JPWO2012002016A1 - 超電導線材の常電導転移の検出方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、2011年3月16日に、日本に出願された特願2011−057939号、及び2010年6月28日に、日本に出願された特願2010−146304号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
また、特許文献3(特にその第四の発明)には、光ファイバーが超電導線の外部に取り付けられ、通電時の超電導線における異常部分の機械的変位による光ファイバーの変形部分からの反射光または光ファイバーの他端からの透過光を測定して、超電導線の異常を検知する超電導線のクエンチ検出方法が記載されている。
しかしながら、特許文献2,3に記載の方法は、クエンチを原因として超電導線材が動き、光ファイバの位置ズレや変形が増大することにより、光ファイバの異常の有無を判定することができるだけであり、温度変化の詳細を計測することはできない。
特許文献4では、光ファイバのFBGの周囲に、光ファイバの主成分であるシリカよりも熱膨張係数(TEC)の大きいアルミニウム(Al)やポリメチルメタクリレート(PMMA)等の被覆材(コーティング)を設けて、温度によるブラッグ波長の変化を増大させることで温度センサの感度を向上している。また、非特許文献1では、ひずみ、温度、線膨張の計測例が示されている。
また、特許文献4に記載されたFBGを、高温超電導体の温度計測に用いる場合、線材化された高温超電導体は変形性に乏しいため、被覆材の周囲全体に超電導線材を配置させることはできない。すなわち、被覆材を設けたFBGの周囲の媒質を均質にすることができない。また、線材からの熱伝導性を考慮して、光ファイバ周囲の被覆材を超電導線材に密着させたとしても、被覆材の熱膨張係数と超電導線材の熱膨張係数との違いのため、被覆材の伸縮が制限を受ける。このため、温度計測の精度や応答速度に悪影響を与えるおそれがある。
本発明の第1の態様に係る超電導線材の常電導転移の検出方法は、基材と、77K以上の臨界温度を有する超電導層と、金属安定化層とを備える超電導線材の常電導転移の検出方法であって、コアにその長手方向に沿って複数のファイバブラッググレーティングが形成された光ファイバを前記超電導線材に接着固定し;前記超電導線材の温度変化に対する前記ファイバブラッググレーティングのブラッグ波長の変化をあらかじめ測定し、前記ブラッグ波長の変化から前記超電導線材の温度を計測するための関係式を求め;前記超電導線材に常電導転移が生じる前後の前記複数のファイバブラッググレーティングの温度変化を、前記関係式により求め;前記複数のファイバブラッググレーティングの温度上昇が開始した時間差と、前記複数のファイバブラッググレーティングの間隔とに基づいて、前記常電導転移の伝播速度を算出する。
上記本発明の第1の態様に係る超電導線材の常電導転移の検出方法においては、前記複数のファイバブラッググレーティングのいずれかにおいて計測した最高温度をTmax、このファイバブラッググレーティングから前記常電導転移の起点部までの距離をL、このファイバブラッググレーティングにおける温度上昇速度をυ、前記常電導転移の伝播速度をVとして、前記常電導転移の起点部における最高温度を、(L/V)υ+Tmaxにより算出してもよい。
上記本発明の第1の態様に係る超電導線材の常電導転移の検出方法においては、前記最高温度Tmaxおよび前記温度上昇速度υを、前記常電導転移の起点部に最も近いファイバブラッググレーティングを用いて計測してもよい。
上記本発明の第1の態様に係る超電導線材の常電導転移の検出方法においては、前記複数のファイバブラッググレーティングのそれぞれにおける温度上昇速度を、各ファイバブラッググレーティングの温度変化から求め、前記温度上昇速度が所定のしきい値以上であることにより、このファイバブラッググレーティングの位置に前記常電導転移が伝播したことを確認してもよい。
上記本発明の第1の態様に係る超電導線材の常電導転移の検出方法においては、前記所定のしきい値は、前記超電導線材に通電する電流値ごとにあらかじめ設定されてもよい。
上記本発明の第2の態様に係る超電導線材の常電導転移の検出方法においては、前記常電導転移が伝播したと判定されたファイバブラッググレーティングのうち、前記常電導転移の起点部から最も遠いファイバブラッググレーティングまでの距離を2倍することにより、前記常電導転移が生じた範囲を推定してもよい。
上記本発明の第2の態様に係る超電導線材の常電導転移の検出方法においては、前記所定のしきい値は、前記超電導線材に通電する電流値ごとにあらかじめ設定されてもよい。
上記本発明の第2の態様に係る超電導線材の常電導転移の検出方法においては、前記超電導線材がコイル状であり、このコイルにより発生させる電磁力によるファイバブラッググレーティングのブラッグ波長の変化をあらかじめ測定し、前記電磁力によるファイバブラッググレーティングのブラッグ波長の変化を減算して得られるブラッグ波長の変化を前記関係式に適用して、前記超電導線材に常電導転移が生じる前後の前記複数のファイバブラッググレーティングの温度変化を求めてもよい。
前記複数のファイバブラッググレーティングが形成された光ファイバは、広帯域光源と、分光素子と、前記広帯域光源からの測定光が前記光ファイバに入射されるとともに、前記複数のファイバブラッググレーティングからのブラッグ反射光を前記分光素子に入射する光部品と、前記分光素子により分光された光を受光して電圧信号を出力する受光素子とを備える温度計測器に接続されていてもよい。
光ファイバの長手方向に沿って複数のFBGを形成し、これらのFBGにおいて温度上昇が開始した時間差を測定することにより、この時間差と、複数のFBGの間隔とから、常電導転移の伝播速度を算出することができる。
いずれかのFBGにおいて計測した最高温度と、FBGから常電導転移の起点部までの距離と、FBGにおける温度上昇速度と、常電導転移の伝播速度とを測定することにより、常電導転移の起点部における最高温度を求めることも可能である。
FBGの位置まで常電導転移が伝播すると、そうでない場合に比べて温度上昇速度が大きくなることを利用することにより、FBGの温度上昇速度から常電導転移が伝播したか否かを判定することも可能である。
常電導転移が伝播したと判定されたFBGのうち、常電導転移の起点部から最も遠いFBGまでの距離に基づいて、常電導転移が生じた範囲を推定することも可能である。
超電導線材がコイル状であり、このコイルに電磁力が発生する場合には、電磁力によるFBGのブラッグ波長の変化を減算した結果を用いることにより、電磁力によるブラッグ波長の変化を温度変化として換算することなく、超電導線材に生じる温度変化をより正確に求めることができる。
図3に複数のファイバブラッググレーティング4が形成された光ファイバ3を用いた温度計測器10の一例を示す。また、図4に、光ファイバ3を超電導線材1の金属安定化層1c上に接着固定した状態の一例を示す。
超電導線材1は、基材1aと、77K以上の臨界温度を有する超電導層1bと、金属安定化層1cを少なくとも備えて構成されている。
本実施形態の超電導線材1に適用できる基材1aは、通常の超電導線材の基材として使用でき、高強度であれば良い。また、長尺のケーブルとするためにテープ状であることが好ましく、超電導体の成膜プロセス等に要求される耐熱性を備えた金属からなる基材が好ましい。例えば、銀、白金、ステンレス鋼、銅、ハステロイ(登録商標)等のニッケル合金等の各種金属材料、もしくはこれら各種金属材料上にセラミックスを配した基材等が挙げられる。各種耐熱性の金属の中でも、ニッケル合金が好ましい。なかでも、市販品であれば、ハステロイ(米国ヘインズ社製商品名)が好適であり、ハステロイとして、モリブデン、クロム、鉄、コバルト等の成分量が異なる、ハステロイB、C、G、N、W等のいずれの種類も使用できる。基材1aの厚さは、目的に応じて適宜調整すれば良く、通常は、10〜500μmである。
超電導層1bの厚みは、特に限定されるものではないが、例えば0.5〜5μm程度であって、均一な厚みであることが好ましい。
また、金属有機酸塩を塗布後熱分解させる熱塗布分解法(MOD法)は、金属成分の有機化合物を均一に溶解した溶液を基材上に塗布した後、これを加熱して熱分解させることにより基材上に薄膜を形成する方法であり、真空プロセスを必要とせず、低コストで高速成膜が可能であるため長尺のテープ状超電導導体の製造に適している。
拡散防止層は、基材の構成元素の拡散を防止する目的で形成され、窒化ケイ素(Si3N4)、酸化アルミニウム(Al2O3)、あるいは希土類金属酸化物等から構成される。拡散防止層は、例えばスパッタリング法等の成膜法により形成され、その厚さは例えば10〜400nmである。
ベッド層は、界面反応性を低減して、その上に配される膜の配向性を得る目的で形成され、例えば、酸化イットリウム(Y2O3)、窒化ケイ素(Si3N4)、酸化アルミニウム(Al2O3)等から構成される。ベッド層は、例えばスパッタリング法等の成膜法により形成され、その厚さは例えば10〜200nmである。
本実施形態の超電導線材1に対して、光ファイバ3は、金属安定化層1cの上に接着固定される。光ファイバ3は、ファイバブラッググレーティング(FBG)を形成可能な公知の光ファイバであればよく、石英系のシングルモード光ファイバが好ましい。石英系光ファイバを構成する材質は、純石英ガラス、ゲルマニウム(Ge)等の屈折率を上昇する添加剤を用いた石英ガラス、フッ素(F)等の屈折率を下降する添加剤を用いた石英ガラスなどから適宜選択することが可能である。また、クラッドの周囲には、断面で同心円状となるように被覆材を設けることもできる。被覆材の具体例としては、ポリイミドなどの高ヤング率樹脂や、銅(Cu)、ニッケル(Ni)等の金属が挙げられ、後記する接着層5との密着性を考慮して選択することができる。
1つのグレーティングの長さ(グレーティング長)は、所望の反射率や反射帯域に応じて適宜選択することができ、例えば1〜10mmが好ましい。
FBGを形成した光ファイバ3が超電導線材1に接着固定されていると、光ファイバ3を構成する石英系ガラス自体の線膨張係数が小さいとしても、超電導線材1を構成する部材の線膨張係数が大きいため、温度上昇時に大きな線膨張が発生する。つまり、温度上昇時には、超電導線材1の線膨張によりFBGの格子間隔Λが伸び、ブラッグ波長λBが長波長側にシフトする。
本実施形態で用いられる超電導線材の温度計測方法では、コアに複数のFBGを形成した光ファイバ3を金属安定化層1c上に接着固定した状態で、超電導線材1の温度に対するFBGのブラッグ波長の変化をあらかじめ測定し、ブラッグ波長の変化から超電導線材1の温度を計測するための関係式を求めておく。これにより、計測時には、ブラッグ波長の変化から超電導線材1の温度をリアルタイムで計測することができる。
ブラッグ波長変化の温度依存性をあらかじめ測定することが必要な温度範囲は、超電導線材1の温度計測が必要とされる所定の温度範囲であり、超電導線材1が超電導状態で運転されるときの温度範囲と、超電導線材1の常電導転移が起こった後に到達し得る温度範囲を含むことが好ましい。
ブラッグ波長変化の温度依存性を測定するときは、超電導線材1の金属安定化層1c上に光ファイバ3を接着固定した状態で、周囲の温度を冷凍機などで変えながら、ブラッグ波長を測定する。
以上説明した温度計測器10に変わる手段として、光源11にチューナブルレーザを用い、分光素子13を用いることなくブラッグ反射光を受光素子14に入力する構成を用いることもできる。この場合、チューナブルレーザは、複数のFBGのブラッグ波長を計測可能な範囲で波長掃引することが望ましい。
また、温度計測器10を公知の時間分割多重(TDM)法や光周波数領域反射測定(OFDR)法に基づいた構成とすることで、ブラッグ波長が同一のFBGを超電導線材1の温度計測に用いることもできる。
超電導線材1において、万が一、何らかの理由により、超電導層1bが超電導状態から常電導状態に遷移する常電導転移が発生した場合、超電導層1bに抵抗が生じ、電流は抵抗が比較的小さい金属安定化層1cを流れる。その際、金属安定化層1cでは、電流値と抵抗値に応じたジュール熱が発生し、発熱が起こる。
図1に示すように、超電導線材1に常電導転移が生じる前から後にわたって、各FBGの温度変化を継続的に計測すると、各FBGの温度上昇が開始した時間を求めることができる。具体的には、常電導転移が生じる前の時間範囲における温度変化をベースラインと考えれば、温度上昇の開始は、常電導転移が生じた後の温度変化(温度上昇)を表す線(またはその接線)がベースラインと交差する時間軸上の位置から求められる。
超電導線材は冷却媒体や冷凍機を用いて冷却されているため、常電導転移が発生する前の超電導線材の温度は各所で略等しい。また、超電導線材の材質および構造はその長手方向全体にわたって略均一であるので、常電導転移が発生した箇所における温度上昇速度は各所で略等しい。なお、温度上昇速度は、単位時間当たりに上昇する温度差であり、例えば温度変化の時間微分を平均して求めることができる。
そこで、常電導転移が伝播したFBGにおける最高温度TmaxFBGは、常電導転移が発生する前の超電導線材1の温度をT0、常電導転移による温度上昇速度をυ、FBGの位置で温度上昇が開始してから最高温度に達するまでの時間差をΔt1として、TmaxFBG≒T0+υΔt1で近似して求めることができる。
さらに、温度上昇の終了は、例えば超電導線材1への通電の制限や遮断等、共通の原因によるため、超電導線材全体にわたって、ほぼ同時に起こる。つまり、常電導転移が最初に発生してから温度上昇が終了するまで時間差は、Δt0+Δt1となる。
なお、FBGにおける温度上昇速度υの値は、起点部2からの距離に応じて若干の差が出ることもあるため、常電導転移の起点部2における最高温度をより高精度に求めるには、起点部2に最も近いFBGによって計測した温度変化を用いることが好ましい。
図2に示すように、温度上昇が比較的短時間で終了したために常電導転移が遠いFBGには到達しなかった場合、そのFBG(図2のFBG−C)では起点部2に近い側からの熱伝導による発熱が計測されることがある。しかしながら、熱伝導による発熱は、FBGの位置で常電導転移が発生しているときの発熱に比べて小さいため、両者は温度上昇速度の比較により区別することが可能である。
なお、上述したように常電導転移の伝播速度や最高温度を推定する場合には、推定に用いるFBGの位置まで常電導転移が伝播することが必要である。用いるFBGにおける温度上昇速度が所定のしきい値以上であれば、そのFBGの位置まで常電導転移が伝播したことを確認することができる。
本実施形態の超電導線材の常電導転移の検出方法は、運転中の超電導線材の保護装置に利用することができる。
超電導保護装置は、図3の温度計測器10において、受光素子14から出力される電気信号を受け取って、上述の温度計測方法や常電導転移の検出方法に従って自動的に解析するコンピュータ等の解析装置、異常を検知した場合に電流を制限(低下)あるいは遮断(停止)させる等して超電導線材への通電量を制御する制御装置、異常を検知した場合に作業者に警報を発する警報装置、運転状況の表示装置、温度履歴の記録装置などを備えることができる。これにより、万一、常電導転移が発生しても超電導線材1の溶断や焼損を防止し、超電導線材1を良好な状態で保護することができる。
また、超電導線材の点検や交換が必要な場合でも、ダメージの程度に関する予備的な情報を得て作業を実施することができるので、より迅速かつ的確な作業が可能になる。
本実施形態は、超電導線材をコイル状とし、超電導線材に電流を通電させることで電磁力(フープ応力)を発生することができる超電導コイルにも適用可能である。
超電導コイルは、例えば超電導線材をその厚さ方向に湾曲させ、同心円状に多数回巻回されてパンケーキ型のコイル体であっても良い。また、コイル体を2個または3個以上積層させても良い。
この場合、ブラッグ波長シフト(ブラッグ波長の変化)から超電導線材の温度を計測するための関係式を用いてブラッグ波長シフトを超電導線材の温度に換算する際には、この関係式に入力(代入)するブラッグ波長シフトとして、電磁力によるFBGのブラッグ波長シフトを含んだままのブラッグ波長シフトを前記関係式に適用するのではなく、電磁力によるFBGのブラッグ波長シフトを減算した結果のブラッグ波長シフトを前記関係式に適用することが好ましい。これにより、電磁力によるブラッグ波長シフトを温度変化として換算することなく、超電導線材に生じる温度変化をより正確に求めることができる。
電磁力によるFBGのブラッグ波長シフトは、超電導線材に通電する電流値に依存する。このため、あらかじめ温度変化のない条件下で、超電導線材に通電する電流値と、その電流値に対する電磁力によるブラッグ波長シフトとを測定し、電流値と電磁力によるブラッグ波長シフトとの関係を求めておくことが好ましい。この関係と、実際に通電する電流値から、電磁力によるブラッグ波長シフトの値を精度よく推定することができる。
図3に示す超電導線材1の温度計測器10において、図4に示すように光ファイバ3を超電導線材1に接着固定した。
本実施例において、超電導線材1の基材1aには、幅5mm、厚さ0.1mmのハステロイC276を用いた。超電導層1bには、幅5mm、厚さ0.001mm(すなわち1μm)のGdBCO(GdBa2Cu3O7−x)を用いた。この超電導層の臨界温度は約90K、臨界電流は約230A(温度77K、磁場0T環境下における値)である。金属安定化層1cには、幅5mm、厚さ0.1mmの銅を用いた。
図4に示すように、FBGを形成した光ファイバ3は、接着層5となるポリイミド樹脂(HDマイクロシステムス社 PI2525:型番)を用いて金属安定化層1c上に固定した。より具体的には、金属安定化層1c上に光ファイバ3が密着するように仮固定した後、光ファイバ3の周囲を覆うように接着層5となるポリイミド樹脂を塗布し、この塗布部を200℃で1分間加熱することによりポリイミド樹脂を硬化させることで固定した。
これらの波長参照用FBGのブラッグ波長は、室温(295K)・無ひずみにおいて、それぞれ1532.100nm、1584.500nmであることがあらかじめ計測されている。
なお、AOTFは、温度環境などの変化や変動によって印加周波数と透過光波長の関係が変化するため、実際の測定では、1掃引毎にこの関係を算出し、これにもとづいてFBG1〜4のブラッグ波長を求めた。
超電導線材1は、円筒形の冶具24に対してコイル状に固定し、低温容器25内にて冷却した。低温容器25内は、容器本体25aおよび蓋25bにより密閉され、真空ポンプ(図示せず)により真空排気することで真空断熱され、低温容器25内を冷却する冷凍機(図示せず)の冷却性能を高めている。
超電導線材1に接着固定した光ファイバ3は、光ファイバ同士を接続可能な真空フィードスルーを介して低温容器25外に取出し、その端末を温度計測器10に接続した。超電導線材1に設置したヒータ6は、超電導線材1を加熱するためのヒータである。ヒータ6に通電すると、超電導線材1の温度を超電導層1bの臨界温度以上まで上昇させ、意図的に常電導転移を発生させることができる。また、超電導線材1両端に設けた電極23は、電力ケーブル22同士を接続可能な真空フィードスルーを介して接続され、電源21の電流端子から超電導線材1へ通電することができる。
以上説明した(温度計測方法の実施例1)では、それぞれのFBGについて求めた近似式を用いて温度を算出したが、あらかじめ与えられたひとつの近似式を用いて温度を算出しても構わない。表2は、FBG1の波長シフトに対して上記の式(4)〜(7)を用いて温度を算出した結果である。式(4)はFBG1を用いた実験で得られた絶対温度とブラッグ波長シフトの関係式であるから表1と同じ結果になるのは勿論であるが、FBG2〜4を用いた実験で得られた式(5)〜(7)を用いても、25〜295Kの温度範囲で±20Kの計測精度が得られた。
次いで、図7Aおよび図7Bに示す試験装置を用いて、本実施例の超電導線材1に対して意図的に常電導転移を発生させ、FBGによる常電導転移の検出と、このとき生じた温度の計測をおこなった。
図14は、超電導線材1を超電導層の臨界温度以下である77Kに冷却保持し、超電導層に160Aの電流を通電した状態でヒータ6に3秒間通電して超電導線材1を局所的に加熱した際の線材温度を各FBG1〜4で計測した結果である。
実施例1の構成を用い、ヒータ6に1.5秒間通電した。
図15は、ヒータに1.5秒間通電して超電導線材1を局所的に加熱した際の線材温度をFBGで計測した結果である。なお、本実施例では、FBG4が発熱を検出した時間を0秒と定義し、1.1秒の時点で超電導線材1に通電する電流を遮断している。温度上昇速度は、FBG4では約80K/s、FBG3では約65K/s、FBG2では約40K/s、FBG1では約15K/sであった。
実施例1の構成を用い、超電導線材に通電する電流を変化させた。
図16は、超電導線材に通電する電流を160A、190A、220Aと変化させ、ヒータに1.5秒間通電した際のFBG4で計測した線材温度の経時変化を示すグラフである。図16において、160Aのプロットは、実施例2の結果(図15)を引用した。なお、本実施例では、FBG4が発熱を検出した時間を0秒と定義し、このFBGが150K以上となった時点で超電導線材1に通電する電流を遮断している。温度上昇速度は、160Aでは約80K/s、190Aでは約140K/s、220Aでは約160K/sであった。
このため、上記(常電導転移の検出方法の実施例2)において常電導転移が伝播したか否かを判定する際には、超電導線材に通電する電流値が大きいほど、常電導転移による温度上昇速度が増大することを考慮する必要がある。
なお、図16では、FBG4上で計測された最高温度は約160〜170Kと同程度であるが、上記(常電導転移の検出方法の実施例1)と同様に起点部2での最高温度を推定すると、電流値が高い条件ほど起点部での最高温度が高いという結果が得られる。
実施例1の構成を用い、超電導線材1を50Kに冷却保持し、超電導線材1の外周に設けた電磁石(図示せず)に3Tの磁界を印加した。50K、3Tにおける超電導線材1の臨界電流は約200Aである。本実施例では超電導線材1に通電することにより、電磁力(フープ応力)を発生させることができる。
1a 基材
1b 超電導層
1c 金属安定化層
2 常電導転移の起点部
3 光ファイバ
4 ファイバブラッググレーティング(FBG)
5 接着層
10 温度計測器
11 広帯域光源
12 光部品
13 分光素子
14 受光素子
Claims (10)
- 基材と、77K以上の臨界温度を有する超電導層と、金属安定化層とを備える超電導線材の常電導転移の検出方法であって、
コアにその長手方向に沿って複数のファイバブラッググレーティングが形成された光ファイバを前記超電導線材に接着固定し;
前記超電導線材の温度変化に対する前記ファイバブラッググレーティングのブラッグ波長の変化をあらかじめ測定し、前記ブラッグ波長の変化から前記超電導線材の温度を計測するための関係式を求め;
前記超電導線材に常電導転移が生じる前後の前記複数のファイバブラッググレーティングの温度変化を、前記関係式により求め;
前記複数のファイバブラッググレーティングの温度上昇が開始した時間差と、前記複数のファイバブラッググレーティングの間隔とに基づいて、前記常電導転移の伝播速度を算出する;
ことを特徴とする超電導線材の常電導転移の検出方法。 - 前記複数のファイバブラッググレーティングのいずれかにおいて計測した最高温度をTmax、このファイバブラッググレーティングから前記常電導転移の起点部までの距離をL、このファイバブラッググレーティングにおける温度上昇速度をυ、前記常電導転移の伝播速度をVとして、前記常電導転移の起点部における最高温度を、(L/V)υ+Tmaxにより算出することを特徴とする請求項1に記載の超電導線材の常電導転移の検出方法。
- 前記最高温度Tmaxおよび前記温度上昇速度υを、前記常電導転移の起点部に最も近いファイバブラッググレーティングを用いて計測することを特徴とする請求項2に記載の超電導線材の常電導転移の検出方法。
- 前記複数のファイバブラッググレーティングのそれぞれにおける温度上昇速度を、各ファイバブラッググレーティングの温度変化から求め、前記温度上昇速度が所定のしきい値以上であることにより、このファイバブラッググレーティングの位置に前記常電導転移が伝播したことを確認することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の超電導線材の常電導転移の検出方法。
- 前記所定のしきい値は、前記超電導線材に通電する電流値ごとにあらかじめ設定されることを特徴とする請求項4に記載の超電導線材の常電導転移の検出方法。
- 基材と、77K以上の臨界温度を有する超電導層と、金属安定化層とを備える超電導線材の常電導転移の検出方法であって、
コアにその長手方向に沿って複数のファイバブラッググレーティングが形成された光ファイバを前記超電導線材に接着固定し;
前記超電導線材の温度変化に対する前記ファイバブラッググレーティングのブラッグ波長の変化をあらかじめ測定し、前記ブラッグ波長の変化から前記超電導線材の温度を計測するための関係式を求め;
前記超電導線材に常電導転移が生じる前後の前記複数のファイバブラッググレーティングの温度変化を、前記関係式により求め;
前記複数のファイバブラッググレーティングのそれぞれにおける温度上昇速度を、各ファイバブラッググレーティングの温度変化から求め;
前記温度上昇速度が所定のしきい値以上であるか否かにより、このファイバブラッググレーティングの位置に前記常電導転移が伝播したか否かを判定する;
ことを特徴とする超電導線材の常電導転移の検出方法。 - 前記常電導転移が伝播したと判定されたファイバブラッググレーティングのうち、前記常電導転移の起点部から最も遠いファイバブラッググレーティングまでの距離を2倍することにより、前記常電導転移が生じた範囲を推定することを特徴とする請求項6に記載の超電導線材の常電導転移の検出方法。
- 前記所定のしきい値は、前記超電導線材に通電する電流値ごとにあらかじめ設定されることを特徴とする請求項6または7に記載の超電導線材の常電導転移の検出方法。
- 前記超電導線材がコイル状であり、このコイルにより発生させる電磁力によるファイバブラッググレーティングのブラッグ波長の変化をあらかじめ測定し、
前記電磁力によるファイバブラッググレーティングのブラッグ波長の変化を減算して得られるブラッグ波長の変化を前記関係式に適用して、前記超電導線材に常電導転移が生じる前後の前記複数のファイバブラッググレーティングの温度変化を求める請求項1〜8のいずれか1項に記載の超電導線材の常電導転移の検出方法。 - 前記複数のファイバブラッググレーティングが形成された光ファイバは、広帯域光源と、分光素子と、前記広帯域光源からの測定光が入射されるとともに、前記複数のファイバブラッググレーティングからのブラッグ反射光を前記分光素子に入射する光部品と、前記分光素子により分光された光を受光して電圧信号を出力する受光素子とを備える温度計測器に接続されている請求項1〜9のいずれか1項に記載の超電導線材の常電導転移の検出方法。
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