記温度T D(II) は、Bp −20℃以下である(但しBp は、前記溶液に含まれる溶剤のうち最も沸点の高いものの沸点である)乾燥工程(II)とを含み、
前記溶剤を除去する工程により得られた、前記機能層の厚みが5〜30μmである、
複層フィルムの製造方法。
A method for producing a multilayer film comprising a long transparent support, and a functional layer provided on the support,
A step of applying a solution containing a non-liquid crystalline material and two or more solvents onto the support to obtain a coating;
Removing the solvent from the coating film by drying to obtain the functional layer,
The solvent is a poor solvent for the support and a good solvent for the non-liquid crystalline material;
The solution contains two or more kinds of the solvents, each having a solubility parameter δ of 8.5 to 10.5 (cal / cm 3 ) 1/2 and a solubility parameter difference Δδ of 0.5 to 1. .3 (cal / cm 3) 1/2 and difference ΔBp their boiling points Ri der 55 ° C. or less,
Removing the solvent comprises:
A drying step (I) for drying the coating film under a windless condition at a temperature of 15 to 25 ° C .;
A drying step of drying the coating film under a temperature of TD (II) and a wind speed of 0.5 to 2.5 m / S, wherein the temperature TD (II) is Bp H −20 ° C. or less; A drying step (II) (where Bp H is the boiling point of the highest boiling point among the solvents contained in the solution),
Obtained by removing the solvent, the thickness of the functional layer is Ru 5~30μm der,
A method for producing a multilayer film.
前記支持体が、正の固有複屈折性を有する樹脂からなり、
前記非液晶性材料が正の固有複屈折性を有する樹脂であり、
前記溶剤のうち1種類以上がケトンまたはエーテルである、請求項に記載の複層フィルムの製造方法。
The support is made of a resin having positive intrinsic birefringence,
The non-liquid crystalline material is a resin having positive intrinsic birefringence,
The method for producing a multilayer film according to claim 1 , wherein one or more of the solvents are ketones or ethers.
前記機能層中の残留溶剤量が0.05〜7重量%である、請求項1又は2に記載の複層フィルムの製造方法。 The manufacturing method of the multilayer film of Claim 1 or 2 whose residual solvent amount in the said functional layer is 0.05-7 weight%. 前記非液晶性材料がポリイミド樹脂、マレイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、及びこれらの混合物からなる群より選択される樹脂である、請求項1〜のいずれか1項に記載の複層フィルムの製造方法。 The non-liquid crystalline material is a polyimide resin, a maleimide resin, a polyamideimide resin, a polycarbonate resin, a polyester resin, polyurethane urea resin, and a resin selected from the group consisting of mixtures according to claim 1 any one of the three The manufacturing method of the multilayer film as described in a term. 前記支持体が、ノルボルネン系樹脂である、請求項1〜のいずれか1項に記載の複層フィルムの製造方法。 The manufacturing method of the multilayer film of any one of Claims 1-4 whose said support body is norbornene-type resin. 前記支持体と前記機能層との間の剥離力が0.05N/20mm以下である、請求項1〜のいずれか1項に記載の複層フィルムの製造方法。 The manufacturing method of the multilayer film of any one of Claims 1-5 whose peeling force between the said support body and the said functional layer is 0.05 N / 20mm or less. 請求項1〜のいずれか1項に記載の製造方法により得られた複層フィルムを延伸する工程を含む、位相差フィルム積層体の製造方法であって、
前記延伸する工程が、横延伸での延伸を含み、
前記延伸する工程における延伸温度が、Tg±20℃であり(但し、Tgは、前記支持体を構成する材料のガラス転移温度である)、延伸倍率が1.01〜3倍である、位相差フィルム積層体の製造方法。
A method for producing a retardation film laminate comprising a step of stretching a multilayer film obtained by the production method according to any one of claims 1 to 6 ,
The step of stretching includes stretching by transverse stretching,
The stretching temperature in the stretching step is Tg S ± 20 ° C. (where Tg S is the glass transition temperature of the material constituting the support), and the stretching ratio is 1.01 to 3 times. A method for producing a retardation film laminate.
延伸された機能層が負の二軸性を有する、請求項に記載の位相差フィルム積層体の製造方法。 The method for producing a retardation film laminate according to claim 7 , wherein the stretched functional layer has negative biaxiality. 請求項7又は8に記載の製造方法により得られた位相差フィルム積層体の一方の面上に偏光子を設ける工程を含む、偏光板の製造方法。 The manufacturing method of a polarizing plate including the process of providing a polarizer on one surface of the retardation film laminated body obtained by the manufacturing method of Claim 7 or 8 . 請求項に記載の製造方法により得られた偏光板を、IPS用の液晶セルの面上に設ける、IPS液晶パネルの製造方法。 The manufacturing method of the IPS liquid crystal panel which provides the polarizing plate obtained by the manufacturing method of Claim 9 on the surface of the liquid crystal cell for IPS.
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