JP2011137108A - Thermosetting composition for protective film of wiring board - Google Patents

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Kazuhiko Oga
一彦 大賀
Mina Onishi
美奈 大西
Ritsuko Higashi
律子 東
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thermosetting composition for a protective film of a wiring board, the composition capable of giving a protective film, which is flexible, has good electric insulating reliability and adhesiveness to a flexible wiring board (that is, having good adhesiveness to a polyimide film and a tin plating layer), and to provide a protective film for a wiring board obtained by curing the above composition, and a flexible wiring board coated with the protective film. <P>SOLUTION: The thermosetting composition for a protective film of a wiring board contains, as essential components, an epoxy group-containing compound having an alkoxysilyl group in the molecule, a polyurethane having a carboxyl group and a structural unit expressed by formula (1), and a solvent (in the formula, R<SP>1</SP>represents an alkylene group having 3 to 18 carbon atoms; and n is an integer of 1 or more). <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、新規な配線板の保護膜用熱硬化性組成物、その保護膜用熱硬化性組成物を硬化して得られる配線板の保護膜、およびその保護膜によって被覆されたフレキシブル配線板に関するものである。さらに詳しくは、低反り性、可撓性、長期電気絶縁信頼性に優れかつフレキシブル配線板(即ち、ポリイミドや錫メッキが施された銅)に密着性の良好な配線板の保護膜用熱硬化性組成物、その保護膜用熱硬化性組成物を硬化して得られる配線板の保護膜、およびその保護膜で一部または全部が被覆されたフレキシブル配線板に関するものである。   The present invention relates to a novel thermosetting composition for a protective film of a wiring board, a protective film for a wiring board obtained by curing the thermosetting composition for the protective film, and a flexible wiring board coated with the protective film It is about. More specifically, thermosetting for a protective film of a wiring board having excellent low warpage, flexibility, long-term electrical insulation reliability and good adhesion to a flexible wiring board (ie, copper coated with polyimide or tin plating). The present invention relates to a protective film, a protective film for a wiring board obtained by curing the thermosetting composition for protective film, and a flexible wiring board partially or entirely covered with the protective film.

従来、フレキシブル配線回路の表面保護膜は、カバーレイフィルムと呼ばれるポリイミドフィルムをパターンに合わせた金型をつくり打ち抜いたのち、接着剤を用いて張り付けるタイプや、可撓性を持たせた紫外線硬化型、または熱硬化型のオーバーコート剤をスクリーン印刷法により塗布するタイプのものであり、特に後者は作業性の点で有用であった。これら硬化タイプのオーバーコート剤としては、主にエポキシ樹脂系、アクリル樹脂系、あるいはこれらの複合系よりなる樹脂組成物が知られている。これらは、特にブタジエン骨格、シロキサン骨格、ポリカーボネートジオール骨格、長鎖脂肪族骨格等の導入などの変性を行った樹脂を主成分とすることが多く、これにより、表面保護膜が本来備える耐熱性や、耐薬品性、電気絶縁性の低下をなるべく押さえながら、柔軟性の向上や、硬化収縮による反りの発生の抑制を行ってきた。   Conventionally, surface protection films for flexible wiring circuits are made by punching out a die that matches the pattern of a polyimide film called a coverlay film, and then pasting it using an adhesive, or UV curing with flexibility. A type or a thermosetting type overcoat agent is applied by a screen printing method, and the latter is particularly useful in terms of workability. As these curing type overcoat agents, resin compositions mainly composed of epoxy resin, acrylic resin, or composites thereof are known. These are often mainly composed of resins that have been modified, such as the introduction of a butadiene skeleton, a siloxane skeleton, a polycarbonate diol skeleton, a long-chain aliphatic skeleton, and the like. In addition, while suppressing the deterioration of chemical resistance and electrical insulation as much as possible, the improvement of flexibility and the occurrence of warpage due to curing shrinkage have been suppressed.

しかしながら、近年、電子機器の軽量小型化に伴いフレキシブル基板も軽薄化が進み、これに伴い、オーバーコートする樹脂組成物の柔軟性や硬化収縮の影響が、より顕著に現れるようになってきている。このため、硬化タイプのオーバーコート剤では、柔軟性や硬化収縮による反りの点で、要求性能を満足できなくなっているのが現状である。   However, in recent years, flexible substrates have become lighter and thinner as electronic devices become lighter and smaller, and accordingly, the effects of flexibility and curing shrinkage of the resin composition to be overcoated are becoming more prominent. . For this reason, in the present situation, the curing type overcoat agent cannot satisfy the required performance in terms of warpage due to flexibility and curing shrinkage.

例えば、特許文献1には、ポリブタジエンのブロックイソシアネートとポリオールを用いる樹脂組成物が開示されているが、その硬化物は柔軟性や収縮率の点で優れているものの、耐熱性が十分でない。   For example, Patent Document 1 discloses a resin composition using a blocked isocyanate of polybutadiene and a polyol, but the cured product is excellent in flexibility and shrinkage but has insufficient heat resistance.

特許文献2には、ポリカーボネートジオールとジイソシアネート化合物とを反応させて得られた両末端ジイソシアネートポリウレタンとトリメリット酸とを反応させたポリアミドイミド樹脂とアミン型エポキシ樹脂を含む組成物が開示されているが、ポリアミドイミド樹脂とアミン型エポキシ樹脂から得られる硬化物の電気特性の長期信頼性が十分でないという欠点があった。   Patent Document 2 discloses a composition comprising a polyamide-imide resin obtained by reacting a polycarbonate diol and a diisocyanate compound and obtained by reacting both ends diisocyanate polyurethane and trimellitic acid, and an amine type epoxy resin. However, there is a drawback that the long-term reliability of the electrical properties of the cured product obtained from the polyamideimide resin and the amine type epoxy resin is not sufficient.

特許文献3にカルボキシル基含有ポリウレタンポリイミドとエポキシ化ポリブタジエンを含有する組成物が開示されているが、この組成物は、乾燥して溶剤を除去の際に、カルボキシル基含有ポリウレタンポリイミドとエポキシ化ポリブタジエンが相分離構造を起こし易く、均一な皮膜になりにくいという欠点を有していた。   Patent Document 3 discloses a composition containing a carboxyl group-containing polyurethane polyimide and an epoxidized polybutadiene. When this composition is dried and the solvent is removed, the carboxyl group-containing polyurethane polyimide and the epoxidized polybutadiene are contained. It had the disadvantage that it easily caused a phase separation structure and was difficult to form a uniform film.

また、特許文献4にはオルガノシロキサン骨格を備えたポリアミドイミド樹脂が開示されているが、その硬化物と基材との密着性が良くない上に、N−メチル−2−ピロリドンのような特殊な溶媒を使用する必要があり、特にスクリーン印刷時に乳剤を溶解させることがあるので、問題となることがあった。   Further, Patent Document 4 discloses a polyamideimide resin having an organosiloxane skeleton, but the adhesion between the cured product and the substrate is not good, and a special material such as N-methyl-2-pyrrolidone is used. It is necessary to use a new solvent, and the emulsion may be dissolved particularly during screen printing, which may cause a problem.

また、特許文献5にはポリブタジエンポリオール、ポリイソプレンポリオール、水素化ポリブタジエンポリオールおよび水素化ポリイソプレンポリオールからなる群より選ばれるポリオールユニットを有するカルボキシル基含有ポリウレタンとエポキシ化合物を含む組成物が開示されている。例えば、COF(Chip on Film)実装方式に使用される回路パターン形成方法に目を向けると、現在、COF実装方式で広く一般的に使用されている配線はサブトラクティブ法で生産されたものである。これらのサブトラクティブ法で生産された配線用の絶縁被膜としては、特許文献5で開示されている組成物から得られる硬化物は十分な絶縁性能を発現している。   Patent Document 5 discloses a composition comprising a carboxyl group-containing polyurethane having a polyol unit selected from the group consisting of polybutadiene polyol, polyisoprene polyol, hydrogenated polybutadiene polyol and hydrogenated polyisoprene polyol, and an epoxy compound. . For example, when focusing on the circuit pattern forming method used in the COF (Chip on Film) mounting method, the wiring that is currently widely used in the COF mounting method is produced by the subtractive method. . As an insulating film for wiring produced by these subtractive methods, a cured product obtained from the composition disclosed in Patent Document 5 exhibits sufficient insulating performance.

さらに、特許文献6には、錫メッキを施した銅基板への密着性の良好な熱硬化性組成物が開示されている。この組成物を硬化して得られる硬化物に関して、特許文献6で開示されている硬化物(フレキシブル回路基板用オーバーコート剤)は、サブトラクティブ法で生産された配線用の絶縁被膜としての十分な絶縁性能を発現している。   Further, Patent Document 6 discloses a thermosetting composition having good adhesion to a tin-plated copper substrate. Regarding a cured product obtained by curing this composition, the cured product (overcoat agent for flexible circuit board) disclosed in Patent Document 6 is sufficient as an insulating film for wiring produced by a subtractive method. Insulation performance is expressed.

特開平11−61038号公報JP-A-11-61038 特開2004−137370号公報JP 2004-137370 A 特開2006−307183号公報JP 2006-307183 A 特開2004−182792号公報JP 2004-182792 A 特開2006−348278号公報JP 2006-348278 A 国際公開第2007/105713号International Publication No. 2007/105713

しかしながら、セミアディティブ法の発展に伴い、フレキシブル配線板の配線間距離が更に狭く(例えば、20μmピッチ以下)なることが予想されている。
この更なる狭ピッチ化に伴い、更なる電気絶縁信頼性の良好でかつフレキシブル配線板に良好な密着性を有する樹脂の開発が望まれている。COF実装方式に使用される、配線間距離の狭い(20μmピッチ以下)フレキシブル配線板に良好な密着性を有するためには、フレキシブル配線板の基材であるポリイミドフィルムに良好な密着性を有するばかりでなく、配線表面にメッキ層を形成している錫に良好な密着性を有することが求められる。
本発明の目的は、柔軟で、電気絶縁信頼性の良好でかつフレキシブル配線板に良好な密着性を有する(即ち、ポリイミドフィルムおよび錫メッキ層に良好な密着性を有する)保護膜を得ることができる配線板の保護膜用熱硬化性組成物、該組成物を硬化して得られる配線板の保護膜、および該保護膜によって被覆されたフレキシブル配線板を提供することを目的とする。
However, with the development of the semi-additive method, the distance between wirings of the flexible wiring board is expected to be further narrowed (for example, 20 μm pitch or less).
With this further narrowing of the pitch, it is desired to develop a resin having further excellent electrical insulation reliability and good adhesion to a flexible wiring board. In order to have good adhesion to a flexible wiring board used for COF mounting method with a short distance between wirings (20 μm pitch or less), it has only good adhesion to the polyimide film that is the base material of the flexible wiring board. In addition, it is required that tin having a plating layer on the wiring surface has good adhesion.
An object of the present invention is to obtain a protective film that is flexible, has good electrical insulation reliability, and has good adhesion to a flexible wiring board (that is, good adhesion to a polyimide film and a tin plating layer). An object of the present invention is to provide a thermosetting composition for a protective film for a wiring board, a protective film for a wiring board obtained by curing the composition, and a flexible wiring board covered with the protective film.

本発明者らは、上記課題を解決すべく研究を重ねた結果、特定の構造単位を有するポリウレタン、特定の構造を有するエポキシ基含有化合物および溶剤を含む熱硬化性組成物を用いると、該熱硬化性組成物を硬化することによって得られる硬化物が、可撓性、電気絶縁信頼性に優れかつポリイミドフィルムや錫メッキ層に対して良好な密着性を有することを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of repeated studies to solve the above problems, the present inventors have found that when a thermosetting composition containing a polyurethane having a specific structural unit, an epoxy group-containing compound having a specific structure, and a solvent is used, the heat The cured product obtained by curing the curable composition is found to be excellent in flexibility and electrical insulation reliability and have good adhesion to a polyimide film or a tin plating layer, and the present invention is completed. It came to.

即ち、本発明(I)は、分子内にアルコキシシリル基を有するエポキシ基含有化合物、カルボキシル基を有しかつ下記式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンおよび溶剤を必須成分とする配線板の保護膜用熱硬化性組成物である。   That is, the present invention (I) includes an epoxy group-containing compound having an alkoxysilyl group in a molecule, a polyurethane having a carboxyl group and having a structural unit represented by the following formula (1), and a wiring board having essential components: This is a thermosetting composition for a protective film.

Figure 2011137108
Figure 2011137108

(式中、Rは、炭素数3〜18のアルキレン基を表し、nは1以上の整数を表す。) (In the formula, R 1 represents an alkylene group having 3 to 18 carbon atoms, and n represents an integer of 1 or more.)

本発明(II)は、本発明(I)の配線板の保護膜用熱硬化性組成物を硬化して得られる配線板の保護膜である。   This invention (II) is a protective film of a wiring board obtained by hardening | curing the thermosetting composition for protective films of the wiring board of this invention (I).

本発明(III)は、フレキシブル基板上に配線が形成されてなるフレキシブル配線板の、配線が形成されている表面の一部または全部が本発明(II)の配線板の保護膜によって被覆されたことを特徴とする、保護膜によって被覆されたフレキシブル配線板である。   In the present invention (III), part or all of the surface of the flexible wiring board in which the wiring is formed on the flexible substrate is covered with the protective film of the wiring board of the present invention (II). This is a flexible wiring board covered with a protective film.

さらに言えば、本発明は、以下の[1]〜[13]の配線板の保護膜用熱硬化性組成物、[14]の配線板の保護膜、および[15]のフレキシブル配線板である。   Further, the present invention is the following thermosetting composition for a protective film of a wiring board [1] to [13], a protective film of a wiring board [14], and a flexible wiring board [15]. .

[1] 分子内にアルコキシシリル基を有するエポキシ基含有化合物、カルボキシル基を有しかつ下記式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンおよび溶剤を必須成分とする配線板の保護膜用熱硬化性組成物。 [1] Thermosetting for protective film of wiring board having epoxy group-containing compound having alkoxysilyl group in molecule, polyurethane having carboxyl group and structural unit represented by following formula (1) and solvent as essential components Sex composition.

Figure 2011137108
Figure 2011137108

(式中、Rは、炭素数3〜18のアルキレン基を表し、nは1以上の整数を表す。) (In the formula, R 1 represents an alkylene group having 3 to 18 carbon atoms, and n represents an integer of 1 or more.)

[2] カルボキシル基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンが、下記成分(a)〜成分(d)を必須とする原料成分を反応させて得られるポリウレタンポリイミドであることを特徴とする[1]に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。
成分(a) ジイソシアネート
成分(b) 炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオール
成分(c) カルボキシル基を有するジオール
成分(d) 下記式(2)で示される2官能性水酸基末端イミド
[2] The polyurethane having a carboxyl group and the structural unit represented by the formula (1) is a polyurethane polyimide obtained by reacting raw material components essentially including the following components (a) to (d): [1] The thermosetting composition for a protective film for a wiring board according to [1].
Component (a) Diisocyanate Component (b) (Poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms Component (c) Diol having a carboxyl group Component (d) Shown by the following formula (2) Bifunctional hydroxyl-terminated imide

Figure 2011137108
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(式中、R、Rは、それぞれ独立に、2価の脂肪族または芳香族炭化水素基を示し、Yはテトラカルボン酸またはその酸無水物基から誘導される4価の有機基を示し、Xはジアミンあるいはジイソシアネートから誘導される2価の有機基を示し、mは、0〜20の整数である。) Wherein R 2 and R 3 each independently represents a divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon group, and Y 1 represents a tetravalent organic group derived from a tetracarboxylic acid or an acid anhydride group thereof. X 1 represents a divalent organic group derived from diamine or diisocyanate, and m is an integer of 0 to 20.)

[3] カルボキシル基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンが、下記成分(a)、成分(b)、成分(c)および成分(e)を必須とする原料成分を反応させて得られるポリウレタンであることを特徴とする[1]に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。
成分(a) ジイソシアネート
成分(b) 炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオール
成分(c) カルボキシル基を有するジオール
成分(e) 1分子中に水酸基を3個以上有する化合物
[3] A raw material component in which the polyurethane having a carboxyl group and the structural unit represented by the formula (1) has the following components (a), (b), (c) and (e) as essential components: The thermosetting composition for a protective film for a wiring board according to [1], which is a polyurethane obtained by reaction.
Component (a) Diisocyanate Component (b) (Poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms Component (c) Diol having a carboxyl group Component (e) 3 hydroxyl groups in one molecule Compounds with more than

[4] 分子内にアルコキシシリル基を有するエポキシ基含有化合物が、分子内にアルコキシシリル基を有しかつエポキシ基を2個以上有する化合物であることを特徴とする[1]〜[3]のいずれかに記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。 [4] The compounds according to [1] to [3], wherein the epoxy group-containing compound having an alkoxysilyl group in the molecule is a compound having an alkoxysilyl group and two or more epoxy groups in the molecule. The thermosetting composition for protective films of the wiring board in any one.

[5] さらに、トリシクロデカン構造を有するエポキシ含有化合物を含むことを特徴とする[1]〜[4]のいずれかに記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。 [5] The thermosetting composition for a protective film for a wiring board according to any one of [1] to [4], further comprising an epoxy-containing compound having a tricyclodecane structure.

[6] トリシクロデカン構造を有するエポキシ含有化合物が、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン構造またはトリシクロ[3.3.1.13,7]デカン構造を有し、かつ芳香環構造を有するエポキシ含有化合物であることを特徴とする[5]に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。 [6] The epoxy-containing compound having a tricyclodecane structure has a tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane structure or a tricyclo [3.3.1.1 3,7 ] decane structure, and The thermosetting composition for a protective film for a wiring board according to [5], which is an epoxy-containing compound having an aromatic ring structure.

[7] トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン構造またはトリシクロ[3.3.1.13,7]デカン構造を有し、かつ芳香環構造を有するエポキシ含有化合物が、下記式(3)で示される化合物であることを特徴とする[6]に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。 [7] An epoxy-containing compound having a tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane structure or a tricyclo [3.3.1.1 3,7 ] decane structure and having an aromatic ring structure is described below. The thermosetting composition for a protective film of a wiring board according to [6], which is a compound represented by the formula (3).

Figure 2011137108
Figure 2011137108

(式中、lは、0または1以上の整数を表す。) (In the formula, l represents 0 or an integer of 1 or more.)

[8] 溶剤が、大気圧下で、150℃以上250℃以下の沸点を有する2種類以上の溶剤を含む混合溶剤であることを特徴とする[1]〜[7]のいずれかに記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。 [8] The solvent according to any one of [1] to [7], wherein the solvent is a mixed solvent containing two or more kinds of solvents having boiling points of 150 ° C. or more and 250 ° C. or less under atmospheric pressure. A thermosetting composition for a protective film of a wiring board.

[9] 溶剤が、大気圧下で、170℃以上200℃未満の沸点を有する少なくとも1種の溶剤と200℃以上220℃以下の沸点を有する少なくとも1種の溶剤を含む混合溶剤であることを特徴とする[1]〜[7]のいずれかに記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。 [9] The solvent is a mixed solvent containing at least one solvent having a boiling point of 170 ° C. or more and less than 200 ° C. and at least one solvent having a boiling point of 200 ° C. or more and 220 ° C. or less under atmospheric pressure. The thermosetting composition for a protective film for a wiring board according to any one of [1] to [7].

[10] 溶剤が、下記A群の中から選ばれる少なくとも1種の溶剤と下記B群の中から選ばれる少なくとも1種の溶剤を必須成分とする混合溶剤であることを特徴とする[1]〜[7]のいずれかに記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。
A群:ジエチレングリコールジエチルエーテル(沸点189℃)、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル(沸点176℃)、ジプロピレングリコールジメチルエーテル(沸点171℃)、3−メトキシブチルアセテート(沸点171℃)、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート(沸点192℃)
B群:ジエチレングリコールブチルメチルエーテル(沸点212℃)、トリプロピレングリコールジメチルエーテル(沸点215℃)、トリエチレングリコールジメチルエーテル(沸点216℃)、エチレングリコールジブチルエーテル(沸点203℃)、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート(沸点217℃)、γ−ブチロラクトン(沸点204℃)
[10] The solvent is a mixed solvent containing at least one solvent selected from the following group A and at least one solvent selected from the following group B as essential components [1] -The thermosetting composition for protective films of the wiring board in any one of [7].
Group A: Diethylene glycol diethyl ether (boiling point 189 ° C.), diethylene glycol ethyl methyl ether (boiling point 176 ° C.), dipropylene glycol dimethyl ether (boiling point 171 ° C.), 3-methoxybutyl acetate (boiling point 171 ° C.), ethylene glycol monobutyl ether acetate (boiling point) 192 ° C)
Group B: Diethylene glycol butyl methyl ether (boiling point 212 ° C.), tripropylene glycol dimethyl ether (boiling point 215 ° C.), triethylene glycol dimethyl ether (boiling point 216 ° C.), ethylene glycol dibutyl ether (boiling point 203 ° C.), diethylene glycol monoethyl ether acetate (boiling point) 217 ° C.), γ-butyrolactone (boiling point 204 ° C.)

[11] さらに、硬化促進剤を含む[1]〜[10]のいずれかに記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。 [11] The thermosetting composition for a protective film for a wiring board according to any one of [1] to [10], further comprising a curing accelerator.

[12] 硬化促進剤が、メラミン、イミダゾール化合物、シクロアミジン化合物およびその誘導体、ホスフィン系化合物およびアミン系化合物からなる群より選ばれる1種または2種以上であることを特徴とする[11]に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。 [12] The curing accelerator may be one or more selected from the group consisting of melamine, imidazole compounds, cycloamidine compounds and derivatives thereof, phosphine compounds, and amine compounds. The thermosetting composition for protective films of the described wiring board.

[13] さらに、無機微粒子および/または有機微粒子を含有することを特徴とする[1]〜[12]のいずれかに記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。 [13] The thermosetting composition for a protective film of a wiring board according to any one of [1] to [12], further comprising inorganic fine particles and / or organic fine particles.

[14] [1]〜[13]のいずれかに記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物を硬化して得られる配線板の保護膜。 [14] A protective film for a wiring board obtained by curing the thermosetting composition for a protective film for a wiring board according to any one of [1] to [13].

[15] フレキシブル基板上に配線が形成されてなるフレキシブル配線板の、配線が形成されている表面の一部または全部が[14]に記載の配線板の保護膜によって被覆されたことを特徴とする、保護膜によって被覆されたフレキシブル配線板。 [15] A flexible wiring board in which wiring is formed on a flexible substrate, wherein a part or all of the surface on which the wiring is formed is covered with the protective film of the wiring board described in [14]. A flexible wiring board covered with a protective film.

本発明の硬化物はハンドリング性が良好であり、可撓性および耐湿性が良好で、しかも高いレベルでの長期電気絶縁信頼性を有し、かつ、低反り性を有し基材との密着性が良好である。このため、フレキシブル配線板やポリイミドフィルムのようなフレキシブル基材に本発明の硬化性組成物を塗布し、その後硬化反応により硬化物(保護膜)を作成する際、保護膜付きのフレキシブル配線板や保護膜付きのフレキシブル基材の反りが小さく、その後ICチップ搭載工程の位置合わせを容易にする。
また、本発明の硬化物は可撓性を有するので、クラックの生じにくい電気絶縁保護膜付きのフレキシブル配線板(例えば、COF等のフレキシブルプリント配線板)を提供することができる。
The cured product of the present invention has good handling properties, good flexibility and moisture resistance, long-term electrical insulation reliability at a high level, low warpage, and adhesion to a substrate. Good properties. For this reason, when applying the curable composition of the present invention to a flexible substrate such as a flexible wiring board or a polyimide film, and then creating a cured product (protective film) by a curing reaction, a flexible wiring board with a protective film or The warp of the flexible base material with the protective film is small, and the alignment of the IC chip mounting process is facilitated thereafter.
Moreover, since the cured product of the present invention has flexibility, it is possible to provide a flexible wiring board (for example, a flexible printed wiring board such as COF) with an electrically insulating protective film that is less susceptible to cracking.

以下、本発明を具体的に説明する。
最初に、本発明(I)について説明する。
本発明(I)は、分子内にアルコキシシリル基を有するエポキシ基含有化合物、カルボキシル基を有しかつ下記式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンおよび溶剤を必須成分とする配線板の保護膜用熱硬化性組成物である。
Hereinafter, the present invention will be specifically described.
First, the present invention (I) will be described.
The invention (I) protects a wiring board comprising an epoxy group-containing compound having an alkoxysilyl group in the molecule, a polyurethane having a carboxyl group and a structural unit represented by the following formula (1), and a solvent as essential components. It is a thermosetting composition for a film.

Figure 2011137108
Figure 2011137108

(式中、Rは、炭素数3〜18のアルキレン基を表し、nは1以上の整数を表す。) (In the formula, R 1 represents an alkylene group having 3 to 18 carbon atoms, and n represents an integer of 1 or more.)

まず、本発明(I)の組成物の必須成分の1つである、分子内にアルコキシシリル基を有するエポキシ基含有化合物について説明する。
本発明(I)の組成物の必須成分の1つである、分子内にアルコキシシリル基を有するエポキシ基含有化合物は、1分子中にアルコキシシリル基とエポキシ基を有する化合物であれば、特に制限はない。
分子内にアルコキシシリル基を有するエポキシ基含有化合物として、例えば、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランや、下記式(4)で表される化合物を挙げることができる。
First, an epoxy group-containing compound having an alkoxysilyl group in the molecule, which is one of the essential components of the composition of the present invention (I), will be described.
The epoxy group-containing compound having an alkoxysilyl group in the molecule, which is one of the essential components of the composition of the present invention (I), is not particularly limited as long as it is a compound having an alkoxysilyl group and an epoxy group in one molecule. There is no.
Examples of the epoxy group-containing compound having an alkoxysilyl group in the molecule include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycid Examples thereof include xylpropylmethyldiethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, and a compound represented by the following formula (4).

Figure 2011137108
Figure 2011137108

(式中、複数のRは、それぞれ独立にメチル基、メトキシ基、エトキシ基を表し、pおよびqは、それぞれ独立に1以上の整数を表す。) (In the formula, plural R 4 s each independently represent a methyl group, a methoxy group, and an ethoxy group, and p and q each independently represent an integer of 1 or more.)

式(4)で表される化合物の市販品としては、例えば、コンポセランE102、E102B、E103、E103A、E201、E202(荒川化学工業株式会社製)等を挙げることができる。   As a commercial item of the compound represented by Formula (4), Composeran E102, E102B, E103, E103A, E201, E202 (made by Arakawa Chemical Industries Ltd.) etc. can be mentioned, for example.

また、分子内にアルコキシシリル基を有するエポキシ基含有化合物として、例えば、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシランのような1分子内に重合性不飽和基とアルコキシシリル基を有する化合物と、グリシジル(メタ)アクリレート、4−(メタ)アクリロイルオキシブチルグリシジルエーテルのような1分子内に重合性不飽和基とエポキシ基を有する化合物を必須成分とする重合性化合物を共重合することによって得られる高分子化合物を挙げることもできる。   Examples of the epoxy group-containing compound having an alkoxysilyl group in the molecule include 3- (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, and 3- (meth) acryloyloxypropyl. A compound having a polymerizable unsaturated group and an alkoxysilyl group in one molecule, such as triethoxysilane, 3- (meth) acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, glycidyl (meth) acrylate, List polymer compounds obtained by copolymerizing a polymerizable compound containing a compound having a polymerizable unsaturated group and an epoxy group as essential components in one molecule such as 4- (meth) acryloyloxybutyl glycidyl ether. You can also.

分子内にアルコキシシリル基を有するエポキシ基含有化合物の使用量は、後述のトリシクロデカン構造を有するエポキシ基含有化合物を含む、本発明(I)の熱硬化性組成物中に含まれるエポキシ基の総数と、後述の本発明(I)の必須成分である、カルボキシル基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンを含む、本発明(I)の熱硬化性組成物中に含まれるカルボキシル基の数との比で示すことができる。
本発明(I)の熱硬化性組成物中に含まれる、エポキシ基の総数とカルボキシル基の総数の比は、1/2〜3/1の範囲であることが好ましく、さらに好ましくは、1/1.5〜2.5/1の範囲である。この比が3/1より大きくなると、未反応のエポキシ基が多く残存する可能性が高くなり好ましいことではない。また、この比が1/2よりも小さくなると、カルボキシル基が多く残存することになり、電気絶縁性能上好ましいこととは言えない。
The amount of the epoxy group-containing compound having an alkoxysilyl group in the molecule is the amount of the epoxy group contained in the thermosetting composition of the present invention (I) including the epoxy group-containing compound having a tricyclodecane structure described later. In the thermosetting composition of the present invention (I) comprising a total number and a polyurethane having a carboxyl group and a structural unit represented by the formula (1), which is an essential component of the present invention (I) described later It can show by ratio with the number of the carboxyl group contained.
The ratio of the total number of epoxy groups to the total number of carboxyl groups contained in the thermosetting composition of the present invention (I) is preferably in the range of 1/2 to 3/1, more preferably 1 / The range is 1.5 to 2.5 / 1. When this ratio is larger than 3/1, there is a high possibility that many unreacted epoxy groups remain, which is not preferable. On the other hand, if this ratio is less than ½, many carboxyl groups remain, which is not preferable in terms of electrical insulation performance.

なお、本明細書に記載の「(メタ)アクリロイル」という表現は、アクリロイルおよび/またはメタクリロイルを意味する。
さらに、本明細書に記載の「(メタ)アクリレート」という表現は、アクリレートおよび/またはメタクリレートを意味する。
In addition, the expression “(meth) acryloyl” described in the present specification means acryloyl and / or methacryloyl.
Furthermore, the expression “(meth) acrylate” as used herein means acrylate and / or methacrylate.

分子内にアルコキシシリル基を有するエポキシ基含有化合物の中で、好ましいものとしては、式(4)で表される化合物や、前記の1分子内に重合性不飽和基とアルコキシシリル基を有する化合物と前記の1分子内に重合性不飽和基とエポキシ基を有する化合物を必須成分とする重合性化合物を共重合することによって得られる高分子化合物などの分子内にアルコキシシリル基を有しかつエポキシ基を2個以上有する化合物である。   Among the epoxy group-containing compounds having an alkoxysilyl group in the molecule, preferred are compounds represented by the formula (4) and compounds having a polymerizable unsaturated group and an alkoxysilyl group in one molecule. And an alkoxysilyl group in the molecule such as a polymer compound obtained by copolymerizing a polymerizable compound having a compound having a polymerizable unsaturated group and an epoxy group as essential components in one molecule and an epoxy A compound having two or more groups.

次に、本発明(I)の組成物の必須成分の1つである、カルボキシル基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンについて説明する。
本発明(I)の組成物の必須成分の1つである、カルボキシル基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンは、同一分子内にカルボキシル基と式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンであれば、特に制限はない。
Next, a polyurethane having a carboxyl group and having a structural unit represented by the formula (1), which is one of the essential components of the composition of the present invention (I), will be described.
A polyurethane having a carboxyl group and having a structural unit represented by the formula (1), which is one of the essential components of the composition of the present invention (I), is represented by the carboxyl group and the formula (1) in the same molecule. There is no particular limitation as long as the polyurethane has a structural unit.

Figure 2011137108
Figure 2011137108

式中、Rは、炭素数3〜18のアルキレン基を表し、nは1以上の整数を表す。
の好ましい構造としては、炭素数6〜14のアルキレン基であり、さらに好ましくは、炭素数9〜12のアルキレン基である。炭素数2以下のアルキレン基の場合には、生成するポリウレタンの耐水性を十分に保つことができず、好ましくない。また、炭素数19以上のアルキレン基の場合には、生成するポリウレタンを溶解することのできる溶剤の種類が極端に少なくなったり、ポリイミドへの密着性が低下したりする場合があり好ましいことではない。
nは、1〜20の整数であることが好ましい。
In the formula, R 1 represents an alkylene group having 3 to 18 carbon atoms, and n represents an integer of 1 or more.
A preferable structure of R 1 is an alkylene group having 6 to 14 carbon atoms, and more preferably an alkylene group having 9 to 12 carbon atoms. In the case of an alkylene group having 2 or less carbon atoms, the water resistance of the resulting polyurethane cannot be kept sufficiently, which is not preferable. Further, in the case of an alkylene group having 19 or more carbon atoms, the type of solvent capable of dissolving the generated polyurethane may be extremely reduced, or adhesion to polyimide may be lowered, which is not preferable. .
n is preferably an integer of 1 to 20.

式(1)の構造単位は、炭素数3〜18のジオール構造単位を有する(ポリ)カーボネートジオール原料由来の構造単位であるが、さらに、耐水性を増すために、ダイマージオールを、カルボキシル基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンを製造する際の1成分として用いることができかつ好ましい。原料の(ポリ)カーボネートジオールの数平均分子量は、400〜10000のものを使用することができる。   The structural unit of the formula (1) is a structural unit derived from a (poly) carbonate diol raw material having a diol structural unit having 3 to 18 carbon atoms. In order to further increase water resistance, a dimer diol is added to a carboxyl group. It can be used as one component when producing a polyurethane having a structural unit represented by formula (1) and is preferred. The raw material (poly) carbonate diol having a number average molecular weight of 400 to 10,000 can be used.

なお、本明細書に記載の(ポリ)カーボネートジオール中の「(ポリ)カーボネート」という表現は、分子中にカーボネート結合を1個以上有していることを意味する。換言すれば、「(ポリ)カーボネート」とは、モノカーボネートとポリカーボネートの両方を意味する。従って、本明細書に記載の「(ポリ)カーボネートジオール」とは、分子中にカーボネート結合を1個以上有し、アルコール性水酸基を2個有する化合物を意味する。
また、(ポリ)カーボネートジオールを製造する際に、原料であるジオール成分が残存して含まれる場合があるが、本明細書では、残存する該ジオール成分は、「(ポリ)カーボネートジオール」には含まれないものと定義する。
例えば、1,9−ノナンジオールおよびジエチルカーボネートを原料に用いて、触媒の存在下、エステル交換反応によって(ポリ)カーボネートジオールを製造する際に、原料である1,9−ノナンジオールが生成物である(ポリ)カーボネートジオール中に5質量%残存していた場合には、この残存している1,9−ノナンジオールは、「(ポリ)カーボネートジオール」には含まれないことを意味する。
In addition, the expression “(poly) carbonate” in the (poly) carbonate diol described in the present specification means that the molecule has one or more carbonate bonds. In other words, “(poly) carbonate” means both monocarbonate and polycarbonate. Therefore, “(poly) carbonate diol” described in the present specification means a compound having one or more carbonate bonds in the molecule and two alcoholic hydroxyl groups.
In addition, when the (poly) carbonate diol is produced, the raw material diol component may remain and be included. In the present specification, the remaining diol component is referred to as “(poly) carbonate diol”. It is defined as not included.
For example, when (poly) carbonate diol is produced by transesterification using 1,9-nonanediol and diethyl carbonate as raw materials in the presence of a catalyst, the raw material 1,9-nonanediol is a product. When 5 mass% remains in a certain (poly) carbonate diol, it means that the remaining 1,9-nonanediol is not included in the “(poly) carbonate diol”.

カルボキシル基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンは、一般的には、ジイソシアネート、炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオールおよびカルボキシル基を有するジオールを反応させることによって製造することができる。これらカルボキシル基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンの製造は、例えば、特開2007−39673号公報等に記載されている方法によって行うことができる。   Polyurethanes having a carboxyl group and having a structural unit represented by formula (1) are generally (poly) carbonate polyols and carboxyls having an organic residue derived from a diisocyanate, a diol having 3 to 18 carbon atoms. It can be produced by reacting a diol having a group. The production of the polyurethane having a carboxyl group and the structural unit represented by the formula (1) can be carried out, for example, by a method described in JP-A-2007-39673.

本発明(I)の組成物の硬化時の反りを抑制するためには、硬化物の耐溶剤性や長期電気絶縁特性、耐熱性を損なわない限り、硬化時の架橋密度の増加は少ない方が望ましい。硬化時の架橋密度の増加をある程度抑制しかつ硬化物の耐溶剤性や長期電気絶縁特性、耐熱性を良好に発現するためには、カルボキシル基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンは、下記の2種の構造の内、少なくとも1種の構造を分子内に有することが好ましい。
その1つは、カルボキシル基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンが、さらにイミド構造を有することである。即ち、カルボキシル基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンが、カルボキシル基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有し、さらにイミド結合を有するポリウレタンポリイミドであることが望ましい。
もう1つの構造は、溶剤に溶解する範囲で分子中に一定の分岐構造を有することが望ましい。
In order to suppress warping during curing of the composition of the present invention (I), the increase in the crosslinking density during curing should be smaller unless the solvent resistance, long-term electrical insulation properties, and heat resistance of the cured product are impaired. desirable. A structural unit having a carboxyl group and represented by the formula (1) in order to suppress an increase in the crosslinking density during curing to some extent and to exhibit the solvent resistance, long-term electrical insulation properties and heat resistance of the cured product. It is preferable that the polyurethane having has at least one of the following two structures in the molecule.
One of them is that the polyurethane having a carboxyl group and the structural unit represented by the formula (1) further has an imide structure. That is, the polyurethane having a carboxyl group and the structural unit represented by the formula (1) is a polyurethane polyimide having a carboxyl group and the structural unit represented by the formula (1), and further having an imide bond. It is desirable.
It is desirable that the other structure has a certain branched structure in the molecule as long as it is soluble in the solvent.

まず、カルボキシル基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有し、さらにイミド結合を有するポリウレタンポリイミドについて説明する。
カルボキシル基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有し、さらにイミド結合を有するポリウレタンポリイミドは、例えば、特開2006−307183号公報に記載されている化合物を挙げることができる。
特開2006−307183号公報に記載の、カルボキシル基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有し、さらにイミド結合を有するポリウレタンポリイミドは、以下の成分(a)、成分(b)、成分(c)および成分(d)の原料を反応して得ることができる。
成分(a) ジイソシアネート
成分(b) 炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオール
成分(c) カルボキシル基を有するジオール
成分(d) 式(2)で示される2官能性水酸基末端イミド
First, a polyurethane polyimide having a carboxyl group, a structural unit represented by the formula (1), and further having an imide bond will be described.
Examples of the polyurethane polyimide having a carboxyl group and having a structural unit represented by the formula (1) and further having an imide bond include compounds described in JP-A-2006-307183.
A polyurethane polyimide having a carboxyl group and having a structural unit represented by the formula (1) and further having an imide bond described in JP-A No. 2006-307183 has the following components (a) and (b): It can be obtained by reacting the raw materials of component (c) and component (d).
Component (a) Diisocyanate Component (b) (Poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms Component (c) Diol having a carboxyl group Component (d) represented by the formula (2) Bifunctional hydroxyl-terminated imide

Figure 2011137108
Figure 2011137108

式中、R、Rは、それぞれ独立に、2価の脂肪族または芳香族炭化水素基を示し、Yはテトラカルボン酸またはその酸無水物基から誘導される4価の有機基を示し、Xはジアミンあるいはジイソシアネートから誘導される2価の有機基を示し、mは、0〜20の整数である。 In the formula, R 2 and R 3 each independently represent a divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon group, and Y 1 represents a tetravalent organic group derived from a tetracarboxylic acid or an acid anhydride group thereof. X 1 represents a divalent organic group derived from diamine or diisocyanate, and m is an integer of 0 to 20.

成分(a)のジイソシアネートとしては、1分子中にイソシアネート基を2個有するものであればどのようなものでもよい。例えば、脂肪族、脂環族または芳香族のジイソシアネ−ト、好ましくはイソシアネート基を除いて炭素数が2〜30の脂肪族、脂環族または芳香族のジイソシアネートであり、具体的には1,4−テトラメチレンジイソシアネート、1,5−ペンタメチレンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチル−1,6−へキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、3−イソシアネートメチル−3,5,5−トリメチルシクロヘキシルイソシアネート(イソホロンジイソシアネート)、1,3−ビス(イソシアネートメチル)−シクロヘキサン、4,4′−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等を好適に例示することができる。   The diisocyanate of component (a) may be any as long as it has two isocyanate groups in one molecule. For example, an aliphatic, alicyclic or aromatic diisocyanate, preferably an aliphatic, alicyclic or aromatic diisocyanate having 2 to 30 carbon atoms excluding an isocyanate group, 4-tetramethylene diisocyanate, 1,5-pentamethylene diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethyl-1,6-hexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, 3-isocyanate methyl-3,5 , 5-trimethylcyclohexyl isocyanate (isophorone diisocyanate), 1,3-bis (isocyanate methyl) -cyclohexane, 4,4'-dicyclohexylmethane diisocyanate, tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 1,5- Lid diisocyanate, tolidine diisocyanate, can be preferably exemplified xylylene diisocyanate and the like.

また、ジイソシアネートは、イソシアネ−ト基をブロック化剤でブロックしたブロックジイソシアネートを用いることができる。
前記ブロック化剤としては、例えばアルコール系、フェノール系、活性メチレン系、メルカプタン系、酸アミド系、酸イミド系、イミダゾール系、尿素系、オキシム系、アミン系、イミン系、重亜硫酸塩系、ピリジン系等があり、これらを単独あるいは混合して使用してもよい。具体的なブロック化剤としては、アルコール系としてメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、2−エチルヘキサノール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルカルビトール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール等、フェノール系として、フェノール、クレゾール、エチルフェノール、ブチルフェノール、ノニルフェノール、ジノニルフェノール、スチレン化フェノール、ヒドロキシ安息香酸エステル等、活性メチレン系として、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセチルアセトン等、メルカプタン系として、ブチルメルカプタン、ドデシルメルカプタン等、酸アミド系として、アセトアニリド、酢酸アミド、ε−カプロラクタム、δ−バレロラクタム、γ−ブチロラクタム等、酸イミド系として、コハク酸イミド、マレイン酸イミド、イミダゾール系として、イミダゾール、2−メチルイミダゾール、尿素系として、尿素、チオ尿素、エチレン尿素等、オキシム系として、ホルムアルドオキシム、アセトアルドオキシム、アセトオキシム、メチルエチルケトオキシム、シクロヘキサノンオキシム等、アミン系として、ジフェニルアミン、アニリン、カルバゾール等、イミン系として、エチレンイミン、ポリエチレンイミン等、重亜硫酸塩系として、重亜硫酸ソーダ等、ピリジン系として、2−ヒドロキシピリジン、2−ヒドロキシキノリン等が挙げられる。
As the diisocyanate, a blocked diisocyanate obtained by blocking an isocyanate group with a blocking agent can be used.
Examples of the blocking agent include alcohol, phenol, active methylene, mercaptan, acid amide, acid imide, imidazole, urea, oxime, amine, imine, bisulfite, pyridine. These may be used alone or in combination. Specific blocking agents include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, 2-ethylhexanol, methyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl carbitol, benzyl alcohol, cyclohexanol, etc., phenols such as phenol, cresol, ethyl Phenol, butylphenol, nonylphenol, dinonylphenol, styrenated phenol, hydroxybenzoate, etc., active methylene, dimethyl malonate, diethyl malonate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, acetylacetone, etc., mercaptans, butyl mercaptan, Dodecyl mercaptan, etc. As acid amides, acetanilide, acetic acid amide, ε-caprolactam, δ-valerolactam, γ-butyrolol Tam, etc., acid imide type, succinimide, maleic imide, imidazole type, imidazole, 2-methylimidazole, urea type, urea, thiourea, ethylene urea, etc., oxime type, formaldoxime, acetoald Oxime, acetooxime, methyl ethyl ketoxime, cyclohexanone oxime, etc., amine type, diphenylamine, aniline, carbazole, etc., imine type, ethyleneimine, polyethyleneimine, etc., bisulfite type, bisulfite type, pyridine type, 2 -Hydroxypyridine, 2-hydroxyquinoline and the like.

成分(b)の炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオールは、目的のポリウレタンポリイミドに柔軟性を付与する作用を持つ。
炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオールは、数平均分子量が好ましくは500〜10000、より好ましくは1000〜5000のものが好適である。数平均分子量が500未満になると好適な柔軟性が得難くなり、また数平均分子量が10000を越えると耐熱性や耐溶剤性が悪くなることがあるので前記程度のものが好適である。炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオールは、具体的には宇部興産株式会社製のUH−CARB、UN−CARB、UD−CARB、UC−CARB、ダイセル化学工業株式会社製のPLACCEL CD−PL、PLACCEL CD−H、株式会社クラレ製のクラレポリオールCシリーズなどを好適に例示することができる。これらのポリカーボネートポリオールは、単独で、または2種類以上を組合せて用いられる。
The (poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms as the component (b) has an effect of imparting flexibility to a target polyurethane polyimide.
The (poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms preferably has a number average molecular weight of 500 to 10,000, more preferably 1,000 to 5,000. When the number average molecular weight is less than 500, it is difficult to obtain suitable flexibility, and when the number average molecular weight exceeds 10,000, the heat resistance and solvent resistance may be deteriorated. The (poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms is specifically UH-CARB, UN-CARB, UD-CARB, UC-CARB, Daicel manufactured by Ube Industries, Ltd. Suitable examples include PLACEL CD-PL, PLACEL CD-H manufactured by Chemical Industry Co., Ltd., and Kuraray polyol C series manufactured by Kuraray Co., Ltd. These polycarbonate polyols are used alone or in combination of two or more.

なお、(ポリ)カーボネートポリオールを製造する際に、原料であるポリオール成分が残存して含まれる場合があるが、本明細書では、残存する該ポリオール成分は、「(ポリ)カーボネートポリオール」には含まれないものと定義する。
例えば、1,9−ノナンジオールおよびジエチルカーボネートを原料に用いて、触媒の存在下、エステル交換反応によって(ポリ)カーボネートポリオールを製造する際に、原料である1,9−ノナンジオールが生成物である(ポリ)カーボネートポリオール中に5質量%残存していた場合には、この残存している1,9−ノナンジオールは、「(ポリ)カーボネートポリオール」には含まれずに、後述の成分(x)に含まれることを意味する。
In addition, when the (poly) carbonate polyol is produced, the polyol component as a raw material may remain and be included. In the present specification, the remaining polyol component is referred to as “(poly) carbonate polyol”. It is defined as not included.
For example, when (poly) carbonate polyol is produced by transesterification using 1,9-nonanediol and diethyl carbonate as raw materials in the presence of a catalyst, the raw material 1,9-nonanediol is a product. When 5% by mass remains in a certain (poly) carbonate polyol, the remaining 1,9-nonanediol is not included in the “(poly) carbonate polyol”, but the component (x ).

このポリウレタンポリイミドの原料として、1種類の炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオールを用いても構わないし、2種類以上を併用してもよい。   As a raw material of this polyurethane polyimide, a (poly) carbonate polyol having an organic residue derived from one kind of diol having 3 to 18 carbon atoms may be used, or two or more kinds may be used in combination.

成分(c)のカルボキシル基を有するジオールとしては、炭素数が1〜30のジオール化合物が好ましく、炭素数が2〜20のジオール化合物がより好ましい。カルボキシル基を有するジオールの具体例としては、2,2−ジメチロールプロピオン酸、2,2−ジメチロールブタン酸、2,2−ジメチロール酪酸、N,N−ビス(ヒドロキシエチル)グリシン、N,N−ビス(ヒドロキシメチル)グリシンなどを挙げることができる。これらの中でも溶媒への溶解度から、2,2−ジメチロールプロピオン酸、2,2−ジメチロールブタン酸が特に好ましい。これらのカルボキシル基を有するジオールを単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   The diol having a carboxyl group as the component (c) is preferably a diol compound having 1 to 30 carbon atoms, and more preferably a diol compound having 2 to 20 carbon atoms. Specific examples of the diol having a carboxyl group include 2,2-dimethylolpropionic acid, 2,2-dimethylolbutanoic acid, 2,2-dimethylolbutyric acid, N, N-bis (hydroxyethyl) glycine, N, N -Bis (hydroxymethyl) glycine etc. can be mentioned. Among these, 2,2-dimethylolpropionic acid and 2,2-dimethylolbutanoic acid are particularly preferable from the viewpoint of solubility in a solvent. These diols having a carboxyl group may be used alone or in combination of two or more.

成分(c)のカルボキシル基を有するジオールをポリウレタンポリイミドの分子内に導入することによって、ポリウレタンポリイミドを架橋する際に、効果的に架橋することが可能となり、得られる硬化絶縁膜の耐熱性や耐溶剤性を更に増大することができる。   By introducing a diol having a carboxyl group as the component (c) into the polyurethane polyimide molecule, it is possible to effectively crosslink the polyurethane polyimide, and the resulting cured insulating film has heat resistance and resistance. Solvent properties can be further increased.

成分(d)の2官能性水酸基末端イミドは、下記式(2)で示すことができる。   The bifunctional hydroxyl-terminated imide of the component (d) can be represented by the following formula (2).

Figure 2011137108
Figure 2011137108

式中、R、Rは、それぞれ独立に、2価の脂肪族または芳香族炭化水素基を示し、Yはテトラカルボン酸またはその酸無水物基から誘導される4価の有機基を示し、Xはジアミンあるいはジイソシアネートから誘導される2価の有機基を示し、mは、0〜20の整数である。 In the formula, R 2 and R 3 each independently represent a divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon group, and Y 1 represents a tetravalent organic group derived from a tetracarboxylic acid or an acid anhydride group thereof. X 1 represents a divalent organic group derived from diamine or diisocyanate, and m is an integer of 0 to 20.

この2官能性水酸基末端イミドは、テトラカルボン酸成分と、ジアミン化合物および水酸基を1個有するモノアミン化合物からなるアミン成分とから得られる。尚、前記ジアミン化合物は、後述のジイソシアネートで代替することもできる。式(2)中、mは0〜20の整数を示し、好ましくは0〜10の整数であり、より好ましくは0〜5の整数であり、特に好ましくは1〜5の整数である。mが20超では得られる絶縁膜の耐屈曲性が悪くなることがあるので前記程度のものが好適である。   This bifunctional hydroxyl-terminated imide is obtained from a tetracarboxylic acid component and an amine component composed of a diamine compound and a monoamine compound having one hydroxyl group. In addition, the said diamine compound can also be substituted with the below-mentioned diisocyanate. In formula (2), m represents an integer of 0 to 20, preferably an integer of 0 to 10, more preferably an integer of 0 to 5, and particularly preferably an integer of 1 to 5. If m exceeds 20, the bending resistance of the obtained insulating film may be deteriorated.

2官能性水酸基末端イミドの原料成分であるテトラカルボン酸成分としては、芳香族テトラカルボン酸、またはそれらの酸二無水物や低級アルコールのエステル化物が、得られるポリウレタンポリイミドの耐熱性が優れているので好適である。具体的には、2,3,3′,4′−ビフェニルテトラカルボン酸、3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸、2,2′,3,3′−ビフェニルテトラカルボン酸、3,3′,4,4′−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸、3,3′,4,4′−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、2,2−ビス(3,4−ベンゼンジカルボン酸)ヘキサフルオロプロパン、ピロメリット酸、1,4−ビス(3,4−ベンゼンジカルボン酸)ベンゼン、2,2−ビス〔4−(3,4−フェノキシジカルボン酸)フェニル〕プロパン、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸、1,2,4,5−ナフタレンテトラカルボン酸、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタンなどの芳香族テトラカルボン酸、またはそれらの酸二無水物や低級アルコールのエステル化物、およびシクロペンタンテトラカルボン酸、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸、3−メチルシクロヘキサン−1,2,4,5−テトラカルボン酸などの脂環族系テトラカルボン酸、またはそれらの酸二無水物や低級アルコ−ルのエステル化物を好適に挙げることができる。これらのなかでも特に2,3,3′,4′−ビフェニルテトラカルボン酸、3,3′,4,4′−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸、および2,2′,3,3′−ビフェニルテトラカルボン酸、またはそれらの酸二無水物や低級アルコールのエステル化物は、ポリウレタンポリイミドとしたときの溶剤に対する溶解性が優れているので好適である。
テトラカルボン酸成分は、ジアミンと反応させることが容易なテトラカルボン酸二無水物を用いることが好ましい。
As the tetracarboxylic acid component that is a raw material component of the bifunctional hydroxyl-terminated imide, aromatic tetracarboxylic acids, or their acid dianhydrides and esterified products of lower alcohols, the resulting polyurethane polyimide has excellent heat resistance. Therefore, it is preferable. Specifically, 2,3,3 ′, 4′-biphenyltetracarboxylic acid, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid, 2,2 ′, 3,3′-biphenyltetracarboxylic acid, 3,3 ′, 4,4′-diphenyl ether tetracarboxylic acid, 3,3 ′, 4,4′-diphenylsulfone tetracarboxylic acid, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic acid, 2,2- Bis (3,4-benzenedicarboxylic acid) hexafluoropropane, pyromellitic acid, 1,4-bis (3,4-benzenedicarboxylic acid) benzene, 2,2-bis [4- (3,4-phenoxydicarboxylic acid) ) Phenyl] propane, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic acid, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic acid, 1,2,4,5-naphthalenetetracarboxylic acid, , 5,8-Naphthalenetetracarboxylic acid, aromatic tetracarboxylic acids such as 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane, or their acid dianhydrides and esterified products of lower alcohols, and cyclopentane Alicyclic tetracarboxylic acids such as tetracarboxylic acid, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic acid, 3-methylcyclohexane-1,2,4,5-tetracarboxylic acid, or acid dianhydrides thereof And esterified products of lower alcohols. Among these, in particular, 2,3,3 ', 4'-biphenyltetracarboxylic acid, 3,3', 4,4'-diphenyl ether tetracarboxylic acid, and 2,2 ', 3,3'-biphenyltetracarboxylic acid These acid dianhydrides and esterified products of lower alcohols are preferred because they have excellent solubility in solvents when polyurethane polyimides are used.
The tetracarboxylic acid component is preferably a tetracarboxylic dianhydride that can be easily reacted with a diamine.

2官能性水酸基末端イミドの原料として使用されるアミン成分中のジアミン化合物としては、特に限定されるものではなく、芳香族、脂環式および脂肪族のジアミンを用いることができる。具体的には、芳香族ジアミンは、1,4−ジアミノベンゼン、1,3−ジアミノベンゼン、2,4−ジアミノトルエン、1,4−ジアミノ−2,5−ジハロゲノベンゼンなどのベンゼン環1個を含むジアミン類、ビス(4−アミノフェニル)エーテル、ビス(3−アミノフェニル)エーテル、ビス(4−アミノフェニル)スルホン、ビス(3−アミノフェニル)スルホン、ビス(4−アミノフェニル)メタン、ビス(3−アミノフェニル)メタン、ビス(4−アミノフェニル)スルフィド、ビス(3−アミノフェニル)スルフィド、2,2−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、o−ジアニシジン、o−トリジン、トリジンスルホン酸類などのベンゼン環2個を含むジアミン類、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェニル)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノフェニル)ベンゼン、α,α′−ビス(4−アミノフェニル)−1,4−ジイソプロピルベンゼン、α,α′−ビス(4−アミノフェニル)−1,3−ジイソプロピルベンゼンなどのベンゼン環3個を含むジアミン類、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、4,4′−(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、5,10−ビス(4−アミノフェニル)アントラセンなどのベンゼン環4個以上を含むジアミン類などのジアミン化合物が挙げることができる。脂環式ジアミンは、分子内に一つ以上の脂肪族環を有する炭素数が5〜30の脂環式ジアミンが好ましく、イソホロンジアミン、ノルボルネンジアミン、1,2−ジアミノシクロヘキサン、1,3−ジアミノシクロヘキサン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタンなどを挙げることができる。脂肪族ジアミンは、炭素数が2〜30の脂肪族ジアミンが好ましく、ヘキサメチレンジアミン、ジアミノドデカンなどを挙げることができる。   The diamine compound in the amine component used as a raw material for the bifunctional hydroxyl-terminated imide is not particularly limited, and aromatic, alicyclic and aliphatic diamines can be used. Specifically, the aromatic diamine is one benzene ring such as 1,4-diaminobenzene, 1,3-diaminobenzene, 2,4-diaminotoluene, 1,4-diamino-2,5-dihalogenobenzene. Diamines containing bis (4-aminophenyl) ether, bis (3-aminophenyl) ether, bis (4-aminophenyl) sulfone, bis (3-aminophenyl) sulfone, bis (4-aminophenyl) methane, Bis (3-aminophenyl) methane, bis (4-aminophenyl) sulfide, bis (3-aminophenyl) sulfide, 2,2-bis (4-aminophenyl) propane, 2,2-bis (3-aminophenyl) ) Propane, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, o-dianisidine, o-tolidine, torigins Diamines containing two benzene rings such as phonic acids, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4-aminophenyl) Benzene, 1,4-bis (3-aminophenyl) benzene, α, α'-bis (4-aminophenyl) -1,4-diisopropylbenzene, α, α'-bis (4-aminophenyl) -1, Diamines containing three benzene rings such as 3-diisopropylbenzene, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexa Fluoropropane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 4,4 '-(4-aminophenoxy) biphenyl, 9,9-bis (4-a Examples thereof include diamine compounds such as diamines containing four or more benzene rings such as minophenyl) fluorene and 5,10-bis (4-aminophenyl) anthracene. The alicyclic diamine is preferably an alicyclic diamine having 5 to 30 carbon atoms having one or more aliphatic rings in the molecule, such as isophorone diamine, norbornene diamine, 1,2-diaminocyclohexane, 1,3-diamino. Examples include cyclohexane, 1,4-diaminocyclohexane, bis (4-aminocyclohexyl) methane, and the like. The aliphatic diamine is preferably an aliphatic diamine having 2 to 30 carbon atoms, and examples thereof include hexamethylene diamine and diaminododecane.

前記ジアミン化合物のうち脂環式ジアミンを用いた2官能性水酸基末端イミドは、溶剤に対する溶解性が高くなる。このため、炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオールと組合せてポリウレタンポリイミド樹脂を得た場合でも、そのポリウレタンポリイミドは、溶剤に均一に溶解し易く、更に耐熱性が良好であるから特に好適である。
また、2官能性水酸基末端イミドの原料(即ち、式(2)のXで表される構造単位を形成する原料)として、ジイソシアネートを使用する場合には、ジイソシアネートと酸無水物の反応性を考慮すると、トリレンジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネートが好ましく、さらに好ましくは、トリレンジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネートである。
Among the diamine compounds, a bifunctional hydroxyl-terminated imide using an alicyclic diamine has high solubility in a solvent. For this reason, even when a polyurethane polyimide resin is obtained in combination with a (poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms, the polyurethane polyimide is easily dissolved in a solvent, It is particularly suitable because of its good heat resistance.
When diisocyanate is used as a raw material for the bifunctional hydroxyl-terminated imide (that is, a raw material for forming the structural unit represented by X 1 in the formula (2)), the reactivity of the diisocyanate and the acid anhydride is increased. In consideration, aromatic diisocyanates such as tolylene diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, and 1,5-naphthalene diisocyanate are preferable, and tolylene diisocyanate and 4,4′-diphenylmethane diisocyanate are more preferable.

2官能性水酸基末端イミドのアミン成分中の水酸基を1個有するモノアミン化合物としては、分子中に水酸基とアミノ基とを各1個有する化合物であれば特に限定するものではないが、アミノエタノール、アミノプロパノール、アミノブタノールなどの水酸基を有する脂肪族モノアミン化合物、特に炭素数が1〜10の水酸基を有する脂肪族モノアミン化合物、アミノシクロヘキサノールなどの水酸基を有する脂環式モノアミン化合物、特に炭素数が3〜20の水酸基を有する脂環式モノアミン化合物、アミノフェノール、アミノクレゾール、4−ヒドロキシ−4′−アミノジフェニルエーテル、4−ヒドロキシ−4′−アミノビフェニル、アミノベンジルアルコール、アミノフェネチルアルコールなどの水酸基を有する芳香族モノアミン化合物、特に炭素数が6〜20の水酸基を有する芳香族モノアミン化合物を好適に挙げることができる。   The monoamine compound having one hydroxyl group in the amine component of the bifunctional hydroxyl-terminated imide is not particularly limited as long as it is a compound having one hydroxyl group and one amino group in the molecule. Aliphatic monoamine compounds having a hydroxyl group such as propanol and aminobutanol, in particular aliphatic monoamine compounds having a hydroxyl group having 1 to 10 carbon atoms, alicyclic monoamine compounds having a hydroxyl group such as aminocyclohexanol, particularly 3 to 3 carbon atoms Fragrance having a hydroxyl group such as an alicyclic monoamine compound having 20 hydroxyl groups, aminophenol, aminocresol, 4-hydroxy-4'-aminodiphenyl ether, 4-hydroxy-4'-aminobiphenyl, aminobenzyl alcohol, aminophenethyl alcohol, etc. Group monoamination Object, in particular carbon atoms can be preferably exemplified an aromatic monoamine compound having 6-20 hydroxyl groups.

2官能性水酸基末端イミドは、テトラカルボン酸成分と、ジアミン化合物および水酸基を1個有するモノアミン化合物からなるアミン成分とを、テトラカルボン酸成分の酸無水物基(あるいは隣接する二個のカルボキル基等)の当量数と、アミン成分のアミノ基の当量数とが略等量となるようにして、溶剤中で重合およびイミド化反応させて得ることができる。具体的には、テトラカルボン酸成分(特にテトラカルボン酸二無水物)と、ジアミン化合物と水酸基を有するモノアミン化合物からなるアミン成分とを、酸無水物基(または隣接するジカルボン酸基)とアミン成分のアミノ基とが略当量となるような割合で使用して、各成分を有機極性溶媒中で、好ましくは約100℃以下、より好ましくは80℃以下の反応温度で反応させてアミド−酸結合を有するオリゴマーを生成し、次いで、そのアミド−酸オリゴマー(アミック酸オリゴマーともいう)を、約0℃〜140℃の低温でイミド化剤を添加するかあるいは140℃〜250℃の高温で加熱して脱水・イミド化させる方法によって得ることができる。脱水・イミド化反応のとき、トルエンやキシレンを加えて、共沸によって縮合水を除去しながら反応させてもよい。   The bifunctional hydroxyl-terminated imide comprises a tetracarboxylic acid component and an amine component composed of a diamine compound and a monoamine compound having one hydroxyl group, an acid anhydride group of the tetracarboxylic acid component (or two adjacent carboxyl groups, etc. ) And the number of equivalents of the amino group of the amine component so as to be substantially equal to each other, polymerization and imidization reaction can be performed in a solvent. Specifically, a tetracarboxylic acid component (particularly tetracarboxylic dianhydride), an amine component composed of a diamine compound and a monoamine compound having a hydroxyl group, an acid anhydride group (or an adjacent dicarboxylic acid group) and an amine component. Each component is reacted in an organic polar solvent, preferably at a reaction temperature of about 100 ° C. or less, more preferably 80 ° C. or less, in such a proportion that the amino group of the amide-acid bond is approximately equivalent. Then, the amide-acid oligomer (also referred to as an amic acid oligomer) is added with an imidizing agent at a low temperature of about 0 ° C to 140 ° C or heated at a high temperature of 140 ° C to 250 ° C. Can be obtained by a method of dehydration and imidization. In the dehydration / imidation reaction, toluene or xylene may be added and reacted while removing condensed water by azeotropy.

2官能性水酸基末端イミドを製造する際に使用される溶剤としては、例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−メチルカプロラクタム、などのアミド類溶媒、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルフォスホルムアミド、ジメチルスルホン、テトラメチレンスルホン、ジメチルテトラメチレンスルホンなどの硫黄原子を含有する溶媒、クレゾール、フェノール、キシレノールなどのフェノール類溶媒、ジエチレングリコールジメチルエーテル(ジグライム)、トリエチレングリコールジメチルエーテル(トリグライム)、テトラグライムなどのジグライム類溶媒、γ−ブチロラクトンなどのラクトン類溶媒、イソホロン、シクロヘキサノン、3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンなどのケトン類溶媒、ピリジン、エチレングリコール、ジオキサン、テトラメチル尿素などのその他の溶媒、また必要に応じてベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類溶媒を挙げることができる。これらの有機溶媒は単独で用いても複数種を混合して用いても構わない。   Examples of the solvent used in producing the bifunctional hydroxyl-terminated imide include amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, and N-methylcaprolactam. Solvents, dimethyl sulfoxide, hexamethylphosphamide, dimethylsulfone, tetramethylenesulfone, dimethyltetramethylenesulfone-containing solvents such as sulfur atoms, cresol, phenol, xylenol and other phenolic solvents, diethylene glycol dimethyl ether (diglyme), triethylene Glycol solvents such as glycol dimethyl ether (triglyme) and tetraglyme, lactone solvents such as γ-butyrolactone, isophorone, cyclohexanone, 3,3,5-trimethylcyclohexane Ketones solvents such Sanon, pyridine, ethylene glycol, dioxane, and other solvents such as tetramethylurea and benzene optionally toluene, aromatic hydrocarbon solvents such as xylene. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

前述のようにして製造した2官能性水酸基末端イミドは、前記式(2)中のmが異なる複数の2官能性水酸基末端イミドの混合物になることがある。本発明では、mが異なる複数の2官能性水酸基末端イミドオリゴマーからなる混合物を、それぞれのポリイミドに分離して用いても構わないが、分離しないで混合物のままで好適に用いることができる。なお、2官能性水酸基末端イミドのm(混合物の場合はmの平均値)は、製造時のアミン成分中のジアミン化合物とモノアミン化合物との仕込み比(モル比)によって制御することができる。   The bifunctional hydroxyl-terminated imide produced as described above may be a mixture of a plurality of bifunctional hydroxyl-terminated imides having different m in the formula (2). In the present invention, a mixture of a plurality of bifunctional hydroxyl-terminated imide oligomers having different m may be used separately for each polyimide, but can be suitably used as it is without being separated. In addition, m (average value of m in the case of a mixture) of bifunctional hydroxyl-terminated imides can be controlled by the charging ratio (molar ratio) of the diamine compound and the monoamine compound in the amine component at the time of production.

また、前述のようにして製造した2官能性水酸基末端イミドは、その反応液を、そのまままたは適宜濃縮あるいは希釈して、変性イミドオリゴマー溶液として使用してもよい。また、その反応液を水等の非溶解性溶媒に注ぎ込んで、粉末状の生成物として単離して、必要な時にその粉末生成物を溶剤に溶解して使用してもよい。   In addition, the bifunctional hydroxyl-terminated imide produced as described above may be used as a modified imide oligomer solution by directly or concentrating or diluting the reaction solution as it is. Alternatively, the reaction solution may be poured into a non-soluble solvent such as water and isolated as a powdered product, and the powder product may be dissolved in a solvent and used when necessary.

このポリウレタンポリイミドは、前述のように、
成分(a) ジイソシアネート、
成分(b) 炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオール、
成分(c) カルボキシル基を有するジオール、および
成分(d) 式(2)で示される2官能性水酸基末端イミド
を必須成分とする組成物を反応して得られるが、必要に応じて成分(b)、成分(c)および成分(d)のいずれにも属さないポリオール(以下、この成分を成分(x)と記す。)を併用することができる。
成分(x)としては、例えば、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,9−ノナンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、1,10−デカメチレングリコール、1,2−テトラデカンジオール、2,4−ジエチル−1,5−ペンタンジオール、2−ブチル−2−エチルプロパンジオール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,3−キシリレングリコール、1,4−キシリレングリコール等を挙げることができる。
This polyurethane polyimide, as mentioned above,
Component (a) diisocyanate,
Component (b) (poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms,
Component (c) Obtained by reacting a diol having a carboxyl group, and a component (d) having a bifunctional hydroxyl-terminated imide represented by formula (2) as essential components, the component (b ), A polyol that does not belong to any of component (c) and component (d) (hereinafter, this component is referred to as component (x)) can be used in combination.
Examples of the component (x) include 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, and 1,5-pentanediol. 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,8-octanediol, 1,3-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,9-nonanediol, 2 -Methyl-1,8-octanediol, 1,10-decamethylene glycol, 1,2-tetradecanediol, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, 2-butyl-2-ethylpropanediol, 1, Examples include 3-cyclohexanedimethanol, 1,3-xylylene glycol, and 1,4-xylylene glycol.

なお、前述のように、(ポリ)カーボネートポリオールを製造する際に、原料であるポリオール成分が残存して含まれる場合があるが、本明細書では、残存する該ポリオール成分は、「(ポリ)カーボネートポリオール」には含まれずに、成分(x)に含まれる。   As described above, when the (poly) carbonate polyol is produced, the polyol component as a raw material may be left and contained, but in this specification, the remaining polyol component is “(poly) It is not included in “carbonate polyol” but included in component (x).

成分(a)、成分(b)、成分(c)および成分(d)の各成分の組成比は、各成分合計の水酸基数/イソシアネート基数、具体的成分で示せば〔成分(b)+成分(c)+成分(d)+成分(x)〕/成分(a)のモル比が、0.5〜3.0、好ましくは0.8〜2.5、特に0.9〜2.0の割合にすることが好適である。成分(a)が多すぎると重合液が増粘することがあり好ましくない。さらに、[成分(b)+成分(c)+成分(x)]/成分(d)のモル比が0.01〜100、好ましくは0.1〜10の割合にすることが好ましい。[成分(b)+成分(c)+成分(x)]が多過ぎると耐熱性に劣り、成分(d)が多過ぎると柔軟性に劣るためである。   The composition ratio of each component of component (a), component (b), component (c), and component (d) is the total number of hydroxyl groups / isocyanate groups, and the specific component [component (b) + component The molar ratio of (c) + component (d) + component (x)] / component (a) is 0.5 to 3.0, preferably 0.8 to 2.5, especially 0.9 to 2.0. It is preferable to make the ratio. When there are too many components (a), a polymerization liquid may thicken and it is unpreferable. Furthermore, the molar ratio of [component (b) + component (c) + component (x)] / component (d) is 0.01 to 100, preferably 0.1 to 10. When there are too many [component (b) + component (c) + component (x)], it is inferior in heat resistance, and when there are too many components (d), it is inferior in a softness | flexibility.

また、このポリウレタンポリイミドを製造する際の原料成分である前記成分(b)と成分(c)の組み合わせが、数平均分子量が500〜10000の炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオール(成分(b))と成分(c)との組合せからなる時には、成分(a)と〔成分(b)+成分(c)+成分(x)〕とは〔成分(b)+成分(c)+成分(x)〕/成分(a)のモル比が0.5〜2.5、好ましくは0.8〜2.5の割合であって、且つ成分(b)と成分(c)とは、成分(c)/成分(b)のモル比が0.1〜10、好ましくは0.1〜5の割合であることが好適である。〔成分(b)+成分(c)+成分(x)〕/成分(a)の値が小さすぎると成分(d)の含有量が多くなり柔軟性に劣り、〔成分(b)+成分(c)+成分(x)〕/成分(a)の値が大きすぎると成分(d)の含有量が少なくなり耐熱性が劣るので、前記範囲の割合が好ましい。また、成分(b)と成分(c)との割合において、成分(c)の割合が多すぎると、得られるポリウレタンポリイミド溶液の粘度が高くなりすぎたり、得られる硬化膜の吸湿性が大きくなりすぎたりすることがあるので好ましくない。一方、成分(c)の割合が少なすぎると、架橋密度が低くなり得られる硬化膜の耐熱性が低下し易くなるので好ましくない。成分(x)は成分(b)や成分(c)に比べて少なく用いることが望ましく、成分(b)の合成時に残存するポリオール成分のみを用いることがさらに好ましい。   Moreover, the organic residue which the combination of the said component (b) and the component (c) which is a raw material component at the time of manufacturing this polyurethane polyimide is induced | guided | derived from a C3-C18 diol with a number average molecular weight of 500-10000. When the (poly) carbonate polyol (component (b)) and the component (c) having a component are combined, the component (a) and [component (b) + component (c) + component (x)] (B) + component (c) + component (x)] / component (a) has a molar ratio of 0.5 to 2.5, preferably 0.8 to 2.5, and component (b ) And component (c), the molar ratio of component (c) / component (b) is 0.1 to 10, preferably 0.1 to 5. If the value of [component (b) + component (c) + component (x)] / component (a) is too small, the content of component (d) increases and the flexibility is inferior, and [component (b) + component ( If the value of c) + component (x)] / component (a) is too large, the content of component (d) decreases and the heat resistance is inferior. Moreover, in the ratio of a component (b) and a component (c), when there are too many ratios of a component (c), the viscosity of the obtained polyurethane polyimide solution will become high too much, or the hygroscopic property of the obtained cured film will become large. It is not preferable because it may be too much. On the other hand, if the proportion of the component (c) is too small, the crosslink density is lowered, and the heat resistance of the resulting cured film tends to be lowered, which is not preferable. Component (x) is preferably used in a smaller amount than component (b) or component (c), and more preferably only the polyol component remaining during the synthesis of component (b) is used.

得られるポリウレタンポリイミドは、好ましくは下記式(5)〜式(7)の構造単位を含有してなる。   The resulting polyurethane polyimide preferably contains structural units of the following formulas (5) to (7).

Figure 2011137108
Figure 2011137108

(式中、Xはジイソシアネートからイソシアネート基を除いた2価の基、複数個のR20は、それぞれ独立に、炭素数3〜18のジオールから水酸基を除いた2価の基、tは1〜40の整数、uは1〜100の整数を表す。) (In the formula, X 6 is a divalent group obtained by removing an isocyanate group from diisocyanate, a plurality of R 20 are each independently a divalent group obtained by removing a hydroxyl group from a diol having 3 to 18 carbon atoms, and t is 1) Integer of ~ 40, u represents an integer of 1-100.)

Figure 2011137108
Figure 2011137108

(式中、Xはジイソシアネートからイソシアネート基を除いた2価の基、Wは、カルボキシル基を有するジオールから水酸基を除いた2価の基を表し、vは1〜40の整数を表す。) (In the formula, X 6 represents a divalent group obtained by removing an isocyanate group from diisocyanate, W represents a divalent group obtained by removing a hydroxyl group from a diol having a carboxyl group, and v represents an integer of 1 to 40.)

Figure 2011137108
Figure 2011137108

(式中、Xはジイソシアネートからイソシアネート基を除いた2価の基、複数個のR21、R22はそれぞれ独立に2価の脂肪族または芳香族炭化水素基、Yはテトラカルボン酸のカルボキシル基を除いた4価の基、Xはジアミンのアミノ基を除いた2価の基を表し、wは0〜20の整数、xは1〜100の整数を表す。) (Wherein X 6 is a divalent group obtained by removing an isocyanate group from diisocyanate, a plurality of R 21 and R 22 are each independently a divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon group, and Y 4 is a tetracarboxylic acid. A tetravalent group excluding a carboxyl group, X 7 represents a divalent group excluding an amino group of diamine, w is an integer of 0 to 20, and x is an integer of 1 to 100.)

ポリウレタンポリイミドは、ウレタン結合を介して、炭素数3〜18のジオール由来の(ポリ)カーボネートユニット、カルボキシル基含有ジオールユニット、および2官能性水酸基末端イミドユニットが共重合したものであり、u、v、およびxはそれらのユニットの重合度と構成比を示している。しかし、前記の各ユニットがブロック共重合していることを限定的に示しているのではない。炭素数3〜18のジオール由来の(ポリ)カーボネートユニット、カルボキシル基含有ジオールユニット、および2官能性水酸基末端イミドユニットがブロック共重合でもランダム共重合でも構わない。また、末端は明示していないが、末端に位置したジイソシアネート化合物または前記各ユニットによって、イソシアネート基かまたは水酸基になっている。   Polyurethane polyimide is obtained by copolymerizing a (poly) carbonate unit derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms, a carboxyl group-containing diol unit, and a bifunctional hydroxyl-terminated imide unit via a urethane bond, and u, v , And x indicate the degree of polymerization and the composition ratio of these units. However, this does not restrictively indicate that the above units are block copolymerized. The (poly) carbonate unit derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms, the carboxyl group-containing diol unit, and the bifunctional hydroxyl-terminated imide unit may be block copolymerization or random copolymerization. Moreover, although the terminal is not specified, it is an isocyanate group or a hydroxyl group by the diisocyanate compound located at the terminal or each unit.

さらに、このポリウレタンポリイミドの製造方法においては、すべての成分を同時に溶剤に溶解して反応してもよいが、2官能性水酸基末端イミドユニットがブロック的に連続した分子鎖が生成すると溶媒に不溶となって沈殿を生じ易くなるので、予めジイソシアネートと、炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオールとを、イソシアネート基が水酸基に対して過剰で反応して、次いで2官能性水酸基末端イミドと反応させることが、溶解性を保って良好に反応を進めることができるので好ましい。   Furthermore, in this method for producing polyurethane polyimide, all components may be dissolved in a solvent at the same time and reacted. However, when a molecular chain in which a bifunctional hydroxyl-terminated imide unit is formed in a block form is formed, it is insoluble in the solvent. Since precipitation is likely to occur, the diisocyanate and (poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms are reacted in excess with respect to the hydroxyl group of the isocyanate group, Next, it is preferable to react with a bifunctional hydroxyl-terminated imide because the reaction can be favorably advanced while maintaining solubility.

このポリウレタンポリイミドの製造方法を具体的に説明すると、ジイソシアネート化合物と、炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオールやカルボキシル基を有するジオールとの反応は、無溶剤あるいは溶剤に溶解して行うことができる。反応温度は好ましくは30℃〜150℃、より好ましくは30℃〜120℃であり、反応時間は通常1〜10時間である。この反応はイソシアネートが水分によって失活するのを防ぐために窒素雰囲気下で行うことが好ましい。   The production method of this polyurethane polyimide will be described in detail. The reaction between a diisocyanate compound and a (poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms or a diol having a carboxyl group is not allowed to occur. It can be carried out by dissolving in a solvent or a solvent. The reaction temperature is preferably 30 ° C to 150 ° C, more preferably 30 ° C to 120 ° C, and the reaction time is usually 1 to 10 hours. This reaction is preferably performed in a nitrogen atmosphere in order to prevent the isocyanate from being deactivated by moisture.

ジイソシアネート化合物と、炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオールやカルボキシル基を有するジオールとの反応で得られたジイソシアネート化合物と、2官能性水酸基末端イミドとの反応は、溶剤中で、好ましくは反応温度30℃〜150℃、より好ましくは30℃〜120℃、好ましくは反応時間1〜15時間、窒素雰囲気下で好適に行うことができる。尚、この反応では、ジイソシアネート化合物のイソシアネート基数に対する2官能性水酸基末端イミドの水酸基数の比(水酸基数/イソシアネート基数)は、0.5〜2.5、好ましくは1.5〜2.5であることが好適である。0.5以下であれば、得られるポリウレタンポリイミド樹脂の耐熱性が低く、2.5以上であれば硬化膜とした場合に硬くなり過ぎるため、前述の範囲であることが好ましい。   A diisocyanate compound obtained by reacting a diisocyanate compound with a (poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms or a diol having a carboxyl group, and a bifunctional hydroxyl-terminated imide The reaction can be suitably carried out in a solvent, preferably at a reaction temperature of 30 ° C. to 150 ° C., more preferably 30 ° C. to 120 ° C., preferably for a reaction time of 1 to 15 hours under a nitrogen atmosphere. In this reaction, the ratio of the number of hydroxyl groups of the bifunctional hydroxyl-terminated imide to the number of isocyanate groups of the diisocyanate compound (number of hydroxyl groups / number of isocyanate groups) is 0.5 to 2.5, preferably 1.5 to 2.5. Preferably it is. If it is 0.5 or less, the heat resistance of the resulting polyurethane polyimide resin is low, and if it is 2.5 or more, it becomes too hard when it is used as a cured film.

このポリウレタンポリイミドを製造する反応で好適に用いることができる溶剤としては、後述の本発明の熱硬化性組成物の必須成分の1つである溶剤の説明において記載する溶剤が使用できる。合成後、そのまま本発明の熱硬化性組成物の溶剤として好適なものを使用することが好ましい。溶剤の使用量は、生成するポリウレタンポリイミドの0.8〜5.0倍(質量比)とすることが好ましい。0.8倍未満では、合成時の粘度が高すぎて、攪拌不能により合成が困難となる傾向があり、5.0倍を超えると、反応速度が低下する傾向がある。   As the solvent that can be suitably used in the reaction for producing this polyurethane polyimide, the solvents described in the description of the solvent which is one of the essential components of the thermosetting composition of the present invention described later can be used. After synthesis, it is preferable to use a suitable solvent for the thermosetting composition of the present invention as it is. It is preferable that the usage-amount of a solvent shall be 0.8 to 5.0 times (mass ratio) of the polyurethane polyimide to produce | generate. If it is less than 0.8 times, the viscosity at the time of synthesis is too high, and the synthesis tends to be difficult due to the inability to stir. If it exceeds 5.0 times, the reaction rate tends to decrease.

反応温度は、80〜210℃とすることが好ましく、100〜190℃とすることがより好ましく、120〜180℃とすることが特に好ましい。80℃未満では反応時間が長くなりすぎ、210℃を超えると反応中に三次元化反応が生じてゲル化が起こり易い。反応時間は、バッチの規模、採用される反応条件により適宜選択することができる。また、必要に応じて、三級アミン類、アルカリ金属、アルカリ土類金属、スズ、亜鉛、チタニウム、コバルト等の金属または半金属化合物等の触媒存在下に反応を行ってもよい。   The reaction temperature is preferably 80 to 210 ° C, more preferably 100 to 190 ° C, and particularly preferably 120 to 180 ° C. If it is less than 80 ° C., the reaction time becomes too long, and if it exceeds 210 ° C., a three-dimensional reaction occurs during the reaction and gelation tends to occur. The reaction time can be appropriately selected depending on the scale of the batch and the reaction conditions employed. If necessary, the reaction may be performed in the presence of a catalyst such as a tertiary amine, an alkali metal, an alkaline earth metal, a metal such as tin, zinc, titanium, or cobalt, or a metalloid compound.

本発明の熱硬化性組成物を好適に得るためには、ポリウレタンポリイミドは、溶剤に少なくとも3質量%以上、好ましくは5〜60質量%程度の高濃度で溶解させることができるもので、その溶液の25℃の溶液粘度(E型回転粘度計)が1000〜10000000mPa・s、特に1000〜600000mPa・s程度であるものが好ましい。   In order to suitably obtain the thermosetting composition of the present invention, the polyurethane polyimide can be dissolved in a solvent at a high concentration of at least 3% by mass, preferably about 5 to 60% by mass. The solution viscosity at 25 ° C. (E-type rotational viscometer) is preferably 1000 to 10000000 mPa · s, particularly about 1000 to 600000 mPa · s.

このポリウレタンポリイミドの分子量が大きくなり過ぎると溶液粘度が高くなり過ぎて、組成物の調製時に攪拌が困難になる。また、組成物が高粘度になり過ぎるとスクリーン印刷などの方法で塗膜を形成する時の作業性が低下する。したがって、この発明の樹脂組成物を構成するポリウレタンポリイミドの数平均分子量は、好ましくは3000〜50000、より好ましくは4000〜40000、特に好ましくは4000〜30000である。数平均分子量が3000未満では、得られる硬化絶縁膜の耐熱性や力学特性が低下する傾向がある。   When the molecular weight of this polyurethane polyimide becomes too large, the solution viscosity becomes too high, and stirring becomes difficult during preparation of the composition. Moreover, when the composition becomes too high in viscosity, workability when forming a coating film by a method such as screen printing is lowered. Therefore, the number average molecular weight of the polyurethane polyimide constituting the resin composition of the present invention is preferably 3000 to 50000, more preferably 4000 to 40000, and particularly preferably 4000 to 30000. When the number average molecular weight is less than 3000, the heat resistance and mechanical properties of the resulting cured insulating film tend to be reduced.

このポリウレタンポリイミドの原料成分である成分(c)として、カルボキシル基を有するジオールを用いた場合、このポリウレタンポリイミドの酸価は、5〜120mgKOH/gであることが好ましく、さらに好ましくは、10〜50mgKOH/gである。酸価が5mgKOH/g未満では、トリシクロデカン構造を有するエポキシ基含有化合物との反応性が低下し、後述の、熱硬化性組成物を硬化して得られる配線板の保護膜の耐熱性が低くなることがある。一方120mgKOH/gを超えると、保護膜が硬く脆くなりすぎることがある。   When a diol having a carboxyl group is used as the component (c) which is a raw material component of the polyurethane polyimide, the acid value of the polyurethane polyimide is preferably 5 to 120 mgKOH / g, more preferably 10 to 50 mgKOH. / G. When the acid value is less than 5 mgKOH / g, the reactivity with the epoxy group-containing compound having a tricyclodecane structure decreases, and the heat resistance of the protective film of the wiring board obtained by curing the thermosetting composition described later is reduced. May be lower. On the other hand, if it exceeds 120 mgKOH / g, the protective film may be too hard and brittle.

このポリウレタンポリイミドとしては、数平均分子量が3000〜50000であり、かつ酸価が5〜120mgKOH/gであることが好ましく、さらに好ましくは、数平均分子量が4000〜30000であり、かつ酸価が10〜50mgKOH/gである。   The polyurethane polyimide preferably has a number average molecular weight of 3000 to 50000 and an acid value of 5 to 120 mgKOH / g, more preferably a number average molecular weight of 4000 to 30000 and an acid value of 10 ~ 50 mg KOH / g.

次に、カルボキシル基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有しかつ溶剤に溶解する範囲で分子中に一定の分岐構造を有するポリウレタンについて説明する。
溶剤に溶解する範囲で分子中に一定の分岐構造を有しかつカルボキシル基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンは、下記成分(a)、成分(b)、成分(c)および成分(e)を必須とする原料成分を反応することによって得られる。
成分(a) ジイソシアネート
成分(b) 炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオール
成分(c) カルボキシル基を有するジオール
成分(e) 1分子中に水酸基を3個以上有する化合物
Next, a polyurethane having a carboxyl group, a structural unit represented by the formula (1), and having a certain branched structure in the molecule as long as it dissolves in a solvent will be described.
A polyurethane having a certain branched structure in the molecule and having a carboxyl group and a structural unit represented by the formula (1) within a range that can be dissolved in a solvent includes the following component (a), component (b), component ( It is obtained by reacting raw material components essentially comprising c) and component (e).
Component (a) Diisocyanate Component (b) (Poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms Component (c) Diol having a carboxyl group Component (e) 3 hydroxyl groups in one molecule Compounds with more than

成分(a)のジイソシアネートとしては、前記のポリウレタンポリイミドの製造に用いられる成分(a)と同じものを用いることができる。   As a diisocyanate of a component (a), the same thing as the component (a) used for manufacture of the said polyurethane polyimide can be used.

成分(b)の炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオールとしては、前記のポリウレタンポリイミドの製造に用いられる成分(b)と同じものを用いることができるが、数平均分子量は好ましくは400〜10000、より好ましくは450〜5000、最も好ましくは500〜3000である。数平均分子量が400未満になると好適な柔軟性が得難くなり、また数平均分子量が10000を越えると耐熱性や耐溶剤性が悪くなることがあるので前記程度のものが好適である。   As the (poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms as the component (b), the same component (b) used in the production of the polyurethane polyimide can be used. However, the number average molecular weight is preferably 400 to 10000, more preferably 450 to 5000, and most preferably 500 to 3000. When the number average molecular weight is less than 400, it is difficult to obtain suitable flexibility, and when the number average molecular weight exceeds 10,000, the heat resistance and solvent resistance may be deteriorated.

なお、前述のように、(ポリ)カーボネートポリオールを製造する際に、原料であるポリオール成分が残存して含まれる場合があるが、本明細書では、残存する該ポリオール成分は、「(ポリ)カーボネートポリオール」には含まれないものと定義する。
例えば、トリメチロールプロパンと1,9−ノナンジオールおよびジエチルカーボネートを原料に用いて、触媒の存在下、エステル交換反応によって(ポリ)カーボネートポリオールを製造する際に、原料であるトリメチロールプロパンと1,9−ノナンジオールが生成物である(ポリ)カーボネートポリオール中にそれぞれ5質量%ずつ残存していた場合には、この残存しているトリメチロールプロパンおよび1,9−ノナンジオールは、「(ポリ)カーボネートポリオール」には含まれずに、ポリオールが1分子中に水酸基を3個以上有する化合物(この場合には、トリメチロールプロパン)である場合には、このポリオールは成分(e)に属することを意味し、ポリオールが1分子中に水酸基を2個有する化合物(この場合には、1,9−ノナンジオール)である場合には、後述の成分(y)に含まれることを意味する。
As described above, when the (poly) carbonate polyol is produced, the polyol component as a raw material may be left and contained, but in this specification, the remaining polyol component is “(poly) It is defined as not included in “carbonate polyol”.
For example, when a (poly) carbonate polyol is produced by transesterification using trimethylolpropane, 1,9-nonanediol and diethyl carbonate as raw materials in the presence of a catalyst, When 5% by mass of 9-nonanediol remained in the product (poly) carbonate polyol, the remaining trimethylolpropane and 1,9-nonanediol were “(poly) When the polyol is a compound having 3 or more hydroxyl groups in one molecule (in this case, trimethylolpropane) without being included in the “carbonate carbonate polyol”, it means that the polyol belongs to the component (e). And a polyol having two hydroxyl groups in one molecule (in this case, 1, - in the case of nonanediol) is meant to be included in the components described below (y).

成分(c)のカルボキシル基を有するジオールとしては、前記のポリウレタンポリイミドの製造に用いられる成分(c)と同じものを用いることができる。   As a diol which has a carboxyl group of a component (c), the same thing as the component (c) used for manufacture of the above-mentioned polyurethane polyimide can be used.

成分(e)の1分子中に水酸基を3個以上有する化合物としては、例えば、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ソルビトール等を挙げることができる。これらの中では、合成時の容易さを考慮すると、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートが特に好ましい。   Examples of the compound having 3 or more hydroxyl groups in one molecule of component (e) include glycerin, trimethylolethane, trimethylolpropane, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, pentaerythritol, dipentaerythritol, sorbitol, and the like. Can be mentioned. Of these, trimethylolethane, trimethylolpropane, and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate are particularly preferable in view of ease of synthesis.

また、必要に応じて、成分(b)、成分(c)および成分(e)に加えて、成分(b)、成分(c)および成分(e)のいずれにも含まれないジオール成分(以下、成分(y)と記す。)を併用することができる。   In addition to the component (b), the component (c) and the component (e), a diol component not included in any of the component (b), the component (c) and the component (e) (hereinafter, as necessary) , Described as component (y)).

成分(y)としては、例えば、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,9−ノナンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、1,10−デカメチレングリコール、1,2−テトラデカンジオール、2,4−ジエチル−1,5−ペンタンジオール、2−ブチル−2−エチルプロパンジオール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,3−キシリレングリコール、1,4−キシリレングリコール等を挙げることができる。   Examples of the component (y) include 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, and 1,5-pentanediol. 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,8-octanediol, 1,3-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,9-nonanediol, 2 -Methyl-1,8-octanediol, 1,10-decamethylene glycol, 1,2-tetradecanediol, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, 2-butyl-2-ethylpropanediol, 1, Examples include 3-cyclohexanedimethanol, 1,3-xylylene glycol, and 1,4-xylylene glycol.

本発明の熱硬化性組成物の成分であるカルボキシル基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンとして、前記の成分(a)、成分(b)、成分(c)および成分(e)を必須とする原料成分を反応することによって得られるポリウレタンを使用する場合、このポリウレタンの製造方法としては、例えば、以下の方法によって製造することができる。
ジブチル錫ジラウリレートやジオクチル錫ジラウレートのような公知のウレタン化触媒の存在下または非存在下で、溶剤を用いて、成分(a)、成分(b)、成分(c)および成分(e)を必須とする原料成分、(必要に応じて、成分(y))を反応させることにより合成することが出来る。この反応は、無触媒で実施したほうが、最終的に、後述の本発明(II)の配線板の保護膜の実使用時の物性値が向上するので好ましい。
As the polyurethane having a carboxyl group which is a component of the thermosetting composition of the present invention and having a structural unit represented by the formula (1), the above-mentioned component (a), component (b), component (c) and component When using the polyurethane obtained by reacting the raw material component which makes (e) essential, as a manufacturing method of this polyurethane, it can manufacture by the following method, for example.
Component (a), component (b), component (c) and component (e) are essential using a solvent in the presence or absence of a known urethanization catalyst such as dibutyltin dilaurate or dioctyltin dilaurate. It can be synthesized by reacting the raw material component (if necessary, component (y)). It is preferable to carry out this reaction without a catalyst because the physical property value of the protective film for the wiring board of the present invention (II) to be described later is improved.

これらの原料の仕込みを行う順番については特に制約はないが、通常は成分(b)、成分(c)、成分(e)および必要に応じて、成分(y)を先に仕込み、溶剤に溶解させた後、好ましくは20〜140℃、より好ましくは60〜120℃で、成分(a)を滴下しながら加え、その後、好ましくは50〜160℃、より好ましくは60℃〜150℃でこれらを反応させる。   Although there is no restriction | limiting in particular about the order which prepares these raw materials, Usually, a component (b), a component (c), a component (e), and a component (y) as needed are prepared first, and it melt | dissolves in a solvent. After adding, component (a) is preferably added dropwise at 20 to 140 ° C., more preferably 60 to 120 ° C., and then preferably at 50 to 160 ° C., more preferably at 60 to 150 ° C. React.

原料の仕込みモル比は、目的とする、成分(a)、成分(b)、成分(c)および成分(e)を必須とする原料成分を反応することによって得られるポリウレタンの分子量および酸価に応じて調節する。モノヒドロキシル化合物を使用することによって、このポリウレタンの分子量を調節することもできる。すなわち目的とする数平均分子量になったら(あるいは、目的とする数平均分子量に近づいたら)、末端のイソシアネート基を封鎖し、更なる数平均分子量の上昇を抑制する目的でモノヒドロキシル化合物を添加する。   The starting molar ratio of the raw materials is the molecular weight and acid value of the polyurethane obtained by reacting the desired raw material components essentially comprising component (a), component (b), component (c) and component (e). Adjust accordingly. The molecular weight of the polyurethane can also be adjusted by using a monohydroxyl compound. That is, when the target number average molecular weight is reached (or when the target number average molecular weight is approached), a monohydroxyl compound is added for the purpose of blocking the terminal isocyanate group and further suppressing the increase in the number average molecular weight. .

モノヒドロキシル化合物を使用する場合、成分(b)、成分(c)、成分(e)および成分(y)の総水酸基の数よりもポリイソシアネート化合物のイソシアネート基の数を少なくしても、同じでもあるいは多くしてもいっこうに問題ない。
また、過剰にモノヒドロキシル化合物を使用した場合には、未反応のモノヒドロキシル化合物が残存する結果となるが、この場合には、そのまま過剰のモノヒドロキシル化合物を溶剤の一部として使用してもよいし、あるいは、蒸留等により除去してもかまわない。
モノヒドロキシル化合物を、成分(a)、成分(b)、成分(c)および成分(e)を必須とする原料成分を反応することによって得られるポリウレタンに導入するのは、このポリウレタンの分子量の増大を抑制(即ち、反応を停止)するためであり、モノヒドロキシル化合物をこのポリウレタンに導入するためには、溶液中にモノヒドロキシル化合物を20〜150℃、より好ましくは70〜140℃で滴下し、その後同温度で保持して反応を完結させる。
When using a monohydroxyl compound, the number of isocyanate groups of the polyisocyanate compound may be less than or equal to the number of total hydroxyl groups of component (b), component (c), component (e) and component (y). Or there is no problem even if it is increased.
Further, when an excess of monohydroxyl compound is used, an unreacted monohydroxyl compound remains. In this case, the excess monohydroxyl compound may be used as a part of the solvent as it is. Alternatively, it may be removed by distillation or the like.
Introducing a monohydroxyl compound into a polyurethane obtained by reacting raw material components essentially comprising component (a), component (b), component (c) and component (e) increases the molecular weight of this polyurethane. In order to suppress (that is, stop the reaction), and in order to introduce the monohydroxyl compound into this polyurethane, the monohydroxyl compound is dropped into the solution at 20 to 150 ° C., more preferably at 70 to 140 ° C., Thereafter, the reaction is completed by maintaining at the same temperature.

また、成分(e)の使用量は、全原料成分の0.1〜5.0質量%であることが好ましく、さらに好ましくは、0.2〜2.0質量%であり、最も好ましくは、0.3〜1.5質量%である。0.1質量%未満の場合には、添加した効果が発現されない場合があり好ましくない。また、5.0質量%より多い場合には、合成時の分子量調整が難しくなる場合があり好ましくない。   Moreover, it is preferable that the usage-amount of a component (e) is 0.1-5.0 mass% of all the raw material components, More preferably, it is 0.2-2.0 mass%, Most preferably, 0.3 to 1.5% by mass. If it is less than 0.1% by mass, the added effect may not be exhibited, which is not preferable. Moreover, when more than 5.0 mass%, molecular weight adjustment at the time of a synthesis | combination may become difficult, and it is unpreferable.

上記のように、成分(a)、成分(b)、成分(c)および成分(e)を必須とする原料成分を反応することによって得られるポリウレタンの数平均分子量は、1000〜100000であることが好ましく、さらに好ましくは、3000〜50000であり、特に好ましくは、5000〜30000である。   As described above, the number average molecular weight of the polyurethane obtained by reacting the raw material components essentially comprising the component (a), the component (b), the component (c) and the component (e) is 1000 to 100,000. Is preferable, More preferably, it is 3000-50000, Most preferably, it is 5000-30000.

本明細書に記載の「数平均分子量」とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(以下、GPCと記す。)で測定したポリスチレン換算の数平均分子量である。数平均分子量が1,000未満では、硬化膜の伸度、可撓性、並びに強度を損なうことがあり、100,000を超えると溶剤への溶解性が低くなる上に、溶解しても粘度が高くなり、使用面で制約が生じることがある。   The “number average molecular weight” described in the present specification is a number average molecular weight in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (hereinafter referred to as GPC). If the number average molecular weight is less than 1,000, the elongation, flexibility, and strength of the cured film may be impaired. If the number average molecular weight exceeds 100,000, the solubility in a solvent becomes low, and the viscosity even if dissolved. Becomes higher, and there may be restrictions in terms of use.

なお、本明細書においては、特に断りのない限り、GPCの測定条件は以下のとおりである。
装置名:日本分光株式会社製HPLCユニット HSS−2000
カラム:ShodexカラムLF−804(3本直列)
移動相:テトラヒドロフラン
流速:1.0mL/min
検出器:日本分光株式会社製RI−2031Plus
温度:40.0℃
試料量:サンプルループ 100μL
試料濃度:0.1質量%前後に調製。
In this specification, unless otherwise specified, the GPC measurement conditions are as follows.
Device name: HPLC unit HSS-2000 manufactured by JASCO Corporation
Column: Shodex column LF-804 (3 in series)
Mobile phase: Tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 mL / min
Detector: JASCO Corporation RI-2031Plus
Temperature: 40.0 ° C
Sample volume: Sample loop 100 μL
Sample concentration: prepared at around 0.1% by mass.

このポリウレタンの酸価は、5〜120mgKOH/gであることが好ましく、さらに好ましくは、10〜50mgKOH/gである。酸価が5mgKOH/g未満では、トリシクロデカン構造を有するエポキシ基含有化合物との反応性が低下し、保護膜用熱硬化性組成物を硬化して得られる配線板の保護膜の耐熱性が低くなることがある。一方120mgKOH/gを超えると、保護膜が硬く脆くなりすぎることがある。   The acid value of this polyurethane is preferably 5 to 120 mgKOH / g, more preferably 10 to 50 mgKOH / g. When the acid value is less than 5 mgKOH / g, the reactivity with the epoxy group-containing compound having a tricyclodecane structure decreases, and the heat resistance of the protective film of the wiring board obtained by curing the thermosetting composition for protective film is low. May be lower. On the other hand, if it exceeds 120 mgKOH / g, the protective film may be too hard and brittle.

このポリウレタンとしては、数平均分子量が1000〜100000であり、かつ酸価が5〜120mgKOH/gであり、硬化反応する官能基およびカーボネート結合を有するポリウレタンが好ましく、さらに好ましくは、数平均分子量が3000〜50000であり、かつ酸価が10〜50mgKOH/gである。   As this polyurethane, a polyurethane having a number average molecular weight of 1000 to 100,000 and an acid value of 5 to 120 mgKOH / g and having a functional group capable of curing reaction and a carbonate bond is preferable, and more preferably, the number average molecular weight is 3000. The acid value is 10-50 mg KOH / g.

なお、本明細書において、ポリウレタンの酸価は、JIS K0070の電位差滴定法で測定された酸価の値である。   In addition, in this specification, the acid value of polyurethane is a value of an acid value measured by a potentiometric titration method of JIS K0070.

このポリウレタンを製造する反応で好適に用いることができる溶剤としては、後述の本発明の熱硬化性組成物の必須成分の1つである溶剤の説明において記載する溶剤が使用できる。合成後、そのまま本発明の熱硬化性組成物の溶剤として好適なものを使用することが好ましい。溶剤の使用量は、生成するポリウレタンの0.8〜5.0倍(質量比)とすることが好ましい。0.8倍未満では、合成時の粘度が高すぎて、攪拌不能により合成が困難となる傾向があり、5.0倍を超えると、反応速度が低下する傾向がある。   As the solvent that can be suitably used in the reaction for producing this polyurethane, the solvents described in the description of the solvent which is one of the essential components of the thermosetting composition of the present invention described later can be used. After synthesis, it is preferable to use a suitable solvent for the thermosetting composition of the present invention as it is. The amount of the solvent used is preferably 0.8 to 5.0 times (mass ratio) of the polyurethane to be produced. If it is less than 0.8 times, the viscosity at the time of synthesis is too high, and the synthesis tends to be difficult due to the inability to stir. If it exceeds 5.0 times, the reaction rate tends to decrease.

本発明の熱硬化性組成物の必須成分の1つである溶剤としては、大気圧下で150℃以上250℃以下の沸点を有する溶剤が、一般に用いられる。ポリウレタンの溶解性や溶剤の揮発性等のバランスをとる意味で、大気圧下で150℃以上250℃以下の沸点を有する溶剤を2種類以上併用することが可能であり、かつ好ましい。さらに好ましくは、大気圧下で170℃以上200℃未満の沸点を有する溶剤と、大気圧下で200℃以上220℃以下の沸点を有する溶剤を併用することである。   As the solvent that is one of the essential components of the thermosetting composition of the present invention, a solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher and 250 ° C. or lower under atmospheric pressure is generally used. In order to balance the solubility of the polyurethane and the volatility of the solvent, two or more solvents having a boiling point of 150 ° C. or more and 250 ° C. or less under atmospheric pressure can be used in combination. More preferably, a solvent having a boiling point of 170 ° C. or higher and lower than 200 ° C. under atmospheric pressure and a solvent having a boiling point of 200 ° C. or higher and 220 ° C. or lower under atmospheric pressure are used in combination.

大気圧下で170℃〜200℃の沸点を有する溶剤としては、例えば、ジエチレングリコールジエチルエーテル(沸点189℃)、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル(沸点176℃)、ジプロピレングリコールジメチルエーテル(沸点171℃)、3−メトキシブチルアセテート(沸点171℃)、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート(沸点192℃)等を挙げることができる。   Examples of the solvent having a boiling point of 170 ° C. to 200 ° C. under atmospheric pressure include diethylene glycol diethyl ether (boiling point 189 ° C.), diethylene glycol ethyl methyl ether (boiling point 176 ° C.), dipropylene glycol dimethyl ether (boiling point 171 ° C.), 3- Examples thereof include methoxybutyl acetate (boiling point 171 ° C.), ethylene glycol monobutyl ether acetate (boiling point 192 ° C.), and the like.

また、大気圧下で200℃以上220℃以下の沸点を有する溶剤としては、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル(沸点212℃)、トリプロピレングリコールジメチルエーテル(沸点215℃)、トリエチレングリコールジメチルエーテル(沸点216℃)、エチレングリコールジブチルエーテル(沸点203℃)、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート(沸点217℃)、γ−ブチロラクトン(沸点204℃)等を挙げることができる。   Examples of the solvent having a boiling point of 200 ° C. or higher and 220 ° C. or lower under atmospheric pressure include diethylene glycol butyl methyl ether (boiling point 212 ° C.), tripropylene glycol dimethyl ether (boiling point 215 ° C.), triethylene glycol dimethyl ether (boiling point 216 ° C.), Examples include ethylene glycol dibutyl ether (boiling point 203 ° C.), diethylene glycol monoethyl ether acetate (boiling point 217 ° C.), and γ-butyrolactone (boiling point 204 ° C.).

高揮発性であって、低温硬化性を付与でき、かつポリウレタンの製造反応を効率良く均一系で行うことができる点で、以下の溶剤の組み合わせが好ましい。
具体的には、大気圧下で170℃〜200℃の沸点を有する溶剤として、ジエチレングリコールジエチルエーテル(沸点189℃)、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル(沸点176℃)、ジプロピレングリコールジメチルエーテル(沸点171℃)の中から選ばれる少なくとも1種と、大気圧下で200℃以上220℃以下の沸点を有する溶剤として、γ−ブチロラクトン(沸点204℃)との組み合わせることが好ましく、最も好ましい組み合わせとしては、大気圧下で170℃〜200℃の沸点を有する溶剤としてジエチレングリコールジエチルエーテル(沸点189℃)と、大気圧下で200℃以上220℃以下の沸点を有する溶剤としてγ−ブチロラクトン(沸点204℃)とを組み合わせることである。
これら好ましい溶剤の組み合わせを用いると、吸湿性が低く、沸点が高く揮発性が小さいために、スクリーン印刷インクの溶媒としても優れているために好適である。
上記の効果を十分に発現させるためには、大気圧下で170℃〜200℃の沸点を有する溶剤および大気圧下で200℃以上220℃以下の沸点を有する溶剤の使用比率は、質量比で、5:95〜80:20の範囲であり、さらに好ましくは、10:90〜60:40の範囲である。
The combination of the following solvents is preferable in that it is highly volatile, can impart low-temperature curability, and can efficiently perform a polyurethane production reaction in a homogeneous system.
Specifically, as a solvent having a boiling point of 170 ° C. to 200 ° C. under atmospheric pressure, diethylene glycol diethyl ether (boiling point 189 ° C.), diethylene glycol ethyl methyl ether (boiling point 176 ° C.), dipropylene glycol dimethyl ether (boiling point 171 ° C.) It is preferable to combine at least one selected from the above and γ-butyrolactone (boiling point 204 ° C.) as a solvent having a boiling point of 200 ° C. or higher and 220 ° C. or lower under atmospheric pressure, and the most preferable combination is under atmospheric pressure. In combination, diethylene glycol diethyl ether (boiling point 189 ° C.) as a solvent having a boiling point of 170 ° C. to 200 ° C. and γ-butyrolactone (boiling point 204 ° C.) as a solvent having a boiling point of 200 ° C. to 220 ° C. under atmospheric pressure. It is.
Use of a combination of these preferable solvents is preferable because it has a low hygroscopic property, a high boiling point, and a low volatility, and is therefore excellent as a solvent for screen printing ink.
In order to sufficiently express the above effect, the ratio of the solvent having a boiling point of 170 ° C. to 200 ° C. under atmospheric pressure and the solvent having a boiling point of 200 ° C. or higher and 220 ° C. or lower under atmospheric pressure is expressed by mass ratio. The range is from 5:95 to 80:20, and more preferably from 10:90 to 60:40.

また、ポリウレタンの溶解性を損なわない範囲で、さらに、大気圧下で170℃〜200℃の沸点を有する溶剤および大気圧下で200℃以上220℃以下の沸点を有する溶剤以外の溶剤を併用することができる。反応性モノマーや反応性希釈剤も溶剤として使用することができる。   Further, a solvent other than a solvent having a boiling point of 170 ° C. to 200 ° C. under atmospheric pressure and a solvent having a boiling point of 200 ° C. or higher and 220 ° C. or lower under atmospheric pressure is used in combination as long as the solubility of polyurethane is not impaired. be able to. Reactive monomers and reactive diluents can also be used as solvents.

熱硬化性組成物中の溶剤の含有量は、好ましくは25〜75質量%であり、より好ましくは35〜65質量%である。溶剤の含有量が少なすぎると熱硬化性組成物の粘度が高くなりすぎ、後述の最も好ましい印刷法であるスクリーン印刷法で印刷しにくくなる傾向があり、溶剤の含有量が多すぎると、スクリーン印刷後の熱硬化性組成物のにじみにより広がりが大きくなり、その結果として、熱硬化性組成物を塗布したい部位(即ち、印刷版の形状)より、実際の熱硬化性組成物の印刷面積が大きくなりすぎる傾向がある。   Content of the solvent in a thermosetting composition becomes like this. Preferably it is 25-75 mass%, More preferably, it is 35-65 mass%. If the solvent content is too low, the viscosity of the thermosetting composition becomes too high, and it tends to be difficult to print by the screen printing method, which is the most preferred printing method described later. If the solvent content is too high, the screen The spread of the thermosetting composition after printing increases, and as a result, the printing area of the actual thermosetting composition is larger than the portion (ie, the shape of the printing plate) where the thermosetting composition is to be applied. There is a tendency to become too large.

さらに、本発明(I)の配線板の保護膜用熱硬化性組成物は、電気絶縁信頼性を高く維持するためには、さらに、トリシクロデカン構造を有するエポキシ含有化合物を含むことが可能でありかつ好ましい。
このトリシクロデカン構造を有するエポキシ基含有化合物としては、分子中にトリシクロデカン構造とエポキシ基を有する化合物であれば、特に制限はない。
トリシクロデカン構造とは、例えば、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン構造またはトリシクロ[3.3.1.13,7]デカン構造を挙げることができる。
トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン構造を有するエポキシ基含有化合物としては、例えば、下記式(3)や下記式(10)のような化合物を挙げることができる。
Furthermore, the thermosetting composition for a protective film of a wiring board of the present invention (I) can further contain an epoxy-containing compound having a tricyclodecane structure in order to maintain high electrical insulation reliability. Yes and preferred.
The epoxy group-containing compound having a tricyclodecane structure is not particularly limited as long as it is a compound having a tricyclodecane structure and an epoxy group in the molecule.
Examples of the tricyclodecane structure include a tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane structure or a tricyclo [3.3.1.1 3,7 ] decane structure.
Examples of the epoxy group-containing compound having a tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane structure include compounds represented by the following formula (3) and the following formula (10).

Figure 2011137108
Figure 2011137108

(式中、lは、0または1以上の整数を表す。) (In the formula, l represents 0 or an integer of 1 or more.)

Figure 2011137108
Figure 2011137108

(式中、gは、0または1以上の整数を表す。) (In the formula, g represents 0 or an integer of 1 or more.)

また、トリシクロ[3.3.1.13,7]デカン構造を有するエポキシ基含有化合物としては、例えば、下記式(11)〜下記式(14)のような化合物を挙げることができる。 In addition, examples of the epoxy group-containing compound having a tricyclo [3.3.1.1 3,7 ] decane structure include compounds represented by the following formula (11) to the following formula (14).

Figure 2011137108
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Figure 2011137108
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Figure 2011137108
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これらのトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン構造またはトリシクロ[3.3.1.13,7]デカン構造とエポキシ基を有する化合物の中では吸水率を低くすることが好ましく、具体的には、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン構造またはトリシクロ[3.3.1.13,7]デカン構造を有し、かつ芳香環構造を有するエポキシ基含有化合物が好ましい。
上記の式(3)および式(10)〜(14)の中では、式(3)および式(11)〜式(14)で示される化合物が当てはまる。
Among these compounds having a tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane structure or a tricyclo [3.3.1.1 3,7 ] decane structure and an epoxy group, it is preferable to reduce the water absorption rate. Specifically, an epoxy group containing a tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane structure or a tricyclo [3.3.1.1 3,7 ] decane structure and having an aromatic ring structure Compounds are preferred.
Among the formulas (3) and (10) to (14), the compounds represented by the formulas (3) and (11) to (14) are applicable.

トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン構造またはトリシクロ[3.3.1.13,7]デカン構造を有し、かつ芳香環構造を有するエポキシ基含有化合物の中で、入手の容易さを考慮すると、式(3)で示される化合物が特に好ましい。
式(3)で示される化合物は、DIC株式会社から市販され(グレード名:エピクロンHP−7200L、エピクロンHP−7200、エピクロンHP−7200H、エピクロンHP−7200HH)、また、日本化薬株式会社からもXD−1000−2L、XD−1000のグレード名で市販されており、容易に入手可能である。
Among epoxy group-containing compounds having a tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane structure or a tricyclo [3.3.1.1 3,7 ] decane structure and having an aromatic ring structure In view of the ease, the compound represented by the formula (3) is particularly preferable.
The compound represented by the formula (3) is commercially available from DIC Corporation (grade names: Epicron HP-7200L, Epicron HP-7200, Epicron HP-7200H, Epicron HP-7200HH), and also from Nippon Kayaku Co., Ltd. It is commercially available under the grade names XD-1000-2L and XD-1000 and is easily available.

トリシクロデカン構造を有するエポキシ基含有化合物の使用量は、前述のように、分子内にアルコキシシリル基を有するエポキシ基含有化合物を含む、本発明(I)の熱硬化性組成物中に含まれるエポキシ基の総数と、前述の本発明(I)の必須成分である、カルボキシル基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンを含む、本発明(I)の熱硬化性組成物中に含まれるカルボキシル基の数との比で示すことができる。
本発明(I)の熱硬化性組成物中に含まれる、エポキシ基の総数とカルボキシル基の総数の比は、1/2〜3/1の範囲であることが好ましく、さらに好ましくは、1/1.5〜2.5/1の範囲である。この比が3/1より大きくなると、未反応のエポキシ基が多く残存する可能性が高くなり好ましいことではない。また、この比が1/2よりも小さくなると、カルボキシル基が多く残存することになり、電気絶縁性能上好ましいこととは言えない。
The amount of the epoxy group-containing compound having a tricyclodecane structure is included in the thermosetting composition of the present invention (I) including the epoxy group-containing compound having an alkoxysilyl group in the molecule as described above. Thermosetting composition of the present invention (I) comprising a total number of epoxy groups and a polyurethane having a carboxyl group and a structural unit represented by the formula (1), which is an essential component of the present invention (I). It can show by ratio with the number of the carboxyl groups contained in a thing.
The ratio of the total number of epoxy groups to the total number of carboxyl groups contained in the thermosetting composition of the present invention (I) is preferably in the range of 1/2 to 3/1, more preferably 1 / The range is 1.5 to 2.5 / 1. When this ratio is larger than 3/1, there is a high possibility that many unreacted epoxy groups remain, which is not preferable. On the other hand, if this ratio is less than ½, many carboxyl groups remain, which is not preferable in terms of electrical insulation performance.

本発明(I)の熱硬化性組成物中には、さらに、硬化促進剤を含むことが出来かつ好ましい。硬化促進剤としては、エポキシ基とカルボキシル基の反応を促進する化合物であれば特に限定されるものではなく、例えば、メラミン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン、2,4−ジアミノ−6−メタクリロイルオキシエチル−s−トリアジン、2,4−メタクリロイルオキシエチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−ビニル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−ビニル−s−トリアジン・イソシアヌル酸付加物等のトリアジン系化合物、イミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−アミノエチル−2−エチルー4−メチルイミダゾール、1−アミノエチル−2−メチルイミダゾール、1−(シアノエチルアミノエチル)−2−メチルイミダゾール、N−[2−(2−メチル−1−イミダゾリル)エチル]尿素、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾリウムトリメリテート、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテート、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾリウムトリメリテート、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテート、2,4−ジアミノ−6−[2′−メチルイミダゾリル−(1′)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2′−ウンデシルイミダゾリル−(1′)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2′−エチル−4′−メチルイミダゾリル−(1′)]−エチル−s−トリアジン、1−ドデシル−2−メチル−3−ベンジルイミダゾリウムクロライド、N,N′−ビス(2−メチル−1−イミダゾリルエチル)尿素、N,N′−ビス(2−メチル−1−イミダゾリルエチル)アジポアミド、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−メチルイミダゾール・イソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾール・イソシアヌル酸付加物、2,4−ジアミノ−6−[2′−メチルイミダゾリル−(1′)]−エチル−s−トリアジン・イソシアヌル酸付加物、2−メチル−4−フォルミルイミダゾール、2−エチル−4−メチルー5−フォルミルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルフォルミルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、1−(2−ヒドロキシエチル)イミダゾール、ビニルイミダゾール、1−メチルイミダゾール、1−アリルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−ブチルイミダゾール、2−ブチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンズイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール臭化水素塩、1−ドデシル−2−メチル−3−ベンジルイミダゾリウムクロライド等のイミダゾール系化合物、1,5−ジアザビシクロ(4.3.0)ノネン−5およびその塩、1,8−ジアザビシクロ(5.4.0)ウンデセン−7およびその塩等のジアザビシクロアルケンなどのシクロアミジン化合物およびその誘導体、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等の3級アミノ基含有化合物、トリフェニルホスフィン、ジフェニル(p−トリル)ホスフィン、トリス(アルキルフェニル)ホスフィン、トリス(アルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(アルキル・アルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(ジアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(トリアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(テトラアルキルフェニル)ホスフィン、トリス(ジアルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(トリアルコキシフェニル)ホスフィン、トリス(テトラアルコキシフェニル)ホスフィン、トリアルキルホスフィン、ジアルキルアリールホスフィン、アルキルジアリールホスフィン等の有機ホスフィン化合物、ジシアンジアジド等を挙げることができる。   The thermosetting composition of the present invention (I) can further preferably contain a curing accelerator. The curing accelerator is not particularly limited as long as it is a compound that promotes the reaction between an epoxy group and a carboxyl group. For example, melamine, acetoguanamine, benzoguanamine, 2,4-diamino-6-methacryloyloxyethyl-s -Triazines such as triazine, 2,4-methacryloyloxyethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6-vinyl-s-triazine, 2,4-diamino-6-vinyl-s-triazine and isocyanuric acid adducts Compounds, imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 2-phenyl-4 -Methylimidazole, 1-cyanoethyl-2 Methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-aminoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-aminoethyl-2-methylimidazole, 1- (cyanoethylaminoethyl) -2-methyl Imidazole, N- [2- (2-Methyl-1-imidazolyl) ethyl] urea, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazolium trimellitate, 1-cyanoethyl-2-phenyl Imidazolium trimellitate, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazolium trimellitate, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6- [2'-methyl Imidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine 2,4-diamino-6- [2'-undecylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-ethyl-4'-methylimidazolyl- (1 ′)]-Ethyl-s-triazine, 1-dodecyl-2-methyl-3-benzylimidazolium chloride, N, N′-bis (2-methyl-1-imidazolylethyl) urea, N, N′-bis ( 2-methyl-1-imidazolylethyl) adipamide, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-methylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl Imidazole-isocyanuric acid adduct, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-tria Gin isocyanuric acid adduct, 2-methyl-4-formylimidazole, 2-ethyl-4-methyl-5-formylimidazole, 2-phenyl-4-methylformylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 1- (2-hydroxyethyl) imidazole, vinylimidazole, 1-methylimidazole, 1-allylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-butylimidazole, 2-butyl-5-hydroxymethylimidazole, Imidazoles such as 2,3-dihydro-1H-pyrrolo [1,2-a] benzimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole hydrobromide, 1-dodecyl-2-methyl-3-benzylimidazolium chloride Compound, 1,5-diazabicyclo 4.3.0) Nonamene-5 and salts thereof, cycloamidine compounds such as diazabicycloalkenes such as 1,8-diazabicyclo (5.4.0) undecene-7 and salts thereof, and derivatives thereof, triethylenediamine, benzyl Tertiary amino group-containing compounds such as dimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol, tris (dimethylaminomethyl) phenol, triphenylphosphine, diphenyl (p-tolyl) phosphine, tris (alkylphenyl) phosphine, tris (alkoxyphenyl) ) Phosphine, tris (alkylalkoxyphenyl) phosphine, tris (dialkylphenyl) phosphine, tris (trialkylphenyl) phosphine, tris (tetraalkylphenyl) phosphine, tris (dialkoxy) Eniru) phosphine, tris (tri-alkoxyphenyl) phosphine, tris (tetra-alkoxyphenyl) phosphine, trialkyl phosphine, dialkyl aryl phosphines, organic phosphine compounds such as an alkyl diaryl phosphines, can be given Jishianjiajido like.

これらの硬化促進剤を単独で使用しても、あるいは2種類以上を併用しても良い。
これらの硬化促進剤の中で、硬化促進作用および電気絶縁性能の両立させることを考慮すると、好ましいものとしては、メラミン、イミダゾール化合物、シクロアミジン化合物およびその誘導体、ホスフィン系化合物およびアミン系化合物であり、さらに好ましくは、メラミン、1,5−ジアザビシクロ(4.3.0)ノネン−5およびその塩、1,8−ジアザビシクロ(5.4.0)ウンデセン−7およびその塩である。
These curing accelerators may be used alone or in combination of two or more.
Among these curing accelerators, in view of achieving both curing acceleration action and electrical insulation performance, preferable ones are melamine, imidazole compound, cycloamidine compound and derivatives thereof, phosphine compound and amine compound. More preferred are melamine, 1,5-diazabicyclo (4.3.0) nonene-5 and salts thereof, and 1,8-diazabicyclo (5.4.0) undecene-7 and salts thereof.

これらの硬化促進剤の配合量は、硬化促進効果が達成できれば特に制限はない。しかし、本発明(I)の熱硬化性組成物の硬化性および本発明(I)の熱硬化性組成物を硬化して得られる保護膜の電気絶縁特性や耐水性の観点からは、本発明(I)の熱硬化性組成物中に含まれる、カルボキシル基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンとトリシクロデカン構造を有するエポキシ基含有化合物の総量100質量部に対し、0.05〜5質量部の範囲で配合することが好ましく、より好ましくは0.1〜3.0質量部である。配合量が0.05質量部未満では短時間で硬化させることが困難であり、5質量部を超えると組成物を硬化して得られる硬化物の電気絶縁特性や耐水性の悪化させてしまう場合がある。   There is no restriction | limiting in particular if the compounding quantity of these hardening accelerators can achieve the hardening acceleration effect. However, from the viewpoints of curability of the thermosetting composition of the present invention (I) and electrical insulating properties and water resistance of the protective film obtained by curing the thermosetting composition of the present invention (I), the present invention For 100 parts by mass of the total amount of the polyurethane having a carboxyl group and the structural unit represented by the formula (1) and the epoxy group-containing compound having a tricyclodecane structure contained in the thermosetting composition of (I) It is preferable to mix | blend in the range of 0.05-5 mass parts, More preferably, it is 0.1-3.0 mass parts. When the blending amount is less than 0.05 parts by mass, it is difficult to cure in a short time, and when it exceeds 5 parts by mass, the electrical insulation characteristics and water resistance of the cured product obtained by curing the composition are deteriorated. There is.

本発明(I)の熱硬化性組成物には、流動性を調節する目的で、無機微粒子および/または有機微粒子を配合することが可能でありかつ配合することが好ましい。
なお、本明細書においては、「無機微粒子および/または有機微粒子」とは、無機微粒子、有機微粒子のみならず、粉末状の無機化合物に有機化合物で物理的に被覆あるいは有機化合物で化学的に表面処理したような有機・無機の複合物系微粒子も含まれるものと定義する。
In the thermosetting composition of the present invention (I), inorganic fine particles and / or organic fine particles can be blended and preferably blended for the purpose of adjusting fluidity.
In the present specification, “inorganic fine particles and / or organic fine particles” means not only inorganic fine particles and organic fine particles, but also a powdery inorganic compound that is physically coated with an organic compound or chemically surfaced with an organic compound. It is defined to include organic / inorganic composite-based fine particles that have been treated.

本発明(I)の熱硬化性組成物に配合する目的で使用されることのある無機微粒子および/または有機微粒子は、本発明(I)の必須成分であるトリシクロデカン構造を有するエポキシ基含有化合物、カルボキシル基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンおよび溶剤を含む組成物に分散してペーストを形成するものであれば、特に制限はない。   Inorganic fine particles and / or organic fine particles that may be used for the purpose of blending in the thermosetting composition of the present invention (I) contain an epoxy group having a tricyclodecane structure, which is an essential component of the present invention (I). There is no particular limitation as long as it forms a paste by dispersing in a composition containing a compound, a polyurethane having a carboxyl group and a structural unit represented by formula (1) and a solvent.

無機微粒子としては、例えば、シリカ(SiO)、アルミナ(Al)、チタニア(TiO)、酸化タンタル(Ta)、ジルコニア(ZrO)、窒化珪素(Si)、チタン酸バリウム(BaO・TiO)、炭酸バリウム(BaCO)、チタン酸鉛(PbO・TiO)、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)、チタン酸ジルコン酸ランタン鉛(PLZT)、酸化ガリウム(Ga)、スピネル(MgO・Al)、ムライト(3Al・2SiO)、コーディエライト(2MgO・2Al・5SiO)、タルク(3MgO・4SiO・HO)、チタン酸アルミニウム(TiO−Al)、イットリア含有ジルコニア(Y−ZrO)、珪酸バリウム(BaO・8SiO)、窒化ホウ素(BN)、炭酸カルシウム(CaCO)、硫酸カルシウム(CaSO)、酸化亜鉛(ZnO)、チタン酸マグネシウム(MgO・TiO)、硫酸バリウム(BaSO)、有機ベントナイト、カーボン(C)などが挙げられ、これらは1種単独でまたは2種以上組み合わせて使用することができる。 Examples of the inorganic fine particles include silica (SiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), titania (TiO 2 ), tantalum oxide (Ta 2 O 5 ), zirconia (ZrO 2 ), and silicon nitride (Si 3 N 4 ). , Barium titanate (BaO · TiO 2 ), barium carbonate (BaCO 3 ), lead titanate (PbO · TiO 2 ), lead zirconate titanate (PZT), lead lanthanum zirconate titanate (PLZT), gallium oxide ( Ga 2 O 3), spinel (MgO · Al 2 O 3) , mullite (3Al 2 O 3 · 2SiO 2 ), cordierite (2MgO · 2Al 2 O 3 · 5SiO 2), talc (3MgO · 4SiO 2 · H 2 O), aluminum titanate (TiO 2 -Al 2 O 3) , yttria-containing zirconia (Y 2 O 3 -ZrO 2) Barium silicate (BaO · 8SiO 2), boron nitride (BN), calcium carbonate (CaCO 3), calcium sulfate (CaSO 4), zinc oxide (ZnO), magnesium titanate (MgO · TiO 2), barium sulfate (BaSO 4 ), Organic bentonite, carbon (C) and the like, and these can be used alone or in combination of two or more.

有機微粒子としては、アミド結合、イミド結合、エステル結合またはエーテル結合を有する耐熱性樹脂の微粒子が好ましい。これの樹脂としては、耐熱性および機械特性の観点から、好ましくはポリイミド樹脂若しくはその前駆体、ポリアミドイミド樹脂若しくはその前駆体、またはポリアミド樹脂が挙げられる。   The organic fine particles are preferably heat-resistant resin fine particles having an amide bond, an imide bond, an ester bond or an ether bond. The resin is preferably a polyimide resin or a precursor thereof, a polyamideimide resin or a precursor thereof, or a polyamide resin from the viewpoint of heat resistance and mechanical properties.

これらの無機微粒子および/または有機微粒子の平均粒子径は、好ましくは0.01〜10μm、さらに好ましくは0.1〜5μmである。
また、無機微粒子および/または有機微粒子の配合量は、前記硬化性樹脂組成物に含まれる、カルボキシル基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンを含む高分子化合物、溶媒、および分子内にアルコキシシリル基を有するエポキシ基含有化合物やトリシクロデカン構造を有するエポキシ含有化合物を含むエポキシ基含有化合物の総量100質量部に対して、好ましくは1〜150質量部、より好ましくは1〜120質量部であり、さらに好ましくは1〜60質量部である。
The average particle diameter of these inorganic fine particles and / or organic fine particles is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.1 to 5 μm.
The compounding amount of the inorganic fine particles and / or the organic fine particles is a polymer compound containing a polyurethane having a carboxyl group and having a structural unit represented by the formula (1), a solvent, Preferably, the amount of the epoxy group-containing compound including the epoxy group-containing compound having an alkoxysilyl group in the molecule and the epoxy-containing compound having a tricyclodecane structure is preferably 1 to 150 parts by mass, more preferably 1 It is -120 mass parts, More preferably, it is 1-60 mass parts.

本発明(I)の配線板の保護膜用熱硬化性組成物は、例えば、スクリーン印刷法を用いてパターニングされるChip On Film(以下、COFと記す。)用の配線板の保護膜用熱硬化性組成物として使用可能である。
なお、本明細書で記載の「COF」とは、ベアチップをフレキシブル配線板に搭載し、接続する実装方式を意味する。
The thermosetting composition for a protective film of a wiring board of the present invention (I) is, for example, a heat for a protective film of a wiring board for Chip On Film (hereinafter referred to as COF) patterned by a screen printing method. It can be used as a curable composition.
Note that “COF” described in this specification means a mounting method in which a bare chip is mounted on a flexible wiring board and connected.

本発明(I)の熱硬化性組成物を、スクリーン印刷法を用いてパターニングされるCOF用の配線板の保護膜用熱硬化性組成物として使用する場合には、印刷の際の泡の発生を消すあるいは抑制する目的で、消泡剤を使用することが可能でありかつ使用することが好ましい。
上記の消泡剤は、文字通り、本発明(I)の熱硬化性組成物を印刷する際に、発生する気泡を消すあるいは抑制する作用を有するものであれば、特に制限はない。
本発明(I)の熱硬化性組成物に使用される消泡剤の具体例としては、例えば、BYK−077(ビックケミー・ジャパン株式会社製)、SNデフォーマー470(サンノプコ株式会社製)、TSA750S(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製)、シリコーンオイルSH−203(東レ・ダウコーニング株式会社製)等のシリコーン系消泡剤、ダッポーSN−348(サンノプコ株式会社製)、ダッポーSN−354(サンノプコ株式会社製)、ダッポーSN−368(サンノプコ株式会社製)、ディスパロン230HF(楠本化成株式会社製)等のアクリル重合体系消泡剤、サーフィノールDF−110D(日信化学工業株式会社製)、サーフィノールDF−37(日信化学工業株式会社製)等のアセチレンジオール系消泡剤、FA−630等のフッ素含有シリコーン系消泡剤等を挙げることができる。
When the thermosetting composition of the present invention (I) is used as a thermosetting composition for a protective film of a wiring board for COF patterned using a screen printing method, generation of bubbles during printing An antifoaming agent can and is preferably used for the purpose of extinguishing or suppressing.
The antifoaming agent is not particularly limited as long as it literally has an action of eliminating or suppressing bubbles generated when the thermosetting composition of the present invention (I) is printed.
Specific examples of the antifoaming agent used in the thermosetting composition of the present invention (I) include, for example, BYK-077 (manufactured by Big Chemie Japan), SN deformer 470 (manufactured by San Nopco), TSA750S ( Momentive Performance Materials Japan G.K.), Silicone Antifoaming Agents such as Silicone Oil SH-203 (Toray Dow Corning), Dappo SN-348 (San Nopco), Dappo SN-354 (San Nopco Co., Ltd.), Dappo SN-368 (San Nopco Co., Ltd.), Disparon 230HF (Enomoto Kasei Co., Ltd.) and other acrylic polymer antifoaming agents, Surfynol DF-110D (Nisshin Chemical Co., Ltd.) , Such as Surfinol DF-37 (manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd.) Njioru defoaming agent, and the like fluorine-containing silicone-based defoaming agent such as FA-630.

さらに、本発明(I)の熱硬化性組成物には、必要に応じて、レベリング剤等の界面活性剤類、フタロシアニン・ブルー、フタロシアニン・グリーン、アイオジン・グリーン、ジスアゾイエロー、クスタルバイオレット、カーボンブラック、ナフタレンブラック等の公知の着色剤を添加することができる。   Furthermore, the thermosetting composition of the present invention (I) includes surfactants such as a leveling agent, phthalocyanine blue, phthalocyanine green, iodin green, disazo yellow, kustal violet, carbon as necessary. Known colorants such as black and naphthalene black can be added.

また、樹脂の酸価劣化および加熱時の変色を押さえることが必要な場合には、フェノール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤、チオエーテル系酸化防止剤等の酸化防止剤を添加することができかつ添加することが好ましい。これらの中では、フェノール系酸化防止剤が特に好ましく。具体的には、下記式(15)〜式(25)のような化合物を挙げることができる。   In addition, when it is necessary to suppress acid value deterioration and discoloration during heating, it is possible to add antioxidants such as phenolic antioxidants, phosphite antioxidants, and thioether antioxidants. And preferably added. Of these, phenolic antioxidants are particularly preferred. Specifically, compounds such as the following formulas (15) to (25) can be given.

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また、本発明(I)の熱硬化性組成物には、必要に応じて、難燃剤や滑剤を添加することもできる。   Moreover, a flame retardant and a lubricant can also be added to the thermosetting composition of this invention (I) as needed.

本発明(I)の熱硬化性組成物は、配合成分の一部あるいは全部をロールミル、ビーズミル等で均一に混練、混合することによって得ることができる。配合成分の一部を混合した場合には、残りの成分を実際に使用するときに混合することができる。   The thermosetting composition of the present invention (I) can be obtained by uniformly kneading and mixing part or all of the blending components with a roll mill, a bead mill or the like. When a part of the blending components is mixed, the remaining components can be mixed when actually used.

さらに、本発明(I)の熱硬化性組成物を、スクリーン印刷法を用いてパターニングされるCOF用の配線板の保護膜用熱硬化性組成物として使用する場合、本発明(I)の熱硬化性組成物の印刷性を良好にするために、一定範囲のチクソトロピー指数を有することが望ましい。
なお、本明細書に記載の「チクソトロピー指数」とは、コーン/プレート型粘度計(Brookfield社製、型式:DV−II+Pro、スピンドルの型番:CPE−52)を用いて測定した、25℃における回転数1rpmのときの粘度と25℃における回転数10rpmのときの粘度の比であると定義する。
本発明(I)の熱硬化性組成物をスクリーン印刷法を用いてパターニングされる保護膜用熱硬化性組成物として使用する場合、本発明(I)の熱硬化性組成物の印刷性を良好するために、該組成物の25℃でのチクソトロピー指数が、1.1〜3.0の範囲であることが好ましく、さらに好ましくは、1.1〜2.5の範囲である。本発明(I)の熱硬化性組成物をソルダーレジストインキ組成物として使用する場合、硬化性組成物の25℃でのチクソトロピー指数が1.1未満になると、硬化性組成物を印刷した後に、該組成物が流動してしまい、一定の膜厚にならなかったり、印刷パターンを維持できなかったりすることがある。また、硬化性組成物の25℃でのチクソトロピー指数が3.0より大きくなると、印刷した該組成物の塗膜の消泡性が悪くなることがある。
Furthermore, when the thermosetting composition of the present invention (I) is used as a thermosetting composition for a protective film of a wiring board for COF patterned by a screen printing method, the heat of the present invention (I) In order to improve the printability of the curable composition, it is desirable to have a certain range of thixotropy index.
The “thixotropic index” described in this specification is a rotation at 25 ° C. measured using a cone / plate viscometer (manufactured by Brookfield, model: DV-II + Pro, spindle model number: CPE-52). It is defined as the ratio of the viscosity at several rpm and the viscosity at 10 rpm at 25 ° C.
When the thermosetting composition of the present invention (I) is used as a thermosetting composition for a protective film patterned by a screen printing method, the printability of the thermosetting composition of the present invention (I) is good. Therefore, the thixotropy index at 25 ° C. of the composition is preferably in the range of 1.1 to 3.0, more preferably in the range of 1.1 to 2.5. When using the thermosetting composition of the present invention (I) as a solder resist ink composition, when the thixotropy index at 25 ° C. of the curable composition is less than 1.1, after printing the curable composition, The composition may flow and may not have a constant film thickness or may not maintain a printed pattern. Moreover, when the thixotropy index at 25 ° C. of the curable composition is larger than 3.0, the defoaming property of the coating film of the printed composition may be deteriorated.

次に、本発明(II)の配線板の保護膜について説明する。
本発明(II)は、本発明(I)に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物を硬化して得られる配線板の保護膜である。
Next, the protective film of the wiring board of the present invention (II) will be described.
The present invention (II) is a protective film for a wiring board obtained by curing the thermosetting composition for a protective film for a wiring board according to the present invention (I).

本発明(II)の配線板の保護膜は、本発明(I)の配線板の保護膜用熱硬化性組成物中の溶媒の一部あるいは全量を除去し、その後加熱により硬化反応を進行させ、硬化物を得ることが一般的である。例えば、本発明(II)の配線板の保護膜を得る場合には、以下の第一工程〜第三工程を経ることによって該保護膜を得ることができる。
第一工程
本発明(I)の熱硬化性組成物を印刷して塗膜を得る工程。
第二工程
第一工程で得られた塗膜を好ましくは20℃〜100℃の雰囲気下で溶媒を蒸発させ、一部あるいは全量の溶媒が除去された塗膜を得る工程。
第三工程
第二工程で得られた塗膜を、好ましくは100℃〜250℃の雰囲気下で熱硬化を行い、熱硬化された塗膜(即ち、硬化塗膜)を得る工程。
The protective film of the wiring board of the present invention (II) removes part or all of the solvent in the thermosetting composition for the protective film of the wiring board of the present invention (I), and then proceeds with the curing reaction by heating. In general, a cured product is obtained. For example, when obtaining the protective film of the wiring board of the present invention (II), the protective film can be obtained through the following first to third steps.
1st process The process of printing the thermosetting composition of this invention (I), and obtaining a coating film.
2nd process The process of obtaining the coating film from which the solvent was evaporated preferably in the atmosphere of 20 to 100 degreeC, and the solvent of one part or all quantity was removed from the coating film obtained at the 1st process.
3rd process The process of obtaining the heat-cured coating film (namely, cured coating film) by heat-curing the coating film obtained at the 2nd process, preferably in 100 degreeC-250 degreeC atmosphere.

第一工程は、本発明(I)の熱硬化性組成物を印刷して塗膜を得る工程であるが、本発明(I)の熱硬化性組成物の印刷方法に特に制限はなく、例えば、スクリーン印刷法、ロールコーター法、スプレー法、カーテンコーター法などにより、塗布して塗膜を得ることができるが、最も好ましくは、スクリーン印刷法である。   The first step is a step of printing the thermosetting composition of the present invention (I) to obtain a coating film, but there is no particular limitation on the printing method of the thermosetting composition of the present invention (I), for example, A coating film can be obtained by coating by a screen printing method, a roll coater method, a spray method, a curtain coater method or the like, and most preferably a screen printing method.

第二工程は、第一工程で得られた塗膜を好ましくは20℃〜100℃の雰囲気下で溶媒を蒸発させ、一部あるいは全量の溶媒が除去された塗膜を得る工程である。溶媒を除去する時間は、4時間以下が好ましく、より好ましくは、2時間以下である。   The second step is a step of obtaining a coating film from which part or all of the solvent has been removed by evaporating the solvent of the coating film obtained in the first step, preferably in an atmosphere of 20 ° C. to 100 ° C. The time for removing the solvent is preferably 4 hours or less, more preferably 2 hours or less.

また、第三工程は、第二工程で得られた塗膜を、好ましくは100℃〜250℃の雰囲気下で熱硬化を行い、熱硬化された塗膜(即ち、硬化塗膜)を得る工程である。熱硬化の時間は、20分〜4時間の範囲が好ましく、さらに好ましくは、30分〜2時間の範囲である。   In the third step, the coating film obtained in the second step is preferably thermally cured in an atmosphere of 100 ° C. to 250 ° C. to obtain a thermally cured coating film (that is, a cured coating film). It is. The time for thermosetting is preferably in the range of 20 minutes to 4 hours, more preferably in the range of 30 minutes to 2 hours.

最後に、本発明(III)のフレキシブル配線板およびその製造方法について説明する。
本発明(III)は、フレキシブル基板上に配線が形成されてなるフレキシブル配線板の、配線が形成されている表面の一部または全部が本発明(II)に記載の配線板の保護膜によって被覆されたことを特徴とする、保護膜によって被覆されたフレキシブル配線板である。
本発明(III)のフレキシブル配線板は、本発明(I)の配線板の保護膜用熱硬化性組成物をフレキシブル配線板の錫メッキ処理された配線パターン部に印刷することで該パターン上に印刷膜を形成し、該印刷膜を好ましくは80〜130℃で加熱硬化させることで保護膜を形成することによって製造することができる。
本発明(I)の熱硬化性組成物は、例えば、COF用のフレキシブル配線板の配線の全面あるいは一部を被覆することにより、COF用の配線板の保護膜として用いることができる。
Finally, the flexible wiring board of the present invention (III) and the manufacturing method thereof will be described.
In the present invention (III), a part or all of the surface of the flexible wiring board in which the wiring is formed on the flexible substrate is covered with the protective film for the wiring board described in the present invention (II). This is a flexible wiring board covered with a protective film.
The flexible wiring board of the present invention (III) is printed on the wiring pattern portion of the flexible wiring board that has been subjected to tin plating treatment by printing the thermosetting composition for the protective film of the wiring board of the present invention (I) on the pattern. It can be manufactured by forming a printed film and forming the protective film by heating and curing the printed film preferably at 80 to 130 ° C.
The thermosetting composition of the present invention (I) can be used as a protective film for a COF wiring board, for example, by covering the entire or part of the wiring of a COF flexible wiring board.

以下に、本発明(III)のフレキシブル配線板の製造方法の具体的な工程を記す。例えば、以下の工程A〜工程Cを経て、フレキシブル配線板の保護膜を形成することができる。
工程A
本発明(I)の熱硬化性組成物を、フレキシブル配線板の予め錫メッキ処理された配線パターン部にスクリーン印刷し、塗膜を得る工程。
工程B
工程Aで得られた塗膜を好ましくは20〜100℃の雰囲気下で溶媒を蒸発させ、一部あるいは全量の溶媒が除去された塗膜を得る工程。
工程C
工程Bで得られた塗膜を、好ましくは80〜130℃の雰囲気下で熱硬化を行い、熱硬化されたフレキシブル配線板の保護膜を得る工程。
Below, the specific process of the manufacturing method of the flexible wiring board of this invention (III) is described. For example, the protective film of a flexible wiring board can be formed through the following steps A to C.
Process A
The process of screen-printing the thermosetting composition of this invention (I) on the wiring pattern part by which the tin plating process of the flexible wiring board was carried out previously, and obtaining a coating film.
Process B
A step of obtaining a coating film from which part or all of the solvent has been removed by evaporating the solvent of the coating film obtained in step A, preferably in an atmosphere of 20 to 100 ° C.
Process C
The process of obtaining the protective film of the flexible wiring board by thermosetting the coating film obtained at the process B, Preferably it is 80-130 degreeC atmosphere.

工程Bの溶媒を蒸発させる温度は、溶媒の蒸発速度および次工程(工程C)への速やかな移行を考慮すると、好ましくは20〜100℃であり、より好ましくは、60〜100℃であり、さらに好ましくは、70〜90℃である。工程Bの溶媒を蒸発させる時間は、特に制限はないが、好ましくは、10〜120分、さらに好ましくは、20〜100分である。なお、前記工程Bの操作は、必要に応じて行われる操作であり、工程Aの操作の後にすぐに工程Cの操作を行い、硬化反応と溶媒の除去とを一緒に行ってもよい。   The temperature for evaporating the solvent in Step B is preferably 20 to 100 ° C., more preferably 60 to 100 ° C., in consideration of the evaporation rate of the solvent and quick transition to the next step (Step C). More preferably, it is 70-90 degreeC. Although there is no restriction | limiting in particular in the time to evaporate the solvent of process B, Preferably, it is 10 to 120 minutes, More preferably, it is 20 to 100 minutes. The operation of the step B is an operation performed as necessary. The operation of the step C may be performed immediately after the operation of the step A, and the curing reaction and the removal of the solvent may be performed together.

工程Cで行われる熱硬化の条件は、メッキ層の拡散をふせぎ、かつ保護膜として好適な反り性、柔軟性を得る観点から、好ましくは80〜130℃の範囲で行われる。より好ましくは90〜130℃であり、さらに好ましくは110〜130℃である。工程Cで行われる熱硬化の時間は、特に制限はないが、好ましくは、20〜150分、さらに好ましくは、30〜120分である。   The conditions for thermosetting performed in the step C are preferably in the range of 80 to 130 ° C. from the viewpoint of preventing the diffusion of the plating layer and obtaining warpage and flexibility suitable as a protective film. More preferably, it is 90-130 degreeC, More preferably, it is 110-130 degreeC. Although the time of the thermosetting performed at the process C does not have a restriction | limiting in particular, Preferably it is 20 to 150 minutes, More preferably, it is 30 to 120 minutes.

以下実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明は以下の実施例にのみ制限されるものではない。   The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

<酸価の測定>
本発明(I)の必須成分である、カルボキシル基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンの酸価を、以下の方法により、測定した。
前記のカルボキシル基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタン溶液中の溶媒を減圧留去してカルボキシル基を有するポリウレタンを得た。
このカルボキシル基を有するポリウレタンを用いて、JIS K0070の電位差滴定法に準拠して酸価を測定した。
なお、電位差滴定法で用いた装置を以下に記す。
装置名:京都電子工業株式会社製 電位差自動滴定装置 AT−510
電極:京都電子工業株式会社製 複合ガラス電極C−173
<Measurement of acid value>
The acid value of the polyurethane having a carboxyl group and having a structural unit represented by the formula (1), which is an essential component of the present invention (I), was measured by the following method.
The solvent in the polyurethane solution having the carboxyl group and having the structural unit represented by the formula (1) was distilled off under reduced pressure to obtain a polyurethane having a carboxyl group.
Using this polyurethane having a carboxyl group, the acid value was measured according to the potentiometric titration method of JIS K0070.
The apparatus used in the potentiometric titration method is described below.
Device name: Kyoto Denshi Kogyo Co., Ltd. Automatic potentiometric titrator AT-510
Electrode: Composite glass electrode C-173 manufactured by Kyoto Electronics Industry Co., Ltd.

<水酸基価の測定>
JIS K0070の中和滴定法に従い、水酸基価を測定した。
<Measurement of hydroxyl value>
The hydroxyl value was measured according to the neutralization titration method of JIS K0070.

<ポリウレタンの数平均分子量の測定>
GPCで測定したポリスチレン換算の値であり、GPCの測定条件は以下のとおりである。
装置名:日本分光株式会社製HPLCユニット HSS−2000
カラム:ShodexカラムLF−804を3本連結(直列)
移動相:テトラヒドロフラン
流速:1.0mL/min
検出器:日本分光株式会社製 RI−2031Plus
温度:40.0℃
試料量:サンプルループ 100μL
試料濃度:0.1質量%前後に調製
<Measurement of number average molecular weight of polyurethane>
It is a value in terms of polystyrene measured by GPC, and GPC measurement conditions are as follows.
Device name: HPLC unit HSS-2000 manufactured by JASCO Corporation
Column: Three Shodex columns LF-804 connected (in series)
Mobile phase: Tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 mL / min
Detector: RI-2031Plus manufactured by JASCO Corporation
Temperature: 40.0 ° C
Sample volume: Sample loop 100 μL
Sample concentration: adjusted to around 0.1% by mass

<ポリウレタン溶液の粘度の測定>
カルボキシル基含有ポリウレタン溶液の粘度を以下の方法により測定した。
カルボキシル基含有ポリウレタン溶液約0.8gを使用して、コーン/プレート型粘度計(Brookfield社製、型式:DV−II+Pro、スピンドルの型番:CPE−52)を用いて、温度25.0℃、回転数5rpmの条件で測定開始から7分経過後の粘度を測定した。
<Measurement of viscosity of polyurethane solution>
The viscosity of the carboxyl group-containing polyurethane solution was measured by the following method.
Using about 0.8 g of carboxyl group-containing polyurethane solution, rotating at a temperature of 25.0 ° C. using a cone / plate viscometer (Brookfield, model: DV-II + Pro, spindle model: CPE-52) The viscosity after 7 minutes from the start of measurement under the condition of several 5 rpm was measured.

<チクソトロピー指数の測定>
硬化性組成物のチクソトロピー指数を以下の方法により測定した。
硬化性組成物約0.6gを使用して、チクソトロピー指数をコーン/プレート型粘度計(Brookfield社製、型式:DV−II+Pro、スピンドルの型番:CPE−52)を用いて、温度25.0℃、回転数10rpmの条件で測定開始から7分経過後の粘度を測定した。その後、温度25.0℃、回転数1rpmの条件で測定開始から7分経過後の粘度を測定した。
なお、チクソトロピー指数の計算は以下の方法により求めた。
チクソトロピー指数の求め方:
チクソトロピー指数=[1rpmの粘度]÷[10rpmの粘度]
<Measurement of thixotropy index>
The thixotropy index of the curable composition was measured by the following method.
About 0.6 g of the curable composition was used, and a thixotropy index was measured at a temperature of 25.0 ° C. using a cone / plate viscometer (manufactured by Brookfield, model: DV-II + Pro, spindle model number: CPE-52). The viscosity after the elapse of 7 minutes from the start of measurement under the condition of a rotation speed of 10 rpm was measured. Thereafter, the viscosity was measured after 7 minutes from the start of measurement under the conditions of a temperature of 25.0 ° C. and a rotation speed of 1 rpm.
The thixotropy index was calculated by the following method.
How to find the thixotropy index:
Thixotropic index = [viscosity at 1 rpm] ÷ [viscosity at 10 rpm]

<2官能性水酸基末端イミドの合成>
(参考合成例1)2官能性水酸基末端イミド(A)の製造
窒素導入管、ディーンスタークレシーバー、冷却管を備えた容量500mLのガラス製セパラブルフラスコに、2,3,3′,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物58.8g(0.20mol)、イソホロンジアミン17.0g(0.10mol)、3−アミノプロパノール15.0g(0.20mol)、およびジメチルアセトアミド200mLを仕込み、窒素雰囲気下、100℃で1時間撹拌した。次いで、トルエン50mLを加え、180℃4時間加熱し、イミド化反応により生じた水をトルエンと共沸により除いた。反応溶液を水2Lに投入して、生じた沈殿を濾取し、水洗後減圧乾燥し、粉末78.8gを得た。この化合物のH−NMRの結果より、この化合物は式(2)のm(平均値)が1である2官能性水酸基末端イミド(以下、2官能性水酸基末端イミド(A)と記す。)であることが確認された。
<Synthesis of bifunctional hydroxyl-terminated imide>
(Reference Synthesis Example 1) Production of bifunctional hydroxyl-terminated imide (A) In a 500 mL glass separable flask equipped with a nitrogen introduction tube, a Dean-Stark receiver, and a cooling tube, 2, 3, 3 ', 4'- Charge 58.8 g (0.20 mol) of biphenyltetracarboxylic dianhydride, 17.0 g (0.10 mol) of isophoronediamine, 15.0 g (0.20 mol) of 3-aminopropanol, and 200 mL of dimethylacetamide under a nitrogen atmosphere. , And stirred at 100 ° C. for 1 hour. Subsequently, 50 mL of toluene was added and heated at 180 ° C. for 4 hours, and water generated by the imidization reaction was removed azeotropically with toluene. The reaction solution was poured into 2 L of water, and the resulting precipitate was collected by filtration, washed with water and dried under reduced pressure to obtain 78.8 g of powder. From the result of 1 H-NMR of this compound, this compound is a bifunctional hydroxyl-terminated imide whose m (average value) in formula (2) is 1 (hereinafter referred to as bifunctional hydroxyl-terminated imide (A)). It was confirmed that.

<ポリウレタンポリイミドの合成>
(実施合成例1)
ポリウレタンポリイミド(1)の合成
窒素導入管を備えた容量2Lのガラス製フラスコに、クラレポリオールC−2015(株式会社クラレ製、(ポリ)カーボネートジオールと原料ジオール(即ち、1,6−ヘキサンジオールおよび3−メチル−1,5−ペンタンジオール)の混合物、原料ジオールの仕込みモル比;1,6−ヘキサンジオール:3−メチル−1,5−ペンタンジオール=85:15、水酸基価56.1mgKOH/g、1,6−ペキサンジオールの残存濃度1.5質量%、3−メチル−1,5−ペンタンジオールの残存濃度0.5質量%)500.0g(250mmol)、2,2−ジメチロールプロピオン酸33.5g(250mmol)、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート156.4g(625mmol)、γ−ブチロラクトン697.6gを仕込み、窒素雰囲気下、60℃で3.5時間撹拌した。次いで、参考合成例1で調製した2官能性水酸基末端イミド(A)209.2g(250mmol)、γ−ブチロラクトン20.92gを加え、80℃で10時間撹拌した。このポリウレタンポリイミド(以下、ポリウレタンポリイミド(1)と記す。)を含む溶液のGPCから求めた数平均分子量は6800であった。このポリウレタンポリイミド(1)を含む溶液にγ−ブチロラクトン:ジエチレングリコールジエチルエーテル=27.7:72.3(質量比)の混合溶媒237.5gを加え、固形分濃度44質量%に調整した。この溶液の粘度は、40Pa・sであった。また、ポリウレタンポリイミド(1)の酸価は15.6mg−KOH/gであった。
<Synthesis of polyurethane polyimide>
(Execution synthesis example 1)
Synthesis of Polyurethane Polyimide (1) To a glass flask having a volume of 2 L equipped with a nitrogen introduction tube, Kuraray polyol C-2015 (manufactured by Kuraray Co., Ltd., (poly) carbonate diol and raw material diol (ie, 1,6-hexanediol and 3-Methyl-1,5-pentanediol), feed molar ratio of raw material diol; 1,6-hexanediol: 3-methyl-1,5-pentanediol = 85: 15, hydroxyl value 56.1 mgKOH / g , 1,6-Pexanediol residual concentration 1.5% by mass, 3-methyl-1,5-pentanediol residual concentration 0.5% by mass) 500.0 g (250 mmol), 2,2-dimethylolpropion 33.5 g (250 mmol) of acid, 156.4 g (625 mmol) of 4,4′-diphenylmethane diisocyanate ) And 697.6 g of γ-butyrolactone were charged and stirred at 60 ° C. for 3.5 hours in a nitrogen atmosphere. Next, 209.2 g (250 mmol) of the bifunctional hydroxyl-terminated imide (A) prepared in Reference Synthesis Example 1 and 20.92 g of γ-butyrolactone were added and stirred at 80 ° C. for 10 hours. The number average molecular weight determined from GPC of a solution containing this polyurethane polyimide (hereinafter referred to as polyurethane polyimide (1)) was 6800. 237.5 g of a mixed solvent of γ-butyrolactone: diethylene glycol diethyl ether = 27.7: 72.3 (mass ratio) was added to the solution containing the polyurethane polyimide (1) to adjust the solid content concentration to 44 mass%. The viscosity of this solution was 40 Pa · s. Moreover, the acid value of the polyurethane polyimide (1) was 15.6 mg-KOH / g.

<カルボキシル基およびカーボネート結合を有する分岐型ポリウレタンの合成>
(実施合成例2)
ポリウレタン(1)の合成
攪拌装置、温度計およびコンデンサーを備えた反応容器に、C−1015N(株式会社クラレ製、(ポリ)カーボネートジオールと原料ジオール(即ち、1,9−ノナンジオールおよび2−メチル−1,8−オクタンジオール)の混合物、原料ジオールの仕込みモル比;1,9−ノナンジオール:2−メチル−1,8−オクタンジオール=15:85、水酸基価112.3mgKOH/g、1,9−ノナンジオールの残存濃度2.1質量%、2−メチル−1,8−オクタンジオールの残存濃度9.3質量%)220.4g(0.221mol)、2,2−ジメチロールブタン酸(日本化成株式会社製)42.2g(0.285mol)、トリメチロールプロパン2.7g(20.1mmol)、γ−ブチロラクトン510.0gとジエチレングリコールジエチルエーテル90.0gを仕込み、100℃に加熱してすべての原料を溶解した。反応液の温度を90℃まで下げ、滴下ロートにより、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)133.7g(0.510mol)を30分かけて滴下した。120℃で9時間反応を行い、ほぼイソシアネートが消失したことを確認した後、エタノール1.3g(28.2mmol)を滴下し、さらに80℃で3時間反応を行い、カルボキシル基およびカーボネート結合を有するポリウレタン(以下、ポリウレタン(1)と記す。)を含む溶液を得た。
得られたポリウレタン(1)を含む溶液の粘度は101Pa・sであった。また、ポリウレタン(1)を含む溶液中に含まれるポリウレタン(1)の数平均分子量は14,000であり、ポリウレタン(1)の酸価は40.0mg−KOH/gであった。
また、このポリウレタン(1)を含む溶液中の固形分濃度は40.0質量%であった。
<Synthesis of branched polyurethane having carboxyl group and carbonate bond>
(Execution synthesis example 2)
Synthesis of polyurethane (1) In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser, C-1015N (manufactured by Kuraray Co., Ltd., (poly) carbonate diol and raw diol (ie, 1,9-nonanediol and 2-methyl) -1,8-octanediol), feed molar ratio of raw material diol; 1,9-nonanediol: 2-methyl-1,8-octanediol = 15: 85, hydroxyl value 112.3 mgKOH / g, 1, Residual concentration of 9-nonanediol 2.1 mass%, residual concentration of 2-methyl-1,8-octanediol 9.3 mass%) 220.4 g (0.221 mol), 2,2-dimethylolbutanoic acid ( 42.2 g (0.285 mol), trimethylolpropane 2.7 g (20.1 mmol), γ-butyrolactone Were charged 10.0g of diethylene glycol diethyl ether 90.0 g, it was dissolved. The materials were heated to 100 ° C.. The temperature of the reaction solution was lowered to 90 ° C., and 133.7 g (0.510 mol) of methylenebis (4-cyclohexylisocyanate) was added dropwise over 30 minutes with a dropping funnel. After reacting at 120 ° C. for 9 hours and confirming that the isocyanate almost disappeared, 1.3 g (28.2 mmol) of ethanol was added dropwise, and further reacted at 80 ° C. for 3 hours to have a carboxyl group and a carbonate bond. A solution containing polyurethane (hereinafter referred to as polyurethane (1)) was obtained.
The viscosity of the solution containing the obtained polyurethane (1) was 101 Pa · s. The number average molecular weight of the polyurethane (1) contained in the solution containing the polyurethane (1) was 14,000, and the acid value of the polyurethane (1) was 40.0 mg-KOH / g.
Moreover, the solid content concentration in the solution containing this polyurethane (1) was 40.0% by mass.

<カルボキシル基およびカーボネート結合を有する直鎖状ポリウレタンの合成>
(実施合成例3)
攪拌装置、温度計およびコンデンサーを備えた反応容器に、C−1015N(株式会社クラレ製、(ポリ)カーボネートジオール)と原料ジオール(即ち、1,9−ノナンジオールおよび2−メチル−1,8−オクタンジオール)の混合物、原料ジオールの仕込みモル比;1,9−ノナンジオール:2−メチル−1,8−オクタンジオール=15:85、水酸基価112.3mgKOH/g、1,9−ノナンジオールの残存濃度7.5質量%、2−メチル−1,8−オクタンジオールの残存濃度4.4質量%)252.8g、カルボキシル基を有するジオールとして、2,2−ジメチロールブタン酸(日本化成株式会社製)47.5g、溶媒としてγ−ブチロラクトン(三菱化学株式会社製)467.5gとジエチレングリコールジエチルエーテル(日本乳化剤株式会社製)82.5gを仕込み、100℃に加熱してすべての原料を溶解した。反応液の温度を90℃まで下げ、滴下ロートにより、ポリイソシアネート化合物としてメチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)(住化バイエルウレタン株式会社製、商品名:デスモジュール−W)145.6gを30分かけて滴下した。120℃で8時間反応を行い、ほぼイソシアネートが消失したことを確認した後、イソブタノール(和光純薬工業株式会社製)4.0gを滴下し、さらに80℃で3時間反応を行い、カルボキシル基およびカーボネート結合を有するポリウレタン溶液(以下、ポリウレタン(2)と記す。)を含む溶液を得た。
得られたポリウレタン(2)を含む溶液の粘度は93Pa・sであった。また、ポリウレタン(2)を含む溶液中に含まれるポリウレタン(2)の数平均分子量は13,000であり、ポリウレタン(1)の酸価は40.0mg-KOH/gであった。
また、このポリウレタン(1)を含む溶液中の固形分濃度は45.0質量%であった。
<Synthesis of linear polyurethane having carboxyl group and carbonate bond>
(Execution synthesis example 3)
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser, C-1015N (manufactured by Kuraray Co., Ltd., (poly) carbonate diol) and raw material diol (ie, 1,9-nonanediol and 2-methyl-1,8- Mixture of octanediol), feed molar ratio of raw material diol; 1,9-nonanediol: 2-methyl-1,8-octanediol = 15: 85, hydroxyl value 112.3 mgKOH / g, 1,9-nonanediol Residual concentration 7.5 mass%, 2-methyl-1,8-octanediol residual concentration 4.4 mass%) 252.8 g, 2,2-dimethylolbutanoic acid (Nippon Kasei Co., Ltd.) as a diol having a carboxyl group 47.5 g, γ-butyrolactone (Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) 467.5 g and diethylene glycol diethyl ether as a solvent Tell charged (made in Japan emulsifier Co., Ltd.) 82.5g, to dissolve all of the material was heated to 100 ℃. The temperature of the reaction solution is lowered to 90 ° C., and 145.6 g of methylenebis (4-cyclohexylisocyanate) (manufactured by Sumika Bayer Urethane Co., Ltd., trade name: Desmodur-W) is added as a polyisocyanate compound by a dropping funnel over 30 minutes. It was dripped. After reacting at 120 ° C. for 8 hours and confirming that the isocyanate almost disappeared, 4.0 g of isobutanol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added dropwise, and further reacted at 80 ° C. for 3 hours to obtain a carboxyl group. And a solution containing a polyurethane solution having a carbonate bond (hereinafter referred to as polyurethane (2)).
The viscosity of the solution containing the obtained polyurethane (2) was 93 Pa · s. The number average molecular weight of the polyurethane (2) contained in the solution containing the polyurethane (2) was 13,000, and the acid value of the polyurethane (1) was 40.0 mg-KOH / g.
Moreover, the solid content concentration in the solution containing this polyurethane (1) was 45.0% by mass.

(実施配合例1)
ポリウレタンポリイミド(1)を含む溶液に、ポリウレタンポリイミド(1)100質量部に対して、硬化促進剤として1,8−ジアザビシクロ(4.5.0)ウンデセン−7(以下、DBUと記す。)(サンアプロ株式会社製)1質量部を加え、均一に撹拌・混合した。更にシリカ粉(日本アエロジル株式会社製、商品名:アエロジルR972)7質量部、タルク(日本タルク株式会社製、商品名:SG2000)を5質量部加え、まず粗混練し、次いで三本ロールミル(株式会社井上製作所製、型式:S−43/4×11)を用いて、3回混練を繰り返して本混練を行い、均一に混合されたポリウレタンポリイミド(1)を含む組成物(以下、主剤組成物A1と記す。)を得た。
また、撹拌機、温度計およびコンデンサーを備えた容器に、下記式(3)の構造を有するエポキシ樹脂(DIC株式会社製、グレード名:HP−7200H、エポキシ当量274g/eq)900g、γ−ブチロラクトン540gおよびジエチレングリコールジエチルエーテル360gを添加し、撹拌を開始した。撹拌を継続しながら、オイルバスを用いて、容器内の温度を70℃に昇温した。内温を70℃に昇温後、30分間撹拌を継続した。その後、HP−7200Hが完全に溶解したのを確認して、室温まで冷却し、濃度50質量%のHP−7200H含有溶液(以下、硬化剤溶液B1と記す。)を取得した。
(Example formulation 1)
1,8-diazabicyclo (4.5.0) undecene-7 (hereinafter referred to as DBU) as a curing accelerator with respect to 100 parts by mass of polyurethane polyimide (1) in a solution containing polyurethane polyimide (1) ( 1 part by mass of San Apro Co., Ltd.) was added and stirred and mixed uniformly. Furthermore, 7 parts by mass of silica powder (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., trade name: Aerosil R972) and 5 parts by mass of talc (manufactured by Nippon Talc Co., Ltd., trade name: SG2000) are added, first roughly kneaded, and then a three-roll mill (stock) Using Inoue Seisakusho, model: S-43 / 4 × 11), the composition containing polyurethane polyimide (1) uniformly mixed by repeating this kneading three times and performing the main kneading (hereinafter referred to as the main agent composition) (Denoted as A1).
In addition, in a container equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser, an epoxy resin having a structure of the following formula (3) (DIC Corporation, grade name: HP-7200H, epoxy equivalent 274 g / eq) 900 g, γ-butyrolactone 540 g and 360 g of diethylene glycol diethyl ether were added and stirring was started. While continuing stirring, the temperature in the container was raised to 70 ° C. using an oil bath. After the internal temperature was raised to 70 ° C., stirring was continued for 30 minutes. Then, it confirmed that HP-7200H melt | dissolved completely, it cooled to room temperature, and the HP-7200H containing solution (henceforth hardening agent solution B1) with a density | concentration of 50 mass% was acquired.

Figure 2011137108
Figure 2011137108

(式中、lは、0または1以上の整数を表す。) (In the formula, l represents 0 or an integer of 1 or more.)

216質量部の主剤組成物A1および15.2質量部の硬化剤溶液B1、消泡剤(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、商品名:TSA750S)1.0質量部および下記式(26)で表される構造を有するシリカハイブリッド・エポキシ基含有化合物(荒川化学工業株式会社製、商品名:コンポセランE102B、固形分濃度50質量%のジプロピレングリコールジメチルエーテル溶液)15.2質量部を混合し、スパチュラを用いて、十分に撹拌混合した。その後、チクソトロピー指数を1.3に合わせるのに必要量のγ−ブチロラクトン:ジエチレングリコールジエチルエーテル=85:15(質量比)の混合溶媒を添加して、粘度調整を行い、熱硬化性組成物(以下、熱硬化性組成物G1と記す。)を得た。   216 parts by mass of main agent composition A1 and 15.2 parts by mass of curing agent solution B1, 1.0 part by mass of antifoaming agent (product name: TSA750S, manufactured by Momentive Performance Materials Japan GK) and the following formula ( 26) Silica hybrid / epoxy group-containing compound having a structure represented by 26) (produced by Arakawa Chemical Industries, Ltd., trade name: Composcelan E102B, dipropylene glycol dimethyl ether solution having a solid concentration of 50% by mass) is mixed with 15.2 parts by mass. Then, the mixture was sufficiently stirred and mixed using a spatula. Thereafter, a viscosity adjustment is performed by adding a mixed solvent of γ-butyrolactone: diethylene glycol diethyl ether = 85: 15 (mass ratio) necessary for adjusting the thixotropy index to 1.3. , Written as thermosetting composition G1).

Figure 2011137108
Figure 2011137108

(式中、pおよびqは、それぞれ独立に1以上の整数を表す。) (In the formula, p and q each independently represent an integer of 1 or more.)

(実施配合例2)
溶剤としてγ−ブチロラクトン:ジエチレングリコールジエチルエーテル=70:30(質量比)の混合溶媒22質量部、実施合成例2で得られたポリウレタン(1)を含む溶液247.5質量部をかるく撹拌した後、熱硬化性触媒としてメラミン1.1質量部、充填剤として硫酸バリウム(質量平均粒子径0.5μm)27.5質量部およびアエロジル#380(日本アエロジル株式会社製シリカ微粒子の商品名、質量平均粒子径12nm)8.25質量部、消泡剤として「フローレンAC300HF」(共栄社化学株式会社製)1.65質量部を粗混練し、ついで3本ロールミルを用いて3回混練を繰り返して本混練を行い、均一に混合されたポリウレタン(1)を含む組成物(以下、主剤組成物A2と記す。)を得た。
280質量部の主剤組成物A2に、前記硬化剤溶液B1 35.14質量部、および式(26)で表される構造を有するシリカハイブリッド・エポキシ基含有化合物(荒川化学工業株式会社製、商品名:コンポセランE102B、固形分濃度50質量%のジプロピレングリコールジメチルエーテル溶液)17.57質量部を添加し、引き続きレジンミキサーにて撹拌し、さらにγ−ブチロラクトン:ジエチレングリコールジエチルエーテル=70:30(質量比)の混合溶媒ジエチレングリコールジエチルエーテルで粘度調製し、熱硬化性組成物(以下、熱硬化性組成物G2と記す。)を得た。
(Example of formulation 2)
After stirring 227.5 parts by weight of a mixed solvent of γ-butyrolactone: diethylene glycol diethyl ether = 70: 30 (mass ratio) as a solvent and 247.5 parts by weight of the solution containing polyurethane (1) obtained in Example Synthesis Example 2, Melamine 1.1 parts by mass as thermosetting catalyst, barium sulfate (mass average particle diameter 0.5 μm) 27.5 parts by mass and Aerosil # 380 (trade name of silica fine particles manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd. (Diameter 12 nm) 8.25 parts by mass and 1.65 parts by mass of “Floren AC300HF” (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) as an antifoaming agent are roughly kneaded, and then the main kneading is repeated three times using a three-roll mill. And a composition containing the uniformly mixed polyurethane (1) (hereinafter referred to as main agent composition A2) was obtained.
In 280 parts by mass of the main agent composition A2, 35.14 parts by mass of the curing agent solution B1 and a silica hybrid / epoxy group-containing compound having a structure represented by the formula (26) : Composeran E102B, dipropylene glycol dimethyl ether solution having a solid content concentration of 50% by mass) was added 17.57 parts by mass, followed by stirring with a resin mixer, and further γ-butyrolactone: diethylene glycol diethyl ether = 70: 30 (mass ratio) The viscosity was adjusted with a mixed solvent of diethylene glycol diethyl ether to obtain a thermosetting composition (hereinafter referred to as a thermosetting composition G2).

(実施配合例3)
溶剤としてγ−ブチロラクトン:ジエチレングリコールジエチルエーテル=70:30(質量比)の混合溶媒22質量部、実施合成例2で得られたポリウレタン(1)を含む溶液220質量部をかるく撹拌した後、熱硬化性触媒としてメラミン1.1質量部、充填剤として硫酸バリウム(質量平均粒子径0.5μm)27.5質量部およびアエロジル#380(日本アエロジル株式会社製シリカ微粒子の商品名、質量平均粒子径12nm)8.25質量部、消泡剤として「フローレンAC300HF」(共栄社化学株式会社製)1.65質量部を粗混練し、ついで3本ロールミルを用いて3回混練を繰り返して本混練を行い、均一に混合されたポリウレタン(2)を含む組成物(以下、主剤組成物A3と記す。)を得た。
255質量部の主剤組成物A3に、前記硬化剤溶液B1 35.14質量部、および式(26)で表される構造を有するシリカハイブリッド・エポキシ基含有化合物(荒川化学工業株式会社製、商品名:コンポセランE102B、固形分濃度50質量%のジプロピレングリコールジメチルエーテル溶液)17.57質量部を添加し、引き続きレジンミキサーにて撹拌し、さらにγ−ブチロラクトン:ジエチレングリコールジエチルエーテル=70:30(質量比)の混合溶媒ジエチレングリコールジエチルエーテルで粘度調製し、熱硬化性組成物(以下、熱硬化性組成物G3と記す。)を得た。
(Example formulation 3)
As a solvent, 22 parts by mass of a mixed solvent of γ-butyrolactone: diethylene glycol diethyl ether = 70: 30 (mass ratio) and 220 parts by mass of a solution containing the polyurethane (1) obtained in Example Synthesis Example 2 were stirred and then thermoset. Melamine 1.1 parts by weight as a catalyst, barium sulfate (mass average particle diameter 0.5 μm) 27.5 parts by weight and Aerosil # 380 (trade name of silica fine particles manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., mass average particle diameter 12 nm ) 8.25 parts by mass, 1.65 parts by mass of “Floren AC300HF” (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) as an antifoaming agent is coarsely kneaded, and then kneaded three times using a three-roll mill to perform main kneading. A composition containing polyurethane (2) uniformly mixed (hereinafter referred to as main agent composition A3) was obtained.
In addition to 255 parts by mass of the main agent composition A3, 35.14 parts by mass of the curing agent solution B1 and a silica hybrid / epoxy group-containing compound having a structure represented by the formula (26) (trade name, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.) : Composeran E102B, dipropylene glycol dimethyl ether solution having a solid content concentration of 50% by mass) was added 17.57 parts by mass, followed by stirring with a resin mixer, and further γ-butyrolactone: diethylene glycol diethyl ether = 70: 30 (mass ratio) The viscosity was adjusted with a mixed solvent of diethylene glycol diethyl ether to obtain a thermosetting composition (hereinafter referred to as thermosetting composition G3).

(実施配合例4)
216質量部の主剤組成物A1および15.2質量部の硬化剤溶液B1、消泡剤(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製、商品名:TSA750S)1.0質量部および式(26)で表される構造を有するシリカハイブリッド・エポキシ基含有化合物(荒川化学工業株式会社製、商品名:コンポセランE102B、固形分濃度50質量%のジプロピレングリコールジメチルエーテル溶液)9.0質量部を混合し、スパチュラを用いて、十分に撹拌混合した。その後、チクソトロピー指数を1.3に合わせるのに必要量のγ−ブチロラクトン:ジエチレングリコールジエチルエーテル=85:15(質量比)の混合溶媒を添加して、粘度調整を行い、熱硬化性組成物(以下、熱硬化性組成物G4と記す。)を得た。
(Example formulation 4)
216 parts by mass of the main agent composition A1 and 15.2 parts by mass of the curing agent solution B1, 1.0 part by mass of an antifoaming agent (product name: TSA750S, manufactured by Momentive Performance Materials Japan GK) and a formula (26 ) And 9.0 parts by mass of a silica hybrid / epoxy group-containing compound having a structure represented by (Arakawa Chemical Industries, Ltd., trade name: Composeran E102B, dipropylene glycol dimethyl ether solution having a solid content of 50% by mass) The mixture was thoroughly stirred using a spatula. Thereafter, a viscosity adjustment is performed by adding a mixed solvent of γ-butyrolactone: diethylene glycol diethyl ether = 85: 15 (mass ratio) necessary for adjusting the thixotropy index to 1.3. , Written as thermosetting composition G4).

(実施配合例5)
280質量部の主剤組成物A2に、前記硬化剤溶液B1 35.14質量部、および式(26)で表される構造を有するシリカハイブリッド・エポキシ基含有化合物(荒川化学工業株式会社製、商品名:コンポセランE102B、固形分濃度50質量%のジプロピレングリコールジメチルエーテル溶液)9.0質量部を添加し、引き続きレジンミキサーにて撹拌し、さらにγ−ブチロラクトン:ジエチレングリコールジエチルエーテル=70:30(質量比)の混合溶媒ジエチレングリコールジエチルエーテルで粘度調製し、熱硬化性組成物(以下、熱硬化性組成物G5と記す。)を得た。
(Example formulation 5)
In 280 parts by mass of the main agent composition A2, 35.14 parts by mass of the curing agent solution B1 and a silica hybrid / epoxy group-containing compound having a structure represented by the formula (26) (trade name, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.) : Composeran E102B, dipropylene glycol dimethyl ether solution having a solid concentration of 50% by mass) is added 9.0 parts by mass, followed by stirring with a resin mixer, and further γ-butyrolactone: diethylene glycol diethyl ether = 70: 30 (mass ratio). The viscosity was adjusted with a mixed solvent of diethylene glycol diethyl ether to obtain a thermosetting composition (hereinafter referred to as thermosetting composition G5).

(実施配合例6)
255質量部の主剤組成物A3に、下記式(27)を主成分とするエポキシ基含有化合物(ジャパンエポキシレジン株式会社製、商品名:jER604、エポキシ当量120g/eq)7.7質量部、および式(26)で表される構造を有するシリカハイブリッド・エポキシ基含有化合物(荒川化学工業株式会社製、商品名:コンポセランE102B、固形分濃度50質量%のジプロピレングリコールジメチルエーテル溶液)14.0質量部を添加し、引き続きレジンミキサーにて撹拌し、さらにγ−ブチロラクトン:ジエチレングリコールジエチルエーテル=70:30(質量比)の混合溶媒ジエチレングリコールジエチルエーテルで粘度調製し、熱硬化性組成物(以下、熱硬化性組成物G6と記す。)を得た。
(Example formulation 6)
To 255 parts by mass of the main agent composition A3, 7.7 parts by mass of an epoxy group-containing compound (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., trade name: jER604, epoxy equivalent 120 g / eq) having the following formula (27) as a main component, 14.0 parts by mass of a silica hybrid / epoxy group-containing compound having a structure represented by the formula (26) (Arakawa Chemical Industries, Ltd., trade name: Composeran E102B, dipropylene glycol dimethyl ether solution having a solid content concentration of 50% by mass) The mixture was then stirred with a resin mixer, and the viscosity was adjusted with a mixed solvent diethylene glycol diethyl ether of γ-butyrolactone: diethylene glycol diethyl ether = 70: 30 (mass ratio), and a thermosetting composition (hereinafter referred to as thermosetting). This is referred to as composition G6.).

Figure 2011137108
Figure 2011137108

(実施配合例7)
280質量部の主剤組成物A2に、前記硬化剤溶液B1 35.14質量部、および3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業株式会社製、商品名:KBM−403)0.7質量部を添加し、引き続きレジンミキサーにて撹拌し、さらにγ−ブチロラクトン:ジエチレングリコールジエチルエーテル=70:30(質量比)の混合溶媒ジエチレングリコールジエチルエーテルで粘度調製し、熱硬化性組成物(以下、熱硬化性組成物G7と記す。)を得た。
(Example formulation 7)
In 280 parts by mass of the main agent composition A2, 35.14 parts by mass of the curing agent solution B1 and 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: KBM-403) 0.7 parts by mass The viscosity was adjusted with a mixed solvent diethylene glycol diethyl ether of γ-butyrolactone: diethylene glycol diethyl ether = 70: 30 (mass ratio), and a thermosetting composition (hereinafter, thermosetting) was added. To be referred to as sex composition G7).

(比較配合例1)
255質量部の主剤組成物A3に、前記硬化剤溶液B1 35.14質量部を添加し、引き続きレジンミキサーにて撹拌し、さらにγ−ブチロラクトン:ジエチレングリコールジエチルエーテル=70:30(質量比)の混合溶媒ジエチレングリコールジエチルエーテルで粘度調製し、熱硬化性組成物(以下、熱硬化性組成物H1と記す。)を得た。
(Comparative Formulation Example 1)
35.14 parts by mass of the curing agent solution B1 is added to 255 parts by mass of the main agent composition A3, followed by stirring with a resin mixer, and further mixing with γ-butyrolactone: diethylene glycol diethyl ether = 70: 30 (mass ratio). The viscosity was adjusted with a solvent diethylene glycol diethyl ether to obtain a thermosetting composition (hereinafter referred to as thermosetting composition H1).

(比較配合例2)
255質量部の主剤組成物A3に、式(27)を主成分とするエポキシ基含有化合物(ジャパンエポキシレジン株式会社製、商品名:jER604、エポキシ当量120g/eq)7.7質量部を添加し、引き続きレジンミキサーにて撹拌し、さらにγ−ブチロラクトン:ジエチレングリコールジエチルエーテル=70:30(質量比)の混合溶媒ジエチレングリコールジエチルエーテルで粘度調製し、熱硬化性組成物(以下、熱硬化性組成物H2と記す。)を得た。
(Comparative Formulation Example 2)
To 255 parts by mass of the main agent composition A3, 7.7 parts by mass of an epoxy group-containing compound (Japan Epoxy Resin Co., Ltd., trade name: jER604, epoxy equivalent 120 g / eq) having the formula (27) as a main component is added. Subsequently, the mixture was stirred with a resin mixer, and the viscosity was adjusted with a mixed solvent diethylene glycol diethyl ether of γ-butyrolactone: diethylene glycol diethyl ether = 70: 30 (mass ratio), and a thermosetting composition (hereinafter referred to as thermosetting composition H2). Was obtained.)

<錫メッキ処理を施した銅基板との密着性の評価>
(錫メッキ処理を施した銅基板の作成)
錫メッキ処理を施した銅基板の作成は、まず、銅基板(S’PERFLEX/NT−L50、住友金属鉱山株式会社製)を、濃度100mL/LのIPCクリ−ン91(奥野製薬工業株式会社製)水溶液(30℃)に1分間浸した後、10質量%HSO水溶液(23℃)に1分間浸し、次に、65℃の無電解錫メッキ液(LT−34、ローム・アンド・ハース・ジャパン株式会社製)に4分間浸し、さらに70℃のイオン交換水に3分間浸し、その後、熱風循環式乾燥機を用いて120℃、90分間乾燥させることで、錫メッキ処理を施した銅基板を得る。
(密着評価用サンプルの作成)
サンプルの作成は、熱硬化性樹脂組成物を、前記錫メッキ処理を施した銅基板上に、#250メッシュポリエステル版でスクリーン印刷により塗布後、5分間以上室温で保持し、空気雰囲気下、120℃で1時間加熱後、引き続き150℃で2時間加熱することで、塗膜厚さ10〜15μmのサンプルを得た。
(密着性試験の方法)
20×110mmに裁断したグリーンエポキシ基板の中央に、幅2mmで長さ約30mmのACFテープ(CP9420IS、ソニーケミカル社製)をACF用熱圧着装置PHC−500(株式会社セイワ製作所製)を用いて120℃、100Nの条件で2秒間仮圧着した。仮圧着したACFテープの剥離紙を取り除き、グリーンエポキシ基板と同じ大きさに裁断したサンプルの硬化膜側をACFテープに向けて、245℃、200Nの条件で16.5秒間圧着した。ACFテープを介して圧着したグリーンエポキシ基板およびサンプルを、プリント板用90°剥離治具を装着した引っ張り試験機(島津製作所社製、EZ Test/CE)に、ガイドローラー側がグリーンエポキシ基板、チャック側がサンプルになるように設置し、50mm/分の速度で引き剥がし強さを測定した。さらに引き剥がしたサンプルの樹脂組成物が剥がれた幅(mm)を測定し、90°剥離強度(N/cm)を求めた。
結果を表1に記す。
<Evaluation of adhesion to copper substrate with tin plating>
(Creation of tin-plated copper substrate)
To create a tin-plated copper substrate, first, a copper substrate (S'PERFLEX / NT-L50, manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.) was used, and an IPC clean 91 (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) having a concentration of 100 mL / L. Manufactured), immersed in an aqueous solution (30 ° C.) for 1 minute, then immersed in a 10 mass% H 2 SO 4 aqueous solution (23 ° C.) for 1 minute, and then electroless tin plating solution (LT-34, Rohm and -Made by Hearth Japan Co., Ltd.) for 4 minutes, further immersed in deionized water at 70 ° C for 3 minutes, and then dried at 120 ° C for 90 minutes using a hot-air circulating dryer, to give a tin plating treatment A copper substrate is obtained.
(Preparation of samples for adhesion evaluation)
The sample was prepared by applying the thermosetting resin composition onto the tin-plated copper substrate by screen printing with a # 250 mesh polyester plate and holding it at room temperature for 5 minutes or more in an air atmosphere. A sample having a coating thickness of 10 to 15 μm was obtained by heating at 150 ° C. for 1 hour and subsequently heating at 150 ° C. for 2 hours.
(Adhesion test method)
ACF tape (CP9420IS, manufactured by Sony Chemical Co., Ltd.) having a width of 2 mm and a length of about 30 mm is used in the center of a green epoxy substrate cut to 20 × 110 mm using an ACF thermocompression bonding apparatus PHC-500 (manufactured by Seiwa Seisakusho Co., Ltd.). Temporary pressure bonding was performed at 120 ° C. and 100 N for 2 seconds. The release paper of the temporarily pressed ACF tape was removed, and the cured film side of the sample cut to the same size as the green epoxy substrate was pressed against the ACF tape for 16.5 seconds under the conditions of 245 ° C. and 200 N. The green epoxy substrate and sample that were pressure-bonded via ACF tape were placed on a tensile testing machine (EZ Test / CE, manufactured by Shimadzu Corp.) equipped with a 90 ° peeling jig for printed boards. It installed so that it might become a sample and peel strength was measured at the speed of 50 mm / min. Further, the width (mm) at which the resin composition of the peeled sample was peeled was measured, and the 90 ° peel strength (N / cm) was determined.
The results are shown in Table 1.

<ポリイミドフィルムとの密着性の評価>
(密着評価用サンプルの作成)
サンプルの作成は、熱硬化性樹脂組成物を、ポリイミドフィルム〔カプトン(登録商標)150EN、東レ・デュポン株式会社製〕上に、#250メッシュポリエステル版でスクリーン印刷により塗布後、5分間以上室温で保持し、空気雰囲気下、120℃で1時間加熱後、引き続き150℃で2時間加熱することで、塗膜厚さ10〜15μmのサンプルを得た。
(密着性試験の方法)
20×110mmに裁断したグリーンエポキシ基板の中央に、幅2mmで長さ約30mmのACFテープ(CP9420IS、ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社製)をACF用熱圧着装置PHC−500(株式会社セイワ製作所製)を用いて120℃、100Nの条件で2秒間仮圧着した。仮圧着したACFテープの剥離紙を取り除き、グリーンエポキシ基板と同じ大きさに裁断したサンプルの硬化膜側をACFテープに向けて、238℃、200Nの条件で16.5秒間圧着した。ACFテープを介して圧着したグリーンエポキシ基板およびサンプルを、プリント板用90°剥離治具を装着した引っ張り試験機(島津製作所社製、EZ Test/CE)に、ガイドローラー側がグリーンエポキシ基板、チャック側がサンプルになるように設置し、50mm/分の速度で引き剥がし強さを測定した。さらに引き剥がしたサンプルの樹脂組成物が剥がれた幅(mm)を測定し、90°剥離強度(N/cm)を求めた。
結果を表1に記す。
<Evaluation of adhesion to polyimide film>
(Preparation of samples for adhesion evaluation)
Samples were prepared by applying the thermosetting resin composition on a polyimide film (Kapton (registered trademark) 150EN, manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.) by screen printing with a # 250 mesh polyester plate for 5 minutes or more at room temperature. The sample having a coating film thickness of 10 to 15 μm was obtained by holding and heating in an air atmosphere at 120 ° C. for 1 hour and subsequently heating at 150 ° C. for 2 hours.
(Adhesion test method)
An ACF tape (CP9420IS, manufactured by Sony Chemical & Information Device Co., Ltd.) having a width of 2 mm and a length of about 30 mm is placed in the center of a green epoxy substrate cut to 20 × 110 mm, and an ACF thermocompression bonding apparatus PHC-500 (manufactured by Seiwa Corporation). ) Was temporarily pressed for 2 seconds under the conditions of 120 ° C. and 100 N. The release paper of the temporarily pressed ACF tape was removed, and the cured film side of the sample cut to the same size as the green epoxy substrate was pressed against the ACF tape for 16.5 seconds under the conditions of 238 ° C. and 200 N. The green epoxy substrate and sample that were pressure-bonded via ACF tape were placed on a tensile testing machine (EZ Test / CE, manufactured by Shimadzu Corp.) equipped with a 90 ° peeling jig for printed boards. It installed so that it might become a sample and peel strength was measured at the speed of 50 mm / min. Further, the width (mm) at which the resin composition of the peeled sample was peeled was measured, and the 90 ° peel strength (N / cm) was determined.
The results are shown in Table 1.

<反り性の評価>
硬化性組成物G1を、基板にスクリーン印刷により塗布し、80℃の熱風循環式乾燥機に30分間入れ、その後、120℃の熱風循環式乾燥機に60分間入れることにより硬化させた。基板は38μm厚ポリイミドフィルム〔カプトン(登録商標)150EN、東レ・デュポン株式会社製〕を用いた。
硬化性組成物を塗布し、乾燥機を用いて硬化した塗膜について、50mmφにサークルカッターでカットした。円形にカットされたものは中心付近が凸状または凹状に反る形の変形を呈する。試験片を、温度23±0.5℃、湿度60±5%RHの条件で12時間以上放置した後に、下に凸の状態で静置し、平面上から最も大きく反っている箇所と、円の中心を挟んで対称となる箇所の2箇所に関して、平面上からの反りの高さを、長さ計を用いて測定し、平均した。符号は反りの方向を表し、下に凸の状態で静置した際、ポリイミドフィルムに対し硬化膜が上側になる場合を「+」、硬化膜が下側になる場合を「−」とした。
結果を表1に記す。
また、硬化性組成物G2〜硬化性組成物G7、硬化性組成物H1および硬化性組成物H2を用いて、同様の評価を行った。
それらの結果もあわせて表1に記す。
<Evaluation of warpage>
The curable composition G1 was applied to the substrate by screen printing, and cured by placing it in a hot air circulating dryer at 80 ° C. for 30 minutes and then placing it in a hot air circulating dryer at 120 ° C. for 60 minutes. A 38 μm-thick polyimide film [Kapton (registered trademark) 150EN, manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.] was used as the substrate.
About the coating film which apply | coated the curable composition and was hardened | cured using the dryer, it cut with a circle cutter to 50 mmphi. What is cut into a circle exhibits a deformation in which the vicinity of the center warps in a convex or concave shape. After leaving the test piece at a temperature of 23 ± 0.5 ° C. and a humidity of 60 ± 5% RH for 12 hours or more, the test piece is left in a convex state, and the portion that is most warped from the plane, The height of the warp from the plane was measured using a length meter and averaged at two locations that were symmetric with respect to the center of. The sign represents the direction of warping, and when left in a downwardly convex state, the case where the cured film is on the upper side with respect to the polyimide film is “+”, and the case where the cured film is on the lower side is “−”.
The results are shown in Table 1.
Moreover, the same evaluation was performed using curable composition G2-curable composition G7, curable composition H1, and curable composition H2.
The results are also shown in Table 1.

<可撓性の評価>
フレキシブル銅張り積層板(住友金属鉱山株式会社製、グレード名:エスパーフレックス、銅厚:8μm、ポリイミド厚:38μm)の銅上に、幅75mm、長さ110mmの大きさ、硬化後の塗膜の厚み15μmになるように硬化性組成物G1を、スクリーン印刷により塗布し、10分間室温で保持し、120℃の熱風循環式乾燥機に60分間入れることにより硬化させた。作製した試験片の裏打ちのPETフィルムを剥離し、幅10mmの短冊状にカッターナイフで切り出した後、塗膜面が外側になる様に約180度折り曲げ、圧縮機を用いて0.5±0.2MPaで3秒間圧縮した。屈曲部を曲げた状態で30倍の顕微鏡で観察し、クラックの発生の有無を確認した。
結果を表1に記す。
また、硬化性組成物G2〜硬化性組成物G7、硬化性組成物H1および硬化性組成物H2を用いて、同様の評価を行った。
それらの結果もあわせて表1に記す。
<Evaluation of flexibility>
A flexible copper-clad laminate (made by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd., grade name: Esperflex, copper thickness: 8 μm, polyimide thickness: 38 μm) on copper with a width of 75 mm, a length of 110 mm, and a cured coating film The curable composition G1 was applied by screen printing so as to have a thickness of 15 μm, held at room temperature for 10 minutes, and cured by placing it in a 120 ° C. hot air circulation dryer for 60 minutes. The PET film on the back of the prepared test piece was peeled off, cut into a strip shape with a width of 10 mm with a cutter knife, bent about 180 degrees so that the coating surface was on the outside, and 0.5 ± 0 using a compressor. Compressed at 2 MPa for 3 seconds. The bent part was bent and observed with a 30-fold microscope to confirm the presence or absence of cracks.
The results are shown in Table 1.
Moreover, the same evaluation was performed using curable composition G2-curable composition G7, curable composition H1, and curable composition H2.
The results are also shown in Table 1.

<長期電気絶縁信頼性の評価>
フレキシブル銅張り積層板(住友金属鉱山株式会社製、グレード名:エスパーフレックス、銅厚:8μm、ポリイミド厚:38μm)をエッチングして製造した、JPCA−ET01に記載の微細くし形パターン形状の基板(銅配線幅/銅配線間幅=8μm/12μm)に錫メッキ処理を施したフレキシブル配線板に、硬化性組成物G1を、スクリーン印刷法により、ポリイミド面からの厚みが15μmの厚さ(乾燥後)になるように塗布し、80℃の熱風循環式乾燥機に30分間入れ、その後、120℃の熱風循環式乾燥機に120分間いれることにより硬化させた。
この試験片を用いて、バイアス電圧60Vを印加し、温度85℃、湿度85%RHの条件での温湿度定常試験を、MIGRATION TESTER MODEL MIG−8600(IMV社製)を用いて行った。上記温湿度定常試験をスタート初期およびスタートしてから10時間後、500時間後、1000時間後の抵抗値を表1に記す。
また、硬化性組成物G2〜硬化性組成物G7、硬化性組成物H1および硬化性組成物H2を用いて、同様の評価を行った。
それらの結果についてもあわせて表1に記す。
<Evaluation of long-term electrical insulation reliability>
A substrate having a fine comb pattern shape described in JPCA-ET01, manufactured by etching a flexible copper-clad laminate (manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd., grade name: Esperflex, copper thickness: 8 μm, polyimide thickness: 38 μm) Copper wiring width / inter-copper wiring width = 8 μm / 12 μm) on a flexible wiring board subjected to a tin plating process, a thickness of 15 μm from the polyimide surface (after drying) by curable composition G1 by screen printing ) And placed in an 80 ° C. hot air circulation dryer for 30 minutes, and then placed in a 120 ° C. hot air circulation dryer for 120 minutes for curing.
Using this test piece, a bias voltage of 60 V was applied, and a temperature and humidity steady test under conditions of a temperature of 85 ° C. and a humidity of 85% RH was performed using MIGRATION TESTER MODEL MIG-8600 (manufactured by IMV). Table 1 shows the resistance values 10 hours, 500 hours, and 1000 hours after the start of the temperature and humidity steady test.
Moreover, the same evaluation was performed using curable composition G2-curable composition G7, curable composition H1, and curable composition H2.
The results are also shown in Table 1.

Figure 2011137108
Figure 2011137108

表1の結果より、本発明(I)の熱硬化性組成物を用いることによって、高いレベルの抵抗値を維持したまま、長期電気絶縁特性を発現でき、かつ、フレキシブル配線板に良好な密着性(即ち、ポリイミドフィルムおよび錫メッキを施した銅に良好な密着性)を得ることができる配線板の保護膜用熱硬化性組成物、および該組成物を硬化して得られる配線板の保護膜を提供できる。   From the results of Table 1, by using the thermosetting composition of the present invention (I), long-term electrical insulation characteristics can be expressed while maintaining a high level of resistance value, and good adhesion to a flexible wiring board. A thermosetting composition for a protective film of a wiring board capable of obtaining (that is, good adhesion to polyimide film and tin-plated copper), and a protective film for a wiring board obtained by curing the composition Can provide.

本発明の配線板の保護膜用熱硬化性組成物は、フレキシブル配線板の製造に好適に用いられる。   The thermosetting composition for a protective film of a wiring board of the present invention is suitably used for production of a flexible wiring board.

Claims (15)

分子内にアルコキシシリル基を有するエポキシ基含有化合物、カルボキシル基を有しかつ下記式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンおよび溶剤を必須成分とする配線板の保護膜用熱硬化性組成物。
Figure 2011137108
(式中、Rは、炭素数3〜18のアルキレン基を表し、nは1以上の整数を表す。)
Thermosetting composition for protective film of wiring board comprising epoxy group-containing compound having alkoxysilyl group in molecule, polyurethane having carboxyl group and structural unit represented by following formula (1) and solvent as essential components .
Figure 2011137108
(In the formula, R 1 represents an alkylene group having 3 to 18 carbon atoms, and n represents an integer of 1 or more.)
カルボキシル基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンが、下記成分(a)〜成分(d)を必須とする原料成分を反応させて得られるポリウレタンポリイミドであることを特徴とする請求項1に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。
成分(a) ジイソシアネート
成分(b) 炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオール
成分(c) カルボキシル基を有するジオール
成分(d) 下記式(2)で示される2官能性水酸基末端イミド
Figure 2011137108
(式中、R、Rは、それぞれ独立に、2価の脂肪族または芳香族炭化水素基を示し、Yはテトラカルボン酸またはその酸無水物基から誘導される4価の有機基を示し、Xはジアミンあるいはジイソシアネートから誘導される2価の有機基を示し、mは、0〜20の整数である。)
The polyurethane having a carboxyl group and having a structural unit represented by the formula (1) is a polyurethane polyimide obtained by reacting raw material components essentially comprising the following components (a) to (d): The thermosetting composition for protective films of a wiring board according to claim 1.
Component (a) Diisocyanate Component (b) (Poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms Component (c) Diol having a carboxyl group Component (d) Shown by the following formula (2) Bifunctional hydroxyl-terminated imide
Figure 2011137108
Wherein R 2 and R 3 each independently represents a divalent aliphatic or aromatic hydrocarbon group, and Y 1 represents a tetravalent organic group derived from a tetracarboxylic acid or an acid anhydride group thereof. X 1 represents a divalent organic group derived from diamine or diisocyanate, and m is an integer of 0 to 20.)
カルボキシル基を有しかつ式(1)で示される構造単位を有するポリウレタンが、下記成分(a)、成分(b)、成分(c)および成分(e)を必須とする原料成分を反応させて得られるポリウレタンであることを特徴とする請求項1に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。
成分(a) ジイソシアネート
成分(b) 炭素数3〜18のジオールから誘導される有機残基を有する(ポリ)カーボネートポリオール
成分(c) カルボキシル基を有するジオール
成分(e) 1分子中に水酸基を3個以上有する化合物
A polyurethane having a carboxyl group and a structural unit represented by the formula (1) is reacted with raw material components essential for the following component (a), component (b), component (c) and component (e). The thermosetting composition for a protective film of a wiring board according to claim 1, which is a polyurethane obtained.
Component (a) Diisocyanate Component (b) (Poly) carbonate polyol having an organic residue derived from a diol having 3 to 18 carbon atoms Component (c) Diol having a carboxyl group Component (e) 3 hydroxyl groups in one molecule Compounds with more than
分子内にアルコキシシリル基を有するエポキシ基含有化合物が、分子内にアルコキシシリル基を有しかつエポキシ基を2個以上有する化合物であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。   The epoxy group-containing compound having an alkoxysilyl group in the molecule is a compound having an alkoxysilyl group and two or more epoxy groups in the molecule. The thermosetting composition for protective films of the described wiring board. さらに、トリシクロデカン構造を有するエポキシ含有化合物を含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。   Furthermore, the epoxy-containing compound which has a tricyclodecane structure is included, The thermosetting composition for protective films of the wiring board of any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned. トリシクロデカン構造を有するエポキシ含有化合物が、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン構造またはトリシクロ[3.3.1.13,7]デカン構造を有し、かつ芳香環構造を有するエポキシ含有化合物であることを特徴とする請求項5に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。 The epoxy-containing compound having a tricyclodecane structure has a tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane structure or a tricyclo [3.3.1.1 3,7 ] decane structure, and an aromatic ring structure The thermosetting composition for a protective film of a wiring board according to claim 5, wherein the composition is an epoxy-containing compound. トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン構造またはトリシクロ[3.3.1.13,7]デカン構造を有し、かつ芳香環構造を有するエポキシ含有化合物が、下記式(3)で示される化合物であることを特徴とする請求項6に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。
Figure 2011137108
(式中、lは、0または1以上の整数を表す。)
An epoxy-containing compound having a tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane structure or a tricyclo [3.3.1.1 3,7 ] decane structure and having an aromatic ring structure is represented by the following formula (3 The thermosetting composition for a protective film of a wiring board according to claim 6, wherein the composition is a compound represented by
Figure 2011137108
(In the formula, l represents 0 or an integer of 1 or more.)
溶剤が、大気圧下で、150℃以上250℃以下の沸点を有する2種類以上の溶剤を含む混合溶剤であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。   The wiring board according to any one of claims 1 to 7, wherein the solvent is a mixed solvent containing two or more kinds of solvents having boiling points of 150 ° C or higher and 250 ° C or lower under atmospheric pressure. Thermosetting composition for protective film. 溶剤が、大気圧下で、170℃以上200℃未満の沸点を有する少なくとも1種の溶剤と200℃以上220℃以下の沸点を有する少なくとも1種の溶剤を含む混合溶剤であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。   The solvent is a mixed solvent containing at least one solvent having a boiling point of 170 ° C. or more and less than 200 ° C. and at least one solvent having a boiling point of 200 ° C. or more and 220 ° C. or less under atmospheric pressure. The thermosetting composition for protective films of the wiring board of any one of Claims 1-7. 溶剤が、下記A群の中から選ばれる少なくとも1種の溶剤と下記B群の中から選ばれる少なくとも1種の溶剤を必須成分とする混合溶剤であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。
A群:ジエチレングリコールジエチルエーテル(沸点189℃)、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル(沸点176℃)、ジプロピレングリコールジメチルエーテル(沸点171℃)、3−メトキシブチルアセテート(沸点171℃)、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート(沸点192℃)
B群:ジエチレングリコールブチルメチルエーテル(沸点212℃)、トリプロピレングリコールジメチルエーテル(沸点215℃)、トリエチレングリコールジメチルエーテル(沸点216℃)、エチレングリコールジブチルエーテル(沸点203℃)、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート(沸点217℃)、γ−ブチロラクトン(沸点204℃)
The solvent is a mixed solvent containing at least one solvent selected from the following group A and at least one solvent selected from the following group B as essential components: The thermosetting composition for protective films of the wiring board of any one of Claims 1.
Group A: Diethylene glycol diethyl ether (boiling point 189 ° C.), diethylene glycol ethyl methyl ether (boiling point 176 ° C.), dipropylene glycol dimethyl ether (boiling point 171 ° C.), 3-methoxybutyl acetate (boiling point 171 ° C.), ethylene glycol monobutyl ether acetate (boiling point) 192 ° C)
Group B: Diethylene glycol butyl methyl ether (boiling point 212 ° C.), tripropylene glycol dimethyl ether (boiling point 215 ° C.), triethylene glycol dimethyl ether (boiling point 216 ° C.), ethylene glycol dibutyl ether (boiling point 203 ° C.), diethylene glycol monoethyl ether acetate (boiling point) 217 ° C.), γ-butyrolactone (boiling point 204 ° C.)
さらに、硬化促進剤を含む請求項1〜10のいずれか1項に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。   Furthermore, the thermosetting composition for protective films of the wiring board of any one of Claims 1-10 containing a hardening accelerator. 硬化促進剤が、メラミン、イミダゾール化合物、シクロアミジン化合物およびその誘導体、ホスフィン系化合物およびアミン系化合物からなる群より選ばれる1種または2種以上であることを特徴とする請求項11に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。   The wiring accelerator according to claim 11, wherein the curing accelerator is one or more selected from the group consisting of melamine, imidazole compounds, cycloamidine compounds and derivatives thereof, phosphine compounds, and amine compounds. A thermosetting composition for a protective film of a plate. さらに、無機微粒子および/または有機微粒子を含有することを特徴とする請求項1〜12のいずれか1項に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物。   Furthermore, inorganic fine particle and / or organic fine particle are contained, The thermosetting composition for protective films of the wiring board of any one of Claims 1-12 characterized by the above-mentioned. 請求項1〜13のいずれか1項に記載の配線板の保護膜用熱硬化性組成物を硬化して得られる配線板の保護膜。   The protective film of a wiring board obtained by hardening | curing the thermosetting composition for protective films of the wiring board of any one of Claims 1-13. フレキシブル基板上に配線が形成されてなるフレキシブル配線板の、配線が形成されている表面の一部または全部が請求項14に記載の配線板の保護膜によって被覆されたことを特徴とする、保護膜によって被覆されたフレキシブル配線板。   A part of or all of a surface of a flexible wiring board in which wiring is formed on a flexible substrate is covered with the protective film of the wiring board according to claim 14. A flexible wiring board covered with a film.
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