JPS63293823A - レジスト除去装置 - Google Patents

レジスト除去装置

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Publication number
JPS63293823A
JPS63293823A JP12812287A JP12812287A JPS63293823A JP S63293823 A JPS63293823 A JP S63293823A JP 12812287 A JP12812287 A JP 12812287A JP 12812287 A JP12812287 A JP 12812287A JP S63293823 A JPS63293823 A JP S63293823A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ozone
cavity resonator
resist
pipe
resonator
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP12812287A
Other languages
English (en)
Inventor
Tetsuo Ono
哲郎 小野
Seiichi Murayama
村山 精一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP12812287A priority Critical patent/JPS63293823A/ja
Publication of JPS63293823A publication Critical patent/JPS63293823A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はレジスト除去装置に係わり、特にオゾンと紫外
線とを利用したレジスト除去装置の高性能化に関する。
〔従来の技術〕
紫外線とオゾンとを用いてレジストを除去する方法は、
半導体製造プロセスのドライ化の一端として注目されて
いる。このような装置の例は特開昭61−212021
号に記載されている。この装置は、マイクロ波を用いて
紫外線ランプを点灯し1反応室内に置かれた試料に紫外
線を照射すると同時に反応室内に酸素を導入して、試料
に塗布されたレジストを分解する装置である。紫外線が
酸素をオゾン化し、このオゾンがレジストを酸化分解す
る。
マイクロ波を用いてランプを点灯するとランプに電極を
つける必要が無いので、ランプ構造が非常に簡単になる
利点がある。
【発明が解決しようとする問題点〕
レジストの除去速度を上げるには、紫外線を照射すると
同時にオゾンを直接試料表面に吹きかけるようにすれば
よいことが知られている。しかし、ランプをマイクロ波
で点灯すると、空胴共振器が試料の上にくるので、オゾ
ンを供給するパイプを設けることができなくなる。上記
従来技術では、この点の配慮はなされていない。
本発明の目的は、マイクロ波でランプを点灯すると同時
に、試料表面にオゾンを吹きつけることができるレジス
ト除去装置を提供することである。
〔問題点を解決するための手段〕
上記目的は空胴共振器内に、オゾンを供給するパイプを
通すことで達成できる。またパイプの位置は共振器内の
電界が弱くなる所にあけるのがよい、また穴の大きさは
、マイクロ波のカットオフ領域にあるのが良い。
〔作用〕
空胴共振器にパイプを通せば、試料の上に空胴共振器を
置くと同時に、試料表面にオゾンを吹きつけることがで
きる。パイプは空胴共振器内の電界が弱い部分に通せば
、ランプの点灯を防げることは無い、また、パイプを通
す穴の大きさは、マイクロ波のカットオフ領域の大きさ
にしておけばマイクロ波がもれることもない。
〔実施例〕 以下、本発明の実施例を図により説明する。
第1図は実施例の全体構成図である。直方体の空胴共振
器1の中に直管形のランプ2が入っている。ランプ2は
無電極で内部にはふつう希ガスとHg、Cd、Zn等の
金属が封入される。ランプ2には、マイクロ波電源3か
ら、導波管4と電力供給口5を介しマイクロ波電力が供
給される。空胴共振器1の一面は金網6になっており、
ランプ2から出た紫外線を反応室7内に対照できるよう
になっている0反応室7の中には試料台8があり、この
上にレジストが塗られたSiウェハ等が置かれる0本発
明に従かいオゾン供給用のパイプ9が空胴共振器1に穴
10を開けて通しである。第2図は第1図の空胴共振器
1のA−A断面図である。
パイプ9は反応室7と空胴共振器1をしきる1g8外線
透過物質でできたしきり板11に連続している。この構
造により、オゾンは反応室7内試料表面に吹きつけるこ
とができ、レジスト除去速度が上がる。
次に、空胴共振器1にパイプ9を通す位置について述べ
る。パイプ9は空胴共振器1内に立つ電界の定在波か弱
くなるところに通せば、ランプ2の点灯を妨げることが
ない。たとえば、直方体の空胴共振器の場合は、長さa
、b、Qの各辺に立つ定在波の数α、m、nは(1)式
で表わされる。
λはマイクロ波の波長である。この定在波のようすを第
3図に示す。第1図のような装置にする場合は辺Cを小
さくしてこの辺にのる定在波の数nを0にして、a、b
をある程度大きくし平扱形の共振器にする。この共振器
で定在波−の節12が゛平面ab上にできる。この節1
2の部分に穴を開けてパイプを通せばよい、共振器・に
複数個のモードが同時に・のる場合、あるLlは共振器
の形が複雑で計算では電界の最小点が求まらない場合は
、共振器内に探針を立てて電界強度を測定し、電界が最
大値の3分の1以下になる点を捜し、ここにパイプを通
す。あるいは、塩化コバルト(COCD、 z)の水溶
液を紙などにしみこませ共振器内におき。
電力を入れる。すると、水を含んだ状態では赤色のCo
 CQ zが、電界の強い場所では水が蒸発し青色に変
わる。この方法で、電界が弱い所を捜し、そこにパイプ
を通すようにすれば良い。
パイプ9を通す穴10の大きさは、マイクロ波のカット
オフ領域にする。さらに、この穴からのマイクロ波のも
れを小さくするには、第4図のようにカットオフパイプ
13を設ければ良い。
以上の実施例で、しきり板11は金$116の外側につ
いていても良い。また、空胴共振器1の材料がオゾンに
おかされない場合は、しきり板11は無くても良い。
また、この装置の用途はレジスト除去には限らず同じ楕
成で、オゾンの代りに他のガスを流し、たとえば光CV
Dなどにも用いることができる。
〔発明の効果〕 本発明によれば、空胴共振器内にオゾン供給パイプを通
すことにより、試料表面にオゾンを吹きつけることがで
きる。これによりレジスト除去速度が改善される。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明実施例の全体構成図、第2図と第4図は
第1図のA−A断面図、第3図は直方体空胴共振器の電
界分布図である。 1・・・空胴共振器、2・・・ランプ、3・・・マイク
ロ波電源、4・・・導波管、5・・・電力供給口、6・
・・金網、7・・・反応室、8・・・試料台、9・・・
パイプ、10・・・穴。 11・・・しきり板、12・・・節、13・・・カット
オフパイプ。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、マイクロ波の空胴共振器と、その中に設置するラン
    プと、オゾンを供給する装置とからなるレジスト除去装
    置において、上記空胴共振器にオゾン供給用のパイプを
    通したことを特徴とするレジスト除去装置。 2、上記パイプは上記空胴共振器内の電界が弱い所に通
    したことを特徴とする第1項記載のレジスト除去装置。 3、上記パイプを通す穴の大きさは上記マイクロ波のカ
    ットオフ領域にあるように定められていることを特徴と
    する第1項あるいは第2項記載のレジスト除去装置。
JP12812287A 1987-05-27 1987-05-27 レジスト除去装置 Pending JPS63293823A (ja)

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JP12812287A JPS63293823A (ja) 1987-05-27 1987-05-27 レジスト除去装置

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JPS63293823A true JPS63293823A (ja) 1988-11-30

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022021180A1 (zh) * 2020-07-25 2022-02-03 江苏万贤环境工程有限公司 微波紫外催化氧化废气处理成套装备

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022021180A1 (zh) * 2020-07-25 2022-02-03 江苏万贤环境工程有限公司 微波紫外催化氧化废气处理成套装备

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