JPS6353833A - シヤドウマスクの表面処理方法 - Google Patents
シヤドウマスクの表面処理方法Info
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- JPS6353833A JPS6353833A JP19972286A JP19972286A JPS6353833A JP S6353833 A JPS6353833 A JP S6353833A JP 19972286 A JP19972286 A JP 19972286A JP 19972286 A JP19972286 A JP 19972286A JP S6353833 A JPS6353833 A JP S6353833A
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Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明はカラー陰極線管に内蔵される色選別電極であ
るシャドウマスクの表面処理方法に関するものである。
るシャドウマスクの表面処理方法に関するものである。
カラー陰極線管におけるシャドウマスクの製造方法につ
いては、株式会社産報の電子科学1964年、VOL、
141 NO,9,36頁および、39〜40頁に示
されている。ところで、−般的に陰極線管は、第4図に
示す様に、皿状のガラス管容器であるパネル(1)と、
電子ビームを発射する電子銃(2)を内蔵しているロー
ト状のファンネル(3)とからなり、これらパネル(1
)とファンネル(3)との間に色選別電極としてのシャ
ドウマスク(4)が介在され、パネル(1)に支持部に
より保持されている。
いては、株式会社産報の電子科学1964年、VOL、
141 NO,9,36頁および、39〜40頁に示
されている。ところで、−般的に陰極線管は、第4図に
示す様に、皿状のガラス管容器であるパネル(1)と、
電子ビームを発射する電子銃(2)を内蔵しているロー
ト状のファンネル(3)とからなり、これらパネル(1
)とファンネル(3)との間に色選別電極としてのシャ
ドウマスク(4)が介在され、パネル(1)に支持部に
より保持されている。
このシャドウマスク(4)は、厚さが0,10〜0.2
5mmの鉄板に丸形もしくは長方形の電子ビーム通過孔
(5)をエツチング法等で形成したものであり、初行程
では平担な形状である上記鉄板を水素雰囲気中で700
〜920℃で熱処理してから、パネル(1)内面の球面
形状にほぼ沿う形状にプレス加工し、そののち、その表
面に黒錆を得るための表面処理を方社こして作成される
。この処理で得られた黒錆は、カラー陰極線管を製造す
る工程中において、シャドウマスク(4)が、空気中の
雰囲気で400℃前後で加熱される際に発生する赤錆を
防止するためのものである。一方、カラー陰極線管の動
作中に電子銃(2)から発射された電子ビームの8割近
くは、シャドウマスク(4)に衝突して、運動エネルギ
ーが然エネルギーに変換され、シャドウマスク(4)の
温度を上昇させる。このため、シャドウマスク(4)は
、熱変形を生じ、電子ビームの蛍光面へのランディング
の変化をもたらす、この現象をドーミングという。
5mmの鉄板に丸形もしくは長方形の電子ビーム通過孔
(5)をエツチング法等で形成したものであり、初行程
では平担な形状である上記鉄板を水素雰囲気中で700
〜920℃で熱処理してから、パネル(1)内面の球面
形状にほぼ沿う形状にプレス加工し、そののち、その表
面に黒錆を得るための表面処理を方社こして作成される
。この処理で得られた黒錆は、カラー陰極線管を製造す
る工程中において、シャドウマスク(4)が、空気中の
雰囲気で400℃前後で加熱される際に発生する赤錆を
防止するためのものである。一方、カラー陰極線管の動
作中に電子銃(2)から発射された電子ビームの8割近
くは、シャドウマスク(4)に衝突して、運動エネルギ
ーが然エネルギーに変換され、シャドウマスク(4)の
温度を上昇させる。このため、シャドウマスク(4)は
、熱変形を生じ、電子ビームの蛍光面へのランディング
の変化をもたらす、この現象をドーミングという。
また、最近のカラー陰極線管では、映像をより忠実に再
現するために、パネル(1)の前面を平担化したり、単
位面積当りの情報量を多くしたりしており、さらに、画
質を鮮明にするためにシャドウマスク(4)の電子ビー
ム通過孔(5)の孔径を小さくするとともにピッチも小
さくしている。このため、ドーミング現象が映像に与え
る悪影響がより顕著なものとなるので、ドーミング現象
の対策が極めて重要になってきた。
現するために、パネル(1)の前面を平担化したり、単
位面積当りの情報量を多くしたりしており、さらに、画
質を鮮明にするためにシャドウマスク(4)の電子ビー
ム通過孔(5)の孔径を小さくするとともにピッチも小
さくしている。このため、ドーミング現象が映像に与え
る悪影響がより顕著なものとなるので、ドーミング現象
の対策が極めて重要になってきた。
そこで、ドーミング現象の対策の一つとして、たとえば
、特開昭55−76553号公報に開示されるように、
シャドウマスク(4)の電子銃(2)側の表面に、たと
えば、ビスマス、タンタル等の重金属またはその酸化物
を含んだ塗M(B)を設けることが行なわれている。こ
の塗膜(8)は、衝突する電子ビームを効率よく反射さ
せ、衝突した電子ビームの運動エネルギーが然エネルギ
ーに変換される割合を減少させて、シャドウマスク(4
)の温度上昇を軽減するものであり、たとえば、醸化ビ
スマス(B i203 )に水ガラス等を加えてなる塗
液がスプレィ塗布されて形成される。
、特開昭55−76553号公報に開示されるように、
シャドウマスク(4)の電子銃(2)側の表面に、たと
えば、ビスマス、タンタル等の重金属またはその酸化物
を含んだ塗M(B)を設けることが行なわれている。こ
の塗膜(8)は、衝突する電子ビームを効率よく反射さ
せ、衝突した電子ビームの運動エネルギーが然エネルギ
ーに変換される割合を減少させて、シャドウマスク(4
)の温度上昇を軽減するものであり、たとえば、醸化ビ
スマス(B i203 )に水ガラス等を加えてなる塗
液がスプレィ塗布されて形成される。
ここで、スプレィされた塗液が電子ビーム通過孔(5)
の内壁に付着すると、電子ビーム通過孔(5)を通過す
る電子ビームの散乱を招くことになるので、塗液をスプ
レィ塗布する際には、たとえば特公昭60−14459
号公報に開示されるように塗液をパネル(1)の側から
吸引しながら、シャドウマスク(4)の電子銃(2)側
の面に向けてスプレィして、電子ビーム通過孔(5)の
内壁への塗液の付着を防止していた。
の内壁に付着すると、電子ビーム通過孔(5)を通過す
る電子ビームの散乱を招くことになるので、塗液をスプ
レィ塗布する際には、たとえば特公昭60−14459
号公報に開示されるように塗液をパネル(1)の側から
吸引しながら、シャドウマスク(4)の電子銃(2)側
の面に向けてスプレィして、電子ビーム通過孔(5)の
内壁への塗液の付着を防止していた。
従来のシャドウマスクの表面処理方法では、シャドウマ
スク(4)の電子銃(2)側の面(以下。
スク(4)の電子銃(2)側の面(以下。
「塗布面」という、)に向けてスプレィされる塗液がパ
ネル(1)の側から吸引されているので、塗液が電子ビ
ーム通過孔(5)を早い速度で通過する。
ネル(1)の側から吸引されているので、塗液が電子ビ
ーム通過孔(5)を早い速度で通過する。
このため、スプレィされた塗液は、塗布面における電子
ビーム通過孔(5)の周囲に多く付着することになり、
また、上記電子ビーム通過孔(5)の周囲は、吸引にと
もなう空気流を受けるので塗液の乾燥が早く、塗液の流
動がない。
ビーム通過孔(5)の周囲に多く付着することになり、
また、上記電子ビーム通過孔(5)の周囲は、吸引にと
もなう空気流を受けるので塗液の乾燥が早く、塗液の流
動がない。
このようにして塗布面に形成された塗膜(6)は、その
断面を第5図に示すように、電子ビーム通過孔(5)の
周囲の部分が、他の部分よりも厚くふくらむことになる
。
断面を第5図に示すように、電子ビーム通過孔(5)の
周囲の部分が、他の部分よりも厚くふくらむことになる
。
電子ビーム通過孔(5)の周囲が厚くふくらんだ塗膜(
6)は、厚くふくらんだ部分が、たとえば、蛍光体G1
を発光させるべき電子ビーム束の軌道(7)内に侵入す
ることになり、電子ビーム(8)が上記ふくらんだ部分
で散乱して軌道を変更し、蛍光体Glを発光させずに他
の蛍光体を発光させて、カラー陰極線管の色純度を低下
させるという問題点があった。
6)は、厚くふくらんだ部分が、たとえば、蛍光体G1
を発光させるべき電子ビーム束の軌道(7)内に侵入す
ることになり、電子ビーム(8)が上記ふくらんだ部分
で散乱して軌道を変更し、蛍光体Glを発光させずに他
の蛍光体を発光させて、カラー陰極線管の色純度を低下
させるという問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たものであり、色純度の高いカラー陰極線管の製造に寄
与できるシャドウマスクの表面処理方法を提供すること
を目的とする。
たものであり、色純度の高いカラー陰極線管の製造に寄
与できるシャドウマスクの表面処理方法を提供すること
を目的とする。
この発明にかかるシャドウマスクの表面処理方法は、シ
ャドウマスクの電子銃例の面を上に向け、雰囲気を高湿
度に保ち、スプレィ装置から上記電子銃側の面までの距
離を、霧化された塗液が電子銃側の面に自然落下し得る
大きさに設定している。
ャドウマスクの電子銃例の面を上に向け、雰囲気を高湿
度に保ち、スプレィ装置から上記電子銃側の面までの距
離を、霧化された塗液が電子銃側の面に自然落下し得る
大きさに設定している。
この発明において、スプレィ装置から、シャドウマスク
の電子銃側の面に向けて塗液がスプレィされても、上記
電子銃側の面付近には、スプレィにともなう気流の乱れ
が生じない、このため、露化された塗液は、シャドウマ
スクの電子ビーム通通孔の内壁に付着せずに、電子ビー
ム通過孔を通過するので、電子ビーム通過孔内の障害物
とならない。
の電子銃側の面に向けて塗液がスプレィされても、上記
電子銃側の面付近には、スプレィにともなう気流の乱れ
が生じない、このため、露化された塗液は、シャドウマ
スクの電子ビーム通通孔の内壁に付着せずに、電子ビー
ム通過孔を通過するので、電子ビーム通過孔内の障害物
とならない。
また、スプレィ装置から上記電子銃側の面までの距離を
大きく設定しても、雰囲気が高湿度に保たれているので
、A化された塗液は、」−配電子銃側の面に到達するま
でに乾帰してしまうおそれがなく、また、電子銃側の而
に塗布されてからも十分に時間をかけて乾燥する。この
ため、塗布された塗液に表面張力が作用して、塗膜は、
電子ビーム通過孔の周囲の部分が、他の部分より薄く形
成されるので、電子ビーム通過孔を通過すべき電子ビー
ムの軌道をさえぎらない。
大きく設定しても、雰囲気が高湿度に保たれているので
、A化された塗液は、」−配電子銃側の面に到達するま
でに乾帰してしまうおそれがなく、また、電子銃側の而
に塗布されてからも十分に時間をかけて乾燥する。この
ため、塗布された塗液に表面張力が作用して、塗膜は、
電子ビーム通過孔の周囲の部分が、他の部分より薄く形
成されるので、電子ビーム通過孔を通過すべき電子ビー
ムの軌道をさえぎらない。
以下、この発明の一実施例を図面にしたがって説明する
。
。
第1図において、(4)はシャドウマスクであり、塗布
面(4a)を上に向けて配置されている。
面(4a)を上に向けて配置されている。
(9)はマスキング治具であり、このマスキング治具(
9)は、シャドウマスク(4)を保持するとともに、シ
ャドウマスク(4)における塗膜が不要な部分を覆う、
(10)はスプレィ装置、つまり、スプレィ用ノズルで
あり、シャドウマスク(4)の上方に配置され、前後左
右に移動しながら塗布面(4a)に向けて塗液(11)
をスプレィする。(12)はダクトであり、スプレィ用
ノズル(lO)の上方に配置され、ダクト孔(13)か
ら下方に向けて高湿度の気体を流す。
9)は、シャドウマスク(4)を保持するとともに、シ
ャドウマスク(4)における塗膜が不要な部分を覆う、
(10)はスプレィ装置、つまり、スプレィ用ノズルで
あり、シャドウマスク(4)の上方に配置され、前後左
右に移動しながら塗布面(4a)に向けて塗液(11)
をスプレィする。(12)はダクトであり、スプレィ用
ノズル(lO)の上方に配置され、ダクト孔(13)か
ら下方に向けて高湿度の気体を流す。
ここで、たとえば、塗液(11)は、粒径が0.5〜I
gmの酸化ビスマス(Bi203)に水およびカリウム
系水ガラスを加えてなる粘度が2 pasのものであり
、塗液(11)をスプレィ用ノズル(lO)からスプレ
ィする際に使用される圧縮空気は2〜4 K g /
c m’のものであり、スプレィ用ノズル(lO)から
シャドウマスク(4)の塗布面(4a)までの距離は1
00〜150 c mであり、ダクト(12)のダクト
孔(13)から下方へ流れる気体の湿度は80〜100
%となっている。
gmの酸化ビスマス(Bi203)に水およびカリウム
系水ガラスを加えてなる粘度が2 pasのものであり
、塗液(11)をスプレィ用ノズル(lO)からスプレ
ィする際に使用される圧縮空気は2〜4 K g /
c m’のものであり、スプレィ用ノズル(lO)から
シャドウマスク(4)の塗布面(4a)までの距離は1
00〜150 c mであり、ダクト(12)のダクト
孔(13)から下方へ流れる気体の湿度は80〜100
%となっている。
上記構成において、塗液(11)は、スプレィ用ノズル
(10)から、圧縮空気とともにスプレィされるので、
塗液(11)をスプレィする際には気流の乱れがともな
う。ところが、スプレィ用ノズル(10)から塗布面(
4a)までの距離が十分に大きく設定されているので、
塗布面(4a)付近には気流の乱れが生じない0才だ、
スプレィされた塗液(11)は、塗布面(4a)に到達
するときには、その速度が自重で落下する速度にまで低
下しており、塗液は塗布面(4a)に対して自然落下す
る。
(10)から、圧縮空気とともにスプレィされるので、
塗液(11)をスプレィする際には気流の乱れがともな
う。ところが、スプレィ用ノズル(10)から塗布面(
4a)までの距離が十分に大きく設定されているので、
塗布面(4a)付近には気流の乱れが生じない0才だ、
スプレィされた塗液(11)は、塗布面(4a)に到達
するときには、その速度が自重で落下する速度にまで低
下しており、塗液は塗布面(4a)に対して自然落下す
る。
このため、スプレィされた塗液(11)は、シャドウマ
スク(4)の電子ビーム通過孔(5)の内壁に付着する
ことなく、電子ビーム通過孔(5)を通過するので、電
子ビーム通過孔(5)内の障害物にならない。
スク(4)の電子ビーム通過孔(5)の内壁に付着する
ことなく、電子ビーム通過孔(5)を通過するので、電
子ビーム通過孔(5)内の障害物にならない。
また、塗液(11)をスズレイする際の雰囲気がダクト
(12)からの気体によって高湿度に保たれているので
、上述のように、スプレィ用ノズル(10)から塗布面
(4a)までの距離を大きく設定しても、スプレィされ
た塗液(11)は、塗布面(4a)に到達するまでに乾
燥してしまうおそれがなく、’Ilr lu面(4a)
に塗布されてからち十分に時間をかけて乾燥する。
(12)からの気体によって高湿度に保たれているので
、上述のように、スプレィ用ノズル(10)から塗布面
(4a)までの距離を大きく設定しても、スプレィされ
た塗液(11)は、塗布面(4a)に到達するまでに乾
燥してしまうおそれがなく、’Ilr lu面(4a)
に塗布されてからち十分に時間をかけて乾燥する。
このため、塗布面(4d)に塗布された塗液(11)に
表面張力が作用して、第2図のように、塗膜(6)は、
電子ビーム:a合孔(5)の周囲の部分が他の部分より
も薄く形成されるので、電子ビーム通過孔(5)を通過
して所望の蛍光体を発光させるべき電子ビームの軌道(
7)をさえぎることがないから、電子ビームを散乱させ
ない。
表面張力が作用して、第2図のように、塗膜(6)は、
電子ビーム:a合孔(5)の周囲の部分が他の部分より
も薄く形成されるので、電子ビーム通過孔(5)を通過
して所望の蛍光体を発光させるべき電子ビームの軌道(
7)をさえぎることがないから、電子ビームを散乱させ
ない。
したがって、カラー陰極線管は色純度の高いものとなる
。
。
つぎに、雰囲気を高湿度に保たずに、上記塗液(11)
を上記圧縮空気とともにスプレィした実験結果について
説明する。
を上記圧縮空気とともにスプレィした実験結果について
説明する。
まず、スプレィ用ノズル(10)から塗布面(4a)ま
での距離を25〜30cmとしたときには、塗布面(4
a)付近にスプレィにともなう気流の乱れが生じている
ので、図示【3シないが、電子ビーム通過孔(5)の内
壁に塗液(11)の付着が見られた。また、スプレィ用
ノズル(10)から塗布面(4a)までの距離を35c
m以上としたときには、スプレィされた塗液(11)が
塗布面(4d)に到達するまでに乾燥するので、塗布後
の塗液(11)の流動がなく、第3図のように全体的に
厚い塗膜(6)が形成された。
での距離を25〜30cmとしたときには、塗布面(4
a)付近にスプレィにともなう気流の乱れが生じている
ので、図示【3シないが、電子ビーム通過孔(5)の内
壁に塗液(11)の付着が見られた。また、スプレィ用
ノズル(10)から塗布面(4a)までの距離を35c
m以上としたときには、スプレィされた塗液(11)が
塗布面(4d)に到達するまでに乾燥するので、塗布後
の塗液(11)の流動がなく、第3図のように全体的に
厚い塗膜(6)が形成された。
つまり、雰囲気を高湿度に保たずに形成された塗膜(6
)は、電子ビーム通過孔(5)を通過する電子ビームの
散乱を招くことになる。
)は、電子ビーム通過孔(5)を通過する電子ビームの
散乱を招くことになる。
以上のようにこの発明によれば、シャドウマスクに衝突
する電子ビームを反射させてシャドウマスクの熱変形を
防止する塗膜を、電子ビーム通過孔を通過する電子ビー
ムの散乱を招かないものとして形成することができるの
で、色純度の高いカラー陰極線管を得ることができる。
する電子ビームを反射させてシャドウマスクの熱変形を
防止する塗膜を、電子ビーム通過孔を通過する電子ビー
ムの散乱を招かないものとして形成することができるの
で、色純度の高いカラー陰極線管を得ることができる。
第1図はこの発明の一実施例を示す塗布装置の斜視図、
第2図はこの発明の一実施例による方法で塗膜が形成さ
れたシャドウマスクの断面図、第3図は雰囲気を高湿度
に保たずに塗膜が形成されたシャドウマスクの断面図、
第4図はカラー陰極線管の部分断面図、第5図は従来の
方法により塗膜が形成されたシャドウマスクの断面図で
ある。 (2)・・・電子銃、(4)・・・シャドウマスク、(
4a)・・・電子銃側の面、(6)・・・塗膜、(10
)・・・スプレィ装置、(11)・・・塗液。 なお1図中、同一符号は同一または相当部分を示す。
第2図はこの発明の一実施例による方法で塗膜が形成さ
れたシャドウマスクの断面図、第3図は雰囲気を高湿度
に保たずに塗膜が形成されたシャドウマスクの断面図、
第4図はカラー陰極線管の部分断面図、第5図は従来の
方法により塗膜が形成されたシャドウマスクの断面図で
ある。 (2)・・・電子銃、(4)・・・シャドウマスク、(
4a)・・・電子銃側の面、(6)・・・塗膜、(10
)・・・スプレィ装置、(11)・・・塗液。 なお1図中、同一符号は同一または相当部分を示す。
Claims (1)
- (1)カラー陰極線管に内蔵される色選別電極でなるシ
ヤドウマスクの電子銃側の面に、重金属を含む塗液をス
プレイ塗布して電子ビームを反射させる塗膜を形成する
シヤドウマスクの表面処理方法において、上記電子銃側
の面を上に向け、雰囲気を高湿度に保ち、スプレイ装置
から電子銃側の面までの距離を、霧化された塗液が電子
銃側の面に自然落下し得る大きさに設定したシヤドウマ
スクの表面処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19972286A JPS6353833A (ja) | 1986-08-25 | 1986-08-25 | シヤドウマスクの表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19972286A JPS6353833A (ja) | 1986-08-25 | 1986-08-25 | シヤドウマスクの表面処理方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6353833A true JPS6353833A (ja) | 1988-03-08 |
Family
ID=16412523
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19972286A Pending JPS6353833A (ja) | 1986-08-25 | 1986-08-25 | シヤドウマスクの表面処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6353833A (ja) |
-
1986
- 1986-08-25 JP JP19972286A patent/JPS6353833A/ja active Pending
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