JPS6372375A - Amphoteric high-molecular compound and its preparation - Google Patents

Amphoteric high-molecular compound and its preparation

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JPS6372375A
JPS6372375A JP21669486A JP21669486A JPS6372375A JP S6372375 A JPS6372375 A JP S6372375A JP 21669486 A JP21669486 A JP 21669486A JP 21669486 A JP21669486 A JP 21669486A JP S6372375 A JPS6372375 A JP S6372375A
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JP
Japan
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group
polymer compound
film
groups
carbon atoms
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JP21669486A
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Japanese (ja)
Inventor
Masakazu Kamikita
正和 上北
Hiroshi Awaji
弘 淡路
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Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
Application filed by Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

PURPOSE:To form an ultrathin LB film excellent in physical properties, by using an amphoteric high-molecular compound obtained by bonding a specific hydrocarbon-containing group to a repeating unit consisting of the first and second org. groups through a covalent bond. CONSTITUTION:An amphoteric high-molecular compound has a fundamental skeletal composed of repeating units, for example, represented by formulae I, II (wherein R1 is the first tetravalent org. group having at least two carbon atoms, R2 is the second divalent org. group having at least two carbon atoms, A is an acidic group containing a heteroatom such as O, N or S, B is a basic group containing a heteroatom such as O, N or S and AB and BA are a divalent bonding group formed by the reaction of A and B). By interoducing a 10-30C hydrocarbon-containing group R3 into said repeating units by at least one covalent bond, said compound can be modified so as to be capable of being formed into a film by an LB method.

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、両性高分子化合物、特にラングミュア・プロ
ジェット法によってM膜できるように修飾された両性高
分子化合物とその製造法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Technical Field The present invention relates to an amphoteric polymer compound, particularly an amphoteric polymer compound modified to form an M film by the Langmuir-Prodgett method, and a method for producing the same.

従」f口支丘 すでに1930年代、炭素数16〜22くらいの脂肪酸
が水面上に単分子膜をつくり、それを基質上に累積でき
ることがラングミュアとプロジェットにより見出された
が、技術的応用についての検討が行われはじめたのは最
近のことである。
Already in the 1930s, Langmuir and Prodgett discovered that fatty acids with about 16 to 22 carbon atoms could form a monomolecular film on the water surface and accumulate it on a substrate, but there were no technical applications. It is only recently that studies have begun to be conducted.

これまでの研究の概要については、固体物理17(12
) 45 (1982) Th1n 5olid Fi
lms 68 No、1 (1980) 。
For an overview of past research, see Solid State Physics 17 (12
) 45 (1982) Th1n 5olid Fi
lms 68 No. 1 (1980).

1bid、 99 No、 1.2.3 (1983)
 In5oluble monolayersat l
iquid−gas 1nterfaces (G、L
、 Ga1ns、 Inter−science Pu
blishers+ New Youk+ 1966)
などにまとめられているが、従来の直鎖飽和脂肪酸のラ
ングミュア・プロジェット膜(以下rLB膜二という)
は耐熱性、機械的強度に欠点があり、実用的応用にはそ
のままでは使えないという問題点がある。
1bid, 99 No. 1.2.3 (1983)
In5olable monolayer sat l
iquid-gas 1nterfaces (G,L
, Ga1ns, Inter-science Pu
blishers+ New You+ 1966)
However, the conventional Langmuir-Prodgett membrane (hereinafter referred to as rLB membrane 2) of straight-chain saturated fatty acids
has drawbacks in heat resistance and mechanical strength, and cannot be used as is for practical applications.

これらを改善するものとして不飽和脂肪酸、例えばω−
トリコセン酸、ω−へブタデセン酸やα−オクタデシル
アクリル酸や脂肪酸の不飽和エステル、例えばステアリ
ン酸ビニル、オクタデシルアクリレートのほか、ジアセ
チレン誘導体などの重合膜が検討されているが、耐熱性
は充分とはいえないし、電気的にもすぐれたものとはい
えない。
Unsaturated fatty acids, such as ω-
Polymer films made of tricosenic acid, ω-hebutadenoic acid, α-octadecyl acrylic acid, unsaturated esters of fatty acids such as vinyl stearate, octadecyl acrylate, and diacetylene derivatives have been investigated, but they do not have sufficient heat resistance. This is not possible, and it cannot be said that it is electrically superior.

ポリマーについてもポリアクリル酸、ポリビニルアルコ
ール、エチルアクリレート、ポリペプチドなど親水性基
をもつ高分子に成膜性のあるものが知られているが、特
にラングミニア・プロジェット膜用の材料として修飾さ
れた高分子はこれまで検討されていないし、すぐれたL
B膜材料と言えるものはない。
Regarding polymers, polymers with hydrophilic groups such as polyacrylic acid, polyvinyl alcohol, ethyl acrylate, and polypeptide are known to have film-forming properties, but they are particularly modified as materials for Langminia-Prodgett membranes. Polymers have not been considered so far, and excellent L
There is nothing that can be called a B film material.

一方、耐熱性フィルムとしてポリイミドがあるが、スピ
ンコードなどの方法によっては通常は1p以上せいぜい
100oA以上であり、1000八以下のピンホールの
ない耐熱性薄膜を作成するのは非常に困難である。
On the other hand, polyimide is used as a heat-resistant film, but depending on methods such as spin cording, it is usually 1p or more and at most 100oA or more, and it is very difficult to create a heat-resistant thin film without pinholes of 10008 or less.

III<  ンしμ゛と る。占。III. Fortune telling.

本発明は、本来、ラングミュア・プロジェット法では製
膜が困難である高分子化合物を修飾することにより同法
による製膜を可能にすることであり、耐熱性、耐薬品性
、接着力などの機械的特性の改善された一般的には製膜
が難しい厚みの高分子LBIj!の材料である両性高分
子化合物と、その製造法を提供することである。
The purpose of the present invention is to make it possible to form films using the Langmuir-Prodgett method by modifying polymer compounds that are originally difficult to form into films using the Langmuir-Prodgett method. Polymer LBIj with improved mechanical properties and a thickness that is generally difficult to form! An object of the present invention is to provide an amphoteric polymer compound that is a material for the production of an amphoteric polymer compound, and a method for producing the same.

。 占  ン るための革 前記問題点は、本発明により、少なくとも2(!Iの炭
素原子を有する4価の第1の有機基R1と、少なくとも
2個の炭素原子を有する2価の第2の有機基R2とが2
価の結合基によって交互に連結されている線状の繰返し
単位を有し、かつ該繰返し単位へ共有結合した、置喚基
を含むこともある炭素数10〜30の炭化水素含有基R
3を少なくとも1つ含んでいる両性高分子化合物を提供
することによって解決される。
. According to the present invention, the above-mentioned problem can be solved by combining a tetravalent first organic group R1 having at least 2 (!I carbon atoms) and a divalent second organic group R1 having at least 2 carbon atoms. The organic group R2 is 2
A hydrocarbon-containing group R having from 10 to 30 carbon atoms, which may contain a substituent group, and which has linear repeating units alternately connected by valent bonding groups and is covalently bonded to the repeating units.
The present invention is solved by providing an amphoteric polymer compound containing at least one of 3.

本発明の両性高分子化合物は、具体的には下式(1)〜
(9)の繰返し単位を基本骨格とする。
Specifically, the amphoteric polymer compound of the present invention has the following formulas (1) to
The repeating unit of (9) is used as the basic skeleton.

ここで、AはO,N、 S、 P、 B  などのへテ
ロ原子を含む酸性基、好ましくは−COOR(Rはアル
キル基または水@原子、以下同じ) 、  −COX 
 (Xは塩素または臭素、以下同じ) 、 −NCO,
−NCS、−CN。
Here, A is an acidic group containing a heteroatom such as O, N, S, P, or B, preferably -COOR (R is an alkyl group or a water atom, the same applies hereinafter), -COX
(X is chlorine or bromine, the same applies below), -NCO,
-NCS, -CN.

−CONHR,−502NHRなどテアル。-CONHR, -502NHR, etc.

Bはo、 N、 S、 P、 B  などのへテロ原子
を含む塩基性基、好ましくは−NHR,,,OR,、−
SR,−X等である。
B is a basic group containing a heteroatom such as o, N, S, P, B, preferably -NHR,,,OR,, -
SR, -X, etc.

式(1)〜(9)においてABおよびBAは、AとBと
の反応により出来た2価の結合基であり、例示すれば、 等であり、 等である。
In formulas (1) to (9), AB and BA are divalent bonding groups formed by the reaction of A and B, and examples thereof include: and the like.

本発明の両性高分子化合物は、(1)〜(9)の繰返し
単位へ炭素数10〜30.好ましくは16〜22の炭化
水素含有基R3が少なくとも1つ、好ましくは2つ共有
結合によって導入され、ラングミュア・プロジェット法
によって製膜可能なように修飾されている。
The amphoteric polymer compound of the present invention has repeating units (1) to (9) having 10 to 30 carbon atoms. At least one, preferably two, preferably 16 to 22 hydrocarbon-containing groups R3 are introduced by covalent bonding and modified to allow film formation by the Langmuir-Prodgett method.

疎水性の基R3を導入する方法としては、R1,R2に
直接R3を置換する方法を除外するものではないが、式
(1)〜(9)の盪返し単位中のA、 B、 AB、 
BAの少なくとも1つ、好ましくは2つがR3によって
1換されることが合成面やコスト面等において望ましい
。R3が同じ繰返し単位中に2以上導入される時は、先
に運べたR3の範囲から相互に違った構造のものを選ん
でもよい。
Methods for introducing the hydrophobic group R3 do not exclude the method of directly substituting R3 to R1 and R2, but A, B, AB,
It is desirable from the viewpoint of synthesis, cost, etc. that at least one, preferably two, of BAs be replaced by R3. When two or more R3s are introduced into the same repeating unit, R3s with mutually different structures may be selected from the range of R3s previously carried.

さらに具体的にR3の亘換基導大の方法と位Iの列を挙
げれば、 A :  −COOR3,−CONHR3,−NHCO
OR3、−3O2NHR3B  :     −NHR
*+   −OR3,−SR3゜等があり、これらから
選ばれた方法によりA、 B。
More specifically, the method of increasing the substituent of R3 and the sequence of position I are listed as follows: A: -COOR3, -CONHR3, -NHCO
OR3, -3O2NHR3B: -NHR
*+ -OR3, -SR3゜, etc., and A and B are obtained by the method selected from these.

AH,BAの少なくとも一つ、好ましくは二つがR3に
よって置換される。
At least one, preferably two of AH, BA are substituted by R3.

次にR1,Rzについて説明する。Next, R1 and Rz will be explained.

一般式(1)〜(9)におけるR1は少なくとも2個の
炭素原子を含有する、好ましくは5〜20個の炭素原子
を含有する4価の基であり、芳香族の基であってもよく
、環状脂肪族の基であってもよく、芳香族の基と脂肪族
の基との結合した基であってもよく、さらにはこれらの
基が炭素数1〜3oの脂肪族の基、環状脂肪族の基ある
いは芳香族の基と脂肪族の基とが結合した基、それらの
基がハロゲン原子、ニド四基、アミノ基、シアノ基、メ
トキシ基、アセトキシ基などの1価の基で、あるいは該
1価の基が、−0+、 −coo +、 −NHCO−
R1 in general formulas (1) to (9) is a tetravalent group containing at least 2 carbon atoms, preferably 5 to 20 carbon atoms, and may be an aromatic group. , may be a cycloaliphatic group, or may be a group in which an aromatic group and an aliphatic group are bonded, and furthermore, these groups may be an aliphatic group having 1 to 3 carbon atoms, a cyclic An aliphatic group or a group in which an aromatic group and an aliphatic group are bonded, and these groups are monovalent groups such as a halogen atom, a nido tetragroup, an amino group, a cyano group, a methoxy group, an acetoxy group, Alternatively, the monovalent group is -0+, -coo +, -NHCO-
.

−CO−、−S +、 −css +、 −NHCS−
、−CS−などに結合した基で置換され誘導体となった
基であってもよい、しかし、R1が少なくとも6個の炭
素原子数を有するベンゼノイド構造によって特徴づけら
れた基である場合には、耐熱性、耐薬品性や機械的特性
などの点から好ましい。
-CO-, -S +, -css +, -NHCS-
, -CS-, etc. may be a group substituted with a group bonded to -CS-, etc. to become a derivative.However, when R1 is a group characterized by a benzenoid structure having at least 6 carbon atoms, Preferable from the viewpoint of heat resistance, chemical resistance, mechanical properties, etc.

前記のごときR1の具体例としては、例えば、などが挙
げられる。
Specific examples of R1 as described above include, for example.

本明細書にいうベンゼノイド構造とは、炭素環式化合物
の構造に関してキハド構造と対比して用いられる術語で
、普通の芳香族化合物に含まれる炭素環と同じ形の構造
をいう。
The term "benzenoid structure" as used herein is a term used in contrast to kihad structure regarding the structure of a carbocyclic compound, and refers to a structure having the same shape as a carbocyclic ring contained in ordinary aromatic compounds.

p−キノイド構造    ベンゼノイド構造R1の4個
の結合手、すなわち一般式(11〜(9)で表される繰
返し単位において結合する手の位置には特に限定はない
が、4個の結合手の各2個づつがR1を構成する隣接す
る2個の炭素原子に存在する場合には、両性高分子化合
物を用いて形成した膜などをさらに反応させて5員環あ
るいは6員環を形成しやすく好ましい。
p-quinoid structure The four bonds of benzenoid structure R1, that is, the positions of the bonds in the repeating unit represented by general formulas (11 to (9)) are not particularly limited, but each of the four bonds When two atoms each exist on two adjacent carbon atoms constituting R1, it is preferable that a film formed using an amphoteric polymer compound is further reacted to form a 5- or 6-membered ring. .

前記のごときR1の好ましい具体例としては、例えば、 lJ3                      
CF3などが挙げられる。また も好ましい。
Preferred specific examples of R1 as described above include, for example, lJ3
Examples include CF3. Again preferred.

一般式(1)〜(9)におけるR2は、少なくとも2個
の炭素原子を含有する2価の基であり、芳香族の基であ
ってもよく、脂肪族の基であってもよ(、環状脂肪族の
基であってもよく、芳香族の基と脂肪族の基との結合し
た基であってもよく、さらにはこれらの2価の基が炭素
数1〜30の脂肪族の基、環状脂肪族の基あるいは芳香
族の基と脂肪族の基とが結合した基、それらの基がハロ
ゲン原子、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、メトキシ基
、アセトキシ基などの1価の基で、あるいはこれらの1
価の基が一〇−,−Coo−、−N)ICO−、−CO
−、−S−、−CSS−−NHCS−、−CS−などに
結合した基で1換された基であってもよい。しかし、R
2が少なくとも6個の炭素原子数を有するベンゼノイド
構造によって特徴づけられた基であるばあいには、耐熱
性、耐薬品性や機械的特性などの点から好ましい。
R2 in general formulas (1) to (9) is a divalent group containing at least two carbon atoms, and may be an aromatic group or an aliphatic group ( It may be a cycloaliphatic group, or it may be a group in which an aromatic group and an aliphatic group are bonded, and furthermore, these divalent groups may be an aliphatic group having 1 to 30 carbon atoms. , a group in which a cycloaliphatic group or an aromatic group and an aliphatic group are bonded, and these groups are monovalent groups such as a halogen atom, a nitro group, an amino group, a cyano group, a methoxy group, and an acetoxy group. , or one of these
The valence group is 10-, -Coo-, -N)ICO-, -CO
It may be a group monosubstituted with a group bonded to -, -S-, -CSS-, -NHCS-, -CS-, or the like. However, R
When 2 is a group characterized by a benzenoid structure having at least 6 carbon atoms, it is preferable from the viewpoint of heat resistance, chemical resistance, mechanical properties, etc.

前記のごときR2の好ましい具体例としては、例ここで
R4は H3 Fa R5およびRsはいずれも炭二原子数1〜3oのアル゛
キルまたは了り−ル基 CH3 CH3 (CH2)P  (+)  −2〜10)  、  −
(CHz)4−C−(CH2)2− 。
Preferred specific examples of R2 as described above include: where R4 is H3 Fa R5 and Rs are each an alkyl or aryl group having 1 to 3 carbon atoms CH3 CH3 (CH2)P (+) -2 to 10), -
(CHz)4-C-(CH2)2-.

CH30 −(CH2)IOC)l−CH3,−(CH2)3−C
−(CH2)2− 。
CH30-(CH2)IOC)l-CH3,-(CH2)3-C
-(CH2)2-.

−(CH2)3−0− (CHz)2−0− (CH2
)3− 。
-(CH2)3-0- (CHz)2-0- (CH2
)3-.

CH3CH3 l CH3CH3CH3 (n−2〜15) 前記のごときR2の好ましい具体例としては、例(1m
m 1〜3の整数) 、−0−+ −5−1−5O2−
・−NR5−1(以下余白) いずれも炭素原子数1〜30のアルキル基またはアリル
基))などがあげられる。
CH3CH3 l CH3CH3CH3 (n-2 to 15) As a preferable specific example of R2 as described above, example (1 m
m integer from 1 to 3), -0-+ -5-1-5O2-
・-NR5-1 (hereinafter referred to as blank space) (all alkyl groups or allyl groups having 1 to 30 carbon atoms), and the like.

R3について説明すれば、炭素数10〜30.好ましく
は16〜22の1価の脂肪族の基、1価の環状脂肪族の
基、芳香族基と脂肪族基とが結合した1価の基、それら
の基がハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、
メトキシ基、アセトキシ基などで置換された基である。
To explain R3, it has 10 to 30 carbon atoms. Preferably, 16 to 22 monovalent aliphatic groups, monovalent cycloaliphatic groups, monovalent groups in which an aromatic group and an aliphatic group are bonded, and these groups are halogen atoms, nitro groups, amino group, cyano group,
It is a group substituted with a methoxy group, an acetoxy group, etc.

R3は繰返し単位に疎水性を付与−1安定な凝縮膜を得
るために導入される基であり、本発明の両性高分子化合
物水面上に安定な凝縮膜を形成し、それがLB;去によ
り基板上に累積されるために必要である。
R3 is a group introduced to impart hydrophobicity to the repeating unit -1 to obtain a stable condensed film, and forms a stable condensed film on the water surface of the amphoteric polymer compound of the present invention, which is LB; required to be deposited on the substrate.

R3の具体例とじては、例えば、 CH3(CH2〒−1、(CR3)2 CH(CH2i
FV−3+(以上のnは10〜30.好ましくは16〜
22の整数)などがあり、また CHz = C)I 
CCHz’jT7z +CH3(CHz)rc a C
−CI’ C(CHz先=(ここで7+、1−n−5)
などの基がある。中でも、CR3(CHz7FV−1で
表される直鎖アルキル基が性能的にもコスト的にも最も
望ましい。前述したハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基
、シアノ基、メトキシ基、アセトキシ基などの置換基は
必須ではないが、フッ素原子は水素原子より疎水性を向
上させるので場合により使われることが望ましい。勿論
、炭素数1〜9の1価の炭化水素基、あるいはそれらの
I虫体より選ばれた基を置換されたものも本発明から除
かれるものではない。
Specific examples of R3 include, for example, CH3(CH2〒-1, (CR3)2 CH(CH2i
FV-3+ (n is 10-30, preferably 16-30)
22 integers), and CHz = C) I
CCHz'jT7z +CH3(CHz)rc a C
-CI' C (CHZ destination = (here 7+, 1-n-5)
There are groups such as Among them, the linear alkyl group represented by CR3 (CHz7FV-1) is the most desirable in terms of performance and cost. Although not essential, it is preferable to use a fluorine atom in some cases because it improves hydrophobicity compared to a hydrogen atom. Substituted groups are not excluded from the present invention.

本発明の高分子化合物の分子量については特に限定はな
い。分子量が低くても本発明の製膜方法によって製膜は
可能である。ただ良好な画然性、機械的強度、耐薬品性
を得るためには分子量が大きい方が望ましい。しかし分
子量が大きくなると粘度が高くなって製膜がうまくいか
ないという問題が生ずるため分子量が大きすぎることは
望ましくない。従って重量平均分子量が2000〜30
oooo程度のものが望ましい。
There is no particular limitation on the molecular weight of the polymer compound of the present invention. Even if the molecular weight is low, it is possible to form a film by the film forming method of the present invention. However, in order to obtain good image sharpness, mechanical strength, and chemical resistance, it is desirable that the molecular weight is large. However, it is undesirable for the molecular weight to be too large, as the viscosity increases and film formation becomes difficult when the molecular weight becomes too large. Therefore, the weight average molecular weight is 2000-30
Something of the order of oooo is desirable.

本発明の両性高分子化合物の具体的な例については(1
)〜(9)式にこれまで述べてきたR1. Rz、 R
zの具体例、AB、BAの2価の結合基の具体例(a)
For specific examples of the amphoteric polymer compound of the present invention (1
) to (9), the R1. Rz, R
Specific examples of z, specific examples of divalent bonding groups of AB and BA (a)
.

(blを、またR3の1換基を導入する方法と位置の具
体例(C+をそれぞれ代入することによって明らかにな
るが、七ツマ−およびポリマーの合成上、コスト的な考
慮から望ましい具体例を(11R31(71(91式か
ら示せば次のよう己こなり、fil (91式の例は特
に望ましい具体例である。
(Specific examples of the method and position of introducing bl and one substituent of R3 (This will become clear by substituting C+, but from the viewpoint of cost considerations in synthesizing the seven polymers and polymers, we will give a specific example) (11R31(71(If shown from formula 91, it will be as follows, fil (The example of formula 91 is a particularly desirable example.

(11式 (3)式 式中−は異性を表す。例を式αω で説明すれば を表す。(Type 11 (3) Formula In the formula, - represents isomerism. For example, the formula αω If you explain it with represents.

本発明は(10−1)  (10−2)が単独である場
合、(10−1)  (LO−2)が共存する場合を含
んでいる。
The present invention includes a case where (10-1) (10-2) is alone and a case where (10-1) (LO-2) coexists.

他の例は、例えば神戸博太部場、高分子の厨熱性(培風
館S45.3.5) 、高分子の熱分解と耐熱性(培風
館S49.3.15)等の底置に求めることができる。
Other examples include Kobe Hakuta's research on thermoplasticity of polymers (Baifukan S45.3.5), thermal decomposition and heat resistance of polymers (Baifukan S49.3.15), etc. can.

本発明はまた、前記両性高分子化合物の製造法を提供す
る。該方法は、第1の有機基Rzを含むモノマーと、第
2の有機基R2を含むモノマーをB B B B (式中、Aは酸性基、Bは塩基性基を表す。)のいずれ
かの組合せにおいて、かつ組合せる2種の七ツマ−の少
なくとも一方が1個または2個の炭化水素含有基R3を
含有しているモノマーを使用し、第1の有機基R1を含
むモノマーと第2の有機基R2を含むモノマーを貢縮合
させることよりなる。
The present invention also provides a method for producing the amphoteric polymer compound. In this method, a monomer containing a first organic group Rz and a monomer containing a second organic group R2 are either B B B B (wherein A represents an acidic group and B represents a basic group). In the combination, at least one of the two hepatomers to be combined uses a monomer containing one or two hydrocarbon-containing groups R3, and the first monomer containing the organic group R1 and the second monomer are used. It consists of tributary condensation of monomers containing an organic group R2.

先の(10)〜(24)の具体的な列についてWE方法
を例示すれば次のようである。
An example of the WE method for the above specific columns (10) to (24) is as follows.

さらに詳しく本発明の両性高分子化合物の製造方法を説
明するために(1o)式テR3w CHa (CHz)
rrの場合について述べる。ピロメリット酸ジ無水物の
アルコリシスによって得られる を実質的に無水の条件下で、有機極性溶剤中で温度−1
0℃以上、好ましくは0〜40℃程度でチオニルクロラ
イドでアシル化し、これにジアミノジフェニルエーテル
を温度−10°C以上、好ましくはO〜+10℃で反応
させることによってM造される。アシル化およびアミド
化の反応は通常O℃以以下−1工 合物の長鎖アルキル基等の置換基が凍結固化する傾向が
あるので、温度−10℃以上,好ましくは0〜40℃程
度で行われることが望ましい。勿論以上の場合において
、異なった置換基を持つ原料を混合して共重合体とした
り、0〜30%程度の置換基ない、あるいは炭素数が1
0以下の1換基をもつテトラカルボン酸ジ無水物やジア
ミンと混合してもよい。
In order to explain in more detail the method for producing the amphoteric polymer compound of the present invention, the formula (1o) TE R3w CHa (CHz)
The case of rr will be described. obtained by alcoholysis of pyromellitic dianhydride under substantially anhydrous conditions in an organic polar solvent at a temperature of -1
M is produced by acylating with thionyl chloride at a temperature of 0°C or higher, preferably about 0 to 40°C, and reacting this with diaminodiphenyl ether at a temperature of -10°C or higher, preferably 0 to +10°C. Acylation and amidation reactions are usually carried out at a temperature of -10°C or higher, preferably around 0 to 40°C, since substituents such as long-chain alkyl groups in the -1 compound tend to freeze and solidify. It is desirable that the Of course, in the above cases, it is possible to mix raw materials with different substituents to make a copolymer, or to make a copolymer with no substituents in the range of 0 to 30%, or with a carbon number of 1.
It may be mixed with a tetracarboxylic dianhydride or diamine having one substituent of 0 or less.

以上のように製造された両性高分子化合物については分
離精製してラングミエア・プロジェット膜材料としても
、製造後クロロホルム、ベンゼンなどを添加して直接ラ
ングミニア・プロジェット摸展開液としてもよい。
The amphoteric polymer compound produced as described above may be separated and purified to be used as Langmier-Prodget membrane material, or after production, chloroform, benzene, etc. may be added to it to be used directly as a Langmire-Prodget sample developing solution.

次に本発明の両性高分子化合物を材料に用いるラングミ
ニア0ブロジエツト膜についてz党明する。
Next, a Langminia O-Blodget membrane using the amphoteric polymer compound of the present invention as a material will be explained.

ラングミニア0ブロジエツト膜のM法としては、膜を形
成する物質を水面上に展開し、水面上に展開された物質
を一定の表面圧で圧縮して急分子膜を形成し、その膜を
基板上に移しとる方法のほか、水平付着法1回転円筒法
などの方法(新実験化学講座、第18巻、界面とコロイ
ド、498−508)などがあげられ、通常行われてい
る方法であればとくに限定されることなく使用すること
ができる。
The Langminia O-Blodget film M method involves spreading a film-forming substance on the water surface, compressing the spread substance on the water surface with a constant surface pressure to form an acute molecular film, and then spreading the film on a substrate. In addition to methods such as the horizontal adhesion method and the one-turn cylinder method (New Experimental Chemistry Course, Volume 18, Interfaces and Colloids, 498-508), methods that are commonly used are particularly important. It can be used without limitation.

ラングミュア・プロジェット法は配向した、しかも厚み
を数十人単位で制御できる方法で2000Å以下さらに
は1000Å以下、数百人、数十人の薄膜を形成するの
にすぐれた方法であり、本発明の基板上の薄膜もこの特
徴をもつが、IPまたはそれ以上の厚みの膜もこの方法
でM膜し得る・一般には溶媒として水には溶けないで気
相中に蒸発してしまうベンゼン、クロロホルムなどが使
用されるが、本発明の高分子化合物の場合は、溶解炭を
あげるために有機極性溶剤を併用することが望ましい、
好ましい有機極性溶剤は、N、N−ジメチルホルムアミ
ド、N、N−ジメチルアセトアミド、N、N−ジエチル
ホルムアミド、N、N−ジエチルアセトアミド、N、N
−ジメチルメトキシアセトアミド、ジメチルスルホキシ
ド、N−メチル−2−ピロリドン、ピリジン、ジメチル
スルホン、ヘキサメチルホスホルアミド、テトラメチレ
ンスルホン、ジメチルテトラメチレンスルホンなどであ
る。
The Langmuir-Prodgett method is an excellent method for forming oriented thin films of hundreds or even tens of layers with a thickness of 2000 Å or less, or even 1000 Å or less, by a method in which the thickness can be controlled in units of tens of layers, and the present invention A thin film on a substrate has this characteristic, but a film of IP or thicker thickness can also be made into a M film using this method.In general, benzene and chloroform, which are insoluble in water and evaporate into the gas phase, are used as solvents. However, in the case of the polymer compound of the present invention, it is desirable to use an organic polar solvent in combination to raise the dissolved carbon.
Preferred organic polar solvents include N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N,N-diethylformamide, N,N-diethylacetamide, N,N
-dimethylmethoxyacetamide, dimethylsulfoxide, N-methyl-2-pyrrolidone, pyridine, dimethylsulfone, hexamethylphosphoramide, tetramethylenesulfone, dimethyltetramethylenesulfone, and the like.

ベンゼン、クロロホルムなどと有機極性溶剤を併用した
ときには、膜を展開時ベンゼン、クロロホルム等は気相
中に蒸発し、有機極性溶剤は大量の水に溶解すると考え
られる。
When benzene, chloroform, etc. are used together with an organic polar solvent, it is thought that the benzene, chloroform, etc. will evaporate into the gas phase when the membrane is developed, and the organic polar solvent will dissolve in a large amount of water.

本発明に使用される基板については本発明の高分子薄膜
を何に応用するかということによって限定されるが、そ
の他大きく限定されることはなく、ガラス、アルミナ、
石英などのような一般的無機の基板のほか、金属、プラ
スチックやSi、 GaAs。
The substrate used in the present invention is limited depending on the application of the polymer thin film of the present invention, but there are no other major limitations, such as glass, alumina,
In addition to common inorganic substrates such as quartz, metals, plastics, Si, and GaAs.

ZnSのような■族、II[−V、  II−Vl族ら
の半導体、PbTi3. BaTi3. LiNba 
、 LiTa3のような強誘電体等も基板として用いる
ことができる。
Group II semiconductors such as ZnS, II[-V, II-Vl group semiconductors, PbTi3. BaTi3. LiNba
, ferroelectric materials such as LiTa3 can also be used as the substrate.

勿論、上記のような基板上の全屈薄膜が応用に適したよ
うにパターン化されていてもよいし、Si。
Of course, a fully refractive thin film on a substrate such as that described above may be patterned as appropriate for the application, and Si.

GaAs、 ZnSのような半導体や、強誘電体製の基
板が前もって加工され、素子が形成されているものでも
よい。
A substrate made of a semiconductor such as GaAs or ZnS or a ferroelectric material may be processed in advance to form an element.

また、これらの基板は通常行われるような表面処理を施
して用いてもよいことは勿論である。
Furthermore, it goes without saying that these substrates may be used after being subjected to a commonly used surface treatment.

本発明のポリイミド前駆体の場合には、ガラス、石英、
Si、 5iOzなどの表面には接着強度が強い傾向が
あり、シランカフブリング剤、特にアミノ基やエポキシ
基とアルコキシ基を有するシランカフブリング剤(例え
ばUCCのA−1100やA−187など)で処理する
か、アルミニウム金属を含むキレートで処理し酸化アル
ミの層を形成させると製膜特性や接着強度が改善され、
本発明の好ましい実施態様である。勿論、当業界で行わ
れるように基板が高級脂肪酸の金属で数層処理されても
よい。
In the case of the polyimide precursor of the present invention, glass, quartz,
Surfaces such as Si and 5iOz tend to have strong adhesive strength, and silane cuffing agents, especially silane cuffing agents with amino groups, epoxy groups, and alkoxy groups (such as UCC's A-1100 and A-187) treatment or treatment with a chelate containing aluminum metal to form a layer of aluminum oxide improves film forming properties and adhesive strength.
This is a preferred embodiment of the invention. Of course, the substrate may be treated with several layers of higher fatty acid metals as is done in the art.

本発明の特徴は、良い耐熱性をもった高分子化合物をラ
ングミュア・プロジェット法で基板上に薄膜を形成でき
ることであるが、さらにあるものは、この薄膜を部分的
にあるいは完全に閉環させることによってさらに耐熱低
の向上した薄膜を基板上に形成できるという特徴をもつ
A feature of the present invention is that a thin film of a polymer compound with good heat resistance can be formed on a substrate by the Langmuir-Prodgett method, but it is also possible to partially or completely ring-close this thin film. This method has the characteristic that a thin film with improved heat resistance can be formed on a substrate.

式(10)〜(24)を例のうち部分的あるいは完全に
閉環可能なものの閉環後の構造を次に記す。
Among examples of formulas (10) to (24), the structures after ring closure of those which can be partially or completely closed are described below.

(以下余白) 閉環の方法については特に固定されないが、例えば先の
α0式の具俸例であるイミド化の場合には、300〜4
.00℃近辺の温度に加熱することによって △ 001式の高分子□ ÷ 2R30H の反応が起こづて閉環が達成される。このとき、疎水化
のために導入した基がアルコールとして脱離するが、こ
の1脱離したアルコールは300〜400℃近辺の温度
で、必要ならガスの流れの下に置くか真空下にお(こと
によって飛散させることができるので非常に耐熱性のよ
いポリアミドイミド薄膜を得ることができる。
(Left below) The ring closing method is not particularly fixed, but for example, in the case of imidization, which is an example of the α0 formula, 300 to 4
.. By heating to a temperature around 00°C, a reaction of the polymer □ ÷ 2R30H of the formula Δ001 occurs and ring closure is achieved. At this time, the group introduced for hydrophobization is eliminated as alcohol, but this eliminated alcohol is placed at a temperature of around 300 to 400°C, and if necessary, placed under a gas flow or under vacuum ( Since the polyamide-imide film can be dispersed by this process, a polyamide-imide thin film with very good heat resistance can be obtained.

次にこれら薄膜の用途について述べる。Next, we will discuss the uses of these thin films.

本発明の薄膜は、耐熱性、耐薬品性、機械的特性がすぐ
れ、非常に薄い膜であるという特徴を生かしてエレクト
ロニクス分野、エネルギー変換や物質分離など広範な分
野で使うことができる。
The thin film of the present invention has excellent heat resistance, chemical resistance, and mechanical properties, and can be used in a wide range of fields such as electronics, energy conversion, and material separation by taking advantage of the fact that it is a very thin film.

導電性、光導電性、光学特性、絶縁性、耐熱性や化学反
応性を生かしたエレクトロニクス分野で光学記録膜、レ
ジスト膜、絶縁膜、キャパシター用薄膜、液晶配向膜、
偏光膜、センサー膜などとして、特に絶縁膜としてはI
CやLSIの絶縁層として各種半導体や金属と組み合わ
せたMIS。
Optical recording films, resist films, insulating films, thin films for capacitors, liquid crystal alignment films,
I can be used as a polarizing film, a sensor film, etc., especially as an insulating film.
MIS combined with various semiconductors and metals as an insulating layer for C and LSI.

MIMなどの構造を持つ電気電子素子中の絶縁層として
使うことができ、電界効果トランジスター、光電変換素
子、発光素子、受光素子、光検出素子、熱電子トランジ
スター等を構成できる。特に本発明の薄膜はトンネル効
果を利用したMIS、MIMデバイスに有効であり、J
Jの絶縁膜としても使用できる。そのほかウニイブガイ
ド用のクラフト材あるいは光学回路成分としても応用が
考えられる。
It can be used as an insulating layer in electrical and electronic devices having a structure such as MIM, and can constitute field effect transistors, photoelectric conversion devices, light emitting devices, light receiving devices, photodetecting devices, thermionic transistors, etc. In particular, the thin film of the present invention is effective for MIS and MIM devices that utilize the tunnel effect, and
It can also be used as an insulating film for J. Other applications include craft materials for Unibu guides and optical circuit components.

あらゆる分野での保護用コーティング材料としても好適
であろうし、一般的にLBFJの分野で使われる機能性
のLB材料と脂肪酸の混合膜、積層膜の方法を、本発明
の高分子を脂肪酸の代わりに使うことによって種々の機
能性を発現でき、これを使った用途が考えられる。例え
ば色素、酵素等を含んだ膜を作成することによって光電
変換素子やバイオセンサーを作ることができる。
It would be suitable as a protective coating material in all fields, and the polymer of the present invention can be used as a substitute for fatty acids in the mixed film and laminated film method of functional LB materials and fatty acids, which are generally used in the field of LBFJ. By using it, various functionalities can be expressed, and there are many possible uses for it. For example, photoelectric conversion elements and biosensors can be created by creating films containing dyes, enzymes, etc.

また、この薄膜を使った物質分離の分野での用途も考え
られる。
It is also conceivable that this thin film could be used in the field of substance separation.

次に本発明の高分子化合物の製法と製膜の方法を実施例
にもとづき説明する。
Next, a method for producing a polymer compound and a method for forming a film according to the present invention will be explained based on Examples.

実施例1 ピロメリット酸ジ無水物2.18 g (0,01モル
)とステアリルアルコール5.40g(0,02モル)
とをフラスコ中乾燥窒素流通下、約100°Cで3時間
反応させた。
Example 1 2.18 g (0.01 mol) of pyromellitic dianhydride and 5.40 g (0.02 mol) of stearyl alcohol
were reacted in a flask at about 100° C. for 3 hours under dry nitrogen flow.

得られた反応物をヘキサメチレンホスファミド40cc
に溶解して0〜5℃に冷却してチオニルクロライド2.
38 gを約5℃で滴下し、滴下後約5℃で1時間保持
し、反応を終了させた。
The obtained reaction product was added to 40 cc of hexamethylene phosphamide.
Thionyl chloride was dissolved in 2. and cooled to 0-5°C.
38 g was added dropwise at about 5°C, and after the dropwise addition, the temperature was maintained at about 5°C for 1 hour to complete the reaction.

その後ジメチルアセトアミド50ccに溶解させたジア
ミノジフェニルエーテル2g(0,01モル)を0〜5
°Cで〆高下し、滴下後約1時間反応させたのち、反応
液を尊留水600 cc中に注いで反応生成物を析出さ
せた。析出物を口過、40℃で乾燥して約9gの淡黄色
粉末を得た。
Thereafter, 2 g (0.01 mol) of diaminodiphenyl ether dissolved in 50 cc of dimethylacetamide was added to
The temperature was lowered at °C, and after the dropwise addition, the mixture was allowed to react for about 1 hour, and then the reaction solution was poured into 600 cc of purified distilled water to precipitate the reaction product. The precipitate was passed through the mouth and dried at 40°C to obtain about 9 g of pale yellow powder.

IRスペクトル分析、熱重量分析(T G A −DT
A) 、GPCによる分子量測定を行ったところ下記の
結果が得られた。
IR spectrum analysis, thermogravimetric analysis (TGA-DT
A) When the molecular weight was measured by GPC, the following results were obtained.

IRスペクトル分析 KBr disc法でとられたIRチャートは図1のよ
うでエステル、アミドI’、  n、  III、アル
キル鎖およびエーテルの特徴的な吸収があられれた。
IR spectrum analysis The IR chart taken using the KBr disc method is shown in Figure 1, and characteristic absorptions of ester, amide I', n, III, alkyl chain, and ether were observed.

熱分析(TGA−DTA) 理学電機製RTG−DTA (H)タイプでフルスケー
ルTGAIO■、DTA100μV、温度10OO℃で
昇温10°C/ff1in、  窒素気流(30m /
1lin )中で測定された結果が図2のとおりである
Thermal analysis (TGA-DTA) Rigaku Corporation RTG-DTA (H) type, full scale TGAIO ■, DTA 100μV, temperature 10OO℃, temperature increase 10℃/ff1in, nitrogen flow (30m /
Figure 2 shows the results measured in 1 lin.

TGAには192,271,318,396,592℃
に変曲点がありDTAには657℃付近に特徴的な山が
ある。
192,271,318,396,592℃ for TGA
There is an inflection point at , and DTA has a characteristic peak around 657 degrees Celsius.

他方、図3は、 400℃まで10℃/minで昇温し、400°Cに1
時間保ったのち、室温まで戻し10°C/minで10
00℃まで昇温したときの結果である。
On the other hand, in Figure 3, the temperature is increased to 400°C at a rate of 10°C/min.
After keeping it for a while, return it to room temperature for 10 minutes at 10°C/min.
These are the results when the temperature was raised to 00°C.

400°Cに1時間保つことによってほぼ重量は(豆量
に達し、ポリイミド化反忠が終結する。これを室温にも
どし、また昇温しでも重量変化は450℃をすぎるまで
なく、ポリイミドフィルムの示す熱分解温度と同じ58
4°C”2’熱分解が始まることが明らかになり、ポリ
イミド化の反応を終結することによりポリイミドフィル
ムと間様の耐熱性のものが得られた。
By keeping it at 400°C for 1 hour, the weight almost reaches the mass of beans, and the polyimide conversion process is completed.Even if it is returned to room temperature and the temperature is raised, the weight does not change until it exceeds 450°C, and the weight of the polyimide film is Same as the thermal decomposition temperature shown 58
It became clear that thermal decomposition started at 4°C, and by terminating the polyimidation reaction, a film with heat resistance similar to that of a polyimide film was obtained.

GPCによる分子量測定 N、N−ジメチルアセトアミド溶媒で測定されたGPC
より、数平均分子量はポリスチレン換算で約30.00
0であった。
Molecular weight measurement by GPC GPC measured with N,N-dimethylacetamide solvent
Therefore, the number average molecular weight is approximately 30.00 in terms of polystyrene.
It was 0.

実施例2 実施例1の生成物55.1■を蒸習したクロロホルム/
ジメチルアセトアミド−8/2 (容量比)の混合液に
溶解して25−のLB膜用展開液を調製した。
Example 2 Chloroform by steaming 55.1■ of the product of Example 1/
A developing solution for LB membrane of 25- was prepared by dissolving it in a mixed solution of dimethylacetamide-8/2 (volume ratio).

再蒸留水上、20℃で表面圧と繰返し単位当たりの面積
との関係をヨ11定したところ、第4図に示す結果が得
られた。75 A2/unitぐらいから表面圧は急激
に立ち上がり、良好な凝縮膜を生成した。
When the relationship between surface pressure and area per repeating unit was determined on double-distilled water at 20° C., the results shown in FIG. 4 were obtained. The surface pressure rose rapidly from about 75 A2/unit, and a good condensed film was formed.

極限面積は60p/unitであり、崩壊圧も55dy
ne/cf11と高分子膜としては非常に高い値を示し
た。
The ultimate area is 60p/unit and the collapse pressure is 55dy
ne/cf11, which is a very high value for a polymer membrane.

また表面圧を25dyne/cmに保って膜を水面、上
lこ保持しても2特開にわたって面積の減−少が認めら
れず安定であった。
Further, even when the surface pressure was maintained at 25 dyne/cm and the membrane was held above the water surface, no decrease in area was observed over the two JP-A-2006-12002 patents, and the membrane remained stable.

次に水面上の清の表面圧を25 dyne/ ciに保
って累積速度LOn/winでLB法でガラス基板、あ
るいはCaFz 板上にそれぞれ6t、6oi累積させ
た。CaF z板上に得られた膜から図5のようなFT
−IRが得られ、実施例1で得られた化合物のIRと一
致した0面精一時間曲線からY型膜であることも確認さ
れた。なお、本実施例で用いた実施例1の製膜時にCd
4などが含まれておらないが91層累積した膜からX線
回折ピークが1本だけ2θ−4,65°に見出された。
Next, the surface pressure of the liquid on the water surface was maintained at 25 dyne/ci, and 6 t and 6 oi of the liquid were accumulated on a glass substrate or a CaFz plate, respectively, using the LB method at an accumulation rate of LOn/win. FT from the film obtained on the CaF z plate as shown in Figure 5.
-IR was obtained, and it was also confirmed from the 0-face precision one-time curve that coincided with the IR of the compound obtained in Example 1 that it was a Y-type film. Note that Cd was used during film formation in Example 1 used in this example.
4 was not included, but only one X-ray diffraction peak was found at 2θ-4.65° from the 91 layered film.

また得られた累積膜は厚さ約1800人でキャパシタン
ス測定から良好な絶縁特性を有するものであった。
The resulting cumulative film had a thickness of about 1800 mm and had good insulation properties as determined by capacitance measurements.

さらに該累積膜を400℃で1時間加熱することによっ
てα、β−不飽和5員環イミドが生成することがFT−
IR分析による1790,171Qcm−”のピークに
より確認された。
Furthermore, by heating the cumulative film at 400°C for 1 hour, α, β-unsaturated 5-membered ring imide was produced.
This was confirmed by the peak at 1790,171Qcm-'' by IR analysis.

一方、実施例1の生成物を400℃で1時間加熱するこ
とによって58%(wt%)の減少がおこり、イミド化
することがIRスペクトルにより確認されている。前記
の重量減少はイミド化によりステアリルアルコールが消
失すると計算した場合の値58.7%とよく一致する。
On the other hand, it has been confirmed by the IR spectrum that heating the product of Example 1 at 400° C. for 1 hour causes a 58% (wt%) reduction and imidization. The weight loss described above is in good agreement with the value of 58.7% when stearyl alcohol is calculated to disappear due to imidization.

実施例3 実施例1と同じようにステアリルアルコールのかわりに
n−デシルアルコール(n−軸bou)ヲ使ってポリイ
ミド前駆体を合成した。このポリイミド前駆体はIRス
ペクトル分析、熱分析、GPCによる分子量測定では実
施例1のポリイミドと同じ特徴を示したが表面圧面積曲
線の測定結果は図6のようであり、液体膨張相のみで凝
縮相の存在を示さなかった。従って炭素数10のアルキ
ル基は安定な凝縮相を得るためには短かすぎることが明
らかである。
Example 3 A polyimide precursor was synthesized in the same manner as in Example 1 using n-decyl alcohol (n-axis bou) instead of stearyl alcohol. This polyimide precursor showed the same characteristics as the polyimide of Example 1 in the molecular weight measurement by IR spectrum analysis, thermal analysis, and GPC, but the measurement result of the surface pressure area curve was as shown in Figure 6, and it was condensed only in the liquid expanding phase. No phase was shown. Therefore, it is clear that an alkyl group having 10 carbon atoms is too short to obtain a stable condensed phase.

実施例4 炭素数12.14.16のラウリルアルコール、ミリス
チルアルコール、セチルアルコールの場合には炭素数1
2.14では10と18の中間的な挙動を示したが水相
を5“C程度にすれば安定化し、炭素数16では18の
場合と同様な安定な凝縮膜を作ることが明らかになった
Example 4 In the case of lauryl alcohol, myristyl alcohol, and cetyl alcohol having 12, 14, and 16 carbon atoms, the carbon number is 1.
2.14 showed intermediate behavior between 10 and 18, but it became stable when the aqueous phase was adjusted to about 5"C, and it became clear that 16 carbon atoms formed a stable condensed film similar to that of 18. Ta.

実施例5 ピロメリット酸ジ無水物10.91gとステアリルアル
コール27.05gを120 ”Cで3時間反応させ、
生成物を200献エタノールで再結晶して融点133〜
137℃のジステアリルピロメリテートを得た。この2
.47 gを乾燥、ヘキサメチレンホスファミド12C
C中で0〜5℃に冷却してチオニルクロライド0.74
4gでアシル化した。このアシル化物を続いて前もって
レゾルシノール0゜358gと苛性ソーダ0.26 g
から作成した水溶液に室温、攪拌しながら添加した。生
成した沈澱を分離、再沈i製して0.92 gの白色粉
末を得た。
Example 5 10.91 g of pyromellitic dianhydride and 27.05 g of stearyl alcohol were reacted at 120"C for 3 hours,
The product was recrystallized from 200% ethanol to a melting point of 133~
Distearyl pyromellitate at 137°C was obtained. This 2
.. 47 g dried hexamethylenephosphamide 12C
0.74 thionyl chloride by cooling to 0-5°C in C.
Acylation was carried out using 4 g. This acylated product was then treated with 0.358 g of resorcinol and 0.26 g of caustic soda.
It was added to the aqueous solution prepared from above at room temperature with stirring. The generated precipitate was separated and reprecipitated to obtain 0.92 g of white powder.

IRスペクトル分析、熱重量分析を行ったところ下記の
結果が得られた。
When IR spectrum analysis and thermogravimetric analysis were performed, the following results were obtained.

IRスペクトル分析 実施例1と同様にとられたIRチャートは図7のようで
エステル、アルキル鎖の特徴的な吸収があられれた。
IR spectrum analysis An IR chart taken in the same manner as in Example 1 is shown in FIG. 7, and characteristic absorptions of ester and alkyl chains were observed.

熱分析 実施例1と同様に測定された結果は図8のとおりである
。TGAには265,355,397℃に変曲点があり
、265℃以上で急速な熱分解がはじまるが200℃ぐ
らいまでは熱的に安定であると考えられる。一方DTA
には160℃にシャ−プな吸熱ピークとブロードな熱分
解によると見られる発熱ピークが観測された。
The results measured in the same manner as in Thermal Analysis Example 1 are shown in FIG. TGA has inflection points at 265, 355, and 397°C, and rapid thermal decomposition begins above 265°C, but it is considered to be thermally stable up to about 200°C. On the other hand, DTA
A sharp endothermic peak and a broad exothermic peak that appeared to be due to thermal decomposition were observed at 160°C.

実施例6 実施例5の生成物17.3■をクロロホルム/ジメチル
アセトアミド−19: 1’(容量比)の混合液にとか
して10dのLB膜用展開液を調製した。
Example 6 17.3 ml of the product of Example 5 was dissolved in a mixture of chloroform/dimethylacetamide-19:1' (volume ratio) to prepare a 10d developing solution for LB membrane.

再蒸留水上、22℃で表面圧と繰返し単位あたりの面積
との関係を測定したところ図9のように4゜膨張的で約
30dyne/amで崩壊した。表面圧20dy16 
/ am 、累積速度10 m/winで累積すると基
板をあげるときにだけ累積された。
When the relationship between the surface pressure and the area per repeating unit was measured on double distilled water at 22°C, as shown in Figure 9, it was 4° expansive and collapsed at about 30 dyne/am. Surface pressure 20dy16
/ am and accumulated at a cumulative speed of 10 m/win, it was accumulated only when lifting the board.

次に上記溶液とステアリルアルコールのクロロホルム溶
液をモル比で1:1に混合して表面圧面積曲線を測定す
ると図10のように曲線の立ち上がりが急峻となった。
Next, when the above solution and a chloroform solution of stearyl alcohol were mixed at a molar ratio of 1:1 and a surface pressure area curve was measured, the rise of the curve was steep as shown in FIG.

またステアリルアルコールとモル比で1=1に混合する
ことによってガラス基板上にY型膜が得られることが面
積一時間曲線から確認された。
Furthermore, it was confirmed from the area-hour curve that a Y-type film could be obtained on a glass substrate by mixing it with stearyl alcohol at a molar ratio of 1=1.

発1旦洟果 本発明によると本来LB法により製膜が困難である高分
子化合物を修飾することにより、同法で薄膜を形成する
ことができるようになり、必要なら部分的あるいは完全
に環化させることにより、耐熱性の極めて良好で耐薬品
性、機械的特性のよい一般的には作成が難しい厚み、す
なわち、1o。
According to the present invention, by modifying a polymer compound that is originally difficult to form into a film using the LB method, it becomes possible to form a thin film using the same method. By converting the thickness into 100%, it has extremely good heat resistance, good chemical resistance, and good mechanical properties, and has a thickness that is generally difficult to produce.

000A以下、望むあら1o〜1000人の超薄膜を得
ることができる。
000A or less, it is possible to obtain an ultra-thin film of 1 to 1000 A as desired.

【図面の簡単な説明】 第1図は実施例1で得られた高分子化合物の赤外吸収ス
ペクトル、第2図は熱重量分析の結果である。第3図は
室温から400”Cまで昇温し、そこに1時間保って室
温まで下げ、さらに1000℃まで昇温したときの重量
変化(TGA) 、熱変化(DTA)である。第4図は
実施例1で得られた前駆体の実施例2に従って水面上に
展開した場合の表面圧と繰り返し単位当たりの面積との
関係である。第5図はそれをCaF2板上へラングミュ
ア・プロジェット法で累積したもののFT−ATRIR
の結果である。第6図は実施例3で得られた前駆体の表
面圧−面積曲線である。第7図は実施例5で得られた高
分子化合物の赤外スペクトル、第8図は熱重量分析の結
果である。第9図は実施例5で得られた高分子化合物の
表面圧と繰返し単位当たりの面積との関係であり、第1
0図は実施例5の高分子化合物とステアリルアルコール
をモル比で1:1に混合したものの表面圧、面積曲線で
ある。 第2図 時  間 第4図 面 請 (A /unit、) 第6図 flo  a (A″2//unit)N9図 IY)it(A″2/unit、) 第10図 non(A″2/unit、)
[Brief Description of the Drawings] Figure 1 shows the infrared absorption spectrum of the polymer compound obtained in Example 1, and Figure 2 shows the results of thermogravimetric analysis. Figure 3 shows the weight change (TGA) and thermal change (DTA) when the temperature is raised from room temperature to 400"C, kept there for 1 hour, lowered to room temperature, and then further raised to 1000"C. Figure 4 is the relationship between the surface pressure and the area per repeating unit when the precursor obtained in Example 1 is spread on the water surface according to Example 2. Figure 5 shows the relationship between the surface pressure and the area per repeating unit when the precursor obtained in Example 1 is spread on a CaF2 plate using a Langmuir projector. FT-ATRIR of accumulated by law
This is the result. FIG. 6 is a surface pressure-area curve of the precursor obtained in Example 3. FIG. 7 shows the infrared spectrum of the polymer compound obtained in Example 5, and FIG. 8 shows the results of thermogravimetric analysis. FIG. 9 shows the relationship between the surface pressure and the area per repeating unit of the polymer compound obtained in Example 5.
Figure 0 is a surface pressure and area curve of a mixture of the polymer compound of Example 5 and stearyl alcohol at a molar ratio of 1:1. Figure 2 Time Figure 4 Figure 6 (A /unit,) Figure 6 flo a (A″2//unit)N9 Figure IY) it (A″2/unit,) Figure 10 non (A″2/ unit,)

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)少なくとも2個の炭素原子を有する4価の第1の
有機基R_1と、少なくとも2個の炭素原子を有する2
価の第2の有機基R_2とが2価の結合基によって交互
に連結されている線状の繰返し単位を有し、かつ該繰返
し単位へ共有結合した、置換基を含むこともある炭素数
10〜30の炭化水素含有基R_3を少なくとも1つ含
んでいる両性高分子化合物。
(1) A tetravalent first organic group R_1 having at least 2 carbon atoms and 2 having at least 2 carbon atoms
10 carbon atoms, which have linear repeating units in which the valent second organic groups R_2 are alternately connected by divalent bonding groups, and which may contain a substituent covalently bonded to the repeating units. An amphoteric polymer compound containing at least one hydrocarbon-containing group R_3 of ~30.
(2)繰返し単位当たり炭化水素含有基R_3を2つ含
んでいる第1項記載の両性高分子化合物。
(2) The amphoteric polymer compound according to item 1, which contains two hydrocarbon-containing groups R_3 per repeating unit.
(3)炭化水素含有基R_3が16〜22個の炭素原子
を含んでいる第1項または第2項記載の両性高分子化合
物。
(3) The amphoteric polymer compound according to item 1 or 2, wherein the hydrocarbon-containing group R_3 contains 16 to 22 carbon atoms.
(4)第1および第2の有機基R_1およびR_2の一
方または両方が少なくとも6個の炭素を有するベンゼノ
イド構造の基である第1項または第2項または第3項記
載の両性高分子化合物。
(4) The amphoteric polymer compound according to item 1, item 2, or item 3, wherein one or both of the first and second organic groups R_1 and R_2 is a group having a benzenoid structure having at least 6 carbons.
(5)炭化水素含有基R_3が、脂肪族基、環状脂肪族
と脂肪族の結合した基、芳香族と脂肪族の結合した基、
またはそれらの置換体から選ばれた基である第1項ない
し第4項のいずれかに記載の両性高分子化合物。
(5) The hydrocarbon-containing group R_3 is an aliphatic group, a group in which a cycloaliphatic and an aliphatic are bonded, a group in which an aromatic and an aliphatic are bonded,
or a substituent thereof, the amphoteric polymer compound according to any one of items 1 to 4.
(6)繰返し単位がヘテロ原子を含む5員環または6員
環を生成する前駆体構造を備えている第1項ないし第5
項のいずれかに記載の両性高分子化合物。
(6) Items 1 to 5, in which the repeating unit has a precursor structure that produces a 5-membered ring or a 6-membered ring containing a heteroatom.
The amphoteric polymer compound according to any one of paragraphs.
(7)第1の有機基R_1を含むモノマーと、第2の有
機基R_2を含むモノマーとを、 ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Aは酸性基、Bは塩基性基を表す。)のいずれ
かの組合せにおいて、かつ組合せる2種のモノマーの少
なくとも一方が1個または2個の炭化水素含有基R_3
を含有しているモノマーを使用し、第1の有機基R_1
を含むモノマーと第2の有機基R_2を含むモノマーを
重縮合させることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載の両性高分子化合物のの製造法。
(7) A monomer containing the first organic group R_1 and a monomer containing the second organic group R_2. , tables, etc. ▼ ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ ▲ Mathematical formulas, chemical formulas , tables, etc. ▼ ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. One side has 1 or 2 hydrocarbon-containing groups R_3
using a monomer containing the first organic group R_1
2. A method for producing an amphoteric polymer compound according to claim 1, which comprises polycondensing a monomer containing R_2 with a monomer containing the second organic group R_2.
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