JPS6367536A - Pressure sensor - Google Patents

Pressure sensor

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JPS6367536A
JPS6367536A JP21168186A JP21168186A JPS6367536A JP S6367536 A JPS6367536 A JP S6367536A JP 21168186 A JP21168186 A JP 21168186A JP 21168186 A JP21168186 A JP 21168186A JP S6367536 A JPS6367536 A JP S6367536A
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JP
Japan
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pressure
receiving diaphragm
pressure receiving
pulse signal
optical pulse
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JP21168186A
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Japanese (ja)
Inventor
Hidenori Kosaka
秀則 小坂
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Toshiba Corp
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Toshiba Corp
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Abstract

PURPOSE:To detect the quantity of strain of a pressure receiving diaphragm caused by the pressure under a noncontact system by projecting an optical pulse signal on a reflection film of the pressure receiving diaphragm and detecting the phase difference between both optical pulse signals which are reflected before and after the pressure is applied to the pressure receiving diaphragm. CONSTITUTION:Only the reflection film 3 is provided to the pressure receiving diaphragm 2 and the optical pulse signal projected 13 from a signal processing means 11 is reflected on the reflection film 3. The reflected optical pulse signal is received 14 by the signal processing means 11. Then, the phase difference between the optical pulse signals which are received 14 in both cases before the pressure is applied to the pressure receiving diaphragm 2 and when the pressure is applied to the diaphragm 2 and the strain takes place thereon is detected. In this way, the quantity of strain of the pressure receiving diaphragm 2 caused by the applied pressure is detected under the noncontact system by the optical pulse signal. Accordingly, the pressure applied to the pressure receiving diaphragm is detected with high accuracy without being influenced by a temperature change, etc.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的1 (産業上の利用分野) この発明は、例えば圧力伝送器等に用いられる圧力セン
サに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention 1 (Field of Industrial Application) The present invention relates to a pressure sensor used, for example, in a pressure transmitter.

(従来の技術) 従来の圧力センサを、半導体圧力センサに例をとり、第
6図を用いて説明する。
(Prior Art) A conventional pressure sensor will be explained using FIG. 6, taking a semiconductor pressure sensor as an example.

第6図中、31はSiの半導体チップで、半導体チップ
31には、裏面の中央部が凹部加工されて肉薄の受圧ダ
イヤフラム32が形成されている。
In FIG. 6, reference numeral 31 denotes a Si semiconductor chip, and the semiconductor chip 31 has a recess formed in the center of the back surface thereof to form a thin pressure-receiving diaphragm 32.

半導体チップ31の表面部で且つ受圧ダイヤフラム32
の周辺部には、チップを構成する半導体と反対導電形の
不純物がドープされて拡散層抵抗が形成され、この拡散
層抵抗により、ピエゾ抵抗33.34が形成されている
On the surface of the semiconductor chip 31 and on the pressure receiving diaphragm 32
A diffusion layer resistance is formed around the periphery of the chip by doping with an impurity having a conductivity type opposite to that of the semiconductor constituting the chip, and piezoresistors 33 and 34 are formed by this diffusion layer resistance.

35は基体、36は、基体35に固定された保持板で、
半導体チップ31は、その周辺の肉厚の部分で保持板3
6に気密的に固着されている。半導体チップ31の凹部
空間は、保持板36および基体35に貫設された大気圧
導入口37により大気に通じている。
35 is a base, 36 is a holding plate fixed to the base 35,
The semiconductor chip 31 is attached to the holding plate 3 at the thick part around it.
6 is airtightly fixed. The recess space of the semiconductor chip 31 communicates with the atmosphere through an atmospheric pressure inlet 37 provided through the holding plate 36 and the base body 35 .

38a、38bは、外部取出しビンで、ピエゾ抵抗33
.34の部分には、図示省略のA吏膜笠でポンディング
パッドが形成され、このポンディングパッドにワイヤ3
9の一端がボンディングされ、他端が外部取出しビン3
8a138bにそれぞれ接続されている。
38a and 38b are external takeout bins, and piezoresistors 33
.. A bonding pad is formed at the part 34 with an A-shape (not shown), and the wire 3 is connected to this bonding pad.
One end of 9 is bonded, and the other end is externally removed from the bin 3.
8a and 138b, respectively.

ピエゾ抵抗33.34は、その抵抗変化を電圧変化とし
て取出すため、このピエゾ抵抗33.34と他の抵抗と
でブリッジ回路が構成される。
Since the piezoresistors 33 and 34 extract the resistance change as a voltage change, a bridge circuit is formed by the piezoresistors 33 and 34 and other resistances.

そして受圧ダイヤフラム32に圧力が加えられると、こ
れがたわんでその表面部に歪が発生し、各ピエゾ抵抗3
3.34の抵抗値が、その歪量に応じて変化する。この
ピエゾ抵抗33.34の抵抗値変化により、ブリッジ回
路から歪量に比例した電圧が取出され、この電圧により
、加えられたツブ31上の拡散層抵抗で形成されている
ため、その抵抗値は温度変化の影響が比較的大きく、ま
た、その抵抗温度特性は非線形性を有している。
When pressure is applied to the pressure receiving diaphragm 32, it bends and distortion occurs on its surface, causing each piezoresistor 3
The resistance value of 3.34 changes depending on the amount of strain. Due to the change in the resistance value of the piezoresistors 33 and 34, a voltage proportional to the amount of strain is taken out from the bridge circuit, and due to this voltage, the resistance value is The influence of temperature changes is relatively large, and its resistance temperature characteristics have nonlinearity.

このような抵抗温度特性の補正は、一般に温度補償回路
を付設することにより行なわれるが、これを十分に補正
することは難しい。
Such correction of resistance temperature characteristics is generally performed by adding a temperature compensation circuit, but it is difficult to sufficiently correct this.

このため、上記の半導体圧力センサは、半導体チップ3
1上に、拡散層抵抗およびポンディングパッドを形成し
、ポンディングパッドにはボンディング用の細いワイヤ
39をボンディングする必要があるなど、構造が複雑で
故障率が比較的高いという問題点とともに、温度変化の
影響を十分に補正することが困難で、圧力を高精度に検
出することが難しいという問題点があった。
Therefore, the semiconductor pressure sensor described above has a semiconductor chip 3.
1, it is necessary to form a diffusion layer resistor and a bonding pad, and to bond a thin wire 39 for bonding to the bonding pad.In addition to the problem that the structure is complicated and the failure rate is relatively high, There have been problems in that it is difficult to sufficiently compensate for the influence of changes, and it is difficult to detect pressure with high accuracy.

この発明は上記事情に基づいてなされたもので、センサ
本体部の構造が比較的簡単で、高い検出精度を有する圧
力センサを提供することを目的とする。
The present invention has been made based on the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a pressure sensor having a relatively simple structure of the sensor main body and having high detection accuracy.

[発明の構成] (問題点を解決するための手段) この発明は上記問題点を解決するために、反射膜が設け
られた受圧ダイヤフラムと、前記反射膜に光パルス信号
を投射し、該反射膜で反射される光パルス信号を受信(
)て、前記受圧ダイヤフラムに圧力が加えられる前およ
び加えられたときに受信される両光パルス信号間の位相
差を検出する信号処理手段とを有することを要旨とする
[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) In order to solve the above problems, the present invention includes a pressure-receiving diaphragm provided with a reflective film, a light pulse signal projected onto the reflective film, and a light pulse signal projected onto the reflective film. Receives the optical pulse signal reflected by the membrane (
) and signal processing means for detecting the phase difference between the optical pulse signals received before and when pressure is applied to the pressure receiving diaphragm.

(作用) 受圧ダイヤフラムには、反射膜のみが設けられればよく
、信号処理手段から投射された光パルス信号が、当該反
射膜で反射される。
(Function) The pressure receiving diaphragm only needs to be provided with a reflective film, and the optical pulse signal projected from the signal processing means is reflected by the reflective film.

信号処理手段で、この反射された光パルス信号が受信さ
れる・そして受圧ダイヤフラムに圧力が加えられる前お
よび圧力が加えられて歪が生じたときの両場合に受信さ
れる光パルス信号間の位相差が検出される。
A signal processing means receives this reflected optical pulse signal and calculates the position between the received optical pulse signals both before pressure is applied to the pressure receiving diaphragm and when the pressure is applied and distortion occurs. A phase difference is detected.

このように加えられた圧力で生じる受圧ダイヤフラムの
歪量が、光パルス信号により非接触方式で検出される。
The amount of strain in the pressure receiving diaphragm caused by the pressure applied in this manner is detected in a non-contact manner using an optical pulse signal.

したがって受圧ダイヤフラムに加えられる圧力が、温度
変化等の影響を受けることなく、高精度に検出される。
Therefore, the pressure applied to the pressure receiving diaphragm can be detected with high precision without being affected by temperature changes or the like.

(実施例) 以下この発明の実施例を図面に基づいて説明する。(Example) Embodiments of the present invention will be described below based on the drawings.

第1図〜第4図は、この発明の一実施例を示す図である
1 to 4 are diagrams showing an embodiment of the present invention.

第1図はセンサ本体部を縦断面で示す構成図、第2図は
光パルス信号の送・受信部の構成図、第3図は信号処理
部のブロック図、第4図はせンサ本体部を部分的に示す
もので作用を説明するための図である。
Figure 1 is a configuration diagram showing the sensor body in longitudinal section, Figure 2 is a configuration diagram of the optical pulse signal transmission/reception unit, Figure 3 is a block diagram of the signal processing unit, and Figure 4 is the sensor body. FIG.

まず構成を説明すると、第1図中、1はSiの半導体チ
ップで、半導体チップ1には、裏面の中央部が四部加工
されて肉薄の受圧ダイヤフラム2が形成されている。
First, to explain the structure, in FIG. 1, reference numeral 1 denotes a Si semiconductor chip, and the semiconductor chip 1 has a thin pressure receiving diaphragm 2 formed by processing four parts of the central part of the back surface of the semiconductor chip 1.

受圧ダイヤフラム2の厚さは、測定圧力範囲で、その歪
量が10〜20μm程度となるように調整されている。
The thickness of the pressure receiving diaphragm 2 is adjusted so that the amount of strain is approximately 10 to 20 μm within the measurement pressure range.

受圧ダイヤフラム2には、圧力の加えられる側と反対側
の裏面、即ち凹部の底面部に光反射係数の大ぎい銀蒸着
膜等により反射膜3が形成されている。
A reflective film 3 is formed on the back surface of the pressure receiving diaphragm 2 opposite to the side to which pressure is applied, that is, on the bottom surface of the recess, of a silver vapor-deposited film or the like having a large light reflection coefficient.

半導体チップ1は、その周辺の肉厚の部分で基体4に気
密的に固着されている。半導体デツプ1の凹部空間は、
基体4に貫設された大気圧導入口5により大気に通じて
いる。
The semiconductor chip 1 is hermetically fixed to the base 4 at a thick portion around the semiconductor chip 1. The recessed space of the semiconductor depth 1 is
The base body 4 is connected to the atmosphere through an atmospheric pressure inlet 5 provided through the base body 4 .

而して、受圧ダイヤフラム2を有する半導体チップ1と
、これが気密的に固着された基体4とでセンサ本体部6
が構成されている。
The semiconductor chip 1 having the pressure-receiving diaphragm 2 and the base 4 to which it is hermetically fixed form the sensor main body 6.
is configured.

基体4のほぼ中央部で、反射膜3と対向した位置には、
光パルス信号の送・受信部7が、接着剤8で固定されて
いる。
Almost at the center of the base 4, at a position facing the reflective film 3,
A light pulse signal transmitting/receiving section 7 is fixed with an adhesive 8.

送・受信部7は、ケーブル9で信号処理部11に接続さ
れ、信号処理部11の出力端子に増幅器12が接続され
ている。増幅器12から、電気信号に変換された測定圧
信号が出力される。
The transmitting/receiving section 7 is connected to a signal processing section 11 via a cable 9, and an amplifier 12 is connected to an output terminal of the signal processing section 11. The amplifier 12 outputs a measured pressure signal converted into an electrical signal.

信号処理部11は、送・受信部7を制御して、一定の繰
返し周波数を有する光パルス信号を発信させるとともに
、反射1!513で反射されて受信される光パルス信号
により、受圧ダイヤフラム2に圧力が加えられる前、お
よび加えられたときの両光パルス信号間の位相差を検出
する信号処理機能が備えられている。
The signal processing unit 11 controls the transmitting/receiving unit 7 to transmit an optical pulse signal having a constant repetition frequency, and also causes the pressure receiving diaphragm 2 to receive an optical pulse signal reflected by the reflection 1!513 and received. A signal processing function is provided to detect the phase difference between the optical pulse signals before and after pressure is applied.

上記の送・受信部7および信号処理部11により、信号
処理手段が構成される。
The above transmitting/receiving section 7 and signal processing section 11 constitute a signal processing means.

第2図は、送・受信部7の構成の詳細を示すもので、光
送信器13、光受信器14、ハーフミラ−15および凸
レンズ16が備えられている。凸レンズ16は、光送信
器13から発射された光を反射膜3に合焦させる機能を
有している。
FIG. 2 shows the details of the configuration of the transmitter/receiver section 7, which includes an optical transmitter 13, an optical receiver 14, a half mirror 15, and a convex lens 16. The convex lens 16 has a function of focusing the light emitted from the optical transmitter 13 onto the reflective film 3.

また、第3図は信号処理部11の構成の詳細を示すもの
で、一定周波数のパルス信号を発振するパルス発振器1
7が処理・メモリ部18に接続され、処理・メモリ部1
8に先発信用増幅器19および光受信用増幅器21が接
続されている。先発信用増幅器19は、ケーブル9aを
介して光発信器13に接続され、光受信用増幅器21は
、ケーブル9bを介して光受信器14に接続される。
Further, FIG. 3 shows the details of the configuration of the signal processing section 11, and shows a pulse oscillator 1 that oscillates a pulse signal of a constant frequency.
7 is connected to the processing/memory section 18, and the processing/memory section 1
8 is connected to an advance credit amplifier 19 and an optical receiving amplifier 21. The advance credit amplifier 19 is connected to the optical transmitter 13 via a cable 9a, and the optical receiving amplifier 21 is connected to the optical receiver 14 via a cable 9b.

パルス発振器17で発振された一定の繰返し周波数のパ
ルス信号が、処理・メモリ部18を介して先発信用増幅
器19に送られ、振幅増幅されたパルス信号により、光
送信器13が駆動される。
A pulse signal with a constant repetition frequency generated by the pulse oscillator 17 is sent to the advance credit amplifier 19 via the processing/memory section 18, and the optical transmitter 13 is driven by the amplitude-amplified pulse signal.

処理・メモリ部18は、発信パルス信号と、反射膜3で
反射されて、光受信器14および光受信用増幅器21を
介して受信される受信パルス信号との位相差を、受圧ダ
イヤフラム2に、圧力が加えられる前と、加えられたと
きとの両場合についてディジタル的に計数検知し、その
計数値を記憶するメモリ機能等を備えている。
The processing/memory unit 18 transmits the phase difference between the transmitted pulse signal and the received pulse signal reflected by the reflective film 3 and received via the optical receiver 14 and the optical reception amplifier 21 to the pressure receiving diaphragm 2. It is equipped with a memory function that digitally counts and detects both before and after pressure is applied and stores the counted values.

処理・メモリ部18の出力端子は、コンパレータ22に
接続され、コンパレータ22の出力端子がD/Aコンバ
ータ23を介して増幅器12に接続されている。
The output terminal of the processing/memory section 18 is connected to a comparator 22 , and the output terminal of the comparator 22 is connected to the amplifier 12 via a D/A converter 23 .

コンパレータ22で、受圧ダイヤフラム2に圧力が加え
られる前および加えられたときに受信される両光パルス
信号間の位相差がディジタル的に検出される。
A comparator 22 digitally detects the phase difference between the optical pulse signals received before and when pressure is applied to the pressure receiving diaphragm 2.

24はゼロ調整スイッチで、このゼロ調整スイッチ24
をオン操作することにより、処理・メモリ部18内の計
鐸プログラムにより位相差“ゼロ″が作られ、出力が強
制的にゼロ%にされる。
24 is a zero adjustment switch, and this zero adjustment switch 24
By turning on, a phase difference of "zero" is created by the meter program in the processing/memory unit 18, and the output is forced to be 0%.

また、25はスパン調整スイッチで、このスパン調整ス
イッチ25をオン操作することにより、処理・メモリ部
1日内の計算プログラムにより位相差100%が作られ
、出力が強制的に100%にされる。
Further, 25 is a span adjustment switch, and by turning on this span adjustment switch 25, a phase difference of 100% is created by the calculation program within one day of the processing/memory unit, and the output is forced to 100%.

次に作用を説明する。Next, the action will be explained.

処理・メモリ部18から一定の繰返し周波数のパルス信
号が先発信用増幅器19に送られ、振幅増幅されたパル
ス信号により光発信器13が駆動されて、一定の繰返し
周波数の光パルス信号が、反射膜3に投射される。
A pulse signal with a constant repetition frequency is sent from the processing/memory section 18 to the advance credit amplifier 19, and the optical transmitter 13 is driven by the amplitude-amplified pulse signal, and the optical pulse signal with a constant repetition frequency is transmitted to the reflective film. Projected to 3.

投射された光パルス信号は、反射膜3で反射され、ハー
フミラ−15で方向変換されて光受信器14で受信され
る。受信された光パルス信号は、光受信器14で元の電
気的なパルス信号に変換されたのち、光受信用増幅器2
1で適宜の振幅レベルまで増幅され、再び処理・メモリ
部18に入力する。
The projected optical pulse signal is reflected by the reflective film 3, direction-changed by the half mirror 15, and received by the optical receiver 14. The received optical pulse signal is converted into the original electrical pulse signal by the optical receiver 14, and then sent to the optical receiving amplifier 2.
1, the signal is amplified to an appropriate amplitude level and inputted to the processing/memory section 18 again.

処理・メモリ部18では、上記の発信パルス信号および
受信パルス信号間の位相差がディジタル的に計数検知さ
れる。
The processing/memory section 18 digitally counts and detects the phase difference between the above-described transmitted pulse signal and received pulse signal.

処理・メモリ部18における、この位相差の計数検知課
理は、第4図(B)中、2aで示すように、受圧ダイヤ
フラム2に圧力が加えられる前と、第4図(B)中、2
bで示すように、受圧ダイヤフラム2に圧力が加えられ
て歪mlが生じた場合の、両場合について行なわれる。
The counting and detection task of this phase difference in the processing/memory unit 18 is performed before pressure is applied to the pressure receiving diaphragm 2, as shown at 2a in FIG. 4(B), and before pressure is applied to the pressure receiving diaphragm 2, 2
As shown in b, this is carried out for both cases where pressure is applied to the pressure receiving diaphragm 2 and strain ml is generated.

この両場合の位相差データは、処理・メモリ部18に一
旦記憶されたのち、コンパレータ22に送られて比較さ
れる。
The phase difference data in both cases is once stored in the processing/memory section 18 and then sent to the comparator 22 for comparison.

そしてコンパレータ22から、歪量更に対応した位相差
信号がディジタル値で出力され、これがD/Aコンバー
タ23でアナログ値に変換されて、受圧ダイヤフラム2
に加えられた圧力の大きさが検出される。
Then, the comparator 22 outputs a phase difference signal corresponding to the amount of distortion as a digital value, which is converted into an analog value by the D/A converter 23,
The magnitude of the pressure applied to is detected.

次に第5図には、この発明の他の実施例を示す。Next, FIG. 5 shows another embodiment of the present invention.

この実施例は、金属製の受圧ダイヤフラム26を使用し
、この受圧ダイヤフラム26と基体4との間に、Oリン
グ27を介在させて押えリング28で締込み、当該受圧
ダイヤフラム26を、基体4に気密的に固着したもので
ある。金属製の受圧ダイヤフラム26自身で反射膜が形
成される。
In this embodiment, a metal pressure receiving diaphragm 26 is used, an O-ring 27 is interposed between the pressure receiving diaphragm 26 and the base 4, and the pressure ring 27 is tightened with a retaining ring 28. It is airtightly fixed. A reflective film is formed by the metal pressure receiving diaphragm 26 itself.

上記以外の部分の構成は、前記一実施例のものとほぼ同
様である。
The structure of the parts other than the above is almost the same as that of the previous embodiment.

また、圧力の検出作用についても、前記一実施例のもの
とほぼ同様である。
Further, the pressure detection function is also substantially the same as that of the first embodiment.

この実施例によれば、測定圧力の範囲に応じて厚さの異
なる受圧ダイヤフラム26を、簡単に交換することがで
き、測定圧力の範囲を容易に拡大することができるとい
う利点がある。
This embodiment has the advantage that the pressure receiving diaphragm 26, which has a different thickness depending on the range of measured pressure, can be easily replaced, and the range of measured pressure can be easily expanded.

[発明の効果] 以上説明したように、この発明の構成によれば、受圧ダ
イヤフラムには、反射膜のみが設けられればよく、加え
られた圧力で生じる受圧ダイヤフラムの歪量が、光処理
手段で送、受信される光パルス信号により非接触式に検
出される。したがってセンサ本体部の構造が比較的簡単
になって故障率が低減するとともに、受圧ダイヤフラム
に加えられる圧力が、温度変化等の影響を受けることな
く高精度に検出されるという利点がある。
[Effects of the Invention] As explained above, according to the configuration of the present invention, the pressure receiving diaphragm only needs to be provided with a reflective film, and the amount of distortion of the pressure receiving diaphragm caused by the applied pressure can be reduced by the optical processing means. It is detected in a non-contact manner using optical pulse signals sent and received. Therefore, there is an advantage that the structure of the sensor main body is relatively simple and the failure rate is reduced, and that the pressure applied to the pressure receiving diaphragm can be detected with high accuracy without being affected by temperature changes or the like.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

う全 第1図ケ第4図はこの発明に係る圧ツノセンサの一実施
例を示すもので、第1図はセンサ本体部を縦断面で示す
構成図、第2図は光パルス信号の送・受信部の構成図、
第3図は信号処理部のブロック図、第4図はセンサ本体
部を部分的に示すもので作用を説明するための図、第5
図はこの発明の他の実施例を示すものでセンサ本体部を
縦断面で示す構成図、第6図は従来の圧力センサを示す
縦断面図である。 2.26:受圧ダイヤフラム、 3:反射膜、 6:センサ本体部、 7:光パルス信号の送・受信部、 11:信号処理部、 13:光送信器、 14:光受信器、 18:処理・メモリ部。 代理人  弁理士  則 近  憲 佑代理人  弁理
士  三 俣  弘 文第1図 り 第2図 第8図 第4図 第6図
Figure 1 and Figure 4 show an embodiment of the pressure horn sensor according to the present invention. Figure 1 is a configuration diagram showing the sensor main body in longitudinal section, and Figure 2 is a diagram showing the structure of the sensor main body in longitudinal section. Block diagram of the receiving section,
Fig. 3 is a block diagram of the signal processing section, Fig. 4 is a partial view of the sensor main body and is a diagram for explaining the operation, and Fig. 5 is a block diagram of the signal processing section.
The figure shows another embodiment of the present invention, and is a configuration diagram showing a sensor body section in longitudinal section, and FIG. 6 is a longitudinal sectional view showing a conventional pressure sensor. 2.26: Pressure receiving diaphragm, 3: Reflective film, 6: Sensor body, 7: Optical pulse signal transmission/reception section, 11: Signal processing section, 13: Optical transmitter, 14: Optical receiver, 18: Processing・Memory part. Agent Patent Attorney Noriyuki Chika Agent Patent Attorney Hiroshi Mitsumata 1st diagram 2nd figure 8th figure 4th figure 6th figure

Claims (1)

【特許請求の範囲】 反射膜が設けられた受圧ダイヤフラムと、 前記反射膜に光パルス信号を投射し、該反射膜で反射さ
れる光パルス信号を受信して、前記受圧ダイヤフラムに
圧力が加えられる前および加えられたときに受信される
両光パルス信号間の位相差を検出する信号処理手段とを
有することを特徴とする圧力センサ。
[Scope of Claims] A pressure receiving diaphragm provided with a reflective film; a light pulse signal is projected onto the reflective film, the light pulse signal reflected by the reflective film is received, and pressure is applied to the pressure receiving diaphragm. and signal processing means for detecting the phase difference between the optical pulse signals received before and when applied.
JP21168186A 1986-09-10 1986-09-10 Pressure sensor Pending JPS6367536A (en)

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JP21168186A JPS6367536A (en) 1986-09-10 1986-09-10 Pressure sensor

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