JPS63319220A - ケイ酸の製造方法 - Google Patents
ケイ酸の製造方法Info
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- JPS63319220A JPS63319220A JP15443087A JP15443087A JPS63319220A JP S63319220 A JPS63319220 A JP S63319220A JP 15443087 A JP15443087 A JP 15443087A JP 15443087 A JP15443087 A JP 15443087A JP S63319220 A JPS63319220 A JP S63319220A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B17/00—Forming molten glass by flowing-out, pushing-out, extruding or drawing downwardly or laterally from forming slits or by overflowing over lips
- C03B17/04—Forming tubes or rods by drawing from stationary or rotating tools or from forming nozzles
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はケイ酸ロッドの連続的製造方法に関する。
珪砂や珪石の原料を炉内で溶融して製造したケイ酸ロッ
ドはICの封止材をはじめとして、耐火物、高級ガラス
、ロストワックスの衣、触媒、化粧品等に使用される。
ドはICの封止材をはじめとして、耐火物、高級ガラス
、ロストワックスの衣、触媒、化粧品等に使用される。
そして、特にICの封止材として使用される場合には非
常に高品質のものが要求される。このため、ケイ酸ロッ
ドの製造においては、その品質を高める要件の一つとし
て、炉内におけるケイ酸の滞留時間を適正に保つことが
重要な管理項目キして挙げられている。
常に高品質のものが要求される。このため、ケイ酸ロッ
ドの製造においては、その品質を高める要件の一つとし
て、炉内におけるケイ酸の滞留時間を適正に保つことが
重要な管理項目キして挙げられている。
炉内におけるケイ酸の滞留時間を一定にするために、従
来の技術では、第4図に示すように作業者が炉1内の溶
融ケイ酸2の湯面11の高さや場面が上下する変動を測
定孔20から目視測定し、この結果に基づいて、炉1下
部の絞り部3からケイ酸ロッド5を引抜(引抜き装置4
の引抜き速度を変えて、湯面11を一定の高さに保持し
、滞留時間が一定になるようにしていた。しかしながら
、このような目視による測定では湯面11を一定の高さ
に保つことは困難であり、従って、滞留時間もある幅を
もって変動していた。
来の技術では、第4図に示すように作業者が炉1内の溶
融ケイ酸2の湯面11の高さや場面が上下する変動を測
定孔20から目視測定し、この結果に基づいて、炉1下
部の絞り部3からケイ酸ロッド5を引抜(引抜き装置4
の引抜き速度を変えて、湯面11を一定の高さに保持し
、滞留時間が一定になるようにしていた。しかしながら
、このような目視による測定では湯面11を一定の高さ
に保つことは困難であり、従って、滞留時間もある幅を
もって変動していた。
また同様の目的のために特開昭54−21412号公報
においては、第5図に示すように、炉1下部の絞り部3
から降下するケイ酸ロッド5の表面をバーナーあるいは
冷却用水管21により加熱、冷却して1200”C〜1
600°Cに保持してケイ酸ロッドの降下速度を一定に
し、炉1内のケイ酸の滞留時間を一定に保持している。
においては、第5図に示すように、炉1下部の絞り部3
から降下するケイ酸ロッド5の表面をバーナーあるいは
冷却用水管21により加熱、冷却して1200”C〜1
600°Cに保持してケイ酸ロッドの降下速度を一定に
し、炉1内のケイ酸の滞留時間を一定に保持している。
しかしながら、上述した従来の技術には次のような問題
点があった。
点があった。
(1) 場面の高さを目視測定してケイ酸ロッドの引
抜き速度を変える方法の場合 湯面の高さが目標より低下した時は、ケイ酸ロッドの引
抜き速度が速すぎる場合であり、このような際はケイ酸
の炉内での滞留時間が短いので未溶融の原料が混入した
状態で引き抜かれてケイ酸ロッドが形成され1品質の低
下を招く。また引抜き速度が速すぎると冷却が不十分の
状態であるので、ケイ酸ロッドはまだ軟らかく2曲がっ
たり。
抜き速度を変える方法の場合 湯面の高さが目標より低下した時は、ケイ酸ロッドの引
抜き速度が速すぎる場合であり、このような際はケイ酸
の炉内での滞留時間が短いので未溶融の原料が混入した
状態で引き抜かれてケイ酸ロッドが形成され1品質の低
下を招く。また引抜き速度が速すぎると冷却が不十分の
状態であるので、ケイ酸ロッドはまだ軟らかく2曲がっ
たり。
肥大化して炉下部の絞り部の煉瓦をこすって損傷させ、
この煉瓦片がケイ酸ロッドの表面に溶着して品質の低下
となる。
この煉瓦片がケイ酸ロッドの表面に溶着して品質の低下
となる。
場面の高さが上昇した時は、ケイ酸ロッドの引抜き速度
が遅すぎる場合であり、このような際は引抜かれるケイ
酸が冷却されすぎて温度が低下し。
が遅すぎる場合であり、このような際は引抜かれるケイ
酸が冷却されすぎて温度が低下し。
粘性がない状態になってしまうので、炉下部の絞り部の
煉瓦と固着して煉瓦を損傷するとともにこの損傷した煉
瓦がケイ酸ロッドに溶着して品質を低下させる。また引
抜くケイ酸ロッドの温度がある値以下に低下すると引抜
き不能あるいは破断が発生し、操業を停止しなければな
らなくなる。
煉瓦と固着して煉瓦を損傷するとともにこの損傷した煉
瓦がケイ酸ロッドに溶着して品質を低下させる。また引
抜くケイ酸ロッドの温度がある値以下に低下すると引抜
き不能あるいは破断が発生し、操業を停止しなければな
らなくなる。
このようにケイ酸ロッドの引抜き速度が速すぎても、遅
すぎても品質の低下をはじめ種々の問題が発生する。
すぎても品質の低下をはじめ種々の問題が発生する。
(2)炉下部においてケイ酸ロッドを加熱、冷却する方
法の場合 この方法は炉下部の絞り部出口におけるケイ酸ロッドの
温度を制御してケイ酸ロッドの降下速度を一定にするも
のであり、上記の問題点を一応解決したものであるが、
加熱、冷却装置を必要としてエネルギーの無駄な消費が
ある。
法の場合 この方法は炉下部の絞り部出口におけるケイ酸ロッドの
温度を制御してケイ酸ロッドの降下速度を一定にするも
のであり、上記の問題点を一応解決したものであるが、
加熱、冷却装置を必要としてエネルギーの無駄な消費が
ある。
本発明は以上のような従来技術の問題点を解消=3−
し9品質のよいケイ酸ロッドを安定して生産できる方法
を提供することを目的とする。
を提供することを目的とする。
本発明は炉内で溶融されたケイ酸を炉下部に形成された
絞り部から引抜きケイ酸ロッドを連続的に製造する方法
において、前記絞り部の下部における前記ケイ酸ロッド
の表面温度を測定し、この表面温度が一定になるように
前記ケイ酸ロッドの引抜き速度を制御することを特徴と
する。
絞り部から引抜きケイ酸ロッドを連続的に製造する方法
において、前記絞り部の下部における前記ケイ酸ロッド
の表面温度を測定し、この表面温度が一定になるように
前記ケイ酸ロッドの引抜き速度を制御することを特徴と
する。
ケイ酸ロッドを連続的に製造する場合の定常操業におい
ては、定量の原料を連続的に供給し、また原料を溶融す
る燃料も一定量を供給して炉内の溶融ケイ酸の温度を一
定に保持している。
ては、定量の原料を連続的に供給し、また原料を溶融す
る燃料も一定量を供給して炉内の溶融ケイ酸の温度を一
定に保持している。
従って、炉下部から引抜かれたケイ酸ロッドの温度はそ
の引抜き速度によって決まる。すなわち引抜き速度が速
ければ、引抜きの間における冷却が不十分のため炉下部
の絞り部から引抜かれたケイ酸ロッドの温度は高くなり
、逆に引抜き速度が遅ければ冷却がよく行われるのでケ
イ酸ロッドの4一 温度は低くなる。本発明では前記絞り部の下部における
ケイ酸ロッドの表面温度を測定し、この表面温度が適温
であり且つ一定になにようにケイ酸ロッドの引抜き速度
を制御するので、引抜き速度は一定になり、従って湯面
の高さも一定に維持される。このため炉内のケイ酸の溶
融状態は常に最適状態に保たれる。
の引抜き速度によって決まる。すなわち引抜き速度が速
ければ、引抜きの間における冷却が不十分のため炉下部
の絞り部から引抜かれたケイ酸ロッドの温度は高くなり
、逆に引抜き速度が遅ければ冷却がよく行われるのでケ
イ酸ロッドの4一 温度は低くなる。本発明では前記絞り部の下部における
ケイ酸ロッドの表面温度を測定し、この表面温度が適温
であり且つ一定になにようにケイ酸ロッドの引抜き速度
を制御するので、引抜き速度は一定になり、従って湯面
の高さも一定に維持される。このため炉内のケイ酸の溶
融状態は常に最適状態に保たれる。
以下1本発明の実施例について説明する。第1図は本発
明を実施する装置の一実施例を示す断面図である。炉1
内で溶融された溶融ケイ酸2は炉1下部に形成された絞
り部3から引抜装W4によって引抜かれ、放冷によって
凝固しケイ酸ロッド5となる。
明を実施する装置の一実施例を示す断面図である。炉1
内で溶融された溶融ケイ酸2は炉1下部に形成された絞
り部3から引抜装W4によって引抜かれ、放冷によって
凝固しケイ酸ロッド5となる。
前記引抜装置4の要部はケイ酸ロッド5を挟持するバン
ド6と回転することによりバンド6を上下させる螺杆7
及び螺杆7を回転させるモーター8とで構成されている
。この引抜き装置4ば上下に2段配置され(下段の引抜
き装置は図示せず)。
ド6と回転することによりバンド6を上下させる螺杆7
及び螺杆7を回転させるモーター8とで構成されている
。この引抜き装置4ば上下に2段配置され(下段の引抜
き装置は図示せず)。
上下の引抜き装置が交互に作動して、ケイ酸ロッド5を
連続的に引き抜くようになっている。そして、炉1下部
の絞り部3から引抜かれたケイ酸ロッド5の表面温度を
2色温度計9によって常時測定するようにしである。測
定された温度は電気信号に変換されて制御装置10に送
られる。この制御装置10はあらかじめ設定されている
目標温度との差に応じて引抜き装置4のモーター8の回
転数を増減させてケイ酸ロッド5の引抜き速度を制御す
る。このため、ケイ酸ロッド5の引抜き速度は一定にな
り、従って炉1内の溶融ケイ酸2の湯面11も一定に保
たれる。このようにして、ケイ酸ロッド5が一定の温度
で抜き出され、且つ溶融ケイ酸2の湯面11が一定に保
たれることにより炉1内でのケイ酸の滞留時間も一定と
なるので、ケイ酸ロッド5に未溶融のケイ酸が混入する
こともなく。
連続的に引き抜くようになっている。そして、炉1下部
の絞り部3から引抜かれたケイ酸ロッド5の表面温度を
2色温度計9によって常時測定するようにしである。測
定された温度は電気信号に変換されて制御装置10に送
られる。この制御装置10はあらかじめ設定されている
目標温度との差に応じて引抜き装置4のモーター8の回
転数を増減させてケイ酸ロッド5の引抜き速度を制御す
る。このため、ケイ酸ロッド5の引抜き速度は一定にな
り、従って炉1内の溶融ケイ酸2の湯面11も一定に保
たれる。このようにして、ケイ酸ロッド5が一定の温度
で抜き出され、且つ溶融ケイ酸2の湯面11が一定に保
たれることにより炉1内でのケイ酸の滞留時間も一定と
なるので、ケイ酸ロッド5に未溶融のケイ酸が混入する
こともなく。
炉1下部の絞り部3の煉瓦がケイ酸ロッドに溶着するこ
ともなくなり、高品質のケイ酸ロッド5を安定して連続
的に製造することができる。
ともなくなり、高品質のケイ酸ロッド5を安定して連続
的に製造することができる。
次に本発明の製造法と従来技術とを比較するために第1
図の装置と第4図の装置を使用してケイ酸ロッドを製造
した操業実績について説明する。
図の装置と第4図の装置を使用してケイ酸ロッドを製造
した操業実績について説明する。
第2図+a)〜(C1は本発明の製造法におけるケイ酸
ロッドの表面温度、引抜き速度、湯面の高さについての
変動を図示した説明図であり、第3図(al〜(C1は
従来技術の製造法における前記の測定値を図示した説明
図である。第2図及び第3図で明らかなように、従来技
術においては大幅に変動している各測定値が本発明では
非常に安定し、ケイ酸ロッドの表面温度は1450℃付
近で略一定になっている。
ロッドの表面温度、引抜き速度、湯面の高さについての
変動を図示した説明図であり、第3図(al〜(C1は
従来技術の製造法における前記の測定値を図示した説明
図である。第2図及び第3図で明らかなように、従来技
術においては大幅に変動している各測定値が本発明では
非常に安定し、ケイ酸ロッドの表面温度は1450℃付
近で略一定になっている。
このため場面の高さも安定し、その変動幅は従来技術の
場合の115程度になっている。
場合の115程度になっている。
また第1表はケイ酸ロッドの表面温度によるケイ酸原料
の未溶融の発生頻度及び引抜き時にケイ酸ロッドが破断
してしまったために炉の操業を停止した頻度の実績を示
したものである。
の未溶融の発生頻度及び引抜き時にケイ酸ロッドが破断
してしまったために炉の操業を停止した頻度の実績を示
したものである。
この表で明らかなように9本発明は従来技術に比較し、
未溶融および炉停止の頻度が著しく減少している。
未溶融および炉停止の頻度が著しく減少している。
第1表
〔発明の効果〕
本発明によれば、引き抜いたケイ酸ロッドの表面温度が
一定になるように引抜き速度を制御しているので、その
表面温度を適温に保持できるとともに場面も一定に維持
することができ、高品質のケイ酸ロッドを安定して連続
的に製造することができる。
一定になるように引抜き速度を制御しているので、その
表面温度を適温に保持できるとともに場面も一定に維持
することができ、高品質のケイ酸ロッドを安定して連続
的に製造することができる。
第1図は本発明を実施する装置の一実施例を示す断面図
、第2図ial〜(C1は本発明の方法による操業実績
の説明図、第3図(al〜telは従来技術による操業
実績の説明図、第4図及び第5図は従来技術において使
用する装置の断面図である。 1・・・炉、 2・・・溶融ケイ酸、 3・・・絞
り部。 4・・・引抜き装置、 5・・・ケイ酸ロッド。 8・・・モーター、 9・・・2色温度計。 10・・・制御装置 特許出願人 日本鋼管株式會社 ♀し i 〕蝙、 ω 雷 第1 図 叶閏(右)fr話(相 (0)(a) 峰7’a’)(4’ 吋M(劇(b
) (b)? 時間り 耳間Q) (C) (C)第3図
第2図 第4図 コ 第5図
、第2図ial〜(C1は本発明の方法による操業実績
の説明図、第3図(al〜telは従来技術による操業
実績の説明図、第4図及び第5図は従来技術において使
用する装置の断面図である。 1・・・炉、 2・・・溶融ケイ酸、 3・・・絞
り部。 4・・・引抜き装置、 5・・・ケイ酸ロッド。 8・・・モーター、 9・・・2色温度計。 10・・・制御装置 特許出願人 日本鋼管株式會社 ♀し i 〕蝙、 ω 雷 第1 図 叶閏(右)fr話(相 (0)(a) 峰7’a’)(4’ 吋M(劇(b
) (b)? 時間り 耳間Q) (C) (C)第3図
第2図 第4図 コ 第5図
Claims (1)
- 炉内で溶融されたケイ酸を炉下部に形成された絞り部か
ら引抜きケイ酸ロッドを連続的に製造する方法において
、前記絞り部の下部における前記ケイ酸ロッドの表面温
度を測定し、この表面温度が一定になるように前記ケイ
酸ロッドの引抜き速度を制御することを特徴とするケイ
酸の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15443087A JPS63319220A (ja) | 1987-06-23 | 1987-06-23 | ケイ酸の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15443087A JPS63319220A (ja) | 1987-06-23 | 1987-06-23 | ケイ酸の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63319220A true JPS63319220A (ja) | 1988-12-27 |
Family
ID=15584009
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15443087A Pending JPS63319220A (ja) | 1987-06-23 | 1987-06-23 | ケイ酸の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63319220A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000003955A1 (en) * | 1998-07-15 | 2000-01-27 | Saint-Gobain Quartz Plc | Process and apparatus for manufacturing a glass ingot from synthetic silica |
-
1987
- 1987-06-23 JP JP15443087A patent/JPS63319220A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000003955A1 (en) * | 1998-07-15 | 2000-01-27 | Saint-Gobain Quartz Plc | Process and apparatus for manufacturing a glass ingot from synthetic silica |
JP2002520249A (ja) * | 1998-07-15 | 2002-07-09 | サン−ゴバン クオーツ パブリック リミティド カンパニー | 合成シリカからガラスインゴットを製造するための方法および装置 |
US6763682B1 (en) | 1998-07-15 | 2004-07-20 | Saint-Gobain Quartz Plc | Process and apparatus for manufacturing a glass ingot from synthetic silica |
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