JPS6360544A - 移送装置 - Google Patents

移送装置

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Publication number
JPS6360544A
JPS6360544A JP61203725A JP20372586A JPS6360544A JP S6360544 A JPS6360544 A JP S6360544A JP 61203725 A JP61203725 A JP 61203725A JP 20372586 A JP20372586 A JP 20372586A JP S6360544 A JPS6360544 A JP S6360544A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
transfer rod
hole
photodetector
holder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61203725A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeshi Igarashi
武司 五十嵐
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP61203725A priority Critical patent/JPS6360544A/ja
Publication of JPS6360544A publication Critical patent/JPS6360544A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Manipulator (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 本発明は、移送装置に於いて、真空系内に在って真空系
外から磁気結合で駆動される移動子の適所に光透過部分
或いは光反射部分を形成し、移動子が駆動されて適所に
占位した際、移動子に照射された光を検出してその駆動
を停止するなどの制御を行うことに依り、磁気的に駆動
される移動子の位置決めを容易にし、また、ベローズの
内部にある移動子を外部から操作するものなどに比較す
ると突発的に真空系が破れるなどの虞もない。
〔産業上の利用分野〕
本発明は、例えば、分子線エピタキシャル成長(mol
ecular  beam  epitaxy:MBE
)装置のような半導体製造装置内で半導体ウェハを移送
するのに好適な移送装置に関する。
〔従来の技術〕
第5図は従来のMBE装置の要部説明図を表している。
図に於いて、1はMBEを実施して半導体ウェハ上に半
導体結晶層を成長させる為の成長室、2は半導体結晶層
の組成物質を分子線として放射する分子線源セル、3は
ウェハ支持台、4はゲート・バルブ、5はゲート・バル
ブ4を介して成長室1に結合されたロード・ロック、6
はロード・ロック5に固定された移送装置、7は移送杆
、8は保持器、9はウェハ・ホルダ、10は半導体ウェ
ハをそれぞれ示している。
このMBE装置に於いて、半導体ウェハ10を成長室1
にセットする場合は、半導体ウェハ10を固着したウェ
ハ・ホルダ9をロード・ロック5内に於いて保持器8に
装着し、ロード・ロック5内を排気してからゲート・バ
ルブ4を開き、破線で示しであるようにゲート・バルブ
4に対向するように位置しているウェハ支持台3に向け
て保持器8を移動させ且つ回動することに依りウェハ・
ホルダ9をウェハ支持台3に装着し、保持器8を復帰さ
せてゲート・バルブ4を閉じ、しかる後、ウェハ支持台
3を回動させて分子線源セル2に対向させるようにして
いる。また、成長室1から半導体ウェハ10を取り出す
場合は、前記手順と逆の手順を採れば良い。尚、前記手
順に於いて、保持器8を回動させることは、それに依り
、ウェハ・ホルダ9をウェハ支持台3と係合或いは保合
解除、それと同時に、ウェハ・ホルダ9の保持器8との
保合解除或いは保合の操作が行われることを意味する。
第6図は第5図に見られるMBE装置に於ける移送装置
の要部切断側面図を表し、第5図に於いて用いた記号と
同記号は同部分を示すか或いは同じ意味を持つものとす
る。
図に於いて、1工は移送杆7を覆いロード・ロック5に
固定されて内部がロード・ロック5に連通して気密を保
っている外套管、12は移送杆7を外套杆11の中心に
保ち滑動自在に支持する支持部材、13は移送杆7と固
着され外套杆11に対して中心を保ち滑動自在に支持す
る支持部材、14は支持部材13に隣接して移送杆7に
固着され永久磁石が組み込まれた追随ブロック、15は
外套管11の外側に滑動自在に嵌挿され追随ブロック1
4の永久磁石に磁気作用を及ぼす永久磁石が組み込まれ
た駆動ブロックをそれぞれ示している。
この移送装置に於いては、追随ブロック14の外面と駆
動ブロック15の内面とが対向し、相互の永久磁石がマ
グネット・カップリングを形成している為、駆動ブロッ
ク15が外套管11の軸方向に移動したり、或いは、そ
れを軸として回転すると、追随ブロック14はそれに追
随して移送管7を軸方向に移動させ、或いは、回転させ
ることが可能である。即ち、駆動ブロック15を操作す
ることに依り、移送杆7の移動或いは回転を介し保持器
8とウェハ支持台3との間でウェハ・ホルダ9の受は渡
しを行うことができるものである。
前記説明した従来例のような磁気結合を利用して運動を
伝えるものの外、移送杆7を真空系に結合されたベロー
ズで覆い、該ベローズを介して移送杆7に直接的に運動
を伝えるものも利用されている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
第5図及び第6図に関して説明した真空系移送装置に於
いては、真空系外の磁場に依って真空系内の移動子であ
る移送杆に運動を伝えるものであるから、その移動子の
位置決めが困難である旨の欠点がある。
また、前記ベローズを用いるものに於いては、ベローズ
の機械的な伸縮或いは屈伸が激しい為、ベローズの疲労
が著しく、真空が破れ易い旨の欠点がある。
本発明は、磁気結合に依って真空系外の運動を真空系内
の移動子に伝える移送装置に於いて、簡単な構成を用い
ることに依り、該移動子の位置決めを正確且つ容易に行
い得るようにする。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明に依る移送装置においては、一端に保持器(例え
ば保持器8)が且つ他端に磁気に感応する追随ブロック
(例えば追随ブロック14)がそれぞれ固着されると共
に適所に光透過部分(例えば透孔7A)或いは光反射部
分(例えば光反射部分20)が形成された移動子(例え
ば移送杆7)と、該移送杆を覆い且つ適所に透光窓(例
えば透光窓16)が設置され真空系に気密に固定された
外套管(例えば外套管11)と、該外套管の外側に設置
され前記追随ブロックと磁気的に結合した駆動ブロック
(例えば駆動ブロック15)と、前記移動子に前記透光
窓を介して光を照射する発光素子(例えば発光素子17
)と、該発光素子の光で照射された移動子からの光を受
けて信号を発生する受光素子(例えば受光素子18)と
を備えた構成になっている。
〔作用〕
前記手段を採ることに依り、真空系外から真空系内に在
る移動子を磁気結合で駆動する形式でありながら、該移
動子の位置制御を正確且つ容易に行うことができ、勿論
、磁気結合を利用しているものであることから、ベロー
ズの破損に起因する真空の破れなどを考慮する必要もな
く、MBE装置などの半導体製造装置に於ける半導体ウ
ェハの移送に好適である。
〔実施例〕
第1図は本発明一実施例の要部切断側面図を表し、第5
図及び第6図に於いて用いた記号と同記号は同部分を表
すか或いは同じ意味を持つものとする。尚、以下の説明
に於いては、随時、第5図及び第6図に表されている構
成も参照するものとする。
図に於いて、7Aは移動子である移送杆7の適所に形成
された透孔、16は透光窓、17は発光素子、18は受
光素子をそれぞれ示している。尚、移送杆7を動かす為
の追随ブロック14は永久磁石が組み込まれたものでな
く、単なる強磁性体であっても良い。
本実施例に於いては、第5図及び第6図について説明し
た従来例と同様、駆動ブロック15を移動或いは回転さ
せることで、追随ブロック14、従って、移送杆7を矢
印方向に移動させ或いは回転させることができ、そして
、移送杆7が例えば外套管11の軸方向に移動して適所
に達した際、即ち、保持器8からウェハ支持台3にウェ
ハ・ホルダ9を受は渡しすることができる位置に達した
際、移送杆7に形成された透孔7Aが発光素子17と受
光素子18とを結ぶ線上に持ち来され、そこで発光素子
17から放射される光が受光素子18に入射されるから
、その信号に基づき、移送杆7の移動を制御することが
できる。
また、透孔7Aと同様な透孔を別の方向、例えば透孔7
Aに垂直な方向に形成しておき、移送杆7を回転させた
際、その別設された透孔を介して発光素子17からの光
が受光素子18に入射するようにしておけば、前記同様
、その信号を用いて移送杆7の回転を制御することがで
きる。尚、回転させる角度の自由度を増大させたければ
、移送杆7に形成する透孔7A、透孔窓16、発光素子
17、受光素子18等の諸要素を回転専用として更に一
組分を別設すると良い。
第2図(A)は本発明に於ける第2の実施例の要部切断
側面図、第2図(B)は第2図(A)に於ける線A−A
に沿う要部横断面図をそれぞれ表し、それぞれ第1図に
於いて用いた記号と同記号は同部分を表すか或いは同じ
意味を持つものとする。尚、本実施例は、移送杆7を回
転させるのみの場合に関するものである。
図に於いて、19は駆動ブロック15の保持体であり、
移送杆7を中心軸として回転自在に設置されている。
この実施例では、保持体19、従って、駆動ブロック1
5が回転すれば移送杆7は追随ブロック14を介して回
転され、その回転位置の如何に依り、透孔7Aが発光素
子I7と受光素子18とを結ぶ線に−敗し、発光素子1
7からの放射光が受光素子18に入射することで移送杆
7の回転を検知して、直ちに該回転を停止させるなどの
制御を行うことができる。
第3図は本発明に於ける第3の実施例の要部切断側面図
を表し、第1図及び第2図に於いて用いた記号と同記号
は同部分を表すか或いは同じ意味を持つものとする。
図に於いて、20は移送杆7の必要個所に形成された光
反射部分を示している。
本実施例に於いては、第1図について説明した実施例と
同様、駆動ブロック15を移動或いは回転させることで
、追随ブロック14、従って、移送杆7を矢印方向に移
動させたり或いは回転させることができ、そして、移送
杆7が例えば外套管11の軸方向に移動して適所に達し
た際、移送杆7に形成された光反射部分20が発光素子
17から放射される光を反射し、その反射光が受光素子
18に入射され、その信号に基づき、移送杆7の移動を
停止するなどの制御を行うことができる。
また、第1図について説明した実施例と同様に移送杆7
の回転を制御することもできることは勿論である。
第4図(A)は本発明に於ける第4の実施例の要部切断
側面図、第4図(B)は第4図(A)に於ける線A−A
に沿う要部横断面図をそれぞれ表し、第1図乃至第3図
に於いて用いた記号と同記号は同部分を示すか或いは同
じ意味を持つものとする。尚、本実施例も、第2図に見
られる実施例と同様、移送杆7を回転させるのみの場合
に関するものである。
この実施例では、移送杆7の回転位置の如何に依り、光
反射部分20が発光素子17からの光を反射し、その反
射光が受光素子18に入射され、その信号に基づき、移
送杆7の回転を停止させるなどの制御を行うことができ
る。
第3図及び第4図について説明した実施例に於ける光反
射部分20としては、例えば、ミラーを貼付したり、移
送杆7の一部を選択的に加工して鏡面にするなど多くの
具体例を考えることができる。
〔発明の効果〕
本発明に依る移送装置に於いては、真空系内に在って真
空系外から磁気結合で駆動される移動子の適所に光透過
部分或いは光反射部分を形成し、移動子が駆動されて適
所に占位した際、移動子に照射された光を検出してその
駆動を停止するなどの制御を行うようにしている。
前記構成を採ることに依り、真空系外から真空系内に在
る移動子を磁気結合で駆動する形式でありながら、該移
動子の位置制御を正確且つ容易に行うことができ、勿論
、磁気結合を利用しているものであることから、ベロー
ズの破損に起因する真空の破れなどを考慮する必要もな
く、MBE装置などの半導体製造装置に於ける半導体ウ
ェハの移送に好適である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明一実施例の要部切断側面図、第2図(A
)は本発明に於ける第2の実施例の要部切断側面図、第
2図(B)は第2図(A)に見られる線A−Aに沿う要
部横断面図、第3図は本発明に於ける第3の実施例の要
部切断側面図、第4図<A)は本発明に於ける第4の実
施例の要部切断側面図、第4図(B)は第4図(A)に
見られる線A−Aに沿う要部横断面図、第5図は従来例
の要部切断側面図、第6図は第5図に見られる従来例に
於ける移送装置の要部切断側面図をそれぞれ表している
。 図に於いて、1はMBEを実施して半導体ウェハ上に半
導体結晶層を成長させる為の成長室、2は半導体結晶層
の組成物質を分子線として放射する分子線源セル、3は
ウェハ支持台、4はゲート・バルブ、5はゲート・バル
ブ4を介して成長室1に結合されたロード・ロック、6
はロード・ロック5に固定された移送装置、7は移送杆
、7Aは移動子である移送杆7の適所に形成された透孔
、8は保持器、9はウェハ・ホルダ、10は半導体ウェ
ハ、11は移送杆7を覆いロード・ロック5に固定され
て内部がロード・ロック5に連通して気密を保持する外
套管、12は移送杆7を外套管11の中心に保ち滑動自
在に支持する支持部材、13は移送杆7と固着され外套
杆11に対して中心を保ち滑動自在に支持する支持部材
、14は支持部材13に隣接して移送杆7に固着され永
久磁石が組み込まれた追随ブロック、15は外套管11
の外側に滑動自在に嵌挿され追随ブロック14の永久磁
石に磁気作用を及ぼす永久磁石が組み込まれた駆動ブロ
ック、16は透光窓、17は発光素子、18は受光素子
をそれぞれ示している。 特許出願人   富士通株式会社 代理人弁理士  相 谷 昭 司 代理人弁理士  渡 邊 弘 − 実施例の要部切断側面図 第1図 実!II例の要部切断側面図及び゛要部横断面図第2図 実施例の要部切断側面図 第3図 実施例の要部切断側面図及び要部横i面図第4図 従来例の要部説明図 第5図 従来例の要部切WFr側面図 第6図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 一端に保持器が且つ他端に磁気に感応する追随ブロック
    がそれぞれ固着されると共に適所に光透過部分或いは光
    反射部分が形成された移動子と、該移動子を覆い且つ適
    所に透光窓が設置され真空系に気密に固定された外套管
    と、 該外套管の外側に設置され前記追随ブロックと磁気的に
    結合した駆動ブロックと、 前記移動子に前記透光窓を介して光を照射する発光素子
    と、 該発光素子の光で照射された移動子からの光を受けて信
    号を発生する受光素子と を備えてなることを特徴とする移送装置。
JP61203725A 1986-09-01 1986-09-01 移送装置 Pending JPS6360544A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61203725A JPS6360544A (ja) 1986-09-01 1986-09-01 移送装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP61203725A JPS6360544A (ja) 1986-09-01 1986-09-01 移送装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6360544A true JPS6360544A (ja) 1988-03-16

Family

ID=16478817

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61203725A Pending JPS6360544A (ja) 1986-09-01 1986-09-01 移送装置

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JP (1) JPS6360544A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100435269C (zh) * 2001-07-15 2008-11-19 应用材料有限公司 处理系统

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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