JPS61146778A - Metallization of ceramics - Google Patents

Metallization of ceramics

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JPS61146778A
JPS61146778A JP26990084A JP26990084A JPS61146778A JP S61146778 A JPS61146778 A JP S61146778A JP 26990084 A JP26990084 A JP 26990084A JP 26990084 A JP26990084 A JP 26990084A JP S61146778 A JPS61146778 A JP S61146778A
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palladium
steel
ceramics
metallized layer
oxide
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江畑 儀弘
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、セラミックスの簡便なメタライズ法に関する
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Technical Field The present invention relates to a simple method for metallizing ceramics.

11目と1塁 一般に、セラミックスは、耐熱性、耐摩耗性、絶縁性等
に優れる反面脆く衝撃に弱いため、構造材料として用い
られるときには、金属との接合体にして使用されること
が多い。金属とセラミックスを接合する場合には、先ず
セラミックス表面をメタライズする必要がある。また、
セラミックスを導電材料として用いる場合には、セラミ
ックス表面にメタライズを行って使用されている。
11th and 1st base In general, ceramics have excellent heat resistance, abrasion resistance, insulation, etc., but are brittle and weak against impact, so when used as a structural material, they are often used as a bonded body with metal. When joining metal and ceramics, it is first necessary to metalize the surface of the ceramics. Also,
When ceramics are used as conductive materials, the surfaces of the ceramics are metallized.

セラミックスのメタライズ法としては、テレフンケン法
、活性金属法、水素化合物法、酸化物ソルダー法、炭酸
銀法等が知られているが、これらの内テレフンケン法以
外の方法には工程が複雑であるのに加えて、メタライズ
層の接着強度、耐熱衝撃性、耐化学薬品性等が充分でな
い場合があるため、現在のところテレフンケン法による
のが一般的である。テレフンケン法は、セラミックス表
面にモリブデン−マンガンを被覆し、非酸化性雰囲気中
1400〜1700℃という高温で焼付け、その上に金
属メッキを行い、更に被膜の安定化のために再度非酸化
性雰囲気中で加熱することによリメタライズし、次いで
必要に応じて金属をロウ接するものである。しかし、こ
の方法には、作業工程が長く且つ煩雑であるという大き
な欠点があるのに加えて、加熱温度が高いという欠点も
ある。
Known methods for metallizing ceramics include the Telefunken method, active metal method, hydride compound method, oxide solder method, and silver carbonate method, but methods other than the Telefunken method have complicated processes. In addition, the adhesive strength, thermal shock resistance, chemical resistance, etc. of the metallized layer may not be sufficient, so the Telefunken method is generally used at present. In the Telefunken method, the ceramic surface is coated with molybdenum-manganese, baked at a high temperature of 1400 to 1700°C in a non-oxidizing atmosphere, plated with metal, and then coated again in a non-oxidizing atmosphere to stabilize the coating. This method remetallizes the metal by heating it, and then brazes the metal if necessary. However, this method has the major disadvantage that the working process is long and complicated, and also has the disadvantage that the heating temperature is high.

本発明者は、上記欠点が解消されたセラミックスのメタ
ライズ法を開発するため鋭意研究した結果、炭酸銅、硫
酸鋼、硫化銅、酸化鋼及び塩化鋼の少なくとも1種とS
iO2又はカオリンとの混合物を被覆層として用いる場
合には空気等の酸化性雰囲気中にて比較的低温で焼付け
ができ、次いで焼付は層を還元処理すれば極めて簡便に
メタライズできること、SiO2又はカオリンの併用に
よりメタライズ層の均−性特に表面の平滑性及び光沢が
向上すること、得られたメタライズ層は導電性に優れ且
つ接着強度が高いこと等を見出し、これらの知見に基づ
〈発明については別途特許出願した(特願昭58−83
721号及び特願昭58−131575号)。
As a result of intensive research to develop a ceramic metallization method that eliminates the above-mentioned drawbacks, the present inventor has discovered that at least one of copper carbonate, sulfuric acid steel, copper sulfide, oxidized steel, and chloride steel and S
When a mixture of SiO2 or kaolin is used as a coating layer, it can be baked at a relatively low temperature in an oxidizing atmosphere such as air, and then the baking layer can be metalized very easily by reducing the layer. It was discovered that the uniformity of the metallized layer, especially the surface smoothness and gloss, was improved by the combined use, and that the obtained metallized layer had excellent conductivity and high adhesive strength.Based on these findings, A separate patent application was filed (Japanese Patent Application 1983-1983)
No. 721 and Japanese Patent Application No. 131575/1982).

而して、本発明者は、引き続く研究において、6E記混
合物に更にパラジウム、酸化パラジウム及び塩化白金の
少なくとも1種を併用することによりメタライズ層の接
着強度及び耐化学薬品性が顕著に向上することを見出し
、本発明を完成するに至った。
Therefore, in subsequent research, the present inventor found that the adhesive strength and chemical resistance of the metallized layer were significantly improved by further adding at least one of palladium, palladium oxide, and platinum chloride to the mixture described in 6E. They discovered this and completed the present invention.

明の   び 果 本発明は、炭酸銅、硫酸銅、硫化銅、酸化鋼及び塩化鋼
の少なくとも1種、SiO2又は(及び)カオリン、並
びにパラジウム、酸化パラジウム及び塩化白金の少なく
とも1種からなる混合物を、セラミックス表面に被覆し
、酸化性雰囲気中900〜1300℃で加熱して焼付け
た後、焼付は層を還元処理することを特徴とするセラミ
ックスのメタライズ法に係る。
The present invention provides a mixture comprising at least one of copper carbonate, copper sulfate, copper sulfide, oxidized steel and chlorinated steel, SiO2 or (and) kaolin, and at least one of palladium, palladium oxide and platinum chloride. , relates to a ceramic metallization method characterized in that the layer is coated on a ceramic surface, heated and baked at 900 to 1300° C. in an oxidizing atmosphere, and then the layer is subjected to a reduction treatment during baking.

本発明においては、被覆層としてSiO2又は(及び)
カオリンを併用したことにより、焼付は被膜のむらが防
止でき、メタライズ層の均−性特に表面の平滑性及び光
沢が向上しているのみならず、被覆層として更にパラジ
ウム、酸化パラジウム及び塩化白金の少なくとも1種を
併用したことにより、メタライズ層の接着強度及び耐化
学薬品性が顕著に向上している。
In the present invention, SiO2 or (and)
By using kaolin in combination, it is possible to prevent uneven baking and improve the uniformity of the metallized layer, especially the surface smoothness and gloss. By using one type in combination, the adhesive strength and chemical resistance of the metallized layer are significantly improved.

本発明において被覆層として用いる炭酸鋼、硫酸鋼、硫
化銅、酸化鋼及び塩化鋼は、いずれも通常粉末状のもの
を使用する。粉末の粒度としては、特に限定されないが
、通常100μm以下程度好ましくは50μmJX下程
度が適当てある。
Carbonated steel, sulfuric acid steel, copper sulfide, oxidized steel, and chlorinated steel used as the coating layer in the present invention are all usually in powder form. The particle size of the powder is not particularly limited, but it is usually about 100 μm or less, preferably about 50 μm JX or less.

本発明において被覆層として用いる酸化パラジウムとし
ては、Pd01Pdt O3,PdO2等を、又塩化白
金としてはPtC(I2、PtCQi等を挙げることが
でき、これらのいずれも使用できる。
Examples of palladium oxide used as the coating layer in the present invention include Pd01PdtO3, PdO2, etc., and examples of platinum chloride include PtC(I2, PtCQi, etc.), and any of these can be used.

また、5i02、カオリン、パラジウム、酸化パラジウ
ム及び塩化白金も、通常粉末状のものを使用する。粒度
は上記と同様である。
Further, 5i02, kaolin, palladium, palladium oxide and platinum chloride are also usually used in powder form. The particle size is the same as above.

各成分の使用割合は炭酸銅、硫酸銅、硫化銅、酸化鋼及
び塩化鋼の少なくとも1種80〜30重量%程度に対し
て5fO2又は(及び)カオリンを5〜30重量%重量
%波しくは5〜20重量%、パラジウム、酸化パラジウ
ム及び塩化白金の少なくとも1種を10〜60重量%程
度好ましくは20〜50重量%とするのが適当である。
The proportion of each component used is approximately 80-30% by weight of at least one of copper carbonate, copper sulfate, copper sulfide, oxidized steel, and chloride steel, and 5-30% by weight of 5fO2 or (and) kaolin. The content of at least one of palladium, palladium oxide, and platinum chloride is approximately 10 to 60% by weight, preferably 20 to 50% by weight.

5i02又は(及び)カオリンが5重量%未渦の場合に
はメタライズ層表面の平滑性及び光沢が不充分になるこ
とがあり、3011ff1%を越えた場合にはメタライ
ズ層の導電性が低下する傾向があるので好ましくない。
If 5i02 or (and) kaolin is not mixed in an amount of 5% by weight, the surface smoothness and gloss of the metallized layer may become insufficient, and if it exceeds 3011ff1%, the conductivity of the metallized layer tends to decrease. I don't like it because there is.

又、パラジウム、酸化パラジウム及び塩化白金の少なく
とも1種が10重量%未満の場合及び60重層%を越え
た場合には、いずれもメタライズ層の接着強度の向上が
不充分な傾向にあるので好ましくない。
Furthermore, it is not preferable if at least one of palladium, palladium oxide, and platinum chloride is less than 10% by weight or exceeds 60% by weight, since the adhesive strength of the metallized layer tends to be insufficiently improved. .

本発明においては、炭酸銅、iil[l’#i、硫化銅
、酸化鋼及び塩化鋼の少なくとも1種、5lo2又は(
及び)カオリン、並びにパラジウム、酸化パラジウム及
び塩化白金の少なくとも1種の混合物を粉末状のまま使
用しても良いし、適当なバインダー及びその溶剤、例え
ばスクリーンオイル等の印刷用インキ、バルサム等を適
宜の滑川いてペースト状にして使用しても良い。
In the present invention, copper carbonate, iil[l'#i, copper sulfide, at least one of oxidized steel and chloride steel, 5lo2 or (
and) Kaolin and a mixture of at least one of palladium, palladium oxide, and platinum chloride may be used in powder form, or a suitable binder and its solvent, such as printing ink such as screen oil, balsam, etc. may be used as appropriate. It may also be used in the form of a paste.

粉末状又はペースト状の混合物をメタライズが必要なセ
ラミックス表面に撒布又は塗布して被覆する。被覆する
量は、特に限定されず、所望のメタライズ層の厚さに応
じて、適宜決定される。次に、上記で被覆されたセラミ
ックスを酸化性雰囲気中にて加熱して被覆層を焼付ける
。酸化性雰囲気としては、特殊なものを使用する必要は
なく、空気、空気と窒素との混合気等を使用すれば充分
である。また、加熱条件としては、セラミックスの形状
、大きさや用いた被覆層の種類、被覆量等により変化す
るが、通常900〜1300℃の温度で5〜60分間程
度加熱する。この加熱により炭酸銅、硫酸銅、硫化銅又
は塩化鋼は酸化されて酸化銅に、パラジウムは酸化され
て酸化パラジウムに、塩化白金は酸化されて酸化白金に
なり、酸化銅と酸化パラジウム又は(及び)酸化白金と
を主体とする被膜がセラミックスに密着する。この際、
酸化鋼の融液がセラミックス内に一部浸透することによ
り得られるメタライズ層の接着強度が高められる。又、
パラジウム、酸化パラジウム及び塩化白金の少なくとも
1種を併用したことによって得られるメタライズ層の接
着強度及び耐化学薬品性が顕著に向上している。更に、
8102又は(及び)カオリンを使用したことによりメ
タライズ層の均一性、表面の事情性及び光沢が著しく高
められる。加熱温度が900℃より低い場合は上記浸透
が起こらず接着強度が不充分になり、又1300℃より
高い場合は被覆層の粘性が低下して流出することがある
ので好ましくない。
A powder or paste mixture is sprinkled or coated on the ceramic surface that requires metallization. The amount of coating is not particularly limited, and is appropriately determined depending on the desired thickness of the metallized layer. Next, the ceramic coated above is heated in an oxidizing atmosphere to bake the coating layer. It is not necessary to use a special oxidizing atmosphere, and it is sufficient to use air, a mixture of air and nitrogen, or the like. The heating conditions vary depending on the shape and size of the ceramic, the type of coating layer used, the amount of coating, etc., but are usually heated at a temperature of 900 to 1300° C. for about 5 to 60 minutes. By this heating, copper carbonate, copper sulfate, copper sulfide, or steel chloride is oxidized to copper oxide, palladium is oxidized to palladium oxide, platinum chloride is oxidized to platinum oxide, and copper oxide and palladium oxide or (and ) A coating mainly composed of platinum oxide adheres to ceramics. On this occasion,
The adhesive strength of the metallized layer obtained is increased by partially penetrating the oxidized steel melt into the ceramic. or,
The adhesive strength and chemical resistance of the metallized layer obtained by the combined use of at least one of palladium, palladium oxide, and platinum chloride are significantly improved. Furthermore,
By using 8102 and/or kaolin, the uniformity, surface texture and gloss of the metallized layer are significantly enhanced. If the heating temperature is lower than 900°C, the above-mentioned permeation will not occur and the adhesive strength will be insufficient, and if it is higher than 1300°C, the viscosity of the coating layer will decrease and may flow out, which is not preferable.

次に、上記により焼付は層が施されたセラミックスを還
元処理する。還元方法としては、特に限定されず、酸化
鋼、酸化パラジウム及び酸化白金がそれぞれ金属銅、パ
ラジウム及び白金に還元されるならばどんな方法でも良
く、例えば水素雰囲気、−酸化炭素雰囲気等の還元性雰
囲気中での加熱、エタノール、メタノール、プロパツー
ル等のアルコール類、ベンジン、ホルマリン等の還元性
溶媒への浸漬、ジメチルアミンポラン水溶液への浸漬等
を挙げることができる。還元性雰囲気中で加熱する場合
の温度は、焼付は層の分解、変質等を防ぐために前記焼
付は温度よりも低いことが好ましく、通常200〜90
0℃程度とし、時間は通常5〜60分間程度とする。ま
た、還元性溶媒への浸漬による場合は、セラミックスを
通常200〜500℃程度好ましくは300℃前後に加
熱後、上記還元性溶媒に10〜60秒ft!!!!度浸
漬すれば良い。また、ジメチルアミンボラン水溶液への
浸漬による場合は、セラミックスを通常40〜60℃程
度に加熱後、該水溶液に10〜60秒閤程度浸漬すれば
良い。
Next, baking reduces the layered ceramics as described above. The reduction method is not particularly limited, and any method may be used as long as oxidized steel, palladium oxide, and platinum oxide are reduced to metal copper, palladium, and platinum, respectively, such as a reducing atmosphere such as a hydrogen atmosphere or a -carbon oxide atmosphere. Examples include heating in a vacuum, immersion in alcohols such as ethanol, methanol, propatool, etc., reducing solvents such as benzine and formalin, and immersion in an aqueous solution of dimethylamineporane. The temperature when heating in a reducing atmosphere is preferably lower than the baking temperature in order to prevent layer decomposition, deterioration, etc., and is usually 200 to 90
The temperature is about 0°C, and the time is usually about 5 to 60 minutes. In addition, in the case of immersion in a reducing solvent, the ceramic is usually heated to about 200 to 500°C, preferably around 300°C, and then soaked in the reducing solvent for 10 to 60 seconds. ! ! ! Just soak it once. Further, in the case of immersion in a dimethylamine borane aqueous solution, the ceramic may be heated to about 40 to 60° C. and then immersed in the aqueous solution for about 10 to 60 seconds.

上記還元処理により、極めて優れた導電性を有する銅−
パラジウム又は(及び)白金メタライズ層がセラミック
ス表面に形成される。
Through the above reduction treatment, copper has extremely high conductivity.
A palladium or/and platinum metallization layer is formed on the ceramic surface.

斯くしてメタライズされたセラミックスには、必要に応
じて、常法例えばロウ接等により、各種金属を容易に接
合することができる。
If necessary, various metals can be easily joined to the thus metallized ceramics by conventional methods such as brazing.

本発明によりメタライズできるセラミックスとしては、
特に限定されず、例えば窒化珪素、サイア0ン、炭化珪
素、窒化アルミニウム等の′i#酸化物系セラミックス
、アルミナ、ジルコニア、ムライト、ベリリア、マグネ
シア、コージーライト等の酸化物系セラミックスを挙げ
ることができる。
Ceramics that can be metalized according to the present invention include:
Examples include oxide ceramics such as silicon nitride, silicon carbide, and aluminum nitride, and oxide ceramics such as alumina, zirconia, mullite, beryllia, magnesia, and cordierite, but are not particularly limited. can.

本発明によれば、従来法に比べて低温で焼付は後、還元
処理するという極めて簡便な操作で、セラミックス表面
にメタライズ層が形成でき、得られたメタライズ層は導
電性に優れ且つ接着強度及び耐化学薬品性が極めて高く
、またメタライズ層の均一性、特に表面の平滑性及び光
沢に優れているので商品価値が高いという効果が得られ
る。
According to the present invention, a metallized layer can be formed on the ceramic surface by an extremely simple operation of baking at a lower temperature and then performing a reduction treatment compared to the conventional method, and the obtained metallized layer has excellent conductivity and adhesive strength. It has extremely high chemical resistance, and the metallized layer has excellent uniformity, especially surface smoothness and gloss, so it has a high commercial value.

本発明によりメタライズされたセラミックスは。Ceramics metallized according to the present invention.

上記の如き性能を有するので、セラミックスパッケージ
、IC基板のプリント配線等の電子部品、セラミックス
を用いた耐摩耗性部品、耐熱性部品等に好適に使用でき
る。
Since it has the above-mentioned performance, it can be suitably used for ceramic packages, electronic parts such as printed wiring of IC boards, wear-resistant parts using ceramics, heat-resistant parts, etc.

実  施  例 以下、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.

実施例1 酸化銅粉末(粒度5μm)4511%とパラジウム粉末
(粒度5μm)45重量%と8102粉末(粒度5μm
)101i量%を混合したちの100重量部に対してバ
ルサム10重量部を混合してペースト状とし、これを平
板正方形の窒化珪素(SI3N處)、サイア0ン、炭化
珪素(SiC)、アルミナ又はジルコニアの焼結体の表
面に0.10/C■2塗付した。次に、電気炉を用い空
気中にて1100℃で20分間焼成して焼付は被覆層を
形成した。引続き焼成したものを乾燥器中で50℃に加
熱した後、ジメチルアミンボランの5%水溶液中に浸漬
した。これによって焼付は被覆層が還元され、金属銅−
パラジウムのメタライズ層が形成された。下記第1表に
還元前後における、i ooovの電圧で測定した電気
抵抗値を示した。還元後のメタライズ層は、極めて優れ
た導電性を有していることが判った。
Example 1 Copper oxide powder (particle size 5 μm) 4511%, palladium powder (particle size 5 μm) 45% by weight and 8102 powder (particle size 5 μm)
) 101i (% by weight) mixed, 10 parts by weight of balsam is mixed to make a paste, and this is mixed into a paste of flat square silicon nitride (SI3N), SiO, silicon carbide (SiC), and alumina. Alternatively, 0.10/C2 was applied to the surface of a zirconia sintered body. Next, the film was baked in air at 1100° C. for 20 minutes using an electric furnace to form a coating layer. The calcined product was then heated to 50° C. in a dryer and then immersed in a 5% aqueous solution of dimethylamine borane. As a result, the baking layer is reduced and the metallic copper
A metallized layer of palladium was formed. Table 1 below shows the electrical resistance values measured at a voltage of i ooov before and after reduction. It was found that the metallized layer after reduction had extremely excellent electrical conductivity.

かくして得たメタライズ層を有する各セラミックスと銅
片とを銀ロウを用いてロウ接し、秤ff12ton及び
荷重速度511/Winの引張試験器を用いて、メタラ
イズ層の接着強度を測定したところ、いずれも極めて強
く接着されていることが判った。
Each of the ceramics having the metallized layer obtained in this manner and a copper piece were soldered using silver solder, and the adhesive strength of the metallized layer was measured using a tensile tester with a scale of 12 tons and a loading rate of 511/Win. It was found that the bond was extremely strong.

結果を下記第1表に併記した。The results are also listed in Table 1 below.

第   1   表 上記で得た各セラミックスのメタライズ層の耐化学薬品
性を講ぺるため、48%KOH7jC溶液中で70℃、
72時間の浸漬試験をしたが変色、導電性、接着強度等
の変化は全く認められなかった。
Table 1 In order to check the chemical resistance of the metallized layer of each ceramic obtained above, it was heated at 70°C in a 48% KOH7JC solution.
A 72-hour immersion test was conducted, but no changes in discoloration, conductivity, adhesive strength, etc. were observed.

また、得られたメタライズ層は均−性特に表面の平滑性
及び光沢が優れており、商品価値の高いものであった。
Furthermore, the obtained metallized layer had excellent uniformity, particularly surface smoothness and gloss, and had high commercial value.

実施例2 パラジウム粉末に代えて酸化パラジウム(PdO)粉末
(粒度5μm)を用いた他は、実施例1と同様にして下
記第2表の結果を得た。
Example 2 The results shown in Table 2 below were obtained in the same manner as in Example 1, except that palladium oxide (PdO) powder (particle size: 5 μm) was used instead of palladium powder.

第   2   表 第2表から、メタライズ層の導電性が極めて優れ、接着
強度が極めて高いことが明らかである。
Table 2 It is clear from Table 2 that the metallized layer has extremely good conductivity and extremely high adhesive strength.

上記で得た各セラミックスのメタライズ層の耐化学薬品
性を調べるため、48%KOH水溶液中で70℃、72
時間°の浸漬試験をしたが変色、導電性、接着強度等の
変化は全く認められなかった。
In order to investigate the chemical resistance of the metallized layer of each ceramic obtained above,
A time immersion test was conducted, but no change in color, conductivity, adhesive strength, etc. was observed.

また、得られたメタライズ層は均−性特に表面の平滑性
及び光沢が優れており、商品価値の高いものであった。
Furthermore, the obtained metallized layer had excellent uniformity, particularly surface smoothness and gloss, and had high commercial value.

実施例3 パラジウム粉末に代えて塩化白金(PtCI22)(粒
度5μm)を用いた他は、実施例1と同様にして下記第
3表の結果を得た。
Example 3 The results shown in Table 3 below were obtained in the same manner as in Example 1, except that platinum chloride (PtCI22) (particle size 5 μm) was used in place of palladium powder.

第   3   表 第3表から、メタライズ層の導電性が極めて優れ、接着
強度が極めて高いことが明らかである。
Table 3 It is clear from Table 3 that the metallized layer has extremely good conductivity and extremely high adhesive strength.

上記で得た各セラミックスのメタライズ層の耐化学薬品
性を調べるため、48%KOH水溶液中で70℃、72
時間の浸漬試験をしたが変色、導電性、接着強度等の変
化は全く認められなかった。
In order to investigate the chemical resistance of the metallized layer of each ceramic obtained above,
A time immersion test was performed, but no change in color, conductivity, adhesive strength, etc. was observed.

また、得られたメタライズ層は均−性特に表面の平滑性
及び光沢が優れており、商品価値の高いものであった。
Furthermore, the obtained metallized layer had excellent uniformity, particularly surface smoothness and gloss, and had high commercial value.

(以 上)(that's all)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)炭酸銅、硫酸鋼、硫化鋼、酸化鋼及び塩化鋼の少
なくとも1種、SiO2又は(及び)カオリン、並びに
パラジウム、酸化パラジウム及び塩化白金の少なくとも
1種からなる混合物を、セラミックス表面に被覆し、酸
化性雰囲気中900〜1300℃で加熱して焼付けた後
、焼付け層を還元処理することを特徴とするセラミック
スのメタライズ法。
(1) A mixture consisting of at least one of copper carbonate, sulfuric acid steel, sulfide steel, oxidized steel, and chloride steel, SiO2 or (and) kaolin, and at least one of palladium, palladium oxide, and platinum chloride is coated on the ceramic surface. A method for metallizing ceramics, which comprises heating and baking at 900 to 1300° C. in an oxidizing atmosphere, and then subjecting the baked layer to reduction treatment.
JP26990084A 1984-12-20 1984-12-20 Metallization of ceramics Granted JPS61146778A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113929865A (en) * 2021-11-22 2022-01-14 山东一诺威聚氨酯股份有限公司 High-thermal-conductivity low-abrasion TPU material and preparation method thereof

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CN113929865A (en) * 2021-11-22 2022-01-14 山东一诺威聚氨酯股份有限公司 High-thermal-conductivity low-abrasion TPU material and preparation method thereof

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