JPS63280401A - 半導体磁器組成物 - Google Patents
半導体磁器組成物Info
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- JPS63280401A JPS63280401A JP11349487A JP11349487A JPS63280401A JP S63280401 A JPS63280401 A JP S63280401A JP 11349487 A JP11349487 A JP 11349487A JP 11349487 A JP11349487 A JP 11349487A JP S63280401 A JPS63280401 A JP S63280401A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C7/00—Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material
- H01C7/02—Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material having positive temperature coefficient
- H01C7/022—Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material having positive temperature coefficient mainly consisting of non-metallic substances
- H01C7/023—Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material having positive temperature coefficient mainly consisting of non-metallic substances containing oxides or oxidic compounds, e.g. ferrites
- H01C7/025—Perovskites, e.g. titanates
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- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Thermistors And Varistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、正の温度係数を有する半導体磁器組成物に
関するものである。
関するものである。
一般に、チタン酸バリウムは良好な絶縁体であるが、こ
れに希土類元素、Nb、 Sb、 Ta、 W、 Bi
などの半導体化剤を微量添加して得られたチタン酸バリ
ウム系半導体磁器は、素子の比抵抗が10”〜lOSΩ
・lと低くなって半導体化し、120℃付近で正の温度
特性を有することは公知である。
れに希土類元素、Nb、 Sb、 Ta、 W、 Bi
などの半導体化剤を微量添加して得られたチタン酸バリ
ウム系半導体磁器は、素子の比抵抗が10”〜lOSΩ
・lと低くなって半導体化し、120℃付近で正の温度
特性を有することは公知である。
例えば特公昭53−29386号公報には、チタン酸バ
リウムのバリウムの一部を鉛とカルシウムで同時に置換
した形に固溶した組成物に半導体化用元素を添加してな
る半導体磁器組成物が開示されている。
リウムのバリウムの一部を鉛とカルシウムで同時に置換
した形に固溶した組成物に半導体化用元素を添加してな
る半導体磁器組成物が開示されている。
以上のように、従来の正の温度係数を有する半導体磁器
組成物はチタン酸バリウムを主成分としていた。
組成物はチタン酸バリウムを主成分としていた。
しかしながら、上記従来の組成物では焼成温度が高く、
比抵抗一温度特性曲線においてM7等、抵抗の立ち上が
り桁を増大させる添加物を加えない場合、抵抗の立ち上
がり桁が小さく、負の温度係数領域がフラットで7字型
の比抵抗一温度特性曲線を得るためにはインテルビウム
Y、の添加が必要である(特公昭51− 42989号
)などの問題点がある。
比抵抗一温度特性曲線においてM7等、抵抗の立ち上が
り桁を増大させる添加物を加えない場合、抵抗の立ち上
がり桁が小さく、負の温度係数領域がフラットで7字型
の比抵抗一温度特性曲線を得るためにはインテルビウム
Y、の添加が必要である(特公昭51− 42989号
)などの問題点がある。
本発明は上記問題点に着目してなされたもので、バリウ
ムを含まないチタン酸ストロンチウム−チタン酸鉛系の
正の抵抗温度特性を有する半導体磁器組成物を提供する
ことを目的とするものである。
ムを含まないチタン酸ストロンチウム−チタン酸鉛系の
正の抵抗温度特性を有する半導体磁器組成物を提供する
ことを目的とするものである。
本発明は、上記従来の組成系と異なり、ABO,ペロブ
スカイト構造ではあるがAサイトにBa以外の元素(し
たがってチタン酸バリウム系ではない)、すなわちpb
およびSrを選択することによって、正の温度特性が発
現することを見い出して完成されたものである。
スカイト構造ではあるがAサイトにBa以外の元素(し
たがってチタン酸バリウム系ではない)、すなわちpb
およびSrを選択することによって、正の温度特性が発
現することを見い出して完成されたものである。
本発明は、一般式(SrI−++−y pbMR,)
Tie、で表わし、たとき、Xおよびyがそれぞれx=
0.05〜0.95モル y−o、oo1〜0.020モル (Rは希土類元素、Bi、 V、 W、 Tar Nb
+ Sbから任意に選ばれた一種又は二種以上の元素で
ある。)の範囲にあることを特徴とする正の抵抗温度特
性を存する半導体磁器組成物である。
Tie、で表わし、たとき、Xおよびyがそれぞれx=
0.05〜0.95モル y−o、oo1〜0.020モル (Rは希土類元素、Bi、 V、 W、 Tar Nb
+ Sbから任意に選ばれた一種又は二種以上の元素で
ある。)の範囲にあることを特徴とする正の抵抗温度特
性を存する半導体磁器組成物である。
本発明のチタン酸ストロンチウム−チタン酸鉛系組成物
では焼成温度の低下、立ち上がり桁の増大、負の温度係
数の増大が達成できる。
では焼成温度の低下、立ち上がり桁の増大、負の温度係
数の増大が達成できる。
以下、本発明を実施例に従って詳述する。
実施例として、前記一般式(SrI−x−y pbXR
,)Tt(hにおいて、RとしてY(イツトリウム)を
選択し、化学式を(srl−X−V r+bX Yy
) Ti0iとした半導体磁器組成物について述べる
。
,)Tt(hにおいて、RとしてY(イツトリウム)を
選択し、化学式を(srl−X−V r+bX Yy
) Ti0iとした半導体磁器組成物について述べる
。
高純度の5rC(1++ PbO+ YzOi+ Ti
0zを出発原料とし、第1表に示した組成になるように
秤量し、めのう玉入りのポリエチレン製ボットミルによ
り20時時間式混合粉砕した。次いで脱水、乾燥したの
ち900℃〜1150℃の温度にて2時間仮焼した。
0zを出発原料とし、第1表に示した組成になるように
秤量し、めのう玉入りのポリエチレン製ボットミルによ
り20時時間式混合粉砕した。次いで脱水、乾燥したの
ち900℃〜1150℃の温度にて2時間仮焼した。
次にこの仮焼原料を粗粉砕後、前記ボットミルにて約2
0時間湿式粉砕し脱水、乾燥した。
0時間湿式粉砕し脱水、乾燥した。
その後、ポリビニルアルコール(PVA)を添加して造
粒し、油圧成型機により圧力1〜3ton/cJで直径
16.5龍、厚さ3.5flの円板と、し、バンチ炉で
1150℃から1350℃にて1時間保持し空気中で焼
成して半導体磁器組成物とした。
粒し、油圧成型機により圧力1〜3ton/cJで直径
16.5龍、厚さ3.5flの円板と、し、バンチ炉で
1150℃から1350℃にて1時間保持し空気中で焼
成して半導体磁器組成物とした。
このようにして得られた試料の両面にIn−Ga合金に
より電極を形成し、20℃における比抵抗と抵抗温度特
性を測定した。結果は第1表、第1図、第2図及び第3
図に示すとおりである。
より電極を形成し、20℃における比抵抗と抵抗温度特
性を測定した。結果は第1表、第1図、第2図及び第3
図に示すとおりである。
なお、第1表の試料番号16に従来のチタン酸バリウム
系半導体磁器組成物の一例として、化学式が(Ba+−
x ’lx )TiesでXが0.003のものを併
記した。
系半導体磁器組成物の一例として、化学式が(Ba+−
x ’lx )TiesでXが0.003のものを併
記した。
以下、余白
第1表
しかして、第1表において試料番号1〜8は、Yのモル
を一定としてSrとpbのモルを増減したものであり、
試料番号9〜15はS「とpbのモルをほぼ一定としY
のモルを変えたものである。なお、表中の※印を符した
試料は本発明範囲外のものであり、それ以外は本発明範
囲内のものである。
を一定としてSrとpbのモルを増減したものであり、
試料番号9〜15はS「とpbのモルをほぼ一定としY
のモルを変えたものである。なお、表中の※印を符した
試料は本発明範囲外のものであり、それ以外は本発明範
囲内のものである。
また、第1図は試料番号3,4.5についての比抵抗一
温度特性を示したもの、第2図は試料番号12と16に
ついて比抵抗一温度特性を示したものであり、第3図は
試料番号lO〜14についてY添加量刑(モル別)の比
抵抗を示したものである。
温度特性を示したもの、第2図は試料番号12と16に
ついて比抵抗一温度特性を示したものであり、第3図は
試料番号lO〜14についてY添加量刑(モル別)の比
抵抗を示したものである。
なお、第1表の正の抵抗変化桁は、各試料について比抵
抗一温度特性曲線における正の温度係数を有する部分の
最大値のべき指数から最小値のべき指数を差し引いて得
たものである。
抗一温度特性曲線における正の温度係数を有する部分の
最大値のべき指数から最小値のべき指数を差し引いて得
たものである。
第1表から、Srとpbの添加量のみを変えることによ
り、Tcが一175℃から440℃と極めて広範囲に変
化させることができることがわかる。
り、Tcが一175℃から440℃と極めて広範囲に変
化させることができることがわかる。
また本発明の組成物を従来のチタン酸バリウム系&II
床物(試料番号16)と比較すると、fl)キュリ一点
130℃近傍を得るためには、従来のものでは焼成温度
1350℃前後が必要であるのに対し、本発明のもので
は1250℃前後でよいので、焼成温度を約100℃低
下することができる、(2)正の抵抗変化桁については
、従来のものが2桁であるのに対し、本発明のものでは
3.5桁と増大する、(3)負の温度係数については、
従来のものは小さく、■字型の比抵抗一温度特性曲線を
得るためには別途にY、(インテルビウム)等の添加剤
を添加する必要があったが、本発明のものでは負の温度
係数が大きく (試料番号12では7.0(%/’C)
であるのに対し、試料番号16では0.45(%/℃)
)、上記のような添加剤は必要ないなど、本発明組成物
は優れた特性を有するものである。
床物(試料番号16)と比較すると、fl)キュリ一点
130℃近傍を得るためには、従来のものでは焼成温度
1350℃前後が必要であるのに対し、本発明のもので
は1250℃前後でよいので、焼成温度を約100℃低
下することができる、(2)正の抵抗変化桁については
、従来のものが2桁であるのに対し、本発明のものでは
3.5桁と増大する、(3)負の温度係数については、
従来のものは小さく、■字型の比抵抗一温度特性曲線を
得るためには別途にY、(インテルビウム)等の添加剤
を添加する必要があったが、本発明のものでは負の温度
係数が大きく (試料番号12では7.0(%/’C)
であるのに対し、試料番号16では0.45(%/℃)
)、上記のような添加剤は必要ないなど、本発明組成物
は優れた特性を有するものである。
なお、pbあるいは5rllが0.95モルをこえる場
合、半導体化せず正の抵抗温度特性も得られないため、
本発明範囲内から除外した。またYlについては、0.
0005モル以下及び0.024モル以上の場合、半導
体化しないため、本発明範囲内から除外した。
合、半導体化せず正の抵抗温度特性も得られないため、
本発明範囲内から除外した。またYlについては、0.
0005モル以下及び0.024モル以上の場合、半導
体化しないため、本発明範囲内から除外した。
この実施例では前記半導体化剤ドがY単独の場合につい
て述べたが、このRとしてLa、 Ce、 Smなどの
希土類元素、Bi、 V、 W、↑a、 Nb、 Sb
を単独に適用しても同様の効果が得られること、また、
これら希土類元素、Bi、 V、 H,Ta、 Nb、
Sbから任意に選んだ二種以上の元素を併用すること
もできることが実験でli1!認できた。
て述べたが、このRとしてLa、 Ce、 Smなどの
希土類元素、Bi、 V、 W、↑a、 Nb、 Sb
を単独に適用しても同様の効果が得られること、また、
これら希土類元素、Bi、 V、 H,Ta、 Nb、
Sbから任意に選んだ二種以上の元素を併用すること
もできることが実験でli1!認できた。
次に、本発明における各成分含有量の限定理由を説明す
る。
る。
第1表から明らかなように、pbの量が0.05〜0.
95モルの範囲外にあると比抵抗が過大となり半導体化
しない。また、RすなわちY等の量が0.001〜0.
020モルの範囲外になると同様に半導体化しない。
95モルの範囲外にあると比抵抗が過大となり半導体化
しない。また、RすなわちY等の量が0.001〜0.
020モルの範囲外になると同様に半導体化しない。
以上述べた如く本発明の半導体磁器組成物は、一般式(
Srl−*−y Pb、 R,) Tie、で表わし
たとき、Xおよびyをそれぞれx=0.05〜0.95
モル、y−0,001〜0.020 モル(Rは希土類
元素、Bi、 V、 H。
Srl−*−y Pb、 R,) Tie、で表わし
たとき、Xおよびyをそれぞれx=0.05〜0.95
モル、y−0,001〜0.020 モル(Rは希土類
元素、Bi、 V、 H。
Ta、 Nb、 Sbから任意に一種又は二種以上選ん
だもの)の範囲内に設定したことにより、焼成温度が低
下し、立ち上がり桁の増大と負の温度係数の増大が達成
されるものである。したがって、本発明の半導体磁器組
成物は、発熱体等の半導体素子や電流制限用素子、スイ
ッチング素子、感熱センサとして広範囲の用途に供する
ことができる効果がある。
だもの)の範囲内に設定したことにより、焼成温度が低
下し、立ち上がり桁の増大と負の温度係数の増大が達成
されるものである。したがって、本発明の半導体磁器組
成物は、発熱体等の半導体素子や電流制限用素子、スイ
ッチング素子、感熱センサとして広範囲の用途に供する
ことができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の実施例の結果を示すもので、第1図及び
第2図は比抵抗一温度特性曲線、第3図はY添加量と比
抵抗の関係を示すグラフである。
第2図は比抵抗一温度特性曲線、第3図はY添加量と比
抵抗の関係を示すグラフである。
Claims (1)
- (1)一般式(Sr_1_−_x_−_yPb_xR_
y)TiO_3で表わしたとき、xおよびyがそれぞれ x=0.05〜0.95モル y=0.001〜0.020モル (Rは希土類元素、Bi、V、W、Ta、Nb、Sbか
ら任意に選ばれた一種又は二種以上の元素である。)の
範囲にあることを特徴とする正の抵抗温度特性を有する
半導体磁器組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11349487A JP2598907B2 (ja) | 1987-05-12 | 1987-05-12 | 半導体磁器組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11349487A JP2598907B2 (ja) | 1987-05-12 | 1987-05-12 | 半導体磁器組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63280401A true JPS63280401A (ja) | 1988-11-17 |
JP2598907B2 JP2598907B2 (ja) | 1997-04-09 |
Family
ID=14613734
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11349487A Expired - Lifetime JP2598907B2 (ja) | 1987-05-12 | 1987-05-12 | 半導体磁器組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2598907B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0350770A2 (en) * | 1988-07-14 | 1990-01-17 | TDK Corporation | Semiconductive ceramic composition |
CN1092162C (zh) * | 1996-06-21 | 2002-10-09 | 清华大学 | 中低温烧结半导体陶瓷和制备方法 |
-
1987
- 1987-05-12 JP JP11349487A patent/JP2598907B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0350770A2 (en) * | 1988-07-14 | 1990-01-17 | TDK Corporation | Semiconductive ceramic composition |
CN1092162C (zh) * | 1996-06-21 | 2002-10-09 | 清华大学 | 中低温烧结半导体陶瓷和制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2598907B2 (ja) | 1997-04-09 |
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