JPS6382350A - X ray crystal diffraction apparatus - Google Patents
X ray crystal diffraction apparatusInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明の装置は、結晶のモザイク構造の分布の測定に適
したX線結晶回折装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION "Field of Industrial Application" The apparatus of the present invention relates to an X-ray crystal diffraction apparatus suitable for measuring the distribution of a mosaic structure of a crystal.
「従来の技術」
GaAs等の化合物単結晶は、一般に、不純物の添加、
熱処理等により格子常数が容易に変化するので、同一の
単結晶においても格子常数の分布を有している。"Prior Art" Compound single crystals such as GaAs are generally produced by adding impurities,
Since the lattice constant changes easily due to heat treatment or the like, even the same single crystal has a distribution of lattice constants.
さらに、これらの化合物中、結晶では、塑性変形により
生じた方位分布をもった微細な頒域からなる、いわゆる
、モザイク構造をも有している。Furthermore, the crystals of these compounds also have a so-called mosaic structure consisting of fine regions with orientation distribution caused by plastic deformation.
これらの分布、特に、モザイク構造等の微細構造を測定
し1.jlt結晶を評価することは、当社単結晶を用い
て、各種半導体装置を製造する場合に重要なことである
。Measure these distributions, especially the fine structures such as mosaic structures.1. Evaluating the jlt crystal is important when manufacturing various semiconductor devices using our single crystal.
従来、これらの測定は、Xm二結品法又はXi三結品法
を用いて行なわれていた「「応用物理」、4L(11)
第1255〜1259(1972)]。Conventionally, these measurements have been carried out using the Xm two-piece method or the Xi three-piece method.
No. 1255-1259 (1972)].
すなわち、これらの方法により、入射X#aに対して試
料単結晶を回転させて回転角度に対する回折X#Qの強
度の変化曲線、いわゆる、ロッキング・カーブの半値幅
から上記分布を評価していた。That is, by these methods, the sample single crystal was rotated with respect to the incident X#a, and the above distribution was evaluated from the half-width of the so-called rocking curve, which is a change curve of the intensity of the diffraction X#Q with respect to the rotation angle. .
「発明が解決しようとする間に点、1
しかしながら、ロッキング・カーブの半値幅から評価す
る方法では、モザイク構造t造を有する化合物単結晶の
場合、上記半値幅には、モザイク構造及び格子常数の分
布の双方の影響が含まれており、モザイク構造の分布の
みを測定することは困難であった。However, in the method of evaluation from the half-width of the rocking curve, in the case of a single crystal compound having a mosaic structure, the half-width does not include the mosaic structure and the lattice constant. It was difficult to measure only the distribution of the mosaic structure, as the effects of both distributions were included.
[問題点を解決するための手段]
本発明者等は、モザイク構造の分布を容易に測定するこ
とができるX線結晶回折装置を開発することを目的とし
て鋭意研究を重ねた結果、本発明に到達したものである
。[Means for Solving the Problems] As a result of extensive research aimed at developing an X-ray crystal diffraction device that can easily measure the distribution of mosaic structures, the present inventors have developed the present invention. It has been reached.
本発明の上記の目的は、微小焦点X線管、少なくとも1
個の分光用単結晶、試料単結晶を回転可能に保持するホ
ルダー及び該ホルダーを中心とする円の円周上を移動可
能に保持された計数管を有するX、@結晶回折装置にお
いて、該計数管の窓部の前面に15〜200μmの幅の
スリットを設けた装置により達せられる。The above object of the invention is to provide at least one microfocus X-ray tube.
In an This is achieved by a device with a 15-200 μm wide slit in the front of the tube window.
本発明の装置を第1図に基づいて説明する。The apparatus of the present invention will be explained based on FIG.
tpJ1図は、本発明の装置の各部分の配置を示す配置
図である。Figure tpJ1 is a layout diagram showing the layout of each part of the device of the present invention.
第1図において、1は、微小焦点X線管である。In FIG. 1, 1 is a microfocus X-ray tube.
本発明の装置に用いるX#a管は、微小焦点であること
が必要である。これは、分解能を向上させ、かつ、試料
At結結晶曲がりの影響等を避けるために、細束のX線
束を用いることが必要であるからである。The X#a tube used in the device of the present invention needs to have a minute focus. This is because it is necessary to use a narrow X-ray beam in order to improve the resolution and avoid the influence of sample At crystal bending.
なお、微小焦点X線管の焦点面の面積は、発生したX#
lの線束の方向に直角に交わる面上に、タープ7ト上の
実家焦、σ面を投影した場合の当該焦点面の面積がlX
l0’μm2以下、好虫しくは、4X10”〜5X10
’μm62の範囲が適当である。Note that the area of the focal plane of the microfocus X-ray tube is
When the σ plane on the tarp is projected onto a plane perpendicular to the direction of the ray bundle of l, the area of the focal plane is lX
Less than 10'μm2, preferably 4X10'' to 5X10
'A range of 62 μm is appropriate.
xiwは、封入型でもよく、また、組み立て型でもよい
。The xiw may be of an enclosed type or an assembled type.
ターデッドの材料は、泪いるXmの波長によって適宜に
選択される。The material of the tarded material is appropriately selected depending on the wavelength of the wavelength Xm.
測定に適°したX線の波長は、試料結晶のa類によって
異なるが、Si又はG aA s、 G aP等の、周
期律表第IIIb族及び第vb族元素からなる化合物、
いわゆるIII−V化合物の単結晶の測定をする場合は
、通常、Cu−にα、又はにα2#aが用いられる。こ
の場合、ターデッドの材料としては、銅が用いられる。The wavelength of X-rays suitable for measurement differs depending on the type a of the sample crystal, but compounds consisting of elements of group IIIb and group Vb of the periodic table, such as Si, GaAs, and GaP,
When measuring a single crystal of a so-called III-V compound, α for Cu- or α2#a for Cu- is usually used. In this case, copper is used as the tarded material.
2は、分光用単結晶である。分光用単結晶2は、X線I
r1T1から放射されるX線をそのスペクトルに分光す
るために用いられる。すなわち、X +lQ l:1m
対して回4R格子としての機能を発押するものである。2 is a single crystal for spectroscopy. The spectroscopic single crystal 2 is an X-ray I
It is used to separate the X-rays emitted from r1T1 into their spectra. That is, X +lQ l:1m
On the other hand, it functions as a 4R lattice.
分光用単結晶は、少なくとも1個用いる。分光用単結晶
を用いないとX線を単色化することができないので好ま
しくない。At least one single crystal for spectroscopy is used. Unless a single crystal for spectroscopy is used, X-rays cannot be made monochromatic, which is not preferable.
一般に、分光用単結晶の使用数を増加すると単色化した
Xaの波長純度が向−ヒするが、強度が低下するので必
要に応じて、適宜選択する。In general, increasing the number of single crystals used for spectroscopy improves the wavelength purity of monochromatic Xa, but the intensity decreases, so the number should be selected as appropriate.
X491管1と分光用単結晶2の間隔は、100〜SO
O+n鎮が通常である。The distance between the X491 tube 1 and the single crystal for spectroscopy 2 is 100~SO
O+n is normal.
分壷宙蛍結1〃21土、X線管1とλl科里紡品に大寸
する角度の調節を容易にするために、回転可能なホルダ
ーにより保持するのが好ましい。In order to easily adjust the angle between the X-ray tube 1 and the X-ray tube 1, it is preferable to use a rotatable holder.
分光用単結晶と試料単結晶の相対的な配置は、試料単結
晶に所望の波長のX線が照射されるような配置であれば
よい。The relative arrangement of the single crystal for spectroscopy and the sample single crystal may be such that the sample single crystal is irradiated with X-rays of a desired wavelength.
分光m単結晶としては、試料単結晶との格子常数の差が
小さいものが好ましい。例えば、GaAs単結晶を測定
する場合、GaAs又はSiの単結晶を用いると、測定
精度が向上するので好ましい。The spectroscopy-m single crystal is preferably one that has a small difference in lattice constant from the sample single crystal. For example, when measuring a GaAs single crystal, it is preferable to use a GaAs or Si single crystal because measurement accuracy improves.
3は、スリットである。スリット3は、分光用+1j結
品2によって得られたX線のスペクトルがら必要とする
波長のX線のみを取り出すために、必要に応じて用いら
れる。スリットの幅は、通常、100〜500−μmで
ある。3 is a slit. The slit 3 is used as necessary to extract only the required wavelength of X-rays from the spectrum of the X-rays obtained by the spectroscopic +1j crystal 2. The width of the slit is typically 100-500-μm.
ス’) ・/) 3は、分光用単結晶2を中心とする円
の円周上を移動可能に設置すると必要とする波及のX線
を適宜選択できるので好ましい。3 is preferable since it is possible to appropriately select the required X-ray propagation by installing the spectroscopic single crystal 2 movably on the circumference of a circle centered on it.
また、X線Ii?1で発生したX#1束の広がりを防止
する目的で、X線管1と分光用単結晶2の開にもスリッ
トを設けてもよい。Also, X-ray Ii? In order to prevent the spread of the X#1 flux generated in 1, a slit may also be provided at the opening of the X-ray tube 1 and the single crystal for spectroscopy 2.
4は、ホルダーである。ホルダー4は、試料J)を結晶
を保持するために用いられる。4 is a holder. Holder 4 is used to hold sample J) crystals.
ロッキング・カーブを得る場合は、試料単結晶を回転さ
せる必要があるので、ホルダー4は回転可能であること
が必要である。また、その回転角度が正確に測定でさる
ことが望ましい。When obtaining a rocking curve, it is necessary to rotate the sample single crystal, so the holder 4 needs to be rotatable. Further, it is desirable that the rotation angle can be measured accurately.
5は、計数管である。計数′I?5は、回折X線の強度
を測定するために用いられる。5 is a counter. Count'I? 5 is used to measure the intensity of diffracted X-rays.
計数′175は、ホルダー4を中心とする円の円周上を
移動可能に保持することが必要である。これは、計数管
5の移動方向に対する回折強度の分布を測定するためで
ある。The counter '175 needs to be held movably on the circumference of a circle centered on the holder 4. This is to measure the distribution of diffraction intensity in the moving direction of the counter tube 5.
また、計数管5は、その移動角度を読み取るためにゴニ
オメータ−上に取り付けるのが望ましい。Further, it is desirable that the counter tube 5 be mounted on a goniometer in order to read the movement angle thereof.
計数管5としては、通常がイが−・ミュラー計数管又は
シンチレーシシン・カウンターが用いられる。As the counter 5, an Iga-Muller counter or a scintillation counter is usually used.
計数管5とホルダー4の間隔、すなわち、XIQの行路
長は100〜500IIII6が通常である。The distance between the counter tube 5 and the holder 4, that is, the path length of XIQ, is usually 100 to 500III6.
6は、スリットである。スリット6は、計数管5の窓部
の前面に設けることが必要である。スリット6と計数1
i75の窓の間の間隔は、30+nm以下、より好まし
くは、1〜20+amが好ましい。6 is a slit. The slit 6 must be provided in front of the window of the counter tube 5. Slit 6 and count 1
The spacing between the i75 windows is preferably 30+nm or less, more preferably 1 to 20+am.
スリット6を設けないと、試料単結晶のモザイク構造分
布のみを分離して測定することができないので、このス
リット6は必須である。If the slit 6 is not provided, it will not be possible to separate and measure only the mosaic structure distribution of the sample single crystal, so the slit 6 is essential.
スリット6のスリット幅は、15〜200μm1好まし
くは、20〜90μmの範囲とするのが適当である。ス
リット幅が、15μto未満であると計数W5に入射す
るX線の強度が弱くなり、強度測定の精度が低下する。The slit width of the slit 6 is preferably in the range of 15 to 200 μm, preferably 20 to 90 μm. If the slit width is less than 15 μto, the intensity of the X-rays incident on the counter W5 becomes weak, and the accuracy of intensity measurement decreases.
また、200μIを超えると格子常数分布とモザイク構
造分布を分離して測定するのが困難となるので、ともに
好ましくな(1゜
スリット6の材質は、鉄、銅その他の金属材料等特に制
限がないが、GaAs等の■−V族化合物の単結晶の薄
板を用い、そのへき開面((110)面)を利用して作
成すると容易に精密なスリットを作成することができる
。In addition, if it exceeds 200 μI, it becomes difficult to separate and measure the lattice constant distribution and the mosaic structure distribution, so both are not preferred (the material of the 1° slit 6 is not particularly limited, such as iron, copper, or other metal material). However, if a thin plate of a single crystal of a -V group compound such as GaAs is used and its cleavage plane ((110) plane) is used, a precise slit can be easily produced.
スリット6の、スリット幅は調節できることが好ましい
。It is preferable that the slit width of the slit 6 is adjustable.
7は、X線の行路を示す点線であって、説明の便宜のた
めに描いたものである。7 is a dotted line indicating the path of the X-ray, and is drawn for convenience of explanation.
実施例
本発明の装置の実施例を、GaAs(400)面につい
て測定する場合について説明する。Embodiment An embodiment of the apparatus of the present invention will be described with reference to a case where a GaAs (400) surface is measured.
Xm管として、焦点面が50μ+nX50μτn(焦点
面の面積2.5X10’μ伯2)であるCuのターデッ
ドを有するX線管を用いた。As the Xm tube, an X-ray tube with a Cu tarde whose focal plane was 50μ+n×50μτn (focal plane area 2.5×10′μ×2) was used.
分光用単結晶として、Siの単結晶を用いた。A Si single crystal was used as the single crystal for spectroscopy.
該単結晶の入射面の面方位は(220)面とした。The plane orientation of the incident plane of the single crystal was set to the (220) plane.
なお、測定用のX線は、Cu KCl線を用いた。Note that CuKCl rays were used as the X-rays for measurement.
X線管と分光用単結晶の間の行路長は300 +n+n
とした。The path length between the X-ray tube and the single crystal for spectroscopy is 300 +n+n
And so.
試料単結晶ホルダーと分光用単結晶の間のXmの行路長
は、20IIIIOとした。また、X線管と分光用Jl
i結晶の間及び分光用単結晶と試料単結晶の間にスリッ
ト幅100μmのスリットを設けた。The path length of Xm between the sample single crystal holder and the single crystal for spectroscopy was set to 20IIIO. In addition, the X-ray tube and spectroscopy Jl.
A slit with a slit width of 100 μm was provided between the i-crystals and between the single crystal for spectroscopy and the sample single crystal.
〃イが−・ミュラー計数管の窓部の曲面10+amの位
置にスリット幅30μT11のスリットを設置した。該
スリットは、GaAs(100)面ウェハを」いて作成
した。〃A-- A slit with a slit width of 30 μT11 was installed at a position of 10+am of the curved surface of the window of the Mueller counter tube. The slit was made by cutting a GaAs (100) wafer.
試料単結晶とがイが−・ミュラー計数管の間の行路長は
344■とした。The path length between the sample single crystal and the Gai-Mueller counter was 344 square meters.
」二記の諸元をfiする装置を用いて、上記GaAs単
結晶の格子常数の分布及びモザイク構造の分布を測定し
た。The distribution of the lattice constant and the distribution of the mosaic structure of the GaAs single crystal were measured using an apparatus that satisfies the specifications listed in 2.
モザイク構造の分布を測定するには、計数管の窓部の曲
面にスリットを設けずにロッキング・カーブを測定して
、そのピークが検出される位置に計数管を固定した。続
いて、詠計数管の窓部の前面にスリット△¥C着して、
試料単結晶を回転させてロッキング・カーブを測定した
。To measure the distribution of the mosaic structure, the rocking curve was measured without providing a slit in the curved surface of the window of the counter, and the counter was fixed at the position where the peak was detected. Next, attach a slit △¥C to the front of the window of the Ei counter.
The rocking curve was measured by rotating the sample single crystal.
得られたロッキング・カーブの半値幅、Δθ。The half-width of the obtained rocking curve, Δθ.
は、モザイク構造分布の程度を表わすパラメーターであ
る。is a parameter representing the degree of mosaic structure distribution.
上記試料の場合、Δθ1は、6.71であった。In the case of the above sample, Δθ1 was 6.71.
一般に、完全結晶では、Δθ1は0であり、モザイク構
造の分布が大となると、Δθ1は増加する。Generally, in a perfect crystal, Δθ1 is 0, and as the distribution of the mosaic structure increases, Δθ1 increases.
格子常数分布は、計数管の窓部の1前面にスリットを装
着して、2θ/θモードで測定した。格子常数分布を表
わすパラメーターなΔθ2とすると、得られた曲線の半
値幅は、2Δθ2に相当する。The lattice constant distribution was measured in 2θ/θ mode by installing a slit in front of one of the windows of the counter. If Δθ2 is a parameter representing the lattice constant distribution, the half-width of the obtained curve corresponds to 2Δθ2.
上記試料の場合、Δθ2は、25.5”であった。In the case of the above sample, Δθ2 was 25.5''.
なお、上記試料について、スリットを計数管の前面に設
けないで、ロッキング・カーブを測定すると、その半値
幅は、22″であった。この値は、Δθ、の他に格子常
数分布の影響を含んだ値である。When the rocking curve of the above sample was measured without providing a slit in front of the counter, its half-width was 22''.This value is determined by the influence of the lattice constant distribution in addition to Δθ. It is a value that includes
「発明の効果」
本発明のvc置は、次のような効果を有するので産業上
の利用価値は大である。"Effects of the Invention" The VC arrangement of the present invention has the following effects and has great industrial utility value.
(1)計数管の窓部の前面にスリットを設けた結果、モ
ザイク構造の分布を、格子常数分布とは独立に、かつ、
容易に測定することができる。(1) As a result of providing a slit in the front of the counter window, the distribution of the mosaic structure can be made independent of the lattice constant distribution, and
Can be easily measured.
従って、Gu、−xAIxΔS混晶層等をGaAs基板
上にエピタキシャル成長させたヘテロエピタキシャル・
ウェハの評価が極めて容易となる。Therefore, a heteroepitaxial structure in which a Gu, -xAIxΔS mixed crystal layer, etc. is epitaxially grown on a GaAs substrate.
Wafer evaluation becomes extremely easy.
(2)微小焦点xi管による細束X線を用いるのでウェ
ハの曲がりの16 ’!−を少なくすることができる。(2) Since we use finely focused X-rays from a microfocus xi tube, the wafer bends by 16'! − can be reduced.
(3)上記スリットを設けた結果、2θ/θモ一ド等他
の測定モードで測定する場合においても、分解能が向上
する。(3) As a result of providing the slit, the resolution is improved even when measuring in other measurement modes such as 2θ/θ mode.
4 図面のWJfitな説明
第1図は、本発明の装置の各部分の配置を示す配置図で
ある。4 WJfit Explanation of the Drawings FIG. 1 is a layout diagram showing the arrangement of each part of the apparatus of the present invention.
1・・・微小焦点X線管
2・・・分光用単結晶
4・・・ホルダー
5・・・計数管
6・・・スリット
特許出願人 伊藤 逸失 (ほか2名)代 理 人
弁理士 長谷用 −
(ほか1名)
タ 1
図1...Microfocus X-ray tube 2...Single crystal for spectroscopy 4...Holder 5...Counter tube 6...Slit Patent applicant Ito Itsu (and 2 others) Agent
Patent Attorney Hase - (1 other person) Ta 1 Figure
Claims (4)
、試料単結晶を回転可能に保持するホルダー及び該ホル
ダーの回転軸を中心とする円の円周上を移動可能に保持
された計数管を有するX線結晶回折装置において、該計
数管の窓部の前面に、幅15〜200μmのスリットを
設けたことを特徴とする装置。(1) A microfocus X-ray tube, at least one single crystal for spectroscopy, a holder that rotatably holds a sample single crystal, and a holder that is held movably on the circumference of a circle centered on the rotation axis of the holder. 1. An X-ray crystal diffraction apparatus having a counter, characterized in that a slit with a width of 15 to 200 μm is provided in the front face of a window of the counter.
の範囲第1項記載の装置。(2) The device according to claim 1, wherein the width of the slit is 20 to 90 μm.
下である特許請求の範囲第1項又は第2項記載の装置。(3) The device according to claim 1 or 2, wherein the distance between the slit and the window of the counter is 10 mm or less.
る化合物単結晶の薄板を用いて構成したものである特許
請求の範囲第1項、第2項又は第3項記載の装置。(4) The device according to claim 1, 2, or 3, wherein the slit is constructed using a thin plate of a compound single crystal consisting of group IIIb and group Vb elements.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22742886A JPS6382350A (en) | 1986-09-26 | 1986-09-26 | X ray crystal diffraction apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP22742886A JPS6382350A (en) | 1986-09-26 | 1986-09-26 | X ray crystal diffraction apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPS6382350A true JPS6382350A (en) | 1988-04-13 |
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ID=16860696
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP22742886A Pending JPS6382350A (en) | 1986-09-26 | 1986-09-26 | X ray crystal diffraction apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6382350A (en) |
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1986
- 1986-09-26 JP JP22742886A patent/JPS6382350A/en active Pending
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JPS4851679A (en) * | 1971-10-29 | 1973-07-20 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10209052A (en) * | 1997-01-17 | 1998-08-07 | Sony Corp | Apparatus and method for chemical vapor deposition |
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