JPWO2006077821A1 - アルドステロン受容体調節剤としての芳香族スルホン化合物 - Google Patents

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Abstract

高血圧、脳卒中、心不全等各種疾患の予防あるいは治療効果を示す、下記式(1)で表される化合物もしくはそのプロドラッグ、またはそれらの薬学上許容される塩を提供する。[式中、Aは下記式(A−1)等の基を表す。R1およびR2は、各々独立して、水素原子等を表す。Zは、CR3等を、Wは、CR4等を、Qは、CR5等を表す。R3、R4およびR5は、各々独立して、水素原子等を表す。Yは、酸素原子、または硫黄原子を表す。Xは、酸素原子等を表す。Bは置換されてもよいアリール基、または置換されてもよいヘテロアリール基を表す。]

Description

本発明は、アルドステロン受容体MRに作用する芳香族スルホン化合物からなる医薬品に関する。より具体的には、本発明はMRに対して高い結合親和性を有する調節剤(すなわちアンタゴニスト、アゴニストおよび部分アゴニスト)である非ステロイド化合物および組成物に関する。
核内受容体は、ステロイドホルモンをはじめとした低分子生理活性物質をリガンドとする転写制御因子であり遺伝子スーパーファミリーを形成している。ステロイドホルモンをリガンドとした受容体として、ミネラルコルチコイド受容体(MR)、グルココルチコイド受容体(GR)、アンドロゲン受容体(AR)、プロゲステロン受容体(PR)ならびにエストロゲン受容体(ER)が知られており、各種遺伝子の発現調節を介して生理機能の調節に重要な役割を果たしている。
アルドステロンはMRの生理的なリガンドであり、MRはアルドステロン受容体とも呼ばれる。アルドステロンはMRを介して腎臓における電解質の排泄調節を担う一方、過剰なMRの活性化は高血圧、脳卒中、不整脈、心不全、心肥大、動脈硬化、血管再狭窄、腎線維症、心筋梗塞、糖尿病合併症、腎疾患、浮腫、原発性アルドステロン症、炎症などの各種疾患に関連する。従って、MRに結合してその機能を調節する化合物は上記疾患に関連した種々の生理作用を示し、例えば、MRにおいてアルドステロンと拮抗し、MRの過剰な活性化を抑制する化合物(アンタゴニストおよび部分アゴニスト)は上記疾患の予防剤あるいは治療剤として有用である。
これまでにアルドステロン受容体MRアンタゴニストとして、スピロノラクトンおよびエプレレノンといったステロイド化合物が医薬品として実用化されている。特許文献1では非ステロイド型のMR/GR調節剤としてインドール誘導体が報告されている。特許文献2にはHIV逆転写酵素阻害剤として、特許文献3にはPRまたはAR調節剤として1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オン誘導体が開示されている。しかしながらこれらは用途が異なり、また本発明化合物が構造的特徴とする芳香族スルホン側鎖を有しない。特許文献4にはステロイド受容体調節剤として1,2−ジヒドロキノリン誘導体および1,2,3,4−テトラヒドロキノリン誘導体が開示されているが、これは本発明化合物が構造的特徴とする芳香族スルホン側鎖を有しない。
国際公開第2004/067529号パンフレット 国際公開第98/14436号パンフレット 国際公開第01/16108号パンフレット 国際公開第96/19458号パンフレット
本発明の課題は、高血圧、脳卒中、不整脈、心不全、心肥大、動脈硬化、血管再狭窄、腎線維症、心筋梗塞、糖尿病合併症、腎疾患、浮腫、原発性アルドステロン症、炎症などの各種疾患の予防あるいは治療効果を示す、アルドステロン受容体MRに対して高い親和性を有する調節剤(すなわちアンタゴニスト、アゴニストおよび部分アゴニスト)である非ステロイド型の薬物を提供することにある。
本発明者らは鋭意検討した結果、以下に示す化合物がアルドステロン受容体MRに対して、高い結合親和性とアンタゴニスト、アゴニストまたは部分アゴニスト活性を有することを見出し、本発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明は:
[1] 式(1)
Figure 2006077821
[式中、Aは下記式(A−1)、(A−2)、(A−3)、(A−4)または(A−5)のいずれかの基を表す。
Figure 2006077821
(式中、RおよびRは、各々独立して、水素原子、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、もしくは置換されてもよいヘテロアリール基を表すか、またはRおよびRは一緒になって、隣接する炭素原子と共に、置換されてもよいシクロアルカン環、もしくは置換されてもよい飽和へテロ環を表す。
Zは、窒素原子またはCRを、Wは、窒素原子またはCRを、Qは、窒素原子またはCRを表す。
、R3a、R、R、R、R、RおよびRは、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいヘテロアリール基、シアノ基、ニトロ基、水酸基、置換されてもよいアミノ基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されてもよいアルカノイル基、置換されてもよいアルコキシカルボニル基、カルボキシ基、置換されてもよいカルバモイル基、置換されてもよいアルキルチオ基、置換されてもよいアルキルスルフィニル基、置換されてもよいスルファモイル基、または置換されてもよいアルキルスルホニル基を表す。
10は置換されてもよいアルキル基を表す。
、RおよびRは、各々独立して、水素原子、または置換されてもよいアルキル基を表す。
Yは、酸素原子、または硫黄原子を表す。)
Xは、酸素原子、NR11、またはCR1213を表す。
(式中、R11は、水素原子、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルカノイル基、置換されてもよいアロイル基、置換されてもよいアルコキシカルボニル基、置換されてもよいアルキルスルホニル基、置換されてもよいアリールスルホニル基、置換されてもよいヘテロアリールスルホニル基、または式:−C(O)−C(O)−OR11a(R11aは、水素原子または置換されてもよいアルキル基を表す。)で表される基を表す。
12およびR13は、各々独立して、水素原子、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいシクロアルキル基を表すか、またはR12とR13は、一緒になって、隣接する炭素原子と共に、置換されてもよいシクロアルカン環を表す。)
Bは置換されてもよいアリール基、または置換されてもよいヘテロアリール基を表す。]
で表される化合物もしくはそのプロドラッグ、またはそれらの薬学上許容される塩を含有する、高血圧、脳卒中、不整脈、心不全、心肥大、動脈硬化、血管再狭窄、腎線維症、心筋梗塞、糖尿病合併症、腎疾患、浮腫、原発性アルドステロン症または炎症の予防または治療剤、
[2] 式(1a)
Figure 2006077821
[式中、Aは下記式(A−1)、(A−2)、(A−3)、(A−4)または(A−5)のいずれかの基を表す。
Figure 2006077821
(式中、RおよびRは、各々独立して、水素原子、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、もしくは置換されてもよいヘテロアリール基を表すか、またはRおよびRは一緒になって、隣接する炭素原子と共に、置換されてもよいシクロアルカン環、もしくは置換されてもよい飽和へテロ環を表す。
Zは、窒素原子またはCRを、Wは、窒素原子またはCRを、Qは、窒素原子またはCRを表す。
、R3a、R、R、R、R、RおよびRは、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいヘテロアリール基、シアノ基、ニトロ基、水酸基、置換されてもよいアミノ基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されてもよいアルカノイル基、置換されてもよいアルコキシカルボニル基、カルボキシ基、置換されてもよいカルバモイル基、置換されてもよいアルキルチオ基、置換されてもよいアルキルスルフィニル基、置換されてもよいスルファモイル基、または置換されてもよいアルキルスルホニル基を表す。
10は置換されてもよいアルキル基を表す。
、RおよびRは、各々独立して、水素原子、または置換されてもよいアルキル基を表す。
Yは、酸素原子、または硫黄原子を表す。)
Xは、酸素原子、NR11、またはCR1213を表す。
(式中、R11は、水素原子、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルカノイル基、置換されてもよいアロイル基、置換されてもよいアルコキシカルボニル基、置換されてもよいアルキルスルホニル基、置換されてもよいアリールスルホニル基、置換されてもよいヘテロアリールスルホニル基、または式:−C(O)−C(O)−OR11a(R11aは、水素原子または置換されてもよいアルキル基を表す。)で表される基を表す。
12およびR13は、各々独立して、水素原子、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいシクロアルキル基を表すか、またはR12とR13は、一緒になって、隣接する炭素原子と共に、置換されてもよいシクロアルカン環を表す。)
Bは置換されてもよいアリール基、または置換されてもよいヘテロアリール基を表す。
ただし、Aが式(A−1)で表される化合物であり、ZがCRであり、WがCRであり、QがCRである場合、Rは、置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、または置換されてもよいヘテロアリール基を表す。]
で表される化合物もしくはそのプロドラッグ、またはそれらの薬学上許容される塩、
[3] Xが、酸素原子、NR11、またはCR1213(式中、R11は、水素原子、置換されてもよいアルキル基、または置換されてもよいアルカノイル基を表す。R12およびR13は、各々独立して、水素原子、または置換されてもよいアルキル基を表す。)である、[2]記載の化合物もしくはそのプロドラッグ、またはそれらの薬学上許容される塩、
[4] Bが置換されてもよいフェニル、置換されてもよいナフチル、置換されてもよいピリジル、置換されてもよいフラニル、置換されてもよいピロリル、または置換されてもよいチエニルである、[3]記載の化合物もしくはそのプロドラッグ、またはそれらの薬学上許容される塩、
[5] Aが式(A−6):
Figure 2006077821
で表される基であり、Rが、置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、または置換されてもよいヘテロアリール基である、[4]記載の化合物もしくはそのプロドラッグ、またはそれらの薬学上許容される塩、
[6] R、R、およびRが、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換されてもよいアルキル基、水酸基、または置換されてもよいアルコキシ基である、[5]記載の化合物もしくはそのプロドラッグ、またはそれらの薬学上許容される塩、
[7] Aが式(A−7):
Figure 2006077821
で表される基であり、RおよびRが、各々独立して、水素原子または置換されてもよいアルキル基である、[4]記載の化合物もしくはそのプロドラッグ、またはそれらの薬学上許容される塩、
[8] RおよびRが、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換されてもよいアルキル基、水酸基、または置換されてもよいアルコキシ基である、[7]記載の化合物もしくはそのプロドラッグ、またはそれらの薬学上許容される塩、
[9] Aが式(A−3)または(A−4)で表される基であり、R、およびRが、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換されてもよいアルキル基、水酸基、または置換されてもよいアルコキシ基である、[4]記載の化合物もしくはそのプロドラッグ、またはそれらの薬学上許容される塩、
[10]Aが式(A−5)で表される基である、[2]記載の化合物もしくはそのプロドラッグ、またはそれらの薬学上許容される塩、
[11] [2]〜[10]のいずれかに記載の化合物もしくはそのプロドラッグ、またはそれらの薬学上許容される塩を有効成分として含有する医薬、
[12] [2]〜[10]のいずれかに記載の化合物もしくはそのプロドラッグ、またはそれらの薬学上許容される塩を有効成分として含有する、高血圧、脳卒中、不整脈、心不全、心肥大、動脈硬化、血管再狭窄、腎線維症、心筋梗塞、糖尿病合併症、腎疾患、浮腫、原発性アルドステロン症、または炎症の予防または治療剤、
[13] 治療を必要とする患者に、[2]〜[10]のいずれかに記載の化合物もしくはそのプロドラッグ、またはそれらの薬学上許容される塩の有効量を投与することからなる、高血圧、脳卒中、不整脈、心不全、心肥大、動脈硬化、血管再狭窄、腎線維症、心筋梗塞、糖尿病合併症、腎疾患、浮腫、原発性アルドステロン症、または炎症の予防または治療方法、または
[14] 高血圧、脳卒中、不整脈、心不全、心肥大、動脈硬化、血管再狭窄、腎線維症、心筋梗塞、糖尿病合併症、腎疾患、浮腫、原発性アルドステロン症、または炎症の予防または治療剤製造のための、[2]〜[10]のいずれかに記載の化合物もしくはそのプロドラッグ、またはそれらの薬学上許容される塩の使用に関する。
以下、式(1)で表される化合物もしくはそのプロドラッグ、またはそれらの薬学上許容される塩を必要に応じ「本発明化合物」と総称する。
本発明化合物はアルドステロン受容体MRに対して、高い結合親和性とアンタゴニスト、アゴニストまたは部分アゴニスト活性を有することが判明した。従って、本発明により新たな高血圧、脳卒中、不整脈、心不全、心肥大、動脈硬化、血管再狭窄、腎線維症、心筋梗塞、糖尿病合併症、腎疾患、浮腫、原発性アルドステロン症、炎症などを含む循環器系疾患の治療および予防剤の提供が可能となった。
図1において、Aはアルドステロン非投与群を示す。Bはアルドステロン+溶媒(0.5%メチルセルロース)投与群を示す。Cはアルドステロン+化合物24(10mg/kg体重)経口投与群を示す。Dはアルドステロン+化合物24(30mg/kg体重)経口投与群を示す。Eはアルドステロン+エプレレノン(3mg/kg体重)経口投与群を示す。
以下に、本発明をさらに具体的に説明する。
本発明における各々の基の説明は、特に指示した場合を除き、その基が他の基の一部分である場合にも該当する。
なお、本明細書における置換基の数は、置換可能であれば特に制限はなく、1または複数である。
「ハロゲン原子」としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子などが挙げられる。
「アルキル基」としては、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、1−メチルブチル、2−メチルブチル、3−メチルブチル、1−エチルプロピル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニルまたはデシルなどの炭素原子数1から10の直鎖状または分枝鎖状のアルキル基が挙げられる。好ましいアルキル基としては炭素原子数1から6の直鎖状または分枝鎖状のアルキル基が挙げられる。
「アルケニル基」としては、例えばビニル、1−プロペニル、2−プロペニル、1−メチル−1−プロペニル、1−ブテニル、2−ブテニル、3−ブテニルまたは1−メチル−1−ブテニルなどのような少なくとも1つの二重結合を有する炭素原子数2から6の直鎖状または分枝鎖状のアルケニル基が挙げられる。好ましいアルケニル基としては炭素原子数3から6の直鎖状または分枝鎖状のアルケニル基が挙げられる。
「アルキニル基」としては、例えばエチニル、1−プロピニル、2−プロピニル、1−メチル−2−プロピニル、1−ブチニル、2−ブチニル、3−ブチニルまたは1−メチル−2−ブチニルなどのような少なくとも1つの三重結合を有する炭素原子数2から6の直鎖状または分枝鎖状アルキニル基が挙げられる。好ましいアルキニル基としては炭素原子数3から6の直鎖状または分枝鎖状のアルキニル基が挙げられる。
「シクロアルキル基」としては、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘプテニル、またはシクロオクテニルなどの炭素原子数3から8の飽和または不飽和のシクロアルキル基が挙げられる。好ましいシクロアルキル基としては炭素原子数3から6の飽和または不飽和のシクロアルキル基が挙げられる。
「アルコキシ基」としては、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、イソプロポキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシ、ペントキシ、ヘキソキシ、ヘプトキシ、オクトキシ、ノニルオキシ、またはデシルオキシなどの炭素原子数1から10の直鎖状または分枝鎖状のアルコキシ基が挙げられる。好ましいアルコキシ基としては炭素原子数1から6の直鎖状または分枝鎖状のアルコキシ基が挙げられる。
「アルカノイル基」としては、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、オクタノイル、ノナノイル、またはデカノイルなどの炭素原子数1から10の直鎖状または分枝鎖状のアルカノイル基が挙げられる。好ましいアルカノイル基としては炭素原子数1から6の直鎖状または分枝鎖状のアルカノイル基が挙げられる。
「アルコキシカルボニル基」としては、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、sec−ブトキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニル、ペントキシカルボニル、ヘキソキシカルボニル、ヘプトキシカルボニル、オクトキシカルボニル、ノニルオキシカルボニル、またはデシルオキシカルボニルなどの炭素原子数2から11の直鎖状または分枝鎖状のアルコキシカルボニル基が挙げられる。好ましいアルコキシカルボニル基としては炭素原子数1から6の直鎖状または分枝鎖状のアルコキシ基を有するアルコキシカルボニル基が挙げられる。
「アルキルチオ基」としては、例えばメチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチルチオ、イソプロピルチオ、イソブチルチオ、sec−ブチルチオ、tert−ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキチルチオ、ヘプチルチオ、オクチルチオ、ノニルチオ、またはデシルチオなどの炭素原子数1から10のアルキルチオ基が挙げられる。好ましいアルキルチオ基としては炭素原子数1から6の直鎖状または分枝鎖状のアルキル基を有するアルキルチオ基が挙げられる。
「アルキルスルフィニル基」としては、例えばメチルスルフィニル、エチルスルフィニル、プロピルスルフィニル、ブチルスルフィニル、イソプロピルスルフィニル、イソブチルスルフィニル、sec−ブチルスルフィニル、tert−ブチルスルフィニル、ペンチルスルフィニル、ヘキチルスルフィニル、ヘプチルスルフィニル、オクチルスルフィニル、ノニルスルフィニル、またはデシルスルフィニルなどの炭素原子数1から10のアルキルスルフィニル基が挙げられる。好ましいアルキルスルフィニル基としては炭素原子数1から6の直鎖状または分枝鎖状のアルキル基を有するアルキルスルフィニル基が挙げられる。
「アルキルスルホニル基」としては、例えばメチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、ブチルスルホニル、イソプロピルスルホニル、イソブチルスルホニル、sec−ブチルスルホニル、tert−ブチルスルホニル、ペンチルスルホニル、ヘキチルスルホニル、ヘプチルスルホニル、オクチルスルホニル、ノニルスルホニル、またはデシルスルホニルなどの炭素原子数1から10のアルキルスルホニル基が挙げられる。好ましいアルキルスルホニル基としては炭素原子数1から6の直鎖状または分枝鎖状のアルキル基を有するアルキルスルホニル基が挙げられる。
「置換アルキル基」、「置換アルケニル基」、「置換アルキニル基」、「置換アルコキシ基」、「置換シクロアルキル基」、「置換アルカノイル基」、「置換アルコキシカルボニル基」、「置換アルキルチオ基」、「置換アルキルスルフィニル基」および「置換アルキルスルホニル基」における置換基としては、例えばハロゲン原子、水酸基、ニトロ、シアノ、アルコキシ基、シクロアルキル基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アルカノイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基などが挙げられる。
置換アルキル基および置換アルコキシ基における置換基には、上記の他、置換されてもよいアリール基または置換されてもよいヘテロアリール基も挙げられる。
置換シクロアルキル基における置換基には、上記の他、アルキル基も挙げられる。
「置換アルキル基」、「置換アルケニル基」、「置換アルキニル基」、「置換アルコキシ基」、「置換シクロアルキル基」、「置換アルカノイル基」、「置換アルコキシカルボニル基」、「置換アルキルチオ基」、「置換アルキルスルフィニル基」および「置換アルキルスルホニル基」における好ましい置換基としては、例えばハロゲン原子、水酸基、アミノ基、アルキルアミノ基、またはジアルキルアミノ基等が挙げられる。
「アリール基」としては、例えばフェニルまたはナフチルなどの炭素原子数10以下のアリール基が挙げられる。
「ヘテロアリール基」としては、例えば窒素原子、硫黄原子および酸素原子からなる群から選ばれる1〜4個のヘテロ原子を含有する、単環の5または6員の芳香族複素環基または二環の9から10員の芳香族複素環基が挙げられ、具体的には、ピリジル(窒素原子がオキシド化されていてもよい。)、チエニル、フリル、ピロリル、ピラゾリル、イミダゾリル、ピラジル、ピリミジル、ピリダジル、オキサゾリル、チアゾリル、オキサジアゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、キノリル、ベンゾチエニル、ベンゾフリル、インドリル、キナゾリニル、ベンゾチアゾリル、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリルまたはナフチリジニルなどが挙げられる。好ましいヘテロアリール基としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子からなる群から選ばれる1〜3個のヘテロ原子を含有する、単環の5または6員の芳香族複素環基が挙げられる。さらに好ましくはチエニル、ピリジルが挙げられる。
「アロイル基」としては、例えばベンゾイルまたはナフトイル等の炭素原子数11以下のアロイル基が挙げられる。
「アリールスルホニル基」におけるアリール部分は、前記と同義である。
「置換アリール基」および「置換へテロアリール基」における置換基としては、例えばハロゲン原子、水酸基、ニトロ、シアノ、アルキル基(該アルキル基は、例えばハロゲン原子、水酸基またはアミノ基などで置換されていてもよい。)、アルコキシ基(該アルコキシ基は、例えばハロゲン原子などで置換されていてもよい。)、アルコキシカルボニル基、カルボキシ基、アミノ基(該アミノ基は、例えば、1つまたは2つのアルキル基、アルカノイル基、またはアルコキシカルボニル基などで置換されていてもよい。)、カルバモイル基、アリール基、アリールオキシ基、アルキルスルホニル基またはアリールスルホニル基などが挙げられる。
また、置換アリール基における置換基には、メチレンジオキシまたはエチレンジオキシなどのアルキレンジオキシ基も挙げられる。
置換アルキル基および置換アルコキシ基における置換基としての置換アリール基および置換へテロアリール基における置換基、および「置換アリールスルホニル基」および「置換アロイル基」における置換基としては、前記の「置換アリール基」および「置換へテロアリール基」における置換基と同じ基が挙げられる。
およびRにおける「置換アルキル基」および「置換アルコキシ基」における置換基としての置換アリール基および置換ヘテロアリール基における好ましい置換基、および、「置換アリール基」、「置換ヘテロアリール基」、「置換アリールスルホニル基」、および「置換アロイル基」における好ましい置換基としては、例えばハロゲン原子、水酸基、ニトロ、シアノ、アルキル基(該アルキル基は、例えばハロゲン原子、水酸基またはアミノ基などで置換されていてもよい。)、アルコキシ基(該アルコキシ基は、例えばハロゲン原子などで置換されていてもよい。)、アルコキシカルボニル基、カルボキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、カルバモイル基またはアルキレンジオキシ基などが挙げられる。
「シクロアルカン環」としては、例えばシクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、またはシクロオクテン等の炭素原子数3から8の飽和または不飽和のシクロアルカンの同一の炭素原子に結合する2つの水素原子が結合手に変わったものが挙げられる。
「飽和ヘテロ環」としては、例えば窒素原子、硫黄原子および酸素原子からなる群から選ばれる1〜4個のヘテロ原子を含有する、単環の5〜8員環の飽和へテロ環の同一の炭素原子に結合する2つの水素原子が結合手に変わったものが挙げられ、具体的にはピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、チオモルホリンまたはパーヒドロアゼピンなどが挙げられる。
「置換アミノ基」における置換基としては、例えばアルキル基、アリール基で置換されてもよいアルキル基、アリール基、アルカノイル基またはアリールカルボニル基などが挙げられる。
「置換カルバモイル基」および「置換スルファモイル基」における置換基としては、例えばアルキル基、アリール基で置換されてもよいアルキル基、またはアリール基などが挙げられる。
以下に、本発明における式(1)で表される化合物の製造法について、例を挙げて説明するが、本発明はもとよりこれに限定されるものではない。
式(1)で表される化合物は公知化合物から公知の合成方法を組み合わせることにより合成することができる。例えば、次の方法により合成できる。
式(1)で表される化合物のうち、式(110)で表される化合物またはその塩は、例えば以下の方法によって製造することができる。
製造法1(スルホニル化)
Figure 2006077821
(式中、X’は、酸素原子またはNR11を表し、A、B、およびR11は前記のとおりであり、LGは脱離基(例えば塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子などのハロゲン原子など)を表す。)
化合物(101)またはその塩を化合物(102)またはその塩と反応させることにより、化合物(110)を製造することができる。反応は、必要により塩基の存在下、また、場合により触媒の存在下、適当な不活性溶媒中で約−20℃〜用いた溶媒の沸点までの範囲の温度で、10分間〜48時間反応させることにより行うことができる。またX=NR11かつR11=Hの場合でジスルホンアミド化されたときには適切な塩基(例えばフッ化テトラブチルアンモニウム等)で加水分解することによりモノスルホンアミド体に変換できる。
塩基としては、例えばトリエチルアミン、ピリジンまたは2,4,6−コリジン等の有機塩基、炭酸カリウム、水酸化ナトリウムまたは水素化ナトリウム等の無機塩基等が挙げられる。
触媒としては、例えば4−ジメチルアミノピリジンなどが挙げられる。
不活性溶媒としては、例えばアセトニトリルや、クロロホルムまたはジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ベンゼンまたはトルエン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたは1,4−ジオキサン等のエーテル系溶媒、またはN,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドンまたはジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。
式(1)で表される化合物のうち、式(112)で表される化合物またはその塩は、例えば以下の方法によっても製造することができる。
製造法2(アルキル化)
Figure 2006077821
(式中、AおよびBは前記のとおりであり、R11’は前記R11のうち水素原子以外の基を表す。LG’は脱離基(例えば塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子などのハロゲン原子、またはトシルオキシ、メシルオキシ、またはトリフルオロメタンスルホニルオキシなどのスルホニルオキシ基など)を表す。)
例えば前述(製造法1)の工程により合成できるX=NHの化合物(111)またはその塩を化合物(103)またはその塩と反応させることにより、化合物(112)(X=NR11)を製造することができる。反応は、必要により塩基の存在下、また、場合により相間移動触媒の存在下、適当な不活性溶媒中で約−20℃〜用いた溶媒の沸点までの範囲の温度で、10分間〜48時間反応させることにより行うことができる。
塩基としては、例えばトリエチルアミンまたはピリジン等の有機塩基、炭酸カリウム、水酸化ナトリウムまたは水素化ナトリウム等の無機塩基、またはナトリウムメトキシドまたはカリウムtert−ブトキシド等の金属アルコキシド等が挙げられる。
相間移動触媒としては、例えばよう化テトラブチルアンモニウムまたは硫酸水素テトラブチルアンモニウムなどが挙げられる。
不活性溶媒としては、例えばアセトニトリルや、クロロホルムまたはジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ベンゼンまたはトルエン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたは1,4−ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノールまたは2−プロパノール等のアルコール系溶媒、またはN,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドンまたはジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。
式(1)で表される化合物のうち、式(210)および式(220)で表される化合物またはその塩は、例えば以下の方法によって製造することができる。
製造法3
Figure 2006077821
(式中、B、R、R、Q、W、Y、ZおよびLGは前記のとおりであり、Mはアルカリ金属(例えばナトリウム、カリウムなど)を表す。)
工程1(ホルミル化)
化合物(201)またはその塩をホルミル化することにより、中間体(202)を製造することができる。反応は、有機金属試薬によりハロゲン−金属交換反応を行い、続いてホルミル供与試剤と処理することで、また、場合によりキレート試剤の存在下、適当な不活性溶媒中で約−100℃〜用いた溶媒の沸点までの範囲の温度で、10分間〜48時間反応させることにより行うことができる。
有機金属試薬としては、例えばn−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウムまたはtert-ブチルリチウム等の有機リチウム試薬等が挙げられる。
ホルミル供与試剤としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド、N−ホルミルピペリジン、N−ホルミルモルホリン、N−メトキシ−N−メチルホルムアミド、N−メチル−N−フェニルホルムアミド、ホルムアミド、ギ酸エチル等が挙げられる
キレート試剤としては、例えばN,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン等が挙げられる。
不活性溶媒としては、例えばベンゼンまたはトルエン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテルまたはテトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。
工程2(還元)
化合物(202)またはその塩をアルコールへと還元することにより、中間体(203)を製造することができる。反応は、還元剤の存在下、適当な不活性溶媒中で約−20℃〜用いた溶媒の沸点までの範囲の温度で、10分間〜48時間反応させることにより行うことができる。
還元剤としては、例えば水素化ホウ素ナトリウムまたは水素化ホウ素リチウム等が挙げられる。
不活性溶媒としては、例えばメタノール、エタノールまたは2−プロパノール等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたは1,4−ジオキサン等のエーテル系溶媒、またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。
工程3(脱離基の導入)
化合物(203)またはその塩のアルコール基を脱離基へと変換することにより、中間体(204)を製造することができる。反応は、ハロゲン化試剤の存在下、適当な不活性溶媒中で約−20℃〜用いた溶媒の沸点までの範囲の温度で、10分間〜48時間反応させることにより行うことができる。
ハロゲン化試剤としては、例えば塩化チオニル、またはN−ブロモコハク酸イミドとトリフェニルホスフィンの組み合わせ等が挙げられる。
不活性溶媒としては、例えばアセトニトリルや、クロロホルムまたはジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ベンゼンまたはトルエン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたは1,4−ジオキサン等のエーテル系溶媒、またはN,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドンまたはジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。
工程4(スルホニル化)
化合物(204)またはその塩を化合物(205)またはその塩と反応させることにより、化合物(210)またはその塩を製造することができる。反応は、必要により塩基の存在下、また、場合により相間移動触媒の存在下、適当な不活性溶媒中で約−20℃〜用いた溶媒の沸点までの範囲の温度で、10分間〜48時間反応させることにより行うことができる。
塩基、相関移動触媒および不活性溶媒としては前述(製造法2)のものが挙げられる。
工程5〜7(保護基の導入〜置換基の導入〜脱保護)
Figure 2006077821
(式中、B、R、R、Q、W、Y、Z、LG’およびMは前記のとおりである。R12aおよびR13aは、それぞれ、前記R12およびR13と同義であるが、両方が水素原子である場合を除く。Pは保護基(例えばtert-ブトキシカルボニルなどのアルキルオキシカルボニル基、またはトリメチルシリルエトキシメチル、ベンジル、メトキシフェニルメチルなどの置換アルキル基など)を表す。)
化合物(210)またはその塩の1位NHに保護基を導入して中間体(206)へと変換した後、化合物(207)またはその塩、および化合物(208)またはその塩と順次、もしくは単独で反応させることにより、中間体(209)を合成し、これを脱保護することにより化合物(220)を製造することができる。
12aまたはR13aのどちらかが水素原子の場合は、化合物(207)または化合物(208)の一方のみを使用する。
また、化合物(207)、(208)の代わりに、化合物(207a)またはその塩を用い、R12aとR13aが一緒になって、隣接する炭素原子と共に、置換されてもよいシクロアルカン環となった化合物を合成することもできる。
反応は、塩基の存在下、また、場合によりキレート試剤の存在下、適当な不活性溶媒中で約−100℃〜用いた溶媒の沸点までの範囲の温度で、10分間〜48時間反応させることにより行うことができる。
塩基としては、例えばリチウムジイソプロピルアミド等の有機リチウム試薬、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の無機塩基等が挙げられる。
キレート試剤としては、例えば前述(製造法3−工程1)のものが挙げられる。
不活性溶媒としては、例えばアセトニトリルや、ベンゼンまたはトルエン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたは1,4−ジオキサン等のエーテル系溶媒、またはN,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドンまたはジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。
保護基としては、文献(例えばProtective Groups in Organic Synthesis、T. W. Greene、John Wiley & Sons Inc.、(1981)等)に記載されているような通常の保護基を用いることができ、更に具体的には、1位NHの保護基としてはtert−ブトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、トリメチルシリルエトキシメチル、ベンジル、または4−メトキシフェニルメチル等をあげることができる。
保護基の導入および脱離は、有機合成化学で常用される方法(例えば、上記のProtective Groups in Organic Synthesis参照)またはそれらに準じた方法により行うことができる。
Yは、酸素原子の状態で各工程の反応を行う方が通常好ましく、最終段階、もしくは適切な段階で硫黄原子に変換することができる。反応は、硫黄化試剤の存在下、適当な不活性溶媒中で0℃〜用いた溶媒の沸点までの範囲の温度で、10分間〜120時間反応させることにより行うことができる。
硫黄化試剤としては、ローソン(Lawesson)試薬、五硫化リン等が挙げられる。
不活性溶媒としては、例えばアセトニトリルや、クロロホルムまたはジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、モノクロロベンゼン、キシレン、またはトルエン等の芳香族炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、または1,4−ジオキサン等のエーテル系溶媒、またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。
式(1)で表される化合物のうち、式(310)で表される化合物またはその塩は、例えば以下の方法によって製造することができる。
製造法4
Figure 2006077821
(式中、B、Q、R、R、R3a、R、R12、R13、YおよびLGは前記のとおりである)
化合物(301)またはその塩について製造法3と同様の工程を行うことにより、中間体(302)を経由して、化合物(310)を製造することができる。
また、化合物(303)のように5位にメチル基を有する化合物をブロモ化することによっても中間体(302a)を製造することができる。反応は、ラジカル開始剤とブロモ化試剤の存在下、適当な不活性溶媒中で約−20℃〜用いた溶媒の沸点までの範囲の温度で、10分間〜48時間反応させることにより行うことができる。
ラジカル開始剤としては、例えば、α,α’−アゾビスイソブチロニトリル、過酸化ベンゾイル等が挙げられる。
ブロモ化試剤としては、例えばN−ブロモコハク酸イミド、臭素などが挙げられる。
不活性溶媒としては、例えばアセトニトリルや、四塩化炭素、クロロホルムまたはジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、モノクロロベンゼン、ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。
式(1)で表される化合物のうち、式(410)で表される化合物またはその塩は、例えば以下の方法によって製造することができる。
製造法5
Figure 2006077821
(式中、B、R、R、QおよびYは前記のとおりである。ZおよびWは前記ZおよびWのうち、少なくともどちらか一方が窒素原子である。)
化合物(201a)またはその塩を化合物(401)またはその塩と反応させることにより、化合物(410)(ZまたはW=N)を製造することができる。反応は、必要により塩基の存在下、また、場合により金属触媒および配位子の存在下、適当な不活性溶媒中で約0℃〜用いた溶媒の沸点までの範囲の温度で、10分間〜48時間反応させることにより行うことができる。
塩基としては、例えばトリエチルアミン、ピリジンまたは2,4,6−コリジン等の有機塩基、炭酸カリウム、炭酸セシウム、酢酸セシウム、水酸化ナトリウムまたは水素化ナトリウム等の無機塩基等が挙げられる。
金属触媒としては、例えばよう化銅(I)、酢酸銅(II)、酢酸パラジウム(II)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)等が挙げられる。
配位子としては、例えば9,9−ジメチル−4,5−ビス(ジフェニルホスフィノ)キサンテン(Xantphos)、2−ジシクロヘキシルホスフィノ−2’−(N,N−ジメチルアミノ)ビフェニル等が挙げられる。
不活性溶媒としては、例えばアセトニトリルや、テトラヒドロフランまたは1,4−ジオキサン等のエーテル系溶媒、またはN,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドンまたはジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒もしくはこれらの混合溶媒等が挙げられる。
式(1)で表される化合物のうち、式(420)で表される化合物またはその塩は、例えば以下の方法によって製造することができる。
製造法6
Figure 2006077821
(式中、B、Q、W、X,YおよびZは前記のとおりであり、Rは水素原子、適切に保護された酸素原子、または適切に保護された窒素原子を表し、Uは、単結合、酸素原子、硫黄原子、置換されてもよいメチレン、置換されてもよいアミンを表す。m、nは、それぞれ独立して、1〜4の整数を表す。ただし、m+n≦5である。PおよびPは、それぞれ独立して保護基(例えばピバロイルなどのアシル基、tert-ブトキシカルボニルなどのアルキルオキシカルボニル基、またはジベンジルなどの置換アルキル基など)を表すが、場合により一方は水素原子を表してもよい。)
工程1〜4(保護基の導入〜リチオ化〜アルキル化〜脱保護)
化合物(402)またはその塩のアミノ基に保護基を導入して中間体(403)へと変換した後、これをリチウム塩基と反応させることにより、中間体(404)と変換し、さらに環状ケトン型化合物(405)を反応させることにより化合物(406)を合成することができる。これを脱保護することにより化合物(407)を製造することができる。
反応は、リチウム塩基の存在下、また、場合によりキレート試剤の存在下、適当な不活性溶媒中で約−100℃〜用いた溶媒の沸点までの範囲の温度で、10分間〜48時間反応させることにより行うことができる。
リチウム塩基としては、例えばn−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウムまたはtert-ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド等の有機リチウム試薬、金属リチウム等が挙げられる。
キレート試剤、不活性溶媒としては、例えば前述(製造法3−工程1)のものが挙げられる。
保護基としては、文献(例えば前述のProtective Groups in Organic Synthesis等)に記載されているような通常の保護基を用いることができ、更に具体的には、tert-ブトキシカルボニル、ジベンジル、またはピバロイル等をあげることができる。
保護基の導入および脱離は、有機合成化学で常用される方法(例えば、前述のProtective Groups in Organic Synthesis参照)またはそれらに準じた方法により行うことができる。
工程5(環化)
化合物(407)またはその塩を適切なカルボニル供与試剤と反応させることにより、環化中間体(408)を製造することができる。反応は、カルボニル供与試剤の存在下、適当な不活性溶媒中で約−20℃〜用いた溶媒の沸点までの範囲の温度で、10分間〜48時間反応させることにより行うことができる。
カルボニル供与試剤としては、例えば1,1’−カルボニルビス−1H−イミダゾール(CDI)、トリホスゲン、またはホスゲン等が挙げられる。
不活性溶媒としては、例えばクロロホルムまたはジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたは1,4−ジオキサン等のエーテル系溶媒、またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。
化合物(408)はRが水素の場合、通常用いられる一般的方法によって臭素化することにより、前述の製造法3の中間体(201)に相当する化合物に誘導し、以下、製造法3記載の方法に従って、化合物(420)を製造することができる。もしくは化合物(408)はRが水素の場合、通常用いられる一般的方法により、ニトロ化と続く還元を経由したアミノ化を行い、また、Rが保護された酸素原子、または保護された窒素原子の場合、通常用いられる一般的方法によって脱保護を行い、それぞれ前述の製造法1の中間体(101)に相当する化合物に誘導し、以下、製造法1記載の方法に従って、化合物(420)を製造することができる。
式(1)で表される化合物のうち、式(510)で表される化合物またはその塩は、例えば以下の方法によって製造することができる。
製造法7
Figure 2006077821
(式中、B、R、R、R、R、R、Z、LG、MおよびPは前記のとおりである。)
化合物(501)またはその塩の1位NHに保護基を導入して中間体(502)へと変換した後、製造法3の工程1〜4と同様にホルミル化、還元、脱離基の導入、スルホニル化の各工程を行い、中間体(506)を合成し、これを脱保護することにより化合物(510)を製造することができる。
保護基としては、前述(製造法3−工程5〜7)のような通常の保護基を用いることができ、更に具体的には、1位NHの保護基としてはtert-ブトキシカルボニル等をあげることができる。
保護基の導入および脱離は、有機合成化学で常用される方法(例えば、前述のProtective Groups in Organic Synthesis参照)またはそれらに準じた方法により行うことができる。
式(1)で表される化合物のうち、式(520)で表される化合物またはその塩は、例えば以下の方法によって製造することができる。
製造法8
Figure 2006077821
(式中、B、R、R、R、R、R、R12a、R13a、Z、LG’、およびPは前記のとおりである。)
前述(製造法7)の化合物(506)について、製造法3の工程6〜7と同様に置換基R12aおよびR13aの導入、脱保護の各工程を行い、化合物(520)を製造することができる。
保護基としては、前述(製造法3−工程5〜7)のような通常の保護基を用いることができ、更に具体的には、1位NHの保護基としてはtert-ブトキシカルボニル等をあげることができる。
保護基の導入および脱離は、有機合成化学で常用される方法(例えば、前述のProtective Groups in Organic Synthesis参照)またはそれらに準じた方法により行うことができる。
式(1)で表される化合物のうち、式(610)で表される化合物またはその塩は、例えば以下の方法によって製造することができる。
製造法9
Figure 2006077821
(式中、B、R、R、R、R、R、およびXは前記のとおりである。)
前述の製造法1、製造法2、製造法7および8で製造できる化合物(530)またはその塩を水素添加することにより化合物(610)を製造することができる。また化合物(530)を製造可能な前述の製造法7〜8における各中間体の適切ないずれかの段階で水素添加を行い、以下同様の工程を行うことによっても化合物(610)を製造することができる。
水素添加反応は、1〜5気圧の水素雰囲気下、または、場合により水素の代わりにギ酸アンモニウムを用い、金属触媒の存在下、また、場合により酸の存在下、適当な不活性溶媒中で約0℃〜用いた溶媒の沸点までの範囲の温度で、10分間〜48時間反応させることにより行うことができる。
金属触媒としては、例えばパラジウム−炭素、水酸化パラジウム−炭素、ラネーニッケル、酸化白金等が挙げられる。
酸としては、例えば塩酸等の鉱酸、またはギ酸、酢酸、等の有機酸等が挙げられる。
不活性溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、2−プロパノールのようなアルコール系溶媒、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。
式(1)で表される化合物のうち、式(620)で表される化合物またはその塩は、例えば以下の方法によっても製造することができる。
製造法10
Figure 2006077821
(式中、B、R、R、R、R、R、およびXは前記のとおりである。)
化合物(601)またはその塩のキノリンA環(含窒素環)部を還元することにより化合物(620)を製造することができる。また化合物(530)を製造可能な前述の製造法7〜8の原料もしくは各中間体をキノリン誘導体の形で行い、適切ないずれかの段階で同様な還元を行い、以下同様の工程を行うことによっても化合物(620)を製造することができる。
還元反応は、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒中、水素化ホウ素ナトリウムと塩化ニッケルを用いて0℃〜用いた溶媒の沸点までの範囲の温度で、10分間〜48時間反応させることにより行うことができる。また1〜5気圧の水素雰囲気下、または、場合により水素の代わりにギ酸アンモニウムを用い、金属触媒の存在下、また、場合により酸の存在下、適当な不活性溶媒中で0℃〜用いた溶媒の沸点までの範囲の温度で、10分間〜48時間反応させることにより行うことができる。
金属触媒、酸、および不活性溶媒としては前述(製造法9)のものが挙げられる。
式(1)で表される化合物のうち、式(710)で表される化合物またはその塩は、例えば以下の方法によって製造することができる。
製造法11
Figure 2006077821
(式中、B、R、R、R、R、R10、R11、X’およびLGは前記のとおりである。)
工程1(スルホニル化)
化合物(701)またはその塩を前述(製造法1)と同様にして化合物(102)またはその塩と反応させることにより、中間体(702)を製造することができる。
工程2(還元)
化合物(702)またはその塩をアニリン誘導体へと還元することにより、中間体(703)を製造することができる。反応は、前述(製造法9)同様に水素添加を行うか、もしくは金属還元試剤の存在下、適当な不活性溶媒中で約0℃〜用いた溶媒の沸点までの範囲の温度で、10分間〜48時間反応させることにより行うことができる。
金属還元試剤としては、例えば塩化スズ(II)、還元鉄または三塩化チタン(III)等が挙げられる。
不活性溶媒としては、例えば水、希塩酸、酢酸、アセトン、アセトニトリル、メタノール、エタノールまたは2−プロパノール等のアルコール系溶媒、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、またはN,N−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒、またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。
工程3(スルホンアミド化)
化合物(703)またはその塩を前述(製造法1)と同様にして化合物(704)またはその塩と反応させることにより、化合物(710)(X’=O,NR11)を製造することができる。
式(1)で表される化合物のうち、式(720)で表される化合物またはその塩は、例えば以下の方法によって製造することができる。
製造法12
Figure 2006077821
(式中、B、R、R、R、R、R10、LGおよびMは前記のとおりである。)
工程1(スルホニル化)
化合物(705)またはその塩を前述(製造法3−工程4)と同様にして化合物(205)またはその塩と反応させることにより、中間体(706)を製造することができる。
工程2(還元)
化合物(706)またはその塩を前述(製造法11−工程2)と同様にしてアニリン誘導体へと還元することにより、中間体(707)を製造することができる。
工程3(スルホンアミド化)
化合物(707)またはその塩を前述(製造法1)と同様にして化合物(704)またはその塩と反応させることにより、化合物(720)を製造することができる。
中間体の製法
化合物(101)のうち、Aが式(A−1)、式(A−2)、式(A−6)または式(A−7)を表す化合物、化合物(201)、(301)、(303)および(201a)は、文献(国際公開第98/14436号パンフレット、国際公開第00/66570号パンフレット、国際公開第00/66592号パンフレット、および国際公開第01/16108号パンフレット)に記載の方法もしくはそれに準じた方法に従って合成することができる。
化合物(101)のうち、Aが式(A−3)または式(A−4)を表す化合物、および化合物(501)は、文献(国際公開第96/19458号パンフレット、Tetrahedron Lett.,(2002),43,3907−3910、および国際公開第03/004028号パンフレット)に記載の方法もしくはそれに準じた方法に従って合成することができる。
化合物(601)は市販のキノリン誘導体を用いるか、もしくは同誘導体などから適宜官能基変換することにより、また、化合物(701)、および化合物(705)は、市販のニトロベンゼン誘導体を用いるか、もしくは同誘導体などから適宜官能基変換することにより、それぞれ合成することができる。官能基変換は、通常行われる一般的方法(例えば、Comprehensive Organic Transformations、R. C. Larock、(1989)等を参照。)によって行うことができる。
化合物(102)は、市販のアリールまたはヘテロアリールスルホニルハライド誘導体を用いるか、もしくはアリールまたはヘテロアリールスルホン酸誘導体、アリールまたはヘテロアリールチオール誘導体などから適宜官能基変換することにより合成することができる。官能基変換は、通常行われる一般的方法によって行うことができる。また化合物(102)は、アリールまたはヘテロアリール誘導体とクロロ硫酸を反応させることによって合成することができる。反応は、両者を直接混合して、また、場合により適当な不活性溶媒中で、約−20℃〜140℃までの範囲の温度で、10分間〜168時間反応させることにより行うことができる。
不活性溶媒としては、例えばクロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、トリフルオロ酢酸、塩化チオニル、もしくはこれらの混合溶媒等が挙げられる。
化合物(103)は、市販のアルキルハライド誘導体、アルカノイルハライド誘導体、アロイルハライド誘導体、アルコキシカルボニルハライド誘導体、またはアリールスルホニルハライド誘導体を用いるか、もしくはアルキルアルコール誘導体、アルキルまたはアリールカルボン酸誘導体、またはアルキルまたはアリールスルホン酸誘導体などから適宜官能基変換することにより合成することができる。官能基変換は、通常行われる一般的方法によって行うことができる。
化合物(205)は、市販のアリールまたはヘテロアリールスルフィン酸誘導体またはその塩を用いるか、もしくはアリールまたはヘテロアリールスルホニルハライド誘導体、アリールまたはヘテロアリールスルホン酸誘導体、アリールまたはヘテロアリールチオール誘導体などから適宜官能基変換することにより合成することができる。官能基変換は、通常行われる一般的方法によって行うことができる。
化合物(207)、(207a)および(208)は、市販のアルキルハライド誘導体を用いるか、もしくはアルキルアルコール誘導体などから適宜官能基変換することにより合成することができる。官能基変換は、通常行われる一般的方法によって行うことができる。
化合物(401)は、市販のアリールまたはヘテロアリールスルホンアミド誘導体を用いるか、もしくはアリールまたはヘテロアリールスルホニルハライド誘導体とアンモニアを縮合すること等により合成することができる。反応は、通常行われる一般的方法によって行うことができる。
化合物(402)は、市販の2−ブロモアニリン誘導体または対応する含窒素誘導体を用いるか、もしくはアニリンまたはアミノピリジン誘導体をブロモ化すること等により合成することができる。反応は、通常行われる一般的方法によって行うことができる。
化合物(704)は、市販のアルキルスルホニルハライド誘導体を用いるか、もしくはアルキルスルホン酸誘導体やアルキルチオール誘導体などから適宜官能基変換することにより合成することができる。官能基変換は、通常行われる一般的方法によって行うことができる。
また、前記式(1)の化合物において、官能基を適宜変換することによって、式(1)の別の化合物としてもよい。官能基の変換は、通常行われる一般的方法(例えば、前述のComprehensive Organic Transformations等を参照。)によって行うことができる。
また特に、ハロゲン基または水酸基から誘導されるトリフルオロメタンスルホニルオキシ基などはパラジウムなどの金属触媒を用いた付加反応によりアルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、シアノ基、アミノ基などに変換することができる。
本明細書を通じて、保護基、縮合剤などは、この技術分野において慣用されているIUPAC−IUB(生化学命名委員会)による略号で表わすことがある。
出発化合物および目的化合物の好適な塩および医薬として許容しうる塩は、慣用の無毒性塩であり、それらとしては、有機酸塩(例えば酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、蟻酸塩またはトルエンスルホン酸塩など)および無機酸塩(例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、よう化水素酸塩、硫酸塩、硝酸塩または燐酸塩など)のような酸付加塩、アミノ酸(例えばアルギニン、アスパラギン酸またはグルタミン酸など)との塩、アルカリ金属塩(例えばナトリウム塩またはカリウム塩など)およびアルカリ土類金属塩(例えばカルシウム塩またはマグネシウム塩など)などの金属塩、アンモニウム塩、または有機塩基塩(例えばトリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシルアミン塩またはN,N’−ジベンジルエチレンジアミン塩など)などの他、当業者が適宜選択することができる。
上記において説明した製造法において、反応点以外の何れかの官能基が説明した反応条件下で変化するかまたは説明した方法を実施するのに不適切な場合は、反応点以外を保護し、反応させた後、脱保護することにより目的化合物を得ることができる。保護基としては、文献(例えば前述のProtective Groups in Organic Synthesis等)に記載されているような通常の保護基を用いることができ、更に具体的には、アミンの保護基としては、例えばエトキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニル、アセチルまたはベンジル等を、また水酸基の保護基としては、例えばトリメチルシリル等のトリアルキルシリル基、アセチルまたはベンジル等をあげることができる。
保護基の導入および脱離は、有機合成化学で常用される方法(例えば前述のProtective Groups in Organic Synthesis参照)またはそれらに準じた方法により行うことができる。
上記各製造法における中間体および目的化合物は、有機合成化学で常用される精製法、例えば中和、濾過、抽出、洗浄、乾燥、濃縮、再結晶、各種クロマトグラフィー等に付して単離精製することができる。また、中間体においては、特に精製することなく次の反応に供することも可能である。
本発明化合物(1)の中には、互変異性体が存在し得るものがあるが、本発明は、これらを含め、全ての可能な異性体およびそれらの混合物を包含する。
本発明化合物(1)の薬学上許容される塩を取得したい時は、化合物(1)が薬学上許容される塩の形で得られる場合には、そのまま精製すればよく、また、遊離の形で得られる場合には、適当な有機溶媒に溶解もしくは懸濁させ、酸または塩基を加えて通常の方法により塩を形成させればよい。 また、化合物(1)およびその薬学上許容される塩は、水あるいは各種溶媒との付加物の形で存在することもあるが、これら付加物も本発明に包含される。本発明化合物(1)には、不斉炭素原子にもとづく1個以上の立体異性体が包含されうる場合があるが、かかる異性体およびそれらの混合物はすべてこの発明の範囲に包含される。
さらに本発明の範囲には本発明化合物(1)のプロドラッグも含まれる。本発明においてプロドラッグとは、生体内で酸加水分解により、あるいは酵素的に分解されて前記式(1)の化合物を与える誘導体をいう。例えば、前記式(1)の化合物が水酸基やアミノ基、またはカルボキシ基を有する場合は、これらの基を常法に従って修飾してプロドラッグを製造することができる。
例えばカルボキシ基を有する化合物であればそのカルボキシ基がアルコキシカルボニル基となった化合物、アルキルチオカルボニル基となった化合物、またはアルキルアミノカルボニル基となった化合物が挙げられる。
また、例えばアミノ基を有する化合物であれば、そのアミノ基がアルカノイル基で置換されアルカノイルアミノ基となった化合物、アルコキシカルボニル基により置換されアルコキシカルボニルアミノ基となった化合物、アルカノイルオキシメチルアミノ基となった化合物、またはヒドロキシルアミンとなった化合物が挙げられる。
また例えば水酸基を有する化合物であれば、その水酸基が前記アルカノイル基により置換されてアルカノイルオキシ基となった化合物、リン酸エステルとなった化合物、またはアルカノイルオキシメチルオキシ基となった化合物が挙げられる。
これらのプロドラッグ化に用いる基のアルキル部分としては前記アルキル基が挙げられ、そのアルキル基は例えばアルコキシ基等により置換されていてもよい。好ましい例としては、次のものが挙げられる。
例えばカルボキシル基がアルコキシカルボニル基となった化合物についての例としては、メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニルなどのアルコキシカルボニル、またはメトキシメトキシカルボニル、エトキシメトキシカルボニル、2−メトキシエトキシカルボニル、2−メトキシエトキシメトキシカルボニルまたはピバロイルオキシメトキシカルボニルなどのアルコキシ基により置換されたアルコキシカルボニルが挙げられる。
本発明化合物は、アルドステロン受容体MRに対して高い結合親和性を有し、アンタゴニスト活性または部分アゴニスト活性などのアルドステロン受容体調節剤としての薬理作用を有する。それゆえ、高血圧、脳卒中、不整脈、心不全、心肥大、動脈硬化、血管再狭窄、腎線維症、心筋梗塞、糖尿病合併症、腎疾患、浮腫、原発性アルドステロン症、炎症などの循環器系疾患の治療または予防に有用である。
医療目的には、本発明の化合物は、局所、経腸、静脈内、筋肉内、吸入、点鼻、関節内、髄腔内、経気管または経眼投与を含めての経口、非経口投与、外用に適した固体状または液状の有機または無機賦形剤などの薬学上許容しうる担体との混合物として医薬製剤の形態で使用できる。該医薬製剤としては、カプセル剤、錠剤、ペレット剤、糖衣錠、散剤、顆粒剤、坐剤、軟膏剤、クリーム剤、ローション剤、吸入剤、注射剤、パップ剤、ゲル剤、テープ剤、点眼剤、液剤、シロップ剤、エアゾール剤、懸濁剤、乳剤などの固体、半固体または液体が挙げられる。これらの製剤は通常の方法により製造することができる。所望により、これらの製剤に、助剤、安定剤、湿潤剤ないし乳化剤、緩衝剤、その他慣用の添加剤を加えることができる。
本発明化合物の用量は患者の年齢および状態に応じて増減するが、化合物(1)の平均一回量約0.1mg、1mg、10mg、50mg、100mg、250mg、500mgおよび1,000mgが、例えば高血圧、脳卒中、不整脈、心不全、心肥大、動脈硬化、血管再狭窄、腎線維症、心筋梗塞、糖尿病合併症、腎疾患、浮腫、原発性アルドステロン症、炎症といった循環器系疾患に対して有効である。一般には、ヒトに投与する場合、1日当り0.1mg/個体ないし約1,000mg/個体、好ましくは1日当り1mg/個体ないし約100mg/個体の量を投与することができる。
以下に実施例および試験例を用いて本発明を詳細に説明するが、本発明は何らこれらに限定されるものではない。なお、本明細書において記載の簡略化のために次の略語を使用することもある。
Me:メチル
Et:エチル
Pr:プロピル
i−Pr:イソプロピル
t−Bu:tert−ブチル
Ph:フェニル
Py:ピリジル
Bn:ベンジル
Boc:tert−ブトキシカルボニル
参考例1
2−アミノ−5−メトキシ安息香酸メチル
5−メトキシ−2−ニトロ安息香酸メチル(1.60g,7.58mmol)の酢酸エチル(14mL)溶液に10%パラジウム−炭素(50%含水品)(320mg)を加え、20−25℃にて0.25MPaの水素雰囲気下3時間攪拌した。反応後、パラジウム−炭素を濾過除去し溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=10/1〜5/1)で精製することにより、2−アミノ−5−メトキシ安息香酸メチル(1.29g,94%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:3.76(3H,s),3.88(3H,s),5.37(2H,br),6.63(1H,d,J=8.8Hz),6.95(1H,dd,J=8.8,3.1Hz),7.35(1H,d,J=3.1Hz).
参考例2
2−(2−アミノ−5−メトキシフェニル)プロパン−2−オール
2−アミノ−5−メトキシ安息香酸メチル(362mg,2.00mmol)のテトラヒドロフラン(4.0mL)溶液に0℃で0.93M臭化メチルマグネシウム−テトラヒドロフラン溶液(8.60mL,8.00mmol)を加えた後、20−25℃に昇温して2.5時間攪拌した。反応後、塩化アンモニウム水を加え酢酸エチルにて抽出した。有機層を塩化アンモニウム水、飽和食塩水で洗浄してから無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。ろ過後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=3/1〜2/1)で精製することにより、2−(2−アミノ−5−メトキシフェニル)プロパン−2−オール(336mg,93%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.65(6H,s),3.75(3H,s),6.62(1H,d,J=8.5Hz),6.67(1H,dd,J=8.5,2.7Hz),6.76(1H,d,J=2.7Hz).
参考例3
6−メトキシ−4,4−ジメチル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オン
2−(2−アミノ−5−メトキシフェニル)プロパン−2−オール(338mg,1.86mmol)の1,4−ジオキサン(9.5mL)溶液に20−25℃でトリホスゲン(194mg,0.651mmol)を加え、1時間加熱還流した。反応後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をクロロホルム−酢酸エチル−ヘキサン混合液にて再結晶することにより、6−メトキシ−4,4−ジメチル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オン(302mg,78%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.71(6H,s),3.79(3H,s),6.70(1H,s),6.78(2H,m),8.68(1H,br.s).
参考例4
6−ヒドロキシ−4,4−ジメチル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オン
6−メトキシ−4,4−ジメチル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オン(104mg,0.500mmol)のジクロロメタン(8.0mL)溶液に−78℃で1M三臭化ホウ素−ジクロロメタン溶液(1.00mL,1.00mmol)を加えた後、20−25℃に昇温して4時間攪拌した。反応後、0℃で水を加え酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄してから無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。ろ過後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム/酢酸エチル=3/1、さらに3%メタノール添加にて溶出)で精製することにより、6−ヒドロキシ−4,4−ジメチル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オン(93mg,96%)を得た。
H−NMR(DMSO−d)δ:1.53(6H,s),6.62−6.70(3H,m),9.20(1H,s),9.89(1H,s).
参考例5
(2−アミノ−5−メトキシフェニル)メタノール
水素化リチウムアルミニウム(228mg,6.00mmol)のテトラヒドロフラン(8.0mL)懸濁液に0℃で、参考例1で合成した化合物(362mg,2.00mmol)のテトラヒドロフラン(8.0mL)溶液を25分間かけて滴下し、20−25℃に昇温して、さらに2時間攪拌した。反応後、0℃で、水、2N水酸化ナトリウム水溶液、水を順次滴下し、酢酸エチルと無水硫酸マグネシウムを加えて攪拌した。ろ過後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=1/1)で精製することにより、(2−アミノ−5−メトキシフェニル)メタノール(235mg,77%)を得た。
LC−MS(M+1):154.1.
参考例6
2−(2−アミノ−5−ブロモフェニル)プロパン−2−オール
氷冷下、3−ブロモアントラニル酸メチル(9.20g,40.0mmol)のジエチルエーテル(100mL)溶液に3.0M臭化メチルマグネシウム−テトラヒドロフラン溶液(55mL,165mmol)を滴下し、0℃で3.5時間攪拌した。反応液を0℃で塩化アンモニウム水溶液に注入し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去して得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=4/1)で精製することにより2−(2−アミノ−5−ブロモフェニル)プロパン−2−オール(5.72g,62%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.65(6H,s),6.52(1H,d,J=8.4Hz),7.14(1H,dd,J =8.4,2.2Hz),7.20(1H,d,J=2.4Hz).
参考例7
6−ブロモ−4,4−ジメチル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オン
2−(2−アミノ−5−ブロモフェニル)プロパン−2−オールから参考例3と同様の方法で6−ブロモ−4,4−ジメチル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オンを合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.71(6H,s),6.73(1H,d,J=8.4Hz),7.36(1H,dd,J=8.4,2.1Hz),8.61(1H,s).
参考例8
4,4−ジメチル−2−オキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−カルバアルデヒド
6−ブロモ−4,4−ジメチル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オン(173mg,0.676mmol)のテトラヒドロフラン(5mL)溶液に、−70℃で1.58M n−ブチルリチウム−ヘキサン溶液(1.4mL,2.2mmol)を滴下し、30分間攪拌した。その後N,N−ジメチルホルムアミド(0.20mL,2.6mmol)を滴下し、20−25℃に昇温して2時間攪拌した。反応液を水に注入し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去して得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=2/1〜1/1)で精製することにより、4,4−ジメチル−2−オキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−カルバアルデヒド(86.3mg,62%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.78(6H,s),6.98(1H,d,J=8.0Hz),7.72(1H,s),7.79(1H,dd,J=8.4,2.0Hz),9.91(1H,s).
参考例9
6−(ヒドロキシメチル)−4,4−ジメチル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オン
4,4−ジメチル−2−オキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−カルバアルデヒド(84.0mg,0.409mmol)のテトラヒドロフラン(0.50mL)とメタノール(2.0mL)の混合溶液に、氷冷下、水素化ホウ素ナトリウム(30.6mg,0.81mmol)を加え、20−25℃で1.5時間攪拌した。溶媒を減圧留去して得られた残査に飽和塩化アンモニウム水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去して得られた残査を薄層クロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=1/2)で精製することにより、6−(ヒドロキシメチル)−4,4−ジメチル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オン(65.1mg,77%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.73(6H,s),4.67(1H,d,J=5.5Hz),6.79(1H,d,J=8.1Hz),7.18(1H,s),7.21−7.25 (1H,m),7.92(1H, s).
参考例10
2−メチル6−ニトロ安息香酸メチル
2−メチル−6−ニトロ安息香酸(3.62g,20.0mmol)と塩化チオニル(15mL)の混合物を80℃で3.5時間攪拌した。過剰の塩化チオニルを減圧留去して得られた残渣を塩化メチレン(5mL)に溶解した。この溶液をトリエチルアミン(3.0mL)のメタノール(10mL)溶液に0℃で滴下し、20−25℃で3時間攪拌した。溶媒を減圧留去して得られた残渣に飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去して2−メチル6−ニトロ安息香酸メチル(3.82g,98%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:2.42(3H,s),3.97(3H,s),7.50(1H,t,J=7.9Hz),7.55(1H,d,J=6.4Hz),7.99(2H,d,J=8.0Hz).
参考例11
2−アミノ−6−メチル安息香酸メチル
2−メチル6−ニトロ安息香酸メチル(3.80g,19.5mmol)と10%パラジウム−炭素(50%含水品)(1.03g)の混合物をメタノール(20mL)中、水素雰囲気下、20−25℃で1.5時間攪拌した。パラジウム−炭素を濾過除去し溶媒を減圧留去して2−アミノ−6−メチル安息香酸メチル(3.13g,97%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:2.43(3H,s),3.88(3H,s),2.37(3H,s),6.52(1H,s),6.54(1H,s),7.08(1H,t,J=7.9 Hz).
参考例12
2−(2−アミノ−6−メチルフェニル)プロパン−2−オール
2−アミノ−6−メチル安息香酸メチルから参考例6と同様の方法で2−(2−アミノ−6−メチルフェニル)プロパン−2−オールを合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.73(6H,s),2.43(3H,s),6.49−6.54(2H,m),6.90(1H,t,J=7.7Hz).
参考例13
4,4,5−トリメチル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オン
2−(2−アミノ−6−メチルフェニル)プロパン−2−オールから参考例3と同様の方法で4,4,5−トリメチル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オンを合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.80(6H,s),2.41(3H,s),6.67(1H,d,J=7.7Hz),6.85(1H,d,J=7.1Hz), 7.10(1H,d,J=7.7Hz).
参考例14
5−(ジベンジルアミノ)−2−ニトロ安息香酸ベンジル
5−アミノ−2−ニトロ安息香酸(182mg,1.00mmol)のトルエン(5.0mL)懸濁液にジイソプロピルエチルアミン(697μL,4.00mmol)、ベンジルブロミド(416μL,3.50mmol)及びよう化テトラブチルアンモニウム(111mg,0.30mmol)を加え、加熱還流下6時間攪拌した。反応液に水を注入し、酢酸エチルで分液抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=20/1〜6/1)で精製することにより、5−(ジベンジルアミノ)−2−ニトロ安息香酸ベンジル(318mg,70%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:4.73(4H,s),5.31(2H,s),6.69(1H,dd,J=9.2,2.9Hz),6.75(1H,d,J=2.9Hz),7.15−7.18(4H,m),7.28−7.39(11H,m),7.97(1H,d,J=9.2Hz).
参考例15
2−アミノ−5−(ジベンジルアミノ)安息香酸ベンジル
5−(ジベンジルアミノ)−2−ニトロ安息香酸ベンジル(318mg,0.703mmol)のエタノール(7.0mL)溶液に塩化スズ(II)二水和物(793mg,3.51mmol)を加え加熱還流下3.5時間攪拌した。放冷後、反応液を酢酸エチルで希釈し重曹水を注入した混合物を濾過し、酢酸エチルで分液抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を減圧留去して2−アミノ−5−(ジベンジルアミノ)安息香酸ベンジル(290mg,97%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:4.46(4H,s),5.23(2H,s),6.55(1H,d,J=9.0Hz),6.89(1H,dd,J=9.0,3.1Hz),7.19−7.37(16H,m).
参考例16
2−[2−アミノ−5−(ジベンジルアミノ)フェニル]プロパン−2−オール
2−アミノ−5−(ジベンジルアミノ)安息香酸ベンジルから参考例2と同様の方法で2−[2−アミノ−5−(ジベンジルアミノ)フェニル]プロパン−2−オールを合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.47(6H,s),3.59(2H,br.s),4.49(4H,s),6.51−6.58(3H,m),7.19−7.36(10H,m).
参考例17
6−(ジベンジルアミノ)−4,4−ジメチル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オン
2−[2−アミノ−5−(ジベンジルアミノ)フェニル]プロパン−2−オールから参考例3と同様の方法で6−(ジベンジルアミノ)−4,4−ジメチル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オンを合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.55(6H,s),4.60(4H,s),6.46(1H,d,J=2.4Hz),6.58(1H,d,J=8.6Hz),6.62(1H,dd,J=8.6,2.4Hz),7.23−7.39(10H,m).
参考例18
6−アミノ−4,4−ジメチル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オン
6−(ジベンジルアミノ)−4,4−ジメチル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オン(181mg,0.486mmol)のメタノール(6.0mL)−酢酸エチル(6.0mL)混合溶液に10%水酸化パラジウム−炭素(50%含水品)(60mg)を加え、20−25℃にて0.2MPaの水素雰囲気下2.5時間攪拌した。反応後、触媒を濾過除去し溶媒を減圧留去して6−アミノ−4,4−ジメチル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オン(99mg,100%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.67(6H,s),3.25(2H,br.s),6.48(1H,d,J=2.4Hz),6.57(1H,dd,J=8.3,2.4Hz),6.70(1H,d,J=8.3Hz),9.31(1H,br.s).
参考例19
2−(1−エトキシビニル)−3−ニトロピリジン
2−クロロ−3−ニトロピリジン(3.87g,24.4mmol)とトリブチル−1−エトキシビニルすず(9.70g,26.9mmol)のトルエン(122mL)溶液にトリフェニルホスフィン(384mg,1.46mmol)とテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(564mg,0.488mmol)を加え窒素雰囲気下、4時間加熱還流した。放冷後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=12/1〜10/1)で精製することにより、2−(1−エトキシビニル)−3−ニトロピリジン(4.58g,97%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.31(3H,t,J=7.0Hz),3.91(2H,q,J=7.0Hz),4.55(1H,d,J=2.6Hz),5.10(1H,d,J=2.6Hz),7.38−7.43(1H,m),7.96−8.00(1H,m),8.71−8.73(1H,m).
参考例20
1−(3−ニトロピリジン−2−イル)エタノン
2−(1−エトキシビニル)−3−ニトロピリジン(4.58g,23.6mmol)の酢酸(46mL)溶液に3N塩酸(34mL)を加え、20−25℃で9時間攪拌した。反応液を水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、炭酸水素ナトリウム水溶液で弱アルカリ性とし(pH 8〜9)、酢酸エチルで分液抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=2/1)で精製することにより、1−(3−ニトロピリジン−2−イル)エタノン(3.08g,79%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:2.73(3H,s),7.60(1H,dd,J=8.3,4.8Hz),8.23(1H,dd,J=8.3,1.5Hz),8.83(1H,dd,J=4.8,1.5Hz).
参考例21
1−(3−アミノピリジン−2−イル)エタノン
1−(3−ニトロピリジン−2−イル)エタノン(3.08g,18.6mmol)のエタノール(40 mL)溶液に5%パラジウム−硫酸バリウム(1g)を加え、0.3MPaの水素雰囲気下、20−25℃で5時間攪拌した。 反応液をセライト濾過し、濾液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=2/1)で精製することにより、1−(3−アミノピリジン−2−イル)エタノン(2.40g,95%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:2.71(3H,s),6.14(2H,br.s),6.97(1H,dd,J=8.4,1.5Hz),7.20(1H,dd,J=8.4,4.1Hz),8.01(1H,dd,J=4.1,1.5Hz).
参考例22
2−(3−アミノピリジン−2−イル)プロパン−2−オール
氷冷下、1.2Mメチルリチウム−ジエチルエーテル溶液(56mL,67mmol)に1−(3−アミノピリジン−2−イル)エタノン(2.27g,16.7mmol)のジエチルエーテル(60mL)溶液を20分かけて滴下し、さらに20−25℃で2時間攪拌した。 氷冷下、反応液に水を注入し、酢酸エチルおよびクロロホルムで分液抽出した。 有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=5/2〜1/1)で精製することにより、2−(3−アミノピリジン−2−イル)プロパン−2−オール(2.52g,99%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.66(6H,s),4.40(2H,br.s),6.92(1H,dd,J=7.9,1.5Hz),7.00(1H,dd,J=7.9,4.6Hz),7.90(1H,dd,J=4.6,1.5Hz).
参考例23
2−(3−アミノ−6−ブロモピリジン−2−イル)プロパン−2−オール
ドライアイス−アセトニトリル浴で−35℃に冷却した2−(3−アミノピリジン−2−イル)プロパン−2−オール(152mg,1.00mmol)のアセトニトリル(20mL)溶液にN−ブロモコハク酸イミド(NBS)(178mg,1.00mmol)を加え、−35℃から0℃にゆっくり昇温しながら1時間攪拌した。水(2mL)を添加後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム/酢酸エチル=30/1〜20/1)で精製することにより、2−(3−アミノ−6−ブロモピリジン−2−イル)プロパン−2−オール(213mg,92%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.64(6H,s),2.55(1H,br.s),4.58(2H,br.s),6.78(1H,d,J=8.3Hz),7.11(1H,dd,J=8.3Hz).
参考例24
6−ブロモ−4,4−ジメチル−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[3,2−d][1,3]オキサジン−2−オン
2−(3−アミノ−6−ブロモピリジン−2−イル)プロパン−2−オールから参考例3と同様の方法で6−ブロモ−4,4−ジメチル−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[3,2−d][1,3]オキサジン−2−オンを合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.76(6H,s),7.03(1H,d,J=8.3Hz),7.35(1H,d,J=8.3Hz),9.00(1H,br.s).
参考例25
3−アミノイソニコチン酸エチル
3−アミノイソニコチン酸(1.4g,10mmol)のエタノール20mL溶液に濃硫酸(2.94g,30mmol)を加え20時間加熱還流した。反応液を減圧留去し、氷冷下、残渣に水を加え2N水酸化ナトリウム水溶液でアルカリ性(pH8〜9)とし、析出固体を濾取、乾燥することにより、3−アミノイソニコチン酸エチル(0.70g,42%)を得た。さらに濾液を酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して、3−アミノイソニコチン酸エチル(0.30g,18%)を得た。
H−NMR(DMSO−d)δ:1.30(3H,t,J=7.1Hz),4.28(2H,q,J=7.1Hz),6.66(2H,br.s),7.45(1H,d,J=5.2Hz),7.73(1H,d,J=5.2Hz),8.23(1H,s).
参考例26
2−(3−アミノピリジン−4−イル)プロパン−2−オール
3−アミノイソニコチン酸エチルから参考例2と同様の方法で2−(3−アミノピリジン−4−イル)プロパン−2−オールを合成した。
H−NMR(DMSO−d)δ:1.46(6H,s),5.38(1H,s),5.46(2H,br.s),6.92(1H,d,J=5.1Hz),7.68(1H,d,J=5.1Hz),7.90(1H,s).
参考例27
2−(5−アミノ−2−ブロモピリジン−4−イル)プロパン−2−オール
2−(3−アミノピリジン−4−イル)プロパン−2−オールから参考例23と同様の方法で2−(5−アミノ−2−ブロモピリジン−4−イル)プロパン−2−オールを合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.64(6H,s),2.05(1H,s),4.71(2H,br.s),7.10(1H,s),7.75 (1H,s).
参考例28
6−ブロモ−4,4−ジメチル−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[3,4−d][1,3]オキサジン−2−オン
2−(5−アミノ−2−ブロモピリジン−4−イル)プロパン−2−オールから参考例3と同様の方法で6−ブロモ−4,4−ジメチル−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[3,4−d][1,3]オキサジン−2−オンを合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.74(6H,s),7.25(1H,s),8.03(1H,s),9.27(1H,br.s).
参考例29
2−アミノニコチン酸アリル
2−アミノニコチン酸(1.40g,10.1mmol)のアセトン(84mL)懸濁液に炭酸カリウム(3.25g,23.5mmol)、及び、アリルブロマイド(1.10mL,12.7mmol)を加え、加熱還流下10時間攪拌した。反応溶液に重曹水を注入し、酢酸エチルで分液抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して2−アミノニコチン酸アリル(1.62g,90%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:4.79(2H,dt,J=5.7,1.4Hz),5.30(1H,ddd,J=10.4,2.8,1.4Hz),5.40(1H,ddd,J=17.2,2.8,1.4Hz),6.02(1H,ddt,J=17.2,10.4,5.7Hz),6.63(1H,dd,J=7.8,4.8Hz),8.17(1H,dd,J=7.8,1.9Hz),8.23(1H,dd,J=4.8,1.9Hz).
参考例30
2−(2−アミノピリジン−3−イル)プロパン−2−オール
2−アミノニコチン酸アリルから参考例2と同様の方法で2−(2−アミノピリジン−3−イル)プロパン−2−オールを合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.64(6H,s),5.50(2H,br.s),6.57(1H,dd,J=7.7,5.0Hz),7.32(1H,dd,J=7.7,1.7Hz),7.90(1H,dd,J=5.0,1.7Hz).
参考例31
4,4−ジメチル−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[2,3−d][1,3]オキサジン−2−オン
2−(2−アミノピリジン−3−イル)プロパン−2−オール(1.03g,6.77mmol)のテトラヒドロフラン(50mL)溶液に1,1’−カルボニルビス−1H−イミダゾール(CDI)(2.33g,14.4mmol)を加え加熱還流下4時間攪拌した。放冷後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=1/1〜1/2)で精製することにより、4,4−ジメチル−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[2,3−d][1,3]オキサジン−2−オン(1.16g,96%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.73(6H,s),7.06(1H,dd,J=7.5,5.0Hz),7.48(1H,dd,J=7.5,1.5Hz),8.38(1H,dd,J=5.0,1.5Hz),10.33(1H,br.s).
参考例32
6−ブロモ−4,4−ジメチル−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[2,3−d][1,3]オキサジン−2−オン
4,4−ジメチル−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[2,3−d][1,3]オキサジン−2−オン(1.08g,6.08mmol)のアセトニトリル(50mL)溶液にN−ブロモコハク酸イミド(NBS)(1.11g,6.21mmol)を加え、加熱還流下4.5時間攪拌した。反応溶液に重曹水を注入し、酢酸エチルで分液抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し減圧濃縮して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=7:1〜3:1)で精製した後、アセトニトリル洗浄して6−ブロモ−4,4−ジメチル−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[2,3−d][1,3]オキサジン−2−オン(747mg,48%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.73(6H,s),7.57(1H,d,J=2.2Hz),7.97(1H,br.s),8.30(1H,d,J= 2.2Hz).
参考例33
4,4−ジメチル−2−オキソ−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[2,3−d][1,3]オキサジン−6−カルバアルデヒド
6−ブロモ−4,4−ジメチル−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[2,3−d][1,3]オキサジン−2−オンから参考例8と同様の方法で4,4−ジメチル−2−オキソ−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[2,3−d][1,3]オキサジン−6−カルバアルデヒドを合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.78(6H,s),8.00(1H,d,J=1.9Hz),8.18(1H,br.s),8.83(1H,d,J=1.9Hz),10.02(1H,s).
参考例34
6−(ヒドロキシメチル)−4,4−ジメチル−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[2,3−d][1,3]オキサジン−2−オン
4,4−ジメチル−2−オキソ−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[2,3−d][1,3]オキサジン−6−カルバアルデヒドから参考例9と同様の方法で6−(ヒドロキシメチル)−4,4−ジメチル−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[2,3−d][1,3]オキサジン−2−オンを合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.74(6H,s),1.80(1H,t,J=5.6Hz),4.71(1H,d,J=5.6Hz),7.54(1H,d,J=1.8Hz),8.23(1H,d,J=1.8Hz),8.38(1H,br.s).
参考例35
4,4−ジメチル−6−ニトロ−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[2,3−d][1,3]オキサジン−2−オン
0℃に冷却下、参考例31で合成した化合物(320mg,1.80mmol)の濃硫酸(1.80mL,33.7mmol)溶液に発煙硝酸(2.00mL,42.9mmol)を加え、65℃に加熱保温下15時間攪拌した。放冷後の反応液に0℃に冷却下、大過剰の氷を加え希釈し、水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、酢酸エチルで分液抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し減圧濃縮して得られた粗生成物残渣を溶媒(ヘキサン/クロロホルム=1/1)による懸濁洗浄で精製して4,4−ジメチル−6−ニトロ−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[2,3−d][1,3]オキサジン−2−オン(342mg,85%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.81(6H,s),8.28(1H,d,J=2.5Hz),9.01(1H,br.s),9.18(1H,d,J=2.5Hz).
参考例36
6−アミノ−4,4−ジメチル−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[2,3−d][1,3]オキサジン−2−オン
4,4−ジメチル−6−ニトロ−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[2,3−d][1,3]オキサジン−2−オン(386mg,1.73mmol)のメタノール(5mL)−酢酸エチル(50mL)混合溶液に10%パラジウム−炭素(50%含水品)(100mg)を加え、20−25℃にて0.25MPaの水素雰囲気下1時間攪拌した。触媒を濾過除去し濾液を減圧濃縮して得られた粗生成物残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=1/5〜酢酸エチルのみ)で精製することにより、6−アミノ−4,4−ジメチル−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[2,3−d][1,3]オキサジン−2−オン(280mg,84%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.69(6H,s),3.60(2H,br.s),6.85(1H,d,J=2.4Hz),7.83(1H,d,J=2.4Hz),9.35(1H,br.s).
参考例37
(2−アミノ−5−ニトロフェニル)(フェニル)メタノール
2−アミノ−5−ニトロベンゾフェノン(3.00g,12.4mmol)の2−プロパノール(60mL)溶液に水素化ホウ素ナトリウム(0.70g,19mmol)を20−25℃で加え、30分間加熱還流した。反応液に氷冷下、塩化アンモニウム水を注入し、溶媒を減圧留去した後、重曹水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を減圧留去して(2−アミノ−5−ニトロフェニル)(フェニル)メタノール(3.44g,100%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:5.86(1H,s),6.57−6.60(1H,m),7.29−7.41(5H,m),7.99−8.02(2H,m).
参考例38
6−ニトロ−4−フェニル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オン
(2−アミノ−5−ニトロフェニル)(フェニル)メタノールから参考例3と同様の方法で6−ニトロ−4−フェニル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オンを合成した。
H−NMR(DMSO−d)δ:6.72(1H,s),7.14(1H,d,J=9.0Hz),7.35−7.49(5H,m),7.84(1H,d,J=2.6Hz),8.23(1H,dd,J=8.8,2.6Hz),11.06(1H,br.s).
参考例39
6−アミノ−4−フェニル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オン
6−ニトロ−4−フェニル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オンから参考例15と同様の方法で6−アミノ−4−フェニル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オンを合成した。
H−NMR(DMSO−d)δ:4.86(2H,br.s),6.09(1H,d,J=2.4Hz),6.32(1H,s),6.47(1H,dd,J=8.4,2.4Hz),6.64(1H,d,J=8.3Hz),7.30−7.45(5H,m),9.87(1H,br.s).
参考例40
1−(2−アミノフェニル)プロペ−2−エン−1−オール
1M臭化ビニルマグネシウム−テトラヒドロフラン溶液(14mL,14mmol)に20−25℃で2−アミノベンズアルデヒド(484mg,4.00mmol)のテトラヒドロフラン(10mL)溶液を滴下した後、20−25℃にて1時間攪拌した。反応後、水を加え酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄してから無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。ろ過後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=10/1〜2/1)で精製することにより、1−(2−アミノフェニル)プロペ−2−エン−1−オール(351mg,59%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:5.20(1H,d,J=5.2Hz),5.26(1H,dt,J=10.3,1.3Hz),5.36(1H,dt,J=17.1,1.4Hz),6.17(1H,ddd,J=17.1,10.3,5.2Hz),6.66(1H,d,J=7.9Hz),6.73(1H,t−like,J=7.5Hz),7.08−7.13(2H,m).
参考例41
4−ビニル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オン
1−(2−アミノフェニル)プロペ−2−エン−1−オールから参考例3と同様の方法で4−ビニル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オンを合成した。
H−NMR(CDCl)δ:5.36(1H,d,J=17.1Hz),5.42(1H,d,J=10.5Hz),5.81(1H,d,J=6.4Hz),6.03(1H,ddd,J=17.1,10.5,6.4Hz),6.85(1H,d,J=7.7Hz),7.05−7.12(2H,m),7.26−7.31(1H,m),8.19(1H,br.s).
参考例42
6−ニトロ−4−ビニル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オン
0℃に冷却下、4−ビニル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オン(380mg,2.17mmol)の無水酢酸(14mL)−酢酸(7mL)混合溶液に発煙硝酸(0.152mL,3.26mmol)を加え、50℃に加熱保温下9時間攪拌した。放冷後の反応液に水を加え希釈し、酢酸エチルで分液抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し減圧濃縮して得られた粗生成物残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン/酢酸エチル=20/1〜5/1)で精製して、6−ニトロ−4−ビニル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オン(226mg,47%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:5.48(1H,d,J=17.4Hz),5.56(1H,d,J=10.3Hz),5.90(1H,d,J=6.4Hz),6.09(1H,ddd,J=17.4,10.3,6.4Hz),6.98(1H,d,J=8.8Hz),8.05(1H,d,J=2.4Hz),8.23(1H,dd,J=8.8,2.4Hz),8.68(1H,br.m).
参考例43
6−アミノ−4−ビニル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オン
6−ニトロ−4−ビニル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オンから参考例15と同様の方法で6−アミノ−4−ビニル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オンを合成した。
H−NMR(DMSO−d)δ:5.22(2H,br.m),5.27−5.32(2H,m),5.72(1H,d,J=6.4Hz),5.96(1H,m),6.35(1H,d,J=2.2Hz),6.48(1H,dd,J=8.4,2.2Hz),6.59(1H,d,J=8.4Hz),9.79(1H,s).
参考例44
2−(2−アミノフェニル)ブチ−3−イン−2−オール
0.5M臭化エチニルマグネシウム−テトラヒドロフラン溶液(25.0mL,12.5mmol)に0℃で2’−アミノアセトフェノン(486mg,3.60mmol)のテトラヒドロフラン(13mL)溶液を滴下した後、20−25℃にて2.5時間攪拌した。反応後、水を加え酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄してから無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。ろ過後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=10/1〜5/1)で精製することにより、2−(2−アミノフェニル)ブチ−3−イン−2−オール(521mg,90%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.92(3H,s),2.71(1H,s),3.48(1H,br.s),4.44(2H,br.s),6.71(1H,dd,J=7.9,1.3Hz),6.78(1H,dt,J=1.3,7.5Hz),7.13(1H,dt,J=1.6,7.9Hz),7.48(1H,dd,J=7.9,1.6Hz).
参考例45
4−エチニル−4−メチル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オン
2−(2−アミノフェニル)ブチ−3−イン−2−オールから参考例3と同様の方法で4−エチニル−4−メチル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オンを合成した。
H−NMR(CDCl)δ:2.02(3H,s),2.74(1H,s),6.88(1H,d,J=7.7Hz),7.12(1H,t−like,J=7.7Hz),7.30(1H,dd,J=7.7,1.3Hz),7.35(1H,d,J=7.7Hz),8.55(1H,br.s).
参考例46
4−エチニル−4−メチル−6−ニトロ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オン
4−エチニル−4−メチル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オンから参考例42と同様の方法で4−エチニル−4−メチル−6−ニトロ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オンを合成した。
H−NMR(CDCl)δ:2.09(3H,s),2.85(1H,s),7.03(1H,d,J=8.6Hz),8.25(1H,dd,J=8.6,2.0Hz),8.29(1H,d,J=2.0Hz),9.23(1H,br.s).
参考例47
6−アミノ−4−エチニル−4−メチル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オン
4−エチニル−4−メチル−6−ニトロ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オンから参考例15と同様の方法で6−アミノ−4−エチニル−4−メチル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オンを合成した。
H−NMR(DMSO−d)δ:1.79(3H,s),3.87(1H,s),4.98(2H,br,s),6.48−6.62(3H,m),10.01(1H,br.s).
参考例48
6−アミノ−4−メチル−4−ビニル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オン
2’−アミノアセトフェノンから参考例44と同様の方法、参考例3と同様の方法、参考例42と同様の方法、続いて実施例15と同様の方法を順次用いて6−アミノ−4−メチル−4−ビニル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オンを合成した。
H−NMR(DMSO−d)δ:1.61(3H,s),4.87(2H,br.s),5.01(1H,d,J=17.3Hz),5.15(1H,d,J=10.6Hz),5.95(1H,dd,J=17.0,10.6Hz),6.43(1H,d,J=2.2Hz),6.46(1H,dd,J=8.4,2.2Hz),6.57(1H,d,J=8.4Hz),9.79(1H,s).
参考例49
4−メチルベンゼンスルホン酸 4−ニトロフェニル
p−ニトロフェノール(696mg,5.00mmol)のアセトン(10mL)溶液に炭酸カリウム(1.73g,12.5mmol)と塩化p−トルエンスルホニル(1.05g,5.50mmol)を加えた後、20−25℃で2.5時間攪拌した。反応後、1N塩酸水を加えて中和し、酢酸エチルにて抽出した。この有機層を重曹水、飽和食塩水で洗浄してから無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。ろ過後、溶媒を減圧留去して、4−メチルベンゼンスルホン酸4−ニトロフェニル(1.47g,100%)を得た。
LC−MS(M+1):294.1.
参考例50
4−メチルベンゼンスルホン酸 4−アミノフェニル
4−メチルベンゼンスルホン酸4−ニトロフェニルから参考例36と同様の方法で4−メチルベンゼンスルホン酸4−アミノフェニルを合成した。
LC−MS(M+1):264.2.
参考例51
6−ブロモ−2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン
4−ブロモアニリン(13.8g,80.0mmol)のアセトン(480mL)溶液に、トリフルオロメタンスルホン酸スカンジウム(3.94g,8.00mmol)を加え20−25℃で10時間攪拌し、さらに60時間加熱還流した。反応液を減圧濃縮して得られた粗生成物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=30/1〜25/1)で精製することにより、6−ブロモ−2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン(6.61g,33%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.26(6H,s),1.95(3H,d,J=1.5Hz),3.69(1H,br.s),5.33(1H,d,J=1.1Hz),6.31(1H,d,J=8.4Hz),7.04(1H,dd,J=8.4,2.2Hz),7.12(1H,d,J=2.2Hz).
参考例52
6−ブロモ−2,2,4−トリメチルキノリン−1(2H)−カルボン酸tert−ブチル
6−ブロモ−2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン(4.04g,16.0mmol)のテトラヒドロフラン(40mL)溶液を−78℃に冷却し、1.56M n−ブチルリチウム−ヘキサン溶液(10.9mL,17.0mmol)を加え−78℃で30分間保温した後、0℃まで昇温し、ジ−tert−ブチル−ジカルボナート(BocO)(3.92g,18.0mmol)のテトラヒドロフラン(5mL)溶液を滴下した。反応溶液を20−25℃まで昇温し3時間攪拌した。反応溶液に塩化アンモニウム水を加えた後、酢酸エチルで分液抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム乾燥後、減圧濃縮して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (ヘキサン/ジエチルエーテル30/1〜10/1)で精製することにより、6−ブロモ−2,2,4−トリメチルキノリン−1(2H)−カルボン酸tert−ブチル(5.29g,94%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.48(6H,s),1.51(9H,s),1.98(3H,d,J=1.5Hz),5.47(1H,d,J=1.3Hz),7.05(1H,d,J=7.5Hz),7.19(1H,d,J=2.4Hz),7.23(1H,dd,J=7.5,2.4Hz).
参考例53
6−ホルミル−2,2,4−トリメチルキノリン−1(2H)−カルボン酸tert−ブチル
6−ブロモ−2,2,4−トリメチルキノリン−1(2H)−カルボン酸tert−ブチル(2.46g,7.00mmol)のテトラヒドロフラン(15mL)溶液を−78℃に冷却後、1.4M tert−ブチルリチウム−ヘプタン溶液(9.50mL,13.3mmol)を滴下し同温(−78℃)で2時間攪拌した。N,N−ジメチルホルムアミド(1.36mL,17.5mmol)を滴下し同温で1時間攪拌した後、0℃まで昇温し30分間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水を注入し、酢酸エチル−トルエン混合液で分液抽出した。有機層を水と飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウム乾燥し減圧濃縮して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=20/1〜8/1)で精製することにより、6−ホルミル−2,2,4−トリメチルキノリン−1(2H)−カルボン酸tert−ブチル(1.95g,92%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.53(6H,s),1.55(9H,d,J=0.6Hz),2.06(3H,d,J=0.9Hz),5.49(1H,d,J=1.3Hz),7.24(1H,d,J=8.6Hz),7.62(1H,dd,J=8.5,1.7Hz),7.66(1H,d,J=1.7Hz),9.87(1H,s).
参考例54
6−(ヒドロキシメチル)−2,2,4−トリメチルキノリン−1(2H)−カルボン酸tert−ブチル
6−ホルミル−2,2,4−トリメチルキノリン−1(2H)−カルボン酸tert−ブチル(846mg,2.81mmol)のメタノール(8mL)溶液を氷冷後、水素化ホウ素ナトリウム(213mg,5.63mmol)を添加し0℃で1時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水を注入し、酢酸エチルで分液抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウム乾燥し減圧濃縮して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=5/1〜3/1)で精製し、6−(ヒドロキシメチル)−2,2,4−トリメチルキノリン−1(2H)−カルボン酸tert−ブチル(736mg,86%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.49(6H,s),1.51(9H,s),1.63(1H,t,J=5.9Hz),2.02(3H,d,J=1.5Hz),4.63(2H,d,J=5.7Hz),5.45(1H,d,J=1.3Hz),7.11(1H,dd,J=8.3,1.9Hz),7.16(1H,d,J=1.9Hz),7.17(1H,d,J=8.3Hz).
参考例55
2,2,4−トリメチル−6−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}キノリン−1(2H)−カルボン酸tert−ブチル
6−(ヒドロキシメチル)−2,2,4−トリメチルキノリン−1(2H)−カルボン酸tert−ブチル(626mg,2.06mmol)のテトラヒドロフラン(10mL)溶液を−20〜−15℃に冷却後、トリフェニルホスフィン(812mg,3.09 mmol)を加え、続いてN−ブロモコハク酸イミド(NBS)(550mg,3.09mmol)を少量ずつ15分間で加えた。 −10〜0℃で30分間攪拌した後、p−トルエンスルフィン酸ナトリウム(735mg,4.13mmol)とよう化テトラ−n−ブチルアンモニウム(76.2mg,0.206mmol)の混合物を少量ずつ15分間で加え、50℃で4時間保温攪拌した。冷却後、反応液に3% チオ硫酸ナトリウム水溶液を注入し、酢酸エチルで分液抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム乾燥し減圧濃縮して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=10/1〜5/1)で精製し、2,2,4−トリメチル−6−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}キノリン−1(2H)−カルボン酸tert−ブチル(758mg,83%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.47(6H,s),1.50(9H,s),1.85(3H,d,J=1.3Hz),2.40(3H,s),4.23(2H,s),5.42(1H,d,J=1.3Hz),6.78−6.81(2H,m),7.03(1H,d,J=9.0Hz),7.23(2H,d,J=8.2Hz),7.52(2H,d,J=8.2Hz).
参考例56
2,2,4−トリメチル−6−{1−[(4−メチルフェニル)スルホニル]エチル}キノリン−1(2H)−カルボン酸tert−ブチル
2,2,4−トリメチル−6−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}キノリン−1(2H)−カルボン酸tert−ブチル(112mg,0.254 mmol)とN,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン(TMEDA)(38.3μL,0.254mmol)のテトラヒドロフラン(2.0mL)溶液を−78℃に冷却後2.44M n−ブチルリチウム−ヘキサン溶液(0.114mL,0.279 mmol)を滴下し同温(−78℃)で1時間攪拌した。よう化メチル(17.4μL,0.279mmol)を滴下し同温で35分間攪拌した後、20−25℃まで昇温し40分間攪拌した。 反応液に塩化アンモニウム水を注入し、酢酸エチルで分液抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウム乾燥し減圧濃縮して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/t−ブチルメチルエーテル=6/1)で精製し、一部のみ純品として2,2,4−トリメチル−6−{1−[(4−メチルフェニル)スルホニル]エチル}キノリン−1(2H)−カルボン酸tert−ブチルを得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.45(6H,s),1.48(9H,s),1.72(3H,d,J=7.2Hz),1.82(3H,d,J=0.92Hz),2.36(3H,s),4.14(1H,q,J=7.2Hz),5.39 (1H,d,J=1.3Hz),6.77(1H,d,J=2.2Hz),6.84(1H,dd,J=8.6,2.2Hz),7.01(1H,d,J=8.6Hz),7.16(2H,d,J=8.3Hz),7.40(2H,d,J=8.3Hz).
参考例57
tert−ブチル(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)カルバメート
4−(tert−ブトキシカルボニルアミノ)アニリン(1.00g,4.80mmol)、アセトン(3.53mL,48.0mmol)及びトリフルオロメタンスルホン酸スカンジウム(236mg,0.48mmol)の混合物をトルエン(10mL)中、80℃にて18時間攪拌した。反応液を減圧濃縮して得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=4/1〜1/1)にて精製し、tert−ブチル(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)カルバメート(555mg,40%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.22(6H,s),1.47(9H,s),1.94(3H,s),5.31(1H,s),6.23(1H,br.s),6.37(1H,d,J=8.4Hz),6.92−7.01(2H,m).
参考例58
2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−アミン
tert−ブチル(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)カルバメート(550mg,1.01mmol)に酢酸(5ml)と4N塩酸−ジオキサン(2mL)を加え、20−25℃で1時間攪拌した。反応液を重曹水に注入して酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して、2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−アミン(335mg,93%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.24(6H,s),1.95(3H,s),5.35(1H,s),6.35(1H,d,J=7.9Hz)6.42−6.46(2H,m),6.53(1H,d,J=2.6Hz).
参考例59
N−(2−クロロ−4−ニトロフェニル)−4−メチルベンゼンスルホンアミド
2−クロロ−4−ニトロアニリン(1.00g,5.79mmol)のピリジン(30mL)溶液に塩化p−トルエンスルホニル(2.44g,12.6mmol)を加え、20−25℃にて8時間攪拌した。反応液を水に注入して酢酸エチルで抽出した。有機層を希塩酸水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣に1.0Mフッ化テトラブチルアンモニウム(TBAF)−テトラヒドロフラン溶液(11.6mL,11.6mmol)を加え、20−25℃で2時間攪拌した。反応液を重曹水に注入して酢酸エチルで抽出した。有機層を重曹水、水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/へキサン=3/7)で精製してN−(2−クロロ−4−ニトロフェニル)−4−メチルベンゼンスルホンアミド(0.90g,48%)を得た。
LC−MS(M+1):327.2
参考例60
N−(4−アミノ−2−クロロフェニル)−4−メチルベンゼンスルホンアミド
N−(2−クロロ−4−ニトロフェニル)−4−メチルベンゼンスルホンアミドから参考例15と同様の方法でN−(4−アミノ−2−クロロフェニル)−4−メチルベンゼンスルホンアミドを合成した。
LC−MS(M+1):297.2
参考例61
4−メチル−N−(2−メチル−4−ニトロフェニル)ベンゼンスルホンアミド
2−メチル−4−ニトロアニリンから参考例59と同様の方法で4−メチル−N−(2−メチル−4−ニトロフェニル)ベンゼンスルホンアミドを合成した。
LC−MS(M+1):307.3
参考例62
N−(4−アミノ−2−メチルフェニル)−4−メチルベンゼンスルホンアミド
4−メチル−N−(2−メチル−4−ニトロフェニル)ベンゼンスルホンアミドから参考例15と同様の方法でN−(4−アミノ−2−メチルフェニル)−4−メチルベンゼンスルホンアミドを合成した。
LC−MS(M+1):277.3
参考例63
N,4−ジメチル−N−(2−メチル−4−ニトロフェニル)ベンゼンスルホンアミド
参考例61で合成した化合物(100mg,0.33mmol)、ヨードメタン(33μL,0.53mmol)、および炭酸カリウム(115mg,0.83mmol)の混合物をアセトン(2.5mL)中、40℃で9時間攪拌した。濾過にて沈殿を除去し、溶媒を減圧留去して得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=7/3)で精製し、N,4−ジメチル−N−(2−メチル−4−ニトロフェニル)ベンゼンスルホンアミド(105mg,100%)を得た。
LC−MS(M+1):321.0
参考例64
N−(4−アミノ−2−メチルフェニル)−N,4−ジメチルベンゼンスルホンアミド
N,4−ジメチル−N−(2−メチル−4−ニトロフェニル)ベンゼンスルホンアミドから参考例15と同様の方法でN−(4−アミノ−2−メチルフェニル)−N,4−ジメチルベンゼンスルホンアミドを合成した。
LC−MS(M+1):290.8
参考例65
4−メチル−N−(5−ニトロピリジン−2−イル)ベンゼンスルホンアミド
2−アミノ−5−ニトロピリジン(1.00g,7.19mmol)のピリジン(50mL)溶液に塩化p−トルエンスルホニル(1.44g,7.55mmol)を加え、80℃にて2時間攪拌した。反応液を水に注入して酢酸エチルで抽出した。有機層を希塩酸水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/へキサン=3/7)にて精製して4−メチル−N−(5−ニトロピリジン−2−イル)ベンゼンスルホンアミド(226mg,10.7%)を得た。
LC−MS(M+1):294.1
参考例66
N−(5−アミノピリジン−2−イル)−4−メチルベンゼンスルホンアミド
4−メチル−N−(5−ニトロピリジン−2−イル)ベンゼンスルホンアミド(226mg,0.771mmol)のメタノール(10mL)溶液にギ酸アンモニウム(48g,7.71mmol)と10%パラジウム−炭素(50%含水品)(14mg)を加え、80℃にて4時間攪拌した。反応液を20−25℃にし、セライト濾過した後、溶媒を減圧留去して得られた残渣に水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/へキサン=3/7)にて精製し、N−(5−アミノピリジン−2−イル)−4−メチルベンゼンスルホンアミド(86mg,42%)を得た。
LC−MS(M+1):263.9
参考例67
2,2,4−トリメチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−6−アミン
参考例58で合成した化合物の二塩酸塩(1.00g,3.82mmol)と10%パラジウム−炭素(50%含水品)(260mg)の混合物をメタノール(5mL)中、水素雰囲気下、20−25℃で1時間攪拌した。パラジウム−炭素を濾過除去し溶媒を減圧留去して2,2,4−トリメチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−6−アミン(1.01g,100%)を二塩酸塩として得た。
LC−MS(M+1、フリー体として):191.2
参考例68
4−メチルベンゼンスルホン酸2−メチルキノリン−6−イル
6−ヒドロキシ−2−メチルキノリン(100mg,0.629mmol)のテトラヒドロフラン(5mL)溶液にトリエチルアミン(263μL,1.88mmol)、塩化p−トルエンスルホニル(132mg,0.69mmol)を加え、20−25℃にて18時間攪拌した。反応液を水に注入して酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をジエチルエーテルにて固化、洗浄精製して、4−メチルベンゼンスルホン酸2−メチルキノリン−6−イル(53mg 27%)を得た。
1H−NMR(CDCl3):2.24(3H,s),2.73(3H,s),7.20(1H,dd,J=2.6,9.2Hz),7.26−7.32(3H,m),7.50(1H,m),7.69−7.73(2H,m),7.90(1H,d,J=9.2),7.98(1H,d,J=8.4Hz)
参考例69
4−メチルベンゼンスルホン酸 4−アミノ−3−ブロモフェニル
参考例50で合成した化合物(528mg,2.00mmol)のテトラヒドロフラン(10mL)溶液に、0℃でN−ブロモコハク酸イミド(NBS)(396mg,2.20mmol)を加え、20−25℃で30分間攪拌した。5%チオ硫酸ナトリウム水を添加後、酢酸エチルで抽出した。有機層を5%炭酸カリウム水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=6/1)で精製することにより、4−メチルベンゼンスルホン酸4−アミノ−3−ブロモフェニル(603mg,88%)を得た。
LC−MS(M+1,M+3):342.0,344.0
参考例70
4−メチルベンゼンスルホン酸 4−アミノ−3−(3−メチルブテ−2−エン−1−イル)フェニル
4−メチルベンゼンスルホン酸4−アミノ−3−ブロモフェニル(171mg,0.500mmol)とトリブチル(3−メチル−2−ブテニル)すず(186μL,0.550mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(2.5mL)溶液にテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(29mg,0.025mmol)を加え窒素雰囲気下、150℃で4時間攪拌した。放冷後、1%アンモニア水を添加後、酢酸エチル−トルエン混合液で抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=5/1〜4/1)で精製することにより、4−メチルベンゼンスルホン酸4−アミノ−3−(3−メチルブテ−2−エン−1−イル)フェニル(59mg,36%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.65(3H,s),1.73(3H,s),2.44(3H,s),3.07(2H,d,J=7.0Hz),3.62(2H,br.s),5.07(1H,m),6.50(1H,d,J=8.4Hz),6.60(1H,d,J=2.8Hz),6.64(1H,dd,J=8.4,2.8Hz),7.29(2H,d,J=8.6Hz),7.69(2H,d,J=8.4Hz).
参考例71
4−メチルベンゼンスルホン酸 3−ヨード−2,2−ジメチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−6−イル
4−メチルベンゼンスルホン酸4−アミノ−3−(3−メチルブテ−2−エン−1−イル)フェニル(53.5mg,0.161mmol)のジクロロメタン(3.2mL)溶液に炭酸ナトリウム(43mg,0.40mmol)とヨウ素(82mg,0.32mmol)を加え、窒素雰囲気下、20−25℃で45分間攪拌した。反応後、5%チオ硫酸ナトリウム水を注入し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して、4−メチルベンゼンスルホン酸3−ヨード−2,2−ジメチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−6−イル(70mg,95%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.33(3H,s),1.34(3H,s),2.45(3H,s),3.30(1H,dd,J=17.4,8.1Hz),3.45(1H,dd,J=17.4,5.3Hz),3.76(1H,br.s),4.32(1H,dd,J=8.1,5.3Hz),6.33(1H,dd,J=7.2,1.8Hz),6.58−6.62(2H,m),7.28−7.31(2H,m),7.67−7.71(2H,m).
参考例72
4−クロロ−6−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}−2−(トリフルオロメチル)キノリン
6−ブロモメチル−4−クロロ−2−トリフルオロメチルキノリン(162mg,0.50mmol)、p−トルエンスルフィン酸ナトリウム(134mg,0.75mmol)、ヨウ化テトラブチルアンモニウム(9.2mg,0.025mmol)の混合物をテトラヒドロフラン(2mL)中、50℃で2時間攪拌した。反応液を3%チオ硫酸ナトリウム水溶液に注入し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残査をヘキサン−酢酸エチル(1:1)混合溶媒で洗浄して、4−クロロ−6−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}−2−(トリフルオロメチル)キノリン(144mg,72%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:2.43(3H,s),4.54(2H,s),7.26(2H,d,J=8.1Hz),7.56(2H,d,J=8.3Hz), 7.63(1H,dd,J=8.1,1.8Hz),7.83(1H,s),7.93(2H,d,J=1.8Hz),8.16(2H,d,J=8.6Hz).
参考例73
1−メチル−4−[(4−ニトロベンジル)スルホニル]ベンゼン
4−ニトロベンジルブロマイドから参考例72と同様の方法で1−メチル−4−[(4−ニトロベンジル)スルホニル]ベンゼンを合成した。
H−NMR(CDCl)δ:2.45(3H,s),4.38(2H,s),7.27−7.31(4H,m),7.54(2H,d,J=8.3Hz),8.14(2H,d,J=8.8Hz).
参考例74
(4−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}フェニル)アミン
1−メチル−4−[(4−ニトロベンジル)スルホニル]ベンゼンから参考例1と同様の方法で(4−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}フェニル)アミンを合成した。
H−NMR(CDCl)δ:2.42(3H,s),3.72(2H,br.s),4.18(2H,s),6.56(2H,d,J=8.4Hz),6.86(2H,d,J=8.4Hz),7.24(2H,d,J=8.4Hz),7.52(2H,d,J=8.3Hz).
参考例75
2−ブロモ−1−(ブロモメチル)−4−ニトロベンゼン
2−ブロモ−6−ニトロトルエン(1.08g,5.00mmol)とN−ブロモコハク酸イミド(908mg,5.10mmol)の混合物を四塩化炭素(15mL)中、70℃にてα,α’−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)(28mg)を加え、70℃で3時間攪拌した。さらにAIBN(82mg)を分割して加えながら70℃で4時間攪拌した。クロロホルムで希釈して沈殿を濾過除去後、溶媒を減圧留去して得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=1/1)で精製することにより、2−ブロモ−1−(ブロモメチル)−4−ニトロベンゼン(493mg,33%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:4.62(2H,s),7.65(1H,d,J=8.4Hz),8.17(1H,dd,J=8.4,2.2Hz),8.46(1H,d,J=2.2Hz).
参考例76
2−ブロモ−1−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}−4−ニトロベンゼン
2−ブロモ−1−(ブロモメチル)−4−ニトロベンゼンから参考例72と同様の方法で2−ブロモ−1−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}−4−ニトロベンゼンを合成した。
H−NMR(CDCl)δ:2.45(3H,s),4.64(2H,s),7.29(2H,d,J=7.9Hz),7.56(2H,d,J=8.4Hz),7.69(1H,d,J=8.6Hz),8.18(1H,dd,J=8.6,2.4Hz),8.35(1H,d,J=2.4Hz).
参考例77
(3−ブロモ−4−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}フェニル)アミン
2−ブロモ−1−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}−4−ニトロベンゼンから参考例15と同様の方法で(3−ブロモ−4−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}フェニル)アミンを合成した。
LC−MS(M+1):340.1.
参考例78
(4−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}−3−ビニルフェニル)アミン
(3−ブロモ−4−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}フェニル)アミン(442mg,1.30mmol)とトリブチルビニルすず(454mg,1.43mmol)のトルエン(6.0mL)溶液にトリフェニルホスフィン(51mg,0.20mmol)とテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(75mg,0.065mmol)を加え窒素雰囲気下、9時間加熱還流した。放冷後、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=5/1〜2/1)で精製することにより、(4−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}−3−ビニルフェニル)アミン(193mg,52%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:2.40(3H,s),3.80(2H,br.s),4.29(2H,s),5.08(1H,dd,J=11.0,1.3Hz),5.36(1H,dd,J=17.2,1.3Hz),6.50(1H,dd,J=8.3,2.5Hz),6.60(1H,dd,J=17.2,11.0Hz),6.70(1H,d,J=2.5Hz),6.85(1H,d,J=8.3Hz),7.22(2H,d,J=8.1Hz),7.51(2H,d,J=8.3Hz).
実施例1
4−メチルベンゼンスルホン酸 4,4−ジメチル−2−オキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル
参考例4で合成した化合物(90mg,0.47mmol)のテトラヒドロフラン(4.7mL)溶液にトリエチルアミン(194μL,1.40mmol)と塩化p−トルエンスルホニル(98mg,0.51mmol)を加えた後、20−25℃で3.5時間攪拌した。反応後、水を加え酢酸エチルにて抽出した。この有機層を塩化アンモニウム水、飽和食塩水で洗浄してから無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。ろ過後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をクロロホルム−ヘキサン混合液にて再結晶することにより、4−メチルベンゼンスルホン酸4,4−ジメチル−2−オキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル(153mg,95%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.60(6H,s),2.46(3H,s),6.72(1H,d,J=2.5Hz),6.74(1H,d,J=8.7Hz),6.82(1H,dd,J=8.7,2.5Hz),7.33(2H,d,J=8.5Hz),7.69(2H,d,J=8.5Hz),8.91(1H,s).
実施例2
4−メチルベンゼンスルホン酸 4,4−ジメチル−2−チオキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル
Figure 2006077821
実施例1で合成した化合物(70mg,0.20 mmol)とローソン試薬(97mg,0.24mmol)の混合物を、トルエン(1.0mL)中3時間加熱還流した。溶媒を減圧留去して得られた残渣を薄層クロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=1:1)で精製し、4−メチルベンゼンスルホン酸4,4−ジメチル−2−チオキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル(34mg,47%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.64(6H,s),2.46(3H,s),6.73−6.77(2H,m),6.89(1H,dd,J=8.7,2.5 Hz),7.34(2H,d,J=8.1Hz),7.69(2H,d,J=8.4Hz),9.32(1H,s).
実施例3
4−メチルベンゼンスルホン酸 2−オキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル
参考例5で合成した化合物から参考例3〜4及び実施例1と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:2.47(3H,s),5.26(2H,s),6.72(1H,d,J=8.6Hz),6.77(1H,dd,J=8.6,2.0Hz),6.90(1H,d,J=2.0Hz),7.33(2H,d,J=8.3Hz),7.70(2H,d,J=8.3Hz),8.51(1H,s).
実施例4
ベンゼンスルホン酸 4,4−ジメチル−2−オキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル
参考例4で合成した化合物から実施例1と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.59(6H,s),6.68−6.86(3H,m),7.52−7.57(2H,m),7.67−7.72(1H,m),7.81−7.83(2H,m),9.11(1H,s)
実施例5
3−メチルベンゼンスルホン酸 4,4−ジメチル−2−オキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル
参考例4で合成した化合物から実施例1と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.60−1.61(6H,m)、2.43(3H,s),6.70−6.88(3H,m),7.37−7.65(4H,m),9.00(1H,s).
実施例6
2−メチルベンゼンスルホン酸 4,4−ジメチル−2−オキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル
参考例4で合成した化合物から実施例1と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.58(6H,s),2.76(3H,s),6.68−6.87(3H,m),7.26−7.34(1H,m),7.41−7.43(1H,m),7.53−7.58(1H,m),7.76−7.80(1H,m),8.99(1H,s).
実施例7
2−フルオロベンゼンスルホン酸 4,4−ジメチル−2−オキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル
参考例4で合成した化合物から実施例1と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.63(6H,s),6.75−6.78(1H,m),6.89−6.90(1H,m),6.96−7.00(1H,m),7.26−7.33(2H,m),7.67−7.82(2H,m),8.88(1H,s).
実施例8
4−フルオロベンゼンスルホン酸 4,4−ジメチル−2−オキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル
参考例4で合成した化合物から実施例1と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.63(6H,s),6.75−6.85(3H,m),7.19−7.26(3H,m),7.83−7.87(2H,m),8.91(1H,s).
実施例9
4−シアノベンゼンスルホン酸 2−オキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル
参考例4で合成した化合物から実施例1と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.65(6H,s),6.79−6.84(3H,m),7.85−7.87(2H,m),7.96−7.99(2H,m),9.14(1H,s).
実施例10
2−シアノベンゼンスルホン酸 2−オキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル
参考例4で合成した化合物から実施例1と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.67(6H,s),6.79−6.81(1H,m),6.99−7.06(2H,m),7.77−7.86(2H,m),7.93−7.97(1H,m),8.09−8.14(1H,m),8.89(1H,s).
実施例11
チオフェン−2−スルホン酸 4,4−ジメチル−2−オキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル
参考例4で合成した化合物から実施例1と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.63(6H,s),6.77−6.80(2H,m),6.89−6.92(1H,m),7.11−7.14(1H,m),7.59−7.60(1H,m),7.73−7.76(1H,m),9.13(1H,s).
実施例12
チオフェン−2−スルホン酸 4,4−ジメチル−2−チオキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル
Figure 2006077821
実施例11で合成した化合物から実施例2と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.64 (6H,s),6.75−6.79(2H,m),6.93−6.97(1H,m),7.10−7.13(1H,m),7.57−7.59(1H,m),7.73−7.75(1H,m),9.28(1H,br.s).
実施例13
ナフタレン−2−スルホン酸 4,4−ジメチル−2−オキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル
参考例4で合成した化合物から実施例1と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.46(6H,s),6.63−6.72(2H,m),6.84−6.88(1H,m),7.62−7.74(2H,m),7.82−8.03(5H,m),8.33(1H,m),8.69(1H,s).
実施例14
ナフタレン−2−スルホン酸 4,4−ジメチル−2−チオキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル
Figure 2006077821
実施例13で合成した化合物から実施例2と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.49 (6H,s),6.65−6.72(2H,m),6.88−6.92(1H,m),7.61−7.73(2H,m),7.79−7.83(1H,m),7.90−8.01(3H,m),8.31(1H,m),9.26(1H,br.s).
実施例15
4,4−ジメチル−6−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オン
参考例9で合成した化合物(39.0mg, 0.188 mmol)とトリフェニルホスフィン(72.8mg,0.278mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(1.5mL)溶液に氷冷下、N−ブロモコハク酸イミド(NBS)(49.4mg,0.278mmol)を加え、20−25℃で1.5時間攪拌した。その後p−トルエンスルフィン酸ナトリウム(65.9mg,0.370mmol)とヨウ化ナトリウム(2.8mg,0.019mmol)を加え70℃で2.5時間攪拌した。反応液を10%チオ硫酸ナトリウム水溶液に注入し、酢酸エチル−トルエン(1:1)(20mL)混合液で抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去して得られた残査を薄層クロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=1/2)で精製することにより、4,4−ジメチル−6−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オン(17.1mg,26%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.59(6H,s),2.43(3H,s), 4.24(2H,s),6.72−6.78(2H,m),7.01(1H,d,J=8.3 Hz),7.27(2H,d,J=8.0Hz),7.51(1H,d,J=8.2 Hz).
実施例16
4,4−ジメチル−6−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−チオン
Figure 2006077821
実施例15で合成した化合物から実施例2と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.62(6H,s),2.43(3H,s),4.25(2H,s),6.71−6.76(2H,m),7.09(1H,dd,J=8.2,1.9Hz),7.28(2H,d,J=8.5Hz),7.54(2H,d,J=8.2Hz),8.98(1H,s).
実施例17
4,4−ジメチル−6−[(フェニルスルホニル)メチル]−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オン
参考例9で合成した化合物から実施例15と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.58(6H,s),4.14(2H,s),6.72−6.76(2H,m),7.02−7.05(1H,m),7.46−7.51(2H,m),7.61−7.66(3H,m).
実施例18
4,4−ジメチル−6−[(フェニルスルホニル)メチル]−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−チオン
Figure 2006077821
実施例17で合成した化合物から実施例2と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.60(6H,s),4.28(2H,s),6.72−6.76(2H,m),7.08−7.12(1H,m),7.47−7.52(2H,m),7.62−7.67(3H,m),8.99(1H,s).
実施例19
4,4−ジメチル−5−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オン
参考例13で合成した化合物(300mg,1.57mmol)とN−ブロモコハク酸イミド(279mg,1.57mmol)の混合物を四塩化炭素(6mL)中、70℃にてα,α’−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)(28mg)を加え、70℃で22時間攪拌した。沈殿を濾過除去後、溶媒を減圧留去して得られた残査にp−トルエンスルフィン酸ナトリウム(90mg,0.51mmol)、ヨウ化テトラブチルアンモニウム(5.5mg,0.015mmol)、及びテトラヒドロフラン(3mL)を加え50℃で3時間攪拌した。反応液を3%チオ硫酸ナトリウム水溶液に注入し、酢酸エチルで抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去して得られた残査の一部(12mg)を薄層クロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=2/3)で精製することにより、4,4−ジメチル−5−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−オン(4.9mg)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.91(6H,s),2.47(3H,s),4.53(2H,s),6.85(1H,d,J=7.9Hz),7.22(1H,t,J=7.9Hz),7.36(1H,d,J=7.9Hz),7.59(1H,d,J=8.4Hz),9.19(1H,s).
実施例20
4,4−ジメチル−5−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−2−チオン
実施例19で合成した化合物から実施例2と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.91(6H,s),2.47(3H,s),4.53(2H,s),6.85(1H,d,J=7.9Hz),7.22(1H,t,J=7.9Hz),7.36(1H,d,J=7.9Hz),7.59(1H,d,J=8.4Hz),9.19(1H,s).
実施例21
N−(4,4−ジメチル−2−オキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル)−4−メチルベンゼンスルホンアミド
0℃に冷却下、参考例18で合成した化合物(50mg,0.26mmol)のテトラヒドロフラン(1.3mL)溶液にトリエチルアミン(55μl,0.39mmol)と塩化p−トルエンスルホニル(52mg,0.28mmol)を添加し、20−25℃で13時間攪拌し、さらに加熱還流下1.5時間攪拌した。反応液に水を注入し、酢酸エチルで分液抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=1/1)で精製することにより、N−(4,4−ジメチル−2−オキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル)−4−メチルベンゼンスルホンアミド(83mg,91%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.63(6H,s),2.39(3H,s),6.70(1H,d,J=8.3Hz),6.87(1H,dd,J=8.3,2.3Hz),6.93(1H,d,J=2.3Hz),7.23(2H,d,J=8.3Hz),7.60(2H,d,J=8.3Hz),8.89(1H,br.s).
実施例22
N−(4,4−ジメチル−2−チオキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル)−4−メチルベンゼンスルホンアミド
Figure 2006077821
実施例21で合成した化合物から実施例2と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.67(6H,s),2.39(3H,s),6.77(1H,d,J=8.4Hz),6.91(1H,dd,J=8.4,2.2Hz),6.95(1H,d,J=2.2Hz),7.25(2H,d,J=8.2Hz),7.36(1H,br.s),7.63(2H,d,J=8.2Hz),9.93(1H,br.s).
実施例23
N−(4,4−ジメチル−2−オキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル)チオフェン−2−スルホンアミド
Figure 2006077821
参考例18で合成した化合物から実施例21と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.66(6H,s),6.74(1H,d,J=8.4Hz),6.94(1H,dd,J=8.4,2.4Hz),6.99(1H,d,J=2.4Hz),7.03(1H,dd,J=5.0,3.9Hz),7.05(1H,br.s),7.44(1H,dd,J=3.9,1.3Hz),7.56(1H,dd,J=5.0,1.3Hz),8.68(1H,br.s).
実施例24
N−(4,4−ジメチル−2−チオキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル)チオフェン−2−スルホンアミド
Figure 2006077821
実施例23で合成した化合物から実施例2と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.70(6H,s),6.75(1H,d,J=2.3Hz),6.81(1H,br.s),6.96−7.00(2H,m),7.04(1H,dd,J=5.1,3.8Hz),7.46(1H,dd,J=3.8,1.3Hz),7.58(1H,dd,J=5.1,1.3Hz),9.24(1H,br.s).
実施例25
N−(4,4−ジメチル−2−オキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル)−N−(2−チエニルスルホニル)アセトアミド
実施例23で合成した化合物(100mg,0.29mmol)のテトラヒドロフラン(5.0mL)溶液に、トリエチルアミン(124μL,0.89mmol)と塩化アセチル (32μL,0.44mmol)を加え、20−25℃で16時間攪拌した。反応液を水に注入し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をジエチルエーテル洗浄にて精製することにより、N−(4,4−ジメチル−2−オキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル)−N−(2−チエニルスルホニル)アセトアミド(51.3mg,46%)を得た。
H−NMR(DMSO−d)δ:1.59(6H,s),1.86(3H,s),6.98(1H,d,J=8.4Hz),7.22−7.27(2H,m),7.84(1H,dd,J=1.3,3.8Hz),8.15(1H,dd,J=1.5,5.0Hz),10.49(1H,br.s).
実施例26
N−(4,4−ジメチル−2−チオキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル)−N−(2−チエニルスルホニル)アセトアミド
Figure 2006077821
実施例24で合成した化合物から実施例25と同様の方法で合成した。
H−NMR(DMSO−d)δ:1.63(6H,s), 1.86(3H,s),7.11−7.15(1H,m),7.27(3H,dd,J=4.0,4.9Hz),7.60(1H,dd,J=1.3,3.8Hz),8.15(1H,dd,J=1.3,4.9Hz),12.37(1H,br.s).
実施例27
N−(4,4−ジメチル−2−オキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル)チオフェン−3−スルホンアミド
参考例18で合成した化合物から実施例21と同様の方法で合成した。
H−NMR(DMSO−d)δ:1.48(6H,s),6.75(1H,d,J=8.4Hz),6.86−6.87(1H,m),6.93(1H,dd,J=8.4,2.2Hz),7.18−7.20(1H,m),7.68−7.71(1H,m),8.05−8.07(1H,m),9.94(1H,br.s),10.15(1H,br.s).
実施例28
N−(4,4−ジメチル−2−チオキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル)チオフェン−3−スルホンアミド
Figure 2006077821
実施例27で合成した化合物から実施例2と同様の方法で合成した。
H−NMR(DMSO−d)δ:1.52(6H,s),6.89−7.01(3H,m),7.20(1H,dd,J=1.3,5.1Hz),7.70(1H,dd,J=3.1,5.1Hz),8.11(1H,dd,J=1.3,3.0Hz),10.15(1H,br.s),12.12(1H,br.s).
実施例29
N−(4,4−ジメチル−2−チオキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル)−2−フルオロベンゼンスルホンアミド
Figure 2006077821
参考例18で合成した化合物から実施例21と同様の方法、続いて実施例2と同様の方法を順次用いて合成した。
H−NMR(DMSO−d)δ:1.49(6H,s),6.89−6.92(2H,m),6.98(1H,dd,J=2.0,8.4Hz),7.91(1H,dd−like,J=8.4,21.6Hz),10.40(1H,br.s),12.13(1H,s).
実施例30
N−(4,4−ジメチル−2−チオキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル)−4−(トリフルオロメチル)ベンゼンスルホンアミド
Figure 2006077821
参考例18で合成した化合物から実施例21と同様の方法、続いて実施例2と同様の方法を順次用いて合成した。
H−NMR(DMSO−d)δ:1.49(6H,s),6.87−7.00(3H,m),7.31−7.43(2H,m),7.64−7.71(1H,m),7.75−7.81(1H,m),10.55(1H,br.s),12.10(1H,s).
実施例31
N−(4,4−ジメチル−2−オキソ−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[3,2−d][1,3]オキサジン−6−イル)−4−メチルベンゼンスルホンアミド
150℃に加熱下、p−トルエンスルホンアミド(256mg,1.50mmol)、よう化銅(I)(286mg,1.50mmol)、炭酸セシウム(244mg,0.75mmol)のジメチルスルホキシド(1.5mL)懸濁液に参考例24で合成した化合物(77mg,0.30mmol)のジメチルスルホキシド(1.5mL)溶液を100分間かけて滴下し、さらに40分間保温攪拌した。放冷後、反応液を水と酢酸エチルで希釈し、セライト濾過して得られた濾液を、酢酸エチルおよびクロロホルムで分液抽出した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム/酢酸エチル=10/1)で精製することにより、N−(4,4−ジメチル−2−オキソ−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[3,2−d][1,3]オキサジン−6−イル)−4−メチルベンゼンスルホンアミド(45.1mg,43%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.56(6H,s),2.39(3H,s),7.10(2H,t−like,J=8.7Hz),7.25(2H,d,J=8.2Hz),7.76(2H,d,J=8.2Hz),9.22(1H,br.s).
実施例32
N−(4,4−ジメチル−2−チオキソ−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[3,2−d][1,3]オキサジン−6−イル)−4−メチルベンゼンスルホンアミド
実施例31で合成した化合物から実施例2と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.62(6H,s),2.40(3H,s),7.10−7.29(4H,m),7.37(1H,br.s),7.75−7.78(2H,m),9.59(1H,br.s).
実施例33
N−(4,4−ジメチル−2−チオキソ−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[3,4−d][1,3]オキサジン−6−イル)−4−メチルベンゼンスルホンアミド
参考例28で合成した化合物から実施例31と同様の方法、続いて実施例2と同様の方法を順次用いて合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.73(6H,s),2.39 (3H,s),7.23−7.30(4H,m),7.67−7.70(2H,m),7.98(H,br.s),9.42(1H,br.s).
実施例34
N−(4,4−ジメチル−2−チオキソ−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[3,4−d][1,3]オキサジン−6−イル)チオフェン−2−スルホンアミド
参考例28で合成した化合物から実施例31と同様の方法、続いて実施例2と同様の方法を順次用いて合成した。
H−NMR(DMSO−d)δ:1.59(6H,s),7.00(1H,s),7.10−7.13(1H,m),7.67−7.71(1H,m),7.88−7.90(2H,m),11.34(1H,br.s),12.33(1H,br.s).
実施例35
4,4−ジメチル−6−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[2,3−d][1,3]オキサジン−2−オン
0℃にて、参考例34で合成した化合物(83.1mg,399μmol)のジクロロメタン(5mL)懸濁液に塩化チオニル(50μL,690μmol)を滴下し、20−25℃で4時間攪拌した。反応溶液を減圧濃縮し、さらにトルエン共沸を行った。濃縮後、テトラヒドロフラン(5mL)を加えた溶液にヨウ化テトラブチルアンモニウム(7.5mg,23μmol)及びp−トルエンスルフィン酸ナトリウム(95.8mg,538μmol)を加え、50℃で7時間攪拌した。反応溶液に重曹水を注入し、酢酸エチルで分液抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し減圧濃縮して得られた粗生成物はシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=1:1〜1:5)で精製して4,4−ジメチル−6−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[2,3−d][1,3]オキサジン−2−オン(139mg,99%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.67(6H,s),2.45(3H,s),4.25(2H,s),7.28(1H,d,J=2.0Hz),7.32(2H,d,J=8.1Hz),7.89(1H,d,J=2.0Hz),8.51(1H,br.s).
実施例36
4,4−ジメチル−6−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[2,3−d][1,3]オキサジン−2−チオン
Figure 2006077821
実施例35で合成した化合物から実施例2と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.72(6H,s),2.45(3H,s),4.26(2H,s),7.32(3H,m),7.57(2H,d,J=8.3Hz),7.99(1H,d,J=2.0Hz),10.00(1H,br.s).
実施例37
4,4−ジメチル−6−[(2−チエニルスルホニル)メチル]−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[2,3−d][1,3]オキサジン−2−チオン
Figure 2006077821
参考例34で合成した化合物から実施例35と同様の方法、続いて実施例2と同様の方法を順次用いて合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.75(6H,s),4.40(2H,s),7.15(1H,t−like,J=4.1Hz),7.44(1H,d,J=1.7Hz),7.50(1H,d,J=3.7Hz),7.74(1H,d,J=5.0Hz),8.15(1H,d,J=1.7Hz),10.70(1H,br.s).
実施例38
4,4−ジメチル−6−[(ピリジン−3−イルスルホニル)メチル]−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[2,3−d][1,3]オキサジン−2−チオン
Figure 2006077821
参考例34で合成した化合物から実施例35と同様の方法、続いて実施例2と同様の方法を順次用いて合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.76(6H,s) 4.35(2H,s),7.47(1H,d,J=2.0Hz),7.52(1H,m),8.01(1H,m),8.14(1H,d,J=2.0Hz),8.90(2H,m),10.82(1H,br.s).
実施例39
N−(4,4−ジメチル−2−オキソ−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[2,3−d][1,3]オキサジン−6−イル)−N−(2−チエニルスルホニル)チオフェン−2−スルホンアミド
参考例36で合成した化合物(150mg,0.78mmol)のテトラヒドロフラン(5mL)溶液にトリエチルアミン(163μL,1.16mmol)、塩化2−チオフェンスルホニル(143mg,0.78mmol)、4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)(9.5mg,0.078mmol)を加え50℃で9時間攪拌した。反応液を水に注入して酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をジエチルエーテルにて洗浄精製して、N−(4,4−ジメチル−2−オキソ−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[2,3−d][1,3]オキサジン−6−イル)−N−(2−チエニルスルホニル)チオフェン−2−スルホンアミド(185mg,49%)を得た。
H−NMR(DMSO−d)δ:1.54(6H,s),7.26(1H,d,J=2.4Hz),7.31(2H,dd,J=3.8,5.0H),7.78(2H,dd,J=1.5,3.8Hz),7.86(1H,d,J=2.4Hz),8.25(2H,dd,J=1.5,5.0Hz).
実施例40
N−(4,4−ジメチル−2−オキソ−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[2,3−d][1,3]オキサジン−6−イル)チオフェン−2−スルホンアミド
実施例39で合成した化合物(180mg,0.78mmol)のテトラヒドロフラン(5mL)溶液に1.0Mフッ化テトラブチルアンモニウム(TBAF)−テトラヒドロフラン溶液(1.4mL)を加え20−25℃で15時間攪拌した。反応液を水に注入して酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル/へキサン=6/4)にて精製することにより、N−(4,4−ジメチル−2−オキソ−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[2,3−d][1,3]オキサジン−6−イル)チオフェン−2−スルホンアミド(78mg,30%)を得た。
H−NMR(DMSO−d)δ:1.53(6H,s),7.12−7.15(1H,m),7.33−7.34(1H,m),7.47−7.49(1H,m),7.81−7.83(1H,m),7.91−7.93(1H,m).
実施例41
N−(4,4−ジメチル−2−チオキソ−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[2,3−d][1,3]オキサジン−6−イル)チオフェン−2−スルホンアミド
Figure 2006077821
実施例40で合成した化合物から実施例2と同様の方法で合成した。
H−NMR(DMSO−d)δ:1.58(6H,s),7.14(1H,dd,J=3.8,5.0Hz),7.42(1H,d,J=2.4Hz),7.52(1H,dd,J=3.8,1.4Hz),7.91(1H,d,J=2.4Hz),7.93(1H,dd,J=1.4,5.0Hz),10.52(1H,s),12.63(1H,s).
実施例42
N−(4,4−ジメチル−2−チオキソ−1,4−ジヒドロ−2H−ピリド[2,3−d][1,3]オキサジン−6−イル)−4−メチルベンゼンスルホンアミド
参考例36で合成した化合物から実施例39〜40と同様の方法、続いて実施例2と同様の方法を順次用いて合成した。
H−NMR(DMSO−d)δ:1.56(6H,s),2.33(3H,s),7.36(3H,m),7.58(2H,m),7.83(1H,d,J=2.4),10.30(1H,br.s),12.58(1H,br.s).
実施例43
N−(2−オキソ−4−フェニル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル)チオフェン−2−スルホンアミド
参考例39で合成した化合物(150mg,0.625mmol)をアセトニトリル(12.5mL)に加熱溶解し、放冷後、2,4,6−コリジン(123μL,0.94mmol)と塩化2−チオフェンスルフォニル(120mg,0.66mmol)を加え、20−25℃で1時間、50℃で5時間攪拌した。溶媒を減圧留去して得られた残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を希塩酸、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=7/3)で精製して、N−(2−オキソ−4−フェニル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル)チオフェン−2−スルホンアミド(242mg,100%)を得た。
H−NMR(DMSO−d)δ:6.47(1H,s),6.64−6.65 (1H,d,J=2.2Hz),6.80(1H,d,J=8.6Hz),7.00−7.09(2H,m),7.16−7.20(2H,m),7.32−7.34(1H,m),7.38−7.45(3H,m),7.86−7.89(1H,m),10.15(1H,br.s),10.30(1H,s).
実施例44
N−(4−フェニル−2−チオキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル)チオフェン−2−スルホンアミド
Figure 2006077821
実施例43で合成した化合物(50mg,0.13 mmol)とローソン試薬(63mg,0.16mmol)の混合物を、トルエン(2.0mL)とテトラヒドロフラン(2.0mL)の混合溶媒中50℃で5時間、さらに80℃で5時間加熱攪拌した。溶媒を減圧留去して得られた残渣を薄層クロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=1:1)で精製し、N−(4−フェニル−2−チオキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル)チオフェン−2−スルホンアミド(28mg,54%)を得た。
H−NMR(DMSO−d)δ:6.60(1H,s),6.70(1H,d,J=2.0Hz),6.99(1H,d,J=8.6Hz),7.09(2H,m),7.19−7.22(1H,m),7.36(1H,dd,J=3.8,1.3Hz),7.42−7.46(3H,m),7.89(1H,dd,J=5.0,1.3Hz),10.33(1H,br.s),12.27(1H,s).
実施例45
N−(2−オキソ−4−ビニル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル)チオフェン−2−スルホンアミド
参考例43で合成した化合物から実施例43と同様の方法で合成した。
H−NMR(DMSO−d)δ:5.28(1H,d,J=17.0Hz),5.40(1H,d,J=10.3Hz),5.75 (1H,d,J=6.2Hz),5.93−6.04(1H,m),6.77(1H,d,J=8.4Hz),6.96−7.03(3H,m),7.45(1H,dd,J=1.3,3.8Hz),7.55(1H,dd,J=1.3,5.1Hz),8.77(1H,br.s).
実施例46
N−(2−チオキソ−4−ビニル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル)チオフェン−2−スルホンアミド
Figure 2006077821
実施例45で合成した化合物から実施例2と同様の方法で合成した。
H−NMR(DMSO−d)δ:5.23(1H,d,J=16.8Hz),5.38(1H,d,J=10.1Hz),5.86−6.01(2H,m),5.93−6.04(1H,m),6.86−7.11(4H,m),7.47−7.49(1H,m),7.88−7.90(1H,m),10.40(1H,br.s),12.19(1H,s).
実施例47
N−(4−エチニル−4−メチル−2−オキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル)チオフェン−2−スルホンアミド
参考例47で合成した化合物から実施例43と同様の方法で合成した。
H−NMR(DMSO−d)δ:1.76(3H,s),3.96(1H,s),6.83(1H,d,J=8.3Hz),7.02−7.12(3H,m),7.46−7.47(1H,m),7.88−7.90(1H,m),10.28(1H,br.s),10.49(1H,s).
実施例48
N−(4−エチニル−4−メチル−2−チオキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル)チオフェン−2−スルホンアミド
Figure 2006077821
実施例47で合成した化合物(100mg,0.287mmol)とローソン試薬(139mg,0.344mmol)の混合物をテトラヒドロフラン(2.0mL)中、80℃で14時間加熱還流した。溶媒を減圧留去して得られた残渣を薄層クロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=1:1)で精製し、N−(4−エチニル−4−メチル−2−チオキソ−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル)チオフェン−2−スルホンアミド(28mg,26%)を得た。
H−NMR(DMSO−d)δ:1.81(3H,s),4.07(1H.s),6.97−7.00(1H,m),7.09−7.13(3H,m),7.49−7.51(1H,m),7.90(1H,dd,J=5.0,1.3Hz),10.46(1H,br.s),12.46(1H,br.s).
実施例49
N−(4−メチル−2−オキソ−4−ビニル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル)チオフェン−2−スルホンアミド
Figure 2006077821
参考例48で合成した化合物から実施例43と同様の方法で合成した。
H−NMR(DMSO−d)δ:1.59(3H,s),4.86(1H,d,J=17.0Hz),5.16(1H,d,J=10.6Hz),5.92(1H,dd,J=17.0,10.7Hz),6.78(1H,d,J=8.4Hz),6.89(1H,d,J=2.4Hz),6.99(1H,dd,J=8.4,2.4Hz),7.10(1H,dd,J=5.0,3.9Hz),7.44(1H,dd,J=3.9,1.3Hz),7.88(1H,dd,J=5.0,1.3Hz),10.18(1H,br.s),10.26(1H,s).
実施例50
N−(4−メチル−2−チオキソ−4−ビニル−1,4−ジヒドロ−2H−3,1−ベンズオキサジン−6−イル)チオフェン−2−スルホンアミド
Figure 2006077821
実施例49で合成した化合物から実施例48と同様の方法で合成した。
H−NMR(DMSO−d)δ:1.66(3H,s),4.90(1H,d,J=17.2Hz),5.22(1H,d,J=10.4Hz),5.91(1H,dd,J=17.0,10.4Hz),6.92−7.12(4H,m),7.46−7.48(1H,m),7.88−7.89(1H,m),10.37(1H,br.s),12.22(1H,br.s).
実施例51
4−メチルベンゼンスルホン酸 2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル
Figure 2006077821
参考例50で合成した化合物(263mg,1.00mmol)のアセトン(6.0mL)溶液に、トリフルオロメタンスルホン酸スカンジウム(49mg,0.10mmol)を加え、封菅中120℃で加熱下29時間攪拌した。反応溶液を減圧濃縮して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=10/1〜5/1)で精製することにより、4−メチルベンゼンスルホン酸2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル(113mg,33%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.25(6H,s),1.79(3H,d,J=1.3Hz),2.44(3H,s),3.69(1H,br.s),5.30(1H,s),6.24−6.27(1H,m),6.53−6.56(2H,m),7.30(2H,d,J=8.3Hz),7.71(2H,d,J=8.3Hz).
実施例52
ナフタレン−2−スルホン酸 2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル
Figure 2006077821
参考例49〜50と同様の方法、続いて実施例51と同様の方法を順次用いて合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.25(6H,s),1.67(3H,s),5.26−5.27(1H,m),6.19−6.22(1H,m),6.51−6.59(2H,m),7.58−7.71(2H,m),7.83−8.03(4H,m),8.37(1H,m).
実施例53
4−メチルベンゼンスルホン酸 7−クロロ−2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル
2−クロロ−4−ニトロフェノールから参考例49〜50と同様の方法、続いて実施例51と同様の方法を順次用いて合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.26 (6H,s),1.85(3H,m),2.46(3H,s),3.74(1H,br.s),5.32(1H,s),6.32(1H,s),6.83(1H,s), 7.26−7.32(2H,m),7.76−7.81(2H,m).
実施例54
4−メチルベンゼンスルホン酸 7−フルオロ−2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル
Figure 2006077821
2−フルオロ−4−ニトロフェノールから参考例49〜50と同様の方法、続いて実施例51と同様の方法を順次用いて合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.23−1.26(6H,m),1.56(3H,m),1.83(3H,m),2.45(3H,s),3.76(1H,br.s),5.27(1H,s),6.02−6.06(1H,m),6.73−6.78(1H,m),7.29−7.32(2H,m),7.75−7.78(2H,m).
実施例55
4−メチルベンゼンスルホン酸 2,2,4,7−テトラメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル
2−メチル−4−ニトロフェノールから参考例49〜50と同様の方法、続いて実施例51と同様の方法を順次用いて合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.24(6H,s),1.74(3H,m),1.94(3H,s),2.45(3H,s),3.30(1H,br.s),5.26(1H,s),6.16(1H,s),6.49(1H,s),6.49(1H,s),7.29−7.32(2H,m),7.72−7.75(2H,m).
実施例56
4−メチルベンゼンスルホン酸 8−ブロモ−2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル
実施例51で合成した化合物(103mg,0.30mmol)とN−ブロモこはく酸イミド(64mg,0.36mmol)の混合物をテトラヒドロフラン(1.0mL)中、20−25℃で10時間攪拌した。溶媒を減圧留去して得られた残査を薄層クロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=2/1)で精製して、4−メチルベンゼンスルホン酸8−ブロモ−2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル(61mg,48%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.16−1.30(6H,s),1.46(3H,s),2.44(3H,s),3.96(1H,s),5.05(1H,s),6.43−6.48(1H,m),6.70−6.77(1H,s),7.32(2H,d,J=8.6Hz),7.71(2H,d,J=8.2 Hz).
実施例57
2,2,4−トリメチル−6−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}−1,2−ジヒドロキノリン
Figure 2006077821
参考例55で合成した化合物(262mg,0.593mmol)のジクロロメタン(5.9mL)溶液に20−25℃でトリフルオロ酢酸(1.2mL)を滴加し、この混合液を同温で2時間攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈後、飽和重曹水を注入し、さらに少量のアンモニア水でアルカリ性にした後、酢酸エチルで分液抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム乾燥し、減圧濃縮して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=5/1)で精製し、2,2,4−トリメチル−6−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}−1,2−ジヒドロキノリン(180mg,89%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.26(6H,s),1.79(3H,d,J=1.3Hz),2.41(3H,s),3.75(1H,br.s),4.15(2H,s),5.28(1H,d,J=1.3Hz),6.32(1H,d,J=8.1Hz),6.59(1H,d,J=1.8Hz),6.71(1H,dd,J=8.1,1.8Hz),7.24(2H, d, J=8.4Hz),7.54(2H, d, J=8.4Hz).
実施例58
2,2,4−トリメチル−6−{1−[(4−メチルフェニル)スルホニル]エチル}−1,2−ジヒドロキノリン
参考例56で合成した化合物から実施例57と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.26(6H,s),1.69(3H,d,J=7.2Hz),1.79(3H,s),2.39(3H,s),3.76(1H,br.s),4.09(1H,q,J=7.2Hz),5.27(1H,s),6.32(1H,d,J=8.3Hz),6.62(1H,d,J=2.0Hz),6.78(1H,dd,J=8.3,2.0Hz),7.19(2H,d,J=8.3Hz),7.45(2H,d,J=8.3Hz).
実施例59
2,2,4−トリメチル−6−{1−[(4−メチルフェニル)スルホニル]−2−フェニルエチル}−1,2−ジヒドロキノリン
参考例55で合成した化合物から実施例58と同様の方法、続いて実施例57と同様の方法を順次用いて合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.24(6H,s),1.76(3H,d,J=1.3Hz),2.38(3H,s),3.32(1H,dd,J=13.9,11.6Hz),3.73(1H,dd,J=13.9,2.9Hz),4.12(1H,dd,J=11.6,2.9Hz),5.25(1H,d,J=1.1Hz),6.27(1H,d,J=8.1Hz),6.56(1H,d,J=1.8Hz),6.76(1H,dd,J=8.1,1.8Hz),7.00−7.14(5H,m),7.18(2H,d,J=8.3Hz),7.47(2H,d,J=8.3Hz).
実施例60
4−メチル−N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)ベンゼンスルホンアミド
Figure 2006077821
N−(4’−アミノフェニル)−4−メチルベンゼンスルホンアミドから実施例51と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.25(6H,s),1.83(3H,d,J=1.3Hz),2.39(3H,s),3.70(1H,br.s),5.30(1H,d,J=1.5Hz),6.02(1H,s),6.28(1H,d,J=8.3Hz),6.62(1H,dd,J=8.3,2.4Hz),6.66(1H,d,J=2.4Hz),7.22(2H,d,J=8.4Hz),7.58(2H,d,J=8.4Hz).
実施例61
N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)ナフタレン−2−スルホンアミド
Figure 2006077821
参考例58で合成した化合物(50mg,0.26mmol)のテトラヒドロフラン(1mL)溶液に塩化2−ナフタレンスルホニル(66.2mg,0.29mmol),トリエチルアミン(80.6mg,0.80mmol)を加え20−25℃で3時間攪拌した。反応液を水に注入して酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣を薄層クロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=10/1)で精製して、N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)ナフタレン−2−スルホンアミド(71mg,70%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.22(6H,s),1.58(3H,m),1.73(3H,m),3.67(1H,br.s),5.26(1H,s),6.19−6.24(2H,m),6.58−6.62(1H,m),6.68−6.69(1H,m),7.54−7.73(3H,m),7.86−7.99(3H,m),8.26(1H,m).
実施例62
N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)チオフェン−2−スルホンアミド
Figure 2006077821
参考例58で合成した化合物から実施例61と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.26(6H,s),1.59(3Hs),1.89(3H,d,J=1.26),3.73(1H,s),5.31(1H,s)6.20(1H,br.s),6.30−6.32(1H,m),6.68−6.72(2H,m),6.99−7.02(1H,m),7.39−7.41(1H,m),7.53−7.55(1H,m).
実施例63
N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)ベンゼンスルホンアミド
Figure 2006077821
参考例58で合成した化合物から実施例61と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.25(6H,s),1.81(3H,s),3.71(1H,s),5.30(1H,s),6.16(1H,s),6.26−6.30(1H,m),6.60−6.66(2H,m),7.39−7.46(2H,m),7.50−7.56(1H,m),7.68−7.73(2H,m).
実施例64
4−クロロ−N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)ベンゼンスルホンアミド
参考例58で合成した化合物から実施例61と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.26(6H,s),1.84(3H,s),3.73(1H,s),5.32(1H,s),6.20(1H,s),6.28(1H,d,J=8.3 Hz),6.60(1H,dd,J=2.4,3.8Hz),6.68(1H,d,J=2.4Hz),7.40(2H,d,J=6.7Hz),7.63(2H,d,J=8.4Hz).
実施例65
4−メトキシ−N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)ベンゼンスルホンアミド
参考例58で合成した化合物から実施例61と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.25(6H,s),1.84(3H,s),3.71(1H,s),3.84 (1H,s),5.31(1H,s),6.08(1H,s),6.28(1H,d,J=8.2Hz),6.62(1H,dd,J=2.4,3.8Hz),6.68(1H,d,J=2.4Hz),6.89(2H,d,J=6.7Hz),7.63(2H,d,J=8.4Hz).
実施例66
5−クロロ−N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)チオフェン−2−スルホンアミド
Figure 2006077821
参考例58で合成した化合物から実施例61と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.26(6H,s),1.89(3H,s),3.76(1H,s),5.33(1H,s),6.20(1H,s),6.33(1H,d,J=8.2Hz),6.70(1H,dd,J=2.4,3.8Hz),6.76(1H,d,J=2.4Hz),6.84(2H,d,J=4.0Hz),7.18(2H,d,J=4.0Hz).
実施例67
2−フルオロ−N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)ベンゼンスルホンアミド
Figure 2006077821
参考例58で合成した化合物から実施例61と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.22(6H,s),1.83(3H,s),3.49(1H,s),5.28(1H,s),6.23−6.26(1H,d,J=8.22Hz),6.44(1H,br.s),6.69−6.74(2H,m),7.14−7.24(2H,m),7.49−7.59(1H,m),7.69−7.74(1H,m).
実施例68
3−フルオロ−N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)ベンゼンスルホンアミド
Figure 2006077821
参考例58で合成した化合物から実施例61と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.23(6H,s),1.81(3H,m),3.71(1H,br.s),5.28(1H,s),6.20(1H,br.s),6.25−6.28(1H,d,J=8.22Hz),6.59−6.65(2H,m),7.18−7.24(1H,m),7.36−7.48(3H,m).
実施例69
4−フルオロ−N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)ベンゼンスルホンアミド
Figure 2006077821
参考例58で合成した化合物から実施例61と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.25(6H,s),1.83(3H,m),3.72(1H,br.s),5.31(1H,s),6.24−6.29(2H,m),6.59−6.67(2H,m),7.06−7.13(2H,m),7.60−7.73(2H,m).
実施例70
4−(トリフルオロメチル)−N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)ベンゼンスルホンアミド
Figure 2006077821
参考例58で合成した化合物から実施例61と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.25(6H,s),1.80(3H,m),3.74(1H,br.s),5.31(1H,s),6.27−6.29(1H,d,J=8.0Hz),6.60−6.65(2H,m),7.68−7.71(2H,m),7.81−7.84(2H,m).
実施例71
4−ニトロ−N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)ベンゼンスルホンアミド
参考例58で合成した化合物から実施例61と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.26(6H,s),1.84(3H,s),3.78(1H,br.s),5.32(1H,s),6.26−6.33(2H,m),6.55−6.59(1H,m),6.71−6.72(1H,m),7.86−7.89(2H,m),8.26−8.29(2H,m).
実施例72
4−アミノ−N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)ベンゼンスルホンアミド
実施例71で合成した化合物から参考例15と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.24(6H,s),1.84 (3H,s),4.05−4.15(1H,br.s),5.30(1H.s),6.04(1H,s),6.26−6.29(1H,m),6.56−6.69(4H,m),7.44−7.47(2H,m).
実施例73
N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)ピリジン−3−スルホンアミド
Figure 2006077821
参考例58で合成した化合物から実施例61と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.26(6H,s),1.83(3H,s),3.74(3H,s),5.31(1H,s),6.23(1H,s),6.28(1H,d,J=8.4 Hz),6.62(1H,dd,J=8.4,2.4Hz),6.68(1H,d,J=2.4Hz),7.34−7.40(1H,m),7.90−7.96(2H,m),8.74−8.78(1H,m),8.93(2H,d,J=4.6Hz).
実施例74
N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)チオフェン−3−スルホンアミド
Figure 2006077821
参考例58で合成した化合物から実施例61と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.25(6H,s),1.85(3H,m),3.73(1H,br.s),5.31(1H,s),6.17(1H,br.s),6.29−6.32(1H,m),6.66−6.68 (2H,m),7.21−7.22(1H,m),7.33−7.36(1H,m),7.75−7.76(1H,m).
実施例75
N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)−1−ベンゾチオフェン−2−スルホンアミド
Figure 2006077821
参考例58で合成した化合物から実施例61と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.25(6H,s),1.77(3H,m),3.72(1H,br.s),5.28(1H,s),6.25−6.29(2H,m),6.70−6.72(1H,m),6.77(1H,br.s),7.39−7.49(2H,m),7.63(1H,br.s),7.78−7.85(2H,m).
実施例76
4−(1−ヒドロキシエチル)−N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)ベンゼンスルホンアミド
参考例58で合成した化合物から実施例61と同様の方法、続いて参考例9と同様の方法を順次用いて合成した。
LC−MS(M+1):373.1
実施例77
3−メチル−N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)ベンゼンスルホンアミド
参考例58で合成した化合物から実施例61と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.25(6H,s),1.82(3H,m),2.36(3H,s),3.70(1H,br.s),5.30(1H,s),6.05(1H,br.s),6.26−6.30(1H,m),6.61−6.64(2H,m),7.30−7.34(2H,m),7.44−7.52(2H,m).
実施例78
2−メチル−N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)ベンゼンスルホンアミド
Figure 2006077821
参考例58で合成した化合物から実施例61と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.22(6H,s),2.61(3H,m),3.86−3.75(1H,s),5.27(1H,s),6.08−6.28(2H,m),6.57−6.67(2H,m),7.19−7.32(2H,m),7.83−7.85(1H,m).
実施例79
N−(7−クロロ−2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)−4−メチルベンゼンスルホンアミド
参考例60で合成した化合物から参考例57と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.26(6H,s),1.97(3H,m),2.38(3H,s),3.70(1H,br.s),5.35(1H,s),6.26(1H,s),6.42(1H,s),7.18−7.20(2H,m),7.26−7.27(1H,m),7.55−7.58(2H,m).
実施例80
4−メチル−N−(2,2,4,7−テトラメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)ベンゼンスルホンアミド
Figure 2006077821
参考例62で合成した化合物から参考例57と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.24(6H,s),1.76−1.77(3H,m),1.89(3H,s),2.40(3H,s),3.65(1H,br.s),5.24(1H,s),5.90(1H,s),6.17(1H,s),6.63(1H,s),7.21−7.24(2H,m),7.57−7.60(2H,m).
実施例81
N,4−ジメチル−N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)ベンゼンスルホンアミド
Figure 2006077821
実施例60で合成した化合物(52mg,0.15mmol)、ヨードメタン(33μL,0.53mmol)、および炭酸カリウム(50mg,0.37mmol)の混合物をアセトン(2.5mL)中、20−25℃で3.5時間攪拌した。濾過にて沈殿を除去し、溶媒を減圧留去して得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=10/1〜8/1)で精製し、N,4−ジメチル−N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)ベンゼンスルホンアミド(33mg,62%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.25(6H,s),1.80(3H,d,J=1.3Hz),2.40(3H,s),3.08(3H,s),3.74(1H,br.s),5.27(1H,d,J=1.3Hz),6.27(1H,d,J=8.4Hz),6.59(1H,dd,J=8.4,2.4Hz),6.65(1H,d,J=2.4Hz),7.23(2H,d,J=8.3Hz),7.48(2H,d,J=8.3Hz).
実施例82
N−ベンジル−4−メチル−N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)ベンゼンスルホンアミド
実施例60で合成した化合物から実施例81と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.23(6H,s),1.71(3H,d,J=1.1Hz),2.44(3H,s),3.70(1H,br.s),4.63(2H,s),5.24(1H,s),6.19(1H,d,J=8.1Hz),6.48−6.53(2H,m),7.19−7.29(7H,m),7.60(2H,d,J=8.3Hz).
実施例83
N−アリル−4−メチル−N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)ベンゼンスルホンアミド
実施例60で合成した化合物から実施例81と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.27(6H,s),1.80(3H,s),2.42(3H,s),3.74(1H,s),4.09(1H,d,J=6.4Hz),5.00−5.11(2H,m),5.28(1H,s),5.68−5.81(1H,m),6.27(1H,d,J=7.9Hz),6.56−6.61(2H,m),7.25(2H,d,J=8.0Hz),7.55(2H,d,J=8.2Hz).
実施例84
N−イソプロピル−4−メチル−N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)ベンゼンスルホンアミド
実施例60で合成した化合物から実施例81と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.01(6H,d,J=6.6Hz),1.29(6H,s),1.82(3H,s),2.41(3H,s),3.77(1H,s),4.51−4.62(1H,m),5.28(1H,s),5.68−5.81(1H,m),6.31(1H,d,J=8.6Hz),6.57−6.63(2H,m),7.24(2H,d,J=8.2Hz),7.64(2H,d,J=8.3Hz).
実施例85
N−メチル−N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)チオフェン−2−スルホンアミド
Figure 2006077821
実施例62で合成した化合物から実施例81と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.27(6H,s),1.84(3H,s),3.18(3H,s),3.76(1H,s),5.30(1H,s),6.31(1H,d,J=8.2Hz),6.65−6.73(2H,m),7.06−7.10(1H,m),7.35−7.39 (1H,m),7.55−7.59(1H,m).
実施例86
N−[(4−メチルフェニル)スルホニル]−N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)アセトアミド
Figure 2006077821
実施例60で合成した化合物(34mg,0.10mmol)、塩化アセチル(7.0μL,0.10mmol)、およびトリエチルアミン(42μL,0.30mmol)の混合物をテトラヒドロフラン(0.5mL)中、20−25℃で17時間攪拌した。塩化アセチル(7.0μL,0.10mmol)とトリエチルアミン(28μL,0.20mmol)を追加し、さらに50℃で3時間攪拌した。濾過にて沈殿を除去し、溶媒を減圧留去して得られた残査を薄層クロマトグラフィー (クロロホルム/酢酸エチル=10/1)で精製し、N−[(4−メチルフェニル)スルホニル]−N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)アセトアミド(24.0mg,62%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.32(6H,s),1.89(3H,s),1.93(3H,s),2.45(3H,s),3.94(1H,s),5.35(1H,s),6.42(1H,d,J=8.2Hz),6.77−6.85(2H,m),7.33(2H,d,J=8.0Hz),7.93(2H,d,J=8.2Hz).
実施例87
N−(フェニルスルホニル)−N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)アセトアミド
Figure 2006077821
実施例63で合成した化合物から実施例86と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.32(6H,s),1.90(3H,s),1.93(3H,s),3.95(1H,s),5.36(1H,s),6.42(1H,d,J=8.3Hz),6.81(1H,dd,J=8.3,2.4Hz),6.84(1H,d,J=2.4Hz),7.51−7.67(3H,m),8.06(2H,d,J=7.1Hz).
実施例88
N−[(4−クロロフェニル)スルホニル]−N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)アセトアミド
Figure 2006077821
実施例64で合成した化合物から実施例86と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.33(6H,s),1.90(3H,s),1.94(3H,s),3.96(1H,s),5.36(1H,s),6.42(1H,d,J=8.3Hz),6.77(1H,dd,J=8.3,2.4Hz),6.83(1H,d,J=2.4Hz),7.51(2H,d,J=8.5Hz),7.99(2H,d,J=8.5Hz).
実施例89
N−[(5−クロロ−2−チエニル)スルホニル]−N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)アセトアミド
Figure 2006077821
実施例66で合成した化合物から実施例86と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.32(6H,s),1.94(3H,s),1.96(3H,s),3.96(1H,s),5.36(1H,s),6.41(1H,d,J=8.3Hz),6.78(1H,dd,J=8.3,2.3Hz),6.84(1H,d,J=2.3Hz),6.96(1H,d,J=4.1Hz),7.66(1H,d,J=4.1Hz).
実施例90
N−[(4−メチルフェニル)スルホニル]−N−(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)グリシン酸メチル
実施例60で合成した化合物から実施例81と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.26(6H,s),1.79(3H,s),2.41(3H,s),3.69(3H,s),3.77(1H,s),4.34 (2H,s),5.27(1H,s),6.26(1H,d,J=9.3Hz),6.73−6.78(2H,m),7.24(2H,d,J=8.4Hz),7.59(2H,d,J=8.2Hz).
実施例91
オキソ[(2−チエニルスルホニル)(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)アミノ]酢酸メチル
Figure 2006077821
実施例62で合成した化合物(315mg,0.942mmol)のテトラヒドロフラン(3.0mL)溶液に氷冷下、水素化ナトリウム(含量60%)(54mg,1.4mmol)を加え10分間攪拌した。氷冷下、反応液中にクロログリオキシル酸メチル(104μL,1.13mmol)のテトラヒドロフラン(2.0mL)溶液を滴下し、20−25℃で14時間攪拌した。反応液に水を注入し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧留去して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル/へキサン=4/1)にて精製し、オキソ[(2−チエニルスルホニル)(2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)アミノ]酢酸メチル(317mg,80%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.29(6H,s),1.84(3H,d,J=1.3Hz),3.76(3H,s),3.98(1H,br.s),5.30(1H,s),6.34(1H,d,J=7.9Hz),6.71−6.74(2H,m),7.15(1H,dd,J=5.0,3.9Hz),7.75(1H,dd,J=5.0,1.3Hz),7.82(1H,dd,J=3.9,1.3Hz).
実施例92
2−{[[(4−メチルフェニル)スルホニル](2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)アミノ]スルホニル}安息香酸メチル
実施例60で合成した化合物から実施例91と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.26(3H,s),1.30(3H,s),1.74(3H,d,J=1.5Hz),2.45(3H,s),3.66(3H,s),3.89(1H,br.s),5.27(1H,d,J=1.3Hz),6.27(1H,d,J=8.4Hz),6.62(1H,d,J=2.4Hz),6.66(1H,dd,J=8.3,2.4Hz),7.26−7.31(2H,m),7.51−7.55(1H,m),7.61−7.69(2H,m),7.76−7.80(2H,m),8.34−8.40(1H,m).
実施例93
N,4−ジメチル−N−(2,2,4,7−テトラメチル−1,2−ジヒドロキノリン−6−イル)ベンゼンスルホンアミド
参考例64で合成した化合物から参考例57と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.07(6H,m),1.57(3H,s),2.26(3H,s),2.44(3H,s),3.09 (3H,s),3.70(1H,br.s),5.19(1H,s),6.10(1H,s),6.27(1H,s),7.26−7.30(3H,m),7.61−7.63(2H,m).
実施例94
4−メチル−N−(6,6,8−トリメチル−5,6−ジヒドロ−1,5−ナフチリジン−2−イル)ベンゼンスルホンアミド
参考例66で合成した化合物から参考例57と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.26(6H,s),1.82(3H,d,J=1.3Hz),2.37(3H,s),5.49(1H,m),6.65(1H,d,J=8.4Hz),6.99(1H,d,J=8.4Hz),7.20−7.23(1H,m),7.69−7.71(1H,m).
実施例95
4−メチルベンゼンスルホン酸2,2,4−トリメチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−6−イル
実施例51で合成した化合物の塩酸塩(68mg,0.18mmol)のメタノール(5.0mL)溶液に10%パラジウム−炭素(50%含水品)(74mg)を添加し、0.3MPaの水素雰囲気下、20−25℃で1時間攪拌した。反応後、触媒を濾過除去し、濾液を減圧濃縮した。残渣をクロロホルム−炭酸水素ナトリウム水で分配抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (ヘキサン/酢酸エチル=10/1〜5/1)で精製し、4−メチルベンゼンスルホン酸2,2,4−トリメチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−6−イル(35mg,56%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.12(3H,d,J=6.6Hz),1.14(3H,s),1.22(3H,s),1.34(1H,t−like,J=13Hz),1.69(1H,dd,J=13,5.6Hz),2.44(3H,s),2.79(1H,m),3.61(1H,br.s),6.26(1H,d,J=8.6Hz),6.56(1H,dd,J=8.6,2.7Hz),6.66(1H,dd,J=2.7,1.1Hz),7.29(2H,d,J=8.7Hz),7.70(2H,d,J=8.7Hz).
実施例96
2,2,4−トリメチル−6−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン
Figure 2006077821
実施例57で合成した化合物から実施例95と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.12(3H,d,J=6.8Hz),1.15(3H,s),1.23(3H,s),1.38(1H,d,J=12.7Hz),1.70(1H,dd,J=12.7,5.6Hz),2.41(3H,s),2.77(1H,hept,J=6.2Hz),3.67(1H,br.s),4.13(1H,d,J=13.9Hz),4.19(1H,d,J=13.9Hz),6.33(1H,d,J=8.1Hz),6.69(1H,d,J=1.8Hz),6.73(1H,dd,J=8.1,1.8Hz),7.23(2H,d,J=8.3Hz),7.52(2H,d,J=8.3Hz).
実施例97
4−メチル−N−(2,2,4−トリメチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−6−イル)ベンゼンスルホンアミド
Figure 2006077821
実施例60で合成した化合物の塩酸塩から実施例95と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.14(3H,s),1.16(3H,d,J=6.8Hz),1.22(3H,s),1.35(1H,t−like,J=13Hz),1.70(1H,dd,J=13,5.6Hz),2.39(3H,s),2.80(1H,m),6.09(1H,br.s),6.28(1H,d,J=8.5Hz),6.61(1H,dd,J=8.5,2.4Hz),6.75(1H,d,J=2.4Hz),7.21(2H,d,J=8.5Hz),7.57(2H,d,J=8.4Hz).
実施例98
N−(2,2,4−トリメチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−6−イル)チオフェン−2−スルホンアミド
Figure 2006077821
参考例67で合成した化合物から実施例61と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.12−1.28(9H,m),1.38(1H,t,J=12.6Hz),1.72(1H,dd,J=12.8,5.7Hz),2.76−2.90(1H,m),6.12(1H,s),6.32(1H,d,J=8.4Hz),6.68(1H,dd,J=8.4,2.4Hz),6.83(1H,s),7.00(1H,t,J=3.8Hz),7.36−7.40(1H,m),7.50−7.55(1H,m).
実施例99
N−(2,2,4−トリメチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−6−イル)ナフタレン−2−スルホンアミド
Figure 2006077821
実施例61で合成した化合物から実施例95と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.01−1.20(9H,m),1.31(1H,t,J=12.4Hz),1.65(1H,dd,J=12.8,5.4Hz),2.69−2.77(1H,m),6.17(1H,br.s),6.27(1H,d,J=8.1Hz),6.62(1H,dd,J=8.4,2.5Hz),6.74(1H,s),7.54−7.64(2H,m),7.70(1H,dd,J=8.8,1.5Hz),7.85−7.90(3H,m),8.24(1H,s).
実施例100
N,4−ジメチル−N−(2,2,4−トリメチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−6−イル)ベンゼンスルホンアミド
Figure 2006077821
実施例97で合成した化合物から実施例81と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.11−1.30(9H,m),1.39(1H,t,J=12.5Hz),1.71(1H,dd,J=5.7,13.0Hz),2.42(3H,s),2.75−2.88(1H,m),3.10(1H,s),6.30(1H,d,J=8.6Hz),6.55−6.63(1H,m),6.79(1H,s),7.24(2H,d,J=8.6Hz),7.50(2H,d,J=8.3Hz).
実施例101
N−[(4−メチルフェニル)スルホニル]−N−(2,2,4−トリメチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−6−イル)アセトアミド
Figure 2006077821
実施例86で合成した化合物から参考例67と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:1.20−1.32(9H,m),1.44(1H,t,J=12.6Hz),1.76(1H,dd,J=12.7,5.2Hz),1.87(3H,s),2.44(3H,s),3。92(1H,s),6.43(1H,t,J=8.4Hz),6.80(1H,dd,J=8.4,1.9Hz),6.97(1H,s),7.32(2H,d,J=8.1Hz),7.93(2H,d,J=8.4Hz).
実施例102
4−メチルベンゼンスルホン酸 2−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−6−イル
参考例68で合成した化合物(24.5mg,0.0782mmol)と塩化ニッケル(II)六水和物(28mg,0.12mmol)のメタノール(3.0mL)溶液に、氷冷下、水素化ホウ素ナトリウム(44mg,1.2mmol)を加え、0℃で10分間攪拌した。反応液に塩化アンモニウム水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去して得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=10/1〜5/1)で精製することにより、4−メチルベンゼンスルホン酸2−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−6−イル(12.8mg,52%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.19(3H,d,J=6.2Hz),1.45−1.56(1H,m),1.85−1.93(1H,m),2.44(3H,s),2.57−2.80(2H,m),3.30−3.41(1H,m),3.71(1H,br.s),6.26(1H,d,J=8.6Hz),6.45(1H,dd,J=8.6,2.7Hz),6.64(1H,d,J=2.7Hz),7.28−7.31(2H,m),7.69−7.72(2H,m).
実施例103
4−メチルベンゼンスルホン酸 2,2−ジメチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−6−イル
参考例71で合成した化合物(37.7mg, 0.0824 mmol)、水素化トリ−n−ブチルすず(54μL,0.20mmol)、およびα,α’−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)(4mg)の混合物をトルエン(1.6mL)中、3時間加熱還流した。溶媒を減圧留去して得られた残査をカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=15/1)で精製し、さらにトルエン−ヘキサンで再結晶することにより、4−メチルベンゼンスルホン酸2,2−ジメチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−6−イル(13.5mg,49%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:1.18(6H,s),1.64(2H,t,J=6.8Hz),2.44(3H,s),2.67(2H,t,J=6.8Hz),3.62(1H,br.s),6.24(1H,d,J=8.7Hz),6.46(1H,dd,J=8.7,2.8Hz),6.73(1H,d,J=2.8Hz),7.29(2H,d,J=8.5Hz),7.51(2H,d,J=8.5Hz).
実施例104
6−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}−2−(トリフルオロメチル)−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン
Figure 2006077821
参考例72で合成した化合物から実施例102と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:2.04−2.10(2H,m),2.43(3H,s),2.68−2.75(2H,m),3.80−3.91(1H,m),4.14(2H,s),7.93(1H,d,J=8.2Hz),6.66−6.72(1H,m),6.76(1H,s),7.26(2H,d,J=8.4Hz),7.55(2H,d,J=8.4Hz).
実施例105
4−メチルベンゼンスルホン酸 4−[(メチルスルホニル)アミノ]フェニル
Figure 2006077821
参考例50で合成した化合物(205mg,0.778mmol)とトリエチルアミン(162μL,1.17mmol)のジクロロメタン(5.0mL)溶液に塩化メタンスルホニル(73μL,0.93mmol)を添加し、20−25℃で2時間攪拌した。さらに塩化メタンスルホニル(46μL,0.59mmol)を追加して2時間攪拌した。反応液に水を注入し、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去して得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(トルエン/酢酸エチル=6/1)で精製することにより、4−メチルベンゼンスルホン酸4−[(メチルスルホニル)アミノ]フェニル(106mg,40%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:2.47(3H,s),3.01(3H,s),6.44(1H,br.s),6.99(1H,dt,J=9.0,2.2Hz),7.14(1H,dt,J=9.0,2.2Hz),7.32(2H,d,J=8.4Hz),7.72(2H,d,J=8.4Hz).
実施例106
4−メチルベンゼンスルホン酸 4−[(ブチルスルホニル)アミノ]フェニル
Figure 2006077821
参考例50で合成した化合物から実施例105と同様の方法で合成した。
LC−MS(M+1):384.1.
実施例107
4−メチルベンゼンスルホン酸 4−[(イソプロピルスルホニル)アミノ]フェニル
参考例50で合成した化合物から実施例105と同様の方法で合成した。
LC−MS(M+1):370.1.
実施例108
4−メチルベンゼンスルホン酸 3−メチル−4−[(メチルスルホニル)アミノ]フェニル
3−メチル−4−ニトロフェノールから参考例49〜50と同様の方法、続いて実施例105と同様の方法を順次用いて合成した。
LC−MS(M+1):356.1.
実施例109
4−メチルベンゼンスルホン酸 2−メチル−4−[(メチルスルホニル)アミノ]フェニル
Figure 2006077821
2−メチル−4−ニトロフェノールから参考例49〜50と同様の方法、続いて実施例105と同様の方法を順次用いて合成した。
H−NMR(CDCl)δ:2.07(3H,s),2.47(3H,s),3.01(3H,s),6.95−7.04(3H,m),7.33−7.36(2H,m),7.74−7.77(2H,m).
実施例110
4−メチルベンゼンスルホン酸 2−フルオロ−4−[(メチルスルホニル)アミノ]フェニル
Figure 2006077821
2−フルオロ−4−ニトロフェノールから参考例49〜50と同様の方法、続いて実施例105と同様の方法を順次用いて合成した。
H−NMR(CDCl)δ:2.47(3H,s),3.09(3H,s),6.54−6.56(1H,br.s),6.85−6.90(1H,m),7.01−7.08(1H,m),7.18−7.26(2H,m),7.33−7.36(2H,m),7.76−7.78(2H,m).
実施例111
4−メチルベンゼンスルホン酸 2−クロロ−4−[(メチルスルホニル)アミノ]フェニル
2−クロロ−4−ニトロフェノールから参考例49〜50と同様の方法、続いて実施例105と同様の方法を順次用いて合成した。
H−NMR(CDCl)δ:2.47(3H,s),3.05(3H,s),7.06−7.10(1H,m),7.26−7.36(4H,m),7.78−7.80(2H,m).
実施例112
N−(4−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}フェニル)メタンスルホンアミド
Figure 2006077821
参考例74で合成した化合物(50mg,0.19mmol)のジクロロメタン(3mL)溶液にトリエチルアミン(97mg,0.96mmol)と塩化メタンスルホニル(66mg,0.57mmol)を加え、20−25℃で6時間攪拌した。さらに、トリエチルアミン(97mg,0.96mmol)、塩化メタンスルホニル(66mg,0.57mmol)、および4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)(2mg)を加え10時間攪拌した。反応液を重曹水に注入して酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣(粗ジメシル体,73mg)のテトラヒドロフラン(3mL)溶液に、1.0Mフッ化テトラブチルアンモニウム(TBAF)−テトラヒドロフラン溶液(0.38mL)を加えて20−25℃で2時間攪拌した。反応液を水に注入して酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/へキサン=1/1)にて精製して、N−(4−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}フェニル)メタンスルホンアミド(47mg,72%)を得た。
H−NMR(CDCl)δ:2.38(3H,s)、2.97(3H,s),4.55(2H,s),7.09(4H,m),7.36−7.39(2H,m),7.56−7.59(2H,m),9.80(1H,br.s).
実施例113
N−(2−メチル−4−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}フェニル)メタンスルホンアミド
3−メチル−4−ニトロベンジルブロマイドから参考例73と同様の方法、参考例15と同様の方法、続いて実施例112と同様の方法を順次用いて合成した。
H−NMR(CDCl)δ:2.26(3H,s),2.44 (3H,s),3.03(3H,s),4.22(2H,m),6.23(1H,br.s),6.89−6.92(1H,m),7.09(1H,m),7.26−7.29(2H,m),7.35−7.38(1H,m),7.56−7.61(1H,m).
実施例114
N−(4−{[(4−メチルフェニル)スルホニル]メチル}−3−ビニルフェニル)メタンスルホンアミド
参考例78で合成した化合物から実施例112と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:2.41(3H,s),3.00(3H,s),4.34(2H,s),5.22(1H,dd,J=0.9,10.8Hz),5.47(1H,dd,J=0.9.10.8Hz),6.69(1H,dd,J=10.8,17.2Hz),6.93(1H,br.s),7.06−7.08(2H,m),7.24−7.27(4H,m),7.52−7.57(2H,m).
実施例115
4−メチル−N−{4−[(メチルスルホニル)アミノ]フェニル}ベンゼンスルホンアミド
N−(4’−アミノフェニル)−4−メチルベンゼンスルホンアミドから実施例105と同様の方法で合成した。
H−NMR(DMSO−d)δ:2.32(3H,s)、2.89(3H,s),6.99−7.06(4H,m),7.32(2H,d,J=8.2Hz),7.60(2H,d,J=8.2Hz),9.56(1H,br.s),10.08(1H,br.s).
実施例116
N,4−ジメチル−N−{2−メチル−4−[(メチルスルホニル)アミノ]フェニル}ベンゼンスルホンアミド
参考例64で合成した化合物から実施例112と同様の方法で合成した。
H−NMR(CDCl)δ:2.38(3H,s),2.46(2H,s),3.03(3H,s),3.09(3H,s),6.56−6.59(1H,d,J=8.6Hz),6.95−7.11(2H,m),7.30−7.33(2H,m),7.58−7.61(2H,m).
試験例1:アルドステロン受容体結合阻害実験
ラットに側腹切開(両側)を施し、両副腎を摘出した。切開口を縫合後、再び飼育ケージに戻し、3〜5日程度飼育したラットより腎臓を採取した後、0.1M Tris−HCl,0.25M スクロース,0.1M NaMoO,2mM DTT 緩衝液(pH7.4)でホモジナイズし、これを105,000g、30分間、遠心分離し、上清を腎可溶性分画とした。
ラット腎可溶性分画0.5〜1.5mg、標識リガンドである[H] アルドステロン(2nM)および被験物質を、2μM RU−486(グルココルチコイド受容体アンタゴニスト)存在下、総量100μL中で4℃、およそ18時間反応させた。その後、反応液に50μLの5%デキストランコートした活性炭を加え混和後、3,000g、5分間遠心した。次いで上清100μLを採取し、液体シンチレータACS−II(アマシャム)3.5mLと混合し、液体シンチレーションカウンター(パッカード社製Tri Carb 2700TR)で放射活性を測定した。なお、非特異的結合は、反応液に2μMのアルドステロンを添加することで求めた。試験結果として0.1nM〜10000nMの範囲の被験物質濃度での標識リガンドに対する結合阻害率(%)を、以下の式よりもとめた。
結合阻害率(%)=100−{(B−N)/(B−N)}x100
B:被験物質と標識リガンド共存下での標識リガンド結合量
:被験物質を除いた時の標識リガンド結合量
N:過剰のアルドステロン(2μM)存在下での標識リガンド結合量
濃度反応曲線から50%阻害する被験物質濃度に相当するIC50値(μM)を算出した。
実施例で得られた化合物について、試験例1に示す試験を行った。アルドステロン受容体結合阻害実験結果について表1に示す。
Figure 2006077821
試験例2:副腎摘出ラットを用いたアルドステロン誘発尿中Na/K比低下に対する拮抗作用(in vivoアンタゴニスト活性)
ラットをペントバルビタールナトリウム50mg/kg腹腔内投与にて麻酔し、イソジン希釈液で皮膚を消毒した後切開した。両副腎を切除し、止血を確認後筋肉層、皮膚の順に縫合し、縫合部位をイソジン希釈液で消毒した。3日間以上飼育した後、経過が良好なものを以下の試験に使用した。
試験前日より絶食を行い、試験当日に代謝ケージに入れ4時間採尿を行った。被験物質を経口投与する場合は0.5%メチルセルロースを溶媒に5ml/kgの投与液量で投与した。アルドステロンは1%エタノール/生理食塩水に溶解し皮下投与した。被験物質の投与タイミングは、アルドステロン投与の30分前とした。なお、尿量を安定化および十分に確保するため、アルドステロン投与時に生理食塩水を20ml/kgの液量で経口投与した。採取した尿は尿量測定後、生化学自動分析器(ベックマン社製 シンクロンCX3 システムデルタ)を用いて尿中の電解質(ナトリウム:Na、カリウム:K)濃度を測定した。
実施例24で得られた化合物およびアルドステロン受容体アンタゴニストであるエプレレノンについて、試験例2に示す試験を行った。各群の結果をまとめて、尿中Na/K比の平均値と標準誤差値を図1に示した。実施例24の化合物はアルドステロンで誘発した尿Na/K比の減少を用量依存的に抑制した。
本発明化合物は、高血圧、脳卒中、不整脈、心不全、心肥大、動脈硬化、血管再狭窄、腎線維症、心筋梗塞、糖尿病合併症、腎疾患、浮腫、原発性アルドステロン症、炎症などを含む循環器系疾患の治療および予防剤として有用である。

Claims (14)

  1. 式(1)
    Figure 2006077821
    [式中、Aは下記式(A−1)、(A−2)、(A−3)、(A−4)または(A−5)のいずれかの基を表す。
    Figure 2006077821
    (式中、RおよびRは、各々独立して、水素原子、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、もしくは置換されてもよいヘテロアリール基を表すか、またはRおよびRは一緒になって、隣接する炭素原子と共に、置換されてもよいシクロアルカン環、もしくは置換されてもよい飽和へテロ環を表す。
    Zは、窒素原子またはCRを、Wは、窒素原子またはCRを、Qは、窒素原子またはCRを表す。
    、R3a、R、R、R、R、RおよびRは、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいヘテロアリール基、シアノ基、ニトロ基、水酸基、置換されてもよいアミノ基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されてもよいアルカノイル基、置換されてもよいアルコキシカルボニル基、カルボキシ基、置換されてもよいカルバモイル基、置換されてもよいアルキルチオ基、置換されてもよいアルキルスルフィニル基、置換されてもよいスルファモイル基、または置換されてもよいアルキルスルホニル基を表す。
    10は置換されてもよいアルキル基を表す。
    、RおよびRは、各々独立して、水素原子、または置換されてもよいアルキル基を表す。
    Yは、酸素原子、または硫黄原子を表す。)
    Xは、酸素原子、NR11、またはCR1213を表す。
    (式中、R11は、水素原子、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルカノイル基、置換されてもよいアロイル基、置換されてもよいアルコキシカルボニル基、置換されてもよいアルキルスルホニル基、置換されてもよいアリールスルホニル基、置換されてもよいヘテロアリールスルホニル基、または式:−C(O)−C(O)−OR11a(R11aは、水素原子または置換されてもよいアルキル基を表す。)で表される基を表す。
    12およびR13は、各々独立して、水素原子、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいシクロアルキル基を表すか、またはR12とR13は、一緒になって、隣接する炭素原子と共に、置換されてもよいシクロアルカン環を表す。)
    Bは置換されてもよいアリール基、または置換されてもよいヘテロアリール基を表す。]
    で表される化合物もしくはそのプロドラッグ、またはそれらの薬学上許容される塩を含有する、高血圧、脳卒中、不整脈、心不全、心肥大、動脈硬化、血管再狭窄、腎線維症、心筋梗塞、糖尿病合併症、腎疾患、浮腫、原発性アルドステロン症または炎症の予防または治療剤。
  2. 式(1a)
    Figure 2006077821
    [式中、Aは下記式(A−1)、(A−2)、(A−3)、(A−4)または(A−5)のいずれかの基を表す。
    Figure 2006077821
    (式中、RおよびRは、各々独立して、水素原子、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、もしくは置換されてもよいヘテロアリール基を表すか、またはRおよびRは一緒になって、隣接する炭素原子と共に、置換されてもよいシクロアルカン環、もしくは置換されてもよい飽和へテロ環を表す。
    Zは、窒素原子またはCRを、Wは、窒素原子またはCRを、Qは、窒素原子またはCRを表す。
    、R3a、R、R、R、R、RおよびRは、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいヘテロアリール基、シアノ基、ニトロ基、水酸基、置換されてもよいアミノ基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されてもよいアルカノイル基、置換されてもよいアルコキシカルボニル基、カルボキシ基、置換されてもよいカルバモイル基、置換されてもよいアルキルチオ基、置換されてもよいアルキルスルフィニル基、置換されてもよいスルファモイル基、または置換されてもよいアルキルスルホニル基を表す。
    10は置換されてもよいアルキル基を表す。
    、RおよびRは、各々独立して、水素原子、または置換されてもよいアルキル基を表す。
    Yは、酸素原子、または硫黄原子を表す。)
    Xは、酸素原子、NR11、またはCR1213を表す。
    (式中、R11は、水素原子、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルカノイル基、置換されてもよいアロイル基、置換されてもよいアルコキシカルボニル基、置換されてもよいアルキルスルホニル基、置換されてもよいアリールスルホニル基、置換されてもよいヘテロアリールスルホニル基、または式:−C(O)−C(O)−OR11a(R11aは、水素原子または置換されてもよいアルキル基を表す。)で表される基を表す。
    12およびR13は、各々独立して、水素原子、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいシクロアルキル基を表すか、またはR12とR13は、一緒になって、隣接する炭素原子と共に、置換されてもよいシクロアルカン環を表す。)
    Bは置換されてもよいアリール基、または置換されてもよいヘテロアリール基を表す。
    ただし、Aが式(A−1)で表される化合物であり、ZがCRであり、WがCRであり、QがCRである場合、Rは、置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、または置換されてもよいヘテロアリール基を表す。]
    で表される化合物もしくはそのプロドラッグ、またはそれらの薬学上許容される塩。
  3. Xが、酸素原子、NR11、またはCR1213(式中、R11は、水素原子、置換されてもよいアルキル基、または置換されてもよいアルカノイル基を表す。R12およびR13は、各々独立して、水素原子、または置換されてもよいアルキル基を表す。)である、請求項2記載の化合物もしくはそのプロドラッグ、またはそれらの薬学上許容される塩。
  4. Bが置換されてもよいフェニル、置換されてもよいナフチル、置換されてもよいピリジル、置換されてもよいフラニル、置換されてもよいピロリル、または置換されてもよいチエニルである、請求項3記載の化合物もしくはそのプロドラッグ、またはそれらの薬学上許容される塩。
  5. Aが式(A−6):
    Figure 2006077821
    で表される基であり、Rが、置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、または置換されてもよいヘテロアリール基である、請求項4記載の化合物もしくはそのプロドラッグ、またはそれらの薬学上許容される塩。
  6. 、R、およびRが、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換されてもよいアルキル基、水酸基、または置換されてもよいアルコキシ基である、請求項5記載の化合物もしくはそのプロドラッグ、またはそれらの薬学上許容される塩。
  7. Aが式(A−7):
    Figure 2006077821
    で表される基であり、RおよびRが、各々独立して、水素原子または置換されてもよいアルキル基である、請求項4記載の化合物もしくはそのプロドラッグ、またはそれらの薬学上許容される塩。
  8. およびRが、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換されてもよいアルキル基、水酸基、または置換されてもよいアルコキシ基である、請求項7記載の化合物もしくはそのプロドラッグ、またはそれらの薬学上許容される塩。
  9. Aが式(A−3)または(A−4)で表される基であり、R、およびRが、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、置換されてもよいアルキル基、水酸基、または置換されてもよいアルコキシ基である、請求項4記載の化合物もしくはそのプロドラッグ、またはそれらの薬学上許容される塩。
  10. Aが式(A−5)で表される基である、請求項2記載の化合物もしくはそのプロドラッグ、またはそれらの薬学上許容される塩。
  11. 請求項2〜10のいずれか一項に記載の化合物もしくはそのプロドラッグ、またはそれらの薬学上許容される塩を有効成分として含有する医薬。
  12. 請求項2〜10のいずれか一項に記載の化合物もしくはそのプロドラッグ、またはそれらの薬学上許容される塩を有効成分として含有する、高血圧、脳卒中、不整脈、心不全、心肥大、動脈硬化、血管再狭窄、腎線維症、心筋梗塞、糖尿病合併症、腎疾患、浮腫、原発性アルドステロン症、または炎症の予防または治療剤。
  13. 治療を必要とする患者に、請求項2〜10のいずれか一項に記載の化合物もしくはそのプロドラッグ、またはそれらの薬学上許容される塩の有効量を投与することからなる、高血圧、脳卒中、不整脈、心不全、心肥大、動脈硬化、血管再狭窄、腎線維症、心筋梗塞、糖尿病合併症、腎疾患、浮腫、原発性アルドステロン症、または炎症の予防または治療方法。
  14. 高血圧、脳卒中、不整脈、心不全、心肥大、動脈硬化、血管再狭窄、腎線維症、心筋梗塞、糖尿病合併症、腎疾患、浮腫、原発性アルドステロン症、または炎症の予防または治療剤製造のための、請求項2〜10のいずれか一項に記載の化合物もしくはそのプロドラッグ、またはそれらの薬学上許容される塩の使用。


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