JPWO2011004756A1 - Thermosetting composition for protective film of wiring board - Google Patents

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一彦 大賀
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律子 東
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Abstract

低反り性、可撓性、長期電気絶縁信頼性に優れた配線板の保護膜用熱硬化性組成物を提供する。本発明の配線板の保護膜用熱硬化性組成物は、トリシクロデカン構造を有するエポキシ基含有化合物、エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタン及び溶剤を必須成分とする。(式中、R1は、炭素数3〜18のアルキレン基を表し、nは1以上の整数を表す。)トリシクロデカン構造を有するエポキシ基含有化合物としては、式(2)の化合物が好ましく用いられる。Provided is a thermosetting composition for a protective film of a wiring board excellent in low warpage, flexibility and long-term electrical insulation reliability. The thermosetting composition for a protective film of a wiring board of the present invention has an epoxy group-containing compound having a tricyclodecane structure, a functional group capable of reacting with an epoxy group, and a structural unit represented by the formula (1) A polyurethane and a solvent are essential components. (In the formula, R1 represents an alkylene group having 3 to 18 carbon atoms, and n represents an integer of 1 or more.) As an epoxy group-containing compound having a tricyclodecane structure, a compound of formula (2) is preferably used. It is done.

Description

本発明は、新規な配線板の保護膜用熱硬化性組成物、その保護膜用熱硬化性組成物を硬化して得られる配線板の保護膜、その保護膜によって被覆されたフレキシブル配線板及び該保護膜によって被覆されたフレキシブル配線板の製造方法に関するものである。さらに詳しくは、低反り性、可撓性、長期電気絶縁信頼性に優れた配線板の保護膜用熱硬化性組成物、その保護膜用熱硬化性組成物を硬化して得られる配線板の保護膜、その保護膜で一部または全部が被覆されたフレキシブル配線板及び該保護膜によって被覆されたフレキシブル配線板の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a novel thermosetting composition for a protective film of a wiring board, a protective film for a wiring board obtained by curing the thermosetting composition for the protective film, a flexible wiring board covered with the protective film, and The present invention relates to a method for manufacturing a flexible wiring board covered with the protective film. More specifically, a thermosetting composition for a protective film of a wiring board excellent in low warpage, flexibility, and long-term electrical insulation reliability, and a wiring board obtained by curing the thermosetting composition for a protective film. The present invention relates to a protective film, a flexible wiring board partially or entirely covered with the protective film, and a method for manufacturing a flexible wiring board covered with the protective film.

従来、フレキシブル配線回路の表面保護膜は、カバーレイフィルムと呼ばれるポリイミドフィルムをパターンに合わせた金型をつくり打ち抜いたのち、接着剤を用いて張り付けるタイプや、可とう性を持たせた紫外線硬化型、または熱硬化型のオーバーコート剤をスクリーン印刷法により塗布するタイプのものであり、特に後者は作業性の点で有用であった。これら硬化タイプのオーバーコート剤としては、主にエポキシ樹脂系、アクリル樹脂系、あるいはこれらの複合系よりなる樹脂組成物が知られている。これらは、特にブタジエン骨格、シロキサン骨格、ポリカーボネートジオール骨格、長鎖脂肪族骨格等の導入などの変成を行った樹脂を主成分とすることが多く、これにより、表面保護膜が本来備える耐熱性や、耐薬品性、電気絶縁性の低下をなるべく押さえながら、柔軟性の向上や、硬化収縮による反りの発生の抑制を行ってきた。
しかしながら、近年、電子機器の軽量小型化に伴いフレキシブル基板も軽薄化が進み、これに伴い、オーバーコートする樹脂組成物の柔軟性や硬化収縮の影響が、より顕著に現れるようになってきている。このため、硬化タイプのオーバーコート剤では、柔軟性や硬化収縮による反りの点で、要求性能を満足できなくなっているのが現状である。
Conventionally, surface protection films for flexible wiring circuits are made by punching a die that matches the pattern of a polyimide film called a coverlay film, and then pasting it with an adhesive, or UV curing with flexibility. A type or a thermosetting type overcoat agent is applied by a screen printing method, and the latter is particularly useful in terms of workability. As these curing type overcoat agents, resin compositions mainly composed of epoxy resin, acrylic resin, or composites thereof are known. These are often mainly composed of resins that have been modified, such as the introduction of a butadiene skeleton, a siloxane skeleton, a polycarbonate diol skeleton, a long-chain aliphatic skeleton, and the like. In addition, while suppressing the deterioration of chemical resistance and electrical insulation as much as possible, the improvement of flexibility and the occurrence of warpage due to curing shrinkage have been suppressed.
However, in recent years, flexible substrates have become lighter and thinner as electronic devices become lighter and smaller, and accordingly, the effects of flexibility and curing shrinkage of the resin composition to be overcoated are becoming more prominent. . For this reason, in the present situation, the curing type overcoat agent cannot satisfy the required performance in terms of warpage due to flexibility and curing shrinkage.

例えば、特開平11−61038号公報(特許文献1)には、ポリブタジエンのブロックイソシアネートとポリオールを用いる樹脂組成物が開示されているが、その硬化物は柔軟性や収縮率の点で優れているものの、耐熱性が十分でない。   For example, JP-A-11-61038 (Patent Document 1) discloses a resin composition using a polybutadiene blocked isocyanate and a polyol, but the cured product is excellent in terms of flexibility and shrinkage. However, heat resistance is not enough.

特開2004−137370号公報(特許文献2)には、ポリカーボネートジオールとジイソシアネート化合物とを反応させて得られた両末端ジイソシアネートポリウレタンとトリメリット酸とを反応させたポリアミドイミド樹脂とアミン型エポキシ樹脂を含む組成物が開示されているが、ポリアミドイミド樹脂とアミン型エポキシ樹脂から得られる硬化物の電気特性の長期信頼性が十分でないという欠点があった。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-137370 (Patent Document 2) includes a polyamide-imide resin obtained by reacting a polycarbonate diol and a diisocyanate compound and a terminal diisocyanate polyurethane and trimellitic acid, and an amine-type epoxy resin. Although the composition containing this was disclosed, there existed a fault that the long-term reliability of the electrical property of the hardened | cured material obtained from a polyamideimide resin and an amine type epoxy resin was not enough.

特開2006−307183号公報(特許文献3)号公報にカルボキシル基含有ポリウレタンポリイミドとエポキシ化ポリブタジエンを含有する組成物が開示されているが、この組成物は、この組成物は、乾燥して溶剤を除去の際に、カルボキシル基含有ポリウレタンポリイミドとエポキシ化ポリブタジエンが相分離構造を起こし易く、均一な皮膜になりにくいという欠点を有していた。   JP-A 2006-307183 (Patent Document 3) discloses a composition containing a carboxyl group-containing polyurethane polyimide and an epoxidized polybutadiene. This composition is dried to be a solvent. At the time of removal, the carboxyl group-containing polyurethane polyimide and the epoxidized polybutadiene are liable to cause a phase separation structure and have a disadvantage that a uniform film is hardly formed.

また、特開2004−182792号公報(特許文献4)にはオルガノシロキサン骨格を備えたポリアミドイミド樹脂が開示されているが、その硬化物と基材との密着性が良くない上に、N−メチル−2−ピロリドンのような特殊な溶媒を使用する必要があり、特にスクリーン印刷時に乳剤を溶解させることがあるので、問題となることがあった。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-182792 (Patent Document 4) discloses a polyamideimide resin having an organosiloxane skeleton, but the adhesion between the cured product and the substrate is not good. It is necessary to use a special solvent such as methyl-2-pyrrolidone, which may cause a problem because the emulsion may be dissolved particularly during screen printing.

また、特開2006−348278号公報(特許文献5)にはポリブタジエンポリオール、ポリイソプレンポリオール、水素化ポリブタジエンポリオールおよび水素化ポリイソプレンポリオールからなる群より選ばれるポリオールユニットを有するカルボキシル基含有ポリウレタンとエポキシ化合物を含む組成物が開示されている。例えば、COF(Chip on Film)実装方式に使用される回路パターン形成方法に目を向けると、現在、COF実装方式で広く一般的に使用されている配線はサブトラクティブ法で生産されたものである。これらのサブトラクティブ法で生産された配線用の絶縁被膜としては、特許文献5で開示されている組成物から得られる硬化物は十分な絶縁性能を発現している。   JP-A 2006-348278 (Patent Document 5) discloses a carboxyl group-containing polyurethane and an epoxy compound having a polyol unit selected from the group consisting of polybutadiene polyol, polyisoprene polyol, hydrogenated polybutadiene polyol and hydrogenated polyisoprene polyol. A composition comprising is disclosed. For example, when focusing on the circuit pattern forming method used in the COF (Chip on Film) mounting method, the wiring that is currently widely used in the COF mounting method is produced by the subtractive method. . As an insulating film for wiring produced by these subtractive methods, a cured product obtained from the composition disclosed in Patent Document 5 exhibits sufficient insulating performance.

さらに、特開2007−10037号公報(特許文献6)には、ダイマージオールから誘導される有機残基を有するカルボキシル基含有ポリウレタンとエポキシ化合物を含むソルダーレジストインキが開示されている。この組成物から得られる硬化物に関しても、サブトラクティブ法で生産された配線用の絶縁被膜としては、特許文献6で開示されているソルダーレジストインキは十分な絶縁性能を発現している。   Furthermore, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2007-10037 (Patent Document 6) discloses a solder resist ink containing a carboxyl group-containing polyurethane having an organic residue derived from dimer diol and an epoxy compound. Regarding the cured product obtained from this composition, the solder resist ink disclosed in Patent Document 6 exhibits sufficient insulating performance as an insulating coating for wiring produced by the subtractive method.

特開平11−61038号公報JP-A-11-61038 特開2004−137370号公報JP 2004-137370 A 特開2006−307183号公報JP 2006-307183 A 特開2004−182792号公報JP 2004-182792 A 特開2006−348278号公報JP 2006-348278 A 特開2007−100037号公報JP 2007-100037 A

しかしながら、セミアディティブ法の発展に伴い、フレキシブル配線板の配線間距離が更に狭く(例えば、20μmピッチ以下)なることが予想されている。
この更なる狭ピッチ化に伴い、更なる電気絶縁性能の良好な樹脂の開発が求められている。
本発明の目的は、柔軟で、セミアディティブ法においても電気絶縁特性の良好な保護膜を得ることができる配線板の保護膜用熱硬化性組成物、該組成物を硬化して得られる配線板の保護膜、該保護膜によって被覆されたフレキシブル配線板、およびフレキシブル配線板の製造方法を提供することを目的とする。
However, with the development of the semi-additive method, the distance between wirings of the flexible wiring board is expected to be further narrowed (for example, 20 μm pitch or less).
With this further narrowing of the pitch, the development of a resin with better electrical insulation performance is required.
An object of the present invention is to provide a thermosetting composition for a protective film of a wiring board that is flexible and can obtain a protective film having good electrical insulation characteristics even in a semi-additive method, and a wiring board obtained by curing the composition An object of the present invention is to provide a protective film, a flexible wiring board covered with the protective film, and a method of manufacturing the flexible wiring board.

本発明者らは、上記課題を解決すべく研究を重ねた結果、特定の構造単位を有するポリウレタン、特定の構造を有するエポキシ基含有化合物及び溶剤を含む硬化性組成物を用いると、該組成物を硬化する際の反りが小さく、この硬化性組成物を硬化することによって得られる硬化物が、可撓性及び電気絶縁特性に優れていることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of repeated studies to solve the above problems, the present inventors have used a curable composition containing a polyurethane having a specific structural unit, an epoxy group-containing compound having a specific structure, and a solvent. The present inventors have found that a cured product obtained by curing this curable composition is excellent in flexibility and electrical insulating properties, and the present invention has been completed.

即ち、本発明(I)は、トリシクロデカン構造を有するエポキシ基含有化合物、エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタン及び溶剤を必須成分とする配線板の保護膜用熱硬化性組成物である。

Figure 2011004756
(式中、Rは、炭素数3〜18のアルキレン基を表し、nは1以上の整数を表す。)That is, the present invention (I) comprises an epoxy group-containing compound having a tricyclodecane structure, a polyurethane having a functional group capable of reacting with an epoxy group and having a structural unit represented by formula (1), and a solvent as essential components. It is a thermosetting composition for protective film of a wiring board.
Figure 2011004756
(In the formula, R 1 represents an alkylene group having 3 to 18 carbon atoms, and n represents an integer of 1 or more.)

本発明(II)は、本発明(I)の配線板の保護膜用熱硬化性組成物を硬化して得られる配線板の保護膜である。   This invention (II) is a protective film of a wiring board obtained by hardening | curing the thermosetting composition for protective films of the wiring board of this invention (I).

本発明(III)は、フレキシブル基板上に配線が形成されてなるフレキシブル配線板の、配線が形成されている表面の一部または全部が本発明(II)の配線板の保護膜によって被覆されたことを特徴とする、保護膜によって被覆されたフレキシブル配線板である。   In the present invention (III), part or all of the surface of the flexible wiring board in which the wiring is formed on the flexible substrate is covered with the protective film of the wiring board of the present invention (II). This is a flexible wiring board covered with a protective film.

本発明(IV)は、本発明(I)の配線板の保護膜用熱硬化性組成物をフレキシブル配線板の錫メッキ処理された配線パターン部に印刷することで該パターン上に印刷膜を形成し、該印刷膜を80〜130℃で加熱硬化させることで保護膜を形成することを特徴とする、保護膜によって被覆されたフレキシブル配線板の製造方法である。   In the present invention (IV), a printed film is formed on the pattern by printing the thermosetting composition for the protective film of the wiring board of the present invention (I) on the wiring pattern portion subjected to tin plating of the flexible wiring board. Then, the printed film is heated and cured at 80 to 130 ° C. to form a protective film, which is a method for producing a flexible wiring board covered with a protective film.

さらに言えば、本発明は、以下の[1]〜[12]の配線板の保護膜用熱硬化性組成物、[13]の配線板の保護膜、[14]のフレキシブル配線板及び[15]のフレキシブル配線板の製造方法である。   Further, the present invention relates to the following thermosetting composition for a protective film for a wiring board according to [1] to [12], a protective film for a wiring board according to [13], a flexible wiring board according to [14], and [15]. ] Is a method for manufacturing a flexible wiring board.

[1]トリシクロデカン構造を有するエポキシ基含有化合物、エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタン及び溶剤を必須成分とする配線板の保護膜用熱硬化性組成物。 [1] An epoxy group-containing compound having a tricyclodecane structure, a polyurethane having a functional group capable of reacting with an epoxy group and having a structural unit represented by the formula (1), and a protective film for a wiring board comprising a solvent as essential components Thermosetting composition.

[2]トリシクロデカン構造を有するエポキシ基含有化合物が、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン構造またはトリシクロ[3.3.1.13,7]デカン構造を有し、かつ芳香環構造を有するエポキシ基含有化合物であることを特徴とする[1]に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。[2] The epoxy group-containing compound having a tricyclodecane structure has a tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane structure or a tricyclo [3.3.1.1 3,7 ] decane structure, The thermosetting composition for a protective film of a wiring board according to [1], which is an epoxy group-containing compound having an aromatic ring structure.

[3]トリシクロデカン構造を有するエポキシ基含有化合物が、式(2)で示される化合物であることを特徴とする[2]に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。

Figure 2011004756
(式中、lは、0または1以上の整数を表す。)[3] The thermosetting composition for a protective film for a wiring board according to [2], wherein the epoxy group-containing compound having a tricyclodecane structure is a compound represented by the formula (2).
Figure 2011004756
(In the formula, l represents 0 or an integer of 1 or more.)

[4]エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンが、エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有し、さらにイミド結合を有するポリウレタンポリイミドであることを特徴とする[1]〜[3]のいずれかに記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。 [4] The polyurethane having a functional group capable of reacting with an epoxy group and having a structural unit represented by the formula (1) has a functional group capable of reacting with an epoxy group and represented by the formula (1) The thermosetting composition for a protective film of a wiring board according to any one of [1] to [3], which is a polyurethane polyimide having an imide bond.

[5]エポキシ基と反応可能な官能基が、カルボキシル基であることを特徴とする[1]〜[4]のいずれかに記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。 [5] The thermosetting composition for a protective film of a wiring board according to any one of [1] to [4], wherein the functional group capable of reacting with an epoxy group is a carboxyl group.

[6]エポキシ基と反応可能な官能基が、酸無水物基であることを特徴とする[1]〜[4]のいずれかに記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。 [6] The thermosetting composition for a protective film of a wiring board according to any one of [1] to [4], wherein the functional group capable of reacting with an epoxy group is an acid anhydride group.

[7]エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有し、さらにイミド結合を有するポリウレタンポリイミドが、下記成分(a)〜成分(d)を反応して得られるポリウレタンポリイミドであることを特徴とする[4]または[5]に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。
成分(a) ジイソシアネート、
成分(b) 炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオール、
成分(c) カルボキシル基を有するジオール、および
成分(d) 式(3)で示される2官能性水酸基末端イミド。

Figure 2011004756
(式中、R、Rは、それぞれ独立に、2価の脂肪族または芳香族炭化水素基を示し、Yはテトラカルボン酸またはその酸無水物基から誘導される4価の有機基を示し、Xはジアミン或いはジイソシアネートから誘導される2価の有機基を示し、mは、0〜20の整数である。)[7] A polyurethane polyimide having a functional group capable of reacting with an epoxy group and having a structural unit represented by the formula (1) and further having an imide bond reacts the following components (a) to (d): The thermosetting composition for a protective film for a wiring board according to [4] or [5], which is a polyurethane polyimide obtained by the above process.
Component (a) diisocyanate,
Component (b) (poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms,
Component (c) Diol having a carboxyl group, and Component (d) A bifunctional hydroxyl-terminated imide represented by the formula (3).
Figure 2011004756
Wherein R 2 and R 3 each independently represents a divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon group, and Y 1 represents a tetravalent organic group derived from a tetracarboxylic acid or an acid anhydride group thereof. X 1 represents a divalent organic group derived from diamine or diisocyanate, and m is an integer of 0 to 20.)

[8]エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有し、さらにイミド結合を有するポリウレタンポリイミドが、式(4)〜式(6)からなる群より選ばれる少なくとも1種の構造単位を有するポリウレタンポリイミドであることを特徴とする[4]または[6]に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。

Figure 2011004756
(式中、複数個のRは、それぞれ独立に炭素数3〜18のアルキレン基であり、複数個のRは、それぞれ独立に炭素数3〜18のアルキレン基であり、a及びbは、それぞれ独立に1〜20の整数であり、複数個のXは、それぞれ独立に2価の有機基である。)
Figure 2011004756
(式中、複数個のRは、それぞれ独立に炭素数3〜18のアルキレン基であり、複数個のRは、それぞれ独立に炭素数3〜18のアルキレン基であり、c及びdは、それぞれ独立に1〜20の整数であり、複数個のXは、それぞれ独立に2価の有機基であり、Yは、CH、SOまたはOである。)
Figure 2011004756
式中、複数個のRは、それぞれ独立に炭素数3〜18のアルキレン基であり、複数個のRは、それぞれ独立に炭素数3〜18のアルキレン基であり、e及びfは、それぞれ独立に1〜20の整数であり、複数個のXは、それぞれ独立に2価の有機基であり、Yは、式(7)〜式(33)のいずれかの基である。
Figure 2011004756
Figure 2011004756
Figure 2011004756
Figure 2011004756
Figure 2011004756
[8] A polyurethane polyimide having a functional group capable of reacting with an epoxy group, having a structural unit represented by the formula (1), and further having an imide bond is selected from the group consisting of formulas (4) to (6) The thermosetting composition for a protective film of a wiring board according to [4] or [6], which is a polyurethane polyimide having at least one selected structural unit.
Figure 2011004756
(In the formula, a plurality of R 4 are each independently an alkylene group having 3 to 18 carbon atoms, a plurality of R 5 are each independently an alkylene group having 3 to 18 carbon atoms, and a and b are And each independently represents an integer of 1 to 20, and a plurality of X 2 are each independently a divalent organic group.)
Figure 2011004756
(Wherein a plurality of R 6 are each independently an alkylene group having 3 to 18 carbon atoms, a plurality of R 7 are each independently an alkylene group having 3 to 18 carbon atoms, and c and d are And each independently represents an integer of 1 to 20, a plurality of X 3 are each independently a divalent organic group, and Y 2 is CH 2 , SO 2 or O.)
Figure 2011004756
In the formula, a plurality of R 8 are each independently an alkylene group having 3 to 18 carbon atoms, a plurality of R 9 are each independently an alkylene group having 3 to 18 carbon atoms, and e and f are Each independently represents an integer of 1 to 20, a plurality of X 4 are each independently a divalent organic group, and Y 3 is any group of formulas (7) to (33).
Figure 2011004756
Figure 2011004756
Figure 2011004756
Figure 2011004756
Figure 2011004756

[9]エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンが、下記成分(a)、成分(b)、成分(c)及び成分(e)を反応して得られるポリウレタンであることを特徴とする[1]〜[3]のいずれかに記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。
成分(a) ジイソシアネート、
成分(b) 炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオール、
成分(c) カルボキシル基を有するジオール、
成分(e) 1分子中に水酸基を3個以上有する化合物。
[9] A polyurethane having a functional group capable of reacting with an epoxy group and having a structural unit represented by the formula (1) comprises the following component (a), component (b), component (c) and component (e): The thermosetting composition for a protective film for a wiring board according to any one of [1] to [3], which is a polyurethane obtained by a reaction.
Component (a) diisocyanate,
Component (b) (poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms,
Component (c) a diol having a carboxyl group,
Component (e) A compound having 3 or more hydroxyl groups in one molecule.

[10]エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンが、エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有し、さらに、ダイマージオールから誘導された有機残基を含有するポリウレタンであることを特徴とする[1]〜[3]、[5]、[6]及び[9]のいずれかに記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。 [10] A polyurethane having a functional group capable of reacting with an epoxy group and having a structural unit represented by the formula (1) has a functional group capable of reacting with an epoxy group and represented by the formula (1) And [1] to [3], [5], [6] and [9], wherein the polyurethane further contains an organic residue derived from dimer diol. Thermosetting composition for protective film of wiring board.

[11]溶剤が、大気圧下で170℃以上200℃未満の沸点を有する少なくとも1種の溶剤と大気圧下で200℃〜220℃の沸点を有する少なくとも1種の溶剤を含む混合溶剤であることを特徴とする[1]〜[10]のいずれかに記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。
[12]溶剤が、下記A群の中から選ばれる少なくとも1種の溶剤と下記B群の中から選ばれる少なくとも1種の溶剤を必須成分とする混合溶剤であることを特徴とする[1]〜[11]のいずれかに記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。
A群:ジエチレングリコールジメチルエーテル(沸点162℃)、ジエチレングリコールジエチルエーテル(沸点189℃)、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル(沸点176℃)、ジプロピレングリコ−ルジメチルエーテル(沸点171℃)、3−メトキシブチルアセテート(沸点171℃)、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート(沸点192℃)
B群:ジエチレングリコールブチルメチルエーテル(沸点212℃)、トリプロピレングリコールジメチルエーテル(沸点215℃)、トリエチレングリコールジメチルエーテル(沸点216℃)、エチレングリコールジブチルエーテル(沸点203℃)、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート(沸点217℃)、γ−ブチロラクトン(沸点204℃)
[11] The solvent is a mixed solvent containing at least one solvent having a boiling point of 170 ° C. or more and less than 200 ° C. under atmospheric pressure and at least one solvent having a boiling point of 200 ° C. to 220 ° C. under atmospheric pressure. The thermosetting composition for a protective film for a wiring board according to any one of [1] to [10].
[12] The solvent is a mixed solvent containing at least one solvent selected from the following group A and at least one solvent selected from the following group B as essential components [1] -The thermosetting composition for protective films of the wiring board in any one of [11].
Group A: diethylene glycol dimethyl ether (boiling point 162 ° C.), diethylene glycol diethyl ether (boiling point 189 ° C.), diethylene glycol ethyl methyl ether (boiling point 176 ° C.), dipropylene glycol dimethyl ether (boiling point 171 ° C.), 3-methoxybutyl acetate (boiling point 171) ° C), ethylene glycol monobutyl ether acetate (boiling point 192 ° C)
Group B: Diethylene glycol butyl methyl ether (boiling point 212 ° C.), tripropylene glycol dimethyl ether (boiling point 215 ° C.), triethylene glycol dimethyl ether (boiling point 216 ° C.), ethylene glycol dibutyl ether (boiling point 203 ° C.), diethylene glycol monoethyl ether acetate (boiling point) 217 ° C.), γ-butyrolactone (boiling point 204 ° C.)

[13][1]〜[12]のいずれかに記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物を硬化して得られる配線板の保護膜。 [13] A protective film for a wiring board obtained by curing the thermosetting composition for a protective film for a wiring board according to any one of [1] to [12].

[14]フレキシブル基板上に配線が形成されてなるフレキシブル配線板の、配線が形成されている表面の一部または全部が[13]に記載の配線板の保護膜によって被覆されたことを特徴とする、保護膜によって被覆されたフレキシブル配線板。 [14] A part of or all of the surface of the flexible wiring board in which the wiring is formed on the flexible substrate is covered with the protective film of the wiring board according to [13]. A flexible wiring board covered with a protective film.

[15][1]〜[12]のいずれかに記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物をフレキシブル配線板の錫メッキ処理された配線パターン部に印刷することで該パターン上に印刷膜を形成し、該印刷膜を80〜130℃で加熱硬化させることで保護膜を形成することを特徴とする、保護膜によって被覆されたフレキシブル配線板の製造方法。 [15] Printing on the pattern by printing the thermosetting composition for a protective film of a wiring board according to any one of [1] to [12] on a tinned wiring pattern portion of a flexible wiring board A method for producing a flexible wiring board covered with a protective film, comprising forming a film and forming the protective film by heating and curing the printed film at 80 to 130 ° C.

本発明の硬化物はタックがなくハンドリング性が良好であり、可撓性および耐湿性が良好で、しかも高いレベルでの長期電気絶縁信頼性を有し、かつ、低反り性を有し基材やアンダーフィル材との密着性が良好で、耐溶剤性も良好である。このため、フレキシブル配線板やポリイミドフィルムのようなフレキシブル基材に本発明の熱硬化性組成物を塗布し、その後硬化反応により硬化物(保護膜)を作成する際、保護膜付きのフレキシブル配線板や保護膜付きのフレキシブル基材の反りが小さく、その後ICチップ搭載工程の位置合わせを容易にする。
また、本発明の硬化物は可撓性を有するので、クラックの生じにくい電気絶縁保護膜付きのフレキシブル配線板(例えば、COF等のフレキシブルプリント配線板)を提供することができる。
The cured product of the present invention has no tack, good handling properties, good flexibility and moisture resistance, long-term electrical insulation reliability at a high level, and low warpage. In addition, the adhesiveness with the underfill material is good, and the solvent resistance is also good. For this reason, when applying the thermosetting composition of the present invention to a flexible substrate such as a flexible wiring board or a polyimide film, and then creating a cured product (protective film) by a curing reaction, the flexible wiring board with a protective film In addition, the warp of the flexible base material with a protective film is small, and the positioning of the IC chip mounting process is facilitated thereafter.
Moreover, since the cured product of the present invention has flexibility, it is possible to provide a flexible wiring board (for example, a flexible printed wiring board such as COF) with an electrically insulating protective film that is less susceptible to cracking.

以下、本発明を具体的に説明する。
まず、本発明(I)について説明する。
本発明(I)は、トリシクロデカン構造を有するエポキシ基含有化合物、エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタン及び溶剤を必須成分とする配線板の保護膜用熱硬化性組成物である。

Figure 2011004756
(式中、Rは、炭素数3〜18のアルキレン基を表し、nは1以上の整数を表す。)Hereinafter, the present invention will be specifically described.
First, the present invention (I) will be described.
The present invention (I) includes an epoxy group-containing compound having a tricyclodecane structure, a polyurethane having a functional group capable of reacting with an epoxy group and having a structural unit represented by the formula (1), and a wiring comprising a solvent as essential components It is a thermosetting composition for a protective film of a plate.
Figure 2011004756
(In the formula, R 1 represents an alkylene group having 3 to 18 carbon atoms, and n represents an integer of 1 or more.)

本発明(II)は、本発明(I)の配線板の保護膜熱硬化性組成物を硬化して得られる配線板の保護膜である。   The present invention (II) is a protective film for a wiring board obtained by curing the protective film thermosetting composition for the wiring board of the present invention (I).

本発明(I)の組成物の必須成分の1つであるトリシクロデカン構造を有するエポキシ基含有化合物は、分子中にトリシクロデカン構造とエポキシ基を有する化合物であれば、特に制限はない。   The epoxy group-containing compound having a tricyclodecane structure, which is one of the essential components of the composition of the present invention (I), is not particularly limited as long as it is a compound having a tricyclodecane structure and an epoxy group in the molecule.

トリシクロデカン構造とは、例えば、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン構造またはトリシクロ[3.3.1.13,7]デカン構造を挙げることができる。Examples of the tricyclodecane structure include a tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane structure or a tricyclo [3.3.1.1 3,7 ] decane structure.

トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン構造を有するエポキシ基含有化合物としては、例えば、下記式(2)や下記式(34)のような化合物を挙げることができる。

Figure 2011004756
(式中、lは、0または1以上の整数を表す。)
Figure 2011004756
(式中、gは、0または1以上の整数を表す。)Examples of the epoxy group-containing compound having a tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane structure include compounds represented by the following formula (2) and the following formula (34).
Figure 2011004756
(In the formula, l represents 0 or an integer of 1 or more.)
Figure 2011004756
(In the formula, g represents 0 or an integer of 1 or more.)

また、トリシクロ[3.3.1.13,7]デカン構造を有するエポキシ基含有化合物としては、例えば、下記式(35)〜下記式(38)のような化合物を挙げることができる。

Figure 2011004756
Figure 2011004756
Examples of the epoxy group-containing compound having a tricyclo [3.3.1.1 3,7 ] decane structure include compounds represented by the following formula (35) to the following formula (38).
Figure 2011004756
Figure 2011004756

これらのトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン構造またはトリシクロ[3.3.1.13,7]デカン構造とエポキシ基を有する化合物の中では吸水率を低くすることが好ましく、具体的には、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン構造またはトリシクロ[3.3.1.13,7]デカン構造を有し、かつ芳香環構造を有するエポキシ基含有化合物が好ましい。
上記の式(2)及び式(34)〜(38)の中では、式(2)及び式(35)〜式(38)で示される化合物が当てはまる。
Among these compounds having a tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane structure or a tricyclo [3.3.1.1 3,7 ] decane structure and an epoxy group, it is preferable to reduce the water absorption rate. Specifically, an epoxy group containing a tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane structure or a tricyclo [3.3.1.1 3,7 ] decane structure and having an aromatic ring structure Compounds are preferred.
Among the formulas (2) and (34) to (38), the compounds represented by the formulas (2) and (35) to (38) are applicable.

トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン構造またはトリシクロ[3.3.1.13,7]デカン構造を有し、かつ芳香環構造を有するエポキシ基含有化合物の中で、入手の容易さを考慮すると、式(2)で示される化合物が特に好ましい。
式(2)で示される化合物は、DIC株式会社から市販され(グレード名:エピクロンHP−7200L、エピクロンHP−7200、エピクロンHP−7200H、エピクロンHP−7200HH)、また、日本化薬株式会社からもXD−1000−2L、XD−1000のグレード名で市販されており、容易に入手可能である。
Among epoxy group-containing compounds having a tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane structure or a tricyclo [3.3.1.1 3,7 ] decane structure and having an aromatic ring structure In view of the ease, the compound represented by formula (2) is particularly preferred.
The compound represented by the formula (2) is commercially available from DIC Corporation (grade names: Epicron HP-7200L, Epicron HP-7200, Epicron HP-7200H, Epicron HP-7200HH), and also from Nippon Kayaku Co., Ltd. It is commercially available under the grade names XD-1000-2L and XD-1000 and is easily available.

本発明(I)の必須成分であるトリシクロデカン構造を有するエポキシ基含有化合物の使用量は、後述の、本発明(I)の必須成分であるエポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタン中に含まれるエポキシ基と反応可能な官能基の数とエポキシ基の数との比で示すことができる。
前記エポキシ基と反応可能な官能基がエポキシ基と1:1で反応する基の場合には、本発明(I)の熱硬化性組成物中に含まれる、エポキシ基と反応可能な官能基の数とトリシクロデカン構造を有するエポキシ基含有化合物のエポキシ基の数の比は、1/3〜2/1の範囲であることが好ましく、さらに好ましくは、1/2.5〜1.5/1の範囲である。この比が1/3より小さくなると、未反応のエポキシ基が多く残存する可能性が高くなり好ましいことではない。また、この比が2/1よりも大きくなると、未反応のエポキシ基と反応可能な官能基が多く残存することになり、電気絶縁性能上好ましいこととは言えない。例えば、カルボキシル基がエポキシ基1:1で反応する官能基として挙げることができる。
The amount of the epoxy group-containing compound having a tricyclodecane structure, which is an essential component of the present invention (I), has a functional group capable of reacting with an epoxy group, which is an essential component of the present invention (I), which will be described later, and It can be shown by the ratio of the number of functional groups capable of reacting with epoxy groups contained in the polyurethane having the structural unit represented by formula (1) and the number of epoxy groups.
When the functional group capable of reacting with the epoxy group is a group that reacts 1: 1 with the epoxy group, the functional group capable of reacting with the epoxy group contained in the thermosetting composition of the present invention (I) The ratio of the number and the number of epoxy groups of the epoxy group-containing compound having a tricyclodecane structure is preferably in the range of 1/3 to 2/1, more preferably 1 / 2.5 to 1.5 /. 1 range. When this ratio is smaller than 1/3, there is a high possibility that many unreacted epoxy groups remain, which is not preferable. On the other hand, if this ratio is larger than 2/1, many functional groups capable of reacting with unreacted epoxy groups remain, which is not preferable in terms of electrical insulation performance. For example, it can be mentioned as a functional group in which a carboxyl group reacts with an epoxy group 1: 1.

本発明(I)の組成物の必須成分の1つである、エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンは、分子内にエポキシ基と反応可能な官能基と式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンであれば、特に制限はない。

Figure 2011004756
(式中、Rは、炭素数3〜18のアルキレン基を表し、nは1以上の整数を表す。)One of the essential components of the composition of the present invention (I), a polyurethane having a functional group capable of reacting with an epoxy group and having a structural unit represented by the formula (1) reacts with an epoxy group in the molecule. If it is a polyurethane which has a functional unit and the structural unit shown by Formula (1), there will be no restriction | limiting in particular.
Figure 2011004756
(In the formula, R 1 represents an alkylene group having 3 to 18 carbon atoms, and n represents an integer of 1 or more.)

式(1)中、Rは、炭素数3〜18のアルキレン基を表す。炭素数2以下のアルキレン基の場合には、生成するポリウレタンの耐水性を十分に保つことができず、好ましくない。また、炭素数19以上のアルキレン基の場合には、生成するポリウレタンを溶解することのできる溶剤の種類が極端に少なくなったり、ポリイミドへの密着性が低下したりする場合があり好ましいことではない。
nは、1〜20の整数であることが好ましい。
In formula (1), R 1 represents an alkylene group having 3 to 18 carbon atoms. In the case of an alkylene group having 2 or less carbon atoms, the water resistance of the resulting polyurethane cannot be kept sufficiently, which is not preferable. Further, in the case of an alkylene group having 19 or more carbon atoms, the type of solvent capable of dissolving the generated polyurethane may be extremely reduced, or adhesion to polyimide may be lowered, which is not preferable. .
n is preferably an integer of 1 to 20.

式(1)の構造単位は、炭素数3〜18のジオール構造単位を有する(ポリ)カーボネートジオール原料由来の構造単位であるが、さらに、耐水性を増すために、ダイマージオールを、エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンを製造する際の1成分として用いることができかつ好ましい。原料の(ポリ)カーボネートジオールの数平均分子量は、400〜10000のものを使用することができる。   The structural unit of the formula (1) is a structural unit derived from a (poly) carbonate diol raw material having a diol structural unit having 3 to 18 carbon atoms. In order to further increase the water resistance, the dimer diol is combined with an epoxy group. It can be preferably used as one component when producing a polyurethane having a functional group capable of reacting and having a structural unit represented by the formula (1). The raw material (poly) carbonate diol having a number average molecular weight of 400 to 10,000 can be used.

なお、本明細書に記載の(ポリ)カーボネートジオール中の「(ポリ)カーボネート」という表現は、分子中にカーボネート結合を1個以上有していることを意味する。換言すれば、「(ポリ)カーボネート」とは、モノカーボネートとポリカーボネートの両方を意味する。従って、本明細書に記載の「(ポリ)カーボネートジオール」とは、分子中にカーボネート結合を1個以上有し、アルコール性水酸基を2個有する化合物を意味する。   In addition, the expression “(poly) carbonate” in the (poly) carbonate diol described in the present specification means that the molecule has one or more carbonate bonds. In other words, “(poly) carbonate” means both monocarbonate and polycarbonate. Therefore, “(poly) carbonate diol” described in the present specification means a compound having one or more carbonate bonds in the molecule and two alcoholic hydroxyl groups.

また、(ポリ)カーボネートジオールを製造する際に、原料であるジオール成分が残存して含まれる場合があるが、本明細書では、残存する該ジオール成分は、「(ポリ)カーボネートジオール」には含まれないものと定義する。
例えば、1,9−ノナンジオールおよびジエチルカーボネートを原料に用いて、触媒の存在下、エステル交換反応によって(ポリ)カーボネートジオールを製造する際に、原料である1,9−ノナンジオールが生成物である(ポリ)カーボネートジオール中に5質量%残存していた場合には、この残存している1,9−ノナンジオールは、「(ポリ)カーボネートジオール」には含まれないことを意味する。
In addition, when the (poly) carbonate diol is produced, the raw material diol component may remain and be included. In the present specification, the remaining diol component is referred to as “(poly) carbonate diol”. It is defined as not included.
For example, when (poly) carbonate diol is produced by transesterification using 1,9-nonanediol and diethyl carbonate as raw materials in the presence of a catalyst, the raw material 1,9-nonanediol is a product. When 5 mass% remains in a certain (poly) carbonate diol, it means that the remaining 1,9-nonanediol is not included in the “(poly) carbonate diol”.

エポキシ基と反応可能な官能基としては、例えば、アミノ基、カルボキシル基、カルボン酸無水物基、メルカプト基、イソシアナト基、水酸基等の官能基を挙げることができる。これらの官能基の中で、トリシクロデカン構造を有するエポキシ基含有化合物との反応速度が一定の範囲であることが望ましい。このことから、カルボキシル基、カルボン酸無水物基が好ましい。さらに、化合物の臭気や通常の大気中、常温雰囲下での官能基の安定性があることが使用上望ましい。このことを考慮すると、カルボキシル基が最も望ましい。   Examples of functional groups capable of reacting with epoxy groups include amino groups, carboxyl groups, carboxylic anhydride groups, mercapto groups, isocyanato groups, and hydroxyl groups. Among these functional groups, the reaction rate with the epoxy group-containing compound having a tricyclodecane structure is preferably within a certain range. From this, a carboxyl group and a carboxylic anhydride group are preferable. Further, it is desirable in use that the functional group is stable in the odor of the compound or in a normal atmosphere in a normal temperature atmosphere. In view of this, a carboxyl group is most desirable.

本発明(I)の組成物の硬化時の反りを抑制するためには、硬化物の耐溶剤性や長期電気絶縁特性、耐熱性を損なわない限り、硬化時の架橋密度の増加は少ない方が望ましい。硬化時の架橋密度の増加をある程度抑制しかつ硬化物の耐溶剤性や長期電気絶縁特性、耐熱性を良好に発現するためには、エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンは、以下の3種の構造の内、少なくとも1種の構造を分子内に有することが好ましい。   In order to suppress warping during curing of the composition of the present invention (I), the increase in the crosslinking density during curing should be smaller unless the solvent resistance, long-term electrical insulation properties, and heat resistance of the cured product are impaired. desirable. In order to suppress the increase in the cross-linking density during curing to some extent and to exhibit the solvent resistance, long-term electrical insulation properties, and heat resistance of the cured product, it has a functional group that can react with an epoxy group and is represented by the formula (1 The polyurethane having the structural unit represented by () preferably has at least one structure in the molecule among the following three structures.

まず、その1つは、エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンが、さらにイミド構造を有することである。即ち、エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンが、エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有し、さらにイミド結合を有するポリウレタンポリイミドであることが望ましい。
次の1つの構造は、溶剤に溶解する範囲で分子中に一定の分岐構造を有することが望ましい。
もう1つの構造は、エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有し、さらに、ダイマージオールから誘導された有機残基を含有するポリウレタンであることが望ましい。
First, one of them is that a polyurethane having a functional group capable of reacting with an epoxy group and having a structural unit represented by the formula (1) further has an imide structure. That is, a polyurethane having a functional group capable of reacting with an epoxy group and having a structural unit represented by the formula (1) has a functional unit capable of reacting with an epoxy group and represented by the formula (1). It is desirable to be a polyurethane polyimide having an imide bond.
It is desirable that the following one structure has a certain branched structure in the molecule as long as it is soluble in the solvent.
Another structure is a polyurethane having a functional group capable of reacting with an epoxy group and having a structural unit represented by the formula (1), and further containing an organic residue derived from dimer diol. desirable.

まず、エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンが、エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有し、さらにイミド結合を有するポリウレタンポリイミドである場合について説明する。   First, a polyurethane having a functional group capable of reacting with an epoxy group and having a structural unit represented by formula (1) has a functional unit capable of reacting with an epoxy group and represented by formula (1). A case of polyurethane polyimide having an imide bond is described.

エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有し、さらにイミド結合を有するポリウレタンポリイミドの例としては、例えば、特開2003−198105号公報や特開2006−307183号公報に記載のエポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有し、さらにイミド結合を有するポリウレタンポリイミドを挙げることができる。   Examples of polyurethane polyimide having a functional group capable of reacting with an epoxy group and having a structural unit represented by the formula (1) and further having an imide bond include, for example, JP-A-2003-198105 and JP-A-2006. Examples thereof include a polyurethane polyimide having a functional group capable of reacting with an epoxy group described in Japanese Patent No. -307183, a structural unit represented by the formula (1), and further having an imide bond.

まず、特開2003−198105号公報に記載のエポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有し、さらにイミド結合を有するポリウレタンポリイミドについて説明する。   First, a polyurethane polyimide having a functional group capable of reacting with an epoxy group described in JP-A-2003-198105, having a structural unit represented by formula (1), and further having an imide bond will be described.

特開2003−198105号公報に記載のエポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有し、さらにイミド結合を有するポリウレタンポリイミドとは、即ち、下記式(4)〜式(6)で示される構造単位を分子内に有するポリウレタンポリイミドである。

Figure 2011004756
(式中、複数個のRは、それぞれ独立に炭素数3〜18のアルキレン基であり、複数個のRは、それぞれ独立に炭素数3〜18のアルキレン基であり、a及びbは、それぞれ独立に1〜20の整数であり、複数個のXは、それぞれ独立に2価の有機基である。)
Figure 2011004756
(式中、複数個のRは、それぞれ独立に炭素数3〜18のアルキレン基であり、複数個のRは、それぞれ独立に炭素数3〜18アルキレン基であり、c及びdは、それぞれ独立に1〜20の整数であり、複数個のXは、それぞれ独立に2価の有機基であり、Yは、CH、SOまたはOである。)
Figure 2011004756
A polyurethane polyimide having a functional group capable of reacting with an epoxy group described in JP-A No. 2003-198105 and having a structural unit represented by the formula (1) and further having an imide bond is represented by the following formula ( 4) to polyurethane polyimide having a structural unit represented by formula (6) in the molecule.
Figure 2011004756
(In the formula, a plurality of R 4 are each independently an alkylene group having 3 to 18 carbon atoms, a plurality of R 5 are each independently an alkylene group having 3 to 18 carbon atoms, and a and b are And each independently represents an integer of 1 to 20, and a plurality of X 2 are each independently a divalent organic group.)
Figure 2011004756
(Wherein a plurality of R 6 are each independently an alkylene group having 3 to 18 carbon atoms, a plurality of R 7 are each independently an alkylene group having 3 to 18 carbon atoms, and c and d are Each independently represents an integer of 1 to 20, a plurality of X 3 are each independently a divalent organic group, and Y 2 is CH 2 , SO 2 or O.)
Figure 2011004756

式中、複数個のRは、それぞれ独立に炭素数3〜18のアルキレン基であり、複数個のRは、それぞれ独立に炭素数3〜18のアルキレン基であり、e及びfは、それぞれ独立に1〜20の整数であり、複数個のXは、それぞれ独立に2価の有機基であり、Yは、下記式(7)〜式(33)のいずれかの基である。

Figure 2011004756
Figure 2011004756
Figure 2011004756
Figure 2011004756
Figure 2011004756
In the formula, a plurality of R 8 are each independently an alkylene group having 3 to 18 carbon atoms, a plurality of R 9 are each independently an alkylene group having 3 to 18 carbon atoms, and e and f are Each independently represents an integer of 1 to 20, a plurality of X 4 are each independently a divalent organic group, and Y 3 is any one of the following formulas (7) to (33): .
Figure 2011004756
Figure 2011004756
Figure 2011004756
Figure 2011004756
Figure 2011004756

式(4)や式(5)で示される構造を有するポリウレタンポリイミドは、通常、酸無水物基を有する3価のポリカルボン酸及びその誘導体から選ばれる1種以上の化合物と、イソシアネート化合物又はアミン化合物とを反応させて得られる。   The polyurethane polyimide having the structure represented by formula (4) or formula (5) is usually one or more compounds selected from trivalent polycarboxylic acids having acid anhydride groups and derivatives thereof, and isocyanate compounds or amines. Obtained by reacting with a compound.

酸無水物基を有する3価のポリカルボン酸及びその誘導体は、特に限定されないが、例えば、式(4)で示される構造を有するポリウレタンポリイミドの場合には、式(39)で示される化合物を使用することができる。耐熱性、コスト面等から、トリメリット酸無水物が、特に好ましい。

Figure 2011004756
(式中、R14は、水素、炭素数1〜10のアルキル基又はフェニル基を示す。)The trivalent polycarboxylic acid having an acid anhydride group and its derivative are not particularly limited. For example, in the case of a polyurethane polyimide having a structure represented by the formula (4), a compound represented by the formula (39) is used. Can be used. Trimellitic anhydride is particularly preferable from the viewpoint of heat resistance and cost.
Figure 2011004756
(In the formula, R 14 represents hydrogen, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a phenyl group.)

また、式(5)で示される構造を有するポリウレタンポリイミドの場合には、式(40)で示される化合物を使用することができる。

Figure 2011004756
(式中、R15は、水素、炭素数1〜10のアルキル基又はフェニル基を示し、Yは、CH、CO、SO、またはOである。)Moreover, in the case of the polyurethane polyimide which has a structure shown by Formula (5), the compound shown by Formula (40) can be used.
Figure 2011004756
(In the formula, R 15 represents hydrogen, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a phenyl group, and Y 2 represents CH 2 , CO, SO 2 , or O.)

さらに、式(6)で示される構造を有するポリウレタンポリイミドの場合には、式(41)で示される化合物を使用することができる。

Figure 2011004756
(式中、Yは、前記の式(7)〜式(33)のいずれかの基である。)Furthermore, in the case of the polyurethane polyimide having the structure represented by the formula (6), a compound represented by the formula (41) can be used.
Figure 2011004756
(In the formula, Y 3 is any one of the above formulas (7) to (33).)

これらのテトラカルボン酸二無水物は、単独で使用してもよく、或いは、2種類以上を組み合わせて使用することもできる。   These tetracarboxylic dianhydrides may be used alone or in combination of two or more.

また、これらのほかに必要に応じて、酸成分として、脂肪族ジカルボン酸(コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、スベリン酸、セバシン酸、デカン二酸、ドデカン二酸、ダイマー酸等)、芳香族ジカルボン酸(イソフタル酸、テレフタル酸、フタル酸、ナフタレンジカルボン酸、オキシジ安息香酸等)等を併用することができる。この場合、分子鎖中にアミド結合も形成される。   In addition to these, as necessary, an aliphatic dicarboxylic acid (succinic acid, glutaric acid, adipic acid, azelaic acid, suberic acid, sebacic acid, decanedioic acid, dodecanedioic acid, dimer acid, etc.) Aromatic dicarboxylic acids (isophthalic acid, terephthalic acid, phthalic acid, naphthalenedicarboxylic acid, oxydibenzoic acid, etc.) can be used in combination. In this case, an amide bond is also formed in the molecular chain.

イソシアネート化合物は、例えば、式(42)で示されるジイソシアネート化合物を用いることができる。

Figure 2011004756
(式中、複数個のR16は、それぞれ独立に炭素数3〜18のアルキレン基であり、複数個のR17は、それぞれ独立に炭素数3〜18のアルキレン基であり、h及びiは、それぞれ独立に1〜20の整数であり、複数個のXは、それぞれ独立に2価の有機基である。)As the isocyanate compound, for example, a diisocyanate compound represented by the formula (42) can be used.
Figure 2011004756
(Wherein a plurality of R 16 are each independently an alkylene group having 3 to 18 carbon atoms, a plurality of R 17 are each independently an alkylene group having 3 to 18 carbon atoms, and h and i are And each independently represents an integer of 1 to 20, and the plurality of X 5 are each independently a divalent organic group.)

式(42)のジイソシアネート化合物は、式(43)で示される(ポリ)カーボネートジオールと式(44)で示されるジイソシアネートを反応させることにより得られる。

Figure 2011004756
(式中、複数個のR18は、それぞれ独立に炭素数3〜18のアルキレン基であり、jは、1〜20の整数である。)
Figure 2011004756
(式中、Xは、2価の有機基である。)The diisocyanate compound of the formula (42) can be obtained by reacting the (poly) carbonate diol represented by the formula (43) with the diisocyanate represented by the formula (44).
Figure 2011004756
(In the formula, a plurality of R 18 are each independently an alkylene group having 3 to 18 carbon atoms, and j is an integer of 1 to 20).
Figure 2011004756
(In the formula, X 6 is a divalent organic group.)

式(44)で示されるジイソシアネートのXは、例えば、炭素数1〜20のアルキレン基、又は非置換若しくはメチル基等の炭素数1〜5の低級アルキル基で置換されているフェニレン基等のアリーレン基が挙げられる。アルキレン基の炭素数は、より好ましくは1〜18である。ジフェニルメタン−4,4′−ジイル基、ジフェニルスルホン−4,4′−ジイル基等の芳香族環を2つ有する基も好ましい。X 6 of the diisocyanate represented by the formula (44) is, for example, an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, or a phenylene group that is unsubstituted or substituted with a lower alkyl group having 1 to 5 carbon atoms such as a methyl group. An arylene group is mentioned. The number of carbon atoms of the alkylene group is more preferably 1-18. A group having two aromatic rings such as diphenylmethane-4,4′-diyl group and diphenylsulfone-4,4′-diyl group is also preferable.

上記の式(43)で示される(ポリ)カーボネートジオールとしては、例えば、α,ω−ポリ(1,6−ヘキシレンカーボネート)ジオール、α,ω−ポリ(3−メチル−1,5−ペンチレンカーボネート)ジオール、α,ω−ポリ[(1,6−ヘキシレン:3−メチル−ペンタメチレン)カーボネート]ジオール、α,ω−ポリ[(1,9−ノニレン:2−メチル−1,8−オクチレン)カーボネート]ジオール等が挙げられ、市販されているものとしては、ダイセル化学工業株式会社製の商品名PLACCEL、CD−205、205PL、205HL、210、210PL、210HL、220、220PL、220HL、株式会社クラレ製の商品名クラレポリオールC−590、C−1065N、C−1015N、C−2015N等が挙げられる。これらを単独で又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。   Examples of the (poly) carbonate diol represented by the above formula (43) include α, ω-poly (1,6-hexylene carbonate) diol, α, ω-poly (3-methyl-1,5-pentyl). Lencarbonate) diol, α, ω-poly [(1,6-hexylene: 3-methyl-pentamethylene) carbonate] diol, α, ω-poly [(1,9-nonylene: 2-methyl-1,8- Octylene) carbonate] diol and the like, and commercially available products are trade names PLACEL, CD-205, 205PL, 205HL, 210, 210PL, 210HL, 220, 220PL, 220HL, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. Product names Kuraray Polyol C-590, C-1065N, C-1015N, C-2015N etc. It is done. These can be used alone or in combination of two or more.

なお、前述したように、(ポリ)カーボネートジオールを製造する際に、原料であるジオール成分が残存して含まれる場合があるが、本明細書では、残存する該ジオール成分は、「(ポリ)カーボネートジオール」には含まれないものと定義する。
従って、ダイセル化学工業株式会社製の商品名PLACCEL、CD−205、205PL、205HL、210、210PL、210HL、220、220PL、220HL、株式会社クラレ製の商品名クラレポリオールC−590、C−1065N、C−1015N、C−2015N等の市販の(ポリ)カーボネートジオール中に含まれる原料ジオールは、「(ポリ)カーボネートジオール」には含まれない。これらの原料ジオール成分は、後述の(w)に含まれる。
As described above, when the (poly) carbonate diol is produced, the diol component as the raw material may remain and be contained. It is defined as not included in “carbonate diol”.
Accordingly, trade names PLACEL, CD-205, 205PL, 205HL, 210, 210PL, 210HL, 220, 220PL, 220HL, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. Raw material diols contained in commercially available (poly) carbonate diols such as C-1015N and C-2015N are not included in “(poly) carbonate diols”. These raw material diol components are included in (w) described later.

また、前記式(44)で示されるジイソシアネートとしては、例えば、ジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート;3,2′−、3,3′−、4,2′−、4,3′−、5,2′−、5,3′−、6,2′−又は6,3′−ジメチルジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート;3,2′−、3,3′−、4,2′−、4,3′−、5,2′−、5,3′−、6,2′−又は6,3′−ジエチルジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート;3,2′−、3,3′−、4,2′−、4,3′−、5,2′−、5,3′−、6,2′−又は6,3′−ジメトキシジフェニルメタン−2,4′−ジイソシアネート;ジフェニルメタン−4,4′−ジイソシアネート;ジフェニルメタン−3,3′−ジイソシアネート;ジフェニルメタン−3,4′−ジイソシアネート;ジフェニルエーテル−4,4′−ジイソシアネート;ベンゾフェノン−4,4′−ジイソシアネート;ジフェニルスルホン−4,4′−ジイソシアネート;トリレン−2,4−ジイソシアネート;トリレン−2,6−ジイソシアネート;m−キシリレンジイソシアネート;p−キシリレンジイソシアネート;ナフタレン−2,6−ジイソシアネート;4,4′−〔2,2−ビス(4−フェノキシフェニル)プロパン〕ジイソシアネート等の式(44)において、Xが芳香族環を有する芳香族ポリイソシアネートを使用することが好ましい。これらは、単独で又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。Examples of the diisocyanate represented by the formula (44) include diphenylmethane-2,4'-diisocyanate;3,2'-,3,3'-,4,2'-,4,3'-5, , 2'-, 5,3'-, 6,2'- or 6,3'-dimethyldiphenylmethane-2,4'-diisocyanate;3,2'-,3,3'-,4,2'-,4,3'-,5,2'-,5,3'-,6,2'- or 6,3'-diethyldiphenylmethane-2,4'-diisocyanate;3,2'-,3,3'-4,2'-,4,3'-,5,2'-,5,3'-,6,2'- or 6,3'-dimethoxydiphenylmethane-2,4'-diisocyanate; diphenylmethane-4, 4'-diisocyanate;diphenylmethane-3,3'-diisocyanate;-3,4'-diisocyanate; diphenyl ether-4,4'-diisocyanate;benzophenone-4,4'-diisocyanate;diphenylsulfone-4,4'-diisocyanate;tolylene-2,4-diisocyanate; tolylene-2,6 M-xylylene diisocyanate; p-xylylene diisocyanate; naphthalene-2,6-diisocyanate; in formula (44) such as 4,4 '-[2,2-bis (4-phenoxyphenyl) propane] diisocyanate , X 6 is preferably an aromatic polyisocyanate having an aromatic ring. These can be used alone or in combination of two or more.

また、式(44)で示されるジイソシアネートとしては、本発明の目的の範囲内で、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、4,4′−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、トランスシクロヘキサン−1,4−ジイソシアネート、水添m−キシリレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート等の脂肪族又は脂環式イソシアネート、あるいは3官能以上のポリイソシアネートを使用することができる。   In addition, as the diisocyanate represented by the formula (44), within the scope of the object of the present invention, hexamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, 4,4′-dicyclohexylmethane diisocyanate, trans Aliphatic or alicyclic isocyanates such as cyclohexane-1,4-diisocyanate, hydrogenated m-xylylene diisocyanate, and lysine diisocyanate, or trifunctional or higher polyisocyanates can be used.

式(44)で示されるジイソシアネートは、経日変化を避けるために必要なブロック剤で安定化したものを使用してもよい。ブロック剤としては、アルコール、フェノール、オキシム等があるが、特に制限はない。   As the diisocyanate represented by the formula (44), a diisocyanate stabilized with a blocking agent necessary for avoiding changes over time may be used. Examples of the blocking agent include alcohol, phenol and oxime, but there is no particular limitation.

このポリウレタンポリイミドの原料として、必要に応じて、式(43)で示される(ポリ)カーボネートジオール以外のジオール成分(以下、成分(w)と記す。)を用いることができる。   As a raw material of this polyurethane polyimide, a diol component (hereinafter referred to as component (w)) other than the (poly) carbonate diol represented by the formula (43) can be used as necessary.

成分(w)としては、例えば、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,9−ノナンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、1,10−デカメチレングリコール、1,2−テトラデカンジオール、2,4−ジエチル−1,5−ペンタンジオール、2−ブチル−2−エチルプロパンジオール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,3−キシリレングリコール、1,4−キシリレングリコール等を挙げることができる。
また、前述の市販の(ポリ)カーボネートジオール中に含まれる原料ジオールは、この成分(w)に含まれる。
Examples of the component (w) include 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, and 1,5-pentanediol. 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,8-octanediol, 1,3-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,9-nonanediol, 2 -Methyl-1,8-octanediol, 1,10-decamethylene glycol, 1,2-tetradecanediol, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, 2-butyl-2-ethylpropanediol, 1, Examples include 3-cyclohexanedimethanol, 1,3-xylylene glycol, and 1,4-xylylene glycol.
Moreover, the raw material diol contained in the above-mentioned commercially available (poly) carbonate diol is contained in this component (w).

上記式(43)で示される(ポリ)カーボネートジオール及び成分(w)と、式(44)で示されるジイソシアネートの配合量は、水酸基数とイソシアネート基数の比率が、イソシアネート基/水酸基=1.01以上になるようにすることが好ましい。   The blending amount of the (poly) carbonate diol and component (w) represented by the above formula (43) and the diisocyanate represented by the formula (44) is such that the ratio of the number of hydroxyl groups to the number of isocyanate groups is isocyanate group / hydroxyl group = 1.01. It is preferable to make it above.

上記式(43)で示される(ポリ)カーボネートジオール及び成分(w)と、式(44)で示されるジイソシアネート類の反応は、無溶媒あるいは有機溶媒の存在下で行うことができる。反応温度は、60〜200℃とすることが好ましく、より好ましくは80〜180℃である。反応時間は、バッチの規模、採用される反応条件等により適宜選択することができる。例えば、1〜5Lのフラスコスケールで2〜5時間とすることができる。   The reaction of the (poly) carbonate diol represented by the above formula (43) and the component (w) with the diisocyanate represented by the formula (44) can be carried out without solvent or in the presence of an organic solvent. The reaction temperature is preferably 60 to 200 ° C, more preferably 80 to 180 ° C. The reaction time can be appropriately selected depending on the scale of the batch, the reaction conditions employed, and the like. For example, it can be 2 to 5 hours on a 1 to 5 L flask scale.

このようにして得られる式(42)で示されるジイソシアネート化合物の数平均分子量は、500〜10,000であることが好ましく、1,000〜9,500であることがより好ましく、1,500〜9,000であることが特に好ましい。数平均分子量が500未満であると、反り性が悪化する傾向があり、10,000を超えると、イソシアネート化合物の反応性が低下し、ポリイミド樹脂化することが困難となる傾向がある。   The number average molecular weight of the diisocyanate compound represented by the formula (42) thus obtained is preferably 500 to 10,000, more preferably 1,000 to 9,500, and 1,500 to Particularly preferred is 9,000. When the number average molecular weight is less than 500, the warping property tends to be deteriorated. When the number average molecular weight exceeds 10,000, the reactivity of the isocyanate compound is lowered, and it tends to be difficult to obtain a polyimide resin.

なお、本明細書において、数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算した値とする。   In the present specification, the number average molecular weight is a value measured by gel permeation chromatography (GPC) and converted using a standard polystyrene calibration curve.

式(4)〜式(6)で示されるポリウレタンポリイミドの原料成分のイソシアネート化合物として、式(42)で示されるジイソシアネート化合物以外のポリイソシアネート化合物を使用することもできる。
これらの化合物としては、式(42)で示されるジイソシアネート化合物以外のポリイソシアネート化合物であれば特に限定されず、例えば、式(44)で示されるジイソシアネート、3価以上のポリイソシアネート等が挙げられる。これらは、単独で又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。式(42)で示されるジイソシアネート化合物以外のポリイソシアネート化合物の数平均分子量の好ましい範囲は、式(42)で示されるジイソシアネート化合物と同様である。
Polyisocyanate compounds other than the diisocyanate compound represented by the formula (42) can also be used as the isocyanate compound as the raw material component of the polyurethane polyimide represented by the formulas (4) to (6).
These compounds are not particularly limited as long as they are polyisocyanate compounds other than the diisocyanate compound represented by the formula (42), and examples thereof include diisocyanates represented by the formula (44) and trivalent or higher polyisocyanates. These can be used alone or in combination of two or more. The preferred range of the number average molecular weight of the polyisocyanate compound other than the diisocyanate compound represented by the formula (42) is the same as that of the diisocyanate compound represented by the formula (42).

特に耐熱性の点から、式(42)で示されるジイソシアネート化合物と式(42)で示されるジイソシアネート化合物以外のポリイソシアネート化合物とを併用することが好ましい。なお、式(42)で示されるジイソシアネート化合物及び式(42)で示されるジイソシアネート化合物以外のポリイソシアネート化合物をそれぞれ単独で用いる場合は、フレキシブル配線板用の保護膜としての柔軟性、反り性等の点から、式(42)で示されるジイソシアネート化合物を使用することが好ましい。   In particular, from the viewpoint of heat resistance, it is preferable to use a diisocyanate compound represented by the formula (42) and a polyisocyanate compound other than the diisocyanate compound represented by the formula (42) in combination. In addition, when using individually the polyisocyanate compounds other than the diisocyanate compound represented by the formula (42) and the diisocyanate compound represented by the formula (42), flexibility, warpage, etc. as a protective film for a flexible wiring board are used. From the viewpoint, it is preferable to use a diisocyanate compound represented by the formula (42).

式(42)で示されるジイソシアネート化合物以外のポリイソシアネート化合物としては、その総量の50〜100質量%が芳香族ポリイソシアネートであることが好ましく、耐熱性、溶解性、機械特性、コスト面等のバランスを考慮すれば、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネートが特に好ましい。 As a polyisocyanate compound other than the diisocyanate compound represented by the formula (42), 50 to 100% by mass of the total amount is preferably an aromatic polyisocyanate, and a balance of heat resistance, solubility, mechanical properties, cost and the like. , 4,4'-diphenylmethane diisocyanate is particularly preferred.

式(42)で示されるジイソシアネート化合物と式(42)で示されるジイソシアネート化合物以外のポリイソシアネート化合物を併用する場合、式(42)で示されるジイソシアネート化合物/式(42)で示されるジイソシアネート化合物以外のポリイソシアネート化合物の当量比で0.1/0.9〜0.9/0.1とすることが好ましく、0.2/0.8〜0.8/0.2とすることがより好ましく、0.3/0.7〜0.7/0.3とすることが特に好ましい。当量比がこの範囲にあると、良好な反り性、密着性と良好な耐熱性等の膜特性をともに得ることができる。   When a diisocyanate compound represented by the formula (42) and a polyisocyanate compound other than the diisocyanate compound represented by the formula (42) are used in combination, a diisocyanate compound represented by the formula (42) / a compound other than the diisocyanate compound represented by the formula (42) The equivalent ratio of the polyisocyanate compound is preferably 0.1 / 0.9 to 0.9 / 0.1, more preferably 0.2 / 0.8 to 0.8 / 0.2, It is especially preferable to set it as 0.3 / 0.7-0.7 / 0.3. When the equivalence ratio is within this range, film properties such as good warpage, adhesion and good heat resistance can be obtained.

式(4)〜式(6)で示される構造単位を有するポリウレタンポリイミドの原料成分のアミン化合物としては、前記イソシアネート化合物におけるイソシアナト基をアミノ基に転換した化合物が挙げられる。イソシアナト基のアミノ基への転換は、公知の方法により行うことができる。アミン化合物の数平均分子量の好ましい範囲は、式(42)で示されるジイソシアネート化合物と同様である。   Examples of the amine compound as a raw material component of the polyurethane polyimide having the structural units represented by the formulas (4) to (6) include compounds obtained by converting the isocyanate group in the isocyanate compound into an amino group. Conversion of the isocyanato group to an amino group can be performed by a known method. A preferred range of the number average molecular weight of the amine compound is the same as that of the diisocyanate compound represented by the formula (42).

また、式(4)〜式(6)で示される構造単位を有するポリウレタンポリイミドの原料成分の酸無水物基を有する3価のポリカルボン酸又はその誘導体及び/または酸無水物基を有する4価のポリカルボン酸の配合割合は、前記イソシアネート化合物(式(42)で示されるジイソシアネート化合物と式(42)で示されるジイソシアネート化合物以外のポリイソシアネート化合物)のイソシアネート基の総数に対する、カルボキシル基と酸無水物基の総数の比が、0.6〜1.4となるようにすることが好ましく、0.7〜1.3となるようにすることがより好ましく、0.8〜1.2となるようにすることが特に好ましい。この比が0.6未満又は1.4を超えると、ポリイミド結合を含む樹脂の分子量を高くすることが困難となる傾向がある。   Moreover, the trivalent polycarboxylic acid which has the acid anhydride group of the raw material component of the polyurethane polyimide which has a structural unit shown by Formula (4)-Formula (6), or its derivative (s), and / or the tetravalence which has an acid anhydride group. The blending ratio of the polycarboxylic acid is such that the carboxyl group and the acid anhydride are based on the total number of isocyanate groups of the isocyanate compound (the diisocyanate compound represented by the formula (42) and the polyisocyanate compound other than the diisocyanate compound represented by the formula (42)). The ratio of the total number of physical groups is preferably 0.6 to 1.4, more preferably 0.7 to 1.3, and 0.8 to 1.2. It is particularly preferable to do so. When this ratio is less than 0.6 or exceeds 1.4, it tends to be difficult to increase the molecular weight of the resin containing polyimide bonds.

なお、酸無水物基を有する3価のポリカルボン酸又はその誘導体及び/または酸無水物基を有する4価のポリカルボン酸として式(39)で示される化合物、イソシアネート化合物として式(42)で示されるジイソシアネート化合物を用いた場合、式(4)で示される構造単位を有するポリアミドイミドを得ることができる。

Figure 2011004756
(式中、R、R、a、b、Xは、前記のとおりである。)In addition, a trivalent polycarboxylic acid having an acid anhydride group or a derivative thereof and / or a tetravalent polycarboxylic acid having an acid anhydride group is a compound represented by the formula (39), and an isocyanate compound is represented by the formula (42). When the diisocyanate compound shown is used, a polyamideimide having a structural unit represented by the formula (4) can be obtained.
Figure 2011004756
(Wherein R 4 , R 5 , a, b, and X 2 are as described above.)

また、酸無水物基を有する3価のポリカルボン酸又はその誘導体及び/または酸無水物基を有する4価のポリカルボン酸として式(40)で示される化合物、イソシアネート化合物として式(42)で示されるジイソシアネート化合物を用いた場合、式(5)で示される構造単位を有するポリアミドイミドを得ることができる。

Figure 2011004756
(式中、R、R、c、d、X、Yは、前記のとおりである。)In addition, a trivalent polycarboxylic acid having an acid anhydride group or a derivative thereof and / or a tetravalent polycarboxylic acid having an acid anhydride group, a compound represented by the formula (40), and an isocyanate compound represented by the formula (42) When the diisocyanate compound shown is used, a polyamideimide having a structural unit represented by the formula (5) can be obtained.
Figure 2011004756
(Wherein R 6 , R 7 , c, d, X 3 and Y 2 are as described above.)

また、酸無水物基を有する3価のポリカルボン酸又はその誘導体及び/または酸無水物基を有する4価のポリカルボン酸として式(41)で示される化合物、イソシアネート化合物として式(42)で示されるジイソシアネート化合物を用いた場合、式(6)で示される構造単位を有するポリアミドイミドを得ることができる。

Figure 2011004756
(式中、R、R、e、f、X、Yは、前記のとおりである。)Further, a trivalent polycarboxylic acid having an acid anhydride group or a derivative thereof and / or a tetravalent polycarboxylic acid having an acid anhydride group as a compound represented by the formula (41), an isocyanate compound represented by the formula (42) When the diisocyanate compound shown is used, a polyamideimide having a structural unit represented by the formula (6) can be obtained.
Figure 2011004756
(In the formula, R 8 , R 9 , e, f, X 4 , and Y 3 are as described above.)

式(4)〜式(6)で示される構造単位を有するポリウレタンポリイミドの製造法における、酸無水物基を有する3価のポリカルボン酸及びその誘導体並びに酸無水物基を有する4価のポリカルボン酸から選ばれる1種以上の化合物と、イソシアネート化合物又はアミン化合物との反応は、溶剤の存在下に、遊離発生してくる炭酸ガスを反応系より除去しながら加熱縮合させることにより行うことができる。
この方法によって、末端にカルボキシル基、酸無水物或いはイソシアネート基を有するポリウレタンポリイミドが製造できる。末端基としては、エポキシ基との反応性を考慮すると、カルボキシル基及び/または酸無水物であることが好ましい。
A trivalent polycarboxylic acid having an acid anhydride group and a derivative thereof, and a tetravalent polycarboxylic acid having an acid anhydride group in a method for producing a polyurethane polyimide having a structural unit represented by formula (4) to formula (6) The reaction of one or more compounds selected from acids with an isocyanate compound or an amine compound can be carried out by heat condensation in the presence of a solvent while removing the carbon dioxide gas that is generated free from the reaction system. .
By this method, a polyurethane polyimide having a carboxyl group, an acid anhydride or an isocyanate group at the terminal can be produced. The terminal group is preferably a carboxyl group and / or an acid anhydride in consideration of reactivity with the epoxy group.

前記合成用の溶剤としては、大気圧下で150℃〜250℃の沸点を有する溶剤が、一般に用いられる。式(4)〜式(6)で示される構造単位を有するポリウレタンポリイミドの溶解性や溶剤の揮発性等のバランスをとる意味で、大気圧下で150℃〜250℃の沸点を有する溶剤を2種類以上併用することが可能であり、かつ好ましい。さらに好ましくは、大気圧下で170℃以上200℃未満の沸点を有する溶剤と、大気圧下で200℃〜220℃の沸点を有する溶剤を併用することである。   As the solvent for synthesis, a solvent having a boiling point of 150 ° C. to 250 ° C. under atmospheric pressure is generally used. In order to balance the solubility of the polyurethane polyimide having the structural units represented by the formulas (4) to (6) and the volatility of the solvent, 2 solvents having a boiling point of 150 ° C. to 250 ° C. under atmospheric pressure are used. More than one type can be used in combination and is preferred. More preferably, a solvent having a boiling point of 170 ° C. or more and less than 200 ° C. under atmospheric pressure and a solvent having a boiling point of 200 ° C. to 220 ° C. under atmospheric pressure are used in combination.

大気圧下で170℃以上200℃未満の沸点を有する溶剤としては、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル(沸点162℃)、ジエチレングリコールジエチルエーテル(沸点189℃)、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル(沸点176℃)、ジプロピレングリコ−ルジメチルエーテル(沸点171℃)、3−メトキシブチルアセテート(沸点171℃)、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート(沸点192℃)等を挙げることができる。   Examples of the solvent having a boiling point of 170 ° C. or higher and lower than 200 ° C. under atmospheric pressure include diethylene glycol dimethyl ether (boiling point 162 ° C.), diethylene glycol diethyl ether (boiling point 189 ° C.), diethylene glycol ethyl methyl ether (boiling point 176 ° C.), dipropylene glycol. -Ludimethyl ether (boiling point 171 ° C.), 3-methoxybutyl acetate (boiling point 171 ° C.), ethylene glycol monobutyl ether acetate (boiling point 192 ° C.) and the like.

また、大気圧下で200℃〜220℃の沸点を有する溶剤としては、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル(沸点212℃)、トリプロピレングリコールジメチルエーテル(沸点215℃)、トリエチレングリコールジメチルエーテル(沸点216℃)、エチレングリコールジブチルエーテル(沸点203℃)、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート(沸点217℃)、γ−ブチロラクトン(沸点204℃)等を挙げることができる。   Examples of the solvent having a boiling point of 200 ° C. to 220 ° C. under atmospheric pressure include diethylene glycol butyl methyl ether (boiling point 212 ° C.), tripropylene glycol dimethyl ether (boiling point 215 ° C.), triethylene glycol dimethyl ether (boiling point 216 ° C.), ethylene Examples include glycol dibutyl ether (boiling point 203 ° C.), diethylene glycol monoethyl ether acetate (boiling point 217 ° C.), and γ-butyrolactone (boiling point 204 ° C.).

合成後、そのまま本発明の熱硬化性組成物の溶剤として好適なものを使用することが好ましい。高揮発性であって、低温硬化性を付与でき、かつ効率良く均一系で反応を行うためには、以下の溶剤の組み合わせが好ましい。
具体的には、大気圧下で170℃〜200℃の沸点を有する溶剤として、ジエチレングリコールジエチルエーテル(沸点189℃)、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル(沸点176℃)、ジプロピレングリコ−ルジメチルエーテル(沸点171℃)の中から選ばれる少なくとも1種と、大気圧下で200℃〜220℃の沸点を有する溶剤として、γ−ブチロラクトン(沸点204℃)との組み合わせることが好ましく、最も好ましい組み合わせとしては、大気圧下で170℃〜200℃の沸点を有する溶剤としてジエチレングリコールジエチルエーテル(沸点189℃)と、大気圧下で200℃〜220℃の沸点を有する溶剤としてγ−ブチロラクトン(沸点204℃)とを組み合わせることである。
After synthesis, it is preferable to use a suitable solvent for the thermosetting composition of the present invention as it is. In order to carry out the reaction in a homogeneous system with high volatility and low temperature curability, the following combinations of solvents are preferable.
Specifically, as a solvent having a boiling point of 170 ° C. to 200 ° C. under atmospheric pressure, diethylene glycol diethyl ether (boiling point 189 ° C.), diethylene glycol ethyl methyl ether (boiling point 176 ° C.), dipropylene glycol dimethyl ether (boiling point 171 ° C. ) And a solvent having a boiling point of 200 ° C. to 220 ° C. under atmospheric pressure, preferably γ-butyrolactone (boiling point 204 ° C.), and most preferable combination is atmospheric pressure. Combining diethylene glycol diethyl ether (boiling point 189 ° C.) as a solvent having a boiling point of 170 ° C. to 200 ° C. and γ-butyrolactone (boiling point 204 ° C.) as a solvent having a boiling point of 200 ° C. to 220 ° C. under atmospheric pressure. It is.

これら好ましい溶剤の組み合わせを用いると、吸湿性が低く、沸点が高く揮発性が小さいために、スクリーン印刷インクの溶媒としても優れているために好適である。   Use of a combination of these preferable solvents is preferable because it has a low hygroscopic property, a high boiling point, and a low volatility, and is therefore excellent as a solvent for screen printing ink.

上記の効果を十分に発現させるためには、大気圧下で170℃〜200℃の沸点を有する溶剤および大気圧下で200℃〜220℃の沸点を有する溶剤の使用比率は、質量比で、5:95〜80:20の範囲であり、さらに好ましくは、10:90〜60:40の範囲である。   In order to fully express the above effect, the ratio of the solvent having a boiling point of 170 ° C. to 200 ° C. under atmospheric pressure and the solvent having a boiling point of 200 ° C. to 220 ° C. under atmospheric pressure is a mass ratio, It is in the range of 5:95 to 80:20, and more preferably in the range of 10:90 to 60:40.

また、このポリウレタンポリイミドの溶解性を損なわない範囲で、さらに、大気圧下で170℃〜200℃の沸点を有する溶剤および大気圧下で200℃〜220℃の沸点を有する溶剤以外の溶剤を併用することができる。反応性モノマーや反応性希釈剤も溶剤として使用することができる。   In addition, a solvent other than a solvent having a boiling point of 170 ° C. to 200 ° C. under atmospheric pressure and a solvent having a boiling point of 200 ° C. to 220 ° C. under atmospheric pressure is used in combination as long as the solubility of the polyurethane polyimide is not impaired. can do. Reactive monomers and reactive diluents can also be used as solvents.

溶剤の使用量は、生成するポリウレタンポリイミドの0.8〜5.0倍(質量比)とすることが好ましい。0.8倍未満では、合成時の粘度が高すぎて、攪拌不能により合成が困難となる傾向があり、5.0倍を超えると、反応速度が低下する傾向がある。   It is preferable that the usage-amount of a solvent shall be 0.8 to 5.0 times (mass ratio) of the polyurethane polyimide to produce | generate. If it is less than 0.8 times, the viscosity at the time of synthesis is too high, and the synthesis tends to be difficult due to the inability to stir. If it exceeds 5.0 times, the reaction rate tends to decrease.

反応温度は、80〜210℃とすることが好ましく、100〜190℃とすることがより好ましく、120〜180℃とすることが特に好ましい。80℃未満では反応時間が長くなり過ぎ、210℃を超えると反応中に三次元化反応が生じてゲル化が起こり易い。反応時間は、バッチの規模、採用される反応条件により適宜選択することができる。また、必要に応じて、三級アミン類、アルカリ金属、アルカリ土類金属、スズ、亜鉛、チタニウム、コバルト等の金属又は半金属化合物等の触媒存在下に反応を行っても良い。   The reaction temperature is preferably 80 to 210 ° C, more preferably 100 to 190 ° C, and particularly preferably 120 to 180 ° C. If it is less than 80 ° C., the reaction time becomes too long. The reaction time can be appropriately selected depending on the scale of the batch and the reaction conditions employed. If necessary, the reaction may be performed in the presence of a catalyst such as a tertiary amine, an alkali metal, an alkaline earth metal, a metal such as tin, zinc, titanium, cobalt, or a metalloid compound.

このようにして得られたポリウレタンポリイミドの数平均分子量は、4,000〜40,000であることが好ましく、5,000〜38,000であることがより好ましく、6,000〜36,000であることが特に好ましい。数平均分子量が4,000未満であると、耐熱性等の膜特性が低下する傾向があり、40,000を超えると、溶剤に溶解しにくくなり、合成中に不溶化しやすい。また、作業性に劣る傾向がある。
また、合成終了後に樹脂末端のイソシアネート基をアルコール類、ラクタム類、オキシム類等のブロック剤でブロックすることもできる。
The number average molecular weight of the polyurethane polyimide thus obtained is preferably 4,000 to 40,000, more preferably 5,000 to 38,000, and 6,000 to 36,000. It is particularly preferred. When the number average molecular weight is less than 4,000, film properties such as heat resistance tend to be lowered. In addition, workability tends to be inferior.
In addition, the isocyanate group at the end of the resin can be blocked with a blocking agent such as alcohols, lactams, or oximes after completion of the synthesis.

次に、特開2006−307183号公報に記載の、エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有し、さらにイミド結合を有するポリウレタンポリイミドについて説明する。   Next, a polyurethane polyimide having a functional group capable of reacting with an epoxy group and having a structural unit represented by the formula (1) and further having an imide bond described in JP-A-2006-307183 will be described.

特開2006−307183号公報に記載の、エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有し、さらにイミド結合を有するポリウレタンポリイミドは、以下の成分(a)、成分(b)、成分(c′)及び成分(d)の原料を反応して得ることができる。
成分(a) ジイソシアネート、
成分(b) 炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオール、
成分(c′) エポキシ基と反応可能な官能基を有するジオール化合物、および
成分(d) 式(3)で示される2官能性水酸基末端イミド。

Figure 2011004756
(式中、R、Rは、それぞれ独立に、2価の脂肪族または芳香族炭化水素基を示し、Yはテトラカルボン酸またはその酸無水物基から誘導される4価の有機基を示し、Xはジアミン或いはジイソシアネートから誘導される2価の有機基を示し、mは、0〜20の整数である。)JP-A 2006-307183 discloses a polyurethane polyimide having a functional group capable of reacting with an epoxy group and having a structural unit represented by the formula (1), and further having an imide bond. ), The component (b), the component (c ′) and the component (d).
Component (a) diisocyanate,
Component (b) (poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms,
Component (c ′) A diol compound having a functional group capable of reacting with an epoxy group, and Component (d) a bifunctional hydroxyl-terminated imide represented by the formula (3).
Figure 2011004756
Wherein R 2 and R 3 each independently represents a divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon group, and Y 1 represents a tetravalent organic group derived from a tetracarboxylic acid or an acid anhydride group thereof. X 1 represents a divalent organic group derived from diamine or diisocyanate, and m is an integer of 0 to 20.)

ジイソシアネートとしては、1分子中にイソシアネ−ト基を2個有するものであればどのようなものでもよい。例えば、脂肪族、脂環族又は芳香族のジイソシアネ−ト、好ましくはイソシアネート基を除いて炭素数が2〜30の脂肪族、脂環族又は芳香族のジイソシアネ−トであり、具体的には1,4−テトラメチレンジイソシアネ−ト、1,5−ペンタメチレンジイソシアネ−ト、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネ−ト、2,2,4−トリメチル−1,6−ヘキサメチレンジイソシアネ−ト、リジンジイソシアネ−ト、3−イソシアネ−トメチル−3,5,5−トリメチルシクロヘキシルイソシアネ−ト(イソホロンジイソシアネ−ト)、1,3−ビス(イソシアネ−トメチル)−シクロヘキサン、4,4′−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネ−ト、トリレンジイソシアネ−ト、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネ−ト、1,5−ナフタレンジイソシアネ−ト、トリジンジイソシアネ−ト、キシリレンジイソシアネ−ト等を好適に例示することができる。   Any diisocyanate may be used as long as it has two isocyanate groups in one molecule. For example, an aliphatic, alicyclic or aromatic diisocyanate, preferably an aliphatic, alicyclic or aromatic diisocyanate having 2 to 30 carbon atoms excluding an isocyanate group, specifically 1,4-tetramethylene diisocyanate, 1,5-pentamethylene diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethyl-1,6-hexamethylene Diisocyanate, lysine diisocyanate, 3-isocyanate methyl-3,5,5-trimethylcyclohexyl isocyanate (isophorone diisocyanate), 1,3-bis (isocyanate methyl) -Cyclohexane, 4,4'-dicyclohexylmethane diisocyanate, tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 1,5-naphth Range diisocyanate - DOO, tolidine diisocyanate - DOO, xylylene diisocyanate - DOO etc. can be preferably exemplified.

また、ジイソシアネ−トは、イソシアネ−ト基をブロック化剤でブロックしたブロックジイソシアネ−トを用いることができる。
前記ブロック化剤としては、例えばアルコ−ル系、フェノ−ル系、活性メチレン系、メルカプタン系、酸アミド系、酸イミド系、イミダゾ−ル系、尿素系、オキシム系、アミン系、イミン系、重亜硫酸塩系、ピリジン系等があり、これらを単独あるいは混合して使用してもよい。具体的なブロック化剤としては、アルコ−ル系としてメタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、2−エチルヘキサノ−ル、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルカルビト−ル、ベンジルアルコ−ル、シクロヘキサノ−ル等、フェノ−ル系として、フェノ−ル、クレゾ−ル、エチルフェノ−ル、ブチルフェノ−ル、ノニルフェノ−ル、ジノニルフェノ−ル、スチレン化フェノ−ル、ヒドロキシ安息香酸エステル等、活性メチレン系として、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセチルアセトン等、メルカプタン系として、ブチルメルカプタン、ドデシルメルカプタン等、酸アミド系として、アセトアニリド、酢酸アミド、ε−カプロラクタム、δ−バレロラクタム、γ−ブチロラクタム等、酸イミド系として、コハク酸イミド、マレイン酸イミド、イミダゾ−ル系として、イミダゾ−ル、2−メチルイミダゾ−ル、尿素系として、尿素、チオ尿素、エチレン尿素等、オキシム系として、ホルムアルドオキシム、アセトアルドオキシム、アセトオキシム、メチルエチルケトオキシム、シクロヘキサノンオキシム等、アミン系として、ジフェニルアミン、アニリン、カルバゾール等、イミン系として、エチレンイミン、ポリエチレンイミン等、重亜硫酸塩系として、重亜硫酸ソ−ダ等、ピリジン系として、2−ヒドロキシピリジン、2−ヒドロキシキノリン等が挙げられる。
As the diisocyanate, a blocked diisocyanate in which an isocyanate group is blocked with a blocking agent can be used.
Examples of the blocking agent include alcohols, phenols, active methylenes, mercaptans, acid amides, acid imides, imidazoles, ureas, oximes, amines, imines, There are bisulfite type, pyridine type, etc., and these may be used alone or in combination. Specific blocking agents include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, 2-ethylhexanol, methyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl carbitol, benzyl alcohol, Cyclohexanol, etc., phenolic, phenol, cresol, ethyl phenol, butyl phenol, nonyl phenol, dinonyl phenol, styrenated phenol, hydroxybenzoate, etc., active methylene As systems, dimethyl malonate, diethyl malonate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, acetylacetone, etc., as mercaptans, as butyl mercaptan, dodecyl mercaptan, etc., as acid amides, as acetanilide, acetate amide, ε-caprolactam, δ-valero Lactam, γ-Butirola Tam, etc., acid imide, succinimide, maleic imide, imidazole, imidazole, 2-methylimidazole, urea, urea, thiourea, ethylene urea, etc., oxime, Formaldehyde oxime, acetoaldoxime, acetoxime, methyl ethyl ketoxime, cyclohexanone oxime, etc., amine type, diphenylamine, aniline, carbazole, etc., imine type, ethyleneimine, polyethyleneimine, etc., bisulfite type, bisulfite type Examples of pyridines such as 2-hydroxypyridine and 2-hydroxyquinoline.

炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオールは、目的のポリウレタンポリイミドに柔軟性を付与する作用を持つ。   The (poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms has an effect of imparting flexibility to a target polyurethane polyimide.

炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオールは、数平均分子量が好ましくは500〜10000、より好ましくは1000〜5000のものが好適である。数平均分子量が500未満になると好適な柔軟性が得難くなり、また数平均分子量が10000を越えると耐熱性や耐溶剤性が悪くなることがあるので前記程度のものが好適である。炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオールは、具体的には宇部興産株式会社製のUH−CARB、UN−CARB、UD−CARB、UC−CARB、ダイセル化学工業株式会社製のPLACCEL CD−PL、PLACCEL CD−H、株式会社クラレ製のクラレポリオールCシリーズなどを好適に例示することができる。これらのポリカーボネートポリオールは、単独で、または2種類以上を組合せて用いられる。   The (poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms preferably has a number average molecular weight of 500 to 10,000, more preferably 1,000 to 5,000. When the number average molecular weight is less than 500, it is difficult to obtain suitable flexibility, and when the number average molecular weight exceeds 10,000, the heat resistance and solvent resistance may be deteriorated. The (poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms is specifically UH-CARB, UN-CARB, UD-CARB, UC-CARB, Daicel manufactured by Ube Industries, Ltd. Suitable examples include PLACEL CD-PL, PLACEL CD-H manufactured by Chemical Industry Co., Ltd., and Kuraray polyol C series manufactured by Kuraray Co., Ltd. These polycarbonate polyols are used alone or in combination of two or more.

なお、(ポリ)カーボネートポリオールを製造する際に、原料であるポリオール成分が残存して含まれる場合があるが、本明細書では、残存する該ポリオール成分は、「(ポリ)カーボネートポリオール」には含まれないものと定義する。
例えば、1,9−ノナンジオールおよびジエチルカーボネートを原料に用いて、触媒の存在下、エステル交換反応によって(ポリ)カーボネートポリオールを製造する際に、原料である1,9−ノナンジオールが生成物である(ポリ)カーボネートポリオール中に5質量%残存していた場合には、この残存している1,9−ノナンジオールは、「(ポリ)カーボネートポリオール」には含まれずに、後述の成分(x)に含まれることを意味する。
In addition, when the (poly) carbonate polyol is produced, the polyol component as a raw material may remain and be included. In the present specification, the remaining polyol component is referred to as “(poly) carbonate polyol”. It is defined as not included.
For example, when (poly) carbonate polyol is produced by transesterification using 1,9-nonanediol and diethyl carbonate as raw materials in the presence of a catalyst, the raw material 1,9-nonanediol is a product. When 5% by mass remains in a certain (poly) carbonate polyol, the remaining 1,9-nonanediol is not included in the “(poly) carbonate polyol”, but the component (x ).

このポリウレタンポリイミドの原料として、1種類の炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオールを用いても構わないし、2種類以上を併用してもよい。   As a raw material of this polyurethane polyimide, a (poly) carbonate polyol having an organic residue derived from one kind of diol having 3 to 18 carbon atoms may be used, or two or more kinds may be used in combination.

エポキシ基と反応可能な官能基を有するジオール化合物をポリウレタンポリイミドの分子内に導入することによって、ポリウレタンポリイミドを架橋する際に、効果的に架橋することが可能となり、得られる硬化絶縁膜の耐熱性や耐溶剤性を更に増大することができる。   By introducing a diol compound having a functional group capable of reacting with an epoxy group into the polyurethane polyimide molecule, it is possible to effectively crosslink the polyurethane polyimide, and the resulting cured insulating film has heat resistance. And the solvent resistance can be further increased.

このようなエポキシ基と反応可能な官能基を有するジオール化合物としては、特に限定するものではないが、置換基として活性水素を有するジオール化合物、例えばカルボキシル基やフェノール性水酸基を持ったジオール化合物が好ましく、特にカルボキシル基を有するジオール化合物が好ましい。   The diol compound having a functional group capable of reacting with such an epoxy group is not particularly limited, but a diol compound having an active hydrogen as a substituent, for example, a diol compound having a carboxyl group or a phenolic hydroxyl group is preferable. In particular, a diol compound having a carboxyl group is preferred.

また、置換基としてカルボキシル基やフェノール性水酸基を有する化合物の内、炭素数が1〜30のジオール化合物が好ましく、炭素数が2〜20のジオール化合物がより好ましい。具体的には、フェノール性水酸基を有するジオール化合物として、2,6−ビス(ヒドロキシメチル)−フェノール、2,6−ビス(ヒドロキシメチル)−p−クレゾールなどを挙げることができ、カルボキシル基を有するジオール化合物として、2,2−ジメチロールプロピオン酸、2,2−ジメチロールブタン酸、2,2−ジメチロール酪酸などを挙げることができる。   Of the compounds having a carboxyl group or a phenolic hydroxyl group as a substituent, a diol compound having 1 to 30 carbon atoms is preferred, and a diol compound having 2 to 20 carbon atoms is more preferred. Specifically, examples of the diol compound having a phenolic hydroxyl group include 2,6-bis (hydroxymethyl) -phenol and 2,6-bis (hydroxymethyl) -p-cresol, which have a carboxyl group. Examples of the diol compound include 2,2-dimethylolpropionic acid, 2,2-dimethylolbutanoic acid, and 2,2-dimethylolbutyric acid.

特開2006−307183号公報に記載の、エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有し、さらにイミド結合を有するポリウレタンポリイミドを合成する際に使用される2官能性水酸基末端イミドは、下記式(3)で示すことができる。

Figure 2011004756
(式中、R、Rは、それぞれ独立に、2価の脂肪族または芳香族炭化水素基を示し、Yはテトラカルボン酸またはその酸無水物基から誘導される4価の有機基を示し、Xはジアミン或いはジイソシアネートから誘導される2価の有機基を示し、mは、0〜20の整数である。)Used when synthesizing a polyurethane polyimide having a functional group capable of reacting with an epoxy group and having a structural unit represented by the formula (1) and further having an imide bond, as described in JP-A-2006-307183. The bifunctional hydroxyl-terminated imide can be represented by the following formula (3).
Figure 2011004756
Wherein R 2 and R 3 each independently represents a divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon group, and Y 1 represents a tetravalent organic group derived from a tetracarboxylic acid or an acid anhydride group thereof. X 1 represents a divalent organic group derived from diamine or diisocyanate, and m is an integer of 0 to 20.)

この2官能性水酸基末端イミドは、テトラカルボン酸成分と、ジアミン化合物及び水酸基を1個有するモノアミン化合物からなるアミン成分とから得られる。式(3)中、mは0〜20の整数を示し、好ましくは0〜10であり、より好ましくは0〜5であり、特に好ましくは1〜5である。mが20以上では得られる絶縁膜の耐屈曲性が悪くなることがあるので前記程度のものが好適である。   This bifunctional hydroxyl-terminated imide is obtained from a tetracarboxylic acid component and an amine component composed of a diamine compound and a monoamine compound having one hydroxyl group. In formula (3), m shows the integer of 0-20, Preferably it is 0-10, More preferably, it is 0-5, Most preferably, it is 1-5. When m is 20 or more, the bending resistance of the obtained insulating film may be deteriorated.

2官能性水酸基末端イミドの原料成分であるテトラカルボン酸成分としては、芳香族テトラカルボン酸、又はそれらの酸二無水物や低級アルコ−ルのエステル化物が、得られるポリウレタンポリイミドの耐熱性が優れているので好適である。具体的には、2,3,3′,4′−ビフェニルテトラカルボン酸、3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸、2,2′,3,3′−ビフェニルテトラカルボン酸、3,3′,4,4′−ジフェニルエ−テルテトラカルボン酸、3,3′,4,4′−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、2,2−ビス(3,4−ベンゼンジカルボン酸)ヘキサフルオロプロパン、ピロメリット酸、1,4−ビス(3,4−ベンゼンジカルボン酸)ベンゼン、2,2−ビス〔4−(3,4−フェノキシジカルボン酸)フェニル〕プロパン、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸、1,2,4,5−ナフタレンテトラカルボン酸、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタンなどの芳香族テトラカルボン酸、又はそれらの酸二無水物や低級アルコ−ルのエステル化物、及びシクロペンタンテトラカルボン酸、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸、3−メチルシクロヘキサン−1,2,4,5−テトラカルボン酸などの脂環族系テトラカルボン酸、又はそれらの酸二無水物や低級アルコ−ルのエステル化物を好適に挙げることができる。これらのなかでも特に2,3,3′,4′−ビフェニルテトラカルボン酸、3,3′,4,4′−ジフェニルエ−テルテトラカルボン酸、及び2,2′,3,3′−ビフェニルテトラカルボン酸、又はそれらの酸二無水物や低級アルコ−ルのエステル化物は、ポリウレタンポリイミドとしたときの溶剤に対する溶解性が優れているので好適である。
テトラカルボン酸成分は、ジアミンと反応させることが容易なテトラカルボン酸二無水物を用いることが好ましい。
The tetracarboxylic acid component that is a raw material component of the bifunctional hydroxyl-terminated imide is an aromatic tetracarboxylic acid, or an esterified product of an acid dianhydride or lower alcohol thereof, and the resulting polyurethane polyimide has excellent heat resistance. Therefore, it is preferable. Specifically, 2,3,3 ′, 4′-biphenyltetracarboxylic acid, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid, 2,2 ′, 3,3′-biphenyltetracarboxylic acid, 3,3 ′, 4,4′-diphenyl ether tetracarboxylic acid, 3,3 ′, 4,4′-diphenylsulfone tetracarboxylic acid, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic acid, 2 , 2-bis (3,4-benzenedicarboxylic acid) hexafluoropropane, pyromellitic acid, 1,4-bis (3,4-benzenedicarboxylic acid) benzene, 2,2-bis [4- (3,4- Phenoxydicarboxylic acid) phenyl] propane, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic acid, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic acid, 1,2,4,5-naphthalenetetracarboxylic acid, 1, , 5,8-naphthalenetetracarboxylic acid, aromatic tetracarboxylic acids such as 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane, or esterified products of their acid dianhydrides and lower alcohols, and Cycloaliphatic tetracarboxylic acids such as cyclopentanetetracarboxylic acid, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic acid, 3-methylcyclohexane-1,2,4,5-tetracarboxylic acid, or their acids Preferable examples include anhydrides and esterified products of lower alcohols. Of these, 2,3,3 ′, 4′-biphenyltetracarboxylic acid, 3,3 ′, 4,4′-diphenylethertetracarboxylic acid, and 2,2 ′, 3,3′-biphenyl are particularly preferred. Tetracarboxylic acids or their acid dianhydrides or esterified products of lower alcohols are preferred because they have excellent solubility in solvents when used as polyurethane polyimides.
The tetracarboxylic acid component is preferably a tetracarboxylic dianhydride that can be easily reacted with a diamine.

2官能性水酸基末端イミドの原料として使用されるアミン成分中のジアミン化合物としては、特に限定されるものではなく、芳香族、脂環式及び脂肪族のジアミンを用いることができる。具体的には、芳香族ジアミンは、1,4−ジアミノベンゼン、1,3−ジアミノベンゼン、2,4−ジアミノトルエン、1,4−ジアミノ−2,5−ジハロゲノベンゼンなどのベンゼン環1個を含むジアミン類、ビス(4−アミノフェニル)エ−テル、ビス(3−アミノフェニル)エ−テル、ビス(4−アミノフェニル)スルホン、ビス(3−アミノフェニル)スルホン、ビス(4−アミノフェニル)メタン、ビス(3−アミノフェニル)メタン、ビス(4−アミノフェニル)スルフィド、ビス(3−アミノフェニル)スルフィド、2,2−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、o−ジアニシジン、o−トリジン、トリジンスルホン酸類などのベンゼン環2個を含むジアミン類、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェニル)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノフェニル)ベンゼン、α,α′−ビス(4−アミノフェニル)−1,4−ジイソプロピルベンゼン、α,α′−ビス(4−アミノフェニル)−1,3−ジイソプロピルベンゼンなどのベンゼン環3個を含むジアミン類、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、4,4′−(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、5,10−ビス(4−アミノフェニル)アントラセンなどのベンゼン環4個以上を含むジアミン類などのジアミン化合物が挙げることができる。脂環式ジアミンは、分子内に一つ以上の脂肪族環を有する炭素数が5〜30の脂環式ジアミンが好ましく、イソホロンジアミン、ノルボルネンジアミン、1,2−ジアミノシクロヘキサン、1,3−ジアミノシクロヘキサン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタンなどを挙げることができる。脂肪族ジアミンは、炭素数が2〜30の脂肪族ジアミンが好ましく、ヘキサメチレンジアミン、ジアミノドデカンなどを挙げることができる。   The diamine compound in the amine component used as a raw material for the bifunctional hydroxyl-terminated imide is not particularly limited, and aromatic, alicyclic and aliphatic diamines can be used. Specifically, the aromatic diamine is one benzene ring such as 1,4-diaminobenzene, 1,3-diaminobenzene, 2,4-diaminotoluene, 1,4-diamino-2,5-dihalogenobenzene. -Containing diamines, bis (4-aminophenyl) ether, bis (3-aminophenyl) ether, bis (4-aminophenyl) sulfone, bis (3-aminophenyl) sulfone, bis (4-amino) Phenyl) methane, bis (3-aminophenyl) methane, bis (4-aminophenyl) sulfide, bis (3-aminophenyl) sulfide, 2,2-bis (4-aminophenyl) propane, 2,2-bis ( 3-aminophenyl) propane, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, o-dianisidine, o-tolidine, torigins Diamines containing two benzene rings such as phonic acids, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4-aminophenyl) Benzene, 1,4-bis (3-aminophenyl) benzene, α, α'-bis (4-aminophenyl) -1,4-diisopropylbenzene, α, α'-bis (4-aminophenyl) -1, Diamines containing three benzene rings such as 3-diisopropylbenzene, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexa Fluoropropane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 4,4 '-(4-aminophenoxy) biphenyl, 9,9-bis (4-a Examples thereof include diamine compounds such as diamines containing four or more benzene rings such as minophenyl) fluorene and 5,10-bis (4-aminophenyl) anthracene. The alicyclic diamine is preferably an alicyclic diamine having 5 to 30 carbon atoms having one or more aliphatic rings in the molecule, such as isophorone diamine, norbornene diamine, 1,2-diaminocyclohexane, 1,3-diamino. Examples include cyclohexane, 1,4-diaminocyclohexane, bis (4-aminocyclohexyl) methane, and the like. The aliphatic diamine is preferably an aliphatic diamine having 2 to 30 carbon atoms, and examples thereof include hexamethylene diamine and diaminododecane.

前記ジアミン化合物のうち脂環式ジアミンを用いた2官能性水酸基末端イミドは、溶剤に対する溶解性が高くなる。このため、前記式(43)のR18が炭素数9〜18の長鎖メチレン基からなる(ポリ)カーボネートポリオールと組合せてポリウレタンポリイミド樹脂を得た場合でも、そのポリウレタンポリイミドは、溶剤に均一に溶解し易く、更に耐熱性が良好であるから特に好適である。Among the diamine compounds, a bifunctional hydroxyl-terminated imide using an alicyclic diamine has high solubility in a solvent. For this reason, even when R 18 in the formula (43) is combined with a (poly) carbonate polyol comprising a long chain methylene group having 9 to 18 carbon atoms, the polyurethane polyimide is uniformly distributed in the solvent. It is particularly suitable because it is easily dissolved and has good heat resistance.

2官能性水酸基末端イミドのアミン成分中の水酸基を1個有するモノアミン化合物としては、分子中に水酸基とアミノ基とを各1個有する化合物であれば特に限定するものではないが、アミノエタノール、アミノプロパノール、アミノブタノールなどの水酸基を有する脂肪族モノアミン化合物、特に炭素数が1〜10の水酸基を有する脂肪族モノアミン化合物、アミノシクロヘキサノールなどの水酸基を有する脂環式モノアミン化合物、特に炭素数が3〜20の水酸基を有する脂環式モノアミン化合物、アミノフェノール、アミノクレゾール、4−ヒドロキシ−4′−アミノジフェニルエーテル、4−ヒドロキシ−4′−アミノビフェニル、アミノベンジルアルコール、アミノフェネチルアルコールなどの水酸基を有する芳香族モノアミン化合物特に炭素数が6〜20の水酸基を有する芳香族モノアミン化合物を好適に挙げることができる。   The monoamine compound having one hydroxyl group in the amine component of the bifunctional hydroxyl-terminated imide is not particularly limited as long as it is a compound having one hydroxyl group and one amino group in the molecule. Aliphatic monoamine compounds having a hydroxyl group such as propanol and aminobutanol, in particular aliphatic monoamine compounds having a hydroxyl group having 1 to 10 carbon atoms, alicyclic monoamine compounds having a hydroxyl group such as aminocyclohexanol, particularly 3 to 3 carbon atoms Fragrance having a hydroxyl group such as an alicyclic monoamine compound having 20 hydroxyl groups, aminophenol, aminocresol, 4-hydroxy-4'-aminodiphenyl ether, 4-hydroxy-4'-aminobiphenyl, aminobenzyl alcohol, aminophenethyl alcohol, etc. Group monoamination Things, especially carbon atoms can be preferably exemplified an aromatic monoamine compound having 6-20 hydroxyl groups.

2官能性水酸基末端イミドは、テトラカルボン酸成分と、ジアミン化合物及び水酸基を1個有するモノアミン化合物からなるアミン成分とを、テトラカルボン酸成分の酸無水物基(あるいは隣接する二個のカルボキル基等)の当量数と、アミン成分のアミノ基の当量数とが略等量となるようにして、溶剤中で重合及びイミド化反応させて得ることができる。具体的には、テトラカルボン酸成分(特にテトラカルボン酸二無水物)と、ジアミン化合物と水酸基を有するモノアミン化合物からなるアミン成分とを、酸無水物基(または隣接するジカルボン酸基)とアミン成分のアミノ基とが略当量となるような割合で使用して、各成分を有機極性溶媒中で、約100℃以下、特に80℃以下の反応温度で反応させてアミド−酸結合を有するオリゴマーを生成し、次いで、そのアミド−酸オリゴマー(アミック酸オリゴマーともいう)を、約0℃〜140℃の低温でイミド化剤を添加するか或いは140℃〜250℃の高温で加熱して脱水・イミド化させる方法によって得ることができる。脱水・イミド化反応のとき、トルエンやキシレンを加えて、共沸によって縮合水を除去しながら反応させてもよい。   The bifunctional hydroxyl-terminated imide comprises a tetracarboxylic acid component and an amine component composed of a diamine compound and a monoamine compound having one hydroxyl group, an acid anhydride group of the tetracarboxylic acid component (or two adjacent carboxyl groups, etc. ) And the number of equivalents of the amino group of the amine component so as to be substantially equal to each other, polymerization and imidization reaction can be performed in a solvent. Specifically, a tetracarboxylic acid component (particularly tetracarboxylic dianhydride), an amine component composed of a diamine compound and a monoamine compound having a hydroxyl group, an acid anhydride group (or an adjacent dicarboxylic acid group) and an amine component. The oligomer having an amide-acid bond is obtained by reacting each component in an organic polar solvent at a reaction temperature of about 100 ° C. or less, particularly 80 ° C. or less. Then, the amide-acid oligomer (also referred to as an amic acid oligomer) is added with an imidizing agent at a low temperature of about 0 ° C. to 140 ° C. or heated at a high temperature of 140 ° C. to 250 ° C. for dehydration / imide It can be obtained by the method of making it. In the dehydration / imidation reaction, toluene or xylene may be added and reacted while removing condensed water by azeotropy.

2官能性水酸基末端イミドを製造する際に使用される溶剤としては、例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−メチルカプロラクタム、などのアミド類溶媒、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルフォスホルムアミド、ジメチルスルホン、テトラメチレンスルホン、ジメチルテトラメチレンスルホンなどの硫黄原子を含有する溶媒、クレゾール、フェノール、キシレノールなどのフェノール類溶媒、ジエチレングリコールジメチルエーテル(ジグライム)、トリエチレングリコールジメチルエーテル(トリグライム)、テトラグライムなどのジグライム類溶媒、γ−ブチロラクトンなどのラクトン類溶媒、イソホロン、シクロヘキサノン、3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンなどのケトン類溶媒、ピリジン、エチレングリコール、ジオキサン、テトラメチル尿素などのその他の溶媒、また必要に応じてベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類溶媒を挙げることができる。これらの有機溶媒は単独で用いても複数種を混合して用いても構わない。   Examples of the solvent used in producing the bifunctional hydroxyl-terminated imide include amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, and N-methylcaprolactam. Solvents, dimethyl sulfoxide, hexamethylphosphamide, dimethylsulfone, tetramethylenesulfone, dimethyltetramethylenesulfone-containing solvents such as sulfur atoms, cresol, phenol, xylenol and other phenolic solvents, diethylene glycol dimethyl ether (diglyme), triethylene Glycol solvents such as glycol dimethyl ether (triglyme) and tetraglyme, lactone solvents such as γ-butyrolactone, isophorone, cyclohexanone, 3,3,5-trimethylcyclohexane Ketones solvents such Sanon, pyridine, ethylene glycol, dioxane, and other solvents such as tetramethylurea and benzene optionally toluene, aromatic hydrocarbon solvents such as xylene. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

前述のようにして製造した2官能性水酸基末端イミドは、前記式(3)中のmが異なる複数の2官能性水酸基末端イミドの混合物になることがある。本発明では、mが異なる複数の2官能性水酸基末端イミドオリゴマーからなる混合物を、それぞれのポリイミドに分離して用いても構わないが、分離しないで混合物のままで好適に用いることができる。なお、2官能性水酸基末端イミドのm(混合物の場合はmの平均値)は、製造時のアミン成分中のジアミン化合物とモノアミン化合物との仕込み比(モル比)によって制御することができる。   The bifunctional hydroxyl-terminated imide produced as described above may be a mixture of a plurality of bifunctional hydroxyl-terminated imides having different m in the formula (3). In the present invention, a mixture of a plurality of bifunctional hydroxyl-terminated imide oligomers having different m may be used separately for each polyimide, but can be suitably used as it is without being separated. In addition, m (average value of m in the case of a mixture) of bifunctional hydroxyl-terminated imides can be controlled by the charging ratio (molar ratio) of the diamine compound and the monoamine compound in the amine component at the time of production.

また、前述のようにして製造した2官能性水酸基末端イミドは、その反応液を、そのまま又は適宜濃縮あるいは希釈して、変性イミドオリゴマー溶液として使用してもよい。また、その反応液を水等の非溶解性溶媒に注ぎ込んで、粉末状の生成物として単離して、必要な時にその粉末生成物を溶剤に溶解して使用してもよい。   In addition, the bifunctional hydroxyl-terminated imide produced as described above may be used as a modified imide oligomer solution by directly or concentrating or diluting the reaction solution. Alternatively, the reaction solution may be poured into a non-soluble solvent such as water and isolated as a powdered product, and the powder product may be dissolved in a solvent and used when necessary.

このポリウレタンポリイミドは、前述のように、
成分(a) ジイソシアネート、
成分(b) 炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオール、
成分(c′) エポキシ基と反応可能な官能基を有するジオール化合物、および
成分(d) 式(3)で示される2官能性水酸基末端イミド
を必須成分とする組成物を反応して得られる。
This polyurethane polyimide, as mentioned above,
Component (a) diisocyanate,
Component (b) (poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms,
Component (c ′) Obtained by reacting a diol compound having a functional group capable of reacting with an epoxy group, and a component (d) a composition having a bifunctional hydroxyl-terminated imide represented by formula (3) as essential components.

また、必要に応じて成分(b)、成分(c′)及び成分(d)のいずれにも属さないポリオールを併用することができる(以下、この成分を成分(x)と記す。)。   Moreover, the polyol which does not belong to any of a component (b), a component (c '), and a component (d) can be used together as needed (Hereinafter, this component is described as a component (x).).

成分(x)としては、例えば、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,9−ノナンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、1,10−デカメチレングリコール、1,2−テトラデカンジオール、2,4−ジエチル−1,5−ペンタンジオール、2−ブチル−2−エチルプロパンジオール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,3−キシリレングリコール、1,4−キシリレングリコール等を挙げることができる。   Examples of the component (x) include 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, and 1,5-pentanediol. 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,8-octanediol, 1,3-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,9-nonanediol, 2 -Methyl-1,8-octanediol, 1,10-decamethylene glycol, 1,2-tetradecanediol, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, 2-butyl-2-ethylpropanediol, 1, Examples include 3-cyclohexanedimethanol, 1,3-xylylene glycol, and 1,4-xylylene glycol.

なお、前述のように、(ポリ)カーボネートポリオールを製造する際に、原料であるポリオール成分が残存して含まれる場合があるが、本明細書では、残存する該ポリオール成分は、「(ポリ)カーボネートポリオール」には含まれずに、成分(x)に含まれる。   As described above, when the (poly) carbonate polyol is produced, the polyol component as a raw material may be left and contained, but in this specification, the remaining polyol component is “(poly) It is not included in “carbonate polyol” but included in component (x).

成分(a)、成分(b)、成分(c′)及び成分(d)の各成分の組成比は、各成分合計の水酸基数/イソシアネート基数、具体的成分で示せば〔成分(b)+成分(c′)+成分(d)+成分(x)〕/成分(a)のモル比が、0.5〜3.0、好ましくは0.8〜2.5、特に0.9〜2.0の割合にすることが好適である。成分(a)が多すぎると重合液が増粘することがあり好ましくない。さらに、[成分(b)+成分(c′)+成分(x)]/成分(d)のモル比が0.01〜100、好ましくは0.1〜10の割合にすることが好ましい。[成分(b)+成分(c′)+成分(x)]が多過ぎると耐熱性に劣り、成分(d)が多過ぎると柔軟性に劣るためである。   The composition ratio of each component of component (a), component (b), component (c ′), and component (d) is the total number of hydroxyl groups / isocyanate groups. The molar ratio of component (c ′) + component (d) + component (x)] / component (a) is 0.5 to 3.0, preferably 0.8 to 2.5, especially 0.9 to 2. A ratio of 0.0 is preferred. When there are too many components (a), a polymerization liquid may thicken and it is unpreferable. Furthermore, it is preferable that the molar ratio of [component (b) + component (c ′) + component (x)] / component (d) is 0.01 to 100, preferably 0.1 to 10. This is because too much [component (b) + component (c ′) + component (x)] is inferior in heat resistance, and too much component (d) is inferior in flexibility.

また、このポリウレタンポリイミドを製造する際の原料成分である前記成分(b)と成分(c′)の組み合わせが、数平均分子量が500〜10000の炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオール(成分(b))と成分(c′)との組合せからなる時には、成分(a)と〔成分(b)+成分(c′)+成分(x)〕とは〔成分(b)+成分(c′)+成分(x)〕/成分(a)のモル比が0.5〜2.5、好ましくは0.8〜2.5の割合であって、且つ成分(b)、成分(c′)とは、成分(c′)/成分(b)のモル比が0.1〜10、好ましくは0.1〜5の割合であることが好適である。〔成分(b)+成分(c′)+成分(x)〕/成分(a)の値が小さ過ぎると成分(d)の含有量が多くなり柔軟性に劣り、〔成分(b)+成分(c′)+成分(x)〕/成分(a)の値が大きすぎると成分(d)の含有量が少なくなり耐熱性が劣るので、前記範囲の割合が好ましい。また、成分(b)と成分(c′)との割合において、成分(c′)の割合が多過ぎると、得られるポリウレタンポリイミド溶液の粘度が高くなり過ぎたり、得られる硬化膜の吸湿性が大きくなり過ぎたりすることがあるので好ましくない。一方、成分(c′)の割合が少なすぎると、架橋密度が低くなり得られる硬化膜の耐熱性が低下し易くなるので好ましくない。成分(x)は成分(b)や成分(c′)に比べて少なく用いることが望ましく、成分(b)の合成時に残存するポリオール成分のみを用いることがさらに好ましい。   Further, the combination of the component (b) and the component (c ′), which are raw material components when producing this polyurethane polyimide, is an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms having a number average molecular weight of 500 to 10,000. When comprising a combination of a (poly) carbonate polyol having a group (component (b)) and component (c ′), component (a), [component (b) + component (c ′) + component (x)], Is a ratio of [component (b) + component (c ′) + component (x)] / component (a) of 0.5 to 2.5, preferably 0.8 to 2.5, In addition, the component (b) and the component (c ′) have a component (c ′) / component (b) molar ratio of 0.1 to 10, preferably 0.1 to 5. . If the value of [component (b) + component (c ′) + component (x)] / component (a) is too small, the content of component (d) increases and the flexibility is inferior, and [component (b) + component If the value of (c ′) + component (x)] / component (a) is too large, the content of component (d) decreases and the heat resistance is inferior. Moreover, in the ratio of component (b) and component (c ′), when the ratio of component (c ′) is too large, the viscosity of the resulting polyurethane polyimide solution becomes too high, or the hygroscopicity of the resulting cured film is high. Since it may become too large, it is not preferable. On the other hand, if the proportion of the component (c ′) is too small, the crosslinking density is lowered, and the heat resistance of the resulting cured film tends to be lowered, which is not preferable. Component (x) is preferably used in a smaller amount than component (b) or component (c ′), and more preferably only the polyol component remaining during the synthesis of component (b) is used.

得られるポリウレタンポリイミドは、好ましくは下記式(45)〜式(47)の構造単位を含有してなる。

Figure 2011004756
(式中、Xはジイソシアネートからイソシアネート基を除いた2価の基、複数個のR20は、それぞれ独立に、炭素数3〜18のジオールから水酸基を除いた2価の基、tは1〜40の整数、uは1〜100の整数を表す。)
Figure 2011004756
(式中、Xはジイソシアネートからイソシアネート基を除いた2価の基、Wは、エポキシ基と反応可能な官能基を有するジオールから水酸基を除いた2価の基を表し、vは1〜40の整数を表す。)
Figure 2011004756
(式中、Xはジイソシアネートからイソシアネート基を除いた2価の基、複数個のR21、R22はそれぞれ独立に2価の脂肪族または芳香族炭化水素基、Yはテトラカルボン酸のカルボキシル基を除いた4価の基、Xはジアミンのアミノ基を除いた2価の基を表し、wは0〜20の整数、xは1〜100の整数を表す。)The resulting polyurethane polyimide preferably contains structural units of the following formulas (45) to (47).
Figure 2011004756
(In the formula, X 6 is a divalent group obtained by removing an isocyanate group from diisocyanate, a plurality of R 20 are each independently a divalent group obtained by removing a hydroxyl group from a diol having 3 to 18 carbon atoms, and t is 1) Integer of ~ 40, u represents an integer of 1-100.)
Figure 2011004756
(In the formula, X 6 represents a divalent group obtained by removing an isocyanate group from diisocyanate, W represents a divalent group obtained by removing a hydroxyl group from a diol having a functional group capable of reacting with an epoxy group, and v represents 1 to 40. Represents an integer.)
Figure 2011004756
(Wherein X 6 is a divalent group obtained by removing an isocyanate group from diisocyanate, a plurality of R 21 and R 22 are each independently a divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon group, and Y 4 is a tetracarboxylic acid. A tetravalent group excluding a carboxyl group, X 7 represents a divalent group excluding an amino group of diamine, w is an integer of 0 to 20, and x is an integer of 1 to 100.)

ポリウレタンポリイミドは、ウレタン結合を介して、炭素数3〜18のジオール由来の(ポリ)カーボネートユニット、エポキシ基と反応可能な官能基を有するジオールユニット、及び2官能性水酸基末端イミドユニットが共重合したものであり、u、v、及びxはそれらのユニットの重合度と構成比を示している。しかし、前記の各ユニットがブロック共重合していることを限定的に示しているのではない。炭素数3〜18のジオール由来の(ポリ)カーボネートユニット、エポキシ基と反応可能な官能基を有するジオールユニット、及び2官能性水酸基末端イミドユニットがブロック共重合でもランダム共重合でも構わない。また、末端は明示していないが、末端に位置したジイソシアネート化合物又は前記各ユニットによって、イソシアネート基か又は水酸基になっている。   Polyurethane polyimide is a copolymer of a 3 to 18 carbon diol-derived (poly) carbonate unit, a diol unit having a functional group capable of reacting with an epoxy group, and a bifunctional hydroxyl-terminated imide unit via a urethane bond. U, v, and x represent the degree of polymerization and the composition ratio of these units. However, this does not restrictively indicate that the above units are block copolymerized. The (poly) carbonate unit derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms, a diol unit having a functional group capable of reacting with an epoxy group, and a bifunctional hydroxyl-terminated imide unit may be block copolymerization or random copolymerization. Moreover, although the terminal is not specified, it is an isocyanate group or a hydroxyl group by the diisocyanate compound or each unit located at the terminal.

さらに、このポリウレタンポリイミドの製造方法においては、すべての成分を同時に溶剤に溶解して反応してもよいが、2官能性水酸基末端イミドユニットがブロック的に連続した分子鎖が生成すると溶媒に不溶となって沈殿を生じ易くなるので、予めジイソシアネートと、炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオールとを、イソシアネート基が水酸基に対して過剰で反応して、次いで2官能性水酸基末端イミドと反応させることが、溶解性を保って良好に反応を進めることができるので好ましい。   Furthermore, in this method for producing polyurethane polyimide, all components may be dissolved in a solvent at the same time and reacted. Since precipitation is likely to occur, the diisocyanate and (poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms are reacted in excess with respect to the hydroxyl group of the isocyanate group, Next, it is preferable to react with a bifunctional hydroxyl-terminated imide because the reaction can be favorably advanced while maintaining solubility.

このポリウレタンポリイミドの製造方法を具体的に説明すると、ジイソシアネート化合物と、炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオールやエポキシ基と反応可能な官能基を有するジオールとの反応は、無溶剤あるいは溶剤に溶解して行うことができる。反応温度は30℃〜150℃、好ましくは30℃〜120℃であり、反応時間は通常1〜10時間である。この反応はイソシアネートが水分によって失活するのを防ぐために窒素雰囲気下で行うことが好ましい。   When this polyurethane polyimide production method is specifically described, a diisocyanate compound and a (poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms or a diol having a functional group capable of reacting with an epoxy group The reaction with can be carried out without solvent or dissolved in a solvent. The reaction temperature is 30 ° C to 150 ° C, preferably 30 ° C to 120 ° C, and the reaction time is usually 1 to 10 hours. This reaction is preferably performed in a nitrogen atmosphere in order to prevent the isocyanate from being deactivated by moisture.

ジイソシアネート化合物と、炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオールやエポキシ基と反応可能な官能基を有するジオールとの反応で得られたジイソシアネート化合物と、2官能性水酸基末端イミドとの反応は、溶剤中で、反応温度30℃〜150℃、好ましくは30℃〜120℃、反応時間1〜15時間、窒素雰囲気下で好適に行うことができる。尚、この反応では、ジイソシアネート化合物のイソシアネート基数に対する2官能性水酸基末端イミドの水酸基数の比(水酸基数/イソシアネート基数)は、0.5〜2.5、好ましくは1.5〜2.5であることが好適である。0.5以下であれば、得られるポリウレタンポリイミド樹脂の耐熱性が低く、2.5以上であれば硬化膜とした場合に硬くなり過ぎるため、前述の範囲であることが好ましい。   A diisocyanate compound obtained by a reaction between a diisocyanate compound and a (poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms or a diol having a functional group capable of reacting with an epoxy group; The reaction with the hydrophilic hydroxyl-terminated imide can be suitably carried out in a solvent in a nitrogen atmosphere at a reaction temperature of 30 ° C. to 150 ° C., preferably 30 ° C. to 120 ° C., for a reaction time of 1 to 15 hours. In this reaction, the ratio of the number of hydroxyl groups of the bifunctional hydroxyl-terminated imide to the number of isocyanate groups of the diisocyanate compound (number of hydroxyl groups / number of isocyanate groups) is 0.5 to 2.5, preferably 1.5 to 2.5. Preferably it is. If it is 0.5 or less, the heat resistance of the resulting polyurethane polyimide resin is low, and if it is 2.5 or more, it becomes too hard when it is used as a cured film.

このポリウレタンポリイミドを製造する反応で好適に用いることができる溶剤としては、式(4)〜式(6)で示される構造単位を有するポリウレタンポリイミドの合成の際に使用することができる溶剤として段落[0191]〜[0197]に記載した溶剤を使用することができる。   As a solvent that can be suitably used in the reaction for producing this polyurethane polyimide, paragraph [4] as a solvent that can be used in the synthesis of polyurethane polyimide having a structural unit represented by formulas (4) to (6). The solvents described in [0191] to [0197] can be used.

本発明の熱硬化性組成物を好適に得るためには、ポリウレタンポリイミドは、溶剤に少なくとも3質量%以上、好ましくは5〜60質量%程度の高濃度で溶解させることができるもので、その溶液の25℃の溶液粘度(E型回転粘度計)が1000〜10000000mPa・s、特に1000〜600000mPa・s程度であるものが好ましい。   In order to suitably obtain the thermosetting composition of the present invention, the polyurethane polyimide can be dissolved in a solvent at a high concentration of at least 3% by mass, preferably about 5 to 60% by mass. The solution viscosity at 25 ° C. (E-type rotational viscometer) is preferably 1000 to 10000000 mPa · s, particularly about 1000 to 600000 mPa · s.

このポリウレタンポリイミドの分子量が大きくなり過ぎると溶液粘度が高くなり過ぎて、組成物の調製時に攪拌が困難になる。また、組成物が高粘度になり過ぎるとスクリーン印刷などの方法で塗膜を形成する時の作業性が低下する。したがって、この発明の樹脂組成物を構成するポリウレタンポリイミドの数平均分子量は、好ましくは3000〜50000、より好ましくは4000〜40000、特に好ましくは4000〜30000である。数平均分子量が3000未満では、得られる硬化絶縁膜の耐熱性や力学特性が低下する傾向がある。   When the molecular weight of this polyurethane polyimide becomes too large, the solution viscosity becomes too high, and stirring becomes difficult during preparation of the composition. Moreover, when the composition becomes too high in viscosity, workability when forming a coating film by a method such as screen printing is lowered. Therefore, the number average molecular weight of the polyurethane polyimide constituting the resin composition of the present invention is preferably 3000 to 50000, more preferably 4000 to 40000, and particularly preferably 4000 to 30000. When the number average molecular weight is less than 3000, the heat resistance and mechanical properties of the resulting cured insulating film tend to be reduced.

このポリウレタンイミドの原料成分である成分(c′)として、カルボキシル基を有するジオールを用いた場合、このポリウレタンイミドの酸価は、5〜120mgKOH/gであることが好ましく、さらに好ましくは、10〜50mgKOH/gである。酸価が5mgKOH/g未満では、トリシクロデカン構造を有するエポキシ基含有化合物との反応性が低下し、後述の熱硬化性組成物を硬化して得られる配線板の保護膜の耐熱性が低くなることがある。一方120mgKOH/gを超えると、保護膜が硬く脆くなりすぎることがある。   When a diol having a carboxyl group is used as the component (c ′) which is a raw material component of the polyurethane imide, the acid value of the polyurethane imide is preferably 5 to 120 mgKOH / g, more preferably 10 to 50 mg KOH / g. When the acid value is less than 5 mgKOH / g, the reactivity with the epoxy group-containing compound having a tricyclodecane structure is lowered, and the heat resistance of the protective film of the wiring board obtained by curing the thermosetting composition described later is low. May be. On the other hand, if it exceeds 120 mgKOH / g, the protective film may be too hard and brittle.

このポリウレタンとしては、数平均分子量が3000〜50000であり、かつ酸価が5〜120mgKOH/gであることが好ましく、さらに好ましくは、数平均分子量が4000〜30000であり、かつ酸価が10〜50mgKOH/gである。   This polyurethane preferably has a number average molecular weight of 3000 to 50000 and an acid value of 5 to 120 mgKOH / g, more preferably a number average molecular weight of 4000 to 30000 and an acid value of 10 to 10. 50 mg KOH / g.

エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有し、さらにイミド結合を有するポリウレタンポリイミドの中で、合成されたポリイミドポリウレタンの安定性が重要視される場合には、前述の特開2003−198105号公報に記載の、エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有し、さらにイミド結合を有するポリウレタンポリイミドよりも、特開2006−307183号公報に記載のエポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有し、さらにイミド結合を有するポリウレタンポリイミドの方が好ましい。特に、好ましくは、以下の(a)、(b)、(c)及び(d)を必須とする原料を反応して得られるポリウレタンポリイミドである。
成分(a) ジイソシアネート、
成分(b) 炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオール、
成分(c) カルボキシル基を有するジオール、
成分(d) 式(3)で示される2官能性水酸基末端イミド。
When the stability of the synthesized polyimide polyurethane is regarded as important among the polyurethane polyimides that have a functional group capable of reacting with an epoxy group and have the structural unit represented by the formula (1) and further have an imide bond Than the polyurethane polyimide having a functional group capable of reacting with an epoxy group and having a structural unit represented by the formula (1) and further having an imide bond, as described in JP-A-2003-198105. Polyurethane polyimide having a functional group capable of reacting with an epoxy group described in JP-A-2006-307183, a structural unit represented by the formula (1), and further having an imide bond is preferable. Particularly preferred is a polyurethane polyimide obtained by reacting raw materials essentially comprising the following (a), (b), (c) and (d).
Component (a) diisocyanate,
Component (b) (poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms,
Component (c) a diol having a carboxyl group,
Component (d) A bifunctional hydroxyl-terminated imide represented by the formula (3).

次に、溶剤に溶解する範囲で分子中に一定の分岐構造を有しかつエポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンについて説明する。   Next, a polyurethane having a certain branched structure in the molecule as long as it dissolves in a solvent, a functional group capable of reacting with an epoxy group, and a structural unit represented by the formula (1) will be described.

溶剤に溶解する範囲で分子中に一定の分岐構造を有しかつエポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンは、下記成分(a)、成分(b)、成分(c)及び成分(e)を必須とする原料成分を反応することによって得られる。
成分(a) ジイソシアネート、
成分(b) 炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオール、
成分(c) カルボキシル基を有するジオール、
成分(e) 1分子中に水酸基を3個以上有する化合物。
A polyurethane having a certain branched structure in the molecule within a range that dissolves in a solvent, a functional group capable of reacting with an epoxy group, and a structural unit represented by the formula (1) includes the following component (a) and component: It can be obtained by reacting raw material components essentially comprising (b), component (c) and component (e).
Component (a) diisocyanate,
Component (b) (poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms,
Component (c) a diol having a carboxyl group,
Component (e) A compound having 3 or more hydroxyl groups in one molecule.

成分(a)のジイソシアネートとしては、1分子中にイソシアネ−ト基を2個有するものであればどのようなものでもよい。例えば、脂肪族、脂環族又は芳香族のジイソシアネ−ト、好ましくはイソシアネート基を除いて炭素数が2〜30の脂肪族、脂環族又は芳香族のジイソシアネ−トであり、具体的には、1,4−シクロヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)、1,3−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4′−ジイソシアネート、1,3−キシリレンジイソシアネート、1,4−キシリレンジイソシアネート、リシンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサンメチレンジイソシアネート及びノルボルネンジイソシアネート等を好適に例示することができる。   The diisocyanate of component (a) may be any as long as it has two isocyanate groups in one molecule. For example, an aliphatic, alicyclic or aromatic diisocyanate, preferably an aliphatic, alicyclic or aromatic diisocyanate having 2 to 30 carbon atoms excluding an isocyanate group, specifically 1,4-cyclohexane diisocyanate, isophorone diisocyanate, methylene bis (4-cyclohexyl isocyanate), 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, 2,4-tolylene diisocyanate 2,6-tolylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4'-diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 1,4-xylylene diisocyanate, lysine diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene Gii Cyanate, 2,2,4-trimethyl hexane diisocyanate and norbornene diisocyanate can be preferably exemplified.

成分(b)の炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオールとしては、数平均分子量が好ましくは400〜10000、より好ましくは450〜5000、最も好ましくは500〜3000のものである。数平均分子量が400未満になると好適な柔軟性が得難くなり、また数平均分子量が10000を越えると耐熱性や耐溶剤性が悪くなることがあるので前記程度のものが好適である。炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオールは、具体的には宇部興産株式会社製のUH−CARB、UN−CARB、UD−CARB、UC−CARB、ダイセル化学工業株式会社製の商品名PLACCEL、CD−205、205PL、205HL、210、210PL、210HL、220、220PL、220HL、株式会社クラレ製の商品名クラレポリオールC−590、C−1065N、C−1015N、C−2015N等を好適に例示することができる。これらのポリカーボネートポリオールは、単独で、または2種類以上を組合せて用いられる。   As the (poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms as component (b), the number average molecular weight is preferably 400 to 10,000, more preferably 450 to 5000, most preferably 500. ~ 3000. When the number average molecular weight is less than 400, it is difficult to obtain suitable flexibility, and when the number average molecular weight exceeds 10,000, the heat resistance and solvent resistance may be deteriorated. The (poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms is specifically UH-CARB, UN-CARB, UD-CARB, UC-CARB, Daicel manufactured by Ube Industries, Ltd. Product names PLACEL, CD-205, 205PL, 205HL, 210, 210PL, 210HL, 220, 220PL, 220HL, Kuraray Co., Ltd., trade names Kuraray Polyol C-590, C-1065N, C-1015N C-2015N and the like can be preferably exemplified. These polycarbonate polyols are used alone or in combination of two or more.

なお、前述のように、(ポリ)カーボネートポリオールを製造する際に、原料であるポリオール成分が残存して含まれる場合があるが、本明細書では、残存する該ポリオール成分は、「(ポリ)カーボネートポリオール」には含まれないものと定義する。
例えば、トリメチロールプロパンと1,9−ノナンジオールおよびジエチルカーボネートを原料に用いて、触媒の存在下、エステル交換反応によって(ポリ)カーボネートポリオールを製造する際に、原料であるトリメチロールプロパンと1,9−ノナンジオールが生成物である(ポリ)カーボネートポリオール中にそれぞれ5質量%ずつ残存していた場合には、この残存しているトリメチロールプロパンおよび1,9−ノナンジオールは、「(ポリ)カーボネートポリオール」には含まれずに、ポリオールが1分子中に水酸基を3個以上有する化合物(この場合には、トリメチロールプロパン)である場合には、このポリオールは成分(e)に属することを意味し、ポリオールが1分子中に水酸基を2個有する化合物(この場合には、1,9−ノナンジオール)である場合には、後述の成分(y)に含まれることを意味する。
As described above, when the (poly) carbonate polyol is produced, the polyol component as a raw material may be left and contained, but in this specification, the remaining polyol component is “(poly) It is defined as not included in “carbonate polyol”.
For example, when a (poly) carbonate polyol is produced by transesterification using trimethylolpropane, 1,9-nonanediol and diethyl carbonate as raw materials in the presence of a catalyst, When 5% by mass of 9-nonanediol remained in the product (poly) carbonate polyol, the remaining trimethylolpropane and 1,9-nonanediol were “(poly) When the polyol is a compound having 3 or more hydroxyl groups in one molecule (in this case, trimethylolpropane) without being included in the “carbonate carbonate polyol”, it means that the polyol belongs to the component (e). And a polyol having two hydroxyl groups in one molecule (in this case, 1, - in the case of nonanediol) is meant to be included in the components described below (y).

成分(c)のカルボキシル基を有するジオールとしては、例えば、2,2−ジメチロールプロピオン酸、2,2−ジメチロールブタン酸、N,N−ビス(ヒドロキシエチル)グリシン、N,N−ビス(ヒドロキシエチル)グリシン等を挙げることができる。これらの中でも溶媒への溶解度から、2,2−ジメチロールプロピオン酸、2,2−ジメチロールブタン酸が特に好ましい。これらのカルボキシル基を有するジオールを単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いても良い。   Examples of the diol having a carboxyl group as the component (c) include 2,2-dimethylolpropionic acid, 2,2-dimethylolbutanoic acid, N, N-bis (hydroxyethyl) glycine, N, N-bis ( Hydroxyethyl) glycine and the like can be mentioned. Among these, 2,2-dimethylolpropionic acid and 2,2-dimethylolbutanoic acid are particularly preferable from the viewpoint of solubility in a solvent. These diols having a carboxyl group may be used alone or in combination of two or more.

成分(e)の1分子中に水酸基を3個以上有する化合物としては、例えば、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ソルビトール等を挙げることができる。これらの中では、合成時の容易さを考慮すると、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートが特に好ましい。   Examples of the compound having 3 or more hydroxyl groups in one molecule of component (e) include glycerin, trimethylolethane, trimethylolpropane, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, pentaerythritol, dipentaerythritol, sorbitol, and the like. Can be mentioned. Of these, trimethylolethane, trimethylolpropane, and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate are particularly preferable in view of ease of synthesis.

なお、前述のように、(ポリ)カーボネートポリオールを製造する際に、原料であるポリオール成分が残存して含まれる場合があるが、残存するポリオール成分が1分子中に水酸基を3個以上有する化合物である場合には、成分(e)に含まれる。   As described above, when the (poly) carbonate polyol is produced, the polyol component as a raw material may be left and contained, but the remaining polyol component has a compound having three or more hydroxyl groups in one molecule. Is included in the component (e).

また、必要に応じて、成分(b)、成分(c)及び成分(e)に加えて、成分(b)、成分(c)及び成分(e)のいずれにも含まれないジオール成分(以下、成分(y)と記す。)を併用することができる。
成分(y)としては、例えば、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,9−ノナンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、1,10−デカメチレングリコール、1,2−テトラデカンジオール、2,4−ジエチル−1,5−ペンタンジオール、2−ブチル−2−エチルプロパンジオール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,3−キシリレングリコール、1,4−キシリレングリコール等を挙げることができる。
If necessary, in addition to component (b), component (c) and component (e), a diol component not included in any of component (b), component (c) and component (e) (below) , Described as component (y)).
Examples of the component (y) include 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, and 1,5-pentanediol. 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,8-octanediol, 1,3-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,9-nonanediol, 2 -Methyl-1,8-octanediol, 1,10-decamethylene glycol, 1,2-tetradecanediol, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, 2-butyl-2-ethylpropanediol, 1, Examples include 3-cyclohexanedimethanol, 1,3-xylylene glycol, and 1,4-xylylene glycol.

また、前述のように、(ポリ)カーボネートポリオールを製造する際に、原料であるポリオール成分が残存して含まれる場合があるが、残存するポリオール成分が1分子中に水酸基を2個有する化合物(即ち、ジオール)である場合には、後述の成分(y)に含まれることを意味する。   In addition, as described above, when the (poly) carbonate polyol is produced, the polyol component as a raw material may be left and contained, but the remaining polyol component has a compound having two hydroxyl groups in one molecule ( That is, when it is a diol), it means that it is contained in the component (y) described later.

本発明の熱硬化性組成物の成分であるエポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンとして、前記の成分(a)、成分(b)、成分(c)及び成分(e)を必須とする原料成分を反応することによって得られるポリウレタンを使用する場合、このポリウレタンの製造方法としては、例えば、以下の方法によって製造することができる。   As the polyurethane having a functional group capable of reacting with an epoxy group which is a component of the thermosetting composition of the present invention and having a structural unit represented by the formula (1), the above component (a), component (b), When using the polyurethane obtained by reacting the raw material component which makes component (c) and component (e) essential, as a manufacturing method of this polyurethane, it can manufacture with the following method, for example.

ジブチル錫ジラウリレートのような公知のウレタン化触媒の存在下または非存在下で、溶剤を用いて、成分(a)、成分(b)、成分(c)及び成分(e)を必須とする原料成分、(必要に応じて、成分(y))を反応させることにより合成することが出来る。この反応は、無触媒で実施したほうが、最終的に、後述の本発明(II)の配線板の保護膜の実使用時の物性値が向上するので好ましい。   A raw material component which essentially comprises component (a), component (b), component (c) and component (e) using a solvent in the presence or absence of a known urethanization catalyst such as dibutyltin dilaurate (If necessary, the component (y)) can be reacted. It is preferable to carry out this reaction without a catalyst because the physical property value of the protective film for the wiring board of the present invention (II) to be described later is improved.

これらの原料の仕込みを行う順番については特に制約はないが、通常は成分(b)、成分(c)、成分(e)及び必要に応じて、成分(y)を先に仕込み、溶剤に溶解させた後、20〜140℃、より好ましくは60〜120℃で、成分(a)を滴下しながら加え、その後、50〜160℃、より好ましくは60℃〜150℃でこれらを反応させる。   Although there is no restriction | limiting in particular about the order which prepares these raw materials, Usually, a component (b), a component (c), a component (e), and a component (y) as needed are prepared first, and it melt | dissolves in a solvent. Then, component (a) is added dropwise at 20 to 140 ° C., more preferably 60 to 120 ° C., and then reacted at 50 to 160 ° C., more preferably 60 to 150 ° C.

原料の仕込みモル比は、目的とする、成分(a)、成分(b)、成分(c)及び成分(e)を必須とする原料成分を反応することによって得られるポリウレタンの分子量および酸価に応じて調節する。モノヒドロキシル化合物を使用することによって、このポリウレタンの分子量を調節することもできる。すなわち目的とする数平均分子量になったら(或いは、目的とする数平均分子量に近づいたら)、末端のイソシアネート基を封鎖し、更なる数平均分子量の上昇を抑制する目的でモノヒドロキシル化合物を添加する。   The starting molar ratio of the raw materials is the molecular weight and acid value of the polyurethane obtained by reacting the desired raw material components essentially comprising component (a), component (b), component (c) and component (e). Adjust accordingly. The molecular weight of the polyurethane can also be adjusted by using a monohydroxyl compound. That is, when the target number average molecular weight is reached (or when the target number average molecular weight is approached), a monohydroxyl compound is added for the purpose of blocking the terminal isocyanate group and further suppressing the increase in the number average molecular weight. .

モノヒドロキシル化合物を使用する場合、成分(b)、成分(c)、成分(e)及び成分(y)の総水酸基の数よりもポリイソシアネート化合物のイソシアネート基の数を少なくしても、同じでも或いは多くしてもいっこうに問題ない。   When using a monohydroxyl compound, the number of isocyanate groups in the polyisocyanate compound may be less than or equal to the number of total hydroxyl groups in component (b), component (c), component (e) and component (y). Or even if it increases, there is no problem.

また、過剰にモノヒドロキシル化合物を使用した場合には、未反応のモノヒドロキシル化合物が残存する結果となるが、この場合には、そのまま過剰のモノヒドロキシル化合物を溶剤の一部として使用してもよいし、あるいは、蒸留等により除去してもかまわない。   Further, when an excess of monohydroxyl compound is used, an unreacted monohydroxyl compound remains. In this case, the excess monohydroxyl compound may be used as a part of the solvent as it is. Alternatively, it may be removed by distillation or the like.

モノヒドロキシル化合物を、成分(a)、成分(b)、成分(c)及び成分(e)を必須とする原料成分を反応することによって得られるポリウレタンに導入するのは、このポリウレタンの分子量の増大を抑制(即ち、反応を停止)するためであり、モノヒドロキシル化合物をこのポリウレタンに導入するためには、溶液中にモノヒドロキシル化合物を20〜150℃、より好ましくは70〜140℃で滴下し、その後同温度で保持して反応を完結させる。   The introduction of the monohydroxyl compound into the polyurethane obtained by reacting the raw material components essentially comprising component (a), component (b), component (c) and component (e) increases the molecular weight of this polyurethane. In order to suppress (that is, stop the reaction), and in order to introduce the monohydroxyl compound into this polyurethane, the monohydroxyl compound is dropped into the solution at 20 to 150 ° C., more preferably at 70 to 140 ° C., Thereafter, the reaction is completed by maintaining at the same temperature.

また、成分(e)の使用量は、全原料成分の0.1〜5.0質量%であることが好ましく、さらに好ましくは、0.2〜2.0質量%であり、最も好ましくは、0.3〜1.5質量%である。0.1質量%未満の場合には、添加した効果が発現されない場合があり好ましくない。また、5.0質量%より多い場合には、合成時の分子量調整が難しくなる場合があり好ましくない。   Moreover, it is preferable that the usage-amount of a component (e) is 0.1-5.0 mass% of all the raw material components, More preferably, it is 0.2-2.0 mass%, Most preferably, 0.3 to 1.5% by mass. If it is less than 0.1% by mass, the added effect may not be exhibited, which is not preferable. Moreover, when more than 5.0 mass%, molecular weight adjustment at the time of a synthesis | combination may become difficult, and it is unpreferable.

上記のように、成分(a)、成分(b)、成分(c)及び成分(e)を必須とする原料成分を反応することによって得られるポリウレタンの数平均分子量は、1000〜100000であることが好ましく、さらに好ましくは、3000〜50000であり、特に好ましくは、5000〜30000である。   As described above, the number average molecular weight of the polyurethane obtained by reacting the raw material components essentially comprising the component (a), the component (b), the component (c) and the component (e) is 1000 to 100,000. Is preferable, More preferably, it is 3000-50000, Most preferably, it is 5000-30000.

本明細書に記載の「数平均分子量」とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(以下、GPCと記す。)で測定したポリスチレン換算の数平均分子量である。数平均分子量が1,000未満では、硬化膜の伸度、可撓性、並びに強度を損なうことがあり、100,000を超えると溶剤への溶解性が低くなる上に、溶解しても粘度が高くなり、使用面で制約が生じることがある。
なお、本明細書においては、特に断りのない限り、GPCの測定条件は以下のとおりである。
装置名:日本分光株式会社製HPLCユニット HSS−2000
カラム:ShodexカラムLF−804(3本直列)
移動相:テトラヒドロフラン
流速:1.0mL/min
検出器:日本分光株式会社製RI−2031Plus
温度:40.0℃
試料量:サンプルループ 100μリットル
試料濃度:0.1質量%前後に調製。
The “number average molecular weight” described in the present specification is a number average molecular weight in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (hereinafter referred to as GPC). If the number average molecular weight is less than 1,000, the elongation, flexibility, and strength of the cured film may be impaired. Becomes higher, and there may be restrictions in terms of use.
In this specification, unless otherwise specified, the GPC measurement conditions are as follows.
Device name: HPLC unit HSS-2000 manufactured by JASCO Corporation
Column: Shodex column LF-804 (3 in series)
Mobile phase: Tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 mL / min
Detector: JASCO Corporation RI-2031Plus
Temperature: 40.0 ° C
Sample amount: 100 μl of sample loop Sample concentration: prepared at around 0.1% by mass.

このポリウレタンの酸価は、5〜120mgKOH/gであることが好ましく、さらに好ましくは、10〜50mgKOH/gである。酸価が5mgKOH/g未満では、トリシクロデカン構造を有するエポキシ基含有化合物との反応性が低下し、保護膜熱硬化性組成物を硬化して得られる配線板の保護膜の耐熱性が低くなることがある。一方120mgKOH/gを超えると、保護膜が硬く脆くなりすぎることがある。   The acid value of this polyurethane is preferably 5 to 120 mgKOH / g, more preferably 10 to 50 mgKOH / g. When the acid value is less than 5 mgKOH / g, the reactivity with the epoxy group-containing compound having a tricyclodecane structure is lowered, and the heat resistance of the protective film of the wiring board obtained by curing the protective film thermosetting composition is low. May be. On the other hand, if it exceeds 120 mgKOH / g, the protective film may be too hard and brittle.

このポリウレタンとしては、数平均分子量が1000〜100000であり、かつ酸価が5〜120mgKOH/gであり、硬化反応する官能基及びカーボネート結合を有するポリウレタンが好ましく、さらに好ましくは、数平均分子量が3000〜50000であり、かつ酸価が10〜50mgKOH/gである。
なお、本明細書において、ポリウレタンの酸価は、JIS K0070の電位差滴定法で測定された酸価の値である。
This polyurethane is preferably a polyurethane having a number average molecular weight of 1,000 to 100,000 and an acid value of 5 to 120 mgKOH / g and having a functional group capable of curing reaction and a carbonate bond, and more preferably a number average molecular weight of 3000. The acid value is 10-50 mg KOH / g.
In addition, in this specification, the acid value of polyurethane is a value of an acid value measured by a potentiometric titration method of JIS K0070.

このポリウレタンを製造する反応で好適に用いることができる溶剤としては、式(4)〜式(6)で示される構造単位を有するポリウレタンポリイミドの合成の際に使用することができる溶剤として段落[0191]〜[0197]に記載した溶剤を使用することができる。   As a solvent that can be suitably used in the reaction for producing the polyurethane, paragraph [0191] can be used as a solvent that can be used in the synthesis of the polyurethane polyimide having the structural units represented by the formulas (4) to (6). ] To [0197] can be used.

次に、エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有し、さらに、ダイマージオールから誘導された有機残基を含有するポリウレタンについて説明する。   Next, a polyurethane having a functional group capable of reacting with an epoxy group and having a structural unit represented by the formula (1) and further containing an organic residue derived from dimer diol will be described.

なお、本明細書において「ダイマージオール」とは、ダイマー酸および/またはその低級アルコールエステルを触媒存在下で還元して、ダイマー酸のカルボン酸部分をアルコールとした炭素数36のジオールを主成分としたものである。ここで主成分とは、50質量%以上存在することを意味し、炭素数36のジオール以外には、炭素数22〜44で炭素数36ではないジオールが存在する場合がある。本明細書におけるダイマージオールとしては、ダイマー酸由来の炭素−炭素2重結合を水素化した水添ダイマージオールが特に好ましい。ダイマージオールの市販品としては、例えば、PRIPOL(登録商標)2033等(クローダ社製)やSovermol(登録商標)908(コグニス社製)を挙げることができる。PRIPOL(登録商標)2033は、後述の式(48)および式(49)で表される化合物の混合物が主成分である。また、「ダイマー酸」とは、不飽和脂肪酸の分子間2量化反応で得られる酸であるが、炭素数が11〜22の不飽和脂肪酸を炭素数が36の2量体が生成するような配合で2量化して得られる二塩基酸が主成分である。市販品としては、例えばPRIPOL(登録商標)1006、同1009、同1015、同1025等(クローダ社製)、EMPOL(登録商標)1062(コグニス社)を挙げることができる。

Figure 2011004756
(式中、R10およびR11は何れもアルキル基であり、pおよびqは0以上の整数であり、かつR10およびR11に含まれる各炭素数ならびにpおよびqの合計は30である。)
Figure 2011004756
(式中、R12およびR13は何れもアルキル基であり、rおよびsは0以上の整数であり、かつR12およびR13に含まれる各炭素数ならびにrおよびsの合計は34である。)In the present specification, the “dimer diol” means that a dimer acid and / or a lower alcohol ester thereof is reduced in the presence of a catalyst and a diol having a carbon number of 36 having a carboxylic acid portion of the dimer acid as an alcohol as a main component. It is what. Here, the main component means that it is present in an amount of 50% by mass or more. In addition to a diol having 36 carbon atoms, there may be a diol having 22 to 44 carbon atoms and not 36 carbon atoms. As the dimer diol in the present specification, a hydrogenated dimer diol obtained by hydrogenating a carbon-carbon double bond derived from dimer acid is particularly preferable. Examples of commercially available dimer diols include PRIPOL (registered trademark) 2033 (manufactured by Croda) and Sovermol (registered trademark) 908 (manufactured by Cognis). PRIPOL (registered trademark) 2033 is mainly composed of a mixture of compounds represented by the following formulas (48) and (49). The “dimer acid” is an acid obtained by an intermolecular dimerization reaction of an unsaturated fatty acid, and an unsaturated fatty acid having 11 to 22 carbon atoms forms a dimer having 36 carbon atoms. A dibasic acid obtained by dimerization by blending is a main component. Examples of commercially available products include PRIPOL (registered trademark) 1006, 1009, 1015, 1025 and the like (manufactured by Croda), and EMPOL (registered trademark) 1062 (Cognis).
Figure 2011004756
(Wherein R 10 and R 11 are both alkyl groups, p and q are integers of 0 or more, and the number of carbon atoms contained in R 10 and R 11 and the sum of p and q are 30) .)
Figure 2011004756
(Wherein R 12 and R 13 are all alkyl groups, r and s are integers of 0 or more, and the total number of carbon atoms contained in R 12 and R 13 and r and s is 34. .)

なお、本発明における「ダイマージオールから誘導された有機残基」とは、前記ダイマージオ−ルの少なくとも1つのアルコール性水酸基の水素を除いた構造を意味する。
また、本発明における「炭素数3〜18のジオールから誘導された有機残基」とは、炭素数3〜18のジオールの少なくとも1つのアルコール性水酸基の水素を除いた構造を意味する。
The “organic residue derived from dimer diol” in the present invention means a structure excluding hydrogen of at least one alcoholic hydroxyl group of the dimer diol.
The “organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms” in the present invention means a structure excluding hydrogen of at least one alcoholic hydroxyl group of the diol having 3 to 18 carbon atoms.

エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有し、さらに、ダイマージオールから誘導された有機残基を含有するポリウレタンは、例えば、下記成分(a)、成分(b)、成分(c)及び成分(l)を必須とする原料成分(必要に応じて、成分(z))を反応させることにより合成することが出来る。
成分(a) ジイソシアネート、
成分(b) 炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオール、
成分(c) カルボキシル基を有するジオール、
成分(l) ダイマージオール
成分(z) 成分(b)、成分(c)及び成分(l)の群から選ばれるポリオール以外のポリオール
A polyurethane having a functional group capable of reacting with an epoxy group and having a structural unit represented by the formula (1) and further containing an organic residue derived from dimer diol includes, for example, the following component (a), It can synthesize | combine by making the raw material component (component (z) as needed) which makes a component (b), a component (c), and a component (l) essential.
Component (a) diisocyanate,
Component (b) (poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms,
Component (c) a diol having a carboxyl group,
Component (l) Dimer diol Component (z) Polyol other than polyol selected from the group consisting of component (b), component (c) and component (l)

成分(a)のジイソシアネートとしては、1分子中にイソシアネ−ト基を2個有するものであればどのようなものでもよい。例えば、脂肪族、脂環族又は芳香族のジイソシアネ−ト、好ましくはイソシアネート基を除いて炭素数が2〜30の脂肪族、脂環族又は芳香族のジイソシアネ−トであり、具体的には、1,4−シクロヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)、1,3−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4′−ジイソシアネート、1,3−キシリレンジイソシアネート、1,4−キシリレンジイソシアネート、リシンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサンメチレンジイソシアネート及びノルボルネンジイソシアネート等を好適に例示することができる。   The diisocyanate of component (a) may be any as long as it has two isocyanate groups in one molecule. For example, an aliphatic, alicyclic or aromatic diisocyanate, preferably an aliphatic, alicyclic or aromatic diisocyanate having 2 to 30 carbon atoms excluding an isocyanate group, specifically 1,4-cyclohexane diisocyanate, isophorone diisocyanate, methylene bis (4-cyclohexyl isocyanate), 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, 2,4-tolylene diisocyanate 2,6-tolylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4'-diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 1,4-xylylene diisocyanate, lysine diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene Gii Cyanate, 2,2,4-trimethyl hexane diisocyanate and norbornene diisocyanate can be preferably exemplified.

成分(b)の炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオールとしては、数平均分子量が好ましくは400〜10000、より好ましくは450〜5000、最も好ましくは500〜3000のものである。数平均分子量が400未満になると好適な柔軟性が得難くなり、また数平均分子量が10000を越えると耐熱性や耐溶剤性が悪くなることがあるので前記程度のものが好適である。炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオールは、具体的には宇部興産株式会社製のUH−CARB、UN−CARB、UD−CARB、UC−CARB、ダイセル化学工業株式会社製の商品名PLACCEL、CD−205、205PL、205HL、210、210PL、210HL、220、220PL、220HL、株式会社クラレ製の商品名クラレポリオールC−590、C−1065N、C−1015N、C−2015N等を好適に例示することができる。これらのポリカーボネートポリオールは、単独で、または2種類以上を組合せて用いられる。   As the (poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms as component (b), the number average molecular weight is preferably 400 to 10,000, more preferably 450 to 5000, most preferably 500. ~ 3000. When the number average molecular weight is less than 400, it is difficult to obtain suitable flexibility, and when the number average molecular weight exceeds 10,000, the heat resistance and solvent resistance may be deteriorated. The (poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms is specifically UH-CARB, UN-CARB, UD-CARB, UC-CARB, Daicel manufactured by Ube Industries, Ltd. Product names PLACEL, CD-205, 205PL, 205HL, 210, 210PL, 210HL, 220, 220PL, 220HL, Kuraray Co., Ltd., trade names Kuraray Polyol C-590, C-1065N, C-1015N C-2015N and the like can be preferably exemplified. These polycarbonate polyols are used alone or in combination of two or more.

なお、前述のように、(ポリ)カーボネートポリオールを製造する際に、原料であるポリオール成分が残存して含まれる場合があるが、本明細書では、残存する該ポリオール成分は、「(ポリ)カーボネートポリオール」には含まれないものと定義する。
例えば、1,9−ノナンジオールおよびジエチルカーボネートを原料に用いて、触媒の存在下、エステル交換反応によって(ポリ)カーボネートポリオールを製造する際に、原料である1,9−ノナンジオールが生成物である(ポリ)カーボネートポリオール中に5質量%残存していた場合には、この残存している1,9−ノナンジオールは、「(ポリ)カーボネートポリオール」には含まれずに、後述の成分(z)に含まれることを意味する。
As described above, when the (poly) carbonate polyol is produced, the polyol component as a raw material may be left and contained, but in this specification, the remaining polyol component is “(poly) It is defined as not included in “carbonate polyol”.
For example, when (poly) carbonate polyol is produced by transesterification using 1,9-nonanediol and diethyl carbonate as raw materials in the presence of a catalyst, the raw material 1,9-nonanediol is a product. When 5% by mass remains in a certain (poly) carbonate polyol, the remaining 1,9-nonanediol is not included in the “(poly) carbonate polyol”, but the component (z ).

成分(c)のカルボキシル基を有するジオールとしては、例えば、2,2−ジメチロールプロピオン酸、2,2−ジメチロールブタン酸、N,N−ビス(ヒドロキシエチル)グリシン、N,N−ビス(ヒドロキシエチル)グリシン等を挙げることができる。これらの中でも溶媒への溶解度から、2,2−ジメチロールプロピオン酸、2,2−ジメチロールブタン酸が特に好ましい。これらのカルボキシル基を有するポリオールを単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いても良い。   Examples of the diol having a carboxyl group as the component (c) include 2,2-dimethylolpropionic acid, 2,2-dimethylolbutanoic acid, N, N-bis (hydroxyethyl) glycine, N, N-bis ( Hydroxyethyl) glycine and the like can be mentioned. Among these, 2,2-dimethylolpropionic acid and 2,2-dimethylolbutanoic acid are particularly preferable from the viewpoint of solubility in a solvent. These polyols having a carboxyl group may be used alone or in combination of two or more.

成分(l)のダイマージオールとは、前述のように、ダイマー酸および/またはその低級アルコールエステルを触媒存在下で還元して、ダイマー酸のカルボン酸部分をアルコールとした炭素数36のジオールを主成分としたものである。ここで主成分とは、50質量%以上存在することを意味し、炭素数36のジオール以外には、炭素数22〜44で炭素数36ではないジオールが存在する場合がある。本明細書におけるダイマージオールとしては、ダイマー酸由来の炭素−炭素2重結合を水素化した水添ダイマージオールが特に好ましい。ダイマージオールの市販品としては、例えば、PRIPOL2033等(クローダ社製)やSovermol908(コグニス社製)を挙げることができる。   As described above, the dimer diol of component (l) is mainly a diol having 36 carbon atoms in which dimer acid and / or its lower alcohol ester is reduced in the presence of a catalyst, and the carboxylic acid portion of dimer acid is alcohol. Ingredients. Here, the main component means that it is present in an amount of 50% by mass or more. In addition to a diol having 36 carbon atoms, there may be a diol having 22 to 44 carbon atoms and not 36 carbon atoms. As the dimer diol in the present specification, a hydrogenated dimer diol obtained by hydrogenating a carbon-carbon double bond derived from dimer acid is particularly preferable. Examples of commercially available dimer diols include PRIPOL 2033 (manufactured by Croda) and Sovermol 908 (manufactured by Cognis).

また、必要に応じて、成分(a)、成分(b)、成分(c)及び成分(l)に加えて、成分(a)、成分(b)、成分(c)及び成分(l)のいずれにも含まれないジオール成分(成分(z))を併用することができる。
成分(z)としては、例えば、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,9−ノナンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、1,10−デカメチレングリコール、1,2−テトラデカンジオール、2,4−ジエチル−1,5−ペンタンジオール、2−ブチル−2−エチルプロパンジオール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,3−キシリレングリコール、1,4−キシリレングリコール等を挙げることができる。
Further, in addition to the component (a), the component (b), the component (c) and the component (l) as necessary, the component (a), the component (b), the component (c) and the component (l) A diol component (component (z)) not included in any of them can be used in combination.
Examples of the component (z) include 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, and 1,5-pentanediol. 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,8-octanediol, 1,3-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,9-nonanediol, 2 -Methyl-1,8-octanediol, 1,10-decamethylene glycol, 1,2-tetradecanediol, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, 2-butyl-2-ethylpropanediol, 1, Examples include 3-cyclohexanedimethanol, 1,3-xylylene glycol, and 1,4-xylylene glycol.

また、(ポリ)カーボネートポリオールを製造する際に、原料であるポリオール成分が残存して含まれる場合があるが、残存するポリオール成分は、成分(b)には含まれず、成分(z)に含まれることを意味する。   In addition, when the (poly) carbonate polyol is produced, the polyol component as a raw material may remain and be included, but the remaining polyol component is not included in the component (b) but included in the component (z). Means that

本発明の熱硬化性組成物の成分であるエポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンとして、エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有し、さらに、ダイマージオールから誘導された有機残基を含有するポリウレタンを使用する場合、このポリウレタンの製造方法としては、例えば、以下の方法によって製造することができる。   A polyurethane having a functional group capable of reacting with an epoxy group which is a component of the thermosetting composition of the present invention and having a structural unit represented by the formula (1) has a functional group capable of reacting with an epoxy group and When a polyurethane having a structural unit represented by the formula (1) and further containing an organic residue derived from dimer diol is used, the polyurethane may be produced, for example, by the following method. Can do.

ジブチル錫ジラウリレートのような公知のウレタン化触媒の存在下または非存在下で、溶剤を用いて、成分(a)、成分(b)、成分(c)及び成分(l)を必須とする原料成分(必要に応じて、成分(z))を反応させることにより合成することが出来る。この反応は、無触媒で実施したほうが、最終的に、後述の本発明(II)の配線板の保護膜の実使用時の物性値が向上するので好ましい。   A raw material component which essentially comprises component (a), component (b), component (c) and component (l) using a solvent in the presence or absence of a known urethanization catalyst such as dibutyltin dilaurate It can synthesize | combine by making (component (z)) react as needed. It is preferable to carry out this reaction without a catalyst because the physical property value of the protective film for the wiring board of the present invention (II) to be described later is improved.

これらの原料の仕込みを行う順番については特に制約はないが、通常は成分(b)、成分(c)、成分(l)及び必要に応じて、成分(z)を先に仕込み、溶剤に溶解させた後、20〜140℃、より好ましくは60〜120℃で、成分(a)を滴下しながら加え、その後、50〜160℃、より好ましくは60℃〜150℃でこれらを反応させる。   Although there is no restriction | limiting in particular about the order which prepares these raw materials, Usually, a component (b), a component (c), a component (l), and a component (z) are prepared first, and it melt | dissolves in a solvent as needed. Then, component (a) is added dropwise at 20 to 140 ° C., more preferably 60 to 120 ° C., and then reacted at 50 to 160 ° C., more preferably 60 to 150 ° C.

原料の仕込みモル比は、目的とする、成分(a)、成分(b)、成分(c)及び成分(l)を必須とする原料成分を反応することによって得られるポリウレタンの分子量および酸価に応じて調節する。モノヒドロキシル化合物を使用することによって、このポリウレタンの分子量を調節することもできる。すなわち目的とする数平均分子量になったら(或いは、目的とする数平均分子量に近づいたら)、末端のイソシアネート基を封鎖し、更なる数平均分子量の上昇を抑制する目的でモノヒドロキシル化合物を添加する。   The starting molar ratio of the raw materials is the molecular weight and acid value of the polyurethane obtained by reacting the desired raw material components essentially comprising component (a), component (b), component (c) and component (l). Adjust accordingly. The molecular weight of the polyurethane can also be adjusted by using a monohydroxyl compound. That is, when the target number average molecular weight is reached (or when the target number average molecular weight is approached), a monohydroxyl compound is added for the purpose of blocking the terminal isocyanate group and further suppressing the increase in the number average molecular weight. .

モノヒドロキシル化合物を使用する場合、成分(b)、成分(c)、成分(l)及び成分(z)の総水酸基の数よりも成分(a)のイソシアネート基の数を少なくしても、同じでも或いは多くしてもいっこうに問題ない。   When using a monohydroxyl compound, the same is true even if the number of isocyanate groups in component (a) is less than the total number of hydroxyl groups in component (b), component (c), component (l) and component (z). But it doesn't matter if you increase it or not.

また、過剰にモノヒドロキシル化合物を使用した場合には、未反応のモノヒドロキシル化合物が残存する結果となるが、この場合には、そのまま過剰のモノヒドロキシル化合物を溶剤の一部として使用してもよいし、あるいは、蒸留等により除去してもかまわない。   Further, when an excess of monohydroxyl compound is used, an unreacted monohydroxyl compound remains. In this case, the excess monohydroxyl compound may be used as a part of the solvent as it is. Alternatively, it may be removed by distillation or the like.

モノヒドロキシル化合物を、成分(a)、成分(b)、成分(c)及び成分(l)を必須とする原料成分を反応することによって得られるポリウレタンに導入するのは、このポリウレタンの分子量の増大を抑制(即ち、反応を停止)するためであり、モノヒドロキシル化合物をこのポリウレタンに導入するためには、溶液中にモノヒドロキシル化合物を20〜150℃、より好ましくは70〜140℃で滴下し、その後同温度で保持して反応を完結させる。   The introduction of the monohydroxyl compound into the polyurethane obtained by reacting the raw material components essential to the component (a), the component (b), the component (c) and the component (l) increases the molecular weight of the polyurethane. In order to suppress (that is, stop the reaction), and in order to introduce the monohydroxyl compound into this polyurethane, the monohydroxyl compound is dropped into the solution at 20 to 150 ° C., more preferably at 70 to 140 ° C., Thereafter, the reaction is completed by maintaining at the same temperature.

また、成分(l)の使用量は、成分(b)、成分(c)、成分(l)及び成分(z)の総量に対して、5〜50質量%であることが好ましく、さらに好ましくは、10〜45質量%であり、最も好ましくは、15〜40質量%である。5質量%未満の場合には、添加した効果が発現されない場合があり好ましくない。また、50質量%より多い場合には、後述の保護膜のポリイミド基板への密着性が低下する場合があり、好ましくない。   Moreover, it is preferable that the usage-amount of a component (l) is 5-50 mass% with respect to the total amount of a component (b), a component (c), a component (l), and a component (z), More preferably 10 to 45 mass%, and most preferably 15 to 40 mass%. When the amount is less than 5% by mass, the added effect may not be exhibited, which is not preferable. Moreover, when more than 50 mass%, the adhesiveness to the polyimide substrate of the protective film mentioned later may fall, and it is unpreferable.

上記のように、成分(a)、成分(b)、成分(c)及び成分(l)を必須とする原料成分を反応することによって得られるポリウレタンの数平均分子量は、1000〜100000であることが好ましく、さらに好ましくは、3000〜50000であり、特に好ましくは、5000〜30000である。
数平均分子量が1000未満では、硬化膜の伸度、可撓性、並びに強度を損なうことがあり、100000を超えると溶剤への溶解性が低くなる上に、溶解しても粘度が高くなり、使用面で制約が生じることがある。
As described above, the number average molecular weight of the polyurethane obtained by reacting the raw material components essentially comprising the component (a), the component (b), the component (c) and the component (l) is 1000 to 100,000. Is preferable, More preferably, it is 3000-50000, Most preferably, it is 5000-30000.
If the number average molecular weight is less than 1000, the elongation, flexibility, and strength of the cured film may be impaired. If the number average molecular weight exceeds 100000, the solubility in a solvent becomes low and the viscosity increases even if dissolved. There may be restrictions on usage.

このポリウレタンの酸価は、5〜120mgKOH/gであることが好ましく、さらに好ましくは、10〜50mgKOH/gである。酸価が5mgKOH/g未満では、トリシクロデカン構造を有するエポキシ基含有化合物との反応性が低下し、保護膜熱硬化性組成物を硬化して得られる配線板の保護膜の耐熱性が低くなることがある。一方120mgKOH/gを超えると、保護膜が硬く脆くなりすぎることがある。   The acid value of this polyurethane is preferably 5 to 120 mgKOH / g, more preferably 10 to 50 mgKOH / g. When the acid value is less than 5 mgKOH / g, the reactivity with the epoxy group-containing compound having a tricyclodecane structure is lowered, and the heat resistance of the protective film of the wiring board obtained by curing the protective film thermosetting composition is low. May be. On the other hand, if it exceeds 120 mgKOH / g, the protective film may be too hard and brittle.

このポリウレタンとしては、数平均分子量が1000〜100000であり、かつ酸価が5〜120mgKOH/gであり、硬化反応する官能基及びカーボネート結合を有するポリウレタンが好ましく、さらに好ましくは、数平均分子量が3000〜50000であり、かつ酸価が10〜50mgKOH/gである。   This polyurethane is preferably a polyurethane having a number average molecular weight of 1,000 to 100,000 and an acid value of 5 to 120 mgKOH / g and having a functional group capable of curing reaction and a carbonate bond, and more preferably a number average molecular weight of 3000. The acid value is 10-50 mg KOH / g.

このポリウレタンを製造する反応で好適に用いることができる溶剤としては、式(4)〜式(6)で示される構造単位を有するポリウレタンポリイミドの合成の際に使用することができる溶剤として段落[0191]〜[0197]に記載した溶剤を使用することができる。   As a solvent that can be suitably used in the reaction for producing the polyurethane, paragraph [0191] can be used as a solvent that can be used in the synthesis of the polyurethane polyimide having the structural units represented by the formulas (4) to (6). ] To [0197] can be used.

本発明(I)の熱硬化性組成物の必須成分である溶剤は、前述のエポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンの合成に用いた溶剤を、そのまま、本発明(I)の熱硬化性組成物の溶剤として使用することが経済上好ましい。また、粘度を調製する意味で、さらに溶剤を添加してもよい。本発明(I)の熱硬化性組成物中の溶剤の濃度は、好ましくは10〜90質量%、さらに好ましくは20〜70質量%である。   The solvent, which is an essential component of the thermosetting composition of the present invention (I), was used for the synthesis of a polyurethane having a functional group capable of reacting with the aforementioned epoxy group and having a structural unit represented by the formula (1). It is economically preferable to use the solvent as it is as the solvent of the thermosetting composition of the present invention (I). Moreover, you may add a solvent further in the meaning which adjusts a viscosity. The concentration of the solvent in the thermosetting composition of the present invention (I) is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 20 to 70% by mass.

本発明(I)の熱硬化性組成物中には、さらに、硬化促進剤を含むことが出来かつ好ましい。硬化促進剤としては、エポキシ基とカルボキシル基の反応を促進する化合物であれば特に限定されるものではなく、例えば、メラミン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン、2,4−ジアミノ−6−メタクリロイルオキシエチル−s−トリアジン、2,4−メタクリロイルオキシエチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−ビニル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−ビニル−s−トリアジン・イソシアヌル酸付加物等のトリアジン系化合物、イミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、2−フェニルー4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−アミノエチル−2−エチルー4−メチルイミダゾール、1−アミノエチル−2−メチルイミダゾール、1−(シアノエチルアミノエチル)−2−メチルイミダゾール、N−[2−(2−メチル−1−イミダゾリル)エチル]尿素、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾリウムトリメリテート、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテート、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾリウムトリメリテート、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテート、2,4−ジアミノ−6−[2′−メチルイミダゾリル−(1′)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2′−ウンデシルイミダゾリル−(1′)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2′−エチル−4′−メチルイミダゾリル−(1′)]−エチル−s−トリアジン、1−ドデシル−2−メチル−3−ベンジルイミダゾリウムクロライド、N,N′−ビス(2−メチル−1−イミダゾリルエチル)尿素、N,N′−ビス(2−メチル−1−イミダゾリルエチル)アジポアミド、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4.5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−メチルイミダゾール・イソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾール・イソシアヌル酸付加物、2,4−ジアミノ−6−[2′−メチルイミダゾリル−(1′)]−エチル−s−トリアジン・イソシアヌル酸付加物、2−メチル−4−フォルミルイミダゾール、2−エチル−4−メチルー5−フォルミルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルフォルミルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、1−(2−ヒドロキシエチル)イミダゾール、ビニルイミダゾール、1−メチルイミダゾール、1−アリルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−ブチルイミダゾール、2−ブチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンズイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール臭化水素塩、1−ドデシル−2−メチル−3−ベンジルイミダゾリウムクロライド等のイミダゾール系化合物、1,5−ジアザビシクロ(4.3.0)ノネン−5及びその塩、1,8−ジアザビシクロ(5.4.0)ウンデセン−7及びその塩等のジアザビシクロアルケンなどのシクロアミジン化合物及びその誘導体、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等の3級アミノ基含有化合物、トリフェニルホスフィン、ジフェニル(p−トリル)ホスフィン、トリス(アルキルフェニル)ホスフィン、トリス(アルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(アルキル・アルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(ジアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(トリアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(テトラアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(ジアルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(トリアルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(テトラアルコキシフェニル)ホスフィン、トリアルキルホスフィン、ジアルキルアリールホスフィン、アルキルジアリールホスフィン等の有機ホスフィン化合物、ジシアンジアジド等を挙げることができる。
これらの硬化促進剤を単独で使用しても、或いは2種類以上を併用しても良い。
The thermosetting composition of the present invention (I) can further preferably contain a curing accelerator. The curing accelerator is not particularly limited as long as it is a compound that promotes the reaction between an epoxy group and a carboxyl group. For example, melamine, acetoguanamine, benzoguanamine, 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-s -Triazines such as triazine, 2,4-methacryloyloxyethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6-vinyl-s-triazine, 2,4-diamino-6-vinyl-s-triazine and isocyanuric acid adducts Compounds, imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 2-phenyl-4- Methylimidazole, 1-cyanoethyl-2 Methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-aminoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-aminoethyl-2-methylimidazole, 1- (cyanoethylaminoethyl) -2-methyl Imidazole, N- [2- (2-Methyl-1-imidazolyl) ethyl] urea, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazolium trimellitate, 1-cyanoethyl-2-phenyl Imidazolium trimellitate, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazolium trimellitate, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6- [2'-methyl Imidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine 2,4-diamino-6- [2'-undecylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-ethyl-4'-methylimidazolyl- (1 ′)]-Ethyl-s-triazine, 1-dodecyl-2-methyl-3-benzylimidazolium chloride, N, N′-bis (2-methyl-1-imidazolylethyl) urea, N, N′-bis ( 2-methyl-1-imidazolylethyl) adipamide, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4.5-dihydroxymethylimidazole, 2-methylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl Imidazole-isocyanuric acid adduct, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-tria Gin isocyanuric acid adduct, 2-methyl-4-formylimidazole, 2-ethyl-4-methyl-5-formylimidazole, 2-phenyl-4-methylformylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 1- (2-hydroxyethyl) imidazole, vinylimidazole, 1-methylimidazole, 1-allylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-butylimidazole, 2-butyl-5-hydroxymethylimidazole, Imidazoles such as 2,3-dihydro-1H-pyrrolo [1,2-a] benzimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole hydrobromide, 1-dodecyl-2-methyl-3-benzylimidazolium chloride Compound, 1,5-diazabicyclo 4.3.0) Nonamen-5 and salts thereof, cycloamidine compounds such as diazabicycloalkenes such as 1,8-diazabicyclo (5.4.0) undecene-7 and salts thereof, and derivatives thereof, triethylenediamine, benzyl Tertiary amino group-containing compounds such as dimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol, tris (dimethylaminomethyl) phenol, triphenylphosphine, diphenyl (p-tolyl) phosphine, tris (alkylphenyl) phosphine, tris (alkoxyphenyl) ) Phosphine, tris (alkylalkoxyphenyl) phosphine, tris (dialkylphenyl) phosphine, tris (trialkylphenyl) phosphine, tris (tetraalkylphenyl) phosphine, tris (dialkoxypheny) ) Phosphine, tris (tri-alkoxyphenyl) phosphine, tris (tetra-alkoxyphenyl) phosphine, trialkyl phosphine, dialkyl aryl phosphines, organic phosphine compounds such as an alkyl diaryl phosphines, can be given Jishianjiajido like.
These curing accelerators may be used alone or in combination of two or more.

これらの硬化促進剤の中で、硬化促進作用及び電気絶縁性能の両立させることを考慮すると、好ましいものとしては、メラミン、イミダゾール化合物、シクロアミジン化合物及びその誘導体、ホスフィン系化合物及びアミン系化合物であり、さらに好ましくは、メラミン、1,5−ジアザビシクロ(4.3.0)ノネン−5及びその塩、1,8−ジアザビシクロ(5.4.0)ウンデセン−7及びその塩である。   Among these curing accelerators, in view of achieving both a curing accelerating action and electrical insulation performance, preferred are melamine, imidazole compounds, cycloamidine compounds and derivatives thereof, phosphine compounds, and amine compounds. More preferred are melamine, 1,5-diazabicyclo (4.3.0) nonene-5 and salts thereof, and 1,8-diazabicyclo (5.4.0) undecene-7 and salts thereof.

これらの硬化促進剤の配合量は、硬化促進効果が達成できれば特に制限はない。しかし、本発明(I)の熱硬化性組成物の硬化性及び本発明(I)の熱硬化性組成物を硬化して得られる保護膜の電気絶縁特性や耐水性の観点からは、本発明(I)の熱硬化性組成物中に含まれる、エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンとトリシクロデカン構造を有するエポキシ基含有化合物の総量100質量部に対し、0.05〜5質量部の範囲で配合することが好ましく、より好ましくは0.1〜3.0質量部である。配合量が0.05質量部未満では短時間で硬化させることが困難であり、5質量部を超えると組成物を硬化して得られる硬化物の電気絶縁特性や耐水性の悪化させてしまう場合がある。   There is no restriction | limiting in particular if the compounding quantity of these hardening accelerators can achieve the hardening acceleration effect. However, from the viewpoints of curability of the thermosetting composition of the present invention (I) and electrical insulating properties and water resistance of the protective film obtained by curing the thermosetting composition of the present invention (I), the present invention Of the epoxy group-containing compound having a functional group capable of reacting with an epoxy group and having a structural unit represented by the formula (1) and a tricyclodecane structure contained in the thermosetting composition of (I) It is preferable to mix | blend in the range of 0.05-5 mass parts with respect to 100 mass parts of total amounts, More preferably, it is 0.1-3.0 mass parts. When the blending amount is less than 0.05 parts by mass, it is difficult to cure in a short time, and when it exceeds 5 parts by mass, the electrical insulation characteristics and water resistance of the cured product obtained by curing the composition are deteriorated. There is.

本発明(I)の熱硬化性組成物には、流動性を調節する目的で、無機微粒子および/または有機微粒子を配合することが可能でありかつ配合することが好ましい。
なお、本明細書においては、「無機微粒子および/または有機微粒子」とは、無機微粒子、有機微粒子のみならず、粉末状の無機化合物に有機化合物で物理的に被覆或いは有機化合物で化学的に表面処理したような有機・無機の複合物系微粒子も含まれるものと定義する。
In the thermosetting composition of the present invention (I), inorganic fine particles and / or organic fine particles can be blended and preferably blended for the purpose of adjusting fluidity.
In the present specification, “inorganic fine particles and / or organic fine particles” means not only inorganic fine particles and organic fine particles, but also a powdery inorganic compound physically coated with an organic compound or chemically surfaced with an organic compound. It is defined to include organic / inorganic composite-based fine particles that have been treated.

本発明(I)の熱硬化性組成物に配合する目的で使用されることのある無機微粒子および/または有機微粒子は、本発明(I)の必須成分であるトリシクロデカン構造を有するエポキシ基含有化合物、エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタン及び溶剤を含む組成物に分散してペーストを形成するものであれば、特に制限はない。   Inorganic fine particles and / or organic fine particles that may be used for the purpose of blending in the thermosetting composition of the present invention (I) contain an epoxy group having a tricyclodecane structure, which is an essential component of the present invention (I). There is no particular limitation as long as the paste is dispersed in a composition containing a compound, a polyurethane having a functional group capable of reacting with an epoxy group and having a structural unit represented by the formula (1), and a solvent.

無機微粒子としては、例えば、シリカ(SiO)、アルミナ(Al)、チタニア(TiO)、酸化タンタル(Ta)、ジルコニア(ZrO)、窒化珪素(Si)、チタン酸バリウム(BaO・TiO)、炭酸バリウム(BaCO)、チタン酸鉛(PbO・TiO)、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)、チタン酸ジルコン酸ランタン鉛(PLZT)、酸化ガリウム(Ga)、スピネル(MgO・Al)、ムライト(3Al・2SiO)、コーディエライト(2MgO・2Al・5SiO)、タルク(3MgO・4SiO・HO)、チタン酸アルミニウム(TiO−Al)、イットリア含有ジルコニア(Y−ZrO)、珪酸バリウム(BaO・8SiO)、窒化ホウ素(BN)、炭酸カルシウム(CaCO)、硫酸カルシウム(CaSO)、酸化亜鉛(ZnO)、チタン酸マグネシウム(MgO・TiO)、硫酸バリウム(BaSO)、有機ベントナイト、カーボン(C)などが挙げられ、これらは1種単独で又は2種以上組み合わせて使用することができる。Examples of the inorganic fine particles include silica (SiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), titania (TiO 2 ), tantalum oxide (Ta 2 O 5 ), zirconia (ZrO 2 ), and silicon nitride (Si 3 N 4 ). , Barium titanate (BaO · TiO 2 ), barium carbonate (BaCO 3 ), lead titanate (PbO · TiO 2 ), lead zirconate titanate (PZT), lead lanthanum zirconate titanate (PLZT), gallium oxide ( Ga 2 O 3), spinel (MgO · Al 2 O 3) , mullite (3Al 2 O 3 · 2SiO 2 ), cordierite (2MgO · 2Al 2 O 3 · 5SiO 2), talc (3MgO · 4SiO 2 · H 2 O), aluminum titanate (TiO 2 -Al 2 O 3) , yttria-containing zirconia (Y 2 O 3 -ZrO 2) Barium silicate (BaO · 8SiO 2), boron nitride (BN), calcium carbonate (CaCO 3), calcium sulfate (CaSO 4), zinc oxide (ZnO), magnesium titanate (MgO · TiO 2), barium sulfate (BaSO 4 ), Organic bentonite, carbon (C) and the like, and these can be used alone or in combination of two or more.

有機微粒子としては、アミド結合、イミド結合、エステル結合又はエーテル結合を有する耐熱性樹脂の微粒子が好ましい。これの樹脂としては、耐熱性および機械特性の観点から、好ましくはポリイミド樹脂若しくはその前駆体、ポリアミドイミド樹脂若しくはその前駆体、又はポリアミド樹脂が挙げられる。   The organic fine particles are preferably heat-resistant resin fine particles having an amide bond, an imide bond, an ester bond or an ether bond. The resin is preferably a polyimide resin or a precursor thereof, a polyamideimide resin or a precursor thereof, or a polyamide resin from the viewpoint of heat resistance and mechanical properties.

これらの無機微粒子および/または有機微粒子の平均粒子径は、好ましくは0.01〜10μm、さらに好ましくは0.1〜5μmである。   The average particle diameter of these inorganic fine particles and / or organic fine particles is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.1 to 5 μm.

また、無機微粒子および/または有機微粒子の配合量は、前記硬化性樹脂組成物に含まれるカルボキシル基含有ポリウレタン、溶媒および硬化剤の総量100質量部に対して、1〜150質量部、好ましくは1〜120質量部であり、さらに好ましくは1〜60質量部である。   The blending amount of the inorganic fine particles and / or the organic fine particles is 1-150 parts by mass, preferably 1 with respect to 100 parts by mass of the total amount of the carboxyl group-containing polyurethane, solvent and curing agent contained in the curable resin composition. It is -120 mass parts, More preferably, it is 1-60 mass parts.

本発明(I)の配線板の保護膜用熱硬化性組成物は、例えば、スクリーン印刷法を用いてパターニングされるChip On Film(以下、COFと記す。)用の配線板の保護膜用熱硬化性組成物として使用可能である。
なお、本明細書で記載の「COF」とは、ベアチップをフレキシブル配線板に搭載し、接続する実装方式を意味する。
The thermosetting composition for a protective film of a wiring board according to the present invention (I) is, for example, a heat for a protective film of a wiring board for Chip On Film (hereinafter referred to as COF) patterned using a screen printing method. It can be used as a curable composition.
Note that “COF” described in this specification means a mounting method in which a bare chip is mounted on a flexible wiring board and connected.

本発明(I)の熱硬化性組成物を、スクリーン印刷法を用いてパターニングされるCOF用の配線板の保護膜用熱硬化性組成物として使用する場合には、印刷の際の泡の発生を消す或いは抑制する目的で、消泡剤を使用することが可能でありかつ使用することが好ましい。
上記の消泡剤は、文字通り、本発明(I)の熱硬化性組成物を印刷する際に、発生する気泡を消す或いは抑制する作用を有するものであれば、特に制限はない。
本発明(I)の熱硬化性組成物に使用される消泡剤の具体例としては、例えば、BYK−077(ビックケミー・ジャパン社製)、SNデフォーマー470(サンノプコ社製)、TSA750S(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製)、シリコーンオイルSH−203(東レ・ダウコーニング株式会社製)等のシリコーン系消泡剤、ダッポーSN−348(サンノプコ社製)、ダッポーSN−354(サンノプコ社製)、ダッポーSN−368(サンノプコ社製)、ディスパロン230HF(楠本化成株式会社製)等のアクリル重合体系消泡剤、サーフィノールDF−110D(日信化学工業株式会社製)、サーフィノールDF−37(日信化学工業株式会社製)等のアセチレンジオール系消泡剤、FA−630等のフッ素含有シリコーン系消泡剤等を挙げることができる。
When the thermosetting composition of the present invention (I) is used as a thermosetting composition for a protective film of a wiring board for COF patterned using a screen printing method, generation of bubbles during printing An antifoaming agent can be used and preferably used for the purpose of eliminating or suppressing the odor.
The antifoaming agent is not particularly limited as long as it literally has an action of eliminating or suppressing bubbles generated when the thermosetting composition of the present invention (I) is printed.
Specific examples of the antifoaming agent used in the thermosetting composition of the present invention (I) include, for example, BYK-077 (manufactured by Big Chemie Japan), SN deformer 470 (manufactured by San Nopco), TSA750S (momentive Performance Materials Co., Ltd.), silicone-based antifoaming agents such as silicone oil SH-203 (Toray Dow Corning Co., Ltd.), Dappo SN-348 (manufactured by San Nopco), Dappo SN-354 (manufactured by San Nopco), Acrylic polymer antifoaming agents such as Dappo SN-368 (manufactured by San Nopco), Disparon 230HF (manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd.), Surfinol DF-110D (manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd.), Surfynol DF-37 (Nissan) Acetylene diol type antifoaming agent such as Shin-Chemical Industry Co., Ltd., and fluorine-containing FA-630 etc. Mention may be made of a silicone-based anti-foaming agents, and the like.

さらに、本発明(I)の熱硬化性組成物には、必要に応じて、レベリング剤等の界面活性剤類、フタロシアニン・ブルー、フタロシアニン・グリーン、アイオジン・グリーン、ジスアゾイエロー、クスタルバイオレット、カーボンブラック、ナフタレンブラック等の公知の着色剤を添加することができる。   Furthermore, the thermosetting composition of the present invention (I) includes surfactants such as a leveling agent, phthalocyanine blue, phthalocyanine green, iodin green, disazo yellow, kustal violet, carbon as necessary. Known colorants such as black and naphthalene black can be added.

また、樹脂の酸価劣化及び加熱時の変色を押さえることが必要な場合には、フェノール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤、チオエーテル系酸化防止剤等の酸化防止剤を添加することができかつ添加することが好ましい。   In addition, when it is necessary to suppress deterioration of the acid value of the resin and discoloration during heating, it is possible to add an antioxidant such as a phenolic antioxidant, a phosphite antioxidant, or a thioether antioxidant. And preferably added.

フェノール系酸化防止剤としては、例えば、下記式(50)〜式(60)のような化合物を挙げることができる。

Figure 2011004756
Figure 2011004756
Figure 2011004756
Examples of the phenolic antioxidant include compounds represented by the following formulas (50) to (60).
Figure 2011004756
Figure 2011004756
Figure 2011004756

ホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、下記式(61)〜式(71)のような化合物を挙げることができる。

Figure 2011004756
Figure 2011004756
Figure 2011004756
Examples of the phosphite antioxidant include compounds represented by the following formulas (61) to (71).
Figure 2011004756
Figure 2011004756
Figure 2011004756

チオエーテル系酸化防止剤としては、例えば、下記式(72)〜式(77)のような化合物を挙げることができる。

Figure 2011004756
Figure 2011004756
Examples of the thioether-based antioxidant include compounds represented by the following formulas (72) to (77).
Figure 2011004756
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また、必要に応じて、難燃剤や滑剤を添加することもできる。   Moreover, a flame retardant and a lubricant can also be added as needed.

本発明(I)の熱硬化性組成物は、配合成分の一部或いは全部をロールミル、ビーズミル等で均一に混練、混合することによって得ることができる。配合成分の一部を混合した場合には、残りの成分を実際に使用するときに混合することができる。   The thermosetting composition of the present invention (I) can be obtained by uniformly kneading and mixing part or all of the blending components with a roll mill, a bead mill or the like. When a part of the blending components is mixed, the remaining components can be mixed when actually used.

さらに、本発明(I)の熱硬化性組成物を、スクリーン印刷法を用いてパターニングされるCOF用の配線板の保護膜用熱硬化性組成物として使用する場合、本発明(I)の熱硬化性組成物の印刷性を良好にするために、一定範囲のチクソトロピー指数を有することが望ましい。   Furthermore, when the thermosetting composition of the present invention (I) is used as a thermosetting composition for a protective film of a wiring board for COF patterned by a screen printing method, the heat of the present invention (I) In order to improve the printability of the curable composition, it is desirable to have a certain range of thixotropy index.

なお、本明細書に記載の「チクソトロピー指数」とは、コーン/プレート型粘度計(Brookfield社製 型式;DV−II+Pro スピンドルの型番;CPE−52)を用いて測定した、25℃における回転数1rpmのときの粘度と25℃における回転数10rpmのときの粘度の比であると定義する。   The “thixotropy index” described in the present specification is a cone / plate viscometer (Brookfield model: DV-II + Pro spindle model number: CPE-52), measured at 1 rpm at 25 ° C. It is defined as the ratio of the viscosity at the time of 10 to the viscosity at a rotation speed of 10 rpm at 25 ° C.

本発明(I)の熱硬化性組成物をスクリーン印刷法を用いてパターニングされる保護膜用熱硬化性組成物として使用する場合、本発明(I)の熱硬化性組成物の印刷性を良好するために、該組成物の25℃でのチクソトロピー指数が、1.1〜3.0の範囲であることが好ましく、さらに好ましくは、1.1〜2.5の範囲である。本発明(I)の熱硬化性組成物をソルダーレジストインキ組成物として使用する場合、熱硬化性組成物の25℃でのチクソトロピー指数が1.1未満になると、熱硬化性組成物を印刷した後に、該組成物が流動してしまい、一定の膜厚にならなかったり、印刷パターンを維持できなかったりすることがある。また、熱硬化性組成物の25℃でのチクソトロピー指数が3.0より大きくなると、印刷した該組成物の塗膜の消泡性が悪くなることがある。   When the thermosetting composition of the present invention (I) is used as a thermosetting composition for a protective film patterned by a screen printing method, the printability of the thermosetting composition of the present invention (I) is good. Therefore, the thixotropy index at 25 ° C. of the composition is preferably in the range of 1.1 to 3.0, more preferably in the range of 1.1 to 2.5. When using the thermosetting composition of this invention (I) as a soldering resist ink composition, when the thixotropy index in 25 degreeC of a thermosetting composition became less than 1.1, the thermosetting composition was printed. Later, the composition may flow, so that the film thickness may not be constant or the printed pattern may not be maintained. Moreover, if the thixotropy index at 25 ° C. of the thermosetting composition is larger than 3.0, the defoaming property of the coating film of the printed composition may be deteriorated.

次に、本発明(II)の配線板の保護膜について説明する。
本発明(II)は、本発明(I)に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物を硬化して得られる配線板の保護膜である。
Next, the protective film of the wiring board of the present invention (II) will be described.
The present invention (II) is a protective film for a wiring board obtained by curing the thermosetting composition for a protective film for a wiring board according to the present invention (I).

本発明(II)の配線板の保護膜は、本発明(I)の配線板の保護膜用熱硬化性組成物中の溶媒の一部或いは全量を除去し、その後加熱により硬化反応を進行させ、硬化物を得ることが一般的である。例えば、本発明(II)の配線板の保護膜を得る場合には、以下の第一工程〜第三工程を経ることによって該保護膜を得ることができる。
第一工程
本発明(I)の熱硬化性組成物を印刷して塗膜を得る工程。
第二工程
第一工程で得られた塗膜を20℃〜100℃の雰囲気下で溶媒を蒸発させ、一部或いは全量の溶媒が除去された塗膜を得る工程。
第三工程
第二工程で得られた塗膜を、100℃〜250℃の雰囲気下で熱硬化を行い、熱硬化された塗膜(即ち、硬化塗膜)を得る工程。
The protective film for the wiring board of the present invention (II) removes part or all of the solvent in the thermosetting composition for the protective film of the wiring board of the present invention (I), and then proceeds with the curing reaction by heating. In general, a cured product is obtained. For example, when obtaining the protective film of the wiring board of the present invention (II), the protective film can be obtained through the following first to third steps.
1st process The process of printing the thermosetting composition of this invention (I), and obtaining a coating film.
2nd process The process of obtaining the coating film from which the solvent was evaporated in the atmosphere of 20 to 100 degreeC, and the solvent of one part or all quantity was removed from the coating film obtained at the 1st process.
3rd process The process of heat-curing the coating film obtained at the 2nd process in the atmosphere of 100 to 250 degreeC, and obtaining the thermosetting coating film (namely, cured coating film).

第一工程は、本発明(I)の熱硬化性組成物を印刷して塗膜を得る工程であるが、本発明(I)の熱硬化性組成物の印刷方法に特に制限はなく、例えば、スクリーン印刷法、ロールコーター法、スプレー法、カーテンコーター法などにより、塗布して塗膜を得ることができるが、最も好ましくは、スクリーン印刷法である。   The first step is a step of printing the thermosetting composition of the present invention (I) to obtain a coating film, but there is no particular limitation on the printing method of the thermosetting composition of the present invention (I), for example, A coating film can be obtained by coating by a screen printing method, a roll coater method, a spray method, a curtain coater method or the like, and most preferably a screen printing method.

第二工程は、第一工程で得られた塗膜を20℃〜100℃の雰囲気下で溶媒を蒸発させ、一部或いは全量の溶媒が除去された塗膜を得る工程である。溶媒を除去する時間は、4時間以下が好ましく、より好ましくは、2時間以下である。   The second step is a step of obtaining a coating film from which part or all of the solvent has been removed by evaporating the solvent from the coating film obtained in the first step in an atmosphere of 20 ° C. to 100 ° C. The time for removing the solvent is preferably 4 hours or less, more preferably 2 hours or less.

また、第三工程は、第二工程で得られた塗膜を、100℃〜250℃の雰囲気下で熱硬化を行い、熱硬化された塗膜(即ち、硬化塗膜)を得る工程である。熱硬化の時間は、20分〜4時間の範囲が好ましく、さらに好ましくは、30分〜2時間の範囲である。   In addition, the third step is a step in which the coating film obtained in the second step is heat-cured in an atmosphere of 100 ° C. to 250 ° C. to obtain a heat-cured coating film (that is, a cured coating film). . The time for thermosetting is preferably in the range of 20 minutes to 4 hours, more preferably in the range of 30 minutes to 2 hours.

最後に、本発明(III)のフレキシブル配線板及び本発明(IV)の、保護膜によって被覆されたフレキシブル配線板の製造方法について説明する。   Finally, a method for manufacturing the flexible wiring board of the present invention (III) and the flexible wiring board of the present invention (IV) covered with a protective film will be described.

本発明(III)は、フレキシブル基板上に配線が形成されてなるフレキシブル配線板の、配線が形成されている表面の一部または全部が本発明(II)に記載の配線板の保護膜によって被覆されたことを特徴とする、保護膜によって被覆されたフレキシブル配線板である。   In the present invention (III), a part or all of the surface of the flexible wiring board in which the wiring is formed on the flexible substrate is covered with the protective film for the wiring board described in the present invention (II). This is a flexible wiring board covered with a protective film.

本発明(IV)は、本発明(I)の配線板の保護膜用熱硬化性組成物をフレキシブル配線板の錫メッキ処理された配線パターン部に印刷することで該パターン上に印刷膜を形成し、該印刷膜を80〜130℃で加熱硬化させることで保護膜を形成することを特徴とする、保護膜によって被覆されたフレキシブル配線板の製造方法である。   In the present invention (IV), a printed film is formed on the pattern by printing the thermosetting composition for the protective film of the wiring board of the present invention (I) on the wiring pattern portion subjected to tin plating of the flexible wiring board. Then, the printed film is heated and cured at 80 to 130 ° C. to form a protective film, which is a method for producing a flexible wiring board covered with a protective film.

本発明(I)の熱硬化性組成物は、例えば、COF用のフレキシブル配線板の配線の全面或いは一部を被覆することにより、COF用の配線板の保護膜として用いることができる。   The thermosetting composition of the present invention (I) can be used, for example, as a protective film for a wiring board for COF by covering the entire surface or a part of the wiring of the flexible wiring board for COF.

以下に、本発明(IV)の製造方法の具体的な工程を記す。例えば、以下の工程A〜工程Cを経て、フレキシブル配線板の保護膜を形成することができる。
工程A
本発明(I)の熱硬化性組成物を、フレキシブル配線板の予め錫メッキ処理された配線パターン部にスクリーン印刷し、塗膜を得る工程。
工程B
工程Aで得られた塗膜を20〜100℃の雰囲気下で溶媒を蒸発させ、一部或いは全量の溶媒が除去された塗膜を得る工程。
工程C
工程Bで得られた塗膜を、80〜130℃の雰囲気下で熱硬化を行い、熱硬化されたフレキシブル配線板の保護膜を得る工程。
Below, the specific process of the manufacturing method of this invention (IV) is described. For example, the protective film of a flexible wiring board can be formed through the following steps A to C.
Process A
The process of screen-printing the thermosetting composition of this invention (I) on the wiring pattern part by which the tin plating process of the flexible wiring board was carried out previously, and obtaining a coating film.
Process B
A step of evaporating the solvent from the coating film obtained in step A in an atmosphere of 20 to 100 ° C. to obtain a coating film from which a part or all of the solvent has been removed.
Process C
The process of obtaining the protective film of the flexible wiring board by thermosetting the coating film obtained by the process B in 80-130 degreeC atmosphere.

工程Bの溶媒を蒸発させる温度は、溶媒の蒸発速度及び次工程(工程C)への速やかな移行を考慮すると、20〜100℃であり、好ましくは、60〜100℃であり、さらに好ましくは、70〜90℃である。工程Bの溶媒を蒸発させる時間は、特に制限はないが、好ましくは、10〜120分、さらに好ましくは、20〜100分である。なお、前記工程Bの操作は、必要に応じて行われる操作であり、工程Aの操作の後にすぐに工程Cの操作を行い、硬化反応と溶媒の除去とを一緒に行ってもよい。   The temperature for evaporating the solvent in Step B is 20 to 100 ° C., preferably 60 to 100 ° C., more preferably, considering the evaporation rate of the solvent and the quick transition to the next step (Step C). , 70-90 ° C. Although there is no restriction | limiting in particular in the time to evaporate the solvent of process B, Preferably, it is 10 to 120 minutes, More preferably, it is 20 to 100 minutes. The operation of the step B is an operation performed as necessary. The operation of the step C may be performed immediately after the operation of the step A, and the curing reaction and the removal of the solvent may be performed together.

工程Cで行われる熱硬化の条件は、メッキ層の拡散をふせぎ、かつ保護膜として好適な反り性、柔軟性を得る観点から、80〜130℃の範囲で行われる。好ましくは90〜130℃であり、110〜130℃である。工程Cで行われる熱硬化の時間は、特に制限はないが、好ましくは、20〜150分、さらに好ましくは、30〜120分である。   The conditions for thermosetting performed in the step C are in the range of 80 to 130 ° C. from the viewpoint of preventing the diffusion of the plating layer and obtaining warpage and flexibility suitable as a protective film. Preferably it is 90-130 degreeC, and is 110-130 degreeC. Although the time of the thermosetting performed at the process C does not have a restriction | limiting in particular, Preferably it is 20 to 150 minutes, More preferably, it is 30 to 120 minutes.

以下実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明は以下の実施例にのみ制限されるものではない。   The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

<酸価の測定>
本発明(I)の必須成分である、エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンが、エポキシ基と反応可能な官能基としてカルボキシル基を有する場合に、以下の方法によって酸価の測定を行った。
前記のカルボキシル基を有するポリウレタン溶液中の溶媒を加熱下で、減圧留去してカルボキシル基を有するポリウレタンを得た。
このカルボキシル基を有するポリウレタンを用いて、JIS K0070の電位差滴定法に準拠して酸価を測定した。
なお、電位差滴定法で用いた装置を以下に記す。
装置名:京都電子工業株式会社製 電位差自動滴定装置 AT−510
電極:京都電子工業株式会社製 複合ガラス電極C−173
<Measurement of acid value>
The polyurethane having a functional group capable of reacting with an epoxy group and having a structural unit represented by the formula (1), which is an essential component of the present invention (I), has a carboxyl group as a functional group capable of reacting with an epoxy group. In some cases, the acid value was measured by the following method.
The solvent in the polyurethane solution having a carboxyl group was distilled off under reduced pressure under heating to obtain a polyurethane having a carboxyl group.
Using this polyurethane having a carboxyl group, the acid value was measured according to the potentiometric titration method of JIS K0070.
The apparatus used in the potentiometric titration method is described below.
Device name: Kyoto Denshi Kogyo Co., Ltd. Automatic potentiometric titrator AT-510
Electrode: Composite glass electrode C-173 manufactured by Kyoto Electronics Industry Co., Ltd.

<水酸基価の測定>
JIS K0070の中和滴定法に従い、水酸基価を測定した。
<Measurement of hydroxyl value>
The hydroxyl value was measured according to the neutralization titration method of JIS K0070.

<ポリウレタンの数平均分子量の測定>
GPCで測定したポリスチレン換算の値であり、GPCの測定条件は以下のとおりである。
装置名:日本分光(株)製HPLCユニット HSS−2000
カラム:ShodexカラムLF−804を3本連結(直列)
移動相:テトラヒドロフラン
流速:1.0mL/min
検出器:日本分光株式会社製 RI−2031Plus
温度:40.0℃
試料量:サンプルループ 100μl
試料濃度:0.1質量%前後に調製
<Measurement of number average molecular weight of polyurethane>
It is a value in terms of polystyrene measured by GPC, and GPC measurement conditions are as follows.
Device name: HPLC unit HSS-2000 manufactured by JASCO Corporation
Column: Three Shodex columns LF-804 connected (in series)
Mobile phase: Tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 mL / min
Detector: RI-2031Plus manufactured by JASCO Corporation
Temperature: 40.0 ° C
Sample volume: Sample loop 100 μl
Sample concentration: adjusted to around 0.1% by mass

<ポリウレタン溶液の粘度の測定>
カルボキシル基含有ポリウレタン溶液の粘度を以下の方法により測定した。
カルボキシル基含有ポリウレタン溶液約0.8gを使用して、コーン/プレート型粘度計(Brookfield社製 型式;DV−II+Pro スピンドルの型番;CPE−52)を用いて、温度25.0℃、回転数5rpmの条件で測定開始から7分経過後の粘度を測定した。
<Measurement of viscosity of polyurethane solution>
The viscosity of the carboxyl group-containing polyurethane solution was measured by the following method.
Using about 0.8 g of a carboxyl group-containing polyurethane solution, a cone / plate viscometer (Brookfield model: DV-II + Pro spindle model number: CPE-52), temperature 25.0 ° C., rotation speed 5 rpm Under the conditions, the viscosity after 7 minutes from the start of measurement was measured.

<チクソトロピー指数の測定>
熱硬化性組成物のチクソトロピー指数を以下の方法により測定した。
熱硬化性組成物約0.6gを使用して、チクソトロピー指数をコーン/プレート型粘度計(Brookfield社製 型式;DV−II+Pro スピンドルの型番;CPE−52)を用いて、温度25.0℃、回転数10rpmの条件で測定開始から7分経過後の粘度を測定した。その後、温度25.0℃、回転数1rpmの条件で測定開始から7分経過後の粘度を測定した。
なお、チクソトロピー指数の計算は以下の方法により求めた。
チクソトロピー指数の求め方:
チクソトロピー指数=[1rpmの粘度]÷[10rpmの粘度]
<Measurement of thixotropy index>
The thixotropy index of the thermosetting composition was measured by the following method.
Using a thermosetting composition of about 0.6 g, a thixotropy index was determined using a cone / plate viscometer (Brookfield model: DV-II + Pro spindle model number: CPE-52) at a temperature of 25.0 ° C. The viscosity was measured after 7 minutes from the start of measurement under the condition of 10 rpm. Thereafter, the viscosity was measured after 7 minutes from the start of measurement under the conditions of a temperature of 25.0 ° C. and a rotation speed of 1 rpm.
The thixotropy index was calculated by the following method.
How to find the thixotropy index:
Thixotropic index = [viscosity at 1 rpm] ÷ [viscosity at 10 rpm]

<2官能性水酸基末端イミドの合成>
(参考合成例1)2官能性水酸基末端イミド(A)の製造
窒素導入管、ディーンスタークレシバー、冷却管を備えた容量500mLのガラス製セパラブルフラスコに、2,3,3′,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物58.8g(0.20mol)、イソホロンジアミン17.0g(0.10mol)、3−アミノプロパノール15.0g(0.20mol)、及びジメチルアセトアミド200mLを仕込み、窒素雰囲気下、100℃で1時間撹拌した。次いで、トルエン50mLを加え、180℃4時間加熱し、イミド化反応により生じた水をトルエンと共沸により除いた。反応溶液を水2Lに投入して、生じた沈殿を濾取し、水洗後減圧乾燥し、粉末78.8gを得た。この化合物のH−NMRの結果より、この化合物は式(3)のm(平均値)が1である2官能性水酸基末端イミド(以下、2官能性水酸基末端イミド(A)と記す。)であることが確認された。
<Synthesis of bifunctional hydroxyl-terminated imide>
(Reference Synthesis Example 1) Production of bifunctional hydroxyl-terminated imide (A) In a 500-mL glass separable flask equipped with a nitrogen introduction tube, a Dean Star crusher, and a cooling tube, 2, 3, 3 ', 4'- Charge 58.8 g (0.20 mol) of biphenyltetracarboxylic dianhydride, 17.0 g (0.10 mol) of isophoronediamine, 15.0 g (0.20 mol) of 3-aminopropanol, and 200 mL of dimethylacetamide under a nitrogen atmosphere. , And stirred at 100 ° C. for 1 hour. Subsequently, 50 mL of toluene was added and heated at 180 ° C. for 4 hours, and water generated by the imidization reaction was removed azeotropically with toluene. The reaction solution was poured into 2 L of water, and the resulting precipitate was collected by filtration, washed with water and dried under reduced pressure to obtain 78.8 g of powder. From the result of 1 H-NMR of this compound, this compound is a bifunctional hydroxyl-terminated imide having m (average value) of 1 in the formula (3) (hereinafter referred to as bifunctional hydroxyl-terminated imide (A)). It was confirmed that.

(参考合成例2)2官能性水酸基末端イミド(B)の製造
窒素導入管、ディーンスタークレシバー、冷却管を備えた容量500mLのガラス製セパラブルフラスコに、2,3,3′,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物58.8g(0.20mol)、イソホロンジアミン25.55g(0.15mol)、3−アミノプロパノール7.51g(0.1mol)、及びジメチルアセトアミド200mLを仕込み、窒素雰囲気下、100℃で1時間撹拌した。次いで、トルエン50mLを加え、180℃4時間加熱し、イミド化反応により生じた水をトルエンと共沸により除いた。反応溶液を水2Lに投入して、生じた沈殿を濾取し、水洗後減圧乾燥し、粉末72.0gを得た。この化合物のH−NMRの結果より、この化合物は式(3)のm(平均値)が3である2官能性水酸基末端イミド(以下、2官能性水酸基末端イミド(B)と記す。)であることが確認された。
(Reference Synthesis Example 2) Production of bifunctional hydroxyl-terminated imide (B) In a 500 mL glass separable flask equipped with a nitrogen introduction tube, a Dean-Star cleaver and a cooling tube, 2,3,3 ', 4'- In a nitrogen atmosphere, 58.8 g (0.20 mol) of biphenyltetracarboxylic dianhydride, 25.55 g (0.15 mol) of isophoronediamine, 7.51 g (0.1 mol) of 3-aminopropanol, and 200 mL of dimethylacetamide were charged. , And stirred at 100 ° C. for 1 hour. Subsequently, 50 mL of toluene was added and heated at 180 ° C. for 4 hours, and water generated by the imidization reaction was removed azeotropically with toluene. The reaction solution was poured into 2 L of water, and the resulting precipitate was collected by filtration, washed with water and dried under reduced pressure to obtain 72.0 g of powder. From the result of 1 H-NMR of this compound, this compound is a bifunctional hydroxyl-terminated imide having an m (average value) of 3 in formula (3) (hereinafter referred to as bifunctional hydroxyl-terminated imide (B)). It was confirmed that.

<ポリウレタンポリイミドの合成>
(実施合成例1)
ポリウレタンポリイミド(1)の合成
窒素導入管を備えた容量300mLのガラス製フラスコに、クラレポリオールC−2015((ポリ)カーボネートジオールと原料ジオール(即ち、1,6−ヘキサンジオール及び3−メチル−1,5−ペンタンジオール)の混合物、原料ジオールの仕込みモル比;1,6−ヘキサンジオール:3−メチル−1,5−ペンタンジオール=85:15、水酸基価56.1mgKOH/g、1,6−ペキサンジオールの残存濃度1.5質量%、3−メチル−1,5−ペンタンジオールの残存濃度0.5質量%)50.00g(25mmol)、2,2−ジメチロールプロピオン酸3.35g(25mmol)、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート15.64g(62.5mmol)、γ−ブチロラクトン69.76gを仕込み、窒素雰囲気下、60℃で3.5時間撹拌した。次いで、参考例2で調製した2官能性水酸基末端イミド(A)20.92g(25mmol)、γ−ブチロラクトン20.92gを加え、80℃で10時間撹拌した。このポリウレタンポリイミド(以下、ポリウレタンポリイミド(1)と記す。)溶液のGPCから求めた数平均分子量は6800であった。このポリウレタンポリイミド(1)の溶液にγ−ブチロラクトン:ジエチレングリコールジエチルエーテル=27.7:72.3(質量比)の混合溶媒23.75gを加え、固形分濃度44質量%に調整した。この溶液の粘度は、40Pa・sであった。また、ポリウレタンポリイミド(1)の酸価は15.6mg−KOH/gであった。
<Synthesis of polyurethane polyimide>
(Execution synthesis example 1)
Synthesis of Polyurethane Polyimide (1) A glass flask having a capacity of 300 mL equipped with a nitrogen introduction tube was added to Kuraray polyol C-2015 ((poly) carbonate diol and raw material diol (ie 1,6-hexanediol and 3-methyl-1). , 5-pentanediol), molar ratio of raw material diol; 1,6-hexanediol: 3-methyl-1,5-pentanediol = 85: 15, hydroxyl value 56.1 mgKOH / g, 1,6- Pexanediol residual concentration of 1.5% by mass, 3-methyl-1,5-pentanediol residual concentration of 0.5% by mass) 50.00 g (25 mmol), 2,2-dimethylolpropionic acid 3.35 g ( 25 mmol), 4,4′-diphenylmethane diisocyanate 15.64 g (62.5 mmol), γ-butyro G of tons 69.76G, under a nitrogen atmosphere and stirred 3.5 hours at 60 ° C.. Next, 20.92 g (25 mmol) of the bifunctional hydroxyl-terminated imide (A) prepared in Reference Example 2 and 20.92 g of γ-butyrolactone were added and stirred at 80 ° C. for 10 hours. The number average molecular weight determined from GPC of this polyurethane polyimide (hereinafter referred to as polyurethane polyimide (1)) solution was 6800. 23.75 g of a mixed solvent of γ-butyrolactone: diethylene glycol diethyl ether = 27.7: 72.3 (mass ratio) was added to the polyurethane polyimide (1) solution to adjust the solid content concentration to 44 mass%. The viscosity of this solution was 40 Pa · s. Moreover, the acid value of the polyurethane polyimide (1) was 15.6 mg-KOH / g.

(実施合成例2)
ポリウレタンポリイミド(2)の合成
窒素導入管を備えた5リットルのガラス製容器に、1,6−ヘキサン系ポリカーボネートジオールであるPLACCELCD−220((ポリ)カーボネートジオールと原料ジオール(即ち、1,6−ヘキサンジオール)の混合物、水酸基価56.1mgKOH/g、1,6−ヘキサンジオールの残存濃度3.0質量%)1000.0g(0.50mol)及び4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート250.27g(1.00mol)、γ−ブチロラクトン833.15gを仕込み、140℃に昇温し、5時間反応させた。更に、この反応混合物に、3,3′,4,4′−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物358.29g(1.00mol)、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート125.14g(0.50mol)、及びγ−ブチロラクトン584.97gを加えて、160℃で5時間反応させた。得られたポリウレタンポリイミド(以下、ポリウレタンポリイミド(2)と記す。)をγ−ブチロラクトン:ジエチレングリコールジエチルエーテル=67:33(質量比)の混合溶媒で希釈し、粘度40Pa・s、固形分濃度40質量%のポリウレタンポリイミド(2)の溶液を得た。GPCから求めたこのポリウレタンポリイミド(2)の数平均分子量は14000であった。
ポリウレタンポリイミド(2)は、赤外吸収(IR)スペクトルを測定して、カルボン酸無水物の吸収が確認された。
このポリウレタンポリイミド(2)の溶液は合成後その日の内に下記の評価に使用された。
(Execution synthesis example 2)
Synthesis of Polyurethane Polyimide (2) In a 5 liter glass container equipped with a nitrogen introduction tube, a 1,6-hexane polycarbonate diol PLACCELCD-220 ((poly) carbonate diol and raw material diol (ie, 1,6- Hexanediol), hydroxyl value 56.1 mgKOH / g, 1,6-hexanediol residual concentration 3.0 mass%) 1000.0 g (0.50 mol) and 4,4′-diphenylmethane diisocyanate 250.27 g (1 0.003 mol) and 833.15 g of γ-butyrolactone were charged, and the temperature was raised to 140 ° C. and reacted for 5 hours. Further, to this reaction mixture, 3,3 ′, 4,4′-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride 358.29 g (1.00 mol), 4,4′-diphenylmethane diisocyanate 125.14 g (0.50 mol), And 58.497 g of γ-butyrolactone were added and reacted at 160 ° C. for 5 hours. The obtained polyurethane polyimide (hereinafter referred to as polyurethane polyimide (2)) is diluted with a mixed solvent of γ-butyrolactone: diethylene glycol diethyl ether = 67: 33 (mass ratio), and has a viscosity of 40 Pa · s and a solid content concentration of 40 mass. % Polyurethane polyimide (2) solution was obtained. The number average molecular weight of this polyurethane polyimide (2) obtained from GPC was 14,000.
The polyurethane polyimide (2) was measured for infrared absorption (IR) spectrum, and absorption of carboxylic acid anhydride was confirmed.
This polyurethane polyimide (2) solution was used for the following evaluation within the day after synthesis.

<カルボキシル基及びカーボネート結合を有する分岐型ポリウレタンの合成>
(実施合成例3)
ポリウレタン(1)の合成
攪拌装置、温度計およびコンデンサーを備えた反応容器に、C−1015N(株式会社クラレ製(ポリ)カーボネートジオールと原料ジオール(即ち、1,9−ノナンジオール及び2−メチル−1,8−オクタンジオール)の混合物、原料ジオールの仕込みモル比;1,9−ノナンジオール:2−メチル−1,8−オクタンジオール=15:85、水酸基価112.3mgKOH/g、1,9−ノナンジオールの残存濃度2.1質量%、2−メチル−1,8−オクタンジオールの残存濃度9.3質量%)220.4g(0.221mol)、2,2−ジメチロールブタン酸(日本化成株式会社製)42.2g(0.285mol)、トリメチロールプロパン2.7g(20.1mmol)、γ−ブチロラクトン510.0gとジエチレングリコールジエチルエーテル90.0gを仕込み、100℃に加熱してすべての原料を溶解した。反応液の温度を90℃まで下げ、滴下ロートにより、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)133.7g(0.510mol)を30分かけて滴下した。120℃で9時間反応を行い、ほぼイソシアネートが消失したことを確認した後、エタノール1.3g(28.2mmol)を滴下し、さらに80℃で3時間反応を行い、カルボキシル基及びカーボネート結合を有するポリウレタン(以下、ポリウレタン(1)と記す。)を含む溶液を得た。
得られたポリウレタン(1)を含む溶液の粘度は101Pa・sであった。また、ポリウレタン(1)を含む溶液中に含まれるポリウレタン(1)の数平均分子量は14,000であり、ポリウレタン(1)の酸価は40.0mg−KOH/gであった。
また、このポリウレタン(1)を含む溶液中の固形分濃度は40.0質量%であった。
<Synthesis of branched polyurethane having carboxyl group and carbonate bond>
(Execution synthesis example 3)
Synthesis of polyurethane (1) In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser, C-1015N (Kuraray Co., Ltd. (poly) carbonate diol and raw diol (ie, 1,9-nonanediol and 2-methyl- 1,8-octanediol), feed molar ratio of raw material diol; 1,9-nonanediol: 2-methyl-1,8-octanediol = 15: 85, hydroxyl value 112.3 mgKOH / g, 1,9 -Residual concentration of nonanediol 2.1 mass%, residual concentration of 2-methyl-1,8-octanediol 9.3 mass%) 220.4 g (0.221 mol), 2,2-dimethylolbutanoic acid (Japan) 42.2 g (0.285 mol), trimethylolpropane 2.7 g (20.1 mmol), γ-butyrolactone 51 Were charged .0g and diethylene glycol diethyl ether 90.0 g, was dissolved. The materials were heated to 100 ° C.. The temperature of the reaction solution was lowered to 90 ° C., and 133.7 g (0.510 mol) of methylenebis (4-cyclohexylisocyanate) was added dropwise over 30 minutes with a dropping funnel. After reacting at 120 ° C. for 9 hours and confirming that the isocyanate almost disappeared, 1.3 g (28.2 mmol) of ethanol was added dropwise, and further reacted at 80 ° C. for 3 hours to have a carboxyl group and a carbonate bond. A solution containing polyurethane (hereinafter referred to as polyurethane (1)) was obtained.
The viscosity of the solution containing the obtained polyurethane (1) was 101 Pa · s. The number average molecular weight of the polyurethane (1) contained in the solution containing the polyurethane (1) was 14,000, and the acid value of the polyurethane (1) was 40.0 mg-KOH / g.
Moreover, the solid content concentration in the solution containing this polyurethane (1) was 40.0% by mass.

<カルボキシル基及びカーボネート結合を有しかつダイマージオールから誘導される構造単位を有するポリウレタンの合成>
(実施合成例4)
ポリウレタン(2)の合成
攪拌装置、温度計およびコンデンサーを備えた反応容器に、C−2015N(株式会社クラレ製(ポリ)カーボネートジオールと原料ジオール(即ち、1,9−ノナンジオール及び2−メチル−1,8−オクタンジオール)の混合物、原料ジオールの仕込みモル比;1,9−ノナンジオール:2−メチル−1,8−オクタンジオール=15:85、水酸基価56.5mgKOH/g、1,9−ノナンジオールの残存濃度1.0質量%、2−メチル−1,8−オクタンジオールの残存濃度3.6質量%)107.9g(0.054mol)、2,2−ジメチロールブタン酸(日本化成株式会社製)32.3g(0.218mol)、PRIPOL2033(ダイマージオール98.2質量%、モノオール0.6質量%、トリマートリオール1.2質量%、水酸基価;205mgKOH/g)107.9g(0.194mol)、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカンジメタノール(東京化成工業株式会社製)14.8g(0.075mol)、γ−ブチロラクトン297.0gとジエチレングリコールジエチルエーテル198.0gを仕込み、100℃に加熱してすべての原料を溶解した。反応液の温度を90℃まで下げ、滴下ロートにより、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)142.1g(0.542mol)を30分かけて滴下した。120℃で9時間反応を行い、ほぼイソシアネートが消失したことを確認した後、イソブタノール(協和発酵ケミカル株式会社製)3.6g(0.049mol)を滴下し、さらに120℃で4時間反応を行い、カルボキシル基及びカーボネート結合を有しかつダイマージオールから誘導される構造単位を有するポリウレタン(以下、ポリウレタン(2)と記す。)を含む溶液を得た。
得られたポリウレタン(2)を含む溶液の粘度は78Pa・sであった。また、ポリウレタン(2)を含む溶液中に含まれるポリウレタン(2)の数平均分子量は13,000であり、ポリウレタン(2)の酸価は40.0mg−KOH/gであった。
また、このポリウレタン(2)を含む溶液中の固形分濃度は45.0質量%であった。
<Synthesis of polyurethane having a carboxyl group and a carbonate bond and having a structural unit derived from dimer diol>
(Execution synthesis example 4)
Synthesis of polyurethane (2) In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser, C-2015N (Kuraray Co., Ltd. (poly) carbonate diol and raw diol (ie 1,9-nonanediol and 2-methyl- 1,8-octanediol), feed molar ratio of raw material diol; 1,9-nonanediol: 2-methyl-1,8-octanediol = 15: 85, hydroxyl value 56.5 mgKOH / g, 1,9 -Residual concentration of nonanediol of 1.0 mass%, residual concentration of 2-methyl-1,8-octanediol of 3.6 mass%) 107.9 g (0.054 mol), 2,2-dimethylolbutanoic acid (Japan) (Made by Kasei Co., Ltd.) 32.3 g (0.218 mol), PRIPOL 2033 (98.2% by weight of dimer diol, 0.6% by weight of monool) Trimertriol 1.2 mass%, hydroxyl value; 205 mg KOH / g) 107.9 g (0.194 mol), tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decanedimethanol (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 14 .8 g (0.075 mol), 297.0 g of γ-butyrolactone and 198.0 g of diethylene glycol diethyl ether were charged and heated to 100 ° C. to dissolve all the raw materials. The temperature of the reaction solution was lowered to 90 ° C., and 142.1 g (0.542 mol) of methylenebis (4-cyclohexylisocyanate) was added dropwise over 30 minutes with a dropping funnel. After reacting at 120 ° C. for 9 hours and confirming that the isocyanate almost disappeared, 3.6 g (0.049 mol) of isobutanol (manufactured by Kyowa Hakko Chemical Co., Ltd.) was added dropwise, and the reaction was further performed at 120 ° C. for 4 hours. Then, a solution containing a polyurethane having a carboxyl group and a carbonate bond and having a structural unit derived from dimer diol (hereinafter referred to as polyurethane (2)) was obtained.
The viscosity of the solution containing the obtained polyurethane (2) was 78 Pa · s. The number average molecular weight of the polyurethane (2) contained in the solution containing the polyurethane (2) was 13,000, and the acid value of the polyurethane (2) was 40.0 mg-KOH / g.
Moreover, the solid content concentration in the solution containing this polyurethane (2) was 45.0% by mass.

(実施合成例5)
ポリウレタン(3)の合成
攪拌装置、温度計およびコンデンサーを備えた反応容器に、C−2015N(株式会社クラレ製(ポリ)カーボネートジオールと原料ジオール(即ち、1,9−ノナンジオール及び2−メチル−1,8−オクタンジオール)の混合物、原料ジオールの仕込みモル比;1,9−ノナンジオール:2−メチル−1,8−オクタンジオール=15:85、水酸基価56.5mgKOH/g、1,9−ノナンジオールの残存濃度1.0質量%、2−メチル−1,8−オクタンジオールの残存濃度3.6質量%)46.7g(0.024mol)、2,2−ジメチロールブタン酸(日本化成株式会社製)32.1g(0.217mol)、PRIPOL2033(ダイマージオール98.2質量%、モノオール0.6質量%、トリマートリオール1.2質量%、水酸基価;205mgKOH/g)116.7g(0.210mol)、UM−90(1/1)(宇部興産株式会社製(ポリ)カーボネートジオールと原料ジオール(即ち、1,6−ヘキサンジオール及びシクロヘキサンジメタノール)の混合物、原料ジオールの仕込みモル比;1,6−ヘキサンジオール:シクロヘキサンジメタノール=1/1、水酸基価122.7mgKOH/g、1,6−ヘキサンジオールの残存濃度3.9質量%、シクロヘキサンジメタノールの残存濃度4.7質量%)70.0g(0.077mol)、γ−ブチロラクトン297.0gとジエチレングリコールジエチルエーテル198.0gを仕込み、100℃に加熱してすべての原料を溶解した。反応液の温度を90℃まで下げ、滴下ロートにより、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)136.0g(0.518mol)を30分かけて滴下した。120℃で9時間反応を行い、ほぼイソシアネートが消失したことを確認した後、イソブタノール(協和発酵ケミカル株式会社製)3.6g(0.049mol)を滴下し、さらに120℃で4時間反応を行い、カルボキシル基及びカーボネート結合を有しかつダイマージオールから誘導される構造単位を有するポリウレタン(以下、ポリウレタン(3)と記す。)を含む溶液を得た。
得られたポリウレタン(3)を含む溶液の粘度は84Pa・sであった。また、ポリウレタン(3)を含む溶液中に含まれるポリウレタン(3)の数平均分子量は12,000であり、ポリウレタン(3)の酸価は30.0mg−KOH/gであった。
また、このポリウレタン(3)を含む溶液中の固形分濃度は45.0質量%であった。
(Execution synthesis example 5)
Synthesis of polyurethane (3) In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser, C-2015N (Kuraray Co., Ltd. (poly) carbonate diol and raw diol (ie, 1,9-nonanediol and 2-methyl- 1,8-octanediol), feed molar ratio of raw material diol; 1,9-nonanediol: 2-methyl-1,8-octanediol = 15: 85, hydroxyl value 56.5 mgKOH / g, 1,9 -Residual concentration of nonanediol of 1.0 mass%, residual concentration of 2-methyl-1,8-octanediol of 3.6 mass%) 46.7 g (0.024 mol), 2,2-dimethylolbutanoic acid (Japan) 32.1 g (0.217 mol) manufactured by Kasei Co., Ltd., PRIPOL 2033 (98.2% by weight of dimer diol, 0.6% by weight of monool, Trimer triol 1.2% by mass, hydroxyl value; 205 mg KOH / g) 116.7 g (0.210 mol), UM-90 (1/1) (Ube Industries, Ltd. (poly) carbonate diol and raw diol (ie 1 , 6-hexanediol and cyclohexanedimethanol), feed molar ratio of raw material diol; 1,6-hexanediol: cyclohexanedimethanol = 1/1, hydroxyl value 122.7 mgKOH / g, 1,6-hexanediol 70.0 g (0.077 mol) of residual concentration 3.9% by mass, residual concentration of cyclohexanedimethanol 4.7% by mass), 297.0 g of γ-butyrolactone and 198.0 g of diethylene glycol diethyl ether were charged and heated to 100 ° C. All the ingredients were dissolved. The temperature of the reaction solution was lowered to 90 ° C., and 136.0 g (0.518 mol) of methylenebis (4-cyclohexylisocyanate) was added dropwise over 30 minutes with a dropping funnel. After reacting at 120 ° C. for 9 hours and confirming that the isocyanate almost disappeared, 3.6 g (0.049 mol) of isobutanol (manufactured by Kyowa Hakko Chemical Co., Ltd.) was added dropwise, and the reaction was further performed at 120 ° C. for 4 hours. And a solution containing a polyurethane having a carboxyl group and a carbonate bond and having a structural unit derived from dimer diol (hereinafter referred to as polyurethane (3)) was obtained.
The viscosity of the solution containing the obtained polyurethane (3) was 84 Pa · s. The number average molecular weight of the polyurethane (3) contained in the solution containing the polyurethane (3) was 12,000, and the acid value of the polyurethane (3) was 30.0 mg-KOH / g.
Moreover, the solid content concentration in the solution containing this polyurethane (3) was 45.0% by mass.

(参考合成例3)
攪拌装置、温度計およびコンデンサーを備えた反応容器に、C−1015N(株式会社クラレ製(ポリ)カーボネートジオールと原料ジオール(即ち、1,9−ノナンジオール及び2−メチル−1,8−オクタンジオール)の混合物、原料ジオールの仕込みモル比;1,9−ノナンジオール:2−メチル−1,8−オクタンジオール=15:85、水酸基価112.3mgKOH/g、1,9−ノナンジオールの残存濃度2.1質量%、2−メチル−1,8−オクタンジオールの残存濃度9.3質量%)38.6gおよびSovermol(登録商標)908(ダイマージオール、コグニス社製)30.7g、2,2−ジメチロールブタン酸(日本化成株式会社製)12.2g及びγ−ブチロラクトン120.2gを仕込み、100℃に加熱してすべての原料を溶解した。滴下ロートにより、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)43.5gを5分かけて滴下した。滴下終了後、110℃で7時間反応を行い、ほぼイソシアネートが消失したことを確認した後、イソブタノール(和光純薬工業株式会社製)2.0gを滴下し、さらに120℃にて2時間反応を行い、ポリウレタン(以下、ポリウレタン(4)と記す。)を含む溶液を得た。
また、ポリウレタン(4)を含む溶液中に含まれるポリウレタン(4)の数平均分子量は12,000であり、ポリウレタン(4)の酸価は39.8mg−KOH/gであった。
また、このポリウレタン(4)を含む溶液中の固形分濃度は50.3質量%であった。
(Reference Synthesis Example 3)
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser, C-1015N (Kuraray Co., Ltd. (poly) carbonate diol and raw diol (ie 1,9-nonanediol and 2-methyl-1,8-octanediol) ), Molar ratio of raw material diol; 1,9-nonanediol: 2-methyl-1,8-octanediol = 15: 85, hydroxyl value 112.3 mgKOH / g, residual concentration of 1,9-nonanediol 2.1% by mass, 38.6 g of 2-methyl-1,8-octanediol residual concentration of 9.3% by mass) and Sovermol (registered trademark) 908 (dimer diol, manufactured by Cognis) 30.7 g, 2,2 -Charge 12.2 g of dimethylol butanoic acid (manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.) and 120.2 g of γ-butyrolactone and heat to 100 ° C To dissolve all of the raw materials Te. With a dropping funnel, 43.5 g of methylenebis (4-cyclohexylisocyanate) was added dropwise over 5 minutes. After completion of dropping, the reaction was carried out at 110 ° C. for 7 hours. After confirming that the isocyanate had almost disappeared, 2.0 g of isobutanol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added dropwise, and the reaction was further carried out at 120 ° C. for 2 hours. And a solution containing polyurethane (hereinafter referred to as polyurethane (4)) was obtained.
The number average molecular weight of the polyurethane (4) contained in the solution containing the polyurethane (4) was 12,000, and the acid value of the polyurethane (4) was 39.8 mg-KOH / g.
Moreover, the solid content concentration in the solution containing this polyurethane (4) was 50.3% by mass.

(参考合成例4)
攪拌装置、温度計およびコンデンサーを備えた反応容器に、C−1015N(株式会社クラレ製(ポリ)カーボネートジオールと原料ジオール(即ち、1,9−ノナンジオール及び2−メチル−1,8−オクタンジオール)の混合物、原料ジオールの仕込みモル比;1,9−ノナンジオール:2−メチル−1,8−オクタンジオール=15:85、水酸基価112.3mgKOH/g、1,9−ノナンジオールの残存濃度2.1質量%、2−メチル−1,8−オクタンジオールの残存濃度9.3質量%)178.1g、ジオクチル錫ジラウレート(日東化成株式会社製 商品名ネオスタンU−810)0.23g、γ−ブチロラクトン191.3g、及びジエチレングリコールジエチルエーテル33.8gを仕込み、80℃に加熱してすべての原料を溶解した。滴下ロートにより、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)47.0gを5分かけて滴下した。滴下終了後、80℃で4時間反応を行い、ほぼイソシアネートが消失したことを確認した後、イソブタノール(和光純薬工業株式会社製)2.0gを滴下し、さらに80℃にて1時間反応を行い、ポリウレタン(以下、ポリウレタン(5)と記す。)を含む溶液を得た。
また、ポリウレタン(5)を含む溶液中に含まれるポリウレタン(5)の数平均分子量は19,000であり、ポリウレタン(5)の酸価は0mg−KOH/gであった。
また、このポリウレタン(5)を含む溶液中の固形分濃度は50.1質量%であった。
(Reference Synthesis Example 4)
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser, C-1015N (Kuraray Co., Ltd. (poly) carbonate diol and raw diol (ie 1,9-nonanediol and 2-methyl-1,8-octanediol) ), Molar ratio of raw material diol; 1,9-nonanediol: 2-methyl-1,8-octanediol = 15: 85, hydroxyl value 112.3 mgKOH / g, residual concentration of 1,9-nonanediol 2.1% by mass, residual concentration of 2-methyl-1,8-octanediol (9.3% by mass) 178.1 g, dioctyltin dilaurate (trade name Neostan U-810 manufactured by Nitto Kasei Co., Ltd.) 0.23 g, γ -191.3 g of butyrolactone and 33.8 g of diethylene glycol diethyl ether were charged and heated to 80 ° C. It was dissolved fee. With a dropping funnel, 47.0 g of methylenebis (4-cyclohexylisocyanate) was added dropwise over 5 minutes. After completion of the dropwise addition, the reaction was carried out at 80 ° C. for 4 hours. After confirming that the isocyanate had almost disappeared, 2.0 g of isobutanol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added dropwise, and the reaction was further carried out at 80 ° C. for 1 hour. And a solution containing polyurethane (hereinafter referred to as polyurethane (5)) was obtained.
The number average molecular weight of the polyurethane (5) contained in the solution containing the polyurethane (5) was 19,000, and the acid value of the polyurethane (5) was 0 mg-KOH / g.
Moreover, the solid content concentration in the solution containing this polyurethane (5) was 50.1% by mass.

(実施配合例1)
ポリウレタンポリイミド(1)を含む溶液に、ポリウレタンポリイミド(1)100質量部に対して、硬化促進剤として1,8−ジアザビシクロ(4.5.0)ウンデセン−7(以下、DBUと記す。)(サンアプロ株式会社製)1質量部を加え、均一に撹拌・混合した。更にシリカ粉(日本アエロジル株式会社製 商品名;アエロジルR972)7質量部、タルク(日本タルク株式会社製 商品名:SG2000)を5質量部加え、まず粗混練し、次いで三本ロールミル(株式会社井上製作所製 型式:S−43/4×11)を用いて、3回混練を繰り返して本混練を行い、均一に混合されたポリウレタンポリイミド(1)を含む組成物(以下、主剤組成物A1と記す。)を得た。
また、撹拌機、温度計およびコンデンサーを備えた容器に、下記式(2)の構造を有するエポキシ樹脂(DIC株式会社製 グレード名;HP−7200H エポキシ当量278g/eq)300g、γ−ブチロラクトン180g及びジエチレングリコールジエチルエーテル120gを添加し、撹拌を開始した。撹拌を継続しながら、オイルバスを用いて、容器内の温度を70℃に昇温した。内温を70℃に昇温後、30分間撹拌を継続した。その後、HP−7200Hが完全に溶解したのを確認して、室温まで冷却し、濃度50質量%のHP−7200H含有溶液(以下、硬化剤溶液B1と記す。)を取得した。

Figure 2011004756
(式中、lは、0または1以上の整数を表す。)
100質量部の主剤組成物A1及び9,65質量部の硬化剤溶液B1及び消泡剤(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製 商品名:TSA750S)0.5質量部を混合し、スパチュラを用いて、十分に撹拌混合した。その後、チクソトロピー指数を1.3に合わせるのに必要量のγ−ブチロラクトン:ジエチレングリコールジエチルエーテル=85:15(質量比)の混合溶媒を添加して、粘度調整を行い、熱硬化性組成物(以下、熱硬化性組成物G1と記す。)を得た。(Example formulation 1)
1,8-diazabicyclo (4.5.0) undecene-7 (hereinafter referred to as DBU) as a curing accelerator with respect to 100 parts by mass of polyurethane polyimide (1) in a solution containing polyurethane polyimide (1) ( 1 part by mass of San Apro Co., Ltd.) was added and stirred and mixed uniformly. Further, 7 parts by mass of silica powder (Nippon Aerosil Co., Ltd., trade name: Aerosil R972) and 5 parts by mass of talc (Nippon Talc Co., Ltd., trade name: SG2000) were added, first roughly kneaded, and then triple roll mill (Inoue Co. A composition (hereinafter referred to as a main agent composition A1) containing polyurethane polyimide (1) uniformly mixed by repeating this kneading three times using a model manufactured by Seisakusho: S-43 / 4 × 11). .)
Further, in a container equipped with a stirrer, a thermometer, and a condenser, 300 g of an epoxy resin having a structure represented by the following formula (2) (DIC Corporation grade name; HP-7200H epoxy equivalent 278 g / eq), 180 g of γ-butyrolactone and 120 g of diethylene glycol diethyl ether was added and stirring was started. While continuing stirring, the temperature in the container was raised to 70 ° C. using an oil bath. After the internal temperature was raised to 70 ° C., stirring was continued for 30 minutes. Then, it confirmed that HP-7200H melt | dissolved completely, it cooled to room temperature, and the HP-7200H containing solution (henceforth hardening agent solution B1) with a density | concentration of 50 mass% was acquired.
Figure 2011004756
(In the formula, l represents 0 or an integer of 1 or more.)
100 parts by mass of the main agent composition A1 and 9,65 parts by mass of the curing agent solution B1 and 0.5 part by mass of an antifoaming agent (product name: TSA750S manufactured by Momentive Performance Materials) are mixed, and a spatula is used. , Mixed well with stirring. Thereafter, a viscosity adjustment is performed by adding a mixed solvent of γ-butyrolactone: diethylene glycol diethyl ether = 85: 15 (mass ratio) necessary for adjusting the thixotropy index to 1.3. , Written as thermosetting composition G1).

(実施配合例2)
ポリウレタンポリイミド(2)を含む溶液に、ポリウレタンポリイミド(2)100質量部に対して、アエロジル380(日本アエロジル株式会社製)7.9質量部及び硬化触媒であるDBU(サンアプロ株式会社製)1質量部を加え、まず粗混練し、次いで三本ロールミル(株式会社井上製作所製 型式:S−43/4×11)を用いて、3回混練を繰り返して本混練を行い、ポリウレタンポリイミド(2)を含む組成物(以下、主剤組成物A2と記す。)を得た。
100質量部の主剤組成物A2に対して、20質量部の硬化剤溶液B1及び消泡剤(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製 商品名:TSA750S)0.5質量部を加え、γ−ブチロラクトン:ジエチレングリコールジエチルエーテル=85:15(質量比)で希釈して、粘度35Pa・s、チクソトロピー指数2.2、不揮発分40質量%のポリウレタンポリイミド(2)を含む熱硬化性組成物(以下、熱硬化性組成物G2と記す。)を得た。
(Example of formulation 2)
In a solution containing polyurethane polyimide (2), 7.9 parts by mass of Aerosil 380 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) and 1 part by weight of DBU (manufactured by Sun Apro Co., Ltd.) with respect to 100 parts by mass of polyurethane polyimide (2) Part is first roughly kneaded, then, using a three roll mill (manufactured by Inoue Seisakusho Co., Ltd. Model: S-43 / 4 × 11), this kneading is repeated three times to perform main kneading, and polyurethane polyimide (2) is obtained. A composition containing the composition (hereinafter referred to as main agent composition A2) was obtained.
To 100 parts by mass of the main agent composition A2, 20 parts by mass of a curing agent solution B1 and 0.5 part by mass of an antifoaming agent (trade name: TSA750S manufactured by Momentive Performance Materials) are added, and γ-butyrolactone: A thermosetting composition diluted with diethylene glycol diethyl ether = 85: 15 (mass ratio) and containing polyurethane polyimide (2) having a viscosity of 35 Pa · s, a thixotropy index of 2.2, and a nonvolatile content of 40% by mass (hereinafter, thermosetting) To be referred to as sex composition G2.).

(実施配合例3)
前記のポリウレタン(1)を含む溶液111.1質量部、シリカ粉(日本アエロジル株式会社製 商品名;アエロジルR974)5.0質量部、硬化促進剤としてメラミン(日産化学工業株式会社製)0.36質量部を混合し、三本ロールミル(株式会社井上製作所製 型式:S−43/4×11)を用いて、3回混練を繰り返して本混練を行い、ポリウレタン(1)を含む組成物(以下、主剤組成物A3と記す。)を得た。
100質量部の主剤組成物A3に対して、22.7質量部の硬化剤溶液B1及び消泡剤(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製 商品名;TSA750S)0.60質量部を混合し、スパチュラを用いて、十分に撹拌混合した。その後、チクソトロピー指数を1.3に合わせるのに必要量のγ−ブチロラクトン:ジエチレングリコールジエチルエーテル=85:15(質量比)の混合溶媒を添加して、粘度調整を行い、熱硬化性組成物(以下、熱硬化性組成物G3と記す。)を得た。
(Example formulation 3)
111.1 parts by mass of the solution containing the polyurethane (1), 5.0 parts by mass of silica powder (trade name; Aerosil R974, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.), and melamine (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) as a curing accelerator 36 parts by mass were mixed, and using a three-roll mill (manufactured by Inoue Seisakusho Co., Ltd. Model: S-43 / 4 × 11), kneading was repeated three times to perform main kneading, and a composition containing polyurethane (1) ( Hereinafter, referred to as main agent composition A3).
22.7 parts by mass of the curing agent solution B1 and 0.60 parts by mass of the antifoaming agent (trade name; TSA750S manufactured by Momentive Performance Materials) are mixed with 100 parts by mass of the main agent composition A3, and the spatula is mixed. Was thoroughly stirred and mixed. Thereafter, a viscosity adjustment is performed by adding a mixed solvent of γ-butyrolactone: diethylene glycol diethyl ether = 85: 15 (mass ratio) necessary for adjusting the thixotropy index to 1.3. , Written as thermosetting composition G3).

(実施配合例4)
前記のポリウレタン(2)を含む溶液111.1質量部、シリカ粉(日本アエロジル株式会社製 商品名;アエロジルR974)5.0質量部、硬化促進剤としてメラミン(日産化学工業株式会社製)0.36質量部を混合し、三本ロールミル(株式会社井上製作所製 型式:S−43/4×11)を用いて、3回混練を繰り返して本混練を行い、ポリウレタン(2)を含む組成物(以下、主剤組成物A4と記す。)を得た。
100質量部の主剤組成物A4に対して、25.5質量部の硬化剤溶液B1及び消泡剤(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製 商品名;TSA750S)0.60質量部を混合し、スパチュラを用いて、十分に撹拌混合した。その後、チクソトロピー指数を1.3に合わせるのに必要量のγ−ブチロラクトン:ジエチレングリコールジエチルエーテル=60:40(質量比)の混合溶媒を添加して、粘度調整を行い、熱硬化性組成物(以下、熱硬化性組成物G4と記す。)を得た。
(Example formulation 4)
111.1 parts by mass of the solution containing the polyurethane (2), 5.0 parts by mass of silica powder (trade name; Aerosil R974, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.), and melamine (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) as a curing accelerator 36 parts by mass are mixed, using a three-roll mill (manufactured by Inoue Seisakusho Co., Ltd. Model: S-43 / 4 × 11), this kneading is repeated three times to perform main kneading, and a composition containing polyurethane (2) ( Hereinafter, referred to as main agent composition A4).
A spatula is mixed with 25.5 parts by mass of the curing agent solution B1 and an antifoaming agent (product name: TSA750S, manufactured by Momentive Performance Materials) with respect to 100 parts by mass of the main agent composition A4. Was thoroughly stirred and mixed. Thereafter, a viscosity adjustment is performed by adding a mixed solvent of γ-butyrolactone: diethylene glycol diethyl ether = 60: 40 (mass ratio) necessary for adjusting the thixotropy index to 1.3. , Written as thermosetting composition G4).

(実施配合例5)
前記のポリウレタン(3)を含む溶液111.1質量部、シリカ粉(日本アエロジル株式会社製 商品名;アエロジルR974)5.0質量部、硬化促進剤としてメラミン(日産化学工業株式会社製)0.36質量部を混合し、三本ロールミル(株式会社井上製作所製 型式:S−43/4×11)を用いて、3回混練を繰り返して本混練を行い、ポリウレタン(3)を含む組成物(以下、主剤組成物A5と記す。)を得た。
100質量部の主剤組成物A5に対して、19.1質量部の硬化剤溶液B1及び消泡剤(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製 商品名;TSA750S)0.60質量部を混合し、スパチュラを用いて、十分に撹拌混合した。その後、チクソトロピー指数を1.3に合わせるのに必要量のγ−ブチロラクトン:ジエチレングリコールジエチルエーテル=60:40(質量比)の混合溶媒を添加して、粘度調整を行い、熱硬化性組成物(以下、熱硬化性組成物G5と記す。)を得た。
(Example formulation 5)
111.1 parts by mass of the solution containing the polyurethane (3), 5.0 parts by mass of silica powder (trade name; Aerosil R974, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.), and melamine (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) as a curing accelerator 36 parts by mass were mixed, using a three-roll mill (manufactured by Inoue Seisakusho Co., Ltd. Model: S-43 / 4 × 11), kneading was repeated three times to perform main kneading, and a composition containing polyurethane (3) ( Hereinafter, referred to as main agent composition A5).
Spatula is mixed with 19.1 parts by weight of the curing agent solution B1 and 0.60 parts by weight of an antifoaming agent (product name: TSA750S, manufactured by Momentive Performance Materials) with respect to 100 parts by weight of the main agent composition A5. Was thoroughly stirred and mixed. Thereafter, a viscosity adjustment is performed by adding a mixed solvent of γ-butyrolactone: diethylene glycol diethyl ether = 60: 40 (mass ratio) necessary for adjusting the thixotropy index to 1.3, and a thermosetting composition (hereinafter referred to as a thermosetting composition). , Written as thermosetting composition G5).

(実施配合例6)
100質量部の主剤組成物A3に対して、30.3質量部の硬化剤溶液B1及び消泡剤(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製 商品名;TSA750S)0.60質量部を混合し、スパチュラを用いて、十分に撹拌混合した。その後、チクソトロピー指数を1.3に合わせるのに必要量のγ−ブチロラクトン:ジエチレングリコールジエチルエーテル=85:15(質量比)の混合溶媒を添加して、粘度調整を行い、熱硬化性組成物(以下、熱硬化性組成物G6と記す。)を得た。
(Example formulation 6)
A spatula is mixed with 30.3 parts by mass of a curing agent solution B1 and an antifoaming agent (trade name; TSA750S, manufactured by Momentive Performance Materials) of 100 parts by mass of the main agent composition A3. Was thoroughly stirred and mixed. Thereafter, a viscosity adjustment is performed by adding a mixed solvent of γ-butyrolactone: diethylene glycol diethyl ether = 85: 15 (mass ratio) necessary for adjusting the thixotropy index to 1.3. , Written as thermosetting composition G6).

(実施配合例7)
100質量部の主剤組成物A4に対して、34.0質量部の硬化剤溶液B1及び消泡剤(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製 商品名;TSA750S)0.60質量部を混合し、スパチュラを用いて、十分に撹拌混合した。その後、チクソトロピー指数を1.3に合わせるのに必要量のγ−ブチロラクトン:ジエチレングリコールジエチルエーテル=60:40(質量比)の混合溶媒を添加して、粘度調整を行い、熱硬化性組成物(以下、熱硬化性組成物G7と記す。)を得た。
(Example formulation 7)
A spatula is mixed with 34.0 parts by mass of the curing agent solution B1 and an antifoaming agent (trade name; TSA750S, manufactured by Momentive Performance Materials) with respect to 100 parts by mass of the main agent composition A4. Was thoroughly stirred and mixed. Thereafter, a viscosity adjustment is performed by adding a mixed solvent of γ-butyrolactone: diethylene glycol diethyl ether = 60: 40 (mass ratio) necessary for adjusting the thixotropy index to 1.3, and a thermosetting composition (hereinafter referred to as a thermosetting composition). , Written as thermosetting composition G7).

(実施配合例8)
100質量部の主剤組成物A5に対して、25.5質量部の硬化剤溶液B1及び消泡剤(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製 商品名;TSA750S)0.60質量部を混合し、スパチュラを用いて、十分に撹拌混合した。その後、チクソトロピー指数を1.3に合わせるのに必要量のγ−ブチロラクトン:ジエチレングリコールジエチルエーテル=60:40(質量比)の混合溶媒を添加して、粘度調整を行い、熱硬化性組成物(以下、熱硬化性組成物G8と記す。)を得た。
(Example of formulation 8)
A spatula is mixed with 25.5 parts by mass of the curing agent solution B1 and 0.60 parts by mass of an antifoaming agent (trade name; TSA750S, manufactured by Momentive Performance Materials) with respect to 100 parts by mass of the main agent composition A5. Was thoroughly stirred and mixed. Thereafter, a viscosity adjustment is performed by adding a mixed solvent of γ-butyrolactone: diethylene glycol diethyl ether = 60: 40 (mass ratio) necessary for adjusting the thixotropy index to 1.3, and a thermosetting composition (hereinafter referred to as a thermosetting composition). , Written as thermosetting composition G8).

(比較配合例1)
100質量部の主剤組成物A1に対して、セロキサイド2021P(ダイセル化学工業株式会社製、(3′,4′−エポキシシクロヘキサン)メチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、エポキシ当量126g/eq)4.2質量部及び消泡剤(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製 商品名:TSA750S)0.5質量部を前記のポリウレタンポリイミド(1)を含む組成物に均一に混合し、ポリウレタンポリイミド(1)を含む熱硬化性組成物(以下、熱硬化性組成物H1と記す。)を得た。
(Comparative Formulation Example 1)
With respect to 100 parts by mass of the main agent composition A1, Celoxide 2021P (manufactured by Daicel Chemical Industries, (3 ', 4'-epoxycyclohexane) methyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, epoxy equivalent 126 g / eq) 4 .2 parts by mass and an antifoaming agent (product name: TSA750S, manufactured by Momentive Performance Materials) 0.5 part by mass is uniformly mixed with the composition containing the polyurethane polyimide (1), and the polyurethane polyimide (1) A thermosetting composition (hereinafter referred to as thermosetting composition H1) was obtained.

(比較配合例2)
100質量部の主剤組成物A2に対して、YH−434(東都化成株式会社製 アミン型エポキシ樹脂の商品名、エポキシ当量120g/eq)10質量部及びTSA750S(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製の消泡剤の商品名)0.5質量部を加え、γ−ブチロラクトンで希釈して、粘度35Pa・s、チクソトロピー指数2.4、不揮発分40質量%のポリウレタンポリイミド(2)を含む熱硬化性組成物(以下、熱硬化性組成物H2と記す。)を得た。
(Comparative Formulation Example 2)
For 100 parts by mass of the main agent composition A2, 10 parts by mass of YH-434 (trade name of amine-type epoxy resin manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd., epoxy equivalent 120 g / eq) and TSA750S (manufactured by Momentive Performance Materials) Anti-foaming product name) Thermosetting containing 0.5 parts by mass, diluted with γ-butyrolactone and containing polyurethane polyimide (2) having a viscosity of 35 Pa · s, a thixotropy index of 2.4, and a nonvolatile content of 40% by mass A composition (hereinafter referred to as a thermosetting composition H2) was obtained.

(比較配合例3)
撹拌機およびコンデンサーを備えた容器に、jER828EL(ジャパンエポキシレジン株式会社製 ビスフェノールA型エポキシ樹脂 エポキシ当量190g/eq)300質量部、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート300質量部を添加し、撹拌を開始した。撹拌を1時間を継続した。その後、jER828ELが完全に溶解したのを確認して、濃度50質量%のjER828EL含有溶液を取得した。この溶液を硬化剤溶液B2とする。
前記のポリウレタン(4)を含む溶液111.1質量部、シリカ粉(日本アエロジル株式会社製 商品名;アエロジルR974)5.0質量部、硬化促進剤としてメラミン(日産化学工業株式会社製)0.36質量部を混合し、三本ロールミル(株式会社井上製作所製 型式:S−43/4×11)を用いて、3回混練を繰り返して本混練を行い、ポリウレタン(4)を含む組成物(以下、主剤組成物A6と記す。)を得た。
100質量部の主剤組成物A6に対して、14.2質量部の硬化剤溶液B2及び消泡剤(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製 商品名;TSA750S)0.60質量部を混合し、スパチュラを用いて、十分に撹拌混合した。その後、チクソトロピー指数を1.3に合わせるのに必要量のγ−ブチロラクトン:ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート=1:1(質量比)の混合溶媒を添加して、粘度調整を行い、熱硬化性組成物(以下、熱硬化性組成物H3と記す。)を得た。
(Comparative Formulation Example 3)
To a container equipped with a stirrer and a condenser, 300 parts by mass of jER828EL (Bisphenol A type epoxy resin, epoxy equivalent 190 g / eq, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) and 300 parts by mass of diethylene glycol monoethyl ether acetate were added, and stirring was started. Stirring was continued for 1 hour. Thereafter, it was confirmed that jER828EL was completely dissolved, and a jER828EL-containing solution having a concentration of 50% by mass was obtained. This solution is designated as a curing agent solution B2.
111.1 parts by mass of the solution containing the polyurethane (4), 5.0 parts by mass of silica powder (trade name; Aerosil R974, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.), and melamine (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) as a curing accelerator 36 parts by mass were mixed, and using a three-roll mill (manufactured by Inoue Seisakusho Co., Ltd. Model: S-43 / 4 × 11), kneading was repeated three times to perform main kneading, and a composition containing polyurethane (4) Hereinafter, referred to as main agent composition A6).
To 100 parts by mass of the main agent composition A6, 14.2 parts by mass of the curing agent solution B2 and 0.60 parts by mass of an antifoaming agent (trade name; TSA750S, manufactured by Momentive Performance Materials) are mixed, and a spatula Was thoroughly stirred and mixed. Thereafter, a viscosity adjustment is performed by adding a mixed solvent of γ-butyrolactone: diethylene glycol monoethyl ether acetate = 1: 1 (mass ratio) necessary for adjusting the thixotropy index to 1.3, and the thermosetting composition. (Hereinafter, referred to as thermosetting composition H3).

(比較配合例4)
前記のポリウレタン(5)を含む溶液88.9質量部、シリカ粉(日本アエロジル株式会社製 商品名;アエロジルR974)5.0質量部、硬化促進剤としてメラミン(日産化学工業株式会社製)0.36質量部を混合し、三本ロールミル(株式会社井上製作所製 型式:S−43/4×11)を用いて、3回混練を繰り返して本混練を行い、ポリウレタン(5)を含む組成物(以下、主剤組成物A7と記す。)を得た。
80.9質量部の主剤組成物A7に対して、22.7質量部の硬化剤溶液B1及び消泡剤(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製 商品名;TSA750S)0.60質量部を混合し、スパチュラを用いて、十分に撹拌混合した。その後、チクソトロピー指数を1.3に合わせるのに必要量のγ−ブチロラクトン:ジエチレングリコールジエチルエーテル=85:15(質量比)の混合溶媒を添加して、粘度調整を行い、熱硬化性組成物(以下、熱硬化性組成物H4と記す。)を得た。
(Comparative Formulation Example 4)
88.9 parts by mass of the solution containing the polyurethane (5), 5.0 parts by mass of silica powder (trade name; Aerosil R974, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.), and melamine (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) as a curing accelerator 0. 36 parts by mass are mixed, using a three-roll mill (manufactured by Inoue Seisakusho Co., Ltd. Model: S-43 / 4 × 11), the kneading is repeated three times to perform main kneading, and a composition containing polyurethane (5) ( Hereinafter, referred to as main agent composition A7).
82.7 parts by mass of the main agent composition A7 is mixed with 22.7 parts by mass of the curing agent solution B1 and 0.60 parts by mass of the defoaming agent (trade name; TSA750S manufactured by Momentive Performance Materials). The mixture was thoroughly stirred using a spatula. Thereafter, a viscosity adjustment is performed by adding a mixed solvent of γ-butyrolactone: diethylene glycol diethyl ether = 85: 15 (mass ratio) necessary for adjusting the thixotropy index to 1.3. , Referred to as thermosetting composition H4).

(実施例1〜8、比較例1〜3)
表1に記したように、それぞれ熱硬化性組成物G1〜熱硬化性組成物G8、熱硬化性組成物H1〜熱硬化性組成物H4を用いて、後述の方法により、ポリイミド及び錫メッキ処理を施した銅への密着性の評価、反り性の評価及び長期電気絶縁信頼性の評価を行った。その結果を表1に記す。
(Examples 1-8, Comparative Examples 1-3)
As described in Table 1, polyimide and tin plating treatment were performed by the methods described later using the thermosetting composition G1 to thermosetting composition G8 and the thermosetting composition H1 to thermosetting composition H4, respectively. Evaluation of adhesion to copper subjected to, evaluation of warpage and long-term electrical insulation reliability were performed. The results are shown in Table 1.

ポリイミド及び錫メッキ処理を施した銅への密着性の評価
フレキシブル銅張り積層板(住友金属鉱山株式会社製 グレード名;エスパーフレックス 銅厚;8μm、ポリイミド厚;38μm)に錫メッキを施した基板及びポリイミドフィルム〔カプトン(登録商標)300H、東レ・デュポン株式会社製〕に、熱硬化性組成物G1を、スクリーン印刷法により、熱硬化性組成物の厚みが15μmの厚さ(乾燥後の厚さ)になるように塗布し、80℃の熱風循環式乾燥機に30分間入れ、その後、120℃の熱風循環式乾燥機に120分間入れることにより硬化させた。この硬化塗膜に、1mm間隔で100個の格子状パターンを切込み、約75mmの長さに切ったテープを格子の部分に接着し、剥離用テープ(JIS Z 1522に規定する物)を60°に近い角度で0.5〜1.0秒の時間で引きはがした。
なお、剥離用テープは日東電工株式会社製を用いて、下記の基準で評価した。
○:碁盤目の数が80個以上残る場合、
△:碁盤目の数が50個以上80個未満残る場合、
×:碁盤目の数が50個未満しか残らない場合。
結果を表1に記す。
また、熱硬化性組成物G2〜熱硬化性組成物G8、熱硬化性組成物H1〜熱硬化性組成物H4を用いて、同様の評価を行った。
それらの結果もあわせて表1に記す。
Evaluation of adhesion to polyimide and tin-plated copper Flexible copper-clad laminate (grade name; Esperflex copper thickness: 8 μm, polyimide thickness; 38 μm, manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.) The polyimide film (Kapton (registered trademark) 300H, manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.) is coated with the thermosetting composition G1 by screen printing to a thickness of 15 μm (the thickness after drying). ) And placed in an 80 ° C. hot air circulation dryer for 30 minutes, and then placed in a 120 ° C. hot air circulation dryer for 120 minutes for curing. In this cured coating film, 100 grid patterns were cut at 1 mm intervals, a tape cut to a length of about 75 mm was bonded to the grid portion, and a peeling tape (a product specified in JIS Z 1522) was 60 °. The film was peeled off at an angle near 0.5 to 0.5 to 1.0 seconds.
In addition, the peeling tape evaluated by the following reference | standard using the product made from Nitto Denko Corporation.
○: When 80 or more grids remain,
△: When the number of grids is 50 or more and less than 80,
×: When the number of grids remains less than 50.
The results are shown in Table 1.
Moreover, the same evaluation was performed using the thermosetting composition G2 to the thermosetting composition G8 and the thermosetting composition H1 to the thermosetting composition H4.
The results are also shown in Table 1.

反り性の評価
熱硬化性組成物G1を、基板にスクリーン印刷により塗布し、80℃の熱風循環式乾燥機に30分間入れ、その後、120℃の熱風循環式乾燥機に60分間入れることにより硬化させた。基板は38μm厚ポリイミドフィルム〔カプトン(登録商標)150EN、東レ・デュポン株式会社製〕を用いた。
熱硬化性組成物を塗布し、乾燥機を用いて硬化した塗膜について、50mmφにサークルカッターでカットした。円形にカットされたものは中心付近が凸状または凹状に反る形の変形を呈する。試験片を、温度23±0.5℃、湿度60±5%RHの条件で12時間以上放置した後に、下に凸の状態で静置し、平面上から最も大きく反っている箇所と、円の中心を挟んで対称となる箇所の2箇所に関して、平面上からの反りの高さを、長さ計を用いて測定し、平均した。符号は反りの方向を表し、下に凸の状態で静置した際、ポリイミドフィルムに対し硬化膜が上側になる場合を「+」、硬化膜が下側になる場合を「−」とした。
結果を表1に記す。
また、熱硬化性組成物G2〜熱硬化性組成物G8、熱硬化性組成物H1〜熱硬化性組成物H4を用いて、同様の評価を行った。
それらの結果もあわせて表1に記す。
Evaluation of warpage The thermosetting composition G1 was applied to a substrate by screen printing, placed in an 80 ° C hot air circulation dryer for 30 minutes, and then placed in a 120 ° C hot air circulation dryer for 60 minutes to cure. I let you. A 38 μm-thick polyimide film [Kapton (registered trademark) 150EN, manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.] was used as the substrate.
About the coating film which apply | coated the thermosetting composition and hardened | cured using the dryer, it cut with a circle cutter to 50 mmphi. What is cut into a circle exhibits a deformation in which the vicinity of the center warps in a convex or concave shape. After leaving the test piece at a temperature of 23 ± 0.5 ° C. and a humidity of 60 ± 5% RH for 12 hours or more, the test piece is left in a convex state, and the portion that is most warped from the plane, The height of the warp from the plane was measured using a length meter and averaged at two locations that were symmetric with respect to the center of. The sign represents the direction of warping, and when left in a downwardly convex state, the case where the cured film is on the upper side with respect to the polyimide film is “+”, and the case where the cured film is on the lower side is “−”.
The results are shown in Table 1.
Moreover, the same evaluation was performed using the thermosetting composition G2 to the thermosetting composition G8 and the thermosetting composition H1 to the thermosetting composition H4.
The results are also shown in Table 1.

可撓性の評価
フレキシブル銅張り積層板(住友金属鉱山株式会社製 グレード名;エスパーフレックス 銅厚;8μm、ポリイミド厚;38μm)の銅上に、幅75mm、長さ110mmの大きさ、硬化後の塗膜の厚み15μmになるように熱硬化性組成物G1を、クリーン印刷により塗布し、10分間室温で保持し、120℃の熱風循環式乾燥機に60分間入れることにより硬化させた。作製した試験片の裏打ちのPETフィルムを剥離し、幅10mmの短冊状にカッターナイフで切り出した後、塗膜面が外側になる様に約180度折り曲げ、圧縮機を用いて0.5±0.2MPaで3秒間圧縮した。屈曲部を曲げた状態で30倍の顕微鏡で観察し、クラックの発生の有無を確認した。
結果を表1に記す。
また、熱硬化性組成物G2〜熱硬化性組成物G8、熱硬化性組成物H1〜熱硬化性組成物H4を用いて、同様の評価を行った。
それらの結果もあわせて表1に記す。
Evaluation of flexibility Flexible copper-clad laminate (manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. grade name: Esperflex copper thickness: 8 μm, polyimide thickness: 38 μm) on copper of 75 mm width and 110 mm length, after curing The thermosetting composition G1 was applied by clean printing so that the thickness of the coating film became 15 μm, held at room temperature for 10 minutes, and cured by placing it in a 120 ° C. hot air circulating dryer for 60 minutes. The PET film on the back of the prepared test piece was peeled off, cut into a strip shape with a width of 10 mm with a cutter knife, bent about 180 degrees so that the coating surface was on the outside, and 0.5 ± 0 using a compressor. Compressed at 2 MPa for 3 seconds. The bent part was bent and observed with a 30-fold microscope to confirm the presence or absence of cracks.
The results are shown in Table 1.
Moreover, the same evaluation was performed using the thermosetting composition G2 to the thermosetting composition G8 and the thermosetting composition H1 to the thermosetting composition H4.
The results are also shown in Table 1.

長期電気絶縁信頼性の評価(1)
フレキシブル銅張り積層板(住友金属鉱山株式会社製 グレード名;エスパーフレックス 銅厚;8μm、ポリイミド厚:38μm)をエッチングして製造した、JPCA−ET01に記載の微細くし形パターン形状の基板(銅配線幅/銅配線間幅=15μm/15μm)に錫メッキ処理を施したフレキシブル配線板に、熱硬化性組成物G1を、スクリーン印刷法により、ポリイミド面からの厚みが15μmの厚さ(乾燥後)になるように塗布し、80℃の熱風循環式乾燥機に30分間入れ、その後、120℃の熱風循環式乾燥機に120分間いれることにより硬化させた。
この試験片を用いて、バイアス電圧60Vを印加し、温度120℃、湿度85%RHの条件での温湿度定常試験を、MIGRATION TESTER MODEL MIG−8600(IMV社製)を用いて行った。上記温湿度定常試験をスタートしてから1時間、100時間後、200時間後、300時間後、400時間後の抵抗値を表1に記す。
また、熱硬化性組成物G2〜熱硬化性組成物G8、熱硬化性組成物H1〜熱硬化性組成物H4を用いて、同様の評価を行った。
それらの結果についてもあわせて表1に記す。
Long-term electrical insulation reliability evaluation (1)
A substrate having a fine comb pattern shape described in JPCA-ET01 manufactured by etching a flexible copper-clad laminate (Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. grade name; Esperflex copper thickness: 8 μm, polyimide thickness: 38 μm) Width / width between copper wirings = 15 μm / 15 μm) A thickness of 15 μm from the polyimide surface after drying the thermosetting composition G1 by screen printing on a flexible wiring board subjected to tin plating (after drying) Then, it was placed in a hot air circulating dryer at 80 ° C. for 30 minutes, and then cured by placing it in a 120 ° C. hot air circulating dryer for 120 minutes.
Using this test piece, a bias voltage of 60 V was applied, and a constant temperature and humidity test under the conditions of a temperature of 120 ° C. and a humidity of 85% RH was performed using MIGRATION TESTER MODEL MIG-8600 (manufactured by IMV). Table 1 shows resistance values at 1 hour, 100 hours, 200 hours, 300 hours, and 400 hours after starting the temperature and humidity steady state test.
Moreover, the same evaluation was performed using the thermosetting composition G2 to the thermosetting composition G8 and the thermosetting composition H1 to the thermosetting composition H4.
The results are also shown in Table 1.

長期電気絶縁信頼性の評価(2)
フレキシブル銅張り積層板(住友金属鉱山株式会社製 グレード名;エスパーフレックス 銅厚;8μm、ポリイミド厚:38μm)をエッチングして製造した、JPCA−ET01に記載の微細くし形パターン形状の基板(銅配線幅/銅配線間幅=15μm/15μm)に錫メッキ処理を施したフレキシブル配線板に、熱硬化性組成物G1を、スクリーン印刷法により、ポリイミド面からの厚みが15μmの厚さ(乾燥後)になるように塗布し、80℃の熱風循環式乾燥機に30分間入れ、その後、120℃の熱風循環式乾燥機に120分間いれることにより硬化させた。
この試験片を用いて、バイアス電圧60Vを印加し、温度85℃、湿度85%RHの条件での温湿度定常試験を、MIGRATION TESTER MODEL MIG−8600(IMV社製)を用いて行った。上記温湿度定常試験をスタート初期及びスタートしてから10時間後、500時間後、1000時間後、2000時間後の抵抗値を表1に記す。
また、熱硬化性組成物G2〜熱硬化性組成物G8、熱硬化性組成物H1〜熱硬化性組成物H4を用いて、同様の評価を行った。
それらの結果についてもあわせて表1に記す。
Long-term electrical insulation reliability evaluation (2)
A substrate having a fine comb pattern shape described in JPCA-ET01 manufactured by etching a flexible copper-clad laminate (Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. grade name; Esperflex copper thickness: 8 μm, polyimide thickness: 38 μm) Width / width between copper wirings = 15 μm / 15 μm) A thickness of 15 μm from the polyimide surface after drying the thermosetting composition G1 by screen printing on a flexible wiring board subjected to tin plating (after drying) Then, it was placed in a hot air circulating dryer at 80 ° C. for 30 minutes, and then cured by placing it in a 120 ° C. hot air circulating dryer for 120 minutes.
Using this test piece, a bias voltage of 60 V was applied, and a temperature and humidity steady test under conditions of a temperature of 85 ° C. and a humidity of 85% RH was performed using MIGRATION TESTER MODEL MIG-8600 (manufactured by IMV). Table 1 shows the resistance values after 10 hours, 500 hours, 1000 hours, and 2000 hours after the start of the temperature and humidity steady test.
Moreover, the same evaluation was performed using the thermosetting composition G2 to the thermosetting composition G8 and the thermosetting composition H1 to the thermosetting composition H4.
The results are also shown in Table 1.

Figure 2011004756
Figure 2011004756

表1の結果より、本発明(I)の熱硬化性組成物を用いることによって、高いレベルの抵抗値を維持したまま、長期電気絶縁特性を発現できる新規な組成物及び該組成物を硬化して得られる硬化物を提供できる。   From the results of Table 1, by using the thermosetting composition of the present invention (I), a novel composition capable of expressing long-term electrical insulation characteristics while maintaining a high level of resistance value and the composition were cured. The hardened | cured material obtained can be provided.

本発明の配線板の保護膜用熱硬化性組成物は、フレキシブル配線板の製造に好適に用いられる。   The thermosetting composition for a protective film of a wiring board of the present invention is suitably used for production of a flexible wiring board.

Claims (15)

トリシクロデカン構造を有するエポキシ基含有化合物、エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタン及び溶剤を必須成分とする配線板の保護膜用熱硬化性組成物。
Figure 2011004756
(式中、Rは、炭素数3〜18のアルキレン基を表し、nは1以上の整数を表す。)
Thermosetting for protective film of wiring board having epoxy group-containing compound having tricyclodecane structure, polyurethane having functional group capable of reacting with epoxy group and having structural unit represented by formula (1) and solvent as essential components Sex composition.
Figure 2011004756
(In the formula, R 1 represents an alkylene group having 3 to 18 carbon atoms, and n represents an integer of 1 or more.)
トリシクロデカン構造を有するエポキシ基含有化合物が、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン構造またはトリシクロ[3.3.1.13,7]デカン構造を有し、かつ芳香環構造を有するエポキシ基含有化合物であることを特徴とする請求項1に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。The epoxy group-containing compound having a tricyclodecane structure has a tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane structure or a tricyclo [3.3.1.1 3,7 ] decane structure, and an aromatic ring The thermosetting composition for a protective film for a wiring board according to claim 1, which is an epoxy group-containing compound having a structure. トリシクロデカン構造を有するエポキシ基含有化合物が、式(2)で示される化合物であることを特徴とする請求項2に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。
Figure 2011004756
(式中、lは、0または1以上の整数を表す。)
The thermosetting composition for a protective film of a wiring board according to claim 2, wherein the epoxy group-containing compound having a tricyclodecane structure is a compound represented by the formula (2).
Figure 2011004756
(In the formula, l represents 0 or an integer of 1 or more.)
エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンが、エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有し、さらにイミド結合を有するポリウレタンポリイミドであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。   The polyurethane having a functional group capable of reacting with an epoxy group and having a structural unit represented by formula (1) has a functional group capable of reacting with an epoxy group and having a structural unit represented by formula (1). Furthermore, it is the polyurethane polyimide which has an imide bond, The thermosetting composition for protective films of the wiring board of any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. エポキシ基と反応可能な官能基が、カルボキシル基であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。   The thermosetting composition for a protective film of a wiring board according to any one of claims 1 to 4, wherein the functional group capable of reacting with an epoxy group is a carboxyl group. エポキシ基と反応可能な官能基が、酸無水物基であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。   The thermosetting composition for a protective film of a wiring board according to any one of claims 1 to 4, wherein the functional group capable of reacting with an epoxy group is an acid anhydride group. エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有し、さらにイミド結合を有するポリウレタンポリイミドが、下記成分(a)〜成分(d)を反応して得られるポリウレタンポリイミドであることを特徴とする請求項4または5に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。
成分(a) ジイソシアネート、
成分(b) 炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオール、
成分(c) カルボキシル基を有するジオール、および
成分(d) 式(3)で示される2官能性水酸基末端イミド。
Figure 2011004756
(式中、R、Rは、それぞれ独立に、2価の脂肪族または芳香族炭化水素基を示し、Yはテトラカルボン酸またはその酸無水物基から誘導される4価の有機基を示し、Xはジアミン或いはジイソシアネートから誘導される2価の有機基を示し、mは、0〜20の整数である。)
A polyurethane polyimide having a functional group capable of reacting with an epoxy group and having a structural unit represented by the formula (1) and further having an imide bond is obtained by reacting the following components (a) to (d): The thermosetting composition for a protective film for a wiring board according to claim 4, wherein the thermosetting composition is a polyurethane polyimide.
Component (a) diisocyanate,
Component (b) (poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms,
Component (c) Diol having a carboxyl group, and Component (d) A bifunctional hydroxyl-terminated imide represented by the formula (3).
Figure 2011004756
Wherein R 2 and R 3 each independently represents a divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon group, and Y 1 represents a tetravalent organic group derived from a tetracarboxylic acid or an acid anhydride group thereof. X 1 represents a divalent organic group derived from diamine or diisocyanate, and m is an integer of 0 to 20.)
エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有し、さらにイミド結合を有するポリウレタンポリイミドが、式(4)〜式(6)からなる群より選ばれる少なくとも1種の構造単位を有するポリウレタンポリイミドであることを特徴とする請求項4または6に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。
Figure 2011004756
式中、複数個のRは、それぞれ独立に炭素数3〜18のアルキレン基であり、複数個のRは、それぞれ独立に炭素数3〜18のアルキレン基であり、a及びbは、それぞれ独立に1〜20の整数であり、複数個のXは、それぞれ独立に2価の有機基である。
Figure 2011004756
式中、複数個のRは、それぞれ独立に炭素数3〜18のアルキレン基であり、複数個のRは、それぞれ独立に炭素数3〜18アルキレン基であり、c及びdは、それぞれ独立に1〜20の整数であり、複数個のXは、それぞれ独立に2価の有機基であり、Yは、CH、SOまたはOである。
Figure 2011004756
式中、複数個のRは、それぞれ独立に炭素数3〜18のアルキレン基であり、複数個のRは、それぞれ独立に炭素数3〜18のアルキレン基であり、e及びfは、それぞれ独立に1〜20の整数であり、複数個のXは、それぞれ独立に2価の有機基であり、Yは、下記式(7)〜式(33)のいずれかの基である。
Figure 2011004756
Figure 2011004756
Figure 2011004756
Figure 2011004756
Figure 2011004756
Figure 2011004756
A polyurethane polyimide having a functional group capable of reacting with an epoxy group and having a structural unit represented by the formula (1) and further having an imide bond is selected from the group consisting of the formulas (4) to (6). The thermosetting composition for a protective film of a wiring board according to claim 4, which is a polyurethane polyimide having one type of structural unit.
Figure 2011004756
In the formula, a plurality of R 4 are each independently an alkylene group having 3 to 18 carbon atoms, a plurality of R 5 are each independently an alkylene group having 3 to 18 carbon atoms, and a and b are Each is independently an integer of 1 to 20, and the plurality of X 2 are each independently a divalent organic group.
Figure 2011004756
In the formula, a plurality of R 6 are each independently a C 3-18 alkylene group, a plurality of R 7 are each independently a C 3-18 alkylene group, and c and d are each independently integers of 1 to 20, a plurality of X 3 are each independently a divalent organic group, Y 2 is CH 2, SO 2 or O.
Figure 2011004756
In the formula, a plurality of R 8 are each independently an alkylene group having 3 to 18 carbon atoms, a plurality of R 9 are each independently an alkylene group having 3 to 18 carbon atoms, and e and f are Each independently represents an integer of 1 to 20, a plurality of X 4 are each independently a divalent organic group, and Y 3 is any one of the following formulas (7) to (33): .
Figure 2011004756
Figure 2011004756
Figure 2011004756
Figure 2011004756
Figure 2011004756
Figure 2011004756
エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンが、下記成分(a)、成分(b)、成分(c)及び成分(e)を反応して得られるポリウレタンであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。
成分(a) ジイソシアネート、
成分(b) 炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオール、
成分(c) カルボキシル基を有するジオール、
成分(e) 1分子中に水酸基を3個以上有する化合物。
A polyurethane having a functional group capable of reacting with an epoxy group and having a structural unit represented by the formula (1) reacts with the following components (a), (b), (c) and (e): The thermosetting composition for a protective film of a wiring board according to any one of claims 1 to 3, which is a polyurethane obtained.
Component (a) diisocyanate,
Component (b) (poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms,
Component (c) a diol having a carboxyl group,
Component (e) A compound having 3 or more hydroxyl groups in one molecule.
エポキシ基と反応可能な官能基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンが、さらに、ダイマージオールから誘導された有機残基を含有するポリウレタンであることを特徴とする請求項1〜3、5、6及び9のいずれか1項に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。   The polyurethane having a functional group capable of reacting with an epoxy group and having a structural unit represented by the formula (1) is a polyurethane further containing an organic residue derived from a dimer diol. The thermosetting composition for a protective film for a wiring board according to any one of 1 to 3, 5, 6, and 9. 溶剤が、大気圧下で170℃以上200℃未満の沸点を有する少なくとも1種の溶剤と大気圧下で200℃〜220℃の沸点を有する少なくとも1種の溶剤を含む混合溶剤であることを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。   The solvent is a mixed solvent containing at least one solvent having a boiling point of 170 ° C. or more and less than 200 ° C. under atmospheric pressure and at least one solvent having a boiling point of 200 ° C. to 220 ° C. under atmospheric pressure. The thermosetting composition for a protective film for a wiring board according to any one of claims 1 to 10. 大気圧下で170℃以上200℃未満の沸点を有する溶剤が下記A群の中から選ばれる少なくとも1種であり、かつ大気圧下で200℃〜220℃の沸点を有する溶剤が下記B群の中から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項11に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。
A群:ジエチレングリコールジメチルエーテル(沸点162℃)、ジエチレングリコールジエチルエーテル(沸点189℃)、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル(沸点176℃)、ジプロピレングリコ−ルジメチルエーテル(沸点171℃)、3−メトキシブチルアセテート(沸点171℃)、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート(沸点192℃)
B群:ジエチレングリコールブチルメチルエーテル(沸点212℃)、トリプロピレングリコールジメチルエーテル(沸点215℃)、トリエチレングリコールジメチルエーテル(沸点216℃)、エチレングリコールジブチルエーテル(沸点203℃)、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート(沸点217℃)、γ−ブチロラクトン(沸点204℃)。
The solvent having a boiling point of 170 ° C. or more and less than 200 ° C. under atmospheric pressure is at least one selected from the following group A, and the solvent having a boiling point of 200 ° C. to 220 ° C. under atmospheric pressure is the following group B: It is at least 1 sort (s) chosen from the inside, The thermosetting composition for protective films of the wiring board of Claim 11 characterized by the above-mentioned.
Group A: diethylene glycol dimethyl ether (boiling point 162 ° C.), diethylene glycol diethyl ether (boiling point 189 ° C.), diethylene glycol ethyl methyl ether (boiling point 176 ° C.), dipropylene glycol dimethyl ether (boiling point 171 ° C.), 3-methoxybutyl acetate (boiling point 171) ° C), ethylene glycol monobutyl ether acetate (boiling point 192 ° C)
Group B: Diethylene glycol butyl methyl ether (boiling point 212 ° C.), tripropylene glycol dimethyl ether (boiling point 215 ° C.), triethylene glycol dimethyl ether (boiling point 216 ° C.), ethylene glycol dibutyl ether (boiling point 203 ° C.), diethylene glycol monoethyl ether acetate (boiling point) 217 ° C.), γ-butyrolactone (boiling point 204 ° C.).
請求項1〜12のいずれか1項に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物を硬化して得られる配線板の保護膜。   The protective film of the wiring board obtained by hardening | curing the thermosetting composition for protective films of the wiring board of any one of Claims 1-12. フレキシブル基板上に配線が形成されてなるフレキシブル配線板の、配線が形成されている表面の一部または全部が請求項13に記載の配線板の保護膜によって被覆されたことを特徴とする、保護膜によって被覆されたフレキシブル配線板。   A part of or all of the surface of the flexible wiring board in which the wiring is formed on the flexible substrate is covered with the protective film of the wiring board according to claim 13. A flexible wiring board covered with a film. 請求項1〜12のいずれか1項に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物をフレキシブル配線板の錫メッキ処理された配線パターン部に印刷することで該パターン上に印刷膜を形成し、該印刷膜を80〜130℃で加熱硬化させることで保護膜を形成することを特徴とする、保護膜によって被覆されたフレキシブル配線板の製造方法。   A printed film is formed on the pattern by printing the thermosetting composition for a protective film of a wiring board according to any one of claims 1 to 12 on a tinned wiring pattern portion of a flexible wiring board. A method for producing a flexible wiring board covered with a protective film, wherein the printed film is heated and cured at 80 to 130 ° C. to form a protective film.
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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101399173B1 (en) * 2009-10-07 2014-05-27 히타치가세이가부시끼가이샤 Thermosetting resin composition, method for forming protective film for flexible wiring board, and flexible wiring board
JP5782764B2 (en) * 2010-03-26 2015-09-24 宇部興産株式会社 Method for producing modified polyimide resin
CN103620488B (en) * 2011-06-21 2016-02-24 日产化学工业株式会社 Light orientation process method aligning agent for liquid crystal and use the liquid crystal orientation film of this aligning agent for liquid crystal
MX361739B (en) * 2011-10-28 2018-12-14 Lubrizol Advanced Mat Inc Polyurethane-based electrode binder compositions and electrodes thereof for electrochemical cells.
JP6961943B2 (en) * 2015-02-09 2021-11-05 味の素株式会社 Thermosetting resin composition
CN108368336B (en) * 2015-12-25 2021-09-10 日保丽公司 Curable composition, cured product, overcoat film, covered flexible wiring board, and method for producing same
KR102112437B1 (en) * 2016-04-22 2020-05-18 쇼와 덴코 가부시키가이샤 Curable composition, cured film and overcoat film using the composition
JP6897026B2 (en) * 2016-08-10 2021-06-30 味の素株式会社 Resin composition
US10995235B2 (en) * 2016-12-01 2021-05-04 Showa Denko K.K. Composition for forming protective film for electroconductive pattern, protective film for electroconductive pattern, method for producing protective film, and method for producing transparent electroconductive film
CN108461405B (en) * 2017-02-21 2020-04-10 碁鼎科技秦皇岛有限公司 Circuit carrier plate and manufacturing method thereof
JP2019068062A (en) * 2017-09-29 2019-04-25 昭和電工株式会社 Resist ink, protective film of wiring, method for producing the same, semiconductor substrate, and method for producing protective film thereof
US11746083B2 (en) 2020-12-30 2023-09-05 Industrial Technology Research Institute Compound, resin composition and laminated substrate thereof

Citations (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08295718A (en) * 1995-04-24 1996-11-12 Toagosei Co Ltd Polyurethane foam
JPH10158383A (en) * 1996-12-05 1998-06-16 Toagosei Co Ltd Polyether polyol
JPH11328656A (en) * 1998-05-08 1999-11-30 Fuji Photo Film Co Ltd Magnetic recording medium
JP2000086906A (en) * 1998-09-16 2000-03-28 Toray Ind Inc Thermosetting resin solution composition, color filter and liquid crystal display device
JP2001040059A (en) * 1999-05-24 2001-02-13 Toyo Ink Mfg Co Ltd Production method of polyurethane, and use of polyurethane obtained by the production method
JP2002220431A (en) * 2001-01-25 2002-08-09 Arakawa Chem Ind Co Ltd Alkoxy group-containing silane-modified polyurethane resin, resin composition and polyurethane resin-silica hybrid
JP2003198105A (en) * 2001-12-28 2003-07-11 Hitachi Chem Co Ltd Resin paste and flexible wiring board using the same
JP2005048046A (en) * 2003-07-28 2005-02-24 Toyo Ink Mfg Co Ltd Adhesive for dry laminate
WO2005021258A1 (en) * 2003-09-01 2005-03-10 Daicel Chemical Industries, Ltd. Surface protection film and method for producing same
JP2006133561A (en) * 2004-11-08 2006-05-25 Toppan Printing Co Ltd Electrophoretic display device
JP2006307183A (en) * 2005-03-28 2006-11-09 Ube Ind Ltd Modified polyimide resin containing polycarbonate, its composition and cured insulation film
JP2006348287A (en) * 2005-05-20 2006-12-28 Sumitomo Chemical Co Ltd High-boiling composition and polymeric light-emitting device using the same
JP2007138136A (en) * 2005-10-19 2007-06-07 Yokohama Rubber Co Ltd:The Epoxy resin/polyurethane mixture and curable resin composition
JP2007171812A (en) * 2005-12-26 2007-07-05 Showa Denko Kk Solder resist ink composition, solder resist obtained by curing the composition, and manufacturing method of the solder resist
JP2007199491A (en) * 2006-01-27 2007-08-09 Showa Denko Kk Solder resist ink composition, solder resist obtained by curing the composition and method for producing the solder resist
WO2007097405A1 (en) * 2006-02-27 2007-08-30 Showa Denko K.K. Thermosetting resin composition containing low-chlorine multifunctional aliphatic glycidyl ether compound, cured product of such composition and use thereof
JP2007332328A (en) * 2006-06-19 2007-12-27 Yokohama Rubber Co Ltd:The Silver oxide composition
WO2009051209A1 (en) * 2007-10-18 2009-04-23 Ajinomoto Co., Inc. Resin composition
JP2009191252A (en) * 2008-01-17 2009-08-27 Toyo Ink Mfg Co Ltd Flame-retardant resin composition
JP2009271290A (en) * 2008-05-07 2009-11-19 Toyo Ink Mfg Co Ltd Photosensitive resin composition for rigid printed wiring board

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1095640A (en) * 1996-09-19 1998-04-14 Takeda Chem Ind Ltd Photocurable type resin composition for coating optical fiber
JP5642961B2 (en) * 2007-04-19 2014-12-17 株式会社カネカ Novel polyimide precursor composition and use thereof

Patent Citations (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08295718A (en) * 1995-04-24 1996-11-12 Toagosei Co Ltd Polyurethane foam
JPH10158383A (en) * 1996-12-05 1998-06-16 Toagosei Co Ltd Polyether polyol
JPH11328656A (en) * 1998-05-08 1999-11-30 Fuji Photo Film Co Ltd Magnetic recording medium
JP2000086906A (en) * 1998-09-16 2000-03-28 Toray Ind Inc Thermosetting resin solution composition, color filter and liquid crystal display device
JP2001040059A (en) * 1999-05-24 2001-02-13 Toyo Ink Mfg Co Ltd Production method of polyurethane, and use of polyurethane obtained by the production method
JP2002220431A (en) * 2001-01-25 2002-08-09 Arakawa Chem Ind Co Ltd Alkoxy group-containing silane-modified polyurethane resin, resin composition and polyurethane resin-silica hybrid
JP2003198105A (en) * 2001-12-28 2003-07-11 Hitachi Chem Co Ltd Resin paste and flexible wiring board using the same
JP2005048046A (en) * 2003-07-28 2005-02-24 Toyo Ink Mfg Co Ltd Adhesive for dry laminate
WO2005021258A1 (en) * 2003-09-01 2005-03-10 Daicel Chemical Industries, Ltd. Surface protection film and method for producing same
JP2006133561A (en) * 2004-11-08 2006-05-25 Toppan Printing Co Ltd Electrophoretic display device
JP2006307183A (en) * 2005-03-28 2006-11-09 Ube Ind Ltd Modified polyimide resin containing polycarbonate, its composition and cured insulation film
JP2006348287A (en) * 2005-05-20 2006-12-28 Sumitomo Chemical Co Ltd High-boiling composition and polymeric light-emitting device using the same
JP2007138136A (en) * 2005-10-19 2007-06-07 Yokohama Rubber Co Ltd:The Epoxy resin/polyurethane mixture and curable resin composition
JP2007171812A (en) * 2005-12-26 2007-07-05 Showa Denko Kk Solder resist ink composition, solder resist obtained by curing the composition, and manufacturing method of the solder resist
JP2007199491A (en) * 2006-01-27 2007-08-09 Showa Denko Kk Solder resist ink composition, solder resist obtained by curing the composition and method for producing the solder resist
WO2007097405A1 (en) * 2006-02-27 2007-08-30 Showa Denko K.K. Thermosetting resin composition containing low-chlorine multifunctional aliphatic glycidyl ether compound, cured product of such composition and use thereof
JP2007332328A (en) * 2006-06-19 2007-12-27 Yokohama Rubber Co Ltd:The Silver oxide composition
WO2009051209A1 (en) * 2007-10-18 2009-04-23 Ajinomoto Co., Inc. Resin composition
JP2009191252A (en) * 2008-01-17 2009-08-27 Toyo Ink Mfg Co Ltd Flame-retardant resin composition
JP2009271290A (en) * 2008-05-07 2009-11-19 Toyo Ink Mfg Co Ltd Photosensitive resin composition for rigid printed wiring board

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