JPS6353799A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JPS6353799A
JPS6353799A JP61197179A JP19717986A JPS6353799A JP S6353799 A JPS6353799 A JP S6353799A JP 61197179 A JP61197179 A JP 61197179A JP 19717986 A JP19717986 A JP 19717986A JP S6353799 A JPS6353799 A JP S6353799A
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JP
Japan
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level
word line
memory
memory blocks
signal
Prior art date
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Pending
Application number
JP61197179A
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Japanese (ja)
Inventor
Nobuaki Nakai
中井 信明
Akinori Matsuo
章則 松尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi ULSI Engineering Corp, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi ULSI Engineering Corp
Priority to JP61197179A priority Critical patent/JPS6353799A/en
Publication of JPS6353799A publication Critical patent/JPS6353799A/en
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Abstract

PURPOSE:To lower noise level without sacrificing the operating speed of reading of low-level output by distorting the logic threshold voltage for sense amplifiers that respectively receive read signals sequentially from the memory blocks in the order starting from the memory block close to a word line selection circuit sequentially. CONSTITUTION:The plural memory blocks M-ARY0-M-ARY7 are constituted to a common word line constituting a memory array M-ARY. The logic threshold voltage for the sense amplifiers SA0-SA7 that respectively receives a reading signal from the memory blocks M-ARY0-M-ARY7 in the order starting from the block M-ARY0 which is close to the word line selection circuit XDCR sequentially is distorted, in order to speed up the reading of storage information corresponding to the low level of output signals transmitted to an external terminal. Accordingly, since the read signals of storage information are outputted time-sequentially from said memory blocks in the order starting from the M-ARY0 close to the word line selection circuit XDCR sequentially the noise level can be lowered without sacrificing the operating speed of a reading of low-level output.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体記憶装置に関するもので、例えば、
MOSFET (絶縁ゲート形電界効果トランジスタ)
で構成され、複数ビットからなる情報の読み出しを行う
EPROM (イレーザブル&プログラマブル・リード
・オンリー・メモリ)に利用して有効な技術に関するも
のである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a semiconductor memory device, for example,
MOSFET (insulated gate field effect transistor)
This technology is effective for use in EPROMs (erasable and programmable read-only memories) that read information consisting of multiple bits.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

8ビツトからなる読み出し信号をトライステート出カバ
ソファにより送出させるROMが公知である(例えば、
■日立製作所昭和58年9月発行r日立ICメモリデー
タブック」頁329〜頁330参照)。
A ROM in which a read signal consisting of 8 bits is sent out by a tri-state output buffer is known (for example,
(See "Hitachi IC Memory Data Book" published by Hitachi, September 1983, pp. 329-330).

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

上記のように複数ビットの読み出しが行われるROMに
おいては、メモリアレイからの読み出し信号のセンス出
力を受けて比較的大きな負荷容量を駆動する複数の出カ
バソファ回路が設けられる。
In a ROM in which a plurality of bits are read as described above, a plurality of output buffer circuits are provided that drive a relatively large load capacitance in response to a sense output of a read signal from a memory array.

上記各出カバソファ回路においては、その出力端子に結
合されてしまうプリント配線基板等の実装基板に存在す
る浮遊容量や信号入力装置の入力容量などからなる比較
的大きな容量値の負荷容量(浮遊容量)を駆動できるこ
とが必要とされる。
In each of the output sofa circuits mentioned above, a relatively large load capacitance (stray capacitance) consisting of stray capacitance existing in a mounting board such as a printed wiring board that is coupled to the output terminal and the input capacitance of a signal input device, etc. It is required to be able to drive.

そのため、出力MO3FETは、かかる負荷容量のディ
スチャージのために、比較的大きな電流を回路の接地線
に流させる。半導体集積回路内の回路の接地線は、無視
できない抵抗及びインダクタンス成分を持つので、上記
出力MOS F ETが動作状態にされて負荷容量のデ
ィスチャージを行うときに、比較的大きなノイズが発生
する。特に、上記のように8ビツトの信号をパラレルに
出力させる場合、ワーストケースでは上記8ビツト分の
信号出力動作により、回路の接地線に比較的大きなレベ
ルのノイズが発生されてしまう。このノイズは、例えば
、アドレスバッファやメモリアレイからの比較的小さな
読み出し信号を増幅するセンスアンプに帰還され、その
レベルマージンをi化させ、最悪の場合には発振動作を
生じせしめるという問題を生じる。
Therefore, the output MO3FET causes a relatively large current to flow through the ground line of the circuit in order to discharge the load capacitance. Since the ground line of the circuit in the semiconductor integrated circuit has non-negligible resistance and inductance components, relatively large noise is generated when the output MOSFET is activated and discharges the load capacitance. Particularly, when outputting 8-bit signals in parallel as described above, in the worst case, a relatively large level of noise is generated on the ground line of the circuit due to the operation of outputting the 8-bit signals. This noise is fed back to, for example, an address buffer or a sense amplifier that amplifies a relatively small read signal from a memory array, causing a problem in that the level margin becomes i, and in the worst case, oscillation occurs.

そこで、複数の出カバソファの動作タイミングをずらし
て、回路の接地線に発生するノイズを時間的に分散させ
ることにより、ノイズレベルのピーク値を低減させるこ
とが考えられる。しかしながら、この場合には、信号伝
播遅延時間が実質的に長くされる結果、全ビットを外部
端子へ送出させるのに比較的長い時間を費やすとこにな
るので高速動作化が妨げられる。
Therefore, it is conceivable to reduce the peak value of the noise level by shifting the operation timings of the plurality of output sofas and temporally dispersing the noise generated in the ground line of the circuit. However, in this case, the signal propagation delay time is substantially increased, and as a result, it takes a relatively long time to send all bits to the external terminal, which hinders high-speed operation.

この発明の目的は、その出力動作のときに接地線に発生
するノイズレベルを低減させるとともに高速動作化を実
現した半導体集積回路装置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device that reduces the noise level generated on a ground line during output operation and realizes high-speed operation.

この発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、
この明細書の記述および添付図面から明らかになるであ
ろう。
The above and other objects and novel features of this invention include:
It will become clear from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、メモリアレイを構成する共通のワード線に複
数のメモリブロックが構成され、各メモリブロックのう
ちワード線選択回路に対して近い位置に配置されるメモ
リブロックから順に、それぞれ読み出し信号を受けるセ
ンスアンプのロジックスレッショルド電圧を偏倚させて
、外部端子に送出される出力信号のロウレベルに対応し
た記憶情報の読み出しを早くさせる。
That is, a plurality of memory blocks are configured on a common word line that constitutes a memory array, and a sense amplifier receives a read signal from each memory block in order from the memory block located at a position close to the word line selection circuit. By biasing the logic threshold voltage of the memory, the memory information corresponding to the low level of the output signal sent to the external terminal is read out quickly.

〔作 用〕[For production]

上記した手段によれば、ワード線の選択回路に対して近
い位置に配置されるメモリブロックから順に記憶情報の
読み出し信号が時系列的に出力されるため、動作速度を
犠牲にすることな(ノイズレベルを低減できる。
According to the above-mentioned means, since the readout signal of the stored information is outputted in a time-series manner starting from the memory block located close to the word line selection circuit, the operation speed is not sacrificed (no noise is generated). The level can be reduced.

〔実施例〕〔Example〕

第1図には、この発明をEFROM装置に適用した場合
のメモリアレイ部の一実施例の回路図が示されている。
FIG. 1 shows a circuit diagram of an embodiment of a memory array section when the present invention is applied to an EFROM device.

同図の各回路素子は、特に制限されないが、公知のCM
O3(相補型MO3)集積回路の製造技術によって、1
個の単結晶シリコンのような半導体基板上において形成
される。
Although not particularly limited, each circuit element in the figure may be a known CM.
With O3 (complementary MO3) integrated circuit manufacturing technology, 1
formed on a semiconductor substrate such as single crystal silicon.

特に制限されないが、集積回路は、単結晶P型シリコン
からなる半導体基板に形成される。NチャンネルMO3
FETは、かかる半導体基板表面に形成されたソース領
域、ドレイン領域及びソース領域とドレイン領域との間
の半導体基板表面に薄い厚さのゲート!!ll&膜を介
して形成されたポリシリコンからなるようなゲート電極
から構成される。PチャンネルMO3FETは、上記半
導体基板表面に形成されたN型ウェル領域に形成される
Although not particularly limited, the integrated circuit is formed on a semiconductor substrate made of single-crystal P-type silicon. N channel MO3
An FET has a source region, a drain region formed on the surface of a semiconductor substrate, and a thin gate on the surface of the semiconductor substrate between the source region and the drain region. ! It is composed of a gate electrode made of polysilicon formed through a ll& film. The P-channel MO3FET is formed in an N-type well region formed on the surface of the semiconductor substrate.

これによって、半導体基板は、その上に形成された複数
のNチャンネルMOS F ETの共通の基板ゲートを
構成し、第1図の回路の接地電位の印加される基準電圧
端子Vssに結合される。N型ウェル領域は、その上に
形成されたPチャンネルMO3FETの基板ゲートを構
成する。PチャンネルMOS F ETの基板ゲートす
なわちN型ウェル領域は、第1図の電源端子Vccに結
合される。
Thereby, the semiconductor substrate constitutes a common substrate gate of a plurality of N-channel MOS FETs formed thereon, and is coupled to the reference voltage terminal Vss to which the ground potential of the circuit of FIG. 1 is applied. The N-type well region constitutes the substrate gate of the P-channel MO3FET formed thereon. The substrate gate of the P-channel MOS FET, ie, the N-type well region, is coupled to the power supply terminal Vcc of FIG.

特に制復されないが、この実施例のEFROM装置は、
外部端子から供給されるX、 Yアドレス信号AX、A
Yを受けるアドレスバッファを通して形成された相補ア
ドレス信号がアドレスデコーダDCRに供給される。同
図では、アドレスバッファとアドレスデコーダとが同じ
回路ブロックXADB−DCR,YADB−DCRとし
てそれぞれ示されている。特に制限されないが、上記ア
ドレスバッファXADB、YADBは、内部チップ選択
信号ceにより活性化され、外部端子からのアドレス信
号AX、AYを取り込み、外部端子から供給されたアド
レス信号と同相の内部アドレス信号と逆相のアドレス信
号とからなる相補アドレス信号を形成する。
Although not particularly restricted, the EFROM device of this embodiment:
X, Y address signals AX, A supplied from external terminals
A complementary address signal formed through an address buffer receiving Y is supplied to an address decoder DCR. In the figure, an address buffer and an address decoder are shown as the same circuit blocks XADB-DCR and YADB-DCR, respectively. Although not particularly limited, the address buffers XADB and YADB are activated by an internal chip selection signal ce, take in address signals AX and AY from external terminals, and output an internal address signal having the same phase as the address signal supplied from the external terminal. A complementary address signal consisting of an address signal of opposite phase is formed.

ロウ(X)アドレスデコーダ(X)DCRは、アドレス
バッファXADBの相補アドレス信号に従ったメモリア
レイM−ARYのワード線Wの選択信号を形成する。
Row (X) address decoder (X)DCR forms a selection signal for word line W of memory array M-ARY according to a complementary address signal of address buffer XADB.

カラム(Y)アドレスデコーダ(Y)DCRは、アドレ
スバッファYADBの相補アドレス信号に従ったメモリ
アレイM−ARYのデータ線りの選択信号を形成する。
Column (Y) address decoder (Y) DCR forms a selection signal for the data line of memory array M-ARY according to a complementary address signal of address buffer YADB.

上記メモリアレイM−ARYは、代表として例示的に1
つのメモリブロックが示されている。このメモリブロッ
クは、複数のフローティングゲートを有するMISFE
T、例えばFAMO3)ランジスタ(不揮発性メモリ素
子・・MOS F ETQ1〜Q6)と、ワード線Wl
、W2・・・、及びデータ線D1〜Dnとにより構成さ
れている。
The memory array M-ARY is typically 1
Two memory blocks are shown. This memory block is a MISFE with multiple floating gates.
T, e.g. FAMO3) transistors (non-volatile memory elements...MOS FETQ1 to Q6) and word line Wl
, W2 . . . and data lines D1 to Dn.

メモリブロックにおいて、同じ行に配置されたFAMo
SトランジスタQ1〜Q3 (Q4〜Q6)のコントロ
ールゲートは、それぞれ対応するワード線Wl(W2)
に接続され、同じ列に配置されたFAMO3)ランジス
タQl、Q4〜Q3.Q6のドレインは、それぞれ対応
するデータ線D1〜Dnに接続されている。上記FAM
OSトランジスタの共通ソース線C3は、特に制限され
ないが、そのゲートに書込み信号weを受けるディプレ
フジョン型M OS F E T Q 10を介して接
地されている。
FAMo placed in the same row in the memory block
The control gates of the S transistors Q1 to Q3 (Q4 to Q6) are connected to the corresponding word line Wl (W2).
FAMO3) transistors Ql, Q4-Q3. The drains of Q6 are connected to corresponding data lines D1 to Dn, respectively. The above FAM
Although not particularly limited, the common source line C3 of the OS transistors is grounded via a depletion type MOSFET Q10 whose gate receives the write signal we.

上記メモリアレイM−ARYは、特に制限されないが、
第2図に示すように、上記のようなメモリブロックがM
−ARYOないしM−ARY7のように合計で8組設け
られるよう構成される。8組のメモリブロックM−AR
YO−M−ARY7は、チップchip上において、上
記ロウアドレスデコーダXDCRに対して、それに近い
側からメモリブロックM−ARYO−M−ARY7の順
に、−列に配置される。ロウアドレスデコーダXDCR
からは、これにより選択されるワード線が第2図中横方
向に延在され、各メモリブロックM−ARYO−M−A
RY7に共通に配置される。
Although the memory array M-ARY is not particularly limited,
As shown in FIG. 2, the above memory block is M
-ARYO to M-ARY7, a total of eight sets are provided. 8 sets of memory blocks M-AR
YO-M-ARY7 is arranged in the - column on the chip chip in the order of memory blocks M-ARYO-M-ARY7 from the side closest to the row address decoder XDCR. Row address decoder XDCR
The word line selected by this is extended in the horizontal direction in FIG.
Commonly located in RY7.

上記第1図に示したMISFETQIOは、特に制限さ
れないが、第2図に示したような各メモリブロックM−
ARYOないしM−ARY7に対応して設けられ、書き
込み時に上記内部制御信号weのロウレベルによってそ
のコンダクタンスが比較的小さくされる。これにより、
共通ソース線CSの電位は、MO3FETQI Oのコ
ンダクタンスが比較的小さくされることによって比較的
高い電位にされる。この共通ソース線C3の電位が比較
的高くされるとFAMO3)ランジスタのしきい値電圧
は比較的高くされる。したがって、データ線に書き込み
高電圧が供給され、ワード線が非選択とされることによ
って非選択とされたFAMO3)ランジスタの実効的な
しきい値電圧が高くされるため、それに流れるリーク電
流を小さくできる。これによって、外部端子から供給さ
れる凹き込み電流が効率よく選択されたFAMO3)ラ
ンジスタに供給されるので、効率的な書き込み動作を行
うことができろ。なお、読み出し動作時には、上記制御
信号;1のハイレベルによってMO3FETQI Oの
コンダクタンスは、比較的大きくされる。これにより、
読み出し速度を速くするものである。
Although the MISFET QIO shown in FIG. 1 is not particularly limited, each memory block M-
They are provided corresponding to ARYO to M-ARY7, and their conductances are made relatively small by the low level of the internal control signal we during writing. This results in
The potential of the common source line CS is set to a relatively high potential by making the conductance of the MO3FET QIO relatively small. When the potential of this common source line C3 is made relatively high, the threshold voltage of the transistor FAMO3) is made relatively high. Therefore, by supplying a write high voltage to the data line and making the word line non-selected, the effective threshold voltage of the non-selected FAMO3) transistor is increased, so that the leakage current flowing therein can be reduced. As a result, the penetrating current supplied from the external terminal is efficiently supplied to the selected FAMO3) transistor, so that an efficient write operation can be performed. Note that during the read operation, the conductance of the MO3FETQIO is made relatively large by the high level of the control signal;1. This results in
This increases the read speed.

上記1つのメモリブロックを構成する各データ線D1〜
Dnは、上記アドレスデコーダDCR(Y)によって形
成された選択信号を受けるカラム(列)3y、択スイッ
チMo5FETQ7〜Q9を介して、共通データ線CD
に接続される。共通データicDは、各メモリブロック
に対応して設けられる。共通データ′IacDには、外
部端子I10から入力される書込み信号を受ける書込み
用のデータ入カバソファDIBの出力端子が接続される
Each data line D1~ constituting one memory block above
Dn is connected to a common data line CD via a column 3y receiving a selection signal formed by the address decoder DCR(Y) and selection switches Mo5FETQ7 to Q9.
connected to. Common data icD is provided corresponding to each memory block. The common data 'IacD is connected to an output terminal of a data input cover sofa DIB for writing which receives a write signal input from an external terminal I10.

第2図に示した他のメモリブロックM−ARYIないし
M−ARY7に対しても、上記同様なカラム選択回路ス
イッチMO3FETが設けられ、それに対応したアドレ
スデコーダYDCROないしYDCR3により選択信号
が形成される。なお、アドレスデコーダYDCROない
しYDCR3は、特に制限されないが、それぞれメモリ
ブロックM−ARYOと1、M−ARY2と3、M−A
RY4と5及びM−ARY6と7のように2つのメモリ
ブロックに対して共通の選択信号を形成する。
The other memory blocks M-ARYI to M-ARY7 shown in FIG. 2 are also provided with column selection circuit switches MO3FET similar to those described above, and selection signals are generated by corresponding address decoders YDCRO to YDCR3. Note that the address decoders YDCRO to YDCR3 are not particularly limited to, but are respectively connected to memory blocks M-ARYO and 1, M-ARY2 and 3, and M-A.
A common selection signal is formed for two memory blocks such as RY4 and RY5 and M-ARY6 and 7.

これによって、各メモリブロックにつき1ビツトづつ、
合計で8ビツトの単位でのメモリアクセスが行われる。
This allows one bit for each memory block.
Memory access is performed in units of 8 bits in total.

上記各メモリブロックM−ARYOないしM−ARY7
のそれぞれに対応して設けられる共通データ線CDには
、それぞれセンスアンプSAOないしSA7の入力段回
路を構成し、次に説明する初段増幅回路PAが設けられ
る。
Each of the above memory blocks M-ARYO to M-ARY7
A first stage amplifier circuit PA, which constitutes an input stage circuit of sense amplifiers SAO to SA7 and will be described next, is provided on the common data line CD provided corresponding to each of the sense amplifiers SAO to SA7.

すなわち、7JiJ1図において、上記列示的に示され
ている共通データIcDには、そのソースが接続された
Nチャンネル型の増幅MO3FETQ11が設けられる
。この増幅M OS F E T Q 11のドレイン
と電源電圧端子Vccとの間には、そのゲートに回路の
接地電位の印加されたPチャンネル型の負荷M OS 
F E T Q 12が設けられる。上記負荷M OS
 F E T Q 12は、読み出し動作のために共通
データ線CDにプリチャージ電流を流すような動作を行
う。
That is, in FIG. 7JiJ1, the common data IcD shown in the above column is provided with an N-channel amplification MO3FETQ11 whose source is connected. Between the drain of this amplification MOS FET Q11 and the power supply voltage terminal Vcc, there is a P-channel type load MOS to which the circuit ground potential is applied to its gate.
FETQ 12 is provided. Above load M OS
The FETQ 12 performs an operation such as flowing a precharge current to the common data line CD for a read operation.

上記増幅MO3FETQI 1の怒度を高くするため、
共通データ線CDの電圧;よ、Nチャンネル型の駆動M
 OS F E T Q L 3とPチャンネル型の負
荷MOSFETQI 4とからなる反転増幅回路の入力
である駆動MO3FETQ13のゲートに供給される。
In order to increase the anger level of the amplified MO3FETQI 1,
Voltage of common data line CD; N-channel type drive M
The signal is supplied to the gate of the drive MO3FETQ13, which is the input of the inverting amplifier circuit consisting of the OSFETQL3 and the P-channel type load MOSFETQI4.

この反転増4■回路の出力電圧は、上記増幅MO3FE
TQI 1のゲートに供給される。
The output voltage of this inverting amplifier 4■ circuit is
Supplied to the gate of TQI 1.

さらに、センスアンプの非動作期間での無駄な電流消費
を防止するため、上記増幅MOS F ETQllのゲ
ートと回路の接地電位点との間には、N゛  チャンネ
ルMO3FETQI 5が設けられる。このMO3FE
TQI 5と上記PチャンネルMO3FETQ14のゲ
ートには、共通にセンスアンプの動作タイミング信号s
cが供給される。
Further, in order to prevent wasteful current consumption during the non-operation period of the sense amplifier, an N-channel MO3FETQI5 is provided between the gate of the amplification MOS FETQll and the ground potential point of the circuit. This MO3FE
The sense amplifier operation timing signal s is commonly applied to the gates of TQI 5 and the P-channel MO3FETQ14.
c is supplied.

メモリセルの読み出し時において、センスアンプ動作タ
イミング信号7丁はロウレベルにされ、MO3FETQ
I 4はオン状態に、MOS F ETQ15はオフ状
態にされる。メモリセルは、書込みデータに従って、ワ
ード線の選択レベルに対して高いしきい値電圧か又は低
いしきい値電圧を持つものである。
When reading a memory cell, the sense amplifier operation timing signal 7 is set to low level, and MO3FETQ
I4 is turned on and MOS FETQ15 is turned off. The memory cell has a threshold voltage higher or lower than the selected level of the word line, depending on the write data.

各アドレスデコーダX−DCR,Y−DCRによって選
択されたメモリセルがワード線が選択レベルにされてい
るにもかかわらずオフ状態にされている場合、共通デー
タ線CDは、MOS F ETQ12とQllからの電
流供給によって比較的ハイレベルにされる。一方、選択
されたメモリセルがワード線選択レベルによってオン状
態にされている場合、共通データ線CDは比較的ロウレ
ベルにされる。
If the memory cell selected by each address decoder X-DCR, Y-DCR is turned off even though the word line is set to the selection level, the common data line CD is The current is supplied to a relatively high level. On the other hand, when the selected memory cell is turned on by the word line selection level, the common data line CD is set to a relatively low level.

この場合、共通データ線CDのハイレベルは、このハイ
レベルの電位を受ける反転増幅回路により形成された比
較的低いレベルの出力電圧がMO3FETQIIのゲー
トに供給されることによって比較的低い電位に制限され
る。一方、共通データ、JCDのロウレベルは、このロ
ウレベルのt 位を受ける反転増幅回路により形成され
た比較的高いレベルの電圧がMO3FETQI 1のゲ
ートに供給されることによって比較的高い電位に制限さ
れる。このような共通データvACDのハイレベルとロ
ウレベルとを制限すると、この共通データ線CD等に信
号変化速度を制限する浮遊容量等の容量が存在するにか
かわらずに、読み出しの高速化を図ることができる。す
なわち、複数のメモリセルからのデータを次々に読み出
すような場合において共通データ線CDの一方のレベル
が他方のレベルへ変化させられるまでの時間を短くする
ことができる、このような高速読み出し動作のために、
上記負荷MO3FETQI 2のコンダクタンスは比較
的大きく設定される。
In this case, the high level of the common data line CD is limited to a relatively low potential by supplying a relatively low level output voltage formed by an inverting amplifier circuit that receives this high level potential to the gate of MO3FETQII. Ru. On the other hand, the low level of the common data JCD is limited to a relatively high potential by supplying a relatively high level voltage formed by an inverting amplifier circuit receiving the low level t to the gate of the MO3FET QI1. By restricting the high level and low level of the common data vACD, it is possible to speed up the readout, regardless of the existence of stray capacitance or the like that limits the signal change speed on the common data line CD. can. In other words, such a high-speed read operation can shorten the time it takes for one level of the common data line CD to change to the other level when data is read out one after another from a plurality of memory cells. for,
The conductance of the load MO3FETQI2 is set relatively large.

なお、上記増幅用のMO3FETQI 1は、ゲート接
地型ソース入力の増幅動作を行い、その出力信号をCM
OSインバータ回路によって構成されたセンスアンプS
Aに伝える。そして、このセンスアンプSAの出力信号
は、対応したデータ出力バッファDOBによって、特に
制限されないが、増幅されて上記外部端子I10から送
出される。
Note that the MO3FET QI 1 for amplification performs the amplification operation of the gate-grounded source input, and outputs the output signal to the CM
Sense amplifier S configured by OS inverter circuit
Tell A. The output signal of this sense amplifier SA is amplified by the corresponding data output buffer DOB, although not particularly limited, and is sent out from the external terminal I10.

また、上記外部端子I10から供給される書き込み信号
は、データ入カバソファDIRを介して、上記共通デー
タ線CDに伝えられる。他のメモリブロックに対応した
共通データ線と外部端子との間においても、上記同様な
入力段回路及びセンスアンプ並びにデータ出力バッファ
からなる読み出し回路と、データ人カバソファからなる
書き込み回路とがそれぞれ設けられる。
Further, the write signal supplied from the external terminal I10 is transmitted to the common data line CD via the data input buffer DIR. Also between the common data line corresponding to other memory blocks and the external terminal, a read circuit consisting of an input stage circuit, a sense amplifier, and a data output buffer similar to the above, and a write circuit consisting of a data buffer sofa are provided, respectively. .

タイミング制御回路C0NTは、外部端子CB。The timing control circuit C0NT is connected to an external terminal CB.

OE、PGM及びVPI)に供給されるチップイネーブ
ル信号、アウトプットイネーブル信号、プログラム信号
及び書込み用高電圧に応じて、内部制御信号ce、wτ
、sc等のタイミング信号、及びアドレスデコーダに選
択的に供給する読み出し用低電圧Vcc/書き込み用高
電圧vpp等を形成する。
Internal control signals ce, wτ according to the chip enable signal, output enable signal, program signal and high voltage for writing supplied to OE, PGM and VPI)
, sc, etc., and a read low voltage Vcc/write high voltage Vpp to be selectively supplied to the address decoder.

例えば、チップイネーブル信号CEがロウレベルで、ア
ウトプットイネーブル信号OBかへイレベルで、プログ
ラム信号PGMがロウレベルなら、書き込みモードとさ
れ、上記内部信号veはロウレベルにceはハイレベル
にされる。そして、アドレスデコーダ回路XDCR,Y
DCR及びデータ入力回路DIRには、その動作電圧と
して高電圧vppが供給される。
For example, if the chip enable signal CE is at a low level, the output enable signal OB is at a high level, and the program signal PGM is at a low level, the write mode is set, and the internal signal ve is set at a low level and ce is set at a high level. And address decoder circuit XDCR,Y
A high voltage vpp is supplied to the DCR and data input circuit DIR as its operating voltage.

また、チップイネーブル信号CBがロウレベルで、アウ
トプットイネーブル信号OEがロウレベルで、プログラ
ム信号PGMがハイレベルでvppが書込み用高電圧な
ら、ベリファイモードとされ、上記内部信号weとce
はハイレベルにされる。
Furthermore, if the chip enable signal CB is at a low level, the output enable signal OE is at a low level, the program signal PGM is at a high level, and vpp is a high voltage for writing, the verify mode is entered, and the internal signals we and ce are
is raised to a high level.

このベリファイモードで;、ま、各回路XDCR,YD
CR及びDIBには、その動作電圧が上記高電圧vpp
から電源電圧Vccのように切り換えられて供給される
In this verify mode, each circuit XDCR, YD
The operating voltage of CR and DIB is the above-mentioned high voltage vpp.
It is switched and supplied like the power supply voltage Vcc from .

さらに、チップイネーブル信号CEがロウレベルで、ア
ウトプットイネーブル信号OEがロウレベルで、プログ
ラム信号PGMがハイレベルでVppが読み出し用低電
圧(Vccと同じレベル)なら、読み出しモードとされ
、上記内部信号weとceはハイレベルにされる。
Furthermore, if the chip enable signal CE is at low level, the output enable signal OE is at low level, the program signal PGM is at high level, and Vpp is a low voltage for reading (same level as Vcc), the read mode is entered, and the internal signal we and ce is set to high level.

この実施例においては、上記EFROM装置からの読み
出し動作における回路の接地電位に発生するノイズレベ
ルの低減を図るために、上記センスアンプSAOないし
SA7のロジックスレッショルド電圧は、次のように設
定される。すなわち、第2図に示すチップchip上で
ワード線選択手段(回路)である上記アドレスデコーダ
XDCRに対して最も遠い位置に配置されるメモリブロ
ックM−ARY7に対応したセンスアンプSATのロジ
ックスレッショルド電圧VL7は、特に制限されないが
、第3図に示すように、上記初段増幅回路PAの出力信
号(読み出しハイレベルとロウレベル)のぼり中間レベ
ルに設定される。
In this embodiment, in order to reduce the noise level generated at the ground potential of the circuit during the read operation from the EFROM device, the logic threshold voltages of the sense amplifiers SAO to SA7 are set as follows. That is, the logic threshold voltage VL7 of the sense amplifier SAT corresponding to the memory block M-ARY7 located farthest from the address decoder XDCR, which is the word line selection means (circuit), on the chip shown in FIG. Although not particularly limited, as shown in FIG. 3, is set to an intermediate level of the output signal (read high level and low level) of the first stage amplifier circuit PA.

これ(VL7)を基準にして、上記アドレスデコーダX
DCRに近い位置に配置されるメモリブロックM−AR
Y6ないしM−ARYQの順に、センスアンプSA6な
いしSAOのロジックスレッショルド電圧VL6ないし
VLOは、段階的にロウレベル側に偏倚される。言い換
えるならば、上記アドレスデコーダXDCRに隣接して
配置されるメモリブロックM−ARYOに対応したセン
スアンプSAOのロジックスレッショルド電圧VLOが
最も低い電位にされ、順にセンスアンプSA1ないしS
A7の順に、そのロジックスレッショルド電圧VLIな
いしVL7が段階的に高くされる。上記各センスアンプ
SAOないしSA7の出力信号は、それぞれ前述のよう
に増幅動作を行うデータ出力バツアDOBを介して外部
端子へ送出される。上記のようなセンスアンプSAOな
いしSA7のロジックスレッショルド電圧の設定は、セ
ンスアンプが上記のようにCMOSインバータ回路によ
り構成されている場合、PチャンネルM03FETとN
チャンネル間O3FETとノコンダクタンス比を適当に
設定することによって実現できる。例えば、上記読み出
しハイレベルとロウレベルの中間電位にロジックスレッ
ショルド電圧VL7が設定されるセンスアンプSATは
、Pチャンネル間O8FETとNチャンネルMO8FE
Tとのコンダクタンスがぼり等しくされる。そして、そ
のロジックスレッショルド電圧がロウレベル側に偏倚さ
せられる他のセンスアンプSA6ないしSAOは、それ
ぞれのロジックスレッショルド電圧VL6ないしVLO
に応じて、Pチャンネル長OS F ETのコンダクタ
ンスをそれぞれ同じくした場合には、NチャンネルMO
S F ETのコンダクタンスが線SA6〜SAOの順
に大きく設定される。前記コンダクタンスの設定は、キ
ャリア(電子又は正孔)の移動度の差を考慮した上で、
NチャンネルMOS F ETとPチャンネルMO3F
ETとのL/W(チャンネル長/チャンネル幅)の比を
適当に設定することにより実現できる。
Based on this (VL7), the address decoder
Memory block M-AR located near the DCR
In the order of Y6 to M-ARYQ, the logic threshold voltages VL6 to VLO of the sense amplifiers SA6 to SAO are biased stepwise to the low level side. In other words, the logic threshold voltage VLO of the sense amplifier SAO corresponding to the memory block M-ARYO arranged adjacent to the address decoder XDCR is set to the lowest potential, and the sense amplifiers SA1 to S
In the order of A7, the logic threshold voltages VLI to VL7 are increased stepwise. The output signals of each of the sense amplifiers SAO to SA7 are sent to an external terminal via the data output buffer DOB which performs the amplification operation as described above. Setting the logic threshold voltage of the sense amplifiers SAO to SA7 as described above is based on the P-channel M03FET and N
This can be achieved by appropriately setting the inter-channel O3FET and the no-conductance ratio. For example, the sense amplifier SAT, in which the logic threshold voltage VL7 is set to the intermediate potential between the read high level and the low level, has a P-channel inter-channel O8FET and an N-channel MO8FE.
The conductance with T is made equal. The other sense amplifiers SA6 to SAO whose logic threshold voltages are biased to the low level side have their respective logic threshold voltages VL6 to VLO.
If the conductance of the P-channel length OS FET is made the same,
The conductance of S FET is set to increase in the order of lines SA6 to SAO. The conductance is set by taking into account the difference in the mobility of carriers (electrons or holes).
N-channel MOS FET and P-channel MO3F
This can be realized by appropriately setting the L/W (channel length/channel width) ratio with respect to ET.

外部端子I10において全ビットについてハイレベルの
読み出しが行われた後にロウレベルの読み出しが行われ
とき、外部端子I10のハイレベルがロウレベルに引き
抜かれるため、回路の接地線に大きなノイズレベルが現
れる。このようなワーストケースにおいて、第3図に示
すように、上記のようにワード線選択回路であるアドレ
スデコーダXDCRに最も近い位置に配置されるメモリ
ブロックM−ARYOからのハイレベル読み出し信号M
Oは、ワード線における抵抗成分とその寄生容量等によ
って、最も早く立ち上がる。ここで、信号MOは、メモ
リブロックM−ARYOに対応する共通データ′acD
の電位を受けた上記初段増幅回路PAの出力である。上
記のようにセンスアンプSAOのロジックスレッショル
ド電圧VLOが最もロウレベル側に偏倚されていること
から、センスアンプSAOの出力が最も早いタイミング
でハイレベルからロウレベルに変化する。これに応じて
、上記メモリブロックM−ARYOからの読み出し信号
MOを外部端子I10に出力させるデータ出力バッファ
DOBの出力が最初にハイレベルからロウレベルに変化
する。1つのデータ出力バッファの動作により、回路の
接地電位線(つまり接地電位端子V ss)に、ノイズ
NOが表れる。
When a low level read is performed after all bits have been read at the high level at the external terminal I10, the high level at the external terminal I10 is pulled out to the low level, so a large noise level appears on the ground line of the circuit. In such a worst case, as shown in FIG. 3, the high-level read signal M from the memory block M-ARYO located closest to the address decoder XDCR, which is the word line selection circuit, as described above.
O rises fastest due to the resistance component in the word line and its parasitic capacitance. Here, the signal MO is the common data 'acD corresponding to the memory block M-ARYO.
This is the output of the first stage amplifier circuit PA which receives the potential. Since the logic threshold voltage VLO of the sense amplifier SAO is biased to the lowest level side as described above, the output of the sense amplifier SAO changes from high level to low level at the earliest timing. In response to this, the output of the data output buffer DOB which outputs the read signal MO from the memory block M-ARYO to the external terminal I10 first changes from high level to low level. Due to the operation of one data output buffer, noise NO appears on the ground potential line (that is, the ground potential terminal Vss) of the circuit.

以下、メモリブロックM−ARYIないしM−ARY7
の順に、上記読み出し信号M1ないしM7が、ワード線
における抵抗成分とその寄生容量に応じて順次遅れてロ
ウレベルからハイレベルに変化すること、及びそれを検
出するセンスアンプSAIないしSATのロジックスレ
ッショルド電圧VLIないしVL7の電位が段階的にロ
ウレベル側からハイレベル側に設定されていることによ
って、各センスアンプSAIないしSATの出力信号が
時系列的にハイレベルからロウレベルに変化する。した
がって、それぞれのデータ出力バッファDOBの出力信
号も、時系列的にハイレベルからロウレベルに変化する
。このため、各データ出力バッファDOBの実質的な動
作タイミングが時系列的に行われる結果、それぞれの動
作タイミングで回路の接地線のノイズN1ないしN7も
時系列的に発生し、その平均的なノイズレベルが大幅に
低減できる。この場合、上記のように、アドレスデコー
ダXDCRから最も遠い位置に配置されるメモリブロッ
クM−ARY7に対応したセンスアンプSATのロジッ
クスレッショルド電圧VL7の電位を、上記のように読
み出しハイレベルとロウレベルの中間電位に設定される
でいることから、動作速度を犠牲にすることなく、上記
のようにノイズレベルの低減化を図ることができる。
Below, memory blocks M-ARYI to M-ARY7
In this order, the read signals M1 to M7 change from a low level to a high level with a delay depending on the resistance component in the word line and its parasitic capacitance, and the logic threshold voltage VLI of the sense amplifier SAI to SAT that detects this changes. By setting the potentials of VL7 to VL7 stepwise from the low level side to the high level side, the output signals of the respective sense amplifiers SAI to SAT change from high level to low level in time series. Therefore, the output signal of each data output buffer DOB also changes from high level to low level in time series. Therefore, as a result of the fact that the actual operation timing of each data output buffer DOB is performed in chronological order, the noise N1 to N7 of the grounding line of the circuit also occurs in chronological order at each operation timing, and the average noise is level can be significantly reduced. In this case, as described above, the potential of the logic threshold voltage VL7 of the sense amplifier SAT corresponding to the memory block M-ARY7 located farthest from the address decoder Since the voltage is set to the potential, the noise level can be reduced as described above without sacrificing the operating speed.

なお、外部端子へのハイレベルの読み出し動作において
は、センスアンプSAOのロジックスレッショルド電圧
がロウレベル側に偏倚されていることから、メモリブロ
ックM−ARYOからの読み出し信号ロウレベルの判定
が遅くされる。しかしながら、このメモリブロックM−
ARYOは、ワード線選択回路に最も近い位置に配置さ
れている。このため、そのワード線の選択動作が早(さ
れるため、上記外部端子へのハイレベルの読み出し動作
が遅くされてしまうことが防止できる。このことは、他
のメモリブロックにおいても同様であり、そのセンスア
ンプのロジンクスレッショルド電圧の設定によるハイレ
ベルの読み出し動作の遅延は、ワード線の選択動作の時
間差によりはり相殺させることができる。これによって
、ハイレベルの読み出し出力動作の高速化が妨げること
はない。
Note that in a high-level read operation to an external terminal, since the logic threshold voltage of the sense amplifier SAO is biased toward the low level side, determination of the low level of the read signal from the memory block M-ARYO is delayed. However, this memory block M-
ARYO is placed closest to the word line selection circuit. Therefore, since the selection operation of the word line is performed quickly, it is possible to prevent the read operation of the high level to the external terminal from being delayed. This also applies to other memory blocks. The delay in high-level read operations caused by the setting of the sense amplifier's rosin threshold voltage can be offset by the time difference between word line selection operations.This prevents high-level read output operations from becoming faster. There isn't.

上記の実施例から得られる作用効果は、下記の通りであ
る。すわなち、 (1)メモリアレイを構成する共通のワード線に複数の
メモリブロックが構成され、そのメモリブロックのうち
ワード線選択回路に対して近い位置に配置されるメモリ
ブロックから順に、それぞれ読み出し信号を受けるセン
スアンプのロジックスレッショルド電圧を偏倚させて、
外部端子に送出される出力信号のロウレベルに対応した
記憶情報の読み出しを早くさせることにより、ワード線
の選択回路に対して近い位置に配置されるメモリブロッ
クから順に記憶情報の読み出し信号が時系列的に出力さ
れるため、出力ロウレベルの読み出し動作速度を犠牲に
することな(ノイズレベルを低減できるという効果が得
られる。
The effects obtained from the above examples are as follows. In other words, (1) A plurality of memory blocks are configured on a common word line constituting a memory array, and each memory block is read out in order from the memory block located at a position close to the word line selection circuit among the memory blocks. By biasing the logic threshold voltage of the sense amplifier that receives the signal,
By speeding up the readout of stored information corresponding to the low level of the output signal sent to the external terminal, the readout signal of stored information is read out in chronological order starting from the memory block located near the word line selection circuit. Therefore, the effect of reducing the noise level can be obtained without sacrificing the read operation speed of the output low level.

(2)上記(1)により、ハイレベルの出力読み出し動
作においては、センスアンプのロジックスレッショルド
電圧の偏倚によって遅くされる分を、ワード線の選択動
作のタイミングではソ゛相殺させることができるから、
その動作の高速化が妨げられることがないという効果が
得られる。
(2) According to (1) above, in the high-level output read operation, the delay caused by the deviation of the logic threshold voltage of the sense amplifier can be offset by the timing of the word line selection operation.
The effect is that the speeding up of the operation is not hindered.

(3)上記ワード線選択回路に対するメモリブロックの
レイアウト位置に対応して、センスアンプのロジックス
レッショルド電圧を偏倚させるという極めて簡単な構成
によって、上記ノイズレベルを低減しつつ動作の高速化
を図ることができるという効果が得られる。
(3) By using an extremely simple configuration in which the logic threshold voltage of the sense amplifier is biased in accordance with the layout position of the memory block with respect to the word line selection circuit, it is possible to reduce the noise level and increase the speed of operation. You can get the effect that you can.

また、センスアンプの出力を出カバソファで反転して外
部端子に出力するような場合は、アドレスデコーダXD
CRに対して最も遠いメモリブロックに対応するセンス
アンプから近い方へ順に、そのロジックスレッショルド
電圧が大きくされる。
Also, if you want to invert the output of the sense amplifier with an output sofa and output it to an external terminal, use the address decoder XD.
The logic threshold voltages of the sense amplifiers are increased in order from the sense amplifier corresponding to the memory block farthest to the CR toward the nearest memory block.

なお、この場合は、ワード線の遅延を考慮してノイズの
発生が分散するようにされる。
Note that in this case, noise generation is dispersed in consideration of the delay of the word line.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではな(、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない0例えば、メモリアレイ
M−ARYは、上記のFAMOSトランジスタを用いる
ものの他、マスクROMや、MNOS (メタル・ナイ
トライド・オキサイド・セミコンダクタ)やFLOTO
X型のEEPROM (エレクトリカリ・イレーザブル
&プログラマブルROM)等であってもよい。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained based on Examples above, this invention is not limited to the above Examples (although it is possible to make various changes without departing from the gist of the invention). For example, the memory array M-ARY uses mask ROM, MNOS (metal nitride oxide semiconductor), and FLOTO in addition to those using the FAMOS transistors mentioned above.
It may be an X-type EEPROM (Electrically Erasable & Programmable ROM) or the like.

また、全メモリブロックのワード線は、1つの共通のア
ドレスデコーダにより選択されるものの他、例えば第2
図において、アドレスデコーダXDCRを8組のメモリ
ブロックの中央(メモリブロックM−ARY3とM−A
RY4との間)に配置して、左右に分けられたメモリブ
ロックに対応して一対のワード線が配置されるものであ
ってもよい。
In addition to the word lines of all memory blocks selected by one common address decoder, the word lines of all memory blocks are
In the figure, the address decoder XDCR is located at the center of eight memory blocks (memory blocks M-ARY3 and M-A
RY4), and a pair of word lines may be arranged corresponding to memory blocks divided into left and right.

この場合、上記アドレスデコーダXDCRに対してM−
ARY3とM−ARY4が最も近い位置に配置され、メ
モリブロックM−ARYOとM−ARY7とが最も遠い
位置に配置されることになる。
In this case, M-
ARY3 and M-ARY4 are arranged at the closest positions, and memory blocks M-ARYO and M-ARY7 are arranged at the farthest positions.

このようなワード線選択回路に対するメモリブロックの
位置関係から、それぞれのセンスアンプSAOないしS
A7のロジックスレッショルド電圧の偏倚が上記同様に
行われる。
Due to the positional relationship of the memory blocks with respect to the word line selection circuit, each sense amplifier SAO to S
The biasing of the logic threshold voltage of A7 is performed as above.

また、センスアンプは、CMOSインバータ回路の他、
差動増幅回路であってもよい。この場合には、所定の基
準電圧発生回路から上記のようなレベル関係に設定され
るロジックスレッショルド電圧が形成される。
In addition to the CMOS inverter circuit, the sense amplifier
It may also be a differential amplifier circuit. In this case, a logic threshold voltage set in the above level relationship is generated from a predetermined reference voltage generation circuit.

以上の説明では主として本願発明者によってなされた発
明をその背景となった技術分野であるEF ROM装置
に適用した場合について説明したが、これに限定される
ものではなく、複数ビットの読み出しが行われる複数の
メモリブロックが共通のワード線に結合される構成の半
導体記憶装置に広く利用できる。
The above explanation has mainly been about the case where the invention made by the inventor of the present application is applied to an EF ROM device, which is the technical field behind the invention, but the invention is not limited to this, and the invention is not limited to this, and the invention is not limited to this. The present invention can be widely used in semiconductor memory devices in which a plurality of memory blocks are connected to a common word line.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を節単に説明すれば、下記の通りである
。すなわち、メモリアレイを構成する共通のワード線に
複数のメモリブロックが構成され、そのメモリブロック
のうちワード線選択回路に対して近い位置に配置される
メモリブロックから順に、それぞれ読み出し信号を受け
るセンスアンプのロジックスレッショルド電圧を偏倚さ
せて、外部端子に送出される出力信号のロウレベルに対
応した記憶情報の読み出しを早くさせることにより、ワ
ード線の選択回路に対して近い位置に配置されるメモリ
ブロックから順に記憶情報の読み出し信号が時系列的に
出力されるため、出力ロウレベルの読み出し動作速度を
犠牲にすることなくノイズレベルを低減できる。
A brief explanation of the effects obtained by typical inventions disclosed in this application is as follows. In other words, a plurality of memory blocks are configured on a common word line that constitutes a memory array, and a sense amplifier receives a read signal from each memory block in order from the memory block located near the word line selection circuit. By biasing the logic threshold voltage of the memory block to speed up the reading of stored information corresponding to the low level of the output signal sent to the external terminal, Since the readout signal of the stored information is outputted in a time-series manner, the noise level can be reduced without sacrificing the readout operation speed of the output low level.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、この発明が適用されたEPROM装置の一実
施例を示す回路図、 第2図は、そのメモリアレイM−ARYと選択回路及び
センスアンプの全体を示すブロック図、第3図は、その
読み出し動作の一例を説明するための動作波形図である
。 XADB、YADB・・アドレスバッファ、XDCR・
・Xアドレスデコーダ、YDCRO〜3・・Yアドレス
デコーダ、MARY・・メモリアレイ、M−ARYO〜
7・・メモリブロック、5A(SAO〜7)・・センス
アンプ、DIR・・データ入カバソファ、DOB・・デ
ータ出力バッファ、C0NT・・タイミング制御回路代
理人弁理士 小川 勝馬  、 ・]ニ 第1図 −()V a 。 智Van 第2図 第3図 v881Δ:−−−−J〜−
FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of an EPROM device to which the present invention is applied. FIG. 2 is a block diagram showing the entire memory array M-ARY, selection circuit, and sense amplifier. , is an operation waveform diagram for explaining an example of the read operation. XADB, YADB... address buffer, XDCR...
・X address decoder, YDCRO~3...Y address decoder, MARY...memory array, M-ARYO~
7...Memory block, 5A (SAO ~ 7)...Sense amplifier, DIR...Data input cover sofa, DOB...Data output buffer, C0NT...Timing control circuit Patent attorney Katsuma Ogawa, ・ ] Ni Fig. 1 -()Va. Ji Van Fig. 2 Fig. 3 v881Δ:---J~-

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、記憶情報に従ってゲートに結合されるワード線の選
択レベルに対して実質的に高いしきい値電圧又は低いし
きい値電圧を持つようにされた記憶素子がマトリックス
配置され、共通のワード線に複数のメモリブロックが構
成されるメモリアレイと、上記各メモリブロックに対応
された複数からなるデータ読み出し回路とを含み、上記
複数のデータ読み出し回路のうち、ワード線選択回路に
対して近い位置に配置されるメモリブロックから順に、
それぞれ読み出し信号を受けるセンスアンプのロジック
スレッショルド電圧を、外部端子に送出される出力信号
のロウレベルに対応した記憶情報の読み出しを早くする
ようなレベルに偏倚させることを特徴とする半導体記憶
装置。 2、上記メモリブロックのうち、ワード線選択回路に対
して最も遠い位置に配置されるメモリブロックからの読
み出し信号を受けるセンスアンプのロジックスレッショ
ルドは、上記読み出し信号のハイレベルとロウレベルの
ほゞ中間レベルに設定されるものであることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の半導体記憶装置。
[Claims] 1. A matrix arrangement of memory elements having substantially higher or lower threshold voltages with respect to selected levels of word lines coupled to gates according to stored information; , a memory array configured with a plurality of memory blocks on a common word line, and a plurality of data readout circuits corresponding to each of the memory blocks, and among the plurality of data readout circuits, a word line selection circuit is provided. In order from the memory block located closest to the
A semiconductor memory device characterized in that logic threshold voltages of sense amplifiers each receiving a read signal are biased to a level that speeds up reading of stored information corresponding to a low level of an output signal sent to an external terminal. 2. The logic threshold of the sense amplifier that receives the read signal from the memory block located farthest from the word line selection circuit among the memory blocks mentioned above is approximately an intermediate level between the high level and the low level of the read signal. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the semiconductor memory device is set to .
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH065086A (en) * 1992-06-23 1994-01-14 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor memory device

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH065086A (en) * 1992-06-23 1994-01-14 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor memory device

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