JPWO2008032722A1 - Coating material, optical article using the same, and method for producing optical article - Google Patents

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清佳 竹田
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博 細野
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    • C08K9/04Ingredients treated with organic substances
    • C08K9/06Ingredients treated with organic substances with silicon-containing compounds

Abstract

【課題】本発明は、無機粒子が均一に分散しており、得られる被膜が良好な表面硬度および低屈折率性による反射防止性を有し、さらに光硬化によって硬化するため熱収縮の生じやすい基材にも適用できる、優れたコーティング材料及びそれを用いたコーティング膜の形成方法ならびにそれを用いた光学物品を提供する。【解決手段】少なくとも3種類以上のシラン化合物の加水分解縮合物を含み、かつそれらが反応性基を有する無機粒子と結合したポリマー、及び熱および/または光重合開始剤を有するコーティング材料およびそれを用いた光学物品。【選択図】なしAn object of the present invention is to uniformly disperse inorganic particles, and to obtain a coating film having good surface hardness and antireflective property due to low refractive index, and is hardened by photocuring, so that heat shrinkage easily occurs. An excellent coating material that can be applied to a substrate, a method of forming a coating film using the same, and an optical article using the same are provided. A polymer containing a hydrolyzed condensate of at least three kinds of silane compounds and bound to inorganic particles having a reactive group, and a coating material having a thermal and / or photopolymerization initiator and Optical article used. [Selection figure] None

Description

本発明は、各種ディスプレイに好適な反射防止フィルム等に用いられるコーティング材料、それを用いた光学物品並びに光学物品の製造方法に関する。   The present invention relates to a coating material used for an antireflection film suitable for various displays, an optical article using the same, and a method for producing the optical article.

透明材料を通して物を見る場合、反射光が強く反射像が明瞭であることは煩わしく、時にはゴースト、フレアなどと呼ばれる反射像を生じて不快感を与えたりする。また反射した光のために、内容物、表示体が判然としない問題が生ずる。   When an object is viewed through a transparent material, it is troublesome that the reflected light is strong and the reflected image is clear, and sometimes a reflected image called a ghost, flare, etc. is generated and uncomfortable. In addition, because of the reflected light, there arises a problem that the contents and the display body are unclear.

従来、視認性を向上させる目的で、高屈折率材料と低屈折率材料の被膜を、真空蒸着法、スパッタリング法などにより、複数層形成させる方法が行われていた(特許文献1、2参照)。   Conventionally, for the purpose of improving visibility, a method of forming a plurality of layers of a coating film of a high refractive index material and a low refractive index material by a vacuum deposition method, a sputtering method, or the like has been performed (see Patent Documents 1 and 2). .

特に近年になってからはフィルムの高機能化が進み、軽量、安全、取り扱いやすさなどの長所を生かして、フィルムを基材とし、その上に薄膜を設けることにより反射防止性を有する光学物品が考案され、実用化されている。しかし、フィルム上に設けられる薄膜は低反射率である必要があり、特に最表層に存在する層は低屈折率であることが求められている。層の低屈折率化を図るには、層を形成する樹脂中の架橋点の数を減らすということが考えられるが、樹脂中の架橋点が減るとそれに伴い表面硬度が低下するという問題がある。またフィルムのような可撓性を有する基材の場合、硬化温度や時間等の条件が限られているのが実状であり、各層の好適材料をいかに迅速に硬化し被膜形成するかが課題となる。特にフィルム上に形成される層が、フィルムの耐熱性以上の温度を必要とする熱硬化性の材料である場合には、乾燥、硬化工程でフィルムが熱収縮を生じるなどの問題点があった。   Especially in recent years, high functionalization of films has progressed, taking advantage of light weight, safety, ease of handling, etc., and taking advantage of the film as a base material, and providing a thin film thereon, an optical article having antireflection properties Has been devised and put into practical use. However, the thin film provided on the film needs to have a low reflectance, and in particular, the layer existing on the outermost layer is required to have a low refractive index. In order to reduce the refractive index of the layer, it is conceivable to reduce the number of cross-linking points in the resin forming the layer, but there is a problem that the surface hardness decreases with the decrease in the cross-linking points in the resin. . In addition, in the case of a flexible substrate such as a film, conditions such as curing temperature and time are limited, and it is a problem how to quickly cure and form a suitable material for each layer Become. In particular, when the layer formed on the film is a thermosetting material that requires a temperature higher than the heat resistance of the film, there is a problem that the film undergoes heat shrinkage during the drying and curing processes. .

上記の問題を解決する方法として、層を形成する樹脂中に熱ラジカル重合開始剤を添加してラジカルを発生させて重合を進行させて低温硬化し、層を形成する方法がある。例としては、アクリル樹脂と熱ラジカル重合開始剤を用いたコーティング塗料をフィルム上に塗工し、低温でラジカルを発生させる方法である。また、フィルム上に光ラジカル重合開始剤を添加した透明被覆層を設け、その透明被覆層の表面に紫外線、電子線などのエネルギーの高い電磁波を照射し、光硬化によって層を形成する方法がある。例としては、窒素或いは二酸化炭素雰囲気下などの酸素阻害条件下で紫外線照射を行いラジカルを発生させて重合を進行させ、膜を形成する。この方法は、無溶媒で膜を硬化できる点から生産上好ましい。或いは溶媒が含まれていても低温で溶媒除去を行うことが可能である。この方法を低屈折率層形成に適用したときに用いられる具体的な組成物としては、フッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレートと、重合開始剤を添加した組成物(特許文献3参照)や、パーフルオロオレフィン含有化合物とアルキルビニルエーテルの共重合体にフッ素(メタ)アクリレート化合物および、光重合開始剤を含む組成物(特許文献4参照)等が挙げられる。   As a method for solving the above-described problem, there is a method in which a thermal radical polymerization initiator is added to a resin forming a layer to generate radicals to advance polymerization and cure at low temperature to form a layer. As an example, there is a method in which a coating paint using an acrylic resin and a thermal radical polymerization initiator is applied on a film to generate radicals at a low temperature. In addition, there is a method in which a transparent coating layer added with a photo radical polymerization initiator is provided on a film, the surface of the transparent coating layer is irradiated with an electromagnetic wave having a high energy such as an ultraviolet ray or an electron beam, and the layer is formed by photocuring. . As an example, ultraviolet rays are irradiated under an oxygen-inhibiting condition such as in a nitrogen or carbon dioxide atmosphere to generate radicals to advance polymerization to form a film. This method is preferable for production because the film can be cured without solvent. Alternatively, even if a solvent is contained, the solvent can be removed at a low temperature. As a specific composition used when this method is applied to the formation of a low refractive index layer, a composition containing a fluorinated alkyl group-containing (meth) acrylate and a polymerization initiator (see Patent Document 3), Examples include a composition containing a fluorine (meth) acrylate compound and a photopolymerization initiator in a copolymer of a perfluoroolefin-containing compound and an alkyl vinyl ether (see Patent Document 4).

しかしながらこれらの組成物は、撥水性や表面滑り性を付与する目的で樹脂中にフッ素を多く含んでいるため、硬化膜の機械的な強度が不足している。また、無機成分が存在せず、樹脂のみで構成されているために、紫外線照射による硬化時に膜収縮が生じる場合がある。   However, since these compositions contain a large amount of fluorine in the resin for the purpose of imparting water repellency and surface slipperiness, the mechanical strength of the cured film is insufficient. In addition, since there is no inorganic component and the resin is composed only of resin, film shrinkage may occur during curing by ultraviolet irradiation.

上記の問題を解消するために、以下のような組成物が開示されている。(1)多官能(メタ)アクリレートとシリカ微粒子と光ラジカル重合開始剤を添加したコーティング組成物(特許文献5参照)。(2)フッ素ポリマーと多官能(メタ)アクリレートと、シリカ微粒子に重合開始剤を配合したコーティング組成物(特許文献6参照)。(3)フッ素含有アクリレートと、シリカ微粒子、および重合開始剤を添加したコーティング組成物(特許文献7参照)。これらは従来のようにフッ素を多量に用いることなく、無機成分に低屈折率の中空のシリカ微粒子を用い、当該微粒子を樹脂中に導入することで高い表面硬度と低屈折率の両立をはかっている。しかし、無機微粒子が均一に分散されていないと凝集や沈殿が発生し、コーティング膜の外観や表面硬度が低下する。また、無機成分と樹脂成分との架橋が不十分であるとコーティング膜における表面硬度の低下が起きやすくなる。そこで、粒子表面に修飾基を導入することによって、コーティング材料中での保存安定性や、表面硬度、防汚性などのコーティング膜特性を改善する手法がある。特許文献5、6では(メタ)アクリル基含有、フッ素含有のシランカップリング剤で表面処理を行った無機微粒子を用いて、分散性の向上をはかっている。また、特許文献7においては、樹脂成分のフッ素含有(メタ)アクリレートを、(メタ)アクリル基含有のシランカップリング剤と共に無機微粒子存在下で合成することにより、粒子の分散性の向上をはかっている。   In order to solve the above problems, the following compositions are disclosed. (1) A coating composition to which polyfunctional (meth) acrylate, silica fine particles, and a radical photopolymerization initiator are added (see Patent Document 5). (2) A coating composition in which a fluoropolymer, a polyfunctional (meth) acrylate, and silica fine particles are blended with a polymerization initiator (see Patent Document 6). (3) A coating composition to which a fluorine-containing acrylate, silica fine particles, and a polymerization initiator are added (see Patent Document 7). These use low-refractive-index hollow silica fine particles as inorganic components without using a large amount of fluorine as in the past, and achieve both high surface hardness and low refractive index by introducing the fine particles into the resin. Yes. However, if the inorganic fine particles are not uniformly dispersed, aggregation and precipitation occur, and the appearance and surface hardness of the coating film decrease. Further, when the crosslinking between the inorganic component and the resin component is insufficient, the surface hardness of the coating film is liable to decrease. Therefore, there is a method for improving the coating film properties such as storage stability in the coating material, surface hardness, and antifouling property by introducing a modifying group on the particle surface. In Patent Documents 5 and 6, dispersibility is improved by using inorganic fine particles that have been surface-treated with a (meth) acryl group-containing and fluorine-containing silane coupling agent. Moreover, in patent document 7, the dispersibility of particle | grains is aimed at by synthesize | combining the fluorine-containing (meth) acrylate of a resin component with an inorganic fine particle with a (meth) acryl group-containing silane coupling agent. Yes.

さらに、シラン化合物、無機粒子、硬化剤を有するコーティング材料が知られており(特許文献8参照)、フッ素を含有したシラン化合物と、中空のシリカ微粒子を結合させておくことにより、コーティング膜の硬度と低屈折率の両立をはかっている。
特公平2−36921号公報(特許請求の範囲、第2頁) 特公平6−5324号公報(特許請求の範囲、第2−3頁) 特開2005−171238号公報(特許請求の範囲、第2−4頁) 特開2005−290133号公報(特許請求の範囲、第2頁) 特開2005−181543号公報(特許請求の範囲、第2−4頁) 特開2005−307176号公報(特許請求の範囲、第2−5頁) 特開2006−182937号公報(特許請求の範囲、第1−2頁) 国際公開第05/121265号パンフレット(特許請求の範囲、第2−3頁)
Furthermore, a coating material having a silane compound, inorganic particles, and a curing agent is known (see Patent Document 8), and the hardness of the coating film is obtained by bonding a fluorine-containing silane compound and hollow silica fine particles. And a low refractive index.
JP-B-2-36921 (Claims, page 2) Japanese Patent Publication No. 6-5324 (Claims, page 2-3) Japanese Patent Laying-Open No. 2005-171238 (Claims, pages 2-4) JP-A-2005-290133 (Claims, page 2) Japanese Patent Laying-Open No. 2005-181543 (Claims, pages 2-4) JP-A-2005-307176 (Claims, pages 2-5) JP 2006-182937 A (Claims, page 1-2) WO05 / 121265 pamphlet (Claims, pages 2-3)

特許文献5、6においては、硬化前の状態においては粒子が有する修飾基と樹脂成分中の反応性基との結合がなされていないために、硬化時に結合してもその量は十分でなく、得られるコーティング膜の硬度は十分ではない。さらに、(メタ)アクリル基含有のシランカップリング剤を無機微粒子の表面修飾に用いると、無機微粒子自体の屈折率が高くなり、目的とする反射防止性を得るのが困難になる。また防汚性付与などの表面改質のためフッ素基含有のシランカップリング剤を無機微粒子の表面修飾に用いると、ラジカル重合性が低下するために、得られるコーティング膜の表面硬度がさらに低下する。以上のように、低温硬化、光硬化が可能な低屈折率材料は知られているが、樹脂成分と無機成分の結合が十分でないため得られるコーティング膜の硬度が低い。   In Patent Documents 5 and 6, since the bonding between the modifying group of the particles and the reactive group in the resin component is not made in the state before curing, the amount is not sufficient even when bonded at the time of curing, The hardness of the resulting coating film is not sufficient. Furthermore, when a (meth) acrylic group-containing silane coupling agent is used for surface modification of inorganic fine particles, the refractive index of the inorganic fine particles themselves increases, making it difficult to obtain the desired antireflection property. In addition, when a fluorine group-containing silane coupling agent is used for surface modification of inorganic fine particles for surface modification such as imparting antifouling properties, the radical polymerizability is lowered, and thus the surface hardness of the resulting coating film is further lowered. . As described above, low refractive index materials capable of low temperature curing and photocuring are known, but the hardness of the coating film obtained is low due to insufficient bonding between the resin component and the inorganic component.

また、特許文献7で記載された低温硬化可能なコーティング材料は、フッ素含有アクリレート自体の屈折率が高いため、優れた反射防止性を有しない。特許文献8に記載されたコーティング材料は、高温加熱による熱架橋反応で硬化するものであり、熱収縮の生じやすい基材では対応することができず、基材の耐熱性を考慮した60℃程度の低温加熱での硬化では十分に架橋が進行しない。そのためにコーティング材料が元来有している表面硬度を十分に発揮させることができない。   Further, the low-temperature curable coating material described in Patent Document 7 does not have excellent antireflection properties because the fluorine-containing acrylate itself has a high refractive index. The coating material described in Patent Document 8 is cured by a thermal crosslinking reaction by high-temperature heating, and cannot be applied to a substrate that easily causes thermal shrinkage, and is about 60 ° C. considering the heat resistance of the substrate. Curing by low-temperature heating does not sufficiently proceed with crosslinking. Therefore, the surface hardness inherent to the coating material cannot be sufficiently exhibited.

すなわち、本発明は、表面硬度が高く、低屈折率で、優れた反射防止性を示し、さらに低温硬化可能なコーティング膜を形成できるコーティング材料を提供することを課題とする。   That is, an object of the present invention is to provide a coating material having a high surface hardness, a low refractive index, excellent antireflection properties, and capable of forming a coating film that can be cured at a low temperature.

すなわち本発明は、上記の課題を解決するため、次のような構成を有する。コーティング材料中の固形分全量に対して(I)一般式(1)で表されるシラン化合物1〜50質量%、一般式(2)で表されるシラン化合物5〜50質量%および一般式(3)で表されるシラン化合物5〜50質量%の加水分解縮合物からなり、反応性基を有する無機粒子に結合したポリマーと、(II)熱および/または光重合開始剤を有するコーティング材料である。   That is, the present invention has the following configuration in order to solve the above problems. (I) 1 to 50% by mass of the silane compound represented by the general formula (1), 5 to 50% by mass of the silane compound represented by the general formula (2) and the general formula (1) with respect to the total solid content in the coating material 3) A coating material comprising a hydrolysis condensate of 5 to 50% by mass of a silane compound represented by formula (3) and bonded to inorganic particles having a reactive group, and (II) a coating material having heat and / or a photopolymerization initiator. is there.

Si(R(OR3−a (1)
(Rはビニル基、アリル基、アルケニル基、(メタ)アクリル基、メルカプト基、エポキシ基を有する炭化水素基を表し、Rは炭素数が1〜5の炭化水素基を表す。Rは炭素数が1〜3の炭化水素基を表し、複数のRはそれぞれ同一でも異なっていても良く、aは0または1である。)
Si(R(OR3−b (2)
(Rはフッ素の数が3〜17のフルオロアルキル基を有する炭化水素基を表し、Rは炭素数が1〜5の炭化水素基を表す。Rは炭素数が1〜3の炭化水素基を表し、複数のRはそれぞれ同一でも異なっていても良く、bは0または1である。)
(RSi(OR4−c (3)
(Rは水素、炭素数1〜12のアルキル基およびそれらの置換体を表す。Rは炭素数が1〜3の炭化水素基を表し、複数のRはそれぞれ同一でも異なっていても良く、cは0、1、2のいずれかである。)
R 1 Si (R 2 ) a (OR 6 ) 3-a (1)
(R 1 represents a hydrocarbon group having a vinyl group, an allyl group, an alkenyl group, a (meth) acryl group, a mercapto group, or an epoxy group, and R 2 represents a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms. R 6 Represents a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, and a plurality of R 6 may be the same or different, and a is 0 or 1.)
R 3 Si (R 4 ) b (OR 7 ) 3-b (2)
(R 3 represents a hydrocarbon group having a fluoroalkyl group having 3 to 17 fluorine atoms, R 4 represents a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, and R 7 represents a carbon atom having 1 to 3 carbon atoms. Represents a hydrogen group, a plurality of R 7 may be the same or different, and b is 0 or 1.)
(R 5 ) c Si (OR 8 ) 4-c (3)
(R 5 represents hydrogen, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and a substituent thereof. R 8 represents a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, and a plurality of R 8 may be the same or different. Well, c is 0, 1, or 2.)

本発明のコーティング材料を用いて形成された膜は、無機粒子が均一に分散しており、良好な表面硬度および低屈折率性による反射防止性を有している。また本発明のコーティング材料は、光や低温によって硬化することができるため熱収縮の生じやすい基材にも適用できる。   The film formed using the coating material of the present invention has inorganic particles uniformly dispersed, and has antireflection properties due to good surface hardness and low refractive index. Moreover, since the coating material of this invention can be hardened | cured by light or low temperature, it can be applied also to the base material which is easy to produce heat shrink.

以下に本発明について具体的に説明する。
本発明のコーティング材料は、コーティング材料中の固形分全量に対して(I)一般式(1)で表されるシラン化合物1〜50質量%、一般式(2)で表されるシラン化合物5〜50質量%および一般式(3)で表されるシラン化合物5〜50質量%の加水分解縮合物からなり、反応性基を有する無機粒子に結合したポリマーと、(II)熱および/または光重合開始剤を有する。ここでコーティング材料中の固形分とは、コーティング材料に含まれる無機粒子と有機成分の固形分の合計(質量)を意味し、固形分の測定はコーティング材料をアルミ皿に量り取り、130℃のオーブンで2時間加熱した後の成分である。
The present invention will be specifically described below.
The coating material of the present invention comprises (I) 1 to 50% by mass of the silane compound represented by the general formula (1) and 5 to 5 of the silane compound represented by the general formula (2) with respect to the total solid content in the coating material. A polymer composed of a hydrolytic condensate of 50% by mass and 5-50% by mass of the silane compound represented by the general formula (3), and bonded to inorganic particles having a reactive group; and (II) thermal and / or photopolymerization Has an initiator. Here, the solid content in the coating material means the total (mass) of the solid content of the inorganic particles and the organic component contained in the coating material, and the solid content is measured by weighing the coating material on an aluminum dish and measuring at 130 ° C. It is a component after heating in an oven for 2 hours.

Si(R(OR3−a (1)
はビニル基、アリル基、アルケニル基、(メタ)アクリル基、メルカプト基またはエポキシ基を有する炭化水素基を表し、Rは炭素数が1〜5の炭化水素基を表す。Rは炭素数が1〜3の炭化水素基を表し、複数のRはそれぞれ同一でも異なっていても良く、aは0または1である。
R 1 Si (R 2 ) a (OR 6 ) 3-a (1)
R 1 represents a hydrocarbon group having a vinyl group, an allyl group, an alkenyl group, a (meth) acryl group, a mercapto group or an epoxy group, and R 2 represents a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms. R 6 represents a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, and a plurality of R 6 may be the same or different, and a is 0 or 1.

Si(R(OR3−b (2)
はフッ素の数が3〜17のフルオロアルキル基を有する炭化水素基を表し、Rは炭素数が1〜5の炭化水素基を表す。Rは炭素数が1〜3の炭化水素基を表し、複数のRはそれぞれ同一でも異なっていても良く、bは0または1である。
R 3 Si (R 4 ) b (OR 7 ) 3-b (2)
R 3 represents a hydrocarbon group having a fluoroalkyl group having 3 to 17 fluorine atoms, and R 4 represents a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms. R 7 represents a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, and a plurality of R 7 may be the same or different, and b is 0 or 1.

(RSi(OR4−c (3)
は水素、炭素数1〜12のアルキル基およびそれらの置換体を表す。Rは炭素数が1〜3の炭化水素基を表し、複数のRはそれぞれ同一でも異なっていても良く、cは0、1、2のいずれかである。
(R 5 ) c Si (OR 8 ) 4-c (3)
R 5 represents hydrogen, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a substituted product thereof. R 8 represents a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, a plurality of R 8 may be the same or different, and c is 0, 1, or 2.

一般式(1)で表されるシラン化合物の添加量は1〜50質量%である。1質量%未満であると、コーティング材料から膜を形成するための低温加熱や、光照射による硬化が困難となる。また50質量%を越えると、コーティング膜の屈折率が1.38を越え、その場合の光線最小反射率は1.0%を越えたり、硬化時にコーティング膜の収縮によりクラックが入ったり、基材も含めてコーティング膜が反る場合がある。ここで、光線反射率とは、コーティング膜表面において、可視光線の波長領域380nm〜800nmにおいて測定した光の反射率のことである。この範囲における反射率の最小値を最小反射率と定義する。なお、コーティング膜付き透明基材を通して物を見る場合、視野に入る反射光が低減しており、良好な視認性を与える反射率の範囲は1.0%以下である。本発明においては、コーティング膜の屈折率が1.38以下であると、層界面での入射光と反射光が有効に干渉され、反射率1.0%以下にすることができる。また25質量%以下であると、コーティング膜の屈折率を1.38以下にすることができ、光線最小反射率を1.0%以下とすることができ好ましい。低屈折率性の点から、より好ましくは15質量%以下、さらに好ましくは10質量%以下である。   The addition amount of the silane compound represented by the general formula (1) is 1 to 50% by mass. If it is less than 1% by mass, it is difficult to perform low-temperature heating for forming a film from the coating material or curing by light irradiation. On the other hand, if it exceeds 50% by mass, the refractive index of the coating film exceeds 1.38. In that case, the minimum reflectance of light exceeds 1.0%, or cracks occur due to shrinkage of the coating film during curing. In some cases, the coating film warps. Here, the light reflectance is the reflectance of light measured in the visible light wavelength region of 380 nm to 800 nm on the coating film surface. The minimum value of the reflectance in this range is defined as the minimum reflectance. In addition, when seeing an object through the transparent base material with a coating film, the reflected light which enters into the visual field is reduced, and the reflectance range giving good visibility is 1.0% or less. In the present invention, when the refractive index of the coating film is 1.38 or less, incident light and reflected light at the layer interface are effectively interfered with each other, and the reflectance can be 1.0% or less. Moreover, when it is 25 mass% or less, the refractive index of a coating film can be made into 1.38 or less, and light ray minimum reflectance can be made into 1.0% or less, and it is preferable. From the point of low refractive index property, More preferably, it is 15 mass% or less, More preferably, it is 10 mass% or less.

一般式(1)で表されるシラン化合物のうち、a=0である3官能性シラン化合物は、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリプロポキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、メチルビニルトリメトキシシラン、メチルビニルトリエトキシシラン、メチルビニルトリプロポキシシラン、メチルビニルトリイソプロポキシシラン、オクチルビニルトリメトキシシラン、オクチルビニルトリエトキシシラン、オクチルビニルトリプロポキシシラン、オクチルビニルトリイソプロポキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリプロポキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリイソプロポキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリプロポキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリイソプロポキシシラン、メルカプトメチルトリメトキシシラン、メルカプトメチルトリエトキシシラン、メルカプトメチルトリプロポキシシラン、メルカプトメチルトリイソプロポキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリプロポキシシラン、3−メルカプトプロピルトリイソプロポキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリイソプロポキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチルトリプロポキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチルトリイソプロポキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルトリプロポキシシラン、アリルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリス(トリメチルシロキシ)シランなどが挙げられる。これらのうち、得られたコーティング膜の硬度と屈折率の点から、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシランが好ましい。   Among the silane compounds represented by the general formula (1), trifunctional silane compounds in which a = 0 are vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltripropoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, methylvinyltri Methoxysilane, methylvinyltriethoxysilane, methylvinyltripropoxysilane, methylvinyltriisopropoxysilane, octylvinyltrimethoxysilane, octylvinyltriethoxysilane, octylvinyltripropoxysilane, octylvinyltriisopropoxysilane, 3-methacrylic Loxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyltripropoxysilane, 3-methacryloxypropyltriisopropoxysilane, 3- Acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltripropoxysilane, 3-acryloxypropyltriisopropoxysilane, mercaptomethyltrimethoxysilane, mercaptomethyltriethoxysilane, mercaptomethyltri Propoxysilane, mercaptomethyltriisopropoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltripropoxysilane, 3-mercaptopropyltriisopropoxysilane, 3-glycidoxypropyltri Methoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltripropoxysilane, 3-glycidoxypropyl Lysopropoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) methyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) methyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) methyltripropoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) methyltriisopropoxysilane, allyltrimethoxysilane, allyltriethoxysilane, allyltripropoxysilane, allyltriisopropoxysilane, vinyltris (trimethylsiloxy) silane, and the like. Among these, from the point of hardness and refractive index of the obtained coating film, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloxy Propyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, and 3-acryloxypropyltriethoxysilane are preferred.

一般式(1)で表されるシラン化合物のうち、a=1である2官能性シラン化合物は、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン、メチルビニルジプロポキシシラン、メチルビニルジイソプロポキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジプロポキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジイソプロポキシシラン、3−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルメチルジプロポキシシラン、3−アクリロキシプロピルメチルジイソプロポキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジプロポキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジイソプロポキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジプロポキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジプロポキシシラン、アリルメチルジメトキシシラン、アリルメチルジエトキシシラン、アリルメチルジプロポキシシラン、アリルメチルジイソプロポキシシラン、ジメトキシジビニルシラン、ジエトキシジビニルシランなどが挙げられる。これらは、得られるコーティング膜がより柔軟性を高められる点から好ましく用いられる。   Among the silane compounds represented by the general formula (1), a bifunctional silane compound in which a = 1 is methylvinyldimethoxysilane, methylvinyldiethoxysilane, methylvinyldipropoxysilane, methylvinyldiisopropoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldipropoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiisopropoxysilane, 3-acryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3 -Acryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-acryloxypropylmethyldipropoxysilane, 3-acryloxypropylmethyldiisopropoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-methyl Captopropylmethyldiethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldipropoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldiisopropoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidyl Sidoxypropylmethyldipropoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldipropoxysilane, allylmethyldimethoxysilane, allylmethyldiethoxysilane, allylmethyldipropoxysilane, allylmethyldiisopropoxysilane, dimethoxydivinylsilane, diethoxydi Examples include vinyl silane. These are preferably used because the resulting coating film can be more flexible.

一般式(2)で表されるシラン化合物の添加量は5〜50質量%である。5質量%未満であると、コーティング材料から形成される膜の表面滑り性が低下する。また50質量%を越えると、コーティング材料から形成される膜の硬度が低下する。好ましくは、20質量%以上であり、この場合表面滑り性が良好である。より好ましくは30質量%以上から40質量%未満であり、この場合良好な硬度と表面滑り性の両立が可能となる。   The addition amount of the silane compound represented by the general formula (2) is 5 to 50% by mass. When it is less than 5% by mass, the surface slipperiness of the film formed from the coating material is lowered. On the other hand, if it exceeds 50% by mass, the hardness of the film formed from the coating material decreases. Preferably, it is 20% by mass or more, and in this case, the surface slipperiness is good. More preferably, it is 30% by mass or more and less than 40% by mass. In this case, both good hardness and surface slipperiness can be achieved.

一般式(2)で表されるシラン化合物のうち、b=0である3官能性シラン化合物は、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリイソプロポキシシラン、パーフルオロプロピルエチルトリメトキシシラン、パーフルオロプロピルエチルトリエトキシシラン、パーフルオロプロピルエチルトリプロポキシシラン、パーフルオロプロピルエチルトリイソプロポキシシラン、パーフルオロブチルエチルトリメトキシシラン、パーフルオロブチルエチルトリエトキシシラン、パーフルオロブチルエチルトリプロポキシシラン、パーフルオロブチルエチルトリイソプロポキシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリイソプロポキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリイソプロポキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリプロポキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリイソプロポキシシランなどが挙げられる。これらのうち、得られたコーティング膜の硬度の点から、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシランが好ましい。   Among the silane compounds represented by the general formula (2), trifunctional silane compounds in which b = 0 are trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane, trifluoropropyltripropoxysilane, and trifluoropropyl. Triisopropoxysilane, perfluoropropylethyltrimethoxysilane, perfluoropropylethyltriethoxysilane, perfluoropropylethyltripropoxysilane, perfluoropropylethyltriisopropoxysilane, perfluorobutylethyltrimethoxysilane, perfluorobutylethyl Triethoxysilane, perfluorobutylethyltripropoxysilane, perfluorobutylethyltriisopropoxysilane, tridecafluorooctyltrimethoxysilane, Decafluorooctyltriethoxysilane, Tridecafluorooctyltriisopropoxysilane, Tridecafluorooctyltriisopropoxysilane, Heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, Heptadecafluorodecyltriethoxysilane, Heptadecafluorodecyltripropoxysilane, Hepta Examples include decafluorodecyltriisopropoxysilane. Of these, trifluoropropyltrimethoxysilane and trifluoropropyltriethoxysilane are preferred from the viewpoint of the hardness of the resulting coating film.

一般式(2)で表されるシラン化合物のうち、b=1である2官能性シラン化合物は、トリフルオロプロピルメチルジメトキシシラン、トリフルオロプロピルメチルジエトキシシラン、トリフルオロプロピルメチルジプロポキシシラン、トリフルオロプロピルメチルジイソプロポキシシラン、トリデカフルオロオクチルメチルジメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルメチルジエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルメチルジプロポキシシラン、トリデカフルオロオクチルメチルジイソプロポキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジプロポキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジイソプロポキシシランなどが挙げられる。これらは、得られるコーティング膜がより柔軟性を高められる点から好ましく用いられる。   Among the silane compounds represented by the general formula (2), the bifunctional silane compound in which b = 1 is trifluoropropylmethyldimethoxysilane, trifluoropropylmethyldiethoxysilane, trifluoropropylmethyldipropoxysilane, tri Fluoropropylmethyldiisopropoxysilane, tridecafluorooctylmethyldimethoxysilane, tridecafluorooctylmethyldiethoxysilane, tridecafluorooctylmethyldipropoxysilane, tridecafluorooctylmethyldiisopropoxysilane, heptadecafluorodecylmethyldimethoxy Silane, heptadecafluorodecylmethyldiethoxysilane, heptadecafluorodecylmethyldipropoxysilane, heptadecafluorodecylmethyldiisopropoxysilane, etc. It is below. These are preferably used because the resulting coating film can be more flexible.

一般式(3)で表されるシラン化合物のうち、c=0である4官能性シラン化合物は、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシシランなどが挙げられる。これらのうち、得られたコーティング膜がより硬度を高められる点からテトラメトキシシラン、テトラエトキシシランが好ましく用いられる。   Among the silane compounds represented by the general formula (3), examples of the tetrafunctional silane compound in which c = 0 include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, and tetraisopropoxysilane. Among these, tetramethoxysilane and tetraethoxysilane are preferably used from the viewpoint that the obtained coating film can further increase the hardness.

一般式(3)で表されるシラン化合物の添加量は5〜50質量%である。5質量%未満であると、コーティング材料から膜を形成、硬化する際に、クラックが生じ、コーティング材料を均一に形成することが難しい。また50質量%を越えると、コーティング膜の屈折率が1.38を越え、その場合の光線最小反射率は1.0%を越える。好ましくは15質量%以上であり、この場合良好な塗布性が得られる。より好ましくは20質量%以上35質量%以下であり、この場合良好な塗布性と、低屈折率の両立が可能となる。   The addition amount of the silane compound represented by the general formula (3) is 5 to 50% by mass. If it is less than 5% by mass, cracks occur when a film is formed and cured from the coating material, and it is difficult to form the coating material uniformly. On the other hand, if it exceeds 50% by mass, the refractive index of the coating film exceeds 1.38, and the minimum light ray reflectance in that case exceeds 1.0%. Preferably it is 15 mass% or more, and in this case, good coatability is obtained. More preferably, the content is 20% by mass or more and 35% by mass or less. In this case, both good applicability and low refractive index can be achieved.

一般式(3)で表されるシラン化合物のうち、c=1である3官能性シラン化合物は、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリプロポキシシラン、トリイソプロポキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、プロピルトリプロポキシシラン、プロピルトリイソプロポキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリエトキシシラン、イソプロピルトリプロポキシシラン、イソプロピルトリイソプロポキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、ブチルトリプロポキシシラン、ブチルトリイソプロポキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、イソブチルトリプロポキシシラン、イソブチルトリイソプロポキシシラン、ペンチルトリメトキシシラン、ペンチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシランなどが挙げられる。これらのうち、得られたコーティング膜の硬度の点から、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシランが好ましい。Rが炭素数6個以内のアルキル基であると、得られるコーティング膜がより硬度を高められる点から好ましい。Among the silane compounds represented by the general formula (3), trifunctional silane compounds where c = 1 are trimethoxysilane, triethoxysilane, tripropoxysilane, triisopropoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltrimethoxysilane. Ethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltriisopropoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltripropoxysilane, ethyltriisopropoxysilane, propyltrimethoxysilane, propyltriethoxysilane, propyltripropoxysilane, Propyltriisopropoxysilane, isopropyltrimethoxysilane, isopropyltriethoxysilane, isopropyltripropoxysilane, isopropyltriisopropoxysilane, butyltrimethoxysilane , Butyltriethoxysilane, butyltripropoxysilane, butyltriisopropoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, isobutyltriethoxysilane, isobutyltripropoxysilane, isobutyltriisopropoxysilane, pentyltrimethoxysilane, pentyltriethoxysilane, hexyl Examples include trimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, and phenyltriethoxysilane. Of these, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, and ethyltriethoxysilane are preferable from the viewpoint of the hardness of the obtained coating film. When R 5 is an alkyl group having 6 or less carbon atoms, the resulting coating film is preferable because the hardness can be further increased.

一般式(3)で表されるシラン化合物のうち、c=2である2官能性シラン化合物は、ジメトキシシラン、ジエトキシシラン、ジプロポキシシラン、ジイソプロポキシシラン、ジメトキシメチルシラン、ジエトキシメチルシラン、ジプロポキシメチルシラン、ジイソプロポキシメチルシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジプロポキシシラン、ジメチルジイソプロポキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジプロポキシシラン、ジエチルジイソプロポキシシラン、ジプロピルジメトキシシラン、ジプロピルジエトキシシラン、ジプロピルジプロポキシシラン、ジプロピルジイソプロポキシシラン、ジイソプロピルジメトキシシラン、ジイソプロピルジエトキシシラン、ジイソプロピルジプロポキシシラン、ジイソプロピルジイソプロポキシシラン、ジブチルジメトキシシラン、ジブチルジエトキシシラン、ジブチルジプロポキシシラン、ジブチルジイソプロポキシシラン、ジイソブチルジメトキシシラン、ジイソブチルジエトキシシラン、ジイソブチルジプロポキシシラン、ジイソブチルジイソプロポキシシラン、ジペンチルジメトキシシラン、ジペンチルジエトキシシラン、ジペンチルジプロポキシシラン、ジペンチルジイソプロポキシシラン、ジヘキシルジメトキシシラン、ジヘキシルジエトキシシラン、ジヘキシルジプロポキシシラン、ジヘキシルジイソプロポキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジプロポキシシラン、ジフェニルジイソプロポキシシランなどが挙げられる。これらは、得られるコーティング膜がより柔軟性を高められる点から好ましく用いられる。   Among the silane compounds represented by the general formula (3), bifunctional silane compounds where c = 2 are dimethoxysilane, diethoxysilane, dipropoxysilane, diisopropoxysilane, dimethoxymethylsilane, diethoxymethylsilane. , Dipropoxymethylsilane, diisopropoxymethylsilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethyldipropoxysilane, dimethyldiisopropoxysilane, diethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, diethyldipropoxysilane, diethyldiisopropoxy Silane, dipropyldimethoxysilane, dipropyldiethoxysilane, dipropyldipropoxysilane, dipropyldiisopropoxysilane, diisopropyldimethoxysilane, diisopropyldiethoxysilane , Diisopropyldipropoxysilane, diisopropyldiisopropoxysilane, dibutyldimethoxysilane, dibutyldiethoxysilane, dibutyldipropoxysilane, dibutyldiisopropoxysilane, diisobutyldimethoxysilane, diisobutyldiethoxysilane, diisobutyldipropoxysilane, diisobutyldiisopropoxy Silane, dipentyldimethoxysilane, dipentyldiethoxysilane, dipentyldipropoxysilane, dipentyldiisopropoxysilane, dihexyldimethoxysilane, dihexyldiethoxysilane, dihexyldipropoxysilane, dihexyldiisopropoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane , Diphenyldipropoxysilane, diphenyldiisopropoxy Silane and the like. These are preferably used because the resulting coating film can be more flexible.

本発明では、一般式(1)で表されるシラン化合物は、コーティング材料から形成される膜の低温硬化性及び紫外線硬化性を、一般式(2)で表されるシラン化合物は前記膜の表面滑り性を、一般式(3)で表されるシラン化合物は、前記膜の低屈折率性や硬度、良好な塗布性を付与する。   In the present invention, the silane compound represented by the general formula (1) represents the low-temperature curability and ultraviolet curability of the film formed from the coating material, and the silane compound represented by the general formula (2) represents the surface of the film. The silane compound represented by the general formula (3) for slipperiness imparts low refractive index properties, hardness, and good coatability of the film.

これらの共重合体は本発明中で記載した加水分解反応及び、重縮合の反応を経由することで得ることができ、用いられるシラン化合物は、一般式(3)で表されるシラン化合物については特に3官能性シランが、加水分解、重縮合の反応性及び、得られるコーティング膜が良好である点から好ましく用いられる。4官能性シランについては、経時によって共重合体中でゲル化物が発生し、表面膜厚が均一なコーティング膜を得ることが困難になる場合がある。また、2官能性シランについては、得られるコーティング膜が柔軟となり、表面硬度が低下する場合がある。   These copolymers can be obtained through the hydrolysis reaction and polycondensation reaction described in the present invention. The silane compound used is the silane compound represented by the general formula (3). In particular, trifunctional silanes are preferably used from the viewpoints of hydrolysis and polycondensation reactivity and good coating film. For tetrafunctional silanes, gelated products are generated in the copolymer over time, and it may be difficult to obtain a coating film having a uniform surface film thickness. Moreover, about bifunctional silane, the coating film obtained may become flexible and surface hardness may fall.

また、これらの共重合体に含まれるフッ素含有率は20質量%〜70質量%であることが好ましい。ここで、フッ素含有率とは、界面活性剤として用いられる共重合体中の全固形分に対する、フッ素原子の割合を表す。これはフッ素原子(F原子量:18.9984)の固形分質量÷共重合体中の全固形分質量×100(質量%)の計算式から求められる。20質量%を下回ると、フッ素が表層に局在化せずに、表面滑り性や防汚性が得にくい。70質量%を越えると、ポリマーとの不相溶性により、ポリマーとの架橋が不十分となり、得られるコーティング膜の膜厚の不均一性を引き起こしたり、表面硬度が低下する場合がある。   Moreover, it is preferable that the fluorine-containing rate contained in these copolymers is 20 mass%-70 mass%. Here, the fluorine content represents the ratio of fluorine atoms to the total solid content in the copolymer used as the surfactant. This is obtained from a formula of solid content mass of fluorine atom (F atomic weight: 18.9984) ÷ total solid content mass in the copolymer × 100 (mass%). When it is less than 20% by mass, fluorine does not localize on the surface layer, and surface slipperiness and antifouling properties are difficult to obtain. If it exceeds 70% by mass, incompatibility with the polymer may cause insufficient crosslinking with the polymer, resulting in non-uniform film thickness of the resulting coating film or reduced surface hardness.

シラン化合物の加水分解反応に利用される酸触媒としては、蟻酸、硝酸、蓚酸、塩酸、硫酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、リン酸、ポリリン酸、多価カルボン酸あるいはその無水物、イオン交換樹脂などの酸触媒が挙げられる。特に、コーティング膜の硬度が向上する観点から、蟻酸、酢酸を触媒とすることが好ましい。   Acid catalysts used for the hydrolysis reaction of silane compounds include formic acid, nitric acid, oxalic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, phosphoric acid, polyphosphoric acid, polyvalent carboxylic acid or anhydrides thereof, ion exchange resins, etc. Of the acid catalyst. In particular, formic acid and acetic acid are preferably used as catalysts from the viewpoint of improving the hardness of the coating film.

酸触媒の添加量は、使用されるシラン化合物全量に対して、好ましくは0.05質量%〜10質量%。さらに好ましくは0.1質量%〜5質量%である。酸触媒の量が0.05質量%を下回ると、加水分解反応が十分進行しないことがあり、10質量%を越えると、加水分解反応が制御できないおそれがある。   The addition amount of the acid catalyst is preferably 0.05% by mass to 10% by mass with respect to the total amount of the silane compound used. More preferably, it is 0.1 mass%-5 mass%. If the amount of the acid catalyst is less than 0.05% by mass, the hydrolysis reaction may not proceed sufficiently. If the amount exceeds 10% by mass, the hydrolysis reaction may not be controlled.

また、加水分解に用いられる水としては、蒸留水や精製水が好ましい。水の量は任意に選択可能であるが、シラン1モルに対して、水を1〜4モルの範囲で用いるのが好ましい。最も好ましくは、加水分解性基と同等量の水を用いるのが好ましい。1モルを下回ると十分な加水分解反応が行われない場合がある。また4モルを越えるとゲル化が進行したり、残存した水が有機成分との層分離を引き起こすために、ポリマーの架橋性が不十分となり、コーティング膜の硬度が低下する場合がある。   The water used for hydrolysis is preferably distilled water or purified water. The amount of water can be arbitrarily selected, but it is preferable to use water in the range of 1 to 4 moles with respect to 1 mole of silane. Most preferably, an amount of water equivalent to the hydrolyzable group is used. If the amount is less than 1 mol, sufficient hydrolysis reaction may not be performed. On the other hand, if it exceeds 4 moles, gelation proceeds or the remaining water causes layer separation from the organic component, so that the crosslinkability of the polymer becomes insufficient and the hardness of the coating film may be lowered.

加水分解反応に利用される溶媒は、有機溶媒が好ましく、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、ブタノール、3−メチル−3−メトキシ−1−ブタノールなどのアルコール類;エチレングリコール、プロピレングリコールなどのグリコール類;エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノターシャルブチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル類;メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトンなどのケトン類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類;エチルアセテート、エチルセロソルブアセテート、3−メチル−3−メトキシ−1−ブタノールアセテートなどのアセテート類;トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの芳香族あるいは脂肪族炭化水素のほか、γ−ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシドなどを挙げることができる。
加水分解反応に利用される溶媒の量は、加水分解反応時に使用されるシラン化合物全量に対して、5質量%〜500質量%の範囲で添加することが好ましく、さらに好ましくは80質量%〜200質量%の範囲である。5質量%を下回ると、反応が制御できず、ゲル化する場合がある。一方、500質量%を越えると、加水分解が進行しない場合がある。
The solvent used for the hydrolysis reaction is preferably an organic solvent, and alcohols such as methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, butanol, 3-methyl-3-methoxy-1-butanol; ethylene glycol, propylene glycol Glycols such as ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monotertiary butyl ether, propylene glycol diethyl ether, and the like; methyl isobutyl Ketones such as ketone and diisobutyl ketone; Amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide; Acetates such as rubacetate, ethyl cellosolve acetate, 3-methyl-3-methoxy-1-butanol acetate; aromatic or aliphatic hydrocarbons such as toluene, xylene, hexane, cyclohexane, γ-butyrolactone, N-methyl -2-pyrrolidone, dimethyl sulfoxide and the like.
The amount of the solvent used for the hydrolysis reaction is preferably added in the range of 5% by mass to 500% by mass, more preferably 80% by mass to 200%, with respect to the total amount of the silane compound used during the hydrolysis reaction. It is the range of mass%. When the amount is less than 5% by mass, the reaction cannot be controlled and gelation may occur. On the other hand, if it exceeds 500 mass%, hydrolysis may not proceed.

加水分解反応は、前記一般式(1)〜(3)で表されるシラン化合物を、溶剤中、酸触媒及び、水を添加して行う。反応温度は用いる化合物によって任意の温度に決定されるが、速やかに加水分解反応を進行させ、反応の進行を制御できる点から1〜100℃が好ましい。1℃より低い場合は未加水分解物が主成分となり、100℃を越えるとゲル化物が主成分となり好ましくない。さらに好ましくは室温〜70℃の範囲がよい。   The hydrolysis reaction is performed by adding the acid catalyst and water to the silane compound represented by the general formulas (1) to (3) in a solvent. Although reaction temperature is determined by arbitrary compounds by the compound to be used, 1-100 degreeC is preferable from the point which can advance a hydrolysis reaction rapidly and can control progress of reaction. If it is lower than 1 ° C., the unhydrolyzed product becomes the main component, and if it exceeds 100 ° C., the gelled product becomes the main component. The range of room temperature to 70 ° C. is more preferable.

また、3種類以上の異なるシラン化合物の加水分解性の違いを利用し、効率的に合成を行う点で、先に一つのシラン化合物を加水分解したシラノール反応溶液中の残存酸を利用し、残りのシラン化合物と、水を混合して任意の反応条件で加水分解させることも何ら問題ない。本発明においては、比較的加水分解性が低い一般式(1)や一般式(2)で表されるシラン化合物を先に加水分解させておき、その溶液中において一般式(3)で表される加水分解性の高いシラン化合物を加水分解するのが好ましいが、この添加の順序については用いられるシラン化合物によって適宜選択されるべきであり、これに限定されるものではない。   In addition, by utilizing the difference in hydrolyzability of three or more different silane compounds and efficiently synthesizing, the remaining acid in the silanol reaction solution obtained by hydrolyzing one silane compound first is used, and the remaining It is no problem to mix the silane compound with water and hydrolyze it under an arbitrary reaction condition. In the present invention, the silane compound represented by the general formula (1) or the general formula (2) having relatively low hydrolyzability is first hydrolyzed, and the solution is represented by the general formula (3) in the solution. It is preferable to hydrolyze a highly hydrolyzable silane compound, but the order of addition should be appropriately selected depending on the silane compound used, and is not limited thereto.

一般式(1)〜(3)で表されるシラン化合物が重合されたシロキサンポリマーを得るための縮合反応の条件としては、加水分解し、シラノール化合物を得た後、そのまま、反応液を、還流下で1〜100時間縮合反応を行うのが好ましい。異なるシラノール化合物をそれぞれ任意の温度で加水分解、重縮合後に、さらに混合し任意の温度、反応時間、酸触媒濃度、重合溶液濃度による条件で共重合を行ってもよい。   The conditions for the condensation reaction for obtaining the siloxane polymer in which the silane compounds represented by the general formulas (1) to (3) are polymerized are hydrolyzed to obtain a silanol compound, and then the reaction solution is refluxed as it is. The condensation reaction is preferably carried out for 1 to 100 hours underneath. Different silanol compounds may be hydrolyzed and polycondensed at an arbitrary temperature, and then further mixed to carry out copolymerization under conditions of an arbitrary temperature, reaction time, acid catalyst concentration, and polymerization solution concentration.

またコーティング材料中には硬化を促進させる目的、或いは硬化を容易にする目的で各種の硬化剤、三次元架橋剤等を添加することもできる。これら添加剤の具体例としては窒素含有有機物、シリコーン樹脂硬化剤、各種金属アルコレート、各種金属キレート化合物、イソシアネート化合物およびその重合体、メラミン樹脂、多官能アクリル樹脂、尿素樹脂などがあり、これらを一種類、ないし2種類以上添加してもよい。   In addition, various curing agents, three-dimensional crosslinking agents, and the like can be added to the coating material for the purpose of accelerating curing or facilitating curing. Specific examples of these additives include nitrogen-containing organic substances, silicone resin curing agents, various metal alcoholates, various metal chelate compounds, isocyanate compounds and polymers thereof, melamine resins, polyfunctional acrylic resins, urea resins, and the like. One kind or two or more kinds may be added.

そのほか一般式(1)〜(3)で表されるシラン化合物の加水分解反応から得られるシロキサンポリマーの重合度を上げるために、再加熱もしくは塩基触媒の添加を行うことも可能である。また、保存安定性を考慮し、縮合反応後に溶剤を用いて任意の固形分濃度に希釈してもよい。   In addition, in order to increase the polymerization degree of the siloxane polymer obtained from the hydrolysis reaction of the silane compounds represented by the general formulas (1) to (3), it is possible to perform reheating or addition of a base catalyst. Further, in consideration of storage stability, it may be diluted to an arbitrary solid content concentration using a solvent after the condensation reaction.

本発明で用いられるシラン化合物は、予め反応性基を有した無機粒子と互いに結合させることにより、コーティング材料中での無機粒子の分散性、及びコーティング膜の硬度を向上させる。溶媒中、酸触媒を用いた加水分解反応によって、一旦シラノール化合物を形成し、次いで、反応性基を有する無機粒子の存在下、公知の縮合反応を利用することによって前述の硬化型ポリマーを得ることができる。   The silane compound used in the present invention improves the dispersibility of the inorganic particles in the coating material and the hardness of the coating film by bonding with the inorganic particles having a reactive group in advance. A silanol compound is once formed by a hydrolysis reaction using an acid catalyst in a solvent, and then the aforementioned curable polymer is obtained by utilizing a known condensation reaction in the presence of inorganic particles having a reactive group. Can do.

本発明で用いられる無機粒子は、反応性基を有する。反応性基としては具体的に、縮重合性基の場合はシラノール基、また、ラジカル重合性基の場合は、ビニル基、(メタ)アクリル基、アルケニル基、アリール基、メルカプト基、エポキシ基等が挙げられる。特に好ましくは、シラン化合物の加水分解物との縮重合中での結合性が高いことから、シラノール基が好ましい。また、反応性基は無機粒子の表面に存在していればよく、修飾方法等については特に限定されないが、付与する反応性基が縮重合性基の場合は、水やアルコール類と種々の反応をさせる方法や、表面改質剤を用いる方法が挙げられる。表面改質剤としては、好ましくは4官能性アルコキシシランが挙げられ、酸触媒、或いは金属キレート触媒などを用いて、粒子表面に付与される。付与する反応性基がラジカル重合性基の場合は、表面改質剤を用いる方法などが挙げられ、好ましくは、ビニル基、(メタ)アクリル基、アルケニル基、アリール基、メルカプト基、エポキシ基を有するシランカップリング剤を酸触媒、或いは金属キレート触媒などを用いて、粒子表面に付与される。   The inorganic particles used in the present invention have a reactive group. Specific examples of the reactive group include a silanol group in the case of a polycondensable group, and a vinyl group, a (meth) acryl group, an alkenyl group, an aryl group, a mercapto group, and an epoxy group in the case of a radical polymerizable group. Is mentioned. Particularly preferably, a silanol group is preferable because of its high binding property during condensation polymerization with a hydrolyzate of a silane compound. The reactive group only needs to be present on the surface of the inorganic particles, and the modification method is not particularly limited. However, when the reactive group to be imparted is a polycondensable group, various reactions with water and alcohols are possible. And a method using a surface modifier. The surface modifier is preferably a tetrafunctional alkoxysilane, and is applied to the particle surface using an acid catalyst or a metal chelate catalyst. In the case where the reactive group to be imparted is a radically polymerizable group, a method using a surface modifier may be used. Preferably, a vinyl group, a (meth) acryl group, an alkenyl group, an aryl group, a mercapto group, an epoxy group are used. The silane coupling agent is applied to the particle surface using an acid catalyst or a metal chelate catalyst.

無機粒子は、コーティング材料中の無機材料を構成する結晶のサイズが数nm〜数百nmの大きさであればよい。平均粒子径5nm〜120nmであることが好ましく、さらに好ましくは、平均粒子径5nm〜70nmである。粒子径の測定は以下のように行う。コーティング膜付きフィルムを試料とし、超薄切片法を用いて断面を調製する。該断面を、透過型電子顕微鏡((株)日立製作所製H−7100FA型)を用いて、加速電圧100kVの条件にて観察し、得られた像から粒子の直径を測定する。本発明では厚さが100nmのコーティング膜断面を200000倍の観察倍率で観察して得られた像から、個々の粒子単一の粒子径を測定し、それらの平均値を平均粒子径とする。測定に用いた粒子の個数は数百から数千個である。   The inorganic particles only have to have a size of several nanometers to several hundred nanometers of crystals constituting the inorganic material in the coating material. The average particle size is preferably 5 nm to 120 nm, and more preferably the average particle size is 5 nm to 70 nm. The particle diameter is measured as follows. Using a film with a coating film as a sample, a cross section is prepared using an ultrathin section method. The cross section is observed under a condition of an acceleration voltage of 100 kV using a transmission electron microscope (H-7100FA type manufactured by Hitachi, Ltd.), and the diameter of the particle is measured from the obtained image. In the present invention, the particle diameter of each single particle is measured from an image obtained by observing a coating film cross section having a thickness of 100 nm at an observation magnification of 200,000 times, and the average value thereof is taken as the average particle diameter. The number of particles used for the measurement is several hundred to several thousand.

本発明で用いる無機粒子は、酸化珪素、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモンが好ましい。特に二酸化珪素からなるシリカ粒子は優れた硬度を付与でき、かつ低屈折率性を付与できる点でさらに好ましい。   The inorganic particles used in the present invention are preferably silicon oxide, zirconium oxide, titanium oxide, aluminum oxide, indium oxide, zinc oxide, tin oxide, and antimony oxide. In particular, silica particles made of silicon dioxide are more preferable because they can impart excellent hardness and low refractive index.

また、シリカ粒子を用いる場合は、コーティング膜の低屈折率化の観点から、内部が多孔質および/または空洞を有するシリカ粒子が好ましい。内部が多孔質でない、または空洞を有しないシリカ粒子は、粒子自体の屈折率が1.45〜1.5であるため、期待される低屈折率化効果は小さい。一方、内部が多孔質および/または空洞を有するシリカ粒子は、粒子自体の屈折率が1.2〜1.4であるため、低屈折率化効果が大きい。   When silica particles are used, silica particles having a porous interior and / or voids are preferred from the viewpoint of lowering the refractive index of the coating film. The silica particles that are not porous inside or have no cavities have a small refractive index reduction effect that is expected because the refractive index of the particles themselves is 1.45 to 1.5. On the other hand, silica particles having a porous interior and / or voids have a large refractive index reduction effect because the refractive index of the particles themselves is 1.2 to 1.4.

また、内部が多孔質および/または空洞を有するシリカ粒子をコーティング材料中に導入することは、コーティング材料から得られる膜の屈折率を1.38以下にすることができるだけでなく、膜の硬度を高めることができる。本発明で使用される内部が多孔質および/または空洞を有するシリカ粒子とは、外殻によって包囲された空洞部を有するシリカ粒子、多数の空洞部を有する多孔質のシリカ粒子等が挙げられる。これらのうち、透明被膜の硬度を考慮した場合、粒子自体の強度が高い空洞部を有するシリカ粒子が好ましい。粒子自体の屈折率は1.2〜1.4であり、1.2〜1.35がより好ましい。なお、これらのシリカ粒子は、特許第3272111号公報、特開2001−233611号公報に開示されている方法によって製造できる。このようなシリカ粒子としては、例えば特開2001−233611号公報に開示されているものや、特許第3272111号公報等に示された一般に市販されているものを挙げることができる。   In addition, introducing silica particles having a porous and / or void inside into the coating material can not only reduce the refractive index of the film obtained from the coating material to 1.38 or less, but also increase the hardness of the film. Can be increased. Examples of the silica particles having an internal porous and / or hollow space used in the present invention include silica particles having a hollow portion surrounded by an outer shell, porous silica particles having a large number of hollow portions, and the like. Among these, when considering the hardness of the transparent coating, silica particles having a cavity with high strength of the particles themselves are preferable. The refractive index of the particles themselves is 1.2 to 1.4, more preferably 1.2 to 1.35. These silica particles can be produced by the methods disclosed in Japanese Patent No. 3272111 and Japanese Patent Laid-Open No. 2001-233611. Examples of such silica particles include those disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-233611, and those commercially available as disclosed in Japanese Patent No. 3272111.

内部が多孔質でない、または空洞を有しないシリカ粒子とは、例えば、粒子径12nmの2−プロパノールを分散剤としたIPA−ST、粒子径12nmのメチルイソブチルケトンを分散剤としたMIBK−ST、粒子径45nmの2−プロパノールを分散剤としたIPA−ST−L、粒子径100nmの2−プロパノールを分散剤としたIPA−ST−ZL(以上、商品名、日産化学工業(株)製)、粒子径12nmのγ−ブチロラクトンを分散剤としたオスカル101、粒子径60nmのγ−ブチロラクトンを分散剤としたオスカル105、粒子径120nmのジアセトンアルコールを分散剤としたオスカル106(以上、商品名、触媒化成工業(株)製)が挙げられる。なお、空洞の有無については、TEM(走査型電子顕微鏡)写真により粒子断面像によって確認できる。   Silica particles that are not porous inside or have no cavities include, for example, IPA-ST using 2-propanol with a particle size of 12 nm as a dispersant, MIBK-ST using methyl isobutyl ketone with a particle size of 12 nm as a dispersant, IPA-ST-L using 2-propanol with a particle diameter of 45 nm as a dispersant, IPA-ST-ZL using 2-propanol with a particle diameter of 100 nm as a dispersant (trade name, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), Oscar 101 using γ-butyrolactone having a particle diameter of 12 nm as a dispersant, Oscar 105 using γ-butyrolactone having a particle diameter of 60 nm as a dispersant, Oscar 106 using diacetone alcohol having a particle diameter of 120 nm as a dispersant (trade names, Catalyst Chemical Industry Co., Ltd.). The presence or absence of cavities can be confirmed by a particle cross-sectional image by a TEM (scanning electron microscope) photograph.

粒子の屈折率は以下の方法で測定する。粒子含有率を0質量%、20質量%、30質量%、40質量%、50質量%に調製した固形分濃度30%のマトリックス樹脂と粒子の混合溶液サンプルを作製する。これらを、それぞれ、シリコンウェハー上に、厚さが1.5〜4μmとなるようにスピンコーターを用いて塗布し、ついで130℃のオーブンで2時間加熱、乾燥させ、コーティング膜を得る。その後高圧水銀灯一灯(120w)を備えたコンベアー式紫外線照射装置に、5m/分の速度で一度通して紫外線照射(紫外線に換算した場合約300mJ/cm)を行い、測定用サンプルを得る。得られたサンプルについて、プリズムカプラー(METRICON(株)製:MODEL2010)でコーティング膜の波長633nmでの屈折率を求め、粒子100質量%の値を外挿して求める。The refractive index of the particles is measured by the following method. A mixed solution sample of a matrix resin and particles having a solid content concentration of 30% prepared so that the particle content is 0% by mass, 20% by mass, 30% by mass, 40% by mass, and 50% by mass is prepared. These are each coated on a silicon wafer by using a spin coater so as to have a thickness of 1.5 to 4 μm, and then heated and dried in an oven at 130 ° C. for 2 hours to obtain a coating film. Thereafter, the sample is passed through a conveyor type ultraviolet irradiation device equipped with a single high pressure mercury lamp (120 w) at a speed of 5 m / min and irradiated with ultraviolet rays (about 300 mJ / cm 2 when converted to ultraviolet rays) to obtain a measurement sample. About the obtained sample, the refractive index in wavelength 633nm of a coating film is calculated | required with a prism coupler (Mettronic Co., Ltd. product: MODEL2010), and it calculates | requires by extrapolating the value of 100 mass% of particle | grains.

本発明のコーティング材料から得られる硬化後のコーティング膜の屈折率は、1.25〜1.45であることが好ましい。さらに好ましくは1.28〜1.38である。この範囲であると、屈折率が1.5〜2.0の高屈折率層を下層とした条件の場合、層表面と層界面での入射光と反射光が有効に干渉しあうことによって、視野に入る反射光を低減することができる。またコーティング膜の膜厚は、通常は50〜200nm、さらに好ましくは70〜150nmが好ましい。   The refractive index of the cured coating film obtained from the coating material of the present invention is preferably 1.25 to 1.45. More preferably, it is 1.28-1.38. In this range, in the case where the high refractive index layer having a refractive index of 1.5 to 2.0 is the lower layer, incident light and reflected light at the layer surface and the layer interface effectively interfere with each other, Reflected light entering the field of view can be reduced. The thickness of the coating film is usually 50 to 200 nm, more preferably 70 to 150 nm.

本発明では、無機粒子は30質量%〜60質量%含まれているのが好ましい。30質量%を下回ると、粒子の空隙による低屈折率化効果が少なく、また60質量%を越えると、粒子の凝集などが原因で、得られるコーティング膜表面が均一とならずコーティング膜の硬度の低下、白化による透過率の低下、屈折率の不均一性を引き起こすことがある。   In the present invention, the inorganic particles are preferably contained in an amount of 30% by mass to 60% by mass. If it is less than 30% by mass, the effect of lowering the refractive index due to the voids of the particles is small, and if it exceeds 60% by mass, the resulting coating film surface is not uniform due to particle aggregation and the like. It may cause a decrease, a decrease in transmittance due to whitening, and a non-uniform refractive index.

硬化後のコーティング膜の屈折率を1.25〜1.45にするには、内部が多孔質および/または空洞を有する無機粒子の添加量をコーティング材料中の固形分全量に対し30質量%〜60質量%にし、さらに一般式(1)〜(3)で表されるシラン化合物の各量をそれぞれ調節することにより、目的の屈折率を得ることができる。1.45をこえると高屈折率層との屈折率差が小さく、良好な反射防止性が得られない場合がある。1.25を下回ると、高屈折率層との差が大きく反射率の波長依存性が高くなる場合がある。   In order to set the refractive index of the coating film after curing to 1.25 to 1.45, the amount of inorganic particles having porous and / or cavities inside is set to 30% by mass to the total solid content in the coating material. The target refractive index can be obtained by adjusting the amount of the silane compound represented by the general formulas (1) to (3) to 60% by mass. If it exceeds 1.45, the refractive index difference with the high refractive index layer is small, and good antireflection properties may not be obtained. If it is less than 1.25, the difference from the high refractive index layer is large, and the wavelength dependency of the reflectance may be increased.

また、本発明のコーティング膜の硬度はスチールウールテスト後の傷が30本未満、好ましくは10本以下であることが好ましい。スチールウールテストは、#0000のスチールウールを用いて各サンプルのコーティング膜面に250mPaの荷重をかけ、10往復したときの傷の本数を観察する。   Further, the hardness of the coating film of the present invention is preferably less than 30 scratches after steel wool test, preferably 10 or less. In the steel wool test, a load of 250 mPa is applied to the surface of the coating film of each sample using # 0000 steel wool, and the number of scratches after 10 reciprocations is observed.

コーティング膜のスチールウールテスト後の傷本数を30本未満にするには無機粒子の添加量をコーティング材料中の固形分全量に対し30質量%〜60質量%にし、さらに一般式(1)〜(3)で表されるシラン化合物の各量をそれぞれ調節し、重合開始剤を用いることにより目的とする硬度が得られる。傷が30本以上であると、例えばディスプレイの最表面に用いた場合に実用的でなくなる可能性がある。   In order to reduce the number of scratches after steel wool test of the coating film to less than 30, the addition amount of inorganic particles is 30% by mass to 60% by mass with respect to the total solid content in the coating material, and the general formulas (1) to ( The desired hardness can be obtained by adjusting each amount of the silane compound represented by 3) and using a polymerization initiator. When the number of scratches is 30 or more, there is a possibility that it is not practical when used on the outermost surface of the display, for example.

本発明のコーティング材料は(II)熱および/または光重合開始剤を含んでいる。そのため、低温および/または紫外線、電子線等の照射によって、(I)シロキサンポリマーが有する重合性基に作用し、重合反応による膜の硬化、形成を行うことが可能となる。低温による熱硬化の場合は、熱ラジカル重合開始剤、熱酸発生剤、熱塩基発生剤が挙げられる。光硬化の場合は光ラジカル重合開始剤、光酸発生剤、光塩基発生剤が挙げられる。本発明ではこれらのうちの1種、あるいは複数種組み合わせて用いてもよいが、(I)のポリマーが一般式(1)で表される重合性基を有するシラン化合物の加水分解縮合物を1〜50質量%含むことによって形成されているため、光および/または熱ラジカル重合開始剤が好ましい。   The coating material of the present invention contains (II) heat and / or photoinitiator. Therefore, the film can be cured and formed by a polymerization reaction by acting on the polymerizable group of the (I) siloxane polymer by irradiation with low temperature and / or ultraviolet rays, electron beams or the like. In the case of thermal curing at a low temperature, a thermal radical polymerization initiator, a thermal acid generator, and a thermal base generator are exemplified. In the case of photocuring, a photoradical polymerization initiator, a photoacid generator, and a photobase generator can be used. In the present invention, one or a combination of these may be used, but the hydrolysis condensate of the silane compound having a polymerizable group represented by the general formula (1) is represented by 1 Since it is formed by containing ˜50 mass%, a light and / or thermal radical polymerization initiator is preferred.

熱ラジカル重合開始剤としては、過酸化物として、過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロパーオキサイド、ブチルヒドロパーオキサイド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウムが挙げられる。また、アゾ化合物として、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2'-アゾビスイソブチロニトリル、ジアゾ化合物として、ジアゾアミノベンゼン、p−ニトロベンゼンジアゾニウムなどが挙げられる。   As a thermal radical polymerization initiator, as a peroxide, benzoyl peroxide, halogen benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide, dibutyl peroxide, cumene hydroperoxide, butyl hydroperoxide, inorganic peroxide, Examples include hydrogen peroxide, ammonium persulfate, and potassium persulfate. Examples of the azo compound include 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobisisobutyronitrile, and examples of the diazo compound include diazoaminobenzene and p-nitrobenzenediazonium. .

本発明で用いるコーティング材料中の熱ラジカル重合開始剤は、10時間半減期温度が30℃以上、90℃未満であることが好ましい。10時間半減期温度が30℃を下回ると、室温中で硬化がはじまり、膜厚が均一なコーティング膜を得にくい。また、90℃以上であると、硬化不良となり、表面硬度の高いコーティング膜を得にくい。熱ラジカル重合開始剤の10時間半減期温度とは、熱ラジカル重合開始剤をラジカルに不活性な溶媒(ベンゼン、トルエンなど)に溶解させ、10時間後にその濃度が半分になる温度のことをいう。具体的には以下の方法によって求められる。熱ラジカル重合開始剤をラジカルに不活性な溶媒(ベンゼン、トルエンなど)に溶解させ、濃度を0.1mol/Lに調整する。得られた溶液を窒素置換したガラス管のなかに密封し所定温度の恒温槽に浸し、熱分解させる。分解後の熱ラジカル重合開始剤の濃度をヨード滴定法などにより測定する。分解反応は近似的に1次反応として取り扱うことができ、1次反応における半減期の算出方法に基づき半減期を知ることができる。様々な温度で半減期を算出し、温度と半減期に関するグラフをプロットし、そのグラフより半減期が10時間となる温度を求める。   The thermal radical polymerization initiator in the coating material used in the present invention preferably has a 10-hour half-life temperature of 30 ° C. or higher and lower than 90 ° C. When the 10-hour half-life temperature is lower than 30 ° C., curing starts at room temperature and it is difficult to obtain a coating film having a uniform film thickness. On the other hand, if it is 90 ° C. or higher, it becomes hard to cure and it is difficult to obtain a coating film having a high surface hardness. The 10-hour half-life temperature of the thermal radical polymerization initiator refers to a temperature at which the concentration is halved after 10 hours when the thermal radical polymerization initiator is dissolved in a radically inert solvent (benzene, toluene, etc.). . Specifically, it is obtained by the following method. A thermal radical polymerization initiator is dissolved in a radical inert solvent (benzene, toluene, etc.), and the concentration is adjusted to 0.1 mol / L. The obtained solution is sealed in a glass tube substituted with nitrogen, immersed in a constant temperature bath at a predetermined temperature, and thermally decomposed. The concentration of the thermal radical polymerization initiator after decomposition is measured by an iodometric titration method or the like. The decomposition reaction can be treated approximately as a primary reaction, and the half-life can be known based on a half-life calculation method in the primary reaction. The half-life is calculated at various temperatures, a graph relating to temperature and half-life is plotted, and the temperature at which the half-life is 10 hours is obtained from the graph.

熱ラジカル重合開始剤が有する10時間半減期温度を30℃以上90℃未満にするには種々の方法があるが、なかでも熱ラジカル重合開始剤が有する熱分解によって分解する部位の種類、分解部位の置換基によって制御できる。たとえば、分解部位が−N=N−結合のほうが−O−O−結合より半減期温度が低いため、本発明で用いる熱ラジカル重合開始剤は、過酸化物よりもアゾ系化合物が好ましく用いられる。   There are various methods for setting the 10-hour half-life temperature of the thermal radical polymerization initiator to 30 ° C. or more and less than 90 ° C. Among them, the type of decomposition site and the decomposition site of the thermal radical polymerization initiator due to thermal decomposition It can control by the substituent of. For example, since the decomposition site of the —N═N— bond has a lower half-life temperature than the —O—O— bond, the thermal radical polymerization initiator used in the present invention is preferably an azo compound rather than a peroxide. .

本発明のコーティング材料で好ましく用いられるアゾ系化合物としては、10時間半減期温度が、88℃である1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、67℃である2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、66℃であるジメチル2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)、65℃である2,2'-アゾビスイソブチロニトリル、61℃である、2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]、51℃である2,2−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、45℃である2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]ジヒドロクロライド、30℃である、2,2−アゾビス(4−メトキシ2,4−ジメチルバレロニトリル)が挙げられる。   As an azo compound preferably used in the coating material of the present invention, 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile) having a 10-hour half-life temperature of 88 ° C., and 2,2′-, having 67 ° C. Azobis (2-methylbutyronitrile), dimethyl 2,2′-azobis (2-methylpropionate) at 66 ° C., 2,2′-azobisisobutyronitrile at 65 ° C., 61 ° C. 2,2′-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane], 2,2-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) at 51 ° C., 2,2′- at 45 ° C. Azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane] dihydrochloride, 2,2-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), which is 30 ° C.

ポリマー中のシラノール基の重縮合を促進するために、熱酸発生剤や熱塩基発生剤を用いてもよい。   In order to promote the polycondensation of silanol groups in the polymer, a thermal acid generator or a thermal base generator may be used.

熱酸発生剤としては、SI−60、SI−80、SI−100、SI−110、SI−145、SI−150、SI−60L、SI−80L、SI−100L、SI−110L、SI−145L、SI−150L、SI−160L、SI−180L(いずれも、三新化学工業(株)製)、4−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウム、ベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム、2−メチルベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム、2−メチルベンジル−4−アセチルフェニルメチルスルホニウム、2−メチルベンジル−4−ベンゾイルオキシフェニルメチルスルホニウム、これらのメタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、カンファースルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩が挙げられる。この中でも、層形成材料を60℃〜130℃以下の低温から中温で硬化及び乾燥させる場合、SI−15、SI−20、SI−25、SI−40、SI−45、SI−47,SI−60、SI−80、SI−100を用いるのが好ましい。   As a thermal acid generator, SI-60, SI-80, SI-100, SI-110, SI-145, SI-150, SI-60L, SI-80L, SI-100L, SI-110L, SI-145L SI-150L, SI-160L, SI-180L (all manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.), 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium, benzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium, 2-methylbenzyl-4-hydroxy Phenylmethylsulfonium, 2-methylbenzyl-4-acetylphenylmethylsulfonium, 2-methylbenzyl-4-benzoyloxyphenylmethylsulfonium, their methanesulfonate, trifluoromethanesulfonate, camphorsulfonate, p-toluene Examples include sulfonates. Among these, when the layer forming material is cured and dried at a low temperature from 60 ° C. to 130 ° C. to a medium temperature, SI-15, SI-20, SI-25, SI-40, SI-45, SI-47, SI- 60, SI-80, and SI-100 are preferably used.

熱塩基発生剤としては1−メチル−1−(4−ビフェニルイル)エチルカルバメート、1,1−ジメチル−2−シアノエチルカルバメートなどのカルバメート誘導体、尿素やN,N−ジメチル−N’−メチル尿素などの尿素誘導体、1,4−ジヒドロニコチンアミドなどのジヒドロピリジン誘導体、有機シランや有機ボランの四級化アンモニウム塩、ジシアンジアミドなどが挙げられる。   Examples of thermal base generators include carbamate derivatives such as 1-methyl-1- (4-biphenylyl) ethyl carbamate and 1,1-dimethyl-2-cyanoethyl carbamate, urea, N, N-dimethyl-N′-methyl urea, etc. Urea derivatives, dihydropyridine derivatives such as 1,4-dihydronicotinamide, quaternized ammonium salts of organic silane and organic borane, dicyandiamide and the like.

光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、メルカプト類、グリシン類、オキシム類、ベンジリデン類、クマリン類、アントラキノン類などが挙げられ、アセトフェノン類の例には、アセトフェノン、2,2−ジメトキシアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、1−ヒドロキシ−ジメチルフェニルケトン、2−フェニル−2−(p−トルエンスルフォニロキシ)アセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−4−メチルチオ−2−モルフォリノプロピオフェノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン、4−フェノキシジクロロアセトフェノン、4−t−ブチル−ジクロロアセトフェノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4'−メチルジフェニルサルファイド、2,4−ジクロロベンゾフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノンおよびp−クロロベンゾフェノン、4,4'−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、3,3',4,4'−テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノンが含まれる。チオキサントン類の例には、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントンなどのチオキサントン類が含まれる。メルカプト類の例には、エチレングリコールジ(3−メルカプトプロピオネート)、2−メルカプトベンズチアゾール、2−メルカプトベンゾキサゾール、2−メルカプトベンズイミダゾールが含まれる。グリシン類の例には、N−フェニルグリシン、N−メチル−N−フェニルグリシン、N−エチル−N−(p−クロロフェニル)グリシン、N−(4−シアノフェニル)グリシンが含まれる。オキシム類の例には、1−フェニル−1,2−ブタンジオン−2−(o−メトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(o−メトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(o−ベンゾイル)オキシム、ビス(α−イソニトロソプロピオフェノンオキシム)イソフタル、1,2−オクタンジオン−1−[4−(フェニルチオ)フェニル]−2−(o−ベンゾイルオキシム)が含まれる。ベンジリデン類の例には、3,5−ビス(ジエチルアミノベンジリデン)−N−メチル−4−ピペリドン、3,5−ビス(ジエチルアミノベンジリデン)−N−エチル−4−ピペリドンが含まれる。クマリン類の例には、7−ジエチルアミノ−3−テノニルクマリン、4,6−ジメチル−3−エチルアミノクマリン、3,3−カルボニルビス(7−ジエチルアミノクマリン)、7−ジエチルアミノ−3−(1−メチルメチルベンゾイミダゾリル)クマリン、3−アントラキノン(2−ベンゾチアゾリル)−7−ジエチルアミノクマリンが含まれる。2−t−ブチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、1,2−ベンズアントラキノンが含まれる。これらの開始剤は単独でも混合して用いてもよい。   Examples of photo radical polymerization initiators include acetophenones, benzoins, benzophenones, thioxanthones, mercaptos, glycines, oximes, benzylidenes, coumarins, anthraquinones, etc. Examples of acetophenones 2,2-dimethoxyacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxy-dimethylphenylketone, 2-phenyl-2- (p-toluenesulfonyloxy) acetophenone, 2-hydroxy-2 -Methylpropiophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-4-methylthio-2-morpholinopropiophenone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone 4-phenoxy dichloroacetophenone, 4-t-butyl - include dichloroacetophenone. Examples of benzoins include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzyl dimethyl ketal, benzoin benzene sulfonate, benzoin toluene sulfonate, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether It is. Examples of benzophenones include benzophenone, 4-phenylbenzophenone, hydroxybenzophenone, 4-benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone, 4,4 '-Bis (dimethylamino) benzophenone, 3,3', 4,4'-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone is included. Examples of the thioxanthones include thioxanthones such as 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, and 2-isopropylthioxanthone. Examples of mercaptos include ethylene glycol di (3-mercaptopropionate), 2-mercaptobenzthiazole, 2-mercaptobenzoxazole, and 2-mercaptobenzimidazole. Examples of glycines include N-phenylglycine, N-methyl-N-phenylglycine, N-ethyl-N- (p-chlorophenyl) glycine, and N- (4-cyanophenyl) glycine. Examples of oximes include 1-phenyl-1,2-butanedione-2- (o-methoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (o-methoxycarbonyl) oxime, 1- Phenyl-1,2-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (o-benzoyl) oxime, bis (α-isonitrosopropiophenone oxime) Isophthal, 1,2-octanedione-1- [4- (phenylthio) phenyl] -2- (o-benzoyloxime) is included. Examples of benzylidenes include 3,5-bis (diethylaminobenzylidene) -N-methyl-4-piperidone and 3,5-bis (diethylaminobenzylidene) -N-ethyl-4-piperidone. Examples of coumarins include 7-diethylamino-3-thenonylcoumarin, 4,6-dimethyl-3-ethylaminocoumarin, 3,3-carbonylbis (7-diethylaminocoumarin), 7-diethylamino-3- (1 -Methylmethylbenzimidazolyl) coumarin, 3-anthraquinone (2-benzothiazolyl) -7-diethylaminocoumarin. 2-t-butylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 1,2-benzanthraquinone are included. These initiators may be used alone or in combination.

その中でも好ましく用いられる光開裂型及び水素引き抜き型の光ラジカル重合開始剤としては、チバ株式社製のIRGACURE(登録商標)(651、127、184、819、907、1870、500、369、1173、2959、4265、4263など。商品名)、日本化薬(株)製のKAYACURE(DETX−S、BP−100、BDMK、CTX、BMS、2−EAQ、ABQ、CPTX、EPD、ITX、QTX、BTC、MCAなど。いずれも商品名)が挙げられる。これらの光ラジカル重合開始剤は単独あるいは2種以上のものを所望の性能に応じて配合して使用することができる。   Among them, the photocleavage type and hydrogen abstraction type photo radical polymerization initiators preferably used include IRGACURE (registered trademark) (651, 127, 184, 819, 907, 1870, 500, 369, 1173, manufactured by Ciba Co., Ltd. 2959, 4265, 4263, etc. Trade name), KAYACURE (DETX-S, BP-100, BDMK, CTX, BMS, 2-EAQ, ABQ, CPTX, EPD, ITX, QTX, BTC manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. , MCA, etc., all of which are trade names). These radical photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more according to the desired performance.

ポリマー中のシラノール基の重縮合を促進するために、光酸発生剤や光塩基発生剤を用いてもよい。   In order to promote polycondensation of silanol groups in the polymer, a photoacid generator or a photobase generator may be used.

光酸発生剤としては、イオン性化合物と非イオン性化合物がある。イオン性化合物としては、重金属、ハロゲンイオンを含まないものが好ましい。具体的には、トリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルホスホニウムトリフルオロメタンスルホネート、(4−フェニルチオフェニル)−ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、(4−フェニルチオフェニル)−ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、(4−フェニルチオフェニル)−ジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、(4−クロロフェニル)−ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、(4−クロロフェニル)−ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、(4−クロロフェニル)−ジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、(4−メチルフェニル)−ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、(4−メチルフェニル)−ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、(4−メチルフェニル)−ジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、等が挙げられる。非イオン性の酸発生剤としては、ジアゾメタン化合物、スルホンイミド化合物、スルホンベンゾトリアゾール化合物等、ビス(シクロヘキシルスルフォニル)ジアゾメタン、ビス(t−ブチルスルフォニル)ジアゾメタン、ビス(p−トルエンスルフォニル)ジアゾメタン、N−ヒドロキシナフタルイミドトリフルオロメタンスルホネート、N−ヒドロキシフタルイミドトリフルオロメタンスルホネート等が挙げられる。   Photoacid generators include ionic compounds and nonionic compounds. As the ionic compound, those containing no heavy metal or halogen ion are preferable. Specifically, triphenylphosphonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium hexafluorophosphate, triphenylphosphonium trifluoromethanesulfonate, (4-phenylthiophenyl) -diphenylsulfonium hexafluoroantimonate, (4-phenylthiophenyl)- Diphenylsulfonium hexafluorophosphate, (4-phenylthiophenyl) -diphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate, (4-chlorophenyl) -diphenylsulfonium hexafluorophosphate, (4-chlorophenyl) -diphenylsulfonium hexafluoroantimonate, (4-chlorophenyl) -Diphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate, (4-methylpheny ) - diphenyl sulfonium hexafluorophosphate, (4-methylphenyl) - diphenyl sulfonium hexafluoroantimonate, (4-methylphenyl) - diphenyl sulfonium trifluoromethanesulfonate, and the like. Examples of nonionic acid generators include diazomethane compounds, sulfonimide compounds, sulfonebenzotriazole compounds, bis (cyclohexylsulfonyl) diazomethane, bis (t-butylsulfonyl) diazomethane, bis (p-toluenesulfonyl) diazomethane, N- Hydroxy naphthalimide trifluoromethane sulfonate, N-hydroxy phthalimide trifluoromethane sulfonate, etc. are mentioned.

光塩基発生剤としては、例えばアミンが発生するものとしては、ベンジルカルバメート類、ベンゾインカルバメート類、O−カルバモイルヒドロキシアミン類、O−カルバモイルオキシム類など、およびR−N−CO−OR(ここで、R、Rは水素または炭素数1〜3の炭化水素基、Rはニトロベンジルまたはα−メチルニトロベンジルである。)が挙げられる。Examples of photobase generators include those that generate amines such as benzyl carbamates, benzoin carbamates, O-carbamoylhydroxyamines, O-carbamoyl oximes, and R x R y —N—CO—OR z. (Wherein R x and R y are hydrogen or a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, and R z is nitrobenzyl or α-methylnitrobenzyl).

熱および/または光重合開始剤の添加量は、コーティング材料中の固形分全量に対して、0.1〜15質量%の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは1〜10質量%の範囲である。0.1質量%を下回ると、硬化不良となり、表面硬度の高いコーティング膜を得にくい。また、15質量%を上回ると、硬化が必要以上に促進されるためにコーティング膜にクラックが発生することがある。   The addition amount of the heat and / or photopolymerization initiator is preferably used in the range of 0.1 to 15% by mass, more preferably in the range of 1 to 10% by mass, based on the total solid content in the coating material. It is. When it is less than 0.1% by mass, curing becomes poor and it is difficult to obtain a coating film having high surface hardness. Moreover, when it exceeds 15 mass%, since hardening will be accelerated | stimulated more than needed, a crack may generate | occur | produce in a coating film.

本発明ではさらに光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、ミヒラーケトンおよびチオキサントンなどを挙げることができる。さらにアジド化合物、チオ尿素化合物、メルカプト化合物などの助剤を1種以上組み合わせて用いてもよい。光増感剤としては、日本化薬(株)製のKAYACURE(DMBI、EPA、いずれも商品名)などが挙げられる。   In the present invention, a photosensitizer may be further used. Specific examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, Michler's ketone and thioxanthone. Further, one or more auxiliary agents such as an azide compound, a thiourea compound, and a mercapto compound may be used in combination. Examples of the photosensitizer include KAYACURE (DMBI, EPA, both trade names) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.

本発明のコーティング材料で用いる溶媒としては、蒸発速度の調節の点から、大気圧における沸点が100℃未満の有機溶媒と、100℃以上150℃未満の有機溶媒が各々少なくとも1種類ずつ含まれていることが好ましい。上記の有機溶媒を用いると、コーティング材料を塗布した膜から、沸点の低い溶媒から沸点が高い溶媒の順に蒸発するため、乾燥ムラのない表面均一で膜厚が均一な膜を得ることができる。   The solvent used in the coating material of the present invention includes at least one kind each of an organic solvent having a boiling point of less than 100 ° C. and an organic solvent having a boiling point of from 100 ° C. to less than 150 ° C. from the viewpoint of adjusting the evaporation rate. Preferably it is. When the above organic solvent is used, the film having the coating material applied is evaporated in the order of the solvent having the lowest boiling point to the solvent having the higher boiling point.

大気圧下における沸点が100℃未満の溶媒としては、具体的には、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール等のアルコール類、メチルエーテル、エチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、アセトン、蟻酸イソブチル、蟻酸メチル、蟻酸プロピル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル等のエステル類、ジエチルケトン、メチルエチルケトン等のケトン類、塩化エチリデン、塩化ブチル、塩化メチレン等の含塩素炭化水素類、ベンゼン、シクロヘキサン等の炭化水素類が挙げられる。これらの中でも、反応性基を持つ微粒子の分散安定性が良好な親水性アルコール溶媒が好ましく、具体的にはメタノールやイソプロピルアルコールが特に好ましく、1種類ないし2種類用いてもよい。   Specific examples of the solvent having a boiling point of less than 100 ° C. under atmospheric pressure include alcohols such as methanol, ethanol, 1-propanol, and 2-propanol, methyl ether, ethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, and ethylene glycol dimethyl ether. Ethers such as acetone, isobutyl formate, methyl formate, propyl formate, ethyl acetate and isopropyl acetate, ketones such as diethyl ketone and methyl ethyl ketone, and chlorine-containing hydrocarbons such as ethylidene chloride, butyl chloride and methylene chloride , Hydrocarbons such as benzene and cyclohexane. Among these, a hydrophilic alcohol solvent having good dispersion stability of fine particles having a reactive group is preferable, specifically, methanol or isopropyl alcohol is particularly preferable, and one or two kinds may be used.

また大気圧下沸点100℃以上150℃未満の溶媒としては、具体的には、ブチルセロソルブ、メチルカルビトール、カルビトール等のエーテル類、酢酸n−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸n−アミル、セロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のエステル類、アセチルアセトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、2−ペンタノン、2−ヘプタノン等のケトン類、ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ペンタノ−ル、4−メチル−2−ペンタノール、3−メチル−2−ブタノール、3−メチル−3−メトキシブタノール、ジアセトンアルコール等のアルコール類、トルエン、m−キシレン等の芳香族炭化水素類が挙げられる。これらの中でも、基材との塗れ性、乾燥後、膜の表面均一性の面から、メチルイソブチルケトン、プロピレングリコールモノエチルエーテルが好ましく、1種類ないし2種類用いてもよい。   Specific examples of the solvent having a boiling point of 100 ° C. or more and less than 150 ° C. under atmospheric pressure include ethers such as butyl cellosolve, methyl carbitol, carbitol, n-butyl acetate, isobutyl acetate, n-amyl acetate, cellosolve acetate, Esters such as propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether, ketones such as acetylacetone, methylpropylketone, methylbutylketone, methylisobutylketone, cyclopentanone, 2-pentanone, 2-heptanone, butyl alcohol, isobutyl Alcohols such as alcohol, pentaanol, 4-methyl-2-pentanol, 3-methyl-2-butanol, 3-methyl-3-methoxybutanol, diacetone alcohol, toluene, m-xylene, etc. Aromatic hydrocarbons. Among these, methyl isobutyl ketone and propylene glycol monoethyl ether are preferable from the viewpoint of coatability with the substrate, drying, and surface uniformity of the film, and one or two of them may be used.

また、乾燥温度をより高温に設定する場合は、さらに大気圧下沸点150℃以上300℃未満の溶媒を用いて蒸発速度の調節をしてもよい。具体的な溶媒としては、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル等のエーテル類、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、乳酸エチル、乳酸ブチル、酪酸ブチル等のアセテート類、ジイソブチルケトン、ジイソプロピルケトン、γ−ブチロラクトン等のケトン類、2−エチルヘキシルアルコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール等のアルコール類が挙げられる。   When the drying temperature is set to a higher temperature, the evaporation rate may be adjusted using a solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher and lower than 300 ° C. under atmospheric pressure. Specific solvents include ethylene glycol butyl ether, propylene glycol propyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dibutyl ether and other ethers, ethylene glycol monoethyl ether Acetates, ethylene glycol monopropyl acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, acetates such as ethyl lactate, butyl lactate and butyl butyrate, ketones such as diisobutyl ketone, diisopropyl ketone and γ-butyrolactone, 2-ethylhexyl alcohol, benzyl alcohol, cyclohexane Alcohols such as SANOL like.

コーティング材料に含まれる溶媒量は、加熱、乾燥、硬化条件によって適宜決定される。本発明で用いられる硬化条件に見合う各溶媒の最適量は、沸点100℃未満の溶媒の場合、コーティング材料中の全有機溶剤に対して20〜90質量%、より好ましくは40〜70質量%である。90質量%を越えると塗布ムラが生じる場合がある。また、沸点100℃以上150℃未満の溶媒の場合はコーティング材料中の全有機溶剤に対して5〜70質量%、より好ましくは10〜40質量%である。70質量%を越えると、硬化膜中に残存溶液が存在し、硬度が損なわれる場合がある。   The amount of solvent contained in the coating material is appropriately determined depending on heating, drying, and curing conditions. The optimum amount of each solvent suitable for the curing conditions used in the present invention is 20 to 90% by mass, more preferably 40 to 70% by mass with respect to the total organic solvent in the coating material in the case of a solvent having a boiling point of less than 100 ° C. is there. If it exceeds 90% by mass, uneven coating may occur. In the case of a solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher and lower than 150 ° C., it is 5 to 70% by mass, more preferably 10 to 40% by mass, based on the total organic solvent in the coating material. When it exceeds 70 mass%, a residual solution exists in a cured film, and hardness may be impaired.

本発明のコーティング材料は透明基材の少なくとも一方の表面に膜として形成され、光学物品を作製することができる。光学物品の態様としては特に限定されないが、本発明のコーティング材料を有する膜が透明基材上に直接形成されたもの、透明基材とコーティング膜の間にコーティング膜の屈折率よりも高い屈折率を有する層(高屈折率層)が形成されたもの等が挙げられる。   The coating material of the present invention is formed as a film on at least one surface of a transparent substrate, and an optical article can be produced. Although it does not specifically limit as an aspect of an optical article, The refractive index higher than the refractive index of a coating film in which the film | membrane which has the coating material of this invention was formed directly on the transparent substrate, and between a transparent substrate and a coating film And the like in which a layer having high refractive index (high refractive index layer) is formed.

光学物品に高屈折率層を形成する場合、高屈折率層の屈折率は1.5〜2.0であることが好ましい。1.5より下回ると低屈折率層との屈折率差が小さく、反射防止性が不良となる場合がある。2.0を越えると波長400〜700nmにおいて反射率の波長依存性が高くなる。具体的には、波長400、あるいは700nm付近の波長域になると反射率が高くなり、波長400〜700nm全域にわたる平均反射率の低減が困難になる場合がある。   When forming a high refractive index layer in an optical article, the refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.5 to 2.0. If it is less than 1.5, the refractive index difference with the low refractive index layer is small, and the antireflection property may be poor. If it exceeds 2.0, the wavelength dependency of the reflectance increases at a wavelength of 400 to 700 nm. Specifically, when the wavelength region is in the vicinity of the wavelength 400 or 700 nm, the reflectance increases, and it may be difficult to reduce the average reflectance over the entire wavelength range of 400 to 700 nm.

高屈折率層を形成する材料は、屈折率1.5〜2.0を有する材料であれば、特に限定されないが、紫外線硬化性を有する樹脂成分を含む方が好ましい。紫外線硬化性を有すると、熱硬化と比較して硬化工程にかかるコストが低い点、また基材の熱収縮が生じにくく、適用できる基材の範囲が広い点で好ましい。さらに高屈折率層上に本発明のコーティング材料を硬化させる際、両層の重合性基が互いに結合することにより密着性が向上する点からも好ましい。具体的な樹脂としては、分子内に(メタ)アクリロイル基を少なくとも2つ以上含む多官能性(メタ)アクリル化合物を挙げることができる。これら化合物の具体例としてはモノエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、またはトリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、モノプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、またはトリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、またはグリセリントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、またはトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタンジ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アクリレートまたはテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレートまたはペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ソルビトールジ(メタ)アクリレート、ソルビトールトリ(メタ)アクリレート、ソルビトールテトラ(メタ)アクリレート、またはソルビトールヘプタ(メタ)アクリレートなどの脂肪族系多官能(メタ)アクリレート化合物、さらにはビスフェノールA−エチレンオキシド付加物、またはビスフェノールF−エチレンオキシド付加物、またはフェニル基含有(メタ)アクリレートなどの芳香環含有多官能(メタ)アクリレート化合物が挙げられる。さらに本発明のコーティング材料との密着性を向上するために高屈折率層中に重合性基含有シラン化合物やアルキル基含有シラン化合物、4官能シラン化合物のモノマー、加水分解縮合物及び共重合体を添加することも可能である。また、重合反応をより効率的に行うために、高屈折率層中に種々の重合開始剤、および/または光増感剤を添加することが好ましい。   Although the material which forms a high refractive index layer will not be specifically limited if it is a material which has a refractive index 1.5-2.0, It is more preferable to contain the resin component which has ultraviolet curing property. The ultraviolet curing property is preferable in that the cost required for the curing process is lower than that in heat curing, and the heat shrinkage of the substrate is less likely to occur, and the range of applicable substrates is wide. Furthermore, when hardening the coating material of this invention on a high refractive index layer, it is preferable also from the point which adhesiveness improves because the polymeric group of both layers couple | bond together. Specific examples of the resin include polyfunctional (meth) acrylic compounds containing at least two (meth) acryloyl groups in the molecule. Specific examples of these compounds include monoethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, or triethylene glycol di (meth) acrylate, monopropylene glycol di (meth) acrylate, and dipropylene glycol di (meth) acrylate. Or tripropylene glycol di (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, or glycerin tri (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, or trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tetramethylolmethane di ( (Meth) acrylate, tetramethylol methane tri (meth) acrylate or tetra (meth) acrylate, pentaerythritol (meth) acrylate, pen Erythritol di (meth) acrylate or pentaerythritol tri (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, sorbitol di (meth) acrylate, sorbitol tri (meth) acrylate, sorbitol tetra (meth) acrylate, or sorbitol hepta (meta ) Aliphatic polyfunctional (meth) acrylate compounds such as acrylate, and further aromatic ring-containing polyfunctional (meth) such as bisphenol A-ethylene oxide adduct, bisphenol F-ethylene oxide adduct, or phenyl group-containing (meth) acrylate An acrylate compound is mentioned. Further, in order to improve the adhesion to the coating material of the present invention, a polymerizable group-containing silane compound, an alkyl group-containing silane compound, a tetrafunctional silane compound monomer, a hydrolysis condensate and a copolymer are added in the high refractive index layer. It is also possible to add. In order to perform the polymerization reaction more efficiently, it is preferable to add various polymerization initiators and / or photosensitizers in the high refractive index layer.

また、高屈折率層中には高屈折率化、帯電防止化を目的として金属酸化物、あるいは導電性ポリマーを含有してもよい。金属酸化物としては、粒子径が5nm〜100nmのジルコニウム、インジウム、アンチモン、亜鉛、スズ、セリウム及びチタンよりなる群から選ばれる金属酸化物およびこれらの複合酸化物が挙げられる。なかでもインジウムとスズからなる複合酸化物(ITO)、またはスズとアンチモンからなる複合酸化物(ATO)は高屈折率化に加えて導電性が付与でき、また帯電防止性を与えることができる。また、導電性ポリマーとしては、例えばポリアセチレン、ポリチオフェン、ポリ(3−アルキル)チオフェン、ポリピロール、ポリイソチアナフタレン、ポリエチレンジオキシチオフェン、ポリ(2,5−ジアルコキシ)パラフェニレンビニレン、ポリパラフェニレン、ポリヘプタジイン、ポリ(3−ヘキシル)チオフェン及びポリアニリンなどが挙げられる。   In addition, the high refractive index layer may contain a metal oxide or a conductive polymer for the purpose of increasing the refractive index and preventing static charge. Examples of the metal oxide include metal oxides selected from the group consisting of zirconium, indium, antimony, zinc, tin, cerium, and titanium having a particle diameter of 5 nm to 100 nm, and composite oxides thereof. Among them, a composite oxide (ITO) made of indium and tin, or a composite oxide (ATO) made of tin and antimony can impart conductivity and provide antistatic properties in addition to increasing the refractive index. Examples of the conductive polymer include polyacetylene, polythiophene, poly (3-alkyl) thiophene, polypyrrole, polyisothiaphthalene, polyethylenedioxythiophene, poly (2,5-dialkoxy) paraphenylene vinylene, polyparaphenylene, Examples include polyheptadiyne, poly (3-hexyl) thiophene, and polyaniline.

帯電防止性能を発現でき、透明性を損なわないという点で、高屈折率層の表面抵抗が1×1012(Ω/□)以下、さらに好ましくは1×1010(Ω/□)以下であることが好ましい。表面抵抗値が1×1012(Ω/□)を越えると、帯電防止性が損なわれ、静電気によって塵付着が生じ、視認性低下を引き起こす場合がある。The surface resistance of the high refractive index layer is 1 × 10 12 (Ω / □) or less, more preferably 1 × 10 10 (Ω / □) or less in that antistatic performance can be exhibited and transparency is not impaired. It is preferable. If the surface resistance value exceeds 1 × 10 12 (Ω / □), the antistatic property is impaired, dust adhesion may occur due to static electricity, and visibility may be reduced.

さらに、高屈折率層の膜厚は反射防止効果の観点からは40nm〜200nm、より好ましくは60nm〜150nmが好ましい。また、高屈折率層がハードコート膜性能を兼ねる場合には0.5μm〜10μm、さらには1〜6μmの厚さであってもよい。この厚さであれば表面硬度を高め屈強性をもたせると同時に、塗布回数の低減、ひいては低コスト化により安価な物品を提供できる。   Furthermore, the film thickness of the high refractive index layer is preferably 40 nm to 200 nm, more preferably 60 nm to 150 nm, from the viewpoint of the antireflection effect. Further, when the high refractive index layer also serves as a hard coat film performance, the thickness may be 0.5 μm to 10 μm, and further 1 to 6 μm. With this thickness, the surface hardness can be increased and the elasticity can be increased, and at the same time, an inexpensive article can be provided by reducing the number of coatings and thus reducing the cost.

本発明の光学物品には、上記の態様の他に近赤外線吸収層および/または染料を含有する層をさらに設けてもよい。これらの層は透明基材の少なくとも一方の表面に設けてあればよく、両面に設けてもよい。なお近赤外線吸収層や染料を有する層は、高屈折率層と低屈折率層の間に形成されると両層との屈折率差が小さくなり、低反射率層が有効に機能せず、反射率特性が不良になり好ましくない。   The optical article of the present invention may further be provided with a near-infrared absorbing layer and / or a layer containing a dye in addition to the above embodiment. These layers may be provided on at least one surface of the transparent substrate, and may be provided on both surfaces. The near-infrared absorbing layer and the layer having a dye are formed between the high refractive index layer and the low refractive index layer, the refractive index difference between the two layers becomes small, and the low reflectance layer does not function effectively, The reflectance characteristics are poor, which is not preferable.

近赤外線吸収層および/または染料を含有する層を設けた光学物品は、例えば反射防止性を有する光学フィルムとして各種ディスプレイの前面板等に利用される。特にプラズマディスプレイパネル(PDP)用の反射防止フィルムに適している。PDPからはプラズマ放電による近赤外線が放出するが、この近赤外線は周辺の電子機器に影響を及ぼし、PDP自体についてもリモコンの誤動作を引き起こすことがある。上記の光学物品を用いることによって、特定の波長領域の光を遮蔽し、周辺の電子機器に与えるプラズマ放電による影響を抑制できる。   An optical article provided with a near-infrared absorbing layer and / or a layer containing a dye is used as, for example, a front plate of various displays as an optical film having antireflection properties. It is particularly suitable for an antireflection film for a plasma display panel (PDP). PDP emits near-infrared rays due to plasma discharge. This near-infrared rays affect peripheral electronic equipment, and the PDP itself may cause malfunction of the remote control. By using the above optical article, it is possible to shield light in a specific wavelength region and suppress the influence of plasma discharge on peripheral electronic devices.

近赤外線吸収層を形成する化合物(近赤外線吸収化合物)としては、アントラキノン化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、金属酸化物系微粉末、イモニウム系化合物、ジイモニウム系化合物、アミニウム塩系化合物、チオウレア化合物、ビスチオウレア化合物、四角酸系化合物、金属錯体化合物が挙げられる。シアニン色素、メロシアニン色素、(チオ)ピリリウム色素、ナフトラクタム色素、ペンタセン色素、オキシインドリジン色素、キノイド色素、アミニウム色素、ジインモニウム色素、インドアニリン色素、ニッケルチオ錯体色素などである。   As a compound that forms a near infrared absorption layer (near infrared absorption compound), anthraquinone compound, phthalocyanine compound, naphthalocyanine compound, metal oxide fine powder, imonium compound, diimonium compound, aminium salt compound, thiourea Compounds, bisthiourea compounds, square acid compounds, and metal complex compounds. Cyanine dyes, merocyanine dyes, (thio) pyrylium dyes, naphtholactam dyes, pentacene dyes, oxyindolizine dyes, quinoid dyes, aminium dyes, diimmonium dyes, indoaniline dyes, nickel thio complex dyes.

染料を用いる場合は、ディスプレイの発光3原色の吸収が少ないものを選択することが好ましい。特にネオン光といわれている595nm付近の波長をカットすることにより、赤の色純度向上と色再現性を向上できる。本発明で用いられる染料としては、シアニン系化合物、オキソノール系化合物、トリフェニルメタン系化合物、ジフェニルメタン系化合物、キサンテン系化合物、チアジン系化合物などが用いられる。また各種の染料を用いることでニュートラルグレー化することによりコントラストの向上ができる。発光3原色の吸収が少ない染料として、例えば、スクアリリウム系、シアニン系、アゾ系、アゾメチン系、オキソノール系、ベンジリデン系、キサンテン系、メトロシアニン系などが挙げられる。   When using a dye, it is preferable to select a dye that absorbs less light of the three primary colors of the display. In particular, by cutting a wavelength around 595 nm, which is called neon light, it is possible to improve red color purity and color reproducibility. Examples of the dye used in the present invention include cyanine compounds, oxonol compounds, triphenylmethane compounds, diphenylmethane compounds, xanthene compounds, thiazine compounds, and the like. Also, the contrast can be improved by using various dyes to achieve neutral gray. Examples of the dye having little absorption of the three luminescent primary colors include squarylium, cyanine, azo, azomethine, oxonol, benzylidene, xanthene, and metrocyanine.

近赤外線吸収層および/または染料を含有する層を本発明の光学物品に用いる態様としては、近赤外線吸収化合物や染料を含有させた層(NIR層)を透明基材に積層した透明成形体をあらかじめ用意しておき、別に準備した本発明の低屈折率層を有した透明成形体に粘着剤層を介して貼り合わせる方法が挙げられる。また低屈折率層を有した透明成形体の低屈折率層を積層していない面に粘着剤層を設け、その粘着剤層がNIR層としての役割を有していてもよい。その他、低屈折率層(LR)/高屈折率層(HR)/透明基材/NIR層、LR/HR/NIR層/透明基材、LR/高屈折率と近赤外線吸収の両方の機能を有する層/透明基材、LR/HR/透明基材/貼り合わせ粘着層/透明基材/NIR層等が挙げられる。なお、一般に近赤外線吸収化合物は熱に対して不安定であり、透明基材に形成する場合には加熱によって変質するおそれがある。近赤外線吸収層を形成する場合は、近赤外線吸収化合物をハードコート剤や接着剤層に含有させて用いることが好ましい。   As an aspect using the near-infrared absorbing layer and / or the layer containing a dye in the optical article of the present invention, a transparent molded body in which a layer containing a near-infrared absorbing compound or a dye (NIR layer) is laminated on a transparent substrate is used. The method of sticking together through the adhesive layer to the transparent molded object which prepared beforehand and prepared the low refractive index layer of this invention prepared separately is mentioned. In addition, a pressure-sensitive adhesive layer may be provided on the surface of the transparent molded article having a low refractive index layer on which the low refractive index layer is not laminated, and the pressure-sensitive adhesive layer may serve as an NIR layer. Other functions of low refractive index layer (LR) / high refractive index layer (HR) / transparent substrate / NIR layer, LR / HR / NIR layer / transparent substrate, LR / high refractive index and near infrared absorption Layer / transparent substrate, LR / HR / transparent substrate / bonding adhesive layer / transparent substrate / NIR layer, and the like. In general, near-infrared absorbing compounds are unstable with respect to heat, and when formed on a transparent substrate, they may be altered by heating. When forming a near-infrared absorbing layer, it is preferable to use a near-infrared absorbing compound in a hard coat agent or an adhesive layer.

次に、本発明の光学物品の製造方法について一例を挙げて説明する。透明基材にコーティング材料を塗布し、コーティング膜を形成する。塗布方法としては、マイクログラビアコーティング、スピンコーティング、ディップコーティング、カーテンフローコーティング、ロールコーティング、スプレーコーティング、流し塗り法などがあるが、反射防止性の均一性、すなわち反射光色のムラ防止の観点からはマイクログラビアコーティングがとくに好適に用いられる。   Next, an example is given and demonstrated about the manufacturing method of the optical article of this invention. A coating material is applied to the transparent substrate to form a coating film. Application methods include microgravure coating, spin coating, dip coating, curtain flow coating, roll coating, spray coating, flow coating, etc., but from the viewpoint of uniform antireflection properties, that is, prevention of unevenness in reflected light color. In particular, microgravure coating is preferably used.

本発明で用いる透明基材は透明なものであれば特に限定されないが、好ましくはヘーズ(曇り度を表す指標)が40%以下、さらに好ましくは20%以下である。具体的な材料としては、ガラス、プラスチックスなどが挙げられる。また、ヘーズ値が40%以下であれば染料、顔料などで着色されていてもよい。中でも、透明性、屈折率、分散などの光学特性、耐衝撃性、耐熱性、耐久性、機械的強度、耐薬品性、成形性などの諸物性からみて、プラスチックス材料が特に好ましく用いられる。具体的にはポリエステル、特にポリエチレンテレフタレート、及び不飽和ポリエステル、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリウレタン、エポキシ樹脂、トリアセチルセルロース、ポリメチルメタクリレート、及びトリアセチルセルロースとポリメチルメタクリレートの共重合体、ポリカーボネートなどの樹脂が好ましい。また高屈折率層との付着性、硬度、耐薬品性、耐熱性、耐久性などの諸物性を向上させることができることから、透明基材にハードコート膜を形成したものを用いてもよい。本発明のコーティング材料は光や低温で硬化可能であり、高温での加熱を要しないため、耐熱性の低いトリアセチルセルロース、ポリメチルメタクリレートおよびトリアセチルセルロースとポリメチルメタクリレートの共重合体から選ばれる基材を用いることも好ましい。   The transparent substrate used in the present invention is not particularly limited as long as it is transparent, but preferably has a haze (index indicating haze) of 40% or less, more preferably 20% or less. Specific materials include glass and plastics. Moreover, if haze value is 40% or less, you may color with dye, a pigment, etc. Among these, plastic materials are particularly preferably used in view of various physical properties such as transparency, refractive index, optical properties such as dispersion, impact resistance, heat resistance, durability, mechanical strength, chemical resistance, and moldability. Specifically, polyester, especially polyethylene terephthalate, and unsaturated polyester, acrylonitrile-styrene copolymer, polyvinyl chloride, polyurethane, epoxy resin, triacetyl cellulose, polymethyl methacrylate, and triacetyl cellulose and polymethyl methacrylate Resins such as coalescence and polycarbonate are preferred. In addition, since various physical properties such as adhesion to a high refractive index layer, hardness, chemical resistance, heat resistance, and durability can be improved, a transparent substrate with a hard coat film formed thereon may be used. Since the coating material of the present invention can be cured at light or low temperature and does not require heating at high temperature, it is selected from triacetyl cellulose, polymethyl methacrylate, and a copolymer of triacetyl cellulose and polymethyl methacrylate having low heat resistance. It is also preferable to use a substrate.

また本発明で用いる透明基材の表面は洗浄されていることが好ましい。洗浄方法としては界面活性剤による汚れ除去、さらには有機溶剤による脱脂、蒸気洗浄、エアースプレーを噴射し、洗浄する方法がある。   Moreover, it is preferable that the surface of the transparent base material used by this invention is wash | cleaned. As the cleaning method, there are a method of removing dirt with a surfactant, further degreasing with an organic solvent, steam cleaning, and spraying air spray to clean.

塗布時におけるフロー性向上のためには各種の界面活性剤が使用できる。とくにフロー性に加えて、反射防止膜の汚れ防止を同時に向上させ得る点からフッ素系界面活性剤の添加が好ましい。さらに好ましい界面活性剤は、本発明で用いられる一般式(2)で表されるシラン化合物と、一般式(3)で表されるシラン化合物との共重合体がよい。また、一般式(1)で表されるシラン化合物と、(2)で表されるシラン化合物と、一般式(3)で表されるシラン化合物との共重合体である。これらの共重合体は、ポリマーに添加した後に、コーティング膜を形成する際、フルオロアルキル基が塗膜の最も空気に近い表層部分に局在化することにより、硬化後のコーティング膜は、表面滑り性が良好となり、防汚性が良好となる。また、これらの共重合体は、シラノール基を有しているために、本発明のコーティング材料中のポリマーのシラノール基との結合により、硬化後も摩擦による表層剥がれなどの変化がない。さらに、一般式(1)で表される重合性基を含むシラン化合物を共重合体中に有している場合、低温での熱硬化や、紫外線、電子線による光硬化が可能となると同時に、本発明のコーティング材料中のポリマーの重合性基とも結合するため、表面滑り性が良好であると同時に、表面硬度がより高い。   Various surfactants can be used to improve the flowability during coating. In particular, the addition of a fluorosurfactant is preferred from the standpoint of improving the anti-staining properties of the antireflection film in addition to the flow properties. A more preferable surfactant is a copolymer of the silane compound represented by the general formula (2) used in the present invention and the silane compound represented by the general formula (3). Moreover, it is a copolymer of the silane compound represented by General formula (1), the silane compound represented by (2), and the silane compound represented by General formula (3). When these copolymers are added to the polymer and form a coating film, the fluoroalkyl group is localized in the surface layer portion of the coating film that is closest to the air. The anti-fouling property becomes good. In addition, since these copolymers have silanol groups, there is no change such as surface peeling due to friction even after curing due to bonding with the silanol groups of the polymer in the coating material of the present invention. Further, when the copolymer has a silane compound containing a polymerizable group represented by the general formula (1), thermal curing at a low temperature and photocuring with ultraviolet rays and electron beams are possible, Since it also binds to the polymerizable group of the polymer in the coating material of the present invention, the surface slipperiness is good and the surface hardness is higher.

また本発明で用いられる界面活性剤が、コーティング材料中の固形分全量に対して添加される量としては、0.5〜30質量部添加されていることが好ましい。0.5質量部未満では、効果的な防汚性は得られず、また30質量部を越えると、塗布性を損ない、表面硬度が低下する。   Moreover, it is preferable that 0.5-30 mass parts is added as an amount with which the surfactant used by this invention is added with respect to the solid content whole quantity in a coating material. If the amount is less than 0.5 parts by mass, an effective antifouling property cannot be obtained. If the amount exceeds 30 parts by mass, the coatability is impaired and the surface hardness is reduced.

また密着性、耐久性の向上のために、コーティング材料を塗布する前にあらかじめ基材表面に各種の前処理を施すことも有効な手段であり、活性化ガス処理、酸、アルカリなどによる薬品処理があげられる。   In addition, in order to improve adhesion and durability, it is also effective to perform various pretreatments on the substrate surface before applying the coating material, such as activated gas treatment, chemical treatment with acid, alkali, etc. Can be given.

また、コーティング材料は透明基材上の少なくとも一方の表面に塗布されていればよいため、透明基材上に高屈折率層、NIR層などを適宜積層したものの表面に、コーティング材料を塗布してもよい。   Moreover, since the coating material should just be apply | coated to the at least one surface on a transparent base material, apply | coating a coating material on the surface of what laminated | stacked the high refractive index layer, the NIR layer, etc. suitably on the transparent base material. Also good.

上記の方法を用いて基材上に塗布したコーティング材料を、場合に応じた条件で加熱により乾燥、硬化させる。加熱による乾燥、硬化方法としては適用されている基材、及びコーティング材料の成分によって決定されるが、通常は室温以上、300℃以下の温度で通常は0.5分間から240分間の処理を行う。本発明のコーティング材料が熱重合開始剤を用いる場合は、さらに60℃〜130℃の低温から中温で加熱により乾燥、硬化させることが可能である。特に60℃〜90℃で加熱により乾燥、硬化させると、トリアセチルセルロース、ポリメチルメタクリレートおよびトリアセチルセルロースとポリメチルメタクリレートの共重合体から選ばれる基材のように、耐熱性の低い基材上を用いた場合でも基材が熱収縮してカールすることがないため、より好ましい。本発明のコーティング材料が光重合開始剤を用いる場合は、コーティング材料を基材上に塗布後、加熱による乾燥、硬化の際に可視領域よりも波長の短い紫外線を照射しながら膜形成を行う。また加熱による乾燥、硬化前後またはこれと同時に可視領域よりも波長の短い紫外線を照射することで膜形成してもよい。紫外線照射により硬化させる場合は加熱工程を除くこともできるが、硬化反応をより活性化させる目的で、50℃〜100℃、より好ましくは60℃〜90℃の加熱が硬化の促進と耐熱性の低い基材に用いることができる点で好ましい。紫外線照射に用いられるランプの種類としては、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、低圧水銀灯、ハロゲンランプ、マイクロ波ランプなどが挙げられ、光強度としては40W以上を用いることが好ましく、また1灯だけではなく、同時に2灯以上用いてもよい。   The coating material applied on the substrate using the above method is dried and cured by heating under conditions according to circumstances. The drying and curing method by heating is determined depending on the applied base material and the components of the coating material, but the treatment is usually performed at a temperature of room temperature to 300 ° C. for usually 0.5 minutes to 240 minutes. . When the coating material of the present invention uses a thermal polymerization initiator, it can be further dried and cured by heating at a low to medium temperature of 60 ° C to 130 ° C. In particular, when dried and cured by heating at 60 ° C. to 90 ° C., on a substrate having low heat resistance, such as a substrate selected from triacetyl cellulose, polymethyl methacrylate, and a copolymer of triacetyl cellulose and polymethyl methacrylate. Even in the case where is used, the substrate does not curl due to heat shrinkage, which is more preferable. When the coating material of the present invention uses a photopolymerization initiator, a film is formed while irradiating ultraviolet rays having a wavelength shorter than the visible region at the time of drying and curing by heating after coating the coating material on a substrate. Alternatively, the film may be formed by irradiating ultraviolet rays having a wavelength shorter than the visible region before or after drying or curing by heating or simultaneously. In the case of curing by ultraviolet irradiation, the heating step can be omitted, but for the purpose of further activating the curing reaction, heating at 50 ° C. to 100 ° C., more preferably 60 ° C. to 90 ° C., promotes curing and heat resistance. It is preferable at the point which can be used for a low base material. Examples of lamps used for ultraviolet irradiation include high-pressure mercury lamps, ultrahigh-pressure mercury lamps, low-pressure mercury lamps, halogen lamps, microwave lamps, and the like. It is preferable to use a light intensity of 40 W or more, and not only one lamp. Two or more lamps may be used at the same time.

また、酸素の影響による硬化不良を防ぐために、窒素、二酸化炭素雰囲気下で紫外線照射を行ってもよい。   Further, in order to prevent curing failure due to the influence of oxygen, ultraviolet irradiation may be performed in a nitrogen or carbon dioxide atmosphere.

本発明の製造方法により得られた光学物品は、基材表面のコーティング膜を60℃〜90℃の低温で硬化させているにも関わらず、表面滑り性が良好で、表面硬度が高いコーティング膜を有する。   The optical article obtained by the production method of the present invention is a coating film having good surface slipperiness and high surface hardness despite the fact that the coating film on the substrate surface is cured at a low temperature of 60 ° C. to 90 ° C. Have

本発明の光学物品は、光学用素子、例えば反射防止性を有する光学フィルムとしてブラウン管(CRT)、液晶ディスプレイ(LCD)、PDP、エレクトロルミネッセンス(EL)、フィールドエミッションディスプレイ(FED)など各種ディスプレイの前面板等に利用される。   The optical article of the present invention is used in front of various displays such as optical elements such as cathode ray tubes (CRT), liquid crystal displays (LCD), PDPs, electroluminescence (EL), field emission displays (FED) as optical films having antireflection properties. Used for face plates.

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれによって制限されるものではない。各実施例、比較例で得られた光学物品の特性測定方法及び性能評価方法については以下に示す。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. The characteristics measurement method and performance evaluation method of the optical article obtained in each example and comparative example are shown below.

[光線反射率の測定]
日立計測器サービス((株)製)の分光光度計3410を用いて測定を行った。光学物品は#320〜400の耐水サンドペーパーでコーティング膜面とは反対側の面に均一に傷をつけ、黒色塗料(黒マジックインキ(登録商標)液)を塗布して、コーティング膜面とは反対側の面からの反射を完全になくして、測定する表面を積分球に押し当てて測定した。入射角度は10゜であり、検査波長領域は380nm〜800nmであった。スキャン速度は600nm/分とした。光線反射率は最小反射率が1.0%以下であれば良好である。ここで、光線反射率とは可視光線の波長領域380nm〜800nmで測定した光の反射率のことであり、この範囲における反射率の最小値を最小反射率と定義する。
[Measurement of light reflectance]
Measurement was performed using a spectrophotometer 3410 of Hitachi Instrument Service (manufactured by Co., Ltd.). Optical article is # 320-400 water-resistant sandpaper, and the surface opposite to the coating film surface is uniformly scratched, black paint (black magic ink (registered trademark) liquid) is applied, and the coating film surface is The measurement was performed by completely eliminating reflection from the opposite surface and pressing the surface to be measured against an integrating sphere. The incident angle was 10 °, and the inspection wavelength region was 380 nm to 800 nm. The scan speed was 600 nm / min. The light reflectance is good when the minimum reflectance is 1.0% or less. Here, the light reflectance is the reflectance of light measured in the visible light wavelength region of 380 nm to 800 nm, and the minimum reflectance in this range is defined as the minimum reflectance.

[スチールウールテストの評価]
#0000のスチールウールの1cm×1cmの面積部分を用いて各光学物品のコーティング膜面に250mPaの荷重をかけ、10往復したときの傷の本数を観察した。
[Evaluation of steel wool test]
Using a 1 cm × 1 cm area portion of # 0000 steel wool, a load of 250 mPa was applied to the coating film surface of each optical article, and the number of scratches after 10 reciprocations was observed.

[表面滑り性の評価]
指の爪で各光学物品のコーティング膜面を引っ掻いた時の、引っかかり具合を評価した。5人のテスターがそれぞれ試験を行って、以下の基準で評価した。○を5点、△を3点、×を1点とし5人の評価結果を平均した。平均値が5点であれば良好であり、平均値が3点であればやや不良、平均値が1点は不良である。
○:まったく引っかからない。
△:強くするとひっかかる。
×:弱くしても引っかかる。
[Evaluation of surface slipperiness]
The degree of catch when the coated film surface of each optical article was scratched with a fingernail was evaluated. Five testers each tested and evaluated according to the following criteria. The evaluation results of 5 people were averaged with 5 points, 3 points, and 1 point. If the average value is 5 points, it is good, if the average value is 3 points, it is a little bad, and the average value is 1 point is bad.
○: Not caught at all.
(Triangle | delta): If it strengthens, it will catch.
X: It is caught even if weak.

[塗布性の評価]
各光学物品のコーティング膜面を肉眼で観察し、膜表面の均一性、塗布ムラ、クラックの有無を評価した。
[Evaluation of coating properties]
The coating film surface of each optical article was observed with the naked eye, and the film surface uniformity, coating unevenness, and presence of cracks were evaluated.

[コーティング材料の屈折率の測定]
コーティング材料を30%固形分濃度に調整し、シリコンウェハー上に、厚さが1.5〜4μmとなるように、スピンコーターを用いて塗布し、ついで130℃のオーブンで2時間、加熱、乾燥させ、コーティング膜を得た。その後高圧水銀灯一灯(120w)を備えた、コンベアー式紫外線照射装置に、5m/分の速度で一度通して紫外線照射(紫外線に換算した場合約300mJ/cm)を行い、測定用サンプルを得た。プリズムカプラー(METRICON(株)製:MODEL2010)でコーティング膜の波長633nmでの屈折率を測定した。
[Measurement of refractive index of coating material]
The coating material is adjusted to a solid content concentration of 30%, applied onto a silicon wafer using a spin coater so that the thickness is 1.5 to 4 μm, and then heated and dried in an oven at 130 ° C. for 2 hours. To obtain a coating film. After that, the sample for measurement was obtained by passing it once through a conveyor type ultraviolet irradiation device equipped with a high pressure mercury lamp (120w) at a speed of 5 m / min and irradiating with ultraviolet rays (about 300 mJ / cm 2 when converted to ultraviolet rays). It was. The refractive index at a wavelength of 633 nm of the coating film was measured with a prism coupler (Mettronic Co., Ltd .: MODEL2010).

[表面抵抗の測定]
積層体の表面を表面抵抗測定機((株)ダイアインスツルメンツ製:ハイレスタUP)と、専用プローブ((株)ダイアインスツルメンツ製:レジスティURSプローブ)を用いて、電圧:100V、測定時間:60秒の条件で測定した。
[Measurement of surface resistance]
The surface of the laminate was measured using a surface resistance measuring machine (Dia Instruments Inc .: Hiresta UP) and a dedicated probe (Dia Instruments Inc .: Resistive URS probe), voltage: 100 V, measurement time: 60 seconds. Measured under conditions.

実施例1
”オプスター”Z7528(商品名、JSR(株)製)濃度50%塗料をメタリングバーを用いたハンドコーティングにより、透明基材であるPETフィルム(厚さ100μm、東レ(株)製)に塗工した。番手が8番のメタリングバーを用いてA4サイズの基材に1.5ccの塗布液を垂らし、気泡が入らぬように気をつけながら、メタリングバーをひいて塗膜を塗り広げてハードコート層を形成した。ハードコート層を形成した後、すぐに温度を90℃にしたオーブンに入れて1分間の熱処理を行った。その後高圧水銀灯一灯(120w)を備えたコンベアー式紫外線照射装置を用いて5m/分の速度で一度通して紫外線照射(紫外線強度に換算した場合約300mJ/cm)を行い、ハードコート層付き基材を得た。乾燥後の膜厚は約5μmであった。
Example 1
"OPSTAR" Z7528 (trade name, manufactured by JSR Corp.) Coating a 50% -concentrated paint on a PET film (thickness 100 μm, manufactured by Toray Industries, Inc.) by hand coating using a metal ring bar did. Using a No. 8 metering bar, hang a 1.5 cc coating solution on an A4 size base material and take care to prevent bubbles from entering. A coat layer was formed. Immediately after the hard coat layer was formed, heat treatment was performed for 1 minute in an oven set at 90 ° C. After that, using a conveyor type UV irradiation device equipped with a high pressure mercury lamp (120w), it is passed once at a speed of 5m / min and irradiated with UV (approx. 300mJ / cm 2 when converted to UV intensity), with a hard coat layer A substrate was obtained. The film thickness after drying was about 5 μm.

50mlスクリュー管に固形分濃度が10%である”KAYANOVA”HRA−196(商品名、日本化薬(株)製)12gを加えてから2−プロパノール8gを加えて室温(約23〜25℃)で約1分間撹拌し、固形分濃度6%まで希釈し、高屈折率層用の塗料を調製した。調製した6%高屈折率層用塗料を番手が5番のメタリングバーを用いたハンドコーティングにより、前記ハードコート層付き基材のハードコート層側に塗工した。A4サイズの基材に1.5ccの塗布液を垂らし、気泡が入らぬように気をつけながら、メタリングバーをひいて塗膜を塗り広げて高屈折率層を形成した。高屈折率層を形成した後、すぐに温度を90℃にしたオーブンに入れて1分間の熱処理を行った。その後高圧水銀灯一灯(120w)を備えた、コンベアー式紫外線照射装置に、5m/分の速度で一度通して紫外線照射(紫外線に換算した場合約300mJ/cm)を行い、ハードコート層および高屈折率層付き基材を得た。乾燥後の高屈折率層の膜厚は約100nmであった。得られたハードコート層および高屈折率層付き基材の表面抵抗値を測定した結果、1×10(Ω/□)であった。また、高屈折率層のみの屈折率は1.67であった。After adding 12 g of “KAYANOVA” HRA-196 (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) having a solid content of 10% to a 50 ml screw tube, add 8 g of 2-propanol at room temperature (about 23-25 ° C.) The mixture was stirred for about 1 minute and diluted to a solid content concentration of 6% to prepare a coating for a high refractive index layer. The prepared coating material for 6% high refractive index layer was applied to the hard coat layer side of the base material with a hard coat layer by hand coating using a metal ring bar with a number of 5. A 1.5 cc coating solution was dropped on an A4 size base material, and while taking care not to enter bubbles, the metallizing bar was pulled to spread the coating film to form a high refractive index layer. After the high refractive index layer was formed, it was immediately put into an oven at 90 ° C. for heat treatment for 1 minute. After that, a high-pressure mercury lamp (120w) equipped with a high-pressure mercury lamp (120w) was passed through a conveyor-type ultraviolet irradiation device at a rate of 5 m / min for ultraviolet irradiation (approximately 300 mJ / cm 2 when converted to ultraviolet light). A substrate with a refractive index layer was obtained. The film thickness of the high refractive index layer after drying was about 100 nm. As a result of measuring the surface resistance value of the obtained base material with a hard coat layer and a high refractive index layer, it was 1 × 10 8 (Ω / □). The refractive index of only the high refractive index layer was 1.67.

次に無機粒子を有するシロキサンポリマーを作製した。2L用三つ口フラスコに3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製)72.73g(0.33mol)とプロピレングリコールモノエチルエーテル156.56g(和光純薬工業(株)製)を入れ、オイルバス中で温度設定を40〜42℃にし、攪拌機を用いて約10分間かけて3規定に調製した蟻酸水溶液 19.09gを滴下しながらそのままの温度で約270rpmで攪拌した。滴下終了後約1時間攪拌した後、メチルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製)68.1g(0.5mol)と、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製)11.42g(0.05mol)とプロピレングリコールモノエチルエーテル119.5gと、固形分濃度が20.4質量%のイソプロピルアルコール(IPA)分散型シラノール基含有中空シリカゾル(触媒化成工業(株)製)400gを加えて、固形分20%濃度の溶液にした後、水29.48gを約20分間かけて滴下し、滴下終了後オイルバスを約40から70℃へ約30分かけて昇温し、70℃になった時点から約2時間、270rpmで攪拌した。その後室温まで冷却した。得られたポリマーの固形分率を測定したところ、固形分率は20質量%であった。また固形分全量に対し、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン5質量%、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン30質量%、メチルトリメトキシシラン20質量%、中空シリカ45質量%が含まれている。   Next, a siloxane polymer having inorganic particles was produced. In a 2 L three-necked flask, 72.73 g (0.33 mol) of 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 156.56 g of propylene glycol monoethyl ether (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) (Made by Co., Ltd.), the temperature is set to 40 to 42 ° C. in an oil bath, about 19.70 g of a formic acid aqueous solution prepared to 3 N using a stirrer over about 10 minutes is dropped at about 270 rpm at the same temperature. And stirred. After stirring for about 1 hour after completion of dropping, 68.1 g (0.5 mol) of methyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 11.42 g (0.05 mol), 119.5 g of propylene glycol monoethyl ether, and isopropyl alcohol (IPA) -dispersed silanol group-containing hollow silica sol having a solid content concentration of 20.4% by mass (manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd.) After adding 400 g to make a solution with a solid content of 20%, 29.48 g of water was added dropwise over about 20 minutes, and after completion of the addition, the oil bath was heated from about 40 to 70 ° C. over about 30 minutes, The mixture was stirred at 270 rpm for about 2 hours from the time when the temperature reached 70 ° C. Then it was cooled to room temperature. When the solid content rate of the obtained polymer was measured, the solid content rate was 20 mass%. In addition, 5% by mass of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 30% by mass of 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, 20% by mass of methyltrimethoxysilane, and 45% by mass of hollow silica with respect to the total solid content. It is.

界面活性剤を次のように作製した。100mlナスフラスコに回転子とトリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製)14.04g(0.03mol)とビニルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製)1.96g(0.01mol)と2−プロパノール7.48g(和光純薬工業(株)製)を入れ、50〜55℃にし、約10分間かけて3規定に調製した蟻酸水溶液2.67gを滴下しながら、100〜200rpmで撹拌した。滴下終了後約2時間撹拌した後、反応溶液を室温まで冷却し、メチルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製)6.13gと2−プロパノール45.77gを加えて、固形分20質量濃度の溶液にした後、20〜25℃で水2.43gを約10分間かけて滴下し、その後室温(約20〜23℃)約1時間100〜200rpmで攪拌した。その後反応温度を60℃にしてから、約2時間攪拌し、その後室温まで冷却した。その後、溶液の固形分率を測定したところ、固形分率は20質量%だった。これに対して2−プロパノール80.48gを加えて固形分濃度10%まで希釈し、これを界面活性剤−1とした。得られた界面活性剤−1溶液の共重合比はメチルトリメトキシシラン/トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン/ビニルトリメトキシシランが5.1/3.4/1.5mol比である。また、界面活性剤−1中のフッ素含有率は46.23質量%である。   A surfactant was prepared as follows. In a 100 ml eggplant flask, a rotor and tridecafluorooctyltrimethoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 14.04 g (0.03 mol) and vinyltrimethoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 1.96 g (0 .01 mol) and 7.48 g of 2-propanol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) were added, the temperature was adjusted to 50 to 55 ° C., and 2.67 g of a formic acid aqueous solution prepared to 3N over about 10 minutes was added dropwise. Stir at ~ 200 rpm. After stirring for about 2 hours, the reaction solution was cooled to room temperature, 6.13 g of methyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 45.77 g of 2-propanol were added, and the solid content was 20 mass concentration. After that, 2.43 g of water was added dropwise at 20 to 25 ° C. over about 10 minutes, and then stirred at room temperature (about 20 to 23 ° C.) for about 1 hour at 100 to 200 rpm. Thereafter, the reaction temperature was raised to 60 ° C., and the mixture was stirred for about 2 hours and then cooled to room temperature. Then, when the solid content rate of the solution was measured, the solid content rate was 20 mass%. On the other hand, 80.48 g of 2-propanol was added and diluted to a solid content concentration of 10%, and this was designated as Surfactant-1. The copolymerization ratio of the obtained surfactant-1 solution was 5.1 / 3.4 / 1.5 mol ratio of methyltrimethoxysilane / tridecafluorooctyltrimethoxysilane / vinyltrimethoxysilane. Moreover, the fluorine content rate in surfactant-1 is 46.23 mass%.

予め作製しておいた無機粒子を有するシロキサンポリマー2gをサンプル瓶に添加し、この溶液に対してメタノール溶液0.82gを加えて、ついでアルミニウムトリスアセチルアセトネート16.8mgを加えた。さらに2−プロパノール9gを加え、その後メチルイソブチルケトン2.9gを加えた。最後に光ラジカル重合開始剤としてIRGACURE(登録商標)184(商品名、チバ株式会社製)を12mgと、0.2gの界面活性剤−1を添加した。得られたコーティング材料の固形分濃度は3質量%である。また、用いた光ラジカル重合開始剤はコーティング材料の全固形分に対して3質量%であり、用いた有機溶媒は全有機溶媒に対してメタノール10質量%、2−プロパノール70質量%、メチルイソブチルケトン20質量%である。得られたコーティング材料の屈折率を測定した。   2 g of a siloxane polymer having inorganic particles prepared in advance was added to the sample bottle, 0.82 g of a methanol solution was added to this solution, and then 16.8 mg of aluminum trisacetylacetonate was added. Further, 9 g of 2-propanol was added, and then 2.9 g of methyl isobutyl ketone was added. Finally, 12 mg of IRGACURE (registered trademark) 184 (trade name, manufactured by Ciba Co., Ltd.) and 0.2 g of surfactant-1 were added as a radical photopolymerization initiator. The solid content concentration of the obtained coating material is 3% by mass. Moreover, the used radical photopolymerization initiator was 3 mass% with respect to the total solid of the coating material, and the organic solvent used was 10 mass% methanol, 70 mass% 2-propanol, methyl isobutyl with respect to the total organic solvent. The ketone is 20% by mass. The refractive index of the obtained coating material was measured.

作製したコーティング材料を、番手が6番のメタリングバーを用いてハンドコーティングで、予め作製しておいたハードコート層および高屈折率層付き基材の高屈折率層面に塗布した。1.5ccのコーティング材料を垂らし、気泡が入らないようにメタリングバーをひいてコーティング材料を塗り広げてコーティング膜(低屈折率層)を形成した。低屈折率層の厚さは約100nmであった。   The prepared coating material was applied to the surface of the high refractive index layer of the base material with a hard coat layer and a high refractive index layer prepared in advance by hand coating using a No. 6 metal ring bar. A coating material (low refractive index layer) was formed by hanging a coating material of 1.5 cc and spreading the coating material by pulling a metalling bar so that bubbles do not enter. The thickness of the low refractive index layer was about 100 nm.

コーティング材料を塗布した後、すぐに60℃にしたオーブンに入れて2分間、加熱処理を行った。その後高圧水銀灯一灯(120w)を備えた、コンベアー式紫外線照射装置に、5m/分の速度で一度通して紫外線照射(紫外線強度に換算した場合約300mJ/cm)を行った。こうして基材にハードコート層、高屈折率層、低屈折率層をこの順に設けた光学物品を得た。得られた光学物品の光線反射率、耐スチールウール性、表面滑り性、塗布性を評価した。After the coating material was applied, it was immediately placed in an oven at 60 ° C. and heat-treated for 2 minutes. Thereafter, UV irradiation (about 300 mJ / cm 2 when converted to UV intensity) was performed once through a conveyor type UV irradiation device equipped with a high pressure mercury lamp (120 w) at a speed of 5 m / min. Thus, an optical article was obtained in which a hard coat layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer were provided in this order on the substrate. The resulting optical article was evaluated for light reflectance, steel wool resistance, surface slipperiness, and coatability.

また60℃を90℃、130℃に変更した以外は上記と同様の方法で、加熱処理と、紫外線照射を行い、光学部品を作製し、耐スチールウール性評価を行った。   Further, heat treatment and ultraviolet irradiation were performed in the same manner as above except that 60 ° C. was changed to 90 ° C. and 130 ° C., optical components were prepared, and steel wool resistance was evaluated.

実施例2
シロキサンポリマーにおいて、固形分全量に対し、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン10質量%、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン40質量%、メチルトリメトキシシラン15質量%、中空シリカ35質量%にし、IRGACURE(登録商標)184から熱ラジカル重合開始剤として2,2−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(和光純薬工業(株)製、10時間半減期温度51℃(トルエン中)、和光純薬工業(株)製カタログ値)に変更し、熱ラジカル重合開始剤をコーティング材料中の全固形分に対して3質量%添加し、紫外線照射の工程を行わなかった以外は実施例1と同様に行った。
Example 2
In the siloxane polymer, 10% by mass of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 40% by mass of 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, 15% by mass of methyltrimethoxysilane, and 35% by mass of hollow silica with respect to the total solid content. %, 2,2-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as a thermal radical polymerization initiator from IRGACURE (registered trademark) 184 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., 10 hour half-life temperature 51 ° C. in toluene) ), Changed to catalog value manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), implemented except that 3% by mass of thermal radical polymerization initiator was added to the total solid content in the coating material, and the UV irradiation process was not performed. Performed as in Example 1.

実施例3
界面活性剤を次のように作製した。30mlナスフラスコに回転子とパーフルオロブチルエチルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製)4.53g(0.012mol)と2−プロパノール2.1g(和光純薬工業(株)製)を入れ、50〜55℃にし、約10分間かけて3規定に調製した蟻酸水溶液0.76gを滴下しながら100〜200rpmで攪拌した。滴下終了後約2時間攪拌した後、反応溶液を室温にまで冷却し、メチルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製)3.91g(0.029mol)と2−プロパノール15.2gを加えて、固形分20質量%濃度の溶液にした後、20〜25℃で水1.55gを約10分間かけて滴下し、その後室温(約20〜23℃)約1時間100〜200rpmで攪拌した。その後反応温度を60℃にしてから、約2時間攪拌し、その後室温まで冷却した。その後、溶液の固形分率を測定したところ、固形分率は20質量%だった。これに対して2−プロパノール28.04gを加えて固形分濃度10%まで希釈し、これを界面活性剤−2とした。得られた界面活性剤−2の溶液の共重合比はメチルトリメトキシシラン/パーフルオロブチルエチルトリメトキシシランが7/3mol比である。また、界面活性剤−2中のフッ素含有率は38.48質量%である。
Example 3
A surfactant was prepared as follows. A rotor, perfluorobutylethyltrimethoxysilane (made by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 4.53 g (0.012 mol) and 2-propanol 2.1 g (made by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) are put into a 30 ml eggplant flask. The mixture was stirred at 100 to 200 rpm while dropping 0.76 g of an aqueous formic acid solution adjusted to 3N over about 10 minutes. After stirring for about 2 hours, the reaction solution was cooled to room temperature, and 3.91 g (0.029 mol) of methyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 15.2 g of 2-propanol were added. After making a solution with a solid content of 20% by mass, 1.55 g of water was added dropwise at 20 to 25 ° C. over about 10 minutes, and then stirred at 100 to 200 rpm for about 1 hour at room temperature (about 20 to 23 ° C.). Thereafter, the reaction temperature was raised to 60 ° C., and the mixture was stirred for about 2 hours and then cooled to room temperature. Then, when the solid content rate of the solution was measured, the solid content rate was 20 mass%. On the other hand, 28.04 g of 2-propanol was added and diluted to a solid content concentration of 10%, and this was designated as Surfactant-2. The copolymerization ratio of the obtained surfactant-2 solution was methyltrimethoxysilane / perfluorobutylethyltrimethoxysilane in a 7/3 mol ratio. Moreover, the fluorine content rate in surfactant-2 is 38.48 mass%.

シロキサンポリマーにおいて、固形分全量に対し、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン5質量%にし、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン5質量%、メチルトリメトキシシラン35質量%、中空シリカ55質量%にし、界面活性剤−1から上記の界面活性剤−2に変更した以外は実施例1と同様に行った。   In the siloxane polymer, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane is changed to 5% by mass of 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 5% by mass of 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, The same procedure as in Example 1 was carried out except that 35% by mass of methoxysilane and 55% by mass of hollow silica were used and the surfactant-1 was changed to the surfactant-2.

実施例4
シロキサンポリマーにおいて、固形分全量に対し、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン15質量%にし、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン20質量%、メチルトリメトキシシラン20質量%、中空シリカ45質量%にして、IRGACURE(登録商標)184から熱ラジカル重合開始剤として2,2−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)に変更し、熱ラジカル重合開始剤をコーティング材料中の全固形分に対して5質量%添加し、紫外線照射の工程を行わなかった以外は実施例1と同様に行った。
Example 4
In the siloxane polymer, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane is 15% by mass of 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 20% by mass of 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, The thermal radical polymerization initiator was changed from IRGACURE (registered trademark) 184 to 2,2-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as a thermal radical polymerization initiator by changing methoxysilane to 20% by mass and hollow silica to 45% by mass. Was added in an amount of 5% by mass based on the total solid content in the coating material, and the same procedure as in Example 1 was performed except that the ultraviolet irradiation step was not performed.

実施例5
シロキサンポリマーにおいて、固形分全量に対し、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランをビニルトリメトキシシラン5質量%にし、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン40質量%、メチルトリメトキシシラン20質量%、中空シリカ35質量%にして、IRGACURE(登録商標)184から熱ラジカル重合開始剤として2,2'−アゾビスイソブチロニトリル(和光純薬工業(株)製、10時間半減期温度65℃(トルエン中)、和光純薬工業(株)製カタログ値)に変更し、熱ラジカル重合開始剤をコーティング材料中の全固形分に対して8質量%添加し、紫外線照射の工程を行わなかった以外は実施例1と同様に行った。
Example 5
In the siloxane polymer, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane is changed to 5% by mass of vinyltrimethoxysilane, 40% by mass of 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, and 20% by mass of methyltrimethoxysilane with respect to the total solid content. %, Hollow silica 35 mass%, 2,2′-azobisisobutyronitrile (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., 10 hours half-life temperature 65) as a thermal radical polymerization initiator from IRGACURE (registered trademark) 184 Changed to ° C (in toluene), catalog value manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., and added 8% by mass of thermal radical polymerization initiator based on the total solid content in the coating material, and did not perform the UV irradiation step The procedure was the same as in Example 1 except that.

実施例6
シロキサンポリマーにおいて、固形分全量に対し、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランをビニルトリメトキシシラン5質量%にし、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン5質量%、メチルトリメトキシシラン35質量%、中空シリカ55質量%にして、さらに熱ラジカル重合開始剤として2,2'−アゾビスイソブチロニトリルをコーティング材料中の全固形分に対して3質量%添加した以外は実施例1と同様に行った。
Example 6
In the siloxane polymer, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane is changed to 5% by mass of vinyltrimethoxysilane, 5% by mass of 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, and 35% by weight of methyltrimethoxysilane with respect to the total solid content. %, Hollow silica 55 mass%, and 2,2′-azobisisobutyronitrile as a thermal radical polymerization initiator was added in an amount of 3 mass% based on the total solid content in the coating material. The same was done.

実施例7
シロキサンポリマーにおいて、固形分全量に対し、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを30質量%にし、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン5質量%、メチルトリメトキシシラン10質量%、中空シリカ55質量%にした以外は実施例1と同様に行った。
Example 7
In the siloxane polymer, 30% by mass of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane with respect to the total solid content, 5% by mass of 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, 10% by mass of methyltrimethoxysilane, hollow silica The same operation as in Example 1 was performed except that the content was changed to 55% by mass.

実施例8
シロキサンポリマーにおいて、固形分全量に対し、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランをビニルトリメトキシシラン5質量%にし、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン5質量%、メチルトリメトキシシラン40質量%、中空シリカ50質量%にした以外は実施例1と同様に行った。また、低屈折率層の塗布後の加熱処理時間を60℃、90℃および130℃の各々の条件において2分から5分に変更した以外は実施例1と同様の方法で光学物品を作製し、塗布性の評価を行った。また、該光学物品を平らな机の上に置き、基板のカールの有無を目視で確認した。
Example 8
In the siloxane polymer, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane is 5% by mass of vinyltrimethoxysilane, 5% by mass of 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, and 40% by mass of methyltrimethoxysilane with respect to the total solid content. % And hollow silica 50% by mass. Further, an optical article was produced in the same manner as in Example 1 except that the heat treatment time after the application of the low refractive index layer was changed from 2 minutes to 5 minutes under the respective conditions of 60 ° C., 90 ° C. and 130 ° C. The applicability was evaluated. The optical article was placed on a flat desk, and the presence or absence of curling of the substrate was visually confirmed.

実施例9
シロキサンポリマーにおいて、固形分全量に対し、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン35質量%にし、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン5質量%、メチルトリメトキシシラン5質量%、中空シリカ55質量%にした以外は実施例1と同様に行った。
Example 9
In the siloxane polymer, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane is changed to 35% by mass of 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 5% by mass of 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, The same procedure as in Example 1 was performed except that 5% by mass of methoxysilane and 55% by mass of hollow silica were used.

実施例10
透明基材をPETフィルムからポリメチルメタクリレートフィルム(厚さ250μm)に変えた以外は実施例8と同様に行った。
Example 10
The same procedure as in Example 8 was performed except that the transparent substrate was changed from a PET film to a polymethyl methacrylate film (thickness 250 μm).

実施例11
透明基材をPETフィルムからトリアセチルセルロースフィルム(厚さ80μm)に変えた以外は実施例8と同様に行った。
Example 11
The same procedure as in Example 8 was performed except that the transparent substrate was changed from a PET film to a triacetylcellulose film (thickness 80 μm).

比較例1
シロキサンポリマーにおいて、固形分全量に対し、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを用いず、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン30質量%、メチルトリメトキシシラン25質量%、中空シリカ45質量%にした以外は実施例1と同様に行った。
Comparative Example 1
In the siloxane polymer, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane is not used with respect to the total solid content, but 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane is 30% by mass, methyltrimethoxysilane is 25% by mass, and hollow silica is 45% by mass. The same procedure as in Example 1 was performed except that the content was changed to%.

比較例2
シロキサンポリマーにおいて、固形分全量に対し、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン28質量%、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン2質量%、メチルトリメトキシシラン35質量%、中空シリカ35質量%にした以外は全て実施例1と同様に行った。
Comparative Example 2
In the siloxane polymer, the total amount of solid content is 28% by mass of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 2% by mass of 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, 35% by mass of methyltrimethoxysilane, and 35% by mass of hollow silica. The same procedure as in Example 1 was performed except that the percentage was changed to%.

比較例3
シロキサンポリマーにおいて、固形分全量に対し、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン20質量%にし、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン23質量%、メチルトリメトキシシラン2質量%、中空シリカ55質量%にした以外は全て実施例1と同様に行った。
Comparative Example 3
In the siloxane polymer, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane is changed to 20% by mass of 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 23% by mass of 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, The same procedure as in Example 1 was performed except that 2% by mass of methoxysilane and 55% by mass of hollow silica were used.

比較例4
シロキサンポリマーにおいて、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランにして、さらに、固形分全量に対し、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン38質量%、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン2質量%、メチルトリメトキシシラン40質量%、中空シリカ20質量%にし、界面活性剤−1から界面活性剤−2に変更し、IRGACURE(登録商標)184から、熱ラジカル重合開始剤として2,2−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)に変更し、熱ラジカル重合開始剤をコーティング材料中の全固形分に対して5質量%添加し、紫外線照射の工程を行わなかった以外は全て実施例1と同様に行った。
Comparative Example 4
In the siloxane polymer, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane is changed to 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, and 38% by mass of 3, acryloxypropyltrimethoxysilane, 3,3,3- The composition was changed from Surfactant-1 to Surfactant-2 to 2% by mass of trifluoropropyltrimethoxysilane, 40% by mass of methyltrimethoxysilane, and 20% by mass of hollow silica, and IRGACURE (registered trademark) 184 The polymerization initiator is changed to 2,2-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), and a thermal radical polymerization initiator is added in an amount of 5% by mass with respect to the total solid content in the coating material, and an ultraviolet irradiation process is performed. Except for the absence, the same procedure as in Example 1 was performed.

比較例5
シロキサンポリマーにおいて、固形分全量に対し、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを用いず、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン5質量%、メチルトリメトキシシラン25質量%、中空シリカ70質量%にして、IRGACURE(登録商標)184から熱ラジカル重合開始剤として2,2−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)に変更し、熱ラジカル重合開始剤をコーティング材料中の全固形分に対して3質量%添加し、紫外線照射の工程を行わなかった以外は実施例1と同様に行った。
Comparative Example 5
In the siloxane polymer, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane is not used with respect to the total amount of solids, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane 5 mass%, methyltrimethoxysilane 25 mass%, hollow silica 70 mass %, And IRGACURE (registered trademark) 184 was changed to 2,2-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as a thermal radical polymerization initiator, and the thermal radical polymerization initiator was changed to the total solid content in the coating material. 3% by mass was added, and the same procedure as in Example 1 was performed except that the ultraviolet irradiation step was not performed.

比較例6
シロキサンポリマーにおいて、固形分全量に対し、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランをビニルトリメトキシシラン5質量%にし、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン55質量%、メチルトリメトキシシラン5質量%、中空シリカ35質量%にし、界面活性剤−1から界面活性剤−2に変更し、光ラジカル重合開始剤としてIRGACURE(登録商標)184をコーティング材料中の全固形分に対して8質量%添加した以外は実施例1と同様に行った。
Comparative Example 6
In the siloxane polymer, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane is changed to 5% by mass of vinyltrimethoxysilane, 55% by mass of 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, and 5% by mass of methyltrimethoxysilane with respect to the total solid content. %, Hollow silica 35% by mass, changed from surfactant-1 to surfactant-2, and IRGACURE (registered trademark) 184 as a radical photopolymerization initiator is 8% by mass with respect to the total solid content in the coating material. The same procedure as in Example 1 was performed except for the addition.

比較例7
シロキサンポリマーにおいて、固形分全量に対し、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン5質量%、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン5質量%、メチルトリメトキシシラン55質量%、中空シリカ35質量%にした以外は実施例1と同様に行った。
Comparative Example 7
In the siloxane polymer, 3% by mass of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 5% by mass of 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, 55% by mass of methyltrimethoxysilane, and 35% by mass of hollow silica with respect to the total solid content. The same procedure as in Example 1 was performed except that the content was changed to%.

比較例8
シロキサンポリマーにおいて、固形分全量に対し、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン55質量%、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン5質量%、メチルトリメトキシシラン5質量%、中空シリカ35質量%にした以外は実施例1と同様に行った。
Comparative Example 8
In the siloxane polymer, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane 55% by mass, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane 5% by mass, methyltrimethoxysilane 5% by mass, and hollow silica 35% by mass with respect to the total solid content. The same procedure as in Example 1 was performed except that the content was changed to%.

比較例9
低屈折率層用コーティング材料において、IRGACURE(登録商標)184を添加しなかった以外は実施例1と同様に行った。
Comparative Example 9
The same procedure as in Example 1 was performed except that IRGACURE (registered trademark) 184 was not added to the coating material for the low refractive index layer.

比較例10
1L用三つ口フラスコAに3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製)11.42g(0.05mol)と、固形分濃度が20.4質量%のイソプロピルアルコール(IPA分散型)シラノール基含有中空シリカゾル(触媒化成工業(株)製)400gと0.5規定に調製した蟻酸水溶液を2.48g添加し、さらにプロピレングリコールモノエチルエーテル35.35g(和光純薬工業(株)製)を入れ、固形分濃度を20質量%の溶液にした後、オイルバス中で温度設定を70〜72℃にし、攪拌機を用いてそのままの温度で約270rpmで攪拌しながら、約2時間攪拌した。その後室温まで冷却し、表面がシラノール基で修飾されたシリカ粒子の溶液を得た。固形分測定をしたところ、固形分率は20質量%であった。
Comparative Example 10
To a 1 L three-necked flask A, 11.42 g (0.05 mol) of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and isopropyl alcohol (IPA dispersion having a solid content concentration of 20.4% by mass) Type) 400 g of silanol group-containing hollow silica sol (manufactured by Catalytic Chemical Industry Co., Ltd.) and 2.48 g of formic acid aqueous solution prepared to 0.5 N were added, and 35.35 g of propylene glycol monoethyl ether (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) )) To make a solution with a solid content concentration of 20% by mass, and then set the temperature in the oil bath to 70 to 72 ° C. and stirring at about 270 rpm at the same temperature using an agitator for about 2 hours. Stir. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature to obtain a solution of silica particles whose surface was modified with silanol groups. When the solid content was measured, the solid content rate was 20% by mass.

次いで別の1L用三つ口フラスコBに、室温でメチルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製)68.1g(0.5mol)と3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製)72.73g(0.33mol)とプロピレングリコールモノエチルエーテル230.5gを加えた。2規定の蟻酸水溶液46.09gを約20分間かけて滴下し、固形分率20質量%の溶液にした後、室温で約1時間撹拌した。その後オイルバスを約70℃へ約30分かけて昇温し、70℃になったところ時点から約2時間、270rpmで攪拌した。その後室温まで冷却し、シロキサンポリマーの溶液を得た。固形分測定をしたところ、固形分率は20質量%だった。   Next, in another 1 L three-necked flask B, 68.1 g (0.5 mol) of methyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane (Shin-Etsu) at room temperature. Chemical Industry Co., Ltd.) 72.73 g (0.33 mol) and propylene glycol monoethyl ether 230.5 g were added. 46.09 g of 2N formic acid aqueous solution was added dropwise over about 20 minutes to form a solution having a solid content of 20% by mass, and then stirred at room temperature for about 1 hour. Thereafter, the temperature of the oil bath was raised to about 70 ° C. over about 30 minutes, and when the temperature reached 70 ° C., the mixture was stirred at 270 rpm for about 2 hours from that point. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature to obtain a siloxane polymer solution. When solid content was measured, the solid content rate was 20 mass%.

得られたシロキサンポリマー溶液446.77gと表面がシラノール基で修飾されたシリカ粒子の溶液417.42gを室温で混合して固形分を測定したところ、固形分率は20質量%であった。また固形分全量に対し、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン5質量%、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン30質量%、メチルトリメトキシシラン20質量%、中空シリカ45質量%である。   When the solid content was measured by mixing 446.77 g of the obtained siloxane polymer solution and 417.42 g of a silica particle solution whose surface was modified with silanol groups at room temperature, the solid content was 20% by mass. Further, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane 5% by mass, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane 30% by mass, methyltrimethoxysilane 20% by mass, and hollow silica 45% by mass with respect to the total solid content. .

作製されたシロキサンポリマーとシリカ粒子の混合溶液2gをサンプル瓶に添加し、この溶液に対してメタノール溶液0.82gを加えて、ついでアルミニウムトリスアセチルアセトネート16.8mgを加えた。さらに界面活性剤−1を0.2g加えて、2−プロパノール9gを加え、その後メチルイソブチルケトン2.9gを加えた。最後に光ラジカル重合開始剤としてIRGACURE(登録商標)184を12mgを添加した。得られたコーティング材料の固形分濃度は3質量%である。また、添加した光ラジカル重合開始剤はコーティング材料の全固形分に対して3質量%であり、用いた有機溶媒は全有機溶媒に対してメタノール含有率10質量%、2−プロパノール70質量%、メチルイソブチルケトン20質量%である。得られたコーティング材料の屈折率を測定した。また得られたコーティング材料を低屈折率層に用い、実施例1と同様に光学部品を作製し、評価した。   2 g of the prepared mixed solution of siloxane polymer and silica particles was added to a sample bottle, 0.82 g of a methanol solution was added to this solution, and then 16.8 mg of aluminum trisacetylacetonate was added. Further, 0.2 g of Surfactant-1 was added, 9 g of 2-propanol was added, and then 2.9 g of methyl isobutyl ketone was added. Finally, 12 mg of IRGACURE (registered trademark) 184 was added as a radical photopolymerization initiator. The solid content concentration of the obtained coating material is 3% by mass. The added radical photopolymerization initiator is 3% by mass with respect to the total solid content of the coating material, and the organic solvent used is 10% by mass of methanol, 70% by mass of 2-propanol, It is 20 mass% of methyl isobutyl ketone. The refractive index of the obtained coating material was measured. Further, using the obtained coating material for the low refractive index layer, an optical component was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1.

比較例11
シロキサンポリマーを次のように作製した。2L用三つ口フラスコにパーフロロオクチルエチルメタクリレート(共栄社化学(株)製)100g(0.24mol)と3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製)59.38g(0.24mol)と、プロピレングリコールモノエチルエーテル554.22g(和光純薬工業(株)製)を入れ、固形分濃度が20.4質量%のイソプロピルアルコール(IPA)分散型シラノール基含有中空シリカゾル(触媒化成工業(株)製)700.28gと、熱重合触媒として2,2'−アゾビスイソブチロニトリル(和光純薬工業(株)製)3.43gを加えて、固形分20%濃度の溶液にした後、3規定に調製した蟻酸水溶液 14.69gを40℃で滴下しながらそのまま40℃で約270rpmで攪拌した。滴下終了後約1時間攪拌した後、オイルバスを約40℃から80℃へ約30分かけて昇温し、80℃になった時点から約4時間、270rpmで攪拌した。その後室温まで冷却した。得られたポリマーの固形分率を測定したところ、固形分率は20質量%であった。また固形分全量に対し、パーフロロオクチルエチルメタクリレート35質量%、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン15質量%、中空シリカ50質量%が含まれている。
Comparative Example 11
A siloxane polymer was prepared as follows. Perfluorooctylethyl methacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 100 g (0.24 mol) and 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 59.38 g (0. 24 mol) and 554.22 g of propylene glycol monoethyl ether (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and a isopropyl alcohol (IPA) -dispersed silanol group-containing hollow silica sol having a solid content concentration of 20.4% by mass (catalyst conversion) Kogyo Co., Ltd.) (70.28 g) and 2,2′-azobisisobutyronitrile (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as a thermal polymerization catalyst (3.43 g) were added, and a solid content 20% concentration solution After that, 14.69 g of a formic acid aqueous solution prepared to 3N was added dropwise at 40 ° C., and the mixture was stirred at 40 ° C. at about 270 rpm. After stirring for about 1 hour, the oil bath was heated from about 40 ° C. to 80 ° C. over about 30 minutes, and stirred at 270 rpm for about 4 hours after reaching 80 ° C. Then it was cooled to room temperature. When the solid content rate of the obtained polymer was measured, the solid content rate was 20 mass%. Moreover, perfluoro octyl ethyl methacrylate 35 mass%, 3-methacryloxypropyl trimethoxysilane 15 mass%, and hollow silica 50 mass% are contained with respect to solid content whole quantity.

得られたポリマー溶液2gをサンプル瓶に添加し、この溶液に対してメタノール溶液0.82gを加えて、ついでアルミニウムトリスアセチルアセトネート16.8mgを加えた。さらに界面活性剤−1を0.2g加えて、2−プロパノール9gを加え、その後メチルイソブチルケトン2.9gを加えた。最後に光ラジカル重合開始剤としてIRGACURE(登録商標)907(商品名、チバ株式会社製)を12mg添加した。得られたコーティング材料の固形分濃度は3質量%である。また添加した光ラジカル重合開始剤はコーティング材料の全固形分に対して3質量%であり、用いた有機溶媒は全有機溶媒に対してメタノール含有率10質量%、2−プロパノール70質量%、メチルイソブチルケトン20質量%である。得られたコーティング材料の屈折率を測定した。また得られたコーティング材料を低屈折率層に用い、実施例1と同様に光学部品を作製し、評価した。   2 g of the resulting polymer solution was added to the sample bottle, 0.82 g of methanol solution was added to this solution, and then 16.8 mg of aluminum trisacetylacetonate was added. Further, 0.2 g of Surfactant-1 was added, 9 g of 2-propanol was added, and then 2.9 g of methyl isobutyl ketone was added. Finally, 12 mg of IRGACURE (registered trademark) 907 (trade name, manufactured by Ciba Co., Ltd.) was added as a radical photopolymerization initiator. The solid content concentration of the obtained coating material is 3% by mass. The added radical photopolymerization initiator was 3% by mass with respect to the total solid content of the coating material, and the organic solvent used was 10% by mass of methanol, 70% by mass of 2-propanol, and methyl with respect to the total organic solvent. Isobutyl ketone is 20% by mass. The refractive index of the obtained coating material was measured. Further, using the obtained coating material for the low refractive index layer, an optical component was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1.

各実施例および比較例に用いたコーティング材料の組成を表1、2に示す。また、各実施例および比較例の評価結果を表3〜5に示す。   Tables 1 and 2 show the compositions of the coating materials used in the examples and comparative examples. Moreover, the evaluation result of each Example and a comparative example is shown to Tables 3-5.

なお、表1、2中の各記号の意味は以下の通りである。
KBM−503:3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
KBM−5103:3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン
KBM−1003:ビニルトリメトキシシラン
MTM:メチルトリメトキシシラン
TFM:3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン
PMMA:ポリメチルメタクリレート
TAC:トリアセチルセルロース
The meaning of each symbol in Tables 1 and 2 is as follows.
KBM-503: 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane KBM-5103: 3-acryloxypropyltrimethoxysilane KBM-1003: vinyltrimethoxysilane MTM: methyltrimethoxysilane TFM: 3,3,3-trifluoropropyltri Methoxysilane PMMA: Polymethylmethacrylate TAC: Triacetylcellulose

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本発明のコーティング材料により形成された被膜は、反射防止用途に使われる低屈折率層、半導体装置のバッファーコート、平坦化剤、液晶ディスプレイの保護膜の他、層間絶縁膜、導波路形成用材料、位相シフター用材料、各種保護膜として用いることができる。     The coating formed by the coating material of the present invention includes a low refractive index layer used for antireflection, a buffer coating for a semiconductor device, a planarizing agent, a protective film for a liquid crystal display, an interlayer insulating film, and a waveguide forming material. , Phase shifter materials, and various protective films.

本発明の光学物品は、反射防止膜、反射防止フイルム、反射防止板、光学フィルター、光学レンズ、ディスプレイ等に好適に用いられる。特に、ディスプレイ装置(CRT、LCD、PDP、EL、FEDなど)の表示面、その前面フィルター、窓ガラス、ショーウィンドーガラス、計器カバー、時計のカバーガラスなどに用いられる反射防止シートおよび反射防止フィルムに好適に用いられる。     The optical article of the present invention is suitably used for an antireflection film, an antireflection film, an antireflection plate, an optical filter, an optical lens, a display, and the like. In particular, an antireflection sheet and an antireflection film used for display surfaces of display devices (CRT, LCD, PDP, EL, FED, etc.), front filters, window glass, show window glass, instrument covers, watch cover glasses, etc. Is preferably used.

Claims (9)

コーティング材料中の固形分全量に対して(I)一般式(1)で表されるシラン化合物1〜50質量%、一般式(2)で表されるシラン化合物5〜50質量%および一般式(3)で表されるシラン化合物5〜50質量%の加水分解縮合物からなり、反応性基を有する無機粒子に結合したポリマーと、(II)熱および/または光重合開始剤を有するコーティング材料。
Si(R(OR3−a (1)
(Rはビニル基、アリル基、アルケニル基、(メタ)アクリル基、メルカプト基またはエポキシ基を有する炭化水素基を表し、Rは炭素数が1〜5の炭化水素基を表す。Rは炭素数が1〜3の炭化水素基を表し、複数のRはそれぞれ同一でも異なっていても良く、aは0または1である。)
Si(R(OR3−b (2)
(Rはフッ素の数が3〜17のフルオロアルキル基を有する炭化水素基を表し、Rは炭素数が1〜5の炭化水素基を表す。Rは炭素数が1〜3の炭化水素基を表し、複数のRはそれぞれ同一でも異なっていても良く、bは0または1である。)
(RSi(OR4−c (3)
(Rは水素、炭素数1〜12のアルキル基およびそれらの置換体を表す。Rは炭素数が1〜3の炭化水素基を表し、複数のRはそれぞれ同一でも異なっていても良く、cは0、1、2のいずれかである。)
(I) 1 to 50% by mass of the silane compound represented by the general formula (1), 5 to 50% by mass of the silane compound represented by the general formula (2) and the general formula (1) based on the total solid content in the coating material 3) A coating material comprising a hydrolyzed condensate of 5 to 50% by mass of the silane compound represented by 3) and bound to inorganic particles having a reactive group, and (II) a heat and / or photopolymerization initiator.
R 1 Si (R 2 ) a (OR 6 ) 3-a (1)
(R 1 represents a hydrocarbon group having a vinyl group, an allyl group, an alkenyl group, a (meth) acryl group, a mercapto group or an epoxy group, and R 2 represents a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms. R 6 Represents a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, and a plurality of R 6 may be the same or different, and a is 0 or 1.)
R 3 Si (R 4 ) b (OR 7 ) 3-b (2)
(R 3 represents a hydrocarbon group having a fluoroalkyl group having 3 to 17 fluorine atoms, R 4 represents a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms, and R 7 represents a carbon atom having 1 to 3 carbon atoms. Represents a hydrogen group, a plurality of R 7 may be the same or different, and b is 0 or 1.)
(R 5 ) c Si (OR 8 ) 4-c (3)
(R 5 represents hydrogen, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and a substituent thereof. R 8 represents a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, and a plurality of R 8 may be the same or different. Well, c is 0, 1, or 2.)
無機粒子が、平均粒子径が5nm〜120nm、内部が多孔質および/または空洞を有するシリカである請求項1記載のコーティング材料。 The coating material according to claim 1, wherein the inorganic particles are silica having an average particle diameter of 5 nm to 120 nm, and the inside is porous and / or hollow. 無機粒子が、コーティング材料中の無機粒子およびマトリックス樹脂成分の固形分全量に対して30〜60質量%含まれている請求項1記載のコーティング材料。 The coating material according to claim 1, wherein the inorganic particles are contained in an amount of 30 to 60% by mass based on the total solid content of the inorganic particles and the matrix resin component in the coating material. 請求項1〜3のいずれか記載のコーティング材料が透明基材上の少なくとも一方の表面に形成されている光学物品。 The optical article in which the coating material in any one of Claims 1-3 is formed in the at least one surface on a transparent base material. 透明基材の少なくとも一方の表面に、屈折率1.5〜2.0で表面抵抗が1×1012(Ω/□)以下である層が形成され、当該層の表面に請求項1〜3のいずれか記載のコーティング材料が形成されている光学物品。A layer having a refractive index of 1.5 to 2.0 and a surface resistance of 1 × 10 12 (Ω / □) or less is formed on at least one surface of the transparent substrate. An optical article in which the coating material according to any one of the above is formed. 透明基材の少なくとも一方の表面に近赤外線吸収層および/または染料を含有する層が形成されている請求項4または5記載の光学物品。 The optical article according to claim 4 or 5, wherein a layer containing a near-infrared absorbing layer and / or a dye is formed on at least one surface of the transparent substrate. 透明基材がトリアセチルセルロース、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロースとポリメチルメタクリレートの共重合体から選ばれる基材である請求項4〜6のいずれか記載の光学物品。 The optical article according to any one of claims 4 to 6, wherein the transparent substrate is a substrate selected from triacetyl cellulose, polymethyl methacrylate, and a copolymer of triacetyl cellulose and polymethyl methacrylate. 請求項1〜3いずれか記載のコーティング材料を、透明基材上の少なくとも一方の表面に塗布し、コーティング膜を形成する工程、および該形成されたコーティング膜を60℃〜90℃で硬化させる工程を有する光学物品の製造方法。 The process of apply | coating the coating material in any one of Claims 1-3 to at least one surface on a transparent base material, and forming the coating film, and the process of hardening the formed coating film at 60 to 90 degreeC The manufacturing method of the optical article which has this. 透明基材がトリアセチルセルロース、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロースとポリメチルメタクリレートの共重合体から選ばれる基材である請求項8記載の光学物品の製造方法。 The method for producing an optical article according to claim 8, wherein the transparent substrate is a substrate selected from triacetyl cellulose, polymethyl methacrylate, and a copolymer of triacetyl cellulose and polymethyl methacrylate.
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