JPH07120912A - Waterless lithographic printing master plate - Google Patents

Waterless lithographic printing master plate

Info

Publication number
JPH07120912A
JPH07120912A JP26702993A JP26702993A JPH07120912A JP H07120912 A JPH07120912 A JP H07120912A JP 26702993 A JP26702993 A JP 26702993A JP 26702993 A JP26702993 A JP 26702993A JP H07120912 A JPH07120912 A JP H07120912A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
general formula
weight
printing plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP26702993A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Kokuni
昌宏 小國
Kazuoki Goto
一起 後藤
Norimasa Ikeda
憲正 池田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP26702993A priority Critical patent/JPH07120912A/en
Publication of JPH07120912A publication Critical patent/JPH07120912A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To obtain a master plate having excellent printing durability and high sensitivity by incorporating specified several reaction products and a specified compd. into a photosensitive layer. CONSTITUTION:The photosensitive layer contains each one compd. of two reaction products and at least one compd. expressed by formulae III, IV and V. The one reaction product is obtd. by the reaction of a compd. having at least one structure expressed by formula I and a quinonediazide compd. The other reaction product is obtd. by the reaction of a compd. having at least one structure expressed by formula II with a quinonediazide compd. In formulae I-V, R1 is at least one element selected from sulfur atom, substd. or unsubstd. nitrogen atom, substd. or unsubstd. carbon atom, and substd. or unsubstd. silicon atom, R2-R5 are substituents, and R6 is at least one kind selected from among hydroxyl group, an alkali metal oxide, a halogen atom, amino group, mercapto group, alkoxy group, amide group, acyloxy group, alkanoyl group, formyl group, aryloxy group, etc.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は水なし平版印刷版に関す
るものであり、さらに詳しくは支持体上に感光層、イン
キを反発するシリコーンゴム層とを、この順に設けてな
る水なし平版印刷版に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a waterless planographic printing plate, and more specifically, a waterless planographic printing plate comprising a support and a photosensitive layer and an ink-repellent silicone rubber layer in this order. It is about.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、シリコーンゴム層をインキ反
発層として使用し、湿し水を用いずに平版印刷を行うた
めの印刷版が種々提案されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, various printing plates have been proposed for using a silicone rubber layer as an ink repellent layer and performing lithographic printing without using fountain solution.

【0003】これらの中でも、支持体上にキノンジアジ
ド化合物とフェノールノボラック樹脂などの樹脂とを用
いた感光層の上にシリコーンゴム層を設けた水なし平版
印刷版原版が特公昭61−54222、特公昭61−5
8824、特公昭63−23546、特公平2−617
30、特公平2−62857、特公平3−36208、
特公平3−56365、特公平3−56624、特公平
3−65539、特公平4−1900、特公平4−29
42、特公平4−3864、特公平4−44262、特
公平4−49702号公報などに開示されている。
Among these, waterless planographic printing plate precursors in which a silicone rubber layer is provided on a photosensitive layer made of a quinonediazide compound and a resin such as phenol novolac resin on a support are JP-B-61-54222 and JP-B-42222. 61-5
8824, Japanese Patent Publication No. 63-23546, Japanese Patent Publication No. 2-617
30, Japanese Patent Publication No. 2-62857, Japanese Patent Publication No. 3-36208,
Japanese Patent Publication 3-56365, Japanese Patent Publication 3-56624, Japanese Patent Publication 3-65539, Japanese Patent Publication 4-1900, Japanese Patent Publication 4-29
42, JP-B-4-3864, JP-B-4-44262, JP-B-4-49702 and the like.

【0004】これらの水なし平版印刷版原版の感光層に
はフェノールノボラック樹脂などの樹脂の水酸基にキノ
ンジアジド化合物を反応させたものが用いられている
が、これらの樹脂は硬くてもろいという欠点を有してお
り、特にオフセット印刷を行った場合、感光層の破壊が
起こり、シリコーンゴム層にまで亀裂が入り、高耐刷力
が得られない欠点を有していた。
For the photosensitive layer of these waterless planographic printing plate precursors, those obtained by reacting a quinonediazide compound with a hydroxyl group of a resin such as a phenol novolac resin are used, but these resins have the drawback of being hard and brittle. In particular, when offset printing is carried out, the photosensitive layer is destroyed, and the silicone rubber layer is cracked, resulting in a drawback that high printing durability cannot be obtained.

【0005】この問題を解決するため、フェノールのよ
うな芳香環に直接水酸基がついた化合物の代わりに脂肪
族炭化水素に水酸基がついた化合物を用いる方法が考え
られるが、感度が劣るという欠点を有していた。さら
に、このような脂肪族炭化水素に水酸基がついた化合物
を用いた場合、膜の形態保持性が低く、薄膜にした場合
に微小のハジキが発生するという欠点も有していた。
In order to solve this problem, a method of using a compound having a hydroxyl group on an aliphatic hydrocarbon instead of a compound having a hydroxyl group directly on an aromatic ring such as phenol is conceivable, but has the disadvantage of poor sensitivity. Had. Further, when such a compound having a hydroxyl group in an aliphatic hydrocarbon is used, the shape retention of the film is low and minute cissing occurs when the film is formed into a thin film.

【0006】また、これらの水なし平版印刷版原版は光
に対する感度が低く、十分な画像再現性が得られないと
いう欠点も有していた。
Further, these waterless planographic printing plate precursors have a drawback that they have low sensitivity to light and cannot obtain sufficient image reproducibility.

【0007】この問題を解決するため、光増感剤などを
添加する方法が考えられるが、ネガフィルムやポジフィ
ルムに忠実なが画像を再現するにはまだ不十分であっ
た。
In order to solve this problem, a method of adding a photosensitizer or the like can be considered, but it is faithful to a negative film or a positive film, but it is still insufficient for reproducing an image.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
の問題点の解決を図るもので、優れた耐刷力を有し、か
つ高感度を有する水なし平版印刷版原版を提供すること
にある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above problems and to provide a waterless lithographic printing plate precursor having excellent printing durability and high sensitivity. It is in.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】かかる発明の目的は、支
持体上に感光層およびシリコーンゴム層をこの順に積層
してなる水なし平版印刷版原版において、該感光層が、
(A)下記一般式(I)で示される構造を少なくとも一
つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応物と、
(B)下記一般式(II)で示される構造を少なくとも
一つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応物の
両方をそれぞれ少なくとも一つずつ含有しており、かつ
下記一般式(III)、下記一般式(IV)および下記
一般式(V)で示される化合物の少なくとも一つを含有
していることを特徴とする水なし平版印刷版原版により
達成される。
The object of the invention is to provide a waterless planographic printing plate precursor comprising a support and a photosensitive layer and a silicone rubber layer laminated in this order on the support.
(A) a reaction product of a compound having at least one structure represented by the following general formula (I) with a quinonediazide compound,
(B) contains at least one of each of a reaction product of a compound having at least one structure represented by the following general formula (II) and a quinonediazide compound, and includes the following general formula (III) and the following general formula A waterless lithographic printing plate precursor comprising (IV) and at least one compound represented by the following general formula (V).

【0010】[0010]

【化6】 [Chemical 6]

【化7】 [Chemical 7]

【化8】 [Chemical 8]

【化9】 [Chemical 9]

【化10】 (式中、R1は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。R2、R3、R4、R5は置換基であり、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。R6は水酸基、アルカリ
金属オキシド基、ハロゲン原子、アミノ基、メルカプト
基、炭素数1〜100の置換もしくは非置換のアルキル
基、アルコキシ基、アミド基、アシルオキシ基、アルカ
ノイル基、ホルミル基、カルボキシル基、炭素数2〜1
00の置換もしくは非置換のアルケニル基、アルケニル
オキシ基、炭素数4〜100の置換もしくは非置換のア
リール基、アリールオキシ基の群から選ばれる少なくと
も一種である。) すなわち、一般式(I)で示される構造を少なくとも一
つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応物と一
般式(II)で示される構造を少なくとも一つ有する化
合物とキノンジアジド化合物との反応物の両方をそれぞ
れ少なくとも一つずつ含有することにより感光層を柔軟
化し、その結果耐刷力を向上させることができる。ま
た、一般式(III)〜一般式(V)で示される化合物
の少なくとも一つを含有することにより、光に対する感
度が良好となり、優れた画像再現性を有する水なし平版
印刷版となり得る。
[Chemical 10] (In the formula, R1 is at least one selected from the group consisting of a sulfur atom, a substituted or unsubstituted nitrogen atom, a substituted or unsubstituted carbon atom, and a substituted or unsubstituted silicon atom. R2, R3, R4, R5. R6 is a substituent, which may be the same or different.R6 is a hydroxyl group, an alkali metal oxide group, a halogen atom, an amino group, a mercapto group, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 100 carbon atoms, an alkoxy group, Amido group, acyloxy group, alkanoyl group, formyl group, carboxyl group, carbon number 2 to 1
At least one selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted alkenyl group of 00, an alkenyloxy group, a substituted or unsubstituted aryl group having 4 to 100 carbon atoms, and an aryloxy group. ) That is, both a reaction product of a compound having at least one structure represented by general formula (I) and a quinonediazide compound and a reaction product of a compound having at least one structure represented by general formula (II) and a quinonediazide compound By containing at least one of each of them, the photosensitive layer can be softened, and as a result, printing durability can be improved. Further, by containing at least one of the compounds represented by the general formulas (III) to (V), the sensitivity to light becomes good, and a waterless planographic printing plate having excellent image reproducibility can be obtained.

【0011】本発明で用いられる支持体としては、通常
の水なし平版印刷版で用いられるもの、あるいは提案さ
れているものであればいずれでもよく、例えばアルミニ
ウム、銅、亜鉛、鋼などの金属板、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリスチレン、ポリプロピレンなどのプラス
チックフィルムあるいはシート、クロロプレンゴム、N
BRのようなゴム弾性を有する支持体、もしくはコート
紙などが挙げられるがこれらに限定されない。これらの
支持体の表面に適当な加工を施し、上層との接着性を向
上させることは任意である。
The support used in the present invention may be any of those used in ordinary waterless planographic printing plates or those proposed, for example, metal plates of aluminum, copper, zinc, steel or the like. , Polyethylene terephthalate, polystyrene, polypropylene and other plastic films or sheets, chloroprene rubber, N
Examples thereof include, but are not limited to, a support having rubber elasticity such as BR, or coated paper. Appropriate processing may be applied to the surface of these supports to improve the adhesion to the upper layer.

【0012】これらの支持体上にはハレーション防止そ
の他の目的でさらにプライマ層をコーティングして支持
体として用いることも可能である。プライマ層の構成成
分としては、例えばエポキシ樹脂、アクリル樹脂、尿素
樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチ
レン樹脂、アミド樹脂、メナミン樹脂、ベンゾグアナミ
ン樹脂、フェノール樹脂、ミルクカゼイン、ゼラチン、
大豆タンパク質、アルブミンなどが挙げられるが、これ
らに限定されない。これらの樹脂は単独、あるいは二種
以上混合して用いることができる。これらの樹脂に多官
能イソシアネート化合物やシランカップリング剤などの
架橋剤を加えることにより、支持体あるいは感光層との
接着性を向上させることも可能である。また、検版性の
向上その他の目的で必要に応じて染料、顔料、光発色剤
などの添加剤を加えることは任意である。また、公知の
触媒を添加することも任意である。
It is also possible to further coat a primer layer on these supports for the purpose of preventing halation or for other purposes and use them as a support. As the constituent components of the primer layer, for example, epoxy resin, acrylic resin, urea resin, polyurethane resin, polyester resin, polystyrene resin, amide resin, menamine resin, benzoguanamine resin, phenol resin, milk casein, gelatin,
Examples include, but are not limited to, soy protein, albumin, and the like. These resins can be used alone or in combination of two or more. By adding a crosslinking agent such as a polyfunctional isocyanate compound or a silane coupling agent to these resins, it is possible to improve the adhesiveness to the support or the photosensitive layer. Further, it is optional to add additives such as dyes, pigments, and photo-color formers for the purpose of improving the plate inspection property and other purposes. Further, it is also optional to add a known catalyst.

【0013】プライマ層中の各成分の配合割合について
は特に限定されないが、好ましくは上記の樹脂の一種も
しくは二種以上を100重量部、必要に応じて架橋剤を
0〜100重量部、染料あるいは顔料などの添加剤を0
〜100重量部、公知の触媒を0〜10重量部加え、膜
厚0.1〜100μm、より好ましくは0.5〜50μ
mで設けることにより得られるものがよい。
The blending ratio of each component in the primer layer is not particularly limited, but preferably 100 parts by weight of one or more of the above resins, and optionally 0 to 100 parts by weight of a crosslinking agent, a dye or Add no additives such as pigments
˜100 parts by weight, a known catalyst in an amount of 0 to 10 parts by weight, and a film thickness of 0.1 to 100 μm, more preferably 0.5 to 50 μm.
What is obtained by providing m is preferable.

【0014】本発明において使用される感光層としては
光剥離性感光層が挙げられる。このような光剥離性感光
層は、一般式(I)で示される構造を少なくとも一つ有
する化合物とキノンジアジド化合物との反応物と一般式
(II)で示される構造を少なくとも一つ有する化合物
とキノンジアジド化合物との反応物の両方をそれぞれ少
なくとも一つずつ含有しており、かつ下記一般式(II
I)、下記一般式(IV)および下記一般式(V)で示
される化合物の少なくとも一つを含有している。
Examples of the photosensitive layer used in the present invention include a photo-peeling photosensitive layer. Such a photo-peeling photosensitive layer comprises a reaction product of a compound having at least one structure represented by general formula (I) and a quinonediazide compound, a compound having at least one structure represented by general formula (II), and quinonediazide. It contains at least one of each of the reaction product with the compound, and has the following general formula (II
I), at least one of compounds represented by the following general formula (IV) and general formula (V).

【0015】[0015]

【化11】 [Chemical 11]

【化12】 [Chemical 12]

【化13】 [Chemical 13]

【化14】 [Chemical 14]

【化15】 (式中、R1は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。R2、R3、R4、R5は置換基であり、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。R6は水酸基、アルカリ
金属オキシド基、ハロゲン原子、アミノ基、メルカプト
基、炭素数1〜100の置換もしくは非置換のアルキル
基、アルコキシ基、アミド基、アシルオキシ基、アルカ
ノイル基、ホルミル基、カルボキシル基、炭素数2〜1
00の置換もしくは非置換のアルケニル基、アルケニル
オキシ基、炭素数4〜100の置換もしくは非置換のア
リール基、アリールオキシ基の群から選ばれる少なくと
も一種である。) このような感光層においては、架橋や変性を行わない場
合には、現像により露光部感光層およびその上のシリコ
ーンゴム層が除去される。架橋あるいは変性を行った場
合には、現像により露光部感光層が除去されることな
く、その上のシリコーンゴム層のみが除去される。
[Chemical 15] (In the formula, R1 is at least one selected from the group consisting of a sulfur atom, a substituted or unsubstituted nitrogen atom, a substituted or unsubstituted carbon atom, and a substituted or unsubstituted silicon atom. R2, R3, R4, R5. R6 is a substituent, which may be the same or different.R6 is a hydroxyl group, an alkali metal oxide group, a halogen atom, an amino group, a mercapto group, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 100 carbon atoms, an alkoxy group, Amido group, acyloxy group, alkanoyl group, formyl group, carboxyl group, carbon number 2 to 1
At least one selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted alkenyl group of 00, an alkenyloxy group, a substituted or unsubstituted aryl group having 4 to 100 carbon atoms, and an aryloxy group. In such a photosensitive layer, the exposed photosensitive layer and the silicone rubber layer thereon are removed by development when no crosslinking or modification is carried out. When crosslinking or modification is performed, the exposed photosensitive layer is not removed by development, and only the silicone rubber layer on the exposed photosensitive layer is removed.

【0016】一般式(I)中のR1の置換基の具体例と
しては、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、
アミノ基、メルカプト基、シアノ基、スルフォニル基、
ニトロソ基、炭素数1〜100の置換もしくは非置換の
アルキル基、アルコキシ基、アミド基、アシルオキシ
基、アルカノイル基、ホルミル基、カルボキシル基、炭
素数2〜100の置換もしくは非置換のアルケニル基、
アルケニルオキシ基、炭素数4〜100の置換もしくは
非置換のアリール基、アリールオキシ基の群から選ばれ
る少なくとも一種が挙げられるが、これらに限定されな
い。また、一般式(II)中のR2、R3、R4、R5
の具体例としては、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、
ニトロ基、アミノ基、メルカプト基、シアノ基、スルフ
ォニル基、ニトロソ基、炭素数1〜100の置換もしく
は非置換のアルキル基、アルコキシ基、アミド基、アシ
ルオキシ基、アルカノイル基、ホルミル基、カルボキシ
ル基、炭素数2〜100の置換もしくは非置換のアルケ
ニル基、アルケニルオキシ基、炭素数4〜100の置換
もしくは非置換のアリール基、アリールオキシ基の群か
ら選ばれる少なくとも一種であり、それぞれ同一でも異
なっていてもよく、またこれらに限定されず、これ以外
のものでもよい。
Specific examples of the substituent of R1 in the general formula (I) include a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a nitro group,
Amino group, mercapto group, cyano group, sulfonyl group,
A nitroso group, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 100 carbon atoms, an alkoxy group, an amide group, an acyloxy group, an alkanoyl group, a formyl group, a carboxyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 100 carbon atoms,
At least one selected from the group consisting of an alkenyloxy group, a substituted or unsubstituted aryl group having 4 to 100 carbon atoms, and an aryloxy group can be mentioned, but the present invention is not limited thereto. In addition, R2, R3, R4, R5 in the general formula (II)
As specific examples of, a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group,
Nitro group, amino group, mercapto group, cyano group, sulfonyl group, nitroso group, substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 100 carbon atoms, alkoxy group, amide group, acyloxy group, alkanoyl group, formyl group, carboxyl group, At least one selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 100 carbon atoms, an alkenyloxy group, a substituted or unsubstituted aryl group having 4 to 100 carbon atoms, and an aryloxy group, which may be the same or different. However, the present invention is not limited to these, and other materials may be used.

【0017】一般式(I)で示される構造を少なくとも
一つ有する化合物としては例えば次のような化合物が挙
げられるが、これらに限定されない。
Examples of the compound having at least one structure represented by the general formula (I) include, but are not limited to, the following compounds.

【0018】炭素数1〜1000万の置換もしくは非置
換の脂肪族アルコール、例えばメタノール、エタノー
ル、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、ヘプタ
ノール、オクタノール、デカノール、シクロヘキサノー
ル、アリルアルコール、クロチルアルコール、3−ブテ
ン−1−オル、3−ブテン−2−オル、1−ヘキセン−
13−オル、2−ヘキセン−1−オル、3−ヘキセン−
1−オル、4−ヘキセン−1−オル、5−ヘキセン−1
−オル、1−オクテン3−オル、ベンジルアルコール、
ナフタレンメタノール、ナフタレンエタノール、3−ヒ
ドロキシテトラヒドロフラン、エタノールアミン、2−
メルカプトエタノール、1−メルカプト−2−プロパノ
ール、3−メルカプト−2−ブタノール、ヒドロキシエ
チルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレートな
どの一価の飽和あるいは不飽和アルコール、エチレング
リコール、プロピレングリコール、1,3−ブタンジオ
ール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオ
ール、1,8−オクタンジオール、1,10−デカンジ
オール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、テトラエチレングリコール、2−ブテン−1,4−
ジオール、5−ヘキセン−1,2−ジオール、7−オク
テン−1,2−ジオール、3−メルカプト−1,2−プ
ロパンジオールなどの二価の飽和あるいは不飽和アルコ
ール、グリセリン、トリメチロールプロパン、1,2,
4−ブタントリオール、ペンタエリスリトール、ポリビ
ニルアルコール、ポリヒドロキシエチルアクリレート、
ポリヒドロキシエチルメタクリレートなどの多価の飽和
あるいは不飽和アルコールなど。これらの化合物あるい
はそれ以外の一般式(I)で示される構造を少なくとも
一つ有する化合物を単独、あるいは二種以上キノンジア
ジド化合物と反応させることにより、目的とする反応物
を得ることができる。
A substituted or unsubstituted aliphatic alcohol having 1 to 10 million carbon atoms, such as methanol, ethanol, propanol, butanol, hexanol, heptanol, octanol, decanol, cyclohexanol, allyl alcohol, crotyl alcohol, 3-butene-. 1-ol, 3-butene-2-ol, 1-hexene-
13-ol, 2-hexene-1-ol, 3-hexene-
1-ol, 4-hexene-1-ol, 5-hexene-1
-Ol, 1-octene 3-ol, benzyl alcohol,
Naphthalenemethanol, naphthaleneethanol, 3-hydroxytetrahydrofuran, ethanolamine, 2-
Monovalent saturated or unsaturated alcohols such as mercaptoethanol, 1-mercapto-2-propanol, 3-mercapto-2-butanol, hydroxyethyl acrylate and hydroxyethyl methacrylate, ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, 1,8-octanediol, 1,10-decanediol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, 2-butene-1,4-
Divalent saturated or unsaturated alcohols such as diol, 5-hexene-1,2-diol, 7-octene-1,2-diol, 3-mercapto-1,2-propanediol, glycerin, trimethylolpropane, 1 , 2,
4-butanetriol, pentaerythritol, polyvinyl alcohol, polyhydroxyethyl acrylate,
Polyhydric saturated or unsaturated alcohols such as polyhydroxyethyl methacrylate. The desired reaction product can be obtained by reacting one of these compounds or another compound having at least one structure represented by the general formula (I) alone or with two or more kinds of quinonediazide compounds.

【0019】また、一般式(II)で示される構造を少
なくとも一つ有する化合物としては例えば次のような化
合物が挙げられるが、これらに限定されない。
Examples of the compound having at least one structure represented by the general formula (II) include, but are not limited to, the following compounds.

【0020】芳香環に直接水酸基が結合している化合
物、例えばフェノール、ナフトール、アントラノール、
2,6−ジヒドロキシアントラキノン、アントラロビ
ン、フェノールノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチレ
ンなど。
Compounds in which a hydroxyl group is directly bonded to an aromatic ring, such as phenol, naphthol, anthranol,
2,6-dihydroxyanthraquinone, anthralobin, phenol novolac resin, polyhydroxystyrene, etc.

【0021】これらの化合物あるいはそれ以外の一般式
(II)で示される構造を少なくとも一つ有する化合物
を単独、あるいは二種以上キノンジアジド化合物と反応
させることにより、目的とする反応物を得ることができ
る。
The desired reaction product can be obtained by reacting one of these compounds or another compound having at least one structure represented by the general formula (II) alone or with two or more kinds of quinonediazide compounds. .

【0022】キノンジアジド化合物としては、ベンゾキ
ノン−1,2−ジアジドスルホン酸およびその誘導体、
ナフトキノン−1,2−ジアジドスルホン酸およびその
誘導体、あるいはジアゾジフェニルアミンおよびその誘
導体などが挙げられるがこれらに限定されない。これら
の中ではナフトキノン−1,2−ジアジドスルホン酸お
よびその誘導体が特に有効である。キノンジアジド化合
物として、例えばスルホン酸系の化合物を使用すると、
目的とする反応物はエステル化物となる。
Examples of the quinonediazide compound include benzoquinone-1,2-diazidesulfonic acid and its derivatives,
Examples thereof include, but are not limited to, naphthoquinone-1,2-diazide sulfonic acid and its derivative, or diazodiphenylamine and its derivative. Of these, naphthoquinone-1,2-diazide sulfonic acid and its derivatives are particularly effective. As a quinonediazide compound, for example, when a sulfonic acid-based compound is used,
The target reaction product becomes an esterified product.

【0023】一般式(I)で示される構造を少なくとも
一つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応割
合、および一般式(II)で示される構造を少なくとも
一つ有する化合物とキノンジアジド化合物との反応割合
は特に限定されないが、好ましくは一般式(I)で示さ
れる構造あるいは一般式(II)で示される構造を少な
くとも一つ有する化合物100重量部に対してキノンジ
アジド化合物を0.01〜100万重量部、より好まし
くは一般式(I)で示される構造あるいは一般式(I
I)で示される構造を少なくとも一つ有する化合物10
0重量部に対してキノンジアジド化合物を0.1〜10
万重量部反応させることにより得られるのがよい。
The reaction ratio between the compound having at least one structure represented by the general formula (I) and the quinonediazide compound and the reaction ratio between the compound having at least one structure represented by the general formula (II) and the quinonediazide compound are Although not particularly limited, preferably 0.01 to 1,000,000 parts by weight of the quinonediazide compound with respect to 100 parts by weight of the compound having at least one structure represented by the general formula (I) or the structure represented by the general formula (II), More preferably, the structure represented by the general formula (I) or the general formula (I
Compound 10 having at least one structure represented by I)
The quinonediazide compound is added in an amount of 0.1-10 parts by weight based on 0 part by weight.
It is preferably obtained by reacting 10,000 parts by weight.

【0024】一般式(III)で示される化合物の具体
例としては、ベンゾキノン−1,2−ジアジドスルホン
酸、ベンゾキノン−1,2−ジアジドスルホン酸ナトリ
ウム、ベンゾキノン−1,2−ジアジドスルホン酸カリ
ウム、ベンゾキノン−1,2−ジアジドスルホン酸クロ
リド、ベンゾキノン−1,2−ジアジドスルホン酸ブロ
ミド、ベンゾキノン−1,2−ジアジドスルホン酸メチ
ルエステル、ベンゾキノン−1,2−ジアジドスルホン
酸エチルエステルなどが挙げられるが、これらに限定さ
れない。これらの中ではベンゾキノン−1,2−ジアジ
ドスルホン酸ナトリウムおよびベンゾキノン−1,2−
ジアジドスルホン酸クロリドが好ましい。
Specific examples of the compound represented by the general formula (III) include benzoquinone-1,2-diazide sulfonic acid, sodium benzoquinone-1,2-diazide sulfonate, and benzoquinone-1,2-diazide sulfone. Acid potassium, benzoquinone-1,2-diazidesulfonic acid chloride, benzoquinone-1,2-diazidesulfonic acid bromide, benzoquinone-1,2-diazidesulfonic acid methyl ester, benzoquinone-1,2-diazidesulfonic acid Examples include, but are not limited to, ethyl esters. Among these, sodium benzoquinone-1,2-diazide sulfonate and benzoquinone-1,2-
Diazidosulfonic acid chloride is preferred.

【0025】一般式(IV)で示される化合物の具体例
としては、o−ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−
スルホン酸、o−ナフトキノン−1,2−ジアジド−5
−スルホン酸ナトリウム、o−ナフトキノン−1,2−
ジアジド−5−スルホン酸カリウム、o−ナフトキノン
−1,2−ジアジド−5−スルホン酸クロリド、o−ナ
フトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸ブロミ
ド、o−ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホ
ン酸メチルエステル、o−ナフトキノン−1,2−ジア
ジド−5−スルホン酸エチルエステルなどが挙げられる
が、これらに限定されない。これらの中ではo−ナフト
キノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸ナトリウム
およびo−ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スル
ホン酸クロリドが好ましい。
Specific examples of the compound represented by the general formula (IV) include o-naphthoquinone-1,2-diazide-5-.
Sulfonic acid, o-naphthoquinone-1,2-diazide-5
-Sodium sulfonate, o-naphthoquinone-1,2-
Potassium diazide-5-sulfonate, o-naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid chloride, o-naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid bromide, o-naphthoquinone-1,2-diazide- Examples include, but are not limited to, 5-sulfonic acid methyl ester, o-naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid ethyl ester, and the like. Among these, sodium o-naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonate and o-naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid chloride are preferable.

【0026】一般式(V)で示される化合物の具体例と
しては、o−ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−ス
ルホン酸、o−ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−
スルホン酸ナトリウム、o−ナフトキノン−1,2−ジ
アジド−4−スルホン酸カリウム、o−ナフトキノン−
1,2−ジアジド−4−スルホン酸クロリド、o−ナフ
トキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸ブロミ
ド、o−ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホ
ン酸メチルエステル、o−ナフトキノン−1,2−ジア
ジド−4−スルホン酸エチルエステルなどが挙げられる
が、これらに限定されない。これらの中ではo−ナフト
キノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸ナトリウム
およびo−ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スル
ホン酸クロリドが好ましい。
Specific examples of the compound represented by the general formula (V) include o-naphthoquinone-1,2-diazide-4-sulfonic acid and o-naphthoquinone-1,2-diazide-4-.
Sodium sulfonate, o-naphthoquinone-1,2-diazide-4-sulfonate potassium, o-naphthoquinone-
1,2-diazide-4-sulfonic acid chloride, o-naphthoquinone-1,2-diazide-4-sulfonic acid bromide, o-naphthoquinone-1,2-diazide-4-sulfonic acid methyl ester, o-naphthoquinone-1 , 2-diazide-4-sulfonic acid ethyl ester and the like, but not limited thereto. Among these, sodium o-naphthoquinone-1,2-diazide-4-sulfonate and o-naphthoquinone-1,2-diazide-4-sulfonic acid chloride are preferable.

【0027】感光層に架橋剤を用いる場合の架橋剤とし
ては、多官能性イソシアネート類、例えば、パラフェニ
レンジイソシアネート、2,4−または2,6−トリレ
ンジイソシアネート、4,4´−ジフェニルメタンジイ
ソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソ
ホロンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニルイ
ソシアネートもしくはこれらのアダクト体など、あるい
は多官能エポキシ化合物、例えば、ポリエチレングリコ
ールジグリシジルエ−テル類、ポリプロピレングリコー
ルジグリシジルエ−テル類、ビスフェノールAジグリシ
ジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジル
エーテルなどがあげられるが、これらに限定されない。
これらの熱硬化は感光性物質の感光性を失わせない範
囲、通常130℃以下で行うことが好ましく、このため
通常触媒などが併用される。
When a crosslinking agent is used in the photosensitive layer, the crosslinking agent may be a polyfunctional isocyanate such as paraphenylene diisocyanate, 2,4- or 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, Hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, polymethylene polyphenyl isocyanate or adducts thereof, or polyfunctional epoxy compounds such as polyethylene glycol diglycidyl ethers, polypropylene glycol diglycidyl ethers, bisphenol A diglycidyl ether , Trimethylolpropane triglycidyl ether and the like, but are not limited thereto.
These thermosettings are preferably carried out at a temperature that does not lose the photosensitivity of the photosensitive substance, usually at 130 ° C. or lower, and therefore, a catalyst or the like is usually used in combination.

【0028】また一般式(I)で示される構造あるいは
一般式(II)で示される構造を少なくとも一つ有する
化合物とキノンジアジド化合物との反応物に単官能化合
物を反応させて変性して現像液に難溶もしくは不溶にす
る場合の方法としては、同様に該感光性化合物の活発な
基を例えばエステル化、アミド化、ウレタン化すること
などが挙げられる。感光性化合物の活発な基と反応させ
る化合物としては、低分子であっても比較的高分子であ
ってもよいし、感光性化合物にモノマをグラフト重合さ
せてもよい。
Further, a monofunctional compound is reacted with a reaction product of a compound having at least one structure represented by the general formula (I) or a structure represented by the general formula (II) with a quinonediazide compound to modify it to obtain a developing solution. As a method for making the compound insoluble or insoluble, similarly, for example, esterification, amidation, or urethanization of the active group of the photosensitive compound can be mentioned. The compound that reacts with the active group of the photosensitive compound may be a low molecular weight compound or a relatively high molecular weight compound, or a monomer may be graft-polymerized to the photosensitive compound.

【0029】さらに必要であれば、これらの化合物と混
合しえる有機高分子化合物を添加することも可能であ
る。このような有機高分子化合物としては、例えば次の
〜に示す重合体、共重合体を挙げることができる
が、これらに限定されない。
If necessary, it is possible to add an organic polymer compound which can be mixed with these compounds. Examples of such organic polymer compounds include, but are not limited to, the following polymers and copolymers.

【0030】アクリル酸エステル、メタクリル酸エス
テル、アクリロニトリルの重合体、例えばポリアクリル
酸エチル、ポリアクリル酸ブチル、ポリメタクリル酸メ
チルなど、およびそれらの共重合体。
Polymers of acrylic acid esters, methacrylic acid esters, acrylonitrile, such as polyethyl acrylate, polybutyl acrylate, polymethyl methacrylate, and the like, and copolymers thereof.

【0031】未加流ゴム、例えばポリブタジエン、ポ
リイソブチレン、ポリクロロプレン、スチレンブタジエ
ンゴムなど。
Unblended rubbers such as polybutadiene, polyisobutylene, polychloroprene, styrene-butadiene rubber and the like.

【0032】ビニル重合体、例えばポリ酢酸ビニル、
ポリビニルアルコール、ポリブチルブチラールなど、お
よびそれらの共重合体。
Vinyl polymers such as polyvinyl acetate,
Polyvinyl alcohol, polybutyl butyral and the like, and copolymers thereof.

【0033】ポリエーテル、例えばポリエチレンオキ
シドなど。
Polyethers such as polyethylene oxide.

【0034】ポリエステル、例えばフタル酸、イソフ
タル酸、マレイン酸、アジピン酸などとエチレングリコ
ール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオ
ール、ネオペンチルグリコールなどの反応物。
Reaction products of polyesters such as phthalic acid, isophthalic acid, maleic acid and adipic acid with ethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol and neopentyl glycol.

【0035】ポリウレタン、例えばトリレンジイソシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロ
ンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネー
トなどと1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジ
オール、のポリエーテルポリオール、で得られるポ
リエステルポリオールなどとの反応生成物。
Reaction formation of polyurethane, for example, tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, etc. with polyester polyol obtained from 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, polyether polyol, etc. object.

【0036】エポキシ樹脂 ポリアミド これらの有機高分子化合物を単独、あるいは二種以上用
いることにより、膜の形態保持性その他を向上させるこ
とが可能である。これらの有機高分子化合物の中では
、、、が特に好ましい。
Epoxy Resin Polyamide These organic polymer compounds may be used alone or in combination of two or more to improve the shape retention of the film and the like. Of these organic polymer compounds, and are particularly preferable.

【0037】更に、キノンジアジド化合物の光反応性向
上その他の目的で、公知の光開始剤あるいは光増感剤を
添加することも可能である。添加する光開始剤あるいは
光増感剤としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾ
インイソプロピルエーテル、α、α−ジメトキシ−α−
フェニルアセトフェノンなどのベンゾイン誘導体、ベン
ゾフェノン、フルオレノン、キサントン、チオキサント
ン、N−メチルアクリドン、N−ブチルアクリドン、
4,4´−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、
4,4´−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、2
−クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサン
トン、2,4−ジエチルチオキサントンなどが挙げられ
るが、これらに限定されない。これらの中ではベンゾフ
ェノン類が特に有効である。
Further, a known photoinitiator or photosensitizer may be added for the purpose of improving the photoreactivity of the quinonediazide compound and other purposes. As the photoinitiator or photosensitizer to be added, benzoin methyl ether, benzoin isopropyl ether, α, α-dimethoxy-α-
Benzoin derivatives such as phenylacetophenone, benzophenone, fluorenone, xanthone, thioxanthone, N-methylacridone, N-butylacridone,
4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone,
4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 2
-Chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone and the like, but are not limited thereto. Among these, benzophenones are particularly effective.

【0038】上記の諸成分に加え、必要に応じて染料、
顔料、光発色剤などの添加剤や公知の触媒を感光層に加
えることは任意である。
In addition to the above components, if necessary, a dye,
Addition of additives such as pigments and photo-color formers and known catalysts to the photosensitive layer is optional.

【0039】光剥離性感光層中の各成分の配合割合につ
いては特に限定されないが、好ましくは上記の一般式
(I)で示される構造を少なくとも一つ有する化合物と
キノンジアジド化合物との反応物を100重量部、下記
一般式(II)で示される構造とを少なくとも一つ有す
る化合物とキノンジアジド化合物との反応物を0.00
1〜10万重量部、一般式(III)〜一般式(V)で
示される化合物を1〜10000重量部、架橋剤あるい
は感光性化合物の活発な基と反応させる化合物を0〜1
000万重量部、有機高分子化合物を0〜1000万重
量部、光開始剤あるいは光増感剤を0〜1万重量部、必
要に応じて添加剤や公知の触媒などを各々0〜1万重量
部加え、膜厚0.1〜100μm、好ましくは0.5〜
10μmで設けることによって得られるのがよい。薄す
ぎると感光層中にハジキを生じやすくなり、厚すぎると
経済的に不利であるので上記の範囲が好ましい。
The mixing ratio of each component in the light-peeling photosensitive layer is not particularly limited, but preferably 100 parts of the reaction product of the compound having at least one structure represented by the general formula (I) and the quinonediazide compound is used. 0.001 part by weight of a reaction product of a compound having at least one structure represented by the following general formula (II) and a quinonediazide compound:
1 to 100,000 parts by weight, 1 to 10000 parts by weight of the compound represented by the general formula (III) to general formula (V), or 0 to 1 part of the compound which reacts with the bridging group of the crosslinking agent or the photosensitive compound.
10,000,000 parts by weight, 0 to 10,000,000 parts by weight of an organic polymer compound, 0 to 10,000 parts by weight of a photoinitiator or a photosensitizer, and 0 to 10,000 parts of additives and known catalysts if necessary. In addition to parts by weight, the film thickness is 0.1 to 100 μm, preferably 0.5 to
It is preferable that the thickness is 10 μm. If it is too thin, cissing tends to occur in the photosensitive layer, and if it is too thick, it is economically disadvantageous, so the above range is preferred.

【0040】本発明に用いられるシリコーンゴム層は、
次の〜に示されるシリコーンゴムが挙げられるが、
これらに限定されない。
The silicone rubber layer used in the present invention is
The following silicone rubbers can be mentioned,
It is not limited to these.

【0041】下記一般式(VI)で示される分子量1
00〜100万、好ましくは1000〜50万の有機ポ
リシロキサンを架橋することにより得られるもの。
Molecular weight 1 represented by the following general formula (VI)
Those obtained by crosslinking 100 to 100,000, preferably 1,000 to 500,000 organic polysiloxanes.

【0042】[0042]

【化16】 (式中、nは2以上の整数、R7、R8は炭素数1〜5
0の置換もしくは非置換のアルキル基、炭素数2〜50
の置換もしくは非置換のアルケニル基、炭素数5〜50
の置換もしくは非置換のアリール基の群から選ばれるす
くなくとも一種であり、それぞれ同一でも異なっていて
もよく、特にメチル基が60%以上のものが好まし
い。) このような有機ポリシロキサンは有機過酸化物を添加し
て熱処理を施すことにより、さらに架橋したシリコーン
ゴムとすることもできる。
[Chemical 16] (In the formula, n is an integer of 2 or more, and R7 and R8 have 1 to 5 carbon atoms.
0-substituted or unsubstituted alkyl group, 2 to 50 carbon atoms
A substituted or unsubstituted alkenyl group having 5 to 50 carbon atoms
Of at least one substituted or unsubstituted aryl group, which may be the same or different, and particularly preferably a methyl group of 60% or more. ) Such an organic polysiloxane can be made into a further crosslinked silicone rubber by adding an organic peroxide and subjecting it to heat treatment.

【0043】有機ポリシロキサンを架橋する一般的な方
法としては、ケイ素原子に直接結合した加水分解性官能
基含有ケイ素化合物により有機ポリシロキサンを架橋す
る方法が挙げられ、特に末端がシラノール構造を持つ有
機ポリシロキサンとケイ素原子に直接結合したアルコキ
シ基、アシルオキシ基、ケトオキシム基、アミド基、ア
ミノオキシ基、アミノ基、アルケニルオキシ基、水素な
どの官能基を二個以上有するケイ素化合物との反応によ
り硬化し、ゴムとすることが通常用いられる方法であ
る。また、ラジカル開始剤により、有機ポリシロキサン
を硬化させてゴムとすることも可能である。これらの硬
化において、公知の触媒を加えることは任意である。
As a general method for crosslinking an organic polysiloxane, a method for crosslinking an organic polysiloxane with a silicon compound having a hydrolyzable functional group directly bonded to a silicon atom can be mentioned. In particular, an organic compound having a silanol structure at its terminal is used. Cured by the reaction of polysiloxane and a silicon compound having two or more functional groups such as an alkoxy group, an acyloxy group, a ketoxime group, an amide group, an aminooxy group, an amino group, an alkenyloxy group and hydrogen directly bonded to a silicon atom. Making rubber is a commonly used method. It is also possible to cure the organic polysiloxane into a rubber with a radical initiator. In these curing, addition of a known catalyst is optional.

【0044】下記一般式(VII)で示される基を有
する有機ポリシロキサンと下記一般式(VIII)で示
される基を有するポリシロキサン化合物との付加反応に
より架橋を行ったもの。
A product obtained by cross-linking by an addition reaction between an organic polysiloxane having a group represented by the following general formula (VII) and a polysiloxane compound having a group represented by the following general formula (VIII).

【0045】[0045]

【化17】 [Chemical 17]

【化18】 (式中、R9、R10は炭素数1〜50の置換もしくは
非置換のアルキル基、炭素数2〜50の置換もしくは非
置換のアルケニル基、炭素数5〜50の置換もしくは非
置換のアリール基の群から選ばれるすくなくとも一種で
あり、それぞれ同一でも異なっていてもよい。) このようなシリコーンゴムは、多価ハイドロジェン有機
ポリシロキサンと、1分子中に2個以上のエチレン性不
飽和結合を有するポリシロキサン化合物との反応によっ
て得られる。ここで、一般式(VII)の基は分子鎖末
端、中間のいずれにあってもよい。また、一般式(VI
II)の基も分子鎖末端、中間のいずれにあってもよ
い。一般式(VII)の基および一般式(VIII)の
基以外の有機基としては、炭素数1〜50の置換もしく
は非置換のアルキル基、炭素数2〜50の置換もしくは
非置換のアルケニル基、炭素数5〜50の置換もしくは
非置換のアリール基などが挙げられるが、特にメチル基
が60%以上のものが好ましい。一般式(VII)で示
される基を有する有機ポリシロキサンおよび一般式(V
III)で示される基を有するポリシロキサン化合物の
分子量はそれぞれ独立して100〜100万のものが好
ましく、1000〜50万のものがより好ましい。この
付加反応において、公知の触媒を加えることは任意であ
る。
[Chemical 18] (In the formula, R 9 and R 10 are each a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 50 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 50 carbon atoms, and a substituted or unsubstituted aryl group having 5 to 50 carbon atoms. At least one selected from the group may be the same or different.) Such a silicone rubber has a polyvalent hydrogen organopolysiloxane and two or more ethylenically unsaturated bonds in one molecule. Obtained by reaction with a polysiloxane compound. Here, the group of general formula (VII) may be at either the terminal or the middle of the molecular chain. In addition, the general formula (VI
The group II) may be at either the terminal or the middle of the molecular chain. Examples of the organic group other than the group of the general formula (VII) and the group of the general formula (VIII) include a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 50 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 50 carbon atoms, Examples thereof include a substituted or unsubstituted aryl group having 5 to 50 carbon atoms, and a methyl group having 60% or more is particularly preferable. An organic polysiloxane having a group represented by the general formula (VII) and a general formula (V
The molecular weight of the polysiloxane compound having a group represented by III) is preferably 100 to 1,000,000, and more preferably 1000 to 500,000. In this addition reaction, adding a known catalyst is optional.

【0046】シリコーンゴム層中の各成分の配合割合に
ついては特に限定されないが、のシリコーンゴム層の
場合は一般式(VI)で示される有機ポリシロキサンを
100重量部、ケイ素原子に直接結合した加水分解性官
能基含有ケイ素化合物を0.1〜100重量部、必要に
応じて公知の触媒を0〜50重量部加えた組成で、膜厚
0.1〜100μm、好ましくは0.5〜30μmで設
けることによって得られるのがよい。また、のシリコ
ーンゴム層の場合は一般式(VI)で示される基を有す
る有機ポリシロキサンを100重量部、一般式(VII
I)で示される基を有するポリシロキサン化合物0.1
〜10万重量部、必要に応じて公知の触媒を0〜100
重量部加えた組成で膜厚0.1〜100μm、好ましく
は0.5〜30μmで設けることによって得られるのが
よい。
The blending ratio of each component in the silicone rubber layer is not particularly limited, but in the case of the silicone rubber layer, 100 parts by weight of the organic polysiloxane represented by the general formula (VI) is added directly to the silicon atom. 0.1 to 100 parts by weight of a decomposable functional group-containing silicon compound, and optionally 0 to 50 parts by weight of a known catalyst, and a film thickness of 0.1 to 100 μm, preferably 0.5 to 30 μm. It is good to obtain by providing. In the case of the silicone rubber layer, 100 parts by weight of an organic polysiloxane having a group represented by the general formula (VI) is used.
Polysiloxane compound having group I) 0.1
100 to 100,000 parts by weight, and 0 to 100 parts of a known catalyst as necessary
It may be obtained by providing a composition having a composition added by weight of 0.1 to 100 μm, preferably 0.5 to 30 μm.

【0047】本発明の水なし平版印刷版において、支持
体と感光層、感光層とシリコーンゴム層との接着は、画
像再現性、耐刷力などの基本的な版性能にとって非常に
重要であるので、必要に応じて各層間の接着剤層を設け
たり、各層に接着性改良成分を添加したりすることが可
能である。特に感光層とシリコーンゴム層間の接着のた
めに、層間に公知のシリコーンプライマやシランカップ
リンク剤を設けたり、シリコーンゴム層あるいは感光層
にシリコーンプライマやシランカップリング剤を添加す
ると効果的である。このような接着剤層を設ける場合、
接着剤層の膜厚については特に限定されないが、0.0
5〜100μm、好ましくは0.5〜30μmで設ける
ことによって得られるのがよい。
In the waterless planographic printing plate of the present invention, the adhesion between the support and the photosensitive layer and between the photosensitive layer and the silicone rubber layer is very important for basic plate performance such as image reproducibility and printing durability. Therefore, it is possible to provide an adhesive layer between the layers or to add an adhesiveness improving component to each layer, if necessary. In particular, for adhesion between the photosensitive layer and the silicone rubber layer, it is effective to provide a known silicone primer or a silane coupling agent between the layers or add a silicone primer or a silane coupling agent to the silicone rubber layer or the photosensitive layer. When providing such an adhesive layer,
The thickness of the adhesive layer is not particularly limited, but is 0.0
It is good to obtain it by providing 5 to 100 μm, preferably 0.5 to 30 μm.

【0048】以上説明したようにして構成された水なし
平版印刷版原版の表面を形成するシリコーンゴム層を保
護するなどの目的で、シリコーンゴム層の表面にプレー
ンまたは凹凸処理した保護フィルムをラミネートまたは
プラスチックシート状物を塗布または転写して保護層と
することも可能である。このような保護フィルムあるい
は保護層の膜厚については特に限定されないが、0.0
5〜1000μm、好ましくは0.5〜100μmで設
けることによって得られるのがよい。
For the purpose of protecting the silicone rubber layer forming the surface of the waterless lithographic printing plate precursor constructed as described above, a protective film having a plain or uneven surface treatment is laminated or formed on the surface of the silicone rubber layer. It is also possible to apply or transfer a plastic sheet material to form a protective layer. The thickness of such a protective film or protective layer is not particularly limited, but is 0.0
It is good to obtain it by providing the thickness of 5 to 1000 μm, preferably 0.5 to 100 μm.

【0049】本発明で用いられる水なし平版印刷版原版
は、例えば次のようにして製造されるがこれらに限定さ
れない。まず支持体上に、リバースロールコータ、エア
ナイフコータ、メーヤバーコータなどの通常のコータ、
あるいはホエラのような回転塗布装置、その他の塗布装
置を用い、必要な場合プライマ層を構成すべき組成物溶
液を塗布、乾燥、必要に応じて熱キュア後、この上に感
光層を構成すべき組成物溶液を塗布、乾燥、必要に応じ
て熱キュアし、その後必要ならば該感光層上に接着剤層
を構成すべき組成物溶液を塗布、乾燥、必要に応じて熱
キュアし、この上にシリコーンゴム層を構成すべき組成
物溶液を塗布、乾燥、必要に応じて熱キュアし、最後に
必要ならば保護フィルムをラミネータなどを用いてかけ
る。
The waterless planographic printing plate precursor used in the present invention is produced, for example, as follows, but is not limited thereto. First of all, on a support, a normal roll coater such as a reverse roll coater, an air knife coater, a Mayer bar coater,
Alternatively, using a spin coater such as a hoela, or other coating device, apply a composition solution to form a primer layer if necessary, dry it, heat cure if necessary, and then form a photosensitive layer on it. The composition solution is applied, dried, and thermally cured if necessary, and then, if necessary, the composition solution for forming the adhesive layer on the photosensitive layer is applied, dried, and optionally thermally cured, and then The composition solution for forming the silicone rubber layer is applied, dried, and thermally cured if necessary, and finally, if necessary, a protective film is applied using a laminator or the like.

【0050】このようにして製造された水なし平版印刷
版原版は、例えば光透過性保護フィルムの場合はそのま
ま、あるいは剥いで、光透過性の劣るフィルムの場合は
剥いでから真空密着されたネガフィルムを通して活性光
線で露光される。この露光工程で用いられる光源は、紫
外線を豊富に発生するものであり、水銀灯、カーボンア
ーク灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、タン
グステンランプ、蛍光灯などを用いることができるが、
これらに限定されない。
The waterless lithographic printing plate precursor produced in this manner is used, for example, in the case of a light-transmitting protective film as it is or after peeling, and in the case of a film having poor light-transmitting property, it is vacuum-bonded to a negative. Exposed to actinic radiation through the film. The light source used in this exposure step is one that generates abundant ultraviolet rays, and a mercury lamp, a carbon arc lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, a tungsten lamp, a fluorescent lamp or the like can be used.
It is not limited to these.

【0051】次いで、保護フィルムがある時は剥いでか
ら版面を現像液を含んだ現像用パットでこすると露光部
のシリコーンゴム層が除去され、場合によってはその下
の感光層も除去され、インキ受容部となり、水なし平版
印刷版が得られる。
Then, if there is a protective film, peel it off, and then rub the plate surface with a developing pad containing a developing solution to remove the silicone rubber layer in the exposed area and, in some cases, the photosensitive layer below it. It serves as a receiver and a waterless planographic printing plate is obtained.

【0052】本発明において用いられる現像液として
は、水なし平版印刷版の現像液として提案されているも
のであればどのようなものでもよく、例えば、水、脂肪
族炭化水素類、芳香族炭化水素類、アルコール類、エー
テル類、エステル類およびこれらの二種以上を混合した
ものなどが挙げられるが、これらに限定されない。
The developing solution used in the present invention may be any of those proposed as a developing solution for waterless lithographic printing plates, for example, water, aliphatic hydrocarbons, aromatic carbonization. Examples thereof include, but are not limited to, hydrogens, alcohols, ethers, esters, and mixtures of two or more of these.

【0053】現像方法としては、手による現像でも公知
の現像装置による現像でもよいが、好ましくは前処理部
と現像部、および後処理部がこの順に設けられている現
像装置を用いるのがよい。
The developing method may be manual development or development by a known developing device, but it is preferable to use a developing device in which a pretreatment section, a development section, and a posttreatment section are provided in this order.

【0054】[0054]

【実施例】以下、実施例により具体的に説明するが、本
発明はこれらに限定されない。
EXAMPLES The present invention will be described in detail below with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

【0055】合成例1 一般式(I)で示される構造を一つ有する化合物である
2−ヒドロキシエチルメタクリレート20gとo−ナフ
トキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸クロリド
10gとをジオキサン100gに溶解させた。次に、炭
酸ナトリウム10gを水90gに溶解させ、この炭酸ナ
トリウム10重量%溶液を前述のジオキサン溶液中に1
0分間かけて滴下した。(この際、ジオキサン溶液は攪
拌を行い、40℃に液温を保っていた。)滴下終了後、
40℃で4時間、攪拌しながら反応させた。反応後、水
1000gの入ったビーカー中に反応溶液を注ぎ、生成
物を析出、沈降させた。ビーカー中の上澄液を除去し、
減圧乾燥を行い、目的とする化合物を得た。
Synthesis Example 1 20 g of 2-hydroxyethyl methacrylate, which is a compound having one structure represented by the general formula (I), and 10 g of o-naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid chloride were added to 100 g of dioxane. Dissolved. Next, 10 g of sodium carbonate was dissolved in 90 g of water, and a 10 wt% solution of this sodium carbonate was added to the above dioxane solution to prepare 1
It was added dropwise over 0 minutes. (At this time, the dioxane solution was stirred and the liquid temperature was kept at 40 ° C.) After the dropping was completed,
The reaction was carried out at 40 ° C. for 4 hours with stirring. After the reaction, the reaction solution was poured into a beaker containing 1000 g of water to precipitate and precipitate a product. Remove the supernatant in the beaker,
It was dried under reduced pressure to obtain the target compound.

【0056】合成例2 合成例1で得られた化合物30gをジオキサン200g
に溶解させ、アゾビスイソブチロニトリル0.1gを加
え、窒素雰囲気の下で65℃4時間共重合反応を行っ
た。反応後、メタノール1000gの入ったビーカー中
に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈降させた。ビーカ
ー中の上澄液を除去し、減圧乾燥を行い、目的とする化
合物を得た。
Synthesis Example 2 30 g of the compound obtained in Synthesis Example 1 was added to 200 g of dioxane.
0.1 g of azobisisobutyronitrile was added, and a copolymerization reaction was carried out at 65 ° C. for 4 hours under a nitrogen atmosphere. After the reaction, the reaction solution was poured into a beaker containing 1000 g of methanol to precipitate and precipitate a product. The supernatant liquid in the beaker was removed and dried under reduced pressure to obtain the target compound.

【0057】合成例3 合成例1で得られた化合物15gと2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート15gとをジオキサン200gに溶解
させ、アゾビスイソブチロニトリル0.1gを加え、窒
素雰囲気の下で65℃4時間共重合反応を行った。反応
後、メタノール1000gの入ったビーカー中に反応溶
液を注ぎ、生成物を析出、沈降させた。ビーカー中の上
澄液を除去し、減圧乾燥を行い、目的とする化合物を得
た。
Synthesis Example 3 15 g of the compound obtained in Synthesis Example 1 and 15 g of 2-hydroxyethyl methacrylate were dissolved in 200 g of dioxane, 0.1 g of azobisisobutyronitrile was added, and the mixture was heated to 65 ° C. under a nitrogen atmosphere at 4 ° C. The copolymerization reaction was carried out for a time. After the reaction, the reaction solution was poured into a beaker containing 1000 g of methanol to precipitate and precipitate a product. The supernatant liquid in the beaker was removed and dried under reduced pressure to obtain the target compound.

【0058】合成例4 一般式(I)で示される構造を有する化合物であるグリ
セリン20gとo−ナフトキノン−1,2−ジアジド−
5−スルホン酸クロリド10gとをジオキサン100g
に溶解させた。次に、炭酸ナトリウム10gを水90g
に溶解させ、この炭酸ナトリウム10重量%溶液を前述
のジオキサン溶液中に10分間かけて滴下した。(この
際、ジオキサン溶液は攪拌を行い、40℃に液温を保っ
ていた。)滴下終了後、40℃で4時間、攪拌しながら
反応させた。反応後、水1000gの入ったビーカー中
に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈降させた。ビーカ
ー中の上澄液を除去し、減圧乾燥を行い、目的とする化
合物を得た。
Synthesis Example 4 20 g of glycerin, which is a compound having a structure represented by the general formula (I), and o-naphthoquinone-1,2-diazide-
5-sulfonic acid chloride 10g and dioxane 100g
Dissolved in. Next, 10 g of sodium carbonate and 90 g of water
10% by weight of this sodium carbonate solution was added dropwise to the above dioxane solution over 10 minutes. (At this time, the dioxane solution was stirred and the liquid temperature was kept at 40 ° C.) After completion of the dropping, the reaction was carried out at 40 ° C. for 4 hours with stirring. After the reaction, the reaction solution was poured into a beaker containing 1000 g of water to precipitate and precipitate a product. The supernatant liquid in the beaker was removed and dried under reduced pressure to obtain the target compound.

【0059】合成例5 一般式(I)で示される構造を有する化合物であるトリ
メタノールプロパン25gとo−ナフトキノン−1,2
−ジアジド−4−スルホン酸クロリド10gとをジオキ
サン100gに溶解させた。次に、炭酸ナトリウム10
gを水90gに溶解させ、この炭酸ナトリウム10重量
%溶液を前述のジオキサン溶液中に10分間かけて滴下
した。(この際、ジオキサン溶液は攪拌を行い、40℃
に液温を保っていた。)滴下終了後、40℃で4時間、
攪拌しながら反応させた。反応後、水1000gの入っ
たビーカー中に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈降さ
せた。ビーカー中の上澄液を除去し、減圧乾燥を行い、
目的とする化合物を得た。
Synthesis Example 5 25 g of trimethanol propane, a compound having a structure represented by the general formula (I), and o-naphthoquinone-1,2.
10 g of diazide-4-sulfonic acid chloride were dissolved in 100 g of dioxane. Next, sodium carbonate 10
g was dissolved in 90 g of water, and the 10 wt% sodium carbonate solution was added dropwise to the above dioxane solution over 10 minutes. (At this time, the dioxane solution was agitated at 40 ° C.
The liquid temperature was kept at. ) 4 hours at 40 ° C. after completion of dropping,
The reaction was carried out with stirring. After the reaction, the reaction solution was poured into a beaker containing 1000 g of water to precipitate and precipitate a product. Remove the supernatant in the beaker and dry under reduced pressure.
The target compound was obtained.

【0060】合成例6 一般式(I)で示される構造を有する化合物である1,
6−ヘキサンジオール30gとo−ナフトキノン−1,
2−ジアジド−4−スルホン酸クロリド10gとをジオ
キサン100gに溶解させた。次に、炭酸ナトリウム1
0gを水90gに溶解させ、この炭酸ナトリウム10重
量%溶液を前述のジオキサン溶液中に10分間かけて滴
下した。(この際、ジオキサン溶液は攪拌を行い、40
℃に液温を保っていた。)滴下終了後、40℃で4時
間、攪拌しながら反応させた。反応後、水1000gの
入ったビーカー中に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈
降させた。ビーカー中の上澄液を除去し、減圧乾燥を行
い、目的とする化合物を得た。
Synthesis Example 6 1, which is a compound having a structure represented by the general formula (I),
30 g of 6-hexanediol and o-naphthoquinone-1,
2-Diazide-4-sulfonic acid chloride (10 g) was dissolved in dioxane (100 g). Next, sodium carbonate 1
0 g was dissolved in 90 g of water, and the 10 wt% sodium carbonate solution was added dropwise to the above dioxane solution over 10 minutes. (At this time, the dioxane solution was stirred and
The liquid temperature was kept at ℃. ) After completion of the dropwise addition, the mixture was reacted at 40 ° C. for 4 hours with stirring. After the reaction, the reaction solution was poured into a beaker containing 1000 g of water to precipitate and precipitate a product. The supernatant liquid in the beaker was removed and dried under reduced pressure to obtain the target compound.

【0061】合成例7 一般式(II)で示される構造を一つ有する化合物であ
るフェノール20gとo−ナフトキノン−1,2−ジア
ジド−5−スルホン酸クロリド10gとをジオキサン1
00gに溶解させた。次に、炭酸ナトリウム10gを水
90gに溶解させ、この炭酸ナトリウム10重量%溶液
を前述のジオキサン溶液中に10分間かけて滴下した。
(この際、ジオキサン溶液は攪拌を行い、40℃に液温
を保っていた。)滴下終了後、40℃で4時間、攪拌し
ながら反応させた。反応後、水1000gの入ったビー
カー中に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈降させた。
ビーカー中の上澄液を除去し、減圧乾燥を行い、目的と
する化合物を得た。
Synthesis Example 7 20 g of phenol, which is a compound having one structure represented by the general formula (II), and 10 g of o-naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid chloride were mixed with dioxane 1
It was dissolved in 00 g. Next, 10 g of sodium carbonate was dissolved in 90 g of water, and the 10 wt% sodium carbonate solution was added dropwise to the above dioxane solution over 10 minutes.
(At this time, the dioxane solution was stirred and the liquid temperature was kept at 40 ° C.) After completion of the dropping, the reaction was carried out at 40 ° C. for 4 hours with stirring. After the reaction, the reaction solution was poured into a beaker containing 1000 g of water to precipitate and precipitate a product.
The supernatant liquid in the beaker was removed and dried under reduced pressure to obtain the target compound.

【0062】合成例8 一般式(II)で示される構造を一つ有する化合物であ
る4−ヒドロキシスチレン25gとo−ナフトキノン−
1,2−ジアジド−4−スルホン酸クロリド10gとを
ジオキサン100gに溶解させた。次に、炭酸ナトリウ
ム10gを水90gに溶解させ、この炭酸ナトリウム1
0重量%溶液を前述のジオキサン溶液中に10分間かけ
て滴下した。(この際、ジオキサン溶液は攪拌を行い、
40℃に液温を保っていた。)滴下終了後、40℃で4
時間、攪拌しながら反応させた。反応後、水1000g
の入ったビーカー中に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、
沈降させた。ビーカー中の上澄液を除去し、減圧乾燥を
行い、目的とする化合物を得た。
Synthesis Example 8 25 g of 4-hydroxystyrene, which is a compound having one structure represented by the general formula (II), and o-naphthoquinone-
10 g of 1,2-diazide-4-sulfonic acid chloride was dissolved in 100 g of dioxane. Next, 10 g of sodium carbonate is dissolved in 90 g of water, and 1 g of this sodium carbonate is dissolved.
The 0 wt% solution was added dropwise to the above dioxane solution over 10 minutes. (At this time, the dioxane solution is stirred,
The liquid temperature was kept at 40 ° C. 4) At 40 ° C after the completion of dropping
The reaction was carried out for a period of time with stirring. After the reaction, 1000g of water
Pour the reaction solution into a beaker containing, precipitate the product,
Allowed to settle. The supernatant liquid in the beaker was removed and dried under reduced pressure to obtain the target compound.

【0063】合成例9 合成例8で得られた化合物30gをジオキサン200g
に溶解させ、アゾビスイソブチロニトリル0.1gを加
え、窒素雰囲気の下で65℃4時間共重合反応を行っ
た。反応後、メタノール1000gの入ったビーカー中
に反応溶液を注ぎ、生成物を析出、沈降させた。ビーカ
ー中の上澄液を除去し、減圧乾燥を行い、目的とする化
合物を得た。
Synthesis Example 9 30 g of the compound obtained in Synthesis Example 8 was added to 200 g of dioxane.
0.1 g of azobisisobutyronitrile was added, and a copolymerization reaction was carried out at 65 ° C. for 4 hours under a nitrogen atmosphere. After the reaction, the reaction solution was poured into a beaker containing 1000 g of methanol to precipitate and precipitate a product. The supernatant liquid in the beaker was removed and dried under reduced pressure to obtain the target compound.

【0064】合成例10 合成例9で得られた化合物15gと4−ヒドロキシスチ
レン15gとをジオキサン200gに溶解させ、アゾビ
スイソブチロニトリル0.1gを加え、窒素雰囲気の下
で65℃4時間共重合反応を行った。反応後、メタノー
ル1000gの入ったビーカー中に反応溶液を注ぎ、生
成物を析出、沈降させた。ビーカー中の上澄液を除去
し、減圧乾燥を行い、目的とする化合物を得た。
Synthesis Example 10 15 g of the compound obtained in Synthesis Example 9 and 15 g of 4-hydroxystyrene were dissolved in 200 g of dioxane, 0.1 g of azobisisobutyronitrile was added, and the mixture was heated at 65 ° C. for 4 hours under a nitrogen atmosphere. A copolymerization reaction was performed. After the reaction, the reaction solution was poured into a beaker containing 1000 g of methanol to precipitate and precipitate a product. The supernatant liquid in the beaker was removed and dried under reduced pressure to obtain the target compound.

【0065】合成例11 一般式(II)で示される構造を有する化合物であるフ
ェノールノボラック樹脂(平均分子量600)20gと
o−ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸
クロリド10gとをジオキサン100gに溶解させた。
次に、炭酸ナトリウム10gを水90gに溶解させ、こ
の炭酸ナトリウム10重量%溶液を前述のジオキサン溶
液中に10分間かけて滴下した。(この際、ジオキサン
溶液は攪拌を行い、40℃に液温を保っていた。)滴下
終了後、40℃で4時間、攪拌しながら反応させた。反
応後、水1000gの入ったビーカー中に反応溶液を注
ぎ、生成物を析出、沈降させた。ビーカー中の上澄液を
除去し、減圧乾燥を行い、目的とする化合物を得た。
Synthesis Example 11 20 g of a phenol novolac resin (average molecular weight 600), which is a compound having a structure represented by the general formula (II), and 10 g of o-naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid chloride were mixed with 100 g of dioxane. Dissolved in.
Next, 10 g of sodium carbonate was dissolved in 90 g of water, and the 10 wt% sodium carbonate solution was added dropwise to the above dioxane solution over 10 minutes. (At this time, the dioxane solution was stirred and the liquid temperature was kept at 40 ° C.) After completion of the dropping, the reaction was carried out at 40 ° C. for 4 hours with stirring. After the reaction, the reaction solution was poured into a beaker containing 1000 g of water to precipitate and precipitate a product. The supernatant liquid in the beaker was removed and dried under reduced pressure to obtain the target compound.

【0066】合成例12 一般式(II)で示される構造を有する化合物であるフ
ェノールノボラック樹脂(平均分子量600)10gと
o−ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸
クロリド10gとをジオキサン100gに溶解させた。
次に、炭酸ナトリウム10gを水90gに溶解させ、こ
の炭酸ナトリウム10重量%溶液を前述のジオキサン溶
液中に10分間かけて滴下した。(この際、ジオキサン
溶液は攪拌を行い、40℃に液温を保っていた。)滴下
終了後、40℃で4時間、攪拌しながら反応させた。反
応後、水1000gの入ったビーカー中に反応溶液を注
ぎ、生成物を析出、沈降させた。ビーカー中の上澄液を
除去し、減圧乾燥を行い、目的とする化合物を得た。
Synthesis Example 12 10 g of a phenol novolac resin (average molecular weight 600), which is a compound having a structure represented by the general formula (II), and 10 g of o-naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid chloride were mixed with 100 g of dioxane. Dissolved in.
Next, 10 g of sodium carbonate was dissolved in 90 g of water, and the 10 wt% sodium carbonate solution was added dropwise to the above dioxane solution over 10 minutes. (At this time, the dioxane solution was stirred and the liquid temperature was kept at 40 ° C.) After completion of the dropping, the reaction was carried out at 40 ° C. for 4 hours with stirring. After the reaction, the reaction solution was poured into a beaker containing 1000 g of water to precipitate and precipitate a product. The supernatant liquid in the beaker was removed and dried under reduced pressure to obtain the target compound.

【0067】実施例1 厚さ0.3mmのアルミ板に下記のプライマ組成物を塗
布し、200℃、2分間加熱処理して、乾燥後の膜厚5
μmのプライマ層を形成した。
Example 1 An aluminum plate having a thickness of 0.3 mm was coated with the following primer composition and heat-treated at 200 ° C. for 2 minutes to give a film thickness of 5 after drying.
A μm primer layer was formed.

【0068】 (a)ポリウレタン樹脂“サンプレン”LQ−T1331(三洋化成工業(株) 製) 100重量部 (b)ブロックイソシアネート“タケテート”B830(武田薬品(株)製) 20重量部 (c)エポキシ・フェノール樹脂“カンコート”90T−25−3094(関西 ペイント(株)製) 10重量部 (d)ジメチルホルムアミド 570重量部 この上に、下記の感光液を塗布し、110℃、1分間加
熱処理し、乾燥後の膜厚2μmの感光層を形成した。
(A) Polyurethane resin “Samprene” LQ-T1331 (manufactured by Sanyo Kasei Co., Ltd.) 100 parts by weight (b) Blocked isocyanate “Taketate” B830 (manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd.) 20 parts by weight (c) Epoxy -Phenolic resin "Cancoat" 90T-25-3094 (manufactured by Kansai Paint Co., Ltd.) 10 parts by weight (d) dimethylformamide 570 parts by weight The following photosensitive solution was applied thereon, and heat-treated at 110 ° C for 1 minute. Then, a photosensitive layer having a thickness of 2 μm after drying was formed.

【0069】 (a)合成例1で合成した化合物 50重量部 (b)合成例7で合成した化合物 50重量部 (c)o−ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸クロリド 10重量部 (d)4,4´−ジフェニルメタンジイソシアネート 40重量部 (e)ポリウレタン樹脂“サンプレン”LQ−T1331(三洋化成工業(株) 製) 10重量部 (f)ジブチルスズジラウレート 0.2重量部 (g)4,4´−ジメチルアミノベンゾフェノン 9重量部 (h)ギ酸 0.8重量部 (i)テトラヒドロフラン 740重量部 この感光層の上に、下記のシリコーンゴム組成物を塗布
し、90℃、2分間で加熱処理し、乾燥後の膜厚3μm
のシリコーンゴム層を形成した。
(A) 50 parts by weight of the compound synthesized in Synthesis Example 1 (b) 50 parts by weight of the compound synthesized in Synthesis Example 7 (c) 10 parts by weight of o-naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid chloride (D) 40 parts by weight of 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (e) Polyurethane resin "Samprene" LQ-T1331 (manufactured by Sanyo Kasei Co., Ltd.) 10 parts by weight (f) Dibutyltin dilaurate 0.2 parts by weight (g) 4 , 4'-Dimethylaminobenzophenone 9 parts by weight (h) Formic acid 0.8 parts by weight (i) Tetrahydrofuran 740 parts by weight The following silicone rubber composition is coated on this photosensitive layer and heated at 90 ° C for 2 minutes. Film thickness after processing and drying 3μm
The silicone rubber layer was formed.

【0070】 (a)両末端シラノール基のポリジメチルシロキサン(平均分子量35000) 100重量部 (b)エチルトリアセトキシシラン 9.9重量部 (c)ジブチルスズジラウレート 0.1重量部 (d)脂肪族系炭化水素溶媒“アイソパー”E(エクソン化学(株)製) 590重量部 このようにして設けたシリコーンゴム層の表面に、厚さ
10μmのポリプロピレンフィルム“トレファン”(東
レ(株)製)をカレンダーローラでラミネートし、水な
し平版印刷版原版とした。
(A) Polydimethylsiloxane having silanol groups at both ends (average molecular weight 35,000) 100 parts by weight (b) Ethyltriacetoxysilane 9.9 parts by weight (c) Dibutyltin dilaurate 0.1 parts by weight (d) Aliphatic Hydrocarbon solvent “Isopar” E (manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd.) 590 parts by weight A 10 μm thick polypropylene film “Trefan” (manufactured by Toray Co., Ltd.) is calendered on the surface of the silicone rubber layer thus provided. It was laminated with a roller to obtain a waterless planographic printing plate precursor.

【0071】この印刷版原版にメタルハライドランプ
(岩崎電気(株)製“アイドルフィン”2000)を用
い、UVメーター(オーク製作所製“ライトメジャータ
イプUV−402A”)で11mW/cm2 の照度で6
秒間全面露光を施した。
A metal halide lamp (“Idle Fin” 2000 manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.) was used for this printing plate precursor, and a UV meter (“Light Measure Type UV-402A” manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.) was used at an illuminance of 11 mW / cm 2 for 6 minutes.
The whole surface was exposed for a second.

【0072】上記のようにして得られた印刷版原版に1
50線/インチの網点画像を持つネガフィルムを真空密
着し、上記のメタルハライドランプを用い、1mの距離
から60秒間露光した。
The printing plate precursor obtained as described above has 1
A negative film having a halftone dot image of 50 lines / inch was vacuum-contacted and exposed for 60 seconds from a distance of 1 m using the above metal halide lamp.

【0073】露光後、保護フィルム“トレファン”を剥
離し、室温32℃、湿度80%の条件で下記の組成を有
する前処理液を版面に塗布し、1分間処理した。
After exposure, the protective film "Trephan" was peeled off, a pretreatment liquid having the following composition was applied to the plate surface under the conditions of room temperature of 32 ° C. and humidity of 80%, and the plate surface was treated for 1 minute.

【0074】 (a)脂肪族系炭化水素溶媒“アイソパー”H(エクソン化学(株)製) 87重量部 (b)ジエチレングリコールジメチルエーテル 7重量部 (c)エチルセロソルブ 3重量部 (d)N−メチルジエタノールアミン 3重量部 ゴムスキージで版面に付着した処理液を除去し、次いで
版面と現像パットに以下の組成を有する現像液を注い
だ。
(A) Aliphatic hydrocarbon solvent “Isopar” H (manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd.) 87 parts by weight (b) Diethylene glycol dimethyl ether 7 parts by weight (c) Ethyl cellosolve 3 parts by weight (d) N-methyldiethanolamine 3 parts by weight A processing solution adhering to the plate surface was removed with a rubber squeegee, and then a developing solution having the following composition was poured on the plate surface and the developing pad.

【0075】 (a)水 70重量部 (b)ブチルカルビトール 28重量部 (c)2−エチル酪酸 1.8重量部 (d)クリスタルバイオレット 0.2重量部 現像パットで版面を軽くこすると、画像露光された部分
のシリコーンゴム層が除去され、感光層表面が露出し
た。一方、全面露光のみがなされた非画線部分はシリコ
ーンゴム層が強固に残存しており、ネガフィルムを忠実
に再現した画像が得られた。
(A) 70 parts by weight of water (b) 28 parts by weight of butyl carbitol (c) 1.8 parts by weight of 2-ethylbutyric acid (d) 0.2 parts by weight of crystal violet When the plate surface is lightly rubbed with a developing pad, The silicone rubber layer in the image-exposed portion was removed, and the photosensitive layer surface was exposed. On the other hand, the silicone rubber layer remained firmly in the non-image area where only the entire surface was exposed, and an image faithfully reproducing the negative film was obtained.

【0076】この印刷版を商業オフ輪印刷機(“LIT
HOPIA”三菱重工(株)製)に取り付け、大日本イ
ンキ化学工業(株)製“ドライオカラー”墨、藍、紅、
黄インキを用いて、600r.p.m.のスピードで上
質紙に印刷を行い、耐刷テストを行った結果、2000
00部印刷後も良好な印刷物が刷れ、印刷終了後に印刷
版を検査したが、印刷版の損傷は軽微であり、引き続き
印刷を行うことが可能な状態であった。
This printing plate is applied to a commercial off-wheel printing press (“LIT
HOPIA "Made by Mitsubishi Heavy Industries, Ltd.", Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd. "Dry color" ink, indigo, red,
Using yellow ink, 600r. p. m. Printing on high-quality paper at a speed of 100
Good printed matter was printed even after printing 00 copies, and the printing plate was inspected after the printing was completed, but the printing plate was found to be slightly damaged, and it was possible to continue printing.

【0077】比較例1 実施例1の水なし平版印刷版において、感光層を以下の
組成液で設けた以外は全て実施例1と同様の方法で印刷
版を作製、露光、現像を行った。
Comparative Example 1 In the waterless planographic printing plate of Example 1, a printing plate was prepared, exposed and developed in the same manner as in Example 1 except that the photosensitive layer was provided by the following composition liquid.

【0078】 (a)o−ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸とフェノールホル ムアルデヒドノボラック樹脂(住友デュレズ製“スミライトレジン”PR 50622)の部分エステル(元素分析法によるエステル化度25%) 100重量部 (b)4,4´−ジフェニルメタンジイソシアネート 40重量部 (c)ポリウレタン樹脂“サンプレン”LQ−T1331(三洋化成工業(株) 製) 10重量部 (d)ジブチルスズジラウレート 0.2重量部 (e)4,4´−ジメチルアミノベンゾフェノン 9重量部 (f)ギ酸 0.8重量部 (g)テトラヒドロフラン 740重量部 この印刷版を観察したところ、画像露光された部分のシ
リコーンゴム層の一部が除去されず、感光層表面が露出
していなかった。一方、全面露光のみがなされた非画線
部の一部のシリコーンゴム層がはげており、ネガフィル
ムを忠実に再現した画像は得られなかった。
(A) Partial ester of o-naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid and phenol formaldehyde novolac resin (“Sumilite resin” PR 50622 manufactured by Sumitomo Durez) (degree of esterification by elemental analysis 25 %) 100 parts by weight (b) 4,4′-diphenylmethane diisocyanate 40 parts by weight (c) Polyurethane resin “Samprene” LQ-T1331 (manufactured by Sanyo Kasei Co., Ltd.) 10 parts by weight (d) Dibutyltin dilaurate 0.2 parts by weight Parts (e) 4,4′-dimethylaminobenzophenone 9 parts by weight (f) Formic acid 0.8 parts by weight (g) Tetrahydrofuran 740 parts by weight When this printing plate was observed, one of the silicone rubber layers in the image-exposed part was observed. The part was not removed and the surface of the photosensitive layer was not exposed. On the other hand, a part of the silicone rubber layer in the non-image area where only the entire surface was exposed was peeled off, and an image faithfully reproducing the negative film could not be obtained.

【0079】この印刷版を用い、実施例1と同様に商業
オフ輪印刷機(“LITHOPIA”三菱重工(株)
製)に取り付け、大日本インキ化学工業(株)製“ドラ
イオカラー”墨、藍、紅、黄インキを用いて、600
r.p.m.のスピードで上質紙に印刷を行い、耐刷テ
ストを行った結果、50000部印刷後は印刷物に汚れ
が発生し、印刷版を検査したところ印刷版の損傷が激し
く、引き続き印刷を行うことは不可能な状態であった。
Using this printing plate, a commercial off-wheel printer (“LITHOPIA”, Mitsubishi Heavy Industries, Ltd.) was used as in Example 1.
Manufactured by Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd., using "Dryo Color" ink, indigo, red, and yellow ink, 600
r. p. m. As a result of printing durability test after printing on high-quality paper at the speed of, the printed matter was stained after printing 50,000 copies, and when the printing plate was inspected, the printing plate was severely damaged and it was not possible to continue printing. It was possible.

【0080】実施例2 厚さ0.3mmのアルミ板に下記のプライマ組成物を塗
布し、200℃、2分間加熱処理して、乾燥後の膜厚5
μmのプライマ層を形成した。
Example 2 An aluminum plate having a thickness of 0.3 mm was coated with the following primer composition and heat-treated at 200 ° C. for 2 minutes to give a film thickness of 5 after drying.
A μm primer layer was formed.

【0081】 (a)ポリウレタン樹脂“パンテックス”T−5201(大日本インキ化学工業 (株)製) 100重量部 (b)ブロックイソシアネート“コロネート”2503(日本ポリウレタン工業 (株)製) 20重量部 (c)エポキシ・フェノール・尿素樹脂SJ9372(関西ペイント(株)製) 10重量部 (d)ジメチルホルムアミド 570重量部 この上に、下記の感光液を塗布し、110℃、1分間加
熱処理し、乾燥後の膜厚2μmの感光層を形成した。
(A) Polyurethane resin “PANTEX” T-5201 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 100 parts by weight (b) Blocked isocyanate “Coronate” 2503 (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) 20 parts by weight (C) Epoxy / phenol / urea resin SJ9372 (manufactured by Kansai Paint Co., Ltd.) 10 parts by weight (d) dimethylformamide 570 parts by weight Onto this, the following photosensitive solution was applied and heated at 110 ° C. for 1 minute, A photosensitive layer having a thickness of 2 μm after drying was formed.

【0082】 (a)合成例2で合成した化合物 30重量部 (b)合成例8で合成した化合物 70重量部 (c)o−ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸クロリド 10重量部 (d)2,4ートルエンジイソシアネート 40重量部 (e)ポリウレタン樹脂“パンテックス”T−5201(大日本インキ化学工業 (株)製) 10重量部 (f)ジブチルスズジアセテート 0.2重量部 (g)4,4´−ジエチルアミノベンゾフェノン 9重量部 (h)酢酸 0.8重量部 (i)テトラヒドロフラン 740重量部 この感光層の上に、下記のシリコーンゴム組成物を塗布
し、90℃、2分間で加熱処理し、乾燥後の膜厚3μm
のシリコーンゴム層を形成した。
(A) 30 parts by weight of the compound synthesized in Synthesis Example 2 (b) 70 parts by weight of the compound synthesized in Synthesis Example 8 (c) 10 parts by weight of o-naphthoquinone-1,2-diazide-4-sulfonic acid chloride (D) 40 parts by weight of 2,4-toluene diisocyanate (e) Polyurethane resin "PANTEX" T-5201 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 10 parts by weight (f) 0.2 parts by weight of dibutyltin diacetate ( g) 4,4′-Diethylaminobenzophenone 9 parts by weight (h) Acetic acid 0.8 parts by weight (i) Tetrahydrofuran 740 parts by weight The following silicone rubber composition is coated on this photosensitive layer, and the temperature is 90 ° C. for 2 minutes. Heat treatment at 3μm after drying
The silicone rubber layer was formed.

【0083】 (a)両末端シラノール基のポリジメチルシロキサン(平均分子量35000) 100重量部 (b)ビニルトリオキシムシラン 9.9重量部 (c)ジブチルスズジオクテート 0.1重量部 (d)脂肪族系炭化水素溶媒“アイソパー”G(エクソン化学(株)製) 590重量部 このようにして設けたシリコーンゴム層の表面に、厚さ
8μmのポリエステルフィルム“ルミラー”(東レ
(株)製)をカレンダーローラでラミネートし、水なし
平版印刷版原版とした。
(A) Polydimethylsiloxane having silanol groups at both ends (average molecular weight 35000) 100 parts by weight (b) Vinyltrioxime silane 9.9 parts by weight (c) Dibutyltin dioctate 0.1 parts by weight (d) Fat 590 parts by weight of group-based hydrocarbon solvent “Isopar” G (manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd.), and a 8 μm thick polyester film “Lumirror” (manufactured by Toray Industries, Inc.) on the surface of the silicone rubber layer thus provided. A waterless planographic printing plate precursor was obtained by laminating with a calendar roller.

【0084】この印刷版原版にメタルハライドランプ
(岩崎電気(株)製“アイドルフィン”2000)を用
い、UVメーター(オーク製作所製“ライトメジャータ
イプUV−402A”)で11mW/cm2 の照度で6
秒間全面露光を施した。
A metal halide lamp (“Idle Fin” 2000 manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.) was used for this printing plate precursor, and an illuminance of 11 mW / cm 2 was measured with a UV meter (“Light Measure Type UV-402A” manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.).
The whole surface was exposed for a second.

【0085】上記のようにして得られた印刷版原版に1
50線/インチの網点画像を持つネガフィルムを真空密
着し、上記のメタルハライドランプを用い、1mの距離
から60秒間露光した。
1 is added to the printing plate precursor obtained as described above.
A negative film having a halftone dot image of 50 lines / inch was vacuum-contacted and exposed for 60 seconds from a distance of 1 m using the above metal halide lamp.

【0086】露光後、保護フィルム“ルミラー”を剥離
し、室温32℃、湿度80%の条件で、TWL−116
0(東レ(株)製水なし平版印刷版の現像装置)を用い
て現像を行った。ここで、前処理液としては、以下の組
成を有する液を用いた。
After exposure, the protective film "Lumirror" was peeled off, and TWL-116 was prepared under the conditions of room temperature of 32 ° C. and humidity of 80%.
Development was carried out using No. 0 (developing device for waterless planographic printing plate manufactured by Toray Industries, Inc.). Here, as the pretreatment liquid, a liquid having the following composition was used.

【0087】 (a)ジエチレングリコール 80重量部 (b)ジグリコールアミン 14重量部 (c)水 6重量部 また、現像液としては水を用いた。染色液としては、以
下の組成を有する液を用いた。
(A) 80 parts by weight of diethylene glycol (b) 14 parts by weight of diglycolamine (c) 6 parts by weight of water Further, water was used as the developing solution. A liquid having the following composition was used as the dyeing liquid.

【0088】 (a)エチルカルビトール 18重量部 (b)水 79.9重量部 (c)クリスタルバイオレット 0.1重量部 (d)2−エチルヘキサン酸 2重量部 現像装置を出てきた印刷版を観察したところ、画像露光
された部分のシリコーンゴム層が除去され、感光層表面
が露出していた。一方、全面露光のみがなされた非画線
部分はシリコーンゴム層が強固に残存しており、ネガフ
ィルムを忠実に再現した画像が得られた。
(A) 18 parts by weight of ethyl carbitol (b) 79.9 parts by weight of water (c) 0.1 part by weight of crystal violet (d) 2 parts by weight of 2-ethylhexanoic acid The printing plate coming out of the developing device. Was observed, the silicone rubber layer in the image-exposed portion was removed, and the surface of the photosensitive layer was exposed. On the other hand, the silicone rubber layer remained firmly in the non-image area where only the entire surface was exposed, and an image faithfully reproducing the negative film was obtained.

【0089】この印刷版を商業オフ輪印刷機(“LIT
HOPIA”三菱重工(株)製)に取り付け、大日本イ
ンキ化学工業(株)製“ドライオカラー”墨、藍、紅、
黄インキを用いて、600r.p.m.のスピードで上
質紙に印刷を行い、耐刷テストを行った結果、1900
00部印刷後も良好な印刷物が刷れ、印刷終了後に印刷
版を検査したが、印刷版の損傷は軽微であり、引き続き
印刷を行うことが可能な状態であった。
This printing plate is applied to a commercial off-wheel printing press (“LIT
HOPIA "Made by Mitsubishi Heavy Industries, Ltd.", Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd. "Dry color" ink, indigo, red,
Using yellow ink, 600r. p. m. Printing on high-quality paper at a speed of 1900
Good printed matter was printed even after printing 00 copies, and the printing plate was inspected after the printing was completed, but the printing plate was found to be slightly damaged, and it was possible to continue printing.

【0090】実施例3 実施例1において、合成例1で合成した化合物を合成例
3で合成した化合物に変更する以外は全て実施例1と同
様に印刷版を作製、露光、現像し、実施例1と同様の耐
刷テストを行った。その結果、190000部印刷後も
良好な印刷物が刷れ、印刷終了後に印刷版を検査した
が、印刷版の損傷は軽微であり、引き続き印刷を行うこ
とが可能な状態であった。
Example 3 A printing plate was prepared, exposed and developed in the same manner as in Example 1 except that the compound synthesized in Synthesis Example 1 was changed to the compound synthesized in Synthesis Example 3. The same printing durability test as in No. 1 was performed. As a result, a good printed material was printed even after printing 19000 copies, and the printing plate was inspected after the printing was completed. However, the printing plate was slightly damaged, and it was in a state in which printing could be continued.

【0091】実施例4 実施例2において、合成例8で合成した化合物を合成例
9で合成した化合物に変更する以外は全て実施例1と同
様に印刷版を作製、露光、現像し、実施例2と同様の耐
刷テストを行った。その結果、200000部印刷後も
良好な印刷物が刷れ、印刷終了後に印刷版を検査した
が、印刷版の損傷は軽微であり、引き続き印刷を行うこ
とが可能な状態であった。
Example 4 A printing plate was prepared, exposed and developed in the same manner as in Example 1 except that the compound synthesized in Synthesis Example 8 was changed to the compound synthesized in Synthesis Example 9. The same printing durability test as in 2 was performed. As a result, a good printed material was printed even after printing 200,000 copies, and the printing plate was inspected after the printing was completed, but the printing plate was slightly damaged, and it was in a state in which printing could be continued.

【0092】実施例5 実施例1において、合成例1で合成した化合物を合成例
4で合成した化合物に変更する以外は全て実施例1と同
様に印刷版を作製、露光、現像し、実施例1と同様の耐
刷テストを行った。その結果、200000部印刷後も
良好な印刷物が刷れ、印刷終了後に印刷版を検査した
が、印刷版の損傷は軽微であり、引き続き印刷を行うこ
とが可能な状態であった。
Example 5 A printing plate was prepared, exposed and developed in the same manner as in Example 1 except that the compound synthesized in Synthesis Example 1 was changed to the compound synthesized in Synthesis Example 4. The same printing durability test as in No. 1 was performed. As a result, a good printed material was printed even after printing 200,000 copies, and the printing plate was inspected after the printing was completed, but the printing plate was slightly damaged, and it was in a state in which printing could be continued.

【0093】実施例6 実施例2において、合成例8で合成した化合物を合成例
10で合成した化合物に変更する以外は全て実施例1と
同様に印刷版を作製、露光、現像し、実施例2と同様の
耐刷テストを行った。その結果、210000部印刷後
も良好な印刷物が刷れ、印刷終了後に印刷版を検査した
が、印刷版の損傷は軽微であり、引き続き印刷を行うこ
とが可能な状態であった。
Example 6 A printing plate was prepared, exposed and developed in the same manner as in Example 1 except that the compound synthesized in Synthesis Example 8 was changed to the compound synthesized in Synthesis Example 10 in Example 2. The same printing durability test as in 2 was performed. As a result, a good printed material was printed even after printing 210000 copies, and the printing plate was inspected after the printing was completed. However, the printing plate was slightly damaged, and it was possible to continue printing.

【0094】実施例7 実施例1において、合成例1で合成した化合物を合成例
5で合成した化合物に変更し、合成例7で合成した化合
物を合成例11で合成した化合物に変更する以外は全て
実施例1と同様に印刷版を作製、露光、現像し、実施例
1と同様の耐刷テストを行った。その結果、20000
0部印刷後も良好な印刷物が刷れ、印刷終了後に印刷版
を検査したが、印刷版の損傷は軽微であり、引き続き印
刷を行うことが可能な状態であった。
Example 7 Except that in Example 1, the compound synthesized in Synthesis Example 1 was changed to the compound synthesized in Synthesis Example 5, and the compound synthesized in Synthesis Example 7 was changed to the compound synthesized in Synthesis Example 11. A printing plate was prepared, exposed and developed in the same manner as in Example 1, and the same printing durability test as in Example 1 was performed. As a result, 20000
Good printed matter was printed even after printing 0 copy, and the printing plate was inspected after the printing was completed, but the printing plate was slightly damaged, and it was in a state where it was possible to continue printing.

【0095】実施例8 実施例1において、合成例1で合成した化合物を合成例
6で合成した化合物に変更し、合成例7で合成した化合
物を合成例12で合成した化合物に変更する以外は全て
実施例1と同様に印刷版を作製、露光、現像し、実施例
1と同様の耐刷テストを行った。その結果、20000
0部印刷後も良好な印刷物が刷れ、印刷終了後に印刷版
を検査したが、印刷版の損傷は軽微であり、引き続き印
刷を行うことが可能な状態であった。
Example 8 Except that in Example 1, the compound synthesized in Synthesis Example 1 was changed to the compound synthesized in Synthesis Example 6, and the compound synthesized in Synthesis Example 7 was changed to the compound synthesized in Synthesis Example 12. A printing plate was prepared, exposed and developed in the same manner as in Example 1, and the same printing durability test as in Example 1 was performed. As a result, 20000
Good printed matter was printed even after printing 0 copy, and the printing plate was inspected after the printing was completed, but the printing plate was slightly damaged, and it was in a state where it was possible to continue printing.

【0096】[0096]

【発明の効果】本発明は上記のごとく構成したので、高
感度でありかつオフセット印刷を行った場合においても
耐刷性に優れた水なし平版印刷版を得ることができる。
Since the present invention is constructed as described above, it is possible to obtain a waterless lithographic printing plate having high sensitivity and excellent printing durability even when offset printing is performed.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】支持体上に感光層およびシリコーンゴム層
をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原版におい
て、該感光層が、(A)下記一般式(I)で示される構
造を少なくとも一つ有する化合物とキノンジアジド化合
物との反応物と、(B)下記一般式(II)で示される
構造を少なくとも一つ有する化合物とキノンジアジド化
合物との反応物の両方をそれぞれ少なくとも一つずつ含
有しており、かつ下記一般式(III)、下記一般式
(IV)および下記一般式(V)で示される化合物の少
なくとも一つを含有していることを特徴とする水なし平
版印刷版原版。 【化1】 【化2】 【化3】 【化4】 【化5】 (式中、R1は硫黄原子、置換あるいは非置換の窒素原
子、置換あるいは非置換の炭素原子、置換あるいは非置
換のケイ素原子の群から選ばれる少なくとも一つであ
る。R2、R3、R4、R5は置換基であり、それぞれ
同一でも異なっていてもよい。R6は水酸基、アルカリ
金属オキシド基、ハロゲン原子、アミノ基、メルカプト
基、炭素数1〜100の置換もしくは非置換のアルキル
基、アルコキシ基、アミド基、アシルオキシ基、アルカ
ノイル基、ホルミル基、カルボキシル基、炭素数2〜1
00の置換もしくは非置換のアルケニル基、アルケニル
オキシ基、炭素数4〜100の置換もしくは非置換のア
リール基、アリールオキシ基の群から選ばれる少なくと
も一種である。)
1. A waterless lithographic printing plate precursor comprising a support and a photosensitive layer and a silicone rubber layer laminated in this order on the support, wherein the photosensitive layer has at least (A) a structure represented by the following general formula (I). And a quinonediazide compound, and (B) a compound having at least one structure represented by the following general formula (II) and a quinonediazide compound. And a waterless planographic printing plate precursor containing at least one of the compounds represented by the following general formula (III), the following general formula (IV) and the following general formula (V). [Chemical 1] [Chemical 2] [Chemical 3] [Chemical 4] [Chemical 5] (In the formula, R1 is at least one selected from the group consisting of a sulfur atom, a substituted or unsubstituted nitrogen atom, a substituted or unsubstituted carbon atom, and a substituted or unsubstituted silicon atom. R2, R3, R4, R5. R6 is a substituent, which may be the same or different.R6 is a hydroxyl group, an alkali metal oxide group, a halogen atom, an amino group, a mercapto group, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 100 carbon atoms, an alkoxy group, Amido group, acyloxy group, alkanoyl group, formyl group, carboxyl group, carbon number 2 to 1
At least one selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted alkenyl group of 00, an alkenyloxy group, a substituted or unsubstituted aryl group having 4 to 100 carbon atoms, and an aryloxy group. )
【請求項2】請求項1記載の水なし平版印刷版原版を選
択的に露光、現像してなる水なし平版印刷版。
2. A waterless planographic printing plate obtained by selectively exposing and developing the waterless planographic printing plate precursor according to claim 1.
JP26702993A 1993-10-26 1993-10-26 Waterless lithographic printing master plate Pending JPH07120912A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26702993A JPH07120912A (en) 1993-10-26 1993-10-26 Waterless lithographic printing master plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26702993A JPH07120912A (en) 1993-10-26 1993-10-26 Waterless lithographic printing master plate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07120912A true JPH07120912A (en) 1995-05-12

Family

ID=17439068

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP26702993A Pending JPH07120912A (en) 1993-10-26 1993-10-26 Waterless lithographic printing master plate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH07120912A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6523953B2 (en) 1989-11-01 2003-02-25 Novartis Ag Colored contact lens having very natural appearance

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6523953B2 (en) 1989-11-01 2003-02-25 Novartis Ag Colored contact lens having very natural appearance

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4342820A (en) Dry planographic printing plate and preparation thereof
JPS6154222B2 (en)
JPH07120912A (en) Waterless lithographic printing master plate
JPH0468353A (en) Dampening waterless photosensitive planographic printing plate
JP3127680B2 (en) Waterless lithographic printing plate precursor
JPS63163857A (en) Waterless lithographic printing plate
JPH06348001A (en) Undamped planographic printing plate
JPH07120911A (en) Waterless lithographic printing master plate
JPH07120910A (en) Waterless lithographic printing master plate
JPS6319866B2 (en)
JPH07120909A (en) Waterless lithographic printing master plate
JPH07120907A (en) Waterless lithographic printing master plate
JPH06332162A (en) Damping waterless planographic printing original plate
JPH0365539B2 (en)
JP2507342B2 (en) Waterless planographic printing plate
JPH09288348A (en) Raw plate for waterless lithographic printing plate and its manufacture
JPH05297575A (en) Waterless planographic printing plate
JP3567487B2 (en) Waterless lithographic printing plate precursor
JPH07295209A (en) Original plate of waterless planographic printing plate
JP2921092B2 (en) Waterless lithographic plate processing solution
JPS6374065A (en) Waterless planographic form plate
JPH07104598B2 (en) Waterless planographic printing plate
JP3195435B2 (en) Plate for lithographic printing
JPH07325389A (en) Waterless planographic printing master plate
JPH09197658A (en) Waterless planar printing plate master