JPS63272262A - レーザ走査装置 - Google Patents

レーザ走査装置

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JPS63272262A
JPS63272262A JP63081157A JP8115788A JPS63272262A JP S63272262 A JPS63272262 A JP S63272262A JP 63081157 A JP63081157 A JP 63081157A JP 8115788 A JP8115788 A JP 8115788A JP S63272262 A JPS63272262 A JP S63272262A
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JP
Japan
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scanning device
laser scanning
photodetector
field
focal point
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Application number
JP63081157A
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English (en)
Inventor
ジェラルド・ダナ・リー
ジョン・グレアー・エリアス
ベネット・ハンソン・ロックニイ
ウイリアム・エドワード・ウルフ
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EIDP Inc
Original Assignee
EI Du Pont de Nemours and Co
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Publication date
Application filed by EI Du Pont de Nemours and Co filed Critical EI Du Pont de Nemours and Co
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明はＸ線フィルムをレーザ走査するためのレーザ走
査装置、特にＸ線フィルムが湾曲したフィールドに保持
され、かつ湾曲した光検出装置を備えたレーザ走査装置
に関する。
［発明の背景］ Ｘ線フィルムを電気的に解析し、伝送するために、これ
を走査し、かつデジタル化するレーザ走査装置が知られ
ている。このような装置として、例えば、フィルム・デ
ジタル・Ｘ！Ｉフィルムシステムとして、Ｅ、Ｉ、ｄｕ
　　Ｐｏｎｔ　　ｄｅＮｅｍｏｕｒｓ　　ａｎｄ　　Ｃ
ｏｍｐａｎｙから販売されている。
このような装置においては、走査ビームをＸ線フィルム
の表面の幅方向に渡７て導くためにガルバノメータを備
えた揺動ミラーを使用している。
このＸ線フィルムはＩＬ坦な而、即ちプラテンにより支
持される。また、Ｘ線フィルムがらの透過光を受光する
ようにプラテン上には、線形半導体光検出器が設けられ
ている。この光検出器は、多数のＰＩＮ半導体ダイオー
ドを、端部が接触するようにして、平面状に配置するこ
とにより、構成されている。また、ダイオードとプラテ
ンとの間には、光学拡散部材が設けられている。
［解決しようとする問題点］ 上記従来の走査システムにおいては、以下のような問題
がある。
走査ビームが平坦なＸ線フィルムを幅方向に渡って走査
するのに従って、Ｘ線フィルムまでの光路長が変化し、
この結果走査ビームのＸｌｊフィルム上でのスポットの
サイズが変化してしまう。前記ミラーは一定の角速度で
走査するので、Ｘ線フィルム上でのスポットの速度も変
化してしまう。
このような、変化により、得られた。像には幾何学的歪
みがしょうじてしまう。走査ビームはＸ線フィルムに、
入射角が異なって入射するので、入射走査ビームのスポ
ットの形も変化してしまい、解像度が低下する。さらに
、Ｘ線フィルムの縁部での光路長が長くなるので、ここ
でのビームの吸収が多くなることも知られている。この
結果、デジタル化した像は、長手方向縁部で暗くまた解
像度が悪くなる。
さらに、上記従来のレーザ走査装置においては、ガルバ
ノメータを使用したミラーの走査速度に限度があるため
に、走査速度がおそく、代表的には、約１分を要する。
ファクシミリにおいて湾曲したフィールドを使用するこ
とは、米国特許３．　３７０，５０４号により公知であ
る。この米国特許には、湾曲したフィールドと、このフ
ィールドの後方に設けられ、対応した湾曲状に配列され
たオプティカルファイバーとを白゛するファクシミリ装
置の開示がある。
これらファイバーは光増倍管のようなｌｉ−の光検出器
に透過光を導く。このような装置においては、一方のオ
プティカルファイバーから他方のオプティカルファイバ
ーへと光が通ることによる不均一効果により生じるノイ
ズにより、ノイズレシオに対して信号が制限されてしま
う。
上述したような制限により、オプティカルファイバーの
使用は、レーザ走査装置のような、高い精度を有する医
療分野では、適さない。
本発明の目的は、上記問題点を解決したレーザ走査装置
を提供することである。
［問題を解決するための手段］ 本発明のレーザ走査装置は、レーザ源らの走査ビームを
受け、かつ走査されるＸ線フィルムを支持する湾曲した
フィールドを規定する支持手段をＨする。回転多面ミラ
ーやビーム形成光学部材のような手段がＸ線フィルムへ
の収束された走査ビームを発生するように設けられてる
。このような光源並びにビーム発生手段は、フィールド
をラスター方式で走査するように、フィールドに対して
相対的に移動可能な機台に装管されてる。光検出装置は
、Ｘ線フィルムを透過した光を受光するように、フィー
ルドに対して、装置されている。
光検出装置は、第１の実施例では、互いに端部が接触す
るように物理的に配設され、かつ並列に電気的に接続さ
れた多数の半導体素子により構成された光検出器を９す
る。これら半導体素子は、これらとフィールドとの間隔
が同じになるように湾曲パターンで配設されている。フ
ィールドと光検出装置との間にはスリットが形成された
マスクが設けられている。
第２の実施例では、光検出装置は透明ブロックと、この
ブロックに設けられた光検出器とを具備する。透明ブロ
ックは入力前端面並びに出力後端面を具備する。これら
入力前端面並びに出力後端面は、互いに対向した１対の
短縁並びに長縁を有し、入力前端面は、これの全ての地
点で前記フィールドとの間隔が同じとなるように湾曲し
ている。
入力前端面並びに出力後端面の短縁間には１対の端面が
延出している。また、入力前端面並びに出力後端面の長
縁間には１対の側面が延出している。
光検出器が透明ブロックの出力後端面に光伝送結合され
ている。光検出器並びに出力後端面は、互いに効果的な
光伝送結合を果たすようなディメンションの作動領域を
有する。フィールドと光検出装置との間には、入力前端
面の幅方向に渡って、光検出装置での応答が一定となる
ように濃度勾配を有する中間濃度フィルターが設けられ
ている。
第３の実施例において、光検出装置は透明ブロックと、
このブロックに設けられた光検出器とをＲＱする。この
透明ブロックは、入力前端面、反射後端面並びに第１及
び第２の側面を有する。光検出器が透明ブロックの一方
の側面に光伝送結合されている。前記入力前端面は、こ
れの全ての地点で前記フィールドとの間隔が同じとなる
ように湾曲している。側面に直交する軸に平行な方向か
ら見て、各側面は、円弧部分と円錐曲線の一部の曲線部
分とを有する縁線を具備している。好ましくは、円錐曲
線は楕円であり、また円弧は少なくとも１つの焦点を囲
んでいる。光検出器は実質的に焦点の所で側面に装管さ
れている。反射後端面は、これと検出器が設けられてい
、る側面との交差部とが直線もしくは円錐曲線となるよ
うに、形成されている。反射後端面は、ここへの入射光
を光検出器方向へ反射するように設けられている。代わ
って、透明ブロックは、一方の焦点を囲む楕円の一部の
形状をし、楕円面と２つの平行面と真円筒のと交差によ
り規定され、２つの平行面は前記側面を規定し、前記真
円筒の軸は他方の焦点を通って前記平行面に直交し、そ
して前記真円筒の半径は両焦点間の距離よりも短くなっ
ている。第２の実施例と同様に、フィールドと光検出装
置との間には、中間濃度フィルターが設けられている。
第４の実施例において、光検出装置は透明ブロックと、
これに設けられた光検出器とを具備する。
この透明ブロックは、入力前端面、反射後端面並びに第
１及びｆｊ２の側面を有する。光検出器が透明ブロック
の第１の側面に光伝送結合されている。
前記入力前端面は、これの全ての地点で前記フィールド
との間隔が同じとなるように湾曲している。
第２の側面に直交する軸に平行な方向から見て、第２の
側面は、円弧部分と円錐曲線の一部の曲線部分とを有す
る縁線を具備している。好ましくは、円錐曲線は楕円で
ある。前記実施例とは異なり、案内手段が実質的に焦点
の所で第２の側面に装着されている。この案内手段は、
第２の側面に直交し、焦点を通る軸が実質的に中心とな
るように形成された反射凹所を有する。前記光検出器は
前記軸が実質的に中心となるように第１の側面に設けら
れている。反射後端面は、これと検出器が設けられてい
る側面との交差部とが直線もしくは円錐曲線となるよう
に、形成されている。反射後端面は、ここへの入射光を
、光検出器方向へ導く案内手段へと反射するように設け
られている。反射凹所は円錐台形に好ましくは形成され
ている。代わって、透明ブロックは、一方の焦点を囲む
楕円の一部の形状をし、楕円面と２つの平行面と真円筒
のと交差により規定され、２つの平行面は前記側面を規
定し、前記真円筒の軸は他方の焦点を通って前記平行面
に直交し、そして前記真円筒の半径は両焦点間の距離よ
りも短くなっている。第２並びに第３の実施例と同様に
、フィールドと光検出装置との間には、中間濃度フィル
ターが設けられている。
前記全ての実施例において、湾曲したフィールドは、湾
曲し、互いに離間して同軸的に配設された１対のプレー
ト（板）により規定され、これに関連付けられて光検出
装置が配置される。これらプレートで規定されたフィー
ルドは、走査されるＸ線フィルムを収容する、一方のプ
レートは光学拡散部材により形成され得る。
［実施例］ 以下に、本発明の実施例に係わるレーザ走査装置を添付
図面を参照して説明する。
第１図は、上に光検出装置１２が設けられたレザー走査
装置（スキャンナー）１０を示す。二のレーザ走査装置
１０は、フィルムガイド１６を支ｔｊｉするベース１４
をＨする。このフィルムガイド１６は、湾曲したフィル
ム支持装置２０と連通した入口シュート１８を有する。
前記フィルム支持装置２０は、互いに同軸的に配置され
た１対の湾曲板（プレート）２２．２４を有する。外方
の湾曲板２４は第１図、第４図並びに第７図では除去さ
れており、この後方に位置する湾曲板２２が見えている
。内方の湾曲板２２は両面に反射防止コーテングがなさ
れた透明ガラスにより形成されている。外方の湾曲板２
４はオパールガラスのような、光学拡散部材により形成
されている。これら湾曲板２２．２４は互いに所定間隔
をＨして配置され、これらの間に湾曲したフィルム移送
路２６（第２Ａ図）が形成されている。このフィルム移
送路２６は、前記入口シュート１８と連通している。入
口シュート１８とは反対側ノフイルム移送路２６の端部
は、フィルム停止上部材２８により間欠的に閉鎖可能と
なっている。
フィルム停止部材２８により閉鎖された時には、フィル
ム停止部材２８は、後述する方法で走査されるＸ線フィ
ルム３０と当接し、これを所定の位置に維持する。かく
して湾曲板２２．２４は、これらの間にＸ線フィルム３
０を受けるための湾曲したフィールドを形成している。
このフィールドは、湾曲板２２．２４間の間隙に位置す
る湾曲面の一部として、内りの湾曲板２２上に位置する
。
このフィールドは、第２図並びに第６図では、符号Ｆて
示されている。フィルム移送路２６の出口は、適当な入
れ物（図示せず）と連通している。
機台３２には、１対の反射部材３８．４０方向にビーム
形成用光学部材４２を介して、放射ビーム３６を射出す
るレザー光源３４が設けられている。適当な基準ホトデ
ィテクターのような基準装置が、レザー光源３４の出力
変動を補償するために、適当な位置に設けられている。
このような基準装置は、図面では省略されている。この
基準装置の代表的なものは、米国特許３，７４１゜６６
４号に開示されている。反射部材３８．４゜により反射
されたビーム３６は機台３２に設けられた同転多面ミラ
ー４４に導かれる。この回転多面ミラー４４は、機台３
２に支持されたハウジング４６内に回転可能に収容され
ている。ビーム３６が回転多面ミラー４４の一面に入射
すると、これから反射される走査ビーム４８は、湾曲板
２２．２４間のフィールドＦ内でフィルム支持装置２０
により支持されたＸ線フィルム３０方向に専かれる。
前記レザー光源３４、反射部材３８．４０、光学部材４
２、並びに回転多面ミラー４４は、Ｘ線フィルム３０上
で収束される走査ビーム４８を発生する手段を構成して
いる。これら手段は、走査ビーム４８により、Ｘ線フィ
ルム３０を横方向に集束して走査するような別の走査装
置に変更できる。このような走査装置は、例えば、所定
の角速度でビームに走査される音響−光学ホログラフィ
、他の音響−光学装置により構成され得る。
前記機台３２は、同期モータ５５により、１対のガイド
レール（図示せず）に沿って矢印５８方向に移動され得
る。この同期モータ５５とガイドレールとは、レーザ走
査装置１ｏに既知の方法により、ベース１４上の機台３
２の下に、取付けられ得る。前記フィルムガイド１６は
、ピラー６０に支持された複数のロッド５６に支承され
ている。
このピラー６０はベース１４に固定されている。
かくして、走査ビーム４８は、Ｘ線フィルム３゜がこの
ビーム４８によりラスター方式で走査されるように、湾
曲板２２．２４間に配置されたＸ線フィルム３０に対し
て、相対的に変位可能になっている。
前記光検出装置１２は、機台３２にポスト６４により支
持されたアーム６２により支承されている。この光検出
装置１２は、光検出器６６を有する。前記アーム６２は
湾曲板２４上に片持ち支持されている。第２Ａ図に特に
詳しく示すように、アーム６２は、湾曲内面６８を有す
る。光検出器６６は、アーム６２の湾曲内面６８に固定
され、湾曲板２４に径方向に隣接して位置している。湾
曲板２４は、Ｘ線フィルム３０を通って光検出器６６に
入るビームを拡散する。前記光検出器６６は、ラミネー
ト構造になっている。この光検出器６６の下層は、サー
キットボードや他の堅い部材でできた基板７４である。
この基板７４には、アーム６２の湾曲内面６８の曲率に
近くなるように、所定間隔を有してノツチが形成されて
いる。この基板７４上には、第１の導電路７６が設けら
れている。この第１の導電路７６上には光応答半導体部
材（半導体素子）７８Ａ、・・・７８Ｎのアレイが設け
られている。はいに隣接する光応答半導体部材相４は、
端部で物理的に接触している。例えば、光応答半導体部
材７８Ｄの端部りは、光応答半導体部材７８Ｃの端部Ｔ
と接触している。
各光応答半導体部材は、ＰＩＮ構造の半導体８０により
構成されている。半導体８０の下面は第１の導電路７６
と電気的に接触した金属層８４により覆われている。半
導体８０の上面８８には、これの長手方向端縁に沿って
伸びた１対の金属路９０Ａ、９０Ｂが設けられている。
第３図に示すように、第２の導電路９２が基板７４上に
、前記第１の導電路７６と平行になるように設けられて
いる。金属路９０Ａと第２の導電路９２とはリード線９
６により電気的に接続されている。
上述した光検出器６６は、エポキシ樹脂９８のような、
適当な接続手段により、アーム６２の湾曲内面６８に取
るされている。
湾曲板２４の外面と光検出器６６の光応答半導体部材の
内面との間にはマスク１０２が設けられている。このマ
スク１０２は、光検出装置１２のアーム６２に装置され
ている。マスク１０２は、不透明部材により形成され、
スリット１０４を有する。マスク１０２は、光応答半導
体部材に対する集光角の住かの変動を補償する機能を果
たす。
マスク１０２は、所定の変動のないアングルを規定する
線形アパーチャを提供し、このアパーチャを通って、光
検出器６６は、Ｘ線フィルム３０を透過した光を受光す
る。
前記光検出器６６は、既知の方法により形成され得る。
例えば、個々の光応答半導体部材は、感度、ダーク電流
並びにキャパシタンスを基礎として、統一して、選定さ
れる。感度、ダーク電流並びにキャパシタンスは全て等
しいのが好ましい。
第１並びに第２の導電路７６．９２を有する細長いプリ
ント回路基板は、製造された後に、曲げ易いようにノツ
チが形成される。この基板は、曲げながらエポキシ樹脂
により、アーム６２の湾曲内面６８に取着される。光応
答半導体部材は、金属層８４と電気的に接続するように
、導電性セメントにより、第１の導電路７６に取着され
る。リード線９６は、各光応答半導体部材毎に、第２の
導電路９２と金属路９０Ａとに渡ってボンデングされる
。前述したように、光応答半導体部材相互は、端部が当
接するように取着される。
前記第１並びに第２の導電路７５．９２は、プレアンブ
リファイヤー回路１１０（第２図に概略的に示す）に接
続されている。このプレアンブリファイヤー回路１１０
は、モデルナンバ０Ｐ−３７として、Ｐｒｅｃｉｓｉｏ
ｎ Ｍｏｎｏｌｉｔｈｉｃｓ、Ｉｎｃから販売されているよ
うなオペレーションアンブリファイヤーから形成される
。フィードバックレジスター並びにキャパシターは、走
査ビーム４８の速度と調和するように、その値が設定さ
れる。前述したプレアンブリファイヤー回路１１０の出
力並びに補供用基準検出器の出力は、この分野では知ら
れている処理のためのアナログ−デジタル−コンバータ
に送られる矯ｉＥされた信号を形成す、るように組み合
せられる。
次に第４図ないし第６図を参照して、第２の実施例に係
わる光検出装置１２−を説明する。この光検出装置１２
″は前記実施例と同様の方法により、アーム６２により
、湾曲板２４上に支持されている。第５図並びに第６図
に示すように、光検出装置１２−は、湾曲した入力前端
面１２２と手用な出力後端面１２４とを備えた透明ブロ
ック１２０を有する。この透明ブロック１２０は、ポリ
メタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ガラスのよう
な透明部材からマシーンニング等の通常゛の方法により
製造され得る。好ましくは、この透明ブロック１２０は
、ＬＵＣＩＴＥ（商標）として、Ｅ、１．ｄｕ　　Ｐｏ
ｎｔ　　ｄｅＮｅｍｏｕｒｓ　　ａｎｄ　　Ｃｏｍｐａ
ｎｙ。
Ｉｎｃ、で販売されている、Ｌ−キャスト・アクリルシ
ートから形成され得る。透明ブロック１２０は中空に形
成しても良い。
入力前端面１２２並びに出力後端面１２４は、これら面
の光学的透過特性に悪影響を与えるキズや他の口に見え
る欠陥のない、クリアーな光学的性質の優れた面に仕上
げられている。反射防止コーテング、好ましくは、”コ
ーテング・ナンバー１２９ｍとして、Ｅｖａｐｏｒａｔ
ｅｄＣｏａｔｉｎｇｓ　　Ｉｎｃ、で販売されている無
水１１溶高帯域の多層誘電体により入力前端面１２２並
びに出力後端面１２４は、コーテングされる。
入力前端面１２２は、互いに対向した長縁１２２Ｍ−１
，１２２Ｍ−２及び短縁１２２ｍ−１，１２２ｍ−２を
有する。同様に、出力後端面１２４は、互いに対向した
長縁１２４Ｍ−１゜１２４Ｍ−２及び短縁１２４ｍ−１
，１２４ｍ−２を有する。端面１２６Ａ並びに１２６Ｂ
は入力前端面１２２並びに出力後端面１２４の対応する
端縁１２２　ｍ　−１、１２４ｍ　−１並びに１２２ｍ
−２，１２４−ｍ間に伸びている。これら端面１２６Ａ
、１２６Ｂには折曲部が形成されている。
この折曲部は、端面１２８Ａ、１２８Ｂを、折曲部と入
力前端面１２２の短縁との間に位置し、互いに平行な比
較的短い面部と、折曲部と出力後端面１２４の短縁との
間に位置する比較的長い面部とに分離している。この比
較的長い面部は、入力前端面］２２から出力後端面１２
４に向かって徐々にテーバをなしている。これら端面１
２６Ａ。
１２６Ｂは、折曲部が設けられな（でも、また直線状の
テーパてなくても良い。また、透明ブロック１２０は、
入力前端面１２２を出力後端面１２４よりも大きなディ
メンションに設定したが、必ずしもこのようなディメン
ションに設定する必要はない。
１対の側面１３０Ａ、１３０Ｂが入力前端面１２２並び
に出力後端面１２４の長縁１２２Ｍ−１，１２４Ｍ−１
並びに１２２Ｍ−２，１２４Ｍ＝２間に伸びており、端
面１２６Ａ、１２６Ｂにつながっている。これら側面１
３０Ａ、１３０Ｂ並びに端面１２６Ａ、１２６Ｂ、もし
くはどちらか一方に反射散乱コーテングを形成しても良
い。
このようなコーテング祠としては、”ＷｈｉｔｅＲｅｆ
ｌｅｃｔｉｖｅ　　Ｃｏａｔｉｎｇ”としてカタログ各
号１１８−１７５９で、 Ｅａｓｔｍａｎ　　Ｋｏｄａｋ　　Ｉｎｃ、から発売さ
れているような硫酸バリウムコーテングが好ましい。
光検出器１３２は出力後端面１２４と光伝達が可能なよ
うに接続している。この光検出器１３２としては、ＰＩ
Ｎダイオードや光電子増倍管のようなものが使用され得
、所定の作動領域を白°している。出力後端面１２４は
、光検出器１３２の作動領域と効果的に光接続する領域
を有していることが好ましい。
第４図並びに第６図に示すように、光検出装置１２″は
アーム６２上に、湾曲したフィールドＦ（ｒ！４曲板２
２と湾曲板２４との間で規定されている）と湾曲した入
力前端面１２２とが対応するように支持され、入力前端
面１２２の全ての地点がフィールドＦから等距離にある
ように、設定されている。中間色調（濃度）の光学フィ
ルター１３６（第５図並びに第６図）が湾曲板２４と入
力前端面１２２との間に設けられ１．かくしてフィール
ドＦと入力前端面１２２との間に位置している。光学フ
ィルター１３６は、色度（濃度）勾配を有している。こ
の光学フィルター１３６の色度（濃度）は周囲より中心
の方が濃くなっており、光検出装置１２′の応答がフィ
ールドＦの幅１３８全体に渡って均一となるように設定
されている。
以ドに、作動を説明する。
フィールドＦ内に収容されたＸ線フィルム３０ｈ°向に
走査ビームが導かれる。この走査−ムは、Ｘ線フィルム
３０を幅方向に走査し、Ｘ線フィルム３０を透過した光
ビームは入力前端面１２２を介して、光検出装置１２″
の透明ブロック１２０に入る。光は直接もしくは側面１
３０Ａ。
１３０Ｂ並びに／もしくは端面１２６Ａ。
１２６Ｂにより一度もしくは複数度反射されて出。
力後端面１２４を透過する。そしてこの光は、出力後端
面１２４を介して光検出器１３２に入射する。光学フィ
ルター１３６は、フィールドＦと光検出装置１２′との
間のカップリングによる変動を補償するように、フィー
ルドＦの幅１３８全体に渡って透過光量を調整して減じ
る。
次に第７図並びに第８図を参照して説明する。
光検出装置１２”は前記実施例と同様の方法で、湾曲板
２４上にアーム６２により支持されている。
第８図に示すように、光検出装置１２”は、前記実施例
と同様の形状をした湾曲した入力前端面１５２並びに反
射後端面１５４を備えた透明ブロック１５０を具備する
。この透明ブロック１５０は前記実施例の透明ブロック
１２０と同様の材質並びに方法で形成され得る。また、
この透明ブロック１５０は中空に形成しても良い。
前記入力前端面１５２並びに反射後端面１５４は高光学
品質を得るように仕上げられている。また、前記実施例
と同様に、入力前端面１５２には反射防１１−コーテン
グが施されている。反射後端面１５４は真空蒸若層のよ
うな適当な部材でコーテングされており、高反射鏡面に
仕上げられている。
入力前端面１５２は、互いに対向した長縁１５２Ｍ−１
，１５２Ｍ−２及び短縁１５２ｍ−１，１５２ｍ−２を
有する。同様に、反射後端面１５４は、互いに対向した
長縁１５４Ｍ−１，。
１５４Ｍ−２及び短縁１５４ｍ−１，１５４ｍ−２を有
する。透明ブロック１５０は、入力前端面１５２並びに
反射後端面１５４の短縁間に伸びた端面１５６Ａ、１５
６ＢをＨする。側面１６０Ａ。
１６０Ｂが入力前端面１５２並びに反射後端面１５４間
に延出するようにして設けられている。
これら而は、第５図を参照して説明したものと実質的に
同じである。
光検出器１３２と同様の光検出器１６２が側面の１つ、
例えば符号ユ６０Ａで示す側面、と光伝達がｎ■能なよ
うにして組合わされている。第９図に示すように、反射
後端面１５４は、光検出器１６２が設けられている側面
１６０Ａに直交する・１／面に対して、所定角度傾斜し
た・［面Ｓか湾曲した而Ｃとなるように形成されている
。この湾曲面Ｃは、円錐曲線で規定された面をなしてい
ることが好ましく、より好ましくは楕円面をしている。
二二で使用している円錐曲線で規定された而とは、直円
錐を切断してできる曲面を言い、円、楕円、放物線もし
くは双曲線により規定されている而を百う。このような
円錐曲線は、ｒＦ、Ｚｏｚｚ。
ｒａ、”Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ　　Ｄｒａｗｉｎｇ”
、５ｅｃｏｎｄ　　Ｅｄｉｔｉｏｎ、ＭｃＧｒａｗ　　
Ｈｉ　１１，１９８５Ｊにて知られている。
しかし、このような形状の面だけには限定されるもので
はなく、他の曲面でも良いし、また曲面と平面との組合
わせでも良い。
両側面１６ｎＡ、１６０Ｂは同様の周縁形状をなしてい
る。第１０図は、側面１６０Ａを、これに直交する軸に
平行な面に切断して見た図である。
この側面１６０Ａの周縁は、円弧よりなる第１の部分１
７０と、曲線からなる第２の部分１７２とを有する。こ
れら画部分１７０，１７２は第１０図では実線で示され
ている。前記第２の部分１７２は、円錐曲線、好ましく
は楕円の弧である。
第２の部分１７２は、１対の焦点１７４Ｆ−１゜１７４
Ｆ−２を有する楕円１７４の一部である。
側面１６０Ａの周縁に含まれる第２、の部分１７２は一
方の焦点１７４Ｆ−１を囲んでいる。前記光検出器１６
２は側面１６０Ａに、この焦点１７４Ｆ−１の所で設け
られている。この第２の部分１７２は、直線と曲線との
組合わせ、もしくはとしらか一方の組合わせでも良い。
前記第１の部分１７０は、他方の焦点１７４Ｆ−２を中
心とする真円１７６の一部である。この真円１７６の半
径１７６Ｒは、内焦点１７４Ｆ−１，１７４Ｆ−２間の
距離よりも短く設定されている。
前記透明ブロック１５０は、楕円面を２つの平行面と真
円向とで交差させてなり、焦点１７４Ｆ−１を含む楕円
面の部分により規定するように形成しても良い。前記真
円筒の投影は、第１０図に示す真円１７６と同様になる
。また前記２つの平行面は、前記側面１６０Ａ、１６０
Ｂと一致する。
平行面の一方（側面１６０Ａと対応する）は、同焦点１
７４Ｆ−１，１７４Ｆ−２を含む。前記真円筒の軸は、
前記平行面と直交し、焦点１７４Ｆ−２を通る。真円筒
の半径は、同焦点１７４Ｆ−１，１７４Ｆ−２間の距離
よりも短くなるように設定されている。かくして、透明
ブロック１５０の入力前端面１５２真円筒と対応し、反
射後端面１５４は楕円面で規定され、側面はｉ［打面で
規定されている。透明ブロック１５０の横方向縁線は、
側面１６　（Ｉ　Ａ、１６　ｒ）　Ｂに対して垂直に伸
びた別の２つの平行面で、断面１５６Ａ、１５６Ｂ　（
第８図）を規定するように点線１７８Ａ、１７８Ｂに沿
って、切断したような形状にしても良い。
第６図に示したのと同様の方法で、光検出装置１２”は
アーム６２に支持され、入力前端面１５２は湾曲したフ
ィールドＦ（湾曲板２２と湾曲板２４との間で規定され
ている）に対応して位置し、入力前端面１５２上の全て
の地点からフィールドＦは等距離となっている。前記実
施例で使用された光学フィルター１３６と同様の中間濃
度の光学フィルター１６６が同じ口約で、湾曲板２４と
入力前端面１５２との間、かくしてフィールドＦと入力
前端面１５２との間、に設けられている。
以ドに、作動を説明する。
フィールドＦ内に収容されたＸ線フィルム３０方向に検
査用の光ビーム（走査ビーム）が導かれる。この光ビー
ムは、Ｘ線フィルム３０を幅方向に走査し、Ｘ線フィル
ム３０を透過した光ビームは入力前端面１５２を介して
、透明ブロック１５０に入る。透明ブロック１５０に入
った光は、反射後端面１５４により導かれて光検出器１
６２に入射する。光検出器１６２へ導かれる光は直接、
もしくは側面１６０Ａ、１６０Ｂ並びに／もしくは端面
１５６Ａ、１５６Ｂにより一度もしくは複数度反射され
る。これらの光の光路は、第９図に点線で示されている
。
次に、第１１図並びに第１２図を参照して、第４の実施
例を説明する。
光検出装置１２“は、前記と同様の方法で湾曲板２４上
に、アーム６２により支持されている。
この光検出装置１２”は、湾曲した入力前端面１８２と
反射後端面１８４とを備えた透明ブロック１８０を有す
る。この透明ブロック１８０は、透明ブロック１２０．
１５０と同様の材料並びに方法で形成されている。この
透明ブロック１８０は中空に形成されても良い。
光検出器１２”の場合と同様に、入力前端面１８２並び
に反射後端面１８４は高光学品質を有するように仕上げ
られている。この入力前端面１８２には、前記と同様の
反射防止コーテングがなされても良い。反射後端面１８
４は、高反射鏡面仕上げをするために、アルミニウムの
真空蒸着層のような適当な材質によるコーテングがなさ
れていても良い。
入力前端面１８２は、互いに対向した長縁１８２Ｍ−１
，１８２Ｍ−２及び短縁１ｇ２ｍ−１，１８２ｍ−２を
有する。同様に、反射後端面１８４は、ｎいに対向した
長縁１８ ４Ｍ−１，１８４Ｍ−２及び短縁１８４ｍ−１゜１８４
ｍ−２を有する。′この実施例では、入力前端面１８２
の端縁１８２ｍ−１は反射後端面１８４の端縁１８４ｍ
−１と同じである。同様に、入力前端面１８２の短縁１
８２　ｍ’　−２は反射後端１１ｊｌ　８４の短縁１８
４ｍ−２と同じである。換言すれば、反射後端面１８４
は、透明ブロック１５０の端面１５６Ａ、１５６Ｂと同
様に、端面は湾曲していない。かくして、端面１５６Ａ
。
１５６Ｂと同様の端面が透明ブロック１８０には設けら
れている。第１並びに第２の側面１９０Ａ。
１９０Ｂは、夫々入力前端面１８２と反射後端面１８４
との間に延出している。これらは第５図並びに第８図を
参照して説明したのと同様である。
光検出器１３２、光検出器１６２と同様の光検出器１９
２が、側面の一方、例えば符号１９０Ａで示す側面に、
前記実施例と同様に、光伝送接続されている。第１２図
に示すように、反射後端面１８４は、光検出器１９２が
設けられている側面１つ０Ａに直交する平面に対して、
所定角度傾斜した平面Ｓ′か湾曲した面Ｃ゛となるよう
に形成されている。この湾曲面Ｃ′は、円錐曲線で規定
された而をなしていることが好ましく、より好ましくは
楕円面をしている。ここで使用している円錐曲線で規定
された而とは、第９図を参照して説明したものと同じで
ある。しかし、このような形状の面だけには限定される
ものではなく、他の曲面でも良いし、また曲面と平面と
の組合わせでも良い。
両側面１９０Ａ、１９０Ｂは同様の周縁形状をなしてお
り、また第１０図を参照して説明した側面１６０Ａ、１
６０Ｂとも同じである。この側面１９０Ｂの周縁は、円
弧よりなり、前記長縁１８２Ｍ−２を構成する第１の部
分と、曲線で、前記長縁１８４Ｍ−２を構成する第２の
部分とを有する。この第２の部分（長縁１８４Ｍ−２）
は、円錐曲線、好ましくは楕円の弧である。第１１図に
示すように、第２の部分（長縁１８４Ｍ−２）は、１対
の焦点１９４Ｆ−１，１９４Ｆ−２を有する楕円の一部
である。側面１９０Ｂの周縁に含まれる第２の部分は一
方の焦点ＩＱ４Ｆ−１を囲んでいる。この第２の部分は
、直線と曲線との組合わせ、も１くはどちらか一方の組
合わせでも良い。前記第１の部分（長縁１８２Ｍ−２）
は、他方の焦点１９４Ｆ−２を中心とする真円の一部で
ある。この真円半径１９６Ｒは、内焦点１９４Ｆ−１，
１９４Ｆ−２間の距離よりも短く設定されている。
前記側面１９０Ｂは、焦点１９４Ｆ−１の所に形成され
た凹所２００をＨする。この凹所２００の好ましい形状
は、円面２０２と、円線２０４と、これらの間に位置す
る傾斜周面２０６とからなる円錐台形である。前記円線
２０４は円面２０２よりも大きい径をＨし、前記焦点１
９４Ｆ−１が中心に位置し、側１Ｉｊ１９０Ｂと同一平
面にある。前１；ピ傾斜周而】０６は透明ブロック１８
０中に伸びており、好ましくは、側面１９０Ａ、１９０
Ｂ間の距離の１４分以下の所、より好ましくは４０％以
ドの所、まで伸びている。この傾斜周面２０６は軸２０
８に対して、５０ないし７０度、好ましくは、約６０度
傾斜している。このような、凹所２００はマシーンニン
グのような既知の方法により形成され得る。この凹所２
００は、光学的特性に悪影響を与えるキズや他の目に見
える欠陥のない、クリアーな光学的特性の優れた面を白
“するように佳上げられている。この傾斜周面２０６は
アルミニウムの真空蒸芒層のような適当な部材でコーテ
ングされており、高反射鏡面に仕上げられている。
前記透明ブロック１５０と同様に透明ブロック１８０は
、楕円面を２つの下行面と真円筒とて交差させてなる。
これら２つの下行面は、前記側面１９０Ａ、１９０Ｂに
一致する。一方の下行面、例えば側面１９０Ｂに一致す
る・１４行白面、内焦点ＩＱ４Ｆ−１，１９４Ｆ−２を
含む。側面Ｉ　Ｑ　（Ｉ　Ｂに形成された凹所２００は
、一方の焦点ＩＱ４Ｆ−１の所に位置する。前記真円筒
の軸は、前記平行面と直交し、他力の焦点Ｉ　Ｑ４Ｆ−
２を通る。真円筒の半径１９６Ｒは、内焦点１９４Ｆ−
１，１９４Ｆ−２間の距離よりも短くなるように設定さ
れている。かくして、透明ブロック１８０の入力前端面
１８２は、真円筒と対応し、反射後端面１８４は楕円面
で規定され、側面１９０Ａ、１９０Ｂは平行面で規定さ
れている。
光検出装置１９２は、焦点１９４Ｆ−１並びに円面２０
２の中心を通る軸２０８奔中心軸とするように、側面１
９０　Ａに装着されている。この軸２０８は側面１９０
Ａ、１９０Ｂに対して直交している。
第６図に示したのと同様の方法で、光検出装置１２′は
アーム６２に支持され、入力前端面１８２は湾曲したフ
ィールドＦに対応して位置し、入力前端面１８２上の全
ての地点からフィールドＦは等距離となっている。前記
実施例で使用された光学フィルター１３６，１６６と同
様の、濃度勾配を有する中間濃度の光学フィルター１８
６（第１１図）が同じ目的で、湾曲板２４と入力前端面
１８２との間、かくしてフィールドＦと入力前端面１８
２との間、に設けられている。
以下に、作動を説明する。
フィールドＦ内に収容されたＸ線フィルム３０方向に検
査用の光ビームが、焦点Ｆから導かれる。
この光ビームは、Ｘ線フィルム３０を幅方向に走査し、
Ｘ線フィルム３０を透過した光ビームは入力前端面１８
２を介して、光検出装置１２”に入る。透明ブロック１
８０に入った光は、反射後端面１８４により導かれて傾
斜周面２０６に入射し、ここより、光検出器１９２に入
射する。これらの光の光路は、第１１図に点線で示され
ている。
光検出器１９２へ導かれる光は、側面１９（ＪＡ、Ｉ　
Ｑ　ＯＢ、反射後端面１８４並びに／もしくは傾斜周面
２０６により一度もしくは複数度反射される。かくして
、凹所２００は、光を光検出器１９２に導く手段として
機能する。このような手段は、円錐形のような他の形状
にしても良い。また、軸２０８は側面１９０Ａ、１９０
Ｂに垂直でなくても良く、この場合には、凹所２００が
側面１９０Ｂに対して傾く。前記円面２０２並びに／も
しくは側面１９０Ａ、１９０Ｂ　（光検出器１９２が設
けられていない側の側面）は高反射鏡仕上げにコーテン
グされ得る。また、側面１９ＵＡ、１９０Ｂ相互は、平
行でなくても良い。
上述した本発明の実施例のレーザ走査装置においては、
Ｘ線フィルムへの光路長を一定にすることができ、Ｘ線
フィルムを横方向に走査する走査ビームのスポットの速
度を一定にすることができ、そしてＸ線フィルムでの光
路長が一定になるように、このフィルムへの光の入射角
を一定にすることができる。回転ミラーと、短い応答時
間の光検出器との組合わせにより、走査速度を速くした
レーザ走査装置が得られる。かくして本発明のレーザ走
査装置は、従来技術による問題点を全て解決できる。
【図面の簡単な説明】
第１図は、本発明の第１の実施例に係わる、光検出器を
備えたレーザ走査装置を示す斜視図、第２図は、第１図
に示す光検出器とフィールドとの関係を示す図、第２Ａ
図は、第２図の円で囲まれた部分を拡大して示す図、第
３図は第２図の３−３線に沿う断面図、第４図は、本発
明の第２の実施例に係わる、光検出器を備えたレーザ走
査装置を第１図と同様にして示す斜視図、第５図は第４
図に７Ｊ（す光検出器の側面図、第６図は第４図に示す
光検出器とフィールドとの関係を示す図、第７図は、本
発明の第３の実施例に係わる、光検出器を備えたレーザ
走査装置を第１図並びに第４図と同様にして示す斜視図
、第８図は、ｍ７図に示す光検出器の斜視図、第９図は
第８図の９−９線に沿う断面図、第１０図は、第８図の
１０−１０矢視線ｈ゛向から見た光検出器の平面図、第
１１図は本発明の第４の実施例に係わるレーザ走査装置
の光検出器を示す平面図、そして第１２図はＴ５１１図
の１２−１２線に沿う断面図である。 １０・・・レーザ走査装置、１２・・・光検出装置、２
２．２４・・・湾曲板（プレート）、３０・・・Ｘ線フ
ィルム、３２・・・機台、３４・・・レザー光源、４２
・・・光学部材、４４・・・回転多面ミラー、４８・・
・走査ビーム、７８Ａ〜７８Ｎ・・・光応答半導体部材
（索子）、１０２・・・マスク、１２０・・・透明ブロ
ック、１２２・・・入力前端面、１２４・・・出力後端
面。 出願人代理人　弁理士　鈴扛武彦 ＦＩＧ、２Ａ ＦＩＧ、５

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、走査されるＸ線フィルムが挿入される、湾曲したフ
    ィールドと、光源と、この光源からの光で、Ｘ線フイル
    ムへの走査ビームを発生させる走査ビーム発生手段と、
    前記光源並びに走査ビーム発生手段を支持する機台と、
    前記フィールドと機台とを相対的に移動させ、前記走査
    ビームでフィールドをラスター方式で走査させる移動手
    段と、Ｘ線フィルムを透過した光が入射するようにフィ
    ールドに対して位置され、複数の半導体素子を端部が接
    触するように配設すると共に並列に接続してなる光検出
    器を有する光検出装置とを具備したレーザ走査装置にお
    いて、前記半導体素子を、これらと前記Ｘ線フィルムと
    の間隔が同じとなるように湾曲パターンで配置したこと
    を特徴とするレーザ走査装置。 ２、前記フィールドは互いに同軸的に配置された第１並
    びに第２のプレートを有することを特徴とする特許請求
    の範囲の第１項に記載のレーザ走査装置。 ３、前記プレートのうち光検出装置に近い方のものを光
    拡散部材で形成したことを特徴とする特許請求の範囲の
    第２項に記載のレーザ走査装置。 ４、前記フィールドと光検出装置との間にはスリットが
    形成されたマスクが設けられていることを特徴とする特
    許請求の範囲の第１項に記載のレーザ走査装置。 ５、前記フィールドと光検出装置との間にはスリットが
    形成されたマスクが設けられていることを特徴とする特
    許請求の範囲の第２項に記載のレーザ走査装置。 ６、前記フィールドと光検出装置との間にはスリットが
    形成されたマスクが設けられていることを特徴とする特
    許請求の範囲の第３項に記載のレーザ走査装置。 ７、前記走査ビーム発生手段は、ビーム形成光学部材と
    、回転多面ミラーとを有することを特徴とする特許請求
    の範囲の第１項に記載のレーザ走査装置。 ８、前記走査ビーム発生手段は、ビーム形成光学部材と
    、回転多面ミラーとを有することを特徴とする特許請求
    の範囲の第２項に記載のレーザ走査装置。 ９、前記走査ビーム発生手段は、ビーム形成光学部材と
    、回転多面ミラーとを有することを特徴とする特許請求
    の範囲の第３項に記載のレーザ走査装置。 １０、前記走査ビーム発生手段は、ビーム形成光学部材
    と、回転多面ミラーとを有することを特徴とする特許請
    求の範囲の第４項に記載のレーザ走査装置。 １１、走査されるＸ線フィルムが挿入される、湾曲した
    フィールドと、光源と、この光源からの光で、Ｘ線フイ
    ルムへの走査ビームを発生させる走査ビーム発生手段と
    、前記光源並びに走査ビーム発生手段を支持する機台と
    、前記フィールドと機台とを相対的に移動させ、前記走
    査ビームでフィールドをラスター方式で走査させる移動
    手段と、Ｘ線フィルムを透過した光が入射するようにフ
    ィールドに対して位置された光検出装置とを具備したレ
    ーザ走査装置において、前記光検出装置は、互いに対向
    した１対の短縁並びに長縁を有し、全ての地点で前記Ｘ
    線フィルムとの間隔が同じとなるように湾曲した入力前
    端面 と、互いに対向した１対の短縁並びに長縁を有する出力
    後端面と、前記入力前端面並びに出力後端面の短縁間に
    位置する１対の端面と、前記入力前端面並びに出力後端
    面の長縁間に位置する１対の側面とを備えた透明ブロッ
    クと；この透明ブロックの出力後端面に光伝送結合され
    た光検出器とを具備することを特徴とするレーザ走査装
    置。 １２、前記光検出器並びに出力後端面は互いに効果的な
    光伝送結合を果たすようなデイメンションの作動領域を
    有することを特徴とする特許請求の範囲の第１１項に記
    載のレーザ走査装置。 １３、前記フィールドと光検出装置との間に、フィール
    ドの幅方向にわたって、光検出装置での応答が一定とな
    るように濃度勾配を有する中間濃度光フィルターが設け
    られていることを特徴とする特許請求の範囲の第１２項
    に記載のレーザ走査装置。 １４、前記フィールドと光検出装置との間に、フィール
    ドの幅方向にわたって、光検出装置での応答が一定とな
    るように濃度勾配を有する中間濃度光フィルターが設け
    られていることを特徴とする特許請求の範囲の第１１項
    に記載のレーザ走査装置。 １５、前記フィールドは互いに同軸的に配置された第１
    並びに第２のプレートを有することを特徴とする特許請
    求の範囲の第１４項に記載のレーザ走査装置。 １６、前記フィールドは互いに同軸的に配置された第１
    並びに第２のプレートを有することを特徴とする特許請
    求の範囲の第１３項に記載のレーザ走査装置。 １７、前記フィールドは互いに同軸的に配置された第１
    並びに第２のプレートを有することを特徴とする特許請
    求の範囲の第１２項に記載のレーザ走査装置。 １８、前記フィールドは互いに同軸的に配置された第１
    並びに第２のプレートを有することを特徴とする特許請
    求の範囲の第１１項に記載のレーザ走査装置。 １９、前記側面には反射拡散コーテングがなされている
    ことを特徴とする特許請求の範囲の第１４項に記載のレ
    ーザ走査装置。 ２０、前記側面には反射拡散コーテングがなされている
    ことを特徴とする特許請求の範囲の第１３項に記載のレ
    ーザ走査装置。 ２１、前記側面には反射拡散コーテングがなされている
    ことを特徴とする特許請求の範囲の第１２項に記載のレ
    ーザ走査装置。 ２２、前記側面には反射拡散コーテングがなされている
    ことを特徴とする特許請求の範囲の第１１項に記載のレ
    ーザ走査装置。 ２３、前記端面には反射拡散コーテングがなされている
    ことを特徴とする特許請求の範囲の第１４項に記載のレ
    ーザ走査装置。 ２４、前記端面には反射拡散コーテングがなされている
    ことを特徴とする特許請求の範囲の第１３項に記載のレ
    ーザ走査装置。 ２５、前記端面には反射拡散コーテングがなされている
    ことを特徴とする特許請求の範囲の第１２項に記載のレ
    ーザ走査装置。 ２６、前記端面には反射拡散コーテングがなされている
    ことを特徴とする特許請求の範囲の第１１項に記載のレ
    ーザ走査装置。 ２７、走査されるＸ線フィルムが挿入される、湾曲した
    フィールドと、光源と、この光源からの光で、Ｘ線フイ
    ルムへの走査ビームを発生させる走査ビーム発生手段と
    、前記光源並びに走査ビーム発生手段を支持する機台と
    、前記フィールドと機台とを相対的に移動させ、前記走
    査ビームでフィールドをラスター方式で走査させる移動
    手段と、Ｘ線フィルムを透過した光が入射するようにフ
    ィールドに対して位置された光検出装置とを具備したレ
    ーザ走査装置において、前記光検出装置は、入力前端面
    と、反射後端面と、第１並びに第２の側面とを備えた透
    明ブロックと；この透明ブロックの一方の側面に光伝送
    結合された光検出器とを具備し、前記入力前端面は全て
    の地点で前記フィールドとの間隔が同じになるように湾
    曲し、また前記反射後端面が入射する光を光検出器方向
    に反射するように設けられていることを特徴とするレー
    ザ走査装置。 ２８、前記光検出器が設けられている側面に直交する面
    と、前記反射後端面との交差部が直線となるように、前
    記反射後面は設けられていることを特徴とする特許請求
    の範囲の第２７項に記載のレーザ走査装置。 ２９、前記光検出器が設けられている側面に直交する面
    と、前記反射後端面との交差部が円錐曲線となるように
    、前記反射後面は設けられていることを特徴とする特許
    請求の範囲の第２７項に記載のレーザ走査装置。 ３０、前記光検出器が設けられている側面に垂直な軸に
    平行な方向から見て、この側面は円弧部分と円錐曲線の
    一部の曲線部分とを有する縁線を具備することを特徴と
    する特許請求の範囲の第２９項に記載のレーザ走査装置
    。 ３１、前記光検出器が設けられている側面に垂直な軸に
    平行な方向から見て、この側面は円弧部分と円錐曲線の
    一部の曲線部分とを有する縁線を具備することを特徴と
    する特許請求の範囲の第２８項に記載のレーザ走査装置
    。 ３２、前記光検出器が設けられている側面に垂直な軸に
    平行な方向から見て、この側面は円弧部分と円錐曲線の
    一部の曲線部分とを有する縁線を具備することを特徴と
    する特許請求の範囲の第２７項に記載のレーザ走査装置
    。 ３３、前記曲線部分は楕円の一部であり、この楕円の少
    なくとも一方の焦点を囲み、この焦点の所で前記光検出
    器が側面に設けられていることを特徴とする特許請求の
    範囲の第３２項に記載のレーザ走査装置。 ３４、前記曲線部分は楕円の一部であり、この楕円の少
    なくとも一方の焦点を囲み、この焦点の所で前記光検出
    器が側面に設けられていることを特徴とする特許請求の
    範囲の第３１項に記載のレーザ走査装置。 ３５、前記曲線部分は楕円の一部であり、この楕円の少
    なくとも一方の焦点を囲み、この焦点の所で前記光検出
    器が側面に設けられていることを特徴とする特許請求の
    範囲の第３０項に記載のレーザ走査装置。 ３６、前記透明ブロックは一方の焦点を囲む楕円の一部
    の形状をし、楕円面と２つの平行面と真円筒との交差に
    より規定され、２つの平行面は前記側面を規定し、前記
    真円 筒の軸は他方の焦点を通って前記平行面に直交し、そし
    て前記真円筒の半径は両焦点間の距離よりも短いことを
    特徴とする特許請求の範囲の第２７項に記載のレーザ走
    査装置。 ３７、前記光検出器は、焦点の所で前記側面に設けられ
    ていることを特徴とする特許請求の範囲の第３６項に記
    載のレーザ走査装置。 ３８、前記フィールドは互いに同軸的に配置された第１
    並びに第２のプレートを有することを特徴とする特許請
    求の範囲の第３７項に記載のレーザ走査装置。 ３９、前記フィールドは互いに同軸的に配置された第１
    並びに第２のプレートを有することを特徴とする特許請
    求の範囲の第３５項に記載のレーザ走査装置。 ４０、前記フィールドは互いに同軸的に配置された第１
    並びに第２のプレートを有することを特徴とする特許請
    求の範囲の第３４項に記載のレーザ走査装置。 ４１、前記フィールドは互いに同軸的に配置された第１
    並びに第２のプレートを有することを特徴とする特許請
    求の範囲の第２７項に記載のレーザ走査装置。 ４２、前記フィールドと光検出装置との間に設けられ、
    フィールドの幅方向にわたって、光検出装置での応答が
    一定となるように濃度勾配を有する中間濃度光フィルタ
    ーが設けられていることを特徴とする特許請求の範囲の
    第２７項に記載のレーザ走査装置。 ４３、走査されるＸ線フィルムが挿入される、湾曲した
    フィールドと、光源と、この光源からの光で、Ｘ線フイ
    ルムへの走査ビームを発生させる走査ビーム発生手段と
    、前記光源並びに走査ビーム発生手段を支持する機台と
    、前記フィールドと機台とを相対的に移動させ、前記走
    査ビームでフィールドをラスター方式で走査させる移動
    手段と、Ｘ線フィルムを透過した光が入射するようにフ
    ィールドに対して位置された光検出装置とを具備したレ
    ーザ走査装置において、前記光検出装置は、入力前端面
    と、反射後端面と、第１並びに第２の側面とを備えた透
    明ブロックと；この透明ブロックの第１の側面に光伝送
    結合された光検出器とを具備し、前記第２の側面は入射
    光を光検出器に導く案内手段を有し、前記入力前端面は
    全ての地点で前記フィールドとの間隔が同じになるよう
    に湾曲し、また前記反射後端面が入射する光を前記案内
    手段方向に反射するように設けられていることを特徴と
    するレーザ走査装置。 ４４、前記第２の側面に直交する面と、前記反射後端面
    との交差部が直線となるように、前記反射後面は設けら
    れていることを特徴とする特許請求の範囲の第４３項に
    記載のレーザ走査装置。 ４５、前記第２の側面に直交する面と、前記反射後端面
    との交差部が円錐曲線となるように、前記反射後面は設
    けられていることを特徴とする特許請求の範囲の第４３
    項に記載のレーザ走査装置。 ４６、前記第２の側面に垂直な軸に平行な方向から見て
    、この側面は円弧部分と円錐曲線の一部の曲線部分とを
    有する縁線を具備することを特徴とする特許請求の範囲
    の第４５項に記載のレーザ走査装置。 ４７、前記第２の側面に垂直な軸に平行な方向から見て
    、この側面は円弧部分と円錐曲線の一部の曲線部分とを
    有する縁線を具備することを特徴とする特許請求の範囲
    の第４４項に記載のレーザ走査装置。 ４８、前記第２の側面に垂直な軸に平行な方向から見て
    、この側面は円弧部分と円錐曲線の一部の曲線部分とを
    有する縁線を具備することを特徴とする特許請求の範囲
    の第４３項に記載のレーザ走査装置。 ４９、前記曲線部分は楕円の一部であり、この楕円の一
    方の焦点を囲み、前記案内手段は、第２の側面に垂直で
    前記焦点を通る軸が中心となるように設けられているこ
    とを特徴とする特許請求の範囲の第４８項に記載のレー
    ザ走査装置。 ５０、前記曲線部分は楕円の一部であり、この楕円の一
    方の焦点を囲み、前記案内手段は、第２の側面に垂直で
    前記焦点を通る軸が中心となるように設けられているこ
    とを特徴とする特許請求の範囲の第４７項に記載のレー
    ザ走査装置。 ５１、前記曲線部分は楕円の一部であり、この楕円の一
    方の焦点を囲み、前記案内手段は、第２の側面に垂直で
    前記焦点を通る軸が中心となるように設けられているこ
    とを特徴とする特許請求の範囲の第４６項に記載のレー
    ザ走査装置。 ５２、前記透明ブロックは一方の焦点を囲む楕円の一部
    の形状をし、楕円面と２つの平行面と真円筒との交差に
    より規定され、一方の平行面は２つの焦点と前記第２の
    側面の一部を含み、他方の平行面は前記第１の側面を規
    定し、前記案内手段は、第２の側面に垂直で前記焦点を
    通る軸が中心となるように設けられており、前記真円筒
    の軸は他方の焦点を通って前記平行面に直交し、そして
    前記真円筒の半径は両焦点間の距離よりも短いことを特
    徴とする特許請求の範囲の第４３項に記載のレーザ走査
    装置。 ５３、前記光検出器は、第２の側面に垂直で前記焦点を
    通る軸が中心となるように第１の側面に設けられている
    ことを特徴とする特許請求の範囲の第５２項に記載のレ
    ーザ走査装置。 ５４、前記フィールドは互いに同軸的に配置された第１
    並びに第２のプレートを有することを特徴とする特許請
    求の範囲の第５３項に記載のレーザ走査装置。 ５５、前記フィールドは互いに同軸的に配置された第１
    並びに第２のプレートを有することを特徴とする特許請
    求の範囲の第５１項に記載のレーザ走査装置。 ５６、前記フィールドは互いに同軸的に配置された第１
    並びに第２のプレートを有することを特徴とする特許請
    求の範囲の第５０項に記載のレーザ走査装置。 ５７、前記フィールドは互いに同軸的に配置された第１
    並びに第２のプレートを有することを特徴とする特許請
    求の範囲の第４３項に記載のレーザ走査装置。 ５８、前記案内手段は反射部材がコーテングされた凹所
    を有していることを特徴とする特許請求の範囲の第４３
    項に記載のレーザ走査装置。 ５９、前記凹所は円錐台形に形成されていることを特徴
    とする特許請求の範囲の第５８項に記載のレーザ走査装
    置。 ６０、前記フィールドと光検出装置との間に設けられ、
    フィールドの幅方向にわたって、光検出装置での応答が
    一定となるように濃度勾配を有する中間濃度光フィルタ
    ーが設けられていることを特徴とする特許請求の範囲の
    第４３項に記載のレーザ走査装置。 ６１、前記円錐台形の凹所は、円面と円線と、これらを
    接続する傾斜周面とにより規定されており、前記傾斜周
    面は円錐台形の軸に対して５０度ないし７０度傾斜して
    いることを特徴とする特許請求の範囲の第５９項に記載
    のレーザ走査装置。
JP63081157A 1987-04-03 1988-04-01 レーザ走査装置 Pending JPS63272262A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US3452787A 1987-04-03 1987-04-03
US034,527 1987-04-03

Publications (1)

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JPS63272262A true JPS63272262A (ja) 1988-11-09

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JP63081157A Pending JPS63272262A (ja) 1987-04-03 1988-04-01 レーザ走査装置

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JP (1) JPS63272262A (ja)
AU (1) AU608586B2 (ja)

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Also Published As

Publication number Publication date
EP0285122A3 (en) 1991-02-20
EP0285122A2 (en) 1988-10-05
AU608586B2 (en) 1991-04-11
AU1404488A (en) 1988-10-06

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