JPS63313312A - Thin film magnetic head - Google Patents
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Classifications
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- G—PHYSICS
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- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、薄膜磁気ヘッドに関し、磁性膜、コイル、絶
縁膜及び保護膜等を支持する基板を、サイアロンで構成
することにより、耐摩耗性、磁気特性に優れ、積層され
る薄膜の接着強度が高く、薄膜剥離を防止でき、高信頼
度であり、しかも集積化工程を高効率化し得る薄膜磁気
ヘッドを提供できるようにしたものである。[Detailed Description of the Invention] <Industrial Application Field> The present invention relates to a thin-film magnetic head, and the substrate supporting the magnetic film, coil, insulating film, protective film, etc. is made of sialon, thereby improving wear resistance. It is possible to provide a thin film magnetic head which has excellent magnetic properties, has high adhesion strength of laminated thin films, can prevent peeling of the thin films, is highly reliable, and can improve the efficiency of the integration process.
〈従来の技術〉
薄膜磁気ヘッドとしては、従来より、垂直記録再生ヘッ
ドと、面内記録再生ヘッドの２種類のものが知られてい
る。第１３図は従来の垂直記録再生用の薄膜磁気ヘッド
の要部断面図で、ｌは基板、２は下地膜、３は下部磁性
膜、４は上部磁性膜、５はアルミナ膜、６は導体コイル
、７はフォトレジスト絶縁膜、８はアルミナ保護膜、９
は磁束復帰路となる軟磁性体である。<Prior Art> Two types of thin film magnetic heads have been known: a perpendicular recording/reproducing head and a longitudinal recording/reproducing head. FIG. 13 is a cross-sectional view of the main parts of a conventional thin film magnetic head for perpendicular recording/reproduction, where l is a substrate, 2 is a base film, 3 is a lower magnetic film, 4 is an upper magnetic film, 5 is an alumina film, and 6 is a conductor. Coil, 7 is photoresist insulating film, 8 is alumina protective film, 9
is a soft magnetic material that serves as a magnetic flux return path.
基板１はＡｌ２Ｏ３＋ＴｉＣ（以下アルティックと称す
る）で形成されている。下地膜２はアルミナ膜２１とチ
タンまたはクロム等でなる非磁性金属膜２２との２層構
造となっている。The substrate 1 is made of Al2O3+TiC (hereinafter referred to as AlTiC). The base film 2 has a two-layer structure including an alumina film 21 and a nonmagnetic metal film 22 made of titanium, chromium, or the like.
下部磁性１１！％３及び上部磁性膜４はＮｉ−Ｆｅ膜ま
たはＣｏ−Ｚｒ−Ｎｂ膜等で構成されている。下部磁性
膜３は、磁気記録媒体との摺接面となる基板１の端面に
先端部を臨ませたボール３１と、このボール３１に連続
して後方に延ばして形成したヨーク３２とを有し、ヨー
ク３２の後端部に上部磁性膜４を結合させである。上部
磁性膜４は、先端部４１を下部磁性膜３のボール３１の
端面より後退させて、フォトレジスト絶縁膜７の表面に
形成しである。Lower magnetism 11! % 3 and the upper magnetic film 4 are made of a Ni--Fe film or a Co--Zr--Nb film. The lower magnetic film 3 includes a ball 31 whose tip end faces the end surface of the substrate 1 that will be in sliding contact with the magnetic recording medium, and a yoke 32 formed to extend rearward continuously from the ball 31. , the upper magnetic film 4 is coupled to the rear end of the yoke 32. The upper magnetic film 4 is formed on the surface of the photoresist insulating film 7 with the tip 41 set back from the end surface of the ball 31 of the lower magnetic film 3.
下部磁性膜３の表面には、製造プロセスにおいて下部磁
性膜３に対する保護膜となるアルミナ膜５を形成し、こ
のアルミナ膜５の上にフォトレジスト絶縁膜７によって
覆われた導体コイル６を、上部磁性膜４の結合部４２を
回るように、渦巻状に形成しである。そして、全体を保
護膜８で覆い、更に、保護膜８の上に磁束復帰路となる
フェライト等の軟磁性体９を接着等の手段によって固着
しである。On the surface of the lower magnetic film 3, an alumina film 5 that serves as a protective film for the lower magnetic film 3 is formed in the manufacturing process, and a conductor coil 6 covered with a photoresist insulating film 7 is placed on top of the alumina film 5. It is formed in a spiral shape so as to go around the coupling portion 42 of the magnetic film 4. Then, the entire structure is covered with a protective film 8, and a soft magnetic material 9 such as ferrite, which serves as a magnetic flux return path, is fixed onto the protective film 8 by means of adhesive or the like.
第１４図は面内記録再生用の薄膜磁気ヘッドを示してい
る。垂直記録再生用の薄膜磁気ヘッドとの違いは、上部
磁性膜４の先端部４１と、下部磁性膜３の先端部３１と
の間にアルミナ膜５による磁気ギャップを形成させたこ
と、磁束復帰路となる軟磁性体を必要としないこと等で
ある。FIG. 14 shows a thin film magnetic head for longitudinal recording and reproduction. The difference from a thin film magnetic head for perpendicular recording and reproduction is that a magnetic gap is formed between the tip 41 of the upper magnetic film 4 and the tip 31 of the lower magnetic film 3 by the alumina film 5, and that the magnetic flux return path is For example, it does not require a soft magnetic material.
〈発明が解決しようとする問題点〉
しかしながら、従来の薄膜磁気ヘッドでは、下地膜２、
下部磁性膜３、上部磁性膜４、アルミナ膜５、導体コイ
ル６、フォトレジスト絶縁膜７及びアルミナ保護膜８を
支持している基板１がアルティックで形成されていたた
め、次のような問題点があった。<Problems to be solved by the invention> However, in the conventional thin film magnetic head, the base film 2,
Since the substrate 1 supporting the lower magnetic film 3, upper magnetic film 4, alumina film 5, conductor coil 6, photoresist insulating film 7, and alumina protective film 8 was made of AlTiC, the following problems occurred. was there.
（イ）アルティックでなる基板１は、結晶粒径が大きく
表面性が悪い。このため、媒体との接触性が悪く、耐摩
耗性の点でも問題がある。(a) The substrate 1 made of AlTiC has a large crystal grain size and poor surface properties. For this reason, contact with the medium is poor, and there are also problems in terms of wear resistance.
（ロ）基板１の表面を覆っているアルミナ膜２１に対し
て、下部磁性膜３を形成した場合、充分な接着力を得る
ことができず、応力剥離を発生する可能性がある。これ
を防止するために、アルミナ膜２１の表面をチタン膜ま
たはクロム膜２２等で覆い、その上に下部磁性膜３を形
成する必要がある。このため、集積化工程が一層複雑に
なる。(b) If the lower magnetic film 3 is formed on the alumina film 21 covering the surface of the substrate 1, sufficient adhesion cannot be obtained and stress peeling may occur. In order to prevent this, it is necessary to cover the surface of the alumina film 21 with a titanium film, a chromium film 22, etc., and form the lower magnetic film 3 thereon. This makes the integration process even more complicated.
く問題点を解決するための手段〉
上述する従来の問題点を解決するため、本発明は、磁性
膜、コイル及び絶縁膜を支持する基板を、サイアロンで
構成したことを特徴とする。Means for Solving Problems> In order to solve the above-mentioned conventional problems, the present invention is characterized in that the substrate supporting the magnetic film, coil, and insulating film is made of sialon.
ここに、サイアロンとは、一般式
％式％）
で示され、窒化けい素Ｓｉ、Ｎ、にＡｌとＯが置換形に
固溶した固溶体であって、窒化けい素と同じ結晶構造を
持つ焼結体である。Here, sialon is expressed by the general formula (%), and is a solid solution in which Al and O are substituted in silicon nitride, Si, N, and has the same crystal structure as silicon nitride. It is a body.
く作用〉
サイアロンは潤滑性に富み、高強度、高靭性で、しかも
熱伝導率が０．０５〜０．０６ ｃａｌ／ｃｍ、ｓｅｃ
、ｔと高い。従って、サイアロンによって基板を構成す
ることにより、媒体との接触性が良好で、放熱性に優れ
、摺動摩擦に対する耐摩耗性に優れた薄膜磁気ヘッドが
得られる。Effect〉 Sialon is rich in lubricity, has high strength, high toughness, and has a thermal conductivity of 0.05 to 0.06 cal/cm, sec.
, t. Therefore, by configuring the substrate from Sialon, a thin film magnetic head can be obtained that has good contact with the medium, excellent heat dissipation, and excellent wear resistance against sliding friction.
また、サイアロンは比抵抗の高い電気絶縁物であって、
ち密な焼結体であり、表面性も良好である。このため基
板に対して、アルミナ膜等の下地層を介在させることな
く、磁性膜を直接に積層することができ、集積化工程の
効率が向上する。In addition, Sialon is an electrical insulator with high resistivity,
It is a dense sintered body with good surface properties. Therefore, the magnetic film can be directly stacked on the substrate without intervening an underlying layer such as an alumina film, improving the efficiency of the integration process.
しかも、サイアロンでなる基板に対して、磁性膜を、充
分な接着強度で接着して、磁性膜の剥離を防止した高信
頼性の薄膜磁気ヘッドが得られる。Moreover, a highly reliable thin-film magnetic head can be obtained in which the magnetic film is adhered to the SiAlON substrate with sufficient adhesive strength to prevent the magnetic film from peeling off.
さらに、基板をサイアロンで構成することにより、磁気
特性も向上する。Furthermore, by forming the substrate with SiAlON, magnetic properties are also improved.
〈実施例〉
第１図は垂直記録再生用として使用される本発明に係る
薄膜磁気ヘッド、第２図は面内記Ｓ１再主用として使用
される本発明に係る薄膜磁気ヘッドの断面図である。第
１３図及び第１４図と同一の参照符号は同一の構成部分
を示している。第１図及び第２図において、１０はサイ
アロンでなる基板であり、このサイアロン基板１０の表
面には、下地膜を介在させることなく、下部磁性膜３を
直接形成しである。基板１０と共に、保護膜５．８をも
サイアロンで構成できる。また、サイアロン基板１０を
スライダとして兼用してもよい。<Example> Fig. 1 is a cross-sectional view of a thin film magnetic head according to the present invention used for perpendicular recording/reproduction, and Fig. 2 is a sectional view of a thin film magnetic head according to the present invention used for in-plane S1 reproducing. be. The same reference numerals as in FIGS. 13 and 14 indicate the same components. In FIGS. 1 and 2, reference numeral 10 denotes a substrate made of sialon, and the lower magnetic film 3 is directly formed on the surface of this sialon substrate 10 without intervening an underlying film. Together with the substrate 10, the protective film 5.8 can also be made of sialon. Further, the sialon substrate 10 may also be used as a slider.
第４図はサイアロンの強度一温度特性を、ハイテロイＸ
５ＺｒＯ，、ＳｉＣのそれと比較して示す図、第５図は
サイアロンの破壊靭性を、ＺｒＯ２、ＳｉＣ及びＡｔ２
０３のそれと比較して示す図、第６図はサイアロンの硬
さ一温度特性を、ＳｉＣ％Ａ１□０３及び超硬ＨＴｉ
１０のそれと比較して示す図、第７図はサイア０ン（７
）耐熱衝撃性を、ｚ「０２、ＳｉＣ及びＡｌ２Ｏ３（７
）それと比較して示す図である。Figure 4 shows the strength-temperature characteristics of Sialon.
Figure 5 shows the fracture toughness of Sialon compared with that of ZrO2, SiC and At2.
Figure 6 shows the hardness-temperature characteristics of Sialon in comparison with that of SiC%A1□03 and carbide HTi.
Figure 7 is a diagram showing comparison with that of 10.
) thermal shock resistance, z"02, SiC and Al2O3 (7
) is a diagram showing a comparison with that.
第４図に示すように、サイアロンは１０００℃前後の高
温に至るまで、９０に３７ｍｍ２以上の高い強度を確保
できる。また、第５図に示すように、サイアロンはＡｌ
２Ｏ３の２倍以上の破壊靭性を有する。更に第６図に示
すように、サイアロンは２００℃を超える温度範囲で、
Ａｌ２Ｏ３より著しく高い硬さを保持する。As shown in FIG. 4, Sialon can maintain a high strength of 37 mm2 or more at 90°C even up to high temperatures of around 1000°C. In addition, as shown in Figure 5, Sialon is made of Al
It has fracture toughness more than twice that of 2O3. Furthermore, as shown in Figure 6, Sialon has a temperature range exceeding 200°C.
Retains significantly higher hardness than Al2O3.
次に、表１にサイアロンでなる基板１０の熱伝導率をア
ルティック、結晶化ガラス及びＭｎ−Ｚｎフェライトの
それと比較して示しである。Next, Table 1 shows the thermal conductivity of the substrate 10 made of Sialon in comparison with those of AlTiC, crystallized glass, and Mn--Zn ferrite.
以下余白
表 １
この種の薄膜磁気ヘッドでは、磁気記録媒体との摺動に
より摩擦熱を発生するから、摺動寿命（耐摩耗性）を延
ばすには、基板の熱伝導率を上げ、摺動摩擦によって発
生した熱を速やかに放熱する必要がある０表１に示すよ
うに、アルティックの熱伝導率は０．０４ｃａｌ／ｃｍ
、ｓｅｃ、’ｅ、Ｍｎ−Ｚｎフェライトの熱伝導率は０
．０１４ ｃａｌ／ｃｍ、ｓｅｃ、ｔであるが、サイア
ロンの熱伝導率は０．０５〜０．０６ｃａｌ／ｃｍ、ｓ
ｅｃ、ｔの高い値となる。従って、サイアロンによって
基板１０を構成することにより、サイアロンの持つ潤滑
性、高強度、高靭性と共に、高い熱伝導率により、摺動
摩擦に対する耐摩耗性に優れた薄膜磁気ヘッドを得るこ
とができる。Margin Table 1 This type of thin-film magnetic head generates frictional heat when it slides with the magnetic recording medium, so in order to extend the sliding life (wear resistance), increase the thermal conductivity of the substrate and reduce the sliding friction. As shown in Table 1, the thermal conductivity of Altic is 0.04 cal/cm.
, sec, 'e, the thermal conductivity of Mn-Zn ferrite is 0
．． 014 cal/cm, sec, t, but the thermal conductivity of Sialon is 0.05-0.06 cal/cm, s
This results in a high value of ec and t. Therefore, by configuring the substrate 10 with Sialon, a thin film magnetic head can be obtained that has excellent wear resistance against sliding friction due to Sialon's lubricity, high strength, high toughness, and high thermal conductivity.
更に第７図に示すように、サイアロンはＺｒＯ，、Ｓｉ
Ｃ及びＡｌ２Ｏ３等に比較して、著しく高い耐熱衝撃性
を有する。従って、サイアロンでなる基板１０を用いる
ことにより、製造プロセスにおいて、繰返して熱が加わ
っても、熱的劣化を起すことがなく、信頼性の高い薄膜
磁気ヘッドが得られる。Furthermore, as shown in Fig. 7, Sialon is ZrO, Si
It has significantly higher thermal shock resistance than C, Al2O3, etc. Therefore, by using the substrate 10 made of sialon, a highly reliable thin film magnetic head can be obtained without thermal deterioration even if heat is repeatedly applied during the manufacturing process.
次に、表２にサイアロンでなる基板１ｏの比抵抗（Ω−
ｃｍ）、粒度（μｍ）、面粗度（入）、線膨張率（ｄｅ
ｇ）、ビッカース硬度（Ｈｖ）及び密度（ｇ／ｃ＋ｎ３
）を、従来のアルティックでなる基板、結晶化ガラスで
なる基板、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライトでなる基板、及び複
合酸化物でなる基板のそれと比較して示しである。Next, Table 2 shows the specific resistance (Ω-
cm), particle size (μm), surface roughness (in), coefficient of linear expansion (de
g), Vickers hardness (Hv) and density (g/c+n3
) is compared with that of a conventional substrate made of ALTIC, a substrate made of crystallized glass, a substrate made of Mn-Zn ferrite, and a substrate made of composite oxide.
履コ
表２に示すように、サイアロンでなる基板ｌＯは粒度が
２（μｍ）、面粗度が＜１００Ｃ人）と小さく、潤滑性
に優れている。従って、媒体との接触性の良好な薄膜磁
気ヘッドが得られる。As shown in Table 2, the substrate 1O made of Sialon has a small particle size of 2 (μm), a surface roughness of <100C, and has excellent lubricity. Therefore, a thin film magnetic head with good contact with the medium can be obtained.
また、比抵抗が１ｏｌｅ（Ω−ｃｍ）と著しく大きく、
比抵抗が９Ｘ１０−’（Ω−ｃ＋ｍ）のアルティックと
異なって、電気絶縁物である。しかも、密度が３．２５
（ｇ／ｃｍ３）のち密な焼結体である。また線膨張率
は３２ ｘ １０−’（ｄｅｇ）であり、アルティック
の線膨張率７４ ｘ １０−’（ｄｅｇ）の半分以下の
値を示している。更に、面粗度く１００人で、アルティ
ックの面粗度く２００人よりも、小さく、表面性が良好
である。このため、サイアロンでなる基板１０に対して
は、第１図及び第２図に示す如く、アルミナ膜等の下地
層を介在させることなく、磁性膜３を直接に積層するこ
とができ、集積化工程の効率が向上する。In addition, the specific resistance is extremely large at 1 ole (Ω-cm),
Unlike Altic, which has a specific resistance of 9X10-' (Ω-c+m), it is an electrical insulator. Moreover, the density is 3.25
(g/cm3) and is a dense sintered body. Further, the linear expansion coefficient is 32 x 10-' (deg), which is less than half of the linear expansion coefficient of Altic, which is 74 x 10-' (deg). Furthermore, the surface roughness of 100 people is smaller than that of Altic, which has a surface roughness of 200 people, and the surface quality is better. Therefore, as shown in FIGS. 1 and 2, the magnetic film 3 can be directly stacked on the substrate 10 made of sialon without intervening an underlying layer such as an alumina film, resulting in an integrated structure. Improves process efficiency.
しかも、サイアロンでなる基板１ｏに磁性膜３を直接に
積層しても、充分な接着強度を確保し、磁性膜３の剥離
を生じることのない信頼性の高い薄膜磁気ヘッドが得ら
れる。Moreover, even if the magnetic film 3 is directly laminated on the substrate 1o made of sialon, a highly reliable thin-film magnetic head can be obtained in which sufficient adhesion strength is ensured and the magnetic film 3 does not peel off.
さらに、基板をサイアロンで構成することにより、磁気
特性も向上する。第１０図はサイアロンでなる基板１０
を用いた本発明に係る薄膜磁気ヘッドのＢ−Ｈ特性図、
第１１図はアルティックでなる従来の基板を用いた薄膜
磁気ヘッドのＢ−Ｈ特性図、第１２図は青板ガラスでな
る基板を用いた薄膜磁気ヘッドのＢ−Ｈ特性図である。Furthermore, by forming the substrate with SiAlON, magnetic properties are also improved. Figure 10 shows a substrate 10 made of Sialon.
B-H characteristic diagram of the thin film magnetic head according to the present invention using
FIG. 11 is a B-H characteristic diagram of a thin film magnetic head using a conventional substrate made of AlTiC, and FIG. 12 is a B-H characteristic diagram of a thin film magnetic head using a substrate made of soda lime glass.
ＢＨＥは磁化容易軸方向のＢ−８曲線を示し、Ｂ）ＩＮ
は磁化困難軸方向のＢ−８曲線を示している。第１１図
のアルティックでなる基板を用いた場合の磁化容易軸方
向の保磁力ＨＣＥは１．９３（Ｏｅ） 、第１２図の青
板でなる基板を用いた場合の保磁力ＨｃＥは１．５６
（Ｏｅ）であるが、本発明に係る薄膜磁気ヘッドでは保
磁力ＨＣＥは１．４８ （Ｏｅ）であり、磁気特性が向
上している。BHE shows a B-8 curve in the easy axis direction, B) IN
shows the B-8 curve in the direction of the hard axis of magnetization. The coercive force HCE in the easy magnetization axis direction when using the AlTiC substrate shown in FIG. 11 is 1.93 (Oe), and the coercive force HCE when using the blue plate substrate shown in FIG. 56
(Oe), but in the thin film magnetic head according to the present invention, the coercive force HCE is 1.48 (Oe), and the magnetic properties are improved.
第３図は、サイアロンでなる基板１ｏを用いた場合に有
効な薄膜磁気ヘッドの、特に媒体対向面側の構造を示し
ている。FIG. 3 shows the structure of a thin film magnetic head that is effective when using a substrate 1o made of sialon, particularly on the medium facing surface side.
薄膜磁気ヘッドの媒体対向面は、サイアロンでなる基板
１０、磁性膜３．４、保護膜５によるギャップ、及び保
護膜８の端面によって構成されている。これらの各部の
耐摩耗性を考えた場合、その強度から、サイアロンでな
る基板１０が最も耐摩耗性に優れ、次にサイアロン膜ま
たはアルミナ膜で形成される保護１ｌｉ５．８、最後に
磁性膜３．４である。このような構造において、基板１
０をサイアロンで形成して耐摩耗性を向上させたとして
も、媒体との接触状態によって、他の部分が摩耗してし
まったのでは、基板１０をサイアロンによって構成して
、耐摩耗性を向上させた意味がなくなる。第３図の実施
例では、この点を考慮し、保護膜５．８の端面を、サイ
アロンでなる基板１０の端面から間隔ｄ、だけ少し後退
させると共に、磁性膜３．４の端面を間隔ｄ１より更に
奥に間隔ｄ２だけ後退させである。ｄ、はボールハイド
である。上述の間隔ｄ、〜ｄ３はスペーシングロスを生
じないような値に選定する。The medium facing surface of the thin film magnetic head is constituted by a substrate 10 made of sialon, a magnetic film 3.4, a gap formed by a protective film 5, and an end face of the protective film 8. Considering the wear resistance of each of these parts, the substrate 10 made of SiAlON has the best wear resistance due to its strength, followed by the protection film 1li5.8 made of SiAlON film or alumina film, and finally the magnetic film 3. .4. In such a structure, the substrate 1
Even if the wear resistance is improved by forming the substrate 10 with SiAlON, other parts may be worn out due to the contact state with the medium. It loses its meaning. In the embodiment shown in FIG. 3, taking this point into consideration, the end face of the protective film 5.8 is slightly set back by a distance d from the end face of the substrate 10 made of sialon, and the end face of the magnetic film 3.4 is set back by a distance d1 from the end face of the substrate 10 made of sialon. It is moved further back by a distance d2. d is ball hide. The above-mentioned intervals d, to d3 are selected to values that do not cause spacing loss.
保護膜５．８をサイアロン膜で形成する場合、バイアス
、スパッタによって形成するのが望ましい。バイアス、
スパッタ法によると、第９図に示す如く、バイアス電圧
によりサイアロン保護膜の透過率をコントロールできる
こと、第８図に示すように、Ａｒガス圧を高くすること
でアモルファス性が増加し、かつ、高度が増すので、耐
摩耗性が向上すること等の利点が得られる。When the protective film 5.8 is formed of a sialon film, it is desirable to form it by bias or sputtering. bias,
According to the sputtering method, as shown in Fig. 9, the transmittance of the sialon protective film can be controlled by bias voltage, and as shown in Fig. 8, by increasing the Ar gas pressure, the amorphous property increases and Since this increases, advantages such as improved wear resistance can be obtained.
〈発明の効果〉
以上述べたように、本発明は、磁性膜、コイル及び絶縁
膜を支持する基板を、サイアロンで構成したことを特徴
とするから、次のような効果が得られる。<Effects of the Invention> As described above, the present invention is characterized in that the substrate supporting the magnetic film, coil, and insulating film is made of sialon, and therefore the following effects can be obtained.
（ａ）サイアロンの持つ潤滑性、高強度、高靭性及び高
い熱伝導率により、磁気記録媒体との間の摺動摩擦に対
する耐摩耗性に優れた薄膜磁気ヘッドを提供できる。(a) Sialon's lubricity, high strength, high toughness, and high thermal conductivity make it possible to provide a thin film magnetic head with excellent wear resistance against sliding friction with a magnetic recording medium.
（ｂ）サイアロンの高い電気絶縁性、ち密性、及び、高
い表面性を利用して、基板に対して、下地層を介在させ
ることなく、磁性膜を直接に積層し、集積化工程の効率
を向上させた薄膜磁気ヘッドを提供できる。(b) Utilizing Sialon's high electrical insulation, compactness, and high surface properties, a magnetic film can be directly stacked on the substrate without an intervening underlayer, increasing the efficiency of the integration process. An improved thin film magnetic head can be provided.
（Ｃ）磁性膜の剥離を生じない信頼性の高い薄膜磁気ヘ
ッドが得られる。(C) A highly reliable thin film magnetic head that does not cause peeling of the magnetic film can be obtained.
（ｄ）磁気特性の優れた薄膜磁気ヘッドを提供できる。(d) A thin film magnetic head with excellent magnetic properties can be provided.
第１図は垂直記録再生用として使用される本発明に係る
薄膜磁気ヘッドの断面図、第２図は面内記録再生用とし
て使用される本発明に係る薄膜磁気ヘッドの要部断面図
、第３図はサイアロンでなる基板を用いた場合に有効な
薄膜磁気ヘッドの要部の構造を示す断面図、第４図はサ
イアロンの強度一温度特性を、ハイテロイＸ％ＺｒＯ２
、ＳｉＣのそれと比較して示す図、第５図はサイアロン
の破壊靭性を、ｚ「０２、ＳｉＣ及びＡｌ２Ｏ３ｔ：Ｄ
それと比較して示す図、第６図はサイアロンの硬さ一温
度特性を、ＳｉＣ、ＡｌｚＯｓ及び超硬ＨＴｉ １０の
それと比較して示す図、第７図はサイアロンの耐熱ｉｓ
性を、ＺｒＯ２、ＳｉＣ及びＡＩ、０．のそれと比較し
て示す図、第８図はバイアス、スパッタ法によってサイ
アロン膜を形成する場合のＡｒガス圧と硬度及びスパッ
タ速度との関係を示す線図、第９図は同じくスパッタ電
圧と透過率、硬度及びスパッタ゛速度との関係を示す線
図、第１０図はサイアロンでなる基板を用いた本発明に
係る薄膜磁気ヘッドのＢ−Ｈ特性図、第１１図はアルテ
ィックでなる従来の基板を用いた薄膜磁気ヘッドのＢ−
Ｈ特性図、第１２図は青板ガラスでなる基板を用いた薄
膜磁気ヘッドのＢ−Ｈ特性図、第１３図は垂直記録再生
用として使用される従来の薄膜磁気ヘッドの断面図、第
１４図は面内記録再生用として使用される従来の薄膜磁
気ヘッドの要部断面図である。
３・・・下部磁性膜 ４・・・上部磁性膜５．８・
・・保護膜 ６１９．導体コイル７・・・絶縁膜
１０・・・サイアロンでなる基板
第１ 図
第２区
第３図
第４図
２００ ４ｏｏ ＋６００ ＆）ＯＣｏ０ １２０
０五度（Ｃ）−
第５図
ｍ煉舒注儂
ｆｊ４７’ｏン ｓｉｃ ｚｒｏ、
Ａｌ２Ｏ３第６図
温度 （Ｃ）□
第７図
サイア０ンＳｉＣＺｒｏ２Ａ１２０３
ゴ１０．ｍ
Ｂ（にＧ）
ミ
１ 工 ｌ
−１０（伽） ＩＱ
（Ｏｓ）第１１図
第１２コ
４ Ｂ、、ｉｔ。。。FIG. 1 is a sectional view of a thin film magnetic head according to the present invention used for perpendicular recording and reproduction, and FIG. Figure 3 is a cross-sectional view showing the structure of the main part of a thin film magnetic head that is effective when using a substrate made of Sialon, and Figure 4 shows the strength-temperature characteristics of Sialon.
, Figure 5 shows the fracture toughness of Sialon in comparison with that of SiC.
Figure 6 shows the hardness-temperature characteristics of Sialon in comparison with that of SiC, AlzOs and carbide HTi 10, and Figure 7 shows the heat resistance is of Sialon.
ZrO2, SiC and AI, 0. Fig. 8 is a diagram showing the relationship between Ar gas pressure, hardness, and sputtering speed when forming a sialon film by bias sputtering, and Fig. 9 is a graph showing the relationship between sputtering voltage and transmittance. , a diagram showing the relationship between hardness and sputtering speed, FIG. 10 is a B-H characteristic diagram of a thin film magnetic head according to the present invention using a substrate made of SiAlON, and FIG. 11 is a diagram showing the relationship between hardness and sputtering speed. B- of the thin film magnetic head used
H characteristic diagram, Figure 12 is a B-H characteristic diagram of a thin film magnetic head using a substrate made of blue plate glass, Figure 13 is a sectional view of a conventional thin film magnetic head used for perpendicular recording and reproduction, and Figure 14. 1 is a sectional view of a main part of a conventional thin film magnetic head used for in-plane recording and reproducing. 3... Lower magnetic film 4... Upper magnetic film 5.8.
...Protective film 619. Conductor coil 7... Insulating film 10... Substrate made of Sialon 1st Figure 2 Section 3 Figure 4 200 4oo +600 &) OCo0 120
05 degrees (C) - Figure 5
Al2O3 Figure 6 Temperature (C) □ Figure 7 SiCZro2A1203 Go10. m B (ni G) Mi1 Engineering l -10 (伽) IQ
(Os) Fig. 11, Fig. 12, 4 B,, it. . .
Claims (3)
基板を、サイアロンで構成したことを特徴とする薄膜磁
気ヘッド。(1) A thin film magnetic head characterized in that a substrate supporting a magnetic film, a coil, an insulating film, a protective film, etc. is made of sialon.
る特許請求の範囲第１項に記載の薄膜磁気ヘッド。(2) The thin film magnetic head according to claim 1, wherein the substrate also serves as a slider.
とする特許請求の範囲第１項または第２項に記載の薄膜
磁気ヘッド。(3) The thin film magnetic head according to claim 1 or 2, wherein the protective film is made of sialon.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15076187A JPS63313312A (en) | 1987-06-17 | 1987-06-17 | Thin film magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15076187A JPS63313312A (en) | 1987-06-17 | 1987-06-17 | Thin film magnetic head |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63313312A true JPS63313312A (en) | 1988-12-21 |
Family
ID=15503837
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15076187A Pending JPS63313312A (en) | 1987-06-17 | 1987-06-17 | Thin film magnetic head |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63313312A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009069004A (en) * | 2007-09-13 | 2009-04-02 | Nippon Steel Corp | Device and method for evaluating hydrogen embrittlement of thin steel sheet |
-
1987
- 1987-06-17 JP JP15076187A patent/JPS63313312A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009069004A (en) * | 2007-09-13 | 2009-04-02 | Nippon Steel Corp | Device and method for evaluating hydrogen embrittlement of thin steel sheet |
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