JPS63278531A - 内部保温式垂直流脱硝反応器 - Google Patents

内部保温式垂直流脱硝反応器

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JPS63278531A
JPS63278531A JP62112563A JP11256387A JPS63278531A JP S63278531 A JPS63278531 A JP S63278531A JP 62112563 A JP62112563 A JP 62112563A JP 11256387 A JP11256387 A JP 11256387A JP S63278531 A JPS63278531 A JP S63278531A
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catalyst
gas
catalyst support
frame
reactor
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JP62112563A
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Yoshiyuki Takeuchi
良之 竹内
Toshio Murakami
敏夫 村上
Haruo Arakawa
荒川 春男
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Mitsubishi Power Ltd
Original Assignee
Babcock Hitachi KK
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/008Details of the reactor or of the particulate material; Processes to increase or to retard the rate of reaction
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2208/00Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
    • B01J2208/00796Details of the reactor or of the particulate material
    • B01J2208/00805Details of the particulate material
    • B01J2208/00814Details of the particulate material the particulate material being provides in prefilled containers

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
  • Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は脱硝反応器に係り、特に内部保温式の垂直流反
応器の未処理ガスリーク防止に好適な反応器構造に関す
るものである。
〔発明の背景〕
内部保温式脱硝反応器においては、反応器内部部品(触
媒を含む)は高温排ガスと直接接触する為、熱伸びが大
きいが、反応器ケーシングは内側の保温材により断熱さ
れるから常温となり、熱伸びは殆んどない。従って両者
の間には必然的に熱伸び差が生じる為、どうしても熱伸
び差分だけのすきまを両者の間には設ける必要がある。
しかし、このすきまを開けたままにしておいTこ場合、
脱硝反応器上流側の窒素酸化物(以下、NOxと略す。
)の高濃度含有排ガスがこのすきまより触媒と接触せぬ
まま1反応器後流側へリークし、反応器出口のNOx濃
度を押し上げてしまう為、このすきまのカバーが色々と
工夫されている。
この従来技術を第7図〜第10図に示す。第7図は垂直
流脱硝反応器の水平断面図馨示す。反応器ケーシング3
は、触媒受梁1の長手方向両端部を支持する為に側壁の
適宜個所が箱形に外側へ突き出している。ここで支持さ
れる受梁1は、熱により長手方向へは自由に伸びられる
が、これと直角方向へは反応器ケーシング3により拘束
されている。又、触媒受梁1同志の間は、これに直角に
設げた触媒受梁2により連結されている。但し、同じく
熱により、受梁2にも伸びが生じる為、第7図のB−B
線断面倒立図である第10図に示す様に、受梁1と受梁
2は、一端は溶接九より完全固定されているが、他端は
L型鋼6の上に乗り、かつ、プレート7により拘束され
ているのみで、熱伸びで伸縮出来る様に、受梁1と受梁
2の間ににすきまがあけられている。触媒ブロック4は
、第8図に示す様に、これらの受梁1,2の上に設置さ
れろ。但し、図よりも明らかな様に、触媒ブロック4と
触媒受梁2のすきま、及び第9図に示す内部保温材8と
触媒受梁2のすきま等より、高NOx含有排ガスが触媒
ブロック4を通過せずに後流側へリークする恐れがある
。この為、第9図に示す様に、触媒ブロック4と内部保
温材80間、及び触媒ブロック4同志間に充填物5を充
填して、これt防止している。
以上述べた従来技術に於いては、 (11広い範囲に充填物を充填せねばならず、その経費
と時間が多大となる。
(2)広い範囲に施行する事は、施工不良等の発生する
確率を高め、信頼度が低下しゃ丁い。
(3)触媒ブロックと充填物が直接接触している為、触
媒ブロックの抜出し、交換時くは、一度充填物を除いた
後、再び充填しなげればならず、触媒交換の経費、時間
が多大となる。
(4)頻繁な起動・停止に伴ない充填物の弾性力が段々
と衰え、触媒ブロックと充填物との間に丁ざまが生じ、
クリークが発生する。
などの欠点を有している。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点をなくし、充
填物の施工に伴なう経費及び時間の負担を最少とし、か
つ、信頼度の高い、垂直流脱硝反応器を提供する事にあ
る。
〔発明の概要〕
要するに本発FiAは、反応器ケーシングと、その反り
器ケーシングの内壁に設けられた保温材と、反応器ケー
シングから突設された触媒支持部材と、その触媒支持部
材に支持され前記反応器ケーシングから切り離して別体
となった触媒受梁と、その触媒受梁上に載置された多数
の触媒ブロックとを有し、前記触媒受梁と触媒ブロック
との間、ならびに触媒ブロックどうし間が全てメタルタ
ッチ九てガスシールされていることを特徴とするもので
ある。
〔発明の実施例〕
次に本発明の実施fllt図とともに説明する。
、!!1図において触媒ブロック28を支持するために
1反応器ケーシング21より内側に複数個の触媒支持部
材231に設け、この触媒支持部材23どうしの間に例
えばL型の触媒支持補助部材24′j¥:溶接によって
接合し、一つの枠体を形成する。
一方第2図に示すように、鋼材により枠状に形成した触
媒ベッド26上には複数個の触媒ブロック28が整列し
て載置され、触媒ベッド26と触媒ブロック28とが一
体の嘴漬物となっており、これらは第4図に示すように
前述の触媒支持部材23と触媒支持補助部材24かも構
成されている枠体上に載置される。
触媒ベッド26は、予め熱による伸び差を吸収するよう
に第4図、@5図に示すように内部保温材30との間に
すきまが設けられている。また、熱くよる伸び触媒ベッ
ド26と触媒支持部材23及び触媒支持補助部材24か
らなる枠体との間には、滑らかく動くようにスライディ
ングプレート25 m、  25 bが設置されている
。図中のgは排ガスの流れ方向を示している。
このような構成になった内部保温式垂直流型脱硝反応器
では、まず@2図に示すように触媒ベッド26と触媒ブ
ロック28との間はメタルタッチにてガスシールされて
いる。また触媒ブロック28.28間のすき間は、第3
図に示すようにそのすきまtシールするようにシール部
材27が取り付けられ、同様にメタルタッチにてガスシ
ールされている。
従って排ガスgは、触媒ブロック2Bの内部t流れろか
、触媒支持部材23と触媒支持補助部材24とからなる
枠体の外側を流れる流路しかない。
この枠体の外側の流れの遮断について説明すると、触媒
支持補助部材24は触媒支持部材23と接合されるとと
もに、ガスシールするために内部保温材30内まで延び
ており、長手方向に沿って一定間隔でスリットが形成さ
れて熱伸び差による割れ?防止している。
さらに触媒ベッド26と触媒支持部材23とのスライド
面には、スライディングプレート25a。
25bが各々取付けられているため、排ガス温度による
熱伸びが拘束されることなく、常にこのスライディング
プレート25a、25bが面接触していることから、メ
タルタッチにてガスシールされている。
第6図は、触媒支持補助部材24の変形例を示す図であ
る。この例の場合、■聾またはU聾などのベンド部31
が一定間隔で設けられており、触媒支持補助部材24の
熱伸9び時には2点鎖線で示すように変形して、伸び差
を吸収する。
一方ガスシールについてを工、■型またはUWにシール
プレート32Y張り、図に示すようにV型の片辺のみ溶
接し、他辺をフリーとして、触媒支持補助部材24の伸
縮を束縛しないようになっている。触媒支持補助部材2
4に対してシールプレー)31’このよう[9り付ける
ことにより、スライド面もメタルタッチにてガスシール
されろ。
〔発明の効果〕
本発明は前述のような構成になっており、ガスリークす
る可能性のある個所をメタルタッチにてガスシールでき
ることから、 (1)  シール構成が簡単であるため、ガスシールに
対する安全性を高めることができろ。
(2)施工が容易で経済的である。
(3)頻繁な起動・停止に対してもガスシールしながら
熱的に自由に膨張できるなどの特長を有している。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例に係る脱硝反応器における反応
ケーシングの水平断面図、第2図は触媒ブロックの充填
状態を示す平面図、第3図は第2図のA−A視図、第4
図は脱硝反応器の一部垂直断面図、第5図は第4図「部
の拡大詳細図、第6図は触媒支持補助部材の変形例馨示
す要部斜視図である。 第7図は従来の脱硝反応器における反応ケーシングの水
平断面図、第8図は触媒ブロックの充填状態Y示す平面
図、第9図は脱硝反応器の一部垂直断面図、第10図は
第7図のB−B視図である。 21・・・・・・反応ケーシング、23・・・・・・触
媒支持部材、24・・・・・・触媒支持補助部材、25
 a、  25 b・・・・・・スライディングプレー
ト、26・・・・・・触媒ベッド、27・・・・・・シ
ール部材、28・・・・・・触媒ブロック、29・・・
・・・シールプレート。 第4図 第7図 第8図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 反応器ケーシングと、その反応器ケーシングの内壁に設
    けられた保温材と、反応器ケーシングから突設された触
    媒支持部材と、その触媒支持部材に支持され前記反応器
    ケーシングから切り離して別体となつた触媒受梁と、そ
    の触媒受梁上に載置された多数の触媒ブロックとを有し
    、前記触媒受梁と触媒ブロックとの間、ならびに触媒ブ
    ロックどうし間が全てメタルタッチにてガスシールされ
    ていることを特徴とする内部保温式垂直流脱硝反応器。
JP62112563A 1987-05-11 1987-05-11 内部保温式垂直流脱硝反応器 Expired - Fee Related JP2587422B2 (ja)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55139820A (en) * 1979-04-17 1980-11-01 Babcock Hitachi Kk Catalytic reaction apparatus
JPS61102231U (ja) * 1984-12-11 1986-06-30

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