JPS6341716B2 - - Google Patents
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- JPS6341716B2 JPS6341716B2 JP54140101A JP14010179A JPS6341716B2 JP S6341716 B2 JPS6341716 B2 JP S6341716B2 JP 54140101 A JP54140101 A JP 54140101A JP 14010179 A JP14010179 A JP 14010179A JP S6341716 B2 JPS6341716 B2 JP S6341716B2
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- clean air
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Landscapes
- Prevention Of Fouling (AREA)
- Workshop Equipment, Work Benches, Supports, Or Storage Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、下部方向吹き出し空気清浄装置特に
半導体ウエハー処理や集積回路用ウエハー処理に
使用する連続空気清浄室または単体装置の空気清
浄装置に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a downward blowing air cleaning device, particularly to a continuous air cleaning chamber or a single unit air cleaning device used for semiconductor wafer processing or integrated circuit wafer processing.
この種の空気清浄装置は、半導体用ウエハー集
積回路用ウエハー(以下単にウエハーと称する)
の生産現場内に於いて、ウエハー露出時にウエハ
ー表面に空気中の浮遊塵埃が付着しないよう0.3μ
以上の塵埃を99.999%までろ過できる高性能フイ
ルターによりろ過された空気中でウエハーの保管
及び持ち運び作業などができるようにした設備で
ある。 This type of air purifying device uses semiconductor wafers, integrated circuit wafers (hereinafter simply referred to as wafers),
0.3μ to prevent airborne dust from adhering to the wafer surface when exposing the wafer.
This equipment allows wafers to be stored and transported in air filtered by high-performance filters that can filter out up to 99.999% of the above dust.
この空気清浄装置は、ウエハーを保管するため
に使用する設備を特にクリーンベンチとよばれ
る。また半導体工場及び集積回路工場内の工場レ
イアウトと直結し、ウエハーハンドリングが清浄
な雰囲気内で実施できるようウエハー処理設備と
結合させて生産ライン上に連続した清浄な作業空
間(以下単にクリーントンネルとよぶ)を設ける
ことがある。 In this air cleaning device, the equipment used to store wafers is particularly called a clean bench. In addition, it is directly connected to the factory layout in semiconductor factories and integrated circuit factories, and is connected to wafer processing equipment so that wafer handling can be carried out in a clean atmosphere. ) may be provided.
この単体設備のクリーンベンチ及びクリーント
ンネルに於て、上部より下部に清浄空気を吹き出
すダウンフロー方式に於てはフイルター吹き出し
面からウエハーを操作する位置までの距離が大き
いと、クリーンエアーが届かず、この限界距離を
超えた位置のクリーンベンチまたはクリーントン
ネル内にウエハーを長時間保管しておくとウエハ
ー表面に空気中の浮遊塵埃が付着し、このまま次
工程にウエハーを搬送して処理をすると、ウエハ
ー内のペレツト収率つまり歩留りが極端に低下す
る原因となることが判明した。 In this single equipment clean bench and clean tunnel, in the downflow method that blows clean air from the upper part to the lower part, if the distance from the filter blowing surface to the position where the wafer is manipulated is large, the clean air will not reach. If a wafer is stored for a long time in a clean bench or clean tunnel located beyond this limit distance, airborne dust will adhere to the wafer surface, and if the wafer is transported to the next process for processing, the wafer will It has been found that this causes the pellet yield, that is, the yield, to be extremely reduced.
またウエハー処理に使用する治工具類も同様に
塵埃が付着し二次汚染の原因を作るという欠点が
あつた。 Furthermore, the jigs and tools used for wafer processing also have the disadvantage that dust adheres to them, causing secondary contamination.
従来のこの種の空気清浄装置は、第1図に示す
ようにフアイナルフイルター1、フアン2、プレ
フイルター3をフード4に装備し、フード4の清
浄空気吹出口4Aにクリーンフードパンチング板
5を取付け、間仕切り6で区画された清浄室Rの
上方に設置されたものであつた。 As shown in FIG. 1, this type of conventional air purifying device is equipped with a final filter 1, a fan 2, and a pre-filter 3 in a hood 4, and a clean hood punching plate 5 is attached to the clean air outlet 4A of the hood 4. , which was installed above a clean room R divided by partitions 6.
そしてフアン2の運転によりプレフイルター3
を通して外部の空気A1をフード4内に吸引して
圧縮し、次いで圧縮された空気A2を、フアイナ
ルフイルター1に通過させ、清浄空気A3をクリ
ーンフードパンチング板5を径て下方の清浄室R
内へ層流にて流出させるものである。 Then, by operating fan 2, prefilter 3
The outside air A1 is sucked into the hood 4 through the hood 4 and compressed.Then, the compressed air A2 is passed through the final filter 1, and the clean air A3 is passed through the clean hood punching plate 5 to the clean room below. R
It flows inward in a laminar flow.
清浄空気A3は所要の速度にて清浄室R内へ吹
き下ろされるが、フイルター面から遠ざかるにし
たがい、清浄空気A3以外の外部空気A4が風速の
弱まつた清浄空気流を押し流して清浄室R内に設
置された作業机7の上部の作業空間内に浸入し、
また拡散炉またはマシーン8に挿入された炉芯管
または処理管9は、受箱10内にその作業口を臨
ませて清浄室R内に開口されているため、作業机
7上に保管された清浄な処理物は、外部空気の浸
入や処理管9内より流出した塵埃を含む空気A5
により著しく汚染されるのみならず、さらに、作
業机7の正面で作業すする作業者からの発塵も、
作業机7の上方に向かつて流れる清浄空気A3に
のせられて流入するため、作業机7上の処理物の
汚染はまぬがれないという欠点があつたのであ
る。 Clean air A 3 is blown down into the clean room R at the required speed, but as it moves away from the filter surface, external air A 4 other than clean air A 3 sweeps away the clean air flow whose wind speed has weakened and becomes cleaner. Infiltrated into the work space above the work desk 7 installed in room R,
Further, the furnace core tube or processing tube 9 inserted into the diffusion furnace or machine 8 is opened into the clean room R with its working opening facing into the receiving box 10, so that it is stored on the working desk 7. Clean processing material is air A 5 containing dust that has entered the outside air or flowed out from inside the processing pipe 9.
Not only is this extremely contaminated, but also the dust generated by workers working in front of the work desk 7.
Since the clean air A 3 flowing in the direction above the work table 7 flows in, there is a drawback that the material to be processed on the work table 7 cannot be contaminated.
本発明は従来のフイルター及びフアン構造を何
ら改変することなく、作業机上の清浄度を維持で
きる下部方向吹き出し空気清浄装置を提供するも
のである。 The present invention provides a downward blowing air cleaning device that can maintain cleanliness on a work desk without any modification to the conventional filter and fan structure.
上記目的を達成するため、本発明の下部吹き出
し空気清浄装置においては、前面が開放され、後
部間仕切りに処理管の作業口を臨ませた清浄室の
上方にフイルターを内蔵したフードを設け、該フ
ードの下面に開口された清浄空気吐出口に連通し
てその前後縁に、清浄室内に清浄空気を吹き下ろ
して作業空間の前後縁にそれぞれ空気カーテンを
形成させるスリツトを設置し、両スリツト間の清
浄空気吐出口に清浄空気を作業空間内に流出させ
るデイヒユーザを配設し、該デイヒユーザに開口
された孔を、清浄室の後部側より開放された前部
に向けてその孔径を順次増大させたものである。 In order to achieve the above object, in the lower blowing air purifying device of the present invention, a hood with a built-in filter is provided above the cleaning chamber whose front is open and the working opening of the processing pipe is exposed to the rear partition. A slit is installed on the front and rear edges of the clean air outlet that communicates with the clean air outlet opened on the bottom surface to blow clean air down into the clean room and form an air curtain at the front and rear edges of the work space. A day user is provided at the air discharge port to discharge clean air into the work space, and the hole diameter of the hole opened in the day user is gradually increased from the rear side of the clean room toward the open front part. It is.
本発明によれば、フイルターを径由したフード
の清浄空気吐出口の下面に作業空間の前後に強力
に清浄空気を吹き下ろす空気カーテンを形成して
外部空気を遮断し、両空気カーテンの間に孔径を
順次変化させたデイヒユーザを設置し、デイヒユ
ーザより吹き出した清浄空気が前後の空気カーテ
ンの間で、あたかもクロスフローになるように角
度をなして作業空間内を流れるようにしたことを
特徴とするものである。 According to the present invention, an air curtain is formed on the lower surface of the clean air outlet of the hood passing through the filter to forcefully blow clean air down to the front and rear of the work space to block external air, and between the two air curtains, The system is characterized by installing day users with pore diameters that are successively changed, and allowing the clean air blown out from the day users to flow through the work space at an angle between the front and rear air curtains, as if it were a cross flow. It is something.
以下本発明の実施例を図面によつて説明する。
第2図において、間仕切り11で区画された清浄
室12の上方に空気清浄装置が設置されている。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
In FIG. 2, an air cleaning device is installed above a clean room 12 divided by a partition 11.
該空気清浄装置は、フード13内にフアイナル
フイルター14、フアン15が内装され、壁面一
部にプレフイルター16が取付けられたものであ
る。 The air cleaning device has a final filter 14 and a fan 15 housed in a hood 13, and a prefilter 16 attached to a part of the wall surface.
フード13の下部には清浄空気吐出口17が開
口され、該吐出口17にはその前後縁に沿つて所
要のスリツト幅に設定されたスリツト18,19
を設置し、両スリツト18,19間に、孔径をそ
れぞれ異ならせたデイヒユーザ20,21,22
を配設したものである。デイヒユーザ20,2
1,22に開口された孔(メツシユ)の孔径は、
最後部のデイヒユーザ20の孔径が最も小さく、
デイヒユーザ21,22の順に前部に向けて孔径
を増大させてある。清浄空気吐出口17の直下の
清浄室12内には作業机23が置かれ、また、間
仕切り11に取付けられた受箱24内に、拡散炉
またはマシーン25に挿入された炉芯管または処
理管26の作業口が臨ませてある点は従来と同じ
である。 A clean air outlet 17 is opened at the bottom of the hood 13, and slits 18, 19 are provided along the front and rear edges of the outlet 17 to have a required slit width.
is installed, and between both slits 18 and 19, day users 20, 21, 22 with different hole diameters are installed.
is arranged. Dehy user 20,2
The hole diameter of the hole (mesh) opened in 1 and 22 is
The pore diameter of the rearmost day user 20 is the smallest,
The diameter of the hole increases in the order of the day users 21 and 22 toward the front. A work table 23 is placed in the clean room 12 directly below the clean air outlet 17, and a furnace core tube or processing tube inserted into a diffusion furnace or machine 25 is placed in a receiving box 24 attached to the partition 11. The point that 26 working openings are facing is the same as the conventional one.
実施例において、フアン15の運転によりプレ
フイルター16を通して外部空気A10をフード1
3内に吸引し、圧縮された空気A11を、フアイナ
ルフイルター14に向けて圧送する。フイルター
14を通過した清浄空気は、吐出口17に設けら
れたスリツト18,19及び各デイヒユーザ2
0,21,22に供給され、前後スリツト18,
19から空気カーテンC1,C2を形成して清浄室
12内に作業空間の前後に沿つて吹き下ろし、各
デイヒユーザ20,21,22から噴出される清
浄空気A12,A13,A14はそれぞれの孔径によつて
風速が異なり、作業机23の正面に向けて、あた
かもクロスフローになるように角度なして流れ、
作業机23の正面で作業する作業者に対して水平
方向吹き出しの場合と同様に流れて作業机23の
前方に流出する。 In the embodiment, external air A 10 is passed through the prefilter 16 to the hood 1 by operation of the fan 15.
The compressed air A 11 is pumped into the final filter 14 . The clean air that has passed through the filter 14 passes through the slits 18 and 19 provided at the discharge port 17 and each day user 2.
0, 21, 22, front and rear slits 18,
Air curtains C 1 and C 2 are formed from air curtains 19 and blown down into the clean room 12 along the front and back of the working space, and the clean air A 12 , A 13 , A 14 blown out from each day user 20 , 21 , 22 is The wind speed varies depending on the diameter of each hole, and the wind flows toward the front of the workbench 23 at no angle as if it were a cross flow.
The air flows towards the worker working in front of the work desk 23 in the same way as in the case of a horizontal blowout, and flows out to the front of the work desk 23.
また、スリツト19より吐出した清浄空気によ
つて形成される空気カーテンC2は、機械室側及
び処理管26の内部からの発塵流A15を巻きこみ
これを作業机23の後方より下方へ吹き流す。 In addition, the air curtain C 2 formed by the clean air discharged from the slit 19 entrains the dust flow A 15 from the machine room side and the inside of the processing pipe 26 and blows it downward from the rear of the work desk 23. Flow.
さらに、スリツト18より吐出した清浄空気に
よつて形成される空気カーテンC1は各デイヒユ
ーザ20〜22より吹き下される清浄空気と、外
部空気とを遮断し、空気カーテンC1の空気流は、
下方に向けてその流速が低下するにしたがつて作
業机の前面外方へ流れ、作業机23上への外部空
気の巻きこみを阻止する。 Further, the air curtain C 1 formed by the clean air discharged from the slit 18 blocks the clean air blown down from each day user 20 to 22 from outside air, and the air flow of the air curtain C 1 is as follows:
As the flow rate decreases downward, it flows outward from the front of the work desk, thereby preventing external air from being drawn onto the work desk 23.
したがつて、作業机23上の作業空間は前後の
空気カーテンC1,C2で隔離され、外部空気や発
塵がまきこまれることはなく、デイヒユーザ2
0,21,22より流出した清浄空気の供給をう
けて清浄に維持される。 Therefore, the work space above the work desk 23 is isolated by the front and rear air curtains C 1 and C 2 , and outside air and dust are not mixed in, and the work space on the work desk 23 is isolated by the front and rear air curtains C 1 and C 2 .
It is maintained clean by being supplied with clean air flowing out from ports 0, 21, and 22.
本発明は以上のように、清浄室12の上部前後
に設けたスリツト18,19と、両スリツト1
8,19間に設けられたそれぞれメツシユが異な
るデイヒユーザ20〜22とを組合せ、各スリツ
ト18,19及びデイヒユーザ20〜22より噴
出させる清浄室気の空気抵抗の変化を利用して外
部空気や発塵流を遮断するため、清浄室12内の
作業空間内を作業に必要な範囲にわたつて清浄に
維持でき、作業机23上で取扱うウエハーが汚染
されることがなく、製品歩留りを向上することが
できる。 As described above, the present invention includes the slits 18 and 19 provided at the front and back of the upper part of the clean chamber 12, and the slits 18 and
By combining day users 20 to 22 with different meshes provided between slits 18 and 19 and day users 20 to 22, changes in air resistance of clean room air ejected from each slit 18 and 19 and day users 20 to 22 are used to remove external air and dust. Since the flow is blocked, the work space in the clean room 12 can be kept clean to the extent necessary for the work, the wafers handled on the work table 23 are not contaminated, and the product yield can be improved. can.
本発明は従来の空気清浄装置のフイルター及び
フアンの構造を何等改変することなくフードの吐
出口のみの改良により作業机上の清浄度を維持向
上できる効果を有するものである。 The present invention has the effect of maintaining and improving the cleanliness on a work desk by improving only the outlet of the hood without making any changes to the structure of the filter and fan of the conventional air purifying device.
第1図は従来の下部吹出し空気清浄装置の側面
図、第2図は本発明装置の一実施例を示す側面図
である。
12……清浄室、13……フード、14……フ
アイナルフイルター、17……清浄空気吐出口、
18,19……スリツト、20〜22……デイヒ
ユーザ、C1,C2……空気カーテン、A12,A13,
A14……清浄空気。
FIG. 1 is a side view of a conventional lower blowing air cleaning device, and FIG. 2 is a side view showing an embodiment of the device of the present invention. 12...Clean room, 13...Hood, 14...Final filter, 17...Clean air outlet,
18, 19...slit, 20-22...dehyde user, C1 , C2 ...air curtain, A12 , A13 ,
A 14 ...Clean air.
Claims (1)
業口を臨ませた清浄室の上方にフイルターを内蔵
したフードを設け、該フードの下面に開口された
清浄空気吐出口に連通してその前後縁に、清浄室
内に清浄空気を吹き下ろして作業空間の前後縁に
それぞれ空気カーテンを形成させるスリツトを設
置し、両スリツト間の清浄空気吐出口に清浄空気
を作業空間内に流出させるデイヒユーザを配設
し、該デイヒユーザに開口された孔を、清浄室の
後部側より開放された前部に向けてその孔径を順
次増大させたことを特徴とする下部吹き出し空気
清浄装置。1. A hood with a built-in filter is installed above the clean room with the front open and the working opening of the processing pipe facing the rear partition, and the front and rear edges of the hood are connected to the clean air outlet opened on the bottom surface of the hood. A slit is installed to blow clean air down into the clean room to form an air curtain at the front and rear edges of the work space, and a day user is installed at the clean air outlet between the two slits to allow the clean air to flow out into the work space. A lower blowing air cleaning device characterized in that the diameter of the hole opened in the dehydrator is gradually increased from the rear side of the clean room toward the open front part.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14010179A JPS5662777A (en) | 1979-10-30 | 1979-10-30 | Lower blowoff air cleaner |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14010179A JPS5662777A (en) | 1979-10-30 | 1979-10-30 | Lower blowoff air cleaner |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5662777A JPS5662777A (en) | 1981-05-28 |
JPS6341716B2 true JPS6341716B2 (en) | 1988-08-18 |
Family
ID=15260958
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14010179A Granted JPS5662777A (en) | 1979-10-30 | 1979-10-30 | Lower blowoff air cleaner |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5662777A (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57175838A (en) * | 1981-04-09 | 1982-10-28 | Kurenzaizu Engineers Puraibeit | Particle control method and apparatus |
JPS6114870A (en) * | 1984-04-06 | 1986-01-23 | 株式会社日立製作所 | Clean bench |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5373076A (en) * | 1976-12-13 | 1978-06-29 | Oki Electric Ind Co Ltd | Rectifying device of clean bench |
JPS5414098A (en) * | 1977-07-01 | 1979-02-01 | Hitachi Ltd | Clening bench with air curtain |
-
1979
- 1979-10-30 JP JP14010179A patent/JPS5662777A/en active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5373076A (en) * | 1976-12-13 | 1978-06-29 | Oki Electric Ind Co Ltd | Rectifying device of clean bench |
JPS5414098A (en) * | 1977-07-01 | 1979-02-01 | Hitachi Ltd | Clening bench with air curtain |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5662777A (en) | 1981-05-28 |
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