JPS633239A - ダスト計測装置 - Google Patents
ダスト計測装置Info
- Publication number
- JPS633239A JPS633239A JP14625786A JP14625786A JPS633239A JP S633239 A JPS633239 A JP S633239A JP 14625786 A JP14625786 A JP 14625786A JP 14625786 A JP14625786 A JP 14625786A JP S633239 A JPS633239 A JP S633239A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pressure
- nozzle
- gas
- stage
- line
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims abstract description 10
- 238000010790 dilution Methods 0.000 claims abstract description 6
- 239000012895 dilution Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 17
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- 230000005250 beta ray Effects 0.000 description 1
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Landscapes
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、高圧集じん装置の出入ログスト０度測定に際
し、高圧プロセスガスを押え、常圧のダスト濃度計の使
用を可能とする技術分野で利用される。
し、高圧プロセスガスを押え、常圧のダスト濃度計の使
用を可能とする技術分野で利用される。
従来の技術
第２図に従来の構成を示し、その該要を説明する。
第２図において、符号ｌは高圧プロセスラインであり、
同ラインｌにサンプリングノズル２を配置し、同ノズル
２内に設けられた多段オリフィス３を介して、高圧プロ
セスガス５を圧力Ｐ、−圧力Ｐａｌまで減圧させ、減圧
後のガス５を常圧のダスト測定器に導入し、ダストを計
測している。
同ラインｌにサンプリングノズル２を配置し、同ノズル
２内に設けられた多段オリフィス３を介して、高圧プロ
セスガス５を圧力Ｐ、−圧力Ｐａｌまで減圧させ、減圧
後のガス５を常圧のダスト測定器に導入し、ダストを計
測している。
上記のようなダスト計測技術では、直接高圧ガス中のダ
ストを連続ダスト計で計測する事は出来ない。強いて行
うとすればダスト計自身を高圧の耐圧仕様にしなければ
ならない。
ストを連続ダスト計で計測する事は出来ない。強いて行
うとすればダスト計自身を高圧の耐圧仕様にしなければ
ならない。
発明か解決しようとする問題点
連続計測器を耐圧仕様にするか、耐圧容器の中に入れる
必要があり、特に前者の場合には市販品として皆無であ
り、特別仕様で特注しなければならないか、又は耐圧容
器に入れるにしても構造的に不可能な場合もあった。
必要があり、特に前者の場合には市販品として皆無であ
り、特別仕様で特注しなければならないか、又は耐圧容
器に入れるにしても構造的に不可能な場合もあった。
またダスト濃度が高い場合には、同じ計測器では測定範
囲を越えてしまう場合もあり、測定不能となる。これ等
を解決するには減圧膨張させた後に常圧ダスト測定器へ
入れる事が考えられるが、問題点を解決するための手段 本発明は、上述の問題を解決するために、次のような手
段を保っている。すなわち、 多段膨張ノズルのスロート部を設けた最上段減圧部にサ
ンプリングガス管を接続し、最上段入口から吸収用稀釈
ガスを流入させ、最下段出口にて稀釈混合ガスを大気圧
付近までに減圧し、このガスをダスト測定器に導入して
計測するようにする。
囲を越えてしまう場合もあり、測定不能となる。これ等
を解決するには減圧膨張させた後に常圧ダスト測定器へ
入れる事が考えられるが、問題点を解決するための手段 本発明は、上述の問題を解決するために、次のような手
段を保っている。すなわち、 多段膨張ノズルのスロート部を設けた最上段減圧部にサ
ンプリングガス管を接続し、最上段入口から吸収用稀釈
ガスを流入させ、最下段出口にて稀釈混合ガスを大気圧
付近までに減圧し、このガスをダスト測定器に導入して
計測するようにする。
作用
以上述べた手段によれば、したがって、−段目ノズルを
適切に設計することにより、吸引プロセスガスを多量に
消費する事なく、高圧で稀釈し、二段目の減圧膨張ノズ
ルに要する量を確保した後、二段目に入れる。これによ
り、高圧力差を持たせた場合にノズルに必要な流量を確
保した上、所定圧迄下げる事が出来、通常の常圧ダスト
測定器の入口へ導入でき、ダスト測定が出来る。
適切に設計することにより、吸引プロセスガスを多量に
消費する事なく、高圧で稀釈し、二段目の減圧膨張ノズ
ルに要する量を確保した後、二段目に入れる。これによ
り、高圧力差を持たせた場合にノズルに必要な流量を確
保した上、所定圧迄下げる事が出来、通常の常圧ダスト
測定器の入口へ導入でき、ダスト測定が出来る。
実施例
次に、本発明の実施例について、第１図を参照して述べ
る。
る。
第１図において、符号１は高圧プロセスライン、２′は
第１段ノズル７に接続されたサンプリングノズル、４は
高圧プロセスガス、６は高圧稀釈ガス、７′は第１段ノ
ズル７のスロート部、８は第２段ノズル、８′は第２段
ノズル８のスロート部、９は減圧後の稀釈混合ガスを示
している。
第１段ノズル７に接続されたサンプリングノズル、４は
高圧プロセスガス、６は高圧稀釈ガス、７′は第１段ノ
ズル７のスロート部、８は第２段ノズル、８′は第２段
ノズル８のスロート部、９は減圧後の稀釈混合ガスを示
している。
サンプリングノズル２′の一方は高圧プロセスライン１
内に配置され、他方はスロート部７′を持った第１段ノ
ズル７に接続されている。また第１段ノズル７はスロー
ト部８′を持った第２段ノズル８に接続されており、ノ
ズル７には圧力Ｐ’ｉ。
内に配置され、他方はスロート部７′を持った第１段ノ
ズル７に接続されている。また第１段ノズル７はスロー
ト部８′を持った第２段ノズル８に接続されており、ノ
ズル７には圧力Ｐ’ｉ。
を待った高圧稀釈ガスらが流れるようになっている。
高圧プロセスライン１の圧力はＰ、とする。その中にサ
ンプリングガス２′を入れ、第１段ノズル７のスロート
部７′に接続する。第１段ノズル７には圧力Ｐ′１．の
稀釈ガス６を流す事により、スロート部７′とプロセス
ラインｌの圧力Ｐ１との差圧によりプロセスガスを吸引
しながら稀釈混合する。この後第２段ノズル８によりス
ロート部８′を第１段で稀釈した流量を考慮して決めろ
事により、第２段ノズル出口で大気圧付近道減圧膨張可
能である。以後この出口の混合ガス９が誉圧のダスト測
定器に導入され、計測されることになる。
ンプリングガス２′を入れ、第１段ノズル７のスロート
部７′に接続する。第１段ノズル７には圧力Ｐ′１．の
稀釈ガス６を流す事により、スロート部７′とプロセス
ラインｌの圧力Ｐ１との差圧によりプロセスガスを吸引
しながら稀釈混合する。この後第２段ノズル８によりス
ロート部８′を第１段で稀釈した流量を考慮して決めろ
事により、第２段ノズル出口で大気圧付近道減圧膨張可
能である。以後この出口の混合ガス９が誉圧のダスト測
定器に導入され、計測されることになる。
上記ノズル７及び８の形状等は人口、出口前後の圧力と
流量によって決められ、スロート部７′込 の径は吸ｌ流熾をコントロールできる径に、またスロー
ト部８′は大気圧と対応できる径に決められている。
流量によって決められ、スロート部７′込 の径は吸ｌ流熾をコントロールできる径に、またスロー
ト部８′は大気圧と対応できる径に決められている。
発明の効果
本発明のダスト計測装置を採用すると、高圧プロセスカ
スを高圧のまま稀釈ガスと一度混合する事になり、第２
段目の膨張に必要な流１（閉塞しないための）を確保す
ると共に高圧プロセスガス量を押える事ができる。また
、第２段目で常圧付近まで膨張させる事により、従来通
りの常圧ダスト濃度計（測定器、例えば光透過式、光散
乱式又はβ線式等）に接続流入する事が可能となる。
スを高圧のまま稀釈ガスと一度混合する事になり、第２
段目の膨張に必要な流１（閉塞しないための）を確保す
ると共に高圧プロセスガス量を押える事ができる。また
、第２段目で常圧付近まで膨張させる事により、従来通
りの常圧ダスト濃度計（測定器、例えば光透過式、光散
乱式又はβ線式等）に接続流入する事が可能となる。
第１図は本発明の一実施例を示す概略断面図、第２図は
従来例の概略断面図である。 １・・高圧プロセスライン、２′ ・・サンプリングノ
ズル、４・・高圧プロセスガス、６・・高圧稀釈ガス、
７・・第１段ノズル７′ ・・第２段スロート部、８・
・第２段ノズル、８′ ・・第（ほか１名）
従来例の概略断面図である。 １・・高圧プロセスライン、２′ ・・サンプリングノ
ズル、４・・高圧プロセスガス、６・・高圧稀釈ガス、
７・・第１段ノズル７′ ・・第２段スロート部、８・
・第２段ノズル、８′ ・・第（ほか１名）
Claims (1)
- 多段膨張ノズルのスロート部を設けた最上段減圧部にサ
ンプリングガス管を接続し、最上段入口から吸収用稀釈
ガスを流入させ、最下段出口にて稀釈混合ガスを大気圧
付近までに減圧し、このガスをダスト測定器に導入して
計測するようにしたダスト計測装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14625786A JPS633239A (ja) | 1986-06-24 | 1986-06-24 | ダスト計測装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14625786A JPS633239A (ja) | 1986-06-24 | 1986-06-24 | ダスト計測装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS633239A true JPS633239A (ja) | 1988-01-08 |
Family
ID=15403648
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14625786A Pending JPS633239A (ja) | 1986-06-24 | 1986-06-24 | ダスト計測装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS633239A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012510048A (ja) * | 2008-11-24 | 2012-04-26 | アーペーデュウ | ガスサンプリング装置 |
| CN103278434A (zh) * | 2013-05-20 | 2013-09-04 | 清华大学 | 测量高温气冷堆一回路管道中石墨粉尘浓度的装置及方法 |
| CN104502161A (zh) * | 2014-12-31 | 2015-04-08 | 郑州光力科技股份有限公司 | 粉尘采样器检定装置 |
| CN104502162A (zh) * | 2014-12-31 | 2015-04-08 | 郑州光力科技股份有限公司 | 粉尘采样器及使用该粉尘采样器的粉尘浓度标定装置 |
-
1986
- 1986-06-24 JP JP14625786A patent/JPS633239A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012510048A (ja) * | 2008-11-24 | 2012-04-26 | アーペーデュウ | ガスサンプリング装置 |
| CN103278434A (zh) * | 2013-05-20 | 2013-09-04 | 清华大学 | 测量高温气冷堆一回路管道中石墨粉尘浓度的装置及方法 |
| CN104502161A (zh) * | 2014-12-31 | 2015-04-08 | 郑州光力科技股份有限公司 | 粉尘采样器检定装置 |
| CN104502162A (zh) * | 2014-12-31 | 2015-04-08 | 郑州光力科技股份有限公司 | 粉尘采样器及使用该粉尘采样器的粉尘浓度标定装置 |
| CN104502161B (zh) * | 2014-12-31 | 2017-07-07 | 郑州光力科技股份有限公司 | 粉尘采样器检定装置 |
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