JPH03146860A - ガスクロマトグラフ用ガス供給装置 - Google Patents
ガスクロマトグラフ用ガス供給装置Info
- Publication number
- JPH03146860A JPH03146860A JP28474389A JP28474389A JPH03146860A JP H03146860 A JPH03146860 A JP H03146860A JP 28474389 A JP28474389 A JP 28474389A JP 28474389 A JP28474389 A JP 28474389A JP H03146860 A JPH03146860 A JP H03146860A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- container
- pressure
- sensor
- hydrogen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 49
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 35
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 31
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 31
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 22
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Flow Control (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はガスクロマトグラフ用のガス供給装置に関する
。
。
従来の水素吸蔵合金を用いたガス供給装置としては、ガ
スクロ工業（株）カタログＮａ ２２ Ｐ １６７に記
載されているエステツク（株）製○Ｐ Ｈ３Ｏ０水素貯
蔵器がある。この装置は、ただ単に一定温度に水素吸蔵
合金を加熱するだけであって、本発明のように水素の放
出量または放出圧に応して水素吸蔵合金の加熱温度をフ
ィードバック制御するというものではない。
スクロ工業（株）カタログＮａ ２２ Ｐ １６７に記
載されているエステツク（株）製○Ｐ Ｈ３Ｏ０水素貯
蔵器がある。この装置は、ただ単に一定温度に水素吸蔵
合金を加熱するだけであって、本発明のように水素の放
出量または放出圧に応して水素吸蔵合金の加熱温度をフ
ィードバック制御するというものではない。
上記従来技術は水素放出の圧力、及び放出量を制御する
という点については配慮がされておらず、水素の放出圧
力、及び放出量を制御できないという問題があった。
という点については配慮がされておらず、水素の放出圧
力、及び放出量を制御できないという問題があった。
本発明は一定圧の水素を放出するガス供給装置を提供す
ることを目的としており、さらに一定量の水素を放出す
るガス供給装置を提供することを目的とする。
ることを目的としており、さらに一定量の水素を放出す
るガス供給装置を提供することを目的とする。
上記目的を遠戚するために、圧力センサーより得られる
信号により、水素吸蔵合金より発生するガスの圧力が所
望の値となるように容器の温度を３− フィードバック制御したものである。また、一定量の水
素ガスを得るためには流量センサーを用いて容器の温度
をフィードバック制御したものである。
信号により、水素吸蔵合金より発生するガスの圧力が所
望の値となるように容器の温度を３− フィードバック制御したものである。また、一定量の水
素ガスを得るためには流量センサーを用いて容器の温度
をフィードバック制御したものである。
ガス流出用配管に取り付けられた圧力センサーまたは流
量センサーにより得られる信号によって水素吸蔵合金の
容器の温度はフィードバック制御される。それによって
水素ガスの放出量、放出圧を任意に制御できる。したが
って、水素ガス配管が破れること等により水素ガスが洩
れても水素ガスボンベのように大量の水素ガスが洩れる
ことはない。
量センサーにより得られる信号によって水素吸蔵合金の
容器の温度はフィードバック制御される。それによって
水素ガスの放出量、放出圧を任意に制御できる。したが
って、水素ガス配管が破れること等により水素ガスが洩
れても水素ガスボンベのように大量の水素ガスが洩れる
ことはない。
以下、本発明の一実施例を第１図により説明する。第工
図は本発明によるガス供給装置の構成を示す図である。
図は本発明によるガス供給装置の構成を示す図である。
第↓図において、ガス供給装置には、水素吸蔵合金上が
あり、水素吸蔵合金１は容器２の中に収容されている。
あり、水素吸蔵合金１は容器２の中に収容されている。
容器２の一方は水素吸蔵合金１が取出可能なように開口
部となっており、その開口部はパツキン３とふた４とに
より密閉できる。
部となっており、その開口部はパツキン３とふた４とに
より密閉できる。
そして、他の一方には水素吸蔵合金上より発生した水素
を他の機器に供給するためのガス流出用配管５が接続さ
れている。ガス流出用配管５の内部にはガス流出量また
は流出圧を測定するためのセンサ６（圧力センサまたは
流量センサ）が取り付けられている。また、容器２には
水素吸蔵合金１に熱を与えるためのヒータ７と水素吸蔵
合金１の温度を測定するための温度センサ８が取付けら
れている。
を他の機器に供給するためのガス流出用配管５が接続さ
れている。ガス流出用配管５の内部にはガス流出量また
は流出圧を測定するためのセンサ６（圧力センサまたは
流量センサ）が取り付けられている。また、容器２には
水素吸蔵合金１に熱を与えるためのヒータ７と水素吸蔵
合金１の温度を測定するための温度センサ８が取付けら
れている。
センサ６により得られた信号は制御器９に送られる。そ
の信号によりヒータ７は水素吸蔵合金上より放出される
ガス量が所定の流量または圧力になるようフィードバッ
ク制御される。
の信号によりヒータ７は水素吸蔵合金上より放出される
ガス量が所定の流量または圧力になるようフィードバッ
ク制御される。
以上の実施例で述べた如く、本発明によれば、水素吸蔵
合金より放出される水素ガスの放出量。
合金より放出される水素ガスの放出量。
放出圧を任意に制御できるので、水素ガス配管が破れる
こと等により水素ガスが洩れても、水素ガスボンベのよ
うに大量の水素ガスが洩れることロミく安定である。
こと等により水素ガスが洩れても、水素ガスボンベのよ
うに大量の水素ガスが洩れることロミく安定である。
本発明は、以上説明したように構成されているので以下
に記載されるような効果を奏する。
に記載されるような効果を奏する。
水素ガスの放出量、放出圧を任意に制御できるので、水
素ガス配管が破れること等により水素ガスが洩れても、
水素ガスボンベのように大量の水素ガスが洩れることが
なく安全である。
素ガス配管が破れること等により水素ガスが洩れても、
水素ガスボンベのように大量の水素ガスが洩れることが
なく安全である。
第１図は本発明の一実施例のガス供給装置の構成を示す
図である。
図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ガスクロマトグラフ用のガス供給装置において、ガ
ス流出配管を備えた容器内に水素吸蔵合金を設置し、前
記ガス流出用配管内を流れるガスの圧力センサーを配管
に設け、また前記容器の温度を制御できるよう、容器に
温度センサーとヒータをとりつけ、または容器を温度制
御ができるオーブン内に設置し、前記圧力センサーより
得られる信号により、水素吸蔵合金より発生するガスの
圧力が所望の値となるよう容器の温度をフィードバック
制御することを特徴とするガスクロマトグラフ用ガス供
給装置。 ２、請求範囲第１項において、ガスの圧力センサーの代
りに流量センサーを設け、流量センサーより得られる信
号により、水素吸蔵合金より発生するガスの流量が所望
の値となるよう、容器の温度をフィードバック制御する
ことを特徴とするガスクロマトグラフ用ガス供給装置。 ３、請求範囲第１項において、ガスの圧力センサーの代
りに圧力調整器を設け、また容器の温度を所望の圧力が
得られるのに十分な一定値に保つよう温度制御し、圧力
調整器の働きにより一定の水素ガス圧が得られるように
したことを特徴とするガスクロマトグラフ用ガス供給装
置。 ４、請求範囲第３項において、圧力調整器の代りにマス
フローコントローラを設け、また容器の温度を所望の流
量が得られるのに十分な一定値に保つよう温度制御し、
マスフローコントローラの働きにより一定の水素ガス流
量が得られるようにしたことを特徴とするガスクロマト
グラフ用ガス供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28474389A JPH03146860A (ja) | 1989-11-02 | 1989-11-02 | ガスクロマトグラフ用ガス供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28474389A JPH03146860A (ja) | 1989-11-02 | 1989-11-02 | ガスクロマトグラフ用ガス供給装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03146860A true JPH03146860A (ja) | 1991-06-21 |
Family
ID=17682423
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28474389A Pending JPH03146860A (ja) | 1989-11-02 | 1989-11-02 | ガスクロマトグラフ用ガス供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03146860A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016161444A (ja) * | 2015-03-03 | 2016-09-05 | 新コスモス電機株式会社 | ガス分析装置、及び、ガス分析装置の調整方法 |
-
1989
- 1989-11-02 JP JP28474389A patent/JPH03146860A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016161444A (ja) * | 2015-03-03 | 2016-09-05 | 新コスモス電機株式会社 | ガス分析装置、及び、ガス分析装置の調整方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3528449A (en) | Fluid flow control apparatus | |
| GB2049900A (en) | Cryostat system utilizing a liquefied gas | |
| JPH03146860A (ja) | ガスクロマトグラフ用ガス供給装置 | |
| KR920008315A (ko) | 열응력을 최소화시키기 위한 증기 터어빈 시스템 | |
| KR830001145A (ko) | 유리의 열강인화 방법 | |
| JPS57180079A (en) | Temperature controller for fuel cell | |
| JPS61220009A (ja) | 金属水素化物タンクの圧力制御装置 | |
| JP3046420B2 (ja) | 煙発生装置 | |
| JPS5680600A (en) | Liquefied gas evaporator and operating method for the same | |
| JPH0522256Y2 (ja) | ||
| JPH0228795B2 (ja) | ||
| JPS63169984A (ja) | 培養装置 | |
| JPH0612514Y2 (ja) | 真空低温調節装置 | |
| JPS56152733A (en) | Fluid mixing and controlling device for gas | |
| JPS63291601A (ja) | 液体材料制御装置 | |
| JPH0384274A (ja) | 流体制御装置 | |
| JPS6291401A (ja) | 水素の圧力及び純度を一定に保持する方法 | |
| JPS5790479A (en) | Gas flow rate control apparatus | |
| SU969258A1 (ru) | Устройство дл локального охлаждени биологической ткани | |
| JPS5592298A (en) | Gas pressure control method of welding gas backing | |
| JPS5849836A (ja) | 給湯温度調節装置 | |
| JPS61294331A (ja) | 耐圧温度管理装置 | |
| JPS5819022B2 (ja) | 液化ガスによる極低温恒温方法 | |
| JPH05309257A (ja) | ガス供給装置 | |
| KR900005256A (ko) | 급탕기의 온도 제어장치 |