JPS6356657A - Original plate for waterless lithographic printing plate - Google Patents

Original plate for waterless lithographic printing plate

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JPS6356657A
JPS6356657A JP19907286A JP19907286A JPS6356657A JP S6356657 A JPS6356657 A JP S6356657A JP 19907286 A JP19907286 A JP 19907286A JP 19907286 A JP19907286 A JP 19907286A JP S6356657 A JPS6356657 A JP S6356657A
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silicone rubber
rubber layer
layer
photosensitive layer
group
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Kazutaka Tamura
一貴 田村
Yoichi Mori
森 与一
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Toray Industries Inc
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Toray Industries Inc
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0752Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography

Abstract

PURPOSE:To increase the adhesive power between a photosensitive layer and silicone rubber layer and to improve the stability of the adhesive power with age by adhering the photosensitive layer and the silicone rubber layer by a specific silicon compd. CONSTITUTION:The photosensitive layer contg. a quinonediazide compd. and the silicone rubber layer are laminated in this order on a base consisting of an aluminum plate, etc., and the two layers are adhered by >=1 kinds of the silicon compds. expressed by the formulas I, II and III. The compd. may be added to the photosensitive layer or rubber layer and may be provided as an adhesive layer between the two layers. In the formula, R<1>, R<2>, R<5> denote an alkyl of 1-15C, aryl of 6-10C; R3, R4, R6 denote an alkyl of 1-15C, alkoxy, etc.; A1, A2 denote an org. group of 1-10C having an amino group; l, m denote 0-3, n, p denote 0-4, n+p>=1, l+m+n+p=4; s, t, u denote 2-5. The scratching resistance and solvent resistance of the rubber layer in the unexposed part and the printing performance of the plate are thereby improved.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は水なし平版印刷版に関するものであり、特に感
光層とシリコーンゴム層との接着性が改良された水なし
平版に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a waterless lithographic printing plate, and particularly to a waterless lithographic printing plate with improved adhesion between a photosensitive layer and a silicone rubber layer.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

シリコーンゴムをインキ反発層として使用し、湿し水を
用いずに平版印刷を行なうための印刷版が種々提案され
ている。
Various printing plates have been proposed that use silicone rubber as an ink repellent layer and perform planographic printing without using dampening water.

これらの中でも支持体に裏打ちされた感光居士にシリコ
ーンゴム層を塗イIr シてなるネカディブワーキング
用水なし平版印刷版として、例えば、特開昭55−57
466号公報には支持体に裏打ちされたキノンジアジド
からなる光分解型感光層の上にシリコーンゴム層を設け
てなる平版印刷版が提案されている。また、特開昭56
−80046号公報には支持体に裏打ちされた光剥離性
感光層の上にシリコーンゴム層を設けてなる予備増感さ
れた平版印刷版が開示されている。
Among these, for example, JP-A-55-57 is used as a waterless lithographic printing plate for negative working, in which a silicone rubber layer is coated on a photosensitive layer lined with a support.
Japanese Patent No. 466 proposes a lithographic printing plate in which a silicone rubber layer is provided on a photodegradable photosensitive layer made of quinonediazide and backed by a support. In addition, JP-A-56
Japanese Patent No. 80046 discloses a presensitized lithographic printing plate comprising a silicone rubber layer provided on a photoreleasable photosensitive layer backed by a support.

しかしながら、これらの従来技術による水なし平版印刷
版は、製版および印刷工程で以下の問題点がある。
However, these conventional waterless lithographic printing plates have the following problems in plate making and printing processes.

(1)  感光層とシリコーンゴム層の接着が不十分な
ため、現像時に未露光部のシリコーンゴム層がはがれや
すい。
(1) Due to insufficient adhesion between the photosensitive layer and the silicone rubber layer, the silicone rubber layer in unexposed areas tends to peel off during development.

(2)  印刷時に、非画像部に傷が入りやすく、耐刷
性が不十分である。
(2) During printing, non-image areas are easily scratched, and printing durability is insufficient.

当初これらの問題点は、シリコーンゴム層の強度が弱い
ためでおると考えられていたが、検討を進めているうち
に、上記の問題点の原因は、感光層とシリコーンゴム層
の接着力が不足であることが判った。
Initially, it was thought that these problems were due to the weak strength of the silicone rubber layer, but as the study progressed, it became clear that the cause of the above problems was the poor adhesion between the photosensitive layer and the silicone rubber layer. It turned out to be insufficient.

このような理由から、感光層とシリコーンゴム層の接着
力の向上対策が試みられている。例えばシリコーンゴム
層にアミノアルキルシラン、おるいは他のシランカップ
リング剤、シリコーンプライマーを混合する方法(特開
昭49−86103号公報、同49−77702号公報
、同55−110249号公報)などである。しかし、
これらの接着成分をシリコーンゴム層に添加して用いる
と、製造直後の感光層とシリコーンゴム層との接着力は
確かに向上するが、特に高温高湿下に生版を保存した場
合、接着力が経時的に低下してきて、現像時にシリコー
ンゴム層表面にキズが入りやすくなるという欠点がある
For these reasons, attempts have been made to improve the adhesive strength between the photosensitive layer and the silicone rubber layer. For example, a method of mixing aminoalkylsilane, or another silane coupling agent, and a silicone primer in a silicone rubber layer (JP-A-49-86103, JP-A-49-77702, JP-A-55-110249), etc. It is. but,
When these adhesive components are added to the silicone rubber layer, the adhesion between the photosensitive layer and the silicone rubber layer immediately after manufacture is certainly improved. This has the disadvantage that the silicone rubber layer surface tends to be easily scratched during development as it decreases over time.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

本発明者らは、かかる問題点を解決すべく鋭意検討した
結果、特定の構造のアミノ基を有するケイ素化合物が、
感光層とシリコーンゴム層の接着力を向上し、かつ接着
力の経時度化も起こさないことを見出し、本発明に到達
した。
As a result of intensive studies to solve these problems, the present inventors found that a silicon compound having an amino group with a specific structure
The inventors have discovered that the adhesive force between the photosensitive layer and the silicone rubber layer can be improved and that the adhesive force does not deteriorate over time, and the present invention has been achieved.

従って、本発明の目的は、上述の従来技術の問題点を解
消し、感光層とシリコーンゴム層の接着力を向上せしめ
、かつ接着力の経時変化を起こさない水なし平版印刷版
を提供するものである。
Therefore, an object of the present invention is to provide a waterless lithographic printing plate which solves the above-mentioned problems of the prior art, improves the adhesive strength between the photosensitive layer and the silicone rubber layer, and prevents the adhesive strength from changing over time. It is.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

すなわち、本発明は支持体、キノンジアジド化合物を含
有する感光層およびシリコーンゴム層をこの順に積層し
てなる水なし平版において、該感光層と該シリコーンゴ
ム層が下記一般式(I)〜(I) (ここで、R1、R2、R5は炭素数1〜15のアルキ
ル基、炭素数6〜10のアリール基、アラルキル基。R
3,R4,Reは炭素数1〜15のアルキル基、アルコ
キシ基または炭素数6〜10のアリール基、アリールオ
キシ基。A1.A2はアミノ基を有する炭素数1〜10
の有機基。ひ。
That is, the present invention provides a waterless planographic plate comprising a support, a photosensitive layer containing a quinonediazide compound, and a silicone rubber layer laminated in this order, wherein the photosensitive layer and the silicone rubber layer have the following general formulas (I) to (I). (Here, R1, R2, and R5 are an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, and an aralkyl group.
3, R4, Re is an alkyl group or alkoxy group having 1 to 15 carbon atoms, or an aryl group or aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms. A1. A2 has 1 to 10 carbon atoms and has an amino group
organic group. fire.

mはO〜3の整数、n、pはO〜4の整数であり、n十
p≧L 、Q+m+n+p=4゜s、t、uは2〜5の
整数。〉 で示されるケイ素化合物の少なくとも1種によって接着
されていることを特徴とする水なし平版に関するもので
ある。
m is an integer of 0 to 3, n and p are integers of 0 to 4, n0p≧L, Q+m+n+p=4°s, t and u are integers of 2 to 5. The present invention relates to a waterless lithographic plate characterized in that it is bonded with at least one silicon compound shown in the following.

本発明に用いられるケイ素化合物は、ケイ素原子に酸素
原子を介してアミン基を持つ有機基が結合しており、5
iOC結合を2個以上持つものであって、一般式は先に
示した(I)〜(II)で示されるものであり、これら
は単独または91用して使用される。
The silicon compound used in the present invention has an organic group having an amine group bonded to a silicon atom via an oxygen atom, and 5
It has two or more iOC bonds and has the general formulas (I) to (II) shown above, and these are used alone or in combination with 91.

本発明に用いられるケイ素化合物のアルキル基、アリー
ル基、アラルキル基、アリールオキシ基、アルコキシ基
は特に限定されるものではないが、コストの面から見て
簡単な構造のものが好ましい。
The alkyl group, aryl group, aralkyl group, aryloxy group, and alkoxy group of the silicon compound used in the present invention are not particularly limited, but those with a simple structure are preferred from the viewpoint of cost.

またこれらの置換基の一部に本発明の効果を損わない範
囲でハロゲン、ニトリル基、ニトロ基、アミノ基、シリ
ル基、カルボニル基、カルボキシル基、ヒドロキシル基
などが含まれていてもよい。
Further, some of these substituents may include halogen, nitrile group, nitro group, amino group, silyl group, carbonyl group, carboxyl group, hydroxyl group, etc., within a range that does not impair the effects of the present invention.

本発明に用いられるアミノ基を有する有機基は、特に限
定されるものではないが、低級の有機基が好ましい。ア
ミノ基を有する有@基のアミノ基はNH2のみに限定さ
れるものではなく、各種置換アミノ基を用いることがで
きる。例えば、N−アルキルアミノ基、N、N−ジアル
キルアミノ基、ピペリジノ基、ピペラジノ基、アミノエ
チルアミン基などが挙げられる。
The organic group having an amino group used in the present invention is not particularly limited, but a lower organic group is preferable. The @ group having an amino group is not limited to NH2, and various substituted amino groups can be used. Examples include N-alkylamino group, N,N-dialkylamino group, piperidino group, piperazino group, aminoethylamine group, and the like.

本発明に用いられるケイ素化合物の例としては2−アミ
ンエトキシトリメトキシシラン、3−アミノプロポキシ
トリメトキシシラン、2−アミノ3. (4)−ピペリ
ジノプロポキシトリメトキシシラン、2−アミノエトキ
シトリエトキシシラン、ビス(3−アミノプロポキシ)
ジメトキシシラン、ビス(3−(N、N−ジメチル)ア
ミノプロポキシ)ジメトキシシラン、トリス(3−アミ
ノプロポキシ)フェノキシシラン、テトラキス(3−ア
ミノプロポキシ)シラン、2.2.6−ドリメチルー1
.3−ジオキサ−6−アザ−2−シラシクロオクタン、
2,2−ジメトキシ−6−メチル−1,3−ジオキサ−
6−アザ−2−シラシクロオクタン、メチルシラトラン
、エチルシラトラン、ビニルシラトラン、メトキシシラ
トランなどが挙げられる。
Examples of silicon compounds used in the present invention include 2-amine ethoxytrimethoxysilane, 3-aminopropoxytrimethoxysilane, 2-amino 3. (4)-Piperidinopropoxytrimethoxysilane, 2-aminoethoxytriethoxysilane, bis(3-aminopropoxy)
Dimethoxysilane, bis(3-(N,N-dimethyl)aminopropoxy)dimethoxysilane, tris(3-aminopropoxy)phenoxysilane, tetrakis(3-aminopropoxy)silane, 2.2.6-drimethyl-1
.. 3-dioxa-6-aza-2-silacyclooctane,
2,2-dimethoxy-6-methyl-1,3-dioxa-
Examples include 6-aza-2-silacyclooctane, methylsilatrane, ethylsilatrane, vinylsilatrane, methoxysilatrane, and the like.

本発明に用いるケイ素化合物として特に好ましいものは
、2−アミノエトキシトリメトキシシラン、2.2−ジ
メトキシ−6−メチル−1,3−ジオキサ−6−アザ−
2−シラシクロオクタン、メチルシラトランである。
Particularly preferred silicon compounds for use in the present invention are 2-aminoethoxytrimethoxysilane, 2,2-dimethoxy-6-methyl-1,3-dioxa-6-aza-
2-silacyclooctane and methylsilatrane.

本発明に用いられるケイ素化合物は、感光層中に添加し
てもよいし、シリコーンゴム層中に添加してもよい。ま
た、感光層とシリコーンゴム層の間に接@層として一層
設けてもよい。勿論これらを組合せる形で用いてもよい
The silicon compound used in the present invention may be added to the photosensitive layer or to the silicone rubber layer. Further, one layer may be provided as a contact layer between the photosensitive layer and the silicone rubber layer. Of course, these may be used in combination.

本発明のケイ素化合物を感光層中に添加する場合の添加
量としては、0.05〜20重量%、より好ましくは0
.1〜10φ聞%が選ばれ、20重伍%を越える場合は
、経済的でないばかりか感光性を低下させる。また、0
.05重母%未満になると接着力向上効果が顕著でなく
なる。
When the silicon compound of the present invention is added to the photosensitive layer, the amount added is 0.05 to 20% by weight, more preferably 0.
.. 1 to 10% by weight is selected, and if it exceeds 20% by weight, it is not only uneconomical but also reduces photosensitivity. Also, 0
.. If the amount is less than 0.05% by weight, the effect of improving adhesive strength will not be significant.

シリコーンゴム層中に添加する場合は、0.01〜10
重足%、より好ましくは0.1〜5重ω%が選ばれ、1
0重量%を越える場合は経済的でないばかりか、シリコ
ーンゴム層の耐スクラッチ性が悪化する。また、0.0
1重量%未満になると接着力向上効果が顕著でなくなる
ので、添加量としては上記の範囲が望ましい。
When added to the silicone rubber layer, 0.01 to 10
Heavy foot%, more preferably 0.1 to 5 heavy ω% is selected, 1
If it exceeds 0% by weight, it is not only uneconomical but also deteriorates the scratch resistance of the silicone rubber layer. Also, 0.0
If the amount is less than 1% by weight, the effect of improving adhesion will not be significant, so the amount added is preferably within the above range.

感光層とシリコーンゴム層間に、本発明に用いられるケ
イ素化合物を接着層として設ける場合、塗布厚みとして
は、0.001〜0.5g/Tr12、より好ましくは
0.05〜0.02q/Tr12が選ばれる。より厚く
すると現像性が著しく悪化する。
When the silicon compound used in the present invention is provided as an adhesive layer between the photosensitive layer and the silicone rubber layer, the coating thickness is 0.001 to 0.5 g/Tr12, more preferably 0.05 to 0.02q/Tr12. To be elected. When the thickness is increased, the developability deteriorates significantly.

また、0.001 g/rn2より薄くなると接着力向
上効果が小さくなるので上記の範囲が望ましい。
Furthermore, if the thickness is less than 0.001 g/rn2, the effect of improving adhesive strength will be reduced, so the above range is desirable.

本発明の感光層に用いられるキノンジアジド化合物とし
ては、例えば通常ポジ型PS版、ワイポン版、フォトレ
ジストなどに用いられているキノンジアジド類、例えば
ベンゾキノン−1,2−ジアジド−4−または−5−ス
ルホン酸とポリヒドロキシフ工二ルとのエステル、ナフ
トキノン−1,2−ジアジド−4−または−5−スルホ
ン酸とピロガロールアセ1−ン樹脂とのエステル、ナフ
トキノン−1,2−ジアジド−4−または−5−スルホ
ン酸とフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂との
エステル、特開昭56−80046@公報で提案されて
いるようなキノンジアジド類と多官能イソシアネートや
多官能エポキシなどの多官能化合物との反応物などが挙
げられる。
Examples of the quinonediazide compound used in the photosensitive layer of the present invention include quinonediazides normally used in positive PS plates, Wipon plates, photoresists, etc., such as benzoquinone-1,2-diazide-4- or -5-sulfone. Esters of acid and polyhydroxyphenyl, esters of naphthoquinone-1,2-diazide-4- or -5-sulfonic acid and pyrogallolacetylene resin, naphthoquinone-1,2-diazide-4- or -Esters of 5-sulfonic acid and phenol formaldehyde novolak resin, reaction products of quinone diazides and polyfunctional compounds such as polyfunctional isocyanates and polyfunctional epoxies as proposed in JP-A-56-80046@, etc. Can be mentioned.

本発明における感光層として特に好ましいものは、ナフ
トキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸とフェノ
ールホルムアルデヒドノボラック樹脂とのエステル化合
物やジアゾフェニルアミンとリンタングステン酸とのコ
ンプレックスとパラフェニレンジイソシアネートとの反
応物である。
Particularly preferable photosensitive layers in the present invention include an ester compound of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid and phenol formaldehyde novolak resin, and a reaction between a complex of diazophenylamine and phosphotungstic acid and paraphenylene diisocyanate. It is a thing.

感光層の厚さは0.1〜100μ、より好ましくは0.
5〜30μが選ばれる。博すざると感光層中にピンホー
ルを生じやすくなり、一方厚すぎると経済的に不利であ
るので上記の範囲が好ましい。
The thickness of the photosensitive layer is 0.1 to 100μ, more preferably 0.1μ to 100μ.
5-30μ is selected. If the thickness is not too thick, pinholes are likely to occur in the photosensitive layer, while if it is too thick, it is economically disadvantageous, so the above range is preferable.

本発明に用いられるシリコーンゴム層は、通常法のよう
な繰り返し単位を有する分子m数千〜数十万の線状有機
ポリシロキサンを主成分とするものである。
The silicone rubber layer used in the present invention is mainly composed of a linear organic polysiloxane having several thousand to several hundred thousand molecules having repeating units as in the conventional method.

ここでnは2以上の整数、R,R’は炭素数1〜10の
アルキル基、アルケニル基あるいはフェニル基であり、
Rの60%以上がメチル基であるものが好ましい。この
ような線状有機ポリシロキサンには必要に応じて架橋剤
が添加される。
Here, n is an integer of 2 or more, R and R' are an alkyl group, an alkenyl group, or a phenyl group having 1 to 10 carbon atoms,
Preferably, 60% or more of R is a methyl group. A crosslinking agent is added to such a linear organic polysiloxane as necessary.

架橋剤としては、いわゆる室温(低温)#!化型のシリ
コーンゴムに使われているアセトキシシラン、ケ1〜オ
キシムシラン、アルコキシシラン、アミノシラン、アミ
ドシランなどであり、通常線状有機ポリシロキサンとし
て末端が水酸基であるものと組み合せて、各々脱酢酸型
、脱オキシム型、脱アルコール型、脱アミン型、脱アミ
ド型のシリコーンゴムとなる。これらのシリコーンゴム
には更に触媒として少量の有機スズ化合物等を添加して
もよい。
As a crosslinking agent, so-called room temperature (low temperature) #! These include acetoxysilane, oxime silane, alkoxysilane, aminosilane, amidosilane, etc., which are used in chemical-type silicone rubber, and are usually combined with linear organopolysiloxanes with hydroxyl groups at the terminals to produce acetic acid-removed type silicone rubber. , deoxime type, dealcoholized type, deamined type, and deamidated type silicone rubber. A small amount of an organic tin compound or the like may be added as a catalyst to these silicone rubbers.

シリコーンゴム層の厚さは約0.5〜100μ、好まし
くは約0.5〜30μが適当であり、厚すぎる場合は経
済的に不利であるばかりでなく、現像時にシリコーンゴ
ム層を除去しにくくなり、画像再現性の低下をもたらす
The appropriate thickness of the silicone rubber layer is about 0.5 to 100μ, preferably about 0.5 to 30μ; if it is too thick, it is not only economically disadvantageous, but also difficult to remove during development. This results in a decrease in image reproducibility.

支持体としては、通常の平版印刷機にセットできるたわ
み性と印刷時に加わる荷重に耐えうるちのでな【プれば
ならない。代表的なものとしては、アルミニウム、銅、
亜鉛、鋼などの金属板、ポリエチレンテレフタレート、
ポリスチレン、ポリプロピレン等のようなプラスデック
フィルムないしはシート、クロロプレンゴム、NBRの
ようなゴム弾性を有する支持体、あるいはかかるゴム弾
性層を有する支持体、もしくはコート紙等が挙げられる
。これらの支持体上にはハレーション防止その他の目的
でざらに他の物質をコーティングして支持体として用い
ることも可能である。
The support must be flexible enough to be set in a normal lithographic printing machine and must be able to withstand the load applied during printing. Typical examples include aluminum, copper,
Metal plates such as zinc and steel, polyethylene terephthalate,
Examples include a plus deck film or sheet such as polystyrene or polypropylene, a support having rubber elasticity such as chloroprene rubber or NBR, a support having such a rubber elastic layer, or coated paper. It is also possible to coat these supports with other substances for antihalation purposes and other purposes.

以上説明したようにして構成された水なし平版印刷版の
表面を形成するシリコーンゴム層を保護するなどの目的
で、シリコーンゴム層の表面にブレーンまたは凹凸処理
した薄い保護フィルムをラミネートまたは薄いプラスチ
ックシート状物を塗布または転写して保護層とすること
もできる。
For the purpose of protecting the silicone rubber layer that forms the surface of the waterless lithographic printing plate constructed as described above, a thin protective film that has been subjected to a brain or uneven treatment is laminated to the surface of the silicone rubber layer, or a thin plastic sheet is used. A protective layer can also be formed by coating or transferring a similar material.

本発明にもとづく水なし平版印刷版は、例えば次のよう
にして製造される。まず支持体の上に、リバースロール
コータ、エアナイフコータ、メーヤバーコータなどの通
常のコータ、あるいはホエラのような回転塗布装置を用
い感光層を構成すべき組成物溶液を塗布、屹燥および必
要に応じて熱キユアする。必要ならば接着層を塗イFし
た後、シリコーンガム溶液を感光層上に同様の方法で塗
布し、通常50〜130℃の温度で数分間熱処理して十
分に硬化せしめてシリコーンゴム層を形成する。また必
要ならば、保護層を更に塗布するが、保護フィルムを該
シリコーンゴム層上にラミネータ等を用いてカバーして
もよい。
The waterless lithographic printing plate according to the present invention is manufactured, for example, as follows. First, a composition solution to form a photosensitive layer is applied onto the support using a conventional coater such as a reverse roll coater, air knife coater, or Meyer bar coater, or a rotary coater such as a Whaler, and then dried and coated as necessary. Heat up accordingly. If necessary, after applying an adhesive layer, a silicone gum solution is applied on the photosensitive layer in the same manner, and is heat-treated for several minutes at a temperature of usually 50 to 130°C to fully cure and form a silicone rubber layer. do. Further, if necessary, a protective layer may be further applied, and a protective film may be covered on the silicone rubber layer using a laminator or the like.

このようにして製造された本発明の水なし平版印刷版は
、例えば真空密着されたネガフィルムを通して活性光線
で露光される。この露光工程で用いられる光源は、紫外
線を苫富に発生するものであり、水銀灯、カーボンアー
ク灯、キセノンランプ、メチルハライドランプ、タング
ステンランプ、螢光灯などを使うことができる。
The waterless lithographic printing plate of the present invention thus produced is exposed to actinic light through, for example, a vacuum-adhesive negative film. The light source used in this exposure step is one that generates ultraviolet rays, and can be a mercury lamp, a carbon arc lamp, a xenon lamp, a methyl halide lamp, a tungsten lamp, a fluorescent lamp, or the like.

次いで版面を現像液を含んだ現像用パッドでこすると画
像部の少なくともシリコーン層が除去され、露出した感
光層または支持体の表面がインキ受容面となる印刷版が
1ワられる。
The printing plate is then rubbed with a developing pad containing a developer to remove at least the silicone layer in the image area, leaving the printing plate with the exposed surface of the photosensitive layer or support serving as the ink-receiving surface.

以下、実施例を挙げて本発明の詳細な説明する。Hereinafter, the present invention will be explained in detail by giving Examples.

(実施例) 実施例1.比較例1 厚み0.24mmのアルミ板(スカイアルミ(株〉製)
の上に下記の感光性組成物を塗イ[シ、110℃、30
秒間熱処理して厚さ1.5μの感光層を設けた。
(Example) Example 1. Comparative Example 1 Aluminum plate with a thickness of 0.24 mm (manufactured by Sky Aluminum Co., Ltd.)
Coat the following photosensitive composition on top of the photosensitive composition.
A photosensitive layer having a thickness of 1.5 μm was formed by heat treatment for a second.

(1)エステル化度25%のフェノールノボラック樹脂
(スミライトレジンPR50731、住友デュレス(株
)製)のナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホ
ン酸エステル)100重量部 (2>  4.4’−ジフェニルメタンジイソシアナー
ト35重量部 (3)ジブチル錫ジアセテート  0.2重r部(4>
  P−トルエンスルホン酸   0.8重量部(5)
テトラヒドロフラン    520重量部続いてこの上
に下記の組成のシリコーンガム組成物を回転塗布後、1
20℃、露点30℃で3゜5分間湿熱硬化させて2.5
μのシリコーンゴム層を設け、さらにこの上にポリプロ
ピレンフィルム(厚ざ8μ、東しく株)製)をカバーフ
ィルムとしてラミネートして、水なし平版印刷版を作製
した。
(1) 100 parts by weight (2>4.4' of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid ester of phenol novolak resin (Sumilight Resin PR50731, manufactured by Sumitomo Duress Co., Ltd.) with a degree of esterification of 25%) -Diphenylmethane diisocyanate 35 parts by weight (3) Dibutyltin diacetate 0.2 parts by weight (4>
P-toluenesulfonic acid 0.8 parts by weight (5)
520 parts by weight of tetrahydrofuran Subsequently, a silicone gum composition having the following composition was spin-coated thereon, and 1
2.5 by moist heat curing at 20℃, dew point 30℃ for 3.5 minutes.
A waterless lithographic printing plate was prepared by providing a silicone rubber layer with a thickness of 8 μm, and then laminating a polypropylene film (8 μm thick, manufactured by Toshiku Co., Ltd.) as a cover film thereon.

(1)  ポリジメチルシロキサン(分子量約2500
0゜両末端が水酸基)      100重量部(2)
  ビニルトリス(メヂルエチルケトオキシム)シラン
            8mm部〈3)ジブチル錫ジ
アセテート  0.1重里部(4)2−アミンエトキシ
トリメトキシシラン0.2重量部 (5)  アイソパー″E(エクソン化学(株)装、脂
肪族炭化水素系溶剤)/メチルイソブチルケトン(85
/15重量比) 1800重P部 かかる水なし平版印刷原版を室温で2週間保存した後、
メタルハライドランプ(宮崎電気(株)“アイドルフィ
ン2000”)を用い、U■ツメ−−(オーク製作所、
UV402A>で11mW10yfの照度で全面露光を
5秒施した。
(1) Polydimethylsiloxane (molecular weight approximately 2500
0゜Both ends are hydroxyl groups) 100 parts by weight (2)
Vinyltris(medylethylketoxime) silane 8 mm parts (3) Dibutyltin diacetate 0.1 parts by weight (4) 2-amine ethoxytrimethoxysilane 0.2 parts by weight (5) Isopar "E" (Exxon Chemical Co., Ltd.) aliphatic hydrocarbon solvent)/methyl isobutyl ketone (85
/15 weight ratio) After storing the waterless lithographic printing original plate containing 1800 parts by weight at room temperature for 2 weeks,
Using a metal halide lamp (Miyazaki Electric Co., Ltd. "Idol Fin 2000"),
The entire surface was exposed to UV402A> with an illuminance of 11 mW and 10 yf for 5 seconds.

上記のように全面露光した印刷版に、150線/インチ
で2%から98%の網点を右するグラデーションネガフ
ィルムを真空密着し、上記のメタルハライドランプを用
いて11mW/−の照度で60秒間画像露光した。
A gradation negative film with halftone dots from 2% to 98% at 150 lines/inch was vacuum-adhered to the printing plate fully exposed as above, and the above metal halide lamp was used for 60 seconds at an illuminance of 11 mW/-. Image exposed.

次いでカバーフィルムを剥ぎ取って、印刷版を前処理液
(″アイソパーパト1/ブチルカルピトール/エチルセ
ロソルブ/モノエタノールアミン−90151510,
2重量比)に1分間浸漬シテから取り出し、現像用パッ
ドに現象液(水/ブヂルカルビトール−70/30重量
比)を含ませて、版面をこすると露光部のシリコーンゴ
ム層が容易に除去され、ネガフィルムに忠実な画像を有
する印刷版が得られた。この印刷版をオフセット印刷機
(小食スプリンl〜(株)製)に取り付け、東洋インキ
(株)装“ウルトラ70紅″を用いて湿し水を用いない
で印刷したところ2%〜98%の網点再現性を有し、か
つ微小欠点のない印刷物が得られた。
Next, the cover film was peeled off, and the printing plate was treated with a pretreatment solution (Isoparpat 1/Butyl Calpitol/Ethyl Cellosolve/Monoethanolamine-90151510,
2 weight ratio) for 1 minute, take it out from the plate, soak the developing pad with the developing solution (water/butyl carbitol - 70/30 weight ratio), and rub the plate surface to easily remove the silicone rubber layer in the exposed area. A printing plate with an image faithful to the negative film was obtained. This printing plate was attached to an offset printing machine (manufactured by Shoshoku Spring Co., Ltd.) and printed using Toyo Ink Co., Ltd.'s "Ultra 70 Beni" without using dampening water. A printed matter with halftone dot reproducibility and no minute defects was obtained.

一方、シリコーン層において実施例1に記載の2−アミ
ノエトキシトリメトキシシランの代りに3−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン(0,2重ffi部)を用いた
以外すべて実施例1に記載通りにして得られた印刷版も
2%〜98%の網点再現性を示したが、現像時に未露光
部シリコーンゴム層表面に無数のひつかきキズが生じた
On the other hand, the silicone layer was obtained in the same manner as described in Example 1 except that 3-aminopropyltrimethoxysilane (0,2 parts of ffi) was used in place of the 2-aminoethoxytrimethoxysilane described in Example 1. The resulting printing plates also exhibited halftone dot reproducibility of 2% to 98%, but numerous scratches appeared on the surface of the silicone rubber layer in unexposed areas during development.

これらの印刷版を用いて耐刷試験を次の条件で行ったと
ころ、前者は印刷枚数が1250枚のところで版面損傷
による汚れが印刷物に現われた。
When a printing durability test was conducted using these printing plates under the following conditions, stains due to damage to the plate surface appeared on the printed matter after 1250 copies were printed.

一方、少者は750枚前後のところで同様な汚れが印刷
物に現われ、明らかに印刷版の耐刷力に差がみられた。
On the other hand, similar stains appeared on the prints of the small sample after about 750 sheets, and there was a clear difference in the printing durability of the printing plates.

このように2−アミンエトキシトリメトキシシランを用
いた場合、感光層とシリコーンゴム層との接着力および
耐刷力が向上した。
In this way, when 2-amine ethoxytrimethoxysilane was used, the adhesive strength between the photosensitive layer and the silicone rubber layer and the printing durability were improved.

印刷条件 印刷機:ハマダスター700百刷改造機印 圧:アンダ
レイ500μ インキ:大阪インキ(株)’I”OPIプロセスに紅″ 実施例2 厚さ0.3mmのアルミ板上に実施例1と同様の感光層
を設けた。この上に2,2−ジメトキシ−6−メチル−
1,3−ジオキサ−6−アザ−2−シラシクロオクタン
の0.5%をアイソパーIT [溶液を塗布し110℃
熱風中で乾燥し、厚さ0.05μの接谷層を設けた。続
いてこの上に下記の組成のシリコーンガム組成物をメー
ヤバーコータで塗布後、120′C1露点30℃、3.
5分で加熱硬化して厚み2.3μのシリコーンゴム層を
設けた。
Printing conditions Printing machine: Hamada Star 700 Modified machine Printing pressure: Underlay 500μ Ink: Osaka Ink Co., Ltd. 'I" OPI process red" Example 2 Same as Example 1 on an aluminum plate with a thickness of 0.3 mm A photosensitive layer was provided. On top of this, 2,2-dimethoxy-6-methyl-
0.5% of 1,3-dioxa-6-aza-2-silacyclooctane was applied to Isopar IT [the solution was applied and heated at 110°C].
It was dried in hot air to form a 0.05 μm thick tack layer. Subsequently, a silicone gum composition having the following composition was applied thereto using a Meyer bar coater, and then coated at 120'C1 dew point of 30°C, 3.
A silicone rubber layer having a thickness of 2.3 μm was provided by heating and curing in 5 minutes.

(1)ポリジメチルシロキサン(分子i25.0001
両末端水酸基)      100重量部(2)  ビ
ニルトリアセトキシシラン  8@聞部(3)  ジブ
チル錫ジアセテート  0.1重量部(4>  ”アイ
ソパー”6     430重但部上記のようにして得
られた印刷原版を、空温で2週間保存した後、真空密着
したネガフィルムを通してメタルハライドランプを用い
て画像露光を施した。露光ずみの版はエタノール65部
/“アイソパー”235部からなる現像液で版面を濡ら
し、現像パッドで軽くこすると、露光部は容易に除去さ
れてアルミ基板が露出し、一方未露光部はシリコーンゴ
ム層が強固に残存しており、ネガフィルムを忠実に再現
した印刷版を(qた。この印刷版を、通常の校正機に取
りつけて、水なし平版用インキ゛アルボ″G(栄華色素
化学工業(株)装)を用いてコート紙に印刷を行なった
ところ、シャープな画像を有する印刷物が得られた。
(1) Polydimethylsiloxane (molecule i25.0001
Hydroxyl groups at both ends) 100 parts by weight (2) Vinyltriacetoxysilane 8@middle (3) Dibutyltin diacetate 0.1 parts by weight (4>"Isopar" 6 430 parts by weight Printing obtained as above After storing the original plate at air temperature for two weeks, it was exposed imagewise using a metal halide lamp through a vacuum-adhesive negative film. When wet and lightly rubbed with a developing pad, the exposed areas are easily removed and the aluminum substrate is exposed, while the silicone rubber layer remains firmly in the unexposed areas, creating a printing plate that faithfully reproduces the negative film ( q. When this printing plate was attached to a normal proofing machine and printed on coated paper using waterless lithographic ink "Arbo" G (Eika Shiki Kagaku Kogyo Co., Ltd.), a sharp image was obtained. A print was obtained.

実施例3 厚み0.3mmのアルミ板に下記の感光性組成物を塗布
し、115℃、30秒間処理して厚さ2μの感光層を設
けた。
Example 3 The following photosensitive composition was coated on an aluminum plate with a thickness of 0.3 mm, and treated at 115° C. for 30 seconds to form a photosensitive layer with a thickness of 2 μm.

(1)  エステル化度25%のフェノールノボラック
樹脂(スミライトレジンPR50731゜住友デュレス
(株)製)のナフトキノン−1,2−ジアジド−5−ス
ルホン酸エステル100重量部 (2>  4,4°−ジフェニルメタンジイソシアチー
1〜30重量部 (3)ジブチル錫ジアセテート  0.2重i部(4)
P−トルエンスルホンM    O,8重量部(5) 
 メチルシラトラン       5重量部(6)  
テトラヒドロフラン    520fflff1部続い
てこの上に実施例2で用いたシリコーンゴム組成物をメ
ーヤバーコータで塗@後、120’C1露点30℃、3
.5分で加熱硬化して厚み2.5μのシリコーンゴム層
を設けた。
(1) 100 parts by weight (2>4,4°- Diphenylmethane diisocyanate 1 to 30 parts by weight (3) Dibutyltin diacetate 0.2 parts by weight (4)
P-Toluenesulfone M O, 8 parts by weight (5)
Methylsilatran 5 parts by weight (6)
1 part of tetrahydrofuran 520fflff Subsequently, the silicone rubber composition used in Example 2 was coated on this using a Meyer bar coater @120'C1 dew point 30°C, 3
.. A silicone rubber layer having a thickness of 2.5 μm was provided by heating and curing in 5 minutes.

かかる水なし平版印刷版を室温で2週間保存した後、メ
タルハライドランプを用い、Uvメータ(オーク製作断
裂、UV402A>で11mW/−の照度で全面露光を
5秒施した。
After storing the waterless lithographic printing plate at room temperature for two weeks, the entire surface was exposed for 5 seconds at an illumination intensity of 11 mW/- using a UV meter (oak fabrication cut, UV402A>) using a metal halide lamp.

上記のように全面露光した印刷版に150線/インチの
網点画像を有するネガフィルムを、常法に従って真空密
着し、メタルハライドランプを用いて画像露光を施した
。続いてこの版を前処理液(゛アイソパー”l−1/ブ
ヂルカJレビトール/エチルセロソルブ/モノエタノー
ルアミン=90151510.21但比)に1分間浸漬
してから取り出し、現像パッドに現像液(水/ブチルカ
ルピトール=70/30重但比)を含ませて、版面をこ
すると、露光部のシリコーンゴム層が除去されて感光層
表面が露出し、原画フィルムに忠実な画像が得られた。
A negative film having a halftone image of 150 lines/inch was vacuum-adhered to the printing plate exposed entirely as described above in accordance with a conventional method, and imagewise exposed using a metal halide lamp. Next, this plate was immersed in a pretreatment solution (Isopar" l-1/Budilka J Levitol/Ethyl Cellosolve/Monoethanolamine = 90151510.21 ratio) for 1 minute, then taken out, and a developer solution (water/water/ When the printing plate was rubbed with butylcarpitol (70/30 ratio), the silicone rubber layer in the exposed areas was removed, exposing the surface of the photosensitive layer, and an image faithful to the original film was obtained.

この印刷版も実施例1と同様に、現像時および印刷時に
未露光部のシリコーンゴム層が脱落したり、シリコーン
ゴム層表面にこすりキズ等が発生したりすることは全く
なかった。
Similar to Example 1, this printing plate also did not have any peeling of the silicone rubber layer in the unexposed areas during development or printing, nor did any scratches or the like occur on the surface of the silicone rubber layer.

比較例2 実施例3のメチルシラトランの代りに3−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン(5川口部)を用いた以外すべて
実施例3に記載した通りにして得られだ印刷版も2%〜
98%の網点再現性を示したが、現像時に未露光部シリ
コーンゴム層表面に無数のひっかきキズが生じた。
Comparative Example 2 A printing plate obtained in the same manner as described in Example 3 except that 3-aminopropyltrimethoxysilane (5 Kawaguchi part) was used in place of methylsilatrane in Example 3.
Although the halftone dot reproducibility was 98%, numerous scratches were generated on the surface of the silicone rubber layer in the unexposed areas during development.

(発明の効果) 本発明は上)小のごとく構成されているため感光層とシ
リコーンゴム層間の接着力の増大とともに接着力の経時
安定化を図ることができ、印刷原版の現像時の未露光部
シリコーンゴム層の耐スクラッチ性、耐溶剤性、および
印刷版の耐刷力の飛躍的向上をもたらすことができる。
(Effects of the Invention) The present invention is configured as shown in the above (a) above, so that it is possible to increase the adhesive force between the photosensitive layer and the silicone rubber layer and to stabilize the adhesive force over time. The scratch resistance and solvent resistance of the silicone rubber layer and the printing durability of the printing plate can be dramatically improved.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 支持体、キノンジアジド化合物を含有する感光層および
シリコーンゴム層をこの順に積層してなる水なし平版に
おいて、該感光層と該シリコーンゴム層が下記一般式(
I )〜(III)で示されるケイ素化合物の少なくとも1
種によって接着されていることを特徴とする水なし平版
印刷用原版。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(II) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(III) (ここで、R_1、R_2、R_5は炭素数1〜15の
アルキル基、炭素数6〜10のアリール基、アラルキル
基。R_3、R_4、R_6は炭素数1〜15のアルキ
ル基、アルコキシ基または炭素数6〜10のアリール基
、アリールオキシ基。A_1、A_2はアミノ基を有す
る炭素数1〜10の有機基。l、mは0〜3の整数、n
、pは0〜4の整数であり、n+p≧1、0+m+n+
p=4。s、t、uは2〜5の整数。)
[Claims] In a waterless planographic plate formed by laminating a support, a photosensitive layer containing a quinonediazide compound, and a silicone rubber layer in this order, the photosensitive layer and the silicone rubber layer have the following general formula (
At least one of the silicon compounds represented by I) to (III)
A waterless lithographic printing original plate characterized by being bonded by seeds. ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼...(I) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼...(II) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼...(III) (Here R_1, R_2, and R_5 are alkyl groups having 1 to 15 carbon atoms, aryl groups having 6 to 10 carbon atoms, and aralkyl groups. R_3, R_4, and R_6 are alkyl groups having 1 to 15 carbon atoms, alkoxy groups, or 6 carbon atoms. ~10 aryl group, aryloxy group. A_1, A_2 are organic groups having 1 to 10 carbon atoms and having an amino group. l and m are integers of 0 to 3, n
, p is an integer from 0 to 4, n+p≧1, 0+m+n+
p=4. s, t, and u are integers from 2 to 5. )
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