JPS637508A - Manufacture of thin film magnetic head - Google Patents

Manufacture of thin film magnetic head

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Publication number
JPS637508A
JPS637508A JP14963186A JP14963186A JPS637508A JP S637508 A JPS637508 A JP S637508A JP 14963186 A JP14963186 A JP 14963186A JP 14963186 A JP14963186 A JP 14963186A JP S637508 A JPS637508 A JP S637508A
Authority
JP
Japan
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film
groove
magnetic film
plane
track width
Prior art date
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Pending
Application number
JP14963186A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toru Katakura
片倉 亨
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
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Publication of JPS637508A publication Critical patent/JPS637508A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To improve an electromagnetic conversion characteristic and a yield, or processing accuracy, by performing etching of prescribed depth on the inside of a track width regulating groove, and afterwards performing the filming, and the flat grinding of a lower magnetic film, and after that forming a coil conductor, and an upper magnetic film. CONSTITUTION:A nonmagnetic film 2 is formed adhesively on a substrate 1, and a track width regulating groove 3 is form by performing the etching of the nonmagnetic film 2. The groove 3 is formed as a width Tw equal to a track width set by setting a distance between wall planes 3a, 3a as a head, in the neighborhood of a plane 4 equivalent to the oppositely installed plane of a magnetic recording medium. An oblique plane 5 which inclines with a prescribed angle is formed at the inside of the groove 3, and the oblique plane 5, and the wall plane 3a constitute a groove 6, and furthermore, a lower magnetic film 7 is formed adhesively over the whole plane of the nonmagnetic film 2. The flat grinding is applied on the nonmagnetic film 2 until a desired core thickness can be obtained, and a coil conductor 11, a drawing electrode 13, and an upper magnetic film 14 are laminated on an upper plane 8 in order through insulating films 10 and 12, thereby, a magnetic circuit part can be formed. In this way, it is possible to eliminate the short-circuit, etc., of the coil conductor 11, and also, to improve the yield, and in addition, the reliability of the head, or the electromagnetic conversion characteristic can be improved.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、例えばビデオテープレコーダ(VTR)等の
駆動装置等に搭載される電磁誘導型の薄膜磁気ヘッドの
製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method of manufacturing an electromagnetic induction type thin film magnetic head mounted on a drive device such as a video tape recorder (VTR), for example.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明は、薄膜磁気ヘッドを製造するに際し、基板上に
トラック幅と等しい幅を有するトラック幅規制溝を反応
性イオンエツチングにより形成し、さらに、該トランク
幅規制溝の内側を壁面が傾斜面となるようなテーパーエ
ツチングにより所定、s濶さまでエツチングし、その後
、下部磁性膜を膜付けし、平面研削を、晦し後、コイル
導体及び上部石;1性膜をフォトリソグラフィ技術によ
り形成することにより、 隣接トラックからのクロストークを解消し、電磁変換特
性や信頼性の向上を図るとともに、歩留まりや加工精度
の向上を図るものである。
In manufacturing a thin film magnetic head, the present invention forms a track width regulating groove having a width equal to the track width on a substrate by reactive ion etching, and furthermore, the inner side of the trunk width regulating groove is formed into an inclined surface. Etching is performed to a predetermined thickness by taper etching, then a lower magnetic film is deposited, surface grinding is performed, and after a while, a coil conductor and an upper magnetic film are formed by photolithography. This aims to eliminate crosstalk from adjacent tracks, improve electromagnetic conversion characteristics and reliability, and improve yield and processing accuracy.

C従来の技術〕 磁気記録の分野においては、高密度記録化に伴い磁気記
録媒体は高抗磁力化の方向にあり、記録再生波長も短波
長化の一途をたどっている。したかって、磁気ヘッドに
あっては、磁気コアにFe−A1’−5i系合金等の高
飽和磁束密度材料を使用し、また狭ギヤノブ化を進める
等、上述の高密度記録化への対応を図っている。
C. Prior Art] In the field of magnetic recording, magnetic recording media are trending toward higher coercive force as recording density increases, and recording and reproducing wavelengths are also becoming shorter. Therefore, in the case of magnetic heads, it is necessary to respond to the above-mentioned high-density recording by using high saturation magnetic flux density materials such as Fe-A1'-5i alloys for the magnetic core, and by making gear knobs narrower. I'm trying.

かかる状況から、半4体製造プロセスと同様の技術を用
いて作製される薄膜磁気ヘッドが開発され実用化されて
いることは周知である。
Under such circumstances, it is well known that a thin film magnetic head manufactured using a technique similar to the half-quad manufacturing process has been developed and put into practical use.

−般に、上述の薄膜磁気ヘッドは、例えばMn−Znフ
ェライト等よりなる平坦な基板上に下部磁性膜を形成し
、さらにこの下部磁性膜上に絶縁膜を介してコイル導体
及び−と部磁性膜をフォトリソグラフィ技術を用いて順
次積層形成することにより作製され、上記下部磁性膜と
上部磁性膜との共働により閉磁路を形成するように構成
されている。
- In general, the above-mentioned thin film magnetic head has a lower magnetic film formed on a flat substrate made of, for example, Mn-Zn ferrite, and further a coil conductor and a magnetic conductor are formed on the lower magnetic film via an insulating film. It is manufactured by sequentially laminating films using photolithography technology, and is configured to form a closed magnetic path by the cooperation of the lower magnetic film and the upper magnetic film.

ところで、上記薄膜磁気ヘッドは、トランク幅規制を上
部磁性膜あるいは下部磁性膜のパターニングにより行っ
ているが、種々の改良点が残されている。
Incidentally, in the thin film magnetic head described above, the trunk width is regulated by patterning the upper magnetic film or the lower magnetic film, but various improvements remain.

すなわち、上述のトラック幅規制を上部磁性膜で行った
場合には、上部磁性膜がトラック幅と一敗する如く分断
されているのに対して、下部磁性膜は一連の膜付けで形
成されるので、マルチチャンネルの薄膜6n気ヘツド等
においては、オフトランク時の゛クコストークが問題と
なる。これは、トラック形成部以外の下部磁性膜からの
信号の再生(いわゆる擬似信号)によるものであり、ア
ナログ信号の記録再生には余り影響がないものの、デジ
タル信号の記録再生においては、エラーレイトが劣化し
好ましくない。
In other words, when the above-mentioned track width regulation is performed using the upper magnetic film, the upper magnetic film is separated so as to match the track width, whereas the lower magnetic film is formed by a series of films. Therefore, in a multi-channel thin film 6N air head, etc., energy talk during off-trunk becomes a problem. This is due to the reproduction of signals from the lower magnetic film other than the track forming part (so-called pseudo signals), and although it does not have much effect on recording and reproduction of analog signals, the error rate increases when recording and reproduction of digital signals. It deteriorates and is not desirable.

一方、上記トラック幅規制を下部磁性膜で行う方法もあ
るが、この場合には、下部磁性膜の形成後にトランク間
に大きな段差が生し、このためコイル導体や上部磁性膜
のパターニング精度を確保することが困難となっている
。場合によっては、コイル導体が短絡したり、トランク
間に入り込んだレジストが残存する等、電磁変換特性や
信頼性の点で大きな問題となっている。
On the other hand, there is a method of regulating the track width using the lower magnetic film, but in this case, a large step is created between the trunks after the lower magnetic film is formed, which makes it difficult to ensure the patterning accuracy of the coil conductor and the upper magnetic film. It has become difficult to do so. In some cases, coil conductors may be short-circuited, or resist may remain between the trunks, causing major problems in terms of electromagnetic conversion characteristics and reliability.

そこで上述の諸問題を解消するために、本願出願人は特
願昭61−4692号明細書において、基板上の非磁性
酸化物膜に形成される溝によりトランク幅を規制し、こ
の溝内に下部磁性膜を充填するとともに、この下部磁性
膜上に絶縁膜を介してコイル導体や上部磁性膜を形成し
薄膜磁気ヘッドを得る方法を提案した。
Therefore, in order to solve the above-mentioned problems, the applicant of the present invention proposed in Japanese Patent Application No. 4692/1987 that the trunk width is regulated by a groove formed in the non-magnetic oxide film on the substrate, and that We proposed a method to obtain a thin-film magnetic head by filling a lower magnetic film and forming a coil conductor and an upper magnetic film on the lower magnetic film via an insulating film.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

ところで、上記溝は反応性イオンエツチング(Reac
tive Ton Etching 、以下RIEと略
す)の手法で形成している。上記RIEは、第8図に示
すように、基板(51)上の非磁性酸化′jjyJ膜(
52)の上面(52a)の直交方向に進行するので、l
 (53)の壁面(53a)は上記上面(52a)  
と直交する如く形成される。このため、上記溝(53)
は磁気記録媒体対接面に相当する面(58)側から見る
と矩形形状となる。
By the way, the above groove is formed by reactive ion etching (Reac
It is formed using a technique called tive ton etching (hereinafter abbreviated as RIE). As shown in FIG.
52) because it advances in the direction perpendicular to the upper surface (52a), so l
The wall surface (53a) of (53) is the above-mentioned upper surface (52a)
It is formed perpendicularly to the For this reason, the groove (53)
has a rectangular shape when viewed from the surface (58) corresponding to the surface facing the magnetic recording medium.

したがって、上記溝(53)内にスパンタリングにより
下部磁性膜(54)を充填した後、所定のコア厚になる
まで(第8図中Y−Y線まで)平面研削を行うと、この
研削面(56)には壁面(53a)に沿った空隙部(5
5)が残存する。この空隙部(55)は、壁面(53a
)のシャドウ効果によるものであり、溝(53)の深さ
すなわち下部磁性III(54)の膜厚とともに増大す
る傾向にある。
Therefore, after filling the groove (53) with the lower magnetic film (54) by sputtering, surface grinding is performed until a predetermined core thickness is achieved (up to the Y-Y line in FIG. 8). (56) has a gap (5) along the wall (53a).
5) remains. This cavity (55) has a wall surface (53a
), and tends to increase with the depth of the groove (53), that is, with the film thickness of the lower magnetic III (54).

このように、研削面(56)に空隙部(55)が露出す
ると、ごの研削面(56)に形成される絶縁膜、コイル
導体、上部磁性膜等のバターニング等に悪影響を及ぼし
、コイル導体の短絡あるいはトラック幅のバラツキ等を
引き起こし、歩留まりの低下、さらにはin変換特性や
信頼性の劣化の原因となる。
In this way, if the void (55) is exposed on the ground surface (56), it will adversely affect the patterning of the insulating film, coil conductor, upper magnetic film, etc. formed on the ground surface (56) of the iron, and the coil This causes a short circuit in the conductor or variations in track width, leading to a decrease in yield and further deterioration in in conversion characteristics and reliability.

かかる状況より本発明は提案されたものであり、隣接ト
ラックからのクロストークがなく、コイル導体や上部磁
性膜のパターニング精度が良好で、電磁変換特性や信卸
性に優れ、しかも歩留まりが良好な薄S磁気ヘッドの製
造方法を提供することを目的とする。
The present invention has been proposed under such circumstances, and has no crosstalk from adjacent tracks, good patterning accuracy of the coil conductor and upper magnetic film, excellent electromagnetic conversion characteristics and reliability, and a good yield. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a thin S magnetic head.

〔問題点を解決するための手段〕 上述の目的を達成するために、本発明は基板上にトラン
ク幅と等しい幅を有するトラック幅規制溝を反応性イオ
ンエツチングにより形成し、さらに、該トラ、り幅規制
溝の内側を壁面が傾斜面となるようなテーパーエツチン
グにより所定溝深さまでエツチングし、その後、下部磁
性膜を膜付けし、平面研削を施した後、コイル導体及び
上部磁性膜をフォトリソグラフィ技術により形成するこ
とを特徴とするものである。
[Means for solving the problem] In order to achieve the above-mentioned object, the present invention forms a track width regulating groove having a width equal to the trunk width on a substrate by reactive ion etching, and furthermore, the track width regulating groove has a width equal to the trunk width. The inner side of the width regulating groove is etched to a predetermined groove depth by taper etching so that the wall surface becomes an inclined surface. After that, a lower magnetic film is deposited and the surface is ground. After that, the coil conductor and upper magnetic film are photo-etched. It is characterized by being formed by lithography technology.

〔作用〕[Effect]

本発明では、基板上に反応性イオンエツチングで形成し
たトランク幅規制溝によって薄膜磁気ヘッドのトラック
幅を規制している。
In the present invention, the track width of the thin film magnetic head is regulated by trunk width regulating grooves formed on the substrate by reactive ion etching.

また、上記トランク幅規制溝の内側にテーパーエツチン
グを施し所定角度で傾斜する傾斜面を形成しているので
、下部磁性膜を形成する際に前記シャドウ効果が解消さ
れる。したがって、コイル導体や上部磁性膜等の形成面
に前記空隙部が残存することはない。
Further, since taper etching is performed on the inside of the trunk width regulating groove to form an inclined surface inclined at a predetermined angle, the shadow effect is eliminated when forming the lower magnetic film. Therefore, the void portion does not remain on the surface where the coil conductor, upper magnetic film, etc. are formed.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

本発明の製造方法により薄膜磁気ヘッドを製造するには
、先ず、第1図に示すように、基板(1)の−平面を被
覆する如く非石荘性膜(2)をスパッタリング法等の薄
膜形成技術により被着形成する。
To manufacture a thin film magnetic head by the manufacturing method of the present invention, first, as shown in FIG. Adhesion is formed using a forming technique.

上記基板(1)としては、Mn−ZnフェライトやNi
−Znフェライト等の強磁性酸化物基板やセラミックス
等の非磁性基板等が使用できる。
The substrate (1) is made of Mn-Zn ferrite or Ni.
- A ferromagnetic oxide substrate such as Zn ferrite, a non-magnetic substrate such as ceramics, etc. can be used.

また、上記非磁性膜(2)としては、SiOx。Further, the nonmagnetic film (2) is SiOx.

/l!z(h 、 ’l”az○6等の非磁性酸化物材
料が好適である。ここで、この非磁性膜(2)の膜厚a
は、後述の平面研削加工における削り代を考慮し、所定
のコア厚(下部磁性膜の膜厚)よりも若干厚く形成する
ことが好ましい。
/l! A non-magnetic oxide material such as z(h, 'l''az○6, etc. is suitable. Here, the film thickness a of this non-magnetic film (2)
is preferably formed to be slightly thicker than a predetermined core thickness (thickness of the lower magnetic film) in consideration of the cutting allowance in the surface grinding process described later.

次に、第2図に示すように、上記非磁性膜(2)に対し
てエツチングを施しトラック幅規制溝(3)を形成する
Next, as shown in FIG. 2, the nonmagnetic film (2) is etched to form track width regulating grooves (3).

上記トランク幅規制溝(3)は、磁気記録媒体対接面に
相当する面(4)近傍で、その壁面(3a) 、 (3
a)間の距離がヘッドとして設定されたトラック幅と等
しい幅Twとなるように形成する。また、上記トラック
幅規制溝(3)の溝深さbは、大きすぎると前述のシャ
ドウ効果により下部磁性膜の形成時にa(3)内に空隙
部が生じ、逆に小さすぎると後述の平面研削の加工精度
を確保することが難しく、好ましくは2〜3μm程度に
設定すると良い。
The trunk width regulating groove (3) is located near the surface (4) corresponding to the surface facing the magnetic recording medium, and the wall surfaces (3a), (3)
a) It is formed so that the distance between them has a width Tw that is equal to the track width set as the head. In addition, if the groove depth b of the track width regulating groove (3) is too large, a gap will be created in a (3) during formation of the lower magnetic film due to the above-mentioned shadow effect; It is difficult to ensure the accuracy of grinding, so it is preferably set to about 2 to 3 μm.

また、上記エツチング方法としては、反応性イオンエツ
チング法が好ましく、エツチングが非磁性膜(2)の上
面(2a)に対して直交方向に進行するように上記トラ
ック幅規制溝(3)を形成する。すなわち、この溝(3
)によりトラック幅規制を行うので、壁面(3a)が上
面(2a)に対して傾斜する傾斜面となるとトランク幅
にバラツキを生じ好ましくない。
Further, as the etching method, a reactive ion etching method is preferable, and the track width regulating groove (3) is formed so that the etching proceeds in a direction perpendicular to the upper surface (2a) of the non-magnetic film (2). . In other words, this groove (3
) to regulate the track width, so if the wall surface (3a) becomes an inclined surface that is inclined with respect to the upper surface (2a), this will cause variations in the trunk width, which is not preferable.

続いて、第3図に示すように、上記トラック幅規制溝(
3)の内側数μmのところより、所定の溝深さまでテー
パーエツチングを施し上記1(3)の内側に所定角度で
傾斜する傾斜面(5)を形成する。
Next, as shown in FIG. 3, the track width regulating groove (
Taper etching is performed to a predetermined groove depth from a few micrometers inside 3) to form an inclined surface (5) inclined at a predetermined angle on the inside of 1(3).

そして、この傾斜面(5)と上記壁面(3a)とで構成
される溝(6)が下部磁性膜形成用の溝となる。ここで
、上記テーパーエツチングの手法としては、異方性に優
れた例えばイオンエツチング法が挙げられる。
The groove (6) formed by this inclined surface (5) and the wall surface (3a) becomes a groove for forming the lower magnetic film. Here, examples of the above-mentioned taper etching method include, for example, an ion etching method which has excellent anisotropy.

なお、上記テーパーエツチング加工の際に、基板(1)
力〈オーバーエツチングされないように、予め基板(1
)と非磁性膜(2)との間に非磁性膜(2)とのエツチ
ング比(選択比)が大きい例えばCr膜を介在させても
良い。
In addition, during the taper etching process described above, the substrate (1)
(To prevent over-etching, the substrate (1
) and the nonmagnetic film (2), for example, a Cr film having a high etching ratio (selectivity) to the nonmagnetic film (2) may be interposed.

さらに、第4図に示すように、上記下部磁性膜形成用溝
(6)を含む非磁性11!J (2)の全面に亘って下
部磁性膜(7)を被着形成する。
Furthermore, as shown in FIG. 4, a non-magnetic film 11 including the groove (6) for forming the lower magnetic film is added. A lower magnetic film (7) is deposited over the entire surface of J (2).

上記下部磁性膜(7)としては、強磁性非晶質合金いわ
ゆる強磁性アモルファス合金、Fe−Aβ−3i系合金
、Fe−Ni系合金、Fe−Affi系合金、Fe−3
i系合金、Fe−5i−Co系合金等の強磁性金属材料
が使用可能であり、その膜付は方法としては、スパッタ
リング法、真空芸着法、イオンブレーティング法、クラ
スター・イオンビーム法等に代表される真空薄膜形成技
術が採用される。
The lower magnetic film (7) is made of a ferromagnetic amorphous alloy, a so-called ferromagnetic amorphous alloy, a Fe-Aβ-3i alloy, a Fe-Ni alloy, a Fe-Affi alloy, an Fe-3
Ferromagnetic metal materials such as i-based alloys and Fe-5i-Co-based alloys can be used, and the methods for forming the film include sputtering method, vacuum technique, ion blating method, cluster ion beam method, etc. Vacuum thin film formation technology represented by is adopted.

ここで、上記下部磁性膜形成用溝(6)は、その上・瑞
が所定のトラック幅Twを以て非磁性膜(2)の上面に
直交するように形成されているものの、その下端(深層
部)が内側に傾斜する傾斜面(5)により構成されてい
るので、上述の″i′R膜形成技術により下部磁性膜(
7)を被着しても、前記シャドウ効果が解消されこの溝
(6)内に空隙部が生しることがなくなる。
Here, the lower magnetic film forming groove (6) is formed such that its upper groove is perpendicular to the upper surface of the non-magnetic film (2) with a predetermined track width Tw; ) is composed of an inwardly inclined inclined surface (5), the lower magnetic film (
Even if 7) is applied, the shadow effect is eliminated and no voids are created in the groove (6).

次いで、第5図に示すように、上記下部磁性膜(7)に
対して上記非磁性膜(2)が露出し、所望のコア厚とな
るまで平面研削を施す。なお、上記平面研削は、上記ト
ラック幅規制溝(3)の溝深さすなわち壁面(3a)の
範囲内を終点とする。
Next, as shown in FIG. 5, surface grinding is performed until the non-magnetic film (2) is exposed to the lower magnetic film (7) and a desired core thickness is obtained. Note that the surface grinding ends at the groove depth of the track width regulating groove (3), that is, within the range of the wall surface (3a).

この結果、上記下部磁性膜(7)は上記a(6)内に埋
め込まれた部分のみが残存し、また上面(8)にはトラ
ック幅規制溝(3)で規制された下部磁性膜(7)が露
出する。さらに、上記上面(8)は平面研削により形成
されるので、平坦性、平滑性に優れたものとなる。
As a result, only the portion of the lower magnetic film (7) buried in the a(6) remains, and the lower magnetic film (7) regulated by the track width regulating groove (3) remains on the upper surface (8). ) is exposed. Furthermore, since the upper surface (8) is formed by surface grinding, it has excellent flatness and smoothness.

次いで、第6図に示すように、上記上面(8)にコイル
導体(11)、引き出し電極(13) 、上部磁性膜(
14)をktllFJ(10) 、 (12) ’c介
L Tlllfi次積層L、(n気回路部を形成する。
Next, as shown in FIG. 6, a coil conductor (11), an extraction electrode (13), and an upper magnetic film (
14) ktllFJ (10), (12) 'c through L Tlllfi next lamination L, (n form the circuit part.

この第6図は第5図中X−X線位置における電磁変換部
形成後の断面図である。
This FIG. 6 is a sectional view taken along the line X--X in FIG. 5 after the electromagnetic transducer is formed.

上記磁気回路部としては、従来公知の構造及び製造方法
が採用できる。なお、第6図には、コイル4体(11)
の巻線構造がスパイラル3ターンの単層構造のヘッドを
示す。
As the magnetic circuit section, conventionally known structures and manufacturing methods can be adopted. In addition, in Fig. 6, four coils (11) are shown.
The head has a single-layer structure with a three-turn spiral winding structure.

このように、コイル導体(11)や上部磁性膜(14)
が平坦な上面(8)に形成されるので、これらのバター
ニング精度は格段に向上する。したがって、コイル導体
(11)の短絡等がなくなり歩留まりが向上するととも
に、ヘッドの信頼性や電磁変換特性も大幅に向上する。
In this way, the coil conductor (11) and the upper magnetic film (14)
Since these are formed on the flat upper surface (8), the accuracy of patterning them is greatly improved. Therefore, short circuits and the like of the coil conductor (11) are eliminated, and the yield is improved, and the reliability and electromagnetic conversion characteristics of the head are also significantly improved.

また、薄膜磁気ヘッドとしてのトランク幅は、溝(6)
に充填された下部磁性膜(7)によって精度良く規制さ
れているので、良好な記録再生特性が得られる。
Also, the trunk width as a thin film magnetic head is the groove (6).
Since the magnetic field is precisely regulated by the lower magnetic film (7) filled in the magnetic field, good recording and reproducing characteristics can be obtained.

さらに、図示してないが、通常は上述のコイル導体(1
1)や上部磁性tt9(14)等により構成される磁気
回路部を保護し、磁気記録媒体に対する当たりを確保す
るために、上記上部磁性膜(14)上に非磁性材よりな
る保護膜を被着形成後、セラミック等よりなる保護板を
ガラス等の接着材を用いて融着接合する。最後に、磁気
記録媒体との摺接を賄保し、所定のデプス長を得るため
に、CR磁気記録媒体対接面相当する面(4)に対して
円筒研磨を施し、薄膜磁気ヘッドを完成する。
Furthermore, although not shown, the above-mentioned coil conductor (1
1), the upper magnetic tt9 (14), etc., and to ensure contact with the magnetic recording medium, a protective film made of a non-magnetic material is coated on the upper magnetic film (14). After forming the adhesive, a protective plate made of ceramic or the like is fused and bonded using an adhesive such as glass. Finally, in order to ensure sliding contact with the magnetic recording medium and obtain a predetermined depth length, cylindrical polishing was performed on the surface (4) corresponding to the surface facing the CR magnetic recording medium, completing the thin film magnetic head. do.

以上により作製された薄膜磁気ヘッドの磁気記録媒体対
接面の拡大平面図を第7図に示す。なお、この第7図に
おいては、保護板(17)を接着材(16)で接合した
薄膜磁気ヘッドを示す。
FIG. 7 shows an enlarged plan view of the magnetic recording medium contacting surface of the thin film magnetic head fabricated as described above. Note that FIG. 7 shows a thin film magnetic head in which a protective plate (17) is bonded with an adhesive (16).

この第7図より明らかなように、本発明により作製され
る薄膜は気ヘッドは、トラック幅Twがトラック幅規制
溝(3)の壁面(3a)によって規制された構造をして
いる。したがって、本発明をマルチチャンネルの1膜磁
気ヘツドに適用した場合には、隣接トラックからのクコ
ストークによる擬似信号が改善され、記録再生特性が大
幅に改善され以上、本発明の一実施例について説明した
が、本発明が上述の実施例に限定されるものではないこ
というまでもない。
As is clear from FIG. 7, the thin film head produced according to the present invention has a structure in which the track width Tw is regulated by the wall surface (3a) of the track width regulating groove (3). Therefore, when the present invention is applied to a multi-channel single-film magnetic head, the pseudo signals caused by the cocoon talk from adjacent tracks are improved, and the recording and reproducing characteristics are greatly improved. However, it goes without saying that the present invention is not limited to the above-described embodiments.

例えば、基板(1)にセラミックス等よりなる非磁性基
板を用いた場合には、必ずしもこの基板(1)上に非磁
性rf3.(2)を形成し、この非磁性膜(2)に対し
て下部磁性膜形成用溝(6)を形成する必要はない。す
なわち、非磁性基板に直接RIEを施しトラック幅規制
溝を形成した後、先の実施例と同様に上記トランク幅規
制溝の内側に所定溝深さまでテーパーエツチングを施し
て下部磁性膜形成用溝を形成しても良い。このように非
磁性基板に直接下部磁性膜形成用溝を形成しても先の実
、悔例と同様の作用・効果を有することはいうまでもな
い。
For example, if a non-magnetic substrate made of ceramics or the like is used as the substrate (1), the non-magnetic rf3. (2), and it is not necessary to form the lower magnetic film forming groove (6) in this nonmagnetic film (2). That is, after directly performing RIE on the non-magnetic substrate to form a track width regulating groove, taper etching is performed on the inside of the trunk width regulating groove to a predetermined depth to form a groove for forming a lower magnetic film, as in the previous embodiment. It may be formed. It goes without saying that even if the groove for forming the lower magnetic film is formed directly on the nonmagnetic substrate in this way, the same operation and effect as in the previous example can be obtained.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上の説明からも明らかなように、本発明の製造方法に
よれば、基板に所定溝深さのトラック幅規i11溝をR
(Bで形成した後、この溝の内側に璧面が傾斜面となる
ようなテーパーエツチングを施すことにより下部磁性膜
形成用の溝を形成しているので、薄膜形成技術にて下部
磁性膜を被着しても、上記下部磁性膜形成溝内に空隙部
が残存することはなくなる。したがって、コイル導体や
上部磁性膜等の形成面は平坦性、平滑性に優れたものと
なり、これらコイル導体や上部磁性膜のバターニング精
度が大幅に向上し、歩留まりの向上が図れる。また、電
磁変換特性や信頼性に優れた薄膜磁気ヘッドが提供でき
る。
As is clear from the above description, according to the manufacturing method of the present invention, the track width standard i11 groove with a predetermined groove depth is formed on the substrate in R.
(After forming B, the groove for forming the lower magnetic film is formed by performing taper etching on the inside of this groove so that the perfect surface becomes an inclined surface. Therefore, the lower magnetic film is formed using thin film forming technology. Even if the film is coated, no voids will remain in the lower magnetic film forming groove.Therefore, the surfaces on which the coil conductor, upper magnetic film, etc. are formed will have excellent flatness and smoothness, and these coil conductors The patterning accuracy of the upper magnetic film is greatly improved, and the yield can be improved.Furthermore, a thin film magnetic head with excellent electromagnetic conversion characteristics and reliability can be provided.

特に本発明は、マルチチャンネルの1M磁気ヘッドの製
造方法に好適であり、隣接トランクからのクロストーク
による擬似信号が改善され、良好な記録再生特性が得ら
れる。
Particularly, the present invention is suitable for a method of manufacturing a multi-channel 1M magnetic head, which improves pseudo signals due to crosstalk from adjacent trunks and provides good recording and reproducing characteristics.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図ないし第6図は本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方
法をその工程に従って示すもので、第1図は非磁性膜形
成工程を示す斜視図、第2図はトランク幅規制溝形成工
程を示す斜視図、第3図はテーパーエツチング工程を示
す斜視図、第4図は下部磁性膜形成工程を示す斜視図、
第5図は平面研削工程を示す斜視図、第6図はコイル導
体及び上部磁性膜形成工程を示す要部断面図である。 第7図は本発明により作製された薄膜磁気ヘッドを示す
正面図である。 第8図は従来の製造方法における下部磁性膜形成工程を
示す要部断面図である。 1・・・・・・基板 2・・・・・・非磁性膜 3・・・・・・トラック幅規制溝 3a・・・・・壁面 5・・・・・・傾斜面 7・・・・・・下部磁性膜 11・・・・・コイル導体 13・・・・・引き出し電極 14・・・・・上部磁性膜 第1図 トラック何4燭0反41テ4六工程 第2図 巳と一ノ1″−二)−ラ一〉プエネ11第3図 第4図 8フ X!−面圧叫」工程 第5図 コイl乙4に本11乙゛=部右4混左斥陰守父を工〒1
品! /′  1 、本俗昭j二よ1刃乍友されたj(7)莞慮へ・ノドめ
正面図第7図 徒 采 夕J
1 to 6 show the manufacturing method of a thin film magnetic head according to the present invention according to its steps. FIG. 1 is a perspective view showing the nonmagnetic film forming step, and FIG. 2 is a perspective view showing the trunk width regulating groove forming step. 3 is a perspective view showing the taper etching process, FIG. 4 is a perspective view showing the lower magnetic film forming process,
FIG. 5 is a perspective view showing the surface grinding process, and FIG. 6 is a sectional view of a main part showing the coil conductor and upper magnetic film forming process. FIG. 7 is a front view showing a thin film magnetic head manufactured according to the present invention. FIG. 8 is a cross-sectional view of a main part showing a step of forming a lower magnetic film in a conventional manufacturing method. 1...Substrate 2...Nonmagnetic film 3...Track width regulating groove 3a...Wall surface 5...Slope surface 7... ... Lower magnetic film 11 ... Coil conductor 13 ... Extraction electrode 14 ... Upper magnetic film Fig. 1 Track number 4 candle 0 anti 41 Te 46 Process Fig. 2 No 1''-2) - La 1〉 Puene 11 Fig. 3 Fig. 4 Fig. 8 F 〒1
Goods! /' 1, Honzoku Shojiyo was a friend of one blade (7) To Kanai, the front view of the throat Figure 7.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 基板上にトラック幅と等しい幅を有するトラック幅規制
溝を反応性イオンエッチングにより形成し、 さらに、該トラック幅規制溝の内側を壁面が傾斜面とな
るようなテーパーエッチングにより所定溝深さまでエッ
チングし、 その後、下部磁性膜を膜付けし、平面研削を施し後、コ
イル導体及び上部磁性膜をフォトリソグラフィ技術によ
り形成することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法
[Claims] A track width regulating groove having a width equal to the track width is formed on the substrate by reactive ion etching, and the inner side of the track width regulating groove is tapered etched so that the wall surface becomes an inclined surface. A method for manufacturing a thin-film magnetic head, comprising etching the groove to a predetermined depth, then depositing a lower magnetic film, surface grinding, and then forming a coil conductor and an upper magnetic film by photolithography.
JP14963186A 1986-06-27 1986-06-27 Manufacture of thin film magnetic head Pending JPS637508A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01106308A (en) * 1987-10-20 1989-04-24 Sanyo Electric Co Ltd Thin film magnetic head

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01106308A (en) * 1987-10-20 1989-04-24 Sanyo Electric Co Ltd Thin film magnetic head

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