JPS62164203A - Production of thin film magnetic head - Google Patents
Production of thin film magnetic headInfo
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- JPS62164203A JPS62164203A JP469286A JP469286A JPS62164203A JP S62164203 A JPS62164203 A JP S62164203A JP 469286 A JP469286 A JP 469286A JP 469286 A JP469286 A JP 469286A JP S62164203 A JPS62164203 A JP S62164203A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、基板上に下部磁性膜、コイル導体。[Detailed description of the invention] [Industrial application field] The present invention includes a lower magnetic film and a coil conductor on a substrate.
上部磁性膜及び絶縁膜等を積層形成してなる薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法に関する。The present invention relates to a method of manufacturing a thin film magnetic head formed by laminating an upper magnetic film, an insulating film, etc.
本発明は、薄膜磁気ヘッドを製造するに際し、先ず、基
板上に金属膜及び非磁性酸化物膜を順次積層し、上記非
磁性酸化物膜にトラック幅と等しい幅を有する溝を形成
し、さらに全面に下部磁性膜を被着し、上記非磁性酸化
物膜が露出するまで平面研削を行いトラック幅規制をし
た後、コイル導体及び上部磁性膜をフォトリソグラフィ
技術により形成することにより、
コイル導体や上部磁性膜のバターニング精度に優れ、電
磁変換特性に優れた薄膜磁気ヘットを製造しようとした
ものである。In manufacturing a thin film magnetic head, the present invention first sequentially stacks a metal film and a nonmagnetic oxide film on a substrate, forms a groove having a width equal to the track width in the nonmagnetic oxide film, and then After depositing a lower magnetic film on the entire surface and regulating the track width by surface grinding until the non-magnetic oxide film is exposed, the coil conductor and upper magnetic film are formed by photolithography. This was an attempt to manufacture a thin film magnetic head with excellent patterning accuracy of the upper magnetic film and excellent electromagnetic conversion characteristics.
磁気記録の分野においては、高密度記録化に伴い磁気記
録媒体は高抗磁力化の方向にあり、記録再生波長も短波
長化の一途をたどっている。したがって、磁気ヘッドに
おいても高飽和磁束密度を有するコア材を用い、また狭
ギャップ化を進める等、上述の高密度記録化への対応を
図っている。In the field of magnetic recording, magnetic recording media are trending toward higher coercive force as recording density increases, and recording and reproducing wavelengths are also becoming shorter. Therefore, efforts are being made to respond to the above-mentioned high-density recording by using a core material with a high saturation magnetic flux density in magnetic heads, and by narrowing the gap.
かかる状況から、薄膜形成技術により形成される薄膜磁
気ヘッドが開発され実用化されていることは周知である
。特に、複数個のトランクを有する、いわゆるマルチチ
ャンネルの薄膜磁気ヘッドが注目されている。Under such circumstances, it is well known that thin film magnetic heads formed by thin film forming techniques have been developed and put into practical use. In particular, so-called multi-channel thin film magnetic heads having a plurality of trunks are attracting attention.
従来、上述の薄膜磁気ヘッドは、例えばＭ ｎ −Ｚｎ
フェライト等よりなる平坦な基板上に下部磁性膜を形成
し、さらにこの下部磁性膜上に絶縁膜を介してコイル導
体及び上部磁性膜をフォトリソグラフィ技術を用いて順
次積層形成することにより作製され、上記下部磁性膜と
上部磁性膜との共働により閉磁路を形成し、記録・再生
が行われるように構成されている。Conventionally, the above-mentioned thin film magnetic head has, for example, M n -Zn
It is manufactured by forming a lower magnetic film on a flat substrate made of ferrite or the like, and then sequentially layering a coil conductor and an upper magnetic film on this lower magnetic film via an insulating film using photolithography technology. The lower magnetic film and the upper magnetic film cooperate to form a closed magnetic path to perform recording and reproduction.
ところで、上記薄膜磁気ヘッドにおいては、トラック幅
の規制を上部磁性膜あるいは下部磁性膜のバターニング
により行っているが、種々の改良点が残されている。Incidentally, in the thin film magnetic head described above, the track width is regulated by patterning the upper magnetic film or the lower magnetic film, but various improvements remain.
すなわち、上述のトランク幅規制を上部磁性膜で行った
場合には、上記上部磁性膜はトラック幅と一致するよう
に分断されているのに対して、下部磁性膜は共通な一連
の膜付けで形成される。したがって、マルチチャンネル
の薄膜磁気ヘッドにおいては、下部磁性膜が各チャンネ
ルに共通であることに起因し、オフトランク時のクロス
ト−りが問題となっている。これは、トラック形成部以
外の下部磁性膜からの信号の再生（いわゆる擬似信号）
によるものである。In other words, when the above-mentioned trunk width regulation is performed by the upper magnetic film, the upper magnetic film is divided to match the track width, whereas the lower magnetic film is formed by a common series of films. It is formed. Therefore, in a multi-channel thin film magnetic head, the problem of off-trunk crosstalk arises because the lower magnetic film is common to each channel. This is the reproduction of the signal from the lower magnetic film other than the track forming part (so-called pseudo signal).
This is due to
このクロストークによる擬似信号は、ビデオフロッピー
等のアナログ信号の記録再生には余り影響がないものの
、フロッピーディスク等のデジタル信号の記録再生にお
いては、エラーレイトの劣化をもたらす。Although this pseudo signal due to crosstalk does not have much effect on recording and reproducing analog signals such as video floppies, it causes a deterioration of the error rate when recording and reproducing digital signals such as floppy disks.
一方、上記トラック幅規制を下部磁性膜で行う方法もあ
るが、この場合には、下部磁性膜形成後の各トラック間
の段差が大きなものとなってしまう。このため、コイル
導体や上部磁性膜のバターニングの際に、レジストの塗
布厚にバラツキが生じ、精度良くバターニングできない
。場合によっては、上記コイル導体が短絡したり、トラ
・７り間に入り込んだレジストが残存してしまう。した
がって、電磁変換特性や信頼性の点で問題がある。On the other hand, there is a method in which the above-mentioned track width regulation is performed using a lower magnetic film, but in this case, the difference in level between each track after the lower magnetic film is formed becomes large. For this reason, when patterning the coil conductor and the upper magnetic film, variations occur in the coating thickness of the resist, making it impossible to pattern with high precision. In some cases, the coil conductor may be short-circuited, or the resist that has entered between the grooves and grooves may remain. Therefore, there are problems in terms of electromagnetic conversion characteristics and reliability.
そこで、本発明は上述の事情に鑑みて提案されたもので
あり、隣接トラックからのクロストークが低減でき、し
かもコイル導体や上部磁性膜のバターニング精度に優れ
、電磁変換特性が良好な薄膜磁気ヘッドの製造方法を提
供することを目的とする。Therefore, the present invention has been proposed in view of the above circumstances, and is a thin film magnetic material that can reduce crosstalk from adjacent tracks, has excellent patterning accuracy of the coil conductor and upper magnetic film, and has good electromagnetic conversion characteristics. The object of the present invention is to provide a method for manufacturing a head.
上述の目的を達成するために、本発明は基板上に金属膜
及び非磁性酸化物膜をこの順に膜付けし、前記非磁性酸
化物膜にトラック幅と等しい幅を有する溝を形成し、全
面に下部磁性膜を膜付けし、前記非磁性酸化物が露出す
るまで平面研削を行った後、コイル導体及び上部磁性膜
をフォトリソグラフィ技術により形成することを特徴と
するものである。In order to achieve the above object, the present invention forms a metal film and a non-magnetic oxide film on a substrate in this order, forms a groove having a width equal to the track width in the non-magnetic oxide film, and forms a groove on the entire surface. The present invention is characterized in that a lower magnetic film is deposited on the lower magnetic film, surface grinding is performed until the non-magnetic oxide is exposed, and then a coil conductor and an upper magnetic film are formed by photolithography.
基板上の非磁性酸化物膜に形成される溝によりトランク
幅を規制し、この溝を含む非磁性酸化物膜の全面に下部
磁性膜を膜付けし、さらに平面研削を施し平坦面とした
後、コイル導体や上部磁性膜を形成しているので、上記
下部磁性膜は各トラック間で独立して形成され、クロス
トークの影響が低減される。同時に、上記平坦面上にコ
イル導体及び上部磁性膜を形成することになり、上記コ
イル導体や上部磁性膜のパターニング精度が向上する。The trunk width is regulated by grooves formed in the non-magnetic oxide film on the substrate, a lower magnetic film is applied to the entire surface of the non-magnetic oxide film including the grooves, and the surface is ground to make it a flat surface. Since the coil conductor and the upper magnetic film are formed, the lower magnetic film is formed independently between each track, and the influence of crosstalk is reduced. At the same time, the coil conductor and the upper magnetic film are formed on the flat surface, improving the patterning accuracy of the coil conductor and the upper magnetic film.
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明
するが、本発明がこの実施例に限定されるものでないこ
とは言うまでもない。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings, but it goes without saying that the present invention is not limited to these embodiments.
本発明の製造方法で薄膜磁気ヘッドを製造するには、先
ず、第１図に示すように、基板（１）の一平面を被覆す
るする如く金属膜（２）をスパッタリング法等の薄膜形
成技術を用いて形成し、同様の手法にてこの金属膜（２
）上に非磁性酸化物膜（３）を被着形成する。To manufacture a thin film magnetic head using the manufacturing method of the present invention, first, as shown in FIG. This metal film (2
) A non-magnetic oxide film (3) is deposited on the surface.
上記基板（１）としては、Ｍ ｎ−Ｚ ｎフェライトや
Ｎｉ−Ｚｎフェライト等の強磁性酸化物基板やセラミッ
ク等の非磁性基板等が使用できる。As the substrate (1), a ferromagnetic oxide substrate such as Mn-Zn ferrite or Ni-Zn ferrite, a non-magnetic substrate such as ceramic, etc. can be used.
また、上記基板（１）上に形成される金属膜（２）の材
料としては、
■この金属膜（２）のエツチング速度Ａと後述の非磁性
酸化物膜（３）のエツチング速度Ｂとの選択比が大きい
こと（好ましくはＡ／Ｂ＝１１５０以下）、
１基板（１）との密着性が優れていること、等の条件を
満たすものが使用され、例えばＣｒ膜が挙げられる。In addition, the material of the metal film (2) formed on the substrate (1) is as follows: A material that satisfies conditions such as a high selection ratio (preferably A/B = 1150 or less) and excellent adhesion to the substrate (1) is used, such as a Cr film.
さらに、上記金属膜（２）上に被着形成される非磁性酸
化物膜（３）の材料としては、例えばＳｉＯ□。Furthermore, the material of the non-magnetic oxide film (3) deposited on the metal film (2) is, for example, SiO□.
Ａ １１２ｏｚ 、 Ｔ ａ ｚｏｓ等の非磁性材料が
使用され、この膜厚ａは所望のコア厚よりも若干大きく
形成することが好ましい。A nonmagnetic material such as A 112 oz or Ta zos is used, and the film thickness a is preferably formed to be slightly larger than the desired core thickness.
次に、第２図に示すように、上記非磁性酸化物膜（３）
に対してエツチングを施し所望のコア形状の溝（４）を
形成する。上記エツチング方法としては、反応性イオン
エツチング（Ｒｅａｃｔｉｖｅ Ｉｏｎ Ｅｔｃｈｉｎ
ｇ）が好ましく、上記金属膜（２）と非磁性酸化物膜（
３）との選択比が大きいことより、基板（１）がオーバ
ーエツチングされることなく精度良く溝（４）が形成さ
れる。ここで、上記溝（４）は、磁気記録媒体対接面に
対応する面（１ａ）側に、所望のトランク幅と等しい幅
ＴＷを有するように形成する。Next, as shown in FIG. 2, the non-magnetic oxide film (3)
A groove (4) having a desired core shape is formed by etching. As the above etching method, reactive ion etching (Reactive Ion Etching) is used.
g) is preferred, and the metal film (2) and the nonmagnetic oxide film (
3), the grooves (4) can be formed with high accuracy without over-etching the substrate (1). Here, the groove (4) is formed on the surface (1a) side corresponding to the surface facing the magnetic recording medium so as to have a width TW equal to the desired trunk width.
続いて、第３図に示すように、上記溝（４）を含む非磁
性酸化物膜（３）の全面に下部磁性膜（５）を被着形成
する。Subsequently, as shown in FIG. 3, a lower magnetic film (5) is deposited on the entire surface of the non-magnetic oxide film (3) including the groove (4).
上記下部磁性膜（５）の材料としては、強磁性非晶質金
属合金いわゆるアモルファス合金、Ｆｅ−Ａ＋２−３ｉ
系合金であるセンダスト、ＦＱ−Ｎｉ系合金であるパー
マロイ、Ｆｅ−Ａβ系合金、Ｆｅ−３ｉ系合金、Ｆｅ−
３ｉ−Ｃｏ系合金等の強磁性金属材料が使用可能であり
、その膜付は方法としては、フラッシュ蒸着法、真空蒸
着法、イオンブレーティング法、スパッタリング法、ク
ラスクー・イオンビーム法等に代表される真空薄膜形成
技術が採用される。また、この下部磁性膜（５）の膜厚
すは、上記溝（４）の深さａの２倍程度形成することが
好ましい。この結果、上記溝（４）内には上記下部磁性
体（５）が充填されることになる。The material of the lower magnetic film (5) is a ferromagnetic amorphous metal alloy, a so-called amorphous alloy, Fe-A+2-3i
Sendust is a type alloy, permalloy is a FQ-Ni type alloy, Fe-Aβ type alloy, Fe-3i type alloy, Fe-
Ferromagnetic metal materials such as 3i-Co alloys can be used, and methods for depositing the film include flash evaporation, vacuum evaporation, ion blating, sputtering, and Clask ion beam methods. Vacuum thin film formation technology will be adopted. The thickness of the lower magnetic film (5) is preferably about twice the depth a of the groove (4). As a result, the groove (4) is filled with the lower magnetic body (5).
さらに、第４図に示すように、上記下部磁性膜（５）に
対して、上記非磁性酸化物膜（３）が露出し、所望のコ
ア厚となるまで平面研削を施す。Furthermore, as shown in FIG. 4, surface grinding is performed on the lower magnetic film (5) until the non-magnetic oxide film (3) is exposed and a desired core thickness is obtained.
したがって、所定のコア形状の下部磁性膜（５）と非磁
性酸化物膜（３）とで構成される上面（６）は平面性に
優れたものとなる。この平面研削により、上記下部磁性
体（５）は上記溝（４）内に埋め込まれる部分のみが残
存することになる。Therefore, the upper surface (6) composed of the lower magnetic film (5) having a predetermined core shape and the nonmagnetic oxide film (3) has excellent planarity. By this surface grinding, only the portion of the lower magnetic body (5) that is embedded in the groove (4) remains.
次いで、下部磁性膜（５）と非磁性酸化物膜（３）とで
なる上面（６）上に、第５図に示すように、コイル導体
（９）、引き出し電極（１１）、上部磁性膜（１２）を
絶縁膜（８） 、 （１０）を介して順次積層し、磁気
回路部を形成する。なお、第５図は第４図Ｘ−Ｘ線位置
における断面図である。Next, on the upper surface (6) consisting of the lower magnetic film (5) and the non-magnetic oxide film (3), as shown in FIG. (12) are sequentially laminated with insulating films (8) and (10) interposed therebetween to form a magnetic circuit section. Note that FIG. 5 is a sectional view taken along the line XX in FIG. 4.
上記コイル導体（９）、引き出し電極（ＩＩＬ上部磁性
膜（２）及び絶縁膜（８） 、 （１０）は、フォトリ
ソグラフィ技術等の半導体製造プロセスで形成する。The coil conductor (9), the extraction electrode (IIL upper magnetic film (2), and the insulating films (8) and (10) are formed by a semiconductor manufacturing process such as photolithography technology.
すなわち、上記コイル導体（９）及び引き出し電極（１
１）は、ＣｕやＡＮ等の導電金属材料を上記上面（６）
の全面にスパッタリング等で被着した後、所定形状にパ
ターンエツチングして形成する。そして、上記コイル導
体（９）と引き出し電極（１１）とは、コンタクト窓（
１３）を介して電気的に導通させる。なお、本実施例で
はこのコイル導体（９）の巻線構造をスパイラル３ター
ン構造としたが、本発明はこれに限定されずスパイラル
多層型、多層ヘリカル型、ジグザグ型５等如何なる巻線
構造であっても良い。That is, the coil conductor (9) and the extraction electrode (1
1) A conductive metal material such as Cu or AN is applied to the upper surface (6).
After coating the entire surface by sputtering or the like, pattern etching is performed to form a predetermined shape. The coil conductor (9) and the extraction electrode (11) are connected to the contact window (
13) for electrical continuity. In this embodiment, the coil conductor (9) has a three-turn spiral winding structure, but the present invention is not limited to this, and any winding structure such as a spiral multilayer type, multilayer helical type, zigzag type, etc. It's okay to have one.
このように、コイル導体（９）は平坦な上面（６）上に
形成されるので、上述のパターンエツチングにおいて、
レジストが均一に塗布されるので、露光条件や現像条件
を緩く設定してもパターニング精度が大幅に向上し、導
体間の短絡が防止できる。In this way, since the coil conductor (9) is formed on the flat upper surface (6), in the pattern etching described above,
Since the resist is applied uniformly, patterning accuracy is greatly improved even if exposure and development conditions are set loosely, and short circuits between conductors can be prevented.
また、上記上部磁性膜（１２）は、前述の下部磁性膜（
５）と同様の材料及び方法が採用でき、強磁性金属材料
を被着形成した後、所定形状にパターンエツチングして
形成する。この場合にも、下部磁性膜による段差が全く
ないので、精度良くパターニングすることができるとと
もに、内部応力が減少する。したがって、電磁変換特性
に優れた薄膜磁気ヘッドとなる。なお、トランク幅規制
は下部磁性膜（５）により精度良く行われているので、
上記上部磁性膜（１２）のパターンエツチングの条件を
緩く設定しても（少なくともトラック幅よりも大きくす
る必要がある。）、良好な記録再生特性が得られるとい
う利点もある。Further, the upper magnetic film (12) is formed of the lower magnetic film (12) as described above.
The same materials and methods as in 5) can be used, and after a ferromagnetic metal material is deposited and formed, a pattern is etched into a predetermined shape. In this case as well, since there is no step difference due to the lower magnetic film, patterning can be performed with high precision and internal stress can be reduced. Therefore, a thin film magnetic head with excellent electromagnetic conversion characteristics is obtained. Note that the trunk width is precisely regulated by the lower magnetic film (5), so
Even if the pattern etching conditions of the upper magnetic film (12) are set loosely (need to be at least larger than the track width), there is also the advantage that good recording and reproducing characteristics can be obtained.
さらに、通常は上述のコイル導体（９）や上部磁性膜（
１２）等により構成される磁気回路部を保護し、磁気記
録媒体に対する当たりを確保するために、上記上部磁性
膜（１２）上に非磁性材よりなる保護膜を被着形成後、
セラミック等よりなる保護板をガラス等の接着材を用い
て融着接合する。さらに、磁気記録媒体との摺接を確保
し、所定のデプス長を得るために、磁気記録媒体対接面
に対応する面（１ａ）対して円筒研磨を施す。Furthermore, the above-mentioned coil conductor (9) and upper magnetic film (
After forming a protective film made of a non-magnetic material on the upper magnetic film (12) in order to protect the magnetic circuit section constituted by 12) etc. and ensure contact with the magnetic recording medium,
A protective plate made of ceramic or the like is fused and bonded using an adhesive such as glass. Furthermore, in order to ensure sliding contact with the magnetic recording medium and obtain a predetermined depth length, cylindrical polishing is performed on the surface (1a) corresponding to the surface in contact with the magnetic recording medium.
以上により作製された薄膜磁気ヘットの磁気記録媒体対
接面の拡大平面図を第６図に示す。なお、この第６図に
おいては、保護板（１７）を接着材（１６）で接合した
薄膜磁気ヘッドについて示す。FIG. 6 shows an enlarged plan view of the magnetic recording medium contacting surface of the thin film magnetic head fabricated as described above. Note that FIG. 6 shows a thin film magnetic head in which a protective plate (17) is bonded with an adhesive (16).
この第６図より明らかなように、本発明により作製され
る薄膜磁気ヘッドは、トラック幅Ｔｗが下部磁性膜（５
）により規制されている。このため、特にマルチチャン
ネルの薄膜磁気ヘッドに適用した場合には、隣接トラッ
クからのクロストークによる１疑似信号が改善され、記
録再生特性が大幅に改善される。As is clear from FIG. 6, the thin film magnetic head manufactured according to the present invention has a track width Tw of the lower magnetic film (5
) is regulated by Therefore, especially when applied to a multi-channel thin film magnetic head, one false signal due to crosstalk from adjacent tracks is improved, and the recording and reproducing characteristics are significantly improved.
以上の説明からも明らかなように、本発明によれば、先
ず基板上に形成した非磁性酸化物膜の溝によりトラック
幅を規制し、この溝を含む上記非磁性酸化物膜上に下部
磁性膜を形成し、その後上記非磁性酸化物膜が露出する
まで平面研削を施し平坦面とした後、この平坦面上にコ
イル導体や上部磁性膜を形成しているので、これらコイ
ル導体や上部磁性膜のパターニング精度が大幅に向上す
る。したがって、電磁変換特性に優れた薄膜磁気ヘッド
となる。As is clear from the above description, according to the present invention, the track width is first regulated by the grooves of the non-magnetic oxide film formed on the substrate, and the lower magnetic layer is formed on the non-magnetic oxide film including the grooves. After forming a film and then grinding the surface until the non-magnetic oxide film is exposed to make a flat surface, the coil conductor and upper magnetic film are formed on this flat surface. The patterning accuracy of the film is greatly improved. Therefore, a thin film magnetic head with excellent electromagnetic conversion characteristics is obtained.
特に、マルチチャンネルの薄膜磁気ヘッドに本発明を適
用すれば、隣接トラックがらのクロストークによる擬似
信号が改善され、良好な記録再生特性が得られるという
利点もある。In particular, if the present invention is applied to a multi-channel thin film magnetic head, there is an advantage that pseudo signals due to crosstalk between adjacent tracks are improved and good recording and reproducing characteristics can be obtained.
第１図ないし第５図は本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方
法をその工程に従って示すもので、第１図は金属膜及び
非磁性酸化物膜の形成工程を示す斜視図、第２図は溝形
成工程を示す斜視図、第３図は下部磁性膜形成工程を示
す斜視図、第４図は平面研削工程を示す斜視図、第５図
はコイル導体及び上部磁性膜形成工程を示す要部断面図
である。
第６図は本発明により作製された薄膜磁気ヘッドの磁気
記録媒体対接面を示す正面図である。
■・・・・・・基板
２・・・・・・金属膜
３・・・・・・非磁性酸化物膜
４・・・・・・溝
５・・・・・・下部磁性膜
９・・・・・・コイル導体
１１・・・・・引き出し電極
１２・・・・・上部磁性膜1 to 5 show the manufacturing method of a thin-film magnetic head according to the present invention according to its steps. FIG. 1 is a perspective view showing the process of forming a metal film and a nonmagnetic oxide film, and FIG. FIG. 3 is a perspective view showing the formation process. FIG. 4 is a perspective view showing the surface grinding process. FIG. It is a diagram. FIG. 6 is a front view showing the surface of a thin film magnetic head manufactured according to the present invention that faces a magnetic recording medium. ■... Substrate 2... Metal film 3... Non-magnetic oxide film 4... Groove 5... Lower magnetic film 9... ... Coil conductor 11 ... Extraction electrode 12 ... Upper magnetic film
Claims (1)
、前記非磁性酸化物膜にトラック幅と等しい幅を有する
溝を形成し、全面に下部磁性膜を膜付けし、前記非磁性
酸化物が露出するまで平面研削を行った後、 コイル導体及び上部磁性膜をフォトリソグラフィ技術に
より形成することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方
法。[Claims] A metal film and a nonmagnetic oxide film are deposited in this order on a substrate, a groove having a width equal to the track width is formed in the nonmagnetic oxide film, and a lower magnetic film is deposited over the entire surface. A method for manufacturing a thin-film magnetic head, comprising: attaching the coil conductor and the upper magnetic film by photolithography after surface grinding is performed until the non-magnetic oxide is exposed.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP469286A JPS62164203A (en) | 1986-01-13 | 1986-01-13 | Production of thin film magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP469286A JPS62164203A (en) | 1986-01-13 | 1986-01-13 | Production of thin film magnetic head |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62164203A true JPS62164203A (en) | 1987-07-20 |
Family
ID=11590940
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP469286A Pending JPS62164203A (en) | 1986-01-13 | 1986-01-13 | Production of thin film magnetic head |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62164203A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01106308A (en) * | 1987-10-20 | 1989-04-24 | Sanyo Electric Co Ltd | Thin film magnetic head |
| JPH06207280A (en) * | 1992-07-21 | 1994-07-26 | Seagate Technol Internatl | Thin film magnetic head and its preparation |
| JP2021041188A (en) * | 2020-11-12 | 2021-03-18 | ホーチキ株式会社 | Fire hydrant device and fire hydrant facility |
-
1986
- 1986-01-13 JP JP469286A patent/JPS62164203A/en active Pending
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