JPS632993A - 新規セフエム化合物およびその塩類 - Google Patents

新規セフエム化合物およびその塩類

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JPS632993A
JPS632993A JP14507186A JP14507186A JPS632993A JP S632993 A JPS632993 A JP S632993A JP 14507186 A JP14507186 A JP 14507186A JP 14507186 A JP14507186 A JP 14507186A JP S632993 A JPS632993 A JP S632993A
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JP
Japan
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acid
compound
salts
salt
groups
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Application number
JP14507186A
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English (en)
Inventor
Takao Takatani
高谷 隆男
Kazuo Sakane
坂根 和夫
Kenji Miyai
宮井 健二
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Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は抗菌活性を有する新規なセフェム化合物およ
びその塩類、それらの製造法ならびにそれらを含有する
抗菌剤に関する。
この発明の目的とするセフェム化合物は新規化合物であ
り、−般式 (式中、R1はアミノ基または保護されたアミノ基、R
2、R3およびR4はそれぞれ低級アルキル基を意味す
る) で示される。
この発明の目的化合物(1)は、下記に示す方法により
製造することができる。
友蛮ユ における反応性誘導体 またはそれらの塩類 またはその塩類 方」11 またはその塩類 またはその塩類 (式中、R1、R2、R3およびR4はそれぞれ前と同
I7意味であり、R1は保護されたアミ7基を意味する
。) 目的化合物(I)の塩類は通常の医薬として許容される
無毒な塩であり、その例としてはナトリウム塩、カリウ
ム塩等のアルカリ金属塩およびカルシウム塩、マグネシ
ウム塩等のアルカリ土類金属塩などの金属塩、アンモニ
ウム塩、トリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピ
リジン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、N
、N’  −ジベンジルエチレンジアミン塩等の有機塩
基との塩、酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンス
ルポン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ぎ酸塩、トルエン
スルポン酸塩等の有機酸との塩、塩酸塩、臭化水素酸塩
、硫酸塩、りん酸塩等の無機酸との塩、アルギニン塩、
アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩等のアミノ酸との塩
等が挙げられる。
次に上記−般式(I)、(Ia)、(Ib)、(U)お
よび(Il[)の定義について詳細に説明する。
なお、この明細書において、′低級」なる語句は別に定
めない限り#1.素数1〜6を意味するものとする。
RおよびR1における「保護されたアミノ基」とは通常
セファロスポリン分野において使用きれる慣用の基であ
り、このような1保護されたアミノ基jとしてはアシル
アミノ基のほかアミノ基がベンジル、トリチル等の少な
くとも1個の適当な置換基を有していてもよいアル低級
アルキル基のようなアシル基以外の慣用される保護基で
置換されたものが挙げられる。
「アシルアミノ基」におけるアシル部分としては、例え
ば脂肪族アシル基、芳香環または複素環を含むアシル基
が挙げられる。
きらに詳細には、ホルミル、アセチル、プロピオニル、
ブチリル、インブチリル、バレリル、イソバレリル、オ
キサリル、サクシニル、ピバロイル、クロロアセチル、
トリフルオロアセチル等の置換もしくは非置換低級アル
カノイル基、メトキシカルボニル カルボニル、1−シクロプロピルエトキシカルボニルホ
=ル、第3級ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカル
ボニル、第3級ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオ
キシカルボニル、トリクロロエトキンカルボニル等の置
換もしくは非置換低級アルコキシカルボニル基、メシル
、エタンスルホニル、プロパンスルホニル、イソブロバ
ンスルホニル、ブタンスルボニル等の低級アルカンスル
ボニル基、ベンゼンスルホニル、トシル等のアレーンス
ルボニル基、ベンゾイル、トルオイル、キジロイル、ナ
フトイル、フタロイル、p−ニトロベンゾイル等の置換
もしくは非置換アロイル基、フェニルアセチル、フェニ
ルプロピオニル等のアル低級アルカノイル基、ベンジル
オキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニル ルオキシカルボニル等の置換もしくは非置換アル低級ア
ルコキシカルボニル基等が挙げられる。
このように定義される1保護されたアミノ基」の好まし
い例としては低級アルカンアミド基が、より好ましくは
C1−04アルカンアミド基が、最も好ましくはホルム
アミド基が挙げられる。
R  、R  およびR4における1低級アルキル基」
としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、第三級ブチル、ペンチル、ヘキシル等のような
直鎖または分枝鎖状アルキル基が挙げられ、より好まし
くはC1−C4アルキルが,、最も好ましくはメチルが
挙げられる。
次に、この発明の目的化合物の製造法について詳述する
方]乱圭 化合物(1)またはその塩類は、化合物(I[)もしく
はそのアミン基における反応性誘導体またはそれらの塩
類に、化合物(I[[)もしくはそのカルボキシ基にお
ける反応性誘導体またはその塩類を作用させることによ
り製造できる。
化合物(I[>のアミン基における反応性誘導体として
は、例えば化合物(If)とアルデヒド、ケトン等のカ
ルボニル化合物との反応により生成するシッフの塩基(
イミノ型もしくはその互変異性体であるエナミン型)、
化合物(I[)とビス(トリメチルシリル)アセトアミ
ド等のシリル化合物との反応により生成するシリル誘導
体または化合物(I[)と三塩化燐またはホスゲンとの
反応により生成する誘導体等が挙げられる。
化合物(I[[)のカルボキシ基における反応性誘導体
としては、例えば酸ハライド、酸無水物、活性アミド、
活性エステル等が挙げられる。適当な具体側としては、
酸クロリド、酸アジド;酸との混合酸無水物、たとえば
ジアルキルりん酸、フェニルりん酸、ジフェニリルりん
酸、ジベンジルりん酸、ハロゲン化りん酸等の置換りん
酸との混合酸無水物、ジアルキル亜りん酸混合酸無水物
、亜硫酸混合酸無水物、チオ硫酸混合酸無水物、硫酸混
合酸無水物、アルキル炭酸混合酸無水物、脂肪族カルボ
ン酸(たとえばピバリン酸、ペンタン酸、イソペンタン
酸、2−エチル酪酸、トリクロロ酢酸)混合酸無水物、
芳香族カルボン酸(たとえば安息香酸)混合酸無水物;
対称形酸無水物;イミダゾール、4−置換イミダゾール
、ジメチルピラゾール、ト・リアゾール、テトラゾール
などとの活性アミド;シアノメチルエステル、メトキシ
メチルエステル、ジメチルイミノメチル[(CH3)2
N=CH−]エステル、ビニルエステル、プロパルギル
エステル、p−ニトロフェニルエステル、2.4−ジニ
トロフェニルエステル、トリクロロフェニルエステル、
ペンタクロロフェニルエステル、メシルフェニルエステ
ル、フェニルアゾフェニルニスチル、フェニルチオエス
テル、p−ニトロフェニルチオゴーステル、p−クレジ
ルチオエステル、カルボキンメチルチオエステル、ピラ
ニルエステル、ピリジルエステル、ピペリジルエステル
、8−キノリルチオエステル等の活性エステル;または
、N,N−ジメチルヒドロキシルアミン、1−ヒドロキ
シ−2−(IH)−ピリドン、N−ヒドロキシフタルイ
ミド、N−ヒドロキシフタルイミド、1−ヒドロキシ−
6−クロロ−I H−ベンゾトリアゾール等のN−ヒド
ロキシ化合物とのエステルなどが挙げられ、これらは使
用する化合物(Ill)の種類に応じて適宜選択される
化合物(I[)および帽)の塩類としては、前記化合物
(Hに対して例示した塩類の具体例がそのまま挙げられ
る。
この反応は通常、水、アセトン、ジオキサン、アセトニ
トリル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、
テトラヒドロフラン、酢酸エチル、N.N−ジメチルホ
ルムアミド、ピリジンまたはその他の反応に悪影響を及
ぼさない−般有機溶媒中で行なわれる。これらの慣用の
溶媒は水と混合して使用することもできる。
この反応において化合物(I[)を遊離酸もしくはその
塩の状態で使用する際は、縮合剤の存在下に反応を行う
のが有利である。縮合剤としては、たとえば、N、N’
 −ジシクロヘキシル力ルボジイミF、N−シクロへキ
シル−N′−モルホリノエチルカルボジイミド、N−シ
クロヘキシル−N′=(4−ジエチルアミノシクロヘキ
シル)カルボジイミド、N、N’−ジエチルカルボジイ
ミド、N、N’−ジイソプロピルカルボジイミドエチル
−N’−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミ
ド、N,N’ −カルボニルビス−メチルイミダゾール
)、ペンタメチレンケテン−N−シクロへキシルイミン
、ジフェニルケテン−N−シクロヘキシルイミン、エト
キシアセチレン、1−アルコキシ−1−クロロエチレン
、亜りん酸トリアルキルエステル、ポリりん酸エチルエ
ステル、ポリりん酸イソプロピルエステル、オキシ塩化
りん、三塩化りん、塩化チオニル、オキサリルクロリド
、トリフェニルホスフィン、2−エチル−7−ヒトロキ
シベンゾインキサゾリウム塩、2−エチル−5−(m−
スルホフェニル)イソオキサゾリウムヒドロキシド分子
内塩、1−(p−クロロベンゼンスルホニルオキシ)−
6−クロロ−IH−ベンゾトリアゾール、ジメチルホル
ムアミドと塩化チオニノ呟ホスゲン、オキシ塩化りん等
との反応により製造きれるいわゆるビルスマイヤー( 
Vilsmeier )試薬等が挙げられる。
また、この反応は炭酸水素アルカリ金属、トリ低級アル
キルアミン、ピリジン、N−低級アルキルモルホリン、
N,N−ジ低級アルキルベンジルアミン等の無機もしく
は有機の塩基の存在下に行なってもよい。
反応温度は特に限定されないが、通常冷却下ないし室温
で行なわれることが多い。
亙抹遣 目的化合物(Ib)またはその塩類は、化合物(Ta)
またはその塩類をアミノ保護基の脱離反応に付すことに
より製造できる。
化合物(Ia)および(Ib)の塩類としては、化合物
(1)に対して例示した塩類の具体例がそのまま挙げら
れる。
このアミン保護基の脱離反応は、加水分解、還元等の慣
用の方法により実施される。加水分解には酸、塩基、ヒ
ドラジン等を使用する方法が含まれる。これらの方法は
、脱離される保護基の種類により適宜選択される。
酸を用いる加水分解は例えば第3級ペンチルオキシカル
ボニルの様な置換もしくは非置換低級アルコキシカルボ
ニル基、ホルミル、アセチル等の低級アルカノイル基、
置換もしくは4ト置換アル低級アルコキシカルボニル基
、トリチル等のアル低級アルキル基等の保護基の脱離に
最も一般的で好ましい方法の1つである。使用きれる酸
としては、ぎ酸、トリフルオロ酢酸、ベンゼンスルホン
酸、p−hルエンスルホン酸、塩酸等の有機および無機
の酸が挙げられ、これらのうち、ぎ酸、トリフルオロ酢
酸、塩酸等の様に減圧蒸留の様な慣用される方法により
容易に除去できるものが特に好ましい。
これらの酸は脱離されるアミン保護基の種類に応じて適
宜選択される。脱離反応を酸を用いて行なう場合には、
溶媒の存在下または不存在下のいずれでも実施できる。
適当な溶媒としては水、メタノール、エタノール、テト
ラヒドロフラン等の慣用の有機溶媒もしくはそれらの混
合溶媒が挙げられる。
トリフルオロ酢酸を用いた脱離反応はアニソールの存在
下に反応を行ってもよい。ヒドラジンを使用する加水分
解は、サクシニル、フタロイル型のアミン保護基の脱離
に一般に適用される。
塩基を用いる加水分解は、アシル基の脱離に適用するの
が好ましい。使用される塩基としては、例えば水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属、水
酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等の水酸化アルカ
リ土類金属、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸ア
ルカリ金属、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等の炭
酸アルカリ土類金属、炭酸水素ナトリウム、羨酸水素力
リウム等の次階水素アルカリ金属、酢酸ナトリウム、酢
酸カリウム等の酢酸アルカリ金属、りん酸マグネシウム
、りん酸カルシウム等のりん酸アルカリ土類金属、りん
酸水素2ナトリウム、りん酸水素2カリウム等のりん酸
水素アルカリ金属等の無機塩基、トリメチルアミン、ト
リエチルアミン等のトリアルキルアミン、ピコリン、N
−メチルピロリジン、N−メチルモルホリン、1.5−
ジアザビシクロ[4,3,0]ノン−5−エン、1,4
−ジアザビシクロ[2,2,2コオクタン、1,5−ジ
アザビシクロ[5、4、O]]ウンデセンー5の有機塩
基が挙げられる。塩基を用いた加水分解は、通常、水、
親水性有機溶媒またはそれらの混合溶媒中で行なわれる
還元による脱離は、例えば、トリクロロエトキシカルボ
ニル等のハロアルコキシカルボニル基、ベンジルオキシ
カルボニル等の置換もしくは非置換アラルコキシカルボ
ニル基等の保護基の脱離に一般に適用される。好適な還
元法としては、例えば、水素化はう素ナトリウム等の水
素化はう素アルカリ金属による還元、スズ、亜鉛、鉄等
の金属またはこの金属および塩化第一クロム、酢酸第一
クロム等の金属塩化合物と、酢酸、プロピオン酸、塩酸
等の有機または無機酸との組合せによる還元、ならびに
接触還元が挙げられる。好適な触媒には、たとえばラネ
ーニッケル、酸化白金、パラジウム/炭素などの慣用の
ものが含まれる。
保護基のうち、アシル基の脱離は、オキシ塩化りんなと
のイミノハロゲン化剤およびメタノール、エタノールな
どの低級アルカノールのようなイミノエーテル化剤で処
理した後、必要に応じて加水分解することによっても達
成できる。
反応温度は特に制限されず、アミノ基の保護基の種類お
よび上述した脱離法の種類に応じて適宜選択しうるが、
冷却下ないしやや加温下という緩和な条件下で反応を行
なうのが好ましい。
上記方法1および2で得られる目的化合物<I)および
(Ib)は、例えば抽出、沈殿、分別結晶、再結晶、ク
ロマトグラフィー等の慣用方法により単離精製される。
目的化合物(1)が遊離のカルボキシ基および/または
アミノ基を有している場合には、これを常法により医薬
として許容されるその酸付加塩に転換できる。
この発明の目的化合物(I)は高い抗菌作用を示し、ダ
ラム陽性およびダラム陰性病原菌を含む多数の微生物の
発育・増殖を阻止し、抗菌剤として有用である。
この発明の目的化合物(I)またはその塩類を治療の目
的で投与するにあたり、上記化合物を経口、非経口また
は外用投与に適した有機または無機の固体または液体賦
形剤のような医薬に許容される相体との混合状態で含有
する製剤形態で使用される。この製剤は、カプセル剤、
錠剤、糖衣錠、軟コウもしくは生薬のような固型剤また
は溶液、懸濁液もしくは乳化液のような液剤のいずれの
形態もとりうる。所望により、上記製剤に、補助物質、
安定化剤、湿潤剤もしくは乳化剤、緩衝剤およびその他
の慣用の添加剤を混入してもよい。
この発明の化合物の投与量は患者の年令および状態に応
して異なるが、1回当りこの化合物的50mg、100
mg、250mg、 500mg、 1000mg、 
2000mgの平均用量が、多数の病原菌により引起さ
れる感染症の治療に有効であると認められる。−船釣な
量として1日に約1〜4000mg或いはそれ以−ヒの
用量で投与することができる。
次に実施例により、この発明をさらに説明する。
製1■」1 アセトニトリル(53ma )および水(18mQ )
に7=ベンズアミドセフγロスボラン酸ナトリウム(3
5g)、よう化ナトリウム(65,9g)および2.3
−ジメチルピリジン(t8.8g)を加え、65゜〜6
6°Cで3時間攪拌する。反応混合物を30%塩化ナト
リウム水溶液(1,6j2)に注加し、6N−塩酸でp
)12.0に調整する。沈殿物を濾取し、IN−塩酸で
洗浄して、7−ペンズアミドー3−(2゜3−ジメチル
−1−ピリジニオ)メチル−3−セフェム−4−カルボ
キシレート・塩酸塩(19,85g)を得る。
IR(xジ、+−ル)  :  3200. 1780
. 1700. 1660゜1530 cm ’ 製造例2 7−ペンズアミドー3−(2,3−ジメチル−1−ピリ
ジニオ)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート
・塩酸塩(19,7g )およびN、N−ジメチルアニ
リン(62,3g)のジクロロメタン(300mQ )
溶液に水冷下撹拌しながらトリメチルシリルクロリド(
46,5g)を加え、同温で2時間攪拌する。反応溶液
を一30°Cに冷却した後、五塩化リン(17,8g 
)を加え、同温で1時間攪拌する。反応混合物をイソブ
タノール(31,7g)および1.3−プロパンジオー
ル(32,6g)のジクロし】メタン(150mQ )
溶液に一30℃で加え、室温で13時間攪拌する。沈殿
物を濾取し、ジクロロメタン、次いでアセトンで洗浄し
て、7−アミノ−3−(2,3−ジメチル−1−ピリジ
ニオ)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート・
二塩酸塩(13,04g )を得る。
IR(ヌジヲール)  :  3300. 1780.
 1700. 1610  cm−’を化R(r)MS
O−d6−D20. f; ) : 2.52 (38
,s)、 2.70(31−1,s)、  3.50 
 <28.ブロード s)、  5.15  (1)1
.d。
J=5Hz>、  5.30 (1)!、d、J=5H
z)、  5.61  (2H。
ブロード s)、  7.77  <IH,dd、J=
6Hz、  8Hz)、  8.32(IH,d、J=
8)1z)、  8.58 (LH,d、J=6Hz>
火11乳1 N、N−ンメチルホルムアミド(1,68g)およびオ
キン塩化リン(3,53g)から常法によりビルスマイ
ヤー試薬を調製する。得られたビルスマイヤー試薬の酢
酸エチル(5mlりおよびテトラヒドロ ら、2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)−
2−メトキシイミノ酢酸(シン異性体)(4,4;)を
添加し、得られた混合物を1時間攪拌して、活性酸溶液
を調製する。7−アミノ−3−(2,3−ジメチル−1
−ピリジニオ)メチル−3−セフェム−4−カルボキシ
レートφ二塩酸塩(7,5g)およびN−モノ(トリメ
チルシリル)アセトアミド(50,2g)のテトラしド
ロツクン(75mQ )溶液に上記活性酸溶液を0″C
で加える。同温で30分間攪拌の後、反応混合物を酢酸
エチル(51)に注ぐ。沈殿物を濾取し、酢酸エチル、
次いでジイソプロピルエーテルで洗浄して、7−[2−
(2−ホルムアミrチアゾールー4−イル)−2−メト
キシイミノアセトアミド]−3−(2,3−ジメチル−
1−ピリジニオ)メチル−3−セフェム−4−カルボキ
シレートφ塩酸塩(シン異性体) (10,8g )を
得る。
IR(ヌジョール)  :  3150. 17g0.
 1660. 1540  cm−’NMR(DMSO
−d6,8 ) :2−52 (3H1s)、2−67
(3H,s)、  3.47  <214.ブロード 
s)、  3.87  (3H,s)。
5.22 (1)1.d、J=511z)、 5.74
 (2H,m)、 6.22(IH,dd、J=5Hz
、 8Hz)、 7.40 (LH,s)、 7.93
(IH,dd、J−6Hz、 8Hz)、 8.47 
(IH,d、J=8Hz>。
s、53 (18,s)、 9.00 (1)1.d、
J=6Hz)、 9.77Ho、d、J=soz) 爽亙迩1 7−[2−(2−ポルムアミドチアゾール−4−イル)
−2−メトキシイミノアセトアミドコー2O− 3−(2,3−ジメチル−1−ピリジニオ)メチル−3
−セフェム−4−カルボキシレート書塩酸塩(シン異性
体) (10,8g )のメタノール(120mQ )
およびテトラヒドロフラン(20mQ )溶液に濃塩酸
(9,96g)を加え、室温で2時間攪拌する。
反応混合物に水(1,50mfl )を加え、5%戻醋
酸水素ナトリウム水溶液pH2,0に調整する。得られ
る水溶液を濃縮し、マクロポーラス非イオン性吸着樹脂
1ダイアイオンHP−20,(商標:三菱化成工業部)
を用いたカラムクロマトグラフィーに付し、30%メタ
ノール水溶水溶液出する。目的化合物を含有する両分を
集め、濃縮した後凍結乾燥して、7−[2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)−2−メトキシイミノアセト
アミドコ−3=(2,3−ジメチル−1−ピリジニオ)
メチル−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異
性体)(J、Og)を得る。
IR(ヌジシール)  :  3250. 1??0.
 1660. 1610゜1530 cm−1 NMR(D20.8) : 2.48 (3)1.s)
、 2.72 <38.s)。
3.12および3.42 (2H,ABq、J=18H
z)。
3.95 <38.s)、 5.18 (LH,dj=
5Hz)、  5.30および5.57 (2H,AB
q、J=14Hz)、 5.80(IH,dJ=5Hz
>、  6.85  (1)1.s)、  7.65 
 (IH,dd。
J=6Hz、 8Hz>、 8.17 (IH,d、、
C3Hz)、 8.51(IH,dj=6Hz>

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1はアミノ基または保護されたアミノ基、
    R^2、R^3およびR^4はそれぞれ低級アルキル基
    を意味する) で示されるセフェム化合物およびその塩類。
  2. (2)R^1がアミノ、R^3およびR^4がメチルで
    ある特許請求の範囲第1項記載の化合物。
  3. (3)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
    −2−メトキシイミノアセトアミド]−3−(2,3−
    ジメチル−1−ピリジニオ)メチル−3−セフェム−4
    −カルボキシレート(シン異性体)である特許請求の範
    囲第2項記載の化合物。
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