JPS636177Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は焼結鉱クーラ、コークス乾式消火装置
等に使用される粒塊状物を処理するサーキユラグ
レート型回転構造物の回転支持装置の改良に関す
る。

従来のものの具体例を第１図〜第４図によつて
説明する。

第１図は回転構造物の部分上面図であり、第２
図はＡ−Ａ矢視における断面を表わす図であり、
第３図および第４図は後述する支持ローラの側面
図を示す。図において、１は旋回する円環梁であ
り、同円環梁１には上記したように粒塊物を処理
するための容器２が固着されている。また、円環
梁１の内側には多数のガイドローラ３が回動自在
に固着されリング状のガイドレール４に接触しな
がら転動するようになつている。さらに、円環梁
１の下部には多数の支持ローラ５が回動自在に固
着され、同様にリング状の支持レール６上を転動
するようになつている。なお、７はガイドレール
４を支持するためのガイドレール支持部材であ
り、８は支持レール６を支持するための支持レー
ル支持部材である。９は円環梁１を旋回させるた
めの駆動力を与えるための駆動系である。

第３図および第４図に示すのは、上記した支持
ローラ５の詳細側面であり、前者が固定式のロー
ラ、後者が可動式のローラである。第３図に示す
支持ローラ５では、円環梁１の下部にローラ支持
板１０を強固に固定し、ローラ支持板１０の下部
に支持ローラ５を回動自在に取付けており、支持
ローラ５のほぼ直上には荷重受部材１１が設けら
れている。第４図に示す支持ローラ５では、円環
梁１の下部に垂直方向のピン１２が固着されてお
り、ピン１２にはローラ支持板１０の１端部が回
動自在に嵌装されており、従つてローラ支持板１
０はピン１２を軸にして回動可能となつている。
さらに、円環梁１とローラ支持板１０の間にはそ
れぞれすべり軸受１３が配置され軸受面１４で摺
動可能となつている。

さて、第１図及び第２図に示す装置において、
粒塊物を処理するための容器２が固着された円環
梁１は駆動系９により駆動回転される。駆動方法
としては本例で示すような摩擦ローラＮを使用す
る場合の他、装置の規模等に応じてギヤ駆動など
が使われる場合もある。円環梁１は通常数10ｍ径
であり、比較的大きなものであるため円環梁１、
ガイドレール４その他これらの保持部材に製作誤
差、据付誤差を有し、さらに処理工程で熱エネル
ギをもつておれば各部に熱変形が生じる。このた
め、ガイドレール４とガイドローラ３との間には
上述した製作誤差、据付誤差熱変形等を許容する
〓間を開けて据付ける必要がある。このような装
置において、上記駆動を行うと、円環梁１は真円
で旋回せず、振れ回りながら回転することとな
る。したがつて、円環梁１の下部に取付けられた
支持ローラ５は第３図に示すタイプのものではロ
ーラの向きが固定されているために上記振れ回り
回転によつて支持ローラ５と支持レール６との間
で横すべりが生じ、支持ローラ５と支持レール６
の著しい摩耗が生じひいては破損原因ともなる。
そこでこの改良案として提案されたものが、第４
図に示す首振りキヤスタ式のローラである。この
ローラの上面図を第５図に示す。第５図におい
て、支持ローラ５の傾き角度がθづれた状態で矢
印の方向に引張られる場合、支持ローラ５に加わ
る荷重Ｗ、支持ローラ５のすべり摩擦係数μ_S、す
べり軸受１３のすべり摩擦係数μ_BとすればF₁＝μ_S
Ｗ、F₂＝μ_BＷとなりF₁＞F₂のときには支持ロー
ラ５はθを縮める方向に近寄つていく。ここで、
μ_Sは一定値でなくθによつて変化することが本考
案者らの実験によつて確かめられており、μ_Sとθ
の関係を第６図に示している。第６図によると、
θが約0.4゜以上ではμ_Sは一定であるが、θがそれ
以下になると次第に減少している。つまり、μ_Sに
依存するF₁はθの減少に伴つて小さくなること
を意味し、ほぼ一定であるF₂を下回ると、その
時点のθで支持ローラ５が動かなくなり、横すべ
りを生じてしまう。従来提案されている第４図の
タイプの支持ローラ５では荷重受け部材としてす
べり軸受１３を使用しているためすべり摩擦係数
μ_Bは例えば0.25程度に比較的大きなものである。
μ_Bが0.25の場合にはθが0.2゜のところで動かなく
なつてしまい、大きな横すべりを生じて摩耗が促
進する。

本考案では上記の問題点を解消するために提案
するものでローラの追従性を阻害せぬつまり摩耗
の少ないサーキユラグレート型回転構造物の回転
支持装置を提供する。

第７図に本考案に係る回転支持装置を側面図で
示す。１は円環梁であり、１２は円環梁１に取付
けられたピンであり、１０はピン１２に固定され
てピン１２を軸に回動可能とされたローラ支持板
である。なお、ピンは円環梁１に介装材を配して
取付けられてもよい。１６は荷重受けローラ支持
材であり、ローラ支持板１０の上部に固着されて
おり、荷重受けローラ支持材１６には回転自在に
１個以上の荷重受けローラ１５が配置され、この
ローラ１５の向きはピン１２を中心としたローラ
支持板１０の回動を阻害しないすなわちピン１２
を中心とした円弧の接線上に転動するように設定
される。また、１７は円環梁１の下部に固着され
たレールであり、荷重受けローラ１５の転がり軌
跡に沿つて配置される。さらに、ローラ支持板１
０の下部には支持ローラ５が回転可能に支持され
ている。なお、第１図、第２図に示したような全
体構造は従来のものと同様である。

本考案による装置とすれば荷重受け部が従来の
すべり軸受に変わり転動体となつているので、転
動体の摩擦係数はすべりの摩擦係数に比べ１オー
ダ小さいのが普通であるところから、第６図によ
つてローラ５が動かなくなるθを求めると、相当
μ_Bが0.01の場合、θ＝0.03゜程度となり、ローラ５
の横すべり量は著しく低減され、それによつて摩
耗及び損傷は著しく軽減されることが期待でき
る。

【図面の簡単な説明】

第１図……回転構造物の部分上面図、第２図…
…AA断面図、第３図、第４図……支持ローラの
側面図、第５図……支持ローラの上面図、第６図
……θとμ_Sの関係を表わすグラフ、第７図……本
考案による支持ローラの側面図。 １……円環梁、３……ガイドローラ、４……ガ
イドレール、５……支持ローラ、６……支持レー
ル、１５……荷重受けローラ。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 粒塊状物を処理するサーキユラグレート型回転
   構造物の旋回する円環梁に、直接或は介装材を介
   してピンを配し、該ピンを介して回動可能にされ
   たローラ支持部材を設け、該ローラ支持部材と円
   環梁との間にはローラ支持部材の回動を阻げない
   方向に転がる１個以上の第１のローラを配置し、
   さらにローラ支持部材の下部には第２のローラを
   支承する支持部を複数設けたことを特徴とする、
   サーキユラグレート型回転構造物の回転支持装
   置。