JPS6410472B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6410472B2
JPS6410472B2 JP16077187A JP16077187A JPS6410472B2 JP S6410472 B2 JPS6410472 B2 JP S6410472B2 JP 16077187 A JP16077187 A JP 16077187A JP 16077187 A JP16077187 A JP 16077187A JP S6410472 B2 JPS6410472 B2 JP S6410472B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
copper
oxide
metallized layer
ceramic
ceramics
Prior art date
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Expired
Application number
JP16077187A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS632877A (en
Inventor
Yoshihiro Ehata
Minoru Kinoshita
Ryozo Hayamizu
Nobuyuki Tamatoshi
Yasuo Hihashi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
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Filing date
Publication date
Application filed by Agency of Industrial Science and Technology filed Critical Agency of Industrial Science and Technology
Priority to JP16077187A priority Critical patent/JPS632877A/en
Publication of JPS632877A publication Critical patent/JPS632877A/en
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Granted legal-status Critical Current

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Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

産業上の利用分野 本発明は、セラミツクスの簡便なメタライズ方
法に関する。 従来の技術とその問題点 一般に、セラミツクスは、耐熱性、耐磨耗性、
絶縁性等に優れている反面、脆く衝撃に弱いた
め、構造材料として用いる場合には、金属との接
合体にして使用されることが多く、この場合には
金属とセラミツクスを接合する前に、まずセラミ
ツクス表面をメタライズする必要がある。また、
セラミツクスを導電材料として用いる場合には、
セラミツクス表面にメタライズを行つて使用され
ている。 セラミツクスのメタライズ方法としては、テレ
フンケン法、活性金属法、水素化合物法、酸化物
ソルダー法、炭酸銀法等が知られている。これら
の内、テレフンケン法以外の方法には、工程が複
雑であるのに加えて、メタライズ層の接着強度、
耐熱衝撃性、耐化学薬品性等が充分でない場合が
あるため、現在のところテレフンケン法によるの
が一般的である。テレフンケン法は、セラミツク
ス表面にモリブデン−マンガンを被覆し、非酸化
性雰囲気中1400〜1700℃という高温で焼付け、そ
の上に金属メツキを行い、更に被膜の安定化のた
めに再度非酸化性雰囲気中で加熱することにより
メタライズし、次いで必要に応じて金属をロウ接
するものであり、作業工程が長く且つ煩雑である
という大きな欠点があるのに加えて、加熱温度が
高いという欠点もある。 問題点を解決するための手段 本発明者は、上記欠点が解消されたセラミツク
スのメタライズ方法を開発するため鋭意研究した
結果、酸化銅又は(及び)硫化銅を被覆層として
用いるときには空気等の酸化雰囲気中にて比較的
低温で焼付けができ、次いで焼付け層を還元処理
すれば極めて簡便にメタライズできること(尚、
被覆層として硫化銅を単独で用いる方法について
は、別途出願した。)、この際被覆層として酸化
鉄、酸化ニツケル及び酸化コバルト(以下単に遷
移金属酸化物という)の少なくとも1種を併用す
るとメタライズ層の耐摩耗性及び平滑性が向上す
ること、得られたメタライズ層は導電性に優れ且
つ接着強度が高いこと等を見出し、本発明を完成
するに至つた。 即ち本発明は、酸化銅又は(及び)硫化銅と遷
移金属酸化物の少なくとも1種との混合物を、セ
ラミツクス表面に被覆し、酸化性雰囲気中900〜
1300℃で加熱して焼付けた後、焼付け層を還元処
理することを特徴とするセラミツクスのメタライ
ズ方法に係る。 本発明において被覆層材料として用いる酸化銅
及び/又は硫化銅は、通常粉末状のものを使用す
る。酸化銅と硫化銅とを併用するときの両者の使
用割合は、任意で良い。 本発明においては、被覆層として酸化銅又は
(及び)硫化銅(以下、単に銅化合物という)に
遷移金属酸化物の少なくとも1種を併用すること
によりメタライズ層の強化及び安定化が達成され
て、耐摩耗性及び平滑性を向上させることができ
る。更に、得られたメタライズ層に各種金属をロ
ウ接する場合に、溶着部が強固となるという効果
も奏される。遷移金属酸化物としても、通常粉末
状のものを使用し、使用割合は、銅化合物との合
計重量の80%程度を上限とするのが適当である。
80重量%を越える場合には、メタライズ層の接着
強度が低下する傾向があるので、好ましくない。 本発明における被覆層形成材料としては、銅化
合物と遷移金属酸化物との混合物を粉末状のまま
使用しても良いし、適当なバインダー及びその溶
剤、例えばスクリーンオイル等の印刷用インキ、
バルサム等を適宜の量用いてペースト状にして使
用しても良い。 粉末状又はペースト状の銅化合物と遷移金属酸
化物との混合物をメタライズが必要なセラミツク
ス表面に撒布又は塗付して被覆する。被覆する量
は、特に限定されず、所望のメタライズ層の厚さ
に応じて、適宜決定される。次に、上記で被覆さ
れたセラミツクスを酸化性雰囲気中にて加熱して
被覆層を焼付ける。酸化性雰囲気としては、特殊
なものを使用する必要はなく、空気、空気と窒素
との混合気等を使用すれば充分である。また、加
熱条件としては、セラミツクスの形状、大きさや
用いた被覆層の種類、被覆量等により変化する
が、通常900〜1300℃の温度で5〜60分間程度加
熱する。この加熱によりは酸化銅(硫化銅は酸化
されて酸化銅となる)及び遷移金属酸化物を含有
してなる被覆がセラミツクスに密着する。この
際、酸化銅の融液がセラミツクス内に一部浸透す
る(硫化銅を用いたときには、酸化銅に酸化され
る際に発生する硫黄が、この浸透を更に助長す
る)ことにより接着強度が高められる。加熱温度
が900℃より低い場合は上記のような浸透が起こ
らず接着強度が不充分になり、又1300℃より高い
場合は被覆層の粘性が低下して流出することがあ
るので好ましくない。 次に、上記により焼付け層が施されたセラミツ
クスを還元処理する。還元方法としては、特に限
定されず、酸化銅及び遷移金属酸化物がこれらの
金属に還元されるならばどんな方法でもよく、例
えば水素雰囲気、一酸化炭素雰囲気等の還元性雰
囲気中での加熱、エタノール、メタノール、プロ
パノール等のアルコール、ベンジン、ホルマリン
等の還元性溶媒への浸漬等を挙げることができ
る。還元性雰囲気中で加熱する場合の温度は、焼
付け層の分解、変質等を防ぐために前記焼付け温
度よりも低いことが好ましく、通常200〜900℃程
度とし、時間は通常5〜60分間程度とする。また
還元性溶媒への浸漬による場合は、セラミツクス
を通常200〜500℃程度好ましくは300℃前後に加
熱後、上記還元性溶媒に10〜60秒間程度浸漬すれ
ば良い。 上記還元処理により、極めて優れた導電性を有
する銅系メタライズ層がセラミツクス表面に形成
される。 本発明においては、銅化合物と遷移金属酸化物
との混合物をセラミツクス表面に付与した後、酸
化性雰囲気中で焼成し、次いで還元処理すること
を必須とする。若し、酸化性雰囲気中での焼成を
行なうことなく直接還元処理を行なう場合には、
酸化銅の融液がセラミツクス内に深く浸透しない
ので、メタライズ層とセラミツクスとの接着強度
が極めて低くなり、実用に供し得ない。 かくしてメタライズされたセラミツクスには、
必要に応じて、常法例えばロウ接等により、各種
金属を容易に接合することができる。 本発明によりメタライズできるセラミツクスと
しては、特に限定されず、例えば窒化珪素、サイ
アロン、炭化珪素、窒化アルミニウム等の非酸化
物セラミツクス、アルミナ、ジルコニア、ムライ
ト、ベリリア、マゲネシア、コージーライト等の
酸化物系セラミツクスを挙げることができる。 発明の効果 本発明によれば、従来法に比べて低温で焼付け
後、還元処理するという極めて簡便な操作で、セ
ラミツクス表面にメタライズ層が形成できる。得
られたメタライズ層は、導電性に優れ且つ接着強
度が高く、メタライズ層の平滑性が向上するとい
う効果が得られる。 本発明によりメタライズされたセラミツクス
は、上記の如き性能を有するので、セラミツクス
パツケージ等の電子部品、セラミツクスを用いた
耐磨耗性部品、耐熱性部品等に好適に使用でき
る。 尚、本発明の方法は、ニツケル板、銅板等の金
属板にも応用でき、被覆層を還元すれば強固な保
護膜を得ることができる。 実施例 以下、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に
説明する。 実施例 1 硫化銅粉末90重量%と酸化ニツケル粉末10重量
%とを混合したもの100重量部に対してバルサム
10重量部を混合して、ペースト状の混合物を得
た。これを平板正方形の窒化珪素(Si3N4)、サ
イアロン、炭化珪素(SiC)、アルミナ又はジル
コニアの焼結体の表面に0.1g/cm2塗付した。次
に、電気炉を用い空気中にて1100℃で30分間焼成
して、焼付け被覆層を形成した。引続き焼成した
ものを乾燥器中で300℃に加熱した後、市販のエ
タノール中に浸漬した。これによつて焼付け被覆
層が還元され、金属銅と金属ニツケルからなるメ
タライズ層が形成された。下記第1表に還元前後
における、1000Vの電圧で測定した電気抵抗値を
示した。還元後のメタライズ層は、極めて優れた
導電性を有していることが判る。 かくして得たメタライズ層を有する各セラミツ
クスと銅片とを銀ロウを用いてロウ接し、秤量
2ton及び荷重速度5mm/minの引張試験機を用い
て、メタライズ層の接着強度を測定したところ、
いずれも極めて強く接着されていることが判つ
た。結果を下記第1表に併記した。
INDUSTRIAL APPLICATION FIELD The present invention relates to a simple method for metallizing ceramics. Conventional technology and its problems In general, ceramics have high heat resistance, abrasion resistance,
Although it has excellent insulation properties, it is brittle and weak against impact, so when used as a structural material, it is often used as a bonded product with metal. In this case, before joining the metal and ceramics, First, it is necessary to metalize the ceramic surface. Also,
When using ceramics as a conductive material,
It is used by metallizing the ceramic surface. Known methods for metallizing ceramics include the Telefunken method, the active metal method, the hydride method, the oxide solder method, and the silver carbonate method. Among these methods, methods other than the Telefunken method have complicated processes, as well as the adhesive strength of the metallized layer,
Since thermal shock resistance, chemical resistance, etc. may not be sufficient, the Telefunken method is generally used at present. In the Telefunken method, the ceramic surface is coated with molybdenum-manganese, baked at a high temperature of 1400 to 1700°C in a non-oxidizing atmosphere, plated with metal, and then coated again in a non-oxidizing atmosphere to stabilize the coating. The method involves metallizing by heating the metal, and then brazing the metals as necessary, which has major disadvantages in that the working process is long and complicated, and also in that the heating temperature is high. Means for Solving the Problems As a result of intensive research to develop a ceramic metallization method that eliminates the above-mentioned drawbacks, the present inventor found that when copper oxide or (and) copper sulfide is used as a coating layer, oxidation of air, etc. Baking can be carried out at a relatively low temperature in an atmosphere, and then the baked layer can be subjected to a reduction treatment, making it extremely easy to metallize (in addition,
A separate application has been filed regarding a method of using copper sulfide alone as a coating layer. ), in this case, when at least one of iron oxide, nickel oxide, and cobalt oxide (hereinafter simply referred to as transition metal oxide) is used in combination as a coating layer, the wear resistance and smoothness of the metallized layer are improved, and the obtained metallized layer The present inventors have discovered that the material has excellent conductivity and high adhesive strength, and have completed the present invention. That is, the present invention coats a ceramic surface with a mixture of copper oxide or (and) copper sulfide and at least one transition metal oxide, and
The present invention relates to a method for metallizing ceramics, which comprises heating and baking at 1300°C, and then subjecting the baked layer to reduction treatment. The copper oxide and/or copper sulfide used as the coating layer material in the present invention are usually in powder form. When copper oxide and copper sulfide are used together, the ratio of both may be arbitrary. In the present invention, the metallized layer is strengthened and stabilized by using copper oxide or (and) copper sulfide (hereinafter simply referred to as a copper compound) in combination with at least one transition metal oxide as a coating layer. Abrasion resistance and smoothness can be improved. Furthermore, when various metals are soldered to the obtained metallized layer, the welded portion is also strengthened. The transition metal oxide is usually in powder form, and the upper limit of the proportion of the transition metal oxide and the copper compound is approximately 80% of the total weight.
If it exceeds 80% by weight, the adhesive strength of the metallized layer tends to decrease, which is not preferable. As the material for forming the coating layer in the present invention, a mixture of a copper compound and a transition metal oxide may be used in powder form, or a suitable binder and its solvent, such as a printing ink such as screen oil,
It may also be used in the form of a paste using an appropriate amount of balsam or the like. A mixture of a powdered or paste-like copper compound and a transition metal oxide is sprinkled or applied onto the ceramic surface that requires metallization. The amount of coating is not particularly limited, and is appropriately determined depending on the desired thickness of the metallized layer. Next, the ceramic coated above is heated in an oxidizing atmosphere to bake the coating layer. It is not necessary to use a special oxidizing atmosphere, and it is sufficient to use air, a mixture of air and nitrogen, or the like. The heating conditions vary depending on the shape and size of the ceramic, the type of coating layer used, the amount of coating, etc., but are usually heated at a temperature of 900 to 1300° C. for about 5 to 60 minutes. By this heating, the coating containing copper oxide (copper sulfide is oxidized to copper oxide) and transition metal oxide adheres to the ceramic. At this time, the molten copper oxide partially penetrates into the ceramics (when copper sulfide is used, the sulfur generated when it is oxidized to copper oxide further promotes this penetration), increasing the adhesive strength. It will be done. If the heating temperature is lower than 900°C, the above-mentioned penetration will not occur and the adhesive strength will be insufficient, and if it is higher than 1300°C, the viscosity of the coating layer will decrease and it may flow out, which is not preferable. Next, the ceramics on which the baked layer has been applied as described above is subjected to a reduction treatment. The reduction method is not particularly limited, and any method may be used as long as the copper oxide and transition metal oxide are reduced to these metals, such as heating in a reducing atmosphere such as a hydrogen atmosphere or a carbon monoxide atmosphere, Examples include immersion in alcohols such as ethanol, methanol, and propanol, and reducing solvents such as benzine and formalin. When heating in a reducing atmosphere, the temperature is preferably lower than the baking temperature to prevent decomposition, alteration, etc. of the baked layer, and is usually about 200 to 900°C, and the time is usually about 5 to 60 minutes. . Further, in the case of immersion in a reducing solvent, the ceramics may be heated usually to about 200 to 500°C, preferably around 300°C, and then immersed in the reducing solvent for about 10 to 60 seconds. By the above reduction treatment, a copper-based metallized layer having extremely excellent conductivity is formed on the ceramic surface. In the present invention, it is essential that a mixture of a copper compound and a transition metal oxide be applied to the ceramic surface, then fired in an oxidizing atmosphere, and then subjected to a reduction treatment. If direct reduction treatment is performed without calcination in an oxidizing atmosphere,
Since the copper oxide melt does not penetrate deeply into the ceramic, the adhesive strength between the metallized layer and the ceramic becomes extremely low, making it impractical. In this way, metallized ceramics have
If necessary, various metals can be easily joined by conventional methods such as brazing. Ceramics that can be metalized according to the present invention are not particularly limited, and include, for example, non-oxide ceramics such as silicon nitride, sialon, silicon carbide, and aluminum nitride, and oxide ceramics such as alumina, zirconia, mullite, beryllia, magnesia, and cordierite. can be mentioned. Effects of the Invention According to the present invention, a metallized layer can be formed on a ceramic surface by an extremely simple operation of baking at a lower temperature and then performing a reduction treatment than in the conventional method. The obtained metallized layer has excellent conductivity and high adhesive strength, and the smoothness of the metallized layer is improved. Since the metallized ceramic according to the present invention has the above-mentioned performance, it can be suitably used for electronic parts such as ceramic packages, wear-resistant parts using ceramics, heat-resistant parts, etc. The method of the present invention can also be applied to metal plates such as nickel plates and copper plates, and a strong protective film can be obtained by reducing the coating layer. Examples Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples. Example 1 Balsam was added to 100 parts by weight of a mixture of 90% by weight copper sulfide powder and 10% by weight nickel oxide powder.
10 parts by weight were mixed to obtain a paste-like mixture. This was applied at 0.1 g/cm 2 onto the surface of a flat square sintered body of silicon nitride (Si 3 N 4 ), Sialon, silicon carbide (SiC), alumina, or zirconia. Next, it was baked in air at 1100° C. for 30 minutes using an electric furnace to form a baked coating layer. The calcined product was then heated to 300° C. in a dryer and then immersed in commercially available ethanol. As a result, the baked coating layer was reduced, and a metallized layer consisting of metallic copper and metallic nickel was formed. Table 1 below shows the electrical resistance values measured at a voltage of 1000V before and after reduction. It can be seen that the metallized layer after reduction has extremely excellent conductivity. Each ceramic having a metallized layer thus obtained and a copper piece were soldered using silver solder, and weighed.
The adhesive strength of the metallized layer was measured using a tensile tester with a load rate of 2 tons and a loading rate of 5 mm/min.
It was found that both were extremely strongly bonded. The results are also listed in Table 1 below.

【表】 また、メタライズ層表面は凹凸が殆んどなく、
平滑性に優れており、サンドペーパーによる摩耗
試験においても、優れた耐摩耗性を示した。 比較例 1 実施例1と同様にして得た硫化銅粉末と酸化ニ
ツケル粉末とを含むペースト状混合物を実施例1
と同様にして各種のセラミツクス焼結体に塗布し
た後、水素−窒素混合物からなる還元性雰囲気中
950℃で30分間焼成した。 かくして得たメタライズ層を有する各セラミツ
クスと銅片とを実施例1と同様にしてロウ接し、
メタライズ層とセラミツクスとの接着強度を測定
したところ、いずれの場合にも50Kg/cm2未満であ
り、実用に供し得ないものであつた。 実施例 2 硫化銅粉末90重量%と酸化鉄粉末10重量%とを
混合したもの100重量部に対してバルサム10重量
部を混合して、ペースト状の混合物を得た。これ
を用いて、実施例1と同様にして各セラミツクス
にメタライズ層を形成した。実施例1と同様にし
て測定した電気抵抗値及び接着強度を下記第2表
に示した。
[Table] In addition, the surface of the metallized layer has almost no unevenness,
It has excellent smoothness and showed excellent abrasion resistance in an abrasion test using sandpaper. Comparative Example 1 A paste-like mixture containing copper sulfide powder and nickel oxide powder obtained in the same manner as in Example 1 was prepared in Example 1.
After applying it to various ceramic sintered bodies in the same manner as above, it was applied in a reducing atmosphere consisting of a hydrogen-nitrogen mixture.
It was baked at 950°C for 30 minutes. Each ceramic having a metallized layer thus obtained and a copper piece were brazed together in the same manner as in Example 1,
When the adhesive strength between the metallized layer and the ceramics was measured, it was less than 50 Kg/cm 2 in all cases, and could not be put to practical use. Example 2 10 parts by weight of a mixture of 90% by weight copper sulfide powder and 10% by weight iron oxide powder was mixed with 10 parts by weight of balsam to obtain a paste-like mixture. Using this, a metallized layer was formed on each ceramic in the same manner as in Example 1. The electrical resistance value and adhesive strength measured in the same manner as in Example 1 are shown in Table 2 below.

【表】 また、メタライズ層表面は凹凸が殆んどなく、
平滑性に優れており、耐摩耗性も良好であつた。 実施例 3 酸化ニツケル粉末に代えて酸化コバルト粉末を
用いる以外は実施例1と同様にして下記第3表に
示した結果を得た。また、メタライズ層の耐摩耗
性及び平滑性も向上していた。
[Table] In addition, the surface of the metallized layer has almost no unevenness,
It had excellent smoothness and good abrasion resistance. Example 3 The results shown in Table 3 below were obtained in the same manner as in Example 1 except that cobalt oxide powder was used in place of nickel oxide powder. Furthermore, the wear resistance and smoothness of the metallized layer were also improved.

【表】 実施例 4 硫化銅粉末に代えて酸化銅粉末を用いる以外は
実施例1と同様にして下記第4表に示した結果を
得た。また、メタライズ層の耐摩耗性及び平滑性
も向上していた。
[Table] Example 4 The results shown in Table 4 below were obtained in the same manner as in Example 1 except that copper oxide powder was used instead of copper sulfide powder. Furthermore, the wear resistance and smoothness of the metallized layer were also improved.

【表】 実施例 5 硫化銅粉末に代えて酸化銅粉末を、及び酸化ニ
ツケル粉末に代えて酸化鉄粉末を用いる以外は実
施例1と同様にして下記第5表に示した結果を得
た。また、メタライズ層の耐摩耗性及び平滑性も
向上していた。
[Table] Example 5 The results shown in Table 5 below were obtained in the same manner as in Example 1 except that copper oxide powder was used in place of copper sulfide powder and iron oxide powder was used in place of nickel oxide powder. Furthermore, the wear resistance and smoothness of the metallized layer were also improved.

【表】 実施例 6 硫化銅粉末に代えて酸化銅粉末を、及び酸化ニ
ツケル粉末に代えて酸化コバルト粉末を用いる以
外は実施例1と同様にして下記第6表に示した結
果を得た。また、メタライズ層の耐摩耗性及び平
滑性も向上していた。
[Table] Example 6 The results shown in Table 6 below were obtained in the same manner as in Example 1, except that copper oxide powder was used in place of copper sulfide powder, and cobalt oxide powder was used in place of nickel oxide powder. Furthermore, the wear resistance and smoothness of the metallized layer were also improved.

【表】【table】

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 酸化銅又は(及び)硫化銅と酸化鉄、酸化ニ
ツケル及び酸化コバルトの少なくとも1種との混
合物を、セラミツクス表面に被覆し、酸化性雰囲
気中900〜1300℃で加熱して焼付けた後、焼付け
層を還元処理することを特徴とするセラミツクス
のメタライズ方法。
1. A mixture of copper oxide or (and) copper sulfide and at least one of iron oxide, nickel oxide, and cobalt oxide is coated on the ceramic surface, heated and baked at 900 to 1300°C in an oxidizing atmosphere, and then baked. A method for metallizing ceramics characterized by subjecting layers to reduction treatment.
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