JPS638232A - 補液配管 - Google Patents
補液配管Info
- Publication number
- JPS638232A JPS638232A JP14962886A JP14962886A JPS638232A JP S638232 A JPS638232 A JP S638232A JP 14962886 A JP14962886 A JP 14962886A JP 14962886 A JP14962886 A JP 14962886A JP S638232 A JPS638232 A JP S638232A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- raw material
- piping
- liquid
- air
- supply device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 108
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 92
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 22
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 abstract description 3
- 229910003910 SiCl4 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000007380 fibre production Methods 0.000 abstract 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000002637 fluid replacement therapy Methods 0.000 description 19
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 8
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 208000032767 Device breakage Diseases 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 230000006903 response to temperature Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
- C23C16/4481—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by evaporation using carrier gas in contact with the source material
- C23C16/4482—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by evaporation using carrier gas in contact with the source material by bubbling of carrier gas through liquid source material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/80—Feeding the burner or the burner-heated deposition site
- C03B2207/81—Constructional details of the feed line, e.g. heating, insulation, material, manifolds, filters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/80—Feeding the burner or the burner-heated deposition site
- C03B2207/85—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid
- C03B2207/86—Feeding the burner or the burner-heated deposition site with vapour generated from liquid glass precursors, e.g. directly by heating the liquid by bubbling a gas through the liquid
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は光ファイバ製造装置の原料供給装置と補液装置
を結ぶ補液配管に係わる。
を結ぶ補液配管に係わる。
〈従来の技術〉
光ファイバ製造装置の原料供給装置へ補液装置から原料
液を補給する配管には従来、ステンレス配管、または、
テフロン等の樹脂管が用いられており、その途中に空気
作動弁又は手動作動弁等の開閉弁が設けられている。
液を補給する配管には従来、ステンレス配管、または、
テフロン等の樹脂管が用いられており、その途中に空気
作動弁又は手動作動弁等の開閉弁が設けられている。
このような原料液を補給する配管、即ち、補液配管には
上記開閉弁息外何も施されていない。第３図にかかる補
液配管の一例を示す。
上記開閉弁息外何も施されていない。第３図にかかる補
液配管の一例を示す。
第３図において、原料供給装置１０は反応装置１４へ供
給されろ光ファイバ母材となる原料液１１を貯えている
。原料供給装置１０には加熱ヒータ１８が備えられてい
て、原料液１１を精密に温度制御して、原料の蒸気圧を
一定に制御する。他方、ガス流量調整Ｍ１７で流量制御
され、配管１５、空気作動弁１６を経て原料供給装置１
０へ送給されろ不活性ガスを、キャリヤガスとして原料
ガスを配管に、空気作動弁１３を経て反応装置１４へ送
給している。反応装置１４内では原料ガスから生成物が
生成される。かくして原料供給装置１１１０の原料タン
ク内の原料液１１は次第に消耗されろ。このため、補給
用原料液２を貯えている補液装置１からステンレス仮配
ｖ：５゜７．９を通じ、途中に介在される空気作動弁６
，８の操作によって、原料液２を原料供給装置１０へ補
給しなければならない。尚、この場合、原料供給装置１
０が反応値［１４へ原料ガスを供給している時は、原料
液２の補給は行われない。原料′Ｍ、２を補液装置１か
ら原料供給装置１０へ送給する方法としては、空気作動
弁４を開放して不活性ガスを配管３・を通じて補液装置
１の中へ供給し、原料液２に圧力をかけ、空気作動弁６
，８を開いて原料液２を配ＩｒＸ：ｓｐ ７ａ ９を経
て原料供給装置１０へと送給する。また補液装置１から
原料供給装置１０への原料補給方法としてはガス圧によ
らず落差を利用して供給することもできる。
給されろ光ファイバ母材となる原料液１１を貯えている
。原料供給装置１０には加熱ヒータ１８が備えられてい
て、原料液１１を精密に温度制御して、原料の蒸気圧を
一定に制御する。他方、ガス流量調整Ｍ１７で流量制御
され、配管１５、空気作動弁１６を経て原料供給装置１
０へ送給されろ不活性ガスを、キャリヤガスとして原料
ガスを配管に、空気作動弁１３を経て反応装置１４へ送
給している。反応装置１４内では原料ガスから生成物が
生成される。かくして原料供給装置１１１０の原料タン
ク内の原料液１１は次第に消耗されろ。このため、補給
用原料液２を貯えている補液装置１からステンレス仮配
ｖ：５゜７．９を通じ、途中に介在される空気作動弁６
，８の操作によって、原料液２を原料供給装置１０へ補
給しなければならない。尚、この場合、原料供給装置１
０が反応値［１４へ原料ガスを供給している時は、原料
液２の補給は行われない。原料′Ｍ、２を補液装置１か
ら原料供給装置１０へ送給する方法としては、空気作動
弁４を開放して不活性ガスを配管３・を通じて補液装置
１の中へ供給し、原料液２に圧力をかけ、空気作動弁６
，８を開いて原料液２を配ＩｒＸ：ｓｐ ７ａ ９を経
て原料供給装置１０へと送給する。また補液装置１から
原料供給装置１０への原料補給方法としてはガス圧によ
らず落差を利用して供給することもできる。
〈発明が解決しようとする問題点〉
第３図に示されるような補液装置１から原料供給装置１
０へ原料液を補給する補液配管５．７．９はに′ないし
猛′のステンレス製管あるいはテフロン樹脂製管である
。この補液配管５，７，９の途中、補液装置１及び原料
供給装置１０に近接して空気作動弁６，８が設置されて
いる。また、補助原料液を補液装置１から原料供給装置
１０へ補給するのは、先に述べた通り、原料供給装置１
０から反応装置１４へ原料ガスを供給していないときに
行われる。これは、加熱ヒータ１８によって精密に温度
制御されて、原料供給装置１０の原料タンク内の温度を
約４５℃土０．１℃に保っているためである。つまり、
このような原料供給値−１０へ急激に室温の原料液２が
混入すると、原料ガスの蒸気圧が変動し所望の生成物が
得られないからである。一方、原料供給装置１０への原
料液の補給は、配ＩＷ３に備えられた空気作動弁４の操
作により、不活性ガスのガス圧を補液装置１に加え、配
管系５．７．９に設置された空気作動弁６を予め開いて
おいて、次に空気作動弁８を開閉することによってでき
る。
０へ原料液を補給する補液配管５．７．９はに′ないし
猛′のステンレス製管あるいはテフロン樹脂製管である
。この補液配管５，７，９の途中、補液装置１及び原料
供給装置１０に近接して空気作動弁６，８が設置されて
いる。また、補助原料液を補液装置１から原料供給装置
１０へ補給するのは、先に述べた通り、原料供給装置１
０から反応装置１４へ原料ガスを供給していないときに
行われる。これは、加熱ヒータ１８によって精密に温度
制御されて、原料供給装置１０の原料タンク内の温度を
約４５℃土０．１℃に保っているためである。つまり、
このような原料供給値−１０へ急激に室温の原料液２が
混入すると、原料ガスの蒸気圧が変動し所望の生成物が
得られないからである。一方、原料供給装置１０への原
料液の補給は、配ＩＷ３に備えられた空気作動弁４の操
作により、不活性ガスのガス圧を補液装置１に加え、配
管系５．７．９に設置された空気作動弁６を予め開いて
おいて、次に空気作動弁８を開閉することによってでき
る。
ところが補液装ｗ１の交換又は長期間の装置停止等の場
合、補液配管の空気作動弁６゜８は共に閉じたままで放
置されろ。このような状態で環境温度が著しく上昇ある
いは下降すると次のような現象が起る。
合、補液配管の空気作動弁６゜８は共に閉じたままで放
置されろ。このような状態で環境温度が著しく上昇ある
いは下降すると次のような現象が起る。
空気作動弁６，８間の！ｉｌｉ管７の容積をＡ−１１度
変化を１０℃、例えば環境温度が１５℃から２５℃へ上
昇したとする。原料ｗ１ｓｔ（Ｊ４の定圧熱膨張係数は
、ｏ、 ｏ ｏ １４３ ／ ℃、ステンレス配管材の
ステンレスの１Ｍ１Ｉ！！！張係数は１．６７Ｘ１０−
’／℃であるので、１０℃〕温度変化に対応して、５ｔ
（Ｊ、の膨張は１＋Ｏ，０Ｏ１４３Ｘ１０＝１．０１４
３倍、ステンレス配管７の体積膨張は（１＋１．６７Ｘ
１０””Ｘｌ０）’＝１．０Ｏ０５倍となる。従って、
ステンレス配管と液体の体積変化分ΔＶにより、ステン
レス配管材内の圧力上昇分ΔＰは次式で与えられる。
変化を１０℃、例えば環境温度が１５℃から２５℃へ上
昇したとする。原料ｗ１ｓｔ（Ｊ４の定圧熱膨張係数は
、ｏ、 ｏ ｏ １４３ ／ ℃、ステンレス配管材の
ステンレスの１Ｍ１Ｉ！！！張係数は１．６７Ｘ１０−
’／℃であるので、１０℃〕温度変化に対応して、５ｔ
（Ｊ、の膨張は１＋Ｏ，０Ｏ１４３Ｘ１０＝１．０１４
３倍、ステンレス配管７の体積膨張は（１＋１．６７Ｘ
１０””Ｘｌ０）’＝１．０Ｏ０５倍となる。従って、
ステンレス配管と液体の体積変化分ΔＶにより、ステン
レス配管材内の圧力上昇分ΔＰは次式で与えられる。
但し、βは液体の積顕によらずほぼ一定で、約４．５
Ｘ １０−’である。よってこの系が完全密封の場合、
圧力上昇分 しかし配管７の各部品の対圧力はほぼ１００ｋｇ／ａｍ
程度であり、空気作動弁６，８の耐圧力は約１０ ｋｇ
／ｃｄと低い。配管７の両端にはこのような空気作動弁
６，８が設けられているため、上記の圧力上昇ΔＰが約
１０ ｋｇ／ｃｄ以上になると、弁６，８がｙ＠き、配
管７内に封じ込められた原料液の一部が流出することに
なる。
Ｘ １０−’である。よってこの系が完全密封の場合、
圧力上昇分 しかし配管７の各部品の対圧力はほぼ１００ｋｇ／ａｍ
程度であり、空気作動弁６，８の耐圧力は約１０ ｋｇ
／ｃｄと低い。配管７の両端にはこのような空気作動弁
６，８が設けられているため、上記の圧力上昇ΔＰが約
１０ ｋｇ／ｃｄ以上になると、弁６，８がｙ＠き、配
管７内に封じ込められた原料液の一部が流出することに
なる。
その量は配管７の容積Ａを１０００ｃｃ（ｖ２′配管約
１０■）とすると、流出量は１４ ｃｃとなる。
１０■）とすると、流出量は１４ ｃｃとなる。
通常、原料供給装置１０の原料タンクは３〜１０１であ
り、空気作動弁８が開いた場合、４５±０１℃に保たれ
た例えば５１の原料液１１の中に１４ｃｃ（２０℃）の
液が流入したとすると、約０．０７℃の温度低下を起し
、原料供給装置１０からの原料ガス蒸気圧が変動し、反
応装置１４へ送給される原料ガスの供給状態に外乱が与
えられるという問題が起る。
り、空気作動弁８が開いた場合、４５±０１℃に保たれ
た例えば５１の原料液１１の中に１４ｃｃ（２０℃）の
液が流入したとすると、約０．０７℃の温度低下を起し
、原料供給装置１０からの原料ガス蒸気圧が変動し、反
応装置１４へ送給される原料ガスの供給状態に外乱が与
えられるという問題が起る。
また、補液装置１のタンク交換等で配管５の先端が開放
された状態のとき、環境の温度変化により、配ＩＩ！１
７中に封じ込められた原料液が空気作動弁６から漏れ、
配管５を通じて外部に流出することが起る。外部に流出
した原料液カＳｉＣ＃、ノ場合は）（２ｏト反応シ、Ｈ
Ｃ１＋ Ｓ ｉ Ｏ２を生成するので、人体にきわめて
危険であり、また、装置の腐食を起す等の危険がある。
された状態のとき、環境の温度変化により、配ＩＩ！１
７中に封じ込められた原料液が空気作動弁６から漏れ、
配管５を通じて外部に流出することが起る。外部に流出
した原料液カＳｉＣ＃、ノ場合は）（２ｏト反応シ、Ｈ
Ｃ１＋ Ｓ ｉ Ｏ２を生成するので、人体にきわめて
危険であり、また、装置の腐食を起す等の危険がある。
本発明はかかる従来技術の問題に鑑みてなされたもので
、補液装置と原料供給装置を結ぶ補液配管に充満された
原料液が環境温度変化により、空気作動弁等を破って原
料供給装置あるいは補液装置へ侵入することのない補液
配管を提供することを目的とするものである。
、補液装置と原料供給装置を結ぶ補液配管に充満された
原料液が環境温度変化により、空気作動弁等を破って原
料供給装置あるいは補液装置へ侵入することのない補液
配管を提供することを目的とするものである。
く問題点を解決するための手段〉
かかる目的を達成した本発明による補液配管の構成は、
光ファイバ製造装置の補液装置と原料供給装置を結ぶ配
管の少なくとも１箇所に、周囲温度の変動による配管内
原料液と配管の熱膨張の差に基づく配管内圧力変動を吸
収する液溜を配置したことを特徴とするものである。
光ファイバ製造装置の補液装置と原料供給装置を結ぶ配
管の少なくとも１箇所に、周囲温度の変動による配管内
原料液と配管の熱膨張の差に基づく配管内圧力変動を吸
収する液溜を配置したことを特徴とするものである。
く作 用〉
本発明の補液配管によれば、補液装置と原料供給装置を
結ぶ配管に液溜を取り付けたことによって、環境温度の
変化があっても、上記配管に充満されていた原料液の一
部が液溜に吸収されろ。これ（こより空気作動弁等を破
って原料液が漏れ出すことがない。
結ぶ配管に液溜を取り付けたことによって、環境温度の
変化があっても、上記配管に充満されていた原料液の一
部が液溜に吸収されろ。これ（こより空気作動弁等を破
って原料液が漏れ出すことがない。
く実 施 例〉
本発明による補液配管の一実施例を図面によって説明す
る。第１図は本発明による？ｌｌｌ液られている補液装
置１と原料供給装置１０とは、配Ｉｖ１５，７，９と、
配管上に補液装置１に近接して設けられた空気作動弁６
と、原料供給装置１０に近接して設けられた空気作動ｆ
ｐ８とによって、連通されている。
る。第１図は本発明による？ｌｌｌ液られている補液装
置１と原料供給装置１０とは、配Ｉｖ１５，７，９と、
配管上に補液装置１に近接して設けられた空気作動弁６
と、原料供給装置１０に近接して設けられた空気作動ｆ
ｐ８とによって、連通されている。
原料供給装置１０では原料タンク中に貯えられた原料液
１１を加熱ヒータ１８によって一定温度に保ち所望の原
料蒸気圧を擾ており、ガス流量ｔＡ’ｌ１Ｍｘｒによっ
て流量制御され、配管１５、空気作動弁１６を介して送
給される不活性ガスをキャリヤガスとして原料ガスを反
応装置へ送給する。
１１を加熱ヒータ１８によって一定温度に保ち所望の原
料蒸気圧を擾ており、ガス流量ｔＡ’ｌ１Ｍｘｒによっ
て流量制御され、配管１５、空気作動弁１６を介して送
給される不活性ガスをキャリヤガスとして原料ガスを反
応装置へ送給する。
本発明による補液配管は、配管７の一部に配管内の原料
液の圧力上昇分を吸収する液層２０を設けたものである
。液溜２０は配管１９によって配管７に連通されている
。又、液溜２０には配ＩＰ！！：２１と空気作動弁２２
を介して所望の圧力の不活性ガスが供給できるようにな
されている。ここで液溜２０へ配管２１と空気作動弁２
２を介して予め供給される不活性ガスの封入ガス圧をＰ
□、液溜２０にガス圧Ｐ、で封入された不活性ガスの容
積をｖｉ、配管７を通じての補液送給時の送給圧力をＰ
２、配管７の容積をη、補液送給時の液溜２０の不活性
ガス容積をｖ２、原料液の体Ｉｌｌ！！張係数をα、環
境温度上昇分をΔＴｓＷｊＡ度上昇分ΔＴに基づく配管
７中の原料液の体８Ｎ膨張をΔμとする。
液の圧力上昇分を吸収する液層２０を設けたものである
。液溜２０は配管１９によって配管７に連通されている
。又、液溜２０には配ＩＰ！！：２１と空気作動弁２２
を介して所望の圧力の不活性ガスが供給できるようにな
されている。ここで液溜２０へ配管２１と空気作動弁２
２を介して予め供給される不活性ガスの封入ガス圧をＰ
□、液溜２０にガス圧Ｐ、で封入された不活性ガスの容
積をｖｉ、配管７を通じての補液送給時の送給圧力をＰ
２、配管７の容積をη、補液送給時の液溜２０の不活性
ガス容積をｖ２、原料液の体Ｉｌｌ！！張係数をα、環
境温度上昇分をΔＴｓＷｊＡ度上昇分ΔＴに基づく配管
７中の原料液の体８Ｎ膨張をΔμとする。
まず、液溜２０のタンク内に圧力Ｐ１で不活性ガスを封
入し、その容積をＶ、とじ、その後圧力Ｐ２で配ｌｔ！
！ニア中を通して原料液２を補液装置１から原料供給装
置１０へ供給したとする。
入し、その容積をＶ、とじ、その後圧力Ｐ２で配ｌｔ！
！ニア中を通して原料液２を補液装置１から原料供給装
置１０へ供給したとする。
このときの液溜２０の不活性ガス容積ｖ２はで表わされ
る。次に、補ｉ配管の空気作動弁６．８１１１の配Ｗ７
の８積ヲｖｐトシ、ΔＴだけ温度上昇があった場合を考
えると、そこでの原料液の膨張Δ■２は、 ΔＶ＝ＶＸａＸΔＴ ・＝ （２１で表わさ
れる。９上より、原料液が温度上昇ΔＴによって体８！
膨張し、膨張分が液溜２０内に流入するものとすると、
このときの液溜２０のタンク内圧力Ｐ、ば次式で求めら
れろ。
る。次に、補ｉ配管の空気作動弁６．８１１１の配Ｗ７
の８積ヲｖｐトシ、ΔＴだけ温度上昇があった場合を考
えると、そこでの原料液の膨張Δ■２は、 ΔＶ＝ＶＸａＸΔＴ ・＝ （２１で表わさ
れる。９上より、原料液が温度上昇ΔＴによって体８！
膨張し、膨張分が液溜２０内に流入するものとすると、
このときの液溜２０のタンク内圧力Ｐ、ば次式で求めら
れろ。
よって、各装置の構成より、液溜２０に作用する圧力、
温度上昇によってｗｌ？ｌ１ｇ２０に流入する流入分が
分れば、タンクの耐圧とタンクの容積を決定することが
できろ。
温度上昇によってｗｌ？ｌ１ｇ２０に流入する流入分が
分れば、タンクの耐圧とタンクの容積を決定することが
できろ。
ココテ配管７の容積Ｖｐ＝２０００ｃｃ、液溜２０のタ
ンク内の不活性ガス容積Ｖ、＝５００ｃｃ。
ンク内の不活性ガス容積Ｖ、＝５００ｃｃ。
このときの不活性ガス圧力Ｐ、 ＝ １．３ ｋｇ／ｃ
＋／とじ、次いで配管７を通じて補液装置１から原料供
給装置１０へ原料液２を補給するときの配管内圧力をＰ
２＝ ２ ｋｇ／ｃｄ、原料液２の体積膨張率α＝Ｏ，
０Ｏ１４３、環境温度の上昇分ΔＴ＝１０℃とすると、
液溜２０のタンク内圧力Ｐ、は、Ｐ ＝ ２．１９ ｋ
ｇ／ｃｄとなり、圧力の上昇分は、０、１９． ｏ、
１即ち、約１０％に押さえられる。
＋／とじ、次いで配管７を通じて補液装置１から原料供
給装置１０へ原料液２を補給するときの配管内圧力をＰ
２＝ ２ ｋｇ／ｃｄ、原料液２の体積膨張率α＝Ｏ，
０Ｏ１４３、環境温度の上昇分ΔＴ＝１０℃とすると、
液溜２０のタンク内圧力Ｐ、は、Ｐ ＝ ２．１９ ｋ
ｇ／ｃｄとなり、圧力の上昇分は、０、１９． ｏ、
１即ち、約１０％に押さえられる。
次に液溜２０のタンクへ不活性ガスを封入する方法とし
ては、まず、補液装置１から原料供給装置１０へ、補液
配管の空気作動弁６゜８を開放して原料液２を圧送する
。圧送終了後、空気作動弁６，８を一旦閉じ、次に空気
作動弁８及び原料供給装置１０の排ガス配管２３に取り
付けられた空気作動弁２４を開として、配管７中の圧力
へを抜く。次いで液溜２０への不活性ガスの配管２１に
介在されろ空気作動弁２２全開放して液溜２０内に圧力
ＰＫの不活性ガスを封入する。このときもし仮に配管７
内に不活性ガスが入っても問題はない。
ては、まず、補液装置１から原料供給装置１０へ、補液
配管の空気作動弁６゜８を開放して原料液２を圧送する
。圧送終了後、空気作動弁６，８を一旦閉じ、次に空気
作動弁８及び原料供給装置１０の排ガス配管２３に取り
付けられた空気作動弁２４を開として、配管７中の圧力
へを抜く。次いで液溜２０への不活性ガスの配管２１に
介在されろ空気作動弁２２全開放して液溜２０内に圧力
ＰＫの不活性ガスを封入する。このときもし仮に配管７
内に不活性ガスが入っても問題はない。
第２図に本発明による補液配管の第２の実施例を示す。
第２図において、第１図の参照番号と同一参照番号は同
一部分を示す。即ち、補液が貯えられている補液装置１
と原料供給装置１０とは、配管５，７．９と、これら配
管上に補液装置１に近接して設け、られな空気作動弁６
と、原料供給装置１０に近接して設けられた空気作動弁
８とによって連通されている。また、液溜２０は配管１
９によって配管７に連通されている。
一部分を示す。即ち、補液が貯えられている補液装置１
と原料供給装置１０とは、配管５，７．９と、これら配
管上に補液装置１に近接して設け、られな空気作動弁６
と、原料供給装置１０に近接して設けられた空気作動弁
８とによって連通されている。また、液溜２０は配管１
９によって配管７に連通されている。
但し、配管７にはガス封入用配管２５、空気作動弁２６
が設けられている。本実施例のものでは、補液装置１か
ら原料供給装置１０へ原料液を補給するに先立って、液
溜２０に取り付けられている配管２７の空気作動弁２８
を開放しておき、不活性ガスを配管２５の空５気作動弁
２６を開放して、配管７を経由して液溜２０へ貯える。
が設けられている。本実施例のものでは、補液装置１か
ら原料供給装置１０へ原料液を補給するに先立って、液
溜２０に取り付けられている配管２７の空気作動弁２８
を開放しておき、不活性ガスを配管２５の空５気作動弁
２６を開放して、配管７を経由して液溜２０へ貯える。
勿論この場合空気作動弁２８は不活性ガスが液溜２０に
充満されたら閉じ、不活性ガスのガス圧を更に所望の値
Ｐ。
充満されたら閉じ、不活性ガスのガス圧を更に所望の値
Ｐ。
にまで高める。この状態で不活性ガスの供給を、空気作
動弁２６を閉止して止めろ。次に、空気作動弁６，８を
開放し、補液配管５，７゜９を通じて原料供給装置１０
へ原料液を補給する。所望の量の供給を終えた後に、補
液配管の空気作動弁６，８を閉じ原料液の供給を止める
。これによって配管７中に原料液が封じ込められるがた
とえ外界の環境温度が変化しても熱膨張の違いによる体
積変化分は液溜２０に吸収され、空気作動弁６あるいは
８を破って、原料供給装置１０へ流入したり、補液装置
１の方へ流出することはない。
動弁２６を閉止して止めろ。次に、空気作動弁６，８を
開放し、補液配管５，７゜９を通じて原料供給装置１０
へ原料液を補給する。所望の量の供給を終えた後に、補
液配管の空気作動弁６，８を閉じ原料液の供給を止める
。これによって配管７中に原料液が封じ込められるがた
とえ外界の環境温度が変化しても熱膨張の違いによる体
積変化分は液溜２０に吸収され、空気作動弁６あるいは
８を破って、原料供給装置１０へ流入したり、補液装置
１の方へ流出することはない。
〈発明の効果〉
本発明による補液配管によれば、補液装置と原料供給装
置を結ぶ補液配管途中に液溜を配置したことによって、
長期間の補液配管内の液溜しも可能になる。従って原料
供給装置の原料液を所定の温度に保って精密に流量制御
された原料ガスを反応装置へ送出して反応装置で生成物
を製造時に、突然補液配管から原料液が原料供給装置へ
流れ込んで原料ガス流に外乱を与えるような危険はない
。また、補液装置が取り外されているような場合に補液
配管に充満された原料液が補液配管から外部へ流出して
不測の障害をこうむることもなく、製品製造上又、装置
保守上非常に有効である。
置を結ぶ補液配管途中に液溜を配置したことによって、
長期間の補液配管内の液溜しも可能になる。従って原料
供給装置の原料液を所定の温度に保って精密に流量制御
された原料ガスを反応装置へ送出して反応装置で生成物
を製造時に、突然補液配管から原料液が原料供給装置へ
流れ込んで原料ガス流に外乱を与えるような危険はない
。また、補液装置が取り外されているような場合に補液
配管に充満された原料液が補液配管から外部へ流出して
不測の障害をこうむることもなく、製品製造上又、装置
保守上非常に有効である。
第１図は本発明による補液配管の一実施例を示す構成図
、第２図は本発明の他の実施例を示す構成図、第３図は
従来の補液配管の構成を示す構成図である。 図 面 中、 １は補液装置、２は原料液、３，５，７゜９．１２，１
５，１９，２１，２３，２５゜２７は配管、４，６，８
，１３，１６，２２゜２４．２６，２８は空気作動弁、
１０は原料供給装置、１１は原料液、１７はガス流量計
、１８は加熱ヒータ、２０は液溜である。
、第２図は本発明の他の実施例を示す構成図、第３図は
従来の補液配管の構成を示す構成図である。 図 面 中、 １は補液装置、２は原料液、３，５，７゜９．１２，１
５，１９，２１，２３，２５゜２７は配管、４，６，８
，１３，１６，２２゜２４．２６，２８は空気作動弁、
１０は原料供給装置、１１は原料液、１７はガス流量計
、１８は加熱ヒータ、２０は液溜である。
Claims (2)
- （１）光ファイバ製造装置の原料供給装置と補液装置を
結ぶ配管の少なくとも１箇所に、周囲温度の変動による
配管内原料液と配管の熱膨張の差に基づく配管内圧力変
動を吸収する液溜を配置したことを特徴とする補液配管
。 - （２）前記液溜は不活性ガスが一部に充填されたもので
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の補液
配管。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14962886A JPS638232A (ja) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | 補液配管 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14962886A JPS638232A (ja) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | 補液配管 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS638232A true JPS638232A (ja) | 1988-01-14 |
Family
ID=15479378
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14962886A Pending JPS638232A (ja) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | 補液配管 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS638232A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1566464A1 (de) * | 2004-02-20 | 2005-08-24 | Cs Clean Systems Ag | Vorrichtung und Verfahren zum Nachfüllen eines Blasenverdampfers |
-
1986
- 1986-06-27 JP JP14962886A patent/JPS638232A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1566464A1 (de) * | 2004-02-20 | 2005-08-24 | Cs Clean Systems Ag | Vorrichtung und Verfahren zum Nachfüllen eines Blasenverdampfers |
| US7278438B2 (en) | 2004-02-20 | 2007-10-09 | Cs Clean Systems Ag | Apparatus and process for refilling a bubbler |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA2106734C (en) | Apparatus for supplying cvd coating devices | |
| US4615352A (en) | Process and apparatus for supplying a mixture of CO2 and SO2 or a like mixture under pressure | |
| KR920009064B1 (ko) | 광학 예비 성형물 제조의 증기 이송 제어 방법 및 장치 | |
| TW201933509A (zh) | 用於向反應腔室配送氣相反應物之裝置及相關方法 | |
| US4539903A (en) | Filling apparatus | |
| JPH06132226A (ja) | 液体原料用気化供給器 | |
| KR100247679B1 (ko) | 액체 소스로 부터 발생된 화학 증기의 통합형 전송장치의 화학증기 전송 모듈 | |
| KR20210005873A (ko) | 헬륨 저장 및 공급을 위한 방법 및 장치 | |
| JPS638232A (ja) | 補液配管 | |
| US2890548A (en) | Method and apparatus for controlling convection currents of molten glass | |
| JP2000109190A (ja) | 圧力下にある薬液を包装容器に充填する装置 | |
| US6336332B1 (en) | Pressure regulating device for a cryogenic tank and plant for delivering corresponding fluid | |
| US5242664A (en) | Process and apparatus for the preparation of a gas flow | |
| US6455010B2 (en) | Apparatus and method for pressurizing a propylene polymerization reactor | |
| US1950353A (en) | Method and apparatus for dispensing gas material | |
| JPH08128596A (ja) | ガス蒸発装置及びガス供給方法 | |
| US3636992A (en) | Method and apparatus for charging a thermostatic system | |
| TWI825714B (zh) | 及方法 | |
| KR100871292B1 (ko) | 스팀 제조장치 | |
| JP2946347B2 (ja) | 液体材料供給システムにおける気化器 | |
| JPS63291601A (ja) | 液体材料制御装置 | |
| KR100473256B1 (ko) | 고무배합용 약품의 가열장치 | |
| JP3296611B2 (ja) | 液体材料気化供給装置 | |
| JP2000163133A (ja) | 液体材料供給装置の液体供給圧力コントロール構造 | |
| JPH03146860A (ja) | ガスクロマトグラフ用ガス供給装置 |