JPS63303993A

JPS63303993A - オキセタン型ｎ−グリコシド構造を有する化合物の製造法

Info

Publication number: JPS63303993A
Application number: JP13826287A
Authority: JP
Inventors: Setsuko Niitsuma; 節子新妻; Yuichiro Ichikawa; 裕一郎市川; Kunimoto Kato; 加藤　国基; Tomohisa Takita; 滝田　智久
Original assignee: Nippon Kayaku Co Ltd
Current assignee: Nippon Kayaku Co Ltd
Priority date: 1987-06-03
Filing date: 1987-06-03
Publication date: 1988-12-12

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明はオキセタン型Ｎ−グリコシド構造を有する化合
物の製造法に関する。本発明の目的化合物は例えば、抗
ウィルス作用及び抗菌活性を有し、医薬として期待され
るオキセタノシンなどの２＝置換−３，４−ビス（ヒド
ロキシメチル）オキセタン誘導体及びその合成中間体と
して有用である。

〔従来の技術〕

下記式（ＩＪで示されるオキセタノシン（９−（（２Ｒ
，３Ｒ，４３）−３，４−ビス（ハイドロキシメチル）
−２−オキセタニル〕アデニン）は嶋田信義等によって
、バチルス・メガテリウムＮＫ　８４−０．２１８の培
養物から単離された抗生物質である。（「ジャーナル・
オプ・アンチビオチフス」３９巻　１６２３〜１６２５
頁（１９８６年））フラン環のかわりにオキセタン環を
有するヌクレオシドの発見は、上記オキセタノシンが最
初であり、合成例も皆無である。

〔発明が解決すべき問題点〕オキセタン型Ｎ−グリコシドパ構造を有する化合物の合
成法の開発が種々のオキセタノシン誘導体を製造するた
めに必要である。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は、一般式（１）（式中、Ｒは窒素を含む複素環基を示″ｆ）で表わされ
るエポキシアリルエーテルを塩基により閉環して一般式
（Ｉｌａ）（式中、Ｒは前記と同じ）で表わされる化合物を得、次いで所望により水酸基を保
護することを特徴とする一般式（ロ）〔式中、Ａは保護
されてし・でもよい水酸基を示し、Ｒは前記と同じ〕で表わされるオキセタン型Ｎ−グリコシド構造を有する
化合物の製造法及び一般式（ｎ）〔式中、Ｒは窒素な含
む複素環基、Ａは保護されていてもよい水酸基を示す〕で表わされる化合物を酸化剤で酸化して式〔式中、Ｒ，
Ａは前記と同じ〕で表わされるアルデヒド誘導体とした後、還元剤で式〔式中、Ｒ，Ａは前記と同じ〕で表わされる化合物を得、次いで保護基があろ場合、そ
の保護基を除去することを特徴とする一般式（ｌ［）〔式中、Ｒｏは保護基のないＲを示す〕で表わされるオ
キセタン型Ｎ−グリコシドに造を有する化合物の製造性
に関する。

まず、第１の発明について説明する。

上記一般式（Ｉｔ）の化合物は、第２の発明の工程を経
ること罠より、例えばオキセタノシンなどの２−置換−
３，４−ビス（ヒドロキシメチル）オキセタン誘導体へ
変換することができる。

一般式（１１、（Ｉｔ）の化合物において窒素を含む複
素環基は、窒素を１つ以上有し、かつ、その環中の窒素
原子がオキ、セタン環の２位に結合したものが好ましく
、又、単環のものでも、縮合環のものでもよいが、例え
ばアデニン、２−アミノアデニン、グアニン、キサンチ
ン、ヒポキサンチンなどのプリン塩基が好ましい。これ
らの塩基にアミン基などの官能基が存在する場合は、そ
の官能基を保護基で保護したものでもよい。

保護基としては、強塩基条件下で安定な保護基であれば
、いずれも使用できる。例えば、ベンゾイル基、ｐ−メ
トキシベンゾイル基等のアシル基、トリメチルシリル基
、テトラメチルエチレンジシリル基等の環状又は非環状
のシリル基、ベンゼンスルホニル基等のスルホニル基、
モノメトキシトリチル基等のアルキル基、メトキシメチ
ル等のアルコキシメチル基などがあげられベンゾイル基
が好ましい。

一般式（１）の化合物としては例えばＮ（６）−ベンゾ
イル−９−Ｃ（ｔＲ，ｚＲ）−ｔ−アリルオキシ−２，
３−エポキシグロピル〕アデニンがあげられ、又、一般
式（Ｉｌｌの化合物としては例えば、Ｎ（６）−ベンゾ
イル−９−［：　（２Ｒ，３Ｒ，４凡）−３−ハイドロ
キシメチル−４−ビニル−２−オキセタニル〕アデニン
があげられる。

第１の発明の反応は、一般式（１）の化合物に塩基を作
用させ閉環し、所望により水酸基を保護基で保護すれば
よい。

塩基としては、アリル位の水素をひきぬくことができる
強塩基、例えばｎ−ブチルリチウム、５ｅｃ−ブチルリ
チウム、　　ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、フェニルリチ
ウムなどの有機リチウム化合物を用いることができ、好
ましくは５ｅｃ−ブチルリチウム又は１（、ｒｌ−ブチ
ルリチウムを用いることができる。塩基の使用量は、エ
ポキシアリルエーテル■の２〜１０当量、好ましくは４
〜６当量を用いる。

反応は、低温、即ちＯ〜−１００℃、好ましくは−６０
〜−８５℃で行ない、溶媒としては低温で固化しない非
プロトン溶媒、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテル等があげられ、好ましくはテトラヒドロフランを
用いることができる。

水酸基の保護は常法によりおこなわれる。即ち、非プロ
トン溶媒中、一般式（Ｉｌａ）の化合物にハロゲン化ｔ
−プチルジフエニｑヴジヒドロビランなどの保護基に対
応する保護試薬を１〜ｌＯ倍モル用い、−２０〜１００
℃で５分〜４８時間反応させればよい。例えば保護基が
ｔ−ブチルジフェニルシリル基の場合、ピリジン、イミ
ダゾール、トリエチルアミン、１１−（ジメチルアミン
）ピリジン、Ｎ、Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンなど
の塩基触媒下、塩化ｔ−ブチルジフェニルシリルを用い
て反応させればよい。

水酸基の保護基としては、ｔ−ブチルジメチルシリル基
、ｔ−ブチルジフェニルシリル基等のシリル基、メトキ
シメチル基、２−メトキシエトキシメチル基、置換又は
無置換テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル
基等の環状又は非環状のアルコキシメチル基、置換又は
無置換ベンジル基、置換又は無置換トリフェニルメチル
基、ベンゾイル基等のアシル基等があげられるが、シリ
ル基が好ましい。

第１の発明の出発原料である一般式（１）の化合物は、
例えば次のようにして製造することができる。Ｒがアデ
ニンの場合を例として説明する。

即ち、一般式■ （式中、Ｘは脱離基、Ｒ３は水酸基の保護基）で示され
るリボピラノース誘導体から出発し、次式に示す方法で
行なわれる。尚、原料化合物■はカーボハイドレート・
リサーチ４５巻１８１〜１９５頁（１９７５年）に記載
の１，２−ジー〇−７セチルー３．４−０−イングロピ
リデンーβ−Ｄ−！７ボフラノースの合成法に準じて合
成できる。

Ｘの脱離基としては例えばアセトキシル基。

ベンゾイルオキ７基等のアシルオキシ基、クロル、ブロ
ム、フッ素等のハロゲン原子、メトキシル基、エトキシ
ル基等のアルコキシル基、フェノキジル基等のアリール
オキシ基、メチルチオ基、フェニルチオ基等のアルキル
又はアリールチオ基、メチルスルフィニル基、フェニル
スルフィニル基等のスルフィニル基好ましくはアシルオ
キシ基等があげられる。Ｒ３の水酸基の保護基としては
酸性条件下で安定な保護基であればいずれも使用できる
。例えば、アセチル基、ベンゾイル基等のアシル基、ベ
ンジル基等のアリールメチル基、置換又は無置換アリル
基、２−スルホニルエチル基等があげられるが、アシル
基が好ましい。

Ｒ４，几５の水酸基の保護基としては酸化及びアルカリ
条件下安定な保護基で、遊離の水酸基と反応することな
く、１．２−ジオールを選択的に保護することのできる
保護基であれば、いずれも使用できる。例えばメチレン
基、インプロピリデン基、シクロヘキシリデン基、ペン
ジリデノ基等のアルキリデン基、メトキシメチレン基、
α−メトキシヘンジリデン基等のアルコキシメチレン基
、ジー【−ブチルシリレン基等のジ置換シリレン基等が
あげられるが、インプロピリデン基が好ましい。

第６エ程オレフィン合成（ＸＩ）　　　　　　　　　　　　　　　　（Ｘ［ＣＲ
’、、　、Ｒ” （Ｘ［Ｖ）〔式中、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ水素又は保護基を示ルキ
ル基、又はアリール基を示す〕以下各工程を説明する。

第１工程：リボピラノース誘導恢■）とＮ（６）−保護
アデニン（Ｖ）とを触媒の存在下縮合させることにより
、リボピラノシルアデニン誘導体（Ｖｌ）を合成するこ
とができる。一般式（■におけるＲ１　、　Ｒ２として
は例えば前記の官能基の保護基があげられる。触媒とし
ては、塩基又は酸、好マシ（はビス（ｐ−二トロフェニ
ル）リン酸が使用できる。

第２工程二本工程はヌクレオシド（Ｍ）の３７，４７位
の水酸基の保護基を除去する工程である。触媒としては
鉱酸又は有機酸を使用することができる。

第３工程二本工程はりボピラノシルアデニン誘導体（■
）の３′位−４′位の結合を酸化開裂、次いで還元し、
水酸基の保護基を脱保護することにより、鎖状ヌクレオ
シド（■２を合成する工程である。

（■）を酸化剤、好ましくは過ヨーソ酸ナトリウムを用
いて鎖状ジアルデヒドとし、このものを還元剤、好まし
くは水素化ホウ素ナトリウムで還元し、続いて水酸基の
保護基を除去すると、鎖状トリオール（■″）ｂ−生成
する。

第４工程二木工程はトリオ−ｑＶｍ）１７）２’、３’
位の水酸基を保護する工程である。保護基Ｒ４、Ｒ５と
しては、例えばイソプロピリデン基を用いることができ
る。

第５工程：１級アルコールをアルデヒドに酸化する工程
である。酸化剤としては例えば、塩化オキサリルにより
活性化されたジメチルスルホキシドを用いることができ
る。

第６エ程：アルデヒドを末端オレフィンに変換する工程
である。例えばメチレントリフェニルホスホランとの反
応でオレフィン（Ｘ）を合成することができる。

第７エ程＝２′、３′位の水酸基の保護基を除去する工
程である。例えばａ４　、　ａ５がインプロピリデン基
の場合、鉱酸又は有機酸、好ましくはトリフロロ酢酸で
処理する。

第８工程ニジオール（■）の１級水酸基を選択的にスル
ホニル化する工程である。スルホニル化剤としては、例
えばメタンスルホニルクロリドを用いることができる。

一般式（■）におけるＹとしてはメチル、プロピル等の
アルキル基又はフェニル基、ｐ−メチルフェニル基等の
アリール基があげられる。

第９工程：ハイドロキシスルホネート（■２を、アルカ
リ処理によりエポキシド（１）に変換する工程である。

アルカリとしては、例えば炭酸カリウムを用いることが
できる。

次に第２の発明につき説明する。

第２の発明は第１の発明で得られた化合物を出発原料と
し、オキセタノシンなどの２−置換−３，４−ビス（ジ
ヒドロキシメチル）オキセタン誘導体を製造する方法に
関する。

一般式（ｍｌ　、（ＸＶＩ）、　（１０ＫオけるＲ、Ａ
としては第１の発明のものと同じものが例示される。又
、ゴは保護基のないＲである。

本発明の製造工程を示すと次のとおりである。

（Ｉｆ）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ｘ
ＶＩ）〔式中、Ｒ、Ａ　、　Ｒ’は前記と同じ〕ｌ）ビ
ニル基からホルミル基への変換反応本反応は、ビニル基
をいったん１．２−ジオールに酸化し、次いで酸化開裂
によりホルミル基に導く方法と、ビニル基から１工程で
直接ホルミル基に変換する方法とがある。

するか、又はｔ−プチルノ＼イドロノく−オキ・ンド、
Ｎ−メチルモルホリンＮ−オキノド等の例えば過ヨウ素
酸ナトリウム（２〜５当量好ましくは２．２当量）共存
下四酸化オスミウム（触媒量〜１当量、好ましくは触媒
量）でホルミル基に変換する場合には、溶媒としては、
有機溶媒（例えば、ジオキサン、エーテル、テトラヒド
ロフラン、メタノール等）と水との混合溶媒を用いる。

反応温度は−５０゜〜５０°Ｃ１好マシ＜ハＯ０〜３０
′ｃテ行う。

２）　　ホルミル基からハイドロキシメチル基への又は
金属水素化物等が一タされ、好ましく′は水素化ホウ素
ナトリウムを用いることができる。

水素化ホウ素ナトリウム（０，２５〜１０当量、好まし
くは０．５〜５当量）を用いて還元を行なう場合、溶媒
としては、メタノール、エタノール等の低級アルコール
、又は水等の極性溶媒又はそれ等の混合溶媒を用い、−
８０〜３０す、好ましくは−１００〜１０’ごで反応を
行なう。

３）保護基の除去Ｒ及び／又はＡに保護基が存在する場合に必要な工程で
ある。

Ｒ，Ａともに保護基な有する場合、凡の保護基を除去し
た後、Ａの保護基を除去してもよく、又、除去の順番を
逆にしてもよい。

凡の保護基の除去は保護基の種類に応じ、通常の条件で
おこなえばよく、例えば、Ｒが前記アデニンであり、又
アデニンのアミノ基がベンゾイル基等のアシル基で保護
されている場合、ナトリウム　メトキシド、水酸化ナト
リウム又はアンモニア等の塩基触媒を用いメタノール、
エタノールなどのアルコールや水などの極性溶媒中、−
２０〜１００℃で５分〜４８時間反応させることにより
アシル基を除去することができる。

又、Ａの保護基の除去も保護基の種類に応じ通常の条件
でおこなえばよく、例えばその保護基がｔ−ブチルジフ
ェニルシリル基の場合フッ化カリウム、フン化水素・ピ
リジン錯体、又はテトラアルキルアンモニウムフルオラ
イド等のフッ素イオンを１〜ＩＯ当量用い、テトラヒド
ロフランなどのエーテル系溶媒、アセトニトリル、ピリ
ジン、ジメチルホルムアミド等の極性非プロトン溶媒中
、−２０〜１００℃で５分〜４８時間反応させることに
よりシリル基な除去することができる。

〔効　果〕

本発明によると、純合成的に２−置換−３，４−ビス（
ヒドロキシメチル）オキセタン誘導体を得ることができ
る。従って本発明は、発酵法や酵素法では得られない新
規オキセタン型Ｎ　−グリコシド構造をする化合物の製
造性として期待される。

〔実施例〕

次に本発明化合物の合成法、性状を、実施例、参考例に
より具体的に示す。尚、これらの実施例で得られた化合
物の理化学的性状を示す記号のうち、ＮＭＲは核磁気共
鳴スペクトルを、ＩＲは赤外線吸収スペクトルを、ＭＳ
は質量分析スペクトルをそれぞれ意味する。又ＮＭＲは
、日本電子ＧＸ−４００を用いて測定した。

実施例１゜Ｎ、　（６１−ベンゾイル−９−［：　（２１１（、、
３Ｒ，４ｒＬ）−３−ハイドロキシメチル−４−ビニル
−２−オキセタニル］アデニンの合成Ｎ２雰囲気中、ドライアイス−アセトンで−７８６に冷
却、攪拌下Ｎ（６）−ベンゾイル−９−［（ＩＲ，２］
１．）−１−アリルオキシ−２，３−エボキシグロビル
〕アデニン・（Ｘ［Ｖ、　Ｒ’　＝ＩＩ、　１％２＝Ｃ
ＯＣ６Ｈ５）　３６　ｍｇ　（０，１０２ｍＭ）の無水
テトラヒドロフラン（３ｍｌ）溶液中に、ｔ６．−ｔ−
ブチルリチウム１．４８　ｍｏｌ　／４３ペンタン溶液
０．３４ｍｌ　（０，５１ｍＭ）を加え、同温度で２０
分攪拌する。同温度で反応液に飽和塩化アンモニウム水
溶液を加えて攪拌し、更に飽和食塩水を加え、酢酸エチ
ルで抽出する。酢酸エチル抽出液を飽和食塩水で洗浄し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。硫酸マグネシウム
ＩＦ去し、減圧下溶媒を留去して淡黄色シロップ３４■
を得る。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（溶出溶媒、酢酸エチル−メタノール５０：１〜９：
１）次いで分取用シリカゲル薄層クロマトグラフィー＜
　展開ｍ媒、酢酸二手ルーメタノール１９：１）により
分離し、目的物を得る。

Ｎ（６）−ベンゾイル−９−（：　（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ
）−３−ハイドロキシメチル−４−ビニル−２−オキセ
タニル〕アデニン：無色結晶；１．８ｑ＜（：５％）　；　ＭＳｍ／ｚ　：
　３５１（Ｍ）。

１’ＦＬｖＣＨＣ１”　ｃｍ−’　：３４００．３１５
０〜３５５０゜ａＸ１７０５　；ＮＭＲ（ＣＤＣｂ、ＴＭｓ）ｐｐｍ：　９
．０７　（ＬＨ。

ｂｒｏａｄ　ｓ、　ＮＨ）、　８．７９　（Ｌ　Ｈ，ｓ
、　　８−Ｈ）。

８．３３（ＬＨ，ｓ、　　　２−Ｈ）、　　　８．０４
（２ト（、ｄ。

Ｊ　＝７．５Ｈｚ、　ｐｈ　）、　　７．６３　（ＬＨ
，ｔ、　　Ｊ＝７．５Ｈｚ。

ｐｈ　）、　　７．５４　（２Ｈ，ｔ、　　Ｊ＝７．５
Ｈｚ、　ｐｈ　）。

６．５７　（ＬＨ，ｄ、　Ｊ＝５．６Ｈｚ、　２’−Ｈ
）、　　６．２８（Ｌ　　Ｈ，ｄ、ｄ、ｄ、、　　Ｊ　
＝ｔ　　７．０）１ｚ、　　ｌ　　Ｏ，０ト１ｚ　、　
　６．７　Ｈｚ　。

オレフィンＨ）、　　５．４７（ＬＨ，ｄ、　　ｔ、、
Ｊ＝１７．０Ｈｚ、１．０Ｈｚ、オレフィｙＨ）、　　
５．３８　（ＬＨ，ｄ、　ｔ、。

Ｊ　＝　１０．０　Ｈｚ、　１．０　Ｈｚ、オレフィン
Ｈ）、　　５．０７（ＬＨ，ｔ、　　ｔ、、Ｊ＝６．７
Ｈｚ、　　１．０Ｈｚ、　　４’−トＩ　）。

４．０７　（ＬＨ，ｄ、　ｄ、、　Ｊ＝ｉ　１．３Ｈｚ
、　６．７Ｈ２，ＣＨ２Ｏ）。

３．９８　（ＩＨ，ｄ、　ｄ、、　Ｊ＝１１．３Ｈｚ、
　４．４Ｈｚ＋　Ｃｌ−１２０）。

３．５　１　　（Ｌ　　Ｈ，ｄ、　　ｄ、　　ｔ、、Ｊ
＝５．６　ト１ｚ、　　４．４．）Ｉｚ、　　６．７Ｈ
ｚ、３’−Ｈ）。

実施例２゜Ｎ（６）−ベンゾイル−９−（（２Ｒ，，３Ｒ，４Ｒ）
−３−（（ｔ−ブチルジフェニルシリル）オキシコメチ
ル−４−ビニル−２−オギセタニル〕アデニン（ＸＶＩ
、　Ｒ’　＝Ｈ、Ｒ２＝Ｃ０Ｃ６Ｈｓ　、　Ｒ’　＝Ｓ
　＋　（Ｃ６Ｈ５）２　（ｔ−Ｂｕ　））の合成Ｎ（６）−ベンゾイル−９−（（２Ｂ、３Ｒ，４几）−
３−ハイドロキシメチル−４−ビニル−２−オキセタニ
ル〕アデニンＣＸＶ、　Ｒ’＝Ｈ、Ｒ２＝ｃ。

Ｃ５Ｈｓ　）　６　ｍｇ（０，０２４ｍＭ　）のピリジ
ン（０，３ｍｌ　）溶液中に、塩化ｔ−ブチルジフェニ
ルシリルｓ、ｏｍｇ（７，６／Ｌｅ、　ｏ、ｏ　２９ｍ
Ｍ）を加え、室温で一夜攪拌する３減圧下ピリジンを留
去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
出溶媒、ｎ−ヘキサン−酢酸エチル１　：２）により分
離して、上記シリルエーテル１１ｍｇ（７７％）を得る
。無色液体、’　ＭＳｍ／ｚ　：　５３２　（Ｍ　　Ｃ
４Ｈ！１）　：ＩＲｖＣＨＣ１３ｃｍ−’　：３４００
，１７０５，１６１０゜ａｘ１５８０゜実施例３゜（ｌｌ　　Ｎ　（６）−ベンゾイル−９−１：（２凡、
３Ｒ，４８）−３−Ｃ（ｔ−ブチルジフェニル７リル）
ｔ−キシ〕メチルー４−ハイドロキシメチル−２−オキ
セタニル〕アデニン（Ａ川、　Ｒ’　＝Ｈ，Ｒ２＝Ｃ０
ＣｓＨｓ。

ｒｔ’−ｓｉ　（Ｃ６１１５）２　（ｔ−Ｂｕ）　）の
合成Ｎ（６）−ベンゾイル−９−Ｃ（２ＦＬ、３Ｒ，４
Ｊ−３−（（ｔ−ブチルジフェニル７リル）オキシコメ
チル−４−ビニル−２−オキセタニル〕アデニン（階、
　Ｒ’　”’Ｈ，Ｒ２＝Ｃ０Ｃ６Ｈ５，Ｒ６＝Ｓｉ　（
Ｃ６Ｈ３）２　（【Ｂｕ）　）　８．５１？１ｇ（０，
０１４４ｍＭ）のメタノール−Ｈ−ｈｏ　（７，５：　
１．０．５ｍ１）溶１夜中に、メタ過ヨーソ酸ナトリウ
ム６．７　ｍｇ　（０，０３１５ｍＭ）及び四酸化オス
ミウムの（−ブタノール溶液（５■／ｍ１）５０μ形を
加え、室温で２時間攪拌する。

次いで水冷攪拌下、水素化ホウ素ナトリウム２空［ＩＩｇ（０，０５０５ｒｎＭ　）を加え、水冷下１０
攪拌する。

反応液にクロロホルムを加え、飽和食塩水で洗浄して無
水硫酸ナトリウムで乾燥する。乾燥剤を戸去し、減圧下
、溶媒な留去して残虐を７す力ゲル薄層クロマトグラフ
ィー（展開溶媒、クロロホルム−メタノール２０　：　
１　）により分取し、上記４−ハイドロキシメチル体４
．８■（５６％）を得る。

無色液体；　ＭＳｍ／ｚ：５３６（Ｍ−ＣＪｌ、）、４
３２；ＩＩ（ｖＣＨ”３ｃｍ−’　：３１００〜３６０
０，３４００゜ｍａｘ＋７１０．　１６１０．　１５９０゜（２）　　Ｎ　（６）−ベンゾイルオキセタノシン（Ｘ
ＶＩ、Ｒ’−Ｈ，Ｒ２＝　ＣＯＣ６Ｈ５）の合成Ｎ（６）−ベンゾイル−９−〔（２Ｒ，３Ｒ，，５Ｓ）
−３−Ｃ（Ｌ−ブチルジフェニルゾリル）オキシ〕メチ
ルー４−ハイドロキシメチル−２−オキセタニル〕アテ
二ン（Ｘｖｌｌ、ＦＬ１＝Ｈ９Ｒ２＝ＣＯＣ６Ｈ５゜Ｒ
＝Ｓｉ　（Ｃ６Ｈ５）２　（Ｌ　　Ｂｕ））　１２［１
１ｇ（０，０２ｍＭ）テトラヒドロフラン（１ｍｌ）溶
液中、テトラｎ−ブチルアンモニウムフルオライドの１
．０Ｍテトラヒドロフラン溶液４２μｍｇ（０，０４２
ｍＭ）を加え室温で３０分攪拌する。減圧下テトラヒド
ロフランを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶出溶媒、クロロホルム−メタノール９：１
）により分離して、上記ジヒドロキシ体６．ｌＩｌｌｌ
ｇ（８５％）を得る。無色針状晶（メタノール）、ｍｐ
２３１〜２３２°、　ＭＳ　ｍ／ｚ　：３５５　（Ｍ　
）ｒ　Ｉ　Ｒ”ｕＪ”　ｃｒｎ−’　：　３３８０＋　
３２３０〜ｍαＸ３５００．１７１０，１６１０，１５８５゜（３）オキ
セタノシン（ＩＩ）の合成Ｎ（６）−ベンゾイルオキセタノシン（ＸＶｌ、　Ｒ’
　＝Ｈ。

Ｒ２＝Ｃ０ＣｓＨｓ）　５　’ｇ　（０，ＯＬ　４　ｍ
Ｍ）にナトリウムメトキシド１■のメタノール（Ｑ、５
ｍ１）溶液を加えて溶解し、室温で一夜攪拌する。減圧
下溶媒を留去し、残清なシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶出溶媒、クロロホルム−メタノール４：１）
により精製して、オキセタノシン２．８ｍｇ（７９％）
を得る。ここで得られたオキセタノシンの理化学的性質
は、天然品の理化学的性質と完全に一致する。

参考例１゜Ｎ（６）−ベンゾイル−９−（２−０−ベンゾイル−３
，４−０−イソプロピリデン−β−Ｄ−リボピラノシル
）アデニン（Ｖｌ、　Ｒ’＝Ｈ，Ｒ２＝Ｒ３＝ＣＯＣｓ
Ｈｓ）の合成１．２−ジー０−ベンゾイル−３，４−０−イングロビ
リデンーβ−Ｄ−リボフラノース（ｆＶ。

Ｘ＝ＯＣＯＣ６Ｈ５，Ｒ＝ＣＯＣｇＨｓ）　２２．６８
　ｇ　（ｏ、　ｏ　ｓ　６９Ｍ）、Ｎ（６）−ベンゾイ
ルアデニン（Ｖ、　Ｒ’＝Ｈ。

Ｒ２＝Ｃ０Ｃ６Ｈｓ）　１６．３３　ｇ　（０，０６８
３Ｍ　）及びビス（ｐ−ニトロフェニル）リン酸１．９
４ｇ（５，６９ｍＭ）をよくかきまぜた中に、スルホラ
ン２３ｍｔを加え、１００　ｍｍＨｇ減圧下、浴温ｔ　
３０’（！で４５分加熱攪拌する。反応混合物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒、クロロホル
ム−酢酸エチル１：２．５）により分離すると、上記リ
ボピラノシルアデニン１１．０７ｇ（３７％）が得られ
る。無色泡状；ＭＳｍ／ｚ：５１５ＣＨＣ１３−＋　。

（Ｍ　）、ＩＲν　　ｃｍ　　、３４２０，１７３０゜
ｍａｘ１７２０．１６１８゜参考例２゜Ｎ（６）−ベンゾイル−９−（２−０−ベンゾイル−β
−Ｄ−リボピラノシル）アデニン（■。

■髪＝Ｈ，ｌ”ｔ２＝Ｒ３＝ｃＯｃ６Ｈ，）の合成水冷
攪拌下、Ｎ（６）−ベンゾイル−９−（２−Ｏ−ベンゾ
イル−３，４−０−インプロピリデン−β−Ｄ−リボピ
ラノシル）アデニン（Ｖｌ、　Ｒ’　＝ＩＩ、　Ｒ−Ｉ
’Ｌ　＝Ｃ０ＣＪ（ｓ）　１３．１２　ｇ　（２５，４
ｍＭ）のテトラヒドロフラン（３３ｍｌ）溶液中、トリ
フロロ酢酸２４ｍｔ−水１２ｍ＋を加え、浴温３　ｏ’
ａで２３．５時間加熱攪拌する。水冷攪拌下、反応液に
５％炭酸水素ナトリウム水溶液１００ｍ１及び固形炭酸
水素ナトリウムを加えてｐＨ約７とし、酢酸エチルで抽
出する。酢酸エチル抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥する。硫酸マグネシウムを戸去
し、減圧下溶媒を留去して無色結晶１２．０５ｇを得る
。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
出溶媒、酢酸エチル−メタノール３０：１〜２０：１）
により分離し、第１画分より回収原料１．７７ｇ（１３
％）を得る。第２画分より、上記ジヒドロキシ体６．９
９ｇ（５８％）を得る。

、　　　ＣＨＣｂ　　−１゜無色結晶；　ＭＳｍ／ｚ：４７５（Ｍ　）　、ＩＲｍａ
ｘｃｍ　。

３１００〜３６００，３４２０，１７２０，１６２０゜
参考例３゜ロピル〕アデニン（〜・１．　Ｒ’　＝Ｉ−１，ｎ２＝
ＣＯＣＪ（５）の合成水冷攪拌下、Ｎ（６）−ベンゾイル−９−（２−Ｏ−ベ
ンゾイル−β−Ｄ−リポピラノシル）アデニン（Ｖｌｌ
、　Ｒ”　＝Ｈ，Ｒ２＝１３＝ＣＯＣ６１−１５）　４
．４７　ｇ（９，４０ｍＭ）のメタノール（９０ｍｌ　
）溶液中にメタ過ヨーソ酸ナトリウム２．４１　ｇ（１
１，３ｍＭ）の水（２７ｍｌ）溶液を加え、室温に戻し
て４．５時間攪拌する。反応液に飽和食塩水を加え、ク
ロロホルムで抽出する。クロロホルム抽出液を飽和食塩
水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。硫酸マ
グネシウムを戸去し、減圧下溶媒を留去して無色泡状物
質５．７１ｇを得る。

上記粗ジアルデヒド体５．７１ｇのエタノール（８５ｍ
ｌ）溶液中に、浴温−２１′ｃで冷却、攪拌下、ナトリ
ウムボヮハイドライド０．３５　ｇ　（９，４ｍＭ　）
を加え、浴温−２４〜−２０′ｃで１時間攪拌する、同
温度で飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、水冷下５分
攪拌する。クロロホルムで抽出し、飽和食塩水で洗浄し
て、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。硫酸マグネシウ
ムを戸去し、減圧下溶媒を留去して淡黄色泡状物質４．
６２ｇを得る。このものをシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶出溶媒、クロロホルム−メタノール１２：
１）により分離し、淡黄色泡状物質４．２８ｇを得る。

水冷攪拌下、上記鎖状ジヒドロキシ体４，２８ｇのメタ
ノール（４５ｍｌ）溶液中に、水酸化ナトリウム０．７
４　ｇ　（１８，４ｍＭ）の冷メタノール（９０ｍｌ）
溶液を加え、水冷下２０分攪拌する。

水冷攪拌下、反応液に冷ＩＮ塩酸１８．４ｍｌを加えて
ｐＨ約７とし、エタノールを加えて減圧下溶媒を留去す
る。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出
溶媒、クロロホルム−メタノール５：１）により分離し
、Ｎ（６）−ベンゾイル−９−Ｃ（ＩＲ，２Ｒ）−２，
３−ジヒドロキシ−１−（２−ヒドロキシエトキシ）プ
ロピル〕アデニン（■、ＲＩ＝Ｈ２Ｒ２＝ＣＯＣ６Ｈ５
）１．８５ｇ（■。

Ｒ１＝Ｈ，Ｒ２＝Ｒ３＝ＣＯＣ６Ｈ５より、３工程で５
１％）を得る。無色シロップ；　ＭＳｍ／ｚ：３７３（
Ｍ）；ＮＭＲ（ＣＤ３０Ｄ、　ＴＭＳ　）　ｐｐｍ　：
　３．４３〜３．４９　（Ｉ　１１．　ｍ　）。

３．５８〜３．７７　（５Ｈ，ｍ）、　４．３０　（１
１１，ｄ、ｔ、、Ｊ＝６．５Ｈｚ、　４．５Ｈｚ、　２
’−Ｈ）、　５．９７　（ＬＨ，ｄ、　Ｊ＝６．５Ｈｚ
。

Ｌ’−Ｈ）、　　７．５７　（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝ｇ）ｌ
ｚ、　ｐｈ　）ｔ　　７．６６（Ｌ　Ｈ，ｔ、　　Ｊ＝
８Ｈｚ、　ｐｈ　）、　　８．１０　（２Ｈ，ｄ、　Ｊ
＝８１１ｚ。

ｐｈ）、　　８．６０（ＬＨ，Ｓ、　　２−Ｈ）、　　
８．７２（ＬＨ，ｓ。

８、−Ｈ）。

参考例４゜Ｎ（６）−ベンゾイル−９−（（ＩＲ，２Ｒ）−１−（
２−ヒドロキシエトキシ）　−２，３−（ジメチルメチ
レンジオキシ）プロピル〕アテ二ン（（Ｘ、　Ｒ’　＝
）−１，Ｒ２＝Ｃ０Ｃ６Ｈｓ、　Ｒ３，Ｒ’　＝”；Ｃ
（ＣＨ３）ｚ　）の合成Ｎ（６）−ベンゾイル−９−［：　（ＩＦＬ、ｚＦｔ　
）　−２゜３−ジヒドロキシ−１−（２−ヒドロキシエ
トキシ）プロピル〕アデニン（■、　Ｒ’　＝Ｈ，Ｒ，
２＝ＣＯＣ６Ｈ５）　１．８３　ｇ　（４，９ｍＭ　）
にアセトｙ５Ｑｍｌ。

２．２−ジメトキシプロパン２５ｍｔ及びｐ−）ルエ７
．１．　／Ｌ／ホン酸（−水和物）　１．８６　ｇ　（
９，８ｍＭ）を加え、室温で１時間４０分攪拌する。反
応液に酢酸エチル２５０ｍ１を加えて稀釈し、５％炭酸
水素ナトリウム−飽和食塩水で洗浄して、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。硫酸マグネシウム戸去、減圧下溶
媒を留去し、得られた無色結晶を、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（溶出溶媒、クロロホルム−メタノー
ル２５：１）により精製して、上記アセトナイド１．７
３ｇ（８５％）を得る。

無色泡状；　ＭＳ　ｍ／ｚ　：　４１３　（Ｍ”）；　
ＩＲｖＣＨＣ１３−’−ｍａｘ　　Ｃｍ　。

３２００〜３５５０’、３４ｔＯ，１７１０゜参考例５Ｎ（６）−ベンゾイル−９−（（ＩＲ，，２Ｒ）−１−
（ホルミルメチルオキ−／　）　−２，３−（ジメチル
メチレンジオキシ）プロピル〕アデニンＣＸ。

Ｒ１＝：）ｌ、　Ｒ２＝　Ｃ０Ｃ６Ｈ５，Ｒ３，Ｒ’　
＝　＞Ｃ（ＣＨ３）２　）の合成Ｎ２雰囲気中、ドライ
アイス−アセトンで浴温−６ｏ’ｃに冷却、攪拌下、塩
化オキサリル７．７　Ｒ１３（ｌｌｌｆｆ１ｇ、０．８
８　ｍＭ　）の無水塩化メチレン（５ｍｌ）ｇ液中に、
無水ジメチルスルホキンド０．１７ｍ１（０，１９ｇ、
　２．４　ｍＭ）を加え、浴温−５９〜−５６°Ｃで５
分攪拌する。次いで、Ｎ（６）−ベンゾイル−９−Ｃ（
ｔＲ，：ＨＬ）−１−（２−ヒドロキンエトキシ）　−
２，３−（ジメチルメチレンジオキシ）プロピル〕アデ
ニン（■、　Ｒ’＝Ｈ。

Ｒ”　＝　Ｃ０Ｃ６１−１５，几３．　Ｒ’　＝；Ｃ（
ＣＩ（ａ）ｚ）　　０．３　３　　ｇ　　（０，８０ｍ
Ｍ）の無水塩化メチレン（３ｍｌ）溶液を加え、浴温−
５５〜−５０８０で１５分攪拌する。最後にトリエチル
アミン０．７８ｍｌ　（０，５７ｇ　、　　５．６　ｍ
Ｍ）を加え、浴温−４９〜−４８′ｃで５分、次いで室
温で１５分攪拌する。水冷攪拌下、反応液に飽和食塩水
を加え、クロロホルムで抽出する。クロロホルム抽出液
を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。硫酸マグネシウム戸去、減圧下溶媒を留去し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒、酢
酸エチル−メタノール４０：１）により分離して遊離ア
ルデヒドとへミアセタール（メタノール付加体）の混合
を得る。このものを５０°で２時間減圧乾燥し、遊離ア
ルデヒド０．２５ｇ（７６％）ＣＨＣ１３−＋　。

を得る。無色シロップ：■Ｒν　　ｃｍ　　、３４００
゜ａｘ１７４０．１７１０゜参考例６゜Ｎ（６）−ベンゾイル−９−Ｃ（ＩＲ，２Ｒ）−１−ア
リルオキシ−２，３−（ジメチルメチレンジオキシ）プ
ロピル〕アデニン（ルｒｔ’＝Ｈ，Ｒ”＝Ｃ０ＣａＨｓ
、　Ｒ”、　Ｒ’　＝＞Ｃ（Ｃ）［１）２　）の合成Ｎ
２雰囲気中、ドライアイス−アセトンで浴温−２４〜−
２２２に冷却、攪拌下、ヨウ化メチルトリフェニルホス
ホニウム１．７３　ｇ、（４，２９ｍＭ）の無水テトラ
ヒドロフラン懸濁液中、ｎ−プチルリチウＡ１．４５Ｎ
ｎ−ヘキサン溶液３．５　ｍｌ（５，２２ｍＭ）を加え
、浴温−２２〜−２００で３０分攪拌する。

Ｎ２雰囲気中、ドライアイス−アセトンで浴温−１２〜
−１０′Ｃに冷却、攪拌下、Ｎ（６）−ベンゾイル−９
−［：　（ＩＲ，２Ｒ）−ｔ−（ホルミルメチルオキシ
）　−２，３−（ジメチルメチレンジオキシ）プロピル
〕アデニン（Ｘ、　Ｒ’＝Ｈ，Ｒ２＝Ｃ０ＣａＨｓ、　
Ｒ３，Ｒ’　＝、ｃ（ＣＨ３）２　）　０．５９　ｇ　
（１，４３ｒｒ＋Ｍ）、ヘキサメチルホスホリックトリ
アミドＱ、　５　ｍｌ（０，５１ｇ、　２．８６　ｍＭ
）、無水ジメチルスルホキシド３　ｍｌ及び無水テトラ
ヒドロフラン２４ｍ１の混合物中に、先に調製したイリ
ド溶液（４，２９ｍＭ）を加え、浴温−１２〜−，１，
０′ｃで２０分攪拌する。同温度で飽和塩化アンモニウ
ム水溶液５０ｍ１を加え、次いで飽和食塩水を加えて酢
酸エチルで抽出する。酢酸エチル抽出液を飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。硫酸マグネ
シウムを戸去し、減圧下、溶媒を留去して、黄色泡状物
質を得る。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（溶出溶媒、ヘキサン−酢酸エチル１：３）により
分離し、上記アリルエーテル１９４ｍｇ（３３％）を得
る。無色シロップ；　ＭＳｍ／ｚ　：　４１０　（Ｍ＋
１）；ＩＲνＣ１１Ｃ１１Ｃ１３’　：３４１０．１７
３０．１７１０．１６１５゜ａＸ参考例７゜Ｎ（６）−ベンゾイル−９−Ｃ（ＩＲ，２Ｒ）−ｔ−ア
リルオキシ−２，３−ジヒドロキシプロピル〕アデニン
（Ｘ［ｌ、　Ｒ’　＝Ｈ，Ｒ２＝Ｃ０Ｃ６１−（ｓ）の
合成水冷攪拌下、Ｎ（６）−ベンゾイル−９−（：（Ｉ
Ｒ，，２Ｒ）−１−アリルオキシ−２，３−Ｃジメチル
メチレンジオキシ）プロピル〕アデニン（ＸＩ。

Ｉｔ、’＝Ｈ，几”　＝Ｃ０Ｃ６Ｈ５，Ｒ３，Ｒ’　＝
　、；ｃ　（ＣＨ３）２　）　１６６　ｍｇ（０，４０
５ｍＭ　）のテトラヒトｏ　７　ラン（３ｍｌ　）溶液
中に、トリフロロ酢酸２．４　ｍｌ−水１．２　ｍ＋を
加え、室温に戻して１５．５時間攪拌する。水冷攪拌下
、反応液に５％炭酸水素ナトリウム水溶液１０ｍ１及び
固形炭酸水素ナトリウムを加えてｐＨ約７とし、飽和食
塩水１０ｍ１を加えて酢酸エチルで抽出する。酢酸エチ
ル抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥するゎ硫酸マグネシウムを戸去し、減圧下溶媒を
留去して、粗生成物０．２０　ｇを得る。このものをシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒、酢酸エ
チル−メタノール９：１）により分離し、上記ジヒドロ
キシ体１４０ｆｆＥ（９３％）を得るＣＩ−（Ｃ１３−
１゜無色結晶；　ＭＳｍ／ｚ：３６９（Ｍ　）；ＩＲνｍａ
ｘＣｍ。

３・０５０〜３６００，１７０５，１６１５゜参考例８
゜Ｎ（６）−ベンゾイル−９−Ｉｎ（ＩＴＬ、２Ｒ）−１
＝アリルオキシ−２−ヒドロキシ−３−メシルオキシフ
ｏ　ヒル〕７　ｆ＝７　（ｘｌ、Ｒ’＝Ｈ，Ｒ”＝Ｃ０
Ｃ６Ｈ５，Ｒ３＝ＣＨ３）の合成水冷攪拌下、Ｎ（６）−ベンゾイル−９−［：（ＩＪ２
Ｊ−１−アリルオキシ−２，３−ジヒドロキシグロピル
〕アデニン（Ｘｌｌ、　Ｒ’　＝Ｈ，Ｒ２＝Ｃ０Ｃ６）
Ｉｓ）　ｌ　５　Ｑｍｇ（０，４０６ｍＭ　）の無水ジ
メチルホルムアミド（ｏ、４ｍ１）−無水塩化メチレン
（４，０ｍｌ　）溶液中に、トリエチルアミン０．１４
　ｍｌ（１０３１１Ｋ、１．０２　ｍＭ）及び塩化メタ
ンスルホニル３１μβ（４７■、０．４１　ｍＭ　）を
加え、水冷下４０分攪拌する。水冷攪拌下、反応液にク
ロロホルムを加えて稀釈し、飽和食塩水で洗浄して、無
水硫酸マグネシウムで乾燥する。硫酸マグネシウムを戸
去し、減圧下溶媒を留去して無色シロップ０．１９ｇを
得る。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶出溶媒、酢酸エチル−メタノール５０：１）により
分ｍし、第２画分より目的とする上記モノメシル体８５
■（４７％）を得る。更に酢酸エチル−メタノール１５
：１で溶出し、原料ジヒドロキシ体３１■（２１％）を
回収する。

モノメシル体（■、Ｒ１＝Ｈ９Ｒ２＝ＣＯＣ６Ｈ５）；
無色ＣＨＣｌ３−−＋。

シｏ、７プ；　ＭＳｍ／ｚ　：４４７　（Ｍ　）　；　
ＩＲｖｍａｘｃｍ　。

３１５０〜３５００．　１７０５．　１６２０．　１５
８５，１３６０゜１１８０゜参考例９゜Ｎ（６）−ベンゾイル−９−４（ＩＲ，２Ｒ）−１−ア
リルオキシ−２，３−エポキシグロビル〕アデニン（１
，Ｒ’−１−１，Ｒ２＝Ｃ０Ｃ６Ｈ５）の合成室温攪拌
下、Ｎ（６）−ベンゾイル−９−［（ＬＲ，２Ｊ−１−
アリルオキシ−２−ヒドロキシ−３−メシルオキシグロ
ピル〕アテニン（ＸＩ。

Ｒ’　＝Ｈ，Ｒ２＝　Ｃ０Ｃ６１−１ｓ、　Ｒ３＝ＣＩ
（ａ）　８５　ｌＴｔｇ　（０，１９ｍＮｉ　）のメタ
ノール（２ｍｌ）溶液中に、固形炭酸カリウム５３　ｍ
ｇ　（０，３８ｍＭ）を加え、室温で２５分攪拌する。

反応液に酢酸エチルを加えて稀釈し飽和食塩水で洗浄し
て無水硫酸マグネシウムで乾燥する。硫酸マグネシウム
を戸去し、減圧下溶媒を留去して、無色シロップ５５■
を得る。

このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキ
サン−酢酸エチル１：４）により精製し、上記エポキシ
ド３６ｍｇ（５４％）を得る。

無色’／　０７プｔ　ＭＳ　ｍ／ｚ　：　３５１　（Ｍ
”　）　；Ｉｌ’（ｖＣ■■Ｃ１３ｃｍ’：３４００＋
　ｊ７０５．１６０５゜ａｘ実施例４゜実施例１．において分取用シリカゲル薄層クロマトグラ
フィー（展開溶媒、酢酸エチル−メタノール１９：１）
により次の化合物も得られる。

Ｎ（６）−ベンゾイル−９−Ｃ（２Ｒ，、３Ｒ，４Ｓ）
−３−ハイドロキシメチル−４−ビニル−２−オキセタ
ニル〕アデニン：無色結晶＋　１．８ｍｇ（５％）；ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２
．ＴＭＳ）ｐｐｍ：　９．０２（ＩＨ＋　ｂｒｏａｄ　
ｓ、　ＮＨ）、　８．８３　（ＩＨ＋　Ｓ＋８−Ｈ）、
　８．３０（ＩＨ，ｓ、　２−Ｈ）、　８．０５（２Ｈ
，ｄ、Ｊ＝７．５Ｈ２，Ｐｈ）、７．６３（ＩＨ９ｔ、
Ｊ＝７．５Ｈ２，Ｐｈ）、７゜５５（２Ｈ，ｔ、　　Ｊ
−７，５Ｈｚ、　　Ｐ　ｈ　）、６．５０　（Ｉ　Ｈ，
ｄ、　　Ｊ　＝４、５　Ｈｚ　、２’　Ｈ）＋　６．２
２　（Ｉ　Ｈ，ｄ、　ｄ、ｄ、、Ｊ　＝１７−　ＯＨｚ
。

１０．６１１ｚ、　　６．０Ｈｚ、オレフィンＨ）、　
　５．６９　（ＩＨ，ｄ、　ｄ。

ｔ、、　Ｊ　＝８．０１長、　６．０ｌ−１ｚ、　１．
３Ｈｚ、　４’−Ｈ）、　５．６０（ＩＨ。

ｄ、　ｔ、、　Ｊ　＝１７．０ｋｌｚ、　　１．３）（
ｚ、オレフィ”Ｈ）　＋　５．４７　（ＩＨ９ｄ、　ｔ
、、−Ｊ＝１０．６！Ｉｚ、　　１．３Ｈｚ、オレフイ
：４（）、４．１０（ＩＨ，ｄ、　ｄ、、　Ｊ　＝　１
０．６Ｈｚ、　　８．０Ｉ−ＩＺ、　ＣＨ２０）、３．
９３（ＩＨ，ｄ、　ｄ、、　Ｊ＝Ｉ　Ｏ，６）Ｉｚ、　
　５．３Ｈ２，ＣＨ２Ｏ）、３．８８（Ｌ　Ｈ，ｄ、　
ｄ、　ｔ、、　Ｊ　＝４．５　Ｈｚ、　５．３Ｈｚ、　
８．０　Ｈｚ、　３’−１−Ｉ）。

特許出願人　　日本化薬株式会社手　　続　　補　　正　　書昭和、／Ｚ年１月２７日

Claims

【特許請求の範囲】

（１）一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）（式中、Ｒは窒素を含む複素環基を示す）で表わされるエポキシアリルエーテルを塩基により閉環
して一般式（IIａ） ▲数式、化学式、表等があります▼（IIａ）（式中、Ｒは前記と同じ）で表わされる化合物を得、次いで所望により水酸基を保
護することを特徴とする一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II）〔式中、Ａは保護されていてもよい水酸基を示し、Ｒは
前記と同じ〕で表わされるオキセタン型Ｎ−グリコシド構造を有する
化合物の製造法
（２）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒは窒素を含む複素環基、Ａは保護されていて
もよい水酸基を示す〕で表される化合物を酸化剤で酸化して式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ、Ａは前記と同じ〕で表わされるアルデヒド誘導体とした後、還元剤で式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ、Ａは前記と同じ〕で表される化合物を得、次いで保護基がある場合、その
保護基を除去することを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾０は保護基のないＲを示す〕で表わされるオキセタン型Ｎ−グリコシド構造を有する
化合物の製造法