JPWO2013105168A1 - インタフェース装置 - Google Patents

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小林  直樹
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康一郎 中瀬
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Abstract

電磁波を伝搬するシート状の電磁波伝達媒体に電磁波を供給するインタフェース装置であって、使用用途や設置位置を限定することなく、漏洩電磁波を抑えた高効率な給電を可能とする電磁波インタフェース装置を提供することを課題とする。本発明のインタフェース装置(200)は、第1導電体面と、第1導電体面に対して略平行に対向する状態で配置される第2導電体面と、第1導電体面と第2導電体面とに挟まれる狭間領域に電磁波を供給する電磁波供給部(230)と、第1導電体面に設けられる第1構造体であって、狭間領域に電磁波伝達媒体の辺端部が挿入されている状態において電磁波供給部より供給される電磁波を反射する第1構造体(240)と、第2導電体面に設けられる第2構造体であって、狭間領域に電磁波伝達媒体の辺端部が挿入されている状態において電磁波供給部より供給される電磁波を反射する第2構造体(250)と、を具備する。

Description

本発明はインタフェース装置に関し、特にメッシュシート状の導電体層とシート状の導電体層とに挟まれる領域に電磁波を進行させて通信を行う通信シートに電磁波を供給するインタフェース装置に関する。
近年、メッシュシート状の導電体層(メッシュ導電体層)とシート状の導電体層(シート導電体層)とに挟まれる領域を伝送路として電磁波を進行させ、メッシュ導電体層より漏れ出した浸出領域の電磁波と結合させることで通信を可能とさせる電磁波伝達媒体の開発が進められている(例えば特許文献1)。上記電磁波伝達媒体(以下、通信シートと称す)のメッシュ電導体層より漏れ出した電磁波であるエバネッセント波と結合させて通信を行う通信方式は、サーフェイス通信と呼ばれている。
上記通信シートに電磁波を供給するインタフェース装置についても様々な開発がすすめられている。例えば、特許文献2には、通信シート上方よりメッシュ導電体層を介して電磁波を供給するインタフェース装置が開示されている。当該インタフェース装置は、載置型であるため、通信シートの場所を選ばずに任意の位置から給電できるという利点を有している。また、このような載置型のインタフェース装置であって漏洩電磁波を低減することにより給電効率を向上させたインタフェース装置が特許文献3に開示されている。
ここで、特許文献3に記載のインタフェース装置では、漏洩電磁波を低減することで給電効率の向上を図っているものの、当該給電方式で通信シート全体に十分な電磁波を供給するためにはインタフェース装置を大型化する必要がある。載置型のインタフェース装置を大型化することは、通信シートにおける受信装置側の利用面積を狭めることになり好ましくない。
そこで、通信シートの側面から電磁波を供給するインタフェース装置の開発が進められている。特許文献4には、通信シートを構成するメッシュ導電体層とシート導電体層にそれぞれ対向する2つの電極を用いて通信シート端辺を上下から挟みこみ、通信シート側面から電磁波を供給するクリップ型のインタフェース装置が開示されている。当該インタフェース装置によれば、特許文献2のインタフェース装置と比較して高効率に給電を行うことが可能となる。
また、特許文献5には、特許文献4と同様のクリップ型インタフェース装置であって、漏洩電磁波を低減可能とする構成とすることで更に高効率に給電を行うことができるインタフェース装置が開示されている。
国際公開第2007/032049号 特開2007―82178号公報 国際公開第2011/052361号 特開2010―16592号公報 特開2011―9801号公報
実際の通信シートでは、メッシュ導電体層及びシート導電体層を絶縁状態とするために一定の厚みを有する保護層で覆われている。ここで、特許文献4のクリップ型インタフェース装置を用いて通信シート側面より給電すると、保護層内部を伝って電磁波が外部に放射され、漏洩電磁波となるという問題が存在していた。
また、特許文献5のクリップ型インタフェース装置においても、通信シートとインタフェース装置の位置ずれが生じた場合に保護層をパスとして漏洩電磁波が放射されてしまうという課題を有していた。当該電磁波の漏洩を防止するためには、通信シートとインタフェース装置の厳密な固定が必要となるため、使用用途が限られることに加えて、インタフェースの接続位置もおのずと限定されてしまうという問題が残存していた。
本発明は、上記課題を鑑み、使用用途や設置位置を限定することなく、漏洩電磁波を抑えた高効率な電磁波の供給を可能とするインタフェース装置を提供することを目的とする。
本発明のインタフェース装置は、電磁波を伝搬するシート状の電磁波伝達媒体に電磁波を供給するインタフェース装置であって、第1導電体面と、前記第1導電体面に対して略平行に対向する状態で配置される第2導電体面と、前記第1導電体面と第2導電体面とに挟まれる狭間領域に電磁波を供給する電磁波供給部と、前記第1導電体面に設けられる第1構造体であって、前記狭間領域に前記電磁波伝達媒体の辺端部が挿入されている状態において前記電磁波供給部より供給される電磁波を反射する第1構造体と、前記第2導電体面に設けられる第2構造体であって、前記狭間領域に前記電磁波伝達媒体の辺端部が挿入されている状態において前記電磁波供給部より供給される電磁波を反射する第2構造体と、を具備する。
本発明によれば、使用用途や設置位置を限定することなく、漏洩電磁波を抑えた高効率な電磁波の供給を可能とするインタフェース装置を提供することが可能となる。
実施の形態1に係るサーフェイス通信システムの構成を示す図である。 実施の形態1に係る電磁波伝達媒体(通信シート)の断面図である。 実施の形態1に係る電磁波伝達媒体が挿入された状態のインタフェース装置の側面図である。 実施の形態2に係るインタフェース装置の側面図である。 実施の形態2に係るインタフェース装置の平面図である。 実施の形態2に係るインタフェース装置の変形例の側面図である。 実施の形態2に係るインタフェース装置の変形例の平面図である。 実施の形態2に係るインタフェース装置の変形例の側面図である。 実施の形態2に係るインタフェース装置の変形例の平面図である。 実施の形態3に係る電磁波伝達媒体が挿入された状態のインタフェース装置の側面図である。 実施の形態3に係る電磁波伝達媒体が挿入された状態のインタフェース装置の平面図である。 実施の形態3に係る電磁波伝達媒体が挿入された状態の変形例のインタフェース装置の側面図である。 実施の形態3に係る電磁波伝達媒体が挿入された状態の変形例のインタフェース装置の平面図である。 実施の形態3に係る電磁波伝達媒体が挿入された状態の変形例のインタフェース装置の側面図である。 実施の形態3に係る電磁波伝達媒体が挿入された状態の変形例のインタフェース装置の平面図である。 実施の形態4に係る電磁波伝達媒体が挿入された状態のインタフェース装置の側面図である。 実施の形態4に係る電磁波伝達媒体が挿入された状態のインタフェース装置の平面図である。 実施の形態4に係る電磁波伝達媒体が挿入された状態の変形例のインタフェース装置の側面図である。 実施の形態4に係る電磁波伝達媒体が挿入された状態の変形例のインタフェース装置の平面図である。 実施の形態5に係るインタフェース装置の第2導電体面の断面図である。 実施の形態5に係るインタフェース装置の第2導電体面の底面図である。 本発明のインタフェース装置の第1導電体面の断面図である。 本発明のインタフェース装置の第1導電体面の平面図である。
本発明の実施の形態について以下に図面を参照して説明する。以下の説明は、本発明の好適な実施の形態を示すものであって、本発明の範囲が以下の実施の形態に限定されるものではない。以下の説明において、同一の符号が付されたものは実質的に同様の内容を示している。
(実施の形態1)
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図1は、本実施の形態1に係るサーフェイス通信システム1000の構成を示す図である。サーフェイス通信システム1000は、電磁波を伝搬するシート状の電磁波伝達媒体100と、電磁波伝達媒体100に電磁波を供給するインタフェース装置200と、前記電磁波伝達媒体100表面より漏れ出した電磁波と結合することで信号を受信する受信装置300と、を含んで構成される。ここで、電磁波伝達媒体100は、インタフェース装置200より供給された電磁波をシート面に沿った方向に伝搬させる通信シートであり、電磁波伝搬シート、電磁波伝送シート、などと呼ばれることがある。
図2は、電磁波伝達媒体100の断面図を示している。電磁波伝達媒体100は、第1保護層110、導電体プレーン層120、電磁波伝播層130、メッシュ層140、第2保護層150、が積層されて構成される。
ここで、電磁波伝播層130が、インタフェース装置200より供給される電磁波が進行する層であり、具体的にはシート状の誘電体基板131で構成される。ここで、「シート状」とは、布状、紙状、箔状、板状、膜状、フィルム状、メッシュ状等、面としての広がりを持ち、厚さが薄いものを意味する。
導電体プレーン層120は、シート状のシート導電体121であり、誘電体基板131の一面に形成される。
メッシュ層140は、メッシュ状のメッシュ導電体141であり、誘電体基板131の一面であって、シート導電体121に対向する一面に形成される。ここで、「メッシュ状」とは、電磁波伝播層130内を進行する電磁波の波長より小さい開口が周期的に設けられていることを意味する。
第1保護層110は、シート状のシート絶縁体111であり、導電体プレーン層120であるシート導電体121を外部と非導通とするために形成される。
第2保護層150は、シート状のシート絶縁体151であり、メッシュ層140であるメッシュ導電体141を外部と非導通とするために形成される。シート絶縁体111及びシート絶縁体151の媒質としては、特定の誘電率、磁性率を有し、直流電流を通さない媒質である。
次にインタフェース装置200の構成について詳しく説明する。図3は、インタフェース装置200に電磁波伝達媒体100の辺端部が挿入されて保持されている状態を示す側面図である。インタフェース装置200は、第1電極210と、第2電極220と、電磁波供給部230と、第1電磁波抑制構造体240と、第2電磁波抑制構造体250と、を備える。図3からもわかるように、インタフェース装置200は、内部に挿入される電磁波伝達媒体100を上下から挟みこむように保持するクリップ型の形状を有している。
第1電極210は、導電体で構成され、電磁波供給部230に接続されている。第1電極210は、平坦な導電体面を有しており、当該導電体面が自装置200に挿入される電磁波伝達媒体100の表面の一部を覆うように構成されている。以下の説明では第1電極210に設けられる当該導電体面のことを第1導電体面と称する。
第2電極220は、導電体で構成され、電磁波供給部230に接続されている。第2電極220は、平坦な導電体面を有しており、当該導電体面が自装置200に挿入される電磁波伝達媒体100の底面の一部を覆うように構成されている。以下の説明では第2電極220に設けられる当該導電体面のことを第2導電体面と称する。ここで、第1導電体面と第2導電体面は、略平行で対向する状態となるようにそれぞれ第1電極210及び第2電極220に設けられている。
電磁波供給部230は、第1導電体面と第2導電体面とに挟まれる狭間領域に電磁波を供給する。具体的には、電磁波供給部230は、第1電極210又は第2電極220のいずれか片方を第1電圧端子に接続して第1の電圧を印加し、他方をグランド端子に接続して接地する。もしくは、第1電極210、第2電極220のいずれもグランド端子に接続してもよい。
電磁波供給部230は、具体的には電源ケーブルであり、芯線である第1電圧端子を第1電極210に接続して第1電圧を印加し、グランド端子である編組線を第2電極220に接続して接地する。電磁波供給部230によって供給される電磁波は、自装置200内部に挿入される電磁波伝達媒体100の側面より供給されて電磁波伝播層130を進行することで受信装置300との通信に利用される。ここで、当該通信用の電磁波の周波数帯域としては例えば900MHz帯域とすることができる。
第1電磁波抑制構造体240は、第1電極210の第1導電体面に設けられる構造体であり、電磁波伝達媒体100の辺端部が第1導電体面と第2導電体面とに挟まれる狭間領域に挿入されている状態において、電磁波供給部230より供給される電磁波を反射する。
具体的には、第1電磁波抑制構造体240は、第1電極210の第1導電体面に対して略平行に対向する状態で配置される矩形プレート状のパッチ導電体241と、当該パッチ導電体241と第1導電体面とを接続する第1導電体ポスト242と、を備えるEBG(Electromagnetic Band-Gap)構造体である。ここで「パッチ」とは、小片、もしくは断片と言う意味であり、板状のマイクロストリップアンテナが「パッチアンテナ」とよばれているように、電磁波工学の分野では上述の意味で一般的に使用される用語である。
図3の破線矢印で模式的に示すように、電磁波供給部230より供給される電磁波のうち、電磁波伝達媒体100の第2保護層150に沿ってインタフェース装置200の外部領域に漏洩していこうとする電磁波は、第1電磁波抑制構造体240によって抑制される。すなわち、第1電磁波抑制構造体240は、第1電極210の第1導電体面と電磁波伝達媒体100のメッシュ導電体141の間に位置する第2保護層150に沿って外部方向へ進行する電磁波を、電磁波供給部230側に反射し、又は、メッシュ層140を通って電磁波伝播層130に送りこむように反射する。
このように、第1電磁波抑制構造体240によって電磁波の外部漏洩を抑制するためには、パッチ導電体241とメッシュ導電体141の間の領域が伝送線路として極めて高い若しくは極めて低い特性インピーダンスを有するように設計されることが好ましい。具体的には、第1電磁波抑制構造体240を電磁波供給部230より供給される電磁波の周波数帯域近辺で共振する構造とすることにより実現することができる。
第2電磁波抑制構造体250は、第2電極220の第2導電体面に設けられる構造体であり、電磁波伝達媒体100の辺端部が第1導電体面と第2導電体面とに挟まれる狭間領域に挿入されている状態において、電磁波供給部230より供給される電磁波を反射する。
具体的には、第2電磁波抑制構造体250は、第2電極220の第2導電体面に対して略平行に対向する状態で配置される板状のパッチ導電体251と、当該パッチ導電体251と第2導電体面とを接続する第2導電体ポスト252と、を備えるEBG構造体である。
図3の破線矢印で模式的に示すように、電磁波供給部230より供給される電磁波のうち、電磁波伝達媒体100の第1保護層110に沿ってインタフェース装置200の外部領域に漏洩していこうとする電磁波は、第2電磁波抑制構造体250によって抑制される。すなわち、第2電磁波抑制構造体250は、第2電極220の第2導電体面と電磁波伝達媒体100のシート導電体121の間に位置する第1保護層110に沿って外部方向へ進行する電磁波を、電磁波供給部230側に反射する。
第2電磁波抑制構造体250も第1電磁波抑制構造体240と同様、パッチ導電体251とシート導電体121の間の領域が伝送線路として極めて高い若しくは極めて低い特性インピーダンスを有するように設計されることが好ましい。
以上説明したように、本実施の形態1の電磁波インタフェース装置は、第1導電体面と、前記第1導電体面に対して略平行に対向する状態で配置される第2導電体面と、を有し、前記第1導電体面と第2導電体面とに挟まれる狭間領域にシート状の電磁波伝達媒体が挿入される構成をとる。電磁波インタフェース装置は、前記第1導電体面と第2導電体面とに挟まれる狭間領域に電磁波を供給する電磁波供給部を有することで、上記電磁波伝達媒体内部に電磁を進行させる。前記第1導電体面には第1構造体が設けられ、当該第1構造体は、前記狭間領域に前記電磁波伝達媒体の辺端部が挿入されている状態において前記電磁波供給部より供給される電磁波を反射する。また、前記第2導電体面には第2構造体が設けられ、当該第2構造体は、前記狭間領域に前記電磁波伝達媒体の辺端部が挿入されている状態において前記電磁波供給部より供給される電磁波を反射する。
電磁波を伝搬するシート状の電磁波伝達媒体に電磁波を供給するインタフェース装置をこのように構成することで、インタフェース装置と電磁波伝達媒体との隙間から漏洩する電磁波を抑制することができ、給電効率を向上させることができる。
なお、上記説明では、第1電磁波抑制構造体240及び第2電磁波抑制構造体250を構成するパッチ導電体の形状が矩形である場合について説明したがこれに限るものではない。例えば任意の多角形や円等の滑らかな境界を含む形状としても良い。また、切り欠きや開口を有する導電体で構成しても良い。
また、上記説明では、第1電磁波抑制構造体240及び第2電磁波抑制構造体250は、それぞれパッチ導電体と導電体ポストを有するマッシュルーム型EBG構造である場合について説明したがこれに限定されるものではない。外部領域に漏洩する方向で進行する電磁波を反射する構造体であれば良く、その他のEBG構造を採用することも可能である。
(実施の形態2)
以下、図面を参照して本発明の実施の形態2について説明する。なお、実施の形態1で既に説明した部分については発明の明確化のために一部説明を省略する。
図4Aは、本実施の形態2に係るインタフェース装置400の側面図を示している。図4Bは、本実施の形態2に係るインタフェース装置400の平面図を示している。インタフェース装置400において、第1電極410の第1導電体面には、5列×5行の25個の第1電磁波抑制構造体240が周期的に2次元配列されている。
周期配列された各々の第1電磁波抑制構造体240は実施の形態1と同様マッシュルーム型EBG構造である。互いに隣接するパッチ導電体は接触しないよう、所定の間隔で周期的に第1電磁波抑制構造体240が第1導電体面に配置されている。
第1電磁波抑制構造体240において、隣接するパッチ導電体241間の容量結合と、隣接するパッチ導電体241と導電体ポスト242、さらには基準導電体である第1電極410の第1導電体面を流れるループ電流に起因する誘導結合が支配的となった場合、並列共振回路が直列に連結された等価回路として表せる。更に、導電体ポスト242による誘導結合と、パッチ導電体241と電磁波伝達媒体100のメッシュ層140との誘導結合が支配的となった場合、直列共振回路が並列に連結された等価回路として表せる。並列共振回路が直列に連結された等価回路は特定の周波数で極めて高い特性インピーダンスを有し、直列共振回路が並列に連結された等価回路は特定の周波数で極めて低い特性インピーダンスを有する。従って、第1電磁波抑制構造体240を複数配置することで、上記構造に起因する共振が生じた場合、漏洩電磁波の大半は、電磁波供給部230側へ反射されるか、メッシュ層140を通り抜けて電磁波伝播層130に潜り込むように反射される。第2電磁波抑制構造体250についても同様である。
このように、本実施の形態2に係るインタフェース装置において、第1電極の第1導電体面には、複数の第1電磁波抑制構造体が周期配列され、第2電極の第2導電体面には、複数の第2電磁波抑制構造体が周期配列される。このように電磁波抑制構造体が繰り返し配置される構成とすることで、漏洩電磁波を更に抑制することができ、給電効率を向上させることが可能となる。
なお、上記説明では、各電極において縦横の両方向に同数の5重の電磁波抑制構造体が設けられる構成について説明したが、これに限るものではない。例えば一方向に1重、他方向に3重と言うように、方向によって多重度が異なっていても良い。一般に多重度を上げる方が漏洩電磁波の抑制効果が高まるため、複数の多重度で電磁波抑制構造体が設けられることが好ましい。
また、各電極に配置される複数の電磁波抑制構造体は、同一の物理的形状である必要はなく、上記共振周波数が漏洩電磁波を抑制したい周波数帯域の近辺となるように設計すれば異なる物理的形状をとることができる。
また、図5A,図5Bに示すように複数の電磁波抑制構造体240が設けられる第1電極410から、電磁波供給部230近辺の電磁波抑制構造体240が取り除かれて、整合調整部460が設けられていても良い。
すなわち、第1導電体面である第1電極410において、第1の境界線の内側である前記電磁波供給部230側の領域には複数の電磁波抑制構造体240は周期配列されず、第1の境界線の外側の領域には複数の電磁波抑制構造体240が周期配列されていることを特徴とする。当該第1の境界線の内側である前記電磁波供給部側の領域を整合設計用の領域として整合調整部460とする。
当該整合調整部460を整合設計用領域として使用することができ、より効率良く給電することが可能となる。第1電極240において電磁波抑制構造体240が周期配列される領域と周期配列されない領域を区切る第1の境界線は、整合設計を行う関係で適宜決定することができる。
例えば、図5A、図5Bに示すインタフェース装置400では、一列の電磁波抑制構造体(EBG)が第1電極410より取り除かれることで整合調整部460を形成している。このように、整合調整部460が、一列のEBGの有限個に相当する場合、該当する切り抜き部分の一次元的な共振現象を利用した整合設計が可能となる。
一方、図6A,図6Bに示すように、行列状のEBGを第1電極410より取り除くことで整合設計用領域としての整合調整部460を設けても良い。整合調整部460が、行列状のEBGに相当する場合、該当する切り抜き部分を空洞共振器と見立てた2次元的な共振現象を利用した整合設計が可能となる。当該空洞共振器の共振モードを励起させる整合設計用領域を設けることでインタフェース装置400の長さを短くとることが可能となり、電磁波伝達媒体100の利用面積をより確保することができる。
ここで、整合調整部460の形成方法としては、第1電極410より電磁波抑制構造体240を取り除くことで設けられることに限定されるものではない。すなわち、第2導電体面である第2電極420において、第2の境界線の内側である前記電磁波供給部230側の領域には複数の電磁波抑制構造体250は周期配列されず、第2の境界線の外側の領域には複数の電磁波抑制構造体250が周期配列される構成としても良い。当該第2の境界線の内側である前記電磁波供給部側の領域を整合設計用の領域として整合調整部460とすることも可能である。
(実施の形態3)
以下、図面を参照して本発明の実施の形態3について説明する。なお、実施の形態1、2で既に説明した部分については発明の明確化のために一部説明を省略する。
図7A、図7Bは、本実施の形態3に係るインタフェース装置500の側面図及び平面図を示している。インタフェース装置500において、電磁波供給部230を構成する芯線231が第1電極510の第1導電体面と第2電極520の第2導電体面との間に突き出す形で配置されている。以下の説明では当該突き出した芯線部分を第3電極560と呼ぶことがある。
第3電極560は、誘電体570で保護されている。すなわち、第1導電体面と第2導電体面との間であって電磁波供給部230から所定の距離まで誘電体570が詰められている。尚、誘電体570は空気であってもよい。誘電体570の一面であって、自装置500に挿入される電磁波伝達媒体100と接する面は垂直となっており接触面での整合が取れている。電磁波伝達媒体100は、第1導電体面と第2導電体面との間であって誘電体570の垂直面に接触するまで挿入される構成となっている。なお、誘電体570の側面部分から電磁波が漏洩しないように、当該両側面部分は導電体でシールドされている。
第1電極510と第2電極520は、共に電磁波供給部230の編組線に接続されることで接地されている。従って、第1電極510と第2電極520はシールド電極として機能する。
第1電極510の第1導電体面には、5列×5行の25個の第1電磁波抑制構造体240が周期的に2次元配列されている。誘電体570の垂直面まで電磁波伝達媒体100が挿入された状態において、当該電磁波伝達媒体100の表面に複数の第1電磁波抑制構造体240が接する状態となっており、電磁波伝達媒体100の表面を伝って漏洩しようとする電磁波が反射される。
第2電極520の第2導電体面にも、第1電極510の第1導電体面と同様、5列×5行の25個の第2電磁波抑制構造体250が周期的に2次元配列されている。
以上のように、本実施の形態に係るインタフェース装置は、第1導電体面と第2導電体面とに挟まれる狭間領域に配置される第3電極を更に具備する。そして電磁波供給部は、当該第3電極に第1の交流電圧を印加し、前記第1導電体面及び第2導電体面を接地することで前記挟間領域に電磁波を供給する。当該構成とすることで、内部電極となる第3電極を別途設け、第1電極と第2電極をシールド電極として機能させるため、漏洩電磁波を更に抑制することができる。
また、第1導電体面と第2導電体面に挟まれる狭間領域において少なくとも第3電極の周りに誘電体が敷き詰められ、当該誘電体の側面が導電体でシールドされる。当該誘電体と挿入される電磁波伝達媒体との接触面は整合が取れており、上記誘電体の両側面に配置されたシールド導電体も挿入された状態の電磁波伝達媒体と整合が取れる形で接触しているため、当該接合部分からの漏洩電磁波を抑えることができる。
なお、芯線231を整合設計用素子としてそのまま使用することも可能であるし、別途整合設計された導電体を第3電極として芯線231に接続する構成であっても良い。また、誘電体570内部を整合設計用領域として使用することも可能である。
例えば、誘電体570を空洞共振器と見立てた場合、共振モードの電磁界分布として、背面のシールド導電体581と、誘電体570の両側面に配置されたシールド導電体582及びシールド導電体583に沿う形で磁界が周回する分布がある。そこで、図8A、図8Bに示すように芯線231に接続された導電体560に導体ポスト561を接続し底面の導電体とショートさせることで当該導電体560と導電体ポスト561と底面導電体とで囲まれる領域に磁場を発生させることができる。このように、整合設計用素子をショート端とし、上記共振モードの磁界の向きに磁界を発生しやすくすることで、整合設計を容易にすることが可能となる。
また、上記説明では、誘電体570はブロック型の誘電体であり、当該ブロック内に第3電極560が配置される構成について説明したがこれに限るものではない。例えば図9A、図9Bに示すように、凹型の誘電体ブロックを垂直面である底面が挿入される電磁波伝達媒体100と接触するように配置し、当該切り欠き部分に第3電極を配置しても良い。当該構成とすることで整合設計領域が確保されて製造が容易となる。
(実施の形態4)
以下、図面を参照して本発明の実施の形態4について説明する。なお、実施の形態1〜3で既に説明した部分については発明の明確化のために一部説明を省略する。
図10A、図10Bは、本実施の形態4に係るインタフェース装置600の側面図及び平面図を示している。インタフェース装置600において、第1電極610の第1導電体面は第1電磁波抑制構造体240に加えて第3電磁波抑制構造体670を有することを特徴とする。第1電磁波抑制構造体240の機能は実施の形態1〜3と同様であるため、第3電磁波抑制構造体670について詳しく説明する。
第3電磁波抑制構造体670は、第1電磁波抑制構造体240と同じくパッチ導電体671と導電体ポスト672で構成されるEBG構造である。導電体ポスト672は、導電体ポスト242より長くとられ、パッチ導電体671は第2電極220の第2導電体面近くに位置する。
当該第3電磁波抑制構造体670は、電磁波供給部230より第1導電体面と第2導電体面との間の狭間領域に供給される電磁波が側面方向から漏洩することを防ぐために設けられる電磁波抑制構造体である。
第3電磁波抑制構造体670は、第3電極560の両側に配置される。図10A、図10Bでは、第3電極560の左右それぞれに2重の第3電磁波抑制構造体670が挿入される電磁波伝達媒体100の位置近くまで並列に配置されている。
当該並列に配置された第3電磁波抑制構造体670は、基準導電体である第1電極610を流れるループ電流に起因する誘導結合が支配的となった場合、並列共振回路が直列に連結された等価回路として表せる。更に、導電体ポスト672による誘導結合と、パッチ導電体671と第2電極620の第2導電体面との誘導結合が支配的となった場合、直列共振回路が並列に連結された等価回路として表せる。並列共振回路が直列に連結された等価回路は特定の周波数で極めて高い特性インピーダンスを有し、直列共振回路が並列に連結された等価回路は特定の周波数で極めて低い特性インピーダンスを有する。ここで、通信用に用いられる周波数(例えば900MHz帯)において極めて高い又は低い特性インピーダンスとなるようにパッチ導電体671のサイズや第2導電体面までの距離、導電体ポスト672の静電容量等を設計することで当該第3電磁波抑制構造体670を通り抜けて自装置側面方向に進行しようとする電磁波を反射させることができる。
従って電磁波供給部230より供給される電磁波が、第3電極560の両側に配置された第3電磁波抑制構造体670で挟まれる共振領域に閉じ込められ、整合設計された当該共振領域で電磁波が増幅される。当該電磁波のパスは、電磁波伝達媒体100の電磁波伝播層130だけとなり、電磁波伝達媒体100を介して効率良く電磁波を受信装置300に供給することが可能となる。
このように、本実施の形態4に係るインタフェース装置において、第1導電体面には、第1電磁波抑制構造体と第3電磁波抑制構造体を備える。第1電磁波抑制構造体は、電磁波伝達媒体の辺端部が挿入されている状態において電磁波供給部より供給される電磁波をであって電磁波伝達媒体表面に沿う方向で進行する電磁波を反射する構造体である。一方、第3電磁波抑制構造体は、第3電極の両側に電磁波伝達媒体近辺まで並列に配置された構造体である。第3電磁波抑制構造体は、電磁波伝達媒体の辺端部が挿入されている状態において電磁波供給部より供給される電磁波であって自装置の側面方向に進行する電磁波を反射する構造体である。このように構成することで、電磁波供給部より供給される電磁波を効率良く電磁波伝達媒体を介して受信装置に供給することが可能となる。
なお、第3電極両側に配置される第3電磁波抑制構造体で作られる共振領域を通信用電磁波の周波数帯で共振状態となるように整合設計すると更に効率良く電磁波を供給できるため好ましい。
また、上記説明では第3電磁波抑制構造体が第1電極の第1導電体面に設けられる構成について説明したがこれに限るものではない。第2電極の第2導電体面に第3電磁波抑制構造体が設けられても良いし、図11A、図11Bに示すように第1導電体面と第2導電体面の両方に設けられていても良い。
(実施の形態5)
本実施の形態5に係るインタフェース装置は、第2電極に配置される第2電磁波抑制構造体がマッシュルーム型EBG構造以外の構造をとることを特徴とする。以下、図面を参照して本発明の実施の形態5について説明する。なお、実施の形態1〜4で既に説明した部分については発明の明確化のために一部説明を省略する。
図12A、図12Bは、それぞれ本実施の形態5に係るインタフェース装置700の第2電極720の第2導電体面の断面図と底面図とを示している。第2電極720の第2導電体面には、複数の平面型EBG構造体が第2電磁波抑制構造体750として周期配列されている。ここで、平面型EBG構造体とは、同一平面内に複数形成可能なEBG構造体を言う。
第2電磁波抑制構造体750の各単位構造は、パッチ導電体751と隣接するパッチ導電体751間を電気的に接続する配線である接続配線752とを備える。なお、図12A、図12Bでは、接続配線752はパッチ導電体751の端部辺の中点付近にあるがこれに限定されるものではなく、短部辺の隅付近に設けられても良い。また、隣接するパッチ導電体751間を結ぶ接続配線752は1本である場合に限定されず、複数の接続配線752でパッチ導電体751同士が接続されていても良い。
図12Aに示す第2電磁波抑制構造体750も上述した原理に基づいて漏洩方向に進む電磁波を電磁波供給部230側に反射させることができる。
ここで図12Aに示す平面型EBG構造である第2電磁波抑制構造体750は、マッシュルーム型EBG構造と比較して導電体ポストを必要としない分、厚さを薄くすることが可能となる。インタフェース装置はクリップ型カプラであり、上下両側から電磁波伝達媒体100を挟み込むようにして接続するが、底面側の厚みが厚いと電磁波伝達媒体100を反らせてしまい、電磁波伝達媒体の平面性を大きく損なってしまう。一方、本実施の形態の第2電磁波抑制構造体750は、平面型EBG構造であるため、電磁波伝達媒体100の下側に回り込む部分の厚さを充分薄くすることが可能であり、高い平面性を維持することができる。
このように、本実施の形態に係る第2電磁波抑制構造体は、第2導電体面と同一平面に配置される複数のパッチ導電体と、隣接するパッチ導電体を接続する接続配線部を有することを特徴とする。当該EBG構造を第2電磁波抑制構造体とすることで厚みを薄くすることができる。
なお、上記説明では、平面型EBG構造を第2電磁波抑制構造体750に用いる場合について説明したが、第1電磁波抑制構造体740にも同様に用いることが可能となる。第1電磁波抑制構造体740に用いることでインタフェース装置700全体の厚みを薄くすることが可能となる。
以上各実施の形態で説明したように、本発明のインタフェース装置によれば、高い給電効率で電磁波通信媒体を介して受信装置に電磁波を供給することができる。
なお、インタフェース装置の第1導電体面及び第2導電体面に設けられる電磁波抑制構造体としては上述したEBG構造に限定されるものではなく、様々なEBG構造を採用することができる。
例えば、電磁波抑制構造体は、図13A、図13Bに示すように第1導電体面を構成する基準導電体として配置されるパッチ状に分割された複数の下層パッチ導電体841と、電磁波伝達媒体100と逆側の層に実装させる上層パッチ導電体842と、下層パッチ導電体841と上層パッチ導電体842とを接続する導電体ポスト843と、を備える構成であっても良い。上層パッチ導電体842は、第1導電体面に配置されている互いに隣接する下層パッチ導電体841同士をブリッジ接続する。このようなEBG構造体を複数配列することで第1又は第2電磁波抑制構造体として用いることも可能である。
また、以上各実施の形態では、インタフェース装置を用いて給電を行う場合について説明したがこれに限定されるものではない。本発明のインタフェース装置は、給電に限らず信号用電磁波の供給に用いることが可能である。
なお、本発明は上記実施の形態に限られたものではなく、趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更することが可能である。例えば、以下の構造をとることも可能である。
(付記1)
電磁波を伝搬するシート状の電磁波伝達媒体に電磁波を供給するインタフェース装置であって、第1導電体面と、前記第1導電体面に対して略平行に対向する状態で配置される第2導電体面と、前記第1導電体面と第2導電体面とに挟まれる狭間領域に電磁波を供給する電磁波供給部と、前記第1導電体面に設けられる第1構造体であって、前記狭間領域に前記電磁波伝達媒体の辺端部が挿入されている状態において前記電磁波供給部より供給される電磁波を反射する第1構造体と、前記第2導電体面に設けられる第2構造体であって、前記狭間領域に前記電磁波伝達媒体の辺端部が挿入されている状態において前記電磁波供給部より供給される電磁波を反射する第2構造体と、を具備するインタフェース装置。
(付記2)
前記第1構造体は、前記第1導電体面に対して略平行に対向する状態で配置される板状のパッチ導電体と、前記パッチ導電体と前記第1導電体面とを接続する第1導電体ポストと、を備え、前記第2構造体は、前記第2導電体面に対して略平行に対向する状態で配置される板状のパッチ導電体と、前記パッチ導電体と前記第2導電体面とを接続する第2導電体ポストと、を備える、付記1に記載のインタフェース装置。
(付記3)
前記第1導電体面には、複数の前記第1構造体が周期配列され、前記第2導電体面には、複数の前記第2構造体が周期配列される、付記1又は2に記載のインタフェース装置。
(付記4)
前記第2構造体は、前記第2導電体面と同一平面に配置される複数の板状のパッチ導電体と、隣接する前記パッチ導電体同士を接続する接続配線部と、を備える、付記1に記載のインタフェース装置。
(付記5)
前記電磁波伝達媒体は、シート状の絶電体である第1保護層と、シート状の導電体である第1導電体層と、シート状の誘電体であって、電磁波が進行する誘電体層と、メッシュシート状の導電体である第2導電体層と、シート状の絶縁体である第2保護層と、が積層されて構成される、付記1乃至4のいずれかに記載のインタフェース装置。
(付記6)
前記第1構造体は、前記供給される電磁波を前記第2導電体層を介して前記誘電体層に送りこむ方向に反射し、前記第2構造体は、前記供給される電磁波を前記電磁波供給部側に反射する、付記5に記載のインタフェース装置。
(付記7)
前記電磁波供給部は、前記第1導電体面又は前記第2導電体面のいずれか片方の導電体面に第1の電圧を印加し、他方の導電体面を接地することで前記挟間領域に電磁波を供給する、付記1乃至6のいずれか1項に記載のインタフェース装置。
(付記8)
前記挟間領域に配置される第3電極を更に具備し、前記電磁波供給部は、前記電極に第1の電圧を印加し、前記第1導電体面及び第2導電体面を接地することで前記挟間領域に電磁波を供給する、付記1乃至6のいずれか1項に記載のインタフェース装置。
(付記9)
前記第3電極の両側に配置される前記電磁波供給部より供給される電磁波を反射する第3構造体を更に備え、前記第3構造体は、前記第1導電体面又は前記第2導電体から所定の距離離れた位置に前記第1導電体面又は前記第2導電体に対して略平行に対向する状態で配置される板状のパッチ導電体と、前記パッチ導電体と前記第2導電体面又は前記第1導電体面とを接続する導電体ポストと、を備える付記8に記載のインタフェース装置。
(付記10)
前記第1構造体及び前記第2構造体の少なくとも一方を設けない整合調整部を前記電磁波供給部近傍に設けたことを特徴とする請求項3乃至9のいずれか1項に記載のインタフェース装置。
(付記11)
前記第1導電体面において、第1の境界線の内側である前記電磁波供給部側の領域には複数の前記第1構造体が周期配列されず、前記第1の境界線の外側の領域に前記複数の前記第1構造体が周期配列されていることを特徴とする、請求項3乃至10のいずれか1項に記載のインタフェース装置。
(付記12)
前記第2導電体面において、第2の境界線の内側である前記電磁波供給部側の領域には複数の前記第1構造体が周期配列されず、前記第2の境界線の外側の領域に前記複数の前記第2構造体が周期配列されていることを特徴とする、請求項3乃至10のいずれか1項に記載のインタフェース装置。
以上、実施の形態を参照して本願発明を説明したが、本願発明は上記によって限定されるものではない。本願発明の構成や詳細には、発明のスコープ内で当業者が理解し得る様々な変更をすることができる。
この出願は、2012年1月12日に出願された日本出願特願2012−004001を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。
100 電磁波伝達媒体 110 第1保護層
111 シート絶縁体 120 導電体プレーン層
121 シート導電体 130 電磁波伝播層
131 誘電体基板 140 メッシュ層
141 メッシュ導電体 150 第2保護層
151 シート絶縁体 200 インタフェース装置
210 第1電極 220 第2電極
230 電磁波供給部 240 第1電磁波抑制構造体
241 パッチ導電体 242 導電体ポスト
250 第2電磁波抑制構造体 251 パッチ導電体
252 導電体ポスト 300 受信装置

Claims (10)

  1. 電磁波を伝搬するシート状の電磁波伝達媒体に電磁波を供給するインタフェース装置であって、
    第1導電体面と、
    前記第1導電体面に対して略平行に対向する状態で配置される第2導電体面と、
    前記第1導電体面と第2導電体面とに挟まれる狭間領域に電磁波を供給する電磁波供給手段と、
    前記第1導電体面に設けられる第1構造体であって、前記狭間領域に前記電磁波伝達媒体の辺端部が挿入されている状態において前記電磁波供給手段より供給される電磁波を反射する第1構造体と、
    前記第2導電体面に設けられる第2構造体であって、前記狭間領域に前記電磁波伝達媒体の辺端部が挿入されている状態において前記電磁波供給手段より供給される電磁波を反射する第2構造体と、
    を具備するインタフェース装置。
  2. 前記第1構造体は、
    前記第1導電体面に対して略平行に対向する状態で配置される板状のパッチ導電体と、
    前記パッチ導電体と前記第1導電体面とを接続する第1導電体ポストと、
    を備え、
    前記第2構造体は、
    前記第2導電体面に対して略平行に対向する状態で配置される板状のパッチ導電体と、
    前記パッチ導電体と前記第2導電体面とを接続する第2導電体ポストと、
    を備える、
    請求項1に記載のインタフェース装置。
  3. 前記第1導電体面には、複数の前記第1構造体が周期配列され、
    前記第2導電体面には、複数の前記第2構造体が周期配列される、
    請求項1又は2に記載のインタフェース装置。
  4. 前記第2構造体は、
    前記第2導電体面と同一平面に配置される複数の板状のパッチ導電体と、
    隣接する前記パッチ導電体同士を接続する接続配線部と、
    を備える、
    請求項1に記載のインタフェース装置。
  5. 前記電磁波伝達媒体は、
    シート状の絶電体である第1保護層と
    シート状の導電体である第1導電体層と、
    シート状の誘電体であって、電磁波が進行する誘電体層と、
    メッシュシート状の導電体である第2導電体層と、
    シート状の絶縁体である第2保護層と、
    が積層されて構成される、
    請求項1乃至4のいずれか1項に記載のインタフェース装置。
  6. 前記第1構造体は、前記供給される電磁波を前記第2導電体層を介して前記誘電体層に送りこむ方向に反射し、
    前記第2構造体は、前記供給される電磁波を前記電磁波供給手段側に反射する、
    請求項5に記載のインタフェース装置。
  7. 前記電磁波供給手段は、前記第1導電体面又は前記第2導電体面のいずれか片方の導電体面に第1の電圧を印加し、他方の導電体面を接地することで前記挟間領域に電磁波を供給する、
    請求項1乃至6のいずれか1項に記載のインタフェース装置。
  8. 前記挟間領域に配置される第3電極を更に具備し、
    前記電磁波供給手段は、前記電極に第1の電圧を印加し、前記第1導電体面及び第2導電体面を接地することで前記挟間領域に電磁波を供給する、
    請求項1乃至6のいずれか1項に記載のインタフェース装置。
  9. 前記第3電極の両側に配置される前記電磁波供給手段より供給される電磁波を反射する第3構造体を更に備え、
    前記第3構造体は、前記第1導電体面又は前記第2導電体から所定の距離離れた位置に前記第1導電体面又は前記第2導電体に対して略平行に対向する状態で配置される板状のパッチ導電体と、
    前記パッチ導電体と前記第2導電体面又は前記第1導電体面とを接続する導電体ポストと、
    を備える請求項8に記載のインタフェース装置。
  10. 前記第1構造体及び前記第2構造体の少なくとも一方を設けない整合調整手段を前記電磁波供給手段近傍に設けたことを特徴とする請求項3乃至9のいずれか1項に記載のインタフェース装置。
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