JPWO2007029302A1 - 生体高分子固定用基板及びそれを用いた生体高分子固定方法 - Google Patents
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Abstract
Description
また、核酸分子を基板上に固定した後、液体流れによるせん断力により核酸分子を伸長させたり、核酸分子の固定部位から後退する気液界面の表面張力を利用して核酸分子を基板で伸長させる方法も存在する(特許文献1、非特許文献1参照。)。
そして、このように核酸分子の固定位置を制御できない方法では将来における産業応用の可能性も極めて少ないと言える。
前記活性面の表面粗さは、生体高分子が伸長したときの分子半径よりも小さいことが好ましい。
マスク層の他の例は、貫通穴が形成された樹脂層であり、例えば成型により形成することができる。
(A)本発明の生体高分子固定用基板に鎖状の生体高分子が含まれている溶液を接触させて、物理吸着又は化学結合により前記生体高分子を前記貫通穴内の前記活性面に固定させる工程、
(B)前記マスク層を溶媒にて溶解して除去し、前記貫通穴内の前記活性面に固定された前記生体高分子のみを残す工程、及び
(C)その後、前記活性面に固定された前記生体高分子を伸長させる工程。
工程(C)において生体高分子を伸長させる他の例は、電場により生体高分子を伸長させる方法である。
マスク層として成型樹脂層を使用すれば、生体高分子を劣化させることのない有機溶媒により除去することができる。
基板1は平坦な表面をもち、その表面が生体高分子を物理吸着又は化学結合により固定することのできる活性面となっている。基板1はベース基板として表面が鏡面研磨されたサファイア基板を用い、そのベース基板の鏡面研磨された表面に金膜が蒸着法により形成されており、その金膜の表面が活性面となっている。その金膜の膜厚は150nmであり、基板温度を350℃にして蒸着したことにより金膜の表面が平坦化されており、ベース基板の表面の鏡面研磨と、金膜の蒸着時の加熱による平坦化によって、形成された金膜の算術平均粗さは0.15nmである。表面のこの算術平均粗さの大きさは、例えば生体高分子としてDNAを固定し伸長させたときのリボヌクレオシドの分子半径よりも十分に小さい。
図3Aはこの基板に鎖状の生体高分子である核酸分子7、例えばDNAを含む溶液を接触させた状態を示している。核酸分子7はその溶液(図示略)中に浮遊しており、小さく折りたたまれた構造をもっている。基板に滴下された核酸分子7は物理吸着又は化学結合によって貫通穴3の底部の基板1の表面に固定される。
図4A中の基板1aはその表面の活性面が導電性又は半導電性であることを表わす。図1の実施例で示したサファイア基板の表面に金膜を形成した基板もこの基板1aに該当する。また、基板全体が導電性又は半導電性の材質であって、その表面を鏡面研磨した基板もこの基板1aに該当する。その基板1aの表面に形成されたマスク層2aは絶縁性であり、図1の実施例で示したレジスト層もこのマスク層2aに該当するが、他の絶縁性のマスク層であってもよい。マスク層2aには図1の実施例と同様に貫通穴3aが形成されている。
図5Aは基板1の所定の位置(マスク層の貫通穴のあった位置)に核酸分子7aが固定され、気液界面10内にある状態を示している。
図8Bは図8A中のA−B位置の断面形状を表わしたものであり、伸長されたDNAを長さ方向に直交する方向に切断した形状を表わしている。この画像の高さ情報から、図8B中の白く伸びた画像は、DNAが伸長化されたものであると考えることができる。
2,2a マスク層
3,3a,4 貫通穴
7,7a,11 核酸分子
8.8a 電極
9,9a 電源
10 気液界面
Claims (11)
- 平坦な表面をもち、その表面が生体高分子を物理吸着又は化学結合により固定することのできる活性面となっている基板と、
前記活性面上に形成され、生体高分子を劣化させることのない溶媒によって除去することのできる材料からなり、予め定められた位置に開口幅1μm以下の貫通穴を複数有するマスク層とを備え、
前記貫通穴底部の前記活性面に生体高分子を選択的に固定するための生体高分子固定用基板。 - 前記活性面をもつ前記基板は、鏡面研磨された表面をもつベース基板と、
前記ベース基板の前記表面に形成され、生体高分子が固定されうる表面をもつ薄膜とから構成されており、
前記薄膜の表面が活性面となっている請求項1に記載の生体高分子固定用基板。 - 前記活性面の表面粗さは、前記生体高分子が伸長したときの分子半径よりも小さい請求項1又は2に記載の生体高分子固定用基板。
- 前記活性面は導電性又は半導電性であり、前記マスク層は絶縁性である請求項1から3のいずれかに記載の生体高分子固定用基板。
- 前記マスク層は露光と現像の過程を経て前記貫通穴が形成されたレジスト層である請求項1から4のいずれかに記載の生体高分子固定用基板。
- 前記マスク層は前記貫通穴が形成された樹脂層である請求項1から4のいずれかに記載の生体高分子固定用基板。
- 以下の工程(A)から(C)を備えて基板上の予め定められた位置に鎖状の生体高分子を伸長状態で固定する生体高分子固定方法。
(A)請求項1から6のいずれかに記載の生体高分子固定用基板に鎖状の生体高分子が含まれている溶液を接触させて、物理吸着又は化学結合により前記生体高分子を前記貫通穴内の前記活性面に固定させる工程、
(B)前記マスク層を溶媒にて溶解して除去し、前記貫通穴内の前記活性面に固定された前記生体高分子のみを残す工程、及び
(C)その後、前記活性面に固定された前記生体高分子を伸長させる工程。 - 前記生体高分子固定用基板として前記活性面が導電性又は半導電性であり、前記マスク層が絶縁性であるものを使用し、
前記工程(A)において前記活性面を一方の電極とし、生体高分子が含まれている前記溶液に対極を配置し、前記活性面と前記溶液間に電圧を印加することにより電場によって前記生体高分子を前記貫通穴内の前記活性面に引き寄せる請求項7に記載の生体高分子固定方法。 - 前記工程(C)において、移動する気液界面から働く力によって生体高分子を伸長させる請求項7又は8に記載の生体高分子固定方法。
- 前記工程(C)において、電場により生体高分子を伸長させる請求項7又は8に記載の生体高分子固定方法。
- 前記生体高分子は核酸分子である請求項7から10のいずれかに記載の生体高分子固定方法。
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