JPS6367528A - Photodetector molded with opalescent resin - Google Patents

Photodetector molded with opalescent resin

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JPS6367528A
JPS6367528A JP61213456A JP21345686A JPS6367528A JP S6367528 A JPS6367528 A JP S6367528A JP 61213456 A JP61213456 A JP 61213456A JP 21345686 A JP21345686 A JP 21345686A JP S6367528 A JPS6367528 A JP S6367528A
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JP
Japan
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color
light
resin
color filter
photodetector
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JP61213456A
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Japanese (ja)
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Yoshitaka Shibata
柴田 良隆
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Original Assignee
Minolta Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To improve the heat resistance of a color filter layer by providing a color filter layer made of polyimide resin contg. an org. pigment so as to be brought into contact with a photodetecting surface and molding the entire part with opalescent resin. CONSTITUTION:The photodetector 10 is molded in the opalescent resin 20. The color filter made of polyimide resin is mounted on the photodetecting surface of the photodetector 10. The photodetector 10 is die-bonded by a conductive adhesive agent layer 40 onto a tab part 31 positioned in the central part of a lead frame body 30. One end of a bonding wire 50 is connected to each inner lead end 32 of the lead frame body 30. The other end of the wire 50 is connected to the bonding pad of the photodetector 10. The outer lead 33 of the lead frame body 30 is electrically connected to an inner lead end 32 to serve as an external drawing out lead wire of the photodetector 10.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、カラーフィルターを受光面に直付けされた受
光素子を乳白色樹脂によって封止して成る乳白色樹脂モ
ールドされた受光素子に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial Application Field) The present invention relates to a light-receiving element molded with a milky-white resin, which is formed by sealing a light-receiving element with a color filter directly attached to the light-receiving surface with a milky-white resin. .

(従来の技術) 従来、半導体素子のパッケージング法として、樹脂モー
ルド法が広く用いられている。樹脂モールド法によるパ
ッケージングは安価でありながら、耐湿性が良好で、信
頼性が高いという長所がある。
(Prior Art) Conventionally, resin molding has been widely used as a packaging method for semiconductor elements. Packaging using a resin molding method has the advantage of being inexpensive, having good moisture resistance, and being highly reliable.

樹脂モールド法における作業温度条件は150〜180
℃であり、被封止物がシリコン半導体チップのみである
場合には、熱的な問題はほとんど生じない、なお、シリ
コン半導体チップが受光素子である場合には、光を取り
込むためにモールド樹脂は透明な材質のものが選ばれて
いる。
The working temperature conditions in the resin molding method are 150 to 180℃.
℃, and if the object to be sealed is only a silicon semiconductor chip, almost no thermal problem will occur. Furthermore, if the silicon semiconductor chip is a light-receiving element, molding resin is used to capture light. A transparent material was chosen.

一方、カラーフィルターを有する受光素子として、ゼラ
チンやカゼイン、ポリビニルアルコールなどの染色基質
を染料にて染色した有機膜カラーフィルターを、半導体
受光素子のチップ表面に直接取り付けたものが提案され
ている。第17図はこの従来例の概略構成を示す図であ
る。同図に示すように、受光素子10のチップ表面には
、オンチップタイプのフィルターFLが取り付けられて
いる。フィルターPLは、赤色光、緑色光、青色光をそ
れぞれ透過する三種類のカラーフィルターを含み、各カ
ラーフィルターは受光素子10の三つの受光部の表面に
それぞれ配されて、被測定光の色分布を測定できるよう
になっている。受光素子10の前面には、赤外線領域の
光成分をカットするための赤外カットフィルターIRが
配されている、また、多くの場合、入射して来る被測定
光の色分布にはむらがあるので、赤外カットフィルター
JRの前面に拡散板DFを配して被測定光と拡散させ、
受光素子表面における被測定光の色分布を均一化してい
る。このようなオンチップタイプの有機膜カラーフィル
ターを有する受光素子は、カラーフィルターを1個ずつ
チップ上に位置合わせして貼り合わせる構成に比較して
、構造が簡単で安価に構成できるという長所がある。
On the other hand, as a light-receiving element having a color filter, an organic film color filter made by dyeing a dyed substrate such as gelatin, casein, or polyvinyl alcohol with a dye and directly attached to the chip surface of a semiconductor light-receiving element has been proposed. FIG. 17 is a diagram showing a schematic configuration of this conventional example. As shown in the figure, an on-chip type filter FL is attached to the chip surface of the light receiving element 10. The filter PL includes three types of color filters that transmit red light, green light, and blue light, respectively, and each color filter is arranged on the surface of the three light receiving parts of the light receiving element 10 to adjust the color distribution of the light to be measured. can be measured. An infrared cut filter IR for cutting light components in the infrared region is arranged in front of the light receiving element 10, and in many cases, the color distribution of the incident light to be measured is uneven. Therefore, a diffuser plate DF is placed in front of the infrared cut filter JR to diffuse the measured light.
The color distribution of the measured light on the surface of the light receiving element is made uniform. A light receiving element having such an on-chip type organic film color filter has the advantage that it has a simpler structure and can be constructed at a lower cost than a structure in which color filters are aligned and bonded one by one onto a chip. .

(発明が解決しようとする問題点) 前述のようなオンチップタイプの有機膜カラーフィルタ
ーを有する受光素子を、乳白色樹脂でモールドすること
ができれば、安価で信頼性が高く、かつ拡散板を必要と
しない素子を提供できると考えられる。しかしながら、
従来の有機膜カラーフィルターは耐熱性が乏しく、前記
の作業温度条件を必要とする樹脂モールド法を用いるこ
とは不可能であった。すなわち、オンチップタイプの有
機膜カラーフィルターは、ゼラチンやカゼインあるいは
ポリビニルアルコールのような染色基質を染料にて染色
することにより形成されるものであるが、一般にこれら
の材料は耐熱性が乏しく (140℃近辺が限界)、前
記の作業温度条件よりも低い温度で変質し、カラーフィ
ルターとしての特性に変化が生じてしまう、さらにまた
、受光素子を透明樹脂モールドする従来例にあっては、
透明樹脂は光を拡散する作用を有さないので、前述のよ
うに被測定光の色分布にむらがある場合、拡散板を別個
に設置する必要があり、コストアップを招いていた。
(Problems to be Solved by the Invention) If a light-receiving element having an on-chip type organic film color filter as described above could be molded with a milky white resin, it would be inexpensive, highly reliable, and would not require a diffuser plate. It is thought that it is possible to provide an element that does not however,
Conventional organic film color filters have poor heat resistance, making it impossible to use a resin molding method that requires the above working temperature conditions. In other words, on-chip type organic membrane color filters are formed by dyeing dyeing substrates such as gelatin, casein, or polyvinyl alcohol with dyes, but these materials generally have poor heat resistance (140 ℃ (the limit is near), the quality deteriorates at a temperature lower than the above-mentioned working temperature conditions, and the characteristics as a color filter change.Furthermore, in the conventional example of molding the light receiving element with a transparent resin,
Since transparent resin does not have the effect of diffusing light, if the color distribution of the measured light is uneven as described above, it is necessary to separately install a diffusing plate, leading to an increase in cost.

本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、そ
の目的とするところは、ポリイミド樹脂を素材にした耐
熱性の高いカラーフィルターを用いることにより、オン
チップタイプのカラーフィルターを有する受光素子を乳
白色樹脂モールドできるようにして、安価で且つ信頼性
の高い乳白色樹脂モールドされた受光素子を提供するに
ある。
The present invention has been made in view of these points, and its purpose is to create a light-receiving element having an on-chip type color filter by using a highly heat-resistant color filter made of polyimide resin. To provide an inexpensive and highly reliable light receiving element molded with a milky white resin.

(問題点を解決するための手段) 本発明に係る乳白色樹脂モールドされた受光素子にあっ
ては、上述のような問題点を解決するために、有機顔料
を含むポリイミド樹脂からなるカラーフィルター層を受
光面に接するように設け、全体を乳白色樹脂モールドし
て成るものである。
(Means for Solving the Problems) In order to solve the above-mentioned problems, in the light-receiving element molded with a milky white resin according to the present invention, a color filter layer made of polyimide resin containing an organic pigment is provided. It is provided so as to be in contact with the light-receiving surface, and is entirely molded with a milky white resin.

(作用) 本発明に係る乳白色樹脂モールドされた受光素子にあっ
ては、受光面に接するように設けられるカラーフィルタ
ー層として、有機顔料を含むポリイミド樹脂からなるカ
ラーフィルター層を用いたものであるから、従来の有機
膜カラーフィルターに用いられていたゼラチンやカゼイ
ン、ポリビニルアルコールのような染色気質に比べると
、ポリイミド樹脂は耐熱性が高く、また、従来用いられ
ていた染料に比べると、有機顔料の耐熱性も高く、した
がって、カラーフィルター層としての耐熱性が改善され
ており、300℃程度の温度条件には充分に耐えること
ができる。したがって、通常の樹脂モールドの作業温度
条件である150〜180℃の温度には軽く耐えること
ができ、乳白色樹脂モールドが可能となる。そして、乳
白色樹脂は光を拡散する作用を有するので、拡散板の設
置が不要となる。
(Function) In the light-receiving element molded with a milky white resin according to the present invention, a color filter layer made of polyimide resin containing an organic pigment is used as the color filter layer provided in contact with the light-receiving surface. Compared to dyeing properties such as gelatin, casein, and polyvinyl alcohol used in conventional organic film color filters, polyimide resin has higher heat resistance. It also has high heat resistance, and therefore has improved heat resistance as a color filter layer, and can sufficiently withstand temperature conditions of about 300°C. Therefore, it can easily withstand temperatures of 150 to 180° C., which are the working temperature conditions for normal resin molds, and a milky white resin mold can be produced. Furthermore, since the milky white resin has the effect of diffusing light, installation of a diffusion plate becomes unnecessary.

(実施例) 以下、本発明の好ましい実施例を図面と共に説明する。(Example) Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例に係る乳白色樹脂モールドさ
れた受光素子の断面図であり、第2図は同上の製造に用
いる金型の断面図、第3図は同上の製造に用いるリード
フレームの一例を示す図である。
FIG. 1 is a sectional view of a light-receiving element molded with a milky white resin according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view of a mold used for manufacturing the same, and FIG. 3 is a lead used for manufacturing the same. It is a figure which shows an example of a frame.

第1図に示されるように、受光素子10は乳白色樹脂2
0の中にモールドされている。受光素子10の受光面に
は、後述のようにポリイミド樹脂を素材とするカラーフ
ィルターが取り付けられている。受光素子10はリード
フレーム本体30の中心部に位置するタブ部31の上に
、導電性接着剤層40によりグイボンディングされてい
る。リードフレーム本体30のインナーリード端部32
には、ボンディングワイヤー50の一端が接続されてい
る。ボンディングワイヤー50の他端は、受光素子10
のポンディングパッドに接続されている。リードフレー
ム本体30のアウターリード33は、前記インナーリー
ド端部32と電気的に接続されており、受光素子10の
外部引出リード線となるものである。
As shown in FIG. 1, the light receiving element 10 has a milky white resin 2
It is molded into 0. A color filter made of polyimide resin is attached to the light receiving surface of the light receiving element 10, as will be described later. The light receiving element 10 is bonded onto a tab portion 31 located at the center of the lead frame body 30 using a conductive adhesive layer 40 . Inner lead end 32 of lead frame main body 30
One end of the bonding wire 50 is connected to. The other end of the bonding wire 50 is connected to the light receiving element 10
is connected to the pounding pad. The outer lead 33 of the lead frame main body 30 is electrically connected to the inner lead end 32 and serves as an external lead wire of the light receiving element 10.

受光素子10を乳白色樹脂20にモールドするなめには
、例えば、第2図に示されるような金型60が用いられ
る。金型60は上型61と下型62との間にキャビティ
63を有する。このキャビティ63の中に、受光素子1
0をリードフレーム本体30と共に収納し、乳白色樹脂
を注入することにより、キャビティ63の内部形状に応
じた外形を有するモールドパッケージを形成する。なお
、受光素子10はモールドする前に、リードフレーム本
体30にダイボンディング、及び、ワイヤーボンディン
グしておくことは言うまでもない、上型61は乳白色樹
脂が硬化した後に、下型62から離間される。その後、
エジェクタピン64を上動させることにより、モールド
品を金型60から取り出すものである。
For molding the light receiving element 10 into the milky white resin 20, for example, a mold 60 as shown in FIG. 2 is used. The mold 60 has a cavity 63 between an upper mold 61 and a lower mold 62. In this cavity 63, a light receiving element 1 is placed.
0 together with the lead frame main body 30 and injecting milky white resin, a mold package having an external shape corresponding to the internal shape of the cavity 63 is formed. It goes without saying that the light-receiving element 10 is die-bonded and wire-bonded to the lead frame body 30 before being molded, and the upper mold 61 is separated from the lower mold 62 after the milky white resin has hardened. after that,
The molded product is taken out from the mold 60 by moving the ejector pin 64 upward.

以上のモールド品が形成された後は、第3図に示される
リードフレーム本体30におけるフレーム枠34やタイ
バー35は不要となるので、切除される。また、注入さ
れた乳白色樹脂20がキャビティ63からアウターリー
ド33の間にはみ出したダムバリ21や、アウターリー
ド33の上下面に回り込んだフラッシュバリ22も、不
要であるので除去される。さらに、アウターリード33
は、DIRパッケージを形成するように、第1I12I
に示されるように曲成される。
After the above molded product is formed, the frame frame 34 and tie bars 35 in the lead frame main body 30 shown in FIG. 3 are no longer needed and are therefore removed. Further, the dam burr 21 where the injected milky white resin 20 protrudes from the cavity 63 between the outer leads 33 and the flash burr 22 which wraps around the upper and lower surfaces of the outer lead 33 are unnecessary and are therefore removed. Furthermore, outer lead 33
the first I12I so as to form a DIR package.
It is curved as shown in .

第4図は乳白色樹脂モールドされる受光素子10の断面
構造を例示する図である。この受光素子は、カラービデ
オカメラのホワイトバランスセンサーとして用いられる
ものであり、R(赤色光)。
FIG. 4 is a diagram illustrating a cross-sectional structure of the light receiving element 10 molded with a milky white resin. This light receiving element is used as a white balance sensor for color video cameras, and emits R (red light).

G(緑色光)、B(青色光)についての光強度を測定で
きるようになっている。シリコン基板1の表面には、通
常の半導体製造プロセスを用いて受光部2が形成されて
おり、各受光部2の表面にはそれぞれ赤色フィルター3
、緑色フィルター4及び青色フィルター5が受光面上及
びその近傍を覆うように設けられている。各フィルター
3〜5の表面には、トップコート膜6が施されており、
表面が平坦化されている。シリコン基板lの縁部には、
アルミニウム膜7よりなる配線部が露出されている。
The light intensity of G (green light) and B (blue light) can be measured. A light receiving section 2 is formed on the surface of the silicon substrate 1 using a normal semiconductor manufacturing process, and a red filter 3 is provided on the surface of each light receiving section 2.
, a green filter 4 and a blue filter 5 are provided so as to cover the light receiving surface and its vicinity. A top coat film 6 is applied to the surface of each filter 3 to 5,
The surface is flattened. At the edge of the silicon substrate l,
A wiring portion made of aluminum film 7 is exposed.

第5図はカラーフィルターを作成するための製造工程を
示す図である。また、第6図乃至第8図は各工程の説明
図である。以下、これらの図を参照しながら、カラーフ
ィルターを有する受光素子の製造工程を説明する。尚、
第6図及び第7図の各工程はウェハ一単位で処理される
ものであるが、図面は1個のチップのみを示している。
FIG. 5 is a diagram showing the manufacturing process for creating a color filter. Moreover, FIGS. 6 to 8 are explanatory diagrams of each process. Hereinafter, the manufacturing process of a light receiving element having a color filter will be explained with reference to these figures. still,
Each process in FIGS. 6 and 7 is performed on a single wafer, but the drawings show only one chip.

また、第6図及び第7図では配線を省略して示している
Further, in FIGS. 6 and 7, wiring is omitted.

(i)カラーペーストの塗布、セミキュアの工程(第6
図(a)参照) まず、カラーフィルター用の耐熱性カラーペースト8を
受光素子が形成されたシリコン基板1の表面に塗布する
。この段階では、シリコン基板1は個々のチップ単位で
はなく、ウェハ一単位で処理されている。耐熱性カラー
ペースト8は、溶剤と、溶剤に対して不溶な有機顔料と
、ポリイミド前駆体とから成る。塗布に際しては、予め
、受光素子を形成されたシリコン基板1を200℃のN
2ガス中で10分間乾燥させた後、第1色目のカラーペ
ースト8をシリコン基板1上に少量滴下し、スピンナー
(例えばミカサ製IH−DS型)を用いて、500 r
pmの回転数で5秒、さらに3000rpI11の回転
数で30秒の条件で塗布膜を形成する。
(i) Color paste application, semi-curing process (6th
(See Figure (a)) First, heat-resistant color paste 8 for color filters is applied to the surface of silicon substrate 1 on which light-receiving elements are formed. At this stage, the silicon substrate 1 is being processed not in units of individual chips but in units of wafers. The heat-resistant color paste 8 consists of a solvent, an organic pigment insoluble in the solvent, and a polyimide precursor. When coating, the silicon substrate 1 on which the light-receiving element is formed is heated with N at 200°C.
After drying in two gases for 10 minutes, a small amount of the first color color paste 8 was dropped onto the silicon substrate 1, and then dried at 500 r using a spinner (for example, IH-DS type manufactured by Mikasa).
A coating film is formed under the conditions of 5 seconds at a rotational speed of pm, and further 30 seconds at a rotational speed of 3000rpI11.

この塗布膜を通風乾燥機を用いて、140℃の空気中で
30分間セミキュアする。第1色目のカラーペースト8
としては、赤色、緑色、青色のうちどの色を用いても良
い。
This coated film is semi-cured for 30 minutes in air at 140° C. using a ventilation dryer. 1st color color paste 8
Any color among red, green, and blue may be used as the color.

第9図はスピンナーを用いたカラーペースト8の塗布の
様子を示す図である。溶剤とポリマーとを混ぜたフェス
に有機顔料を混ぜてカラーペースト8とし、このカラー
ペースト8を例えばビーカーからシリコン基板1の表面
に注ぐ(第9図(a)9照)、シリコン基板1はスピン
ナーを用いて高速度で回転駆動されており、シリコン基
板1の表面に注がれたカラーペースト8は、遠心力によ
りシリコン基板1の表面に一様に分散する(第9図(b
)参照)、第10図はスピンナーの回転数と塗布膜厚と
の関係を示す図である。この図から明らかなように、ス
ピンナーの回転数を上げることにより、塗布M厚を薄く
することができる。なお、第10図において、各線はカ
ラーペーストを塗布する場合の特性(赤色O印、緑色Δ
印、青色・印)を示している。
FIG. 9 is a diagram showing how the color paste 8 is applied using a spinner. A color paste 8 is obtained by mixing an organic pigment with a mixture of a solvent and a polymer, and this color paste 8 is poured onto the surface of a silicon substrate 1 from, for example, a beaker (see Figure 9(a)).The silicon substrate 1 is placed in a spinner. The color paste 8 poured onto the surface of the silicon substrate 1 is uniformly dispersed over the surface of the silicon substrate 1 by centrifugal force (see Fig. 9(b)).
), and FIG. 10 is a diagram showing the relationship between the rotation speed of the spinner and the coating film thickness. As is clear from this figure, the thickness of the coating M can be reduced by increasing the rotation speed of the spinner. In addition, in Fig. 10, each line indicates the characteristics when applying color paste (red O mark, green Δ
mark, blue mark).

カラーペーストの塗布工程において、使用される耐熱性
カラーペーストの成分を例示すれば、次の通りである。
Examples of the components of the heat-resistant color paste used in the color paste application process are as follows.

執  −一ペースト(I 一般式 %式%) 但し、R1:芳香族炭化水素環又は複素環R2:水素又
は炭素数1〜10の炭化水素基で示されるポリマー10
011に対し、有機顔料について、 赤色顔料として、カラー・インデックスNo、7390
5のピグメントRed209、同No、46500のピ
グメントVioleL19等で示されるキナクリドン系
顔料; 又は、 緑色顔料として、カラー・インデックスNo、7416
0のピグメントGreen36、同No、74260の
ピグメントG reen 7等で示されるフタロシアニ
ングリーン系顔料; 又は、 青色顔料として、カラー・インデックスN017416
0のピグメントBlue15−3、同No、74160
のピグメントBlue15−4等で示されるフタロシア
ニンブルー系顔料; のいずれかを10〜300gの割合で混合されてなるカ
ラーフィルター用耐熱性カラーペースト。
-1 paste (I general formula % formula %) However, R1: aromatic hydrocarbon ring or heterocycle R2: polymer 10 represented by hydrogen or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms
011, for organic pigment, as a red pigment, color index No. 7390
Quinacridone pigments such as No. 5 Pigment Red 209 and No. 46500 Pigment Viole L19; or as a green pigment, Color Index No. 7416
Phthalocyanine green pigments such as No. 0 Pigment Green 36, Pigment No. 74260, Pigment Green 7; or as a blue pigment, Color Index No. No. 017416
0 Pigment Blue15-3, same No. 74160
A heat-resistant color paste for a color filter, comprising a phthalocyanine blue pigment such as Pigment Blue 15-4 mixed in a proportion of 10 to 300 g.

(熱 カラーペースト ■ 一般式 但し、R1:芳香族炭化水素環又は複素環R2:水素又
は炭素数1〜10の炭化水素基で示されるポリマー10
0gに対し、有機顔料について、前記カラーペースト(
1)について用いたのと同じ赤色顔料、緑色顔料、又は
、青色顔料のいずれかを、10〜3008の割合で混合
されてなるカラーフィルター用耐熱性カラーペースト。
(Heat Color Paste ■ General Formula However, R1: aromatic hydrocarbon ring or heterocycle R2: polymer 10 represented by hydrogen or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms
For 0g of organic pigment, the color paste (
A heat-resistant color paste for a color filter, which is made by mixing the same red pigment, green pigment, or blue pigment as used in 1) at a ratio of 10 to 3008.

一般式 但し、R8:芳香族炭化水素環又は複素環R2:水素又
は炭素数1〜10の炭化水素基で示されるポリマー10
0gに対し、有機顔料について、前記カラーペースト(
I)について用いたのと同じ赤色顔料、緑色顔料、又は
、青色顔料のいずれかを、10〜300gの割合で混合
されてなるカラーフィルター用耐熱性カラーペースト。
General formula, R8: aromatic hydrocarbon ring or heterocycle R2: polymer 10 represented by hydrogen or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms
For 0g of organic pigment, the color paste (
A heat-resistant color paste for a color filter, which is made by mixing 10 to 300 g of the same red pigment, green pigment, or blue pigment as used in I).

シリコン基板1に塗布されるカラーペーストとしては、
前記(I)〜(III)のうちいずれのカラーペースト
を用いても構わない、なお、カラーペーストの塗布を行
う前に、受光面の凹凸を平坦化するために、受光面に透
明なポリイミド層を塗布しておいても良い。
The color paste applied to the silicon substrate 1 is as follows:
Any color paste from (I) to (III) above may be used.Before applying the color paste, in order to flatten the unevenness of the light receiving surface, a transparent polyimide layer is applied to the light receiving surface. You may also apply it.

(ii)レジスト塗布、プリベータの工程(第6図(b
)#照) カラーペースト8が塗布されて、セミキュアされたシリ
コン基板1を通風乾燥機から取り出し、冷えてくるのを
待って、フォトレジスト9を塗布する0本実施例では、
ポジレジストであるシブレイ社製の゛マイクロポジット
フォトレジスト1400−31”(商品名)を用いた。
(ii) Resist coating and pre-beta process (Fig. 6(b)
)#photo) The semi-cured silicon substrate 1 coated with the color paste 8 is taken out of the ventilation dryer, waits for it to cool down, and then the photoresist 9 is coated.
A positive resist, ``Microposit Photoresist 1400-31'' (trade name) manufactured by Sibley Co., Ltd., was used.

フォトレジスト9の塗布もスピンナーを用いて行うもの
であり、500 rpmの回転数で5秒、さらに200
Qrpmの回転数で30秒の条件で塗布膜を形成する。
The application of the photoresist 9 is also carried out using a spinner, which is applied at a rotation speed of 500 rpm for 5 seconds and then at a rotation speed of 200 rpm.
A coating film is formed at a rotation speed of Qrpm for 30 seconds.

プリベークは、通風乾燥機を用いて90°Cの窒累ガス
(N2ガス)中で30分間行う。
Prebaking is performed for 30 minutes in nitrogen gas (N2 gas) at 90°C using a ventilation dryer.

(iii )露光工程(第6図(e)g照)次に、マス
クアライナ−を用いてシリコン基板1への露光位置を調
整した後、70mJの露光を行い、受光面上及びその近
傍のみにフォトレジストリが残るように、フォトマスク
11を介して紫外線による露光を行う。
(iii) Exposure process (see Fig. 6(e)g) Next, after adjusting the exposure position on the silicon substrate 1 using a mask aligner, exposure of 70 mJ was performed, only on and near the light receiving surface. Exposure to ultraviolet light is performed through a photomask 11 so that the photoresist remains.

(iv)レジスト現像、エツチングの工程(第6図(d
)参照) 次に、露光を終えたシリコン基板1のフォトレジスト9
を現像する。現像液としては、シブレイ社製のマイクロ
ポジット“M F −312デベロツパー″(商品名)
と水とを、1:1で混合したものを用いて、液温22℃
で60秒かけてレジスト現像を行う、その後、余分なカ
ラーペースト層のエツチングを行う、エツチングを終え
たシリコン基板lを水でリンスし、N2ガスを吹き付け
て乾燥させる。
(iv) Resist development and etching process (Fig. 6(d)
)) Next, the photoresist 9 on the silicon substrate 1 that has been exposed is
Develop. As a developer, Microposit "MF-312 Developer" (trade name) manufactured by Sibley is used.
and water at a 1:1 ratio, and the liquid temperature was 22°C.
After that, the excess color paste layer is etched. After the etching, the silicon substrate 1 is rinsed with water and dried by blowing N2 gas.

(マ)レジスト剥離、リンス、キュアの工程(第6図(
e)参照) 次に、カラーペースト層の上に残っているフォトレジス
ト9を剥離させるために、シリコン基板1を酢酸エチル
中に浸漬・撹拌し、5分後に取り出し、イソプロピルア
ルコールでリンスした後、N、ガスを吹き付けて乾燥さ
せ、その後、通風乾燥機で300℃のN2ガス中で30
分間キュアせしめる。
(Ma) Resist peeling, rinsing, and curing process (Figure 6 (
(See e)) Next, in order to peel off the photoresist 9 remaining on the color paste layer, the silicon substrate 1 is immersed and stirred in ethyl acetate, taken out after 5 minutes, and rinsed with isopropyl alcohol. Dry by blowing N2 gas, then dry in N2 gas at 300℃ in a ventilation dryer for 30 minutes.
Let it cure for a minute.

なお、実施例では、フォトレジスト9としてポジレジス
トを用いる例を示したが、ネガレジスト(例えば日立化
成工業社製のネガ型レジスト“”RLJ−I100N″
(商品名))を用いても良い。
In the example, an example was shown in which a positive resist was used as the photoresist 9, but a negative resist (for example, a negative resist "RLJ-I100N" manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) was used.
(product name)) may be used.

(vi)第2色目のカラーフィルターの作成工程衣に、
第2色目のカラーフィルターの作成に入るが、第2色目
のカラーフィルターの作成においても、カラーペースト
8を塗布し、キュアするまで、第1色目と同等のプロセ
ス(i)〜(v)を繰り返す、第2色目は、赤色、緑色
、青色のうち、第1色目を除く2色のうち、どちらの色
を選んでもよい、たとえば、第1色目が緑色であれば、
第2色目は赤色として良い。
(vi) In the process of creating the second color filter,
Now we will start creating the second color filter.In creating the second color filter, we repeat the same processes (i) to (v) as for the first color until we apply color paste 8 and cure it. , the second color may be any of red, green, and blue, excluding the first color. For example, if the first color is green,
The second color may be red.

(vii)第3色目のカラーフィルターの作成工程衣に
、第3色目のカラーフィルターの作成に入るが、第3色
目のカラーフィルターの作成においても、カラーペース
ト8を塗布し、キュアするまで、第1色目と同等のプロ
セス(i)〜(v)を繰り返す、第3色目は、赤色、緑
色、青色のうち、第1色目と第2色目とを除く残りの1
色となる。たとえば、第1色目が緑色で、第2色目は赤
色であれば、第3色目は青色ということになる。
(vii) Creation process of the third color filter The creation of the third color filter begins on the garment, but also in the creation of the third color color filter, color paste 8 is applied and the color paste 8 is applied until it is cured. Repeat the same processes (i) to (v) as for the first color, and the third color is the remaining one of red, green, and blue, excluding the first and second colors.
Becomes a color. For example, if the first color is green and the second color is red, the third color is blue.

このように、受光面を複数個持つ受光素子の場合、色の
異なる有機顔料を含むカラーペーストを用いて、前述の
ようにフォトリソグラフィ法を繰り返すことによって、
各受光面にそれぞれ色の異なるカラーフィルターを取り
付けることができ、それぞれのカラーフィルターに含ま
れる有機顔料の種類によって主に決まる分光特性を持つ
分光検出受光素子を形成することができる。
In this way, in the case of a light-receiving element with multiple light-receiving surfaces, by repeating the photolithography method as described above using color paste containing organic pigments of different colors,
Color filters of different colors can be attached to each light-receiving surface, and a spectral detection light-receiving element having spectral characteristics determined mainly by the type of organic pigment contained in each color filter can be formed.

(vii))ツブコート膜の塗布工程(第7図(a)参
照)3色のカラーフィルター3.4.5を同一シリコン
基板1上に作成し終えた後、最後にトップコートM6を
形成する。トップコートM6を形成するには、例えば日
本合成ゴム社製JSRポリイミド“JIA−1−2”(
商品名)を、0.5μm(’)膜厚で塗布し、ベークす
る。ベーキング条件は、150℃の雰囲気で1時間であ
る。トップコート膜6としては、この他に、例えば日本
合成ゴム社製の表面平坦化剤“JSS−17″(商品名
)を用いて形成しても良い。
(vii)) Coating step of the tube coat film (see FIG. 7(a)) After the three color filters 3, 4, and 5 have been formed on the same silicon substrate 1, a top coat M6 is finally formed. To form the top coat M6, for example, JSR polyimide “JIA-1-2” manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.
(trade name) to a thickness of 0.5 μm (') and baked. The baking conditions are 1 hour in an atmosphere of 150°C. In addition to this, the top coat film 6 may be formed using, for example, a surface flattening agent "JSS-17" (trade name) manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.

このトップコート膜6を施す目的は、前述の(i)〜(
vii)の工程により形成された着色ポリイミドカラー
フィルターの表面には、いわゆるオレンジピール状の肌
あれが発生し、表面の乱反射による光透過率の低下を招
くことが多いので、トップコート膜6によって表面を平
坦化して表面の乱反射を防止し、光透過率を向上させる
ためである。第12図乃至第14図に示されるように、
光透過率はトップコーティングが施されることにより、
数%改善されている。第12図乃至第14図は、前述の
工程により作成された青色、赤色及び緑色のカラーフィ
ルターの分光透過率特性をそれぞれ示す図であり、実線
で示した特性はトップコーティングがない場合、破線で
示した特性はトップコーティングがある場合の特性をそ
れぞれ示している。
The purpose of applying this top coat film 6 is the above-mentioned (i) to (
On the surface of the colored polyimide color filter formed in step vii), so-called orange peel-like roughness occurs, which often leads to a decrease in light transmittance due to diffuse reflection on the surface. This is to flatten the surface to prevent diffuse reflection on the surface and improve light transmittance. As shown in FIGS. 12 to 14,
The light transmittance is increased by the top coating.
Improved by a few percent. Figures 12 to 14 are diagrams showing the spectral transmittance characteristics of blue, red, and green color filters created by the above-mentioned process, respectively, and the characteristics shown by solid lines are the same as those shown by broken lines when there is no top coating. The properties shown are those with a top coating.

また、第11図はトップコーティングの施されていない
青色のカラーフィルターについて、H3を変えた場合の
分光透過率特性の変化を示すものであり、■はスピンナ
ーの最終的な回転数が200Q rpmである場合、■
は同3000 rpmである場合、■は同4000 r
pmである場合の分光透過率特性をそれぞれ示している
。さらに、第15図はシリコンチップ上に設けた青色、
緑色、赤色の各カラーフィルターの特性を示している。
In addition, Figure 11 shows the change in spectral transmittance characteristics when H3 is changed for a blue color filter without top coating. If so, ■
If is 3000 rpm, ■ is 4000 rpm
The spectral transmittance characteristics in the case of pm are shown respectively. Furthermore, Fig. 15 shows the blue color provided on the silicon chip.
It shows the characteristics of green and red color filters.

なお、この特性を得るために、第16図に示す特性の赤
外カットフィルターIRを外付けしている。
In order to obtain this characteristic, an infrared cut filter IR having the characteristics shown in FIG. 16 is externally attached.

りix)レジスト塗布の工程(第7図(b)参照)次に
、トップコート膜6にて覆われたアルミニウム膜7より
なる配線を露出させてポンディングパッド部を形成する
ために、フォトレジスト12を塗布し、アルミニウム膜
7の部分のフォトレジスト12のみが除去されるように
、フォトマスク13を介して紫外線による露光を行う、
アルミニウム膜7よりなる配線(ポンディングパッド部
)はシリコン基板1の縁部に形成されており、したがっ
て、例えば第6図(、)は少し誇張して描けば第8図に
示されるようになっている。
ix) Process of applying resist (see FIG. 7(b)) Next, in order to expose the wiring made of the aluminum film 7 covered with the top coat film 6 and form a bonding pad part, a photoresist is applied. 12 is applied and exposed to ultraviolet light through a photomask 13 so that only the photoresist 12 on the aluminum film 7 is removed.
The wiring (ponding pad portion) made of the aluminum film 7 is formed on the edge of the silicon substrate 1, and therefore, for example, FIG. 6 (,) can be slightly exaggerated as shown in FIG. 8. ing.

(x)トップコート膜のエツチング工程(第7図(e)
参照) 次に、露光済みのシリコン基板1を現像し、エツチング
によりアルミニウムJI17の部分のトップコート膜6
を除去する。
(x) Etching process of top coat film (Fig. 7(e)
(See) Next, the exposed silicon substrate 1 is developed and etched to remove the top coat film 6 on the aluminum JI 17 portion.
remove.

(xi)レジスト剥離の工程(第7図(cl)参照)さ
らに、トップコート膜6を覆っているフォトレジスト1
1を酢酸エチルあるいはアセトンにより剥離する0以上
の(ix)〜(xi)の工程により、ポンディングパッ
ド部に対応する部分のトップコート膜6が除去される。
(xi) Resist stripping process (see FIG. 7 (cl)) Furthermore, the photoresist 1 covering the top coat film 6 is
The top coat film 6 in the portion corresponding to the bonding pad portion is removed by the steps (ix) to (xi) of zero or more, in which the top coat film 6 is peeled off using ethyl acetate or acetone.

つまり、アルミニウム膜7よりなる電極が露出される。In other words, the electrode made of aluminum film 7 is exposed.

以上の工程により製造されたカラーフィルターを有する
受光素子にあっては、カラーフィルターの材料としてポ
リイミド樹脂と有機顔料を用いていることにより、耐熱
性については300℃までの熱には充分に耐えることが
でき、グイボンディングやワイヤーボンディング、ある
いは樹脂モールド工程における熱的な条件をほとんど気
にしなくても良い。
The light-receiving element with the color filter manufactured by the above process has heat resistance that can withstand heat up to 300 degrees Celsius due to the use of polyimide resin and organic pigments as materials for the color filter. There is no need to worry about thermal conditions during wire bonding, wire bonding, or resin molding processes.

(xi)組み立て工程(第1図乃至第3図参照)次に、
ウェハーテストを行い、良否の判定をして、個々のチッ
プにグイシングした後に良品のチップのみをリードフレ
ーム本体30にグイボンディングする。グイボンディン
グは導電性のエポキシ樹脂よりなる接着剤N40を用い
て行う、グイボンディングを終えたら、100℃で1時
間キュアした後、ワイヤボンディングを行って結線する
(xi) Assembly process (see Figures 1 to 3) Next,
After performing a wafer test, determining whether the chips are good or bad, and gluing each chip, only the non-defective chips are bonded to the lead frame body 30. The gouey bonding is performed using adhesive N40 made of conductive epoxy resin. After the gouey bonding is completed, it is cured at 100° C. for one hour, and then wire bonding is performed to connect the wires.

ワイヤボンディング時の基板加熱温度は100〜150
℃である。ワイヤボンディングが完了すると、透明アク
リル樹脂あるいはエポキシ樹脂、又はシリコーン樹脂と
酸化チタンとの混合物、あるいは硫酸バリウムとの混合
物等による樹脂モールドをトランスファモールド法で行
う。このときの成型温度は高くても約180℃であり、
有機顔料もポリイミド樹脂も充分に耐熱することができ
る。
The substrate heating temperature during wire bonding is 100-150℃
It is ℃. After the wire bonding is completed, resin molding is performed using a transparent acrylic resin, epoxy resin, a mixture of silicone resin and titanium oxide, a mixture of barium sulfate, or the like using a transfer molding method. The molding temperature at this time is about 180°C at the highest,
Both organic pigments and polyimide resins can be sufficiently heat resistant.

なお、樹脂モールドする前に、カラーフィルター上に透
明のポリイミド層又はエポキシ樹脂層を塗布により形成
しておいても良い、これによって、モールド4!l脂部
の内部応力及びモールド時の熱が直接カラーフィルター
に伝わるのを防止できる。
Incidentally, before resin molding, a transparent polyimide layer or epoxy resin layer may be formed on the color filter by coating, whereby mold 4! l It is possible to prevent the internal stress of the fat part and the heat during molding from being directly transmitted to the color filter.

また5組み立て工程において樹脂モールドする場合、モ
ールド用樹脂によって、カラーフィルターの表面のあれ
を改善できるので、必ずしもトップコート膜を設けなく
ても良い。
Furthermore, when resin molding is performed in the 5th assembly step, the molding resin can improve surface roughness of the color filter, so it is not necessarily necessary to provide a top coat film.

ところで、樹脂モールディングには、実施例で用いたト
ランスファモールド法を含めて、以下に例示するような
各種の方法があるが、いずれの方法を選んでも構わない
0作業雰囲気はいずれも空気中である。
By the way, there are various methods for resin molding, including the transfer molding method used in the examples, as exemplified below, but it doesn't matter which method you choose.The work atmosphere is in the air. .

■トランスファモールディング この方法は、粉体樹脂を溶融しプランジャの圧力にて金
型内に注入し多数個を同時に封止する方法であり、最も
広く用いられている。モールド材料としては、Fe−N
i合金のリードフレーム又はCuリードフレームと、エ
ポキシ樹脂又はシリコーン樹脂との組み合わせが一般的
である0作業温度は通常150〜170℃であり、本発
明のボリイミド製カラーフィルターであれば充分に耐熱
できる温度である。
■Transfer molding This method is the most widely used method, in which powdered resin is melted and injected into a mold under the pressure of a plunger to seal a large number of molds at the same time. As the mold material, Fe-N
A combination of an i-alloy lead frame or a Cu lead frame and an epoxy resin or silicone resin is common.The working temperature is usually 150 to 170°C, and the polyimide color filter of the present invention can sufficiently withstand heat. It's temperature.

■インジェクションモールディング この方法は、P、P、S、@脂やポリエステル樹脂を用
いて射出成型機によりモールドするものであり、F e
 −N iリードフレームについて使用される3作業温
度は150℃以下であり、本発明のポリイミド製カラー
フィルターであれば充分に耐熱−できる温度である。
■Injection molding This method involves molding with an injection molding machine using P, P, S, @ resin or polyester resin.
The working temperature used for the -Ni lead frame is 150° C. or lower, which is a temperature at which the polyimide color filter of the present invention can be sufficiently heat resistant.

■キャスティング・ボッティング この方法は、液状の樹脂を型の中に流し込む方法であり
、ダイオードリードやハイブリッド基板をシリコーン樹
脂やエポキシ樹脂でモールドするような場合に用いられ
る0作業温度は常温であるが、キュアは180℃以下で
行なわれ、本発明のポリイミド製カラーフィルターであ
れば充分に耐熱できる温度である。
■Casting/botting This method is a method in which liquid resin is poured into a mold, and the working temperature used when molding diode leads or hybrid boards with silicone resin or epoxy resin is room temperature. The curing is performed at 180° C. or lower, which is a temperature at which the polyimide color filter of the present invention can sufficiently withstand heat.

なお、乳白色樹脂モールドされる受光素子としては、実
施例において例示したホワイトバランスセンサーの他に
も、共通のチップに処理回路と受光素子とを有する1績
回路チップ(ICチップ)、輝度測定用センサーや潤色
センサー等が考えられる。
In addition to the white balance sensor exemplified in the example, examples of the light receiving element molded with milky white resin include a single circuit chip (IC chip) having a processing circuit and a light receiving element on a common chip, and a sensor for measuring brightness. Possible options include color-enriching sensors, etc.

(発明の効果) 以上のように、本発明に係る乳白色樹脂モールドされた
受光素子にあっては、受光面に接するよ  ”うに設け
られるカラーフィルター層として、有機顔料を含むポリ
イミド樹脂からなるカラーフィルター層を用いたもので
あるから、カラーフィルター層の耐熱性が改善されてお
り、したがって、カラーフィルターが受光素子の受光面
に直接取り付けられたオンチップ型の分光機能素子の乳
白色樹脂モールドが可能となって製作コストを低減でき
るという効果があり、しかもチップ全体を乳白色樹脂モ
ールドによって被覆することができるので、湿気等に強
く、信頼性が高く、且つ、乳白色樹脂が光を拡散する作
用を有するので、拡散板の設置が不要になるという効果
がある。
(Effects of the Invention) As described above, in the light-receiving element molded with a milky white resin according to the present invention, the color filter layer made of polyimide resin containing an organic pigment is used as the color filter layer provided in contact with the light-receiving surface. The heat resistance of the color filter layer is improved, and therefore it is possible to mold an on-chip spectroscopic function element with a milky white resin in which the color filter is directly attached to the light-receiving surface of the light-receiving element. This has the effect of reducing production costs, and since the entire chip can be covered with a milky white resin mold, it is resistant to moisture and has high reliability.Moreover, the milky white resin has the effect of diffusing light. This has the effect of eliminating the need for installing a diffusion plate.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例に係る乳白色樹脂モールドさ
れた受光素子の断面図、第2図は同上の製造に用いる金
型の断面図、第3図は同上の製造に用いるリードフレー
ムの一例を示す図、第4図は同上に用いるカラーフィル
ターを有する受光素子の断面図、第5図は同上の製造工
程を示す工程図、第6図乃至第8図は同上の製造工程の
各々を説明するための説明図、第9図(a) (b)は
カラーペーストの塗布工程を示す説明図、第10図はス
ピンナーの回転数と塗布膜厚との関係を示す図、第11
図乃至第15図はカラーフィルターの分光透過率特性を
示す図、第16図は受光素子に外付けされる赤外カット
フィルターの分光透過率特性を示す図、第17図は従来
例の概略構成図である。 10は受光素子、20は乳白色樹脂である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a light-receiving element molded with a milky white resin according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view of a mold used for manufacturing the same, and FIG. 3 is a cross-sectional view of a lead frame used for manufacturing the same. A diagram showing an example, FIG. 4 is a cross-sectional view of a light receiving element having a color filter used in the above, FIG. 5 is a process diagram showing the manufacturing process of the same, and FIGS. 9(a) and 9(b) are explanatory diagrams showing the color paste coating process; FIG. 10 is a diagram showing the relationship between the rotation speed of the spinner and the coating film thickness;
Figures 15 to 15 are diagrams showing the spectral transmittance characteristics of the color filter, Figure 16 is a diagram showing the spectral transmittance characteristics of an infrared cut filter externally attached to the light receiving element, and Figure 17 is a schematic diagram of the conventional example. It is a diagram. 10 is a light receiving element, and 20 is a milky white resin.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)有機顔料を含むポリイミド樹脂からなるカラーフ
ィルター層を受光面に接するように設け、全体を乳白色
樹脂モールドして成ることを特徴とする乳白色樹脂モー
ルドされた受光素子。
(1) A light-receiving element molded with a milky-white resin, characterized in that a color filter layer made of polyimide resin containing an organic pigment is provided in contact with the light-receiving surface, and the entire body is molded with a milky-white resin.
JP61213456A 1986-07-10 1986-09-09 Photodetector molded with opalescent resin Pending JPS6367528A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02238330A (en) * 1989-03-10 1990-09-20 Hamamatsu Photonics Kk Solar radiation sensor and detector

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