JPWO2011125974A1 - Filter device, filter accommodation method, and exposure apparatus - Google Patents
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Abstract
フィルタ装置は、フィルタを保持するフレームと、フレームの側面の少なくとも一部に設けられ、フレームの端面側に向かい、かつフレームの外側に変化した形状変化部とを備えるフィルタボックスと、フィルタボックスを収容するケーシングとを備え、ケーシングは、フレームの形状変化部に係合してフレームを位置決めする位置決めブロックと、フレームの端面が押し付けられる仕切り板とを有する。フィルタの設置を容易に位置決めできるように行うことができる。The filter device includes a frame that holds the filter, a filter box that is provided on at least a part of the side surface of the frame, and that has a shape changing portion that changes toward the end surface of the frame and changes to the outside of the frame. The casing includes a positioning block for positioning the frame by engaging with the shape change portion of the frame, and a partition plate against which the end surface of the frame is pressed. The filter can be installed so that it can be easily positioned.
Description
本発明は、例えば気体中の不純物等を除去するためのフィルタを収容するフィルタ装置、フィルタの収容方法、そのフィルタ装置を備える露光装置、及びこの露光装置を用いて例えば半導体素子、液晶表示素子、又は撮像素子等を製造するためのデバイス製造方法に関する。 The present invention includes, for example, a filter device that contains a filter for removing impurities and the like in a gas, a filter housing method, an exposure device that includes the filter device, and a semiconductor element, a liquid crystal display element, and the like using the exposure device, Or it is related with the device manufacturing method for manufacturing an image pick-up element etc.
例えば半導体素子等の電子デバイス(マイクロデバイス)を製造するためのリソグラフィー工程で使用される露光装置において、高い露光精度(解像度及び位置決め精度等)を得るためには、照明光学系の照明特性及び投影光学系の結像特性を所定の状態に維持し、かつレチクル(又はフォトマスク等)、投影光学系、及びウエハ(又はガラスプレート等)が設置される空間を所定の環境に維持する必要がある。そのため、従来より、露光装置の照明光学系の一部、レチクルステージ、投影光学系、及びウエハステージ等を含む露光本体部は、箱型のチャンバ内に設置され、このチャンバ内に、所定温度に制御されて、かつ防塵フィルタを通過した清浄な気体(例えば空気)をダウンフロー方式及びサイドフロー方式で供給する空調装置が備えられている。 For example, in an exposure apparatus used in a lithography process for manufacturing an electronic device (microdevice) such as a semiconductor element, in order to obtain high exposure accuracy (resolution, positioning accuracy, etc.), illumination characteristics and projection of an illumination optical system The imaging characteristics of the optical system must be maintained in a predetermined state, and the space where the reticle (or photomask, etc.), projection optical system, and wafer (or glass plate, etc.) are installed must be maintained in a predetermined environment. . Therefore, conventionally, an exposure main body including a part of an illumination optical system of an exposure apparatus, a reticle stage, a projection optical system, a wafer stage, and the like is installed in a box-shaped chamber, and a predetermined temperature is set in the chamber. An air conditioner that is controlled and supplies clean gas (for example, air) that has passed through a dust filter by a downflow method and a sideflow method is provided.
また、露光装置では、近年の回路パターンの著しい微細化要求に対応すべく、露光光の短波長化が進められており、最近では、露光光としてKrFエキシマレーザ(波長248nm)、及びさらにほぼ真空紫外域のArFエキシマレーザ(波長193nm)が使用されている。このような短波長の露光光を用いる場合、露光光が通過する空間(例えば、鏡筒の内部空間)内に微量な有機物のガス(有機系ガス)が存在すると、露光光の透過率が低下するとともに、露光光と有機系ガスとの反応によって、レンズエレメント等の光学素子の表面に曇り物質を生ずる恐れがある。さらに、チャンバ内に供給する気体からは、ウエハに塗布されたフォトレジスト(感光材料)と反応するアルカリ性物質のガス(アルカリ系ガス)等も除去することが望ましい。 In the exposure apparatus, the wavelength of exposure light has been shortened in order to meet the recent demand for finer circuit patterns. Recently, KrF excimer laser (wavelength 248 nm) is used as the exposure light, and more or less vacuum. An ArF excimer laser (wavelength 193 nm) in the ultraviolet region is used. When such exposure light with a short wavelength is used, the transmittance of the exposure light is reduced if a trace amount of organic gas (organic gas) is present in the space through which the exposure light passes (for example, the internal space of the lens barrel). At the same time, the reaction between the exposure light and the organic gas may cause a cloudy substance on the surface of the optical element such as a lens element. Further, it is desirable to remove gas (alkaline gas) of an alkaline substance that reacts with the photoresist (photosensitive material) applied to the wafer from the gas supplied into the chamber.
そこで、従来より、露光装置の空調装置の気体の取り込み部には、チャンバ内に供給される気体から有機系ガス及び/又はアルカリ系ガス等を除去するための複数のケミカルフィルタが設けられている(例えば、特許文献1参照)。 Therefore, conventionally, a plurality of chemical filters for removing organic gas and / or alkali gas from the gas supplied into the chamber are provided in the gas intake portion of the air conditioner of the exposure apparatus. (For example, refer to Patent Document 1).
従来の露光装置において、ケミカルフィルタをケーシング内に設置する場合、例えばケミカルフィルタを収納する平板状のフレームを横置き(フィルタ面が鉛直方向となる向き)でケーシング内の側壁に突き当たるまで搬入した後、所定の設置位置まで、作業者がそのフレームをその側壁に沿ってフィルタ面に対して法線方向に移動していた。この場合、フレームの端面と、そのケーシングの通気用の開口が形成された仕切り部材の面との間に隙間があると、ケミカルフィルタを通過せずに、この隙間を介して不純物を含む気体が露光本体部に供給される恐れがある。そのため、そのフレームをその設置位置に正確に位置決めするための時間が長くなり、ひいては使用済みのケミカルフィルタの交換時間も長くなっていた。 In a conventional exposure apparatus, when a chemical filter is installed in a casing, for example, a flat frame that houses the chemical filter is placed horizontally (in a direction in which the filter surface is in the vertical direction) until it hits the side wall in the casing. Until the predetermined installation position, the operator moved the frame along the side wall in the direction normal to the filter surface. In this case, if there is a gap between the end surface of the frame and the surface of the partition member in which the ventilation opening of the casing is formed, the gas containing impurities does not pass through the gap without passing through the chemical filter. There is a risk of being supplied to the exposure main body. For this reason, the time for accurately positioning the frame at the installation position becomes long, and as a result, the replacement time of the used chemical filter becomes long.
さらに、露光装置においては、要求される露光精度の一層の向上に対応して、設置するケミカルフィルタの数が増加しているため、ケミカルフィルタの交換を正確にかつ効率的に行う必要がある。
本発明は、このような事情に鑑み、フィルタの設置を容易に位置決めできるように行うことを目的とする。Furthermore, in the exposure apparatus, the number of chemical filters to be installed is increased in response to further improvement in required exposure accuracy, and therefore it is necessary to replace the chemical filters accurately and efficiently.
In view of such circumstances, it is an object of the present invention to make it possible to easily position a filter.
本発明の第1の態様によれば、フィルタを収容するフィルタ装置が提供される。このフィルタ装置は、第1フィルタを保持する第1フレームと、その第1フレームの側面のうち第1側面の少なくとも一部に設けられ、その第1フレームの2つの端面のうち、一方の端面側から他方の端面側に向かい、かつその第1フレームの外側に変化した第1形状変化部とを備える第1フィルタボックスと、その第1フィルタボックスを収容する収容部とを備え、その収容部は、その第1フレームのその第1側面とは異なる側面を支持する第1ベース部材と、その第1フレームのその第1形状変化部に係合してその第1フレームを位置決めする第1位置決め部材と、その第1位置決め部材とその第1形状変化部とが係合することによって、その第1フレームのその一方の端面が押し付けられる第1仕切り部材とを備えるものである。 According to the first aspect of the present invention, a filter device that houses a filter is provided. This filter device is provided on at least a part of the first side surface of the first frame that holds the first filter and the side surface of the first frame, and one end surface side of the two end surfaces of the first frame. A first filter box that includes a first shape changing portion that is directed to the other end face side and that has changed to the outside of the first frame, and a housing portion that houses the first filter box, the housing portion being A first base member that supports a side surface different from the first side surface of the first frame, and a first positioning member that engages with the first shape change portion of the first frame to position the first frame. And the 1st partition member with which the one end surface of the 1st frame is pressed by the 1st positioning member and the 1st shape change part engaging is provided.
また、本発明の第2の態様によれば、露光光でパターンを介して基板を露光する露光装置において、その基板を露光する露光本体部を収納するチャンバと、本発明のフィルタ装置と、そのチャンバの外部から取り込まれた気体をそのフィルタ保持装置を介してそのチャンバ内に送風する空調装置と、を備える露光装置が提供される。
また、本発明の第3の態様によれば、フィルタを収容部に収容する収容方法が提供される。この収容方法は、第1フィルタを保持する第1フレームと、その第1フレームの側面のうち第1側面の少なくとも一部に形成され、その第1フレームの2つの端面のうち、一方の端面側から他方の端面側に向かい、かつその第1フレームの外側に変化した第1形状変化部とを備える第1フィルタボックスを用意する工程と、その第1フレームのその第1側面に隣接する側面をその収容部の第1ベース部材の表面に載置する工程と、その第1フレームのその第1形状変化部をその収容部の第1位置決め部材に係合させて、その第1フレームをその収容部の第1仕切り部材の方向に移動させる工程と、その第1フレームのその一方の端面を第1シール部材を介してその収容部のその第1仕切り部材に押し付ける工程と、を含むものである。Further, according to the second aspect of the present invention, in an exposure apparatus that exposes a substrate with exposure light through a pattern, a chamber that houses an exposure main body that exposes the substrate, the filter apparatus of the present invention, An exposure apparatus is provided that includes an air conditioner that blows gas taken in from the outside of the chamber into the chamber via the filter holding device.
Moreover, according to the 3rd aspect of this invention, the accommodation method which accommodates a filter in an accommodating part is provided. This accommodation method is formed on at least a part of the first side surface of the first frame holding the first filter and the side surface of the first frame, and one end surface side of the two end surfaces of the first frame. Preparing a first filter box having a first shape changing portion that is directed from the first to the other end face side and changed to the outside of the first frame; and a side surface adjacent to the first side surface of the first frame. Placing the first frame on the surface of the first base member of the housing portion, engaging the first shape changing portion of the first frame with the first positioning member of the housing portion, and housing the first frame; A step of moving the first frame in the direction of the first partition member, and a step of pressing the one end surface of the first frame against the first partition member of the housing portion via the first seal member.
また、本発明の第4の態様によれば、本発明の露光装置を用いて感光性基板を露光することと、その露光された感光性基板を処理することと、を含むデバイス製造方法が提供される。 According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a device manufacturing method including exposing a photosensitive substrate using the exposure apparatus of the present invention and processing the exposed photosensitive substrate. Is done.
本発明によれば、例えば第1フレームの第1形状変化部を収容部の第1位置決め部材に係合させて、第1フレームを第1仕切り部材側に移動することによって、第1フレーム(第1フィルタ)の収容部内の目標位置に対して、第1フレームの設置を容易に位置決めできるように行うことができる。 According to the present invention, for example, by engaging the first shape changing portion of the first frame with the first positioning member of the housing portion and moving the first frame toward the first partition member, the first frame (first The first frame can be installed so as to be easily positioned with respect to the target position in the housing portion of (1 filter).
以下、本発明の好ましい実施形態の一例につき図1〜図7を参照して説明する。
図1は、本実施形態のスキャニングステッパーよりなる走査露光型の露光装置EXを示す一部を切り欠いた図である。図1において、露光装置EXは、露光光(露光用の照明光)ELを発生する光源部2と、露光光ELでレチクルR(マスク)を照明する照明光学系ILSと、レチクルRを保持して移動するレチクルステージRSTと、レチクルRのパターンの像をフォトレジスト(感光材料)が塗布されたウエハW(基板)の表面に投影する投影光学系PLとを備えている。さらに、露光装置EXは、ウエハWを保持して移動するウエハステージWSTと、その他の駆動機構及びセンサ類等と、複数枚のレチクルを保管するレチクルライブラリ9と、複数枚の未露光及び/又は露光済みのウエハを保管するウエハカセット7と、露光装置EXの動作を統括的に制御する主制御装置(不図示)とを備えている。これらの光源部2から主制御装置(不図示)までの部材は、例えば半導体デバイス製造工場のクリーンルーム内の第1の床FL1の上面に設置されている。Hereinafter, an example of a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
FIG. 1 is a partially cutaway view showing a scanning exposure type exposure apparatus EX composed of a scanning stepper according to the present embodiment. In FIG. 1, an exposure apparatus EX holds a
また、露光装置EXは、床FL1上に設置された箱状の気密性の高いチャンバ10を備え、チャンバ10の内部は、例えばシャッタ24R及び24Wで開閉される2つの開口を有する仕切り部材10dによって、露光室10aとローダ室10bとに区画されている。そして、露光室10a内に、照明光学系ILS、レチクルステージRST、投影光学系PL、及びウエハステージWSTを含む露光本体部4が設置され、ローダ室10b内に、レチクルライブラリ9及びウエハカセット7をそれぞれ含むレチクルローダ系及びウエハローダ系が設置されている。
Further, the exposure apparatus EX includes a box-like highly
また、露光装置EXは、チャンバ10の内部全体の空調を行うための全体空調システムを備えている。この全体空調システムは、第1の床FL1の階下の機械室の第2の床FL2の上面に設置されて、直列に配置された複数のケミカルフィルタを有するフィルタ装置26と、床FL2の上面に設置された空調本体部31を有する空調装置30と、露光室10aの上部に設置された大型の吹き出し口18と、照明光学系ILSを収納するサブチャンバ22の底面に配置された小型の吹き出し口19Rと、投影光学系PLの近傍に配置された小型の吹き出し口19Wとを備えている。フィルタ装置26は、配管25を介して供給される空調用の気体である空気ARから所定の不純物を除去し、不純物を除去した空気を矢印A1で示すように第1ダクト32を介して空調本体部31に供給する(詳細後述)。
Further, the exposure apparatus EX includes an overall air conditioning system for air conditioning the entire interior of the
空調装置30は、第1ダクト32と、空調本体部31と、空調本体部31とチャンバ10の内部とを床FL1に設けられた開口を通して連結する第2ダクト35と、例えば第2ダクト35の途中に配置されて、内部を流れる空気から微小な粒子(パーティクル)を除去するULPAフィルタ(Ultra Low Penetration Air-filter)等の防塵フィルタ36とを備えている。ダクト32,35及び配管25は、例えばステンレス鋼又はフッ素樹脂など、汚染物質の発生量の少ない材料を用いて形成されている。
The
空調本体部31は、第1ダクト32を介して供給される空気の温度を制御する温度制御部33Aと、その空気の湿度を制御する湿度制御部33Bと、その空気を第2ダクト35側に送風するファンモータ34とを備えている。その空気は、温度が20℃〜30℃の範囲内の例えば23℃に制御されて、第2ダクト35及び吹き出し口18を介して露光室10aの内部にダウンフロー方式で供給される。チャンバ10の内部は、この空気の供給によって陽圧状態に設定される。また、第2ダクト35内の空気は、分岐管35a及び35bと、対応する吹き出し口19W及び吹き出し口19Rとを介して露光室10a内に供給される。露光室10a内の空気の一部はローダ室10bにも流入する。
The
一例として、チャンバ10の内部(露光室10a)を流れた空気は、チャンバ10の底面に設けられた多数の開口45a及び床FL1に設けられた多数の開口45bを通して床下の排気ダクト44内に流れ、排気ダクト44内の空気は、不図示のフィルタを介して清浄化された後、排気される。なお、排気ダクト44に流れた空気の全部又は一部を配管25側に戻して再利用することも可能である。
As an example, the air that has flowed through the inside of the chamber 10 (
以下、図1において、投影光学系PLの光軸AXに平行にZ軸を取り、Z軸に垂直な平面(本実施形態ではほぼ水平面に平行である)内で図1の紙面に垂直にX軸を、図1の紙面に平行にY軸を取って説明する。本実施形態では、走査露光時のレチクルR及びウエハWの走査方向はY方向である。また、X軸、Y軸、Z軸の回りの回転方向をθx、θy、θz方向とも呼ぶ。 Hereinafter, in FIG. 1, the Z-axis is taken in parallel to the optical axis AX of the projection optical system PL, and X is perpendicular to the plane of FIG. 1 within a plane perpendicular to the Z-axis (substantially parallel to the horizontal plane in this embodiment). The axis will be described by taking the Y axis parallel to the paper surface of FIG. In the present embodiment, the scanning direction of reticle R and wafer W during scanning exposure is the Y direction. The rotation directions around the X axis, Y axis, and Z axis are also referred to as θx, θy, and θz directions.
先ず、チャンバ10の外側の床FL1上に設置された光源部2は、露光光ELとしてArFエキシマレーザ光(波長193nm)を発生する露光光源と、その露光光ELを照明光学系ILSに導くビーム送光光学系とを備えている。光源部2の露光光ELの射出端は、チャンバ10の+Y方向の側面上部の開口を通して露光室10a内に配置されている。なお、露光光源としては、KrFエキシマレーザ光源(波長248nm)などの紫外パルスレーザ光源、YAGレーザの高調波発生光源、固体レーザ(半導体レーザなど)の高調波発生装置、又は水銀ランプ(i線等)なども使用できる。
First, the
また、チャンバ10内の上部に配置された照明光学系ILSは、例えば米国特許出願公開第2003/0025890号明細書などに開示されるように、オプティカルインテグレータ等を含む照度均一化光学系、レチクルブラインド、及びコンデンサ光学系等を備えている。照明光学系ILSは、レチクルブラインドで規定されたレチクルRのパターン面のX方向に細長いスリット状の照明領域を露光光ELによりほぼ均一な照度で照明する。
The illumination optical system ILS disposed in the upper portion of the
レチクルRに形成されたパターン領域のうち、照明領域内のパターンの像は、両側テレセントリックで投影倍率βが縮小倍率(例えば1/4)の投影光学系PLを介してウエハWの表面に結像投影される。
また、チャンバ10の露光室10a内の床FL1上に、複数の台座11を介して下部フレーム12が設置され、下部フレーム12の中央部に平板状のベース部材13が固定され、ベース部材13上に例えば3箇所の防振台14を介して平板状のウエハベースWBが支持され、ウエハベースWBのXY平面に平行な上面にエアベアリングを介してウエハステージWSTがX方向、Y方向に移動可能に、かつθz方向に回転可能に載置されている。また、下部フレーム12の上端に、ウエハベースWBを囲むように配置された例えば3箇所の防振台15を介して光学系フレーム16が支持されている。光学系フレーム16の中央部の開口に投影光学系PLが配置され、光学系フレーム16上に投影光学系PLを囲むように上部フレーム17が固定されている。Of the pattern areas formed on the reticle R, the image of the pattern in the illumination area is imaged on the surface of the wafer W via the projection optical system PL that is telecentric on both sides and the projection magnification β is reduced (for example, 1/4). Projected.
A
また、光学系フレーム16の底面の+Y方向の端部にY軸のレーザ干渉計21WYが固定され、その底面の+X方向の端部にX軸のレーザ干渉計(不図示)が固定されている。これらの干渉計よりなるウエハ干渉計は、それぞれウエハステージWSTの側面の反射面(又は移動鏡)に複数軸の計測用ビームを照射して、例えば投影光学系PLの側面の参照鏡(不図示)を基準として、ウエハステージWSTのX方向、Y方向の位置、及びθx、θy、θz方向の回転角を計測し、計測値を主制御装置(不図示)に供給する。
Further, a Y-axis laser interferometer 21WY is fixed to an end portion in the + Y direction on the bottom surface of the
主制御装置(不図示)内のステージ制御系が、上記のウエハ干渉計の計測値及びオートフォーカスセンサ(不図示)の計測値等に基づいて、リニアモータ等を含む駆動機構(不図示)を介してウエハステージWSTのX方向、Y方向の位置及び速度とθz方向の回転角とを制御するとともに、ウエハWの表面が投影光学系PLの像面に合焦されるように、ウエハステージWST内のZステージ(不図示)を制御する。また、レチクルR及びウエハWのアライメントを行うためのアライメント系ALG等も設けられている。 A stage control system in a main controller (not shown) has a drive mechanism (not shown) including a linear motor based on the measured value of the wafer interferometer and the measured value of an autofocus sensor (not shown). The wafer stage WST is controlled so that the position and speed of the wafer stage WST in the X and Y directions and the rotation angle in the θz direction are controlled, and the surface of the wafer W is focused on the image plane of the projection optical system PL. The Z stage (not shown) is controlled. An alignment system ALG and the like for aligning the reticle R and the wafer W are also provided.
一方、上部フレーム17の+Y方向の上部に、照明光学系ILSを収納するサブチャンバ22が固定されている。さらに、上部フレーム17のXY平面に平行な上面にエアベアリングを介して、レチクルステージRSTがY方向に定速移動可能に、かつX方向への移動及びθzへの回転が可能に載置されている。
また、上部フレーム17の上面の+Y方向の端部にY軸のレーザ干渉計21RYが固定され、その上面の+X方向の端部にX軸のレーザ干渉計(不図示)が固定されている。これらの干渉計よりなるレチクル干渉計は、それぞれレチクルステージRSTに設けられた移動鏡21MY等に複数軸の計測用ビームを照射して、例えば投影光学系PLの側面の参照鏡(不図示)を基準として、レチクルステージRSTのX方向、Y方向の位置、及びθz、θx、θy方向の回転角を計測し、計測値を主制御装置(不図示)に供給する。On the other hand, a sub-chamber 22 that houses the illumination optical system ILS is fixed to the upper portion of the
A Y-axis laser interferometer 21RY is fixed to the + Y direction end of the upper surface of the
主制御装置(不図示)内のステージ制御系は、そのレチクル干渉計の計測値等に基づいてリニアモータ等を含む駆動機構(不図示)を介してレチクルステージRSTのY方向の速度及び位置、X方向の位置、並びにθz方向の回転角等を制御する。
また、本実施形態の露光装置EXが液浸型である場合には、投影光学系PLの下端の光学部材の下面に配置される例えばリング状のノズルヘッドを含む局所液浸機構(不図示)から、投影光学系PLの先端の光学部材とウエハWとの間の局所的な液浸領域に所定の液体(純水等)が供給される。その局所液浸機構としては、例えば米国特許出願公開第2007/242247号明細書等に開示されている液浸機構を使用できる。なお、露光装置EXがドライ型である場合には、その液浸機構を備える必要はない。The stage control system in the main control device (not shown) is configured such that the speed and position of the reticle stage RST in the Y direction via a drive mechanism (not shown) including a linear motor based on the measurement value of the reticle interferometer, etc. The position in the X direction and the rotation angle in the θz direction are controlled.
Further, when the exposure apparatus EX of the present embodiment is a liquid immersion type, a local liquid immersion mechanism (not shown) including, for example, a ring-shaped nozzle head disposed on the lower surface of the optical member at the lower end of the projection optical system PL. Thus, a predetermined liquid (pure water or the like) is supplied to a local liquid immersion region between the optical member at the tip of the projection optical system PL and the wafer W. As the local immersion mechanism, an immersion mechanism disclosed in, for example, US Patent Application Publication No. 2007/242247 can be used. When the exposure apparatus EX is a dry type, it is not necessary to provide the liquid immersion mechanism.
また、ローダ室10bの内部において、上方の支持台67の上面にレチクルライブラリ9及び水平多関節型ロボットであるレチクルローダ8が設置されている。レチクルローダ8は、仕切り部材10dのシャッタ24Rで開閉される開口を通して、レチクルライブラリ9とレチクルステージRSTとの間でレチクルRの交換を行う。
また、ローダ室10bの内部において、下方の支持台68の上面にウエハカセット7と、ウエハカセット7との間でウエハの出し入れを行う水平多関節型ロボット6aとが設置されている。水平多関節型ロボット6aの上方には、水平多関節型ロボット6aとともにウエハローダ6を構成するウエハ搬送装置6bが設置されている。ウエハ搬送装置6bは、仕切り部材10dのシャッタ24Wで開閉される開口を通して、水平多関節型ロボット6aとウエハステージWSTとの間でウエハWを搬送する。In the
Inside the
そして、露光装置EXの露光時には、先ずレチクルR及びウエハWのアライメントが行われる。その後、レチクルRへの露光光ELの照射を開始して、投影光学系PLを介してレチクルRのパターンの一部の像をウエハWの表面の一つのショット領域に投影しつつ、レチクルステージRSTとウエハステージWSTとを投影光学系PLの投影倍率βを速度比としてY方向に同期して移動(同期走査)する走査露光動作によって、そのショット領域にレチクルRのパターン像が転写される。その後、ウエハステージWSTを介してウエハWをX方向、Y方向にステップ移動する動作と、上記の走査露光動作とを繰り返すことによって、ステップ・アンド・スキャン方式でウエハWの全部のショット領域にレチクルRのパターン像が転写される。 Then, at the time of exposure by the exposure apparatus EX, alignment of the reticle R and the wafer W is first performed. Thereafter, the exposure of the exposure light EL to the reticle R is started, and a reticle stage RST is projected while projecting a partial image of the pattern of the reticle R onto one shot area on the surface of the wafer W via the projection optical system PL. The pattern image of the reticle R is transferred to the shot area by a scanning exposure operation that moves the wafer stage WST in synchronization with the Y direction using the projection magnification β of the projection optical system PL as a speed ratio (synchronous scanning). After that, by repeating the step movement of the wafer W in the X and Y directions via the wafer stage WST and the above scanning exposure operation, the reticle is applied to all shot areas of the wafer W by the step-and-scan method. An R pattern image is transferred.
次に、本実施形態の露光装置EXは、照明光学系ILSの照明特性(照度均一性等)及び投影光学系の結像特性(解像度等)を所定の状態に維持し、かつレチクルR、投影光学系PL、及びウエハWが設置される雰囲気(空間)を所定の環境に維持して高い露光精度(解像度、位置決め精度等)で露光を行うために、上述のように、チャンバ10の内部に温度制御された清浄な空気をダウンフロー方式で供給する空調装置30を含む全体空調システムを備えている。
Next, the exposure apparatus EX of the present embodiment maintains the illumination characteristics (illuminance uniformity, etc.) of the illumination optical system ILS and the imaging characteristics (resolution, etc.) of the projection optical system in a predetermined state, and the reticle R, projection In order to perform exposure with high exposure accuracy (resolution, positioning accuracy, etc.) while maintaining the atmosphere (space) in which the optical system PL and the wafer W are installed in a predetermined environment, as described above, the inside of the
また、その全体空調システムは局所空調部を備えている。即ち、第2ダクト35の分岐管35b及び35aからそれぞれサブチャンバ22の底面の吹き出し部19R、及び光学系フレーム16の底面の吹き出し部19Wに温度制御された清浄な空気が供給されている。この場合、吹き出し部19R及び19Wは、それぞれレチクルステージRST用のY軸のレーザ干渉計21RY及びウエハステージWST用のY軸のレーザ干渉計21WYの計測用ビームの光路上に配置されている。吹き出し部19R,19Wは、それぞれ温度制御された空気を、ほぼ均一な風速分布で計測用ビームの光路上にダウンフロー方式(又はサイドフロー方式でもよい)で吹き出す。同様に、X軸のレーザ干渉計の計測用ビームの光路にも温度制御された空気が局所的に供給される。これによって、レチクル干渉計21R及びウエハ干渉計21W等によってレチクルステージRST及びウエハステージWSTの位置を高精度に計測できる。
The entire air conditioning system includes a local air conditioning unit. That is, clean air whose temperature is controlled is supplied from the
また、ローダ室10b内に局所空調装置60が設置されている。局所空調装置60は、支持台68の底面に配置された小型のファンモータ61と、ファンモータ61で送風された空気を上部に供給するダクト62と、レチクルライブラリ9及びウエハカセット7の上方に配置された吹き出し口65及び66とを備えている。ダクト62の先端部はそれぞれ吹き出し口65及び66に空気を供給する分岐管62R及び62Wに分かれている。また、吹き出し口65及び66の空気の流入口の近傍にそれぞれULPAフィルタ等の防塵フィルタが設置され、ファンモータ61の近傍のダクト62内に、所定の不純物を除去するケミカルフィルタを収納するフィルタボックス63,64が設置されている。一例として、フィルタボックス63のケミカルフィルタは、有機系ガス(有機物のガス)を除去し、フィルタボックス64のケミカルフィルタは、アルカリ系ガス(アルカリ性物質のガス)及び酸性ガス(酸性物質のガス)を除去する。
A
ローダ室10b内で局所空調装置60を動作させると、ファンモータ61から送風された空気は、フィルタボックス63,64及びダクト62を介して吹き出し口65及び66からそれぞれダウンフロー方式でレチクルライブラリ9及びウエハカセット7が配置された空間に供給される。そして、レチクルライブラリ9の周囲を流れた空気は、支持台67の周囲、支持台67の下方のウエハカセット7の周囲、及び支持台68の周囲を経てファンモータ61に戻される。また、吹き出し口66からウエハカセット7の周囲に供給された空気は、支持台68の周囲を経てファンモータ61に戻される。そして、ファンモータ61に戻された空気は、再びフィルタボックス63,64及び防塵フィルタを介して吹き出し口65,66からローダ室10b内に供給される。このように、局所空調装置60によって、ローダ室10d内の空気は清浄な状態に保たれる。
When the
次に、本実施形態の全体空調システムにおいて、空調装置30に連結されるフィルタ装置26の構成及び作用につき説明する。フィルタ装置26は、Y方向に細長い気密化された箱状のケーシング28と、ケーシング28内の空間をほぼ水平面内でY方向に4個の空間に分けるXZ平面に平行な仕切り板42A,42B,42Cと、仕切り板42A,42B,42Cのそれぞれの一方の面(図1では+Y方向の面)に密着させて設置される第1の種類のフィルタボックス38、第2の種類のフィルタボックス40、及び第1の種類のフィルタボックス38とを有する。フィルタ装置26は、2種類で3個(3段)の直列に配置されたフィルタボックス38,40を有する。以下では、第1の種類のフィルタボックス38を第1のフィルタボックス38とも呼び、第2の種類のフィルタボックス40を第2のフィルタボックス40とも呼ぶ。
本実施形態において、フィルタボックスは、フィルタ面が水平方向に対して交差する方向、例えば、フィルタボックスのフィルタ面がXZ面内に設置される。なお、フィルタボックスのフィルタ面は、XZ面に対して傾斜して設置されてもよい。この場合、フィルタボックスのフレームの設置面にテーパを形成したり、またはケーシング28の底板28hにテーパ部材を設けたりすればよい。
本実施形態では、このフィルタボックスの設置状態を横置きとして、以下説明する。Next, the configuration and operation of the
In the present embodiment, the filter box is installed in a direction in which the filter plane intersects the horizontal direction, for example, the filter plane of the filter box is in the XZ plane. Note that the filter surface of the filter box may be installed inclined with respect to the XZ plane. In this case, a taper may be formed on the installation surface of the filter box frame, or a taper member may be provided on the
In this embodiment, the installation state of the filter box will be described as follows.
さらに、フィルタ装置26は、フィルタボックス38,40の挿入時又は交換時に、フィルタボックス38,40を出し入れするための窓部28b(図2参照)を開くために、ケーシング28に複数箇所でヒンジ機構29h(図3参照)を介して開閉可能に装着されたドア29を有する。ケーシング28の+Y方向の端部の第1の空間の上板には、開口28aが形成されており、この開口28aに空調用の空気ARを取り込む配管25の端部が取り付けられている。ケーシング28の−Y方向の側壁に開口28gが形成され、ケーシング28の−Y方向の端部の第4の空間に開口28gを通して第1ダクト32が連結されている。
Further, the
図2は、図1中のケーシング28のドア29を開いた状態のフィルタ装置26を示す。図2において、説明の便宜上、ケーシング28、ドア29、及び仕切り板42A〜42Cは2点鎖線で表している。図2において、ドア29には、ドア29でケーシング28の窓部28bを閉じたときに、窓部28bの周辺及び仕切り板42A〜42Cの端部とドア29との間を密閉するためのガスケット46が固定されている。ガスケット46は、耐食性に優れ、かつ脱ガスの少ない材料、例えばテフロン(デュポン社の登録商標)のシート、又はシリコンゴムのシート等から形成できる。
FIG. 2 shows the
また、ケーシング28の内部において、−Y方向の端部の仕切り板42A及び+Y方向の端部の仕切り板42にそれぞれ密着するように横置きされた第1のフィルタボックス38は、フレーム50の開口50f(図3参照)に有機系ガス(有機物のガス)を除去するケミカルフィルタ51を保持したものである。また、中央の仕切り板42Bに密着するように横置きされた第2のフィルタボックス40は、フレーム55の開口55f(図3参照)にアンモニアやアミン等のアルカリ系ガス(アルカリ性物質のガス)及び酸性ガス(酸性物質のガス)を除去するケミカルフィルタ56を保持したものである。
Further, in the
各フィルタボックス38,40のY方向の幅は例えば200〜400mmであり、各フィルタボックス38,40の重量は例えば10〜20kg程度である。
有機系ガス除去用のケミカルフィルタ51としては、例えば活性炭型フィルタ又はセラミックス型フィルタ等が使用可能である。また、アルカリ系ガス及び酸性ガス除去用のケミカルフィルタ56としては、添着剤活性炭型フィルタ、イオン交換樹脂型フィルタ、イオン交換繊維型フィルタ、又は添着剤セラミックス型フィルタ等を使用することができる。また、フレーム50,55、仕切り板42A〜42C、ケーシング28、及びドア29は、それぞれ耐食性があり脱ガス等の少ない材料、例えば表面に酸化皮膜(酸化アルミニウム等)が形成されたアルミニウム(アルマイト処理されたアルミニウム)、又はステンレス鋼等から形成されている。なお、フレーム50,55等は、耐食性があり脱ガスの少ない樹脂材料を含む材料(ポリエチレンで覆った合板、又はフッ素系樹脂等)等で形成することも可能である。The width of each
As the organic gas
なお、有機系ガスを除去することで、チャンバ10の露光室10a内で露光光ELの透過率が向上し、かつ有機系ガスと露光光ELとの相互作用によって光学素子に表面に形成される曇り物質の発生が抑制される。また、アルカリ系ガス及び酸性ガスを除去することによって、ウエハWのフォトレジストの特性の変化等が抑制される。特に、フォトレジストが化学増幅型フォトレジストである場合には、空気中にアンモニアやアミン等のアルカリ系ガスがあると、発生した酸が反応してフォトレジスト表面に難溶化層ができる恐れがある。従って、特にアンモニアやアミン等のアルカリ系ガスの除去が有効である。
By removing the organic gas, the transmittance of the exposure light EL is improved in the
なお、図1のローダ室10b内のフィルタボックス63,64内のケミカルフィルタの構成は、ケミカルフィルタ51,56の構成と同様である。ただし、フィルタボックス63,64はフィルタボックス38,40より小型でもよい。
また、フィルタ装置26は、ケーシング28の−X方向の側壁28iに固定されて、それぞれ仕切り板42A,42B,42Cに対してフィルタボックス38,40,38を位置決めするための位置決めブロック48A,48B,48Cと、位置決めブロック48A,48B,48Cに対してそれぞれフィルタボックス38,40,38をZ方向の中央付近で付勢するための移動用レバー58A,58B,58Cと、を有する。位置決めブロック48A,48B,48Cは、それぞれZY平面に対して時計回りに所定のテーパ角φ(図3参照)で傾斜した平面よりなるテーパ部48Aa,48Ba,48Caを有する。The configuration of the chemical filter in the
The
図3は、図2のケーシング28のドア29を閉じた状態のフィルタ装置26を示す平面の断面図である。ただし、図3においては、ケーシング28の上板に形成されている空気取り込み用の開口28aを2点鎖線で示している。図3において、仕切り板42A〜42Cにはそれぞれフィルタボックス38,40を通過した空気を通す開口42Aa,42Ba,42Caが形成されている。また、ケーシング28内の空間は、仕切り板42A〜42Cによって、+Y方向から順に4個の空間28c,28d,28e,28fに別れ、第1空間28cが開口28aを通して図1の配管25に連通し、第4空間28fが開口28gを通して図1の第1ダクト32に連通している。さらに、位置決めブロック48A〜48Cのテーパ部48Aa〜48Caのテーパ角φは互いに等しく、テーパ角φは例えば20°〜40°であり、一例としてテーパ角φは30°である。
FIG. 3 is a plan sectional view showing the
また、互いに同じ構成の移動用レバー58A,58B,58Cはそれぞれ仕切り板42B,42C及びケーシング28の+Y方向の側壁に固定された支点部材59A,59B,59C(保持部材)に対してZ軸に平行な軸の回り(θz方向)に回転可能に連結されている。一例として、移動用レバー58Aは、支点部材59Aに回転可能に連結されたロッド58A1と、ロッド58A1の先端部のそれぞれフィルタボックス38側及びこれと反対側に固定された半球状の当接部材58A2及び取っ手58A3とを有する。
Also, the moving
次に、フィルタボックス38及び40の構成につき、図2の仕切り板42A及び42B側からそれぞれフィルタボックス38及び40を見たときの斜視図である図4(A)及び図4(B)を参照して説明する。図4(A)及び図4(B)中の直交座標系(X,Y,Z)は、それぞれフィルタボックス38及び40がフィルタ装置26内で目標とする位置に設置された状態における座標系を表している。
Next, regarding the configuration of the
図4(A)に示すように、第1のフィルタボックス38は、中央部にほぼ正方形の開口50fが設けられたほぼ環状のフレーム50と、開口50f内に保持されたケミカルフィルタ51と、フレーム50に固定された1対の凸の取っ手部70Aとを有する。ガスケット54の材料はガスケット46と同様である。
さらに、本実施形態において、フレーム50のXZ平面に平行な−Y方向の第1の端面50aに、開口50fを囲むように接着等で固定されたほぼ正方形の環状のガスケット54(シール部材)を設けている。なお、ガスケット54は、第1の端面50aが密着する相手側(例えば、仕切り板)に設けてもよい。
なお、第1のフィルタボックス38の開口50fは、四角形等の矩形状であっても、多角形状であってもよい。また、フレーム50の形状も正方形に限らず、長方形や多角形状であってもよい。As shown in FIG. 4A, the
Furthermore, in the present embodiment, a substantially square annular gasket 54 (seal member) fixed to the
Note that the
また、フィルタボックス38は、フレーム50の4つの側面のうち、−X方向側の第1側面及び+X方向側の第2側面の全面に、それぞれフレーム50のXZ平面に平行な+Y方向の第2の端面50gから第1の端面50a側に向かって、フレーム50の外側に傾斜するように形成された平面よりなる対称な第1テーパ部50b及び第2テーパ部50cを有する。この第2側面は、第1側面に対してケミカルフィルタ56(又はフレーム50の開口50f)を挟んで反対側の面である。第1テーパ部50bはZY平面に対して時計回りにテーパ角φで傾斜し、第2テーパ部50cはZY平面に対して反時計回りにテーパ角φで傾斜している。テーパ角φは、図3の位置決めブロック48A〜48Cのテーパ部48Aa〜48Caのテーパ角と等しい。従って、図3において、フレーム50の端面50aに対して第1テーパ部50bがなす角度をαとすると、角度αとテーパ角φとの和は90°である。
The
図4(A)において、フレーム50の第1テーパ部50bの中央部から−Z方向にずれた位置に取っ手部70Aが固定され、第2テーパ部50cの中央部から+Z方向にずれた位置に取っ手部70Aが固定されている。即ち、フレーム50の中心に対して1対の取っ手部70Aはほぼ点対称な位置にある。また、フレーム50の−Z方向及び+Z方向の側面がそれぞれXY平面に平行な設置面50d及び50eである。
4A, the
フィルタボックス38のフレーム50の設置面50dをケーシング28の第3空間28eの底板28hの上面に載置し、図3に示すように、フレーム50の第1テーパ部50bを位置決めブロック48Aのテーパ部48Aaに接触させて、かつフレーム50の端面50aをガスケット54を介して仕切り板42Aに密着させた状態が、第3空間28e内のフィルタボックス38の設置位置Q1である。フィルタボックス38は、横置きで自重によって安定に静止している。この場合、位置決めブロック48Aのテーパ部48Aaの取っ手部70Aに対向する位置には凹部48Abが形成されているため、取っ手部70Aがあってもテーパ部48Aaにテーパ部50bを密着可能である。
The mounting
同様に、ケーシング28の第1空間28c内の設置位置Q3においても、フィルタボックス38のフレーム50の設置面50dが底板28hの上面に載置され、フレーム50の第1テーパ部50bが位置決めブロック48Cのテーパ部48Caに接触し、かつ端面50aがガスケット54を介して仕切り板42Cに密着している。また、第1テーパ部50bに設けた取っ手部70Aが位置決めブロック48Cのテーパ部48Caの凹部48Cb内に収まっている。
Similarly, at the installation position Q3 in the
さらに、フィルタボックス38は、1対の取っ手部70Aを取り外した状態において、Y軸に平行な軸の回り(θy方向)に180°回転しても形状が同じであるため、フレーム50の他方の設置面50eをケーシング28の底板28h上に載置することも可能である。このように設置面50eを底板28h上に載置したときには、フレーム50の第2テーパ部50cが位置決めブロック48A(48C)のテーパ部48Aa(48Ca)に接触し、第2テーパ部50cに設けた取っ手部70Aが凹部48Ab(48Cb)内に収まるため、フィルタボックス38は正確に設置位置Q1又はQ3に設置できる。
Further, the shape of the
図4(B)に示すように、第2のフィルタボックス40は、フレーム50と同じ形状の中央部に開口55fが設けられたほぼ環状のフレーム55と、開口55f内に保持されたケミカルフィルタ56とを有する。また、フィルタボックス40は、フレーム55の−X方向側の側面及び+X方向の側面の全面に、それぞれ+Y方向の第2の端面55gから−Y方向の第1の端面55a側に向かって、フレーム55の外側にテーパ角φで傾斜するように対称に形成された第1テーパ部55b及び第2テーパ部55cを有する。第2のフィルタボックス40は、第1のフィルタボックス38と同様、フレーム55の−Y方向の第1の端面55aに、開口55fを囲むようにガスケット54を固定してもよい。また、第2のフィルタボックス40の開口55fも、第1のフィルタボックス38と同様、四角形等の矩形状であっても、多角形状であってもよい。また、フレーム55の形状も正方形に限らず、長方形や多角形状であってもよい。
なお、フレーム50,55は、例えばモールド成形等によって製造可能である。As shown in FIG. 4B, the
The
さらに、フィルタボックス40は、第1テーパ部55bの中央から+Z方向にずれた位置、及びこの位置とフレーム55の中心に関してほぼ点対称な第2テーパ部55c上の位置に固定された1対の取っ手部70Bを有する。また、フレーム55の−Z方向及び+Z方向の側面がそれぞれ設置面55d及び55eである。
本実施形態では、第1のフィルタボックス38及び第2のフィルタボックス40の形状は、それぞれの1対の取っ手部70A及び70Bの位置がZ方向に沿って逆方向にずれている点が異なっている。また、この形状の相違は、フィルタボックス38,40をθy方向に180°回転しても維持される。従って、作業者は、外観からフィルタボックス38,40を容易に互いに識別可能である。さらに、図4(A)のフレーム50の1対の取っ手部70Aは例えばボルト(不図示)でテーパ部50b,50cのネジ穴に固定され、テーパ部50b,50cの中心から取っ手部70AとZ方向に対称な位置に取っ手部70Aを取り付け可能なネジ穴が形成された取り付け領域E1,E2が設定されている。このため、1対の取っ手部70Aのテーパ部50b,50aに対する取り付け位置は、傾斜方向とは異なる方向、本実施形態では、傾斜方向に対して直交する方向に沿って可変である。従って、取っ手部70Aをフレーム50の取り付け領域E1,E2に取り付けることによって、フレーム50は第2のフィルタボックス40用のフレーム55として使用可能である。Further, the
In this embodiment, the shapes of the
同様に、図4(B)において、1対の取っ手部70Bのフレーム55のテーパ部55b,55aに対する取り付け位置は、取り付け領域E3,E4との間で傾斜がない方向に沿って可変である。従って、取っ手部70Bをフレーム55の取り付け領域E3,E4に取り付けることによって、フレーム55は第1のフィルタボックス38用のフレーム50として使用可能である。
Similarly, in FIG. 4B, the attachment position of the pair of
フィルタボックス40のフレーム55の設置面55dをケーシング28の第2空間28dの底板28hの上面に載置し、図3に示すように、フレーム55の第1テーパ部55bを位置決めブロック48Bのテーパ部48Baに接触させて、かつフレーム55の端面55aをガスケット54を介して仕切り板42Bに密着させた状態が、第2空間28d内のフィルタボックス40の設置位置Q2である。フィルタボックス40も、横置きで自重によって安定に静止している。この場合、位置決めブロック48Bのテーパ部48Baの取っ手部70Bに対向する位置には凹部48Bbが形成されているため、取っ手部70Bがあってもテーパ部48Baにテーパ部55bを密着可能である。
The
さらに、フィルタボックス40も、θy方向に180°回転しても形状が同じであるため、1対の取っ手部70Bを取り外した状態で、フレーム55の他方の設置面55eをケーシング28の底板28h上に載置することも可能である。このように設置面55eを底板28h上に載置したときには、フレーム55の第2テーパ部55cが位置決めブロック48Bのテーパ部48Baに接触し、第2テーパ部55cに設けた取っ手部70Bが凹部48Bb内に収まるため、フィルタボックス40は正確に設置位置Q2に設置できる。
Further, the shape of the
なお、図2に示すように、位置決めブロック48Cの凹部48Cbの位置は取っ手部70Aに合わせて低い位置にあり(位置決めブロック48Aの凹部48Abも同様)、位置決めブロック48Bの凹部48Bbの位置は取っ手部70Bに合わせて高い位置にある。従って、空間28c又は28e内の設置位置Q3又はQ1に第2のフィルタボックス40を設置しようとすると、フィルタボックス40の取っ手部70Bが位置決めブロック48C又は48Aのテーパ部48Ca又は48Aaと機械的に干渉するため、設置位置Q3,Q1に誤ってフィルタボックス40を設置することが防止できる。同様に、空間28d内の設置位置Q2に第1のフィルタボックス38を設置しようとすると、フィルタボックス38の取っ手部70Aが位置決めブロック48Bのテーパ部48Baと機械的に干渉するため、設置位置Q2に誤ってフィルタボックス38を設置することが防止できる。このように本実施形態によれば、フィルタボックス38の取っ手部70Aの位置とフィルタボックス40の取っ手部70Bの位置とが異なり、かつ対応するケーシング28内の位置決めブロック48A,48Cの凹部48Aa,48Caの位置と位置決めブロック48Bの凹部48Bbの位置とが異なっている。従って、仕切り板42A,42Cの前面にアルカリ系ガス及び酸性ガスを除去するためのケミカルフィルタ56を有するフィルタボックス40を設置することが防止でき、逆に仕切り板42Bの前面に有機系ガスを除去するためのケミカルフィルタ51を有するフィルタボックス38を設置することが防止できる。
As shown in FIG. 2, the position of the concave portion 48Cb of the
そして、図3において、仕切り板42A,42B,42Cの前面の設置位置Q1,Q2,Q3にそれぞれフィルタボックス38,40,38を設置した後、移動用レバー58A,58B,58Cで、各フィルタボックス38,40,38を仕切り板42A,42B,42Cに付勢し、ケーシング28のドア29が閉じられた状態では、位置決めブロック48A〜48C及び移動用レバー58A〜58Cによって、仕切り板42A〜42Cとフィルタボックス38,40のフレーム50,55との間の気密性はガスケット54によって高く維持されている。この結果、ケーシング28の開口28aが形成された上板と仕切り板42Cとで挟まれた第1空間28c内の気体は、必ずフィルタボックス38のケミカルフィルタ51を通過した後、開口42Caを通って、仕切り板42B及び42Cで挟まれた第2空間28dに流入する。同様に、空間28d内の気体は、必ずフィルタボックス40のケミカルフィルタ56を通過した後、開口42Baを通って、仕切り板42A及び42Bで挟まれた第3空間28eに流入する。同様に、空間28e内の気体は、必ずフィルタボックス38のケミカルフィルタ51を通過した後、開口42Aa、仕切り板42Aの裏面の第4空間28f、及びケーシング28の側壁の開口28gを通って、図2の第1ダクト32に流れる。従って、ケーシング28の+Y方向の上部の開口28aから流入する空気ARは、必ず2つ(2段)の有機系ガス除去用のフィルタボックス38及び一つ(1段)のアルカリ系ガス及び酸性ガス除去用のフィルタボックス40を通過して図1の空調装置30に供給されるため、チャンバ10内には不純物を高度に除去した空気が供給される。
In FIG. 3, after the
次に、ケーシング28に対するフィルタボックス38,40の設置動作及び交換動作の一例につき、図5(A)〜図6(B)、及び図7(A)、図7(B)のフローチャートを参照して説明する。図5(A)〜図6(B)は、それぞれケーシング28を断面で表したフィルタ装置26を示す平面図である。
まず、ケーシング28に最初に2つのフィルタボックス38及び一つのフィルタボックス40を設置するときには、図7(A)のステップ102において、図4(A)の未使用のケミカルフィルタ51が充填された2つのフィルタボックス38と、図4(B)の未使用のケミカルフィルタ56が充填された一つのフィルタボックス40とを用意する。次のステップ104において、ケーシング28のロック(不図示)を解除してドア29を開いた後、図5(A)において、矢印B1で示すように、移動用レバー58A〜58Cを前方(ケーシング28の窓部28bの外側)に開く。Next, with reference to the flowcharts of FIGS. 5 (A) to 6 (B), FIGS. 7 (A), and 7 (B), an example of the installation operation and replacement operation of the
First, when two
次のステップ106において、作業者は1番目のフィルタボックス38の取っ手部70Aを持ち、ケーシング28の第3空間28e内の底板28h(図2参照)上にフィルタボックス38(フレーム50)の設置面50dを載置する。そして、作業者は矢印B2で示すように、第3空間28e内にフィルタボックス38を押し込む。次のステップ108において、図5(B)に矢印B3で示すように、作業者は、フィルタボックス38の第1テーパ部50bを位置決めブロック48Aのテーパ部48Aaに係合(接触)させる。フィルタボックス38の一方の取っ手部70Aは位置決めブロック48Aの凹部48Ab内に収まる。そして、矢印B4で示すように、フィルタボックス38の第2テーパ部50cに移動用レバー58Aを押し当てて、フィルタボックス38の移動を開始する。次のステップ110において、作業者は、図6(A)に矢印B5で示すように移動用レバー58Aをさらに回転させて、フィルタボックス38を−X方向及び−Y方向に付勢する。これによって、矢印B6で示すように、フィルタボックス38のフレーム50の第1テーパ部50bが位置決めブロック48Aのテーパ部48Aaに接した状態で、フィルタボックス38はケーシング28内の設置位置Q1まで移動し、フィルタボックス38(フレーム50)の端面50aがガスケット54を介して仕切り板42Aに密着する。
In the
次のステップ112において、作業者は、2番目のフィルタボックス40の取っ手部70Bを持ち、ケーシング28の第2空間28d内の底板28h上にフィルタボックス40(フレーム55)の設置面55dを載置する。そして、作業者は矢印B7で示すように、ケーシング28の第2空間28d内にフィルタボックス40を押し込む。次のステップ114において、作業者は図6(B)に示すように、フィルタボックス40の第1テーパ部55bを位置決めブロック48Bのテーパ部48Baに係合(接触)させ、フィルタボックス40の第2テーパ部55cに移動用レバー58Bを押し当てる。フィルタボックス40の一方の取っ手部70Bは位置決めブロック48Bの凹部48Bb内に収まる。
In the
次のステップ116において、作業者は、矢印B8で示すように移動用レバー58Bをさらに回転して、矢印B9で示すように、フィルタボックス40のフレーム55の第1テーパ部55bが位置決めブロック48Bのテーパ部48Baに接した状態で、フィルタボックス40をケーシング28内の設置位置Q2まで移動させる。これにより、フィルタボックス40(フレーム55)の端面55aがガスケット54を介して仕切り板42Bに密着する。次のステップ118において、矢印B10で示すように、ケーシング28の第1空間28c内で3番目のフィルタボックス38を移動し、移動用レバー58Cを回転して、第1空間28c内の設置位置にフィルタボックス38を設置する。次のステップ120において、ケーシング28のドア29を閉じてロックすることで、フィルタボックス38,40の設置が完了する。
In the
この際に、フィルタボックス38(40)の第1テーパ部50b(55b)を位置決めブロック48A(48B)のテーパ部48Aa(48Ba)に押し当てて、フィルタボックス38(40)を付勢するのみで、フィルタボックス38(40)は仕切り板42A(42B)の前面の設置位置Q1(Q2)に短時間に設置される。従って、フィルタボックス38(40)、ひいてはこの内部のケミカルフィルタ51(56)の目標とする位置への設置を効率的に、かつ容易に位置決めできるように行うことができる。
At this time, the
次に、ケーシング28内のフィルタボックス38,40の交換を行う場合、まず図7(B)のステップ122において、作業者は、ケーシング28のロックを解除してドア29を開き、図6(B)に矢印D1で示すように移動用レバー58Cを開く。次のステップ124において、作業者は、第1空間28c内のフィルタボックス38の取っ手部70Aを持ち、矢印D2で示すようにフィルタボックス38を搬出する。次のステップ126において、図6(A)に矢印D3で示すように移動用レバー58Bを開いた後、作業者は、第2空間28d内のフィルタボックス40の取っ手部70Bを持ち、フィルタボックス40の第1テーパ部55bを位置決めブロック48Bのテーパ部42Baに沿って前方へ移動させる。次のステップ128において、作業者は矢印D4で示すように、フィルタボックス40をケーシング28の第2空間28dから引き抜く。
Next, when exchanging the
次のステップ130において、図5(B)に矢印D5で示すように移動用レバー58Aを開いた後、作業者は、第3空間28e内のフィルタボックス38の取っ手部70Aを持ち、取っ手部70Aを矢印D6で示す方向に引く。これによって、矢印D7で示すように、フィルタボックス38の第1テーパ部50bは、位置決めブロック48Aのテーパ部48Aaに沿って前方へ移動する。次のステップ132において、作業者は、図5(A)に矢印D8で示すように、フィルタボックス38をケーシング28の第3空間28eから引き抜く。
In the
次のステップ134において、ステップ106〜118と同様の工程によって、作業者は新しいフィルタボックス38,40をケーシング28内の目標とする位置に設置する。次のステップ136において、ケーシング28のドア29を閉じてロックすることで、フィルタボックス38,40の交換が終了する。
この際に、フィルタボックス38,40は、設置位置から容易に引く抜くことができるため、ケーシング28におけるフィルタボックス38,40の交換を容易に、かつ効率的に行うことができる。In the
At this time, since the
本実施形態の効果等は以下の通りである。
(1)本実施形態の露光装置EXは、フィルタ装置26及び空調装置30を含む全体空調システムを備え、フィルタ装置26はケミカルフィルタ51等を収容する装置である。そして、フィルタ装置26は、ケミカルフィルタ51(第1フィルタ)を保持する枠状のフレーム50(第1フレーム)と、フレーム50の−X方向の側面(第1側面)の少なくとも一部に形成され、フレーム50の第2の端面50g側から第1の端面50a側に向かって、フレーム50の外側に次第に傾斜する第1テーパ部50b(形状変化部としての第1傾斜部)とを備える第1のフィルタボックス38と、フィルタボックス38を収容するケーシング28(収容部)とを備えている。さらに、フレーム50の2つの端面のうち第1の端面50aには、ガスケット54(第1シール部材)が設けられている。
そして、ケーシング28は、フレーム50の−X方向の側面とは異なる側面である設置面50dを支持する底板28h(第1ベース部材)と、フレーム50の第1テーパ部50bに係合するテーパ部48Aa(第1案内面)を持ちフレーム50を位置決めする位置決めブロック48A(第1位置決め部材)と、位置決めブロック48Aと第1テーパ部50bとが係合することによって、フレーム50の第1の端面50aが押し付けられる仕切り板42A(第1仕切り部材)とを備えている。The effects and the like of this embodiment are as follows.
(1) The exposure apparatus EX of the present embodiment includes an entire air conditioning system including a
The
また、フィルタ装置26を用いるフィルタをケーシング28(収容部)に収容する方法は、ケミカルフィルタ51を保持するとともに第1テーパ部50bが形成されたフレーム50と、フレーム50の第1の端面50aに設けられたガスケット54とを備える第1のフィルタボックス38を用意するステップ102と、フレーム50の第1テーパ部50bが形成された側面に隣接する側面(設置面50d)をケーシング28の底板28hの表面に載置するステップ106と、フレーム50の第1テーパ部50bをケーシング28の位置決めブロック48Aのテーパ部48Aaに係合させて、フレーム50をケーシング28の仕切り板42Aの方向に移動させるステップ108と、フレーム50の端面50aをガスケット54を介して仕切り板42Aに押し付けるステップ110と、を含んでいる。
Further, the method of accommodating the filter using the
本実施形態によれば、ケーシング28の位置決めブロック48Aに沿ってフレーム50の第1テーパ部50bが移動するように、フレーム50を付勢する(移動する)ことによって、フレーム50(ケミカルフィルタ51)のケーシング28内の目標位置(仕切り板42Aに接する位置)に対する設置を効率的に、及び容易に位置決めできるように行うことができる。言い換えると、フレーム50の第1テーパ部50bは、移動及び位置決めの2つの機能を果たすことができる。
According to this embodiment, the frame 50 (chemical filter 51) is urged (moved) so that the
(2)また、フィルタボックス38は、ケミカルフィルタ51に関してフレーム50の第1テーパ部50bが形成された側面と反対側の側面(第2側面)の少なくとも一部に形成され、端面50g側から端面50a側に向かって、フレーム50の外側に次第に傾斜する第2テーパ部50c(形状変化部としての第2傾斜部)を備え、ケーシング28は、ケーシング28に移動可能に設けられ、かつフレーム50の第2テーパ部50cに係合し、フレーム50を当接部材58A2(第3案内面)を介して仕切り板42Aに押し当てる移動用レバー58A(第2位置決め部材)を有する。従って、フレーム50の移動を円滑に行うことができる。
(2) The
なお、移動用レバー58A〜58Cは必ずしも設ける必要はない。
(3)また、フィルタ装置26は、ケミカルフィルタ51と異なるケミカルフィルタ56フィルタを保持する枠状のフレーム55(第2フレーム)と、フレーム55の第1の端面55aに設けられたガスケット54(第2シール部材)と、フレーム55の−X方向の側面(第3側面)の少なくとも一部に形成され、フレーム55の第2の端面55g側から第1の端面55a側に向かって、フレーム55の外側に傾斜する第1テーパ部55b(第3傾斜部)とを備える第2のフィルタボックス40を備えている。そして、ケーシング28は、フレーム55の第1テーパ部55bが形成された側面とは異なる側面(設置面55d)を支持する底板28h(第2ベース部材)と、フレーム55の第1テーパ部55bに係合するテーパ部48Ba(第2案内面)を持ちフレーム55を位置決めする位置決めブロック48B(第3位置決め部材)と、位置決めブロック48Bと第1テーパ部55bとが係合することによって、フレーム55の端面55aが押し付けられる仕切り板42B(第2仕切り部材)と、を備えている。The moving
(3) Further, the
従って、ケーシング28の位置決めブロック48Bに沿ってフレーム55の第1テーパ部55bが移動するように、フレーム55を付勢する(移動する)ことによって、フレーム55(ケミカルフィルタ56)のケーシング28内の目標位置(仕切り板42Bに接する位置)に対する設置を効率的に、及び容易に位置決めできるように行うことができる。
また、ケーシング28内の仕切り板42A〜42Cは、鉛直線を含む面にほぼ平行(ほぼ水平面に垂直)であるが、本実施形態では、位置決めブロック48A〜48Cがあるため、フィルタボックス38,40の移動及び位置決めを円滑に行うことができる。なお、仕切り板42A〜42Cは、例えば鉛直線を含む面に対して斜めに傾斜していてもよい。
(4)また、フィルタボックス38は、ケミカルフィルタ56に関してフレーム55の第1テーパ部55bが形成された側面と反対側の側面(第4側面)の少なくとも一部に形成され、端面55g側から端面55a側に向かって、フレーム55の外側に次第に傾斜する第4テーパ部50c(第4傾斜部)を備え、ケーシング28は、ケーシング28に移動可能に設けられ、かつフレーム55の第2テーパ部55cに係合し、フレーム50を当接部材58B2(第4案内面)を介して仕切り板42Aに押し当てる移動用レバー58B(第4位置決め部材)を有する。従って、フレーム55の移動を円滑に行うことができる。Therefore, by energizing (moving) the
Further, the
(4) The
(5)また、フレーム50の第1テーパ部50b及び第2テーパ部50cはフレーム50の2つの側面の全面に形成され、フレーム55の第1テーパ部55b及び第2テーパ部55cはフレーム55の2つの側面の全面に形成されている。従って、テーパ部50b,50c等の加工が容易である。
なお、テーパ部50b,50cはフレーム50の対応する側面の一部にのみ形成してもよい。この場合には、ケーシング28側の対応する位置決めブロック48A,48Cには、テーパ部50bに対応する部分にのみテーパ部(第1案内面)を形成しておいてもよい。これはテーパ部55b,55c(第3案内面)も同様である。(5) The
The
(6)また、フィルタボックス38(フレーム50)のテーパ部50b,50c及びフィルタボックス40(フレーム55)のテーパ部55b,55cはそれぞれ平面、即ち直線状に形成されており、これらに対応する位置決めブロック48A,48Bのテーパ部48Aa,48Baも平面に形成されているため、テーパ部50b,50c等の形成が容易である。
(6) Further, the
しかしながら、テーパ部50b,50c及びテーパ部55b,55cを凸又は凹の球面状、即ち曲線状に形成してもよい。この場合には、これらに対応する位置決めブロック48A,48Bのテーパ部48Aa,48Baは凹又は凸の球面状に形成することで、上記の実施形態と同様に位置決めブロック48A,48Bを用いてフィルタボックス38,40の移動及び位置決めを行うことができる。
However, the
(7)また、図4(A)のフィルタボックス38のフレーム50の−X方向の側面に設けた凸の取っ手部70A(第1取っ手部)は、第1テーパ部50bに設けられており、これに対応するケーシング28内の位置決めブロック48Aのテーパ部48Aaには取っ手部70Aが通過可能な凹部48Abが設けられている。従って、取っ手部70Aがあっても、フレーム50の第1テーパ部50bを位置決めブロック48Aのテーパ部48Aaに密着させて移動できる。これはフィルタボックス40の第1テーパ部55bの取っ手部70B(第2取っ手部)についても同様である。
(7) Further, the
(8)また、図4(A)のフィルタボックス38のフレーム50の+X方向の側面に設けた凸の取っ手部70A(第3取っ手部)は、第2テーパ部50cに設けられている。この場合、2つの取っ手部70Aがあるため、フィルタボックス38の搬送が容易であるとともに、フィルタボックス38を180°回転した場合でも、フレーム50の第2テーパ部50cを位置決めブロック48Aのテーパ部48Aaに密着させて移動できる。これはフィルタボックス40の第2テーパ部55cの取っ手部70B(第4取っ手部)についても同様である。
(8) A
なお、フレーム50には凸の取っ手部70Aの代わりに凹の取っ手部を形成してもよい。同様にフレーム55にも凸の取っ手部70Bの代わりに凹の取っ手部を形成してもよい。
なお、取っ手部70A,70Bは必ずしも設ける必要はない。
(9)また、図4(A)において、第1のフィルタボックス38のフレーム50の第2テーパ部50cの中央付近で、端面50aに近い位置F2に取っ手部70Aを設け、第1テーパ部50bの位置F2と対称な位置に取っ手部70Aを設けてもよい。この場合には、図2の位置決めブロック48Aのテーパ部48Aaの対応する位置に凹部48Abを形成しておく。また、図4(B)において、第2のフィルタボックス40のフレーム55の第2テーパ部55cの中央付近で、端面50aから離れた位置F4に取っ手部70Bを設け、第1テーパ部55bの位置F4と対称な位置に取っ手部70Bを設ける。さらに、図2の位置決めブロック48Bのテーパ部48Baの対応する位置に凹部48Bbを形成しておく。この場合には、フレーム50,55に対する取っ手部70A,70Bの位置関係は端面50a,55aとの距離が異なっている。従って、作業者は、フレーム50,55に対する取っ手部70A,70Bの位置からフィルタボックス38,40を識別可能である。The
Note that the
(9) Further, in FIG. 4A, a
(10)また、フィルタボックス38(フレーム50内)のケミカルフィルタ51(濾材)は、その中を通過する気体中の有機系ガス(有機物)を除去し、フィルタボックス40(フレーム55内)のケミカルフィルタ56(濾材)は、その中を通過する気体中のアルカリ性ガス及び酸性ガスを除去しているため、露光本体部4が収納されるチャンバ10内に不純物が高度に除去された空気を供給できる。
(10) Further, the chemical filter 51 (filter medium) in the filter box 38 (in the frame 50) removes the organic gas (organic substance) in the gas passing therethrough, and the chemical in the filter box 40 (in the frame 55). Since the filter 56 (filter medium) removes alkaline gas and acidic gas in the gas passing through the
なお、フレーム56内のフィルタは、例えばその中を通過する気体中のアルカリ性物質及び酸性物質の少なくとも一方を除去するフィルタでもよい。また、ケミカルフィルタが除去する不純物は任意であり、例えば一つのケミカルフィルタによって、有機系ガスとアルカリ性ガス及び酸性ガスとを吸収するようにしてもよい。
さらに、フレーム50,55内のフィルタは、ケミカルフィルタ以外の任意のフィルタ(濾材)を使用できる。例えば、フレーム50,55内のフィルタとしては、HEPAフィルタ又はULPAフィルタのような微小な粒子(パーティクル)を除去するための防塵フィルタを用いることも可能である。The filter in the
Furthermore, any filter (filter medium) other than the chemical filter can be used for the filters in the
(11)さらに、本実施形態のフィルタ装置26には、2つのフィルタボックス38(フレーム50)及び一つフィルタボックス40(フレーム55)が設置されているが、フィルタ装置26が備えるフレーム50,55の個数は任意である。また、フィルタ装置26には、一つ若しくは複数のフレーム50、又は一つ若しくは複数のフレーム55を設置するのみでもよい。
(11) Furthermore, although two filter boxes 38 (frame 50) and one filter box 40 (frame 55) are installed in the
(12)また、本実施形態の露光装置EXは、露光光ELでレチクルRのパターン及び投影光学系PLを介してウエハW(基板)を露光する露光装置において、ウエハWを露光する露光本体部4を収納するチャンバ10と、本実施形態のフィルタ装置26と、チャンバ10の外部から取り込まれた空気をフィルタ装置26を介してチャンバ10内に送風する空調装置30と、を備えている。
(12) The exposure apparatus EX of the present embodiment is an exposure main body that exposes the wafer W in the exposure apparatus that exposes the wafer W (substrate) through the pattern of the reticle R and the projection optical system PL with the exposure light EL. 4, a
本実施形態によれば、フィルタ装置26のフィルタボックス38,40(フレーム50,55)の交換を効率的に行うことができ、フレーム50,55の位置決めを高精度に行うことができるため、露光装置のメンテナンスを効率的に行うことができ、かつチャンバ10内の空気の不純物を高精度に除去できる。
なお、本実施形態において、ローダ室10b内の局所空調装置60のフィルタボックス63,64のフレームとしても、フィルタボックス38,40のフレーム50,55と同様のテーパ部が形成されたフレームを使用し、フィルタボックス63,64を位置決めブロック48A〜48Cと相似型のテーパ部が形成された位置決めブロックを備えたケーシングに収納してもよい。According to the present embodiment, the
In the present embodiment, a frame having a tapered portion similar to the
なお、上記の実施形態においては次のような変形が可能である。以下の変形例において、図3、図4(A)及び図5(B)に対応する部分には同一符号を付してその詳細な説明を省略する。
(1)図8(A)は、上記の実施形態の第1変形例の第1のフィルタボックス38A及びこれに対応する位置決めブロック48Aを示す斜視図、図8(B)は、その第1変形例の第2のフィルタボックス40A及びこれに対応する位置決めブロック48Bを示す斜視図である。図8(A)の位置決めブロック48A及び図8(B)の位置決めブロック48Bをそれぞれ図2の位置決めブロック48A,48C及び48Bの代わりにケーシング28内に設置することで、この第1変形例のフィルタボックス38A,40Aをケーシング28内に設置することができる。In the above-described embodiment, the following modifications are possible. In the following modification, the same reference numerals are given to portions corresponding to FIGS. 3, 4A, and 5B, and detailed description thereof is omitted.
(1) FIG. 8 (A) is a perspective view showing a
図8(A)において、第1のフィルタボックス38Aは、ケミカルフィルタ51を保持するほぼ環状のフレーム50と、フレーム50の第1の端面50aに設けられたガスケット54A(ガスケット54の一部を切り欠いた形状)と、フレーム50の−X方向の側面(第1側面)に設けられた凹部よりなる取っ手部50b1(第1取っ手部)と、フレーム50の−X方向の側面に取っ手部50b1をZ方向に挟むように形成され、フレーム50の第2の端面50gから第1の端面50a側に向かって、フレーム50の外側に次第に傾斜する2つの第1テーパ部50b2及び50b3(第1傾斜部の2つの部分)と、を有する。さらに、フィルタボックス38Aは、フレーム50の+X方向の側面(第3側面)に設けられた凹部よりなる取っ手部50c1(第3取っ手部)と、フレーム50の+X方向の側面に取っ手部50c1をZ方向に挟むように形成され、第1テーパ部50b2,50b3と対称に傾斜する2つの第2テーパ部50c2,50c3(第2傾斜部の2つの部分)と、を有する。また、取っ手部50b1,50c1には作業者がさらに持ち易いようにグリップ部49Aが設けられている。
8A, the
また、フレーム50の設置面に対する取っ手部50b1のZ方向の位置は、取っ手部50c1のZ方向の位置よりも低く、取っ手部50b1,50c1は、フレーム50の中心に対して回転対称な位置関係で設けられている。言い換えると、一方の取っ手部50b1のフレーム50の下方の設置面からのZ方向の距離と、他方の取っ手部50c1のフレーム50の上方の設置面からのZ方向の距離とは等しい。さらに、位置決めブロック48Aのテーパ部48Aaの取っ手部50b1(及び50c1)に対応する位置に凸部49Cが設けられている。凸部49Cの高さは、テーパ部50b2,50b3からグリップ部49Aまでの深さよりも低く設定されている。従って、フレーム50のテーパ部50b2,50b3(又は50c2,50c3)は、位置決めブロック48Aのテーパ部48Aaに密着させることができる。
Further, the position of the handle portion 50b1 in the Z direction with respect to the installation surface of the
なお、位置決めブロック48Aには、凸部49CをZ方向に挟むように、テーパ部50b2,50b3に対応する2箇所のテーパ部FA1,FA2を形成してもよい。また、図2の移動用レバー58Aの代わりに、テーパ部50c3,50c2を個別に付勢する2つの移動用レバー58AU,58ADを設けても良い。
また、図8(B)において、第2のフィルタボックス40Aは、ケミカルフィルタ56を保持するほぼ環状のフレーム55と、フレーム55の第1の端面55aに設けられたガスケット54B(ガスケット54の一部を切り欠いた形状)と、フレーム55の−X方向の側面(第2側面)及びこれに対向する側面(第4側面)に設けられた凹部よりなる1対の取っ手部55b1,55c1(第2取っ手部及び第4取っ手部)と、フレーム55のX方向の2つの側面にそれぞれ取っ手部55b1,55c1をZ方向に挟むように形成された、第1テーパ部55b2及び55b3(第2傾斜部の2つの部分)及び第2テーパ部55c2及び55c3(第4傾斜部の2つの部分)と、を有する。また、取っ手部55b1,55c1にはグリップ部49Bが設けられている。In the
8B, the
また、フレーム55に対する取っ手部55b1,55c1のZ方向の位置関係は、フレーム50に対する取っ手部50b1,50c1のZ方向の位置関係と逆になっている。言い換えると、一方の取っ手部55b1のフレーム55の下方の設置面からのZ方向の距離と、他方の取っ手部55c1のフレーム55の上方の設置面からのZ方向の距離とは等しい。さらに、フィルタボックス40Aの一方の取っ手部55b1のフレーム55の下方の設置面からのZ方向の距離と、フィルタボックス38Aの一方の取っ手部50b1のフレーム50の下方の設置面からのZ方向の距離とは互いに異なっている。さらに、位置決めブロック48Bのテーパ部48Baの取っ手部55b1(及び55c1)に対応する位置に凸部49Dが設けられている。従って、位置決めブロック48Bに誤って第1のフィルタボックス38Aのフレーム50を接触させようとすると、凸部49Dとフレーム50の第1テーパ部50b2(又は50c2)とが機械的に干渉する。これに対して、フレーム55のテーパ部55b2,55b3(又は55c2,55c3)は、位置決めブロック48Bのテーパ部48Baに密着させることができる。逆に、図8(A)の位置決めブロック48Aに誤って第2のフィルタボックス40Aのフレーム55を接触させようとすると、凸部49Cとフレーム55の第1テーパ部55b2(又は55c2)とが機械的に干渉する。従って、この第1変形例においても、位置決めブロック48Aのある空間に誤って第2のフィルタボックス40Aを設置することが防止され、位置決めブロック48Bのある空間に誤って第1のフィルタボックス38Aを設置することが防止される。
Further, the positional relationship in the Z direction of the handle portions 55b1 and 55c1 with respect to the
なお、この第1変形例において、フィルタボックス38Aのグリップ部49A及びフィルタボックス40Aのグリップ部49Bは必ずしも設けなくともよい。また、位置決めブロック48Bには、凸部49DをZ方向に挟むように、テーパ部55b2,55b3に対応する2箇所のテーパ部FB2,FB1を形成してもよい。また、図2の移動用レバー58Bの代わりに、テーパ部55c2,55c3を個別に付勢する2つの移動用レバー58BU,58BDを設けても良い。
In the first modification, the
なお、図2において、例えばフィルタボックス40のみを図8(B)のフィルタボックス40Aで置き換えて、対応する図2の位置決めブロック48Bを図8(B)の位置決めブロック48Bで置き換えてもよい。
(2)次に、図9(A)は、上記の実施形態の第2変形例の第1のフィルタボックス38B及びこれに対応する位置決めブロック48A1を示す斜視図、図9(B)は、その第1変形例の第2のフィルタボックス40B及びこれに対応する位置決めブロック48A2を示す斜視図である。図9(A)の位置決めブロック48A1及び図9(B)の位置決めブロック48A1をそれぞれ図2の位置決めブロック48A,48C及び48Bの代わりにケーシング28内に設置することで、この第2変形例のフィルタボックス38B,40B(フレーム50A,55A)をケーシング28内に設置することができる。In FIG. 2, for example, only the
(2) Next, FIG. 9 (A) is a perspective view showing a
図9(A)において、第1のフィルタボックス38Bは、ケミカルフィルタ51を保持するほぼ環状のフレーム50A(第1フレーム)と、フレーム50Aの−Y方向の第1の端面に設けられたガスケット54と、フレーム50の+Z方向の側面に設けられた凸部よりなる取っ手部70C(第1取っ手部)と、フレーム50Aの−X方向の側面50Abの+Z方向側に形成され、ガスケット54側に向かってフレーム50Aの外側にテーパ角φで傾斜する第1テーパ部50Abt(第1傾斜部)と、を有する。フレーム50Aの+X方向の側面50AcはZY平面に平行で傾斜していない。
9A, the
さらに、位置決めブロック48A1のテーパ角φのテーパ部48A1aはフレーム50Aの第1テーパ部50btに対応する部分にのみ形成されている。従って、フレーム50Aの第1テーパ部50Abtは、位置決めブロック48A1のテーパ部48A1aに密着させることができる。
また、図9(B)において、第2のフィルタボックス40Bは、ケミカルフィルタ56を保持するほぼ環状のフレーム55A(第2フレーム)と、フレーム55Aの第1の端面に設けられたガスケット54と、フレーム55の+Z方向の側面に設けられた凸部よりなる取っ手部70D(第2取っ手部)と、フレーム55Aの−X方向の側面55Abの−Z方向側に形成され、ガスケット54側に向かってフレーム55Aの外側にテーパ角φで傾斜する第1テーパ部55Abt(第2傾斜部)と、を有する。フレーム55Aの+X方向の側面55AcはZY平面に平行で傾斜していない。さらに、位置決めブロック48A2のテーパ角φのテーパ部48A2aはフレーム55Aの第1テーパ部55Abtに対応する部分にのみ形成されている。Further, the taper portion 48A1a having the taper angle φ of the positioning block 48A1 is formed only in a portion corresponding to the first taper portion 50bt of the
9B, the
この場合、フレーム55Aに対する第1テーパ部55AbtのZ方向の位置関係は、フレーム50Aに対する第1テーパ部50AbtのZ方向の位置関係と逆になっている。さらに、位置決めブロック48A1のテーパ部48A1aと、位置決めブロック48A2のテーパ部48A2aとはZ方向の位置が異なっている。従って、フレーム50A,55Aは外観から容易に識別可能である。さらに、位置決めブロック48A2のある空間に誤って第1のフィルタボックス38Bを設置することが防止され、逆に、図9(A)の位置決めブロック48A1のある空間に誤って第2のフィルタボックス40Bを設置することが防止できる。
In this case, the positional relationship in the Z direction of the first tapered portion 55Abt with respect to the
なお、この変形例において、一例として、第1のフィルタボックス38Bのフレーム50Aの上面における取っ手部70Cの第2側面50Acからの距離と、第2のフィルタボックス40Bのフレーム55Aの上面における取っ手部70Dの第2側面50Acからの距離とを異ならせてもよい。又は、取っ手部70Cの端面50Aaからの距離と、取っ手部70Dの端面55Acからの距離とを異ならせてもよい。
In this modification, as an example, the distance from the second side surface 50Ac of the
(3)次に、図10は、上記の実施形態の第3変形例のフィルタ装置26Aを示す平面断面図である。図10において、ドア29の内面に固定された支点部材59D,59E,59F(保持部材)を介して回転可能に互いに同一構成の移動用レバー58D,58E,58Fが設けられている。代表的に移動用レバー58Eは、支点部材59Eに回転可能に連結されたロッド58E1と、ドア29に固定された台座58E3と、台座58E3からロッド58E1をフレーム55の+X方向の側面(テーパ部)側に付勢する圧縮コイルばね58E2とを有する。ロッド58E1には、反時計回りの回転角を所定の上限値以下にするストッパー(不図示)が設けられている。他の構成は図3と同様である。
(3) Next, FIG. 10 is a plan sectional view showing a
フィルタ装置26Aにおいて、ドア29を開いた状態で、2つのフィルタボックス38の第1テーパ部50bの一部をそれぞれ位置決めブロック48A,48Cのテーパ部48Aa,48Caに係合させ、フィルタボックス40の第1テーパ部55bの一部を位置決めブロック48Bのテーパ部48Baに係合させる。そして、矢印B20で示すようにドア29を閉じることによって、移動用レバー58D〜58Fによって矢印B21,B22,B23で示すようにフィルタボックス38,40,38のフレーム50,55,50の第2テーパ部50c,55c,50cが付勢される。そして、フィルタボックス38,40,38はそれぞれ矢印B24,B25,B26で示すように位置決めブロック48A〜48Cに沿って移動し、仕切り板42A〜42Cの前面の設置位置Q1〜Q3に設置される。従って、フィルタボックス38,40の設置を効率的に行うことができる。
In the
(4)次に、図11(A)は、上記の実施形態の第4変形例の第1のフィルタボックス38C及びこれに対応する位置決めブロック48Aを示す平面図である。フィルタボックス38Cは、環状のフレーム50C内にケミカルフィルタ51を収納し、フレーム50Cの端面にガスケット54を固定したものである。また、フレーム50Cの対向する第1側面50Cb及び第2側面50Ccは平均的に対称に傾斜するとともに、それぞれ階段状の段差部が形成され、側面50Cb,50Ccに取っ手部70Aが取り付けられている。
(4) Next, FIG. 11A is a plan view showing a
第1側面50Cb又は第2側面50Ccを位置決めブロック48Aのテーパ部に接触させてフィルタボックス38Cを移動することで、容易にケーシング28内でフィルタボックス38Cを仕切り板42Aに接触するように位置決めできる。
By moving the
また、図11(B)は、第5変形例の第1のフィルタボックス38D及びこれに対応する位置決めブロック48Aを示す平面図である。フィルタボックス38Dは、環状のフレーム50D内にケミカルフィルタ51を収納し、フレーム50Dの端面にガスケット54を固定したものである。また、フレーム50Dの対向する第1側面50Db及び第2側面50Dcは平均的に対称に傾斜するとともに、それぞれ外側に凸の複数の円弧部が形成され、側面50Db,50Dcに取っ手部70Aが取り付けられている。
FIG. 11B is a plan view showing a
第1側面50Db又は第2側面50Dcを位置決めブロック48Aのテーパ部に接触させてフィルタボックス38Dを移動することで、容易にフィルタボックス38Dを仕切り板42Aに接触するように位置決めできる。
By moving the
また、図11(C)は、第6変形例の第1のフィルタボックス38E及びこれに対応する位置決めブロック48Aを示す平面図である。フィルタボックス38Eは、環状のフレーム50E内にケミカルフィルタ51を収納し、フレーム50Eの端面にガスケット54を固定したものである。また、フレーム50Eの対向する第1側面50Eb及び第2側面50Ecは平均的に対称に傾斜するとともに、それぞれ外側に凸の円弧部が形成され、側面50Eb,50Ecに取っ手部70Aが取り付けられている。
FIG. 11C is a plan view showing the
第1側面50Eb又は第2側面50Ecを位置決めブロック48Aのテーパ部に接触させてフィルタボックス38Eを移動することで、容易にフィルタボックス38Eを仕切り板42Aに接触するように位置決めできる。
なお、図11(B)の複数の円弧部、又は図11(C)の凸の円弧部を回転ローラで構成してもよい。By moving the
In addition, you may comprise the some circular arc part of FIG. 11 (B), or the convex circular arc part of FIG. 11 (C) with a rotating roller.
(5)次に、図12(A)は、上記の実施形態の第7変形例のフィルタ装置26Bを示し、図12(B)は図12(A)中の第1のフィルタボックス38Fを示す。図12(A)のフィルタ装置26Bにおいて、ケーシング28内の仕切り板42Aのフィルタボックス38F,40Fに対向する面に、ガスケット54から容易に離すことが可能で、かつ滑り易いとともに、中央部に気体を通過させる開口が形成された平板状のカバー部材TF5が被着されている。カバー部材TF5は、例えば合成樹脂から形成され、具体的には例えばテフロン(デュポン社の登録商標)から形成されている。
(5) Next, FIG. 12 (A) shows the
また、仕切り板42Aに被着されたカバー部材TF5に密着するように第1のフィルタボックス38Fが位置決めされ、このフィルタボックス38Fに密着するように順次第2のフィルタボックス40F、第1のフィルタボックス38F、及び第2のフィルタボックス40Fが位置決めされている。一列のフィルタボックス38F,40F,38F,40Fは、それぞれケーシング28の内面に固定された位置決めブロック48A3,48B3,48A4,48B4によって位置決めされている。位置決めブロック48A3,48B3等のY方向の長さは、フィルタボックス38F,40FのY方向の高さよりも小さく設定されている。
Further, the
また、フィルタボックス38F,40Fは、それぞれ環状のフレーム50F,55F内にケミカルフィルタ51,56を収納し、フレーム50F,55Fの端面にガスケット54を固定したものである。さらに、フレーム50F,55Fの対向する第1側面及び第2側面は対称に傾斜するテーパ面とされ、フレーム50F,55Fの第1側面、第2側面、及びガスケット54が固定されている端面に対向する端面に沿って、ガスケット54から容易に離すことが可能で、かつ滑り易いカバー部材TF1,TF2が被着されている。フレーム50F,55Fの第1側面及び第2側面に、カバー部材TF3,TF4を通して取っ手部70A,70Bが固定されている。取っ手部70A,70Bが固定されている位置の高さは互いに異なっている。位置決めブロック48A3,48A4及び48B3,48B4のテーパ部にも、それぞれ平板状で一部に溝が形成されたカバー部材TF3及びTF4が固定されている。カバー部材TF1,TF2,TF3,TF4の材料は、例えばカバー部材TF5の材料と同じである。
The
図12(B)に示すように、フィルタボックス38Fのカバー部材TF1のケミカルフィルタ51に対向する部分には気体を通過させる矩形の開口TF1cが形成されている。フレーム50Fの第1側面及び第2側面を覆うカバー部材TF1の部分は、対称に傾斜するテーパ部TF1a,TF1bとされている。フィルタボックス40Fの構成も同様であるが、取っ手部70Bの位置が取っ手部70Aの位置とは異なっている。
As shown in FIG. 12B, a rectangular opening TF1c through which gas passes is formed in a portion of the cover member TF1 of the
図12(A)において、ケーシング28を閉じるドア29の内側に移動用レバー部58Gが設けられている。移動用レバー58Gは、台座部58G3と、Y方向に沿って伸びるガイド部58G4と、ガイド部58G4に沿ってY方向に移動可能な傾斜面を持つレバー部58G1と、台座部58G3からレバー部58G1を位置決めブロック48B4に接触しているフィルタボックス40Fのカバー部材TF2のテーパ部に付勢する圧縮コイルばね58G2とを備えている。
In FIG. 12A, a moving
この例のフィルタ装置26Bにおいて、フィルタボックス38F,40Fをケーシング28内に収納する際には、位置決めブロック48A3,48B3,48A4,48B4を覆うカバー部材TF3,TF4に、それぞれフィルタボックス38F,40Fのカバー部材TF1,TF2のテーパ部を接触させて、フィルタボックス38F,40Fを順次ほぼ−Y方向に移動させる。この際に、カバー部材TF1〜TF4は滑り易いため、フィルタボックス38F,40Fを容易に移動可能である。
In the
さらに、フィルタボックス38F,40F,38F,40Fを位置決めした状態では、−Y方向の端部のフィルタボックス38Fのガスケット54が仕切り板42Aを覆うカバー部材TF5に接触し、フィルタボックス38F(40F)のカバー部材TF1(TF2)にそれに隣接するフィルタボックス40F(38F)のガスケット54が接触している。この状態で、ドア29を閉じると、移動用レバー部58Gによって、+Y方向の端部のフィルタボックス40Fが−Y方向に付勢されるため、仕切り板42A(カバー部材TF5)と、フィルタボックス38F,40Fとは気密性を保って密着できる。従って、4段のフィルタボックス38F,40Fを通して空調装置の送風部(不図示)に清浄な気体を供給できる。
Further, in a state where the
また、フィルタボックス38F,40Fを交換する場合には、ドア29を開いて、順次フィルタボックス40F,38Fをケーシング28から搬出する。この際に、例えばフィルタボックス40Fのガスケット54はフィルタボックス38Fのカバー部材TF1から容易に離すことが可能であり、フィルタボックス38Fのガスケット54もカバー部材TF5から容易に離すことが可能であるため、フィルタボックス38F,40Fの交換を容易に行うことができる。
When the
なお、フィルタ装置26Bにおいて、フィルタボックス38F,40Fの段数は任意である。また、位置決めブロック48A3,48B3等のカバー部材TF3,TF4は省略可能である。さらに、位置決めブロック48A3,48B3等のカバー部材TF3,TF4が設けられている場合には、フィルタボックス38F,40F側のカバー部材TF1,TF2のテーパ部を省略することも可能である。
さらに、カバー部材TF1〜TF4の代わりに、例えば滑り易い樹脂製の粘着テープを貼着してもよい。In the
Furthermore, instead of the cover members TF1 to TF4, for example, a slippery resin adhesive tape may be attached.
(6)上記の実施形態及び変形例においては、フィルタボックス38,38A〜38F,40,40A〜40Fのフレーム50,50A〜50F及び55,55A〜55Fの外形はほぼ正方形(ほぼ正方形の環状(枠状))である。しかしながら、フレーム50,50A等及び55,55A等の外形は例えば長方形等のほぼ矩形状(ほぼ矩形の環状(枠状))、又はほぼ正方形状若しくは矩形状で角部に面取り等が施されていてもよい。
(6) In the above embodiment and modification, the outer shapes of the
また、上記の実施形態の露光装置EXを用いて半導体デバイス等の電子デバイス(又はマイクロデバイス)を製造する場合、電子デバイスは、図13に示すように、電子デバイスの機能・性能設計を行うステップ221、この設計ステップに基づいたマスク(レチクル)を製作するステップ222、デバイスの基材である基板(ウエハ)を製造してレジストを塗布するステップ223、前述した実施形態の露光装置によりマスクのパターンを基板(感応基板)に露光する工程、露光した基板を現像する工程、現像した基板の加熱(キュア)及びエッチング工程などを含む基板処理ステップ224、デバイス組み立てステップ(ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む)225、並びに検査ステップ226等を経て製造される。
Further, when an electronic device (or microdevice) such as a semiconductor device is manufactured using the exposure apparatus EX of the above embodiment, the electronic device performs a function / performance design of the electronic device as shown in FIG. 221, manufacturing a mask (reticle) based on this
従って、このデバイス製造方法は、上記の実施形態の露光装置を用いて基板上に感光層のパターンを形成することと、そのパターンが形成された基板を処理すること(ステップ224)とを含んでいる。その露光装置によれば、メンテナンスコストを低減でき、露光精度を向上できるため、電子デバイスを安価に高精度に製造できる。
なお、上記の実施形態では、空調用の気体として空気が使用されているが、その代わりに窒素ガス若しくは希ガス(ヘリウム、ネオン等)、又はこれらの気体の混合気体等を使用してもよい。Therefore, this device manufacturing method includes forming the pattern of the photosensitive layer on the substrate using the exposure apparatus of the above embodiment, and processing the substrate on which the pattern is formed (step 224). Yes. According to the exposure apparatus, the maintenance cost can be reduced and the exposure accuracy can be improved, so that the electronic device can be manufactured at a low cost with high accuracy.
In the above embodiment, air is used as the air conditioning gas. Instead, nitrogen gas or a rare gas (such as helium or neon), or a mixed gas of these gases may be used. .
また、本発明は、走査露光型の投影露光装置のみならず、一括露光型(ステッパー型)の投影露光装置を用いて露光する場合にも適用することが可能である。
また、本発明は、投影光学系を使用しないプロキシミティ方式やコンタクト方式の露光装置等で露光を行う際にも適用できる。
また、本発明は、半導体デバイスの製造プロセスへの適用に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに形成される液晶表示素子、若しくはプラズマディスプレイ等のディスプレイ装置の製造プロセスや、撮像素子(CCD等)、マイクロマシーン、MEMS(Microelectromechanical Systems:微小電気機械システム)、薄膜磁気ヘッド、及びDNAチップ等の各種デバイスの製造プロセスにも広く適用できる。更に、本発明は、各種デバイスのマスクパターンが形成されたマスク(フォトマスク、レチクル等)をフォトリソグラフィ工程を用いて製造する際の、製造工程にも適用することができる。Further, the present invention can be applied not only to a scanning exposure type projection exposure apparatus but also to exposure using a batch exposure type (stepper type) projection exposure apparatus.
The present invention can also be applied when exposure is performed using a proximity type or contact type exposure apparatus that does not use a projection optical system.
In addition, the present invention is not limited to application to a semiconductor device manufacturing process. For example, a manufacturing process of a display device such as a liquid crystal display element or a plasma display formed on a square glass plate, or an imaging element (CCD, etc.), micromachines, MEMS (Microelectromechanical Systems), thin film magnetic heads, and various devices such as DNA chips can be widely applied. Furthermore, the present invention can also be applied to a manufacturing process when manufacturing a mask (photomask, reticle, etc.) on which mask patterns of various devices are formed using a photolithography process.
このように、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得ることは勿論である。
また、本願に記載した上記公報、各国際公開パンフレット、米国特許、又は米国特許出願公開明細書における開示を援用して本明細書の記載の一部とする。また、明細書、特許請求の範囲、図面、及び要約を含む2010年4月5日付け提出の米国特許出願第61/320,914号の全ての開示内容は、そっくりそのまま引用して本願に組み込まれている。As described above, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and it is needless to say that various configurations can be taken without departing from the gist of the present invention.
In addition, the disclosures in the above-mentioned publications, international publication pamphlets, US patents, or US patent application publication specifications described in the present application are incorporated into the description of this specification. The entire disclosure of US Patent Application No. 61 / 320,914 filed April 5, 2010, including the description, claims, drawings, and abstract, is incorporated herein by reference in its entirety. It is.
EX…露光装置、R…レチクル、PL…投影光学系、W…ウエハ、4…露光本体部、10…チャンバ、26…フィルタ装置、28…ケーシング、30…主空調装置、38,40…フィルタボックス、42A〜42C…仕切り板、48A〜48C…位置決めブロック、50,55…フレーム、50b,55b…第1テーパ部、51,56…ケミカルフィルタ、60…局所空調装置、70A,70B…取っ手部
EX ... exposure device, R ... reticle, PL ... projection optical system, W ... wafer, 4 ... exposure body, 10 ... chamber, 26 ... filter device, 28 ... casing, 30 ... main air conditioner, 38, 40 ...
Claims (46)
第1フィルタを保持する第1フレームと、前記第1フレームの側面のうち第1側面の少なくとも一部に設けられ、前記第1フレームの2つの端面のうち、一方の端面側から他方の端面側に向かい、かつ前記第1フレームの外側に変化した第1形状変化部とを備える第1フィルタボックスと、
前記第1フィルタボックスを収容する収容部とを備え、
前記収容部は、前記第1フレームの前記第1側面とは異なる側面を支持する第1ベース部材と、前記第1フレームの前記第1形状変化部に係合して前記第1フレームを位置決めする第1位置決め部材と、前記第1位置決め部材と前記第1形状変化部とが係合することによって、前記第1フレームの前記一方の端面が押し付けられる第1仕切り部材とを備えることを特徴とするフィルタ装置。A filter device for accommodating a filter,
A first frame that holds the first filter, and is provided on at least a part of the first side surface of the first frame. Of the two end surfaces of the first frame, one end surface side to the other end surface side A first filter box including a first shape changing portion that is directed to the outside and changed to the outside of the first frame;
A housing portion for housing the first filter box;
The housing portion engages with a first base member that supports a side surface different from the first side surface of the first frame and the first shape changing portion of the first frame to position the first frame. A first positioning member, and a first partition member against which the one end surface of the first frame is pressed when the first positioning member and the first shape changing portion are engaged with each other. Filter device.
前記収容部は、前記収容部に移動可能に設けられ、かつ前記第1フレームの前記第2形状変化部に係合し、前記第1フレームを前記第1位置決め部材に押し当てる第2位置決め部材を有することを特徴とする請求項1に記載のフィルタ装置。The first filter box is provided on at least a part of a second side surface of the first frame that is opposite to the first side surface with respect to the first filter, from the one end surface side to the other end surface. A second shape changing portion that is directed to the side and changed to the outside of the first frame;
The accommodating portion is provided movably in the accommodating portion, and engages with the second shape changing portion of the first frame, and a second positioning member that presses the first frame against the first positioning member. The filter device according to claim 1, wherein the filter device is provided.
前記第2形状変化部は、前記第1フレームの前記第2側面の少なくとも一部に形成され、前記一方の端面側から前記他方の端面側に向かって、前記第1フレームの外側に次第に傾斜する第2傾斜部を有することを特徴とする請求項2に記載のフィルタ装置。The first shape changing portion is formed on at least a part of the first side surface of the first frame, and gradually inclines to the outside of the first frame from the one end surface side toward the other end surface side. Having a first inclined portion;
The second shape changing portion is formed on at least a part of the second side surface of the first frame, and gradually inclines to the outside of the first frame from the one end surface side toward the other end surface side. The filter device according to claim 2, further comprising a second inclined portion.
前記第1位置決め部材は、分離された前記第1形状変化部に対応する少なくなくとも2つの第1案内面を有することを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか一項に記載のフィルタ装置。The first shape changing portion is separated into at least two on the first side surface,
7. The first positioning member according to claim 1, wherein the first positioning member has at least two first guide surfaces corresponding to the separated first shape change portions. 8. Filter device.
前記第2位置決め部材は、分離された前記第2傾斜部に対応する少なくとも2つの第2案内面を有することを特徴とする請求項2から請求項6のいずれか一項に記載のフィルタ装置。The second shape changing portion is separated into at least two on the second side surface,
The filter device according to any one of claims 2 to 6, wherein the second positioning member has at least two second guide surfaces corresponding to the separated second inclined portions.
前記収容部は、前記第2フレームの前記第3側面とは異なる側面を支持する第2ベース部材と、前記第2フレームの前記第3形状変化部に係合して前記第2フレームを位置決めする第3位置決め部材と、前記第3位置決め部材と前記第3形状変化部とが係合することによって、前記第2フレームの前記他方の端面が押し付けられる第2仕切り部材と、を備えることを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか一項に記載のフィルタ装置。A second frame for holding a second filter different from the first filter; and one end surface of two end surfaces of the second frame provided on at least a part of a third side surface of the side surfaces of the second frame. A second filter box comprising a third shape changing portion that is directed from the side toward the other end face and that has changed to the outside of the second frame;
The accommodating portion engages with a second base member that supports a side surface different from the third side surface of the second frame and the third shape changing portion of the second frame to position the second frame. A third positioning member, and a second partition member against which the other end face of the second frame is pressed when the third positioning member and the third shape changing portion are engaged with each other. The filter device according to any one of claims 1 to 8.
前記第3形状変化部は、前記第3側面の全面に形成されていることを特徴とする請求項9に記載のフィルタ装置。The first shape changing portion is separated into at least two on the first side surface,
The filter device according to claim 9, wherein the third shape changing portion is formed on the entire surface of the third side surface.
前記第3形状変化部は、前記第3側面において少なくとも2つに分離されていることを特徴とする請求項9に記載のフィルタ装置。The first shape changing portion is formed on the entire surface of the first side surface,
The filter device according to claim 9, wherein the third shape changing unit is separated into at least two parts on the third side surface.
前記第3形状変化部は、前記第3側面において少なくとも2つに分離され、
前記第1形状変化部の分離位置と、前記第3形状変化部の分離位置とが互いに異なることを特徴とする請求項9に記載のフィルタ装置。The first shape changing portion is separated into at least two on the first side surface,
The third shape changing portion is separated into at least two on the third side surface,
The filter device according to claim 9, wherein a separation position of the first shape change unit and a separation position of the third shape change unit are different from each other.
前記第3位置決め部材は、前記第3形状変化部の位置に対応する第3案内面を有することを特徴とする請求項9から請求項14のいずれか一項に記載のフィルタ装置。The first positioning member has a first guide surface corresponding to the position of the first shape changing portion,
The filter device according to any one of claims 9 to 14, wherein the third positioning member has a third guide surface corresponding to a position of the third shape changing portion.
前記収容部は、前記収容部に移動可能に設けられ、かつ前記第2フレームの前記第4形状変化部に係合し、前記第2フレームを前記第3位置決め部材に押し当てる第4位置決め部材を有することを特徴とする請求項9から請求項15のいずれか一項に記載のフィルタ装置。The second filter box is provided on at least a part of a fourth side surface of the second frame that is opposite to the third side surface with respect to the second filter, from the one end surface side to the other end surface. A fourth shape changing portion that changes to the side and changes to the outside of the second frame;
The accommodating portion is provided movably in the accommodating portion, and engages with the fourth shape changing portion of the second frame, and a fourth positioning member that presses the second frame against the third positioning member. The filter device according to any one of claims 9 to 15, wherein the filter device is provided.
前記第4形状変化部は、前記第4側面の全面に形成されていることを特徴とする請求項16に記載のフィルタ装置。The second shape changing portion is separated into at least two on the second side surface,
The filter device according to claim 16, wherein the fourth shape changing portion is formed on an entire surface of the fourth side surface.
前記第4形状変化部は、前記第4側面において少なくとも2つに分離されていることを特徴とする請求項16に記載のフィルタ装置。The second shape change portion is formed on the entire surface of the second side surface,
The filter device according to claim 16, wherein the fourth shape changing portion is separated into at least two on the fourth side surface.
前記第4形状変化部は、前記第4側面において少なくとも2つに分離され、
前記第2形状変化部の分離位置と、前記第4形状変化部の分離位置とが互いに異なることを特徴とする請求項16に記載のフィルタ装置。The second shape changing portion is separated into at least two on the second side surface,
The fourth shape changing portion is separated into at least two on the fourth side surface,
The filter device according to claim 16, wherein a separation position of the second shape change portion and a separation position of the fourth shape change portion are different from each other.
前記第4位置決め部材は、前記第4形状変化部の位置に対応する第4案内面を有することを特徴とする請求項16から請求項21のいずれか一項に記載のフィルタ装置。The second positioning member has a second guide surface corresponding to the position of the second shape changing portion,
The filter device according to any one of claims 16 to 21, wherein the fourth positioning member has a fourth guide surface corresponding to a position of the fourth shape changing portion.
前記第2フレームに設けられた第2取っ手部とを有し、
前記第1フレームに対する前記第1取っ手部の位置と、前記第2フレームに対する前記第2取っ手部との位置とが互いに異なることを特徴とする請求項9から請求項24のいずれか一項に記載のフィルタ装置。A first handle provided on the first frame;
A second handle portion provided on the second frame,
25. The position of the first handle portion with respect to the first frame and the position of the second handle portion with respect to the second frame are different from each other. Filter device.
前記第2取っ手部は前記第3形状変化部に設けられることを特徴とする請求項25に記載のフィルタ装置。The first handle portion is provided in the first shape changing portion,
26. The filter device according to claim 25, wherein the second handle portion is provided in the third shape changing portion.
前記第1位置決め部材及び前記第3位置決め部材の前記第1取っ手部及び前記第2取っ手部に対応する位置にそれぞれ凹部が設けられたことを特徴とする請求項26に記載のフィルタ装置。The position of the first handle portion in the first shape change portion is different from the position of the second handle portion in the third shape change portion,
27. The filter device according to claim 26, wherein concave portions are provided at positions corresponding to the first handle portion and the second handle portion of the first positioning member and the third positioning member, respectively.
前記第2フレームの前記第4形状変化部に設けられる第4取っ手部と
を備えることを特徴とする請求項25から請求項28のいずれか一項に記載のフィルタ装置。A third handle provided in the second shape changing portion of the first frame;
The filter device according to any one of claims 25 to 28, further comprising a fourth handle portion provided in the fourth shape changing portion of the second frame.
前記第1位置決め部材及び前記第3位置決め部材の前記第1取っ手部及び前記第2取っ手部に対応する位置にそれぞれ凸部が設けられたことを特徴とする請求項30に記載のフィルタ装置。The position of the first handle part in the first shape change part is different from the position of the second handle part in the third shape change part,
31. The filter device according to claim 30, wherein convex portions are provided at positions corresponding to the first handle portion and the second handle portion of the first positioning member and the third positioning member, respectively.
前記第4取っ手部は前記第4形状変化部に設けられる凸部であることを特徴とする請求項29に記載のフィルタ装置。The third handle portion is a convex portion provided in the second shape changing portion,
30. The filter device according to claim 29, wherein the fourth handle portion is a convex portion provided in the fourth shape changing portion.
前記第4取っ手部は前記第4形状変化部に設けられる凹部であることを特徴とする請求項29に記載のフィルタ装置。The third handle portion is a recess provided in the second shape changing portion,
30. The filter device according to claim 29, wherein the fourth handle portion is a recess provided in the fourth shape changing portion.
前記第2フィルタは、前記第2フィルタを通過する気体中のアルカリ性物質及び酸性物質の少なくとも一方を除去することを特徴とする請求項9から請求項35のいずれか一項に記載のフィルタ装置。The first filter removes organic substances in the gas passing through the first filter,
The filter device according to any one of claims 9 to 35, wherein the second filter removes at least one of an alkaline substance and an acidic substance in a gas passing through the second filter.
前記第2フレームの前記他方の端面に設けられた第2シール部材とを有することを特徴とする請求項1から請求項36のいずれか一項に記載のフィルタ装置。A first seal member provided on the other end surface of the first frame;
37. The filter device according to claim 1, further comprising a second seal member provided on the other end face of the second frame.
前記基板を露光する露光本体部を収納するチャンバと、
請求項1から請求項37のいずれか一項に記載のフィルタ装置と、
前記チャンバの外部から取り込まれた気体を前記フィルタ装置を介して前記チャンバ内に送風する空調装置と、
を備えることを特徴とする露光装置。In an exposure apparatus that exposes a substrate through a pattern with exposure light,
A chamber for storing an exposure main body for exposing the substrate;
A filter device according to any one of claims 1 to 37;
An air conditioner for blowing gas taken from outside the chamber into the chamber through the filter device;
An exposure apparatus comprising:
第1フィルタを保持する第1フレームと、前記第1フレームの側面のうち第1側面の少なくとも一部に設けられ、前記第1フレームの2つの端面のうち、一方の端面側から他方の端面側に向かい、かつ前記第1フレームの外側に変化した第1形状変化部とを備える第1フィルタボックスを用意する工程と、
前記第1フレームの前記第1側面に隣接する側面を前記収容部の第1ベース部材の表面に載置する工程と、
前記第1フレームの前記第1形状変化部を前記収容部の第1位置決め部材に係合させて、前記第1フレームを前記収容部の第1仕切り部材の方向に移動させる工程と、
前記第1フレームの前記一方の端面を第1シール部材を介して前記収容部の前記第1仕切り部材に押し付ける工程と、
を含むことを特徴とするフィルタの収容方法。A housing method for housing the filter in the housing portion,
A first frame that holds the first filter, and is provided on at least a part of the first side surface of the first frame. Of the two end surfaces of the first frame, one end surface side to the other end surface side Preparing a first filter box including a first shape changing portion that is directed to the outside and changed to the outside of the first frame;
Placing a side surface adjacent to the first side surface of the first frame on the surface of the first base member of the housing portion;
Engaging the first shape changing portion of the first frame with the first positioning member of the housing portion and moving the first frame in the direction of the first partition member of the housing portion;
Pressing the one end surface of the first frame against the first partition member of the housing portion via a first seal member;
A method for housing a filter, comprising:
前記第1フレームを前記収容部の前記第1仕切り部材の方向に移動させる工程は、
前記第1フレームの前記第2形状変化部に前記収容部の第2位置決め部材を係合させて、前記第2位置決め部材を介して前記第1フレームを付勢する工程を含むことを特徴とする請求項39に記載のフィルタの収容方法。The first filter box is provided on at least a part of a second side surface of the first frame that is opposite to the first side surface with respect to the first filter, from the one end surface side to the other end surface. A second shape changing portion that is directed to the side and changed to the outside of the first frame;
The step of moving the first frame in the direction of the first partition member of the housing portion,
A step of engaging the second positioning member of the housing portion with the second shape changing portion of the first frame and biasing the first frame through the second positioning member. The filter accommodation method according to claim 39.
前記第2形状変化部は、前記第1フレームの前記第2側面の少なくとも一部に形成され、前記一方の端面側から前記他方の端面側に向かって、前記第1フレームの外側に次第に傾斜する第2傾斜部を有することを特徴とする請求項40に記載のフィルタの収容方法。The first shape changing portion is formed on at least a part of the first side surface of the first frame, and gradually inclines to the outside of the first frame from the one end surface side toward the other end surface side. Having a first inclined portion;
The second shape changing portion is formed on at least a part of the second side surface of the first frame, and gradually inclines to the outside of the first frame from the one end surface side toward the other end surface side. 41. The filter accommodation method according to claim 40, further comprising a second inclined portion.
前記第2フレームの前記第3側面に隣接する側面を前記収容部の第2ベース部材の表面に載置する工程と、
前記第2フレームの前記第3形状変化部を前記収容部の第3位置決め部材に係合させて、前記第2フレームを前記収容部の第2仕切り部材の方向に移動させる工程と、
前記第2フレームの前記他方の端面を第2シール部材を介して前記収容部の前記第2仕切り部材に押し付ける工程と、
を含むことを特徴とする請求項39から請求項41のいずれか一項に記載のフィルタの収容方法。A second frame for holding a second filter different from the first filter; and one end surface of two end surfaces of the second frame provided on at least a part of a third side surface of the side surfaces of the second frame. Preparing a second filter box comprising a third shape changing portion that is directed from the side toward the other end face and that has changed to the outside of the second frame;
Placing a side surface adjacent to the third side surface of the second frame on the surface of the second base member of the housing portion;
Engaging the third shape changing portion of the second frame with a third positioning member of the housing portion and moving the second frame in the direction of the second partition member of the housing portion;
Pressing the other end surface of the second frame against the second partition member of the housing portion via a second seal member;
The filter accommodation method according to any one of claims 39 to 41, further comprising:
前記第2フレームを前記収容部の前記第2仕切り部材の方向に移動させる工程は、
前記第2フレームの前記第4形状変化部に前記収容部の第4位置決め部材を係合させて、前記第4位置決め部材を介して前記第2フレームを付勢する工程を含むことを特徴とする請求項42に記載のフィルタの収容方法。The second filter box is provided on at least a part of a fourth side surface of the second frame that is opposite to the third side surface with respect to the second filter, from the one end surface side to the other end surface. A fourth shape changing portion that changes to the side and changes to the outside of the second frame;
The step of moving the second frame in the direction of the second partition member of the housing portion,
And a step of engaging the fourth positioning member of the housing portion with the fourth shape changing portion of the second frame and biasing the second frame via the fourth positioning member. 43. A filter accommodation method according to claim 42.
前記第4形状変化部は、前記第2フレームの前記第4側面の少なくとも一部に形成され、前記第2フレームの前記一方の端面側から前記他方の端面側に向かって、前記第2フレームの外側に傾斜する第4傾斜部を有することを特徴とする請求項43に記載のフィルタの収容方法。The third shape changing portion is formed on at least a part of the third side surface of the second frame, and extends from the one end surface side of the second frame toward the other end surface side of the second frame. A third inclined portion that is inclined outward;
The fourth shape changing portion is formed on at least a part of the fourth side surface of the second frame, and extends from the one end surface side to the other end surface side of the second frame. 44. The filter accommodation method according to claim 43, further comprising a fourth inclined portion inclined outward.
前記第1フレーム又は前記第2フレームを前記収容部から搬出する工程と、
を含むことを特徴とする請求項42から請求項44のいずれか一項に記載のフィルタの収容方法。By engaging the first shape changing portion of the first frame or the third shape changing portion of the second frame with the first positioning member or the third positioning member, respectively, the first frame or the second frame is engaged. Separating each of the frames from the first partition member or the second partition member of the accommodating portion;
Carrying out the first frame or the second frame from the accommodating portion;
The filter accommodation method according to any one of claims 42 to 44, further comprising:
前記露光された感光性基板を処理することと、を含むデバイス製造方法。Exposing a photosensitive substrate using the exposure apparatus of claim 38;
Processing the exposed photosensitive substrate.
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