JPS6445160U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6445160U JPS6445160U JP13613587U JP13613587U JPS6445160U JP S6445160 U JPS6445160 U JP S6445160U JP 13613587 U JP13613587 U JP 13613587U JP 13613587 U JP13613587 U JP 13613587U JP S6445160 U JPS6445160 U JP S6445160U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- opening
- substrate
- expands
- film forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13613587U JPS6445160U (US07923587-20110412-C00022.png) | 1987-09-05 | 1987-09-05 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13613587U JPS6445160U (US07923587-20110412-C00022.png) | 1987-09-05 | 1987-09-05 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6445160U true JPS6445160U (US07923587-20110412-C00022.png) | 1989-03-17 |
Family
ID=31396360
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13613587U Pending JPS6445160U (US07923587-20110412-C00022.png) | 1987-09-05 | 1987-09-05 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6445160U (US07923587-20110412-C00022.png) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004190057A (ja) * | 2002-12-09 | 2004-07-08 | Nippon Filcon Co Ltd | パターニングされたマスク被膜と支持体からなる積層構造の薄膜パターン形成用マスク及びその製造方法 |
| JP2004235138A (ja) * | 2003-01-09 | 2004-08-19 | Hitachi Ltd | 有機ｅｌパネルの製造方法および有機ｅｌパネル |
| JP2004232025A (ja) * | 2003-01-30 | 2004-08-19 | Ulvac Japan Ltd | 蒸着用マスクおよびその製造方法 |
| JP2014214367A (ja) * | 2013-04-26 | 2014-11-17 | コニカミノルタ株式会社 | プラズマｃｖｄ成膜用マスク、プラズマｃｖｄ成膜方法、及び有機エレクトロルミネッセンス素子 |
| JP2014214366A (ja) * | 2013-04-26 | 2014-11-17 | コニカミノルタ株式会社 | プラズマｃｖｄ成膜用マスク、プラズマｃｖｄ成膜方法、及び有機エレクトロルミネッセンス素子 |
| WO2015034097A1 (ja) * | 2013-09-09 | 2015-03-12 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 成膜マスク、成膜装置、成膜方法及びタッチパネル基板 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5727047A (en) * | 1980-07-25 | 1982-02-13 | Seiko Epson Corp | Semiconductor device |
| JPS5956579A (ja) * | 1982-09-24 | 1984-04-02 | Fujitsu Ltd | 複合メタルマスク |
-
1987
- 1987-09-05 JP JP13613587U patent/JPS6445160U/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5727047A (en) * | 1980-07-25 | 1982-02-13 | Seiko Epson Corp | Semiconductor device |
| JPS5956579A (ja) * | 1982-09-24 | 1984-04-02 | Fujitsu Ltd | 複合メタルマスク |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004190057A (ja) * | 2002-12-09 | 2004-07-08 | Nippon Filcon Co Ltd | パターニングされたマスク被膜と支持体からなる積層構造の薄膜パターン形成用マスク及びその製造方法 |
| JP2004235138A (ja) * | 2003-01-09 | 2004-08-19 | Hitachi Ltd | 有機ｅｌパネルの製造方法および有機ｅｌパネル |
| JP2004232025A (ja) * | 2003-01-30 | 2004-08-19 | Ulvac Japan Ltd | 蒸着用マスクおよびその製造方法 |
| JP4547130B2 (ja) * | 2003-01-30 | 2010-09-22 | 株式会社アルバック | 蒸着マスクの製造方法 |
| JP2014214367A (ja) * | 2013-04-26 | 2014-11-17 | コニカミノルタ株式会社 | プラズマｃｖｄ成膜用マスク、プラズマｃｖｄ成膜方法、及び有機エレクトロルミネッセンス素子 |
| JP2014214366A (ja) * | 2013-04-26 | 2014-11-17 | コニカミノルタ株式会社 | プラズマｃｖｄ成膜用マスク、プラズマｃｖｄ成膜方法、及び有機エレクトロルミネッセンス素子 |
| WO2015034097A1 (ja) * | 2013-09-09 | 2015-03-12 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 成膜マスク、成膜装置、成膜方法及びタッチパネル基板 |
| JP2015052162A (ja) * | 2013-09-09 | 2015-03-19 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 成膜マスク、成膜装置及び成膜方法並びにタッチパネル基板 |
| CN105531394A (zh) * | 2013-09-09 | 2016-04-27 | 株式会社V技术 | 成膜掩模、成膜装置、成膜方法以及触摸面板基板 |
