JPS6326924Y2 - - Google Patents

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JPS6326924Y2
JPS6326924Y2 JP1982078431U JP7843182U JPS6326924Y2 JP S6326924 Y2 JPS6326924 Y2 JP S6326924Y2 JP 1982078431 U JP1982078431 U JP 1982078431U JP 7843182 U JP7843182 U JP 7843182U JP S6326924 Y2 JPS6326924 Y2 JP S6326924Y2
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JP
Japan
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sample
heat transfer
fin
transfer member
contamination prevention
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JP1982078431U
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JPS58182255U (ja
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Description

【考案の詳細な説明】 この考案は電子顕微鏡などの真空機器における
試料汚染防止装置に関するものである。
透過電子顕微鏡、走査電子顕微鏡、X線マイク
ロアナライザーなどの荷電粒子線の照射を伴う真
空装置においては、試料近傍のハイドロカーボン
を主体とした有機ガス分子が荷電粒子線によつて
重合して試料汚染が生じるため、試料に向うガス
分子をさえぎるとともに、試料近傍の有機ガス分
子をトラツプし、それらの分圧を下げるようにし
た試料汚染防止装置が使用されている。
第1図はこの種の従来の試料汚染防止装置を示
す一部を切断した平面図、第2図はその−断
面図である。図において、1は試料室であつて、
電子顕微鏡の対物レンズ2が取付けられており、
対物レンズ2に対向して試料3が配置されてい
る。試料3の上面にはフイン4が設けられてお
り、伝熱棒5を介して試料室1外の液体窒素容器
6内に設けられた冷却槽7に接続している。
以上のように構成された従来の試料汚染防止装
置においては、フイン4を試料3の上面に、電子
ビームが開口4mを通過するように配置し、液体
窒素容器6の冷却槽7から伝熱棒5を通してフイ
ン4を冷却することにより、試料3に入射するガ
ス分子をさえぎるとともに、試料近傍の有機ガス
分子をトラツプし、それらの分圧を下げ、試料3
の汚染を防止する。
従来の試料汚染防止装置は上記のように、液体
窒素容器6の底部に接続する伝熱棒5の先端に汚
染防止用のフイン4が取付けられており、このフ
イン4は前後方向にのみ移動可能とされており、
上下方向に移動できないため、試料観察作動距離
(以下WDと記す)を変える場合には使用できず、
各WD専用のフイン4を準備しておき、試料室1
を大気圧にしてフイン4の交換を行つている。
ところが試料室1を大気圧にした際、フイン4
に水滴が付着するのを防止するため、液体窒素容
器6の液体窒素を蒸発させ、フイン4を室温にし
てフイン4を交換する必要があり、このためフイ
ン4の交換には長時間を要する。また長WD用の
フイン4を使用して観察しいるときに、高分解能
の像を観察しようとする場合は、フイン4を後方
へ抜いてWDを短くして観察するが、大きい試料
や、試料の移動範囲が大きい場合には、試料3に
フイン4が当たり、観察できない場合がある。
この考案は、このような従来のものの欠点を改
善するためになされたもので、WDの切換に追随
して外部より汚染防止用フインを所定位置に切換
え可能とすることにより、1種類のフインを使用
し、試料室を大気圧にすることなく、瞬時に切換
可能な試料汚染防止装置を提供することを目的と
している。
この考案は試料室内に設けられた試料面に対向
して配置された汚染防止用フインと、このフイン
を支持する伝熱部材と、この伝熱部材を冷却装置
に接続する可撓性伝熱材と、前記伝熱部材を収納
するケーシングに気密状態で挿入され、かつ前記
冷却装置から独立して前記伝熱部材を荷電粒子線
の光軸に平行な方向に移動させる操作軸とを備
え、試料観察作動距離の切換に追随して、前記フ
インを所定位置に切換えるようにしたことを特徴
とする試料汚染防止装置である。
以下、この考案を図面の実施例により説明す
る。第3図はこの考案の一実施例による試料汚染
防止装置を示す一部を切断した平面図、第4図は
その−断面図、第5図はその方向矢視図で
あり、第1図および第2図と同一符号は同一また
は相当部分を示す。
第3図ないし第5図において、試料室1にはケ
ーシング8が形成されており、連絡管9を介して
液体窒素容器6が連絡している。液体窒素容器6
内の液体窒素を入れた冷却槽7の底部に取付けら
れた伝熱棒5aは連絡管9を通つてケーシング8
内に突出しており、その先端は網線からなる可撓
性伝熱体10によつて伝熱棒5bに接続し、フイ
ン4がその先端に取付けられている。
伝熱棒5bは軸受11に気密状態で摺動して上
下動可能とされた操作軸12によつて上下動およ
び回転可能に支持されており、操作軸12の下端
にはピストン13が形成され、ハンドル14が取
付けられている。軸受11の下部はピストン13
を収容するシリンダ15となつており、その側壁
にはハンドル14が貫通するガイド溝16が設け
られていて、突出部16a,16b,16c…を
有している。そしてハンドル14を突出部16
a,16b,16c…に回すことにより操作軸1
2が係止され、これに接続するフイン4が所定
WDに対応した位置4a,4b,4c…に固定さ
れるようになつている。
以上のように構成された試料汚染防止装置にお
いては、ハンドル14をガイド溝16に沿つて上
下させると、伝熱棒5bはケーシング8内で上下
し、ハンドル14を突出部16a,16b,16
c…にセツトすることにより、フイン4は所定の
WDに対応した位置4a,4b,4c…に固定さ
れる。そして熱はフイン4から伝熱棒5b、可撓
性伝熱材10、伝熱棒5aを通つて冷却槽7に伝
導し、フイン4が冷却され、従来のものと同様に
試料3の汚染が防止される。
試料3のWDを変更するには、ハンドル14を
最上部の突出部16aにセツトして、フイン4を
WDの一番短い位置4aに固定し、試料3を任意
のWDの位置にセツトする。そして試料3のWD
セツト終了後、ハンドル14を所定の突出部(例
えば16c)にセツトして、対応するWDの位置
(例えば4c)にフイン4をセツトする。
また他の付属装置(図示せず)を試料3に近づ
けるときなど、フイン4が邪魔になる場合には、
ハンドル14を自由位置16nにずらせると、伝
熱棒5bが操作軸12を中心として回転するた
め、フイン4は第3図の4nの位置に移動し、試
料3上から逃がすことができる。
なお、フイン4の固定位置を切換える手段は上
記実施例のものに限定されず、外部から操作可能
なものであれば、他の機構のものでもよい。ま
た、この考案は透過電子顕微鏡、走査電子顕微
鏡、X線マイクロアナライザーおよび他の真空装
置にも同様に適用可能である。
以上のとおり、この考案によれば、フインを支
持する伝熱部材を可撓性伝熱材を介して冷却装置
に接続し、操作軸により冷却装置から独立して伝
熱部材を光軸と平行に移動させるようにしたの
で、試料面に対する角度を一定にした状態で、
WD切換に追随して外部より汚染防止用フインを
所定位置に切換えでき、また冷却装置を移動させ
る必要がないため、切換が容易で正確に位置合わ
せすることができるとともに、1種類のフインを
使用して試料室を大気圧にすることなく、簡単か
つ瞬時に位置の切換が可能であるなどの効果があ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の試料汚染防止装置を示す一部を
切断した平面図、第2図はその−断面図、第
3図はこの考案の一実施例による試料汚染防止装
置を示す一部を切断した平面図、第4図はその
−断面図、第5図はその方向矢視図、であ
る。 各図中、同一符号は同一または相当部分を示
し、1は試料室、2は対物レンズ、3は試料、4
はフイン、5,5a,5bは伝熱棒、6は液体窒
素容器、7は冷却槽、8はケーシング、9は連絡
管、10は可撓性伝熱材、11は軸受、12は操
作軸、14はハンドル、16はガイド溝、17は
摺動部材である。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 試料室内に設けられた試料面に対向して配置
    された汚染防止用フインと、このフインを支持
    する伝熱部材と、この伝熱部材を冷却装置に接
    続する可撓性伝熱材と、前記伝熱部材を収納す
    るケーシングに気密状態で挿入され、かつ前記
    冷却装置から独立して前記伝熱部材を荷電粒子
    線の光軸に平行な方向に移動させる操作軸とを
    備え、試料観察作動距離の切換に追随して、前
    記フインを所定位置に切換えるようにしたこと
    を特徴とする試料汚染防止装置。 (2) 操作軸を上下または回転させるハンドルと、
    このハンドルを係止させる突出部を有するガイ
    ド溝とを備えた実用新案登録請求の範囲第1項
    記載の試料汚染防止装置。
JP7843182U 1982-05-28 1982-05-28 試料汚染防止装置 Granted JPS58182255U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7843182U JPS58182255U (ja) 1982-05-28 1982-05-28 試料汚染防止装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7843182U JPS58182255U (ja) 1982-05-28 1982-05-28 試料汚染防止装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58182255U JPS58182255U (ja) 1983-12-05
JPS6326924Y2 true JPS6326924Y2 (ja) 1988-07-21

Family

ID=30087638

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7843182U Granted JPS58182255U (ja) 1982-05-28 1982-05-28 試料汚染防止装置

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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7629597B2 (en) * 2006-08-18 2009-12-08 Axcelis Technologies, Inc. Deposition reduction system for an ion implanter

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5145980U (ja) * 1974-10-04 1976-04-05
JPS5451372A (en) * 1977-09-30 1979-04-23 Hitachi Ltd Sampler of scanning electron microscope of the like

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5145980U (ja) * 1974-10-04 1976-04-05
JPS5451372A (en) * 1977-09-30 1979-04-23 Hitachi Ltd Sampler of scanning electron microscope of the like

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Publication number Publication date
JPS58182255U (ja) 1983-12-05

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