JPWO2012002404A1 - Polyvalent carboxylic acid composition, curing agent composition, and curable resin composition containing the polyvalent carboxylic acid composition or the curing agent composition as a curing agent for epoxy resin - Google Patents

Polyvalent carboxylic acid composition, curing agent composition, and curable resin composition containing the polyvalent carboxylic acid composition or the curing agent composition as a curing agent for epoxy resin Download PDF

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Abstract

本発明の目的は、硬化時の硬化剤の揮発を減らし、さらには耐熱性、光学特性、成形性に優れる硬化物を与える多価カルボン酸組成物、硬化剤組成物、および該多価カルボン酸組成物または硬化剤組成物を含む硬化性樹脂組成物を提供することにある。本発明にかかる硬化性多価カルボン酸組成物および硬化剤組成物は、ビス(ジメチロール)ジアルキルエーテルと酸無水物との反応により得られる多価カルボン酸樹脂を含有する。An object of the present invention is to reduce the volatilization of the curing agent at the time of curing, and further to provide a cured product having excellent heat resistance, optical characteristics, and moldability, a curing agent composition, and the polyvalent carboxylic acid It is providing the curable resin composition containing a composition or a hardening | curing agent composition. The curable polyvalent carboxylic acid composition and the curing agent composition according to the present invention contain a polyvalent carboxylic acid resin obtained by a reaction between bis (dimethylol) dialkyl ether and an acid anhydride.

Description

本発明は電気電子材料用途に好適な、多価カルボン酸組成物、硬化剤組成物ならびに該多価カルボン酸組成物または該硬化剤組成物をエポキシ樹脂の硬化剤として含有する硬化性樹脂組成物に関する。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is suitable for use in electrical and electronic materials. About.

多価カルボン酸は、高熱安定性や良好な電気特性、耐薬品性などと共に、縮合体の形成や反応性の良さなど、架橋剤、縮合剤等として優れた性能を備えている。このため、近年では、高分子製造原材料として非常に着目され、広く使用されるようになってきている。
また多価カルボン酸はエポキシ樹脂の硬化剤としても使用できることが知られている。
The polyvalent carboxylic acid has excellent performance as a crosslinking agent, a condensing agent and the like, such as high heat stability, good electrical properties, chemical resistance, and the like, as well as formation of a condensate and good reactivity. For this reason, in recent years, it has attracted a great deal of attention as a raw material for polymer production and has come to be widely used.
It is also known that polyvalent carboxylic acids can be used as curing agents for epoxy resins.

一方、エポキシ樹脂を含有する硬化性樹脂組成物は、従来から、耐熱性に優れた樹脂として、建築、土木、自動車、航空機などの分野で利用されていたが、近年、オプトエレクトロニクス関連分野における利用が注目されている。従来の電気配線による信号伝送は、高度情報化に伴い、膨大な情報を円滑に伝送・処理するために、光信号による信号伝送に変わってきている。このため、光導波路、青色LED、および光半導体等の光学部品の分野においては、透明性に優れた硬化物を与える樹脂組成物の開発が望まれている。   On the other hand, curable resin compositions containing epoxy resins have been conventionally used in the fields of architecture, civil engineering, automobiles, aircraft, etc. as resins having excellent heat resistance. Is attracting attention. Conventional signal transmission using electric wiring has been changed to signal transmission using optical signals in order to smoothly transmit and process a large amount of information as information is advanced. For this reason, in the field of optical components such as optical waveguides, blue LEDs, and optical semiconductors, it is desired to develop a resin composition that gives a cured product having excellent transparency.

また、半導体関連材料の分野においては、カメラ付き携帯電話、超薄型の液晶やプラズマTV、軽量ノート型パソコンなど軽・薄・短・小がキーワードとなるような電子機器のパッケージ材料として利用されている。これら電子機器に使用されるエポキシ樹脂にはパッケージ材料として非常に高い特性が求められてきている。   Also, in the field of semiconductor-related materials, it is used as a packaging material for electronic devices such as mobile phones with cameras, ultra-thin liquid crystals, plasma TVs, and light-weight notebook computers, where light, thin, short, and small are key words. ing. Epoxy resins used in these electronic devices have been required to have very high characteristics as packaging materials.

特に、光半導体等の封止の分野においては、近年のパッケージの複雑化、多様化が進む中で、固形樹脂によるトランスファーモールディングの様な成形方法よりも、特に先端分野のパッケージにおいては液状の硬化性樹脂組成物を用いた成形方法が好んで用いられる。   In particular, in the field of sealing of optical semiconductors and the like, as packaging has become more complex and diversified in recent years, liquid curing has become more important in the package of cutting-edge fields, especially than in molding methods such as transfer molding using solid resin. A molding method using a conductive resin composition is preferably used.

このような液状組成物用のエポキシ樹脂硬化剤としては、多価アミン化合物などが挙げられるが、アミン化合物は着色が激しいため使用が難しい。さらに、エポキシ樹脂硬化剤としては、フェノール樹脂や、多価カルボン酸樹脂も信頼性の良い硬化物を与えることができることが知られているが、その形状が固形であるため、このような液状組成物として使用することは困難である。
このため、一般にこのような分野では、エポキシ樹脂の硬化剤として酸無水物系の化合物が用いられており、特に飽和炭化水素で形成された酸無水物は硬化物が耐光性に優れることから多く利用されている。これら酸無水物としては、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸等の脂環式酸無水物が一般的であり、中でも常温で液状であるメチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸等が取扱いの容易さから主に使用されている。
しかしながら上記脂環式酸無水物を硬化剤とした場合、これらの硬化剤は蒸気圧が高く、硬化時に一部が蒸発するため、これらをエポキシ樹脂の硬化剤として用いて開放系で熱硬化させる際には、このもの自体が大気中に揮発し、大気への有害物質の放出による環境汚染、人体への悪影響のみならず、生産ラインの汚染が生じる恐れがある。更には、硬化物中に所定量のカルボン酸無水物(硬化剤)が存在しないことに起因する硬化性樹脂組成物の硬化不良が起こるという問題や、硬化条件によってその特性が大幅に変わってしまい、安定して目的とした性能を有する硬化物を得ることが困難となる問題を抱えている。
Examples of such epoxy resin curing agents for liquid compositions include polyvalent amine compounds, but amine compounds are difficult to use because of intense coloring. Further, as epoxy resin curing agents, it is known that phenolic resins and polyvalent carboxylic acid resins can also give a reliable cured product, but since the shape thereof is solid, such a liquid composition It is difficult to use as a product.
For this reason, acid anhydride compounds are generally used as curing agents for epoxy resins in such fields, and in particular, acid anhydrides formed with saturated hydrocarbons are often used because the cured product has excellent light resistance. It's being used. As these acid anhydrides, alicyclic acid anhydrides such as methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, etc. are common, and in particular, methylhexahydrophthalic anhydride, methyl which is liquid at room temperature. Tetrahydrophthalic anhydride and the like are mainly used because of easy handling.
However, when the above alicyclic acid anhydride is used as a curing agent, these curing agents have high vapor pressure and partly evaporate at the time of curing, so they are thermally cured in an open system using them as a curing agent for epoxy resin. In some cases, the product itself volatilizes in the atmosphere, which may cause not only environmental pollution and harmful effects on the human body due to the release of harmful substances to the atmosphere, but also contamination of the production line. Furthermore, the characteristics of the curable resin composition may be poorly cured due to the absence of a predetermined amount of carboxylic acid anhydride (curing agent) in the cured product, and the characteristics may vary greatly depending on the curing conditions. Therefore, there is a problem that it is difficult to obtain a cured product having the intended performance stably.

また、従来の硬化剤を用いた硬化物はLED、特にSMD(Surface Mount Device)を封止した際は顕著であり、使用する樹脂量が少ないため、先の揮発の問題により、へこみが発生、酷い場合には、ワイヤーが露出するという問題が生じる。さらには半田リフロー時のクラック、剥離等、さらに硬化が不十分になってしまうため長期点灯にも耐えることが困難であるという問題がある。   In addition, cured products using conventional curing agents are prominent when sealing LEDs, especially SMD (Surface Mount Device), and because the amount of resin used is small, dents occur due to the previous volatility problem. In severe cases, the problem arises that the wire is exposed. Furthermore, there is a problem that it is difficult to withstand long-term lighting because cracking, peeling, and the like during solder reflow are further insufficiently cured.

さらに、近年、LEDの市場の拡大に伴い、量産性を向上させるLEDパッケージ製造プロセスが求められている。例えば、液状トランスファー成型や、コンプレッション成型である。これらは、液状の熱硬化性樹脂を高温の金型を用いて加熱硬化させる成型方法であり、成形時間が短く、生産性が高いため有用である。また本成型方法を用いれば。任意の形状を付与させることが可能となる。
しかしながら従来のLED用透明封止樹脂は、その成型性が非常に難しく、ボイドや未充填部分が発生したり、脱型の際に硬化物が変形あるは割れてしまう等、脱型性に問題がある場合が多かった(特許文献3)。
Furthermore, in recent years, with the expansion of the LED market, there is a need for an LED package manufacturing process that improves mass productivity. For example, liquid transfer molding or compression molding. These are molding methods in which a liquid thermosetting resin is heat-cured using a high-temperature mold, and are useful because the molding time is short and the productivity is high. If this molding method is used. Arbitrary shapes can be given.
However, the conventional transparent sealing resin for LED is very difficult to mold, and voids and unfilled parts are generated, and the cured product is deformed or cracked at the time of demolding. There were many cases (Patent Document 3).

また、LEDの材料としてはエポキシ樹脂の耐久性の問題から、シリコーン樹脂やシリコーン変性エポキシ樹脂などに代表されるようなシロキサン骨格(具体的にはSi−O結合を有した骨格)を導入した樹脂を封止材として使用する検討が行われている(特許文献4)。
一般に該シロキサン骨格を導入した樹脂はエポキシ樹脂よりも熱と光に対して安定であることが知られている。そのため、LED製品の封止材に適用した場合、LEDチップ上の着色という観点では、エポキシ樹脂よりも耐久性に優れると言われていた。しかし、該シロキサン骨格を導入した樹脂類はエポキシ樹脂に比べ、硫黄等の腐食ガス耐性に劣る。そのため、LED封止材としてシリコーン樹脂やシリコーン変性エポキシ樹脂を使用した場合には、LEDチップ上での着色は問題にならないものの、LEDパッケージ内の構成部材である金属リードフレーム上にメッキされた銀成分(反射率を高めるために銀メッキが施されている)を腐食ガスにより変色または黒化させてしまい、最終的にLED製品としての性能を低下させるという課題を抱えている。
市場では、前記耐腐食ガス性で問題のない構造を有する硬化性樹脂組成物であって、且つ、LED製品として光、熱に対する耐久性の高い封止材が求められている。
In addition, as a material for LEDs, a resin having a siloxane skeleton (specifically, a skeleton having a Si-O bond) typified by a silicone resin or a silicone-modified epoxy resin due to a problem of durability of an epoxy resin. (Patent Document 4).
In general, it is known that a resin having a siloxane skeleton introduced therein is more stable to heat and light than an epoxy resin. Therefore, when applied to the sealing material of LED products, it was said that it was superior to epoxy resin in terms of coloring on the LED chip. However, resins incorporating the siloxane skeleton are inferior in resistance to corrosive gases such as sulfur as compared with epoxy resins. Therefore, when a silicone resin or a silicone-modified epoxy resin is used as the LED sealing material, the color on the LED chip does not matter, but the silver plated on the metal lead frame, which is a component in the LED package. There is a problem that the component (which is silver-plated to increase the reflectance) is discolored or blackened by the corrosive gas, and ultimately the performance as an LED product is lowered.
In the market, a curable resin composition having a structure with no problem with the corrosion-resistant gas and a sealing material having high durability against light and heat is demanded as an LED product.

日本国特開2003−277473号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-277473 日本国特開2008−063333号公報Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2008-066333 日本国特開2010−100793号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2010-1000079 国際公開第2005/100445号パンフレットInternational Publication No. 2005/100445 Pamphlet

本発明は上記従来技術の問題点に鑑みなされたものであって、硬化時の硬化剤の揮発を減らし、さらには耐熱性、光学特性、成形性に優れる硬化物を与える多価カルボン酸組成物、硬化剤組成物を提供することを目的とする。更に、該多価カルボン酸組成物または該硬化剤組成物をエポキシ樹脂の硬化剤として含有する硬化性樹脂組成物を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and reduces the volatilization of the curing agent at the time of curing, and further provides a cured product having excellent heat resistance, optical properties, and moldability. An object of the present invention is to provide a curing agent composition. Furthermore, it aims at providing the curable resin composition which contains this polyhydric carboxylic acid composition or this hardening | curing agent composition as a hardening | curing agent of an epoxy resin.

本発明者らは前記したような実状に鑑み、鋭意検討した結果、本発明を完成させるに至った。
すなわち本発明は、
〔1〕
下記式(1)

Figure 2012002404

(式中、複数存在するR、Qはそれぞれ独立して存在し、水素原子、もしくは炭素数1〜15のアルキル基、カルボキシル基を表す。)で表される多価カルボン酸樹脂と、酸無水物との混合物である硬化剤組成物、
〔2〕
前記式(1)において複数存在するQがそれぞれ独立して水素原子、メチル基、カルボキシル基のいずれかから選ばれる(ただし、Qが全て水素原子である化合物のみからなる場合を除く)、上記〔1〕記載の硬化剤組成物、
〔3〕
無溶剤、もしくは使用する原料に対して50重量%以下の有機溶剤中、40〜150℃で前記原料を反応させて得る、上記〔1〕または〔2〕に記載の硬化剤組成物の製造方法、
〔4〕
前記式(1)で表される多価カルボン酸樹脂と、2官能以上のカルボン酸との混合物である多価カルボン酸組成物、
〔5〕
前記2官能以上のカルボン酸樹脂の粘度が25℃で10000Pa・s以下である、上記〔4〕記載の多価カルボン酸組成物、
〔6〕
前記式(1)において複数存在するQがそれぞれ独立して水素原子、メチル基、カルボキシル基のいずれかから選ばれる(ただし、Qが全て水素原子である化合物のみからなる場合を除く)、上記〔4〕または〔5〕に記載の多価カルボン酸組成物、
〔7〕
無溶剤、もしくは使用する原料に対して50重量%以下の有機溶剤中、40〜150℃で前記原料を反応させて得る、上記〔4〕〜〔6〕のいずれか一項に記載の多価カルボン酸組成物の製造方法、
〔8〕
原料となるビス(ジメチロール)ジアルキルエーテルと酸無水物との反応時のモル比が、ビス(ジメチロール)ジアルキルエーテルの水酸基1モルに対し、カルボン酸無水物基が1.0〜10.0モルである、上記〔7〕記載の多価カルボン酸組成物の製造方法、
〔9〕
上記〔1〕〜〔3〕のいずれか一項に記載の硬化剤組成物もしくは上記〔4〕〜〔6〕のいずれか一項に記載の多価カルボン酸組成物と、エポキシ樹脂と、を含有する硬化性樹脂組成物、
〔10〕
前記エポキシ樹脂が脂環式エポキシ樹脂である、上記〔9〕記載の硬化性樹脂組成物、
〔11〕
上記〔9〕または上記〔10〕に記載の硬化性樹脂組成物を硬化してなる硬化物、
に関する。As a result of intensive studies in view of the actual situation as described above, the present inventors have completed the present invention.
That is, the present invention
[1]
Following formula (1)
Figure 2012002404

(Wherein a plurality of R and Q which are present independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, or a carboxyl group) and an acid anhydride A curing agent composition that is a mixture with the product,
[2]
In the formula (1), a plurality of Qs are each independently selected from any one of a hydrogen atom, a methyl group, and a carboxyl group (provided that only Q is a compound having all hydrogen atoms), 1] The curing agent composition according to the above,
[3]
The method for producing a curing agent composition according to the above [1] or [2], obtained by reacting the raw material at 40 to 150 ° C. in an organic solvent of 50% by weight or less with respect to the raw material to be used. ,
[4]
A polyvalent carboxylic acid composition which is a mixture of the polyvalent carboxylic acid resin represented by the formula (1) and a bifunctional or higher carboxylic acid;
[5]
The polyfunctional carboxylic acid composition according to the above [4], wherein the viscosity of the bifunctional or higher carboxylic acid resin is 10,000 Pa · s or less at 25 ° C.,
[6]
In the formula (1), a plurality of Qs are each independently selected from any one of a hydrogen atom, a methyl group, and a carboxyl group (provided that only Q is a compound having all hydrogen atoms), 4] or [5], the polyvalent carboxylic acid composition,
[7]
The polyvalent compound according to any one of the above [4] to [6] obtained by reacting the raw material at 40 to 150 ° C. in a solvent-free or 50 wt% or less organic solvent with respect to the raw material to be used. A method for producing a carboxylic acid composition,
[8]
The molar ratio of the raw material bis (dimethylol) dialkyl ether and the acid anhydride at the time of reaction is 1.0 to 10.0 mol of carboxylic acid anhydride group with respect to 1 mol of hydroxyl group of bis (dimethylol) dialkyl ether. A method for producing a polyvalent carboxylic acid composition according to [7] above,
[9]
The curing agent composition according to any one of [1] to [3] or the polyvalent carboxylic acid composition according to any one of [4] to [6], and an epoxy resin. Containing curable resin composition,
[10]
The curable resin composition according to [9] above, wherein the epoxy resin is an alicyclic epoxy resin,
[11]
A cured product obtained by curing the curable resin composition according to the above [9] or [10],
About.

本発明の多価カルボン酸組成物又は硬化剤組成物はエポキシ樹脂の硬化剤として有用であり、特に多価カルボン酸樹脂を含有する硬化性樹脂組成物はエポキシ樹脂を硬化させるのに通常採用される温度域での揮発性が極めて少ない。さらには成形性にも優れ、光学特性に優れた硬化物を与える。本発明の多価カルボン酸組成物又は硬化剤組成物は塗料、接着剤、成形品、半導体、光半導体の封止材用樹脂、光半導体のダイボンド材用樹脂、ポリイミド樹脂などの原料や改質剤、可塑剤、潤滑油原料、医農薬中間体、塗料用樹脂の原料、トナー用樹脂として有用であるが、とりわけ、この多価カルボン酸組成物又は硬化剤組成物はエポキシ樹脂に対する硬化能力及びこれから得られる硬化物の透明度に優れるので、高輝度の白色LED他の光半導体の封止用のエポキシ樹脂の硬化剤として極めて有用である。   The polyvalent carboxylic acid composition or the curing agent composition of the present invention is useful as a curing agent for an epoxy resin, and in particular, a curable resin composition containing a polyvalent carboxylic acid resin is usually employed for curing an epoxy resin. The volatility in the temperature range is extremely low. Furthermore, it is excellent in moldability and gives a cured product with excellent optical properties. The polyvalent carboxylic acid composition or the curing agent composition of the present invention is a raw material or modification of a paint, an adhesive, a molded article, a semiconductor, a resin for an optical semiconductor encapsulant, a resin for an optical semiconductor die bond material, a polyimide resin, etc. It is useful as an agent, a plasticizer, a lubricant oil raw material, a pharmaceutical and agrochemical intermediate, a coating resin raw material, and a toner resin. In particular, the polyvalent carboxylic acid composition or the curing agent composition has an ability to cure an epoxy resin. Since the cured product obtained from this is excellent in transparency, it is extremely useful as a curing agent for epoxy resin for sealing an optical semiconductor such as a high-brightness white LED or the like.

本発明の多価カルボン酸組成物または硬化剤組成物は、ビス(ジメチロール)ジアルキルエーテルと特定の酸無水物との反応により得られる多価カルボン酸樹脂(以下、本発明の多価カルボン酸樹脂と表記する。)を必須成分として含有する。   The polyvalent carboxylic acid composition or the curing agent composition of the present invention is obtained by reacting a bis (dimethylol) dialkyl ether with a specific acid anhydride (hereinafter referred to as the polyvalent carboxylic acid resin of the present invention). Is included as an essential component.

ビス(ジメチロール)ジアルキルエーテルとしては分子内にエーテル結合を有するテトラオール化合物であれば特に限定はされないが、具体的には下記式(2)   The bis (dimethylol) dialkyl ether is not particularly limited as long as it is a tetraol compound having an ether bond in the molecule, but specifically, the following formula (2)

Figure 2012002404
Figure 2012002404

(式中、複数存在するRはそれぞれ独立して存在し、水素原子、もしくは炭素数1〜15のアルキル基、カルボキシル基を表す)に挙げられるような構造が好ましく、特に本発明においては、置換基Rが、炭素数1〜15のアルキル基であることが好ましく、炭素数1〜6のアルキル基であることがより好ましい。 (Wherein a plurality of Rs are present independently and each represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, or a carboxyl group). The group R is preferably an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, and more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

このような構造の化合物としてはアルデヒド化合物とホルムアルデヒドの交差のアルドール−カニッツアロ反応を利用することで合成されるトリオール化合物の二量化により製造できる。
具体的に2,2´−ビス(ジメチロール)ジプロピルエーテル、2,2´−ビス(ジメチロール)ジエチルエーテル、2,2´−ビス(ジメチロール)ジブチルエーテル、2,2´−ビス(ジメチロール)ジペンチルエーテル、2,2´−ビス(ジメチロール)ジヘキシルエーテル、などが挙げられる。
A compound having such a structure can be produced by dimerization of a triol compound synthesized by utilizing an aldol-Kanitzaro reaction at the intersection of an aldehyde compound and formaldehyde.
Specifically, 2,2′-bis (dimethylol) dipropyl ether, 2,2′-bis (dimethylol) diethyl ether, 2,2′-bis (dimethylol) dibutyl ether, 2,2′-bis (dimethylol) dipentyl And ether, 2,2′-bis (dimethylol) dihexyl ether, and the like.

本発明の多価カルボン酸樹脂は、酸無水物とビス(ジメチロール)ジアルキルエーテルの付加反応により製造される。酸無水物としては、飽和炭化水素構造を有する酸無水物を使用する。具体的にはヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ビシクロ[2,2,1]ヘプタン−2,3−ジカルボン酸無水物、メチルビシクロ[2,2,1]ヘプタン−2,3−ジカルボン酸無水物、シクロヘキサン−1,3,4−トリカルボン酸−3,4−無水物などが挙げられ、これらを併用しても構わないが、ヘキサヒドロフタル酸を単独で用いるのは好ましくない。
本発明においては特にアルキル置換および/またはカルボキシル基を置換基に有するシクロヘキサン構造の酸無水物が好ましく、具体的には1,3,4−シクロヘキサントリカルボン酸−3,4−無水物、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸が挙げられる。ここで、へキサヒドロ無水フタル酸を併用しても構わない。さらに、1,3,4−シクロヘキサントリカルボン酸−3,4−無水物、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸を単独で又は併用して用いるのが特に好ましい。
The polyvalent carboxylic acid resin of the present invention is produced by an addition reaction between an acid anhydride and bis (dimethylol) dialkyl ether. As the acid anhydride, an acid anhydride having a saturated hydrocarbon structure is used. Specifically, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, bicyclo [2,2,1] heptane-2,3-dicarboxylic anhydride, methylbicyclo [2,2,1] heptane-2,3- Examples thereof include dicarboxylic acid anhydride and cyclohexane-1,3,4-tricarboxylic acid-3,4-anhydride. These may be used in combination, but it is not preferable to use hexahydrophthalic acid alone.
In the present invention, an acid anhydride having a cyclohexane structure having an alkyl substituent and / or a carboxyl group as a substituent is particularly preferred. Specifically, 1,3,4-cyclohexanetricarboxylic acid-3,4-anhydride, methylhexahydro Examples include phthalic anhydride. Here, hexahydrophthalic anhydride may be used in combination. Furthermore, it is particularly preferable to use 1,3,4-cyclohexanetricarboxylic acid-3,4-anhydride and methylhexahydrophthalic anhydride alone or in combination.

酸無水物とビス(ジメチロール)ジアルキルエーテルの反応としては一般に酸や塩基を触媒とする付加反応であるが、本発明においては特に無触媒での反応が好ましい。
触媒を用いる場合、使用しうる触媒としては、例えば塩酸、硫酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、硝酸、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸等の酸性化合物、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン等のアミン化合物、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、イミダゾール、トリアゾール、テトラゾール等の複素環式化合物、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルプロピルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルセチルアンモニウムヒドロキシド、トリオクチルメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラメチルアンモニウムブロミド、テトラメチルアンモニウムヨージド、テトラメチルアンモニウムアセテート、トリオクチルメチルアンモニウムアセテート等の4級アンモニウム塩等が挙げられる。これらの触媒は1種又は2種以上を混合して用いても良い。これらの中で、トリエチルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジンが好ましい。
The reaction between an acid anhydride and a bis (dimethylol) dialkyl ether is generally an addition reaction using an acid or a base as a catalyst, but in the present invention, a reaction without a catalyst is particularly preferable.
When a catalyst is used, examples of the catalyst that can be used include hydrochloric acid, sulfuric acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid, nitric acid, trifluoroacetic acid, trichloroacetic acid and other acidic compounds, sodium hydroxide, hydroxide Metal hydroxides such as potassium, calcium hydroxide and magnesium hydroxide, amine compounds such as triethylamine, tripropylamine and tributylamine, pyridine, dimethylaminopyridine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7 -Heterocyclic compounds such as ene, imidazole, triazole, tetrazole, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, trimethylethyl Ammonium hydroxide, trimethylpropylammonium hydroxide, trimethylbutylammonium hydroxide, trimethylcetylammonium hydroxide, trioctylmethylammonium hydroxide, tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, tetramethylammonium iodide, tetramethylammonium acetate, A quaternary ammonium salt such as trioctylmethylammonium acetate can be used. These catalysts may be used alone or in combination of two or more. Of these, triethylamine, pyridine, and dimethylaminopyridine are preferred.

触媒の使用量には、特に制限はないが、原料の総重量100重量部に対して、通常0.001〜5重量部必要により使用するのが好ましい。   The amount of the catalyst used is not particularly limited, but is preferably 0.001 to 5 parts by weight based on the total weight of the raw material of 100 parts by weight.

本反応においては無溶剤での反応が好ましいが、有機溶剤を使用しても構わない。有機溶剤の使用量としては、反応基質である酸無水物とビス(ジメチロール)ジアルキルエーテルの総量1に対し、重量比で0.005〜1であり、好ましくは0.005〜0.7、より好ましくは0.005〜0.5(すなわち50重量%以下)である。重量比で1を超える場合、反応の進行が極度に遅くなることから好ましくない。使用できる有機溶剤の具体的な例としてはヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等のアルカン類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素化合物、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、アノン等のケトン類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、蟻酸メチルなどのエステル化合物などが使用できる。
また本発明においては溶剤の代わりとして酸無水物や液状のカルボン酸樹脂(もしくは化合物)を用いることが可能である。
In this reaction, a reaction without a solvent is preferable, but an organic solvent may be used. The amount of the organic solvent used is 0.005 to 1, preferably 0.005 to 0.7, in a weight ratio with respect to the total amount of acid anhydride and bis (dimethylol) dialkyl ether as reaction substrates. Preferably it is 0.005-0.5 (namely, 50 weight% or less). When the weight ratio exceeds 1, the progress of the reaction is extremely slow, which is not preferable. Specific examples of organic solvents that can be used include alkanes such as hexane, cyclohexane and heptane, aromatic hydrocarbon compounds such as toluene and xylene, ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone and anone, diethyl ether , Ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, and ester compounds such as ethyl acetate, butyl acetate and methyl formate can be used.
In the present invention, an acid anhydride or a liquid carboxylic acid resin (or compound) can be used in place of the solvent.

ここで、本発明の多価カルボン酸組成物を得る方法について説明する。
前記の通り溶剤の代わりとして、液状の多価カルボン酸樹脂を使用することができ、液状カルボン酸樹脂としては、硬化性と粘度調整の観点から、2官能以上のカルボン酸樹脂であって、25℃で10000Pa・s以下の粘度を有する多価カルボン酸樹脂が好ましい。具体的には前述のような酸無水物とカルビノール変性シリコーン化合物との反応物が好ましい。カルビノール変性シリコーン化合物としては、例えば日本国特開2007−508424号公報等に記載の手法を用いて合成できる。市場から入手可能な化合物としてはDow Corning5562(東レ・ダウコーニング製)、X22−160−AS、KF−6001、KF−6002、KF−6003(いずれも信越化学製)、XF42−B0970(モメンティブ製)、サイラプレーンFM−4411、FM−4421、FM−4425などが挙げられる。
本発明においては特に重量平均分子量500−10000の化合物が好ましく、より好ましくは600−6000、特に好ましくは600−2000である。また最も好ましい範囲としては600−1500である。
具体的には下記式(3)
Here, a method for obtaining the polyvalent carboxylic acid composition of the present invention will be described.
As described above, a liquid polycarboxylic acid resin can be used instead of the solvent, and the liquid carboxylic acid resin is a bifunctional or higher functional carboxylic acid resin from the viewpoint of curability and viscosity adjustment, A polyvalent carboxylic acid resin having a viscosity of 10,000 Pa · s or less at ℃ is preferable. Specifically, a reaction product of an acid anhydride and a carbinol-modified silicone compound as described above is preferable. As the carbinol-modified silicone compound, for example, it can be synthesized using a technique described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-508424. The compounds available from the market are Dow Corning 5562 (manufactured by Dow Corning Toray), X22-160-AS, KF-6001, KF-6002, KF-6003 (all manufactured by Shin-Etsu Chemical), XF42-B0970 (manufactured by Momentive) Silaplane FM-4411, FM-4421, FM-4425, and the like.
In the present invention, a compound having a weight average molecular weight of 500-10000 is particularly preferred, more preferably 600-6000, and particularly preferably 600-2000. The most preferable range is 600-1500.
Specifically, the following formula (3)

Figure 2012002404
Figure 2012002404

で表される構造の化合物が好ましく、特に繰り返し単位のnは2〜130が好ましく、さらに好ましくは3.5〜8.0が、特に好ましくは3.5〜25である。また最も好ましい範囲としては3.5〜17.0である。 In particular, the repeating unit n is preferably 2 to 130, more preferably 3.5 to 8.0, and particularly preferably 3.5 to 25. The most preferable range is 3.5 to 17.0.

反応温度は40〜200℃が好ましく、特に好ましくは40〜150℃である。特に本反応を無溶剤で行う場合は、酸無水物の揮発があるため、100℃以下での反応が好ましく、40〜100℃での反応が特に好ましい。
反応温度が低すぎると反応までに時間がかかるという問題が生じ、反応温度が高すぎると目的以外の反応が進行し、着色の原因となる可能性がある。
またその反応方法としては、酸無水物中に加温しながら、あるいは一定温度に保ちながら徐々にもしくは分割でビス(ジメチロール)ジアルキルエーテルを添加して行く手法と、一括で仕込んだ後、温度を上げ、反応を行うこともできる。特に無溶剤で反応を行う際は、安全性の面から、上記の手法で行うことが好ましい。
こうして、後述する条件で反応を行い、本発明の多価カルボン酸組成物を得ることができるが、本発明の多価カルボン酸樹脂を得た後に液状の多価カルボン酸と混合させて本発明の多価カルボン酸組成物としても構わない。
酸無水物とビス(ジメチロール)ジアルキルエーテルの水酸基との反応比率は理論的には官能基当量を合わせた等モル、もしくはその付近での反応が好ましいが、必要に応じて変更可能である。たとえば、酸無水物を1とした場合、ビス(ジメチロール)ジアルキルエーテルの水酸基は0.9〜1.1、好ましくは0.9〜1.05当量である。
一方、ビス(ジメチロール)ジアルキルエーテルの水酸基を1とした場合、ビス(ジメチロール)ジアルキルエーテルの水酸基1モルに対してカルボン酸無水物基が1.0〜10.0モルとなるように反応時のモル比を調整することが望ましい。
本発明の多価カルボン酸組成物において、本発明の多価カルボン酸樹脂の占める割合は多価カルボン酸樹脂と前記他の2官能以上のカルボン酸化合物との合計重量に対し、1〜40重量%、好ましくは1〜20重量%である。
The reaction temperature is preferably 40 to 200 ° C, particularly preferably 40 to 150 ° C. In particular, when this reaction is carried out without a solvent, the reaction at 100 ° C. or lower is preferable, and the reaction at 40 to 100 ° C. is particularly preferable because of the volatilization of acid anhydride.
If the reaction temperature is too low, there is a problem that it takes time until the reaction, and if the reaction temperature is too high, a reaction other than the target proceeds, which may cause coloring.
In addition, as a reaction method, a method in which bis (dimethylol) dialkyl ether is added gradually or in a divided manner while heating in an acid anhydride or keeping a constant temperature, and after charging in a lump, the temperature is adjusted. Can also be reacted. In particular, when the reaction is carried out without a solvent, it is preferably carried out by the above method from the viewpoint of safety.
Thus, the reaction can be carried out under the conditions described below to obtain the polyvalent carboxylic acid composition of the present invention. After obtaining the polyvalent carboxylic acid resin of the present invention, it is mixed with a liquid polyvalent carboxylic acid. The polyvalent carboxylic acid composition may be used.
The reaction ratio between the acid anhydride and the hydroxyl group of the bis (dimethylol) dialkyl ether is theoretically preferably a reaction in the equimolar or combined vicinity of the functional group equivalents, but can be changed as necessary. For example, when the acid anhydride is 1, the hydroxyl group of bis (dimethylol) dialkyl ether is 0.9 to 1.1, preferably 0.9 to 1.05 equivalent.
On the other hand, when the hydroxyl group of bis (dimethylol) dialkyl ether is 1, the carboxylic acid anhydride group is 1.0-10.0 mol per 1 mol of hydroxyl group of bis (dimethylol) dialkyl ether. It is desirable to adjust the molar ratio.
In the polyvalent carboxylic acid composition of the present invention, the proportion of the polyvalent carboxylic acid resin of the present invention is 1 to 40 weights based on the total weight of the polyvalent carboxylic acid resin and the other bifunctional or higher carboxylic acid compound. %, Preferably 1 to 20% by weight.

ここで、本発明の硬化剤組成物を得る方法について説明すると、すなわち、本発明の硬化剤組成物において、使用する酸無水物と、ここで使用する酸無水物が同じである場合は、製造時に過剰の酸無水物中で反応を行い、酸無水物とビス(ジメチロール)ジアルキルエーテルの反応が終了した時点で酸無水物と本発明の多価カルボン酸の混合物(硬化剤組成物)とすることもできる。この場合、過剰の酸無水物が反応の溶剤代わりにもなるため、好ましい。
酸無水物との混合物で用いる硬化剤組成物を得る場合には具体的な反応比率としてはその官能基当量で比較し、酸無水物を1とした場合、そのモル比でビス(ジメチロール)ジアルキルエーテルの水酸基が0.001〜0.9、より好ましくは0.01〜0.8、さらに好ましくは0.01〜0.7、特に0.01〜0.4の範囲で使用することが好ましい。
Here, the method for obtaining the curing agent composition of the present invention will be described. That is, in the curing agent composition of the present invention, when the acid anhydride to be used is the same as the acid anhydride to be used here, it is produced. The reaction is sometimes carried out in an excess of acid anhydride, and when the reaction between the acid anhydride and bis (dimethylol) dialkyl ether is completed, a mixture (curing agent composition) of the acid anhydride and the polyvalent carboxylic acid of the present invention is obtained. You can also In this case, excess acid anhydride is preferable because it can also serve as a solvent for the reaction.
When obtaining a curing agent composition used in a mixture with an acid anhydride, the specific reaction ratio is compared with the functional group equivalent, and when the acid anhydride is 1, the molar ratio is bis (dimethylol) dialkyl. It is preferable to use an ether having a hydroxyl group of 0.001 to 0.9, more preferably 0.01 to 0.8, still more preferably 0.01 to 0.7, and particularly preferably 0.01 to 0.4. .

ここで、後述する条件で本発明の多価カルボン酸樹脂を得た後に、酸無水物と混合させて本発明の硬化剤組成物を作成する方法でも構わない。
すなわち、本発明の多価カルボン酸樹脂をエポキシ樹脂用の硬化剤として使用、特に液状組成物として使用する場合、酸無水物と混合し本発明の硬化剤組成物とすることができる。
使用できる酸無水物としては、その構造に芳香環を有しない、飽和環構造を有する酸無水物を使用する。具体的にはヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ブタンテトラカルボン酸無水物、ビシクロ[2,2,1]ヘプタン−2,3−ジカルボン酸無水物、メチルビシクロ[2,2,1]ヘプタン−2,3−ジカルボン酸無水物、シクロヘキサン−1,3,4−トリカルボン酸−3,4−無水物などが挙げられる。
本発明の硬化剤組成物において、本発明の多価カルボン酸樹脂の占める割合は前記酸無水物と多価カルボン酸樹脂の合計重量に対し、5〜80重量%、好ましくは5〜65重量%である。
Here, after obtaining the polyhydric carboxylic acid resin of this invention on the conditions mentioned later, the method of making it mix with an acid anhydride and creating the hardening | curing agent composition of this invention may be sufficient.
That is, when the polyvalent carboxylic acid resin of the present invention is used as a curing agent for an epoxy resin, particularly as a liquid composition, it can be mixed with an acid anhydride to form the curing agent composition of the present invention.
As an acid anhydride that can be used, an acid anhydride having a saturated ring structure and having no aromatic ring in its structure is used. Specifically, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, butanetetracarboxylic anhydride, bicyclo [2,2,1] heptane-2,3-dicarboxylic anhydride, methylbicyclo [2,2,1 And heptane-2,3-dicarboxylic acid anhydride, cyclohexane-1,3,4-tricarboxylic acid-3,4-anhydride, and the like.
In the curing agent composition of the present invention, the proportion of the polyvalent carboxylic acid resin of the present invention is 5 to 80% by weight, preferably 5 to 65% by weight, based on the total weight of the acid anhydride and the polyvalent carboxylic acid resin. It is.

反応時間は反応温度、触媒量等にもよるが、工業生産という観点から、長時間の反応は多大なエネルギーを消費することになるため好ましくはない。また短すぎる反応時間はその反応が急激であることを意味し、安全性の面から好ましく無い。好ましい範囲としては1〜48時間、好ましくは1〜36時間、さらに好ましくは1〜24時間である。   Although the reaction time depends on the reaction temperature, the amount of catalyst, etc., from the viewpoint of industrial production, a long reaction time is not preferable because it consumes a large amount of energy. An excessively short reaction time means that the reaction is abrupt and is not preferable from the viewpoint of safety. A preferred range is 1 to 48 hours, preferably 1 to 36 hours, and more preferably 1 to 24 hours.

反応終了後、触媒を用いた場合は、それぞれ中和、水洗、吸着などによって触媒の除去を行い、溶剤を留去することで目的とする多価カルボン酸樹脂が得られる。また無触媒での反応においては必要に応じて溶剤を留去、さらに無溶剤、無触媒の場合は特に特別な精製無しにそのまま取り出すことで製品とすることができる。   When the catalyst is used after completion of the reaction, the catalyst is removed by neutralization, washing with water, adsorption, etc., and the solvent is distilled off to obtain the desired polyvalent carboxylic acid resin. In the case of a reaction without a catalyst, the solvent can be distilled off if necessary, and in the case of a solventless or catalyst-free reaction, the product can be taken out without any special purification.

最も好適な製造方法としては、酸無水物、ジオールを無触媒、無溶剤の条件下、40〜100℃で反応させ、反応終了後、そのまま取り出すという手法である。   The most preferable production method is a method in which an acid anhydride and a diol are reacted at 40 to 100 ° C. in a catalyst-free and solvent-free condition, and taken out as it is after the reaction is completed.

このようにして得られる本発明の多価カルボン酸樹脂は通常、無色〜淡黄色の固形の樹脂状を示す(場合によっては結晶化する)。また、過剰の酸無水物中で反応させた場合、その形状は液状を示す場合が多い。
また、前記式(1)において、光学特性の観点から、複数存在するQの少なくとも一つがメチル基またはカルボキシル基からなる多価カルボン酸樹脂が好ましい。更に好ましくは、複数存在するQがそれぞれ独立して水素原子、メチル基、カルボキシル基のいずれかから選ばれる(ただし、Qが全て水素原子である化合物のみからなる場合を除く)多価カルボン酸樹脂であり、特に好ましくは、メチル基および/またはカルボキシル基のみからなる多価カルボン酸樹脂である。
特に本発明においては、多価カルボン酸樹脂は液状で使用されることが好ましく、多価カルボン酸樹脂と酸無水物との混合物として構成される硬化剤組成物、もしくは多価カルボン酸樹脂と液状カルボン酸との混合物として構成される多価カルボン酸組成物の形態で用いられることが好ましい。固形で本発明の多価カルボン酸樹脂を得た場合は、150℃以下の温度で酸無水物または液状カルボン酸と混合し、相溶させて使用することが好ましい。
本発明の硬化剤組成物または多価カルボン酸組成物を硬化剤として硬化性樹脂組成物に含有させる場合、硬化性樹脂組成物における本発明の多価カルボン酸樹脂の含有量は、樹脂成分1に対して重量比で通常0.02〜0.5であり、好ましくは0.02〜0.4である。重量比で0.02未満だと、金型からの脱型が悪くなり、重量比で0.5を超えると室温にて流動性が低くなりすぎて取扱い上困難になるためである。
The polyvalent carboxylic acid resin of the present invention thus obtained usually shows a colorless to pale yellow solid resinous form (which crystallizes in some cases). In addition, when reacted in an excess of acid anhydride, the shape often shows a liquid state.
In the formula (1), from the viewpoint of optical properties, a polyvalent carboxylic acid resin in which at least one of a plurality of Qs is a methyl group or a carboxyl group is preferable. More preferably, a plurality of Qs are each independently selected from any one of a hydrogen atom, a methyl group, and a carboxyl group (except that the compound is composed only of a compound in which all Qs are hydrogen atoms). Particularly preferred is a polyvalent carboxylic acid resin consisting only of a methyl group and / or a carboxyl group.
In particular, in the present invention, the polyvalent carboxylic acid resin is preferably used in a liquid state, and a curing agent composition configured as a mixture of the polyvalent carboxylic acid resin and the acid anhydride, or the polyvalent carboxylic acid resin and the liquid form. It is preferably used in the form of a polyvalent carboxylic acid composition configured as a mixture with a carboxylic acid. When the polyvalent carboxylic acid resin of the present invention is obtained in a solid form, it is preferably used by mixing with an acid anhydride or liquid carboxylic acid at a temperature of 150 ° C. or lower and making them compatible.
When the curing agent composition or the polyvalent carboxylic acid composition of the present invention is contained in the curable resin composition as a curing agent, the content of the polyvalent carboxylic acid resin of the present invention in the curable resin composition is the resin component 1. The weight ratio is usually 0.02 to 0.5, preferably 0.02 to 0.4. If the weight ratio is less than 0.02, demolding from the mold becomes worse, and if the weight ratio exceeds 0.5, the fluidity becomes too low at room temperature, making it difficult to handle.

本発明の多価カルボン酸組成物および硬化剤組成物は透明性に優れ、エポキシ樹脂の硬化剤、塗料、接着剤、成形品、半導体、光半導体の封止材用樹脂、光半導体のダイボンド材用樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂などの原料や改質剤、可塑剤や潤滑油原料、医農薬中間体、塗料用樹脂の原料、トナー用樹脂として有用である。特にエポキシ樹脂の硬化剤として用いた場合には、硬化能に優れまた得られる硬化物の透明度が優れるので、高輝度の白色LED他の光半導体封止に用いられるエポキシ樹脂用硬化剤として極めて有用である。   The polycarboxylic acid composition and the curing agent composition of the present invention are excellent in transparency, epoxy resin curing agent, paint, adhesive, molded article, semiconductor, optical semiconductor encapsulant resin, optical semiconductor die bond material It is useful as a raw material for resin, polyamide resin, polyimide resin, etc., modifier, plasticizer and lubricating oil raw material, medical and agrochemical intermediate, raw material for paint resin, and toner resin. Especially when used as a curing agent for epoxy resins, it has excellent curability and the transparency of the resulting cured product is excellent, so it is extremely useful as a curing agent for epoxy resins used for encapsulating high-intensity white LEDs and other optical semiconductors. It is.

以下、本発明の多価カルボン酸組成物又は硬化剤組成物を含む本発明の硬化性樹脂組成物について記載する。
本硬化剤組成物中には、以下に記載する硬化触媒、添加剤あるいは無機充填材等を含有しても構わない。
Hereinafter, the curable resin composition of the present invention including the polyvalent carboxylic acid composition or the curing agent composition of the present invention will be described.
In this hardening | curing agent composition, you may contain the curing catalyst, additive, inorganic filler, etc. which are described below.

以下、本発明の多価カルボン酸組成物または硬化剤組成物を含む本発明の硬化性樹脂組成物について記載する。
本発明の硬化性樹脂組成物はエポキシ樹脂を含有させることができる。
Hereinafter, the curable resin composition of the present invention including the polycarboxylic acid composition or the curing agent composition of the present invention will be described.
The curable resin composition of the present invention can contain an epoxy resin.

本発明の硬化性樹脂組成物において使用できるエポキシ樹脂としては、ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂などが挙げられる。具体的には、ビスフェノールA、ビスフェノールS、チオジフェノール、フルオレンビスフェノール、テルペンジフェノール、4,4’−ビフェノール、2,2’−ビフェノール、3,3’,5,5’−テトラメチル−[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジオール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、フェノール類(フェノール、アルキル置換フェノール、ナフトール、アルキル置換ナフトール、ジヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシナフタレン等)とホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、p−ヒドロキシベンズアルデヒド、o−ヒドロキシベンズアルデヒド、p−ヒドロキシアセトフェノン、o−ヒドロキシアセトフェノン、ジシクロペンタジエン、フルフラール、4,4’−ビス(クロルメチル)−1,1’−ビフェニル、4,4’−ビス(メトキシメチル)−1,1’−ビフェニル、1,4−ビス(クロロメチル)ベンゼン、1,4−ビス(メトキシメチル)ベンゼン等との重縮合物及びこれらの変性物、テトラブロモビスフェノールA等のハロゲン化ビスフェノール類、アルコール類から誘導されるグリシジルエーテル化物、脂環式エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂、シルセスキオキサン系のエポキシ樹脂(鎖状、環状、ラダー状、あるいはそれら少なくとも2種以上の混合構造のシロキサン構造にグリシジル基、および/またはエポキシシクロヘキサン構造を有するエポキシ樹脂)等の固形または液状エポキシ樹脂が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Examples of the epoxy resin that can be used in the curable resin composition of the present invention include novolac type epoxy resins, bisphenol A type epoxy resins, biphenyl type epoxy resins, triphenylmethane type epoxy resins, and phenol aralkyl type epoxy resins. Specifically, bisphenol A, bisphenol S, thiodiphenol, fluorene bisphenol, terpene diphenol, 4,4′-biphenol, 2,2′-biphenol, 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl- [ 1,1′-biphenyl] -4,4′-diol, hydroquinone, resorcin, naphthalenediol, tris- (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenol (Phenol, alkyl-substituted phenol, naphthol, alkyl-substituted naphthol, dihydroxybenzene, dihydroxynaphthalene, etc.) and formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, p-hydroxybenzaldehyde, o-hydroxybenzaldehyde, p-hydroxyacetaldehyde Non, o-hydroxyacetophenone, dicyclopentadiene, furfural, 4,4′-bis (chloromethyl) -1,1′-biphenyl, 4,4′-bis (methoxymethyl) -1,1′-biphenyl, 1, Glycidyl ethers derived from polycondensates with 4-bis (chloromethyl) benzene, 1,4-bis (methoxymethyl) benzene and the like, modified products thereof, halogenated bisphenols such as tetrabromobisphenol A, and alcohols , Cycloaliphatic epoxy resin, glycidylamine epoxy resin, glycidyl ester epoxy resin, silsesquioxane epoxy resin (chain structure, cyclic structure, ladder structure, or a mixed structure of at least two of these) It has a glycidyl group and / or an epoxycyclohexane structure Epoxy resins) include solid or liquid epoxy resins such as, but not limited thereto.

特に本発明の硬化性樹脂組成物を光学用途に用いる場合、脂環式エポキシ樹脂やエポキシ基含有シリコーン樹脂、好ましくはシルセスキオキサン構造のエポキシ樹脂との併用が好ましい。特に脂環式エポキシ樹脂の場合、骨格にエポキシシクロヘキサン構造を有する化合物が好ましく、シクロヘキセン構造を有する化合物の酸化反応により得られるエポキシ樹脂が特に好ましい。
これら脂環式エポキシ樹脂としては、シクロヘキセンカルボン酸とアルコール類とのエステル化反応あるいはシクロヘキセンメタノールとカルボン酸類とのエステル化反応(Tetrahedron vol.36 p.2409 (1980)、Tetrahedron Letter p.4475 (1980)等に記載の手法)、あるいはシクロヘキセンアルデヒドのティシェンコ反応(日本国特開2003−170059号公報、日本国特開2004−262871号公報等に記載の手法)、さらにはシクロヘキセンカルボン酸エステルのエステル交換反応(日本国特開2006−052187号公報等に記載の手法)によって製造できる化合物を酸化した物などが挙げられる。
アルコール類としては、アルコール性水酸基を有する化合物であれば特に限定されないがエチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノールなどのジオール類、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリメチロールブタン、2−ヒドロキシメチル−1,4−ブタンジオールなどのトリオール類、ペンタエリスリトールなどのテトラオール類などが挙げられる。またカルボン酸類としてはシュウ酸、マレイン酸、フマル酸、フタル酸、イソフタル酸、アジピン酸、シクロヘキサンジカルボン酸などが挙げられるがこれに限らない。
In particular, when the curable resin composition of the present invention is used for optical applications, it is preferably used in combination with an alicyclic epoxy resin or an epoxy group-containing silicone resin, preferably an epoxy resin having a silsesquioxane structure. Particularly in the case of an alicyclic epoxy resin, a compound having an epoxycyclohexane structure in the skeleton is preferable, and an epoxy resin obtained by an oxidation reaction of a compound having a cyclohexene structure is particularly preferable.
These alicyclic epoxy resins include esterification reaction of cyclohexene carboxylic acid with alcohols or esterification reaction of cyclohexene methanol with carboxylic acids (Tetrahedron vol.36 p.2409 (1980), Tetrahedron Letter p.4475 (1980) ), Or Tyschenko reaction of cyclohexene aldehyde (method described in Japanese Patent Laid-Open No. 2003-170059, Japanese Patent Laid-Open No. 2004-262871, etc.), and further transesterification of cyclohexene carboxylic acid ester The thing etc. which oxidized the compound which can be manufactured by reaction (The method as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-052187 etc.) are mentioned.
The alcohol is not particularly limited as long as it is a compound having an alcoholic hydroxyl group, but ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,2-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentane. Diols, diols such as 1,6-hexanediol and cyclohexanedimethanol, triols such as glycerin, trimethylolethane, trimethylolpropane, trimethylolbutane, 2-hydroxymethyl-1,4-butanediol, pentaerythritol, etc. And tetraols. Examples of carboxylic acids include, but are not limited to, oxalic acid, maleic acid, fumaric acid, phthalic acid, isophthalic acid, adipic acid, and cyclohexanedicarboxylic acid.

さらには、シクロヘキセンアルデヒド誘導体と、アルコール体とのアセタール反応によるアセタール化合物が挙げられる。反応手法としては一般のアセタール化反応を応用すれば製造でき、例えば、反応媒体にトルエン、キシレンなどの溶媒を用いて共沸脱水しながら反応を行う方法(米国特許第2945008号公報)、濃塩酸に多価アルコールを溶解した後アルデヒド類を徐々に添加しながら反応を行う方法(日本国特開昭48−96590号公報)、反応媒体に水を用いる方法(米国特許第3092640号公報)、反応媒体に有機溶媒を用いる方法(日本国特開平7−215979号公報)、固体酸触媒を用いる方法(日本国特開2007−230992号公報)等が開示されている。構造の安定性から環状アセタール構造が好ましい。   Furthermore, the acetal compound by the acetal reaction of a cyclohexene aldehyde derivative and an alcohol form is mentioned. As a reaction method, it can be produced by applying a general acetalization reaction. For example, a method of carrying out a reaction while azeotropically dehydrating using a solvent such as toluene or xylene as a reaction medium (US Pat. No. 2,945,008), concentrated hydrochloric acid A method in which polyhydric alcohol is dissolved in the reaction mixture and the reaction is carried out while gradually adding aldehydes (Japanese Patent Laid-Open No. 48-96590), a method using water as a reaction medium (US Pat. No. 3,092,640), reaction A method using an organic solvent as a medium (Japanese Patent Laid-Open No. 7-215979), a method using a solid acid catalyst (Japanese Patent Laid-Open No. 2007-230992), and the like are disclosed. A cyclic acetal structure is preferable from the viewpoint of structural stability.

また、ビニルシクロヘキセンやリモネン、ジシクロペンタジエン、トリシクロペンタジエン、メチルジシクロペンタジエン、ビシクロヘキセン、オクタジエン等の脂環式多価オレフィンを酸化した物などが挙げられる。   Moreover, the thing etc. which oxidized cycloaliphatic polyolefin such as vinylcyclohexene, limonene, dicyclopentadiene, tricyclopentadiene, methyldicyclopentadiene, bicyclohexene, octadiene, etc. are mentioned.

これらエポキシ樹脂の具体例としては、ERL−4221、ERL−4299(全て商品名、いずれもダウ・ケミカル製)、エポリードGT401、EHPE3150、EHPE3150CE(全て商品名、いずれもダイセル化学工業製)及びジシクロペンタジエンジエポキシドなどが挙げられるがこれらに限定されるものではない(参考文献:総説エポキシ樹脂 基礎編I p76−85)。
これらは単独で用いてもよく、2種以上併用してもよい。
Specific examples of these epoxy resins include ERL-4221, ERL-4299 (all trade names, all manufactured by Dow Chemical), Eporide GT401, EHPE3150, EHPE3150CE (all trade names, all manufactured by Daicel Chemical Industries) and dicyclo Examples include, but are not limited to, pentadiene diepoxide (reference: review epoxy resin basic edition I p76-85).
These may be used alone or in combination of two or more.

シルセスキオキサン構造のエポキシ樹脂としてはエポキシシクロヘキサン構造を有するオルガノポリシロキサンであれば特に指定はないが、本発明においては特にエポキシシクロヘキシル基を有するアルコキシシランを原料に用いるゾル−ゲル反応により得られる化合物が挙げられる。
具体的には日本国特開2004−256609号公報、日本国特開2004−346144号公報、国際公開第2004/072150号、日本国特開2006−8747号公報、国際公開第2006/003990号、日本国特開2006−104248号公報、国際公開第2007/135909号、日本国特開2004−10849号公報、日本国特開2004−359933号公報、国際公開第2005/100445号、日本国特開2008−174640号公報などに記載の三次元に広がる網の目状の構造を有したシルセスキオキサンタイプのオルガノポリシロキサンが挙げられる。
シルセスキオキサン構造については特に限定されないが、単純な三次元網目構造のシロキサン化合物では硬すぎるため、硬さを緩和する構造が望まれる。
本発明においては特にシリコーンセグメントとゾル−ゲル反応により得られる前述のシルセスキオキサン構造とを1分子中に有するブロック構造体が好ましい。このような化合物の製造法としては国際公開第2010/026714号に記載されているような製造方法および構造が挙げられる。
The epoxy resin having a silsesquioxane structure is not particularly specified as long as it is an organopolysiloxane having an epoxycyclohexane structure, but in the present invention, it is obtained by a sol-gel reaction using an alkoxysilane having an epoxycyclohexyl group as a raw material. Compounds.
Specifically, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-256609, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-346144, International Publication No. 2004/072150, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-8747, International Publication No. 2006/003990, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-104248, International Publication No. 2007/135909, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-10849, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-359933, International Publication No. 2005/100445, Japanese Unexamined Patent Publication. Examples thereof include silsesquioxane type organopolysiloxane having a three-dimensional network structure described in JP-A-2008-174640.
The silsesquioxane structure is not particularly limited. However, since a siloxane compound having a simple three-dimensional network structure is too hard, a structure that relaxes the hardness is desired.
In the present invention, a block structure having a silicone segment and the aforementioned silsesquioxane structure obtained by a sol-gel reaction in one molecule is particularly preferable. Examples of a method for producing such a compound include a production method and a structure as described in WO2010 / 026714.

本発明の硬化性樹脂組成物において、本発明の多価カルボン酸組成物もしくは硬化剤組成物は他の硬化剤と併用しても構わない。併用する場合、本発明の多価カルボン酸樹脂の全硬化剤中に占める割合は20重量%以上が好ましく、特に30重量%以上が好ましい。本発明の多価カルボン酸樹脂に併用しうる硬化剤としては、例えばアミン系化合物、不飽和環構造を有する酸無水物系化合物、アミド系化合物、フェノール系化合物、カルボン酸系化合物などが挙げられる。用いうる硬化剤の具体例としては、ジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン、ジシアンジアミド、リノレン酸の2量体とエチレンジアミンより合成されるポリアミド樹脂、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、無水ナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ブタンテトラカルボン酸無水物、ビシクロ[2,2,1]ヘプタン−2,3−ジカルボン酸無水物、メチルビシクロ[2,2,1]ヘプタン−2,3−ジカルボン酸無水物、シクロヘキサン−1,3,4−トリカルボン酸−3,4−無水物、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、テルペンジフェノール、4,4’−ビフェノール、2,2’−ビフェノール、3,3’,5,5’−テトラメチル−[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジオール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、フェノール類(フェノール、アルキル置換フェノール、ナフトール、アルキル置換ナフトール、ジヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシナフタレン等)とホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、p−ヒドロキシベンズアルデヒド、o−ヒドロキシベンズアルデヒド、p−ヒドロキシアセトフェノン、o−ヒドロキシアセトフェノン、ジシクロペンタジエン、フルフラール、4,4’−ビス(クロロメチル)−1,1’−ビフェニル、4,4’−ビス(メトキシメチル)−1,1’−ビフェニル、1,4’−ビス(クロロメチル)ベンゼン、1,4’−ビス(メトキシメチル)ベンゼン等との重縮合物及びこれらの変性物、テトラブロモビスフェノールA等のハロゲン化ビスフェノール類、イミダゾール、トリフルオロボラン−アミン錯体、グアニジン誘導体、テルペンとフェノール類の縮合物などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらは単独で用いてもよく、2種以上を用いてもよい。   In the curable resin composition of the present invention, the polyvalent carboxylic acid composition or the curing agent composition of the present invention may be used in combination with other curing agents. When used in combination, the proportion of the polyvalent carboxylic acid resin of the present invention in the total curing agent is preferably 20% by weight or more, particularly preferably 30% by weight or more. Examples of the curing agent that can be used in combination with the polyvalent carboxylic acid resin of the present invention include amine compounds, acid anhydride compounds having an unsaturated ring structure, amide compounds, phenol compounds, and carboxylic acid compounds. . Specific examples of the curing agent that can be used include diaminodiphenylmethane, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenylsulfone, isophoronediamine, dicyandiamide, polyamide resin synthesized from linolenic acid and ethylenediamine, phthalic anhydride, trimellitic anhydride Acid, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methyl nadic anhydride, nadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, butanetetracarboxylic anhydride, Bicyclo [2,2,1] heptane-2,3-dicarboxylic acid anhydride, methylbicyclo [2,2,1] heptane-2,3-dicarboxylic acid anhydride, cyclohexane-1,3,4-tricarboxylic acid- 3, 4 Anhydride, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, terpene diphenol, 4,4'-biphenol, 2,2'-biphenol, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl- [1,1 '-Biphenyl] -4,4'-diol, hydroquinone, resorcin, naphthalenediol, tris- (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenols (phenol Alkyl substituted phenol, naphthol, alkyl substituted naphthol, dihydroxybenzene, dihydroxynaphthalene, etc.) and formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, p-hydroxybenzaldehyde, o-hydroxybenzaldehyde, p-hydroxyacetofu Non, o-hydroxyacetophenone, dicyclopentadiene, furfural, 4,4'-bis (chloromethyl) -1,1'-biphenyl, 4,4'-bis (methoxymethyl) -1,1'-biphenyl, , 4'-bis (chloromethyl) benzene, polycondensates with 1,4'-bis (methoxymethyl) benzene, and their modified products, halogenated bisphenols such as tetrabromobisphenol A, imidazole, trifluoroborane -Examples include, but are not limited to, amine complexes, guanidine derivatives, and condensates of terpenes and phenols. These may be used alone or in combination of two or more.

本発明の硬化性樹脂組成物において硬化剤とエポキシ樹脂の比率は、全エポキシ樹脂のエポキシ基1当量に対して0.5〜1.5当量(カルボン酸を1官能、酸無水物を1官能と考える)が好ましく、特に好ましくは0.5〜1.2当量である。エポキシ基1当量に対して、0.5当量に満たない場合、あるいは1.5当量を超える場合、いずれも硬化が不完全となり良好な硬化物性が得られない恐れがある。   In the curable resin composition of the present invention, the ratio of the curing agent to the epoxy resin is 0.5 to 1.5 equivalents based on 1 equivalent of the epoxy groups of all epoxy resins (one function of carboxylic acid and one function of acid anhydride). Is preferably 0.5 to 1.2 equivalents. When less than 0.5 equivalent or more than 1.5 equivalent with respect to 1 equivalent of epoxy group, curing may be incomplete and good cured properties may not be obtained.

本発明の硬化性樹脂組成物においては、硬化剤とともに硬化促進剤を併用しても差し支えない。用い得る硬化促進剤の具体例としては、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、2,4−ジアミノ−6(2'−メチルイミダゾール(1'))エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6(2'−ウンデシルイミダゾール(1'))エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6(2'−エチル,4−メチルイミダゾール(1'))エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6(2'−メチルイミダゾール(1'))エチル−s−トリアジン・イソシアヌル酸付加物、2-メチルイミダゾールイソシアヌル酸の2:3付加物、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−3,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−ヒドロキシメチル−5−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニル−3,5−ジシアノエトキシメチルイミダゾールの各種イミダゾール類、及び、それらイミダゾール類とフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ナフタレンジカルボン酸、マレイン酸、蓚酸等の多価カルボン酸との塩類、ジシアンジアミド等のアミド類、1,8−ジアザ−ビシクロ(5.4.0)ウンデセン−7等のジアザ化合物及びそれらのテトラフェニルボレート、フェノールノボラック等の塩類、前記多価カルボン酸類、又はホスフィン酸類との塩類、テトラブチルアンモニウムブロマイド、セチルトリメチルアンモニウムブロマイド、トリオクチルメチルアンモニウムブロマイド等のアンモニウム塩、トリフェニルホスフィン、トリ(トルイル)ホスフィン、テトラフェニルホスホニウムブロマイド、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート等のホスフィン類やホスホニウム化合物、2,4,6−トリスアミノメチルフェノール等のフェノール類、アミンアダクト、オクチル酸スズ等の金属化合物等、及びこれら硬化促進剤をマイクロカプセルにしたマイクロカプセル型硬化促進剤等が挙げられる。これら硬化促進剤のどれを用いるかは、例えば透明性、硬化速度、作業条件といった得られる透明樹脂組成物に要求される特性によって適宜選択される。硬化促進剤は、エポキシ樹脂100重量部に対し通常0.001〜15重量部の範囲で使用される。   In the curable resin composition of the present invention, a curing accelerator may be used in combination with the curing agent. Specific examples of the curing accelerator that can be used include 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, and 1-benzyl-2-phenylimidazole. 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 2,4-diamino-6 (2′-methyl Imidazole (1 ′)) ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 (2′-undecylimidazole (1 ′)) ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 (2′-ethyl, 4-methylimidazole (1 ')) ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 (2'- Methylimidazole (1 ′)) ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct, 2-methylimidazole isocyanuric acid 2: 3 adduct, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-3,5-dihydroxymethyl Various imidazoles such as imidazole, 2-phenyl-4-hydroxymethyl-5-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenyl-3,5-dicyanoethoxymethylimidazole, and imidazoles and phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid Acids, trimellitic acid, pyromellitic acid, naphthalenedicarboxylic acid, maleic acid, salts with polyvalent carboxylic acids such as succinic acid, amides such as dicyandiamide, 1,8-diaza-bicyclo (5.4.0) undecene Diaza compounds such as 7 and their tetrafes Salts such as ruborates and phenol novolacs, salts with the above polycarboxylic acids or phosphinic acids, ammonium salts such as tetrabutylammonium bromide, cetyltrimethylammonium bromide, trioctylmethylammonium bromide, triphenylphosphine, tri (tolyl) phosphine Phosphines and phosphonium compounds such as tetraphenylphosphonium bromide and tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, phenols such as 2,4,6-trisaminomethylphenol, metal compounds such as amine adducts and tin octylate, and curing thereof Examples thereof include a microcapsule-type curing accelerator having a microcapsule as an accelerator. Which of these curing accelerators is used is appropriately selected depending on characteristics required for the obtained transparent resin composition, such as transparency, curing speed, and working conditions. A hardening accelerator is normally used in 0.001-15 weight part with respect to 100 weight part of epoxy resins.

本発明の硬化性樹脂組成物には、リン含有化合物を難燃性付与成分として含有させることもできる。リン含有化合物としては反応型のものでも添加型のものでもよい。リン含有化合物の具体例としては、トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシリレニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、クレジル−2,6−ジキシリレニルホスフェート、1,3−フェニレンビス(ジキシリレニルホスフェート)、1,4−フェニレンビス(ジキシリレニルホスフェート)、4,4'−ビフェニル(ジキシリレニルホスフェート)等のリン酸エステル類;9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド、10(2,5−ジヒドロキシフェニル)−10H−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド等のホスファン類;エポキシ樹脂と前記ホスファン類の活性水素とを反応させて得られるリン含有エポキシ化合物、赤リン等が挙げられるが、リン酸エステル類、ホスファン類またはリン含有エポキシ化合物が好ましく、1,3−フェニレンビス(ジキシリレニルホスフェート)、1,4−フェニレンビス(ジキシリレニルホスフェート)、4,4'−ビフェニル(ジキシリレニルホスフェート)またはリン含有エポキシ化合物が特に好ましい。リン含有化合物の含有量はリン含有化合物/全エポキシ樹脂=0.1〜0.6(重量比)が好ましい。0.1未満では難燃性が不十分であり、0.6を超えると硬化物の吸湿性、誘電特性に悪影響を及ぼす懸念がある。   The curable resin composition of the present invention may contain a phosphorus-containing compound as a flame retardant component. The phosphorus-containing compound may be a reactive type or an additive type. Specific examples of phosphorus-containing compounds include trimethyl phosphate, triethyl phosphate, tricresyl phosphate, trixylylenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, cresyl-2,6-dixylylenyl phosphate, 1,3-phenylenebis ( Phosphoric acid esters such as dixylylenyl phosphate), 1,4-phenylenebis (dixylylenyl phosphate), 4,4′-biphenyl (dixylylenyl phosphate); 9,10-dihydro-9-oxa Phosphanes such as -10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10 (2,5-dihydroxyphenyl) -10H-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide; epoxy resin and active hydrogen of the phosphanes A phosphorus-containing product obtained by reacting with Poxy compounds, red phosphorus and the like can be mentioned, and phosphoric esters, phosphanes or phosphorus-containing epoxy compounds are preferable, and 1,3-phenylenebis (dixylylenyl phosphate), 1,4-phenylenebis (dixylylene). Nyl phosphate), 4,4′-biphenyl (dixylylenyl phosphate) or phosphorus-containing epoxy compounds are particularly preferred. The phosphorus-containing compound content is preferably phosphorus-containing compound / total epoxy resin = 0.1 to 0.6 (weight ratio). If it is less than 0.1, the flame retardancy is insufficient, and if it exceeds 0.6, there is a concern that it may adversely affect the hygroscopicity and dielectric properties of the cured product.

さらに本発明の硬化性樹脂組成物には、必要に応じて酸化防止剤を添加しても構わない。使用できる酸化防止剤としては、フェノール系、イオウ系、リン系酸化防止剤が挙げられる。酸化防止剤は単独で又は2種以上を組み合わせて使用できる。酸化防止剤の使用量は、本発明の硬化性樹脂組成物中の樹脂成分に対して100重量部に対して、通常0.008〜1重量部、好ましくは0.01〜0.5重量部である。   Furthermore, you may add antioxidant to the curable resin composition of this invention as needed. Antioxidants that can be used include phenol-based, sulfur-based, and phosphorus-based antioxidants. Antioxidants can be used alone or in combination of two or more. The usage-amount of antioxidant is 0.008-1 weight part normally with respect to 100 weight part with respect to the resin component in the curable resin composition of this invention, Preferably it is 0.01-0.5 weight part. It is.

酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、リン系酸化防止剤などが挙げられる。フェノール系酸化防止剤の具体例として、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、2,6−ジ−t−ブチル−p−エチルフェノール、ステアリル−β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、イソオクチル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス[(オクチルチオ)メチル]−o−クレゾール、等のモノフェノール類;2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、トリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,6−ヘキサンジオール−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、N,N’−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド)、2,2−チオ−ジエチレンビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、3,9−ビス[1,1−ジメチル−2−{β−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ}エチル]2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン、ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルスルホン酸エチル)カルシウム等のビスフェノール類;1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、テトラキス−[メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、ビス[3,3’−ビス−(4’−ヒドロキシ−3’−t−ブチルフェニル)ブチリックアシッド]グリコールエステル、トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレイト、1,3,5−トリス(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシベンジル)−S−トリアジン−2,4,6−(1H,3H,5H)トリオン、トコフェノール等の高分子型フェノール類が例示される。   Examples of the antioxidant include a phenol-based antioxidant, a sulfur-based antioxidant, and a phosphorus-based antioxidant. Specific examples of phenolic antioxidants include 2,6-di-t-butyl-p-cresol, butylated hydroxyanisole, 2,6-di-t-butyl-p-ethylphenol, stearyl-β- (3 , 5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, isooctyl-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 2,4-bis- (n-octylthio)- Monophenols such as 6- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylanilino) -1,3,5-triazine, 2,4-bis [(octylthio) methyl] -o-cresol; 2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2′-methylenebis (4-ethyl-6-tert-butylphenol), 4,4′-thiobis (3- Til-6-tert-butylphenol), 4,4′-butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenol), triethylene glycol-bis [3- (3-tert-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) ) Propionate], 1,6-hexanediol-bis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], N, N′-hexamethylenebis (3,5-di-t) -Butyl-4-hydroxy-hydrocinnamamide), 2,2-thio-diethylenebis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 3,5-di-t -Butyl-4-hydroxybenzylphosphonate-diethyl ester, 3,9-bis [1,1-dimethyl-2- {β- (3-t-butyl-4-hydroxy-5- Bisphenols such as (tilphenyl) propionyloxy} ethyl] 2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane, bis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzylsulfonate) ethyl 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t- Butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, tetrakis- [methylene-3- (3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl) propionate] methane, bis [3,3′-bis- (4 '-Hydroxy-3'-tert-butylphenyl) butyric acid] glycol ester, tris- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) -iso Anureate, 1,3,5-tris (3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxybenzyl) -S-triazine-2,4,6- (1H, 3H, 5H) trione, tocophenol And the like.

イオウ系酸化防止剤の具体例として、ジラウリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル−3,3’−チオジプロピオネート等が例示される。   Specific examples of the sulfur antioxidant include dilauryl-3,3′-thiodipropionate, dimyristyl-3,3′-thiodipropionate, distearyl-3,3′-thiodipropionate, and the like. The

リン系酸化防止剤の具体例として、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、ジイソデシルペンタエリスリトールホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(オクタデシル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビ(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビ(2,4−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ホスファイト、ビス[2−t−ブチル−6−メチル−4−{2−(オクタデシルオキシカルボニル)エチル}フェニル]ヒドロゲンホスファイト等のホスファイト類;9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド、10−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド、10−デシロキシ−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド等のオキサホスファフェナントレンオキサイド類などが例示される。   Specific examples of phosphorus antioxidants include triphenyl phosphite, diphenylisodecyl phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, diisodecylpentaerythritol phosphite, tris (2,4-di-t- Butylphenyl) phosphite, cyclic neopentanetetrayl bis (octadecyl) phosphite, cyclic neopentanetetraylbi (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, cyclic neopentanetetraylbi (2,4 -Di-t-butyl-4-methylphenyl) phosphite, bis [2-t-butyl-6-methyl-4- {2- (octadecyloxycarbonyl) ethyl} phenyl] hydrogen phosphite, etc. 9,10-dihydro 9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) -9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10 -Oxaphosphaphenanthrene oxides such as 10-decyloxy-9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide are exemplified.

これらの酸化防止剤はそれぞれ単独で使用できるが、2種以上を組み合わせて併用しても構わない。特に本発明においてはリン系の酸化防止剤が好ましい。   These antioxidants can be used alone, but two or more of them may be used in combination. In the present invention, a phosphorus-based antioxidant is particularly preferable.

さらに本発明の硬化性樹脂組成物には、必要に応じて光安定剤を添加しても構わない。光安定剤としては、ヒンダートアミン系の光安定剤、特にHALS等が好適である。HALSとしては特に限定されるものではないが、代表的なものとしては、ジブチルアミン・1,3,5−トリアジン・N,N’―ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル−1,6−ヘキサメチレンジアミンとN−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブチルアミンの重縮合物、コハク酸ジメチル−1−(2−ヒドロキシエチル)−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン重縮合物、ポリ〔{6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)アミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル}{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}〕、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)〔〔3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドリキシフェニル〕メチル〕ブチルマロネート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1−オクチロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、2−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−n−ブチルマロン酸ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)、等が挙げられる。HALSは1種のみが用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。   Furthermore, you may add a light stabilizer to the curable resin composition of this invention as needed. As the light stabilizer, hindered amine-based light stabilizers, particularly HALS and the like are suitable. HALS is not particularly limited, but representative examples include dibutylamine, 1,3,5-triazine, N, N′-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4- Polycondensate of piperidyl-1,6-hexamethylenediamine and N- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) butylamine, dimethyl-1- (2-hydroxyethyl) -4-hydroxy succinate -2,2,6,6-tetramethylpiperidine polycondensate, poly [{6- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) amino-1,3,5-triazine-2,4-diyl} {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino} hexamethylene {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino}], bis (1,2,2, 6,6-pentamethyl-4- Peridyl) [[3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl] methyl] butyl malonate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1-octyloxy-2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, 2- (3,5-di -T-butyl-4-hydroxybenzyl) -2-n-butylmalonate bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl), etc. Only one HALS is used. Two or more types may be used in combination.

さらに本発明の硬化性樹脂組成物には、必要に応じてバインダー樹脂を配合することも出来る。バインダー樹脂としてはブチラール系樹脂、アセタール系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ−ナイロン系樹脂、NBR−フェノール系樹脂、エポキシ−NBR系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、シリコーン系樹脂などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。バインダー樹脂の配合量は、硬化物の難燃性、耐熱性を損なわない範囲であることが好ましく、樹脂成分100重量部に対して通常0.05〜50重量部、好ましくは0.05〜20重量部が必要に応じて用いられる。   Furthermore, binder resin can also be mix | blended with the curable resin composition of this invention as needed. Examples of the binder resin include butyral resins, acetal resins, acrylic resins, epoxy-nylon resins, NBR-phenol resins, epoxy-NBR resins, polyamide resins, polyimide resins, and silicone resins. However, it is not limited to these. The blending amount of the binder resin is preferably in a range that does not impair the flame retardancy and heat resistance of the cured product, and is usually 0.05 to 50 parts by weight, preferably 0.05 to 20 parts per 100 parts by weight of the resin component. Part by weight is used as needed.

本発明の硬化性樹脂組成物には、必要に応じて無機充填剤を添加することができる。無機充填剤としては、結晶シリカ、溶融シリカ、アルミナ、ジルコン、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ホウ素、ジルコニア、フォステライト、ステアタイト、スピネル、チタニア、タルク等の粉体またはこれらを球形化したビーズ等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらは単独で用いてもよく、2種以上を用いてもよい。これら無機充填剤の含有量は、本発明の硬化性樹脂組成物中において0〜95重量%を占める量が用いられる。更に本発明の硬化性樹脂組成物には、シランカップリング剤、ステアリン酸、パルミチン酸、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の離型剤、界面活性剤、染料、顔料、紫外線吸収剤等の種々の配合剤、各種熱硬化性樹脂を添加することができる。   An inorganic filler can be added to the curable resin composition of the present invention as necessary. Examples of inorganic fillers include crystalline silica, fused silica, alumina, zircon, calcium silicate, calcium carbonate, silicon carbide, silicon nitride, boron nitride, zirconia, fosterite, steatite, spinel, titania, talc, and the like. However, the present invention is not limited to these. These may be used alone or in combination of two or more. The content of these inorganic fillers is 0 to 95% by weight in the curable resin composition of the present invention. Furthermore, the curable resin composition of the present invention includes various agents such as silane coupling agents, mold release agents such as stearic acid, palmitic acid, zinc stearate, and calcium stearate, surfactants, dyes, pigments, and ultraviolet absorbers. A compounding agent and various thermosetting resins can be added.

本発明の硬化性樹脂組成物を光半導体封止剤に使用する場合、必要に応じて、蛍光体を添加することができる。蛍光体は、例えば、青色LED素子から発せられた青色光の一部を吸収し、波長変換された黄色光を発することにより、白色光を形成する作用を有するものである。蛍光体を、硬化性樹脂組成物に予め分散させておいてから、光半導体を封止する。蛍光体としては特に制限がなく、従来公知の蛍光体を使用することができ、例えば、希土類元素のアルミン酸塩、チオ没食子酸塩、オルトケイ酸塩等が例示される。より具体的には、YAG蛍光体、TAG蛍光体、オルトシリケート蛍光体、チオガレート蛍光体、硫化物蛍光体等の蛍光体が挙げられ、YAlO:Ce、YAl12:Ce、YAl:Ce、YS:Eu、Sr(POCl:Eu、(SrEu)O・Alなどが例示される。係る蛍光体の粒径としては、この分野で公知の粒径のものが使用されるが、平均粒径としては、1〜250μm、特に2〜50μmが好ましい。これらの蛍光体を使用する場合、その添加量は、その樹脂成分に対して100重量部に対して、1〜80重量部、好ましくは、5〜60重量部が好ましい。When using the curable resin composition of this invention for an optical semiconductor sealing agent, a fluorescent substance can be added as needed. For example, the phosphor has a function of forming white light by absorbing part of blue light emitted from a blue LED element and emitting wavelength-converted yellow light. After the phosphor is dispersed in advance in the curable resin composition, the optical semiconductor is sealed. There is no restriction | limiting in particular as fluorescent substance, A conventionally well-known fluorescent substance can be used, For example, rare earth element aluminate, thio gallate, orthosilicate, etc. are illustrated. More specifically, phosphors such as a YAG phosphor, a TAG phosphor, an orthosilicate phosphor, a thiogallate phosphor, and a sulfide phosphor can be mentioned, and YAlO 3 : Ce, Y 3 Al 5 O 12 : Ce, Y 4 Al 2 O 9 : Ce, Y 2 O 2 S: Eu, Sr 5 (PO 4 ) 3 Cl: Eu, (SrEu) O.Al 2 O 3 and the like are exemplified. As the particle size of the phosphor, those having a particle size known in this field are used, and the average particle size is preferably 1 to 250 μm, particularly preferably 2 to 50 μm. When using these fluorescent substance, the addition amount is 1-80 weight part with respect to 100 weight part with respect to the resin component, Preferably, 5-60 weight part is preferable.

本発明の硬化性樹脂組成物は、各成分を均一に混合することにより得られる。本発明の硬化性樹脂組成物は従来知られている方法と同様の方法で容易にその硬化物とすることができる。例えば本発明のエポキシ樹脂と硬化剤並びに必要により硬化促進剤、リン含有化合物、バインダー樹脂、無機充填材及び配合剤とを必要に応じて押出機、ニーダ、ロール等を用いて均一になるまで充分に混合して硬化性樹脂組成物を得、その硬化性樹脂組成物を液状である場合はポッティングやキャスティング、基材に含浸、金型に硬化性樹脂組成物を流し込み注型し、加熱により硬化、また固形の場合、溶融後注型、あるいはトランスファー成型機などを用いて成型し、さらに加熱により硬化するという手法が挙げられる。硬化温度、時間としては80〜200℃で2〜10時間である。硬化方法としては高温で一気に固めることもできるが、ステップワイズに昇温し硬化反応を進めることが好ましい。具体的には80〜150℃の間で初期硬化を行い、100℃〜200℃の間で後硬化を行う。硬化の段階としては2〜8段階に分けて昇温するのが好ましく、より好ましくは2〜4段階である。   The curable resin composition of this invention is obtained by mixing each component uniformly. The curable resin composition of the present invention can be easily made into a cured product by a method similar to a conventionally known method. For example, the epoxy resin of the present invention, a curing agent and, if necessary, a curing accelerator, a phosphorus-containing compound, a binder resin, an inorganic filler, and a compounding agent are sufficient until uniform using an extruder, kneader, roll, etc. as necessary. To obtain a curable resin composition. If the curable resin composition is liquid, it is potted, casted, impregnated into a base material, poured into a mold, cast, and cured by heating. In the case of a solid, there may be mentioned a technique of casting after melting or molding using a transfer molding machine or the like, and further curing by heating. The curing temperature and time are 80 to 200 ° C. and 2 to 10 hours. As a curing method, it can be hardened at a high temperature at a stretch, but it is preferable to raise the temperature stepwise to advance the curing reaction. Specifically, initial curing is performed between 80 and 150 ° C., and post-curing is performed between 100 and 200 ° C. As the curing stage, the temperature is preferably divided into 2 to 8 stages, more preferably 2 to 4 stages.

また本発明の硬化性樹脂組成物をトルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等の溶剤に溶解させ、硬化性樹脂組成物ワニスとし、ガラス繊維、カ−ボン繊維、ポリエステル繊維、ポリアミド繊維、アルミナ繊維、紙などの基材に含浸させて加熱乾燥して得たプリプレグを熱プレス成形することにより、本発明の硬化性樹脂組成物の硬化物とすることができる。この際の溶剤は、本発明の硬化性樹脂組成物と該溶剤の混合物中で通常10〜70重量%、好ましくは15〜70重量%を占める量を用いる。また液状組成物のままRTM方式でカーボン繊維を含有するエポキシ樹脂硬化物を得ることもできる。   Further, the curable resin composition of the present invention is dissolved in a solvent such as toluene, xylene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, etc. to obtain a curable resin composition varnish, glass fiber, A prepreg obtained by impregnating a base material such as carbon fiber, polyester fiber, polyamide fiber, alumina fiber, paper, etc. and heat-dried is subjected to hot press molding to obtain a cured product of the curable resin composition of the present invention. can do. The solvent used here is usually 10 to 70% by weight, preferably 15 to 70% by weight in the mixture of the curable resin composition of the present invention and the solvent. Moreover, the epoxy resin hardened | cured material which contains a carbon fiber by a RTM system with a liquid composition can also be obtained.

また本発明の硬化性樹脂組成物をフィルム型組成物の改質剤としても使用できる。具体的にはBステージにおけるフレキ性等を向上させる場合に用いることができる。このようなフィルム型の樹脂組成物は、本発明の硬化性樹脂組成物を前記硬化性樹脂組成物ワニスとして剥離フィルム上に塗布し、加熱下で溶剤を除去した後、Bステージ化を行うことによりシート状の接着剤として得られる。このシート状接着剤は多層基板などにおける層間絶縁層として使用することが出来る。   Moreover, the curable resin composition of this invention can be used also as a modifier of a film type composition. Specifically, it can be used to improve the flexibility of the B stage. Such a film-type resin composition is formed by applying the curable resin composition of the present invention on the release film as the curable resin composition varnish, removing the solvent under heating, and then performing B-stage. To obtain a sheet-like adhesive. This sheet-like adhesive can be used as an interlayer insulating layer in a multilayer substrate or the like.

次に本発明の硬化性樹脂組成物を光半導体の封止材又はダイボンド材として用いる場合について詳細に説明する。   Next, the case where the curable resin composition of the present invention is used as an optical semiconductor sealing material or die bond material will be described in detail.

本発明の硬化性樹脂組成物が高輝度白色LED等の光半導体の封止材、またはダイボンド材として用いる場合には、本発明の多価カルボン酸樹脂を含有する硬化剤組成物または多価カルボン酸組成物と、エポキシ樹脂の他、硬化促進剤、カップリング材、酸化防止剤あるいは光安定剤等の添加物とを充分に混合することにより硬化性樹脂組成物を調製し、封止材として、またはダイボンド材と封止材の両方に使用される。混合方法としては、ニーダ、三本ロール、万能ミキサー、プラネタリーミキサー、ホモミキサー、ホモディスパー、ビーズミル等を用いて常温または加温して混合する。   When the curable resin composition of the present invention is used as a sealing material for an optical semiconductor such as a high-intensity white LED or a die bond material, the curing agent composition or the polyvalent carboxylic acid containing the polyvalent carboxylic acid resin of the present invention. A curable resin composition is prepared by sufficiently mixing the acid composition and an epoxy resin, and other additives such as a curing accelerator, a coupling material, an antioxidant, or a light stabilizer, and used as a sealing material. Or used as both a die bond material and a sealing material. As a mixing method, kneading, three rolls, a universal mixer, a planetary mixer, a homomixer, a homodisper, a bead mill, or the like is used to mix at room temperature or warm.

高輝度白色LED等の光半導体素子は、一般的にサファイア、スピネル、SiC、Si、ZnO等の基板上に積層させたGaAs、GaP、GaAlAs,GaAsP、AlGa、InP、GaN、InN、AlN、InGaN等の半導体チップを、接着剤(ダイボンド材)を用いてリードフレームや放熱板、パッケージに接着させてなる。電流を流すために金ワイヤー等のワイヤーが接続されているタイプもある。その半導体チップを、熱や湿気から守り、かつレンズ機能の役割を果たすためにエポキシ樹脂等の封止材で封止されている。本発明の硬化性樹脂組成物はこの封止材やダイボンド材として用いる事ができる。工程上からは本発明の硬化性樹脂組成物をダイボンド材と封止材の両方に使用するのが好都合である。   Optical semiconductor elements such as high-intensity white LEDs are generally GaAs, GaP, GaAlAs, GaAsP, AlGa, InP, GaN, InN, AlN, InGaN laminated on a substrate of sapphire, spinel, SiC, Si, ZnO or the like. Such a semiconductor chip is bonded to a lead frame, a heat sink, or a package using an adhesive (die bond material). There is also a type in which a wire such as a gold wire is connected to pass an electric current. The semiconductor chip is sealed with a sealing material such as an epoxy resin in order to protect it from heat and moisture and play a role of a lens. The curable resin composition of the present invention can be used as this sealing material or die bond material. From the viewpoint of the process, it is advantageous to use the curable resin composition of the present invention for both the die bond material and the sealing material.

半導体チップを、本発明の硬化性樹脂組成物を用いて、基板に接着する方法としては、本発明の硬化性樹脂組成物をディスペンサー、ポッティング、スクリーン印刷により塗布した後、半導体チップをのせて加熱硬化を行い、半導体チップを接着させることができる。
加熱は、熱風循環式、赤外線、高周波等の方法が使用できる。加熱条件は例えば80〜230℃で1分〜24時間程度が好ましい。加熱硬化の際に発生する内部応力を低減する目的で、例えば80〜120℃、30分〜5時間予備硬化させた後に、120〜180℃、30分〜10時間の条件で後硬化させることができる。
As a method for adhering a semiconductor chip to a substrate using the curable resin composition of the present invention, the curable resin composition of the present invention is applied by dispenser, potting, or screen printing, and then heated by placing the semiconductor chip thereon. Curing can be performed to bond the semiconductor chip.
For the heating, methods such as hot air circulation, infrared rays and high frequency can be used. The heating condition is preferably about 80 to 230 ° C. and about 1 minute to 24 hours, for example. For the purpose of reducing internal stress generated during heat curing, for example, after pre-curing at 80 to 120 ° C. for 30 minutes to 5 hours, post-curing is performed at 120 to 180 ° C. for 30 minutes to 10 hours. it can.

封止材の成形方式としては上記のように半導体チップが固定された基板を挿入した型枠内に封止材を注入した後に加熱硬化を行い成形する注入方式、金型上に封止材をあらかじめ注入し、そこに基板上に固定された半導体チップを浸漬させて加熱硬化をした後に金型から離形する圧縮成形方式等が用いられている。
注入方法としては、ディスペンサー、トランスファー成形、射出成形等が挙げられる。加熱は、熱風循環式、赤外線、高周波等の方法が使用できる。
加熱条件は例えば80〜230℃で1分〜24時間程度が好ましい。加熱硬化の際に発生する内部応力を低減する目的で、例えば80〜120℃、30分〜5時間予備硬化させた後に、120〜180℃、30分〜10時間の条件で後硬化させることができる。
As a molding method of the sealing material, as described above, an injection method in which the sealing material is injected into the mold frame in which the substrate on which the semiconductor chip is fixed is inserted and then heat-cured and molded, and the sealing material is formed on the mold. A compression molding method or the like in which a semiconductor chip fixed on a substrate is immersed therein and heat-cured and then released from a mold is used.
Examples of the injection method include dispenser, transfer molding, injection molding and the like. For the heating, methods such as hot air circulation, infrared rays and high frequency can be used.
The heating condition is preferably about 80 to 230 ° C. and about 1 minute to 24 hours, for example. For the purpose of reducing internal stress generated during heat curing, for example, after pre-curing at 80 to 120 ° C. for 30 minutes to 5 hours, post-curing is performed at 120 to 180 ° C. for 30 minutes to 10 hours. it can.

更に、本発明の硬化性樹脂組成物は、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂が使用される一般の用途に用いることができ、具体的には、接着剤、塗料、コーティング剤、成形材料(シート、フィルム、FRP等を含む)、絶縁材料(プリント基板、電線被覆等を含む)、封止材の他、封止材、基板用のシアネート樹脂組成物や、レジスト用硬化剤としてアクリル酸エステル系樹脂等、他樹脂等への添加剤等が挙げられる。   Furthermore, the curable resin composition of the present invention can be used for general applications in which thermosetting resins such as epoxy resins are used. Specifically, adhesives, paints, coating agents, molding materials (sheets) , Film, FRP, etc.), insulating materials (including printed circuit boards, wire coatings, etc.), sealing materials, sealing materials, cyanate resin compositions for substrates, and acrylate esters as resist curing agents Examples thereof include additives to other resins and the like.

接着剤としては、土木用、建築用、自動車用、一般事務用、医療用の接着剤の他、電子材料用の接着剤が挙げられる。これらのうち電子材料用の接着剤としては、ビルドアップ基板等の多層基板の層間接着剤、ダイボンディング剤、アンダーフィル等の半導体用接着剤、BGA補強用アンダーフィル、異方性導電性フィルム(ACF)、異方性導電性ペースト(ACP)等の実装用接着剤等が挙げられる。   Examples of the adhesive include civil engineering, architectural, automotive, general office, and medical adhesives, and electronic material adhesives. Among these, adhesives for electronic materials include interlayer adhesives for multilayer substrates such as build-up substrates, die bonding agents, semiconductor adhesives such as underfills, BGA reinforcing underfills, anisotropic conductive films ( ACF) and an adhesive for mounting such as anisotropic conductive paste (ACP).

封止剤としては、コンデンサ、トランジスタ、ダイオード、発光ダイオード、IC、LSIなどに用いられるポッティング、ディッピング、トランスファーモールド封止、ICやLSI類のCOB、COF、TABなどに用いられるポッティング封止、フリップチップなどに用いられるアンダーフィル、QFP、BGAおよびCSPなどのICパッケージ類実装時の封止(補強用アンダーフィルを含む)などを挙げることができる。   As sealing agents, potting, dipping, transfer mold sealing used for capacitors, transistors, diodes, light emitting diodes, ICs, LSIs, potting sealings used for COB, COF, TAB, etc. of ICs and LSIs, flip Examples include underfill used for chips and the like, and sealing (including reinforcing underfill) when mounting IC packages such as QFP, BGA, and CSP.

本発明の硬化性樹脂組成物を硬化して得られる本発明の硬化物は光学部品材料をはじめ各種用途に使用できる。光学用材料とは、可視光、赤外線、紫外線、X線、レーザーなどの光をその材料中を通過させる用途に用いる材料一般を示す。より具体的には、ランプタイプ、SMDタイプ等のLED用封止材の他、以下のようなものが挙げられる。液晶ディスプレイ分野における基板材料、導光板、プリズムシート、偏光板、位相差板、視野角補正フィルム、接着剤、偏光子保護フィルムなどの液晶用フィルムなどの液晶表示装置周辺材料である。また、次世代フラットパネルディスプレイとして期待されるカラーPDP(プラズマディスプレイ)の封止材、反射防止フィルム、光学補正フィルム、ハウジング材、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤、またLED表示装置に使用されるLEDのモールド材、LEDの封止材、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤、またプラズマアドレス液晶(PALC)ディスプレイにおける基板材料、導光板、プリズムシート、偏向板、位相差板、視野角補正フィルム、接着剤、偏光子保護フィルム、また有機EL(エレクトロルミネッセンス)ディスプレイにおける前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤、またフィールドエミッションディスプレイ(FED)における各種フィルム基板、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤である。光記録分野では、VD(ビデオディスク)、CD/CD−ROM、CD−R/RW、DVD−R/DVD−RAM、MO/MD、PD(相変化ディスク)、光カード用のディスク基板材料、ピックアップレンズ、保護フィルム、封止材、接着剤などである。   The cured product of the present invention obtained by curing the curable resin composition of the present invention can be used for various applications including optical component materials. The optical material refers to general materials used for applications that allow light such as visible light, infrared light, ultraviolet light, X-rays, and lasers to pass through the material. More specifically, in addition to LED sealing materials such as lamp type and SMD type, the following may be mentioned. It is a peripheral material for liquid crystal display devices such as a substrate material, a light guide plate, a prism sheet, a polarizing plate, a retardation plate, a viewing angle correction film, an adhesive, and a film for a liquid crystal such as a polarizer protective film in the liquid crystal display field. In addition, color PDP (plasma display) sealing materials, antireflection films, optical correction films, housing materials, front glass protective films, front glass replacement materials, adhesives, and LED displays that are expected as next-generation flat panel displays LED molding materials, LED sealing materials, front glass protective films, front glass substitute materials, adhesives, and substrate materials for plasma addressed liquid crystal (PALC) displays, light guide plates, prism sheets, deflection plates , Phase difference plate, viewing angle correction film, adhesive, polarizer protective film, front glass protective film in organic EL (electroluminescence) display, front glass substitute material, adhesive, and various in field emission display (FED) Film substrate Front glass protective films, front glass substitute material, an adhesive. In the optical recording field, VD (video disc), CD / CD-ROM, CD-R / RW, DVD-R / DVD-RAM, MO / MD, PD (phase change disc), disc substrate material for optical cards, Pickup lenses, protective films, sealing materials, adhesives and the like.

光学機器分野では、スチールカメラのレンズ用材料、ファインダプリズム、ターゲットプリズム、ファインダーカバー、受光センサー部である。また、ビデオカメラの撮影レンズ、ファインダーである。またプロジェクションテレビの投射レンズ、保護フィルム、封止材、接着剤などである。光センシング機器のレンズ用材料、封止材、接着剤、フィルムなどである。光部品分野では、光通信システムでの光スイッチ周辺のファイバー材料、レンズ、導波路、素子の封止材、接着剤などである。光コネクタ周辺の光ファイバー材料、フェルール、封止材、接着剤などである。光受動部品、光回路部品ではレンズ、導波路、LEDの封止材、CCDの封止材、接着剤などである。光電子集積回路(OEIC)周辺の基板材料、ファイバー材料、素子の封止材、接着剤などである。光ファイバー分野では、装飾ディスプレイ用照明・ライトガイドなど、工業用途のセンサー類、表示・標識類など、また通信インフラ用および家庭内のデジタル機器接続用の光ファイバーである。半導体集積回路周辺材料では、LSI、超LSI材料用のマイクロリソグラフィー用のレジスト材料である。自動車・輸送機分野では、自動車用のランプリフレクタ、ベアリングリテーナー、ギア部分、耐蝕コート、スイッチ部分、ヘッドランプ、エンジン内部品、電装部品、各種内外装品、駆動エンジン、ブレーキオイルタンク、自動車用防錆鋼板、インテリアパネル、内装材、保護・結束用ワイヤーハーネス、燃料ホース、自動車ランプ、ガラス代替品である。また、鉄道車輌用の複層ガラスである。また、航空機の構造材の靭性付与剤、エンジン周辺部材、保護・結束用ワイヤーハーネス、耐蝕コートである。建築分野では、内装・加工用材料、電気カバー、シート、ガラス中間膜、ガラス代替品、太陽電池周辺材料である。農業用では、ハウス被覆用フィルムである。次世代の光・電子機能有機材料としては、有機EL素子周辺材料、有機フォトリフラクティブ素子、光−光変換デバイスである光増幅素子、光演算素子、有機太陽電池周辺の基板材料、ファイバー材料、素子の封止材、接着剤などである。   In the optical equipment field, they are still camera lens materials, finder prisms, target prisms, finder covers, and light receiving sensor sections. It is also a photographic lens and viewfinder for video cameras. Projection lenses for projection televisions, protective films, sealing materials, adhesives, and the like. These include lens materials, sealing materials, adhesives, and films for optical sensing devices. In the field of optical components, they are fiber materials, lenses, waveguides, element sealing materials, adhesives and the like around optical switches in optical communication systems. Optical fiber materials, ferrules, sealing materials, adhesives, etc. around the optical connector. For optical passive components and optical circuit components, there are lenses, waveguides, LED sealing materials, CCD sealing materials, adhesives, and the like. These are substrate materials, fiber materials, device sealing materials, adhesives, etc. around an optoelectronic integrated circuit (OEIC). In the field of optical fiber, it is an optical fiber for lighting, light guides for decorative displays, sensors for industrial use, displays / signs, etc., and for communication infrastructure and home digital equipment connection. As the semiconductor integrated circuit peripheral material, it is a resist material for microlithography for LSI and VLSI material. In the field of automobiles and transport equipment, automotive lamp reflectors, bearing retainers, gear parts, anti-corrosion coatings, switch parts, headlamps, engine internal parts, electrical parts, various interior and exterior parts, drive engines, brake oil tanks, automobile protection Rusted steel plate, interior panel, interior material, wire harness for protection / bundling, fuel hose, automobile lamp, glass substitute. In addition, it is a multilayer glass for railway vehicles. Further, they are toughness imparting agents for aircraft structural materials, engine peripheral members, protective / bundling wire harnesses, and corrosion resistant coatings. In the construction field, it is interior / processing materials, electrical covers, sheets, glass interlayers, glass substitutes, and solar cell peripheral materials. For agriculture, it is a house covering film. Next-generation optical / electronic functional organic materials include organic EL element peripheral materials, organic photorefractive elements, optical amplification elements that are light-to-light conversion devices, optical arithmetic elements, substrate materials around organic solar cells, fiber materials, elements Sealing material, adhesive and the like.

次に本発明を実施例により更に具体的に説明するが、以下において部は特に断わりのない限り重量部である。尚、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
また実施例において、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(以下、「GPC」という)の測定においては以下の通りである。カラムは、Shodex SYSTEM−21カラム(KF−803L、KF−802.5(×2本)、KF−802)、連結溶離液はテトラヒドロフラン、流速は1ml/min.カラム温度は40℃、また検出はRI(Reflective index)で行い、検量線はShodex製標準ポリスチレンを使用した。
また官能基当量はGPCより算出した比率より算出し、カルボン酸、酸無水物をそれぞれ1当量として値を求めた。
EXAMPLES Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples. In the following, parts are parts by weight unless otherwise specified. The present invention is not limited to these examples.
In the examples, the measurement by gel permeation chromatography (hereinafter referred to as “GPC”) is as follows. The column is a Shodex SYSTEM-21 column (KF-803L, KF-802.5 (× 2), KF-802), the linking eluent is tetrahydrofuran, and the flow rate is 1 ml / min. The column temperature was 40 ° C., the detection was performed by RI (Reflective index), and a standard polystyrene made by Shodex was used for the calibration curve.
Further, the functional group equivalent was calculated from the ratio calculated from GPC, and the value was determined with 1 equivalent each of carboxylic acid and acid anhydride.

実施例1
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながら室温で2,2´−ビス(ジメチロール)ジプロピルエーテル(パーストープ製 Di−TMP)10部、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸(以下、酸無水物H1)95部、ヘキサヒドロ無水フタル酸(以下、酸無水物H2)5部を一括で仕込み、80℃で8時間加熱撹拌を行うことで、本発明の多価カルボン酸樹脂(A1)と酸無水物(H1、H2)を含有する硬化剤組成物(B1)が110部得られた。得られた無色の液状樹脂であった。25℃における粘度は120Pa・sであった。尚、原料となる2,2´−ビス(ジメチロール)ジプロピルエーテルと酸無水物との反応時のモル比は、2,2´−ビス(ジメチロール)ジプロピルエーテルの水酸基1モルに対し、カルボン酸無水物基は3.9モルである。
Example 1
A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer was purged with nitrogen, and at room temperature, 10 parts of 2,2′-bis (dimethylol) dipropyl ether (Per-Storp Di-TMP), methylhexahydrophthalic anhydride (Hereinafter, 95 parts of acid anhydride H1) and 5 parts of hexahydrophthalic anhydride (hereinafter referred to as acid anhydride H2) are charged all at once, and heated and stirred at 80 ° C. for 8 hours, whereby the polyvalent carboxylic acid resin of the present invention. 110 parts of a curing agent composition (B1) containing (A1) and acid anhydrides (H1, H2) were obtained. The resulting colorless liquid resin. The viscosity at 25 ° C. was 120 Pa · s. In addition, the molar ratio at the time of reaction of 2,2'-bis (dimethylol) dipropyl ether used as a raw material and an acid anhydride is carboxylic with respect to 1 mol of hydroxyl group of 2,2'-bis (dimethylol) dipropyl ether. The acid anhydride group is 3.9 moles.

実施例2
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながら酸無水物(H1)100部を仕込み、90℃に昇温後、2,2´−ビス(ジメチロール)ジプロピルエーテル(パーストープ製 Di−TMP)10部を4分割で2時間かけて添加した後、そのまま80℃で5時間加熱撹拌を行うことで、本発明の多価カルボン酸樹脂(A2)と酸無水物(H1)を含有する硬化剤組成物(B2)が110部得られた。得られた樹脂は無色の液状樹脂であった。25℃における粘度は118Pa・sであった。尚、原料となる2,2´−ビス(ジメチロール)ジプロピルエーテルと酸無水物との反応時のモル比は、2,2´−ビス(ジメチロール)ジプロピルエーテルの水酸基1モルに対し、カルボン酸無水物基は3.7モルである。
Example 2
A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer was charged with 100 parts of acid anhydride (H1) while purging with nitrogen, heated to 90 ° C., and then 2,2′-bis (dimethylol) dipropyl ether. (Di-TMP manufactured by Perstorp) 10 parts were added in 4 portions over 2 hours, and then heated and stirred at 80 ° C. for 5 hours, so that the polyvalent carboxylic acid resin (A2) and acid anhydride ( 110 parts of a curing agent composition (B2) containing H1) was obtained. The obtained resin was a colorless liquid resin. The viscosity at 25 ° C. was 118 Pa · s. In addition, the molar ratio at the time of reaction of 2,2'-bis (dimethylol) dipropyl ether used as a raw material and an acid anhydride is carboxylic with respect to 1 mol of hydroxyl group of 2,2'-bis (dimethylol) dipropyl ether. The acid anhydride group is 3.7 moles.

実施例3
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながら酸無水物(H1)168部、カルビノール変性シリコーン(信越化学製 X−22−160−AS、下記一般式(3))488部を仕込み、70℃で8時間反応することで液状カルボン酸(以下、C1)とした後(25℃における粘度1050mPa・s)、90℃昇温後、酸無水物(H1)16.8部を仕込み、30分撹拌後、さらに2,2´−ビス(ジメチロール)ジプロピルエーテル(パーストープ製 Di−TMP)6.26部を2分割で30分かけて添加し、そのまま90℃で5時間加熱撹拌を行うことで、本発明の多価カルボン酸樹脂(A2)と液状多価カルボン酸(C1)を含有する多価カルボン酸組成物(B3)が679部得られた。得られた樹脂は無色の液状樹脂であった。25℃における粘度は2960mPa・sであった。尚、原料となる2,2´−ビス(ジメチロール)ジプロピルエーテルと酸無水物との反応時のモル比は、2,2´−ビス(ジメチロール)ジプロピルエーテルの水酸基1モルに対し、カルボン酸無水物基は1.0モルである。
Example 3
168 parts of acid anhydride (H1), carbinol-modified silicone (X-22-160-AS, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., the following general formula (3) while purging with nitrogen in a flask equipped with a stirrer, reflux condenser, and stirrer )) After charging 488 parts and reacting at 70 ° C. for 8 hours to obtain a liquid carboxylic acid (hereinafter referred to as C1) (viscosity at 1050 mPa · s at 25 ° C.), after heating at 90 ° C., acid anhydride (H1) 16 8 parts, and after stirring for 30 minutes, 6.26 parts of 2,2′-bis (dimethylol) dipropyl ether (Di-TMP manufactured by Perstorp) was added in two divided portions over 30 minutes, and the mixture was added at 90 ° C. as it was. By heating and stirring for 5 hours, 679 parts of a polyvalent carboxylic acid composition (B3) containing the polyvalent carboxylic acid resin (A2) of the present invention and a liquid polyvalent carboxylic acid (C1) were obtained. The obtained resin was a colorless liquid resin. The viscosity at 25 ° C. was 2960 mPa · s. In addition, the molar ratio at the time of reaction of 2,2'-bis (dimethylol) dipropyl ether used as a raw material and an acid anhydride is carboxylic with respect to 1 mol of hydroxyl group of 2,2'-bis (dimethylol) dipropyl ether. The acid anhydride group is 1.0 mole.

Figure 2012002404
Figure 2012002404

上記式中、nは平均の繰り返し数を示し、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーの測定結果から算出されたnの値はおおよそ8.6である。   In the above formula, n represents the average number of repetitions, and the value of n calculated from the measurement result of gel permeation chromatography is approximately 8.6.

実施例4
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながら酸無水物(H1)201.6部、カルビノール変性シリコーン(信越化学製 X−22−160−AS)488部、2,2´−ビス(ジメチロール)ジプロピルエーテル(パーストープ製 Di−TMP)12.5部を仕込み、80℃で8時間反応することで本発明の多価カルボン酸樹脂(A2)と液状多価カルボン酸(C1)を含有する多価カルボン酸組成物(B4)が702.1部得られた。得られた樹脂は無色の液状樹脂であった。25℃における粘度は2880mPa・sであった。尚、原料となる2,2´−ビス(ジメチロール)ジプロピルエーテルと酸無水物との反応時のモル比は、2,2´−ビス(ジメチロール)ジプロピルエーテルの水酸基1モルに対し、カルボン酸無水物基は1.0モルである。
Example 4
In a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer, 201.6 parts of acid anhydride (H1), 488 parts of carbinol-modified silicone (X-22-160-AS, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) while purging with nitrogen, Charge 12.5 parts of 2,2′-bis (dimethylol) dipropyl ether (Di-TMP manufactured by Perstorp) and react at 80 ° C. for 8 hours to react with the polyvalent carboxylic acid resin (A2) of the present invention and liquid polyvalent 702.1 parts of polyvalent carboxylic acid composition (B4) containing carboxylic acid (C1) was obtained. The obtained resin was a colorless liquid resin. The viscosity at 25 ° C. was 2880 mPa · s. In addition, the molar ratio at the time of reaction of 2,2'-bis (dimethylol) dipropyl ether used as a raw material and an acid anhydride is carboxylic with respect to 1 mol of hydroxyl group of 2,2'-bis (dimethylol) dipropyl ether. The acid anhydride group is 1.0 mole.

合成例1
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながら1,4−シクロヘキサンジメタノール(新日本理化製 SKY−CDM)10部、酸無水物(H1)100部を加え、60℃で4時間加熱撹拌を行うことで比較例用の硬化剤組成物(B5)が110部得られた。
Synthesis example 1
To a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer, 10 parts of 1,4-cyclohexanedimethanol (SKY-CDM manufactured by Shin Nippon Chemical Co., Ltd.) and 100 parts of acid anhydride (H1) were added while purging with nitrogen. 110 parts of curing agent compositions (B5) for comparative examples were obtained by heating and stirring at 60 ° C. for 4 hours.

合成例2
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながら1,6−ヘキサンジオール10部、酸無水物(H1)100部を加え、60℃で4時間加熱撹拌を行うことで比較例用の硬化剤組成物(B6)が110部得られた。
Synthesis example 2
To a flask equipped with a stirrer, reflux condenser and stirrer, add 10 parts of 1,6-hexanediol and 100 parts of acid anhydride (H1) while purging with nitrogen, and stir at 60 ° C. for 4 hours. Thus, 110 parts of a curing agent composition (B6) for a comparative example was obtained.

合成例3
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながら水10部、シクロヘキセニルメチルシクロヘキセンカルボキシレートを110部、トルエン140部、12−タングストリン酸1部、タングステン酸ナトリウム1.5部、燐酸水素2ナトリウム1.5部、トリオクチルアンモニウムアセテート50%キシレン溶液1.5部を加え、この溶液を45℃に昇温し、35重量%過酸化水素水110部を20分で加え、その後、45±5℃に保持し、12時間攪拌した。
ついで1重量%水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、20重量%チオ硫酸ナトリウム水溶液25部を加え30分攪拌を行い、静置した。2層に分離した有機層を取り出し、ここに活性炭(味の素ファインテクノ製 CP1)5部、モンモリロナイト(クニミネ工業製 クニピアF)5部を加え、室温で3時間攪拌後、ろ過した。得られたろ液を水100部で3回水洗を行い、得られた有機層より、トルエンを留去することで、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート(EP1)111部を得た。得られたエポキシ樹脂のエポキシ当量は130g/eq.であった。25℃における粘度は211mPa・sであった。(E型粘度計)
Synthesis example 3
A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer was purged with nitrogen, 10 parts of water, 110 parts of cyclohexenylmethylcyclohexenecarboxylate, 140 parts of toluene, 1 part of 12-tungstophosphoric acid, 1 part of sodium tungstate 1 0.5 part, 1.5 parts of disodium hydrogen phosphate and 1.5 parts of 50% xylene solution of trioctylammonium acetate, the temperature of the solution was raised to 45 ° C., and 110 parts of 35% by weight hydrogen peroxide solution was added for 20 minutes. And then kept at 45 ± 5 ° C. and stirred for 12 hours.
Next, after neutralizing with a 1% by weight aqueous sodium hydroxide solution, 25 parts of a 20% by weight aqueous sodium thiosulfate solution was added, stirred for 30 minutes, and allowed to stand. The organic layer separated into two layers was taken out, 5 parts of activated carbon (CP1 manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.) and 5 parts of montmorillonite (Kunimine Industries Co., Ltd. Kunipia F) were added thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours and filtered. The obtained filtrate was washed with 100 parts of water three times, and toluene was distilled off from the obtained organic layer to obtain 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexylcarboxylate (EP1) 111. Got a part. The epoxy equivalent of the obtained epoxy resin is 130 g / eq. Met. The viscosity at 25 ° C. was 211 mPa · s. (E-type viscometer)

合成例4
β−(3,4エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン106部、重量平均分子量1700(GPC測定値)のシラノール末端メチルフェニルシリコーンオイル234部(シラノール当量850、GPCを用いて測定した重量平均分子量の1/2として算出した。)、0.5%水酸化カリウム(KOH)メタノール溶液18部を反応容器に仕込み、バス温度を75℃に設定し、昇温した。昇温後、還流下にて8時間反応させた。
ついで、メタノールを305部追加後、蒸留水のメタノール溶液(濃度50重量%)86.4部を60分かけて滴下し、還流下75℃にて8時間反応させた。反応終了後、5%リン酸2水素ナトリウム水溶液で中和後、80℃でメタノールの約90%を蒸留回収した。メチルイソブチルケトン380部を添加し、200部の水で水洗を3回繰り返した。次いで有機相をロータリーエバポレータを用い、減圧下、100℃で溶媒を除去することによりシロキサン構造を有するエポキシ樹脂(EP2)300部を得た。得られた化合物のエポキシ当量は729g/eq、重量平均分子量は2200、外観は無色透明であった。
Synthesis example 4
β- (3,4 epoxy cyclohexyl) ethyltrimethoxysilane 106 parts, weight average molecular weight 1700 (GPC measured value) silanol-terminated methylphenyl silicone oil 234 parts (silanol equivalent 850, weight average molecular weight 1 measured using GPC) ), 18 parts of 0.5% potassium hydroxide (KOH) methanol solution was charged into the reaction vessel, the bath temperature was set to 75 ° C., and the temperature was raised. After raising the temperature, the reaction was carried out under reflux for 8 hours.
Next, after adding 305 parts of methanol, 86.4 parts of a methanol solution of distilled water (concentration: 50% by weight) was added dropwise over 60 minutes and reacted at 75 ° C. for 8 hours under reflux. After completion of the reaction, the mixture was neutralized with 5% aqueous sodium dihydrogen phosphate solution, and about 90% of methanol was recovered by distillation at 80 ° C. 380 parts of methyl isobutyl ketone was added, and washing with 200 parts of water was repeated three times. Next, 300 parts of an epoxy resin (EP2) having a siloxane structure was obtained by removing the solvent at 100 ° C. under reduced pressure using a rotary evaporator. The epoxy equivalent of the obtained compound was 729 g / eq, the weight average molecular weight was 2200, and the appearance was colorless and transparent.

合成例5
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置、ディーンスターク管を備えたフラスコに、窒素パージを施しながら、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸ジメチル(岩谷瓦斯製 DMCD−p)140部、シクロヘキセン−4−メタノール314部、テトラブトキシチタン0.07部を加え、120℃1時間、150℃1時間、170℃1時間、190℃12時間、反応により生成するメタノールを抜きながら反応させた後、50℃まで冷却した。冷却終了後、347部のトルエンを加え均一にした後、反応溶液を10重量%水酸化ナトリウム水溶液80部で3回洗浄し、さらに水100部/回で廃水が中性になるまで水洗を繰り返し、ロータリーエバポレータで加熱減圧下、トルエンと未反応のシクロヘキセン−4−メタノールを留去することによりビス(3−シクロヘキセニルメチル)=1,4−シクロヘキサンジカルボン酸を主成分とする常温で液状の化合物(D−1)が240部得られた。
Synthesis example 5
A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a stirrer, and a Dean-Stark tube was purged with nitrogen, and 140 parts of dimethyl 1,4-cyclohexanedicarboxylate (DMCD-p manufactured by Iwatani Gas Co., Ltd.), cyclohexene-4-methanol 314 Part, tetrabutoxytitanium 0.07 part, 120 ° C 1 hour, 150 ° C 1 hour, 170 ° C 1 hour, 190 ° C 12 hours, while removing methanol produced by the reaction, cooled to 50 ° C . After cooling, 347 parts of toluene was added and homogenized, and then the reaction solution was washed 3 times with 80 parts of a 10 wt% aqueous sodium hydroxide solution, and further washed with water until the wastewater became neutral at 100 parts / time of water. A compound which is liquid at room temperature mainly composed of bis (3-cyclohexenylmethyl) = 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid by distilling off toluene and unreacted cyclohexene-4-methanol under reduced pressure by heating with a rotary evaporator 240 parts of (D-1) were obtained.

合成例6
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながら水15部、12−タングストリン酸0.95部、燐酸水素2ナトリウム0.78部、トリオクチルアンモニウムアセテート50%キシレン溶液2.7部、トルエン180部、合成例5で得られた化合物(D−1)を118部加え、この溶液を60℃に昇温し、激しく攪拌しながら、35重量%過酸化水素水70部を1時間で加え、そのまま60℃で13時間攪拌した。ガスクロマトグラフィーにて反応の進行を確認したところ、原料ピークは消失していた。ついで1重量%水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、20重量%チオ硫酸ナトリウム水溶液25部を加え30分攪拌を行い、静置した。2層に分離した有機層を取り出し、ここに活性炭(味の素ファインテクノ製 CP1)20部、ベントナイト(ホージュン製 ベンゲルSH)20部を加え、室温で1時間攪拌後、ろ過した。得られたろ液を水100部で3回水洗を行い、得られた有機層より、トルエンを留去することで、常温で液状のエポキシ樹脂(EP3)119部を得た。得られたエポキシ樹脂のエポキシ当量は207g/eq.であった。25℃における粘度は9200mPa・sであった。(E型粘度計)
Synthesis Example 6
A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer was charged with 15 parts of water, 0.95 parts of 12-tungstophosphoric acid, 0.78 parts of disodium hydrogen phosphate, and 50% xylene trioctylammonium while purging with nitrogen. 2.7 parts of a solution, 180 parts of toluene, and 118 parts of the compound (D-1) obtained in Synthesis Example 5 were added, and this solution was heated to 60 ° C. and stirred vigorously while 35 wt% aqueous hydrogen peroxide. 70 parts were added in 1 hour, and it stirred at 60 degreeC as it was for 13 hours. When the progress of the reaction was confirmed by gas chromatography, the raw material peak disappeared. Next, after neutralizing with a 1% by weight aqueous sodium hydroxide solution, 25 parts of a 20% by weight aqueous sodium thiosulfate solution was added, stirred for 30 minutes, and allowed to stand. The organic layer separated into two layers was taken out, 20 parts of activated carbon (CP1 manufactured by Ajinomoto Fine Techno) and 20 parts of bentonite (Bengel SH manufactured by Hojun) were added thereto, and the mixture was stirred for 1 hour at room temperature and then filtered. The obtained filtrate was washed with 100 parts of water three times, and toluene was distilled off from the obtained organic layer to obtain 119 parts of a liquid epoxy resin (EP3) at room temperature. The epoxy equivalent of the obtained epoxy resin was 207 g / eq. Met. The viscosity at 25 ° C. was 9200 mPa · s. (E-type viscometer)

合成例7
硬化剤組成物(B2)50部にメチルエチルケトン20部を加え均一に溶解した後、ロータリーエバポレータを用い、100〜150℃で加えたメチルエチルケトンと共に過剰に存在するメチルヘキサヒドロフタル酸無水物(H1)を除去(メチルヘキサヒドロフタル酸無水物の流出が無くなった時点より、加熱減圧条件下のまま窒素ガスを40分流入し、十分に酸無水物を除去した)することで多価カルボン酸樹脂(A2)を16.2部取り出した。形状は無色の固形樹脂であった。得られた樹脂の軟化点(JIS K−7234に準拠)は90.1℃であり、150℃における溶融粘度は0.64Pa・sであった。本カルボン酸樹脂は90℃以上の高い温度でなければ流動性が非常に低く、取扱いが困難であった。
*溶融粘度
150℃におけるコーンプレート法における溶融粘度
測定機械:コーンプレート(ICI)高温粘度計
(RESEARCH EQUIPMENT(LONDON)LTD.製)
コーンNo.:4(測定範囲0〜4.00Pa・s)
Synthesis example 7
After adding 20 parts of methyl ethyl ketone to 50 parts of the curing agent composition (B2) and dissolving it uniformly, using a rotary evaporator, the methyl hexahydrophthalic anhydride (H1) present in excess with methyl ethyl ketone added at 100 to 150 ° C. The polycarboxylic acid resin (A2 was removed by removing (the acid anhydride was sufficiently removed by flowing in nitrogen gas for 40 minutes under the condition of heating and depressurization from the time when the outflow of methylhexahydrophthalic anhydride disappeared). 16.2 parts were taken out. The shape was a colorless solid resin. The softening point (based on JIS K-7234) of the obtained resin was 90.1 ° C., and the melt viscosity at 150 ° C. was 0.64 Pa · s. This carboxylic acid resin had very low fluidity unless it was at a high temperature of 90 ° C. or higher, and was difficult to handle.
* Melt viscosity Melt viscosity in cone plate method at 150 ° C Measuring machine: Cone plate (ICI) high temperature viscometer (manufactured by RESEARCH EQUIIPMENT (LONDON) LTD.)
Corn No. : 4 (measurement range 0 to 4.00 Pa · s)

実施例5、6、比較例1
実施例1、2で得られた本発明の硬化剤組成物(B1、B2)、比較例として、酸無水物(H1)を硬化剤として用い、エポキシ樹脂としてエポキシ樹脂(EP1)、硬化促進剤としてヘキサデシルトリメチルアンモニウムヒドロキシド(東京化成工業(株)製 25%メタノール溶液、以下、K1と称す。)を使用し、下記表1に示す配合比(重量部)で配合し、20分間脱泡を行い、本発明または比較用の硬化性樹脂組成物を得た。
Examples 5 and 6, Comparative Example 1
The curing agent compositions (B1, B2) of the present invention obtained in Examples 1 and 2 and, as a comparative example, acid anhydride (H1) is used as a curing agent, epoxy resin (EP1) as an epoxy resin, and curing accelerator. Hexadecyltrimethylammonium hydroxide (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., 25% methanol solution, hereinafter referred to as K1) is blended at the blending ratio (parts by weight) shown in Table 1 below, and defoamed for 20 minutes. The curable resin composition for the present invention or for comparison was obtained.

得られた硬化性樹脂組成物を用い、以下に示す要領で、揮発試験をおこない、結果を表1に合わせて示す。なお、硬化条件は120℃×2時間の予備硬化の後150℃×5時間である。   Using the obtained curable resin composition, a volatilization test was conducted in the following manner, and the results are shown in Table 1. The curing conditions are 150 ° C. × 5 hours after preliminary curing at 120 ° C. × 2 hours.

(揮発試験)
実施例及び比較例で得られた硬化性樹脂組成物を真空脱泡20分間実施後、30mm×20mm×高さ1mmになるように耐熱テープでダムを作成したガラス基板上に静かに注型した。注型された樹脂の重量を正確に測定後、その注型物を前述の条件で硬化させた。
このようにして得られた硬化物の重量を測定し、硬化時の重量減少を確認した。(実施例、比較例の硬化は同じオーブンで同様に硬化させた)
(Volatilization test)
The curable resin compositions obtained in Examples and Comparative Examples were subjected to vacuum defoaming for 20 minutes, and then gently cast on a glass substrate on which a dam was created with heat-resistant tape so as to be 30 mm × 20 mm × height 1 mm. . After accurately measuring the weight of the cast resin, the cast was cured under the conditions described above.
The weight of the cured product thus obtained was measured to confirm the weight reduction during curing. (Examples and comparative examples were cured in the same oven in the same manner)

Figure 2012002404
Figure 2012002404

実施例5、6と比較例1を比較すると、本発明の硬化性樹脂組成物は、揮発量が少ないことが明らかである   When Examples 5 and 6 are compared with Comparative Example 1, it is clear that the curable resin composition of the present invention has a small volatilization amount.

実施例7、比較例2、3
エポキシ樹脂として合成例3,6で得られたエポキシ樹脂(EP1、EP3)、硬化剤として、実施例2で得られた硬化剤組成物(B2)、合成例1、2で得られた硬化剤組成物(B5、B6)、硬化促進剤として4級ホスホニウム塩(日本化学工業製 ヒシコーリンPX4MP 以下、K2と称す。)を使用し、下記表2に示す配合比(重量部)で配合し、20分間脱泡を行い、本発明または比較用の硬化性樹脂組成物を得た。
Example 7, Comparative Examples 2, 3
Epoxy resins (EP1, EP3) obtained in Synthesis Examples 3 and 6 as epoxy resins, curing agent composition (B2) obtained in Example 2 as curing agents, and curing agents obtained in Synthesis Examples 1 and 2 A composition (B5, B6), a quaternary phosphonium salt (manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd., Hishicolin PX4MP, hereinafter referred to as K2) is used as a curing accelerator, and blended at a blending ratio (parts by weight) shown in Table 2 below. 20 Defoaming was performed for a minute to obtain a curable resin composition of the present invention or for comparison.

得られた硬化性樹脂組成物を試験片用金型に静かに注型し、その注型物を、120℃×3時間の予備硬化の後150℃×1時間の条件で硬化させ各種試験用の硬化物を得た。得られた硬化物について以下の熱耐久性透過率試験を行った。結果を下記表2に併せて示す。   The obtained curable resin composition was gently poured into a test piece mold, and the cast was cured under conditions of 150 ° C. × 1 hour after pre-curing at 120 ° C. × 3 hours for various tests. A cured product was obtained. The following heat durability transmittance | permeability test was done about the obtained hardened | cured material. The results are also shown in Table 2 below.

(熱耐久性透過率試験)
耐熱試験条件:150℃オーブン中、96hr放置
試験片サイズ:厚さ0.8mmで測定、1.0mmの透過率に換算
評価条件:分光光度計により、400nmの透過率を測定。その変化率を算出。
(Thermal durability transmission test)
Heat test condition: left in an oven at 150 ° C. for 96 hours Test piece size: measured at a thickness of 0.8 mm, converted to a transmittance of 1.0 mm Evaluation condition: a transmittance of 400 nm was measured with a spectrophotometer. Calculate the rate of change.

Figure 2012002404
Figure 2012002404

実施例8、比較例4、5
エポキシ樹脂として合成例4で得られたエポキシ樹脂(EP2)、硬化剤として、実施例2で得られた硬化剤組成物(B2)、合成例1、2で得られた硬化剤組成物(B5、B6)、硬化促進剤として4級ホスホニウム塩(日本化学工業製 ヒシコーリンPX4MP 以下、K2と称す。)、添加剤としてビス(2,2,6,6−テトラメチルー4−ピペリジル)セパケート(チバジャパン製 TINUVIN770DF 以下、ヒンダートアミンL1と称す。)およびリン系化合物として、4,4´−ブチリデンビス(3−メチル−6−tert−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト)(ADEKA製 アデカスタブ260 以下 リン化合物L2)を使用し、を使用し、下記表3に示す配合比(重量部)で配合し、20分間脱泡を行い、本発明または比較用の硬化性樹脂組成物を得た。
Example 8, Comparative Examples 4, 5
The epoxy resin (EP2) obtained in Synthesis Example 4 as the epoxy resin, the curing agent composition (B2) obtained in Example 2 as the curing agent, and the curing agent composition (B5) obtained in Synthesis Examples 1 and 2 , B6), quaternary phosphonium salt (Hishikorin PX4MP, hereinafter referred to as K2) as a curing accelerator, and bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sepacate (manufactured by Ciba Japan) as an additive. TINUVIN770DF, hereinafter referred to as hindered amine L1) and 4,4′-butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenyl-di-tridecyl phosphite) (manufactured by ADEKA, ADK STAB 260 and below) phosphorus compounds as phosphorus compounds L2) is used, and is blended at the blending ratio (parts by weight) shown in Table 3 below, defoamed for 20 minutes, It was obtained invention or the curable resin composition for comparison.

得られた硬化性樹脂組成物を試験片用金型に静かに注型し、その注型物を、120℃×3時間の予備硬化の後150℃×1時間の条件で硬化させ各種試験用の硬化物を得た。得られた硬化物について以下の熱耐久性透過率試験を行った。結果を下記表3に併せて示す。   The obtained curable resin composition was gently poured into a test piece mold, and the cast was cured under conditions of 150 ° C. × 1 hour after pre-curing at 120 ° C. × 3 hours for various tests. A cured product was obtained. The following heat durability transmittance | permeability test was done about the obtained hardened | cured material. The results are also shown in Table 3 below.

(熱耐久性透過率試験)
耐熱試験条件:150℃オーブン中、96hr放置
試験片サイズ:厚さ0.8mmで測定、1.0mmの透過率に換算
評価条件:分光光度計により、400nmの透過率を測定。その変化率を算出。
(Thermal durability transmission test)
Heat test condition: left in an oven at 150 ° C. for 96 hours Test piece size: measured at a thickness of 0.8 mm, converted to a transmittance of 1.0 mm Evaluation condition: a transmittance of 400 nm was measured with a spectrophotometer. Calculate the rate of change.

Figure 2012002404
Figure 2012002404

以上の結果より、本発明の硬化剤組成物を使用した硬化性樹脂組成物は、耐熱性に優れた光学特性を有することが明らかである。   From the above results, it is clear that the curable resin composition using the curing agent composition of the present invention has optical properties excellent in heat resistance.

実施例9、比較例6、7、8
エポキシ樹脂として合成例4で得られたエポキシ樹脂(EP2)、硬化剤として、実施例1で得られた硬化剤組成物(B1)、合成例1、2で得られた硬化剤組成物(B5、B6)、酸無水物(H1)、硬化促進剤として(K2)、添加剤として(L1)を使用し、下記表4に示す配合比(重量部)で配合し、20分間脱泡を行い、本発明または比較用の硬化性樹脂組成物を得た。
Example 9, Comparative Examples 6, 7, 8
The epoxy resin (EP2) obtained in Synthesis Example 4 as the epoxy resin, the curing agent composition (B1) obtained in Example 1 as the curing agent, and the curing agent composition (B5) obtained in Synthesis Examples 1 and 2 , B6), acid anhydride (H1), (K2) as a curing accelerator, (L1) as an additive, blended at a blending ratio (parts by weight) shown in Table 4 below, and degassed for 20 minutes. The curable resin composition for the present invention or for comparison was obtained.

得られた硬化性樹脂組成物を試験片用金型に静かに注型し、その注型物を、120℃×3時間の予備硬化の後150℃×1時間の条件で硬化させ各種試験用の硬化物を得た。得られた硬化物について以下の硬度、耐熱性(Tg)の評価を行った。結果を下記表4に併せて示す。(ただし、各々揮発による硬化物の硬化不良のパラメータを除くため、金型表面にイミドフィルムをのせ、揮発を十分に抑えて硬化を行った。)   The obtained curable resin composition was gently poured into a test piece mold, and the cast was cured under conditions of 150 ° C. × 1 hour after pre-curing at 120 ° C. × 3 hours for various tests. A cured product was obtained. The obtained cured product was evaluated for the following hardness and heat resistance (Tg). The results are also shown in Table 4 below. (However, in order to remove the parameter of the curing failure of the cured product due to volatilization, an imide film was placed on the mold surface, and the volatilization was sufficiently suppressed for curing.)

(硬度)
ショアA
JIS K 7215「プラスチックのデュロメーター硬さ試験方法」に準拠
ショアD
JIS K 7215「プラスチックのデュロメーター硬さ試験方法」に準拠
(hardness)
Shore A
Conforms to JIS K 7215 “Plastic Durometer Hardness Test Method” Shore D
Conforms to JIS K 7215 “Plastic Durometer Hardness Test Method”

(耐熱性(Tg))
実施例及び比較例で得られた硬化性樹脂組成物をテフロン(登録商標)製のφ5mmチューブにて注形し、その注型物を前述の条件で硬化させ試験片を得た。この試験片を用い、下記に示した条件で、耐熱性試験を実施した。
測定条件動的粘弾性測定器:TA−instruments製、DMA-2940
測定温度範囲:40℃〜250℃
昇温速度:2℃/分
試験片サイズ:φ2mm 15mmに切り出した物を使用した。
(Heat resistance (Tg))
The curable resin compositions obtained in the examples and comparative examples were cast using a φ5 mm tube made of Teflon (registered trademark), and the cast was cured under the conditions described above to obtain a test piece. Using this test piece, a heat resistance test was performed under the conditions shown below.
Measurement conditions Dynamic viscoelasticity measuring device: manufactured by TA-instruments, DMA-2940
Measurement temperature range: 40 ° C to 250 ° C
Temperature increase rate: 2 ° C./min Test piece size: φ2 mm A material cut into 15 mm was used.

Figure 2012002404
Figure 2012002404

以上の結果から、通常エポキシ樹脂の硬化剤として用いられる酸無水物L1を使用した比較例6の硬化物に比べて、本発明の硬化剤組成物を含む硬化性樹脂組成物はTgや硬度を維持しつつ、さらに耐熱性を向上させる顕著な効果を奏することが明らかである。一方、比較例7および比較例8の硬化物は、通常エポキシ樹脂の硬化剤として用いられる酸無水物L1を使用した比較例6の硬化物よりも硬度、耐熱性のいずれにおいてもその性能が大きく低下していることが分かる。   From the above results, the curable resin composition containing the curing agent composition of the present invention has Tg and hardness as compared with the cured product of Comparative Example 6 using the acid anhydride L1 that is usually used as a curing agent for epoxy resins. It is clear that there is a remarkable effect of further improving the heat resistance while maintaining. On the other hand, the cured products of Comparative Example 7 and Comparative Example 8 have higher performance in both hardness and heat resistance than the cured product of Comparative Example 6 using acid anhydride L1 that is usually used as a curing agent for epoxy resins. It turns out that it has fallen.

(実施例10〜11、比較例9)
実施例3、4で得られた多価カルボン酸組成物B3,B4、実施例3におけるC1を別途合成して得られたC1、硬化促進剤として2-エチルヘキサン酸亜鉛(以下K3と称す)を用い、表5に記載の配合で硬化性樹脂組成物を作成し、その後、真空脱泡20分間実施した。
(A)LED点灯試験
シリンジに充填し精密吐出装置を使用して、発光波長465nmを持つ発光素子を搭載した外径5mm角表面実装型LEDパッケージ(内径4.4mm、外壁高さ1.25mm)に注型した。その後、120℃、1時間さらに150℃、3時間の硬化処理をして点灯試験用LEDを得る。点灯試験は、規定電流である20mAの11.5倍の電流での点灯試験を行った。詳細な条件は下記に示した。測定項目としては、40時間後、80時間後の点灯前後の照度を積分球を使用して測定し、試験用LEDの照度の保持率を算出した。結果を表5に示す。
点灯詳細条件
発光波長:中心発光波長、465nm
駆動方式:定電流方式、230mA(発光素子規定電流は20mA)直列で3ヶ同時に点灯(n=3の平均)
駆動環境:25℃、65%湿熱機内での点灯
評価:40時間後、80時間後の照度とその照度保持率
(Examples 10-11, Comparative Example 9)
Polyvalent carboxylic acid compositions B3 and B4 obtained in Examples 3 and 4, C1 obtained by separately synthesizing C1 in Example 3, zinc 2-ethylhexanoate (hereinafter referred to as K3) as a curing accelerator Was used to prepare a curable resin composition with the formulation shown in Table 5, followed by vacuum defoaming for 20 minutes.
(A) LED lighting test Using a precision dispensing device filled in a syringe, a 5mm OD surface mount LED package with a light emitting element having an emission wavelength of 465nm (inner diameter 4.4mm, outer wall height 1.25mm) Cast. Thereafter, a curing test is performed at 120 ° C. for 1 hour, further 150 ° C. for 3 hours, and an LED for lighting test is obtained. In the lighting test, a lighting test was performed at a current 11.5 times the specified current of 20 mA. Detailed conditions are shown below. As measurement items, the illuminance before and after lighting after 40 hours and after 80 hours was measured using an integrating sphere, and the illuminance retention rate of the test LED was calculated. The results are shown in Table 5.
Detailed lighting conditions Emission wavelength: Center emission wavelength, 465nm
Drive system: Constant current system, 230 mA (light emitting element regulation current is 20 mA) 3 lights in series at the same time (average of n = 3)
Driving environment: lighting at 25 ° C. and 65% wet heat machine Evaluation: Illuminance after 40 hours and 80 hours and its illuminance retention rate

(B)耐ガス透過性試験(腐食ガス透過性試験);
シリンジに充填し精密吐出装置を用いて、中心発光波465nmのチップを搭載した外径5mm角表面実装型LEDパッケージ(内径4.4mm、外壁高さ1.25mm)に注型した。その注型物を加熱炉に投入して、120℃、1時間さらに150℃、3時間の硬化処理をしてLEDパッケージを作成した。下記条件でLEDパッケージを腐食性ガス中に放置し、封止内部の銀メッキされたリードフレーム部の色の変化を観察した。
測定条件
腐食ガス:硫化アンモニウム20%水溶液(硫黄成分が銀と反応した場合に黒く変色する)
接触方法:広口ガラス瓶の中に、硫化アンモニウム水溶液の容器と前記LEDパッケージを混在させ、広口ガラス瓶の蓋をして密閉状況下、揮発した硫化アンモニウムガスとLEDパッケージを10時間接触させた。
腐食の判定:LEDパッケージ内部のリードフレームが黒く変色(黒化という)しているか否かで判断を行った。
(B) Gas permeability resistance test (corrosion gas permeability test);
Using a precision discharge device filled in a syringe, it was cast into a 5 mm outer diameter surface mount LED package (inner diameter 4.4 mm, outer wall height 1.25 mm) on which a chip having a central emission wave of 465 nm was mounted. The cast product was put into a heating furnace and cured at 120 ° C. for 1 hour, further at 150 ° C. for 3 hours, and an LED package was prepared. The LED package was left in a corrosive gas under the following conditions, and the color change of the silver-plated lead frame part inside the seal was observed.
Measurement conditions Corrosion gas: 20% aqueous solution of ammonium sulfide (discolors black when sulfur component reacts with silver)
Contact method: A container of an ammonium sulfide aqueous solution and the LED package were mixed in a wide-mouth glass bottle, and the wide-mouth glass bottle was covered and the volatilized ammonium sulfide gas and the LED package were contacted for 10 hours in a sealed state.
Corrosion determination: Judgment was made based on whether or not the lead frame inside the LED package was discolored black (referred to as blackening).

Figure 2012002404
Figure 2012002404

以上の結果から、本発明の多価カルボン酸樹脂組成物を含む硬化性樹脂組成物は、点灯試験照度保持率に優れるとともに、耐ガス透過性についてもリードフレームを変色させること無く優れた効果が得られることが明らかである。   From the above results, the curable resin composition containing the polyvalent carboxylic acid resin composition of the present invention is excellent in lighting test illuminance retention, and also has excellent effects on gas permeability resistance without discoloring the lead frame. It is clear that it is obtained.

本発明を特定の態様を参照して詳細に説明したが、本発明の精神と範囲を離れることなく様々な変更および修正が可能であることは、当業者にとって明らかである。
なお、本出願は、2010年6月30日付で出願された日本特許出願(特願2010−149411)に基づいており、その全体が引用により援用される。また、ここに引用されるすべての参照は全体として取り込まれる。
Although the invention has been described in detail with reference to specific embodiments, it will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made without departing from the spirit and scope of the invention.
In addition, this application is based on the Japanese patent application (Japanese Patent Application No. 2010-149411) for which it applied on June 30, 2010, The whole is used by reference. Also, all references cited herein are incorporated as a whole.

Claims (11)

下記式(1)
Figure 2012002404

(式中、複数存在するR、Qはそれぞれ独立して存在し、水素原子、もしくは炭素数1〜15のアルキル基、カルボキシル基を表す。)で表される多価カルボン酸樹脂と、酸無水物との混合物である硬化剤組成物。
Following formula (1)
Figure 2012002404

(Wherein a plurality of R and Q which are present independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, or a carboxyl group) and an acid anhydride Hardener composition which is a mixture with a product.
前記式(1)において複数存在するQがそれぞれ独立して水素原子、メチル基、カルボキシル基のいずれかから選ばれる(ただし、Qが全て水素原子である化合物のみからなる場合を除く)、請求項1記載の硬化剤組成物。   A plurality of Q's in the formula (1) are each independently selected from any one of a hydrogen atom, a methyl group, and a carboxyl group (provided that the compound is composed only of a compound in which Q is all hydrogen atoms). The curing agent composition according to 1. 無溶剤、もしくは使用する原料に対して50重量%以下の有機溶剤中、40〜150℃で前記原料を反応させて得る、請求項1または2に記載の硬化剤組成物の製造方法。   The manufacturing method of the hardening | curing agent composition of Claim 1 or 2 obtained by making the said raw material react at 40-150 degreeC in the organic solvent of 50 weight% or less with respect to the raw material to be used without a solvent. 前記式(1)で表される多価カルボン酸樹脂と、2官能以上のカルボン酸との混合物である多価カルボン酸組成物。   The polyvalent carboxylic acid composition which is a mixture of the polyvalent carboxylic acid resin represented by the formula (1) and a bifunctional or higher functional carboxylic acid. 前記2官能以上のカルボン酸樹脂の粘度が25℃で10000Pa・s以下である、請求項4記載の多価カルボン酸組成物。   The polyvalent carboxylic acid composition according to claim 4, wherein a viscosity of the bifunctional or higher carboxylic acid resin is 10,000 Pa · s or less at 25 ° C. 前記式(1)において複数存在するQがそれぞれ独立して水素原子、メチル基、カルボキシル基のいずれかから選ばれる(ただし、Qが全て水素原子である化合物のみからなる場合を除く)、請求項4または5に記載の多価カルボン酸組成物。   A plurality of Q's in the formula (1) are each independently selected from any one of a hydrogen atom, a methyl group, and a carboxyl group (provided that the compound is composed only of a compound in which Q is all hydrogen atoms). The polyvalent carboxylic acid composition according to 4 or 5. 無溶剤、もしくは使用する原料に対して50重量%以下の有機溶剤中、40〜150℃で前記原料を反応させて得る、請求項4〜6のいずれか一項に記載の多価カルボン酸組成物の製造方法。   The polyvalent carboxylic acid composition according to any one of claims 4 to 6, obtained by reacting the raw material at 40 to 150 ° C in a solvent-free or 50 wt% or less organic solvent with respect to the raw material to be used. Manufacturing method. 原料となるビス(ジメチロール)ジアルキルエーテルと酸無水物との反応時のモル比が、ビス(ジメチロール)ジアルキルエーテルの水酸基1モルに対し、カルボン酸無水物基が1.0〜10.0モルである、請求項7記載の多価カルボン酸組成物の製造方法。   The molar ratio of the bis (dimethylol) dialkyl ether as a raw material and the acid anhydride at the time of reaction is 1.0 to 10.0 mol of carboxylic acid anhydride group with respect to 1 mol of hydroxyl group of bis (dimethylol) dialkyl ether. A method for producing a polyvalent carboxylic acid composition according to claim 7. 請求項1〜3のいずれか一項に記載の硬化剤組成物もしくは請求項4〜6のいずれか一項に記載の多価カルボン酸組成物と、エポキシ樹脂と、を含有する硬化性樹脂組成物。   Curable resin composition containing the hardening | curing agent composition as described in any one of Claims 1-3, or the polyhydric carboxylic acid composition as described in any one of Claims 4-6, and an epoxy resin. object. 前記エポキシ樹脂が脂環式エポキシ樹脂である、請求項9記載の硬化性樹脂組成物。   The curable resin composition according to claim 9, wherein the epoxy resin is an alicyclic epoxy resin. 請求項9または請求項10に記載の硬化性樹脂組成物を硬化してなる硬化物。   Hardened | cured material formed by hardening | curing the curable resin composition of Claim 9 or Claim 10.
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