JPS63113019A - Copolymer polyamic acid salt and production thereof - Google Patents

Copolymer polyamic acid salt and production thereof

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JPS63113019A
JPS63113019A JP15391887A JP15391887A JPS63113019A JP S63113019 A JPS63113019 A JP S63113019A JP 15391887 A JP15391887 A JP 15391887A JP 15391887 A JP15391887 A JP 15391887A JP S63113019 A JPS63113019 A JP S63113019A
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JP
Japan
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group
carbon atoms
formula
general formula
tables
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Application number
JP15391887A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masakazu Kamikita
正和 上北
Hiroshi Awaji
弘 淡路
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain the titled copolymer providing langmuir Blodgett film having excellent heat resistance, electrical characteristics and chemical resistance, by reacting tetracarboxylic acid dianhydride with a specific diamine to give a polyamic acid and reacting the polyamic acid with a tertiary amine. CONSTITUTION:A tetracarboxylic acid dianhydride shown by formula I (R<1> is tetrafunctional group containing at least 2C) is reacted with a compound shown by formula II (R<2> is bifunctional group containing at least 2C; R<5> and R<6> are 1-30C monofunctional alicyclic, cycloaliphatic or aromatic) at -10-+50 deg.C to give a polyamic acid shown by formula III. Then the polyamic acid is reacted with a compound shown by formula IV (R<31>, R<32> and R<33> are as shown for R<5> and R<6>) and a compound shown by formula V (R<41>, R<42> and R<43> are as shown for R<5> and R<6>) to give the aimed polymer salt shown by formula VI.

Description

【発明の詳細な説明】 主業上皇且里分立 本発明は両性ポリイミド前駆体、さらに詳しくはラング
ミュア・プロジェット法(以下、LB法という)で製膜
し得るように修飾された両性ポリイミド前駆体およびそ
の製法に関する。
Detailed Description of the Invention The present invention is an amphoteric polyimide precursor, more specifically an amphoteric polyimide precursor modified so that it can be formed into a film by the Langmuir-Prodgett method (hereinafter referred to as the LB method). and its manufacturing method.

′ の ′ ・   (シよ゛と る口・占すでに19
30年代、炭素原子数16〜22ぐらいの脂肪酸が水面
上に単分子膜をつくり、それを基質上に累積し得ること
がラングミュアとプロジェットにより見出されているが
、この累積膜の応用について検討が行われはじめたのは
最近のことである。しかし直鎖飽和脂肪酸のラングミュ
ア・プロジェット膜(以下、LB膜という)は、実際に
応用するには耐熱性や機械的強度が充分でなく、そのま
までは使用し得ないという問題がある。
’ no ’・
In the 1930s, Langmuir and Prodgett discovered that fatty acids with about 16 to 22 carbon atoms could form a monomolecular film on the water surface and accumulate it on a substrate. Consideration has only recently begun. However, Langmuir-Prodgett membranes (hereinafter referred to as LB membranes) made of straight-chain saturated fatty acids have a problem in that they do not have sufficient heat resistance or mechanical strength for practical applications, and cannot be used as they are.

これらの問題を改善するものとして、例えばω−トリコ
セン酸、ω−へブタデセン酸あるいはα−オクタデシル
アクリル酸などの不飽和脂肪酸や、ステアリン酸ビニル
やオクタデシルアクリレートなどの不飽和の脂肪酸エス
テルなどから形成した膜を重合させた膜が研究されてい
るが、耐熱性などが充分とはいえない。
In order to improve these problems, for example, monomers formed from unsaturated fatty acids such as ω-tricosenoic acid, ω-hebutadecenoic acid or α-octadecyl acrylic acid, or unsaturated fatty acid esters such as vinyl stearate and octadecyl acrylate, etc. Polymerized membranes are being researched, but their heat resistance is not sufficient.

一方、耐熱性フィルムとしてポリイミドフィルムがある
が、スピンコードなどの方法による場合には膜厚がせい
ぜい1000Å以上、通常はIP以上のものしか得られ
ず、1000人未満の膜厚のピンホールのない耐熱性N
膜を作製するのは非常に困難である。
On the other hand, there is a polyimide film as a heat-resistant film, but when using methods such as spin cord, a film thickness of at most 1000 Å or more, usually IP or more, can be obtained, and a film thickness of less than 1000 Å without pinholes can be obtained. Heat resistance N
Membranes are extremely difficult to make.

本発明は耐熱性や接着力などの機械的特性や耐薬品性な
どが改善されたLBlI!liを得るためになされたも
のであり、耐熱性の超薄膜材料を提供し得る材料を得る
ことを目的とするものである。
The present invention features LBlI!, which has improved mechanical properties such as heat resistance and adhesive strength, and chemical resistance. The purpose was to obtain a material that could provide a heat-resistant ultra-thin film material.

。 占 2 るための 本発明は、ポリアミック酸単位に疎水性を付与するため
の置換基を導入し得ることが見出されたことによってな
されたものであり、一般式(1):(式中、R1は少な
くとも2個の炭素原子を含有する4価の基、R2は少な
くとも2個の炭素原子を含有する2価の基、♂、 R”
、 R”、 R’l、炉、♂3.R5およびR6はいず
れも脂肪族、環状脂肪族、あるいは芳香族(これらが相
互に組合わさっていてもよい)の炭素数1〜30の1価
の基、(これらの基がハロゲン原子、ニトロ基、アミノ
基、シアノ基、メトキシ基、アセトキシ基で置換されて
いてもよい)または水素原子であり、好、−2R″、 
R’l、 R’、 R’3゜R5およびR6の少なくと
も1個、好ましくは2個は炭素原子数12〜30の前記
の基である)で表される繰返し単位を有する共重合ポリ
アミック酸塩、および 一般式(2): (式中、R1は前記一般式(1)の定義と同じ)で表さ
れるテトラカルボン酸二無水物に、 一般式(3): %式%(31 (式中、R2、R5およびR6はいずれも前記一般式(
1)で定義された基に同じ)で表される化合物を一10
℃以上、50℃以下、好ましくは0〜40℃で反応させ
て得られる一般式(4): (式中、R1,R2,RlI、 R6は前記一般式(1
)の定義と同じ)で表される繰返し単位を有するポリア
ミック酸に (式中、炉、ド、Rη、 R’1. R’、 R”はい
ずれも前記一般式(1)の定義と同じでかつ ばれている。)を反応させて得られる 一般式(101)  : (式中、R”、 R2,R”、 R”、 IP、 R”
、 R”、 R”、 R’オよびR6はいずれも前記一
般式(1)の定義と同じであり、また に選ばれている。)で表される繰返し単位を有する共重
合ポリアミック酸塩の製造方法および、前記一般式(2
) で表される少なくとも2種のテトラカルボン酸ジ無水物
に、 前記一般式(3) %式%(3) で表される化合物を−10”C以上、50’c以下、好
ましくは0〜40’Cで反応させて得られる一般式(5
): (式中、R2,R5,R6は前記一般式+11の定義と
同じ、RA、R晶は前記一般式(11のR1の定義に同
し、x、 yは比率を表し、0<x<l、Q<1、0<
y<1、x+y=1)で表される繰返し単位を有するポ
リアミック酸に (式中、R”、 FP、 R”、 R’l、 R’、 
R’はいずれも前記一般式(1)の定義と同じ)を反応
させて得られる一般式(102’)  : %式%) (式中、RJI、 R1R2,R”、 R”、 R”、
 R41,R’、 R”。
. The present invention has been made based on the discovery that it is possible to introduce a substituent for imparting hydrophobicity to a polyamic acid unit. R1 is a tetravalent group containing at least 2 carbon atoms, R2 is a divalent group containing at least 2 carbon atoms, ♂, R''
, R", R'l, furnace, ♂3. R5 and R6 are both aliphatic, cycloaliphatic, or aromatic (these may be combined with each other) monovalent group having 1 to 30 carbon atoms. (These groups may be substituted with a halogen atom, nitro group, amino group, cyano group, methoxy group, acetoxy group) or a hydrogen atom, preferably -2R'',
A copolymerized polyamic acid salt having a repeating unit represented by R'l, R', R'3゜R5 and R6, at least one, preferably two of which are the above-mentioned groups having 12 to 30 carbon atoms. , and general formula (2): (wherein, R1 is the same as the definition of general formula (1) above), general formula (3): % formula % (31 (formula Among them, R2, R5 and R6 all represent the general formula (
A compound represented by (same as the group defined in 1))
General formula (4) obtained by reaction at 0 to 50°C, preferably 0 to 40°C: (wherein, R1, R2, RlI, and R6 are
) is the same as the definition of general formula (1) above). General formula (101) obtained by reacting
, R'', R'', R'o, and R6 are all defined as in the general formula (1) above, and are also selected. ) and a method for producing a copolymerized polyamic acid salt having a repeating unit represented by the general formula (2
) At least two types of tetracarboxylic dianhydrides represented by the formula (3) are added with a compound represented by the general formula (3) at -10"C or more and 50'C or less, preferably 0 to 50"C. General formula (5) obtained by reaction at 40'C
): (In the formula, R2, R5, R6 are the same as the definition of the above general formula +11, RA and R crystal are the same as the definition of R1 of the above general formula (11), x and y represent the ratio, and 0<x <l, Q<1, 0<
y<1, x+y=1) (wherein, R", FP, R", R'l, R',
General formula (102') obtained by reacting (R' is the same as the definition of general formula (1) above): % formula %) (in the formula, RJI, R1R2, R", R", R",
R41, R', R''.

R5,R’、  xおよびyはいずれも前記一般式+1
)および(5)の定義に同じ)で表される繰返し単位を
有する共重合ポリアミック酸塩の製造方法および、前記
一般式(2): で表されるテトラカルボン酸ジ無水物に、前記一般式(
3): %式% で表される化合物の少なくとも2種を一10℃以上、5
0℃以下、好ましくは0〜40°Cで反応させて得られ
る一般式(6): (式中、R1,R5,R6は前記一般式(1)の定義と
同じ、R2,R2は前記一般式(1)のR2の定義と同
じ、x、 yは比率を表し、O<x<l、Q<y<1.
X+y=1)で表される繰返し単“位を有するポリアミ
ック酸に (式中、R”、 R”、 R”、 R11,R’2.♂
3はいずれも前記と同じ)を反応させて得られる一般式
(103)  :(式中、R1,RA、 Ri、 R”
、 R”、 R”、 R’l、 R’、 R’。
R5, R', x and y all represent the above general formula +1
) and (same as the definitions in (5)), and a method for producing a copolymerized polyamic acid salt having repeating units represented by the general formula (2): (
3): At least two of the compounds represented by the formula % are heated at 10°C or higher, 5
General formula (6) obtained by reaction at 0°C or lower, preferably 0 to 40°C: Same as the definition of R2 in formula (1), x and y represent ratios, O<x<l, Q<y<1.
X + y = 1) to a polyamic acid having a repeating unit position represented by
General formula (103) obtained by reacting (all 3 are the same as above): (wherein, R1, RA, Ri, R''
, R", R", R'l, R', R'.

R’、 R’、  xおよびyはいずれも前記一般式+
11および(6)の定義と同じ)で表される繰返し単位
を有する共重合ポリアミック酸塩の製造方法に関する。
R', R', x and y all represent the above general formula +
The present invention relates to a method for producing a copolymerized polyamic acid salt having a repeating unit represented by (same as the definitions in 11 and (6)).

〔実施例〕〔Example〕

本発明の共重合ポリアミック酸塩は、前記一般式(1)
: で表される繰り返し単位を有する数平均分子量が2.0
00〜300,000、好ましくは10゜000〜15
0.000のものである。数平均分子量が2.000〜
300,000の範囲を番よずれると、膜を作製したと
きの強度が低すぎたり、粘度が高すぎて膜の作製がうま
くいかないなどの傾向が生ずる。
The copolymerized polyamic acid salt of the present invention has the general formula (1)
: The number average molecular weight having a repeating unit represented by is 2.0
00-300,000, preferably 10°000-15
It is of 0.000. Number average molecular weight is 2.000~
If the number deviates from the range of 300,000, the strength of the film produced will tend to be too low or the viscosity will be too high, making it difficult to produce the film.

一般式(1)におけるR1は少なくとも2個の炭素原子
を含有する、好ましくは5〜20個の炭素原子を含有す
る4価の基であり、芳香族の基であってもよ(、環状脂
肪族の基であってもよく、脂肪族の基であってもよく、
これらの基が組合わさった基であってよく、さらにはこ
れらの4価の基が、脂肪族、環状脂肪族、あるいは芳香
族(これらが相互に組合わさっていてもよい)の炭素数
1〜30の1価の基(それらの1価の基がハロゲン原子
、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、メトキシ基、アセト
キシ基などで置換されていてもよい)で置換された基で
あってもよく、あるいはこれらの4価の基が、−0+、
 −coo −、−NIICO−、−Co−。
R1 in the general formula (1) is a tetravalent group containing at least 2 carbon atoms, preferably 5 to 20 carbon atoms, and may be an aromatic group (such as cycloaliphatic It may be a group group or an aliphatic group,
These groups may be a combination of these groups, and furthermore, these tetravalent groups may be aliphatic, cycloaliphatic, or aromatic (these may be combined with each other) having 1 to 1 carbon atoms. It may be a group substituted with 30 monovalent groups (these monovalent groups may be substituted with a halogen atom, a nitro group, an amino group, a cyano group, a methoxy group, an acetoxy group, etc.) , or these tetravalent groups are -0+,
-coo-, -NIICO-, -Co-.

−S −、−css +、  −NHC3+、  −c
s−、−3Oz −などを含んだ基であってもよい、し
かし、R1が少なくとも6個の炭素原子数を有するベン
ゼノイド不飽和によって特徴づけられた基である場合に
は、耐熱性、耐薬品性や機械的特性などの点から好まし
い。
-S -, -css +, -NHC3+, -c
It may be a group containing s-, -3Oz-, etc., but if R1 is a group characterized by benzenoid unsaturation having at least 6 carbon atoms, heat resistance, chemical resistance It is preferable in terms of properties, mechanical properties, etc.

前記のごときR1の具体例としては、例えば、などが挙
げられる。
Specific examples of R1 as described above include, for example.

本明細書にいうベンゼノイド不飽和とは、炭素環式化合
物の構造に関してキノイド構造と対比して用いられる術
語で、普通の芳香族化合物に含まれる炭素環と同じ形の
構造をいう。
The term "benzenoid unsaturation" as used herein is a term used in contrast to a quinoid structure regarding the structure of a carbocyclic compound, and refers to a structure having the same shape as a carbocyclic ring contained in ordinary aromatic compounds.

p−キノイド構造   ペンゼノイド不飽和R1の4個
の結合手、すなわち一般式(1)で表される繰返し単位
において が結合する手の位置には特に限定はないが、4個の結合
手の各2個づつがR1を構成する隣接する2個の炭素原
子に存在する場合には、両性ポリイミド前駆体を用いて
形成した膜などをポリイミド化する際に5員環を形成し
ゃすくイミド化しやすいため好ましい。
p-quinoid structure There are no particular limitations on the positions of the four bonds of penzenoid unsaturated R1, that is, the positions of the bonds in the repeating unit represented by general formula (1), but each of the four bonds It is preferable that each of these carbon atoms exist in two adjacent carbon atoms constituting R1, because it is easy to form a 5-membered ring when polyimidizing a film formed using an amphoteric polyimide precursor, and it is easy to imidize. .

前記のごときR1の好ましい具体例としては、例えば、 などが挙げられる。また も好ましい。Preferred specific examples of R1 as described above include, for example, Examples include. Also is also preferable.

一般式+1)におけるR2は、少なくとも2個の炭素原
子を含有する2価の基であり、芳香族の基であってもよ
く、脂肪族の基であってもよく、環状脂肪族の基であっ
てもよく、これらの基が組合わさった基であってもよく
、さらにはこれらの2価の基が炭素数1〜30の脂肪族
、環状脂肪族、あるいは芳香族(これらが相互に組合わ
さっていてもよい)の炭素数1〜30の1価の基(それ
らの1価の基がハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、シ
アノ基、メトキシ基、アセトキシ基などで置換されてい
てもよい)で置換された基であってもよく、あるいはこ
れらの2価の基が、−o −、−coo −。
R2 in general formula +1) is a divalent group containing at least two carbon atoms, and may be an aromatic group, an aliphatic group, or a cycloaliphatic group. Furthermore, these divalent groups may be aliphatic groups having 1 to 30 carbon atoms, cycloaliphatic groups, or aromatic groups (these groups may not be combined with each other). monovalent groups having 1 to 30 carbon atoms (which may be substituted with halogen atoms, nitro groups, amino groups, cyano groups, methoxy groups, acetoxy groups, etc.) ), or these divalent groups may be -o-, -coo-.

−NIICO−、−CO−、−5+、 −css −、
−NHCS−。
-NIICO-, -CO-, -5+, -css-,
-NHCS-.

−C8−などを含んだ基であってもよい。しかし、R2
が少なくとも6個の炭素原子数を有するベンゼノイド不
飽和によって特徴づけられた基である場合には、耐熱性
、耐薬品性や機械的特性などの点から好ましい。
It may also be a group containing -C8- or the like. However, R2
is a group characterized by benzenoid unsaturation having at least 6 carbon atoms, which is preferable from the viewpoint of heat resistance, chemical resistance, mechanical properties, etc.

前記のごときR2の具体例としては、 ここでR9は − (CH2)Il+ −(m=4〜3の整数)、−C
−。
As a specific example of R2 as mentioned above, R9 is − (CH2)Il+ −(m=an integer of 4 to 3), −C
−.

t13 F3 −C−;  −0−、−Co −、−3−、−5O2+
t13 F3 -C-; -0-, -Co-, -3-, -5O2+
.

F3 (R16およびR11はいずれも炭素原子数1〜30の
アルキルまたはアリール基) CH3 載 CH3CN2 CH3 CH30 −(C)12)3−0− (C)+2)2−0− (C
H2)3− 。
F3 (R16 and R11 are both alkyl or aryl groups having 1 to 30 carbon atoms) CH3-based CH3CN2 CH3 CH30 -(C)12)3-0- (C)+2)2-0- (C
H2) 3-.

(n=2〜15) 前記のごときR2の好ましい具体例としては、例えば (式中、R9は前記定義と同じ)等が挙げられる。(n=2-15) Preferred specific examples of R2 as described above include, for example: (wherein R9 is the same as defined above), and the like.

一般式(1)におけるPSR”、炉、R11、晒、RI
2、R5およびR6はいずれも炭素原子数1〜30、好
ましくは1〜22の脂肪族、環状脂肪族、芳香族(これ
らが相互に組合わさっていてもよい)の1価の基、(こ
れらの1価の基が)λロゲン原子、ニトロ基、アミノ基
、シアノ基、メトキシ基、アセトキシ基などで置換され
ていてもよい)または水素原子である。
PSR” in general formula (1), furnace, R11, bleaching, RI
2, R5 and R6 are all monovalent groups having 1 to 30 carbon atoms, preferably 1 to 22 carbon atoms, aliphatic, cycloaliphatic, aromatic (these may be combined with each other); The monovalent group is )) or a hydrogen atom (which may be substituted with a λ rogen atom, a nitro group, an amino group, a cyano group, a methoxy group, an acetoxy group, etc.).

前記のごトキP、 W、 R33,R41,Ru、 R
43,R5オヨびR6の具体例としては H−、CH3(CHz′Fr(n=1〜30)。
The aforementioned Gotoki P, W, R33, R41, Ru, R
Specific examples of 43, R5 and R6 are H-, CH3 (CHz'Fr (n=1 to 30).

(CHs)zcH(CHz館巧(n = 3〜30 )
 。
(CHs)zcH (CHz Takumi Takumi (n = 3-30)
.

(Cl13) 3C(C)lz荒τ、(n = 4〜3
0 ) 。
(Cl13) 3C(C)lz rough τ, (n = 4~3
0).

CF3(CHz%i;    (n = 1〜30 )
 。
CF3 (CHz%i; (n = 1-30)
.

なお一般式(1)において−、R”、 R”、 R’l
、 R42,R43,’R5およびR6はいずれも一般
式(7):(式中、R’%R2は前記と同じ)で表され
るポリアミック酸単位に疎水性を付与し、安定な凝縮膜
を得ルタメニ導入すレル基テアリ、R”、 R12,R
13,R”。
In general formula (1), -, R", R", R'l
, R42, R43, 'R5 and R6 all impart hydrophobicity to the polyamic acid unit represented by the general formula (7): (wherein R'%R2 is the same as above) and form a stable condensed film. The obtained rutamenyl group is introduced, R'', R12,R
13, R”.

f、 R43,R5,R6のうちの少なくとも1個、好
ましくは2個が炭素原子数12〜30、好ましくは16
〜30の前記の基であることが、水面上に安定な凝縮膜
が形成され、それがLB法により基板上に累積されるた
めに必要である。またこの2個が戸、P、評、 R’l
、 R’、−から選ばれるときには、R”、 R”、 
R”から1つ、R’l、 R’、 R’3から1つ選ば
れることが水面上の膜の安定性のために望ましい。
f, at least one, preferably two of R43, R5, R6 have 12 to 30 carbon atoms, preferably 16
~30 of the aforementioned groups are necessary for the formation of a stable condensed film on the water surface, which is deposited on the substrate by the LB method. Also, these two are door, P, review, R'l
, R', -, R", R",
For stability of the film on the water surface, it is desirable to select one from R'' and one from R'l, R', and R'3.

前記のごとき好ましい2個の−、 FP、 P、 R4
1゜炉、炉、R5,R8の水素原子以外の具体例として
は、例えば CH3(CH2i″T′:X、   (CH3)2CH
(CH2充]。
Two of the above-mentioned preferred -, FP, P, R4
Specific examples of 1° furnace, furnace, R5, R8 other than hydrogen atoms include CH3(CH2i″T′:X, (CH3)2CH
(CH2 charge).

(以上のnはいずれも12〜30、好ましくは16〜2
2)などがあげられる。ただ本発明の目的を達成するた
めには、C)13(CH2知耳で表される直鎖アルキル
基を利用するのが、性能的にもコスト的にも最も望まし
い。前述したようなハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基
、シアノ基、メトキシ基、アセトキシ基などは必須では
ない。しかしフッ素原子により疎水性は水素原子と比べ
飛躍的に改善されるので、フッ素原子を含むものを使用
するのが好ましい。
(The above n values are all 12 to 30, preferably 16 to 2.
2) etc. However, in order to achieve the purpose of the present invention, it is most desirable in terms of performance and cost to use a straight chain alkyl group represented by C) 13 (CH2). , nitro group, amino group, cyano group, methoxy group, acetoxy group, etc. are not essential. However, fluorine atoms dramatically improve hydrophobicity compared to hydrogen atoms, so it is recommended to use those containing fluorine atoms. preferable.

本発明の共重合ポリアミック酸塩の望ましい実施態様は
、前記一般式(101”)  :で表される繰返し単位
を有する塩、さらには前記一般式(102)  : %式%) で表される繰返し単位を有する塩、さらには前記一般式
(103)  : %式%) で表される繰返し単位を有する塩である。
A desirable embodiment of the copolymerized polyamic acid salt of the present invention is a salt having a repeating unit represented by the general formula (101''), and further a salt having a repeating unit represented by the general formula (102): It is a salt having a unit, and further a salt having a repeating unit represented by the general formula (103): % formula %).

さらに望ましい実施態様は、一般式(101) 。A further desirable embodiment is general formula (101).

(102”) 、  (103)においてR5,R6が
水素原子である場合であり、一般式(104) 、  
(105) 。
(102''), (103) where R5 and R6 are hydrogen atoms, and general formula (104),
(105).

%式%): で表される繰返し単位を有する塩である。本発明の共重
合ポリアミック酸塩の繰返し単位が一般式%式% 場合には、製造が容易である、コスト的にも安価である
などの点から好ましい。
% formula %): It is a salt having a repeating unit represented by: When the repeating unit of the copolymerized polyamic acid salt of the present invention has the general formula %, it is preferable from the viewpoints of easy production and low cost.

一般式(104)〜(106)で示される繰返し単位を
有する本発明の両性ポリイミド前駆体の具体例としては
、例えば一般式(107)、 (108)、 (109
):(式中の躬+ R”+ R”+ ?I、 %、 F
の具体例としては、■−1C113、C2)15−1C
+Hv−1CH3(CH2) n −1CH3(Clf
z) 13−1CH3(CH2) 15−1CI+3(
C112) !?−1CH3(CH2) ts−1CH
3(C1lz) 2l−1CF3(CI+2) +s 
−など、 (108’) 式中のr、 FP、炉+ R41+ 四、−の具体例と
しては、 1ト、 C113、C2H5−、C3)1y
 −、C1目3(CH2)  11 − 、CH3(C
Hz)ロー、CH3(CI+2) 15−1CH3(C
112) IT−1CI+3(CH2) 59−1CI
+3(CH2) 2l−1CF3(CI+2) 15−
など、X+ ’lは比率を表し、0<x<1.9<y<
1、x+y=1である。
Specific examples of the amphoteric polyimide precursor of the present invention having repeating units represented by general formulas (104) to (106) include general formulas (107), (108), and (109).
): (In the formula + R"+ R"+ ?I, %, F
Specific examples include ■-1C113, C2)15-1C
+Hv-1CH3(CH2) n-1CH3(Clf
z) 13-1CH3(CH2) 15-1CI+3(
C112)! ? -1CH3(CH2) ts-1CH
3(C1lz) 2l-1CF3(CI+2) +s
-, etc. (108') Specific examples of r, FP, furnace + R41+ 4, - in the formula are 1t, C113, C2H5-, C3)1y
-, C1st 3 (CH2) 11 -, CH3 (C
Hz) low, CH3 (CI+2) 15-1CH3 (C
112) IT-1CI+3(CH2) 59-1CI
+3 (CH2) 2l-1CF3 (CI+2) 15-
etc., X+ 'l represents the ratio, 0<x<1.9<y<
1, x+y=1.

式中の−、 P、 P、 R11,y、 RUの具体例
としては、H−1CHs 、C2H5−1C3HT−5
CHa(C1lz) u −1CH3(CH2) 13
−1CH3(CHz) 15−1CH3(CH2) 1
7−1CI3(CH2) ts−1Cf13(CHz)
 2l−1CF3(CH2) 15−など、x、 yは
比率を表し、O<x<1.Q<y<1、x+y=1であ
る。
Specific examples of -, P, P, R11,y, RU in the formula include H-1CHs, C2H5-1C3HT-5
CHa(C1lz) u -1CH3(CH2) 13
-1CH3(CHz) 15-1CH3(CH2) 1
7-1CI3(CH2) ts-1Cf13(CHz)
2l-1CF3(CH2) 15-, etc., where x and y represent the ratio, and O<x<1. Q<y<1, x+y=1.

式中−は異性を表す。例を次式 で説明すれば および を表す。In the formula, - represents isomerism. For example, If you explain it with and represents.

本発明は(al、 (b)が単独である場合、(al、
 (b)が共存する場合を含んでいる。
In the present invention, when (al, (b) is alone, (al,
This includes cases where (b) coexists.

前記のごとき本発明の両性ポリイミド前駆体は、−aに
N、N−ジメチルアセトアミド、N、N−ジメチルホル
ムアミド、N、N−ジエチルホルムアミド、ヘキサメチ
ルホスホルアミドなどの有機極性溶剤に易溶、上記有機
極性溶剤とクロロホルムなどの通常の有機溶剤などの混
合溶剤に溶、通常の有機溶剤、たとえばベンゼン、エー
テル、クロロホルム、アセトン、メタノールなどに難溶
〜不溶で、赤外線吸収スペクトル分析でアミド、カルボ
キシレートおよび長鎖アルキル基の特徴的な吸収が存在
する。無水酢酸、ピリジンのようなイミド化試剤に浸漬
することによってイミド化が完結する。
The amphoteric polyimide precursor of the present invention as described above has -a readily soluble in an organic polar solvent such as N,N-dimethylacetamide, N,N-dimethylformamide, N,N-diethylformamide, hexamethylphosphoramide, It is soluble in mixed solvents such as the above organic polar solvents and ordinary organic solvents such as chloroform. It is sparingly soluble to insoluble in ordinary organic solvents such as benzene, ether, chloroform, acetone, and methanol. Infrared absorption spectroscopy reveals that amide and carboxy There are characteristic absorptions of rate and long chain alkyl groups. Imidization is completed by immersion in an imidization reagent such as acetic anhydride or pyridine.

完結したのちには、アミド、カルボキシレートおよび長
鎖アルキル基の吸収が消失し、イミド環の吸収が表れる
After completion, the absorptions of amide, carboxylate, and long-chain alkyl groups disappear, and absorption of imide rings appears.

前記説明においては、本発明の前駆体の繰返し単位はす
べて一般式(1)で表される繰返し単位である場合につ
いて説明したが、繰返し単位のうちの30%以下の範囲
であれば、−i式(8):%式%) (式中、R1,R2は前記と同じ、Rは炭素原子数1〜
11の脂肪族、環状脂肪族、芳香族〜(これらが相互に
組合わさっていてもよい)の1価の基、(これらの基が
ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、メトキ
シ基、アセトキシ基などで置換されていてもよい)また
は水素原子であり、4(11のRは同じでもよく、異な
っていてもよい)で表される繰返し単位が含まれていて
もよい。
In the above description, the case where all the repeating units of the precursor of the present invention are repeating units represented by general formula (1) was explained, but if it is within 30% of the repeating units, -i Formula (8):%Formula%) (In the formula, R1 and R2 are the same as above, and R has 1 to 1 carbon atoms.
11 aliphatic, cycloaliphatic, aromatic to (these may be combined with each other) monovalent groups, (these groups are halogen atoms, nitro groups, amino groups, cyano groups, methoxy groups, may be substituted with an acetoxy group, etc.) or a hydrogen atom, and may contain a repeating unit represented by 4 (R's in 11 may be the same or different).

次に本発明の塩の製法について説明する。Next, the method for producing the salt of the present invention will be explained.

まず一般式(101)で表される共重合ポリアミック酸
塩の製造方法について説明する。
First, a method for producing a copolymerized polyamic acid salt represented by general formula (101) will be described.

前記一般式(2) で表されるテトラカルボン酸ジ無水物と、前記−般式(
3): %式%(3) で表される化合物を一10℃以上50℃以下、好ましく
は0〜40℃で反応させて得られる前記−般式(4) で表される繰返し単位を有するポリアミック酸に(式中
、好、 R”、 R”、 R”、だ、−はいずれもR5
およびR6で定義された基に同じでかつ の構造が異なるように選ばれている。)を反応させて得
られる。
Tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (2) and the general formula (
3): having a repeating unit represented by the general formula (4) obtained by reacting a compound represented by the formula (3) at -10°C or more and 50°C or less, preferably 0 to 40°C to polyamic acid (in the formula, R'', R'', R'', da, - are all R5
and R6 are selected such that they are the same as the groups defined and have different structures. ) can be obtained by reacting.

通常一般式(2)のテトラカルボン酸ジ無水物と一般式
(3)の化合物の反応は一10℃以上50℃以下。
Usually, the reaction between the tetracarboxylic dianhydride of general formula (2) and the compound of general formula (3) is carried out at -10°C to 50°C.

好ましくは0〜40℃程度で実質的に無水の極性溶媒中
で行われる。
Preferably, it is carried out at about 0 to 40°C in a substantially anhydrous polar solvent.

採用される反応条件、即ち反応温度、反応試薬、溶媒の
純度、精製度合や水分量、一般式(2)と(3)の比率
や添加順序などによっても得られるボリアミンク酸の分
子量は大きく変わる。
The molecular weight of the polyamic acid obtained varies greatly depending on the reaction conditions employed, that is, the reaction temperature, the purity of the reaction reagent, the solvent, the degree of purification, the water content, the ratio of general formulas (2) and (3), and the order of addition.

高分子量体を得ようとするときには、低温で高純度の水
分の少ない試薬溶媒を使用して、一般式(2)と(3)
の比率をできるだけ1にすることが望まれる。
When trying to obtain a high molecular weight product, using a high purity reagent solvent with low water content at low temperature, general formulas (2) and (3) can be obtained.
It is desirable to keep the ratio to 1 as much as possible.

本発明の望ましい実施態様は必ずしも高粘度の共重合ポ
リアミック酸塩ではないので、上のように厳しく条件を
調整することなしに非常に容易に合成することができる
。このように得られたポリアミック酸(4)に を反応させる方法については特に限定はないが、LB法
の展開液として望ましいようにポリアミック酸(4)の
有機極性溶媒とベンゼンあるいはクロロホルム溶液に、 の同じ溶媒にとかした溶液を混合することによって得ら
れる。
Since the preferred embodiment of the present invention is not necessarily a highly viscous copolymerized polyamic acid salt, it can be synthesized very easily without strictly adjusting the conditions as described above. There is no particular limitation on the method of reacting the polyamic acid (4) obtained in this way, but as a developing solution for the LB method, a solution of polyamic acid (4) in an organic polar solvent and benzene or chloroform is added. It is obtained by mixing solutions dissolved in the same solvent.

一般式(2)で表される化合物の具体例としては、例え
ば などがあげられる。
Specific examples of the compound represented by general formula (2) include the following.

前記一般式(3)で表される化合物の具体例としては例
えば は、 CH3(CH2)11NH2、CH3(C1,)13N
H2、CH3(CH2)15NH2。
Specific examples of the compound represented by the general formula (3) include: CH3(CH2)11NH2, CH3(C1,)13N
H2, CH3(CH2)15NH2.

CH3(C112) 17N112  、  CHs(
CH2) 19NH2、CH3(CHz) 21NH2
CH3(C112) 17N112, CHs(
CH2) 19NH2, CH3(CHz) 21NH2
.

C!+3(CF2) 23N)+2  、  CF3(
C112)  15N)12  。
C! +3(CF2) 23N)+2, CF3(
C112) 15N) 12.

11(CFり2(CH2)  15N)121  )+
(CF2)4(C)12)  13NH2。
11(CFri2(CH2) 15N)121 )+
(CF2)4(C)12)13NH2.

F(CF2)8(CH2)2NH2、F(CF2)El
(CH2)4NH2。
F(CF2)8(CH2)2NH2, F(CF2)El
(CH2)4NH2.

C113(CH2) llNll(CH3)  、  
CHa(CHz) 13NH(CH3)  。
C113(CH2) llNll(CH3) ,
CHa(CHz) 13NH(CH3).

CH3(CH2) t5NII(CH3) 、  CH
3(C)12) 17NH(C)13) 。
CH3(CH2) t5NII(CH3), CH
3(C)12) 17NH(C)13).

Ctla(CHz) tsNH(CH3)  、  C
H3(C112) 21NH(CH3)  。
Ctla(CHz) tsNH(CH3), C
H3(C112) 21NH(CH3).

CH3(CH2) 23NH(CH3)  、  CF
3(CH2) 15Nll(CH3)  1)1(CF
2)4(CHz)  13NII(CH3)  。
CH3(CH2) 23NH(CH3), CF
3(CH2) 15Nll(CH3) 1)1(CF
2) 4(CHz) 13NII(CH3).

F(CF2)8 (CI(z)zNH(CH3)  。F(CF2)8 (CI(z)zNH(CH3).

(C)13)3C(CH2) 14NH(CH3) 。(C)13)3C(CH2) 14NH(CH3).

C)+3(CHz) uN  (CH3)21  CH
3(CH2) ssN  (CH3)2゜CH3(CH
2) 15N (CH3)2.  CHs(CHz) 
菫rN  (CH3)2゜CH3(CHz) 1sN 
 (CH3)2.  CH3(CH2) 21N  (
CH3)2゜CH3(CH2)23N  (CH3)2
.CF3(CH2)tsN  (CH3)2゜H(CF
2)<(CHz)  13N  (CH3)2゜F(C
F2)8(CH2)2N  (CH3)2゜(CHs)
3C(CHz) s+N (CH3)2゜また、一般式
(102)  (103)で表される共重合ポリアミッ
ク酸塩の製造方法は次のとおりである。
C)+3(CHz) uN (CH3)21 CH
3(CH2) ssN (CH3)2゜CH3(CH
2) 15N (CH3)2. CHs (CHz)
Sumire rN (CH3) 2°CH3 (CHz) 1sN
(CH3)2. CH3(CH2) 21N (
CH3)2゜CH3(CH2)23N (CH3)2
.. CF3(CH2)tsN (CH3)2゜H(CF
2)<(CHz) 13N (CH3)2°F(C
F2)8(CH2)2N (CH3)2゜(CHs)
3C(CHz) s+N (CH3)2° Further, the method for producing the copolymerized polyamic acid salt represented by the general formula (102) (103) is as follows.

すなわち一般式(102)の塩は、 前記一般式(2): で表される少なくとも2種のテトラカルボン酸二無水物
に、 前記一般式(3): %式%(3) で表される化合物を一10℃以上50℃以下、好ましく
はθ〜40・℃で反応させて得られる前記−般式(5)
: で表される繰返し単位を有するポリアミック酸に(式中
、P、 R32,P、 R11,FP、 R43はいず
れも前記の定義と同じ)を反応させて得られる。
That is, the salt of general formula (102) is composed of at least two kinds of tetracarboxylic dianhydrides represented by the general formula (2): and the salt represented by the general formula (3): % formula % (3) The above general formula (5) obtained by reacting a compound at -10°C to 50°C, preferably θ to 40°C
It is obtained by reacting a polyamic acid having a repeating unit represented by: (in the formula, P, R32, P, R11, FP, and R43 are all the same as defined above).

一般式(103)の塩は、前記一般式(2):で表され
るテトラカルボン酸ジ無水物に、前記−般式(3): %式%(31 で表される化合物の少なくとも2種を−lO℃以上50
℃以下、好ましくは0〜40℃で反応させて得られる前
記一般式(6): で表される繰返し単位を有するポリアミック酸に(式中
、♂ F、 IP、 R41,p、 13はいずれも前
記の定義と同じ)を反応させて得られる。
The salt of the general formula (103) is a tetracarboxylic dianhydride represented by the general formula (2): at least two of the compounds represented by the general formula (3) (31). -lO℃ or more 50
℃ or lower, preferably 0 to 40℃ to a polyamic acid having a repeating unit represented by the general formula (6): (wherein, ♂ F, IP, R41, p, 13 are all (same as the above definition).

このようにして得られる一般式で表される繰返し単位を
有する本発明の前駆体は、製造が容易であるだけでなく
、LB法で製膜でき、加熱によりポリイミド共重合体を
与えるという特徴を有するものである。
The precursor of the present invention having a repeating unit represented by the general formula obtained in this way is not only easy to manufacture, but also has the characteristics of being able to be formed into a film by the LB method and giving a polyimide copolymer by heating. It is something that you have.

次に本発明に用いるラングミエア・プロジェット膜の製
法について説明する。
Next, a method for manufacturing the Langmier-Projet membrane used in the present invention will be explained.

ラングミュア・プロジェット膜の製法としては、膜を形
成する物質を水面上に展開し、水面上に展開された物質
を一定の表面圧で圧縮して単分子膜を形成し、その膜を
横切って基板を上下させ基板上に移しとる方法(垂直浸
漬法)のほか、水平付着法1回転円筒法などの方法(新
実験化学講座。
The method for manufacturing Langmuir-Prodgett membranes is to spread the membrane-forming substance on the water surface, compress the substance spread on the water surface with a constant surface pressure to form a monomolecular membrane, and then spread the membrane across the membrane. In addition to the method of moving the substrate up and down and transferring it onto the substrate (vertical immersion method), methods such as the horizontal attachment method and the single rotation cylinder method (New Experimental Chemistry Course).

第18巻、界面とコロイド、49B−508)などがあ
げられ、通常行われている方法であればとくに限定され
ることなく使用することができる。
Volume 18, Interfaces and Colloids, 49B-508), etc., and any commonly used methods can be used without particular limitation.

ラングミュア・プロジェット法は配向した、しかも厚み
を数十人単位で制御できる方法で200A以下さらには
1000Å以下、数百人、数十人の薄膜を形成するのに
すぐれた方法であり、本発明の基板上の薄膜もこの特徴
をもつ。しかし10゜000人またはそれ以上の厚みの
膜もこの方法で製膜し得る。また、これら高分子化合物
と公知のラングミュア・プロジェット膜化合物と混合す
ることによって製膜性能が向上することがわかっており
、本発明の望ましい実施態様である。
The Langmuir-Prodgett method is an excellent method for forming oriented thin films of 200 Å or less, or even 1000 Å or less, hundreds or tens of layers, by a method in which the thickness can be controlled in units of tens of layers, and the present invention Thin films on substrates also have this characteristic. However, membranes with a thickness of 10.000 mm or more can also be produced by this method. Furthermore, it has been found that the film forming performance is improved by mixing these polymer compounds with a known Langmuir-Prodgett membrane compound, which is a desirable embodiment of the present invention.

公知のラングミュア・プロジェット膜化合物とは、先に
引用された文献などにも記載され、当業界で公知の化合
物である。特に炭素数が16から22程度の炭化水素基
と親水基とからなる下式の化合物が好ましい。
The known Langmuir-Prodgett membrane compound is a compound that is also described in the literature cited above and is known in the art. Particularly preferred are compounds of the following formula consisting of a hydrocarbon group having about 16 to 22 carbon atoms and a hydrophilic group.

CH3(CH2)n−12 CHz=C1l(C)12)n−2Z CH3(C112) pc = C−C= C(CH2
) m Zここで、n=16〜22.r+m=n−5,
Z=O1l、  NO3,祠HR’、 NR’R’、 
C0OH,C0NHz、 C0OR’  (Roは低級
脂肪族炭化水素基)等である。
CH3(CH2)n-12 CHz=C1l(C)12)n-2Z CH3(C112) pc = C-C= C(CH2
) m Z where n=16-22. r+m=n-5,
Z=O1l, NO3, Shrine HR', NR'R',
These include C0OH, C0NHz, C0OR' (Ro is a lower aliphatic hydrocarbon group), and the like.

!ti!J膜性の改善のためにはCH3(CHz)ロー
42の式で表されるものがコスト面ですぐれているが、
不飽和結合を含むものは光や放射線などを照射すること
によって重合させることができる特徴を有する。
! Ti! In order to improve J film properties, the method expressed by the formula CH3 (CHz) Rho 42 is superior in terms of cost, but
Those containing unsaturated bonds have the characteristic that they can be polymerized by irradiation with light or radiation.

これらから選ばれた少なくとも1つの化合物と高分子化
合物との混合比率については特に限定はない。
There is no particular limitation on the mixing ratio of at least one compound selected from these and the polymer compound.

ラングミュア・プロジェット法により膜を形成する成分
を水面上に展開する際、一般には溶媒として水には熔け
ないで気相中に蒸発してしまうベンゼン、クロロホルム
などが使用されるが、本発明の高分子化合物の場合は、
溶解度をあげるために有機極性溶剤を併用することが望
ましい。好ましい有機極性溶剤は、N、N−ジメチルホ
ルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、N、N−
ジエチルホルムアミド、N、N−ジエチルアセトアミド
、N、N−ジメチルメトキシアセトアミド、ジメチルス
ルホキシド、トメチル−2−ピロリドン、ピリジン、ジ
メチルスルホン、ヘキサメチルホスホルアミド、テトラ
メチレンスルホン、ジメチルテトラメチレンスルホンな
どである。
When components forming a film are spread on the water surface using the Langmuir-Prodgett method, benzene, chloroform, etc., which are not soluble in water and evaporate into the gas phase, are generally used as solvents, but the present invention In the case of polymer compounds,
It is desirable to use an organic polar solvent in combination to increase solubility. Preferred organic polar solvents include N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N,N-
These include diethylformamide, N,N-diethylacetamide, N,N-dimethylmethoxyacetamide, dimethylsulfoxide, tomethyl-2-pyrrolidone, pyridine, dimethylsulfone, hexamethylphosphoramide, tetramethylenesulfone, dimethyltetramethylenesulfone, and the like.

従って、本発明の高分子化合物と公知のラングミュア・
プロジェット膜化合物を展開する際にも、ベンゼン、ク
ロロホルムなどの溶媒と有機極性溶剤との混合溶剤を使
用することが望ましい。
Therefore, the polymer compound of the present invention and the known Langmuir
Also when developing the Projet film compound, it is desirable to use a mixed solvent of a solvent such as benzene or chloroform and an organic polar solvent.

ベンゼン、クロロホルムなどと有機極性溶剤を併用した
ときには、膜を展開時ベンゼン、クロロホルム等は気相
中に蒸発し、有機極性溶剤は大量の水に溶解すると考え
られる。
When benzene, chloroform, etc. are used together with an organic polar solvent, it is thought that the benzene, chloroform, etc. will evaporate into the gas phase when the membrane is developed, and the organic polar solvent will dissolve in a large amount of water.

本発明に使用される基板については本発明の薄膜を何に
応用するかということによって限定されるが、その他太
き(限定されることはなく、ガラス、アルミナ、石英な
どのような一般的無機の基板のほか、金属、プラスチッ
クやSi+ GaAs、 ZnSのような■族、m−v
、n−vt族等の半導体、PbTiOs、 BaTiO
s、 LiNb0a、 LiTaO3のような強誘電体
や磁性体等も基板として用いることができる。
The substrates used in the present invention are limited depending on the application of the thin film of the present invention, but are not limited to other substrates, such as general inorganic materials such as glass, alumina, quartz, etc. In addition to substrates, metals, plastics, Si+ GaAs, ZnS, etc.
, n-vt group semiconductors, PbTiOs, BaTiO
A ferroelectric material or a magnetic material such as S, LiNb0a, or LiTaO3 can also be used as the substrate.

また、通常行われるような表面処理を施したものも勿論
使うことができる。
Moreover, it is of course possible to use a material that has been subjected to a surface treatment that is commonly performed.

表面処理の中でシランカップリング剤とくにアミノ基や
エポキシ基を有するシランカップリング剤(UCCのA
−1100やA−187など)による処理やアルミキレ
ート化合物で処理し、加熱処理をして酸化アルミニウム
の層を形成させるような表面処理は、本発明の高分子薄
膜と基板との接着性を改善させるので好ましい。
In surface treatment, silane coupling agents, especially silane coupling agents with amino groups or epoxy groups (UCC A
-1100, A-187, etc.) or treatment with an aluminum chelate compound and heat treatment to form an aluminum oxide layer improves the adhesion between the polymer thin film of the present invention and the substrate. This is preferable because it allows

本発明の前駆体を用いるとLB法で基板上に欠陥の少な
い、耐熱性の良好な薄膜を形成することができ、さらに
この薄膜を部分的にあるいは完全にイミド化させること
によってさらに耐熱性の優れた薄膜を得ることができる
By using the precursor of the present invention, a thin film with few defects and good heat resistance can be formed on a substrate by the LB method, and furthermore, by partially or completely imidizing this thin film, the heat resistance can be further improved. Excellent thin films can be obtained.

イミド化の方法については、特に限定されないが、ポリ
アミック酸のキュアの際用いられる化学キュア剤、例え
ば無水酢酸、ピリジンなどで行うのが望ましい。
The imidization method is not particularly limited, but it is preferable to use a chemical curing agent used for curing polyamic acid, such as acetic anhydride or pyridine.

勿論この方法と熱や光を併用してもよい。Of course, this method may be used in combination with heat or light.

一般式(1)で例示すれば なる反応がおこる。For example, using general formula (1) A reaction occurs.

もちろん一般式(4)で表されるポリアミック酸単位の
場合にもH2Oが生成してポリイミド化物となるが、こ
の場合にはLB膜用としての材料とはなり得ない。
Of course, in the case of the polyamic acid unit represented by the general formula (4), H2O is also generated to form a polyimide, but in this case it cannot be used as a material for an LB film.

先の述べたように得られるポリイミド薄膜は、耐熱性、
耐薬品性に優れ、機械的特性も良好で、そのうえ100
00Å以下という非常に薄い膜であり、望むなら10〜
1000八にもし得る。それ故、ICやLSIなどの絶
縁膜のみならず、キャパシター、Mis、MIMなどの
構造を持つ種々の電気電子素子中の絶縁層などとしてエ
レクトロニクス分野に使用することができ、電界効果ト
ランジスタ、光電変換素子、受光素子、発光素子、光検
出素子、熱電子トランジスタなどに使用し得る。JJ(
ジョセフソン ジャンクション)への応用も考えられる
。そのほかウニイブガイド用クラツド材、光学回路成分
などとしても利用可能であり、保護用などを含めたコー
ティング材料としても好適に使用し得る。またエネルギ
ー変換や物質分離などの分野にも使用し得る。
The polyimide thin film obtained as mentioned above has heat resistance,
Excellent chemical resistance, good mechanical properties, and 100%
It is a very thin film of less than 00 Å, and if desired,
It can be as high as 1,000. Therefore, it can be used in the electronics field not only as an insulating film for ICs and LSIs, but also as an insulating layer in various electrical and electronic devices with structures such as capacitors, Mis, and MIM, and is used in field effect transistors, photoelectric conversion, etc. It can be used for elements, light receiving elements, light emitting elements, photodetecting elements, thermionic transistors, etc. JJ(
Josephson Junction). In addition, it can be used as a cladding material for unibu guides, an optical circuit component, etc., and can also be suitably used as a coating material, including for protection. It can also be used in fields such as energy conversion and material separation.

つぎに本発明の共重合ポリアミック酸塩およびその製法
を実施例に基づき説明する。
Next, the copolymerized polyamic acid salt of the present invention and its production method will be explained based on Examples.

実施例1 ピロメリット酸二無水物2.18 g (0,01モル
)を乾燥ジメチルアセトアミド50ccにフラスコ中、
乾燥窒素流通下約20℃で、ジメチルアセトアミド39
ccに熔解させたジアミノジフェニルエーテル2g(0
,01モル)を約10分で滴下し、滴下後2時間反応さ
せた。ジメチルアセトアミドとベンゼン(1: 1)で
希釈してlXl0−3Mの溶液を作成し、これにモル比
で1=1のN−n−ヘキサデシルジメチルアミンとN−
n−オクタデシルジメチルアミンの合計が2X10−3
Mとなるように作成したジメチルアセトアミドとベンゼ
ン(1: 1)の溶液を混合して共重合ポリアミック酸
塩の溶液を作成し、LB膜用展開液とした。
Example 1 2.18 g (0.01 mol) of pyromellitic dianhydride was added to 50 cc of dry dimethylacetamide in a flask.
dimethylacetamide 39 at about 20°C under a stream of dry nitrogen.
2 g of diaminodiphenyl ether (0
, 01 mol) was added dropwise over about 10 minutes, and the reaction was continued for 2 hours after the addition. Dilute with dimethylacetamide and benzene (1:1) to make a 1X10-3M solution, and add N-n-hexadecyldimethylamine and N- in a molar ratio of 1=1.
The total amount of n-octadecyldimethylamine is 2X10-3
A solution of a copolymerized polyamic acid salt was prepared by mixing a solution of dimethylacetamide and benzene (1:1) prepared as M, and used as a developing solution for an LB film.

本実施例の塩の表面圧−面積曲線は、再蒸留水上、20
℃で測定したところ、繰返し単位(Unit)当たりの
面積が150A2ぐらいから表面圧がたちあがり、凝縮
膜を形成した。極限面積は約140にであった。この水
面上の膜をLB法でアルミ蒸着ガラス基板上に累積する
とZタイプの累積ができた。累積膜のFTI R−AT
R分析で3000〜280 Qcm−1のアルキル基、
1650〜1600cn+−1の塩の特徴的な吸収がみ
られた。
The surface pressure-area curve of the salt in this example is as follows:
When measured at .degree. C., the surface pressure increased when the area per repeating unit (Unit) was about 150 A2, and a condensed film was formed. The ultimate area was about 140. When this film on the water surface was accumulated on an aluminum vapor-deposited glass substrate using the LB method, a Z-type accumulation was obtained. FTI R-AT of cumulative film
Alkyl group of 3000 to 280 Qcm-1 by R analysis,
A characteristic absorption of salts between 1650 and 1600 cn+-1 was observed.

この累積膜をピリジン、無水酢酸で化学キュアするとア
ルキル基、塩の吸収が消えて1780゜1720CID
−’等のイミド結合の吸収が出現し、累積膜中でもイミ
ド化反応がおこることが明らかになった。
When this cumulative film is chemically cured with pyridine and acetic anhydride, the absorption of alkyl groups and salts disappears and the film becomes 1780°1720CID.
Absorption of imide bonds such as -' appeared, and it became clear that the imidization reaction occurred even in the accumulated film.

実施例2 ピロメリット酸二無水物1.09 g (0,005モ
ル)と3.4.3’、4°−ビフェニルテトラカルボン
酸二無水物1.47 g (0,005モル)とを乾燥
ジメチルアセトアミド50ccにフラスコ中、乾燥窒素
流通下約20℃で、ジメチルアセトアミド30ccに溶
解させたジアミノジフェニルエーテル2g(0,01モ
ル)を約10分で滴下し、滴下後2時間反応させた。ジ
メチルアセトアミドとベンゼン(1: 1)で希釈して
lXl0−3Mの溶液を作成し、これにN−n−オクタ
デシルジメチルアミンが2×10−3Mとなるように作
成したジメチルアセトアミドとベンゼン(1: 1)の
溶液を混合して共重合ポリアミック酸塩の溶液を作成し
、LB膜用展開液とした。
Example 2 1.09 g (0,005 mol) of pyromellitic dianhydride and 1.47 g (0,005 mol) of 3.4.3',4°-biphenyltetracarboxylic dianhydride were dried. 2 g (0.01 mol) of diaminodiphenyl ether dissolved in 30 cc of dimethylacetamide was added dropwise to 50 cc of dimethylacetamide in a flask at about 20° C. under dry nitrogen flow over about 10 minutes, and the reaction was allowed to proceed for 2 hours after the dropwise addition. Dilute with dimethylacetamide and benzene (1:1) to create a solution of 1X10-3M, and add dimethylacetamide and benzene (1:1) prepared so that N-n-octadecyldimethylamine is 2x10-3M. A solution of copolymerized polyamic acid salt was prepared by mixing the solutions of 1) and used as a developing solution for LB film.

本実施例の塩の表面圧−面積曲線は、再蒸留水上20℃
で測定したところ、繰返し単位(Unit)当たりの面
積が160A2ぐらいから表面圧がたちあがり、凝縮膜
を形成した。極限面積は約150A2であった。この水
面上の膜をLB法でアルミ蒸着ガラス基板上に累積する
とZタイプの累積ができた。累積膜のFTIR−ATR
分析で3000〜2800cm−1のアルキル基、16
50〜160Qcm−”の塩の特徴的な吸収がみられた
The surface pressure-area curve of the salt in this example is as follows:
When the area per repeating unit (Unit) was about 160 A2, the surface pressure increased and a condensed film was formed. The ultimate area was about 150A2. When this film on the water surface was accumulated on an aluminum vapor-deposited glass substrate using the LB method, a Z-type accumulation was obtained. FTIR-ATR of cumulative film
Analyzed alkyl group from 3000 to 2800 cm-1, 16
A characteristic absorption of salts between 50 and 160 Q cm was observed.

この累積膜をピリジン、無水酢酸で化学キュアするとア
ルキル基、塩の吸収が消えて1780゜1720cn+
−1等のイミド結合の吸収が出現し、累積膜中でもイミ
ド化反応がおこることが明らかになった。
When this cumulative film is chemically cured with pyridine and acetic anhydride, the absorption of alkyl groups and salts disappears and the film becomes 1780°1720cn+
Absorption of imide bonds such as -1 appeared, and it became clear that an imidization reaction occurred even in the accumulated film.

実施例3 ピロメリット酸二無水物2.18g(0,01モル)を
乾燥ジメチルアセトアミド50ccにフラスコ中、乾燥
窒素流通下約20℃でジアミノジフェニルエ−チルIg
(0,005モル)とp−ジアミノベンゼン0.54 
g (0,005モル)とを約10分で滴下し、滴下後
2時間反応させた。ジメチルアセトアミドとベンゼン(
1: 1)で希釈してlXl0−3Mの溶液を作成し、
これにN−n−オクタデシルジメチルアミンが2X10
−3Mとなるように作成したジメチルアセトアミドとベ
ンゼン(1:1)の溶液を混合して共重合ポリアミック
酸塩の溶液を作成し、LB膜用展開液とした。
Example 3 2.18 g (0.01 mol) of pyromellitic dianhydride was added to 50 cc of dry dimethylacetamide in a flask at about 20°C under a stream of dry nitrogen to prepare diaminodiphenyl ethyl Ig.
(0,005 mol) and p-diaminobenzene 0.54
g (0,005 mol) was added dropwise over about 10 minutes, and the reaction was allowed to proceed for 2 hours after the dropwise addition. Dimethylacetamide and benzene (
1: diluted with 1) to create a 1X10-3M solution,
Add 2X10 N-n-octadecyldimethylamine to this.
A solution of a copolymerized polyamic acid salt was prepared by mixing a solution of dimethylacetamide and benzene (1:1) prepared to have a concentration of -3M, and used as a developing solution for an LB film.

本実施例の塩の表面圧−面積曲線は、再蒸留水上20℃
で測定したところ、繰返し単位(Unit)当たりの面
積が140A2ぐらいから表面圧がたちあがり、凝縮膜
を形成した。極限面積は約130人2であった。この水
面上の膜をLB法でアルミ蒸着ガラス基板上に累積する
とZタイプの累積ができた。累積膜のFTI R−AT
R分析で3000〜2800cm−1のアルキル基、1
650〜1609cm−1の塩の特徴的な吸収がみられ
た。
The surface pressure-area curve of the salt in this example is as follows:
When the area per repeating unit (Unit) was about 140 A2, the surface pressure increased and a condensed film was formed. The ultimate area was about 130 people2. When this film on the water surface was accumulated on an aluminum vapor-deposited glass substrate using the LB method, a Z-type accumulation was obtained. FTI R-AT of cumulative film
Alkyl group from 3000 to 2800 cm-1 in R analysis, 1
A characteristic absorption of salt between 650 and 1609 cm was observed.

この累積膜をピリジン、無水酢酸で化学キュアするとア
ルキル基、塩の吸収が消えて1780゜1720cm−
1等のイミド結合の吸収が出現し、累積膜中でもイミド
化反応がおこることが明らかになった。
When this cumulative film is chemically cured with pyridine and acetic anhydride, the absorption of alkyl groups and salts disappears and the film becomes 1780°1720cm-
Absorption of imide bonds of the 1st order appeared, and it became clear that imidization reaction occurred even in the accumulated film.

血凱汝苅来 本発明の共重合ポリアミック酸の塩を用いると、LB法
により薄膜を形成することができ、得られたLB膜をイ
ミド化することにより、耐熱性と電気特性のきわめて良
好で、耐薬品性、機械的特性のよい、しかも厚さ10,
000Å以下、要すれば10〜1000人の超薄膜が得
られる。しかも本発明の共重合方法によれば、広い範囲
の物性をもったポリイミド薄膜を設計でき、それが容易
に得られるという効果がある。
By using the salt of the copolymerized polyamic acid of the present invention, a thin film can be formed by the LB method, and by imidizing the obtained LB film, it has extremely good heat resistance and electrical properties. , has good chemical resistance and mechanical properties, and has a thickness of 10,
000 Å or less, if necessary, an ultra-thin film of 10 to 1000 people can be obtained. Moreover, according to the copolymerization method of the present invention, polyimide thin films having a wide range of physical properties can be designed and easily obtained.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、一般式(1): ▲数式、化学式、表等があります▼(1) (式中、R^1は少なくとも2個の炭素原子を含有する
4価の基、R^2は少なくとも2個の炭素原子を含有す
る2価の基、R^3^1、R^3^2、R^3^3、R
^4^1、R^4^2、R^4^3、R^5およびR^
6はいずれも脂肪族、環状脂肪族、あるいは芳香族(こ
れらが相互に組合わさっていてもよい)の炭素数1〜3
0の1価の基、(これらの基がハロゲン原子、ニトロ基
、アミノ基、シアノ基、メトキシ基、アセトキシ基で置
換されていてもよい)または水素原子であり、R^3^
1、R^3^2、R^3^3、R^4^1、R^4^2
、R^4^3R^5およびR^6の少なくとも1個は炭
素原子数12〜30の前記の基である。)で表される繰
返し単位においてR^1、R^2、R^3^1、R^3
^2、R^3^3、R^4^1、R^4^2、R^4^
3、R^5、R^6の少なくとも1つが、少なくとも2
種からなる共重合ポリアミック酸塩。 2、前記一般式(1)において、R^3^1、R^3^
2、R^3^3、R^4^1、R^4^2R^4^3、
R^5およびR^6がいずれも炭素原子数1〜22の前
記の1価の基または水素原子であり、R^3^1、R^
3^2、R^3^3、R^4^1、R^4^2、R^4
^3、R^5およびR^6の少なくとも1個は炭素原子
数16〜30の基である特許請求の範囲第1項記載の塩
。 3、前記一般式(1)において、R^1およびR^2の
いずれか一方または両方が少なくとも6個の炭素原子数
を有するベンゼノイド不飽和によって特徴づけられた基
である特許請求の範囲第1項記載の塩。 4、前記一般式(1)において、R^1に結合している
▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、−NR^5−CO−および−CO−
NR^6−R^2−の4個の基の各2個づつが、それぞ
れ5員環を形成するようにR^1を構成する隣接する2
個の炭素原子に結合している特許請求の範囲第1項記載
の塩。 5、前記一般式(1)において、 ▲数式、化学式、表等があります▼と▲数式、化学式、
表等があります▼が異なる構造を有するよう に選ばれた特許請求の範囲第1項記載の塩。 6、一般式(102): ▲数式、化学式、表等があります▼ (102) (式中、R^1_a、R^1_bは少なくとも2個の炭
素原子を含有する4価の基、R^2、R^3^1、R^
3^2、R^3^3、R^4^1、R^4^2、R^4
^3、R^5およびR^6はいずれも前記一般式(1)
の定義と同じ)で表される繰返し単位を有する特許請求
の範囲第1項記載の塩。 7、一般式(103): ▲数式、化学式、表等があります▼ (103) (式中、R^2_a、R^2_bは少なくとも2個の炭
素原子を含有する2価の基、R^1、R^3^1、R^
3^2、R^3^3、R^4^1、R^4^2、R^4
^3、R^5およびR^6はいずれも前記一般式(1)
の定義と同じ)で表される繰返し単位を有する特許請求
の範囲第1項記載の塩。 8、前記一般式(1)(102)(103)においてR
^5、R^6が水素原子である特許請求の範囲第1、5
〜7項記載の塩。 9、一般式(2): ▲数式、化学式、表等があります▼(2) (式中、R^1は少なくとも2個の炭素原子を含有する
4価の基である)で表されるテトラカルボン酸ジ無水物
に、 一般式(3): R^5−NH−R^2−NH−R^6(3)(式中、R
^2は少なくとも2個の炭素原子を含有する2価の基、
R^5およびR^6はいずれも脂肪族、環状脂肪族、あ
るいは芳香族(これらが相互に組合わさっていてもよい
)の炭素数1〜30の1価の基、(これらの基がハロゲ
ン原子、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、メトキシ基、
アセトキシ基で置換されていてもよい)または水素原子
である)で表される化合物を−10℃以上、50℃以下
で反応させて得られる一般式(4): ▲数式、化学式、表等があります▼(4) (式中、R^1、R^2、R^5、R^6は前記定義と
同じ)で表される繰返し単位を有するポリアミック酸に
▲数式、化学式、表等があります▼および▲数式、化学
式、表等があります▼ (式中、R^3^1、R^3^2、R^3^3、R^4
^1、R^4^2、R^4^3はいずれもR^5および
R^6の定義と同じでかつ▲数式、化学式、表等があり
ます▼と▲数式、化学式、表等があります▼の構造が異
なるように選ばれている。)を反応させて得られる一般
式(101): ▲数式、化学式、表等があります▼(101) (式中、R^1は少なくとも2個の炭素原子を含有する
4価の基、R^2は少なくとも2個の炭素原子を含有す
る2価の基、R^3^1、R^3^2、R^3^3、R
^4^1、R^4^2、R^4^3、R^5およびR^
6はいずれも脂肪族、環状脂肪族、あるいは芳香族(こ
れらが相互に組合わさっていてもよい)の炭素数1〜3
0の1価の基、(これらの基がハロゲン原子、ニトロ基
、アミノ基、シアノ基、メトキシ基、アセトキシ基で置
換されていてもよい)または水素原子であり、R^3^
1、R^3^2、R^3^3、R^4^1、R^4^2
、R^4^3、R^5およびR^6の少なくとも1個は
炭素原子数12〜30の前記の基であり、また ▲数式、化学式、表等があります▼と▲数式、化学式、
表等があります▼が異なる構造を有するよう に選ばれている。)で表される繰返し単位を有する共重
合ポリアミック酸塩の製造方法。 10、一般式(2): ▲数式、化学式、表等があります▼(2) (式中、R^1は少なくとも2個の炭素原子を含有する
4価の基である)で表される少なくとも2種のテトラカ
ルボン酸ジ無水物に、 一般式(3): R^5−NH−R^2−NH−R^6(3)(式中、R
^2は少なくとも2個の炭素原子を含有する2価の基、
R^5およびR^6はいずれも脂肪族、環状脂肪族、あ
るいは芳香族(これらが相互に組合わさっていてもよい
)の炭素数1〜30の1価の基、(これらの基がハロゲ
ン原子、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、メトキシ基、
アセトキシ基で置換されていてもよい)または水素原子
である)で表される化合物を−10℃以上、50℃以下
で反応させて得られる一般式(5): ▲数式、化学式、表等があります▼(5) (式中、R^2、R^5、R^6は前記定義と同じ、R
^1_a、R^1_bはR^1の定義に同じ、x、yは
比率を表し、0<x<1、0<y<1、x+y−1)で
表される繰返し単位を有するポリアミック酸に ▲数式、化学式、表等があります▼および▲数式、化学
式、表等があります▼ (式中、R^3^1、R^3^2、R^3^3、R^4
^1、R^4^2、R^4^3はいずれもR^5および
R^6の定義と同じ)を反応させて得られる一般式(1
02): ▲数式、化学式、表等があります▼ (102) (式中、R^1_a、R^1_bは少なくとも2個の炭
素原子を含有する4価の基、R^2は少なくとも2個の
炭素原子を含有する2価の基、R^3^1、R^3^2
、R^3^3、R^4^1、R^4^2、R^4^3、
R^5およびR^6はいずれも脂肪族、環状脂肪族、あ
るいは芳香族(これらが相互に組合わさっていてもよい
)の炭素数1〜30の1価の基、(これらの基がハロゲ
ン原子、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、メトキシ基、
アセトキシ基で置換されていてもよい)または水素原子
であり、R^3^1、R^3^2、R^3^3、R^4
^1、R^4^2、R^4^3、R^5およびR^6の
少なくとも1個は炭素原子数12〜30の前記の基であ
る。)で表される繰返し単位を有する共重合ポリアミッ
ク酸塩の製造方法。 11、一般式(2): ▲数式、化学式、表等があります▼(2) (式中、R^1は少なくとも2個の炭素原子を含有する
4価の基である)で表されるテトラカルボン酸ジ無水物
に、 一般式(3): R^5−NH−R^2−NH−R^6(3)(式中、R
^2は少なくとも2個の炭素原子を含有する2価の基、
R^5およびR^6はいずれも脂肪族、環状脂肪族、あ
るいは芳香族(これらが相互に組合わさっていてもよい
)の炭素数1〜30の1価の基、(これらの基がハロゲ
ン原子、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、メトキシ基、
アセトキシ基で置換されていてもよい)または水素原子
である)で表される化合物の少なくとも2種を−10℃
以上、50℃以下で反応させて得られる一般式(6):
▲数式、化学式、表等があります▼(6) (式中、R^1、R^5、R^6は前記定義と同じ、R
^2_a、R^2_bはR^2の定義と同じ、x、yは
比率を表し、0<x<1、0<y<1、x+y=1)で
表される繰返し単位を有するポリアミック酸に ▲数式、化学式、表等があります▼および▲数式、化学
式、表等があります▼ (式中、R^3^1、R^3^2、R^3^3、R^4
^1、R^4^2、R^4^3はいずれもR^5および
R^6の定義と同じ)を反応させて得られる一般式(1
03): ▲数式、化学式、表等があります▼ (103) (式中、R^1は少なくとも2個の炭素原子を含有する
4価の基、R^2_a、R^2_bは少なくとも2個の
炭素原子を含有する2価の基、R^3^1、R^3^2
、R^3^3、R^4^1、R^4^2、R^4^3、
R^5およびR^6はいずれも脂肪族、環状脂肪族、あ
るいは芳香族(これらが相互に組合わさっていてもよい
)の炭素数1〜30の1価の基、(これらの基がハロゲ
ン原子、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、メトキシ基、
アセトキシ基で置換されていてもよい)または水素原子
であり、R^3^1、R^3^2、R^3^3、R^4
^1、R^4^2、R^4^3、R^5およびR^6の
少なくとも1個は炭素原子数12〜30の前記の基であ
る)で表される繰返し単位を有する共重合ポリアミック
酸塩の製造方法。 12、前記一般式(10)(102)(103)で表さ
れる化合物のR^5およびR^6がいずれも水素原子で
ある特許請求の範囲第9〜11項記載の方法。
[Claims] 1. General formula (1): ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (1) (In the formula, R^1 is a tetravalent group containing at least 2 carbon atoms, R ^2 is a divalent group containing at least 2 carbon atoms, R^3^1, R^3^2, R^3^3, R
^4^1, R^4^2, R^4^3, R^5 and R^
6 is aliphatic, cycloaliphatic, or aromatic (these may be combined with each other) and has 1 to 3 carbon atoms
0 monovalent group (these groups may be substituted with a halogen atom, nitro group, amino group, cyano group, methoxy group, acetoxy group) or a hydrogen atom, and R^3^
1, R^3^2, R^3^3, R^4^1, R^4^2
, R^4^3R^5 and R^6 are the aforementioned groups having 12 to 30 carbon atoms. ) R^1, R^2, R^3^1, R^3 in the repeating unit represented by
^2, R^3^3, R^4^1, R^4^2, R^4^
3. At least one of R^5 and R^6 is at least 2
A copolymerized polyamic acid salt consisting of seeds. 2. In the general formula (1), R^3^1, R^3^
2, R^3^3, R^4^1, R^4^2R^4^3,
R^5 and R^6 are both the above-mentioned monovalent group having 1 to 22 carbon atoms or a hydrogen atom, and R^3^1, R^
3^2, R^3^3, R^4^1, R^4^2, R^4
2. The salt according to claim 1, wherein at least one of ^3, R^5 and R^6 is a group having 16 to 30 carbon atoms. 3. In the general formula (1), one or both of R^1 and R^2 is a group characterized by benzenoid unsaturation having at least 6 carbon atoms, Claim 1 Salt as described in section. 4. In the above general formula (1), there are ▲ mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. bonded to R^1 ▼, ▲ mathematical formulas, chemical formulas,
There are tables, etc. ▼, -NR^5-CO- and -CO-
Two of each of the four groups NR^6-R^2- form a 5-membered ring with the adjacent 2
2. A salt according to claim 1, wherein the salt is bonded to 5 carbon atoms. 5. In the general formula (1) above, there are ▲mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ and ▲mathematical formulas, chemical formulas,
The salt according to claim 1 is selected such that ▼ has a different structure. 6. General formula (102): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (102) (In the formula, R^1_a, R^1_b are tetravalent groups containing at least 2 carbon atoms, R^2 , R^3^1, R^
3^2, R^3^3, R^4^1, R^4^2, R^4
^3, R^5 and R^6 all represent the above general formula (1)
The salt according to claim 1, having a repeating unit represented by (same as the definition of). 7. General formula (103): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (103) (In the formula, R^2_a, R^2_b are divalent groups containing at least 2 carbon atoms, R^1 , R^3^1, R^
3^2, R^3^3, R^4^1, R^4^2, R^4
^3, R^5 and R^6 all represent the above general formula (1)
The salt according to claim 1, having a repeating unit represented by (same as the definition of). 8. In the general formula (1) (102) (103), R
Claims 1 and 5 in which ^5 and R^6 are hydrogen atoms
The salt according to item 7. 9. General formula (2): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (2) Tetra represented by (in the formula, R^1 is a tetravalent group containing at least 2 carbon atoms) General formula (3): R^5-NH-R^2-NH-R^6(3) (in the formula, R
^2 is a divalent group containing at least 2 carbon atoms,
R^5 and R^6 are both aliphatic, cycloaliphatic, or aromatic (these may be combined with each other) monovalent group having 1 to 30 carbon atoms, (these groups are halogen Atom, nitro group, amino group, cyano group, methoxy group,
General formula (4) obtained by reacting a compound represented by (optionally substituted with an acetoxy group) or hydrogen atom) at -10°C or higher and 50°C or lower: ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. There are ▼ (4) (In the formula, R^1, R^2, R^5, and R^6 are the same as the above definitions) for polyamic acid that has a repeating unit represented by ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ and ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, R^3^1, R^3^2, R^3^3, R^4
^1, R^4^2, and R^4^3 are all the same as R^5 and R^6, and ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ and ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. The structures of ▼ are chosen differently. ) is obtained by reacting the general formula (101): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(101) (In the formula, R^1 is a tetravalent group containing at least 2 carbon atoms, R^ 2 is a divalent group containing at least 2 carbon atoms, R^3^1, R^3^2, R^3^3, R
^4^1, R^4^2, R^4^3, R^5 and R^
6 is aliphatic, cycloaliphatic, or aromatic (these may be combined with each other) and has 1 to 3 carbon atoms
0 monovalent group (these groups may be substituted with a halogen atom, nitro group, amino group, cyano group, methoxy group, acetoxy group) or a hydrogen atom, and R^3^
1, R^3^2, R^3^3, R^4^1, R^4^2
, R^4^3, R^5 and R^6 are the above-mentioned groups having 12 to 30 carbon atoms, and ▲ there are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ and ▲ mathematical formulas, chemical formulas,
There are tables etc. ▼ are chosen to have different structures. ) A method for producing a copolymerized polyamic acid salt having a repeating unit represented by: 10. General formula (2): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(2) (In the formula, R^1 is a tetravalent group containing at least 2 carbon atoms) At least General formula (3): R^5-NH-R^2-NH-R^6 (3) (in the formula, R
^2 is a divalent group containing at least 2 carbon atoms,
R^5 and R^6 are both aliphatic, cycloaliphatic, or aromatic (these may be combined with each other) monovalent group having 1 to 30 carbon atoms, (these groups are halogen Atom, nitro group, amino group, cyano group, methoxy group,
General formula (5) obtained by reacting a compound represented by (optionally substituted with an acetoxy group) or a hydrogen atom at -10°C or higher and 50°C or lower: ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. Yes▼(5) (In the formula, R^2, R^5, R^6 are the same as the above definitions, R
^1_a, R^1_b are the same as the definition of R^1, x and y represent the ratio, and for polyamic acid having repeating units expressed as 0<x<1, 0<y<1, x+y-1). ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ and ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, R^3^1, R^3^2, R^3^3, R^4
The general formula (1
02): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (102) (In the formula, R^1_a and R^1_b are tetravalent groups containing at least two carbon atoms, and R^2 is a tetravalent group containing at least two carbon atoms. Divalent groups containing carbon atoms, R^3^1, R^3^2
, R^3^3, R^4^1, R^4^2, R^4^3,
R^5 and R^6 are both aliphatic, cycloaliphatic, or aromatic (these may be combined with each other) monovalent group having 1 to 30 carbon atoms, (these groups are halogen Atom, nitro group, amino group, cyano group, methoxy group,
(optionally substituted with an acetoxy group) or a hydrogen atom, R^3^1, R^3^2, R^3^3, R^4
At least one of ^1, R^4^2, R^4^3, R^5 and R^6 is the above-mentioned group having 12 to 30 carbon atoms. ) A method for producing a copolymerized polyamic acid salt having a repeating unit represented by: 11. General formula (2): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(2) (In the formula, R^1 is a tetravalent group containing at least 2 carbon atoms) Tetra General formula (3): R^5-NH-R^2-NH-R^6(3) (in the formula, R
^2 is a divalent group containing at least 2 carbon atoms,
R^5 and R^6 are both aliphatic, cycloaliphatic, or aromatic (these may be combined with each other) monovalent group having 1 to 30 carbon atoms, (these groups are halogen Atom, nitro group, amino group, cyano group, methoxy group,
(optionally substituted with an acetoxy group) or a hydrogen atom) at -10°C.
General formula (6) obtained by the above reaction at 50°C or lower:
▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(6) (In the formula, R^1, R^5, R^6 are the same as the above definitions, R
^2_a, R^2_b are the same as the definition of R^2, x and y represent the ratio, and for polyamic acid having repeating units expressed as 0<x<1, 0<y<1, x+y=1) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ and ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, R^3^1, R^3^2, R^3^3, R^4
The general formula (1
03): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (103) (In the formula, R^1 is a tetravalent group containing at least two carbon atoms, R^2_a, R^2_b are at least two Divalent groups containing carbon atoms, R^3^1, R^3^2
, R^3^3, R^4^1, R^4^2, R^4^3,
R^5 and R^6 are both aliphatic, cycloaliphatic, or aromatic (these may be combined with each other) monovalent group having 1 to 30 carbon atoms, (these groups are halogen Atom, nitro group, amino group, cyano group, methoxy group,
(optionally substituted with an acetoxy group) or a hydrogen atom, R^3^1, R^3^2, R^3^3, R^4
At least one of ^1, R^4^2, R^4^3, R^5 and R^6 is the above-mentioned group having 12 to 30 carbon atoms). Method for producing polyamic acid salts. 12. The method according to claims 9 to 11, wherein R^5 and R^6 of the compound represented by the general formula (10), (102), or (103) are both hydrogen atoms.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2008541864A (en) * 2005-05-25 2008-11-27 レイク リージョン マニュファクチュアリング インコーポレイテッド Medical device having an aromatic polyimide coating
KR20190072158A (en) * 2017-12-15 2019-06-25 한국과학기술연구원 Water soluble polyamic acid salt, preparing method thereof, and polyimide formed therefrom

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008541864A (en) * 2005-05-25 2008-11-27 レイク リージョン マニュファクチュアリング インコーポレイテッド Medical device having an aromatic polyimide coating
JP2014195705A (en) * 2005-05-25 2014-10-16 レイク リージョン マニュファクチュアリング インコーポレイテッド Medical devices with aromatic polyimide coating
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