JPWO2007015450A1 - Dip molded product - Google Patents

Dip molded product Download PDF

Info

Publication number
JPWO2007015450A1
JPWO2007015450A1 JP2007529251A JP2007529251A JPWO2007015450A1 JP WO2007015450 A1 JPWO2007015450 A1 JP WO2007015450A1 JP 2007529251 A JP2007529251 A JP 2007529251A JP 2007529251 A JP2007529251 A JP 2007529251A JP WO2007015450 A1 JPWO2007015450 A1 JP WO2007015450A1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
dip
molded product
acid compound
aromatic
weight
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007529251A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
和美 児玉
和美 児玉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zeon Corp
Original Assignee
Zeon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Zeon Corp filed Critical Zeon Corp
Publication of JPWO2007015450A1 publication Critical patent/JPWO2007015450A1/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/04Oxygen-containing compounds
    • C08K5/09Carboxylic acids; Metal salts thereof; Anhydrides thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/02Direct processing of dispersions, e.g. latex, to articles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C41/00Shaping by coating a mould, core or other substrate, i.e. by depositing material and stripping-off the shaped article; Apparatus therefor
    • B29C41/02Shaping by coating a mould, core or other substrate, i.e. by depositing material and stripping-off the shaped article; Apparatus therefor for making articles of definite length, i.e. discrete articles
    • B29C41/14Dipping a core
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2309/00Characterised by the use of homopolymers or copolymers of conjugated diene hydrocarbons
    • C08J2309/02Copolymers with acrylonitrile
    • C08J2309/04Latex

Abstract

ゴムラテックスを含むディップ成形用組成物を、ディップ成形して得られるディップ成形品であって、前記ディップ成形品は、芳香族酸化合物を含有しており、前記ディップ成形品を、ASTM−D135に準拠して測定した、メタノール中に10分間の条件で浸漬した場合における、前記芳香族酸化合物の抽出量が、前記ディップ成形品全体に対して、10ppm以下であるディップ成形品。本発明によれば、引張強度および破断伸びに優れ、成形品表面付近における不純物量が低減されており、しかも、表面電気抵抗の低いディップ成形品を提供される。A dip-molded product obtained by dip-molding a dip-molding composition containing a rubber latex, wherein the dip-molded product contains an aromatic acid compound, and the dip-molded product is converted into ASTM-D135. A dip-molded product having an extraction amount of the aromatic acid compound measured in compliance with methanol in a condition of 10 minutes for 10 minutes or less with respect to the entire dip-molded product. According to the present invention, it is possible to provide a dip-molded article that is excellent in tensile strength and elongation at break, has a reduced amount of impurities near the surface of the molded article, and has a low surface electrical resistance.

Description

本発明は、ゴムラテックスを含むディップ成形用組成物を、ディップ成形して得られるディップ成形品に係り、さらに詳しくは、成形品表面付近における不純物量が低減され、しかも、表面電気抵抗の低いディップ成形品に関する。   The present invention relates to a dip-molded product obtained by dip-molding a dip-molding composition containing a rubber latex, and more specifically, a dip having a reduced surface electrical resistance with a reduced amount of impurities near the surface of the molded product. It relates to molded products.

天然ゴムラテックスやアクリロニトリル−ブタジエン共重合体ラテックスからなるディップ成形用組成物を、ディップ成形して得られる成形品は、柔軟で、かつ十分な機械的強度を有することから、ゴム手袋用途として、様々な分野で用いられている。   The molded product obtained by dip molding a composition for dip molding consisting of natural rubber latex or acrylonitrile-butadiene copolymer latex is flexible and has sufficient mechanical strength. Used in various fields.

このようなゴム手袋(ディップ成形品)は、手、指などの形をした成形型の表面に塩化カルシウムなどの凝固剤を付着させ、ゴムラテックスを含有するディップ成形用ラテックス組成物に前記成形型を浸漬(ディップ)し、次いで、引き上げて成形型の表面に塗膜(ディップ成形層)を形成させた後、加熱することによりディップ成形層を加硫(架橋)することにより成形される。   Such a rubber glove (dip-molded product) is obtained by attaching a coagulant such as calcium chloride to the surface of a mold having a shape such as a hand or a finger, and applying the mold to a latex composition for dip molding containing rubber latex. Then, the film is pulled up to form a coating film (dip-molded layer) on the surface of the mold, and then the dip-molded layer is vulcanized (crosslinked) by heating.

電子部品・半導体部品製造用の手袋などは、引張強度および破断伸びが十分に大きく、手に密着して装着されて、長時間経過しても緩みやたるみが生じにくいものであることが重要である。このような性質は、天然ゴムラテックスを用いたゴム手袋によりある程度実現されている。しかしながら、天然ゴム製品は有機溶剤に対する耐性が乏しく、また、蛋白を含有するので、個人差はあるもののアレルギー反応を起こして、かゆみ、発疹、呼吸障害などを引き起こすという問題を有する。   It is important that gloves for manufacturing electronic parts and semiconductor parts have sufficiently high tensile strength and elongation at break, are attached close to the hand, and do not easily loosen or sag even after a long time. is there. Such properties are realized to some extent by rubber gloves using natural rubber latex. However, natural rubber products have poor resistance to organic solvents and contain proteins, so that there is a problem that it causes allergic reactions although there are differences among individuals, causing itching, rashes, respiratory disorders, and the like.

このような天然ゴムラテックスの持つ上記欠点を改善するために、合成ゴムラテックスを用いることが試みられている。たとえば、特許文献1には、カルボキシ変性アクリロニトリル−ブタジエン共重合体ラテックスが開示されている。この文献に記載されたラテックスをディップ成形することで、得られるディップ成形体は、天然ゴムラテックスから得られるゴム手袋に較べて、耐油性に優れているため、広く用いられている。   Attempts have been made to use synthetic rubber latex in order to improve the above disadvantages of such natural rubber latex. For example, Patent Document 1 discloses a carboxy-modified acrylonitrile-butadiene copolymer latex. The dip-molded body obtained by dip-molding the latex described in this document is widely used because it has better oil resistance than rubber gloves obtained from natural rubber latex.

一方で、精密電子部品・半導体部品製造用の手袋においては、表面の微粒子や手袋中の金属イオン等の不純物の低減が求められており、近年、その要求がますます厳しくなってきている。さらに、これらの電子部品は電気的に非常に脆弱であり、手袋の帯電による放電、微粒子の吸着などによる汚染の危険性を避けるために、表面電気抵抗の低減も求められている。   On the other hand, in gloves for manufacturing precision electronic parts and semiconductor parts, it is demanded to reduce impurities such as fine particles on the surface and metal ions in the gloves, and in recent years, the demand has become increasingly severe. Furthermore, these electronic components are electrically very fragile, and in order to avoid the risk of contamination due to discharge due to charging of the glove, adsorption of fine particles, etc., reduction in surface electrical resistance is also required.

上述のようなカルボキシ変性アクリロニトリル−ブタジエン共重合体ラテックスを構成する重合体は、電気絶縁性が比較的低いものの、作業中に静電気が発生してしまう場合があった。
米国特許第2,880,189号明細書
Although the polymer constituting the carboxy-modified acrylonitrile-butadiene copolymer latex as described above has a relatively low electrical insulating property, static electricity may be generated during the operation.
US Pat. No. 2,880,189

本発明は、このような実状に鑑みてなされ、引張強度および破断伸びに優れ、成形品表面付近における不純物量が低減されており、しかも、表面電気抵抗の低いディップ成形品を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such a situation, and has an object to provide a dip-molded product that is excellent in tensile strength and elongation at break, has a reduced amount of impurities near the surface of the molded product, and has a low surface electrical resistance. And

本発明者等は、上記目的を達成すべく鋭意検討を行った結果、ゴムラテックスを含むディップ成形用組成物を、ディップ成形して得られるディップ成形品において、芳香族酸化合物を含有させ、さらに、成形品表面付近に存在し、メタノールにより抽出される、遊離の芳香族酸化合物の量を所定の範囲に制御することにより、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成させるに至った。   As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned object, the present inventors have incorporated an aromatic acid compound in a dip-molded product obtained by dip-molding a dip-molding composition containing a rubber latex. The inventors have found that the above object can be achieved by controlling the amount of the free aromatic acid compound present in the vicinity of the surface of the molded product and extracted with methanol within a predetermined range, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明に係るディップ成形品は、
ゴムラテックスを含むディップ成形用組成物を、ディップ成形して得られるディップ成形品であって、
前記ディップ成形品は、芳香族酸化合物を含有しており、
前記ディップ成形品を、ASTM−D135に準拠して測定した、メタノール中に10分間の条件で浸漬した場合における、前記芳香族酸化合物の抽出量が、前記ディップ成形品全体に対して、10ppm以下である。
That is, the dip molded product according to the present invention is
A dip molding product obtained by dip molding a dip molding composition containing rubber latex,
The dip-molded product contains an aromatic acid compound,
When the dip-molded product is measured according to ASTM-D135 and immersed in methanol for 10 minutes, the extraction amount of the aromatic acid compound is 10 ppm or less with respect to the entire dip-molded product. It is.

好ましくは、前記ディップ成形品を、温度23℃、24時間の条件で、メチルエチルケトン中に浸漬した場合における、前記芳香族酸化合物の抽出量が、前記ディップ成形品全体に対して、20〜10000ppmの範囲である。
好ましくは、温度23℃、相対湿度50%、測定電圧250Vの条件で、ASTM D257−93に準拠して測定した表面電気抵抗率が、1010 Ω/square以下である。
前記芳香族酸化合物が、芳香族カルボン酸化合物であることが好ましく、より好ましくは、芳香族モノカルボン酸及び/又はそのアルカリ金属塩であることがより好ましく、安息香酸であることが特に好ましい。
Preferably, when the dip molded article is immersed in methyl ethyl ketone at a temperature of 23 ° C. for 24 hours, the extraction amount of the aromatic acid compound is 20 to 10,000 ppm with respect to the entire dip molded article. It is a range.
Preferably, the surface electrical resistivity measured according to ASTM D257-93 under conditions of a temperature of 23 ° C., a relative humidity of 50%, and a measurement voltage of 250 V is 10 10 Ω / square or less.
The aromatic acid compound is preferably an aromatic carboxylic acid compound, more preferably an aromatic monocarboxylic acid and / or an alkali metal salt thereof, and particularly preferably benzoic acid.

好ましくは、前記ゴムラテックスが、全単量体単位100重量%に対し、共役ジエン単量体単位を30〜89.5重量%、エチレン性不飽和ニトリル単量体単位を10〜50重量%、エチレン性不飽和カルボン酸単量体単位を0.5〜20重量%含むゴムのラテックスである。
本発明においては、それぞれ、前記共役ジエン単量体単位が1,3−ブタジエン単位、前記エチレン性不飽和ニトリル単量体単位がアクリロニトリル単位、前記エチレン性不飽和カルボン酸単量体単位がメタクリル酸単位であることが好ましい。
Preferably, the rubber latex is 30 to 89.5 wt% of conjugated diene monomer units, 10 to 50 wt% of ethylenically unsaturated nitrile monomer units, based on 100 wt% of all monomer units, This is a rubber latex containing 0.5 to 20% by weight of ethylenically unsaturated carboxylic acid monomer units.
In the present invention, the conjugated diene monomer unit is a 1,3-butadiene unit, the ethylenically unsaturated nitrile monomer unit is an acrylonitrile unit, and the ethylenically unsaturated carboxylic acid monomer unit is methacrylic acid. Preferably it is a unit.

本発明によると、芳香族酸化合物をディップ成形品に含有させているため、この芳香族酸化合物の添加効果により、ディップ成形品の絶縁性を低下させることができ、表面電気抵抗の低いディップ成形品を得ることができる。
しかも、本発明においては、成形品表面付近における芳香族酸化合物の含有量を所定の範囲に制御している。そのため、たとえば、本発明のディップ成形品を、精密電子部品・半導体部品製造用の手袋とした場合においても、不純物や微粒子の吸着などによる汚染の発生を有効に防止することができる。
According to the present invention, since the aromatic acid compound is contained in the dip-molded product, the insulation effect of the dip-molded product can be lowered by the effect of addition of the aromatic acid compound, and the dip molding with low surface electric resistance is achieved. Goods can be obtained.
Moreover, in the present invention, the content of the aromatic acid compound in the vicinity of the surface of the molded product is controlled within a predetermined range. Therefore, for example, even when the dip-formed product of the present invention is a glove for manufacturing a precision electronic component / semiconductor component, it is possible to effectively prevent the occurrence of contamination due to adsorption of impurities and fine particles.

本発明のディップ成形品は、ディップ成形用組成物をディップ成形して得られるものである。まず、本発明のディップ成形品について説明する前に、本発明のディップ成形品を得るために用いられるディップ成形用組成物について説明する。   The dip-molded product of the present invention is obtained by dip-molding a dip-molding composition. First, before describing the dip-molded product of the present invention, the dip-molding composition used to obtain the dip-molded product of the present invention will be described.

ディップ成形用組成物
本発明で用いるディップ成形用組成物は、少なくとも、ゴムラテックスと、このゴムラテックスを架橋するための架橋剤と、必要に応じて添加される芳香族酸化合物と、を含有する。
Dip molding composition The dip molding composition used in the present invention contains at least a rubber latex, a crosslinking agent for crosslinking the rubber latex, and an aromatic acid compound added as necessary. .

ゴムラテックス
ディップ成形用組成物を構成するゴムラテックスとしては、例えば、天然ゴムラテックスや合成の共役ジエンゴムラテックスが挙げられる。なかでも、ディップ成形後の成形品の諸特性を随意調整できるという点から、合成の共役ジエンゴムラテックスが好ましく使用できる。
Examples of the rubber latex constituting the rubber latex dip molding composition include natural rubber latex and synthetic conjugated diene rubber latex. Among these, a synthetic conjugated diene rubber latex can be preferably used because various properties of the molded product after dip molding can be arbitrarily adjusted.

合成の共役ジエンゴムラテックスとしては、共役ジエン単量体と、必要に応じて添加される共役ジエン単量体と共重合可能な他の単量体と、からなる単量体混合物を乳化重合して得られるものが挙げられる。   As a synthetic conjugated diene rubber latex, a monomer mixture consisting of a conjugated diene monomer and another monomer copolymerizable with the conjugated diene monomer added as necessary is emulsion-polymerized. Can be obtained.

共役ジエン単量体としては、特に限定されないが、共役ジエンを含有する炭素数4〜12の化合物が好ましい。このような共役ジエン単量体としては、たとえば、クロロプレンなどのハロゲン置換ブタジエン、1,3−ブタジエン、イソプレン、2−メチル−1,3−ブタジエン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、1,3−ペンタジエンなどが挙げられる。これらの共役ジエン単量体は単独でまたは2種以上を組み合せて用いることができる。なかでも、1,3−ブタジエンが好ましく使用できる。得られる合成ゴムラテックス中における共役ジエン単量体単位の含有量は、全単量体単位100重量%に対して、好ましくは30〜89.5重量%であり、より好ましくは45〜79重量%である。   Although it does not specifically limit as a conjugated diene monomer, The C4-C12 compound containing a conjugated diene is preferable. Examples of such conjugated diene monomers include halogen-substituted butadienes such as chloroprene, 1,3-butadiene, isoprene, 2-methyl-1,3-butadiene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, 1,3-pentadiene and the like can be mentioned. These conjugated diene monomers can be used alone or in combination of two or more. Of these, 1,3-butadiene can be preferably used. The content of the conjugated diene monomer unit in the resultant synthetic rubber latex is preferably 30 to 89.5% by weight, more preferably 45 to 79% by weight with respect to 100% by weight of the total monomer units. It is.

共役ジエン単量体と共重合可能な他の単量体としては、特に限定されないが、たとえば、エチレン性不飽和ニトリル単量体、芳香族ビニル単量体、エチレン性不飽和カルボン酸単量体、エチレン性不飽和カルボン酸エステル単量体、エチレン性不飽和カルボン酸アミド単量体などが挙げられる。なかでも、エチレン性不飽和ニトリル単量体、芳香族ビニル単量体、エチレン性不飽和カルボン酸単量体が好ましく、特に、エチレン性不飽和ニトリル単量体、エチレン性不飽和カルボン酸単量体がより好ましく使用される。   Other monomers that can be copolymerized with the conjugated diene monomer are not particularly limited, and examples thereof include ethylenically unsaturated nitrile monomers, aromatic vinyl monomers, and ethylenically unsaturated carboxylic acid monomers. And ethylenically unsaturated carboxylic acid ester monomers and ethylenically unsaturated carboxylic acid amide monomers. Among these, an ethylenically unsaturated nitrile monomer, an aromatic vinyl monomer, and an ethylenically unsaturated carboxylic acid monomer are preferable. In particular, an ethylenically unsaturated nitrile monomer and an ethylenically unsaturated carboxylic acid monomer are preferable. The body is more preferably used.

エチレン性不飽和ニトリル単量体としては、たとえば、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどが挙げられる。なかでも、アクリロニトリルが好ましく使用できる。
芳香族ビニル単量体としては、たとえば、スチレン、α−メチルスチレン、モノクロルスチレン、ビニルトルエンなどが挙げられる。
エチレン性不飽和カルボン酸単量体としては、たとえば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、ケイ皮酸などのエチレン性不飽和モノカルボン酸;イタコン酸、フマル酸、マレイン酸、ブテントリカルボン酸などのエチレン性不飽和多価カルボン酸;イタコン酸モノエチルエステル、フマル酸モノブチルエステル、マレイン酸モノブチルエステルなどのエチレン性不飽和多価カルボン酸の部分エステル;などを挙げることができる。なかでも、エチレン性不飽和モノカルボン酸が好ましく、メタクリル酸がより好ましく使用できる。
エチレン性不飽和カルボン酸エステル単量体としては、たとえば、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸β−ヒドロキシエチル、アクリル酸β−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸β−ヒドロキシエチル、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
エチレン性不飽和カルボン酸アミド単量体としては、たとえば、(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミドなどが挙げられる。
Examples of the ethylenically unsaturated nitrile monomer include acrylonitrile and methacrylonitrile. Of these, acrylonitrile can be preferably used.
Examples of the aromatic vinyl monomer include styrene, α-methylstyrene, monochlorostyrene, vinyltoluene and the like.
Examples of the ethylenically unsaturated carboxylic acid monomer include ethylenically unsaturated monocarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid and cinnamic acid; itaconic acid, fumaric acid, maleic acid, butenetricarboxylic acid and the like. And ethylenically unsaturated polyvalent carboxylic acids; partial esters of ethylenically unsaturated polyvalent carboxylic acids such as itaconic acid monoethyl ester, fumaric acid monobutyl ester and maleic acid monobutyl ester; Among these, ethylenically unsaturated monocarboxylic acid is preferable, and methacrylic acid can be more preferably used.
Examples of the ethylenically unsaturated carboxylic acid ester monomer include methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, β-hydroxyethyl acrylate, β-hydroxypropyl acrylate, and β-hydroxy methacrylate. Examples include ethyl, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, and N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate.
Examples of the ethylenically unsaturated carboxylic acid amide monomer include (meth) acrylamide, N, N-diethylaminoethyl (meth) acrylamide, N-methylol (meth) acrylamide and the like.

なお、上記の単量体以外にも、酢酸ビニル、ビニルピロリドンなどを用いることができる。
これらの単量体は、それぞれ単独で、あるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。
In addition to the above monomers, vinyl acetate, vinyl pyrrolidone, and the like can be used.
These monomers can be used alone or in combination of two or more.

本発明で用いる共役ジエンゴムラテックスとしては、柔軟で、かつ耐油性および機械的強度に優れるディップ成形品が得られる点で、共役ジエン単量体、エチレン性不飽和ニトリル単量体およびエチレン性不飽和カルボン酸単量体からなる単量体混合物を重合して得られるものが好ましく使用できる。すなわち、本発明では、これらの単量体を重合して得られ、共役ジエン単量体単位、エチレン性不飽和ニトリル単量体単位およびエチレン性不飽和カルボン酸単量体単位を含む共役ジエンゴムラテックスが好ましい。   The conjugated diene rubber latex used in the present invention is a conjugated diene monomer, an ethylenically unsaturated nitrile monomer, and an ethylenically-unsaturated monomer in that a dip-molded product having excellent flexibility and oil resistance and mechanical strength can be obtained. Those obtained by polymerizing a monomer mixture comprising a saturated carboxylic acid monomer can be preferably used. That is, in the present invention, a conjugated diene rubber obtained by polymerizing these monomers and containing a conjugated diene monomer unit, an ethylenically unsaturated nitrile monomer unit, and an ethylenically unsaturated carboxylic acid monomer unit. Latex is preferred.

この場合において、得られる共役ジエンゴムラテックス中における各単量体単位の含有量は、以下の範囲であることが好ましい。   In this case, the content of each monomer unit in the resulting conjugated diene rubber latex is preferably in the following range.

すなわち、共役ジエン単量体単位の含有量は、全単量体単位100重量%に対して、好ましくは30〜89.5重量%、より好ましくは45〜79重量%である。エチレン性不飽和ニトリル単量体単位の含有量は、全単量体単位100重量%に対して、好ましくは10〜50重量%、より好ましくは20〜40重量%である。エチレン性不飽和カルボン酸単量体単位の含有量は、全単量体単位100重量%に対して、好ましくは0.5〜20重量%、より好ましくは1〜15重量%である。   That is, the content of the conjugated diene monomer unit is preferably 30 to 89.5% by weight and more preferably 45 to 79% by weight with respect to 100% by weight of the total monomer units. The content of the ethylenically unsaturated nitrile monomer unit is preferably 10 to 50% by weight and more preferably 20 to 40% by weight with respect to 100% by weight of the total monomer units. The content of the ethylenically unsaturated carboxylic acid monomer unit is preferably 0.5 to 20% by weight, more preferably 1 to 15% by weight with respect to 100% by weight of the total monomer units.

次に、本発明で用いる共役ジエンゴムラテックスの製造方法を説明する。
本発明で用いる共役ジエンゴムラテックスは、上記の各単量体の混合物を、乳化重合することにより製造することができる。乳化重合方法としては、従来公知の乳化重合法を採用すれば良い。また、乳化重合するに際しては、乳化剤、重合開始剤等の通常用いられる重合副資材を使用することができる。
Next, the manufacturing method of the conjugated diene rubber latex used by this invention is demonstrated.
The conjugated diene rubber latex used in the present invention can be produced by emulsion polymerization of a mixture of the above monomers. As the emulsion polymerization method, a conventionally known emulsion polymerization method may be employed. In emulsion polymerization, commonly used polymerization auxiliary materials such as emulsifiers and polymerization initiators can be used.

乳化剤としては、特に限定されないが、たとえば、アニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤が挙げられる。これらのなかでも、アルキルベンゼンスルホン酸塩、脂肪族スルホン酸塩、高級アルコールの硫酸エステル塩、α−オレフィンスルホン酸塩、アルキルエーテル硫酸エステル塩等のアニオン性界面活性剤が好ましく使用できる。乳化剤の使用量は、全単量体100重量部に対して、好ましくは0.5〜10重量部、より好ましくは1〜8重量部である。   The emulsifier is not particularly limited, and examples thereof include an anionic surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, and an amphoteric surfactant. Among these, anionic surfactants such as alkylbenzene sulfonates, aliphatic sulfonates, higher alcohol sulfates, α-olefin sulfonates, and alkyl ether sulfates can be preferably used. The amount of the emulsifier used is preferably 0.5 to 10 parts by weight, more preferably 1 to 8 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total monomers.

重合開始剤としては、特に限定されないが、ラジカル開始剤が好ましく使用できる。このようなラジカル開始剤としては、たとえば、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過リン酸カリウム、過酸化水素等の無機過酸化物;t−ブチルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、p−メンタンハイドロパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルクミルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、イソブチリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、ジベンゾイルパーオキサイド、3,5,5−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシイソブチレート等の有機過酸化物;アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス−2,4−ジメチルバレロニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、アゾビスイソ酪酸メチル等のアゾ化合物;などを挙げることができる。これらの重合開始剤は、単独でまたは2種類以上を組み合わせて使用することができる。これらラジカル開始剤のなかでも、無機または有機の過酸化物が好ましく、無機過酸化物がより好ましく、過硫酸塩が特に好ましく使用できる。重合開始剤の使用量は、全単量体100重量部に対して、好ましくは0.01〜2重量部、より好ましくは0.05〜1.5重量部である。   Although it does not specifically limit as a polymerization initiator, A radical initiator can be used preferably. Examples of such radical initiators include inorganic peroxides such as sodium persulfate, potassium persulfate, ammonium persulfate, potassium perphosphate, and hydrogen peroxide; t-butyl peroxide, cumene hydroperoxide, p- Menthane hydroperoxide, di-t-butyl peroxide, t-butylcumyl peroxide, acetyl peroxide, isobutyryl peroxide, octanoyl peroxide, dibenzoyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide , Organic peroxides such as t-butylperoxyisobutyrate; azo compounds such as azobisisobutyronitrile, azobis-2,4-dimethylvaleronitrile, azobiscyclohexanecarbonitrile, methyl azobisisobutyrate; Door can be. These polymerization initiators can be used alone or in combination of two or more. Among these radical initiators, inorganic or organic peroxides are preferable, inorganic peroxides are more preferable, and persulfates are particularly preferable. The amount of the polymerization initiator used is preferably 0.01 to 2 parts by weight, more preferably 0.05 to 1.5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total monomers.

本発明においては、さらに必要に応じて、上記以外の重合副資材を用いてもよい。このような重合副資材としては、分子量調整剤、キレート剤、分散剤、pH調整剤、脱酸素剤、粒子径調整剤等が挙げられ、これらの種類、使用量とも特に限定されない。   In the present invention, polymerization auxiliary materials other than those described above may be used as necessary. Examples of such a polymerization auxiliary material include a molecular weight adjusting agent, a chelating agent, a dispersing agent, a pH adjusting agent, an oxygen scavenger, a particle diameter adjusting agent, and the like, and the type and amount used are not particularly limited.

乳化重合は、上記各単量体および各重合副資材を用い、通常、水中で行われる。重合温度は特に限定されないが、通常、0〜95℃、好ましくは5〜70℃とする。重合反応を停止した後、所望により、未反応の単量体を除去し、固形分濃度やpHを調整することにより共役ジエンゴムラテックスを得ることができる。   Emulsion polymerization is usually carried out in water using the monomers and polymerization auxiliary materials. The polymerization temperature is not particularly limited, but is usually 0 to 95 ° C, preferably 5 to 70 ° C. After stopping the polymerization reaction, a conjugated diene rubber latex can be obtained by removing unreacted monomers and adjusting the solid concentration and pH, if desired.

架橋剤
本発明に用いるディップ成形用組成物は、上述のゴムラテックスを架橋するために、架橋剤をさらに含有している。
架橋剤としては、特に限定されないが、有機過酸化物;粉末硫黄、硫黄華、沈降硫黄、コロイド硫黄、表面処理硫黄、不溶性硫黄などの硫黄;ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミンなどのポリアミン;などが挙げられる。なかでも、有機過酸化物または硫黄が好ましい。
Crosslinking agent The dip molding composition used in the present invention further contains a crosslinking agent in order to crosslink the rubber latex described above.
Although it does not specifically limit as a crosslinking agent, Organic peroxide; Sulfur, such as powder sulfur, sulfur white, precipitation sulfur, colloidal sulfur, surface treatment sulfur, insoluble sulfur; Hexamethylenediamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, etc. Of polyamines; and the like. Of these, organic peroxides or sulfur are preferable.

架橋剤の含有量は、ディップ成形用組成物中の固形分100重量部に対して、好ましくは0.01〜10重量部、より好ましくは0.05〜4重量部、特に好ましくは0.1〜2重量部である。架橋剤の含有量が少なすぎると、成形が不十分となる傾向にあり、多すぎると、風合いや引張強度に劣る傾向にある。   The content of the crosslinking agent is preferably 0.01 to 10 parts by weight, more preferably 0.05 to 4 parts by weight, particularly preferably 0.1 to 100 parts by weight of the solid content in the dip molding composition. ~ 2 parts by weight. If the content of the cross-linking agent is too small, the molding tends to be insufficient, and if too much, the texture and tensile strength tend to be inferior.

上記有機過酸化物としては、常圧、30℃で固体の性状を示し、10時間半減期温度が150℃以下であるものが好ましく、より好ましくは130℃以下、特に40℃以上、120℃以下であるものが好ましい。なお、10時間半減期温度とは、当該有機過酸化物を、その温度で10時間加熱した場合において、活性を保持している有機過酸化物の量が、半分になる温度を意味する。すなわち、たとえば、10時間半減期温度が100℃である有機過酸化物は、100℃、10時間の条件で加熱した場合に、活性を保持している有機過酸化物の量が半分になる性質を有する。   As the organic peroxide, those having a solid property at normal pressure and 30 ° C. and having a 10-hour half-life temperature of 150 ° C. or less are preferred, more preferably 130 ° C. or less, particularly 40 ° C. or more, and 120 ° C. or less Are preferred. The 10-hour half-life temperature means a temperature at which the amount of the organic peroxide that retains activity becomes half when the organic peroxide is heated at that temperature for 10 hours. That is, for example, an organic peroxide having a 10-hour half-life temperature of 100 ° C. has a property that the amount of the organic peroxide retaining activity is halved when heated at 100 ° C. for 10 hours. Have

上記有機過酸化物としては、たとえば、ジベンゾイルパーオキサイド、ベンゾイル(3−メチルベンゾイル)パーオキサイド、ジ(4−メチルベンゾイル)パーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイド、ジステアロイルパーオキサイド、ジ−α−クミルパーオキサイド、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロドデカン、サクシニックアシッドパーオキサイド、ビス(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、t−ブチルパーオキシマレイックアシッドなどが挙げられる。これらは単独でまたは2種以上組み合わせて使用することができる。   Examples of the organic peroxide include dibenzoyl peroxide, benzoyl (3-methylbenzoyl) peroxide, di (4-methylbenzoyl) peroxide, dilauroyl peroxide, distearoyl peroxide, and di-α-cumi. Examples include ruperoxide, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclododecane, succinic acid peroxide, bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, t-butylperoxymaleic acid, and the like. . These can be used alone or in combination of two or more.

なお、上記有機過酸化物のうち、ジベンゾイルパーオキサイド、ベンゾイル(3−メチルベンゾイル)パーオキサイド、ジ(4−メチルベンゾイル)パーオキサイド、ジ−α−クミルパーオキサイドは、架橋剤として作用した後に、その少なくとも一部は芳香族酸化合物となる。そのため、後に説明するディップ成形品に芳香族酸化合物を含有させる際には、架橋剤として、これらの有機過酸化物を使用することにより、含有させる方法を採用しても良い。これらの有機過酸化物のなかでも、ジベンゾイルパーオキサイドが好ましく使用できる。   Of the above organic peroxides, dibenzoyl peroxide, benzoyl (3-methylbenzoyl) peroxide, di (4-methylbenzoyl) peroxide, and di-α-cumyl peroxide have acted as crosslinking agents. , At least a part of which becomes an aromatic acid compound. Therefore, when an aromatic acid compound is contained in a dip-molded product, which will be described later, a method of incorporating these organic peroxides as a crosslinking agent may be employed. Of these organic peroxides, dibenzoyl peroxide can be preferably used.

また、架橋剤として硫黄を使用する場合には、架橋促進剤(加硫促進剤)や、酸化亜鉛を配合することが好ましい。架橋促進剤としては、ディップ成形において通常用いられるものが使用できる。架橋促進剤の使用量は、ディップ成形用ラテックス中の固形分100重量部に対して、0.1〜10重量部、好ましくは0.2〜4重量部である。酸化亜鉛の使用量は、ディップ成形用ラテックス中の固形分100重量部に対して、5重量部以下、好ましくは2重量部以下である。   Moreover, when using sulfur as a crosslinking agent, it is preferable to mix | blend a crosslinking accelerator (vulcanization accelerator) and a zinc oxide. As the crosslinking accelerator, those usually used in dip molding can be used. The usage-amount of a crosslinking accelerator is 0.1-10 weight part with respect to 100 weight part of solid content in the latex for dip molding, Preferably it is 0.2-4 weight part. The amount of zinc oxide used is 5 parts by weight or less, preferably 2 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the solid content in the dip molding latex.

芳香族酸化合物
本発明に用いるディップ成形用組成物は、さらに芳香族酸化合物を含有していることが好ましい。ディップ成形用組成物に、芳香族酸化合物を含有させることにより、得られるディップ成形品の絶縁性を低下させ、表面電気抵抗率の低下を図ることができる。ただし、架橋剤として、上記した特定の有機過酸化物を使用する場合には、これらの有機過酸化物は、架橋剤として作用した後に、その少なくとも一部が芳香族酸化合物となるため、必ずしも、さらに芳香族酸化合物を含有させる必要はない。
Aromatic acid compound The dip molding composition used in the present invention preferably further contains an aromatic acid compound. By including an aromatic acid compound in the dip-molding composition, the insulation of the resulting dip-molded product can be lowered, and the surface electrical resistivity can be lowered. However, when the above-mentioned specific organic peroxide is used as the crosslinking agent, these organic peroxides, after acting as a crosslinking agent, at least part of them become an aromatic acid compound, Further, it is not necessary to contain an aromatic acid compound.

このような芳香族酸化合物としては、従来公知の芳香族酸化合物を使用することができ、たとえば、芳香族カルボン酸化合物、芳香族スルホン酸化合物等が例示されるが、本発明においては、芳香族カルボン酸化合物を使用することが好ましい。   As such an aromatic acid compound, a conventionally known aromatic acid compound can be used, and examples thereof include an aromatic carboxylic acid compound, an aromatic sulfonic acid compound, and the like. It is preferable to use a group carboxylic acid compound.

芳香族カルボン酸化合物としては、安息香酸、トルイル酸、クロロ安息香酸、サリチル酸等の芳香族モノカルボン酸;フタル酸、テレフタル酸、トリメリト酸、トリメシン酸、ピロメリト酸等の芳香族多価カルボン酸;安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル等のエステル化合物;安息香酸メチルアミド、安息香酸エチルアミド、安息香酸プロピルアミド等の芳香族アミド化合物;などを挙げることができる。また、カルボキシル基を有する化合物は、カリウム、ナトリウム等のアルカリ金属の塩として用いることもできる。これらの芳香族カルボン酸化合物は、単独でまたは2種類以上を組み合わせて使用することができる。これらのなかでも、得られるディップ成形品の絶縁性の低下効果が大きいという点より、芳香族モノカルボン酸及び/又はそのアルカリ金属塩が好ましく、安息香酸が特に好ましい。   Examples of the aromatic carboxylic acid compound include aromatic monocarboxylic acids such as benzoic acid, toluic acid, chlorobenzoic acid, and salicylic acid; aromatic polycarboxylic acids such as phthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, trimesic acid, and pyromellitic acid; And ester compounds such as methyl benzoate, ethyl benzoate, and propyl benzoate; and aromatic amide compounds such as benzoic acid methylamide, benzoic acid ethylamide, and benzoic acid propylamide; Moreover, the compound which has a carboxyl group can also be used as salts of alkali metals, such as potassium and sodium. These aromatic carboxylic acid compounds can be used alone or in combination of two or more. Of these, aromatic monocarboxylic acids and / or alkali metal salts thereof are preferred, and benzoic acid is particularly preferred from the viewpoint that the effect of lowering the insulating properties of the resulting dip-molded product is great.

ディップ成形用組成物に、芳香族酸化合物を含有させる場合の添加量は、ディップ成形用組成物中の固形分100重量部に対して、好ましくは0.1〜5.0重量部、より好ましくは0.2〜4.0重量部である。芳香族酸化合物の添加量を調整することにより、得られる成形品中における、遊離の芳香族酸化合物の含有量を制御することができる。芳香族酸化合物の添加量が少なすぎると、得られる成形品の表面電気抵抗率の低減効果が得られなくなる傾向にある。一方、添加量が多すぎると、得られる成形品の引張強度や破断伸び等の特性が悪化する傾向にある。
なお、芳香族酸化合物の代わりに、上記した特定の有機過酸化物を含有させる場合においても、架橋剤として作用した後に生成する芳香族酸化合物の量が、上記範囲となるように添加することが好ましい。
The addition amount in the case of containing an aromatic acid compound in the dip molding composition is preferably 0.1 to 5.0 parts by weight, more preferably 100 parts by weight of the solid content in the dip molding composition. Is 0.2 to 4.0 parts by weight. By adjusting the addition amount of the aromatic acid compound, the content of the free aromatic acid compound in the obtained molded article can be controlled. If the amount of the aromatic acid compound added is too small, the effect of reducing the surface electrical resistivity of the resulting molded product tends to be lost. On the other hand, when the addition amount is too large, characteristics such as tensile strength and elongation at break of the obtained molded product tend to deteriorate.
Even when the above-mentioned specific organic peroxide is contained instead of the aromatic acid compound, it should be added so that the amount of the aromatic acid compound generated after acting as a crosslinking agent is within the above range. Is preferred.

ディップ成形品
本発明のディップ成形品は、上述のディップ成形用組成物をディップ成形することにより得られ、少なくとも、ゴムラテックスと、芳香族酸化合物と、を含有するものである。
Dip-molded article The dip-molded article of the present invention is obtained by dip-molding the above-described dip-molding composition, and contains at least a rubber latex and an aromatic acid compound.

ディップ成形品中に芳香族酸化合物を含有させることにより、ディップ成形品の絶縁性を低減することができ、その結果、表面電気抵抗率を低くすることができる。   By including an aromatic acid compound in the dip molded product, the insulation of the dip molded product can be reduced, and as a result, the surface electrical resistivity can be lowered.

しかも、本発明のディップ成形品においては、ディップ成形品表面付近における遊離の芳香族酸化合物の量が特定量以下に制御されている。具体的には、本発明のディップ成形品は、ASTM D−135に準拠して測定した、メタノール中に10分間の条件で浸漬した場合における、前記芳香族酸化合物の抽出量が、前記ディップ成形品全体の重量に対して、10ppm以下、好ましくは5ppm以下となっている。このように、ディップ成形品中に、芳香族酸化合物を含有させつつ、しかも、その表面付近における含有量を特定量以下に制御することにより、成形品表面付近における不純物を低減しつつ、ディップ成形品の絶縁性を低下させることができる。なお、メタノールにより抽出される遊離の芳香族酸化合物は、主に、ディップ成形品の表面付近に存在している遊離の芳香族酸化合物である。   Moreover, in the dip molded product of the present invention, the amount of the free aromatic acid compound in the vicinity of the surface of the dip molded product is controlled to a specific amount or less. Specifically, the dip-formed product of the present invention has an extraction amount of the aromatic acid compound measured in accordance with ASTM D-135 when immersed in methanol for 10 minutes. It is 10 ppm or less, preferably 5 ppm or less, based on the weight of the entire product. In this way, while containing an aromatic acid compound in the dip molded product, and by controlling the content in the vicinity of the surface to a specific amount or less, dip molding is performed while reducing impurities in the vicinity of the molded product surface. The insulation of the product can be reduced. The free aromatic acid compound extracted with methanol is mainly a free aromatic acid compound present in the vicinity of the surface of the dip-molded product.

さらに、本発明のディップ成形品においては、ディップ成形品全体における遊離の芳香族酸化合物の量についても、特定範囲に制御されていることが好ましい。具体的には、本発明のディップ成形品を、温度23℃、24時間の条件でメチルエチルケトン(MEK)中に浸漬した場合における、芳香族酸化合物の抽出量が、ディップ成形品全体の重量に対して、好ましくは20〜10000ppmの範囲、より好ましくは500〜5000ppmの範囲とする。ディップ成形品の表面付近における遊離の芳香族酸化合物の量を上記特定量以下とし、しかも、ディップ成形品全体における遊離の芳香族酸化合物の量を、上記特定範囲とすることにより、芳香族酸化合物を含有させたことによる表面電気抵抗率の低減効果を有効に発揮させることができる。なお、メチルエチルケトンにより抽出される遊離の芳香族酸化合物は、主に、ディップ成形層内部を含めたディップ成形品全体に存在している遊離の芳香族酸化合物である。   Furthermore, in the dip-molded product of the present invention, it is preferable that the amount of free aromatic acid compound in the entire dip-molded product is also controlled within a specific range. Specifically, when the dip molded product of the present invention is immersed in methyl ethyl ketone (MEK) at a temperature of 23 ° C. for 24 hours, the extraction amount of the aromatic acid compound is based on the total weight of the dip molded product. Thus, the range is preferably 20 to 10,000 ppm, more preferably 500 to 5000 ppm. By setting the amount of the free aromatic acid compound in the vicinity of the surface of the dip-molded product to the specified amount or less, and the amount of the free aromatic acid compound in the entire dip-molded product within the specified range, the aromatic acid The effect of reducing the surface electrical resistivity due to the inclusion of the compound can be effectively exhibited. The free aromatic acid compound extracted with methyl ethyl ketone is mainly a free aromatic acid compound present in the entire dip-molded product including the inside of the dip-molded layer.

また、本発明のディップ成形品は、上述のような構成を有するため、温度23℃、相対湿度50%、測定電圧250Vの条件において、ASTM D257−93に準拠して測定した表面電気抵抗率が、好ましくは1×1010 Ω/square以下、より好ましくは1×10Ω/square以下と低減されている。In addition, since the dip-formed product of the present invention has the above-described configuration, the surface electrical resistivity measured in accordance with ASTM D257-93 under the conditions of a temperature of 23 ° C., a relative humidity of 50%, and a measurement voltage of 250 V. , Preferably 1 × 10 10 Ω / square or less, more preferably 1 × 10 9 Ω / square or less.

なお、ディップ成形品に芳香族酸化合物を含有させる方法としては、(1)ディップ成形用組成物中に、架橋剤として上記した特定の有機過酸化物を含有させ、架橋剤として作用(反応)させることにより、その少なくとも一部を芳香族酸化合物とする方法、(2)ディップ成形用組成物中に、上記した芳香族酸化合物を直接添加する方法、などが挙げられ、上記(1)の方法と上記(2)の方法とを併用しても良い。   In addition, as a method of including an aromatic acid compound in a dip-molded product, (1) the above-mentioned specific organic peroxide is contained as a crosslinking agent in the dip-molding composition, and acts as a crosslinking agent (reaction). And (2) a method of directly adding the above-mentioned aromatic acid compound into the dip-forming composition, and the like. The method and the method (2) may be used in combination.

次いで、本発明のディップ成形品の製造方法について、説明する。
本発明のディップ成形品は、上述のディップ成形用組成物をディップ成形することにより得られる。ディップ成形方法としては、従来公知の方法を採用することができ、たとえば、直接浸漬法、アノード凝着浸漬法、ティーグ凝着浸漬法などが挙げられる。なかでも、均一な厚みを有するディップ成形品が得やすいという点で、アノード凝着浸漬法が好ましい。以下、一実施形態としてのアノード凝着浸漬法によるディップ成形方法を説明する。
Subsequently, the manufacturing method of the dip molded product of this invention is demonstrated.
The dip-molded product of the present invention is obtained by dip-molding the above-described dip-molding composition. As the dip-molding method, a conventionally known method can be adopted, and examples thereof include a direct dipping method, an anode adhesion dipping method, and a teag adhesion dipping method. Among these, the anode coagulation dipping method is preferable in that it is easy to obtain a dip-formed product having a uniform thickness. Hereinafter, a dip molding method using an anode adhesion dipping method as one embodiment will be described.

まず、ディップ成形型を凝固剤溶液に浸漬して、ディップ成形型の表面に凝固剤を付着させる。
ディップ成形型としては、材質は磁器製、ガラス製、金属製、プラスチック製など種々のものが使用できる。型の形状は最終製品であるディップ成形品の形状に合わせたものとすれば良い。たとえば、ディップ成形品が手袋の場合、ディップ成形型の形状は、手首から指先までの形状のもの、肘から指先までの形状のもの等、種々の形状のものを用いることができる。また、ディップ成形型は、その表面には、光沢加工、半光沢加工、非光沢加工、織り柄模様加工などの表面加工が、その表面全体または一部分に施されていてもよい。
First, the dip mold is immersed in a coagulant solution, and the coagulant is attached to the surface of the dip mold.
Various materials such as porcelain, glass, metal, and plastic can be used as the dip mold. The shape of the mold may be adapted to the shape of the dip molded product that is the final product. For example, when the dip-formed product is a glove, the shape of the dip-molding die may be various shapes such as a shape from the wrist to the fingertip and a shape from the elbow to the fingertip. The surface of the dip mold may be subjected to surface processing such as gloss processing, semi-gloss processing, non-gloss processing, and weave pattern processing on the entire surface or a part thereof.

凝固剤溶液は、ラテックス粒子を凝固し得る凝固剤を、水やアルコールまたはそれらの混合物に溶解させた溶液である。凝固剤としては、ハロゲン化金属、硝酸塩、硫酸塩などが挙げられる。   The coagulant solution is a solution in which a coagulant capable of coagulating latex particles is dissolved in water, alcohol or a mixture thereof. Examples of the coagulant include metal halides, nitrates, sulfates and the like.

次いで、凝固剤を付着させたディップ成形型を、上記のディップ成形用ラテックス組成物に浸漬し、その後、ディップ成形型を引き上げ、ディップ成形型にディップ成形層を形成する。   Next, the dip molding die to which the coagulant is adhered is immersed in the above dip molding latex composition, and then the dip molding die is pulled up to form a dip molding layer on the dip molding die.

次いで、ディップ成形型に形成されたディップ成形層を加熱し、ディップ成形層を構成しているゴム(ラテックスを凝固させた後の重合体組成物)の架橋を行う。
架橋のための加熱温度は、好ましくは60〜160℃、より好ましくは80〜150℃とする。温度が低すぎると、架橋反応に長時間要するため生産性が低下するおそれがある。一方、温度が高すぎると、ゴムの酸化劣化が促進されて成形品の物性が低下する可能性がある。加熱処理の時間は、加熱処理温度に応じて適宜選択すれば良いが、通常、5〜120分である。
Next, the dip molding layer formed in the dip molding die is heated to crosslink the rubber (polymer composition after coagulating latex) constituting the dip molding layer.
The heating temperature for crosslinking is preferably 60 to 160 ° C, more preferably 80 to 150 ° C. If the temperature is too low, the cross-linking reaction takes a long time, which may reduce productivity. On the other hand, if the temperature is too high, the oxidative degradation of the rubber is promoted and the physical properties of the molded product may be lowered. The heat treatment time may be appropriately selected according to the heat treatment temperature, but is usually 5 to 120 minutes.

本発明においては、ディップ成形層に加熱処理を施す前に、ディップ成形層を、20〜80℃の温水に0.5〜60分程度浸漬して、水溶性不純物(乳化剤、水溶性高分子、凝固剤など)を除去しておくことが好ましい。   In the present invention, before the heat treatment of the dip-molded layer, the dip-molded layer is immersed in warm water of 20 to 80 ° C. for about 0.5 to 60 minutes, and water-soluble impurities (emulsifier, water-soluble polymer, It is preferable to remove a coagulant and the like.

次いで、加熱処理により架橋したディップ成形層を、ディップ成形型から脱型し、ディップ成形品を得る。脱型方法は、手で成形型から剥がす方法や、水圧や圧縮空気の圧力により剥がす方法などが採用できる。   Next, the dip-molded layer crosslinked by heat treatment is removed from the dip-molding die to obtain a dip-molded product. As a demolding method, a method of peeling from a mold by hand, a method of peeling by water pressure or compressed air pressure, and the like can be adopted.

脱型後、さらに60〜120℃の温度で、10〜120分の加熱処理(後架橋工程)を行ってもよい。   After demolding, a heat treatment (post-crosslinking step) for 10 to 120 minutes may be performed at a temperature of 60 to 120 ° C.

次いで、ディップ成形品の内側および/または外側の表面に、塩素化処理を施す方法や超純水で洗浄する方法により、表面処理を施すことが好ましい。本発明では、このような表面処理を施すことにより、ディップ成形品中に含まれる遊離の芳香族酸化合物の量、特にディップ成形品の表面付近における、遊離の芳香族酸化合物の量を上述した特定量に制御することが可能となる。
上記塩素化処理としては、特に限定されないが、たとえば、得られたディップ成形品を塩素濃度100〜5000ppmの水溶液に、1秒〜10分程度浸漬し、その後、水洗、乾燥するという方法が挙げられる。超純水による洗浄としては、たとえば、25℃での比抵抗が16MΩcm以上の超純水を使用して、複数回洗浄を行い、その後、乾燥するという方法が挙げられる。
なお、上述の各方法は、組み合わせて行っても良く、たとえば、塩素化処理を施した後に、超純水による洗浄を行うという方法を採用しても良い。
Next, it is preferable to subject the inner surface and / or outer surface of the dip-formed product to a surface treatment by a method of chlorination treatment or a method of washing with ultrapure water. In the present invention, by performing such a surface treatment, the amount of free aromatic acid compound contained in the dip-molded product, particularly the amount of free aromatic acid compound in the vicinity of the surface of the dip-molded product is described above. It becomes possible to control to a specific amount.
Although it does not specifically limit as said chlorination process, For example, the method of immersing the obtained dip molding goods in the aqueous solution of chlorine concentration 100-5000ppm for about 1 second-about 10 minutes, and washing and drying after that is mentioned. . Examples of the cleaning with ultrapure water include a method in which ultrapure water having a specific resistance at 25 ° C. of 16 MΩcm or more is used for cleaning multiple times and then dried.
The above-described methods may be performed in combination. For example, a method of cleaning with ultrapure water after performing chlorination treatment may be employed.

本発明のディップ成形品は、引張強度および破断伸びに優れ、成形品表面付近における不純物が低減されており、しかも、表面電気抵抗が低いという特性を有する。
特に、本発明のディップ成形品は、その表面付近における遊離の芳香族酸化合物量を低く抑え、一方で、成形品内部には、所定量の芳香族酸化合物を含有させるという構成を採用している。そのため、表面付近における不純物(遊離の芳香族酸化合物)の量を低減しつつ、一方で、成形品内部に含有された芳香族酸化合物の効果により、表面電気抵抗を低減させることができるという効果を有している。
このような本発明のディップ成形品は、たとえば、哺乳瓶用乳首、スポイト、導管、水枕などの医療用品;風船、人形、ボールなどの玩具や運動具;加圧成形用バッグ、ガス貯蔵用バッグなどの工業用品;手術用、家庭用、農業用、漁業用および工業用の手袋;指サック;などに好適に用いることができる。特に、本発明のディップ成形品は、上記特性を生かし、精密電子部品・半導体部品製造用の手袋用途に好適に用いることができる。なお、成形品を手袋とする場合には、サポート型であってもよいし、また、アンサポート型であってもよい。
The dip-molded product of the present invention has excellent tensile strength and elongation at break, has reduced impurities near the surface of the molded product, and has low surface electrical resistance.
In particular, the dip molded product of the present invention employs a configuration in which the amount of free aromatic acid compound in the vicinity of its surface is kept low, while the molded product contains a predetermined amount of aromatic acid compound. Yes. Therefore, while reducing the amount of impurities (free aromatic acid compound) in the vicinity of the surface, the effect of reducing the surface electrical resistance due to the effect of the aromatic acid compound contained inside the molded product. have.
Such dip-molded articles of the present invention include, for example, medical supplies such as nipples for baby bottles, syringes, conduits, and water pillows; toys and exercise tools such as balloons, dolls, balls, etc .; pressure forming bags, gas storage bags It can be suitably used for industrial articles such as; surgical gloves, household gloves, agricultural gloves, fishery gloves and industrial gloves; In particular, the dip-molded product of the present invention can be suitably used for gloves for manufacturing precision electronic parts and semiconductor parts, taking advantage of the above characteristics. When the molded product is a glove, it may be a support type or an unsupport type.

以下に実施例、比較例を挙げて、本発明を具体的に説明する。これらの例中の〔部〕および〔%〕は、特に断わりのない限り重量基準である。ただし本発明は、これらの実施例のみに限定されるものではない。なお、ディップ成形品の評価は、下記の方法により行った。   The present invention will be specifically described below with reference to examples and comparative examples. [Part] and [%] in these examples are based on weight unless otherwise specified. However, the present invention is not limited only to these examples. The dip molded product was evaluated by the following method.

メタノール抽出量
得られたゴム手袋(ディップ成形品)のメタノール抽出量は、ASTM−D135に準拠して求めた。すなわち、まず、得られたゴム手袋の内側に、250mlのメタノールを満たし、次いで、400mlのメタノールを入れたビーカー(内容量1L)中に、10分間の条件で浸漬させ、その後、ビーカー内からゴム手袋を取り除いた。次いで、ビーカー内のメタノールをエバポレーションで乾固し、抽出物の総量を求めた。そして、抽出物の総量をブランクおよびサンプルの面積で補正することにより、抽出物の実重量を求め、ゴム手袋の全体の重量に対する、抽出物の実重量の比率を算出することにより、メタノール抽出量を求めた。
なお、本実施例においては、抽出された不純物のうち、ほとんど(90%以上)が安息香酸および安息香酸誘導体であった。
Methanol extraction amount The methanol extraction amount of the obtained rubber gloves (dip-molded product) was determined according to ASTM-D135. That is, first, the inside of the obtained rubber gloves was filled with 250 ml of methanol, and then immersed in a beaker (with an internal volume of 1 L) containing 400 ml of methanol for 10 minutes, and then the rubber was put into the beaker from inside the beaker. The gloves were removed. Subsequently, the methanol in the beaker was evaporated to dryness, and the total amount of the extract was determined. Then, by correcting the total amount of the extract with the area of the blank and the sample, the actual weight of the extract is obtained, and by calculating the ratio of the actual weight of the extract to the total weight of the rubber gloves, the amount of methanol extracted Asked.
In this example, most (90% or more) of the extracted impurities were benzoic acid and benzoic acid derivatives.

メチルエチルケトン抽出量
まず、得られたゴム手袋(ディップ成形品)の手の平部分を切り取り、約5mm角(約1g)に裁断することにより試験片を得た。次いで、この試験片を精秤して、温度23℃、24時間の条件で、100mlのメチルエチルケトンに浸漬し、その後、試験片を濾別して、濾液中の安息香酸の量を高速液体クロマトグラフィで定量した。そして、浸漬前の試験片の重量に対する、安息香酸の重量の比率を算出することにより、メチルエチルケトン抽出量を求めた。
Extraction amount of methyl ethyl ketone First, the palm part of the obtained rubber glove (dip molded product) was cut out and cut into about 5 mm square (about 1 g) to obtain a test piece. Next, this test piece was precisely weighed and immersed in 100 ml of methyl ethyl ketone at a temperature of 23 ° C. for 24 hours. Thereafter, the test piece was separated by filtration, and the amount of benzoic acid in the filtrate was quantified by high performance liquid chromatography. . And the methyl ethyl ketone extraction amount was calculated | required by calculating the ratio of the weight of a benzoic acid with respect to the weight of the test piece before immersion.

表面電気抵抗率
得られたゴム手袋(ディップ成形品)の手の平部分から、10cm四方の試験片を切り抜いた。次いで、この試験片を23℃、相対湿度が50%の恒温・恒湿室に12時間放置した後、同じ雰囲気下で、ASTM D257−93に準じて、測定電圧250Vで、試験片の表面電気抵抗率を測定した。なお、この測定における上限値は、3.8×1012 Ω/squareであった。
A 10 cm square test piece was cut out from the palm portion of a rubber glove (dip-molded product) from which the surface electrical resistivity was obtained. The test piece was then left in a constant temperature / humidity chamber at 23 ° C. and a relative humidity of 50% for 12 hours, and under the same atmosphere, in accordance with ASTM D257-93, at a measurement voltage of 250 V, the surface electricity of the test piece was measured. The resistivity was measured. The upper limit in this measurement was 3.8 × 10 12 Ω / square.

引張強度、破断伸び
得られたゴム手袋(ディップ成形品)から、ASTM D−412に準じてダンベル(Die−C)を用いて、ダンベル形状の試験片を作製した。次いで、この試験片を、引張速度500mm/分で引っ張り、破断時の引張強度(MPa)および破断時の伸び(%)を測定した。
A dumbbell-shaped test piece was produced from a rubber glove (dip-formed product) obtained with tensile strength and breaking elongation using a dumbbell (Die-C) according to ASTM D-412. Subsequently, this test piece was pulled at a tensile speed of 500 mm / min, and the tensile strength at break (MPa) and the elongation at break (%) were measured.

実施例1
アクリロニトリル−ブタジエン−メタクリル酸共重合体ラテックス(日本ゼオン(株)製 LX550L、pH:8.3、固形分濃度:45%、アクリロニトリル単位:27重量%):222.2部、架橋剤としての硫黄:1.0部、加硫促進剤としてのジブチルジチオカルバミン酸亜鉛:0.8部、および酸化亜鉛:1.0部を、それぞれ配合し、次いで、KOHの3%水溶液を添加することにより、pH:9.5、固形分濃度30%に調整して、ラテックスを得た。次いで、ラテックス中の固形分100部に対して、安息香酸を0.5部添加して、12時間の条件で撹拌することによりディップ成形用組成物を調製した。
Example 1
Acrylonitrile-butadiene-methacrylic acid copolymer latex (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., LX550L, pH: 8.3, solid content concentration: 45%, acrylonitrile unit: 27% by weight): 222.2 parts, sulfur as a crosslinking agent : 1.0 part, zinc dibutyldithiocarbamate as a vulcanization accelerator: 0.8 part, and zinc oxide: 1.0 part, respectively, and then adding a 3% aqueous solution of KOH to pH : 9.5, the solid content concentration was adjusted to 30% to obtain a latex. Next, 0.5 part of benzoic acid was added to 100 parts of the solid content in the latex, and the mixture was stirred for 12 hours to prepare a dip molding composition.

次いで、上記にて調製したディップ成形用組成物を用いて、以下の方法により、ゴム手袋(ディップ成形品)を製造した。
すなわち、まず、硝酸カルシウム:20部、ノニオン性乳化剤であるポリエチレングリコールオクチルフェニルエーテル:0.05部および水:80部を混合することにより、凝固剤水溶液を準備した。次いで、この凝固剤水溶液に、予め60℃に加温したセラミック製手袋型を5秒間浸漬し、引上げた後、温度50℃、10分間の条件で乾燥して、凝固剤を手袋型に付着させた。そして、凝固剤を付着させた手袋型を、上記にて得られたディップ成形用組成物に6秒間浸漬し、引上げた後、温度50℃、10分間の条件で乾燥し、その後、40℃の温水に3分間浸漬して、水溶性不純物を溶出させて、手袋型にディップ成形層を形成した。
Next, rubber gloves (dip-molded products) were produced by the following method using the dip-molding composition prepared above.
That is, first, an aqueous coagulant solution was prepared by mixing 20 parts of calcium nitrate, 0.05 parts of polyethylene glycol octylphenyl ether, which is a nonionic emulsifier, and 80 parts of water. Next, a ceramic glove mold preliminarily heated to 60 ° C. is immersed in this aqueous coagulant solution for 5 seconds, pulled up, and then dried at a temperature of 50 ° C. for 10 minutes to allow the coagulant to adhere to the glove mold. It was. The glove mold to which the coagulant is attached is dipped in the dip molding composition obtained above for 6 seconds, pulled up, dried at a temperature of 50 ° C. for 10 minutes, and then heated to 40 ° C. It was immersed in warm water for 3 minutes to elute water-soluble impurities and form a dip-molded layer on the glove mold.

次いで、ディップ成形層を形成した手袋型を、温度70℃、10分間の条件で乾燥し、引続いて、温度120℃、30分間の条件で加熱処理してディップ成形層を架橋させ、架橋したディップ成形層を手袋型から剥し、厚みが0.1mmのゴム手袋(ディップ成形品)を得た。   Next, the glove mold on which the dip-formed layer was formed was dried under conditions of a temperature of 70 ° C. for 10 minutes, and subsequently heat-treated at a temperature of 120 ° C. for 30 minutes to cross-link the dip-formed layer. The dip-molded layer was peeled from the glove mold to obtain a rubber glove (dip-molded product) having a thickness of 0.1 mm.

次いで、得られたゴム手袋について、塩素化処理を施した。具体的には、まず、得られたゴム手袋を、塩素濃度1000ppmの水溶液に2分間浸漬し、引き続き流水で5分間洗浄し、その後、温度70℃、1時間で乾燥した。塩素化処理後のゴム手袋について、上記方法により、メタノール抽出量、メチルエチルケトン抽出量、表面電気抵抗率、引張強度および破断伸びの各評価を行った。結果を表1に示す。   Next, the obtained rubber gloves were chlorinated. Specifically, first, the obtained rubber gloves were immersed in an aqueous solution having a chlorine concentration of 1000 ppm for 2 minutes, subsequently washed with running water for 5 minutes, and then dried at a temperature of 70 ° C. for 1 hour. The rubber gloves after the chlorination treatment were each evaluated for methanol extraction amount, methyl ethyl ketone extraction amount, surface electrical resistivity, tensile strength, and elongation at break by the above methods. The results are shown in Table 1.

実施例2
得られたゴム手袋(ディップ成形品)について、塩素化処理を施した後に、さらに、超純水による洗浄を行った以外は、実施例1と同様にして、ゴム手袋を作製し、実施例1と同様に評価を行った。すなわち、実施例2においては、表面処理前のゴム手袋を、まず、塩素濃度1000ppmの水溶液に2分間浸漬し、引き続き流水で5分間洗浄し、次いで、25℃での比抵抗が15MΩcm以上の超純水で3回洗浄し、洗浄後、温度70℃、1時間で乾燥した。結果を表1に示す。
Example 2
A rubber glove was produced in the same manner as in Example 1 except that the obtained rubber glove (dip-molded product) was subjected to chlorination treatment and further washed with ultrapure water. Evaluation was performed in the same manner as above. That is, in Example 2, the rubber gloves before the surface treatment were first immersed in an aqueous solution with a chlorine concentration of 1000 ppm for 2 minutes, then washed with running water for 5 minutes, and then the specific resistance at 25 ° C. was more than 15 MΩcm. It was washed with pure water three times, and after washing, dried at a temperature of 70 ° C. for 1 hour. The results are shown in Table 1.

実施例3
得られたゴム手袋(ディップ成形品)について、塩素化処理の代わりに、超純水による洗浄を行った以外は、実施例1と同様にして、ゴム手袋を作製し、実施例1と同様に評価を行った。すなわち、まず、実施例3においては、表面処理前のゴム手袋にタルクを打紛し、表面の粘着性を低減させた。次いで、25℃での比抵抗が15MΩcm以上の超純水で3回洗浄し、洗浄後、温度70℃、1時間で乾燥した。結果を表1に示す。
Example 3
About the obtained rubber glove (dip molded product), a rubber glove was produced in the same manner as in Example 1 except that cleaning with ultrapure water was performed instead of chlorination treatment. Evaluation was performed. That is, first, in Example 3, talc was beaten on the rubber gloves before the surface treatment to reduce the surface tackiness. Next, it was washed three times with ultrapure water having a specific resistance at 25 ° C. of 15 MΩcm or more, and then dried at a temperature of 70 ° C. for 1 hour. The results are shown in Table 1.

実施例4
安息香酸の添加量を、2重量部に変更した以外は、実施例1と同様にして、ゴム手袋(ディップ成形品)を作製し、実施例1と同様に評価を行った。結果を表1に示す。
Example 4
A rubber glove (dip-molded product) was produced in the same manner as in Example 1 except that the amount of benzoic acid added was changed to 2 parts by weight, and evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

実施例5
架橋剤としての硫黄、加硫促進剤としてのジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、および酸化亜鉛の代わりに、架橋剤としてのジベンゾイルパーオキシド(BPO)を使用し、かつ、安息香酸を使用しなかった以外は、実施例1と同様にして、ゴム手袋(ディップ成形品)を作製し、実施例1と同様に評価を行った。なお、ジベンゾイルパーオキシド(BPO)の添加量は、ラテックス中の固形分100部に対して0.5部とした。結果を表1に示す。
Example 5
Except for using sulfur as a crosslinking agent, zinc dibutyldithiocarbamate as a vulcanization accelerator, and dibenzoyl peroxide (BPO) as a crosslinking agent in place of zinc oxide, and not using benzoic acid In the same manner as in Example 1, rubber gloves (dip-molded products) were produced and evaluated in the same manner as in Example 1. The amount of dibenzoyl peroxide (BPO) added was 0.5 parts with respect to 100 parts of the solid content in the latex. The results are shown in Table 1.

実施例6
得られたゴム手袋(ディップ成形品)について、塩素化処理を施した後に、さらに、超純水による洗浄を行った以外は、実施例5と同様にして、ゴム手袋を作製し、実施例5と同様に評価を行った。なお、塩素化処理および超純水による洗浄は、実施例2と同じ条件で行った。結果を表1に示す。
Example 6
A rubber glove was produced in the same manner as in Example 5 except that the obtained rubber glove (dip-molded product) was subjected to chlorination treatment and further washed with ultrapure water. Evaluation was performed in the same manner as above. The chlorination treatment and cleaning with ultrapure water were performed under the same conditions as in Example 2. The results are shown in Table 1.

比較例1
得られたゴム手袋(ディップ成形品)について、塩素化処理を行わなかった以外は、実施例1と同様にして、ゴム手袋を作製し、実施例1と同様に評価を行った。結果を表1に示す。
Comparative Example 1
About the obtained rubber glove (dip molded article), a rubber glove was produced in the same manner as in Example 1 except that chlorination treatment was not performed, and evaluation was performed in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

比較例2
得られたゴム手袋(ディップ成形品)について、塩素化処理を行わなかった以外は、実施例5と同様にして、ゴム手袋を作製し、実施例5と同様に評価を行った。結果を表1に示す。
Comparative Example 2
About the obtained rubber glove (dip molded product), a rubber glove was produced in the same manner as in Example 5 except that chlorination treatment was not performed, and evaluation was performed in the same manner as in Example 5. The results are shown in Table 1.

比較例3
安息香酸を使用しなかった以外は、実施例1と同様にして、ゴム手袋(ディップ成形品)を作製し、実施例1と同様に評価を行った。結果を表1に示す。
Comparative Example 3
A rubber glove (dip-formed product) was produced in the same manner as in Example 1 except that benzoic acid was not used, and evaluation was performed in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

Figure 2007015450
Figure 2007015450

表1より、以下のことが確認できる。
所定量の安息香酸を含有させ、メタノール抽出によるゴム手袋表面付近における遊離の安息香酸量(不純物量)を特定量以下とした実施例1〜6においては、ゴム手袋表面付近における遊離の安息香酸量の低減を実現しつつ、表面電気抵抗率を1×1010 Ω/square以下と低くできることが確認できる。さらに、実施例1〜6においては、引張り強度および破断伸びについても良好に保たれている。特に、実施例1〜6においては、ゴム手袋(ディップ成形品)中に安息香酸を含有させる際に、安息香酸を直接添加した場合(実施例1〜4)およびジベンゾイルパーオキシド(BPO)として添加した場合(実施例5,6)のいずれの方法でも、良好な結果を得ることができた。
From Table 1, the following can be confirmed.
In Examples 1 to 6 containing a predetermined amount of benzoic acid, and the amount of free benzoic acid (impurity amount) in the vicinity of the rubber glove surface by methanol extraction was not more than a specific amount, the amount of free benzoic acid in the vicinity of the rubber glove surface It can be confirmed that the surface electrical resistivity can be lowered to 1 × 10 10 Ω / square or less while realizing the reduction of the above. Furthermore, in Examples 1-6, the tensile strength and the elongation at break are also kept good. In particular, in Examples 1 to 6, when benzoic acid was directly added to rubber gloves (dip molded products), benzoic acid was directly added (Examples 1 to 4) and dibenzoyl peroxide (BPO). Good results could be obtained by any of the methods when added (Examples 5 and 6).

一方、比較例1,2より、ゴム手袋(ディップ成形品)の表面処理を行わなかった場合においては、表面電気抵抗率を低くすることは可能であったが、メタノール抽出によるゴム手袋表面付近における安息香酸量(不純物量)が多くなる結果となり、汚染の危険性がある。
また、比較例3より、安息香酸を含有させなかった場合には、表面電気抵抗率が高くなってしまう結果となった。なお、この比較例3においては、メタノール抽出量、メチルエチルケトン抽出量ともに非常に少なく、検出限界値以下であった。
On the other hand, from Comparative Examples 1 and 2, in the case where the surface treatment of the rubber glove (dip molded product) was not performed, the surface electrical resistivity could be lowered, but in the vicinity of the rubber glove surface by methanol extraction. As a result, the amount of benzoic acid (amount of impurities) increases and there is a risk of contamination.
Further, from Comparative Example 3, when benzoic acid was not contained, the surface electrical resistivity was increased. In Comparative Example 3, both the methanol extraction amount and the methyl ethyl ketone extraction amount were very small and were below the detection limit value.

Claims (10)

ゴムラテックスを含むディップ成形用組成物を、ディップ成形して得られるディップ成形品であって、
前記ディップ成形品は、芳香族酸化合物を含有しており、
前記ディップ成形品を、ASTM−D135に準拠して測定した、メタノール中に10分間の条件で浸漬した場合における、前記芳香族酸化合物の抽出量が、前記ディップ成形品全体に対して、10ppm以下であるディップ成形品。
A dip molding product obtained by dip molding a dip molding composition containing rubber latex,
The dip-molded product contains an aromatic acid compound,
When the dip-molded product is measured according to ASTM-D135 and immersed in methanol for 10 minutes, the extraction amount of the aromatic acid compound is 10 ppm or less with respect to the entire dip-molded product. Dip molded product.
前記ディップ成形品を、温度23℃、24時間の条件で、メチルエチルケトン中に浸漬した場合における、前記芳香族酸化合物の抽出量が、前記ディップ成形品全体に対して、20〜10000ppmの範囲である請求項1に記載のディップ成形品。   When the dip-molded product is immersed in methyl ethyl ketone at a temperature of 23 ° C. for 24 hours, the extraction amount of the aromatic acid compound is in the range of 20 to 10,000 ppm with respect to the entire dip-molded product. The dip-formed product according to claim 1. 温度23℃、相対湿度50%、測定電圧250Vの条件で、ASTM D257−93に準拠して測定した表面電気抵抗率が、1010 Ω/square以下である請求項1または2に記載のディップ成形品。3. The dip molding according to claim 1, wherein the surface electrical resistivity measured in accordance with ASTM D257-93 under conditions of a temperature of 23 ° C., a relative humidity of 50%, and a measurement voltage of 250 V is 10 10 Ω / square or less. Goods. 前記芳香族酸化合物が、芳香族カルボン酸化合物である請求項1〜3のいずれかに記載のディップ成形品。   The dip-molded product according to any one of claims 1 to 3, wherein the aromatic acid compound is an aromatic carboxylic acid compound. 前記芳香族カルボン酸化合物が、芳香族モノカルボン酸及び/又はそのアルカリ金属塩である請求項4に記載のディップ成形品。   The dip-molded article according to claim 4, wherein the aromatic carboxylic acid compound is an aromatic monocarboxylic acid and / or an alkali metal salt thereof. 前記芳香族カルボン酸化合物が、安息香酸である請求項4または5に記載のディップ成形品。   The dip-molded article according to claim 4 or 5, wherein the aromatic carboxylic acid compound is benzoic acid. 前記ゴムラテックスが、全単量体単位100重量%に対し、共役ジエン単量体単位を30〜89.5重量%、エチレン性不飽和ニトリル単量体単位を10〜50重量%、エチレン性不飽和カルボン酸単量体単位を0.5〜20重量%含むゴムのラテックスである、請求項1〜6のいずれかに記載のディップ成形品。   The rubber latex is 30 to 89.5% by weight of conjugated diene monomer unit, 10 to 50% by weight of ethylenically unsaturated nitrile monomer unit, The dip-molded article according to any one of claims 1 to 6, which is a latex of rubber containing 0.5 to 20% by weight of a saturated carboxylic acid monomer unit. 前記共役ジエン単量体単位が、1,3−ブタジエン単位である、請求項7に記載のディップ成形品。   The dip-molded article according to claim 7, wherein the conjugated diene monomer unit is a 1,3-butadiene unit. 前記エチレン性不飽和ニトリル単量体単位が、アクリロニトリル単位である、請求項7または8に記載のディップ成形品。   The dip-molded product according to claim 7 or 8, wherein the ethylenically unsaturated nitrile monomer unit is an acrylonitrile unit. 前記エチレン性不飽和カルボン酸単量体単位が、メタクリル酸単位である、請求項7〜9のいずれかに記載のディップ成形品。




The dip-molded product according to any one of claims 7 to 9, wherein the ethylenically unsaturated carboxylic acid monomer unit is a methacrylic acid unit.




JP2007529251A 2005-08-01 2006-07-31 Dip molded product Pending JPWO2007015450A1 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005223348 2005-08-01
JP2005223348 2005-08-01
PCT/JP2006/315124 WO2007015450A1 (en) 2005-08-01 2006-07-31 Dip-molded article

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPWO2007015450A1 true JPWO2007015450A1 (en) 2009-02-19

Family

ID=37708730

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007529251A Pending JPWO2007015450A1 (en) 2005-08-01 2006-07-31 Dip molded product

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JPWO2007015450A1 (en)
WO (1) WO2007015450A1 (en)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016076099A1 (en) * 2014-11-13 2016-05-19 Jsr株式会社 Composition for dip molding and dip molded body
JP6646949B2 (en) * 2015-05-18 2020-02-14 ミドリ安全株式会社 Elastomer and method for producing the same
JP2016222827A (en) * 2015-06-01 2016-12-28 住友ゴム工業株式会社 Rubber composition and rubber glove
US10982075B2 (en) 2016-06-01 2021-04-20 Synthomer Sdn. Bhd. Polymer latex for dip-molding applications
JP2018138631A (en) * 2017-02-24 2018-09-06 日本ゼオン株式会社 Method for producing modified natural rubber latex

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4554767B2 (en) * 1999-06-21 2010-09-29 日本エイアンドエル株式会社 Latex composition for dip molding and dip molding
JP3920633B2 (en) * 2000-12-12 2007-05-30 日本エイアンドエル株式会社 Latex for dip molding and dip molding
JP3852356B2 (en) * 2002-03-27 2006-11-29 日本ゼオン株式会社 DIP MOLDING COMPOSITION, DIP MOLDED ARTICLE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
JP2004352808A (en) * 2003-05-28 2004-12-16 Nippon Zeon Co Ltd Dip molding method and latex composition for dip molding
WO2006057392A1 (en) * 2004-11-29 2006-06-01 Zeon Corporation Composition for dip forming and dip-formed molding

Also Published As

Publication number Publication date
WO2007015450A1 (en) 2007-02-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4840143B2 (en) DIP MOLDING COMPOSITION AND DIP MOLDED ARTICLE
JP3900530B2 (en) DIP MOLDED ARTICLE, DIP MOLDING COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING DIP MOLDED ARTICLE
JP5272226B2 (en) Carboxylic acid-modified nitrile copolymer latex and latex composition for dip molding containing the same
JP6769445B2 (en) Latex composition
JP6028362B2 (en) DIP MOLDING COMPOSITION AND DIP MOLDED ARTICLE
TWI701268B (en) Carboxylic acid-modified nitrile-based copolymer latex composition, preparation method thereof, latex composition for dip-molding comprising the same, and article molded by the same
JP3852356B2 (en) DIP MOLDING COMPOSITION, DIP MOLDED ARTICLE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
JP6349850B2 (en) DIP MOLDING COMPOSITION AND DIP MOLDED ARTICLE
JP2017149925A (en) Latex composition and film compact
JP6006326B2 (en) Latex composition for dip molding
WO2006123743A1 (en) Latex composition for dip forming and products of dip forming
JP2003165814A (en) Dip molding latex, method for producing the latex, dip molding composition, and dip molded product
JP4404053B2 (en) Copolymer latex for dip molding
JP2692483B2 (en) Latex for dip molding and dip molding
JP7131540B2 (en) latex composition
JP4618129B2 (en) DIP MOLDING COMPOSITION AND DIP MOLDED ARTICLE
JPWO2007015450A1 (en) Dip molded product
JP4839676B2 (en) Dip molded product
WO2007004459A1 (en) Latex for dip molding, latex composition for dip molding, and dip-molded article
JP4196590B2 (en) Dip molding latex, dip molding composition and dip molding
JP4839677B2 (en) Latex composition for dip molding and dip molded product
KR101602527B1 (en) Method for preparing compositions for dipforming dipforming product and mehtod for preparing thereof
JP4063110B2 (en) DIP MOLDING COAGULANT COMPOSITION, DIP MOLDED ARTICLE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
EP1595912A1 (en) Dip molded article with low surface resistivity
WO2017006385A1 (en) Dip molding composition and dip molded article