JPS6335407A - 液体硫黄の精製方法 - Google Patents
液体硫黄の精製方法Info
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- JPS6335407A JPS6335407A JP17564186A JP17564186A JPS6335407A JP S6335407 A JPS6335407 A JP S6335407A JP 17564186 A JP17564186 A JP 17564186A JP 17564186 A JP17564186 A JP 17564186A JP S6335407 A JPS6335407 A JP S6335407A
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Landscapes
- Industrial Gases (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の目的
産業上の利用分野
この発明は、主としてクラウス法によりH2S(硫化水
素)と302 (二酸化硫黄)から製造される液体硫黄
の精製方法に関するものである。
素)と302 (二酸化硫黄)から製造される液体硫黄
の精製方法に関するものである。
クラウス装置からの元素硫黄は液体状で生産されること
から、この形態で輸送あるいは移送して工業的に使用さ
れる。
から、この形態で輸送あるいは移送して工業的に使用さ
れる。
しかし、クラウス法からの液体、6&装中には、その生
成過程においてH2S及びH2SX(ポリ硫化水素)が
H2Sに換算して通常200〜800ppm溶存してお
り、貯蔵又は輸送中に液体硫黄中からH2Sが気化、拡
散するため、人体への影響やガス爆発の危険がある。
成過程においてH2S及びH2SX(ポリ硫化水素)が
H2Sに換算して通常200〜800ppm溶存してお
り、貯蔵又は輸送中に液体硫黄中からH2Sが気化、拡
散するため、人体への影響やガス爆発の危険がある。
従来の技術
液体硫黄中に溶存しているH2S及びH2SXを除去す
る方法としては、液体硫黄を障害物に吹きつけたり、ス
ウィープガスと呼ばれる空気等の気体と液体G&黄を無
触媒で接触させたりして、H2SXを分解してH2Sの
形とし溶存H2Sと共に気化して除去する方法があるが
、いずれも処理時間が長く且つ除去効率が悪い。特にH
2SXの分解が遅く、スウィープガスの使用のみでは一
日以上の処理時間を要する。
る方法としては、液体硫黄を障害物に吹きつけたり、ス
ウィープガスと呼ばれる空気等の気体と液体G&黄を無
触媒で接触させたりして、H2SXを分解してH2Sの
形とし溶存H2Sと共に気化して除去する方法があるが
、いずれも処理時間が長く且つ除去効率が悪い。特にH
2SXの分解が遅く、スウィープガスの使用のみでは一
日以上の処理時間を要する。
そこで処理時間を短縮しようとする見地から、化学的に
処理するための研究が行われており、種々の方法が知ら
れている。
処理するための研究が行われており、種々の方法が知ら
れている。
例えば特公昭56−52847吟には、液体硫黄をクラ
ウス反応器からの最終残留ガスで吹き掃い、さらにアン
モニアやアミンを添加してH2S及びH2SXを除去す
る方法が開示されている。
ウス反応器からの最終残留ガスで吹き掃い、さらにアン
モニアやアミンを添加してH2S及びH2SXを除去す
る方法が開示されている。
また特公昭59−40762号には液体硫黄をアルミナ
又はコバルト−モリブデン含浸アルミナからなる触媒と
接触させて、空気又は酸素富化空気でパージしてH2S
及びH2SXを除去する方法が記・戎されている。
又はコバルト−モリブデン含浸アルミナからなる触媒と
接触させて、空気又は酸素富化空気でパージしてH2S
及びH2SXを除去する方法が記・戎されている。
さらに本発明者等はその改良法として、Ni−Mo系の
触媒を使用し、酸素含有ガス及び窒素ガスよりなる群か
ら選ばれるスウィープガスと接触させることにより、よ
り迅速に除去しうる方法について特願昭60−9680
5号にて提案している。
触媒を使用し、酸素含有ガス及び窒素ガスよりなる群か
ら選ばれるスウィープガスと接触させることにより、よ
り迅速に除去しうる方法について特願昭60−9680
5号にて提案している。
しかしこれらはいずれも主として触媒の選択について述
べており、工業的に実施するに際して、触媒の効果を十
分に発揮させるためのプロセス構成上の配慮については
示唆していない。
べており、工業的に実施するに際して、触媒の効果を十
分に発揮させるためのプロセス構成上の配慮については
示唆していない。
発明が解決しようとする間通点
本発明は液体硫黄中のH2S及びH2SXを触媒を使用
して除去するに際して、触媒層の配置とスウイープガス
の導入方法を変えることにより、液体硫黄との接触を改
善し、またスウイープガスの利用効率を高めて、より効
率的にH2SおよびH2SXを除去する方法を提供する
ことを目的とする。
して除去するに際して、触媒層の配置とスウイープガス
の導入方法を変えることにより、液体硫黄との接触を改
善し、またスウイープガスの利用効率を高めて、より効
率的にH2SおよびH2SXを除去する方法を提供する
ことを目的とする。
本発明の液体硫黄の精製方法は、硫化水素及びポリ硫化
水素を含宥する液体硫黄をスウイープガスと共に固体触
媒層で接触させて硫化水素及びポリ硫化水素を除去する
方法において、前記触媒層を2層以上に分割し、液体硫
黄は各触媒層を順次通過させ、スウイープガスは分割し
てそれぞれの触媒層に送入して個別に排出することを特
徴とする。
水素を含宥する液体硫黄をスウイープガスと共に固体触
媒層で接触させて硫化水素及びポリ硫化水素を除去する
方法において、前記触媒層を2層以上に分割し、液体硫
黄は各触媒層を順次通過させ、スウイープガスは分割し
てそれぞれの触媒層に送入して個別に排出することを特
徴とする。
通常、液体硫黄中に含有されているH2Sはガスの吹き
込み等により比較的に容易に除去することが出来るが、
全硫化水素の50%以上を占めるH2SXはその分解速
度が遅く、触媒作用によってH2Sと5x−1に分解さ
れる。
込み等により比較的に容易に除去することが出来るが、
全硫化水素の50%以上を占めるH2SXはその分解速
度が遅く、触媒作用によってH2Sと5x−1に分解さ
れる。
本発明者等は、当初接触反応塔をl塔使用し、スウイー
プガスも1個所から送入する分解方法を採用したが、触
媒充填層内における液体fE黄の偏流と、H2SX分解
の結果液体硫黄及び気相中のH2S5度が増加するに伴
なって残りのH2SXの分解が抑制されることから、全
硫化水素の除去率が低下するこが認められた。
プガスも1個所から送入する分解方法を採用したが、触
媒充填層内における液体fE黄の偏流と、H2SX分解
の結果液体硫黄及び気相中のH2S5度が増加するに伴
なって残りのH2SXの分解が抑制されることから、全
硫化水素の除去率が低下するこが認められた。
即ち液体硫黄と触媒との接触を如何に行うか、又分解に
よって生成したH2Sを如何にして早く液体硫黄から取
り除くかが極めて重要なポイントであることがわかった
。
よって生成したH2Sを如何にして早く液体硫黄から取
り除くかが極めて重要なポイントであることがわかった
。
そこで本発明では、前述のように触媒層を分割して2層
以りとし、液体硫黄は各触媒層を順次通過させ、スウイ
ープガスは分割してそれぞれの触媒層に送入して個別に
排出する。
以りとし、液体硫黄は各触媒層を順次通過させ、スウイ
ープガスは分割してそれぞれの触媒層に送入して個別に
排出する。
本発明の如く触媒層を2層以上とすることにより、もと
もと液体硫黄中に存在したH2S及び1層目で分解生成
したH2Sはスウイープガスと共に系外に取り除かれ、
2層目以降の触媒層では気液平衡による阻害を受けるこ
となくH2SXの分解反応が有利に進行する。
もと液体硫黄中に存在したH2S及び1層目で分解生成
したH2Sはスウイープガスと共に系外に取り除かれ、
2層目以降の触媒層では気液平衡による阻害を受けるこ
となくH2SXの分解反応が有利に進行する。
ここで使用される触媒は、その組成、形状等特に限定さ
れるものではなく、前記特願昭60−96805号にて
提案しているN i −M o系触媒のほか何れの固体
触媒でも使用出来る。触媒層への分割充填割合は、H2
S濃度の高い1層目では全体の20〜50%にするのが
好適である。
れるものではなく、前記特願昭60−96805号にて
提案しているN i −M o系触媒のほか何れの固体
触媒でも使用出来る。触媒層への分割充填割合は、H2
S濃度の高い1層目では全体の20〜50%にするのが
好適である。
スウイープガスとしては、空気、窒素、あるいはクラウ
ス装置テールガス処理(例えばスコツト法)のオフガス
又はクラウス装置のインシネレータ−オフガス等H2S
含有量が0.1%未満の排ガスが使用される。この流量
は処理される液体硫黄に対し1O−1OONI/lが好
適である。そして触媒層に対する分割送入割合は、1層
目に全体の20〜50%とするのが好適である。
ス装置テールガス処理(例えばスコツト法)のオフガス
又はクラウス装置のインシネレータ−オフガス等H2S
含有量が0.1%未満の排ガスが使用される。この流量
は処理される液体硫黄に対し1O−1OONI/lが好
適である。そして触媒層に対する分割送入割合は、1層
目に全体の20〜50%とするのが好適である。
反応温度は液体硫黄の特性上、120〜160℃の範囲
内に保持することが重要である。反応圧力は通常常圧乃
至若干の加圧下で行なう。
内に保持することが重要である。反応圧力は通常常圧乃
至若干の加圧下で行なう。
なお、触媒層の分割方法としては、2塔に分割しても良
いが、l塔にして内部に仕切板を設ける方が建設費及び
熱ロスを低減するのに役立つ。
いが、l塔にして内部に仕切板を設ける方が建設費及び
熱ロスを低減するのに役立つ。
以下実施例により本発明を具体的に説明する。
[実施例]
第1図に示す如く内径40 m mφのスチームジャケ
ット付反応塔l及び2を直列に配置し、各反応塔には重
版のNi−Mo−3系触媒各500m文を充填した。全
硫化水素濃度380wt PPmを含む液体硫黄をポン
プ3で1見/ Hrの速度で反応塔1に供給した。スウ
イープガスとしてN2ガスを使用し、ライン4から反応
塔l及び2にそれぞれ15 N l / Hrの速度で
供給した。第1の反応塔1出口の液体硫黄は分離器5で
スウイープガスを分離し、ポンプ6を通じて第2の反応
塔2へ供給した。この時、分離器5のレベルが一定にな
るようにポンプ6の流量を調節した。触媒層及び全ての
ラインは温度を140℃に保持するよう保温した。各分
離器における液体硫黄のサンプルを採取して全硫化水素
濃度を赤外線分析計で分析した結果は下記の通りである
。
ット付反応塔l及び2を直列に配置し、各反応塔には重
版のNi−Mo−3系触媒各500m文を充填した。全
硫化水素濃度380wt PPmを含む液体硫黄をポン
プ3で1見/ Hrの速度で反応塔1に供給した。スウ
イープガスとしてN2ガスを使用し、ライン4から反応
塔l及び2にそれぞれ15 N l / Hrの速度で
供給した。第1の反応塔1出口の液体硫黄は分離器5で
スウイープガスを分離し、ポンプ6を通じて第2の反応
塔2へ供給した。この時、分離器5のレベルが一定にな
るようにポンプ6の流量を調節した。触媒層及び全ての
ラインは温度を140℃に保持するよう保温した。各分
離器における液体硫黄のサンプルを採取して全硫化水素
濃度を赤外線分析計で分析した結果は下記の通りである
。
なお、この時のスウイープガスの供給圧力は、250m
mH2Oであった。
mH2Oであった。
第1塔(ppm) 第2塔(ppm)入口 出
口 入口 出口 [比較例] 第2図に示す如く内径40 m mφのスチームジャケ
ット付反応器1に実施例で使用したのと同じ触媒を19
.充填し、実施例と同一の液体硫黄原料を11 / H
rで供給し比較実験した。反応温度は同様に140℃で
行なった。この時のスウイープガスはN2ガスを用い、
ガス量は50 N l / Hrで行なった。塔入口及
び塔出口(分離器)における液体硫黄のサンプルを採取
して全硫化水素濃度を同様に分析した結果は下記の通り
である。
口 入口 出口 [比較例] 第2図に示す如く内径40 m mφのスチームジャケ
ット付反応器1に実施例で使用したのと同じ触媒を19
.充填し、実施例と同一の液体硫黄原料を11 / H
rで供給し比較実験した。反応温度は同様に140℃で
行なった。この時のスウイープガスはN2ガスを用い、
ガス量は50 N l / Hrで行なった。塔入口及
び塔出口(分離器)における液体硫黄のサンプルを採取
して全硫化水素濃度を同様に分析した結果は下記の通り
である。
なお、この時のスウイープガスの供給圧力は、450m
mH2Oであった。
mH2Oであった。
塔入口(ppm) 塔出口(ppm)上記実施例と
比較例についての試験成績を第1表にまとめて示す。
比較例についての試験成績を第1表にまとめて示す。
第1表から、同−LH3Vであっても、実施例の方がG
/L比(ガス/液比)が小さいにも拘らずH2Sの除去
率が優れており、またG/L比が小さいのでΔPも少な
いことが明らかである。
/L比(ガス/液比)が小さいにも拘らずH2Sの除去
率が優れており、またG/L比が小さいのでΔPも少な
いことが明らかである。
実施例では触媒層を2層に分割した場合を示したが、触
媒層を3層またはそれ以上に分割すれば同等以上の効果
が得られる。
媒層を3層またはそれ以上に分割すれば同等以上の効果
が得られる。
なお1本発明に使用され外部に放出されるH2S同伴ス
ウイープガスの処理については、ガスj^そのものが少
7Mであるので、クラウスオフガス又はスコツト法オフ
ガス等に混合してインシネレータ−で処理すればよい。
ウイープガスの処理については、ガスj^そのものが少
7Mであるので、クラウスオフガス又はスコツト法オフ
ガス等に混合してインシネレータ−で処理すればよい。
発明の効果
第1表から明らかなように、従来法に比して、同一触媒
がで、少ないスウイープガスによって高効率で液体vt
黄中の硫化水素を除去することが出来る。またG/L比
を小さくしてもよいためΔPも小さく、動力費の低減が
計られる。
がで、少ないスウイープガスによって高効率で液体vt
黄中の硫化水素を除去することが出来る。またG/L比
を小さくしてもよいためΔPも小さく、動力費の低減が
計られる。
第1図は本発明の実施するプロセスの1例を示し、第2
図は比較例としての従来のプロセスを示すものである。
図は比較例としての従来のプロセスを示すものである。
Claims (1)
- 硫化水素及びポリ硫化水素を含有する液体硫黄をスウイ
ープガスと共に固体触媒層で接触させて硫化水素及びポ
リ硫化水素を除去する方法において、前記触媒層を2層
以上に分割し、液体硫黄は各触媒層を順次通過させ、ス
ウイープガスは分割してそれぞれの触媒層に送入して個
別に排出することを特徴とする液体硫黄の精製方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17564186A JPS6335407A (ja) | 1986-07-28 | 1986-07-28 | 液体硫黄の精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17564186A JPS6335407A (ja) | 1986-07-28 | 1986-07-28 | 液体硫黄の精製方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6335407A true JPS6335407A (ja) | 1988-02-16 |
JPH0458402B2 JPH0458402B2 (ja) | 1992-09-17 |
Family
ID=15999636
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17564186A Granted JPS6335407A (ja) | 1986-07-28 | 1986-07-28 | 液体硫黄の精製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6335407A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5632967A (en) * | 1995-09-19 | 1997-05-27 | Goar, Allison & Associates, Inc. | Process for the high pressure degassing of hydrogen sulfide from liquid sulfur |
CN110304609A (zh) * | 2018-03-27 | 2019-10-08 | 中国科学院过程工程研究所 | 一种适于煤气直接还原冶金烟气生产的硫磺提纯流程 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5652847A (en) * | 1979-10-03 | 1981-05-12 | Toshiba Corp | Deflector |
JPS5940762A (ja) * | 1982-08-31 | 1984-03-06 | Canon Inc | 画像記録装置 |
-
1986
- 1986-07-28 JP JP17564186A patent/JPS6335407A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5652847A (en) * | 1979-10-03 | 1981-05-12 | Toshiba Corp | Deflector |
JPS5940762A (ja) * | 1982-08-31 | 1984-03-06 | Canon Inc | 画像記録装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5632967A (en) * | 1995-09-19 | 1997-05-27 | Goar, Allison & Associates, Inc. | Process for the high pressure degassing of hydrogen sulfide from liquid sulfur |
CN110304609A (zh) * | 2018-03-27 | 2019-10-08 | 中国科学院过程工程研究所 | 一种适于煤气直接还原冶金烟气生产的硫磺提纯流程 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0458402B2 (ja) | 1992-09-17 |
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