JPS6353022B2 - - Google Patents

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JPS6353022B2
JPS6353022B2 JP58230360A JP23036083A JPS6353022B2 JP S6353022 B2 JPS6353022 B2 JP S6353022B2 JP 58230360 A JP58230360 A JP 58230360A JP 23036083 A JP23036083 A JP 23036083A JP S6353022 B2 JPS6353022 B2 JP S6353022B2
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JP
Japan
Prior art keywords
stamper
substrate
photopolymer
center boss
transparent substrate
Prior art date
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Expired
Application number
JP58230360A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS60122140A (en
Inventor
Shizuo Hirano
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Pioneer Corp
Original Assignee
Pioneer Electronic Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Pioneer Electronic Corp filed Critical Pioneer Electronic Corp
Priority to JP23036083A priority Critical patent/JPS60122140A/en
Publication of JPS60122140A publication Critical patent/JPS60122140A/en
Publication of JPS6353022B2 publication Critical patent/JPS6353022B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C43/00Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor
    • B29C43/32Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
    • B29C43/50Removing moulded articles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C33/00Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
    • B29C33/44Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor with means for, or specially constructed to facilitate, the removal of articles, e.g. of undercut articles
    • B29C33/442Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor with means for, or specially constructed to facilitate, the removal of articles, e.g. of undercut articles with mechanical ejector or drive means therefor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29DPRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D17/00Producing carriers of records containing fine grooves or impressions, e.g. disc records for needle playback, cylinder records; Producing record discs from master stencils
    • B29D17/005Producing optically read record carriers, e.g. optical discs

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、放射線硬化樹脂を用いた情報記録円
板(以下単にデイスクと称する)の製造装置に関
するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Technical Field The present invention relates to an apparatus for manufacturing an information recording disk (hereinafter simply referred to as a disk) using a radiation-curable resin.

背景技術 この種の装置においては、ベース上に接着剤等
で固定されたスタンパーの信号面上に液状の放射
線硬化樹脂を塗布し、その上に透明な基板を置
き、これを介して放射線を照射し放射線硬化樹脂
を硬化させてスタンパーに刻まれた信号を転写
し、しかる後硬化した樹脂層を透明基板と一体に
スタンパーから剥離することにより、デイスクを
製造するようになされている。そして剥離された
デイスクにアルミ蒸着膜をつけ、更にオーバーコ
ートすることにより完成品となるのである。
BACKGROUND TECHNOLOGY In this type of device, a liquid radiation-curable resin is applied onto the signal surface of a stamper fixed on a base with an adhesive, etc., a transparent substrate is placed on top of the signal surface, and radiation is irradiated through this. The disk is manufactured by curing the radiation-curable resin, transferring the signal engraved on the stamper, and then peeling the cured resin layer and the transparent substrate together from the stamper. Then, an aluminum vapor-deposited film is applied to the peeled disk, and an overcoat is applied to create the finished product.

従来、硬化した樹脂層を透明基板と一体にスタ
ンパーから剥離する場合、真空パツドや透明基板
の上面を吸引して引き上げる方法や、機械的なツ
メを用いて樹脂層の外周に引つ掛けて引き上げる
方法が採られていたが、前者の方法では引上げ力
に限界があり、20cm、30cmのデイスクとなると剥
離出来ない場合があり、また後者の方法にあつて
はツメの制御が複雑であると共にデイスクを損傷
し易いという欠点があつた。
Conventionally, when peeling off the cured resin layer from the stamper together with the transparent substrate, there have been two methods: suctioning and pulling up the top surface of the transparent substrate using a vacuum pad, or using mechanical claws to hook the outer periphery of the resin layer and pull it up. However, the former method has a limited pulling force and may not be able to peel off 20 cm or 30 cm discs, and the latter method requires complicated control of the claws and the disc cannot be removed easily. The disadvantage was that it was easy to damage the

発明の開示 本発明は、上記のような従来のものの欠点を除
去すべくなされたもので、デイスクを損傷するこ
となく迅速かつ確実に剥離を行うことができる情
報記録円板の製造装置を提供することを目的とす
る。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made to eliminate the drawbacks of the conventional ones as described above, and provides an information recording disk manufacturing apparatus that can quickly and reliably peel off the disk without damaging the disk. The purpose is to

本発明による製造装置においては、透明基板の
外周部をスタンパーに対して押えながら、その内
周部を担持した部材により内周部をスタンパーに
対して持ち上げる構成となつている。
In the manufacturing apparatus according to the present invention, the outer circumferential portion of the transparent substrate is pressed against the stamper, and the inner circumferential portion is lifted relative to the stamper by a member supporting the inner circumferential portion.

実施例 以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明す
る。
Embodiments Hereinafter, embodiments of the present invention will be described based on the drawings.

第1図において、本発明に係るデイスクの製造
装置は、スタンパーの信号面上に液状の放射線硬
化樹脂(以下フオトポリマーと称する)を塗布す
る工程を担う塗布装置1と、フオトポリマー上に
透明基板を載置し加圧して前記スタンパーに刻ま
れた信号をフオトポリマーに転写する工程及び次
の照射工程を経て硬化した樹脂層を前記透明基板
と一体にスタンパーから剥離する工程を担う転
写・剥離装置2と、スタンパーと透明基板との間
に充填されている液状のフオトポリマーを紫外線
照射によつて硬化させる工程を担う照射装置3と
からなり、各装置に亘つて設けられたリニアスラ
イド軌道台4上をテーブル本体5が移動すること
によつて上記一連の工程を連続して行い、デイス
クを製造する構成となつている。
In FIG. 1, the disk manufacturing apparatus according to the present invention includes a coating device 1 responsible for the process of coating a liquid radiation-curable resin (hereinafter referred to as photopolymer) on the signal surface of a stamper, and a transparent substrate on the photopolymer. A transfer/separation device is responsible for the step of placing and pressurizing the stamper to transfer the signal engraved on the stamper onto the photopolymer, and the step of peeling off the cured resin layer from the stamper together with the transparent substrate through the next irradiation step. 2, and an irradiation device 3 which is responsible for the process of curing the liquid photopolymer filled between the stamper and the transparent substrate by irradiating ultraviolet rays, and a linear slide track 4 provided across each device. By moving the table main body 5 above, the above-mentioned series of steps are performed continuously to manufacture a disk.

塗布装置1において、ベース板6上に直立した
ロツド7,7には基台8が上下動自在に取り付け
られ、この基台8には軸9が回転自在に取り付け
られている。第2図から明らかな様に、軸9はそ
の上端に固定されたプーリ10に架設されたベル
ト11を介して、基台8上に担持されたモータ1
2により回転駆動される。軸9の下端には吐出装
置13が取り付けられている。吐出装置13は軸
9の軸芯から所定距離Lだけ離れて設けられたニ
ードル部14を備え、このニードル部14を後述
するスタンパー15(第2図参照)の信号面上に
液状のフオトポリマーを一定量吐出する。このと
き吐出装置13がモータ12の回転に伴つて軸9
と一体に回転し、かつニードル部14が軸9の軸
芯から所定距離Lだけ離れているので、スタンパ
ー15の信号面上に吐出されるフオトポリマーは
上記所定距離Lを半径とする環状となる。上記所
定距離Lはニードル部14の位置を調整する調整
機構16によつて可変であり、スタンパー15の
信号面の面積、フオトポリマーの粘度等に応じて
適当に設定される。調整機構16は、ニードル部
14の本体に螺合した螺旋軸17及びこれを回転
せしめるハンドル18等により構成される。
In the coating device 1, a base 8 is attached to the rods 7, 7 upright on a base plate 6 so as to be vertically movable, and a shaft 9 is rotatably attached to the base 8. As is clear from FIG. 2, the shaft 9 is connected to the motor 1 supported on the base 8 via a belt 11 suspended over a pulley 10 fixed to the upper end of the shaft 9.
Rotationally driven by 2. A discharge device 13 is attached to the lower end of the shaft 9. The discharge device 13 includes a needle portion 14 provided a predetermined distance L from the axis of the shaft 9, and the needle portion 14 is used to apply liquid photopolymer onto the signal surface of a stamper 15 (see FIG. 2), which will be described later. Discharge a certain amount. At this time, as the motor 12 rotates, the discharge device 13
Since the needle portion 14 is separated by a predetermined distance L from the axis of the shaft 9, the photopolymer discharged onto the signal surface of the stamper 15 has a ring shape with a radius equal to the predetermined distance L. . The predetermined distance L is variable by an adjustment mechanism 16 that adjusts the position of the needle portion 14, and is appropriately set depending on the area of the signal surface of the stamper 15, the viscosity of the photopolymer, and the like. The adjustment mechanism 16 includes a helical shaft 17 screwed onto the main body of the needle portion 14, a handle 18 for rotating the helical shaft 17, and the like.

第3図において、転写・剥離装置2は、先述し
たテーブル本体5上に担持されて各装置間を移動
する下部ハウジング20と、上下動自在に設けら
れ下部ハウジング20とによつて適宜密閉室を形
成する上部ハウジング21とを含んでいる。下部
ハウジング20の上面凹部20aにはスタンパー
ベース22が嵌着され、下部ハウジング20の中
心孔20bには駆動部本体23が嵌着されてい
る。駆動部本体23の中心部にはシヤフト24が
上下動自在に挿通され、このシヤフト24の上端
には担持部材としてのセンターボス25が嵌着さ
れている。駆動部本体23とシヤフト24との間
にはスクレーパ26及びシール27が介在し、ベ
ース22の内周部においてOリング52a,52
bと協働してベース22と後述するサブストレー
トとの間の気密性を維持し、かつ加圧気体を緩衝
させる手段すなわち加圧室36aを構成する。シ
ヤフト24の下端にはカム押え28を介してカム
フオロア29が回転自在に設けられており、この
カムフオロア29はシヤフト30に固定されたカ
ム31のカム面に、スプリング32の弾発力によ
り圧接している。シヤフト30は図示せぬ駆動源
により適宜駆動され、これによりセンターボス2
5が上下動するが、通常は上昇位置にある。スタ
ンパーベース22上にはスタンパー15が接着剤
等により固着されている。スタンパー15最外周
部及び最内周部に沿つて環状溝33a,33bが
形成されており、これら環状溝33a,33bは
下部ハウジング20及び駆動部本体23にそれぞ
れ形成された連通路34a,34b及び真空配管
35,36を介して減圧手段である図示せぬ真空
ポンプに連通している。
In FIG. 3, the transfer/separation device 2 has a lower housing 20 supported on the table main body 5 and moved between the devices, and a lower housing 20 that is movable up and down to open a sealed chamber as appropriate. and an upper housing 21 forming the upper housing 21 . A stamper base 22 is fitted into the upper recess 20a of the lower housing 20, and a drive unit main body 23 is fitted into the center hole 20b of the lower housing 20. A shaft 24 is inserted into the center of the drive unit main body 23 so as to be vertically movable, and a center boss 25 serving as a supporting member is fitted onto the upper end of the shaft 24. A scraper 26 and a seal 27 are interposed between the drive unit main body 23 and the shaft 24, and O-rings 52a, 52 are provided at the inner circumference of the base 22.
b cooperates with each other to maintain airtightness between the base 22 and a substrate to be described later, and constitute means for buffering pressurized gas, that is, a pressurizing chamber 36a. A cam follower 29 is rotatably provided at the lower end of the shaft 24 via a cam holder 28, and this cam follower 29 is pressed against the cam surface of a cam 31 fixed to the shaft 30 by the elastic force of a spring 32. There is. The shaft 30 is appropriately driven by a drive source (not shown), and thereby the center boss 2
5 moves up and down, but is normally in the raised position. A stamper 15 is fixed onto the stamper base 22 with adhesive or the like. Annular grooves 33a and 33b are formed along the outermost and innermost peripheries of the stamper 15, and these annular grooves 33a and 33b connect to communication passages 34a and 34b formed in the lower housing 20 and the drive body 23, respectively. It communicates with a vacuum pump (not shown), which is a pressure reducing means, via vacuum pipes 35 and 36.

一方、上部ハウジング21は通常下部ハウジン
グ20から離間した位置に保持されており、塗布
工程から転写工程への移行が完了すると、下降し
て下部ハウジング20とによつて密閉室を形成す
る。上部ハウジング21にはその中心に関して等
角度にて例えば6個の真空パツド37が後述する
サブストレートの上面に吸着する吸着手段として
設けられ、更にこれら真空パツド37の外側には
これら真空パツド37間に位置するように例えば
6個の真空パツド38がそれぞれ上下動自在に設
けられている。これら真空パツド37,38は真
空配管39,40を介して図示せぬ真空ポンプに
連通しており、上部ハウジング21の上面に設け
られたジグシリンダ41,42によつて上下動せ
しめられる。ジグシリンダ41は、空−油変換を
行つた油駆動のもので、微速度送りが可能であ
る。上部ハウジング21の中央突出部21aに
は、センターボス25上に載置された透明基板
(以下サブストレートと称する)43の中央部を
押えるためのセンター押え44が上下動自在に嵌
合している。このセンター押え44はスプリング
45により下方に付勢され、ストツパー46によ
つて離脱防止が図られている。真空パツド37は
ハウジング密閉状態の初期においてサブストレー
ト43の上面に接触する高さ位置に保持されてい
る。
On the other hand, the upper housing 21 is normally held at a position separated from the lower housing 20, and when the transition from the coating process to the transfer process is completed, it is lowered to form a sealed chamber with the lower housing 20. For example, six vacuum pads 37 are provided on the upper housing 21 at equal angles with respect to its center as suction means for adhering to the upper surface of the substrate, which will be described later. For example, six vacuum pads 38 are provided so as to be movable up and down, respectively. These vacuum pads 37 and 38 are connected to a vacuum pump (not shown) via vacuum pipes 39 and 40, and are moved up and down by jig cylinders 41 and 42 provided on the upper surface of the upper housing 21. The jig cylinder 41 is oil-driven with air-to-oil conversion, and is capable of slow-speed feeding. A center presser 44 for pressing the center of a transparent substrate (hereinafter referred to as a substrate) 43 placed on the center boss 25 is fitted into the central protrusion 21a of the upper housing 21 so as to be movable up and down. . This center presser 44 is urged downward by a spring 45, and is prevented from coming off by a stopper 46. The vacuum pad 37 is held at a height in contact with the upper surface of the substrate 43 in the initial state of the housing being sealed.

スタンパー15の最外周部に沿つて形成された
環状溝33aを覆うための環状シール47が設け
られている。この環状シール47は石英ガラス、
アクリル樹脂等の紫外線透過性の材質からなり、
その上面凹部に固着された磁性板48が、上記ハ
ウジング21に適当な間隔で埋設されたマグネツ
ト49に吸着されることにより、上部ハウジング
21に取り付けられた状態に保持される。この環
状シール47は真空パツド38が減圧状態で上下
動するときに、これに吸引された状態で一体に上
下動し、降下状態にあるときには、真空パツド3
8と協働してサブストレート43の外周部をスタ
ンパー15に対して押しつける手段を構成すると
共に、ベース22の外周部においてOリング51
と協動してベース22とサブストレート43との
間の気密性を維持する手段を構成する。
An annular seal 47 is provided to cover an annular groove 33a formed along the outermost periphery of the stamper 15. This annular seal 47 is made of quartz glass.
Made of UV-transparent material such as acrylic resin,
A magnetic plate 48 fixed to the upper surface recess is held attached to the upper housing 21 by being attracted to magnets 49 embedded in the housing 21 at appropriate intervals. When the vacuum pad 38 moves up and down in a reduced pressure state, this annular seal 47 moves up and down together with the vacuum pad 38 while being attracted to it, and when it is in the descending state, the vacuum pad 3
8 to constitute a means for pressing the outer circumference of the substrate 43 against the stamper 15, and an O-ring 51 at the outer circumference of the base 22.
The base 22 and the substrate 43 cooperate with each other to maintain airtightness between the base 22 and the substrate 43.

転写工程が終了すると、上部ハウジング21が
上昇し、下部ハウジング20は第1図に示す照射
装置3の下方に移動する。そして照射装置3から
紫外線が照射され、これによりスタンパー15と
サブストレート43との間に充填されている液状
のフオトポリマーが硬化し、樹脂層を形成する。
照射工程が終了すると、下部ハウジング20は再
び上部ハウジング21の下方に移動し、剥離工程
に移行する。
When the transfer process is completed, the upper housing 21 is raised and the lower housing 20 is moved below the irradiation device 3 shown in FIG. Then, ultraviolet rays are irradiated from the irradiation device 3, whereby the liquid photopolymer filled between the stamper 15 and the substrate 43 is cured to form a resin layer.
When the irradiation process is completed, the lower housing 20 moves below the upper housing 21 again, and the peeling process begins.

スタンパー15の内周部及び外周部には、第4
図から特に明らかな様に、好ましくは45゜の傾き
を有する傾斜部15a,15bが形成されてい
る。スタンパー15の信号面上に環状に吐出され
た液状のフオトポリマーは、その上にサブストレ
ート43が載置されると、スタンパー15とサブ
ストレート43との間をスタンパー15の信号面
全面に亘つて広がるのであるが、このとき、スタ
ンパー15の内周部においては、フオトポリマー
が傾斜部15aの位置で表面張力と段差により円
形状に停止することになる。また、スタンパーの
外周部においては、硬化したフオトポリマーを剥
離するときに、はみ出したフオトポリマーが残り
易いのであるが、傾斜部15bが略45゜の傾斜角
度をなしているので、剪断応力によるすべり破壊
により、硬化後のフオトポリマーを残すことなく
剥離が行え、フオトポリマーの最外周部の剥離性
を向上できることになる。
On the inner and outer circumferential parts of the stamper 15, a fourth
As is particularly clear from the figure, the inclined portions 15a, 15b are preferably formed with an inclination of 45°. When the substrate 43 is placed on top of the liquid photopolymer discharged in an annular manner onto the signal surface of the stamper 15, it travels between the stamper 15 and the substrate 43 over the entire signal surface of the stamper 15. However, at this time, in the inner circumferential portion of the stamper 15, the photopolymer is stopped in a circular shape at the inclined portion 15a due to surface tension and the step. In addition, on the outer periphery of the stamper, when the cured photopolymer is peeled off, the protruding photopolymer tends to remain, but since the inclined portion 15b has an inclination angle of approximately 45°, slippage due to shear stress is prevented. By breaking, the photopolymer can be peeled off without leaving the cured photopolymer, and the peelability of the outermost portion of the photopolymer can be improved.

次に、本発明による製造装置の動作について説
明する。
Next, the operation of the manufacturing apparatus according to the present invention will be explained.

まず、第1図において、下部ハウジング20が
テーブル本体5と一体に吐出装置13の下方まで
移動し、塗布工程となる。塗布工程では、吐出装
置13が基台8と一体に下降し、ニードル部14
の先端がスタンパー15(第3図参照)の信号面
に近接した位置で停止し、しかる後モータ12の
駆動力によつて軸9と一体に回転する。これに伴
いニードル部14が軸9の周りを回動しつつ液状
のフオトポリマーをスタンパー15の信号面上に
吐出する。フオトポリマーとしては、例えば、粘
度が数10〜1000cps程度で、真空中においても粘
性や重量等の変化がないアクリルモノマーのもの
が用いられる。吐出されたフオトポリマーは軸9
とニードル部14との間の距離L(第2図参照)
を半径とする環状となる。吐出装置13が一回転
すると、フオトポリマーの吐出を停止し、初期位
置まで上昇する。塗布工程が終了すると、下部ハ
ウジング20が上部ハウジング21の下方まで移
動し、転写工程に移行する。
First, in FIG. 1, the lower housing 20 moves together with the table main body 5 to below the discharge device 13, and a coating process begins. In the coating process, the discharge device 13 descends together with the base 8, and the needle portion 14
The tip of the stamper 15 (see FIG. 3) stops at a position close to the signal surface of the stamper 15 (see FIG. 3), and then rotates together with the shaft 9 by the driving force of the motor 12. Accordingly, the needle portion 14 rotates around the shaft 9 and discharges liquid photopolymer onto the signal surface of the stamper 15. As the photopolymer, for example, an acrylic monomer having a viscosity of about several 10 to 1000 cps and whose viscosity, weight, etc. do not change even in a vacuum is used. The discharged photopolymer is attached to the shaft 9
and the needle portion 14 (see Fig. 2)
It becomes a ring shape with a radius of . When the discharge device 13 rotates once, it stops discharging the photopolymer and rises to the initial position. When the coating process is completed, the lower housing 20 moves below the upper housing 21, and the transfer process begins.

転写工程については、第3図及び第5図a〜e
に基づいて説明する。転写工程の初期状態におい
ては、第5図aに示す様に、下部ハウジング20
に対して上部ハウジング21が離間しており、ま
たサブストレート43を担持したセンターボス2
5及び真空パツド37,38は上昇している。こ
の初期状態から上部ハウジング21が下降し、第
5図bに示す様に、下部ハウジング20との間に
密閉室を形成する。上部、下部ハウジング21,
20の外縁部間にはOリング50が介在し、密閉
室の気密性を維持する。このとき、センター押え
44はスプリング45の弾発力によつてサブスト
レート43をセンターボスに25に押しつけ、ま
た真空パツド37はサブストレート43の上面に
接触し、更に負圧−650mmHg程度の真空度の減圧
状態とされることによりサブストレート43を吸
着する。その後、前記密閉室が下部ハウジング2
0に形成された連通路34a,34b及び真空配
管35,36を介して図示せぬ真空ポンプによ
り、負圧−500mmHg程度の真空度に減圧され、そ
の状態が保たれる。この状態では、真空パツド3
7内と密閉室内との間には約150mmHgの差圧があ
り、この差圧によりサブストレート43は真空パ
ツド37に吸着されている。
Regarding the transfer process, see Fig. 3 and Fig. 5 a to e.
The explanation will be based on. In the initial state of the transfer process, as shown in FIG. 5a, the lower housing 20
The upper housing 21 is spaced apart from the center boss 2 supporting the substrate 43.
5 and vacuum pads 37 and 38 are raised. The upper housing 21 descends from this initial state and forms a sealed chamber with the lower housing 20, as shown in FIG. 5b. upper and lower housings 21,
An O-ring 50 is interposed between the outer edges of the chamber 20 to maintain the airtightness of the sealed chamber. At this time, the center presser 44 presses the substrate 43 against the center boss 25 by the elastic force of the spring 45, and the vacuum pad 37 comes into contact with the upper surface of the substrate 43, and furthermore, the vacuum level is about -650 mmHg. The substrate 43 is adsorbed by being brought into a reduced pressure state. Thereafter, the sealed chamber is connected to the lower housing 2.
The pressure is reduced to a negative pressure of approximately -500 mmHg via communication passages 34a, 34b and vacuum pipes 35, 36 (not shown), and this state is maintained. In this state, vacuum pad 3
There is a pressure difference of approximately 150 mmHg between the inside of the vacuum pad 7 and the sealed chamber, and the substrate 43 is attracted to the vacuum pad 37 due to this pressure difference.

次いで、センターボス25がカム31の回転に
応動して下降する。このとき、サブストレート4
3の外周部は真空パツド37に吸着されており、
サブストレート43の内周部のみがセンターボス
25と一体に下降し、第5図cに示す様に、まず
サブストレート43の内周がスタンパー15上の
フオトポリマー2Pに接触する。これによりフオ
トポリマー2Pはその表面張力によりスタンパー
15の信号面の内周部全面に亘つて広がる。次い
で、第5図dに示す如く、真空パツド37が下降
すると、フオトポリマー2Pがスタンパー15と
サブストレート43との間に全面に亘つて充填さ
れることになる。このように、負圧−500mmHg程
度の真空度に減圧された密閉室内において、サブ
ストレート43をスタンパー15に対してその内
周部から外周部にかけて徐々に下降させることに
より、フオトポリマー2P内への泡の巻き込みを
極めて少なくすることができる。
Next, the center boss 25 moves down in response to the rotation of the cam 31. At this time, substrate 4
The outer periphery of 3 is attracted to the vacuum pad 37,
Only the inner periphery of the substrate 43 descends together with the center boss 25, and as shown in FIG. 5c, the inner periphery of the substrate 43 first contacts the photopolymer 2P on the stamper 15. As a result, the photopolymer 2P spreads over the entire inner circumference of the signal surface of the stamper 15 due to its surface tension. Next, as shown in FIG. 5d, when the vacuum pad 37 is lowered, the photopolymer 2P is filled between the stamper 15 and the substrate 43 over the entire surface. In this way, by gradually lowering the substrate 43 relative to the stamper 15 from the inner circumference to the outer circumference in a sealed chamber reduced to a vacuum level of about -500 mmHg, the substrate 43 is deposited into the photopolymer 2P. Entrainment of bubbles can be extremely reduced.

フオトポリマー2Pがスタンパー15とサブス
トレート43との間に充填されると、第5図eに
示す様に、環状シール47が真空パツド38によ
り吸着された状態で真空パツド38と共に下降
し、サブストレート43の外縁部を押えると共
に、スタンパー15の最外周部に沿つて形成され
た環状溝33aを覆う。このとき環状シール47
と下部ハウジング20との間にOリング51が介
在し、これにより環状溝33aの気密性が維持さ
れる。次いでサブストレート43の上方の密閉室
内が大気圧に戻されるが、環状溝33a,33b
が連通路34a,34bを介して減圧されてお
り、フオトポリマー2Pによる樹脂層が真空状態
になり、かつサブストレート43がスタンパー1
5に大気圧で押しつけられるので、樹脂層内に巻
き込まれた泡が真空源方向すなわちサブストレー
ト43の内周及び外周方向に押し出されて除去さ
れる。同時に樹脂層の厚さが約10μm以下に均一
に保たれる。その後上部ハウジング21が上昇
し、同時に真空パツド37も上部ハウジング21
に対して上昇する。環状シール47は環状溝33
aを覆つた状態を持続する。
When the photopolymer 2P is filled between the stamper 15 and the substrate 43, as shown in FIG. 43 and covers the annular groove 33a formed along the outermost periphery of the stamper 15. At this time, the annular seal 47
An O-ring 51 is interposed between the annular groove 33a and the lower housing 20, thereby maintaining the airtightness of the annular groove 33a. Next, the airtight chamber above the substrate 43 is returned to atmospheric pressure, but the annular grooves 33a, 33b
is reduced in pressure through the communication paths 34a and 34b, the resin layer made of the photopolymer 2P is in a vacuum state, and the substrate 43 is placed in the stamper 1.
5 at atmospheric pressure, bubbles caught in the resin layer are pushed out toward the vacuum source, that is, toward the inner and outer circumferences of the substrate 43, and are removed. At the same time, the thickness of the resin layer is kept uniform at about 10 μm or less. After that, the upper housing 21 is raised, and at the same time the vacuum pad 37 is also lifted up from the upper housing 21.
rises against. The annular seal 47 is connected to the annular groove 33
Keep a covered.

下部ハウジング20は、環状溝33a,33b
が減圧された状態で、第1図に示す照射装置3の
下方まで移動し、照射工程に移行する。照射工程
では、環状溝33a,33bの減圧によりフオト
ポリマー2Pからなる樹脂層はその厚みが約10μm
以下に保たれた状態でサブストレート43を介し
て照射装置3により紫外線照射を受け、硬化す
る。硬化した樹脂層の厚みは約10μm以下とな
る。サブストレート43の外縁部上には環状シー
ル47が存在するが、当該シール47は紫外線透
過性の材質からなつているので、樹脂層全体に亘
つて良好に紫外線が照射されることになる。照射
工程が終了すると、下部ハウジング20が再び上
部ハウジング21の下方まで移動し、剥離工程に
移行する。
The lower housing 20 has annular grooves 33a and 33b.
In a state where the pressure is reduced, it is moved to below the irradiation device 3 shown in FIG. 1, and the irradiation process begins. In the irradiation process, the resin layer made of photopolymer 2P has a thickness of about 10 μm due to the reduced pressure in the annular grooves 33a and 33b.
The substrate is irradiated with ultraviolet light by the irradiation device 3 through the substrate 43 while being maintained at the following temperature, and is cured. The thickness of the cured resin layer is about 10 μm or less. An annular seal 47 is present on the outer edge of the substrate 43, and since the seal 47 is made of a material that transmits ultraviolet rays, the entire resin layer is well irradiated with ultraviolet rays. When the irradiation process is completed, the lower housing 20 is again moved below the upper housing 21, and the peeling process begins.

剥離工程については、第3図及び第6図a〜b
に基づいて説明する。剥離工程に移行すると、上
部ハウジング21が下降し、第6図aに示す様
に、下部ハウジング20との間に再び密閉室を形
成し、また真空パツド38が下降状態にあるので
環状シール47の上面に当接し、サブストレート
43の外縁部を押しつける。次いでカム31が回
転し、これに応動してセンターボス25が、サブ
ストレート43と一体に硬化したフオトポリマー
2P(樹脂層)の最内周をスタンパー15から剥離
できる程度、例えば1〜3mm程度上昇する。これ
により樹脂層の最内周が剥離される。なお、セン
ターボス25の最大ストロークは例えば8mm程度
である。
Regarding the peeling process, see Fig. 3 and Fig. 6 a to b.
The explanation will be based on. When the peeling process begins, the upper housing 21 is lowered to form a sealed chamber with the lower housing 20 again as shown in FIG. It comes into contact with the upper surface and presses the outer edge of the substrate 43. Next, the cam 31 rotates, and in response, the center boss 25 and the substrate 43 are integrally hardened with the photopolymer.
The innermost periphery of the 2P (resin layer) is raised to the extent that it can be peeled off from the stamper 15, for example, by about 1 to 3 mm. As a result, the innermost periphery of the resin layer is peeled off. Note that the maximum stroke of the center boss 25 is, for example, about 8 mm.

この状態において、図示せぬ空気圧送手段から
真空配管36及び連通路34bさらに加圧室36
aを介して圧縮空気(1〜5Kg程度)を樹脂層の
最内周に送ることにより、サブストレート43の
外縁部が環状シール47で押えられているので、
圧縮空気はサブストレート43の外縁部から漏れ
ることなく全面に亘つて流れ、これにより樹脂層
は第6図bに示す如く、環状シール47で押えら
れた最外縁部を除く全面に亘つて剥離する。次い
で、真空パツド38が減圧され、環状シール47
を吸引後上昇する。同時に、真空パツド37が下
降し、第6図cに示す如く、サブストレート43
の上面に当接する。そして真空パツド37は負圧
−650mmHg程度の真空度に減圧され、これにより
サブストレート43を吸引し、この状態で上昇す
ることにより樹脂層の最外周部を剥離する。その
後減圧状態が解除される。続いてカム31の回転
に応動してセンターボス25がサブストレート4
3を担持して上昇し、第6図dに示す初期状態に
戻る。しかる後上部ハウジング21が上昇し、剥
離工程を終了する。以後アルミ蒸着膜を付け、更
にオーバーコートすることにより、光学式デイス
クの完成品となる。
In this state, the vacuum piping 36, the communication path 34b, and the pressurizing chamber 36 are connected to the air pressure feeding means (not shown).
By sending compressed air (approximately 1 to 5 kg) to the innermost periphery of the resin layer through a, the outer edge of the substrate 43 is held down by the annular seal 47.
The compressed air flows over the entire surface of the substrate 43 without leaking from the outer edge, and as a result, the resin layer is peeled off over the entire surface except for the outermost edge pressed by the annular seal 47, as shown in FIG. 6b. . Vacuum pad 38 is then depressurized and annular seal 47
rises after suctioning. At the same time, the vacuum pad 37 is lowered and the substrate 43 is lowered as shown in FIG. 6c.
touches the top surface of the The vacuum pad 37 is then reduced to a degree of vacuum of about -650 mmHg, thereby sucking the substrate 43, and rising in this state to peel off the outermost portion of the resin layer. After that, the reduced pressure state is released. Subsequently, in response to the rotation of the cam 31, the center boss 25 moves to the substrate 4.
3 and rises, returning to the initial state shown in FIG. 6d. After that, the upper housing 21 is raised to complete the peeling process. After that, an aluminum vapor-deposited film is applied and an overcoat is applied to complete the optical disc.

なお、上記実施例においては、サブストレート
43の内周部及び外周部の両方の気密性を維持し
かつサブストレート43の内周部を僅かに持ち上
げた後、加圧室36aを介して緩衝された加圧空
気を圧送して樹脂層をサブストレート43と一体
に剥離する構成としたが、基本的には、樹脂層と
スタンパーとの結合力が各々の材質上から比較的
弱いので、サブストレート43の内周部の気密性
を維持するのみで空気を圧送することにより、樹
脂層の剥離を行えるのである。
In the above embodiment, after maintaining the airtightness of both the inner and outer circumferential parts of the substrate 43 and slightly lifting the inner circumferential part of the substrate 43, the inner circumferential part of the substrate 43 is buffered via the pressurizing chamber 36a. The resin layer is separated from the substrate 43 by pumping pressurized air, but basically, the bonding force between the resin layer and the stamper is relatively weak due to the materials of each material, so the substrate By simply maintaining the airtightness of the inner periphery of 43 and pumping air, the resin layer can be peeled off.

しかしながら、圧送空気のみの剥離では高加圧
空気が必要となるので高加圧の空気を導入する場
合においては、サブストレートの内周部を機械的
に持ち上げ剥離させかつ加圧室により緩衝された
空気を送り込むことにより、樹脂層表面に転写さ
れた微少ピツトの保護を確実に行うことができ
る。
However, peeling using only pressurized air requires highly pressurized air, so when introducing highly pressurized air, it is necessary to mechanically lift the inner periphery of the substrate and peel it off, which is buffered by a pressurized chamber. By feeding air, the minute pits transferred to the surface of the resin layer can be reliably protected.

効 果 以上説明したように、本発明によれば、サブス
トレートの外周部をスタンパーに対して押えなが
ら、その内周部を担持した部材により内周部をス
タンパーに対して持ち上げるようにしたので、デ
イスクを損傷することなく迅速かつ確実に剥離を
行うことができるデイスク製造装置が得られる。
Effects As explained above, according to the present invention, the outer circumferential portion of the substrate is held against the stamper while the inner circumferential portion is lifted relative to the stamper by the member supporting the inner circumferential portion. A disk manufacturing apparatus capable of quickly and reliably peeling off the disk without damaging the disk can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明に係る製造装置の一部断面図を
含む正面図、第2図は第1図における塗布装置の
一部断面を含む側面図、第3図は第1図における
転写・剥離装置の断面図、第4図は第3図の要部
拡大図、第5図a〜eは転写工程における動作説
明図、第6図a〜dは剥離工程における動作説明
図である。 主要部分の符号の説明、1……塗布装置、2…
…転写・剥離装置、3……照射装置、13……吐
出装置、14……ニードル部、15……スタンパ
ー、20……下部ハウジング、21……上部ハウ
ジング、25……センターボス、31……カム、
37,38……真空パツド、43……サブストレ
ート、47……環状シール、49……マグネツ
ト。
FIG. 1 is a front view including a partial cross section of the manufacturing device according to the present invention, FIG. 2 is a side view including a partial cross section of the coating device in FIG. 1, and FIG. 4 is an enlarged view of the main part of FIG. 3, FIGS. 5 a to 5 e are explanatory diagrams of the operation in the transfer process, and FIGS. 6 a to d are explanatory diagrams of the operation in the peeling process. Explanation of symbols of main parts, 1... Coating device, 2...
...Transfer/peeling device, 3...Irradiation device, 13...Discharge device, 14...Needle section, 15...Stamper, 20...Lower housing, 21...Upper housing, 25...Center boss, 31... cam,
37, 38... Vacuum pad, 43... Substrate, 47... Annular seal, 49... Magnet.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 ベース上に固定されたスタンパーの信号面と
透明基板との間にて放射線照射により硬化した樹
脂層を、前記透明基板と一体に前記スタンパーか
ら剥離するようになすべく、前記透明基板の外周
部を前記スタンパーに対して押しつける環状部材
と、前記透明基板の内周部を担持する環状フラン
ジを有しかつ前記ベースの中央において囲繞され
かつ前記スタンパーに対して前記内周部を離間せ
しめるように移動するセンターボスと、前記セン
ターボスと共に移動しかつ前記環状フランジと協
働して前記内周部を気密的に挾持するセンター押
え部材と、加圧気体供給手段とを備えた情報記録
円板の製造装置であつて、前記センターボスの周
囲の前記ベースとの間に加圧室を形成しかつ前記
センターボスを移動させつつ前記加圧気体供給手
段から前記加圧室を介して前記内周部の全縁と前
記スタンパの間に加圧気体が圧送されることを特
徴とする情報記録円板の製造装置。
1. In order to peel off the resin layer cured by radiation irradiation between the signal surface of the stamper fixed on the base and the transparent substrate from the stamper together with the transparent substrate, an annular member that presses the transparent substrate against the stamper; and an annular flange that supports the inner circumferential portion of the transparent substrate, and is surrounded at the center of the base and moves so as to separate the inner circumferential portion from the stamper. manufacturing an information recording disk comprising: a center boss that moves together with the center boss and cooperates with the annular flange to airtightly clamp the inner circumferential portion; and pressurized gas supply means. A pressurizing chamber is formed between the center boss and the base around the center boss, and the pressurized gas is supplied from the pressurized gas supply means to the inner peripheral portion through the pressurizing chamber while moving the center boss. An apparatus for manufacturing an information recording disk, characterized in that pressurized gas is fed between the entire edge and the stamper.
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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US5112205A (en) * 1989-05-15 1992-05-12 Sony Corporation Optical-disk manufacturing apparatus
NL8903010A (en) * 1989-12-07 1991-07-01 Philips & Du Pont Optical METHOD AND APPARATUS FOR REMOVING A FLEXIBLE PRODUCT FROM A BEARING
NL9002517A (en) * 1990-11-19 1992-06-16 Philips Nv METHOD FOR MANUFACTURING AN OPTICALLY READABLE PLATE AND APPARATUS FOR CARRYING OUT THE METHOD
US7695667B2 (en) 2006-03-01 2010-04-13 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Method and apparatus for separating a stamper from a patterned substrate

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58122828A (en) * 1981-10-06 1983-07-21 トムソン−セ−・エス・エフ Mold release method for disk machine and its mold release device

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58122828A (en) * 1981-10-06 1983-07-21 トムソン−セ−・エス・エフ Mold release method for disk machine and its mold release device

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